KR102559334B1 - 기판처리장치 - Google Patents

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주성엔지니어링(주)
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Abstract

기판처리장치가 개시된다. 본 발명에 따른 기판처리장치는, 챔버의 측면을 향하는 접지스트랩의 일측면이 서셉터의 테두리면 내측에 위치되고, 서셉터의 테두리면과 접하는 가상의 연장면 상에 위치되지 않는다. 그러면, 접지스트랩의 일측면과 챔버 월의 측면 사이의 거리가 상대적으로 멀므로, 서셉터의 테두리면을 타고 흐르는 플라즈마가 챔버의 측면의 영향을 받지 않고 접지스트랩의 상측 부위를 상대적으로 신속하게 통과한 후, 서셉터의 하면 중앙부측으로 이동할 수 있다. 그리고, 접지스트랩의 일측면이 가상의 연장면 상에 위치되지 않으므로, 서셉터의 테두리면을 타고 흐르는 플라즈마가 접지스트랩의 상측 부위로 유입되기가 상대적으로 어렵다. 그러므로, 접지스트랩의 상측 부위가 플라즈마에 의하여 손상되는 것을 억제할 수 있는 효과가 있을 수 있다.

Description

기판처리장치 {SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS}
본 발명은 접지스트랩(Earth Strap)의 손상을 억제할 수 있는 기판처리장치에 관한 것이다.
반도체 소자, 평판 디스플레이 또는 박막형 태양전지(Solar Cell) 등을 제조하기 위해서는 실리콘 웨이퍼 또는 글라스 등과 같은 기판의 표면에 소정의 회로 패턴 또는 광학 패턴을 형성하여야 한다. 그리고, 기판에 회로 패턴 또는 광학 패턴을 형성하기 위해서는, 기판에 특정물질을 증착하여 박막을 형성하는 증착공정, 감광성 물질을 이용하여 형성된 박막 중 선택된 영역을 노출시키거나 은폐시키는 포토공정, 선택된 박막을 제거하여 패턴을 형성하는 식각공정 등을 수행한다.
증착공정, 포토공정 및 식각공정 등은 각 공정에 적합한 최적의 환경으로 설계된 기판처리장치에서 진행되며, 최근에는 플라즈마를 이용하여 증착 공정 또는 식각 공정을 수행하는 기판처리장치가 개발되어 사용되고 있다.
플라즈마를 이용하여 기판에 박막을 증착하는 종래의 기판처리장치에 대하여, 도 1a 및 도 1b를 참조하여 설명한다.
도 1a는 종래의 기판처리장치의 개략 평단면도이고, 도 1b는 도 1a에 도시된 서셉터와 접지스트랩의 사시도이다.
도시된 바와 같이, 종래의 기판처리장치는 챔버를 포함한다. 상기 챔버는 상면이 개방되며 전기적으로 접지된 챔버 월(Wall)(11)과 챔버 월(11)의 개방된 상면에 결합되며 챔버 월(11)과 절연된 리드를 가진다. 이때, 챔버 월(11)과 상기 리드에 의하여 형성되는 공간에 기판이 반입되어 처리되며, 챔버 월(11)의 일측면에는 기판이 출입하는 출입구(11a)가 형성된다.
상기 리드의 하면에는 플라즈마를 발생하기 위한 플라즈마 전극의 기능을 하며 가스를 챔버 월(11)의 하면측으로 분사하는 샤워헤드가 설치되고, 챔버 월(11)의 내부 하측 부위에는 기판이 탑재 지지되며 상기 샤워헤드의 상대 전극 기능을 하는 서셉터(13)가 승강가능하게 설치된다.
서셉터(13)는 상기 샤워헤드의 상대 전극 기능을 하므로, 서셉터(13)와 상기 샤워헤드는 상호 대향하는 것이 바람직하다. 그리고, 상기 샤워헤드는 리드와 전기적으로 접속되고, 서셉터(13)는 서셉터(13)를 승강시키는 지지축(15)을 통하여 챔버 월(11)에 전기적으로 접지된다.
서셉터(13)의 전류는 지지축(15)을 통하여 방전된다. 그런데, 기판이 대형화됨에 따라 서셉터(13)의 면적도 대형화되므로, 기판의 처리시, 지지축(15) 만으로는 서셉터(13)의 전류를 충분하게 방전시키기 어렵다. 이러한 이유로, 서셉터(13)의 하면과 챔버 월(11)의 하면 사이에는 서셉터(13)의 전류를 방전시키기 위한 복수의 접지스트랩(Earth Strap)(17)이 설치된다.
접지스트랩(17)은 대략 말굽 형상으로 형성되며, 상단부측은 서셉터(13)의 하면에 전기적으로 접속 결합되고 하단부측은 챔버 월(11)의 하면에 전기적으로 접속 결합된다. 이때, 접지스트랩(17)의 일측면(17a)은 챔버 월(11)의 측면을 향하고, 타측면(17b)은 서셉터(13)의 중앙부측을 향한다. 그리고, 접지스트랩(17)의 일측면(17a)은 서셉터(13)의 테두리면과 접하는 가상의 연장면(P) 상에 위치된다.
그리하여, 서셉터(13)의 상면에 기판을 탑재 지지한 후, 상기 샤워헤드를 통하여 불활성가스와 증착가스 등을 포함한 가스를 기판측으로 분사하면서 샤워헤드에 RF 전원을 인가하면, 상기 샤워헤드와 서셉터(13) 사이에서 생성된 플라즈마에 의하여 가스가 여기되며, 여기된 가스의 분자들이 기판에 증착되므로, 기판 상에 박막이 형성된다.
증착공정 중에는 상기 샤워헤드와 서셉터(13) 사이의 플라즈마가 서셉터(13)의 상면 및 테두리면을 타고 하측 부위까지 퍼지게 된다.
그런데, 종래의 기판처리장치는 접지스트랩(17)의 일측면(17a)이 서셉터(13)의 테두리면과 접하는 가상의 연장면(P) 상에 위치되므로, 접지스트랩(17)의 일측면(17a)과 챔버 월(11)의 측면 사이의 거리(d)가 상대적으로 가깝다. 접지스트랩(17)의 일측면(17a)과 챔버 월(11)의 측면 사이의 거리(d)가 가까우면, 챔버 월(11)의 측면으로 인하여 서셉터(13)의 테두리면을 타고 흐르는 플라즈마가 서셉터(13)의 하면 중앙부측으로 신속하게 이동하지 못한다. 그러면, 서셉터(13)의 테두리면을 타고 흐르는 플라즈마가 접지스트랩(17)의 상측 부위에 장시간 머무르게 되므로, 플라즈마에 의하여 서셉터(13)의 상측 부위가 용이하게 손상될 수 있다.
그리고, 종래의 기판처리장치는 접지스트랩(17)의 상측 부위가 서셉터(13)에 결합되며, 서셉터(13)의 일측면(17a)이 가상의 연장면(P) 상에 위치되므로, 서셉터(13)의 테두리면측으로 이동한 플라즈마가 접지스트랩(17)의 상측 부위 일측면(17a)을 통하여 접지스트랩(17)의 상측 부위로 용이하게 이동할 수 있다. 그러면, 접지스트랩(17)의 상측 부위가 더욱 용이하게 손상될 수 있다.
서셉터(13)의 테두리면을 따라 흐르는 플라즈마 중, 출입구(11a)가 형성된 챔버 월(11)의 측면과 대향하는 서셉터(13)의 테두리면을 따라 흐르는 플라즈마는 더욱 느리게 이동하므로, 출입구(11a)가 형성된 챔버 월(11)의 측면측에 위치된 접지스트랩(17)의 상측 부위는 더욱 용이하게 손상된다.
본 발명의 목적은 상기와 같은 종래 기술의 모든 문제점들을 해결할 수 있는 기판처리장치를 제공하는 것일 수 있다.
본 발명의 다른 목적은 서셉터와 챔버 사이에 설치된 접지스트랩(Earth Strap)이 플라즈마에 의하여 손상되는 것을 억제할 수 있는 기판처리장치를 제공하는 것일 수 있다.
상기와 같은 과제를 해결하기 위해서, 본 발명은 다음과 같은 구성을 포함할 수 있다.
본 발명은 일측면에 기판이 출입하는 출입구가 형성되는 챔버; 상기 기판이 안착되는 서셉터; 상단부측은 상기 서셉터의 가장자리를 따라 상기 서셉터의 하면에 연결되고, 하단부측은 상기 챔버의 하면에 연결되며, 중앙부측에는 굽힘부가 형성되어 상기 서셉터의 축적된 전하를 상기 챔버로 전달하는 복수의 접지경로를 포함할 수 있다. 상기 굽힘부는 상기 서셉터의 가장자리에 위치하도록 배치되고, 상기 출입구 측의 상기 접지경로 중 적어도 하나 이상은 상기 서셉터의 가장자리를 연장한 가상의 연장면에 대하여 경사지게 설치된 접지스트랩을 포함할 수 있다.
본 발명은 일측면에 기판이 출입하는 출입구가 형성되는 챔버; 상기 기판이 안착되는 서셉터; 상단부측은 상기 서셉터의 하면에 연결되고, 하단부측은 상기 챔버의 하면에 연결되며, 중앙부측에 형성된 굽힘부를 포함하는 복수의 접지경로를 포함할 수 있다. 상기 굽힘부는 상기 서셉터의 가장자리를 연장한 가상의 연장면에 대하여 경사지게 설치된 접지스트랩을 포함할 수 있다.
본 발명은 일측면에 기판이 출입하는 출입구가 형성되는 챔버와 상기 기판이 안착되는 서셉터를 포함하는 기판처리장치에 있어서, 상단부측은 상기 서셉터의 하면에 연결되고, 하단부측은 상기 챔버의 하면에 연결되며, 중앙부측에 형성된 굽힘부를 포함하는 복수의 접지경로를 포함할 수 있다. 상기 굽힘부는 상기 서셉터에 가장자리에 위치하도록 배치되고, 상기 출입구 측의 상기 접지경로 중 적어도 하나 이상은 상기 서셉터의 가장자리를 연장한 가상의 연장면에 대하여 경사지게 설치될 수 있다.
본 발명은 일측면에 기판이 출입하는 출입구가 형성되는 챔버와 상기 기판이 안착되는 서셉터를 포함하는 기판처리장치에 있어서, 상단부측은 상기 서셉터의 하면에 연결되고, 하단부측은 상기 챔버의 하면에 연결되며, 중앙부측에 형성된 굽힘부를 포함하는 복수의 접지경로를 포함할 수 있다. 상기 굽힘부는 상기 서셉터의 가장자리를 연장한 가상의 연장면에 대하여 경사지게 설치될 수 있다.
본 발명의 실시예에 따른 기판처리장치는, 챔버의 측면을 향하는 접지스트랩의 일측면이 서셉터의 테두리면 내측에 위치되고, 서셉터의 테두리면과 접하는 가상의 연장면 상에 위치되지 않는다. 그러면, 접지스트랩의 일측면과 챔버 월의 측면 사이의 거리가 상대적으로 멀므로, 서셉터의 테두리면을 타고 흐르는 플라즈마가 챔버의 측면의 영향을 받지 않고 접지스트랩의 상측 부위를 상대적으로 신속하게 통과한 후, 서셉터의 하면 중앙부측으로 이동할 수 있다. 그리고, 접지스트랩의 일측면이 가상의 연장면 상에 위치되지 않으므로, 서셉터의 테두리면을 타고 흐르는 플라즈마가 접지스트랩의 상측 부위로 유입되기가 상대적으로 어렵다. 그러므로, 접지스트랩의 상측 부위가 플라즈마에 의하여 손상되는 것을 억제할 수 있는 효과가 있을 수 있다.
도 1a는 종래의 기판처리장치의 개략 평단면도.
도 1b는 도 1a에 도시된 서셉터와 접지스트랩의 사시도.
도 2는 본 발명의 제1실시예에 따른 기판처리장치의 개략 단면도.
도 3a는 도 2의 개략 평단면도.
도 3b는 도 2에 도시된 서셉터와 접지스트랩의 사시도.
도 4a는 본 발명의 제2실시예에 따른 기판처리장치의 개략 평단면도.
도 4b는 본 발명의 제2실시예에 따른 서셉터와 접지스트랩의 사시도.
도 5는 본 발명의 제3실시예에 따른 서셉터와 접지스트랩의 사시도.
도 6은 본 발명의 제4실시예에 따른 서셉터와 접지스트랩의 사시도.
본 명세서에서 각 도면의 구성요소들에 참조번호를 부가함에 있어서 동일한 구성 요소들에 한해서는 비록 다른 도면상에 표시되더라도 가능한 한 동일한 번호를 가지도록 하고 있음에 유의하여야 한다.
한편, 본 명세서에서 서술되는 용어의 의미는 다음과 같이 이해되어야 할 것이다.
단수의 표현은 문맥상 명백하게 다르게 정의하지 않는 한 복수의 표현을 포함하는 것으로 이해되어야 하고, "제1", "제2" 등의 용어는 하나의 구성요소를 다른 구성요소로부터 구별하기 위한 것으로, 이들 용어들에 의해 권리범위가 한정되어서는 아니 된다.
"포함하다" 또는 "가지다" 등의 용어는 하나 또는 그 이상의 다른 특징이나 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부분품 또는 이들을 조합한 것들의 존재 또는 부가 가능성을 미리 배제하지 않는 것으로 이해되어야 한다.
"적어도 하나"의 용어는 하나 이상의 관련 항목으로부터 제시 가능한 모든 조합을 포함하는 것으로 이해되어야 한다. 예를 들어, "제1항목, 제2항목 및 제3항목 중에서 적어도 하나"의 의미는 제1항목, 제2항목 또는 제3항목 각각 뿐만 아니라 제1항목, 제2항목 및 제3항목 중에서 2개 이상으로부터 제시될 수 있는 모든 항목의 조합을 의미한다.
"및/또는"의 용어는 하나 이상의 관련 항목으로부터 제시 가능한 모든 조합을 포함하는 것으로 이해되어야 한다. 예를 들어, "제1항목, 제2항목 및/또는 제3항목"의 의미는 제1항목, 제2항목 또는 제3항목뿐만 아니라 제1항목, 제2항목 또는 제3항목들 중 2개 이상으로부터 제시될 수 있는 모든 항목의 조합을 의미한다.
어떤 구성요소가 다른 구성요소에 "연결된다 또는 설치된다"고 언급된 때에는, 그 다른 구성요소에 직접적으로 연결 또는 설치될 수도 있지만, 중간에 다른 구성요소가 존재할 수도 있다고 이해되어야 할 것이다. 반면에, 어떤 구성요소가 다른 구성요소에 "직접 연결된다 또는 설치된다"라고 언급된 때에는 중간에 다른 구성요소가 존재하지 않는 것으로 이해되어야 할 것이다. 한편, 구성요소들 간의 관계를 설명하는 다른 표현들, 즉 "∼사이에"와 "바로 ∼사이에" 또는 "∼에 이웃하는"과 "∼에 직접 이웃하는" 등도 마찬가지로 해석되어야 한다.
이하에서는, 본 발명의 실시예들에 따른 기판처리장치에 대하여 첨부된 도면을 참조하여 상세히 설명한다.
도 2는 본 발명의 제1실시예에 따른 기판처리장치의 개략 단면도이고, 도 3a는 도 2의 개략 평단면도이며, 도 3b는 도 2에 도시된 서셉터와 접지스트랩의 사시도이다.
도시된 바와 같이, 본 발명의 제1실시예에 따른 기판처리장치는 육면체 형상으로 형성되어 내부에 기판(S)이 반입되어 처리되는 공간을 제공하며, 접지된 챔버(110)를 포함할 수 있다.
챔버(110)는 상면이 개방되며 접지된 챔버 월(Wall)(111)과 챔버 월(111)의 개방된 상면에 결합되며 챔버 월(111)과 절연된 리드(Lid)(115)를 포함할 수 있으며, 챔버 월(111)과 리드(115)에 의하여 형성되는 공간이 기판(S)이 반입되어 처리되는 챔버(110)의 공간이다.
챔버(110)의 챔버 월(111)의 일측면에는 기판(S)이 출입하는 출입구(111a) 가 형성될 수 있고, 하면측에는 가스 등을 배출시키기 위한 배출구(111b)가 형성될 수 있다.
챔버(110)의 상면인 리드(115)의 상면에는 가스공급부로부터 불활성가스와 증착가스 등을 포함하는 가스를 공급받는 가스공급관(117)이 설치될 수 있고, 챔버(110)의 내부 상측인 리드(115)의 하면에는 챔버(110)의 내부 하측인 챔버 월(111)의 하측 부위로 가스를 균일하게 분사하는 대략 사각판 형상의 샤워헤드(120)가 설치될 수 있다. 이때, 샤워헤드(120)는 플라즈마를 발생하기 위한 플라즈마 전극의 기능을 할 수 있고, 리드(115)와 샤워헤드(120) 사이에는 버퍼공간이 형성될 수 있다.
가스공급관(117)을 통하여 상기 버퍼공간으로 유입된 가스는, 샤워헤드(120)에 형성된 분사공(121)을 통하여, 챔버(110)의 내부 하측에 설치된 후술할 서셉터(130)에 탑재 지지된 기판(S)측으로 균일하게 분사될 수 있다.
서셉터(130)는 챔버(110)의 내부 하측인 챔버 월(111)의 하면측에 설치될 수 있고, 사각판 형상으로 형성되어 기판(S)이 탑재 지지될 수 있으며, 지지축(140)에 지지될 수 있다. 지지축(140)은 모터 또는 실린더 등과 같은 구동부에 연결되어 승강 및 회전할 수 있으며, 이로 인해 서셉터(130)가 승강 및 회전할 수 있다.
서셉터(130)는 플라즈마 전극인 샤워헤드(120)의 상대 전극의 기능을 하므로 서셉터(130)와 샤워헤드(120)는 상호 대향하는 것이 바람직하고, 서셉터(130)는 지지축(140)을 통하여 접지될 수 있다. 즉, 서셉터(130)의 전류는 지지축(140)을 통하여 챔버 월(111)로 방전될 수 있다.
챔버(110)의 외측에는 샤워헤드(120)와 접속되어 샤워헤드(120)에 RF(Radio Frequency) 전원 등을 인가하기 위한 전원장치(151) 및 임피던스를 정합하기 위한 매처(155)가 설치될 수 있다.
그리하여, 서셉터(130)의 상면에 기판(S)을 탑재 지지한 후, 샤워헤드(120)를 통하여 가스를 기판(S)측으로 분사하면서 샤워헤드(120)에 RF 전원을 인가하면, 샤워헤드(120)와 서셉터(130) 사이에서 플라즈마 생성되고, 플라즈마에 의하여 가스가 여기된다. 그러면, 여기된 가스의 분자들이 기판(S)에 증착되므로, 기판(S) 상에 박막이 형성된다.
기판이 대형화됨에 따라 서셉터(130)의 면적도 대형화되므로, 지지축(140) 만으로는 서셉터(130)의 전류를 충분하게 방전시키기 어렵다.
본 발명의 제1실시예에 따른 기판처리장치는, 서셉터(130)의 전류를 충분하게 방전하기 위한 접지스트랩(Earth Strap)(160)을 포함할 수 있다.
접지스트랩(160)은 중앙부(161)측이 벤딩되어 말굽 형태로 형성될 수 있으며, 상단부(163)측은 서셉터(130)의 하면에 전기적으로 접속 설치되고, 하단부(165)측은 챔버 월(111)의 하면에 전기적으로 접속 설치될 수 있다. 이때, 접지스트랩(160)은 복수개 설치될 수 있으며, 서셉터(130)의 하면 테두리부측을 따라 일정 간격을 가질 수 있다.
증착공정이 진행되면, 샤워헤드(120)와 서셉터(130) 사이에 생성된 플라즈마가 하강할 수 있다. 그러면, 하강한 플라즈마가 서셉터(130)의 상면을 타고, 서셉터(130)의 테두리면(131)측으로 이동한 다음, 서셉터(130)의 하면을 타고 중앙부측으로 이동할 수 있다.
이때, 서셉터(130)의 테두리면(131)측으로 이동한 플라즈마에 의하여 접지스트랩(160)의 상측 부위가 손상될 수 있다.
본 실시예에 따른 기판처리장치는 접지스트랩(160)의 상측 부위가 플라즈마에 의하여 손상되는 것을 억제할 수 있다.
상세히 설명하면, 접지스트랩(160)의 일측면(167)은 챔버 월(111)의 측면을 향하고 타측면(169)은 서셉터(130)의 중앙부측을 향할 수 있다. 이때, 접지스트랩(160)의 일측면(167)은 접지스트랩(160)이 설치된 서셉터(130)의 테두리면(131) 내측에 위치될 수 있다.
접지스트랩(160)의 일측면(167)을 서셉터(130)의 테두리면(131) 내측에 위치시키기 위하여, 접지스트랩(160)의 일측면(167)은 서셉터(130)의 테두리면(131)과 접하는 가상의 연장면(P) 상에 위치되지 않는다. 즉, 접지스트랩(160)의 일측면(167)은 서셉터(130)의 테두리면(131)을 연장한 면인 가상의 연장면(P)에 대하여 소정 각도(θ) 경사지게 설치될 수 있다.
그러면, 접지스트랩(160)의 일측면(167)과 챔버 월(111)의 측면 사이의 거리(D)가 상대적으로 멀므로, 서셉터(130)의 테두리면(131)을 타고 흐르는 플라즈마가 챔버 월(111)의 측면의 영향을 받지 않고, 접지스트랩(160)의 상측 부위를 상대적으로 신속하게 통과한 후, 서셉터(130)의 하면 중앙부측으로 이동할 수 있다.
그리고, 접지스트랩(160)의 일측면(167)은 서셉터(130)의 테두리면(131)을 연장한 면인 가상의 연장면(P) 상에 위치되지 않으므로, 서셉터(130)의 테두리면(131)을 타고 흐르는 플라즈마가 접지스트랩(160)의 상측 부위로 유입되기가 상대적으로 어렵다. 그러므로, 접지스트랩(160)의 상측 부위가 플라즈마에 의하여 손상되는 것이 억제될 수 있다.
즉, 본 실시예에 따른 기판처리장치 챔버 월(111)의 측면을 향하는 접지스트랩(160)의 일측면(167)이 서셉터(130)의 테두리면(131) 내측에 위치되어 챔버 월(111)의 측면으로부터 이격되고, 서셉터(130)의 테두리면(131)을 연장한 면인 가상의 연장면(P) 상에 위치되지 않는다. 이로 인해, 서셉터(130)의 테두리면(131)을 타고 흐르는 플라즈마가 접지스트랩(160)의 상측 부위를 상대적으로 신속하게 통과할 수 있고, 접지스트랩(160)의 상측 부위로 용이하게 유입되기 어려우므로, 접지스트랩(160)의 상측 부위가 플라즈마에 의하여 손상되는 것이 억제될 수 있다.
접지스트랩(160)의 일측면(167) 상측 부위 모서리(167a)는 서셉터(130)의 테두리면(131)을 연장한 면인 가상의 연장면(P)상에 위치될 수 있고, 접지스트랩(160)의 일측면(167)은 가상의 연장면(P)에 대하여 1°∼ 90°경사지게 설치될 수 있다. 그리고, 접지스트랩(160)은, 서셉터(130)의 중심을 기준으로, 서셉터(130)의 테두리부를 따라 중앙부(161)측이 동일한 일방향을 향하면서 규칙적으로 배치될 수 있다.
서셉터(130)의 테두리면(131)을 따라 흐르는 플라즈마 중, 출입구(111a)가 형성된 챔버 월(111)의 측면과 대향하는 서셉터(130)의 테두리면(131)을 따라 흐르는 플라즈마는 더욱 느리게 이동하므로, 출입구(111a)에 위치된 접지스트랩(160)이 유독 많이 손상될 수 있다. 그러므로, 접지스트랩(160)의 일측면(167)을 가상의 연장면(P)에 대하여 소정 각도(θ)경사지게 설치하여 서셉터(130)의 테두리면(131) 내측에 위치시킨 구성을, 출입구(111a)측에 위치된 접지스트랩(160)에만 적용할 수도 있다.
도 4a는 본 발명의 제2실시예에 따른 기판처리장치의 개략 평단면도이고, 도 4b는 본 발명의 제2실시예에 따른 서셉터와 접지스트랩의 사시도로서, 제1실시예와의 차이점만을 설명한다.
도시된 바와 같이, 본 발명의 제2실시예에 따른 기판처리장치는 접지스트랩(260)의 일측면(267) 상측 부위 모서리(267a)가 서셉터(230)의 테두리면(231)을 연장한 면인 가상의 연장면(P) 상에 위치되지 않을 수 있다. 즉, 접지스트랩(260)의 일측면(267) 상측 부위 모서리(267a)가 서셉터(230)의 테두리면(231) 내측에 위치될 수 있다.
도 5는 본 발명의 제3실시예에 따른 서셉터와 접지스트랩의 사시도로서, 제1실시예와의 차이점만을 설명한다.
도시된 바와 같이, 서셉터(330)의 테두리면을 따라 설치된 대략 말굽 형태의 접지스트랩(360)중, 일부 접지스트랩(360a)은, 서셉터(330)의 중심을 기준으로, 중앙부(361)측이 동일한 일방향을 향하면서 규칙적으로 배치되고, 나머지 접지스트랩(360b)은, 서셉터(330)의 중심을 기준으로, 중앙부(361)측이 동일한 타방향을 향하면서 규칙적으로 배치될 수 있다.
본 발명의 제2실시예에 따른 접지스트랩(260)의 구성 및 본 발명의 제3실시예에 따른 접지스트랩(360)의 구성을 챔버 월(111)의 출입구(111a)(도 2 및 도 3a 참조)측에 위치된 접지스트랩(260)(360)에만 적용할 수 있음은 당연하다.
도 6은 본 발명의 제4실시예에 따른 서셉터와 접지스트랩의 사시도로서, 제1실시예와의 차이점만을 설명한다.
도시된 바와 같이, 접지스트랩(460)은 말굽형태로 형성되므로, 벤딩된 중앙부측이 굽힘부로 형성될 수 있다. 그리고, 접지스트랩(460)의 상단부측은 서셉터(430)의 테두리면(431)인 가장자리를 따라 서셉터(430)의 하면에 연결되고, 하단부측은 챔버(110)(도 2 참조)의 하면에 연결될 수 있다. 그리하여, 접지스트랩(460)은 서셉터(430)의 축적된 전하를 챔버(110)로 전달하는 접지경로의 기능을 할 수 있다. 이때, 접지경로의 기능을 하는 접지스트랩(460)의 상기 굽힘부의 부위 중, 챔버(110)의 측면을 향하는 상기 굽힘부의 일측면은 서셉터(430)의 가장자리 상에 위치하도록 배치되되, 출입구(111a)(도 2 참조)가 형성된 챔버(110)의 측면측에 위치된 접지스트랩(460) 중 적어도 하나(460a) 이상의 접지스트랩(460)이 상기 굽힘부의 일측면은 서셉터(430)의 가장자리 상에 위치되지 않도록 배치될 수 있다.
이상에서 설명한 본 발명은 전술한 실시예 및 첨부된 도면에 한정되는 것이 아니고, 본 발명의 기술적 사상을 벗어나지 않는 범위 내에서 여러 가지 치환, 변형 및 변경이 가능하다는 것은 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 있어 명백할 것이다. 그러므로, 본 발명의 범위는 후술하는 특허청구범위에 의하여 나타내어지며, 특허청구범위의 의미 및 범위 그리고 그 등가 개념으로부터 도출되는 모든 변경 또는 변형된 형태가 본 발명의 범위에 포함되는 것으로 해석되어야 한다.
110: 챔버
130: 서셉터
160: 접지스트랩

Claims (11)

  1. 일측면에 기판이 출입하는 출입구가 형성되는 챔버;
    상기 기판이 안착되는 서셉터;
    상단부측은 상기 서셉터의 가장자리를 따라 상기 서셉터의 하면에 연결되고, 하단부측은 상기 챔버의 하면에 연결되며, 중앙부측에는 굽힘부가 형성되어 상기 서셉터의 축적된 전하를 상기 챔버로 전달하는 복수의 접지경로를 포함하며,
    상기 굽힘부는 상기 서셉터의 가장자리에 위치하도록 배치되고, 상기 출입구 측의 상기 접지경로 중 적어도 하나 이상은 상기 서셉터의 가장자리를 연장한 가상의 연장면에 대하여 경사지게 설치된 접지스트랩을 포함하는 기판처리장치.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 접지스트랩의 일측면 상측 부위 모서리는 상기 서셉터의 테두리면과 접하는 가상의 연장면 상에 위치되는 것을 특징으로 하는 기판처리장치.
  3. 제2항에 있어서,
    상기 접지스트랩의 일측면은 상기 가상의 연장면에 대하여 1°∼90°경사진 것을 특징으로 하는 기판처리장치.
  4. 제1항에 있어서,
    상기 접지스트랩은 상기 서셉터의 중심을 기준으로 상기 서셉터의 가장자리를 따라 상기 중앙부측이 동일한 방향을 향하면서 규칙적으로 배치된 것을 특징으로 하는 기판처리장치.
  5. 일측면에 기판이 출입하는 출입구가 형성되는 챔버;
    상기 기판이 안착되는 서셉터;
    상단부측은 상기 서셉터의 하면에 연결되고, 하단부측은 상기 챔버의 하면에 연결되며, 중앙부측에 형성된 굽힘부를 포함하는 복수의 접지경로를 포함하며,
    상기 굽힘부는 상기 서셉터의 가장자리를 연장한 가상의 연장면에 대하여 경사지게 설치된 접지스트랩을 포함하는 기판처리장치.
  6. 제5항에 있어서,
    상기 굽힘부의 일측면은 상기 서셉터의 테두리면과 접하는 가상의 연장면 상에 위치되는 것을 특징으로 하는 기판처리장치.
  7. 일측면에 기판이 출입하는 출입구가 형성되는 챔버와 상기 기판이 안착되는 서셉터를 포함하는 기판처리장치에 있어서,
    상단부측은 상기 서셉터의 하면에 연결되고, 하단부측은 상기 챔버의 하면에 연결되며, 중앙부측에 형성된 굽힘부를 포함하는 복수의 접지경로를 포함하며,
    상기 굽힘부는 상기 서셉터에 가장자리에 위치하도록 배치되고, 상기 출입구 측의 상기 접지경로 중 적어도 하나 이상은 상기 서셉터의 가장자리를 연장한 가상의 연장면에 대하여 경사지게 설치된 것을 특징으로 하는 접지스트랩.
  8. 제7항에 있어서,
    상기 접지스트랩의 일측면은 상기 가상의 연장면에 대하여 1°∼90°경사진 것을 특징으로 하는 접지스트랩.
  9. 제7항에 있어서,
    상기 중앙부측이 상기 서셉터의 중심을 기준으로 상기 서셉터의 가장자리를 따라 동일한 방향을 향하면서 규칙적으로 배치된 것을 특징으로 하는 접지스트랩.
  10. 일측면에 기판이 출입하는 출입구가 형성되는 챔버와 상기 기판이 안착되는 서셉터를 포함하는 기판처리장치에 있어서,
    상단부측은 상기 서셉터의 하면에 연결되고, 하단부측은 상기 챔버의 하면에 연결되며, 중앙부측에 형성된 굽힘부를 포함하는 복수의 접지경로를 포함하며,
    상기 굽힘부는 상기 서셉터의 가장자리를 연장한 가상의 연장면에 대하여 경사지게 설치된 것을 특징으로 하는 접지스트랩.
  11. 제10항에 있어서,
    상기 굽힘부의 일측면은 상기 서셉터의 테두리면과 접하는 가상의 연장면 상에 위치되는 것을 특징으로 하는 접지스트랩.
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