KR102559235B1 - Conductive metal coated plate type Nickel powder production method for semiconductor chip performance test socket - Google Patents
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Abstract
본 발명은 반도체 테스트 소켓(test socket) 제조용 전도성 금속막 코팅된 판상형 니켈 분말 소재의 제조방법에 관한 것이다. 반도체 테스트 소켓은 니켈 분말을 고에너지 밀링을 통해 단시간에 판상형의 분말로 가공하는 방법이다. 판상형 분말은 분말간 접촉을 면접촉으로 유도하여 전기저항을 크게 감소시키는 효과가 있어 고주파용 테스트소켓 부품을 개발하는데 핵심소재로 사용될 수 있는 효과가 있다. The present invention relates to a method for manufacturing a plate-shaped nickel powder material coated with a conductive metal film for manufacturing a semiconductor test socket. The semiconductor test socket is a method of processing nickel powder into plate-shaped powder in a short time through high-energy milling. Plate-shaped powder has the effect of significantly reducing electrical resistance by inducing contact between powders into surface contact, so it has the effect of being used as a key material for developing high-frequency test socket parts.
Description
본 발명은 반도체 칩의 성능 테스트를 위해 사용되고 있는 반도체 테스트소켓(test socket)용 전도성 금속막 코팅된 판상형 니켈 분말소재의 제조 방법과 이렇게 제조된 니켈 분말에 관한 것이다.The present invention relates to a method for manufacturing a plate-shaped nickel powder material coated with a conductive metal film for a semiconductor test socket used for performance testing of a semiconductor chip, and to nickel powder thus produced.
반도체 테스트 소켓은 포고형(Pogo)과 러버형(Rubber)으로 구분된다. 테스트 소켓은 반도체 칩 하부의 bump ball(일명 솔더 볼, solder ball)과 테스트 보드의 표면 전극을 연결하는 부품이다. 실제 테스트 과정은 반도체 칩-테스트소켓-테스트보드 순서로 조립된 후 낮은 압력으로 테스트 소켓을 가압하면 탄성적으로 시트 형태의 테스트 소켓이 눌리면서 변형되면서 전도성을 갖게 되며 이로 인해 전류가 흐르는 방식이다. 이러한 테스트 소켓에는 포고(pogo)형과 러버(rubber)형이 있다.Semiconductor test sockets are classified into Pogo type and Rubber type. The test socket is a component that connects the bump ball (aka solder ball) at the bottom of the semiconductor chip and the surface electrode of the test board. In the actual test process, when the test socket is pressed with a low pressure after being assembled in the order of semiconductor chip-test socket-test board, the test socket in the form of a sheet is elastically pressed and deformed to become conductive, which causes current to flow. These test sockets include a pogo type and a rubber type.
포고형은 금속 스프링 형태의 탄성체 부품이며 (IEEE Trans. Device Mater. Rel., vol. 14, no. 1, pp. 580-582, Mar. 2014), 러버형은 실리콘 러버와 전도성 금속으로 코팅된 금속 분말(양호하게 니켈 분말)이 혼합된 복합소재부품이다(IEEE TRANSACTIONS ON COMPONENTS, PACKAGING AND MANUFACTURING TECHNOLOGY, VOL. 8, NO. 12, DECEMBER, pp. 2152-2162, 2018). Pogo type is an elastic part in the form of a metal spring (IEEE Trans. Device Mater. Rel., vol. 14, no. 1, pp. 580-582, Mar. 2014), and rubber type is a composite material part in which silicon rubber and metal powder (preferably nickel powder) coated with conductive metal are mixed (IEEE TRANSACTIONS ON COMPONENTS, PACKAGING AND MANUFACTURING TECHNOLOGY, VOL. 8, No. 12, DECEMBER, pp. 2152-2162, 2018).
러버형 테스트소켓에 사용되는 종래의 니켈 분말은 수십 마이크로미터(micrometer) 크기의 구형이며, 분말 표면에는 전도성이 우수한 금속인 은 또는 금이 코팅된 형태이다. 참고로 러버형 테스트 소켓 제조공정은 다음과 같다. A conventional nickel powder used in a rubber-type test socket has a spherical shape with a size of several tens of micrometers, and a surface of the powder is coated with silver or gold, which is a metal having excellent conductivity. For reference, the rubber type test socket manufacturing process is as follows.
먼저 액상형 실리콘 러버를 준비한다. 다음으로 금속인 은 또는 금이 코팅된 니켈 분말과 혼합하고 교반기(mixer)를 통해 균일하게 분산한다. 이렇게 제조된 니켈 분말이 분산된 액상 실리콘 러버를 소켓 금형 바닥(하부)에 주입하고, 금형을 체결한다. 이를 자력 성형기내 장입하여 온도를 가하면서 자기장을 금형의 수직 방향으로 인가한다. 이러한 과정에서 니켈 분말들은 자기장 방향으로 치밀하게 재배열하는데, 금형의 구조에 따라 다양한 피치(pitch)를 갖는 채널(channel)을 형성하게된다. 이후 시간이 경과함에 따라 실리콘 러버가 경화(curing)가 되면 부품은 완성된다. 여기서 주요기술은 채널을 형성하는 니켈 분말의 접촉빈도이다. 통상적으로 접촉빈도는 통상적으로 3만에서 5만번 사이이다. 이에 따라 전기저항이 크게 변화하며, 테스트소켓 부품성능이 제한된다. 또한 통상적으로 70GHz이상의 고주파 반도체를 위해서는 테스트 소켓의 니켈 분말들의 접촉면적을 크게해서 전기저항을 낮추어야 한다. First, prepare a liquid silicone rubber. Next, it is mixed with metal silver or gold-coated nickel powder and uniformly dispersed through a mixer. The prepared liquid silicone rubber in which the nickel powder is dispersed is injected into the bottom (lower part) of the socket mold, and the mold is fastened. It is charged into a magnetic molding machine and a magnetic field is applied in the vertical direction of the mold while applying temperature. In this process, the nickel powders are closely rearranged in the direction of the magnetic field, and channels having various pitches are formed according to the structure of the mold. Then, as time passes, when the silicone rubber is cured, the part is completed. The main technique here is the contact frequency of the nickel powder forming the channels. Typically, the contact frequency is usually between 30,000 and 50,000 times. Accordingly, the electrical resistance changes greatly, and the performance of the test socket component is limited. In addition, for a high-frequency semiconductor of 70 GHz or higher, the contact area of the nickel powders of the test socket should be increased to lower the electrical resistance.
종래의 러버형 테스트소켓에 사용되는 니켈 분말은 구형분말을 사용하고 있는데, 이들은 채널내에서 점접촉(point contact)을 이루고 있었다. 점접촉 면적을 증가하기 위해 돌기형의 작은 니켈 분말을 크기가 큰 니켈 분말표면에 부착시키는 기술도 보고되었다. 이러한 형태의 분말 소재는 제조공정이 어렵고 가격이 매우 높은 문제점과 함께 점접촉에 따른 한계로 인해 접촉 면적을 증가시키기 어려운 한계를 갖고 있었다. 유사 공지기술인 일본 특허 공개 JP2000149665A(발명의 명칭( Anisotropic conductive sheet, anisotropic conductive layered product and manufacture of the product)는 다양한 축비를 갖는 실리콘 러버형 테스트 소켓 설계방법을 제안하고 있지만 사용되는 니켈 분말 소재의 형상제어 기술은 잘 알려져 있지 않다. 또, 공지기술인 특허등록 10-1748184(출원번호 10-2016-0012957)(발명의 명칭: 검사용 소켓 및 검사용 소켓의 도전성 입자 제조방법)은 몸통부와 희생 분말을 복합화하여 제조 후 희생분말을 기화시켜 제거함으로서 전기 접촉을 증가시킨다. 이러한 방법은 복잡하며, 일정 모양의 분말을 제조하기 어려운 문제점이 있다.Nickel powder used in a conventional rubber-type test socket uses spherical powder, which forms point contact in the channel. In order to increase the point contact area, a technique of attaching small protruding nickel powder to the surface of large nickel powder has also been reported. This type of powder material has a limitation in that it is difficult to increase the contact area due to the limitation of point contact along with the problem of difficult manufacturing process and very high price. Japanese Patent Publication JP2000149665A (anisotropic conductive sheet, anisotropic conductive layered product and manufacture of the product), which is a similar known technology, proposes a method for designing a silicon rubber-type test socket with various axial ratios, but the shape control technology of the nickel powder material used is not well known. In addition, the known technology, Patent Registration 10-1748184 (Application No. 10-2016-0012957) (Name of Invention: Inspection A method for manufacturing conductive particles of a socket and a test socket) combines a body and sacrificial powder, and then vaporizes and removes the sacrificial powder to increase electrical contact. This method is complicated, and has a problem in that it is difficult to manufacture powder of a certain shape.
본 발명은 이에 대한 해결책으로 니켈 분말을 판상(디스크, disc)화하여 니켈 분말간 접촉 방식을 점접촉으로부터 면접촉으로 변화시켜 테스트 소켓의 전기저항을 감소시키기 위해 안출된 것이다. 이러한 기술의 핵심은 특히 구형 니켈 분말소재를 판상형으로 변화시키는 것이다. 따라서 본 발명은 표면에 전도성 금속인 은 또는 금이 코팅된 판상형 분말의 제조방법에 관한 것으로 다음에 상세히 설명한다. As a solution to this, the present invention has been devised to reduce the electrical resistance of the test socket by changing the contact method between the nickel powders from a point contact to a surface contact by converting nickel powder into a plate shape (disc). The core of this technology is to change the spherical nickel powder material into a plate shape. Therefore, the present invention relates to a method for producing a plate-shaped powder coated with silver or gold, which is a conductive metal, on the surface, and will be described in detail below.
상기한 종래의 선행기술의 문제점을 해소하기 위하여 제안된 본 발명의 목적은, 수평형 고에너지 밀링장치를 사용해서 반도체 테스트소켓용 전도성 금속막 코팅된 니켈 분말 소재를, 자기장 방향과 평행하게 재배열시켜서 분말간 접촉을 면접촉으로 유도하는 판상형 니켈 분말소재로 형상변형시키는 반도체 테스트소켓용 전도성 금속막 코팅된 판상형 니켈 분말소재의 제조방법을 제공하는 것이다. An object of the present invention proposed to solve the problems of the prior art described above is to provide a method for manufacturing a conductive metal film-coated plate-shaped nickel powder material for a semiconductor test socket in which a conductive metal film-coated nickel powder material for a semiconductor test socket is rearranged in parallel with a magnetic field direction by using a horizontal high-energy milling device to transform the shape into a plate-type nickel powder material that induces contact between powders into surface contact.
본 발명의 다른 목적은 코팅된 전도성 금속막이 분리되지 않는, 반도체 테스트소켓용 전도성 금속막 코팅된 판상형 니켈 분말소재의 제조방법을 제공하는 것이다. Another object of the present invention is to provide a method for manufacturing a plate-shaped nickel powder material coated with a conductive metal film for a semiconductor test socket, in which the coated conductive metal film is not separated.
상술한 목적을 달성하기 위한 반도체 테스트소켓용 전도성 금속막 코팅된 판상형 니켈 분말소재의 제조방법의 본 발명의 실시 예1에서, 니켈 분말을 준비하는 단계, 상기 니켈 분말과 밀링 볼을 미리 정해진 비율, 최소 5 내지 최대 30: 1 중량비로 혼합하는 혼합단계와, 상기 니켈 분말이 자기장 방향과 평행하게 재배열시켜서 분말간 접촉을 면접촉으로 유도하는 판상형 니켈 분말로 변경하도록 혼합된 상기 니켈 분말와 상기 밀링 볼을 수평형 고에너지 밀링장치에 장입하여 정면 충돌 모드로 정해진 시간동안 고에너지 밀링하는 단계와 상기 판상형 니켈 분말에 전도성 금속막을 코팅하는 단계를 포함한다.In Example 1 of the present invention of a method for manufacturing a plate-shaped nickel powder material coated with a conductive metal film for semiconductor test sockets for achieving the above object, the step of preparing nickel powder, the mixing step of mixing the nickel powder and the milling balls at a predetermined ratio, a minimum of 5 to a maximum of 30: 1 in weight ratio, and rearranging the nickel powder parallel to the direction of the magnetic field to change the contact between the powders to surface contact. and performing high-energy milling in a head-on collision mode for a predetermined time period and coating the plate-shaped nickel powder with a conductive metal film.
본 발명의 실시 예2에서, 니켈 분말을 준비하는 단계, 상기 니켈 분말에 전도성 금속막을 코팅하는 단계, 상기 니켈 분말과 밀링 볼을 미리 정해진 비율, 최소 5 내지 최대 30: 1 중량비로 혼합하는 혼합단계와, 상기 금속막이 고에너지 밀링에서 분리되지 않도록 윤활제를 추가하는 단계와, 상기 니켈 분말이 자기장 방향과 평행하게 재배열시켜서 분말간 접촉을 면접촉으로 유도하는 판상형 니켈 분말로 변경하도록 혼합된 상기 니켈 분말와 상기 밀링 볼을 수평형 고에너지 밀링장치에 장입하여 정면 충돌 모드로 정해진 시간동안 고에너지 밀링하는 단계를 포함한다.In Example 2 of the present invention, preparing nickel powder, coating a conductive metal film on the nickel powder, mixing the nickel powder and the milling balls at a predetermined ratio, minimum 5 to maximum 30: 1 weight ratio, adding a lubricant so that the metal film does not separate in high-energy milling, rearranging the nickel powder parallel to the direction of the magnetic field to change the contact between the powders to surface contact. and performing high-energy milling for a predetermined time in a head-on collision mode by charging the milling device.
본 발명의 양호한 실시 예에서는 상기 니켈 분말을 준비하는 단계에서 상기 니켈 분말이 구형이다.In a preferred embodiment of the present invention, in the step of preparing the nickel powder, the nickel powder has a spherical shape.
본 발명의 양호한 실시 예에서는 상기 전도성 금속막은 은 또는 금막이다.In a preferred embodiment of the present invention, the conductive metal layer is a silver or gold layer.
본 발명의 양호한 실시 예에서는 상기 윤활제는 고체 윤활제 또는 액체 윤활제를 포함한다. In a preferred embodiment of the present invention, the lubricant includes a solid lubricant or a liquid lubricant.
본 발명은 종래의 코팅된 구형 분말과는 달리, 첫째 은(Ag) 또는 금(Au)으로 코팅된 상용 니켈 분말로부터 고에너지 기계적 밀링 공정변수 및 밀링조건 변경을 통해 단시간에 다양한 형상(양호하게, 구형)의 분말을 판상형 분말로 변화시킴은 물론, 동시에 표면 전도성 코팅층이 분리되지 않는 특징이 있다. Unlike the conventional coated spherical powder, the present invention is characterized in that, first, from commercial nickel powder coated with silver (Ag) or gold (Au), powder of various shapes (preferably, spherical) is changed into plate-like powder in a short time through high-energy mechanical milling process parameters and milling condition changes, and at the same time, the surface conductive coating layer is not separated.
이와 같이 제조된 분말은 액상 실리콘과 혼합하여 자력성형기를 통해 성형되는데, 판상형 니켈 분말들은 자기장 방향과 평행하게 재배열되어 분말간 접촉을 면접촉으로 유도하여 전기저항을 크게 감소시키는 효과가 있다. 이러한 효과는 고주파용 테스트소켓 부품을 개발하는데 핵심소재로 사용될 수 있는 효과가 있다. The powder prepared in this way is mixed with liquid silicon and molded through a magnetic molding machine, and the plate-shaped nickel powders are rearranged parallel to the direction of the magnetic field to induce surface contact between the powders, thereby greatly reducing electrical resistance. This effect has an effect that can be used as a core material in developing high frequency test socket parts.
도 1은 본 발명을 구현하기 위한 반도체 테스트 소켓 제조용 전도성 금속막 코팅된 판상형 니켈 분말소재 제조방법의 실시 예1에 따른 주요 단계의 흐름도이다.
도 2은 실시 예2에 따른 주요 단계의 흐름도이다.
도 3는 고에너지 밀링 단계의 정면 충돌 모드에서의 구형 니켈 분말이 판상형 니켈 분말로 변하는 메카니즘을 도시한다.
도 4 실시 예2에 따른 은 또는 금 코팅된 돌기형 니켈 분말을 고에너지 밀링하여 제조된 분말에 대한 전자현미경 조직 이미지이다.
도 5는 실시 예1에 따라서 제조된 판상형 분말이 러버 소켓에 사용되어 정렬된 단면조직도이다. 1 is a flowchart of main steps according to Example 1 of a method for manufacturing a plate-shaped nickel powder material coated with a conductive metal film for manufacturing a semiconductor test socket to implement the present invention.
2 is a flowchart of main steps according to Embodiment 2;
Fig. 3 shows the mechanism by which spherical nickel powder changes to plate-like nickel powder in the head-on impact mode of the high-energy milling step.
FIG. 4 is an electron microscope image of a powder prepared by high-energy milling of silver or gold-coated protruding nickel powder according to Example 2. FIG.
5 is a cross-sectional structure diagram of the plate-shaped powder prepared according to Example 1 used in a rubber socket and aligned.
본 발명은 다양한 변환을 가할 수 있고 여러 가지 실시예를 가질 수 있는 바, 특정 실시 예들을 도면에 예시하고 상세한 설명에 상세하게 설명하고자 한다. 그러나, 이는 본 발명을 특정한 실시 형태에 대해 한정하려는 것이 아니며, 본 발명의 사상 및 기술 범위에 포함되는 모든 변환, 균등물 내지 대체물을 포함하는 것으로 이해되어야 한다. 또한 여기서 사용되는 볼은 밀링 볼을 의미하고 분말은 니켈 분말을 의미하고 코팅과 도금은 같은 뜻으로 이해되어야 한다. Since the present invention can apply various transformations and have various embodiments, specific embodiments will be illustrated in the drawings and described in detail in the detailed description. However, it should be understood that this is not intended to limit the present invention to specific embodiments, and includes all transformations, equivalents, and substitutes included in the spirit and scope of the present invention. In addition, the ball used here means a milling ball, the powder means nickel powder, and coating and plating should be understood as the same meaning.
첨부의 도 1 내지 도 5를 참고로 본 발명을 보다 상세하게 설명하겠다. 도 1은 본 발명을 구현하기 위한 반도체 테스트 소켓 제조용 전도성 금속막 코팅된 판상형 니켈 분말소재 제조방법의 흐름도이다.The present invention will be described in more detail with reference to the accompanying FIGS. 1 to 5 . 1 is a flowchart of a method for manufacturing a plate-shaped nickel powder material coated with a conductive metal film for manufacturing a semiconductor test socket in order to implement the present invention.
실시 1예Example 1
본 발명의 실시 예1는 니켈 분말을 준비하는 단계, 상기 니켈 분말과 밀링 볼을 미리 정해진 비율, 최소 5 내지 최대 30: 1 중량비로 혼합하는 혼합단계와, 상기 니켈 분말이 자기장 방향과 평행하게 재배열시켜서 분말간 접촉을 면접촉으로 유도하는 판상형 니켈 분말로 변경하도록 혼합된 상기 니켈 분말와 상기 밀링 볼을 수평형 고에너지 밀링장치에 장입하여 정면 충돌 모드로 정해진 시간동안 고에너지 밀링하는 단계와 상기 판상형 니켈 분말에 전도성 금속막을 코팅하는 단계를 포함한다.Example 1 of the present invention is a step of preparing nickel powder, a mixing step of mixing the nickel powder and milling balls at a predetermined ratio, a minimum of 5 to a maximum of 30: 1 weight ratio, a step of rearranging the nickel powder parallel to a magnetic field direction to induce surface contact between powders, charging the mixed nickel powder and the milling balls into a horizontal high-energy milling device to perform high-energy milling in a frontal collision mode for a predetermined time, and coating a conductive metal film on the plate-shaped nickel powder Include steps.
니켈 분말을 준비하는 단계에서는, 니켈 분말의 크기는 다양하지만 보통은 10 ~ 50 마이크로미터 크기가 대부분이다. 가장 바람직하게는 20 마이크로미터 전후 크기의 분말이 바람직하다. 은(Ag) 또는 금(Au) 코팅막의 두께는 보통 수 마이크로미터 수준이며, 바람직하게는 0.5 내지 1 마이크로미터 전후가 바람직하다. In the step of preparing the nickel powder, the size of the nickel powder varies, but is usually 10 to 50 micrometers. Most preferably, a powder having a size of around 20 micrometers is preferred. The thickness of the silver (Ag) or gold (Au) coating film is usually several micrometers, preferably around 0.5 to 1 micrometer.
분말의 형태는 단일 혹은 다양한 크기의 구형이거나 작은 구형 분말이 부착된 큰 분말 (돌기형 분말, nodular type powder) 형태가 사용될 수 있다. 그러나, 비구형 분말이라도 적용 가능하다. 가장 바람직하게는 크기가 일정한 구형 분말을 사용하는 것이다. The form of the powder may be single or spherical of various sizes, or a large powder (nodular type powder) to which small spherical powders are attached. However, even non-spherical powder is applicable. Most preferably, a spherical powder having a constant size is used.
니켈 분말과 밀링 볼을 미리 정해진 비율, 최소 5 내지 최대 30: 1 중량비로 혼합하는 혼합단계에서는, 니켈 분말과 밀링 볼을 미리 정해진 비율은 니켈 분말의 크기와 밀링 볼에 의한 크기에 따라서 정해진 비율로 설정하기는 어렵다. 그러나 최소치 5:1이하에서는 분말과 밀링 볼의 충돌 확률이 낮아서 효율이 감소하며, 최대치 최대 30:1이상에서는 볼과 볼의 충돌로 오염 물질이 혼입될 수 있으며, 밀링 볼은 금속계로 스텐레스스틸(stainless steel) 및 금속산화물계로 지르코니아(Zirconia), 실리콘나이트라이드(silicon nitride)계 등이 가능하다. In the mixing step of mixing the nickel powder and the milling balls at a predetermined ratio, a minimum of 5 to a maximum of 30: 1 by weight, the predetermined ratio of the nickel powder and the milling balls is determined according to the size of the nickel powder and the size of the milling balls. It is difficult to set a predetermined ratio. However, at a minimum of 5:1 or less, the probability of collision between the powder and the milling ball is low, resulting in a decrease in efficiency. At a maximum of 30:1 or more, contaminants may be mixed due to ball-to-ball collision, and the milling ball is made of stainless steel as a metal type and zirconia or silicon nitride as a metal oxide type.
혼합된 니켈 분말과 밀링 볼을 고에너지 밀링장치에 장입하여 밀링장치의 임펠러(impeller)를 밀링 볼들이 정면 충돌할 수 있는 회전수로 회전시켜서 즉 정면 충돌 모드로 설정해서 고에너지 밀링하는 단계에서는, 고에너지 밀링장치는 2종류 이상의 혼합원료 분말을 밀링하는 기계적 합금화와 순금속, 금속간 화합물 또는 미리 합금화된 분말을 단순히 분쇄하는 기계적 밀링이 있으며, 통상적으로 대부분 회전축이 수직인 수직형 고에너지 밀링장치를 이용한다. 분말과 밀링 볼(milling (grinding) media)이 혼합되어 회전하는 방식의 밀링에서 임펠러의 정상 회전 속도에서는 볼간 충돌이 미끄럼 혹은 전단운동(slip or shearing motion) 모드(mode)로 작용하고 고속 회전인 경우, 즉 회전수(rpm)가 임계치를 넘으면 볼과 분말의 중력차이에 의해서 서로 분리되는 경향이 있다. 다양한 형상(양호하게는 구형)의 분말을 판상형의 분말로 형상 변경하기 위해서는 밀링 볼이 양쪽방향에서 강한 힘으로 충돌해야, 밀링 볼사이에 위치한 다양한 형상의 분말이 판상형으로 변할 수 있다. 따라서 통상적인 수직형 고에너지 밀링장치에서는 다양한 형상의 분말을 판상형 분말로 형상 변경하는 것은 상상할 수 없다. In the step of high-energy milling by loading the mixed nickel powder and milling balls into a high-energy milling device and rotating the impeller of the milling device at a rotational speed at which the milling balls can collide head-on, that is, by setting the head-on collision mode, the high-energy milling device includes mechanical alloying for milling two or more kinds of mixed raw material powder and mechanical milling for simply grinding pure metal, intermetallic compound, or pre-alloyed powder, and usually uses a vertical high-energy milling device with a vertical axis of rotation in most cases. In milling in which powder and milling balls (milling (grinding) media) are mixed and rotated, at the normal rotational speed of the impeller, the collision between the balls acts as a slip or shearing motion mode. In the case of high-speed rotation, that is, when the number of revolutions (rpm) exceeds a critical value, the balls and powder tend to be separated from each other due to the difference in gravity. In order to change the shape of powder of various shapes (preferably spherical) into plate-shaped powder, the milling balls must collide with strong force in both directions so that the powder of various shapes located between the milling balls can be changed into plate-shaped powder. Therefore, it is unimaginable to change the shape of powder of various shapes into plate-shaped powder in a conventional vertical high-energy milling device.
따라서, 수직형 고에너지 밀링장치 대신에 회전축이 수평이 수평형 고에너지 밀링장치를 이용해서, 분말과 밀링 볼(milling (grinding) media)을 혼합해서 임펠러를 고속 회전시킬때, 회전수(rpm)가 임계치를 넘으면 볼간 충돌이 미끄럼 혹은 전단운동 모드로부터 정면 충돌 모드(head-on collision mode)로 변화한다. 따라서 밀링 단계에서는 고에너지 밀링장치의 임펠러(impeller, 회전자)를 전단운동 모드로부터 정면 충돌 모드로 변경하는 회전수로 회전시켜야 한다. 고에너지 밀링장치의 임펠러 임계 회전수는 임펠러의 직경에 반비례한다. 따라서 임펠러의 회전수를 특정 수치로 제한해서는 안된다. 여기서 니켈 분말은 정면 충돌 모드에서 도 3에 도시한 바와 같이 볼의 수직압축응력에 의해 소성변형되어 판상형 니켈 분말로 제조된다. 밀링 단계에서 임펠러의 회전수를 너무 높이면, 상술한 바와 같이 불순물이 생길 수 있다. 밀링 시간은 임펠러의 회전수와 밀링 볼과 니켈 분말의 혼합비 등에 따라서 선택할 수 있으나, 통상적으로 10분 내지 30분이 적절하다(아래 표 1참조). 밀링 단계에서 제조된 판상형 니켈 분말에 전도성 금속막을 코팅하는 단계를 포함한다. 전도성 금속막은 은 또는 금 코팅된 전도성 막이다. 전도성 금속막은 테스트 소켓에서는 필수 구성요소이다. Therefore, when the impeller is rotated at high speed by mixing powder and milling balls (milling (grinding) media) using a horizontal high-energy milling device with a horizontal axis of rotation instead of a vertical high-energy milling device, the number of revolutions (rpm) exceeds the critical value. The collision between the balls changes from the sliding or shear motion mode to the head-on collision mode. Therefore, in the milling step, the impeller (rotor) of the high-energy milling device must be rotated at a rotational speed that changes from the shear motion mode to the frontal impact mode. The critical rotational speed of the impeller of the high-energy milling machine is inversely proportional to the diameter of the impeller. Therefore, the number of revolutions of the impeller should not be limited to a specific value. Here, the nickel powder is plastically deformed by the vertical compressive stress of the ball as shown in FIG. 3 in the head-on collision mode to produce plate-shaped nickel powder. If the rotational speed of the impeller is too high in the milling step, impurities may be generated as described above. The milling time may be selected according to the number of revolutions of the impeller and the mixing ratio of the milling ball and the nickel powder, but is usually 10 to 30 minutes appropriate (see Table 1 below). and coating a conductive metal film on the plate-shaped nickel powder prepared in the milling step. The conductive metal film is a silver or gold coated conductive film. A conductive metal film is an essential component of the test socket.
이렇게 제조된 니켈 분말을 크기별로 분급하여 가압전도성 러버형 테스트 소켓의 니켈 분말 소재로 사용될 수 있다. The nickel powder prepared in this way can be classified according to size and used as a nickel powder material for a pressurized conductive rubber-type test socket.
실시 예2Example 2
실시 예2는 실시 예1의 니켈 분말을 준비하는 단계후에 여기에 전도성 금속막을 코팅하는 단계를 포함한다. 양호하게 니켈 분말에 또는 금으로 코팅한다. 특히 구형 니켈 분말인 경우에는 구형을 코팅하는 것이 판상형의 니켈 분말을 코팅하는 것보다 작업이 용이하고 코팅효과도 좋다. 이는 구형이 판상형보다 코팅층을 균일하게 할 수 있기 때문이다. Example 2 includes a step of coating a conductive metal film thereon after the step of preparing the nickel powder of Example 1. Preferably nickel powder or coated with gold. In particular, in the case of spherical nickel powder, coating the sphere is easier and has a better coating effect than coating the plate-shaped nickel powder. This is because the spherical shape can make the coating layer more uniform than the plate shape.
다음으로 윤활제를 추가하는 단계를 더 포함한다. 코팅된 구형의 니켈 분말이 판상형으로 변하면서 모서리를 갖게 되고 따라서 니켈 분말과 밀링 볼의 충돌시 마찰력(friction force)에 의해 코팅된 전도성 금속막이 니켈 분말로부터 분리될 수 있기 때문이다. 예를 들어, 밀링 볼의 혼합비율이 니켈 분말보다 너무 높거나, 임펠러의 회전수가 너무 높거나 미리 정해진 밀링 시간을 초과할 경우에, 분말과 밀링 볼의 충돌시 마찰력(friction force)에 의해 코팅층이 분말로부터 분리될 수 있는데, 이러한 마찰력을 조절하기 위해 적절한 밀링 볼을 선택하고, 고체 및 액체 형태의 윤활제를 사용한다. 특히, 액체 윤활제는 소량의 첨가로도 효과적으로 표면 마찰력을 감소시켜 코팅층을 유지하는데 효과적이다. 따라서 본 발명에서는 코팅된 전도성 금속막이 니켈 분말로부터 분리되지 않도록 윤활제를 추가하는 단계를 포함한다.Next, a step of adding a lubricant is further included. This is because the coated spherical nickel powder changes into a plate-like shape and has edges, and thus the coated conductive metal film can be separated from the nickel powder by frictional force when the nickel powder collides with the milling balls. For example, when the mixing ratio of the milling balls is too high compared to that of the nickel powder, the rotation speed of the impeller is too high, or the predetermined milling time is exceeded, the coating layer may be separated from the powder due to the friction force when the powder and the milling balls collide. In particular, the liquid lubricant is effective in maintaining the coating layer by effectively reducing surface friction even with the addition of a small amount. Therefore, the present invention includes adding a lubricant so that the coated conductive metal film is not separated from the nickel powder.
윤활제의 양은 최소 1wt%로부터 최대 15wt%까지 사용이 가능하며, 약 5wt%를 유지하는 것이 바람직하다. 1wt% 이하에서는 윤활효과가 없으며, 15wt% 이상에서는 분말과 윤활제 혼합물의 점도가 상승하여 정상적인 밀링이 이루어지지 않는다. 아래 표 1의 고에너지 밀링으로 제조한 코팅된 니켈 분말의 제조 조건 및 결과를 참조하기 바란다. 표 1은 구형 니켈 분말과 밀링 볼의 비율, 밀링 시간 및 윤활제의 량에 따라서 제조된 니켈 분말의 형태와 표면의 전도성 은 또는 금 코팅막의 유지 상태를 나타낸다. 여기서 알 수 있듯이, 구형 니켈 분말과 밀링 볼의 비율이 1 대 15 내지 30, 밀링 시간이 20 내지 30분, 윤활제 량이 5 내지 10%인 경우에 전도성 코팅된 은 또는 금막이 유지되면서 판상형을 유지한다. 전도성 금속인 은과 금은 연성이 우수하기 때문에 니켈 분말과 동시에 소성변형되기 때문에 코팅막 형태를 안정되게 유지할 수 있는 장점이 있다. The amount of lubricant can be used from a minimum of 1wt% to a maximum of 15wt%, and it is preferable to maintain about 5wt%. Below 1wt%, there is no lubrication effect, and above 15wt%, the viscosity of the mixture of powder and lubricant increases and normal milling is not performed. Please refer to the manufacturing conditions and results of the coated nickel powder produced by high energy milling in Table 1 below. Table 1 shows the shape of nickel powder prepared according to the ratio of spherical nickel powder to milling balls, milling time, and amount of lubricant, and the state of maintaining the conductive silver or gold coating film on the surface. As can be seen here, when the ratio of the spherical nickel powder to the milling balls is 1:15 to 30, the milling time is 20 to 30 minutes, and the amount of lubricant is 5 to 10%, the conductive coated silver or gold film is maintained while maintaining the plate shape. Since silver and gold, which are conductive metals, have excellent ductility, they are plastically deformed at the same time as nickel powder, and thus have the advantage of stably maintaining the shape of the coating film.
(wt% 비)Milling Ball: Powder Ratio
(wt% ratio)
(분)milling time
(minute)
(%)slush
(%)
도 3는 고에너지 밀링 단계의 정면 충돌 모드에서의 구형 니켈 분말이 판상형 니켈 분말로 변하는 메카니즘을 도시한다. 도 3를 참조하면, 고에너지 밀링 단계에서 은 또는 금으로 코팅된 금속막(3)을 갖는 구형 니켈 분말(2)은 밀링 볼(1)의 강한 수직 압력에 의해서 판상형(디스크형상)의 니켈 분말(2')로 변하게 된다. Fig. 3 shows the mechanism by which spherical nickel powder changes to plate-like nickel powder in the head-on impact mode of the high-energy milling step. Referring to FIG. 3, in the high-energy milling step, spherical nickel powder 2 having a metal film 3 coated with silver or gold is plate-shaped (disk-shaped) by strong vertical pressure of the milling ball 1. It is changed into nickel powder 2'.
상술한 실시 예들에 의해 제조된 전도성 금속막 코팅된 판상형 니켈 분말을 액상 실리콘과 혼합하여 자력 성형기를 포함하는 성형용 금형에 장입해서, 자력성형기를 통해 강한 자기장을 금형에 수직방향으로 인가하면서 동시에 열처리하여 경화시키는 단계를 거친다. 금형에 설치된 자력성형기에서 강한 자기장을 금형에 수직방향으로 인가하면, 니켈 분말들은 자기장 방향과 평행하게 재배열된다. 판상의 니켈 분말은 구형 분말에 비해 자기장 방향과 나란하게 배열되는데, 이는 자기이방성이 작기 때문이다. 도 5는 본 발명의 실시 예들에 의해 제조된 판상형 분말을 사용한 러버 테스트 소켓의 단면조직이다. 이를 참조하면, 자력 성형에 의해 실리콘 러버 내부의 분말들이 자기장 방향으로 잘 정렬된 조직으로 면접촉을 형성하고 있음을 명확하게 알 수 있다. 테스트 과정에서 판상형의 니켈 분말이 자기장 방향에 대해서 나란하게 배열되기 때문에 테스트 과정에서 테스트 소켓에 압력을 가하면 분말간 면접촉으로 유도하여 전기저항을 크게 감소하는 효과가 있다. 전기저항이 감소할수록 고주파용 테스트소켓 부품으로 사용되는 장점을 갖는다. The plate-shaped nickel powder coated with the conductive metal film prepared in the above-described embodiments is mixed with liquid silicon and charged into a molding mold including a magnetic molding machine, and a strong magnetic field is applied to the mold in a vertical direction through the magnetic molding machine. At the same time, heat treatment and hardening are performed. When a strong magnetic field is applied perpendicularly to the mold in the magnetic forming machine installed in the mold, the nickel powders are rearranged parallel to the direction of the magnetic field. The plate-like nickel powder is arranged in parallel with the magnetic field direction compared to the spherical powder because the magnetic anisotropy is small. 5 is a cross-sectional structure of a rubber test socket using plate-shaped powder manufactured according to embodiments of the present invention. Referring to this, it can be clearly seen that the powders inside the silicon rubber are well-aligned in the direction of the magnetic field and form surface contact by magnetic molding. In the test process, since the plate-shaped nickel powder is arranged in parallel with respect to the direction of the magnetic field, when pressure is applied to the test socket during the test process, it induces surface contact between the powders and has the effect of greatly reducing electrical resistance. As the electrical resistance decreases, it has the advantage of being used as a test socket component for high frequency.
구현된 양호한 실시 예A good example implemented
본 발명의 양호한 실시 예에서는 약 20 마이크로미터의 평균 크기를 갖는 돌기형 분말을 사용하였다. 이러한 니켈 분말은 전도성 은(Ag)은 1 마이크로미터 두께로 또는 금(Au)은 0.5 마이크로미터 두께로 코팅하였다. In a preferred embodiment of the present invention, protruding powder having an average size of about 20 micrometers was used. The nickel powder was coated with conductive silver (Ag) to a thickness of 1 micrometer or gold (Au) to a thickness of 0.5 micrometer.
이렇게 준비한 분말들을 수평형 고에너지 밀링장치(Zoz사, 모델명 CM01)에 주입하였다. 밀링장치 임펠러(impeller, 회전자)의 회전수(속도)는 1,000 rpm이며, 정면 충돌(head-on collision mode) 모드를 유지한다. 밀링 볼은 지르코니아 (Zirconia) 재질이며, 볼과 분말 양의 비(중량비)는 15 : 1 이며, 밀링 용기는 불활성 아르곤 가스를 장입하여 산화에 의한 오염을 방지하였고, 밀링시간은 30분이었다. The prepared powders were injected into a horizontal high-energy milling device (Zoz, model name: CM01). The rotation speed (speed) of the impeller (rotor) of the milling device is 1,000 rpm, and the head-on collision mode is maintained. The milling balls were made of zirconia, the ball-to-powder ratio (weight ratio) was 15:1, the milling container was charged with inert argon gas to prevent contamination by oxidation, and the milling time was 30 minutes.
균일한 밀링과 코팅막의 분리를 피하기 위한 방법으로 윤활제 사용하였는데, 본 양호한 실시예에서는 에탄올을 5wt% 첨가하였다. 도 2에 명시한 바와 같은 흐름도에 따라서, 코팅된 분말은 볼과의 정면 충돌과정에서 판상 분말로 제조되었다. A lubricant was used as a method for uniform milling and avoiding separation of the coating film. In this preferred embodiment, 5 wt% of ethanol was added. According to the flow chart as indicated in FIG. 2, the coated powder was made into a plate-shaped powder in the process of head-on collision with the ball.
도 4는 실시 예 조건에 따라 은 또는 금 코팅된 돌기형 니켈 분말을 고에너지 밀링하여 제조된 분말에 대한 전자현미경 조직 이미지이다. 분말의 형상은 판상형(디스크형)이며, 크기는 약 20~40 마이크로미터, 두께는 7~10 마이크로미터 이었으며, 본 발명에서 제안한 전도성 코팅막을 갖는 판상형 분말 소재가 잘 제조되었음을 나타내는 결과이다. 상술한 양호한 실시 예에서 제조된 판상형 분말 소재를 이용한 테스트 소켓은 100이상 GHz의 고주파 반도체의 테스트에 사용될 수 있음을 확인했다. 4 is an electron microscope image of a powder prepared by high-energy milling of silver or gold-coated protruding nickel powder according to the conditions of the embodiment. The shape of the powder was plate-shaped (disk-shaped), the size was about 20 to 40 micrometers, and the thickness was 7 to 10 micrometers. It was confirmed that the test socket using the plate-shaped powder material manufactured in the above-described preferred embodiment can be used for testing high-frequency semiconductors of 100 GHz or more.
1: 밀링 볼
2: 니켈 분말
3: 금속막 1: milling ball
2: nickel powder
3: metal film
Claims (6)
니켈 분말을 준비하는 단계,
상기 니켈 분말과 밀링 볼을 최소 5 내지 최대 30: 1 중량비로 혼합하는 혼합단계와,
상기 니켈 분말이 자기장 방향과 평행하게 재배열시켜서 분말간 접촉을 면접촉으로 유도하는 판상형 니켈 분말로 변경하도록 혼합된 상기 니켈 분말와 상기 밀링 볼을 수평형 고에너지 밀링장치에 장입하여 정면 충돌 모드로 정해진 시간동안 고에너지 밀링하는 단계와
상기 판상형 니켈 분말에 전도성 금속막을 코팅하는 단계를 포함하는, 반도체 테스트소켓용 전도성 금속막 코팅된 판상형 니켈 분말소재의 제조방법.In the manufacturing method of plate-shaped nickel powder material coated with a conductive metal film for semiconductor test sockets,
preparing nickel powder;
A mixing step of mixing the nickel powder and the milling balls in a weight ratio of at least 5 to at most 30: 1;
Loading the mixed nickel powder and the milling balls into a horizontal high-energy milling device so that the nickel powder is rearranged in parallel with the direction of the magnetic field to change the contact between the powders into a plate-shaped nickel powder that induces surface contact, and high-energy milling for a predetermined time in a head-on collision mode;
A method of manufacturing a plate-like nickel powder material coated with a conductive metal film for a semiconductor test socket, comprising the step of coating the plate-like nickel powder with a conductive metal film.
니켈 분말을 준비하는 단계,
상기 니켈 분말에 전도성 금속막을 코팅하는 단계,
상기 니켈 분말과 밀링 볼을 최소 5 내지 최대 30: 1 중량비로 혼합하는 혼합단계와,
상기 금속막이 고에너지 밀링에서 분리되지 않도록 윤활제를 추가하는 단계와,
상기 니켈 분말이 자기장 방향과 평행하게 재배열시켜서 분말간 접촉을 면접촉으로 유도하는 판상형 니켈 분말로 변경하도록 혼합된 상기 니켈 분말와 상기 밀링 볼을 수평형 고에너지 밀링장치에 장입하여 정면 충돌 모드로 정해진 시간동안 고에너지 밀링하는 단계를 포함하는, 반도체 테스트소켓용 전도성 금속막 코팅된 판상형 니켈 분말소재의 제조방법.In the manufacturing method of plate-shaped nickel powder material coated with a conductive metal film for semiconductor test sockets,
preparing nickel powder;
coating a conductive metal film on the nickel powder;
A mixing step of mixing the nickel powder and the milling balls in a weight ratio of at least 5 to at most 30: 1;
Adding a lubricant so that the metal film does not separate in high energy milling;
Loading the mixed nickel powder and the milling balls into a horizontal high-energy milling device so that the nickel powder is rearranged in parallel with the direction of the magnetic field to change the contact between the powders to surface contact, and performing high-energy milling for a predetermined time in a frontal impact mode.
상기 니켈 분말을 준비하는 단계에서 상기 니켈 분말이 구형인, 반도체 테스트소켓용 전도성 금속막 코팅된 판상형 니켈 분말소재의 제조방법.According to claim 1 or 2,
In the step of preparing the nickel powder, the nickel powder has a spherical shape, a method of manufacturing a plate-shaped nickel powder material coated with a conductive metal film for a semiconductor test socket.
상기 전도성 금속막은 은 또는 금막인, 반도체 테스트소켓용 전도성 금속막 코팅된 판상형 니켈 분말소재의 제조방법.According to claim 1 or 2,
The method of manufacturing a plate-shaped nickel powder material coated with a conductive metal film for a semiconductor test socket, wherein the conductive metal film is a silver or gold film.
상기 윤활제는 고체 윤활제 또는 액체 윤활제를 포함하는, 반도체 테스트소켓용 전도성 금속막 코팅된 판상형 니켈 분말소재의 제조방법.According to claim 2,
The method of manufacturing a plate-shaped nickel powder material coated with a conductive metal film for a semiconductor test socket, wherein the lubricant includes a solid lubricant or a liquid lubricant.
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