KR102523093B1 - Film for punching process and display device including the same - Google Patents

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Abstract

레이저 타발공정용 필름 및 이를 포함하는 디스플레이 소자가 제공된다. 상기 레이저 타발공정용 필름은 밀착력이 우수하면서 약한 박리력을 가지기에 디스플레이 소자 제작 공정 중에 발생할 수 있는 이물유입을 최소화하고 에지(edge) 들뜸, 버(burr) 발생, 기포 유입 등을 억제할 수 있다. 또한 상기 레이저 타발공정용 필름은 원하는 모양으로 타발을 진행하는 자외선 레이저를 이용한 커팅에 적합하다. A film for a laser punching process and a display device including the same are provided. The film for the laser punching process has excellent adhesion and weak peeling force, so it can minimize the inflow of foreign substances that may occur during the display device manufacturing process and suppress edge lifting, burr generation, and air bubble inflow. . In addition, the film for the laser punching process is suitable for cutting using an ultraviolet laser to perform punching in a desired shape.

Description

레이저 타발공정용 필름 및 이를 포함하는 디스플레이 소자{Film for punching process and display device including the same}Film for laser punching process and display device including the same {Film for punching process and display device including the same}

레이저 타발공정용 필름 및 이를 포함하는 디스플레이 소자에 관한 것이다.It relates to a film for laser punching process and a display device including the same.

LCD, OLED 등의 디스플레이와 같은 전자소자를 제작할 때 상기 전자소자 사이즈로 필름을 자르는 커팅 공정 또는 타발 공정이 필요하다. 상기 커팅 공정 중에 정전기 발생에 의한 이물 유입을 최소화하고 전자소자의 수율을 향상시키기 위하여, 대전방지기능이 포함된 필름이 전자소자의 각종 부재료로서 많이 적용되고 있다.When manufacturing electronic devices such as displays such as LCD and OLED, a cutting process or punching process for cutting a film to the size of the electronic device is required. In order to minimize the inflow of foreign substances caused by static electricity during the cutting process and improve the yield of electronic devices, films having antistatic functions are widely used as various auxiliary materials for electronic devices.

현재 나이프를 적용한 커팅 공정이 주로 적용되고 있으나 커팅 공정 중에 에지(edge) 들뜸, 버(burr) 발생, 또는 기포유입 등의 문제가 발생하고 있다. 이러한 문제를 해결하기 위하여 나이프가 아닌 자외선 레이저를 이용한 커팅 공정이 검토되고 있다. Currently, a cutting process using a knife is mainly applied, but problems such as edge lifting, burr generation, or air bubble inflow occur during the cutting process. In order to solve this problem, a cutting process using an ultraviolet laser instead of a knife is being reviewed.

따라서 이물유입, 에지(edge) 들뜸, 버(burr) 발생, 기포 유입 등을 억제하면서 자외선 레이저를 이용한 커팅 공정에 적합하고 우수한 밀착력 및 약한 박리력을 갖는 레이터 타발공정용 필름 및 이를 포함하는 디스플레이 소자에 대한 요구가 있다. Therefore, while suppressing foreign matter inflow, edge lifting, burr generation, air bubble inflow, etc., it is suitable for cutting process using ultraviolet laser and has excellent adhesion and weak peeling force. There is a demand for

일 측면은 우수한 밀착력 및 약한 박리력을 가지며 이물유입, 에지(edge) 들뜸, 버(burr) 발생, 기포 유입 등을 억제하면서 자외선 레이저를 이용한 커팅에 적합한 레이저 타발공정용 필름을 제공하는 것이다. One aspect is to provide a film for a laser punching process suitable for cutting using an ultraviolet laser while having excellent adhesion and weak peeling force and suppressing foreign matter inflow, edge lifting, burr generation, and bubble inflow.

다른 일 측면은 상기 레이저 타발공정용 필름을 포함하는 디스플레이 소자를 제공하는 것이다. Another aspect is to provide a display device including the film for the laser punching process.

일 측면에 따라,According to one aspect,

레이저 타발공정용 필름으로서, As a film for laser punching process,

폴리에스테르계 기재; 및polyester base materials; and

상기 폴리에스테르계 기재의 적어도 일 면에 위치하는 점착층;을 포함하고,An adhesive layer positioned on at least one surface of the polyester-based substrate; includes,

상기 점착층은 실리콘계 점착제 및 자외선 흡수제를 포함하는 점착 조성물의 경화층이고,The adhesive layer is a cured layer of an adhesive composition containing a silicone-based adhesive and an ultraviolet absorber,

상기 자외선 흡수제가 트리아진계 자외선 흡수제를 포함하고,The UV absorber includes a triazine-based UV absorber,

330 nm 내지 380 nm 파장에서 20% 이하의 광투과율을 갖고,It has a light transmittance of 20% or less at a wavelength of 330 nm to 380 nm,

450 nm 이상의 파장에서 60% 이상의 광투과율을 갖고,It has a light transmittance of 60% or more at a wavelength of 450 nm or more,

하기 식 1을 만족하는, 레이저 타발공정용 필름이 제공된다.A film for laser punching process that satisfies Equation 1 below is provided.

[식 1][Equation 1]

0 < │A1-P1│≤ 4 gf/inch0 < │A1-P1│≤ 4 gf/inch

식 중에서,In the expression

A1은 폴리에스테르계 필름에 대한 180 ° 각도, 0.3 mpm 속도 하에 필름의 박리력이고,A1 is the peel force of the film under a 180 ° angle, 0.3 mpm speed for a polyester-based film,

P1은 폴리에스테르계 필름에 대한 180 ° 각도, 0.3 mpm 속도 하에 자외선 흡수제를 제외한 점착층을 포함한 필름의 박리력이다. P1 is the peel force of the film including the adhesive layer excluding the UV absorber under a 180° angle and a speed of 0.3 mpm for the polyester film.

상기 330 nm 내지 380 nm 파장에서 5% ~ 20%의 광투과율을 가질 수 있다.It may have a light transmittance of 5% to 20% at the wavelength of 330 nm to 380 nm.

상기 필름의 수접촉각(deg.)은 하기 식 2를 만족할 수 있다:The water contact angle (deg.) of the film may satisfy Equation 2 below:

[식 2][Equation 2]

118 °≤ 수접촉각(deg.) < 128 °118 °≤ water contact angle (deg.) < 128 °

상기 필름은 상온에서 폴리에스테르계 필름에 대한 180 ° 각도, 0.3 mpm 속도 하에 박리력이 15 gf/inch 이하이고, The film has a peel force of 15 gf / inch or less at a speed of 0.3 mpm at a 180 ° angle relative to a polyester film at room temperature,

상온에서 폴리에스테르계 필름에 대한 180 ° 각도, 2.4 mpm 속도 하에 박리력이 30 gf/inch 이하일 수 있다.Peel force may be 30 gf/inch or less under a 180 ° angle and a speed of 2.4 mpm for a polyester film at room temperature.

상기 필름은 하기 식 3을 만족할 수 있다:The film may satisfy Equation 3 below:

[식 3][Equation 3]

5 gf/inch < (A2-A1)/2 < 10 gf/inch5 gf/inch < (A2-A1)/2 < 10 gf/inch

식 중에서,In the expression

A1은 상온에서 폴리에스테르계 필름에 대한 180 ° 각도, 0.3 mpm 속도 하에 상기 필름의 박리력이고,A1 is the peel force of the film under a 180 ° angle, 0.3 mpm speed for a polyester-based film at room temperature,

A2는 상온에서 폴리에스테르계 필름에 대한 180 ° 각도, 2.4 mpm 속도 하에 상기 필름의 박리력이다. A2 is the peel force of the film under a 180° angle, 2.4 mpm speed for a polyester-based film at room temperature.

상기 실리콘계 점착제는 서로 다른 2종의 실록산과 실란이 함유된 수지를 포함한 제1 실리콘계 점착제 및 제2 실리콘계 점착제를 포함할 수 있다.The silicone-based pressure-sensitive adhesive may include a first silicone-based pressure-sensitive adhesive and a second silicone-based pressure-sensitive adhesive including a resin containing two different types of siloxane and silane.

상기 제1 실리콘계 점착제의 함량은 제2 실리콘계 점착제의 함량보다 클 수 있다.The content of the first silicone-based pressure-sensitive adhesive may be greater than that of the second silicone-based pressure-sensitive adhesive.

상기 자외선 흡수제의 함량은 상기 제1 실리콘계 점착제 100 중량부를 기준으로 하여 2.5 중량부 이하일 수 있다.The content of the UV absorber may be 2.5 parts by weight or less based on 100 parts by weight of the first silicone-based pressure-sensitive adhesive.

상기 점착 조성물은 경화제, 점착 촉진제, 촉매, 및 용매를 더 포함할 수 있다.The adhesive composition may further include a curing agent, an adhesion accelerator, a catalyst, and a solvent.

상기 점착층의 두께는 5 ~ 10 ㎛일 수 있다.The adhesive layer may have a thickness of 5 to 10 μm.

상기 필름 표면에 대해 ASTM D257 표준에 따라 측정한 표면저항은 1 x 104 ~ 1 x 1011 Ω/cm2일 수 있다.The surface resistance of the film surface measured according to the ASTM D257 standard may be 1 x 10 4 to 1 x 10 11 Ω/cm 2 .

상기 점착층 상에 불소함유 실리콘 이형필름이 추가로 배치될 수 있다.A fluorine-containing silicone release film may be additionally disposed on the adhesive layer.

다른 일 측면에 따라,According to another aspect,

전술한 레이저 타발공정용 필름이 점착되는 피착제; 및An adherend to which the film for the above-described laser punching process is adhered; and

박막 디스플레이 패널;을 포함하고,Including; thin film display panel;

상기 피착제는 시트를 포함하는, 디스플레이 소자가 제공된다. The adherend includes a sheet, and a display device is provided.

일 구현예에 따른 레이저 타발공정용 필름은 폴리에스테르계 기재의 적어도 일 면에 위치하는 점착층을 포함하고, 상기 점착층은 실리콘계 점착제 및 자외선 흡수제를 포함하는 점착 조성물의 경화층이고, 상기 자외선 흡수제가 트리아진계 자외선 흡수제를 포함하고, 330 nm 내지 380 nm 파장에서 20% 이하의 광투과율을 갖고, 450 nm 이상의 파장에서 60% 이상의 광투과율을 갖고, 상기 식 1을 만족할 수 있다.A film for a laser punching process according to an embodiment includes an adhesive layer positioned on at least one surface of a polyester-based substrate, the adhesive layer is a cured layer of an adhesive composition including a silicone-based adhesive and an ultraviolet absorber, and the ultraviolet absorber contains a triazine-based ultraviolet absorber, has a light transmittance of 20% or less at a wavelength of 330 nm to 380 nm, and has a light transmittance of 60% or more at a wavelength of 450 nm or more, and may satisfy Equation 1 above.

상기 레이저 타발공정용 필름은 우수한 밀착력 및 약한 박리력을 가지며 이물유입, 에지(edge) 들뜸, 버(burr) 발생, 기포 유입 등을 억제하면서 자외선 레이저를 이용한 커팅에 적합한 필름을 제공할 수 있다.The film for the laser punching process has excellent adhesion and weak peeling strength, and can provide a film suitable for cutting using an ultraviolet laser while suppressing foreign matter inflow, edge lifting, burr generation, and air bubble inflow.

도 1은 일 구현예에 따른 레이저 타발공정용 필름의 단면도이다.
도 2는 실시예 1, 비교예 5, 및 비교예 11에 의해 제작된 레이저 타발공정용 필름에 대한 UV 스펙트럼 결과이다.
1 is a cross-sectional view of a film for a laser punching process according to one embodiment.
2 is a UV spectrum result for the films for laser punching process prepared by Example 1, Comparative Example 5, and Comparative Example 11.

이하, 본 발명의 실시예와 도면을 참조하여 레이저 타발공정용 필름 및 이를 포함하는 디스플레이 소자에 관해 상세히 설명한다. 이들 실시예는 오로지 본 발명을 보다 구체적으로 설명하기 위해 예시적으로 제시한 것일 뿐, 본 발명의 범위가 이들 실시예에 의해 제한되지 않는다는 것은 당업계에서 통상의 지식을 가지는 자에 있어서 자명할 것이다.Hereinafter, a film for a laser punching process and a display device including the same will be described in detail with reference to embodiments and drawings of the present invention. These examples are only presented as examples to explain the present invention in more detail, and it will be apparent to those skilled in the art that the scope of the present invention is not limited by these examples. .

달리 정의하지 않는 한, 본 명세서에서 사용되는 모든 기술적 및 과학적 용어는 본 발명이 속하는 기술 분야의 숙련자에 의해 통상적으로 이해되는 바와 동일한 의미를 갖는다. 상충되는 경우, 정의를 포함하는 본 명세서가 우선할 것이다. 또한 본 명세서에서 설명되는 것과 유사하거나 동등한 방법 및 재료가 본 발명의 실시 또는 시험에 사용될 수 있지만, 적합한 방법 및 재료가 본 명세서에 기재된다.Unless defined otherwise, all technical and scientific terms used herein have the same meaning as commonly understood by one of ordinary skill in the art to which this invention belongs. In case of conflict, the present specification, including definitions, will control. Also, although methods and materials similar or equivalent to those described herein may be used in the practice or testing of the present invention, suitable methods and materials are described herein.

본 명세서에서 "포함"이라는 용어는 특별히 반대되는 기재가 없는 한 다른 구성요소를 제외하는 것이 아니라 다른 구성요소를 더 포함할 수 있는 것을 의미한다.In this specification, the term "include" means that other components may be further included without excluding other components unless otherwise stated.

본 명세서에서 "이들 조합"이라는 용어는 기재된 구성요소들 하나 이상과의 혼합 또는 조합을 의미한다. The term "combination of these" as used herein means a mixture or combination of one or more of the recited elements.

본 명세서에서 "및/또는"이라는 용어는 관련 기재된 하나 이상의 항목들의 임의의 조합 및 모든 조합을 포함하는 것을 의미한다. 본 명세서에서 "또는"이라는 용어는 "및/또는"을 의미한다. 본 명세서에서 구성요소들의 앞에 "적어도 1종", 또는 "하나 이상"이라는 표현은 전체 구성요소들의 목록을 수식할 수 있고 상기 기재의 개별 구성요소들을 수식할 수 있는 것을 의미하지 않는다.The term “and/or” as used herein is meant to include any and all combinations of one or more of the items listed in relation to it. The term "or" as used herein means "and/or". The expression “at least one” or “one or more” in front of elements in this specification does not mean that the entire list of elements can be modified and individual elements of the description can be modified.

본 명세서에서 일 구성요소가 다른 구성요소의 "상에" 또는 "위에" 배치되어 있다고 언급되는 경우, 일 구성요소는 다른 구성요소 위에 직접 배치될 수 있거나 상기 구성요소들 사이에 개재된 구성요소들이 존재할 수 있을 수 있다. 반면에, 일 구성요소가 다른 구성요소 "상에 직접" 또는 "위에 직접" 배치되어 있다고 언급되는 경우, 개재된 구성요소들이 존재하지 않을 수 있다. In this specification, when an element is referred to as being disposed “on” or “above” another element, one element may be directly disposed on the other element, or elements intervened between the elements may be present. may exist. On the other hand, when an element is referred to as being disposed “directly on” or “directly over” another element, intervening elements may not be present.

본 명세서에서 "~ 계 중합체 (수지)" 또는 "~ 계 공중합체 (수지)"는 "~ 중합체 (수지)" 또는 "~ 공중합체 (수지)" 와, 이의 "~ 중합체 (수지)의 유도체" 또는 "~ 공중합체 (수지)의 유도체"를 모두 포함하는 광의의 개념이다. In the present specification, "~ polymer (resin)" or "~ copolymer (resin)" means "~ polymer (resin)" or "~ copolymer (resin)" and "~ polymer (resin) derivative" thereof. or "a derivative of a copolymer (resin)" in a broad sense.

본 명세서에서 "폴리에스테르계 기재" 또는 "폴리에스테르계 필름"은 "~ 폴리에스테르 필름" 및 "폴리에스테르를 포함하는 유도체 기재 또는 필름"을 모두 포함하는 광의의 개념이다. 본 명세서에서 "폴리에스테르계 기재"와 "폴리에스테르계 필름"은 서로 동일한 조성과 물성을 갖는 폴리에스테르계 수지로부터 유래한 것일 수 있거나, 또는 조성이 다르거나 조성은 동일하더라도 녹는점(m.p.)과 같은 물성에 있어서 차이가 있는 폴리에스테르계 수지로부터 유래한 것일 수 있다.In the present specification, "polyester-based substrate" or "polyester-based film" is a broad concept including both "~ polyester film" and "derivative substrate or film containing polyester". In this specification, "polyester-based substrate" and "polyester-based film" may be derived from a polyester-based resin having the same composition and physical properties, or even if the composition is different or the composition is the same, the melting point (m.p.) and It may be derived from a polyester-based resin having a difference in the same physical properties.

달리 기술되지 않는다면, 모든 백분율, 부, 비 등은 중량 기준이다. 또한 양, 농도, 또는 다른 값 또는 파라미터가 범위, 바람직한 범위 또는 바람직한 상한치와 바람직한 하한치의 목록 중 어느 하나로 주어질 경우, 이것은 범위가 별도로 개시되는 지에 관계없이 임의의 상한 범위 한계치 또는 바람직한 값과 임의의 하한 범위 한계치 또는 바람직한 값의 임의의 쌍으로부터 형성된 모든 범위를 구체적으로 개시하는 것으로 이해되어야 한다.Unless otherwise stated, all percentages, parts, ratios, etc. are by weight. Also, when an amount, concentration, or other value or parameter is given as either a range, preferred range, or list of upper preferred and lower preferred values, this means any upper range limit or preferred value and any lower limit, regardless of whether the range is separately disclosed. It is to be understood as specifically disclosing all ranges formed from any pair of range limits or preferred values.

수치값의 범위가 본 명세서에서 언급될 경우, 달리 기술되지 않는다면, 그 범위는 그 종점 및 그 범위 내의 모든 정수와 분수를 포함하는 것으로 의도된다. 본 발명의 범주는 범위를 정의할 때 언급되는 특정 값으로 한정되지 않는 것으로 의도된다.Where ranges of numerical values are recited herein, the ranges are intended to include their endpoints and all integers and fractions within the range, unless stated otherwise. It is intended that the scope of the present invention not be limited to the specific values recited when defining the range.

본 명세서에서 특별히 달리 규정하지 않는 한, 단위 「중량부」는 각 성분 간의 중량비율을 의미하며, 단위 「질량부」는 각 성분 간의 중량비율을 고형분으로 환산한 값을 의미한다.Unless otherwise specified in the present specification, the unit "parts by weight" means the weight ratio between each component, and the unit "parts by mass" means a value obtained by converting the weight ratio between each component into a solid content.

도 1은 일 구현예에 따른 레이저 타발공정용 필름의 단면도이다.1 is a cross-sectional view of a film for a laser punching process according to one embodiment.

도 1을 참조하면, 일 구현예에 따른 레이저 타발공정용 필름(100)은 폴리에스테르계 기재(10) 및 폴리에스테르 기재(10)의 일 면에 점착층(20)이 위치하고 있다. 도시되어 있지는 않지만, 점착층(20)은 폴리에스테르 기재(10)의 양 면에 위치할 수 있다. 점착층(20)은 실리콘계 점착제 및 자외선 흡수제를 포함하는 점착 조성물의 경화층이고, 상기 자외선 흡수제가 트리아진계 자외선 흡수제를 포함하고, 330 nm 내지 380 nm 파장에서 20% 이하의 광투과율을 갖고, 450 nm 이상의 파장에서 60% 이상의 광투과율을 갖고, 하기 식 1을 만족할 수 있다:Referring to FIG. 1 , in the film 100 for a laser punching process according to an embodiment, a polyester substrate 10 and an adhesive layer 20 are positioned on one side of the polyester substrate 10 . Although not shown, the adhesive layer 20 may be positioned on both sides of the polyester substrate 10 . The adhesive layer 20 is a cured layer of an adhesive composition including a silicone-based adhesive and a UV absorber, the UV absorber includes a triazine-based UV absorber, has a light transmittance of 20% or less at a wavelength of 330 nm to 380 nm, and has a 450 It may have a light transmittance of 60% or more at a wavelength of nm or more, and satisfy the following equation 1:

[식 1][Equation 1]

0 <│A1-P1│≤ 4 gf/inch0 <│A1-P1│≤ 4 gf/inch

식 중에서,In the expression

A1은 폴리에스테르계 필름에 대한 180 ° 각도, 0.3 mpm 속도 하에 필름의 박리력이고,A1 is the peel force of the film under a 180 ° angle, 0.3 mpm speed for a polyester-based film,

P1은 폴리에스테르계 필름에 대한 180 ° 각도, 0.3 mpm 속도 하에 자외선 흡수제를 제외한 점착층을 포함한 필름의 박리력이다. P1 is the peel force of the film including the adhesive layer excluding the UV absorber under a 180° angle and a speed of 0.3 mpm for the polyester film.

예를 들어, 상기 330 nm 내지 380 nm 파장에서 5% ~ 20%의 광투과율을 가질 수 있다. 예를 들어, 450 nm 이상의 파장에서 60% ~ 80%일 수 있다. For example, it may have a light transmittance of 5% to 20% in the 330 nm to 380 nm wavelength. For example, it may be 60% to 80% at a wavelength of 450 nm or more.

일 구현예에 따른 레이저 타발공정용 필름(100)은 330 nm 내지 380 nm 파장 및 450 nm 이상의 파장에서의 광투과율을 상기 범위 내로 유지하면서 우수한 밀착력 및 약한 박리력을 가지며 이물유입, 에지(edge) 들뜸, 버(burr) 발생, 기포 유입 등을 억제하면서 자외선 레이저를 이용한 커팅에 적합한 필름을 제공할 수 있다. The film 100 for laser punching process according to one embodiment has excellent adhesion and weak peeling force while maintaining light transmittance at a wavelength of 330 nm to 380 nm and a wavelength of 450 nm or more within the above range, and foreign matter inflow, edge It is possible to provide a film suitable for cutting using an ultraviolet laser while suppressing lifting, burr generation, and bubble inflow.

폴리에스테르계 기재(10)는 투명필름일 수 있다. 폴리에스테르계 기재(10)는 광투과성과 열안정성을 동시에 갖는다. 폴리에스테르계 기재(10)는 투명 가요성 고분자 필름일 수 있다. 예를 들어, 폴리에스테르계 기재(10)는 폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리에틸렌나프탈레이트, 폴리아릴레이트, 폴리카보네이트, 폴리에테르이미드, 폴리아미드이미드, 폴리이미드, 및 폴리벤즈옥사졸 중에서 선택된 1종 이상의 고분자 필름일 수 있다. 예를 들어, 폴리에스테르계 기재(10)는 폴리에틸렌테레프탈레이트일 수 있다. 그러나, 이에 한정되는 것은 아니며, 상기 고분자 필름은 특정 응용을 위한 충분한 기계적/열적 안정성 및 특정 파장을 갖는 광의 높은 투과율과 같은 충분한 광학적 성질을 갖는 다른 고분자를 더 포함할 수 있다.The polyester-based substrate 10 may be a transparent film. The polyester-based substrate 10 has light transmittance and thermal stability at the same time. The polyester-based substrate 10 may be a transparent flexible polymer film. For example, the polyester-based substrate 10 may include at least one polymer film selected from polyethylene terephthalate, polyethylene naphthalate, polyarylate, polycarbonate, polyetherimide, polyamideimide, polyimide, and polybenzoxazole. can be For example, the polyester-based substrate 10 may be polyethylene terephthalate. However, it is not limited thereto, and the polymer film may further include other polymers having sufficient optical properties such as sufficient mechanical/thermal stability for specific applications and high transmittance of light having a specific wavelength.

일 구현예에 따른 폴리에스테르계 기재(10)는 하나의 단일층일 수 있으며 2층 이상의 다층 구조일 수 있다. 폴리에스테르계 기재(10)는 2층 이상의 다층 구조일 경우, 각 층을 구성하는 고분자 물질은 모두 동일하거나 또는 서로 상이할 수 있다. The polyester-based substrate 10 according to one embodiment may be a single layer or may have a multilayer structure of two or more layers. When the polyester-based substrate 10 has a multi-layer structure of two or more layers, all polymer materials constituting each layer may be the same or different from each other.

폴리에스테르계 기재(10)의 두께는 5~500㎛일 수 있다. The thickness of the polyester-based substrate 10 may be 5 to 500 μm.

폴리에스테르계 기재(10)는 한국공개특허공보 제2014-0085218호, 제2013-0109547호, 및 제2006-0071636호에 개시된 기재필름들일 수 있으며, 상기 특허문헌들은 그 전체가 인용에 의해 본 명세서에 통합된다.The polyester base material 10 may be base films disclosed in Korean Patent Publication Nos. 2014-0085218, 2013-0109547, and 2006-0071636, and the entirety of the above patent documents is hereby cited. integrated into

점착층(20)은 실리콘계 점착제 및 자외선 흡수제를 포함하는 점착 조성물의 경화층일 수 있다. 예를 들어, 실리콘계 점착제는 서로 다른 2종의 실록산과 실란이 함유된 수지를 포함하는 제1 실리콘계 점착제 및 제2 실리콘계 점착제를 포함할 수 있다. 여기에서, “서로 다른 2종의 실록산과 실란이 함유된 수지”라 함은 “치환기, 치환기의 개수, 각 치환기의 함량, 또는 실록산과 실란의 함량이 서로 다른 2종의 실록산과 실란이 함유된 수지”를 의미한다. 예를 들어, 상기 제1 실리콘계 점착제 및 상기 제2 실리콘계 점착제는 서로 다른 치환기를 갖는 실록산과 실란이 함유된 수지일 수 있다. 예를 들어, 상기 제1 실리콘계 점착제 및 상기 제2 실리콘계 점착제는 서로 다른 치환기의 개수를 갖는 실록산과 실란이 함유된 수지일 수 있다. 예를 들어, 상기 제1 실리콘계 점착제 및 상기 제2 실리콘계 점착제는 각 치환기의 함량이 서로 다른 실록산과 실란이 함유된 수지일 수 있다. 예를 들어, 상기 제1 실리콘계 점착제 및 상기 제2 실리콘계 점착제는 실록산과 실란의 함량이 서로 다른 실록산과 실란이 함유된 수지일 수 있다. 예를 들어, 상기 제1 실리콘계 점착제 및 제2 실록산계 점착제는 각각 폴리디메틸실록산계 점착제일 수 있다. 예를 들어, 상기 제1 실리콘계 점착제는 실록산 및 디메틸기, 메틸기, 비닐기로 치환된 실란이 32~36 중량%로 함유된 수지로 구성된 폴리디메틸실록산계 점착제일 수 있다. 예를 들어, 상기 제2 실리콘계 점착제는 디메틸실록산과 클로로트리메틸실란이 각각 16~26 중량% 및 38~48 중량%로 함유된 수지로 구성된 폴리디메틸실록산계 점착제일 수 있다.The adhesive layer 20 may be a cured layer of an adhesive composition including a silicone-based adhesive and an ultraviolet absorber. For example, the silicone-based pressure-sensitive adhesive may include a first silicone-based pressure-sensitive adhesive and a second silicone-based pressure-sensitive adhesive including two different types of siloxane and a resin containing silane. Here, “resin containing two different types of siloxane and silane” means “resin containing two types of siloxane and silane having different substituents, the number of substituents, the content of each substituent, or the content of siloxane and silane. means "resin". For example, the first silicone-based pressure-sensitive adhesive and the second silicone-based pressure-sensitive adhesive may be a resin containing siloxane and silane having different substituents. For example, the first silicone-based pressure-sensitive adhesive and the second silicone-based pressure-sensitive adhesive may be a resin containing siloxane and silane having different numbers of substituents. For example, the first silicone-based pressure-sensitive adhesive and the second silicone-based pressure-sensitive adhesive may be a resin containing siloxane and silane having different substituent contents. For example, the first silicone-based pressure-sensitive adhesive and the second silicone-based pressure-sensitive adhesive may be a resin containing siloxane and silane having different contents of siloxane and silane. For example, each of the first silicone-based adhesive and the second siloxane-based adhesive may be a polydimethylsiloxane-based adhesive. For example, the first silicone-based pressure-sensitive adhesive may be a polydimethylsiloxane-based pressure-sensitive adhesive composed of a resin containing 32 to 36% by weight of siloxane and silane substituted with a dimethyl group, a methyl group, or a vinyl group. For example, the second silicone-based pressure-sensitive adhesive may be a polydimethylsiloxane-based pressure-sensitive adhesive composed of a resin containing 16 to 26% by weight and 38 to 48% by weight of dimethylsiloxane and chlorotrimethylsilane, respectively.

상기 실리콘계 점착제는 한국등록특허공보 제2240167호, 한국공개특허공보 제2020-0120918호, 한국등록특허공보 제2170926호, 및 한국공개특허공보 제2020-0035474호에 개시된 실리콘계 점착제들일 수 있으며, 상기 특허문헌들은 그 전체가 인용에 의해 본 명세서에 통합된다.remind Silicone-based adhesives may be silicone-based adhesives disclosed in Korean Patent Registration No. 2240167, Korean Patent Publication No. 2020-0120918, Korean Patent Registration No. 2170926, and Korean Patent Publication No. 2020-0035474, and the above Patent Document are incorporated herein by reference in their entirety.

상기 제1 실리콘계 점착제의 함량이 제2 실리콘계 점착제의 함량보다 클 수 있다. 상기 제1 실리콘계 점착제의 함량이 제2 실리콘계 점착제의 함량과 동일하거나 또는 보다 작다면, 상온에서 저속 박리력 및 고속 박리력이 모두 높아져 레이저 타발공정용 필름에 적합하지 않다. A content of the first silicone-based pressure-sensitive adhesive may be greater than that of the second silicone-based pressure-sensitive adhesive. If the content of the first silicone-based pressure-sensitive adhesive is equal to or smaller than the content of the second silicone-based pressure-sensitive adhesive, both low-speed peeling force and high-speed peeling force are high at room temperature, which is not suitable for a film for laser punching process.

상기 자외선 흡수제의 최소 흡수 파장대 영역이 330 nm 내지 380 nm일 수 있다.The minimum absorption wavelength range of the ultraviolet absorber may be 330 nm to 380 nm.

예를 들어, 상기 자외선 흡수제는 트리아진계 자외선 흡수제를 포함할 수 있다. 상기 트리아진계 자외선 흡수제의 예로는 히드록시기 함유 트리아진계 자외선 흡수제일 수 있고, 예를 들어 히드록시페닐 (벤조)트리아진계 자외선 흡수제일 수 있다. 상기 트리아진계 자외선 흡수제의 구체적인 예로는 2,4-디페닐-6-(2-히드록시-4-메톡시페닐)-1,3,5-트리아진, 2,4-디페닐-6-(2-히드록시-4-에톡시페닐)-1,3,5-트리아진, 2,4-디페닐-(2-히드록시-4-프로폭시페닐)-1,3,5-트리아진, 2,4-디페닐-(2-히드록시-4-프로폭시페닐)-1,3,5-트리아진, 2,4-디페닐-(2-히드록시-4-부톡시페닐)-1,3,5-트리아진, 2,4-디페닐-6-(2-히드록시-4-부톡시페닐)-1,3,5-트리아진, 2,4-디페닐-6-(2-히드록시-4-헥실옥시페닐)-1,3,5-트리아진, 2,4-디페닐-6-(2-히드록시-4-옥틸옥시페닐)-1,3,5-트리아진, 2,4-디페닐-6-(2-히드록시-4-도데실옥시페닐)-1,3,5-트리아진, 2,4-디페닐-6-(2-히드록시-4-벤질옥시페닐)-1,3,5-트리아진, 2,4-디페닐-6-(2-히드록시-4-부톡시에톡시)-1,3,5-트리아진, 2,4-비스(2-히드록시-4-부톡시페닐)-6-(2,4-부톡시페닐)-1,3,5-트리아진, 2,4,6-트리스(2-히드록시-4-메톡시페닐)-1,3,5-트리아진, 2,4,6-트리스(2-히드록시-4-에톡시페닐)-1,3,5-트리아진, 2,4,6-트리스(2-히드록시-4-프로폭시페닐)-1,3,5-트리아진, 2,4,6-트리스(2-히드록시-4-부톡시페닐)-1,3,5-트리아진, 2,4,6-트리스(2-히드록시-4-부톡시페닐)-1,3,5-트리아진, 2,4,6-트리스(2-히드록시-4-헥실옥시페닐)-1,3,5-트리아진, 2,4,6-트리스(2-히드록시-4-옥틸옥시페닐)-1,3,5-트리아진, 2,4,6-트리스(2-히드록시-4-도데실옥시페닐)-1,3,5-트리아진, 2,4,6-트리스(2-히드록시-4-벤질옥시페닐)-1,3,5-트리아진, 2,4,6-트리스(2-히드록시-4-에톡시에톡시페닐)-1,3,5-트리아진, 2,4,6-트리스(2-히드록시-4-부톡시에톡시페닐)-1,3,5-트리아진, 2,4,6-트리스(2-히드록시-4-프로폭시에톡시페닐)-1,3,5-트리아진, 2,4,6-트리스(2-히드록시-4-메톡시카르보닐프로필옥시페닐)-1,3,5-트리아진, 2,4,6-트리스(2-히드록시-4-에톡시카르보닐에틸옥시페닐)-1,3,5-트리아진, 2,4,6-트리스(2-히드록시-4-(1-(2-에톡시헥실옥시)-1-옥소프로판-2-일옥시)페닐)-1,3,5-트리아진, 2,4,6-트리스(2-히드록시-3-메틸-4-메톡시페닐)-1,3,5-트리아진, 2,4,6-트리스(2-히드록시-3-메틸-4-에톡시페닐)-1,3,5-트리아진, 2,4,6-트리스(2-히드록시-3-메틸-4-프로폭시페닐)-1,3,5-트리아진, 2,4,6-트리스(2-히드록시-3-메틸-4-부톡시페닐)-1,3,5-트리아진, 2,4,6-트리스(2-히드록시-3-메틸-4-부톡시페닐)-1,3,5-트리아진, 2,4,6-트리스(2-히드록시-3-메틸-4-헥실옥시페닐)-1,3,5-트리아진, 2,4,6-트리스(2-히드록시-3-메틸-4-옥틸옥시페닐)-1,3,5-트리아진, 2,4,6-트리스(2-히드록시-3-메틸-4-도데실옥시페닐)-1,3,5-트리아진, 2,4,6-트리스(2-히드록시-3-메틸-4-벤질옥시페닐)-1,3,5-트리아진, 2,4,6-트리스(2-히드록시-3-메틸-4-에톡시에톡시페닐)-1,3,5-트리아진, 2,4,6-트리스(2-히드록시-3-메틸-4-부톡시에톡시페닐)-1,3,5-트리아진, 2,4,6-트리스(2-히드록시-3-메틸-4-프로폭시에톡시페닐)-1,3,5-트리아진, 2,4,6-트리스(2-히드록시-3-메틸-4-메톡시카르보닐프로폭시페닐)-1,3,5-트리아진, 2,4,6-트리스(2-히드록시-3-메틸-4-에톡시카르보닐에톡시페닐)-1,3,5-트리아진, 2,4,6-트리스(2-히드록시-3-메틸-4-(1-(2-에톡시헥실옥시)-1-옥소프로판-2-일옥시)페닐)-1,3,5-트리아진, 2-히드록시페닐-s-트리아진, 또는 히드록시페닐 벤조트리아진 등을 들 수 있다.For example, the UV absorber may include a triazine-based UV absorber. An example of the triazine-based UV absorber may be a hydroxy group-containing triazine-based UV absorber, for example, a hydroxyphenyl (benzo) triazine-based UV absorber. Specific examples of the triazine-based ultraviolet absorber include 2,4-diphenyl-6-(2-hydroxy-4-methoxyphenyl)-1,3,5-triazine, 2,4-diphenyl-6-( 2-hydroxy-4-ethoxyphenyl) -1,3,5-triazine, 2,4-diphenyl- (2-hydroxy-4-propoxyphenyl) -1,3,5-triazine, 2,4-diphenyl-(2-hydroxy-4-propoxyphenyl)-1,3,5-triazine, 2,4-diphenyl-(2-hydroxy-4-butoxyphenyl)-1 ,3,5-triazine, 2,4-diphenyl-6-(2-hydroxy-4-butoxyphenyl)-1,3,5-triazine, 2,4-diphenyl-6-(2 -Hydroxy-4-hexyloxyphenyl)-1,3,5-triazine, 2,4-diphenyl-6-(2-hydroxy-4-octyloxyphenyl)-1,3,5-triazine , 2,4-diphenyl-6-(2-hydroxy-4-dodecyloxyphenyl)-1,3,5-triazine, 2,4-diphenyl-6-(2-hydroxy-4- Benzyloxyphenyl) -1,3,5-triazine, 2,4-diphenyl-6- (2-hydroxy-4-butoxyethoxy) -1,3,5-triazine, 2,4- Bis(2-hydroxy-4-butoxyphenyl)-6-(2,4-butoxyphenyl)-1,3,5-triazine, 2,4,6-tris(2-hydroxy-4- Methoxyphenyl) -1,3,5-triazine, 2,4,6-tris (2-hydroxy-4-ethoxyphenyl) -1,3,5-triazine, 2,4,6-tris (2-hydroxy-4-propoxyphenyl)-1,3,5-triazine, 2,4,6-tris(2-hydroxy-4-butoxyphenyl)-1,3,5-triazine , 2,4,6-tris(2-hydroxy-4-butoxyphenyl)-1,3,5-triazine, 2,4,6-tris(2-hydroxy-4-hexyloxyphenyl)- 1,3,5-triazine, 2,4,6-tris(2-hydroxy-4-octyloxyphenyl)-1,3,5-triazine, 2,4,6-tris(2-hydroxy -4-dodecyloxyphenyl) -1,3,5-triazine, 2,4,6-tris (2-hydroxy-4-benzyloxyphenyl) -1,3,5-triazine, 2,4 ,6-tris(2-hydroxy-4-ethoxyethoxyphenyl)-1,3,5-triazine, 2,4,6-tris(2-hydroxy-4-butoxyethoxyphenyl)- 1,3,5-triazine, 2,4,6-tris(2-hydroxy-4-propoxyethoxyphenyl)-1,3,5-triazine, 2,4,6-tris(2- Hydroxy-4-methoxycarbonylpropyloxyphenyl)-1,3,5-triazine, 2,4,6-tris(2-hydroxy-4-ethoxycarbonylethyloxyphenyl)-1,3 ,5-triazine, 2,4,6-tris(2-hydroxy-4-(1-(2-ethoxyhexyloxy)-1-oxopropan-2-yloxy)phenyl)-1,3 ,5-triazine, 2,4,6-tris (2-hydroxy-3-methyl-4-methoxyphenyl) -1,3,5-triazine, 2,4,6-tris (2-hydroxy hydroxy-3-methyl-4-ethoxyphenyl) -1,3,5-triazine, 2,4,6-tris (2-hydroxy-3-methyl-4-propoxyphenyl) -1,3, 5-triazine, 2,4,6-tris(2-hydroxy-3-methyl-4-butoxyphenyl)-1,3,5-triazine, 2,4,6-tris(2-hydroxy -3-methyl-4-butoxyphenyl) -1,3,5-triazine, 2,4,6-tris (2-hydroxy-3-methyl-4-hexyloxyphenyl) -1,3,5 -triazine, 2,4,6-tris(2-hydroxy-3-methyl-4-octyloxyphenyl)-1,3,5-triazine, 2,4,6-tris(2-hydroxy- 3-methyl-4-dodecyloxyphenyl)-1,3,5-triazine, 2,4,6-tris(2-hydroxy-3-methyl-4-benzyloxyphenyl)-1,3,5 -triazine, 2,4,6-tris (2-hydroxy-3-methyl-4-ethoxyethoxyphenyl) -1,3,5-triazine, 2,4,6-tris (2-hydroxy Roxy-3-methyl-4-butoxyethoxyphenyl)-1,3,5-triazine, 2,4,6-tris(2-hydroxy-3-methyl-4-propoxyethoxyphenyl)- 1,3,5-triazine, 2,4,6-tris(2-hydroxy-3-methyl-4-methoxycarbonylpropoxyphenyl)-1,3,5-triazine, 2,4, 6-tris(2-hydroxy-3-methyl-4-ethoxycarbonylethoxyphenyl)-1,3,5-triazine, 2,4,6-tris(2-hydroxy-3-methyl- 4-(1-(2-ethoxyhexyloxy)-1-oxopropan-2-yloxy)phenyl)-1,3,5-triazine, 2-hydroxyphenyl-s-triazine, or hydroxy A hydroxyphenyl benzotriazine etc. are mentioned.

상기 자외선 흡수제의 함량은 상기 제1 실리콘계 점착제 100 중량부를 기준으로 하여 2.5 중량부 이하일 수 있다. 예를 들어, 상기 자외선 흡수제의 함량은 상기 제1 실리콘계 점착제 100 중량부를 기준으로 하여 1 ~ 2.5 중량부일 수 있다. 상기 자외선 흡수제의 함량이 1 중량부 미만이라면, 자외선 흡수 기능이 저하되어 레이저 타발공정에의 적용이 어렵다. 상기 자외선 흡수제의 함량이 2.5 중량부 초과라면, 점착층에 응집현상이 발생하며 백탁 등으로 인해 450 nm 파장에서 광투과율이 낮고 밀착성이 낮고 외관이 불량해져 레이저 타발공정에 적합하지 않다.The content of the UV absorber may be 2.5 parts by weight or less based on 100 parts by weight of the first silicone-based pressure-sensitive adhesive. For example, the content of the UV absorber may be 1 to 2.5 parts by weight based on 100 parts by weight of the first silicone-based pressure-sensitive adhesive. If the content of the UV absorber is less than 1 part by weight, the UV absorbing function is lowered, making it difficult to apply to the laser punching process. If the content of the ultraviolet absorber exceeds 2.5 parts by weight, agglomeration occurs in the adhesive layer, and due to cloudiness, light transmittance at a wavelength of 450 nm is low, adhesion is low, and the appearance is poor, which is not suitable for the laser punching process.

상기 점착 조성물은 경화제, 점착 촉진제, 촉매, 및 용매를 더 포함할 수 있다.The adhesive composition may further include a curing agent, an adhesion accelerator, a catalyst, and a solvent.

상기 경화제의 예로는 반응성 폴리실록산을 포함할 수 있다. 상기 경화제의 함량은 상기 제1 실리콘계 점착제 100 중량부를 기준으로 하여 1.1 ~ 2.4 중량부일 수 있다. 상기 경화제의 함량이 상기 범위를 벗어난다면, 폴리에스테르계 기재(10)와 점착층(20) 간에 밀착성이 불량해진다. Examples of the curing agent may include reactive polysiloxane. The content of the curing agent may be 1.1 to 2.4 parts by weight based on 100 parts by weight of the first silicone-based pressure-sensitive adhesive. If the content of the curing agent is out of the above range, adhesion between the polyester base material 10 and the adhesive layer 20 becomes poor.

상기 점착 촉진제의 예로는 유기기를 갖는 실록산을 포함할 수 있다. 상기 점착 촉진제의 함량은 상기 제1 실리콘계 점착제 100 중량부를 기준으로 하여 0 초과 1.5 중량부 미만일 수 있다. 상기 점착 촉진제의 함량이 1.5 중량부를 초과한다면, 폴리에스테르계 기재(10)와 점착층(20) 간에 밀착성 및 외관이 불량해져 레이저 타발공정에 적합하지 않다. Examples of the adhesion promoter may include siloxane having an organic group. The content of the adhesion promoter may be greater than 0 and less than 1.5 parts by weight based on 100 parts by weight of the first silicone-based pressure-sensitive adhesive. If the content of the adhesion promoter exceeds 1.5 parts by weight, the adhesiveness and appearance between the polyester base material 10 and the adhesive layer 20 become poor, making it unsuitable for the laser punching process.

상기 촉매의 예로는 유기 백금 착체일 수 있다. 상기 촉매의 함량은 상기 제1 실리콘계 점착제 100 중량부를 기준으로 하여 0.6 ~ 1.4 중량부일 수 있다. 상기 촉매의 함량이 상기 범위를 벗어난다면, 폴리에스테르계 기재(10)와 점착층(20) 간에 밀착성 및 외관이 불량해져 레이저 타발공정에 적합하지 않다. An example of the catalyst may be an organic platinum complex. The content of the catalyst may be 0.6 to 1.4 parts by weight based on 100 parts by weight of the first silicone-based pressure-sensitive adhesive. If the content of the catalyst is out of the above range, the adhesiveness and appearance between the polyester-based substrate 10 and the adhesive layer 20 become poor, making it unsuitable for the laser punching process.

상기 용매는 상기 용매는 제한되지 않으나, 예를 들어 톨루엔, 자일렌, 기타 방향족 유형의 용매; n-부틸 알코올, 프로필렌글리콜 메틸에테르, 디아세톤 알코올 및 에틸 셀로솔브와 같은 알코올 유형의 용매; 부틸 아세테이트, 에틸 아세테이트 및 셀로솔브 아세테이트와 같은 에스테르 유형의 용매; 메틸에틸케톤, 메틸이소부틸 케톤 및 사이클로헥사논과 같은 케톤 유형의 용매; 및 디메틸 포름아미드가 사용될 수 있다. 이러한 용매는 단독으로 또는 2종 이상의 혼합 용매로서 사용될 수 있다. 사용되는 용매의 양은 점착층에 사용된 물질들의 농도, 목적, 수지의 분자량, 및 용액의 농도에 의하여 적절히 결정될 수 있다.The solvent is not limited to the solvent, but includes, for example, toluene, xylene, and other aromatic type solvents; alcohol type solvents such as n-butyl alcohol, propylene glycol methyl ether, diacetone alcohol and ethyl cellosolve; ester type solvents such as butyl acetate, ethyl acetate and cellosolve acetate; ketone type solvents such as methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone and cyclohexanone; and dimethyl formamide may be used. These solvents may be used alone or as a mixture of two or more solvents. The amount of the solvent to be used can be appropriately determined depending on the concentration of the substances used in the adhesive layer, the purpose, the molecular weight of the resin, and the concentration of the solution.

점착층(20)의 두께는 5 ~ 10 ㎛일 수 있다. 점착층(20)의 두께가 5 ㎛ 미만이라면, 자외선 흡수기능이 저하되어 레이저 타발공정에의 적용이 어렵다. 점착층(20)의 두께가 10 ㎛ 초과라면, 필름 표면에 컬(curl) 및 에지(edge) 들뜸이 발생하는 바, 레이저 타발공정에의 적용이 어렵다.The adhesive layer 20 may have a thickness of 5 to 10 μm. If the thickness of the adhesive layer 20 is less than 5 μm, the UV absorbing function is lowered, making it difficult to apply to the laser punching process. If the thickness of the adhesive layer 20 exceeds 10 μm, curl and edge lifting occur on the surface of the film, making it difficult to apply to the laser punching process.

필요에 따라, 점착층(20)은 평활제, 항산화제, 활성과 같은 충전재, 부식방지제, 형광 증백제, 항산화제, 색소, 염료, 증정제, 콜로이드성 실리카 및 알루미나 졸(alumina sol)과 같은 무기 입자, 폴리 메틸메타크릴레이트 유형과 같은 아크릴 기재 미립자 등의 첨가제를 포함할 수 있다. If necessary, the adhesive layer 20 may include fillers such as leveling agents, antioxidants, activators, corrosion inhibitors, optical brighteners, antioxidants, pigments, dyes, thickeners, colloidal silica, and alumina sol. It may contain additives such as inorganic particles, acrylic based particulates such as poly methyl methacrylate type.

점착층(20)은 폴리에스테르계 기재(10) 위에 점착 조성물을 스프레이 코팅, 브러쉬(brush) 코팅, 커튼 플로우 (curtain-flow) 코팅, 그래뷰어(gravure) 코팅, 롤(roll) 코팅, 스핀(spin) 코팅, 바(bar) 코팅 및 정전기적 코팅과 같은 공지된 코팅 방법을 이용하여 도포함으로써 제조될 수 있다. 건조 온도는 용매에 따라 적절히 선택될 수 있으나, 예를 들어 80 ℃ ~ 160 ℃ 온도일 수 있다. The adhesive layer 20 is formed by spray coating, brush coating, curtain-flow coating, gravure coating, roll coating, spin ( It can be prepared by applying using a known coating method such as spin coating, bar coating and electrostatic coating. The drying temperature may be appropriately selected depending on the solvent, but may be, for example, 80 °C to 160 °C.

레이저 타발공정용 필름(100)은 하기 식 1을 만족할 수 있다:The film 100 for laser punching process may satisfy Equation 1 below:

[식 1][Equation 1]

0 < │A1-P1│≤ 4 gf/inch0 < │A1-P1│≤ 4 gf/inch

식 중에서,In the expression

A1은 폴리에스테르계 필름에 대한 180 ° 각도, 0.3 mpm 속도 하에 필름의 박리력이고,A1 is the peel force of the film under a 180 ° angle, 0.3 mpm speed for a polyester-based film,

P1은 폴리에스테르계 필름에 대한 180 ° 각도, 0.3 mpm 속도 하에 자외선 흡수제를 제외한 점착층을 포함한 필름의 박리력이다. P1 is the peel force of the film including the adhesive layer excluding the UV absorber under a 180° angle and a speed of 0.3 mpm for the polyester film.

레이저 타발공정용 필름(100)은 통상적인 점착층(자외선 흡수제 불포함)을 포함한 점착 필름과 유사한 약한 박리력을 갖는다. The film 100 for laser punching process has a weak peeling force similar to that of an adhesive film including a conventional adhesive layer (without UV absorbers).

레이저 타발공정용 필름(100)의 수접촉각(deg.)은 하기 식 2를 만족할 수 있다:The water contact angle (deg.) of the film 100 for laser punching process may satisfy Equation 2 below:

[식 2][Equation 2]

118 °≤ 수접촉각(deg.) < 128 °118 °≤ water contact angle (deg.) < 128 °

레이저 타발공정용 필름(100)의 상기 수접촉각(deg.) 범위에서 우수한 밀착력 및 약한 박리력을 가질 수 있다. The film 100 for laser punching process may have excellent adhesion and weak peeling power within the range of the water contact angle (deg.).

레이저 타발공정용 필름(100)은 상온에서 폴리에스테르계 필름에 대한 180 ° 각도, 0.3 mpm 속도 하에 박리력이 15 gf/inch 이하이고, 상온에서 폴리에스테르계 필름에 대한 180 ° 각도, 2.4 mpm 속도 하에 박리력이 30 gf/inch 이하일 수 있다. The film 100 for laser punching process has a peel force of 15 gf/inch or less at room temperature at a speed of 0.3 mpm at a 180 ° angle for a polyester film, and at a speed of 2.4 mpm at a 180 ° angle for a polyester film at room temperature. The peel force may be 30 gf/inch or less under

레이저 타발공정용 필름(100)은 하기 식 3을 만족할 수 있다:The film 100 for laser punching process may satisfy Equation 3 below:

[식 3][Equation 3]

5 gf/inch < (A2-A1)/2 < 10 gf/inch5 gf/inch < (A2-A1)/2 < 10 gf/inch

식 중에서,In the expression

A1은 상온에서 폴리에스테르계 필름에 대한 180 ° 각도, 0.3 mpm 속도 하에 상기 필름의 박리력이고,A1 is the peel force of the film under a 180 ° angle, 0.3 mpm speed for a polyester-based film at room temperature,

A2는 상온에서 폴리에스테르계 필름에 대한 180 ° 각도, 2.4 mpm 속도 하에 상기 필름의 박리력일 수 있다.A2 may be the peel force of the film under a 180 ° angle, 2.4 mpm rate for the polyester film at room temperature.

레이저 타발공정용 필름(100)은 약한 저속 박리력과 약한 고속 박리력을 모두 가져 점착 필름에 요구되는 물성을 만족할 수 있다. The film 100 for the laser punching process has both a weak low-speed peeling force and a weak high-speed peeling force, and can satisfy physical properties required for an adhesive film.

레이저 타발공정용 필름(100) 표면에 대해 ASTM D257 표준에 따라 측정한 표면저항은 1 x 104 ~ 1 x 1011 Ω/cm2일 수 있다. 예를 들어, 레이저 타발공정용 필름(100) 표면에 대해 ASTM D257 표준에 따라 측정한 표면저항은 1 x 105 ~ 1 x 1010일 수 있거나 1 x 105 ~ 1 x 108일 수 있다. The surface resistance measured according to the ASTM D257 standard for the surface of the film 100 for laser punching process may be 1 x 10 4 to 1 x 10 11 Ω/cm 2 . For example, the surface resistance measured according to the ASTM D257 standard for the surface of the film 100 for laser punching process may be 1 x 10 5 to 1 x 10 10 or 1 x 10 5 to 1 x 10 8 .

점착층(20) 상에 불소함유 실리콘 이형필름이 추가로 배치될 수 있다. 불소함유 실리콘 이형필름은 한국등록특허공보 제2171736호에 개시된 이형필름일 수 있으며, 상기 특허문헌은 그 전체가 인용에 의해 본 명세서에 통합된다.A fluorine-containing silicone release film may be additionally disposed on the adhesive layer 20 . The fluorine-containing silicone release film may be a release film disclosed in Korean Patent Registration No. 2171736, and the entire patent document is incorporated herein by reference.

다른 일 구현예에 따른 디스플레이 소자는 전술한 레이저 타발공정용 필름이 점착되는 피착제; 및 박막 디스플레이 패널;을 포함하고, 상기 피착제는 필터 또는 시트를 포함할 수 있다.A display device according to another embodiment includes an adherend to which the film for the aforementioned laser punching process is adhered; and a thin film display panel, and the adherend may include a filter or sheet.

이하 실시예와 비교예를 통하여 본 발명의 구성 및 그에 따른 효과를 보다 상세히 설명하고자 한다. 그러나 본 실시예는 본 발명을 구체적으로 설명하기 위한 것이며, 본 발명의 범위가 이들 실시예에 한정되는 것은 아니다.Through the following Examples and Comparative Examples, the configuration of the present invention and its effects will be described in more detail. However, these examples are intended to specifically explain the present invention, and the scope of the present invention is not limited to these examples.

[실시예][Example]

실시예 1: 레이저 타발공정용 필름의 제조Example 1: Manufacturing of film for laser punching process

기재로서 두께가 75 ㎛인 폴리에틸렌테레프탈레이트(PET) 필름(75 ㎛-XD5DA2, 도레이첨단소재(주))을 준비하였다.As a substrate, a polyethylene terephthalate (PET) film (75 μm-XD5DA2, Toray Advanced Materials Co., Ltd.) having a thickness of 75 μm was prepared.

이와 별도로, 실록산 및 디메틸기, 메틸기, 비닐기로 치환된 실란이 32~36 중량%로 함유된 수지로 구성된 제1 폴리디메틸실록산계 점착제 (DOWSILTM 7645 Adhesive, Mw: 약 63만, DOW CORINING사) 100 중량부, 디메틸실록산과 클로로트리메틸실란이 각각 16~26 중량% 및 38~48 중량%로 함유된 수지로 구성된 제2 폴리디메틸실록산계 점착제 (DOWSILTM 7663 Adhesive, Mw: 약 42만, DOW CORINING사) 50 중량부, 및 자외선 흡수제로서 2-히드록시페닐-s-트리아진(BASF, Tinuvin477) 1 중량부를 첨가하고 30분간 교반하여 혼합물을 수득하였다. 그리고나서, 상기 혼합물에 경화제로서 반응성 폴리실록산(SYL-OFF® SL 7028 Crosslinker) 1.5 중량부, 점착 촉진제로서 유기기를 갖는 실록산(SYL-OFFTM SL 9250 Anchorage Additive) 1 중량부, 및 촉매로서 폴리실록산에 분산된 반응성 유기 백금 착체(SYL-OFFTM 4000 Catalyst) 1 중량부를 차례로 투입한 후 톨루엔 10 중량부로 희석하고 30분간 교반하여 점착 조성물을 수득하였다.Separately, the first polydimethylsiloxane-based adhesive (DOWSIL TM 7645 Adhesive, Mw: about 630,000, DOW CORINING) composed of a resin containing 32 to 36% by weight of silane substituted with siloxane and dimethyl, methyl, and vinyl groups A second polydimethylsiloxane-based adhesive (DOWSIL TM 7663 Adhesive, Mw: about 420,000, DOW CORINING g) 50 parts by weight and 1 part by weight of 2-hydroxyphenyl-s-triazine (BASF, Tinuvin477) as an ultraviolet absorber were added and stirred for 30 minutes to obtain a mixture. Then, 1.5 parts by weight of a reactive polysiloxane (SYL-OFF ® SL 7028 Crosslinker) as a curing agent, 1 part by weight of a siloxane having an organic group (SYL-OFF TM SL 9250 Anchorage Additive) as an adhesion promoter, and dispersed in polysiloxane as a catalyst After adding 1 part by weight of a reactive organic platinum complex (SYL-OFF TM 4000 Catalyst) in turn, it was diluted with 10 parts by weight of toluene and stirred for 30 minutes to obtain an adhesive composition.

상기 점착 조성물을 준비된 폴리에틸렌테레프탈레이트(PET) 필름에 바코터로 도포하고 150 ℃ 온도에서 5분간 건조하여 두께가 5 ㎛인 점착층을 형성하였다. 그리고나서 상기 점착층이 형성된 폴리에틸렌테레프탈레이트(PET) 필름을 두께가 50 ㎛인 불소함유 실리콘 이형필름(50 ㎛-RSF501)과 합지하여 레이저 타발공정용 필름을 제조하였다. The adhesive composition was applied to a prepared polyethylene terephthalate (PET) film with a bar coater and dried at 150° C. for 5 minutes to form an adhesive layer having a thickness of 5 μm. Then, the polyethylene terephthalate (PET) film on which the adhesive layer was formed was laminated with a fluorine-containing silicon release film (50 μm-RSF501) having a thickness of 50 μm to prepare a film for laser punching process.

실시예 2: 레이저 타발공정용 필름의 제조Example 2: Manufacturing of film for laser punching process

경화제로서 반응성 폴리실록산(SYL-OFF® SL 7028 Crosslinker) 2 중량부를 사용한 것을 제외하고는, 실시예 1과 동일한 방법으로 레이저 타발공정용 필름을 제조하였다.A film for laser punching process was prepared in the same manner as in Example 1, except that 2 parts by weight of reactive polysiloxane (SYL-OFF ® SL 7028 Crosslinker) was used as a curing agent.

실시예 3: 레이저 타발공정용 필름의 제조Example 3: Manufacturing of film for laser punching process

자외선 흡수제로서 2-히드록시페닐-s-트리아진(BASF, Tinuvin477) 2 중량부를 사용한 것을 제외하고는, 실시예 1과 동일한 방법으로 레이저 타발공정용 필름을 제조하였다.A film for laser punching process was prepared in the same manner as in Example 1, except that 2 parts by weight of 2-hydroxyphenyl-s-triazine (BASF, Tinuvin477) was used as an ultraviolet absorber.

실시예 4: 레이저 타발공정용 필름의 제조Example 4: Manufacturing of film for laser punching process

경화제로서 반응성 폴리실록산(SYL-OFF® SL 7028 Crosslinker) 2 중량부 및 자외선 흡수제로서 2-히드록시페닐-s-트리아진(BASF, Tinuvin477) 2 중량부를 사용한 것을 제외하고는, 실시예 1과 동일한 방법으로 레이저 타발공정용 필름을 제조하였다.Same method as in Example 1, except for using 2 parts by weight of reactive polysiloxane (SYL-OFF ® SL 7028 Crosslinker) as a curing agent and 2 parts by weight of 2-hydroxyphenyl-s-triazine (BASF, Tinuvin477) as an ultraviolet absorber. A film for the laser punching process was prepared.

비교예 1: 레이저 타발공정용 필름의 제조Comparative Example 1: Preparation of film for laser punching process

실록산 및 디메틸기, 메틸기, 비닐기로 치환된 실란이 32~36 중량%로 함유된 수지로 구성된 제1 폴리디메틸실록산계 점착제 (DOWSILTM 7645 Adhesive, DOW CORINING사) 50 중량부를 사용한 것을 제외하고는, 실시예 1과 동일한 방법으로 레이저 타발공정용 필름을 제조하였다.Excluding the use of 50 parts by weight of the first polydimethylsiloxane-based adhesive (DOWSIL TM 7645 Adhesive, DOW CORINING) composed of a resin containing 32 to 36% by weight of siloxane and silane substituted with dimethyl, methyl, and vinyl groups, A film for laser punching process was prepared in the same manner as in Example 1.

비교예 2: 레이저 타발공정용 필름의 제조Comparative Example 2: Preparation of film for laser punching process

실록산 및 디메틸기, 메틸기, 비닐기로 치환된 실란이 32~36 중량%로 함유된 수지로 구성된 제1 폴리디메틸실록산계 점착제 (DOWSILTM 7645 Adhesive, DOW CORINING사) 150 중량부를 사용한 것을 제외하고는, 실시예 1과 동일한 방법으로 레이저 타발공정용 필름을 제조하였다.Excluding the use of 150 parts by weight of the first polydimethylsiloxane-based adhesive (DOWSIL TM 7645 Adhesive, manufactured by DOW CORINING) composed of a resin containing 32 to 36% by weight of siloxane and silane substituted with dimethyl, methyl, and vinyl groups, A film for laser punching process was prepared in the same manner as in Example 1.

비교예 3: 레이저 타발공정용 필름의 제조Comparative Example 3: Preparation of film for laser punching process

디메틸실록산과 클로로트리메틸실란이 각각 16~26 중량% 및 38~48 중량%로 함유된 수지로 구성된 제2 폴리디메틸실록산계 점착제 (DOWSILTM 7663 Adhesive, DOW CORINING사) 20 중량부를 사용한 것을 제외하고는, 실시예 1과 동일한 방법으로 레이저 타발공정용 필름을 제조하였다.Except for using 20 parts by weight of the second polydimethylsiloxane-based adhesive (DOWSIL TM 7663 Adhesive, manufactured by DOW CORINING) composed of a resin containing 16 to 26% by weight and 38 to 48% by weight of dimethylsiloxane and chlorotrimethylsilane, respectively , A film for laser punching process was prepared in the same manner as in Example 1.

비교예 4: 레이저 타발공정용 필름의 제조Comparative Example 4: Preparation of film for laser punching process

디메틸실록산과 클로로트리메틸실란이 각각 16~26 중량% 및 38~48 중량%로 함유된 수지로 구성된 제2 폴리디메틸실록산계점착제 (DOWSILTM 7663 Adhesive, DOW CORINING사) 100 중량부를 사용한 것을 제외하고는, 실시예 1과 동일한 방법으로 레이저 타발공정용 필름을 제조하였다.Except for using 100 parts by weight of the second polydimethylsiloxane-based adhesive (DOWSIL TM 7663 Adhesive, manufactured by DOW CORINING) composed of a resin containing 16 to 26% by weight and 38 to 48% by weight of dimethylsiloxane and chlorotrimethylsilane, respectively. , A film for laser punching process was prepared in the same manner as in Example 1.

비교예 5: 레이저 타발공정용 필름의 제조Comparative Example 5: Preparation of film for laser punching process

자외선 흡수제로서 2-히드록시페닐-s-트리아진(BASF, Tinuvin477) 3 중량부를 사용한 것을 제외하고는, 실시예 1과 동일한 방법으로 레이저 타발공정용 필름을 제조하였다.A film for laser punching process was prepared in the same manner as in Example 1, except that 3 parts by weight of 2-hydroxyphenyl-s-triazine (BASF, Tinuvin477) was used as an ultraviolet absorber.

비교예 6: 레이저 타발공정용 필름의 제조Comparative Example 6: Preparation of film for laser punching process

경화제로서 반응성 폴리실록산(SYL-OFF® SL 7028 Crosslinker) 1 중량부를 사용한 것을 제외하고는, 실시예 1과 동일한 방법으로 레이저 타발공정용 필름을 제조하였다.A film for laser punching process was prepared in the same manner as in Example 1, except that 1 part by weight of reactive polysiloxane (SYL-OFF ® SL 7028 Crosslinker) was used as a curing agent.

비교예 7: 레이저 타발공정용 필름의 제조Comparative Example 7: Preparation of film for laser punching process

점착 촉진제로서 유기기를 갖는 실록산(SYL-OFFTM SL 9250 Anchorage Additive) 0.5 중량부를 사용한 것을 제외하고는, 실시예 1과 동일한 방법으로 레이저 타발공정용 필름을 제조하였다.A film for laser punching process was prepared in the same manner as in Example 1, except that 0.5 parts by weight of siloxane having an organic group (SYL-OFF TM SL 9250 Anchorage Additive) was used as an adhesion promoter.

비교예 8: 레이저 타발공정용 필름의 제조Comparative Example 8: Preparation of film for laser punching process

점착 촉진제로서 유기기를 갖는 실록산(SYL-OFFTM SL 9250 Anchorage Additive) 1.5 중량부를 사용한 것을 제외하고는, 실시예 1과 동일한 방법으로 레이저 타발공정용 필름을 제조하였다.A film for laser punching process was prepared in the same manner as in Example 1, except that 1.5 parts by weight of siloxane (SYL-OFF TM SL 9250 Anchorage Additive) having an organic group was used as an adhesion promoter.

비교예 9: 레이저 타발공정용 필름의 제조Comparative Example 9: Preparation of film for laser punching process

촉매로서 폴리실록산에 분산된 반응성 유기 백금 착체(SYL-OFFTM 4000 Catalyst) 0.5 중량부를 사용한 것을 제외하고는, 실시예 1과 동일한 방법으로 레이저 타발공정용 필름을 제조하였다.A film for a laser punching process was prepared in the same manner as in Example 1, except that 0.5 parts by weight of a reactive organic platinum complex (SYL-OFF TM 4000 Catalyst) dispersed in polysiloxane was used as a catalyst.

비교예 10: 레이저 타발공정용 필름의 제조Comparative Example 10: Preparation of film for laser punching process

촉매로서 폴리실록산에 분산된 반응성 유기 백금 착체(SYL-OFFTM 4000 Catalyst) 1.5 중량부를 사용한 것을 제외하고는, 실시예 1과 동일한 방법으로 레이저 타발공정용 필름을 제조하였다.A film for a laser punching process was prepared in the same manner as in Example 1, except that 1.5 parts by weight of a reactive organic platinum complex (SYL-OFF TM 4000 Catalyst) dispersed in polysiloxane was used as a catalyst.

비교예 11: 레이저 타발공정용 필름의 제조Comparative Example 11: Preparation of film for laser punching process

자외선 흡수제를 포함하지 않는 점착 조성물을 사용한 것을 제외하고는, 실시예 1과 동일한 방법으로 레이저 타발공정용 필름을 제조하였다.A film for laser punching process was prepared in the same manner as in Example 1, except that an adhesive composition containing no ultraviolet absorber was used.

평가예 1: 물성 평가Evaluation Example 1: Evaluation of physical properties

실시예 1~4 및 비교예 1~11에 의해 제조된 각각의 레이저 타발공정용 필름의 물성을 하기와 같이 평가하였다. 그 결과를 하기 표 1 및 도 2에 일부 나타내었다.The physical properties of each of the films for laser punching process prepared by Examples 1 to 4 and Comparative Examples 1 to 11 were evaluated as follows. The results are partially shown in Table 1 and FIG. 2 below.

(1) 표면저항(Ω/cm2) (1) Surface resistance (Ω/cm 2 )

각각의 레이저 타발공정용 필름에 대하여 ASTM D257 표준에 따라 4-point probe 측정기(Loresta-GP MCP-T610, Mitsubishi Chemical Analytech)를 사용하여 면저항을 측정하였다. For each film for laser punching process, sheet resistance was measured using a 4-point probe measuring device (Loresta-GP MCP-T610, Mitsubishi Chemical Analytech) according to the ASTM D257 standard.

(2) UV 스펙트럼 - 330 nm ~ 380 nm 파장에서 광투과율(%) (2) UV spectrum - light transmittance (%) at a wavelength of 330 nm to 380 nm

각각의 레이저 타발공정용 필름에서 사용한 점착 조성물을 10 mm x 10 mm x 50 mm 크기의 석영 셀에 투입하고 UV 스펙트럼 장치(MPC-3100, Shimadzu사)를 사용하여 330 nm ~ 380 nm 파장에서 광투과율을 5회 측정한 다음, 이의 평균값을 구하였다. The adhesive composition used in each laser punching process was put into a quartz cell with a size of 10 mm x 10 mm x 50 mm, and the light transmittance at a wavelength of 330 nm to 380 nm was measured using a UV spectrum device (MPC-3100, Shimadzu). After measuring 5 times, The average value was obtained.

(3) 수접촉각(deg.) (3) Water contact angle (deg.)

각각의 레이저 타발공정용 필름에 대하여 접촉각계(Drop Master 300, ㈜쿄와사)를 사용하여 상기 필름 표면에 대한 수접촉각을 10회 측정하고 이의 평균값을 구하였다. For each film for laser punching process, the water contact angle with respect to the surface of the film was measured 10 times using a contact angle meter (Drop Master 300, Kyowa Co., Ltd.), and an average value thereof was obtained.

(4) 저속 박리력(gf/inch) 및 고속 박리력(gf/inch) (4) Low speed peel force (gf/inch) and high speed peel force (gf/inch)

각각의 레이저 타발공정용 필름을 1 inch 두께의 스트립으로 절단하였다. 절단한 스트립에서 불소함유 실리콘 이형필름을 제거한 다음, 점착층의 표면을 2 kg 고무롤러를 이용하여 폴리에틸렌테레프탈레이트(PET) 필름(50㎛-XD500P, 도레이첨단소재(주), m.p.: 230 ℃)에 접합하고 상온에서 1시간 동안 방치하여 샘플을 준비하였다. 그리고나서, 상기 샘플을 상온에서 박리력 측정 장비(AR-2000, TA instruments)를 이용하여 30mm/min(저속 박리), 240mm/min(고속 박리)의 속도 및 180 ° 각도에서 1일 후 및 7일 후를 기준으로 하여 박리력을 측정하였다. Each film for the laser punching process was cut into 1 inch thick strips. After removing the fluorine-containing silicone release film from the cut strip, the surface of the adhesive layer was coated with a polyethylene terephthalate (PET) film (50㎛-XD500P, Toray Advanced Materials Co., Ltd., m.p.: 230 ℃) using a 2 kg rubber roller. and left at room temperature for 1 hour to prepare a sample. Then, the sample was peeled at room temperature using a peel force measuring device (AR-2000, TA instruments) at a speed of 30 mm/min (low speed peel), 240 mm/min (high speed peel) and after 1 day and 7 days at an angle of 180 °. Peel force was measured on the basis of days later.

또한, 실시예 1~4 및 비교예 1~10에 의해 제조된 각각의 레이저 타발공정용 필름 샘플과 비교예 11에 의해 제조된 레이저 타발공정용 필름 샘플의 상온에서 박리력 측정 장비(AR-2000, TA instruments)를 이용하여 30mm/min(저속 박리)의 속도 및 180 ° 각도에서 1일 후를 기준으로 한 박리력을 하기 식 1에 대입하여 구하였다.In addition, the peel force measurement equipment (AR-2000 , TA instruments) at a speed of 30 mm/min (low-speed peeling) and at an angle of 180 ° after 1 day, the peel force was obtained by substituting into the following formula 1.

[식 1-1][Equation 1-1]

점착층에 자외선 흡수제 유무에 따른 박리력의 차이(gf/inch) = │A1-P1│Difference in peel strength according to the presence or absence of UV absorber in the adhesive layer (gf/inch) = │A1-P1│

식 중에서, In the expression

A1은 상기 폴리에틸렌테레프탈레이트(PET) 필름에 대한 180 ° 각도, 0.3 mpm 속도 하에 필름의 박리력(저속 박리력)이고,A1 is the peel force of the film under a 180 ° angle, 0.3 mpm speed (low speed peel force) for the polyethylene terephthalate (PET) film,

P1은 상기 폴리에틸렌테레프탈레이트(PET) 필름에 대한 180 ° 각도, 0.3 mpm 속도 하에 자외선 흡수제를 제외한 점착층을 포함한 필름의 박리력(저속 박리력)이다. P1 is the peel force (low-speed peel force) of the film including the adhesive layer excluding the UV absorber under a speed of 0.3 mpm at an angle of 180 ° to the polyethylene terephthalate (PET) film.

또한, 하기 식 3-1에 상기 샘플을 상온에서 박리력 측정 장비(AR-2000, TA instruments)를 이용하여 30mm/min(저속 박리), 240mm/min(고속 박리)의 속도 및 180 ° 각도에서 1일 후를 기준으로 한 박리력을 대입하여 구하였다. In addition, in Equation 3-1, the sample was measured at room temperature at a speed of 30 mm/min (low speed peel), 240 mm/min (high speed peel) and at an angle of 180 ° using a peel force measuring device (AR-2000, TA instruments). The peel force on the basis of 1 day later was substituted and obtained.

[식 3-1] [Equation 3-1]

박리속도에 따른 박리력 차이(gf/inch) = (A2-A1)/2 Difference in peel force according to peel speed (gf/inch) = (A2-A1)/2

식 중에서,In the expression

A1은 상온에서 상기 폴리에틸렌테레프탈레이트(PET) 필름에 대한 180 ° 각도, 0.3 mpm 속도 하에 상기 필름의 박리력(저속 박리력)이고,A1 is the peel force of the polyethylene terephthalate (PET) film at room temperature under a 180 ° angle, 0.3 mpm speed (low speed peel force),

A2는 상온에서 상기 폴리에틸렌테레프탈레이트(PET) 필름에 대한 180 ° 각도, 2.4 mpm 속도 하에 상기 필름의 박리력(고속 박리력)이다. A2 is the peel force of the polyethylene terephthalate (PET) film at room temperature under a 180° angle and a speed of 2.4 mpm (high-speed peel force).

(5) 밀착성 (5) Adhesion

각각의 레이저 타발공정용 필름에 대하여 (4) 저속 박리력 및 고속 박리력(gf/inch) 측정시 폴리에틸렌테레프탈레이트(PET) 필름(75 ㎛-XD5DA2, 도레이첨단소재(주)) 기재와 점착층 간에 밀착이 되어있는지 여부를 육안으로 확인하였다. 이 때, 밀착성은 다음과 같이 평가하였다.For each film for laser punching process (4) Polyethylene terephthalate (PET) film (75 ㎛-XD5DA2, Toray Advanced Materials Co., Ltd.) substrate and adhesive layer when measuring low-speed peel force and high-speed peel force (gf/inch) It was confirmed with the naked eye whether or not the liver was closely adhered to. At this time, adhesion was evaluated as follows.

O: 기재와 점착층 간에 밀착이 양호한 경우 O: When the adhesion between the base material and the adhesive layer is good

X: 기재와 점착층 간에 밀착이 불량한 경우X: In case of poor adhesion between the substrate and the adhesive layer

△: 기재와 점착층 간에 밀착이 일부 불량하여 벗겨지는 경우 △: When peeling off due to partial poor adhesion between the base material and the adhesive layer

(6) 외관 평가 - 레이저 타발성(6) Appearance evaluation - laser punchability

각각의 레이저 타발공정용 필름에 대하여 피코초레이저(RAPID, Lumera laser GmbH)를 이용하여 12 x 10-12 초의 펄스폭으로 355 nm 파장의 UV 레이저를 조사하고 외관을 육안으로 확인하였다. 이 때, 외관은 다음과 같이 평가하였다.For each film for laser punching process, a UV laser with a wavelength of 355 nm was irradiated with a pulse width of 12 x 10 -12 seconds using a picosecond laser (RAPID, Lumera laser GmbH), and the appearance was visually confirmed. At this time, the appearance was evaluated as follows.

O: 레이저 타발이 된 경우O: In case of laser punching

X: 레이저 타발이 되지 않은 경우 X: In case of no laser punching

구분division 표면
저항
(Ω/cm2)
surface
resistance
(Ω/cm 2 )
수접촉각
(°)
water contact angle
(°)
광투과율
(%)
light transmittance
(%)
밀착성adhesion 상온,
1일 후
(gf/inch)
normal temperature,
1 day later
(gf/inch)
상온,
7일 후
(gf/inch)
normal temperature,
7 days later
(gf/inch)
외관Exterior
@350 nm@350 nm @450 nm@450 nm A1 A1 A2
A2
(A2-A1)/2
(A2-A1)/2
│A1-P1││A1-P1│ A1
A1
A2
A2
실시예 1Example 1 4x106 4x10 6 123123 19.819.8 77.977.9 OO 1010 2222 66 1One 1212 2121 OO 실시예 2Example 2 5x106 5x10 6 124124 19.819.8 7878 OO 99 2121 66 00 1111 2121 OO 실시예 3Example 3 7x107 7x10 7 118118 11.411.4 60.260.2 OO 1313 2626 6.56.5 44 1515 2929 OO 실시예 4Example 4 6x107 6x10 7 119119 11.511.5 60.460.4 OO 1212 2525 6.56.5 33 1414 2828 OO 비교예 1Comparative Example 1 5x106 5x10 6 122122 19.919.9 77.977.9 OO 2020 4343 11.511.5 1111 2222 4848 OO 비교예 2Comparative Example 2 6x106 6x10 6 125125 19.819.8 78.178.1 XX -- -- -- -- -- -- -- 비교예 3Comparative Example 3 4x106 4x10 6 123123 19.819.8 77.877.8 XX -- -- -- -- -- -- -- 비교예 4Comparative Example 4 4x106 4x10 6 124124 19.819.8 78.278.2 OO 1818 3737 9.59.5 99 2222 4646 OO 비교예 5Comparative Example 5 6x107 6x10 7 115115 7.27.2 51.751.7 XX 1414 3030 88 55 1818 3838 XX 비교예 6Comparative Example 6 6x106 6x10 6 123123 19.819.8 77.977.9 XX -- -- -- -- -- -- -- 비교예 7Comparative Example 7 5x106 5x10 6 123123 19.819.8 78.278.2 XX -- -- -- -- -- -- -- 비교예 8Comparative Example 8 5x106 5x10 6 123123 19.919.9 78.178.1 ββ 1010 2424 77 1One 1313 2727 XX 비교예 9Comparative Example 9 4x106 4x10 6 123123 19.919.9 78.378.3 XX -- -- -- -- -- -- -- 비교예 10Comparative Example 10 4x106 4x10 6 123123 19.819.8 7878 ββ 1212 2727 7.57.5 33 1414 2626 XX 비교예 11Comparative Example 11 4x106 4x10 6 123123 81.781.7 88.788.7 OO 99 1717 44 -- 1111 2020 XX

** '-' 표시는 기재와 점착층 간에 밀착이 부족하여 박리력 측정 불가를 나타냄 ** '-' sign indicates that the peel force cannot be measured due to insufficient adhesion between the substrate and the adhesive layer

상기 표 1을 참조하면, 실시예 1~4에 의해 제조된 레이저 타발공정용 필름은 표면저항이 5x106 ~ 6 x107 Ω/cm2이고 수접촉각이 118° ~ 124°이고 350 nm 및 450 nm 파장에서 광투과율이 각각 11.4 ~19.8% 및 60.2 ~ 78%이었다. 또한 실시예 1~4에 의해 제조된 레이저 타발공정용 필름은 상온, 1일 후에 저속 박리력(A1)이 13 gf/inch 이하이고 고속 박리력(A2)이 26 gf/inch 이하이고 (A2-A1)/2이 6.5 gf/inch 이하이고 │A1-P1│가 4 gf/inch 이하이었다. 또한 실시예 1~4에 의해 제조된 레이저 타발공정용 필름은 상온, 7일 후에 저속 박리력(A1)이 15 gf/inch 이하이고 고속 박리력(A2)이 29 gf/inch 이하이었고 외관도 우수하였다. Referring to Table 1, the films for laser punching process prepared in Examples 1 to 4 have a surface resistance of 5x10 6 to 6 x10 7 Ω/cm 2 and a water contact angle of 118 ° to 124 ° and 350 nm and 450 nm The light transmittance at the wavelength was 11.4 to 19.8% and 60.2 to 78%, respectively. In addition, the films for laser punching process prepared in Examples 1 to 4 have a low-speed peel force (A1) of 13 gf / inch or less and a high-speed peel force (A2) of 26 gf / inch or less (A2- A1)/2 was 6.5 gf/inch or less, and │A1-P1│ was 4 gf/inch or less. In addition, the films for laser punching process prepared by Examples 1 to 4 had a low-speed peel force (A1) of 15 gf/inch or less and a high-speed peel force (A2) of 29 gf/inch or less after 7 days at room temperature and excellent appearance. did

이와 비교하여, 비교예 1 및 비교예 4에 의해 제조된 레이저 타발공정용 필름은 제1 폴리디메틸실록산계 점착제의 함량이 적거나 제2 폴리디메틸실록산계 점착제의 함량이 많기에, 상온, 1일 후 및 7일 후에 각각 저속 박리력(A1), 고속 박리력(A2)과, 상온, 1일 후에 (A2-A1)/2 및│A1-P1│가 모두 높았다. 비교예 2 및 비교예 3에 의해 제조된 레이저 타발공정용 필름은 과량의 제1 폴리디메틸실록산계 점착제가 첨가되거나 제2 폴리디메틸실록산계 점착제의 함량이 적은 경우이며, 기재와 점착층 간에 밀착이 불량하였다. 이것은 제1 폴리디메틸실록산계 점착제 수지 함량이 제2 폴리디메틸실록산계 점착제 수지 함량에 비해 낮기에, 경화 정도에 따라 밀착성이 다르게 나타남에 기인한 것으로 여겨진다. 비교예 5에 의해 제조된 레이저 타발공정용 필름은 과량의 자외선 흡수제가 첨가되어 점착층에 응집현상이 발생하기에 450 nm 파장에서 광투과율이 낮고 밀착성이 낮고 외관이 불량하였다. 비교예 6에 의해 제조된 레이저 타발공정용 필름은 경화제의 함량이 적어, 폴리에스테르 필름상에 적합하게 밀착하지 못하는 문제점이 있었다. 비교예 7에 의해 제조된 레이저 타발공정용 필름은 점착 촉진제의 함량이 적어, 점착필름 경화시 바람직하게 도막이 형성되지 않아 기재와 점착층 간에 밀착이 불량하였다. 비교예 8에 의해 제조된 레이저 타발공정용 필름은 과량의 점착 촉진제가 첨가되어, 기재와 점착층 간에 밀착이 일부 불량하며 외관도 불량하였다. 비교예 9에 의해 제조된 레이저 타발공정용 필름은 촉매의 함량이 적어, 점착필름 경화 시 바람직하게 도막이 형성되지 않았고, 기재와 점착층 간에 밀착이 불량하였다. 비교예 10에 의해 제조된 레이저 타발공정용 필름은 과량의 촉매가 첨가되어, 기재와 점착층 간에 밀착이 일부 불량하였고 외관도 불량하였다. 비교예 11에 의해 제조된 레이저 타발공정용 필름은 자외선 흡수제를 포함하지 않아 레이저 타발에 적합하지 않았다. In comparison, the films for the laser punching process prepared by Comparative Example 1 and Comparative Example 4 have a small content of the first polydimethylsiloxane-based adhesive or a large content of the second polydimethylsiloxane-based adhesive, so at room temperature, 1 day After and after 7 days, the low-speed peel strength (A1) and high-speed peel strength (A2), and (A2-A1)/2 and |A1-P1| after 1 day at room temperature were all high, respectively. The films for laser punching process prepared in Comparative Example 2 and Comparative Example 3 are when an excessive amount of the first polydimethylsiloxane-based adhesive is added or the content of the second polydimethylsiloxane-based adhesive is small, and adhesion between the substrate and the adhesive layer is poor. It was bad. This is considered to be due to the fact that since the content of the first polydimethylsiloxane-based pressure-sensitive adhesive resin is lower than that of the second polydimethylsiloxane-based pressure-sensitive adhesive resin, adhesion is different depending on the degree of curing. The film for laser punching process prepared in Comparative Example 5 had low light transmittance at a wavelength of 450 nm, poor adhesion, and poor appearance because an excessive amount of ultraviolet absorber was added and agglomeration occurred in the adhesive layer. The film for the laser punching process prepared in Comparative Example 6 had a low content of the curing agent, and thus had a problem of not being properly adhered to the polyester film. The film for laser punching process prepared in Comparative Example 7 had a small content of the adhesion promoter, so that a coating film was not preferably formed during curing of the adhesive film, resulting in poor adhesion between the substrate and the adhesive layer. The film for laser punching process prepared in Comparative Example 8 had an excessive amount of adhesion accelerator, resulting in poor adhesion between the substrate and the adhesive layer and poor appearance. The film for laser punching process prepared in Comparative Example 9 had a small content of catalyst, so that a coating film was not preferably formed during curing of the adhesive film, and adhesion between the substrate and the adhesive layer was poor. The film for laser punching process prepared in Comparative Example 10 had an excessive amount of catalyst added, and thus, adhesion between the substrate and the adhesive layer was partially poor and the appearance was also poor. The film for laser punching process prepared in Comparative Example 11 did not contain an ultraviolet absorber and was not suitable for laser punching.

이로부터, 실시예 1~4에 의해 제조된 레이저 타발공정용 필름은 비교예 11에 의해 제조된 레이저 타발공정용 필름(자외선 흡수제 불포함)과 비교하여 유사한 표면저항, 수접촉각, 350 nm 및 450 nm 파장에서 광투과율을 가지며 우수한 밀착력과 약한 박리력을 가짐을 확인할 수 있다. 나아가, 실시예 1~4에 의해 제조된 레이저 타발공정용 필름은 자외선 레이저를 이용한 커팅에 적합한 레이저 타발공정용 필름에 적합함을 확인할 수 있다. From this, the films for laser punching process prepared by Examples 1 to 4 had similar surface resistance, water contact angle, 350 nm and 450 nm compared to the film for laser punching process prepared by Comparative Example 11 (without UV absorber). It can be seen that it has light transmittance at the wavelength and has excellent adhesion and weak peeling power. Furthermore, it can be confirmed that the films for laser punching process prepared in Examples 1 to 4 are suitable for laser punching process films suitable for cutting using an ultraviolet laser.

10 : 폴리에스테르계 기재, 20 : 점착층, 100 : 레이저 타발공정용 필름10: polyester base material, 20: adhesive layer, 100: film for laser punching process

Claims (13)

레이저 타발공정용 필름으로서,
폴리에스테르계 기재; 및
상기 폴리에스테르계 기재의 적어도 일 면에 위치하는 점착층;을 포함하고,
상기 점착층은 실리콘계 점착제 및 자외선 흡수제를 포함하는 점착 조성물의 경화층이고,
상기 자외선 흡수제가 트리아진계 자외선 흡수제를 포함하고,
330 nm 내지 380 nm 파장에서 20% 이하의 광투과율을 갖고,
450 nm 이상의 파장에서 60% 이상의 광투과율을 갖고,
하기 식 1을 만족하고,
상기 필름의 수접촉각(deg.)이 하기 식 2를 만족하는, 레이저 타발공정용 필름:
[식 1]
0 < │A1-P1│≤ 4 gf/inch
식 중에서,
A1은 폴리에스테르계 필름에 대한 180 ° 각도, 0.3 mpm 속도 하에 필름의 박리력이고,
P1은 폴리에스테르계 필름에 대한 180 ° 각도, 0.3 mpm 속도 하에 자외선 흡수제를 제외한 점착층을 포함한 필름의 박리력이다.
[식 2]
118 °≤ 수접촉각(deg.) < 128 °
As a film for laser punching process,
polyester base materials; and
An adhesive layer positioned on at least one surface of the polyester-based substrate; includes,
The adhesive layer is a cured layer of an adhesive composition containing a silicone-based adhesive and an ultraviolet absorber,
The UV absorber includes a triazine-based UV absorber,
It has a light transmittance of 20% or less at a wavelength of 330 nm to 380 nm,
It has a light transmittance of 60% or more at a wavelength of 450 nm or more,
Satisfying Equation 1 below,
A film for laser punching process in which the water contact angle (deg.) of the film satisfies Equation 2 below:
[Equation 1]
0 < │A1-P1│≤ 4 gf/inch
In the expression
A1 is the peel force of the film under a 180 ° angle, 0.3 mpm speed for a polyester-based film,
P1 is the peel force of the film including the adhesive layer excluding the UV absorber under a 180° angle and a speed of 0.3 mpm for the polyester film.
[Equation 2]
118 °≤ water contact angle (deg.) < 128 °
제1항에 있어서,
상기 330 nm 내지 380 nm 파장에서 5% ~ 20%의 광투과율을 갖는, 레이저 타발공정용 필름.
According to claim 1,
Having a light transmittance of 5% to 20% at the wavelength of 330 nm to 380 nm, a film for laser punching process.
삭제delete 제1항에 있어서,
상기 필름은 상온에서 폴리에스테르계 필름에 대한 180 ° 각도, 0.3 mpm 속도 하에 박리력이 15 gf/inch 이하이고,
상온에서 폴리에스테르계 필름에 대한 180 ° 각도, 2.4 mpm 속도 하에 박리력이 30 gf/inch 이하인, 레이저 타발공정용 필름.
According to claim 1,
The film has a peel force of 15 gf / inch or less at a speed of 0.3 mpm at a 180 ° angle relative to a polyester film at room temperature,
A film for laser punching process having a peel force of 30 gf/inch or less under a 180 ° angle to a polyester film at room temperature and a speed of 2.4 mpm.
제1항에 있어서,
상기 필름은 하기 식 3을 만족하는, 레이저 타발공정용 필름:
[식 3]
5 gf/inch < (A2-A1)/2 < 10 gf/inch
식 중에서,
A1은 상온에서 폴리에스테르계 필름에 대한 180 ° 각도, 0.3 mpm 속도 하에 상기 필름의 박리력이고,
A2는 상온에서 폴리에스테르계 필름에 대한 180 ° 각도, 2.4 mpm 속도 하에 상기 필름의 박리력이다.
According to claim 1,
The film satisfies the following formula 3, a film for laser punching process:
[Equation 3]
5 gf/inch < (A2-A1)/2 < 10 gf/inch
In the expression
A1 is the peel force of the film under a 180 ° angle, 0.3 mpm speed for a polyester-based film at room temperature,
A2 is the peel force of the film under a 180° angle, 2.4 mpm speed for a polyester-based film at room temperature.
제1항에 있어서,
상기 실리콘계 점착제가 서로 다른 2종의 실록산과 실란이 함유된 수지를 포함하는 제1 실리콘계 점착제 및 제2 실리콘계 점착제를 포함하는, 레이저 타발공정용 필름.
According to claim 1,
The film for laser punching process, wherein the silicone-based adhesive includes a first silicone-based adhesive and a second silicone-based adhesive including two different types of siloxane and a resin containing silane.
제6항에 있어서,
상기 제1 실리콘계 점착제의 함량이 제2 실리콘계 점착제의 함량보다 큰, 레이저 타발공정용 필름.
According to claim 6,
The content of the first silicone-based pressure-sensitive adhesive is greater than the content of the second silicone-based pressure-sensitive adhesive, a film for laser punching process.
제6항에 있어서,
상기 자외선 흡수제의 함량이 상기 제1 실리콘계 점착제 100 중량부를 기준으로 하여 2.5 중량부 이하인, 레이저 타발공정용 필름.
According to claim 6,
A film for laser punching process in which the content of the ultraviolet absorber is 2.5 parts by weight or less based on 100 parts by weight of the first silicone-based pressure-sensitive adhesive.
제1항에 있어서,
상기 점착 조성물은 경화제, 점착 촉진제, 촉매, 및 용매를 더 포함하는, 레이저 타발공정용 필름.
According to claim 1,
The adhesive composition further comprises a curing agent, an adhesion promoter, a catalyst, and a solvent, a film for laser punching process.
제1항에 있어서,
상기 점착층의 두께가 5 ~ 10 ㎛인, 레이저 타발공정용 필름.
According to claim 1,
The thickness of the adhesive layer is 5 ~ 10 ㎛, a film for laser punching process.
제1항에 있어서,
상기 필름 표면에 대해 ASTM D257 표준에 따라 측정한 표면저항이 1 x 104 ~ 1 x 1011 Ω/cm2인, 레이저 타발공정용 필름.
According to claim 1,
The surface resistance measured according to the ASTM D257 standard for the surface of the film is 1 x 10 4 to 1 x 10 11 Ω / cm 2 , a film for laser punching process.
제1항에 있어서,
상기 점착층 상에 불소함유 실리콘 이형필름이 추가로 배치된, 레이저 타발공정용 필름.
According to claim 1,
A film for laser punching process in which a fluorine-containing silicon release film is additionally disposed on the adhesive layer.
제1항에 따른 레이저 타발공정용 필름이 점착되는 피착제; 및
박막 디스플레이 패널;을 포함하고,
상기 피착제는 시트를 포함하는, 디스플레이 소자.


An adherend to which the film for laser punching process according to claim 1 is adhered; and
Including; thin film display panel;
The display device, wherein the adherend includes a sheet.


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