KR102510494B1 - Inductively coupled plasma reactor - Google Patents
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Abstract
본 발명에 의하면, 나란하게 배치되는 제1 연결관과 제2 연결관을 구비하는 유도결합 플라즈마용 반응 챔버에 결합되는 페라이트 코어에 있어서, 직사각형의 고리형상을 이루는 테두리부; 및 상기 테두리부의 내부 영역을 가로지르는 연결부를 포함하며, 상기 연결부의 길이방향 양단은 상기 테두리부의 대향하는 두 변부와 연결되어서, 상기 연결부는 상기 테두리부의 내부 영역을 상기 제1 연결관이 통과하는 제1 관통구와 상기 제2 연결관이 통과하는 제2 관통구로 분리하며, 복수개의 페라이트 부재들이 연결되어서 형성되며, 상기 복수개의 페라이트 부재들 중 적어도 하나는 'ㄱ'자형인, 유도결합 플라즈마용 페라이트 코어가 제공된다.According to the present invention, in a ferrite core coupled to a reaction chamber for inductively coupled plasma having a first connector and a second connector disposed side by side, the rim portion forming a rectangular annular shape; and a connecting portion crossing an inner region of the rim portion, both ends in a longitudinal direction of the connecting portion are connected to two opposite sides of the rim portion, so that the connecting portion is a first connector through which the first connector passes through the inner region of the rim portion. A ferrite core for inductively coupled plasma, separated into a first through-hole and a second through-hole through which the second connection pipe passes, formed by connecting a plurality of ferrite members, and at least one of the plurality of ferrite members having an 'L' shape. is provided.
Description
본 발명은 반도체 제조설비의 공정챔버에서 배출되는 배기가스를 플라즈마를 이용하여 처리하는 기술에 관한 것으로서, 더욱 상세하게는 유도결합 플라즈마를 이용하여 반도체 제조설비의 공정챔버에서 배출되는 배기가스를 처리하기 위한 플라즈마 반응기에 관한 것이다.The present invention relates to a technique for treating exhaust gas discharged from a process chamber of a semiconductor manufacturing facility using plasma, and more particularly, to a method for treating exhaust gas discharged from a process chamber of a semiconductor manufacturing facility using inductively coupled plasma. It relates to a plasma reactor for
반도체 소자는 공정챔버에서 웨이퍼 상에 포토리소그래피, 식각, 확산 및 금속증착 등의 공정들이 반복적으로 수행됨으로써 제조되고 있다. 이러한 반도체 제조 공정 중에는 다양한 공정 가스가 사용되며, 공정이 완료된 후 공정챔버 내 잔류가스는 PFCs등의 다양한 유해성분을 포함한다. 공정챔버 내 잔류가스는 공정 완료 후 진공펌프에 의해 배기라인을 통해 배출되는데, 유해성분이 그대로 배출되지 않도록 배기가스는 배기가스 처리장치에 의해 정화된다.Semiconductor devices are manufactured by repeatedly performing processes such as photolithography, etching, diffusion, and metal deposition on a wafer in a process chamber. During the semiconductor manufacturing process, various process gases are used, and residual gas in the process chamber after the process is completed contains various harmful components such as PFCs. Residual gas in the process chamber is discharged through an exhaust line by a vacuum pump after the process is completed.
최근에는 플라즈마 반응을 이용하여 유해성분을 분해하여 처리하는 기술이 널리 사용되고 있다. 본 발명과 관련된 선행기술로서, 공개특허 제2019-19651호에는 유도결합 플라즈마를 이용하여 배기가스를 처리하는 플라즈마 챔버가 개시되어 있다. 유도결합 플라즈마는 무선주파수 전력이 안테나 코일에 인가되면 안테나에 흐르는 시변 전류에 의해 자기장이 유도되며 이에 의해 챔버 내부에 생성되는 전기장에 의해 플라즈마가 발생하는 것으로서, 일반적으로 유도결합 플라즈마용 플라즈마 반응기는 플라즈마가 발생하는 공간을 제공하는 챔버와, 챔버를 감싸도록 결합되는 페라이트 코어와 초기 플라즈마 점화를 위한 점화기로 구성된다. Recently, a technique of decomposing and treating harmful components using a plasma reaction has been widely used. As a prior art related to the present invention, Patent Publication No. 2019-19651 discloses a plasma chamber for processing exhaust gas using inductively coupled plasma. When radio frequency power is applied to an antenna coil, a magnetic field is induced by a time-varying current flowing through the antenna, and plasma is generated by an electric field generated inside the chamber. In general, a plasma reactor for inductively coupled plasma is plasma. It consists of a chamber providing a space in which ? is generated, a ferrite core coupled to surround the chamber, and an igniter for initial plasma ignition.
본 발명의 목적은 유도결합 플라즈마용 페라이트 코어 및 이를 구비하는 유도결합 플라즈마 반응기를 제공하는 것이다.An object of the present invention is to provide a ferrite core for inductively coupled plasma and an inductively coupled plasma reactor having the same.
상기한 본 발명의 목적을 달성하기 위하여, 본 발명의 일 측면에 따르면, 나란하게 배치되는 제1 연결관과 제2 연결관을 구비하는 유도결합 플라즈마용 반응 챔버에 결합되는 페라이트 코어에 있어서, 직사각형의 고리형상을 이루는 테두리부; 및 상기 테두리부의 내부 영역을 가로지르는 연결부를 포함하며, 상기 연결부의 길이방향 양단은 상기 테두리부의 대향하는 두 변부와 연결되어서, 상기 연결부는 상기 테두리부의 내부 영역을 상기 제1 연결관이 통과하는 제1 관통구와 상기 제2 연결관이 통과하는 제2 관통구로 분리하며, 복수개의 페라이트 부재들이 연결되어서 형성되며, 상기 복수개의 페라이트 부재들 중 적어도 하나는 'ㄱ'자형인, 유도결합 플라즈마용 페라이트 코어가 제공된다.In order to achieve the above object of the present invention, according to one aspect of the present invention, in a ferrite core coupled to a reaction chamber for inductively coupled plasma having a first connector and a second connector disposed side by side, The edge portion forming a ring shape of; and a connecting portion crossing an inner region of the rim portion, both ends in a longitudinal direction of the connecting portion are connected to two opposite sides of the rim portion, so that the connecting portion is a first connector through which the first connector passes through the inner region of the rim portion. A ferrite core for inductively coupled plasma, separated into a first through-hole and a second through-hole through which the second connection pipe passes, formed by connecting a plurality of ferrite members, and at least one of the plurality of ferrite members having an 'L' shape. is provided.
상기한 본 발명의 목적을 달성하기 위하여, 본 발명의 다른 측면에 따르면, 나란하게 배치되는 제1 연결관과 제2 연결관을 구비하는 유도결합 플라즈마용 반응 챔버에 결합되는 페라이트 코어에 있어서, 직사각형의 고리형상을 이루는 테두리부; 및 상기 테두리부의 내부 영역을 가로지르는 연결부를 포함하며, 상기 연결부의 길이방향 양단은 상기 테두리부의 대향하는 두 변부와 연결되어서, 상기 연결부는 상기 테두리부의 내부 영역을 상기 제1 연결관이 통과하는 제1 관통구와 상기 제2 연결관이 통과하는 제2 관통구로 분리하며, 복수개의 페라이트 부재들이 연결되어서 형성되며, 상기 복수개의 페라이트 부재들 중 적어도 하나는 'ㄷ'자형인, 유도결합 플라즈마용 페라이트 코어가 제공된다.In order to achieve the above object of the present invention, according to another aspect of the present invention, in a ferrite core coupled to a reaction chamber for inductively coupled plasma having a first connector and a second connector disposed side by side, The edge portion forming a ring shape of; and a connecting portion crossing an inner region of the rim portion, both ends in a longitudinal direction of the connecting portion are connected to two opposite sides of the rim portion, so that the connecting portion is a first connector through which the first connector passes through the inner region of the rim portion. A ferrite core for inductively coupled plasma, separated into a first through-hole and a second through-hole through which the second connection pipe passes, formed by connecting a plurality of ferrite members, and at least one of the plurality of ferrite members having a 'c' shape. is provided.
상기한 본 발명의 목적을 달성하기 위하여, 본 발명의 또 다른 측면에 따르면, 플라즈마 반응 공간을 제공하고 나란하게 배치되는 제1 연결관과 제2 연결관을 구비하는 반응 챔버; 및 상기 플라즈마 반응 공간을 감싸도록 배치되는 페라이트 코어를 포함하며, 상기 페라이트 코어는, 복수개의 페라이트 부재들이 연결되어서 형성되며, 직사각형의 고리형상을 이루는 테두리부와, 상기 테두리부의 내부 영역을 가로지르는 연결부를 구비하며, 상기 연결부의 길이방향 양단은 상기 테두리부의 대향하는 두 변부와 연결되어서, 상기 연결부는 상기 테두리부의 내부 영역을 상기 제1 연결관이 통과하는 제1 관통구와 상기 제2 연결관이 통과하는 제2 관통구로 분리하며, 상기 복수개의 페라이트 부재들 중 적어도 하나는 'ㄱ'자형이며, 상기 연결부는 상기 제1 연결관과 상기 제2 연결관의 사이에 형성된 슬롯을 지나가는, 유도결합 플라즈마 반응기가 제공된다.In order to achieve the object of the present invention described above, according to another aspect of the present invention, a reaction chamber having a first connection pipe and a second connection pipe provided in parallel to provide a plasma reaction space; and a ferrite core disposed to surround the plasma reaction space, wherein the ferrite core is formed by connecting a plurality of ferrite members, and includes an rim portion forming a rectangular annular shape and a connection portion crossing an inner region of the rim portion. Both ends in the longitudinal direction of the connection portion are connected to two opposite sides of the rim portion, so that the connection portion passes the first through-hole through which the first connection pipe passes through an inner region of the rim portion and the second connection pipe. The inductively coupled plasma reactor passes through a slot formed between the first connection pipe and the second connection pipe, and at least one of the plurality of ferrite members is 'L'-shaped, and the connection part passes through a slot formed between the first connection pipe and the second connection pipe. is provided.
상기한 본 발명의 목적을 달성하기 위하여, 본 발명의 또 다른 측면에 따르면, 플라즈마 반응 공간을 제공하고 나란하게 배치되는 제1 연결관과 제2 연결관을 구비하는 반응 챔버; 및 상기 플라즈마 반응 공간을 감싸도록 배치되는 페라이트 코어를 포함하며, 상기 페라이트 코어는, 복수개의 페라이트 부재들이 연결되어서 형성되며, 직사각형의 고리형상을 이루는 테두리부와, 상기 테두리부의 내부 영역을 가로지르는 연결부를 구비하며, 상기 연결부의 길이방향 양단은 상기 테두리부의 대향하는 두 변부와 연결되어서, 상기 연결부는 상기 테두리부의 내부 영역을 상기 제1 연결관이 통과하는 제1 관통구와 상기 제2 연결관이 통과하는 제2 관통구로 분리하며, 상기 복수개의 페라이트 부재들 중 적어도 하나는 'ㄷ'자형이며, 상기 연결부는 상기 제1 연결관과 상기 제2 연결관의 사이에 형성된 슬롯을 지나가는, 유도결합 플라즈마 반응기가 제공된다.In order to achieve the object of the present invention described above, according to another aspect of the present invention, a reaction chamber having a first connection pipe and a second connection pipe provided in parallel to provide a plasma reaction space; and a ferrite core disposed to surround the plasma reaction space, wherein the ferrite core is formed by connecting a plurality of ferrite members, and includes an rim portion forming a rectangular annular shape and a connection portion crossing an inner region of the rim portion. Both ends in the longitudinal direction of the connection portion are connected to two opposite sides of the rim portion, so that the connection portion passes the first through-hole through which the first connection pipe passes through an inner region of the rim portion and the second connection pipe. The inductively coupled plasma reactor passes through a slot formed between the first connection pipe and the second connection pipe, and at least one of the plurality of ferrite members has a 'c' shape, and the connection part passes through a slot formed between the first connection pipe and the second connection pipe. is provided.
본 발명에 의하면 앞서서 기재한 본 발명의 목적을 모두 달성할 수 있다. 구체적으로는, 유도결합 플라즈마 반응기에 사용되는 페라이트 코어에서 챔버의 두 연결관을 각각 감싸는 두 고리부가 하나의 연결부를 공유하는 형태로 이루어지므로 전체적인 크기를 줄일 수 있다.According to the present invention, all of the objects of the present invention described above can be achieved. Specifically, in the ferrite core used in the inductively coupled plasma reactor, the overall size can be reduced because the two ring parts respectively surrounding the two connecting tubes of the chamber share one connecting part.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 유도결합 플라즈마 반응기를 도시한 사시도이다.
도 2는 도 1에 도시된 유도결합 플라즈마 반응기를 종단면도로 도시한 것이다.
도 3은 도 1에 도시된 유도결합 플라즈마 반응기를 분해 사시도로 도시한 것이다.
도 4는 도 3에 도시된 유도결합 플라즈마 반응기에서 페라이트 코어 조립체를 분해 사시도로 도시한 것이다.
도 5는 도 4에 도시된 페라이트 코어 조립체에서 페라이트 코어를 사시도로 도시한 것이다.
도 6은 도 5에 도시된 페라이트 코어를 분해 사시도로 도시한 것이다.
도 7은 본 발명의 다른 실시예에 따른 유도결합 플라즈마용 페라이트 코어를 사시도로서 도시한 것이다.
도 8 내지 도 10은 본 발명의 또 다른 실시예들에 따른 유도결합 플라즈마용 페라이트 코어를 평면도로서 도시한 것이다.1 is a perspective view showing an inductively coupled plasma reactor according to an embodiment of the present invention.
2 is a longitudinal cross-sectional view of the inductively coupled plasma reactor shown in FIG. 1;
3 is an exploded perspective view of the inductively coupled plasma reactor shown in FIG. 1;
FIG. 4 is an exploded perspective view of a ferrite core assembly in the inductively coupled plasma reactor shown in FIG. 3 .
5 is a perspective view of a ferrite core in the ferrite core assembly shown in FIG. 4;
FIG. 6 is an exploded perspective view of the ferrite core shown in FIG. 5 .
7 is a perspective view illustrating a ferrite core for inductively coupled plasma according to another embodiment of the present invention.
8 to 10 are plan views illustrating ferrite cores for inductively coupled plasma according to still other embodiments of the present invention.
이하, 도면을 참조하여 본 발명의 실시예의 구성 및 작용을 상세하게 설명한다.Hereinafter, the configuration and operation of an embodiment of the present invention will be described in detail with reference to the drawings.
본 발명의 일 실시예에 따른 유도결합 플라즈마 반응기가 도 1에는 사시도로 도시되어 있고, 도 2에는 종단면도로서 도시되어 있으며, 도 3에는 분해 사시도로 도시되어 있다. 도 1, 도 2 및 도 3을 참조하면, 본 발명의 일 실시예에 따른 유도결합 플라즈마 반응기(100)는, 반응 챔버(150)와, 반응 챔버(150)를 감싸도록 배치되는 페라이트 코어 조립체(110)와, 페라이트 코어 조립체(110)에 권취되어서 형성된 안테나 코일(180)을 포함한다. 본 실시예에서 유도결합 플라즈마 반응기(100)는 반도체 제조설비에서 공정챔버로부터 발생한 잔류가스를 배출시키는 배기관에 설치되어서 배기관을 따라 유동하는 배기가스를 유도결합 플라즈마를 이용하여 처리하는 것으로 설명하는데, 본 발명은 유도결합 플라즈마 반응기(100)의 용도 및 설치 위치를 이와 같이 한정하는 것은 아니다. 유도결합 플라즈마 반응기(100)는 전원(190)으로부터 적절한 교류 전력을 공급받아서 작동하게 된다.An inductively coupled plasma reactor according to an embodiment of the present invention is shown in a perspective view in FIG. 1 , a longitudinal cross-sectional view in FIG. 2 , and an exploded perspective view in FIG. 3 . 1, 2 and 3, the inductively coupled
반응 챔버(150)는 토로이달(toroidal) 형상의 챔버로서 반응 챔버(150)의 내부에는 처리대상 가스에 대한 플라즈마 반응이 일어나는 플라즈마 반응 공간(153)이 형성된다. 반응 챔버(150)에는 플라즈마 반응 공간(153)과 연통되고 처리대상 가스를 플라즈마 반응 공간(153)으로 유입시키는 가스 유입구(154a)와, 플라즈마 반응 공간(153)에서 플라즈마 처리된 가스가 외부로 배출되는 가스 배출구(154b)가 구비된다. 반응 챔버(150)는 가스 유입구(154a)가 형성되는 제1 기초부(151a)와, 가스 배출구(154b)가 형성되는 제2 기초부(151b)와, 두 기초부(151a, 151b)를 연결하고 제1, 제2 연결 통로(155, 157)를 제공하는 제1, 제2 연결관(156, 159)을 구비한다. The
제1 기초부(151a)는 내부에 제1 내부 공간(152a)을 제공하고, 제1 기초부(151a)에는 제1 내부 공간(152a)과 연통되고 처리 대상 가스가 유입되는 가스 유입구(154a)가 형성된다. 도시되지는 않았으나, 제1 기초부(151a)에는 점화기가 삽입되어서 설치된다.The
제1 내부 공간(152a)은 가스 유입구(154a), 제1 연결 통로(155) 및 제2 연결 통로(157)와 연통된다. 도면에서 제1 내부 공간(152a)의 상부에 가스 유입구(154a)가 연통되며, 제1 내부 공간(152a)의 하부에 제1, 제2 연결 통로(155, 157)가 연통된다. 가스 유입구(154a)를 통해 유입된 처리대상 가스는 제1 내부 공간(152a)을 거쳐서 제1 연결 통로(155) 및 제2 연결 통로(157)로 유동하게 된다.The first
제2 기초부(151b)는 제1 기초부(151a)와 이격되어서 위치하며, 내부에 제2 내부 공간(152b)을 제공하고, 제2 기초부(151b)에는 제2 내부 공간(152b)과 연통되고 가스가 배출되는 가스 배출구(154b)가 형성된다. 도시되지는 않았으나, 제2 기초부(151b)에는 점화기가 삽입되어서 설치된다. 제2 기초부(151b)는 제1 연결관(156)과 제2 연결관(159)에 의해 제1 기초부(151a)와 연결된다.The
제2 내부 공간(152b)은 제1 내부 공간(152a)과 이격되어서 위치하고, 가스 배출구(154b), 제1 연결 통로(155) 및 제2 연결 통로(157)와 연통된다. 도면에서 제2 내부 공간(152b)은 제1 내부 공간(152a)보다 아래에 위치하고, 제2 내부 공간(152b)의 하부에 가스 배출구(154b)가 연통되며, 제2 내부 공간(152b)의 상부에 제1, 제2 연결 통로(155, 157)가 연통된다. 제1, 제2 연결 통로(155, 157)를 따라 유동하는 가스는 제2 내부 공간(152b)을 거쳐서 가스 배출구(154b)를 통해 외부로 배출된다.The second
제1 연결관(156)과 제2 연결관(159)은 나란하게 배치되어서 제1 기초부(151a)와 제2 기초부(151b)를 연결한다. 제1 연결관(156)의 내부에는 제1 기초부(151a)의 제1 내부 공간(152a)과 제2 기초부(151b)의 제2 내부 공간(152b)을 연통시키는 제1 연결 통로(155)가 형성되며, 제2 연결관(159)의 내부에는 제1 기초부(151a)의 제1 내부 공간(152a)과 제2 기초부(151b)의 제2 내부 공간(152b)을 연통시키는 제2 연결 통로(157)가 형성된다. 제1 연결관(156)과 제2 연결관(159)은 이격되도록 배치되어서 제1 연결관(156)과 제2 연결관(159)의 사이에는 슬롯(169)이 형성된다.The
서로 연결된 제1 내부 공간(151a), 제2 내부 공간(151b), 제1 연결 통로(155) 및 제2 연결 통로(157)가 플라즈마 반응 공간(153)을 형성한다. 플라즈마 반응 공간(153)에서 도 2에 파선으로 도시된 바와 같은 고리형 방전 루프(R)를 따라서 플라즈마가 발생한다.The first
본 실시예에서는 반응 챔버(150)가 제1 챔버 유닛(150a)과 제2 챔버 유닛(150b)이 적절한 결합 수단에 의해 결합되어서 구성되는 것으로 설명한다. In this embodiment, it will be described that the
제1 챔버 유닛(150a)은 제1 기초부(151a)와, 제1 기초부(151a)로부터 연장되는 제1A 연장관(156a) 및 제2A 연장관(159a)을 구비한다.The
제1 기초부(151a)는 내부에 제1 내부 공간(152a)을 제공하고, 제1 기초부(151a)에는 제1 내부 공간(152a)과 통하고 처리 대상 가스가 유입되는 가스 유입구(154a)가 형성된다. 도시되지는 않았으나, 제1 기초부(151a)에는 점화기가 삽입되어서 설치된다.The
제1A 연장관(156a)과 제2A 연장관(159a)은 제1 기초부(151a)의 제1 내부 공간(152a)과 연통되며, 제1A 연장관(156a)의 끝단과 제2A 연장관(159a)의 끝단은 개방된다. 제1A 연장관(156a)의 개방된 끝단과 제2A 연장관(159a)의 개방된 끝단이 제2 챔버 유닛(150b)과 이어진다.The
제2 챔버 유닛(150b)은 제1 챔버 유닛(150a)와 대체로 동일한 구조로서, 제2 기초부(151b)와, 제2 기초부(151b)로부터 연장되는 제1B 연장관(156b) 및 제2B 연장관(159b)를 구비한다. The
제2 기초부(151b)는 내부에 제2 내부 공간(152b)을 제공하고, 제2 기초부(151b)에는 제2 내부 공간(152b)과 통하고 처리된 가스가 외부로 배출되는 가스 배출구(154b)가 형성된다. 도시되지는 않았으나, 제2 기초부(151b)에는 점화기가 삽입되어서 설치된다.The
제1B 연장관(156b)과 제2B 연장관(159b)은 제2 기초부(151b)로부터 서로 평행하게 연장되어서 형성된다. 제1B 연장관(156b)과 제2B 연장관(159b)은 제2 기초부(151b)의 제2 내부 공간(152b)과 연통되며, 제1B 연장관(156b)의 끝단과 제2B 연장관(159b)의 끝단은 개방된다. 제1A 연장관(156a)과 제1B 연장관(156b)이 연결되어서 제1 연결관(156)을 형성하며, 제2A 연장관(159a)과 제2B 연장관(159b)이 연결되어서 제2 연결관(159)을 형성하는데, 제1A 연장관(156a)의 끝단과 제1B 연장관(156b)의 끝단 사이 및 제2A 연장관(156a)의 끝단과 제2B 연장관(156b)의 끝단 사이에는, 도시되지는 않았으나 DC 브레이커(DC breaker)가 위치한다.The
도 4에는 페라이트 코어 조립체(110)가 분해 사시도로 도시되어 있다. 도 1, 도 2, 도 3 및 도 4를 참조하면, 페라이트 코어 조립체(110)는 페라이트 코어 적층체(140)와, 페라이트 코어 적층체(140)를 수용하는 페라이트 코어 수용 구조물(120a)을 구비한다.4 shows a
페라이트 코어 적층체(140)는 동일한 형상인 복수개의 페라이트 코어(Ferrite Core)(145)들이 차례대로 적층되어서 형성된 것으로서, 테두리벽(141)과, 테두리벽(141)의 내부에 위치하는 구획벽(144)을 구비한다. 페라이트 코어 적층체(140)는 반응 챔버(150)에 형성된 플라즈마 반응 공간(153)의 일부를 감싸도록 배치된다. 페라이트 코어 적층체(140)에는 도면에서 상하방향을 따라서 연장되는 제1 통로부(141a)와 제2 통로부(141b)가 형성된다. 제1 통로부(141a)와 제2 통로부(141b)는 페라이트 코어 적층체(140)를 관통하여 상단과 하단의 양단이 개방되고 측면이 막힌다. 페라이트 코어 적층체(140)는 페라이트 코어 수용 구조물(120a)에 수용된다. 도면에서는 6개의 페라이트 코어(145)가 적층되어서 페라이트 코어 적층체(140)를 형성하는 것으로 도시되어 있는데, 본 발명은 이에 제한되는 것은 아니며, 2개 내지 5개 또는 7개 이상의 페라이트 코어가 적층되어서 페라이트 코어 적층체를 형성할 수 있고 이 또한 본 발명의 범위에 속하는 것이다.The
테두리벽(141)은 평면 형상이 직사각형을 이루도록 둘레방향을 따라 연장되어서 형성되어서, 대향하는 제1, 제2 장벽부(142a, 142b)와, 대향하고 제1, 제2 장벽부(142a, 142b)보다 폭이 좁은 제1, 제2 단벽부(143a, 143b)를 구비한다. 제1 단벽부(143a)와 제2 단벽부(143b)들 각각은 제1 장벽부(142a)와 제2 장벽부(142b)의 대향하는 두 폭방향 양단을 연결하여, 제1 장벽부(142a), 제1 단벽부(143a), 제2 장벽부(143b) 및 제2 단벽부(143b)가 테두리벽(141)의 둘레방향을 따라서 연속적으로 이어지는 형태를 이룬다. 테두리벽(141)은 평면 형상이 정사각형일 수 있으며 이 또한 본 발명의 범위에 속하는 것이다.The
구획벽(144)은 테두리벽(141)의 대향하는 두 장벽부(142a, 142b)들 사이에 직선으로 연장된다. 구획벽(144)의 양단은 두 장벽부(142a, 142b)들 각각의 폭방향 가운데 부분과 이어진다. 구획벽(144)에 의해 테두리벽(141)의 내부 영역은 제1 단벽부(143a)와 구획벽(144) 사이에 형성되는 사각 형상의 제1 통로부(141a)와 제2 단벽부(143b)와 구획벽(144) 사이에 형성되는 사각 형상의 제2 통로부(141b)로 각각 분리된다. 구획벽(144)에는 안테나 코일(160)이 권취되어서 구비된다. 본 실시예에서 구획벽(144)은 두 장벽부(142a, 142b)들 사이에 연장되는 것으로 설명하지만, 이와는 달리 두 단벽부(143a, 143b)들 사이에 연장될 수 있으며, 이 또한 본 발명의 범위에 속하는 것이다. 테두리벽(141)의 평면 형상이 정사각형인 경우에는 구획벽(144)은 장벽부와 단벽부의 구분없이 대향하는 두 벽부들 사이에 연장된다.The
페라이트 코어 적층체(140)는 반응 챔버(150)의 제1 기초부(151a)와 제2 기초부(151b)의 사이에 위치하며, 페라이트 코어 적층체(140)에 형성된 제1 통로부(141a)를 반응 챔버(150)의 제1 연결관(156)이 지나가며, 페라이트 코어(110)에 형성된 제2 통로부(141b)를 반응 챔버(150)의 제2 연결관(159)이 지나간다. 그에 따라, 페라이트 코어 적층체(110)의 구획벽(144)은 반응 챔버(150)의 제1 연결관(156)과 제2 연결관(159)의 사이에 형성된 슬롯(169)에 안테나 코일(160)과 함께 위치한다.The
도 5에는 페라이트 코어(145)가 사시도로 도시되어 있다. 도 4 및 도 5를 참조하면, 페라이트 코어(145)는 복수개가 적층되어서 페라이트 코어 적층체(140)를 형성하는 것으로서, 둘레방향을 따라 연장되어서 직사각형의 고리형상을 이루는 테두리부(146)와, 테두리부(146)의 내부 영역을 가로지르는 연결부(148)를 구비한다. 테두리부(146)는 직사각형의 고리형상으로서, 대향하는 제1, 제2 장변부(146a, 146b)들과, 대향하는 제1, 제2 단변부(147a, 147b)들을 구비한다. 제1 단변부(147a)와 제2 단변부(147b)들 각각은 제1 장변부(146a)와 제2 장변부(146b)의 대향하는 두 길이방향 양단을 연결하여, 제1 장변부(146a), 제1 단변부(147a), 제2 장변부(146b) 및 제2 단변부(147b)가 테두리부(146)의 둘레방향을 따라서 연속적으로 이어지는 형태를 이룬다. 복수개의 페라이트 코어(145)들이 적층되어서 형성된 페라이트 코어 적층체(도 4의 140)에서, 적층된 복수개의 페라이트 코어(도 4의 145)들 각각의 제1 장변부(146a)들은 높이방향을 따라서 차례대로 이어져서 제1 장벽부(도 4의 142a)를 형성하며, 적층된 복수개의 페라이트 코어(도 4의 145)들 각각의 제2 장변부(146b)들은 높이방향을 따라서 차례대로 이어져서 제2 장벽부(도 4의 142b)를 형성하고, 적층된 복수개의 페라이트 코어(도 4의 145)들 각각의 제1 단변부(147a)들은 높이방향을 따라서 차례대로 이어져서 제1 단벽부(도 4의 143a)를 형성하며, 적층된 복수개의 페라이트 코어(도 4의 145)들 각각의 제2 단변부(147b)들은 높이방향을 따라서 차례대로 이어져서 제2 단벽부(도 4의 143b)를 형성한다. 테두리부(146)는 정사각형의 형상일 수 있으며 이 또한 본 발명의 범위에 속하는 것이다.5 shows a
연결부(148)는 테두리부(146)의 대향하는 두 장변부(146a, 146b)들 사이를 연결하도록 직선으로 연장된다. 연결부(148)의 양단은 두 장변부(146a, 146b)들 각각의 길이방향 중심 부분과 이어진다. 연결부(148)에 의해 테두리부(146)의 내부 영역은 사각 형상의 제1 관통구(149a)와 제2 관통구(149b)로 각각 분리된다. 복수개의 페라이트 코어(145)들이 적층되어서 형성된 페라이트 코어 적층체(도 4의 140)에서, 적층된 복수개의 페라이트 코어(145)들 각각의 연결부(148)들이 높이방향을 따라서 차례대로 이어져서 구획벽(도 4의 144)을 형성하며, 적층된 복수개의 페라이트 코어(145)들 각각의 제1 관통구(149a)들이 높이방향을 따라서 연결되어서 페라이트 코어 적층체(도 4의 140)의 제1 통로부(141a)를 형성하고, 적층된 복수개의 페라이트 코어(145)들 각각의 제2 관통구(149b)들이 높이방향을 따라서 연결되어서 페라이트 코어 적층체(도 4의 140)의 제2 통로부(141b)를 형성한다. 본 실시예에서 연결부(148)는 두 장변부(146a, 146b)들 사이에 연장되는 것으로 설명하지만, 이와는 달리 두 단변부(147a, 147b)들 사이에 연장될 수 있으며, 이 또한 본 발명의 범위에 속하는 것이다. 테두리부(146)의 평면 형상이 정사각형인 경우에는 연결부(148)는 장변부와 단변부의 구분없이 대향하는 두 변부들 사이에 연장된다.The connecting
본 발명에서 페라이트 코어(140)는 복수개의 페라이트 부재를 연결하여 '日'자형으로 형성되는 것을 특징으로 한다. 페라이트 코어(140)는 '日'자형을 갖도록 연결된 복수개의 페라이트 부재(160a, 160b, 160c)들을 구비한다. 도 6에는 페라이트 코어(140)가 분해 사시도로서 도시되어 있다. 도 5 및 도 6을 참조하면, 복수개의 페라이트 부재(160a, 160b, 160c)들 각각은 직선으로 연장되는 막대형상으로서, 본 실시예에서는 직사각형의 횡단면 형상을 갖는 사각 막대 형상인 것으로 설명한다. 본 실시예에서 복수개의 페라이트 부재(160)들 각각의 폭(w)은 모두 동일하고, 복수개의 페라이트 부재(160)들 각각의 높이(h)도 모두 동일한 것으로 설명한다. 그에 따라, 페라이트 코어(145)의 테두리부(146) 및 연결부(148)는 모두 동일한 폭을 갖게 된다.In the present invention, the
페라이트 코어(145)의 연결부(148)는 동일한 길이를 갖는 복수개의 제1 페라이트 부재(160a)들이 길이방향을 따라서 이어지도록 연결되어서 형성된다. 본 실시예에서는 3개의 제1 페라이트 부재(160a)들이 연결되어서 연결부(148)를 형성하는 것으로 설명한다. 본 실시예에서는 복수개의 제1 페라이트 부재(160a)들이 길이방향을 따라서 이어지도록 연결되어서 연결부(148)가 형성되는 것으로 설명하는데, 이와는 달리 도 7에 도시된 다른 실시예에 따른 페라이트 코어(245)에서와 같이 하나의 제1 페라이트 부재(260a)만으로 연결부(148)를 형성할 수 있으며 이 또한 본 발명의 범위에 속하는 것이다. The connecting
도 5 및 도 6을 참조하면, 페라이트 코어(145)의 두 단변부(147a, 147b)들 각각은 동일한 길이를 갖는 복수개의 제2 페라이트 부재(160b)들이 연결되어서 형성된다. 본 실시예에서는 3개의 제2 페라이트 부재(160b)들이 연결되어서 하나의 단변부(147a, 147b)를 형성하는 것으로 설명한다. 본 실시예에서 연결부(148) 및 두 단변부(147a, 147b)의 형성에 사용되는 복수개의 제1, 제2 페라이트 부재(160a, 160b)들이 모두 동일한 길이를 갖는 것으로 설명한다. 본 실시예에서는 복수개의 제2 페라이트 부재(160b)들이 길이방향을 따라서 이어지도록 연결되어서 하나의 단변부(147a, 147b)가 형성되는 것으로 설명 하는데, 이와는 달리 도 7에 도시된 다른 실시예에 따른 페라이트 코어(245)에서와 같이 하나의 제2 페라이트 부재(260b)만으로 하나의 단변부(147a, 147b)를 형성할 수 있으며 이 또한 본 발명의 범위에 속하는 것이다.Referring to FIGS. 5 and 6 , each of the two
도 5 및 도 6을 참조하면, 페라이트 코어(145)의 두 장변부(146a, 147b)들 각각은 동일한 길이를 갖는 복수개의 제3 페라이트 부재(160c)들이 연결되어서 형성된다. 본 실시예에서는 2개의 제3 페라이트 부재(160c)들이 길이방향을 따라서 이어지도록 연결되어서 연결부(148)의 제1 끝단(148a)의 제1 측면과 제1 단변부(147a)의 끝단(147a1)의 측면 사이를 연결하고, 2개의 제3 페라이트 부재(160c)들이 길이방향을 따라서 이어지도록 연결되어서 연결부(148)의 제1 끝단(148a)의 제2 측면과 제2 단변부(147b)의 끝단(147b1)의 측면 사이를 연결해서 제1 장변부(146a)를 형성하며, 2개의 제3 페라이트 부재(160c)들이 길이방향을 따라서 이어지도록 연결되어서 연결부(148)의 제2 끝단(148b)의 제1 측면과 제1 단변부(147a)의 끝단(147a2)의 측면 사이를 연결하고, 2개의 제3 페라이트 부재(160c)들이 길이방향을 따라서 이어지도록 연결되어서 연결부(148)의 제2 끝단(148b)의 제2 측면과 제2 단변부(147b)의 제2 끝단(147b2)의 측면 사이를 연결해서 제2 장변부(146b)를 형성하는 것으로 설명한다. 본 실시예에서는 연결부(148)와 두 단변부(147a, 147b)의 사이에 복수개의 제3 페라이트 부재(160c)들이 연결되는 것으로 설명하지만, 이와는 달리 도 7에 도시된 다른 실시예에 따른 페라이트 코어(245)에서와 같이 하나의 제3 페라이트 부재(260c)가 연결부(148)와 두 단변부(147a, 147b)의 사이에 배치되어서 연결될 수 있으며 이 또한 본 발명의 범위에 속하는 것이다.5 and 6 , each of the two
페라이트 코어(145)는 내부에 제1 관통구(149a)를 형성하는 직사각형의 제1 고리부(145a)와, 내부에 제2 관통구(149b)를 형성하는 직사각형의 제2 고리부(145b)를 구비한다. 제1 고리부(145a)는 연결부(148), 제1 단변부(147a), 제1 장변부(146a) 중 연결부(148)와 제1 단변부(147a)를 연결하는 부분 및 제2 장변부(146b) 중 연결부(148)와 제1 단변부(147a)를 연결하는 부분으로 이루어지며, 제2 고리부(145b)는 연결부(148), 제2 단변부(147b), 제1 장변부(146a) 중 연결부(148)와 제2 단변부(147b)를 연결하는 부분 및 제2 장변부(146b) 중 연결부(148)와 제2 단변부(147b)를 연결하는 부분으로 이루어진다. 즉, 두 고리부(145a, 145b)는 연결부(148)를 공유하는 구성이다. 두 고리부(145a, 145b)가 연결부(148)를 공유함으로써, 페라이트 코어(145)의 전체 크기가 줄어들고 그에 따라 유도결합 플라즈마 반응기(100) 전체의 크기도 줄어들 수 있다. 두 고리부(145a, 145b)가 공유하는 페라이트 코어(145)의 연결부(148)는 연결부(148)의 폭방향을 따라서 하나의 페라이트 부재(160a)만이 사용되어서 두 고리부(145a, 145b)가 별도로 분리될 수 없는 구조이다. The
도 3 및 도 4를 참조하면, 페라이트 코어 수용 구조물(120a)은 내부에 페라이트 코어 적층체(140)를 수용하는 수용 공간(121)을 제공한다. 페라이트 코어 수용 구조물(120a)의 재질은 전기 절연체로 이루어진다. 페라이트 코어 수용 구조물(120a)은 양단이 개방된 측벽 부재(120)와, 측벽 부재(120)의 개방된 양단에 각각 결합되는 제1 마감 부재(130a) 및 제2 마감 부재(130b)를 구비한다. 페라이트 코어 수용 구조물(120a)이 제공하는 수용 공간(121)은 수용되는 페라이트 코어 적층체(140)의 외형에 대응하는 형상 및 크기로 형성되어서, 페라이트 코어 적층체(140)가 페라이트 코어 수용 구조물(120a)의 수용 공간(121)에 수용되었을 때, 페라이트 코어 적층체(140)가 수용 공간(121) 내에서 흔들리지 않고 견고하게 형태를 유지하게 된다.Referring to FIGS. 3 and 4 , the ferrite
측벽 부재(120)는 전체적으로 사각형의 벽체 구조물로서, 도면에서 양단인 상단과 하단이 개방된다. 측벽 부재(120)는 내부에 수용 공간(121)을 형성하고, 수용 공간(121)에 페라이트 코어 적층체(140)가 수용된 상태에서 페라이트 적층체(140)의 측면을 감싼다. 측벽 부재(120)에는 수용 공간(121)과 외부를 연통시키는 복수개의 윈도우(122)들이 형성되고, 복수개의 윈도우(122)들을 통해 수용 공간(121)에 수용된 페라이트 코어 적층체(140)의 측면 상당 영역이 외부로 노출된다. 측벽 부재(120)의 개방된 상단에는 제1 마감 부재(130a)가 결합되고, 측벽 부재(120)의 개방된 하단에는 제2 마감 부재(130b)가 결합된다.The
제1 마감 부재(130a)는 측벽 부재(120)의 개방된 상단에 나사 결합과 같은 체결 수단을 통해 결합된다. 제1 마감 부재(130a)는 페라이트 코어(145)와 대체로 동일한 형상으로서, 제1 마감 부재(130a)에는 페라이트 코어 적층체(140)의 제1 통로부(141a)와 연통되는 제1A 개구부(131a)와 페라이트 코어 적층체(140)의 제2 통로부(141b)와 연통되는 제2A 개구부(132a)가 형성된다. 제1 마감 부재(130a)는 페라이트 코어 적층체(140)가 수용 공간(121)에 수용된 상태에서 페라이트 코어 적층체(140)의 최상부 페라이트 코어(145)와 밀착한다.The
제2 마감 부재(130b)는 측벽 부재(120)의 개방된 하단에 나사 결합과 같은 체결 수단을 통해 결합된다. 제2 마감 부재(130b)는 페라이트 코어(145)와 대체로 동일한 형상으로서, 제2 마감 부재(130b)에는 페라이트 코어 적층체(140)의 제1 통로부(141a)와 연통되는 제1B 개구부(131b)와 페라이트 코어 적층체(140)의 제2 통로부(141b)와 연통되는 제2B 개구부(132b)가 형성된다. 제2 마감 부재(130b)는 페라이트 코어 적층체(140)가 수용 공간(121)에 수용된 상태에서 페라이트 코어 적층체(140)의 최하부 페라이트 코어(145)와 밀착한다.The
페라이트 코어 조립체(110)는 측벽 부재(120)에 제2 마감 부재(130b)가 결합된 후 측벽 부재(120)의 개방된 상단을 통해 복수개의 페라이트 코어(145)들이 수용 공간(121)에 수용되어서 적층되고, 제1 마감 부재(130a)가 측벽 부재(120)의 개방된 상단에 결합되어서 완성될 수 있다.In the
안테나 코일(160)은 전기 전도성 와이어가 페라이트 코어 조립체(140)의 구획벽(144)에 권취되어서 형성된 것이며, 페라이트 코어 조립체(140)의 구획벽(144)과 함께 반응 챔버(150)의 제1 연결관(156)과 제2 연결관(159)의 사이에 형성된 슬롯(169)에 위치한다.The antenna coil 160 is formed by winding an electrically conductive wire around the
도 5와 도 7에 도시된 실시예에서 페라이트 코어(145, 245)는 직선으로 연장되는 막대형상의 페라이트 부재들이 연결되어서 형성되는 것으로 설명하지만, 본 발명은 이에 제한되는 것은 아니다. 본 발명에 따른 '日'자형 페라이트 코어를 형성하기 위하여 'ㄱ'자형, 'ㄷ'자형, 'ㅁ'자형 등 다양한 형태의 페라이트 부재들이 더 사용될 수 있으며, 이 또한 본 발명의 범위에 속하는 것이다. 도 8 내지 도 9에는 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 페라이트 코어들의 평면도가 도시되어 있다. 도 8을 참조하면, 페라이트 코어(345)는 2개의 'ㄱ'자형 페라이트 부재(341)들과 하나의 'ㄷ'자형 페라이트 부재(342)가 연결되어서 '日'자형을 형성한다. 도 9를 참조하면, 페라이트 코어(445)는 2개의 'ㄷ'자형 페라이트 부재(441)와 하나의 직선형 페라이트 부재(442)가 연결되어서 '日'자형을 형성한다. 도 9의 페라이트 코어(445)에서는 연결부를 형성하는 직선형 페라이트 부재(442)의 양측에 'ㄷ'자형 페라이트 부재(441)가 각각 연결되어서 '日'자형을 형성한다. 상기 실시예들에서는 '日'자형 페라이트 코어가 복수개의 페라이트 부재들이 연결되어서 형성되는 것으로 설명하지만, 이와는 달리 도 10에 도시된 페라이트 코어(545)와 같이 '日'자형 페라이트 부재가 사용될 수도 있으며, 이 또한 본 발명의 범위에 속하는 것이다.In the embodiment shown in FIGS. 5 and 7, the
이상 실시예를 통해 본 발명을 설명하였으나, 본 발명은 이에 제한되는 것은 아니다. 상기 실시예는 본 발명의 취지 및 범위를 벗어나지 않고 수정되거나 변경될 수 있으며, 본 기술분야의 통상의 기술자는 이러한 수정과 변경도 본 발명에 속하는 것임을 알 수 있을 것이다.Although the present invention has been described through the above examples, the present invention is not limited thereto. The above embodiments may be modified or changed without departing from the spirit and scope of the present invention, and those skilled in the art will recognize that such modifications and changes also belong to the present invention.
100 : 유도결합 플라즈마 반응기 110 : 페라이트 코어 조립체
120 : 측벽 부재 120a : 페라이트 코어 수용 구조물
121 : 수용 공간 130a : 제1 마감 부재
130b : 제2 마감 부재 140 : 페라이트 코어 적층체
141 : 테두리벽 141a : 제1 통로부
141b : 제2 통로부 144 : 구획벽
145 : 페라이트 코어 146 : 테두리부
148 : 연결부 150 : 반응 챔버
150a : 제1 챔버 유닛 150b : 제2 챔버 유닛
151a : 제1 기초부 151b : 제2 기초부
152a : 제1 내부 공간 152b : 제2 내부 공간
153 : 반응 공간 154a : 가스 유입구
154b : 가스 배출구 155 : 제1 연결 통로
156 : 제1 연결관 156a : 제1A 연장관
156b : 제1B 연장관 157 : 제2 연결 통로
159 : 제2 연결관 159a : 제2A 연장관
159b : 제2B 연장관 160a : 제1 페라이트 부재
160b : 제2 페라이트 부재 160c : 제3 페라이트 부재
169 : 슬롯 180 : 안테나 코일100: inductively coupled plasma reactor 110: ferrite core assembly
120:
121:
130b: second closing member 140: ferrite core laminate
141:
141b: second passage part 144: partition wall
145: ferrite core 146: rim
148: connection part 150: reaction chamber
150a:
151a:
152a: first
153:
154b: gas outlet 155: first connection passage
156:
156b: 1B extension pipe 157: second connecting passage
159:
159b:
160b:
169: slot 180: antenna coil
Claims (11)
상기 플라즈마 반응 공간을 감싸도록 배치되는 페라이트 코어 조립체를 포함하며,
상기 페라이트 코어 조립체는, 적층된 복수개의 페라이트 코어들을 구비하는 페라이트 코어 적층체와, 상기 페라이트 코어 적층체가 수용되는 페라이트 코어 수용 구조물을 구비하며,
상기 제1 챔버 유닛은 제1 기초부와, 상기 제1 기초부로부터 연장되는 제1A 연장관 및 제2A 연장관을 구비하며,
상기 제2 챔버 유닛은 제2 기초부와, 상기 제2 기초부로부터 연장되는 제1B 연장관 및 제2B 연장관을 구비하며,
상기 페라이트 코어는, 복수개의 페라이트 부재들이 연결되어서 형성되고, 내부에 제1 관통구를 형성하는 직사각형 고리 형태의 제1 고리부와, 내부에 제2 관통구를 형성하는 직사각형 고리 형태의 제2 고리부를 구비하며,
상기 제1 고리부의 네 변부 중 하나의 변부와 상기 제2 고리부의 네 변부 중 하나의 변부는 서로 공유하며,
상기 페라이트 코어 적층체에는 상기 복수개의 페라이트 부재들 각각의 제1 관통구들이 연통되어서 제1 통로부가 형성되며,
상기 페라이트 코어 적층체에는 상기 복수개의 페라이트 부재들 각각의 제2 관통구들이 연통되어서 제2 통로부가 형성되며,
상기 제1A 연장관과 상기 제1B 연장관은 상기 제1 통로부와 대향하는 방향에서 각각 상기 제1 통로부로 삽입되어서 연결되며,
상기 제2A 연장관과 상기 제2B 연장관은 상기 제2 통로부와 대향하는 방향에서 각각 상기 제2 통로부로 삽입되어서 연결되며,
상기 복수개의 페라이트 부재들 중 적어도 하나는 'ㄱ'자형 또는 'ㄷ'자형이며,
상기 복수개의 페라이트 부재들이 적층되어서 형성되며,
상기 페라이트 코어 수용 구조물은 상단과 하단이 개방된 측벽 부재와, 상기 개방된 상단에 결합되고 상기 페라이트 코어와 동일한 형상을 갖는 제1 마감 부재와, 상기 개방된 하단에 결합되고 상기 페라이트 코어와 동일한 형상을 갖는 제2 마감 부재를 구비하며,
상기 측벽 부재와 상기 제2 마감 부재가 결합된 상태에서 상기 측벽 부재의 개방된 상단을 통해 상기 복수개의 페라이트 코어들이 상기 측벽 부재의 내부에 수용되어서 적층된 후 상기 제1 마감 부재가 상기 측벽 부재에 결합되어서 상기 페라이트 코어 조립체가 형성되며,
상기 측벽 부재에는 상기 복수개의 페라이트 코어들이 외부로 노출되는 복수개의 윈도우들이 형성되는,
유도결합 플라즈마 반응기.a reaction chamber having a first chamber unit and a second chamber unit and providing a plasma reaction space; and
It includes a ferrite core assembly disposed to surround the plasma reaction space,
The ferrite core assembly includes a ferrite core laminate having a plurality of stacked ferrite cores and a ferrite core accommodating structure in which the ferrite core laminate is accommodated,
The first chamber unit includes a first base, and a 1A extension pipe and a 2A extension pipe extending from the first base,
The second chamber unit includes a second base, and a 1B extension pipe and a 2B extension pipe extending from the second base,
The ferrite core is formed by connecting a plurality of ferrite members, a first ring portion in the form of a rectangular ring having a first through hole therein, and a second ring in the form of a rectangular ring having a second through hole therein. have wealth,
One of the four sides of the first ring portion and one of the four sides of the second ring portion are shared with each other,
A first passage is formed in the ferrite core laminate by communicating with the first through-holes of each of the plurality of ferrite members,
In the ferrite core laminate, a second passage portion is formed by communicating the second through holes of each of the plurality of ferrite members,
The 1A extension pipe and the 1B extension pipe are connected by being inserted into the first passage part in directions opposite to the first passage part,
The 2A extension pipe and the 2B extension pipe are connected by being inserted into the second passage part in directions opposite to the second passage part,
At least one of the plurality of ferrite members is 'a' shape or 'c' shape,
The plurality of ferrite members are formed by stacking,
The ferrite core accommodating structure includes a side wall member having open upper and lower ends, a first closure member coupled to the open upper end and having the same shape as the ferrite core, and coupled to the open lower end and having the same shape as the ferrite core. A second closing member having a,
In a state in which the sidewall member and the second closure member are coupled, the plurality of ferrite cores are accommodated and stacked in the sidewall member through the open upper end of the sidewall member, and then the first closure member is attached to the sidewall member. Combined to form the ferrite core assembly,
A plurality of windows through which the plurality of ferrite cores are exposed to the outside are formed on the side wall member,
Inductively Coupled Plasma Reactor.
Priority Applications (1)
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KR1020200067461A KR102510494B1 (en) | 2020-06-04 | 2020-06-04 | Inductively coupled plasma reactor |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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KR1020200067461A KR102510494B1 (en) | 2020-06-04 | 2020-06-04 | Inductively coupled plasma reactor |
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Family Applications (1)
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KR1020200067461A KR102510494B1 (en) | 2020-06-04 | 2020-06-04 | Inductively coupled plasma reactor |
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KR102017811B1 (en) | 2017-08-18 | 2019-09-03 | 주식회사 뉴파워 프라즈마 | Plasma chamber for exhaust gas treatment |
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Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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KR101950024B1 (en) * | 2017-11-06 | 2019-02-20 | 주식회사 뉴파워 프라즈마 | Remote plasma generator |
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