KR102500339B1 - Composition for removing manicure - Google Patents

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Abstract

본 발명은 매니큐어 제거용 조성물에 관한 것이다. 보다 자세하게, 본 발명에 따른 매니큐어 제거용 조성물은 우수한 매니큐어 제거 성능뿐만 아니라 사용시 질감이 우수하고, 피부 자극 및 냄새 자극이 없어 인체에 무해하며 친환경적이다.The present invention relates to a composition for removing nail polish. More specifically, the composition for removing nail polish according to the present invention has excellent nail polish removal performance, excellent texture when used, and is harmless to the human body and environmentally friendly because it does not irritate skin or smell.

Description

매니큐어 제거용 조성물{Composition for removing manicure}Composition for removing nail polish {Composition for removing manicure}

본 발명은 매니큐어 제거용 조성물에 관한 것이다.The present invention relates to a composition for removing nail polish.

매니큐어(manicure)는 손톱 또는 발톱에 도포하여 손톱 또는 발톱을 아름답게 꾸며주는 기능을 한다. 이러한 매니큐어는 에나멜(enamel) 페인트의 일종으로, 주성분은 보통 니트로셀룰로오즈(nitro cellulose)를 주 원료로 한 에나멜이며 여기에 다양한 색을 내기 위하여 여러 가지 안료가 더해질 수 있다.Manicure is applied to the fingernails or toenails to beautifully decorate the fingernails or toenails. Such nail polish is a type of enamel paint, and its main component is enamel, which is usually made of nitro cellulose, and various pigments may be added to produce various colors.

매니큐어를 이용하여 손톱 또는 발톱의 미관을 아름답게 꾸미는 것도 중요하지만 손톱 또는 발톱의 건강 및 다른 색상 또는 모양의 매니큐어를 도포하기 위해서는 도포된 매니큐어를 제거하는 것이 매우 중요하다. 이러한 매니큐어를 제거하기 위하여 소위 매니큐어 제거제(리무버, remover)가 사용되며, 시중에 판매되는 일반적인 매니큐어 제거제 성분으로는 아세톤, 에틸아세테이트, 부틸아세테이트 등이 사용된다. 하지만, 이들 물질은 매니큐어(에나멜)를 용해시키는 과정에서 휘발성과 침투성이 높아 인체에 흡입되어 호흡기의 손상을 일으키거나, 자극이 심해 손톱 손상을 유발하는 문제점이 있다.Although it is important to use nail polish to decorate the beauty of the nail or toenail, it is very important to remove the applied nail polish for the health of the nail or toenail and to apply nail polish of a different color or shape. In order to remove such nail polish, a so-called nail polish remover (remover) is used, and acetone, ethyl acetate, butyl acetate, and the like are used as common nail polish remover ingredients sold on the market. However, these substances have high volatility and permeability in the process of dissolving nail polish (enamel), so they are inhaled into the human body and cause damage to the respiratory system, or cause nail damage due to severe irritation.

이러한 문제점을 해결하기 위하여 대한민국 공개특허 제10-2011-0103570호에서는 천연 에탄올을 주성분으로 사용하는 매니큐어 제거제의 제조를 시도하기도 하였으나, 기존의 매니큐어 제거제(아세톤 함유)에 비해 매니큐어 제거력이 떨어지므로, 더 높은 제거능력이 요구된다.In order to solve this problem, Korean Patent Publication No. 10-2011-0103570 tried to manufacture a nail polish remover using natural ethanol as a main component. High removal capacity is required.

따라서, 인체에 무해하면서도 매니큐어 제거 성능이 우수한 매니큐어 제거용 조성물의 개발이 절실한 실정이다.Therefore, there is an urgent need to develop a composition for removing nail polish that is harmless to the human body and has excellent nail polish removal performance.

대한민국 공개특허 제10-2011-0103570호Republic of Korea Patent Publication No. 10-2011-0103570

본 발명이 해결하고자 하는 과제는 우수한 매니큐어 제거 성능을 가지면서도 인체에 무해하고, 무자극성이며 친환경적인 매니큐어 제거용 조성물을 제공하는 것이다.The problem to be solved by the present invention is to provide a composition for removing nail polish that is harmless to the human body, non-irritating and environmentally friendly while having excellent nail polish removal performance.

상기 과제를 해결하기 위해, 본 발명은 하기 화학식 1로 표시되는 성분 및 연마제를 포함하는 매니큐어(manicure) 제거용 조성물을 제공한다:In order to solve the above problems, the present invention provides a composition for removing nail polish (manicure) comprising a component represented by the following formula (1) and an abrasive:

[화학식 1][Formula 1]

Figure 112015113100848-pat00001
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본 명세서에서 사용된 용어, "매니큐어"는 손톱에 적용하는 매니큐어(manicure)뿐만 아니라 발톱에 적용하는 "페디큐어(pedicure)"까지 포함하는 용어로서, 본 발명에 따른 매니큐어 제거용 조성물은 손톱 및 발톱에 적용된 매니큐어를 모두 제거할 수 있다.As used herein, the term "manicure" includes not only manicure applied to nails but also "pedicure" applied to toenails. Any applied nail polish can be removed.

본 발명자들은 종래 일반적으로 사용되던 아세톤, 에틸아세테이트, 부틸아세테이트 등과 비교하여, 상기 화학식 1로 표시되는 성분 및 연마제를 매니큐어 제거용 조성물에 모두 포함하여 적용하는 경우 i) 우수한 매니큐어 제거 성능을 발휘할 뿐만 아니라, ii) 휘발성이 낮기 때문에 아세톤 등에서 문제가 되는 높은 휘발성에 따른 문제점(피부의 지방질을 용출시킴과 동시에 피부 수분을 증발시켜 피부를 거칠게 하며, 손톱, 발톱에 심한 자극과 탈수, 탈지 효과를 일으키는 문제점)을 해결하고, iii) 상대적으로 큰 분자량을 갖기 때문에 손톱 및 피부에 침투하지 않으므로 인체에 무해하며, iv) 천연으로부터 유래한 케탈 구조의 화합물이므로 친환경적이라는 것을 발견하여 본 발명을 완성하였다.Compared to acetone, ethyl acetate, butyl acetate, etc., which are generally used in the past, the present inventors have found that, when applied by including both the component represented by Formula 1 and an abrasive in a nail polish removal composition, i) not only exhibits excellent nail polish removal performance, but also , ii) Problems due to high volatility, which is a problem in acetone, etc. due to low volatility (problems that elute fat from the skin and evaporate skin moisture at the same time, roughening the skin, causing severe irritation, dehydration, and degreasing effect on nails and toenails ), and iii) it is harmless to the human body because it does not penetrate nails and skin because it has a relatively large molecular weight, and iv) it is environmentally friendly because it is a compound of a ketal structure derived from nature, thereby completing the present invention.

상기 화학식 1에서, R1 및 R2는 서로 독립적으로 수소 또는 탄소수 1 내지 24의 알킬이거나, R1 및 R2는 서로 연결되어 탄소수 3 내지 24의 사이클로알킬일 수 있으며, 바람직하게 R1 및 R2는 서로 독립적으로 탄소수 1 내지 12의 알킬일 수 있고, 더욱 바람직하게 R1 및 R2는 서로 독립적으로 탄소수 1 내지 6의 알킬일 수 있다.In Formula 1, R 1 and R 2 may independently be hydrogen or alkyl having 1 to 24 carbon atoms, or R 1 and R 2 may be linked to each other to be cycloalkyl having 3 to 24 carbon atoms, preferably R 1 and R 2 may each independently represent alkyl having 1 to 12 carbon atoms, and more preferably, R 1 and R 2 may each independently represent alkyl having 1 to 6 carbon atoms.

본 발명에 따른 상기 화학식 1로 표시되는 성분은 글리세롤과 케톤의 축합반응을 통하여 얻어질 수 있으며, 이때 사용되는 글리세롤은 최근 바이오디젤 산업의 활성화와 더불어 대량으로 양산되고 있어 처리문제가 대두되고 있는바, 본 발명으로의 활용으로 글리세롤의 처리 문제에 또한 도움을 줄 수 있다는 특징이 있다.The component represented by Formula 1 according to the present invention can be obtained through a condensation reaction of glycerol and a ketone, and the glycerol used in this case has recently been mass-produced with the activation of the biodiesel industry, so the treatment problem is emerging. , It is characterized in that it can also help with the treatment problem of glycerol by using it as the present invention.

특히, 본 발명자들은 R1 및 R2는 서로 독립적으로 탄소수 1의 메틸(methyl)인 글리세롤 디메틸케탈(glycerol dimethylketal)을 이용하여 우수한 매니큐어 제거 성능, 사용시의 질감, 피부 자극 및 냄새 자극을 평가하여 현저한 효과가 있는 것을 확인하였으며, 따라서 가장 바람직하게 상기 R1 및 R2는 모두 메틸일 수 있다.In particular, the present inventors evaluated excellent nail polish removal performance, texture during use, skin irritation and odor stimulation using glycerol dimethylketal, where R 1 and R 2 are methyl having 1 carbon atom independently of each other, and found significant It was confirmed that there is an effect, and therefore most preferably, both R 1 and R 2 may be methyl.

상기 글리세롤 디메틸케탈은 하기 화학식 2로 표시되는 화합물로서, 분자식은 C6H12O3 이며, 몰질량은 132.16이다. 하기 화학식 2로 표시되는 화합물이라면, 글리세롤 디메틸케탈을 포함하는 시료로부터 분리된 글리세롤 디메틸케탈, 인공적으로 합성된 글리세롤 디메틸케탈, 상업적으로 유통되고 있는 글리세롤 디메틸케탈을 모두 포함할 수 있다.The glycerol dimethylketal is a compound represented by Formula 2 below, and has a molecular formula of C 6 H 12 O 3 and a molar mass of 132.16. A compound represented by Formula 2 may include all of glycerol dimethyl ketal isolated from a sample containing glycerol dimethyl ketal, artificially synthesized glycerol dimethyl ketal, and commercially available glycerol dimethyl ketal.

[화학식 2][Formula 2]

Figure 112015113100848-pat00002
Figure 112015113100848-pat00002

본 발명에서 상기 화학식 1로 표시되는 성분은 매니큐어 제거용 조성물 총 중량 대비 10 내지 80 중량% 포함될 수 있으며, 바람직하게는 30 내지 80 중량% 포함될 수 있고, 더욱 바람직하게는 50 내지 80 중량% 포함될 수 있다. 상기 화학식 1로 표시되는 성분이 10 중량% 미만으로 포함되는 경우에는 우수한 매니큐어 제거 성능 등을 발휘할 수 없으며, 80 중량% 초과로 포함되는 경우에는 적용시 사용감 또는 질감에 부정적인 영향을 미칠 수 있으므로 바람직하지 않다.In the present invention, the component represented by Formula 1 may be included in 10 to 80% by weight, preferably 30 to 80% by weight, more preferably 50 to 80% by weight, based on the total weight of the nail polish removal composition. there is. If the component represented by Formula 1 is included in less than 10% by weight, excellent nail polish removal performance cannot be exhibited, and if it is included in more than 80% by weight, it may negatively affect the feeling or texture when applied, so it is not preferable. not.

또한, 본 발명에 따른 매니큐어 제거용 조성물은 상기 화학식 1로 표시되는 성분뿐만 아니라 연마제를 함께 포함하여 우수한 매니큐어 제거 성능 등을 발휘하게 된다. 연마제를 함께 포함하는 경우 상기 화학식 1로 표시되는 성분만을 포함하고 있을 때와 비교하여 매니큐어 제거용 조성물로서 전반적으로 우수한 효과를 발휘하게 되며, 특히 더욱 우수한 매니큐어 제거 성능 및 ii) 사용시의 질감 효과를 달성할 수 있다는 기술적 특징을 가지고 있다.In addition, the composition for removing nail polish according to the present invention includes not only the component represented by Chemical Formula 1 but also an abrasive to exhibit excellent nail polish removal performance and the like. When an abrasive is included together, compared to the case of containing only the component represented by Formula 1, the overall effect as a nail polish removal composition is exhibited, and in particular, more excellent nail polish removal performance and ii) achieve texture effect during use It has technical features that allow it to be done.

본 발명자들은 연마제를 화학식 1로 표시되는 성분과 함께 매니큐어 제거용 조성물에 포함하여 현저한 효과를 확인하여 본 발명을 완성한 것으로서 일반적으로 당업계의 통상의 기술자는 연마제가 매니큐어 제거용 조성물에 포함되어 이를 적용하는 경우 도포된 매니큐어뿐만 아니라 케라틴 재질의 손톱 또는 발톱 및 주변 피부에 상처를 내어 사용시 질감에 부정적인 영향을 미치게 되는 것으로 인식하고 있으나, 본 발명에서는 연마제를 더 포함하여 화학식 1로 표시되는 성분과 함께 사용시 우수한 효과를 발휘하는 것을 실험적으로 확인하였으며, 화학식 1로 표시되는 성분과 연마제를 동시에 포함하여 매니큐어 제거용 조성물로서 우수한 효과를 발휘하게 되는 것을 종래에는 전혀 인식할 수 없었다.The present inventors completed the present invention by including an abrasive together with a component represented by Formula 1 in a composition for removing nail polish to confirm a remarkable effect, and generally, those skilled in the art apply it by including an abrasive in a composition for removing nail polish. However, in the present invention, an abrasive is further included when used with a component represented by Formula 1, including an abrasive. It was confirmed experimentally that it exhibits excellent effects, and it was not recognized at all in the prior art that a composition for removing nail polish by including the component represented by Formula 1 and an abrasive at the same time exhibits excellent effects.

본 발명에서 사용될 수 있는 상기 연마제로는 실리카(연마용 실리카) 등을 포함하는 금속 산화물 연마제 또는 탄산칼슘 등을 포함하는 칼슘 및 칼륨 화합물일 수 있다.The abrasive that can be used in the present invention may be a metal oxide abrasive including silica (silica for polishing) or the like or a calcium and potassium compound including calcium carbonate.

상기 연마제는 예를 들어, 실리카(이산화규소), 탄산칼슘, 염화스트론튬, 염화칼륨, 인산칼슘, 탄산수소나트륨, 질산칼륨, 인산수소칼슘수화물 또는 이들의 2 이상의 혼합물일 수 있으며, 상기 연마제는 입자가 균일하고 작아서 특히 자극이 적은 특징을 가지고 있다.The abrasive may be, for example, silica (silicon dioxide), calcium carbonate, strontium chloride, potassium chloride, calcium phosphate, sodium hydrogen carbonate, potassium nitrate, calcium hydrogen phosphate hydrate, or a mixture of two or more thereof. It is uniform and small, so it has a special feature of low irritation.

상기 연마제 중에서도 실리카는 구강용 조성물에 연마제로 사용될 수 있을 정도로 이미 연마 강도 및/또는 자극성 측면에서 안정성이 검증된 연마제로서 본 발명자들은 실리카를 매니큐어 제거용 조성물에 적용하여 우수한 효과를 확인하여 바람직하게는 실리카일 수 있다.Among the abrasives, silica is an abrasive whose stability has already been verified in terms of polishing strength and/or irritation to the extent that it can be used as an abrasive in oral compositions, and the present inventors applied silica to a nail polish removal composition to confirm its excellent effect, and preferably may be silica.

본 발명에서 상기 연마제는 매니큐어 제거용 조성물 총 중량 대비 0.1 내지 20 중량% 포함될 수 있으며, 바람직하게는 0.1 내지 15 중량% 포함될 수 있고, 더욱 바람직하게는 0.1 내지 10 중량% 포함될 수 있다. 상기 연마제가 매니큐어 제거용 조성물 총 중량 대비 0.1 중량% 미만으로 포함되는 경우 유효한 효과를 발휘할 수 없을 수 있으며, 20 중량% 초과로 포함되는 경우 손톱 및/또는 발톱 또는 피부에 손상을 초래할 수 있다.In the present invention, the abrasive may be included in an amount of 0.1 to 20% by weight, preferably 0.1 to 15% by weight, and more preferably 0.1 to 10% by weight, based on the total weight of the nail polish removal composition. If the abrasive is included in less than 0.1% by weight of the total weight of the nail polish removal composition, effective effects may not be exerted, and if included in more than 20% by weight, it may cause damage to nails and/or toenails or skin.

또한, 본 발명에 따른 매니큐어 제거용 조성물은 종래 매니큐어 제거용 조성물에 일반적으로 사용되는 아세톤, 에틸아세테이트 및/또는 부틸아세테이트를 실질적으로 포함하지 않으면서도 우수한 매니큐어 제거용 조성물로서의 효과를 발휘하며 인체에 무해하고 무자극성이며 친환경적인 특징이 있다.In addition, the composition for removing nail polish according to the present invention exhibits an excellent effect as a composition for removing nail polish without substantially containing acetone, ethyl acetate and/or butyl acetate, which are generally used in conventional nail polish removal compositions, and is harmless to the human body. It is non-irritating and eco-friendly.

본 명세서에서 사용된 용어, "실질적으로 포함하지 않는" 것은 매니큐어 제거용 조성물 총 중량 대비 1 중량% 미만, 바람직하게는 0.5 중량% 미만, 더욱 바람직하게는 0.1 중량% 미만으로 포함되는 것을 의미할 수 있으며, 가장 바람직하게는 0 중량%, 즉, 전혀 포함하지 않는 것을 의미한다. 따라서, 본 발명에 따른 매니큐어 제거용 조성물은 화학식 1로 표시되는 성분 및 상기 연마제를 포함하는 것만으로도 종래 매니큐어 조성물에 일반적으로 사용되는 성분들을 포함하지 않고서도 우수한 매니큐어 제거용 조성물로서의 효과를 발휘할 수 있다는 기술적 특징이 있다.As used herein, the term "substantially free" may mean less than 1% by weight, preferably less than 0.5% by weight, more preferably less than 0.1% by weight based on the total weight of the nail polish removal composition. , and most preferably 0% by weight, that is, no content at all. Therefore, the composition for removing nail polish according to the present invention can exhibit an excellent effect as a composition for removing nail polish without including components commonly used in conventional nail polish compositions, just by including the component represented by Formula 1 and the abrasive. It has technical features.

또한, 본 발명의 일 실시예에 따르면 상기 매니큐어 제거용 조성물은 상기 화학식 1로 표시되는 성분 및 연마제 이외에 용매를 포함할 수 있으며, 상기 용매는 물, 바람직하게는 정제수이다.Also, according to one embodiment of the present invention, the nail polish removal composition may include a solvent in addition to the component represented by Chemical Formula 1 and the abrasive, and the solvent is water, preferably purified water.

본 발명에서 상기 용매는 바람직하게 매니큐어 제거용 조성물 총 중량 대비 10 내지 30 중량% 포함될 수 있다.In the present invention, the solvent may preferably be included in an amount of 10 to 30% by weight based on the total weight of the nail polish removal composition.

또한, 필요에 따라 향료, 영양제, 방향제, 점도 조절제, 피부 보습제 및 안료에서 선택된 하나 이상의 첨가제 등 유익한 특성을 제공하는 첨가제 물질을 추가로 포함할 수 있으며, 이러한 첨가제의 구체적 종류에 한정되는 것은 아니다. 상기 물은 상기 첨가제와 화학식 1로 표시되는 성분 및 연마제와의 혼용성, 매니큐어 제거용 조성물의 점도 또는 흐름성 조절 등을 위하여 첨가될 수 있다. In addition, if necessary, additives that provide beneficial properties, such as one or more additives selected from fragrances, nutrients, fragrances, viscosity modifiers, skin moisturizers, and pigments, may be further included, but are not limited to specific types of these additives. The water may be added for miscibility between the additive and the component represented by Formula 1 and the abrasive, and for adjusting the viscosity or flowability of the nail polish removal composition.

본 발명에 따른 매니큐어 제거용 조성물은 우수한 매니큐어 제거 성능뿐만 아니라 사용시 질감이 우수하고, 피부 자극 및 냄새 자극이 없어 인체에 무해하며 친환경적이다.The composition for removing nail polish according to the present invention has excellent nail polish removal performance, excellent texture when used, and is harmless to the human body and eco-friendly because it does not irritate skin or smell.

이하, 본 발명의 이해를 돕기 위하여 실시예 등을 들어 상세하게 설명하기로 한다. 그러나 본 발명에 따른 실시예들은 여러 가지 다른 형태로 변형될 수 있으며, 본 발명의 범위가 하기 실시예들에 한정되는 것으로 해석되어서는 안된다. 본 발명의 실시예들은 당업계에서 평균적인 지식을 가진 자에게 본 발명을 보다 완전하게 설명하기 위해 제공되는 것이다.Hereinafter, examples and the like will be described in detail to aid understanding of the present invention. However, the embodiments according to the present invention can be modified in many different forms, and the scope of the present invention should not be construed as being limited to the following examples. Embodiments of the present invention are provided to more completely explain the present invention to those skilled in the art.

매니큐어 제거용 조성물(Composition for removing nail polish ( 실시예Example and 비교예comparative example ) 제조) manufacturing

본 발명자들은 하기 표 1에 나타낸 성분들을 혼합하여 본 발명에 따른 매니큐어 제거용 조성물을 제조하였다. 실시예 1은 본 발명에 따른 글리세롤 디메탈케탈에 연마제로서 실리카(silica)를 포함한 매니큐어 제거용 조성물이고, 비교예 1 은 글리세롤 디메틸케탈을 포함하고 연마제는 포함하지 않은 조성물이며, 비교예 2 및 3은 본 발명에 따른 성분이 아닌 종래에 사용되던 아세톤 및 에틸아세테이트를 포함하는 매니큐어 제거용 조성물이다.The present inventors prepared a composition for removing nail polish according to the present invention by mixing the components shown in Table 1 below. Example 1 is a composition for removing nail polish containing silica as an abrasive in glycerol dimethylketal according to the present invention, Comparative Example 1 is a composition containing glycerol dimethylketal and no abrasive, and Comparative Examples 2 and 3 is a composition for removing nail polish containing conventionally used acetone and ethyl acetate, which are not components according to the present invention.

성분
(단위: 중량%)
ingredient
(Unit: % by weight)
실시예 1Example 1 비교예 1Comparative Example 1 비교예 2Comparative Example 2 비교예 3Comparative Example 3
정제수Purified water 22.522.5 27.527.5 27.527.5 27.527.5 글리세롤 디메틸케탈glycerol dimethylketal 7070 7070 00 00 글리세린glycerin 22 22 22 22 실리카(연마제)Silica (abrasive) 55 00 00 00 아세톤 acetone 00 00 7070 00 에틸아세테이트ethyl acetate 00 00 00 7070 향료Spices 0.50.5 0.50.5 0.50.5 0.50.5

본 발명자들은 상기 실시예 1 및 비교예(1 내지 3)의 매니큐어 제거용 조성물에 대하여 매니큐어 제거 성능, 사용시의 질감, 피부 자극, 냄새 자극을 평가하였다.The present inventors evaluated the nail polish removal performance, texture, skin irritation, and odor irritation of the nail polish removal compositions of Example 1 and Comparative Examples (1 to 3).

<매니큐어 제거용 조성물의 평가><Evaluation of composition for removing nail polish>

실험예Experimental example 1: 매니큐어 제거 성능 평가 1: Evaluation of nail polish removal performance

본 발명자들은 매니큐어 제거용 조성물의 매니큐어 제거 성능 평가를 위해 먼저, 시중에 판매되고 있는 매니큐어를 손톱에 골고루 도포한 뒤, 1시간 동안 건조/고착 시켰다. 이후, 화장솜에 실시예 1과 비교예 1, 2 및 3에 따른 매니큐어 제거용 조성물을 1.5ml를 도포하여 동일한 힘으로 15회 문지른 뒤 그 결과를 하기의 표 2에 나타내었다.To evaluate the nail polish removal performance of the nail polish removal composition, the present inventors first applied commercially available nail polish evenly to the nail, and then dried/fixed the nail polish for 1 hour. Thereafter, 1.5 ml of the nail polish removal composition according to Example 1 and Comparative Examples 1, 2 and 3 was applied to a cotton pad and rubbed 15 times with the same force, and the results are shown in Table 2 below.

평가기준은 다음과 같다.The evaluation criteria are as follows.

양호(○): 매니큐어가 완전히 제거되었다.Good (○): Nail polish was completely removed.

보통(△): 매니큐어가 대부분 제거 되었으나 일부 남아있다.Normal (△): Most of the nail polish is removed, but some of it remains.

불량(×): 매니큐어가 대부분 남아있다.Poor (x): Most of the manicure remained.

실험예Experimental example 2: 사용시의 질감 평가 2: Texture evaluation during use

본 발명자들은 매니큐어 제거용 조성물의 사용시 질감 평가를 위해 먼저, 시중에 판매되고 있는 매니큐어를 손톱에 골고루 도포한 뒤 1시간 동안 건조/고착 시켰다. 이후, 화장솜에 실시예 1과 비교예 1, 2 및 3에 따른 매니큐어 제거용 조성물을 1.5ml를 도포하여 매니큐어를 지우기 위하며 문지를 때의 촉감을 관능평가 하여 그 결과를 하기의 표 2에 나타내었다.In order to evaluate the texture of the composition for removing nail polish, the present inventors first applied commercially available nail polish evenly to the nail, and then dried/fixed the nail polish for 1 hour. Thereafter, 1.5 ml of the nail polish removal composition according to Example 1 and Comparative Examples 1, 2 and 3 was applied to a cotton pad to remove the nail polish, and the touch when rubbed was sensory evaluated, and the results are shown in Table 2 below. was

평가기준은 다음과 같다.The evaluation criteria are as follows.

양호(○): 부드럽게 제거되며 흘러내림이 없다.Good (○): It is removed smoothly and there is no dripping.

보통(△): 저항이 약간 느껴지거나 흘러내림이 일부 있다.Normal (Δ): Some resistance is felt or there is some dripping.

불량(×): 강한 저항이 느껴지거나 흘러내림이 많다.Poor (X): Strong resistance is felt or there is a lot of dripping.

실험예Experimental example 3: 피부 자극 평가(관능 평가) 3: Evaluation of skin irritation (sensory evaluation)

본 발명자들은 매니큐어 제거용 조성물의 피부 자극 평가(관능 평가)를 위해 실시예 1과 비교예 1, 2 및 3의 매니큐어 제거용 조성물을 손톱과 손등에 도포한 뒤 30초 후 마른 헝겊으로 닦아 낸 후 손톱과 손등의 상태를 관능평가 하여 그 결과를 하기의 표 2에 나타내었다.The present inventors applied the nail polish removal compositions of Example 1 and Comparative Examples 1, 2 and 3 to the nails and the back of the hand for skin irritation evaluation (sensory evaluation) of the nail polish removal composition, and after 30 seconds, wiped with a dry cloth. The state of the nails and back of the hand was sensory evaluated, and the results are shown in Table 2 below.

평가기준은 다음과 같다.The evaluation criteria are as follows.

양호(○): 건조해 지지 않고 부드럽다.Good (○): It is soft without drying.

보통(△): 약간 건조하거나 뻣뻣하다.Normal (Δ): Slightly dry or stiff.

불량(×): 피부 및 손톱이 하얗게 되며 거칠게 되었다.Poor (x): The skin and nails became white and rough.

실험예Experimental example 4: 냄새 자극 평가 4: Assessment of odor stimuli

본 발명자들은 매니큐어 제거용 조성물의 냄새 자극 평가를 위해 실시예 1과 비교예 1, 2 및 3의 매니큐어 제거용 조성물을 사용할 때의 냄새 자극을 관능 평가 하여 그 결과를 하기의 표 2에 나타내었다.The present inventors sensory evaluated odor stimulation when using the nail polish removal compositions of Example 1 and Comparative Examples 1, 2 and 3 to evaluate odor stimulation of the nail polish removal composition, and the results are shown in Table 2 below.

평가기준은 다음과 같다.The evaluation criteria are as follows.

양호(○): 자극적인 냄새가 없다.Good (○): No irritating odor.

보통(△): 약한 자극성 냄새가 난다.Normal (Δ): Slightly irritating odor.

불량(×): 강한 자극성 냄새가 난다.Poor (x): Strong pungent smell.

실시예 1Example 1 비교예1Comparative Example 1 비교예2Comparative Example 2 비교예3Comparative Example 3 매니큐어 제거 성능nail polish removal performance 사용시의 질감texture when used 피부자극skin irritation ×× 냄새자극odor stimulation ×× ××

상기 표 2에 나타낸 바와 같이, 본 발명의 매니큐어 제거용 조성물은 비교예 1 내지 3에 비해 전반적으로 우월한 성능을 보였으며, 특히, 피부 자극 및 냄새 자극의 측면에서 비교예 2, 3에 비해 특히 우수함을 확인하였다. 또한, 사용시의 질감 측면에서 연마제의 사용으로 인한 스크럽(scrub)감으로 매니큐어 제거시 저항감이 적게 느껴져 우수한 평가를 보였다.As shown in Table 2, the composition for removing nail polish of the present invention showed overall superior performance compared to Comparative Examples 1 to 3, and was particularly superior to Comparative Examples 2 and 3 in terms of skin irritation and odor stimulation. confirmed. In addition, in terms of texture during use, a scrub feeling due to the use of an abrasive showed less resistance when removing nail polish, showing excellent evaluation.

Claims (5)

하기 화학식 1로 표시되는 성분 및 연마제를 포함하며,
상기 연마제는 매니큐어 제거용 조성물 총 중량 대비 5 내지 20 중량% 포함되는 매니큐어(manicure) 제거용 조성물:
[화학식 1]
Figure 112022103535241-pat00003

상기 화학식 1에서,
R1 및 R2는 서로 독립적으로 수소 또는 탄소수 1 내지 24의 알킬이거나, R1 및 R2는 서로 연결되어 탄소수 3 내지 24의 사이클로알킬임.
Including a component and an abrasive represented by the following formula (1),
The abrasive is a composition for removing nail polish (manicure) containing 5 to 20% by weight relative to the total weight of the composition for removing nail polish:
[Formula 1]
Figure 112022103535241-pat00003

In Formula 1,
R 1 and R 2 are each independently hydrogen or alkyl having 1 to 24 carbon atoms, or R 1 and R 2 are connected to each other to be cycloalkyl having 3 to 24 carbon atoms.
제1항에 있어서,
상기 R1 및 R2는 모두 메틸인 것을 특징으로 하는 매니큐어 제거용 조성물.
According to claim 1,
A composition for removing nail polish, characterized in that both R 1 and R 2 are methyl.
제1항에 있어서,
상기 화학식 1로 표시되는 성분은 매니큐어 제거용 조성물 총 중량 대비 10 내지 80 중량% 포함되는 것을 특징으로 하는 매니큐어 제거용 조성물.
According to claim 1,
A composition for removing nail polish, characterized in that the component represented by Formula 1 is included in 10 to 80% by weight based on the total weight of the composition for removing nail polish.
제1항에 있어서,
상기 연마제는 실리카, 탄산칼슘, 염화스트론튬, 염화칼륨, 인산칼슘, 탄산수소나트륨, 질산칼륨, 인산수소칼슘수화물 또는 이들의 2 이상의 혼합물인 것을 특징으로 하는 매니큐어 제거용 조성물.
According to claim 1,
The abrasive is silica, calcium carbonate, strontium chloride, potassium chloride, calcium phosphate, sodium hydrogen carbonate, potassium nitrate, calcium hydrogen phosphate hydrate, or a mixture of two or more thereof.
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