KR102499870B1 - Flexible grinding pad with an electroplated diamond tip - Google Patents

Flexible grinding pad with an electroplated diamond tip Download PDF

Info

Publication number
KR102499870B1
KR102499870B1 KR1020210040403A KR20210040403A KR102499870B1 KR 102499870 B1 KR102499870 B1 KR 102499870B1 KR 1020210040403 A KR1020210040403 A KR 1020210040403A KR 20210040403 A KR20210040403 A KR 20210040403A KR 102499870 B1 KR102499870 B1 KR 102499870B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
mesh network
layer
electrodeposited
polishing pad
resin layer
Prior art date
Application number
KR1020210040403A
Other languages
Korean (ko)
Other versions
KR20220134994A (en
Inventor
최춘식
Original Assignee
노바텍(주)
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 노바텍(주) filed Critical 노바텍(주)
Priority to KR1020210040403A priority Critical patent/KR102499870B1/en
Publication of KR20220134994A publication Critical patent/KR20220134994A/en
Application granted granted Critical
Publication of KR102499870B1 publication Critical patent/KR102499870B1/en

Links

Images

Classifications

    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B24GRINDING; POLISHING
    • B24DTOOLS FOR GRINDING, BUFFING OR SHARPENING
    • B24D13/00Wheels having flexibly-acting working parts, e.g. buffing wheels; Mountings therefor
    • B24D13/14Wheels having flexibly-acting working parts, e.g. buffing wheels; Mountings therefor acting by the front face
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B24GRINDING; POLISHING
    • B24DTOOLS FOR GRINDING, BUFFING OR SHARPENING
    • B24D13/00Wheels having flexibly-acting working parts, e.g. buffing wheels; Mountings therefor
    • B24D13/20Mountings for the wheels
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B24GRINDING; POLISHING
    • B24DTOOLS FOR GRINDING, BUFFING OR SHARPENING
    • B24D2201/00Bushings or mountings integral with the grinding wheel

Abstract

본 발명은 간단한 결합구조에 의해 다이아몬드 연마팁을 견고하게 부착시킴과 동시에 연마패드 자체의 유연성을 유지할 수 있도록 된 플렉시블 전착다이아몬드 연마패드에 관한 것으로서, 그라인더(10)의 홀더(11) 상에 탈부착 가능하도록 된 유연성의 연마패드에 있어서; 링형태 또는 디스크형태로 된 금속 재질의 메쉬망(21)과; 상기 메쉬망(21)의 배면에 열융착된 상태로 결합되는 열가소성의 수지층(22)과; 상기 메쉬망(21)의 상면에 일정한 형태의 도전성 패턴영역(26)을 형성하도록 도포되는 마스킹층(23)과; 상기 도전성 패턴영역(26) 내에 다이아몬드 입자(25)를 포함하여 전착 도금된 전착다이아몬드층(24)을 포함하고, 상기 수지층(22)과 마스킹층(23)은 열융착을 통해 상기 메쉬망(21)의 배면과 상면으로부터 망눈 사이로 함침되어 상호 융착된다.The present invention relates to a flexible electrodeposited diamond polishing pad capable of firmly attaching a diamond polishing tip by a simple coupling structure and at the same time maintaining the flexibility of the polishing pad itself, and is detachable from the holder 11 of the grinder 10. In the flexible polishing pad to; A ring-shaped or disk-shaped mesh network 21 made of metal; a thermoplastic resin layer 22 coupled to the rear surface of the mesh network 21 in a heat-sealed state; a masking layer 23 applied to form a conductive pattern region 26 of a certain shape on the upper surface of the mesh network 21; An electrodeposited diamond layer 24 including diamond particles 25 is electrodeposited in the conductive pattern region 26, and the resin layer 22 and the masking layer 23 are heat-sealed to form the mesh network ( 21) is impregnated between the mesh from the back and top surfaces and mutually fused.

Description

플렉시블 전착다이아몬드 연마패드{Flexible grinding pad with an electroplated diamond tip}Flexible electrodeposited diamond polishing pad {Flexible grinding pad with an electroplated diamond tip}

본 발명은 플렉시블 전착다이아몬드 연마패드에 관한 것으로, 보다 상세하게는 간단한 결합구조에 의해 전착다이아몬드층을 견고하게 부착시킴과 동시에 연마패드 자체의 유연성을 유지할 수 있도록 된 플렉시블 전착다이아몬드 연마패드에 관한 것이다. The present invention relates to a flexible electrodeposited diamond polishing pad, and more particularly, to a flexible electrodeposited diamond polishing pad capable of firmly attaching an electrodeposited diamond layer by a simple coupling structure and at the same time maintaining the flexibility of the polishing pad itself.

일반적으로 연마패드는 중앙부가 오목하게 함몰된 컵형태로 된 통상의 연마컵휠과는 달리 편평한 디스크 형태로 아루어진 것으로, 대개 다이아몬드 입자와 같은 전착다이아몬드 연마층이 구비되어 피연마물의 표면을 연마하고, 사용과정에서 마모의 정도에 따라 교체하여 사용할 수 있도록 된 것이다.In general, the polishing pad is in the form of a flat disc, unlike a conventional cup wheel in which the central part is concavely recessed, and is usually provided with an electrodeposited diamond polishing layer such as diamond particles to polish the surface of the object to be polished, It can be replaced according to the degree of wear during use.

이러한 연마패드는 작업조건에 맞추어 표면을 거칠게 깎아내는 황삭이나 표면을 정교하게 다듬거나 광내는 폴리싱작업 등의 용도에 따라 다양한 형태의 다이아몬드 연마층으로 제작되는데, 이 연마층은 수지와 다이아몬드 입자를 혼합하여 수지로 된 패드 상에 일체로 성형되는 레진팁과, 메탈 분말과 다이아몬드 입자를 혼합하여 금속재 메쉬상에 일체로 또는 별체로 소결하여 부착하는 메탈팁, 그리고 마스크층의 일정한 패턴으로 패드 상에 다이아몬드 입자를 전착 도금하는 것이 있다. 상기 레진팁이나 메탈팁은 다이아몬드 입자가 일정한 부피를 가진 레진팁이나 메탈팁 내에 분포되어 연마패드의 사용시에 레진팁이나 메탈팁이 서서히 마모되면서 다이아몬드 입자가 계속적으로 팁 표면에 노출되어 장시간 연마작용할 수 있어서 사용연한이 길지만, 전착된 다이아몬드층은 단일의 층으로 이루어져서 한번 탈락되면 연마패드의 수명이 다하여 상대적으로 사용연한이 짧다.These abrasive pads are made of various types of diamond abrasive layers depending on the purpose of roughing to roughen the surface or polishing to refine or polish the surface in accordance with working conditions. This abrasive layer is a mixture of resin and diamond particles. A resin tip integrally molded on a pad made of resin, a metal tip mixed with metal powder and diamond particles and sintered integrally or separately on a metal mesh, and a diamond on the pad with a certain pattern of the mask layer. Particles are electrodeposited and plated. In the resin tip or metal tip, diamond particles are distributed in a resin tip or metal tip having a certain volume, and when a polishing pad is used, the resin tip or metal tip is gradually worn away, and the diamond particles are continuously exposed to the tip surface, so that the polishing action can be performed for a long time. However, since the electrodeposited diamond layer is composed of a single layer, once it is removed, the life of the polishing pad is exhausted and the service life is relatively short.

여기에서, 다이아몬드 입자를 패드 상에 전착하여 제작하는 종래의 방법은 비전도성인 수지재질의 패드 상에 다이아몬드 입자를 전착하기 위해 패드의 배면 상에 스틸판을 가부착한 상태로 다이아몬드 입자를 전착하거나 수지로 된 패드 상에 직접적으로 도전코팅을 하여 이에 의해 다이아몬드 입자를 전착하는 것이다.Here, the conventional method of electrodepositing diamond particles on a pad is to electrodeposit diamond particles on a pad made of non-conductive resin material while temporarily attaching a steel plate on the back surface of the pad, or Conductive coating is directly applied on the pad made of, thereby electrodepositing diamond particles.

그런데 이러한 종래의 연마패드는 패드 자체가 수지재질로 이루어짐에 따라, 수지에 의해 다이아몬드 입자를 부착하는 데에 구조적인 취약점이 있을 뿐만 아니라 이로 인한 입자의 부착력이 약하다는 단점이 있고, 또한 패드의 배면 상에 스틸판을 가부착한 상태로 다이아몬드 입자를 전착한 후 가부착한 스틸판을 제거하는 과정에서 다이아몬드 입자가 전착된 패드로부터 스틸판을 분리하는 작업 자체가 어려울 뿐만 아니라 그 스틸판의 제거과정에서 패드의 손상 등이 발생될 우려가 큰 것이다.However, since the pad itself is made of a resin material, such a conventional polishing pad has a structural weakness in attaching diamond particles by resin, and also has a disadvantage in that the adhesion of the particles is weak due to this, and also has a disadvantage in that the diamond particles are attached by the resin. In the process of removing the temporarily attached steel plate after electrodepositing diamond particles with the steel plate temporarily attached on the top, not only is it difficult to separate the steel plate from the pad on which the diamond particles are electrodeposited, but in the process of removing the steel plate, the pad There is a high risk of damage to the

한편, 일부에서는 전술된 문제점의 대안으로 스틸판 상에 다이아몬드 입자를 전착한 후에 수지 등에 의해 스틸판을 커버하거나 배면을 지지하도록 성형한 것이나, 이러한 경우에는 피연마물의 코너부분 등을 용이하게 연마 가능하도록 패드 자체가 플렉시블하게 변형 가능하지만, 연마 이후에 패드의 형상이 탄성적으로 복원하는 데에 한계가 있어 사용상의 불편함이 따르는 것이다.On the other hand, in some cases, as an alternative to the above problems, diamond particles are electrodeposited on the steel plate and then molded to cover the steel plate or support the back surface with resin, but in this case, the corner of the object to be polished can be easily polished. Although the pad itself can be flexibly deformed to do so, there is a limit to elastically restoring the shape of the pad after polishing, which causes inconvenience in use.

한국 공개실용신안공보 제20-2009-0001978호(2009. 03. 04)Korea Utility Model Publication No. 20-2009-0001978 (2009. 03. 04)

본 발명은 전술한 바와 같은 문제점을 해결하기 위한 것으로, 본 발명은 간단한 결합구조에 의해 전착다이아몬드층을 견고하게 부착하여 장치의 수명과 연마효과를 높임과 동시에 연마패드 자체의 유연성을 유지하여 피연마물에 용이하게 접촉 및 형상복원이 가능하여 연마작업 상의 편리함을 줄 수 있는 플렉시블 전착다이아몬드 연마패드를 제공하는 것이다. The present invention is intended to solve the above-mentioned problems. The present invention increases the lifespan and polishing effect of the device by firmly attaching the electrodeposited diamond layer by a simple bonding structure, and at the same time maintains the flexibility of the polishing pad itself to polish the object to be polished. It is to provide a flexible electrodeposited diamond polishing pad that can be easily contacted and restored to its shape to provide convenience in polishing work.

본 발명의 특징에 따르면, 그라인더(10)의 홀더(11) 상에 탈부착 가능하도록 된 유연성의 연마패드에 있어서;According to the features of the present invention, in the flexible polishing pad to be detachable on the holder 11 of the grinder 10;

링형태 또는 디스크형태로 된 금속 재질의 메쉬망(21)과;A ring-shaped or disk-shaped mesh network 21 made of metal;

상기 메쉬망(21)의 배면에 열융착된 상태로 결합되는 열가소성의 연질 수지층(22)과;a thermoplastic soft resin layer 22 coupled to the rear surface of the mesh network 21 in a heat-sealed state;

상기 메쉬망(21)의 상면에 일정한 형태의 도전성 패턴영역(26)을 형성하도록 도포되며 상기 수지층(22)과 열융착가능한 마스킹층(23)과;a masking layer 23 coated to form a conductive pattern region 26 of a certain shape on the upper surface of the mesh network 21 and heat-sealable with the resin layer 22;

상기 도전성 패턴영역(26) 내에 다이아몬드 입자(25)를 포함하여 전착 도금된 전착다이아몬드층(24)을 포함하며;an electrodeposited diamond layer 24 electrodeposited and plated with diamond particles 25 in the conductive pattern region 26;

상기 수지층(22)과 마스킹층(23)은 열융착을 통해 상기 메쉬망(21)의 배면과 상면으로부터 망눈 사이로 함침되어 상호 융착된 것을 특징으로 하는 플렉시블 전착다이아몬드 연마패드가 제공된다.The resin layer 22 and the masking layer 23 are impregnated between the mesh nets from the back and top surfaces of the mesh net 21 through thermal fusion, and are fused to each other. A flexible electrodeposited diamond polishing pad is provided.

본 발명의 다른 특징에 따르면, 상기 메쉬망(21)의 저면에는 프라이머층(27)이 도포되어 메쉬망(21)과 수지층(22)의 부착력을 보강하는 것을 특징으로 하는 플렉시블 전착다이아몬드 연마패드가 제공된다.According to another feature of the present invention, a primer layer 27 is applied to the lower surface of the mesh network 21 to reinforce the adhesion between the mesh network 21 and the resin layer 22. Flexible electrodeposited diamond polishing pad is provided.

본 발명의 또 다른 특징에 따르면, 상기 수지층(22)의 저면에는 광목천을 포함한 배면부착포(28)가 결합된 것을 특징으로 하는 플렉시블 전착다이아몬드 연마패드가 제공된다.According to another feature of the present invention, there is provided a flexible electrodeposited diamond polishing pad, characterized in that the bottom surface of the resin layer 22 is coupled with a back surface attachment cloth 28 including a cotton cloth.

이상에서와 같이 본 발명에 의하면, 철망과 같은 메쉬망(21) 상에 다이아몬드 입자(25)를 전착함에 따라, 다이아몬드 입자(25)가 메쉬망(21)에 전착이 이루어져 부착력을 높임과 동시에 연질의 수지층(22)과 마스킹층(23)이 메쉬망(21)의 배면과 상면에서 망눈 사이로 함침되어 상호 융착되므로, 일체적으로 융착된 수지층(22)과 마스킹층(23) 사이에서 메쉬망(21)이 견고하게 부착 결합되므로, 연마패드(20) 자체의 유연성을 확보하면서도 아울러 연마패드(20)의 구조적 견고성과 안정성을 높일 수 있다.As described above, according to the present invention, as the diamond particles 25 are electrodeposited on the mesh 21, such as a wire mesh, the diamond particles 25 are electrodeposited on the mesh 21 to increase the adhesion and at the same time to make it soft. Since the resin layer 22 and the masking layer 23 are impregnated between the meshes on the back and top of the mesh 21 and fused to each other, the mesh between the integrally fused resin layer 22 and the masking layer 23 Since the mesh 21 is firmly attached and coupled, the flexibility of the polishing pad 20 itself can be ensured, and structural robustness and stability of the polishing pad 20 can be enhanced.

또한 본 발명에 따르면, 메쉬망(21)에 수지층(22)을 부착하기 전에 메쉬망(21)의 저면에 프라이머층(28)을 도포하면 메쉬망(21)과 수지층(22)의 부착력을 증대시킬 수 있다. 또한, 수지층(22)의 저면에 광목천과 같은 배면부착포(28)를 결합하여 벨크로부재(30) 등을 구비하여 그라인더(10)의 홀더(11) 상에 탈부착하는 데에 편리함을 줌과 동시에 상기 벨크로부재(30)를 수지층(22)의 저면에 결합하기 위한 부착력을 증대시킬 수 있는 장점이 있다.In addition, according to the present invention, if the primer layer 28 is applied to the lower surface of the mesh network 21 before attaching the resin layer 22 to the mesh network 21, the adhesion between the mesh network 21 and the resin layer 22 can increase In addition, it is convenient to attach and detach on the holder 11 of the grinder 10 by combining a back-attached cloth 28 such as cotton cloth on the bottom surface of the resin layer 22 and providing a Velcro member 30, etc. At the same time, there is an advantage of increasing the adhesive force for coupling the Velcro member 30 to the bottom surface of the resin layer 22.

도 1은 본 발명의 일실시예에 따른 단면도
도 2는 본 발명의 결합상태를 도시한 분해 사시도
도 3은 본 발명의 작동상태를 도시한 분해 사시도
도 4는 본 발명의 일실시예에 따른 분해 사시도
1 is a cross-sectional view according to an embodiment of the present invention
Figure 2 is an exploded perspective view showing a coupled state of the present invention
Figure 3 is an exploded perspective view showing an operating state of the present invention
4 is an exploded perspective view according to an embodiment of the present invention

상술한 본 발명의 목적, 특징들 및 장점은 다음의 상세한 설명을 통하여 보다 분명해질 것이다. 이하, 본 발명의 바람직한 실시예를 첨부한 도면에 의거하여 설명하면 다음과 같다.Objects, features and advantages of the present invention described above will become more apparent through the detailed description that follows. Hereinafter, a preferred embodiment of the present invention will be described based on the accompanying drawings.

도 1 내지 도 4는 본 발명의 바람직한 일실시예를 도시한 것이다. 도 1에 도시된 바와 같이, 본 발명의 연마패드(20)는 메쉬망(21)의 저면에 수지층(22)를 열융착에 의해 일체로 결합하여 탄성적인 변형과 복원이 가능한 플렉시블한 패드구조를 이루고, 이러한 메쉬망(21)의 상면에 다이아몬드 입자(25)를 포함한 전착다이아몬드층(24)이 전착 도금되는데, 메쉬망(21) 상에 일정 형태의 도전성 패턴영역(26)을 남긴 상태로 비도전성의 마스킹층(23)을 형성하여 상기 도전성 패턴영역(26) 내에서만 전착이 이루어지게 된다.1 to 4 show a preferred embodiment of the present invention. As shown in FIG. 1, the polishing pad 20 of the present invention is a flexible pad structure capable of elastic deformation and restoration by integrally bonding the resin layer 22 to the bottom surface of the mesh 21 by thermal fusion. , and an electrodeposited diamond layer 24 including diamond particles 25 is electrodeposited on the upper surface of the mesh network 21, leaving a conductive pattern region 26 of a certain shape on the mesh network 21. By forming a non-conductive masking layer 23 , electrodeposition is performed only within the conductive pattern region 26 .

이러한 본 발명의 연마패드(20)는 상기 수지층(21)과 마스킹층(23)의 열융착과정에서 메쉬망(21)의 저면과 상면에서 각각 수지층과 마스킹층이 메쉬망(21)의 망눈 사이로 스며든 함침 상태로 상호 융착됨에 따라 다이아몬드 입자(25)가 전착된 메쉬망(21)이 수지층(21)과 마스킹층(23) 사이에서 견고하게 결합되므로 연마패드(20)를 이용하여 연마할 때, 메쉬망(21)에 부착된 다이아몬드(25) 입자가 위치이탈하지 않고 견고한 부착상태를 유지하므로 연마성능을 높게 유지할 수 있다. 또한, 메쉬망(21)과 수지층(22) 사이에 프라이머를 도포하면 수지층(22)과 메쉬망(21)의 부착력을 더욱 높일 수 있다. 또한 상기 수지층(22)의 저면에 벨크로부재(30)를 결합하기 위해 광목천과 같은 배면부착포(28)를 개재하여 접착제가 용이하게 스며들어 부착력을 높이도록 된 것인데, 이러한 본 발명의 세부적인 결합상태와 구성 등을 도 2 내지 도 4에 의해 설명하면 다음과 같다.In the polishing pad 20 of the present invention, the resin layer and the masking layer are respectively formed on the lower and upper surfaces of the mesh network 21 during the thermal fusion process of the resin layer 21 and the masking layer 23. As the mesh network 21 on which the diamond particles 25 are electrodeposited is firmly bonded between the resin layer 21 and the masking layer 23 as they are mutually fused in an impregnated state permeated through the mesh, the polishing pad 20 is used to During polishing, since the diamond 25 particles attached to the mesh 21 do not displace and maintain a solid attachment state, polishing performance can be maintained high. In addition, when a primer is applied between the mesh network 21 and the resin layer 22, the adhesion between the resin layer 22 and the mesh network 21 can be further increased. In addition, in order to couple the Velcro member 30 to the bottom surface of the resin layer 22, the adhesive is easily permeated through a back-mounted cloth 28 such as cotton cloth to increase the adhesive strength. The coupling state and configuration will be described with reference to FIGS. 2 to 4 as follows.

도 2 도시된 바와 같이, 본 발명의 연마패드(20)는 패드의 상면에 다이아몬드 입자(25)를 포함한 전착다이아몬드층(24)이 일정 패턴으로 전착 도금된 디스크 또는 링형태로 구비되고, 배면에 벨크로부재(30) 등에 의해 그라인더(10)의 홀더(11) 상에 탈부착 가능하게 된 것으로, 이러한 본 발명의 연마패드(20)는 도 3에 도시된 바와 같이, 연마패드가 전체적으로 유연성을 갖는 플렉시블한 구조를 가짐에 따라, 전술된 바와 같은 벨크로부재(30)를 착탈하기 용이할 뿐만 아니라 상기 벨크로부재(30)에 의해 홀더(11) 상에 탈부착 할 때에 연마패드가 탄성적으로 복원하여 장착 또는 교체시에 편리하고, 피연마물의 코너부분 등을 연마할 때에 피연마물의 표면 형상에 대응하여 변형이 가능할 뿐만 아니라 연마 이후에 형상이 원상태로 복원되어 다른 연마작업을 용이하게 행할 수 있는데, 이를 도 4에 의해 설명하면 다음과 같다.As shown in FIG. 2, the polishing pad 20 of the present invention is provided in the form of a disk or ring in which an electrodeposited diamond layer 24 containing diamond particles 25 is electrodeposited in a certain pattern on the upper surface of the pad, and It is detachable on the holder 11 of the grinder 10 by the Velcro member 30 or the like, and the polishing pad 20 of the present invention is flexible as shown in FIG. 3, the polishing pad has flexibility as a whole. As it has a structure, it is not only easy to attach and detach the Velcro member 30 as described above, but also when the Velcro member 30 is attached to and detached from the holder 11, the polishing pad is elastically restored to mount or It is convenient for replacement, and when polishing the corner of the object to be polished, not only can it be deformed in response to the shape of the surface of the object to be polished, but also the shape is restored to its original state after polishing, so that other polishing operations can be easily performed. If explained by 4, it is as follows.

도 4에 도시된 바와 같이, 본 발명의 연마패드(20)는 일정 직경의 디스크형태 또는 디스크의 중앙이 일정 크기로 펀칭된 링형태로 된 메쉬망(21)이 구비되는데, 이 메쉬망(21)은 일정 크기의 망눈을 형성하도록 와이어에 의해 직조된 철망으로 이루어진 것으로, 이러한 메쉬망(21)의 저면에는 동일 크기로 된 수지층(22)이 부착된다. 이 때, 메쉬망(21)의 배면에 프라이머층(27)을 도포하면, 메쉬망(21)에 수지층(22)이 견고하게 부착될 수 있다.
이와 같이 수지층(22)이 저면에 형성된 메쉬망(21)의 상면에는 실크인쇄 등에 의해 메쉬망(21)의 도전성을 차폐하도록 마스킹층(23)을 형성한다. 이 마스킹층(23)은 수지층(22)과 열융착가능한 비전도성 수지재료로서, 메쉬망(21)이 비전도성 물질에 의해 커버됨에 따라 일정한 형태로 남은 도전성 패턴영역(26) 상에 다이아몬드 입자(25)가 전착되는데, 이러한 전착과정에서는 상기 메쉬망(21) 상에 다이아몬드 입자(25)를 흩뿌린 상태로 전기적으로 전착시키면 상기 도전성 패턴영역(26) 내의 다이아몬드 입자(25)가 전착 도금되어 메쉬망(21) 상에 고정 결합되는 전착다이아몬드층(24)이 형성된다.
이와 같이 메쉬망(21)의 상면에 마스킹층(23)이 형성되고 메쉬망(21)의 배면에 수지층(22)이 형성되면, 열을 가하여 마스킹층(23)과 수지층(22)을 상호 열융착한다. 이러한 열융착을 통해 메쉬망(21) 배면의 수지층(22)와 메쉬망(21) 상면의 마스킹층(23)이 각각 용융되어 메쉬망(21)의 배면과 상면으로부터 망눈 사이로 침투, 함침되어 상호 융착된다. 이와 같이 메쉬망(21)을 개재하여 수지층(22)와 마스킹층(23)이 상호 융착됨으로써 연마패드에 대한 메쉬망(21) 및 다이아몬드전착층(24)의 결합력이 증대되어 연마패드(20)의 구조적인 안정성이 높아진다.
한편, 상기 수지층(22)의 저면에는 벨크로부재(30)가 결합될 수 있는데, 이때에 상기 벨크로부재(30)를 수지층(22) 상에 견고하게 부착할 수 있도록 광목천과 같은 배면부착포(28)를 더 결합하여 접착제 등이 용이하게 스며들도록 한다. 최종적으로 완성된 연마패드(20)의 중앙부에 홀더(11) 상에 장착하기 위한 홀을 형성할 수 있다. 이상에서 설명되지 않은 부호는 상기 홀더(11) 측에 구비되어 상기 벨크로부재(30)에 탈착되는 장치측 벨크로(12)를 나타낸 것이다.
As shown in FIG. 4, the polishing pad 20 of the present invention is provided with a mesh network 21 in the form of a disk of a certain diameter or a ring in which the center of the disk is punched to a certain size. ) is made of a wire mesh woven by wire to form a mesh of a certain size, and a resin layer 22 of the same size is attached to the bottom of the mesh 21. At this time, when the primer layer 27 is applied to the rear surface of the mesh network 21, the resin layer 22 can be firmly attached to the mesh network 21.
In this way, a masking layer 23 is formed on the upper surface of the mesh network 21 on which the resin layer 22 is formed on the bottom surface to shield the conductivity of the mesh network 21 by silk printing or the like. This masking layer 23 is a non-conductive resin material that can be heat-sealed with the resin layer 22, and diamond particles remain on the conductive pattern area 26 remaining in a constant shape as the mesh network 21 is covered with the non-conductive material. (25) is electrodeposited. In this electrodeposition process, when diamond particles 25 are electrically electrodeposited on the mesh 21 in a scattered state, the diamond particles 25 in the conductive pattern region 26 are electrodeposited and plated. An electrodeposited diamond layer 24 fixedly bonded to the mesh network 21 is formed.
In this way, when the masking layer 23 is formed on the upper surface of the mesh network 21 and the resin layer 22 is formed on the back surface of the mesh network 21, heat is applied to separate the masking layer 23 and the resin layer 22. mutually heat-sealed. Through this thermal fusion, the resin layer 22 on the back of the mesh 21 and the masking layer 23 on the top of the mesh 21 are melted, respectively, and penetrated and impregnated between the meshes from the back and top of the mesh 21, are mutually fused As the resin layer 22 and the masking layer 23 are fused to each other through the mesh network 21 as described above, the bonding force between the mesh network 21 and the diamond electrodeposited layer 24 to the polishing pad is increased, thereby increasing the polishing pad 20 ) increases the structural stability.
On the other hand, the Velcro member 30 may be coupled to the bottom surface of the resin layer 22. At this time, the Velcro member 30 can be firmly attached to the resin layer 22, such as a cloth attached to the back surface. (28) is further combined so that the adhesive or the like can be easily penetrated. A hole for mounting on the holder 11 may be formed at the center of the finally completed polishing pad 20 . Symbols not described above indicate the device-side Velcro 12 provided on the side of the holder 11 and detached from the Velcro member 30 .

삭제delete

삭제delete

이상에서 설명한 본 발명은 전술한 실시예 및 첨부된 도면에 의해 한정되는 것이 아니고, 본 발명의 기술적 사상을 벗어나지 않는 범위 내에서 여러 가지 치환, 변형 및 변경이 가능함은 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 명백할 것이다.The present invention described above is not limited by the foregoing embodiments and the accompanying drawings, and various substitutions, modifications, and changes are possible within a range that does not deviate from the technical spirit of the present invention. will be clear to those who have knowledge of

10: 그라인더 11: 홀더
20: 연마패드 21: 메쉬망
22: 수지층 23: 마스킹층
24: 전착다이아몬드층 25: 다이아몬드 입자
26: 도전성 패턴영역 27: 프라이머 도포층
28: 배면부착포 30: 벨크로부재
10: grinder 11: holder
20: polishing pad 21: mesh net
22: resin layer 23: masking layer
24: electrodeposited diamond layer 25: diamond particles
26: conductive pattern area 27: primer coating layer
28: back attachment 30: Velcro member

Claims (3)

그라인더(10)의 홀더(11) 상에 탈부착 가능하도록 된 유연성의 연마패드에 있어서;
링형태 또는 디스크형태로 된 금속 재질의 메쉬망(21)과;
상기 메쉬망(21)의 배면에 열융착된 상태로 결합되는 열가소성의 연질 수지층(22)과;
상기 메쉬망(21)의 상면에 일정한 형태의 도전성 패턴영역(26)을 형성하도록 도포되며 상기 수지층(22)과 열융착가능한 마스킹층(23)과;
상기 도전성 패턴영역(26) 내에 다이아몬드 입자(25)가 전착 도금된 전착다이아몬드층(24)을 포함하며;
상기 수지층(22)과 마스킹층(23)은 열융착을 통해 상기 메쉬망(21)의 배면과 상면으로부터 망눈 사이로 함침되어 상호 융착된 것을 특징으로 하는 플렉시블 전착다이아몬드 연마패드.
In the flexible polishing pad detachable on the holder 11 of the grinder 10;
A ring-shaped or disk-shaped mesh network 21 made of metal;
a thermoplastic soft resin layer 22 coupled to the rear surface of the mesh network 21 in a heat-sealed state;
a masking layer 23 coated to form a conductive pattern region 26 of a certain shape on the upper surface of the mesh network 21 and heat-sealable with the resin layer 22;
an electrodeposited diamond layer 24 in which diamond particles 25 are electrodeposited and plated in the conductive pattern region 26;
The resin layer 22 and the masking layer 23 are impregnated between the mesh nets from the back and top surfaces of the mesh net 21 through thermal fusion and are fused to each other. Flexible electrodeposited diamond polishing pad.
제1항에 있어서, 상기 메쉬망(21)의 저면에는 프라이머층(27)이 도포되어 메쉬망(21)과 수지층(22)의 부착력을 증대하는 것을 특징으로 하는 플렉시블 전착다이아몬드 연마패드.
The flexible electrodeposited diamond polishing pad according to claim 1, characterized in that a primer layer (27) is applied to the lower surface of the mesh network (21) to increase adhesion between the mesh network (21) and the resin layer (22).
제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 수지층(22)의 저면에는 광목천을 포함한 배면부착포(28)가 결합된 것을 특징으로 하는 플렉시블 전착다이아몬드 연마패드.[4] The flexible electrodeposited diamond polishing pad according to claim 1 or 2, characterized in that a back-mounted fabric (28) including cotton cloth is coupled to the bottom surface of the resin layer (22).
KR1020210040403A 2021-03-29 2021-03-29 Flexible grinding pad with an electroplated diamond tip KR102499870B1 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020210040403A KR102499870B1 (en) 2021-03-29 2021-03-29 Flexible grinding pad with an electroplated diamond tip

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020210040403A KR102499870B1 (en) 2021-03-29 2021-03-29 Flexible grinding pad with an electroplated diamond tip

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20220134994A KR20220134994A (en) 2022-10-06
KR102499870B1 true KR102499870B1 (en) 2023-02-15

Family

ID=83597409

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020210040403A KR102499870B1 (en) 2021-03-29 2021-03-29 Flexible grinding pad with an electroplated diamond tip

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR102499870B1 (en)

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3131484B2 (en) * 1991-01-30 2001-01-31 ミネソタ マイニング アンド マニュファクチャリング カンパニー Abrasive belt and method for manufacturing the same

Family Cites Families (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20090001978U (en) 2007-08-27 2009-03-04 비케이다이아몬드(주) Flexible polishing pad
KR20100127427A (en) * 2009-05-26 2010-12-06 조희철 Abrasive sheet

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3131484B2 (en) * 1991-01-30 2001-01-31 ミネソタ マイニング アンド マニュファクチャリング カンパニー Abrasive belt and method for manufacturing the same

Also Published As

Publication number Publication date
KR20220134994A (en) 2022-10-06

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP4508514B2 (en) CMP conditioner and method of manufacturing the same
US6123612A (en) Corrosion resistant abrasive article and method of making
US3517464A (en) Method of making abrasive tools by electro-deposition
KR100614047B1 (en) Electroplated grinding wheel and its production equipment and method
TW200800504A (en) Electroplated abrasive tools, methods, and molds
KR102499870B1 (en) Flexible grinding pad with an electroplated diamond tip
JPS63144968A (en) Grindstone
CN214771419U (en) Double-sided mesh multi-abrasive-particle abrasive belt
JP3020434B2 (en) Electroplated wheel and manufacturing method thereof
KR102494290B1 (en) Flexible metal diamond grinding pad
JPS6150773A (en) Diamond endless belt
JPH0771789B2 (en) Whetstone
KR102541021B1 (en) Method of Ultra light metal diamond grinding cup wheel
KR20140143563A (en) Diamond abrasive paper, and a method of manufacturing the diamond paper
JP2005305603A (en) Grinding disk for handy grinder
CN210616185U (en) Diamond grinding brush
CN212601305U (en) CBN grinding wheel with replaceable grinding material layer
CN213999049U (en) High-elasticity polishing pad
KR200349130Y1 (en) Diamond paper
CN218856670U (en) Improved gauze structure for anti-skid abrasive paper
CN212420976U (en) Abrasive cloth
CN211916566U (en) High-strength abrasive cloth
CN209737330U (en) Stone fine grinding abrasive disc
CN210414164U (en) Diamond grinding disc for brazing
JP2001269870A (en) Electrodeposited grinding wheel, its manufacturing device, and its manufacturing method

Legal Events

Date Code Title Description
E701 Decision to grant or registration of patent right