KR102497669B1 - 액정패널의 제조장치 - Google Patents

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Abstract

본 발명은 자외선의 조사시에 피처리 패널에 온도 불균일이 발생하는 것을 억제한다.
실시형태의 액정패널의 제조장치는 발광소자가 설치된 기판을 갖는 자외선 광원, 자외선 광원의 자외선이 조사되는 액정층을 갖는 피처리 패널이 배치되는 스테이지, 기판의 온도를 조절하는 온도조절매체가 흐르는 제1 유로부재, 스테이지의 온도를 조절하는 온도조절매체가 흐르는 제2 유로부재, 액정층에 고분자 안정화 블루상이 발현하는 발현온도를 t0(℃)로 했을 때, 제1 유로부재를 흐르는 온도조절매체의 온도 t1(℃)를, (t0-30)≤t1≤(t0+30)을 만족하는 온도범위로 제어하는 온도제어장치를 구비한다.

Description

액정패널의 제조장치{APPARATUS FOR FABRICATING LIQUID CRYSTAL PANEL}
본 발명의 실시형태는 액정패널의 제조장치에 관한 것이다.
액정패널에서 사용되는 액정재료로서 광학적 등방성 액정층인 고분자 안정화 블루상(PSBP:Polymer Stabilized Blue Phase)이 알려져 있다. 이와 같은 고분자 안정화 블루상은 액정층을 갖는 피처리 패널에 대하여 자외선을 조사할 때, 피처리 패널의 온도와, 자외선의 조사시간을 적정하게 제어함으로써 생성된다.
고분자 안정화 블루상을 갖는 액정패널의 제조장치로서는 자외선 광원의 자외선을 스테이지상에 배치된 피처리 패널에 조사하는 구성이 알려져 있다.
일본 공개특허공보 제2015-194623호
상술한 액정패널의 제조장치에서는 자외선을 피처리 패널에 조사할 때 발생하는 피처리 패널의 조사면의 면내 방향에서의 온도 불균일이나, 피처리 패널의 온도의 경시변화가 액정패널의 표시특성에 불균일을 초래하는 영향이 크다. 이 때문에, 피처리 패널의 조사면의 면내 방향에서의 온도를 균일화하는 것이 바람직하다.
한편, 자외선 광원으로서 방전램프를 사용한 경우, 불필요한 파장의 자외선이 액정층에 조사됨으로써 액정층에 영향을 미칠 우려가 있다. 이 대책으로서는 자외선 광원으로서 LED(발광 다이오드)를 갖는 LED 광원이 사용되고 있다. 그러나, LED 광원을 사용한 액정패널의 제조장치에서는 LED광원과 피처리 패널이 근접된 상태에서 자외선이 조사되므로, LED광원의 온도가 피처리 패널에 영향을 미치고, 피처리 패널에 온도 불균일을 초래할 우려가 있다.
그래서, 본 발명은 자외선의 조사시에 피처리 패널에 온도 불균일이 발생하는 것을 억제할 수 있는 액정패널의 제조장치를 제공하는 것을 목적으로 한다.
실시형태에 관한 액정패널의 제조장치는 발광소자가 설치된 기판을 갖는 자외선 광원과, 상기 자외선 광원의 자외선이 조사되는 액정층을 갖는 피처리 패널이 배치되는 스테이지와, 상기 기판의 온도를 조절하는 온도조절매체가 흐르는 제1 유로부재와, 상기 스테이지의 온도를 조절하는 온도조절매체가 흐르는 제2 유로부재와, 상기 액정층에 고분자 안정화 블루상이 발현하는 발현온도를 t0(℃)로 했을 때, 상기 제1 유로부재를 흐르는 온도조절매체의 온도 t1(℃)를, (t0-30)≤t1≤(t0+30)를 만족하는 온도범위로 제어하는 온도제어장치를 구비한다.
본 발명에 따르면, 자외선의 조사시에 피처리 패널에 온도 불균일이 발생하는 것을 억제할 수 있다.
도 1은 실시형태에 관한 액정패널의 제조장치를 도시한 모식도이다.
도 2는 실시형태에 관한 액정패널의 제조장치가 갖는 자외선 광원을 도시한 단면도이다.
도 3은 실시형태에 관한 액정패널의 제조장치가 갖는 온도제어장치를 도시한 모식도이다.
도 4는 실시형태에 관한 액정패널의 제조장치가 갖는 제1 유로부재 및 제2 유로부재의 각 유로를 도시한 모식도이다.
도 5는 실시형태에 관한 액정패널의 제조장치가 갖는 제1 유로부재 및 제2 유로부재의 각 유로의 변형예를 도시한 모식도이다.
도 6은 실시형태에 관한 액정패널의 제조장치가 갖는 제1 유로부재 및 제2 유로부재의 각 유로의 다른 변형예를 도시한 모식도이다.
이하에서 설명하는 실시형태에 관한 액정패널의 제조장치(1)는 자외선 광원(10), 스테이지(12), 제1 유로부재(13), 제2 유로부재(14), 및 온도제어장치(15)를 구비한다. 자외선 광원(10)은 발광소자로서의 LED(10a)가 설치된 기판(10b)을 갖는다. 스테이지(12)는 자외선 광원(10)의 자외선이 조사되는 액정층을 갖는 피처리 패널(7)이 배치된다. 제1 유로부재(13)는 기판(10b)의 온도를 조절하는 온도조절매체가 흐른다. 제2 유로부재(14)는 스테이지(12)의 온도를 조절하는 온도조절매체가 흐른다. 온도제어장치(15)는 액정층에 고분자 안정화 블루상이 발현하는 발현온도를 t0(℃)로 했을 때, 제1 유로부재(13)를 흐르는 온도조절매체의 온도 t1(℃)를, (t0-30)≤t1≤(t0+30)를 만족하는 온도범위로 제어한다.
또한, 이하에서 설명하는 실시형태에 관한 액정패널의 제조장치(1)는 자외선 광원(10) 및 스테이지(12)가 배치된 처리실(6) 내의 온도를 조절하는 공조장치(25)를 추가로 구비한다.
또한, 이하에서 설명하는 실시형태에 관한 액정패널의 제조장치(1)는 제1 유로부재(13)를 흐르는 온도조절매체의 온도를 검출하는 검출소자로서의 온도센서(22)를 추가로 구비한다. 온도제어장치(15)는 온도센서(22)가 검출한 온도조절매체의 온도에 기초하여, 온도조절매체의 온도를 상술한 온도범위내로 제어한다.
또한, 이하에서 설명하는 실시형태에 관한 액정패널의 제조장치(1)에서의 온도제어장치(15)는 제1 유로부재(13)를 흐르는 온도조절매체를 가열하는 히터(21)를 갖는다.
또한, 이하에서 설명하는 실시형태에 관한 액정패널의 제조장치(1)에서의 피처리 패널(7)의 액정층은 네마틱 액정조성물, 블루상을 발현하는 액정조성물, 및 중합성 모노머를 포함하고, 자외선을 조사함으로써 고분자 안정화 블루상을 발현한다.
(실시형태)
이하, 실시형태에 관한 액정패널의 제조장치(1)에 대해서 도면을 참조하여 설명한다. 도 1은 실시형태에 관한 액정패널의 제조장치(1)를 도시한 모식도이다. 도 2는 실시형태에 관한 액정패널의 제조장치(1)가 갖는 자외선 광원(10)을 도시한 단면도이다. 도 3은 실시형태에 관한 액정패널의 제조장치(1)가 갖는 온도제어장치(15)를 도시한 모식도이다.
(액정패널의 제조장치의 구성)
도 1에 도시한 바와 같이, 실시형태에 관한 액정패널의 제조장치(1)는 복수의 자외선 광원(10)과, 자외선 광원(10)의 자외선이 조사되는 피처리 패널(7)이 배치되는 스테이지(12)를 구비한다. 또한, 액정패널의 제조장치(1)는 자외선 광원(10)의 기판(10b)의 온도를 조절하는 온도조절매체가 흐르는 제1 유로부재(13), 스테이지(12)의 온도를 조절하는 온도조절매체가 흐르는 제2 유로부재(14), 및 제1 유로부재(13)를 흐르는 온도조절매체의 온도를 제어하는 온도제어장치(15)를 구비한다.
액정패널의 제조장치(1)의 자외선 광원(10)에 의해 자외선이 조사되는 피처리 패널(7)은, 도시하지 않지만, 컬러필터기판, 컬러필터기판에 대향하는 대향기판, 및 컬러필터기판과 대향기판 사이에 설치된 액정층을 갖는다.
컬러필터기판은 예를 들어 적색, 녹색, 청색의 광을 투과하는 컬러필터가 기판상에 배치되고, 보호막으로 컬러필터가 덮여 형성되어 있다. 대향기판은 복수의 전극이 어레이 형상으로 배치된 기판이다. 액정층은 적어도 네마틱 액정조성물, 블루상을 발현하는 액정조성물, 및 중합성 모노머를 포함한다. 액정층은 자외선 광원(10)에 의해 자외선이 조사됨으로써, 고분자 안정화 블루상을 발현한다. 액정층을 구성하는 네마틱 액정조성물은 유전이방성을 갖는 재료에 의해 형성되어 있다. 중합성 모노머는 네마틱 액정조성물이나 고분자 안정화 블루상을 발현하는 액정조성물의 조성을 안정화시키기 위한 재료이다.
블루상을 발현하는 액정조성물은 안정되어 존재할 수 있는 온도범위를 예를 들어, 상온, 구체적으로는 0(℃) 이상으로 확대하면서도, 자외선이 조사됨으로써, 네마틱 액정조성물보다 고속인 응답성을 실현 가능한 재료이다. 블루상을 발현하는 액정조성물은, 예를 들어 10(℃)~60(℃)의 사이에서 설정되는 소정의 발현온도에 대하여, 온도가 ±0.5(℃) 이내로 유지된 상태에서, 자외선이 조사되으로써, 불균일 없이 고분자 안정화 블루상을 발현하는 것이다. 예를 들어, 발현온도가 55(℃)인 범위내에는 블루상을 발현하는 액정조성물은 온도가 54.5(℃)~55.5(℃)의 범위내로 유지된 상태에서 자외선이 조사되는 것으로, 불균일 없이 고분자 안정화 블루상을 발현하는 재료이다. 또한, 발현온도가 60(℃)인 경우, 블루상을 발현하는 액정조성물은 온도가 59.5(℃)~60.5(℃)의 범위내로 유지된 상태에서, 자외선이 조사됨으로써 불균이 없고 고분자 안정화 블루상을 발현하는 재료이다.
본 실시형태에서는 온도제어장치(15)가 피처리 패널(7)의 액정층에 고분자 안정화 블루상이 발현하는 발현온도를 t0(℃)로 했을 때, 제1 유로부재(13)의 유로(13a)를 흐르는 온도조절매체의 온도 t1(℃)를, (t0-30)≤t1≤(t0+30)을 만족하는 온도범위로 제어한다. 즉, 제1 유로부재(13)를 흐르는 온도조절매체의 온도 t1(℃)는 발현온도 t0(℃)에 대하여, -30(℃) 이상, +30(℃) 이하의 온도범위로 제어됨으로써, 자외선 광원(10)의 온도가 스테이지(12)상의 피처리 패널(7)의 온도에 영향을 미치는 것이 제어된다. 이 때문에, 고분자 안정화 블루상을 발현하는 소정의 발현온도 t0(℃)에 대해서, 피처리 패널(7)의 온도를 ±0.5(℃) 이내로 유지하기 쉬워지고, 고분자 안정화 블루상을 불균일없이 적정하게 발현하는 것이 가능해진다.
자외선 광원(10)은 도 2에 도시한 바와 같이, 자외선을 발하는 발광소자로서의 복수의 LED(10a)와, LED(10a)가 설치된 기판(10b)을 갖고 있고, 소위 선형상의 LED 광원이 사용되고 있다. 복수의 LED(10a)는 긴 형상의 기판(10b)의 길이방향을 따라서 소정의 간격을 두고 배치되어 있다. 예를 들어, 복수의 자외선 광원(10)은 자외선 광원(10)의 길이방향을 따라서 배열되어 있다. 또한, 복수의 자외선 광원(10)은 평면상에 소정의 간격으로 배열함으로써 면광원으로서 구성되어도 좋다. 본 실시형태에서는 예를 들어 자외선 광원(10)이 방사하는 파장 365㎚의 광에 의한 조도가, 2mW/㎠ 정도로 설정되어 있다. 또한, 발광소자는 복수의 LED(10a)를 갖고 있지만, 복수의 LED에 한정되는 것은 아니다. 예를 들어, LD(Laser Diode) 등의 반도체 발광소자이면, 어떠한 형태이어도 좋다.
스테이지(12)는 자외선 광원(10)의 바로 아래에 대향하여 배치되어 있고, 제2 유로부재(14)의 유로(14a)를 흐르는 온도조절매체가 흐르는 유로(도시하지 않음)을 갖는다. 또한, 스테이지(12)에는 피처리 패널(7) 전체를 덮도록 보온박스(16)가 설치되어 있고, 보온박스(16)내로 소정 온도의 공기가 송풍장치(도시하지 않음)로부터 보내어진다.
제1 유로부재(13)는 자외선 광원(10)의 기판(10b)의 온도를 조절하는 온도조절매체가 순환하는 환형상의 유로를 갖는다. 제2 유로부재(14)는 스테이지(12)의 온도를 조절하는 온도조절매체가 순환하는 환형상의 유로를 갖는다. 온도조절매체로서는 예를 들어 물이 사용되고 있지만, 가스 등의 다른 유체가 사용되어도 좋다.
또한, 도 2에 도시한 바와 같이, 제1 유로부재(13)는 자외선 광원(10)의 기판(10b)을 방열하기 위한 방열부재(17)를 갖는다. 방열부재(17)는 예를 들어 알루미늄 등에 의해 형성되어 있고, 소정의 전열성이 확보되어 있다. 방열부재(17)는 자외선 광원(10)의 기판(10b)에 접하여 설치된 제1 지지부재(18)와, 제1 지지부재(18)를 지지하는 제2 지지부재(19)를 갖는다. 제2 지지부재(19)에는 온도조절매체가 흐르는 유로(19a)가 설치되어 있다. 이 유로(19a)는 제1 유로부재(13)의 유로(13a)에 연통되어 있다. 또한, 제2 지지부재(19)에는 제1 지지부재(18)를 음압으로 흡착하기 위한 통기구멍(19b)이 설치되어 있다.
본 실시형태에서의 온도제어장치(15)는 도 1 및 도 3에 도시한 바와 같이, 제1 유로부재(13)의 유로(13a)를 흐르는 온도조절매체를 가열하는 히터(21)와, 제1 유로부재(13)의 유로(13a)를 흐르는 온도조절매체의 온도를 검출하는 검출소자로서의 온도센서(22)와, 온도센서(22)가 검출한 온도에 기초하여 히터(21)를 제어함으로써 제1 유로부재(13)의 유로(13a)를 흐르는 온도조절매체의 온도를 제어하는 제어부(23)를 갖는다.
히터(21)는 도 3에 도시한 바와 같이, 제1 유로부재(13)의 일부의 유로(13a) 내에 배치되어 있고, 전원(도시하지 않음)을 통하여 제어부(23)와 접속되어 있다. 온도센서(22)는 제1 유로부재(13)의 일부, 예를 들어 제1 유로부재(13)에서 히터(21)의 하류측에 배치되어 있고, 제어부(23)와 접속되어 있다. 또한, 온도센서(22)는 자외선 광원(10)의 기판(10b) 근방의 유로(13a)에 설치되어도 좋고, 기판(10b)의 온도를 적정하게 제어하는 것이 가능해진다. 제어부(23)는 제1 유로부재(13)의 유로(13a) 내의 온도조절매체가, 상술한 온도범위내가 되도록 온도를 제어한다.
또한, 온도제어장치(15)는 히터(21)를 갖는 구성에 한정되는 것은 아니고, 예를 들어 온도조절매체를 가열 및 냉각하는 칠러장치(도시하지 않음)가 사용되어도 좋다. 제2 유로부재(14)의 유로(14a)를 흐르는 온도조절매체의 온도를 제어하는 온도제어장치에 대해서 도시를 생략하지만, 상술한 온도제어장치(15)와 동일하게 구성되어도 좋다.
또한, 도 1에 도시한 바와 같이, 자외선 광원(10) 및 스테이지(12)는 피처리 패널(7)에 자외선을 조사하는 처리실(6) 내에 배치되어 있다. 처리실(6) 내의 온도는 공조장치(25)에 의해 소정의 온도로 조절되어 있다. 공조장치(25)는 처리실(6)내로 소정의 온도의 공기를 보내는 송풍관(25a)과, 처리실(6)내로부터 공기를 배출하는 배기관(25b)을 갖는다. 처리실(6)의 측벽에는 공조장치(25)의 송풍관(25a) 및 배기관(25b)이 연결되어 있다.
(제1 유로부재와 제2 유로부재의 각 유로의 구성)
도 4는 실시형태에 관한 액정패널의 제조장치(1)가 갖는 제1 유로부재(13) 및 제2 유로부재(14)의 각 유로(13a, 14a)를 도시한 모식도이다. 제1 유로부재(13)의 유로(13a)와 제2 유로부재(14)의 유로(14a)는 예를 들어 도 4에 도시한 바와 같이, 서로 독립하여 설치되어 있고, 온도조절매체가 각각 독립하여 흐른다.
이 때문에, 제1 유로부재(13)의 유로(13a)를 흐르는 온도조절매체와, 제2 유로부재(14)의 유로(14a)를 흐르는 온도조절매체를 다른 온도로 제어하는 것이 가능해지고, 자외선 광원(10)의 기판(10b)과, 스테이지(12)상의 피처리패널(7)을 각각 적정한 온도로 제어할 수 있다. 또한, 제1 유로부재(13)의 유로(13a)를 흐르는 온도조절매체와, 제2 유로부재(14)의 유로(14a)를 흐르는 온도조절매체로서, 다른 온도조절매체를 사용하는 것이 가능해지고, 자외선 광원(10)의 온도와, 스테이지(12)상의 피처리 패널(7)의 온도의 제어에 적합한 온도조절매체를 선택할 수도 있다.
또한, 제1 유로부재(13)의 유로(13a)와 제2 유로부재(14)의 유로(14a)는 필요에 따라서, 후술하는 변형예와 같이 구성되어도 좋다.
(액정패널의 제조장치에서의 온도제어)
온도제어장치(15)는 제1 유로부재(13)의 유로(13a)를 흐르는 온도조절매체의 온도 t1을, 상술한 바와 같이 발현온도 t0에 대하여 -30(℃) 이상, +30(℃) 이하의 온도범위내로 제어함으로써, 자외선 광원(10)의 열이, 스테이지(12)상의 피처리 패널(7)의 온도에 미치는 영향이 억제된다. 이 때문에, 피처리 패널(7)의 조사면의 면내 방향에서 온도 불균일이 발생하는 것이 억제된다. 또한, 제1 유로부재(13)의 유로(13a)를 흐르는 온도조절매체의 온도는 -20(℃) 이상, +20(℃) 이하의 온도범위내로 제어하는 것이 바람직하고, 피처리 패널(7)에 온도 불균일이 발생하는 것을 한층 더 억제할 수 있다.
또한, 스테이지(12)내를 흐르는 온도조절매체의 온도, 즉 제2 유로부재(14)의 유로(14a)를 흐르는 온도조절매체의 온도와, 공조장치(25)에 의한 처리실(6) 내의 온도는, 예를 들어 40(℃) 정도로 설정되어 있고, 서로 동등한 온도로 제어되는 것이 바람직하다. 이에 의해, 스테이지(12)상의 피처리 패널(7)의 온도의 변동이 억제된다.
상술한 바와 같이 실시형태의 액정패널의 제조장치(1)는 피처리패널(7)의 액정층에 고분자 안정화 블루상이 발현하는 발현온도를 t0(℃)로 했을 때, 제1 유로부재(13)를 흐르는 온도조절매체의 온도 t1(℃)를, (t0-30)≤t1≤(t0+30)을 만족하는 온도범위로 제어하는 온도제어장치(15)를 구비한다. 이에 의해, 자외선 광원(10)의 열이, 스테이지(12)상의 피처리패널(7)의 온도에 미치는 영향이 억제된다. 따라서, 고분자 안정화 블루상의 발현하는 온도 t0에 대하여 +0.5(℃) ~ -0.5(℃)로 용이하게 제어하는 것이 가능해지고, 자외선의 조사시에 피처리 패널(7)의 면내방향으로 온도 불균일이 발생하는 것을 억제할 수 있다.
또한, 실시형태의 액정패널의 제조장치(1)는 자외선 광원(10) 및 스테이지(12)가 배치된 처리실(6) 내의 온도를 조절하는 공조장치(25)를 구비한다. 공조장치(25)에 의해, 스테이지(12)상의 피처리 패널(7)의 온도를 적정하게 제어하는 것이 가능해진다. 한편, 공조장치(25)를 사용한 공조환경하에서는 처리실(6)내에 발생하는 기류를 통하여, 자외선 광원(10)의 온도가 피처리 패널(7)에 전열(전달?)되기 쉬워지므로, 피처리 패널(7)에 온도 불균일이 발생하기 쉬워지는 경향이 있다. 그러나, 본 실시형태에 따르면, 제1 유로부재(13)내를 흐르는 온도조절매체의 온도가 상술한 온도범위내로 제어됨으로써, 공조장치(25)의 기류의 영향으로 스테이지(12)상의 피처리 패널(7)에 온도 불균일이 발생하는 것을 억제하고, 또한 처리실(6) 내에서 피처리 패널(7)의 온도가 변동되는 것을 공조장치(25)에 의해 억제할 수 있다.
또한, 실시형태의 액정패널의 제조장치(1)에서의 온도제어장치(15)는 온도센서(22)가 검출한 제1 유로부재(13)내의 온도조절매체의 온도에 기초하여, 온도조절매체의 온도를 상술한 온도범위내로 제어한다. 이에 의해, 자외선 광원(10)의 기판(10b)의 열에 의해 변동되는 제1 유로부재내(13)를 흐르는 온도조절매체의 온도를 신속하고 적정하게 제어할 수 있다.
(변형예)
이하, 실시형태의 액정패널의 제조장치(1)에서의 제1 유로부재(13)와 제2 유로부재(14)의 각 유로(13a, 14a)의 변형예에 대해서 도면을 참조하여 설명한다. 또한, 변형예에서 제1 실시형태와 동일한 구성부재는 편의상, 제1 실시형태와 동일한 부호를 붙여 설명한다.
도 5는 실시형태에 관한 액정패널의 제조장치(1)가 갖는 제1 유로부재(13) 및 제2 유로부재(14)의 각 유로(13a, 14a)의 변형예를 도시한 모식도이다. 도 6은 실시형태에 관한 액정패널의 제조장치(1)가 갖는 제1 유로부재(13) 및 제2 유로부재(14)의 각 유로(13a, 14a)의 다른 변형예를 도시한 모식도이다.
변형예로서 도 5에 도시한 바와 같이, 제1 유로부재(13)의 유로(13a)와 제2 유로부재(14)의 유로(14a)는 온도조절매체가 순환하도록 직렬로 연결되어 있고, 환형상의 순환로를 구성하고 있다.
변형예에서는 제1 유로부재(13)의 유로(13a)를 흐르는 온도조절매체의 온도와, 제2 유로부재(14)의 유로(14a)를 흐르는 온도조절매체의 온도를 공통의 온도제어장치(15)에 의해 제어하는 것이 가능해지고, 액정패널의 제조장치(1)의 구성을 간소화할 수 있다. 또한, 제1 유로부재(13)의 유로(13a)를 흐르는 온도조절매체와, 제2 유로부재(14)의 유로(14a)를 흐르는 온도조절매체로서, 공통하는 온도조절매체를 사용하는 것이 가능해져, 액정패널의 제조비용을 억제할 수 있다.
상술한 변형예에서도 실시형태와 동일하게 자외선의 조사시에 피처리 패널(7)의 면내 방향으로 온도 불균일이 발생하는 것을 억제할 수 있다.
다른 변형예로서 도 6에 도시한 바와 같이, 제1 유로부재(13)의 유로(13a)와 제2 유로부재(14)의 유로(14a)는 병렬로 연결되어 있고, 각 유로의 일방측으로부터 타방측을 향하여 온도조절매체가 흐른다. 또한, 각 유로(13a, 14a)의 병렬부분의 양측의 유로는 직렬로 연결되어 순환로를 구성해도 좋고, 각 유로(13a, 14a)에 온도조절매체를 순환시키는 것이 가능해진다.
다른 변형예에서는 상술한 변형예와 동일하게, 제1 유로부재(13)의 유로(13a)를 흐르는 온도조절매체의 온도와, 제2 유로부재(14)의 유로(14a)를 흐르는 온도조절매체의 온도를 공통의 온도제어장치(15)에 의해 제어하는 것이 가능해지고, 액정패널의 제조장치(1)의 구성을 간소화할 수 있다. 또한, 제1 유로부재(13)의 유로(13a)를 흐르는 온도조절매체와, 제2 유로부재(14)의 유로(14a)를 흐르는 온도조절매체로서, 공통하는 온도조절매체를 사용하는 것이 가능해지고, 액정패널의 제조비용을 억제할 수 있다.
상술한 다른 변형예에서도 실시형태와 동일하게, 자외선의 조사시에 피처리 패널(7)의 면내 방향으로 온도 불균일이 발생하는 것을 억제할 수 있다.
본 발명의 실시형태를 설명했지만, 실시형태는 예로서 제시한 것이고, 본 발명의 범위를 한정하려는 의도는 없다. 실시형태는 그 밖의 여러가지 형태로 실시하는 것이 가능하고, 발명의 요지를 벗어나지 않는 범위에서 여러가지 생략, 치환, 변경을 실시할 수 있다. 실시형태나 그 변형은 본 발명의 범위나 요지에 포함되는 것과 동일하게, 특허청구범위에 기재된 발명과 균등한 범위에 포함되는 것이다.
1: 액정패널의 제조장치 6: 처리실
7: 피처리패널 10: 자외선 광원
10a: LED 10b: 기판
12: 스테이지 13: 제1 유로부재
13a: 유로 14: 제2 유로부재
14a: 유로 15: 온도제어장치
21: 히터 22: 온도센서(검출소자)
23: 제어부 25: 공조장치
t0: 발현온도
t1: 제1 유로부재를 흐르는 온도조절매체의 온도

Claims (5)

  1. 긴 모양의 기판과 상기 기판의 길이 방향을 따라 배열된 복수의 발광소자를 갖는 자외선 광원;
    상기 자외선 광원의 자외선이 조사되는 액정층을 갖는 피처리 패널이 배치되는 스테이지;
    상기 기판의 온도를 조절하는 온도조절매체가 상기 기판의 길이 방향을 따라 흐르는 제1 유로부재;
    상기 스테이지의 온도를 조절하는 온도조절매체가 흐르는 제2 유로부재;
    상기 제1 유로부재를 흐르는 온도조절매체의 온도를 검출하는 검출소자; 및
    상기 액정층에 고분자 안정화 블루상이 발현하는 발현온도를 t0(℃)로 했을 때, 상기 제1 유로부재를 흐르는 온도조절매체의 온도 t1(℃)를, (t0-30)≤t1≤(t0+30)을 만족하는 온도범위로 제어하는 온도제어장치를 구비하고,
    상기 온도제어장치는 상기 검출소자가 검출한 상기 온도조절매체의 온도에 기초하여, 상기 제1 유로부재를 흐르는 온도조절매체의 온도를 상기 온도범위내로 제어하는, 액정패널의 제조장치.
  2. 제 1 항에 있어서,
    상기 자외선 광원 및 상기 스테이지가 배치된 처리실내의 온도를 조절하는 공조장치를 추가로 구비하는, 액정패널의 제조장치.
  3. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
    상기 온도제어장치는 상기 제1 유로부재를 흐르는 온도조절매체를 가열하는 히터를 갖는, 액정패널의 제조장치.
  4. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
    상기 액정층은 네마틱 액정조성물, 블루상을 발현하는 액정조성물, 및 중합성 모노머를 포함하고, 자외선을 조사함으로써 고분자 안정화 블루상을 발현하는, 액정패널의 제조장치.
  5. 삭제
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