KR102475680B1 - Photosensitive resin composition for color filters, color filter, image display element, and manufacturing method of color filter - Google Patents

Photosensitive resin composition for color filters, color filter, image display element, and manufacturing method of color filter Download PDF

Info

Publication number
KR102475680B1
KR102475680B1 KR1020207020776A KR20207020776A KR102475680B1 KR 102475680 B1 KR102475680 B1 KR 102475680B1 KR 1020207020776 A KR1020207020776 A KR 1020207020776A KR 20207020776 A KR20207020776 A KR 20207020776A KR 102475680 B1 KR102475680 B1 KR 102475680B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
mass
photosensitive resin
resin composition
structural unit
acid
Prior art date
Application number
KR1020207020776A
Other languages
Korean (ko)
Other versions
KR20200091483A (en
Inventor
에리 나가이
다케히로 기노시타
야스아키 가와구치
마사요시 야나기
히로키 구라모토
Original Assignee
쇼와 덴코 가부시키가이샤
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 쇼와 덴코 가부시키가이샤 filed Critical 쇼와 덴코 가부시키가이샤
Publication of KR20200091483A publication Critical patent/KR20200091483A/en
Application granted granted Critical
Publication of KR102475680B1 publication Critical patent/KR102475680B1/en

Links

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F220/00—Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical or a salt, anhydride ester, amide, imide or nitrile thereof
    • C08F220/02—Monocarboxylic acids having less than ten carbon atoms; Derivatives thereof
    • C08F220/10—Esters
    • C08F220/26—Esters containing oxygen in addition to the carboxy oxygen
    • C08F220/32—Esters containing oxygen in addition to the carboxy oxygen containing epoxy radicals
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G59/00—Polycondensates containing more than one epoxy group per molecule; Macromolecules obtained by polymerising compounds containing more than one epoxy group per molecule using curing agents or catalysts which react with the epoxy groups
    • C08G59/18—Macromolecules obtained by polymerising compounds containing more than one epoxy group per molecule using curing agents or catalysts which react with the epoxy groups ; e.g. general methods of curing
    • C08G59/20—Macromolecules obtained by polymerising compounds containing more than one epoxy group per molecule using curing agents or catalysts which react with the epoxy groups ; e.g. general methods of curing characterised by the epoxy compounds used
    • C08G59/32—Epoxy compounds containing three or more epoxy groups
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G59/00—Polycondensates containing more than one epoxy group per molecule; Macromolecules obtained by polymerising compounds containing more than one epoxy group per molecule using curing agents or catalysts which react with the epoxy groups
    • C08G59/18—Macromolecules obtained by polymerising compounds containing more than one epoxy group per molecule using curing agents or catalysts which react with the epoxy groups ; e.g. general methods of curing
    • C08G59/68—Macromolecules obtained by polymerising compounds containing more than one epoxy group per molecule using curing agents or catalysts which react with the epoxy groups ; e.g. general methods of curing characterised by the catalysts used
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G65/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming an ether link in the main chain of the macromolecule
    • C08G65/02—Macromolecular compounds obtained by reactions forming an ether link in the main chain of the macromolecule from cyclic ethers by opening of the heterocyclic ring
    • C08G65/04—Macromolecular compounds obtained by reactions forming an ether link in the main chain of the macromolecule from cyclic ethers by opening of the heterocyclic ring from cyclic ethers only
    • C08G65/06—Cyclic ethers having no atoms other than carbon and hydrogen outside the ring
    • C08G65/16—Cyclic ethers having four or more ring atoms
    • C08G65/18—Oxetanes
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00—Optical elements other than lenses
    • G02B5/20—Filters
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/0005—Production of optical devices or components in so far as characterised by the lithographic processes or materials used therefor
    • G03F7/0007—Filters, e.g. additive colour filters; Components for display devices
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004—Photosensitive materials
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004—Photosensitive materials
    • G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004—Photosensitive materials
    • G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
    • G03F7/028—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with photosensitivity-increasing substances, e.g. photoinitiators
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004—Photosensitive materials
    • G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
    • G03F7/032—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with binders
    • G03F7/033—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with binders the binders being polymers obtained by reactions only involving carbon-to-carbon unsaturated bonds, e.g. vinyl polymers
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004—Photosensitive materials
    • G03F7/038—Macromolecular compounds which are rendered insoluble or differentially wettable
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004—Photosensitive materials
    • G03F7/09—Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers
    • G03F7/105—Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers having substances, e.g. indicators, for forming visible images
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/20—Exposure; Apparatus therefor
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/26—Processing photosensitive materials; Apparatus therefor
    • G03F7/40—Treatment after imagewise removal, e.g. baking

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • Medicinal Chemistry (AREA)
  • Polymers & Plastics (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Architecture (AREA)
  • Structural Engineering (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Optical Filters (AREA)
  • Materials For Photolithography (AREA)
  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)

Abstract

산기를 갖는 구성 단위 (a) 및 고리형 에테르기를 갖는 구성 단위 (b) 를 함유하는 공중합체 (A) 와, 열 및/또는 자외선 조사에 의해 산을 발생시키는 화합물 (B) 와, 용제 (C) 와, 반응성 희석제 (D) 와, 광중합 개시제 (E) 와, 착색제 (F) 를 함유하는 컬러 필터용 감광성 수지 조성물.A copolymer (A) containing a structural unit (a) having an acid group and a structural unit (b) having a cyclic ether group, a compound (B) generating an acid by heat and/or ultraviolet irradiation, and a solvent (C ), a reactive diluent (D), a photopolymerization initiator (E), and a color filter photosensitive resin composition containing a colorant (F).

Description

컬러 필터용 감광성 수지 조성물, 컬러 필터, 화상 표시 소자 및 컬러 필터의 제조 방법Photosensitive resin composition for color filters, color filter, image display element, and manufacturing method of color filter

본 발명은, 컬러 필터용 감광성 수지 조성물, 컬러 필터, 그것을 구비하는 화상 표시 소자 및 컬러 필터의 제조 방법에 관한 것이다.The present invention relates to a photosensitive resin composition for color filters, a color filter, an image display element including the same, and a method for producing the color filter.

최근, 자원 절약이나 에너지 절약의 관점에서 각종 코팅, 인쇄, 도료, 접착제 등의 분야에 있어서, 자외선이나 전자선 등의 활성 에너지선에 의해 경화 가능한 감광성 수지 조성물이 널리 사용되고 있다. 또, 프린트 배선 기판 등의 전자 재료의 분야에 있어서도, 활성 에너지선에 의해 경화 가능한 감광성 수지 조성물이, 솔더 레지스트나 컬러 필터용 레지스트 등에 사용되고 있다. 또한, 경화 가능한 감광성 수지 조성물에 대한 요구 특성은, 점점 다양하고 정도가 높아지고 있는데, 그 중에서도, 생산성을 고려한 단시간 경화성, 적용하는 부재의 열적 데미지를 억제하는 저온 경화성이 요구되고 있다.In recent years, photosensitive resin compositions that can be cured by active energy rays such as ultraviolet rays and electron beams have been widely used in fields such as various coatings, printing, paints, and adhesives from the viewpoint of resource saving and energy saving. Moreover, also in the field of electronic materials, such as a printed wiring board, the photosensitive resin composition hardenable by an active energy ray is used for a solder resist, a resist for color filters, etc. In addition, the properties required for the curable photosensitive resin composition are increasingly diverse and the degree is increasing. Among them, short-time curability in consideration of productivity and low-temperature curability to suppress thermal damage to applied members are required.

컬러 필터는, 일반적으로, 유리 기판 등의 투명 기판과, 투명 기판 상에 형성된 적 (R), 녹 (G) 및 청 (B) 의 화소와, 화소의 경계에 형성되는 블랙 매트릭스와, 화소 및 블랙 매트릭스 상에 형성되는 보호막으로 구성된다. 이와 같은 구성을 갖는 컬러 필터는, 통상적으로, 투명 기판 상에 블랙 매트릭스, 화소 및 보호막을 순차 형성함으로써 제조된다. 화소 및 블랙 매트릭스 (이하, 화소 및 블랙 매트릭스를「착색 패턴」이라고 한다) 의 형성 방법으로는, 여러 가지 방법이 제안되어 있다. 그 중에서, 감광성 수지 조성물을 레지스트로서 사용하여, 도포, 노광, 현상 및 베이킹을 반복하는 포토리소그래피 공법으로 제조되는 안료/염료 분산법은, 내구성이 우수하고, 핀홀 등의 결함이 적은 착색 패턴을 부여하기 때문에, 현재의 주류가 되고 있다.A color filter generally includes a transparent substrate such as a glass substrate, red (R), green (G), and blue (B) pixels formed on the transparent substrate, a black matrix formed on the boundary between the pixels, and pixels and It is composed of a protective film formed on the black matrix. A color filter having such a configuration is usually manufactured by sequentially forming a black matrix, pixels, and a protective film on a transparent substrate. As a method of forming the pixels and the black matrix (hereinafter, the pixels and the black matrix are referred to as "coloring patterns"), various methods have been proposed. Among them, a pigment/dye dispersion method produced by a photolithography method using a photosensitive resin composition as a resist and repeating application, exposure, development, and baking provides a coloring pattern with excellent durability and fewer defects such as pinholes. Because of that, it has become the current mainstream.

일반적으로, 포토리소그래피 공법에 사용되는 감광성 수지 조성물은, 알칼리 가용성 수지, 반응성 희석제, 광중합 개시제, 착색제 및 용제를 함유한다. 안료/염료 분산법에서는, 상기의 이점을 갖고 있는 반면, 블랙 매트릭스, R, G, B 의 패턴을 반복 형성하는 점에서 높은 내열성이 요구되고, 높은 베이킹 온도에 견딜 수 있는 착색제로서 사용할 수 있는 착색제의 종류가 한정되는 등의 제한이 있는 것이 종종 문제가 된다.Generally, the photosensitive resin composition used in the photolithography method contains an alkali-soluble resin, a reactive diluent, a photopolymerization initiator, a colorant and a solvent. In the pigment/dye dispersion method, while having the above advantages, high heat resistance is required in terms of repeatedly forming black matrix, R, G, and B patterns, and it is a colorant that can be used as a colorant that can withstand high baking temperatures. It is often a problem that there are limitations such as the limited types of

특허문헌 1 은, 알칼리 가용성 수지, 에틸렌성 불포화 결합을 갖는 중합성 화합물, 감방사선성 중합 개시제, 착색제 및 3-아미노벤젠술폰산에틸 등의 화합물을 사용함으로써, 저온 경화가 가능하고 보존 안정성을 향상시킨 착색 조성물을 개시하고 있다.Patent Document 1 is an alkali-soluble resin, a polymerizable compound having an ethylenically unsaturated bond, a radiation-sensitive polymerization initiator, a colorant, and a compound such as ethyl 3-aminobenzenesulfonate, which enables low-temperature curing and improves storage stability. A coloring composition is disclosed.

특허문헌 2 는, 염기성 물질에 의해 또는 염기성 물질의 존재하에서의 가열에 의해 최종 생성물에 대한 반응이 촉진되는 고분자 전구체와, 전자파의 조사 및 가열에 의해 염기를 발생시키는 특정한 염기 발생제를 함유하는 감광성 수지 조성물을 사용함으로써 저온 경화를 가능하게 하고 있다.Patent Literature 2 is a photosensitive resin containing a polymer precursor whose reaction to a final product is accelerated by heating with or in the presence of a basic substance, and a specific base generator that generates a base by irradiation with electromagnetic waves and heating. Low-temperature hardening is made possible by using a composition.

일본 공개특허공보 2013-68843호Japanese Unexamined Patent Publication No. 2013-68843 일본 공개특허공보 2014-70148호Japanese Unexamined Patent Publication No. 2014-70148

최근에는, 전자 페이퍼 등의 플렉시블 디스플레이가 보급되고 있다. 이 플렉시블 디스플레이의 기판으로는, 폴리에틸렌테레프탈레이트 등의 플라스틱 기판이 검토되고 있다. 이 기판은 베이킹시에 신장 또는 수축하는 성질이 있어, 베이킹 공정의 저온화가 필요로 되고 있다. 그러나, 특허문헌 1 에서 달성되는 레벨로는, 상기의 요구를 만족시키기에는 불충분하다. 또, 특허문헌 2 에서는, 저온 경화성을 향상시킨 반면, 보존 안정성이 낮아 실용화는 곤란하다.In recent years, flexible displays such as electronic paper have spread. As a substrate of this flexible display, plastic substrates such as polyethylene terephthalate are being studied. This substrate has a property of elongation or contraction during baking, and a lower temperature in the baking process is required. However, the level achieved in Patent Literature 1 is insufficient to satisfy the above requirements. Further, in Patent Literature 2, low-temperature curability is improved, but storage stability is low, making practical use difficult.

본 발명은, 상기의 과제를 해결하기 위해 이루어진 것으로, 현상성 및 보존 안정성이 양호함과 함께, 100 ℃ 전후의 저온에서 경화시켜도 내용제성이 우수한 착색 패턴을 부여하는 컬러 필터용 감광성 수지 조성물, 및 그 감광성 수지 조성물의 조제에 유용한 공중합체를 제공하는 것을 목적으로 한다.The present invention has been made to solve the above problems, and while having good developability and storage stability, a photosensitive resin composition for color filters that imparts a colored pattern excellent in solvent resistance even when cured at a low temperature of around 100 ° C., and It aims at providing a copolymer useful for preparation of the photosensitive resin composition.

또, 본 발명은, 내용제성이 우수한 착색 패턴을 갖는 컬러 필터 및 그 제조 방법 그리고 그 컬러 필터를 구비하는 화상 표시 소자를 제공하는 것을 목적으로 한다.Moreover, an object of this invention is to provide the color filter which has a coloring pattern excellent in solvent resistance, its manufacturing method, and the image display element provided with the color filter.

즉, 본 발명은, 이하의 [1] ∼ [16] 으로 나타낸다.That is, this invention is represented by the following [1] - [16].

[1] 산기를 갖는 구성 단위 (a) 및 고리형 에테르기를 갖는 구성 단위 (b) 를 함유하는 공중합체 (A) 와, 열 및/또는 자외선 조사에 의해 산을 발생시키는 화합물 (B) 와, 용제 (C) 와, 반응성 희석제 (D) 와, 광중합 개시제 (E) 와, 착색제 (F) 를 함유하는 것을 특징으로 하는 컬러 필터용 감광성 수지 조성물.[1] a copolymer (A) containing a structural unit (a) having an acid group and a structural unit (b) having a cyclic ether group, and a compound (B) that generates an acid by heat and/or ultraviolet irradiation; The photosensitive resin composition for color filters characterized by containing a solvent (C), a reactive diluent (D), a photoinitiator (E), and a colorant (F).

[2] 상기 산기를 갖는 구성 단위 (a) 가, 카르복시기 함유 에틸렌성 불포화 화합물 유래의 구성 단위인 [1] 에 기재된 컬러 필터용 감광성 수지 조성물.[2] The photosensitive resin composition for color filters according to [1], wherein the structural unit (a) having an acid group is a structural unit derived from a carboxyl group-containing ethylenically unsaturated compound.

[3] 상기 고리형 에테르기를 갖는 구성 단위 (b) 가, 에폭시기 함유 (메트)아크릴레이트 및 옥세타닐기 함유 (메트)아크릴레이트로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 종 유래의 구성 단위인 [1] 또는 [2] 에 기재된 컬러 필터용 감광성 수지 조성물.[3] The structural unit (b) having a cyclic ether group is a structural unit derived from at least one selected from the group consisting of epoxy group-containing (meth)acrylates and oxetanyl group-containing (meth)acrylates [1] Or the photosensitive resin composition for color filters as described in [2].

[4] 상기 공중합체 (A) 에 함유되는 상기 산기를 갖는 구성 단위 (a) 의 비율이 5 몰％ ∼ 40 몰％ 이고, 또한 상기 고리형 에테르기를 갖는 구성 단위 (b) 의 비율이 60 몰％ ∼ 95 몰％ 인 [1] ∼ [3] 중 어느 하나에 기재된 컬러 필터용 감광성 수지 조성물.[4] The ratio of the constituent unit (a) having the acid group contained in the copolymer (A) is 5 mol% to 40 mol%, and the ratio of the constituent unit (b) having the cyclic ether group is 60 mol The photosensitive resin composition for color filters according to any one of [1] to [3], which is % to 95 mol%.

[5] 상기 공중합체 (A) 가, 에틸렌성 불포화기를 갖는 라디칼 중합성 화합물에서 유래하는 구성 단위 (c) 를 추가로 함유하는 [1] ∼ [3] 중 어느 하나에 기재된 컬러 필터용 감광성 수지 조성물.[5] The photosensitive resin for color filters according to any one of [1] to [3], wherein the copolymer (A) further contains a structural unit (c) derived from a radically polymerizable compound having an ethylenically unsaturated group. composition.

[6] 상기 공중합체 (A) 에 함유되는 상기 산기를 갖는 구성 단위 (a) 의 비율이 5 몰％ ∼ 60 몰％ 이고, 상기 고리형 에테르기를 갖는 구성 단위 (b) 의 비율이 5 몰％ ∼ 70 몰％ 이고, 또한 상기 에틸렌성 불포화기를 갖는 라디칼 중합성 화합물에서 유래하는 구성 단위 (c) 의 비율이 0 몰％ 초과 ∼ 80 몰％ 인 [5] 에 기재된 컬러 필터용 감광성 수지 조성물.[6] The ratio of the constituent unit (a) having an acid group contained in the copolymer (A) is 5 mol% to 60 mol%, and the ratio of the constituent unit (b) having the cyclic ether group is 5 mol% -70 mol%, and the ratio of the structural unit (c) derived from the radically polymerizable compound having the above-mentioned ethylenically unsaturated group is more than 0 mol% - 80 mol%, the photosensitive resin composition for color filters according to [5].

[7] 상기 산기를 갖는 구성 단위 (a) 의 산기가, 카르복시기인 [1] ∼ [6] 중 어느 하나에 기재된 컬러 필터용 감광성 수지 조성물.[7] The photosensitive resin composition for color filters according to any one of [1] to [6], wherein the acidic group of the structural unit (a) having an acidic group is a carboxy group.

[8] 상기 고리형 에테르기를 갖는 구성 단위 (b) 의 고리형 에테르기가, 에폭시기 및 옥세타닐기로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 종인 [1] ∼ [7] 중 어느 하나에 기재된 컬러 필터용 감광성 수지 조성물.[8] The photosensitivity for a color filter according to any one of [1] to [7], wherein the cyclic ether group of the structural unit (b) having a cyclic ether group is at least one selected from the group consisting of an epoxy group and an oxetanyl group. resin composition.

[9] 상기 열 및/또는 자외선 조사에 의해 산을 발생시키는 화합물 (B) 가, 상기 공중합체 (A) 를 합성할 때에 사용한 상기 고리형 에테르기를 갖는 구성 단위 (b) 를 부여하는 중합성 모노머 100 질량부에 대해, 0.05 질량부 ∼ 20 질량부인 [1] ∼ [8] 중 어느 하나에 기재된 컬러 필터용 감광성 수지 조성물.[9] A polymerizable monomer that gives the structural unit (b) having the cyclic ether group used when the compound (B) that generates an acid by heat and/or ultraviolet irradiation synthesizes the copolymer (A) The photosensitive resin composition for color filters in any one of [1]-[8] which is 0.05 mass part - 20 mass parts with respect to 100 mass parts.

[10] 상기 열 및/또는 자외선 조사에 의해 산을 발생시키는 화합물 (B) 가, 술포늄염인 [1] ∼ [9] 중 어느 하나에 기재된 컬러 필터용 감광성 수지 조성물.[10] The photosensitive resin composition for color filters according to any one of [1] to [9], wherein the compound (B) that generates an acid by heat and/or ultraviolet irradiation is a sulfonium salt.

[11] 상기 공중합체 (A) 의 중량 평균 분자량이 1,000 ∼ 50,000 이고 또한 산가가 20 ∼ 300 KOH㎎/g 인 [1] ∼ [10] 중 어느 하나에 기재된 컬러 필터용 감광성 수지 조성물.[11] The photosensitive resin composition for color filters according to any one of [1] to [10], wherein the copolymer (A) has a weight average molecular weight of 1,000 to 50,000 and an acid value of 20 to 300 KOHmg/g.

[12] 상기 착색제 (F) 가, 안료를 함유하는 [1] ∼ [11] 중 어느 하나에 기재된 컬러 필터용 감광성 수지 조성물.[12] The photosensitive resin composition for color filters according to any one of [1] to [11], wherein the coloring agent (F) contains a pigment.

[13] 상기 컬러 필터용 감광성 수지 조성물 중의 상기 용제 (C) 를 제외한 성분의 총합을 100 질량％ 로 했을 때에, 상기 공중합체 (A) 와 상기 열 및/또는 자외선 조사에 의해 산을 발생시키는 화합물 (B) 의 총합이 1 질량％ ∼ 50 질량％, 상기 반응성 희석제 (D) 가 1 질량％ ∼ 60 질량％, 상기 광중합 개시제 (E) 가 0.01 질량％ ∼ 15 질량％, 상기 착색제 (F) 가 20 질량％ ∼ 80 질량％ 이고, 상기 컬러 필터용 감광성 수지 조성물 중의 상기 용제 (C) 를 제외한 성분의 총합을 100 질량부로 했을 때에, 상기 용제 (C) 가 10 질량부 ∼ 800 질량부인 [1] ∼ [12] 중 어느 하나에 기재된 컬러 필터용 감광성 수지 조성물.[13] The copolymer (A) and a compound that generates an acid by heat and/or ultraviolet irradiation when the total of components except the solvent (C) in the photosensitive resin composition for color filters is 100% by mass The total of (B) is 1 mass% to 50 mass%, the reactive diluent (D) is 1 mass% to 60 mass%, the photopolymerization initiator (E) is 0.01 mass% to 15 mass%, the coloring agent (F) is 20% by mass to 80% by mass, and the solvent (C) is 10 parts by mass to 800 parts by mass, when the total of components except the solvent (C) in the photosensitive resin composition for color filters is 100 parts by mass [1] - The photosensitive resin composition for color filters in any one of [12].

[14] [1] ∼ [13] 중 어느 하나에 기재된 컬러 필터용 감광성 수지 조성물의 경화물로 이루어지는 착색 패턴을 갖는 것을 특징으로 하는 컬러 필터.[14] A color filter characterized by having a color pattern comprising a cured product of the photosensitive resin composition for color filters according to any one of [1] to [13].

[15] [14] 에 기재된 컬러 필터를 구비하는 것을 특징으로 하는 화상 표시 소자.[15] An image display element characterized by comprising the color filter according to [14].

[16] [1] ∼ [13] 중 어느 하나에 기재된 컬러 필터용 감광성 수지 조성물을 기판에 도포하고, 노광하고, 알칼리 현상한 후, 150 ℃ 이하의 온도에서 베이킹하여 착색 패턴을 형성하는 공정을 포함하는 것을 특징으로 하는 컬러 필터의 제조 방법.[16] A step of forming a colored pattern by applying the photosensitive resin composition for a color filter according to any one of [1] to [13] to a substrate, exposing, alkali developing, and baking at a temperature of 150 ° C. or less A method for manufacturing a color filter comprising:

본 발명에 의하면, 현상성 및 보존 안정성이 양호함과 함께, 100 ℃ 전후의 저온에서 경화시켜도 내용제성이 우수한 착색 패턴을 부여하는 컬러 필터용 감광성 수지 조성물, 및 그 감광성 수지 조성물의 조제에 유용한 공중합체를 제공할 수 있다.According to the present invention, a photosensitive resin composition for a color filter that has good developability and storage stability and imparts a colored pattern having excellent solvent resistance even when cured at a low temperature of around 100 ° C., and air useful for preparing the photosensitive resin composition synthesis can be provided.

또, 본 발명에 의하면, 내용제성이 우수한 착색 패턴을 갖는 컬러 필터 및 그 제조 방법 그리고 그 컬러 필터를 구비하는 화상 표시 소자를 제공할 수 있다.Moreover, according to this invention, the color filter which has a coloring pattern excellent in solvent resistance, its manufacturing method, and the image display element provided with the color filter can be provided.

＜컬러 필터용 감광성 수지 조성물＞<Photosensitive resin composition for color filters>

본 발명의 컬러 필터용 감광성 수지 조성물은, 산기를 갖는 구성 단위 (a) 및 고리형 에테르기를 갖는 구성 단위 (b) 를 함유하는 공중합체 (A) 와, 열 및/또는 자외선 조사에 의해 산을 발생시키는 화합물 (B) 와, 용제 (C) 와, 반응성 희석제 (D) 와, 광중합 개시제 (E) 와, 착색제 (F) 를 함유한다.The photosensitive resin composition for color filters of the present invention comprises a copolymer (A) containing a structural unit (a) having an acid group and a structural unit (b) having a cyclic ether group, and an acid by heat and/or ultraviolet irradiation. It contains a compound (B) to generate, a solvent (C), a reactive diluent (D), a photopolymerization initiator (E), and a colorant (F).

＜공중합체 (A)＞<Copolymer (A)>

＜산기를 갖는 구성 단위 (a)＞<Structural unit (a) having an acid group>

공중합체 (A) 에 함유되는 산기를 갖는 구성 단위 (a) 는, 산기 함유 중합성 모노머 유래의 구성 단위이다. 산기로는, 카르복시기 (-COOH), 포스포기 (-PO(OH)2), 술포기 (-SO3H) 등을 들 수 있다. 이들 중에서도, 원료 입수의 용이성이나 컬러 필터 제조에 사용할 때의 내용제성의 관점에서 카르복시기가 바람직하다. 산기를 갖는 구성 단위 (a) 를 부여하는 중합성 모노머로는, 예를 들어, (메트)아크릴산, 크로톤산, 신남산, 비닐술폰산, 2-(메트)아크릴로일옥시에틸숙신산, 2-(메트)아크릴로일옥시에틸프탈산, 2-(메트)아크릴로일옥시에틸헥사하이드로프탈산, 2-(메트)아크릴로일옥시에틸애시드포스페이트 등의 카르복시기 함유 에틸렌성 불포화 화합물을 들 수 있다. 이들 중합성 모노머는, 단독으로 사용해도 되고, 2 종 이상을 조합하여 사용해도 된다. 이들 중에서도, 입수의 용이성 및 반응성의 관점에서 (메트)아크릴산이 바람직하다. 또한, 구성 단위는 모노머 단위라고도 한다.The structural unit (a) having an acidic radical contained in the copolymer (A) is a structural unit derived from an acidic radical-containing polymerizable monomer. As an acid group, a carboxy group (-COOH), a phospho group (-PO(OH) 2 ), a sulfo group (-SO 3 H), etc. are mentioned. Among these, the carboxy group is preferable from the viewpoint of the ease of obtaining raw materials and the solvent resistance at the time of use in color filter production. Examples of the polymerizable monomer giving the structural unit (a) having an acid group include (meth)acrylic acid, crotonic acid, cinnamic acid, vinylsulfonic acid, 2-(meth)acryloyloxyethylsuccinic acid, and 2-( Carboxy group-containing ethylenically unsaturated compounds, such as meth)acryloyloxyethyl phthalic acid, 2-(meth)acryloyloxyethyl hexahydrophthalic acid, and 2-(meth)acryloyloxyethyl acid phosphate, are mentioned. These polymerizable monomers may be used alone or in combination of two or more. Among these, (meth)acrylic acid is preferable from the viewpoint of availability and reactivity. In addition, a structural unit is also called a monomer unit.

본 발명에서는, 산기를 갖는 구성 단위 (a) 가 공중합체 (A) 에 함유됨으로써, 공중합체 (A) 를 감광성 재료로서 사용할 때의 알칼리 현상성이 크게 개선된다.In the present invention, when the copolymer (A) contains the structural unit (a) having an acid group, the alkali developability at the time of using the copolymer (A) as a photosensitive material is greatly improved.

공중합체 (A) 가 산기를 갖는 구성 단위 (a) 및 고리형 에테르기를 갖는 구성 단위 (b) 로 이루어지는 경우, 공중합체 (A) 에 함유되는 산기를 갖는 구성 단위 (a) 의 비율은, 바람직하게는 5 몰％ ∼ 40 몰％, 보다 바람직하게는 10 몰％ ∼ 35 몰％, 가장 바람직하게는 15 몰％ ∼ 30 몰％ 이다. 산기를 갖는 구성 단위 (a) 의 비율이 5 몰％ ∼ 40 몰％ 이면, 적당한 알칼리 현상의 속도가 되어, 정밀한 착색 패턴의 형성이 가능해진다.When the copolymer (A) is composed of the structural unit (a) having an acid group and the structural unit (b) having a cyclic ether group, the ratio of the structural unit (a) having an acid group contained in the copolymer (A) is preferably Preferably it is 5 mol% to 40 mol%, more preferably 10 mol% to 35 mol%, and most preferably 15 mol% to 30 mol%. When the ratio of the structural unit (a) having an acid group is 5 mol% to 40 mol%, an appropriate alkali development rate is achieved, and formation of a precise coloring pattern becomes possible.

공중합체 (A) 가 후술하는 그 밖의 구성 단위 (c) 를 추가로 함유하는 경우, 공중합체 (A) 에 함유되는 산기를 갖는 구성 단위 (a) 의 비율은, 바람직하게는 5 몰％ ∼ 60 몰％, 보다 바람직하게는 8 몰％ ∼ 50 몰％, 가장 바람직하게는 10 몰％ ∼ 40 몰％ 이다. 산기를 갖는 구성 단위 (a) 의 비율이 5 몰％ ∼ 60 몰％ 이면, 적당한 알칼리 현상의 속도가 되어, 정밀한 착색 패턴의 형성이 가능해진다.When the copolymer (A) further contains other structural units (c) described later, the ratio of the structural units (a) having acid groups contained in the copolymer (A) is preferably 5 mol% to 60 mol%, more preferably 8 mol% to 50 mol%, and most preferably 10 mol% to 40 mol%. When the ratio of the structural unit (a) having an acid group is 5 mol% to 60 mol%, an appropriate alkali development rate is achieved, and formation of a precise coloring pattern becomes possible.

＜고리형 에테르기를 갖는 구성 단위 (b)＞<Structural unit (b) having a cyclic ether group>

공중합체 (A) 에 함유되는 고리형 에테르기를 갖는 구성 단위 (b) 는, 고리형 에테르기 함유 중합성 모노머 유래의 구성 단위이다 (단, 상기 산기를 갖는 구성 단위 (a) 에 해당하는 것은 제외한다). 고리형 에테르기로는, 에폭시기, 옥세타닐기 등을 들 수 있다. 에폭시기를 함유하는 중합성 모노머의 구체예로는, 글리시딜(메트)아크릴레이트, 지환식 에폭시기를 갖는 3,4-에폭시시클로헥실메틸(메트)아크릴레이트 및 그 락톤 부가물 (예를 들어, 주식회사 다이셀 제조 사이클로머 (등록상표) A200, M100), 3,4-에폭시시클로헥실메틸-3',4'-에폭시시클로헥산카르복실레이트의 모노(메트)아크릴산에스테르, 디시클로펜테닐(메트)아크릴레이트의 에폭시화물, 디시클로펜테닐옥시에틸(메트)아크릴레이트의 에폭시화물 등을 들 수 있다. 이들 중에서도, 입수의 용이성 및 반응성의 관점에서, 에폭시기 함유 (메트)아크릴레이트가 바람직하고, 글리시딜(메트)아크릴레이트가 보다 바람직하다. 또, 옥세타닐기를 갖는 중합성 모노머의 구체예로는, (3-에틸옥세탄-3-일)메틸(메트)아크릴레이트, 4-[3-(3-에틸옥세탄-3-일메톡시)프로폭시]스티렌, 4-[6-(3-에틸옥세탄-3-일메톡시)헥실옥시]스티렌, 4-[5-(3-에틸옥세탄-3-일메톡시)펜틸옥시]스티렌, 2-비닐-2-메틸옥세탄 등을 들 수 있다. 이들 중에서도, 입수의 용이성 및 반응성의 관점에서, 옥세타닐기 함유 (메트)아크릴레이트가 바람직하고, (3-에틸옥세탄-3-일)메틸(메트)아크릴레이트가 보다 바람직하다. 이들 중합성 모노머는, 단독으로 사용해도 되고, 2 종 이상을 조합하여 사용해도 된다.The structural unit (b) having a cyclic ether group contained in the copolymer (A) is a structural unit derived from a polymerizable monomer containing a cyclic ether group (except for the structural unit (a) having an acid group) do). As a cyclic ether group, an epoxy group, an oxetanyl group, etc. are mentioned. Specific examples of the polymerizable monomer containing an epoxy group include glycidyl (meth) acrylate, 3,4-epoxycyclohexylmethyl (meth) acrylate having an alicyclic epoxy group, and its lactone adducts (eg, Cyclomer (registered trademark) A200, M100 manufactured by Daicel Co., Ltd.), mono(meth)acrylic acid ester of 3,4-epoxycyclohexylmethyl-3',4'-epoxycyclohexanecarboxylate, dicyclopentenyl (meth) ) epoxidized product of acrylate, epoxidized product of dicyclopentenyloxyethyl (meth)acrylate, and the like. Among these, from the viewpoint of availability and reactivity, epoxy group-containing (meth)acrylates are preferred, and glycidyl (meth)acrylates are more preferred. Moreover, specific examples of the polymerizable monomer having an oxetanyl group include (3-ethyloxetan-3-yl)methyl (meth)acrylate and 4-[3-(3-ethyloxetan-3-ylmethoxy). )propoxy]styrene, 4-[6-(3-ethyloxetan-3-ylmethoxy)hexyloxy]styrene, 4-[5-(3-ethyloxetan-3-ylmethoxy)pentyloxy]styrene , 2-vinyl-2-methyloxetane, etc. are mentioned. Among these, from the viewpoint of availability and reactivity, oxetanyl group-containing (meth)acrylate is preferred, and (3-ethyloxetan-3-yl)methyl (meth)acrylate is more preferred. These polymerizable monomers may be used alone or in combination of two or more.

본 발명에서는, 고리형 에테르기를 갖는 구성 단위 (b) 가 공중합체 (A) 에 함유됨으로써, 공중합체 (A) 를 감광성 재료로서 사용할 때의 내용제성이 크게 개선된다.In the present invention, when the copolymer (A) contains the structural unit (b) having a cyclic ether group, the solvent resistance when the copolymer (A) is used as a photosensitive material is greatly improved.

공중합체 (A) 가 산기를 갖는 구성 단위 (a) 및 고리형 에테르기를 갖는 구성 단위 (b) 로 이루어지는 경우, 공중합체 (A) 에 함유되는 고리형 에테르기를 갖는 구성 단위 (b) 의 비율은, 바람직하게는 60 몰％ ∼ 95 몰％, 보다 바람직하게는 65 몰％ ∼ 90 몰％, 가장 바람직하게는 70 몰％ ∼ 85 몰％ 이다. 고리형 에테르기를 갖는 구성 단위 (b) 의 비율이 60 몰％ ∼ 95 몰％ 이면, 경화 도막의 내용제성과 공중합체 (A) 의 보존 안정성이 양립된다.When the copolymer (A) is composed of the structural unit (a) having an acid group and the structural unit (b) having a cyclic ether group, the proportion of the structural unit (b) having a cyclic ether group contained in the copolymer (A) is , Preferably they are 60 mol% - 95 mol%, More preferably, they are 65 mol% - 90 mol%, Most preferably, they are 70 mol% - 85 mol%. When the ratio of the structural unit (b) having a cyclic ether group is 60 mol% to 95 mol%, the solvent resistance of the cured coating film and the storage stability of the copolymer (A) are compatible.

공중합체 (A) 가 후술하는 그 밖의 구성 단위 (c) 를 추가로 함유하는 경우, 공중합체 (A) 에 함유되는 고리형 에테르기를 갖는 구성 단위 (b) 의 비율은, 바람직하게는 5 몰％ ∼ 70 몰％, 보다 바람직하게는 8 몰％ ∼ 60 몰％, 가장 바람직하게는 10 몰％ ∼ 50 몰％ 이다. 고리형 에테르기를 갖는 구성 단위 (b) 의 비율이 5 몰％ ∼ 70 몰％ 이면, 경화 도막의 내용제성과 공중합체 (A) 의 보존 안정성이 양립된다.When the copolymer (A) further contains other structural units (c) described later, the ratio of the structural unit (b) having a cyclic ether group contained in the copolymer (A) is preferably 5 mol%. to 70 mol%, more preferably 8 mol% to 60 mol%, and most preferably 10 mol% to 50 mol%. When the ratio of the structural unit (b) having a cyclic ether group is 5 mol% to 70 mol%, the solvent resistance of the cured coating film and the storage stability of the copolymer (A) are compatible.

＜그 밖의 구성 단위 (c)＞<Other structural units (c)>

본 발명에서는, 공중합체 (A) 는, 산기를 갖는 구성 단위 (a) 및 고리형 에테르기를 갖는 구성 단위 (b) 이외의 구성 단위 (c) (단, 상기 산기를 갖는 구성 단위 (a) 및 상기 고리형 에테르기를 갖는 구성 단위 (b) 에 해당하는 것은 제외한다) 를 함유하는 것도 가능하다. 그 밖의 구성 단위 (c) 를 부여하는 중합성 모노머는, 일반적으로, 에틸렌성 불포화기를 갖는 라디칼 중합성 화합물이며, 그 예로는, 부타디엔등의 디엔류 ; 메틸(메트)아크릴레이트, 에틸(메트)아크릴레이트, n-프로필(메트)아크릴레이트, 이소프로필(메트)아크릴레이트, n-부틸(메트)아크릴레이트, 벤질(메트)아크릴레이트, 이소아밀(메트)아크릴레이트, 2-에틸헥실(메트)아크릴레이트, 라우릴(메트)아크릴레이트, 도데실(메트)아크릴레이트, 시클로헥실(메트)아크릴레이트, 1,4-시클로헥산디메탄올모노(메트)아크릴레이트, 로진(메트)아크릴레이트, 노르보르닐(메트)아크릴레이트, 알릴(메트)아크릴레이트, 테트라하이드로푸르푸릴(메트)아크릴레이트, 1,1,1-트리플루오로에틸(메트)아크릴레이트, 퍼플루오로에틸(메트)아크릴레이트, 트리페닐메틸(메트)아크릴레이트, 쿠밀(메트)아크릴레이트, 3-(N,N-디메틸아미노)프로필(메트)아크릴레이트, 글리세롤모노(메트)아크릴레이트, 부탄트리올모노(메트)아크릴레이트, 디시클로펜타닐(메트)아크릴레이트, 이소보르닐(메트)아크릴레이트, 아다만틸(메트)아크릴레이트, 나프탈렌(메트)아크릴레이트, 안트라센(메트)아크릴레이트 등의 (메트)아크릴산에스테르류 ; 노르보르넨(비시클로[2.2.1]헵트-2-엔), 5-메틸비시클로[2.2.1]헵트-2-엔, 테트라시클로[4.4.0.12,5.17,10]도데카-3-엔, 디시클로펜타디엔, 트리시클로[5.2.1.02,6]데카-8-엔, 테트라시클로[4.4.0.12,5.17,10.01,6]도데카-3-엔, 펜타시클로[6.5.1.13,6.02,7.09,13]펜타데카-4-엔, 5-노르보르넨-2,3-디카르복실산, 5-노르보르넨-2,3-디카르복실산 무수물, (메트)아크릴산아미드, (메트)아크릴산N,N-디메틸아미드, (메트)아크릴산안트라세닐아미드, N-이소프로필(메트)아크릴아미드, (메트)아크릴모르폴린, 다이아세톤(메트)아크릴아미드 등의 (메트)아크릴산아미드, ; (메트)아크릴산아닐리드, (메트)아크릴로일니트릴, 아크롤레인, 염화비닐, 염화비닐리덴, 불화비닐, N-비닐피롤리돈, 비닐피리딘, 아세트산비닐, 비닐톨루엔 등의 비닐 화합물 ; 스티렌, 스티렌의 α-, o-, m-, p-알킬, 니트로, 시아노, 아미드 유도체 ; 시트라콘산디에틸, 말레산디에틸, 푸마르산디에틸, 이타콘산디에틸 등의 불포화 디카르복실산디에스테르 ; N-페닐말레이미드, N-시클로헥실말레이미드, N-라우릴말레이미드, N-(4-하이드록시페닐)말레이미드 등의 모노말레이미드류 ; 무수 말레산, 무수 이타콘산 등의 불포화 다염기산 무수물을 들 수 있다. 이들 에틸렌성 불포화기를 갖는 라디칼 중합성 화합물은, 단독으로 사용해도 되고, 2 종 이상을 조합하여 사용해도 된다. 이들 중에서도, 내열성 및 투명성의 관점에서, 메틸(메트)아크릴레이트, 벤질(메트)아크릴레이트, 디시클로펜타닐(메트)아크릴레이트, 스티렌, 비닐톨루엔, 이소보르닐(메트)아크릴레이트, 아다만틸(메트)아크릴레이트, 노르보르넨, N-이소프로필(메트)아크릴아미드, (메트)아크릴모르폴린 및 다이아세톤(메트)아크릴아미드가 바람직하고, 메틸(메트)아크릴레이트, 벤질(메트)아크릴레이트, 디시클로펜타닐(메트)아크릴레이트, 스티렌, 비닐톨루엔, 이소보르닐(메트)아크릴레이트, 아다만틸(메트)아크릴레이트 및 노르보르넨이 보다 바람직하다.In the present invention, the copolymer (A) is a structural unit (c) other than the structural unit (a) having an acid group and the structural unit (b) having a cyclic ether group (provided that the structural unit (a) and It is also possible to contain a structural unit having a cyclic ether group (excluding those corresponding to the structural unit (b)). The polymerizable monomer giving the other structural unit (c) is generally a radically polymerizable compound having an ethylenically unsaturated group, and examples thereof include dienes such as butadiene; Methyl (meth)acrylate, ethyl (meth)acrylate, n-propyl (meth)acrylate, isopropyl (meth)acrylate, n-butyl (meth)acrylate, benzyl (meth)acrylate, isoamyl ( meth)acrylate, 2-ethylhexyl(meth)acrylate, lauryl(meth)acrylate, dodecyl(meth)acrylate, cyclohexyl(meth)acrylate, 1,4-cyclohexanedimethanol mono(meth)acrylate )acrylate, rosin (meth)acrylate, norbornyl (meth)acrylate, allyl (meth)acrylate, tetrahydrofurfuryl (meth)acrylate, 1,1,1-trifluoroethyl (meth) Acrylate, perfluoroethyl (meth)acrylate, triphenylmethyl (meth)acrylate, cumyl (meth)acrylate, 3-(N,N-dimethylamino)propyl (meth)acrylate, glycerol mono(meth)acrylate )Acrylate, butanetriolmono(meth)acrylate, dicyclopentanyl(meth)acrylate, isobornyl(meth)acrylate, adamantyl(meth)acrylate, naphthalene(meth)acrylate, anthracene( (meth)acrylic acid esters such as meth)acrylate; Norbornene (bicyclo[2.2.1]hept-2-ene), 5-methylbicyclo[2.2.1]hept-2-ene, tetracyclo[4.4.0.1 2,5.1 7,10 ]dodecyl car-3-ene, dicyclopentadiene, tricyclo[5.2.1.0 2,6 ]deca-8-ene, tetracyclo[4.4.0.1 2,5.1 7,10.0 1,6 ]dodeca- 3-ene, pentacyclo[6.5.1.1 3,6 .0 2,7 .0 9,13 ]pentadeca-4-ene, 5-norbornene-2,3-dicarboxylic acid, 5-norbor Nene-2,3-dicarboxylic acid anhydride, (meth)acrylic acid amide, (meth)acrylic acid N,N-dimethylamide, (meth)acrylic acid anthracenylamide, N-isopropyl (meth)acrylamide, (meth) (meth)acrylic acid amides such as acrylmorpholine and diacetone (meth)acrylamide; vinyl compounds such as (meth)acrylic acid anilide, (meth)acryloylnitrile, acrolein, vinyl chloride, vinylidene chloride, vinyl fluoride, N-vinylpyrrolidone, vinylpyridine, vinyl acetate, and vinyltoluene; α-, o-, m-, p-alkyl, nitro, cyano, and amide derivatives of styrene and styrene; Unsaturated dicarboxylic acid diesters, such as diethyl citraconic acid, diethyl maleate, diethyl fumarate, and diethyl itaconate; Monomaleimides, such as N-phenyl maleimide, N-cyclohexyl maleimide, N-lauryl maleimide, and N-(4-hydroxyphenyl) maleimide; and unsaturated polybasic acid anhydrides such as maleic anhydride and itaconic anhydride. These radically polymerizable compounds having an ethylenically unsaturated group may be used alone or in combination of two or more. Among these, from the viewpoint of heat resistance and transparency, methyl (meth)acrylate, benzyl (meth)acrylate, dicyclopentanyl (meth)acrylate, styrene, vinyltoluene, isobornyl (meth)acrylate, adamantyl (meth)acrylate, norbornene, N-isopropyl (meth)acrylamide, (meth)acrylmorpholine and diacetone (meth)acrylamide are preferred, methyl (meth)acrylate, benzyl (meth)acrylamide Alate, dicyclopentanyl (meth)acrylate, styrene, vinyltoluene, isobornyl (meth)acrylate, adamantyl (meth)acrylate and norbornene are more preferred.

공중합체 (A) 에 함유되는 그 밖의 구성 단위 (c) 의 비율은, 특별히 제한은 없지만, 바람직하게는 0 몰％ 초과 ∼ 80 몰％, 보다 바람직하게는 5 몰％ ∼ 70 몰％, 가장 바람직하게는 10 몰％ ∼ 60 몰％ 이다. 본 발명에서는, 그 밖의 구성 단위 (c) 는 필수는 아니지만, 그 밖의 구성 단위 (c) 가 공중합체 (A) 에 함유됨으로써, 내용제성 및 도막의 특성을 적절히 향상시킬 수 있다.The proportion of the other structural unit (c) contained in the copolymer (A) is not particularly limited, but is preferably more than 0 mol% to 80 mol%, more preferably 5 mol% to 70 mol%, most preferably Preferably, it is 10 mol% to 60 mol%. In this invention, other structural unit (c) is not essential, but solvent resistance and the characteristic of a coating film can be improved suitably by containing other structural unit (c) in copolymer (A).

또한, 본 명세서에 있어서 (메트)아크릴레이트라고 표기한 것은, 아크릴레이트 및 메타크릴레이트 중 어느 것이어도 되는 것을 의미하고 있고, 또, (메트)아크릴산이라고 표기한 것은, 아크릴산 및 메타크릴산 중 어느 것이어도 되는 것을 의미하고 있다.In addition, what is written as (meth)acrylate in this specification means that any of acrylate and methacrylate may be sufficient, and what is written as (meth)acrylic acid means either acrylic acid or methacrylic acid. It means anything can be.

＜공중합체 (A) 의 제조 방법＞<Method for producing copolymer (A)>

산기를 갖는 구성 단위 (a) 와 고리형 에테르기를 갖는 구성 단위 (b) 로 이루어지는 공중합체 (A) 의 제조시에 사용되는 산기를 갖는 구성 단위 (a) 를 부여하는 산기 함유 중합성 모노머 (a0) 및 고리형 에테르기를 갖는 구성 단위 (b) 를 부여하는 고리형 에테르기 함유 중합성 모노머 (b0) 의 비율은, 특별히 제한은 없지만, 바람직하게는 (a0) 5 몰％ ∼ 40 몰％ 및 (b0) 60 몰％ ∼ 95 몰％, 보다 바람직하게는 (a0) 10 몰％ ∼ 35 몰％ 및 (b0) 65 몰％ ∼ 90 몰％, 가장 바람직하게는 (a0) 15 몰％ ∼ 30 몰％ 및 (b0) 70 몰％ ∼ 85 몰％ 이다.An acid group-containing polymerizable monomer (a0 that gives a structural unit (a) having an acid group used in the production of a copolymer (A) composed of a structural unit (a) having an acid group and a structural unit (b) having a cyclic ether group (a0 ) and the cyclic ether group-containing polymerizable monomer (b0) giving the structural unit (b) having a cyclic ether group is not particularly limited, but is preferably 5 mol% to 40 mol% of (a0) and ( b0) 60 mol% to 95 mol%, more preferably (a0) 10 mol% to 35 mol% and (b0) 65 mol% to 90 mol%, most preferably (a0) 15 mol% to 30 mol% and (b0) 70 mol% to 85 mol%.

산기를 갖는 구성 단위 (a) 와 고리형 에테르기를 갖는 구성 단위 (b) 와 그 밖의 구성 단위 (c) 로 이루어지는 공중합체 (A) 의 제조시에 사용되는 산기를 갖는 구성 단위 (a) 를 부여하는 산기 함유 중합성 모노머 (a0), 고리형 에테르기를 갖는 구성 단위 (b) 를 부여하는 고리형 에테르기 함유 중합성 모노머 (b0) 및 그 밖의 구성 단위 (c) 를 부여하는 중합성 모노머 (c0) 의 비율은, 특별히 제한은 없지만, 바람직하게는 (a0) 5 몰％ ∼ 60 몰％, (b0) 5 몰％ ∼ 70 몰％ 및 (c0) 0 몰％ 초과 ∼ 80 몰％, 보다 바람직하게는 (a0) 8 몰％ ∼ 50 몰％, (b0) 8 몰％ ∼ 60 몰％ 및 (c0) 5 몰％ ∼ 70 몰％, 가장 바람직하게는 (a0) 10 몰％ ∼ 40 몰％, (b0) 10 몰％ ∼ 50 몰％ 및 (c0) 10 몰％ ∼ 60 몰％ 이다.A structural unit (a) having an acidic radical used in the production of a copolymer (A) composed of a structural unit (a) having an acid group, a structural unit (b) having a cyclic ether group, and other structural units (c) is given a polymerizable monomer (a0) containing an acid group having a cyclic ether group, a polymerizable monomer (b0) containing a cyclic ether group providing a structural unit (b) having a cyclic ether group, and a polymerizable monomer (c0) imparting other structural units (c) ) is not particularly limited, but is preferably (a0) 5 mol% to 60 mol%, (b0) 5 mol% to 70 mol%, and (c0) more than 0 mol% to 80 mol%, more preferably is (a0) 8 mol% to 50 mol%, (b0) 8 mol% to 60 mol% and (c0) 5 mol% to 70 mol%, most preferably (a0) 10 mol% to 40 mol%, ( b0) 10 mol% to 50 mol% and (c0) 10 mol% to 60 mol%.

산기 함유 중합성 모노머 (a0), 고리형 에테르기 함유 중합성 모노머 (b0) 및 그 밖의 구성 단위 (c) 를 부여하는 중합성 모노머 (c0) 의 공중합 반응은, 당해 기술 분야에 있어서 공지된 라디칼 중합 방법에 따라 중합 용제의 존재하 또는 부존재하에서 실시할 수 있다. 예를 들어, 이들 중합성 모노머를 원하는 바에 따라 용제에 용해시킨 후, 그 용액에 중합 개시제를 첨가하고, 50 ℃ ∼ 130 ℃ 에서 1 시간 ∼ 20 시간에 걸쳐 중합 반응을 실시하면 된다.The copolymerization reaction of the acid group-containing polymerizable monomer (a0), the cyclic ether group-containing polymerizable monomer (b0), and the polymerizable monomer (c0) that gives the other structural unit (c) is a radical known in the art. Depending on the polymerization method, polymerization can be carried out in the presence or absence of a polymerization solvent. For example, after dissolving these polymerizable monomers in a solvent as desired, a polymerization initiator may be added to the solution, followed by a polymerization reaction at 50°C to 130°C for 1 hour to 20 hours.

이 공중합 반응에 사용하는 것이 가능한 용제로는, 반응에 불활성이면 특별히 한정되지 않지만, 예를 들어, 에틸렌글리콜모노메틸에테르, 에틸렌글리콜모노에틸에테르, 디에틸렌글리콜모노메틸에테르, 디에틸렌글리콜모노에틸에테르, 디에틸렌글리콜모노-n-프로필에테르, 디에틸렌글리콜모노-n-부틸에테르, 트리에틸렌글리콜모노메틸에테르, 트리에틸렌글리콜모노에틸에테르, 프로필렌글리콜모노메틸에테르, 프로필렌글리콜모노에틸에테르, 디프로필렌글리콜모노메틸에테르, 디프로필렌글리콜모노에틸에테르, 디프로필렌글리콜모노-n-프로필에테르, 디프로필렌글리콜모노-n-부틸에테르, 트리프로필렌글리콜모노메틸에테르, 트리프로필렌글리콜모노에틸에테르 등의 (폴리)알킬렌글리콜모노알킬에테르류 ; 에틸렌글리콜모노메틸에테르아세테이트, 에틸렌글리콜모노에틸에테르아세테이트, 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트, 프로필렌글리콜모노에틸에테르아세테이트 등의 (폴리)알킬렌글리콜모노알킬에테르아세테이트류 ; 디에틸렌글리콜디메틸에테르, 디에틸렌글리콜메틸에틸에테르, 디에틸렌글리콜디에틸에테르, 테트라하이드로푸란 등의 다른 에테르류 ; 메틸에틸케톤, 시클로헥사논, 2-헵타논, 3-헵타논 등의 케톤류 ; 2-하이드록시프로피온산메틸, 2-하이드록시프로피온산에틸, 2-하이드록시-2-메틸프로피온산메틸, 2-하이드록시-2-메틸프로피온산에틸, 3-메톡시프로피온산메틸, 3-메톡시프로피온산에틸, 3-에톡시프로피온산메틸, 3-에톡시프로피온산에틸, 에톡시아세트산에틸, 하이드록시아세트산에틸, 2-하이드록시-3-메틸부티르산메틸, 3-메틸-3-메톡시부틸아세테이트, 3-메틸-3-메톡시부틸프로피오네이트, 아세트산에틸, 아세트산n-부틸, 아세트산n-프로필, 아세트산i-프로필, 아세트산n-부틸, 아세트산i-부틸, 아세트산n-아밀, 아세트산i-아밀, 프로피온산n-부틸, 부티르산에틸, 부티르산n-프로필, 부티르산i-프로필, 부티르산n-부틸, 피루브산메틸, 피루브산에틸, 피루브산n-프로필, 아세토아세트산메틸, 아세토아세트산에틸, 2-옥소부티르산에틸 등의 에스테르류 ; 톨루엔, 자일렌 등의 방향족 탄화수소류 ; N-메틸피롤리돈, N,N-디메틸포름아미드, N,N-디메틸아세트아미드 등의 카르복실산아미드류 ; 디에틸렌글리콜 등을 들 수 있다. 이들 용제는, 단독으로 사용해도 되고, 2 종 이상을 조합하여 사용해도 된다.The solvent that can be used in this copolymerization reaction is not particularly limited as long as it is inactive to the reaction, and examples thereof include ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, diethylene glycol monomethyl ether, and diethylene glycol monoethyl ether. , diethylene glycol mono-n-propyl ether, diethylene glycol mono-n-butyl ether, triethylene glycol monomethyl ether, triethylene glycol monoethyl ether, propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monoethyl ether, dipropylene glycol (Poly)alkyl such as monomethyl ether, dipropylene glycol monoethyl ether, dipropylene glycol mono-n-propyl ether, dipropylene glycol mono-n-butyl ether, tripropylene glycol monomethyl ether, and tripropylene glycol monoethyl ether len glycol monoalkyl ethers; (poly)alkylene glycol monoalkyl ether acetates such as ethylene glycol monomethyl ether acetate, ethylene glycol monoethyl ether acetate, propylene glycol monomethyl ether acetate, and propylene glycol monoethyl ether acetate; other ethers such as diethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol methyl ethyl ether, diethylene glycol diethyl ether, and tetrahydrofuran; Ketones, such as methyl ethyl ketone, cyclohexanone, 2-heptanone, and 3-heptanone; 2-hydroxymethylpropionate, 2-hydroxyethylpropionate, 2-hydroxy-2-methylmethylpropionate, 2-hydroxy-2-methylethylpropionate, 3-methoxymethylpropionate, 3-methoxyethylpropionate, 3-Ethoxymethylpropionate, 3-ethoxyethylpropionate, ethoxyacetate ethyl, hydroxyacetate ethyl, 2-hydroxy-3-methylbutyrate, 3-methyl-3-methoxybutylacetate, 3-methyl- 3-methoxybutyl propionate, ethyl acetate, n-butyl acetate, n-propyl acetate, i-propyl acetate, n-butyl acetate, i-butyl acetate, n-amyl acetate, i-amyl acetate, n-propionic acid esters such as butyl, ethyl butyrate, n-propyl butyrate, i-propyl butyrate, n-butyl butyrate, methyl pyruvate, ethyl pyruvate, n-propyl pyruvate, methyl acetoacetate, ethyl acetoacetate, and ethyl 2-oxobutyrate; Aromatic hydrocarbons, such as toluene and xylene; carboxylic acid amides such as N-methylpyrrolidone, N,N-dimethylformamide, and N,N-dimethylacetamide; Diethylene glycol etc. are mentioned. These solvents may be used individually or may be used in combination of 2 or more type.

이들 용제 중에서도, 공중합 반응이 종료된 후에 용제를 제거하지 않고 그대로 본 발명의 컬러 필터용 감광성 수지 조성물의 (C) 성분으로서 사용할 수 있다는 점에서, 에테르계 용제가 바람직하고, 프로필렌글리콜모노메틸에테르, 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트, 디에틸렌글리콜메틸에틸에테르 및 에틸렌글리콜모노메틸에테르가 보다 바람직하다.Among these solvents, from the viewpoint of being able to be used as component (C) of the photosensitive resin composition for color filters of the present invention as it is without removing the solvent after the copolymerization reaction is completed, ether solvents are preferable, and propylene glycol monomethyl ether, Propylene glycol monomethyl ether acetate, diethylene glycol methyl ethyl ether and ethylene glycol monomethyl ether are more preferred.

공중합 반응에 사용하는 용제의 양은, 특별히 한정되지 않지만, 중합성 모노머의 전체 투입량을 100 질량부로 한 경우에, 일반적으로 30 질량부 ∼ 1,000 질량부이고, 바람직하게는 50 질량부 ∼ 800 질량부이다. 특히, 용제의 양을 1,000 질량부 이하로 함으로써, 연쇄 이동 작용에 의한 공중합체 (A) 의 분자량의 저하를 억제하고, 또한 공중합체 (A) 의 점도를 적절한 범위로 제어할 수 있다. 또, 용제의 양을 30 질량부 이상으로 함으로써, 이상 중합 반응을 방지하여, 중합 반응을 안정적으로 실시할 수 있음과 함께, 공중합체 (A) 의 착색이나 겔화를 방지할 수도 있다.The amount of the solvent used in the copolymerization reaction is not particularly limited, but is generally 30 parts by mass to 1,000 parts by mass, preferably 50 parts by mass to 800 parts by mass, based on 100 parts by mass of the total amount of polymerizable monomers charged. . In particular, by setting the amount of the solvent to 1,000 parts by mass or less, the decrease in molecular weight of the copolymer (A) due to chain transfer action can be suppressed, and the viscosity of the copolymer (A) can be controlled within an appropriate range. Moreover, while being able to carry out a polymerization reaction stably by preventing an abnormal polymerization reaction by making the quantity of a solvent into 30 mass parts or more, coloring and gelation of a copolymer (A) can also be prevented.

또, 이 공중합 반응에 사용하는 것이 가능한 라디칼 중합 개시제로는, 특별히 한정되지 않지만, 예를 들어, 아조비스이소부티로니트릴, 2,2'-아조비스(2,4-디메틸발레로니트릴) 등의 아조계 라디칼 중합 개시제, 과산화벤조일, t-부틸퍼옥시-2-에틸헥사노에이트 등의 유기 과산화물계 라디칼 중합 개시제 등을 들 수 있다. 이들 라디칼 중합 개시제는, 단독으로 사용해도 되고, 2 종 이상을 조합하여 사용해도 된다. 라디칼 중합 개시제의 사용량은, 중합성 모노머의 전체 투입량을 100 질량부로 한 경우에, 일반적으로 0.5 질량부 ∼ 20 질량부이고, 바람직하게는 1.0 질량부 ∼ 10 질량부이다.Moreover, although it does not specifically limit as a radical polymerization initiator which can be used for this copolymerization reaction, For example, azobisisobutyronitrile, 2,2'- azobis (2, 4- dimethylvaleronitrile) etc. organic peroxide-based radical polymerization initiators such as azo-based radical polymerization initiators, benzoyl peroxide, and t-butylperoxy-2-ethylhexanoate; and the like. These radical polymerization initiators may be used independently or may be used in combination of 2 or more type. The amount of radical polymerization initiator used is generally 0.5 part by mass to 20 parts by mass, preferably 1.0 part by mass to 10 parts by mass, based on 100 parts by mass of the total amount of the polymerizable monomer.

공중합체 (A) 의 폴리스티렌 환산의 중량 평균 분자량은, 1,000 ∼ 50,000 인 것이 바람직하고, 3,000 ∼ 40,000 인 것이 보다 바람직하다. 공중합체 (A) 의 중량 평균 분자량이 1,000 이상이면, 감광성 수지 조성물로서 사용할 때의 알칼리 현상 후에 착색 패턴의 결손이 잘 발생하지 않게 된다. 한편, 공중합체 (A) 의 중량 평균 분자량이 50,000 이하이면, 현상 시간이 적절해져 실용성이 확보된다.It is preferable that it is 1,000-50,000, and, as for the weight average molecular weight of polystyrene conversion of a copolymer (A), it is more preferable that it is 3,000-40,000. When the weight average molecular weight of the copolymer (A) is 1,000 or more, the loss of the colored pattern hardly occurs after alkali development when used as a photosensitive resin composition. On the other hand, when the weight average molecular weight of the copolymer (A) is 50,000 or less, the developing time becomes appropriate and practicality is ensured.

또, 공중합체 (A) 의 산가 (JIS K6901 5.3) 는, 20 KOH㎎/g ∼ 300 KOH㎎/g 인 것이 바람직하고, 30 KOH㎎/g ∼ 200 KOH㎎/g 인 것이 보다 바람직하다. 공중합체 (A) 의 산가가 20 KOH㎎/g 이상이면, 컬러 필터용 감광성 수지 조성물의 알칼리 현상성이 양호해진다. 한편, 공중합체 (A) 의 산가가 300 KOH㎎/g 이하이면, 알칼리 현상액에 대해 노광 부분 (광경화 부분) 이 잘 용해되지 않기 때문에, 패턴 형상이 양호해진다.Further, the acid value (JIS K6901 5.3) of the copolymer (A) is preferably from 20 KOHmg/g to 300 KOHmg/g, more preferably from 30 KOHmg/g to 200 KOHmg/g. The alkali developability of the photosensitive resin composition for color filters becomes favorable as the acid value of a copolymer (A) is 20 KOHmg/g or more. On the other hand, when the acid value of the copolymer (A) is 300 KOHmg/g or less, the exposed portion (photocured portion) is less soluble in an alkaline developing solution, so the pattern shape becomes good.

또한, 공중합체 (A) 의 고리형 에테르기 당량은, 특별히 제한되지 않지만, 통상적으로 200 g/㏖ ∼ 2,000 g/㏖, 바람직하게는 300 g/㏖ ∼ 1,500 g/㏖, 보다 바람직하게는 480 g/㏖ ∼ 900 g/㏖ 의 범위이다. 공중합체 (A) 의 고리형 에테르기 당량이 200 g/㏖ 이상이면, 안정성이 양호해진다. 한편, 공중합체 (A) 의 고리형 에테르기 당량이 2,000 g/㏖ 이하이면, 내용제성이 충분히 확보된다. 또한, 고리형 에테르기 당량이란, 중합체의 고리형 에테르기 1 몰당의 중합체의 질량으로서, 중합체의 질량을 중합체의 고리형 에테르기량으로 나눔으로써 구하는 것이 가능하다 (g/㏖). 본 발명에 있어서, 공중합체 (A) 의 고리형 에테르기 당량은, 중합성 모노머의 투입량으로부터 계산한 이론값이다.In addition, the cyclic ether group equivalent of the copolymer (A) is not particularly limited, but is usually 200 g/mol to 2,000 g/mol, preferably 300 g/mol to 1,500 g/mol, more preferably 480 g/mol. It is the range of g/mol - 900 g/mol. Stability becomes favorable as the cyclic ether group equivalent of a copolymer (A) is 200 g/mol or more. On the other hand, when the cyclic ether group equivalent of the copolymer (A) is 2,000 g/mol or less, solvent resistance is sufficiently secured. Note that the cyclic ether group equivalent is the mass of the polymer per mol of the cyclic ether group of the polymer, and can be obtained by dividing the mass of the polymer by the amount of cyclic ether groups in the polymer (g/mol). In the present invention, the cyclic ether group equivalent of the copolymer (A) is a theoretical value calculated from the charged amount of the polymerizable monomer.

＜열 및/또는 자외선 조사에 의해 산을 발생시키는 화합물 (B)＞<Compound (B) that generates an acid by heat and/or ultraviolet irradiation>

이하에서는, 열에 의해 산을 발생시키는 화합물을「(B-1) 열산 발생제」로 약기하고, 자외선 조사에 의해 산을 발생시키는 화합물을「(B-2) 광산 발생제」로 약기하는 경우가 있다. (B-1) 열산 발생제 및 (B-2) 광산 발생제로는, 열 및/또는 자외선 조사에 의해 산을 발생시킬 수 있으면 특별히 한정되는 것은 아니지만, 예를 들어, 요오드늄염, 술포늄염, 포스포늄염, 디아조늄염 등의 오늄염을 들 수 있고, 술포늄염이 바람직하다. 이들 중에서도, (B-1) 열산 발생제에 있어서는, 100 ℃ 이상의 가열로 산을 발생시켜 입수가 가능한 산아프로 주식회사 제조 TA-100 및 TA-120 이 바람직하다. 또 (B-2) 광산 발생제에 있어서는, 불순물이 적고 i 선에 고감도인 트리아릴술포늄염계의 광산 발생제가 바람직하고, 그 중에서도 산아프로 주식회사 제조 CPI-210 시리즈 및 CPI-100 시리즈, CPI-300 시리즈, CPI-400 시리즈가 보다 바람직하다. 이들 (B-1) 열산 발생제 및 (B-2) 광산 발생제는, 단독으로 사용해도 되고, 2 종 이상을 조합하여 사용해도 된다.Hereinafter, a compound that generates an acid by heat is abbreviated as "(B-1) thermal acid generator", and a compound that generates an acid by ultraviolet irradiation is abbreviated as "(B-2) photoacid generator". have. The (B-1) thermal acid generator and (B-2) photoacid generator are not particularly limited as long as they can generate an acid by heat and/or ultraviolet irradiation, and examples thereof include iodonium salts, sulfonium salts, and phosphorus. Onium salts, such as a phonium salt and a diazonium salt, are mentioned, A sulfonium salt is preferable. Among these, in the (B-1) thermal acid generator, TA-100 and TA-120 manufactured by San-Apro Co., Ltd., which can be obtained by generating an acid by heating at 100°C or higher, are preferable. In addition, (B-2) in the photoacid generator, a triarylsulfonium salt-based photoacid generator with low impurities and high sensitivity to i-line is preferable. 300 series and CPI-400 series are more preferable. These (B-1) thermal acid generators and (B-2) photoacid generators may be used alone or in combination of two or more.

열 및/또는 자외선 조사에 의해 산을 발생시키는 화합물 (B) 의 배합량은, 공중합체 (A) 를 합성할 때에 사용한 고리형 에테르기를 갖는 구성 단위 (b) 를 부여하는 중합성 모노머 (b0) 100 질량부에 대해, 0.05 질량부 ∼ 20 질량부인 것이 바람직하고, 0.1 질량부 ∼ 15 질량부인 것이 보다 바람직하고, 1 질량부 ∼ 10 질량부인 것이 가장 바람직하다. 화합물 (B) 의 배합량이 0.05 질량부 이상이면, 감광성 수지 조성물의 경화 반응이 진행되기 쉬워진다. 한편, 화합물 (B) 의 배합량이 20 질량부 이하이면, 감광성 수지 조성물의 보존 안정성이 높아진다.The compounding amount of the compound (B) that generates an acid by heat and/or ultraviolet irradiation is 100% of the polymerizable monomer (b0) giving the structural unit (b) having a cyclic ether group used when synthesizing the copolymer (A). With respect to parts by mass, it is preferably from 0.05 parts by mass to 20 parts by mass, more preferably from 0.1 part by mass to 15 parts by mass, and most preferably from 1 part by mass to 10 parts by mass. When the compounding amount of the compound (B) is 0.05 parts by mass or more, the curing reaction of the photosensitive resin composition proceeds easily. On the other hand, the storage stability of the photosensitive resin composition increases as the compounding quantity of a compound (B) is 20 mass parts or less.

공중합체 (A) 와 열 및/또는 자외선 조사에 의해 산을 발생시키는 화합물 (B) 의 총합은, 컬러 필터용 감광성 수지 조성물 중의 용제 (C) 를 제외한 성분의 총합을 100 질량％ 로 했을 때에, 1 질량％ ∼ 50 질량％ 인 것이 바람직하고, 5 질량％ ∼ 40 질량％ 인 것이 보다 바람직하고, 10 질량％ ∼ 30 질량％ 인 것이 가장 바람직하다. 이 범위의 배합량이면, 경화 도막의 내용제성을 향상시키고 또한 보존 안정성을 유지할 수 있다.When the total of the copolymer (A) and the compound (B) that generates an acid by heat and/or ultraviolet irradiation is 100% by mass of the total of components excluding the solvent (C) in the photosensitive resin composition for color filters, It is preferably 1 mass% to 50 mass%, more preferably 5 mass% to 40 mass%, and most preferably 10 mass% to 30 mass%. If the compounding amount is within this range, the solvent resistance of the cured coating film can be improved and storage stability can be maintained.

＜용제 (C)＞<Solvent (C)>

본 발명의 컬러 필터용 감광성 수지 조성물은, 공중합 반응계로부터 단리시킨 공중합체 (A) 에 원하는 용제 (C) 를 적절히 혼합하여 조제할 수도 있지만, 반드시 공중합체 (A) 를 단리시킬 필요는 없고, 공중합 반응 종료시에 함유되어 있는 용제를, 용제 (C) 로서 그대로 사용할 수 있고, 그 때에 필요에 따라 원하는 용제를 더욱 추가할 수도 있다. 또, 컬러 필터용 감광성 수지 조성물을 조제할 때에 사용되는 그 밖의 성분에 함유되어 있는 용제를, 용제 (C) 로서 사용할 수도 있다.The photosensitive resin composition for color filters of the present invention may be prepared by appropriately mixing a desired solvent (C) with the copolymer (A) isolated from the copolymerization reaction system, but it is not necessary to isolate the copolymer (A), and copolymerization The solvent contained at the end of the reaction can be used as it is as the solvent (C), and a desired solvent can also be further added as needed at that time. Moreover, the solvent contained in the other component used when preparing the photosensitive resin composition for color filters can also be used as a solvent (C).

용제 (C) 의 배합량은, 컬러 필터용 감광성 수지 조성물 중의 용제 (C) 를 제외한 성분의 총합을 100 질량부로 했을 때에, 일반적으로 10 질량부 ∼ 800 질량부이고, 바람직하게는 50 질량부 ∼ 500 질량부이고, 보다 바람직하게는 100 질량부 ∼ 300 질량부이다. 이 범위의 배합량이면, 적절한 점도를 갖는 컬러 필터용 감광성 수지 조성물이 된다.The compounding amount of the solvent (C) is generally 10 parts by mass to 800 parts by mass, preferably 50 parts by mass to 500 parts when the total of the components except the solvent (C) in the photosensitive resin composition for color filters is 100 parts by mass. It is a mass part, More preferably, it is 100 mass parts - 300 mass parts. If it is the compounding quantity of this range, it will become the photosensitive resin composition for color filters which has an appropriate viscosity.

＜반응성 희석제 (D)＞<Reactive Diluent (D)>

반응성 희석제 (D) 는, 분자 내에 중합성 관능기로서 적어도 하나의 중합 가능한 에틸렌성 불포화기를 갖는 화합물이며, 그 중에서도 중합성 관능기를 복수 갖는 화합물이 바람직하다. 컬러 필터용 감광성 수지 조성물에 반응성 희석제 (D) 가 함유됨으로써, 형성되는 경화물의 강도 및 기재에 대한 밀착성이 향상된다.The reactive diluent (D) is a compound having at least one polymerizable ethylenically unsaturated group as a polymerizable functional group in the molecule, and among these, a compound having a plurality of polymerizable functional groups is preferable. When the photosensitive resin composition for color filters contains the reactive diluent (D), the strength of the cured product formed and the adhesion to the base material are improved.

반응성 희석제 (D) 로서 사용되는 단관능 모노머로는, (메트)아크릴아미드, 메틸올(메트)아크릴아미드, 메톡시메틸(메트)아크릴아미드, 에톡시메틸(메트)아크릴아미드, 프로폭시메틸(메트)아크릴아미드, 부톡시메톡시메틸(메트)아크릴아미드, 메틸(메트)아크릴레이트, 에틸(메트)아크릴레이트, 부틸(메트)아크릴레이트, 2-에틸헥실(메트)아크릴레이트, 2-하이드록시에틸(메트)아크릴레이트, 2-하이드록시프로필(메트)아크릴레이트, 4-하이드록시부틸(메트)아크릴레이트, 2-페녹시-2-하이드록시프로필(메트)아크릴레이트, 2-(메트)아크릴로일옥시-2-하이드록시프로필프탈레이트, 글리세린모노(메트)아크릴레이트, 테트라하이드로푸르푸릴(메트)아크릴레이트, 글리시딜(메트)아크릴레이트, 2,2,2-트리플루오로에틸(메트)아크릴레이트, 2,2,3,3-테트라플루오로프로필(메트)아크릴레이트, 프탈산 유도체의 하프 (메트)아크릴레이트 등의 (메트)아크릴레이트류 ; 스티렌, α-메틸스티렌, α-클로로메틸스티렌, 비닐톨루엔 등의 방향족 비닐 화합물류 ; 아세트산비닐, 프로피온산비닐 등의 카르복실산에스테르류 등을 들 수 있다. 또, 이들 모노머는, 단독으로 사용해도 되고, 2 종 이상을 조합하여 사용해도 된다.As the monofunctional monomer used as the reactive diluent (D), (meth)acrylamide, methylol (meth)acrylamide, methoxymethyl (meth)acrylamide, ethoxymethyl (meth)acrylamide, propoxymethyl ( Meth)acrylamide, butoxymethoxymethyl (meth)acrylamide, methyl (meth)acrylate, ethyl (meth)acrylate, butyl (meth)acrylate, 2-ethylhexyl (meth)acrylate, 2-hydroxy Roxyethyl (meth)acrylate, 2-hydroxypropyl (meth)acrylate, 4-hydroxybutyl (meth)acrylate, 2-phenoxy-2-hydroxypropyl (meth)acrylate, 2-(meth)acrylate ) Acryloyloxy-2-hydroxypropylphthalate, glycerin mono(meth)acrylate, tetrahydrofurfuryl(meth)acrylate, glycidyl(meth)acrylate, 2,2,2-trifluoroethyl (meth)acrylates such as (meth)acrylate, 2,2,3,3-tetrafluoropropyl (meth)acrylate, and half (meth)acrylate of phthalic acid derivatives; Aromatic vinyl compounds, such as styrene, (alpha)-methylstyrene, (alpha)-chloromethylstyrene, and vinyltoluene; and carboxylic acid esters such as vinyl acetate and vinyl propionate. Moreover, these monomers may be used independently and may be used in combination of 2 or more type.

반응성 희석제 (D) 로서 사용되는 다관능 모노머로는, 에틸렌글리콜디(메트)아크릴레이트, 디에틸렌글리콜디(메트)아크릴레이트, 테트라에틸렌글리콜디(메트)아크릴레이트, 프로필렌글리콜디(메트)아크릴레이트, 폴리프로필렌글리콜디(메트)아크릴레이트, 부틸렌글리콜디(메트)아크릴레이트, 네오펜틸글리콜디(메트)아크릴레이트, 1,6-헥산글리콜디(메트)아크릴레이트, 트리메틸올프로판트리(메트)아크릴레이트, 글리세린디(메트)아크릴레이트, 펜타에리트리톨디(메트)아크릴레이트, 펜타에리트리톨트리(메트)아크릴레이트, 디펜타에리트리톨펜타(메트)아크릴레이트, 디펜타에리트리톨헥사(메트)아크릴레이트, 2,2-비스(4-(메트)아크릴옥시디에톡시페닐)프로판, 2,2-비스(4-(메트)아크릴옥시폴리에톡시페닐)프로판, 2-하이드록시-3-(메트)아크릴로일옥시프로필(메트)아크릴레이트, 에틸렌글리콜디글리시딜에테르디(메트)아크릴레이트, 디에틸렌글리콜디글리시딜에테르디(메트)아크릴레이트, 프탈산디글리시딜에스테르디(메트)아크릴레이트, 글리세린트리아크릴레이트, 글리세린폴리글리시딜에테르폴리(메트)아크릴레이트, 우레탄(메트)아크릴레이트 (즉, 톨릴렌디이소시아네이트), 트리메틸헥사메틸렌디이소시아네이트와 헥사메틸렌디이소시아네이트 등과 2-하이드록시에틸(메트)아크릴레이트의 반응물, 트리스(하이드록시에틸)이소시아누레이트의 트리(메트)아크릴레이트 등의 (메트)아크릴레이트류 ; 디비닐벤젠, 디알릴프탈레이트, 디알릴벤젠포스포네이트 등의 방향족 비닐 화합물류 ; 아디프산디비닐 등의 디카르복실산에스테르류 ; 트리알릴시아누레이트, 메틸렌비스(메트)아크릴아미드, (메트)아크릴아미드메틸렌에테르, 다가 알코올과 N-메틸올(메트)아크릴아미드의 축합물 등을 들 수 있다. 이들 모노머는, 단독으로 사용해도 되고, 2 종 이상을 조합하여 사용해도 된다.Examples of the polyfunctional monomer used as the reactive diluent (D) include ethylene glycol di(meth)acrylate, diethylene glycol di(meth)acrylate, tetraethylene glycol di(meth)acrylate, and propylene glycol di(meth)acrylate. rate, polypropylene glycol di(meth)acrylate, butylene glycol di(meth)acrylate, neopentyl glycol di(meth)acrylate, 1,6-hexane glycol di(meth)acrylate, trimethylolpropane tri( Meth) acrylate, glycerin di(meth)acrylate, pentaerythritol di(meth)acrylate, pentaerythritol tri(meth)acrylate, dipentaerythritol penta(meth)acrylate, dipentaerythritol hexa( meth)acrylate, 2,2-bis(4-(meth)acryloxydiethoxyphenyl)propane, 2,2-bis(4-(meth)acryloxypolyethoxyphenyl)propane, 2-hydroxy-3 -(meth)acryloyloxypropyl (meth)acrylate, ethylene glycol diglycidyl ether di(meth)acrylate, diethylene glycol diglycidyl ether di(meth)acrylate, phthalic acid diglycidyl ester di(meth)acrylate, glycerin triacrylate, glycerin polyglycidyl ether poly(meth)acrylate, urethane (meth)acrylate (i.e., tolylene diisocyanate), trimethylhexamethylene diisocyanate and hexamethylene diisocyanate, etc. (meth)acrylates, such as a reaction product of 2-hydroxyethyl (meth)acrylate and tri(meth)acrylate of tris(hydroxyethyl)isocyanurate; aromatic vinyl compounds such as divinylbenzene, diallylphthalate, and diallylbenzenephosphonate; dicarboxylic acid esters such as divinyl adipate; triallyl cyanurate, methylene bis(meth)acrylamide, (meth)acrylamide methylene ether, a condensate of a polyhydric alcohol and N-methylol(meth)acrylamide, and the like. These monomers may be used individually or may be used in combination of 2 or more type.

반응성 희석제 (D) 의 배합량은, 컬러 필터용 감광성 수지 조성물 중의 용제 (C) 를 제외한 성분의 총합을 100 질량％ 로 했을 때에, 일반적으로 1 질량％ ∼ 60 질량％ 이고, 바람직하게는 5 질량％ ∼ 50 질량％ 이고, 보다 바람직하게는 10 질량％ ∼ 40 질량％ 이다. 이 범위의 배합량이면, 컬러 필터용 감광성 수지 조성물로서 적절한 점도 및 광경화성을 갖는다.The compounding quantity of a reactive diluent (D) is generally 1 mass % - 60 mass %, Preferably it is 5 mass %, when the total of the component except the solvent (C) in the photosensitive resin composition for color filters is 100 mass %. to 50% by mass, and more preferably from 10% by mass to 40% by mass. If it is a compounding quantity in this range, it has suitable viscosity and photocurability as a photosensitive resin composition for color filters.

＜광중합 개시제 (E)＞<Photoinitiator (E)>

광중합 개시제 (E) 로는, 특별히 한정되지 않지만, 예를 들어, 벤조인, 벤조인메틸에테르, 벤조인에틸에테르, 벤조인부틸에테르 등의 벤조인류 ; 아세토페논, 2,2-디메톡시-2-페닐아세토페논, 1,1-디클로로아세토페논, 4-(1-t-부틸디옥시-1-메틸에틸)아세토페논, 2-메틸-1-[4-(메틸티오)페닐]-2-모르폴리노-프로판-1-온, 2-벤질-2-디메틸아미노-1-(4-모르폴리노페닐)부타논-1 등의 아세토페논류 ; 2-메틸안트라퀴논, 2-아밀안트라퀴논, 2-t-부틸안트라퀴논, 1-클로로안트라퀴논 등의 안트라퀴논류 ; 크산톤, 티오크산톤, 2,4-디메틸티오크산톤, 2,4-디이소프로필티오크산톤, 2-클로로티오크산톤 등의 티오크산톤류 ; 아세토페논디메틸케탈, 벤질디메틸케탈 등의 케탈류 ; 벤조페논, 4-(1-t-부틸디옥시-1-메틸에틸)벤조페논, 3,3',4,4'-테트라키스(t-부틸디옥시카르보닐)벤조페논 등의 벤조페논류 ; 아실포스핀옥사이드류 ; 1,2-옥탄디온,1-[4-(페닐티오)-,2-(0-벤조일옥심)] 등의 옥심에스테르류 등을 들 수 있다. 이들 광중합 개시제 (E) 는, 단독으로 사용해도 되고, 2 종 이상을 조합하여 사용해도 된다.Although it does not specifically limit as a photoinitiator (E), For example, Benzoins, such as benzoin, benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, and benzoin butyl ether; Acetophenone, 2,2-dimethoxy-2-phenylacetophenone, 1,1-dichloroacetophenone, 4-(1-t-butyldioxy-1-methylethyl)acetophenone, 2-methyl-1-[ acetophenones such as 4-(methylthio)phenyl]-2-morpholino-propan-1-one and 2-benzyl-2-dimethylamino-1-(4-morpholinophenyl)butanone-1; anthraquinones such as 2-methylanthraquinone, 2-amylanthraquinone, 2-t-butylanthraquinone, and 1-chloroanthraquinone; thioxanthone such as xanthone, thioxanthone, 2,4-dimethylthioxanthone, 2,4-diisopropylthioxanthone, and 2-chlorothioxanthone; ketals such as acetophenone dimethyl ketal and benzyl dimethyl ketal; Benzophenones such as benzophenone, 4-(1-t-butyldioxy-1-methylethyl)benzophenone, and 3,3',4,4'-tetrakis(t-butyldioxycarbonyl)benzophenone ; acyl phosphine oxides; oxime esters such as 1,2-octanedione and 1-[4-(phenylthio)-,2-(0-benzoyloxime)]; and the like. These photoinitiators (E) may be used independently or may be used in combination of 2 or more type.

광중합 개시제 (E) 의 배합량은, 컬러 필터용 감광성 수지 조성물 중의 용제 (C) 를 제외한 성분의 총합을 100 질량％ 로 했을 때에, 일반적으로 0.01 질량％ ∼ 15 질량％ 이고, 바람직하게는 0.05 질량％ ∼ 10 질량％ 이고, 보다 바람직하게는 0.1 질량％ ∼ 5 질량％ 이다. 이 범위의 배합량이면, 적절한 광경화성을 갖는 컬러 필터용 감광성 수지 조성물이 된다.When the total of the components except the solvent (C) in the photosensitive resin composition for color filters is 100 mass %, the compounding quantity of a photoinitiator (E) is generally 0.01 mass % - 15 mass %, Preferably it is 0.05 mass %. to 10% by mass, and more preferably from 0.1% by mass to 5% by mass. If it is a compounding quantity within this range, it will become the photosensitive resin composition for color filters which has suitable photocurability.

본 발명의 컬러 필터용 감광성 수지 조성물은, 상기의 성분에 더하여, 소정의 특성을 부여하기 위해, 공지된 커플링제, 레벨링제, 열중합 금지제 등의 공지된 첨가제를 배합해도 된다. 이들 첨가제의 배합량은, 본 발명의 효과를 저해하지 않는 범위이면 특별히 한정되지 않는다.In addition to the components described above, the photosensitive resin composition for color filters of the present invention may contain known additives such as a known coupling agent, a leveling agent, and a thermal polymerization inhibitor in order to impart predetermined properties. The blending amount of these additives is not particularly limited as long as it does not impair the effect of the present invention.

＜착색제 (F)＞<colorant (F)>

착색제 (F) 는, 용제 (C) 에 용해 또는 분산되는 것이면 특별히 한정되지 않고, 예를 들어, 염료나 안료 등을 들 수 있다. 염료로는, 용제 (C) 나 알칼리 현상액에 대한 용해성, 감광성 수지 조성물 중의 다른 성분과의 상호 작용, 내열성 등의 관점에서, 카르복실산이나 술폰산 등의 산성기를 갖는 산성 염료, 산성 염료의 질소 화합물과의 염, 산성 염료의 술폰아미드체 등을 사용하는 것이 바람직하다.The colorant (F) is not particularly limited as long as it is dissolved or dispersed in the solvent (C), and examples thereof include dyes and pigments. As the dye, from the viewpoints of solubility in solvent (C) and alkaline developing solution, interaction with other components in the photosensitive resin composition, heat resistance, etc., acid dyes having acidic groups such as carboxylic acid and sulfonic acid, and nitrogen compounds of acid dyes It is preferable to use a salt with, a sulfonamide form of an acidic dye, and the like.

이와 같은 염료의 예로는, acid alizarin violet N ; acid black 1, 2, 24, 48 ; acid blue 1, 7, 9, 25, 29, 40, 45, 62, 70, 74, 80, 83, 90, 92, 112, 113, 120, 129, 147 ; acid chrome violet K ; acid Fuchsin ; acid green 1, 3, 5, 25, 27, 50 ; acid orange 6, 7, 8, 10, 12, 50, 51, 52, 56, 63, 74, 95 ; acid red 1, 4, 8, 14, 17, 18, 26, 27, 29, 31, 34, 35, 37, 42, 44, 50, 51, 52, 57, 69, 73, 80, 87, 88, 91, 92, 94, 97, 103, 111, 114, 129, 133, 134, 138, 143, 145, 150, 151, 158, 176, 183, 198, 211, 215, 216, 217, 249, 252, 257, 260, 266, 274 ; acid violet 6B, 7, 9, 17, 19 ; acid yellow 1, 3, 9, 11, 17, 23, 25, 29, 34, 36, 42, 54, 72, 73, 76, 79, 98, 99, 111, 112, 114, 116 ; food yellow 3 및 이들의 유도체 등을 들 수 있다. 이들 중에서도, 아조계, 크산텐계, 안트라퀴논계 혹은 프탈로시아닌계의 산성 염료가 바람직하다. 이들 염료는, 목적으로 하는 화소의 색에 따라, 단독으로 사용해도 되고, 2 종 이상을 조합하여 사용해도 된다.Examples of such dyes include acid alizarin violet N; acid black 1, 2, 24, 48; acid blue 1, 7, 9, 25, 29, 40, 45, 62, 70, 74, 80, 83, 90, 92, 112, 113, 120, 129, 147; acid chrome violet K; acid Fuchsin; acid green 1, 3, 5, 25, 27, 50; acid orange 6, 7, 8, 10, 12, 50, 51, 52, 56, 63, 74, 95; acid red 1, 4, 8, 14, 17, 18, 26, 27, 29, 31, 34, 35, 37, 42, 44, 50, 51, 52, 57, 69, 73, 80, 87, 88, 91, 92, 94, 97, 103, 111, 114, 129, 133, 134, 138, 143, 145, 150, 151, 158, 176, 183, 198, 211, 215, 216, 217, 249, 252, 257, 260, 266, 274; acid violet 6B, 7, 9, 17, 19; acid yellow 1, 3, 9, 11, 17, 23, 25, 29, 34, 36, 42, 54, 72, 73, 76, 79, 98, 99, 111, 112, 114, 116; food yellow 3 and derivatives thereof; and the like. Among these, acid dyes of azo type, xanthene type, anthraquinone type or phthalocyanine type are preferable. These dyes may be used alone or in combination of two or more, depending on the color of the target pixel.

안료의 예로는, C.I.피그먼트 옐로 1, 3, 12, 13, 14, 15, 16, 17, 20, 24, 31, 53, 83, 86, 93, 94, 109, 110, 117, 125, 128, 137, 138, 139, 147, 148, 150, 153, 154, 166, 173, 194, 214 등의 황색 안료 ; C.I.피그먼트 오렌지 13, 31, 36, 38, 40, 42, 43, 51, 55, 59, 61, 64, 65, 71, 73 등의 등색 안료 ; C.I.피그먼트 레드 9, 97, 105, 122, 123, 144, 149, 166, 168, 176, 177, 180, 192, 209, 215, 216, 224, 242, 254, 255, 264, 265 등의 적색 안료 ; C.I.피그먼트 블루 15, 15 : 3, 15 : 4, 15 : 6, 60 등의 청색 안료 ; C.I.피그먼트 바이올렛 1, 19, 23, 29, 32, 36, 38 등의 바이올렛색 안료 ; C.I.피그먼트 그린 7, 36, 58, 59 등의 녹색 안료 ; C.I.피그먼트 브라운 23, 25 등의 차색 안료 ; C.I.피그먼트 블랙 1, 7, 카본 블랙, 티탄 블랙, 산화철 등의 흑색 안료 등을 들 수 있다. 이들 안료는, 목적으로 하는 화소의 색에 따라, 단독으로 사용해도 되고, 2 종 이상을 조합하여 사용해도 된다.Examples of pigments include C.I. Pigment Yellow 1, 3, 12, 13, 14, 15, 16, 17, 20, 24, 31, 53, 83, 86, 93, 94, 109, 110, 117, 125, 128 , 137, 138, 139, 147, 148, 150, 153, 154, 166, 173, 194, yellow pigments such as 214; Orange pigments, such as C.I. Pigment Orange 13, 31, 36, 38, 40, 42, 43, 51, 55, 59, 61, 64, 65, 71, 73; Red such as C.I. Pigment Red 9, 97, 105, 122, 123, 144, 149, 166, 168, 176, 177, 180, 192, 209, 215, 216, 224, 242, 254, 255, 264, 265 pigment; blue pigments such as C.I. Pigment Blue 15, 15:3, 15:4, 15:6, and 60; Violet color pigments, such as C.I. Pigment Violet 1, 19, 23, 29, 32, 36, 38; Green pigments, such as C.I. Pigment Green 7, 36, 58, and 59; tea color pigments such as C.I. Pigment Brown 23 and 25; Black pigments, such as C.I. Pigment Black 1 and 7, carbon black, titanium black, and iron oxide, etc. are mentioned. These pigments may be used alone or in combination of two or more, depending on the color of the target pixel.

착색제 (F) 는, 목적으로 하는 화소의 색에 따라, 상기의 염료 및 안료를 조합하여 사용할 수도 있다.The colorant (F) may be used in combination of the above dyes and pigments depending on the target pixel color.

착색제 (F) 로서 안료를 사용하는 경우, 안료의 분산성을 향상시키는 관점에서, 공지된 분산제를 컬러 필터용 감광성 수지 조성물에 배합해도 된다. 분산제로는, 경시의 분산 안정성이 우수한 고분자 분산제를 사용하는 것이 바람직하다. 고분자 분산제의 예로는, 우레탄계 분산제, 폴리에틸렌이민계 분산제, 폴리옥시에틸렌알킬에테르계 분산제, 폴리옥시에틸렌글리콜디에스테르계 분산제, 소르비탄 지방족 에스테르계 분산제, 지방족 변성 에스테르계 분산제 등을 들 수 있다. 이와 같은 고분자 분산제로서 EFKA (에프카 케미컬즈 BV (EFKA) 사 제조), Disperbyk (빅케미사 제조), 디스팔론 (쿠스모토 화성 주식회사 제조), SOLSPERSE (제네카사 제조) 등의 상품명으로 시판되고 있는 것을 사용해도 된다. 분산제의 배합량은, 사용하는 안료 등의 종류에 따라 적절히 설정하면 된다.When using a pigment as a coloring agent (F), you may mix|blend a well-known dispersing agent with the photosensitive resin composition for color filters from a viewpoint of improving the dispersibility of a pigment. As the dispersant, it is preferable to use a polymeric dispersant excellent in dispersion stability over time. Examples of the polymer dispersant include urethane-based dispersants, polyethyleneimine-based dispersants, polyoxyethylene alkyl ether-based dispersants, polyoxyethylene glycol diester-based dispersants, sorbitan aliphatic ester-based dispersants, aliphatic modified ester-based dispersants, and the like. As such polymer dispersants, those commercially available under trade names such as EFKA (manufactured by EFKA Chemicals BV (EFKA)), Disperbyk (manufactured by Big Chemie Co., Ltd.), Dispalon (manufactured by Kusumoto Kasei Co., Ltd.), and SOLSPERSE (manufactured by Zeneca Co., Ltd.) You can use it. What is necessary is just to set the compounding quantity of a dispersing agent suitably according to the kind of pigment etc. used.

착색제 (F) 의 함유량은, 사용하는 염료 및 안료에 따라 적절히 조정하지만, 컬러 필터용 감광성 수지 조성물 중의 용제 (C) 를 제외한 성분의 총합을 100 질량％ 로 했을 때에, 일반적으로 20 질량％ ∼ 80 질량％ 인 것이 바람직하고, 30 질량％ ∼ 75 질량％ 인 것이 보다 바람직하고, 40 질량％ ∼ 70 질량％ 인 것이 가장 바람직하다. 이 범위의 배합량이면, 적절한 광경화성을 갖는 컬러 필터용 감광성 수지 조성물이 된다.Although content of a coloring agent (F) is suitably adjusted according to the dye and pigment used, when the total of components except the solvent (C) in the photosensitive resin composition for color filters is 100 mass %, it is generally 20 mass % - 80 It is preferable that it is mass %, it is more preferable that it is 30 mass % - 75 mass %, and it is most preferable that it is 40 mass % - 70 mass %. If it is a compounding quantity within this range, it will become the photosensitive resin composition for color filters which has suitable photocurability.

컬러 필터용 감광성 수지 조성물에 있어서의 공중합체 (A), 열 및/또는 자외선 조사에 의해 산을 발생시키는 화합물 (B), 용제 (C), 반응성 희석제 (D), 광중합 개시제 (E) 및 착색제 (F) 의 배합량은, 컬러 필터용 감광성 수지 조성물 중의 용제 (C) 를 제외한 성분의 총합을 100 질량％ 로 했을 때에, 공중합체 (A) 와 열 및/또는 자외선 조사에 의해 산을 발생시키는 화합물 (B) 의 총합이 1 질량％ ∼ 50 질량％, 반응성 희석제 (D) 가 1 질량％ ∼ 60 질량％, 광중합 개시제 (E) 가 0.01 질량％ ∼ 15 질량％, 착색제 (F) 가 20 질량％ ∼ 80 질량％ 이고, 컬러 필터용 감광성 수지 조성물 중의 용제 (C) 를 제외한 성분의 총합을 100 질량부로 했을 때에 용제 (C) 가 10 질량부 ∼ 800 질량부이고, 또한 열 및/또는 자외선 조사에 의해 산을 발생시키는 화합물 (B) 의 배합량은, 공중합체 (A) 를 합성할 때에 사용한 고리형 에테르기를 갖는 구성 단위 (b) 를 부여하는 중합성 모노머 (b0) 100 질량부에 대해, 0.05 질량부 ∼ 20 질량부이다. 바람직하게는, 컬러 필터용 감광성 수지 조성물 중의 용제 (C) 를 제외한 성분의 총합을 100 질량％ 로 했을 때에, 공중합체 (A) 와 열 및/또는 자외선 조사에 의해 산을 발생시키는 화합물 (B) 의 총합이 5 질량％ ∼ 40 질량％, 반응성 희석제 (D) 가 5 질량％ ∼ 50 질량％, 광중합 개시제 (E) 가 0.05 질량％ ∼ 10 질량％, 착색제 (F) 가 30 질량％ ∼ 75 질량％ 이고, 컬러 필터용 감광성 수지 조성물 중의 용제 (C) 를 제외한 성분의 총합을 100 질량부로 했을 때에 용제 (C) 가 50 질량부 ∼ 500 질량부이고, 또한 열 및/또는 자외선 조사에 의해 산을 발생시키는 화합물 (B) 의 배합량이 중합성 모노머 (b0) 100 질량부에 대해, 0.1 질량부 ∼ 15 질량부이다. 보다 바람직하게는, 컬러 필터용 감광성 수지 조성물 중의 용제 (C) 를 제외한 성분의 총합을 100 질량％ 로 했을 때에, 공중합체 (A) 와 열 및/또는 자외선 조사에 의해 산을 발생시키는 화합물 (B) 의 총합이 10 질량％ ∼ 30 질량％, 반응성 희석제 (D) 가 10 질량％ ∼ 40 질량％, 광중합 개시제 (E) 가 0.1 질량％ ∼ 5 질량％, 착색제 (F) 가 40 질량％ ∼ 70 질량％ 이고, 컬러 필터용 감광성 수지 조성물 중의 용제 (C) 를 제외한 성분의 총합을 100 질량부로 했을 때에 용제 (C) 가 100 질량부 ∼ 300 질량부이고, 또한 열 및/또는 자외선 조사에 의해 산을 발생시키는 화합물 (B) 의 배합량이 중합성 모노머 (b0) 100 질량부에 대해, 1 질량부 ∼ 10 질량부이다. 이 범위의 배합량이면, 적절한 점도를 갖는 컬러 필터용 감광성 수지 조성물이 된다. 또, 착색제 (F) 를 함유하지 않는 감광성 수지 조성물의 경우에도, 공중합체 (A), 열 및/또는 자외선 조사에 의해 산을 발생시키는 화합물 (B), 용제 (C), 반응성 희석제 (D) 및 광중합 개시제 (E) 의 배합량은, 상기의 수치 범위가 적용 가능하고, 각종 코팅, 접착제, 인쇄 잉크용 바인더 등에 사용할 수도 있다.A copolymer (A) in the photosensitive resin composition for color filters, a compound that generates an acid by heat and/or ultraviolet irradiation (B), a solvent (C), a reactive diluent (D), a photopolymerization initiator (E), and a colorant The compounding amount of (F) is a compound that generates an acid by copolymer (A) and heat and/or ultraviolet irradiation when the total of the components except the solvent (C) in the photosensitive resin composition for color filters is 100% by mass. The total of (B) is 1 mass% to 50 mass%, the reactive diluent (D) is 1 mass% to 60 mass%, the photoinitiator (E) is 0.01 mass% to 15 mass%, and the colorant (F) is 20 mass% to 80% by mass, and the solvent (C) is 10 parts by mass to 800 parts by mass, when the total of the components except the solvent (C) in the photosensitive resin composition for color filters is 100 parts by mass, and further to heat and/or ultraviolet irradiation The compounding amount of the compound (B) generating an acid is 0.05 parts by mass relative to 100 parts by mass of the polymerizable monomer (b0) giving the structural unit (b) having a cyclic ether group used when synthesizing the copolymer (A). part to 20 parts by mass. Preferably, when the total of the components except the solvent (C) in the photosensitive resin composition for color filters is 100% by mass, the copolymer (A) and the compound (B) that generates an acid by heat and/or ultraviolet irradiation 5% by mass to 40% by mass, the reactive diluent (D) is 5% to 50% by mass, the photopolymerization initiator (E) is 0.05% to 10% by mass, and the colorant (F) is 30% to 75% by mass %, and the solvent (C) is 50 parts by mass to 500 parts by mass when the total of the components except the solvent (C) in the photosensitive resin composition for color filters is 100 parts by mass, and the acid is removed by heat and/or ultraviolet irradiation. The blending amount of the compound (B) to be generated is 0.1 part by mass to 15 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the polymerizable monomer (b0). More preferably, when the total of the components except the solvent (C) in the photosensitive resin composition for color filters is 100% by mass, the copolymer (A) and a compound that generates an acid by heat and/or ultraviolet irradiation (B ) is 10 mass% to 30 mass%, the reactive diluent (D) is 10 mass% to 40 mass%, the photopolymerization initiator (E) is 0.1 mass% to 5 mass%, and the colorant (F) is 40 mass% to 70 It is % by mass, and the solvent (C) is 100 parts by mass to 300 parts by mass, when the total of the components except the solvent (C) in the photosensitive resin composition for color filters is 100 parts by mass, and is acidified by heat and/or ultraviolet irradiation. The compounding amount of the compound (B) that generates is 1 part by mass to 10 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the polymerizable monomer (b0). If it is the compounding quantity of this range, it will become the photosensitive resin composition for color filters which has an appropriate viscosity. In addition, even in the case of a photosensitive resin composition containing no colorant (F), the copolymer (A), a compound that generates an acid by heat and/or ultraviolet irradiation (B), a solvent (C), and a reactive diluent (D) And the compounding amount of the photopolymerization initiator (E) is applicable within the above numerical range, and can also be used for various coatings, adhesives, binders for printing ink, and the like.

＜컬러 필터용 감광성 수지 조성물의 제조＞<Manufacture of photosensitive resin composition for color filters>

본 발명의 컬러 필터용 감광성 수지 조성물은, 공지된 혼합 장치를 사용하여, 상기의 성분을 혼합함으로써 제조할 수 있다. 또, 원하는 바에 따라, 먼저 공중합체 (A), 열 및/또는 자외선 조사에 의해 산을 발생시키는 화합물 (B) 및 용제 (C) 를 함유하는 중합체 조성물을 조제한 후, 반응성 희석제 (D), 광중합 개시제 (E) 및 착색제 (F) 를 혼합하여 제조할 수도 있다.The photosensitive resin composition for color filters of this invention can be manufactured by mixing said component using a well-known mixing apparatus. Further, if desired, first prepare a polymer composition containing a copolymer (A), a compound that generates an acid by heat and/or ultraviolet irradiation (B), and a solvent (C), then use a reactive diluent (D) and photopolymerization. It can also manufacture by mixing an initiator (E) and a colorant (F).

상기와 같이 하여 얻어지는 컬러 필터용 감광성 수지 조성물은, 알칼리 현상성을 갖고 있으므로, 레지스트로서 바람직한 것이다. 컬러 필터용 감광성 수지 조성물의 경화는, 베이킹 온도를 250 ℃ 이하의 범위에서 적절히 선택하면 되지만, 본 발명에서 사용하는 공중합체 (A) 는 저온에서의 경화성이 우수하므로, 종래의 재료와 비교하여 베이킹 온도를 낮게 할 수 있다. 컬러 필터용 감광성 수지 조성물에 있어서 착색제 (F) 로서 안료를 사용한 경우, 베이킹 온도를 150 ℃ 이하로 해도 경화가 충분히 진행된다. 본 발명의 컬러 필터용 감광성 수지 조성물은, 베이킹 온도를 낮게 해도 가교 반응이 충분히 진행되기 때문에, 에너지 소비의 면에서 유리하다. 또, 내열성이 떨어지는 착색제 (F) 나 기판이라도 사용하는 것이 가능해져, 착색제 본래의 특성이 얻어지거나, 여러 가지 기판으로의 응용도 가능해진다. 그와 같은 견지로부터, 베이킹 온도는, 80 ℃ ∼ 210 ℃ 로 하는 것이 바람직하고, 90 ℃ ∼ 180 ℃ 로 하는 것이 보다 바람직하고, 100 ℃ ∼ 150 ℃ 로 하는 것이 가장 바람직하다. 베이킹 온도가 지나치게 낮아지면, 도막의 내용제성을 충분히 개선하기 어려워진다. 또, 베이킹 시간은 적절히 선택할 수 있지만, 통상적으로는 10 분 ∼ 4 시간, 바람직하게는 20 분 ∼ 2 시간이다.Since the photosensitive resin composition for color filters obtained by performing it above has alkali developability, it is suitable as a resist. Curing of the photosensitive resin composition for color filters may be appropriately selected at a baking temperature in the range of 250° C. or lower. However, since the copolymer (A) used in the present invention is excellent in low temperature curing properties, baking compared with conventional materials is required. temperature can be lowered. When a pigment is used as the coloring agent (F) in the photosensitive resin composition for color filters, curing sufficiently proceeds even if the baking temperature is 150°C or less. The photosensitive resin composition for color filters of the present invention is advantageous in terms of energy consumption because the crosslinking reaction sufficiently proceeds even when the baking temperature is low. In addition, it becomes possible to use even a colorant (F) or a substrate having poor heat resistance, and the original characteristics of the colorant can be obtained, and application to various substrates becomes possible. From such a viewpoint, the baking temperature is preferably 80°C to 210°C, more preferably 90°C to 180°C, and most preferably 100°C to 150°C. When the baking temperature is too low, it becomes difficult to sufficiently improve the solvent resistance of the coating film. Moreover, although baking time can be selected suitably, it is 10 minutes - 4 hours normally, Preferably they are 20 minutes - 2 hours.

본 발명의 컬러 필터용 감광성 수지 조성물은, 유기 EL 디스플레이, 액정 표시 장치, CCD 나 CMOS 등의 고체 촬상 소자 등에 장착되는 컬러 필터를 제조하기 위해 사용되는 레지스트로서 바람직하다.The photosensitive resin composition for color filters of the present invention is suitable as a resist used in order to manufacture a color filter incorporated in an organic EL display, a liquid crystal display device, a solid-state imaging device such as CCD or CMOS, and the like.

본 발명의 컬러 필터용 감광성 수지 조성물은, 현상성 및 보존 안정성이 양호함과 함께, 패턴 형성시의 베이킹 온도를 낮게 해도 내용제성이 우수한 착색 패턴을 형성할 수 있으므로, 컬러 필터용의 감광성 재료로서 매우 유용하다. 또, 본 발명의 컬러 필터용 감광성 수지 조성물은, 저온 경화에 수반하여 플렉시블 디스플레이의 발전, 제조 공정에 있어서의 에너지 소비의 저감, 그리고, 사용하는 착색제의 제한 완화에 대해서도 공헌할 수 있다.The photosensitive resin composition for color filters of the present invention has good developability and storage stability and can form a colored pattern excellent in solvent resistance even when the baking temperature at the time of pattern formation is low, so that it can be used as a photosensitive material for color filters. Very useful. Moreover, the photosensitive resin composition for color filters of this invention can contribute also to the development of a flexible display with low-temperature hardening, the reduction of energy consumption in a manufacturing process, and relaxation of restrictions of the colorant to be used.

＜컬러 필터＞＜Color filter＞

다음으로, 본 발명의 컬러 필터용 감광성 수지 조성물의 경화물로 이루어지는 착색 패턴을 갖는 컬러 필터에 대해 설명한다. 본 발명의 컬러 필터는, 상기의 컬러 필터용 감광성 수지 조성물을 사용하여 형성되는 착색 패턴을 갖는다. 컬러 필터는, 통상적으로, 기판과, 그 위에 형성되는 RGB 의 화소, 각각의 화소의 경계에 형성되는 블랙 매트릭스 및 화소와 블랙 매트릭스 상에 형성되는 보호막으로 구성된다. 이 구성에 있어서, 화소를 구성하는 R, G 및 B, 그리고 블랙 매트릭스 (착색 패턴) 에서 선택되는 1 종 이상의 착색 패턴이 상기의 컬러 필터용 감광성 수지 조성물을 사용하여 형성되는 것을 제외하면, 그 밖의 구성은 공지된 것을 채용할 수 있다.Next, a color filter having a color pattern made of a cured product of the photosensitive resin composition for color filters according to the present invention will be described. The color filter of this invention has a coloring pattern formed using the said photosensitive resin composition for color filters. The color filter is usually composed of a substrate, RGB pixels formed thereon, a black matrix formed at the boundary between the respective pixels, and a protective film formed on the pixels and the black matrix. In this configuration, except that at least one color pattern selected from R, G, and B constituting the pixel and the black matrix (color pattern) is formed using the above photosensitive resin composition for color filters, other A known configuration can be employed.

다음으로, 컬러 필터의 제조 방법의 일 실시형태에 대해 설명한다. 먼저, 기판 상에 착색 패턴을 형성한다. 구체적으로는, 기판 상에, 블랙 매트릭스 및 RGB 의 화소를 순차 형성한다. 기판의 재질은, 특별히 한정되는 것은 아니고, 유리 기판, 실리콘 기판, 폴리카보네이트 기판, 폴리에스테르 기판, 폴리아미드 기판, 폴리아미드이미드 기판, 폴리이미드 기판, 알루미늄 기판, 프린트 배선 기판, 어레이 기판 등을 적절히 사용할 수 있다.Next, an embodiment of a method for manufacturing a color filter will be described. First, a coloring pattern is formed on a substrate. Specifically, a black matrix and RGB pixels are sequentially formed on a substrate. The material of the substrate is not particularly limited, and a glass substrate, a silicon substrate, a polycarbonate substrate, a polyester substrate, a polyamide substrate, a polyamideimide substrate, a polyimide substrate, an aluminum substrate, a printed wiring board, an array substrate, etc. are appropriately selected. can be used

착색 패턴은, 포토리소그래피법에 의해 형성할 수 있다. 구체적으로는, 상기의 컬러 필터용 감광성 수지 조성물을 기판 상에 도포하여 도포막을 형성한 후, 소정의 패턴의 포토마스크를 개재하여 도포막을 노광하여 노광 부분을 광경화시킨다. 그리고, 미노광 부분을 알칼리 수용액으로 현상한 후, 베이킹함으로써, 소정의 착색 패턴을 형성할 수 있다.A coloring pattern can be formed by a photolithography method. Specifically, after apply|coating the said photosensitive resin composition for color filters on a board|substrate and forming a coating film, the coating film is exposed through the photomask of a predetermined pattern, and an exposure part is photocured. And after developing an unexposed part with aqueous alkali solution, a predetermined|prescribed coloring pattern can be formed by baking.

컬러 필터용 감광성 수지 조성물의 도포 방법으로는, 특별히 한정되지 않지만, 스크린 인쇄법, 롤 코트법, 커튼 코트법, 스프레이 코트법, 스핀 코트법 등을 사용할 수 있다. 또, 컬러 필터용 감광성 수지 조성물의 도포 후, 필요에 따라 순환식 오븐, 적외선 히터, 핫 플레이트 등의 가열 수단을 사용하여 가열함으로써 용제 (C) 를 휘발시켜도 된다. 가열 조건은, 특별히 한정되지 않고, 사용하는 컬러 필터용 감광성 수지 조성물의 조성에 따라 적절히 설정하면 된다. 일반적으로는, 50 ℃ ∼ 120 ℃ 의 온도에서 30 초 ∼ 30 분 가열하면 된다.Although it does not specifically limit as a coating method of the photosensitive resin composition for color filters, A screen printing method, a roll coating method, a curtain coating method, a spray coating method, a spin coating method, etc. can be used. Moreover, you may volatilize the solvent (C) by heating using heating means, such as a circulation type oven, an infrared heater, and a hot plate, after application|coating of the photosensitive resin composition for color filters as needed. Heating conditions are not specifically limited, What is necessary is just to set suitably according to the composition of the photosensitive resin composition for color filters to be used. Generally, what is necessary is just to heat at the temperature of 50 degreeC - 120 degreeC for 30 second - 30 minutes.

이어서, 형성된 도막에 네거티브형의 마스크를 개재하여 자외선, 엑시머 레이저 광 등의 활성 에너지선을 조사하여 부분적으로 노광한다. 조사하는 에너지선량은, 컬러 필터용 감광성 수지 조성물의 조성에 따라 적절히 선택하면 되고, 예를 들어, 30 mJ/㎠ ∼ 2000 mJ/㎠ 인 것이 바람직하다. 노광에 사용되는 광원으로는, 특별히 한정되지 않지만, 저압 수은 램프, 중압 수은 램프, 고압 수은 램프, 크세논 램프, 메탈 할라이드 램프 등을 사용할 수 있다.Next, the formed coating film is partially exposed by irradiating active energy rays such as ultraviolet rays and excimer laser light through a negative mask. What is necessary is just to select the energy radiation dose suitably according to the composition of the photosensitive resin composition for color filters, and it is preferable that it is 30 mJ/cm<2> - 2000 mJ/cm<2>, for example. The light source used for exposure is not particularly limited, but a low-pressure mercury lamp, a medium-pressure mercury lamp, a high-pressure mercury lamp, a xenon lamp, a metal halide lamp, or the like can be used.

현상에 사용되는 알칼리 수용액으로는, 특별히 한정되지 않지만, 탄산나트륨, 탄산칼륨, 탄산칼슘, 수산화나트륨, 수산화칼륨 등의 수용액 ; 에틸아민, 디에틸아민, 디메틸에탄올아민 등의 아민계 화합물의 수용액 ; 테트라메틸암모늄, 3-메틸-4-아미노-N,N-디에틸아닐린, 3-메틸-4-아미노-N-에틸-N-β-하이드록시에틸아닐린, 3-메틸-4-아미노-N-에틸-N-β-메탄술폰아미드에틸아닐린, 3-메틸-4-아미노-N-에틸-N-β-메톡시에틸아닐린 및 이들의 황산염, 염산염 또는 p-톨루엔술폰산염 등의 p-페닐렌디아민계 화합물의 수용액 등을 사용할 수 있다. 또한, 이들 수용액에는, 필요에 따라 소포제나 계면 활성제를 첨가해도 된다. 또, 상기의 알칼리 수용액에 의한 현상 후, 수세하여 건조시키는 것이 바람직하다.Although it does not specifically limit as aqueous alkali solution used for image development, Aqueous solutions, such as sodium carbonate, potassium carbonate, calcium carbonate, sodium hydroxide, and potassium hydroxide; aqueous solutions of amine compounds such as ethylamine, diethylamine, and dimethylethanolamine; Tetramethylammonium, 3-methyl-4-amino-N,N-diethylaniline, 3-methyl-4-amino-N-ethyl-N-β-hydroxyethylaniline, 3-methyl-4-amino-N -Ethyl-N-β-methanesulfonamide ethylaniline, 3-methyl-4-amino-N-ethyl-N-β-methoxyethylaniline and p-phenyl such as sulfates, hydrochlorides or p-toluenesulfonates thereof An aqueous solution of a rendiamine-based compound or the like can be used. Moreover, you may add an antifoamer and surfactant to these aqueous solutions as needed. Moreover, it is preferable to wash with water and dry after image development by said aqueous alkali solution.

베이킹의 조건은, 특별히 한정되지 않고, 사용하는 컬러 필터용 감광성 수지 조성물의 조성에 따라 가열 처리를 실시하면 된다. 종래의 감광성 수지 조성물에서는, 베이킹 온도가 200 ℃ 이하가 되면 착색 패턴의 내용제성이 부족하지만, 본 발명의 컬러 필터용 감광성 수지 조성물에서는, 150 ℃ 이하의 온도에서 베이킹한 경우라도 충분한 내용제성을 나타내는 착색 패턴을 형성할 수 있다. 그 때문에, 베이킹 온도를 낮게 할 수 있고, 또, 고온에서 베이킹하는 경우에는 처리 시간을 단축시킬 수 있어, 제조상의 큰 이점이 된다. 이와 같은 견지로부터, 베이킹 온도를, 통상적으로는 210 ℃ 이하, 바람직하게는 180 ℃ 이하, 보다 바람직하게는 150 ℃ 이하, 가장 바람직하게는 120 ℃ 이하로 하고, 베이킹 시간을, 통상적으로는 10 분 ∼ 4 시간, 바람직하게는 20 분 ∼ 2 시간으로 하여 실시된다.The conditions of baking are not specifically limited, What is necessary is just to heat-process according to the composition of the photosensitive resin composition for color filters used. In the conventional photosensitive resin composition, the solvent resistance of the colored pattern is insufficient when the baking temperature is 200 ° C. or less, but the photosensitive resin composition for color filters of the present invention shows sufficient solvent resistance even when baking at a temperature of 150 ° C. or less. A color pattern can be formed. Therefore, the baking temperature can be lowered and, in the case of baking at a high temperature, the processing time can be shortened, which is a great advantage in terms of manufacturing. From this standpoint, the baking temperature is usually 210°C or lower, preferably 180°C or lower, more preferably 150°C or lower, and most preferably 120°C or lower, and the baking time is usually 10 minutes. to 4 hours, preferably 20 minutes to 2 hours.

상기와 같은 도포, 노광, 현상 및 베이킹을, 컬러 필터의 블랙 매트릭스용 감광성 수지 조성물, 그리고 컬러 필터의 적색, 녹색 및 청색의 화소용 감광성 수지 조성물을 사용하여 순차 반복함으로써, 원하는 착색 패턴을 형성할 수 있다. 또한, 상기에서는, 광경화에 의한 착색 패턴의 형성 방법을 설명하였지만, 광중합 개시제 (E) 대신에, 경화 촉진제 및 공지된 에폭시 수지를 배합한 감광성 수지 조성물을 사용하면, 잉크젯법에 의해 도포한 후, 가열함으로써, 원하는 착색 패턴을 형성할 수도 있다. 마지막으로, 착색 패턴 (RGB 의 각 화소 및 블랙 매트릭스) 상에 보호막을 형성한다. 보호막으로는, 특별히 한정되지 않고, 공지된 것을 사용하여 형성하면 된다.By sequentially repeating the above coating, exposure, development and baking using the photosensitive resin composition for the black matrix of the color filter and the photosensitive resin composition for the red, green and blue pixels of the color filter, a desired color pattern can be formed. can In addition, although the method for forming a colored pattern by photocuring has been described above, if a photosensitive resin composition in which a curing accelerator and a known epoxy resin are blended is used instead of the photopolymerization initiator (E), after coating by the inkjet method , By heating, a desired coloring pattern can also be formed. Finally, a protective film is formed on the color pattern (each pixel of RGB and black matrix). It does not specifically limit as a protective film, What is necessary is just to form using a well-known thing.

이와 같이 하여 제조되는 컬러 필터는, 감도나 현상성이 우수함과 함께 내용제성이 우수한 착색 패턴을 부여하는 컬러 필터용 감광성 수지 조성물을 사용하여 제조하고 있기 때문에, 색 변화가 적은 우수한 착색 패턴을 갖는다.Since the color filter produced in this way is produced using a photosensitive resin composition for color filters that provides a color pattern with excellent sensitivity and developability and excellent solvent resistance, it has an excellent color pattern with little color change.

＜화상 표시 소자＞<Image display element>

본 발명의 화상 표시 소자는, 상기의 컬러 필터를 구비한 화상 표시 소자이고, 그 구체예로서, 액정 표시 소자, 유기 EL 표시 소자, CCD 소자나 CMOS 소자 등의 고체 촬상 소자 등을 들 수 있다. 본 발명의 화상 표시 소자의 제조는, 상기의 컬러 필터를 사용하는 것 이외에, 통상적인 방법에 따라 실시하면 된다. 예를 들어, 액정 표시 소자를 제조하는 경우에는, 기판 상에, 상기의 컬러 필터를 형성하고, 이어서, 전극, 스페이서 등을 순차 형성한다. 그리고, 다른 한 장의 기판 상에 전극 등을 형성하고, 양자를 붙여 소정량의 액정을 주입, 봉지하면 된다.The image display element of the present invention is an image display element provided with the above color filter, and specific examples thereof include solid-state imaging elements such as liquid crystal display elements, organic EL display elements, CCD elements and CMOS elements. Manufacture of the image display element of the present invention may be carried out in accordance with a conventional method other than using the color filter described above. For example, when manufacturing a liquid crystal display element, the said color filter is formed on a board|substrate, and then electrodes, a spacer, etc. are formed one by one. Then, electrodes and the like are formed on the other substrate, they are bonded together, and a predetermined amount of liquid crystal is injected and sealed.

실시예Example

이하, 실시예를 참조하여 본 발명을 상세하게 설명하지만, 본 발명은 이들 실시예에 의해 한정되지 않는다. 또한, 이 실시예에 있어서, 부 및 퍼센트로 기재되어 있는 것은 특별히 언급하지 않는 한, 모두 질량 기준이다. 또, 산가 및 중량 평균 분자량의 측정법은 이하와 같다.Hereinafter, the present invention will be described in detail with reference to examples, but the present invention is not limited by these examples. Incidentally, in this Example, unless otherwise specified, all of parts and percentages are based on mass. Moreover, the measuring method of an acid value and a weight average molecular weight is as follows.

(1) 산가 : JIS K6901 5.3 에 따라 측정된 공중합체 (A) 의 산가로서, 그 공중합체 (A) 1 g 중에 함유되는 산성 성분을 중화시키는 데에 요하는 수산화칼륨의 ㎎ 수를 의미한다.(1) Acid value: The acid value of the copolymer (A) measured according to JIS K6901 5.3, which means the number of milligrams of potassium hydroxide required to neutralize the acidic component contained in 1 g of the copolymer (A).

(2) 중량 평균 분자량 (Mw) 이란, 겔 퍼미에이션 크로마토그래피 (GPC) 를 사용하여, 하기 조건에서 측정한 표준 폴리스티렌 환산 중량 평균 분자량을 의미한다.(2) The weight average molecular weight (Mw) means the standard polystyrene equivalent weight average molecular weight measured under the following conditions using gel permeation chromatography (GPC).

칼럼 : 쇼덱스 (등록상표) LF-804＋LF-804 (쇼와 전공 주식회사 제조)Column: Shodex (registered trademark) LF-804 + LF-804 (manufactured by Showa Denko Co., Ltd.)

칼럼 온도 : 40 ℃Column temperature: 40 ℃

시료 : 공중합체의 0.2 ％ 테트라하이드로푸란 용액Sample: 0.2% tetrahydrofuran solution of the copolymer

전개 용매 : 테트라하이드로푸란Developing solvent: tetrahydrofuran

검출기 : 시차 굴절계 (쇼덱스 RI-71S) (쇼와 전공 주식회사 제조)Detector: Differential refractometer (Shodex RI-71S) (manufactured by Showa Denko Co., Ltd.)

유속 : 1 ㎖/minFlow rate: 1 ml/min

[합성예 1][Synthesis Example 1]

교반 장치, 적하 깔때기, 콘덴서, 온도계 및 가스 도입관을 구비한 플라스크에, 175.5 g 의 프로필렌글리콜모노메틸에테르를 넣은 후, 질소 치환하면서 교반하고, 78 ℃ 로 승온시켰다. 다음으로, 고리형 에테르기 함유 중합성 모노머 (b0) 으로서의 128.9 g 의 (3-에틸옥세탄-3-일)메틸메타크릴레이트 및 산기 함유 중합성 모노머 (a0) 으로서의 25.8 g 의 메타크릴산으로 이루어지는 단량체 혼합물과, 13.9 g 의 2,2'-아조비스(2,4-디메틸발레로니트릴) (라디칼 중합 개시제) 을 54.3 g 의 프로필렌글리콜모노메틸에테르에 첨가하고 용해시킨 것을 각각 적하 깔때기로부터 플라스크 중에 적하하였다. 적하 종료 후, 10.3 g 의 프로필렌글리콜모노메틸에테르를 첨가하고, 78 ℃ 에서 3 시간 교반하여 공중합 반응을 실시하여, 공중합체를 생성시키고, 마지막으로, 산아프로 주식회사 제조 CPI-210S 를, 고리형 에테르기 함유 중합성 모노머 (b0) 100 질량부에 대해 1 질량부 첨가하여 시료 No.1 의 중합체 조성물 (용제 이외의 성분 농도 35 질량％) 을 얻었다. 얻어진 중합체 조성물을 100 배 정도로 희석시키고, 상기의 GPC 를 사용하여 측정한 중합체 조성물 중의 공중합체의 중량 평균 분자량은 6,800 이었다. 또, 얻어진 중합체 조성물을 사용하여, JIS K6901 5.3 에 따라 측정된 중합체 조성물 중의 공중합체의 산가는 120.5 KOH㎎/g 이었다.After putting 175.5 g of propylene glycol monomethyl ether into a flask equipped with a stirrer, dropping funnel, condenser, thermometer and gas introduction tube, the mixture was stirred while purging with nitrogen, and the temperature was raised to 78°C. Next, with 128.9 g of (3-ethyloxetan-3-yl)methylmethacrylate as a cyclic ether group-containing polymerizable monomer (b0) and 25.8 g of methacrylic acid as an acid group-containing polymerizable monomer (a0) The monomer mixture formed by adding and dissolving 13.9 g of 2,2'-azobis(2,4-dimethylvaleronitrile) (radical polymerization initiator) in 54.3 g of propylene glycol monomethyl ether was poured into the flask from a dropping funnel, respectively. Dropped in. After completion of the dropwise addition, 10.3 g of propylene glycol monomethyl ether was added, and a copolymerization reaction was carried out by stirring at 78°C for 3 hours to form a copolymer, and finally CPI-210S manufactured by San-Apro Co., Ltd. 1 mass part was added with respect to 100 mass parts of group-containing polymerizable monomers (b0), and the polymer composition of sample No. 1 (concentration of components other than a solvent: 35 mass %) was obtained. The obtained polymer composition was diluted about 100 times, and the weight average molecular weight of the copolymer in the polymer composition measured using said GPC was 6,800. Moreover, using the obtained polymer composition, the acid value of the copolymer in the polymer composition measured according to JIS K6901 5.3 was 120.5 KOHmg/g.

[합성예 2 ∼ 8 및 비교 합성예 1 ∼ 3][Synthesis Examples 2 to 8 and Comparative Synthesis Examples 1 to 3]

표 1 및 2 에 기재된 원료를 사용하는 것 이외에는 합성예 1 과 동일한 조건에서 공중합 반응을 실시하여, 시료 No.2 ∼ 11 의 중합체 조성물 (용제 이외의 성분 농도 35 질량％) 을 얻었다. 단, 비교 합성예 2 에 있어서는 고리형 에테르기 함유 중합성 모노머 (b0) 을 첨가하고 있지 않기 때문에, 열 및/또는 자외선 조사에 의해 산을 발생시키는 화합물 (B) 의 첨가량은, 합성예 3 (시료 No.3) 과 동량으로 하였다. 얻어진 중합체 조성물 중의 공중합체의 중량 평균 분자량 및 산가를 표 1 및 2 에 나타낸다. 또, 중합성 모노머의 투입량으로부터 계산한 고리형 에테르기 당량도 표 1 및 2 에 나타낸다.Except for using the raw materials described in Tables 1 and 2, a copolymerization reaction was carried out under the same conditions as in Synthesis Example 1 to obtain polymer compositions of Sample Nos. 2 to 11 (concentration of components other than the solvent: 35% by mass). However, since the cyclic ether group-containing polymerizable monomer (b0) is not added in Comparative Synthesis Example 2, the addition amount of the compound (B) that generates an acid by heat and/or ultraviolet irradiation is, in Synthesis Example 3 ( It was set as the same amount as sample No. 3). The weight average molecular weight and acid value of the copolymer in the obtained polymer composition are shown in Tables 1 and 2. Tables 1 and 2 also show equivalents of cyclic ether groups calculated from the charged amounts of the polymerizable monomers.

Figure 112020074302440-pct00001
Figure 112020074302440-pct00001

Figure 112020074302440-pct00002
Figure 112020074302440-pct00002

[실시예 1 ∼ 8 및 비교예 1 ∼ 3][Examples 1 to 8 and Comparative Examples 1 to 3]

＜컬러 필터용 감광성 수지 조성물 (안료 타입) 의 조제＞<Preparation of photosensitive resin composition for color filters (pigment type)>

직경 0.5 ㎜ 의 지르코니아 비즈 200 질량부를 충전한 스테인리스제 용기에, C.I 피그먼트 그린 36 (착색제) 을 100 질량부, 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트 (용제) 를 45 질량부, 빅케미·재팬 주식회사 제조 Disperbyk-161 (분산제) 을 25 질량부 투입하여, 페인트 셰이커로 2 시간 혼합하여 분산시킴으로써, 녹색 안료 분산액을 조제하였다.In a stainless steel container filled with 200 parts by mass of zirconia beads having a diameter of 0.5 mm, 100 parts by mass of C.I Pigment Green 36 (colorant) and 45 parts by mass of propylene glycol monomethyl ether acetate (solvent), Disperbyk manufactured by Big Chemie Japan Co., Ltd. A green pigment dispersion was prepared by adding 25 parts by mass of -161 (dispersant), mixing and dispersing in a paint shaker for 2 hours.

이 녹색 안료 분산액을, 중합체 조성물, 반응성 희석제, 광중합 개시제 및 용제와 혼합하여 표 3 에 나타내는 배합량이 되도록 컬러 필터용 감광성 수지 조성물을 조제하였다. 또, 표 3 에 있어서의 중합체 조성물의 배합량은, 중합체 조성물을 조제할 때에 사용한 용제를 제외한 것 (공중합체 (A) 와 열 및/또는 자외선 조사에 의해 산을 발생시키는 화합물 (B) 의 총합) 이고, 표 3 에 있어서의 용제의 배합량은, 중합체 조성물을 조제할 때에 사용한 용제와 추가로 배합한 프로필렌글리콜모노메틸에테르와 녹색 안료 분산액을 조제할 때에 사용한 용제를 합산한 것이다. 표 3 의 배합량으로부터 알 수 있는 바와 같이, 컬러 필터용 감광성 수지 조성물 중의 용제 (C) 를 제외한 성분의 총합을 100 질량％ 로 했을 때에, 공중합체 (A) 와 열 및/또는 자외선 조사에 의해 산을 발생시키는 화합물 (B) 의 총합은 24.4 질량％, 반응성 희석제 (D) 는 24.4 질량％, 광중합 개시제 (E) 는 1.2 질량％, 착색제 (F) 는 40.0 질량％ 이고, 컬러 필터용 감광성 수지 조성물 중의 용제 (C) 를 제외한 성분의 총합을 100 질량부로 했을 때에 용제 (C) 는 130.2 질량부이다.The photosensitive resin composition for color filters was prepared so that it might become the compounding quantity shown in Table 3 by mixing this green pigment dispersion liquid with a polymer composition, a reactive diluent, a photoinitiator, and a solvent. In Table 3, the compounding amount of the polymer composition is excluding the solvent used when preparing the polymer composition (total of the copolymer (A) and the compound (B) that generates an acid by heat and/or ultraviolet irradiation) And, the compounding amount of the solvent in Table 3 is the sum of the solvent used when preparing the polymer composition and the solvent used when preparing the further blended propylene glycol monomethyl ether and the green pigment dispersion. As can be seen from the compounding amounts of Table 3, when the total of the components except the solvent (C) in the photosensitive resin composition for color filters is 100% by mass, the copolymer (A) and heat and / or acid by ultraviolet irradiation 24.4% by mass of the compound (B) that generates the reactive diluent (D) is 24.4% by mass, the photopolymerization initiator (E) is 1.2% by mass, and the colorant (F) is 40.0% by mass, photosensitive resin composition for color filters The solvent (C) is 130.2 parts by mass when the total of the components except the solvent (C) in the composition is 100 parts by mass.

실시예 1 ∼ 8 의 컬러 필터용 감광성 수지 조성물은, 시료 No.1 ∼ 8 의 중합체 조성물 각각을 사용하여 조제하고, 비교예 1 ∼ 3 의 컬러 필터용 감광성 수지 조성물은, 시료 No.9 ∼ 11 의 중합체 조성물 각각을 사용하여 조제하였다.The photosensitive resin compositions for color filters of Examples 1 to 8 were prepared using each of the polymer compositions of Sample Nos. 1 to 8, and the photosensitive resin compositions for color filters of Comparative Examples 1 to 3 were prepared using Sample Nos. 9 to 11. It was prepared using each of the polymer compositions of.

Figure 112020074302440-pct00003
Figure 112020074302440-pct00003

＜컬러 필터용 감광성 수지 조성물의 평가＞<Evaluation of the photosensitive resin composition for color filters>

(1) 알칼리 현상성(1) alkali developability

실시예 1 ∼ 8 및 비교예 1 ∼ 3 의 컬러 필터용 감광성 수지 조성물 각각을, 가로세로 5 ㎝ 의 유리 기판 (무알칼리 유리 기판) 상에, 노광 후의 두께가 2.5 ㎛ 가 되도록 스핀 코트한 후, 90 ℃ 에서 3 분간 가열함으로써 용제를 휘발시켰다. 다음으로, 도포막으로부터 100 ㎛ 의 거리에 소정의 패턴의 포토마스크를 배치하고, 이 포토마스크를 개재하여 도포막을 노광 (노광량 : 150 mJ/㎠) 하고, 노광 부분을 광경화시켰다. 다음으로, 0.1 질량％ 의 탄산나트륨을 함유하는 수용액을 23 ℃ 의 온도 및 0.3 ㎫ 의 압력으로 스프레이함으로써 미노광 부분을 용해시켜 현상한 후, 100 ℃ 에서 20 분간 베이킹함으로써 소정의 패턴을 형성하였다. 알칼리 현상 후의 잔사는, 알칼리 현상 후의 패턴을, (주) 히타치 하이테크놀로지즈 제조 전자 현미경 S-3400 을 사용하여 관찰함으로써 확인하였다. 이 평가의 기준은 이하와 같다.After spin-coating each of the photosensitive resin compositions for color filters of Examples 1 to 8 and Comparative Examples 1 to 3 on a 5 cm square glass substrate (alkali-free glass substrate) so that the thickness after exposure is 2.5 μm, The solvent was volatilized by heating at 90 degreeC for 3 minute(s). Next, a photomask of a predetermined pattern was arranged at a distance of 100 μm from the coating film, the coating film was exposed through the photomask (exposure amount: 150 mJ/cm 2 ), and the exposed portion was photocured. Next, after spraying an aqueous solution containing 0.1% by mass of sodium carbonate at a temperature of 23°C and a pressure of 0.3 MPa to dissolve the unexposed portion and developing, a predetermined pattern was formed by baking at 100°C for 20 minutes. The residue after alkali development was confirmed by observing the pattern after alkali development using an electron microscope S-3400 manufactured by Hitachi High-Technologies Co., Ltd. The criteria for this evaluation are as follows.

○ : 잔사 없음○: no residue

× : 잔사 있음×: Residue present

알칼리 현상성의 평가 결과를 표 4 에 나타낸다.The evaluation results of alkali developability are shown in Table 4.

(2) 내용제성의 평가(2) Evaluation of solvent resistance

가로세로 5 ㎝ 의 유리 기판 (무알칼리 유리 기판) 상에, 실시예 1 ∼ 8 및 비교예 1 ∼ 3 의 컬러 필터용 감광성 수지 조성물 각각을, 베이킹 후의 두께가 2.5 ㎛ 가 되도록 스핀 코트한 후, 90 ℃ 에서 3 분간 가열하여 용제를 휘발시켰다. 다음으로, 도포막에 파장 365 ㎚ 의 광을 노광하고, 노광 부분을 광경화시킨 후, 베이킹 온도 100 ℃ 의 건조기 중에 20 분간 방치하여 경화 도막을 제조하였다. 용량 500 ㎖ 의 뚜껑이 부착된 유리병에 200 ㎖ 의 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트를 넣고, 80 ℃ 의 조건하에 정치 (靜置) 하였다. 그 안에 상기의 경화 도막 부착 시험편을 침지한 후, 80 ℃ 로 유지한 상태에서, 5 분 정치하였다. 시험편의 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트에 대한 침지 전후의 색 변화 (ΔE*ab) 를 분광 광도계 UV-1650PC (주식회사 시마즈 제작소 제조) 로 측정하였다. ΔE*ab 의 측정 결과를 표 4 에 나타낸다. ΔE*ab 가 1.5 이하이면 내용제성이 우수하다고 할 수 있다.After spin-coating each of the photosensitive resin compositions for color filters of Examples 1 to 8 and Comparative Examples 1 to 3 on a 5 cm square glass substrate (alkali-free glass substrate) so that the thickness after baking is 2.5 μm, It heated at 90 degreeC for 3 minute(s) and volatilized the solvent. Next, after exposing the coating film to light with a wavelength of 365 nm and photocuring the exposed portion, it was left to stand for 20 minutes in a dryer with a baking temperature of 100°C to prepare a cured coating film. 200 ml of propylene glycol monomethyl ether acetate was placed in a 500 ml capped glass bottle, and the mixture was allowed to stand still at 80°C. After immersing the said test piece with a cured coating film in it, it was left still for 5 minutes in the state maintained at 80 degreeC. The color change (ΔE * ab) before and after immersion of the test piece in propylene glycol monomethyl ether acetate was measured with a spectrophotometer UV-1650PC (manufactured by Shimadzu Corporation). The measurement results of ΔE * ab are shown in Table 4. When ΔE * ab is 1.5 or less, it can be said that the solvent resistance is excellent.

(3) 보존 안정성의 평가(3) Evaluation of storage stability

실시예 1 ∼ 8 및 비교예 1 ∼ 3 의 컬러 필터용 감광성 수지 조성물을, 유리 용기에 등량씩 칭량하여 넣고, 먼지 등이 들어가지 않도록 알루미늄박으로 입구를 닫았다. 다음으로, 이들 샘플을 각각 23 ℃ 로 유지한 항온기 중에 정치하고, 샘플의 1 개월 후의 중량 평균 분자량 (Mw) 을 측정하고, 이하의 기준에 따라 보존 안정성을 평가하였다.Equal amounts of the photosensitive resin compositions for color filters of Examples 1 to 8 and Comparative Examples 1 to 3 were weighed and placed in equal amounts in a glass container, and the inlet was closed with an aluminum foil so as not to allow dust or the like to enter. Next, each of these samples was left still in an incubator maintained at 23°C, the weight average molecular weight (Mw) of the sample after one month was measured, and storage stability was evaluated according to the following criteria.

Mw 변화율 (％) ＝ 100 × (보존 전 Mw － 보존 후 Mw)/보존 전 MwMw change rate (%) = 100 × (Mw before storage - Mw after storage) / Mw before storage

○ : 보존 전의 Mw 에 대한 1 개월 후의 Mw 의 변화율이 ±20 ％ 이내○: The rate of change of Mw after 1 month relative to Mw before storage is within ±20%

× : 보존 전의 Mw 에 대한 1 개월 후의 Mw 의 변화율이 ±20 ％ 초과×: The rate of change of Mw after 1 month with respect to Mw before storage exceeds ±20%

보존 안정성의 평가 결과를 표 4 에 나타낸다.The evaluation result of storage stability is shown in Table 4.

Figure 112020074302440-pct00004
Figure 112020074302440-pct00004

표 4 에 나타나 있는 바와 같이, 실시예 1 ∼ 8 의 컬러 필터용 감광성 수지 조성물은, 알칼리 현상성, 내용제성 및 보존 안정성의 전부가 양호하였다. 이에 반해, 비교예 1 ∼ 3 의 컬러 필터용 감광성 수지 조성물은, 내용제성이 충분하지 않고, 또, 비교예 3 의 컬러 필터용 감광성 수지 조성물은, 알칼리 현상성도 충분하지 않았다.As shown in Table 4, all of the photosensitive resin compositions for color filters of Examples 1 to 8 were good in alkali developability, solvent resistance and storage stability. In contrast, the photosensitive resin compositions for color filters of Comparative Examples 1 to 3 did not have sufficient solvent resistance, and the photosensitive resin composition for color filters of Comparative Example 3 did not have sufficient alkali developability.

이상의 결과로부터 알 수 있는 바와 같이, 본 발명에 의하면, 현상성이 양호함과 함께, 저온 경화 조건에 있어서의 내용제성 및 보존 안정성이 우수한 컬러 필터용 감광성 수지 조성물을 제공할 수 있다.As can be seen from the above results, according to the present invention, the photosensitive resin composition for color filters having excellent developability and excellent solvent resistance and storage stability under low-temperature curing conditions can be provided.

Claims (16)

산기를 갖는 구성 단위 (a) 및 고리형 에테르기를 갖는 구성 단위 (b) 를 함유하는 공중합체 (A) 와, 열 및/또는 자외선 조사에 의해 산을 발생시키는 화합물 (B) 와, 용제 (C) 와, 반응성 희석제 (D) 와, 광중합 개시제 (E) 와, 착색제 (F) 를 함유하고,
상기 고리형 에테르기를 갖는 구성 단위 (b) 가, 글리시딜(메트)아크릴레이트 유래의 구성 단위이고,
상기 공중합체 (A) 에 함유되는 상기 산기를 갖는 구성 단위 (a) 의 비율이 5 몰％ ∼ 40 몰％ 이고, 또한 상기 고리형 에테르기를 갖는 구성 단위 (b) 의 비율이 60 몰％ ∼ 95 몰％ 이고,
상기 열 및/또는 자외선 조사에 의해 산을 발생시키는 화합물 (B) 가, 상기 공중합체 (A) 를 합성할 때에 사용한 상기 고리형 에테르기를 갖는 구성 단위 (b) 를 부여하는 중합성 모노머 100 질량부에 대해, 0.05 질량부 ∼ 20 질량부인 것을 특징으로 하는 컬러 필터용 감광성 수지 조성물.A copolymer (A) containing a structural unit (a) having an acid group and a structural unit (b) having a cyclic ether group, a compound (B) generating an acid by heat and/or ultraviolet irradiation, and a solvent (C ), a reactive diluent (D), a photopolymerization initiator (E), and a colorant (F),
The structural unit (b) having the cyclic ether group is a structural unit derived from glycidyl (meth)acrylate,
The proportion of the structural unit (a) having an acid group in the copolymer (A) is 5 mol% to 40 mol%, and the proportion of the structural unit (b) having the cyclic ether group is 60 mol% to 95% is mol%,
100 parts by mass of a polymerizable monomer that gives the structural unit (b) having the cyclic ether group used when the compound (B) that generates an acid by heat and/or ultraviolet irradiation synthesizes the copolymer (A) 0.05 part by mass to 20 parts by mass relative to the photosensitive resin composition for color filters, characterized in that. 제 1 항에 있어서,
상기 산기를 갖는 구성 단위 (a) 가, 카르복시기 함유 에틸렌성 불포화 화합물 유래의 구성 단위인 컬러 필터용 감광성 수지 조성물.According to claim 1,
The photosensitive resin composition for color filters in which the structural unit (a) which has the said acidic radical is a structural unit derived from a carboxyl group containing ethylenically unsaturated compound. 제 1 항에 있어서,
상기 열 및/또는 자외선 조사에 의해 산을 발생시키는 화합물 (B) 가, 상기 공중합체 (A) 를 합성할 때에 사용한 상기 고리형 에테르기를 갖는 구성 단위 (b) 를 부여하는 중합성 모노머 100 질량부에 대해, 0.05 질량부 ∼ 1 질량부인 컬러 필터용 감광성 수지 조성물.According to claim 1,
100 parts by mass of a polymerizable monomer that gives the structural unit (b) having the cyclic ether group used when the compound (B) that generates an acid by heat and/or ultraviolet irradiation synthesizes the copolymer (A) 0.05 parts by mass to 1 part by mass of the photosensitive resin composition for color filters. 산기를 갖는 구성 단위 (a), 고리형 에테르기를 갖는 구성 단위 (b) 및 에틸렌성 불포화기를 갖는 라디칼 중합성 화합물에서 유래하는 구성 단위 (c) 를 함유하는 공중합체 (A) 와, 열 및/또는 자외선 조사에 의해 산을 발생시키는 화합물 (B) 와, 용제 (C) 와, 반응성 희석제 (D) 와, 광중합 개시제 (E) 와, 착색제 (F) 를 함유하고,
상기 고리형 에테르기를 갖는 구성 단위 (b) 가, 글리시딜(메트)아크릴레이트 유래의 구성 단위이고,
상기 공중합체 (A) 에 함유되는 상기 산기를 갖는 구성 단위 (a) 의 비율이 5 몰％ ∼ 60 몰％ 이고, 상기 고리형 에테르기를 갖는 구성 단위 (b) 의 비율이 5 몰％ ∼ 70 몰％ 이고, 또한 상기 에틸렌성 불포화기를 갖는 라디칼 중합성 화합물에서 유래하는 구성 단위 (c) 의 비율이 0 몰％ 초과 ∼ 80 몰％ 이고,
상기 열 및/또는 자외선 조사에 의해 산을 발생시키는 화합물 (B) 가, 상기 공중합체 (A) 를 합성할 때에 사용한 상기 고리형 에테르기를 갖는 구성 단위 (b) 를 부여하는 중합성 모노머 100 질량부에 대해, 0.05 질량부 ∼ 20 질량부인 것을 특징으로 하는 컬러 필터용 감광성 수지 조성물.A copolymer (A) containing a structural unit (a) having an acid group, a structural unit (b) having a cyclic ether group, and a structural unit (c) derived from a radically polymerizable compound having an ethylenically unsaturated group, and a thermal and/or or a compound (B) that generates an acid by ultraviolet irradiation, a solvent (C), a reactive diluent (D), a photopolymerization initiator (E), and a colorant (F),
The structural unit (b) having the cyclic ether group is a structural unit derived from glycidyl (meth)acrylate,
The ratio of the constituent unit (a) having an acid group contained in the copolymer (A) is 5 mol% to 60 mol%, and the ratio of the constituent unit (b) having the cyclic ether group is 5 mol% to 70 mol%. %, and the proportion of structural units (c) derived from the radically polymerizable compound having an ethylenically unsaturated group is greater than 0 mol% to 80 mol%,
100 parts by mass of a polymerizable monomer that gives the structural unit (b) having the cyclic ether group used when the compound (B) that generates an acid by heat and/or ultraviolet irradiation synthesizes the copolymer (A) 0.05 part by mass to 20 parts by mass relative to the photosensitive resin composition for color filters, characterized in that. 제 1 항에 있어서,
상기 열 및/또는 자외선 조사에 의해 산을 발생시키는 화합물 (B) 가, 술포늄염인 컬러 필터용 감광성 수지 조성물.According to claim 1,
The photosensitive resin composition for color filters in which the compound (B) that generates an acid by irradiation with heat and/or ultraviolet rays is a sulfonium salt. 제 1 항에 있어서,
상기 공중합체 (A) 의 중량 평균 분자량이 1,000 ∼ 50,000 이고 또한 산가가 20 ∼ 300 KOH㎎/g 인 컬러 필터용 감광성 수지 조성물.According to claim 1,
The photosensitive resin composition for color filters whose weight average molecular weight of the said copolymer (A) is 1,000-50,000 and an acid value is 20-300 KOHmg/g. 제 1 항에 있어서,
상기 착색제 (F) 가, 안료를 함유하는 컬러 필터용 감광성 수지 조성물.According to claim 1,
The photosensitive resin composition for color filters in which the said coloring agent (F) contains a pigment. 제 1 항에 있어서,
상기 컬러 필터용 감광성 수지 조성물 중의 상기 용제 (C) 를 제외한 성분의 총합을 100 질량％ 로 했을 때에, 상기 공중합체 (A) 와 상기 열 및/또는 자외선 조사에 의해 산을 발생시키는 화합물 (B) 의 총합이 1 질량％ ∼ 50 질량％, 상기 반응성 희석제 (D) 가 1 질량％ ∼ 60 질량％, 상기 광중합 개시제 (E) 가 0.01 질량％ ∼ 15 질량％, 상기 착색제 (F) 가 20 질량％ ∼ 80 질량％ 이고, 상기 컬러 필터용 감광성 수지 조성물 중의 상기 용제 (C) 를 제외한 성분의 총합을 100 질량부로 했을 때에, 상기 용제 (C) 가 10 질량부 ∼ 800 질량부인 컬러 필터용 감광성 수지 조성물.According to claim 1,
When the total of the components except the solvent (C) in the photosensitive resin composition for color filters is 100% by mass, the copolymer (A) and the compound (B) that generates an acid by heat and/or ultraviolet irradiation 1% by mass to 50% by mass, the reactive diluent (D) is 1% to 60% by mass, the photopolymerization initiator (E) is 0.01% to 15% by mass, and the colorant (F) is 20% by mass to 80% by mass, and the solvent (C) is 10 to 800 parts by mass of the photosensitive resin composition for color filters, when the total of components except the solvent (C) in the photosensitive resin composition for color filters is 100 parts by mass. . 제 1 항 내지 제 8 항 중 어느 한 항에 기재된 컬러 필터용 감광성 수지 조성물의 경화물로 이루어지는 착색 패턴을 갖는 것을 특징으로 하는 컬러 필터.A color filter characterized by having a color pattern comprising a cured product of the photosensitive resin composition for color filters according to any one of claims 1 to 8. 제 9 항에 기재된 컬러 필터를 구비하는 것을 특징으로 하는 화상 표시 소자.An image display element comprising the color filter according to claim 9. 제 1 항 내지 제 8 항 중 어느 한 항에 기재된 컬러 필터용 감광성 수지 조성물을 기판에 도포하고, 노광하고, 알칼리 현상한 후, 150 ℃ 이하의 온도에서 베이킹하여 착색 패턴을 형성하는 공정을 포함하는 것을 특징으로 하는 컬러 필터의 제조 방법.A step of applying the photosensitive resin composition for a color filter according to any one of claims 1 to 8 to a substrate, exposing, alkali developing, and then baking at a temperature of 150 ° C. or less to form a colored pattern. Method for producing a color filter, characterized in that. 삭제delete 삭제delete 삭제delete 삭제delete 삭제delete
KR1020207020776A 2018-01-19 2018-10-12 Photosensitive resin composition for color filters, color filter, image display element, and manufacturing method of color filter KR102475680B1 (en)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2018007323 2018-01-19
JPJP-P-2018-007323 2018-01-19
PCT/JP2018/038112 WO2019142415A1 (en) 2018-01-19 2018-10-12 Photosensitive resin composition for color filter, color filter, image display element and method for manufacturing color filter

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20200091483A KR20200091483A (en) 2020-07-30
KR102475680B1 true KR102475680B1 (en) 2022-12-07

Family

ID=67301375

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020207020776A KR102475680B1 (en) 2018-01-19 2018-10-12 Photosensitive resin composition for color filters, color filter, image display element, and manufacturing method of color filter

Country Status (5)

Country Link
JP (1) JP7318533B2 (en)
KR (1) KR102475680B1 (en)
CN (1) CN111615650B (en)
TW (1) TWI794313B (en)
WO (1) WO2019142415A1 (en)

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2020095789A1 (en) * 2018-11-08 2020-05-14 昭和電工株式会社 Copolymer, and resin composition containing said copolymer
CN115803682A (en) * 2020-08-31 2023-03-14 富士胶片株式会社 Coloring composition, hardening film, color filter and display device

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2000321416A (en) * 1999-05-10 2000-11-24 Jsr Corp Radiation sensitive composition for color filter and color filter utilizing the same

Family Cites Families (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP1031579B1 (en) * 1999-02-26 2005-07-27 Showa Denko Kabushiki Kaisha Photopolymerization initiator for color filter, photosensitive coloring composition, and color filter
JP2006154850A (en) 2006-01-23 2006-06-15 Toppan Printing Co Ltd Color filter
JP4710703B2 (en) * 2006-04-21 2011-06-29 Ｊｓｒ株式会社 Radiation-sensitive composition for forming colored layer, color filter, and color liquid crystal display element
JP4788485B2 (en) * 2006-06-13 2011-10-05 住友化学株式会社 Colored photosensitive resin composition
TWI437025B (en) * 2009-08-14 2014-05-11 Asahi Kasei E Materials Corp An alkali-soluble polymer, a photosensitive resin composition comprising the same, and a use thereof
TW201302921A (en) * 2011-05-30 2013-01-16 Nippon Kayaku Kk Pigment for color filter, colored resin composition using the same and color filter comprising the resin composition
JP5857578B2 (en) 2011-09-22 2016-02-10 Jsr株式会社 Color filter, liquid crystal display element, and method of manufacturing color filter
JP2013203955A (en) 2012-03-29 2013-10-07 Sumitomo Chemical Co Ltd Colored curable resin composition
JP6107030B2 (en) 2012-09-28 2017-04-05 大日本印刷株式会社 Method for producing molded body and method for curing photosensitive resin composition
JP6136727B2 (en) 2013-08-02 2017-05-31 Jsr株式会社 Radiation sensitive resin composition, cured film, method for forming the same, and display element
TWI477539B (en) * 2014-02-13 2015-03-21 Chi Mei Corp Alkali-solutable resin, photosensitive resin composition, color filter and method for manufacturing the same, liquid crystal display apparatus
JP6333946B2 (en) * 2014-02-20 2018-05-30 富士フイルム株式会社 Photosensitive resin composition, cured product and manufacturing method thereof, resin pattern manufacturing method, cured film, liquid crystal display device, organic EL display device, infrared cut filter, and solid-state imaging device
JP2018087956A (en) * 2016-04-26 2018-06-07 Jsr株式会社 Method for manufacturing color hardening film, and method for forming pixel pattern of color filter

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2000321416A (en) * 1999-05-10 2000-11-24 Jsr Corp Radiation sensitive composition for color filter and color filter utilizing the same

Also Published As

Publication number Publication date
WO2019142415A1 (en) 2019-07-25
TWI794313B (en) 2023-03-01
JP7318533B2 (en) 2023-08-01
CN111615650B (en) 2022-01-11
KR20200091483A (en) 2020-07-30
JPWO2019142415A1 (en) 2021-01-14
TW201932496A (en) 2019-08-16
CN111615650A (en) 2020-09-01

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR102121255B1 (en) (meth)acrylate-based polymer, composition comprising same and use thereof
JP5736038B2 (en) Copolymer, resin composition and photosensitive resin composition containing the copolymer, and color filter
JP5588503B2 (en) Addition copolymer, photosensitive resin composition, and color filter
JP7306267B2 (en) Photosensitive resin composition
TWI653248B (en) Resin composition for color filter, method for producing same, and color filter
JP7364020B2 (en) Photosensitive resin composition
KR102146622B1 (en) Photosensitive resin composition for forming black column spacers, black column spacers, and image display devices
KR102475680B1 (en) Photosensitive resin composition for color filters, color filter, image display element, and manufacturing method of color filter
TWI669319B (en) Resin composition, photosensitive resin composition, resin cured film, and image display element
WO2016103844A1 (en) Resin composition, color filter and method for producing same, and image display element
WO2014050633A1 (en) Resin composition, photosensitive resin composition, and color filter
CN116529670A (en) Photosensitive resin composition and method for producing photosensitive resin composition
TW202235514A (en) Pigment dispersion composition and photosensitive coloring composition
KR102665008B1 (en) Photosensitive resin composition, resin cured film, and image display device
JP2019031627A (en) Alkali-soluble resin, photosensitive resin composition for color filter containing the same, and color filter
WO2017022299A1 (en) Curable (meth)acrylate polymer, curable composition, color filter, and image display device

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant