KR102462878B1 - Reactive polycarboxylic acid compound, active energy ray curable resin composition using same and cured product thereof, and use thereof - Google Patents

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Abstract

(과제) 본 발명은, 내열성, 현상성이 우수한 경화 피막을 부여하는 활성 에너지선 경화형 수지 조성물을 제공하는 것을 목적으로 한다.
(해결 수단) 하기식 (1)로 나타나는 에폭시 수지 (a)에, 1분자 중에 중합 가능한 에틸렌성 불포화기와 카복시기를 겸비하는 카본산 화합물 (b), 필요에 따라서 1분자 중에 수산기와 카복시기를 겸비하는 화합물 (c)를 반응시켜 얻어지는 반응성 에폭시카복실레이트 화합물 (d)를, 하기식 (2) 또는 식 (3)으로 나타나는 다염기산 무수물 (e)와 반응시킨 반응성 폴리카본산 화합물 (A).

Figure 112018038934291-pat00013

(식 중, n은 평균값을 나타내고 0∼10의 수를 나타낸다. P 및 R은 각각 독립적으로 수소 원자, 할로겐 원자, 탄소수 1∼8의 알킬기, 아릴기 중 어느 것을 나타내고, 복수의 P 및 R은 서로 동일해도 상이해도 좋다. G는 글리시딜기를 나타낸다.)
Figure 112018038934291-pat00014

(식 (2) 중 R1은, 각각 독립적으로 수소 원자, 탄소수 1∼10의 알킬기를 나타낸다. m은 1∼3의 정수를 나타낸다.)(Project) An object of this invention is to provide the active-energy-ray-curable resin composition which provides the cured film excellent in heat resistance and developability.
(Solution means) In the epoxy resin (a) represented by the following formula (1), a carbonic acid compound (b) having a polymerizable ethylenically unsaturated group and a carboxyl group in one molecule, optionally having a hydroxyl group and a carboxyl group in one molecule A reactive polycarboxylic acid compound (A) in which the reactive epoxy carboxylate compound (d) obtained by reacting the compound (c) is reacted with the polybasic acid anhydride (e) represented by the following formula (2) or (3).
Figure 112018038934291-pat00013

(Wherein, n represents an average value and represents a number from 0 to 10. P and R each independently represent any of a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, or an aryl group, and a plurality of P and R are They may be the same or different from each other. G represents a glycidyl group.)
Figure 112018038934291-pat00014

(In Formula (2), R 1 each independently represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms. m represents an integer of 1 to 3.)

Description

반응성 폴리카본산 화합물, 그것을 이용한 활성 에너지선 경화형 수지 조성물, 그의 경화물 및 그의 용도{REACTIVE POLYCARBOXYLIC ACID COMPOUND, ACTIVE ENERGY RAY CURABLE RESIN COMPOSITION USING SAME AND CURED PRODUCT THEREOF, AND USE THEREOF}Reactive polycarboxylic acid compound, active energy ray-curable resin composition using same, cured product thereof, and use thereof

본 발명은, 신규의 반응성 폴리카본산 화합물 (A), 그것을 함유하는 활성 에너지선 경화형 수지 조성물, 그의 경화물에 관한 것이다. 특히, 컬러 레지스트, 컬러 필터용의 레지스트 재료, 블랙 매트릭스 재료로서도 적용 가능한 레지스트 재료로서 적합한 신규의 반응성 폴리카본산 화합물, 그것을 함유하는 활성 에너지선 경화형 수지 조성물, 그의 경화물에 관한 것이다.The present invention relates to a novel reactive polycarboxylic acid compound (A), an active energy ray-curable resin composition containing the same, and a cured product thereof. In particular, it relates to a novel reactive polycarboxylic acid compound suitable as a resist material applicable also as a color resist, a resist material for a color filter, and a black matrix material, an active energy ray-curable resin composition containing the same, and a cured product thereof.

프린트 배선판은 휴대 기기의 소형 경량화나 통신 속도의 향상을 목표로 하여, 고정밀도, 고밀도화가 요구되고 있고, 그에 수반하여 그의 회로 자체를 피복 하는 솔더 레지스트로의 요구도 점점 고도가 되어, 종래의 요구보다도, 더욱 내열성, 열 안정성을 유지하면서 기판 밀착성, 고절연성, 무전해 금 도금성에 견딜 수 있는 성능이 요구되고 있고, 보다 강인한 경화물성을 갖는 피막 형성용 재료가 요구되고 있다.Printed wiring boards are required to achieve high precision and high density for the purpose of reducing the size and weight of portable devices and improving the communication speed. Furthermore, performance that can withstand substrate adhesion, high insulation, and electroless gold plating while maintaining heat resistance and thermal stability is required, and a film forming material having stronger cured properties is required.

이들 재료로서, 일반적인 에폭시 수지에, 수산기와 카본산기를 갖는 화합물과 아크릴산을 반응시켜 얻어지는 카복실레이트 화합물이, 저산가이면서 우수한 현상성을 갖는 재료로서 공지이고, 또한 이 화합물이 레지스트 잉크 적성을 갖는 것은 알려져 있다(특허문헌 1).As these materials, a carboxylate compound obtained by reacting a compound having a hydroxyl group and a carboxylic acid group with acrylic acid in a general epoxy resin is known as a material having a low acid value and excellent developability, and it is also known that this compound has resistance ink ability. There is (Patent Document 1).

한편, 페놀아르알킬형 에폭시 수지(예를 들면 닛폰카야쿠 제조 NC-3000 등)를 기본 골격으로 한 산 변성 에폭시아크릴레이트는, 경화 후에 높은 강인성을 나타내는 재료로서 일반적으로 공지이고, 또한 이것을 이용한 솔더 레지스트로서의 용도에 대해서도 검토가 행해지고 있다(특허문헌 2). On the other hand, acid-modified epoxy acrylates based on a phenol aralkyl-type epoxy resin (eg, NC-3000 manufactured by Nippon Kayaku, etc.) as a basic skeleton are generally known as materials exhibiting high toughness after curing, and solder using the same. The use as a resist is also studied (patent document 2).

이 외에, 페놀아르알킬형 에폭시 수지를 기본 골격으로 한 산 변성 에폭시아크릴레이트에 카본 블랙 등을 분산시켜 액정 표시 패널 등에 이용되는 블랙 매트릭스 레지스트에 응용하는 시도도 알려져 있다(특허문헌 3).In addition, carbon black etc. are disperse|distributed to the acid-modified epoxy acrylate which made a phenol aralkyl type epoxy resin basic skeleton, and the trial which applied to the black matrix resist used for liquid crystal display panels etc. is also known (patent document 3).

일본공개특허공보 평06-324490호Japanese Laid-Open Patent Publication No. 06-324490 일본공개특허공보 평09-211860호Japanese Laid-Open Patent Publication No. 09-211860 일본공개특허공보 2005-055814호Japanese Laid-Open Patent Publication No. 2005-055814

그러나, 페놀아르알킬형 에폭시 수지를 기본 골격으로 한 산 변성 에폭시아크릴레이트는 카본 블랙 등의 착색 안료가 양호하게 수지와 친화하여 안료가 분산되기는 하지만, 현상성이 나빠, 보다 고안료 농도에서의 현상성을 갖고 있는 것이 필요하다.However, in acid-modified epoxy acrylates having a phenol aralkyl-type epoxy resin as a basic skeleton, color pigments such as carbon black have good affinity with the resin, and although pigments are dispersed, developability is poor, and development at high paint concentration It is necessary to have a gender.

그래서, 본 발명은, 상기의 종래 기술의 문제점을 개선하여, 착색 안료 등의 분산성이 우수하고, 또한 높은 안료 농도에서도 양호한 현상 특성을 갖는 산 변성 에폭시아크릴레이트 화합물 및, 그것을 함유하는 활성 에너지선 경화형 수지 조성물 및 그의 경화물을 제공하는 것을 목적으로 한다.Then, this invention improves the problem of the said prior art, and is excellent in dispersibility of a colored pigment etc., and also has favorable development characteristic even at high pigment concentration, an acid-modified epoxy acrylate compound, and an active energy ray containing the same. An object of the present invention is to provide a curable resin composition and a cured product thereof.

본 발명자들은 상기 과제를 해결하기 위해, 예의 검토를 행한 결과, 페놀아르알킬형 에폭시 수지와 불포화기 함유 카본산, 필요에 따라서 1분자 중에 수산기와 카복시기를 겸비하는 화합물의 반응물을, 특정의 다염기산 무수물과의 반응물을 이용한 수지 조성물이 상기 과제를 해결하는 것을 발견하여, 본 발명에 도달했다.In order to solve the said subject, as a result of earnestly examining the said inventors, as a result, the reaction product of a phenol aralkyl type epoxy resin, an unsaturated group-containing carboxylic acid, and a compound which has both a hydroxyl group and a carboxy group in one molecule as needed is a specific polybasic acid anhydride. It discovered that the resin composition using the reaction material of the above-mentioned problem was solved, and this invention was reached|attained.

즉, 본 발명은,That is, the present invention is

[1] 하기식 (1)로 나타나는 에폭시 수지 (a)에, 1분자 중에 중합 가능한 에틸렌성 불포화기와 카복시기를 겸비하는 카본산 화합물 (b), 필요에 따라서 1분자 중에 수산기와 카복시기를 겸비하는 화합물 (c)를 반응시켜 얻어지는 반응성 에폭시카복실레이트 화합물 (d)를, 하기식 (2) 또는 식 (3)으로 나타나는 다염기산 무수물 (e)와 반응시킨 반응성 폴리카본산 화합물 (A),[1] A carboxylic acid compound (b) having both an ethylenically unsaturated group and a carboxy group that can be polymerized in one molecule to the epoxy resin (a) represented by the following formula (1), and optionally a compound having a hydroxyl group and a carboxy group in one molecule A reactive polycarboxylic acid compound (A) in which the reactive epoxycarboxylate compound (d) obtained by reacting (c) is reacted with a polybasic acid anhydride (e) represented by the following formula (2) or (3);

Figure 112018038934291-pat00001
Figure 112018038934291-pat00001

(식 중, n은 평균값을 나타내고 0∼10의 수를 나타낸다. P 및 R은 각각 독립적으로 수소 원자, 할로겐 원자, 탄소수 1∼8의 알킬기, 아릴기 중 어느 것을 나타내고, 복수의 P 및 R은 서로 동일해도 상이해도 좋다. G는 글리시딜기를 나타낸다.)(Wherein, n represents an average value and represents a number from 0 to 10. P and R each independently represent any of a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, or an aryl group, and a plurality of P and R are They may be the same or different from each other. G represents a glycidyl group.)

Figure 112018038934291-pat00002
Figure 112018038934291-pat00002

(식 (2) 중 R1은, 각각 독립적으로 수소 원자, 탄소수 1∼10의 알킬기를 나타낸다. m은 1∼3의 정수를 나타낸다.)(In Formula (2), R 1 each independently represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms. m represents an integer of 1 to 3.)

[2] 전항 [1]에 기재된 반응성 폴리카본산 화합물 (A)를 포함하는 활성 에너지선 경화형 수지 조성물,[2] An active energy ray-curable resin composition comprising the reactive polycarboxylic acid compound (A) according to the preceding item [1];

[3] 상기 반응성 폴리카본산 화합물 (A) 이외의 반응성 화합물 (B)를 포함하는 전항 [2]에 기재된 활성 에너지선 경화형 수지 조성물,[3] The active energy ray-curable resin composition according to [2], comprising a reactive compound (B) other than the reactive polycarboxylic acid compound (A);

[4] 광 중합 개시제를 포함하는 전항 [2] 또는 [3]에 기재된 활성 에너지선 경화형 수지 조성물,[4] The active energy ray-curable resin composition according to the preceding [2] or [3] containing a photopolymerization initiator;

[5] 성형용 재료인 전항 [2]∼[4] 중 어느 한 항에 기재된 활성 에너지선 경화형 수지 조성물,[5] The active energy ray-curable resin composition according to any one of [2] to [4], which is a molding material;

[6] 피막 형성용 재료인 전항 [2]∼[4] 중 어느 한 항에 기재된 활성 에너지선 경화형 수지 조성물,[6] The active energy ray-curable resin composition according to any one of [2] to [4], which is a material for forming a film;

[7] 레지스트 재료 조성물인 전항 [2]∼[4] 중 어느 한 항에 기재된 활성 에너지선 경화형 수지 조성물,[7] The active energy ray-curable resin composition according to any one of [2] to [4], which is a resist material composition;

[8] 전항 [2]∼[7] 중 어느 한 항에 기재된 활성 에너지선 경화형 수지 조성물의 경화물,[8] A cured product of the active energy ray-curable resin composition according to any one of [2] to [7],

[9] 전항 [8]에 기재된 경화물로 오버 코팅된 물품,[9] An article overcoated with the cured product according to [8] above;

에 관한 것이다.is about

본 발명의 반응성 폴리카본산 화합물 (A)를 포함하는 활성 에너지선 경화형 수지 조성물은 강인한 경화물을 얻을 뿐만 아니라, 용제를 건조시켰을 뿐인 상태에 있어서도 우수한 수지 물성을 갖고 있다. 또한, 본 발명의 활성 에너지선 경화형 수지 조성물을 자외선 등의 활성 에너지선 등에 의해 경화하여 얻어지는 경화물은, 내열성이 우수하고, 미세하게 알칼리 현상 가능한 점에서 성형용 재료, 피막 형성용 재료, 레지스트 재료에 적합하다.The active energy ray-curable resin composition containing the reactive polycarboxylic acid compound (A) of the present invention not only obtains a tough cured product, but also has excellent resin properties even in a state in which the solvent is only dried. In addition, the cured product obtained by curing the active energy ray-curable resin composition of the present invention with active energy rays such as ultraviolet rays, etc., has excellent heat resistance and can develop finely with alkali. suitable for

또한, 착색 안료와의 높은 친화성으로부터, 본 발명의 반응성 폴리카본산 화합물 및 그것을 포함하는 활성 에너지선 경화형 수지 조성물은 높은 안료 농도에 있어서도 양호한 현상성을 발휘하는 점에서, 컬러 레지스트, 컬러 필터용의 레지스트 재료, 특히 블랙 매트릭스 재료 등에 적합하다.In addition, from the high affinity with the colored pigment, the reactive polycarboxylic acid compound of the present invention and the active energy ray-curable resin composition containing the same exhibit good developability even at a high pigment concentration, for color resists and color filters. of resist materials, especially black matrix materials, etc.

또한, 본 발명의 반응성 폴리카본산 화합물 (A)를 포함하는 활성 에너지선 경화형 수지 조성물은 열적 및 기계적인 강인성, 양호한 보존 안정성, 나아가서는 고온 고습이나 냉열 충격에 견디는 높은 신뢰성을 갖는 점에서, 특히 높은 신뢰성을 요구하는 프린트 배선판용 솔더 레지스트, 다층 프린트 배선판용 층간 절연 재료, 플렉시블 프린트 배선판용 솔더 레지스트, 도금 레지스트, 감광성 광 도파로 등의 용도에도 이용된다. In addition, the active energy ray-curable resin composition containing the reactive polycarboxylic acid compound (A) of the present invention has thermal and mechanical toughness, good storage stability, and high reliability to withstand high temperature, high humidity, and cold thermal shock. It is also used for applications such as solder resists for printed wiring boards requiring high reliability, interlayer insulating materials for multilayer printed wiring boards, solder resists for flexible printed wiring boards, plating resists, and photosensitive optical waveguides.

(발명을 실시하기 위한 형태)(Form for implementing the invention)

이하, 본 발명에 대해서 상세하게 설명한다.EMBODIMENT OF THE INVENTION Hereinafter, this invention is demonstrated in detail.

본 발명의 반응성 폴리카본산 화합물 (A)는, 하기식 (1)로 나타나는 구조를 갖는 에폭시 수지 (a)와, 1분자 중에 중합 가능한 에틸렌성 불포화기와 카복시기를 겸비하는 카본산 화합물 (b), 필요에 따라서 1분자 중에 수산기와 카복시기를 겸비하는 화합물 (c)를 반응시켜, 반응성 에폭시카복실레이트 화합물 (d)를 얻는다. 이어서, 하기식 (2) 또는 식 (3)으로 나타나는 다염기산 무수물 (e)를 반응시킴으로써 얻을 수 있다.The reactive polycarboxylic acid compound (A) of the present invention includes an epoxy resin (a) having a structure represented by the following formula (1), and a carbonic acid compound having both an ethylenically unsaturated group and a carboxyl group that can be polymerized in one molecule (b); If necessary, the compound (c) which has both a hydroxyl group and a carboxy group in 1 molecule is made to react, and a reactive epoxy carboxylate compound (d) is obtained. Then, it can obtain by making the polybasic acid anhydride (e) represented by following formula (2) or Formula (3) react.

Figure 112018038934291-pat00003
Figure 112018038934291-pat00003

(식 중, n은 평균값을 나타내고 0∼10의 수를 나타낸다. P 및 R은 각각 독립적으로 수소 원자, 할로겐 원자, 탄소수 1∼8의 알킬기, 아릴기 중 어느 것을 나타내고, 복수의 P 및 R은 서로 동일해도 상이해도 좋다. G는 글리시딜기를 나타낸다.)(Wherein, n represents an average value and represents a number from 0 to 10. P and R each independently represent any of a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, or an aryl group, and a plurality of P and R are They may be the same or different from each other. G represents a glycidyl group.)

Figure 112018038934291-pat00004
Figure 112018038934291-pat00004

(식 (2) 중 R1은, 각각 독립적으로 수소 원자, 탄소수 1∼10의 알킬기를 나타낸다. m은 1∼3의 정수를 나타낸다.)(In Formula (2), R 1 each independently represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms. m represents an integer of 1 to 3.)

우선, 카복실레이트 화합물에 반응성을 부여시켜, 반응성 에폭시카복실레이트 화합물 (d)를 얻기 위한, 카복실레이트화 공정에 대해서 설명한다.First, the carboxylate-ization process for providing reactivity to a carboxylate compound and obtaining a reactive epoxy carboxylate compound (d) is demonstrated.

본 발명에 있어서 이용하는 상기식 (1)로 나타나는 에폭시 수지 (a)(이하, 간단히 「에폭시 수지 (a)」라고도 나타냄)는, 여러 가지의 상품명으로, 예를 들면, NC-3000(닛폰카야쿠(주) 제조) 등으로서, 일반적으로 입수 가능하다.Epoxy resin (a) (hereinafter also simply referred to as "epoxy resin (a)") represented by the formula (1) used in the present invention is various brand names, for example, NC-3000 (Nippon Kayaku). (manufactured by Co., Ltd.), etc., are generally available.

본 발명에 있어서, 1분자 중에 중합 가능한 에틸렌성 불포화기와 카복시기를 겸비하는 카본산 화합물 (b)(이하, 간단히 「카본산 화합물 (b)」라고도 나타냄)는, 활성 에너지선으로의 반응성을 부여시키기 위해 반응시키는 것이다. 에틸렌성 불포화기와 카복시기는 각각 분자 내에 1개 이상 있는 것이면 제한은 없다.In the present invention, the carbonic acid compound (b) having both an ethylenically unsaturated group and a carboxyl group that can be polymerized in one molecule (hereinafter also simply referred to as “carboxylic acid compound (b)”) is used to impart reactivity to an active energy ray. to react for The ethylenically unsaturated group and the carboxy group are not limited as long as there is at least one in each molecule.

1분자 중에 중합 가능한 에틸렌성 불포화기와 카복시기를 겸비하는 카본산 화합물 (b)로서는, 예를 들면, (메타)아크릴산류나 크로톤산, α-시아노신남산, 신남산, 혹은 포화 또는 불포화 2염기산과 불포화기 함유 모노글리시딜 화합물의 반응물 등을 들 수 있다. 상기에 있어서 (메타)아크릴산류로서는, 예를 들면 (메타)아크릴산, β-스티릴아크릴산, β-푸르푸릴아크릴산, (메타)아크릴산 2량체, 포화 또는 불포화 2염기산 무수물과 1분자 중에 1개의 수산기를 갖는 (메타)아크릴레이트 유도체와의 당몰 반응물인 반(半)에스테르류, 포화 또는 불포화 2염기산과 모노글리시딜(메타)아크릴레이트 유도체류의 당몰 반응물인 반에스테르류 등의 1분자 중에 카복시기를 1개 포함하는 모노카본산 화합물, 추가로 1분자 중에 복수의 수산기를 갖는 (메타)아크릴레이트 유도체와의 당몰 반응물인 반에스테르류, 포화 또는 불포화 2염기산과 복수의 에폭시기를 갖는 글리시딜(메타)아크릴레이트 유도체류의 당몰 반응물인 반에스테르류 등의 1분자 중에 카복시기를 복수 갖는 폴리카본산 화합물 등을 들 수 있다.As the carbonic acid compound (b) having both an ethylenically unsaturated group and a carboxyl group that can be polymerized in one molecule, for example, (meth)acrylic acid, crotonic acid, α-cyanocinnamic acid, cinnamic acid, or saturated or unsaturated dibasic acid and unsaturated and a reaction product of a group-containing monoglycidyl compound. In the above (meth)acrylic acids, for example, (meth)acrylic acid, β-styryl acrylic acid, β-furfuryl acrylic acid, (meth)acrylic acid dimer, saturated or unsaturated dibasic acid anhydride and one molecule per molecule. In one molecule, such as half esters, which are sugar molar reactants with (meth)acrylate derivatives having a hydroxyl group, and half esters, which are sugar molar reactants of saturated or unsaturated dibasic acids and monoglycidyl (meth)acrylate derivatives, etc. A monocarboxylic acid compound containing one carboxyl group, half-esters that are sugar molar reactants with a (meth)acrylate derivative having a plurality of hydroxyl groups in one molecule, and glycidyl having a plurality of epoxy groups with a saturated or unsaturated dibasic acid and polycarboxylic acid compounds having a plurality of carboxyl groups in one molecule, such as half esters which are sugar molar reactants of (meth)acrylate derivatives.

이들 중, 에폭시 수지 (a)와 카본산 화합물 (b)의 반응의 안정성을 고려하면, 카본산 화합물 (b)로서는 모노카본산인 것이 바람직하고, 모노카본산과 폴리카본산을 병용하는 경우에서도, 모노카본산의 몰량/폴리카본산의 몰량으로 나타나는 값이 15 이상인 것이 바람직하다.Among these, when the stability of the reaction between the epoxy resin (a) and the carboxylic acid compound (b) is considered, the carbonic acid compound (b) is preferably a monocarboxylic acid, and even when monocarboxylic acid and polycarboxylic acid are used together, mono It is preferable that the value represented by the molar amount of carboxylic acid/molar amount of polycarboxylic acid is 15 or more.

가장 바람직하게는, 활성 에너지선 경화형 수지 조성물로 했을 때의 감도의 점에서 (메타)아크릴산, (메타)아크릴산과 ε-카프로락톤의 반응 생성물 또는 신남산을 들 수 있다.Most preferably, (meth)acrylic acid, the reaction product of (meth)acrylic acid, and (epsilon)-caprolactone, or cinnamic acid is mentioned from the point of sensitivity when it is set as an active energy ray-curable resin composition.

1분자 중에 1개 이상의 중합 가능한 에틸렌성 불포화기와 1개 이상의 카복시기를 겸비하는 화합물로서는, 화합물 중에 수산기를 갖지 않는 것이 바람직하다.As a compound having at least one polymerizable ethylenically unsaturated group and at least one carboxy group in one molecule, it is preferable not to have a hydroxyl group in the compound.

본 발명에 있어서 이용되는 1분자 중에 수산기와 카복시기를 겸비하는 화합물 (c)(이하, 간단히 「화합물 (c)」라고도 나타냄)는, 카복실레이트 화합물 중에 수산기를 도입하는 것을 목적으로 하여 반응시키는 것이다. 이들에는, 1분자 중에 1개의 수산기와 1개의 카복시기를 겸비하는 화합물, 1분자 중에 2개 이상의 수산기와 1개의 카복시기를 겸비하는 화합물, 1분자 중에 1개 이상의 수산기와 2개 이상의 카복시기를 겸비하는 화합물이 있다.The compound (c) having both a hydroxyl group and a carboxy group in one molecule used in the present invention (hereinafter, simply referred to as "compound (c)") is made to react for the purpose of introducing a hydroxyl group into the carboxylate compound. These include a compound having one hydroxyl group and one carboxy group in one molecule, a compound having two or more hydroxyl groups and one carboxy group in one molecule, and a compound having one or more hydroxyl group and two or more carboxy groups in one molecule. There is this.

1분자 중에 1개의 수산기와 1개의 카복시기를 겸비하는 화합물로서는, 예를 들면 하이드록시프로피온산, 하이드록시부탄산, 하이드록시스테아르산 등을 들 수 있다. 또한 1분자 중에 2개 이상의 수산기와 1개의 카복시기를 겸비하는 화합물로서는, 디메틸올아세트산, 디메틸올프로피온산, 디메틸올부탄산 등을 들 수 있다. 1분자 중에 1개 이상의 수산기와 2개 이상의 카복시기를 겸비하는 화합물로서는 하이드록시프탈산 등을 들 수 있다.As a compound which has one hydroxyl group and one carboxy group in 1 molecule, hydroxypropionic acid, hydroxybutanoic acid, hydroxystearic acid, etc. are mentioned, for example. Moreover, as a compound which has two or more hydroxyl groups and one carboxy group in 1 molecule, dimethylol acetic acid, dimethylol propionic acid, dimethylol butanoic acid, etc. are mentioned. Hydroxyphthalic acid etc. are mentioned as a compound which has 1 or more hydroxyl group and 2 or more carboxy groups in 1 molecule.

이들 중, 수산기는 1분자 중에 2개 이상 포함되는 것이, 본 발명의 효과를 고려하면 바람직하다. 또한, 카복시기는 1분자 중 1개인 것이 카복실레이트화 반응의 안정성을 고려하면 바람직하다. 가장 바람직하게는, 1분자 중에 2개의 수산기와 1개의 카복시기를 갖는 것이 바람직하다. 원재료의 입수를 고려하면, 디메틸올프로피온산과 디메틸올부탄산이 특히 적합하다.Among them, it is preferable that two or more hydroxyl groups are contained in one molecule in consideration of the effect of the present invention. Moreover, when the stability of a carboxylation reaction is taken into consideration that a carboxyl group is one in 1 molecule, it is preferable. Most preferably, it is preferable to have two hydroxyl groups and one carboxy group in one molecule. Considering the availability of raw materials, dimethylolpropionic acid and dimethylolbutanoic acid are particularly suitable.

1분자 중에 1개 이상의 수산기와 1개 이상의 카복시기를 겸비하는 화합물로서는, 화합물 중에 중합 가능한 에틸렌성 불포화기를 갖지 않는 것이 바람직하다.As a compound which has both a 1 or more hydroxyl group and 1 or more carboxy group in 1 molecule, it is preferable not to have an ethylenically unsaturated group which can superpose|polymerize in a compound.

이 카복실레이트화 반응에 있어서의 에폭시 수지 (a)와 카본산 화합물 (b) 및 화합물 (c)의 투입 비율로서는, 용도에 따라서 적절히 변경되어야 하는 것이다. 즉, 모든 에폭시기를 카복실레이트화한 경우는, 미반응의 에폭시기가 잔존하지 않기 때문에, 반응성 에폭시카복실레이트 화합물 (d)로서의 보존 안정성은 높다. 이 경우는, 도입한 이중 결합에 의한 반응성만을 이용하게 된다.As an injection|throwing-in ratio of the epoxy resin (a) in this carboxylation reaction, a carbonic acid compound (b), and a compound (c), it should change suitably according to a use. That is, since an unreacted epoxy group does not remain|survive when all the epoxy groups are carboxylate-ized, the storage stability as a reactive epoxy carboxylate compound (d) is high. In this case, only the reactivity due to the introduced double bond is utilized.

한편, 카본산 화합물 (b) 및 화합물 (c)의 투입량을 감량하여, 미반응의 잔존 에폭시기를 남김으로써, 도입한 불포화 결합에 의한 반응성과, 잔존하는 에폭시기에 의한 반응, 예를 들면 광 양이온 촉매에 의한 중합 반응이나 열 중합 반응을 복합적으로 이용하는 것도 가능하다. 그러나, 이 경우는 반응성 에폭시카복실레이트 화합물 (d)의 보존 및 제조 조건의 검토에는 주의를 기울여야 한다.On the other hand, by reducing the input amount of the carbonic acid compound (b) and compound (c) to leave an unreacted residual epoxy group, the reactivity by the introduced unsaturated bond and the reaction by the remaining epoxy group, for example, a photocationic catalyst It is also possible to use a polymerization reaction or a thermal polymerization reaction in combination. However, in this case, attention should be paid to the preservation of the reactive epoxycarboxylate compound (d) and examination of the production conditions.

에폭시기를 잔존시키지 않는 반응성 에폭시카복실레이트 화합물 (d)를 제조하는 경우, 카본산 화합물 (b) 및 화합물 (c)의 총계가, 에폭시 수지 (a) 1당량에 대하여 90∼120당량%인 것이 바람직하다. 이 범위이면 비교적 안정적인 조건에서의 제조가 가능하다. 이보다도 카본산 화합물의 투입량이 많은 경우에는, 과잉의 카본산 화합물 (b) 및 화합물 (c)가 잔존해 버리기 때문에 바람직하지 않다.In the case of producing a reactive epoxy carboxylate compound (d) that does not leave an epoxy group, it is preferable that the total amount of the carbonic acid compound (b) and the compound (c) is 90 to 120 equivalent % with respect to 1 equivalent of the epoxy resin (a). do. If it is this range, manufacture under relatively stable conditions is possible. When there is much input amount of a carbonic acid compound than this, since excess carbonic acid compound (b) and compound (c) will remain|survive, it is unpreferable.

또한, 에폭시기를 잔류시키는 경우에는, 카본산 화합물 (b) 및 화합물 (c)의 총계가, 에폭시 수지 (a) 1당량에 대하여 20∼90당량%인 것이 바람직하다. 이것의 범위를 일탈하는 경우에는, 복합 경화의 효과가 약해진다. 물론 이 경우는, 반응 중의 겔화나, 반응성 에폭시카복실레이트 화합물 (d)의 시간 경과 안정성에 대하여 충분한 주의가 필요하다.Moreover, when leaving an epoxy group, it is preferable that the total of a carbonic acid compound (b) and a compound (c) is 20-90 equivalent% with respect to 1 equivalent of an epoxy resin (a). When it deviates from this range, the effect of composite hardening becomes weak. Of course, in this case, sufficient attention is required for gelation during the reaction and stability over time of the reactive epoxycarboxylate compound (d).

카복실레이트화 반응은, 무용제로 반응시키거나, 또는 용제로 희석하여 반응시킬 수도 있다. 여기에서 이용할 수 있는 용제로서는, 카복실레이트화 반응에 대하여 이너트 용제이면 특별히 한정은 없다.Carboxylation reaction may be made to react without a solvent, or it can also be made to react by diluting with a solvent. As a solvent which can be used here, if it is an inert solvent with respect to a carboxylation reaction, there will be no limitation in particular.

바람직한 용제의 사용량은, 얻어지는 수지의 점도나 용도에 따라 적절히 조정되어야 하는 것이지만, 바람직하게는 고형분 함유율 90∼30질량%, 보다 바람직하게는 80∼50질량%가 되도록 사용된다.Although the preferable usage-amount of a solvent should be suitably adjusted according to the viscosity and use of resin obtained, Preferably it is 90-30 mass % of solid content content, More preferably, it is used so that it may become 80-50 mass %.

구체적으로 예시하면, 예를 들면 톨루엔, 자일렌, 에틸벤젠, 테트라메틸벤젠 등의 방향족계 탄화수소 용제, 헥산, 옥탄, 데칸 등의 지방족계 탄화수소 용제 및, 그들의 혼합물인 석유 에테르, 화이트 가솔린, 솔벤트 나프타 등, 에스테르계 용제, 에테르계 용제, 케톤계 용제 등을 들 수 있다.Specifically, for example, aromatic hydrocarbon solvents such as toluene, xylene, ethylbenzene, and tetramethylbenzene, aliphatic hydrocarbon solvents such as hexane, octane, and decane, and mixtures thereof such as petroleum ether, white gasoline, solvent naphtha etc., an ester solvent, an ether solvent, a ketone solvent, etc. are mentioned.

에스테르계 용제로서는, 아세트산 에틸, 아세트산 프로필, 아세트산 부틸 등의 알킬아세테이트류, γ-부티로락톤 등의 환상 에스테르류, 에틸렌글리콜모노메틸에테르아세테이트, 디에틸렌글리콜모노메틸에테르모노아세테이트, 디에틸렌글리콜모노에틸에테르모노아세테이트, 트리에틸렌글리콜모노에틸에테르모노아세테이트, 디에틸렌글리콜모노부틸에테르모노아세테이트, 프로필렌글리콜모노메틸에테르모노아세테이트, 부틸렌글리콜모노메틸에테르아세테이트 등의 모노, 또는 폴리알킬렌글리콜모노알킬에테르모노아세테이트류, 글루타르산 디알킬, 숙신산 디알킬, 아디프산 디알킬 등의 폴리카본산 알킬에스테르류 등을 들 수 있다.Examples of the ester solvent include alkyl acetates such as ethyl acetate, propyl acetate, and butyl acetate, cyclic esters such as γ-butyrolactone, ethylene glycol monomethyl ether acetate, diethylene glycol monomethyl ether monoacetate, and diethylene glycol monoacetate. Mono or polyalkylene glycol monoalkyl ethers such as ethyl ether monoacetate, triethylene glycol monoethyl ether monoacetate, diethylene glycol monobutyl ether monoacetate, propylene glycol monomethyl ether monoacetate, and butylene glycol monomethyl ether acetate and polycarboxylic acid alkyl esters such as monoacetates, dialkyl glutarate, dialkyl succinate, and dialkyl adipic acid.

에테르계 용제로서는, 디에틸에테르, 에틸부틸에테르 등의 알킬에테르류, 에틸렌글리콜디메틸에테르, 에틸렌글리콜디에틸에테르, 디프로필렌글리콜디메틸에테르, 디프로필렌글리콜디에틸에테르, 트리에틸렌글리콜디메틸에테르, 트리에틸렌글리콜디에틸에테르 등의 글리콜에테르류, 테트라하이드로푸란 등의 환상 에테르류 등을 들 수 있다.As an ether solvent, alkyl ethers, such as diethyl ether and ethyl butyl ether, ethylene glycol dimethyl ether, ethylene glycol diethyl ether, dipropylene glycol dimethyl ether, dipropylene glycol diethyl ether, triethylene glycol dimethyl ether, triethylene Glycol ethers, such as glycol diethyl ether, Cyclic ethers, such as tetrahydrofuran, etc. are mentioned.

케톤계 용제로서는, 아세톤, 메틸에틸케톤, 사이클로헥산온, 이소포론 등을 들 수 있다.Acetone, methyl ethyl ketone, cyclohexanone, isophorone etc. are mentioned as a ketone type solvent.

이 외에도, 후술하는 반응성 폴리카본산 화합물 (A) 이외의 반응성 화합물 (B)(이하, 간단히 「반응성 화합물 (B)」라고도 나타냄) 등의 단독 또는 혼합 유기 용제 중에서 행할 수 있다. 이 경우, 경화형 수지 조성물로서 사용한 경우에는, 직접 조성물로서 이용할 수 있기 때문에 바람직하다.In addition to this, the reaction can be carried out alone or in a mixed organic solvent such as a reactive compound (B) other than the reactive polycarboxylic acid compound (A) described later (hereinafter also simply referred to as “reactive compound (B)”). In this case, when used as a curable resin composition, since it can use directly as a composition, it is preferable.

반응시에는, 반응을 촉진시키기 위해 촉매를 사용하는 것이 바람직하고, 당해 촉매의 사용량은, 반응물, 즉 에폭시 수지 (a), 카본산 화합물 (b) 및 화합물 (c) 및, 경우에 따라 용제 그 외를 더한 반응물의 총량 100질량부에 대하여 0.1∼10질량부이다. 그 때의 반응 온도는 60∼150℃이고, 또한 반응 시간은, 바람직하게는 5∼60시간이다. 사용할 수 있는 촉매의 구체예로서는, 예를 들면 트리에틸아민, 벤질디메틸아민, 트리에틸암모늄클로라이드, 벤질트리메틸암모늄브로마이드, 벤질트리메틸암모늄요오다이드, 트리페닐포스핀, 트리페닐스티빈, 메틸트리페닐스티빈, 옥탄산 크롬, 옥탄산 지르코늄 등 기지 일반의 염기성 촉매 등을 들 수 있다.In the reaction, it is preferable to use a catalyst in order to promote the reaction, and the amount of the catalyst used depends on the reactants, namely, the epoxy resin (a), the carbonic acid compound (b) and the compound (c), and, in some cases, the solvent. It is 0.1-10 mass parts with respect to 100 mass parts of total amounts of the reactant which added others. The reaction temperature in that case is 60-150 degreeC, and reaction time becomes like this. Preferably it is 5 to 60 hours. Specific examples of the catalyst that can be used include, for example, triethylamine, benzyldimethylamine, triethylammonium chloride, benzyltrimethylammonium bromide, benzyltrimethylammonium iodide, triphenylphosphine, triphenylstibine, and methyltriphenylstibine. and a known general basic catalyst such as bean, chromium octanoate, and zirconium octanoate.

또한, 열 중합 금지제를 이용할 수도 있다. 열 중합 금지제로서, 하이드로퀴논모노메틸에테르, 2-메틸하이드로퀴논, 하이드로퀴논, 디페닐피크릴하이드라진, 디페닐아민, 3,5-디-tert-부틸-4-하이드록시톨루엔 등을 사용하는 것이 바람직하다.Moreover, a thermal polymerization inhibitor can also be used. As the thermal polymerization inhibitor, hydroquinone monomethyl ether, 2-methylhydroquinone, hydroquinone, diphenylpicrylhydrazine, diphenylamine, 3,5-di-tert-butyl-4-hydroxytoluene, etc. are used. it is preferable

카복실레이트화 반응은, 적절히 샘플링하면서, 샘플의 산가가 5㎎KOH/g 이하, 바람직하게는 3㎎KOH/g 이하가 된 시점을 종점으로 한다.The carboxylation reaction is 5 mgKOH/g or less, preferably 3 mgKOH/g or less, when the acid value of a sample is made into the end point, sampling appropriately.

이렇게 하여 얻어진 반응성 에폭시카복실레이트 화합물 (d)의 바람직한 분자량 범위로서는, GPC에 있어서의 폴리스티렌 환산 중량 평균 분자량이 500 내지 50,000의 범위이고, 보다 바람직하게는 1,000 내지 30,000이고, 특히 바람직하게는 1000∼10000이다.As a preferable molecular weight range of the reactive epoxy carboxylate compound (d) obtained in this way, the polystyrene conversion weight average molecular weight in GPC is the range of 500-50,000, More preferably, it is 1,000-30,000, Especially preferably, it is 1000-10000. to be.

이 분자량보다도 작은 경우에는 경화물의 강인성이 충분히 발휘되지 않고, 또한 이보다도 지나치게 큰 경우에는, 점도가 높아져 도공 등이 곤란해진다.When it is smaller than this molecular weight, the toughness of hardened|cured material is not fully exhibited, and when it is too large than this, a viscosity becomes high and coating etc. become difficult.

다음으로, 산 부가 공정(이하, 간단히 「본 산 부가 반응」이라고도 나타냄)에 대해서 상술한다. 산 부가 공정은, 전(前) 공정에 있어서 얻어진 반응성 에폭시카복실레이트 화합물 (d)에 필요에 따라서 카복시기를 도입하여, 반응성 폴리카본산 화합물 (A)를 얻는 것을 목적으로 하여 행해진다. 즉, 카복실레이트화 반응에 의해 생긴 수산기에, 상기식 (2) 또는 (3)으로 나타나는 다염기산 무수물 (e)(이하, 간단히 「다염기산 무수물 (e)」라고도 나타냄)를 부가 반응시킴으로써, 에스테르 결합을 통하여 카복시기를 도입한다.Next, the acid addition step (hereinafter also simply referred to as "the present acid addition reaction") will be described in detail. An acid addition process introduce|transduces a carboxy group as needed into the reactive epoxy carboxylate compound (d) obtained in the previous process, and is performed for the purpose of obtaining a reactive polycarboxylic acid compound (A). That is, by addition-reacting the polybasic acid anhydride (e) represented by the formula (2) or (3) (hereinafter simply referred to as "polybasic acid anhydride (e)") to the hydroxyl group generated by the carboxylation reaction, an ester bond is formed A carboxyl group is introduced through

상기식 (2) 중의 탄소수 1∼10의 알킬기로서는, 메틸기, 에틸기, 프로필기, 부틸기, 펜틸기, 헥실기, 헵틸기, 옥틸기, 노닐, 데실기를 들 수 있다. 상기식 (2) 중 R1은, 수소 원자, 메틸기가 바람직하다.Examples of the alkyl group having 1 to 10 carbon atoms in the formula (2) include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group, a pentyl group, a hexyl group, a heptyl group, an octyl group, a nonyl group and a decyl group. In the formula (2), R 1 is preferably a hydrogen atom or a methyl group.

상기 다염기산 무수물 (e)로서, 하기식 (4)로 나타나는 화합물이 바람직하다.As said polybasic acid anhydride (e), the compound represented by following formula (4) is preferable.

Figure 112018038934291-pat00005
Figure 112018038934291-pat00005

상기 다염기산 무수물 (e)를 부가시키는 반응은, 상기 카복실레이트화 반응액에 다염기산 무수물 (e)를 더함으로써 행할 수 있다. 첨가량은 용도에 따라서 적절히 변경되어야 하는 것이다.The reaction to add the polybasic acid anhydride (e) can be performed by adding the polybasic acid anhydride (e) to the carboxylation reaction liquid. The amount of addition should be appropriately changed according to the use.

상기 다염기산 무수물 (e)의 첨가량은 예를 들면, 본 발명의 반응성 폴리카본산 화합물 (A)를 알칼리 수용액 현상형의 레지스트 재료로서 이용하고자 하는 경우는, 다염기산 무수물 (e)를 최종적으로 얻어지는 반응성 폴리카본산 화합물 (A)의 고형분 산가(JISK5601-2-1:1999에 준거)가 바람직하게는 20∼120㎎KOH/g이고, 보다 바람직하게는 30∼110㎎KOH/g이 되는 계산값을 투입하는 것이 바람직하다. 이 때의 고형분 산가가 이 범위인 경우, 본 발명의 활성 에너지선 경화형 수지 조성물의 알칼리 수용액 현상성이 양호한 현상성을 나타낸다. 즉, 양호한 패터닝성과 과현상에 대한 관리폭도 넓고, 또한 과잉의 산 무수물이 잔류하는 일도 없다.The amount of the polybasic acid anhydride (e) added is, for example, when the reactive polycarboxylic acid compound (A) of the present invention is used as a resist material of an aqueous alkali solution development type, the polybasic acid anhydride (e) is finally obtained as a reactive poly The solid content acid value (according to JISK5601-2-1:1999) of the carbonic acid compound (A) is preferably 20 to 120 mgKOH/g, more preferably 30 to 110 mgKOH/g. It is preferable to do When the solid content acid value at this time is this range, the developability with favorable alkali aqueous solution developability of the active energy ray-curable resin composition of this invention is shown. That is, good patterning property and the control range for overdevelopment are wide, and an excess acid anhydride does not remain.

반응시에는, 반응을 촉진시키기 위해 촉매를 사용하는 것이 바람직하고, 당해 촉매의 사용량은, 반응물, 즉 에폭시 화합물 (a), 카본산 화합물 (b) 및 화합물 (c)로부터 얻어진 반응성 에폭시카복실레이트 화합물 (d) 및, 다염기산 무수물 (e), 경우에 따라 용제 그 외를 더한 반응물의 총량에 대하여 0.1∼10질량부이다. 그 때의 반응 온도는 60∼150℃이고, 또한 반응 시간은, 바람직하게는 5∼60시간이다. 사용할 수 있는 촉매의 구체예로서는, 예를 들면 트리에틸아민, 벤질디메틸아민, 트리에틸암모늄클로라이드, 벤질트리메틸암모늄브로마이드, 벤질트리메틸암모늄요오다이드, 트리페닐포스핀, 트리페닐스티빈, 메틸트리페닐스티빈, 옥탄산 크롬, 옥탄산 지르코늄 등을 들 수 있다.In the reaction, it is preferable to use a catalyst in order to promote the reaction, and the amount of the catalyst used is the reactive epoxy carboxylate compound obtained from the reactants, that is, the epoxy compound (a), the carbonic acid compound (b) and the compound (c). It is 0.1-10 mass parts with respect to the total amount of the reactant which added (d) and polybasic acid anhydride (e), and a solvent and others in some cases. The reaction temperature in that case is 60-150 degreeC, and reaction time becomes like this. Preferably it is 5 to 60 hours. Specific examples of the catalyst that can be used include, for example, triethylamine, benzyldimethylamine, triethylammonium chloride, benzyltrimethylammonium bromide, benzyltrimethylammonium iodide, triphenylphosphine, triphenylstibine, and methyltriphenylstibine. Vienna, chromium octanoate, zirconium octanoate, etc. are mentioned.

본 산 부가 반응은, 무용제로 반응하거나, 또는 용제로 희석하여 반응시킬 수도 있다. 여기에서 이용할 수 있는 용제로서는, 산 부가 반응에 대하여 이너트 용제이면 특별히 한정은 없다. 또한, 전 공정인 카복실레이트화 반응에서 용제를 이용하여 제조한 경우에는, 그 양(兩) 반응에 이너트인 것을 조건으로, 용제를 제거하는 일 없이 직접 다음 공정인 산 부가 반응에 제공할 수도 있다. 이용할 수 있는 용제는 카복실레이트화 반응에서 이용할 수 있는 것과 동일한 것으로 좋다.This acid addition reaction may be reacted without a solvent, or may be reacted after being diluted with a solvent. As a solvent which can be used here, if it is an inert solvent with respect to an acid addition reaction, there will be no limitation in particular. In addition, when it is produced using a solvent in the carboxylation reaction that is the previous step, it can be directly used in the next step, the acid addition reaction, without removing the solvent, provided that it is an inert for the positive reaction. . The solvent that can be used is preferably the same one that can be used in the carboxylation reaction.

바람직한 용제의 사용량은, 얻어지는 수지의 점도나 용도에 따라 적절히 조정되어야 하는 것이지만, 바람직하게는 고형분 함유율 90∼30질량%, 보다 바람직하게는 80∼50질량%가 되도록 이용된다.Although the preferable usage-amount of a solvent should be suitably adjusted according to the viscosity of resin obtained and a use, Preferably it is 90-30 mass % of solid content content, More preferably, it is used so that it may become 80-50 mass %.

이 밖에도, 상기 반응성 화합물 (B) 등의 단독 또는 혼합 유기 용제 중에서 행할 수 있다. 이 경우, 경화형 수지 조성물로서 사용한 경우에는, 직접 조성물로서 이용할 수 있기 때문에 바람직하다.In addition, the reaction can be carried out alone or in a mixed organic solvent such as the reactive compound (B). In this case, when used as a curable resin composition, since it can use directly as a composition, it is preferable.

또한, 열 중합 금지제 등은, 상기 카복실레이트화 반응에 있어서의 예시와 동일한 것을 사용하는 것이 바람직하다. In addition, it is preferable to use the thing similar to the illustration in the said carboxylation reaction as a thermal polymerization inhibitor etc.

본 산 부가 반응은, 적절히 샘플링하면서, 반응물의 산가가, 설정한 산가의 플러스 마이너스 10%의 범위가 된 점을 종점으로 한다.This acid addition reaction takes as an end point the point where the acid value of a reactant became the range of plus or minus 10% of the set acid value while sampling appropriately.

이렇게 하여 얻어진 반응성 폴리카본산 화합물 (A)의 바람직한 분자량 범위로서는, GPC(겔 투과 크로마토그래피) 측정에 있어서의 폴리스티렌 환산 중량 평균 분자량이 500 내지 50,000의 범위이고, 보다 바람직하게는 1,000 내지 30,000이고, 특히 바람직하게는 1000∼10000이다.As a preferable molecular weight range of the reactive polycarboxylic acid compound (A) obtained in this way, the polystyrene conversion weight average molecular weight in GPC (gel permeation chromatography) measurement is the range of 500-50,000, More preferably, it is 1,000-30,000, Especially preferably, it is 1000-10000.

이 분자량보다도 작은 경우에는 경화물의 강인성이 충분히 발휘되지 않고, 또한 이보다도 지나치게 큰 경우에는, 점도가 높아져 도공 등이 곤란해진다.When it is smaller than this molecular weight, the toughness of hardened|cured material is not fully exhibited, and when it is too large than this, a viscosity becomes high and coating etc. become difficult.

본 발명에 있어서 사용할 수 있는 반응성 화합물 (B)의 구체예로서는, 라디칼 반응형의 아크릴레이트류, 양이온 반응형의 그 외 에폭시 화합물류, 그의 쌍방에 감응하는 비닐 화합물류 등의 소위 반응성 올리고머류를 들 수 있다.Specific examples of the reactive compound (B) that can be used in the present invention include so-called reactive oligomers such as radical-reactive acrylates, other cation-reactive epoxy compounds, and vinyl compounds that react to both. can

사용할 수 있는 아크릴레이트류로서는, 단관능 (메타)아크릴레이트류, 다관능 (메타)아크릴레이트류, 그 외 에폭시아크릴레이트, 폴리에스테르아크릴레이트, 우레탄아크릴레이트 등을 들 수 있다.Examples of the acrylates that can be used include monofunctional (meth)acrylates, polyfunctional (meth)acrylates, and other epoxy acrylates, polyester acrylates, and urethane acrylates.

단관능 (메타)아크릴레이트류로서는, 메틸(메타)아크릴레이트, 에틸(메타)아크릴레이트, 부틸(메타)아크릴레이트, 라우릴(메타)아크릴레이트, 폴리에틸렌글리콜(메타)아크릴레이트, 폴리에틸렌글리콜(메타)아크릴레이트모노메틸에테르, 페닐 에틸(메타)아크릴레이트, 이소보닐(메타)아크릴레이트, 사이클로헥실(메타)아크릴레이트, 벤질(메타)아크릴레이트, 테트라하이드로푸르푸릴(메타)아크릴레이트 등을 들 수 있다.Examples of monofunctional (meth)acrylates include methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, butyl (meth) acrylate, lauryl (meth) acrylate, polyethylene glycol (meth) acrylate, polyethylene glycol ( Meth) acrylate monomethyl ether, phenyl ethyl (meth) acrylate, isobornyl (meth) acrylate, cyclohexyl (meth) acrylate, benzyl (meth) acrylate, tetrahydrofurfuryl (meth) acrylate, etc. can be heard

다관능 (메타)아크릴레이트류로서는, 부탄디올디(메타)아크릴레이트, 헥산디올디(메타)아크릴레이트, 네오펜틸글리콜디(메타)아크릴레이트, 노난디올디(메타)아크릴레이트, 에틸렌글리콜디(메타)아크릴레이트, 디에틸렌디(메타)아크릴레이트, 폴리에틸렌글리콜디(메타)아크릴레이트, 트리스(메타)아크릴로일옥시에틸이소시아누레이트, 폴리프로필렌글리콜디(메타)아크릴레이트, 아디프산 에폭시디(메타)아크릴레이트, 비스페놀에틸렌옥사이드디(메타)아크릴레이트, 수소화 비스페놀에틸렌옥사이드디(메타)아크릴레이트, 비스페놀디(메타)아크릴레이트, 하이드록시비발산 네오펜글리콜의 ε-카프로락톤 부가물의 디(메타)아크릴레이트, 디펜타에리트리톨과 ε-카프로락톤의 반응물인 폴리(메타)아크릴레이트, 디펜타에리트리톨폴리(메타)아크릴레이트, 트리메틸올프로판트리(메타)아크릴레이트, 트리에틸올프로판트리(메타)아크릴레이트 및, 그의 에틸렌옥사이드 부가물, 펜타에리트리톨트리(메타)아크릴레이트 및, 그의 에틸렌옥사이드 부가물, 펜타에리트리톨테트라(메타)아크릴레이트 및, 그의 에틸렌옥사이드 부가물, 디펜타에리트리톨헥사(메타)아크릴레이트 및, 그의 에틸렌옥사이드 부가물 등을 들 수 있다.Examples of the polyfunctional (meth)acrylates include butanediol di(meth)acrylate, hexanediol di(meth)acrylate, neopentyl glycol di(meth)acrylate, nonanediol di(meth)acrylate, ethylene glycol di( Meth)acrylate, diethylenedi(meth)acrylate, polyethylene glycol di(meth)acrylate, tris(meth)acryloyloxyethyl isocyanurate, polypropylene glycol di(meth)acrylate, adipic acid Epoxy di(meth)acrylate, bisphenol ethylene oxide di(meth)acrylate, hydrogenated bisphenol ethylene oxide di(meth)acrylate, bisphenol di(meth)acrylate, ε-caprolactone addition of hydroxybivalic acid neophenglycol Di(meth)acrylate of water, poly(meth)acrylate which is a reaction product of dipentaerythritol and ε-caprolactone, dipentaerythritol poly(meth)acrylate, trimethylolpropane tri(meth)acrylate, triethyl Allpropane tri (meth) acrylate and its ethylene oxide adduct, pentaerythritol tri (meth) acrylate and its ethylene oxide adduct, pentaerythritol tetra (meth) acrylate and its ethylene oxide adduct; Dipentaerythritol hexa(meth)acrylate, its ethylene oxide adduct, etc. are mentioned.

사용할 수 있는 비닐 화합물류로서는 비닐에테르류, 스티렌류, 그 외 비닐 화합물을 들 수 있다. 비닐에테르류로서는, 에틸비닐에테르, 프로필비닐에테르, 하이드록시에틸비닐에테르, 에틸렌글리콜디비닐에테르 등을 들 수 있다. 스티렌류로서는, 스티렌, 메틸스티렌, 에틸스티렌 등을 들 수 있다. 그 외 비닐 화합물로서는 트리알릴이소시아누레이트, 트리메타알릴이소시아누레이트 등을 들 수 있다.Examples of usable vinyl compounds include vinyl ethers, styrenes, and other vinyl compounds. Examples of the vinyl ethers include ethyl vinyl ether, propyl vinyl ether, hydroxyethyl vinyl ether, and ethylene glycol divinyl ether. Styrene, methyl styrene, ethyl styrene, etc. are mentioned as styrene. As other vinyl compounds, triallyl isocyanurate, trimallyl isocyanurate, etc. are mentioned.

또한, 소위 반응성 올리고머류로서는, 활성 에너지선에 감응 가능한 관능기와 우레탄 결합을 동일 분자 내에 겸비하는 우레탄 아크릴레이트, 마찬가지로 활성 에너지선에 감응 가능한 관능기와 에스테르 결합을 동일 분자 내에 겸비하는 폴리에스테르아크릴레이트, 그 외 에폭시 수지로부터 유도되고, 활성 에너지선에 감응 가능한 관능기를 동일 분자 내에 겸비하는 에폭시아크릴레이트, 이들의 결합이 복합적으로 이용되고 있는 반응성 올리고머 등을 들 수 있다.In addition, the so-called reactive oligomers include urethane acrylates having both a functional group and a urethane bond sensitive to active energy ray in the same molecule, polyester acrylate having a functional group sensitive to active energy ray and an ester bond in the same molecule, In addition, an epoxy acrylate derived from an epoxy resin and having a functional group sensitive to an active energy ray in the same molecule, a reactive oligomer in which these bonds are used in combination, etc. are mentioned.

또한, 양이온 반응형 단량체로서는, 일반적으로 에폭시기를 갖는 화합물이면 특별히 한정은 없다. 예를 들면, 글리시딜(메타)아크릴레이트, 메틸글리시딜에테르, 에틸글리시딜에테르, 부틸글리시딜에테르, 비스페놀 A 디글리시딜에테르, 3,4-에폭시사이클로헥실메틸-3,4-에폭시사이클로헥산카복실레이트(유니온·카바이드사 제조 「사일러큐어 UVR-6110」 등), 3,4-에폭시사이클로헥실에틸-3,4-에폭시사이클로헥산카복실레이트, 비닐사이클로헥센디옥사이드(유니온·카바이드사 제조 「ELR-4206」 등), 리모넨디옥사이드(다이셀카가쿠코교사 제조 「셀록사이드 3000」 등), 알릴사이클로헥센디옥사이드, 3,4-에폭시-4-메틸사이클로헥실-2-프로필렌옥사이드, 2-(3,4-에폭시사이클로헥실-5,5-스피로-3,4-에폭시)사이클로헥산-m-디옥산, 비스(3,4-에폭시사이클로헥실)아디페이트(유니온·카바이드사 제조 「사일러큐어 UVR-6128」 등), 비스(3,4-에폭시사이클로헥실메틸)아디페이트, 비스(3,4-에폭시사이클로헥실)에테르, 비스(3,4-에폭시사이클로헥실메틸)에테르, 비스(3,4-에폭시사이클로헥실)디에틸실록산 등을 들 수 있다.In addition, as a cation-reactive monomer, if it is a compound which generally has an epoxy group, there will be no limitation in particular. For example, glycidyl (meth) acrylate, methyl glycidyl ether, ethyl glycidyl ether, butyl glycidyl ether, bisphenol A diglycidyl ether, 3,4-epoxycyclohexylmethyl-3, 4-epoxycyclohexanecarboxylate (“Sylacure UVR-6110” manufactured by Union Carbide, etc.), 3,4-epoxycyclohexylethyl-3,4-epoxycyclohexanecarboxylate, vinylcyclohexene dioxide (Union Carbide) "ELR-4206", etc.), limonene dioxide ("Celoxide 3000" manufactured by Daisel Chemical Co., Ltd., etc.), allylcyclohexene dioxide, 3,4-epoxy-4-methylcyclohexyl-2-propylene oxide, 2 -(3,4-epoxycyclohexyl-5,5-spiro-3,4-epoxy)cyclohexane-m-dioxane, bis(3,4-epoxycyclohexyl)adipate (Union Carbide Co., Ltd. "Syler" Cure UVR-6128, etc.), bis(3,4-epoxycyclohexylmethyl)adipate, bis(3,4-epoxycyclohexyl)ether, bis(3,4-epoxycyclohexylmethyl)ether, bis(3 and 4-epoxycyclohexyl)diethylsiloxane.

이들 중, 반응성 화합물 (B)로서는, 라디칼 경화형인 아크릴레이트류가 가장 바람직하다. 양이온형의 경우, 카본산과 에폭시기가 반응해 버리기 때문에 2액 혼합형으로 할 필요가 생긴다.Among these, as a reactive compound (B), the acrylates of a radical hardening type are the most preferable. In the case of a cationic type, since carbonic acid and an epoxy group will react, it is necessary to set it as a two-component mixing type.

본 발명의 반응성 폴리카본산 화합물 (A)와, 그 외의 반응성 화합물 (B)를 혼합시켜 본 발명의 활성 에너지선 경화형 수지 조성물을 얻을 수 있다. 이 때, 용도에 따라서 적절히 그 외의 성분을 더해도 좋다.The reactive polycarboxylic acid compound (A) of the present invention and other reactive compounds (B) can be mixed to obtain the active energy ray-curable resin composition of the present invention. At this time, you may add another component suitably according to a use.

본 발명의 활성 에너지선 경화형 수지 조성물은, 조성물 중에 반응성 폴리카본산 화합물 (A)를 97∼5질량부, 바람직하게는 87∼10질량부, 그 외 반응성 화합물 (B) 3∼95질량부, 더욱 바람직하게는 3∼90질량부를 포함한다. 필요에 따라서 그 외의 성분을 0∼80질량부 포함하고 있어도 좋다.The active energy ray-curable resin composition of the present invention contains 97 to 5 parts by mass of the reactive polycarboxylic acid compound (A) in the composition, preferably 87 to 10 parts by mass, and 3 to 95 parts by mass of other reactive compounds (B); More preferably, 3-90 mass parts is included. You may contain 0-80 mass parts of other components as needed.

이 외에, 본 발명의 활성 에너지선 경화형 수지 조성물을 각종 용도에 적합하게 할 목적으로, 조성물 중에 70질량부를 상한으로 그 외의 성분을 더할 수도 있다. 그 외의 성분으로서는 광 중합 개시제, 그 외의 첨가제, 착색 재료, 열 경화 촉매, 또한 도공 적성 부여 등을 목적으로 점도 조정을 위해 첨가되는 휘발성 용제 등을 들 수 있다.In addition, for the purpose of making the active-energy-ray-curable resin composition of this invention suitable for various uses, 70 mass parts can also be added as an upper limit in a composition with an upper limit. As other components, a photoinitiator, other additives, a coloring material, a thermosetting catalyst, and the volatile solvent etc. which are added for viscosity adjustment for the purpose of providing coating suitability etc. are mentioned.

본 발명의 활성 에너지선 경화형 수지 조성물은, 추가로 광 중합 개시제를 포함할 수 있다. 광 중합 개시제로서는 라디칼형 광 중합 개시제, 양이온계 광 중합 개시제가 바람직하다.The active energy ray-curable resin composition of this invention may contain a photoinitiator further. As a photoinitiator, a radical type photoinitiator and a cationic photoinitiator are preferable.

라디칼형 광 중합 개시제로서는, 예를 들면 벤조인, 벤조인메틸에테르, 벤조인에틸에테르, 벤조인프로필에테르, 벤조인이소부틸에테르 등의 벤조인류; 아세토페논, 2,2-디에톡시-2-페닐아세토페논, 1,1-디클로로아세토페논, 2-하이드록시-2-메틸-페닐프로판-1-온, 디에톡시아세토페논, 1-하이드록시사이클로헥실페닐케톤, 2-메틸-1-[4-(메틸티오)페닐]-2-모르폴리노-프로판-1-온 등의 아세토페논류; 2-에틸안트라퀴논, 2-t-부틸안트라퀴논, 2-클로로안트라퀴논, 2-아밀안트라퀴논 등의 안트라퀴논류; 2,4-디에틸티옥산톤, 2-이소프로필티옥산톤, 2-클로로티옥산톤 등의 티옥산톤류; 아세토페논디메틸케탈, 벤질디메틸케탈 등의 케탈류; 벤조페논, 4-벤조일-4'-메틸디페닐술파이드, 4,4'-비스메틸아미노벤조페논 등의 벤조페논류; 2,4,6-트리메틸벤조일디페닐포스핀옥사이드, 비스(2,4,6-트리메틸벤조일)-페닐포스핀옥사이드 등의 포스핀옥사이드류 등의 공지 일반의 라디칼형 광 중합 개시제를 들 수 있다.As a radical type photoinitiator, For example, Benzoin, such as benzoin, benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, benzoin propyl ether, benzoin isobutyl ether; Acetophenone, 2,2-diethoxy-2-phenylacetophenone, 1,1-dichloroacetophenone, 2-hydroxy-2-methyl-phenylpropan-1-one, diethoxyacetophenone, 1-hydroxycyclo acetophenones such as hexylphenyl ketone and 2-methyl-1-[4-(methylthio)phenyl]-2-morpholino-propan-1-one; anthraquinones such as 2-ethylanthraquinone, 2-t-butylanthraquinone, 2-chloroanthraquinone, and 2-amylanthraquinone; thioxanthone such as 2,4-diethylthioxanthone, 2-isopropylthioxanthone and 2-chlorothioxanthone; ketals such as acetophenone dimethyl ketal and benzyl dimethyl ketal; benzophenones such as benzophenone, 4-benzoyl-4'-methyldiphenyl sulfide, and 4,4'-bismethylaminobenzophenone; and phosphine oxides such as 2,4,6-trimethylbenzoyldiphenylphosphine oxide and bis(2,4,6-trimethylbenzoyl)-phenylphosphine oxide. .

또한, 양이온계 광 중합 개시제로서는, 루이스산의 디아조늄염, 루이스산의 요오도늄염, 루이스산의 술포늄염, 루이스산의 포스포늄염, 그 외의 할로겐화물, 트리아진계 개시제, 보레이트계 개시제 및, 그 외의 광 산 발생제 등을 들 수 있다.Examples of the cationic photopolymerization initiator include a diazonium salt of a Lewis acid, an iodonium salt of a Lewis acid, a sulfonium salt of a Lewis acid, a phosphonium salt of a Lewis acid, other halides, a triazine-based initiator, a borate-based initiator, and and other photoacid generators.

루이스산의 디아조늄염으로서는, p-메톡시페닐디아조늄플루오로포스포네이트, N,N-디에틸아미노페닐디아조늄헥사플루오로포스포네이트(산신카가쿠코교사 제조 산에이드 SI-60L/SI-80L/SI-100L 등) 등을 들 수 있고, 루이스산의 요오도늄염으로서는, 디페닐요오도늄헥사플루오로포스포네이트, 디페닐요오도늄헥사플루오로안티모네이트 등을 들 수 있고, 루이스산의 술포늄염으로서는, 트리페닐술포늄헥사플루오로포스포네이트(Union Carbide사 제조 Cyracure UVI-6990 등), 트리페닐술포늄헥사플루오로안티모네이트(Union Carbide사 제조 Cyracure UVI-6974 등) 등을 들 수 있고, 루이스산의 포스포늄염으로서는, 트리페닐포스포늄헥사플루오로안티모네이트 등을 들 수 있다.As the diazonium salt of Lewis acid, p-methoxyphenyldiazonium fluorophosphonate, N,N-diethylaminophenyldiazonium hexafluorophosphonate (San-Aid SI-60L/ by Sanshin Chemical Co., Ltd.) SI-80L/SI-100L, etc.) and the like, and examples of the iodonium salt of Lewis acid include diphenyliodonium hexafluorophosphonate and diphenyliodonium hexafluoroantimonate. and, as the sulfonium salt of Lewis acid, triphenylsulfonium hexafluorophosphonate (Cyracure UVI-6990 manufactured by Union Carbide, etc.), triphenylsulfonium hexafluoroantimonate (Cyracure UVI-6974 manufactured by Union Carbide) etc.) etc. are mentioned, and triphenylphosphonium hexafluoroantimonate etc. are mentioned as a phosphonium salt of a Lewis acid.

그 외의 할로겐화물로서는, 2,2,2-트리클로로-[1-4'-(디메틸에틸)페닐]에탄온(AKZO사 제조 Trigonal PI 등), 2,2-디클로로-1-4-(페녹시페닐)에탄온(Sandoz사 제조 Sandray 1000 등), α,α,α-트리브로모메틸페닐술폰(세이테츠카가쿠사 제조 BMPS 등) 등을 들 수 있다. 트리아진계 개시제로서는, 2,4,6-트리스(트리클로로메틸)-트리아진, 2,4-트리클로로메틸-(4'-메톡시페닐)-6-트리아진(Panchim사 제조 Triazine A 등), 2,4-트리클로로메틸-(4'-메톡시스티릴)-6-트리아진(Panchim사 제조 Triazine PMS 등), 2,4-트리클로로메틸-(피프로닐)-6-트리아진(Panchim사 제조 Triazine PP 등), 2,4-트리클로로메틸-(4'-메톡시나프틸)-6-트리아진(Panchim사 제조 Triazine B 등), 2[2'(5-메틸푸릴)에틸리덴]-4,6-비스(트리클로로메틸)-s-트리아진(산와케미컬사 제조 등), 2(2'-푸릴에틸리덴)-4,6-비스(트리클로로메틸)-s-트리아진(산와케미컬사 제조) 등을 들 수 있다.Examples of other halides include 2,2,2-trichloro-[1-4'-(dimethylethyl)phenyl]ethanone (such as Trigonal PI manufactured by AKZO), 2,2-dichloro-1--4-(phenoxy) cyphenyl)ethanone (Sandray 1000 manufactured by Sandoz, etc.), α,α,α-tribromomethylphenylsulfone (BMPS manufactured by Seitetsu Chemical, etc.), and the like. Examples of the triazine-based initiator include 2,4,6-tris(trichloromethyl)-triazine, 2,4-trichloromethyl-(4'-methoxyphenyl)-6-triazine (such as Triazine A manufactured by Panchim). , 2,4-trichloromethyl-(4'-methoxystyryl)-6-triazine (such as Triazine PMS manufactured by Panchim), 2,4-trichloromethyl-(fipronyl)-6-triazine (Triazine PP manufactured by Panchim, etc.), 2,4-trichloromethyl-(4'-methoxynaphthyl)-6-triazine (Triazine B manufactured by Panchim, etc.), 2[2'(5-methylfuryl) ethylidene]-4,6-bis(trichloromethyl)-s-triazine (manufactured by Sanwa Chemical, etc.), 2(2'-furylethylidene)-4,6-bis(trichloromethyl)-s -triazine (made by Sanwa Chemical) etc. are mentioned.

보레이트계 광 중합 개시제로서는, 일본감광색소 제조 NK-3876 및 NK-3881 등을 들 수 있고, 그 외의 광 산 발생제 등으로서는, 9-페닐아크리딘, 2,2'-비스(o-클로로페닐)-4,4',5,5'-테트라페닐-1,2-비이미다졸(구로가네카세이사 제조 비이미다졸 등), 2,2-아조비스(2-아미노-프로판)디하이드로클로라이드(와코준야쿠사 제조 V50 등), 2,2-아조비스[2-(이미다졸린-2일)프로판]디하이드로클로라이드(와코준야쿠사 제조 VA044 등), [에타-5-2-4-(사이클로펜타데실)(1,2,3,4,5,6,에타)-(메틸에틸)-벤젠]철(Ⅱ)헥사플루오로포스포네이트(CibaGeigy사 제조 Irgacure 261 등), 비스(y5-사이클로펜타디에닐)비스[2,6-디플루오로-3-(1H-피리-1-일)페닐]티타늄(CibaGeigy사 제조 CGI-784 등) 등을 들 수 있다.Examples of the borate-based photopolymerization initiator include NK-3876 and NK-3881 manufactured by Nippon Photoresist, and examples of other photoacid generators include 9-phenylacridine and 2,2'-bis(o-chloro). Phenyl)-4,4',5,5'-tetraphenyl-1,2-biimidazole (biimidazole manufactured by Kurogane Kasei, etc.), 2,2-azobis(2-amino-propane)dihydro Chloride (V50 manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd., etc.), 2,2-azobis[2-(imidazolin-2yl)propane]dihydrochloride (VA044 manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd., etc.), [Eta-5-2-4 (Cyclopentadecyl)(1,2,3,4,5,6,etha)-(methylethyl)-benzene]iron(II)hexafluorophosphonate (Irgacure 261 manufactured by CibaGeigy, etc.), bis(y5) -cyclopentadienyl)bis[2,6-difluoro-3-(1H-pyri-1-yl)phenyl]titanium (CGI-784 manufactured by CibaGeigy, etc.), etc. are mentioned.

이 외에, 아조비스이소부티로니트릴 등의 아조계 개시제, 과산화 벤조일 등의 열에 감응하는 과산화물계 라디칼형 개시제 등을 함께 이용해도 좋다. 또한, 라디칼계와 양이온계의 쌍방의 광 중합 개시제를 함께 이용해도 좋다. 광 중합 개시제는, 1종류를 단독으로 이용할 수도 있고, 2종류 이상을 함께 이용할 수도 있다.In addition, you may use together an azo-type initiator, such as azobisisobutyronitrile, a peroxide-type radical-type initiator sensitive to heat, such as benzoyl peroxide, etc. Moreover, you may use both the photoinitiator of a radical type and a cationic type together. A photoinitiator may be used individually by 1 type, and may use 2 or more types together.

이들 중, 본 발명의 반응성 폴리카본산 화합물 (A)의 특성을 고려하면, 라디칼형 광 중합 개시제가 특히 바람직하다.Among these, when the characteristic of the reactive polycarboxylic acid compound (A) of this invention is considered, a radical type photoinitiator is especially preferable.

또한, 본 발명의 활성 에너지선 경화형 수지 조성물은, 착색 안료를 포함할 수 있다. 착색 안료로서는 예를 들면, 착색을 목적으로 하지 않는 것, 소위 체질 안료를 이용할 수도 있다. 예를 들면, 탤크, 황산 바륨, 탄산 칼슘, 탄산 마그네슘, 티탄산 바륨, 수산화 알루미늄, 실리카, 클레이, 카본 블랙 등을 들 수 있다.Moreover, the active-energy-ray-curable resin composition of this invention can contain a coloring pigment. As a color pigment, what is not intended for coloring, what is called an extender, can also be used, for example. For example, talc, barium sulfate, calcium carbonate, magnesium carbonate, barium titanate, aluminum hydroxide, silica, clay, carbon black, etc. are mentioned.

또한, 본 발명의 활성 에너지선 경화형 수지 조성물은, 필요에 따라서, 그 외의 첨가제를 포함할 수 있다. 그 외의 첨가제로서는, 예를 들면 멜라민 등의 열 경화 촉매, 에어로실 등의 틱소트로피 부여제, 실리콘계, 불소계의 레벨링제나 소포제, 하이드로퀴논, 하이드로퀴논모노메틸에테르 등의 중합 금지제, 안정제, 산화 방지제 등을 사용할 수 있다.Moreover, the active-energy-ray-curable resin composition of this invention can contain other additives as needed. Examples of other additives include thermosetting catalysts such as melamine, thixotropy imparting agents such as Aerosil, silicone-based and fluorine-based leveling agents and defoamers, hydroquinone and hydroquinone monomethyl ether, polymerization inhibitors, stabilizers, and antioxidants. etc. can be used.

이 외에 활성 에너지선에 반응성을 나타내지 않는 수지류(소위 이너트 폴리머)로서, 예를 들면 그 외의 에폭시 수지, 페놀 수지, 우레탄 수지, 폴리에스테르수지, 케톤포름알데히드 수지, 크레졸 수지, 자일렌 수지, 디알릴프탈레이트 수지, 스티렌 수지, 구아나민 수지, 천연 및 합성 고무, 아크릴 수지, 폴리올레핀 수지 및, 이들의 변성물을 이용할 수도 있다. 이들은 수지 조성물 중에 40질량부까지의 범위에 있어서 이용하는 것이 바람직하다.Other resins that do not show reactivity to active energy rays (so-called inert polymer) include, for example, other epoxy resins, phenol resins, urethane resins, polyester resins, ketoneformaldehyde resins, cresol resins, xylene resins, Diallyl phthalate resins, styrene resins, guanamine resins, natural and synthetic rubbers, acrylic resins, polyolefin resins, and modified products thereof can also be used. It is preferable to use these in the range to 40 mass parts in a resin composition.

특히, 솔더 레지스트 용도에 반응성 폴리카본산 화합물 (A)를 이용하고자 하는 경우에는, 활성 에너지선에 반응성을 나타내지 않는 수지류로서 공지 일반의 에폭시 수지를 이용하는 것이 바람직하다. 이것은 활성 에너지선에 의해 반응, 경화시킨 후에도 반응성 폴리카본산 화합물 (A)에 유래하는 카복시기가 잔류해 버려, 결과적으로 그의 경화물은 내수성이나 가수 분해성이 뒤떨어져 버린다. 따라서, 에폭시 수지를 이용함으로써 잔류하는 카복시기를 추가로 카복실레이트화하여, 더욱 강고한 가교 구조를 형성시킨다. 당해 공지 일반의 에폭시 수지는, 상기 양이온 반응형 단량체를 이용할 수 있다.In particular, when it is going to use a reactive polycarboxylic acid compound (A) for a soldering resist use, it is preferable to use well-known general epoxy resin as resins which do not show reactivity to an active energy ray. Even after making this react and harden|cure this with an active energy ray, the carboxy group derived from a reactive polycarboxylic acid compound (A) will remain, and as a result, the hardened|cured material will be inferior to water resistance and hydrolysis property. Therefore, by using an epoxy resin, the carboxyl group which remains is further carboxylated, and a stronger crosslinked structure is formed. The said cation-reactive monomer can be used for the said well-known general epoxy resin.

또한 사용 목적에 따라서, 점도를 조정하는 목적으로, 수지 조성물 중에 50질량부, 더욱 바람직하게는 35질량부까지의 범위에 있어서 휘발성 용제를 첨가할 수도 있다.Moreover, it is 50 mass parts in a resin composition for the purpose of adjusting a viscosity according to an intended use, More preferably, it is the range to 35 mass parts. WHEREIN: A volatile solvent can also be added.

본 발명의 활성 에너지선 경화형 수지 조성물은 활성 에너지선에 의해 용이하게 경화한다. 여기에서 활성 에너지선의 구체예로서는, 자외선, 가시광선, 적외선, X선, 감마선, 레이저 광선 등의 전자파, 알파선, 베타선, 전자선 등의 입자선 등을 들 수 있다. 본 발명의 적합한 용도를 고려하면, 이들 중, 자외선, 레이저 광선, 가시광선, 또는 전자선이 바람직하다.The active energy ray-curable resin composition of this invention hardens|cures easily with an active energy ray. Specific examples of active energy rays include electromagnetic waves such as ultraviolet rays, visible rays, infrared rays, X rays, gamma rays, and laser rays, and particle rays such as alpha rays, beta rays and electron rays. Considering the suitable use of the present invention, among these, ultraviolet rays, laser rays, visible rays, or electron rays are preferable.

본 발명에 있어서 성형용 재료란, 미경화의 조성물을 형(型)에 넣거나, 또는 형을 가압하여, 물체를 성형한 후, 활성 에너지선에 의해 경화 반응을 일으켜 성형시킨 것, 또는 미경화의 조성물에 레이저 등의 초점광 등을 조사하고, 경화 반응을 일으켜 성형시키는 용도에 이용되는 재료를 가리킨다.In the present invention, the molding material means that an uncured composition is put into a mold, or an object is molded by pressing a mold, and then a curing reaction is caused by an active energy ray to cause a molding, or an uncured product. It refers to the material used for the use of irradiating focal light, such as a laser, etc. to a composition, causing hardening reaction, and shaping|molding.

구체적인 용도로서는, 평면 형상으로 성형한 시트, 소자를 보호하기 위한 봉지재, 미경화의 조성물에 미세 가공된 「형」을 눌러대어 미세한 성형을 행하는, 소위 나노임프린트 재료, 나아가서는 특히 열적인 요구가 엄격한 발광 다이오드, 광전 변환 소자 등의 주변 봉지 재료 등을 적합한 용도로서 들 수 있다.Specific uses include a sheet molded into a planar shape, an encapsulant for protecting an element, a so-called nanoimprint material in which a micro-processed "mould" is pressed against an uncured composition to perform micro-molding, and by extension, a particularly thermal demand. A suitable use is given to peripheral sealing materials, such as a strict light emitting diode and a photoelectric conversion element, etc.

본 발명에 있어서 피막 형성용 재료란, 기재 표면을 피복하는 것을 목적으로 하여 이용되는 것이다. 구체적인 용도로서는, 그라비아 잉크, 플렉소 잉크, 실크스크린 잉크, 오프셋 잉크 등의 잉크 재료, 하드 코팅, 탑 코팅, 오버프린트 니스, 클리어 코팅 등의 도공 재료, 라미네이트용, 광 디스크용 외 각종 접착제, 점착제 등의 접착 재료, 솔더 레지스트, 에칭 레지스트, 마이크로 머신용 레지스트 등의 레지스트 재료 등이 이에 해당한다. 나아가서는, 피막 형성용 재료를 일시적으로 박리성 기재에 도공하여, 필름화한 후, 본래 목적으로 하는 기재에 접합하여, 피막을 형성시키는, 소위 드라이 필름도 피막 형성용 재료에 해당한다.In the present invention, the film-forming material is used for the purpose of coating the surface of the substrate. Specific uses include ink materials such as gravure ink, flexo ink, silkscreen ink, and offset ink, coating materials such as hard coating, top coating, overprint varnish, clear coating, lamination, optical disk, and various other adhesives, pressure-sensitive adhesives These include adhesive materials such as adhesive materials, solder resists, etching resists, resist materials such as resists for micromachines, and the like. Furthermore, a so-called dry film in which a film-forming material is temporarily coated on a releasable substrate to form a film and then bonded to an intended substrate to form a film is also a film-forming material.

본 발명에는 상기의 경화형 수지 조성물에 활성 에너지선을 조사하여 얻어지는 경화물도 포함되고, 또한, 당해 경화물의 층을 갖는 다층 재료도 포함된다.The present invention includes a cured product obtained by irradiating an active energy ray to the curable resin composition, and also includes a multilayer material having a layer of the cured product.

이들 중, 반응성 폴리카본산 화합물 (A)의 카복시기의 도입에 의해, 기재로의 밀착성이 높아지기 때문에, 플라스틱 기재, 또는 금속 기재를 피복하기 위한 용도로서 이용하는 것이 바람직하다.Among these, since the adhesiveness to a base material becomes high by introduction|transduction of the carboxy group of a reactive polycarboxylic acid compound (A), it is preferable to use as a use for coat|covering a plastic base material or a metal base material.

나아가서는, 미반응의 반응성 폴리카본산 화합물 (A)가, 알칼리 수용액에 가용성이 되는 특징을 살려, 알칼리수 현상형 레지스트 재료 조성물로서 이용하는 것도 바람직하다.Furthermore, it is also preferable to use the unreacted reactive polycarboxylic acid compound (A) as an alkaline water developing type resist material composition by taking advantage of the property of being soluble in aqueous alkali solution.

본 발명에 있어서 레지스트 재료 조성물이란, 기재 상에 당해 조성물의 피막층을 형성시키고, 그 후, 자외선 등의 활성 에너지선을 부분적으로 조사하여, 조사부, 미조사부의 물성적인 차이를 이용하여 묘화하고자 하는 활성 에너지선 감응형의 조성물을 가리킨다. 구체적으로는, 조사부, 또는 미조사부를 어떠한 방법, 예를 들면 용제 등이나 알칼리 용액 등으로 용해시키는 등 하여 제거하고, 묘화를 행하는 것을 목적으로 하여 이용되는 조성물이다.In the present invention, the resist material composition refers to an activity to be drawn by forming a coating layer of the composition on a substrate, and then partially irradiating active energy rays such as ultraviolet rays, using the difference in physical properties of the irradiated and unirradiated parts. It refers to an energy ray-sensitive composition. Specifically, it is a composition used for the purpose of removing an irradiated part or an unirradiated part by some method, for example, dissolving in a solvent etc., an alkali solution, etc., and performing drawing.

본 발명의 레지스트 재료 조성물인 활성 에너지선 경화형 수지 조성물은, 패터닝이 가능한 여러 가지의 재료에 적응할 수 있고, 예를 들면 특히, 솔더 레지스트 재료, 빌드업 공법용의 층간 절연재에 유용하고, 나아가서는 광 도파로로서 프린트 배선판, 광 전자 기판이나 광 기판과 같은 전기·전자·광 기재 등에도 이용된다.The active energy ray-curable resin composition which is a resist material composition of this invention can adapt to various materials which can be patterned, For example, it is useful especially for a soldering resist material and the interlayer insulating material for build-up methods, and furthermore, As a waveguide, it is also used for an electric/electronic/optical substrate such as a printed wiring board, an optoelectronic substrate, or an optical substrate.

특히 적합한 용도로서는, 내열성이나 현상성이 양호한 특성을 살려, 감광성 필름, 지지체 부착 감광성 필름, 프리프레그 등의 절연 수지 시트, 회로 기판(적층판 용도, 다층 프린트 배선판 용도 등), 솔더 레지스트, 언더필재, 다이 본딩재, 반도체 봉지재, 구멍 매입 수지, 부품 매입 수지 등, 수지 조성물이 필요시되는 용도의 광범위에 사용할 수 있다. 그 중에서도, 높은 안료 농도에 있어서도 양호한 현상성을 발휘할 수 있는 점에서, 컬러 레지스트, 컬러 필터용의 레지스트 재료, 특히 블랙 매트릭스 재료 등에도 적합하게 이용할 수 있다.Particularly suitable applications include insulating resin sheets such as photosensitive films, photosensitive films with a support, prepregs, circuit boards (laminated board applications, multilayer printed wiring board applications, etc.), solder resists, underfill materials, It can be used for a wide range of uses requiring a resin composition, such as a die bonding material, a semiconductor sealing material, hole filling resin, and component embedding resin. Especially, since favorable developability can be exhibited also in a high pigment density|concentration, it can utilize suitably also for a color resist, the resist material for color filters, especially a black matrix material, etc.

또한, 다층 프린트 배선판의 절연층용 수지 조성물(감광성 수지 조성물의 경화물을 절연층으로 한 다층 프린트 배선판), 층간 절연층용 수지 조성물(감광성 수지 조성물의 경화물을 층간 절연층으로 한 다층 프린트 배선판), 도금 형성용 수지 조성물(감광성 수지 조성물의 경화물 상에 도금이 형성된 다층 프린트 배선판) 등에도 적합하게 이용할 수 있다.In addition, a resin composition for an insulating layer of a multilayer printed wiring board (a multilayer printed wiring board using a cured product of the photosensitive resin composition as an insulating layer), a resin composition for an interlayer insulating layer (a multilayer printed wiring board using a cured product of a photosensitive resin composition as an interlayer insulating layer), It can use suitably also for the resin composition for metal-plating formation (multilayer printed wiring board in which plating was formed on the hardened|cured material of the photosensitive resin composition) etc.

본 발명의 활성 에너지선 경화형 수지 조성물을 사용한 패터닝은, 예를 들면 다음과 같이 하여 행할 수 있다. 기판 상에 스크린 인쇄법, 스프레이법, 롤 코팅법, 정전 도장법, 커튼 코팅법, 스핀 코팅법 등의 방법으로 0.1∼200㎛의 막두께로 본 발명의 경화형 수지 조성물을 도포하고, 도막을 통상 50∼110℃, 바람직하게는 60∼100℃의 온도에서 건조시킴으로써, 도막을 형성할 수 있다. 그 후, 노광 패턴을 형성한 포토마스크를 통하여 도막에 직접 또는 간접으로 자외선 등의 고에너지선을 통상 10∼2000mJ/㎠ 정도의 강도로 조사하고, 후술하는 현상액을 이용하여, 예를 들면 스프레이, 진동 침지, 패들, 브러싱 등에 의해 소망하는 패턴을 얻을 수 있다.Patterning using the active energy ray-curable resin composition of the present invention can be performed, for example, as follows. On a substrate, the curable resin composition of the present invention is applied to a film thickness of 0.1 to 200 µm by a method such as screen printing, spraying, roll coating, electrostatic painting, curtain coating, spin coating, and the like, and the coating film is usually 50 -110 degreeC, A coating film can be formed by drying at the temperature of preferably 60-100 degreeC. Then, through the photomask on which the exposure pattern is formed, high energy rays such as ultraviolet rays are irradiated to the coating film directly or indirectly at an intensity of about 10 to 2000 mJ/cm 2 , and using a developer described later, for example, spray, A desired pattern can be obtained by vibration immersion, paddle, brushing, or the like.

상기 현상에 사용되는 알칼리 수용액으로서는 수산화 칼륨, 수산화 나트륨, 탄산 나트륨, 탄산 칼륨, 탄산 수소 나트륨, 탄산 수소 칼륨, 인산 나트륨, 인산 칼륨 등의 무기 알칼리 수용액이나 테트라메틸암모늄하이드로옥사이드, 테트라에틸암모늄하이드로옥사이드, 테트라부틸암모늄하이드로옥사이드, 모노에탄올아민, 디에탄올아민, 트리에탄올아민 등의 유기 알칼리 수용액을 사용할 수 있다. 이 수용액에는, 추가로 유기 용제, 완충제, 착화제, 염료 또는 안료를 포함시킬 수 있다.Examples of the aqueous alkali solution used for the above development include an inorganic aqueous alkali solution such as potassium hydroxide, sodium hydroxide, sodium carbonate, potassium carbonate, sodium hydrogen carbonate, potassium hydrogen carbonate, sodium phosphate, potassium phosphate, tetramethylammonium hydroxide, tetraethylammonium hydroxide, and the like. , tetrabutylammonium hydroxide, monoethanolamine, diethanolamine, and an organic aqueous alkali solution such as triethanolamine can be used. The aqueous solution may further contain organic solvents, buffers, complexing agents, dyes or pigments.

이 외에, 활성 에너지선에 의한 경화 반응 전의 기계적 강도가 요구되는 드라이 필름 용도로서 특히 적합하게 이용된다. 즉, 본 발명에서 이용되는 에폭시 수지 (a)의 수산기, 에폭시기의 균형이 특정의 범위에 있기 때문에, 본 발명의 반응성 폴리카본산 화합물 (A)가 비교적 높은 분자량임에도 불구하고, 양호한 현상성을 발휘시킬 수 있다.In addition, it is used especially suitably as a dry film use by which the mechanical strength before hardening reaction by an active energy ray is calculated|required. That is, since the balance of the hydroxyl group and the epoxy group of the epoxy resin (a) used in the present invention is within a specific range, the reactive polycarboxylic acid compound (A) of the present invention exhibits good developability despite a relatively high molecular weight. can do it

피막 형성시키는 방법으로서는 특별히 제한은 없지만, 그라비아 등의 오목판 인쇄 방식, 플렉소 등의 볼록판 인쇄 방식, 실크스크린 등의 공판(孔版) 인쇄 방식, 오프셋 등의 평판 인쇄 방식, 롤 코터, 나이프 코터, 다이 코터, 커튼 코터, 스핀 코터 등의 각종 도공 방식을 임의로 채용할 수 있다.Although there is no restriction|limiting in particular as a method of forming a film, Intaglio printing method, such as gravure, convex printing method, such as flexo, stencil printing method, such as silkscreen, Flatbed printing method, such as offset, roll coater, knife coater, die Various coating methods, such as a coater, a curtain coater, and a spin coater, can be employ|adopted arbitrarily.

본 발명의 활성 에너지선 경화형 수지 조성물의 경화물이란, 본 발명의 활성 에너지선 경화형 수지 조성물에 활성 에너지선을 조사하여 경화시킨 것을 가리킨다.The hardened|cured material of the active energy ray-curable resin composition of this invention points out what irradiated and hardened active energy ray to the active energy ray-curable resin composition of this invention.

본 발명의 활성 에너지선 경화형 수지 조성물로 오버 코팅된 물품이란, 본 발명에 있어서 나타나는 활성 에너지선 경화형 수지 조성물을 기재 상에 피막 형성·경화시켜 얻어지는, 적어도 2층 이상의 층으로 이루어지는 재료를 나타낸다.The article overcoated with the active energy ray-curable resin composition of the present invention refers to a material comprising at least two or more layers obtained by coating and curing the active energy ray-curable resin composition shown in the present invention on a substrate.

(실시예)(Example)

이하, 본 발명을 실시예에 의해 더욱 상세하게 설명하지만, 본 발명은 이들 실시예에 의해 한정되는 것은 아니다. 또한, 실시예 중, 특별한 언급이 없는 한, %는 질량%를 나타낸다.Hereinafter, the present invention will be described in more detail by way of Examples, but the present invention is not limited by these Examples. In addition, in the Example, unless otherwise indicated, % represents mass %.

연화점, 에폭시 당량, 산가는 이하의 조건으로 측정했다.The softening point, epoxy equivalent, and acid value were measured under the following conditions.

1) 에폭시 당량: JISK7236:2001에 준한 방법으로 측정했다.1) Epoxy equivalent: It measured by the method according to JISK7236:2001.

2) 연화점: JISK7234:1986에 준한 방법으로 측정했다.2) Softening point: It was measured by the method according to JISK7234:1986.

3) 산가: JISK0070:1992에 준한 방법으로 측정했다.3) Acid value: It measured by the method according to JISK0070:1992.

4) GPC(겔 투과 크로마토그래피) 측정 조건은 이하와 같다.4) GPC (gel permeation chromatography) measurement conditions are as follows.

기종: TOSOH HLC-8220GPCModel: TOSOH HLC-8220GPC

칼럼: Super HZM-NColumn: Super HZM-N

용리액: THF(테트라하이드로푸란); 0.35ml/분, 40℃Eluent: THF (tetrahydrofuran); 0.35ml/min, 40℃

검출기: RI(시차 굴절계)Detector: RI (Differential Refractometer)

분자량 표준: 폴리스티렌Molecular Weight Standard: Polystyrene

(합성예 1∼3): 반응성 에폭시카복실레이트 화합물 (d)의 합성(Synthesis Examples 1-3): Synthesis of reactive epoxy carboxylate compound (d)

페놀아르알킬형 에폭시 수지(NC-3000H 닛폰카야쿠(주) 제조, 연화점 70℃, 에폭시 당량 288g/eq.)를 288g, 카본산 화합물 (b)로서 아크릴산(AA) 또는 메타크릴산(MAA)을 표 1 중 기재량, 화합물 (c)로서 디메틸올프로피온산(이하, 「DMPA」로 약기함)을 표 1 중 기재량 더했다. 촉매로서 트리페닐포스핀 3g, 용제로서 프로필렌글리콜모노메틸에테르모노아세테이트를 고형분 함유율 80질량%가 되도록 더하고, 100℃에서 24시간 반응시켜, 반응성 에폭시카복실레이트 화합물 (d) 용액을 얻었다.288 g of phenol aralkyl type epoxy resin (NC-3000H Nippon Kayaku Co., Ltd. softening point 70° C., epoxy equivalent 288 g/eq.) acrylic acid (AA) or methacrylic acid (MAA) as carbonic acid compound (b) The amount described in Table 1, and dimethylolpropionic acid (hereinafter abbreviated as “DMPA”) as the compound (c) was added to the amount described in Table 1. 3 g of triphenylphosphine as a catalyst and propylene glycol monomethyl ether monoacetate as a solvent were added so that it might become 80 mass % of solid content content, and it was made to react at 100 degreeC for 24 hours, and the reactive epoxy carboxylate compound (d) solution was obtained.

Figure 112018038934291-pat00006
Figure 112018038934291-pat00006

(실시예 1, 비교예 1): 반응성 폴리카본산 화합물 (A)의 조제(Example 1, Comparative Example 1): Preparation of reactive polycarboxylic acid compound (A)

얻어진 반응성 에폭시카복실레이트 화합물 (d) 용액 200g에, 다염기산 무수물 (e)로서 표 2에 기재된 화합물, 양(g) 및, 용제로서 고형분 함유율 65%가 되도록, 프로필렌글리콜모노메틸에테르모노아세테이트를 첨가하고, 100℃로 가열한 후, 산 부가 반응시켜, 반응성 폴리카본산 화합물 (A) 용액을 얻었다. 얻어진 반응성 폴리카본산 화합물 (A)의 고형분 산가(AV: ㎎KOH/g)를 표 2 중에 기재했다. 고형분 산가(㎎·KOH/g) 측정은 용액으로서 측정을 행하여 고형분에서의 값으로 환산했다.To 200 g of the obtained reactive epoxy carboxylate compound (d) solution, propylene glycol monomethyl ether monoacetate was added so that the compound described in Table 2 as the polybasic acid anhydride (e), the amount (g), and the solid content as a solvent became 65%, , after heating to 100°C, acid addition reaction was carried out to obtain a reactive polycarboxylic acid compound (A) solution. Table 2 shows the solid content acid value (AV: mgKOH/g) of the obtained reactive polycarboxylic acid compound (A). The solid content acid value (mg·KOH/g) measurement was performed as a solution and converted into a value in the solid content.

Figure 112018038934291-pat00007
Figure 112018038934291-pat00007

HTMA: 1,2,4-사이클로헥산트리카본산-1,2-무수물, 미츠비시가스카가쿠(주) 제조HTMA: 1,2,4-cyclohexanetricarboxylic acid-1,2-anhydride, manufactured by Mitsubishi Chemical Co., Ltd.

NTA: 노르보르난트리카본산 무수물, 일본 특허공보 제5532123호 참조 합성품NTA: norbornane tricarboxylic anhydride, see Japanese Patent Publication No. 5532123 Synthetic product

THPA: 1,2,3,6-테트라하이드로 무수 프탈산, 신니혼리카(주) 제조THPA: 1,2,3,6-tetrahydrophthalic anhydride, manufactured by Shin Nippon Rica Co., Ltd.

SA: 리카시드 SA 무수 숙신산, 신니혼리카(주) 제조SA: Ricaside SA succinic anhydride, manufactured by Shin Nippon Rica Co., Ltd.

(실시예 2 및 비교예 2): 레지스트 재료 조성물의 조제(Example 2 and Comparative Example 2): Preparation of resist material composition

실시예 1 및 비교예 1에서 얻어진 반응성 폴리카본산 화합물 (A)를 54.44g, 그 외의 반응성 화합물 (B)로서 HX-220(상품명: 닛폰카야쿠(주) 제조 디아크릴레이트 단량체) 3.54g, 광 중합 개시제로서 이르가큐어 907(치바스페셜리티케미컬즈 제조)을 4.72g 및 카야큐어 DETX-S(닛폰카야쿠(주) 제조)를 0.47g, 경화제 성분으로서 NC-3000(닛폰카야쿠(주) 제조)을 14.83g, 열 경화 촉매로서 멜라민을 1.05g 및 농도 조정 용매로서 메틸에틸케톤을 20.95g 더하여, 비즈 밀로 혼련하고, 균일하게 분산시켜 레지스트 재료 수지 조성물을 얻었다.54.44 g of the reactive polycarboxylic acid compound (A) obtained in Example 1 and Comparative Example 1, and 3.54 g of HX-220 (trade name: Nippon Kayaku Co., Ltd. diacrylate monomer) as other reactive compounds (B); 4.72 g of Irgacure 907 (manufactured by Chiba Specialty Chemicals) and 0.47 g of Kayacure DETX-S (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) as a photoinitiator, NC-3000 (Nippon Kayaku Co., Ltd.) as a curing agent component 14.83 g), 1.05 g of melamine as a thermal curing catalyst, and 20.95 g of methyl ethyl ketone as a concentration adjustment solvent were added, kneaded with a bead mill and uniformly dispersed to obtain a resist material resin composition.

얻어진 당해 조성물을 롤 코팅법에 의해, 지지 필름이 되는 동박의 필름에 균일하게 도포하고, 온도 70℃의 열풍 건조로를 통과시켜, 두께 30㎛의 수지층을 형성했다. 그 후, 1% 탄산나트륨 수용액으로 스프레이 현상을 행하고, 완전하게 현상되기까지의 시간, 소위 브레이크 타임을 갖고 현상성의 평가로 했다(단위: 초).The obtained said composition was apply|coated uniformly to the film of the copper foil used as a support film by the roll coating method, it was made to pass through the hot-air drying furnace with a temperature of 70 degreeC, and the 30-micrometer-thick resin layer was formed. Then, spray development was performed with 1% sodium carbonate aqueous solution, and developability was evaluated with time until complete development, a so-called break time (unit: seconds).

Figure 112018038934291-pat00008
Figure 112018038934291-pat00008

상기의 결과로부터, 본 발명의 반응성 폴리카본산 화합물 (A)를 이용한 레지스트 재료 조성물은 양호한 현상성을 갖고 있다.From the above results, the resist material composition using the reactive polycarboxylic acid compound (A) of the present invention has good developability.

(실시예 3 및 비교예 3): 내열 분해성의 평가(Example 3 and Comparative Example 3): Evaluation of thermal decomposition resistance

실시예 1 및 비교예 1에서 얻어진 반응성 폴리카본산 화합물 (A)를 8g, 광 중합 개시제로서 이르가큐어 907(치바스페셜리티케미컬즈 제조)을 0.24g 및 카야큐어 DETX-S(닛폰카야쿠(주) 제조)를 0.01g, 경화제 성분으로서 NC-3000(닛폰카야쿠 제조)을 0.403g, 열 경화 촉매로서 트리페닐포스핀을 0.017g 및 프로필렌글리콜모노메틸에테르모노아세테이트를 0.446g 더하여, 폴리이미드 필름에 균일하게 도포하고, 온도 80℃의 열풍 건조로를 통과시켜, 두께 20㎛의 수지층을 형성한 후, 자외선 노광 장치((주)오크세이사쿠쇼, 형식 HMW-680GW)로 노광하여, 경화물을 얻었다. 제작한 경화물을 폭 5㎜로 잘라낸다. 그 후, TA instruments 제조 점탄성 측정 장치 RSA-G2에 세트하여, 공기 분위기 중, 주파수 10㎐, 승온 속도 2℃/min.으로 tanδ를 측정하여, tanδ의 최댓값에 있어서의 온도를 Tg로 했다.8 g of the reactive polycarboxylic acid compound (A) obtained in Example 1 and Comparative Example 1, 0.24 g of Irgacure 907 (manufactured by Chiba Specialty Chemicals) as a photopolymerization initiator, and Kayacure DETX-S (Nippon Kayaku Co., Ltd.) ) of 0.01 g, NC-3000 (manufactured by Nippon Kayaku) as a curing agent component, 0.403 g, as a thermal curing catalyst, 0.017 g of triphenylphosphine, and 0.446 g of propylene glycol monomethyl ether monoacetate were added to the polyimide film The cured product was uniformly applied to the surface and passed through a hot air drying furnace at a temperature of 80° C. to form a resin layer having a thickness of 20 μm, and then exposed with an ultraviolet light exposure apparatus (Okseisakusho Co., Ltd., model HMW-680GW). got The produced cured product is cut out to a width of 5 mm. Thereafter, it was set in a viscoelasticity measuring device RSA-G2 manufactured by TA Instruments, and tan δ was measured in an air atmosphere at a frequency of 10 Hz and a temperature increase rate of 2° C./min., and the temperature at the maximum value of tan δ was Tg.

Figure 112018038934291-pat00009
Figure 112018038934291-pat00009

상기의 결과로부터, 본 발명의 반응성 폴리카본산 화합물 (A)를 이용한 활성 에너지선 경화형 수지 조성물은, 비교용의 수지 조성물에 비해, 내열성이 우수한 것을 알 수 있다.From said result, it turns out that the active energy ray-curable resin composition using the reactive polycarboxylic acid compound (A) of this invention is excellent in heat resistance compared with the resin composition for a comparison.

(실시예 4 및 비교예 4): 안료 분산성에 관한 평가(Example 4 and Comparative Example 4): Evaluation of pigment dispersibility

실시예 1 및 비교예 1에서 얻어진 반응성 폴리카본산 화합물 (A)를 20g, 그 외 반응성 화합물 (B)로서 DPHA(상품명: 닛폰카야쿠(주) 제조 아크릴레이트 단량체) 5.0g, 유기 용제로서 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트 10g, 착색 안료로서 미츠비시 카본 블랙 MA-100을 15g 또는 10g 더하고, 교반했다. 추가로 35g의 글래스 비즈를 넣고, 페인트 쉐이커로 1시간 분산을 행했다. 분산 종료 후의 분산액을, 와이어 바 코터 #2로 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름 상에 도공하고, 80℃의 온풍 건조기로 10분간 건조를 행했다. 건조 종료 후의 도막 표면의 광택을 60° 반사 글로스계(호리바세이사쿠쇼 IG-331 광택계)를 이용하여 측정하고, 카본 블랙의 분산성을 평가했다. 표 5에 결과를 나타낸다. 광택의 값이 높을수록, 안료 분산성은 양호하다.20 g of the reactive polycarboxylic acid compound (A) obtained in Example 1 and Comparative Example 1, 5.0 g of DPHA (trade name: Nippon Kayaku Co., Ltd. acrylate monomer) as the other reactive compound (B), propylene as an organic solvent 10 g of glycol monomethyl ether acetate and 15 g or 10 g of Mitsubishi Carbon Black MA-100 as a color pigment were added and stirred. Furthermore, 35 g of glass beads were put, and it disperse|distributed for 1 hour with a paint shaker. The dispersion liquid after completion|finish of dispersion was coated on the polyethylene terephthalate film with wire bar coater #2, and it dried for 10 minutes with an 80 degreeC warm air dryer. The gloss of the surface of the coating film after drying was measured using a 60° reflective gloss meter (Horiba Seisakusho IG-331 gloss meter), and dispersibility of carbon black was evaluated. Table 5 shows the results. The higher the value of gloss, the better the pigment dispersibility.

Figure 112018038934291-pat00010
Figure 112018038934291-pat00010

상기의 결과로부터 명백한 바와 같이, 실시예 1에서 얻어진 반응성 폴리카본산 화합물 (A)를 포함하는 수지 조성물로부터 얻어지는 도막은, 착색 안료의 함유량이 많은 경우에서도, 광택의 값에 변화가 없었다. 이에 대하여, 비교예 1-1의 반응성 폴리카본산 화합물은 착색 안료의 함유량이 증가하면 광택이 저하되고 있는 것을 확인할 수 있다. 비교예 1-2의 반응성 폴리카본산 화합물은 착색 안료의 함유량이 적은 경우에서도 광택의 값이 낮은 점에서, 함량 분산성이 낮은 것을 확인할 수 있다. 따라서, 본 발명의 반응성 폴리카본산 화합물 (A)의 안료 분산성은 착색 안료의 함유량에 의존하는 일 없이, 우수하다고 할 수 있다.As is evident from the above results, the coating film obtained from the resin composition containing the reactive polycarboxylic acid compound (A) obtained in Example 1 had no change in the value of the gloss even when the content of the color pigment was high. On the other hand, it can be confirmed that the luster of the reactive polycarboxylic acid compound of Comparative Example 1-1 is decreased when the content of the color pigment is increased. It can be seen that the reactive polycarboxylic acid compound of Comparative Example 1-2 has a low gloss value even when the content of the color pigment is small, and thus the content dispersibility is low. Therefore, it can be said that the pigment dispersibility of the reactive polycarboxylic acid compound (A) of this invention is excellent, without depending on content of a color pigment.

Claims (9)

하기식 (1)로 나타나는 에폭시 수지 (a)에, 1분자 중에 중합 가능한 에틸렌성 불포화기와 카복시기를 겸비하는 카본산 화합물 (b), 필요에 따라서 1분자 중에 수산기와 카복시기를 겸비하는 화합물 (c)를 반응시켜 얻어지는 반응성 에폭시카복실레이트 화합물 (d)를, 하기식 (2) 또는 식 (3)으로 나타나는 다염기산 무수물 (e)와 반응시킨 반응성 폴리카본산 화합물 (A)(단, 상기 반응성 에폭시카복실레이트 화합물 (d)의 합성시, 카복실기 1개당 탄소수가 10 이상인 적어도 1종의 지방산은 반응시키지 않음):
Figure 112022100980613-pat00011

(식 중, n은 평균값을 나타내고 0∼10의 수를 나타내고; P 및 R은 각각 독립적으로 수소 원자, 할로겐 원자, 탄소수 1∼8의 알킬기, 아릴기 중 어느 것을 나타내고, 복수의 P 및 R은 서로 동일해도 상이해도 좋고; G는 글리시딜기를 나타냄);
Figure 112022100980613-pat00012

(식 (2) 중 R1은, 각각 독립적으로 수소 원자 또는 탄소수 1∼10의 알킬기를 나타내고; m은 1∼3의 정수를 나타냄).
In the epoxy resin (a) represented by the following formula (1), a carbonic acid compound (b) having a polymerizable ethylenically unsaturated group and a carboxyl group in one molecule, and optionally a compound having a hydroxyl group and a carboxyl group in one molecule (c) A reactive polycarboxylic acid compound (A) obtained by reacting a reactive epoxy carboxylate compound (d) obtained by reacting with a polybasic acid anhydride (e) represented by the following formula (2) or (3) In the synthesis of compound (d), at least one fatty acid having 10 or more carbon atoms per carboxyl group is not reacted):
Figure 112022100980613-pat00011

(Wherein, n represents an average value and represents a number from 0 to 10; P and R each independently represent any of a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, or an aryl group, and a plurality of P and R are may be the same or different from each other; G represents a glycidyl group);
Figure 112022100980613-pat00012

(In formula (2), R 1 each independently represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms; m represents an integer of 1 to 3).
제1항에 기재된 반응성 폴리카본산 화합물 (A)를 포함하는 활성 에너지선 경화형 수지 조성물.An active energy ray-curable resin composition comprising the reactive polycarboxylic acid compound (A) according to claim 1 . 제2항에 있어서,
상기 반응성 폴리카본산 화합물 (A) 이외의 반응성 화합물 (B)를 포함하는 활성 에너지선 경화형 수지 조성물.
3. The method of claim 2,
An active energy ray-curable resin composition comprising a reactive compound (B) other than the reactive polycarboxylic acid compound (A).
제2항에 있어서,
광 중합 개시제를 포함하는 활성 에너지선 경화형 수지 조성물.
3. The method of claim 2,
An active energy ray-curable resin composition comprising a photoinitiator.
제2항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서,
성형용 재료인 활성 에너지선 경화형 수지 조성물.
5. The method according to any one of claims 2 to 4,
An active energy ray-curable resin composition as a molding material.
제2항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서,
피막 형성용 재료인 활성 에너지선 경화형 수지 조성물.
5. The method according to any one of claims 2 to 4,
An active energy ray-curable resin composition which is a material for film formation.
제2항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서,
레지스트 재료 조성물인 활성 에너지선 경화형 수지 조성물.
5. The method according to any one of claims 2 to 4,
An active energy ray-curable resin composition which is a resist material composition.
제2항 내지 제4항 중 어느 한 항에 기재된 활성 에너지선 경화형 수지 조성물의 경화물.Hardened|cured material of the active-energy-ray-curable resin composition in any one of Claims 2-4. 제8항에 기재된 활성 에너지선 경화형 수지 조성물의 경화물로 오버 코팅된 물품.An article overcoated with a cured product of the active energy ray-curable resin composition according to claim 8.
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