KR102460645B1 - Manufacturing apparatus and method for a display apparatus - Google Patents
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- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 55
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 37
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 132
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 claims abstract description 20
- 230000005684 electric field Effects 0.000 claims abstract description 19
- 238000000151 deposition Methods 0.000 claims description 39
- 230000008021 deposition Effects 0.000 claims description 34
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 34
- 238000005259 measurement Methods 0.000 claims description 20
- 239000007921 spray Substances 0.000 claims 1
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 89
- 239000010408 film Substances 0.000 description 17
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 16
- 239000012044 organic layer Substances 0.000 description 15
- 238000005538 encapsulation Methods 0.000 description 13
- 238000002161 passivation Methods 0.000 description 10
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 7
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 6
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 description 4
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 4
- 230000008569 process Effects 0.000 description 4
- -1 region Substances 0.000 description 4
- 229910021417 amorphous silicon Inorganic materials 0.000 description 3
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 3
- 229910010272 inorganic material Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000011229 interlayer Substances 0.000 description 3
- 239000000696 magnetic material Substances 0.000 description 3
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 3
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 3
- 229910004205 SiNX Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000000231 atomic layer deposition Methods 0.000 description 2
- 238000004590 computer program Methods 0.000 description 2
- 230000001276 controlling effect Effects 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 2
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 2
- 239000011147 inorganic material Substances 0.000 description 2
- 229910001507 metal halide Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000005309 metal halides Chemical class 0.000 description 2
- 239000011368 organic material Substances 0.000 description 2
- 229920000058 polyacrylate Polymers 0.000 description 2
- 229910021420 polycrystalline silicon Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 2
- 229910018072 Al 2 O 3 Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 1
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 description 1
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910010413 TiO 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 1
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 1
- 230000008859 change Effects 0.000 description 1
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 239000003086 colorant Substances 0.000 description 1
- 229910021419 crystalline silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000004386 diacrylate group Chemical group 0.000 description 1
- 230000005672 electromagnetic field Effects 0.000 description 1
- 230000005525 hole transport Effects 0.000 description 1
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 1
- 150000002484 inorganic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 239000012212 insulator Substances 0.000 description 1
- 230000003993 interaction Effects 0.000 description 1
- 239000005001 laminate film Substances 0.000 description 1
- 239000002346 layers by function Substances 0.000 description 1
- 238000005339 levitation Methods 0.000 description 1
- 230000007257 malfunction Effects 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 239000007769 metal material Substances 0.000 description 1
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 150000004767 nitrides Chemical class 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- 150000002894 organic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 238000000059 patterning Methods 0.000 description 1
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 1
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 1
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 1
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 1
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 description 1
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 1
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 1
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 1
- 230000001105 regulatory effect Effects 0.000 description 1
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002356 single layer Substances 0.000 description 1
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 1
- 230000009466 transformation Effects 0.000 description 1
- 238000000844 transformation Methods 0.000 description 1
- 230000000007 visual effect Effects 0.000 description 1
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- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/34—Sputtering
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- H10K71/00—Manufacture or treatment specially adapted for the organic devices covered by this subclass
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- H10K71/16—Deposition of organic active material using physical vapour deposition [PVD], e.g. vacuum deposition or sputtering
- H10K71/164—Deposition of organic active material using physical vapour deposition [PVD], e.g. vacuum deposition or sputtering using vacuum deposition
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- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/06—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the coating material
- C23C14/12—Organic material
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- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/24—Vacuum evaporation
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- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/50—Substrate holders
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- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
- C23C16/44—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating
- C23C16/455—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating characterised by the method used for introducing gases into reaction chamber or for modifying gas flows in reaction chamber
- C23C16/45523—Pulsed gas flow or change of composition over time
- C23C16/45525—Atomic layer deposition [ALD]
- C23C16/45544—Atomic layer deposition [ALD] characterized by the apparatus
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- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
- C23C16/44—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating
- C23C16/458—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating characterised by the method used for supporting substrates in the reaction chamber
- C23C16/4581—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating characterised by the method used for supporting substrates in the reaction chamber characterised by material of construction or surface finish of the means for supporting the substrate
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- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
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- C23C16/50—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating using electric discharges
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- H01L21/67005—Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67242—Apparatus for monitoring, sorting or marking
- H01L21/67259—Position monitoring, e.g. misposition detection or presence detection
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- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
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Abstract
본 발명은 표시 장치의 제조장치 및 표시 장치의 제조방법을 개시한다. 본 발명은, 자기장이나 전기장이 발생하는 소스부와, 상기 소스부와 대향하도록 배치되며, 디스플레이 기판이 고정되는 캐리어와, 상기 캐리어로부터 이격되도록 배치되며, 제1 방향으로 상기 캐리어의 위치를 조절하는 위치조절부와, 상기 캐리어를 제2 방향으로 이송시키는 캐리어이송부와, 상기 캐리어로부터 이격되도록 배치되어 상기 캐리어의 위치를 조정하는 캐리어가이드부와, 상기 위치조절부, 상기 캐리어이송부 및 상기 캐리어가이드부 중 적어도 하나에 배치되어 상기 위치조절부, 상기 캐리어이송부 및 상기 캐리어가이드부 중 적어도 하나에서 생성된 자기장을 차단하는 차폐부를 포함한다. Disclosed are an apparatus for manufacturing a display device and a method for manufacturing the display device. The present invention provides a source part generating a magnetic or electric field, a carrier disposed to face the source part, a carrier to which a display substrate is fixed, and a carrier spaced apart from the carrier to adjust the position of the carrier in a first direction A position adjusting unit, a carrier conveying unit for conveying the carrier in a second direction, a carrier guide unit arranged to be spaced apart from the carrier to adjust the position of the carrier, the position adjusting unit, the carrier conveying unit and the carrier guide unit It is disposed on at least one of the position control unit, the carrier transfer unit, and a shield for blocking the magnetic field generated in at least one of the carrier guide unit.
Description
본 발명의 실시예들은 장치 및 방법에 관한 것으로서, 더 상세하게는 표시 장치 및 표시 장치의 제조방법에 관한 것이다. Embodiments of the present invention relate to an apparatus and method, and more particularly, to a display apparatus and a method of manufacturing the display apparatus.
이동성을 기반으로 하는 전자 기기가 폭 넓게 사용되고 있다. 이동용 전자 기기로는 모바일 폰과 같은 소형 전자 기기 이외에도 최근 들어 태블릿 PC가 널리 사용되고 있다.Electronic devices based on mobility are widely used. In addition to small electronic devices such as mobile phones, tablet PCs have recently been widely used as mobile electronic devices.
이와 같은 이동형 전자 기기는 다양한 기능을 지원하기 위하여, 이미지 또는 영상과 같은 시각 정보를 사용자에게 제공하기 위하여 표시 장치를 포함한다. 최근, 표시 장치를 구동하기 위한 기타 부품들이 소형화됨에 따라, 표시 장치가 전자 기기에서 차지하는 비중이 점차 증가하고 있는 추세이며, 평평한 상태에서 소정의 각도를 갖도록 구부릴 수 있는 구조도 개발되고 있다.Such a mobile electronic device includes a display device to provide visual information such as an image or video to a user in order to support various functions. Recently, as other components for driving the display device are miniaturized, the proportion of the display device in electronic devices is gradually increasing, and a structure that can be bent to have a predetermined angle in a flat state is being developed.
일반적으로 표시 장치를 제조하는 경우 표시 장치는 캐리어에 탑재되어 캐리어를 롤러를 통하여 접촉 이동시킬 수 있다. 이러한 경우 캐리어와 롤러의 접촉으로 인하여 이물질이 발생할 수 있으며, 이러한 이물질은 표시 장치의 제조 시 제품의 불량을 야기할 수 있으므로 이러한 문제를 해결하기 위하여 본 발명의 실시예들은 비접촉 방식으로 캐리어를 이송시키는 표시 장치의 제조장치 및 표시장치의 제조방법을 제공한다. In general, when a display device is manufactured, the display device may be mounted on a carrier so that the carrier may be moved in contact with the carrier through a roller. In this case, foreign substances may be generated due to the contact between the carrier and the roller, and such foreign substances may cause product defects during manufacturing of the display device. A display device manufacturing apparatus and a display device manufacturing method are provided.
본 발명의 일 실시예는 자기장이나 전기장이 발생하는 소스부와, 상기 소스부와 대향하도록 배치되며, 디스플레이 기판이 고정되는 캐리어와, 상기 캐리어로부터 이격되도록 배치되며, 제1 방향으로 상기 캐리어의 위치를 조절하는 위치조절부와, 상기 캐리어를 제2 방향으로 이송시키는 캐리어이송부와, 상기 캐리어로부터 이격되도록 배치되어 상기 캐리어의 위치를 조정하는 캐리어가이드부와, 상기 위치조절부, 상기 캐리어이송부 및 상기 캐리어가이드부 중 적어도 하나에 배치되어 상기 위치조절부, 상기 캐리어이송부 및 상기 캐리어가이드부 중 적어도 하나에서 생성된 자기장을 차단하는 차폐부를 포함하는 표시 장치의 제조장치를 개시한다. An embodiment of the present invention includes a source part generating a magnetic field or an electric field, a carrier disposed to face the source part, to which a display substrate is fixed, and a carrier spaced apart from the carrier, the position of the carrier in the first direction A position adjusting unit for adjusting the position, a carrier transfer unit for transferring the carrier in the second direction, a carrier guide portion arranged to be spaced apart from the carrier to adjust the position of the carrier, the position adjustment unit, the carrier transfer unit and the Disclosed is an apparatus for manufacturing a display device including a shielding part disposed on at least one of carrier guide parts to block a magnetic field generated by at least one of the position adjusting part, the carrier transport part, and the carrier guide part.
본 실시예에 있어서, 상기 위치조절부로부터 이격되도록 배열되어 상기 캐리어의 자세를 제어하는 캐리어자세제어부를 더 포함할 수 있다. In this embodiment, it may further include a carrier posture control unit arranged to be spaced apart from the position adjusting unit to control the posture of the carrier.
본 실시예에 있어서, 상기 캐리어자세제어부는, 상기 캐리어에 배치되는 제1 자세제어부와, 상기 제1 자세제어부와 이격되도록 배치되어 상기 캐리어의 자세를 제어하는 제2 자세제어부를 포함할 수 있다. In this embodiment, the carrier posture control unit, the first posture control unit disposed on the carrier, and the first posture control unit and disposed to be spaced apart may include a second posture control unit for controlling the posture of the carrier.
본 실시예에 있어서, 상기 캐리어는 수직하게 배열되고, 상기 위치조절부는 상기 캐리어의 상면에 배치될 수 있다. In this embodiment, the carrier may be vertically arranged, and the position adjusting unit may be disposed on the upper surface of the carrier.
본 실시예에 있어서, 상기 캐리어가이드부는 상기 캐리어의 일면에 대향하도록 배치될 수 있다. In this embodiment, the carrier guide portion may be disposed to face one surface of the carrier.
본 실시예에 있어서, 상기 캐리어가이드부는, 상기 캐리어의 양면 중 일면 측에 배치되는 제1 가이드부와, 상기 제1 가이드부와 대향하도록 배치되며, 상기 캐리어의 양면 중 다른 면 측에 배치되는 제2 가이드부를 포함할 수 있다. In this embodiment, the carrier guide part, a first guide part disposed on one side of both surfaces of the carrier, and a first guide part disposed to face the first guide part, and disposed on the other side of both surfaces of the
본 실시예에 있어서, 상기 캐리어이송부는, 상기 캐리어에 배치되는 제1 이송부와, 상기 제1 이송부로부터 이격되도록 배치되며, 상기 제1 이송부와 함께 상기 캐리어를 이동시키는 구동력을 생성하는 제2 이송부를 포함할 수 있다. In this embodiment, the carrier transfer unit, a first transfer unit disposed on the carrier, and a second transfer unit that is disposed to be spaced apart from the first transfer unit, and generates a driving force for moving the carrier together with the first transfer unit may include
본 실시예에 있어서, 상기 위치조절부와 상기 캐리어 사이의 간격을 측정하는 간격측정센서부를 더 포함할 수 있다. In this embodiment, it may further include a gap measuring sensor for measuring the distance between the position adjustment unit and the carrier.
본 실시예에 있어서, 상기 캐리어가이드부와 상기 캐리어 사이의 간격을 측정하는 자세측정센서부를 더 포함할 수 있다. In this embodiment, it may further include a posture measurement sensor for measuring the distance between the carrier guide portion and the carrier.
본 실시예에 있어서, 상기 차폐부는, 상기 위치조절부, 상기 캐리어이송부 및 상기 캐리어가이드부 중 적어도 하나에 배치되어 상기 위치조절부, 상기 캐리어이송부 및 상기 캐리어가이드부 중 적어도 하나에서 생성된 자기장을 차단하는 차단부를 포함할 수 있다. In this embodiment, the shielding unit is disposed on at least one of the position adjustment unit, the carrier transfer unit, and the carrier guide unit to generate a magnetic field generated in at least one of the position adjustment unit, the carrier transfer unit and the carrier guide unit. It may include a blocking unit for blocking.
본 실시예에 있어서, 상기 차폐부는, 상기 차단부에 배치되며, 상기 위치조절부, 상기 캐리어이송부 및 상기 캐리어가이드부 중 적어도 하나에서 생성된 자기장을 안내하는 자기장안내부를 더 포함할 수 있다. In this embodiment, the shielding unit may further include a magnetic field guide unit disposed on the blocking unit and guiding a magnetic field generated by at least one of the position adjusting unit, the carrier transport unit, and the carrier guide unit.
본 실시예에 있어서, 상기 캐리어이송부는 복수개 구비되며, 상기 복수개의 캐리어이송부는 상기 제2 방향으로 서로 이격되도록 배열되며, 서로 인접하는 상기 캐리어이송부 사이의 거리는 상기 캐리어의 길이보다 작을 수 있다. In this embodiment, a plurality of the carrier transfer unit is provided, and the plurality of carrier transfer units are arranged to be spaced apart from each other in the second direction, and a distance between the adjacent carrier transfer units may be smaller than the length of the carrier.
본 발명의 다른 실시예는, 디스플레이 기판이 로딩되거나 언로딩되는 제1 챔버유닛과, 상기 디스플레이 기판에 증착물질을 증착시키는 제2 챔버유닛과, 상기 제1 챔버유닛과 상기 제2 챔버유닛 중 적어도 하나에 배치되며, 상기 디스플레이 기판을 상기 제1 챔버유닛에서 상기 제2 챔버유닛 또는 상기 제2 챔버유닛에서 상기 제1 챔버유닛으로 이송시키는 이송유닛을 포함하고, 상기 이송유닛은, 소스부와 대향하도록 배치되며, 디스플레이 기판이 고정되어 상기 디스플레이 기판을 이송시키는 캐리어와, 상기 캐리어로부터 이격되도록 배치되며, 제1 방향으로 상기 캐리어의 위치를 조절하는 위치조절부와, 상기 캐리어를 제2 방향으로 이송시키는 이송부와, 상기 캐리어로부터 이격되도록 배치되어 상기 캐리어의 위치를 조정하는 가이드부와, 상기 위치조절부, 상기 이송부 및 상기 가이드부 중 적어도 하나에 배치되어 상기 위치조절부, 상기 이송부 및 상기 가이드부 중 적어도 하나에서 생성된 자기장을 차단하는 차폐부를 포함하는 표시 장치의 제조장치를 개시한다. Another embodiment of the present invention provides a first chamber unit on which a display substrate is loaded or unloaded, a second chamber unit for depositing a deposition material on the display substrate, and at least one of the first chamber unit and the second chamber unit. and a transfer unit for transferring the display substrate from the first chamber unit to the second chamber unit or from the second chamber unit to the first chamber unit, wherein the transfer unit faces the source unit a carrier to which the display substrate is fixed to transport the display substrate, a position adjusting unit arranged to be spaced apart from the carrier and adjusting the position of the carrier in a first direction, and transporting the carrier in a second direction and a guide portion arranged to be spaced apart from the carrier to adjust the position of the carrier, the position adjustment portion, the transfer portion and the guide portion disposed on at least one of the position adjustment portion, the transfer portion and the guide portion Disclosed is an apparatus for manufacturing a display device including a shielding unit that blocks a magnetic field generated by at least one of them.
본 실시예에 있어서, 상기 제2 챔버유닛은, 상기 디스플레이 기판이 수납되는 챔버와, 상기 챔버 내부에 배치되며, 상기 디스플레이 기판에 증착물질을 분사하며 자기장 또는 전기장을 생성하는 소스부를 포함할 수 있다. In this embodiment, the second chamber unit may include a chamber in which the display substrate is accommodated, and a source unit disposed in the chamber and spraying a deposition material on the display substrate to generate a magnetic field or an electric field. .
본 발명의 또 다른 실시예는, 디스플레이 기판을 제1 챔버유닛에 로딩시키는 단계와, 상기 제1 챔버유닛의 상기 디스플레이 기판을 제2 챔버유닛으로 이송시키는 단계와, 상기 제2 챔버유닛에서 자기장 또는 전기장을 생성하는 소스부를 통하여 증착물질을 상기 디스플레이 기판에 공급하여 상기 증착물질을 상기 디스플레이 기판에 증착시키는 단계를 포함하고, 상기 디스플레이 기판은 이송유닛을 통하여 비접촉식으로 부양하여 이송시키고, 상기 제2 챔버유닛에서 상기 이송유닛에서 발생되는 자기장을 차폐시키는 표시 장치의 제조방법을 개시한다.Another embodiment of the present invention includes the steps of loading a display substrate into a first chamber unit, transferring the display substrate of the first chamber unit to a second chamber unit, and in the second chamber unit, a magnetic field or supplying a deposition material to the display substrate through a source for generating an electric field to deposit the deposition material on the display substrate, wherein the display substrate is floated and transported in a non-contact manner through a transport unit, and the second chamber Disclosed is a method of manufacturing a display device for shielding a magnetic field generated by a transfer unit in a unit.
본 실시예에 있어서, 상기 이송유닛에서 발생되는 자기장 중 상기 소스부를 향하는 자기장을 차폐시킬 수 있다. In this embodiment, it is possible to shield the magnetic field toward the source part of the magnetic field generated by the transfer unit.
본 실시예에 있어서, 상기 이송유닛은 상기 소스부와 대향하도록 배치되어 상기 자기장을 차폐시키는 차폐부를 포함할 수 있다. In this embodiment, the transfer unit may include a shielding portion disposed to face the source portion to shield the magnetic field.
본 실시예에 있어서, 상기 이송유닛은 상기 디스플레이 기판이 고정되는 캐리어를 포함하고, 상기 제1 챔버유닛과 상기 제2 챔버유닛 사이의 거리는 상기 캐리어의 폭보다 작을 수 있다. In this embodiment, the transfer unit may include a carrier to which the display substrate is fixed, and a distance between the first chamber unit and the second chamber unit may be smaller than a width of the carrier.
본 실시예에 있어서, 상기 이송유닛은 상기 디스플레이 기판의 이송 시 상기 디스플레이 기판의 자세를 일정하게 유지시킬 수 있다. In this embodiment, the transfer unit may constantly maintain the posture of the display substrate when the display substrate is transferred.
본 실시예에 있어서, 상기 이송유닛은 상기 디스플레이 기판을 지면에 대해서 틸팅된 상태로 이송할 수 있다. In this embodiment, the transfer unit may transfer the display substrate in a tilted state with respect to the ground.
전술한 것 외의 다른 측면, 특징, 이점이 이하의 도면, 특허청구범위 및 발명의 상세한 설명으로부터 명확해질 것이다. Other aspects, features and advantages other than those described above will become apparent from the following drawings, claims, and detailed description of the invention.
이러한 일반적이고 구체적인 측면이 시스템, 방법, 컴퓨터 프로그램, 또는 어떠한 시스템, 방법, 컴퓨터 프로그램의 조합을 사용하여 실시될 수 있다.These general and specific aspects may be practiced using systems, methods, computer programs, or any combination of systems, methods, and computer programs.
본 발명의 실시예들에 관한 표시 장치의 제조장치 및 표시 장치의 제조방법은 디스플레이 기판의 이송 시 발생하는 이물질을 최소화할 수 있다. The display device manufacturing apparatus and the display device manufacturing method according to the exemplary embodiments of the present invention may minimize foreign substances generated when the display substrate is transported.
본 발명의 실시예들에 관한 표시 장치의 제조장치 및 표시 장치의 제조방법은 디스플레이 기판에 증착물질을 균일하게 도포함으로써 고품질의 표시 장치를 제조하는 것이 가능하다.In the display device manufacturing apparatus and the display device manufacturing method according to the exemplary embodiments of the present invention, it is possible to manufacture a high-quality display device by uniformly coating a deposition material on a display substrate.
본 발명의 실시예들에 관한 표시 장치의 제조장치 및 표시 장치의 제조방법은 디스플레이 기판의 이송 시 디스플레이 기판의 자세를 일정하게 유지시킬 수 있으며, 정해진 경로로 디스플레이 기판을 신속하고 정확하게 이송시키는 것이 가능하다. The display device manufacturing apparatus and the display device manufacturing method according to the embodiments of the present invention can maintain a constant posture of the display substrate when the display substrate is transported, and it is possible to quickly and accurately transport the display substrate through a predetermined path do.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 표시 장치의 제조장치를 보여주는 개념도이다.
도 2는 도 1에 도시된 표시 장치의 제조장치의 제2 이송유닛의 일 실시예을 보여주는 정면도이다.
도 3은 도 2에 도시된 제2 이송유닛과 도 1에 도시된 소스부를 보여주는 측면도이다.
도 4는 도 2 및 도 3에 도시된 제2 차폐부를 보여주는 단면도이다.
도 5는 도 1에 도시된 표시 장치의 제조장치의 제2 이송유닛의 다른 실시예를 보여주는 정면도이다.
도 6은 도 5에 도시된 제2 이송유닛을 보여주는 측면도이다.
도 7은 도 1에 도시된 표시 장치의 제조장치의 제2 이송유닛의 또 다른 실시예를 보여주는 정면도이다.
도 8은 도 7에 도시된 제2 이송유닛을 보여주는 측면도이다.
도 9는 도 1에 도시된 표시 장치의 제조장치의 제2 이송유닛의 또 다른 실시예를 보여주는 정면도이다.
도 10은 도 9에 도시된 제2 이송유닛의 또 다른 실시예를 보여주는 정면도이다.
도 11은 도 1에 도시된 표시 장치의 제조장치의 제2 이송유닛의 또 다른 실시예를 보여주는 정면도이다.
도 12은 도 11에 도시된 표시 장치의 제조장치를 보여주는 측면도이다.
도 13은 도 1에 도시된 표시 장치의 제조장치로 제조된 표시 장치를 보여주는 평면도이다.
도 14은 도 13에 도시된 A-A선을 따라 취한 단면도이다. 1 is a conceptual diagram illustrating an apparatus for manufacturing a display device according to an exemplary embodiment.
FIG. 2 is a front view illustrating an exemplary embodiment of a second transfer unit of the apparatus for manufacturing the display device illustrated in FIG. 1 .
3 is a side view showing the second transfer unit shown in FIG. 2 and the source unit shown in FIG. 1 .
4 is a cross-sectional view illustrating the second shielding unit shown in FIGS. 2 and 3 .
FIG. 5 is a front view illustrating another exemplary embodiment of a second transfer unit of the apparatus for manufacturing the display device illustrated in FIG. 1 .
6 is a side view showing the second transfer unit shown in FIG.
FIG. 7 is a front view illustrating another exemplary embodiment of a second transfer unit of the apparatus for manufacturing the display device illustrated in FIG. 1 .
FIG. 8 is a side view showing the second transfer unit shown in FIG. 7 .
FIG. 9 is a front view illustrating another embodiment of a second transfer unit of the apparatus for manufacturing the display device illustrated in FIG. 1 .
10 is a front view showing another embodiment of the second transfer unit shown in FIG.
FIG. 11 is a front view illustrating another exemplary embodiment of a second transfer unit of the apparatus for manufacturing the display device illustrated in FIG. 1 .
12 is a side view illustrating an apparatus for manufacturing the display device illustrated in FIG. 11 .
FIG. 13 is a plan view illustrating a display device manufactured with the device for manufacturing the display device shown in FIG. 1 .
14 is a cross-sectional view taken along line AA shown in FIG. 13 .
본 발명은 다양한 변환을 가할 수 있고 여러 가지 실시예를 가질 수 있는 바, 특정 실시예들을 도면에 예시하고 상세한 설명에 상세하게 설명하고자 한다. 본 발명의 효과 및 특징, 그리고 그것들을 달성하는 방법은 도면과 함께 상세하게 후술되어 있는 실시예들을 참조하면 명확해질 것이다. 그러나 본 발명은 이하에서 개시되는 실시예들에 한정되는 것이 아니라 다양한 형태로 구현될 수 있다. Since the present invention can apply various transformations and can have various embodiments, specific embodiments are illustrated in the drawings and described in detail in the detailed description. Effects and features of the present invention, and a method for achieving them, will become apparent with reference to the embodiments described below in detail in conjunction with the drawings. However, the present invention is not limited to the embodiments disclosed below and may be implemented in various forms.
이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 실시예들을 상세히 설명하기로 하며, 도면을 참조하여 설명할 때 동일하거나 대응하는 구성 요소는 동일한 도면부호를 부여하고 이에 대한 중복되는 설명은 생략하기로 한다.Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings, and when described with reference to the drawings, the same or corresponding components are given the same reference numerals, and the overlapping description thereof will be omitted. .
이하의 실시예에서, 제1, 제2 등의 용어는 한정적인 의미가 아니라 하나의 구성 요소를 다른 구성 요소와 구별하는 목적으로 사용되었다. In the following embodiments, terms such as first, second, etc. are used for the purpose of distinguishing one component from another, not in a limiting sense.
이하의 실시예에서, 단수의 표현은 문맥상 명백하게 다르게 뜻하지 않는 한, 복수의 표현을 포함한다.In the following examples, the singular expression includes the plural expression unless the context clearly dictates otherwise.
이하의 실시예에서, 포함하다 또는 가지다 등의 용어는 명세서상에 기재된 특징, 또는 구성요소가 존재함을 의미하는 것이고, 하나 이상의 다른 특징들 또는 구성요소가 부가될 가능성을 미리 배제하는 것은 아니다. In the following embodiments, terms such as include or have means that the features or components described in the specification are present, and the possibility that one or more other features or components may be added is not excluded in advance.
이하의 실시예에서, 막, 영역, 구성 요소 등의 부분이 다른 부분 위에 또는 상에 있다고 할 때, 다른 부분의 바로 위에 있는 경우뿐만 아니라, 그 중간에 다른 막, 영역, 구성 요소 등이 개재되어 있는 경우도 포함한다. In the following embodiments, when it is said that a part such as a film, region, or component is on or on another part, not only when it is directly on the other part, but also another film, region, component, etc. is interposed therebetween. Including cases where there is
도면에서는 설명의 편의를 위하여 구성 요소들이 그 크기가 과장 또는 축소될 수 있다. 예컨대, 도면에서 나타난 각 구성의 크기 및 두께는 설명의 편의를 위해 임의로 나타내었으므로, 본 발명이 반드시 도시된 바에 한정되지 않는다.In the drawings, the size of the components may be exaggerated or reduced for convenience of description. For example, since the size and thickness of each component shown in the drawings are arbitrarily indicated for convenience of description, the present invention is not necessarily limited to the illustrated bar.
이하의 실시예에서, x축, y축 및 z축은 직교 좌표계 상의 세 축으로 한정되지 않고, 이를 포함하는 넓은 의미로 해석될 수 있다. 예를 들어, x축, y축 및 z축은 서로 직교할 수도 있지만, 서로 직교하지 않는 서로 다른 방향을 지칭할 수도 있다.In the following embodiments, the x-axis, the y-axis, and the z-axis are not limited to three axes on the Cartesian coordinate system, and may be interpreted in a broad sense including them. For example, the x-axis, y-axis, and z-axis may be orthogonal to each other, but may refer to different directions that are not orthogonal to each other.
어떤 실시예가 달리 구현 가능한 경우에 특정한 공정 순서는 설명되는 순서와 다르게 수행될 수도 있다. 예를 들어, 연속하여 설명되는 두 공정이 실질적으로 동시에 수행될 수도 있고, 설명되는 순서와 반대의 순서로 진행될 수 있다.In cases where certain embodiments are otherwise practicable, a specific process sequence may be performed different from the described sequence. For example, two processes described in succession may be performed substantially simultaneously, or may be performed in an order opposite to the order described.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 표시 장치의 제조장치를 보여주는 개념도이다. 도 2는 도 1에 도시된 표시 장치의 제조장치의 이송유닛의 일 실시예을 보여주는 정면도이다. 도 3은 도 2에 도시된 이송유닛과 도 1에 도시된 소스부를 보여주는 측면도이다. 도 4는 도 2 및 도 3에 도시된 제2 차폐부를 보여주는 단면도이다. 1 is a conceptual diagram illustrating an apparatus for manufacturing a display device according to an exemplary embodiment. FIG. 2 is a front view illustrating an exemplary embodiment of a transfer unit of the apparatus for manufacturing the display device illustrated in FIG. 1 . 3 is a side view showing the transfer unit shown in FIG. 2 and the source unit shown in FIG. 1 . 4 is a cross-sectional view illustrating the second shielding unit shown in FIGS. 2 and 3 .
도 1 내지 도 3을 참고하면, 표시 장치의 제조장치(10)는 디스플레이 기판(D)이 외부로부터 공급되어 디스플레이 기판(D) 상에 증착물질을 증착하여 일정한 층을 형성할 수 있다. 이때, 증착물질은 디스플레이 기판(D)에 기 설정된 패턴 형태로 디스플레이 기판(D)에 증착시키는 것도 가능하고, 디스플레이 기판(D) 전면을 덮도록 디스플레이 기판(D)에 증착되는 것도 가능하다. 예를 들면, 표시 장치의 제조장치(10)는 디스플레이 기판(D)에 소스전극 또는 드레인전극을 형성할 수 있다. 표시 장치의 제조장치(10)는 디스플레이 기판(D)에 박막 봉지층 중 무기층을 형성할 수 있다. 이때, 디스플레이 기판(D)은 각 층이 형성되기 전까지 다양한 층이 기판(미도시)에 형성된 형태를 의미할 수 있다. 이하에서는 설명의 편의를 위하여 표시 장치의 제조장치(10)는 디스플레이 기판(D)에 박막 봉지층 중 무기층을 형성하는 경우를 중심으로 상세히 설명하기로 한다. 1 to 3 , in the
한편, 표시 장치의 제조장치(10)는 제1 챔버유닛(100), 적어도 한 개 이상의 제2 챔버유닛(200) 및 이송유닛(300)을 포함할 수 있다. Meanwhile, the
제1 챔버유닛(100)은 외부로부터 디스플레이 기판(D)을 로딩하거나 증착이 완료된 디스플레이 기판(D)을 외부로 언로딩할 수 있다. The
제2 챔버유닛(200)은 제1 챔버유닛(100)과 연결되어 디스플레이 기판(D)에 증착물질을 증착시킬 수 있다. 이때, 제2 챔버유닛(200)의 소스부(220)는 자기장 또는 전기장을 형성하여 증착물질을 디스플레이 기판(D)에 증착시킬 수 있다. 이러한 제2 챔버유닛(200)은 다양한 방식으로 증착물질을 디스플레이 기판(D)에 증착시킬 수 있다. 예를 들면, 제2 챔버유닛(200)은 플라즈마 화학기상증착방식(PECVD) 방식으로 증착물질을 디스플레이 기판(D)에 증착시킬 수 있다. 다른 실시예로써 제2 챔버유닛(200)은 원자층 증착 방식(ALD)으로 증착물질을 디스플레이 기판(D)에 증착시킬 수 있다. 또 다른 실시예로써 제2 챔버유닛(200)은 스퍼터링(Sputtering) 방식으로 증착물질을 디스플레이 기판(D)에 증착시킬 수 있다. The
제2 챔버유닛(200)은 복수개 구비될 수 있다. 복수개의 제2 챔버유닛(200)은 서로 이격되도록 배치될 수 있다. 이때, 복수개의 제2 챔버유닛(200)은 동일한 증착 방식으로 증착물질을 증착할 수 있으며, 서로 상이한 증착 방식으로 증착물질을 증착하는 것도 가능하다. 또한, 복수개의 제2 챔버유닛(200)은 서로 연결될 수 있으며, 복수개의 제2 챔버유닛(200) 사이에는 별도의 게이트밸브(400)가 배치되어 각 제2 챔버유닛(200)을 구분할 수 있다. A plurality of
상기와 같은 제1 챔버유닛(100) 및 제2 챔버유닛(200)은 내부의 압력을 대기압 또는 진공 상태로 조절하는 것이 가능하다. 이때, 제1 챔버유닛(100)과 제2 챔버유닛(200)은 별도의 압력조절 장치를 포함할 수 있다. The
이송유닛(300)은 디스플레이 기판(D)을 이송시킬 수 있다. 이때, 이송유닛(300)은 디스플레이 기판(D)을 지면에 대해서 일정 각도를 형성하도록 배치한 상태에서 이송시킬 수 있다. 즉, 디스플레이 기판(D)는 지면에 대해서 틸팅된 상태로 이송될 수 있다. 예를 들면, 이송유닛(300)은 지면에 대해서 디스플레이 기판(D)이 0도를 초과하면서 90도 이하의 범위의 각도를 형성하도록 배열시킨 상태에서 디스플레이 기판(D)을 이송시킬 수 있다. 이때, 지면은 제1 챔버유닛(100) 및 제2 챔버유닛(200)이 설치되는 면을 의미할 수 있으며, 제1 챔버유닛(100)의 제1 챔버(미표기)의 저면 및 제2 챔버유닛(200)의 제2 챔버(210)의 저면을 의미할 수 있다. The
제1 챔버유닛(100) 및 제2 챔버유닛(200)에 배치될 수 있다. 이때, 이송유닛(300)은 제1 챔버유닛(100)에 배치되는 제1 이송유닛(미도시) 및 제2 챔버유닛(200)에 배치되는 제2 이송유닛(300-2)을 포함할 수 있다. 이러한 경우 상기 제1 이송유닛과 제2 이송유닛(300-2)은 서로 이격되도록 배치될 수 있다. 이때, 상기 제1 이송유닛과 제2 이송유닛(300-2)은 서로 동일 또는 유사하므로 이하에서는 설명의 편의를 위하여 제2 이송유닛(300-2)을 중심으로 상세히 설명하기로 한다. It may be disposed in the
제2 이송유닛(300-2)은 캐리어(310), 제2 위치조절부(320-2), 제2 캐리어이송부(330-2), 제2 캐리어가이드부(340-2), 제2 캐리어자세제어부(350-2), 제2 차폐부(360-2), 제2 간격측정센서부(371-2) 및 제2 자세측정센서부(372-2)를 포함할 수 있다. The second transfer unit 300-2 includes a
캐리어(310)는 제1 챔버유닛(100)과 제2 챔버유닛(200)을 이동할 수 있다. 이때, 캐리어(310)는 제1 챔버유닛(100)으로부터 제2 챔버유닛(200)으로 이동할 수 있으며, 복수개의 제2 챔버유닛(200)을 이동할 수 있다. 또한, 캐리어(310)는 제2 챔버유닛(200)으로부터 제1 챔버유닛(100)으로 이동하는 것도 가능하다. 이때, 캐리어(310)는 하나가 구비될 수 있으며, 상기 제1 이송유닛과 제2 이송유닛(300-2)은 캐리어(310)를 서로 공유할 수 있다. The
상기와 같은 캐리어(310)는 디스플레이 기판(D)이 고정되어 고정될 수 있다. 이때, 캐리어(310)는 디스플레이 기판(D)을 다양한 방식으로 고정시킬 수 있다. 일 실시예로써 캐리어(310)는 디스플레이 기판(D)을 클램프(311)를 통하여 고정시킬 수 있다. 다른 실시예로써 캐리어(310)는 점착척을 구비하여 디스플레이 기판(D)을 고정시키는 것도 가능하다. 또 다른 실시예로써 캐리어(310)는 정전척을 구비하여 디스플레이 기판(D)을고정시킬 수 있다. 이때, 캐리어(310)가 정전척을 구비하는 경우 캐리어(310) 내부에 이차 전지 등을 구비할 수 있으며, 캐리어(310)에 별도의 무선충전 모듈이 탑재되어 이송 중 충전되거나 전류를 공급 받는 것이 가능하다. 이하에서는 설명의 편의를 위하여 캐리어(310)가 디스플레이 기판(D)를 클램프(311)를 통하여 고정시키는 경우를 중심으로 상세히 설명하기로 한다. The
제2 위치조절부(320-2)는 제1 방향(예를 들면, 도 3의 상하방향)으로 캐리어(310)의 위치를 조절할 수 있다. 이때, 제2 위치조절부(320-2)는 자석 또는 전자석을 포함하여 캐리어(310)에 인력을 인가함으로써 캐리어(310)의 위치를 조절할 수 있다. The second position adjusting unit 320 - 2 may adjust the position of the
제2 캐리어이송부(330-2)는 캐리어(310)를 제2 방향(예를 들면 도 2의 좌우방향)으로 이동시킬 수 있다. 이때, 제2 방향은 제1 방향과 서로 상이한 방향일 수 있다. 특히 제1 방향과 제2 방향은 서로 수직일 수 있다. 제2 캐리어이송부(330-2)는 복수개 구비될 수 있으며, 복수개의 제2 캐리어이송부(330-2) 중 일부는 캐리어(310)의 일면에 배치될 수 있다. 복수개의 제2 캐리어이송부(330-2) 중 다른 일부는 캐리어(310)의 타면에 배치될 수 있다. The second carrier transfer unit 330 - 2 may move the
제2 캐리어이송부(330-2)는 캐리어(310)에 배치되는 제1 이송부(331-2)와 제1 이송부(331-2)로부터 이격되도록 배치되는 제2 이송부(332-2)를 포함할 수 있다. 이때, 제2 이송부(332-2)는 제2 챔버유닛(200)의 제2 챔버(210)의 내벽에 고정되도록 설치될 수 있다. 상기와 같은 제1 이송부(331-2) 또는 제2 이송부(332-2) 중 하나는 영구자석을 포함할 수 있다. 제1 이송부(331-2) 또는 제2 이송부(332-2) 중 다른 하나는 전자석을 포함할 수 있다. 이때, 제1 이송부(331-2)가 전자석을 포함하고, 제2 이송부(332-2)가 영구자석을 포함하는 경우 캐리어(310)에는 상기에서 설명한 바와 같이 무선 충전모듈을 구비할 수 있다. 다만, 이하에서는 설명의 편의를 위하여 제1 이송부(331-2)가 영구자석을 포함하고, 제2 이송부(332-2)가 전자석을 포함하는 경우를 중심으로 상세히 설명하기로 한다. The second carrier conveying unit 330-2 may include a first conveying unit 331-2 disposed on the
제1 이송부(331-2)는 영구자석을 포함할 수 있다. 이때, 제1 이송부(331-2)는 서로 상이한 극이 교번하도록 복수개의 영구자석을 포함할 수 있다. 이러한 경우 제1 이송부(331-2)는 복수개의 영구자석이 일렬로 배열된 형태일 수 있다. The first transfer unit 331 - 2 may include a permanent magnet. In this case, the first transfer unit 331 - 2 may include a plurality of permanent magnets so that different poles are alternated. In this case, the first transfer unit 331 - 2 may have a form in which a plurality of permanent magnets are arranged in a line.
제2 이송부(332-2)는 리니어모션스테이지 코일(Linear motion stage coil)을 포함할 수 있다. 이러한 경우 제2 이송부(332-2)는 전자석 형태일 수 있으며, 제1 이송부(331-2)와 대향하도록 제1 이송부(331-2)의 길이 방향으로 길게 형성될 수 있다. 이러한 경우 제2 이송부(332-2)는 인가되는 전류를 가변시킴으로써 캐리어(310)가 이동할 수 있도록 구동력을 제공할 수 있다. The second transfer unit 332 - 2 may include a linear motion stage coil. In this case, the second transfer unit 332 - 2 may be in the form of an electromagnet, and may be formed to be elongated in the longitudinal direction of the first transfer unit 331 - 2 to face the first transfer unit 331 - 2 . In this case, the second transfer unit 332 - 2 may provide a driving force to move the
제2 캐리어가이드부(340-2)는 캐리어(310)의 자세를 유지시킬 수 있다. 이때, 제2 캐리어가이드부(340-2)는 캐리어(310)의 양면에 각각 대향하도록 배치되는 제1 가이드부(341-2)와 제2 가이드부(342-2)를 포함할 수 있다. 이러한 경우 제1 가이드부(341-2)와 제2 가이드부(342-2)는 전자석을 포함하여 캐리어(310)에 작용하는 인력을 조절함으로써 제1 가이드부(341-2)와 캐리어(310)의 일면 사이의 거리 및 제2 가이드부(342-2)와 캐리어(310)의 타면 사이의 거리를 일정하게 유지시킬 수 있다. The second carrier guide unit 340 - 2 may maintain the posture of the
제2 캐리어자세제어부(350-2)는 캐리어(310)의 자세를 일정하게 유지시킬 수 있다. 이때, 제2 캐리어자세제어부(350-2)는 캐리어(310)에 배치되는 제1 자세제어부(351-2) 및 제2 챔버(210)에 배치되는 제2 자세제어부(352-2)를 포함할 수 있다. 캐리어(310)는 제1 자세제어부(351-2)가 배치되도록 일부가 돌출되거나 절곡될 수 있다. 이러한 경우 제2 자세제어부(352-2)의 위치는 제2 위치조절부(320-2)의 위치와 서로 겹치지 않을 수 있다. The second carrier posture control unit 350 - 2 may constantly maintain the posture of the
제1 자세제어부(351-2)와 제2 자세제어부(352-2)는 영구자석 및 전자석 중 적어도 하나를 포함할 수 있다. 이때, 제1 자세제어부(351-2)와 제2 자세제어부(352-2)는 서로 마주보는 면의 극성이 서로 상이할 수 있다. 예를 들면, 제1 자세제어부(351-2)의 일면의 극성이 S극인 경우 서로 마주보는 제1 자세제어부(351-2)의 일면과 마주보는 제2 자세제어부(352-2)의 일면의 극성은 N극일 수 있다. 다른 실시예로써 제1 자세제어부(351-2)의 일면의 극성이 N극인 경우 서로 마주보는 제1 자세제어부(351-2)의 일면과 마주보는 제2 자세제어부(352-2)의 일면의 극성은 S극일 수 있다. 이하에서는 설명의 편의를 위하여 제1 자세제어부(351-2) 및 제2 자세제어부(352-2)가 영구자석인 경우를 중심으로 상세히 설명하기로 한다. The first attitude control unit 351 - 2 and the second attitude control unit 352 - 2 may include at least one of a permanent magnet and an electromagnet. In this case, the polarities of the surfaces of the first posture control unit 351 - 2 and the second posture control unit 352 - 2 facing each other may be different from each other. For example, when the polarity of one surface of the first posture control unit 351-2 is the S pole, one surface of the first posture control unit 351-2 facing each other and one surface of the second posture control unit 352-2 facing each other The polarity may be the N pole. As another embodiment, when the polarity of one surface of the first posture control unit 351-2 is N pole, one surface of the first posture control unit 351-2 facing each other and one surface of the second posture control unit 352-2 facing each other The polarity may be S pole. Hereinafter, for convenience of description, the first attitude control unit 351-2 and the second attitude control unit 352-2 will be described in detail focusing on the case of permanent magnets.
제2 차폐부(360-2)는 제2 위치조절부(320-2), 제2 캐리어이송부(330-2) 및 제2 캐리어가이드부(340-2) 중 적어도 하나에 배치될 수 있다. 이때, 제2 차폐부(360-2)는 제2 위치조절부(320-2), 제2 캐리어이송부(330-2) 및 제2 캐리어가이드부(340-2) 중 적어도 하나에서 생성된 자기장을 차단할 수 있다. 상기와 같은 제2 차폐부(360-2)는 다른 구성요소를 가리지 않도록 도 3 및 도 4에서 점선을 통하여 표시한다.The second shielding part 360-2 may be disposed on at least one of the second position adjusting part 320-2, the second carrier transport part 330-2, and the second carrier guide part 340-2. At this time, the second shielding unit 360-2 is a magnetic field generated by at least one of the second position adjusting unit 320-2, the second carrier transport unit 330-2, and the second carrier guide unit 340-2. can be blocked. The second shielding part 360 - 2 as described above is indicated by a dotted line in FIGS. 3 and 4 so as not to cover other components.
제2 차폐부(360-2)는 제2 위치조절부(320-2), 제2 캐리어이송부(330-2) 및 제2 캐리어가이드부(340-2) 중 적어도 하나에서 생성된 자기장을 차단하는 제2 차단부(361-2)를 포함할 수 있다. 이때, 제2 차단부(361-2)는 제2 위치조절부(320-2), 제2 캐리어이송부(330-2) 및 제2 캐리어가이드부(340-2) 중 적어도 하나에서 생성된 자기장이 소스부(220)로 이동하는 것을 방지할 수 있다. 이러한 경우 제2 차단부(361-2)의 적어도 일부분은 비자성체 재질을 포함할 수 잇다. 특히 소스부(220)와 대향하는 제2 차단부(361-2) 부분은 비자성체 재질로 형성될 수 있다. The second shielding unit 360-2 blocks the magnetic field generated by at least one of the second position adjusting unit 320-2, the second carrier conveying unit 330-2, and the second carrier guide unit 340-2. It may include a second blocking part 361-2. At this time, the second blocking unit 361-2 is a magnetic field generated by at least one of the second position adjusting unit 320-2, the second carrier transport unit 330-2, and the second carrier guide unit 340-2. It can be prevented from moving to the
상기와 같은 제2 차단부(361-2)는 다양한 형태로 형성될 수 있다. 예를 들면, 제2 차단부(361-2)는 플레이트 형태로 형성될 수 있다. 다른 실시예로써 제2 차단부(361-2)는 일측이 개구되도록 형성되어 제2 위치조절부(320-2), 제2 캐리어이송부(330-2) 및 제2 캐리어가이드부(340-2) 중 적어도 적어도 하나가 수납되는 형태일 수 있다. 이하에서는 설명의 편의를 위하여 제2 차단부(361-2)는 일측이 개구되며 내부에 공간이 형성되는 경우를 중심으로 상세히 설명하기로 한다. The second blocking part 361 - 2 as described above may be formed in various shapes. For example, the second blocking part 361 - 2 may be formed in a plate shape. In another embodiment, the second blocking part 361-2 is formed so that one side is opened, and the second position adjusting part 320-2, the second carrier transport part 330-2, and the second carrier guide part 340-2 are formed. ) may be in a form in which at least one of them is accommodated. Hereinafter, for convenience of description, the second blocking part 361-2 will be described in detail focusing on a case in which one side is opened and a space is formed therein.
상기와 같은 제2 차단부(361-2)는 소스부(220)로 향하는 자기장 또는 전기장을 차폐시킬 수 있다. 또한, 소스부(220)에서 발생한 자기장 또는 전기장이 제2 위치조절부(320-2), 제2 캐리어이송부(330-2) 및 제2 캐리어가이드부(340-2) 중 적어도 적어도 하나에 영향을 미치는 것을 차단할 수 있다. 이러한 경우 이송유닛(300)의 구동 시 이송유닛(300)의 정밀한 제어가 가능하다. 또한, 이송유닛(300)의 구동 시 이송유닛(300)으로 인하여 소스부(220)의 전기장 또는 자기장이 영향을 받지 않음으로써 증착물질의 증착 효율이 이송유닛(300)을 사용하지 않을 때와 동일하거나 거의 유사할 수 있다. The second blocking unit 361 - 2 as described above may shield the magnetic field or electric field directed to the
제2 차폐부(360-2)는 제2 차단부(361-2)에 배치되어 내부의 자기장을 일방향으로 안내하는 제2 자기장안내부(262-2)를 포함할 수 있다. 이때, 제2 자기장안내부(262-2)는 자성체로 형성될 수 있으며, 제2 차단부(361-2)의 개구된 부분에 배치될 수 있다. 제2 자기장안내부(262-2)는 제2 차단부(361-2)의 내부에 완전히 삽입되도록 배치될 수 있다. 또한, 제2 자기장안내부(262-2)는 제2 위치조절부(320-2), 제2 캐리어이송부(330-2) 및 제2 캐리어가이드부(340-2) 중 적어도 적어도 하나와 접촉하거나 제2 위치조절부(320-2), 제2 캐리어이송부(330-2) 및 제2 캐리어가이드부(340-2) 중 적어도 적어도 하나로부터 이격되도록 배치될 수 있다. The second shielding part 360-2 may include a second magnetic field guide part 262-2 disposed on the second blocking part 361-2 to guide an internal magnetic field in one direction. In this case, the second magnetic field guide part 262 - 2 may be formed of a magnetic material, and may be disposed in an open portion of the second blocking part 361 - 2 . The second magnetic field guide part 262 - 2 may be disposed to be completely inserted into the second blocking part 361 - 2 . In addition, the second magnetic field guide unit 262-2 is in contact with at least one of the second position adjustment unit 320-2, the second carrier transfer unit 330-2, and the second carrier guide unit 340-2. Alternatively, it may be disposed to be spaced apart from at least one of the second position adjustment unit 320-2, the second carrier transfer unit 330-2, and the second carrier guide unit 340-2.
제2 간격측정센서부(371-2)는 제1 방향으로 측정되는 캐리어(310)와 제2 위치조절부(320-2) 사이의 간격을 측정할 수 있다. 이때, 제2 간격측정센서부(371-2)는 초음파 센서, 레이저센서, 광센서 등 다양한 형태의 센서를 포함할 수 있다. The second gap measuring sensor unit 371-2 may measure the distance between the
제2 자세측정센서부(372-2)는 제2 캐리어가이드부(340-2)와 캐리어(310)의 일면 사이의 거리(또는 간격)를 측정할 수 있다. 이때, 제2 자세측정센서부(372-2)는 복수개 구비될 수 있으며, 복수개의 제2 자세측정센서부(372-2) 중 일부는 캐리어(310)를 기준으로 제1 가이드부(341-2)가 배치된 부분에 배치되고, 복수개의 제2 자세측정센서부(372-2) 중 다른 일부는 캐리어(310)를 기준으로 제2 가이드부(342-2)가 배치된 부분에 배치될 수 있다.The second posture measurement sensor unit 372 - 2 may measure a distance (or spacing) between the second carrier guide unit 340 - 2 and one surface of the
한편, 상기와 같은 표시 장치의 제조장치(10)의 작동 방법을 살펴보면, 디스플레이 기판(D)은 외부로부터 제1 챔버유닛(100)으로 공급될 수 있다. 이때, 디스플레이 기판(D)은 다양한 방식으로 제1 챔버유닛(100)으로 공급될 수 있다. 예를 들면, 디스플레이 기판(D)은 로봇암 등을 통하여 제1 챔버유닛(100)으로 공급되어 제1 챔버유닛(100) 내부의 캐리어(310)에 고정될 수 있다. 다른 실시예로써 캐리어(310)는 제1 챔버유닛(100) 외부로 인출될 수 있으며, 인출된 캐리어(310) 상에 디스플레이 기판(D)을 인력 또는 로봇 암 등을 통하여 고정하여 고정되는 것도 가능하다. 이하에서는 설명의 편의를 위하여 캐리어(310)를 제1 챔버유닛(100)으로부터 인출하여 디스플레이 기판(D)을 공급하는 방법을 중심으로 상세히 설명하기로 한다. Meanwhile, referring to the operation method of the
제1 챔버유닛(100)은 내부 압력을 조절하는 장치가 구비되어 있어 디스플레이 기판(D)의 유출입에 따라 내부 압력을 대기압 또는 진공 상태로 만들 수 있다. 캐리어(310)는 제1 챔버유닛(100)의 내부 압력을 진공 상태에서 대기압로 변경되면 제1 챔버유닛(100) 외부로 반출될 수 있다. 반면, 캐리어(310)가 제1 챔버유닛(100) 내부로 진입하면 제1 챔버유닛(100)은 내부 압력을 대기압 상태에서 진공 상태로 변경할 수 있다. The
디스플레이 기판(D)이 캐리어(310)에 고정한 후 제1 챔버유닛(100) 내부로 진입하면, 상기 제1 이송유닛은 캐리어(310)를 제2 챔버유닛(200)으로 이송시킬 수 있다. 이때, 상기 제1 이송유닛이 캐리어(310)를 이송시키는 방법은 제2 이송유닛(300-2)에서 캐리어(310)를 이송시키는 방법과 동일 또는 유사하므로 이하에서는 제2 이송유닛(300-2)을 통하여 캐리어(310)를 이송시키는 방법을 중심으로 상세히 설명하기로 한다. When the display substrate D is fixed to the
제2 챔버유닛(200)에 디스플레이 기판(D)이 진입하면, 소스부(220)에서 자기장 또는 전기장을 형성한 상태에서 증착물질을 디스플레이 기판(D)으로 분사하여 디스플레이 기판(D)에 증착물질을 증착시킬 수 있다. When the display substrate (D) enters the
상기의 과정이 완료되면, 디스플레이 기판(D)을 다른 제2 챔버유닛(200)으로 이송시키거나 제1 챔버유닛(100)으로 이송시킬 수 있다. 특히 복수개의 제2 챔버유닛(200)이 구비되는 경우 각 제2 챔버유닛(200)에서 다양한 층을 형성한 후 최초 이송된 방향과 반대 방향으로 디스플레이 기판(D)을 이송시켜 제1 챔버유닛(100)으로 디스플레이 기판(D)을 이송시킬 수 있다. 이때, 제2 이송유닛(300-2)은 캐리어(310)에 이동력을 제공할 수 있다. When the above process is completed, the display substrate D may be transferred to another
구체적으로 제2 이송부(332-2)에 전원을 인가한 후 전류의 방향을 가변시킬 수 있다. 이러한 경우 제2 이송부(332-2)는 극성이 가변할 수 있다. 이때, 제2 이송부(332-2)의 가변하는 극성으로 인하여 제1 이송부(331-2)와 상호작용을 통하여 캐리어(310)에 이동력을 생성할 수 있다. Specifically, after power is applied to the second transfer unit 332 - 2 , the direction of the current may be changed. In this case, the polarity of the second transfer unit 332 - 2 may be variable. At this time, due to the variable polarity of the second transfer unit 332 - 2 , a moving force may be generated in the
상기와 같이 캐리어(310)가 이송되는 동안 제2 간격측정센서부(371-2)는 캐리어(310)와 제2 위치조절부(320-2) 사이의 간격을 측정할 수 있다. 이때, 제2 간격측정센서부(371-2)에서 측정된 결과는 제2 위치조절부(320-2)에 전송되거나 별도로 구비된 제어부(미도시)에 전송될 수 있다. 상기 제어부가 별도로 구비되는 경우 상기 제어부는 표시 장치의 제조장치(10)의 모든 구성요소를 제어할 수 있다. 다만, 이하에서는 설명의 편의를 위하여 상기 제어부가 구비되지 않고, 측정된 결과에 따라 직접 구성요소가 제어되는 경우를 중심으로 상세히 설명하기로 한다. 상기와 같이 측정된 결과와 기 설정된 값이 동일해지도록 제2 위치조절부(320-2)에 인가되는 전류가 제어될 수 있다. 예를 들면, 기 설정된 값이 측정된 결과보다 큰 경우 제2 위치조절부(320-2)에 인가되는 전류가 초기보다 작아지도록 제어될 수 있다. 또한, 기 설정된 값이 측정된 결과보다 작은 경우 제2 위치조절부(320-2)에 인가되는 전류는 초기보다 커지도록 제어될 수 있다. 상기와 같이 제어되는 경우 캐리어(310)는 제2 챔버(210)의 저면(또는 지면)으로부터 일정한 거리를 이격된 상태에서 이동할 수 있다.As described above, while the
상기와 같은 작업이 수행되는 동안 제2 자세측정센서부(372-2)는 캐리어(310)의 일면과 제1 가이드부(341-2) 사이의 거리 및 캐리어(310)의 타면과 제2 가이드부(342-2) 사이의 거리를 측정할 수 있다. 상기와 같이 측정된 결과는 제1 가이드부(341-2)와 제2 가이드부(342-2)로 전송될 수 있다. 이때, 제1 가이드부(341-2)와 제2 가이드부(342-2)는 측정된 결과에 근거하여 인가되는 전류가 가변함으로써 제1 가이드부(341-2)가 캐리어(310)에 미치는 인력 및 제2 가이드부(342-2)가 캐리어(310)에 미치는 인력을 조절할 수 있다. 이를 통하여 제1 가이드부(341-2)와 캐리어(310) 사이의 간격 및 제2 가이드부(342-2)와 캐리어(310) 사이의 간격이 조절될 수 있다. 따라서 캐리어(310)는 제1 가이드부(341-2)와 제2 가이드부(342-2)에 의해 일정한 경로를 따라 이동하는 것이 가능하다. While the above operation is performed, the second posture measurement sensor unit 372-2 is the distance between one surface of the
상기와 같이 캐리어(310)가 이동하는 경우 제2 캐리어자세제어부(350-2)는 캐리어(310)의 자세를 일정하게 유지시킬 수 있다. 구체적으로 제1 자세제어부(351-2)와 제2 자세제어부(352-2)가 서로 인력을 형성함으로써 캐리어(310)의 자세가 가변하는 것을 방지시킬 수 있다. 특히 제2 캐리어자세제어부(350-2)는 캐리어(310)가 이동 중 틸팅하는 것을 방지시킬 수 있다. When the
상기와 같은 제2 이송유닛(300-2)은 캐리어(310)를 지면에 대해서 틸팅된 상태로 이송시키는 것도 가능하다. 이러한 경우 제2 위치조절부(320-2), 제2 캐리어가이드부(340-2), 제2 캐리어이송부(330-2)에 인가되는 전류를 기존과 상이하게 형성함으로써 캐리어(310)의 틸팅을 유지시킨 상태에서 캐리어(310)의 이송이 가능하다. The second transfer unit 300-2 as described above can also transfer the
상기와 같은 경우 제2 차단부(361-2)는 각 구성요소에서 발생하는 자기장 또는 전기장이 서로 영향을 미치는 것을 최소화할 수 있다. 특히 제2 차단부(361-2)는 소스부(220)의 자기장 또는 전기장을 차단할 뿐만 아니라 인접한 구성요소에서 발생하는 자기장 또는 전기장을 차단할 수 있다. In this case, the second blocking unit 361 - 2 may minimize the influence of the magnetic field or electric field generated by each component to each other. In particular, the second blocking unit 361 - 2 may block the magnetic field or electric field of the
디스플레이 기판(D)이 제2 이송유닛(300-2)을 통하여 제2 챔버유닛(200)에서 제1 챔버유닛(100)으로 이송되는 경우 캐리어(310)는 제2 이송유닛(300-2)에서 상기 제1 이송유닛으로 이동할 수 있다. 이러한 경우 제1 챔버유닛(100)과 제2 챔버유닛(200)은 서로 연결되기는 하지만 상기 제1 이송유닛의 끝단과 제2 이송유닛(300-2)의 끝단은 서로 이격될 수 있다. 이때, 상기 제1 이송유닛의 끝단과 제2 이송유닛(300-2)의 끝단 사이의 거리는 제2 방향으로 측정된 캐리어(310)의 폭보다 작을 수 있다. 특히 상기 제1 이송유닛의 끝단과 제2 이송유닛(300-2)의 끝단 사이의 거리는 캐리어(310)의 폭의 절반 이하일 수 있다. 이러한 경우 상기 제1 이송유닛의 끝단과 제2 이송유닛(300-2)의 끝단 사이의 거리가 캐리어(310)의 폭의 절반을 초과하는 경우 캐리어(310)가 일정한 경로를 이동하지 못하고 경로를 이탈할 수 있다. When the display substrate D is transferred from the
상기 제1 이송유닛으로 이송된 캐리어(310)는 상기에서 설명한 바와 같이 제1 챔버유닛(100) 내부의 압력을 진공상태에서 대기압 상태로 가변시킨 후 제1 챔버유닛(100) 외부로 인출될 수 있다. 이후 증착물질이 증착된 디스플레이 기판(D)은 캐리어(310)로부터 분리되어 다른 공정을 수행할 수 있다. The
한편, 상기와 같이 디스플레이 기판(D)에 증착물질을 증착하는 표시 장치의 제조장치(10)의 경우 종래에는 디스플레이 기판(D)이 직접 접촉하는 방식으로 디스플레이 기판(D)을 이송하였다. 이러한 경우 디스플레이 기판(D)과 이송하는 장치 사이의 접촉으로 인하여 이물이 발생할 수 있으며, 이러한 이물은 증착 물질의 증착 시 디스플레이 기판(D)에 증착되거나 흡착됨으로써 표시 장치의 불량율을 높일 수 있다. On the other hand, in the case of the
그러나 상기와 같이 디스플레이 기판(D)을 비접촉식으로 이송시킴으로써 디스플레이 기판(D)의 이송 시 발생하는 이물질을 최소화할 수 있다. However, by transferring the display substrate D in a non-contact manner as described above, it is possible to minimize foreign substances generated when the display substrate D is transported.
따라서 표시 장치의 제조장치(10)는 디스플레이 기판(D)의 이송 시 이물질 발생을 최소화함으로써 증착 품질을 향상시킬 수 있다. 또한, 표시 장치의 제조장치(10)는 비접촉식 방식으로 디스플레이 기판(D)을 이송시킴으로써 디스플레이 기판(D)의 이송 시 디스플레이 기판(D)에 가해지는 외력을 최소화할 수 있다. Accordingly, the
표시 장치의 제조장치(10)는 비접촉 방식을 구현하기 위하여 사용되는 자기력을 필요한 부분에만 공급함으로써 자기장 또는 전기장 교란으로 인한 오작동을 방지할 수 있다. The
표시 장치의 제조장치(10)는 구성요소 사이의 자기장의 영향을 최소화함으로써 정밀한 제어가 가능하다. 표시 장치의 제조장치(10)는 소스부(220)에 가해지는 자기장을 최소화함으로써 증착 품질을 기존과 유사하게 유지하는 것이 가능하다. The
도 5는 도 1에 도시된 표시 장치의 제조장치의 제2 이송유닛의 다른 실시예를 보여주는 정면도이다. 도 6은 도 5에 도시된 제2 이송유닛을 보여주는 측면도이다. FIG. 5 is a front view illustrating another exemplary embodiment of a second transfer unit of the apparatus for manufacturing the display device illustrated in FIG. 1 . 6 is a side view showing the second transfer unit shown in FIG.
도 5 및 도 6을 참고하면, 제2 이송유닛(300A-2)은 캐리어(310A), 제2 위치조절부(320A-2), 제2 캐리어이송부(330A-2), 제2 캐리어가이드부(340A-2), 제2 캐리어자세제어부(350A-2), 제2 차폐부(360A-2), 제2 간격측정센서부(371A-2) 및 제2 자세측정센서부(372A-2)를 포함할 수 있다. 이때, 캐리어(310A), 제2 위치조절부(320A-2), 제2 캐리어자세제어부(350A-2), 제2 차폐부(360A-2), 제2 간격측정센서부(371A-2), 제2 자세측정센서부(372A-2)는 상기 도 1 내지 도 3에서 설명한 것과 동일 또는 유사하므로 상세한 설명은 생략하기로 한다. 5 and 6 , the
제2 캐리어이송부(330A-2)는 캐리어(310A)의 일면에만 배치될 수 있다. 이때, 제2 캐리어이송부(330A-2)는 캐리어(310A)에 배치되는 제1 이송부(331A-2)와 제1 이송부(331A-2)로부터 이격되도록 배치되는 제2 이송부(332A-2)를 포함할 수 있다. 이러한 경우 제1 이송부(331A-2)와 제2 이송부(332A-2)는 상기에서 설명한 것과 동일 또는 유사하므로 상세한 설명은 생략하기로 한다. The second
제2 캐리어가이드부(340A-2)는 하나만 구비될 수 있다. 이때, 제2 캐리어가이드부(340A-2)는 캐리어(310A)를 중심으로 제2 캐리어이송부(330A-2)가 배치되는 부분과 상이한 부분에 배치될 수 있다. 제2 캐리어가이드부(340A-2)는 제2 캐리어이송부(330A-2)와 상이한 높이에 배치될 수 있다. 또한, 캐리어(310A)가 지면에 대해서 경사지게 배열되는 경우 제2 캐리어가이드부(340A-2)는 제2 캐리어이송부(330A-2)보다 높은 곳에 배치될 수 있다. 이러한 경우 제2 캐리어가이드부(340A-2)는 캐리어(310A)에 인력을 가함으로써 캐리어(310A)가 낙하하거나 캐리어(310A)의 이동 경로가 변하는 것을 방지할 수 있다. Only one second
한편, 상기와 같은 제2 이송유닛(300A-2)은 상기에서 설명한 바와 동일 또는 유사하게 작동할 수 있다. 구체적으로 캐리어(310A)가 이송되는 경우 제2 이송부(332A-2)가 전자기장을 형성하여 제1 이송부(331A-2)에 힘을 가함으로써 캐리어(310A)를 이송시킬 수 있다. 이때, 제2 위치조절부(320A-2)는 제2 간격측정센서부(371A-2)에서 측정된 값을 근거로 캐리어(310A)와 제2 위치조절부(320A-2) 사이의 거리를 조절할 수 있다. 이때, 제2 위치조절부(320A-2)는 인가되는 전류를 가변시킬 수 있다. On the other hand, the second transfer unit (300A-2) as described above may operate in the same or similar manner as described above. Specifically, when the
제2 자세측정센서부(372A-2)는 제2 캐리어가이드부(340A-2)와 캐리어(310A) 사이의 거리를 측정할 수 있다. 제2 캐리어가이드부(340A-2)는 제2 자세측정센서부(372A-2)에서 측정된 값을 근거로 캐리어(310A)의 자세를 제어할 수 있다. The second posture
상기와 같이 캐리어(310A)가 이동하는 동안 제2 캐리어자세제어부(350A-2)는 캐리어(310A)의 자세를 일정하게 유지시킬 수 있다. 특히, 제1 자세제어부(351A-2)와 제2 자세제어부(352A-2)는 상기 도 1 내지 도 4에서 설명한 것과 같이 캐리어(310A)의 자세를 제어할 수 있다.As described above, while the
상기와 같이 제2 이송유닛(300A-2)이 디스플레이 기판(D)을 이송시키는 동안 제2 차폐부(360A-2)는 제2 이송유닛(300A-2)의 각 부분에서 발생시키는 자기장 중 일부를 차단시킬 수 있다. 이때, 제2 차폐부(360A-2)가 자기장을 차폐시키는 방법은 상기에서 설명한 바와 동일 또는 유사하므로 상세한 설명은 생략하기로 한다. As described above, while the
따라서 제2 이송유닛(300A-2)은 디스플레이 기판(D)을 비접촉 방식으로 신속하고 용이하게 이송시키는 것이 가능하다. 또한, 제2 이송유닛(300A-2)은 소스부(220)의 작동에 영향을 미치지 않을 수 있다. Therefore, the
도 7은 도 1에 도시된 표시 장치의 제조장치의 제2 이송유닛의 또 다른 실시예를 보여주는 정면도이다. 도 8은 도 7에 도시된 제2 이송유닛을 보여주는 측면도이다.FIG. 7 is a front view illustrating another exemplary embodiment of a second transfer unit of the apparatus for manufacturing the display device illustrated in FIG. 1 . FIG. 8 is a side view showing the second transfer unit shown in FIG. 7 .
도 7 및 도 8을 참고하면, 제2 이송유닛(300B-2)은 캐리어(310B), 제2 위치조절부(320B-2), 제2 캐리어이송부(330B-2), 제2 캐리어가이드부(340B-2), 제2 캐리어자세제어부(350B-2), 제2 차폐부(360B-2), 제2 간격측정센서부(371B-2) 및 제2 자세측정센서부(372B-2)를 포함할 수 있다. 이때, 캐리어(310B), 제2 위치조절부(320B-2), 제2 캐리어가이드부(340B-2), 제2 캐리어자세제어부(350B-2), 제2 차폐부(360B-2), 제2 간격측정센서부(371B-2), 제2 자세측정센서부(372B-2)는 상기 도 1 내지 도 3에서 설명한 것과 동일 또는 유사하므로 상세한 설명은 생략하기로 한다.7 and 8 , the
제2 캐리어이송부(330B-2)는 캐리어(310B)에 배치되는 제1 이송부(331B-2) 및 캐리어(310B)로부터 이격되도록 배치되는 제2 이송부(332B-2)를 포함할 수 있다. 이때, 제2 캐리어이송부(330B-2)는 캐리어(310B)의 하면에 배치될 수 있다. 예를 들면, 제1 이송부(331B-2)는 캐리어(310B)의 하면에 부착될 수 있으며, 제2 이송부(332B-2)는 제2 챔버(210)의 저면에 배치될 수 있다. 이러한 경우 제1 이송부(331B-2)는 전자석 형태일 수 있으며, 제2 이송부(332B-2)는 영구자석 배열 형태일 수 있다. The second
상기와 같은 경우 제2 캐리어이송부(330B-2)는 제1 가이드부(341B-2)와 제2 가이드부(342B-2) 사이에 배치될 수 있다. In this case, the second
한편, 제2 이송유닛(300B-2)이 디스플레이 기판(D)을 이송시키는 방법은 상기에서 설명한 것과 유사하게 형성될 수 있다. Meanwhile, the method for transferring the display substrate D by the
구체적으로 제2 이송부(332B-2)의 복수개의 전자석의 극성을 가변시킴으로써 제1 이송부(331B-2)에 힘을 가하여 캐리어(310B)를 이송시킬 수 있다. 상기와 같이 캐리어(310B)가 이송되는 경우 디스플레이 기판(D)은 캐리어(310B)와 함께 이송될 수 있다. Specifically, by varying the polarities of the plurality of electromagnets of the
캐리어(310B)가 이송될 때 제2 캐리어가이드부(340B-2)는 캐리어(310B)가 흔들리는 것을 방지할 수 있다. 이때, 제2 캐리어가이드부(340B-2)는 상기에서 설명한 바와 같이 전자석을 포함하여 제2 캐리어가이드부(340B-2)와 캐리어(310B) 사이의 간격을 조절할 수 있다. When the
제2 자세측정센서부(372B-2)는 캐리어(310B)와 제2 캐리어가이드부(340B-2) 사이의 거리를 측정할 수 있다. 이때, 제2 자세측정센서부(372B-2)에서 측정된 값에 의하여 제2 캐리어가이드부(340B-2)에 인가되는 전류를 가변시킬 수 있다. The second posture
제2 위치조절부(320B-2)는 캐리어(310B)가 제2 챔버(210)의 저면으로부터 부양하는 높이를 조절할 수 있다. 이때, 제2 자세측정센서부(372B-2)는 제2 위치조절부(320B-2)와 캐리어(310B)의 상면 사이의 거리를 측정할 수 있으며, 제2 위치조절부(320B-2)는 제2 자세측정센서부(372B-2)에서 측정된 결과를 근거로 인가되는 전류가 제어될 수 있다. The
제2 캐리어자세제어부(350B-2)는 캐리어(310B)에 인력을 형성함으로써 캐리어(310B)의 자세가 가변하는 것을 방지할 수 있다. 또한, 제2 차폐부(360B-2)는 제2 이송유닛(300B-2)의 각 부분에서 발생하는 자기장 중 일부를 차폐시킴으로써 제2 이송유닛(300B-2)의 각 부분의 작동이 교란되는 것을 방지할 수 있다. 뿐만 아니라 제2 차폐부(360B-2)는 소스부(220)의 작동 시 발생하는 자기장 또는 전기장을 교란할 수 있는 제2 이송유닛(300B-2)의 각 부분의 자기장을 차단시킬 수 있다. The second carrier
따라서 제2 이송유닛(300B-2)은 소스부(220)를 통하여 디스플레이 기판(D)을 증착 시 상기 소스부의 작동에 영향일 미치지 않을 수 있다. 또한, 제2 이송유닛(300B-2)은 디스플레이 기판(D)을 지면에 대해서 일정 각도를 형성한 상태에서 정확한 경로로 디스플레이 기판(D)을 이송시키는 것이 가능하다. Accordingly, the
도 9는 도 1에 도시된 표시 장치의 제조장치의 제2 이송유닛의 또 다른 실시예를 보여주는 정면도이다. 도 10은 도 9에 도시된 제2 이송유닛을 보여주는 측면도이다.FIG. 9 is a front view illustrating another embodiment of a second transfer unit of the apparatus for manufacturing the display device illustrated in FIG. 1 . 10 is a side view showing the second transfer unit shown in FIG.
도 9 및 도 10을 참고하면, 제2 이송유닛(300C-2)은 캐리어(310C), 제2 위치조절부(320C-2), 제2 캐리어이송부(330C-2), 제2 캐리어가이드부(340C-2), 제2 차폐부(360C-2), 제2 간격측정센서부(371C-2) 및 제2 자세측정센서부(372C-2)를 포함할 수 있다. 이때, 캐리어(310C), 제2 위치조절부(320C-2), 제2 캐리어가이드부(340C-2), 제2 차폐부(360C-2), 제2 간격측정센서부(371C-2), 제2 자세측정센서부(372C-2)는 상기 도 1 내지 도 3에서 설명한 것과 동일 또는 유사하므로 상세한 설명은 생략하기로 한다.9 and 10 , the
제2 캐리어이송부(330C-2)는 캐리어(310C)의 돌출된 부분에 배치될 수 있다. 이때, 제2 캐리어이송부(330C-2)는 캐리어(310C)에 배치되는 제1 이송부(331C-2)와 제1 이송부(331C-2)와 대향하도록 배치되는 제2 이송부(332C-2)를 포함할 수 있다. 제2 이송부(332C-2)는 제2 챔버(210)의 내벽에 고정되도록 설치될 수 있다. The second
제2 이송부(332C-2)는 모터(322C-2a), 모터(322C-2a)와 연결되어 회전하는 자석롤러(322C-2b)를 포함할 수 있다. 이때, 자석롤러(322C-2b)는 서로 상이한 극성의 영구자석이 교번하도록 배열될 수 있다. 다른 실시예로써 자석롤러(322C-2b)는 전자석 형태로 형성되는 것도 가능하다. 다만, 이하에서는 설명의 편의를 위하여 자석롤러(322C-2b)가 서로 상이한 극성의 영구자석이 교번하도록 배열되는 경우를 중심으로 상세히 설명하기로 한다. The
한편, 제2 이송유닛(300C-2)이 디스플레이 기판(D)을 이송시키는 방법은 상기에서 설명한 것과 동일 또는 유사하게 형성될 수 있다. Meanwhile, the method for transferring the display substrate D by the
구체적으로 모터(322C-2a)가 회전하는 경우 자석롤러(322C-2b)가 회전할 수 있다. 이때, 자석롤러(322C-2b)의 회전에 따라 자석롤러(322C-2b)와 제1 이송부(331C-2)는 서로 척력 또는 인력을 발생시킴으로써 캐리어(310C)를 이송시킬 수 있다. Specifically, when the motor 322C-2a rotates, the magnetic roller 322C-2b may rotate. At this time, according to the rotation of the magnetic roller 322C-2b, the magnetic roller 322C-2b and the
캐리어(310C)가 이송될 때 제2 캐리어가이드부(340C-2)는 캐리어(310C)가 흔들리는 것을 방지할 수 있다. 이때, 제2 캐리어가이드부(340C-2)는 상기에서 설명한 바와 같이 전자석을 포함하여 제2 캐리어가이드부(340C-2)와 캐리어(310C) 사이의 간격을 조절할 수 있다. When the
제2 자세측정센서부(372C-2)는 캐리어(310C)와 제2 캐리어가이드부(340C-2) 사이의 거리를 측정할 수 있다. 이때, 제2 자세측정센서부(372C-2)에서 측정된 값에 의하여 제2 캐리어가이드부(340C-2)에 인가되는 전류를 가변시킬 수 있다. The second posture measuring
제2 위치조절부(320C-2)는 캐리어(310C)가 제2 챔버(210)의 저면으로부터 부양하는 높이를 조절할 수 있다. 이때, 제2 간격측정센서부(371C-2)는 제2 위치조절부(320C-2)와 캐리어(310C)의 상면 사이의 거리를 측정할 수 있으며, 제2 위치조절부(320C-2)는 제2 간격측정센서부(371C-2)에서 측정된 결과를 근거로 인가되는 전류가 제어될 수 있다. The second
제2 차폐부(360C-2)는 제2 이송유닛(300C-2)의 각 부분에서 발생하는 자기장 중 일부를 차폐시킴으로써 제2 이송유닛(300C-2)의 각 부분의 작동이 교란되는 것을 방지할 수 있다. 뿐만 아니라 제2 차폐부(360C-2)는 소스부(220)의 작동 시 발생하는 자기장 또는 전기장을 교란할 수 있는 제2 이송유닛(300C-2)의 각 부분의 자기장을 차단시킬 수 있다. The second shielding part (360C-2) prevents the operation of each part of the second transfer unit (300C-2) from being disturbed by shielding a part of the magnetic field generated in each part of the second transfer unit (300C-2). can do. In addition, the
따라서 제2 이송유닛(300C-2)은 상기 소스부를 통하여 디스플레이 기판(D)을 증착 시 상기 소스부의 작동에 영향일 미치지 않을 수 있다. 또한, 제2 이송유닛(300C-2)은 디스플레이 기판(D)을 지면에 대해서 일정 각도를 형성한 상태에서 정확한 경로로 디스플레이 기판(D)을 이송시키는 것이 가능하다.도 11은 도 1에 도시된 표시 장치의 제조장치의 제2 이송유닛의 또 다른 실시예를 보여주는 정면도이다. 도 12는 도 11에 도시된 표시 장치의 제조장치를 보여주는 측면도이다. Accordingly, the
도 11 및 도 12를 참고하면, 제2 이송유닛(300D-2)은 캐리어(310D), 제2 캐리어이송부(330D-2), 제2 캐리어가이드부(340D-2), 제2 차폐부(360D-2) 및 제2 자세측정센서부(372D-2)를 포함할 수 있다. 11 and 12 , the
캐리어(310D)는 디스플레이 기판(D)이 안착되는 안착부(312D)와 안착부(312D)로부터 돌출되어 형성되는 돌출부(313D)를 포함할 수 있다. The
제2 캐리어이송부(330D-2)는 캐리어(310D)에 배치되는 제1 이송부(331D-2) 및 제2 챔버(210)에 배치되는 제2 이송부(332D-2)를 포함할 수 있다. 이때, 제1 이송부(331D-2)와 제2 이송부(332D-2)는 도 1 내지 도 4에서 설명한 것과 동일 또는 유사하므로 상세한 설명은 생략하기로 한다. The second
제1 이송부(331D-2)와 제2 이송부(332D-2)는 안착부(312D)의 일측에 배치될 수 있다. 예를 들면, 제1 이송부(331D-2)와 제2 이송부(332D-2)는 안착부(312D)의 상면에 배치될 수 있다. The
제2 캐리어가이드부(340D-2)는 제1 가이드부(341D-2)와 제2 가이드부(342D-2)를 포함할 수 있다. 이때, 제1 가이드부(341D-2)와 제2 가이드부(342D-2)는 돌출부(313D)와 대향하도록 배치될 수 있다. 특히 제1 가이드부(341D-2)와 제2 가이드부(342D-2)는 제2 캐리어이송부(330D-2)를 중심으로 서로 대칭되도록 배치될 수 있다. 이러한 경우 제1 가이드부(341D-2)와 제2 가이드부(342D-2)는 캐리어(310D)의 운동을 가이드할 뿐만 아니라 캐리어(310D)의 자세를 제어하는 것도 가능하다. The second
제2 자세측정센서부(372D-2)는 돌출부(313D) 및 제1 가이드부(341D-2)와 돌출부(313D)와 제2 가이드부(342D-2) 사이의 거리를 측정할 수 있다. 이때, 제2 자세측정센서부(372D-2)에서 측정된 결과를 근거로 돌출부(313D) 및 제1 가이드부(341D-2)와 돌출부(313D)와 제2 가이드부(342D-2) 사이의 거리를 조절할 수 있으며, 캐리어(310D)의 자세를 제어하는 것도 가능하다. The second posture measuring
한편, 제2 이송유닛(300D-2)이 디스플레이 기판(D)을 이송시키는 방법은 상기에서 설명한 것과 동일 또는 유사하게 형성될 수 있다. Meanwhile, the method for transferring the display substrate D by the
구체적으로 제1 이송부(331D-2)에 전류가 인가되는 경우 제1 이송부(331D-2)는 제2 이송부(332D-2)에 힘을 가하여 캐리어(310D)를 이송시킬 수 있다. 이러한 경우 캐리어(310D)는 도 11의 X방향(또는 제2 방향)으로 이동할 수 있다. Specifically, when a current is applied to the
상기와 같이 이동하는 경우 제2 자세측정센서부(372D-2)는 캐리어(310D)와 제2 캐리어가이드부(340D-2) 사이의 간격을 측정할 수 있다. 이때, 캐리어(310D)의 부양 높이는 제2 자세측정센서부(372D-2)에서 측정된 값을 근거로 결정될 수 있다. When moving as described above, the second posture measuring
또한, 제2 자세측정센서부(372D-2)에서 측정된 결과로부터 캐리어(310D)의 자세를 제어하는 것도 가능하다. 구체적으로 한쌍의 제2 자세측정센서부(372D-2)에서 측정된 결과를 근거로 캐리어(310D)가 기울어진 정도(또는 경사도, 각도)를 판별할 수 있으며, 캐리어(310)가 기울어진 정도와 기 설정된 값을 비교하여 제2 캐리어가이드부(340D-2)에 인가되는 전류를 제어함으로써 캐리어(310D)가 정해진 자세(예를 들면, 캐리어(310D)의 길어진 정도)를 일정하게 유지하도록 할 수 있다. In addition, it is also possible to control the posture of the
상기와 같이 제2 이송유닛(300D-2)을 통하여 디스플레이 기판(D)을 이송하는 동안 제2 차폐부(360D-2)는 제2 이송유닛(300D-2)의 각 부분에서 발생하는 자기장 중 일부를 차폐시킴으로써 제2 이송유닛(300D-2)의 각 부분의 작동이 교란되는 것을 방지할 수 있다. 뿐만 아니라 제2 차폐부(360D-2)는 소스부(220)의 작동 시 발생하는 자기장 또는 전기장을 교란할 수 있는 제2 이송유닛(300D-2)의 각 부분의 자기장을 차단시킬 수 있다. As described above, while the display substrate D is transferred through the
따라서 제2 이송유닛(300D-2)은 소스부(220)를 통하여 디스플레이 기판(D)을 증착 시 상기 소스부의 작동에 영향일 미치지 않을 수 있다. 또한, 제2 이송유닛(300D-2)은 디스플레이 기판(D)을 지면에 대해서 일정 각도를 형성한 상태에서 정확한 경로로 디스플레이 기판(D)을 이송시키는 것이 가능하다.Therefore, the
도 13은 도 1에 도시된 표시 장치의 제조장치로 제조된 표시 장치를 보여주는 평면도이다. 도 14는 도 13에 도시된 A-A선을 따라 취한 단면도이다.FIG. 13 is a plan view illustrating a display device manufactured with the device for manufacturing the display device shown in FIG. 1 . 14 is a cross-sectional view taken along line A-A shown in FIG. 13 .
도 13 및 도 14를 참고하면, 표시 장치(20)는 기판(21) 상에서 표시 영역(DA)과 표시 영역(DA)의 외곽에 비표시 영역이 정의할 수 있다. 표시 영역(DA)에는 발광부(미표기)가 배치되고, 비표시 영역에는 전원 배선(미도시) 등이 배치될 수 있다. 또한, 비표시 영역에는 패드부(C)가 배치될 수 있다.13 and 14 , in the
표시 장치(20)는 디스플레이 기판(D) 및 박막 봉지층(E)를 포함할 수 있다.을 포함할 수 있다. 이때, 디스플레이 기판(D)은 기판(21), 버퍼층(22), 박막 트랜지스터(TFT), 패시베이션막(27), 화소 전극(28A), 화소 정의막(29), 중간층(28B) 및 대향 전극(28C)을 포함할 수 있다. The
기판(21)은 플라스틱재를 사용할 수 있으며, SUS, Ti과 같은 금속재를 사용할 수도 있다. 또한, 기판(21)는 폴리이미드(PI, Polyimide)를 사용할 수 있다. 이하에서는 설명의 편의를 위하여 기판(21)이 폴리이미드로 형성되는 경우를 중심으로 상세히 설명하기로 한다.The
기판(21) 상에 발광부(미표기)가 형성될 수 있다. 이때, 상기 발광부는 박막 트랜지스터(TFT) 이 구비되고, 이들을 덮도록 패시베이션막(27)이 형성되며, 이 패시베이션막(27) 상에 유기 발광 소자(28)가 형성될 수 있다.A light emitting part (not marked) may be formed on the
기판(21)의 상면에는 유기화합물 및/또는 무기화합물로 이루어진 버퍼층(22)이 더 형성되는 데, SiOx(x≥1), SiNx(x≥1)로 형성될 수 있다.A
이 버퍼층(22) 상에 소정의 패턴으로 배열된 활성층(23)이 형성된 후, 활성층(23)이 게이트 절연층(24)에 의해 매립된다. 활성층(23)은 소스 영역(23C)과 드레인 영역(23A)을 갖고, 그 사이에 채널 영역(23B)을 더 포함한다. After the
이러한 활성층(23)은 다양한 물질을 함유하도록 형성될 수 있다. 예를 들면, 활성층(23)은 비정질 실리콘 또는 결정질 실리콘과 같은 무기 반도체 물질을 함유할 수 있다. 다른 예로서 활성층(23)은 산화물 반도체를 함유할 수 있다. 또 다른 예로서, 활성층(23)은 유기 반도체 물질을 함유할 수 있다. 다만, 이하에서는 설명의 편의를 위하여 활성층(23)이 비정질 실리콘으로 형성되는 경우를 중심으로 상세히 설명하기로 한다. The
이러한 활성층(23)은 버퍼층(22) 상에 비정질 실리콘막을 형성한 후, 이를 결정화하여 다결정질 실리콘막으로 형성하고, 이 다결정질 실리콘막을 패터닝하여 형성할 수 있다. 상기 활성층(23)은 구동 TFT(미도시), 스위칭 TFT(미도시) 등 TFT 종류에 따라, 그 소스 영역(23C) 및 드레인 영역(23A)이 불순물에 의해 도핑된다. The
게이트 절연층(24)의 상면에는 활성층(23)과 대응되는 게이트 전극(25)과 이를 매립하는 층간 절연층(26)이 형성된다. A
그리고, 층간 절연층(26)과 게이트 절연층(24)에 콘택홀(H1)을 형성한 후, 층간 절연층(26) 상에 소스 전극(27B) 및 드레인 전극(27A)을 각각 소스 영역(23C) 및 드레인 영역(23A)에 콘택되도록 형성한다. Then, after forming the contact hole H1 in the
이렇게 형성된 상기 박막 트랜지스터의 상부로는 패시베이션막(27)이 형성되고, 이 패시베이션막(27) 상부에 유기 발광 소자(28, OLED)의 화소 전극(28A)이 형성된다. 이 화소 전극(28A)은 패시베이션막(27)에 형성된 비아 홀(H2)에 의해 TFT의 드레인 전극(27A)에 콘택된다. 상기 패시베이션막(27)은 무기물 및/또는 유기물, 단층 또는 2개층 이상으로 형성될 수 있는 데, 하부 막의 굴곡에 관계없이 상면이 평탄하게 되도록 평탄화막으로 형성될 수도 있는 반면, 하부에 위치한 막의 굴곡을 따라 굴곡이 가도록 형성될 수 있다. 그리고, 이 패시베이션막(27)은, 공진 효과를 달성할 수 있도록 투명 절연체로 형성되는 것이 바람직하다.A
패시베이션막(27) 상에 화소 전극(28A)을 형성한 후에는 이 화소 전극(28A) 및 패시베이션막(27)을 덮도록 화소 정의막(29)이 유기물 및/또는 무기물에 의해 형성되고, 화소 전극(28A)이 노출되도록 개구된다.After the
그리고, 적어도 상기 화소 전극(28A) 상에 중간층(28B) 및 대향 전극(28C)이 형성된다.Then, an
화소 전극(28A)은 애노드 전극의 기능을 하고, 대향 전극(28C)은 캐소오드 전극의 기능을 하는 데, 물론, 이들 화소 전극(28A)과 대향 전극(28C)의 극성은 반대로 되어도 무방하다. The
화소 전극(28A)과 대향 전극(28C)은 상기 중간층(28B)에 의해 서로 절연되어 있으며, 중간층(28B)에 서로 다른 극성의 전압을 가해 유기 발광층에서 발광이 이뤄지도록 한다.The
중간층(28B)은 유기 발광층을 구비할 수 있다. 선택적인 다른 예로서, 중간층(28B)은 유기 발광층(organic emission layer)을 구비하고, 그 외에 정공 주입층(HIL:hole injection layer), 정공 수송층(hole transport layer), 전자 수송층(electron transport layer) 및 전자 주입층(electron injection layer) 중 적어도 하나를 더 구비할 수 있다. 본 실시예는 이에 한정되지 아니하고, 중간층(28B)이 유기 발광층을 구비하고, 기타 다양한 기능층(미도시)을 더 구비할 수 있다. The
이때, 상기와 같은 중간층(28B)은 상기에서 설명한 표시 장치의 제조장치(10미도시)를 통하여 형성될 수 있다. In this case, the
한편, 하나의 단위 화소는 복수의 부화소로 이루어지는데, 복수의 부화소는 다양한 색의 빛을 방출할 수 있다. 예를 들면 복수의 부화소는 각각 적색, 녹색 및 청색의 빛을 방출하는 부화소를 구비할 수 있고, 적색, 녹색, 청색 및 백색의 빛을 방출하는 부화소(미표기)를 구비할 수 있다. Meanwhile, one unit pixel includes a plurality of sub-pixels, and the plurality of sub-pixels may emit light of various colors. For example, each of the plurality of sub-pixels may include a sub-pixel emitting red, green, and blue light, and may include a sub-pixel (not marked) emitting red, green, blue, and white light.
한편, 상기와 같은 박막 봉지층(E)은 복수의 무기층들을 포함하거나, 무기층 및 유기층을 포함할 수 있다.Meanwhile, the thin-film encapsulation layer (E) as described above may include a plurality of inorganic layers or may include an inorganic layer and an organic layer.
박막 봉지층(E)의 상기 유기층은 고분자로 형성되며, 바람직하게는 폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리이미드, 폴라카보네이트, 에폭시, 폴리에틸렌 및 폴리아크릴레이트 중 어느 하나로 형성되는 단일막 또는 적층막일 수 있다. 더욱 바람직하게는, 상기 유기층은 폴리아크릴레이트로 형성될 수 있으며, 구체적으로는 디아크릴레이트계 모노머와 트리아크릴레이트계 모노머를 포함하는 모노머 조성물이 고분자화된 것을 포함할 수 있다. 상기 모노머 조성물에 모노아크릴레이트계 모노머가 더 포함될 수 있다. 또한, 상기 모노머 조성물에 TPO와 같은 공지의 광개시제가 더욱 포함될 수 있으나 이에 한정되는 것은 아니다.The organic layer of the thin film encapsulation layer (E) is formed of a polymer, preferably a single film or a laminate film formed of any one of polyethylene terephthalate, polyimide, polycarbonate, epoxy, polyethylene, and polyacrylate. More preferably, the organic layer may be formed of polyacrylate, and specifically may include a polymerized monomer composition including a diacrylate-based monomer and a triacrylate-based monomer. The monomer composition may further include a monoacrylate-based monomer. In addition, a known photoinitiator such as TPO may be further included in the monomer composition, but is not limited thereto.
박막 봉지층(E)의 상기 무기층은 금속 산화물 또는 금속 질화물을 포함하는 단일막 또는 적층막일 수 있다. 구체적으로, 상기 무기층은 SiNx, Al2O3, SiO2, TiO2 중 어느 하나를 포함할 수 있다.The inorganic layer of the thin film encapsulation layer (E) may be a single film or a laminated film including a metal oxide or a metal nitride. Specifically, the inorganic layer may include any one of SiNx, Al 2 O 3 , SiO 2 , and TiO 2 .
박막 봉지층(E) 중 외부로 노출된 최상층은 유기 발광 소자에 대한 투습을 방지하기 위하여 무기층으로 형성될 수 있다.The uppermost layer exposed to the outside of the thin film encapsulation layer (E) may be formed of an inorganic layer to prevent moisture permeation to the organic light emitting device.
박막 봉지층(E)은 적어도 2개의 무기층 사이에 적어도 하나의 유기층이 삽입된 샌드위치 구조를 적어도 하나 포함할 수 있다. 다른 예로서, 박막 봉지층(E)은 적어도 2개의 유기층 사이에 적어도 하나의 무기층이 삽입된 샌드위치 구조를 적어도 하나 포함할 수 있다. 또 다른 예로서, 박막 봉지층(E)은 적어도 2개의 무기층 사이에 적어도 하나의 유기층이 삽입된 샌드위치 구조 및 적어도 2개의 유기층 사이에 적어도 하나의 무기층이 삽입된 샌드위치 구조를 포함할 수도 있다. The thin film encapsulation layer (E) may include at least one sandwich structure in which at least one organic layer is inserted between at least two inorganic layers. As another example, the thin film encapsulation layer (E) may include at least one sandwich structure in which at least one inorganic layer is inserted between at least two organic layers. As another example, the thin film encapsulation layer (E) may include a sandwich structure in which at least one organic layer is inserted between at least two inorganic layers and a sandwich structure in which at least one inorganic layer is inserted between at least two organic layers. .
박막 봉지층(E)은 유기 발광 소자(OLED)의 상부로부터 순차적으로 제1 무기층, 제1 유기층, 제2 무기층을 포함할 수 있다. The thin film encapsulation layer E may include a first inorganic layer, a first organic layer, and a second inorganic layer sequentially from an upper portion of the organic light emitting diode OLED.
다른 예로서, 박막 봉지층(E)은 유기 발광 소자(OLED)의 상부로부터 순차적으로 제1 무기층, 제1 유기층, 제2 무기층, 제2 유기층, 제3 무기층을 포함할 수 있다. As another example, the thin film encapsulation layer E may include a first inorganic layer, a first organic layer, a second inorganic layer, a second organic layer, and a third inorganic layer sequentially from an upper portion of the organic light emitting diode OLED.
또 다른 예로서, 박막 봉지층(E)은 상기 유기 발광 소자(OLED)의 상부로부터 순차적으로 제1 무기층, 제1 유기층, 제2 무기층, 상기 제2 유기층, 제3 무기층, 제3 유기층, 제4 무기층을 포함할 수 있다. As another example, the thin film encapsulation layer (E) is sequentially formed from an upper portion of the organic light emitting diode (OLED) with a first inorganic layer, a first organic layer, a second inorganic layer, the second organic layer, a third inorganic layer, and a third It may include an organic layer and a fourth inorganic layer.
유기 발광 소자(OLED)와 제1 무기층 사이에 LiF를 포함하는 할로겐화 금속층이 추가로 포함될 수 있다. 상기 할로겐화 금속층은 제1 무기층을 스퍼터링 방식으로 형성할 때 상기 유기 발광 소자(OLED)가 손상되는 것을 방지할 수 있다.A metal halide layer including LiF may be further included between the organic light emitting diode (OLED) and the first inorganic layer. The metal halide layer may prevent the organic light emitting diode (OLED) from being damaged when the first inorganic layer is formed by sputtering.
제1 유기층은 제2 무기층 보다 면적이 좁게 할 수 있으며, 상기 제2 유기층도 제3 무기층 보다 면적이 좁을 수 있다.The first organic layer may have a smaller area than the second inorganic layer, and the second organic layer may also have a smaller area than the third inorganic layer.
상기와 같은 무기층을 형성하는 경우 상기에서 설명한 표시 장치의 제조장치(미도시)를 통하여 제조할 수 있다. 이러한 경우 디스플레이 기판(D)를 제1 챔버 유닛(미도시)를 통하여 제2 챔버유닛(미도시)로 이송시켜 소스부(미도시)로 증착물질을 디스플레이 기판(D) 상에 증착시킬 수 있다. In the case of forming the inorganic layer as described above, it may be manufactured through the above-described display device manufacturing apparatus (not shown). In this case, the display substrate D may be transferred to the second chamber unit (not shown) through the first chamber unit (not shown), and the deposition material may be deposited on the display substrate D by the source unit (not shown). .
이러한 경우 디스플레이 기판(D)의 이송 시 캐리어(미도시)가 다른 물체와 접촉하지 않고 이송됨으로써 이물질이 발생하지 않아 디스플레이 기판(D)의 증착 품질이 향상될 수 있다. In this case, when the display substrate (D) is transported, the carrier (not shown) is transported without contact with other objects, so that foreign substances are not generated, so that the deposition quality of the display substrate (D) can be improved.
따라서 표시 장치(20)는 증착물질의 증착 시 이물질이 디스플레이 기판(D)에 흡착되지 않음으로써 불량이 발생하지 않으며, 정확한 이미지 구현이 가능하다. Accordingly, the
이와 같이 본 발명은 도면에 도시된 일 실시예를 참고로 하여 설명하였으나 이는 예시적인 것에 불과하며 당해 분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 이로부터 다양한 변형 및 실시예의 변형이 가능하다는 점을 이해할 것이다. 따라서, 본 발명의 진정한 기술적 보호 범위는 첨부된 특허청구범위의 기술적 사상에 의하여 정해져야 할 것이다.As such, the present invention has been described with reference to one embodiment shown in the drawings, but this is merely exemplary, and those skilled in the art will understand that various modifications and variations of the embodiments are possible therefrom. Accordingly, the true technical protection scope of the present invention should be determined by the technical spirit of the appended claims.
10: 표시 장치의 제조장치
20: 표시 장치
100: 제1 챔버유닛
200: 제2 챔버유닛
210: 제2 챔버
220: 소스부
262-2: 제2 자기장안내부
300: 이송유닛
300-2, 300A-2, 300B-2, 300C-2, 300D-2: 제2 이송유닛
310, 310A, 310B, 310C, 310D: 캐리어
320-2, 320A-2, 320B-2, 320C-2: 제2 위치조절부
330-2, 330A-2, 330B-2, 330C-2, 330D-2: 제2 캐리어이송부
331-2, 331A-2, 331B-2, 331C-2, 331D-2: 제1 이송부
332-2, 332A-2, 332B-2, 332C-2, 332D-2: 제2 이송부
340-2, 340A-2, 340B-2, 340C-2, 340D-2: 제2 캐리어가이드부
341-2, 341B-2, 341D-2: 제1 가이드부
342-2, 342B-2, 342D-2: 제2 가이드부
350-2, 350A-2, 350B-2: 제2 캐리어자세제어부
351-2, 351A-2: 제1 자세제어부
352-2, 352A-2: 제2 자세제어부
360-2, 360A-2, 360B-2, 360C-2, 360D-2: 제2 차폐부
371-2, 371A-2, 371B-2, 371C-2: 제2 간격측정센서부
372-2, 372A-2, 372B-2, 372C-2, 372D-2: 제2 자세측정센서부
400: 게이트밸브10: manufacturing apparatus of a display device
20: display device
100: first chamber unit
200: second chamber unit
210: second chamber
220: source unit
262-2: second magnetic field guide unit
300: transfer unit
300-2, 300A-2, 300B-2, 300C-2, 300D-2: second transfer unit
310, 310A, 310B, 310C, 310D: Carrier
320-2, 320A-2, 320B-2, 320C-2: second position adjustment unit
330-2, 330A-2, 330B-2, 330C-2, 330D-2: second carrier transfer unit
331-2, 331A-2, 331B-2, 331C-2, 331D-2: first transfer unit
332-2, 332A-2, 332B-2, 332C-2, 332D-2: second transfer unit
340-2, 340A-2, 340B-2, 340C-2, 340D-2: second carrier guide part
341-2, 341B-2, 341D-2: first guide part
342-2, 342B-2, 342D-2: second guide part
350-2, 350A-2, 350B-2: second carrier attitude control unit
351-2, 351A-2: first posture control unit
352-2, 352A-2: second posture control unit
360-2, 360A-2, 360B-2, 360C-2, 360D-2: second shield
371-2, 371A-2, 371B-2, 371C-2: second interval measuring sensor unit
372-2, 372A-2, 372B-2, 372C-2, 372D-2: second posture measurement sensor unit
400: gate valve
Claims (20)
상기 소스부와 대향하도록 배치되며, 상기 디스플레이 기판이 고정되는 캐리어;
상기 캐리어로부터 이격되도록 배치되며, 제1 방향으로 상기 캐리어의 위치를 조절하는 위치조절부;
상기 캐리어를 제2 방향으로 이송시키는 캐리어이송부;
상기 캐리어로부터 이격되도록 배치되어 상기 캐리어의 위치를 조정하는 캐리어가이드부; 및
상기 위치조절부, 상기 캐리어이송부 및 상기 캐리어가이드부 중 적어도 하나에 배치되어 상기 위치조절부, 상기 캐리어이송부 및 상기 캐리어가이드부 중 적어도 하나에서 생성된 자기장을 차단하는 차폐부;를 포함하는 표시 장치의 제조장치. a source unit disposed to face the display substrate, supplying a deposition material to the display substrate, and generating a magnetic or electric field;
a carrier disposed to face the source unit and to which the display substrate is fixed;
a position adjusting unit disposed to be spaced apart from the carrier and configured to adjust the position of the carrier in a first direction;
a carrier transfer unit for transferring the carrier in a second direction;
a carrier guide portion disposed to be spaced apart from the carrier to adjust the position of the carrier; and
a shielding unit disposed on at least one of the position adjustment unit, the carrier transfer unit, and the carrier guide unit to block a magnetic field generated by at least one of the position adjustment unit, the carrier transfer unit, and the carrier guide unit; manufacturing equipment.
상기 위치조절부로부터 이격되도록 배열되어 상기 캐리어의 자세를 제어하는 캐리어자세제어부;를 더 포함하는 표시 장치의 제조장치. The method of claim 1,
and a carrier posture control unit arranged to be spaced apart from the position adjusting unit and configured to control the posture of the carrier.
상기 캐리어자세제어부는,
상기 캐리어에 배치되는 제1 자세제어부; 및
상기 제1 자세제어부와 이격되도록 배치되어 상기 캐리어의 자세를 제어하는 제2 자세제어부;를 포함하는 표시 장치의 제조장치. 3. The method of claim 2,
The carrier posture control unit,
a first posture control unit disposed on the carrier; and
and a second posture control unit spaced apart from the first posture control unit to control the posture of the carrier.
상기 캐리어는 수직하게 배열되고, 상기 위치조절부는 상기 캐리어의 상면에 배치되는 표시 장치의 제조장치. The method of claim 1,
The carrier is vertically arranged, and the position adjusting unit is disposed on an upper surface of the carrier.
상기 캐리어가이드부는 상기 캐리어의 일면에 대향하도록 배치되는 표시 장치의 제조장치. The method of claim 1,
The carrier guide part is disposed to face one surface of the carrier.
상기 캐리어가이드부는,
상기 캐리어의 양면 중 일면 측에 배치되는 제1 가이드부; 및
상기 제1 가이드부와 대향하도록 배치되며, 상기 캐리어의 양면 중 다른 면 측에 배치되는 제2 가이드부;를 포함하는 표시 장치의 제조장치. The method of claim 1,
The carrier guide unit,
a first guide part disposed on one side of both surfaces of the carrier; and
and a second guide part disposed to face the first guide part and disposed on the other side of both surfaces of the carrier.
상기 캐리어이송부는,
상기 캐리어에 배치되는 제1 이송부; 및
상기 제1 이송부로부터 이격되도록 배치되며, 상기 제1 이송부와 함께 상기 캐리어를 이동시키는 구동력을 생성하는 제2 이송부;를 포함하는 표시 장치의 제조장치. The method of claim 1,
The carrier transport unit,
a first transfer unit disposed on the carrier; and
and a second transfer unit spaced apart from the first transfer unit and configured to generate a driving force for moving the carrier together with the first transfer unit.
상기 위치조절부와 상기 캐리어 사이의 간격을 측정하는 간격측정센서부;를 더 포함하는 표시 장치의 제조장치. The method of claim 1,
The apparatus for manufacturing a display device further comprising a; an interval measuring sensor for measuring a distance between the position adjusting unit and the carrier.
상기 캐리어가이드부와 상기 캐리어 사이의 간격을 측정하는 자세측정센서부;를 더 포함하는 표시 장치의 제조장치. The method of claim 1,
The apparatus for manufacturing a display device further comprising a; an attitude measurement sensor unit for measuring a distance between the carrier guide unit and the carrier.
상기 차폐부는,
상기 위치조절부, 상기 캐리어이송부 및 상기 캐리어가이드부 중 적어도 하나에 배치되어 상기 위치조절부, 상기 캐리어이송부 및 상기 캐리어가이드부 중 적어도 하나에서 생성된 자기장을 차단하는 차단부;를 포함하는 표시 장치의 제조장치. The method of claim 1,
The shield is
A display device comprising a; a blocking unit disposed on at least one of the position adjusting unit, the carrier conveying unit, and the carrier guide unit to block a magnetic field generated by at least one of the position adjusting unit, the carrier conveying unit, and the carrier guide unit; manufacturing equipment.
상기 차폐부는,
상기 차단부에 배치되며, 상기 위치조절부, 상기 캐리어이송부 및 상기 캐리어가이드부 중 적어도 하나에서 생성된 자기장을 안내하는 자기장안내부;를 더 포함하는 표시 장치의 제조장치.11. The method of claim 10,
The shield is
and a magnetic field guide part disposed on the blocking part and guiding the magnetic field generated by at least one of the position adjusting part, the carrier transport part, and the carrier guide part.
상기 캐리어이송부는 복수개 구비되며,
상기 복수개의 캐리어이송부는 상기 제2 방향으로 서로 이격되도록 배열되며, 서로 인접하는 상기 캐리어이송부 사이의 거리는 상기 캐리어의 길이보다 작은 표시 장치의 제조장치. The method of claim 1,
A plurality of the carrier transfer unit is provided,
The plurality of carrier transporters are arranged to be spaced apart from each other in the second direction, and a distance between the adjacent carrier transporters is smaller than a length of the carrier.
상기 디스플레이 기판에 증착물질을 증착시키는 제2 챔버유닛;
상기 제1 챔버유닛과 상기 제2 챔버유닛 중 적어도 하나에 배치되며, 상기 디스플레이 기판을 상기 제1 챔버유닛에서 상기 제2 챔버유닛 또는 상기 제2 챔버유닛에서 상기 제1 챔버유닛으로 이송시키는 이송유닛;을 포함하고,
상기 이송유닛은,
소스부와 대향하도록 배치되며, 디스플레이 기판이 고정되어 상기 디스플레이 기판을 이송시키는 캐리어;
상기 캐리어로부터 이격되도록 배치되며, 제1 방향으로 상기 캐리어의 위치를 조절하는 위치조절부;
상기 캐리어를 제2 방향으로 이송시키는 이송부;
상기 캐리어로부터 이격되도록 배치되어 상기 캐리어의 위치를 조정하는 가이드부; 및
상기 위치조절부, 상기 이송부 및 상기 가이드부 중 적어도 하나에 배치되어 상기 위치조절부, 상기 이송부 및 상기 가이드부 중 적어도 하나에서 생성된 자기장을 차단하는 차폐부;를 포함하고,
상기 제2 챔버유닛은,
상기 디스플레이 기판이 수납되는 챔버; 및
상기 챔버 내부에 배치되며, 상기 디스플레이 기판에 증착물질을 분사하며 자기장 또는 전기장을 생성하는 소스부;를 포함하는 표시 장치의 제조장치. a first chamber unit on which the display substrate is loaded or unloaded;
a second chamber unit for depositing a deposition material on the display substrate;
A transfer unit disposed in at least one of the first chamber unit and the second chamber unit and transferring the display substrate from the first chamber unit to the second chamber unit or from the second chamber unit to the first chamber unit including;
The transfer unit is
a carrier disposed to face the source unit and to which the display substrate is fixed to transport the display substrate;
a position adjusting unit disposed to be spaced apart from the carrier and configured to adjust the position of the carrier in a first direction;
a transfer unit for transferring the carrier in a second direction;
a guide part disposed to be spaced apart from the carrier to adjust a position of the carrier; and
a shielding unit disposed on at least one of the position adjusting unit, the conveying unit, and the guide unit to block the magnetic field generated by at least one of the position adjusting unit, the conveying unit, and the guide unit;
The second chamber unit,
a chamber in which the display substrate is accommodated; and
and a source unit disposed inside the chamber and configured to spray a deposition material onto the display substrate and generate a magnetic or electric field.
상기 제1 챔버유닛의 상기 디스플레이 기판을 제2 챔버유닛으로 이송시키는 단계; 및
상기 제2 챔버유닛에서 자기장 또는 전기장을 생성하는 소스부를 통하여 증착물질을 상기 소스부와 마주보는 상기 디스플레이 기판에 공급하여 상기 증착물질을 상기 디스플레이 기판에 증착시키는 단계;를 포함하고,
상기 디스플레이 기판은 상기 디스플레이 기판이 안착한 이송유닛을 통하여 비접촉식으로 부양하여 이송되고, 상기 이송유닛이 상기 제2 챔버유닛에서 상기 디스플레이 기판을 이송할 때 상기 이송유닛에서 발생되는 자기장을 차폐시키는 표시 장치의 제조방법. loading the display substrate into the first chamber unit;
transferring the display substrate of the first chamber unit to a second chamber unit; and
In the second chamber unit, supplying a deposition material to the display substrate facing the source portion through a source for generating a magnetic or electric field in the second chamber unit to deposit the deposition material on the display substrate;
The display substrate is transported by floating in a non-contact manner through the transfer unit on which the display substrate is seated, and the transfer unit shields the magnetic field generated by the transfer unit when the display substrate is transferred from the second chamber unit. manufacturing method.
상기 이송유닛에서 발생되는 자기장 중 상기 소스부를 향하는 자기장을 차폐시키는 표시 장치의 제조방법. 16. The method of claim 15,
A method of manufacturing a display device for shielding a magnetic field directed toward the source unit among the magnetic fields generated by the transfer unit.
상기 이송유닛은 상기 소스부와 대향하도록 배치되어 상기 자기장을 차폐시키는 차폐부;를 포함하는 표시 장치의 제조방법. 16. The method of claim 15,
and a shielding unit in which the transfer unit is disposed to face the source unit and shields the magnetic field.
상기 이송유닛은 상기 디스플레이 기판이 고정되는 캐리어를 포함하고,
상기 제1 챔버유닛과 상기 제2 챔버유닛 사이의 거리는 상기 캐리어의 폭보다 작은 표시 장치의 제조방법. 16. The method of claim 15,
The transfer unit includes a carrier to which the display substrate is fixed,
A distance between the first chamber unit and the second chamber unit is smaller than a width of the carrier.
상기 이송유닛은 상기 디스플레이 기판의 이송 시 상기 디스플레이 기판의 자세를 일정하게 유지시키는 표시 장치의 제조방법. 16. The method of claim 15,
The transfer unit maintains a constant posture of the display substrate when the display substrate is transferred.
상기 이송유닛은 상기 디스플레이 기판을 지면에 대해서 틸팅된 상태로 이송하는 표시 장치의 제조방법. 16. The method of claim 15,
The transfer unit transfers the display substrate in a tilted state with respect to the ground.
Priority Applications (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020180013083A KR102460645B1 (en) | 2018-02-01 | 2018-02-01 | Manufacturing apparatus and method for a display apparatus |
CN201910079736.5A CN110106479A (en) | 2018-02-01 | 2019-01-28 | The manufacturing device of display device |
KR1020220138619A KR102616244B1 (en) | 2018-02-01 | 2022-10-25 | Manufacturing apparatus and method for a display apparatus |
KR1020230182369A KR20240005615A (en) | 2018-02-01 | 2023-12-14 | Manufacturing method for a display apparatus |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020180013083A KR102460645B1 (en) | 2018-02-01 | 2018-02-01 | Manufacturing apparatus and method for a display apparatus |
Related Child Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020220138619A Division KR102616244B1 (en) | 2018-02-01 | 2022-10-25 | Manufacturing apparatus and method for a display apparatus |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR20190093832A KR20190093832A (en) | 2019-08-12 |
KR102460645B1 true KR102460645B1 (en) | 2022-10-31 |
Family
ID=67483699
Family Applications (3)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020180013083A KR102460645B1 (en) | 2018-02-01 | 2018-02-01 | Manufacturing apparatus and method for a display apparatus |
KR1020220138619A KR102616244B1 (en) | 2018-02-01 | 2022-10-25 | Manufacturing apparatus and method for a display apparatus |
KR1020230182369A KR20240005615A (en) | 2018-02-01 | 2023-12-14 | Manufacturing method for a display apparatus |
Family Applications After (2)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020220138619A KR102616244B1 (en) | 2018-02-01 | 2022-10-25 | Manufacturing apparatus and method for a display apparatus |
KR1020230182369A KR20240005615A (en) | 2018-02-01 | 2023-12-14 | Manufacturing method for a display apparatus |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
KR (3) | KR102460645B1 (en) |
CN (1) | CN110106479A (en) |
Family Cites Families (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH11317438A (en) * | 1997-11-12 | 1999-11-16 | Intevac Inc | Substrate support apparatus utilizing magnetic support of substrate carrier |
KR20060011586A (en) * | 2004-07-30 | 2006-02-03 | 엘지.필립스 엘시디 주식회사 | Substrate moving device and the sputtering process apparatus |
DE102013016065B4 (en) * | 2013-09-27 | 2016-02-18 | Mecatronix Ag | Positioning device and method |
KR102536251B1 (en) * | 2016-03-25 | 2023-05-25 | 삼성디스플레이 주식회사 | Apparatus for manufacturing a display apparatus |
-
2018
- 2018-02-01 KR KR1020180013083A patent/KR102460645B1/en active IP Right Grant
-
2019
- 2019-01-28 CN CN201910079736.5A patent/CN110106479A/en active Pending
-
2022
- 2022-10-25 KR KR1020220138619A patent/KR102616244B1/en active IP Right Grant
-
2023
- 2023-12-14 KR KR1020230182369A patent/KR20240005615A/en active Search and Examination
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR20220151127A (en) | 2022-11-14 |
CN110106479A (en) | 2019-08-09 |
KR20240005615A (en) | 2024-01-12 |
KR102616244B1 (en) | 2023-12-21 |
KR20190093832A (en) | 2019-08-12 |
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