KR102460331B1 - coated cutting tools - Google Patents

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오케 외스트룬드
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산드빅 인터렉츄얼 프로퍼티 에이비
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Abstract

본 발명은 WC, 금속 바인더상 및 감마상을 포함하는 초경합금 기재를 가지는 코팅된 절삭 공구에 관한 것으로, 초경합금은 잘 분산된 감마상을 가지고, 또한 초경합금은 감소된 양의 비정상 WC 결정립들을 갖는다. 또한, 코팅된 절삭 공구는 TiCN 및 α-Al2O3 층을 포함하는 CVD 코팅을 가지고, 상기 α-Al2O3 층은 조직 계수 TC(0 0 12) ≥ 7.2 를 나타내고, 비율 I(0 0 12)/I(0 1 14) 은 ≥ 1 이다. 본 발명에 따른 코팅된 절삭 공구는 인성을 유지하면서 소성 변형에 대한 증가된 저항을 갖는다.The present invention relates to a coated cutting tool having a cemented carbide substrate comprising WC, a metallic binder phase and a gamma phase, wherein the cemented carbide has a well dispersed gamma phase, and the cemented carbide has a reduced amount of abnormal WC grains. Further, the coated cutting tool has a CVD coating comprising TiCN and a layer of α-Al 2 O 3 , wherein the layer of α-Al 2 O 3 exhibits a tissue modulus TC(0 0 12) ≥ 7.2, and a ratio I(0 0 12)/I(0 1 14) is ≥ 1. The coated cutting tool according to the present invention has increased resistance to plastic deformation while maintaining toughness.

Description

코팅된 절삭 공구coated cutting tools

본 발명은 기재 및 코팅을 포함하는 금속의 첩 성형 기계가공을 위한 코팅된 절삭 공구에 관한 것이고, 여기에서 코팅된 선삭용 인서트는 강을 기계가공하는데 특히 적합하다.The present invention relates to a coated cutting tool for the chirp machining of metals comprising substrates and coatings, wherein the coated turning inserts are particularly suitable for machining steel.

CVD 코팅을 갖는 감마상이 고갈된 바인더상 풍부 표면 구역을 가지는 초경합금 기재를 갖는 절삭 공구는 선삭 작업의 기술 분야에서 잘 공지되어 있다.Cutting tools having a cemented carbide substrate having a gamma phase-depleted binder phase rich surface area with a CVD coating are well known in the art of turning operations.

하지만, 인서트와 같은 절삭 공구의 성능을 향상시키기 위한 지속적인 노력이 항상 존재한다. 더 긴 공구 수명은 생산 비용 등의 감소로 이어진다.However, there is always an ongoing effort to improve the performance of cutting tools such as inserts. Longer tool life leads to lower production costs, etc.

소성 변형은 절삭 작업의 마모 메커니즘 중 하나이다. 일반적으로 소성 변형에 대한 저항을 향상시키고자 할 때, 기재의 인성은 감소된다.Plastic deformation is one of the wear mechanisms in cutting operations. In general, when it is desired to improve resistance to plastic deformation, the toughness of the substrate is reduced.

본 발명의 일 목적은 인성을 유지하면서 소성 변형에 대한 향상된 저항을 달성하는 것이다.It is an object of the present invention to achieve improved resistance to plastic deformation while maintaining toughness.

본 발명의 다른 목적은 인성을 향상시키면서 동시에 소성 변형에 대한 향상된 저항을 달성하는 것이다.Another object of the present invention is to achieve improved resistance to plastic deformation while at the same time improving toughness.

본 발명은 초경합금 기재 및 코팅을 포함하는 코팅된 절삭 공구에 관한 것이다. 초경합금 기재는 WC, 코발트 바인더상 및 감마상을 포함하고, 초경합금 기재는 감마상이 고갈된 바인더상 풍부 표면 구역을 포함하고, 여기에서 표면 구역의 두께는 14 ~ 26 ㎛ 이고, 또한 초경합금은 N 이 80 ㎛2 미만이도록 잘 분산된 감마상을 갖고, 여기에서 The present invention relates to a coated cutting tool comprising a cemented carbide substrate and a coating. The cemented carbide substrate includes WC, a cobalt binder phase and a gamma phase, and the cemented carbide substrate includes a binder phase-rich surface region depleted of gamma phase, wherein the thickness of the surface region is 14 to 26 μm, and the cemented carbide substrate has an N of 80 has a well-dispersed gamma phase to be less than μm 2 , wherein

Figure 112019083703555-pct00001
Figure 112019083703555-pct00001

이고, 여기에서 X (㎛2) 는 EBSD 분석으로부터 얻어진 누적 플롯에서 0.90 의 누적 상대 면적 (y-축) 에서의 입자 면적 (x-축) 이고, 여기에서 감마상 입자들의 누적 상대 입자 면적 (y-축) 은 입자 면적 (x-축) 에 대해 플로팅된다.where X (μm 2 ) is the particle area (x-axis) at a cumulative relative area (y-axis) of 0.90 in the cumulative plot obtained from the EBSD analysis, where the cumulative relative particle area (y) of the gamma phase particles -axis) is plotted against particle area (x-axis).

Y 는 보정 계수Y is the correction factor

Figure 112019083703555-pct00002
Figure 112019083703555-pct00002

이고, 여기에서 면적 분율은 EBSD 분석으로부터 얻어진다., where the area fraction is obtained from EBSD analysis.

더욱이, Furthermore,

Figure 112019083703555-pct00003
Figure 112019083703555-pct00003

으로서 규정된 EBSD 분석으로부터 얻어진 비정상 WC 결정립들의 면적 분율은 0 ~ 0.03 이다.The area fraction of the abnormal WC grains obtained from the EBSD analysis defined as 0 ~ 0.03.

코팅은 α-Al2O3 층을 포함하고, 상기 기재와 상기 α-Al2O3 층 사이에서 코팅은 TiCN 층을 포함하고, 상기 α-Al2O3 층은 Harris 공식the coating comprises a layer of α-Al 2 O 3 , between the substrate and the layer of α-Al 2 O 3 the coating comprises a layer of TiCN, and the layer of α-Al 2 O 3 is prepared by Harris formula

Figure 112019083703555-pct00004
Figure 112019083703555-pct00004

에 따라 규정된 CuKα방사선 및 θ-2θ 스캔을 사용하여 X-선 회절에 의해 측정된 바와 같은 조직 계수 TC(hkl) 를 나타내고, 여기에서 I(hkl) 는 (hkl) 반사의 측정된 강도 (적분 면적) 이고, I0(hkl) 는 ICDD's PDF-card No. 00-010-0173 에 따른 표준 강도이고, n 은 연산에 사용된 반사의 개수이고, 사용된 (hkl) 반사는 (1 0 4), (1 1 0), (1 1 3), (0 2 4), (1 1 6), (2 1 4), (3 0 0) 및 (0 0 12) 이고, TC(0 0 12) 는 ≥ 7.2 이고, I(0 0 12)/I(0 1 14) 의 비는 ≥ 1 이다.denote the tissue modulus TC(hkl) as measured by X-ray diffraction using CuKα radiation and θ-2θ scans defined according to area), and I 0 (hkl) is ICDD's PDF-card No. standard intensity according to 00-010-0173, n is the number of reflections used in the calculation, (hkl) reflections used are (1 0 4), (1 1 0), (1 1 3), (0 2 4), (1 1 6), (2 1 4), (3 0 0) and (0 0 12), TC(0 0 12) is ≥ 7.2, and I(0 0 12)/I(0 1 The ratio of 14) is ≥ 1.

본 발명에 따른 초경합금의 특성들은 전자후방산란회절 (EBSD; Electron backscatter diffraction) 을 사용하여 수행된다. EBSD 는, 정의된 거리 (스텝 크기) 만큼 샘플 표면을 가로지르는 빔을 스테핑하고 또한 샘플이 수평에 대해 70˚ 로 틸팅될 때 생성된 회절 패턴으로부터 각 스텝에서 샘플의 상과 결정학적 배향을 결정하는 SEM 방법이다. 이러한 정보는 결정립계들, 상들 및 결정립들의 크기와 상대 위치를 결정하기 위해 결정학적 정보를 사용하여 쉽게 평가될 수 있는 샘플 미세조직의 맵들을 생성하는데 사용될 수 있다.The properties of the cemented carbide according to the present invention are performed using electron backscatter diffraction (EBSD). EBSD steps a beam across the sample surface by a defined distance (step size) and also determines the phase and crystallographic orientation of the sample at each step from the diffraction pattern generated when the sample is tilted 70° to the horizontal. SEM method. This information can be used to generate maps of the sample microstructure that can be easily evaluated using crystallographic information to determine the size and relative location of grain boundaries, phases, and grains.

초경합금은 가능한 한 적은 비정상 WC 결정립들을 가져야 한다. 비정상 WC 결정립은 일반적으로 평균 WC 결정립 크기보다 몇 배 더 큰 WC 결정립을 의미한다. 본원에서 비정상 WC 결정립들의 양은 초경합금 재료의 EBSD 분석으로부터 결정된다.The cemented carbide should have as few abnormal WC grains as possible. Abnormal WC grains generally refer to WC grains that are several times larger than the average WC grain size. The amount of abnormal WC grains herein is determined from EBSD analysis of cemented carbide material.

비정상 WC 결정립들의 면적 분율은, WC 결정립들의 총 면적과 관련하여, WC 결정립들에 대한 평균 면적 (αWCav) 의 10 배보다 더 큰 WC 결정립들의 면적 분율로서 규정된다.The area fraction of abnormal WC grains is defined as the area fraction of WC grains that, with respect to the total area of the WC grains, is greater than ten times the average area for WC grains (αWC av ).

Figure 112019083703555-pct00005
Figure 112019083703555-pct00005

본 발명에 따라, 비정상 결정립들의 면적 분율은 0 ~ 0.03, 바람직하게는 0 ~ 0.025, 더 바람직하게는 0 ~ 0.02 이다.According to the present invention, the area fraction of the abnormal grains is 0 to 0.03, preferably 0 to 0.025, more preferably 0 to 0.02.

입방정 탄화물 및/또는 탄질화물의 고용체인 감마상은 입방정 탄화물 및/또는 탄질화물 및 WC 로부터 소결되는 동안 형성되고, 또한 (W,M)C 또는 (W,M)(C,N) 로서 기재될 수 있고, 여기에서 M 은 Ti, Ta, Nb, Hf, Zr, Cr 및 V 중 하나 이상이다.The gamma phase, which is a solid solution of cubic carbides and/or carbonitrides, is formed during sintering from cubic carbides and/or carbonitrides and WC, and can also be described as (W,M)C or (W,M)(C,N) wherein M is at least one of Ti, Ta, Nb, Hf, Zr, Cr, and V.

본 발명의 일 실시형태에서, 초경합금은 0.5 ~ 2.5 wt%, 바람직하게는 1 ~ 1.5 wt% 의 양으로 NbC 를 포함한다. 더욱이, 초경합금은 2.5 ~ 4.5 wt%, 바람직하게는 3 ~ 4 wt% 의 양으로 TaC 를 포함한다. 더욱이, 초경합금은 1.8 ~ 3.3 wt%, 바람직하게는 2 ~ 3 wt% 의 양으로 TiC 를 포함한다.In one embodiment of the present invention, the cemented carbide comprises NbC in an amount of 0.5 to 2.5 wt %, preferably 1 to 1.5 wt %. Moreover, the cemented carbide contains TaC in an amount of 2.5 to 4.5 wt%, preferably 3 to 4 wt%. Furthermore, the cemented carbide contains TiC in an amount of 1.8 to 3.3 wt %, preferably 2 to 3 wt %.

감마상의 양은 적합하게는 3 ~ 25 vol%, 바람직하게는 5 ~ 17 vol% 이다. 이는 상이한 방법들로, 예컨대 감마상의 평균 분율을 계산하기 위해 기재 단면의 주사 전자 현미경 (SEM) 의 현미경 사진 또는 광 광학 현미경 (LOM) 의 이미지를 이미지 분석함으로써 측정될 수 있다. 초경합금이 표면 구역에서 구배를 가질 때, 본원에서 주어진 바와 같은 감마상의 양은 벌크로 측정된다. 또한 감마상의 양은 EBSD 분석으로부터 검색될 수 있다.The amount of the gamma phase is suitably 3 to 25 vol%, preferably 5 to 17 vol%. This can be measured in different ways, for example by image analysis of a micrograph of a scanning electron microscope (SEM) or an image of a light optical microscope (LOM) of a cross section of the substrate to calculate the average fraction of the gamma phase. When the cemented carbide has a gradient in the surface area, the amount of gamma phase as given herein is measured in bulk. The amount of gamma phase can also be retrieved from EBSD analysis.

감마상의 분포는 가능한 한 균일해야 한다. 감마상의 EBSD 분석은 감마상 결정립들이 아닌 감마상 입자들에 대해 수행되었다. EBSD 데이터의 처리를 통해, 입자들 또는 결정립들의 측정 여부를 선택할 수 있다. 결정립은 본원에서 단결정을 의미하는 반면, 입자는 서로 직접 접촉하는 2 개 이상의 결정립들을 의미한다.The distribution of the gamma phase should be as uniform as possible. EBSD analysis of gamma phase was performed on gamma phase particles, not gamma phase grains. Through processing of the EBSD data, it is possible to choose whether to measure particles or grains. A grain is meant herein as a single crystal, whereas a particle means two or more grains in direct contact with each other.

본 발명에 따라, 감마상은 제어된 입자 크기로 잘 분포되어 있다.According to the present invention, the gamma phase is well distributed with a controlled particle size.

감마상의 분포는 EBSD 분석에 의해 결정되고, 또한 값 N 에 의해 주어진다:The distribution of the gamma phase is determined by EBSD analysis and is also given by the value N:

Figure 112019083703555-pct00006
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EBSD 분석으로부터 감마상 입자들의 누적 상대 입자 면적 (y-축) 은 입자 면적 (x-축) 에 대해 플로팅된다. 도 1 이 참고된다. 누적 플롯 (0 ~ 1) 으로부터, 0.90 의 누적 상대 면적 (y-축) 에서의 입자 면적 (x-축), 즉 값 X (㎛2) 가 달성된다. 값이 0.90 에 정확하게 일치하지 않으면, 0.90 미만 및 초과의 2 개의 값들의 평균이 X 로서 사용된다.The cumulative relative particle area (y-axis) of the gamma phase particles from the EBSD analysis is plotted against the particle area (x-axis). Reference is made to FIG. 1 . From the cumulative plot (0 to 1), the particle area (x-axis) at a cumulative relative area (y-axis) of 0.90, ie the value X (μm 2 ) is achieved. If the value does not exactly match 0.90, the average of the two values less than and greater than 0.90 is used as X.

값 Y 는 초경합금에서 상이한 양의 감마상을 서로 연관시키기 위한 보정 계수이다. Y 는 입방정 탄화물과 입방정 탄질화물 (감마상) 의 면적 분율을 탄화물과 탄질화물, 즉 WC (육방정) 과 감마상 (입방정) 의 총 양으로 나눈 비율이다. 면적 분율들은 EBSD 데이터로부터 얻어진다.The value Y is a correction factor for correlating different amounts of gamma phase in cemented carbide. Y is a ratio obtained by dividing the area fraction of cubic carbide and cubic carbonitride (gamma phase) by the total amount of carbide and carbonitride, that is, WC (hexagonal crystal) and gamma phase (cubic crystal). Area fractions are obtained from EBSD data.

Figure 112019083703555-pct00007
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본 발명에 따라, 감마상 분포, 즉 N 은 적합하게는 80 ㎛2 미만, 바람직하게는 15 ~ 75 ㎛2, 더 바람직하게는 35 ~ 70 ㎛2 이다.According to the invention, the gamma phase distribution, ie N, is suitably less than 80 μm 2 , preferably 15 to 75 μm 2 , more preferably 35 to 70 μm 2 .

표면 구역의 두께는 적합하게는 10 ~ 35 ㎛, 바람직하게는 14 ~ 26 ㎛ 이다. 두께는 감마상이 고갈된 표면 구역과 감마상 함유 벌크 사이의 경계와 기재의 표면 사이에서 측정된다. SEM 또는 LOM 이미지에서, 이러한 경계는 매우 뚜렷하기 때문에 식별하기 쉽다. 표면 구역의 두께의 측정은 바람직하게는 절삭 엣지에 너무 근접하지 않은 편평한 표면에서, 바람직하게는 플랭크면에서 행해져야 한다. 그것은 본원에서 측정들이 절삭 엣지로부터 적어도 0.3 mm 에서 수행되어야 한다는 것을 의미한다.The thickness of the surface zone is suitably between 10 and 35 μm, preferably between 14 and 26 μm. The thickness is measured between the surface of the substrate and the boundary between the gamma-phase-depleted surface region and the gamma-phase-containing bulk. In SEM or LOM images, these boundaries are very distinct and therefore easy to identify. The measurement of the thickness of the surface area should preferably be made on a flat surface not too close to the cutting edge, preferably on the flank surface. It means here that the measurements have to be carried out at least 0.3 mm from the cutting edge.

바인더 풍부는 본원에서 표면 구역 내 바인더상 함량이 벌크 내 바인더상 함량의 적어도 1.3 배이다는 것을 의미한다. 표면 구역 내 바인더상 함량은 적합하게는 표면 구역의 총 두께/깊이의 절반 깊이에서 측정된다. 벌크는 본원에서 표면 구역이 아닌 영역으로서 규정된다. 벌크에서 수행된 모든 측정들은 표면 구역에 너무 근접하지 않은 영역에서 수행되어야 한다. 그것은 본원에서 벌크의 미세조직에 대해 행해진 어떠한 측정들도 표면으로부터 적어도 100 ㎛ 의 깊이에서 수행되어야 한다는 것을 의미한다.Binder rich means herein that the binder phase content in the surface zone is at least 1.3 times the binder phase content in the bulk. The binder phase content in the surface zone is suitably measured at a depth of half the total thickness/depth of the surface zone. Bulk is defined herein as an area that is not a surface area. All measurements performed in bulk should be performed in an area that is not too close to the surface area. It means that any measurements made here on the microstructure of the bulk must be performed at a depth of at least 100 μm from the surface.

감마상의 고갈은 본원에서 표면 구역이 감마상 입자들을 함유하지 않거나 매우 적은 감마상 입자들을 함유한다는 것을 의미한다.Depletion of gamma phase means herein that the surface region contains no gamma phase particles or very few gamma phase particles.

코발트의 양은 소결된 보디의 5 ~ 17 wt%, 적합하게는 8 ~ 12 wt% 이다.The amount of cobalt is 5 to 17 wt % of the sintered body, suitably 8 to 12 wt %.

본 발명의 일 실시형태에서, Cr 이 초경합금 내에 존재하는 경우, Cr 의 일부가 바인더상에 용해된다.In one embodiment of the present invention, when Cr is present in the cemented carbide, a part of Cr is dissolved in the binder phase.

초경합금은 또한 초경합금의 기술 분야에서 통상적인 다른 성분들을 포함할 수 있다. 재활용 재료 (PRZ) 가 사용되는 경우, 그러한 Zr, V, Zn, Fe, Ni 및 Al 이 또한 소량으로 존재할 수 있다.The cemented carbide may also include other components common in the art of cemented carbide. When a recycled material (PRZ) is used, such Zr, V, Zn, Fe, Ni and Al may also be present in small amounts.

본 발명에 따른 코팅은 α-Al2O3 층을 포함하고, 상기 기재와 상기 α-Al2O3 층 사이에서 코팅은 TiCN-층을 포함한다. α-Al2O3 은 Harris 공식The coating according to the invention comprises an α-Al 2 O 3 layer, and between the substrate and the α-Al 2 O 3 layer the coating comprises a TiCN-layer. α-Al 2 O 3 is the Harris formula

Figure 112019083703555-pct00008
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에 따라 규정된 CuKα방사선 및 θ-2θ 스캔을 사용하여 X-선 회절에 의해 측정된 바와 같은 조직 계수 TC(hkl) 를 나타내고, 여기에서 I(hkl) 는 (hkl) 반사의 측정된 강도 (적분 면적) 이고, I0(hkl) 는 ICDD's PDF-card No. 00-010-0173 에 따른 표준 강도이고, n 은 연산에 사용된 반사의 개수이고, 사용된 (hkl) 반사는 (1 0 4), (1 1 0), (1 1 3), (0 2 4), (1 1 6), (2 1 4), (3 0 0) 및 (0 0 12) 이고, TC(0 0 12) ≥ 7.2, 바람직하게는 ≥ 7.4, 더 바람직하게는 ≥ 7.5, 더 바람직하게는 ≥ 7.6, 가장 바람직하게는 ≥7.7, 그리고 바람직하게는 ≤ 8 이고; I(0 0 12)/I(0 1 14) 의 비는 ≥ 1, 바람직하게는 ≥ 1.5, 더 바람직하게는 ≥ 1.7, 가장 바람직하게는 ≥ 2 이고, I(0 0 12) 는 0 0 12 반사의 측정된 강도 (적분 면적) 이고, I(0 1 14) 는 0 1 4 반사의 측정된 강도 (적분 면적) 이다. I(0 1 14) 보다 크거나 같은 I(0 0 12) 와 조합하여 이러한 높은 TC(0 0 12) 을 갖는 α-Al2O3 층은 이의 예상치 못한 높은 크레이터 및 플랭크 내마모성으로 인해 절삭 공구에서 층으로서 유리한 것으로 나타났다.denote the tissue modulus TC(hkl) as measured by X-ray diffraction using CuKα radiation and θ-2θ scans defined according to area), and I 0 (hkl) is ICDD's PDF-card No. standard intensity according to 00-010-0173, n is the number of reflections used in the calculation, (hkl) reflections used are (1 0 4), (1 1 0), (1 1 3), (0 2 4), (1 1 6), (2 1 4), (3 0 0) and (0 0 12), TC(0 0 12) ≥ 7.2, preferably ≥ 7.4, more preferably ≥ 7.5, more preferably ≧7.6, most preferably ≧7.7, and preferably ≦8; The ratio of I(0 0 12)/I(0 1 14) is ≥ 1, preferably ≥ 1.5, more preferably ≥ 1.7, most preferably ≥ 2, and I(0 0 12) is 0 0 12 is the measured intensity (integral area) of the reflection, and I(0 1 14) is the measured intensity (integral area) of the 0 1 4 reflection. The α-Al 2 O 3 layer with such a high TC(0 0 12) in combination with I(0 0 12) greater than or equal to I(0 1 14) can be used in cutting tools due to its unexpectedly high crater and flank wear resistance. It has been shown to be advantageous as a layer.

α-Al2O3 층은 열적 CVD 로 통상적으로 디포짓된다. HTCVD 는 본원에서 950 ~ 1050 ℃ 의 온도 범위 내의 CVD 프로세스로서 정의되고, MTCVD 는 800 ~ 950 ℃ 의 온도 범위 내의 CVD 프로세스로서 정의된다.The α-Al 2 O 3 layer is typically deposited by thermal CVD. HTCVD is defined herein as a CVD process within a temperature range of 950 to 1050 °C, and MTCVD is defined as a CVD process within a temperature range of 800 to 950 °C.

α-Al2O3 층은 적어도 절삭 작업에서 절삭 시에 맞물리게 되는 절삭 공구의 면적을 커버하고, 적어도 크레이터 마모 및/또는 플랭크 마모에 대해 노출된 면적들을 커버한다. 대안적으로, 전체 절삭 공구는 α-Al2O3 층 및/또는 코팅의 임의의 추가의 층으로 코팅될 수 있다.The α-Al 2 O 3 layer covers at least the area of the cutting tool that is engaged in cutting in a cutting operation and at least covers the areas exposed to crater wear and/or flank wear. Alternatively, the entire cutting tool may be coated with an α-Al 2 O 3 layer and/or any additional layers of coating.

강한 <0 0 1> 조직은 본원에서 <0 0 1> 결정학적 방향을 따라서 통계적으로 바람직한 성장을 의미하고, 즉 α-Al2O3 결정립들은 기재 표면에 평행한 다른 결정학적 평면들보다 보다 빈번하게 기재 표면에 평행한 (0 0 1) 결정학적 평면으로 성장한다. <h k l> 결정학적 방향을 따르는 바람직한 성장을 표현하기 위한 수단은 각각의 샘플에 대해 측정된 정의된 XRD 반사 세트에 근거하여 Harris 공식 (상기 공식 (1)) 을 사용하여 계산된 조직 계수 TC (h k l) 이다. XRD 반사 강도는 동일한 재료, 즉 α-Al2O3 의 XRD 반사 강도를 나타내지만 예컨대 재료 분말에서 랜덤 배향을 갖는 JCPDF-card 를 사용하여 표준화된다. 결정질 재료의 층의 조직 계수 TC (h k l) > 1 은, 결정질 재료의 결정립들이 적어도 조직 계수 TC 를 결정하기 위한 Harris 공식에서 사용된 XRD 반사와 비교하여 랜덤 분포보다 더 빈번하게 기재 표면에 평행한 (h k l) 결정학적 평면으로 배향된다는 표시이다. 조직 계수 TC (0 0 12) 는 본원에서 <0 0 1> 결정학적 방향을 따르는 바람직한 결정 성장을 나타내기 위해 사용된다. (0 0 1) 결정학적 평면은 α-Al2O3 결정학적 시스템에서 (0 0 6) 및 (0 0 12) 결정학적 평면들에 평행하다.Strong <0 0 1> texture here means statistically favorable growth along the <0 0 1> crystallographic direction, ie, α-Al 2 O 3 grains are more frequent than other crystallographic planes parallel to the substrate surface. It grows in a (0 0 1) crystallographic plane parallel to the substrate surface. <hk l> The means for expressing the desired growth along the crystallographic direction is the tissue coefficient TC ( hkl). The XRD reflection intensity is normalized using, for example, a JCPDF-card that shows the XRD reflection intensity of the same material, ie α-Al 2 O 3 , but with a random orientation in the material powder. The texture modulus TC (hkl) > 1 of the layer of crystalline material indicates that the grains of the crystalline material are at least parallel to the substrate surface and parallel to the substrate surface ( hkl) is an indication of orientation in the crystallographic plane. The tissue factor TC (0 0 12) is used herein to indicate the desired crystal growth along the <0 0 1> crystallographic direction. The (0 0 1) crystallographic plane is parallel to the (0 0 6) and (0 0 12) crystallographic planes in the α-Al 2 O 3 crystallographic system.

본 발명의 일 실시형태에서, α-Al2O3 층의 두께는 2 ~ 20 ㎛, 바람직하게는 2 ~ 10 ㎛, 가장 바람직하게는 3 ~ 7 ㎛ 이다.In one embodiment of the present invention, the thickness of the α-Al 2 O 3 layer is between 2 and 20 μm, preferably between 2 and 10 μm, most preferably between 3 and 7 μm.

코팅은 기재와 α-Al2O3 층 사이에 위치된, 바람직하게는 MTCVD 코팅된, TiCN 층을 더 포함한다. TiCN 층의 결정립들은 주상이다. 본 발명의 일 실시형태에서, 상기 TiCN 층의 두께는 4 ~ 20 ㎛, 바람직하게는 4 ~ 15 ㎛, 가장 바람직하게는 5 ~ 12 ㎛ 이다. TiCN 는 본원에서 Ti(Cx,N1-x) 을 의미하고, 여기에서 0.2≤x≤0.8, 바람직하게는 0.3≤x≤0.7, 더 바람직하게는 0.4≤x≤0.6 이다. TiCN 의 C/(C+N) 비는 예를 들어 전자 마이크로 프로브 분석으로 측정될 수 있다.The coating further comprises a TiCN layer, preferably MTCVD coated, located between the substrate and the α-Al 2 O 3 layer. The grains of the TiCN layer are columnar. In one embodiment of the present invention, the thickness of the TiCN layer is 4 to 20 μm, preferably 4 to 15 μm, and most preferably 5 to 12 μm. TiCN means Ti(C x ,N 1-x ) herein, wherein 0.2≤x≤0.8, preferably 0.3≤x≤0.7, more preferably 0.4≤x≤0.6. The C/(C+N) ratio of TiCN can be measured, for example, by electron microprobe analysis.

코팅은 TiCN 층의 최외측에 위치되고 α-Al2O3 층에 인접하는 TiN, TiCN, TiCNO 및/또는 TiCO 또는 이들의 조합, 바람직하게는 TiCN 및 TiCNO 을 포함하는 결합층을 추가로 포함한다. 바람직하게는, 결합층은 HTCVD 디포짓된다. 결합층은 TiCN 층과 α-Al2O3 층 사이의 접착력을 강화시키기 위한 것이다. 결합층은 α-Al2O3 층의 디포지션 전에 바람직하게는 산화된다. 상기 결합층의 두께는 바람직하게는 0.5 ~ 2 ㎛, 가장 바람직하게는 1 ~ 2 ㎛ 이다.The coating further comprises a bonding layer comprising TiN, TiCN, TiCNO and/or TiCO or a combination thereof, preferably TiCN and TiCNO, located on the outermost side of the TiCN layer and adjacent to the α-Al 2 O 3 layer . Preferably, the bonding layer is HTCVD deposited. The bonding layer is for strengthening the adhesion between the TiCN layer and the α-Al 2 O 3 layer. The bonding layer is preferably oxidized prior to deposition of the α-Al 2 O 3 layer. The thickness of the bonding layer is preferably 0.5 to 2 μm, most preferably 1 to 2 μm.

본 발명의 일 실시형태에서, α-Al2O3 층과 기재 사이에 위치된 TiCN 층은 Harris 공식 (1) 에 따라 규정된 CuKα방사선 및 θ-2θ 스캔을 사용하여 X-선 회절에 의해 측정된 바와 같은 조직 계수 TC(hkl) 를 나타내고, 여기에서 I(hkl) 는 (hkl) 반사의 측정된 강도 (적분 면적) 이고, I0(hkl) 는 ICDD's PDF-card No. 42-1489 에 따른 표준 강도이고, n 은 반사의 개수이고, 연산에 사용된 반사는 (1 1 1), (2 0 0), (2 2 0), (3 1 1), (3 3 1), (4 2 0), (4 2 2) 및 (5 1 1) 이고, TC(2 2 0) 은 ≤ 0.5, 바람직하게는 ≤ 0.3, 더 바람직하게는 ≤ 0.2, 가장 바람직하게는 ≤ 0.1 이다. (2 2 0) 으로부터 낮은 강도는 이것이 후속 α-Al2O3 층의 강한 <0 0 1> 조직을 촉진시키는 것으로 보인다는 점에서 유리한 것으로 나타났다. 낮은 TC(2 2 0) 을 달성하는 일 방법은 비교적 높은 레벨로 MTCVD TiCN 디포지션의 초기 부분에서, 바람직하게는 시작 시에 TiCl4/CH3CN 의 체적 비율을 조정하는 것이다.In one embodiment of the present invention, the TiCN layer positioned between the α-Al 2 O 3 layer and the substrate is measured by X-ray diffraction using CuKα radiation and θ-2θ scans defined according to Harris formula (1). denote the tissue coefficient TC(hkl) as defined, where I(hkl) is the measured intensity (integral area) of the (hkl) reflection, and I 0 (hkl) is the ICDD's PDF-card No. standard intensity according to 42-1489, n is the number of reflections, and the reflections used in the calculation are (1 1 1), (2 0 0), (2 2 0), (3 1 1), (3 3 1 ), (4 2 0), (4 2 2) and (5 1 1), TC(2 2 0) is ≤ 0.5, preferably ≤ 0.3, more preferably ≤ 0.2, most preferably ≤ 0.1 to be. The low intensity from (2 2 0) was shown to be advantageous in that it appears to promote strong <0 0 1> organization of the subsequent α-Al 2 O 3 layer. One way to achieve low TC(2 2 0) is to adjust the volume ratio of TiCl 4 /CH 3 CN at the beginning, preferably at the beginning, of the MTCVD TiCN deposition to a relatively high level.

본 발명의 일 실시형태에서, TiCN 층은 TC(4 2 2) ≥ 3, 바람직하게는 ≥ 3.5 를 나타낸다. 본 발명의 일 실시형태에서, TiCN 층은 TC(3 1 1) + TC(4 2 2) ≥ 4, 바람직하게는 ≥ 5, 더 바람직하게는 ≥ 6, 가장 바람직하게는 ≥ 7 을 나타낸다. 이러한 TC 값들은 Harris 공식 (1), ICDD's PDF-card no 42-1489 및 반사 (1 1 1), (2 0 0), (2 2 0), (3 1 1), (3 3 1), (4 2 0), (4 2 2) 및 (5 1 1) 을 사용하여 계산된다.In one embodiment of the invention, the TiCN layer exhibits TC(4 2 2) ≥ 3, preferably ≥ 3.5. In one embodiment of the present invention, the TiCN layer exhibits TC(3 1 1) + TC(4 2 2) ≥ 4, preferably ≥ 5, more preferably ≥ 6, most preferably ≥ 7. These TC values are derived from Harris formula (1), ICDD's PDF-card no 42-1489 and reflections (1 1 1), (2 0 0), (2 2 0), (3 1 1), (3 3 1), It is calculated using (4 2 0), (4 2 2) and (5 1 1).

본 발명의 일 실시형태에서, 코팅된 절삭 공구는 코팅된 절삭 공구들의 기술 분야에서 통상적인 후처리, 예컨대 블라스팅, 브러싱 등을 받게 된다.In one embodiment of the invention, the coated cutting tool is subjected to post-treatments customary in the art of coated cutting tools, such as blasting, brushing, etc.

절삭 공구는 본원에서 인서트, 바람직하게는 선삭용 인서트를 의미한다.A cutting tool means here an insert, preferably an insert for turning.

코팅된 절삭 공구 인서트는 적합하게는 강, 주철 또는 스테인리스 강을 선삭하기 위한 선삭용 인서트이다.The coated cutting tool insert is suitably a turning insert for turning steel, cast iron or stainless steel.

도 1 은 누적 상대 면적 (y-축) 이 입자 면적 (x-축) 에 대해 플로팅되는 누적 플롯을 도시한다.1 shows a cumulative plot in which cumulative relative area (y-axis) is plotted against particle area (x-axis).

실시예 1Example 1

초경합금 기재들은 우선 에탄올 및 물 (9 wt% 의 물) 의 밀링액에서 (Ta,Nb)C, (Ti,W)C 및 Ti(C,N) 와 함께 재순환된 초경합금 재료 (PRZ) 를 예비 밀링함으로써 제조되었다. 분말과 밀링액 사이의 비율은 슬러리가 밀링 챔버와 홀딩 탱크 사이에서 재순환되는 수평 교반 밀인 Netzsch 의 LMZ10 이라 불리는 교반 밀에서 232 kg 의 분말/80 L 의 밀링액이였다. 슬러리는 650 rpm 에서 30 kWh 의 축적 에너지에 대해 밀링되었다.Cemented carbide substrates are first pre-milled with recycled cemented carbide material (PRZ) with (Ta,Nb)C, (Ti,W)C and Ti(C,N) in a milling solution of ethanol and water (9 wt% of water) was manufactured by The ratio between powder and milling liquid was 232 kg of powder/80 L of milling liquid in a stirred mill called LMZ10 from Netzsch, a horizontal stirred mill in which the slurry is recirculated between the milling chamber and the holding tank. The slurry was milled at 650 rpm for an accumulated energy of 30 kWh.

PRZ, 즉 재순환 재료의 양은 총 분말 중량의 20 wt% 이다. 표 2 에서, 사용된 PRZ 에 대한 wt% 의 조성, 배치 번호 828 이 나타내어 진다. 나머지 원료는 표 1 의 조성이 얻어지도록 그러한 양으로 첨가된다.PRZ, ie the amount of recycled material, is 20 wt % of the total powder weight. In Table 2, the composition in wt% for the PRZ used, batch number 828 is shown. The remaining raw materials are added in such an amount so that the composition of Table 1 is obtained.

예비 밀링 단계 후에, 800 kg 의 분말/160 L 의 밀링액이 되도록, WC, Co 분말 및 PEG (폴리 에틸렌 글리콜) 이 슬러리에 첨가되었고 또한 밀링액이 슬러리에 첨가되었고, 그런 다음 모든 분말들이 650 rpm 에서 90 kWh 의 축적 에너지에 대해 함께 밀링되었다.After the pre-milling step, WC, Co powder and PEG (polyethylene glycol) were added to the slurry so as to be 800 kg of powder/160 L of milling liquid, and also the milling liquid was added to the slurry, and then all the powders were stirred at 650 rpm were milled together for an accumulated energy of 90 kWh.

PEG 의 양은 총 건조 분말 중량의 2 wt% 였다 (PEG 는 총 건조 분말 중량에 포함되지 않음).The amount of PEG was 2 wt % of the total dry powder weight (PEG not included in the total dry powder weight).

WC 분말은 Wolfram Bergbau und Hutten AG 에서 구입한 HTWC040 이라 불리는 고온 침탄된 WC 였다. ASTM 밀링 후 평균 입자 크기 (FSSS) 는 3.9 ㎛ 였다.The WC powder was hot carburized WC called HTWC040 purchased from Wolfram Bergbau und Hutten AG. The mean particle size (FSSS) after ASTM milling was 3.9 μm.

그런 다음 슬러리는 응집체들로 분무 건조되었고, 그런 다음 응집체들은 그린 보디들을 형성하기 위해 Fette 로부터의 유압 프레스에서 가압 작업을 받게 된다.The slurry was then spray dried into agglomerates, which were then subjected to a pressing operation in a hydraulic press from a fette to form green bodies.

그런 다음 그린 보디들은 우선 최대 450 ℃ 에서 H2 에서 탈랍 (dewaxing) 을 수행하고, 최대 1350 ℃ 로 진공 가열함으로써 소결되었다. 그 후에, 유동하는 20 mbar 의 Ar 및 20 mbar 의 CO 의 보호 분위기가 도입되고, 그런 다음 1 시간 동안 1450 ℃ 에서 온도를 유지시킨다.The green bodies were then sintered by first performing dewaxing in H 2 at a maximum of 450 °C and vacuum heating to a maximum of 1350 °C. After that, a protective atmosphere of flowing 20 mbar of Ar and 20 mbar of CO is introduced, and then the temperature is maintained at 1450° C. for 1 hour.

달성된 초경합금은 이후에 본 발명 1 으로 표시된다.The obtained cemented carbide is hereinafter referred to as Invention 1.

비교를 위해, 기재는 우선 11 시간 동안 종래의 볼 밀에서 모든 원료 분말들을 밀링함으로써 초경합금 기재의 제조에 의해 제조되었고, 즉 예비 밀링은 수행되지 않았다.For comparison, the substrate was first prepared by the preparation of the cemented carbide substrate by milling all the raw powders in a conventional ball mill for 11 hours, ie, no pre-milling was performed.

원료들은 본 발명 3 와 동일하고, 다른 PRZ 배치 (배치 757) 의 총 분말 중량의 15 wt% 가 사용되었고 (표 2 참조), 7.0 ㎛ 의 ASTM-밀링 후에 평균 입자 크기 (FSSS) 를 갖는 종래의 WC (고온 침탄되지 않음) 이 사용되었다는 차이가 있다. 다른 원료들의 양은 표 1 에 따른 조성이 달성되도록 그러한 양으로 첨가된다.The raw materials were the same as in Inventive 3, and 15 wt% of the total powder weight of the other PRZ batch (batch 757) was used (see Table 2), and a conventional having an average particle size (FSSS) after ASTM-milling of 7.0 μm. The difference is that WC (not high temperature carburizing) was used. Amounts of other raw materials are added in such amounts so that a composition according to Table 1 is achieved.

달성된 초경합금은 이후에 비교예 1 으로 표시된다.The obtained cemented carbide is hereinafter referred to as Comparative Example 1.

[표 1][Table 1]

Figure 112019083703555-pct00009
Figure 112019083703555-pct00009

[표 2][Table 2]

Figure 112019083703555-pct00010
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PRZ-분말 (최대 100%) 의 나머지는 미량의 Fe, Ni 및 Al 이다.The remainder of the PRZ-powder (up to 100%) is traces of Fe, Ni and Al.

그런 다음 슬러리는 응집체들로 분무 건조되었고, 그런 다음 응집체들은 그린 보디들을 형성하기 위해 Fette 로부터의 유압 프레스에서 가압 작업을 받게 된다.The slurry was then spray dried into agglomerates, which were then subjected to a pressing operation in a hydraulic press from a fette to form green bodies.

달성된 재료들, 즉 본 발명 1 및 비교예 1 모두는 각각 22 및 23 ㎛ 의 두께로 감마상이 고갈된 바인더상 풍부 표면 구역을 갖는다.The materials achieved, i.e., Inventive 1 and Comparative Example 1, both had gamma-phase-depleted binder phase-rich surface regions with thicknesses of 22 and 23 μm, respectively.

그런 다음 초경합금 기재들에는 코팅이 제공되었다. 우선, 초경합금 기재들은 885 ℃ 에서 TiCl4, CH3CN, N2, HCl 및 H2 를 사용하는 잘 공지된 MTCVD 기술을 사용함으로써 대략 0.4 ㎛ 의 얇은 TiN-층으로 코팅되었고, 그런 다음 대략 7 ㎛ 의 TiCN 층으로 코팅되었다. TiCN 층의 MTCVD 디포지션의 초기 부분에서 TiCl4/CH3CN 의 체적 비율은 6.6 이였고, 3.7 의 TiCl4/CH3CN 의 비율을 사용하는 주기가 이어졌다. TiN 및 TiCN 디포지션의 세부 사항은 표 3 에 제시되어 있다.The cemented carbide substrates were then provided with a coating. First, cemented carbide substrates were coated with a thin TiN-layer of approximately 0.4 μm by using the well-known MTCVD technique using TiCl 4 , CH 3 CN, N 2 , HCl and H 2 at 885° C., then approximately 7 μm was coated with a TiCN layer of In the initial part of the MTCVD deposition of the TiCN layer, the volume ratio of TiCl 4 /CH 3 CN was 6.6, followed by a cycle using a ratio of TiCl 4 /CH 3 CN of 3.7. Details of TiN and TiCN depositions are given in Table 3.

[표 3] (TiN 및 TiCN 의 MTCVD) [Table 3] ( MTCVD of TiN and TiCN)

Figure 112019083703555-pct00011
Figure 112019083703555-pct00011

MTCVD TiCN 층의 상부에는, 4 개의 별개의 반응 스텝들로 이루어진 프로세스에 의해 1000 ℃ 에서 디포짓된 1 ~ 2 ㎛ 두께의 결합층이 있었다. 우선, HTCVD TiCN 스텝은 400 mbar 에서 TiCl4, CH4, N2, HCl 및 H2 를 사용하고, 그런 다음 제 2 스텝 (TiCNO-1) 은 70 mbar 에서 TiCl4, CH3CN, CO, N2 및 H2 를 사용하고, 그런 다음 제 3 스텝 (TiCNO-2) 은 70 mbar 에서 TiCl4, CH3CN, CO, N2 및 H2 를 사용하고, 및 마지막으로 제 4 스텝 (TiCNO-3) 은 70 mbar 에서 TiCl4, CO, N2 및 H2 를 사용한다. 제 3 디포지션 단계 및 제 4 디포지션 단계 동안, 가스 중 일부가 표 4 에 제시된 제 1 시작 레벨 및 제 2 정지 레벨에 의해 표시된 바와 같이 연속적으로 변화되었다. 후속 Al2O3 핵생성의 시작 전에, 결합층은 CO2, CO, N2 및 H2 의 혼합물에서 4 분 동안 산화되었다. 결합층 디포지션의 세부 사항은 표 4 에 제시되어 있다.On top of the MTCVD TiCN layer, there was a 1-2 μm thick bonding layer deposited at 1000° C. by a process consisting of 4 separate reaction steps. First, the HTCVD TiCN step uses TiCl 4 , CH 4 , N 2 , HCl and H 2 at 400 mbar, then the second step (TiCNO-1) uses TiCl 4 , CH 3 CN, CO, N at 70 mbar 2 and H 2 , then the third step (TiCNO-2) uses TiCl 4 , CH 3 CN, CO, N 2 and H 2 at 70 mbar, and finally the fourth step (TiCNO-3 ) uses TiCl 4 , CO, N 2 and H 2 at 70 mbar. During the third and fourth deposition phases, some of the gases were continuously changed as indicated by the first starting level and the second stopping level presented in Table 4. Before the start of subsequent Al 2 O 3 nucleation, the bonding layer was oxidized in a mixture of CO 2 , CO, N 2 and H 2 for 4 min. Details of bonding layer deposition are given in Table 4.

[표 4] (결합층 디포지션) [Table 4] (bonding layer deposition)

Figure 112019083703555-pct00012
Figure 112019083703555-pct00012

결합층의 상부에 α-Al2O3 층이 디포짓되었다. 모든 α-Al2O3 층들이 1000 ℃ 및 55 mbar 에서 2 단계로 디포짓되었다. 제 1 단계는 1.2 vol-% 의 AlCl3, 4.7 vol-% 의 CO2, 1.8 vol-% 의 HCl 및 약 0.1 ㎛ 의 α-Al2O3 를 제공하는 나머지 H2 를 사용하고, α-Al2O3 층의 제 2 단계는 1.2 % 의 AlCl3, 4.7 % 의 CO2, 2.9 % 의 HCl, 0.58 % 의 H2S 및 나머지 H2 를 사용하여 디포짓되었다.A layer of α-Al 2 O 3 was deposited on top of the bonding layer. All α-Al 2 O 3 layers were deposited in two steps at 1000° C. and 55 mbar. The first step uses 1.2 vol-% AlCl 3 , 4.7 vol-% CO 2 , 1.8 vol-% HCl and the remainder H 2 to give about 0.1 μm of α-Al 2 O 3 , α-Al The second stage of the 2 O 3 layer was deposited using 1.2% AlCl 3 , 4.7% CO 2 , 2.9% HCl, 0.58% H 2 S and the remainder H 2 .

실시예 2 (조직 분석)Example 2 (tissue analysis)

XRD 는 전술한 바와 같은 방법에 따라 α-Al2O3 및 TiCN 의 TC 값들을 분석하는데 사용되었다. 층 두께는 1000x 배율에서 각 코팅의 단면을 연구함으로써 광 광학 현미경에서 분석되었고, 양자의 결합층과 초기 TiN 층은 표 5 에서 주어진 TiCN 층 두께 내에 포함된다. 표 5 에서, 상업용 등급 GC4235 인 기준 (비교예 1) 이 또한 포함된다. 본 발명 1 및 비교예 1 의 2 개의 샘플들은 각각 분석되었다. 결과는 표 5 에 제시된다.XRD was used to analyze the TC values of α-Al 2 O 3 and TiCN according to the method described above. The layer thickness was analyzed in light optical microscopy by studying the cross-section of each coating at 1000x magnification, and both the bonding layer and the initial TiN layer were contained within the TiCN layer thickness given in Table 5. In Table 5, a criterion (comparative example 1) which is commercial grade GC4235 is also included. Two samples of Invention 1 and Comparative Example 1 were respectively analyzed. The results are presented in Table 5.

[표 5] (두께 및 회절 데이터) [Table 5] (thickness and diffraction data)

Figure 112019083703555-pct00013
Figure 112019083703555-pct00013

본 발명에 따른 인서트들은 수중 알루미나 슬러리를 사용하여 습식 블라스팅 장비에서 레이크 면에 대해 블라스팅되었고, 절삭 인서트의 레이크 면과 블라스터 슬러리의 방향 사이의 각도는 약 90˚ 였다. 알루미나 그릿들은 F220 이였고, 건 (gun) 에 대한 슬러리의 압력은 1.8 bar 였고, 건에 대한 공기의 압력은 2.2 bar 였고, 면적 단위 당 블라스팅하기 위한 평균 시간은 4.4 초였고, 건 노즐로부터 인서트의 표면까지의 거리는 약 145 mm 였다. 블라스팅의 목적은 코팅 내 잔류 응력과 표면 거칠기에 영향을 주는 것, 그에 따라 후속 선삭 테스트에서 인서트들의 특성들을 향상시키는 것이다.Inserts according to the present invention were blasted against the rake face in wet blasting equipment using an alumina slurry in water, and the angle between the rake face of the cutting insert and the direction of the blaster slurry was about 90°. The alumina grits were F220, the pressure of the slurry to the gun was 1.8 bar, the pressure of the air to the gun was 2.2 bar, the average time to blast per unit area was 4.4 seconds, and the The distance to the surface was about 145 mm. The purpose of blasting is to influence the surface roughness and residual stresses in the coating, and thus to improve the properties of the inserts in subsequent turning tests.

실시예 3 (미세조직)Example 3 (microstructure)

기재의 미세조직은 또한 EBSD 에 의해 분석되었다. 60*100 ㎛ 의 4 개의 이미지들이 사용되었다.The microstructure of the substrate was also analyzed by EBSD. Four images of 60*100 μm were used.

인서트들은 다이아몬드 슬러리를 사용하는 기계적 폴리싱을 사용하여 벌크 재료의 단면을 1 ㎛ 의 다이아몬드 사이즈까지 폴리싱한 후 Hitachi E3500 에서 수행된 이온 폴리싱된 단계에 의해 전자 후방산란 회절 (EBSD) 특성화를 위해 준비되었다.Inserts were prepared for electron backscatter diffraction (EBSD) characterization by an ion polished step performed on a Hitachi E3500 after polishing the cross section of the bulk material to a diamond size of 1 μm using mechanical polishing using diamond slurry.

준비된 샘플은 샘플 홀더에 탑재되었고, 주사 전자 현미경 (SEM) 에 삽입되었다. 샘플들은 EBSD 검출기를 향해 그리고 수평면에 대해 70° 로 틸팅되었다. 특성화를 위해 사용된 SEM 은, "고전류" 모드를 적용하는 240 ㎛ 대물렌즈 구경을 사용하고 고진공 (HV) 모드로 작동되는 Zeiss Supra 55 VP 였다. 사용된 EBSD 검출기는 Oxford Instruments "AZtec" 소프트웨어 버전 3.1 을 사용하여 작동되는 Oxford Instruments Nordlys 검출기였다. 폴리싱된 표면에 집중 전자 빔을 적용하고 1000x600 ㎛ 의 측정 지점에 대해 0.1 ㎛ 의 스텝 크기를 사용하여 EBSD 데이터를 순차적으로 획득함으로써 EBSD 데이터가 획득되었다. 이러한 목적을 위해 EBSD 분석을 수행할 때, 이미지들의 개수는 EBSD 데이터가 얻어지는 총 면적이 적어도 12000 ㎛2 이도록 선택되어야 한다.The prepared sample was mounted on a sample holder and inserted into a scanning electron microscope (SEM). The samples were tilted towards the EBSD detector and at 70° relative to the horizontal plane. The SEM used for characterization was a Zeiss Supra 55 VP operating in high vacuum (HV) mode and using a 240 μm objective aperture applying “high current” mode. The EBSD detector used was an Oxford Instruments Nordlys detector operated using Oxford Instruments "AZtec" software version 3.1. EBSD data were obtained by applying a focused electron beam to the polished surface and sequentially acquiring the EBSD data using a step size of 0.1 μm for a measurement point of 1000×600 μm. When performing EBSD analysis for this purpose, the number of images should be chosen such that the total area from which EBSD data is obtained is at least 12000 μm 2 .

SEM 설정SEM Settings

가속 전압 20 kVAcceleration voltage 20 kV

구경 크기 240 ㎛Aperture size 240 μm

고전류 온 (On)High Current On

작동 거리 8.5 mm Working distance 8.5 mm

검출기 삽입 거리 171 mmDetector insertion distance 171 mm

Figure 112019083703555-pct00014
Figure 112019083703555-pct00014

참조 상들은 다음과 같았다:The reference phases were as follows:

WC (육방정), 59 리플렉터들, Acta Crystallogr., [ACCRA9], (1961), vol.14, pages 200-201 WC (hexagonal), 59 reflectors, Acta Crystallogr., [ACCRA9], (1961), vol.14, pages 200-201

Co (입방정), 68 리플렉터들, Z. Angew. Phys., [ZAPHAX], (1967), vol. 23, pages 245-249 Co (cubic), 68 reflectors, Z. Angew. Phys., [ZAPHAX], (1967), vol. 23, pages 245-249

Co (육방정), 50 리플렉터들, Fiz. Met. Metalloved, [FMMTAK], (1968), vol. 26, pages 140-143 Co (hexagonal), 50 reflectors, Fiz. Met. Metalloved, [FMMTAK], (1968), vol. 26, pages 140-143

입방정 탄화물상, TiC, 77 리플렉터들, J. Matter. Chem. [JMACEP], (2001), vol. 11, pages 2335-2339Cubic carbide phase, TiC, 77 reflectors, J. Matter. Chem. [JMACEP], (2001), vol. 11, pages 2335-2339

이러한 초경합금들이 2 개의 입방정 상들, 즉 Co 바인더상 및 감마상을 포함하므로, 상들이 올바르게 식별되고, 즉 인덱싱이 정확하도록 주의를 기울여야 한다. 이는 여러 방법으로 수행될 수 있고, 일 방법은, 동일 샘플에 대해, EDS 또는 후방산란 이미지를 수행하는 것이고, 이는 상들의 화학 조성에 의존하고, 따라서 비교를 위해 바인더상과 감마상 사이의 차이를 보여준다.Since these cemented carbides contain two cubic phases, a Co binder phase and a gamma phase, care must be taken to ensure that the phases are correctly identified, ie the indexing is correct. This can be done in several ways, one method is to perform an EDS or backscatter image, on the same sample, which depends on the chemical composition of the phases and therefore the difference between the binder phase and the gamma phase for comparison. show

EBSD 데이터는 Oxford Instruments 에 의해 AZtec 에서 수집되었고 또한 HKL Channel5 (HKL Tango version 5.11.20201.0) 에서 분석되었다. 노이즈 감소는 와일드 스파이크를 제거하고 제로 솔루션 엑스트라폴레이션 레벨 5 (zero solution extrapolation level 5) 를 수행함으로써 수행되었다. WC 결정립들은 5 도의 임계 방향 이탈 (misorientation) 각도로 결정되었다. 감마상 결정립들 사이의 결정립계들은 오로지 감마상 입자들이 분석되도록 제거되었다. 이는 Channel 5 에서 90 도로 임계 방향 이탈을 설정함으로써 수행되었다. 4 픽셀 미만의 모든 입자들 (0.04 ㎛2) 은 노이즈로서 제거되었다.EBSD data were collected at AZtec by Oxford Instruments and also analyzed on HKL Channel5 (HKL Tango version 5.11.20201.0). Noise reduction was performed by removing wild spikes and performing zero solution extrapolation level 5. The WC grains were determined with a critical misorientation angle of 5 degrees. The grain boundaries between the gamma-phase grains were removed so that only the gamma-phase grains were analyzed. This was done by setting the critical direction deviation to 90 degrees on Channel 5. All particles less than 4 pixels (0.04 μm 2 ) were removed as noise.

감마상의 분포는 EBSD 분석에 의해 결정되고, 또한 값 N (㎛2) 에 의해 주어진다.The distribution of the gamma phase is determined by EBSD analysis and is also given by the value N (μm 2 ).

Figure 112019083703555-pct00015
Figure 112019083703555-pct00015

EBSD 분석으로부터 감마상 입자들의 누적 상대 입자 면적 (y-축) 은 입자 면적 (x-축) 에 대해 플로팅된다. 누적 플롯으로부터, 0.90 의 누적 상대 면적 (y-축) 에서의 입자 면적 (x-축), 즉 값 X (㎛2) 가 달성된다. 값이 0.90 에 정확하게 일치하지 않으면, 0.90 미만 및 초과의 2 개의 값들의 평균이 X 로서 사용된다.The cumulative relative particle area (y-axis) of the gamma phase particles from the EBSD analysis is plotted against the particle area (x-axis). From the cumulative plot, the particle area (x-axis) at a cumulative relative area (y-axis) of 0.90, ie the value X (μm 2 ) is achieved. If the value does not exactly match 0.90, the average of the two values less than and greater than 0.90 is used as X.

값 Y 는 초경합금에서 상이한 양의 감마상을 서로 연관시키기 위한 보정 계수이다. Y 는 입방정 탄화물과 입방정 탄질화물 (감마상) 의 면적 분율을 탄화물과 탄질화물, 즉 WC (육방정) 과 감마상 (입방정) 의 총 양으로 나눈 비율이다. 면적 분율들은 EBSD 데이터로부터 얻어진다: The value Y is a correction factor for correlating different amounts of gamma phase in cemented carbide. Y is a ratio obtained by dividing the area fraction of cubic carbide and cubic carbonitride (gamma phase) by the total amount of carbide and carbonitride, that is, WC (hexagonal crystal) and gamma phase (cubic crystal). Area fractions are obtained from EBSD data:

Figure 112019083703555-pct00016
Figure 112019083703555-pct00016

비정상 WC 결정립들의 면적 분율은, WC 결정립들의 총 면적과 관련하여, WC 결정립들에 대한 평균 면적 (αWCav) 의 10 배보다 더 큰 WC 결정립들의 면적 분율로서 규정된다.The area fraction of abnormal WC grains is defined as the area fraction of WC grains that, with respect to the total area of the WC grains, is greater than ten times the average area for WC grains (αWC av ).

Figure 112019083703555-pct00017
Figure 112019083703555-pct00017

비교를 위해, 강의 선삭에 적합한 상업용 등급 GC4235 이 동일한 방식으로 또한 분석되었다. GC4235 는 본원에서 비교예 1 로 불린다.For comparison, commercial grade GC4235 suitable for turning steel was also analyzed in the same way. GC4235 is referred to herein as Comparative Example 1.

측정 결과는 이하의 표 6 에서 확인할 수 있다.The measurement results can be confirmed in Table 6 below.

표 6 에서, 보자력 (Coercivity; Hc) 및 중량 특정 자기 포화 자력 (weight specific magnetic saturation magnetism) 이 주어진다.In Table 6, the coercivity (Hc) and weight specific magnetic saturation magnetism are given.

보자력 및 중량 특정 자기 포화 자력은 Foerster Koerzimat CS1.096 을 사용하여 측정되었다.Coercive force and weight specific magnetic saturation magnetic force were measured using a Foerster Koerzimat CS1.096.

[표 6][Table 6]

Figure 112019083703555-pct00018
Figure 112019083703555-pct00018

실시예 4 (작동 실시예)Example 4 (Operating Example)

실시예 1 및 본 발명 1 에 따라 제조된 인서트는 건식 조건 하의 면삭 작업 (facing operation) 에서 비교예 1 과 함께 테스트되었다. 작업편 재료는 이하의 조건들을 갖는 강 SS2541 이였다:Example 1 and inserts made according to invention 1 were tested together with comparative example 1 in a facing operation under dry conditions. The workpiece material was steel SS2541 with the following conditions:

Vc 160 m/분Vc 160 m/min

f 0.3 mm/revf 0.3 mm/rev

ap 2 mma p 2 mm

공구 수명 기준: 메인 절삭 엣지에서 Vb≥0.5 mmBased on tool life: Vb≥0.5 mm at main cutting edge

결과는 표 7 에 제시되어 있다.The results are presented in Table 7.

[표 7][Table 7]

Figure 112019083703555-pct00019
Figure 112019083703555-pct00019

표 7 에서 알 수 있는 바와 같이, 본 발명에 따른 인서트는 기준에 비해 절삭 엣지의 소성 변형에 대한 향상된 저항을 나타낸다.As can be seen from Table 7, the insert according to the present invention exhibits improved resistance to plastic deformation of the cutting edge compared to the reference.

실시예 5 (작동 실시예)Example 5 (Operating Example)

실시예 1 및 본 발명 1 에 개시된 인서트는 습식 조건 하의 선삭 작업에서 비교예 1 과 함께 테스트되었다. 작업편은 회전 당 2 회의 간헐적 오케이션 (occasions) 이 있도록 구성된다. 작업편은 이하의 조건들을 갖는 탄소강 SS1312 이였다.The inserts disclosed in Example 1 and Inventive 1 were tested together with Comparative Example 1 in a turning operation under wet conditions. The workpiece is configured to have two intermittent occasions per revolution. The work piece was carbon steel SS1312 having the following conditions.

Vc 50 m/분Vc 50 m/min

f 0.6 mm/revf 0.6 mm/rev

ap 1.5 mma p 1.5 mm

공구 수명 기준: 임의의 다른 주요 마모가 없는 파괴Based on tool life: destruction without any other major wear

결과는 이하의 표 8 에 제시되어 있고, 공구 수명은 8 회의 테스트들의 평균이다.The results are presented in Table 8 below, and the tool life is an average of 8 tests.

[표 8][Table 8]

Figure 112019083703555-pct00020
Figure 112019083703555-pct00020

표 8 에서 볼 수 있는 바와 같이, 본 발명에 따른 인서트는 기준에 비해 향상된 인성 거동을 나타낸다.As can be seen from Table 8, the insert according to the present invention exhibits improved toughness behavior compared to the reference.

Claims (11)

초경합금 기재 및 코팅을 포함하는 코팅된 절삭 공구로서,
상기 초경합금 기재는 WC, 코발트 바인더상 및 감마상을 포함하고, 상기 초경합금 기재는 감마상이 고갈된 바인더상 풍부 표면 구역을 포함하고, 상기 표면 구역의 두께는 14 ~ 26 ㎛ 이고, 또한 초경합금은 N 이 80 ㎛2 미만이도록 잘 분산된 감마상을 갖고,
Figure 112022041341618-pct00030

이고, X (㎛2) 는 EBSD 분석으로부터 얻어진 누적 플롯에서 0.90 의 누적 상대 입자 면적 (y-축) 에서의 입자 면적 (x-축) 이고, 감마상 입자들의 누적 상대 입자 면적 (y-축) 은 입자 면적 (x-축) 에 대해 플로팅되고 (plotted), 상기 누적 상대 입자 면적 (y-축) 은 전체 입자 면적에 대한 상기 입자 면적 (x-축) 까지의 누적 입자 면적의 비율을 의미하며, Y 는 보정 계수
Figure 112022041341618-pct00031

이고, 면적 분율은 EBSD 분석으로부터 얻어지고,
Figure 112022041341618-pct00032

으로서 규정된 비정상 WC 결정립들의 EBSD 분석으로부터 얻어진 면적 분율은 0 ~ 0.03 이고,
상기 코팅은 α-Al2O3 층을 포함하고, 상기 기재와 상기 α-Al2O3 층 사이에서 코팅은 TiCN 층을 포함하고, 상기 α-Al2O3 층은 Harris 공식
Figure 112022041341618-pct00033

에 따라 규정된 CuKα방사선 및 θ-2θ 스캔을 사용하여 X-선 회절에 의해 측정된 바와 같은 조직 계수 TC(hkl) 를 나타내고,
여기에서 I(hkl) 는 (hkl) 반사의 측정된 강도 (적분 면적) 이고, I0(hkl) 는 ICDD's PDF-card No. 00-010-0173 에 따른 표준 강도이고, n 은 연산에 사용된 반사의 개수이고, 사용된 (hkl) 반사는 (1 0 4), (1 1 0), (1 1 3), (0 2 4), (1 1 6), (2 1 4), (3 0 0) 및 (0 0 12) 이고,
TC(0 0 12) ≥ 7.2, 또는 ≥ 7.4, 또는 ≥ 7.5, 또는 ≥ 7.6, 또는 ≥ 7.7 이고,
I(0 0 12)/I(0 1 14) 의 비는 ≥ 1, 또는 ≥ 1.5, 또는 ≥ 1.7, 또는 ≥ 2 인, 코팅된 절삭 공구.
A coated cutting tool comprising a cemented carbide substrate and a coating, comprising:
The cemented carbide substrate includes WC, a cobalt binder phase and a gamma phase, the cemented carbide substrate includes a binder phase rich surface region depleted of gamma phase, the thickness of the surface region is 14 to 26 μm, and the cemented carbide substrate has N has a well-dispersed gamma phase to be less than 80 μm 2 ,
Figure 112022041341618-pct00030

where X (μm 2 ) is the particle area (x-axis) at a cumulative relative particle area (y-axis) of 0.90 in the cumulative plot obtained from EBSD analysis, and the cumulative relative particle area (y-axis) of gamma phase particles is plotted against the particle area (x-axis), the cumulative relative particle area (y-axis) means the ratio of the cumulative particle area to the particle area (x-axis) to the total particle area, , Y is the correction factor
Figure 112022041341618-pct00031

, and the area fraction is obtained from EBSD analysis,
Figure 112022041341618-pct00032

The area fraction obtained from EBSD analysis of abnormal WC grains defined as 0 ~ 0.03,
the coating comprises a layer of α-Al 2 O 3 , the coating between the substrate and the layer of α-Al 2 O 3 includes a layer of TiCN, and the layer of α-Al 2 O 3 has a Harris formula
Figure 112022041341618-pct00033

Denote the tissue modulus TC(hkl) as measured by X-ray diffraction using CuKα radiation and θ-2θ scans defined according to
where I(hkl) is the measured intensity (integral area) of the (hkl) reflection, and I 0 (hkl) is the ICDD's PDF-card No. standard intensity according to 00-010-0173, n is the number of reflections used in the calculation, (hkl) reflections used are (1 0 4), (1 1 0), (1 1 3), (0 2 4), (1 1 6), (2 1 4), (3 0 0) and (0 0 12),
TC(0 0 12) ≥ 7.2, or ≥ 7.4, or ≥ 7.5, or ≥ 7.6, or ≥ 7.7;
The coated cutting tool, wherein the ratio of I(0 0 12)/I(0 1 14) is ≥ 1, or ≥ 1.5, or ≥ 1.7, or ≥ 2.
제 1 항에 있어서,
상기 감마상의 양은 3 ~ 25 vol% 인, 코팅된 절삭 공구.
The method of claim 1,
wherein the amount of the gamma phase is 3-25 vol%.
제 1 항에 있어서,
상기 비정상 WC 결정립들의 면적 분율은 0 ~ 0.025 인, 코팅된 절삭 공구.
The method of claim 1,
The coated cutting tool, wherein the area fraction of the abnormal WC grains is 0 to 0.025.
제 1 항에 있어서,
감마 상 분포 (N) 는 15 ~ 75 ㎛2 인, 코팅된 절삭 공구.
The method of claim 1,
The gamma phase distribution (N) is between 15 and 75 μm 2 , the coated cutting tool.
제 1 항 내지 제 4 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 TiCN 층의 두께는 4 ~ 20 ㎛ 인, 코팅된 절삭 공구.
5. The method according to any one of claims 1 to 4,
The thickness of the TiCN layer is 4-20 μm, the coated cutting tool.
제 1 항 내지 제 4 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 α-Al2O3 층의 두께는 2 ~ 20 ㎛ 인, 코팅된 절삭 공구.
5. The method according to any one of claims 1 to 4,
The α-Al 2 O 3 layer has a thickness of 2 to 20 μm, a coated cutting tool.
제 1 항 내지 제 4 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 코팅은, 상기 TiCN 층의 최외측에 위치되고 상기 α-Al2O3 층에 인접한, TiN, TiCN, TiCNO, TiCO 또는 이들의 조합을 포함하는 결합층을 더 포함하는, 코팅된 절삭 공구.
5. The method according to any one of claims 1 to 4,
wherein the coating further comprises a bonding layer comprising TiN, TiCN, TiCNO, TiCO, or a combination thereof, located on an outermost side of the TiCN layer and adjacent the α-Al 2 O 3 layer.
제 7 항에 있어서,
상기 결합층의 두께는 0.5 ~ 2 ㎛ 인, 코팅된 절삭 공구.
8. The method of claim 7,
The thickness of the bonding layer is 0.5 ~ 2 ㎛, coated cutting tool.
제 1 항 내지 제 4 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 α-Al2O3 층과 상기 기재 사이에 위치된 상기 TiCN 층은 Harris 공식에 따라 규정된 CuKα 방사선 및 θ-2θ 스캔을 사용하여 X-선 회절에 의해 측정된 바와 같은 조직 계수 TC(hkl) 를 나타내고, 여기에서 I(hkl) 는 (hkl) 반사의 측정된 강도 (적분 면적) 이고, I0(hkl) 는 ICDD's PDF-card No. 42-1489 에 따른 표준 강도이고, n 은 반사의 개수이고, 연산에 사용된 반사는 (1 1 1), (2 0 0), (2 2 0), (3 1 1), (3 3 1), (4 2 0), (4 2 2) 및 (5 1 1) 이고,
TC(2 2 0) 는 ≤ 0.5, 또는 ≤ 0.3, 또는 ≤ 0.2, 또는 ≤ 0.1 인 것을 특징으로 하는, 코팅된 절삭 공구.
5. The method according to any one of claims 1 to 4,
The TiCN layer positioned between the α-Al 2 O 3 layer and the substrate had a tissue modulus TC (hkl) as measured by X-ray diffraction using CuKα radiation and θ-2θ scans defined according to the Harris formula. ), where I(hkl) is the measured intensity (integral area) of the (hkl) reflection, and I 0 (hkl) is the ICDD's PDF-card No. standard intensity according to 42-1489, n is the number of reflections, and the reflections used in the calculation are (1 1 1), (2 0 0), (2 2 0), (3 1 1), (3 3 1 ), (4 2 0), (4 2 2) and (5 1 1),
TC(2 2 0) is ≤ 0.5, or ≤ 0.3, or ≤ 0.2, or ≤ 0.1.
제 9 항에 있어서,
상기 TiCN 층은 TC(4 2 2) ≥ 3, 또는 ≥ 3.5 를 나타내는, 코팅된 절삭 공구.
10. The method of claim 9,
wherein the TiCN layer exhibits TC(4 2 2) ≥ 3, or ≥ 3.5.
제 9 항에 있어서,
상기 TiCN 층의 TC(3 1 1) + TC(4 2 2) 는 ≥ 4, 또는 ≥ 5, 또는 ≥ 6, 또는 ≥ 7 인, 코팅된 절삭 공구.
10. The method of claim 9,
TC(3 1 1) + TC(4 2 2) of the TiCN layer is ≥ 4, or ≥ 5, or ≥ 6, or ≥ 7;
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