KR102452347B1 - Induction Heater - Google Patents
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Abstract
Description
본 발명은 인덕션 히터에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 방폭형 제품으로 반도체공정에서 사용되는 가스캐비닛의 가스보틀을 일정한 온도로 유지시켜줄 수 있도록 구현한 인덕션 히터에 관한 것이다.The present invention relates to an induction heater, and more particularly, to an induction heater implemented to maintain a gas bottle of a gas cabinet used in a semiconductor process at a constant temperature as an explosion-proof product.
일반적으로 식각(Etching) 또는 증착(CVD) 등의 반도체 제조공정에서는 공정에 필요한 공정가스를 사용하게 되는데, 일례로 증착 공정에 사용되는 공정가스로는 NH3 가스가 , 에칭 공정에 사용되는 공정가스로는 CL2 가스가 사용된다. 이러한 공정가스는 별도의 가스 보틀(Gas-Bottle)이라는 용기속에 내장된 상태에서, 가스 보틀의 배출구에 연결된 가스 이송라인을 통해 에칭 공정 또는 증착 공정이 진행되는 반도체 공정챔버로 공급되게 된다.In general, a semiconductor manufacturing process such as etching or deposition (CVD) uses a process gas necessary for the process. For example, NH3 gas is used for the deposition process, and CL2 gas is used for the etching process. gas is used. The process gas is supplied to a semiconductor process chamber in which an etching process or a deposition process is performed through a gas transfer line connected to an outlet of the gas bottle in a state inside a container called a separate gas bottle.
그런데, 전술한 공정 가스는 가스 보틀의 배출구와 가스 이송라인의 접속 부분을 통해 외부로 누설되는 경우가 종종 발생하게 되는데, 이러한 누설 가스는 인체에 유해한 성분이 많기 때문에 반도체 공장 내부로 확산되지 않도록 가스 보틀을 별도의 캐비넷의 내부에 배치하는 것이 일반적이다.However, the above-described process gas is often leaked to the outside through the connection portion between the outlet of the gas bottle and the gas transfer line. Since the leaked gas contains many components harmful to the human body, the gas is prevented from being diffused into the semiconductor factory. It is common to place the bottles inside separate cabinets.
기존의 인덕션 와류를 가스보틀에 직접 전달하지 않으므로 가스보틀의 손상을 주지 않는 다는 장점을 가지고 있으나, 기존 인덕션 히터 컨셉에 비해 열전달 효율성이 떨어진다는 단점을 가지고 있다.Since the existing induction vortex does not directly transmit to the gas bottle, it has the advantage of not damaging the gas bottle, but has a disadvantage in that the heat transfer efficiency is lower than that of the existing induction heater concept.
한편, 전술한 배경 기술은 발명자가 본 발명의 도출을 위해 보유하고 있었거나, 본 발명의 도출 과정에서 습득한 기술 정보로서, 반드시 본 발명의 출원 전에 일반 공중에게 공개된 공지기술이라 할 수는 없다.On the other hand, the above-mentioned background art is technical information that the inventor possessed for the derivation of the present invention or acquired in the process of derivation of the present invention, and it cannot be said that it is necessarily a known technique disclosed to the general public before the filing of the present invention. .
본 발명의 일측면은 방폭형 제품으로 반도체공정에서 사용되는 가스캐비닛의 가스보틀을 일정한 온도로 유지시켜줄 수 있도록 구현한 인덕션 히터를 제공한다.One aspect of the present invention provides an induction heater implemented to maintain a gas bottle of a gas cabinet used in a semiconductor process at a constant temperature as an explosion-proof product.
본 발명의 기술적 과제는 이상에서 언급한 기술적 과제로 제한되지 않으며, 언급되지 않은 또 다른 기술적 과제들은 아래의 기재로부터 당업자에게 명확하게 이해될 수 있을 것이다.The technical problems of the present invention are not limited to the technical problems mentioned above, and other technical problems not mentioned will be clearly understood by those skilled in the art from the following description.
본 발명의 일 실시예에 따른 인덕션 히터는, 히터 하우징; 방폭형 제품으로 반도체공정에서 사용되는 가스캐비닛의 가스보틀의 형상에 대응하여 아치형으로 둥글게 절곡 형성되어 상기 히터 하우징의 전단에 설치되는 폴리카보네이트판; 상기 폴리카보네이트판의 형상에 대응하여 아치형으로 둥글게 절곡 형성되어 상기 폴리카보네이트판의 전단에 설치되며, 자기장을 통한 와전류를 이용하여 열을 생성시키는 서스 열판; 상기 폴리카보네이트판을 따라 설치되며, 전기를 공급받아 상기 서스 열판의 와전류 발생을 위한 자기장을 발생시키는 인덕션 코일; 및 상기 서스 열판의 형상에 대응하여 아치형으로 둥글게 절곡 형성되어 상기 서스 열판의 전단에 설치되며, 가열된 상기 인덕션 코일로부터 열을 전달받아 전방에 이격 배치되는 가스보틀 방향으로 열을 방출하는 알루미늄 확산판;을 포함한다.An induction heater according to an embodiment of the present invention includes a heater housing; a polycarbonate plate bent in an arc shape to correspond to the shape of a gas bottle of a gas cabinet used in a semiconductor process as an explosion-proof product and installed at the front end of the heater housing; a suspension hot plate bent in an arcuate shape to correspond to the shape of the polycarbonate plate, installed at the front end of the polycarbonate plate, and generating heat by using an eddy current through a magnetic field; an induction coil installed along the polycarbonate plate and receiving electricity to generate a magnetic field for generating an eddy current of the suspension hot plate; and an aluminum diffusion plate that is bent in an arcuate shape corresponding to the shape of the sustain hot plate, is installed at the front end of the sustain hot plate, receives heat from the heated induction coil, and radiates heat in the direction of the gas bottle spaced apart in front. includes ;
일 실시예에서, 상기 서스 열판은, SUS 304 재질로 제작될 수 있다.In an embodiment, the suspension hot plate may be made of SUS 304 material.
일 실시예에서, 상기 알루미늄 확산판은, AL 3003 재질로 제작될 수 있다.In an embodiment, the aluminum diffusion plate may be made of AL 3003 material.
일 실시예에서, 본 발명의 다른 실시예에 따른 인덕션 히터는, 상기 알루미늄 확산판의 노출면을 청소하기 위한 히터 청소 장치;를 더 포함할 수 있다.In one embodiment, the induction heater according to another embodiment of the present invention, a heater cleaning device for cleaning the exposed surface of the aluminum diffusion plate; may further include.
일 실시예에서, 상기 히터 청소 장치는, 후단 상측에 상기 히터 하우징을 올려 놓기 위한 거치홈을 형성하는 히터 거치대; 상기 히터 거치대의 일측을 따라 설치되어 상기 히터 거치대의 일측을 따라 전후 방향으로 슬라이딩 이동하는 제1 슬라이딩부; 상기 제1 슬라이딩부와 대향하면서 상기 히터 거치대의 타측을 따라 설치되어 상기 히터 거치대의 타측을 따라 전후 방향으로 슬라이딩 이동하는 제2 슬라이딩부; 및 일측이 상기 제1 슬라이딩부에 설치되고, 타측이 상기 제2 슬라이딩부에 설치되며, 상기 제1 슬라이딩부와 상기 제2 슬라이딩부가 전후 방향으로 슬라이딩 이동함에 따라 함께 전후 방향으로 이동하면서 상기 알루미늄 확산판의 노출면에 밀착 후 회전하여 상기 알루미늄 확산판의 노출면에 부착되어 있는 이물질을 제거하는 회전 청소부;를 포함할 수 있다.In one embodiment, the heater cleaning device, a heater holder for forming a mounting groove for placing the heater housing on the upper rear end; a first sliding part installed along one side of the heater holder and slidingly moved in the front-rear direction along one side of the heater holder; a second sliding part facing the first sliding part and installed along the other side of the heater holder and slidingly moved in the front-rear direction along the other side of the heater holder; and one side is installed in the first sliding unit, and the other side is installed in the second sliding unit, and as the first sliding unit and the second sliding unit slide in the front-rear direction, the aluminum diffusion is moved in the front-rear direction together. It may include; a rotating cleaning unit that rotates after being in close contact with the exposed surface of the plate to remove foreign substances adhering to the exposed surface of the aluminum diffusion plate.
일 실시예에서, 상기 회전 청소부는, 원통 형태로 형성되며, 일측이 상기 제1 슬라이딩부에 설치되고, 타측이 상기 제2 슬라이딩부에 설치되는 회전 드럼; 및 상기 회전 드럼의 외측면을 따라 일정한 간격으로 다수 개가 이격 설치되며, 상기 회전 드럼이 회전함에 따라 함께 회전하면서 상기 알루미늄 확산판의 노출면에 부착되어 있는 이물질을 제거하는 다수 개의 청소 유닛;을 포함할 수 있다.In one embodiment, the rotary cleaning unit is formed in a cylindrical shape, one side is installed in the first sliding portion, the other side is installed in the second sliding portion rotary drum; and a plurality of cleaning units spaced apart from each other at regular intervals along the outer surface of the rotating drum, and rotating together as the rotating drum rotates to remove foreign substances attached to the exposed surface of the aluminum diffusion plate. can do.
일 실시예에서, 상기 청소 유닛은, 상기 회전 드럼의 외측면을 따라 좌우 길이 방향으로 연장 형성되는 안착홈; 상기 안착홈을 덮고 설치되는 커버; 상기 안착홈에 안착되되, 상부가 상기 커버를 따라 좌우 길이 방향으로 연장 형성되는 개구부를 통해 상기 커버의 상측으로 노출되는 중량 블록; 상기 중량 블록이 상기 안착홈의 바닥면에 안착될 수 있도록 상기 커버의 내부 공간의 상측면의 전단 및 후단에 각각 설치되어 상기 중량 블록의 하부 전단 및 후단을 하측 방향으로 밀착시켜 주는 블록 지지 스프링; 및 상기 알루미늄 확산판의 노출면에 부착되어 있는 이물질을 쓸어서 제거할 수 있도록 상기 중량 블록의 상측을 따라 설치되는 청소용 솔;을 포함할 수 있다.In one embodiment, the cleaning unit may include a seating groove extending in the left and right longitudinal directions along the outer surface of the rotating drum; a cover installed to cover the seating groove; a weight block seated in the seating groove, the upper portion of which is exposed to the upper side of the cover through an opening extending in the left and right longitudinal directions along the cover; block support springs respectively installed at the front and rear ends of the upper surface of the inner space of the cover so that the weight block can be seated on the bottom surface of the seating groove to closely contact the lower front and rear ends of the weight block in the downward direction; and a cleaning brush installed along the upper side of the weight block to sweep away foreign substances attached to the exposed surface of the aluminum diffusion plate.
일 실시예에서, 상기 중량 블록은, 상기 안착홈의 바닥면에 안착되되, 상기 회전 드럼의 회전 속도가 증가됨에 따라 원심력에 의해 상기 안착홈으로부터 상승되어 상기 청소용 솔에 의한 청소 범위를 확장시켜 줄 수 있다.In one embodiment, the weight block is seated on the bottom surface of the seating groove, and is raised from the seating groove by centrifugal force as the rotational speed of the rotating drum increases to expand the cleaning range by the cleaning brush. can
일 실시예에서, 상기 중량 블록은, 상기 안착홈에 안착될 수 있도록 상기 안착홈의 형상에 대응하는 평판 형태로 형성되는 안착부; 상기 커버의 개구부를 통해 상기 커버의 상측으로 노출되도록 상기 안착부의 상측으로 방향으로 연장 형성되는 기둥부; 및 상기 기둥부의 상측에 설치되며, 상측을 따라 상기 청소용 솔이 설치되는 노출부;를 포함할 수 있다.In one embodiment, the weight block may include a seating portion formed in a flat plate shape corresponding to the shape of the seating groove to be seated in the seating groove; a pillar portion extending upwardly of the seating portion so as to be exposed to the upper side of the cover through the opening of the cover; and an exposed portion that is installed on the upper side of the pillar, and on which the cleaning brush is installed along the upper side.
일 실시예에서, 상기 노출부는, 회전함에 따라 상기 알루미늄 확산판의 노출면과의 마찰을 회피할 수 있도록 상측으로 둥근 반원 형태로 형성될 수 있다.In an embodiment, the exposed portion may be formed in a semicircular shape that is rounded upward to avoid friction with the exposed surface of the aluminum diffusion plate as it rotates.
상술한 본 발명의 일측면에 따르면, 와류를 차단하고 열을 효율적으로 전달할 수 있을 뿐만 아니라, 열 전달 효율을 향상시키는 효과를 제공할 수 있다.According to the above-described aspect of the present invention, it is possible to provide an effect of improving heat transfer efficiency as well as blocking the vortex and efficiently transferring heat.
본 발명의 효과는 이상에서 언급한 효과들로 제한되지 않으며, 이하에서 설명할 내용으로부터 통상의 기술자에게 자명한 범위 내에서 다양한 효과들이 포함될 수 있다.The effects of the present invention are not limited to the above-mentioned effects, and various effects may be included within the range apparent to those skilled in the art from the description below.
도 1 내지 도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 인덕션 히터의 개략적인 구성이 도시된 도면들이다.
도 4는 본 발명의 다른 실시예에 따른 인덕션 히터의 개략적인 구성이 도시된 도면이다.
도 5는 도 4의 회전 청소부를 보여주는 도면이다.
도 6 및 도 7은 도 5의 청소 유닛을 보여주는 도면들이다.1 to 3 are diagrams showing a schematic configuration of an induction heater according to an embodiment of the present invention.
4 is a view showing a schematic configuration of an induction heater according to another embodiment of the present invention.
5 is a view showing the rotation cleaning unit of FIG.
6 and 7 are views showing the cleaning unit of FIG. 5 .
후술하는 본 발명에 대한 상세한 설명은, 본 발명이 실시될 수 있는 특정 실시예를 예시로서 도시하는 첨부 도면을 참조한다. 이들 실시예는 당업자가 본 발명을 실시할 수 있기에 충분하도록 상세히 설명된다. 본 발명의 다양한 실시예는 서로 다르지만 상호 배타적일 필요는 없음이 이해되어야 한다. 예를 들어, 여기에 기재되어 있는 특정 형상, 구조 및 특성은 일 실시예와 관련하여 본 발명의 정신 및 범위를 벗어나지 않으면서 다른 실시예로 구현될 수 있다. 또한, 각각의 개시된 실시예 내의 개별 구성요소의 위치 또는 배치는 본 발명의 정신 및 범위를 벗어나지 않으면서 변경될 수 있음이 이해되어야 한다. 따라서, 후술하는 상세한 설명은 한정적인 의미로서 취하려는 것이 아니며, 본 발명의 범위는, 적절하게 설명된다면, 그 청구항들이 주장하는 것과 균등한 모든 범위와 더불어 첨부된 청구항에 의해서만 한정된다. 도면에서 유사한 참조부호는 여러 측면에 걸쳐서 동일하거나 유사한 기능을 지칭한다.DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS [0012] DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS [0014] DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS [0016] Reference is made to the accompanying drawings, which show by way of illustration specific embodiments in which the present invention may be practiced. These embodiments are described in sufficient detail to enable those skilled in the art to practice the present invention. It should be understood that the various embodiments of the present invention are different but need not be mutually exclusive. For example, certain shapes, structures, and characteristics described herein with respect to one embodiment may be implemented in other embodiments without departing from the spirit and scope of the invention. In addition, it should be understood that the location or arrangement of individual components within each disclosed embodiment may be changed without departing from the spirit and scope of the present invention. Accordingly, the detailed description set forth below is not intended to be taken in a limiting sense, and the scope of the present invention, if properly described, is limited only by the appended claims, along with all scope equivalents to those claimed. Like reference numerals in the drawings refer to the same or similar functions throughout the various aspects.
이하, 도면들을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예들을 보다 상세하게 설명하기로 한다.Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described in more detail with reference to the drawings.
도 1 내지 도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 인덕션 히터의 개략적인 구성이 도시된 도면들이다.1 to 3 are diagrams showing a schematic configuration of an induction heater according to an embodiment of the present invention.
도 1 내지 도 3을 참조하면, 본 발명의 일 실시예에 따른 인덕션 히터(10)는, 히터 하우징(100), 폴리카보네이트판(200), 서스 열판(300), 인덕션 코일(400) 및 알루미늄 확산판(500)을 포함한다.1 to 3 , the
히터 하우징(100)은, 폴리카보네이트판(200), 서스 열판(300), 인덕션 코일(400) 및 알루미늄 확산판(500) 등의 구성들이 설치되기 위한 외형을 형성한다.The heater housing 100 forms an outer shape for installing components such as the
폴리카보네이트판(200)은, 방폭형 제품으로 반도체공정에서 사용되는 가스캐비닛의 가스보틀의 형상에 대응하여 아치형으로 둥글게 절곡 형성되어 히터 하우징(100)의 전단에 설치된다.The
서스 열판(300)은, 폴리카보네이트판(200)의 형상에 대응하여 아치형으로 둥글게 절곡 형성되어 폴리카보네이트판(200)의 전단에 설치되며, 인덕션 코일(400)에서 발생되는 자기장을 통한 와전류를 이용하여 열을 생성시킨다.The suspension
일 실시예에서, 서스 열판(300)은, SUS 304 재질로 제작될 수 있다.In an embodiment, the suspension
인덕션 코일(400)은, 폴리카보네이트판(200)을 따라 설치되며, 전기를 공급받아 서스 열판(300)의 와전류 발생을 위한 자기장을 발생시킨다.The
알루미늄 확산판(500)은, 서스 열판(300)의 형상에 대응하여 아치형으로 둥글게 절곡 형성되어 서스 열판(300)의 전단에 설치되며, 가열된 인덕션 코일(400)로부터 열을 전달받아 전방에 이격 배치되는 가스보틀 방향으로 열을 방출한다.The
일 실시예에서, 알루미늄 확산판(500)은, 와류를 차단하고 열을 효율적으로 전달할 수 있도록 AL 3003 재질로 제작될 수 있다.In one embodiment, the
본 발명에 따른 각 구성들의 규격은 후술하는 표 1과 같다.The specifications of each configuration according to the present invention are shown in Table 1 to be described later.
상술한 바와 같은 구성을 가지는 본 발명의 일 실시예에 따른 인덕션 히터(10)는, 열 전달 효율을 증가시키고자 할 경우 서스 열판(300)과 알루미늄 확산판(500)의 크기를 변경하여 효율 면적을 변경할 수 있다.In the
상술한 바와 같은 구성을 가지는 본 발명의 일 실시예에 따른 인덕션 히터(10)는, 와류를 차단하고 열을 효율적으로 전달할 수 있을 뿐만 아니라, 열 전달 효율을 향상시킬 수 있다.The
도 4는 본 발명의 다른 실시예에 따른 인덕션 히터의 개략적인 구성이 도시된 도면이다.4 is a view showing a schematic configuration of an induction heater according to another embodiment of the present invention.
도 4를 참조하면, 본 발명의 다른 실시예에 따른 인덕션 히터(20)는, 히터 하우징(100), 폴리카보네이트판(200), 서스 열판(300), 인덕션 코일(400), 알루미늄 확산판(500) 및 히터 청소 장치(600)를 포함한다.4 , the
여기서, 히터 하우징(100), 폴리카보네이트판(200), 서스 열판(300), 인덕션 코일(400) 및 알루미늄 확산판(500)은, 도 1의 구성요소와 동일하므로 그 설명을 생략하기로 한다.Here, the heater housing 100 , the
히터 청소 장치(600)는, 알루미늄 확산판(500)의 곡선 형상의 노출면을 청소한다.The
일 실시예에서, 히터 청소 장치(600)는, 히터 거치대(610), 제1 슬라이딩부(620), 제2 슬라이딩부(630) 및 회전 청소부(700)를 포함할 수 있다.In an embodiment, the
히터 거치대(610)는, 후단 상측에 히터 하우징(100)을 올려 놓기 위한 거치홈(611)을 형성한다.The
제1 슬라이딩부(620)는, 히터 거치대(610)의 일측을 따라 설치되어 히터 거치대(610)의 일측을 따라 전후 방향으로 슬라이딩 이동하며, 회전 청소부(700)의 일측이 설치된다.The first sliding
제2 슬라이딩부(630)는, 제1 슬라이딩부(620)와 대향하면서 히터 거치대(610)의 타측을 따라 설치되어 히터 거치대(610)의 타측을 따라 전후 방향으로 슬라이딩 이동하며, 회전 청소부(700)의 타측이 설치된다.The second sliding
회전 청소부(700)는, 일측이 제1 슬라이딩부(620)에 설치되고, 타측이 제2 슬라이딩부(630)에 설치되며, 제1 슬라이딩부(620)와 제2 슬라이딩부(630)가 전후 방향으로 슬라이딩 이동함에 따라 함께 전후 방향으로 이동하면서 알루미늄 확산판(500)의 노출면에 밀착 후 회전하여 알루미늄 확산판(500)의 노출면에 부착되어 있는 이물질을 제거한다.
상술한 바와 같은 구성을 가지는 본 발명의 다른 실시예에 따른 인덕션 히터(20)는, 곡면을 형성하는 알루미늄 확산판(500)의 노출면에 축적될 수 있는 다양한 이물질을 작업자가 수작업으로 제거할 필요 없이 자동으로 제거함으로써, 알루미늄 확산판(500)에 의한 열 방출 효율이 항시 동일하게 유지되도록 하고, 작업자의 오염물질로의 노출을 방지할 수 있다.In the
도 5는 도 4의 회전 청소부를 보여주는 도면이다.5 is a view showing the rotation cleaning unit of FIG.
도 5를 참조하면, 회전 청소부(700)는, 회전 드럼(710) 및 다수 개의 청소 유닛(720)을 포함한다.Referring to FIG. 5 , the
회전 드럼(710)은, 알루미늄 확산판(500)의 곡률에 대응하는 형상의 원통 형태로 형성되며, 일측이 제1 슬라이딩부(620)에 설치되고, 타측이 제2 슬라이딩부(630)에 설치되며, 다수 개의 청소 유닛(720)이 설치된다.The
일 실시예에서, 회전 드럼(710)은, 제1 슬라이딩부(620) 또는 제2 슬라이딩부(630)가 설치되는 일측 또는 타측에 회전 구동을 위한 회전 모터(M)가 구비될 수 있다.In one embodiment, the
다수 개의 청소 유닛(720)은, 회전 드럼(710)의 외측을 따라 일정한 간격으로 다수 개가 이격 설치되며, 회전 드럼(710)이 회전함에 따라 함께 회전하면서 알루미늄 확산판(500)의 노출면에 부착되어 있는 이물질을 제거한다.A plurality of cleaning
상술한 바와 같은 구성을 가지는 회전 청소부(700)는, 알루미늄 확산판(500)의 노출면의 형상에 대응하는 원통 형태로 형성되어 곡선 형상의 알루미늄 확산판(500)의 노출면에 최적화된 이물질 제거 성능을 제공할 수 있다.The
도 6 및 도 7은 도 5의 청소 유닛을 보여주는 도면들이다.6 and 7 are views showing the cleaning unit of FIG. 5 .
도 6 및 도 7을 참조하면, 청소 유닛(720)은, 안착홈(721), 커버(722), 중량 블록(723), 블록 지지 스프링(724) 및 청소용 솔(725)을 포함한다.6 and 7 , the
안착홈(721)은, 중량 블록(723)이 안착될 수 있도록 회전 드럼(710)의 외측면을 따라 좌우 길이 방향으로 연장 형성된다.The seating groove 721 is formed to extend in the left and right longitudinal direction along the outer surface of the
커버(722)는, 안착홈(721)을 덮고 설치된다.The
중량 블록(723)은, 강철 재질 등과 같은 중량물로 제작되며, 안착홈(721)에 안착되되, 상부가 커버(722)를 따라 좌우 길이 방향으로 연장 형성되는 개구부를 통해 커버(722)의 상측으로 노출된다.The
일 실시예에서, 중량 블록(723)은, 안착부(7231), 기둥부(7232) 및 노출부(7233)를 포함한다.In one embodiment, the
안착부(7231)는, 안착홈(721)에 안착될 수 있도록 안착홈(721)의 형상에 대응하는 평판 형태로 형성되며, 상측에 기둥부(7232)가 설치된다.The
기둥부(7232)는, 커버(722)의 개구부를 통해 커버(722)의 상측으로 노출되도록 안착부(7231)의 상측으로 방향으로 연장 형성되며, 상측에 노출부(7233)가 설치된다.The
노출부(7233)는, 기둥부(7232)의 상측에 설치되며, 상측을 따라 청소용 솔(725)이 설치된다.The exposed
일 실시예에서, 노출부(7233)는, 회전함에 따라 알루미늄 확산판(500)의 노출면과의 마찰을 회피할 수 있도록 상측으로 둥근 반원 형태로 형성될 수 있다.In an embodiment, the exposed
블록 지지 스프링(724)은, 중량 블록(723)이 안착홈(721)의 바닥면에 안착될 수 있도록 커버(722)의 내부 공간의 상측면의 전단 및 후단에 각각 설치되어 중량 블록(723)의 하부 전단 및 후단, 즉 안착부(7231)의 전단 및 후단을 하측 방향으로 밀착시켜 준다.The
청소용 솔(725)은, 알루미늄 확산판(500)의 노출면에 부착되어 있는 이물질을 쓸어서 제거할 수 있도록 중량 블록(723)의 상측을 따라 설치된다.The cleaning
일 실시예에서, 중량 블록(723)은, 안착홈(721)의 바닥면에 안착되되, 회전 드럼(710)의 회전 속도가 증가됨에 따라 원심력에 의해 안착홈(721)으로부터 상승되어 도 7에 도시된 바와 같이 청소용 솔(725)에 의한 청소 범위를 "G" 만큼 확장시켜 줄 수 있다.In one embodiment, the
상술한 바와 같은 구성을 가지는 청소 유닛(720)은, 회전 드럼(710)을 따라 설치되어 회전 드럼(710)가 회전함에 따라 함께 회전하면서 알루미늄 확산판(500)의 노출면에 부착되어 있는 이물질을 쓸어서 제거할 수 있을 뿐만 아니라, 회전 드럼(710)이 전진 또는 후진 없이도 회전 드럼(710)의 회전 속도를 제어하는 것만으로 청소의 범위를 확장시켜 이물질 제거 효율성을 향상시켜 줄 수 있다.The
상술된 실시예들은 예시를 위한 것이며, 상술된 실시예들이 속하는 기술분야의 통상의 지식을 가진 자는 상술된 실시예들이 갖는 기술적 사상이나 필수적인 특징을 변경하지 않고서 다른 구체적인 형태로 쉽게 변형이 가능하다는 것을 이해할 수 있을 것이다. 그러므로 상술된 실시예들은 모든 면에서 예시적인 것이며 한정적이 아닌 것으로 이해해야만 한다. 예를 들어, 단일형으로 설명되어 있는 각 구성 요소는 분산되어 실시될 수도 있으며, 마찬가지로 분산된 것으로 설명되어 있는 구성 요소들도 결합된 형태로 실시될 수 있다.The above-described embodiments are for illustration, and those of ordinary skill in the art to which the above-described embodiments belong can easily transform into other specific forms without changing the technical idea or essential features of the above-described embodiments. You will understand. Therefore, it should be understood that the above-described embodiments are illustrative in all respects and not restrictive. For example, each component described as a single type may be implemented in a distributed manner, and likewise components described as distributed may also be implemented in a combined form.
본 명세서를 통해 보호받고자 하는 범위는 상기 상세한 설명보다는 후술하는 특허청구범위에 의하여 나타내어지며, 특허청구범위의 의미 및 범위 그리고 그 균등 개념으로부터 도출되는 모든 변경 또는 변형된 형태를 포함하는 것으로 해석되어야 한다.The scope to be protected through this specification is indicated by the claims described below rather than the above detailed description, and should be construed to include all changes or modifications derived from the meaning and scope of the claims and their equivalents. .
10, 20: 인덕션 히터
100: 히터 하우징
200: 폴리카보네이트판
300: 서스 열판
400: 인덕션 코일
500: 알루미늄 확산판
600: 히터 청소 장치 10, 20: induction heater
100: heater housing
200: polycarbonate plate
300: Suss soleplate
400: induction coil
500: aluminum diffuser plate
600: heater cleaning device
Claims (3)
방폭형 제품으로 반도체공정에서 사용되는 가스캐비닛의 가스보틀의 형상에 대응하여 아치형으로 둥글게 절곡 형성되어 상기 히터 하우징의 전단에 설치되는 폴리카보네이트판;
상기 폴리카보네이트판의 형상에 대응하여 아치형으로 둥글게 절곡 형성되어 상기 폴리카보네이트판의 전단에 설치되며, 자기장을 통한 와전류를 이용하여 열을 생성시키는 서스 열판;
상기 폴리카보네이트판을 따라 설치되며, 전기를 공급받아 상기 서스 열판의 와전류 발생을 위한 자기장을 발생시키는 인덕션 코일; 및
상기 서스 열판의 형상에 대응하여 아치형으로 둥글게 절곡 형성되어 상기 서스 열판의 전단에 설치되며, 가열된 상기 인덕션 코일로부터 열을 전달받아 전방에 이격 배치되는 가스보틀 방향으로 열을 방출하는 알루미늄 확산판;을 포함하며,
상기 서스 열판은,
SUS 304 재질로 제작되며,
상기 알루미늄 확산판은,
AL 3003 재질로 제작되며,
상기 알루미늄 확산판의 노출면을 청소하기 위한 히터 청소 장치;를 더 포함하며,
상기 히터 청소 장치는,
후단 상측에 상기 히터 하우징을 올려 놓기 위한 거치홈을 형성하는 히터 거치대;
상기 히터 거치대의 일측을 따라 설치되어 상기 히터 거치대의 일측을 따라 전후 방향으로 슬라이딩 이동하는 제1 슬라이딩부;
상기 제1 슬라이딩부와 대향하면서 상기 히터 거치대의 타측을 따라 설치되어 상기 히터 거치대의 타측을 따라 전후 방향으로 슬라이딩 이동하는 제2 슬라이딩부; 및
일측이 상기 제1 슬라이딩부에 설치되고, 타측이 상기 제2 슬라이딩부에 설치되며, 상기 제1 슬라이딩부와 상기 제2 슬라이딩부가 전후 방향으로 슬라이딩 이동함에 따라 함께 전후 방향으로 이동하면서 상기 알루미늄 확산판의 노출면에 밀착 후 회전하여 상기 알루미늄 확산판의 노출면에 부착되어 있는 이물질을 제거하는 회전 청소부;를 포함하며,
상기 회전 청소부는,
원통 형태로 형성되며, 일측이 상기 제1 슬라이딩부에 설치되고, 타측이 상기 제2 슬라이딩부에 설치되는 회전 드럼; 및
상기 회전 드럼의 외측면을 따라 일정한 간격으로 다수 개가 이격 설치되며, 상기 회전 드럼이 회전함에 따라 함께 회전하면서 상기 알루미늄 확산판의 노출면에 부착되어 있는 이물질을 제거하는 다수 개의 청소 유닛;을 포함하며,
상기 청소 유닛은,
상기 회전 드럼의 외측면을 따라 좌우 길이 방향으로 연장 형성되는 안착홈;
상기 안착홈을 덮고 설치되는 커버;
상기 안착홈에 안착되되, 상부가 상기 커버를 따라 좌우 길이 방향으로 연장 형성되는 개구부를 통해 상기 커버의 상측으로 노출되는 중량 블록;
상기 중량 블록이 상기 안착홈의 바닥면에 안착될 수 있도록 상기 커버의 내부 공간의 상측면의 전단 및 후단에 각각 설치되어 상기 중량 블록의 하부 전단 및 후단을 하측 방향으로 밀착시켜 주는 블록 지지 스프링; 및
상기 알루미늄 확산판의 노출면에 부착되어 있는 이물질을 쓸어서 제거할 수 있도록 상기 중량 블록의 상측을 따라 설치되는 청소용 솔;을 포함하며,
상기 중량 블록은,
상기 안착홈의 바닥면에 안착되되, 상기 회전 드럼의 회전 속도가 증가됨에 따라 원심력에 의해 상기 안착홈으로부터 상승되어 상기 청소용 솔에 의한 청소 범위를 확장시켜 주는, 인덕션 히터.
heater housing;
a polycarbonate plate bent in an arc shape to correspond to the shape of a gas bottle of a gas cabinet used in a semiconductor process as an explosion-proof product and installed at the front end of the heater housing;
a suspension hot plate bent in an arcuate shape to correspond to the shape of the polycarbonate plate, installed at the front end of the polycarbonate plate, and generating heat by using an eddy current through a magnetic field;
an induction coil installed along the polycarbonate plate and receiving electricity to generate a magnetic field for generating an eddy current of the suspension hot plate; and
an aluminum diffusion plate that is bent in an arcuate shape corresponding to the shape of the sustain hot plate, is installed at the front end of the sustain hot plate, receives heat from the heated induction coil, and radiates heat in the direction of the gas bottle spaced apart in front; includes,
The suspension hot plate,
Made of SUS 304 material,
The aluminum diffusion plate,
Made of AL 3003 material,
Further comprising; a heater cleaning device for cleaning the exposed surface of the aluminum diffusion plate,
The heater cleaning device,
a heater cradle forming a cradle groove for placing the heater housing on an upper rear end thereof;
a first sliding part installed along one side of the heater holder and slidingly moved in the front-rear direction along one side of the heater holder;
a second sliding part facing the first sliding part and installed along the other side of the heater holder and slidingly moved in the front-rear direction along the other side of the heater holder; and
One side is installed on the first sliding part, the other side is installed on the second sliding part, and as the first sliding part and the second sliding part slide in the front-rear direction, the aluminum diffusion plate moves in the front-rear direction together. and a rotating cleaning unit that rotates after being in close contact with the exposed surface of the aluminum diffusion plate to remove foreign substances adhering to the exposed surface of the aluminum diffusion plate.
The rotary cleaning unit,
a rotating drum formed in a cylindrical shape, one side of which is installed on the first sliding unit, and the other side of which is installed on the second sliding unit; and
A plurality of cleaning units are installed at regular intervals along the outer surface of the rotary drum, and rotate together as the rotary drum rotates to remove foreign substances attached to the exposed surface of the aluminum diffusion plate; and ,
The cleaning unit is
a seating groove extending in the left and right longitudinal directions along the outer surface of the rotating drum;
a cover installed to cover the seating groove;
a weight block seated in the seating groove, the upper portion of which is exposed to the upper side of the cover through an opening extending in the left and right longitudinal directions along the cover;
block support springs respectively installed at the front and rear ends of the upper surface of the inner space of the cover so that the weight block can be seated on the bottom surface of the seating groove to closely contact the lower front and rear ends of the weight block in the downward direction; and
a cleaning brush installed along the upper side of the weight block to sweep away foreign substances attached to the exposed surface of the aluminum diffusion plate; and
The weight block is
Doedoe seated on the bottom surface of the seating groove, as the rotational speed of the rotating drum is increased, the induction heater is raised from the seating groove by centrifugal force to expand the cleaning range by the cleaning brush.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020220055750A KR102452347B1 (en) | 2022-05-04 | 2022-05-04 | Induction Heater |
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Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR102452347B1 true KR102452347B1 (en) | 2022-10-11 |
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ID=83599033
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Country | Link |
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KR (1) | KR102452347B1 (en) |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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2022
- 2022-05-04 KR KR1020220055750A patent/KR102452347B1/en active IP Right Grant
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