KR102450961B1

KR102450961B1 - Organic Light Emitting Display Device

Info

Publication number: KR102450961B1
Application number: KR1020150137571A
Authority: KR
Inventors: 천대웅; 이현행
Original assignee: 엘지디스플레이 주식회사
Priority date: 2015-09-30
Filing date: 2015-09-30
Publication date: 2022-10-04
Also published as: KR20170038326A

Abstract

본 발명은 표시 영역에 구비된 제1 평탄화층 및 상기 표시 영역과 접하는 버퍼 영역에 구비된 제2 평탄화층을 포함하고, 상기 제2 평탄화층은 상기 제1 평탄화층과 상이한 패턴으로 이루어진 유기 발광 디스플레이 장치를 제공한다. The present invention provides an organic light emitting display including a first planarization layer provided in a display area and a second planarization layer provided in a buffer area in contact with the display area, wherein the second planarization layer has a pattern different from that of the first planarization layer. provide the device.

Description

Organic Light Emitting Display Device

본 발명은 유기 발광 디스플레이 장치에 관한 것으로서, 보다 구체적으로는 유기 발광 디스플레이 장치 내의 평탄화층에 관한 것이다. The present invention relates to an organic light emitting display device, and more particularly, to a planarization layer in an organic light emitting display device.

유기 발광 디스플레이 장치는 자체 발광이 가능한 디스플레이 장치이다. 상기 유기 발광 디스플레이 장치는 음극(cathode)과 양극(anode) 사이에 유기 발광층이 형성된 발광 소자를 구비하고 있으며, 상기 음극에서 발생된 전자와 상기 양극에서 발생된 정공이 상기 유기 발광층 내부로 주입되어 생성된 액시톤(exciton)이 여기상태(excited state)에서 기저상태(ground state)로 떨어지면서 발광을 하는 원리를 이용한다. An organic light emitting display device is a display device capable of self-luminescence. The organic light emitting display device includes a light emitting device in which an organic light emitting layer is formed between a cathode and an anode, and electrons generated from the cathode and holes generated from the anode are injected into the organic light emitting layer to generate The principle of emitting light while the excitons fall from the excited state to the ground state is used.

이하, 도면을 참조로 종래의 유기 발광 디스플레이 장치에 대해서 설명하기로 한다. Hereinafter, a conventional organic light emitting display device will be described with reference to the drawings.

도 1은 종래의 유기 발광 디스플레이 장치의 개략적인 단면도이다. 1 is a schematic cross-sectional view of a conventional organic light emitting display device.

도 1에서 알 수 있듯이, 종래의 유기 발광 디스플레이 장치는 기판(10), 박막 트랜지스터(T), 패시베이션층(20), 평탄화층(30), 발광 소자(40), 뱅크층(50), 봉지층(60), 접착층(70), 및 봉지 기판(80)을 포함하여 이루어진다. As can be seen from FIG. 1 , a conventional organic light emitting display device includes a substrate 10 , a thin film transistor T, a passivation layer 20 , a planarization layer 30 , a light emitting device 40 , a bank layer 50 , and an encapsulation layer. It includes a layer 60 , an adhesive layer 70 , and an encapsulation substrate 80 .

상기 박막 트랜지스터(T)는 상기 기판(10)의 상면 상에 형성되며, 게이트 전극(11), 게이트 절연막(13), 액티브층(15), 드레인 전극(17a), 및 소스 전극(17b)을 포함하여 이루어진다. The thin film transistor T is formed on the upper surface of the substrate 10 and includes a gate electrode 11 , a gate insulating layer 13 , an active layer 15 , a drain electrode 17a , and a source electrode 17b . made including

상기 패시베이션층(20)은 상기 박막 트랜지스터(T)의 상면 상에 형성되어 상기 박막 트랜지스터(T)를 보호한다. The passivation layer 20 is formed on the upper surface of the thin film transistor T to protect the thin film transistor T.

상기 평탄화층(30)은 상기 패시베이션층(20)의 상면 상에 형성되어 유기 발광 디스플레이 장치의 표면을 평탄화시킨다. The planarization layer 30 is formed on the upper surface of the passivation layer 20 to planarize the surface of the organic light emitting display device.

상기 발광 소자(40)는 상기 평탄화층(30)의 상면 상에 형성되며, 애노드 전극(41), 유기 발광층(42), 및 캐소드 전극(43)을 포함하여 이루어진다. 상기 애노드 전극(41)은 상기 박막 트랜지스터(T)의 소스 전극(17b)과 연결된다. The light emitting device 40 is formed on the upper surface of the planarization layer 30 , and includes an anode electrode 41 , an organic light emitting layer 42 , and a cathode electrode 43 . The anode electrode 41 is connected to the source electrode 17b of the thin film transistor T.

상기 뱅크층(50)은 상기 평탄화층(30)의 상면 상에 형성된다. 상기 뱅크층(50)은 매트릭스 구조로 형성되면서 화소 영역을 정의하고, 상기 화소 영역에 상기 발광 소자(40)의 발광층(42)이 형성된다. The bank layer 50 is formed on the top surface of the planarization layer 30 . The bank layer 50 is formed in a matrix structure to define a pixel area, and the light emitting layer 42 of the light emitting device 40 is formed in the pixel area.

상기 봉지층(encapsulation layer)(60)은 상기 발광 소자(40)를 덮고 있다. 상기 봉지층(60)은 상기 발광 소자(40) 내부로 수분이 침투하는 것을 방지한다. The encapsulation layer 60 covers the light emitting device 40 . The encapsulation layer 60 prevents moisture from penetrating into the light emitting device 40 .

상기 접착층(70)은 상기 봉지층(60)의 상면 상에 형성되어 상기 봉지 기판(80)을 상기 봉지층(60)에 접착시킨다.The adhesive layer 70 is formed on the upper surface of the encapsulation layer 60 to adhere the encapsulation substrate 80 to the encapsulation layer 60 .

상기 봉지 기판(80)은 상기 접착층(70)의 상면 상에 형성되어 유기 발광 디스플레이 장치의 위쪽으로부터 수분이 침투하는 것을 방지한다. The encapsulation substrate 80 is formed on the upper surface of the adhesive layer 70 to prevent moisture from penetrating from the top of the organic light emitting display device.

이와 같은 종래의 유기 발광 디스플레이 장치의 경우, 상기 평탄화층(30)의 끝단을 미리 설정한 A라인으로 정밀하게 제어하는 것이 어려운 문제가 있다. 구체적으로 설명하면, 상기 평탄화층(30)은 소정의 마스크 패턴을 이용한 노광 공정 및 현상 공정을 통해 얻어지는데, 일반적으로 최외곽의 패턴 영역에서는 노광량 및 현상액의 침투 정도를 정밀하게 제어하기가 어렵다. 그에 따라, 상기 최외곽의 패턴 영역에 해당하는 상기 평탄화층(30)의 끝단을 정밀하게 제어하는 것은 어렵다. 이와 같은 문제에 대해서 도 2를 참조하여 보다 구체적으로 설명하기로 한다. In the case of such a conventional organic light emitting display device, it is difficult to precisely control the end of the planarization layer 30 with a preset A-line. Specifically, the planarization layer 30 is obtained through an exposure process and a development process using a predetermined mask pattern. In general, it is difficult to precisely control the exposure amount and the degree of penetration of the developer in the outermost pattern region. Accordingly, it is difficult to precisely control the end of the planarization layer 30 corresponding to the outermost pattern region. Such a problem will be described in more detail with reference to FIG. 2 .

도 2a 및 도 2b는 종래의 유기 발광 디스플레이 장치에서 평탄화층의 끝단이 정밀하게 제어되지 못하는 모습을 도시한 개략도이다. 2A and 2B are schematic diagrams illustrating a state in which an end of a planarization layer cannot be precisely controlled in a conventional organic light emitting display device.

도 2a에서 알 수 있듯이, 기판(10) 상의 표시 영역(DA)의 외곽에 비표시 영역(NDA)이 형성되어 있고, 상기 표시 영역(DA)에 평탄화층(30)이 패턴 형성된다. As shown in FIG. 2A , the non-display area NDA is formed outside the display area DA on the substrate 10 , and the planarization layer 30 is patterned on the display area DA.

이때, 마스크 패턴을 이용한 노광 공정 및 현상 공정을 통해 상기 평탄화층(30)을 패턴 형성할 때 최외곽의 패턴 영역에서 상대적으로 많은 양의 노광이 이루어지고 현상액도 더 깊게 침투하여 과식각이 발생하기 때문에, 상기 평탄화층(30)의 끝단이 미리 설정한 A라인으로 정밀하게 제어되지 못하고 일부 영역(빗금으로 표기된 영역)에서는 표시 영역(DA) 안쪽의 B라인까지 상기 평탄화층(30)의 끝단이 이동하게 된다. 이와 같이, 상기 평탄화층(30)의 끝단이 표시 영역(DA) 안쪽까지 이동하게 되면 그 영역에 해당하는 화소, 일반적으로 최외곽 화소에 불량이 발생하게 된다. At this time, when the planarization layer 30 is patterned through the exposure process and the development process using a mask pattern, a relatively large amount of exposure is performed in the outermost pattern region, and the developer penetrates deeper to cause over-etching. Therefore, the end of the planarization layer 30 is not precisely controlled to the preset A line, and in some areas (areas marked with hatched lines), the end of the planarization layer 30 reaches the B line inside the display area DA. will move As such, when the end of the planarization layer 30 moves to the inside of the display area DA, a defect occurs in the pixel corresponding to the area, generally the outermost pixel.

따라서, 이와 같은 문제를 해결하기 위해서, 도 2b에서 알 수 있듯이, 상기 평탄화층(30)의 끝단을 미리 설정한 A라인보다 비표시 영역(NDA) 쪽의 C라인으로 설정함으로써 과식각에 의해서 상기 평탄화층(30)의 끝단이 미리 설정한 A라인으로 이동하도록 하는 시도가 있다. 그러나, 이 경우 일부 영역(빗금으로 표기된 영역)에서는 과식각이 이루어지지 않고 상기 평탄화층(30)의 끝단이 C라인에 남아있는 경우가 발생한다. 이와 같이 상기 평탄화층(30)의 끝단이 C라인에 남게 되면 상기 평탄화층(30)을 통해서 수분이 침투하는 문제가 발생한다. Therefore, in order to solve this problem, as can be seen from FIG. 2B , the end of the planarization layer 30 is set to the C line on the non-display area (NDA) side rather than the preset A line, so that the There is an attempt to move the end of the planarization layer 30 to a preset A-line. However, in this case, over-etching is not performed in some areas (areas marked with hatched lines) and the end of the planarization layer 30 remains on the C line. As such, when the end of the planarization layer 30 is left on the C line, there is a problem that moisture penetrates through the planarization layer 30 .

상기 발광 소자(40) 내의 유기 발광층(42)은 수분에 취약하기 때문에, 상기 유기 발광층(42) 내로 수분이 침투하는 것을 방지하기 위해서 상기 봉지층(60)과 봉지 기판(80)을 형성하고 있고, 또한, 상기 접착층(70)도 수분 침투를 방지할 수 있는 재료를 이용하고 있다. 또한, 비록 상기 봉지층(60)과 상기 접착층(70)에 의해 수분 침투가 방지될 수 있지만, 상기 평탄화층(30)은 수분 침투에 취약하기 때문에 만약 상기 평탄화층(30)의 끝단이 기판(10)의 끝단에 가깝게 위치할 경우 시간이 지남에 따라 수분이 상기 봉지층(60)과 상기 접착층(70)을 지나서 상기 평탄화층(30)까지 도달할 수 있고, 그 경우 상기 유기 발광층(42)이 쉽게 열화될 수 있다. 따라서, 도 2b와 같이 상기 평탄화층(30)의 끝단이 상기 기판(10)의 끝단에 가까운 방향으로 이동하게 되면 상기 평탄화층(30)을 통해서 상기 유기 발광층(42)이 열화되는 문제가 발생할 수 있다. Since the organic light emitting layer 42 in the light emitting device 40 is vulnerable to moisture, the encapsulation layer 60 and the encapsulation substrate 80 are formed to prevent moisture from penetrating into the organic light emitting layer 42, In addition, the adhesive layer 70 also uses a material capable of preventing moisture permeation. In addition, although penetration of moisture can be prevented by the encapsulation layer 60 and the adhesive layer 70, since the planarization layer 30 is vulnerable to moisture penetration, if the end of the planarization layer 30 is 10) If it is located close to the end, over time, moisture may pass through the sealing layer 60 and the adhesive layer 70 to reach the planarization layer 30, in which case the organic light emitting layer 42 This can be easily deteriorated. Accordingly, when the end of the planarization layer 30 moves in a direction close to the end of the substrate 10 as shown in FIG. 2B , the organic light emitting layer 42 may deteriorate through the planarization layer 30. have.

본 발명은 전술한 종래의 문제점을 해결하기 위해 고안된 것으로서, 본 발명은 평탄화층의 끝단이 표시 영역 안쪽으로 이동하는 것을 방지함으로써 최외곽 화소에 불량이 발생하는 문제를 해소하는 것을 일 목적으로 한다. SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been devised to solve the above-described problems in the prior art, and an object of the present invention is to solve the problem of defects occurring in the outermost pixel by preventing the end of the planarization layer from moving into the display area.

또한, 본 발명은 평탄화층에 의해 외부의 수분이 표시 영역 내로 침투하는 것을 방지함으로써 유기 발광층이 수분에 의해 열화되는 문제를 해소하는 것을 다른 목적으로 한다. Another object of the present invention is to solve the problem that the organic light emitting layer is deteriorated by moisture by preventing external moisture from penetrating into the display area by the planarization layer.

상기 목적을 달성하기 위해서, 본 발명은 표시 영역에 구비된 제1 평탄화층 및 상기 표시 영역과 접하는 버퍼 영역에 구비된 제2 평탄화층을 포함하고, 상기 제2 평탄화층은 상기 제1 평탄화층과 상이한 패턴으로 이루어진 유기 발광 디스플레이 장치를 제공한다. In order to achieve the above object, the present invention includes a first planarization layer provided in a display area and a second planarization layer provided in a buffer area in contact with the display area, wherein the second planarization layer includes the first planarization layer and An organic light emitting display device having different patterns is provided.

이상과 같은 본 발명에 따르면 다음과 같은 효과가 있다. According to the present invention as described above, there are the following effects.

본 발명의 일 실시예에 따르면, 표시 영역과 접하는 버퍼 영역에 제2 평탄화층을 형성함으로써 마스크 패턴을 이용한 노광 공정 및 현상 공정을 수행할 때 과식각이 발생한다 하여도, 버퍼 영역의 제2 평탄화층에 과식각이 발생하고 표시 영역의 제1 평탄화층에는 과식각이 발생하지 않게 되어 표시 영역 내의 최외곽 화소에 불량 발생이 방지될 수 있다. According to an embodiment of the present invention, by forming the second planarization layer in the buffer area in contact with the display area, the second planarization of the buffer area is performed even if over-etching occurs when the exposure process and the development process using the mask pattern are performed. Over-etching occurs in the layer and over-etching does not occur in the first planarization layer of the display area, so that defects may be prevented from occurring in the outermost pixel in the display area.

또한, 본 발명의 일 실시예에 따르면, 버퍼 영역에 제2 평탄화층을 패턴 형성함으로써, 외부의 수분이 상기 제2 평탄화층을 따라 표시 영역으로 이동하는 것을 방지할 수 있다. 따라서, 표시 영역 내의 유기 발광층이 수분에 의해 열화되는 문제가 방지될 수 있다. Also, according to an embodiment of the present invention, by patterning the second planarization layer in the buffer area, it is possible to prevent external moisture from moving to the display area along the second planarization layer. Accordingly, the problem that the organic light emitting layer in the display area is deteriorated by moisture can be prevented.

도 1은 종래의 유기 발광 디스플레이 장치의 개략적인 단면도이다.
도 2a 및 도 2b는 종래의 유기 발광 디스플레이 장치에서 평탄화층의 끝단이 정밀하게 제어되지 못하는 모습을 도시한 개략도이다.
도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 유기 발광 디스플레이 장치의 개략적 평면도이다.
도 4a는 본 발명의 일 실시예에 따른 유기 발광 디스플레이 장치의 개략적 평면도이고, 도 4b는 도 4a의 I-I라인의 단면에 해당하는 평탄화층을 도시한 것이다.
도 5a는 본 발명의 일 실시예에 따른 유기 발광 디스플레이 장치의 개략적 평면도이고, 도 5b는 도 5a의 I-I라인의 단면에 해당하는 평탄화층을 도시한 것이다.
도 6a는 본 발명의 일 실시예에 따른 유기 발광 디스플레이 장치의 개략적 평면도이고, 도 6b는 도 6a의 I-I라인의 단면에 해당하는 평탄화층을 도시한 것이다.
도 7a는 본 발명의 일 실시예에 따른 유기 발광 디스플레이 장치의 개략적 평면도이고, 도 7b는 도 7a의 I-I라인의 단면에 해당하는 평탄화층을 도시한 것이다.
도 8 내지 도 11은 본 발명의 다양한 실시예에 따른 유기 발광 디스플레이 장치의 개략적 평면도이다.
도 12 내지 도 15는 본 발명의 다양한 실시예에 따른 유기 발광 디스플레이 장치의 개략적인 단면도이다.1 is a schematic cross-sectional view of a conventional organic light emitting display device.
2A and 2B are schematic diagrams illustrating a state in which an end of a planarization layer cannot be precisely controlled in a conventional organic light emitting display device.
3 is a schematic plan view of an organic light emitting display device according to an embodiment of the present invention.
4A is a schematic plan view of an organic light emitting display device according to an embodiment of the present invention, and FIG. 4B shows a planarization layer corresponding to a cross section of line II of FIG. 4A.
5A is a schematic plan view of an organic light emitting display device according to an embodiment of the present invention, and FIG. 5B is a planarization layer corresponding to a cross section taken along line II of FIG. 5A.
6A is a schematic plan view of an organic light emitting display device according to an embodiment of the present invention, and FIG. 6B shows a planarization layer corresponding to a cross section taken along line II of FIG. 6A .
7A is a schematic plan view of an organic light emitting display device according to an embodiment of the present invention, and FIG. 7B shows a planarization layer corresponding to a cross section taken along line II of FIG. 7A.
8 to 11 are schematic plan views of an organic light emitting display device according to various embodiments of the present disclosure.
12 to 15 are schematic cross-sectional views of an organic light emitting display device according to various embodiments of the present disclosure.

본 발명의 이점 및 특징, 그리고 그것들을 달성하는 방법은 첨부되는 도면과 함께 상세하게 후술되어 있는 실시예들을 참조하면 명확해질 것이다. 그러나 본 발명은 이하에서 개시되는 실시예들에 한정되는 것이 아니라 서로 다른 다양한 형태로 구현될 것이며, 단지 본 실시예들은 본 발명의 개시가 완전하도록 하며, 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 발명의 범주를 완전하게 알려주기 위해 제공되는 것이며, 본 발명은 청구항의 범주에 의해 정의될 뿐이다. Advantages and features of the present invention and methods of achieving them will become apparent with reference to the embodiments described below in detail in conjunction with the accompanying drawings. However, the present invention is not limited to the embodiments disclosed below, but will be implemented in various different forms, and only these embodiments allow the disclosure of the present invention to be complete, and common knowledge in the technical field to which the present invention belongs It is provided to fully inform the possessor of the scope of the invention, and the present invention is only defined by the scope of the claims.

본 발명의 실시예를 설명하기 위한 도면에 개시된 형상, 크기, 비율, 각도, 개수 등은 예시적인 것이므로 본 발명이 도시된 사항에 한정되는 것은 아니다. 명세서 전체에 걸쳐 동일 참조 부호는 동일 구성 요소를 지칭한다. 또한, 본 발명을 설명함에 있어서, 관련된 공지 기술에 대한 구체적인 설명이 본 발명의 요지를 불필요하게 흐릴 수 있다고 판단되는 경우 그 상세한 설명은 생략한다. 본 명세서 상에서 언급한 '포함한다', '갖는다', '이루어진다' 등이 사용되는 경우 '~만'이 사용되지 않는 이상 다른 부분이 추가될 수 있다. 구성 요소를 단수로 표현한 경우에 특별히 명시적인 기재 사항이 없는 한 복수를 포함하는 경우를 포함한다.The shapes, sizes, proportions, angles, numbers, etc. disclosed in the drawings for explaining the embodiments of the present invention are illustrative and the present invention is not limited to the illustrated matters. Like reference numerals refer to like elements throughout. In addition, in describing the present invention, if it is determined that a detailed description of a related known technology may unnecessarily obscure the subject matter of the present invention, the detailed description thereof will be omitted. When 'including', 'having', 'consisting', etc. mentioned in this specification are used, other parts may be added unless 'only' is used. When a component is expressed in the singular, the case in which the plural is included is included unless specifically stated otherwise.

구성 요소를 해석함에 있어서, 별도의 명시적 기재가 없더라도 오차 범위를 포함하는 것으로 해석한다.In interpreting the components, it is interpreted as including an error range even if there is no separate explicit description.

위치 관계에 대한 설명일 경우, 예를 들어, '~상에', '~상부에', '~하부에', '~옆에' 등으로 두 부분의 위치 관계가 설명되는 경우, '바로' 또는 '직접'이 사용되지 않는 이상 두 부분 사이에 하나 이상의 다른 부분이 위치할 수도 있다.In the case of a description of the positional relationship, for example, when the positional relationship of two parts is described as 'on', 'on', 'on', 'beside', etc., 'right' Alternatively, one or more other parts may be positioned between two parts unless 'directly' is used.

시간 관계에 대한 설명일 경우, 예를 들어, '~후에', '~에 이어서', '~다음에', '~전에' 등으로 시간적 선후 관계가 설명되는 경우, '바로' 또는 '직접'이 사용되지 않는 이상 연속적이지 않은 경우도 포함할 수 있다.In the case of a description of a temporal relationship, for example, 'immediately' or 'directly' when a temporal relationship is described as 'after', 'following', 'after', 'before', etc. It may include cases that are not continuous unless this is used.

제1, 제2 등이 다양한 구성요소들을 서술하기 위해서 사용되나, 이들 구성요소들은 이들 용어에 의해 제한되지 않는다. 이들 용어들은 단지 하나의 구성 요소를 다른 구성요소와 구별하기 위하여 사용하는 것이다. 따라서, 이하에서 언급되는 제1 구성요소는 본 발명의 기술적 사상 내에서 제2 구성요소일 수도 있다.Although the first, second, etc. are used to describe various components, these components are not limited by these terms. These terms are only used to distinguish one component from another. Accordingly, the first component mentioned below may be the second component within the spirit of the present invention.

본 발명의 여러 실시예들의 각각 특징들이 부분적으로 또는 전체적으로 서로 결합 또는 조합 가능하고, 기술적으로 다양한 연동 및 구동이 가능하며, 각 실시예들이 서로에 대하여 독립적으로 실시 가능할 수도 있고 연관 관계로 함께 실시할 수도 있다. Each feature of the various embodiments of the present invention may be partially or wholly combined or combined with each other, technically various interlocking and driving are possible, and each of the embodiments may be implemented independently of each other or may be implemented together in a related relationship. may be

이하, 도면을 참조로 본 발명의 바람직한 실시예에 대해서 상세히 설명하기로 한다. Hereinafter, a preferred embodiment of the present invention will be described in detail with reference to the drawings.

도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 유기 발광 디스플레이 장치의 개략적 평면도이다. 3 is a schematic plan view of an organic light emitting display device according to an embodiment of the present invention.

도 3에서 알 수 있듯이, 기판(100) 상에는 표시 영역(DA) 및 비표시 영역(NDA)이 마련되어 있다. 3 , a display area DA and a non-display area NDA are provided on the substrate 100 .

상기 표시 영역(DA)은 화상이 디스플레이되는 영역으로서, 상기 표시 영역(DA)에는 복수 개의 화소가 마련되어 있다. The display area DA is an area where an image is displayed, and a plurality of pixels are provided in the display area DA.

상기 비표시 영역(NDA)은 화상이 디스플레이되지 않는 영역으로서, 상기 표시 영역(DA)의 바깥 영역에 형성되어 있다. 상기 비표시 영역(NDA)은 버퍼 영역(BA) 및 외곽 영역(SA)을 포함하고 있다. 상기 버퍼 영역(BA)은 상기 표시 영역(DA)과 접하는 상기 비표시 영역(NDA)에 마련되고, 상기 외곽 영역(SA)은 상기 버퍼 영역(BA)의 외곽에 마련된다. The non-display area NDA is an area in which an image is not displayed and is formed outside the display area DA. The non-display area NDA includes a buffer area BA and an outer area SA. The buffer area BA is provided in the non-display area NDA in contact with the display area DA, and the outer area SA is provided outside the buffer area BA.

상기 버퍼 영역(BA)은 평탄화층의 끝단이 상기 표시 영역(DA) 안쪽으로 이동하지 않도록 함으로써 상기 표시 영역(DA)의 최외곽 화소에 불량이 발생하지 않도록 하는 역할을 한다. 또한, 상기 버퍼 영역(BA)은 상기 평탄화층으로 인해서 외부의 수분이 상기 표시 영역(DA) 내의 유기 발광층으로 침투하는 것을 방지하는 역할을 한다. 이와 같이, 최외곽 화소의 불량 발생과 유기 발광층으로의 수분 침투를 방지하는 역할을 하는 상기 버퍼 영역(BA)은 상기 표시 영역(DA)과 상이한 구조의 평탄화층을 구비하고 있다. 이하, 상기 버퍼 영역(BA)에 구비된 평탄화층과 상기 표시 영역(DA)에 구비된 평탄화층에 대해서 보다 구체적으로 설명하기로 한다. The buffer area BA serves to prevent defects from occurring in the outermost pixel of the display area DA by preventing the end of the planarization layer from moving inside the display area DA. In addition, the buffer area BA serves to prevent external moisture from penetrating into the organic light emitting layer in the display area DA due to the planarization layer. As described above, the buffer area BA, which serves to prevent the occurrence of defects in the outermost pixel and the penetration of moisture into the organic light emitting layer, includes a planarization layer having a different structure from that of the display area DA. Hereinafter, the planarization layer provided in the buffer area BA and the planarization layer provided in the display area DA will be described in more detail.

참고로, 도 4a와 도 4b, 도 5a와 도 5b, 도 6a와 도 6b, 및 도 7a와 도 7b에서는 구분의 편의를 위해서 제1 두께(T1)를 가지는 평탄화층이 형성된 영역을 빗금으로 표시하였고, 제2 두께(T2)를 가지는 평탄화층이 형성된 영역을 점선으로 표시하였고, 평탄화층이 형성되지 않은 영역은 흰 바탕으로 표시하였다. For reference, in Figs. 4A and 4B, Figs. 5A and 5B, Figs. 6A and 6B, and Figs. 7A and 7B, the region in which the planarization layer having the first thickness T1 is formed is indicated by hatching for convenience of distinction. The area in which the planarization layer having the second thickness T2 was formed is indicated by a dotted line, and the area in which the planarization layer is not formed is indicated by a white background.

도 4a는 본 발명의 일 실시예에 따른 유기 발광 디스플레이 장치의 개략적 평면도로서, 이는 도 3의 E로 표시된 사각형 내부를 상세히 도시한 것이다. 도 4b는 도 4a의 I-I라인의 단면에 해당하는 평탄화층을 도시한 것이다 FIG. 4A is a schematic plan view of an organic light emitting display device according to an embodiment of the present invention, which shows in detail the inside of a rectangle indicated by E of FIG. 3 . FIG. 4B shows a planarization layer corresponding to a cross section of line I-I of FIG. 4A.

도 4a 및 도 4b에서 알 수 있듯이, 기판(100) 상에는 표시 영역(DA) 및 비표시 영역(NDA)이 마련되고, 상기 비표시 영역(NDA)에는 상기 표시 영역(DA)과 접하는 버퍼 영역(BA) 및 상기 버퍼 영역(BA) 외곽의 외곽 영역(SA)이 마련되어 있다. As can be seen from FIGS. 4A and 4B , a display area DA and a non-display area NDA are provided on the substrate 100 , and the non-display area NDA includes a buffer area ( ) in contact with the display area DA. BA) and an outer area SA outside the buffer area BA are provided.

상기 표시 영역(DA)에는 제1 평탄화층(301)이 형성되어 있고, 상기 버퍼 영역(BA)에는 제2 평탄화층(302)이 형성되어 있다. A first planarization layer 301 is formed in the display area DA, and a second planarization layer 302 is formed in the buffer area BA.

여기서, 상기 제1 평탄화층(301)은 상기 표시 영역(DA)에 전체적으로 형성되어 있다. 상기 제1 평탄화층(301)이 상기 표시 영역(DA)에 전체적으로 형성되어 있다는 것은 후술하는 도 12에서 알 수 있듯이 콘택홀이 형성되는 것을 포함하는 것으로 해석되어야 한다. Here, the first planarization layer 301 is formed entirely in the display area DA. The fact that the first planarization layer 301 is entirely formed in the display area DA should be interpreted as including the formation of a contact hole, as will be described later with reference to FIG. 12 .

그에 반하여, 상기 제2 평탄화층(302)은 상기 버퍼 영역(BA)에 전체적으로 형성되지 않고 복수 개의 섬(island) 구조로 형성되어 있다. 즉, 상기 버퍼 영역(BA)에는 상기 제2 평탄화층(302)이 형성된 영역과 상기 제2 평탄화층(302)이 형성되지 않은 영역이 함께 구비되어 있다. 상기 제2 평탄화층(302)이 형성되지 않은 영역은 상기 복수 개의 섬 구조의 제2 평탄화층(302)들 사이 영역에 해당한다. 참고로, 상기 제2 평탄화층(302)이 형성되지 않은 영역에는 후술하는 도 12에서 알 수 있듯이 패시베이션층(200)이 노출될 수 있다. In contrast, the second planarization layer 302 is not formed entirely in the buffer area BA, but is formed in a plurality of island structures. That is, the buffer area BA includes an area in which the second planarization layer 302 is formed and an area in which the second planarization layer 302 is not formed. The region where the second planarization layer 302 is not formed corresponds to a region between the second planarization layers 302 of the plurality of island structures. For reference, the passivation layer 200 may be exposed in a region where the second planarization layer 302 is not formed, as shown in FIG. 12 to be described later.

상기 표시 영역(DA)에 형성된 제1 평탄화층(301)과 상기 버퍼 영역(BA)에 형성된 제2 평탄화층(302)은 모두 제1 두께(T1)를 가지도록 형성되어 있다. 따라서, 1회의 마스크 공정을 통해 상기 제1 평탄화층(301)과 상기 제2 평탄화층(302)을 동시에 형성할 수 있다.Both the first planarization layer 301 formed in the display area DA and the second planarization layer 302 formed in the buffer area BA are formed to have a first thickness T1 . Accordingly, the first planarization layer 301 and the second planarization layer 302 may be simultaneously formed through a single mask process.

다만, 상기 표시 영역(DA)에 형성된 제1 평탄화층(301)은 후술하는 도 12에서 알 수 있듯이 그 하부의 단차 구조로 인해서 제1 두께(T1)와 상이한 두께를 가지는 영역이 존재한다. 따라서, 상기 제1 평탄화층(301)은 제1 두께(T1)를 가지는 영역을 포함하지만 상기 제1 평탄화층(301)의 전체가 제1 두께(T1)를 가지는 것은 아니다. However, the first planarization layer 301 formed in the display area DA has an area having a thickness different from that of the first thickness T1 due to the stepped structure therebelow, as can be seen with reference to FIG. 12 to be described later. Accordingly, although the first planarization layer 301 includes a region having the first thickness T1 , the entire first planarization layer 301 does not have the first thickness T1 .

상기 외곽 영역(SA)에는 평탄화층이 형성되어 있지 않다. 다만, 반드시 그에 한정되는 것은 아니고, 상기 외곽 영역(SA)에도 제1 두께(T1) 또는 제1 두께(T1)보다 얇은 제2 두께(T2)를 가지는 평탄화층이 일부 형성될 수 있고, 이 경우 상기 외곽 영역(SA)의 평탄화층은 상기 버퍼 영역(BA)과 마찬가지로 섬 구조로 형성되지만 상기 버퍼 영역(BA)보다 적은 밀도(density)로 형성된다. A planarization layer is not formed in the outer area SA. However, the present invention is not limited thereto, and a planarization layer having a first thickness T1 or a second thickness T2 thinner than the first thickness T1 may be partially formed in the outer area SA, in this case The planarization layer of the outer area SA is formed in an island structure like the buffer area BA, but has a lower density than that of the buffer area BA.

이와 같이 본 발명의 일 실시예에 따르면, 상기 버퍼 영역(BA)에 복수 개의 섬(island) 구조로 제2 평탄화층(302)이 형성되어 있기 때문에, 상기 표시 영역(DA)에 형성되는 제1 평탄화층(301)은 최외곽 패턴 영역이 아니고 상기 버퍼 영역(BA)에 형성된 제2 평탄화층(302)이 최외곽 패턴 영역이 된다. 따라서, 전술한 도 2a에서와 같이 마스크 패턴을 이용한 노광 공정 및 현상 공정을 수행할 때 과식각이 발생한다 하여도, 최외곽 패턴 영역에 해당하는 제2 평탄화층(302) 만이 과식각되고 상기 제1 평탄화층(301)은 과식각되지 않는다. 결국, 상기 표시 영역(DA)에 형성된 제1 평탄화층(301)은 원하는 패턴으로 형성될 수 있어 최외곽 화소에 불량이 발생하지 않게 된다. As described above, according to an exemplary embodiment of the present invention, since the second planarization layer 302 is formed in the buffer area BA with a plurality of island structures, the first planarization layer 302 formed in the display area DA is formed. The planarization layer 301 is not the outermost pattern area, but the second planarization layer 302 formed in the buffer area BA becomes the outermost pattern area. Therefore, even if over-etching occurs when the exposure process and the developing process using the mask pattern are performed as in FIG. 2A, only the second planarization layer 302 corresponding to the outermost pattern region is over-etched and the second planarization layer 302 is over-etched. 1 The planarization layer 301 is not over-etched. As a result, the first planarization layer 301 formed in the display area DA can be formed in a desired pattern, so that defects do not occur in the outermost pixel.

또한, 본 발명의 일 실시예에 따르면, 상기 버퍼 영역(BA)에 복수 개의 섬(island) 구조로 제2 평탄화층(302)이 형성되어 있고 복수 개의 섬(island) 구조로 형성된 제2 평탄화층(302) 사이에는 평탄화층이 형성되어 있지 않고 도 12와 같이 패시베이션층(200)이 노출되기 때문에, 외부의 수분이 상기 제2 평탄화층(302)을 따라 상기 표시 영역(DA)으로 이동하는 것이 방지될 수 있다. 즉, 상기 제2 평탄화층(302)이 연속되지 않고 서로 이격된 복수 개의 섬 구조로 형성되어 있기 때문에, 외부의 수분이 상기 제2 평탄화층(302)을 따라 이동하지 못하게 되어, 상기 표시 영역(DA) 내의 유기 발광층이 수분에 의해 열화되는 것을 방지할 수 있다. Also, according to an embodiment of the present invention, the second planarization layer 302 is formed in the buffer area BA with a plurality of island structures, and the second planarization layer has a plurality of island structures. Since the passivation layer 200 is exposed as shown in FIG. 12 without a planarization layer formed between the 302 , it is difficult for external moisture to move along the second planarization layer 302 to the display area DA. can be prevented. That is, since the second planarization layer 302 is not continuous and is formed in a plurality of island structures spaced apart from each other, external moisture is prevented from moving along the second planarization layer 302, so that the display area ( It is possible to prevent the organic light emitting layer in DA) from being deteriorated by moisture.

도 4a 및 도 4b에 따른 실시예에는 제2 평탄화층(302)이 사각형의 평면 구조로 형성된 모습을 도시하였지만, 반드시 그에 한정되는 것은 아니고, 제2 평탄화층(302)의 평면 구조는 다양한 각형 구조 또는 다양한 곡선형 구조 등으로 변경될 수 있다. 또한, 복수 개의 제2 평탄화층(302)들 사이의 배열 형태 및 간격 등도 전술한 최외곽 화소에 불량 발생을 방지하고 유기 발광층으로 수분 침투를 방지할 수 있는 한 다양한 형태로 변경될 수 있다. Although the embodiment according to FIGS. 4A and 4B shows that the second planarization layer 302 is formed in a rectangular planar structure, the present invention is not limited thereto, and the planar structure of the second planarization layer 302 has various prismatic structures. Alternatively, it may be changed to various curved structures and the like. In addition, the arrangement and spacing between the plurality of second planarization layers 302 may also be changed in various forms as long as it is possible to prevent the occurrence of defects in the aforementioned outermost pixel and to prevent moisture penetration into the organic light emitting layer.

한편, 본 발명은 도 4a 및 도 4b에 따른 실시예에서 상기 제2 평탄화층(302)이 형성되지 않은 영역, 즉, 후술하는 도 12에서 알 수 있듯이 패시베이션층(200)이 노출되는 영역이 복수 개의 섬 구조로 형성되고 상기 제2 평탄화층(302)이 복수 개의 섬 구조 사이 영역에 형성되는 것으로 변경되는 것을 포함한다. 다만, 이 경우에는 제2 평탄화층(302)이 연속되어 표시 영역(DA) 내의 제1 평탄화층(301)까지 연결되기 때문에, 도 4a 및 도 4b에 따른 구조에 비하여 상대적으로 수분 침투에 불리할 수 있다. On the other hand, in the present invention, in the embodiment according to FIGS. 4A and 4B , the region where the second planarization layer 302 is not formed, that is, the region where the passivation layer 200 is exposed, as can be seen in FIG. 12 to be described later, is plural. and a change in which the second planarization layer 302 is formed in a region between the plurality of island structures. However, in this case, since the second planarization layer 302 is continuous and connected to the first planarization layer 301 in the display area DA, it may be relatively disadvantageous for moisture penetration compared to the structure according to FIGS. 4A and 4B . can

도 5a는 본 발명의 다른 실시예에 따른 유기 발광 디스플레이 장치의 개략적 평면도로서, 이는 도 3의 E로 표시된 사각형 내부를 상세히 도시한 것이다. 도 5b는 도 5a의 I-I라인의 단면에 해당하는 평탄화층을 도시한 것이다 FIG. 5A is a schematic plan view of an organic light emitting display device according to another embodiment of the present invention, which shows in detail the inside of the rectangle indicated by E of FIG. 3 . FIG. 5B shows a planarization layer corresponding to a cross section of line I-I of FIG. 5A.

도 5a 및 도 5b에 따른 실시예는 제2 평탄화층(302)의 두께가 변경된 것을 제외하고 전술한 도 4a 및 도 4b에 따른 실시예와 동일하다. 따라서, 동일한 구성에 대해서는 동일한 도면 부호를 부여하였고, 이하에서는 상이한 구성에 대해서만 설명하기로 한다. The embodiment according to FIGS. 5A and 5B is the same as the embodiment according to FIGS. 4A and 4B , except that the thickness of the second planarization layer 302 is changed. Accordingly, the same reference numerals are assigned to the same components, and only different components will be described below.

도 5a 및 도 5b에서 알 수 있듯이, 표시 영역(DA)에 형성된 제1 평탄화층(301)은 제1 두께(T1)로 형성된 영역을 가지고, 버퍼 영역(BA)에 형성된 제2 평탄화층(302)은 제2 두께(T2)로 형성된다. 여기서, 상기 제2 두께(T2)는 상기 제1 두께(T1)보다 얇다. 이와 같이 두께가 서로 다른 제1 평탄화층(301)과 제2 평탄화층(302)은 하프톤 마스크 또는 회절 마스크를 이용하여 1회의 노광 공정을 통해 패턴 형성할 수 있다. 5A and 5B , the first planarization layer 301 formed in the display area DA has an area formed with a first thickness T1 and the second planarization layer 302 formed in the buffer area BA. ) is formed with a second thickness T2. Here, the second thickness T2 is thinner than the first thickness T1 . As described above, the first planarization layer 301 and the second planarization layer 302 having different thicknesses may be patterned through a single exposure process using a halftone mask or a diffraction mask.

도 5a 및 도 5b에 따른 실시예의 경우도, 상기 버퍼 영역(BA)에 복수 개의 섬(island) 구조로 제2 평탄화층(302)이 형성되어 있기 때문에, 노광 공정 및 현상 공정을 수행할 때 과식각이 발생한다 하여도 상기 제1 평탄화층(301)은 과식각되지 않고 원하는 패턴으로 형성될 수 있어 최외곽 화소에 불량이 발생하지 않게 되며, 또한, 외부의 수분이 상기 제2 평탄화층(302)을 따라 이동하지 못하게 되어 표시 영역(DA) 내의 유기 발광층이 수분에 의해 열화되는 것을 방지할 수 있다. 5A and 5B also, since the second planarization layer 302 is formed in a plurality of island structures in the buffer area BA, overeating when performing the exposure process and the developing process Even if an angle occurs, the first planarization layer 301 can be formed in a desired pattern without being over-etched, so that defects do not occur in the outermost pixel, and external moisture is absorbed into the second planarization layer 302 . ), so that the organic emission layer in the display area DA is prevented from being deteriorated by moisture.

특히, 도 5a 및 도 5b에 따른 실시예는 전술한 도 4a 및 도 4b에 따른 실시예보다 제2 평탄화층(302)의 두께가 얇아 제2 평탄화층(302)의 전체 부피가 더 작기 때문에 수분 침투 가능성이 더 줄어들 수 있다. In particular, since the thickness of the second planarization layer 302 is thinner in the embodiment according to FIGS. 5A and 5B than the embodiment according to FIGS. 4A and 4B described above, the total volume of the second planarization layer 302 is smaller. The possibility of penetration may be further reduced.

전술한 도 4a 및 도 4b에서와 마찬가지로, 도 5a 및 도 5b에 따른 실시예에서 상기 제2 평탄화층(302)이 형성되지 않은 영역, 즉, 후술하는 도 13에서 알 수 있듯이 패시베이션층(200)이 노출되는 영역이 복수 개의 섬 구조로 형성되고 상기 제2 평탄화층(302)이 복수 개의 섬 구조 사이 영역에 형성되는 것으로 변경되는 것도 가능하지만, 이 경우는 상대적으로 수분 침투에 불리할 수 있다. As in the above-described FIGS. 4A and 4B, in the embodiment according to FIGS. 5A and 5B, the region in which the second planarization layer 302 is not formed, that is, the passivation layer 200 as can be seen in FIG. 13 to be described later. It is also possible that the exposed region is formed in a plurality of island structures and the second planarization layer 302 is formed in a region between the plurality of island structures, but in this case, it may be relatively disadvantageous to moisture penetration.

도 6a는 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 유기 발광 디스플레이 장치의 개략적 평면도로서, 이는 도 3의 E로 표시된 사각형 내부를 상세히 도시한 것이다. 도 6b는 도 6a의 I-I라인의 단면에 해당하는 평탄화층을 도시한 것이다 6A is a schematic plan view of an organic light emitting display device according to still another embodiment of the present invention, which shows in detail the inside of the rectangle indicated by E of FIG. 3 . FIG. 6B shows a planarization layer corresponding to a cross section of line I-I of FIG. 6A.

도 6a 및 도 6b에 따른 실시예는 제2 평탄화층(302)의 두께가 변경된 것을 제외하고 전술한 도 4a 및 도 4b에 따른 실시예와 동일하다. 따라서, 동일한 구성에 대해서는 동일한 도면 부호를 부여하였고, 이하에서는 상이한 구성에 대해서만 설명하기로 한다.The embodiment according to FIGS. 6A and 6B is the same as the embodiment according to FIGS. 4A and 4B described above except that the thickness of the second planarization layer 302 is changed. Accordingly, the same reference numerals are assigned to the same components, and only different components will be described below.

도 6a 및 도 6b에서 알 수 있듯이, 표시 영역(DA)에 형성된 제1 평탄화층(301)은 제1 두께(T1)로 형성된 영역을 가지고, 버퍼 영역(BA)에 형성된 제2 평탄화층(302)은 제2 두께(T2)로 형성된 영역과 제1 두께(T1)로 형성된 영역을 가진다. 여기서, 상기 제2 두께(T2)는 상기 제1 두께(T1)보다 얇다. 이와 같이 제1 두께(T1) 또는 제2 두께(T2)를 가지는 제1 평탄화층(301)과 제2 평탄화층(302)은 하프톤 마스크 또는 회절 마스크를 이용하여 1회의 노광 공정을 통해 패턴 형성할 수 있다. 6A and 6B , the first planarization layer 301 formed in the display area DA has an area formed with a first thickness T1 and the second planarization layer 302 formed in the buffer area BA. ) has a region formed with the second thickness T2 and a region formed with the first thickness T1 . Here, the second thickness T2 is thinner than the first thickness T1 . As described above, the first planarization layer 301 and the second planarization layer 302 having the first thickness T1 or the second thickness T2 are patterned through a single exposure process using a halftone mask or a diffraction mask. can do.

도 6a 및 도 6b에 따른 실시예의 경우도, 상기 버퍼 영역(BA)에 복수 개의 섬(island) 구조로 제2 평탄화층(302)이 형성되어 있기 때문에, 노광 공정 및 현상 공정을 수행할 때 과식각이 발생한다 하여도 상기 제1 평탄화층(301)은 과식각되지 않고 원하는 패턴으로 형성될 수 있어 최외곽 화소에 불량이 발생하지 않게 되며, 또한, 외부의 수분이 상기 제2 평탄화층(302)을 따라 이동하지 못하게 되어 표시 영역(DA) 내의 유기 발광층이 수분에 의해 열화되는 것을 방지할 수 있다. 6A and 6B also, since the second planarization layer 302 is formed in a plurality of island structures in the buffer area BA, overeating when performing the exposure process and the developing process Even if an angle occurs, the first planarization layer 301 can be formed in a desired pattern without being over-etched, so that defects do not occur in the outermost pixel, and external moisture is absorbed into the second planarization layer 302 . ), so that the organic emission layer in the display area DA is prevented from being deteriorated by moisture.

특히, 도 6a 및 도 6b에 따른 실시예는 전술한 도 4a 및 도 4b에 따른 실시예보다 제2 평탄화층(302)의 전체 부피가 더 작기 때문에 수분 침투 가능성이 더 줄어들 수 있다. In particular, in the embodiment according to FIGS. 6A and 6B , since the total volume of the second planarization layer 302 is smaller than that in the embodiment according to FIGS. 4A and 4B described above, the possibility of moisture penetration can be further reduced.

전술한 도 4a 및 도 4b에서와 마찬가지로, 도 6a 및 도 6b에 따른 실시예에서 상기 제2 평탄화층(302)이 형성되지 않은 영역, 후술하는 도 14에서 알 수 있듯이 패시베이션층(200)이 노출되는 영역이 복수 개의 섬 구조로 형성되고 상기 제2 평탄화층(302)이 복수 개의 섬 구조 사이에 형성되는 것으로 변경되는 것도 가능하지만, 이 경우는 상대적으로 수분 침투에 불리할 수 있다. As in FIGS. 4A and 4B described above, in the embodiment according to FIGS. 6A and 6B , the passivation layer 200 is exposed as can be seen from the region where the second planarization layer 302 is not formed, and FIG. 14 to be described later. It is also possible to change the region to be formed in a plurality of island structures and the second planarization layer 302 is formed between the plurality of island structures, but in this case, moisture penetration may be relatively disadvantageous.

도 7a는 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 유기 발광 디스플레이 장치의 개략적 평면도로서, 이는 도 3의 E로 표시된 사각형 내부를 상세히 도시한 것이다. 도 7b는 도 7a의 I-I라인의 단면에 해당하는 평탄화층을 도시한 것이다 7A is a schematic plan view of an organic light emitting display device according to still another embodiment of the present invention, which shows the inside of the rectangle indicated by E of FIG. 3 in detail. FIG. 7B shows a planarization layer corresponding to a cross section of line I-I of FIG. 7A.

도 7a 및 도 7b에 따른 실시예는 제3 평탄화층(303)이 추가로 구비된 것을 제외하고 전술한 도 4a 및 도 4b에 따른 실시예와 동일하다. 따라서, 동일한 구성에 대해서는 동일한 도면 부호를 부여하였고, 이하에서는 상이한 구성에 대해서만 설명하기로 한다.The embodiment according to FIGS. 7A and 7B is the same as the embodiment according to FIGS. 4A and 4B described above, except that a third planarization layer 303 is additionally provided. Accordingly, the same reference numerals are assigned to the same components, and only different components will be described below.

도 7a 및 도 7b에서 알 수 있듯이, 표시 영역(DA)에는 제1 평탄화층(301)이 형성되어 있다. 그리고, 버퍼 영역(BA)에는 제2 평탄화층(302) 및 제3 평탄화층(303)이 형성되어 있다. 상기 제2 평탄화층(302)은 서로 이격되는 복수 개의 섬 구조로 이루어지고, 상기 제3 평탄화층(303)은 상기 복수 섬 구조 사이 영역에 형성된다. 7A and 7B , the first planarization layer 301 is formed in the display area DA. In addition, the second planarization layer 302 and the third planarization layer 303 are formed in the buffer area BA. The second planarization layer 302 has a plurality of island structures spaced apart from each other, and the third planarization layer 303 is formed in a region between the plurality of island structures.

상기 제1 평탄화층(301)은 제1 두께(T1)로 형성된 영역을 가지고, 상기 제2 평탄화층(302)은 제1 두께(T1)로 형성된 영역을 가지고, 상기 제3 평탄화층(303)은 상기 제1 두께(T1)보다 얇은 제2 두께(T2)로 형성된 영역을 가진다. 즉, 상기 제3 평탄화층(303)이 상기 제2 평탄화층(302)보다 얇은 두께로 형성될 수 있다. The first planarization layer 301 has an area formed with a first thickness T1 , the second planarization layer 302 has an area formed with a first thickness T1 , and the third planarization layer 303 has an area formed with a first thickness T1 . has a region formed with a second thickness T2 that is thinner than the first thickness T1. That is, the third planarization layer 303 may be formed to have a thickness smaller than that of the second planarization layer 302 .

상기 제1 두께(T1)를 가지는 제1 평탄화층(301)과 제2 평탄화층(302) 및 상기 제2 두께(T2)를 가지는 제3 평탄화층(303)은 하프톤 마스크 또는 회절 마스크를 이용하여 1회의 노광 공정을 통해 패턴 형성할 수 있다. The first planarization layer 301 and the second planarization layer 302 having the first thickness T1 and the third planarization layer 303 having the second thickness T2 are formed using a halftone mask or a diffraction mask. Thus, a pattern can be formed through one exposure process.

도 7a 및 도 7b에 따른 실시예의 경우도, 상기 버퍼 영역(BA)에 제2 평탄화층(302a, 302b)이 형성되어 있기 때문에, 노광 공정 및 현상 공정을 수행할 때 과식각이 발생한다 하여도 상기 제1 평탄화층(301)은 과식각되지 않고 원하는 패턴으로 형성될 수 있어 최외곽 화소에 불량이 발생하지 않게 된다. Even in the case of the embodiment according to FIGS. 7A and 7B , since the second planarization layers 302a and 302b are formed in the buffer area BA, over-etching occurs when the exposure process and the developing process are performed. The first planarization layer 301 may be formed in a desired pattern without being over-etched, so that defects do not occur in the outermost pixel.

또한, 상기 버퍼 영역(BA) 내에, 상대적으로 두께가 두꺼워 수분 침투에 불리한 제2 평탄화층(302)은 연속되지 않고 섬 구조로 형성되고 상대적으로 두께가 얇아 수분 침투에 유리한 제3 평탄화층(303)은 섬 구조 사이 영역에 형성되어 있기 때문에, 상기 버퍼 영역(BA) 전체에 제1 두께(T1)로 평탄화층이 형성되는 경우에 비하여 표시 영역(DA) 내로 수분 침투 방지효과가 증진될 수 있다. In addition, in the buffer area BA, the second planarization layer 302 is not continuous and is formed in an island structure because it is relatively thick, which is unfavorable to water penetration, and has a relatively thin third planarization layer 303 which is advantageous to water penetration. ) is formed in the area between the island structures, so that the effect of preventing moisture penetration into the display area DA may be improved compared to the case in which the planarization layer is formed with the first thickness T1 over the buffer area BA. .

한편, 도 7a 및 도 7b에 따른 실시예에서 상대적으로 두께가 얇은 제2 두께(T2)의 제3 평탄화층(303)이 복수 개의 섬 구조로 형성되고 상대적으로 두께가 두꺼운 제1 두께(T1)의 제2 평탄화층(302)이 복수 개의 섬 구조 사이에 형성되는 것으로 변경되는 것도 가능하지만, 이 경우는 상대적으로 수분 침투에 불리할 수 있다. Meanwhile, in the embodiment according to FIGS. 7A and 7B , the third planarization layer 303 having a relatively thin second thickness T2 is formed in a plurality of island structures and has a relatively thick first thickness T1 . It is also possible to change the second planarization layer 302 to be formed between a plurality of island structures, but in this case, it may be relatively disadvantageous to moisture penetration.

도 8 내지 도 11은 본 발명의 다양한 실시예에 따른 유기 발광 디스플레이 장치의 개략적 평면도로서, 이는 도 3의 E로 표시된 사각형 내부를 상세히 도시한 것이다. 8 to 11 are schematic plan views of an organic light emitting display device according to various embodiments of the present disclosure, illustrating in detail the inside of the rectangle indicated by E of FIG. 3 .

도 8, 도 9 및 도 10에 따른 실시예는 각각 제2 평탄화층(302)의 구조가 변경된 것을 제외하고 전술한 도 4a, 도 5a, 및 도 6a에 따른 실시예와 동일하다. 따라서, 변경된 사항에 대해서만 설명하기로 한다. The embodiment according to FIGS. 8, 9 and 10 is the same as the embodiment according to FIGS. 4A, 5A, and 6A, except that the structure of the second planarization layer 302 is changed, respectively. Therefore, only the changed items will be described.

도 8, 도 9 및 도 10의 경우는 제2 평탄화층(302)이 기판(100)의 끝 변과 평행하게 연장된 바(bar) 구조로 이루어진다. 즉, 상기 제2 평탄화층(302)은 기판(100)의 상변과 평행하게 연장된 복수 개의 바(bar) 구조와 기판(100)의 좌변과 평행하게 연장된 복수 개의 바(bar) 구조를 포함한다. 따라서, 상기 제2 평탄화층(302)이 서로 수직을 이루는 복수 개의 바(bar) 구조를 포함한다. 이와 같이, 상기 제2 평탄화층(302)이 기판(100)의 끝 변과 평행하게 연장된 바(bar) 구조를 포함하는 경우는 상기 제2 평탄화층(302)이 기판(200)의 끝 변과 평행하지 않게 연장된 경우에 비하여 수분 침투 경로가 길어질 수 있고 그에 따라 표시 영역(DA)으로의 수분 침투 가능성이 줄어들 수 있다. In the case of FIGS. 8 , 9 and 10 , the second planarization layer 302 has a bar structure extending parallel to the end side of the substrate 100 . That is, the second planarization layer 302 includes a plurality of bar structures extending parallel to the upper side of the substrate 100 and a plurality of bar structures extending parallel to the left side of the substrate 100 . do. Accordingly, the second planarization layer 302 includes a plurality of bar structures that are perpendicular to each other. As such, when the second planarization layer 302 includes a bar structure extending parallel to the end side of the substrate 100 , the second planarization layer 302 is the end side of the substrate 200 . A moisture penetration path may be longer than a case in which it extends not parallel to the polarizer, and accordingly, a possibility of moisture penetration into the display area DA may be reduced.

도 11에 따른 실시예는 제1 두께(T1)로 형성된 제2 평탄화층 영역(302a)의 구조가 변경된 것을 제외하고 전술한 도 7a에 따른 실시예와 동일하다. 따라서, 변경된 사항에 대해서만 설명하기로 한다. The embodiment according to FIG. 11 is the same as the embodiment according to FIG. 7A , except that the structure of the second planarization layer region 302a formed to the first thickness T1 is changed. Therefore, only the changed items will be described.

도 11의 경우는 제1 두께(T1)로 형성된 제2 평탄화층 영역(302a)이 기판(100)의 끝 변과 평행하게 연장된 바(bar) 구조로 이루어진다. 즉, 상기 제1 두께(T1)로 형성된 제2 평탄화층 영역(302a)은 기판(100)의 상변과 평행하게 연장된 복수 개의 바(bar) 구조와 기판(100)의 좌변과 평행하게 연장된 복수 개의 바(bar) 구조를 포함한다. 따라서, 상기 제1 두께(T1)로 형성된 제2 평탄화층 영역(302a)이 서로 수직을 이루는 복수 개의 바(bar) 구조를 포함한다. In the case of FIG. 11 , the second planarization layer region 302a formed with the first thickness T1 has a bar structure extending parallel to the end side of the substrate 100 . That is, the second planarization layer region 302a formed to the first thickness T1 has a plurality of bar structures extending parallel to the upper side of the substrate 100 and extending in parallel to the left side of the substrate 100 . It includes a plurality of bar structures. Accordingly, the second planarization layer region 302a formed with the first thickness T1 includes a plurality of bar structures that are perpendicular to each other.

도 12는 본 발명의 일 실시예에 따른 유기 발광 디스플레이 장치의 개략적인 단면도로서, 이는 전술한 도 4a 및 도 4b에 따른 버퍼 영역(BA)이 구비된 유기 발광 디스플레이 장치에 관한 것이다. 12 is a schematic cross-sectional view of an organic light emitting display device according to an embodiment of the present invention, which relates to the organic light emitting display device provided with the buffer area BA according to FIGS. 4A and 4B described above.

도 12에서 알 수 있듯이, 종래의 유기 발광 디스플레이 장치는 기판(100), 박막 트랜지스터(T), 패시베이션층(200), 평탄화층(301, 302), 발광 소자(400), 뱅크층(500), 봉지층(600), 접착층(700), 및 봉지 기판(800)을 포함하여 이루어진다. 12 , the conventional organic light emitting display device includes a substrate 100 , a thin film transistor T, a passivation layer 200 , planarization layers 301 and 302 , a light emitting device 400 , and a bank layer 500 . , an encapsulation layer 600 , an adhesive layer 700 , and an encapsulation substrate 800 .

상기 박막 트랜지스터(T)는 상기 기판(100)의 표시 영역(DA)에 형성된다. 상기 박막 트랜지스터(T)는 게이트 전극(110), 게이트 절연막(130), 액티브층(150), 드레인 전극(170a), 및 소스 전극(170b)을 포함하여 이루어진다. 상기 게이트 전극(110)은 상기 기판(100)의 상면 상에 형성되고, 상기 게이트 절연막(130)은 상기 게이트 전극(110)의 상면 상에 형성된다. 상기 게이트 절연막(130)은 비표시 영역(NDA)까지 연장될 수 있다. 상기 액티브층(150)은 상기 게이트 절연막(130)의 상면 상에 형성되고, 상기 드레인 전극(170a)과 소스 전극(170b)은 상기 액티브층(150)의 상면에서 서로 마주하고 있다. 이와 같은 박막 트랜지스터(T)는 당업계에 공지된 다양한 형태로 변경될 수 있다. 예를 들어, 도면에서 상기 게이트 전극(110)이 상기 액티브층(150)의 아래에 형성되는 바텀 게이트(Bottom Gate) 구조를 도시하였지만 상기 게이트 전극(110)이 상기 액티브층(150)의 위에 형성되는 탑 게이트(Top Gate) 구조로 이루어질 수도 있다. The thin film transistor T is formed in the display area DA of the substrate 100 . The thin film transistor T includes a gate electrode 110 , a gate insulating layer 130 , an active layer 150 , a drain electrode 170a , and a source electrode 170b . The gate electrode 110 is formed on the upper surface of the substrate 100 , and the gate insulating layer 130 is formed on the upper surface of the gate electrode 110 . The gate insulating layer 130 may extend to the non-display area NDA. The active layer 150 is formed on the top surface of the gate insulating layer 130 , and the drain electrode 170a and the source electrode 170b face each other on the top surface of the active layer 150 . Such a thin film transistor T may be changed into various forms known in the art. For example, although the drawing shows a bottom gate structure in which the gate electrode 110 is formed under the active layer 150 , the gate electrode 110 is formed on the active layer 150 . It may also be formed of a top gate structure.

상기 패시베이션층(200)은 상기 박막 트랜지스터(T)의 상면 상에 형성되어 상기 박막 트랜지스터(T)를 보호한다. 상기 패시베이션층(200)은 비표시 영역(NDA)까지 연장될 수 있다. 상기 패시베이션층(200)은 무기 절연 물질, 예를 들어, 실리콘 산화막(SiO_X) 또는 실리콘 질화막(SiN_X)으로 이루어질 수 있으나, 반드시 그에 한정되는 것은 아니다. The passivation layer 200 is formed on the upper surface of the thin film transistor T to protect the thin film transistor T. The passivation layer 200 may extend to the non-display area NDA. The passivation layer 200 may be formed of an inorganic insulating material, for example, a silicon oxide layer (SiO _X ) or a silicon nitride layer (SiN _X ), but is not limited thereto.

상기 평탄화층(301, 302)은 상기 패시베이션층(200)의 상면 상에 형성되어 유기 발광 디스플레이 장치의 표면을 평탄화시킨다. 상기 평탄화층(301, 302)은 표시 영역(DA)에 형성되는 제1 평탄화층(301) 및 버퍼 영역(BA)에 형성되는 제2 평탄화층(302)을 포함한다. 상기 제1 평탄화층(301)에는 콘택홀이 형성되어 상기 콘택홀을 통해 상기 박막 트랜지스터(T)의 소스 전극(170b)이 노출될 수 있다. The planarization layers 301 and 302 are formed on the top surface of the passivation layer 200 to planarize the surface of the organic light emitting display device. The planarization layers 301 and 302 include a first planarization layer 301 formed in the display area DA and a second planarization layer 302 formed in the buffer area BA. A contact hole may be formed in the first planarization layer 301 to expose the source electrode 170b of the thin film transistor T through the contact hole.

상기 제1 평탄화층(301)과 제2 평탄화층(302)은 전술한 도 4a 및 도 4b와 동일하므로 반복 설명은 생략하기로 한다. 상기 평탄화층(301, 302)은 아크릴 수지(acryl resin), 에폭시 수지(epoxy resin), 페놀 수지(phenolic resin), 폴리아미드 수지(polyamide resin), 폴리이미드 수지(polyimide resin) 등의 유기 절연물로 이루어질 수 있으나, 반드시 그에 한정되는 것은 아니다. Since the first planarization layer 301 and the second planarization layer 302 are the same as those of FIGS. 4A and 4B, a repeated description will be omitted. The planarization layers 301 and 302 are made of an organic insulating material such as an acrylic resin, an epoxy resin, a phenolic resin, a polyamide resin, or a polyimide resin. It can be done, but is not necessarily limited thereto.

상기 발광 소자(400)는 상기 제1 평탄화층(301)의 상면 상에 형성된다. 상기 발광 소자(400)는 애노드 전극(410), 유기 발광층(420), 및 캐소드 전극(430)을 포함하여 이루어진다. The light emitting device 400 is formed on the upper surface of the first planarization layer 301 . The light emitting device 400 includes an anode electrode 410 , an organic light emitting layer 420 , and a cathode electrode 430 .

상기 애노드 전극(410)은 상기 제1 평탄화층(301)에 구비된 콘택홀을 통해서 상기 박막 트랜지스터(T)의 소스 전극(170b)과 연결된다. 상기 애노드 전극(410)은 유기 발광 표시 장치가 상부 발광(Top emission) 방식인 경우에는 반사 도전물로 이루어지고 하부 발광(Bottom emission) 방식인 경우에는 투명 도전물로 이루어진다. The anode electrode 410 is connected to the source electrode 170b of the thin film transistor T through a contact hole provided in the first planarization layer 301 . The anode electrode 410 is made of a reflective conductive material when the organic light emitting diode display is a top emission type, and is made of a transparent conductive material when the organic light emitting display is a bottom emission type.

상기 유기 발광층(420)은 상기 애노드 전극(410)의 상면 상에 형성되어 있다. 상기 유기 발광층(420)은 정공 주입층(Hole Injecting Layer), 정공 수송층(Hole Transporting Layer), 발광층(Emitting Layer), 전자 수송층(Electron Transporting Layer), 및 전자 주입층(Electron Injecting Layer)을 포함하여 이루어질 수 있다. 이와 같은 유기 발광층(420)의 구조는 당업계에 공지된 다양한 형태로 변경될 수 있다. 상기 유기 발광층(420)은 화소 별로 적색(R)의 광, 녹색(G)의 광, 또는 청색(B)의 광이 방출되도록 구성될 수도 있고, 모든 화소에서 백색(W)의 광이 방출되도록 구성될 수도 있다. 상기 유기 발광층(420)에서 백색(W)의 광이 방출될 경우에는 도시하지는 않았지만 광이 진행되는 경로에 화소 별로 컬러 필터가 추가로 형성된다. The organic emission layer 420 is formed on the top surface of the anode electrode 410 . The organic light emitting layer 420 is a hole injection layer (Hole Injecting Layer), a hole transport layer (Hole Transporting Layer), a light emitting layer (Emitting Layer), an electron transport layer (Electron Transporting Layer), and an electron injection layer (Electron Injecting Layer) including can be done The structure of the organic light emitting layer 420 may be changed to various forms known in the art. The organic light emitting layer 420 may be configured to emit red (R) light, green (G) light, or blue (B) light for each pixel, and to emit white (W) light from all pixels. may be configured. When white (W) light is emitted from the organic light emitting layer 420 , a color filter is additionally formed for each pixel in a path through which the light travels, although not shown.

상기 캐소드 전극(430)은 상기 유기 발광층(420)의 상면 상에 형성된다. 상기 캐소드 전극(430)에는 공통 전압이 인가될 수 있고, 따라서, 상기 캐소드 전극(430)은 표시 영역(DA) 전체에 형성될 수 있다. 경우에 따라서, 상기 캐소드 전극(430)은 상기 버퍼 영역(BA)까지 연장될 수 있다. 상기 캐소드 전극(430)은 유기 발광 표시 장치가 상부 발광(Top emission) 방식인 경우에는 투명 도전물로 이루어지고 하부 발광(Bottom emission) 방식인 경우에는 반사 도전물로 이루어진다. The cathode electrode 430 is formed on the top surface of the organic emission layer 420 . A common voltage may be applied to the cathode electrode 430 , and thus the cathode electrode 430 may be formed in the entire display area DA. In some cases, the cathode electrode 430 may extend to the buffer area BA. The cathode electrode 430 is made of a transparent conductive material when the organic light emitting diode display is a top emission type, and is made of a reflective conductive material when the organic light emitting display is a bottom emission type.

상기 뱅크층(500)은 상기 애노드 전극(410)의 일부를 노출시키면서 상기 제1 평탄화층(301)의 상면 상에 형성되어 있다. 상기 뱅크층(500)은 매스릭스 구조로 형성되어 상기 뱅크층(500)에 의해 화소 영역이 정의될 수 있다. The bank layer 500 is formed on the upper surface of the first planarization layer 301 while exposing a portion of the anode electrode 410 . The bank layer 500 may have a matrix structure, and a pixel area may be defined by the bank layer 500 .

상기 봉지층(600)은 상기 캐소드 전극(430)의 상면 상에 형성되면서 상기 발광 소자(400)를 덮고 있다. 상기 봉지층(600)은 상기 표시 영역(DA) 전체에 형성되고 또한 상기 버퍼 영역(BA)을 포함한 상기 비표시 영역(NDA)까지 연장되어, 상기 발광 소자(400) 내부로 수분이 침투하는 것을 방지한다. 이와 같은 봉지층(600)은 무기 절연 물질, 예를 들어, 실리콘 질화막(SiN_X)으로 이루어질 수 있으나, 반드시 그에 한정되는 것은 아니다. The encapsulation layer 600 is formed on the upper surface of the cathode electrode 430 and covers the light emitting device 400 . The encapsulation layer 600 is formed on the entire display area DA and extends to the non-display area NDA including the buffer area BA to prevent moisture from penetrating into the light emitting device 400 . prevent. The encapsulation layer 600 may be formed of an inorganic insulating material, for example, a silicon nitride layer (SiN _X ), but is not limited thereto.

상기 접착층(700)은 상기 봉지층(600)의 상면 상에 형성되어 상기 봉지 기판(800)을 상기 봉지층(600)에 접착시킨다. 상기 접착층(700)은 수분 침투 방지 기능을 가진 당업계에 공지된 다양한 접착 물질로 이루어질 수 있다. The adhesive layer 700 is formed on the upper surface of the encapsulation layer 600 to adhere the encapsulation substrate 800 to the encapsulation layer 600 . The adhesive layer 700 may be made of various adhesive materials known in the art having a moisture penetration prevention function.

상기 봉지 기판(800)은 상기 접착층(700)의 상면 상에 형성되어 유기 발광 디스플레이 장치의 위쪽으로부터 수분이 침투하는 것을 방지한다. 상기 봉지 기판(800)은 금속으로 이루어질 수 있지만, 반드시 그에 한정되는 것은 아니고, 예를 들어 투명한 유리로 이루어질 수도 있다. The encapsulation substrate 800 is formed on the upper surface of the adhesive layer 700 to prevent moisture from penetrating from above the organic light emitting display device. The encapsulation substrate 800 may be made of metal, but is not limited thereto, and may be made of, for example, transparent glass.

도 13은 본 발명의 다른 실시예에 따른 유기 발광 디스플레이 장치의 개략적인 단면도로서, 이는 전술한 도 12에 따른 실시예에서 버퍼 영역(BA)이 도 5a 및 도 5b에 따른 구조로 변경된 것이다. 13 is a schematic cross-sectional view of an organic light emitting display device according to another embodiment of the present invention, in which the buffer area BA is changed to the structure shown in FIGS. 5A and 5B in the embodiment according to FIG. 12 .

도 14는 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 유기 발광 디스플레이 장치의 개략적인 단면도로서, 이는 전술한 도 12에 따른 실시예에서 버퍼 영역(BA)이 도 6a 및 도 6b에 따른 구조로 변경된 것이다. 14 is a schematic cross-sectional view of an organic light emitting display device according to another embodiment of the present invention, in which the buffer area BA is changed to the structure shown in FIGS. 6A and 6B in the embodiment according to FIG. 12 .

도 15는 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 유기 발광 디스플레이 장치의 개략적인 단면도로서, 이는 전술한 도 12에 따른 실시예에서 버퍼 영역(BA)이 도 7a 및 도 7b에 따른 구조로 변경된 것이다. 15 is a schematic cross-sectional view of an organic light emitting display device according to another embodiment of the present invention, in which the buffer area BA is changed to the structure shown in FIGS. 7A and 7B in the embodiment according to FIG. 12 .

구체적으로 도시하지는 않았지만, 본 발명은 버퍼 영역(BA)이 도 8 내지 도 11에 따른 구조로 이루어진 유기 발광 디스플레이 장치를 포함한다. Although not specifically illustrated, the present invention includes an organic light emitting display device in which the buffer area BA has the structure shown in FIGS. 8 to 11 .

이상 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 실시예들을 상세하게 설명하였으나, 본 발명은 반드시 이러한 실시예로 국한되는 것은 아니고, 본 발명의 기술사상을 벗어나지 않는 범위 내에서 다양하게 변형 실시될 수 있다. 따라서, 본 발명에 개시된 실시예들은 본 발명의 기술 사상을 한정하기 위한 것이 아니라 설명하기 위한 것이고, 이러한 실시예에 의하여 본 발명의 기술 사상의 범위가 한정되는 것은 아니다. 그러므로, 이상에서 기술한 실시예들은 모든 면에서 예시적인 것이며 한정적이 아닌 것으로 이해해야만 한다. 본 발명의 보호 범위는 청구 범위에 의하여 해석되어야 하며, 그와 동등한 범위 내에 있는 모든 기술 사상은 본 발명의 권리 범위에 포함되는 것으로 해석되어야 할 것이다 Although the embodiments of the present invention have been described in detail with reference to the accompanying drawings, the present invention is not necessarily limited to these embodiments, and various modifications may be made within the scope without departing from the spirit of the present invention. Therefore, the embodiments disclosed in the present invention are not intended to limit the technical spirit of the present invention, but to illustrate, and the scope of the technical spirit of the present invention is not limited by these embodiments. Therefore, it should be understood that the embodiments described above are illustrative in all respects and not restrictive. The protection scope of the present invention should be interpreted by the claims, and all technical ideas within the scope equivalent thereto should be construed as being included in the scope of the present invention.

100: 기판 T: 박막 트랜지스터
200: 패시베이션층 301, 302: 제1, 제2 평탄화층
400: 발광 소자 500: 뱅크층
600: 봉지층 700: 접착층
800: 봉지 기판100: substrate T: thin film transistor
200: passivation layers 301, 302: first and second planarization layers
400: light emitting device 500: bank layer
600: encapsulation layer 700: adhesive layer
800: encapsulation substrate

Claims

a substrate including a display area, a buffer area in contact with the display area, and an outer area outside the buffer area; and
a first planarization layer provided in the display area on the substrate; and
a second planarization layer provided in a buffer region on the substrate;
The second planarization layer is made of a pattern different from that of the first planarization layer,
The second planarization layer includes a plurality of island structures that do not contact each other, and the plurality of island structures do not contact the first planarization layer.

delete

According to claim 1,
The first planarization layer includes an area having a first thickness, and the second planarization layer includes an area having the first thickness.

According to claim 1,
The first planarization layer includes a region having a first thickness, and the second planarization layer includes a region having a second thickness smaller than the first thickness.

According to claim 1,
a passivation layer provided between the substrate and the first planarization layer in the display area and between the substrate and the second planarization layer in the buffer area;
A portion of the passivation layer is exposed in a buffer region on the substrate without being covered by the plurality of island structures.

According to claim 1,
Further comprising a third planarization layer provided on the substrate in the buffer region,
The third planarization layer is exposed between the plurality of island structures, and the thickness of the third planarization layer is thinner than that of the second planarization layer.

According to claim 1,
and the second planarization layer includes a plurality of bar structures extending parallel to an end side of the substrate.

delete

According to claim 1,
An organic light emitting display device in which a planarization layer is not provided in the outer region or a planarization layer having a density lower than that of the second planarization layer is provided.