KR102448421B1 - Method of caring nail - Google Patents
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Abstract
Description
본 발명은 손발톱 손질 방법에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 손발톱의 미용을 위하여 조형선을 만들 때 절단과 절삭의 공정을 최소화하여 손발톱의 표면이 상하고 약해지는 것을 방지함은 물론 손발톱 주위의 피부조직에 상처가 발생하는 것을 방지하면서 손발톱의 손질과 케어가 가능하고, 인조네일 등을 안정적으로 제거할 수 있도록 하는 손톱 손질 방법에 관한 것이다.The present invention relates to a nail care method, and more particularly, to minimize the process of cutting and cutting when making a shape line for the beauty of the nail, thereby preventing the surface of the nail from being damaged and weakening as well as the skin tissue around the nail. It relates to a nail care method that enables the trimming and care of the nail while preventing the occurrence of a wound on the nail and stably removing the artificial nail.
최근 미용에 관한 관심이 지속적으로 증가함에 따라 화장품 산업은 물론, 손톱과 발톱을 관리하는 네일 미용 산업과 관련된 시장 또한 지속적인 증가 추세에 있다. 그리고 네일 미용 산업은 크게 네일 케어, 인조네일, 네일 아트의 세 개의 분야로 분류될 수 있다.Recently, as interest in beauty continues to increase, the market related to the cosmetic industry, as well as the nail beauty industry that manages nails and toenails, is also continuously increasing. And the nail beauty industry can be broadly classified into three fields: nail care, artificial nails, and nail art.
이 중 네일 케어는 손톱이나 발톱의 안쪽부분, 즉 손톱과 손가락 피부의 접촉 부위 또는 발톱과 발가락 피부의 접촉 부위에 형성되는 각피(角皮)를 의미하는 손톱 주변의 큐티클(조상막 Cuticle, 손톱 뿌리 부분의 피부 각질)을 제거하고 정리하는 것이다.Among these, nail care refers to the cuticle around the nail, which means the cuticle (角皮) formed on the inner part of the nail or toenail, that is, the contact area between the nail and the skin of the finger or the contact area between the skin of the toenail and the toe. It is to remove and organize the dead skin cells on the part of the skin.
또한, 인조네일(ARTIFICIAL NAILS)은 손발톱 위에서 다양한 재료와 물질을 이용하여 여러 가지로 디자인하거나, 손톱 형상으로 제작된 얇은 플라스틱 플레이트에 다양한 재료와 물질을 이용하여 여러 가지 디자인을 인쇄하고, 이를 자연 손톱에 부착하여 손톱을 아름답게 꾸미는 것이다.In addition, artificial nails (ARTIFICIAL NAILS) are designed in various ways using various materials and materials on the nail, or various designs are printed using various materials and materials on a thin plastic plate made in the shape of a nail, It is attached to the nail to beautify the nails.
이러한, 인조네일은 접착제를 이용하여 손톱에 부착하여 자연 손톱을 보다 아름답게 꾸미는데 사용하며, 다양한 크기와 디자인으로 제작된다. 이러한 인조네일은 단시간에 접착되는 접착제를 사용하여 손톱의 상면에 부착한 후, 균일하게 가압하여 고정한다.These artificial nails are attached to the nails using an adhesive and used to decorate natural nails more beautifully, and are manufactured in various sizes and designs. These artificial nails are attached to the top surface of the nail using an adhesive that adheres in a short time, and then fixed by uniformly pressing.
또한, 손톱 손질과 인조네일에 관련한 선행문헌으로 국내 공개특허 제10-2021-0058601호(공개일:2021.05.24, 명칭:손톱손질용 미용기구), 국내 등록특허 제10-2342677호(등록일: 2021.12.20, 명칭:인조네일), 공개특허 제10-2016-0125345호(공개일:2016.10.31, 명칭:네일 제거 보조구) 등이 개시되어 있다.In addition, as prior documents related to nail care and artificial nails, Korean Patent Publication No. 10-2021-0058601 (published date: May 24, 2021, title: Beauty apparatus for nail care), domestic registered patent No. 10-2342677 (registration date: 2021.12.20, title: artificial nail), Patent Publication No. 10-2016-0125345 (published on October 31, 2016, title: nail removal aid) and the like are disclosed.
이처럼, 네일 케어와 인조네일을 제거하는 다양한 선행기술이 개시되어 있으나, 네일 케어나 손톱에 부착된 인조네일을 제거하는 과정에서 손발톱이 상하고, 손발톱 주변의 피부가 손상되는 등의 문제점이 있어 그 작업이 매우 어려울 뿐만 아니라, 그 과정이 어려워 미숙한 실력으로 작업을 진행할 경우 상처가 생길 수도 있다. 따라서, 이를 개선할 필요성이 요청된다.As such, various prior art for nail care and artificial nail removal have been disclosed, but there are problems such as nail damage and damage to the skin around the nail in the process of nail care or removing artificial nail attached to the nail. Not only is the work very difficult, but the process is difficult, so if you work with inexperienced skills, you may get hurt. Therefore, there is a need to improve it.
본 발명은 상기와 같은 필요성에 의해 창출된 것으로서, 손발톱의 미용을 위하여 조형선을 만들 때 절단과 절삭의 공정을 최소화하여 손발톱의 표면이 상하고 약해지는 것을 방지할 수 있을 뿐만 아니라, 손발톱을 관리하는 과정에서 손발톱 주위의 피부조직에 상처가 생기는 것을 방지하면서 안전하고 우수한 손발톱의 손질과 케어가 가능할 뿐 아니라, 손발톱의 표면이 상하고 약해지는 것을 방지하여 자연손톱의 손상을 방지하면서 인조네일 등을 안전하게 제거할 수 있는 손톱 손질 방법을 제공하는데 그 목적이 있다.The present invention was created by the above necessity, and it is possible to prevent the surface of the nail from being damaged and weakened by minimizing the process of cutting and cutting when making a modeling line for the beauty of the nail, as well as to manage the nail It prevents damage to the skin tissue around the nail and allows safe and excellent nail care and care. An object of the present invention is to provide a nail care method that can be safely removed.
상기한 목적을 달성하기 위하여 본 발명의 일 측면에 따른 손발톱 손질 방법은, 네일용 제1비트를 이용하여 손발톱의 큐티클 라인과 각질막 및 이물질을 분리시켜 조형선(design line)을 만드는 제1 손질단계와, 네일용 제2비트를 이용하여 상기 제1 손질단계에서 분리되지 않은 각질막과 이물질을 연마방식으로 제거하여 상기 조형선을 선명하게 형성하는 제2 손질단계와, 네일용 제3비트를 이용하여 상기 조형선의 앞면으로 돌출되는 각질과 이물질을 제거하면서 상기 손발톱의 주위에 잔존하는 이물질을 제거하는 제3 손질단계와, 네일용 제4비트를 이용하여 상기 조형선의 윗면으로 돌출되는 굳은살과 이물질을 제거하며, 상기 제4비트가 상기 손발톱에 접촉하지 않도록 굳은살과 이물질을 제거하는 제4 손질단계와, 상기 조형선과 상기 손발톱 주위에 오일을 도포하고 네일용 제5비트를 이용하여 상기 조형선과 상기 손발톱 주위 및 네일웰(nail wall) 주변의 피부를 진정시키는 제5 손질단계와, 절단이 가능한 가위 또는 니퍼를 이용하여 상기 손발톱 주변과 상기 조형선 주변의 거스러미를 제거하는 제6 손질단계를 포함하는 것을 특징으로 한다.In order to achieve the above object, in a nail care method according to an aspect of the present invention, a first trimming method for making a design line by separating the cuticle line from the keratin membrane and foreign substances of the nail using a first bit for nail The second trimming step of removing the stratum corneum and foreign substances that were not separated in the first trimming step by abrasive method using the second bit for nail to form the shape line clearly; and the third bit for nail. A third trimming step of removing foreign substances remaining around the nail while removing dead skin cells and foreign substances protruding from the front side of the modeling line using A fourth trimming step of removing foreign substances and removing calluses and foreign substances so that the fourth bit does not come into contact with the nail, applying oil around the molding line and the nail, and using the fifth bit for nail molding A fifth trimming step of soothing the line and the skin around the nail and nail wall, and a sixth trimming step of removing burrs around the nail and around the nail wall using cutable scissors or nippers characterized by including.
또한, 본 발명에서 상기 제1 손질단계는, 상기 큐티클 라인을 2개 내지 4개의 손질 영역으로 분할하고, 상기 제1비트를 상기 손질 영역을 2번 또는 4번으로 나누어 각질막 및 이물질을 제거하는 분할 분리단계와, 상기 분할 분리단계를 통해 각질막과 이물질을 제거하여 형성하는 상기 조형선을 따라 상기 제1비트를 이용하여 상기 큐티클 라인의 일측에서 타측까지 각질막과 이물질을 한 번에 제거하는 일괄 분리단계를 포함하는 것을 특징으로 한다.In addition, in the present invention, the first trimming step includes dividing the cuticle line into two to four trimmed areas, and dividing the first bit into two or four trimmed areas to remove the stratum corneum and foreign substances. The stratum corneum and foreign substances are removed from one side of the cuticle line to the other side by using the first bit along the shape line formed by removing the stratum corneum and foreign substances through the division separation step and the division separation step It is characterized in that it includes a batch separation step.
또한, 본 발명에서 상기 제2비트와 상기 제3비트와 상기 제4비트 및 상기 제5비트는, 서로 다른 연마 성능을 가지도록 표면 거칠기가 다른 것을 특징으로 한다.In the present invention, the second bit, the third bit, the fourth bit, and the fifth bit have different surface roughness to have different polishing performance.
또한, 본 발명에서 상기 손발톱 손질 방법은, 상기 제4비트, 상기 제2비트, 상기 제3비트 및 상기 제5비트 순서로 연마 기능이 약해지며, 상기 제4비트는 카바이드 비트로 연마 기능이 가장 강하고, 상기 제2비트와 상기 제3비트는 미세 연마가 가능한 다이아몬드 비트이고, 상기 제5비트는 연마 기능이 가장 약한 다이아몬드 비트인 것을 특징으로 한다.In addition, in the present invention, in the nail care method, the polishing function is weakened in the order of the fourth bit, the second bit, the third bit, and the fifth bit, and the fourth bit has the strongest polishing function with a carbide bit. , wherein the second bit and the third bit are diamond bits capable of fine polishing, and the fifth bit is a diamond bit having the weakest polishing function.
또한, 본 발명에서 상기 제2 손질단계는, 직경이 1mm 내지 3mm인 원뿔형의 상기 제2비트를 사용하며, 상기 제2비트이 연마 기능이 미세한 것을 특징으로 한다.In addition, in the second trimming step in the present invention, the second bit of the conical shape having a diameter of 1 mm to 3 mm is used, and the second bit is characterized in that the polishing function is fine.
또한, 본 발명에서 상기 제3 손질단계는, 상기 제3비트가 사다리꼴 원통형으로 형성되며, 연마를 위한 끝단의 직경이 2.5mm 내지 4.5mm으로 연마 기능이 미세한 것을 특징으로 한다.In addition, in the third trimming step in the present invention, the third bit is formed in a trapezoidal cylindrical shape, and the diameter of the tip for polishing is 2.5 mm to 4.5 mm, and the polishing function is fine.
또한, 본 발명에서 상기 제3 손질단계는, 상기 제3비트와 상기 손발톱이 이루는 각도를 대략 10 내지 20°로 유지하고, 상기 제3비트의 끝단면과 상기 조형선이 대략 수직을 이루도록 하여 연마하는 것을 특징으로 한다.In addition, in the third trimming step in the present invention, the angle between the third bit and the nail is maintained at about 10 to 20°, and the end surface of the third bit and the shape line are polished to form a substantially vertical line. characterized in that
또한, 본 발명에서 상기 제4 손질단계는, 상기 제4비트가 상기 굳은살의 절삭이 가능하도록 칼날을 가지는 방추형의 카바이드 비트를 사용하는 것을 특징으로 한다.In addition, the fourth trimming step in the present invention is characterized in that the fourth bit uses a spindle-shaped carbide bit having a blade so that the callus can be cut.
또한, 본 발명에서 상기 제5 손질단계는, 상기 제5비트를 원통형 또는 사다리꼴 원통형인 것을 사용하고, 상기 제5비트의 연마 기능이 가장 미세한 것을 특징으로 한다.Also, in the fifth trimming step in the present invention, a cylindrical or trapezoidal cylindrical shape is used for the fifth bit, and the polishing function of the fifth bit is the finest.
상기한 목적을 달성하기 위하여 본 발명의 다른 측면에 따른 손발톱 손질 방법은, 손발톱에 접착된 인조네일을 제거하는 것으로, 절삭형 네일 비트를 이용하여 손발톱에 부착된 인조네일을 프리엣지(free edge)부터 시작하여 특정 길이로 분할하여 순차적으로 상기 인조네일의 표면을 연마하여 제거하는 인조네일 표면 절삭단계와, 상기 인조네일 표면 절삭단계를 진행하여 상기 손발톱의 표면이 노출되고 상기 손발톱의 표면에 잔존하는 접착제가 보이면, 상기 접착제에 진동을 가하여 상기 접착제를 제거하는 접착제 진동 제거단계와, 미세 연마가 가능한 네일 비트를 이용하여 상기 손발톱의 표면을 동일한 방향으로 연마하여 상기 손발톱의 표면에 잔존하는 이물질을 제거하는 손발톱 표면 연마단계를 포함하는 것을 특징으로 한다.In order to achieve the above object, a nail care method according to another aspect of the present invention is to remove the artificial nail adhered to the nail. The artificial nail surface cutting step of sequentially grinding and removing the surface of the artificial nail by dividing it into specific lengths from the When the adhesive is visible, the adhesive vibration removing step of removing the adhesive by applying vibration to the adhesive, and polishing the surface of the nail in the same direction using a nail bit capable of fine polishing to remove foreign substances remaining on the surface of the nail It is characterized in that it comprises a nail surface polishing step.
또한, 본 발명에서 상기 인조네일 표면 절삭단계는, 상기 네일 비트를 상기 인조네일의 중앙부에서 하측 사선 방향으로 이동하여 상기 인조네일을 연마하는 제1 제거단계와, 상기 네일 비트를 상기 인조네일의 일측에서 타측으로 수평 이동하여 상기 인조네일의 잔존부위 중 일부를 제거하는 제2 제거단계와, 상기 제2 제거단계의 연마 방향과 동일한 방향으로 상기 인조네일을 나머지 부위를 제거하는 제3 제거단계를 포함하는 것을 특징으로 한다.In the present invention, the artificial nail surface cutting step includes a first removing step of grinding the artificial nail by moving the nail bit in a downward diagonal direction from the center of the artificial nail, and applying the nail bit to one side of the artificial nail. a second removal step of removing a portion of the remaining portion of the artificial nail by horizontally moving to the other side, and a third removal step of removing the remaining portion of the artificial nail in the same direction as the polishing direction of the second removal step characterized in that
또한, 본 발명에서 상기 제1 제거단계와 상기 제2 제거단계는, 상기 네일 비트의 회전 속도를 10,000~15,000rpm으로 유지하는 것을 특징으로 한다.In the present invention, the first removing step and the second removing step are characterized in that the rotation speed of the nail bit is maintained at 10,000 to 15,000 rpm.
또한, 본 발명에서 상기 제3 제거단계는, 상기 네일 비트의 회전 속도를 5,000~12,000rpm으로 유지하는 것을 특징으로 한다.In addition, in the third removing step in the present invention, it is characterized in that the rotation speed of the nail bit is maintained at 5,000 to 12,000 rpm.
또한, 본 발명에서 상기 접착제 진동 제거단계는, 상기 네일 비트의 연마 성능보다 약한 다른 네일 비트를 사용하여 3,000~10,000rpm의 회전 속도를 유지하면서 상기 접착제를 반복적으로 두드리는 것을 특징으로 한다.In the present invention, the adhesive vibration removing step is characterized in that the adhesive is repeatedly tapped while maintaining a rotation speed of 3,000 to 10,000 rpm using another nail bit that is weaker than the polishing performance of the nail bit.
또한, 본 발명에서 상기 손발톱 표면 연마단계는, 연마 기능이 가장 약한 네일 비트를 사용하며, 상기 네일 비트의 회전 속도를 3,000~10,000rpm로 유지하면서 상기 손발톱의 프리에지부터 사선 또는 수평으로 연마하면서 큐티클까지 연마하는 것을 특징으로 한다.In addition, in the present invention, the nail surface polishing step uses a nail bit with the weakest polishing function, and while maintaining the rotation speed of the nail bit at 3,000 to 10,000 rpm, grinding diagonally or horizontally from the free edge of the nail while polishing the cuticle It is characterized by grinding up to.
또한, 본 발명에서 인조네일 표면 절삭단계는, 상기 인조네일을 3등분하고, 네일엣지에서 2/3지점까지 상기 네일 비트를 수평 방향으로 이동하여 상기 인조네일을 연마하는 제1 제거단계와, 상기 네일 비트를 상기 인조네일의 일측에서 타측으로 수평 이동하여 상기 인조네일의 나머지 1/3부분을 제거하는 제2 제거단계를 포함하는 것을 특징으로 한다.In the present invention, the artificial nail surface cutting step includes a first removing step of dividing the artificial nail into thirds and grinding the artificial nail by horizontally moving the nail bit from the nail edge to the 2/3 point; and a second removing step of horizontally moving the nail bit from one side of the artificial nail to the other to remove the remaining 1/3 of the artificial nail.
또한, 본 발명에서 상기 제1 제거단계에서, 상기 네일 비트의 회전 속도를 10,000~15,000rpm으로 유지하고, 상기 제2 제거단계에서, 상기 네일 비트의 회전 속도를 5,000~12,000rpm으로 유지하는 것을 특징으로 한다.In the present invention, in the first removing step, the rotation speed of the nail bit is maintained at 10,000 to 15,000 rpm, and in the second removing step, the rotation speed of the nail bit is maintained at 5,000 to 12,000 rpm. do it with
이상에서 설명한 바와 같이, 본 발명의 일 측면에 따른 손톱 손질 방법은 종래 기술과는 달리 손발톱의 미용을 위하여 조형선을 만들 때 절단과 절삭의 공정을 최소화하여 손발톱을 관리하는 과정에서 손발톱 주위의 피부조직에 상처가 생기는 것을 방지함은 물론 손발톱의 표면이 상하고 약해지는 것을 방지하여 안전하고 우수한 손발톱의 손질과 케어가 가능한 효과를 가진다.As described above, the nail care method according to an aspect of the present invention minimizes the process of cutting and cutting when making a modeling line for nail beauty, unlike the prior art, and in the process of managing the nail, the skin around the nail It not only prevents the formation of wounds in the tissue, but also prevents the surface of the nail from being damaged and weakened, so that it has the effect of enabling safe and excellent nail care and care.
본 발명의 다른 측면에 따른 손발톱의 인조네일 제거 방법은 손발톱의 인조네일 제거 방법은 손발톱의 길이와 모양에 따라 제거 방법을 다르게 하여 접착된 인조네일을 절삭하고, 진동과 연마하는 과정을 통해 제거할 수 있으므로, 자연손발톱의 손상을 방지하면서 인조네일을 안전하게 제거할 수 있는 효과를 가진다.The artificial nail removal method of the nail according to another aspect of the present invention is to remove the artificial nail from the artificial nail by cutting the bonded artificial nail by varying the removal method according to the length and shape of the nail, and removing the artificial nail through vibration and grinding. Therefore, it has the effect of safely removing the artificial nail while preventing damage to the natural nail.
도 1은 본 발명의 제1실시 예에 따른 손발톱 손질 방법을 설명하기 위한 순서도이다.
도 2는 본 발명의 제1실시 예에 따른 제1 손질단계를 설명하기 위한 모식도이다.
도 3은 본 발명의 제1실시 예에 따른 제2 손질단계를 설명하기 위한 모식도이다.
도 4는 본 발명의 제1실시 예에 따른 제3 손질단계를 설명하기 위한 모식도이다.
도 5는 본 발명의 제1실시 예에 따른 제4 손질단계를 설명하기 위한 모식도이다.
도 6은 본 발명의 제1실시 예에 따른 제5 손질단계를 설명하기 위한 모식도이다.
도 7은 본 발명의 제1실시 예에 따른 제6 손질단계를 설명하기 위한 모식도이다.
도 8은 본 발명의 제2실시 예에 따른 손발톱 손질 방법을 설명하기 위한 순서도이다.
도 9는 본 발명의 제2실시 예에 따른 인조네일 모양 확인 단계를 설명하기 위한 모식도이다.
도 10은 본 발명의 제2실시 예에 따른 인조네일 표면 절삭단계를 설명하기 위한 모식도이다.
도 11은 본 발명의 제2실시 예에 따른 접착제 진동 제거단계를 설명하기 위한 모식도이다.
도 12는 본 발명의 제2실시 예에 따른 손발톱 표면 연마단계를 설명하기 위한 모식도이다.
도 13은 본 발명의 제2실시 예에 따른 인조네일 표면 절삭단계의 변형예를 설명하기 위한 모식도이다.1 is a flowchart for explaining a nail care method according to a first embodiment of the present invention.
2 is a schematic diagram for explaining the first trimming step according to the first embodiment of the present invention.
3 is a schematic diagram for explaining the second trimming step according to the first embodiment of the present invention.
4 is a schematic diagram for explaining the third trimming step according to the first embodiment of the present invention.
5 is a schematic diagram for explaining the fourth trimming step according to the first embodiment of the present invention.
6 is a schematic diagram for explaining the fifth trimming step according to the first embodiment of the present invention.
7 is a schematic diagram for explaining the sixth trimming step according to the first embodiment of the present invention.
8 is a flowchart illustrating a nail care method according to a second embodiment of the present invention.
9 is a schematic diagram for explaining an artificial nail shape checking step according to a second embodiment of the present invention.
10 is a schematic diagram for explaining the artificial nail surface cutting step according to the second embodiment of the present invention.
11 is a schematic diagram for explaining the adhesive vibration removal step according to the second embodiment of the present invention.
12 is a schematic diagram for explaining a nail surface polishing step according to a second embodiment of the present invention.
13 is a schematic diagram for explaining a modified example of the artificial nail surface cutting step according to the second embodiment of the present invention.
이하, 첨부된 도면들을 참조하여 본 발명에 따른 내향성 손발톱 손질 방법의 바람직한 실시예를 설명한다. 이 과정에서 도면에 도시된 선들의 두께나 구성요소의 크기 등은 설명의 명료성과 편의상 과장되게 도시되어 있을 수 있다.Hereinafter, a preferred embodiment of a method for grooming an ingrown nail according to the present invention will be described with reference to the accompanying drawings. In this process, the thickness of the lines or the size of the components shown in the drawings may be exaggerated for clarity and convenience of explanation.
또한, 후술되는 용어들은 본 발명에서의 기능을 고려하여 정의된 용어들로서 이는 사용자, 운용자의 의도 또는 관례에 따라 달라질 수 있다. 그러므로, 이러한 용어들에 대한 정의는 본 명세서 전반에 걸친 내용을 토대로 내려져야 할 것이다.In addition, the terms to be described later are terms defined in consideration of functions in the present invention, which may vary according to intentions or customs of users and operators. Therefore, definitions of these terms should be made based on the content throughout this specification.
도 1은 본 발명의 제1실시 예에 따른 손발톱 손질 방법을 설명하기 위한 순서도이고, 도 2는 본 발명의 제1실시 예에 따른 제1 손질단계를 설명하기 위한 모식도이고, 도 3은 본 발명의 제1실시 예에 따른 제2 손질단계를 설명하기 위한 모식도이다.1 is a flowchart for explaining a nail care method according to a first embodiment of the present invention, Figure 2 is a schematic diagram for explaining a first trimming step according to a first embodiment of the present invention, Figure 3 is the present invention It is a schematic diagram for explaining the second trimming step according to the first embodiment.
또한, 도 4는 본 발명의 제1실시 예에 따른 제3 손질단계를 설명하기 위한 모식도이고, 도 5는 본 발명의 제1실시 예에 따른 제4 손질단계를 설명하기 위한 모식도이고, 도 6은 본 발명의 제1실시 예에 따른 제5 손질단계를 설명하기 위한 모식도이고, 도 7은 본 발명의 제1실시 예에 따른 제6 손질단계를 설명하기 위한 모식도이다.In addition, Figure 4 is a schematic diagram for explaining the third trimming step according to the first embodiment of the present invention, Figure 5 is a schematic diagram for explaining the fourth trimming step according to the first embodiment of the present invention, Figure 6 is a schematic diagram for explaining the fifth cleaning step according to the first embodiment of the present invention, Figure 7 is a schematic diagram for explaining the sixth cleaning step according to the first embodiment of the present invention.
도 1 내지 도 7을 참조하면, 본 발명의 제1실시 예에 따른 손발톱 손질 방법은, 절단기구의 사용을 최소화하면서 손발톱의 손상을 방지하고, 균일하고 일정한 손발톱 케어가 가능하도록 크게 조형선(design line)을 형성하는 제1 손질단계(S10)와, 조형선을 선명하게 형성하는 제2 손질단계(S20)와, 조형선을 확정하는 제3 손질단계(S30)와, 손발톱 주변의 굳은살을 제거하는 제4 손질단계(S40)와, 손상된 피부의 안정을 위한 제5 손질단계(S50)와, 잔존하는 거스러미를 제거하는 제6 손질단계(S60)를 포함한다.1 to 7, the nail care method according to the first embodiment of the present invention is designed to prevent damage to the nail while minimizing the use of a cutting device, and to provide uniform and constant nail care. The first trimming step (S10) of forming a line), the second trimming step (S20) of forming the shaping line clearly, the third trimming step (S30) of determining the shaping line, and cutting the calluses around the nail It includes a fourth cleaning step (S40) of removing, a fifth cleaning step (S50) for stabilizing damaged skin, and a sixth cleaning step (S60) of removing the remaining burrs.
이러한, 본 발명의 제1실시 예에 따른 손발톱 손질 방법은, 제1 손질단계(S10)와 제6 손질단계(S60)에서만 각질막과 이물질의 제거를 위하여 분리 및 절단의 손질을 필요로 할 뿐, 제2 손질단계(S20)와 제3 손질단계(S30)와 제4 손질단계(S40) 및 제5 손질단계(S50)에서 연마를 이용한 손발톱의 손질을 진행한다. 이를 통해 손발톱 손질시에 니퍼와 가위 등과 같은 절단시에 사용하는 도구의 사용을 최소화하여 손발톱 주변의 피부 손상을 방지할 수 있다.The nail care method according to the first embodiment of the present invention only requires separation and cutting to remove the stratum corneum and foreign substances only in the first trimming step (S10) and the sixth trimming step (S60). , the second trimming step (S20), the third trimming step (S30), the fourth trimming step (S40), and the fifth trimming step (S50) proceed to trim the nail using polishing. Through this, it is possible to prevent damage to the skin around the nail by minimizing the use of tools used for cutting, such as nippers and scissors when trimming the nail.
본 실시 예에 따른 제1 손질단계(S10)는, 큐티클(cuticle))을 분리하고 이탈시켜 손발톱과 피부의 경계선을 명확하게 구분하기 위한 초기 조형선(design line)을 형성한다. 여기서, 큐티클은 손발톱이 시작하는 윗부분을 덮고 있는 부분으로, 손발톱이 자람에 따라 약간 자라나는 딱딱한 피부 각질 조직이다. 손발톱의 큐티클을 제거하면 손발톱이 더 길게 할 수 있다.In the first trimming step S10 according to this embodiment, the cuticle is separated and separated to form an initial design line for clearly distinguishing the boundary line between the nail and the skin. Here, the cuticle is the part that covers the upper part of the nail, and is a hard keratinous tissue that grows slightly as the nail grows. Removing the cuticle from the nail can make the nail longer.
또한, 제1 손질단계(S10)에서는 큐티클을 손발톱의 표면과 분리 및 탈착시킬 수 있도록 네일용 제1비트(10)를 사용한다. 이때, 네일용 제1비트(10)는 연마 기능이 없는 것으로, 선단이 뾰족한 것을 사용하게 된다.In addition, in the first trimming step ( S10 ), the
예를 들어 제1 손질단계(S10)에서는 제1비트(10)의 선단 끝부분을 이용하여 손발톱의 큐티클 라인을 따라 손발톱과 붙어 있는 각질막을 분리한다. 이를 위하여 제1 손질단계(S10)에서는 큐티클 라인의 각질막을 여러 번의 분할 공정을 통해 손발톱과 분리한다.For example, in the first trimming step ( S10 ), the stratum corneum attached to the nail is separated along the cuticle line of the nail using the tip end of the
특히, 제1 손질단계(S10)는 도 2에 도시된 바와 같이 큐티클 라인을 최소 2개 이상의 길이로 등분하고 제1비트(10)를 이용하여 등분한 부위를 순차적으로 제거하는 분할 분리단계(S11)와, 분할 제거된 큐티클 라인을 제1비트(10)를 이용하여 한 번 더 각질 제거를 진행하는 일괄 분리단계(S11)를 진행한다.In particular, in the first trimming step (S10), as shown in FIG. 2, the cuticle line is divided into at least two lengths and the divided parts are sequentially removed using the first bit 10 (S11). ), and a batch separation step (S11) of once more exfoliating the cuticle line divided and removed using the
예를 들어 분할 분리단계(S11)는 큐티클 라인을 4등분 또는 2등분으로 손질 영역으로 분할하고, 제1비트(10)를 4번 또는 2번으로 나누어 각질막 및 이물질을 분리한다. 구체적으로, 분할 분리단계(S11)는 큐티클 라인을 4등분하고, 가장 왼쪽 1/4부위를 먼저 제거하고, 오른쪽으로 1/4씩 이동하면서 순차적으로 제거한다. 보다 구체적으로, 큐티클 라인의 가장 왼쪽 1/4지점에서 제1비트(10)를 큐티클과 손발톱에 닿도록 위치시켜 왼쪽으로 이동시켜 각질막을 분리하고, 위와 같은 방법으로 왼쪽 2/4 지점에서 왼쪽으로, 3/4지점에서 왼쪽으로, 4/4 지점에서 왼쪽으로 제1비트(10)를 움직이면서 손발톱에 붙어 있는 각질막을 분리시킨다.For example, in the division and separation step ( S11 ), the cuticle line is divided into quarters or halves into trimmed areas, and the
정리하면, 분할 분리단계(S11)에서는 도 2의 (b)에 도시된 바와 같이 ①, ②, ③, ④의 순서로 각질막을 분리한다. 이와 같은 과정을 통해 일부의 각질막은 손발톱에서 분리되어 떨어져 나가고, 일부는 잔존하게 된다.In summary, in the division and separation step (S11), as shown in FIG. 2(b), the stratum corneum is separated in the order of ①, ②, ③, and ④. Through this process, some of the stratum corneum is separated from the nail and falls off, and some remains.
이후, 일괄 분리단계(S13)를 진행한다. 일괄 분리단계(S13)는 제1비트(10)를 이용하여 큐티클 라인의 일측에서 타측까지 한 번에 이동하면서 분할 분리단계(S11)에서 각질막과 이물질이 제거된 큐티클 라인의 각질막과 이물질을 한 번 더 제거한다. 이를 통해 손톱의 손질을 위한 조형선을 형성한다.Thereafter, a batch separation step (S13) is performed. In the batch separation step (S13), the stratum corneum and foreign substances of the cuticle line from which the keratin membrane and foreign substances have been removed in the division separation step (S11) while moving from one side to the other side of the cuticle line at once using the
이처럼, 큐티클 라인을 분할하여 제거하면 제1비트(10)의 사용 거리를 짧게 할 수 있어, 손질 작업시에 제1비트(10)를 균일한 압력과 시간으로 사용 가능하고, 제1비트(10)의 작업 각도 편차를 더욱 줄일 수 있어 균일한 조형선을 형성할 수 있다. 이를 통해, 작업자의 숙련도에 따라 큐티클 라인을 다양한 길이로 등분할 경우 숙련도에 따른 손질의 품질 차이를 최소화할 수 있다.In this way, if the cuticle line is divided and removed, the use distance of the
특히, 니퍼나 가위를 사용하는 종래의 손질 방법은 손발톱 주변의 피부를 손상시킬 수 있으나, 본 실시 예에 따른 제1 손질단계(S10)는 조형선을 형성하는 손질 과정에서 피부를 손상하는 것을 방지할 수 있다. In particular, the conventional care method using nippers or scissors can damage the skin around the nail, but the first care step (S10) according to this embodiment prevents damage to the skin in the care process of forming the shape line. can do.
본 실시 예에 따른 제2 손질단계(S20)는 연마 기능을 가지는 제2비트(20)를 이용하여 제1 손질단계(S10)에서 분리되지 않고 들러붙어 있는 각질막과 이물질을 연마하여 제거 및 이탈시킨다. 이를 통해 조형선을 보다 선명하게 형성할 수 있다.In the second cleaning step (S20) according to the present embodiment, the
예를 들어 제2 손질단계(S20)에서는 각질막과 이물질의 제거를 위한 제2비트(20)로 미세한(fine) 연마 성능을 가지는 다이아몬드 비트를 사용하며, 제2비트(20)의 형상이 원뿔 형상인 것을 사용한다. 구체적으로, 제2 손질단계(S20)는 제2비트(20)로 직경이 1mm 내지 3mm이고 원뿔이 길이가 5mm인 것을 사용하여, 큐티클 라인의 끝과 네일웰이 만나는 굴곡진 부위를 깨끗하게 손질한 후(도 3의 b 참조), 조형선을 더욱 명확하게 형성할 수 있도록 큐티클 라인의 일측에서 타측까지 제2비트(20)를 한 번에 이동하면서 연마를 진행한다. 이때, 제2비트(20)의 꼭지점을 이용하여 연마를 진행한다. For example, in the second trimming step ( S20 ), a diamond bit having fine grinding performance is used as the
본 실시 예에 따른 제3 손질단계(S30)는 네일용 제3비트(30)를 이용하여 조형선의 앞면으로 돌출되는 각질과 이물질을 제거하면서 손발톱의 주위에 잔존하는 이물질을 함께 제거하여 조형선을 최종적으로 형성한다. 제3 손질단계(S30)에서는 제3비트(30)로 연마 기능이 미세한(fine) 다이아몬드 비트에 의해 사다리꼴이나 원통형으로 형상을 가지며, 가공면의 각도가 90 내지 110°로 형성되고, 그 직경이 2.5mm 내지 4.5mm인 것을 사용한다.The third trimming step (S30) according to this embodiment is to remove the foreign substances remaining around the nail while removing the dead skin cells and foreign substances protruding to the front of the modeling line by using the
또한, 제3 손질단계(S30)에서는 제3비트(30)의 외면과 손발톱이 이루는 각도를 대략 10 내지 20°로 유지하고, 제3비트(30)의 끝단면과 조형선이 대략 수직을 이루도록 하여 연마를 진행한다. 이를 통해 손발톱의 표면에 들러붙은 각질막과 이물질을 완전하게 제거할 수 있어 조형선 전면의 명확하게 형성할 수 있다. In addition, in the third trimming step (S30), the angle between the outer surface of the
이와 같이 제3비트(30)의 앞단을 조형선의 전면과 거의 수직을 이루도록 하여 큐티클 라인의 각질을 연마하여 제거하고, 큐티클 라인에서 조형선 밖으로 나와 있는 딱딱한 각질을 연마하여 각질의 두께를 줄임으로써, 조형선을 심미적으로 아름답게 형성할 수 있다.In this way, by making the front end of the
본 실시 예에 따른 제4 손질단계(S40)는 네일용 제4비트(40)를 이용하여 조형선의 윗면으로 돌출되는 굳은살과 이물질을 제거하고, 손발톱의 네일웰 부위에 존재하는 굳은살을 제거한다. 또한, 제4 손질단계(S40)에서는 제4비트(40)로 굳은살의 절삭이 가능하도록 연마 기능이 중간(medium)인 카바이드 비트를 사용하며, 제4비트(40)의 외형이 대략 방추형을 가진다. 이때, 제4비트(40)는 십자형의 칼날이 반복적으로 형성될 수 있다.The fourth trimming step (S40) according to this embodiment removes calluses and foreign substances protruding from the upper surface of the modeling line using the
그리고 제4 손질단계(S40)에서는 제4비트(40)의 끝부분을 사용하여 조형선 윗부분의 굳은살을 제거하고, 제4비트(40)의 중간 부분을 이용하여 네일웰 부위와 순발톱 부변의 굳은살을 제거한다.And in the fourth trimming step (S40), the calluses on the upper part of the molding line are removed using the tip of the fourth bit (40), and the nail well area and the front toenail part using the middle part of the fourth bit (40). Removes calluses from stool.
이와 같은 제4 손질단계(S40)에서는 연마 기능이 약한 제2 손질단계(S20)와 제3 손질단계(S30)에서는 제거하기가 어렵고 제거하는데 시간이 오래 걸리는 아주 단단한 굳은살을 효과적으로 제거할 수 있으며, 굳은살의 제거로 손발톱은 물론 피부미용의 효과를 함께 구현할 수 있다. 즉, 피부의 손상과 출혈을 방지하면서 손발톱의 손질이 가능하다.In the fourth trimming step (S40), very hard calluses that are difficult to remove and take a long time to remove can be effectively removed in the second trimming step (S20) and the third trimming step (S30), which have a weak polishing function. , By removing calluses, it is possible to realize the effect of not only nails but also skin beauty. That is, it is possible to trim the nail while preventing damage to the skin and bleeding.
본 실시 예에 따른 제5 손질단계(S50)는 조형선과 손발톱 주위에 오일을 도포하고 네일용 제5비트(50)를 이용하여 오일의 흡수를 촉진시켜 조형선과 손발톱 주위 및 네일웰(nail wall) 주변의 피부를 진정시켜 준다. 이때, 제5비트(50)로 제3비트(30)와 동일한 것을 사용할 수도 있지만, 제3비트(30)보다 연마 기능이 더 미세한 다이아몬드 비트를 사용하는 것이 바람직하다.In the fifth trimming step (S50) according to this embodiment, oil is applied around the modeling line and the nail, and the absorption of oil is promoted using the
예를 들어 제5 손질단계(S50)에서는 제5비트(50)로 사다리꼴 원통형이면서 가공면의 직경이 직경이 2.5mm 내지 4.5mm이고, 가공면과 외면이 이루는 각도가 90 내지 110°인 것을 사용할 수 있다.For example, in the fifth trimming step (S50), a trapezoidal cylindrical shape with the
구체적으로, 제5 손질단계(S50)에서는 오일 또는 에센스를 손발톱 주변 피부에 도포한 후, 제5비트(50)의 외면이 손발톱과 10~20°의 각도를 유지하도록 제5비트(50)의 가공면을 조형선을 따라 마찰시면서 오일의 피부 흡수를 촉진 시킨다. 또한, 제5비트(50)의 끝단부 외면이 손발톱 주변 피부결과 수평을 이루도록하여 마찰시켜 피부결을 정돈하면서 오일의 피부 흡수 효과를 향상시킨다.Specifically, in the fifth trimming step (S50), after the oil or essence is applied to the skin around the nail, the outer surface of the
이와 같은 제5 손질단계(S50)는 연마, 절삭, 제거 등의 손질로 인하여 피부 손상이 발생한 부분을 보호하여 굳은살의 증식을 방지한다. 예를 들어 손발톱 관리를 위하여 피부를 연마, 절삭, 제거하게 되면 피부 손상의 원인이 되고, 피부의 손상된 부위는 보호를 위하여 더욱 거칠고 단단해 진다. 따라서, 손발톱 케어 이후, 굳은살을 증식시키는 원인을 제공하게 되는데, 이를 오일의 도포와 흡수를 통해 저감시킬 수 있다. 이로 인하여 지속적인 손발톱 케어가 가능하며, 피부가 약한 어린이나, 노년층, 민감성 및 문제성 피부까지 보다 다양한 연령과 피부에서 손발톱 케어가 가능한 것이 큰 특징이다.Such a fifth trimming step (S50) protects the part where the skin is damaged due to grinding, cutting, removal, etc. to prevent the growth of calluses. For example, if the skin is polished, cut, or removed for nail care, it causes skin damage, and the damaged area of the skin becomes rougher and harder for protection. Therefore, after nail care, it provides a cause for the growth of calluses, which can be reduced through application and absorption of oil. Due to this, continuous nail care is possible, and it is a great feature that nail care is possible for a variety of age and skin types, including children with weak skin, the elderly, and sensitive and problematic skin.
본 실시 예에 따른 제6 손질단계(S60)는, 절단이 가능한 가위 또는 니퍼 등의 도구(60)를 이용하여 손발톱 주변과 조형선 주변의 거스러미를 제거한다. 이러한, 제6 손질단계(S60)는 제5 손질단계(S50)를 통해 조형선의 밖으로 돌출할 수 있는 거스러미를 제거하는 것으로, 피부의 손상을 방지함은 물론 피부를 과도하게 잘라내는 것을 방지하면서 거스러미만을 효과적으로 제거할 수 있다.In the sixth trimming step (S60) according to the present embodiment, using a
또한, 제6 손질단계(S60)에서는 손발톱에 추가적인 디자인을 그리거나 접착하는 네일 아트를 진행할 경우, 손발톱에 도포된 오일을 깨끗하게 닦아 준다.In addition, in the sixth trimming step ( S60 ), when performing nail art for drawing an additional design or adhering to the nail, the oil applied to the nail is cleaned.
이와 같은 본 발명의 제1실시 예에 따른 내향성 손발톱 손질 방법은, 절단과 같이 피부를 잘라내는 손질 방법을 최소화 하면서 대부분 연마를 이용하여 손발톱을 손질할 수 있으므로, 손발톱의 표면이 상하고 약해지는 것을 방지하면서 안전한 손질이 가능하다.As such, the ingrown nail care method according to the first embodiment of the present invention minimizes the skin-cutting method such as cutting and most of the nail polishes can be trimmed using abrasion, so that the surface of the nail is damaged and weakened. It can be safely cleaned while preventing it.
또한, 본 발명에 따른 내향성 손발톱 손질 방법은, 피부 자극과 손상이 발생한 피부 부위를 오일을 이용하여 진정시킬 수 있으므로, 다양한 연령층에서 지속적인 관리가 가능하고, 선명하고 아름다운 손발톱을 제공할 수 있다.In addition, the ingrown nail care method according to the present invention can calm the skin area where skin irritation and damage have occurred using oil, so that continuous management is possible in various age groups, and it is possible to provide clear and beautiful nails.
다음으로, 도 8 내지 도 13을 참조하여 본 발명의 제2실시 예에 따른 손발톱의 인조네일 제거 방법을 설명한다.Next, an artificial nail removal method of a nail according to a second embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. 8 to 13 .
도 8은 본 발명의 제2실시 예에 따른 손발톱 손질 방법을 설명하기 위한 순서도이고, 도 9는 본 발명의 제2실시 예에 따른 인조네일 모양 확인 단계를 설명하기 위한 모식도이고, 도 10은 본 발명의 제2실시 예에 따른 인조네일 표면 절삭단계를 설명하기 위한 모식도이다.8 is a flowchart for explaining a nail care method according to a second embodiment of the present invention, FIG. 9 is a schematic diagram for explaining an artificial nail shape checking step according to a second embodiment of the present invention, and FIG. It is a schematic diagram for explaining the artificial nail surface cutting step according to the second embodiment of the present invention.
또한, 도 11은 본 발명의 제2실시 예에 따른 접착제 진동 제거단계를 설명하기 위한 모식도이고, 도 12는 본 발명의 제2실시 예에 따른 손발톱 표면 연마단계를 설명하기 위한 모식도이고, 도 13은 본 발명의 제2실시 예에 따른 인조네일 표면 절삭단계의 변형예를 설명하기 위한 모식도이다.In addition, Figure 11 is a schematic diagram for explaining the adhesive vibration removal step according to the second embodiment of the present invention, Figure 12 is a schematic diagram for explaining the nail surface polishing step according to the second embodiment of the present invention, Figure 13 is a schematic diagram for explaining a modified example of the artificial nail surface cutting step according to the second embodiment of the present invention.
도 8 내지 도 12를 참조하면, 본 발명의 제2실시 예에 따른 손발톱 손질 방법은 손발톱에 접착된 인조네일(100)을 제거하는 것으로, 크게 인조네일의 모양을 확인하는 단계(S100)와, 인조네일 표면 절삭단계(S200)와, 접착제 진동 제거단계(S300)와, 손발톱 표면 연마단계(S400)를 포함한다. 이러한 본 실시 예에 따른 손발톱 손질 방법은 연마방식으로 인조네일(100)을 제거할 때 작업 도구가 자연네일의 표면에 닿는 것을 최소화하여 자연네일의 손상을 방지하면서 인조네일(100)을 안전하게 제거할 수 있다.8 to 12, the nail care method according to the second embodiment of the present invention is to remove the
도 9를 참조하면, 인조네일 모양 확인단계(S100)는 인조네일(100)의 모양을 확인하고, 인조네일(100)의 모양에 따라 절삭방법을 선택한다. 예를 들어 인조네일 모양 확인 단계(S100)에서는 인조네일(100)의 모양이 길이가 길고 굴곡이 큰 유형과, 길이가 짧고 굴곡이 작은 유형으로 인조네일(100)의 모양을 구분하여 인조네일 표면 절삭단계(S200)를 다르게 진행할 수 있다.Referring to FIG. 9 , in the artificial nail shape checking step S100 , the shape of the
또한, 네일베드가 비교적 길고 손톱의 가로선 굴곡이 큰 경우와, 네일베드의 비교적 짧고 손톱의 가로선 굴곡이 작은 경우에 따라 손톱의 가장 높은 지점인 하이 포인트(high point)가 다른 부위에 위치하게 된다.Also, depending on the case where the nail bed is relatively long and the horizontal line curvature of the nail is large, and the case where the nail bed is relatively short and the horizontal line curvature of the nail is small, the high point, which is the highest point of the nail, is located at a different location.
인조네일 모양 확인단계(S100)에서 인조네일의 모양을 확인한 결과 인조네일(100)의 길이가 길고, 손발톱의 가로선의 굴곡이 큰 유형일 경우 도 10에 도시된 바와 같이, 인조네일(100)을 3분할하여 인조네일 표면 절삭단계(S200)를 진행한다.As a result of checking the shape of the artificial nail in the artificial nail shape checking step (S100), if the
구체적으로, 인조네일 표면 절삭단계(S200)는 인조네일(100)의 중앙부인 하이 포인트를 기준으로 하이 포인트 라인 하측의 인조네일(100)을 먼저 제거하는 제1 제거단계(S210)와, 잔여하는 인조네일(100) 중 일부를 제거하는 제2 제거단계(S220)와, 인조네일(100)의 나머지 부위를 제거하는 제3 제거단계(S230)를 포함한다.Specifically, the artificial nail surface cutting step (S200) includes a first removing step (S210) of first removing the
제1 제거단계(S210)는, 손발톱의 가장 높은 지점인 하이 포인트을 기준으로 프리엣지에서 하이 포인트까지의 a부분과, 하이 포인트에서 큐티클까지의 b부분으로 인조네일(100)을 구분하고, a부분을 먼저 연마하여 제거한다. 이때, 네일 비트로 연마 기능이 강한(coarse) 것을 사용하며, 그 회전 속도를 10,000~15,000rpm으로 유지하면서 연마를 진행한다.In the first removing step (S210), the
그리고 제1 제거단계(S210)에서는 인조네일(100)의 프리엣지에서부터 대략 45도 사선방향으로 네일 비트를 이동하면서 인조네일(100)을 제거한다. 또한, 대각선 상측으로 연마부위를 넓혀가면서 반복적인 연마를 진행한다. 그리고 제1 제거단계(S110)를 완료하면 제2 제거단계(S220)를 진행한다.And in the first removing step ( S210 ), the
제2 제거단계(S220)도 제1 제거단계(S210)에서 사용한 네일 비트와 동일한 네일 비트를 사용하여, 동일한 회전 속도를 유지하면서 인조네일(100)을 제거한다. 이때, 인조네일(100)을 3등분 하여, 하이 포인트에서 위 1/3지점까지 연마를 진행하는데, 인조네일(100)의 오른쪽에서 좌측으로 네일 비트를 수평으로 이동하여 연마를 진행한다. 또한, 제2 제거단계(S220)에서 연마 작업은 수평 방향으로 반복 진행한다.In the second removing step (S220), the
이러한 제2 제거단계(S220)의 연마 작업이 완료되면, 인조네일(100)은 마지막 1/3지점에서 큐티클까지만 남게 되는데, 이를 제3 제거단계(S230)를 진행하여 제거한다.When the polishing operation of the second removing step (S220) is completed, the
제3 제거단계(S230)는 제2 제거단계(S120)의 연마 방향과 동일한 방향으로 인조네일을 나머지 부위를 연마하여 제거한다. 이러한, 제3 제거단계(S230)에서는 네일 비트를 연마 또는 절삭 기능이 중간 수준(medium)의 비트로 변경하여 사용하며, 그 회전속도를 5,000 ~ 12,000rpm으로 유지하면서 진행한다.In the third removing step (S230), the remaining part of the artificial nail is polished and removed in the same direction as the polishing direction of the second removing step (S120). In the third removing step (S230), the nail bit is changed to a bit having a medium level of grinding or cutting function, and the rotation speed is maintained at 5,000 to 12,000 rpm.
제3 제거단계(S230) 또한 네일 비트의 연마 방향을 오른쪽에서 왼쪽으로 수평 이동한다.The third removal step (S230) also horizontally moves the polishing direction of the nail bit from right to left.
본 실시 예에 따른 접착제 진동 제거단계(S300)는, 인조네일 표면 절삭단계(S200)를 진행하여 손발톱의 표면이 노출되고 손발톱의 표면에 잔존하는 접착제인 베이스젤(200)이 외부로 노출되면, 접착제에 진동을 가하여 접착제를 제거한다. 또한, 접착제 진동 제거단계(S300)에서는 네일 비트의 연마 성능보다 대략 중간인(medium) 네일 비트를 사용하여 접착제를 반복적으로 두드려 준다. 이때, 네일 비트의 회전속도는 3,000~10,000rpm으로 유지한다. 이는 네일 비트를 이용하여 어디를 연마하고, 어느 정도의 연마가 진행되는지를 용이하게 확인할 수 있도록 하기 위함이다.In the adhesive vibration removal step (S300) according to this embodiment, the artificial nail surface cutting step (S200) is performed to expose the surface of the nail and the
그리고 육안으로 접착제인 베이스젤(200)을 구분할 수 없으면, 손발톱 표면 연마단계(S400)를 진행한다.And if it is not possible to distinguish the
손발톱 표면 연마단계(S400)는 미세 연마가 가능한 네일 비트를 이용하여 손발톱의 표면을 사선방향 또는 수평방향으로 연마하여 손발톱의 표면에 잔존하는 이물질을 제거한다. 이때, 손발톱 표면에 잔존하는 이물질은 촉감으로만 확인되는 미세한 잔여물이다.The nail surface polishing step (S400) removes foreign substances remaining on the surface of the nail by polishing the surface of the nail in an oblique or horizontal direction using a nail bit capable of fine grinding. At this time, the foreign material remaining on the nail surface is a fine residue that is confirmed only by touch.
또한, 손발톱 표면 연마단계(S400)는 절삭 기능이 미세한(fine) 네일 비트를 사용하며, 그 회전속도를 3,000 ~ 10,000rpm으로 유지하면서 자연손톱의 오른쪽 하단에서부터 45도 대각선으로 내리면서 진행한다. 그리고 네일 비트에 의해 연마 진행된 폭만큼 상측으로 조금씩 이동하면서 사선으로 연마를 진행한다.In addition, the nail surface polishing step (S400) uses a fine nail bit with a cutting function, and proceeds while maintaining the rotation speed at 3,000 ~ 10,000 rpm while descending at a 45 degree diagonal from the lower right of the natural nail. Then, the polishing is carried out in an oblique line while gradually moving upward by the width of the polishing progressed by the nail bit.
한편, 도 13을 참조하면, 인조네일 모양 확인단계(S100)에서 인조네일의 모양을 확인한 결과 인조네일(100)의 길이가 짧고, 손발톱의 가로선의 굴곡이 작은 유형인 경우 인조네일(100)을 3분할하고, 크게 2번에 걸쳐 인조네일 표면 절삭단계(S200)를 진행한다.On the other hand, referring to FIG. 13 , as a result of checking the shape of the artificial nail in the artificial nail shape checking step ( S100 ), if the length of the
예를 들어 변형 예에 따른 인조네일 표면 절삭단계(S200)는 네일베드가 비교적 짧고 손톱의 가로선 굴곡이 작은 경우에 사용한다. 구체적으로, 변형 예에 따른 인조네일 표면 절삭단계(S200)는 인조네일(100)을 프리엣지부터 큐티클까지 3등분하고, 프리엣지부터 시작하여 2/3지점까지인 a영역을 수평으로 연마하여 제거하는 제1 제거단계(S201)와, 인조네일(100)을 2/3지점부터 큐티클라인까지인 b영역을 수평으로 연마하여 제거하는 제2 제거단계(S203)를 포함한다. For example, the artificial nail surface cutting step S200 according to the modified example is used when the nail bed is relatively short and the horizontal line curvature of the nail is small. Specifically, in the artificial nail surface cutting step (S200) according to the modified example, the
그리고 인조네일 표면 절삭단계(S200)에서 a영역과 b영역에서의 연마 작업은 각각의 영역에서만 반복적으로 진행한다. 예를 들어 제1 제거단계(S201)에서는 a영역에서 반복적인 연마작업을 통해 인조네일을 제거하고, 제2 제거단계(S203)에서는 b영역에서 반복적인 연마작업을 진행한다.In addition, in the artificial nail surface cutting step ( S200 ), the polishing operation in the a and b areas is repeatedly performed in each area only. For example, in the first removing step (S201), the artificial nail is removed through repeated polishing in the area a, and in the second removing step (S203), the repetitive polishing is performed in the area b.
상기와 같은 본 발명의 제2실시 예에 따른 손발톱 손질 방법은, 인조네일(100)과 손발톱의 모양과 구조에 맞게 인조네일(100)의 제거작업을 진행할 수 있으므로, 빠르고 효과적인 작업이 가능하며, 손발톱이 손상되는 것을 방지하면서 인조네일(100)의 제거를 진행할 수 있다.In the nail care method according to the second embodiment of the present invention as described above, since the
또한, 본 발명의 제2실시 예에 따른 손발톱 손질 방법은, 인조네일을 제거하는 과정에서 손발톱의 구조와 접착제의 두께에 맞게 네일 비트의 연마 성능과 회전속도를 조절할 수 있으므로, 네일 비트가 자연네일에 닿는 것을 최소화할 수 있어 자연네일의 손상을 방지할 수 있다.In addition, in the nail care method according to the second embodiment of the present invention, the polishing performance and rotation speed of the nail bit can be adjusted according to the structure of the nail and the thickness of the adhesive in the process of removing the artificial nail, so that the nail bit is a natural nail. It is possible to minimize the contact with the natural nail and prevent damage to the natural nail.
더하여, 본 발명의 제2실시 예에 따른 손발톱 손질 방법은, 연마를 위한 네일 비트를 사용하는 횟수와 이동 동선 등을 줄이면서 연마작업을 진행할 수 있으므로, 시술자의 피로도를 현저하게 줄일 수 있을 뿐만 아니라, 네일 비트의 마찰로 인한 발열 현상을 감소시킬 수 있으므로, 발열에 의한 화상을 방지할 수 있다.In addition, in the nail care method according to the second embodiment of the present invention, since the polishing operation can be performed while reducing the number of times and movement lines of the nail bit for polishing, the operator's fatigue can be remarkably reduced as well as , it is possible to reduce the heat generation phenomenon due to friction of the nail bit, and thus it is possible to prevent burns due to heat generation.
본 발명은 도면에 도시된 예를 참고로 하여 설명되었으나, 이는 예시적인 것에 불과하며, 당해 기술이 속하는 분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 이로부터 다양한 변형 및 균등한 타 실시예가 가능하다는 점을 이해할 것이다.Although the present invention has been described with reference to the examples shown in the drawings, it is to be understood that this is merely exemplary, and that various modifications and equivalent other embodiments are possible therefrom by those of ordinary skill in the art. will be.
따라서, 본 발명의 진정한 기술적 보호범위는 특허청구범위에 의해서 정하여져야 할 것이다.Accordingly, the true technical protection scope of the present invention should be defined by the claims.
10 : 제1비트 20 : 제2비트
30 : 제3비트 40 : 제4비트
50 : 제5비트10: 1st bit 20: 2nd bit
30: 3rd bit 40: 4th bit
50: 5th bit
Claims (17)
네일용 제2비트를 이용하여 상기 제1 손질단계에서 분리되지 않은 각질막과 이물질을 연마방식으로 제거하여 상기 조형선을 선명하게 형성하는 제2 손질단계;
네일용 제3비트를 이용하여 상기 조형선의 앞면으로 돌출되는 각질과 이물질을 제거하면서 상기 손발톱의 주위에 잔존하는 이물질을 제거하는 제3 손질단계;
네일용 제4비트를 이용하여 상기 조형선의 윗면으로 돌출되는 굳은살과 이물질을 제거하며, 상기 제4비트가 상기 손발톱에 접촉하지 않도록 굳은살과 이물질을 제거하는 제4 손질단계;
상기 조형선과 상기 손발톱 주위에 오일을 도포하고 네일용 제5비트를 이용하여 상기 조형선과 상기 손발톱 주위 및 네일웰(nail wall) 주변의 피부를 진정시키는 제5 손질단계; 및
절단이 가능한 가위 또는 니퍼를 이용하여 상기 손발톱 주변과 상기 조형선 주변의 거스러미를 제거하는 제6 손질단계;
를 포함하는 것을 특징으로 하는 손발톱 손질 방법.
A first trimming step of creating a design line by separating the cuticle line, the keratin membrane, and foreign substances of the nail using the first bit for nail;
a second trimming step of removing the stratum corneum and foreign substances that were not separated in the first trimming step using a second nail bit by abrasive method to form the shape line clearly;
a third trimming step of removing foreign substances remaining around the nail while removing dead skin cells and foreign substances protruding from the front side of the modeling line by using a third bit for nail;
a fourth trimming step of removing calluses and foreign substances protruding from the upper surface of the modeling line by using a fourth bit for nail, and removing the calluses and foreign substances so that the fourth bit does not come into contact with the nail;
a fifth trimming step of applying oil around the modeling line and the nail and soothing the skin around the modeling line and the nail and around the nail wall using a fifth bit for nail; and
a sixth trimming step of removing burrs around the nail and around the modeling line using scissors or nippers that can be cut;
A nail care method comprising a.
상기 제1 손질단계는, 상기 큐티클 라인을 2개 내지 4개의 손질 영역으로 분할하고, 상기 제1비트를 상기 손질 영역을 2번 또는 4번으로 나누어 각질막 및 이물질을 제거하는 분할 분리단계; 및
상기 분할 분리단계를 통해 각질막과 이물질을 제거하여 형성하는 상기 조형선을 따라 상기 제1비트를 이용하여 상기 큐티클 라인의 일측에서 타측까지 각질막과 이물질을 한 번에 제거하는 일괄 분리단계;
를 포함하는 것을 특징으로 하는 손발톱 손질 방법.
The method of claim 1,
The first trimming step may include dividing the cuticle line into two to four trimmed areas, and dividing the first bit into two or four trimmed areas to remove the stratum corneum and foreign substances; and
a batch separation step of removing the stratum corneum and foreign substances from one side of the cuticle line to the other side at once using the first bit along the shape line formed by removing the stratum corneum and foreign substances through the division and separation step;
A nail care method comprising a.
상기 제2비트와 상기 제3비트와 상기 제4비트 및 상기 제5비트는, 서로 다른 연마 성능을 가지도록 표면 거칠기가 다른 것을 특징으로 하는 손발톱 손질 방법.
3. The method of claim 1 or 2,
The second bit, the third bit, the fourth bit, and the fifth bit have different surface roughness to have different polishing performance.
상기 제4비트, 상기 제2비트, 상기 제3비트 및 상기 제5비트 순서로 연마 기능이 약해지며, 상기 제4비트는 카바이드 비트로 연마 기능이 가장 강하고, 상기 제2비트와 상기 제3비트는 미세 연마가 가능한 다이아몬드 비트이고, 상기 제5비트는 연마 기능이 가장 약한 다이아몬드 비트인 것을 특징으로 하는 손발톱 손질 방법.
4. The method of claim 3,
The fourth bit, the second bit, the third bit, and the fifth bit weaken the polishing function in the order, the fourth bit has the strongest polishing function with the carbide bit, and the second bit and the third bit are A diamond bit capable of fine polishing, and the fifth bit is a diamond bit having the weakest polishing function.
상기 제2 손질단계에서, 직경이 1mm 내지 3mm인 원뿔형의 상기 제2비트를 사용하며, 상기 제2비트이 연마 기능이 미세한 것을 특징으로 하는 손발톱 손질 방법.
3. The method of claim 1 or 2,
In the second trimming step, the second bit of the conical shape having a diameter of 1 mm to 3 mm is used, and the second bit has a fine grinding function.
상기 제3 손질단계에서, 상기 제3비트가 사다리꼴 원통형으로 형성되며, 연마를 위한 끝단의 직경이 2.5mm 내지 4.5mm으로 연마 기능이 미세한 것을 특징으로 하는 손발톱 손질 방법.
3. The method of claim 1 or 2,
In the third trimming step, the third bit is formed in a trapezoidal cylindrical shape, and the diameter of the tip for grinding is 2.5 mm to 4.5 mm, and the nail trimming method, characterized in that the polishing function is fine.
상기 제3 손질단계는, 상기 제3비트와 상기 손발톱이 이루는 각도를 대략 10 내지 20°로 유지하고, 상기 제3비트의 끝단면과 상기 조형선이 대략 수직을 이루도록 하여 연마하는 것을 특징으로 하는 손발톱 손질 방법.
7. The method of claim 6,
In the third trimming step, the angle between the third bit and the nail is maintained at about 10 to 20°, and the end surface of the third bit and the shape line are substantially perpendicular to each other and then polished. How to trim your toenails.
상기 제4 손질단계에서, 상기 제4비트는 상기 굳은살의 절삭이 가능하도록 칼날을 가지는 방추형의 카바이드 비트를 사용하는 것을 특징으로 하는 손발톱 손질 방법.
3. The method of claim 1 or 2,
In the fourth trimming step, the fourth bit is a nail trimming method, characterized in that it uses a spindle-shaped carbide bit having a blade to enable cutting of the calluses.
상기 제5 손질단계에서, 상기 제5비트를 원통형 또는 사다리꼴 원통형인 것을 사용하고, 상기 제5비트의 연마 기능이 가장 미세한 것을 특징으로 하는 손발톱 손질 방법.
3. The method of claim 1 or 2,
In the fifth trimming step, a cylindrical or trapezoidal cylindrical shape is used for the fifth bit, and the grinding function of the fifth bit is the finest.
상기 인조네일 표면 절삭단계를 진행하여 상기 손발톱의 표면이 노출되고 상기 손발톱의 표면에 잔존하는 접착제가 보이면, 상기 접착제에 진동을 가하여 상기 접착제를 제거하는 접착제 진동 제거단계; 및
미세 연마가 가능한 네일 비트를 이용하여 상기 인조네일 표면 절삭단계의 연마방향과 동일한 방향으로 상기 손발톱을 연마하여 상기 손발톱의 표면에 잔존하는 이물질을 제거하는 손발톱 표면 연마단계;
를 포함하는 것을 특징으로 하는 손발톱 손질 방법.
An artificial nail surface cutting step of sequentially grinding and removing the artificial nail attached to the nail by using a cutting-type nail bit by dividing the artificial nail into a specific length starting from the free edge;
Adhesive vibration removing step of removing the adhesive by applying vibration to the adhesive when the surface of the nail is exposed through the artificial nail surface cutting step and the adhesive remaining on the surface of the nail is visible; and
a nail surface polishing step of removing foreign substances remaining on the surface of the nail by grinding the nail in the same direction as the polishing direction of the artificial nail surface cutting step using a nail bit capable of fine polishing;
A nail care method comprising a.
상기 인조네일의 모양을 확인하여 손발톱의 네일 베드가 비교적 길고 손톱의 가로선 굴곡이 큰 유형과, 손발톱의 네일 베드가 비교적 짧고 손톱의 가로선 굴곡이 작은 유형으로 분류한 후, 상기 유형에 따라 상기 인조네일 표면 절삭단계를 결정하는 인조네일 모양 확인단계;를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 손발톱 손질 방법.
11. The method of claim 10,
After confirming the shape of the artificial nail, the nail bed of the nail is relatively long and the horizontal line curvature of the nail is large, and the nail bed is relatively short and the horizontal line curvature of the nail is small. The nail care method further comprising a; artificial nail shape checking step for determining the surface cutting step.
상기 손발톱의 네일 베드가 비교적 길고 손톱의 가로선 굴곡이 클 경우, 상기 인조네일 표면 절삭단계는, 상기 네일 비트를 상기 인조네일의 중앙부에서 하측 사선 방향으로 이동하여 상기 인조네일을 연마하는 제1 제거단계;
상기 네일 비트를 상기 인조네일의 일측에서 타측으로 수평 이동하여 상기 인조네일의 잔존부위 중 일부를 제거하는 제2 제거단계; 및
상기 제2 제거단계의 연마 방향과 동일한 방향으로 상기 인조네일을 나머지 부위를 제거하는 제3 제거단계;
를 포함하는 것을 특징으로 하는 손발톱 손질 방법.
12. The method of claim 10 or 11,
When the nail bed of the nail is relatively long and the horizontal line curvature of the nail is large, the artificial nail surface cutting step includes a first removing step of grinding the artificial nail by moving the nail bit in a downward diagonal direction from the center of the artificial nail. ;
a second removal step of horizontally moving the nail bit from one side of the artificial nail to the other to remove a part of the remaining portion of the artificial nail; and
a third removal step of removing the remaining portion of the artificial nail in the same direction as the polishing direction of the second removal step;
A nail care method comprising a.
상기 손발톱의 네일 베드가 비교적 짧고 손톱의 가로선 굴곡이 작은 경우, 상기 인조네일 표면 절삭단계는, 상기 인조네일을 3등분하고, 네일엣지에서 2/3지점까지 상기 네일 비트를 수평 방향으로 이동하여 상기 인조네일을 연마하는 제1 제거단계; 및
상기 네일 비트를 상기 인조네일의 일측에서 타측으로 수평 이동하여 상기 인조네일의 나머지 1/3부분을 제거하는 제2 제거단계;
를 포함하는 것을 특징으로 하는 손발톱 손질 방법.
12. The method of claim 10 or 11,
When the nail bed of the nail is relatively short and the horizontal line curvature of the nail is small, the artificial nail surface cutting step is performed by dividing the artificial nail into thirds and moving the nail bit in the horizontal direction from the nail edge to the 2/3 point. A first removal step of polishing the artificial nail; and
a second removal step of horizontally moving the nail bit from one side of the artificial nail to the other to remove the remaining 1/3 of the artificial nail;
A nail care method comprising a.
상기 제1 제거단계와 상기 제2 제거단계에서, 상기 네일 비트의 회전 속도를 10,000~15,000rpm으로 유지하고,
상기 제3 제거단계에서, 상기 네일 비트의 회전 속도를 5,000~12,000rpm으로 유지하는 것을 특징으로 하는 손발톱 손질 방법.
13. The method of claim 12,
In the first removing step and the second removing step, maintaining the rotation speed of the nail bit at 10,000 to 15,000 rpm,
In the third removing step, the nail care method, characterized in that the rotation speed of the nail bit is maintained at 5,000 to 12,000 rpm.
상기 접착제 진동 제거단계는, 상기 네일 비트의 연마 성능보다 약한 다른 네일 비트를 사용하여 3,000~10,000rpm의 회전 속도를 유지하면서 상기 접착제를 반복적으로 두드리는 것을 특징으로 손발톱 손질 방법.
13. The method of claim 12,
In the step of removing vibration of the adhesive, the adhesive is repeatedly tapped while maintaining a rotation speed of 3,000 to 10,000 rpm using another nail bit that is weaker than the polishing performance of the nail bit.
상기 손발톱 표면 연마단계는, 연마 기능이 가장 약한 네일 비트를 사용하며, 상기 네일 비트의 회전 속도를 3,000~10,000rpm로 유지하면서 상기 손발톱의 프리에지부터 사선 또는 수평으로 연마하면서 큐티클까지 연마하는 것을 특징으로 하는 손발톱 손질 방법.
12. The method of claim 11,
In the nail surface polishing step, a nail bit having the weakest polishing function is used, and while the rotation speed of the nail bit is maintained at 3,000 to 10,000 rpm, from the free edge of the nail to the cuticle while grinding diagonally or horizontally. How to trim your toenails with
상기 제1 제거단계에서, 상기 네일 비트의 회전 속도를 10,000~15,000rpm으로 유지하고, 상기 제2 제거단계에서, 상기 네일 비트의 회전 속도를 5,000~12,000rpm으로 유지하는 것을 특징으로 하는 손발톱 손질 방법.14. The method of claim 13,
In the first removing step, the rotation speed of the nail bit is maintained at 10,000 to 15,000 rpm, and in the second removing step, the rotation speed of the nail bit is maintained at 5,000 to 12,000 rpm. .
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