KR102435201B1 - Facial pad - Google Patents

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KR102435201B1 KR1020200144057A KR20200144057A KR102435201B1 KR 102435201 B1 KR102435201 B1 KR 102435201B1 KR 1020200144057 A KR1020200144057 A KR 1020200144057A KR 20200144057 A KR20200144057 A KR 20200144057A KR 102435201 B1 KR102435201 B1 KR 102435201B1
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Abstract

본 발명은 화장을 하거나 지우는 데 사용하는 기능에 더하여 화장수나 토너를 적신 뒤 피부에 서서히 침투시키는 패치나 팩의 용도로 사용할 수 있는 기능성 화장솜에 관한 것이다.
본 발명은, 화장을 하거나 지우는 데 사용하는 화장솜에 있어서, 얇은 원판 형상으로 형성되어 중심점(103)에서 둘레의 좌측이분점(101)을 선형으로 연결하는 좌측 중심선(110)과 상기 중심점(103)에서 둘레의 우측이분점(102)을 선형으로 연결하는 우측 중심선(120)을 갖는 베이스시트(100); 상기 베이스시트(100)의 중심점(103)에서 상기 좌측이분점(101)을 소정 곡률로 만곡되게 연결하는 좌측 만곡절취선(140); 상기 좌측 만곡절취선(140)에 연속된 곡률로 만곡되도록 상기 중심점(103)에서 상기 우측이분점(102)을 연결하는 우측 만곡절취선(150);을 포함하는 것을 기술사상으로 한다.
따라서, 본 발명은 화장을 지우는 화장솜의 기본적인 기능에 더하여 다양한 패턴의 절취선을 통해 필요한 모양으로 절취하여 화장수나 토너를 적신 후 얼굴에 붙이는 미용 패치로 이용할 수 있는 매우 유용한 효과가 있다.The present invention relates to a functional cotton pad that can be used as a patch or pack that gradually penetrates the skin after soaking a lotion or toner in addition to the function used for putting on or removing makeup.
The present invention relates to a cotton pad used for putting on or removing makeup, the left center line 110 and the center point 103 formed in a thin disk shape and linearly connecting the left bisector 101 of the circumference at the center point 103. ) in the base sheet 100 having a right center line 120 that linearly connects the right bisector 102 of the circumference; a left curved perforation line 140 that curves the left bifurcation 101 from the center point 103 of the base sheet 100 to a predetermined curvature; It is a technical idea to include;
Therefore, in addition to the basic function of the cotton pad for removing makeup, the present invention has a very useful effect that it can be used as a cosmetic patch to be applied to the face after soaking the lotion or toner by cutting it into a required shape through perforated lines of various patterns.

Description

기능성 화장솜{FACIAL PAD}Functional cotton pad {FACIAL PAD}

본 발명은 기능성 화장솜에 관한 것으로서, 더욱 상세하게는 화장을 하거나 지우는 데 사용하는 기능에 더하여 화장수나 토너를 적신 뒤 피부에 서서히 침투시키는 패치나 팩의 용도로 사용할 수 있는 기능성 화장솜에 관한 것이다.The present invention relates to a functional cosmetic cotton, and more particularly, to a functional cosmetic cotton that can be used as a patch or pack that gradually penetrates into the skin after soaking a lotion or toner in addition to the function used to put on or remove makeup. .

주지된 바와 같이, 화장솜은 화장을 하거나 지우는 데 사용하는 1회용 용품으로서, 얼굴의 모공 속에 남은 화장품 및 노폐물을 깨끗이 제거하여 청결하고 윤기있는 피부를 유지할 뿐만 아니라 매니큐어나 립스틱 따위를 제거하기 위해 사용된다.As is well known, a cotton pad is a disposable product used to put on or remove makeup, and it is used to cleanly remove cosmetics and waste products remaining in the pores of the face to maintain clean and shiny skin, as well as to remove nail polish or lipstick. do.

최근 들어 화장솜에 토너 또는 스킨로션과 같은 묽은 화장수 제형을 적셔 10분 이상 얼굴에 부착해 사용하는 토너팩이나 스캔팩 용도로서 역할이 확장되고 있으며, 해당 용도로 사용할 수 있는 화장솜의 수요 역시 점차 증가되고 있는 추세이다.Recently, the role is expanding as a toner pack or scan pack, in which a cotton pad is moistened with a thin lotion formulation such as toner or skin lotion and attached to the face for more than 10 minutes. is an increasing trend.

일반적으로 화장솜은 순면을 재료로 이용하는데, 표면을 안착시키기 위해 미량의 폴리아크릴 수지를 첨가한 순면 원단을 복수의 롤러로 통과시키면서 길이 방향을 따라 소정 간격으로 접합한 후 접합부를 절단하는 과정으로 통해 제조된다.In general, cotton is used as a material for cotton, and in order to settle the surface, a pure cotton fabric with a trace amount of polyacrylic resin is passed through a plurality of rollers and joined at predetermined intervals along the longitudinal direction, and then the joint is cut. manufactured through

이러한 화장솜에 관련된 종래기술로서, 대한민국 등록실용신안 제20-0465983호(등록일자 2013년03월14일) ‘절약형 부직포 화장솜’이 개시되어 있다.As a prior art related to such a cotton pad, Republic of Korea Utility Model Registration No. 20-0465983 (registration date March 14, 2013) 'saving non-woven cotton cotton' is disclosed.

근래에는 대기오염과 미세먼지의 증가로 가정에서 쉽게 사용할 수 있는 스킨케어 제품으로서, 얼굴에 붙이는 아이패치(eye patch) 또는 마스크팩(mask pack) 따위가 널리 이용되고 있다.Recently, as a skin care product that can be easily used at home due to an increase in air pollution and fine dust, an eye patch or a mask pack attached to the face is widely used.

이러한 패치나 팩을 이용하는 종래기술로서, 대한민국 등록특허 제10-1282667호(등록일자 2013년07월01일) ‘화장용 팩 및 그 사용방법’이 개시되어 있다,As a prior art using such a patch or pack, Republic of Korea Patent Registration No. 10-1282667 (registration date July 01, 2013) 'cosmetic pack and method of using the same' is disclosed,

그러나, 종래의 화장솜은 두꺼운 두께 때문에 화장을 하거나 지우는 용도로만 사용 가능할 뿐 얼굴에 붙이는 화장용 팩이나 패치로 이용할 수 없고, 종래의 화장용 팩은 화장패드를 용기에 침지하여 피부에 붙이는 팩으로만 사용할 뿐 화장을 지우는 화장솜으로 이용할 수 없으므로, 화장솜과 화장용 팩을 각각 구입해야 하는 불편함과 경제적인 측면에서 비용 상승으로 이어지는 등의 문제점이 있었다.However, the conventional cotton pad can be used only for putting on or removing makeup because of its thick thickness and cannot be used as a cosmetic pack or patch to be placed on the face. Since it cannot be used only as a cotton pad to remove makeup, there were problems such as the inconvenience of having to purchase a cotton pad and a cosmetic pack separately and leading to an increase in cost in terms of economy.

특히, 종래의 화장솜은 납작한 사각 또는 원형 등의 고정된 형상이므로, 보습 및 영양 공급을 위해 화장수나 토너를 적신 후 굴곡진 얼굴의 눈밑이나 입술 양측에 붙여서 밀착 상태를 유지하기 어려운 문제점이 있었다.In particular, since the conventional cotton pad has a fixed shape such as a flat square or a circle, it is difficult to maintain a close contact state by attaching it under the eyes or on both sides of the lips of the curved face after soaking the lotion or toner for moisturizing and nourishing.

(0001) 대한민국 등록실용신안 제20-0465983호(등록일자 2013년03월14일)(0001) Republic of Korea Registered Utility Model No. 20-0465983 (Registration date March 14, 2013) (0002) 대한민국 등록특허 제10-1282667호(등록일자 2013년07월01일)(0002) Republic of Korea Patent No. 10-1282667 (Registration Date July 01, 2013)

본 발명은 상술한 바와 같은 종래의 문제점을 해결하기 위해 안출한 것으로서, 본 발명의 목적은 화장을 지우는 화장솜의 기본적인 기능 뿐만 아니라 화장수나 토너를 적신 화장솜을 얼굴의 필요한 부분에 적합하도록 절취하여 붙이는 미용 패치로도 이용할 수 있는 기능성 화장솜을 제공하는 데 있다.The present invention has been devised to solve the conventional problems as described above, and an object of the present invention is not only the basic function of a cotton pad to remove makeup, but also a cotton pad soaked in lotion or toner to fit a necessary part of the face. The goal is to provide a functional cotton pad that can also be used as a cosmetic patch to be attached.

상기 목적을 달성하기 위한 본 발명은, 화장을 하거나 지우는 데 사용하는 화장솜에 있어서, 얇은 원판 형상으로 형성되는 베이스시트, 상기 베이스시트의 둘레에 형성된 좌측이분점과, 중심점을 소정 곡률로 만곡되게 연결하는 좌측 만곡절취선, 상기 중심점을 기준으로 좌측이분점의 반대측 방향 베이스시트 둘레에 형성된 우측이분점과, 상기 중심점을 소정 곡률로 만곡되게 연결하고, 상기 좌측 만곡절취선에 연속된 곡률로 만곡되는 우측 만곡절취선을 포함하는 것을 기술사상으로 한다.The present invention for achieving the above object, in a cotton pad used for putting on or removing makeup, a base sheet formed in a thin disk shape, a left bisector formed around the base sheet, and a center point curved to a predetermined curvature A left curved perforation line that connects, a right bifurcation formed around the base sheet in the opposite direction of the left bifurcation with respect to the central point, and a right side curved at a curvature continuous to the left curved perforation line by connecting the center point to a predetermined curvature The technical idea is to include the curved perforation line.

본 발명은, 상기 우측 만곡절취선의 상사점에서 상기 좌측이분점과 중심점 사이 방향으로 연속 곡률을 이루면서 완만히 만곡된 후, 상기 좌측이분점과 우측 만곡절취선의 상사점 사이의 베이스시트 둘레까지 연결된 파형의 상부 만곡절취선, 상기 좌측 만곡절취선의 하사점에서 상기 우측이분점과 중심점 사이 방향으로 연속 곡률을 이루면서 완만히 만곡된 후, 상기 우측이분점과 좌측 만곡절취선의 하사점 사이의 베이스시트 둘레까지 연결된 파형의 하부 만곡절취선을 더 포함할 수 있다.The present invention is a waveform connected to the periphery of the base sheet between the top dead center of the right curved perforation line and then gently curved while forming a continuous curvature in the direction between the left bisector and the center point at the top dead center of the right curved perforation line. The upper curved perforation line and the lower dead center of the left curved perforation line are gently curved while forming a continuous curvature in the direction between the right bisector and the center point, and then the waveform connected to the perimeter of the base sheet between the right bifurcation and the lower dead center of the left curved perforation line. It may further include a lower curved perforation line.

이때, 상기 중심점 주변에는 좌측 및 우측 만곡절취선을 따라 교차절개선이 형성될 수 있다.In this case, a cross incision line may be formed along the left and right curved perforation lines around the central point.

이때, 좌측 만곡절취선의 하사점 주변에는 좌측 만곡절취선을 따라 일정 거리만큼 좌측 만곡절개선이 형성되고, 우측 만곡절취선의 상사점 주변에는 우측 만곡절취선을 따라 일정 거리만큼 우측 만곡절개선이 형성될 수 있다.At this time, a left curved line is formed around the bottom dead center of the left curved perforation line by a certain distance along the left curved perforation line, and a right curved line is formed around the top dead center of the right curved perforated line by a certain distance along the right curved perforated line. have.

이때, 상부 만곡절취선의 하단 변곡점 및 상사점 주변에는 상부 만곡절취선을 따라 일정 거리만큼 상부 안내절개선이 형성되고, 하부 만곡절취선의 상단 변곡점 및 하사점 주변에는 하부 만곡절취선을 따라 일정 거리만큼 하부 안내절개선이 형성될 수 있다.At this time, around the lower inflection point and top dead center of the upper curved perforation line, an upper guide incision line is formed by a certain distance along the upper curved perforation line, and around the upper inflection point and the bottom dead center of the lower curved perforation line, a lower guide is provided along the lower curved perforation line by a certain distance. An incision may be formed.

베이스시트의 둘레에는 절취한 베이스시트의 가장자리를 겹쳐서 얼굴의 곡면에 밀착시키도록 적어도 하나 이상의 오버랩 절개선이 형성될 수 있다.At least one overlap incision line may be formed around the base sheet so as to overlap the edge of the cut base sheet so as to be in close contact with the curved surface of the face.

상술한 해결 수단으로 구현된 본 발명의 실시예에 따르면, 화장을 지우는 화장솜의 기본적인 기능에 더하여 다양한 패턴의 절취선을 통해 필요한 모양으로 절취하여 화장수나 토너를 적신 후 얼굴에 붙이는 미용 패치로 이용할 수 있는 매우 유용한 효과가 있다.According to the embodiment of the present invention implemented as the above-mentioned solution, in addition to the basic function of a cotton pad to remove makeup, it can be cut into a required shape through perforation lines of various patterns and used as a cosmetic patch to be applied to the face after soaking the lotion or toner. It has a very useful effect.

도 1은 본 발명의 실시예에 의한 화장솜의 입면을 나타낸 입면도.
도 2는 본 발명의 실시예에 의한 화장솜의 적층된 상태를 나타낸
도 3은 본 발명의 실시예에 의한 화장솜의 제1 절취형태 나타낸 제1 사용상태도.
도 4는 본 발명의 실시예에 의한 화장솜의 제2 절취형태 나타낸 제2 사용상태도.
도 5는 본 발명의 실시예에 의한 화장솜의 제3 절취형태 나타낸 제3 사용상태도.
도 6은 본 발명의 실시예에 의한 화장솜을 얼굴에 부착시킨 상태를 나타낸 예시도.1 is an elevation view showing the elevation of a cotton pad according to an embodiment of the present invention.
2 is a view showing a laminated state of a cotton pad according to an embodiment of the present invention;
3 is a first use state diagram showing a first cut-out form of a cotton pad according to an embodiment of the present invention.
Figure 4 is a second use state diagram showing the second cut-out form of the cosmetic cotton according to the embodiment of the present invention.
5 is a third use state diagram showing a third cut-out form of a cosmetic cotton according to an embodiment of the present invention.
6 is an exemplary view showing a state in which a cotton pad according to an embodiment of the present invention is attached to the face.

본 발명을 충분히 이해하기 위해서 본 발명의 바람직한 실시예를 첨부 도면을 참조하여 설명한다.In order to fully understand the present invention, preferred embodiments of the present invention will be described with reference to the accompanying drawings.

본 발명의 실시 예는 여러 가지 형태로 변형될 수 있으며, 본 발명의 범위가 아래에서 상세히 설명하는 실시 예로 한정되는 것으로 해석되어서는 안 된다. 본 실시 예는 당업계에서 평균적인 지식을 가진 자에게 본 발명을 더욱 완전하게 설명하기 위하여 제공되는 것이다.Embodiments of the present invention may be modified in various forms, and the scope of the present invention should not be construed as being limited to the embodiments described in detail below. This embodiment is provided to more completely explain the present invention to those of ordinary skill in the art.

따라서, 도면에서 표현한 구성요소의 형상 등은 더욱 명확한 설명을 강조하기 위해서 과장되어 표현될 수 있다. 각 도면에서 동일한 부재는 동일한 참조부호로 도시한 경우가 있음을 유의하여야 한다. 또한, 본 발명의 요지를 불필요하게 흐릴 수 있다고 판단되는 공지 기능 및 구성에 관한 상세한 설명은 생략된다.Accordingly, the shape of the components expressed in the drawings may be exaggerated to emphasize a clearer description. It should be noted that in each drawing, the same member is shown with the same reference numerals in some cases. In addition, detailed descriptions of well-known functions and configurations determined to unnecessarily obscure the gist of the present invention will be omitted.

이하에서는 본 발명의 바람직한 실시예를 첨부된 도면을 참조하여 상세히 설명한다.Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

본 발명의 기능성 화장솜은 면, 펄프(pulp), 레이온(rayon) 소재 중 어느 하나 또는 둘 이상이 혼합된 베이스시트(100)로 이루어지며, 0.5~1.0㎜의 두께와 70~80㎜ 직경으로 이루어진 원판 형상으로 형성된다.The functional cotton pad of the present invention is made of a base sheet 100 in which any one or two or more of cotton, pulp, and rayon materials are mixed, and has a thickness of 0.5 to 1.0 mm and a diameter of 70 to 80 mm. It is formed in the shape of a disk made of.

베이스시트(100) 둘레에 형성된 좌측이분점(101)이 베이스시트(100)의 중심점(103)과 소정 곡률로 만곡되게 연결되어 좌측 만곡절취선(140)이 형성되고, 중심점(103)을 기준으로 좌측이분점(101)의 반대측 방향 베이스시트(100) 둘레에 형성된 우측이분점(102)이 베이스시트(100)의 중심점(103)과 소정 곡률로 만곡되게 연결되어 우측 만곡절취선(150)이 형성되며, 좌측 만곡절취선(140)과 우측 만곡절취선(150)은 중심점(103)을 통해 연속된 곡률로 만곡되도록 연결된다.The left bisector 101 formed around the base sheet 100 is curvedly connected to the center point 103 of the base sheet 100 at a predetermined curvature to form a left curved perforation line 140, and based on the center point 103 The right bifurcated point 102 formed around the base sheet 100 in the opposite direction to the left bifurcated point 101 is connected to the center point 103 of the base sheet 100 to be curved with a predetermined curvature to form a right curved perforation line 150 . The left curved perforation line 140 and the right curved perforation line 150 are connected to be curved at a continuous curvature through the central point 103 .

우측 만곡절취선(150)의 상사점(TC)에서 좌측이분점(101)과 중심점(103) 사이 방향으로 연속 곡률을 이루면서 완만히 만곡된 후, 좌측이분점(101)과 우측 만곡절취선(150)의 상사점(TC) 사이의 베이스시트(100) 둘레까지 상부 만곡절취선(160)이 파형으로 연결되고, 좌측 만곡절취선(140)의 하사점(BC)에서 우측이분점(102)과 중심점(103) 사이 방향으로 연속 곡률을 이루면서 완만히 만곡된 후, 우측이분점(102)과 좌측 만곡절취선(140)의 하사점(BC) 사이의 베이스시트(100) 둘레까지 하부 만곡절취선(170)이 파형으로 연결될 수 있다. After forming a continuous curvature in the direction between the left bisector 101 and the center point 103 at the top dead center (TC) of the right curved perforation line 150, the left bisector 101 and the right curved perforation line 150 are gently curved. The upper curved perforation line 160 is connected to the periphery of the base sheet 100 between the top dead center (TC) in a waveform, and the right bisector 102 and the center point 103 from the bottom dead center (BC) of the left curved perforation line 140 ) After being gently curved while forming a continuous curvature in the inter-direction, the lower curved perforation line 170 will be connected to the perimeter of the base sheet 100 between the right bisector 102 and the bottom dead center BC of the left curved perforation line 140. can

상기 좌측 및 우측 만곡절취선(140)(150)과 상부 및 하부 만곡절취선(160)(170)은 슬릿 형상의 작은 구멍이 소정 간격으로 연속해서 뚫린 라인(perforated line) 형태로 형성된다.The left and right curved perforated lines 140 and 150 and the upper and lower curved perforated lines 160 and 170 are formed in the form of a perforated line in which small slit-shaped holes are continuously drilled at predetermined intervals.

이때, 상기 상부 만곡절취선(160)의 하단 변곡점(P1)은 좌측이분점(101)과 중심점(103)을 연결하는 좌측 중심선(110)에 근접하도록 형성되고, 하부 만곡절취선(170)의 상단 변곡점(P2)은 우측이분점(102)과 중심점(103)을 연결하는 좌측 중심선(110)에 근접하도록 형성할 수 있으며, 이를 통해 베이스시트(100)의 절취에 따른 사용 면적 감소 및 절취된 베이스시트(100)가 형성하는 파형의 곡률을 다양화간 균형을 이루어 베이스시트(100)의 활용성을 보다 향상시킬 수 있도록 한다. At this time, the lower inflection point P1 of the upper curved perforation line 160 is formed to be close to the left center line 110 connecting the left bisector 101 and the center point 103 , and the upper inflection point of the lower curved perforation line 170 . (P2) may be formed to be close to the left center line 110 connecting the right bisector 102 and the center point 103, thereby reducing the use area according to the cut of the base sheet 100 and the cut base sheet By balancing the diversification of the curvature of the waveform formed by 100, the usability of the base sheet 100 can be further improved.

상기 중심점(103) 주변에는 좌측 및 우측 만곡절취선(140)(150)을 따라 교차절개선(CL)이 형성되고, 좌측 만곡절취선(140)의 하사점(BC) 주변에는 좌측 만곡절취선(140)을 따라 일정 거리만큼 좌측 만곡절개선(141)이 형성되며, 우측 만곡절취선(150)의 상사점(TC) 주변에는 우측 만곡절취선(150)을 따라 일정 거리만큼 우측 만곡절개선(151)이 형성될 수 있다.A cross incision line CL is formed along the left and right curved perforation lines 140 and 150 around the central point 103, and a left curved perforation line 140 is formed around the bottom dead center BC of the left curved perforation line 140. A left curved line 141 is formed by a predetermined distance along can be

그리고 상부 만곡절취선(160)의 하단 변곡점(P1) 및 상사점(TC) 주변에는 상부 만곡절취선(160)을 따라 일정 거리만큼 상부 안내절개선(161)이 형성되고, 하부 만곡절취선(170)의 상단 변곡점(P2) 및 하사점(BC) 주변에는 하부 만곡절취선(170)을 따라 일정 거리만큼 하부 안내절개선(171)이 형성될 수 있다.And around the lower inflection point P1 and top dead center TC of the upper curved perforation line 160, the upper guide incision line 161 is formed by a certain distance along the upper curved perforation line 160, and the lower curved perforation line 170 of A lower guide incision line 171 may be formed by a predetermined distance along the lower curved perforation line 170 around the upper inflection point P2 and the lower dead center BC.

상기 교차절개선(CL), 좌측 및 우측 만곡절개선(141)(151) 및 상부 및 하부 안내절개선(161)(171)은 일정 길이만큼 절개된 커팅 라인(cutting ling) 형태로 형성된다.The cross incision line CL, the left and right curved lines 141 and 151, and the upper and lower guide incision lines 161 and 171 are formed in the form of a cutting ling cut by a predetermined length.

베이스시트(100)의 둘레 상부와 하부에는 적어도 하나 이상의 오버랩 절개선(130)이 커팅 라인 형태로 형성되는데, 이러한 오버랩 절개선(130)은 절취한 베이스시트(100)가 얼굴의 곡면에 밀착되도록 겹쳐서 사용할 수 있다. 선택적으로, 오버랩 절개선(130)은 베이스시트(100)의 둘레에서 중심점(103)을 향하도록 형성될 수 있다.At least one overlap incision line 130 is formed in the form of a cutting line on the upper and lower portions of the periphery of the base sheet 100 so that the cut base sheet 100 is in close contact with the curved surface of the face. Can be used overlapping. Optionally, the overlap incision line 130 may be formed toward the central point 103 around the base sheet 100 .

도 1을 참조하면, 좌측 만곡절취선(140)은 좌측이분점(101)과 중심점(103)을 연결하도록 반원형의 원호 형상으로 형성되고, 우측 만곡절취선(150)은 우측이분점(102)과 중심점(103)을 연결하도록 반원형의 원호 형상으로 형성되어, 좌측 만곡절취선(140)과 우측 만곡절취선(150)이 중심점(103)을 중점으로 하는 점대칭을 이루면서 1주기의 파형(wave form) 형상을 형성하게 된다.Referring to FIG. 1 , the left curved perforation line 140 is formed in a semicircular arc shape to connect the left bisector 101 and the central point 103 , and the right curved perforation line 150 is the right bisector 102 and the central point. It is formed in a semicircular arc shape to connect the 103, and the left curved perforation line 140 and the right curved perforated line 150 form point symmetry with the central point 103 as a central point to form a wave form shape of one cycle. will do

상부 만곡절취선(160)은 우측 만곡절취선(150)의 상사점(TC)에서 중심점(103) 방향으로 연속 곡률을 이루면서 만곡된 후, 좌측 중심선(110)의 접점(P1)을 지나 베이스시트(100)의 상부 둘레까지 연결되고, 하부 만곡절취선(170)은 좌측 만곡절취선(140)의 하사점(BC)에서 중심점(103) 방향으로 연속 곡률을 이루면서 완만히 만곡된 후, 우측 중심선(120)의 접점(P2)을 지나 베이스시트(100)의 하부 둘레까지 연결되면서, 좌측 및 우측 만곡절취선(140)(150)이 형성하는 파형보다 완만한 곡률의 파형을 형성하게 된다.The upper curved perforation line 160 is curved while forming a continuous curvature in the direction of the center point 103 from the top dead center TC of the right curved perforation line 150, and then passes the contact point P1 of the left center line 110 and the base sheet 100 ), the lower curved perforation line 170 is gently curved while forming a continuous curvature in the direction of the center point 103 from the bottom dead center BC of the left curved perforation line 140, and then the contact point of the right center line 120 As it passes through (P2) and is connected to the lower periphery of the base sheet 100, a waveform having a gentler curvature than the waveform formed by the left and right curved perforation lines 140 and 150 is formed.

또한, 좌측 및 우측 만곡절취선(140)(150)을 따라 베이스시트(100)를 절취하여 사용시, 교차절개선(CL)과 좌측 및 우측 만곡절개선(141)(151)이 형성하는 커팅 라인을 따라 베이스시트(100)를 절취하고, 상부 및 하부 만곡절취선(160)(170)을 따라 베이스시트(100)를 절취하여 사용시, 좌측 및 우측 만곡절개선(141)(151)과 상부 및 하부 안내절개선(161)(171)이 형성하는 커팅 라인을 따라 베이스시트(100)를 절취함으로써, 베이스시트(100)를 원하는 절취선 방향으로 용이하게 절취할 수 있다.In addition, when the base sheet 100 is cut along the left and right curved perforating lines 140 and 150 and used, the cutting line formed by the cross incision line CL and the left and right curved line 141 and 151 is cut. When the base sheet 100 is cut along, and the base sheet 100 is cut along the upper and lower curved perforation lines 160 and 170, when used, the left and right curved lines 141 and 151 and the upper and lower guides By cutting the base sheet 100 along the cutting lines formed by the cut lines 161 and 171 , the base sheet 100 can be easily cut in a desired cut line direction.

선택적으로, 상부 및 하부 만곡절취선(160)(170)의 외측 단부에는 베이스시트(100)의 둘레에 연결되도록 상부 및 하부 엣지절개선(162)(172)이 커팅 라인 형태로 형성될 수 있다.Optionally, upper and lower edge cut lines 162 and 172 may be formed in the form of a cutting line at the outer ends of the upper and lower curved perforated lines 160 and 170 to be connected to the periphery of the base sheet 100 .

추가적으로 좌측 및 우측 중심선(110)(120)을 상기 좌측 및 우측 만곡절취선(140)(150)이나, 상부 및 하부 만곡절취선(160)(170)과 같이 슬릿 형상의 작은 구멍이 소정 간격으로 연속해서 뚫린 라인 형태로 형성함으로써 절개선을 이루도록 구성할 수 있으며, 이를 통해 베이스시트(100)의 절취 패턴을 보다 다양화할 수 있도록 한다.In addition, the left and right center lines 110 and 120, the left and right curved perforation lines 140 and 150, and the upper and lower curved perforation lines 160 and 170, such as the slit-shaped small holes are continuous at predetermined intervals. By forming in the form of a perforated line, it can be configured to form a cut line, and through this, the cut pattern of the base sheet 100 can be more diversified.

이러한 베이스시트(100)는 도 2에 도시된 바와 같이 다단으로 적층되어 화장수가 담긴 용기에 담아서 한 장씩 떼어서 사용할 수 있다.As shown in FIG. 2 , the base sheet 100 may be stacked in multiple stages, put in a container containing a lotion, and used by peeling one by one.

이와 같이 구성된 본 발명의 절취형태에 따른 사용상태를 도면에 따라 상세히 설명하면 다음과 같다.The state of use according to the cut-out form of the present invention configured as described above will be described in detail with reference to the drawings.

먼저, 화장솜의 제1 절취형태를 나타낸 도 3을 참조하면, 본 발명의 베이스시트(100)는 좌측이분점(101) 위아래 부분을 손가락으로 잡은 상태에서, 좌측 만곡절취선(140)과 우측 만곡절취선(150)을 따라 절취하여 동일한 크기로 분리된 두 개의 화장솜(100a)(100b)으로 이용할 수 있다.First, referring to FIG. 3 showing the first cut-out form of the cotton pad, the base sheet 100 of the present invention is curved with the left curved perforation line 140 and the right side while holding the upper and lower portions of the left bifurcation 101 with your fingers. It can be used as two cotton pads 100a and 100b separated by the same size by cutting along the perforation line 150 .

이와 같이 동일한 크기로 분리된 두 개의 화장솜(100a)(100b)은 화장을 지우는 기본적인 용도뿐만 아니라 화장수나 토너를 듬뿍 적신 후, 도 3의 우측에 도시된 바와 같이 얼굴의 코와 입술의 양측에 붙여서 해당 성분이 피부 깊숙이 침투하는 패치 용도로도 사용할 수 있다.The two cotton pads 100a and 100b separated in the same size as described above are used not only for the basic purpose of removing makeup, but also after soaking a lot of lotion or toner, as shown on the right side of FIG. 3 , on both sides of the nose and lips of the face. It can also be used as a patch where the ingredients penetrate deep into the skin.

이어서, 화장솜의 제2 절취형태를 나타낸 도 4를 참조하면, 본 발명의 베이스시트(100)는 상부 엣지절개선(162)의 위아래 부분을 손가락으로 잡은 상태에서, 상부 만곡절취선(160)과 상부 안내절개선(161)을 지나 우측 만곡절취선(150)의 오른쪽 부분을 절취하여 서로 다른 크기로 분리된 두 개의 화장솜(100c)(100d)으로 이용할 수 있다.Next, referring to FIG. 4 showing the second cut-out form of the cotton pad, the base sheet 100 of the present invention has an upper curved perforation line 160 and By cutting the right portion of the right curved perforation line 150 past the upper guide incision line 161, it can be used as two cotton pads 100c and 100d separated into different sizes.

이와 같이 서로 다른 크기로 분리된 두 개의 화장솜(100c)(100d)은 화장을 지우는 기본적인 용도뿐만 아니라 화장수나 토너를 듬뿍 적신 후, 도 4의 우측에 도시된 바와 같이 얼굴의 코와 입술의 일측 및 눈 밑에 붙여서 해당 성분이 피부 깊숙이 침투하는 패치 용도로도 사용할 수 있다.As shown on the right side of FIG. 4 , the two cotton pads 100c and 100d separated into different sizes are used not only for the basic purpose of removing makeup, but also after soaking a lot of lotion or toner, as shown on the right side of the face. And it can be used as a patch under the eyes where the ingredients penetrate deep into the skin.

다음, 화장솜의 제3 절취형태를 나타낸 도 5를 참조하면, 본 발명의 베이스시트(100)는 상부 엣지절개선(162)의 위아래 부분을 손가락으로 잡은 상태에서, 상부 만곡절취선(160)의 왼쪽 부분과 좌측 및 우측 중심선(110)(120)을 지나 하부 만곡절취선(170)과 우측 엣지절개선을 절취하여 동일한 크기로 분리된 두 개의 화장솜(100e)(100f)으로 이용할 수 있다.Next, referring to FIG. 5 showing the third cut-out form of the cotton pad, the base sheet 100 of the present invention holds the upper and lower portions of the upper edge cut-out line 162 with your fingers. The lower curved perforation line 170 and the right edge incision line are cut through the left part and the left and right center lines 110 and 120 and can be used as two cotton pads 100e and 100f separated by the same size.

이때, 두 개로 절취된 화장솜(100)(100)은 반원형에 가깝게 형성된다.At this time, the cotton 100, 100 cut in two is formed close to a semicircle.

이와 같이 동일한 크기로 분리된 두 개의 화장솜(100e)(100f)은 화장을 지우는 기본적인 용도뿐만 아니라 화장수나 토너를 듬뿍 적신 후, 도 5의 우측에 도시된 바와 같이 얼굴의 코와 입술의 일측 및 눈 밑에 붙여서 해당 성분이 피부 깊숙이 침투하는 패치 용도로도 사용할 수 있다.The two cotton pads 100e and 100f separated in the same size as described above are used not only for the basic purpose of removing makeup, but also after soaking a lot of lotion or toner, as shown on the right side of FIG. It can also be applied as a patch under the eyes where the ingredients penetrate deep into the skin.

한편, 도 6은 본 발명의 실시예에 의한 화장솜을 얼굴에 부착시킨 상태를 나타낸 예시도로서, 도 6에 도시된 바와 같이 상술한 제1 절취형태 내지 제3 절취형태로 절취한 화장솜은 얼굴의 곡면에 밀착되도록 상부 엣지절개선(162)과 오버랩 절개선(130) 및 교차절개선(CL)을 겹쳐서 사용할 수 있다.On the other hand, FIG. 6 is an exemplary view showing a state in which the cotton pad is attached to the face according to an embodiment of the present invention. The upper edge incision line 162, the overlap incision line 130, and the cross incision line CL can be overlapped so as to be in close contact with the curved surface of the face.

이상에서 설명된 본 발명의 실시 예는 예시적인 것에 불과하며, 본 발명이 속한 기술분야의 통상의 지식을 가진 자라면 이로부터 다양한 변형 및 균등한 타 실시예가 가능하다는 점을 잘 알 수 있을 것이다.The embodiments of the present invention described above are merely exemplary, and those of ordinary skill in the art to which the present invention pertains will appreciate that various modifications and equivalent other embodiments are possible therefrom.

그러므로 본 발명은 상기의 상세한 설명에서 언급되는 형태로만 한정되는 것은 아님을 잘 이해할 수 있을 것이다.Therefore, it will be well understood that the present invention is not limited to the forms recited in the above detailed description.

따라서 본 발명의 진정한 기술적 보호 범위는 첨부된 특허청구범위의 기술적 사상에 의해 정해져야 할 것이다. 또한, 본 발명은 첨부된 청구범위에 의해 정의되는 본 발명의 정신과 그 범위 내에 있는 모든 변형물과 균등물 및 대체물을 포함하는 것으로 이해되어야 한다.Therefore, the true technical protection scope of the present invention should be determined by the technical spirit of the appended claims. It is also to be understood that the present invention includes all modifications, equivalents and substitutions falling within the spirit and scope of the invention as defined by the appended claims.

100 : 베이스시트 101 : 좌측이분점
102 : 우측이분점 103 : 중심점
110 : 좌측 중심선 111 : 좌측 선형절개선
120 : 우측 중심선 121 : 우측 선형절개선
130 : 오버랩 140 : 좌측 만곡절취선
141 : 좌측 만곡절개선 150 : 우측 만곡절취선
151 : 우측 만곡절개선 160 : 상부 만곡절취선
161 : 상부 만곡절개선 170 : 하부 만곡절취선
171 : 하부 만곡절개선 BC : 하사점
CL : 교차절개선 TC : 상사점100: base sheet 101: left bisector
102: right bisector 103: center point
110: left center line 111: left linear incision line
120: right center line 121: right linear incision line
130: overlap 140: left curved perforation line
141: left curved line 150: right curved perforation line
151: right curved line 160: upper curved perforation line
161: upper curved line 170: lower curved perforation line
171: lower curved line BC: bottom dead center
CL : Cross incision line TC : Top dead center

Claims (6)

화장을 하거나 지우는 데 사용하는 화장솜에 있어서,
얇은 원판 형상으로 형성되는 베이스시트(100);
상기 베이스시트(100)의 둘레에 형성된 좌측이분점(101)과, 중심점(103)을 소정 곡률로 만곡되게 연결하는 좌측 만곡절취선(140);
상기 중심점(103)을 기준으로 좌측이분점(101)의 반대측 방향 베이스시트(100) 둘레에 형성된 우측이분점(102)과, 상기 중심점(103)을 소정 곡률로 만곡되게 연결하고, 상기 좌측 만곡절취선(140)에 연속된 곡률로 만곡되는 우측 만곡절취선(150); 을 포함하고,
상기 우측 만곡절취선(150)의 상사점(TC)에서 상기 좌측이분점(101)과 중심점(103) 사이 방향으로 연속 곡률을 이루면서 완만히 만곡된 후, 상기 좌측이분점(101)과 우측 만곡절취선(150)의 상사점(TC) 사이의 베이스시트(100) 둘레까지 연결된 파형의 상부 만곡절취선(160),
상기 좌측 만곡절취선(140)의 하사점(BC)에서 상기 우측이분점(102)과 중심점(103) 사이 방향으로 연속 곡률을 이루면서 완만히 만곡된 후, 상기 우측이분점(102)과 좌측 만곡절취선(140)의 하사점(BC) 사이의 베이스시트(100) 둘레까지 연결된 파형의 하부 만곡절취선(170)을 더 포함하고,
좌측 만곡절취선(140)의 하사점(BC) 주변에는 좌측 만곡절취선(140)을 따라 일정 거리만큼 좌측 만곡절개선(141)이 형성되고,
우측 만곡절취선(150)의 상사점(TC) 주변에는 우측 만곡절취선(150)을 따라 일정 거리만큼 우측 만곡절개선(151)이 형성되고,
상부 만곡절취선(160)의 하단 변곡점(P1) 및 상사점(TC) 주변에는 상부 만곡절취선(160)을 따라 일정 거리만큼 상부 안내절개선(161)이 형성되고,
하부 만곡절취선(170)의 상단 변곡점(P2) 및 하사점(BC) 주변에는 하부 만곡절취선(170)을 따라 일정 거리만큼 하부 안내절개선(171)이 형성되고,
베이스시트(100)의 둘레에는 절취한 베이스시트(100)의 가장자리를 겹쳐서 얼굴의 곡면에 밀착시키도록 적어도 하나 이상의 오버랩 절개선(130)이 형성되되 상기 오버랩 절개선(130)은 베이시스트(100) 둘레에서 중심점(103)을 향하도록 형성된 것을 특징으로 하는 기능성 화장솜.In the cotton pad used to put on or remove makeup,
Base sheet 100 formed in a thin disk shape;
a left curved perforation line 140 connecting the left bifurcation 101 formed on the periphery of the base sheet 100 and the central point 103 to be curved with a predetermined curvature;
Based on the center point 103, the right bifurcation point 102 formed around the base sheet 100 in the opposite direction of the left bifurcation point 101 and the center point 103 are connected to be curved with a predetermined curvature, and the left curve is curved. a right curved perforated line 150 that is curved with a continuous curvature to the perforated line 140 ; including,
After forming a continuous curvature in the direction between the left bisector 101 and the central point 103 at the top dead center (TC) of the right curved perforation line 150, the left bisector 101 and the right curved perforation line ( The upper curved perforation line 160 of the waveform connected to the circumference of the base sheet 100 between the top dead center (TC) of 150),
After forming a continuous curvature in the direction between the right bifurcation 102 and the central point 103 at the bottom dead center (BC) of the left curved perforation line 140, the right bifurcation point 102 and the left curved perforation line ( Further comprising a lower curved perforation line 170 of the waveform connected to the circumference of the base sheet 100 between the bottom dead center (BC) of 140),
A left curved line 141 is formed around the bottom dead center BC of the left curved perforation line 140 by a predetermined distance along the left curved perforated line 140,
A right curved line 151 is formed around the top dead center TC of the right curved perforation line 150 by a certain distance along the right curved perforated line 150,
An upper guide incision line 161 is formed by a certain distance along the upper curved perforation line 160 around the lower inflection point P1 and top dead center TC of the upper curved perforation line 160,
A lower guide incision line 171 is formed by a certain distance along the lower curved perforation line 170 around the upper inflection point P2 and the bottom dead center BC of the lower curved perforation line 170,
At least one overlap incision line 130 is formed around the base sheet 100 so as to overlap the edge of the cut base sheet 100 to closely adhere to the curved surface of the face, and the overlap incision line 130 is the bassist 100. Functional cotton pad, characterized in that it is formed to face the central point (103) at the periphery. 삭제delete 삭제delete 삭제delete 삭제delete 삭제delete
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