KR102423198B1 - 회전축을 중심으로 회전할 수 있는 기판에 유동성 재료를 도포하는 장치 및 방법 - Google Patents

회전축을 중심으로 회전할 수 있는 기판에 유동성 재료를 도포하는 장치 및 방법 Download PDF

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Abstract

본 발명은, 특정 데카르트 좌표계의 픽셀들 또는 벡터들로서 제1 메모리(18)에 저장된 사전결정된 이미지 데이터에 따라서, 회전축(4)을 중심으로 회전 가능한 기판(3) 상에 유동성 재료를 도포하는 장치에 관한 것으로, 상기 유동성 재료의 재료 액적을 배출하기 위해 노즐 거리로 서로 이격 배열된 복수의 노즐을 가지고 상기 기판으로부터 수직으로 이격되게 배치된 적어도 하나의 인쇄 헤드들(13A, 13B), 및 상기 기판(3)을 적어도 하나의 인쇄 헤드들(13A, 13B)에 대해 포지셔닝하고 상기 재료 액적들을 배출하기 위한 제어기(8)를 포함하는, 유동성 재료 도포 장치에 관한 것이다. 특정 극좌표 그리드의 특정 극좌표 그리드 지점들(20A, 20B)이 저장되는 제2 메모리(19)가 존재하고, 상기 특정 극좌표 그리드 지점들은, 서로 사전결정된 원주방향 이격 거리를 가지는 원들(R1, R2) 상에 배열되고, 제1 각도 거리만큼 서로 이격된 제1 광선들(A1) 상에 배열되고, 상기 제1 각도 거리보다 큰 각도 거리만큼 서로 이격된 다른 광선들(A2) 상에 원점 방향으로 배열되며, 상기 특정 극좌표 그리드 지점들(20A, 20B)은 특정 데카르트 좌표계의 좌표들로 된 데카르트 그리드 지점들로서 저장되고, 컴퓨터(15)에 의하여, 상기 데카르트 그리드 지점들이 상기 이미지 데이터의 픽셀들 또는 벡터들과 비교된다.

Description

회전축을 중심으로 회전할 수 있는 기판에 유동성 재료를 도포하는 장치 및 방법
본 발명은 특정 데카르트 좌표계의 픽셀들 또는 벡터들로서 제1 메모리에 저장되는 사전결정된 이미지 데이터에 따라서, 회전축을 중심으로 회전 가능한 기판 상에 유동성 재료를 도포하는 장치에 관한 것이며, 상기 장치는 상기 유동성 재료의 재료 액적을 토출하기 위해 서로 노즐 간격을 두고 배열된 복수의 노즐을 가지며 상기 기판으로부터 수직 이격되게 배치된 적어도 하나의 인쇄 헤드, 및 상기 적어도 하나의 인쇄 헤드에 대해 상기 기판을 포지셔닝시키고 상기 재료 액적을 토출하기 위한 제어기를 갖는다.
또한, 본 발명은 특정 데카르트 좌표계의 픽셀들 또는 벡터들로서 제1 메모리에 저장되는 사전결정된 이미지 데이터에 따라서, 회전축을 중심으로 회전 가능한 기판 상에 유동성 재료를 도포하는 방법에 관한 것이며, 상기 유동성 재료의 재료 액적은 서로 노즐 간격을 두고 배열된 복수의 노즐을 갖는 인쇄 헤드에 의해서 상기 기판 상으로 도포된다.
전술한 장치 또는 전술한 방법은, 예를 들어, US 2004/0265413 A1에서 공지되어 있다.
이러한 공지된 장치에서, 두 개의 인쇄 헤드들이 캐리지에 고정된 인쇄 헤드 캐리어들 내에서 배열되고, 상기 캐리지에 의해 상기 인쇄 헤드들이 원형 링형 기판 위에서 반경 방향으로 변위될 수 있다. 재료가 상기 인쇄 헤드들에 의해 원형 링 형상 기판에 도포된다. 원형 링의 내측 원을 따른 경로가 원형 링의 외측 원을 따르는 경로보다 짧기 때문에, 원형 링의 내측 원에 도포된 재료의 밀도는 원형 링의 외측 원에 도포된 재료의 밀도보다 높다.
이를 방지하기 위해, 원형 링 형상 기판이 일정한 각속도로 회전하는 경우에 그리고 인쇄 헤드들이 기판 상에서 반경 방향으로 일정한 속도로 이동하는 경우에, 인쇄 헤드들이 사다리꼴 영역을 분사하도록 인쇄 헤드들의 노즐들이 작동되며, 여기서 상기 사다리꼴 영역의 보다 짧은 베이스 부분이 원형 링의 내측 원을 대면한다. 이러한 공지된 장치의 구조는 특히, 변위 가능하게 배열된 인쇄 헤드 장치들로 인해 복잡하고 결함이 발생하기 쉽다. 기하학적인 변형 및 비균일성이 인쇄된 이미지에서 발생할 수 있다. 매우 많은 소형 인쇄 헤드들이 있기 때문에, 스티칭(stitching)은 실제로 불가능하다. 또한, 인쇄 속도는 인쇄 헤드들을 변위시키는 데 필요한 시간 때문에 비교적 느리다.
신뢰할만한 작업흐름 및 높은 인쇄 속도 및 높은 균일성을 갖는 인쇄 이미지 품질이 달성되도록 서두에서 설명된 타입의 장치 및 서두에서 언급된 타입의 방법을 개발하는 것이 본 발명의 목적이다.
이러한 목적에 대한 해결책이 청구항 1, 3, 11 및 13의 특징들로부터 나타난다. 본 발명의 유리한 실시예들이 종속항들으로부터 나타난다.
본 발명에 따르면, 서두에서 설명된 유형의 장치가 제공되며, 제2 메모리가 존재하고, 특정 극좌표 그리드의 특정 극좌표 그리드 지점들 이 상기 제2 메모리 내에 저장되고, 상기 특정 극좌표 그리드 지점들은, 서로 간에 사전결정된 원주방향 이격 거리를 갖는 원들 상에 배열되며, 서로 간에 제1 각도 거리(angular distance)만큼 이격된 제1 광선들 상에 배열되고, 서로 간에 상기 제1 각도 거리보다 큰 각도 거리만큼 이격된 다른 광선들 상에 원점 방향으로 배열되며, 상기 특정 극좌표 그리드 지점들은 특정 데카르트 좌표계의 좌표들로 된 데카르트 그리드 지점들로서 저장되고, 컴퓨터가 존재하며, 상기 컴퓨터에 의해서, 상기 데카르트 그리드 지점들은 상기 이미지 데이터의 픽셀들 또는 벡터들 비교되는 것을 특징으로 한다.
상기 장치와 관련하여, 상기 상술한 문제는 다음과 같은 구성에 의해 해결될 수 있다: 제2 메모리가 존재하고, 특정 극좌표 그리드의 특정 극좌표 그리드 지점들 이 상기 제2 메모리 내에 저장되고, 상기 특정 극좌표 그리드 지점들은, 서로 간에 사전결정된 원주방향 이격 거리를 갖는 원들 상에 배열되며, 서로 간에 제1 각도 거리(angular distance)만큼 이격된 제1 광선들 상에 배열되고, 서로 간에 상기 제1 각도 거리보다 큰 각도 거리만큼 이격된 다른 광선들 상에 원점 방향으로 배열되며, 컴퓨터가 존재하며, 상기 컴퓨터에 의해서, 상기 제1 메모리에 저장된 픽셀들 또는 벡터들이 극좌표들로 변환될 수 있고, 이로써 획득된 극좌표 이미지 데이터가 상기 제2 메모리 내에 저장된 상기 특정 극좌표 그리드 지점들과 비교되는 것을 특징으로 한다.
"각도 거리"라는 용어는 원 상에 서로 인접하여 배열된 특정 극좌표 그리드 지점들을 통해 연장되는 광선들 간의 이격 거리를 말하며, 즉, 어떠한 다른 특정 극좌표 그리드 지점이 이러한 특정 극좌표 그리드 지점들 간의 해당 원 상에서의 각도 거리 내에 배치되지 않는다.
서두에서 개시된 유형의 방법과 관련하여, 전술한 문제는 다음과 같은 구성에 의해서 해결된다: 특정 극좌표 그리드의 특정 극좌표 그리드 지점들이 결정되며, 상기 특정 극좌표 그리드 지점들은 서로 간에 사전결정된 원주방향 이격 거리를 갖는 원들 상에 배열되며, 서로 간에 제1 각도 거리(angular distance)만큼 이격된 제1 광선들 상에 배열되고, 서로 간에 상기 제1 각도 거리보다 큰 각도 거리만큼 이격된 다른 광선들 상에 원점 방향으로 배열되며,
- 상기 특정 극좌표 그리드 지점들이 특정 데카르트 좌표계의 좌표들로 변환되고, 이로써 획득된 데카르트 그리드 지점들은 이미지 데이터의 픽셀 또는 벡터와 비교되거나,
- 상기 특정 데카르트 좌표계의 픽셀 또는 벡터가 극좌표들로 변환되고, 이로써 획득된 극좌표 이미지 데이터 또는 극좌표 지점들은 극좌표 그리드의 특정 극좌표 그리드 지점들과 비교된다.
특정 극좌표 그리드의 극좌표 지점들을 저장하는 제2 메모리가 존재함으로써, 상기 특정 극좌표 그리드 지점들은 서로 간에 사전결정된 원주방향 이격 거리를 갖는 원들 상에 배열되며, 서로 간에 제1 각도 거리(angular distance)만큼 이격된 제1 광선들 상에 배열되고, 서로 간에 상기 제1 각도 거리보다 큰 각도 거리만큼 이격된 다른 광선들 상에 원점 방향으로 배열되며, 그리드 지점들이 데카르트 좌표계와 유사한 방식으로 배열되는 그리드가 유리하게 이용 가능하게 된다. 다시 말해서, 특정 그리드 지점들에 의해 형성된 그리드는 어디에서나 실질적으로 균일한 표면 밀도를 갖는다. 특정 극좌표 그리드의 원점에 가까워짐에 따라 면밀도가 증가하는 특정 극좌표 그리드의 지점들과 대조적으로, 특정 극좌표 그리드의 특정 지점들의 면밀도는 극좌표 그리드의 원점으로부터의 거리에 따라서 변하지 않는다.
특정 극좌표 그리드 또는 특정 지점들로부터 형성된 그리드는 회전 가능한 기판 상으로 매핑되며, 상기 기판은 원형 링으로서 적절하게 구현된다. 즉, 인쇄 헤드의 노즐들은, 기판에 대한 그들의 위치가 특정 극좌표 그리드의 특정 지점의 위치와 대응할 때에만 노즐들이 재료 액적을 토출하도록 제어될 수 있다. 결과적으로, 회전축으로부터의 거리와는 무관하게 언제나 균일한 밀도를 갖는 인쇄된 이미지가 얻어진다.
특정 극좌표 그리드 지점들에 의해 형성된 그리드는 컴퓨터에 의해 특정 데카르트 좌표계로 매핑될 수 있는데, 즉, 이러한 컴퓨터에 의해, 상기 제2 메모리에 저장된 특정 극좌표 그리드 지점들은 특정 데카르트 좌표계의 좌표들로 변환될 수 있다. 이러한 구성이 유리하게 달성하는 것은, 특정 데카르트 좌표 그리드의 픽셀들이 상기 변환된 특정 극좌표 그리드 지점들과 비교될 수 있다는 것이다.
결과적으로, 기판에 재료가 도포되는 극좌표 그리드 지점들을 쉽게 결정할 수 있다. 상기 특정 데카르트 좌표 그리드로 변환될 때에 특정 데카르트 좌표 그리드의 픽셀들에 대응하는 지점들을 갖는 특정 극좌표 그리드 지점들에 대응하는 이러한 특정 극좌표 그리드 지점들에서만 재료가 기판에 도포된다. 결과적으로, 데카르트 좌표계로 변환된 특정 극좌표 그리드 지점들의 좌표들에 대응하는 좌표들을 갖는 데카르트 좌표 그리드의 픽셀들만이 사용된다. 결과적으로, 회전 가능한 기판에 도포된 이미지는 모든 곳에서 실질적으로 동일한 재료 밀도를 갖는다.
특정 극좌표 그리드 지점들을 특정 데카르트 좌표계의 좌표들로 변환하는 대신에, 제1 메모리에 저장된 픽셀들을 특정 극좌표 그리드의 좌표들로 변환하는 것이 가능하다. 이어서, 특정 극좌표 그리드 지점들과 픽셀들 간의 비교는 특정 극좌표 그리드에서 발생한다. 바람직하게는, 외측 원상에 있는 극좌표 지점들을 통해 연장되는 특정 극좌표 그리드의 광선들은, 외측 상에 배열된 2 개의 극좌표 지점들 간의 거리가 노즐 거리에 대응할 때에 발생하는 각도 거리에 대응하는 이격 각도 거리를 가지거나, 예를 들어, 상기 이격 각도 거리의 분수 배를 갖는다.
본 발명의 바람직한 실시예에서, 적어도 두 개의 재료 액적 층들로부터 생성될 층 스택의 제1 층 및 제2 층에 대한 이미지 데이터들이 상기 제1 메모리에 저장되고, 특정 극좌표 그리드 지점들을 갖는 제1 세트 및 제2 세트가 상기 제2 메모리에 저장되고, 상기 극좌표 그리드 지점들은 상기 제1 세트 및 제2 세트 내에서, 특정 극좌표 그리드에서 상이하게 배열되고, 컴퓨터에 의해서, 상기 제1 세트의 상기 특정 극좌표 그리드 지점들은 상기 특정 데카르트 좌표계의 좌표들로 변환 가능하고, 이로써 획득된 제1 데카르트 그리드 지점들은 상기 제1 층의 이미지 데이터의 픽셀들 또는 벡터들과 비교되며,
- 상기 제2 세트의 상기 특정 극좌표 그리드 지점들은 상기 특정 데카르트 좌표계의 좌표들로 변환 가능하고, 이로써 획득된 제2 데카르트 그리드 지점들은 상기 제2 층의 이미지 데이터의 픽셀들 또는 벡터들과 비교되거나,
상기 컴퓨터에 의해서,
- 상기 제1 층에 대해 상기 제1 메모리에 저장된 픽셀들 또는 벡터들은 극좌표들로 변환되고, 이로써 획득된 제1 극좌표 이미지 데이터는 상기 제2 메모리에 저장된 상기 제1 세트의 특정 극좌표 그리드 지점들과 비교되고,
- 상기 제2 층에 대해 상기 제1 메모리에 저장된 픽셀들 또는 벡터들은 극좌표들로 변환되고, 이로써 획득된 제2 극좌표 이미지 데이터는 상기 제2 메모리에 저장된 상기 제2 세트의 특정 극좌표 그리드 지점들과 비교된다.
따라서, 특정 극좌표 그리드 지점들이 배열되는 위치들은 개별 재료 액적 층들에 대해서 상이한 것으로 선택된다. 이는 다음과 같은 측면에서 유리하다: 특정 극좌표 그리드 지점들들이 배열된 특정 극좌표 그리드로 인해 층 스택에서 원의 원주 방향으로 서로 인접한 특정 극좌표 그리드 지점들 간의 갭들 또는 홀들을 갖는 원들의 경우에, 상기 갭들 또는 홀들은 서로 적층된 층들의 경우에는 서로 간에 걸쳐서 정확하게 중첩되어 있지 않고 대신에, 원주 방향으로 서로에 대해 오프셋되어 있다. 결과적으로, 기판 또는 층 스택에 도포된 재료는 원주 방향으로 보다 균일하게 분포되고, 기판의 면에 대해 수직하게 규정된 홀들 또는 갭들에서 층 스택을 통과하는 채널의 형성이 억제된다. 예를 들어, 특정 극좌표 그리드 지점들을 갖는 상이한 세트들은, 개별 층들에 대한 극좌표 그리드 지점들이 특정 극좌표 그리드의 원점 또는 회전축을 중심으로 서로에 대해 각도 증분치(angular increment)만큼 또는 이러한 복수의 각도 증분치만큼 회전됨으로써 생성될 수 있으며, 이러한 각도 증분치만큼, 극좌표 그리드 지점들이 원들의 원주 방향에서 서로 오프셋되어 있다. 그러나, 원점을 지나는 직선에서 상기 특정 극좌표 그리드 지점들의 배열을 미러링(mirrior)하는 것도 고려할 수 있다.
바람직하게는, 적어도 2 개의 노즐을 통해 연장되는 직선이 상기 극좌표 그리드의 광선에 평행하게 연장되도록, 상기 노즐들이 배열되며, 상기 노즐들을 통해 연장되는 직선은 회전축 또는 이의 직선 연장선과 교차하는 것이 바람직하다. 이는 간단한 방식으로, 이미지가 회전축 둘레로 회전 가능한 기판 상으로 노즐에 의해 도포되는 것을 가능하게 하며, 상기 이미지의 픽셀들은 극좌표 그리드에서 배열된다. 특히, 해당 재료가 도포되어야 하는 기판의 영역이 단순한 방식으로 확대되도록 반경 방향으로 연속적으로 복수의 인쇄 헤드를 배열하는 것이 문제없이 가능하다. 따라서, 예를 들어, 4 개의 인쇄 헤드가 연속적으로 배열될 수 있고, 그 결과, 원형 링 형상 영역에 재료를 제공할 수 있고, 상기 원형 링 형상 영역은 단일 인쇄 헤드에 의해 재료가 제공될 수 있는 영역의 크기의 4 배 크기를 갖는다.
노즐들은 극좌표 그리드의 광선에 평행하게 연장되는 단일 직선 상에 배열되거나 극좌표 그리드의 동일한 광선에 평행하게 연장되는 2 개의 직선 상에 배열될 수 있으며, 상기 2 개의 직선들은 상기 기판으로부터 동일한 수직 이격 거리만큼 배치된다. 후자의 경우에, 일 직선 상에 배열된 노즐들은 다른 직선 상에 배열된 노즐과의 갭만큼 오프셋되는 것이 바람직하다. 이는 노즐들의 조밀한 배열을 용이하게 한다.
바람직하게는, 특정 극좌표 그리드 지점들의 원주 방향 이격 거리는, 2 개의 노즐들이 극좌표 그리드의 광선에 평행한 행으로 배열될 때, 이러한 2 개의 노즐들 간의 거리에 대응한다. 이러한 노즐 거리는 결과적으로 토출된 재료 액적들이 균일 한 밀도를 갖는 라인을 생성하도록 선택된다.
바람직하게는, 상기 제2 메모리에 저장된 상기 특정 극좌표 그리드 지점들 간의 각도 거리는, 동일한 원 상에서 서로 인접하여 배열되는 극좌표 그리드의 2 개의 특정 극좌표 그리드 지점들 간의 이격 거리가 상기 노즐 거리의 적어도 분수 배, 바람직하게는 1 배에 대응하도록, 선택되며, 상기 각도 거리가 완전한 원 또는 회전의 단위 분율(unit fraction)에 대응하도록 상기 각도 거리가 선택된다. 이는 기판에 도포된 재료의 밀도가 간단한 방식으로 영향을 받도록 하게 한다. 그러나, 상기 이격 거리는 완전한 원의 단위 분율에 대응하도록 선택되어야 한다. 그 결과, 극좌표 그리드 지점들은 회전축을 중심으로 기판을 완전하게 회전시킨 후에 정확히 그들의 초기 위치에 다시 위치하게 되고, 이로써, 별도의 단계에서 기판을 초기 공간 방향으로 복귀시킬 필요가 없다. 이는 프로세싱 시간에 매우 유리한 효과가 있다. 비선명성으로 이어질 수 있는 오프셋이 발생하지 않는다.
특정 극좌표 그리드의 다른 광선들 간의 각도 거리가 제1 광선들 간의 각도 거리의 정수배에 대응하는 본 발명의 실시예는 매우 유리하다. 이로써, 극좌표 그리드의 특정 지점들을 매우 정확하게 배치시킬 수 있다.
본 발명의 바람직한 구성에서, 적어도 2 개의 극좌표 그리드 지점들에는 상이한 체적을 갖는 재료 액적들이 할당되고, 해당 극좌표 그리드 지점들로 토출될 재료 액적에 대한 각각의 체적 정보 항목이 해당하는 극좌표 그리드 지점들 각각에 대해 상기 제2 메모리에 저장되고, 해당 극좌표 그리드 지점에 대해서 상기 제2 메모리에 저장된 상기 체적 정보 항목에 대응하는 체적으로, 인쇄될 위치들로 상기 재료 액적들이 각각 도포되도록 상기 장치가 구성된다. 그 결과, 원의 원주 방향으로 서로 인접한 특정 극좌표 그리드 지점들 간에 위치한 층 스택 내의 갭들 또는 홀들의 치수가 감소되거나, 갭들 또는 홀들이 완전히 억제될 수 있다. 상이한 수치들을 갖는 재료 액적들은 상이한 체적을 갖는 재료 액적들을 생성한다.
제1 극좌표 그리드 지점들은 상기 극좌표 그리드의 제1 원 상에 배열되고, 다른 극좌표 그리드 지점들이 상기 극좌표 그리드의 다른 원 상에 배열되고, 상기 다른 원의 직경이 상기 제1 원의 직경보다 작고, 상기 제2 메모리에 저장된 체적 정보 항목은, 상기 다른 원의 특정 극좌표 그리드 지점들에 할당된 체적들의 합이 상기 제1 원의 특정 극좌표 그리드 지점들에 할당된 체적들의 합보다 작도록, 선택되는 구성을 갖는 것은 유리하다. 바람직하게는, 이들 체적 합들 간의 비는 원들의 직경들 간의 비에 대략적으로 대응한다. 이는 특히 균일한 재료 도포를 실현한다.
전술한 바와 같이, 매우 균일한 인쇄된 이미지가 또한 본 발명에 의해서 생성될 수 있다고 하여도, 즉, 본 발명이 회전축을 중심으로 회전 가능한 기판 상에 인쇄된 이미지를 인쇄하는 인쇄기들에서 유용할 수 있다고 하여도, 본 발명은 특히 3 차원 물체가 층별 재료 도포로 생산되는 것을 가능하게 하는 인쇄기의 경우에 유리하게 사용될 수 있다. 이는 인쇄용 테이블의 연속적인 회전 운동에 의해 절감될 수 있는 시간이 특히 상술한 인쇄기들에 대해서 매우 명확한 효과를 가지기 때문이다. 또한, 인쇄 헤드들은 본 발명의 적용 시에 견고하게 조립될 수 있고, 그 결과, 인쇄 장치는 견고해지고, 매우 높은 스티칭 정밀도 및 높은 신뢰성을 갖는다.
또한, 특정 극좌표 그리드 지점들의 배열이 인쇄 장치의 기하학적 구조에 의존하고, 특히, 회전축을 중심으로 회전 가능한 기판 및 인쇄 헤드 배열에 의존하는 것이 매우 바람직하다. 그 결과, 인쇄 장치에 대한 특정 극좌표 그리드 지점들만이 한번 계산되어야 한다. 결과적으로, 특정 극좌표 그리드 지점들이 제2 메모리에 영구 저장될 수 있다. 이는 계산 부하를 감소시켜 인쇄 속도에 매우 유리한 효과를 발휘한다.
사전결정된 이미지 데이터들은 특정 데카르트 좌표 그리드의 픽셀들로서 이용 가능하며 상기 특정 데카르트 좌표 그리드의 좌표 라인들은 서로 간에 그리드 간격을 가지며; 또는 사전결정된 이미지 데이터들은 벡터들로서 가용될 수 있다.
본 발명의 다른 세부 사항들, 특징들 및 이점들은 첨부 도면들을 참조하여 특정 예시적인 실시예들에 대한 다음의 설명으로부터 나타난다. 첨부 도면들에서, 부분적으로 매우 개략적으로 다음이 도시된다.
도 1은 3 차원 형상 물체의 층별 제조를 위한 장치의 예시적인 실시예의 사시도를 도시하며, 상기 장치는 회전 디스크를 가지며, 다수의 재료 층들이 성형된 물체를 형성하기 위해서 상기 회전 디스크 상에 도포된다.
도 2는 추가 재료 층들이 도포되고 회전 디스크가 도 1에 대해서 하강된 후의, 도 1과 유사한 도면을 도시한다.
도 3은 특정 극좌표 그리드 지점들에 의해 형성된 극좌표 그리드로 배열된 이미지를 도시한다.
도 4는 대응하는 인쇄된 이미지를 도시한다.
도 5는 원점과 동심원인 가상 원들 및 원점으로 반경 방향으로 연장되는 다수의 가상 광선들 상에 배열되는 다수의 극좌표 그리드 지점들을 갖는 극좌표 그리드의 그래픽적 예시를 도시한다.
도 6은 도 5에 도시된 극좌표 그리드의 특정 극좌표 그리드 지점들의 그래픽적 예시를 도시한다.
도 7은 도 6과 유사한 도면을 도시하며, 그러나, 도 7에서는, 특정 극좌표 그리드 지점들은 특정 극좌표 그리드 지점들을 기판 상에 인쇄할 때 장치에 의해 토출되는 재료 액적들에 대응하는 원형 영역들에 의해 표현된다.
도 8은 제1 원 상에 배열된 특정 극좌표 그리드 지점들에 대해 기판 상으로 토출되는 재료 액적들을 도시하는, 도 7의 부분적 예시를 도시한다.
도 9는 제2 원 상에 배열된 특정 극좌표 그리드 지점들에 대해 기판 상으로 토출되는 재료 액적들을 도시하는, 도 7의 부분적 예시를 도시하며, 상기 제2 원의 직경은 상기 제1 원의 직경보다 작다.
도 10은 제3 원 상에 배열된 특정 극좌표 그리드 지점들에 대해 기판 상으로 토출되는 재료 액적들을 도시하는, 도 7의 부분적 예시를 도시하며, 상기 제3 원의 직경은 상기 제2 원의 직경보다 작다.
도 11은 제4 원 상에 배열된 특정 극좌표 그리드 지점들에 대해 기판 상으로 토출되는 재료 액적들을 도시하는, 도 7의 부분적 예시를 도시하며, 상기 제4 원의 직경은 상기 제3 원의 직경보다 작다.
도 12는 제5 원 상에 배열된 특정 극좌표 그리드 지점들에 대해 기판 상으로 토출되는 재료 액적들을 도시하는, 도 7의 부분적 예시를 도시하며, 상기 제5 원의 직경은 상기 제4 원의 직경보다 작다.
도 13은 제6 원 상에 배열된 특정 극좌표 그리드 지점들에 대해 기판 상으로 토출되는 재료 액적들을 도시하는, 도 7의 부분적 예시를 도시하며, 상기 제6 원의 직경은 상기 제5 원의 직경보다 작다.
도 14는 제7 원 상에 배열된 특정 극좌표 그리드 지점들에 대해 기판 상으로 토출되는 재료 액적들을 도시하는, 도 7의 부분적 예시를 도시하며, 상기 제7 원의 직경은 상기 제6 원의 직경보다 작다.
도 15는 도 7과 유사한 도면을 도시하며, 그러나, 도 15에서는, 극좌표 그리드에서 특정 극좌표 그리드 지점들은 도 7과 상이하게 배열된다.
도 16은 2 개의 인쇄된 층들을 갖는 층 스택을 도시하며, 여기서 하부 층의 특정 극좌표 그리드 지점들은 해칭(hatching)으로 도시하고, 상부 층의 특정 극좌표 그리드 지점들을 해칭없이 도시된다.
도 17은 기판 상으로 토출된 상이한 직경을 갖는 재료 액적들을 도시하며, 상기 재료 액적들은 원들, 광선들 및 흑색 및 백색 극좌표 그리드 지점들로 표시된 특정 극좌표 그리드에 배열된다.
층별 재료 성막에 의해 3 차원 형상의 물체(2A, 2B, 2C, 2D)를 제조하기 위한, 도 1에서 전체적으로 참조 부호(1)로 표시된 장치는, 수평면으로 연장되는 평면 기판(3)을 갖는다. 각각이 다수의 재료 층을 갖는 복수의 성형된 물체(2A, 2B, 2C, 2D)에 대한 층 스택들(2A', 2B', 2C', 2D')이 기판(3) 상에 도포 가능하다.
기판(3)은 고정 홀더(5) 상에서 수직 회전축(4)을 중심으로 회전 가능한 방식으로 장착된 원형 환형 회전 디스크로 구성된다. 상기 디스크의 하부면 상에서, 고정 홀더(5)는 풋 인쇄(footprint)를 가지며, 이 풋 인쇄를 이용하여, 홀더는 예를 들어, 탁상 또는 방의 바닥에 설치될 수 있다.
기판(3)은 제1 구동 모터(6)를 갖는 제1 포지셔닝 장치와의 구동가능한 연결을 가지며, 제1 구동 모터(6)를 통해서, 기판(3)은 화살표(7)의 방향으로 회전 가능하게 구동 가능하고, 작동 장치(8)에 의해서 제공된 회전 배향 목표 값 신호에 따라서 포지셔닝될 수 있다. 이를 위해, 제1 구동 모터(6)는 작동 장치(8)에 통합되고 기판(3)의 회전 방위를 포착하기 위한 인코더(9)를 갖는 제1 공간 배향 제어기에 연결된다. 상기 공간 배향 제어기 또는 인코더(9)는 증분형 회전 인코더로서 구현될 수 있다. 상기 제1 포지셔닝 장치의 도움으로, 기판(3)은 높은 회전 속도로 그리고 홀더(5)에 대해 360°를 초과하는 가상 임의의 각도에 걸쳐서 멈추지 않고 연속적으로 회전축(4)을 중심으로 회전될 수 있다.
기판(3)은 또한 제2 구동 모터(10)를 갖는 제2 포지셔닝 장치와의 구동가능한 연결을 가지며, 상기 제2 구동 모터(10)를 통해서, 상기 기판(3)은 홀더(5)에 대해 양방향 화살표(11)의 방향으로 상하로 변위 가능하고, 작동 장치(8)(도 1 및 도 2 참조)에 의해 제공되는 높이 목표 값 신호(elevation intended value signal)에 따라서 포지셔닝될 수 있다. 이러한 포지셔닝은 증분적 또는 연속적일 수 있다. 이를 위해, 제2 구동 모터(10)는 작동 장치(8)에 통합되고 기판(3)의 높이를 포착하기 위한 공간 배향 센서(12)를 갖는 제2 공간 배향 제어기에 연결된다.
장치(1)는 홀더(5) 상에 고정식으로 배열되고 반경 방향으로 연속적으로 배열된 4 개의 인쇄 헤드들로 각각 구성된 2 개의 인쇄 헤드 장치들(13A, 13B)을 갖는다. 상기 인쇄 헤드들 각각은 제어 가능한 밸브들이 제공되는 다수의 노즐들을 갖는 도면에서 더 상세히 예시되지 않은 노즐 장치를 각각 구비하며, 각각의 노즐로부터 유동성 재료의 재료 액적들이, 예를 들어, 중합체, 접착제, 결합제, 등과 같은 재료의 액적들이 토출 가능하다. 각각의 노즐 장치의 노즐들은 기판(3)의 평면에 평행하게 연장되는 행으로 각각 배열되고, 상기 노즐들은 그들의 노즐 개구들이 기판(3)을 향하게 구성된다. 개별 노즐 장치들의 노즐들이 각각의 경우에 배열되는 행들은 기판(3)의 회전축(4)에 대해 대략 반경 방향으로 연장된다. 각각의 노즐 장치는 유동성 재료 공급을 위해 도면에 더 상세히 도시되지 않은 저장부와 각각 연결된다. 상기 저장부는 다른 재료들로 충진될 수 있다. 예시적으로, 이러한 재료들은 2 성분 성형 물체를 제조하기 위해 상이한 색상 또는 재료 특성을 가질 수 있다. 다중 컬러 버전도 가능하다.
상술한 포지셔닝 장치들 및 인쇄 헤드 노즐들은, 성형 물체(2A, 2B, 2C, 2D)이 층별 재료 도포에 의해 생산 가능하게, 작동 장치(8)에 의해 작동 가능하다. 이를 위해, 작동 장치(8)는 인쇄 버퍼(14)를 가지며, 상기 인쇄 버퍼는 인쇄 헤드 장치들(13A, 13B)의 도움으로 기판(3) 상에 도포될 재료 층, 기판 위에 위치한 재료 층, 기판(3) 상에 배치되며 복수의 재료 층을 갖는 층 스택, 및/또는 상기 기판, 재료 층 또는 층 스택 상에 배치된 물체에 대한 인쇄 데이터들을 저장할 수 있다.
상기 인쇄 데이터들은 인쇄 버퍼(14) 내에서 픽셀 매트릭스의 형태로 저장 가능하고, 상기 픽셀 매트릭스는 복수의 원들 및 복수의 반경 반향 광선들을 갖는 극좌표 시스템에서 대응하게 배열되는 다수의 픽셀을 갖는다. 원들은 기판(3)의 회전축(4)과 동심으로 배열되고, 각 원은 회전축(4)에 대한 각도 그리드(angle grid)에서 서로 오프셋된 사전결정된 수의 픽셀들을 갖는다. 기판(3)의 회전축(4)으로부터 더 먼 거리에 있는 라인들은 상기 회전축(4)에 더 가깝게 배치된 라인들보다 많은 수의 픽셀들을 갖는다. 각각의 인쇄 헤드 장치(13A, 13B)는 각각의 원에 대해 각각 하나의 노즐을 갖는다.
정보 항목은 각각의 인쇄 헤드 장치(13A, 13B)에 대해 각각 인쇄 버퍼(14) 내의 각 픽셀에 대해 저장 가능하며, 상기 정보 항목은 해당하는 인쇄 헤드 장치(13A, 13B)의 해당하는 노즐이 생산될 재료 층의 픽셀에 할당된 자리에 재료 액적을 토출하고자 할 때에 제1 값(예를 들어,"1")을 갖는다. 인쇄 헤드 장치(13A, 13B)의 노즐이 해당 픽셀에 할당된 재료 층의 위치로 재료 액적을 토출하지 않는다면, 이러한 픽셀에 대해 인쇄 버퍼(14)에 저장된 정보 항목은 제2 값(예를 들어,"0")을 갖는다.
픽셀 매트릭스를 인쇄 버퍼(14)에 로딩하기 위해, 작동 장치(8)는 예를 들어, PC와 같은 오버헤드형 컴퓨터(15)에 연결되며, 성형 물체(2A, 2B, 2C, 2D)에 대한 기하학적 데이터가 상기 PC 내에 저장된다. 예를 들어, 기하학적 데이터는 컴퓨터(15)상에서 실행될 수 있는 CAD 소프트웨어에 의해 제공될 수 있다. 또한, 기하학적 데이터를 준비하고 이러한 기하학적 데이터로부터 성형된 물체(2A, 2B, 2C, 2D)의 개별 층들에 대한 인쇄 데이터를 생성하는 소프트웨어가 컴퓨터(15) 상에서 실행 가능하다. 픽셀 매트릭스는 제1 메모리(18)에 저장되며 데카르트 좌표로 이용 가능한, 성형된 물체(2A, 2B, 2C, 2D)의 기하구조가 극좌표로 변환되는 데카르트 좌표에 의해 형성된 기하구조로부터 벗어난 자리들에서 변형들이 가능한 한 적도록 소프트웨어의 도움으로 생성된다.
이는 서로 이격된 사전결정된 원 간격을 갖는 원들에 배치된 극좌표 그리드의 특정 극좌표 그리드 지점들(20A, 20B)이 결정되는 방식으로 수행된다. 도 3으로부터, 극좌표 그리드 지점들(20B)은 극좌표 그리드 지점들(20A)보다 원들의 중심 또는 원점으로부터 더 작은 거리 만큼 떨어져 있는 것이 명백하다. 상기 특정 극좌표 그리드 지점들(20A)은 서로로부터 제1 각도 거리만큼 떨어진 제1 광선들(A1) 상에 배열된다. 명확성을 위해, 도 3에는 하나의 제1 광선(A1)만이 도시되어있다. 특정 극좌표 그리드 지점들(20B)은 서로 제2 각도 거리만큼 떨어져 있는 제2 광선들(A2) 상에 배열되고, 상기 제2 각도 거리는 상기 제1 각도 거리보다 크다. 즉, 극좌표 그리드 지점들은 원점의 방향으로 추가 광선들 상에 배열되고, 상기 추가 광선들은 상기 제1 각도 거리보다 큰 각도 거리만큼 서로 떨어져 있다. 극좌표 그리드의 원점으로부터의 거리가 감소함에 따라, 각도 거리가 증가하고, 결과적으로, 동일한 원에 배치된 극좌표 그리드 지점들 간의 거리는 항상 동일하다.
원들의 간격은 인쇄 헤드 장치들(13A, 13B)의 노즐들 간의 각도 거리에 대응한다. 각도 거리는 가변적이며, 각도 거리는 특정 원 상에 배열된 특정 극좌표 그리드 지점들(20A, 20B)의 간격이 노즐들 간의 거리에 대략적으로 대응하는 방식으로 선택된다. 즉, 회전축(4)에 가장 가까운 원 상에 배치된 특정 극좌표 그리드 지점들(20A, 20B)의 간격은, 회전축(4)에 가장 멀리 떨어져 있는 원 상에 배치된 특정 극좌표 그리드 지점들(20A, 20B) 간의 각도 거리보다 크다. 원 상에 배치된 특정 극좌표 그리드 지점들(20A, 20B)의 간격이 노즐들 간의 거리에 대략 일치하는 조건을 만족시키는 이상적인 각도 거리는 각각의 원에 대해 계산될 수 있다. 특정 원 상의 특정 극좌표 그리드 지점들(20A, 20B)의 간격이 완전한 원 또는 회전의 정수 분율에 대응하지 않는다면, 각도 거리가 완전 원 또는 회전의 정수 분율에 대응하도록 반올림 처리(rounding)함으로써 구성된다. 특정 극좌표 그리드 지점들(20A, 20B)에 의해 형성된 극좌표 그리드는 제2 메모리(19)에 저장된다.
특정 극좌표 그리드 지점들(20A, 20B)의 극좌표들은 컴퓨터(15)에 의해 데카르트 좌표로 변환된다. 이어서, 제1 메모리(18)에 저장된 이미지 데이터의 데카르트 좌표가 상기 변환된 특정 극좌표 그리드 지점들(20A, 20B)의 데카르트 좌표와 비교된다. 상기 변환된 특정 극좌표 그리드 지점들(20A, 20B)의 데카르트 좌표들에 대응하는 데카르트 좌표들을 갖는 픽셀들은 인쇄되어야 한다. 상기 변환된 특정 극좌표 그리드 지점들(20A, 20B)의 데카르트 좌표들에 대응하지 않은 데카르트 좌표들을 갖는 픽셀들은 인쇄되어서는 안 된다. 따라서, 해당 특정 극좌표 그리드 지점들(20A, 20B)이 마킹된다. 이와 같이 하여 얻어진 인쇄 데이터는 컴퓨터(15)로부터 인쇄 버퍼에 로딩될 수 있다.
도 3은 특정 극좌표 그리드 지점들(20A, 20B)으로 구성된 그리드를 도시한다. 해당 그리드는 반경 방향으로 연장하는 광선들(A1, A2)와 원들(R1, R2)을 가지고 있다. 특정 극좌표 그리드 지점들(20A, 20B)은 노즐들 간의 거리에 대응하는 거리만큼 서로 이격된 원들(R1, R2) 상에 각각 배치된다. 특정 극좌표 그리드 지점들(20A, 20B)은 반경 방향으로 동일한 거리를 갖는다. 도형(21)은 특정 극좌표 그리드 지점들(20A, 20B)에 의해 형성된 그리드 상에사 이미징된다. 도형(21)이 벡터화된 형태로 이용 가능하다면, 어떤 극좌표, 즉, 어떠한 특정 극좌표 그리드 지점들(20A, 20B)이 이미지 윤곽의 내부 또는 외부에 있는지가 체크될 수 있다. 이러한 체크를 위해서, 그래픽 프로그램의 표준 알고리즘에 의지할 수 있다. 이미지 윤곽 내에 위치한 모든 특정 극좌표 그리드 지점들(20B)에는 재료 액적이 제공되며, 상기 특정 극좌표 그리드 지점들은 원들으로서 도시된 재료 액적들의 중심들을 형성한다. 이미지 윤곽선 외부에 위치한 모든 특정 극좌표 그리드 지점들(20A)에는 재료 액적들이 제공되지 않는다.
그 결과, 도 4에 예시된 이미지가 나타난다.
작동 장치(8)는 인쇄 버퍼(14)에 연결된 마이크로프로세서(16), 및 동작 프로그램을 더 포함하며, 이들에 의해서, 제1 및 제2 포지셔닝 장치들 및 인쇄 헤드 장치들(13A, 13B)의 노즐들이, 성형된 물체가 상기 마이크로 프로세서 상에서 실행 가능한 층별 재료 도포에 의해 생산될 수 있도록, 제어될 수 있다. 이러한 동작 프로그램은 작동 장치(8)의 메모리에 저장되고, 상기 메모리는 도면에서 더 이상 상세하게 도시되지 않았다. 작동 장치(8)는 데이터 또는 제어 라인을 통해 인쇄 헤드 장치들(13A, 13B) 및 제1 및 제2 포지셔닝 장치들에 연결된다.
장치(1)는 정착 장치(17)를 더 포함하며, 상기 정착 장치는, 기판(3) 상에 배치된 재료 층, 그 위에 배치된 재료 층 및/또는 기판(3) 상에 배치된 층 스택을, 인쇄 헤드 장치들(13A, 13B)에 의해 도포된 복수의 재료 층들으로 고정 또는 가교 결합시키기 위해, 도면에 더 이상 상세히 도시되지 않은 UV 광원을 가지며, 상기 UV 광원의 광 방사 면은 기판(3)과 대면한다. UV 광원 대신에, 임의의 다른 고정 소스가 제공될 수도 있다. 정착 장치(17)는 홀더(3)에 대해 고정된 방식으로 배치되고 그의 길이 연장 방향이 회전축(4)(도 3)에 대해 대략적으로 반경 방향으로 정렬된다.
이하에서, 성형된 물체(2A, 2B, 2C, 2D)가 장치(1)에 의해 층별로 제조되는 방법이 설명될 것이다.
기판(3)은 제2 포지셔닝 장치의 도움 및 공간 배향 센서(12)의 도움으로 인쇄 헤드 장치들(13A, 13B)의 노즐들로부터 사전결정된 거리만큼 이격 위치된다. 이러한 이격 거리는 제1 재료 층에 대한 재료 액적들이 노즐 장치들에 의해 기판(3) 상에 도포될 수 있도록 선택된다. 또한, 기판(3)은 제1 포지셔닝 장치의 도움으로 그리고 인코더(9)의 도움으로 홀더(5)에 대해 사전결정된 회전 배향으로 배향된다. 생성될 제1 재료 층에 대한 인쇄 데이터는 컴퓨터(15)로부터 인쇄 버퍼(14)로 로딩된다.
이제, 기판(3)은 화살표(7)의 방향으로, 미리 결정된 일정하지만 선택 가능한 각속도로, 홀더(5)에 대해 회전 운동을 하게 되는 반면, 재료 액적들 각각은, 인쇄 헤드 장치들(13A, 13B)의 노즐들의 도움으로 특정 자리들로 토출되며, 이러한 특정 자리들에서, 인쇄 헤드 장치들(13A, 13B)에 할당된 재료들이 기판 상에 도포되어 기판(3) 상에 제1 재료 층을 생성할 것이다. 재료 액적들은 인쇄 버퍼(14)에 저장된 데이터에 기초하고 그리고 인코더(9)로부터의 측정 신호에 기초하여 토출된다.
기판(3)에 도포된 재료 층은 자외선 또는 다른 에너지원의 에너지의 조사에 의해 정착 장치(17)에 의해 고화된다. 제1 재료 층이 완전히 도포된 후에, 기판(3)은 사전결정된 각속도로 회전축(4)을 중심으로 더 회전된다. 인쇄 헤드 장치들(13A, 13B)의 노즐들이 재료 액적들이 토출되지 말아야 하는 기판(3)의 세그먼트 상에 위치될 때, 이미 완성된 제1 재료 층에 도포되도록 의도된 추가 재료 층에 대한 인쇄 데이터가 컴퓨터(15)로부터 인쇄 버퍼(14)로 로딩된다.
작동 장치(8)가 복수의 인쇄 버퍼(14)를 가질 수도 있으며, 이들 버퍼들 각각은 현재 시간에 생성될 재료 층에 대한 인쇄 데이터를 각기 포함한다. 이 재료 층의 제조 중에, 나중에 생성될 추가 재료 층에 대한 인쇄 데이터가 이후에 다른 인쇄 버퍼로부터 판독될 수 있고, 이로써, 이들 인쇄 데이터는, 현재 처리되고 있는 재료 층이 완성된 후에 추가 재료 층을 제조하기 위해 즉시 이용 가능하게 된다.
제1 재료 층이 완성되자마자, 기판(3)은 제2 포지셔닝 장치의 도움으로 제1 재료 층의 두께만큼 하강하고, 이로써, 노즐 어레이들이 기판(3)을 멀리 보고 있는 제1 재료 층의 표면으로부터 사전결정된 거리에 배치되도록 된다. 그러나, 이러한 하강은 또한 연속적으로 수행될 수 있다.
기판(3)이 회전축(4)을 중심으로 계속해서 회전하는 동안, 재료 액적들은, 각각의 인쇄 헤드(13A, 13B)에 할당된 재료가 제1 재료 층에 도포되어야 할 지점로, 인쇄 헤드 장치들(13A, 13B)의 노즐 배열들의 도움으로, 각각 토출되고, 이로써 제1 재료 층 상에 추가 재료 층을 도포할 수 있다. 여기서, 재료 액적들은, 여기서도 역시, 인쇄 버퍼(14)에 저장된 데이터 및 인코더(9)의 측정 신호에 기초하여, 토출된다.
전술한 단계들은 성형된 물체(2A, 2B, 2C, 2D)가 완성될 때까지 추가 재료 층들을 도포하도록 상응하는 방식으로 반복된다. 그 후, 성형된 물체(2A, 2B, 2C, 2D)가 기판으로부터 제거되고, 기판은 필요한 경우에, 추가 성형된 물체(2A, 2B, 2C, 2D)를 제조하기 위해 그의 최초의 공간 배향으로 재배치된다.
이하, 본 발명의 제2 실시예를 도 5 내지 도 14에 의거하여 설명한다. 이 예시적인 실시예에서, 도 1 및 도 2에서 도시된 예시적인 실시예에 대응하는 장치의 도움으로 대략 직사각형 형상의 물체가 기판(3) 상에 인쇄된다. 이러한 성형된 물체는 서로 적층된 다수의 재료 층을 갖는 층 스택(2')으로서 기판(3) 상에 형성된다. 성형된 물체의 기하학적 형상은 벡터 이미지 데이터의 형태로 제1 메모리(18)에 저장된다. 층 스택의 각 층에 대해서, 각각 대응하는 벡터 이미지 데이터가 제1 메모리(18)에 저장된다.
매우 적은 수의 극좌표 그리드 지점들(20)이 그래픽적 표시 능력의 측면에서 본 예시적인 실시예에서 선택되었다. 도 5로부터, 총 7 개의 원들(R1'... R7')이 존재하며, 그 위에 60 개의 극 좌표 그리드 지점들(20)이 각각 배치되어 있음을 볼 수 있다. 그러나, 실제적으로, 개별 원들(R1'... R7') 상에 배치되는 극좌표 그리드 지점들(20)의 수는 상당히 더 많다. 예를 들어, 이러한 수는 64,000일 수 있다. 이에 따라서, 원들(R1'... R7')의 수도 역시 7보다 크다. 이는 도 5에 도시된 원들(R1'... R7') 사이에 추가 원들을 배치함으로써 달성된다. 상호 인접한 원들(R1', ..., R7')의 직경 차는 각각의 경우에, 회전축(4)에 대하여 반경 방향으로 서로 인접한 인쇄 헤드 노즐들의 중심점들 간의 간격에 대응한다.
도 5로부터, 모든 원들(R1'... R7') 상의 극좌표 그리드 지점들(20)은 각각 서로 균일한 거리만큼 이격되게 배열되는 것을 볼 수 있다; 즉, 원들(R1'... R7') 상의 서로 인접한 극좌표 그리드 지점들(20) 간의 각도 거리는, 원(R1'... R7')당 60 개의 극좌표 그리드 지점들의 경우에, 각각 α1 = 360°/ 60 = 6°이다.
또한, 도 5로부터, 극좌표 그리드 지점들(20)은 60 개의 직선 광선들(A1', A2', A3') 상에 배열되며, 이러한 직선 광선들은, 극좌표 그리드 지점들(20)에 의해 규정된 평면에서, 극좌표 그리드의 원점으로부터 외부로 반경 방향으로 연장되며 원들(R1'... R7')의 원주 방향으로 상기 각도 거리 α1만큼 서로에 대해 오프셋되는 것을 볼 수 있다. 원점은 회전 가능한 기판(3)의 회전축(4) 상에 위치한다. 60 개의 직선 광선들(A1', A2', A3') 각각은 각 경우에 정확히 한번 각각의 원(R1'... R7')과 교차한다; 즉, 각각의 광선(A1', A2', A3')에 대해서 7 개의 교차점이 나오며, 각각의 교차점에 각기 하나의 극좌표 그리드 지점(20)이 배치되어있다.
존재하는 극좌표 그리드 지점들(20) 전체 중 일부만을 포함하는 극좌표 그리드의 특정 극좌표 그리드 지점들(20)을 갖는 제1 세트가 제2 메모리(19)에 저장된다. 실제로, 이는, 예를 들어, 제1 세트에 대해서 제공된 제2 메모리의 메모리 위치들의 수가 극좌표 그리드 지점들(20)의 수보다 작거나, 특정 극좌표 그리드 지점(20)이 아닌 극좌표 그리드 지점(20)에 대응하는, 제2 메모리의 메모리 위치들이"홀(hole)"에 대응하는 논리 값으로, 예를 들어, 논리 값"0"으로 각각 채워져 있기 때문에, 달성된다.
제1 세트의 특정 극좌표 그리드 지점들(20)의 배열이 도 6에 도시되어 있다. 외측 원(R1') 상에 위치한 특정 극좌표 그리드 지점들(20)의 수는 이 원(R1') 상에 있는 극좌표 그리드 지점들(20)의 수에 대응한다(도 5, 도 6 및 도 8 참조).
외측 원(R1') 내에 배열된 추가 원들(R2'... R7') 상에 놓이는 상기 제1 세트의 특정 극좌표 그리드 지점들(20)의 수는, 외측 원(R1') 상에 놓인 제1 세트의 특정 극좌표 그리드 지점들(20)의 수를, 추가 원들(R2'... R7')의 직경과 외측 원(R1')의 직경 간의 제산의 몫(quotient)으로 곱한 결과에 대응한다. 여기서, 이러한 계산 작업의 결과는 필요하다면, 정수 값으로 반올림되어야 하는데, 그 이유는 극좌표 그리드 지점들(20)의 정수 개수만이 원(R1'... R7') 상에 배열될 수 있기 때문이다. 결과적으로, 원들(R1'... R7') 상에 있는 특정 극좌표 그리드 지점들(20)의 수는, 외측 원(R1')에서 내측 원(R7')으로 진행함에 따라서 감소하며, 개별적으로는, 원(R1'... R7')으로부터 원(R1'... R7')으로 진행함에 따라서 감소한다(도 9 내지 도 14 참조).
도 6 내지 도 14로부터 알 수 있는 바와 같이, 제1 세트의 특정 극좌표 그리드 지점들(20)은 각각의 경우에, 원들(R1'... R7')을 따라서 가능한 한 균일한 이격 거리들로 분포된다. 그러나, 제1 세트의 특정 극좌표 그리드 지점들(20)이 모든 원들(R1'... R7')에 대해 동일한 각도 그리드 상에 배치되기 때문에, 몇몇 원(R2'... R5', R7')에 대한 각도 거리는, 원들(R1'... R7') 상에서 원주 방향으로 서로 인접하게 배열된 모든 특정 극좌표 그리드 지점들(20)에 대해 동일한 크기를 갖도록 선택될 수 없다. 따라서, 예를 들어, 도 9 내지 도 13에 도시된 원들(R2'... R6') 상에 있는 특정 극좌표 그리드 지점들(20) 간의 각도 거리는 α1 = 6° 또는 α2 = 12°이다. 도 14에 도시된 내측 원(R7') 상에 있는 특정 극좌표 그리드 지점들(20)의 경우, 이들 간의 각도 거리는 α2 = 12°내지 α2 = 18 °간에 있다. 따라서, 이들 원(R2'... R5', R7')의 경우에 각도 거리의 편차는 외측 원 상에 있는 특정 극좌표 그리드 지점들(20) 간의 각도 거리 α1에 대응한다. 도 9 및 도 13에 도시된 원들(R1', R6')에서만, 특정 극좌표 그리드 지점들(20) 간의 각도 거리가 일정하다.
따라서, 결론적으로 나타난 것은 다음과 같다: 도 9에서 도시된 외측 원(R1') 상에 놓여있는 제1 세트의 특정 극좌표 그리드 지점들(20)이 제1 광선들(A1', A2', A3') 상에 배열되고, 이러한 광선들은 서로 간에 제1 각도 거리 α1만큼 이격된다. 도 9, 도 10, 도 11, 도 12 및 도 13에 도시된 외측 원과 내측 원 중 하나 상에 각각 위치하는 적어도 2 개의 특정 극좌표 그리드 지점들(20)은 제2 광선들(A1', A2', A3') 상에 배열되고, 이러한 광선들은 서로 간에 제2 각도 거리 α2만큼 이격되며, 제2 각도 거리 α2는 상기 제1 각도 거리 α1보다 크다. 도 14에서 묘사된 내부 원에 놓인 제1 세트의 적어도 2 개의 특정 극좌표 그리드 지점들(20)은 제3 광선들(A1', A2', A3') 상에 배열되고, 이러한 광선들은 서로 간에 제3 각도 거리 α3만큼 이격되며, 제3 각도 거리 α3는 상기 제2 각도 거리 α2보다 크다.
컴퓨터(15)의 도움으로, 제1 층에 대한 제1 메모리(18)에 저장된 벡터 이미지 데이터는 극좌표로 변환된다. 도 7은 극좌표들로 변환된 이미지 벡터들(21')을 도시하고, 상기 이미지 벡터들은 도포될 층의 윤곽에 대응한다. 이미지 벡터들(21')에 의해 형성된 폐쇄형 다각형 체인은 제2 메모리(19)에 저장된 제1 세트의 특정 극좌표 그리드 지점들(20)과 비교된다. 이를 위해, 이미지 벡터(21')에 의해 규정된 다각형 체인 내에 위치한 광선들(A1', A2', A3')의 섹션들(22)이 초기에 확인된다. 이들은 도 9에서 파선을 사용하여 예시된다. 그 다음, 이들 광선 섹션들(22) 상에 위치하고 결과적으로 이미지 벡터(21')에 의해 둘러싸인 영역 내에 위치되는 특정 극 좌표 그리드 지점들(20)이 결정된다. 이들 특정 극좌표 그리드 지점들(20)에 대해, 재료 액적은 인쇄 헤드에 의해, 각기 대응하는 위치에서, 기판(3) 상으로 토출되거나, 이전에 기판 상에 도포된 재료 층 상에 토출된다. 대응하는 극좌표 그리드 지점들(20)은 도 7에서 해칭으로 도시되어 있다. 이미지 벡터(21')에 의해 둘러싸인 영역 외부에 위치한 특정 극좌표 그리드 지점들(20)에 대해서는 재료 액적이 토출되지 않는다. 이러한 극좌표 그리드 지점들(20)은 도 7에서 해칭되지 않게 무해칭으로 도시되어 있다. 인쇄 헤드 장치(13A, 13B)의 도움으로 기판(3) 상에 또는 그 이전에 기판 상에 도포된 하나 이상의 재료 층(들) 상에 도포되는 재료 액적들의 직경은 도 7 내지 도 16에 도시되어 있는 극좌표 그리드 지점들(20)을 도시되는 원들의 직경에 대응한다.
층 스택(2')의 제1 층이 기판(3)에 완전히 도포된 후, 기판(3)은 대응하는 방식으로 제2 층을 도포하기 위해 상기 제1 층 두께만큼 인쇄 헤드(13A)에 대해 하강된다. 제2 층을 도포하기 위해, 도 7에 도시된 특정 극좌표 그리드 지점들(20)을 갖는 제1 세트 대신에, 도 15에 도시된 특정 극좌표 그리드 지점들(20')을 갖는 제2 세트가 사용된다. 도 7과 도 15 간의 비교로부터 명백한 바와 같이, 제1 세트의 특정 극좌표 그리드 지점들(20)은 극좌표 그리드의 원점을 중심으로 또는 회전축(4)을 중심으로 각도 α1만큼 반시계 방향으로 회전함으로써 변환될 수 있다. 이에 의해 달성되는 것은 다음과 같다: 극좌표 그리드가 극좌표 그리드 지점들(20)을 가지지 않거나, 또는 극좌표 그리드가"홀"을 갖지 않는 지점들이, 개별 층들에서 원들(R1'... R7')의 원주 방향으로 서로 오프셋된다. 도 16으로부터 명백한 바와 같이, 이는 층 스택(2')에서보다 균일한 재료 분포를 산출하며, 이러한 균일한 분포에서는, 제2 층의 재료 액적이 제1 층의 홀을 덮고 제1 층의 재료 액적이 제2 층의 홀을 덮는다.
또한, 도 5 내지 도 16에 도시된 예시적인 실시예의 이미지 데이터는 특정 데카르트 좌표계에서 픽셀의 형태로 또는 비트 맵의 형태로 이용 가능할 수도 있음을 언급해야 한다. 이러한 경우, 컴퓨터의 도움으로, 비트 맵의 픽셀들이 극좌표로 변환되고, 이로써 획득된 극좌표 이미지 데이터가 제2 메모리(19)에 저장된 특정 극좌표 그리드 지점들(20, 20', 20A, 20B)과 비교된다. 서로 일치하는 경우에, 재료 액적이 인쇄 헤드에 의해, 대응하는 위치로, 기판(3) 상 또는 기판 상에 이전에 도포된 재료 층 상에 토출된다. 대응하는 극좌표 그리드 지점들(20)은 도 7에서 해칭으로 도시되어 있다. 비교 결과, 극좌표 그리드 지점들(20)과 일치하지 않으면, 재료 액적이 토출되지 않는다.
도 17에 도시된 제3 예시적인 실시예에서, 재료 액적은 기판(3) 상에 또는 기판 상에 이전에 도포된 하나 이상의 재료 층(들) 상에 상이한 직경으로 도포된다. 도 17에서, 재료 액적의 직경은 극좌표 그리드 지점들(20)이 그래픽적으로 도시된 원들의 직경에 대응한다. 재료 액적의 상이한 직경들은 다음과 같이 실현될 수 있다: 인쇄 헤드의 모든 인쇄 헤드 노즐들이 동일한 직경을 가지며, 생성될 재료 액적들의 체적에 대응하는 작은 사이즈의 액적들의 수가, 해당 자리에 할당된 인쇄 헤드 노즐의 도움으로, 큰 사이즈의 액적들이 토출되어야 하는 자리들로 토출되며, 여기서 작은 사이즈의 액적(sub-droplet)들은 상기 기판 상에 이전에 도포된 재료 층 또는 상기 기판 상에 액적이 충돌하기 이전에, 큰 사이즈의 재료 액적을 형성하도록 융합될 수 있다. 실제적으로, 인쇄될 자리로 토출되는 작은 사이즈의 액적들의 수는 예를 들어, 1 내지 10일 수 있다.
체적 정보 항목은 각각의 극좌표 그리드 지점들(20)에 대해 제2 메모리(19)에 각각 저장된다. 장치(1)는 해당 극좌표 그리드 지점들(20)에 대해 제2 메모리(19)에 저장된 체적 정보 항목에 대응하는 체적으로 인쇄될 자리들에서 각각 재료 액적들이 생성되도록 구성된다.
도 17에서 명백한 바와 같이, 제1 광선(A1") 상에 배열된 5 개의 재료 액적들의 제1 행은, 기판(3) 상 또는 기판 상에 도포된 재료 층 상에 도포된 재료 액적들의 체적이 (도 17의 상단에서) 상기 제1 행의 외측 단부로부터 내측 단부를 향해서 진행하는 방향으로 감소하도록, 기판(3) 상 또는 기판 상에 도포된 재료 층 상에 도포된다.
또한, 제2 광선(A1") 상에 배열된 4 개의 재료 액적들의 제2 행은, 기판(3) 상 또는 기판 상에 도포된 재료 층 상에 도포된 재료 액적들의 체적이 (도 17의 상단에서) 상기 제2 행의 외측 단부에서 내측 단부로 진행하는 방향으로 증가하도록, 기판(3) 상 또는 기판 상에 도포된 재료 층 상에 도포된다. 제2 광선(A2")은 원들(R1"... R13")의 원주 방향에서 제1 광선(A1")에 바로 인접한다. 도 17로부터, 행들에 의해 형성된 패턴이 원들(R1"... R13")의 원주 방향을 따라 반복됨을 알 수 있다; 즉, 제1 행과 제2 행은 원주 방향에서 서로 교번적이다.
4 개의 재료 액적(20)이 극좌표 그리드의 제1 광선(A1")으로부터 다른 광선(A3")으로 연장되는 극좌표 그리드의 제1 원(R1")의 세그먼트 상으로 토출된다. 4 개의 추가 재료 액적(20)이 제1 원(R1")의 직경보다 작은 직경을 갖는 다른 원(R3")의 세그먼트 상에 토출된다. 이러한 세그먼트는 마찬가지로 제1 광선(A1")에서 다른 광선(A3")으로 연장된다. 제2 재료 액적들(20)의 체적의 합은 제1 재료 액적들(20)의 체적의 합보다 작다.

Claims (21)

  1. 특정 데카르트 좌표계의 픽셀들 또는 벡터들로서 제1 메모리(18)에 저장된 사전결정된 이미지 데이터에 따라서, 회전축(4)을 중심으로 회전 가능한 기판(3) 상에 유동성 재료를 도포하는 장치(1)로서,
    상기 유동성 재료의 재료 액적을 배출하기 위해 노즐 거리로 서로 이격 배열된 복수의 노즐을 가지고 상기 기판으로부터 수직으로 이격되게 배치된 적어도 하나의 인쇄 헤드들(13A, 13B), 및 상기 기판(3)을 적어도 하나의 인쇄 헤드들(13A, 13B)에 대해 포지셔닝하고 상기 재료 액적들의 배출을 제어하기 위한 작동기(8)를 포함하며,
    특정 극좌표 그리드의 특정 극좌표 그리드 지점들(20, 20', 20A, 20B)이 저장되는 제2 메모리(19)가 존재하고,
    상기 특정 극좌표 그리드 지점들은, 서로 사전결정된 원주방향 이격 거리를 가지는 원들(R1, R2, R1'...R7', R"...R13") 상에 배열되고, 제1 각도 거리(angular distance)만큼 서로 이격된 제1 광선들(A1, A1') 상에 배열되고, 상기 제1 각도 거리보다 큰 각도 거리만큼 서로 이격된 다른 광선들(A2, A2', A3') 상에 원점 방향으로 배열되며,
    상기 특정 극좌표 그리드 지점들은 특정 데카르트 좌표계의 좌표들로 된 데카르트 그리드 지점들로서 저장되고,
    컴퓨터(15)에 의하여, 상기 데카르트 그리드 지점들이 상기 이미지 데이터의 픽셀들 또는 벡터들과 비교되며,
    상기 인쇄 헤드(13A, 13B)의 노즐들은, 기판에 대한 위치가 상기 비교 결과가 일치하는 특정 극좌표 그리드의 특정 지점(20A, 20B)의 위치에 대응할 때에만 노즐들이 재료 액적을 배출하도록 제어될 수 있는, 유동성 재료 도포 장치.
  2. 제 1 항에 있어서,
    적어도 2개의 재료 액적 층들로부터 생성될 층 스택(2)의 제1 층 및 제2 층에 대한 이미지 데이터들이 상기 제1 메모리(18)에 저장되고,
    상기 특정 극좌표 그리드 지점들(20, 20')을 갖는 제1 세트 및 제2 세트가 상기 제2 메모리(19)에 저장되며,
    상기 특정 극좌표 그리드 지점들(20, 20')은 상기 제1 세트 및 제2 세트에서 특정 극좌표 그리드에 상이하게 배열되고,
    상기 컴퓨터(15)에 의하여,
    - 상기 제1 세트의 특정 극좌표 그리드 지점들(20)은 상기 특정 데카르트 좌표계의 좌표들로 변환 가능하고, 이로써 획득된 제1 데카르트 그리드 지점들은 상기 제1 층의 이미지 데이터의 픽셀들 또는 벡터들과 비교되고,
    - 상기 제2 세트의 특정 극좌표 그리드 지점들(20')은 상기 특정 데카르트 좌표계의 좌표들로 변환 가능하고, 이로써 획득된 제2 데카르트 그리드 지점들은 상기 제2 층의 이미지 데이터의 픽셀들 또는 벡터들과 비교되는 것을 특징으로 하는, 유동성 재료 도포 장치.
  3. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
    상기 노즐들은, 적어도 2개의 노즐을 통해 연장되는 직선이 상기 극좌표 그리드의 광선(A1, A2, A1', A2', A3')에 평행하게 연장되도록 배열되는 것을 특징으로 하는, 유동성 재료 도포 장치.
  4. 특정 데카르트 좌표계의 픽셀들 또는 벡터들로서 제1 메모리(18)에 저장된 사전결정된 이미지 데이터에 따라서, 회전축(4)을 중심으로 회전 가능한 기판(3) 상에 유동성 재료를 도포하는 장치(1)로서,
    상기 유동성 재료의 재료 액적을 배출하기 위해 노즐 거리로 서로 이격 배열된 복수의 노즐을 가지고 상기 기판으로부터 수직으로 이격되게 배치된 적어도 하나의 인쇄 헤드들(13A, 13B), 및 상기 기판(3)을 적어도 하나의 인쇄 헤드들(13A, 13B)에 대해 포지셔닝하고 상기 재료 액적들의 배출을 제어하기 위한 작동기(8)를 포함하는, 유동성 재료 도포 장치에 있어서,
    특정 극좌표 그리드의 특정 극좌표 그리드 지점들(20, 20', 20A, 20B)이 저장되는 제2 메모리(19)가 존재하고,
    상기 특정 극좌표 그리드 지점들은, 서로 사전결정된 원주방향 이격 거리를 가지는 원들(R1, R2, R1'... R7', R"... R13") 상에 배열되고, 제1 각도 거리만큼 서로 이격된 제1 광선들(A1, A1') 상에 배열되고, 상기 제1 각도 거리보다 큰 각도 거리만큼 서로 이격된 다른 광선들(A2, A2', A3') 상에 원점 방향으로 배열되며,
    컴퓨터(15)에 의하여, 상기 제1 메모리(18)에 저장된 픽셀들 또는 벡터들이 극좌표들로 변환될 수 있고, 이로써 획득된 극좌표 이미지 데이터가 상기 제2 메모리(19) 내에 저장된 상기 특정 극좌표 그리드 지점들(20, 20', 20A, 20B)과 비교되고,
    상기 인쇄 헤드(13A, 13B)의 노즐들은, 기판에 대한 위치가 상기 비교 결과가 일치하는 특정 극좌표 그리드의 특정 지점(20A, 20B)의 위치에 대응할 때에만 노즐들이 재료 액적을 배출하도록 제어될 수 있는, 유동성 재료 도포 장치.
  5. 제 4 항에 있어서,
    적어도 2개의 재료 액적 층들로부터 생성될 층 스택(2)의 제1 층 및 제2 층에 대한 이미지 데이터들이 상기 제1 메모리(18)에 저장되고,
    상기 특정 극좌표 그리드 지점들(20, 20')을 갖는 제1 세트 및 제2 세트가 상기 제2 메모리(19)에 저장되며,
    상기 특정 극좌표 그리드 지점들(20, 20')은 상기 제1 세트 및 제2 세트에서 특정 극좌표 그리드에 상이하게 배열되고,
    상기 컴퓨터(15)에 의해서,
    - 상기 제1 층에 대해 제1 메모리(18)에 저장된 픽셀들 또는 벡터들은 극좌표들로 변환되고, 이로써 획득된 제1 극좌표 이미지 데이터는 상기 제2 메모리(19)에 저장된 제1 세트의 특정 극좌표 그리드 지점들(20, 20', 20A, 20B)과 비교되고,
    - 상기 제2 층에 대해 제2 메모리(18)에 저장된 픽셀들 또는 벡터들은 극좌표들로 변환되고, 이로써 획득된 제2 극좌표 이미지 데이터는 상기 제2 메모리(19)에 저장된 제2 세트의 특정 극좌표 그리드 지점들(20, 20', 20A, 20B)과 비교되는 것을 특징으로 하는, 유동성 재료 도포 장치.
  6. 제 4 항 또는 제 5 항에 있어서,
    상기 노즐들은, 적어도 2개의 노즐을 통해 연장되는 직선이 상기 극좌표 그리드의 광선(A1, A2, A1', A2', A3')에 평행하게 연장되도록 배열되는 것을 특징으로 하는, 유동성 재료 도포 장치.
  7. 제 1 항 또는 제 4 항에 있어서,
    상기 원주방향 이격 거리는 상기 노즐 거리에 대응하는 것을 특징으로 하는, 유동성 재료 도포 장치.
  8. 제 1 항 또는 제 4 항에 있어서,
    상기 제2 메모리(19)에 저장된 특정 극좌표 그리드 지점들(20, 20', 20A, 20B) 사이의 각도 거리는, 동일한 원(R1, R2, R1'... R7', R1"... R13") 상에서 서로 인접하여 배열되는 극좌표 그리드의 2개의 특정 극좌표 그리드 지점들(20, 20', 20A, 20B) 사이의 이격 거리가 상기 노즐 거리의 적어도 0.6 배에 대응하도록 선택되며,
    상기 각도 거리는, 완전한 원 또는 회전의 단위 분율(unit fraction)에 대응하도록 선택되는 것을 특징으로 하는, 유동성 재료 도포 장치.
  9. 제 1 항 또는 제 4 항에 있어서,
    상기 특정 극좌표 그리드의 다른 광선들(A2, A2', A3') 사이의 각도 거리는 상기 제1 광선들(A1, A1') 사이의 각도 거리의 정수배에 대응하는 것을 특징으로 하는, 유동성 재료 도포 장치.
  10. 제 1 항 또는 제 4 항에 있어서,
    적어도 2개의 극좌표 그리드 지점들(20)에는 상이한 체적을 갖는 재료 액적들이 할당되고,
    극좌표 그리드 지점들(20)로 배출될 재료 액적에 대한 각각의 체적 정보 항목이 각각의 극좌표 그리드 지점들(20) 대해 상기 제2 메모리(19)에 저장되며,
    상기 장치(1)는, 극좌표 그리드 지점(20)에 대해 상기 제2 메모리(19)에 저장된 체적 정보 항목에 대응하는 체적으로, 상기 재료 액적들이 각각 인쇄될 위치들에 도포되도록 구성되는 것을 특징으로 하는, 유동성 재료 도포 장치.
  11. 제 10 항에 있어서,
    제1 극좌표 그리드 지점들(20)은 상기 극좌표 그리드의 제1 원(R1") 상에 배열되고, 다른 극좌표 그리드 지점들(20)은 상기 극좌표 그리드의 다른 원(R3") 상에 배열되며,
    상기 다른 원(R3")의 직경은 제1 원(R1")의 직경보다 작고,
    상기 제2 메모리(19)에 저장된 체적 정보 항목은, 상기 다른 원(R3")의 특정 극좌표 그리드 지점들(20)에 할당된 체적들의 합이 상기 제1 원(R1")의 특정 극좌표 그리드 지점들(20)에 할당된 체적들의 합보다 작도록, 선택되는 것을 특징으로 하는, 유동성 재료 도포 장치.
  12. 특정 데카르트 좌표계의 픽셀들 또는 벡터들로서 제1 메모리(18)에 저장된 사전결정된 이미지 데이터에 따라서, 회전축(4)을 중심으로 회전 가능한 기판(3) 상에 유동성 재료를 도포하는 방법으로서,
    노즐 거리로 서로 이격 배열된 복수의 노즐을 갖는 인쇄 헤드들(13A, 13B)에 의해 상기 유동성 재료의 재료 액적들이 기판(3)에 적용되며,
    특정 극좌표 그리드의 특정 극좌표 그리드 지점들(20, 20', 20A, 20B)이 결정되고, 상기 특정 극좌표 그리드 지점들은, 서로 사전결정된 원주방향 이격 거리를 가지는 원들(R1, R2, R1'... R7', R"... R13") 상에 배열되고, 제1 각도 거리만큼 서로 이격된 제1 광선들(A1, A1') 상에 배열되고, 상기 제1 각도 거리보다 큰 각도 거리만큼 서로 이격된 다른 광선들(A2, A2', A3') 상에 원점 방향으로 배열되며,
    상기 특정 극좌표 그리드 지점들(20, 20', 20A, 20B)은 상기 특정 데카르트 좌표계의 좌표들로 변환되고, 이로써 획득된 데카르트 그리드 지점들은 상기 이미지 데이터의 픽셀들 또는 벡터들과 비교되며,
    상기 인쇄 헤드(13A, 13B)의 노즐들은, 기판에 대한 위치가 상기 비교 결과가 일치하는 특정 극좌표 그리드의 특정 지점(20A, 20B)의 위치에 대응할 때에만 노즐들이 재료 액적을 배출하도록 제어될 수 있는, 유동성 재료 도포 방법.
  13. 제 12 항에 있어서,
    상기 기판(3)에 층 스택(2)이 도포되고, 상기 층 스택은 서로 적층된 재료 액적들을 갖는 적어도 2 개의 층들을 가지며,
    상기 특정 극좌표 그리드의 특정 극좌표 그리드 지점들(20, 20')을 갖는 제1 세트 및 제2 세트는, 상기 특정 극좌표 그리드 지점들(20, 20')이 상기 제1 세트 및 제2 세트에서 특정 극좌표 그리드에 상이하게 배열되도록 구성되며,
    - 상기 제1 세트의 특정 극좌표 그리드 지점들(20)은 상기 재료 액적들의 제1 층을 도포하기 위해 상기 특정 데카르트 좌표계의 좌표들로 변환되고, 이로써 획득된 제1 데카르트 그리드 지점들은 상기 제1 층에 대해 제공된 이미지 데이터의 픽셀들 또는 벡터들과 비교되며,
    - 상기 제2 세트의 특정 극좌표 그리드 지점들(20')은 상기 재료 액적들의 제2 층을 도포하기 위해 상기 특정 데카르트 좌표계의 좌표들로 변환되고, 이로써 획득된 제2 데카르트 그리드 지점들은 상기 제2 층에 대해 제공된 이미지 데이터의 픽셀들 또는 벡터들과 비교되는 것을 특징으로 하는, 유동성 재료 도포 방법.
  14. 제 13 항에 있어서,
    상기 제1 세트 및 제2 세트의 특정 극좌표 그리드 지점들(20')은 원점을 중심으로 사전결정된 각도만큼 서로에 대해 회전된 것을 특징으로 하는, 유동성 재료 도포 방법.
  15. 특정 데카르트 좌표계의 픽셀들 또는 벡터들로서 제1 메모리(18)에 저장된 사전결정된 이미지 데이터에 따라서, 회전축(4)을 중심으로 회전 가능한 기판(3) 상에 유동성 재료를 도포하는 방법으로서,
    노즐 거리로 서로 이격 배열된 복수의 노즐을 갖는 인쇄 헤드들(13A, 13B)에 의해 상기 유동성 재료의 재료 액적들이 기판(3)에 적용되며,
    특정 극좌표 그리드의 특정 극좌표 그리드 지점들(20, 20', 20A, 20B)이 결정되고, 상기 특정 극좌표 그리드 지점들은, 서로 사전결정된 원주방향 이격 거리를 가지는 원들(R1, R2, R1'... R7', R"... R13") 상에 배열되고, 제1 각도 거리만큼 서로 이격된 제1 광선들(A1, A1') 상에 배열되고, 상기 제1 각도 거리보다 큰 각도 거리만큼 서로 이격된 다른 광선들(A2, A2', A3') 상에 원점 방향으로 배열되며,
    상기 특정 데카르트 좌표계의 픽셀들 또는 벡터들이 극좌표들로 변환되고, 이로써 획득된 극좌표 이미지 데이터가 상기 특정 극좌표 그리드 지점들(20, 20', 20A, 20B)과 비교되며,
    상기 인쇄 헤드(13A, 13B)의 노즐들은, 기판에 대한 위치가 상기 비교 결과가 일치하는 특정 극좌표 그리드의 특정 지점(20A, 20B)의 위치에 대응할 때에만 노즐들이 재료 액적을 배출하도록 제어될 수 있는, 유동성 재료 도포 방법.
  16. 제 15 항에 있어서,
    상기 기판(3)에 층 스택(2)이 도포되고, 상기 층 스택은 서로 적층된 재료 액적들을 갖는 적어도 2개의 층들을 가지며,
    상기 특정 극좌표 그리드의 특정 극좌표 그리드 지점들(20, 20')을 갖는 제1 세트 및 제2 세트는, 상기 특정 극좌표 그리드 지점들(20, 20')이 상기 제1 세트 및 제2 세트에서 특정 극좌표 그리드에 상이하게 배열되도록 구성되며,
    - 상기 재료 액적들의 제1 층을 도포하기 위해서, 상기 특정 데카르트 좌표계로 제1 층에 대해 할당된 픽셀들 또는 벡터들은 극좌표들로 변환되고, 이로써 획득된 제1 극좌표 이미지 데이터는 상기 제1 세트의 특정 극좌표 그리드 지점들(20, 20', 20A, 20B)과 비교되고,
    - 상기 재료 액적들의 제2 층을 도포하기 위해서, 상기 특정 데카르트 좌표계로 제2 층에 대해 할당된 픽셀들 또는 벡터들은 극좌표들로 변환되고, 이로써 획득된 제2 극좌표 이미지 데이터는 상기 제2 세트의 특정 극좌표 그리드 지점들(20, 20', 20A, 20B)과 비교되는 것을 특징으로 하는, 유동성 재료 도포 방법.
  17. 제 16 항에 있어서,
    상기 제1 세트 및 제2 세트의 특정 극좌표 그리드 지점들(20')은 원점을 중심으로 사전결정된 각도만큼 서로에 대해 회전된 것을 특징으로 하는, 유동성 재료 도포 방법.
  18. 제 12 항 또는 제 15 항에 있어서,
    상기 특정 극좌표 그리드 지점들(20, 20', 20A, 20B) 사이의 각도 거리는, 동일한 원(R1, R2, R1'... R7', R1"... R13") 상에서 서로 인접하여 배열되는 극좌표 그리드의 2개의 특정 극좌표 그리드 지점들 사이의 이격 거리가 상기 노즐 거리의 적어도 분수 배에 대응하도록, 결정되며,
    상기 각도 거리는, 완전한 원의 단위 분율에 대응하도록 선택되는 것을 특징으로 하는, 유동성 재료 도포 방법.
  19. 제 12 항 또는 제 15 항에 있어서,
    상기 특정 극좌표 그리드의 광선들(A1, A2, A1', A2', A3') 사이의 각도 거리는, 상기 제1 광선들(A1, A1') 사이의 각도 거리의 정수배에 대응하도록 결정되는 것을 특징으로 하는, 유동성 재료 도포 방법.
  20. 제 12 항 또는 제 15 항에 있어서,
    상기 재료 액적들은, 적어도 2개의 극좌표 그리드 지점들(20)에서 상이한 체적을 갖도록 생성되는 것을 특징으로 하는, 유동성 재료 도포 방법.
  21. 제 20 항에 있어서,
    제1 재료 액적들이 상기 극좌표 그리드의 제1 원(R1")의 세그먼트 상의 제1 극좌표 그리드 지점들(20)에 배열되고, 제2 재료 액적들이 상기 극좌표 그리드의 제2 원(R2")의 세그먼트 상의 제2 극좌표 그리드 지점들(20)에 배열되며,
    상기 제2 원(R2")의 직경은 상기 제1 원(R1")의 직경보다 작고, 상기 세그먼트들은 상기 극좌표 그리드의 제1 광선(A1")에서 다른 광선(A3")으로 각각 연장되며,
    상기 제2 재료 액적들의 체적들의 합은 상기 제1 재료 액적들의 체적들의 합보다 작은 것을 특징으로 하는, 유동성 재료 도포 방법.
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Families Citing this family (17)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP3166774B1 (en) 2014-07-13 2019-05-22 Stratasys Ltd. Method and system for rotational 3d printing
WO2017009830A1 (en) 2015-07-13 2017-01-19 Stratasys Ltd. Operation of printing nozzles in additive manufacture and aparatus for cleaning printing nozzles
CN110049858B (zh) * 2016-12-13 2021-05-28 株式会社富士 数据转换装置及层叠造型系统
CN106493940B (zh) * 2016-12-14 2019-06-11 浙江工贸职业技术学院 喷嘴直径实时可变的3d打印机喷头
JP6893421B2 (ja) * 2017-02-16 2021-06-23 株式会社ミマキエンジニアリング 三次元造形物の製造方法及び製造装置
US11007713B2 (en) * 2017-04-26 2021-05-18 GM Global Technology Operations LLC High throughput additive manufacturing system
CN107471648B (zh) * 2017-05-23 2018-10-12 珠海赛纳打印科技股份有限公司 用于打印技术的图像数据处理方法以及打印系统
US11225017B2 (en) 2018-07-24 2022-01-18 Ricoh Company, Ltd. Three-dimensional object shaping apparatus and method
US20200038952A1 (en) * 2018-08-02 2020-02-06 American Axle & Manufacturing, Inc. System And Method For Additive Manufacturing
NL2021957B1 (en) * 2018-11-08 2020-05-15 Canon Production Printing Holding Bv A Method of 3D Jet Printing
JP7205268B2 (ja) * 2019-02-07 2023-01-17 株式会社Ihi 三次元造形装置
DE102019002808A1 (de) * 2019-04-17 2020-10-22 Hans Mathea Verfahren zum Herstellen mindestens einer Festkörperschicht auf einer um eine Drehachse drehbaren Unterlage
DE102019002809A1 (de) * 2019-04-17 2020-10-22 Hans Mathea Verfahren zum Herstellen mindestens einer Festkörperschicht gemäß vorgegebener Geometriedaten
DE102019007972A1 (de) 2019-11-17 2021-05-20 DP Polar GmbH Vorrichtung und Verfahren zum Herstellen eines dreidimensionalen Formgegenstandes
DE102020001068A1 (de) * 2020-02-19 2021-08-19 DP Polar GmbH Verfahren zum Herstellen eines dreidimensionalen Formgegenstands mittels schichtweisem Materialauftrag
KR102655947B1 (ko) * 2020-09-03 2024-04-11 세메스 주식회사 기판 처리 장치 및 기판 처리 방법
JP2022122452A (ja) * 2021-02-10 2022-08-23 株式会社リコー 造形物製造装置及び造形物製造方法

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20040265413A1 (en) 2003-05-23 2004-12-30 Z Corporation Apparatus and methods for 3D printing
US20120165969A1 (en) 2009-07-29 2012-06-28 Zydex Pty Ltd 3d printing on a rotating cylindrical surface
US20130189435A1 (en) 2012-01-20 2013-07-25 Thomas R. Mackie Three-Dimensional Printing System Using Dual Rotation Axes
WO2014092651A1 (en) 2012-12-16 2014-06-19 Blacksmith Group Pte. Ltd. A 3d printer with a controllable rotary surface and method for 3d printing with controllable rotary surface

Family Cites Families (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6264295B1 (en) * 1998-04-17 2001-07-24 Elesys, Inc. Radial printing system and methods
US6602377B1 (en) * 1999-11-09 2003-08-05 Solidimension Ltd Method for facilitating the removal of residues from a three-dimensional object formed from multiple layers
US20020093115A1 (en) * 2001-01-12 2002-07-18 Jang B. Z. Layer manufacturing method and apparatus using a programmable planar light source
DE102006008728B3 (de) * 2006-02-24 2007-07-19 Airbus Deutschland Gmbh Verfahren zur Herstellung eines räumlichen Stabwerks als Kernstruktur einer Sandwichkonstruktion
CN101950419B (zh) * 2010-08-26 2012-09-05 西安理工大学 同时存在平移和旋转情况下的快速图像配准方法
US10479119B2 (en) * 2014-01-16 2019-11-19 Konica Minolta, Inc. Two-dimensional image-forming apparatus, three-dimensional fabrication apparatus, two-dimensional image-forming method and three-dimensional fabrication method
EP3166774B1 (en) * 2014-07-13 2019-05-22 Stratasys Ltd. Method and system for rotational 3d printing
JP5979202B2 (ja) * 2014-10-22 2016-08-24 セイコーエプソン株式会社 ３次元複合機および３次元複製方法
CN104512035A (zh) * 2015-01-27 2015-04-15 姚善良 一种三维扫描打印机

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20040265413A1 (en) 2003-05-23 2004-12-30 Z Corporation Apparatus and methods for 3D printing
US20120165969A1 (en) 2009-07-29 2012-06-28 Zydex Pty Ltd 3d printing on a rotating cylindrical surface
US20130189435A1 (en) 2012-01-20 2013-07-25 Thomas R. Mackie Three-Dimensional Printing System Using Dual Rotation Axes
WO2014092651A1 (en) 2012-12-16 2014-06-19 Blacksmith Group Pte. Ltd. A 3d printer with a controllable rotary surface and method for 3d printing with controllable rotary surface

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