KR102412968B1 - Electro Sn plated steel sheet - Google Patents

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Abstract

본 발명의 전기 Sn 도금 강판은, 모재 강판과, 모재 강판 상에 배치되어, Sn층과 합금층을 갖고, 소정의 성분을 함유하는 전기 Sn 도금층을 구비한다. 전기 Sn 도금층 전체의 Pb 함유량이 50질량ppm 이하이다. 전기 Sn 도금층의 두께를 t라고 하고, 전기 Sn 도금층의 표면으로부터 판 두께 방향으로 (1/10)×t깊이까지의 영역을 표층 영역이라고 할 때, 표층 영역의 Pb 함유량이 5질량ppm 이상이고, 또한 표층 영역의 Pb 함유량이 전기 Sn 도금층 전체의 Pb 함유량보다도 높다.The electrical Sn plated steel sheet of this invention is arrange|positioned on a base steel plate and a base steel plate, it has a Sn layer and an alloy layer, and is equipped with the Sn electroplating layer containing predetermined|prescribed component. Pb content of the whole electric Sn plating layer is 50 mass ppm or less. When the thickness of the Sn plating layer is t, and the area from the surface of the Sn plating layer to the (1/10) × t depth in the plate thickness direction is referred to as the surface layer area, the Pb content of the surface layer area is 5 mass ppm or more, Moreover, Pb content of a surface layer area|region is higher than Pb content of the whole electric Sn plating layer.

Description

전기 Sn 도금 강판Electro Sn plated steel sheet

본 발명은, 전기 Sn 도금 강판, 특히, 전기 Sn 도금층 전체의 Pb 함유량이 적은 전기 Sn 도금 강판에 관한 것이다.The present invention relates to an electro-Sn plated steel sheet, particularly an electro-Sn-coated steel sheet having a low Pb content in the entire Sn plated layer.

본원은, 2017년 11월 1일에, 일본에 출원된 일본 특허 출원 제2017-211788호에 기초하여 우선권을 주장하고, 그 내용을 여기에 원용한다.This application claims priority based on Japanese Patent Application No. 2017-211788 for which it applied to Japan on November 1, 2017, and uses the content here.

근년, 건강 피해에 대한 우려나 환경 부하에 대한 대책의 면에서, 공업 제품 중의 Pb 함유량에 대한 각종 규제가 강화되고 있다.In recent years, various regulations with respect to the Pb content in industrial products have been strengthened from the viewpoint of concerns about health damage and measures against environmental loads.

식품용 통조림에 사용되는 Sn 도금 강판(소위 양철캔 소재)에 대해서도 예외는 아니다. 예를 들어, 남아프리카 공화국에서는, 캔 내에 용출되는 Pb2+의 규제의 면에서, Sn 도금층 중의 Pb 함유량을 100질량ppm 이하로 할 필요가 있고, 동일한 규제는, 유럽의 일부나 중국에 있어서도 도입이 검토되고 있다. 또한, 일부의 수요가로부터도, 상기와 동일한 요청이 있다.Sn-coated steel sheets (so-called tin cans) used in food canning are no exception. For example, in South Africa, in view of the regulation of Pb 2+ eluted in the can, the Pb content in the Sn plating layer needs to be 100 mass ppm or less, and introduction of the same regulation is also considered in parts of Europe and China. is becoming Moreover, there is a request similar to the above also from some consumers.

일본에서는, Sn 도금 강판의 도금에 사용하는 Sn 잉곳은, 동남아시아 제국으로부터 수입한 것이 많다. 원광석에 포함되는 Pb 함유량이 많기 때문에, 동남아시아산의 Sn 잉곳은, 100질량ppm 이상의 Pb을 포함하고 있다. 동남아시아산의 Sn 잉곳을 그대로 사용한 경우에는, 제품인 Sn 도금 강판의 Sn 도금층 중의 Pb 함유량을 100질량ppm 이하로 할 수 없다. 그 때문에, 동남아시아산의 Sn 잉곳을 사용하는 경우에는, 제조 비용이 증가하지만, 전해 정제를 더 행함으로써, 현상의 규제값을 어떻게든 클리어하는 수준을 확보하고 있다. 혹은, 수송 거리가 길기 때문에, 수송 비용이 증가하지만, Pb 함유량이 적은 남미산의 Sn 잉곳을 구입함으로써, 상기 규제에 대한 문제에 대처하고 있는 것이 실정이다. 남미산의 Sn 잉곳을 사용하여 양철을 제조한 경우의 Pb 함유량은 70질량ppm 정도이고, 현상황의 규제값을 어떻게든 클리어하는 수준이다.In Japan, many Sn ingots used for plating of Sn-coated steel sheets were imported from Southeast Asian countries. Since there is much Pb content contained in an ore, the Sn ingot from Southeast Asia contains 100 mass ppm or more of Pb. When the Sn ingot from Southeast Asia is used as it is, the Pb content in the Sn plating layer of the Sn coated steel sheet as a product cannot be 100 mass ppm or less. Therefore, when using the Sn ingot from Southeast Asia, the manufacturing cost increases, but by further performing electrolytic refining, the level at which the current regulation value is somehow cleared is secured. Alternatively, the transport cost increases because the transport distance is long, but the problem of the above regulation is being dealt with by purchasing a Sn ingot from South America with a small Pb content. The Pb content in the case of manufacturing a tin plate using a Sn ingot from South America is about 70 mass ppm, which is a level that somehow clears the current regulatory value.

특허문헌 1에는, Sn 광석이나 Sn 폐재로 제조한 조Sn으로 이루어지는 애노드를 전해 정제할 때에, 해당 애노드에 포함되는 Pb의 일부가, 전해액 중에 Pb2+로서 용존하고, 이것이 원인으로 전해 Sn 중에 Pb이 혼입되는 것을 억제하기 위해, 규소불산 또는 황산과 규소불산의 혼산으로 이루어지는 Sn의 전해액을 전해조로부터 발출하고, 이 전해액에 알칼리 토류 금속 탄산염을 첨가하여 액 중의 Pb을 침전시키고, 이 침전을 제거한 전해액을 전해조로 복귀시켜 Sn의 전해 정제를 행하는 것을 특징으로 하는 고순도 Sn의 전해 정제 방법에 관한 발명이 기재되어 있다. 그러나, 특허문헌 1에는, Sn 도금 강판 및 Sn 도금층 중의 Pb 함유량에 관하여 기재되어 있지 않다.In Patent Document 1, when an anode made of crude Sn produced from Sn ore or Sn waste material is electrolytically refined, a part of Pb contained in the anode is dissolved as Pb 2+ in the electrolytic solution, and this is the cause, Pb in electrolytic Sn In order to suppress mixing, an electrolytic solution of Sn composed of silicon hydrofluoric acid or a mixed acid of sulfuric acid and silicon hydrofluoric acid is withdrawn from the electrolytic tank, and alkaline earth metal carbonate is added to the electrolytic solution to precipitate Pb in the solution, and the electrolytic solution from which this precipitation has been removed The invention relates to a method for electrolytic refining of high-purity Sn, wherein the electrolytic refining of Sn is performed by returning to an electrolytic cell. However, Patent Document 1 does not describe the Pb content in the Sn plated steel sheet and the Sn plated layer.

특허문헌 2에는, 순금속 혹은 합금으로 이루어지는 피처리물을 가열 용융하고, 이 용융물에, 금속 할로겐화물과 옥시할로겐화물의 적어도 한쪽을 접촉시켜 피처리물 중의 Pb을 제거하는 기술이 기재되어 있다. 그러나, 특허문헌 2에는, 구체적인 피처리물로서 Pb 프리 땜납이 기재되어 있는 것에 지나지 않고, Sn 도금 강판의 Sn 도금층 중의 Pb 함유량에 대하여 기재되어 있지 않다.Patent Document 2 describes a technique of removing Pb in the object by heating and melting a to-be-processed object which consists of a pure metal or an alloy, and making this molten material contact at least one of a metal halide and an oxyhalide. However, in Patent Document 2, Pb-free solder is only described as a specific to-be-processed object, and it does not describe about Pb content in the Sn plated layer of a Sn plated steel sheet.

특허문헌 3에는, 반도체 장치와 같은 전자 부품에 Pb프리의 Sn 도금을 실시한 경우에 발생하기 쉬운 위스커의 성장에 의한 단자간의 쇼트를 방지하기 위해, Sn 도금층에 있어서의 인접하는 결정립계가 이루는 각도를 20° 이하로 하는 발명이 기재되어 있다. 그러나, 특허문헌 3에는, 애당초 Pb을 포함하는 도금욕으로부터 Pb 농도가 극히 낮은 Sn 도금을 제조하는 방법에 대하여 기재되어 있지 않다.In Patent Document 3, in order to prevent short circuit between terminals due to whisker growth, which tends to occur when Pb-free Sn plating is applied to electronic components such as semiconductor devices, the angle formed by adjacent grain boundaries in the Sn plating layer is set to 20. ° or less, the invention is described. However, Patent Document 3 does not describe a method for producing Sn plating having an extremely low Pb concentration from a plating bath containing Pb in the first place.

일본 특허 공개 2003-183871호 공보Japanese Patent Laid-Open No. 2003-183871 일본 특허 공개 2010-111912호 공보Japanese Patent Laid-Open No. 2010-111912 일본 특허 공개 2009-270154호 공보Japanese Patent Laid-Open No. 2009-270154

본 발명에서는, 상기 실정과, 이후 예측되는 가일층의 Pb 함유량 규제값의 엄격화를 감안하여, 전기 Sn 도금층 전체의 Pb 함유량이 50질량ppm 이하이고, 용기용 강판에 적용 가능한 전기 Sn 도금 강판을 제공하는 것을 과제로 한다. 더 상세하게는, 본 발명은, 용기용 강판에 적용한 경우에, 장수명이고, 또한 내식성, 도막 밀착성 및 내위스커성이 우수한 전기 Sn 도금 강판을 제공하는 것을 과제로 한다.In the present invention, in consideration of the above situation and the further stringent Pb content regulation value predicted later, the Pb content of the entire electrical Sn plated layer is 50 mass ppm or less, and an electrical Sn plated steel sheet applicable to a steel sheet for a container is provided. make it a task More specifically, an object of the present invention is to provide an electro-Sn plated steel sheet having a long service life and excellent corrosion resistance, coating film adhesion and whisker resistance when applied to a steel sheet for containers.

본 발명의 요지는 이하와 같다. The gist of the present invention is as follows.

[1] 본 발명의 일 형태에 관한 전기 Sn 도금 강판은, 모재 강판과, 상기 모재 강판 상에 배치되어, Sn층과 합금층을 갖고, Sn: 10 내지 100질량%, Fe: 0 내지 90질량%, O: 0 내지 0.5질량%를 함유하는 전기 Sn 도금층을 구비하고, 상기 전기 Sn 도금층 전체의 Pb 함유량이 50질량ppm 이하이고, 상기 전기 Sn 도금층의 두께를 t라고 하고, 상기 전기 Sn 도금층의 표면으로부터 판 두께 방향으로 (1/10)×t깊이까지의 영역을 표층 영역이라고 할 때, 상기 표층 영역의 Pb 함유량이 5질량ppm 이상이고, 또한 상기 표층 영역의 Pb 함유량이 상기 전기 Sn 도금층 전체의 상기 Pb 함유량보다도 높은 것을 특징으로 한다.[1] An electrically Sn-plated steel sheet according to one embodiment of the present invention is provided with a base steel sheet and a base steel sheet disposed on the base steel sheet, and has a Sn layer and an alloy layer, Sn: 10 to 100 mass%, Fe: 0 to 90 mass %, O: provided with an electrolytic Sn plating layer containing 0 to 0.5 mass%, the Pb content of the entire Sn electroplating layer is 50 mass ppm or less, the thickness of the Sn electroplating layer is t, and When the region from the surface to the (1/10) × t depth in the sheet thickness direction is referred to as a surface layer region, the Pb content of the surface layer region is 5 mass ppm or more, and the Pb content of the surface layer region is the entirety of the Sn plating layer. It is characterized in that it is higher than the Pb content of

[2] 상기 [1]에 기재된 전기 Sn 도금 강판은, 상기 전기 Sn 도금층의 상기 표층 영역의 Pb 함유량/(Sn 함유량+Pb 함유량)을 상기 전기 Sn 도금층의 상기 표층 영역 이외의 영역의 Pb 함유량/(Sn 함유량+Pb 함유량)으로 나눈 값이 1.1 이상이어도 된다.[2] In the electro-Sn plated steel sheet according to [1], the Pb content/(Sn content + Pb content) of the surface layer region of the Sn plated layer is Pb content/( The value obtained by dividing by Sn content + Pb content) may be 1.1 or more.

[3] 상기 [1] 또는 [2]에 기재된 전기 Sn 도금 강판은, 상기 전기 Sn 도금층이, Ca: 0.1 내지 10질량ppm, Sr: 0.1 내지 10질량ppm 및 Ba: 0.1 내지 10질량ppm으로 이루어지는 군 중 1종 또는 2종 이상을 더 함유해도 된다.[3] The Sn electroplated steel sheet according to [1] or [2], wherein the Sn electroplating layer comprises Ca: 0.1 to 10 mass ppm, Sr: 0.1 to 10 mass ppm, and Ba: 0.1 to 10 mass ppm You may further contain 1 type(s) or 2 or more types from a group.

[4] 상기 [1] 내지 [3] 중 어느 하나에 기재된 전기 Sn 도금 강판은, 상기 전기 Sn 도금층과 상기 모재 강판 사이에, Fe-Ni층, Ni-Sn층 및 Fe-Ni-Sn층의 1종 또는 2종 이상을 더 구비해도 된다.[4] The electrical Sn plated steel sheet according to any one of [1] to [3], wherein the Fe-Ni layer, the Ni-Sn layer and the Fe-Ni-Sn layer are interposed between the electrical Sn plated layer and the base steel sheet. You may provide 1 type or 2 or more types further.

본 발명에 관한 상기 일 형태에 의하면, 전기 Sn 도금층 전체의 Pb 함유량이 50질량ppm 이하인, 용기용 강판에 적용 가능한 전기 Sn 도금 강판을 제공할 수 있다.According to the said one aspect|mode which concerns on this invention, the Pb content of the whole Sn electroplating layer can provide the Sn electroplating steel plate applicable to the steel plate for containers whose Pb content is 50 mass ppm or less.

도 1은 본 발명의 일례로서, 실험실 규모의 크라운 에테르법에 의한 도금욕 중의 Pb2+ 농도의 변화를 나타내는 그래프이다.
도 2a는 실시예의 No.16의 전기 Sn 도금층의 GD-MS 해석 결과를 나타내는 그래프이다.
도 2b는 실시예의 No.16의 Pb/(Sn+Pb)값의 전기 Sn 도금층 두께 방향의 변화를 나타내는 그래프이다.
도 3a는 무처리의 Sn 도금액을 사용하여 제작한 전기 Sn 도금층의 GD-MS 해석 결과를 나타내는 그래프이다.
도 3b는 본 발명의 일례로서, 크라운 에테르법으로 처리한 Sn 도금액을 사용하여 제작한 전기 Sn 도금층의 GD-MS 해석 결과를 나타내는 그래프이다.
1 is a graph showing the change in the concentration of Pb 2+ in a plating bath by a crown ether method on a laboratory scale as an example of the present invention.
It is a graph which shows the GD-MS analysis result of the Sn electroplating layer of No. 16 of an Example.
It is a graph which shows the change of the thickness direction of the Sn electroplating layer of Pb/(Sn+Pb) value of No. 16 of an Example.
3A is a graph showing the GD-MS analysis result of an electrolytic Sn plating layer produced using an untreated Sn plating solution.
3B is a graph showing the GD-MS analysis result of an electrolytic Sn plating layer produced using a Sn plating solution treated by a crown ether method as an example of the present invention.

이하, 본 발명의 적합한 실시 형태에 대하여 상세하게 설명한다. 단, 본 발명은 본 실시 형태에 개시된 구성만으로 제한되지 않고, 본 발명의 취지를 일탈하지 않는 범위에서 다양한 변경이 가능하다.EMBODIMENT OF THE INVENTION Hereinafter, preferred embodiment of this invention is described in detail. However, the present invention is not limited only to the configuration disclosed in the present embodiment, and various modifications can be made without departing from the spirit of the present invention.

이하에 기재하는 수치 한정 범위에는, 하한값 및 상한값이 그 범위에 포함된다. 「초과」 또는 「미만」이라고 나타내는 수치에는, 그 값이 수치 범위에 포함되지 않는다.In the numerical limitation range described below, a lower limit and an upper limit are included in the range. Numerical values expressed as "greater than" or "less than" are not included in the numerical range.

본 실시 형태에 관한 전기 Sn 도금 강판은, 모재 강판과, 상기 모재 강판 상에 배치되어, Sn층과 합금층을 갖고, Sn: 10 내지 100질량%, Fe: 0 내지 90질량%, O: 0 내지 0.5질량%를 함유하는 전기 Sn 도금층을 구비하고, 상기 전기 Sn 도금층 전체의 Pb 함유량이 50질량ppm 이하이고, 상기 전기 Sn 도금층의 두께를 t라고 하고, 상기 전기 Sn 도금층의 표면으로부터 판 두께 방향으로 (1/10)×t깊이까지의 영역을 표층 영역이라고 할 때, 상기 표층 영역의 Pb 함유량이 5질량ppm 이상이고, 또한 상기 표층 영역의 Pb 함유량이 상기 전기 Sn 도금층 전체의 상기 Pb 함유량보다도 높은 것을 특징으로 한다.The electro Sn plated steel sheet according to the present embodiment is disposed on the base steel sheet and the base steel sheet, has a Sn layer and an alloy layer, Sn: 10 to 100 mass%, Fe: 0 to 90 mass%, O: 0 to 0.5 mass %, Pb content of the whole said Sn electroplating layer is 50 mass ppm or less, Let the thickness of the said Sn electroplating layer be t, and the board thickness direction from the surface of the said Sn electroplating layer. When the region up to (1/10) × t depth is referred to as the surface layer region, the Pb content of the surface layer region is 5 mass ppm or more, and the Pb content of the surface layer region is higher than the Pb content of the entire Sn plating layer. characterized by high.

먼저, 본 발명자들이 본 실시 형태에 관한 전기 Sn 도금 강판을 개발하는 것에 이른 경위에 대하여 설명한다.First, the process which led to the present inventors developing the electrolytic Sn plated steel plate which concerns on this embodiment is demonstrated.

본 발명자들은, Sn 잉곳에 포함되는 Pb이 전기 Sn 도금층 중에 혼입되는 메커니즘에 대하여 검토했다.The present inventors studied the mechanism by which Pb contained in a Sn ingot mixes in the Sn electroplating layer.

본 발명자들의 검토의 결과, 전기 Sn 도금층에 대하여, 그 깊이 방향의 관찰 및 정량 측정으로부터, Pb은, 전기 Sn 도금층 전체에 금속 Pb로서 존재하는 것, 즉, Pb은 Sn과 함께 전해 석출(공석)되어 있고, 단순한 Sn 도금액의 혼입에 의해 전기 Sn 도금층에 함유되는 것은 아닌 것이 판명되었다.As a result of the investigation by the present inventors, with respect to the Sn electroplating layer, from observation and quantitative measurement in the depth direction, Pb is present as metal Pb in the entire Sn electroplating layer, that is, Pb is electrolytically precipitated together with Sn (vacancy). It became clear that it was not contained in the Sn plating layer by simple mixing of Sn plating solution.

본 발명자들은, p-페놀술폰산과 황산Sn(II) 및 첨가제로 이루어지는 Sn 도금액(PSA 도금욕)과, 이것에 아세트산Pb을 첨가한 Pb 함유 도금액을 준비하고, 설정 전위를 변화시켜 전기 Sn 도금층을 형성했다. 그 결과, Sn과 Pb에서 석출 전위에 거의 차이는 없고, 저Pb 함유량의 Sn 잉곳(50질량ppm 정도)을 Sn원으로서 사용하면, 전기 Sn 도금층 중의 Pb 함유량을 100질량ppm 이하(70질량ppm 정도)로 하는 것이 가능하지만, 고Pb 함유량(100 내지 300질량ppm 정도)의 Sn 잉곳을 사용하는 경우에는, 실제 조업에 사용하는 Sn 도금액의 사용 하에서, 전류 밀도 등의 도금 조건을 변화시켜 Pb의 공석을 억제하는 것은 곤란한 것이 판명되었다.The present inventors prepared a Sn plating solution (PSA plating bath) comprising p-phenolsulfonic acid, Sn(II) sulfate, and an additive, and a Pb-containing plating solution containing Pb acetate added thereto, and changed the set potential to form an electric Sn plating layer. formed As a result, there is almost no difference in the precipitation potential between Sn and Pb, and when a Sn ingot (about 50 mass ppm) with a low Pb content is used as the Sn source, the Pb content in the Sn electroplating layer is 100 mass ppm or less (about 70 mass ppm) ), but in the case of using a Sn ingot with a high Pb content (about 100 to 300 mass ppm), under the use of the Sn plating solution used in actual operation, the plating conditions such as the current density are changed and the vacancy of Pb is used. It turned out to be difficult to suppress.

전기 Sn 도금 강판의 도금 공정에 사용하는 Sn 도금액은, 불용성 양극을 사용한 황산욕의 형태로 Sn2+를 공급하고 있고, 20℃에 있어서의 Sn, Pb의 황산염의 용해도는 이하와 같다.The Sn plating solution used for the plating process of the Sn electroplating steel sheet supplies Sn 2+ in the form of a sulfuric acid bath using an insoluble anode, and the solubility of the sulfate of Sn and Pb in 20 degreeC is as follows.

SnSO4: 18.9g/100g-H2O(이용)SnSO 4 : 18.9 g/100 g-H 2 O (used)

PbSO4: 0.003846g/100g-H2O(난용)PbSO 4 : 0.003846g/100g-H 2 O (slightly soluble)

실제 조업에 있어서의 Sn 도금액 중에서는, 상기와 같이 약간 용해된 Pb2+이, Sn2+과 함께 전기적으로 환원되고, 전기 Sn 도금층 중에 금속 Pb으로서 혼입되는 것이라고 생각된다. 상기와 같이 약간 용해된 Pb2+을, Sn 도금액 중으로부터 제거하는 방법에 대하여 본 발명자들이 검토한 결과, 크라운 에테르를 사용하는 제거 방법을 후보로서 들 수 있었다.In Sn plating solution in actual operation, Pb 2+ dissolved slightly as described above is electrically reduced together with Sn 2+ , and it is considered to be mixed as metal Pb in the Sn plating layer. As a result of the present inventors examining the method of removing slightly dissolved Pb 2+ from the Sn plating solution as mentioned above, the removal method using a crown ether was mentioned as a candidate.

크라운 에테르는 환상의 폴리에테르쇄로 이루어져 있고, 몇 가지의 중금속 이온과 선택적으로 상호 작용할 수 있다. 크라운 에테르는, 분자 내에 에테르 산소 원자로 이루어지는 공공을 갖고 있고, 이 속에 중금속 이온을 도입하여 결합한다. 따라서, 중금속 이온의 크기와 크라운 에테르의 공공의 크기가 일치하는 경우에 선택적인 상호 작용이 일어난다. Sn 도금액 중의 납 이온(Pb2+)을 선택적으로 제거하기 위해서는, 공공의 크기를 납 이온의 크기와 일치하도록 조정한 크라운 에테르를 사용하면 된다.Crown ethers are composed of cyclic polyether chains and can selectively interact with several heavy metal ions. Crown ethers have vacancies made of ether oxygen atoms in the molecule, and a heavy metal ion is introduced into them to bond. Therefore, a selective interaction occurs when the size of the heavy metal ion matches the size of the pore size of the crown ether. In order to selectively remove lead ions (Pb 2+ ) in the Sn plating solution, a crown ether whose pore size is adjusted to match the size of the lead ion may be used.

예를 들어, 크라운 에테르의 일반 구조식(-CH2-CH2-O-)n에 있어서, n=6의, 공공의 크기를 제어한 크라운 에테르를 수지(특별히 한정하는 것은 아니지만, 예를 들어 실리카겔, 메타크릴레이트, 폴리스티렌으로부터 선택할 수 있음)에 담지하고, 칼럼에 충전하여, 칼럼 중에 Sn 도금액을 통과시킴으로써 납 이온(Pb2+)의 선택적인 제거가 가능하다.For example, in the general structural formula (-CH 2 -CH 2 -O-) n of the crown ether, n = 6, a crown ether with controlled pore size is used as a resin (not particularly limited, for example, silica gel , methacrylate, and polystyrene), filled in a column, and allowed to selectively remove lead ions (Pb 2+ ) by passing a Sn plating solution through the column.

이어서, 본 발명자들은, 실험실 규모에서, Sn 도금액(PSA 도금욕)을 크라운 에테르로 처리한 경우의, Sn 도금액 중의 Pb2+의 변화를 관찰했다.Next, the present inventors observed the change of Pb 2+ in the Sn plating solution when the Sn plating solution (PSA plating bath) was treated with crown ether on a laboratory scale.

베이스가 되는 Sn 도금액은, p-페놀술폰산: 115g/L, EN-10(Ethoxylated α-Naphthol): 5g/L, ENSA(Ethoxylated α-Naphthol Sulphonic Acid): 5g/L, SnSO4: 36g/L(Sn2+ 환산으로 20g/L)로 이루어지고, 이것에, 아세트산Pb의 형태로 Pb2+ 환산으로 13㎎/L(Pb/Sn 환산으로 650ppm)로 되도록 첨가하여, 제작했다.The base Sn plating solution is p-phenolsulfonic acid: 115g/L, EN-10 (Ethoxylated α-Naphthol): 5g/L, ENSA (Ethoxylated α-Naphthol Sulphonic Acid): 5g/L, SnSO4 : 36g/L (20 g/L in terms of Sn 2+ ), was added to this in the form of Pb acetate so as to be 13 mg/L in terms of Pb 2+ (650 ppm in terms of Pb/Sn), and produced.

크라운 에테르를 충전한 칼럼 내에 총 200L의 상기 Sn 도금액을 통과시키고, 통과시킨 Sn 도금액 20L마다에 대하여 성분 분석을 행하였다.A total of 200 L of the Sn plating solution was passed through a column filled with crown ether, and component analysis was performed for every 20 L of the Sn plating solution passed through.

Sn 도금액 중의 Pb2+ 농도의 변화를 도 1에 도시한다.The change of the Pb 2+ concentration in the Sn plating solution is shown in FIG. 1 .

도 1에 도시한 바와 같이, 13㎎/L였던 Pb2+은 즉시 0.05㎎/L까지 감소하고 있는 점에서, Sn 도금욕 중의 Pb2+이 크라운 에테르에 의해 제거된 것을 알 수 있다. 한편, 도시하고 있지 않지만, Sn 도금액 중의 다른 성분(Sn2+, SO4 2-, ENSA, EN)의 농도는 거의 변화되어 있지 않은 점에서, Pb2+만이 선택적으로 제거된 것이라고 생각된다.As shown in FIG. 1 , Pb 2+ in the Sn plating bath was immediately reduced to 0.05 mg/L, which was 13 mg/L, indicating that Pb 2+ in the Sn plating bath was removed by the crown ether. On the other hand, although not shown, the concentration of other components (Sn 2+ , SO 4 2- , ENSA, EN) in the Sn plating solution is hardly changed, so that only Pb 2+ is considered to be selectively removed.

안정된 생산성을 확보하기 위해, 전기 Sn 도금층 중의 균일성을 높이는 것이 일반적이기 때문에, 전기 Sn 도금층 중의 Pb 함유량은 깊이 방향에 있어서 균일하게 저감된다. 그러나, 본 발명자들은, 종래 기술과는 달리, 전기 Sn 도금층 전체의 Pb 함유량을 저감시킴으로써 흑변의 발생이 저감되고, 또한 표층 영역에 Pb을 농화시킴으로써 내위스커성이 향상되는 것을 새롭게 알아냈다. 또한, 본 발명자들은, 전기 Sn 도금층 중의 Pb 함유량에 구배를 붙임으로써, 도막 밀착성이 향상되는 것도 새롭게 알아냈다.In order to ensure stable productivity, since it is common to improve the uniformity in the Sn electroplating layer, Pb content in the Sn electroplating layer is reduced uniformly in the depth direction. However, unlike the prior art, the present inventors have newly discovered that the occurrence of blackening is reduced by reducing the Pb content of the entire Sn electroplating layer, and whisker resistance is improved by concentrating Pb in the surface layer region. Moreover, the present inventors discovered newly also that coating-film adhesiveness improved by providing a gradient to Pb content in an electric Sn plating layer.

본 실시 형태에 관한 전기 Sn 도금 강판은, 상기한 지견에 기초하여 이루어진 것이다. 이하, 본 실시 형태에 관한 전기 Sn 도금 강판에 대하여 상세하게 설명한다.The electroplated Sn plated steel sheet according to the present embodiment is made based on the above-described knowledge. Hereinafter, the electro-Sn-coated steel sheet which concerns on this embodiment is demonstrated in detail.

[모재 강판][base steel plate]

본 실시 형태에 관한 전기 Sn 도금 강판의 모재 강판은 특별히 한정되지 않고, JIS G 3303: 2017에 규정되는 일반적인 용기용 강판의 모재 강판으로서 사용되는 강판을 사용하면 된다. 본 실시 형태에서는, 예를 들어 C: 0.01 내지 0.06질량%, Al: 0.001 내지 0.01질량%, Mn: 0.01 내지 0.06질량% 및 잔부 Fe 및 불순물로 이루어지는 모재 강판을 사용할 수 있다.The base steel sheet of the electro-Sn plated steel sheet according to the present embodiment is not particularly limited, and a steel sheet used as a base steel sheet for a general steel sheet for containers specified in JIS G 3303:2017 may be used. In this embodiment, for example, C: 0.01 to 0.06 mass %, Al: 0.001 to 0.01 mass %, Mn: 0.01 to 0.06 mass %, and the balance Fe and the base steel sheet composed of impurities can be used.

[전기 Sn 도금층][Electric Sn plating layer]

본 실시 형태에 관한 전기 Sn 도금층은, 전기 Sn 도금층의 표면측에 존재하고, Sn을 많이 포함하는 Sn층과, 전기 Sn 도금층의 모재 강판측에 존재하고, 모재 강판의 Fe이 전기 Sn 도금층 중에 확산된 합금층(Fe-Sn층)을 갖는다. 전기 Sn 도금층, Sn층 및 합금층의 정의에 대해서는 후술한다.The Sn electroplating layer according to the present embodiment is present on the surface side of the Sn electroplating layer, the Sn layer containing a lot of Sn, and the electro Sn plating layer are present on the base steel sheet side of the Sn electroplating layer, and Fe of the base steel sheet is diffused in the Sn electroplating layer. It has an alloy layer (Fe-Sn layer). The definition of an electrolytic Sn plating layer, a Sn layer, and an alloy layer is mentioned later.

본 실시 형태에서는, 전기 Sn 도금층 전체의 Pb 함유량이 50질량ppm 이하이다. 전기 Sn 도금층 전체의 Pb 함유량이 50질량ppm 초과인 경우, 이후 예측되는 Pb 함유량 규제값을 만족시킬 수 없고, 또한 용기용 강판으로서 요구되는 특성(장수명, 내식성)을 얻을 수 없다. 전기 Sn 도금층 전체의 Pb 함유량은, 40질량ppm 이하, 30질량ppm 이하, 20질량ppm 이하 또는 10질량ppm 이하가 바람직하다. 전기 Sn 도금층 전체의 Pb 함유량을 5질량ppm 미만으로 하는 것은 가능하지만, 실제 조업에 있어서의 비용의 증가를 야기하기 때문에, 전기 Sn 도금층 전체의 Pb 함유량의 하한을 5질량ppm으로 해도 된다.In this embodiment, Pb content of the whole electric Sn plating layer is 50 mass ppm or less. When the Pb content of the whole electrolytic Sn plating layer is more than 50 mass ppm, the Pb content regulation value predicted later cannot be satisfied, and the characteristic (long life, corrosion resistance) required as a steel plate for containers cannot be acquired. As for Pb content of the whole electric Sn plating layer, 40 mass ppm or less, 30 mass ppm or less, 20 mass ppm or less, or 10 mass ppm or less are preferable. Although it is possible to make Pb content of the whole Sn electroplating layer less than 5 mass ppm, since it causes the increase of the cost in actual operation, it is good also considering the lower limit of Pb content of the whole Sn electroplating layer as 5 mass ppm.

본 실시 형태에 관한 전기 Sn 도금층은, 표층 영역의 Pb 함유량이 5질량ppm 이상이고, 또한 표층 영역의 Pb 함유량이 전기 Sn 도금층 전체의 Pb 함유량보다도 높다. 표층 영역의 Pb 함유량의 상한은, 60질량ppm으로 해도 된다. 본 실시 형태에 있어서 표층 영역이란, 전기 Sn 도금층의 두께를 t라고 할 때, 전기 Sn 도금층의 표면으로부터 판 두께 방향으로 (1/10)×t깊이까지의 영역을 말한다. 또한, 본 실시 형태에서는, 전기 Sn 도금층의 표층 영역 이외의 영역을 심부 영역이라고 호칭한다. 전기 Sn 도금층의 심부 영역은, 환원하면, 전기 Sn 도금층의 두께를 t라고 할 때, 전기 Sn 도금층의 표면으로부터 판 두께 방향으로 (1/10)×t깊이 내지 표면으로부터 판 두께 방향으로 t깊이의 영역이다.In the Sn electroplating layer according to the present embodiment, the Pb content of the surface layer region is 5 mass ppm or more, and the Pb content of the surface layer region is higher than the Pb content of the entire Sn electroplating layer. The upper limit of the Pb content in the surface layer region may be 60 mass ppm. In this embodiment, when the thickness of the Sn electroplating layer is t, the surface layer region means a region from the surface of the Sn electroplating layer to the (1/10) × t depth in the plate thickness direction. In addition, in this embodiment, the area|region other than the surface layer area|region of an electrolytic Sn plating layer is called a deep part area|region. The deep region of the Sn plating layer is, in short, when the thickness of the Sn plating layer is t, from the surface of the Sn plating layer in the thickness direction to (1/10) × t depth to from the surface to the depth t in the thickness direction. is the area

표층 영역의 Pb 함유량이 전기 Sn 도금층 전체의 Pb 함유량과 동등한 경우, 또는 표층 영역의 Pb 함유량이 전기 Sn 도금층 전체의 Pb 함유량보다도 낮은 경우는, 전기 Sn 도금 강판의 도막 밀착성이 열화된다.When the Pb content of the surface layer region is equal to the Pb content of the entire Sn plating layer, or when the Pb content of the surface layer region is lower than the Pb content of the Sn plating layer as a whole, the coating film adhesion of the Sn electroplated steel sheet deteriorates.

본 실시 형태에 관한 전기 Sn 도금층은, 전기 Sn 도금층의 표층 영역의 Pb 함유량/(Sn 함유량+Pb 함유량)을, 전기 Sn 도금층의 심부 영역의 Pb 함유량/(Sn 함유량+Pb 함유량)으로 나눈 값을 1.1 이상으로 해도 된다. 전기 Sn 도금층의 표층 영역의 Pb 함유량/(Sn 함유량+Pb 함유량)을, 전기 Sn 도금층의 심부 영역의 Pb 함유량/(Sn 함유량+Pb 함유량)으로 나눈 값을 1.1 이상으로 함으로써, 전기 Sn 도금 강판의 도막 밀착성을 더 향상시킬 수 있다.In the Sn electroplating layer according to the present embodiment, the value obtained by dividing Pb content/(Sn content+Pb content) in the surface layer region of the Sn electroplating layer by Pb content/(Sn content+Pb content) in the deep region of the Sn electroplating layer is 1.1 or more can be done with Coating film adhesiveness of an electric Sn plated steel sheet by setting the value obtained by dividing Pb content/(Sn content + Pb content) of the surface layer region of the Sn plating layer by Pb content/(Sn content + Pb content) of the deep region of the Sn plating layer to 1.1 or more. can be further improved.

본 실시 형태에 관한 전기 Sn 도금층은, Pb 이외의 원소로서, Sn: 10 내지 100질량%, Fe: 0 내지 90질량%, O: 0 내지 0.5질량%를 포함한다. 잔부는 불순물로 이루어진다. 또한, 본 실시 형태에 있어서 불순물이란, 원료로서의 Sn 잉곳 또는 제조 환경 등으로부터 혼입되는 것이며, 본 실시 형태에 관한 전기 Sn 도금 강판에 악영향을 끼치지 않는 범위에서 허용되는 것을 의미한다.The electro-Sn plating layer which concerns on this embodiment contains Sn:10-100 mass %, Fe: 0-90 mass %, O: 0-0.5 mass % as elements other than Pb. The remainder consists of impurities. In addition, in this embodiment, an impurity means that it mixes from a Sn ingot as a raw material, a manufacturing environment, etc., and it means that it is permissible in the range which does not exert a bad influence on the electrolytic Sn plated steel sheet which concerns on this embodiment.

본 실시 형태에 관한 전기 Sn 도금층에서는, 임의로, Ca: 0.1 내지 10질량ppm, Sr: 0.1 내지 10질량ppm 및 Ba: 0.1 내지 10질량ppm으로 이루어지는 군 중 1종 또는 2종 이상을 더 함유해도 된다. 전기 Sn 도금층이 상기 군 중 1종 또는 2종 이상을 포함함으로써, 전기 Sn 도금층 전체의 Pb 함유량을 더 저감시킬 수 있다.The Sn electroplating layer according to the present embodiment may optionally further contain one or two or more of the group consisting of Ca: 0.1 to 10 mass ppm, Sr: 0.1 to 10 mass ppm, and Ba: 0.1 to 10 mass ppm. . When the Sn electroplating layer contains one or two or more of the above groups, the Pb content of the Sn electroplating layer as a whole can be further reduced.

본 실시 형태에 관한 전기 Sn 도금 강판은, 전기 Sn 도금층과 모재 강판 사이에, 엄밀하게는 합금층(Fe-Sn층)과 모재 강판 사이에, Fe-Ni층, Ni-Sn층 및 Fe-Ni-Sn층의 1종 또는 2종 이상을 더 구비해도 된다. 전기 Sn 도금층이 이들 층의 1종 또는 2종 이상을 더 구비함으로써, 전기 Sn 도금 강판을 음료캔 또는 식품캔으로서 사용한 경우의 캔 수명을 길게 할 수 있고, 또한 치밀한 합금층 생성에 의해 배리어 효과가 있기 때문에 내식성을 향상시킬 수 있다.The electro Sn plated steel sheet according to the present embodiment is between the Sn electroplating layer and the base steel sheet, more precisely, between the alloy layer (Fe-Sn layer) and the base steel sheet, the Fe-Ni layer, the Ni-Sn layer, and the Fe-Ni layer. You may further provide 1 type(s) or 2 or more types of -Sn layer. When the Sn electroplated layer further includes one or two or more of these layers, the can life can be lengthened when the Sn electroplated steel sheet is used as a beverage can or food can, and the barrier effect is improved by the formation of a dense alloy layer. Therefore, corrosion resistance can be improved.

이어서, 본 실시 형태에 관한 전기 Sn 도금층의 성분의 분석 방법에 대하여 도 2a 및 도 2b를 참조하면서 설명한다. 전기 Sn 도금층의 성분은, GD-MS(Glow Discharge-Mass Spectrometry) 해석에 의해 분석할 수 있다. GD-MS 해석은, 방전 시간의 경과와 함께, 도금층의 표면으로부터 깊이 방향으로의 조성의 변화를 추적하는 분석 방법이다. 도 2a는, 실시예의 No.16의 전기 Sn 도금 강판에 대하여 GD-MS 해석하여 얻어진 그래프이다.Next, the analysis method of the component of the Sn electroplating layer which concerns on this embodiment is demonstrated, referring FIG. 2A and FIG. 2B. The component of the Sn electroplating layer can be analyzed by GD-MS (Glow Discharge-Mass Spectrometry) analysis. GD-MS analysis is an analysis method which traces the change of the composition from the surface of a plating layer to the depth direction with progress of discharge time. Fig. 2A is a graph obtained by performing GD-MS analysis on the electro Sn-coated steel sheet of No. 16 of Example.

도 2a의 그래프는, Fe, Sn, Pb 및 O의 함유량의, 횡축 좌측 단측의 전기 Sn 도금층의 표면측으로부터 우측 단측의 모재 강판측을 향한 변화를 나타낸 것이다. 종축의 질량ppm은, Fe 및 Sn에 대해서는 좌측의 눈금이고, Pb 및 O에 대해서는 우측의 눈금이다.The graph of FIG. 2A shows the change of the content of Fe, Sn, Pb, and O from the surface side of the electrolytic Sn plating layer on the left end side of the horizontal axis toward the base steel sheet side on the right end side. Mass ppm of the ordinate is a scale on the left for Fe and Sn, and a scale on the right for Pb and O.

도 2b의 그래프는, 도 2a의 Sn 함유량 및 Pb 함유량을 취출하고, Pb/(Sn+Pb)값을 계산하여, 전기 Sn 도금층의 표면으로부터 깊이 방향으로의 변화를 그래프화한 것이다.The graph of FIG. 2B takes out Sn content and Pb content of FIG. 2A, calculates Pb/(Sn+Pb) value, and graphs the change from the surface of the Sn electroplating layer to the depth direction.

본 실시 형태에서는, 전기 Sn 도금 강판의 임의의 위치로부터 샘플을 채취하고, 그 샘플에 대하여 판 두께 방향으로 GD-MS 해석했을 때에, 표면으로부터 Sn 함유량이 100000ppm 이상인 영역을 전기 Sn 도금층이라고 정의한다. 또한, 도 2a에서는, 방전하고 나서 몇 분간은 원소가 검출되어 있지 않지만, 이 영역은 전기 Sn 도금층에는 포함하지 않는다. 또한, 전기 Sn 도금층 중, Sn 함유량이 Fe 함유량보다도 많은 영역을 Sn층이라고 정의하고, 전기 Sn 도금층 중 Sn층 이외의 영역을 합금층(Fe-Sn층)이라고 정의한다(도 2a 참조). 또한, Fe이 10 내지 90질량%, Ni이 10 내지 90질량%인 영역을 Fe-Ni층이라고 정의하고, Ni이 10 내지 90질량%, Sn이 10 내지 90질량%인 영역을 Ni-Sn층이라고 정의하고, Fe이 10 내지 80질량%, Ni이 10 내지 80질량%, Sn이 10 내지 80질량%인 영역을 Fe-Ni-Sn층이라고 정의한다.In the present embodiment, when a sample is taken from an arbitrary position of the Sn electroplated steel sheet and the sample is subjected to GD-MS analysis in the sheet thickness direction, a region having a Sn content of 100000 ppm or more from the surface is defined as an electrolytic Sn plating layer. In addition, in FIG. 2A, although an element is not detected for several minutes after discharge, this area|region is not included in the electrolytic Sn plating layer. In addition, the area|region where Sn content is more than Fe content in the Sn electroplating layer is defined as a Sn layer, and the area|region other than the Sn layer in the Sn electroplating layer is defined as an alloy layer (Fe-Sn layer) (refer FIG. 2A). In addition, the area|region whose Fe is 10-90 mass % and Ni is 10-90 mass % is defined as an Fe-Ni layer, Ni is 10-90 mass %, and Sn is 10-90 mass %, The area|region is a Ni-Sn layer. is defined, and a region containing 10 to 80% by mass of Fe, 10 to 80% by mass of Ni, and 10 to 80% by mass of Sn is defined as an Fe-Ni-Sn layer.

전기 Sn 도금층 전체의 Pb 함유량은, GD-MS 해석에 의해 얻어진, Sn층 및 합금층을 포함하는 전기 Sn 도금층 전체의 Pb 함유량이다. 표층 영역의 Pb 함유량은, GD-MS 해석에 의해 얻어진, 전기 Sn 도금층의 표면으로부터 (1/10)×t깊이까지의 영역의 Pb 함유량이다.Pb content of the whole electroplating layer is Pb content of the whole electroplating layer containing Sn layer and an alloy layer obtained by GD-MS analysis. The Pb content of the surface layer region is the Pb content of the region from the surface of the Sn electroplating layer to the (1/10) × t depth obtained by GD-MS analysis.

전기 Sn 도금층의 표층 영역의 Pb 함유량/(Sn 함유량+Pb 함유량)은, 표층 영역의 Pb 함유량(질량%)을, 표층 영역의 Sn 함유량(질량%) 및 Pb 함유량(질량%)의 합으로 나누어 얻는다. 마찬가지로, 전기 Sn 도금층의 심부 영역의 Pb 함유량/(Sn 함유량+Pb 함유량)은, 심부 영역의 Pb 함유량(질량%)을, 심부 영역의 Sn 함유량(질량%) 및 Pb 함유량(질량%)의 합으로 나누어 얻는다.The Pb content/(Sn content + Pb content) of the surface layer region of the electrolytic Sn plating layer is obtained by dividing the Pb content (mass %) of the surface layer region by the sum of the Sn content (mass %) and Pb content (mass %) of the surface layer region . Similarly, Pb content/(Sn content + Pb content) of the deep part region of the Sn plating layer is the Pb content (mass %) of the deep part region, as the sum of the Sn content (mass %) and Pb content (mass %) of the deep part region share and get

전기 Sn 도금층 중의 Ca 함유량, Sr 함유량 및 Ba 함유량은, 인히비터를 넣은 산을 사용하여 전기 Sn 도금층을 용해하고, 용해하여 얻어진 용액을 ICP-MS(Inductively Coupled Plasma-Mass Spectrometry)에 의해 분석함으로써 얻는다.The Ca content, Sr content, and Ba content in the Sn plating layer are obtained by dissolving the Sn plating layer using an acid containing an inhibitor, and analyzing the solution obtained by dissolving it by ICP-MS (Inductively Coupled Plasma-Mass Spectrometry). .

[제조 방법][Manufacturing method]

본 실시 형태에 관한 전기 Sn 도금 강판의 제조 방법의 일례에 대하여 설명한다.An example of the manufacturing method of the electrolytic Sn plated steel plate which concerns on this embodiment is demonstrated.

먼저, 상술한 화학 조성을 갖는 모재 강판에 전기 Sn 도금을 실시한다. 본 실시 형태에서는, 크라운 에테르법에 의해 Pb2+ 농도를 저감시킨 Sn 도금액을 사용하여 전기 Sn 도금을 행한다. 전기 Sn 도금을 행하기 전에, 전해 탈지를 행해도 된다. 복수의 전극간(10패스)을 고속 통판시키는 전기 Sn 도금 공정에서는, 1 내지 9패스째의 전류 밀도를 일정하게 하고, 10패스째(최종 패스)의 전류 밀도를 높여 전기 Sn 도금을 실시한다. 10패스째의 전류 밀도의 높임 폭을 조정함으로써, 전기 Sn 도금층의 표층 영역의 Pb 함유량을 조정할 수 있다. 전기 Sn 도금 공정 후에는 모재 강판에 플럭스를 도포한 후, Sn 도금액의 10배 희석액에 침지하여, 롤러 스퀴징 후, 냉풍 건조하고, 리플로우 조작으로서, 통전 가열과 ??치(80℃)를 실시한다.First, electroplating is performed on the base steel sheet having the above-described chemical composition. In the present embodiment, electro-Sn plating is performed using the Sn plating solution in which the Pb 2+ concentration is reduced by the crown ether method. Before electroplating by Sn, you may perform electrolytic degreasing. In the electro-Sn plating process of high-speed sheet-threading between a plurality of electrodes (10 passes), the current density of the 1st to 9th passes is made constant, the current density of the 10th pass (final pass) is increased, and Sn electroplating is performed. The Pb content of the surface layer area|region of an electrolytic Sn plating layer can be adjusted by adjusting the heightening width of the current density of the 10th pass. After the electro Sn plating process, flux is applied to the base steel sheet, immersed in a 10-fold dilution of Sn plating solution, roller squeezing, cold air drying, and reflow operation, energization heating and heating (80 ° C) are performed. Conduct.

이상의 방법에 의해, 본 실시 형태에 관한 전기 Sn 도금 강판을 제조할 수 있다.By the above method, the electrolytic Sn plated steel sheet according to the present embodiment can be manufactured.

본 실시 형태에서는, Sn 도금액에 알칼리 토류 금속(Ca, Sr, Ba)의 탄산염을 첨가해도 된다. 이에 의해, 크라운 에테르법에 의한 Pb2+ 제거의 수율을 향상시킬 수 있고, 전기 Sn 도금층 전체의 Pb 함유량을 더 저감시킬 수 있다.In this embodiment, you may add carbonate of alkaline-earth metal (Ca, Sr, Ba) to Sn plating liquid. Thereby, the yield of Pb 2+ removal by the crown ether method can be improved, and Pb content of the whole electrolytic Sn plating layer can be reduced further.

또한, 본 실시 형태에서는, 전기 Sn 도금 전처리로서, Ni 사전 도금 또는 Fe-Ni 사전 도금을 실시해도 된다. 이에 의해, 모재 강판과 전기 Sn 도금층 사이에 Fe-Ni층, Ni-Sn층 또는 Fe-Ni-Sn층의 1종 또는 2종 이상을 형성시킬 수 있다.In addition, in this embodiment, you may perform Ni pre-plating or Fe-Ni pre-plating as an electroplating pre-processing of Sn. Thereby, one type or two or more types of an Fe-Ni layer, a Ni-Sn layer, or an Fe-Ni-Sn layer can be formed between a base steel plate and an electrical Sn plating layer.

실시예Example

이하에 본 발명의 실시예에 대하여 설명하지만, 실시예에서의 조건은 본 발명의 실시 가능성 및 효과를 확인하기 위해 채용한 예에 지나지 않고, 본 발명은 이 조건예에 한정되는 것은 아니다. 본 발명은, 본 발명의 요지를 일탈하지 않고, 본 발명의 목적을 달성하는 한에 있어서, 다양한 조건을 채용할 수 있는 것이다.Examples of the present invention will be described below, but the conditions in the examples are merely examples employed to confirm the practicability and effects of the present invention, and the present invention is not limited to these condition examples. Various conditions can be employ|adopted for this invention, as long as the objective of this invention is achieved without deviating from the summary of this invention.

[실시예 1][Example 1]

실제 조업 규모로, 크라운 에테르법에 의한 전기 Sn 도금층 중의 Pb 함유량의 저하의 효과를 조사했다.On an actual operation scale, the effect of the fall of the Pb content in the Sn electroplating layer by the crown ether method was investigated.

Sn 도금액의 성분은 Sn2+: 20g/L, Pb2+: 5㎎/L(Pb/Sn 환산으로 250ppm), EN: 5g/L, ENSA: 5g/L, PSA: 100g/L이고, 온도: 45℃였다.The components of the Sn plating solution are Sn 2+ : 20 g/L, Pb 2+ : 5 mg/L (250 ppm in terms of Pb/Sn), EN: 5 g/L, ENSA: 5 g/L, PSA: 100 g/L, and temperature: 45 ℃ was.

크라운 에테르가 담지된 수지(본 실시예에서는 실리카겔을 사용함)를 칼럼 중에 충전하고, Sn 도금액을 통과시켰다. 이 Sn 도금액은 도금 셀로 옮겨지고, 도금 셀 내를 순환한 후에 칼럼으로 복귀된다. 이것이 반복되었다. 이때의 Sn 도금액의 통액 속도(L/hr)는 수지 체적(L)에 의존하지만, 예비 검토의 결과, 수지 1L에 대하여, Sn 도금액의 통액 속도는 60L/hr로 설정했다.A crown ether-supported resin (silica gel is used in this example) was charged in a column and passed through a Sn plating solution. This Sn plating solution is transferred to the plating cell, circulated in the plating cell, and then returned to the column. This was repeated. Although the liquid passing rate (L/hr) of the Sn plating liquid at this time depends on the resin volume (L), as a result of preliminary examination, the Sn plating liquid passing rate was set to 60 L/hr with respect to 1 L of resin.

실험실 규모에서는, 상당의 효과가 인정되었지만, 실제 조업 규모에서는 Pb2+: 0.1㎎/L까지밖에 저감되지 않았다.On a laboratory scale, although a considerable effect was recognized, on an actual operation scale, it was reduced only to Pb 2+ :0.1 mg/L.

이 원인은, 실제 조업 라인에서는, 기존의 슬러지(SnO2이 주성분)가 다량으로 존재하는 점에서, 크라운 에테르의 특성이 약간 저하되었다고 본 발명자들은 추측했다. 그러나, 통액 속도나 크라운 에테르의 교환 빈도의 조정에 의해 충분히 실제 조업 라인에서도 효과를 발현하는 것이 판명되었다.The present inventors guessed that the property of a crown ether fell slightly because the existing sludge (SnO2 is a main component) exists in a large amount in an actual operation line for this cause. However, it was found that the effect was sufficiently exhibited even in an actual operation line by adjusting the flow rate and the frequency of crown ether exchange.

또한, 크라운 에테르법에 의해 Pb2+을 저감시킨 Sn 도금액에 의해 제작된 전기 Sn 도금층을 분석했다.Furthermore, the electrolytic Sn plating layer produced with the Sn plating solution in which Pb 2+ was reduced by the crown ether method was analyzed.

크라운 에테르법에 의해 Pb2+: 0.1㎎/L로 된 Sn 도금액으로 제작한 전기 Sn 도금층을 GD-MS 해석한 결과를 도 3b에 나타내고, 무처리의 Sn 도금액을 사용하여 제작한 전기 Sn 도금층(비교예)을 GD-MS 해석한 결과를 도 3a에 나타낸다.Fig. 3b shows the result of GD-MS analysis of the Sn plating layer prepared with the Sn plating solution having Pb 2+ : 0.1 mg/L by the crown ether method, and the Sn plating layer prepared using the untreated Sn plating solution (comparative Example) of the GD-MS analysis result is shown in Fig. 3a.

도 3a에 나타낸 바와 같이 비교예인 무처리의 Sn 도금액으로 제작한 전기 Sn 도금층으로부터는, Sn과 함께 표면 근방으로부터 높은 농도의 Pb이 검출되었다. 한편, 크라운 에테르법으로 처리한 Sn 도금액으로 제작한 도금층으로부터는, 도 3b에 나타낸 바와 같이, Pb이 극히 약간밖에 검출되지 않았다.As shown in FIG. 3A , in the electrolytic Sn plating layer prepared with the untreated Sn plating solution as a comparative example, a high concentration of Pb was detected from the vicinity of the surface along with Sn. On the other hand, in the plating layer prepared with the Sn plating solution treated with the crown ether method, as shown in Fig. 3B, only a small amount of Pb was detected.

[실시예 2][Example 2]

음료 캔 재료 및 식품캔 재료로서의 양철의 제조에, 본 발명에 관한 전기 Sn 도금 강판을 적용하는 것을 상정하고, 이하의 실험을 행하였다.The following experiments were performed on the assumption that the electrolytic Sn plated steel sheet according to the present invention was applied to the production of tin plate as a material for a beverage can and a material for a food can.

모재 강판으로서, C: 0.03질량%, Al: 0.005질량%, Mn: 0.03질량% 및 잔부 Fe 및 불순물로 이루어지는 강판을 사용했다.As the base steel sheet, a steel sheet composed of C: 0.03 mass%, Al: 0.005 mass%, Mn: 0.03 mass%, and the remainder Fe and impurities was used.

Sn 도금액의 성분은, Sn2+: 20g/L, Pb2+: 5㎎/L(Pb/Sn 환산으로 250ppm), EN: 5g/L, ENSA: 5g/L, PSA: 100g/L이고, 온도: 45℃였다. 이 Sn 도금액의 Pb2+ 농도를 크라운 에테르법에 의해 저감시키고, 임의의 Pb2+ 농도로 축차, 후술하는 전기 Sn 도금 공정을 거쳐서, 전기 Sn 도금층을 형성했다. Pb2+ 농도는, 실험실 규모에서는 0.05㎎/L까지 저감시킬 수 있었다.The components of the Sn plating solution are Sn 2+ : 20 g/L, Pb 2+ : 5 mg/L (250 ppm in terms of Pb/Sn), EN: 5 g/L, ENSA: 5 g/L, PSA: 100 g/L, and temperature: It was 45 °C. The Pb 2+ concentration of this Sn plating solution was reduced by the crown ether method, and the Sn plating layer was formed sequentially at an arbitrary Pb 2+ concentration through an electro-Sn plating process described later. The Pb 2+ concentration could be reduced to 0.05 mg/L on a laboratory scale.

전기 Sn 도금층을 형성하기 위한 전처리로서, 강판의 전해 탈지 공정을, 60℃의 10% NaOH 용액으로 10A/dm2×10sec의 전류를 강판이 캐소드측으로 되도록 하여 흐르게 했다. 그 후, 상온의 10% H2SO4에 10sec 침지하여 산세한 후, #25양철(편면 Sn 부착량 2.8g/㎡)을 목표로, 상기 Sn 도금액을 사용하여 5A/dm2로 전기 Sn 도금을 행하였다.As a pretreatment for forming an electrolytic Sn plating layer, in the electrolytic degreasing step of the steel sheet, a current of 10 A/dm 2 × 10 sec in a 10% NaOH solution at 60° C. was made to flow to the cathode side of the steel sheet. After that, immersion in 10% H 2 SO 4 at room temperature for 10 sec and pickling, with the aim of #25 tin plate (Sn adhesion amount on one side 2.8 g/m 2 ), using the Sn plating solution, electroplating Sn at 5A/dm 2 was done.

전기 Sn 도금 공정에 있어서, 본 실시예에서는, 10패스 중의 최종 패스의 전류 밀도를 변화시켜, Pb의 분포 상태를 제어한 전기 Sn 도금층을 형성했다. 즉, 표층 영역에 Pb을 농화시키는 경우는 최종 패스의 전류 밀도를 높이고, 반대로 표층 영역의 Pb 함유량을 전기 Sn 도금층 전체의 Pb 함유량보다 저감시키는 경우는 최종 패스의 전류 밀도를 낮췄다. 본 실시예에서는, 최종 패스 이외는 전류 밀도 20A/dm2로 하고, 최종 패스에서는 전류 밀도를 30 내지 60A/dm2으로 높여 전기 Sn 도금했다. 단, 표 1의 No.11 및 No.14에 대해서는, 최종 패스만 전류 밀도를 낮추고, No.37 및 No.38에 대해서는, 전류 밀도를 일정하게 했다.Electro Sn plating process WHEREIN: In this Example, the electric Sn plating layer which controlled the distribution state of Pb by changing the current density of the last pass among 10 passes was formed. That is, in the case of concentrating Pb in the surface layer region, the current density of the final pass is increased, and conversely, when the Pb content of the surface layer region is reduced than the Pb content of the entire Sn electroplating layer, the current density of the final pass is lowered. In this example, the current density was 20 A/dm 2 except for the last pass, and in the last pass, the current density was increased to 30 to 60 A/dm 2 , and electrolytic Sn plating was performed. However, about No.11 and No.14 of Table 1, only the last pass lowered the current density, and about No.37 and No.38, the current density was made constant.

일부의 Sn 도금액에 대해서는, 알칼리 토류 금속(Ca, Sr, Ba)의 탄산염을 투입했다.For some Sn plating solutions, carbonates of alkaline earth metals (Ca, Sr, Ba) were added.

전기 Sn 도금 공정에 이어서, 플럭스 도포 후, 상술한 전기 Sn 도금액의 10배 희석액에 침지하고, 롤러 스퀴징 후, 냉풍 건조한 것에, 리플로우 조작으로서, 통전 가열과 ??치(80℃)를 실시했다. 이상의 방법에 의해, 전기 Sn 도금 강판을 얻었다.Following the electro-Sn plating process, after flux application, immersion in a 10-fold dilution of the above-described Sn electroplating solution, roller squeezing, followed by cold-air drying, as a reflow operation, energized heating and quenching (80 ° C) are performed. did. By the above method, an electrolytic Sn plated steel sheet was obtained.

일부의 전기 Sn 도금 강판에 대해서는, 전기 Sn 도금 공정의 전처리로서, Ni 사전 도금, Fe-20mass% Ni 사전 도금을 각각 Ni: 20㎎/㎡의 부착량으로 되도록 실시하고, 그 후 리플로우에 의해, Fe-Ni층, Ni-Sn층(Ni3Sn4 주체), 또는 Fe-Ni-Sn층을 형성했다.For some electro-Sn plated steel sheets, Ni pre-plating and Fe-20 mass% Ni pre-plating are performed so that the adhesion amount of Ni: 20 mg/m 2 is respectively Ni pre-plating as a pretreatment in the Sn electro-plating process, and then by reflow, An Fe-Ni layer, a Ni-Sn layer (mainly Ni 3 Sn 4 ), or an Fe-Ni-Sn layer was formed.

전기 Sn 도금층의 성분 분석은 상술한 방법에 의해 행하였다. 또한, GD-MS 해석은, 전기 Sn 도금 강판의 단부로부터 30㎜ 이격된 위치로부터 30㎜×15㎜의 직사각형의 샘플을 채취하고, 그 샘플의 2개소에 대하여 GD-MS 해석을 행하였다. 알칼리 토류 금속(Ca, Sr, Ba)의 미량 원소 분석은 ICP-MS에 의해 측정했다. 전기 Sn 도금층은, 표 1에 나타내는 Pb, Ca, Sr 및 Ba을 포함하고, Sn: 10 내지 100질량%, Fe: 0 내지 90질량%, O: 0 내지 0.5질량% 및 잔부 불순물로 이루어지는 전기 Sn 도금층이었다.The component analysis of the electrolytic Sn plating layer was performed by the method mentioned above. In addition, for GD-MS analysis, a 30 mm x 15 mm rectangular sample was taken from the position spaced|separated by 30 mm from the edge part of the Sn electroplating steel plate, and GD-MS analysis was performed with respect to two places of the sample. Trace element analysis of alkaline earth metals (Ca, Sr, Ba) was measured by ICP-MS. Electric Sn plating layer contains Pb, Ca, Sr, and Ba shown in Table 1, Sn: 10-100 mass %, Fe: 0-90 mass %, O: Electric Sn which consists of 0-0.5 mass % and remainder impurity It was a plating layer.

표 1의 「도금층 전체 Pb 함유량/질량ppm」은 전기 Sn 도금층 전체의 Pb 함유량이고, 「표층 Pb 함유량/질량ppm」은 전기 Sn 도금층의 표층 영역의 Pb 함유량이다. 표 1의 「Pb/(Sn+Pb)(표층 영역/심부 영역)」의 란에는, 전기 Sn 도금층의 표층 영역의 Pb 함유량/(Sn 함유량+Pb 함유량)을 전기 Sn 도금층의 표층 영역 이외의 영역(심부 영역)의 Pb 함유량/(Sn 함유량+Pb 함유량)으로 나눈 값이 1.1 이상인 경우에 「○」라고 기재하고, 상기 값이 1.1 미만인 경우에게 「×」라고 기재했다."Plating layer total Pb content/mass ppm" of Table 1 is Pb content of the whole electroplating layer, "surface layer Pb content/mass ppm" is Pb content of the surface layer region of an electrolytic Sn plating layer. In the column of "Pb/(Sn+Pb) (surface layer region/deep region)" of Table 1, Pb content/(Sn content + Pb content) of the surface layer region of the Sn plating layer is a region other than the surface region (deep region region) of the Sn plating layer. ), when the value divided by the Pb content/(Sn content + Pb content) was 1.1 or more, “○” was described, and when the value was less than 1.1, “x” was described.

표 1에 있어서, 발명예 및 비교예를 포함하는 모든 실시예가, 전기 Sn 도금층 중에 Sn층 및 합금층을 갖고 있었다.In Table 1, all the Examples including the invention example and the comparative example had the Sn layer and the alloy layer in the Sn electroplating layer.

전기 Sn 도금 강판에 대하여, 이하의 시험을 실시했다.The following tests were performed on the electroplated Sn plated steel sheet.

또한, 내황화 흑변 시험(레토르트 시험)에서는, 전기 Sn 도금 강판의 단부로부터 30㎜ 이격된 위치로부터 소정의 크기의 샘플을 채취하고, 이 샘플에, 50℃의 2크롬산나트륨·이수화물의 25g/L 용액 중에서, Pb-Sn 애노드를 사용하여 5A/dm2, 10㎎/dm2을 목표로 전류를 흐르게 했다(#311 처리).In addition, in the sulfurization resistance blackening test (retort test), a sample of a predetermined size is taken from a position 30 mm away from the end of the Sn plated steel sheet, and the sample is 25 g/L of sodium dichromate dihydrate at 50°C. In the solution, a current was passed with a target of 5A/dm 2 and 10 mg/dm 2 using a Pb-Sn anode (treatment #311).

ATC 시험(Alloy-Tin Couple Test)ATC Test (Alloy-Tin Couple Test)

ATC 시험에 의해, 전기 Sn 도금 강판을 음료 캔 또는 식품캔에 적용한 경우의 캔 수명을 평가했다. ATC 시험에서는, 리플로우 후에 탈주석하여 합금층(Fe-Sn층)을 노출한 전기 Sn 도금 강판과 리플로우 후에 탈주석하지 않은 전기 Sn 도금 강판을 ATC 시험액(1.5% NaCl+1.5% 구연산 용액) 중에 침지하고, 양극 사이를 흐르는 부식 전류를 측정했다. 시험편은 130㎜×15㎜의 직사각형이고, 이것을 5% NaOH 용액 중에 있어서 전해 박리하고, 5㎜×40㎜의 시험면을 남기고 다른 것을 완전히 시일하여 전류가 누설되지 않도록 했다. 시험액은 질소 분위기 중에서 2분간 비등시켜, 실온까지 냉각했다. 시험조 중에, 리플로우 후에 탈주석하여 합금층(Fe-Sn층)을 노출시킨 전기 Sn 도금 강판과, 리플로우 후에 탈주석하지 않은 전기 Sn 도금 강판을 접속하여 내장했다. 시험조의 바닥에 염화 제1 주석(Sn2+ 환산으로 100ppm)을 넣고, 사전에 시험조 내를 질소 분위기로 했다. ATC 시험액을 공기에 접촉시키지 않도록 시험조로 옮기고, 리플로우 후에 탈주석하여 합금층(Fe-Sn층)을 노출한 전기 Sn 도금 강판과 리플로우 후에 탈주석하지 않은 전기 Sn 도금 강판을 침지함과 동시에 30분간 ATC 시험액을 교반하여, 염화 제1 주석을 용해했다. 질소 분위기(ATC 시험액) 중에 있어서 20시간 침지한 후, 탈주석한 전기 Sn 도금 강판과 탈주석하지 않은 전기 Sn 도금 강판 사이의 전류값을 측정하고, 이것을 ATC값이라고 했다. ATC값이 낮을수록 캔 수명이 양호한 것을 나타낸다.The ATC test evaluated the can life when the Sn electroplated steel sheet was applied to a beverage can or a food can. In the ATC test, an electro-Sn plated steel sheet that was de-tinned after reflow to expose the alloy layer (Fe-Sn layer) and an electro-Sn-plated steel sheet that had not been de-tinned after reflow was treated with an ATC test solution (1.5% NaCl + 1.5% citric acid solution). It was immersed in the inside, and the corrosion current flowing between the anodes was measured. The test piece was a rectangle of 130 mm x 15 mm, and this was electrolytically peeled off in a 5% NaOH solution, the test surface of 5 mm x 40 mm was left, and the other was completely sealed, and it was made to prevent electric current from leaking. The test solution was boiled for 2 minutes in a nitrogen atmosphere and cooled to room temperature. In the test tank, an electroplated Sn plated steel sheet that was detinned after reflow to expose an alloy layer (Fe-Sn layer), and an electroplated Sn plated steel sheet that had not been detinned after reflow were connected and incorporated. Stannous chloride (100 ppm in terms of Sn 2+ ) was put at the bottom of the test tank, and the inside of the test tank was made into nitrogen atmosphere beforehand. Transfer the ATC test solution to the test tank so that it does not come into contact with air, and after reflow, immerse the electroplated Sn plated steel sheet exposing the alloy layer (Fe-Sn layer) and the non-tin detinned electroplated steel sheet after reflow. The ATC test solution was stirred for 30 minutes to dissolve stannous chloride. After being immersed in a nitrogen atmosphere (ATC test solution) for 20 hours, the current value between the detinned electrolytic Sn plated steel sheet and the non-tin detinned electroplated Sn plated steel sheet was measured, and this was referred to as the ATC value. It shows that the can life is so favorable that an ATC value is low.

본 실시예에서는, 상기한 방법으로 측정한 ATC값(㎂/㎠)으로In this example, the ATC value (㎂/cm2) measured by the above method

우수 4점: 0.1㎂/㎠ 미만Excellent 4 points: less than 0.1も/cm2

3점: 0.1㎂/㎠ 이상, 0.2㎂/㎠ 미만3 points: 0.1も/cm2 or more, less than 0.2も/cm2

2점: 0.2㎂/㎠ 이상, 0.3㎂/㎠ 미만2 points: 0.2も/cm2 or more, less than 0.3も/cm2

열등 1점: 0.3㎂/㎠ 이상Inferior 1 point: 0.3も/cm2 or more

의 4단계로 평점을 붙였다. 또한, 2점 이상에서 용기용 강판으로서 사용하는 것이 가능하기 때문에, 2점 이상을 합격이라고 판정했다.was rated in 4 stages. Moreover, since it was possible to use it as a steel plate for containers at 2 or more points|pieces, it determined 2 or more points|pieces as the pass.

내황화 흑변 시험(레토르트 시험)Sulfuration resistance blackening test (retort test)

내황화 흑변 시험에 의해, 전기 Sn 도금 강판의 내식성을 평가했다. 내황화 흑변 시험에는, 0.1% 티오황산나트륨 수용액과 0.1N 황산을 체적비로 1:2로 혼합한 내식성 시험액을 사용했다. 전술한 #311 처리를 행한 전기 Sn 도금 강판을 φ35㎜로 잘라내어 시험편으로 하고, 이 시험편을, 내식성 시험액을 넣은 내열 병의 입구에 얹어서 고정했다. 그 후, 내열 병을 거꾸로 하여, 시험편과 내식성 시험액이 접촉하도록 했다. 121℃에서 60분의 열처리를 행한 후, 내식성 시험액이 상기 시험편에 접촉하는 면적(내열 병의 개구부 면적) 중, 부식된 부분의 비율로 내식성을 평가했다.The anti-sulfurization blackening test evaluated the corrosion resistance of the Sn electroplated steel sheet. In the yellowing resistance test for yellowing, a corrosion resistance test solution obtained by mixing 0.1% sodium thiosulfate aqueous solution and 0.1N sulfuric acid in a volume ratio of 1:2 was used. An electroplated Sn plated steel sheet subjected to the #311 treatment described above was cut out to φ35 mm to be a test piece, and this test piece was placed on the mouth of a heat-resistant bottle into which the corrosion-resistance test solution was placed and fixed. Thereafter, the heat-resistant bottle was inverted so that the test piece and the corrosion-resistance test liquid were in contact. After heat treatment at 121° C. for 60 minutes, corrosion resistance was evaluated by the ratio of the corroded portion among the area in which the corrosion resistance test solution was in contact with the test piece (the area of the opening of the heat-resistant bottle).

시험편이 내식성 시험액과 접촉하는 면적에 대한 부식 면적의 비율로 1 내지 5점의 평점을 붙였다. 또한, 3점 이상에서 용기용 강판으로서 사용하는 것이 가능하기 때문에, 3점 이상을 합격이라고 판정했다.A rating of 1 to 5 was given as the ratio of the corrosion area to the area in which the test piece was in contact with the corrosion resistance test solution. Moreover, since it was possible to use it as a steel plate for containers at 3 points|pieces or more, 3 points|pieces or more were judged as passing.

우수 평점 5: 면적 10% 미만Excellent rating 5: less than 10% area

평점 4: 면적 10% 이상, 25% 미만Rating 4: 10% or more, less than 25% of area

평점 3: 면적 25% 이상, 40% 미만Rating 3: 25% or more, less than 40% of area

평점 2: 면적 40% 이상, 55% 미만Rating 2: 40% or more, less than 55% of area

열등 평점 1: 면적 55% 이상Inferiority rating 1: 55% or more of area

도막 밀착성 평가 시험Coating film adhesion evaluation test

전기 Sn 도금 강판의 임의의 위치로부터 샘플을 채취하고, 전기 Sn 도금층의 표면에 아크릴계 도막을 베이킹하여 도장하고, 실온까지 냉각 후, 테이프 박리 시험을 행하였다. 박리 시험 후의 테이프면을 관찰하고, 전기 Sn 도금의 부착면이, 테이프면(전기 Sn 도금층과 테이프의 접착면)의 5% 미만인 경우를 도막 밀착성이 우수하다고 하여 합격이라고 판정했다. 전기 Sn 도금의 부착면이, 테이프면(전기 Sn 도금층과 테이프의 접착면)의 5% 이상인 경우를 도막 밀착성이 떨어진다고 하여 불합격이라고 판정했다. 또한, 합격이라고 판정한 예 중, 전기 Sn 도금의 부착면이, 테이프면(전기 Sn 도금층과 테이프의 접착면)의 3% 미만인 경우는, 특히 도막 밀착성이 우수하다고 판단했다. 표 1에는, 합격이라고 판정한 것은 「△」라고 기재하고, 합격이라고 판정한 예 중, 특히 도막 밀착성이 우수한 것은 「○」라고 기재하고, 불합격이라고 판정한 것은 「×」라고 기재했다.A sample was taken from an arbitrary position of the Sn electroplated steel sheet, an acrylic coating film was baked and coated on the surface of the Sn electroplating layer, cooled to room temperature, and then a tape peeling test was performed. The tape surface after the peeling test was observed, and the case where the adhesion surface of the Sn plating was less than 5% of the tape surface (the adhesive surface of the Sn plating layer and the tape) was judged to be a pass because the coating film adhesion was excellent. In the case where the adhesion surface of Sn electroplating was 5% or more of the tape surface (adhesive surface of Sn electroplating layer and a tape), it judged that the coating-film adhesiveness was inferior, and it judged that it was disqualified. Moreover, in the case where the adhesion surface of the electroplating Sn plating was less than 3% of the tape surface (the adhesive surface of the Sn electroplating layer and a tape) among the examples judged as pass, it was judged that it was especially excellent in coating-film adhesiveness. In Table 1, what was judged as passing was described as "Δ", and among the examples judged as pass, a thing especially excellent in coating film adhesiveness was described as "○", and what was judged as unacceptable was described as "x".

내위스커성 평가 시험Whisker resistance evaluation test

전기 Sn 도금 강판의 임의의 위치로부터 샘플을 채취하고, 이 샘플을 5T 굽힘으로 40℃, 50% RH 환경 하에서 1000h 방치한 후, 굽힘부의 외측을 SEM으로 10㎜×5㎜의 범위를 관찰하고, 3시야 관찰하여, 50㎛ 이상의 위스커 개수를 카운트하고, 그 개수를 관찰 면적으로 나누어 개수 밀도를 얻었다. 관찰된 위스커가 1㎟당 10개 이하인 경우를 내위스커성이 우수하다고 하여 합격이라고 판정하고, 10개 초과인 경우를 불합격이라고 판정했다. 표 1에는, 합격이라고 판정한 것은 「○」라고 기재하고, 불합격이라고 판정한 것은 「×」라고 기재했다.A sample is taken from an arbitrary position of the Sn plated steel sheet, and the sample is left to stand for 1000 h at 40° C. and 50% RH under 5T bending, and then the outside of the bent portion is observed in a range of 10 mm × 5 mm with SEM, Three-view observation was carried out, the number of whiskers of 50 micrometers or more was counted, and the number density was obtained by dividing the number by the observation area. The case where the number of observed whiskers per mm<2> was 10 or less was judged as passing as it was excellent in whisker resistance, and the case where it exceeded 10 was judged as disqualified. In Table 1, what was judged as passing was described as "○", and what was judged as unacceptable was described as "x".

상기한 측정 결과 및 시험 결과를 표 1에 나타낸다. 또한, 표 1의 밑줄은 본 발명의 범위 외, 또는 바람직하지 않은 특성인 것을 나타낸다.Table 1 shows the above measurement results and test results. In addition, underlined in Table 1 indicates properties that are outside the scope of the present invention or are undesirable.

Figure 112020032117695-pct00001
Figure 112020032117695-pct00001

No.1, No.2, No.3은 전기 Sn 도금층 전체의 Pb 함유량이 50질량ppm 초과이고, ATC 시험 및 내황화 흑변 시험의 평점이 낮았던 예이다. 황화 흑변은 Sn과 S의 결합에 기인하는 것이고, 레토르트 처리에서 고온에 노출됨으로써 변색이 촉진된다. 전기 Sn 도금층 전체의 Pb 함유량이 높으면, 국소적으로 융점이 낮아지는 부위가 생기고, 변색의 반응점이 증가하기 때문에, 거시적인 흑변이라는 외관 변화로 연결되었다고 추정되었다.No.1, No.2, and No.3 are examples in which Pb content of the whole electrolytic Sn plating layer was more than 50 mass ppm, and the rating of the ATC test and the yellowing resistance blackening test was low. Sulfuration blackening is due to the bonding of Sn and S, and discoloration is accelerated by exposure to high temperature in the retort treatment. When the Pb content of the whole electrolytic Sn plating layer was high, a region where the melting point was locally lowered occurred and the reaction point of discoloration increased.

한편, 본 발명예는 전기 Sn 도금층 전체의 Pb 함유량이 50질량ppm 이하이고, 표층 영역의 Pb 함유량이 5ppm 이상이면서 또한 전기 Sn 도금층 전체의 Pb 함유량보다도 높기 때문에, ATC 시험, 내황화 흑변 시험, 도막 밀착성 평가 시험 및 내위스커성 평가 시험의 어느 시험 결과도 양호했다.On the other hand, in the example of the present invention, the Pb content of the entire Sn plating layer is 50 mass ppm or less, and the Pb content of the surface layer region is 5 ppm or more and higher than the Pb content of the Sn plating layer as a whole. All test results of the adhesive evaluation test and the whisker resistance evaluation test were also favorable.

상세하게 보면, 전기 Sn 도금층 전체의 Pb 함유량이 30질량ppm 이하(No.6)에서 내식성이 더 양호하고, 20질량ppm 이하(No.7, No.8, No.16 내지 No.18)에서 극히 양호한 내식성을 나타냈다. 또한, 전기 Sn 도금층의 표층 영역의 Pb 함유량/(Sn 함유량+Pb 함유량)을 전기 Sn 도금층의 심부 영역의 Pb 함유량/(Sn 함유량+Pb 함유량)으로 나눈 값이 1.1 이상인 발명예는, 도막 밀착성 평가 시험에 있어서 특히 양호한 결과를 나타냈다.In detail, corrosion resistance is more favorable when the Pb content of the whole electrolytic Sn plating layer is 30 mass ppm or less (No. 6), and in 20 mass ppm or less (No. 7, No. 8, No. 16 - No. 18), It exhibited extremely good corrosion resistance. In addition, the value obtained by dividing the Pb content/(Sn content + Pb content) in the surface layer region of the Sn plating layer by the Pb content/(Sn content + Pb content) in the deep region of the Sn plating layer is 1.1 or more, in the invention example, the coating film adhesion evaluation test In particular, good results were shown.

No.19 내지 23은 No.10에 상당하는 Sn 도금액에 탄산칼슘을 0.01 내지 1g/L 첨가하여 제작한 전기 Sn 도금 강판이다. No.10과 비교하면, No.19 내지 23의 전기 Sn 도금층 전체의 Pb 함유량은 2할 정도 저하되어 있고, 크라운 에테르법에 의한 Pb2+ 수율이 향상된 것을 시사했다.Nos. 19 to 23 are electroplated Sn plated steel sheets prepared by adding 0.01 to 1 g/L of calcium carbonate to a Sn plating solution corresponding to No. 10. Compared with No.10, Pb content of the whole electrolytic Sn plating layer of No.19-23 fell about 20%, and it suggested that the Pb2 + yield by the crown ether method improved.

No.24 내지 28은 No.10에 상당하는 Sn 도금액에 탄산스트론튬을 0.01 내지 1g/L 첨가하여 제작한 전기 Sn 도금 강판이다. No.10과 비교하면, No.24 내지 28의 전기 Sn 도금층 전체의 Pb 함유량은 3할 정도 저하되어 있고, 크라운 에테르법에 의한 Pb2+ 수율이 향상된 것을 시사했다.Nos. 24 to 28 are electroplated Sn plated steel sheets prepared by adding 0.01 to 1 g/L of strontium carbonate to a Sn plating solution corresponding to No. 10. Compared with No. 10, Pb content of the whole electrolytic Sn plating layer of No. 24-28 fell about 30%, and it suggested that the Pb 2+ yield by the crown ether method improved.

No.29 내지 33은 No.10에 상당하는 Sn 도금액에 탄산바륨을 0.01 내지 1g/L 첨가하여 제작한 전기 Sn 도금 강판이다. No.10과 비교하면, No.29 내지 33의 전기 Sn 도금층 전체의 Pb 함유량은 1할 정도 저하되어 있고, 크라운 에테르법에 의한 Pb2+ 수율이 향상된 것을 시사했다.Nos. 29 to 33 are electroplated Sn plated steel sheets prepared by adding 0.01 to 1 g/L of barium carbonate to a Sn plating solution corresponding to No. 10. Compared with No.10, Pb content of the whole electrolytic Sn plating layer of No.29-33 fell about 10%, and it suggested that the Pb2 + yield by the crown ether method improved.

No.34는, No.10에 상당하는 Sn 도금액에, 탄산칼슘을 0.07g/L 및 탄산스트론튬을 0.05g/L 첨가하여 제작한 전기 Sn 도금 강판이다. No.10과 비교하면, No.34의 전기 Sn 도금층 전체의 Pb 함유량은 3.5할 정도 저하되어 있고, 크라운 에테르법에 의한 Pb2+ 수율이 향상된 것을 시사했다.No. 34 is an electrolytic Sn plated steel sheet produced by adding 0.07 g/L of calcium carbonate and 0.05 g/L of strontium carbonate to Sn plating solution corresponding to No. 10. Compared with No. 10, Pb content of the whole electrolytic Sn plating layer of No. 34 fell about 3.5%, and it suggested that the Pb 2+ yield by the crown ether method improved.

No.35 내지 38은 No.9에 상당하는 전기 Sn 도금에 앞서, 사전 Ni 도금, 사전 Fe-20% Ni 도금을 실시한 예이다. 발명예인 No.35 및 No.36에서는, Ni-Fe층, Ni-Sn층, Ni-Fe-Sn층의 1종 또는 2종 이상이 형성되었기 때문에, 전기 Sn 도금층과 상기 Ni-Fe층, Ni-Sn층, Ni-Fe-Sn층 사이의 전위차가 작아져, ATC값이 향상된 것을 알 수 있다.Nos. 35 to 38 are examples of prior Ni plating and prior Fe-20% Ni plating prior to the electro Sn plating corresponding to No. 9. In No. 35 and No. 36 which are invention examples, since 1 type or 2 types or more of a Ni-Fe layer, a Ni-Sn layer, and a Ni-Fe-Sn layer were formed, the Sn electroplating layer and the said Ni-Fe layer, Ni It turns out that the potential difference between the -Sn layer and the Ni-Fe-Sn layer became small, and the ATC value improved.

상기 실시예(No.16)에 의해 제작한 전기 Sn 도금 강판에 리플로우 처리를 실시한 후의 전기 Sn 도금층에 대하여, GD-MS 해석한 결과를 도 2a 및 도 2b에 나타낸다.2A and 2B show the results of GD-MS analysis of the Sn electroplated layer after reflowing the Sn electroplated steel sheet produced in Example (No. 16).

도 2a의 그래프는, Fe, Sn, Pb 및 O의 함유량 비율을 횡축 좌측 단측의 전기 Sn 도금층의 표면으로부터 횡축 우측 단측의 모재 강판측을 향한 변화를 나타낸 것이다. 종축의 질량ppm은, Fe과 Sn에 대해서는 좌측의 눈금, Pb 및 O에 대해서는 우측의 눈금에 의한다. 도 2a에 의하면, Pb에 대해서는 최표면에서 25질량ppm 정도가 검출되는 것에 지나지 않는 것을 알 수 있다.The graph of FIG. 2A shows the change of the content ratio of Fe, Sn, Pb and O from the surface of the electrolytic Sn plating layer on the left short side of the abscissa toward the base steel sheet side on the right short side of the abscissa. The mass ppm of the vertical axis depends on the scale on the left for Fe and Sn, and the scale on the right for Pb and O. According to FIG. 2A, about Pb, it turns out that only about 25 mass ppm is detected from the outermost surface.

도 2b의 그래프는, 도 2a의 Sn 함유량과 Pb 함유량을 취출하고, Pb/(Sn+Pb)값을 계산하여, 전기 Sn 도금층의 표면으로부터의 깊이 방향으로의 변화를 그래프화한 것이다.The graph of FIG. 2B takes out the Sn content and Pb content of FIG. 2A, calculates Pb/(Sn+Pb) value, and graphs the change from the surface of the Sn electroplating layer in the depth direction.

이때, 전기 Sn 도금층의 표층 영역(표면으로부터 판 두께 방향으로 (1/10)×t깊이까지의 영역(도 2b에 있어서, 직사각형으로 둘러싸인 부분))에서, Pb/(Sn+Pb)의 값이 상승, 즉, 표면 근방에서 Pb의 농축 현상이 발생하고 있는 것을 알 수 있다.At this time, the value of Pb/(Sn+Pb) increases in the surface layer region of the Sn plating layer (the region from the surface to the (1/10) × t depth in the plate thickness direction (the region enclosed by a rectangle in FIG. 2B)), That is, it turns out that the Pb concentration phenomenon has generate|occur|produced in the vicinity of the surface.

도 2b의 예에서는, 전기 Sn 도금층 전체에 있어서의 평균Pb/(Sn+Pb)값이 15질량ppm 정도인 것에 비해, 표층 영역에 있어서의 최대 Pb/(Sn+Pb)값은 25질량ppm 정도이고, 현상황 및 이후 예측되는 Pb 함유량의 규제값 이하의 값이고, 실질적으로 문제는 없는 것이었다.In the example of FIG. 2B, while the average Pb/(Sn+Pb) value in the whole electrolytic Sn plating layer is about 15 mass ppm, the maximum Pb/(Sn+Pb) value in the surface layer region is about 25 mass ppm, the present condition and It was a value below the regulatory value of the Pb content predicted afterward, and there was no problem substantially.

본 발명이 규정하는, 전기 Sn 도금층 전체에서 Pb 함유량이 50질량ppm의 상한값인 경우에는, 표층 영역에서의 Pb 함유량의 상한값은 60질량ppm로 된다.When Pb content is the upper limit of 50 mass ppm in the whole electrolytic Sn plating layer which this invention prescribes|regulates, the upper limit of Pb content in surface layer area|region becomes 60 mass ppm.

본 발명에서는, 전기 Sn 도금층 전체의 Pb 함유량을 저하시키기 때문에, 크라운 에테르에 의한 Pb2+ 이온의 착체 형성 포획 제거법으로, 저Pb 함유량으로 한 전기 Sn 도금 강판으로 했지만, 크라운 에테르에 의한 Pb2+ 이온의 착체 형성 포획 제거법 이외의 이용을 배제하는 것은 아니다.In the present invention, in order to reduce the Pb content of the entire Sn plated layer, an electrolytic Sn plated steel sheet having a low Pb content was obtained by the method for trapping and removing the complex formation of Pb 2+ ions by the crown ether. It does not exclude use other than a complex formation trap removal method.

본 실시 형태에 관한 전기 Sn 도금 강판은, 전기 Sn 도금층 전체의 Pb 함유량이 50질량ppm 이하인, 용기용 강판에 적용 가능한 전기 Sn 도금 강판을 제공할 수 있다. 또한, 본 실시 형태에 따르면, 고비용의 저Pb 함유량의 Sn 잉곳을 사용하지 않고, 종전의 동남아시아산 등의, 비교적 Pb 함유량이 높은 Sn 잉곳을 사용하면서, 저비용이고 저Pb 함유량으로 할 수 있다. 그 때문에, 금후, 전세계에서 Pb프리화 등의 규제가 강화되어도, 대응할 수 있는 산업상의 의의가 큰 발명이다.The Sn electroplated steel sheet according to the present embodiment can provide the Sn electroplated steel sheet applicable to the steel sheet for containers in which the Pb content of the entire Sn electroplating layer is 50 mass ppm or less. Further, according to the present embodiment, it is possible to achieve a low Pb content at low cost while using a Sn ingot having a relatively high Pb content, such as a conventional Southeast Asian product, without using an expensive Sn ingot with a low Pb content. Therefore, it is an invention of great industrial significance that can be dealt with even if regulations such as Pb-freeization are strengthened in the world from now on.

Claims (5)

모재 강판과,
상기 모재 강판 상에 배치되어, Sn층과 합금층을 갖고, Sn: 10 내지 100질량%, Fe: 0 내지 90질량%, O: 0 내지 0.5질량%를 함유하는 전기 Sn 도금층을 구비하고,
상기 전기 Sn 도금층 전체의 Pb 함유량이 50질량ppm 이하이고,
상기 전기 Sn 도금층의 두께를 t라고 하고, 상기 전기 Sn 도금층의 표면으로부터 판 두께 방향으로 (1/10)×t깊이까지의 영역을 표층 영역이라고 할 때, 상기 표층 영역의 Pb 함유량이 5~60질량ppm이고, 또한 상기 표층 영역의 Pb 함유량이 상기 전기 Sn 도금층 전체의 상기 Pb 함유량보다도 높은 것을 특징으로 하는 전기 Sn 도금 강판.
base steel plate,
It is disposed on the base steel sheet, has a Sn layer and an alloy layer, Sn: 10 to 100 mass%, Fe: 0 to 90 mass%, O: provided with an electric Sn plating layer containing 0 to 0.5 mass%,
The Pb content of the entire Sn plating layer is 50 mass ppm or less,
When the thickness of the Sn electroplating layer is t, and the area from the surface of the Sn electroplating layer to the (1/10) × t depth in the plate thickness direction is referred to as the surface layer region, the Pb content of the surface layer region is 5 to 60 It is mass ppm, and the Pb content of the said surface layer area|region is higher than the said Pb content of the said Sn electroplating layer as a whole, The electrolytic Sn plated steel sheet characterized by the above-mentioned.
제1항에 있어서, 상기 전기 Sn 도금층의 상기 표층 영역의 Pb 함유량/(Sn 함유량+Pb 함유량)을 상기 전기 Sn 도금층의 상기 표층 영역 이외의 영역의 Pb 함유량/(Sn 함유량+Pb 함유량)으로 나눈 값이 1.1 이상인 것을 특징으로 하는 전기 Sn 도금 강판.The value obtained by dividing the Pb content/(Sn content + Pb content) of the surface layer region of the Sn plating layer by the Pb content/(Sn content + Pb content) of the region other than the surface layer region of the Sn plating layer according to claim 1 Electro Sn-coated steel sheet, characterized in that 1.1 or more. 제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 전기 Sn 도금층이,
Ca: 0.1 내지 10질량ppm,
Sr: 0.1 내지 10질량ppm 및
Ba: 0.1 내지 10질량ppm으로 이루어지는 군 중 1종 또는 2종 이상을 더 함유하는 것을 특징으로 하는 전기 Sn 도금 강판.
The method according to claim 1 or 2, wherein the Sn plating layer,
Ca: 0.1 to 10 mass ppm,
Sr: 0.1 to 10 mass ppm and
An electrical Sn plated steel sheet characterized by further containing one or two or more types from the group consisting of Ba: 0.1 to 10 mass ppm.
제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 전기 Sn 도금층과 상기 모재 강판 사이에, Fe-Ni층, Ni-Sn층 및 Fe-Ni-Sn층의 1종 또는 2종 이상을 더 구비하는 것을 특징으로 하는 전기 Sn 도금 강판.The method according to claim 1 or 2, further comprising one or two or more of an Fe-Ni layer, a Ni-Sn layer, and a Fe-Ni-Sn layer between the electric Sn plating layer and the base steel sheet. Electrical Sn-coated steel sheet. 제3항에 있어서, 상기 전기 Sn 도금층과 상기 모재 강판 사이에, Fe-Ni층, Ni-Sn층 및 Fe-Ni-Sn층의 1종 또는 2종 이상을 더 구비하는 것을 특징으로 하는 전기 Sn 도금 강판.The electrical Sn according to claim 3, further comprising one or two or more of a Fe-Ni layer, a Ni-Sn layer, and a Fe-Ni-Sn layer between the electrical Sn plating layer and the base steel sheet. plated steel plate.
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