KR102408612B1 - Thermal-conductive composite sheet - Google Patents

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아키히로 엔도
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Abstract

(과제)
열원의 온도를 효과적으로 저감시키고, 또한 수직으로 두어도 벗겨지지 않고 밀착 상태를 유지할 수 있으며, 발열체의 온도를 저감시키기에 매우 유효한 열전도성 복합 시트를 제공한다.
(해결 수단)
면 내의 열전도율이 200W/mK 이상인 열전도층의 편면에, 100μm 이하의 두께로, 열저항이 1.2cm2-K/W 이하이며, 또한 접착력이 8N/cm2 이상인 열전도성 점착층을 가지고, 추가로 다른 일방의 면에, 10μm 이상 100μm 이하의 두께로, 방사율이 0.80 이상인 열방사층을 가지는 열전도성 복합 시트.
(assignment)
Provided is a thermally conductive composite sheet that effectively reduces the temperature of a heat source, can maintain a close contact state without peeling off even when placed vertically, and is very effective in reducing the temperature of a heating element.
(Solution)
On one side of the heat-conducting layer having an in-plane thermal conductivity of 200 W/mK or more, a thickness of 100 μm or less, a thermal resistance of 1.2 cm 2 -K/W or less, and an adhesive strength of 8 N/cm 2 or more A thermally conductive adhesive layer, further The thermally conductive composite sheet which has a heat-radiation layer whose emissivity is 0.80 or more in thickness of 10 micrometers or more and 100 micrometers or less on the other surface.

Description

열전도성 복합 시트{THERMAL-CONDUCTIVE COMPOSITE SHEET}Thermally conductive composite sheet {THERMAL-CONDUCTIVE COMPOSITE SHEET}

본 발명은 예를 들면 히트 싱크 등의 냉각 부재를 사용할 수 없는 전자 기기에 실장하기에 적합한 열전도성 복합 시트에 관한 것이다.The present invention relates to a thermally conductive composite sheet suitable for mounting in an electronic device that cannot use a cooling member such as a heat sink, for example.

텔레비전, 컴퓨터, 통신 장치, 산업 기기 등의 전자 기기는 소형화, 박형화, 고성능화에 의해 이들에 탑재되는 CPU, 드라이버 IC 등의 칩의 발열량이 증가하고 있다. 칩의 온도 상승은 칩의 동작 불량, 파괴를 일으킨다. 그 때문에 동작중의 칩의 온도 상승을 억제하기 위한 많은 열방산 방법 및 그것에 사용하는 열방산 부재가 제안되어 있다. 종래 전자 기기 등에 있어서는, 동작중의 칩의 온도 상승을 억제하기 위해서, 알루미늄이나 구리 등 열전도율이 높은 금속판을 사용한 히트 싱크가 사용되고 있다. 이 히트 싱크는 그 칩이 발생시키는 열을 전도하고, 그 열을 외기와의 온도차에 의해 표면으로부터 방출한다.BACKGROUND ART Electronic devices such as televisions, computers, communication devices, and industrial devices increase the amount of heat generated by chips such as CPUs and driver ICs mounted thereon due to miniaturization, thinness, and high performance. An increase in the temperature of the chip causes malfunction or destruction of the chip. For this reason, many heat dissipation methods for suppressing the temperature rise of the chip during operation and a heat dissipation member used therefor have been proposed. Conventionally, in electronic devices and the like, a heat sink using a metal plate having high thermal conductivity, such as aluminum or copper, is used in order to suppress the temperature rise of the chip during operation. This heat sink conducts the heat generated by the chip and radiates the heat from the surface by the temperature difference with the outside air.

칩으로부터 발생하는 열을 히트 싱크에 효율적으로 전하기 위해서, 히트 싱크를 칩에 밀착시킬 필요가 있는데, 각 칩의 높이의 차이나 조립 가공에 의한 공차가 있기 때문에, 유연성을 가지는 시트나 그리스를 칩과 히트 싱크 사이에 개재장착시켜, 이 시트 또는 그리스를 통하여 칩으로부터 히트 싱크로의 열전도를 실현하고 있다.In order to efficiently transfer the heat generated from the chip to the heat sink, it is necessary to attach the heat sink to the chip. Since there is a difference in the height of each chip or tolerance due to assembly processing, a flexible sheet or grease is applied to the chip and the heat sink. By interposing it between the sinks, heat conduction from the chip to the heat sink is realized through this sheet or grease.

그러나 상기 서술한 바와 같이 기기의 소형화, 박형화, 고성능화에 의해 히트 싱크를 탑재할 수 없는 경우가 증가해오고 있다. 예를 들면 휴대하는 것을 상정한 스마트폰이나 디지털 비디오 카메라, 천정에 설치하거나 천정으로부터 매다는 것을 상정하고 있는 LED 조명 등, 크기나 중량의 문제로부터 히트 싱크를 사용할 수 없거나, 히트 싱크를 없애는 것이 요구되고 있다. 이와 같은 점에서 열방사를 이용한 방열 대책 부품이 몇가지 보고되어 있다.However, as described above, there are increasing cases in which a heat sink cannot be mounted due to the miniaturization, thickness reduction, and high performance of the device. For example, it is impossible to use a heat sink due to size and weight problems, such as smartphones and digital video cameras that are supposed to be portable, and LED lights that are intended to be installed on the ceiling or suspended from the ceiling, or it is required to eliminate the heat sink. have. In this regard, several heat dissipation countermeasure parts using heat radiation have been reported.

적외선의 방열률이 높은 코디에라이트 분립체를 소성하여 얻어진 세라믹 재료를 성형하여 기판에 사용하거나, 히트 싱크 대신에 사용함으로써, 발열체로부터의 열을 복사열로서 방열시키는 방법이 제안되어 있다(특허문헌 1:일본 특개 2006-298703호 공보). 그러나 이것은 세라믹 재료의 강성이 높아 성형이 곤란하거나, 부착하는 발열 부품의 표면이 평면이 아니라 만곡되어 있는 것 같은 경우에는 부착되지 않는다는 문제가 있었다.A method of dissipating heat from a heating element as radiant heat by molding a ceramic material obtained by firing a cordierite granular material having a high infrared heat dissipation rate and using it for a substrate or using it instead of a heat sink has been proposed (Patent Document 1) : Japanese Patent Laid-Open No. 2006-298703). However, this has a problem in that it is difficult to form due to the high rigidity of the ceramic material, or when the surface of the heat generating part to be attached is curved rather than flat, it is not adhered.

그 밖에 열방사 도료라고 칭하고, 열방사율이 높은 입자를 경화성 수지에 함유시킨 조성물을 적당한 유기 용제로 희석한 것을 발열체에 도공 혹은 분사하여, 건조, 경화시키고, 발열체에 열방사층을 직접 적층시켜, 발열체로부터의 열을 계 외로 방열시키는 수법이 제안되어 있다(특허문헌 2, 3:일본 특개 2004-43612호 공보, 일본 특개 2013-144747호 공보). 그러나 발열체로의 도공 혹은 분사는 그것을 위한 설비의 도입이 필요한 점, 도공량, 분사량의 관리가 어려운 점, 도료를 경화시키기 위한 공정이 필요한 점 등을 들 수 있어 공정이 복잡해진다는 결점이 있었다.In addition, it is called a thermal radiation paint, and a composition containing particles with high thermal emissivity in a curable resin is diluted with an appropriate organic solvent, coated or sprayed on a heating element, dried and cured, and a heat radiation layer is directly laminated on the heating element, A method of dissipating heat from the outside of the system has been proposed (Patent Document 2, 3: Japanese Patent Application Laid-Open No. 2004-43612, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2013-144747). However, coating or spraying with a heating element has drawbacks in that the process becomes complicated due to the need to introduce equipment for it, difficulty in controlling the amount of coating and spraying, and the need for a process to harden the paint.

또 금속의 박판의 편면에 열방사막을 형성하고, 금속의 박판의 다른 편면에 접착층을 첩합한 열방사 시트가 제안되어 있다(특허문헌 4:일본 특개 2004-200199호 공보). 그러나 실시예에 의하면 접착층의 두께가 180μm정도로 매우 두꺼워, 열의 흐름의 방해가 되고 있다.Further, a heat radiation sheet in which a heat radiation film is formed on one side of a thin metal plate and an adhesive layer is bonded to the other side of the thin metal plate has been proposed (Patent Document 4: Japanese Patent Laid-Open No. 2004-200199). However, according to the embodiment, the thickness of the adhesive layer is very thick, about 180 μm, and it hinders the flow of heat.

또 금속의 박판의 편측에 열방사층을 가지고, 다른 편측에 0.2mm 이상의 열전도성 실리콘층을 적층시킨 열전도성 복합 시트가 제안되어 있다(특허문헌 5:일본 특개 2015-119173호 공보). 그러나 이 방법은 열전도성을 중시한 경우 상책이 아니다.Further, a thermally conductive composite sheet having a heat-radiating layer on one side of a thin metal plate and a thermally conductive silicone layer of 0.2 mm or more laminated on the other side has been proposed (Patent Document 5: Japanese Patent Application Laid-Open No. 2015-119173). However, this method is not optimal when thermal conductivity is important.

일본 특개 2006-298703호 공보Japanese Patent Laid-Open No. 2006-298703 일본 특개 2004-43612호 공보Japanese Patent Laid-Open No. 2004-43612 일본 특개 2013-144747호 공보Japanese Patent Laid-Open No. 2013-144747 일본 특개 2004-200199호 공보Japanese Patent Laid-Open No. 2004-200199 일본 특개 2015-119173호 공보Japanese Patent Application Laid-Open No. 2015-119173

본 발명은 상기 사정을 감안하여 이루어진 것으로, 열원의 온도를 효과적으로 저감시키고, 또한 수직으로 두어도 벗겨지지 않고 밀착 상태를 유지할 수 있으며, 발열체의 온도를 저감시키기에 매우 유효한 열전도성 복합 시트를 제공하는 것을 목적으로 한다.The present invention has been made in view of the above circumstances, to provide a thermally conductive composite sheet that can effectively reduce the temperature of a heat source, can maintain a close contact state without peeling off even when placed vertically, and is very effective for reducing the temperature of a heating element The purpose.

본 발명자들은 상기 목적을 달성하기 위해서 예의 검토한 결과, 면 내의 열전도율이 200W/mK 이상인 열전도층의 편면에, 100μm 이하의 두께로, 열저항이 1.2cm2-K/W 이하이며, 또한 8N/cm2 이상의 접착력을 가지는 열전도성 점착층이 적층되고, 추가로 다른 일방의 면에, 10μm 이상 100μm 이하의 두께로, 방사율이 0.80 이상의 열방사층이 적층된 열전도성 복합 시트가 열원의 온도를 효과적으로 저감시키고, 또한 수직으로 두어도 벗겨지지 않고 밀착 상태를 유지할 수 있는 것을 알아내어, 본 발명을 이루기에 이르렀다.As a result of intensive studies to achieve the above object, the inventors of the present invention have a thickness of 100 μm or less on one side of a heat conductive layer having an in-plane thermal conductivity of 200 W/mK or more, and a thermal resistance of 1.2 cm 2 -K/W or less, and 8N/ A thermally conductive adhesive layer having an adhesive strength of cm 2 or more is laminated, and further, a thermally conductive composite sheet in which a thermal radiation layer having a thickness of 10 μm or more and 100 μm or less, and a heat radiation layer having an emissivity of 0.80 or more is laminated on the other side effectively reduces the temperature of the heat source and found that the adhesion state could be maintained without peeling off even if placed vertically, leading to the achievement of the present invention.

따라서 본 발명은 열전도성 복합 시트를 제공한다.Accordingly, the present invention provides a thermally conductive composite sheet.

〔1〕〔One〕

면 내의 열전도율이 200W/mK 이상인 열전도층의 편면에, 100μm 이하의 두께로, 열저항이 1.2cm2-K/W 이하이며, 또한 접착력이 8N/cm2 이상인 열전도성 점착층을 가지고, 추가로 다른 일방의 면에, 10μm 이상 100μm 이하의 두께로, 방사율이 0.80 이상인 열방사층을 가지는 열전도성 복합 시트.On one side of the heat-conducting layer having an in-plane thermal conductivity of 200 W/mK or more, a thickness of 100 μm or less, a thermal resistance of 1.2 cm 2 -K/W or less, and an adhesive strength of 8 N/cm 2 or more A thermally conductive adhesive layer, further The thermally conductive composite sheet which has a heat-radiation layer whose emissivity is 0.80 or more in thickness of 10 micrometers or more and 100 micrometers or less on the other surface.

〔2〕〔2〕

열전도성 점착층의 열전도율이 0.5W/mK 이상인 것을 특징으로 하는 〔1〕에 기재된 열전도성 복합 시트.The thermally conductive composite sheet according to [1], wherein the thermal conductivity of the thermally conductive adhesive layer is 0.5 W/mK or more.

〔3〕[3]

열전도성 점착층이thermally conductive adhesive layer

(a) 알케닐기를 가지는 오르가노폴리실록세인 : 100질량부,(a) organopolysiloxane having an alkenyl group: 100 parts by mass;

(b) 열전도성 충전재 : 300~900질량부,(b) thermally conductive filler: 300 to 900 parts by mass;

(c) 오르가노하이드로젠폴리실록세인 : (a)성분의 알케닐기에 대한 (c)성분의 규소 원자에 직접 결합한 수소 원자의 몰비로 0.5~3이 되는 양,(c) organohydrogenpolysiloxane: an amount that is 0.5 to 3 in the molar ratio of the hydrogen atom directly bonded to the silicon atom of the component (c) to the alkenyl group of the component (a);

(d) 백금족 금속계 촉매 : 백금계 원소 질량으로 (a)성분의 0.1~1,000ppm,(d) Platinum group metal-based catalyst: 0.1 to 1,000 ppm of component (a) by mass of platinum-based element,

(f) 실리콘 수지 : 50~300질량부(f) silicone resin: 50 to 300 parts by mass

를 필수 성분으로 한 열전도성 실리콘 조성물의 경화물로 이루어지는 것을 특징으로 하는 〔1〕 또는 〔2〕에 기재된 열전도성 복합 시트.The thermally conductive composite sheet according to [1] or [2], characterized in that it consists of a cured product of a thermally conductive silicone composition containing as an essential component.

〔4〕〔4〕

열전도성 충전재가 알루미나인 〔3〕에 기재된 열전도성 복합 시트.The thermally conductive composite sheet according to [3], wherein the thermally conductive filler is alumina.

〔5〕[5]

열전도성 충전재의 평균 입경이 0.5~10μm이며, 30μm 이상의 조립(粗粒)이 1질량% 이하인 〔3〕 또는 〔4〕에 기재된 열전도성 복합 시트.The thermally conductive composite sheet according to [3] or [4], wherein the average particle diameter of the thermally conductive filler is 0.5 to 10 µm, and the granularity of 30 µm or more is 1% by mass or less.

이상 서술해온 바와 같이, 면 내의 열전도율이 200W/mK 이상인 열전도층의 편면에, 100μm 이하의 두께로, 열저항이 1.2cm2-K/W 이하이며, 또한 8N/cm2 이상의 접착력을 가지는 열전도성 점착층이 적층되고, 추가로 다른 일방의 면에, 10μm 이상 100μm 이하의 두께로, 방사율이 0.80 이상의 열방사층이 적층된 열전도성 복합 시트는 열원의 온도를 효과적으로 저감시키고, 또한 수직으로 두어도 벗겨지지 않고 밀착 상태를 유지할 수 있기 때문에, 사용 가능한 개소가 많고, 발열체의 온도를 저감시키기에 매우 유효하다.As described above, on one side of the heat-conducting layer having an in-plane thermal conductivity of 200 W/mK or more, a thickness of 100 μm or less, a thermal resistance of 1.2 cm 2 -K/W or less, and 8 N/cm 2 or more Thermal conductivity having an adhesive strength A thermally conductive composite sheet in which an adhesive layer is laminated and a thermal radiation layer having an emissivity of 0.80 or more is laminated on the other side, with a thickness of 10 μm or more and 100 μm or less, effectively reduces the temperature of the heat source, and does not peel off even when placed vertically Since it is possible to maintain a state of close contact without noticing, it is very effective for reducing the temperature of the heating element since there are many places where it can be used.

이하 본 발명에 대해서 상세하게 설명한다.Hereinafter, the present invention will be described in detail.

본 발명의 열전도성 복합 시트는 면 내의 열전도율이 200W/mK 이상인 열전도층의 편면에, 100μm 이하의 두께로, 열저항이 1.2cm2-K/W 이하이며, 또한 접착력이 8N/cm2 이상인 열전도성 점착층이 적층되고, 추가로 다른 일방의 면에, 10μm 이상 100μm 이하의 두께로, 방사율이 0.80 이상인 열방사층이 적층되어 이루어지는 것이다.The thermally conductive composite sheet of the present invention has a thermal conductivity of 200W/mK or more on one side of a thermally conductive layer in a plane, a thickness of 100μm or less, a thermal resistance of 1.2cm 2 -K/W or less, and an adhesive strength of 8N/cm2 or more. A conductive adhesive layer is laminated|stacked, and also the heat radiation layer with a thickness of 10 micrometers or more and 100 micrometers or less, and emissivity 0.80 or more is laminated|stacked on the other surface.

《열전도층》《Heat conductive layer》

본 발명의 열전도성 복합 시트에 있어서, 열전도층은 면 내의 열전도율이 200W/mK 이상인 것이며, 그 편면에 후술하는 열전도성 점착층이 적층되고, 다른 일방의 편면에 후술하는 열방사층이 적층되어 이루어지는 것이다.In the thermally conductive composite sheet of the present invention, the thermal conductive layer has an in-plane thermal conductivity of 200 W/mK or more, a thermally conductive adhesive layer to be described later is laminated on one side thereof, and a thermal radiation layer to be described later is laminated on the other side. .

[열전도층의 면 내의 열전도율][Thermal conductivity in the plane of the heat-conducting layer]

열전도층의 면방향의 열전도율은 200W/mK 이상이며, 230W/mK 이상인 것이 바람직하고, 280W/mK 이상인 것이 보다 바람직하고, 또 2,000W/mK 이하인 것이 바람직하다. 열전도층의 면방향의 열전도율이 낮으면, 본 발명의 열전도성 복합 시트의 열확산성이 충분히 얻어지지 않기 때문이다. 열방사를 사용하는 방열 대책을 생각했을 때에 방열되는 열량은 면적과 열방사율에 의존한다. 그 때문에 열전도성 복합 시트의 면적은 실장상 문제없는 범위에서 크게 한 쪽이 유리하게 된다. 이 때에 발열체로부터의 열을 열전도층이 재빠르게 확산시킴으로써 효율적으로 방열시킬 수 있다. 열전도층이 없으면, 발열체로부터의 열이 확산하기 어렵기 때문에, 열전도성 복합 시트의 면적을 크게 하는 이점을 전부 살릴 수 없다. 또한 본 발명에 있어서 열전도층의 면방향의 열전도율은 서모웨이브 애널라이저에 의해 열확산율을 측정하고, 열확산율로부터 열전도율을 산출함으로써 측정할 수 있다.The thermal conductivity in the plane direction of the heat conductive layer is 200 W/mK or more, preferably 230 W/mK or more, more preferably 280 W/mK or more, and more preferably 2,000 W/mK or less. It is because the thermal diffusivity of the thermally conductive composite sheet of this invention cannot fully be acquired when the thermal conductivity of the surface direction of a thermal conductive layer is low. When considering heat dissipation measures using heat radiation, the amount of heat radiated depends on the area and the heat emissivity. Therefore, it is advantageous that the area of the thermally conductive composite sheet is larger in a range where there is no problem in mounting. At this time, the heat from the heat generating element can be rapidly dissipated by the heat conductive layer, thereby efficiently dissipating heat. Without a heat conductive layer, since the heat from a heat generating body is hard to diffuse, it cannot utilize all the advantages of enlarging the area of a heat conductive composite sheet. In the present invention, the thermal conductivity in the plane direction of the thermal conductive layer can be measured by measuring the thermal diffusivity with a thermowave analyzer and calculating the thermal conductivity from the thermal diffusivity.

[열전도층의 재질][Material of heat conductive layer]

열전도층으로서는 예를 들면 그라파이트 시트나 알루미늄박, 구리박 등을 들 수 있다. 그라파이트 시트는 면 내의 열전도에 매우 우수하지만, 굽힘이나 인장에 약하고, 가공성이 부족하다. 또 그라파이트분의 탈락의 우려가 있고, 또한 비용이 높다. 알루미늄박이나 구리박은 그라파이트 시트와 비교하면 비용이 낮고, 강도가 높기 때문에 적합하다.As a heat conductive layer, a graphite sheet, aluminum foil, copper foil etc. are mentioned, for example. Graphite sheet is very good in in-plane heat conduction, but it is weak in bending or tension, and it lacks workability. Moreover, there exists a possibility of drop-off|omission of a graphite powder, and cost is high. Compared with a graphite sheet, aluminum foil and copper foil are suitable because cost is low and intensity|strength is high.

[열전도층의 두께][Thickness of the heat conductive layer]

열전도층의 두께는 10~100μm가 바람직하다. 보다 바람직하게는 20~100μm, 더욱 바람직하게는 20~80μm이다. 열전도층의 두께가 지나치게 얇으면 열전도성 복합 시트의 강성이 부족하게 되고, 취급이 곤란하게 되는 경우가 있다. 또 100μm를 넘으면, 열전도성 복합 시트로서의 유연성이 손상되어, 실장을 생각한 경우에 부적합하게 될 우려가 있다.As for the thickness of a heat conductive layer, 10-100 micrometers is preferable. More preferably, it is 20-100 micrometers, More preferably, it is 20-80 micrometers. When the thickness of a heat conductive layer is too thin, the rigidity of a heat conductive composite sheet will run short, and handling may become difficult. Moreover, when it exceeds 100 micrometers, the flexibility as a thermally conductive composite sheet is impaired, and there exists a possibility that it may become unsuitable when mounting is considered.

《열방사층》《Heat radiation layer》

본 발명의 열전도성 복합 시트에 있어서, 열방사층은 상기 서술한 열전도층의 후술하는 열전도성 점착층이 적층된 면과는 반대의 면에 적층되며, 10μm 이상 100μm 이하의 두께로, 방사율이 0.80 이상인 것이다.In the thermally conductive composite sheet of the present invention, the thermal radiation layer is laminated on the opposite side to the surface on which the thermally conductive adhesive layer to be described later of the above-described thermal conductive layer is laminated, and has a thickness of 10 μm or more and 100 μm or less, and an emissivity of 0.80 or more. will be.

[열방사층의 열방사율][Thermal Emissivity of the Heat Emissive Layer]

열방사층의 열방사율은 0.80 이상이며, 0.83~0.99인 것이 바람직하다. 0.80 미만인 경우, 충분한 방열 효과가 얻어지지 않는다.The heat emissivity of the heat radiation layer is 0.80 or more, and it is preferable that it is 0.83-0.99. When it is less than 0.80, sufficient heat dissipation effect is not acquired.

또한 본 발명에 있어서, 방사율은 제열방사율계(A&D사제)를 사용하여 측정한 값이다.In addition, in this invention, emissivity is the value measured using the heat removal emissivity meter (made by A&D).

[열방사층의 두께][Thickness of heat radiation layer]

열방사층의 두께는 10μm 이상 100μm 이하이며, 바람직하게는 20~80μm이다. 10μm 미만에서는 열방사층의 두께가 지나치게 얇아 열방사 성능을 충분히 발휘할 수 없고, 100μm를 넘으면 열전도성 복합 시트 내부의 열전달의 효율이 나빠진다.The thickness of the heat radiation layer is 10 μm or more and 100 μm or less, and preferably 20 to 80 μm. If it is less than 10 μm, the thickness of the heat radiation layer is too thin and the heat radiation performance cannot be sufficiently exhibited, and when it exceeds 100 μm, the efficiency of heat transfer inside the thermally conductive composite sheet deteriorates.

[열방사층의 재질][Material of heat radiation layer]

열방사층은 실리카, 알루미나, 산화 타이타늄, 질화 붕소, 질화 알루미늄 등의 세라믹분이나 코디에라이트분, 흑연 등의 열방사율이 높은 입자를 1종류 또는 2종류 이상을 조합하여 포함하는 유기 수지층이며, 충분한 유연성을 구비하고 있는 것이 바람직한데, 열방사율이 높은 입자를 유기 수지에 분산시켰을 때에 열방사율이 0.80 이상을 확보할 수 있으면, 특별히 한정되는 것은 아니다. 또 유기 수지로서는 아크릴 수지, 실리콘 수지, 에폭시 수지, 유레테인 수지 등을 들 수 있는데, 이들에 한정되는 것은 아니다.The heat radiation layer is an organic resin layer containing one type or a combination of two or more types of particles with high thermal emissivity such as ceramic powder such as silica, alumina, titanium oxide, boron nitride, aluminum nitride, cordierite powder, graphite, etc., Although it is preferable to have sufficient flexibility, if a thermal emissivity can ensure 0.80 or more when particle|grains with a high thermal emissivity are disperse|distributed to an organic resin, it will not specifically limit. Moreover, although an acrylic resin, a silicone resin, an epoxy resin, a urethane resin, etc. are mentioned as an organic resin, it is not limited to these.

또한 열방사층으로서는 시판되고 있는 것을 사용할 수 있고, 예로서 세락α(세라미션(주)제, 열방사율 0.96), 펠쿨(펠녹스(주)제, 분체 함유 아크릴 수지) 등을 들 수 있다.Moreover, as a heat radiation layer, a commercially available thing can be used, For example, Serak alpha (Ceramission Co., Ltd. product, thermal emissivity 0.96), Pelcool (Pelnox Co., Ltd. product, powder-containing acrylic resin), etc. are mentioned.

《열전도성 점착층》《Thermal conductive adhesive layer》

본 발명의 열전도성 복합 시트에 있어서, 열전도성 점착층은 상기 서술한 열전도층의 편면(상기 열방사층이 적층된 면과는 반대의 면)에 적층되며, 100μm 이하의 두께로, 열저항이 1.2cm2-K/W 이하이며, 또한 접착력이 8N/cm2 이상인 것이다.In the thermally conductive composite sheet of the present invention, the thermally conductive adhesive layer is laminated on one side of the above-described thermally conductive layer (the surface opposite to the side on which the thermal radiation layer is laminated), has a thickness of 100 μm or less, and has a thermal resistance of 1.2 cm 2 -K/W or less, and the adhesive force is 8N/cm 2 or more.

[열전도성 점착층의 열저항][Thermal resistance of the thermally conductive adhesive layer]

열전도성 점착층의 열저항은 1.2cm2-K/W 이하이며, 바람직하게는 1.0cm2-K/W이다. 1.2cm2-K/W를 넘으면 발열체로부터의 열을 효율적으로 전하는 것이 불가능하게 된다. 하한은 특별히 제한되지 않지만, 통상 0.4cm2-K/W 이상이다. 이 열저항은 열전도성 점착층의 두께를 얇게 하고, 열전도성 충전재의 충전량을 높임으로써 얻을 수 있다.The thermal resistance of the thermally conductive adhesive layer is 1.2 cm 2 -K/W or less, preferably 1.0 cm 2 -K/W. If it exceeds 1.2 cm 2 -K/W, it becomes impossible to efficiently transfer heat from the heating element. Although the lower limit is not particularly limited, it is usually 0.4 cm 2 -K/W or more. This thermal resistance can be obtained by making the thickness of a thermally conductive adhesive layer thin and raising the filling amount of a thermally conductive filler.

또한 본 발명에 있어서, 열저항은 열전도성 점착층을 알루미늄 플레이트로 끼우고, 레이저 플래시법을 사용하여 측정한 값이다.In addition, in the present invention, thermal resistance is a value measured using a laser flash method by sandwiching a thermally conductive adhesive layer with an aluminum plate.

[열전도성 점착층의 접착력][Adhesive force of thermally conductive adhesive layer]

열전도성 점착층의 접착력은 8N/cm2 이상이며, 바람직하게는 10N/cm2 이상이다. 8N/cm2보다 접착력이 작으면, 첩부 개소가 수직 상태 등인 경우에 시트가 벗겨져 떨어져버린다. 이 접착력은 열전도성 점착층의 두께를 두껍게 하고, 열전도성 충전재의 충전량을 적게 함으로써 얻을 수 있다.The adhesive force of the thermally conductive adhesive layer is 8N/cm 2 or more, preferably 10N/cm 2 or more. When the adhesive force is smaller than 8 N/cm 2 , the sheet is peeled off when the affixing point is in a vertical state or the like. This adhesive force can be obtained by thickening the thickness of a thermally conductive adhesive layer and reducing the filling amount of a thermally conductive filler.

또한 본 발명에 있어서, 접착력은 10mm×10mm 사이즈의 열전도성 점착층을 2장의 알루미늄 플레이트로 끼우고, 1kg, 1분간 압착한 후에, 본드 테스터(노드슨사제)를 사용하여 측정한 전단 응력이다.In addition, in the present invention, the adhesive force is a 10mm × 10mm size of the thermally conductive adhesive layer sandwiched by two aluminum plates, 1 kg, after pressing for 1 minute, the shear stress measured using a bond tester (Nordson Corporation).

[열전도성 점착층의 열전도율][Thermal Conductivity of the Thermally Conductive Adhesive Layer]

열전도성 점착층의 열전도율은 0.5W/mK 이상인 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 0.6W/mK 이상이다. 0.5W/mK보다 작으면, 원하는 열저항이 얻어지지 않을 가능성이 있다. 상한은 특별히 제한되지 않지만, 통상 2W/mK 이하이다. 이 열전도율은 열전도성 점착층에 사용되는 열전도성 실리콘 조성물중에 소정량의 열전도성 충전재를 배합함으로써 얻을 수 있다.It is preferable that the thermal conductivity of a heat conductive adhesive layer is 0.5 W/mK or more, More preferably, it is 0.6 W/mK or more. If it is smaller than 0.5 W/mK, there is a possibility that desired thermal resistance cannot be obtained. Although the upper limit in particular is not restrict|limited, Usually, it is 2 W/mK or less. This thermal conductivity can be obtained by blending a predetermined amount of a thermally conductive filler in the thermally conductive silicone composition used for the thermally conductive adhesive layer.

또한 본 발명에 있어서, 열전도율은 열전도율계(TPA-501, 교토덴시코교 가부시키가이샤제 상품명)를 사용하여 측정한 값이다.In addition, in this invention, thermal conductivity is the value measured using the thermal conductivity meter (TPA-501, Kyoto Denshi Kogyo Co., Ltd. product name).

[열전도성 점착층의 두께][Thickness of thermally conductive adhesive layer]

열전도성 점착층의 두께는 100μm 이하이며, 바람직하게는 60μm 이하이다. 100μm를 넘으면 열전도성 점착층이 두꺼워져, 발열체로부터의 열의 흐름을 방해하게 된다. 하한은 특별히 제한되지 않지만, 20μm 이상인 것이 바람직하다.The thickness of a heat conductive adhesive layer is 100 micrometers or less, Preferably it is 60 micrometers or less. When it exceeds 100 µm, the thermally conductive adhesive layer becomes thick, and the flow of heat from the heating element is obstructed. Although the lower limit in particular is not restrict|limited, It is preferable that it is 20 micrometers or more.

[열전도성 점착층의 재질][Material of thermally conductive adhesive layer]

열전도성 점착층은 유기 수지 폴리머 매트릭스에 열전도성 충전재를 충전시켜 이루어지는 것을 사용할 수 있다. 유기 수지 폴리머 매트릭스로서는 특별히 한정은 없고, 아크릴, 실리콘, 에폭시, 유레테인 등을 들 수 있다. 내열성, 내경성 등을 생각하면 실리콘이 바람직하다.The thermally conductive adhesive layer may be formed by filling an organic resin polymer matrix with a thermally conductive filler. There is no limitation in particular as an organic resin polymer matrix, Acryl, silicone, epoxy, urethane, etc. are mentioned. When heat resistance, hardness resistance, etc. are considered, silicone is preferable.

본 발명에 있어서는 상기 열전도성 점착층이In the present invention, the thermally conductive adhesive layer

(a) 알케닐기를 가지는 오르가노폴리실록세인,(a) an organopolysiloxane having an alkenyl group,

(b) 열전도성 충전재,(b) a thermally conductive filler;

(c) 오르가노하이드로젠폴리실록세인,(c) organohydrogenpolysiloxane;

(d) 백금족 금속계 촉매,(d) a platinum group metal-based catalyst;

(f) 실리콘 수지(f) silicone resin

를 필수 성분으로 한 열전도성 실리콘 조성물의 경화물로 이루어지는 것이 바람직하다.It is preferable that it consists of a hardened|cured material of the thermally conductive silicone composition which used as an essential component.

이하에 각 성분에 대해서 상세히 서술한다.Each component is described in detail below.

<(a) 오르가노폴리실록세인><(a) organopolysiloxane>

열전도성 실리콘 조성물의 (a)성분인 알케닐기 함유 오르가노폴리실록세인은 열전도성 실리콘 조성물의 주제(베이스 폴리머)이며, 규소 원자에 결합한 알케닐기를 1분자중에 2개 이상, 바람직하게는 2~5개 가지는 오르가노폴리실록세인인 것이 바람직하다. 통상은 주쇄 부분이 기본적으로 다이오르가노실록세인 단위의 반복으로 이루어지는 것이 일반적이며, 이 오르가노폴리실록세인은 분자 구조의 일부에 분기상의 구조를 포함한 것이어도 되고, 또 환상체여도 되는데, 경화물의 기계적 강도 등 물성의 점에서 직쇄상의 다이오르가노폴리실록세인이 바람직하다.The alkenyl group-containing organopolysiloxane as component (a) of the thermally conductive silicone composition is the main (base polymer) of the thermally conductive silicone composition, and at least two alkenyl groups bonded to silicon atoms per molecule, preferably 2 to 5 The canine branch is preferably an organopolysiloxane. Usually, it is common that the main chain portion basically consists of repeating diorganosiloxane units, and this organopolysiloxane may include a branched structure in a part of its molecular structure or may be a cyclic body, but the mechanical structure of the cured product From the viewpoint of physical properties such as strength, linear diorganopolysiloxane is preferable.

규소 원자에 결합하는 알케닐기 이외의 관능기로서는 지방족 불포화 결합을 함유하지 않는 비치환 또는 치환의 1가 탄화 수소기이며, 예를 들면, 메틸기, 에틸기, 프로필기, 아이소프로필기, 뷰틸기, 아이소뷰틸기, tert-뷰틸기, 펜틸기, 네오펜틸기, 헥실기, 헵틸기, 옥틸기, 노닐기, 데실기, 도데실기 등의 알킬기, 사이클로펜틸기, 사이클로헥실기, 사이클로헵틸기 등의 사이클로알킬기, 페닐기, 톨릴기, 자일릴기, 나프틸기, 바이페닐릴기 등의 아릴기, 벤질기, 페닐에틸기, 페닐프로필기, 메틸벤질기 등의 아르알킬기, 및 이들 기의 탄소 원자가 결합하고 있는 수소 원자의 일부 또는 전부가 불소, 염소, 브로민 등의 할로젠 원자, 시아노기 등으로 치환된 기, 예를 들면 클로로메틸기, 2-브로모에틸기, 3-클로로프로필기, 3,3,3-트라이플루오로프로필기, 클로로페닐기, 플루오로페닐기, 시아노에틸기, 3,3,4,4,5,5,6,6,6-노나플루오로헥실기 등을 들 수 있고, 대표적인 것은 탄소 원자수가 1~10, 특히 대표적인 것은 탄소 원자수가 1~6인 것이며, 바람직하게는 메틸기, 에틸기, 프로필기, 클로로메틸기, 브로모에틸기, 3,3,3-트라이플루오로프로필기, 시아노에틸기 등의 탄소 원자수 1~3의 비치환 또는 치환의 알킬기 및 페닐기, 클로로페닐기, 플루오로페닐기 등의 비치환 또는 치환의 페닐기이다. 또 규소 원자에 결합한 알케닐기 이외의 관능기는 모두가 동일한 것을 한정하는 것은 아니다.The functional group other than the alkenyl group bonded to the silicon atom is an unsubstituted or substituted monovalent hydrocarbon group that does not contain an aliphatic unsaturated bond, for example, a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, a butyl group, and isobutyl group. Alkyl groups such as tyl group, tert-butyl group, pentyl group, neopentyl group, hexyl group, heptyl group, octyl group, nonyl group, decyl group, dodecyl group, cycloalkyl group such as cyclopentyl group, cyclohexyl group, cycloheptyl group , aryl groups such as phenyl group, tolyl group, xylyl group, naphthyl group, and biphenylyl group; A group partially or entirely substituted with a halogen atom such as fluorine, chlorine or bromine, a cyano group, etc., for example, a chloromethyl group, 2-bromoethyl group, 3-chloropropyl group, 3,3,3-trifluoro a ropropyl group, a chlorophenyl group, a fluorophenyl group, a cyanoethyl group, 3,3,4,4,5,5,6,6,6-nonafluorohexyl group, and the like, and representative ones having 1 carbon atom ~10, particularly representative ones having 1 to 6 carbon atoms, preferably carbon such as methyl group, ethyl group, propyl group, chloromethyl group, bromoethyl group, 3,3,3-trifluoropropyl group, cyanoethyl group an unsubstituted or substituted alkyl group having 1 to 3 atoms and an unsubstituted or substituted phenyl group such as a phenyl group, a chlorophenyl group and a fluorophenyl group. Moreover, the functional groups other than the alkenyl group couple|bonded with the silicon atom are not limited that all are the same.

또 알케닐기로서는 예를 들면 바이닐기, 알릴기, 프로페닐기, 아이소프로페닐기, 뷰테닐기, 헥세닐기, 사이클로헥세닐기 등의 통상 탄소 원자수 2~8정도의 것을 들 수 있고, 그 중에서도 바이닐기, 알릴기 등의 저급 알케닐기가, 특히 바람직하게는 바이닐기가 바람직하다. 이 알케닐기는 분자쇄 말단의 규소 원자에 결합하고 있어도 되고, 분자쇄 도중의 규소 원자에 결합하고 있어도 되며, 양자에 결합하고 있어도 된다.Moreover, as an alkenyl group, for example, vinyl group, allyl group, propenyl group, isopropenyl group, butenyl group, hexenyl group, cyclohexenyl group, etc. are mentioned C2-C8 thing normally, especially, vinyl group. A lower alkenyl group such as a group or an allyl group is particularly preferably a vinyl group. This alkenyl group may be couple|bonded with the silicon atom at the end of a molecular chain, it may couple|bond with the silicon atom in the middle of a molecular chain, and may couple|bond with both.

이 오르가노폴리실록세인의 25℃에 있어서의 동점도는 통상 10~100,000mm2/s의 범위인 것이 바람직하고, 500~50,000mm2/s의 범위인 것이 보다 바람직하다. 상기 동점도가 지나치게 낮으면 얻어지는 조성물의 보존 안정성이 나빠지는 경우가 있고, 또 지나치게 높으면 얻어지는 조성물의 신전성이 나빠지는 경우가 있다. 또한 본 발명에 있어서 동점도는 오스트발트 점도계에 의해 측정된다.It is preferable that it is normally in the range of 10-100,000 mm< 2 >/s, and, as for the kinematic viscosity in 25 degreeC of this organopolysiloxane, it is more preferable that it is the range of 500-50,000 mm< 2 >/s. When the said kinematic viscosity is too low, the storage stability of the composition obtained may worsen, and when too high, the extensibility of the composition obtained may worsen. In addition, in this invention, kinematic viscosity is measured with an Ostwald viscometer.

이 (a)성분의 오르가노폴리실록세인은 1종 단독으로 사용해도 되고, 점도가 상이한 2종 이상을 조합하여 사용해도 된다.The organopolysiloxane of this (a) component may be used individually by 1 type, and may be used in combination of 2 or more type from which a viscosity differs.

<(b) 열전도성 충전재><(b) Thermally conductive filler>

열전도성 실리콘 조성물의 (b)성분인 열전도성 충전재로서는 비자성의 구리나 알루미늄 등의 금속, 알루미나, 실리카, 마그네시아, 벵갈라, 베릴리아, 타이타니아, 지르코니아, 산화 아연 등의 금속 산화물, 질화 알루미늄, 질화 규소, 질화 붕소 등의 금속 질화물, 수산화 마그네슘 등의 금속 수산화물, 인공 다이아몬드 또는 탄화 규소 등 일반적으로 열전도성 충전재로 여겨지는 물질을 사용할 수 있다. 열전도성 충전재는 1종 단독으로 또는 2종 이상을 조합하여 사용해도 된다. 특히 용도를 생각하면, 열전도성 실리콘 점착 테이프에는 절연성이 필요하게 되므로, 금속 산화물, 질화 알루미늄, 질화 붕소 등이 바람직하다. 보다 바람직하게는 알루미나이다.As the thermally conductive filler, which is the component (b) of the thermally conductive silicone composition, non-magnetic metals such as copper and aluminum, metal oxides such as alumina, silica, magnesia, bengala, beryllia, titania, zirconia and zinc oxide, aluminum nitride, and silicon nitride , metal nitrides such as boron nitride, metal hydroxides such as magnesium hydroxide, artificial diamond or silicon carbide, and the like, materials generally considered to be thermally conductive fillers can be used. You may use a thermally conductive filler individually by 1 type or in combination of 2 or more type. Since insulation is required for a thermally conductive silicone adhesive tape especially when a use is considered, a metal oxide, aluminum nitride, boron nitride, etc. are preferable. More preferably, it is alumina.

또 열전도성 충전재로서는 평균 입경이 0.5~10μm이며, 30μm 이상의 조립이 1질량% 이하인 것이 바람직하다. 보다 바람직하게는 평균 입경이 0.5~5μm이며, 30μm 이상의 조립이 0.5질량% 이하인 것이다. 평균 입경이 10μm보다 커지거나, 또는 30μm 이상의 조립이 1질량%를 넘으면, 열전도성 점착층의 표면의 매끄러움이 손상되어, 열저항이 악화하는 경우가 있다.Moreover, as a thermally conductive filler, it is preferable that an average particle diameter is 0.5-10 micrometers, and it is 1 mass % or less of granules of 30 micrometers or more. More preferably, an average particle diameter is 0.5-5 micrometers, and the granulation of 30 micrometers or more is 0.5 mass % or less. When an average particle diameter becomes larger than 10 micrometers, or when the granulation of 30 micrometers or more exceeds 1 mass %, the smoothness of the surface of a heat conductive adhesive layer may be impaired, and heat resistance may deteriorate.

또한 본 발명에 있어서 평균 입경은 마이크로트랙 입도분포측정장치 MT3300EX(니키소 가부시키가이샤)에 의한 체적 기준의 측정값이다. 또 30μm 이상의 조립의 측정은 열전도성 충전재의 물 슬러리를 조제하여, 눈크기 30μm 사이즈의 체를 통과시켰을 때의 체 위에 남은 질량으로부터 측정한다.Incidentally, in the present invention, the average particle diameter is a volume-based measurement value by a microtrac particle size distribution measuring device MT3300EX (Nikiso Co., Ltd.). In addition, the measurement of granulation of 30 µm or larger is measured from the mass remaining on the sieve when a water slurry of thermally conductive filler is prepared and passed through a sieve having an eye size of 30 µm.

열전도성 충전재의 충전량으로서는 (a)성분 100질량부에 대하여 300~900질량부인 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 300~700질량부이다. 300질량부 미만이면 열전도성이 충분히 얻어지지 않는 경우가 있고, 900질량부를 넘으면 원하는 전단 응력이 얻어지지 않는 경우가 있다.As a filling amount of a thermally conductive filler, it is preferable that it is 300-900 mass parts with respect to 100 mass parts of (a) component, More preferably, it is 300-700 mass parts. If it is less than 300 mass parts, thermal conductivity may not fully be acquired, and when it exceeds 900 mass parts, a desired shear stress may not be acquired.

<(c) 오르가노하이드로젠폴리실록세인><(c) organohydrogenpolysiloxane>

열전도성 실리콘 조성물의 (c)성분인 오르가노하이드로젠폴리실록세인은 열전도성 실리콘 조성물의 가교제이며, 1분자중에 규소 원자에 결합한 수소 원자(SiH기)를 3개 이상, 특히 3~10개 가지는 것이다. 이 SiH기는 분자쇄 말단의 규소 원자에 결합하고 있어도 되고, 분자쇄 도중의 규소 원자에 결합하고 있어도 되며, 양자에 결합하고 있어도 된다.Organohydrogenpolysiloxane as component (c) of the thermally conductive silicone composition is a crosslinking agent of the thermally conductive silicone composition, and has 3 or more hydrogen atoms (SiH groups) bonded to silicon atoms in one molecule, particularly 3 to 10. . This SiH group may be couple|bonded with the silicon atom at the end of a molecular chain, it may couple|bond with the silicon atom in the middle of a molecular chain, and may couple|bond with both.

규소 원자에 결합하는 수소 원자 이외의 유기기로서는 상기 서술한 (a)성분으로 예시한 지방족 불포화 결합을 함유하지 않는 비치환 또는 치환의 1가 탄화 수소기와 마찬가지인 것을 예시할 수 있고, 이들 중에서도 메틸기, 에틸기, 페닐기가 바람직하다.Examples of the organic group other than the hydrogen atom bonded to the silicon atom include those similar to the unsubstituted or substituted monovalent hydrocarbon group not containing an aliphatic unsaturated bond exemplified in the component (a) described above. Among them, a methyl group, An ethyl group and a phenyl group are preferable.

오르가노하이드로젠폴리실록세인의 중합도는 10~50인 것이 바람직하고, 10~30인 것이 보다 바람직하다. 중합도가 이 범위 내에 있으면 높은 접착력을 얻을 수 있다. 또한 본 발명에 있어서 이 중합도는 젤퍼미에이션 크로마토그래피(GPC) 분석에 의한 폴리스타이렌 환산의 중량 평균 중합도로서 측정할 수 있다.It is preferable that it is 10-50, and, as for the polymerization degree of organohydrogenpolysiloxane, it is more preferable that it is 10-30. When the degree of polymerization is within this range, high adhesive strength can be obtained. In addition, in this invention, this polymerization degree can be measured as a polystyrene conversion weight average polymerization degree by gel permeation chromatography (GPC) analysis.

이 오르가노하이드로젠폴리실록세인의 적합한 구체예로서는 분자쇄 양 말단이 트라이메틸실록시기로 봉쇄된 메틸하이드로젠폴리실록세인, 분자쇄 양 말단이 트라이메틸실록시기로 봉쇄된 다이메틸실록세인·메틸하이드로젠실록세인 공중합체, 분자쇄 양 말단이 트라이메틸실록시기로 봉쇄된 다이메틸실록세인·메틸하이드로젠실록세인·메틸페닐실록세인 공중합체, 분자쇄 양 말단이 다이메틸하이드로젠실록시기로 봉쇄된 다이메틸폴리실록세인, 분자쇄 양 말단이 다이메틸하이드로젠실록시기로 봉쇄된 다이메틸실록세인·메틸하이드로젠실록세인 공중합체, 분자쇄 양 말단이 다이메틸하이드로젠실록시기로 봉쇄된 다이메틸실록세인·메틸페닐실록세인 공중합체, 분자쇄 양 말단이 다이메틸하이드로젠실록시기로 봉쇄된 메틸페닐폴리실록세인 등을 들 수 있다. 또한 (c)성분의 오르가노하이드로젠폴리실록세인은 1종 단독으로 사용해도 되고 2종 이상을 조합하여 사용해도 된다.Preferable specific examples of this organohydrogenpolysiloxane include methylhydrogenpolysiloxane in which both ends of the molecular chain are blocked by trimethylsiloxy groups, and dimethylsiloxane/methylhydrogensilox in which both ends of the molecular chain are blocked by trimethylsiloxy groups. Sein copolymer, dimethylsiloxane/methylhydrogensiloxane/methylphenylsiloxane copolymer in which both ends of the molecular chain are blocked by trimethylsiloxy groups, dimethylpolysilox in which both ends of the molecular chain are blocked by dimethylhydrogensiloxy groups Sein, dimethylsiloxane/methylhydrogensiloxane copolymer in which both ends of the molecular chain are blocked with dimethylhydrogensiloxy groups, dimethylsiloxane/methylphenylsilox in which both ends of the molecular chain are blocked with dimethylhydrogensiloxy groups A sain copolymer, the methylphenyl polysiloxane etc. which the molecular chain both terminals were blocked|blocked with dimethylhydrogensiloxy groups are mentioned. Moreover, the organohydrogenpolysiloxane of (c)component may be used individually by 1 type, and may be used in combination of 2 or more type.

(c)성분의 첨가량은 (c)성분중의 SiH기가 (a)성분중의 알케닐기 1몰에 대하여 0.5~3몰이 되는 양이며, 바람직하게는 0.8~3몰이 되는 양이다. (c)성분중의 SiH기의 양이 (a)성분중의 알케닐기 1몰에 대하여 0.5몰 미만에서는 조성물이 경화하지 않거나, 경화물의 강도가 불충분하여 성형체, 복합체로서 취급할 수 없는 등의 문제가 발생하는 경우가 있다. 한편 3몰을 넘는 양을 사용한 경우에는 경화물 표면의 점착성이 불충분하게 되어버릴 우려가 있다.(c) The addition amount of component is a quantity used as 0.5-3 mol of SiH group in (c) component with respect to 1 mol of alkenyl groups in (a) component, Preferably it is a quantity used as 0.8-3 mol. (c) If the amount of SiH groups in the component is less than 0.5 mol with respect to 1 mol of the alkenyl group in the component (a), the composition does not cure, or the cured product has insufficient strength, so that it cannot be handled as a molded article or a composite. may occur. On the other hand, when an amount exceeding 3 moles is used, there is a fear that the adhesiveness on the surface of the cured product becomes insufficient.

<(d) 백금족 금속계 촉매><(d) Platinum Group Metal-Based Catalyst>

열전도성 실리콘 조성물의 (d)성분인 백금족 금속계 촉매는 (a)성분중의 알케닐기와 (c)성분중의 규소 원자에 결합한 수소 원자와의 부가 반응을 촉진시키고, 열전도성 실리콘 조성물을 삼차원 망상 구조의 가교 경화물로 변환하기 위해서 배합되는 성분이다.The platinum group metal catalyst as component (d) of the thermally conductive silicone composition promotes an addition reaction between an alkenyl group in component (a) and a hydrogen atom bonded to a silicon atom in component (c), and forms the thermally conductive silicone composition with a three-dimensional network. It is a component blended in order to convert it into a crosslinked cured product of the structure.

상기 (d)성분은 통상의 하이드로실릴화 반응에 사용되는 공지의 촉매 중에서 적당히 선택하여 사용할 수 있다. 그 구체예로서는 예를 들면 백금(백금흑을 포함한다), 로듐, 팔라듐 등의 백금족 금속 단체, H2PtCl4·nH2O, H2PtCl6·nH2O, NaHPtCl6·nH2O, KHPtCl6·nH2O, Na2PtCl6·nH2O, K2PtCl4·nH2O, PtCl4·nH2O, PtCl2, Na2HPtCl4·nH2O(단 식 중의 n은 0~6의 정수이며, 바람직하게는 0 또는 6이다.) 등의 염화 백금, 염화 백금산 및 염화 백금산염, 알코올 변성 염화 백금산, 염화 백금산과 올레핀과의 컴플렉스, 백금흑, 팔라듐 등의 백금족 금속을 알루미나, 실리카, 카본 등의 담체에 담지시킨 것, 로듐-올레핀 컴플렉스, 클로로트리스(트라이페닐포스핀)로듐(윌킨슨 촉매), 염화 백금, 염화 백금산 또는 염화 백금산염과 바이닐기 함유 실록세인과의 컴플렉스 등을 들 수 있다. 이들 백금족 금속계 촉매는 1종 단독으로 사용해도 되고 2종 이상을 조합하여 사용해도 된다.The component (d) can be appropriately selected from known catalysts used in a normal hydrosilylation reaction. Specific examples thereof include, for example, platinum group metals such as platinum (including platinum black), rhodium, and palladium, H 2 PtCl 4 ·nH 2 O, H 2 PtCl 6 ·nH 2 O, NaHPtCl 6 ·nH 2 O, KHPtCl 6 nH 2 O, Na 2 PtCl 6 nH 2 O, K 2 PtCl 4 nH 2 O, PtCl 4 nH 2 O, PtCl 2 , Na 2 HPtCl 4 nH 2 O (where n is 0-6 and preferably 0 or 6.) Platinum chloride, chloroplatinic acid and chloroplatinate, alcohol-modified chloroplatinic acid, a complex of chloroplatinic acid and olefin, platinum black, platinum group metals such as palladium, alumina, silica, supported on a carrier such as carbon, rhodium-olefin complex, chlorotris(triphenylphosphine)rhodium (Wilkinson catalyst), platinum chloride, chloroplatinic acid, or a complex of chloroplatinic acid and vinyl group-containing siloxane. have. These platinum group metal catalysts may be used individually by 1 type, and may be used in combination of 2 or more type.

(d)성분의 배합량은 열전도성 실리콘 조성물을 경화시키기 위해서 필요한 유효량이면 되고, 특별히 제한되지 않는다. 통상은 (a)성분에 대한 백금족 금속 원소의 질량 환산으로 0.1~1,000ppm, 바람직하게는 0.5~500ppm이다.(d) The compounding quantity of a component should just be an effective amount required in order to harden a thermally conductive silicone composition, and is not restrict|limited in particular. Usually, it is 0.1-1,000 ppm in conversion of the mass of the platinum group metal element with respect to (a) component, Preferably it is 0.5-500 ppm.

<(e) 반응 제어제><(e) reaction controlling agent>

열전도성 실리콘 조성물에는 (e)성분으로서 반응 제어제를 배합할 수 있다. 반응 제어제는 (d)성분의 존재하에서 진행하는 (a)성분과 (c)성분의 부가 반응인 하이드로실릴화 반응의 속도를 조정하기 위한 것이다. 이와 같은 (e)성분의 반응 제어제는 통상의 부가 반응 경화형 실리콘 조성물에 사용되는 공지의 부가 반응 억제제 중에서 적당히 선택할 수 있다.A reaction controlling agent can be mix|blended with the thermally conductive silicone composition as (e) component. A reaction control agent is for adjusting the rate of the hydrosilylation reaction which is an addition reaction of (a) component and (c) component which advance in presence of (d) component. Such a reaction controlling agent of the component (e) can be appropriately selected from known addition reaction inhibitors used in ordinary addition reaction curable silicone compositions.

그 구체예로서는 1-에티닐-1-사이클로헥산올, 3-뷰틴-1-올, 에티닐메틸리덴카르비놀 등의 아세틸렌 화합물, 질소 화합물, 유기 인 화합물, 유황 화합물, 옥심 화합물, 유기 클로로 화합물 등을 들 수 있다. 이들 부가 반응 억제제는 1종 단독으로 사용할 수도 있고 2종 이상을 조합하여 사용할 수도 있다.Specific examples thereof include acetylene compounds such as 1-ethynyl-1-cyclohexanol, 3-butyn-1-ol and ethynylmethylidenecarbinol, nitrogen compounds, organophosphorus compounds, sulfur compounds, oxime compounds, organic chloro compounds, etc. can be heard These addition reaction inhibitors may be used individually by 1 type, and may be used in combination of 2 or more type.

상기 (e)성분의 배합량은 (d)성분의 사용량에 따라서도 상이하므로 일률적으로 결정할 수는 없다. 하이드로실릴화 반응의 진행을 원하는 반응 속도로 조정할 수 있는 유효량이면 충분하다. (e)성분을 배합하는 경우, 통상 (a)성분의 질량에 대하여 10~50,000ppm정도로 하는 것이 좋다. (e)성분의 배합량이 지나치게 적으면 열전도성 실리콘 조성물의 보존 안정성이 불충분하게 되고, 충분한 사용 가능 시간을 확보할 수 없는 경우가 있고, 반대로 지나치게 많으면 열전도성 실리콘 조성물의 경화성이 저하되는 경우가 있다.Since the compounding quantity of the said (e) component also changes with the usage-amount of (d) component, it cannot be determined uniformly. An effective amount capable of controlling the progress of the hydrosilylation reaction to a desired reaction rate is sufficient. (e) When mix|blending a component, it is good to set it as about 10-50,000 ppm with respect to the mass of (a) component normally. (e) When the compounding amount of the component is too small, the storage stability of the thermally conductive silicone composition becomes insufficient, and a sufficient usable time may not be ensured. .

<(f) 실리콘 수지><(f) silicone resin>

열전도성 실리콘 조성물의 (f)성분인 실리콘 수지는 열전도성 실리콘 조성물을 경화시킨 경화물 표면에 점착성을 부여하는 작용을 가진다.The silicone resin, which is component (f) of the thermally conductive silicone composition, has an action of imparting adhesion to the surface of a cured product obtained by curing the thermally conductive silicone composition.

이와 같은 (f)성분의 예로서는 R1 3SiO1 /2단위(M단위)와 SiO4 /2단위(Q단위)의 공중합체로서, M단위와 Q단위의 비(몰비) M/Q가 0.5~1.5, 바람직하게는 0.6~1.4, 더욱 바람직하게는 0.7~1.3인 실리콘 수지를 들 수 있다. 상기 M/Q가 0.5~1.5의 범위에서 원하는 점착력이 얻어진다.As an example of such component (f), it is a copolymer of R 1 3 SiO 1/2 unit (M unit) and SiO 4/2 unit (Q unit), and the ratio (molar ratio) M/Q of M unit and Q unit is 0.5 -1.5, Preferably it is 0.6-1.4, More preferably, it is 0.7-1.3 silicone resin. Desired adhesive force is obtained in the range of the said M/Q of 0.5-1.5.

상기 M단위를 나타내는 일반식중의 R1은 지방족 불포화 결합을 함유하지 않는 비치환 또는 치환의 1가 탄화 수소기이다. 이와 같은 R1의 예로서는 예를 들면 메틸기, 에틸기, 프로필기, 아이소프로필기, 뷰틸기, 아이소뷰틸기, tert-뷰틸기, 펜틸기, 네오펜틸기, 헥실기, 헵틸기, 옥틸기, 노닐기, 데실기, 도데실기 등의 알킬기, 사이클로펜틸기, 사이클로헥실기, 사이클로헵틸기 등의 사이클로알킬기, 페닐기, 톨릴기, 자일릴기, 나프틸기, 바이페닐릴기 등의 아릴기, 벤질기, 페닐에틸기, 페닐프로필기, 메틸벤질기 등의 아르알킬기, 및 이들 기의 탄소 원자에 결합하고 있는 수소 원자의 일부 또는 전부가 불소, 염소, 브로민 등의 할로젠 원자, 시아노기 등으로 치환된 기, 예를 들면 클로로메틸기, 2-브로모에틸기, 3-클로로프로필기, 3,3,3-트라이플루오로프로필기, 클로로페닐기, 플루오로페닐기, 시아노에틸기, 3,3,4,4,5,5,6,6,6-노나플루오로헥실기 등의 탄소 원자수가 1~10, 바람직하게는 탄소 원자수가 1~6인 것을 들 수 있다.R 1 in the general formula representing the M unit is an unsubstituted or substituted monovalent hydrocarbon group containing no aliphatic unsaturated bond. Examples of such R 1 include, for example, a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, a butyl group, an isobutyl group, a tert-butyl group, a pentyl group, a neopentyl group, a hexyl group, a heptyl group, an octyl group, and a nonyl group. , Alkyl groups such as decyl group and dodecyl group, cycloalkyl groups such as cyclopentyl group, cyclohexyl group, and cycloheptyl group, phenyl group, tolyl group, xylyl group, naphthyl group, aryl group such as biphenylyl group, benzyl group, phenylethyl group , an aralkyl group such as a phenylpropyl group or a methylbenzyl group, and a group in which some or all of the hydrogen atoms bonded to the carbon atoms of these groups are substituted with halogen atoms such as fluorine, chlorine, bromine, or a cyano group; For example, chloromethyl group, 2-bromoethyl group, 3-chloropropyl group, 3,3,3-trifluoropropyl group, chlorophenyl group, fluorophenyl group, cyanoethyl group, 3,3,4,4,5 , 5,6,6,6-nonafluorohexyl group having 1 to 10 carbon atoms and the like, preferably those having 1 to 6 carbon atoms.

본 발명에 있어서는 이들 중에서도 메틸기, 에틸기, 프로필기, 클로로메틸기, 브로모에틸기, 3,3,3-트라이플루오로프로필기, 시아노에틸기 등의 탄소 원자수 1~3의 비치환 또는 치환의 알킬기 및 페닐기, 클로로페닐기, 플루오로페닐기 등의 비치환 또는 치환의 페닐기가 바람직하다. 또 R1은 전부가 동일해도 되고 상이해도 된다. R1은 내용제성 등의 특수한 특성이 요구되지 않는 한, 비용, 그 입수의 용이성, 화학적 안정성, 환경 부하 등의 관점에서 모두 메틸기인 것이 바람직하다.In the present invention, among these, unsubstituted or substituted alkyl groups having 1 to 3 carbon atoms, such as methyl group, ethyl group, propyl group, chloromethyl group, bromoethyl group, 3,3,3-trifluoropropyl group, and cyanoethyl group and unsubstituted or substituted phenyl groups, such as a phenyl group, a chlorophenyl group, and a fluorophenyl group. Moreover, as for R< 1 >, all may be same or different. R 1 is preferably a methyl group from the viewpoints of cost, availability, chemical stability, environmental load, and the like, unless special properties such as solvent resistance are required.

또한 (f)성분 그 자체는 실온(25℃)에서 고체 또는 점조한 액체인데, 톨루엔, 자일렌 등의 용제에 용해한 상태에서 사용하는 것도 가능하다. 그 경우, 조성물로의 첨가량은 용제분을 제외한 양으로 결정된다.In addition, although (f) component itself is a solid or a viscous liquid at room temperature (25 degreeC), it is also possible to use it in the state melt|dissolved in solvents, such as toluene and xylene. In that case, the amount added to the composition is determined by the amount excluding the solvent component.

상기 실리콘 수지는 70질량% 톨루엔 용액에서의 25℃에 있어서의 동점도가 5~100mm2/s, 특히 5~35mm2/s, 특별히 5~20mm2/s인 것이 바람직하다. 동점도가 상기 범위보다 지나치게 높으면 성형시에 톨루엔을 추가할 필요가 생기는 경우가 있고, 상기 범위보다 지나치게 낮으면 성형시에 성형하기 어려워지는 경우가 있다. 또한 점도는 컵 점도계에 의해 측정할 수 있다.It is preferable that the said silicone resin is 5-100 mm< 2 >/s, especially 5-35 mm<2>/s, especially 5-20 mm<2 > /s of the kinematic viscosity in 25 degreeC in a 70 mass % toluene solution. If the kinematic viscosity is excessively higher than the above range, it may be necessary to add toluene during molding, and if it is too low than the above range, molding may become difficult. In addition, a viscosity can be measured with a cup viscometer.

(f)성분의 배합량은 (a)성분 100질량부에 대하여 50~300질량부인 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 100~200질량부이다. 배합량이 지나치게 적어도 지나치게 많아도 충분한 접착력이 얻어지지 않는 경우가 있다.(f) It is preferable that the compounding quantity of a component is 50-300 mass parts with respect to 100 mass parts of (a) component, More preferably, it is 100-200 mass parts. Even if there are too few compounding quantities and there are too many, sufficient adhesive force may not be acquired.

<(g) 표면 처리제><(g) surface treatment agent>

또한 열전도성 실리콘 조성물에는 열전도층과의 젖음성이나 밀착성을 향상시키는 것을 목적으로 한 표면 처리제(g)로서 알콕시실레인 등의 오르가녹시실레인 화합물이나, 분자쇄 편말단이 트라이알콕시실릴기 등의 트라이오르가녹시실릴기로 봉쇄된 직쇄상 다이오르가노폴리실록세인 등의 가수분해성기 함유 유기 규소 화합물을 (a)성분 100질량부에 대하여 1~40질량부 배합할 수 있다.In addition, in the thermally conductive silicone composition, as a surface treatment agent (g) for the purpose of improving wettability and adhesion with the thermally conductive layer, an organoxysilane compound such as alkoxysilane, and one end of the molecular chain is a trialkoxysilyl group. 1-40 mass parts of hydrolysable group containing organosilicon compounds, such as linear diorganopolysiloxane blocked by the triorganoxysilyl group, can be mix|blended with respect to 100 mass parts of (a) component.

또 열전도성 실리콘 조성물에는 그 밖의 내열성 부여제, 난연성 부여제 등의 첨가제를 본 발명의 목적을 해치지 않는 범위에서 가해도 된다.Moreover, you may add other additives, such as a heat resistance imparting agent and a flame retardance imparting agent, to a thermally conductive silicone composition in the range which does not impair the objective of this invention.

열전도성 실리콘 조성물은 플라네터리 믹서, 니더 등의 혼련 장치를 사용하여 조제할 수 있는데, 특별히 한정되는 것은 아니다.Although the thermally conductive silicone composition can be prepared using kneading apparatuses, such as a planetary mixer and a kneader, it is not specifically limited.

또 열전도성 점착층으로서 사용하기 위한 열전도성 실리콘 조성물의 경화 조건으로서는 특별히 제한되지 않는데, 80~150℃, 특히 100~150℃, 특별히 110~130℃에서 3~15분간, 특히 3~10분간으로 하는 것이 바람직하다.In addition, the curing conditions of the thermally conductive silicone composition for use as the thermally conductive adhesive layer are not particularly limited, and are 80 to 150°C, particularly 100 to 150°C, particularly 110 to 130°C for 3 to 15 minutes, especially 3 to 10 minutes. It is preferable to do

《열전도성 복합 시트의 제조 방법》<<Method for Producing Thermally Conductive Composite Sheet>>

본 발명의 열전도성 복합 시트는 열전도층과 열방사층의 적층물에 대하여, 열전도성 점착층을 적층시킴으로써 얻어진다. 열방사층을 열전도층에 적층시키는 방법은 코팅법이나 스프레이법을 들 수 있는데, 이 방법에 한정되는 것은 아니다. 또 열전도성 점착층을 적층시키는 방법은 첩합법, 코팅법, 프레스법을 들 수 있는데, 이들에 한정되는 것은 아니다.The heat conductive composite sheet of this invention is obtained by laminating|stacking a heat conductive adhesive layer with respect to the laminated body of a heat conductive layer and a heat radiation layer. A method of laminating the heat radiation layer on the heat conductive layer may include a coating method or a spray method, but is not limited thereto. Moreover, although the bonding method, the coating method, and the press method are mentioned as the method of laminating|stacking a thermally conductive adhesive layer, it is not limited to these.

본 발명의 열전도성 복합 시트는 발열체의 온도를 저감시키기에 유효하며, 스마트폰이나 디지털 비디오 카메라 등의 휴대 가능한 전자 단말이나 LED 조명, 모터, 컨버터 등에 적합하게 사용된다.The thermally conductive composite sheet of the present invention is effective for reducing the temperature of a heating element, and is suitably used for portable electronic terminals such as smart phones and digital video cameras, LED lights, motors, converters, and the like.

[[ 실시예Example ]]

이하에 실시예 및 비교예를 나타내어 본 발명을 구체적으로 설명하는데, 본 발명은 하기의 실시예에 제한되는 것은 아니다.Hereinafter, the present invention will be specifically described by showing examples and comparative examples, but the present invention is not limited to the following examples.

[실시예 1~7, 비교예 1~5][Examples 1 to 7, Comparative Examples 1 to 5]

실시예 및 비교예의 열전도성 복합 시트의 제조 방법을 이하에 기재한다.The manufacturing method of the thermally conductive composite sheet of an Example and a comparative example is described below.

(열전도층)(heat conductive layer)

알루미늄박 : 두께 50μm, 면방향의 열전도율 236W/mKAluminum foil: thickness 50μm, thermal conductivity in the plane direction 236W/mK

알루미늄박 : 두께 20μm, 면방향의 열전도율 236W/mKAluminum foil: thickness 20μm, thermal conductivity in the plane direction 236W/mK

구리박 : 두께 30μm, 면방향의 열전도율 398W/mKCopper foil: 30μm thick, thermal conductivity 398W/mK in the plane direction

(열전도층과 열방사층의 적층물)(Lamination of a heat-conducting layer and a heat-radiating layer)

가-1 : 세락α(열방사층;열방사율:0.96, 세라미션(주)제)를 50μm의 두께로, 50μm의 알루미늄박(열전도층) 상에 적층시킨 열방사 시트A-1: A heat radiation sheet in which Serac α (heat radiation layer; heat emissivity: 0.96, manufactured by Ceramission Co., Ltd.) is laminated to a thickness of 50 μm on a 50 μm aluminum foil (heat conductive layer).

가-2 : 세락α(열방사층;열방사율:0.96, 세라미션(주)제)를 30μm의 두께로, 30μm의 구리박(열전도층) 상에 적층시킨 열방사 시트A-2: A heat radiation sheet in which Serak α (heat radiation layer; heat emissivity: 0.96, manufactured by Ceramission Co., Ltd.) is laminated on a 30 μm copper foil (heat conductive layer) to a thickness of 30 μm.

가-3 : 펠쿨(열방사층;열방사율:0.86, 펠녹스(주)제)을 30μm의 두께로, 20μm의 알루미늄박(열전도층) 상에 적층시킨 열방사 시트A-3: A heat radiation sheet in which Pelcool (heat radiation layer; heat emissivity: 0.86, manufactured by Pelnox Co., Ltd.) is laminated on a 20 μm aluminum foil (heat conductive layer) to a thickness of 30 μm.

또한 상기 열방사 시트(열전도층과 열방사층의 적층물)인 가-1~가-3은 상기 도료(세락α 또는 펠쿨)를 상기 열전도층인 알루미늄박 또는 구리박 상에 콤마 코터를 사용하여 상기한 두께가 되도록 도공하고, 80℃/10분간, 이어서 120℃/10분간 가열 경화시킴으로써 얻었다.In addition, in A-1 to A-3, which is the heat radiation sheet (a laminate of a heat conductive layer and a heat radiation layer), the paint (Serak α or Pelcool) is applied on the aluminum foil or copper foil that is the heat conductive layer using a comma coater. It was coated so that it might become one thickness, and it obtained by making it heat-harden for 80 degreeC/10 minutes, then 120 degreeC/10 minutes.

(열전도성 점착층)(Thermal conductive adhesive layer)

나-1~나-6 : 하기 표 1에 나타내는 성분을 배합하여 이루어지는 열전도성 실리콘 조성물의 경화물로 이루어지는 열전도성 점착층B-1 to B-6: A thermally conductive adhesive layer made of a cured product of a thermally conductive silicone composition obtained by blending the components shown in Table 1 below.

비교를 위해 열저항 및 접착력이 본 발명으로부터 벗어나는 하기의 열전도성 점착층을 사용했다.For comparison, the following thermally conductive adhesive layer having thermal resistance and adhesive strength deviating from the present invention was used.

나-7 : TC-50CAT-20(열저항 1.7cm2-K/W, 접착력 2N/cm2)B-7: TC-50CAT-20 (Heat resistance 1.7cm 2 -K/W, Adhesion 2N/cm 2 )

나-8 : TC-50CAS-10(열저항 4.2cm2-K/W, 접착력 3N/cm2)B-8 : TC-50CAS-10 (heat resistance 4.2cm 2 -K/W, adhesive strength 3N/cm 2 )

또한 열저항 및 접착력은 후술하는 방법에 의해 측정한 값이다.In addition, heat resistance and adhesive force are the values measured by the method mentioned later.

상기 열전도성 실리콘 조성물에 사용한 각 성분을 하기에 나타낸다.Each component used for the said thermally conductive silicone composition is shown below.

(a)성분 :(a) Ingredients:

하기 식(1)으로 표시되고, X가 바이닐기인 25℃에 있어서의 동점도 30,000mm2/s의 오르가노폴리실록세인Organopolysiloxane represented by the following formula (1), and having a kinematic viscosity of 30,000 mm 2 /s at 25° C. where X is a vinyl group

Figure 112017045857438-pat00001
Figure 112017045857438-pat00001

(m은 25℃에 있어서의 동점도가 30,000mm2/s가 되는 수)(m is the number at which the kinematic viscosity at 25°C is 30,000 mm 2 /s)

(b)성분 :(b) Ingredients:

(b-1)성분 :(b-1) component:

평균 입경 1μm, 30μm 이상의 조립이 0.5질량%인 산화 알루미늄 분말Aluminum oxide powder having an average particle size of 1 μm and granules of 30 μm or more is 0.5% by mass

(b-2)성분 :(b-2) component:

평균 입경 0.6μm, 30μm 이상의 조립이 0.1질량%인 산화 아연 분말Zinc oxide powder having an average particle size of 0.6 μm and granules of 30 μm or more is 0.1% by mass

(c)성분 :(c) Ingredients:

하기 식(2)으로 표시되는 평균 중합도가 하기와 같은, 측쇄가 수소 원자로 봉쇄된 메틸하이드로젠폴리실록세인Methylhydrogenpolysiloxane in which the side chain is blocked with a hydrogen atom, the average degree of polymerization represented by the following formula (2) is as follows

Figure 112017045857438-pat00002
Figure 112017045857438-pat00002

(평균 중합도:o=16.8, p=6.3)(Average degree of polymerization: o=16.8, p=6.3)

(d)성분 :(d) Ingredients:

5질량% 염화 백금산 2-에틸헥산올 용액5 mass % chloroplatinic acid 2-ethylhexanol solution

(e)성분 :(e) Ingredients:

부가 반응 제어제로서 에티닐메틸리덴카르비놀Ethynylmethylidenecarbinol as an addition reaction control agent

(f)성분 :(f) Ingredients:

실질적으로 (CH3)3SiO0 .5단위(M단위)와 SiO2단위(Q단위)로 이루어지는 실리콘 수지(M단위/Q단위의 몰비는 1.15)의 톨루엔 용액(불휘발분 70질량%;25℃에 있어서의 동점도 30mm2/s)Substantially ( CH 3 ) 3 SiO 0.5 units (M units) and SiO 2 units (Q units) toluene solution (non-volatile content 70 mass%; 25 Kinematic viscosity at °C 30 mm 2 /s)

(g)성분 :(g) Ingredients:

하기 식(3)으로 표시되는 평균 중합도 30의 편말단이 트라이메톡시실릴기로 봉쇄된 다이메틸폴리실록세인Dimethylpolysiloxane in which one end of an average degree of polymerization of 30 represented by the following formula (3) is blocked with a trimethoxysilyl group

Figure 112017045857438-pat00003
Figure 112017045857438-pat00003

(h)성분 :(h) Ingredients:

2-에틸헥실아크릴레이트2-ethylhexyl acrylate

(i)성분 :(i) Ingredients:

아크릴산acrylic acid

(j)성분 :(j) Ingredients:

헥세인다이올아크릴산 에스터Hexanediol acrylic acid ester

[열전도성 실리콘 조성물의 조제 방법][Method for preparing thermally conductive silicone composition]

상기 열전도성 실리콘 조성물은 상기 각 성분을 표 1에 나타내는 배합량으로 플라네터리 믹서를 사용하여 25℃, 60분간 혼합함으로써 조제했다.The said thermally conductive silicone composition was prepared by mixing the said each component by the compounding quantity shown in Table 1 using the planetary mixer for 25 degreeC and 60 minutes.

[열전도성 점착층의 제작 방법][Method for producing thermally conductive adhesive layer]

상기에서 얻어진 열전도성 실리콘 조성물을 불소 처리 PET필름 상에 콤마 코터를 사용하여 도공하고, 80℃에서 3분간, 이어서 120℃에서 5분간 가열함으로써 표 1에 나타내는 두께의 열전도성 점착층을 얻었다.The thermally conductive silicone composition obtained above was coated on a fluorine-treated PET film using a comma coater, and heated at 80°C for 3 minutes and then at 120°C for 5 minutes to obtain a thermally conductive adhesive layer having a thickness shown in Table 1.

[열전도성 점착층의 평가][Evaluation of thermally conductive adhesive layer]

열전도성 점착층의 열저항, 접착력 및 열전도율을 하기에 나타내는 방법에 의해 평가했다. 결과를 표 1에 나타낸다.The method shown below evaluated the thermal resistance, adhesive force, and thermal conductivity of a thermally conductive adhesive layer. A result is shown in Table 1.

·· 열저항heat resistance : :

12.7mmφ×1mm 두께의 알루미늄 플레이트 2장 사이에 상기에서 얻어진 12.7mmφ×표 1에 기재된 두께의 열전도성 점착층을 끼우고, 137.9kPa(20psi)의 압력을 가하여, 실온(25℃)하 60분 둔 후, 레이저 플래시법에 기초하는 열저항 측정기(NETZSCH사제, 상품명 플래시 애널라이저)에 의해 상기 열전도성 점착층의 열저항을 측정했다.12.7mmφ×1mm thick aluminum plate sandwiched between the two aluminum plates obtained above 12.7mmφ×the thermally conductive adhesive layer of the thickness described in Table 1, applying a pressure of 137.9 kPa (20 psi), at room temperature (25 ° C.) for 60 minutes After placing, the thermal resistance of the thermally conductive adhesive layer was measured with a thermal resistance measuring instrument (manufactured by NETZSCH, trade name Flash Analyzer) based on the laser flash method.

·접착력(전단 응력) :·Adhesive force (shear stress):

상기 열전도성 실리콘 조성물을 120℃, 10분간의 조건으로 경화시켜 얻어진 10mm×10mm×각각 표 1에 기재된 두께의 샘플을 10mm×10mm×1mm 두께의 알루미늄 플레이트 2장 사이에 끼우고, 실온(25℃)하 1kg의 하중을 가하여, 1분 둔 후 본드 테스터(노드슨사제, 상품명:4000Plus)에 의해 전단 응력을 측정했다.10 mm × 10 mm × each obtained by curing the thermally conductive silicone composition under the conditions of 120 ° C. for 10 minutes, each having the thickness described in Table 1, sandwiched between two 10 mm × 10 mm × 1 mm thick aluminum plates, room temperature (25 ° C.) ), a load of 1 kg was applied, and the shear stress was measured by a bond tester (manufactured by Nordson Corporation, trade name: 4000Plus) after standing for 1 minute.

·열전도율 :· Thermal Conductivity:

핫 디스크법으로 측정했다. 즉 상기 열전도성 실리콘 조성물을 120℃, 10분간의 조건으로 60mm×60mm×6mm 두께의 시트 형상으로 경화시키고, 그 시트 2장을 사용하여 열전도율계(TPA-501, 교토덴시코교 가부시키가이샤제 상품명)에 의해 이 시트의 열전도율을 측정했다.It was measured by the hot disk method. That is, the thermally conductive silicone composition was cured into a sheet having a thickness of 60 mm × 60 mm × 6 mm under the conditions of 120° C. for 10 minutes, and using two sheets, a thermal conductivity meter (TPA-501, manufactured by Kyoto Denshi Kogyo Co., Ltd.) trade name), the thermal conductivity of this sheet was measured.

[열전도성 복합 시트의 제작 방법][Manufacturing method of thermally conductive composite sheet]

하기 표 2, 3에 나타내는 바와 같이, 상기 열전도층과 열방사층의 적층물의 열전도층측에, 상기 열전도성 점착층을 적층시켜, 실온(25℃)하 5분간, 0.5MPa의 압력으로 라미네이터 장치를 사용하여 적층하고, 열전도성 복합 시트를 얻었다. 얻어진 열전도성 복합 시트에 대해서, 하기에 나타내는 평가 방법에 의해 열방사 시험 및 수직 거치 시험을 행했다. 결과를 표 2, 3에 병기한다.As shown in Tables 2 and 3 below, the heat conductive adhesive layer is laminated on the heat conductive layer side of the laminate of the heat conductive layer and the heat radiation layer, and a laminator device is used at room temperature (25° C.) for 5 minutes at a pressure of 0.5 MPa. and laminated to obtain a thermally conductive composite sheet. About the obtained thermally conductive composite sheet, the thermal radiation test and the vertical installation test were done by the evaluation method shown below. A result is written together in Tables 2 and 3.

[평가 방법][Assessment Methods]

·열방사 시험·Heat radiation test

15mm×15mm×100mm의 열원의 15mm×15mm의 면에 400g의 하중을 가하고, 100mm×100mm의 열전도성 복합 시트를 열원의 면의 중심과 열전도성 복 시가합 시트의 중심이 겹치도록 첩부했다. 열원에 4W의 전력을 부여하고, 2시간 후의 열원의 온도를 측정했다. 또한 측정 환경은 25℃, 습도 50%로 했다.A load of 400 g was applied to the 15 mm × 15 mm surface of a 15 mm × 15 mm × 100 mm heat source, and a 100 mm × 100 mm thermally conductive composite sheet was affixed so that the center of the surface of the heat source and the center of the thermally conductive double cigar sheet overlapped. Power of 4 W was applied to the heat source, and the temperature of the heat source after 2 hours was measured. In addition, the measurement environment was made into 25 degreeC and 50% of humidity.

·수직 거치 시험·Vertical mounting test

200mm×300mm의 열전도성 복합 시트를 이것보다 충분히 큰 알루미늄판에 1kg 고무 롤러를 1왕복시켜 첩부하고 수직으로 두었다. 10일 후에 열전도성 복합 시트가 벗겨져 있지 않으면 합격, 일부라도 벗겨져 있으면 불합격으로 했다.A 200 mm x 300 mm thermally conductive composite sheet was affixed to an aluminum plate sufficiently larger than this by one reciprocating 1 kg rubber roller, and placed vertically. When the thermally conductive composite sheet did not peel off after 10 days, it was set as the pass, and when even part peeled, it was set as the rejection.

Figure 112017045857438-pat00004
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Figure 112017045857438-pat00005
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Figure 112017045857438-pat00006
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표 2에 나타내는 바와 같이 면 내의 열전도율이 200W/mK 이상인 열전도층의 편면에, 100μm 이하의 두께로, 열저항이 1.2cm2-K/W 이하이며, 또한 8N/cm2 이상의 접착력(전단 응력)을 가지는 열전도성 점착층이 적층되고, 추가로 다른 일방의 면에, 10μm 이상 100μm 이하의 두께로, 방사율이 0.80 이상의 열방사층이 적층된 실시예 1~7의 열전도성 복합 시트는 열원의 온도를 효과적으로 저감시키고, 또한 수직으로 두어도 벗겨지지 않고 밀착 상태를 유지할 수 있다.As shown in Table 2, on one side of a heat-conducting layer having an in-plane thermal conductivity of 200 W/mK or more, a thickness of 100 μm or less, a thermal resistance of 1.2 cm 2 -K/W or less, and 8 N/cm 2 or more Adhesive force (shear stress) The thermally conductive composite sheet of Examples 1 to 7 in which a thermally conductive adhesive layer having It can reduce effectively, and even if it puts it vertically, it can maintain a close_contact|adherence state without peeling.

표 3에 나타내는 바와 같이 비교예 1, 2, 3의 열전도성 복합 시트는 열전도성 점착층의 접착력이 우수하기 때문에 수직으로 두어도 벗겨질 우려는 없지만, 열전도성 점착층의 열저항이 높기 때문에 온도 저감 효과가 작다. 또 비교예 4, 5의 열전도성 복합 시트는 접착력이 작은 열전도성 점착층을 사용하고 있기 때문에, 수직으로 두었을 때에 알루미늄판과의 밀착 상태를 유지할 수 없어 열전도성 복합 시트가 벗겨져버린다.As shown in Table 3, the thermally conductive composite sheets of Comparative Examples 1, 2, and 3 have excellent adhesive strength of the thermally conductive adhesive layer, so there is no fear of peeling even when placed vertically. The effect is small. Moreover, since the thermally conductive composite sheet of Comparative Examples 4 and 5 uses a thermally conductive adhesive layer with a small adhesive force, when placed vertically, the adhesive state with the aluminum plate cannot be maintained, and the thermally conductive composite sheet peels off.

Claims (5)

면 내의 열전도율이 200W/mK 이상인 열전도층의 편면에, 100μm 이하의 두께로, 열저항이 1.2cm2-K/W 이하이며, 또한 접착력이 8N/cm2 이상인 열전도성 점착층을 가지고, 추가로 다른 일방의 면에, 10μm 이상 100μm 이하의 두께로, 방사율이 0.80 이상인 열방사층을 가지는 열전도성 복합 시트로서,
열전도성 점착층이
(a) 알케닐기를 가지는 오르가노폴리실록세인 : 100질량부,
(b) 열전도성 충전재 : 300~900질량부,
(c) 오르가노하이드로젠폴리실록세인 : (a)성분의 알케닐기에 대한 (c)성분의 규소 원자에 직접 결합한 수소 원자의 몰비로 0.5~3이 되는 양,
(d) 백금족 금속계 촉매 : 백금족 금속 원소 질량으로 (a)성분의 0.1~1,000ppm,
(f) 실리콘 수지 : 50~300질량부
를 필수 성분으로 한 열전도성 실리콘 조성물의 경화물인 열전도성 복합 시트.
On one side of the heat-conducting layer having an in-plane thermal conductivity of 200 W/mK or more, a thickness of 100 μm or less, a thermal resistance of 1.2 cm 2 -K/W or less, and an adhesive strength of 8 N/cm 2 or more A thermally conductive adhesive layer, further A thermally conductive composite sheet having, on the other surface, a thermal radiation layer having a thickness of 10 μm or more and 100 μm or less and an emissivity of 0.80 or more,
thermally conductive adhesive layer
(a) organopolysiloxane having an alkenyl group: 100 parts by mass;
(b) thermally conductive filler: 300 to 900 parts by mass;
(c) organohydrogenpolysiloxane: the molar ratio of the hydrogen atom directly bonded to the silicon atom of the component (c) to the alkenyl group of the component (a) is 0.5 to 3;
(d) Platinum group metal-based catalyst: 0.1 to 1,000 ppm of component (a) by mass of platinum group metal element,
(f) silicone resin: 50 to 300 parts by mass
A thermally conductive composite sheet that is a cured product of a thermally conductive silicone composition containing as an essential component.
제 1 항에 있어서, 열전도성 점착층의 열전도율이 0.5W/mK 이상인 것을 특징으로 하는 열전도성 복합 시트.The thermally conductive composite sheet according to claim 1, wherein the thermal conductivity of the thermally conductive adhesive layer is 0.5 W/mK or more. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 열전도성 충전재가 알루미나인 것을 특징으로 하는 열전도성 복합 시트.The thermally conductive composite sheet according to claim 1 or 2, wherein the thermally conductive filler is alumina. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 열전도성 충전재의 평균 입경이 0.5~10μm이며, 30μm 이상의 조립이 1질량% 이하인 것을 특징으로 하는 열전도성 복합 시트.The thermally conductive composite sheet according to claim 1 or 2, wherein the average particle diameter of the thermally conductive filler is 0.5 to 10 µm, and granules of 30 µm or more are 1% by mass or less. 삭제delete
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