KR102401935B1 - 시료가스 희석 제어 시스템 및 방법 - Google Patents

시료가스 희석 제어 시스템 및 방법 Download PDF

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Abstract

본 개시의 실시예에 따른 시료가스 희석 제어 시스템은,
운전중인 발전기에서 고정자 냉각수 측으로 누출되는 시료가스를 희석하여 검출하기 위한 시료가스 희석 제어 시스템에 있어서,
제1 유량조절모듈(100)이 구비되고, 상기 제1 유량조절모듈(100)에 의해 시료가스를 혼합실(300)에 소정의 유량으로 공급하는 시료가스공급라인(L1); 제2 유량조절모듈(200)이 구비되고, 상기 제2 유량조절모듈(200)에 의해 희석에 사용되는 에어를 혼합실(300)에 소정의 유량으로 공급하는 에어공급라인(L2); 상기 시료가스공급라인(L1) 및 상기 에어공급라인(L2)과 연결되고, 상기 시료가스공급라인(L1)에서 공급된 시료가스와 상기 에어공급라인(L2)에서 공급된 에어가 혼합되는 혼합실(300); 상기 혼합실(300)과 연결되고, 제3 유량조절모듈(400)이 구비되며, 상기 제3 유량조절모듈(400)에 의해 혼합가스를 농도감지모듈(500)에 소정의 유량으로 이송하는 혼합가스이송라인(L3); 상기 혼합가스이송라인(L3)과 연결되고, 상기 혼합가스이송라인(L3)에서 멀어지는 방향으로 농도감지모듈(500) 및 벤팅모듈(600)이 구비되며, 상기 농도감지모듈(500)에서 혼합가스의 농도를 감지하고, 상기 벤팅모듈(600)에 의해 혼합가스를 냉각수 탱크 외부로 배출하는 가스배출라인(L4); 상기 제1 유량조절모듈(100), 상기 제2 유량조절모듈(200), 상기 제3 유량조절모듈(400), 상기 농도감지모듈(500) 및 상기 벤팅모듈(600)에 연결되어 이를 제어하는 컨트롤러모듈(700); 및 상기 컨트롤러모듈(700)과 연결되어 데이터를 입출력하는 디스플레이모듈(800); 을 포함하고,
상기 컨트롤러모듈(700)은 초기 가스 샘플링 시 초기희석배율로 가스를 희석시켜 분석하고, 상기 분석된 농도를 바탕으로 1차적으로 희석배율을 조정하고, 이 후에 감지되는 농도에 따라 2차적으로 희석배율을 변경함으로써 상기 농도감지모듈(500)에서 감지되는 가스의 농도가 소정의 범위 내로 유지되는 것을 특징으로 하여 구성될 수 있다

Description

시료가스 희석 제어 시스템 및 방법 {Dilution Control System and Method Sampled Gas For Stator Leakage Monitoring System}
본 명세서에 개시된 내용은 시료가스 희석 제어 시스템 및 방법에 관한 것으로, 보다 상세하게는 ECD(Electrochemical Detector) 센서를 이용하여 운전중인 발전기에서 고정자 냉각수 측으로 누출되는 시료가스를 희석하여 검출하기 위한 시료가스 희석 제어 시스템 및 방법에 관한 것이다.
수냉식 발전기에서 고정자 냉각수가 발전기 내부로 침투하면 절연재의 열화를 촉진하여 고장을 유발하거나 발전기 수명이 단축된다. 발전기 내의 고정자 냉각수 계통에 진동, 용접부의 부식, 연결부의 이완, 열화 손상 등에 의해서 생기는 틈새를 통하여 물(냉각수)이 발전기 내로 침투하는 한편, 이 틈새를 통하여 압력이 더 높은 수소 가스가 냉각수 측으로 누출된다. 발전기 내부로 냉각수가 침투하는 것을 온라인으로 감시하는 유일한 방법은 고정자 냉각수 중으로 누출되는 수소가스량을 감시하는 것이다. 누출되는 수소가스량에 의해서 누수 여부 및 정도를 진단할 수 있다.
지금까지 발전소에서는 고정자 냉각수 측으로 누출되는 수소가스량을 측정하기 위하여 측정자가 발전소 건물 옥상에 위치하고 있는 배출구까지 올라가 배출구에 가스포집용 백을 설치하여 일정 시간 동안 가스를 포집한 다음 포집시간, 포집가스의 체적 및 포집가스 중의 수소가스 농도로부터 수작업으로 누출 수소가스량을 산출하고 있다. 그러나 호흡작용을 하는(외부의 공기를 빨아들이기도 하고 가스를 배출하기도 한다) 고정자 냉각계통의 특성으로 포집이 어렵고 측정자가 측정시마다 장시간 동안 야외에서 작업하여야 하는 어려움이 있고 측정 신뢰도도 낮은 실정이다.
배기가스 중의 수소가스 농도 측정에는 TCD(Thermal Conductivity Detector)나 전기화학적 센서(Electrochemical Sensor)가 사용된다. 여기서, 전기화학적 센서는 측정 범위가 좁으나(0～5％), 수분이나 시료가스 유량에 대한 영향이 적어 낮은 농도의 수소가스 측정에 적합하다. 일반적으로 넓은 측정 범위를 갖는 센서는 정확도가 낮다. 따라서 가능한 한 좁은 범위의 수소가스 센서를 사용하는 것이 측정 정확도를 높일 수 있다. 발전소에서는 고정자 냉각수 측으로 누출되는 수소가스량을 측정하기 위하여 전기화학적 센서(Electrochemical Sensor)가 주로 사용되고 있는 실정이다.
한편, 대한민국 등록특허 10-1676913호는 '운전중인 발전기에서 발전기 고정자 냉각수 탱크 상부 공간에 일정량 공기를 주입하면서 냉각수 탱크 배기관 배기가스 중의 수소가스 농도를 측정하여 고정자 냉각수 측으로 누출되는 수소가스량을 산출하는 장치에 있어서, 발전기 고정자 냉각수 탱크 상부 공간에 일정 유량의 공기를 주입하는 자동 유량 제어기; 배기관으로부터 시료가스를 흡인하는 흡인펌프; 배기가스 중의 수소가스 농도에 따라 시료가스가 유량 지시계 또는 자동 유량제어기를 통과하도록 유로를 변경하는 삼방발브; 배기가스 중의 수소가스 농도에 따라 시료가스 또는 희석가스가 센서로 들어가도록 유로를 변경하는 삼방발브; 전기화학 센서에서 측정된 수소가스 농도가 측정 범위를 초과하는 경우 시료가스를 희석하기 위하여 시료가스 유량을 조정하는 자동 유량제어기 및 시료가스 희석용 공기유량을 조정하는 자동 유량제어기; 시료가스 중의 수소가스 농도를 측정하는 전기화학 센서; 유량제어기와 전기화학 센서로부터 신호를 받아 수소가스 농도를 환산하고 누출 수소가스량을 산출하여 산출된 누출 수소가스량을 표시하는 콘트롤러로 이루어진 발전기 누출 수소가스량 측정장치'가 개시되어 있다.
그러나, 상기 대한민국 등록특허 10-1676913호에는 혼합실이 없어서 원활한 가스의 초기 희석이 어려운 문제점이 있으며, 수분을 제거하기 위한 구성이 없어 수분량에 따른 영향을 줄일 수 없으며, 수소 저농도 수준에서는 저농도 공압경로를 이용하고 수소 고농도 수준에서는 고농도 공압경로를 이용하는 구성이어서 유공압 회로 자체가 복잡해지고 필요한 구성요소도 많아지는 등의 문제점이 존재한다.
KR 101676913 B1 KR 1020090018739 A
본 개시의 실시예에 따른 시료가스 희석 제어 방법은 상기한 바와 같은 종래의 문제점들을 개선하기 위해 창출된 것으로,
ECD(Electrochemical Detector) 센서를 이용하여 운전중인 발전기에서 고정자 냉각수 측으로 누출되는 시료가스를 희석하여 검출하기 위한 시료가스 희석 제어 시스템과 상기 시스템에 있어서 시료가스 농도를 ECD 센서 측정 범위의 소정 범위 이내로 유지되도록 하는 시료가스 희석 제어 방법을 제공함에 그 목적이 있다.
상기의 과제를 해결하기 위한 본 개시의 실시예에 따른 시료가스 희석 제어 시스템은,
운전중인 발전기에서 고정자 냉각수 측으로 누출되는 시료가스를 희석하여 검출하기 위한 시료가스 희석 제어 시스템에 있어서,
제1 유량조절모듈(100)이 구비되고, 상기 제1 유량조절모듈(100)에 의해 시료가스를 혼합실(300)에 소정의 유량으로 공급하는 시료가스공급라인(L1); 제2 유량조절모듈(200)이 구비되고, 상기 제2 유량조절모듈(200)에 의해 희석에 사용되는 에어를 혼합실(300)에 소정의 유량으로 공급하는 에어공급라인(L2); 상기 시료가스공급라인(L1) 및 상기 에어공급라인(L2)과 연결되고, 상기 시료가스공급라인(L1)에서 공급된 시료가스와 상기 에어공급라인(L2)에서 공급된 에어가 혼합되는 혼합실(300); 상기 혼합실(300)과 연결되고, 제3 유량조절모듈(400)이 구비되며, 상기 제3 유량조절모듈(400)에 의해 혼합가스를 농도감지모듈(500)에 소정의 유량으로 이송하는 혼합가스이송라인(L3); 상기 혼합가스이송라인(L3)과 연결되고, 상기 혼합가스이송라인(L3)에서 멀어지는 방향으로 농도감지모듈(500) 및 벤팅모듈(600)이 구비되며, 상기 농도감지모듈(500)에서 혼합가스의 농도를 감지하고, 상기 벤팅모듈(600)에 의해 혼합가스를 냉각수 탱크 외부로 배출하는 가스배출라인(L4); 상기 제1 유량조절모듈(100), 상기 제2 유량조절모듈(200), 상기 제3 유량조절모듈(400), 상기 농도감지모듈(500) 및 상기 벤팅모듈(600)에 연결되어 이를 제어하는 컨트롤러모듈(700); 및 상기 컨트롤러모듈(700)과 연결되어 데이터를 입출력하는 디스플레이모듈(800); 을 포함하고, 상기 컨트롤러모듈(700)은 초기 가스 샘플링 시 초기희석배율로 가스를 희석시켜 분석하고, 상기 분석된 농도를 바탕으로 1차적으로 희석배율을 조정하고, 이 후에 감지되는 농도에 따라 2차적으로 희석배율을 변경함으로써 상기 농도감지모듈(500)에서 감지되는 가스의 농도가 소정의 범위 내로 유지되는 것을 특징으로 하여 구성될 수 있다.
또한, 상기 제1 유량조절모듈(100)은 샘플링펌프(110), 완충실(120) 및 제1 유량조절기(130)를 포함하고,
상기 완충실(120)은 니들밸브가 구비된 별도의 벤트라인(121)과 연결되며, 상기 벤트라인(121)은 상기 벤팅모듈(600)에 결합되는 것을 특징으로 하여 구성될 수 있다.
또한, 상기 시료가스공급라인(L1)은 제1 수분제거모듈(140)과 제2 수분제거모듈(150)을 더 포함하고,
상기 제1 수분제거모듈(140)은 보텍스 튜브(Vortex tube) 타입의 제1 수분제거유닛(141)과 상기 제1 수분제거유닛(141)에서 응축된 수분을 이송하는 워터펌프가 구비된 드레인라인(142)을 포함하고,
상기 제2 수분제거모듈(150)은 건조공기유입구와 수분흡수공기배출구를 구비한 나피온 형태의 제2 수분제거유닛(151)과, 상기 건조공기유입구에 결합되는 건조공기유입라인(152)과, 상기 수분흡수공기배출구에 결합되는 별도의 벤트라인(153)을 포함하고,
상기 건조공기유입라인(152)은 플로우미터를 구비하며, 상기 에어공급라인(L2)과 연결되는 것을 특징으로 하여 구성될 수 있다.
또한, 상기 제2 유량조절모듈(200)은 압력조절기(210) 및 제2 유량조절기(220)을 포함하고,
상기 압력조절기(210)와 상기 제2 유량조절기(220) 사이에 상기 건조공기유입라인(152)이 연결되는 것을 특징으로 하여 구성될 수 있다.
또한, 상기 제3 유량조절모듈(400)은 제3 유량조절기(410) 및 니들밸브가 구비된 별도의 벤트라인(420)을 포함하고,
상기 벤트라인(420)의 일단은 상기 제3 유량조절기(410)와 상기 혼합실(300) 사이에 연결되고 상기 벤트라인(420)의 타단은 상기 벤팅모듈(600)과 연결되는 것을 특징으로 하여 구성될 수 있다.
또한, 상기 시료가스는 수소이고, 상기 농도감지모듈(500)은 수소가스 감지용 ECD(Electrochemical detector)인 것을 특징으로 하여 구성될 수 있다.
또한, 본 개시의 실시예에 따른 시료가스 희석 제어 방법은,
운전중인 발전기에서 고정자 냉각수 측으로 누출되는 시료가스를 희석하여 검출하기 위한 시료가스 희석 제어 시스템에 있어서,
초기 가스 샘플링 시 초기희석배율로 가스를 희석시키는 초기 가스 희석단계(S101); 상기 초기 가스 희석단계(S101)를 거친 희석 가스의 측정농도(ppm)를 분석하는 제1 가스농도 분석 단계(S102); 상기 제1 가스농도 분석 단계(S102)에서 분석된 측정농도(ppm)를 바탕으로 희석배율을 조정하는 제1 희석배율 조정단계(S103); 상기 제1 희석배율 조정단계(S103)를 거친 희석 가스의 측정농도(ppm)를 분석하는 제2 가스농도 분석 단계(S104); 및 상기 제2 가스농도 분석 단계(S104)에서 분석된 측정농도(ppm)를 바탕으로 희석배율을 조정하는 제2 희석배율 조정단계(S105); 를 포함하고,
상기 제1 희석배율 조정단계(S103)는 농도(ppm) 범위를 소정 개수의 구간으로 나누고, 상기 구간에 따라 각각 다른 희석배율로 조정하는 것을 특징으로 하여 구성될 수 있다.
또한, 상기 초기 가스 희석단계(S101)의 초기희석배율은 M배의 희석배율이되,
상기 M은 시스템의 최대 희석 배율인 것을 특징으로 하여 구성될 수 있다.
또한, 상기 제1 희석배율 조정단계(S103)는
측정농도(ppm)가 An 이상 An+1 미만일 경우에는 희석배율을 Bn 배로 조정하고,
상기 An 이 마지막 구간에 해당되는 경우에는 희석배율을 M 배로 조정하되,
상기 An 과 상기 Bn 은 하기 수학식 1을 만족하는 것을 특징으로 하
[수학식 1]
Figure 112020142448212-pat00001
(여기서 n은 자연수)
또한, 상기 제1 희석배율 조정단계(S103)는
측정농도(ppm)가 A1/10 미만일 경우에는 희석배율을 1배로,
측정농도(ppm)가 A1/10 이상 A1 미만일 경우에는 희석배율을 C 배로 조정하되,
상기 C는 하기 수학식 2를 만족하는 것을 특징으로 하여 구성될 수 있다.
[수학식 2]
Figure 112020142448212-pat00002
또한, 상기 K가 0.3인 경우에,
상기 제2 희석배율 조정단계(S105)는 Bn 배의 희석배율에서 측정농도(ppm)가 300 이상인 경우에는 희석배율을 증가시키고, 측정농도(ppm)가 100 이하인 경우에는 희석배율을 감소시키는 것을 특징으로 하여 구성될 수 있다.
또한, 상기 제2 희석배율 조정단계(S105)는 C 배의 희석배율의 경우에는 측정농도(ppm)가 300 이상인 경우에는 희석배율을 증가시키고, 측정농도(ppm)가 10 이하인 경우에는 희석배율을 1배로 감소시키는 것을 특징으로 하여 구성될 수 있다.
또한, 상기 제2 희석배율 조정단계(S105)는 희석배율을 증가시키는 경우,
현재의 희석배율마다 300 이상의 측정농도(ppm)에 대해 적어도 하나 이상의 소정의 구간으로 나누고, 상기 구간에 따른 변경배율을 지정하여, 상기 측정농도(ppm)가 속한 구간의 변경배율에 따라 희석배율을 단계적으로 변경시키는 것을 특징으로 하여 구성될 수 있다.
이에 따라, 본 개시의 실시예에 따른 시료가스 희석 제어 시스템 및 방법은,
수분제거장치를 통해 시료가스에서 수분을 제거하도록 하여 수분에 의한 영향을 최소화할 수 있다는 이점이 있다.
또한, 농도감지모듈에서 감지되는 시료가스의 농도를 소정 범위 이내로 유지되도록 하는 시료가스 희석 제어 방법을 제공함으로써 ECD(Electrochemical Detector) 센서를 이용하는 시료가스 희석 제어 시스템의 안정성 및 내구성을 향상시킬 수 있다는 이점이 있다.
또한, 고농도 시료가스의 희석의 경우에 순차적으로 희석배율을 변경하는 것이 아니라 사전 분석된 데이터에 기반하여 희석배율을 단계적으로 변경되도록 하여 희석시간을 단축시킬 수 있다는 이점이 있다.
도 1은 본 개시의 실시예에 따른 시료가스 희석 제어 시스템을 개략적으로 나타낸 구성도,
도 2는 본 개시의 실시예에 따른 시료가스 희석 제어 방법을 나타낸 흐름도이다.
이하에서는, 본 발명의 기술적 사상을 도면을 참조하여 설명하지만, 이는 더욱 용이한 이해를 위한 것으로, 본 발명의 범주가 그것에 의해 한정되는 것은 아니며, 본 발명은 청구항의 범주에 의해 정의될 뿐이다.
본 발명의 실시예를 설명함에 있어서 공지 기능 또는 구성에 대한 구체적인 설명이 본 발명의 요지를 불필요하게 흐릴 수 있다고 판단되는 경우에는 그 상세한 설명을 생략할 것이며, 명세서 전체에 걸쳐 동일 도면부호는 동일 구성 요소를 지칭한다.
도 1은 본 개시의 실시예에 따른 시료가스 희석 제어 시스템을 개략적으로 나타낸 구성도, 도 2는 본 개시의 실시예에 따른 시료가스 희석 제어 방법을 나타낸 흐름도이다.
< 본 개시의 실시예에 따른 시료가스 희석 제어 시스템>
도 1을 참조하여, 본 개시의 실시예에 따른 시료가스 희석 제어 시스템을 설명한다.
본 개시의 실시예에 따른 시료가스 희석 제어 시스템은 시료가스공급라인(L1), 에어공급라인(L2), 혼합실(300), 혼합가스이송라인(L3), 가스배출라인(L4), 컨트롤러모듈(700) 및 디스플레이모듈(800)을 포함하여 구성될 수 있다.
상기 시료가스공급라인(L1)은 제1 유량조절모듈(100)이 구비되고, 상기 제1 유량조절모듈(100)에 의해 시료가스를 후술될 혼합실(300)에 소정의 유량으로 공급하도록 구성될 수 있다.
상기 시료가스공급라인(L1)은 상기 혼합실(300)의 일측에 연결되며, 상기 제1 유량조절모듈(100)은 샘플링펌프(110), 완충실(120) 및 제1 유량조절기(130)를 포함하여 구성될 수 있다.
상기 제1 유량조절모듈(100)은 상기 혼합실(300) 쪽으로 가면서 샘플링펌프(110), 완충실(120) 및 제1 유량조절기(130)가 차례로 구비되며, 상기 샘플링펌프(110)의 작동에 의해 상기 혼합실(300)에 시료가스가 공급되도록 구성될 수 있다.
상기 완충실(120)과 관련하여서는, 상기 샘플링펌프(110)의 작동에 의해 공급되는 소량의 유체를 흡입할 경우 상기 샘플링펌프(110)를 진공타입으로 사용하는 경우가 많은데 진공펌프의 특성상 주기적으로 진공 흡입을 할 때 유량에 리플(Ripple) 현상, 즉 유량이 일정하지 않고 물결처럼 흔들리는 현상이 발생하기 때문에 시료가스의 정밀한 유량제어를 위해 상기 완충실(120)에 공기를 모아두고 상기 제1 유량조절기(130)가 일정하게 유량을 제어하게 된다.
즉 상기 완충실(120)은 전기회로에서 전류의 리플을 잡아주는 콘덴서와 같은 역할처럼 진공펌프에서 발생하는 유량의 흔들리는 값을 버퍼링하는 역할을 하게 된다.
한편, 상기 시료가스공급라인(L1)은 더욱 정밀한 시료가스 유량제어를 위해 니들밸브가 구비된 별도의 벤트라인(121)을 더 포함할 수 있으며, 이러한 벤트라인(121)의 일측은 상기 완충실(120)과 연결되고, 타측은 후술될 벤팅모듈(600)에 결합되도록 구성될 수 있다.
또한, 상기 시료가스공급라인(L1)은 공급되는 시료가스의 수분을 제거하기 위한 수분제거장치를 포함할 수 있다. 이는 유량조절기 및 농도감지모듈이 수분에 민감하기 때문에 공급되는 시료가스의 수분을 제거함으로써 측정 신뢰성을 향상시키기 위함이다. 이러한 수분제거장치는 제1 수분제거모듈(140)과 제2 수분제거모듈(150)를 포함하여 구성될 수 있다.
상기 제1 수분제거모듈(140)은 상기 샘플링펌프(110) 전에 설치되는 되는 것이 바람직하며, 상기 제2 수분제거모듈(150)은 상기 완충실(120)과 상기 제1 유량조절기(130) 사이에 설치되는 것이 바람직하나 반드시 이에 한정되는 것은 아니며 필요에 따라 변경될 수 있음은 물론이다.
상기 제1 수분제거모듈(140)은 보텍스 튜브(Vortex tube) 타입의 제1 수분제거유닛(141)과 상기 제1 수분제거유닛(140)에서 응축된 수분을 이송하는 워터펌프가 구비된 드레인라인(142)을 포함하여 구성될 수 있다. 한편, 상기 제1 수분제거유닛(141)은 보텍스 튜브(Vortex tube) 타입으로 설명되었지만 이에 한정되는 것은 아니며 필요에 따라 다양한 방식으로 구성될 수 있음은 물론이다.
상기 제2 수분제거모듈(150)은 상기 샘플링펌프(110)와 상기 제1 유량조절기(130) 사이에 설치되어 상기 제1 유량조절기(130)에 공급되기 전에 미세수분을 제거하도록 구성될 수 있다.
상기 제2 수분제거모듈(130)은 건조공기유입구와 수분흡수공기배출구를 구비한 나피온(Nafion Dryer) 형태의 제2 수분제거유닛(151)과 상기 건조공기유입구에 결합되는 건조공기유입라인(152) 및 상기 수분흡수공기배출구에 결합되는 별도의 벤트라인(153)을 포함하여 구성될 수 있다.
상기 건조공기유입라인(152)은 후술될 에어공급라인(L2)의 소정의 위치에 연결되며, 플로우미터(Flowmeter)가 더 구비될 수 있고, 상기 제2 수분제거유닛(151)에서 수분을 흡수한 공기는 상기 수분흡수공기배출구에 연결된 벤트라인(153)을 통해 배출되도록 구성될 수 있다.
한편, 전술한 수분제거장치는 제1 수분제거모듈(140)과 제2 수분제거모듈(150)이 함께 구비된 것으로 설명되었으나 반드시 이에 한정되는 것은 아니며 적어도 하나 이상의 수분제거모듈을 포함하여 구성될 수 있다. 즉, 상기 수분제거장치는 제1 수분제거모듈(140) 또는 제2 수분제거모듈(150) 중 어느 하나를 포함하여 구성될 수 있음은 물론이다.
상기 에어공급라인(L2)은 제2 유량조절모듈(200)이 구비되고, 상기 제2 유량조절모듈(200)에 의해 희석에 사용되는 에어를 후술될 혼합실(300)에 소정의 유량으로 공급하도록 구성될 수 있다.
상기 에어공급라인(L2)은 상기 혼합실(300)의 일측에 연결되고, 상기 제2 유량조절모듈(200)은 압력조절기(210) 및 제2 유량조절기(220)를 포함하여 구성될 수 있다. 상기 압력조절기(210)에 의해 공급되는 공기의 압력이 조절되고 상기 제2 유량조절모듈(200)에 의해 공급되는 공기의 유량이 조절되도록 구성될 수 있다.
한편, 상기 압력조절기(210)와 상기 제2 유량조절기(220) 사이에 전술한 건조공기유입라인(152)이 연결되도록 구성될 수 있다.
상기 혼합실(300)의 일측은 전술한 시료가스공급라인(L1)과 전술한 에어공급라인(L2)과 연결되고, 상기 시료가스공급라인(L1)에서 공급된 시료가스와 상기 에어공급라인(L2)에서 공급된 에어가 혼합되어 희석되며, 상기 혼합실(300)의 타측은 후술될 혼합가스이송라인(L3)과 연결되도록 구성될 수 있다.
상기 혼합가스이송라인(L3)는 제3 유량조절모듈(400)이 구비되고, 상기 제3 유량조절모듈(400)에 의해 상기 혼합실(300)에서 혼합되어 희석된 혼합가스를 후술될 농도감지모듈(107)에 소정의 유량으로 공급하도록 구성될 수 있다.
이러한 혼합가스이송라인(L3)의 일단은 상기 혼합실(300)과 연결되고 상기 혼합가스이송라인(L3)의 타단은 후술될 가스배출라인(L4)과 연결되도록 구성될 수 있다.
상기 제3 유량조절모듈(400)은 제3 유량조절기(410) 및 니들밸브가 구비된 별도의 벤트라인(420)을 포함하여 구성될 수 있다. 상기 제3 유량조절기(410)에 의해 후술될 농도감지모듈(500)에 공급되는 시료가스의 유량이 제어되며, 상기 농도감지모듈(500)에 공급되는 일정 유량의 시료가스를 제외한 나머지 가스는 상기 벤트라인(420)을 통해 배출되도록 구성될 수 있다.
한편 상기 벤트라인(420)의 일단은 상기 제3 유량조절기(410)와 상기 혼합실(300) 사이에 연결되고, 상기 벤트라인(420)의 타단은 후술될 벤팅모듈(600)에 연결되도록 구성될 수 있다.
상기 가스배출라인(L4)은 전술한 혼합가스이송라인(L3)과 연결되고, 상기 혼합가스이송라인(L3)에서 멀어지는 방향으로 농도감지모듈(500) 및 벤팅모듈(600)이 구비될 수 있다.
상기 농도감지모듈(500)에 의해 혼합가스의 농도가 감지되고, 상기 벤팅모듈(600)에 의해 혼합가스를 냉각수 탱크 외부로 배출하도록 구성될 수 있다.
상기 농도감지모듈(500)은 수소가스 감지용 ECD(Electrochemical detector)를 포함하여 구성될 수 있으며, 이에 의해 종래의 TCD 방식에 따른 저농도 부근에서의 측정정확도가 떨어지는 문제점과 워밍업 타임이 길어지는 문제점을 해결할 수 있다
한편, ECD 방식의 경우 저농도부근 측정 정확도가 뛰어나지만, 측정범위가 좁기 때문에 이를 보완하기 위해 희석방식이 사용된다. 이러한 ECD 센서를 사용함으로써 저농도부근에서 측정정확도를 높이고 시료가스 희석 제어 방법에 따라 적절하게 희석함으로써 측정범위를 고농도까지 가능하게 할 수 있다.
상기 벤팅모듈(600)은 적어도 하나 이상의 흡입펌프를 포함할 수 있으며, 전술한 벤트라인(121, 420)과 연결되도록 구성될 수 있다.
상기 컨트롤러모듈(700)는 본 개시에 따른 시료가스 희석 제어 시스템에서 제어가 필요한 구성요소에 연결되어 이를 제어하기 위한 것으로, 예를 들면 전술한 제1 유량조절모듈(100), 전술한 제2 유량조절모듈(200), 전술한 제3 유량조절모듈(400), 전술한 농도감지모듈(500) 및 전술한 벤팅모듈(600)에 연결되어 이를 제어하도록 구성될 수 있다.
이러한 컨트롤러모듈(700)은 초기 가스 샘플링 시 초기희석배율로 가스를 희석시켜 분석하고, 상기 분석된 농도를 바탕으로 1차적으로 희석배율을 조정하고, 이후에 감지되는 농도에 따라 2차적으로 희석배율을 변경함으로써 상기 농도감지모듈(500)에서 감지되는 가스의 농도가 소정의 범위 내로 유지되도록 구성될 수 있다. 또한, 상기 컨트롤러모듈(700)은 데이터를 주고 받을 수 있는 통신유닛을 포함할 수 있으며, 이에 의해 유선 뿐만 아니라 원거리의 장치와 무선으로 연결되도록 구성될 수 있다.
상기 디스플레이모듈(800)은 전술한 컨트롤러모듈(700)과 연결되며, 상기 컨트롤러모듈(700)과 본 시료가스 희석 시스템을 사용하는 사용자간에 정보를 주고 받는 인터페이스 장치로서 시료가스 희석 제어 시스템의 성능을 규정할 수 있는 파라메타값들을 사용자가 설정 및 변경할 수 있게하고, 사용자가 원하는 파라메타값을 보여주도록 구성될 수 있다. 이러한 디스플레이모듈(800)은 상기 컨트롤러모듈(700)과 정보를 주고 받기 위해 통신으로 연결되고, 사용자와 정보를 주고 받기 위해 터치 입력이 가능한 디스플레이를 포함하여 구성될 수 있다.
한편 본 개시에 따른 희석가스 제어 시스템은 전술한 컨트롤러모듈(700)과 연결되어 희석가스 제어 시스템을 모니터링할 수 있는 모니터링단말(미도시)을 더 포함하여 구성될 수 있다.
상기 모니터링단말은 네트워크를 통하여 원격지의 서버나 단말에 접속할 수 있는 컴퓨터로 구현될 수 있으며, 이러한 컴퓨터는 예를 들어 웹 브라우저(Web Browser)가 탑재된 노트북, 데스크 탑, 랩탑 등을 포함할 수 있다.
또한, 상기 모니터링단말은 네트워크를 통해 원격지의 서버나 단말에 접속할 수 있는 무선장치로서, PCS(Personal Communication System), GSM(Global System for Mobile communications), PDC(Personal Digital Cellular), PHS(Personal Handyphone System), PDA(Personal Digital Assistant), IMT(International Mobile Telecommunication)-2000, CDMA(Code Division Multiple Access)-2000, W-CDMA(W-Code Division Multiple Access), Wibro(Wireless Broadband Internet) 단말, 스마트폰(smartphone), 스마트패드(smartpad), 타블렛 PC(Tablet PC) 등과 같은 모든 종류의 핸드헬드(Handheld) 기반의 무선 통신 장치를 포함할 수 있다.
<본 개시의 실시예에 따른 시료가스 희석 제어 방법>
이하에서는 도 2를 참조하여 본 개시의 실시예에 따른 시료가스 희석 제어 방법에 대해 설명한다.
상기 시료가스 희석 제어 방법은 전술한 운전중인 발전기에서 고정자 냉각수 측으로 누출되는 시료가스를 희석하여 검출하기 위한 시료가스 희석 제어 시스템에 있어서,
초기 가스 샘플링 시 초기희석배율로 가스를 희석시키는 초기 가스 희석단계(S101);
상기 초기 가스 희석단계(S101)를 거친 희석 가스의 측정농도(ppm)를 분석하는 제1 가스농도 분석 단계(S102);
상기 제1 가스농도 분석 단계(S102)에서 분석된 측정농도(ppm)를 바탕으로 희석배율을 조정하는 제1 희석배율 조정단계(S103);
상기 제1 희석배율 조정단계(S103)를 거친 희석 가스의 측정농도(ppm)를 분석하는 제2 가스농도 분석 단계(S104); 및
상기 제2 가스농도 분석 단계(S104)에서 분석된 측정농도(ppm)를 바탕으로 희석배율을 조정하는 제2 희석배율 조정단계(S105); 를 포함하고,
상기 제1 희석배율 조정단계(S103)는 농도(ppm) 범위를 소정 개수의 구간으로 나누고, 상기 구간에 따라 각각 다른 희석배율로 조정하는 것을 특징으로 하여 구성될 수 있다.
상기 초기 가스 희석단계(S101)는 최초 가스 샘플링 시 고농도의 가스가 샘플링 될 수 있으므로, 초기 가스를 고배율의 초기희석배율로 희석시키는 단계이며, 이에 의해 고농도의 가스에 ECD 센서가 노출됨에 따라 수명이 급격히 감소되는 것을 방지할 수 있을 것이다.
상기 초기 가스 희석단계(S101)의 초기희석배율은 M 배의 희석배율이되, 상기 M은 시스템의 최대 희석 배율인 것을 특징으로 하여 구성될 수 있다.
구체적으로 상기 M은 100을 초과하는 양수인 것이 바람직하나 반드시 이에 한정되는 것은 아니며 필요에 따라 변경될 수 있음은 물론이다.
상기 제1 가스농도 분석 단계(S102)는 상기 초기 가스 희석단계(S101)를 거친 희석 가스의 농도를 분석하는 단계이다. 이는 실질적인 가스의 농도에 따라 적절한 희석배율로 재조정하기 위함이다.
이러한 가스 농도 분석은 희석 가스의 측정농도(ppm)를 측정하는 것이 바람직하나 이에 한정되는 것은 아니며 필요에 따라 측정농도와 희석배율을 바탕으로 환산농도(%)로 측정할 수 있음은 물론이다.
한편, 퍼센트농도와 ppm농도 간의 변환에 대해서는 이미 공지된 내용으로 이에 대한 자세한 설명은 생략하기로 한다.
상기 제1 희석배율 조정단계(S103)는 전술한 제1 가스농도 분석 단계(S102)에서 분석된 측정농도(ppm)를 바탕으로 희석배율을 재조정하는 단계이다. 이는 초기 가스 희석단계(S101)에서 고농도 가스를 염두해 두고 고배율의 초기희석배율로 희석시킨 것을 분석된 가스 농도를 바탕으로 적절한 희석배율로 재조정 하기 위함이다.
구체적으로, 상기 제1 희석배율 조정단계(S103)는,
측정농도(ppm)가 An 이상 An+1 미만일 경우에는 희석배율을 Bn 배로 조정하고,
상기 An 이 마지막 구간에 해당되는 경우에는 희석배율을 M 배로 조정하되,
상기 An 과 상기 Bn 은 하기 수학식 1을 만족하는 것을 특징으로 하여 구성될 수 있다.
[수학식 1]
Figure 112020142448212-pat00003
(여기서 n은 자연수)
예를 들어, 초기희석배율 M이 150이고, K가 0.3인 경우라면, A1 은 20, A2 은 40, A3 는 60이 되고, B1 을 20, B2 를 30, B3 을 40으로 지정한다면, 측정농도가 20 이상 40 미만인 경우에는 희석배율을 20배로 변경하고, 측정농도가 40 이상 60 미만인 경우에는 희석배율을 30배로 변경할 것이다.
또한, 상기 제1 희석배율 조정단계(S103)는
측정농도(ppm)가 A1/10 미만일 경우에는 희석배율을 1배로,
측정농도(ppm)가 A1/10 이상 A1 미만일 경우에는 희석배율을 C 배로 조정하되,
상기 C는 하기 수학식 2를 만족하는 것을 특징으로 하여 구성될 수 있다.
[수학식 2]
Figure 112020142448212-pat00004
상기 제2 가스농도 분석 단계(S104)는 전술한 제1 희석배율 조정단계(S103)를 거친 희석 가스의 농도를 분석하는 단계이다.
이러한 가스 농도 분석은 전술한 제1 가스농도 분석 단계(S102)와 마찬가지로, 희석 가스의 측정농도(ppm)를 측정하는 것이 바람직하나 이에 한정되는 것은 아니며 필요에 따라 측정농도와 희석배율을 바탕으로 환산농도(%)로 측정할 수 있음은 물론이다.
상기 제2 희석배율 조정단계(S105)는 전술한 제2 가스농도 분석 단계(S104)에서 분석된 가스농도(ppm)를 바탕으로 희석배율을 미세조정하는 단계로, 이는 상기 제1 희석배율 조정단계(S103) 이후의 실질적인 가스 농도의 변화에 따라 적절한 희석배율로 미세조정함으로써 측정농도가 ESD 센서 측정 범위의 소정 % 이내로 유지되도록하기 위함이다. (예를 들어, ESD 센서의 측정 범위가 0~1000ppm 이고, 30%이내로 즉, 측정농도가 300ppm 이하가 되도록 희석)
한편, 전술한 수학식 1에서 K가 0.3인 경우에,
상기 제2 희석배율 조정단계(S105)는 Bn 배의 희석배율에서 측정농도(ppm)가 300 이상인 경우에는 희석배율을 증가시키고, 측정농도(ppm)가 100 이하인 경우에는 희석배율을 감소시키도록 구성될 수 있다. 이에 의해 희석배율 경계선 사이에서 농도가 변할 경우 희석배율이 계속 변경되는 현상을 최소화 할 수 있다는 이점이 있다.
또한, 상기 제2 희석배율 조정단계(S105)는 C 배의 희석배율의 경우에는 측정농도(ppm)가 300 이상인 경우에는 희석배율을 증가시키고, 측정농도(ppm)가 10 이하인 경우에는 희석배율을 1배로 감소시키도록 구성될 수 있다. 이는 100ppm에서 희석배율을 1배로 낮출 경우에 가스 농도가 ESD 센서 측정범위를 벗어나는 것을 방지하기 위함이다. (예를 들어 ESD 센서의 측정 범위가 0~1000ppm 이고 C 가 10인 경우라면, 100ppm에서 희석배율을 1배로 낮출 경우에는 가스 농도가 1000ppm이 되어 ESD 센서 측정범위를 벗어날 수 있음)
한편, 희석배율이 변경되게 되면 가스가 희석되는 시간이 있기 때문에 희석배율 변경 후 측정 딜레이를 60초 정도로 설정하는 것이 바람직하나 반드시 이에 한정되는 것은 아니고 필요에 따라 변경될 수 있음은 물론이다.
이러한 측정 딜레이를 고려하면, 희석배율 1배에서 갑자기 고농도의 가스가 누설되어 순차적으로 희석배율을 증가시킨다면 농도 측정까지 상당한 시간이 걸리게 된다.
예를 들어, 희석배율 1배에서 10배, 20배, 30배, 40배, 50배, 60배, 70배, 80배, 90배, 100배로 증가되는 경우라면 10분이 소요되게 된다.
이러한 문제점을 해결 하기 위해 본 개시에 따른 시료가스 희석 제어 방법에서는 희석배율 변경은 순차적으로 변경하는 것이 아닌 측정농도에 따라 희석배율을 단계적으로 건너뛰는 방식으로 구성될 수 있다.
즉, 상기 제2 희석배율 조정단계(S105)는 희석배율을 증가시키는 경우,
현재의 희석배율마다 300 이상의 측정농도(ppm)에 대해 적어도 하나 이상의 소정의 구간으로 나누고, 상기 구간에 따른 변경배율을 지정하여, 상기 측정농도(ppm)가 속한 구간의 변경배율에 따라 희석배율을 단계적으로 변경시키도록 구성될 수 있다.
예를 들어 희석배율이 10배인 경우에 변경배율이 100배가 되야 하는 고농도의 가스가 샘플링 되는 경우에 희석배율을 10배에서 20배, 20배에서 30배, 30배에서 40배, 40배에서 50배, 50배에서 60배, 60배에서 70배, 70배에서 80배, 80배에서 90배, 90배에서 100배로 순차적으로 변경하는 것이 아니라, 본 개시에 따른 희석 제어 방법은 10배에서 40배, 40배에서 100배로 희석배율을 변경시키도록 구성될 수 있다.
즉, 배율 변경 시의 딜레이를 고려하여, 희석배율을 순차적으로 변경하는 것이 아닌 단계적으로 건너뛰는 방식으로 희석배율을 변경하도록 구성함으로써 고농도 가스 누설의 경우에 측정 시간을 상당히 단축시킬 수 있을 것이다.
이에 따라, 본 개시의 실시예에 따른 시료가스 희석 제어 시스템 및 방법은,
수분제거장치를 통해 시료가스에서 수분을 제거하도록 하여 수분에 의한 영향을 최소화할 수 있다는 이점이 있으며, 농도감지모듈에서 감지되는 시료가스의 농도를 소정 범위 이내로 유지되도록 하는 시료가스 희석 제어 방법을 제공함으로써 ECD(Electrochemical Detector) 센서를 이용하는 시료가스 희석 제어 시스템의 안정성 및 내구성을 향상시킬 수 있다는 이점이 있다.
또한, 고농도 시료가스의 희석의 경우에 순차적으로 희석배율을 변경하는 것이 아니라 사전 분석된 데이터에 기반하여 희석배율을 단계적으로 변경되도록 하여 희석시간을 단축시킬 수 있다는 이점이 있다.
한편, 본 개시의 실시예에 따른 시료가스 희석 제어 방법은 가스 농도 변화에 따라 희석배율을 조정함으로써 측정농도가 ESD 센서(측정 범위가 0~1000ppm 가정)의 측정 범위의 30% 이내가 되는 것을 바탕으로 설명된 경우도 있었지만 반드시 이에 한정되는 것은 아니며 필요에 따라 변경될 수 있음은 물론이다.
이상 본 개시의 실시예에 따른 도면을 참조하여 설명하였지만, 본 발명이 속한 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 상기 내용을 바탕으로 본 발명의 범주 내에서 다양한 응용, 변형 및 개작을 행하는 것이 가능할 것이다.
1000 : 본 개시에 따른 시료가스 희석 제어 시스템
S1000 : 본 개시에 따른 시료가스 희석 제어 방법
100 : 제1 유량조절모듈 110 : 샘플링펌프
120 : 완충실 121 : 벤트라인
130 : 제1 유량조절기 140 : 제1 수분제거모듈
141 : 제1 수분제거유닛 142 : 드레인라인
150 : 제2 수분제거모듈 151 : 제2 수분제거유닛
152 : 건조공기유입라인 153 : 벤트라인
200 : 제2 유량조절모듈 210 : 압력조절기
220 : 제2 유량조절기 300 : 혼합실
400 : 제3 유량조절모듈 410 : 제3 유량조절기
420 : 벤트라인 500 : 농도감지모듈(ESD)
600 : 벤팅모듈 700 : 컨트롤러모듈
800 : 디스플레이모듈 L1 :시료가스공급라인
L2 : 에어공급라인 L3 : 혼합가스이송라인
L4 : 가스배출라인

Claims (13)

  1. 운전중인 발전기에서 고정자 냉각수 측으로 누출되는 시료가스를 희석하여 검출하기 위한 시료가스 희석 제어 시스템에 있어서,
    제1 유량조절모듈(100)이 구비되고, 상기 제1 유량조절모듈(100)에 의해 시료가스를 혼합실(300)에 소정의 유량으로 공급하는 시료가스공급라인(L1); 제2 유량조절모듈(200)이 구비되고, 상기 제2 유량조절모듈(200)에 의해 희석에 사용되는 에어를 혼합실(300)에 소정의 유량으로 공급하는 에어공급라인(L2); 상기 시료가스공급라인(L1) 및 상기 에어공급라인(L2)과 연결되고, 상기 시료가스공급라인(L1)에서 공급된 시료가스와 상기 에어공급라인(L2)에서 공급된 에어가 혼합되는 혼합실(300); 상기 혼합실(300)과 연결되고, 제3 유량조절모듈(400)이 구비되며, 상기 제3 유량조절모듈(400)에 의해 혼합가스를 농도감지모듈(500)에 소정의 유량으로 이송하는 혼합가스이송라인(L3); 상기 혼합가스이송라인(L3)과 연결되고, 상기 혼합가스이송라인(L3)에서 멀어지는 방향으로 농도감지모듈(500) 및 벤팅모듈(600)이 구비되며, 상기 농도감지모듈(500)에서 혼합가스의 농도를 감지하고, 상기 벤팅모듈(600)에 의해 혼합가스를 냉각수 탱크 외부로 배출하는 가스배출라인(L4); 상기 제1 유량조절모듈(100), 상기 제2 유량조절모듈(200), 상기 제3 유량조절모듈(400), 상기 농도감지모듈(500) 및 상기 벤팅모듈(600)에 연결되어 이를 제어하는 컨트롤러모듈(700); 및 상기 컨트롤러모듈(700)과 연결되어 데이터를 입출력하는 디스플레이모듈(800); 을 포함하고,
    상기 제1 유량조절모듈(100)은 샘플링펌프(110), 완충실(120) 및 제1 유량조절기(130)를 포함하고, 상기 완충실(120)은 니들밸브가 구비된 별도의 벤트라인(121)과 연결되며, 상기 벤트라인(121)은 상기 벤팅모듈(600)에 결합되는 것을 특징으로 하고,
    상기 컨트롤러모듈(700)은 초기 가스 샘플링 시 초기희석배율로 가스를 희석시켜 분석하고, 상기 분석된 농도를 바탕으로 1차적으로 희석배율을 조정하고, 이 후에 감지되는 농도에 따라 2차적으로 희석배율을 변경함으로써 상기 농도감지모듈(500)에서 감지되는 가스의 농도가 소정의 범위 내로 유지되는 것을 특징으로 하는 시료가스 희석 제어 시스템.
  2. 삭제
  3. 제1항에 있어서,
    상기 시료가스공급라인(L1)은 제1 수분제거모듈(140)과 제2 수분제거모듈(150)을 더 포함하고,
    상기 제1 수분제거모듈(140)은 보텍스 튜브(Vortex tube) 타입의 제1 수분제거유닛(141)과 상기 제1 수분제거유닛(141)에서 응축된 수분을 이송하는 워터펌프가 구비된 드레인라인(142)을 포함하고,
    상기 제2 수분제거모듈(150)은 건조공기유입구와 수분흡수공기배출구를 구비한 나피온 형태의 제2 수분제거유닛(151)과 상기 건조공기유입구에 결합되는 건조공기유입라인(152)과 및 상기 수분흡수공기배출구에 결합되는 별도의 벤트라인(153)을 포함하고,
    상기 건조공기유입라인(152)은 플로우미터를 구비하며, 상기 에어공급라인(L2)과 연결되는 것을 특징으로 하는 시료가스 희석 제어 시스템.
  4. 제3항에 있어서,
    상기 제2 유량조절모듈(200)은 압력조절기(210) 및 제2 유량조절기(220)를 포함하고,
    상기 압력조절기(210)와 상기 제2 유량조절기(220) 사이에 상기 건조공기유입라인(152)이 연결되는 것을 특징으로 하는 시료가스 희석 제어 시스템.
  5. 제1항에 있어서,
    상기 제3 유량조절모듈(400)은 제3 유량조절기(410) 및 니들밸브가 구비된 별도의 벤트라인(420)을 포함하고,
    상기 벤트라인(420)의 일단은 상기 제3 유량조절기(410)와 상기 혼합실(300) 사이에 연결되고 상기 벤트라인(420)의 타단은 상기 벤팅모듈(600)과 연결되는 것을 특징으로 하는 시료가스 희석 제어 시스템.
  6. 제1항에 있어서,
    상기 시료가스는 수소이고, 상기 농도감지모듈(500)은 수소가스 감지용 ECD(Electrochemical detector)인 것을 특징으로 하는 시료가스 희석 제어 시스템.
  7. 운전중인 발전기에서 고정자 냉각수 측으로 누출되는 시료가스를 희석하여 검출하기 위한 시료가스 희석 제어 시스템에 있어서,
    초기 가스 샘플링 시 초기희석배율로 가스를 희석시키는 초기 가스 희석단계(S101); 상기 초기 가스 희석단계(S101)를 거친 희석 가스의 측정농도(ppm)를 분석하는 제1 가스농도 분석 단계(S102); 상기 제1 가스농도 분석 단계(S102)에서 분석된 측정농도(ppm)를 바탕으로 희석배율을 조정하는 제1 희석배율 조정단계(S103); 상기 제1 희석배율 조정단계(S103)를 거친 희석 가스의 측정농도(ppm)를 분석하는 제2 가스농도 분석 단계(S104); 및 상기 제2 가스농도 분석 단계(S104)에서 분석된 측정농도(ppm)를 바탕으로 희석배율을 조정하는 제2 희석배율 조정단계(S105); 를 포함하고,
    상기 초기 가스 희석단계(S101)의 초기희석배율은 M 배의 희석배율이되, 상기 M은 시스템의 최대 희석 배율인 것을 특징으로 하고,
    상기 제1 희석배율 조정단계(S103)는 농도(ppm) 범위를 소정 개수의 구간으로 나누고, 상기 구간에 따라 각각 다른 희석배율로 조정하는 것을 특징으로 하는 시료가스 희석 제어 방법.
  8. 삭제
  9. 제7항에 있어서,
    상기 제1 희석배율 조정단계(S103)는
    측정농도(ppm)가 An 이상 An+1 미만일 경우에는 희석배율을 Bn 배로 조정하고,
    상기 An 이 마지막 구간에 해당되는 경우에는 희석배율을 M 배로 조정하되,
    상기 An 과 상기 Bn 은 하기 수학식 1을 만족하는 것을 특징으로 하는 시료가스 희석 제어 방법.
    [수학식 1]
    Figure 112022019917870-pat00005

    (여기서 n은 자연수)
  10. 제9항에 있어서,
    상기 제1 희석배율 조정단계(S103)는
    측정농도(ppm)가 A1/10 미만일 경우에는 희석배율을 1배로,
    측정농도(ppm)가 A1/10 이상 A1 미만일 경우에는 희석배율을 C 배로 조정하되,
    상기 C는 하기 수학식 2를 만족하는 것을 특징으로 하는 시료가스 희석 제어 방법.
    [수학식 2]
    Figure 112020142448212-pat00006

  11. 제10항에 있어서,
    상기 K가 0.3인 경우에,
    상기 제2 희석배율 조정단계(S105)는 Bn 배의 희석배율에서 측정농도(ppm)가 300 이상인 경우에는 희석배율을 증가시키고, 측정농도(ppm)가 100 이하인 경우에는 희석배율을 감소시키는 것을 특징으로 하는 시료가스 희석 제어 방법.
  12. 제11항에 있어서,
    상기 제2 희석배율 조정단계(S105)는 C 배의 희석배율의 경우에는 측정농도(ppm)가 300 이상인 경우에는 희석배율을 증가시키고, 측정농도(ppm)가 10 이하인 경우에는 희석배율을 1배로 감소시키는 것을 특징으로 하는 시료가스 희석 제어 방법.
  13. 제11항 또는 제12항에 있어서,
    상기 제2 희석배율 조정단계(S105)는 희석배율을 증가시키는 경우,
    현재의 희석배율마다 300 이상의 측정농도(ppm)에 대해 적어도 하나 이상의 소정의 구간으로 나누고, 상기 구간에 따른 변경배율을 지정하여, 상기 측정농도(ppm)가 속한 구간의 변경배율에 따라 희석배율을 단계적으로 변경시키는 것을 특징으로 하는 시료가스 희석 제어 방법.
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