KR102395519B1 - Plating method of metal surface - Google Patents

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Abstract

The present invention relates to a method of plating a metal surface and, more specifically, to a method of plating a metal surface, capable of being applied to various fields due to an oxidized film having excellent adhesiveness, durability, corrosion-resistance and wear-resistance, and maintaining the safety of workers and preventing environmental pollution by effectively adsorbing and removing pollutants produced during a process. In order to achieve the purpose, the method of plating a metal surface includes the following steps of: immersing a material to be plated in a degreasing solution including sodium hydroxide and nitric acid to degrease the material; chemically etching the degreased material to be plated; corroding the surface of the chemically etched material to be plated to apply a matt finish thereto; immersing the matt-finished material to be plated in an electrolyte to form an oxidized film on the surface of the material to be plated; washing the material to be plated with the oxidized film to remove foreign substances therefrom; immersing the material to be plated, from which the foreign substances have been removed, in a dye composition to color the material; and sealing the colored material to be plated to perform a surface treatment thereon.

Description

금속 표면의 도금방법{PLATING METHOD OF METAL SURFACE}Plating method of metal surface {PLATING METHOD OF METAL SURFACE}

본 발명은 금속 표면의 도금방법에 관한 것으로서, 보다 상세하게는, 산화피막의 접착성, 내구성, 내부식성, 및 내마모성이 우수하여 다양한 분야에서 활용할 수 있으며, 공정 시 발생하는 오염물질을 효과적으로 흡착, 제거함으로써 작업자의 안전을 지키고 환경오염을 방지할 수 있는, 금속 표면의 도금방법에 관한 것이다.The present invention relates to a method for plating a metal surface, and more particularly, it can be utilized in various fields due to excellent adhesion, durability, corrosion resistance, and abrasion resistance of the oxide film, and effectively adsorbs contaminants generated during the process; It relates to a method for plating a metal surface that can protect workers' safety and prevent environmental pollution by removing it.

상업 및 소비자 산업에서의 많은 제품은 금속물(metal article)이거나 금속 부품들을 포함한다. Many products in the commercial and consumer industries are metal articles or contain metal parts.

이러한 제품들의 금속 표면들은 내식성, 내마모성 및 경도 등의 제반 물성을 향상시키기 위해 표면 처리되고 있다. 특히, 그 중 알루미늄(Al) 등의 금속은 양극산화(anodizing)를 통해 표면 처리된 경우, 내식성 및 내마모성 등과 함께, 극히 작은 포어(pore)가 형성되어 여러 가지 색상의 착색이 가능하여 미려한 외관성을 확보할 수 있다.The metal surfaces of these products are surface-treated to improve general properties such as corrosion resistance, abrasion resistance and hardness. In particular, when metals such as aluminum (Al) are surface-treated through anodizing, extremely small pores are formed along with corrosion resistance and abrasion resistance, so that various colors can be colored, resulting in beautiful appearance can be obtained

양극산화는 금속의 표면 처리방법 중의 하나로서, 금속 모재를 양극으로 하고, 전해액 존재 하에 통전하면 양극에서 발생하는 산소에 의하여 금속 모재의 표면이 산화되어 산화피막(예, Al2O3 등)이 형성된다. Anodization is one of the surface treatment methods of metal. When a metal base material is used as an anode and electricity is energized in the presence of an electrolyte, the surface of the metal base material is oxidized by oxygen generated from the anode to form an oxide film (eg, Al 2 O 3 ). is formed

보다 상세하게는 양극산화를 위한 전해액의 산소이온과 수산이온이 금속 표면으로 전진하여 기존 산화피막을 침투하고 금속 이온과 결합하여, 금속과 산화층의 계면 부근에 다공성의 산화피막과 수산화피막을 형성한다. In more detail, oxygen ions and hydroxide ions of the electrolyte for anodization advance to the metal surface, penetrate the existing oxide film, combine with metal ions, and form a porous oxide film and hydroxide film near the interface between the metal and the oxide layer. .

다공성의 산화피막은 산성 전해액의 용해작용으로 활성층 부위에 곧바로 성장된다. 이때, 형성된 산화피막은 대단히 단단하여 금속에 내후성을 부여하며, 유공성(有孔性)이 염료, 안료, 부식억제제 또는 윤활제 등과 흡착/결합하여 다양한 기능성을 발휘한다. The porous oxide film grows directly on the active layer by the dissolution action of the acidic electrolyte. At this time, the formed oxide film is very hard and imparts weather resistance to the metal, and the porosity exhibits various functions by adsorbing/bonding with dyes, pigments, corrosion inhibitors or lubricants, etc.

상기와 같이 양극산화된 금속 표면은 그 경도와 내식성이 우수하며 미관성도 우수하여 외장재로 많이 사용되고 있다. 이러한 양극산화 공정은 피도금물인 금속의 순도가 높을수록 미려하고 광택 있는 피막을 얻을 수 있다. 아울러, 양극산화된 경우 유공도(有孔度)가 적은 피막을 얻을 수 있어 전기 콘덴 서로도 이용되며, 내식성과 절연성이 우수하기 때문에 각종 샤시, 카메라 부품, 항공기, 정밀 기계류와 계측기기 등에 널리 이용되고 있다. As described above, the anodized metal surface has excellent hardness and corrosion resistance, and excellent aesthetics, so it is widely used as a exterior material. In this anodization process, the higher the purity of the metal to be plated, the more beautiful and glossy the film can be obtained. In addition, when anodized, a film with low porosity can be obtained, so it can be used as an electric capacitor, and since it has excellent corrosion resistance and insulation, it is widely used in various chassis, camera parts, aircraft, precision machinery and measuring instruments, etc. is becoming

또한, 양극산화된 금속 표면들 및 도금된 금속 표면들은 원하는 장식적 효과를 얻는 데에도 사용될 수 있다. 예를 들어, 양극 산화에 의해 생성되는 금속 산화물층의 다공성은 양극 산화된 금속 표면에 컬러를 부여하도록 염료를 흡수하는 데 사용될 수 있다. In addition, anodized metal surfaces and plated metal surfaces can also be used to achieve a desired decorative effect. For example, the porosity of a metal oxide layer created by anodization can be used to absorb dyes to impart color to the anodized metal surface.

도금된 금속 표면은 상이한 마무리(finish)들을 갖도록 만들어질 수 있으며, 따라서 마무리된 표면은 무광택 외관에서, 광택이 고운 외관 및 밝게 광택이 나는 외관에 이르는 외관을 가질 수 있다. 내구력 있고 심미적으로 만족스러운 제품들을 생성하기 위한 금속 표면 처리에 대한 계속적인 요구가 존재한다.A plated metal surface can be made to have different finishes, and thus the finished surface can have an appearance ranging from a matte appearance to a glossy appearance and a brightly shiny appearance. There is a continuing need for metal surface treatment to produce durable and aesthetically pleasing products.

일반적으로, 양극산화를 통한 금속의 표면 처리 공정은 크게 전처리 공정, 양극산화 공정 및 후처리 공정으로 나눌 수 있다. 이때, 전처리 공정은 통상 탈지, 에칭 및 디스머트 공정을 포함한다. 양극산화 공정에서는 산화피막을 성장시킨다. 그리고 후처리 공정은 통상 산화피막에 색상을 입히는 착색 공정, 산화피막에 형성된 포어(pore)를 실링(sealing)하는 봉공 공정, 및 물로 세척하는 수세 공정을 포함한다. In general, the surface treatment process of a metal through anodization may be largely divided into a pretreatment process, an anodization process, and a post-treatment process. In this case, the pretreatment process generally includes degreasing, etching, and desmut processes. In the anodization process, an oxide film is grown. In addition, the post-treatment process includes a coloring process of applying a color to the oxide film, a sealing process of sealing pores formed in the oxide film, and a water washing process of washing with water.

그러나, 일반적인 양극산화법을 통해 도금된 금속은 양극산화 전보다 내후성이 향상되기는 하나 매우 만족할 만한 것은 아니다. 예를 들어, 장시간 외부에 노출되는 태양전지 모듈의 프레임(frame) 등으로 적용하기에는 충분한 고내후성은 갖지 못한다.However, although the metal plated through the general anodization method has improved weather resistance than before anodization, it is not very satisfactory. For example, it does not have sufficient high weather resistance to be applied as a frame of a solar cell module exposed to the outside for a long time.

아울러, 종래 기술에 따른 양극산화 표면 처리는 처리 과정 중 인화합물, 산성분과 같은 각종 환경 규제물질을 다량 발생시키는 문제점도 있다.In addition, the anodizing surface treatment according to the prior art has a problem of generating a large amount of various environmental control substances such as phosphorus compounds and acidic components during the treatment process.

대한민국 공개특허공보 제10-2021-0140976호Republic of Korea Patent Publication No. 10-2021-0140976

본 발명은 상기와 같은 문제점을 해결하기 위한 것으로서, 높은 내구성을 가지면서도 공정 시 발생하는 오염물질을 효과적으로 흡착, 제거할 수 있는, 금속 표면의 도금방법을 제공하고자 한다.An object of the present invention is to solve the above problems, and to provide a method for plating a metal surface that can effectively adsorb and remove contaminants generated during the process while having high durability.

본 발명의 상기 및 다른 목적과 이점은 바람직한 실시예를 설명한 하기의 설명으로부터 분명해질 것이다.These and other objects and advantages of the present invention will become apparent from the following description of preferred embodiments.

상기 목적은, 피도금물을 수산화나트륨 및 질산을 포함하는 탈지 용액에 침지하여 탈지하는 단계; 상기 탈지된 피도금물을 화학적 에칭하는 단계; 상기 화학적 에칭한 피도금물의 표면을 부식시켜 무광처리하는 단계; 상기 무광처리한 피도금물을 전해액에 침지하여 상기 피도금물의 표면에 산화피막을 형성하는 단계; 상기 산화피막을 형성한 피도금물을 수세하여 이물질을 제거하는 단계; 상기 이물질을 제거한 피도금물을 염료 조성물에 침지하여 착색하는 단계; 및 상기 착색한 피도금물을 실링하여 표면처리하는 단계;를 포함하되, 상기 피도금물의 표면에 산화피막을 형성하는 단계 및 상기 피도금물을 착색시키는 단계 중, 흡착제를 반복 분사하여 오염물질을 제거하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는, 금속 표면의 도금처리 방법에 의해 달성될 수 있다.The above object is to degrease the object to be plated by immersing it in a degreasing solution containing sodium hydroxide and nitric acid; chemically etching the degreased object to be plated; corroding the surface of the chemically etched object to be plated; immersing the matt-treated object to be plated in an electrolyte solution to form an oxide film on the surface of the object to be plated; removing foreign substances by washing the object to be plated on which the oxide film is formed; immersing the object to be plated from which the foreign matter has been removed in a dye composition to color it; and sealing the colored object to be plated and surface-treating it; including, wherein, during the step of forming an oxide film on the surface of the object to be plated and the step of coloring the object to be plated, an adsorbent is repeatedly sprayed to contaminants It can be achieved by the plating method of the metal surface, characterized in that it comprises the step of removing the.

구체적으로, 상기 전해액은, 황산, 질산, 인산, 수산, 크롬산, 옥살산, 및 이들의 조합들로 이루어진 군으로부터 선택되는 하나 이상을 포함하는 것을 특징으로 할 수 있다.Specifically, the electrolyte may include at least one selected from the group consisting of sulfuric acid, nitric acid, phosphoric acid, oxalic acid, chromic acid, oxalic acid, and combinations thereof.

구체적으로, 상기 피도금물은, 알루미늄, 망간, 마그네슘, 아연, 구리, 지르코늄, 티타늄, 및 이들의 조합들로 이루어진 군으로부터 선택되는 하나 이상을 포함하는 것을 특징으로 할 수 있다.Specifically, the object to be plated may include at least one selected from the group consisting of aluminum, manganese, magnesium, zinc, copper, zirconium, titanium, and combinations thereof.

본 발명에 따르면, 피도금물을 양극산화를 통해 표면에 산화피막을 형성함으로써 금속의 표면을 내식성 및 전기전도도를 향상시키면서 효과적으로 도금할 수 있으며, 형성된 산화피막의 접착성, 내구성, 내부식성, 및 내마모성이 우수하여 샤시, 카메라 부품, 항공기, 정밀 기계류와 계측기기 등 다양한 분야에서 활용할 수 있다는 효과를 갖는다.According to the present invention, by forming an oxide film on the surface of the object to be plated through anodizing, the surface of the metal can be effectively plated while improving corrosion resistance and electrical conductivity, and the adhesion, durability, corrosion resistance, and Because of its excellent wear resistance, it has the effect that it can be used in various fields such as chassis, camera parts, aircraft, precision machinery and measuring instruments.

또한, 본 발명에 따르면, 피도금물과 산화피막 간의 밀착성을 향상시킬 수 있으며, 공정 시 발생하는 오염물질을 효과적으로 흡착, 제거함으로써 작업자의 안전을 지키고 공해문제를 상당부분 해결할 수 있다.In addition, according to the present invention, it is possible to improve the adhesion between the object to be plated and the oxide film, and by effectively adsorbing and removing contaminants generated during the process, it is possible to protect the safety of workers and solve the pollution problem to a large extent.

다만, 본 발명의 효과들은 이상에서 언급한 효과로 제한되지 않으며, 언급되지 않은 또 다른 효과들은 아래의 기재로부터 당업자에게 명확하게 이해될 수 있을 것이다.However, the effects of the present invention are not limited to the above-mentioned effects, and other effects not mentioned will be clearly understood by those skilled in the art from the following description.

도 1의 (a) 내지 (d)는, 본 발명의 일 실시예에 따른 금속 표면의 도금처리 방법을 나타낸 이미지이다.
도 2의 (a) 내지 (d)는,본 발명의 일 실시예에 따른 금속 표면의 도금처리 방법을 나타낸 이미지이다.
도 3의 (a) 내지 (c)는,본 발명의 일 실시예에 따른 금속 표면의 도금처리 방법을 나타낸 이미지이다.
도 4의 (a) 내지 (d)는 본 발명의 일 실시예에 따라 도금처리된 금속 표면을 나타낸 이미지이다.
1 (a) to (d) are images showing a method for plating a metal surface according to an embodiment of the present invention.
2 (a) to (d) are images showing a method for plating a metal surface according to an embodiment of the present invention.
3 (a) to (c) are images showing a method for plating a metal surface according to an embodiment of the present invention.
4 (a) to (d) are images showing a metal surface plated according to an embodiment of the present invention.

이하, 본 발명의 실시예와 도면을 참조하여 본 발명을 상세히 설명한다. 이들 실시예는 오로지 본 발명을 보다 구체적으로 설명하기 위해 예시적으로 제시한 것일 뿐, 본 발명의 범위가 이들 실시예에 의해 제한되지 않는다는 것은 당업계에서 통상의 지식을 가지는 자에 있어서 자명할 것이다.Hereinafter, the present invention will be described in detail with reference to embodiments and drawings of the present invention. It will be apparent to those of ordinary skill in the art that these examples are merely presented by way of example to explain the present invention in more detail, and that the scope of the present invention is not limited by these examples. .

또한, 달리 정의하지 않는 한, 본 명세서에서 사용되는 모든 기술적 및 과학적 용어는 본 발명이 속하는 기술 분야의 숙련자에 의해 통상적으로 이해되는 바와 동일한 의미를 가지며, 상충되는 경우에는, 정의를 포함하는 본 명세서의 기재가 우선할 것이다.Further, unless otherwise defined, all technical and scientific terms used herein have the same meaning as commonly understood by one of ordinary skill in the art to which this invention belongs, and in case of conflict, this specification, including definitions will take precedence.

도면에서 제안된 발명을 명확하게 설명하기 위해서 설명과 관계없는 부분은 생략하였으며, 명세서 전체를 통하여 유사한 부분에 대해서는 유사한 도면 부호를 붙였다. 그리고, 어떤 부분이 어떤 구성 요소를 "포함"한다고 할 때, 이는 특별히 반대되는 기재가 없는 한 다른 구성 요소를 제외하는 것이 아니라 다른 구성 요소를 더 포함할 수 있는 것을 의미한다. 또한, 명세서에서 기술한 "부"란, 특정 기능을 수행하는 하나의 단위 또는 블록을 의미한다.In order to clearly explain the invention proposed in the drawings, parts irrelevant to the description are omitted, and similar reference numerals are assigned to similar parts throughout the specification. And, when a part "includes" a certain component, this means that other components may be further included, rather than excluding other components, unless otherwise stated. In addition, "unit" described in the specification means one unit or block that performs a specific function.

각 단계들에 있어 식별부호(제1, 제2, 등)는 설명의 편의를 위하여 사용되는 것으로 식별부호는 각 단계들의 순서를 설명하는 것이 아니며, 각 단계들은 문맥상 명백하게 특정 순서를 기재하지 않는 이상 명기된 순서와 다르게 실시될 수 있다. 즉, 각 단계들은 명기된 순서와 동일하게 실시될 수도 있고 실질적으로 동시에 실시될 수도 있으며 반대의 순서대로 실시될 수도 있다.In each step, identification numbers (first, second, etc.) are used for convenience of description, and identification numbers do not describe the order of each step, and each step does not clearly describe a specific order in context. It may be performed differently from the order specified above. That is, each step may be performed in the same order as the specified order, may be performed substantially simultaneously, or may be performed in the reverse order.

이하, 첨부된 도면을 참조하여 본원의 구현예 및 실시예를 상세히 설명한다. 그러나, 본원의 이러한 구현예 및 실시예와 도면에 제한되지 않을 수 있다.Hereinafter, embodiments and examples of the present application will be described in detail with reference to the accompanying drawings. However, it may not be limited to these embodiments and examples and drawings of the present application.

본원의 일 측면은, 피도금물을 수산화나트륨 및 질산을 포함하는 탈지 용액에 침지하여 탈지하는 단계; 상기 탈지된 피도금물을 화학적 에칭하는 단계; 상기 화학적 에칭한 피도금물의 표면을 부식시켜 무광처리하는 단계; 상기 무광처리한 피도금물을 전해액에 침지하여 상기 피도금물의 표면에 산화피막을 형성하는 단계; 상기 산화피막을 형성한 피도금물을 수세하여 이물질을 제거하는 단계; 상기 이물질을 제거한 피도금물을 염료 조성물에 침지하여 착색하는 단계; 및 상기 착색한 피도금물을 실링하여 표면처리하는 단계;를 포함하되, 상기 피도금물의 표면에 산화피막을 형성하는 단계 및 상기 피도금물을 착색시키는 단계 중, 흡착제를 반복 분사하여 오염물질을 제거하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는, 금속 표면의 도금처리 방법을 제공한다.One aspect of the present application includes the steps of degreasing the object to be plated by immersing it in a degreasing solution containing sodium hydroxide and nitric acid; chemically etching the degreased object to be plated; corroding the surface of the chemically etched object to be plated; immersing the matt-treated object to be plated in an electrolyte solution to form an oxide film on the surface of the object to be plated; removing foreign substances by washing the object to be plated on which the oxide film is formed; immersing the object to be plated from which the foreign matter has been removed in a dye composition to color it; and sealing the colored object to be plated and surface-treating it; including, wherein, during the step of forming an oxide film on the surface of the object to be plated and the step of coloring the object to be plated, an adsorbent is repeatedly sprayed to contaminants It provides a method for plating a metal surface, characterized in that it comprises the step of removing the.

본 발명에 따르면, 피도금물의 내식성 및 전기전도도를 향상시키면서 효과적으로 도금할 수 있으며, 형성된 산화피막의 접착성, 내구성, 내부식성, 및 내마모성이 우수하여 샤시, 카메라 부품, 항공기, 정밀 기계류와 계측기기 등 다양한 분야에서 활용할 수 있다는 효과를 갖는다. 또한, 공정 시 발생하는 오염물질을 효과적으로 흡착, 제거함으로써 작업자의 안전을 지키고 공해문제를 상당부분 해결할 수 있다는 장점이 있다.According to the present invention, it can be plated effectively while improving the corrosion resistance and electrical conductivity of the object to be plated, and the formed oxide film has excellent adhesion, durability, corrosion resistance, and abrasion resistance to chassis, camera parts, aircraft, precision machinery and measurement It has the effect that it can be used in various fields such as devices. In addition, by effectively adsorbing and removing pollutants generated during the process, there is an advantage in that the safety of workers can be maintained and the pollution problem can be largely solved.

이하, 도 1 내지 도 4를 참조하여 본 발명에 따른 금속 표면의 도금처리 방법을 상세히 설명한다.Hereinafter, a method for plating a metal surface according to the present invention will be described in detail with reference to FIGS. 1 to 4 .

먼저, 피도금물을 수산화나트륨 및 질산을 포함하는 탈지 용액에 침지하여 탈지한다. 상기 탈지 단계를 통해 상기 피금물 표면에 붙어있는 이물질, 유지분, 및 피막들이 제거되는 것일 수 있다.First, the object to be plated is degreased by immersing it in a degreasing solution containing sodium hydroxide and nitric acid. Foreign substances, oils and fats, and films adhering to the surface of the object to be cast may be removed through the degreasing step.

일 실시예에 있어서, 상기 질산의 농도는 약 1 내지 약 65% 범위일 수 있다. 만약 상기 질산의 농도가 약 1% 미만일 경우 상기 피도금물 소재 표면에 잔존하는 이물질, 유지분, 또는 피막들이 충분히 제거되지 않을 수 있으며, 질산의 농도가 약 65%를 초과할 경우 피도금물의 손상이 발생할 수 있다.In one embodiment, the concentration of nitric acid may range from about 1 to about 65%. If the concentration of nitric acid is less than about 1%, foreign substances, oils, or films remaining on the surface of the material to be plated may not be sufficiently removed. damage may occur.

일 실시예에 있어서, 상기 수산화나트륨의 농도는 약 10 내지 약 98% 범위일 수 있다. 만약 상기 수산화나트륨의 농도가 약 10% 미만일 경우 상기 피도금물 소재 표면에 잔존하는 이물질, 유지분, 또는 피막들이 충분히 제거되지 않을 수 있으며, 약 98%를 초과할 경우 피도금물의 손상이 발생할 수 있다.In one embodiment, the concentration of sodium hydroxide may range from about 10 to about 98%. If the concentration of sodium hydroxide is less than about 10%, foreign substances, oils, or films remaining on the surface of the material to be plated may not be sufficiently removed, and if it exceeds about 98%, damage to the object to be plated may occur. can

일 실시예에 있어서, 상기 피도금물은 제한없이 사용될 수 있으며, 예를 들어, 알루미늄, 망간, 마그네슘, 아연, 구리, 지르코늄, 티타늄, 및 이들의 조합들로 이루어진 군으로부터 선택되는 하나 이상을 포함할 수 있다. 구체적으로, 상기 피도금물은 알루미늄 또는 알루미늄 합금일 수 있다.In one embodiment, the object to be plated may be used without limitation, and includes, for example, one or more selected from the group consisting of aluminum, manganese, magnesium, zinc, copper, zirconium, titanium, and combinations thereof. can do. Specifically, the object to be plated may be aluminum or an aluminum alloy.

다음으로, 상기 탈지된 피도금물을 에칭 용액을 이용하여 화학적 에칭한다. 상기 화학적 에칭을 통해 상기 피도금물의 표면을 일부 녹여 미세한 요철을 형성시킬 수 있으며, 미세한 요철이 형성되어 갈고리 효과(anchoring effect)에 의하여 추후 형성되는 산화피막의 밀착력이 향상될 수 있다. 상기 화학적 에칭 단계는, 통상적으로 화학적 에칭에 사용되는 에칭 용액 및 에칭 조건이라면 제한없이 사용될 수 있으며, 구체적으로는, 산 수용액을 이용하여 에칭되는 것일 수 있다.Next, the degreased object to be plated is chemically etched using an etching solution. Through the chemical etching, a portion of the surface of the object to be plated may be melted to form fine irregularities, and the fine irregularities may be formed to improve adhesion of an oxide film formed later by an anchoring effect. The chemical etching step may be used without limitation as long as it is an etching solution and etching conditions typically used for chemical etching, and specifically, etching using an acid aqueous solution may be used.

일 실시예에 있어서, 상기 산 수용액은 염산, 질산, 황산, 및 이들의 조합들로 이루어진 군으로부터 선택되는 하나 이상을 포함하는 산 수용액을 이용하여 수행되는 것일 수 있다. In one embodiment, the acid aqueous solution may be carried out using an acid aqueous solution containing at least one selected from the group consisting of hydrochloric acid, nitric acid, sulfuric acid, and combinations thereof.

다음으로, 상기 화학적 에칭한 피도금물의 표면을 무광처리한다. 상기 무광처리는 상기 피도금물의 표면을 부식시켜 진행되는 것일 수 있으며, 상기 부식 방법은 물리적 부식 또는 화학적 부식 방법에 의해 진행되는 것일 수 있다. 구체적으로, 상기 무광처리는 상기 피도금물을 화학적 용액에 침지하여 표면을 화학적 부식시켜 수행되는 것일 수 있다.Next, the surface of the chemically etched object to be plated is matt. The matte treatment may be performed by corroding the surface of the object to be plated, and the corrosion method may be performed by physical corrosion or chemical corrosion. Specifically, the matte treatment may be performed by immersing the object to be plated in a chemical solution to chemically corrode the surface.

일 실시예에 있어서, 상기 무광처리한 피도금물을 에칭 용액에 침지하여 2차 화학적 에칭을 진행하는 단계를 추가 포함할 수 있다. 상기 화학적 에칭을 2 단계로 진행함으로써, 상기 피도금물과 추후 도금되는 산화피막과의 밀착력을 향상시켜 층간 들뜸 현상을 방지하여 제품의 내구성을 증진시킬 수 있다. 구체적으로, 상기 무광처리한 피도금물을 수산화나트륨 및 불화암모늄을 포함하는 2차 화학적 에칭 용액에 침지함으로써 2차 화학적 에칭할 수 있다.In one embodiment, the method may further include performing a secondary chemical etching by immersing the matt-treated object to be plated in an etching solution. By performing the chemical etching in two steps, it is possible to improve the adhesion between the object to be plated and the oxide film to be plated later, thereby preventing interlayer lifting, thereby improving the durability of the product. Specifically, secondary chemical etching may be performed by immersing the matt-treated object to be plated in a secondary chemical etching solution containing sodium hydroxide and ammonium fluoride.

다음으로, 상기 무광처리한 피도금물을 전해액에 침지하여 상기 피도금물의 표면에 산화피막을 형성한다. 상기 무광처리한 피도금물을 산 수용액을 포함하는 전해액에 담가 양극에 연결한 후 전원을 공급함으로써, 양극에서 발생하는 산소에 의해 상기 피도금물인 금속면이 산화되어 그 표면에 산화피막이 형성되는 것일 수 있다. 상기 전해액은 황산, 질산, 인산, 수산, 크롬산, 옥살산, 및 이들의 조합들로 이루어진 군으로부터 선택되는 하나 이상을 포함할 수 있으며, 구체적으로는 황산을 포함하는 것일 수 있다.Next, the matt-treated object to be plated is immersed in an electrolyte to form an oxide film on the surface of the object to be plated. By immersing the matt-treated object to be plated in an electrolyte containing an acid aqueous solution, connecting it to the anode, and then supplying power, the metal surface of the object to be plated is oxidized by oxygen generated from the anode to form an oxide film on the surface. it could be The electrolyte may include one or more selected from the group consisting of sulfuric acid, nitric acid, phosphoric acid, oxalic acid, chromic acid, oxalic acid, and combinations thereof, and specifically, sulfuric acid.

일 실시예에 있어서, 상기 전해액은 약 10 내지 약 50 중량%의 황산을 포함할 수 있다. 만약, 상기 황산이 약 10 중량% 미만으로 포함될 경우 피막이 충분히 형성되지 않을 수 있고, 약 50 중량%를 초과할 경우 피도금물의 손상이 발생할 수 있다.In one embodiment, the electrolyte may include about 10 to about 50% by weight of sulfuric acid. If the sulfuric acid is contained in an amount of less than about 10% by weight, the film may not be sufficiently formed, and when it exceeds about 50% by weight, damage to the object to be plated may occur.

일 실시예에 있어서, 상기 형성된 산화피막의 두께는 약 30 내지 약 100 μm 범위일 수 있다. 만약, 상기 산화피막의 두께가 약 30 μm 미만일 경우 내구성, 내부식성이 하락할 수 있고, 약 100 μm를 초과할 경우 공정 비용 및 시간이 지나치게 증가할 수 있다.In one embodiment, the thickness of the formed oxide film may be in the range of about 30 to about 100 μm. If the thickness of the oxide film is less than about 30 μm, durability and corrosion resistance may decrease, and if it exceeds about 100 μm, process cost and time may be excessively increased.

다음으로, 상기 산화피막을 형성한 피도금물을 수세한다. 상기 수세는 약 2 회 이상 반복되어 수행될 수 있으며, 상기 수세를 통해 피도금물 및 산화피막을 제외한 이물질, 예를 들어, 오일, 그리스 등이 제거되는 것일 수 있다.Next, the object to be plated on which the oxide film is formed is washed with water. The water washing may be repeated about two or more times, and foreign substances except for the object to be plated and the oxide film, for example, oil, grease, etc., may be removed through the washing.

다음으로, 상기 이물질을 제거한 피도금물을 염료 조성물에 침지하여 착색시킨다. 상기 염료 조성물은 제한 없이 사용될 수 있으며, 예를 들어, pH 약 5 내지 약 8인 염료 조성물에 약 1 분 내지 약 10 분간 침지함으로써 상기 산화피막이 형성된 피도금물에 색상을 착색시킬 수 있다. 만약, 상기 염료 조성물의 pH가 상기 서술한 바와 상이할 경우, 피도금물에 균일하게 착색되지 않을 수 있다. 또한, 상기 염료 조성물은 2 가지 이상의 동일한 농도(pH)로 이루어진 염료를 배합하여 사용될 수 있으나, 이에 제한되지 않는다.Next, the object to be plated from which the foreign material has been removed is immersed in the dye composition to be colored. The dye composition may be used without limitation, and for example, by immersing the dye composition having a pH of about 5 to about 8 for about 1 minute to about 10 minutes, it is possible to color the object to be plated on which the oxide film is formed. If the pH of the dye composition is different from that described above, the object to be plated may not be uniformly colored. In addition, the dye composition may be used by mixing two or more dyes having the same concentration (pH), but is not limited thereto.

일 실시예에 있어서, 상기 피도금물의 표면에 산화피막을 형성하는 단계 및 상기 피도금물을 착색시키는 단계 중, 흡착제를 약 1 시간 내지 약 4 시간 간격으로 반복 분사하여 오염물질을 제거하는 단계를 포함할 수 있다. 예를 들어, 상기 산화피막을 형성하는 단계 및 피도금물의 착색 단계 중 흡착제를 반복 분사함으로써, 산 성분, 이산화탄소, 금속 화합물, 인 화합물, 및 이들의 조합들로 이루어진 군으로부터 선택되는 하나 이상을 포함하는 오염물질을 효과적으로 흡착 및/또는 제거할 수 있다. 이에 따라, 상기 도금 공정에서 발생하는 오염물질을 제거함으로써, 작업자의 안전을 지킬 수 있으며 오염물질에 의한 공해문제를 해결할 수 있다. 만약, 상기 분무가 약 1 시간 미만의 간격으로 분무될 경우 습도가 과하게 증가할 수 있으며, 약 4 시간을 초과하는 간격으로 분무될 경우 오염물질의 흡착 제거 효과가 하락할 수 있다. 구체적으로는, 약 2 시간 내지 약 3 시간 간격으로 수행될 수 있으나, 이에 제한되지 않는다.In one embodiment, during the steps of forming an oxide film on the surface of the object to be plated and coloring the object to be plated, the step of repeatedly spraying an adsorbent at intervals of about 1 hour to about 4 hours to remove contaminants may include For example, one or more selected from the group consisting of an acid component, carbon dioxide, a metal compound, a phosphorus compound, and combinations thereof by repeatedly spraying an adsorbent during the step of forming the oxide film and the coloring step of the object to be plated It can effectively adsorb and/or remove contaminants including Accordingly, by removing the contaminants generated in the plating process, it is possible to keep the safety of the workers and solve the pollution problem caused by the contaminants. If the spray is sprayed at an interval of less than about 1 hour, the humidity may be excessively increased, and if the spray is sprayed at an interval of more than about 4 hours, the effect of adsorption and removal of contaminants may decrease. Specifically, it may be performed at intervals of about 2 hours to about 3 hours, but is not limited thereto.

일 실시예에 있어서, 상기 흡착제는 분말형 첨착활성탄을 포함하는 것일 수 있다. 상기 활성탄은 탄소질로 이루어졌으며 흡착성이 강한 물질로, 상기 활성탄에 흡착 성능을 증대시키기 위하여 특정한 물질을 함유시킨 것을 첨착활성탄이라 한다. 구체적으로, 상기 흡착제는 분말형 첨착활성탄은 용매에 분산시켜 수득되는 것일 수 있다. 상기 용매는 흡착제를 분산시킬 수 있는 것이라면 제한 없이 사용될 수 있으며, 예를 들어, 정제수, 저급 알코올 등을 포함할 수 있다.In one embodiment, the adsorbent may include powdery impregnated activated carbon. The activated carbon is made of carbonaceous material and has a strong adsorption property, and the activated carbon containing a specific material in order to increase the adsorption performance is referred to as impregnated activated carbon. Specifically, the adsorbent may be obtained by dispersing powdery impregnated activated carbon in a solvent. The solvent may be used without limitation as long as it is capable of dispersing the adsorbent, and may include, for example, purified water, lower alcohol, and the like.

일 실시예에 있어서, 상기 분말형 첨착활성탄은 하나 이상의 인 흡착용 물질이 활성탄에 고르게 첨착 및 포함된 것을 특징으로 할 수 있다. 예를 들어, 상기 인 흡착용 물질은 염화 제2철, 질산 제2철, 황산 제1철, 및 이들의 조합들로 이루어진 군으로부터 선택되는 하나 이상일 수 있으며, 바람직하게는, 인 흡착용 물질로서 염화 제2철이 활성탄에 고르게 첨착 및 포함된 분말형 첨착활성탄을 의미할 수 있다. 이에 따라, 본 발명에 따른 도금처리 방법은, 공정 시 발생하는 적연 등의 인 화합물을 상기 분말형 첨착활성탄을 포함하는 흡착제를 반복 분무함으로써 효과적으로 제거할 수 있다.In one embodiment, the powder-type impregnated activated carbon may be characterized in that one or more phosphorus adsorption materials are uniformly impregnated and included in the activated carbon. For example, the phosphorus adsorption material may be at least one selected from the group consisting of ferric chloride, ferric nitrate, ferrous sulfate, and combinations thereof, preferably, as a phosphorus adsorption material It may refer to powdery impregnated activated carbon in which ferric chloride is uniformly impregnated and included in the activated carbon. Accordingly, in the plating method according to the present invention, phosphorus compounds such as red lead generated during the process can be effectively removed by repeatedly spraying the adsorbent containing the powdery impregnated activated carbon.

일 실시예에 있어서, 상기 분말형 첨착활성탄은 상기 인 흡착용 물질을 포함하는 수용액에 활성탄을 투입하는 단계; 상기 인 흡착용 물질을 포함하는 수용액 및 활성탄을 가열 및 교반하여 상기 활성탄에 상기 인 흡착용 물질을 흡착시키는 단계; 및 상기 인 흡착용 물질이 흡착된 활성탄을 건조 및 분쇄하는 단계에 의해 수득되는 것일 수 있다.In one embodiment, the powder-type impregnated activated carbon comprises the steps of: adding activated carbon to an aqueous solution containing the phosphorus adsorption material; heating and stirring an aqueous solution containing the phosphorus adsorption material and activated carbon to adsorb the phosphorus adsorbing material to the activated carbon; and drying and pulverizing the activated carbon to which the phosphorus adsorption material has been adsorbed.

예를 들어, 상기 분말형 첨착활성탄은 염화 제2철 수용액에 활성탄을 투입하고, 상기 활성탄이 투입된 수용액을 약 50℃ 내지 150℃의 온도 범위에서 가열하면서 약 50 내지 약 500 rpm의 속도로 교반하여 상기 활성탄에 염화 제2철을 흡착시키며, 흡착된 활성탄을 약 60℃ 내지 약 120℃의 온도 범위의 건조기에서 약 1 시간 내지 약 12 시간 동안 증발건조하여 건조한 뒤 분쇄기를 사용하여 약 50 내지 약 150 메쉬의 입경을 갖도록 분쇄하여 수득되는 것일 수 있다.For example, the powder-type impregnated activated carbon is obtained by adding activated carbon to an aqueous ferric chloride solution, and heating the aqueous solution to which the activated carbon is added at a temperature of about 50° C. to 150° C. while stirring at a speed of about 50 to about 500 rpm. Ferric chloride is adsorbed to the activated carbon, and the adsorbed activated carbon is evaporated to dryness in a dryer in a temperature range of about 60° C. to about 120° C. for about 1 hour to about 12 hours to dry, and then from about 50 to about 150 using a pulverizer. It may be obtained by pulverizing to have a particle size of the mesh.

일 실시예에 있어서, 상기 분말형 첨착활성탄의 입경은 약 50 내지 150 메쉬 범위일 수 있다. 만약, 상기 분말형 첨착활성탄의 입경이 약 50 메쉬 이하 또는 약 150 메쉬를 초과할 경우 상기 분무가 용이하게 수행되지 않을 수 있다.In one embodiment, the particle size of the powder-type impregnated activated carbon may be in the range of about 50 to 150 mesh. If the particle diameter of the powder-type impregnated activated carbon exceeds about 50 mesh or less or about 150 mesh, the spraying may not be easily performed.

일 실시예에 있어서, 상기 분말형 첨착활성탄은 상기 흡착제 전체의 약 0.1 내지 약 10 중량%로 포함될 수 있다. 만약, 상기 분말형 첨착활성탄이 약 0.1 중량% 미만으로 포함될 경우 상기 분말형 첨착활성탄에 의한 흡착 효과가 충분히 발휘되지 않을 수 있으며, 약 10 중량%를 초과하여 포함될 경우 제조 비용이 과도하게 상승할 수 있다.In an embodiment, the powdery impregnated activated carbon may be included in an amount of about 0.1 to about 10% by weight of the total amount of the adsorbent. If the powdery impregnated activated carbon is contained in an amount of less than about 0.1 wt%, the adsorption effect by the powdered impregnated activated carbon may not be sufficiently exhibited. there is.

일 실시예에 있어서, 상기 흡착제는 리튬 화합물-함유 이산화탄소 흡착제를 추가 포함할 수 있다. 예를 들어, 상기 이산화탄소 흡착제는 Li2O, Li2CO3, LiOH, LiNO3, LiCl, LiBr, 및 이들의 조합들로 이루어지는 군으로부터 선택되는 리튬 화합물, 및 산화마그네슘(MgO)을 포함하는 것일 수 있으며, 구체적으로, 상기 이산화탄소 흡착제는 LiNO3와 산화마그네슘의 혼합물인 LiNO3-MgO를 포함하는 것일 수 있다.In one embodiment, the adsorbent may further include a lithium compound-containing carbon dioxide adsorbent. For example, the carbon dioxide adsorbent may include a lithium compound selected from the group consisting of Li 2 O, Li 2 CO 3 , LiOH, LiNO 3 , LiCl, LiBr, and combinations thereof, and magnesium oxide (MgO). For example, the carbon dioxide adsorbent may include LiNO 3 -MgO, which is a mixture of LiNO 3 and magnesium oxide.

일 실시예에 있어서, 상기 흡착제는 리튬 화합물-함유 이산화탄소 흡착제를 추가 포함함에 따라, 공정 시 발생하는 이산화탄소를 제거하여 과도한 온실가스 배출로 인한 기후 변화를 예방하여 환경 보호에 도움을 줄 수 있다.In an embodiment, the adsorbent further includes a lithium compound-containing carbon dioxide adsorbent, thereby removing carbon dioxide generated during the process to prevent climate change due to excessive greenhouse gas emission, thereby helping to protect the environment.

일 실시예에 있어서, 상기 이산화탄소 흡착제는 Li2O, Li2CO3, LiOH, LiNO3, LiCl, LiBr, 및 이들의 조합들로 이루어지는 군으로부터 선택되는 리튬 화합물 염 및 산화마그네슘을 혼합 및 소성하여 제조되는 것일 수 있다. 예를 들어, 상기 이산화탄소 흡착제는 리튬 화합물 염을 유기용매에 분산 또는 용해시킨 뒤, 산화마그네슘과 혼합하여 약 300℃ 내지 약 500℃의 온도 범위에서 소성시켜 제조되는 것일 수 있다.In one embodiment, the carbon dioxide adsorbent is Li 2 O, Li 2 CO 3 , LiOH, LiNO 3 , LiCl, LiBr, and a lithium compound salt selected from the group consisting of, and combinations thereof and magnesium oxide by mixing and calcining It may be manufactured. For example, the carbon dioxide adsorbent may be prepared by dispersing or dissolving a lithium compound salt in an organic solvent, mixing it with magnesium oxide, and calcining in a temperature range of about 300°C to about 500°C.

일 실시예에 있어서, 상기 이산화탄소 흡착제의 상기 리튬과 마그네슘의 원소비는 Mg:Li = 약 1: 약 1 내지 5일 수 있다. 예를 들어, 상기 이산화탄소 흡착제의 상기 리튬과 마그네슘의 원소비가 변화함에 따라 상기 이산화탄소의 흡착 속도가 변화할 수 있으며, 구체적으로 상기 리튬의 원소비가 증가할 경우 이산화탄소의 흡착 속도가 빨라질 수 있다.In an embodiment, the elemental ratio of lithium and magnesium in the carbon dioxide adsorbent may be Mg:Li=about 1: about 1 to 5. For example, as the elemental ratio of lithium and magnesium of the carbon dioxide adsorbent changes, the carbon dioxide adsorption rate may change, and specifically, when the elemental ratio of lithium increases, the carbon dioxide adsorption rate may increase.

일 실시예에 있어서, 상기 이산화탄소 흡착제는 상기 흡착제 전체의 약 0.1 내지 약 3 중량%로 포함될 수 있다. 만약, 상기 이산화탄소 흡착제가 약 0.1 중량% 미만으로 포함될 경우 이산화탄소 흡착 효과가 충분히 발휘되지 않을 수 있으며, 약 3 중량%를 초과하여 포함될 경우 제조 비용이 과도하게 상승할 수 있다.In one embodiment, the carbon dioxide adsorbent may be included in an amount of about 0.1 to about 3 wt% of the total amount of the adsorbent. If the carbon dioxide adsorbent is included in an amount of less than about 0.1 wt%, the carbon dioxide adsorption effect may not be sufficiently exhibited, and when it is included in an amount exceeding about 3 wt%, the manufacturing cost may be excessively increased.

일 실시예에 있어서, 상기 흡착제는 표면개질된 제올라이트 흡착제를 추가 포함할 수 있다. 상기 제올라이트는 중금속 및 독성물질을 흡착하는 성질을 가진 미네랄로서, 상기 제올라이트를 표면개질하여 흡착 성질을 향상시킬 수 있다. 이에 따라, 본 발명에 따른 도금처리 방법은 표면개질된 제올라이트 흡착제를 공정 시 반복 분무함으로써, 공정 시 발생하는 인 화합물을 포함하는 중금속과 유해가스를 포함하는 오염물질을 효과적으로 흡착하여 제거할 수 있다.In one embodiment, the adsorbent may further include a surface-modified zeolite adsorbent. The zeolite is a mineral having a property of adsorbing heavy metals and toxic substances, and the adsorption property can be improved by surface modification of the zeolite. Accordingly, in the plating method according to the present invention, by repeatedly spraying the surface-modified zeolite adsorbent during the process, it is possible to effectively adsorb and remove pollutants including heavy metals and harmful gases including phosphorus compounds generated during the process.

일 실시예에 있어서, 상기 표면개질된 제올라이트는 황산 수용액에 제올라이트를 투입하는 단계; 상기 황산 수용액에 침지한 제올라이트를 꺼내 소성하여 제올라이트 표면에 황산염을 형성하는 단계; 및 상기 황산염이 형성된 제올라이트를 건조 및 분쇄하는 단계에 의해 수득되는 것일 수 있다.In one embodiment, the surface-modified zeolite is prepared by adding the zeolite to an aqueous solution of sulfuric acid; taking out the zeolite immersed in the sulfuric acid aqueous solution and calcining to form a sulfate salt on the surface of the zeolite; and drying and pulverizing the zeolite in which the sulfate is formed.

일 실시예에 있어서, 상기 표면개질된 제올라이트는 상기 흡착제 전체의 약 0.1 내지 약 10 중량%로 포함될 수 있다. 만약, 상기 표면개질된 제올라이트가 약 0.1 중량% 미만으로 포함될 경우 상기 제올라이트에 의한 흡착 효과가 충분히 발휘되지 않을 수 있으며, 약 10 중량%를 초과하여 포함될 경우 제조 비용이 과도하게 상승할 수 있다.In one embodiment, the surface-modified zeolite may be included in an amount of about 0.1 to about 10% by weight of the total amount of the adsorbent. If the surface-modified zeolite is included in an amount of less than about 0.1 wt%, the adsorption effect by the zeolite may not be sufficiently exhibited, and if it is included in an amount exceeding about 10 wt%, the manufacturing cost may increase excessively.

일 실시예에 있어서, 상기 소성은 약 250℃ 내지 약 350℃의 온도 범위에서 수행될 수 있다. 만약, 상기 소성이 약 250℃ 미만의 온도에서 수행될 경우 상기 제올라이트 표면에 황산염이 균일하게 형성되지 않을 수 있으며, 약 350℃를 초과할 경우 과하게 소성되어 제올라이트의 흡착 성능이 하락할 수 있다.In one embodiment, the firing may be performed at a temperature range of about 250 °C to about 350 °C. If the calcination is performed at a temperature of less than about 250° C., sulfate may not be uniformly formed on the surface of the zeolite, and if it exceeds about 350° C., excessive calcination may result in deterioration of the adsorption performance of the zeolite.

다음으로, 상기 착색한 피도금물을 실링하여 표면처리한다. 상기 양극산화를 통해 형성된 피막은 형성 초기에는 대단한 활성력으로 그대로 방치해둘 경우 공기 중의 가스를 흡착하여 결국 불활성 상태로 변화할 수 있다. 따라서, 상기 산화피막을 형성한 피도금물을 실링하여 표면처리를 진행함으로써, 피막 표면에 형성된 구멍을 막아 내식성, 오염방지능력, 안정성, 내후성을 향상시킬 수 있다.Next, the colored object to be plated is sealed and surface treated. The film formed through the anodization may adsorb gas in the air and eventually change to an inert state if left as it is with a great active force at the initial stage of formation. Therefore, by sealing the object to be plated on which the oxide film is formed and performing surface treatment, the hole formed on the surface of the film is blocked to improve corrosion resistance, anti-contamination ability, stability, and weather resistance.

일 실시예에 있어서, 상기 탈지 단계, 화학적 에칭 단계, 무광처리 단계, 산화피막 형성 단계, 착색 단계, 및 표면처리 단계에서 선택된 적어도 하나의 각 단계 사이에는, 상기 피도금물을 물로 약 2회 이상 세척하는 수세 단계가 더욱 포함될 수 있다.In one embodiment, between each step selected from the degreasing step, the chemical etching step, the matting step, the oxide film forming step, the coloring step, and the surface treatment step, the to-be-plated object is washed with water about twice or more A washing step of washing may be further included.

이하, 구체적인 실시예와 비교예를 통하여 본 발명의 구성 및 그에 따른 효과를 보다 상세히 설명하고자 한다. 그러나, 본 실시예는 본 발명을 보다 구체적으로 설명하기 위한 것이며, 본 발명의 범위가 이들 실시예에 한정되는 것은 아니다.Hereinafter, the configuration of the present invention and its effects will be described in more detail through specific examples and comparative examples. However, these examples are for explaining the present invention in more detail, and the scope of the present invention is not limited to these examples.

[실시예 1][Example 1]

알루미늄 합금 소재의 피도금물(도 1a)을 양이온성 계면활성제로서 수산화나트륨(98%) 및 20% 농도 질산 수용액을 포함하는 50℃ 탈지 용액에 5 분간 침지하여 탈지시켰다(도 1b). 상기 탈지된 피도금물을 20% 황산에서 1 분 동안 침지하여 화학적 에칭한 뒤 수세하였다(도 1c). 그 후, 피도금물을 C액 및 D액을 포함하는 용액에 5 분간 침지하여 표면을 연마함으로써 무광처리한 뒤(도 1d), 수산화나트륨(98%) 및 불화암모늄을 포함하는 에칭 용액에 1 분 동안 침지하여 2차 화학적 에칭을 진행하였다. 다음으로, 피도금물을 25℃의 온도에서 20 중량%의 황산을 포함하는 용액에 50 분간 침지해 상기 피도금물을 양극으로 하여 상기 피도금물 표면에 산화피막을 형성하였다(도 2a).The aluminum alloy material to be plated (FIG. 1a) was degreased by immersing it in a degreasing solution at 50° C. containing sodium hydroxide (98%) and 20% nitric acid aqueous solution as a cationic surfactant for 5 minutes (FIG. 1b). The degreased object to be plated was chemically etched by immersion in 20% sulfuric acid for 1 minute and then washed with water (FIG. 1c). After that, the object to be plated is immersed in a solution containing solution C and solution D for 5 minutes to polish the surface (FIG. 1d), and then add 1 to an etching solution containing sodium hydroxide (98%) and ammonium fluoride. Secondary chemical etching was performed by immersion for minutes. Next, the object to be plated was immersed in a solution containing 20% by weight of sulfuric acid at a temperature of 25° C. for 50 minutes to form an oxide film on the surface of the object to be plated using the object to be plated as an anode (FIG. 2a).

산화피막 형성 후 2회 물로 세척하였으며(도 2b), 염료 조성물로서 ALUMINARL ORANGE-W를 포함하는 용액에 20 분간 침지하여 착색시켰다(도 2c). 염료가 착색된 피도금물은 변색 방지용 실링제(ANOD SG)에 20 분간 침지하여 실링처리를 진행하였다(도 2d). 실링처리 후, 도 3과 같이 탈수, 건조, 및 검수를 진행하여 도금처리를 완료하고 이를 실시예 1로 명명하였다(도 4).After the oxide film was formed, it was washed twice with water (Fig. 2b), and was colored by immersion in a solution containing ALUMINARL ORANGE-W as a dye composition for 20 minutes (Fig. 2c). The dye-colored object to be plated was immersed in a sealing agent for preventing discoloration (ANOD SG) for 20 minutes to perform a sealing treatment (FIG. 2d). After the sealing treatment, dehydration, drying, and inspection were performed as shown in FIG. 3 to complete the plating treatment, and this was named Example 1 (FIG. 4).

[실시예 2 및 실시예 3][Example 2 and Example 3]

상기 실시예 1과 동일하되, 산화피막 형성 단계 및 피도금물 착색 단계에서 하기 표 1의 구성성분으로 구성된 흡착제를 2 시간 간격으로 반복 분무하는 단계를 추가하여 도금처리를 완료하고, 이를 각각 실시예 2 및 실시예 3으로 명명하였다.The same as in Example 1, except that in the step of forming an oxide film and coloring the object to be plated, the step of repeatedly spraying the adsorbent composed of the components shown in Table 1 below at 2 hour intervals was added to complete the plating treatment, 2 and Example 3.

흡착제 구성성분Adsorbent Components 실시예 2Example 2 실시예 3Example 3 분말형 첨착활성탄Powder type impregnated activated carbon 10.0010.00 10.0010.00 LiNO3-MgOLiNO 3 -MgO 2.502.50 2.502.50 표면개질된 제올라이트Surface modified zeolite -- 4.504.50 정제수Purified water 잔량remaining amount 잔량remaining amount

[비교예][Comparative example]

도금처리를 진행하지 않고, 자연적 산화피막으로 덮인 알루미늄 합금 소재를 단순 사출 성형하여 수득하고 이를 비교예로 명명하였다.Without plating, an aluminum alloy material covered with a natural oxide film was obtained by simple injection molding, and this was named as a comparative example.

[실험예 1: 내구성 비교 실험][Experimental Example 1: Durability comparison experiment]

상기 실시예 1 내지 실시예 3, 및 비교예의 알루미늄 소재 각각의 내구성 테스트를 실시하였다. 내구성 테스트는 산화피막이 형성된 알루미늄 소재를 254 mm의 자외선에 약 15 분간 노출시킨 뒤, 외관을 육안으로 관찰하여 그 결과값을 기록하였다. 평가 기준은 외관의 변화가 일어나지 않은 경우를 '○'으로 하고, 15° 미만의 휨 현상이 나타낸 경우를 '△'으로 하고, 심한 뒤틀림 및 갈변 현상이 나타난 경우를 '×'로 표시하였다. 결과는 하기 표 2에 나타내었다.Each of the aluminum materials of Examples 1 to 3 and Comparative Examples were tested for durability. For the durability test, the aluminum material with an oxide film was exposed to ultraviolet rays of 254 mm for about 15 minutes, and then the appearance was observed with the naked eye and the results were recorded. As for the evaluation criteria, the case where the appearance did not change was marked as '○', the case where the bending phenomenon of less than 15° was indicated as '△', and the case where severe distortion and browning occurred was marked with 'x'. The results are shown in Table 2 below.

실시예 1Example 1 실시예 2Example 2 실시예 3Example 3 비교예comparative example 내구성 측정 결과Durability measurement result ××

상기 표 2에 나타낸 바와 같이, 본 발명에 따른 도금처리 방법에 의한 알루미늄 소재의 경우 자외선 조사에도 불구하고 뛰어난 내구성을 나타낸 것을 확인할 수 있었다.As shown in Table 2, in the case of the aluminum material by the plating method according to the present invention, it was confirmed that it showed excellent durability despite UV irradiation.

[실험예 2: 산화피막 두께 측정][Experimental Example 2: Measurement of Oxide Film Thickness]

상기 실시예 1 내지 실시예 3, 및 비교예의 알루미늄 소재 각각의 산화피막 두께를 도막 측정기를 통해 측정하였다. 측정 결과는 하기 표 3에 나타내었다.The oxide film thickness of each of the aluminum materials of Examples 1 to 3 and Comparative Examples was measured through a coating film measuring device. The measurement results are shown in Table 3 below.

실시예 1Example 1 실시예 2Example 2 실시예 3Example 3 비교예comparative example 산화피막 두께(μm)Oxide film thickness (μm) 26.826.8 34.534.5 41.041.0 5.15.1

상기 표 3에 나타낸 바와 같이, 본 발명에 따른 도금처리 방법에 의한 알루미늄 소재의 경우, 자연적 산화피막에 비해 현저하게 두꺼운 산화피막이 형성된 것을 확인할 수 있었다. As shown in Table 3, in the case of the aluminum material by the plating method according to the present invention, it was confirmed that a significantly thicker oxide film was formed compared to the natural oxide film.

[실험예 3: 전기화학적 분석][Experimental Example 3: Electrochemical analysis]

상기 실시예 1 내지 실시예 3, 및 비교예의 알루미늄 소재를 각각 염화나트륨 용액에 침지하여 무게변화율을 측정하였다. 구체적으로, 25℃의 3.5 중량% NaCl 수용액에 상기 알루미늄 소재 각각을 침지하고, 24 시간 단위로 3 일간 무게변화율을 이용하여 전기화학적 분석을 실시하였다. 무게의 감소량과 평균을 하기 표 4에 나타내었다.The weight change rate was measured by immersing the aluminum materials of Examples 1 to 3 and Comparative Examples in sodium chloride solution, respectively. Specifically, each of the aluminum materials was immersed in a 3.5 wt% NaCl aqueous solution at 25° C., and electrochemical analysis was performed using a weight change rate for 3 days in units of 24 hours. The weight loss and average are shown in Table 4 below.

초기 무게initial weight 1일차 질량
(감소량)
primary mass
(reduction amount)
2일차 질량
(감소량)
Day 2 Mass
(reduction amount)
3일차 질량
(감소량)
Day 3 Mass
(reduction amount)
실시예 1Example 1 5.3715.371 5.367(0.004)5.367 (0.004) 5.363
(0.004)
5.363
(0.004)
5.355
(0.008)
5.355
(0.008)
실시예 2Example 2 5.7805.780 5.778
(0.002)
5.778
(0.002)
5.774
(0.004)
5.774
(0.004)
5.770
(0.004)
5.770
(0.004)
실시예 3Example 3 5.1795.179 5.178(0.001)5.178 (0.001) 5.177
(0.001)
5.177
(0.001)
5.175
(0.002)
5.175
(0.002)
비교예comparative example 5.4795.479 5.470(0.009)5.470 (0.009) 5.458
(0.012)
5.458
(0.012)
5.435
(0.023)
5.435
(0.023)

상기 표 4에 나타낸 바와 같이, 본 발명에 따른 도막처리 방법에 의한 알루미늄 소재는 비교예에 비해 무게 감소량이 적었다. 이는, 양극산화를 통해 형성된 산화피막에 의해 산화가 덜 진행된 것을 의미하며, 그에 따라 알루미늄 소재의 내식성이 향상되었음을 확인할 수 있었다.As shown in Table 4, the weight loss of the aluminum material by the coating film treatment method according to the present invention was smaller than that of the comparative example. This means that oxidation is less advanced by the oxide film formed through anodization, and thus, it can be confirmed that the corrosion resistance of the aluminum material is improved.

본 명세서에서는 본 발명자들이 수행한 다양한 실시예 가운데 몇 개의 예만을 들어 설명하는 것이나 본 발명의 기술적 사상은 이에 한정하거나 제한되지 않고, 당업자에 의해 변형되어 다양하게 실시될 수 있음은 물론이다.In this specification, only a few examples among the various embodiments performed by the present inventors are described, but the technical spirit of the present invention is not limited or limited thereto, and it is of course that it may be modified and variously implemented by those skilled in the art.

Claims (3)

피도금물을 10 내지 98% 농도 범위의 수산화나트륨 및 1 내지 65% 농도 범위의 질산을 포함하는 탈지 용액에 침지하여 탈지하는 단계;
상기 탈지된 피도금물을 산 수용액을 이용하여 1차 화학적 에칭하는 단계;
상기 화학적 에칭한 피도금물의 표면을 부식시켜 무광처리하는 단계;
상기 무광처리한 피도금물을 수산화나트륨 및 불화암모늄을 포함하는 에칭 용액에 침지하여 2차 화학적 에칭하는 단계;
상기 무광처리한 피도금물을 10 내지 50 중량%의 황산을 포함하는 전해액에 침지하여 상기 피도금물의 표면에 30 내지 100 μm 두께 범위의 산화피막을 형성하는 단계;
상기 산화피막을 형성한 피도금물을 수세하여 이물질을 제거하는 단계;
상기 이물질을 제거한 피도금물을 염료 조성물에 침지하여 착색하는 단계; 및
상기 착색한 피도금물을 실링하여 표면처리하는 단계;
를 포함하는 금속 표면의 도금처리 방법으로서,
상기 피도금물의 표면에 산화피막을 형성하는 단계 및 상기 피도금물을 착색시키는 단계 중, 인 흡착용 물질로서 염화 제2철이 활성탄에 고르게 첨착 및 포함된 분말형 첨착활성탄 0.1 내지 10 중량% 및 이산화탄소 흡착제로서 LiNO3-MgO 0.1 내지 3 중량을 포함하는 흡착제를 1 시간 내지 4 시간 간격으로 반복 분사하여 오염물질을 제거하는 단계를 포함하며,
상기 흡착제는, 인 흡착용 물질로서 염화 제2철이 활성탄에 고르게 첨착 및 포함된 분말형 첨착활성탄을 상기 흡착제 전체 중량 대비 0.1 내지 10 중량%로 포함하고, 이산화탄소 흡착제로서 LiNO3-MgO을 상기 흡착제 전체 중량 대비 0.1 내지 3 중량으로 포함하는 것을 특징으로 하는,
금속 표면의 도금처리 방법.
degreasing the object to be plated by immersing it in a degreasing solution containing sodium hydroxide in a concentration range of 10 to 98% and nitric acid in a concentration range of 1 to 65%;
first chemical etching the degreased object to be plated using an acid aqueous solution;
eroding the surface of the chemically etched object to be plated;
Secondary chemical etching by immersing the matt-treated object to be plated in an etching solution containing sodium hydroxide and ammonium fluoride;
immersing the matt-treated object to be plated in an electrolyte containing 10 to 50 wt% of sulfuric acid to form an oxide film having a thickness of 30 to 100 μm on the surface of the object to be plated;
removing foreign substances by washing the object to be plated on which the oxide film is formed;
immersing the object to be plated from which the foreign material has been removed in a dye composition to color it; and
sealing and surface-treating the colored object to be plated;
As a plating method of a metal surface comprising a,
During the steps of forming an oxide film on the surface of the object to be plated and coloring the object to be plated, 0.1 to 10% by weight of powdered impregnated activated carbon in which ferric chloride is evenly impregnated and contained in activated carbon as a material for phosphorus adsorption; and Removal of contaminants by repeatedly spraying an adsorbent containing 0.1 to 3 weight of LiNO 3 -MgO as a carbon dioxide adsorbent at intervals of 1 to 4 hours,
The adsorbent contains 0.1 to 10 wt% of the powdery impregnated activated carbon in which ferric chloride is uniformly impregnated and contained in the activated carbon as a phosphorus adsorption material, based on the total weight of the adsorbent, and LiNO 3 -MgO as the carbon dioxide adsorbent is used in the entire adsorbent Characterized in that it contains 0.1 to 3 weight based on the weight,
A method for plating a metal surface.
삭제delete 제1항에 있어서, 상기 피도금물은,
알루미늄, 망간, 마그네슘, 아연, 구리, 지르코늄, 티타늄, 및 이들의 조합들로 이루어진 군으로부터 선택되는 하나 이상을 포함하는 것을 특징으로 하는, 금속 표면의 도금처리 방법.
According to claim 1, wherein the to-be-plated object,
A method for plating a metal surface, comprising at least one selected from the group consisting of aluminum, manganese, magnesium, zinc, copper, zirconium, titanium, and combinations thereof.
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