KR102392961B1 - Exhaust gas treatment apparatus and method - Google Patents

Exhaust gas treatment apparatus and method Download PDF

Info

Publication number
KR102392961B1
KR102392961B1 KR1020210109640A KR20210109640A KR102392961B1 KR 102392961 B1 KR102392961 B1 KR 102392961B1 KR 1020210109640 A KR1020210109640 A KR 1020210109640A KR 20210109640 A KR20210109640 A KR 20210109640A KR 102392961 B1 KR102392961 B1 KR 102392961B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
gas
exhaust gas
rotor
thermal oxidation
catalytic reduction
Prior art date
Application number
KR1020210109640A
Other languages
Korean (ko)
Inventor
유재경
이성수
홍성훈
홍재훈
이재림
황상엽
정성은
최재훈
Original Assignee
삼성엔지니어링 주식회사
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 삼성엔지니어링 주식회사 filed Critical 삼성엔지니어링 주식회사
Priority to KR1020210109640A priority Critical patent/KR102392961B1/en
Application granted granted Critical
Publication of KR102392961B1 publication Critical patent/KR102392961B1/en

Links

Images

Classifications

    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01D—SEPARATION
    • B01D53/00—Separation of gases or vapours; Recovering vapours of volatile solvents from gases; Chemical or biological purification of waste gases, e.g. engine exhaust gases, smoke, fumes, flue gases, aerosols
    • B01D53/34—Chemical or biological purification of waste gases
    • B01D53/74—General processes for purification of waste gases; Apparatus or devices specially adapted therefor
    • B01D53/75—Multi-step processes
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01D—SEPARATION
    • B01D53/00—Separation of gases or vapours; Recovering vapours of volatile solvents from gases; Chemical or biological purification of waste gases, e.g. engine exhaust gases, smoke, fumes, flue gases, aerosols
    • B01D53/005—Separation of gases or vapours; Recovering vapours of volatile solvents from gases; Chemical or biological purification of waste gases, e.g. engine exhaust gases, smoke, fumes, flue gases, aerosols by heat treatment
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01D—SEPARATION
    • B01D53/00—Separation of gases or vapours; Recovering vapours of volatile solvents from gases; Chemical or biological purification of waste gases, e.g. engine exhaust gases, smoke, fumes, flue gases, aerosols
    • B01D53/02—Separation of gases or vapours; Recovering vapours of volatile solvents from gases; Chemical or biological purification of waste gases, e.g. engine exhaust gases, smoke, fumes, flue gases, aerosols by adsorption, e.g. preparative gas chromatography
    • B01D53/04—Separation of gases or vapours; Recovering vapours of volatile solvents from gases; Chemical or biological purification of waste gases, e.g. engine exhaust gases, smoke, fumes, flue gases, aerosols by adsorption, e.g. preparative gas chromatography with stationary adsorbents
    • B01D53/0407—Constructional details of adsorbing systems
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01D—SEPARATION
    • B01D53/00—Separation of gases or vapours; Recovering vapours of volatile solvents from gases; Chemical or biological purification of waste gases, e.g. engine exhaust gases, smoke, fumes, flue gases, aerosols
    • B01D53/34—Chemical or biological purification of waste gases
    • B01D53/74—General processes for purification of waste gases; Apparatus or devices specially adapted therefor
    • B01D53/86—Catalytic processes
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01D—SEPARATION
    • B01D2251/00—Reactants
    • B01D2251/20—Reductants
    • B01D2251/206—Ammonium compounds
    • B01D2251/2062—Ammonia
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01D—SEPARATION
    • B01D2251/00—Reactants
    • B01D2251/20—Reductants
    • B01D2251/206—Ammonium compounds
    • B01D2251/2067—Urea
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01D—SEPARATION
    • B01D2257/00—Components to be removed
    • B01D2257/70—Organic compounds not provided for in groups B01D2257/00 - B01D2257/602
    • B01D2257/708—Volatile organic compounds V.O.C.'s
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01D—SEPARATION
    • B01D2258/00—Sources of waste gases
    • B01D2258/02—Other waste gases
    • B01D2258/0216—Other waste gases from CVD treatment or semi-conductor manufacturing

Abstract

The present invention provides an exhaust gas treatment apparatus with excellent exhaust gas removing performance and a method thereof. The exhaust gas treatment apparatus comprises: a first rotor concentrating hazardous substances included in exhaust gas to generate first concentrated gas and first depleting gas; a second rotor installed at a rear end of the first rotor for additionally concentrating the first depleting gas to generate second concentrated gas and second depleting gas; a thermal oxidation unit installed at a rear end of the first rotor for processing the first concentrated gas exhausted from the first rotor to generate first process gas; and a catalyst reduction unit installed at a rear end of the thermal oxidation unit for receiving the second concentrated gas exhausted from the second rotor to process the first process gas exhausted from the thermal oxidation unit which generates the second process gas.

Description

배기가스 처리 장치 및 배기가스 처리 방법{Exhaust gas treatment apparatus and method}Exhaust gas treatment apparatus and method for treating exhaust gas

배기가스 처리 장치 및 배기가스 처리 방법이 개시된다. 보다 상세하게는, 배기가스 제거성능이 우수한 배기가스 처리 장치 및 배기가스 처리 방법이 개시된다.An exhaust gas treatment apparatus and an exhaust gas treatment method are disclosed. More specifically, an exhaust gas treatment apparatus and an exhaust gas treatment method excellent in exhaust gas removal performance are disclosed.

종래 반도체 공정에서 배출되는 VOC(volatile organic compound)는 농도에 따라 RTO(regenerative thermal oxidizer: 축열식 열산화) 또는 CO(catalyst oxidizer: 촉매환원)로 처리가 가능하고, NH3는 수용해성이 높고 암모늄 이온(NH4 +)으로 해리되는 특성 때문에 황산 등을 첨가한 중화 방식의 습식세정(wet scrubber) 공정을 통해 적은 세정수 사용만으로도 고효율의 제거가 가능하다.VOC (volatile organic compound) emitted from the conventional semiconductor process can be treated with RTO (regenerative thermal oxidizer) or CO (catalyst oxidizer: catalytic reduction) depending on the concentration, and NH 3 has high water solubility and ammonium ion Due to the dissociation into (NH 4 + ), high efficiency removal is possible with only a small amount of washing water through the neutralization wet scrubber process with the addition of sulfuric acid.

반도체 생산 라인 중 일부 공정에서는 VOC와 NH3가 혼합된 배기가스가 배출되고 있으며, VOC는 물에 대한 용해도가 낮기 때문에 습식세정을 통해 처리할 경우 통상 NH3 처리에 필요한 양의 수십 배에 달하는 물이 필요하다. 반면에, NH3는 열산화 혹은 촉매산화로 처리할 경우, 일반 대기와 유사한 산소농도 조건(21%)에서는 산화되어 질소산화물(NOx) 및 N2O로 전환되는 문제가 있다.Exhaust gas mixed with VOC and NH 3 is emitted from some processes in the semiconductor production line, and since VOC has low solubility in water, when treated through wet cleaning, water that is several tens of times the amount normally required for NH 3 treatment I need this. On the other hand, when NH 3 is treated by thermal oxidation or catalytic oxidation, it is oxidized under oxygen concentration conditions (21%) similar to that of the general atmosphere and converted into nitrogen oxides (NOx) and N 2 O. There is a problem.

한편, 반도체 공정의 VOC 또는 NH3가 배출되는 배기에는 유기 실리콘 물질이 미량 포함되어 있다. 유기 실리콘 물질은 통상적인 RTO의 처리 온도에서는 겔(gel) 형태로 전환되어 축열재의 막힘을 유발하며, 촉매에 직접 유입될 경우 촉매 표면에서 산화 실리콘(SiO2) 형태로 전환되어 촉매 활성을 저하시키는 문제가 있다.On the other hand, the exhaust from which VOC or NH 3 of the semiconductor process is discharged contains a trace amount of organic silicon material. The organosilicon material is converted into a gel form at the treatment temperature of conventional RTO to cause clogging of the heat storage material, and when directly introduced into the catalyst, it is converted into a silicon oxide (SiO 2 ) form on the catalyst surface to lower the catalyst activity. there is a problem.

본 발명의 일 구현예는 배기가스 제거성능이 우수한 배기가스 처리 장치를 제공한다.One embodiment of the present invention provides an exhaust gas treatment apparatus having excellent exhaust gas removal performance.

본 발명의 다른 구현예는 배기가스 제거성능이 우수한 배기가스 처리 방법을 제공한다.Another embodiment of the present invention provides an exhaust gas treatment method having excellent exhaust gas removal performance.

본 발명의 일 측면은,One aspect of the present invention is

배기가스 중 유해물질을 농축시켜 제1 농축가스와 제1 고갈가스를 생성하도록 구성된 제1 로터;a first rotor configured to concentrate harmful substances in the exhaust gas to generate a first enriched gas and a first depleted gas;

상기 제1 로터의 후단에 설치되어 상기 제1 고갈가스를 추가로 농축시켜 제2 농축가스와 제2 고갈가스를 생성하도록 구성된 제2 로터;a second rotor installed at the rear end of the first rotor to further concentrate the first depleted gas to generate a second enriched gas and a second depleted gas;

상기 제1 로터의 후단에 설치되어 상기 제1 로터에서 배출된 상기 제1 농축가스를 처리하여 제1 처리가스를 생성하도록 구성된 열산화유닛; 및a thermal oxidation unit installed at the rear end of the first rotor and configured to process the first concentrated gas discharged from the first rotor to generate a first processing gas; and

상기 열산화유닛의 후단에 설치되어 상기 제2 로터에서 배출된 상기 제2 농축가스를 공급받아 상기 열산화유닛에서 배출된 상기 제1 처리가스를 처리하여 제2 처리가스를 생성하도록 구성된 촉매환원유닛을 포함하는 배기가스 처리 장치를 제공한다.A catalytic reduction unit installed at the rear end of the thermal oxidation unit to receive the second concentrated gas discharged from the second rotor and to process the first treatment gas discharged from the thermal oxidation unit to generate a second treatment gas It provides an exhaust gas treatment device comprising a.

상기 유해물질은 VOC, NH3 및 유기 실리콘을 포함할 수 있다.The hazardous material may include VOC, NH 3 and organic silicon.

상기 제1 로터는 VOC 및 NH3 흡착제를 포함할 수 있다.The first rotor may include a VOC and NH 3 adsorbent.

상기 제2 로터는 NH3 흡착제를 포함할 수 있다.The second rotor may include an NH 3 adsorbent.

상기 촉매환원유닛에 환원제를 공급하도록 구성된 환원제 공급유닛을 포함하지 않을 수 있다.It may not include a reducing agent supply unit configured to supply a reducing agent to the catalytic reduction unit.

상기 배기가스 처리 장치는 상기 열산화유닛과 상기 촉매환원유닛 사이에 배치된 열교환기를 더 포함할 수 있다.The exhaust gas treatment apparatus may further include a heat exchanger disposed between the thermal oxidation unit and the catalytic reduction unit.

상기 촉매환원유닛은 선택적 환원촉매 및 산화촉매를 포함할 수 있다.The catalytic reduction unit may include a selective reduction catalyst and an oxidation catalyst.

상기 배기가스 처리 장치는 상기 촉매환원유닛의 후단에 설치되어 상기 제2 처리가스 및 상기 제2 고갈가스를 외부로 배출시키도록 구성된 스택을 더 포함할 수 있다.The exhaust gas treatment apparatus may further include a stack installed at a rear end of the catalytic reduction unit to discharge the second processing gas and the second depleted gas to the outside.

상기 열산화유닛의 운전온도는 760~800℃일 수 있다.The operating temperature of the thermal oxidation unit may be 760 ~ 800 ℃.

상기 촉매환원유닛의 운전온도는 400~550℃일 수 있다.The operating temperature of the catalytic reduction unit may be 400 ~ 550 ℃.

상기 제1 로터로 공급되는 상기 배기가스 중의 NH3 함량 100중량부 중 상기 제1 농축가스로 들어가는 NH3 함량은 50~80중량부일 수 있다.Among 100 parts by weight of NH 3 content in the exhaust gas supplied to the first rotor, the NH 3 content entering the first enriched gas may be 50 to 80 parts by weight.

본 발명의 다른 측면은,Another aspect of the present invention is

배기가스 중 유해물질을 농축시켜 제1 농축가스와 제1 고갈가스를 생성하는 단계(S10);Concentrating harmful substances in the exhaust gas to generate a first concentrated gas and a first depleted gas (S10);

상기 제1 고갈가스를 추가로 농축시켜 제2 농축가스와 제2 고갈가스를 생성하는 단계(S20);generating a second enriched gas and a second depleted gas by further concentrating the first depleted gas (S20);

상기 단계(S10)에서 생성된 상기 제1 농축가스를 열산화시켜 제1 처리가스를 생성하는 단계(S30); 및generating a first processing gas by thermally oxidizing the first concentrated gas generated in the step (S10) (S30); and

상기 단계(S30)에서 생성된 상기 제1 처리가스를 상기 단계(S20)에서 생성된 상기 제2 농축가스의 존재하에 촉매환원시켜 제2 처리가스를 생성하는 단계(S40)를 포함하는 배기가스 처리 방법을 제공한다.Exhaust gas treatment comprising the step (S40) of catalytic reduction of the first process gas generated in the step (S30) in the presence of the second concentrated gas generated in the step (S20) to generate a second process gas (S40) provide a way

상기 단계(S10)는 제1 로터를 이용하여 수행되고, 상기 제1 로터는 VOC 및 NH3 흡착제를 포함할 수 있다.The step S10 is performed using a first rotor, and the first rotor may include VOC and NH 3 adsorbent.

상기 단계(S20)는 제2 로터를 이용하여 수행되고, 상기 제2 로터는 NH3 흡착제를 포함할 수 있다.The step (S20) is performed using a second rotor, and the second rotor may include an NH 3 adsorbent.

상기 단계(S30)는 760~800℃의 온도에서 수행될 수 있다.The step (S30) may be performed at a temperature of 760 ~ 800 ℃.

상기 단계(S40)는 400~550℃의 온도에서 수행될 수 있다.The step (S40) may be performed at a temperature of 400 ~ 550 ℃.

상기 단계(S10)에서 상기 배기가스에 함유된 NH3 함량 100중량부 중 상기 제1 농축가스로 들어가는 NH3 함량은 50~80중량부일 수 있다.Of 100 parts by weight of the NH 3 content contained in the exhaust gas in the step (S10), the NH 3 content entering the first concentrated gas may be 50 to 80 parts by weight.

상기 배기가스 처리 방법은 상기 단계(S20)에서 얻어진 상기 제2 고갈가스 및 상기 단계(S40)에서 얻어진 상기 제2 처리가스를 외부로 배출시키는 단계(S50)를 더 포함할 수 있다.The exhaust gas treatment method may further include a step (S50) of discharging the second depleted gas obtained in the step (S20) and the second treatment gas obtained in the step (S40) to the outside.

본 발명의 일 구현예에 따른 배기가스 처리 장치 및 배기가스 처리 방법은 VOC, NH3 및 유기 실리콘을 고효율로 제거할 수 있다.The exhaust gas treatment apparatus and the exhaust gas treatment method according to an exemplary embodiment of the present invention can remove VOC, NH 3 and organic silicon with high efficiency.

도 1은 본 발명의 일 구현예에 따른 배기가스 처리 장치를 개략적으로 나타낸 도면이다.1 is a view schematically showing an exhaust gas treatment apparatus according to an embodiment of the present invention.

이하에서는 도면을 참조하여 본 발명의 일 구현예에 따른 배기가스 처리 장치를 상세히 설명한다.Hereinafter, an exhaust gas treatment apparatus according to an embodiment of the present invention will be described in detail with reference to the drawings.

도 1은 본 발명의 일 구현예에 따른 배기가스 처리 장치(100)를 개략적으로 나타낸 도면이다.1 is a view schematically showing an exhaust gas treatment apparatus 100 according to an embodiment of the present invention.

본 명세서에서, "VOC(volatile organic compound)"란 통상적인 실온(20℃~25℃)에서 높은 증기압을 갖는 유기 화학물질을 의미한다.As used herein, "volatile organic compound (VOC)" refers to an organic chemical having a high vapor pressure at normal room temperature (20° C. to 25° C.).

또한 본 명세서에서, "배기가스(exhaust gas)"란 반도체 공정 등에서 배출되는 가스를 의미한다.Also, in this specification, the term “exhaust gas” refers to a gas discharged from a semiconductor process or the like.

또한 본 명세서에서, "처리가스(treated gas)"란 배기가스가 열산화유닛 및/또는 촉매환원유닛으로 처리되어 정화된 가스를 의미한다.In addition, in this specification, "treated gas" means a gas purified by treating exhaust gas with a thermal oxidation unit and/or a catalytic reduction unit.

또한 본 명세서에서, "열산화(thermal oxidation)"란 촉매환원 대비 상대적으로 고온에서 배기가스를 분해시키는 반응으로서, 열 연소(thermal combustion)에 의해 배기가스 중의 탄화수소계 오염물(예를 들어, VOC) 및 암모니아(NH3)를 화학적으로 산화시키는 반응을 의미한다.In addition, as used herein, "thermal oxidation" is a reaction that decomposes exhaust gas at a relatively high temperature compared to catalytic reduction, and hydrocarbon-based pollutants (eg, VOC) in exhaust gas by thermal combustion. And ammonia (NH 3 ) It refers to a reaction of chemically oxidizing.

또한 본 명세서에서, "촉매환원(selective catalytic reduction)"이란 열산화 대비 상대적으로 저온에서 촉매 및 환원제를 이용하여 폐가스를 분해시키는 반응으로서, 촉매 및 환원제의 작용에 의해 피처리가스 중의 NOx 및 N2O 등을 환원시키는 반응을 의미한다.In addition, in the present specification, "selective catalytic reduction" is a reaction in which waste gas is decomposed using a catalyst and a reducing agent at a relatively low temperature compared to thermal oxidation, and NOx and N 2 in the gas to be treated by the action of the catalyst and the reducing agent It refers to a reaction that reduces O and the like.

또한 본 명세서에서, "전단부"란 처리가스의 흐름방향을 기준으로 상대적으로 역방향에 위치한 부분을 의미하고, "후단부"란 처리가스의 흐름방향을 기준으로 상대적으로 순방향에 위치한 부분을 의미한다.In addition, in this specification, "front end" means a portion located in a relatively reverse direction with respect to the flow direction of the processing gas, and "rear end" means a portion located in a relatively forward direction with respect to the flow direction of the processing gas. .

또한 본 명세서에서, "산화" 및 "산화촉매"란 각각 VOC 및 NH3를 산화시키는 반응 및 촉매를 의미한다.Also, in this specification, "oxidation" and "oxidation catalyst" refer to a reaction and a catalyst for oxidizing VOC and NH 3 , respectively.

또한 본 명세서에서, "농축가스(concentrated gas)"란 유해물질의 농도가 상대적으로 높은 가스를 의미하고, "고갈가스(depleted gas)"란 유해물질의 농도가 상대적으로 낮은 가스를 의미한다.Also, in the present specification, "concentrated gas" means a gas having a relatively high concentration of harmful substances, and "depleted gas" means a gas having a relatively low concentration of harmful substances.

또한 본 명세서에서, "처리영역(treating area)"이란 유해물질을 흡착하는 영역을 의미한다.Also, in this specification, the term “treating area” refers to an area adsorbing harmful substances.

또한 본 명세서에서, "재생영역(regenerating area)"이란 흡착된 유해물질을 가열하여 제거하는 영역을 의미한다.Also, in this specification, the term "regenerating area" means an area in which adsorbed harmful substances are heated and removed.

또한 본 명세서에서, "퍼지영역(purging area)"이란 재생영역에 가해진 열이 처리영역으로 전달되지 않도록 냉각하는 영역을 의미한다.Also, in this specification, the term “purging area” refers to an area in which heat applied to the regeneration area is cooled so that the heat is not transferred to the treatment area.

본 발명의 일 구현예에 따른 배기가스 처리 장치(100)는 제1 로터(110), 제2 로터(120), 열산화유닛(130) 및 촉매환원유닛(140)을 포함한다.The exhaust gas treatment apparatus 100 according to an embodiment of the present invention includes a first rotor 110 , a second rotor 120 , a thermal oxidation unit 130 , and a catalytic reduction unit 140 .

제1 로터(110)는 배기가스(EG) 중의 유해물질을 농축시켜 제1 농축가스와 제1 고갈가스를 생성하도록 구성될 수 있다. 구체적으로, 배기가스(EG) 중 일부는 배관(L11)을 따라 제1 로터(110)의 처리영역으로 공급되고 나머지 일부는 배관(L12)를 따라 퍼지영역으로 공급된다. 상기 처리영역은 배기가스(EG) 중 유해물질을 흡착하고, 상기 퍼지 영역은 냉각된다. 상기 처리영역을 통과한 배기가스는 제1 고갈가스가 되어 후술하는 제2 로터(120)로 공급된다. 제1 로터(110)는 연속적으로 회전하여 상기 처리영역이 재생영역으로 전환되고, 상기 재생영역에서는 상기 흡착된 유해물질이 탈착된다. 구체적으로, 상기 퍼지영역에서 배출된 배기가스가 히터나 열교환기에 의해 가열된 후 상기 재생영역으로 공급되어 상기 흡착된 유해물질을 탈착시킨다. 상기 탈착된 유해물질은, 상기 퍼지영역으로 공급된 후 상기 재생영역에서 배출된 배기가스와 함께, 제1 농축가스를 형성한 후 열산화유닛(130)으로 공급된다.The first rotor 110 may be configured to concentrate harmful substances in the exhaust gas EG to generate a first concentrated gas and a first depleted gas. Specifically, a portion of the exhaust gas EG is supplied to the processing region of the first rotor 110 along the pipe L11 , and the remaining part is supplied to the purge region along the pipe L12 . The treatment area adsorbs harmful substances in the exhaust gas EG, and the purge area is cooled. The exhaust gas that has passed through the treatment region becomes a first depleted gas and is supplied to a second rotor 120 to be described later. The first rotor 110 continuously rotates to convert the treatment area into a regeneration area, and the adsorbed harmful substances are desorbed from the regeneration area. Specifically, the exhaust gas discharged from the purge area is heated by a heater or a heat exchanger and then supplied to the regeneration area to desorb the adsorbed harmful substances. The desorbed harmful substances are supplied to the purge region and then supplied to the thermal oxidation unit 130 together with the exhaust gas discharged from the regeneration region to form a first concentrated gas.

상기 유해물질은 VOC, NH3 및 유기 실리콘을 포함할 수 있다. 이 경우, 제1 로터(110)는 VOC 및 NH3 흡착제를 포함할 수 있다. 상기 VOC 및 NH3 흡착제는 VOC 흡착제와 NH3 흡착제가 소정 비율로 균일하게 혼합된 것일 수 있다. 또한, 상기 VOC 및 NH3 흡착제는 VOC 및 NH3뿐만 아니라 유기 실리콘도 흡착할 수 있다.The hazardous material may include VOC, NH 3 and organic silicon. In this case, the first rotor 110 may include VOC and NH 3 adsorbent. The VOC and NH 3 adsorbent may be a mixture of a VOC adsorbent and an NH 3 adsorbent at a predetermined ratio. In addition, the VOC and NH 3 adsorbent may adsorb not only VOC and NH 3 but also organic silicon.

상기 VOC 및 NH3 흡착제는 제올라이트, 활성탄, 활성탄소섬유 또는 이들의 조합을 포함할 수 있다. 구체적으로, NH3는 친수성 작용기가 많은 제올라이트에 잘 흡착된다. VOC는 Si/Al 비율을 조절하여 제조한 소수성 제올라이트, 활성탄 및 활성탄소섬유 등의 물질에 잘 흡착된다. 반도체에서 배출되는 VOC의 주성분인 IPA(isopropyl alcohol)는 친수성과 소수성을 모두 가지기 때문에 제올라이트와 활성탄 둘 다에 잘 흡착되지만, NH3는 활성탄에는 잘 흡착되지 못한다. VOC 흡착용 제올라이트는 NH3를 포집하기에는 기공의 크기가 크지만 제올라이트의 기공크기가 4~9Å인 경우, NH3의 흡착이 매우 잘 된다. 제1 로터(110)는 주름(corrugation) 형상의 구조체에 제올라이트를 함침하여 제작될 수 있다. 하나의 구조체에 VOC 흡착용 제올라이트와 NH3 흡착용 제올라이트를 같이 함침하면 동시 농축기(즉, 제1 로터(110))를 제작할 수 있다. 또는, VOC 흡착용 제올라이트를 함침한 1단 구조체와 NH3 흡착용 제올라이트를 함침한 2단 구조체를 직렬로 연결하게 되면 VOC와 NH3를 분리해서 농축할 수 있다. 분리 농축 시스템에서, 직렬 구조의 앞부분에 위치하는 VOC 흡착용 1단 구조체에 사용되는 제올라이트는 NH3에 대한 흡착능도 약하게 보유하기 때문에, 1단 로터를 통과하는 가스는 대부분의 VOC와 유기 실리콘 및 일부 NH3가 제거되며, 2단 로터를 통과하는 가스는 잔여 NH3의 대부분이 제거된다. 로터(110, 120)의 제올라이트에 흡착된 오염 성분은 재생영역에서 200℃ 부근으로 가열된 배기가스에 의해 탈착되는데, 이때 배기가스의 양은 원래 처리되는 배기가스량의 농축비만큼 축소되고, 유해물질의 농도는 흡착효율과 농축배수를 곱한 값만큼 높아진다.The VOC and NH 3 adsorbent may include zeolite, activated carbon, activated carbon fiber, or a combination thereof. Specifically, NH 3 is well adsorbed to zeolite having many hydrophilic functional groups. VOC is well adsorbed on materials such as hydrophobic zeolite, activated carbon, and activated carbon fiber prepared by controlling the Si/Al ratio. IPA (isopropyl alcohol), the main component of VOC emitted from semiconductors, is well adsorbed to both zeolite and activated carbon because it has both hydrophilicity and hydrophobicity, but NH 3 is poorly adsorbed to activated carbon. The zeolite for VOC adsorption has a large pore size to collect NH 3 , but when the pore size of the zeolite is 4 to 9 Å, NH 3 adsorption is very good. The first rotor 110 may be manufactured by impregnating a corrugation-shaped structure with zeolite. When a single structure is impregnated with a zeolite for VOC adsorption and a zeolite for NH 3 adsorption, a simultaneous concentrator (ie, the first rotor 110 ) can be manufactured. Alternatively, if the one-stage structure impregnated with the zeolite for VOC adsorption and the two-stage structure impregnated with the zeolite for NH 3 adsorption are connected in series, VOC and NH 3 may be separated and concentrated. In the separation and concentration system, since the zeolite used in the first stage structure for VOC adsorption located at the front of the series structure also has weak adsorption capacity for NH 3 , the gas passing through the first stage rotor contains most of the VOC and organic silicon and some NH 3 is removed, and most of the remaining NH 3 is removed from the gas passing through the second stage rotor. The contaminant components adsorbed on the zeolite of the rotors 110 and 120 are desorbed by the exhaust gas heated to around 200° C. in the regeneration area. At this time, the amount of exhaust gas is reduced by the concentration ratio of the amount of exhaust gas originally treated, and The concentration increases as much as the product of the adsorption efficiency and the concentration drainage.

제1 로터(110)로 공급되는 상기 배기가스 중의 NH3 함량 100중량부 중 후술하는 상기 제1 농축가스로 들어간 후 열산화유닛(130)으로 공급되는 NH3 함량은 50~80중량부일 수 있다. 따라서, 제1 로터(110)로 공급되는 상기 배기가스 중의 NH3 함량 100중량부 중 상기 제1 고갈가스로 들어간 후 후술하는 제2 로터(120)로 공급되는 NH3 함량은 20~50중량부일 수 있다. 제1 로터(110)로 공급되는 상기 배기가스 중의 NH3 함량 100중량부 중 상기 제1 농축가스로 들어간 후 열산화유닛(130)으로 공급되는 NH3 함량 및 상기 제1 고갈가스로 들어간 후 제2 로터(120)로 공급되는 NH3 함량이 각각 상기 범위이내이면, 배기가스 처리효율이 향상될 수 있다.Among 100 parts by weight of the NH 3 content in the exhaust gas supplied to the first rotor 110, the NH 3 content supplied to the thermal oxidation unit 130 after entering the first concentrated gas to be described later may be 50 to 80 parts by weight. . Therefore, among 100 parts by weight of the NH 3 content in the exhaust gas supplied to the first rotor 110, the NH 3 content supplied to the second rotor 120 to be described later after entering the first depleted gas is 20 to 50 parts by weight. can Among 100 parts by weight of the NH 3 content in the exhaust gas supplied to the first rotor 110, the NH 3 content supplied to the thermal oxidation unit 130 after entering the first concentrated gas and the second depletion gas after entering the first depleted gas 2 When the NH 3 content supplied to the rotor 120 is within the above range, the exhaust gas treatment efficiency may be improved.

제2 로터(120)는 제1 로터(110)의 후단에 설치되어 상기 제1 고갈가스를 추가로 농축시켜 제2 농축가스와 제2 고갈가스를 생성하도록 구성될 수 있다. 구체적으로, 상기 제1 고갈가스 중 일부는 배관(L21)을 따라 제2 로터(120)의 처리영역으로 공급되고 나머지 일부는 배관(L22)를 따라 퍼지영역으로 공급된다. 상기 처리영역은 상기 제1 고갈가스 중 유해물질을 흡착하고, 상기 퍼지 영역은 냉각된다. 상기 처리영역을 통과한 상기 제1 고갈가스는 제2 고갈가스가 되어 후술하는 스택(150)으로 공급된다. 제2 로터(120)는 연속적으로 회전하여 상기 처리영역이 재생영역으로 전환되고, 상기 재생영역에서는 상기 흡착된 유해물질이 탈착된다. 구체적으로, 상기 퍼지영역에서 배출된 배기가스가 히터나 열교환기에 의해 가열된 후 상기 재생영역으로 공급되어 상기 흡착된 유해물질을 탈착시킨다. 상기 탈착된 유해물질은, 상기 퍼지영역으로 공급된 후 상기 재생영역에서 배출된 배기가스와 함께, 제2 농축가스를 형성한 후 촉매환원유닛(140)으로 공급된다.The second rotor 120 may be installed at the rear end of the first rotor 110 to further concentrate the first depleted gas to generate a second enriched gas and a second depleted gas. Specifically, a portion of the first depleted gas is supplied to the processing region of the second rotor 120 along the pipe L21 and the remaining part is supplied to the purge region along the pipe L22. The treatment region adsorbs harmful substances in the first depleted gas, and the purge region is cooled. The first depleted gas that has passed through the processing region becomes a second depleted gas and is supplied to a stack 150 to be described later. The second rotor 120 continuously rotates to convert the treatment area into a regeneration area, and the adsorbed harmful substances are desorbed from the regeneration area. Specifically, the exhaust gas discharged from the purge area is heated by a heater or a heat exchanger and then supplied to the regeneration area to desorb the adsorbed harmful substances. The desorbed harmful substances are supplied to the purge area and then, together with the exhaust gas discharged from the regeneration area, form a second concentrated gas, and then are supplied to the catalytic reduction unit 140 .

제2 로터(120)는 NH3 흡착제를 포함할 수 있다.The second rotor 120 may include an NH 3 adsorbent.

제2 로터(120)의 제조방법은 VOC 흡착제를 사용하지 않는다는 점을 제외하고는 제1 로터(110)와 동일하거나 유사하므로, 여기에서는 이에 대한 자세한 설명을 생략하기로 한다. Since the manufacturing method of the second rotor 120 is the same as or similar to that of the first rotor 110 except that a VOC adsorbent is not used, a detailed description thereof will be omitted herein.

또한, 제2 로터(120)의 작동원리 및 기능은 VOC를 흡착하거나 탈착하지 않는다는 점을 제외하고는 제1 로터(110)와 동일하거나 유사하므로, 여기에서는 이에 대한 자세한 설명을 생략하기로 한다. In addition, since the operating principle and function of the second rotor 120 is the same as or similar to that of the first rotor 110 except that VOC is not adsorbed or desorbed, a detailed description thereof will be omitted herein.

열산화유닛(130)은 제1 로터(110)의 후단에 설치되어 제1 로터(110)에서 배출된 상기 제1 농축가스를 처리(즉, 열산화)하여 제1 처리가스를 생성하도록 구성될 수 있다. The thermal oxidation unit 130 is installed at the rear end of the first rotor 110 to process (ie, thermally oxidize) the first concentrated gas discharged from the first rotor 110 to generate a first processing gas. can

예를 들어, 열산화유닛(130)은 가스버너를 구비할 수 있다. 상기 가스버너는 연료 및 공기를 별도로 공급받아, 열산화유닛(130) 내에서 상기 연료와 공기의 연소 반응을 일으키는 역할을 수행한다. 상기 연료는 액화 천연 가스(LNG)일 수 있다. 상기 연소 반응에 의해 열산화유닛(130) 내로 유입된 제1 농축가스가 가열되고, 이 과정에서 상기 제1 농축가스에 함유된 VOC가 산화되어 CO2 및 CO로 전환되고, NH3가 산화되어 N2, NOx 및 N2O로 전환되고, 유기 실리콘이 산화되어 분말 형태의 SiO2로 전환될 수 있다. 결과로서, NOx, N2O 및 SiO2를 함유하는 제1 처리가스가 생성될 수 있다.For example, the thermal oxidation unit 130 may include a gas burner. The gas burner receives fuel and air separately, and serves to cause a combustion reaction between the fuel and air in the thermal oxidation unit 130 . The fuel may be liquefied natural gas (LNG). The first concentrated gas introduced into the thermal oxidation unit 130 by the combustion reaction is heated, and in this process, VOC contained in the first concentrated gas is oxidized and converted to CO 2 and CO, and NH 3 is oxidized It may be converted into N 2 , NOx and N 2 O, and the organic silicon may be oxidized to be converted into SiO 2 in powder form. As a result, a first process gas containing NOx, N 2 O and SiO 2 can be generated.

또한, 열산화유닛(130)의 운전온도는 760~800℃일 수 있다. 열산화유닛(130)의 운전온도가 상기 범위이내이면, 촉매 피독을 방지하여 배기가스 처리효율을 장시간 유지할 수 있다. 구체적으로, 열산화유닛(130)의 운전온도가 760℃ 미만인 경우, 유기 실리콘 및 VOC가 불완전 연소된 상태로 후단 촉매환원유닛(140)으로 유입되어, 촉매 표면에서 산화 또는 중합되면서 피독에 의한 성능 저하를 일으킨다. 또한 열산화유닛(130)의 운전온도가 800℃를 초과하는 경우, 유기 실리콘이 끈적끈적한 겔(gel) 형태로 전환되어, 후단 열교환기 및 촉매에 달라붙어 열교환 효율 저하 및 촉매 막힘 문제를 유발한다.In addition, the operating temperature of the thermal oxidation unit 130 may be 760 ~ 800 ℃. When the operating temperature of the thermal oxidation unit 130 is within the above range, it is possible to prevent catalyst poisoning and maintain exhaust gas treatment efficiency for a long time. Specifically, when the operating temperature of the thermal oxidation unit 130 is less than 760° C., organic silicon and VOC are introduced into the downstream catalytic reduction unit 140 in an incompletely burned state, and the performance due to poisoning while being oxidized or polymerized on the catalyst surface cause a drop In addition, when the operating temperature of the thermal oxidation unit 130 exceeds 800 ° C., the organic silicon is converted into a sticky gel form, and adheres to the rear heat exchanger and catalyst, thereby causing a decrease in heat exchange efficiency and clogging of the catalyst. .

열산화유닛(130)에서 NH3의 산화에 의해 생성된 NOx 및 N2O는 각각 유해가스 및 온실가스이기 때문에 제거되어야 하는 물질이다. 열산화유닛(130) 후단의 열교환기를 거쳐 적절한 촉매 활성 온도(400~550℃)까지 냉각된 가스 중의 NOx 및 N2O는 상기 제2 농축가스에 함유된 NH3와 혼합되어 선택적 촉매환원반응(selective catalytic reduction)을 통해 N2로 전환된다. 구체적으로, 촉매환원유닛(140)은 열산화유닛(130)의 후단에 설치되어 제2 로터(120)에서 배출된 상기 제2 농축가스를 공급받아 열산화유닛(130)에서 배출된 상기 제1 처리가스를 처리하여 제2 처리가스를 생성하도록 구성될 수 있다. 보다 구체적으로, 촉매환원유닛(140)은 NOx 및 N2O의 환원반응(즉, 촉매환원반응)이 일어나도록 구성될 수 있다. 결과로서, NOx 및 N2O를 함유하지 않거나 미량 함유하는 제2 처리가스가 생성될 수 있다. 또한, 상기 제2 처리가스는 일산화탄소를 더 포함할 수 있다.NOx and N 2 O generated by the oxidation of NH 3 in the thermal oxidation unit 130 are substances to be removed because they are harmful gases and greenhouse gases, respectively. NOx and N 2 O in the gas cooled to an appropriate catalytic activation temperature (400 to 550° C.) through a heat exchanger at the rear end of the thermal oxidation unit 130 is mixed with NH 3 contained in the second concentrated gas to perform a selective catalytic reduction reaction ( It is converted to N 2 through selective catalytic reduction). Specifically, the catalytic reduction unit 140 is installed at the rear end of the thermal oxidation unit 130 to receive the second concentrated gas discharged from the second rotor 120 and the first exhausted from the thermal oxidation unit 130 . and processing the process gas to produce a second process gas. More specifically, the catalytic reduction unit 140 may be configured to cause a reduction reaction of NOx and N 2 O (ie, a catalytic reduction reaction). As a result, the second process gas containing no or trace amounts of NOx and N 2 O can be produced. In addition, the second processing gas may further include carbon monoxide.

또한, 촉매환원유닛(140)은 적어도 1종의 선택적 환원촉매(SCR 촉매)를 포함할 수 있다.In addition, the catalytic reduction unit 140 may include at least one selective reduction catalyst (SCR catalyst).

상기 선택적 환원촉매는 V2O5/WO3/TiO2, V/TiO2, V/W/TiO2, 제올라이트, 다공성 알루미나에 담지된 금속촉매, V/Ce/TiO2　또는 이들의 조합을 포함할 수 있다. 상기 제올라이트　촉매는 구리(Cu), 백금(Pt), 망간(Mn), 철(Fe), 코발트(Co), 니켈(Ni), 아연(Zn), 세슘(Cs), 갈륨(Ga) 중 하나 이상의 원소가 이온 교환된 것일 수 있다. 상기 다공성 알루미나에 담지된 금속　촉매는 백금(Pt), 팔라듐(Pd), 로듐(Rh), 이리듐(Ir), 루테늄(Ru), 텅스텐(W), 크롬(Cr), 망간(Mn), 철(Fe), 코발트(Co), 구리(Cu), 아연(Zn), 은(Ag) 중 하나 이상의 금속이 다공성 알루미나에 담지된 것일 수 있다. 그러나, 본 발명이 이에 한정되는 것은 아니다.The selective reduction catalyst includes V 2 O 5 /WO 3 /TiO 2 , V/TiO 2 , V/W/TiO 2 , zeolite, a metal catalyst supported on porous alumina, V/Ce/TiO 2 or a combination thereof. can do. The zeolite catalyst is one of copper (Cu), platinum (Pt), manganese (Mn), iron (Fe), cobalt (Co), nickel (Ni), zinc (Zn), cesium (Cs), and gallium (Ga) The above elements may be ion-exchanged. The metal catalyst supported on the porous alumina is platinum (Pt), palladium (Pd), rhodium (Rh), iridium (Ir), ruthenium (Ru), tungsten (W), chromium (Cr), manganese (Mn), iron At least one metal among (Fe), cobalt (Co), copper (Cu), zinc (Zn), and silver (Ag) may be supported on porous alumina. However, the present invention is not limited thereto.

또한, 촉매환원유닛(140)은 상기 선택적 환원촉매의 후단에 산화촉매를 더 포함할 수 있다.In addition, the catalytic reduction unit 140 may further include an oxidation catalyst at the rear end of the selective reduction catalyst.

상기 산화촉매는 일산화탄소, 잔여 VOC 및 NH3를 산화시키는 역할을 수행한다.The oxidation catalyst serves to oxidize carbon monoxide, residual VOC and NH 3 .

또한, 상기 산화촉매는 귀금속 촉매(Pt, Pd, Rh, Ir, Ru, Ag), 금속산화물 촉매(Cu, V, Co, Fe, Mn의 산화물), 제올라이트 또는 이들의 조합을 포함할 수 있다.In addition, the oxidation catalyst may include a noble metal catalyst (Pt, Pd, Rh, Ir, Ru, Ag), a metal oxide catalyst (oxides of Cu, V, Co, Fe, Mn), zeolite, or a combination thereof.

또한, 촉매환원유닛(140)를 통과한 가스는 온도에 따라 열교환기를 거쳐 열회수되거나, 혹은 열회수를 하지 않은 상태로 제2 로터(120)에서 처리된 가스에 혼합되어 최종 배출구로 배출(즉, 스택(150)으로 공급)될 수 있다.In addition, the gas that has passed through the catalytic reduction unit 140 is either heat recovered through a heat exchanger depending on the temperature, or mixed with the gas treated in the second rotor 120 without heat recovery and discharged to the final outlet (that is, the stack (supplied as 150) can be provided.

또한, 촉매환원유닛(140)의 운전온도는 400~550℃일 수 있다. 촉매환원유닛(140)의 운전온도가 상기 범위이내이면, 배기가스 처리효율이 향상될 수 있다.In addition, the operating temperature of the catalytic reduction unit 140 may be 400 ~ 550 ℃. When the operating temperature of the catalytic reduction unit 140 is within the above range, the exhaust gas treatment efficiency may be improved.

또한, 배기가스 처리 장치(100)는 촉매환원유닛(140)에 별도의 환원제를 공급하도록 구성된 별도의 환원제 공급유닛을 포함하지 않을 수 있다.In addition, the exhaust gas treatment apparatus 100 may not include a separate reducing agent supply unit configured to supply a separate reducing agent to the catalytic reduction unit 140 .

또한, 배기가스 처리 장치(100)는 열산화유닛(130)과 촉매환원유닛(140) 사이에 배치된 열교환기(미도시)를 더 포함할 수 있다.In addition, the exhaust gas treatment apparatus 100 may further include a heat exchanger (not shown) disposed between the thermal oxidation unit 130 and the catalytic reduction unit 140 .

상기 열교환기는 열산화유닛(130)에서 배출된 제1 처리가스의 온도를 낮춰주는 역할을 수행한다.The heat exchanger serves to lower the temperature of the first processing gas discharged from the thermal oxidation unit 130 .

또한, 배기가스 처리 장치(100)는 촉매환원유닛(140)의 후단에 설치되어 상기 제2 처리가스 및 상기 제2 고갈가스를 외부로 배출시키도록 구성된 스택(150)을 더 포함할 수 있다.In addition, the exhaust gas processing apparatus 100 may further include a stack 150 installed at the rear end of the catalytic reduction unit 140 to discharge the second processing gas and the second depleted gas to the outside.

상기와 같은 구성을 갖는 본 발명의 일 구현예에 따른 배기가스 처리 장치(100)는 VOC 및 NH3가 동시에 배출되고, 유기 실리콘이 미량 포함된 배기가스에서 VOC와 NH3를 고효율로 동시에 처리할 수 있다. The exhaust gas treatment apparatus 100 according to an embodiment of the present invention having the configuration as described above simultaneously discharges VOC and NH 3 , and simultaneously treats VOC and NH 3 in the exhaust gas containing a trace amount of organic silicon with high efficiency. can

이하, 본 발명의 일 구현예에 따른 배기가스 처리 방법을 상세히 설명한다.Hereinafter, an exhaust gas treatment method according to an embodiment of the present invention will be described in detail.

본 발명의 일 구현예에 따른 배기가스 처리 방법은 배기가스 중 유해물질을 농축시켜 제1 농축가스와 제1 고갈가스를 생성하는 단계(S10), 상기 제1 고갈가스를 추가로 농축시켜 제2 농축가스와 제2 고갈가스를 생성하는 단계(S20), 상기 단계(S10)에서 생성된 상기 제1 농축가스를 열산화시켜 제1 처리가스를 생성하는 단계(S30) 및 상기 단계(S30)에서 생성된 상기 제1 처리가스를 상기 단계(S20)에서 생성된 상기 제2 농축가스의 존재하에 촉매환원시켜 제2 처리가스를 생성하는 단계(S40)를 포함한다.The exhaust gas treatment method according to an embodiment of the present invention comprises the steps of concentrating harmful substances in the exhaust gas to generate a first concentrated gas and a first depleted gas (S10), and further concentrating the first depleted gas to a second In the step (S20) of generating the enriched gas and the second depleted gas, the thermal oxidation of the first enriched gas generated in the step (S10) to generate a first process gas (S30) and the step (S30) and catalytically reducing the generated first process gas in the presence of the second enriched gas generated in step S20 to generate a second process gas (S40).

상기 단계(S10)는 제1 로터를 이용하여 수행되고, 상기 제1 로터는 VOC 및 NH3 흡착제를 포함할 수 있다.The step S10 is performed using a first rotor, and the first rotor may include VOC and NH 3 adsorbent.

상기 단계(S20)는 제2 로터를 이용하여 수행되고, 상기 제2 로터는 NH3 흡착제를 포함할 수 있다.The step (S20) is performed using a second rotor, and the second rotor may include an NH 3 adsorbent.

상기 단계(S20)는 760~800℃의 온도에서 수행될 수 있다.The step (S20) may be performed at a temperature of 760 ~ 800 ℃.

또한, 상기 단계(S30)는 400~550℃의 온도에서 수행될 수 있다.In addition, the step (S30) may be performed at a temperature of 400 ~ 550 ℃.

상기 단계(S10)에서 상기 배기가스에 함유된 NH3 함량 100중량부 중 상기 제1 농축가스로 들어가는 NH3 함량은 50~80중량부일 수 있다.Of 100 parts by weight of the NH 3 content contained in the exhaust gas in the step (S10), the NH 3 content entering the first concentrated gas may be 50 to 80 parts by weight.

상기 배기가스 처리 방법은 상기 단계(S20)에서 얻어진 상기 제2 고갈가스 및 상기 단계(S40)에서 얻어진 상기 제2 처리가스를 외부로 배출시키는 단계(S50)를 더 포함할 수 있다.The exhaust gas treatment method may further include a step (S50) of discharging the second depleted gas obtained in the step (S20) and the second treatment gas obtained in the step (S40) to the outside.

상기 단계들(S10~S50)은 상술한 배기가스 처리 장치(100)를 사용하여 수행될 수 있다.The steps S10 to S50 may be performed using the exhaust gas treatment apparatus 100 described above.

이하, 본 발명을 하기 실시예를 들어 설명하지만, 본 발명이 하기 실시예로만 한정되는 것은 아니다.Hereinafter, the present invention will be described with reference to the following examples, but the present invention is not limited only to the following examples.

제조예: 배기가스 처리 장치의 제조Manufacturing example: manufacturing of exhaust gas treatment device

도 1과 동일한 구성을 갖는 배기가스 처리장치를 제조하였다.An exhaust gas treatment apparatus having the same configuration as that of FIG. 1 was manufactured.

실시예 1: 배기가스 처리Example 1: Exhaust Gas Treatment

상기 제조예에서 제조된 배기가스 처리장치내에 반도체 공정 모사 배기가스를 유입시켜 처리하였다. 배기가스 중의 VOC 농도는 부피 기준으로 200ppm(THC로 측정), NH3는 부피 기준으로 200ppm, 유기 실리콘의 농도는 부피 기준으로 2ppm이었다. 여기서, THC는 "total hydrocarbon"의 약어이다. 제1 로터는 이것으로 공급되는 배기가스 중의 NH3 함량 100중량부 중 열산화유닛으로 들어가는 NH3 함량이 75중량부가 되도록 제작되었다. 제1 로터에서 농축비는 15배이고, VOC 농축효율은 98%이고, NH3 농축효율은 75%이었다. 열산화유닛으로 유입되는 VOC 농도 및 NH3 농도는 각각 부피 기준으로 2,940ppm 및 2,250ppm이었다. 제2 로터에서 농축비는 15배이고, NH3 농축효율은 99.9%이었다. 촉매환원유닛으로 유입되는 NH3 농도는 부피 기준으로 803ppm이었다. 열산화유닛의 운전온도는 780℃이고, 촉매환원유닛의 운전온도는 500℃이었다.The semiconductor process simulation exhaust gas was introduced into the exhaust gas processing apparatus manufactured in the above production example and treated. The concentration of VOC in the exhaust gas was 200 ppm by volume (measured by THC), NH 3 was 200 ppm by volume, and the concentration of organic silicon was 2 ppm by volume. Here, THC is an abbreviation for "total hydrocarbon". The first rotor was manufactured so that the NH 3 content entering the thermal oxidation unit among 100 parts by weight of the NH 3 content in the exhaust gas supplied thereto was 75 parts by weight. In the first rotor, the concentration ratio was 15 times, the VOC concentration efficiency was 98%, and the NH 3 concentration efficiency was 75%. VOC concentration and NH 3 concentration flowing into the thermal oxidation unit were 2,940 ppm and 2,250 ppm by volume, respectively. In the second rotor, the concentration ratio was 15 times, and the NH 3 concentration efficiency was 99.9%. The concentration of NH 3 flowing into the catalytic reduction unit was 803 ppm by volume. The operating temperature of the thermal oxidation unit was 780°C, and the operating temperature of the catalytic reduction unit was 500°C.

실시예 2: 배기가스 처리Example 2: Exhaust Gas Treatment

열산화유닛의 운전온도를 760℃로 변경하고, 촉매환원유닛의 운전온도를 500℃로 유지하고, 제1 로터로 공급되는 배기가스 중의 NH3 함량 100중량부 중 열산화유닛으로 들어가는 NH3 함량을 75중량부로 유지한 것을 제외하고는, 상기 실시예 1과 동일한 배기가스를 동일한 방법으로 처리하였다.Change the operating temperature of the thermal oxidation unit to 760 ℃, maintain the operating temperature of the catalytic reduction unit at 500 ℃, NH 3 content entering the thermal oxidation unit among 100 parts by weight of NH 3 content in the exhaust gas supplied to the first rotor Except for maintaining 75 parts by weight, the same exhaust gas as in Example 1 was treated in the same manner.

실시예 3: 배기가스 처리Example 3: Exhaust Gas Treatment

열산화유닛의 운전온도를 800℃로 변경하고, 촉매환원유닛의 운전온도를 500℃로 유지하고, 제1 로터로 공급되는 배기가스 중의 NH3 함량 100중량부 중 열산화유닛으로 들어가는 NH3 함량을 75중량부로 유지한 것을 제외하고는, 상기 실시예 1과 동일한 배기가스를 동일한 방법으로 처리하였다.Changing the operating temperature of the thermal oxidation unit to 800°C, maintaining the operating temperature of the catalytic reduction unit at 500°C, and NH 3 content entering the thermal oxidation unit among 100 parts by weight of NH 3 content in the exhaust gas supplied to the first rotor Except for maintaining 75 parts by weight, the same exhaust gas as in Example 1 was treated in the same manner.

실시예 4: 배기가스 처리Example 4: Exhaust Gas Treatment

열산화유닛의 운전온도를 780℃로 유지하고, 촉매환원유닛의 운전온도를 400℃로 변경하고, 제1 로터로 공급되는 배기가스 중의 NH3 함량 100중량부 중 열산화유닛으로 들어가는 NH3 함량을 75중량부로 유지한 것을 제외하고는, 상기 실시예 1과 동일한 배기가스를 동일한 방법으로 처리하였다.Maintaining the operating temperature of the thermal oxidation unit at 780°C, changing the operating temperature of the catalytic reduction unit to 400°C, and NH 3 content entering the thermal oxidation unit among 100 parts by weight of NH 3 content in the exhaust gas supplied to the first rotor Except for maintaining 75 parts by weight, the same exhaust gas as in Example 1 was treated in the same manner.

실시예 5: 배기가스 처리Example 5: Exhaust Gas Treatment

열산화유닛의 운전온도를 780℃로 유지하고, 촉매환원유닛의 운전온도를 550℃로 변경하고, 제1 로터로 공급되는 배기가스 중의 NH3 함량 100중량부 중 열산화유닛으로 들어가는 NH3 함량을 75중량부로 유지한 것을 제외하고는, 상기 실시예 1과 동일한 배기가스를 동일한 방법으로 처리하였다.Maintaining the operating temperature of the thermal oxidation unit at 780 ℃, changing the operating temperature of the catalytic reduction unit to 550 ℃, NH 3 content entering the thermal oxidation unit among 100 parts by weight of NH 3 content in the exhaust gas supplied to the first rotor Except for maintaining 75 parts by weight, the same exhaust gas as in Example 1 was treated in the same manner.

실시예 6: 배기가스 처리Example 6: Exhaust Gas Treatment

열산화유닛의 운전온도를 780℃로 유지하고, 촉매환원유닛의 운전온도를 500℃로 유지하고, 제1 로터로 공급되는 배기가스 중의 NH3 함량 100중량부 중 열산화유닛으로 들어가는 NH3 함량을 50중량부로 변경한 것을 제외하고는, 상기 실시예 1과 동일한 배기가스를 동일한 방법으로 처리하였다. 이 경우, 제1 로터에서 농축비는 15배이고, VOC 농축효율은 98%이고, NH3 농축효율은 50%이었다. 열산화유닛으로 유입되는 VOC 농도 및 NH3 농도는 각각 부피 기준으로 2,940ppm 및 1,500ppm이었다. 제2 로터에서 농축비는 15배이고, NH3 농축효율은 99.6%이었다. 촉매환원유닛으로 유입되는 NH3 농도는 부피 기준으로 1,600ppm이었다.Maintaining the operating temperature of the thermal oxidation unit at 780 ℃, maintaining the operating temperature of the catalytic reduction unit at 500 ℃, NH 3 content entering the thermal oxidation unit among 100 parts by weight of NH 3 content in the exhaust gas supplied to the first rotor Except for changing to 50 parts by weight, the same exhaust gas as in Example 1 was treated in the same manner. In this case, the concentration ratio in the first rotor was 15 times, the VOC concentration efficiency was 98%, and the NH 3 concentration efficiency was 50%. VOC concentration and NH 3 concentration flowing into the thermal oxidation unit were 2,940 ppm and 1,500 ppm by volume, respectively. In the second rotor, the concentration ratio was 15 times, and the NH 3 concentration efficiency was 99.6%. The concentration of NH 3 flowing into the catalytic reduction unit was 1,600 ppm by volume.

실시예 7: 배기가스 처리Example 7: Exhaust Gas Treatment

열산화유닛의 운전온도를 780℃로 유지하고, 촉매환원유닛의 운전온도를 500℃로 유지하고, 제1 로터로 공급되는 배기가스 중의 NH3 함량 100중량부 중 열산화유닛으로 들어가는 NH3 함량을 80중량부로 변경한 것을 제외하고는, 상기 실시예 1과 동일한 배기가스를 동일한 방법으로 처리하였다. 이 경우, 제1 로터에서 농축비는 15배이고, VOC 농축효율은 98%이고, NH3 농축효율은 80%이었다. 열산화유닛으로 유입되는 VOC 농도 및 NH3 농도는 각각 부피 기준으로 2,940ppm 및 2,400ppm이었다. 제2 로터에서 농축비는 15배이고, NH3 농축효율은 99.9%이었다. 촉매환원유닛으로 유입되는 NH3 농도는 부피 기준으로 645ppm이었다.Maintaining the operating temperature of the thermal oxidation unit at 780 ℃, maintaining the operating temperature of the catalytic reduction unit at 500 ℃, NH 3 content entering the thermal oxidation unit among 100 parts by weight of NH 3 content in the exhaust gas supplied to the first rotor Except for changing to 80 parts by weight, the same exhaust gas as in Example 1 was treated in the same manner. In this case, the concentration ratio in the first rotor was 15 times, the VOC concentration efficiency was 98%, and the NH 3 concentration efficiency was 80%. VOC concentration and NH 3 concentration flowing into the thermal oxidation unit were 2,940 ppm and 2,400 ppm by volume, respectively. In the second rotor, the concentration ratio was 15 times, and the NH 3 concentration efficiency was 99.9%. The concentration of NH 3 flowing into the catalytic reduction unit was 645 ppm by volume.

비교예 1: 배기가스 처리Comparative Example 1: Exhaust gas treatment

열산화유닛의 운전온도를 750℃로 변경하고, 촉매환원유닛의 운전온도를 500℃로 유지하고, 제1 로터로 공급되는 배기가스 중의 NH3 함량 100중량부 중 열산화유닛으로 들어가는 NH3 함량을 75중량부로 유지한 것을 제외하고는, 상기 실시예 1과 동일한 배기가스를 동일한 방법으로 처리하였다. Changing the operating temperature of the thermal oxidation unit to 750 ° C, maintaining the operating temperature of the catalytic reduction unit at 500 ° C, NH 3 content entering the thermal oxidation unit among 100 parts by weight of NH 3 content in the exhaust gas supplied to the first rotor Except for maintaining 75 parts by weight, the same exhaust gas as in Example 1 was treated in the same manner.

비교예 2: 배기가스 처리Comparative Example 2: Exhaust gas treatment

열산화유닛의 운전온도를 810℃로 변경하고, 촉매환원유닛의 운전온도를 500℃로 유지하고, 제1 로터로 공급되는 배기가스 중의 NH3 함량 100중량부 중 열산화유닛으로 들어가는 NH3 함량을 75중량부로 유지한 것을 제외하고는, 상기 실시예 1과 동일한 배기가스를 동일한 방법으로 처리하였다. Changing the operating temperature of the thermal oxidation unit to 810 ° C, maintaining the operating temperature of the catalytic reduction unit at 500 ° C, NH 3 content entering the thermal oxidation unit among 100 parts by weight of NH 3 content in the exhaust gas supplied to the first rotor Except for maintaining 75 parts by weight, the same exhaust gas as in Example 1 was treated in the same manner.

비교예 3: 배기가스 처리Comparative Example 3: Exhaust gas treatment

열산화유닛의 운전온도를 780℃로 유지하고, 촉매환원유닛의 운전온도를 350℃로 변경하고, 제1 로터로 공급되는 배기가스 중의 NH3 함량 100중량부 중 열산화유닛으로 들어가는 NH3 함량을 75중량부로 유지한 것을 제외하고는, 상기 실시예 1과 동일한 배기가스를 동일한 방법으로 처리하였다.Maintaining the operating temperature of the thermal oxidation unit at 780 ℃, changing the operating temperature of the catalytic reduction unit to 350 ℃, NH 3 content entering the thermal oxidation unit among 100 parts by weight of NH 3 content in the exhaust gas supplied to the first rotor Except for maintaining 75 parts by weight, the same exhaust gas as in Example 1 was treated in the same manner.

비교예 4: 배기가스 처리Comparative Example 4: Exhaust gas treatment

열산화유닛의 운전온도를 780℃로 유지하고, 촉매환원유닛의 운전온도를 600℃로 변경하고, 제1 로터로 공급되는 배기가스 중의 NH3 함량 100중량부 중 열산화유닛으로 들어가는 NH3 함량을 75중량부로 유지한 것을 제외하고는, 상기 실시예 1과 동일한 배기가스를 동일한 방법으로 처리하였다.Maintaining the operating temperature of the thermal oxidation unit at 780 ℃, changing the operating temperature of the catalytic reduction unit to 600 ℃, NH 3 content entering the thermal oxidation unit among 100 parts by weight of NH 3 content in the exhaust gas supplied to the first rotor Except for maintaining 75 parts by weight, the same exhaust gas as in Example 1 was treated in the same manner.

비교예 5: 배기가스 처리Comparative Example 5: Exhaust gas treatment

열산화유닛의 운전온도를 780℃로 유지하고, 촉매환원유닛의 운전온도를 500℃로 유지하고, 제1 로터로 공급되는 배기가스 중의 NH3 함량 100중량부 중 열산화유닛으로 들어가는 NH3 함량을 40중량부로 변경한 것을 제외하고는, 상기 실시예 1과 동일한 배기가스를 동일한 방법으로 처리하였다. 이 경우, 제1 로터에서 농축비는 15배이고, VOC 농축효율은 98%이고, NH3 농축효율은 40%이었다. 열산화유닛으로 유입되는 VOC 농도 및 NH3 농도는 각각 부피 기준으로 2,940ppm 및 1,200ppm이었다. 제2 로터에서 농축비는 15배이고, NH3 농축효율은 99.3%이었다. 촉매환원유닛으로 유입되는 NH3 농도는 부피 기준으로 1,910ppm이었다.Maintaining the operating temperature of the thermal oxidation unit at 780 ℃, maintaining the operating temperature of the catalytic reduction unit at 500 ℃, NH 3 content entering the thermal oxidation unit among 100 parts by weight of NH 3 content in the exhaust gas supplied to the first rotor Except for changing to 40 parts by weight, the same exhaust gas as in Example 1 was treated in the same manner. In this case, the concentration ratio in the first rotor was 15 times, the VOC concentration efficiency was 98%, and the NH 3 concentration efficiency was 40%. VOC concentration and NH 3 concentration flowing into the thermal oxidation unit were 2,940 ppm and 1,200 ppm by volume, respectively. In the second rotor, the concentration ratio was 15 times, and the NH 3 concentration efficiency was 99.3%. The concentration of NH 3 flowing into the catalytic reduction unit was 1,910 ppm by volume.

비교예 6: 배기가스 처리Comparative Example 6: Exhaust gas treatment

열산화유닛의 운전온도를 780℃로 유지하고, 촉매환원유닛의 운전온도를 500℃로 유지하고, 제1 로터로 공급되는 배기가스 중의 NH3 함량 100중량부 중 열산화유닛으로 들어가는 NH3 함량을 90중량부로 변경한 것을 제외하고는, 상기 실시예 1과 동일한 배기가스를 동일한 방법으로 처리하였다. 이 경우, 제1 로터에서 농축비는 15배이고, VOC 농축효율은 98%이고, NH3 농축효율은 90%이었다. 열산화유닛으로 유입되는 VOC 농도 및 NH3 농도는 각각 부피 기준으로 2,940ppm 및 2,700ppm이었다. 제2 로터에서 농축비는 15배이고, NH3 농축효율은 99.9%이었다. 촉매환원유닛으로 유입되는 NH3 농도는 부피 기준으로 323ppm이었다.Maintaining the operating temperature of the thermal oxidation unit at 780 ℃, maintaining the operating temperature of the catalytic reduction unit at 500 ℃, NH 3 content entering the thermal oxidation unit among 100 parts by weight of NH 3 content in the exhaust gas supplied to the first rotor Except for changing to 90 parts by weight, the same exhaust gas as in Example 1 was treated in the same manner. In this case, the concentration ratio in the first rotor was 15 times, the VOC concentration efficiency was 98%, and the NH 3 concentration efficiency was 90%. VOC concentration and NH 3 concentration flowing into the thermal oxidation unit were 2,940 ppm and 2,700 ppm by volume, respectively. In the second rotor, the concentration ratio was 15 times, and the NH 3 concentration efficiency was 99.9%. The concentration of NH 3 flowing into the catalytic reduction unit was 323 ppm by volume.

상기 실시예 1~7 및 비교예 1~6에 있어서 열산화유닛의 운전온도(T1), 촉매환원유닛의 운전온도(T2) 및 제1 로터로 공급되는 배기가스 중의 NH3 함량 100중량부 중 열산화유닛으로 들어가는 NH3 함량(R)을 정리하여 하기 표 1에 나타내었다.In Examples 1 to 7 and Comparative Examples 1 to 6, the operating temperature (T1) of the thermal oxidation unit, the operating temperature (T2) of the catalytic reduction unit, and the NH 3 content in the exhaust gas supplied to the first rotor 100 parts by weight The NH 3 content (R) entering the thermal oxidation unit is summarized and shown in Table 1 below.

실시예Example 비교예comparative example 1One 22 33 44 55 66 77 1One 22 33 44 55 66 T1
(℃)T1
(℃) 780780 760760 800800 780780 780780 780780 780780 750750 810810 780780 780780 780780 780780 T2(℃)T2(℃) 500500 500500 500500 400400 550550 500500 500500 500500 500500 350350 600600 500500 500500 R(중량부)R (parts by weight) 7575 7575 7575 7575 7575 5050 8080 7575 7575 7575 7575 4040 9090

평가예: 배기가스 처리 장치의 유해물질 성능 평가Evaluation example: Performance evaluation of hazardous substances in exhaust gas treatment equipment

상기 실시예 1~7 및 비교예 1~6에서 실시한 배기가스 처리 결과로부터 배기가스 처리 장치의 유해물질 제거 성능을 평가하여 그 결과를 하기 표 2에 나타내었다. 하기 표 2에 기재된 각 성분의 농도는 촉매환원유닛의 후단에서 채취한 가스 시료를 분석한 결과이다. 또한, 하기 표 2에서 각 성분의 농도는 부피 기준이다.From the exhaust gas treatment results performed in Examples 1 to 7 and Comparative Examples 1 to 6, the harmful substances removal performance of the exhaust gas treatment apparatus was evaluated, and the results are shown in Table 2 below. The concentration of each component shown in Table 2 below is the result of analyzing the gas sample collected from the rear end of the catalytic reduction unit. In addition, in Table 2 below, the concentration of each component is based on volume.

VOC 농도(ppm)VOC Concentration (ppm) NH3 농도 (ppm)NH 3 concentration (ppm) NOx 농도 (ppm)NOx concentration (ppm) N2O 농도 (ppm)N 2 O concentration (ppm) 실시예 1Example 1 0.10.1 00 0.30.3 0.30.3 실시예 2Example 2 1.21.2 0.10.1 0.10.1 0.40.4 실시예 3Example 3 0.30.3 0.30.3 0.40.4 0.10.1 실시예 4Example 4 1.81.8 9.99.9 0.40.4 18.218.2 실시예 5Example 5 0.80.8 0.50.5 28.128.1 0.20.2 실시예 6Example 6 0.50.5 7.47.4 0.30.3 0.20.2 실시예 7Example 7 0.30.3 0.20.2 0.50.5 0.30.3 비교예 1Comparative Example 1 10.510.5 54.454.4 41.241.2 26.826.8 비교예 2Comparative Example 2 2.62.6 40.240.2 36.936.9 23.623.6 비교예 3Comparative Example 3 3.33.3 61.061.0 1.71.7 54.454.4 비교예 4Comparative Example 4 0.70.7 0.10.1 176176 0.10.1 비교예 5Comparative Example 5 0.20.2 40.740.7 0.40.4 0.50.5 비교예 6Comparative Example 6 0.40.4 0.10.1 153153 0.20.2

상기 표 2를 참조하면, 실시예 1~7의 배기가스 처리 장치의 운전 결과, 촉매환원유닛의 후단에서 채취한 가스 시료는 VOC 농도, NH3 농도, NOx 농도 및 N2O 농도가 모두 낮은 것으로 나타났다.Referring to Table 2, as a result of the operation of the exhaust gas treatment apparatus of Examples 1 to 7, the gas sample collected from the rear end of the catalytic reduction unit has low VOC concentration, NH 3 concentration, NOx concentration, and N 2 O concentration. appear.

반면에, 비교예 1~6의 배기가스 처리 장치의 운전 결과, 촉매환원유닛의 후단에서 채취한 가스 시료는 VOC 농도, NH3 농도, NOx 농도 및 N2O 농도 중 적어도 하나가 높은 것으로 나타났다.On the other hand, as a result of the operation of the exhaust gas treatment apparatus of Comparative Examples 1 to 6, it was found that at least one of VOC concentration, NH 3 concentration, NOx concentration, and N 2 O concentration was high in the gas sample collected from the rear end of the catalytic reduction unit.

본 발명은 도면 및 실시예를 참고로 설명되었으나 이는 예시적인 것에 불과하며, 본 기술 분야의 통상의 지식을 가진 자라면 이로부터 다양한 변형 및 균등한 다른 구현예가 가능하다는 점을 이해할 것이다. 따라서, 본 발명의 진정한 기술적 보호 범위는 첨부된 특허청구범위의 기술적 사상에 의하여 정해져야 할 것이다.Although the present invention has been described with reference to the drawings and embodiments, these are merely exemplary, and it will be understood by those skilled in the art that various modifications and equivalent other embodiments are possible therefrom. Accordingly, the true technical protection scope of the present invention should be determined by the technical spirit of the appended claims.

100: 배기가스 처리 장치 110: 제1 로터
120: 제2 로터 130: 열산화유닛
140: 촉매환원유닛 150: 스택100: exhaust gas treatment device 110: first rotor
120: second rotor 130: thermal oxidation unit
140: catalytic reduction unit 150: stack

Claims (18)

배기가스 중 유해물질을 농축시켜 제1 농축가스와 제1 고갈가스를 생성하도록 구성된 제1 로터;
상기 제1 로터의 후단에 설치되어 상기 제1 고갈가스를 추가로 농축시켜 제2 농축가스와 제2 고갈가스를 생성하도록 구성된 제2 로터;
상기 제1 로터의 후단에 설치되어 상기 제1 로터에서 배출된 상기 제1 농축가스를 처리하여 제1 처리가스를 생성하도록 구성된 열산화유닛; 및
상기 열산화유닛의 후단에 설치되어 상기 제2 로터에서 배출된 상기 제2 농축가스를 공급받아 상기 열산화유닛에서 배출된 상기 제1 처리가스를 처리하여 제2 처리가스를 생성하도록 구성된 촉매환원유닛을 포함하고,
상기 유해물질은 VOC, NH3 및 유기 실리콘을 포함하고,
상기 열산화유닛의 운전온도는 760~800℃이고,
상기 촉매환원유닛의 운전온도는 400~550℃이고,
상기 제1 로터로 공급되는 상기 배기가스 중의 NH3 함량 100중량부 중 상기 제1 농축가스로 들어가는 NH3 함량은 50~80중량부인 배기가스 처리 장치.a first rotor configured to concentrate harmful substances in the exhaust gas to generate a first enriched gas and a first depleted gas;
a second rotor installed at the rear end of the first rotor to further concentrate the first depleted gas to generate a second enriched gas and a second depleted gas;
a thermal oxidation unit installed at the rear end of the first rotor and configured to process the first concentrated gas discharged from the first rotor to generate a first processing gas; and
A catalytic reduction unit installed at the rear end of the thermal oxidation unit to receive the second concentrated gas discharged from the second rotor and to process the first treatment gas discharged from the thermal oxidation unit to generate a second treatment gas including,
The harmful substances include VOC, NH 3 and organic silicon,
The operating temperature of the thermal oxidation unit is 760 ~ 800 ℃,
The operating temperature of the catalytic reduction unit is 400 ~ 550 ℃,
The NH 3 content of 100 parts by weight of the NH 3 content of the exhaust gas supplied to the first rotor supplied to the first concentrated gas is 50 to 80 parts by weight of the exhaust gas treatment apparatus. 삭제delete 제1항에 있어서,
상기 제1 로터는 VOC 및 NH3 흡착제를 포함하는 배기가스 처리 장치.According to claim 1,
The first rotor is an exhaust gas treatment device comprising a VOC and NH 3 adsorbent. 제1항에 있어서,
상기 제2 로터는 NH3 흡착제를 포함하는 배기가스 처리 장치.According to claim 1,
The second rotor is an exhaust gas treatment device comprising an NH 3 adsorbent. 제1항에 있어서,
상기 촉매환원유닛에 환원제를 공급하도록 구성된 환원제 공급유닛을 포함하지 않는 배기가스 처리 장치.According to claim 1,
An exhaust gas treatment apparatus not including a reducing agent supply unit configured to supply a reducing agent to the catalytic reduction unit. 제1항에 있어서,
상기 열산화유닛과 상기 촉매환원유닛 사이에 배치된 열교환기를 더 포함하는 배기가스 처리 장치.According to claim 1,
The exhaust gas treatment apparatus further comprising a heat exchanger disposed between the thermal oxidation unit and the catalytic reduction unit. 제1항에 있어서,
상기 촉매환원유닛은 선택적 환원촉매 및 산화촉매를 포함하는 배기가스 처리 장치.According to claim 1,
The catalytic reduction unit is an exhaust gas treatment device comprising a selective reduction catalyst and an oxidation catalyst. 제1항에 있어서,
상기 촉매환원유닛의 후단에 설치되어 상기 제2 처리가스 및 상기 제2 고갈가스를 외부로 배출시키도록 구성된 스택을 더 포함하는 배기가스 처리 장치.According to claim 1,
and a stack installed at a rear end of the catalytic reduction unit to discharge the second process gas and the second depleted gas to the outside. 삭제delete 삭제delete 삭제delete 배기가스 중 유해물질을 농축시켜 제1 농축가스와 제1 고갈가스를 생성하는 단계(S10);
상기 제1 고갈가스를 추가로 농축시켜 제2 농축가스와 제2 고갈가스를 생성하는 단계(S20);
상기 단계(S10)에서 생성된 상기 제1 농축가스를 열산화시켜 제1 처리가스를 생성하는 단계(S30); 및
상기 단계(S30)에서 생성된 상기 제1 처리가스를 상기 단계(S20)에서 생성된 상기 제2 농축가스의 존재하에 촉매환원시켜 제2 처리가스를 생성하는 단계(S40)를 포함하고,
상기 유해물질은 VOC, NH3 및 유기 실리콘을 포함하고,
상기 단계(S30)는 760~800℃의 온도에서 수행되고,
상기 단계(S40)는 400~550℃의 온도에서 수행되고,
상기 단계(S10)에서 상기 배기가스에 함유된 NH3 함량 100중량부 중 상기 제1 농축가스로 들어가는 NH3 함량은 50~80중량부인 배기가스 처리 방법.Concentrating harmful substances in the exhaust gas to generate a first concentrated gas and a first depleted gas (S10);
generating a second enriched gas and a second depleted gas by further concentrating the first depleted gas (S20);
generating a first processing gas by thermally oxidizing the first concentrated gas generated in the step (S10) (S30); and
and catalytically reducing the first process gas generated in the step (S30) in the presence of the second concentrated gas generated in the step (S20) to generate a second process gas (S40),
The harmful substances include VOC, NH 3 and organic silicon,
The step (S30) is carried out at a temperature of 760 ~ 800 ℃,
The step (S40) is carried out at a temperature of 400 ~ 550 ℃,
The NH 3 content entering the first concentrated gas among 100 parts by weight of the NH 3 content contained in the exhaust gas in the step (S10) is 50 to 80 parts by weight of the exhaust gas treatment method. 제12항에 있어서,
상기 단계(S10)는 제1 로터를 이용하여 수행되고, 상기 제1 로터는 VOC 및 NH3 흡착제를 포함하는 배기가스 처리 방법.13. The method of claim 12,
The step (S10) is performed using a first rotor, the first rotor is an exhaust gas treatment method comprising a VOC and NH 3 adsorbent. 제12항에 있어서,
상기 단계(S20)는 제2 로터를 이용하여 수행되고, 상기 제2 로터는 NH3 흡착제를 포함하는 배기가스 처리 방법.13. The method of claim 12,
The step (S20) is performed using a second rotor, and the second rotor is an exhaust gas treatment method comprising an NH 3 adsorbent. 삭제delete 삭제delete 삭제delete 제12항에 있어서,
상기 단계(S20)에서 얻어진 상기 제2 고갈가스 및 상기 단계(S40)에서 얻어진 상기 제2 처리가스를 외부로 배출시키는 단계(S50)를 더 포함하는 배기가스 처리 방법.13. The method of claim 12,
The exhaust gas treatment method further comprising the step (S50) of discharging the second exhaust gas obtained in the step (S20) and the second processing gas obtained in the step (S40) to the outside.
KR1020210109640A 2021-08-19 2021-08-19 Exhaust gas treatment apparatus and method KR102392961B1 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020210109640A KR102392961B1 (en) 2021-08-19 2021-08-19 Exhaust gas treatment apparatus and method

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020210109640A KR102392961B1 (en) 2021-08-19 2021-08-19 Exhaust gas treatment apparatus and method

Publications (1)

Publication Number Publication Date
KR102392961B1 true KR102392961B1 (en) 2022-05-02

Family

ID=81593354

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020210109640A KR102392961B1 (en) 2021-08-19 2021-08-19 Exhaust gas treatment apparatus and method

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR102392961B1 (en)

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2000218126A (en) * 1999-01-29 2000-08-08 Air Liquide Japan Ltd Gas concentrator
KR20010097924A (en) * 2000-04-27 2001-11-08 송길홍 Air cleaner by using catalyst
KR101579206B1 (en) * 2014-08-18 2015-12-23 대우조선해양 주식회사 VOCs REMOVABLE DEHUMIDIFIER SYSTEM
KR20200132300A (en) * 2019-05-16 2020-11-25 주식회사 글로벌스탠다드테크놀로지 Modularized VOCs removal system using adsorption rotor, oxidation catalyst, heat exchanger
KR102238253B1 (en) * 2021-02-04 2021-04-09 케이씨코트렐 주식회사 High Efficiency Energy Saving NOx and VOC Removal System

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2000218126A (en) * 1999-01-29 2000-08-08 Air Liquide Japan Ltd Gas concentrator
KR20010097924A (en) * 2000-04-27 2001-11-08 송길홍 Air cleaner by using catalyst
KR101579206B1 (en) * 2014-08-18 2015-12-23 대우조선해양 주식회사 VOCs REMOVABLE DEHUMIDIFIER SYSTEM
KR20200132300A (en) * 2019-05-16 2020-11-25 주식회사 글로벌스탠다드테크놀로지 Modularized VOCs removal system using adsorption rotor, oxidation catalyst, heat exchanger
KR102238253B1 (en) * 2021-02-04 2021-04-09 케이씨코트렐 주식회사 High Efficiency Energy Saving NOx and VOC Removal System

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP4153483B2 (en) Method for purifying hydride gas
CN1705504B (en) Method for purifying carbon dioxide
WO2012070886A2 (en) System for removing organic compounds from air
CN113181956A (en) Combined catalyst and method for treating nitrogen-containing volatile organic compound pollutants
US6589493B2 (en) Gas purification-treating agents and gas purifying apparatuses
KR20190055018A (en) Catalyst for use in low temperature gas purification process and its process
KR102392961B1 (en) Exhaust gas treatment apparatus and method
KR100455009B1 (en) Cleaning method of exhaust gas containing ammonia/hydrogen mixtures and the apparatus therefor
KR102382523B1 (en) Exhaust gas treatment apparatus and method
KR102382524B1 (en) Exhaust gas treatment apparatus and method
US20080184882A1 (en) High purity air and gas fractionation system
WO2005035100A1 (en) High purity air and gas fractionation system
EP0604198A1 (en) Method for treating ammonia
CN1658950A (en) Method for clarifying exhaust gas
JPH0824572A (en) Treatment of methyl bromide-containing waste gas
KR20210122943A (en) Concentrated Oxidation Rotor For VOCs Treatment Executing Combination Process of Adsorption Process and Catalytic Oxidation Process
US3950944A (en) Exhaust gas cleaning system for the internal combustion engine
KR101407115B1 (en) Method for treating hazardous gas generated in semiconductor manufacturing process
JPH0576753A (en) Adsorbent for nitrogen monoxide, its production and method for adsorbing and removing nitrogen monoxide
JP2004098014A (en) Method for treating gas containing volatile organic compound
CN211913244U (en) Gas processing system
KR100622993B1 (en) Dual Functional Catalyst System Performing Reaction of Adsorbent and Catalyst of VOC
JPH07213859A (en) Waste gas treating device
JP2902317B2 (en) Room temperature purification method and apparatus for inert gas
GB2622259A (en) NOx reduction

Legal Events

Date Code Title Description
E90F Notification of reason for final refusal
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant