KR102388569B1 - 산소 포화도 조절을 이용하여 결함을 억제시키기 위한 금속 분말 적층 공정용 챔버 어셈블리 - Google Patents

산소 포화도 조절을 이용하여 결함을 억제시키기 위한 금속 분말 적층 공정용 챔버 어셈블리 Download PDF

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신광용
이기용
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한국생산기술연구원
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Abstract

본 발명에 따른 산소 포화도 조절을 이용하여 결함을 억제시키기 위한 금속 분말 적층 공정용 챔버 어셈블리는, 내부에 금속분말 적층을 위한 대상이 거치되며, 외부 대기의 유입이 차단되도록 밀폐된 수용공간이 형성된 챔버, 적어도 레이저를 조사하는 레이저 발진부가 상기 수용공간 내에 노출되도록 상기 챔버에 구비되는 레이저 발진유닛 및 상기 수용공간 내에 불활성 가스를 선택적으로 공급하는 가스공급유닛을 포함한다.

Description

산소 포화도 조절을 이용하여 결함을 억제시키기 위한 금속 분말 적층 공정용 챔버 어셈블리{Chamber Assembly for Metal Powder Deposition for Defective Restraint Using Oxygen Saturation Control}
본 발명은 금속분말 적층 공정에 적용되는 챔버 어셈블리에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 산소 포화도 조절을 통해 적층 결합을 억제하고, 유해물질로부터 작업자를 보호하기 위한 금속분말 적층 공정용 챔버 어셈블리에 관한 것이다.
최근에는 다양한 산업 분야에서 금속의 표면을 강화시키거나, 특수한 특성을 나타내기 위해 표면 처리하는 방법이 널리 사용되고 있다.
종래의 금속표면처리방법의 경우, 모재에 특정 가스를 주입하여 처리층을 증착하거나, 또는 소정의 표면처리 소재를 콜드 스프레이 방식을 이용하여 모재의 표면에 부착시키는 등의 다양한 방법이 이용되고 있다.
하지만, 이와 같은 종래의 금속표면처리방법의 경우, 처리층과 모재의 표면 간의 부착력이 크게 떨어지게 되며, 이에 따라 처리층이 분리 및 탈락되는 현상이 잦은 빈도로 발생하게 되는 문제점이 나타나고 있다.
뿐만 아니라, 종래의 금속표면처리방법은 모재의 형상이 평면 또는 극히 단순한 형태일 경우일 때 그 효과가 현저하게 나타나며, 모재의 형상이 불규칙적이거나 복잡한 경우에는 큰 효과를 볼 수 없다는 문제가 있었다. 또는 표면처리장치의 특성 상 불규칙하거나 복잡한 형상을 가지는 모재의 표면처리를 수행하는 것이 아예 불가능한 경우도 있어, 모재의 수명이 크게 떨어지는 문제도 있었다.
특히 상기 모재가 프레스, 단조 공정 등에 사용되는 금형과 같이 잦은 충격과 외력이 가해지는 제품인 경우, 비용 대비 수명이 매우 짧아져 유지, 보수에 소요되는 비용이 증가하게 되는 문제가 있다.
이와 같은 문제를 해결하기 위해 분말을 모재 표면에 공급하는 동시에 레이저를 조사하여 모재와 분말을 함께 용융시키는 방법으로 강화층을 형성하는 방법으로서, DED(Direct Energy Deposition) 기술을 이용한 금속분말 적층 공정이 제시되었다.
하지만, 종래의 금속 적층 공정 중 용융된 금속은 대기 중 산소와 반응하여 산화물을 생성하거나 적층 금속 내부에 가스를 발생시키게 되며, 이에 따라 탄화물이 기체화되므로, 작업자의 호흡기 안전을 위협할 수 있는 문제를 보유하고 있다.
더불어, 적층 금속 내부에 기공 과 산화물 생성에 따라 제품의 물성의 변화와 금속 간 결합력을 저하시키게 되는 문제도 있다.
따라서 이와 같은 문제점들을 해결하기 위한 방법이 요구된다.
한국등록특허 제10-1179151호
본 발명은 상술한 종래 기술의 문제점을 해결하기 위하여 안출된 발명으로서, 금속분말 적층 공정을 수행하는 과정에서 작업자의 호흡기를 안전하게 보호하고, 산소 포화도 조절을 통해 적층 결함을 억제할 수 있도록 하는 금속분말 적층 공정용 챔버 어셈블리를 제공하기 위한 목적을 가진다.
본 발명의 과제들은 이상에서 언급한 과제들로 제한되지 않으며, 언급되지 않은 또 다른 과제들은 아래의 기재로부터 당업자에게 명확하게 이해될 수 있을 것이다.
상기한 목적을 달성하기 위한 본 발명의 산소 포화도 조절을 이용하여 결함을 억제시키기 위한 금속 분말 적층 공정용 챔버 어셈블리는, 내부에 금속분말 적층을 위한 대상이 거치되며, 외부 대기의 유입이 차단되도록 밀폐된 수용공간이 형성된 챔버, 적어도 레이저를 조사하는 레이저 발진부가 상기 수용공간 내에 노출되도록 상기 챔버에 구비되는 레이저 발진유닛 및 상기 수용공간 내에 불활성 가스를 선택적으로 공급하는 가스공급유닛을 포함한다.
이때 상기 챔버의 바닥부에는 상기 대상이 거치되는 스테이지가 구비되며, 상기 레이저 발진유닛은 상기 챔버의 천장부에 구비되어 상기 스테이지의 직상부에서 레이저를 조사하도록 형성될 수 있다.
그리고 상기 레이저 발진유닛은 상기 챔버의 천장부에서 x축 및 y축 방향 중 적어도 어느 한 방향 이상으로 이송 가능하게 형성될 수 있다.
이를 위해 상기 챔버의 천장부는, 상기 레이저 발진유닛이 고정되는 유닛고정부 및 상기 유닛고정부가 수평 상태로 슬라이드 이동 가능하도록 고정시키는 슬라이드가이드부를 포함할 수 있다.
그리고 상기 유닛고정부와 상기 슬라이드가이드부 사이에는 실링부재가 구비될 수 있다.
한편 상기 가스공급유닛은 상기 대상의 종류에 따라 상기 챔버에 공급하는 불활성 가스의 농도를 다르게 제어할 수 있다.
여기서 상기 대상이 스테인레스강일 경우, 상기 가스공급유닛은 산소 농도가 70ppm 이하로 유지되도록 불활성 가스의 공급을 제어할 수 있다.
그리고 상기 대상이 고산화 금속일 경우, 상기 가스공급유닛은 산소 농도가 50ppm 이하로 유지되도록 불활성 가스의 공급을 제어할 수 있다.
이때 상기 가스공급유닛에 의해 공급되는 불활성 가스는 아르곤 가스 또는 헬륨 가스일 수 있다.
또한 본 발명은 상기 챔버에 구비되어 상기 수용공간 내의 산소 농도를 측정하는 산소측정유닛을 더 포함할 수 있다.
더불어 상기 챔버는 불활성 가스가 배출되는 가스배출부를 포함하며, 본 발명은 상기 가스배출부 측에 구비되어 상기 수용공간 내의 유해가스를 흡입하는 가스흡입유닛을 더 포함할 수 있다.
그리고 상기 수용공간 내부의 가스 압력은 외부의 기압보다 높게 유지될 수 있다.
상기한 과제를 해결하기 위한 본 발명의 산소 포화도 조절을 이용하여 결함을 억제시키기 위한 금속 분말 적층 공정용 챔버 어셈블리는, 금속분말 적층 공정 중 산소와의 반응을 제한하기 위해 대상과 레이저 발진유닛의 레이저 발진부를 감싸는 챔버를 포함하며, 챔버 내부를 아르곤 가스나 헬륨 가스와 같은 불활성 가스로 충전하고 산소 농도를 최대한으로 낮추어 용융 금속의 산화를 억제함에 따라 적층 결함을 최소한으로 억제할 수 있는 장점이 있다.
또한 본 발명은 금속분말 적층 공정 중 발생하는 금속 용융 가스와 그을음(Soot), 미세먼지 등으로부터 작업자를 보호할 수 있는 장점을 가진다.
본 발명의 효과들은 이상에서 언급한 효과들로 제한되지 않으며, 언급되지 않은 또 다른 효과들은 청구범위의 기재로부터 당업자에게 명확하게 이해될 수 있을 것이다.
도 1은 본 발명의 제1실시예에 따른 금속분말 적층 공정용 챔버 어셈블리의 외관을 나타낸 도면;
도 2는 본 발명의 제1실시예에 따른 금속분말 적층 공정용 챔버 어셈블리의 내부 구조를 나타낸 도면;
도 3은 본 발명의 제1실시예에 따른 금속분말 적층 공정용 챔버 어셈블리에 있어서, 레이저 발진유닛의 이송을 위한 구조를 나타낸 도면;
도 4는 종래 금속분말 적층 공정을 수행하는 과정에서 대기 중 산소 농도에 따른 결과를 나타낸 사진;
도 5는 본 발명의 제1실시예에 따른 금속분말 적층 공정용 챔버 어셈블리를 통해 금속분말 적층 공정을 수행한 대상의 적층 단면을 나타낸 사진; 및
도 6은 본 발명의 제2실시예에 따른 금속분말 적층 공정용 챔버 어셈블리에 있어서, 레이저 발진유닛의 이송을 위한 구조를 나타낸 도면이다.
이하 본 발명의 목적이 구체적으로 실현될 수 있는 본 발명의 바람직한 실시예를 첨부된 도면을 참조하여 설명한다. 본 실시예를 설명함에 있어서, 동일 구성에 대해서는 동일 명칭 및 동일 부호가 사용되며 이에 따른 부가적인 설명은 생략하기로 한다.
도 1은 본 발명의 제1실시예에 따른 금속분말 적층 공정용 챔버 어셈블리(100)의 외관을 나타낸 도면이며, 도 2는 본 발명의 제1실시예에 따른 금속분말 적층 공정용 챔버 어셈블리(100)의 내부 구조를 나타낸 도면이다.
도 1 및 도 2에 도시된 바와 같이, 본 발명의 제1실시예에 따른 금속분말 적층 공정용 챔버 어셈블리(100)는 챔버(110)와, 레이저 발진유닛(200)과, 가스공급유닛(미도시)을 포함한다.
챔버(110)는 내부에 금속분말 적층을 위한 대상(M)이 거치되며, 외부 대기의 유입이 차단되도록 밀폐된 수용공간(S)이 형성된다.
특히 본 실시예에서 챔버(110)는 바닥부와, 천장부와, 복수 개의 측벽부를 포함하여 전체적으로 직육면체 형상을 가지며, 일측 측벽부에는 불활성 가스가 유입되는 가스유입부(111)가 형성되고, 타측 측벽부에는 불활성 가스가 배출되는 가스배출부(112)가 형성된다.
레이저 발진유닛(200)은 금속분말을 대상(M)의 표면에 공급하며 레이저를 조사하여 대상(M)과 금속분말이 용융된 강화층을 형성하기 위한 구성요소로서, 적어도 레이저를 조사하는 레이저 발진부(220)가 수용공간(S) 내에 노출되도록 챔버(110)에 구비된다.
그리고 본 실시예에서 레이저 발진유닛(200)은 바디부(200)가 챔버(110)의 천장부에 구비된 형태를 가지며, 챔버(110)의 바닥부에는 대상(M)이 거치되는 스테이지(140)가 구비된다.
이에 따라 레이저 발진유닛(200)은 챔버(110)의 천장부에 구비되어 스테이지(140)의 직상부에서 대상(M)에 레이저를 조사하도록 형성될 수 있다.
가스공급유닛은 가스유입부(111)를 통해 수용공간(S) 내에 불활성 가스를 선택적으로 공급하는 구성요소로서, 가스의 종류 및 공급 압력, 공급량 등 다양한 요소를 제어할 수 있도록 형성된다.
더불어 본 실시예는 챔버(110)에 구비되어 수용공간(S) 내의 산소 농도를 측정하여 실시간 모니터링이 가능하도록 하는 산소측정유닛(105)과, 가스배출부(112) 측에 구비되어 수용공간(S) 내의 유해가스를 흡입하여 배기관(310)을 통해 배출시키는 가스흡입유닛(300)을 더 포함할 수 있다.
한편 본 실시예에서 레이저 발진유닛(200)은 챔버(110)의 천장부에서 x축 및 y축 방향 중 적어도 어느 한 방향 이상으로 이송 가능하게 형성될 수 있다.
도 3은 본 발명의 제1실시예에 따른 금속분말 적층 공정용 챔버 어셈블리에 있어서, 레이저 발진유닛(200)의 이송을 위한 구조를 나타낸 도면이다.
도 3에 도시된 바와 같이, 본 실시예에서 챔버(110)의 천장부는, 레이저 발진유닛(200)의 바디부(210)가 고정되는 유닛고정부(120)와, 유닛고정부(120)가 수평 상태로 슬라이드 이동 가능하도록 고정시키는 슬라이드가이드부(130)를 포함하는 형태를 가진다.
특히 슬라이드가이드부(130)는 상하 방향으로 서로 이격된 상부 가이드(130a) 및 하부 가이드(130b)를 포함하여 이중 레이어 형태로 형성되며, 유닛고정부(120)는 이와 같은 상부 가이드(130a) 및 하부 가이드(130b) 사이에 끼워진 형태로 x축 및 y축 중 적어도 어느 한 방향으로 이송될 수 있다.
이때 챔버(110) 내부의 수용공간(S)으로부터 불활성 가스가 외부로 누설되는 것을 방지하기 위해, 유닛고정부(120)와 슬라이드가이드부(130) 사이에는 실링부재(미도시)가 더 구비될 수 있다.
한편 본 실시예에서, 가스공급유닛에 의해 공급되는 불활성 가스는 아르곤 가스 또는 헬륨 가스일 수 있으며, 이외에도 조건을 만족하는 기타 불활성 가스가 공급될 수도 있다.
그리고 가스공급유닛에 의해 불활성 가스가 공급되는 과정에서는 난류가 발생하지 않도록 공급 속도를 일정 이하로 조절할 수 있으며, 수용공간(S) 내부의 가스 압력은 외부의 기압보다 높게 유지되도록 할 수 있다.
특히 가스공급유닛은 대상(M)의 종류에 따라 챔버(110)에 공급하는 불활성가스의 농도를 다르게 제어할 수 있다.
예컨대, 대상(M)이 스테인레스강일 경우, 가스공급유닛은 산소 농도가 70ppm 이하로 유지되도록 불활성 가스의 공급을 제어할 수 있으며, 대상(M)이 티타늄 등과 같은 고산화 금속일 경우, 가스공급유닛은 산소 농도가 50ppm 이하로 유지되도록 불활성 가스의 공급을 제어할 수 있다.
그리고 대상(M)이 스테인레스강 및 고산화 금속을 제외한 다른 금속일 경우, 가스공급유닛은 산소 농도가 700ppm 이하로 유지되도록 불활성 가스의 공급을 제어할 수 있다.
또한 가스공급유닛에 의해 불활성 가스가 공급되기 이전 수용공간(S) 내부를 진공 상태로 만들어 줄 경우, 보다 높은 효과를 기대할 수 있다.
이상과 같이 본 발명은 적층 공정 진행 시 공정 영역을 외부 대기와 차단할 수 있도록 챔버(110)를 설치하고, 챔버(110) 내부를 아르곤 가스 또는 헬륨 가스와 같은 불활성가스로 충전하여 산소 농도를 최대한으로 낮춤으로써 용융 금속의 산화를 차단함에 따라 적층 결함을 최소한으로 억제할 수 있다.
또한 본 발명은 금속분말 적층 공정 중 발생하는 금속 용융 가스와 그을음(Soot), 미세먼지 등으로부터 작업자를 보호할 수 있는 효과도 함께 얻을 수 있다.
도 4는 종래 금속분말 적층 공정을 수행하는 과정에서 대기 중 산소 농도에 따른 결과를 나타낸 사진이며, 도 5는 본 발명의 제1실시예에 따른 금속분말 적층 공정용 챔버 어셈블리(100)를 통해 금속분말 적층 공정을 수행한 대상의 적층 단면을 나타낸 사진이다.
도 4에 도시된 사진과 같이, 기존 대기 상태에서 공정을 수행할 경우 기공 및 박리 결함을 보여주는 이미지로서, 빌드 타임이 큰 제품에서의 결함은 시간과 비용 측면에서 치명적이라 할 수 있다.
그리고 도 5는 본 발명의 제1실시예에 따른 금속분말 적층 공정용 챔버 어셈블리(100)를 통해 금속분말 적층 공정을 수행한 대상의 적층 단면으로서, 불활성 가스 공급량을 종래에 비해 2배 내지 3배로 증가시켜 적층 공정을 수행할 경우 제품의 적층 표면이 매끄럽고 모재 결합 또한 향상되었음을 확인할 수 있다.
이하에서는, 본 발명의 다른 실시예에 대해 설명하도록 한다.
도 6은 본 발명의 제2실시예에 따른 금속분말 적층 공정용 챔버 어셈블리(100)에 있어서, 레이저 발진유닛(200)의 이송을 위한 구조를 나타낸 도면이다.
도 6에 도시된 본 발명의 제2실시예에 따른 금속분말 적층 공정용 챔버 어셈블리(100)는 전술한 제1실시예의 금속분말 적층 공정용 챔버 어셈블리(100)과 대부분의 구성요소가 동일하게 형성되므로, 중복되는 구성요소에 대한 설명은 생략하도록 한다.
그리고 본 실시예에서 챔버(110)의 천장부 역시 전술한 제1실시예와 마찬가지로 레이저 발진유닛(200)의 바디부(210)가 고정되는 유닛고정부(120)와, 유닛고정부(120)가 수평 상태로 슬라이드 이동 가능하도록 고정시키는 슬라이드가이드부(130)를 포함하는 형태를 가진다.
더불어 슬라이드가이드부(130)는 상하 방향으로 서로 이격된 상부 가이드(130a) 및 하부 가이드(130b)를 포함하여 이중 레이어 형태로 형성되며, 유닛고정부(120)는 이와 같은 상부 가이드(130a) 및 하부 가이드(130b) 사이에 끼워진 형태로 구비된다.
이때 본 실시예에서 상부 가이드(130a) 및 하부 가이드(130b)가 서로 대향되는 대향면 각각에는, 유닛고정부(120)에 접촉되어 회전 구동됨에 따라 유닛고정부(120)를 슬라이드 방식으로 이송시키는 구동롤러(131)가 구비된다.
이와 같은 구동롤러(131)는 별도로 구비된 서보모터(미도시)에 의해 제어될 수 있으며, 구동롤러(131)의 둘레부는 불활성 가스의 누설을 방지하기 위해 탄성 재질로 코팅될 수 있다.
또한 본 실시예에서 상부 가이드(130a) 및 하부 가이드(130b)가 서로 대향되는 대향면 각각에는, 유닛고정부(120)의 둘레부에 형성된 제1스토퍼부재(121)에 대응되는 제2스토퍼부재(133)가 구비될 수 있다.
이에 따라 유닛고정부(120)가 기 설정된 위치로 슬라이드 이동될 경우, 제1스토퍼부재(121) 및 제2스토퍼부재(133)는 서로 접촉되어 유닛고정부(120)의 이동 범위를 제한할 수 있다.
더불어 본 실시예에서 상부 가이드(130a) 및 하부 가이드(130b)의 외측면에는, 불활성 가스의 누설을 보다 완전하게 차단하기 위한 보조실링부재(134)가 구비될 수 있다.
보조실링부재(134)는 일측이 상부 가이드(130a) 또는 하부 가이드(130b)의 외측면에 고정되며, 타측은 상부 가이드(130a) 또는 하부 가이드(130b)의 외측으로 연장되어 유닛고정부(120)의 상면 또는 하면에 소정 면적이 접촉된 상태로 구비된다.
이때 보조실링부재(134)는 탄성 재질로 형성될 수 있으며, 이에 따라 유닛고정부(120)의 상면 또는 하면에 일정 압력을 가하도록 구비될 수 있다. 따라서 보조실링부재(134)는 유닛고정부(120)의 슬라이드 이동 시에도 보조실링부재(134)를 통해 내부의 밀폐 상태를 유지할 수 있다.
특히 보조실링부재(134)와 유닛고정부(120)의 접촉면 사이에는 윤활제가 도포될 수 있으며, 이는 유닛고정부(120)의 슬라이드 이동을 원활하게 하는 동시에 윤활제를 통해 보조실링부재(134)와 유닛고정부(120) 사이의 미세 유격을 완전하게 차단하는 효과를 얻을 수 있도록 한다.
이상과 같이 본 발명에 따른 바람직한 실시예를 살펴보았으며, 앞서 설명된 실시예 이외에도 본 발명이 그 취지나 범주에서 벗어남이 없이 다른 특정 형태로 구체화될 수 있다는 사실은 해당 기술에 통상의 지식을 가진 이들에게는 자명한 것이다. 그러므로, 상술된 실시예는 제한적인 것이 아니라 예시적인 것으로 여겨져야 하고, 이에 따라 본 발명은 상술한 설명에 한정되지 않고 첨부된 청구항의 범주 및 그 동등 범위 내에서 변경될 수도 있다.
100: 금속분말 적층 공정용 챔버 어셈블리
105: 산소측정유닛
110: 챔버
111: 가스유입부
112: 가스배출부
120: 유닛고정부
130: 슬라이드가이드부
140: 스테이지
200: 레이저 발진유닛
210: 바디부
220: 레이저 발진부
300: 가스흡입유닛
S: 수용공간
M: 대상

Claims (12)

  1. 내부에 금속분말 적층을 위한 대상이 거치되며, 외부 대기의 유입이 차단되도록 밀폐된 수용공간이 형성되고, 바닥부에는 상기 대상이 거치되는 스테이지가 구비된 챔버;
    적어도 레이저를 조사하는 레이저 발진부가 상기 수용공간 내에 노출되도록, 상기 챔버의 천장부에 x축 및 y축 방향 중 적어도 어느 한 방향 이상으로 이송 가능하게 구비되어 상기 스테이지의 직상부에서 레이저를 조사하도록 형성되는 레이저 발진유닛; 및
    상기 수용공간 내에 불활성 가스를 선택적으로 공급하는 가스공급유닛;
    을 포함하며,
    상기 챔버의 천장부는,
    상기 레이저 발진유닛이 고정되며, 둘레부에 제1스토퍼부재가 구비되는 유닛고정부;
    상기 유닛고정부가 수평 상태로 슬라이드 이동 가능하도록 고정시키며, 상하 방향으로 서로 이격된 상부 가이드 및 하부 가이드를 포함하여 이중 레이어 형태로 형성됨에 따라 상기 상부 가이드 및 상기 하부 가이드 사이에 상기 유닛고정부가 끼워지는 슬라이드가이드부;
    상기 유닛고정부와 상기 슬라이드가이드부 사이에 구비되는 실링부재;
    상기 상부 가이드 및 상기 하부 가이드가 서로 대향되는 대향면 각각에 구비되고, 상기 유닛고정부에 접촉되어 회전 구동됨에 따라 상기 유닛고정부를 슬라이드 방식으로 이송시키되, 별도로 구비된 서보모터에 의해 제어되며, 둘레부가 불활성 가스의 누설을 방지하기 위해 탄성 재질로 코팅되는 구동롤러;
    상기 상부 가이드 및 상기 하부 가이드가 서로 대향되는 대향면 각각에 상기 제1스토퍼부재에 대응되도록 구비되어, 상기 유닛고정부가 기 설정된 위치로 슬라이드 이동될 경우 상기 제1스토퍼부재와 서로 접촉되어 상기 유닛고정부의 이동 범위를 제한하는 제2스토퍼부재; 및
    상기 상부 가이드 및 상기 하부 가이드의 외측면에 구비되어 불활성 가스의 누설을 차단하는 보조실링부재;
    를 포함하며,
    상기 보조실링부재는,
    일측이 상부 가이드 또는 하부 가이드의 외측면에 고정되며, 타측은 상부 가이드 또는 하부 가이드의 외측으로 연장되어 유닛고정부의 상면 또는 하면에 소정 면적이 접촉된 상태로 구비되고, 탄성 재질로 형성되어 유닛고정부의 상면 또는 하면에 일정 압력을 가하도록 구비되어 유닛고정부의 슬라이드 이동 시 내부의 밀폐 상태를 유지하며,
    상기 보조실링부재와 상기 유닛고정부의 접촉면 사이에는 윤활제가 도포되어 유닛고정부의 슬라이드 이동을 원활하게 하는 동시에 윤활제를 통해 보조실링부재와 유닛고정부 사이의 미세 유격을 차단하도록 형성되는,
    산소 포화도 조절을 이용하여 결함을 억제시키기 위한 금속 분말 적층 공정용 챔버 어셈블리.
  2. 삭제
  3. 삭제
  4. 삭제
  5. 삭제
  6. 제1항에 있어서,
    상기 가스공급유닛은 상기 대상의 종류에 따라 상기 챔버에 공급하는 불활성 가스의 농도를 다르게 제어하는,
    산소 포화도 조절을 이용하여 결함을 억제시키기 위한 금속 분말 적층 공정용 챔버 어셈블리.
  7. 제6항에 있어서,
    상기 대상이 스테인레스강일 경우,
    상기 가스공급유닛은 산소 농도가 70ppm 이하로 유지되도록 불활성 가스의 공급을 제어하는,
    산소 포화도 조절을 이용하여 결함을 억제시키기 위한 금속 분말 적층 공정용 챔버 어셈블리.
  8. 제6항에 있어서,
    상기 대상이 고산화 금속일 경우,
    상기 가스공급유닛은 산소 농도가 50ppm 이하로 유지되도록 불활성 가스의 공급을 제어하는,
    산소 포화도 조절을 이용하여 결함을 억제시키기 위한 금속 분말 적층 공정용 챔버 어셈블리.
  9. 제1항에 있어서,
    상기 가스공급유닛에 의해 공급되는 불활성 가스는 아르곤 가스 또는 헬륨 가스인,
    산소 포화도 조절을 이용하여 결함을 억제시키기 위한 금속 분말 적층 공정용 챔버 어셈블리.
  10. 제1항에 있어서,
    상기 챔버에 구비되어 상기 수용공간 내의 산소 농도를 측정하는 산소측정유닛을 더 포함하는,
    산소 포화도 조절을 이용하여 결함을 억제시키기 위한 금속 분말 적층 공정용 챔버 어셈블리.
  11. 제1항에 있어서,
    상기 챔버는 불활성 가스가 배출되는 가스배출부를 포함하며,
    상기 가스배출부 측에 구비되어 상기 수용공간 내의 유해가스를 흡입하는 가스흡입유닛을 더 포함하는,
    산소 포화도 조절을 이용하여 결함을 억제시키기 위한 금속 분말 적층 공정용 챔버 어셈블리.
  12. 제1항에 있어서,
    상기 수용공간 내부의 가스 압력은 외부의 기압보다 높게 유지되는,
    산소 포화도 조절을 이용하여 결함을 억제시키기 위한 금속 분말 적층 공정용 챔버 어셈블리.
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