KR102385809B1 - Exhaust gas treatment apparatus - Google Patents

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Abstract

배기가스 처리장치를 개시한다.
본 발명의 일실시예에 따른 배기가스 처리장치는 배기가스에 포함된 황산화물이 제1처리액에 흡수되어 제거되고 황산화물이 제거된 배기가스에 포함된 이산화탄소가 제2처리액에 흡수되어 제거되는 기액반응기; 상기 기액반응기에 제2처리액을 공급하는 처리액 공급탱크; 및 상기 기액반응기로부터 배수된, 이산화탄소를 흡수한 제2처리액인 제2폐처리액으로부터 이산화탄소를 분리하여 제2처리액으로 재생하며 재생된 제2처리액을 상기 처리액 공급탱크에 공급하는 기액분리 처리액 재생유닛; 을 포함하고, 상기 기액반응기에는 배기가스와 제1처리액이 접촉하여 황산화물이 제거되는 제1제거영역과, 배기가스와 제2처리액이 접촉하여 이산화탄소가 제거되는 제2제거영역 및, 상기 제1제거영역과 상기 제2제거영역을 연결하는 연결영역이 구비될 수 있다.
Disclosed is an exhaust gas treatment device.
In the exhaust gas treatment apparatus according to an embodiment of the present invention, sulfur oxides contained in the exhaust gas are absorbed and removed by the first treatment liquid, and carbon dioxide contained in the exhaust gas from which the sulfur oxides are removed is absorbed and removed by the second treatment liquid. a gas-liquid reactor; a treatment liquid supply tank for supplying a second treatment liquid to the gas-liquid reactor; and gas-liquid for separating carbon dioxide from a second waste treatment liquid, which is a second treatment liquid that has absorbed carbon dioxide, drained from the gas-liquid reactor, and regenerates it as a second treatment liquid, and supplies the regenerated second treatment liquid to the treatment liquid supply tank Separation treatment liquid regeneration unit; In the gas-liquid reactor, a first removal region in which sulfur oxide is removed by contact with the exhaust gas and the first processing liquid, a second removal region in which carbon dioxide is removed by contact with the exhaust gas and the second processing liquid; A connection region connecting the first removal region and the second removal region may be provided.

Description

배기가스 처리장치{EXHAUST GAS TREATMENT APPARATUS}Exhaust gas treatment system {EXHAUST GAS TREATMENT APPARATUS}

본 발명은 배기가스를 처리하는 배기가스 처리장치에 관한 것이다.The present invention relates to an exhaust gas treatment apparatus for treating exhaust gas.

선박으로부터 배출되는 배기가스에 대한 규제가 점점 강화되고 있는 추세이어서, 선박으로부터 배출되는 배기가스로부터 황산화물 뿐만 아니라 이산화탄소도 제거해야 할 필요성이 대두되었다.As regulations on exhaust gas emitted from ships are increasingly being strengthened, there is a need to remove not only sulfur oxides but also carbon dioxide from exhaust gas emitted from ships.

배기가스를 처리하기 위해서 선박에는 배기가스 처리장치가 설치되며, 배기가스 처리장치에서는 배기가스에 처리액을 분사하여 배기가스를 처리할 수 있다. 배기가스 처리장치에서는 처리액으로 해수를 사용할 수 있다. 해수를 처리액으로 사용하면, 배기가스로부터 황산화물은 제거할 수는 있다. 그러나, 이산화탄소는 소량만 제거가 가능해, UN산하 국제해사기구(International Maritime Organization)의 에너지효율설계지수(Energy Efficiency Design Index)를 만족시킬 수 있는 이산화탄소 저감성능을 구현하기 어려웠다. 또한, 배기가스를 처리하는 데에 비교적 많은 양의 해수를 필요로 하여, 많은 양의 해수를 공급하고 분사하기 위한 설비를 필요로 한다.In order to treat the exhaust gas, an exhaust gas treatment device is installed on the ship, and the exhaust gas treatment device can treat the exhaust gas by injecting a treatment liquid into the exhaust gas. In the exhaust gas treatment apparatus, seawater may be used as a treatment liquid. When seawater is used as a treatment liquid, sulfur oxides can be removed from the exhaust gas. However, since only a small amount of carbon dioxide can be removed, it was difficult to realize carbon dioxide reduction performance that could satisfy the Energy Efficiency Design Index of the International Maritime Organization under the UN. In addition, since a relatively large amount of seawater is required to treat the exhaust gas, a facility for supplying and spraying a large amount of seawater is required.

이외, 배기가스 처리장치에서 처리액으로 수산화나트륨 수용액 등의 알칼리수용액을 사용할 수 있는데, 적은 양으로도 배기가스를 처리할 수는 있으나, 비용이 많이 소요된다. 비용감소를 위해서, 배기가스 처리장치에서는 배기가스를 처리한 폐처리액을 재생하여 재사용할 수 있으나, 종래의 배기가스 처리장치에서는 폐처리액의 재생율이 낮았다. 이에 따라, 재생된 처리액에 처리제를 계속 공급하여 주어야만 하기 때문에, 비용이 많이 감소되지 않았다. 또한, 폐처리액을 재생하는 데에 사용되는 설비설비는 일부 육상에서 적용 가능한 대형설비로서 배기가스 처리장치의 선박 적용이 어렵다.In addition, an alkaline aqueous solution such as an aqueous sodium hydroxide solution may be used as a treatment liquid in the exhaust gas treatment apparatus, and the exhaust gas may be treated with a small amount, but it is expensive. In order to reduce costs, the waste treatment liquid treated with the exhaust gas can be regenerated and reused in the exhaust gas treatment apparatus, but the regeneration rate of the waste treatment liquid is low in the conventional exhaust gas treatment apparatus. Accordingly, since the treatment agent must be continuously supplied to the regenerated treatment liquid, the cost is not significantly reduced. In addition, the facility used to regenerate the waste treatment liquid is a large facility that can be applied on some land, and it is difficult to apply the exhaust gas treatment device to a ship.

본 발명은 상기와 같은 종래에서 발생하는 요구 또는 문제들 중 적어도 어느 하나를 인식하여 이루어진 것이다.The present invention has been made in recognition of at least one of the needs or problems occurring in the prior art as described above.

본 발명의 목적의 일 측면은 배기가스 처리장치에서 배기가스를 처리하기 위한 비용이 감소되도록 하는 것이다.One aspect of the object of the present invention is to allow the cost for treating exhaust gases in an exhaust gas treatment apparatus to be reduced.

본 발명의 목적의 다른 측면은 배기가스를 처리한 폐처리액의 재생율이 높아지도록 하는 것이다.Another aspect of the present invention is to increase the regeneration rate of the waste treatment liquid treated with the exhaust gas.

본 발명의 목적의 또 다른 측면은 배기가스 처리장치의 크기가 감소되도록 하는 것이다.Another aspect of the object of the present invention is to allow the size of the exhaust gas treatment device to be reduced.

상기 과제들 중 적어도 하나의 과제를 실현하기 위한 일실시 형태와 관련된 배기가스 처리장치는 다음과 같은 특징을 포함할 수 있다.An exhaust gas treatment apparatus related to an embodiment for realizing at least one of the above problems may include the following features.

본 발명의 일실시 형태에 따른 배기가스 처리장치는 배기가스에 포함된 황산화물이 제1처리액에 흡수되어 제거되고 황산화물이 제거된 배기가스에 포함된 이산화탄소가 제2처리액에 흡수되어 제거되는 기액반응기; 상기 기액반응기에 제2처리액을 공급하는 처리액 공급탱크; 및 상기 기액반응기로부터 배수된, 이산화탄소를 흡수한 제2처리액인 제2폐처리액으로부터 이산화탄소를 분리하여 제2처리액으로 재생하며 재생된 제2처리액을 상기 처리액 공급탱크에 공급하는 기액분리 처리액 재생유닛; 을 포함하고, 상기 기액반응기에는 배기가스와 제1처리액이 접촉하여 황산화물이 제거되는 제1제거영역과, 배기가스와 제2처리액이 접촉하여 이산화탄소가 제거되는 제2제거영역 및, 상기 제1제거영역과 상기 제2제거영역을 연결하는 연결영역이 구비될 수 있다.In an exhaust gas treatment apparatus according to an embodiment of the present invention, sulfur oxides contained in exhaust gas are absorbed and removed by a first treatment liquid, and carbon dioxide contained in the exhaust gas from which sulfur oxides are removed is absorbed and removed by a second treatment liquid. a gas-liquid reactor; a treatment liquid supply tank for supplying a second treatment liquid to the gas-liquid reactor; and gas-liquid for separating carbon dioxide from a second waste treatment liquid, which is a second treatment liquid that has absorbed carbon dioxide, drained from the gas-liquid reactor, and regenerates it as a second treatment liquid, and supplies the regenerated second treatment liquid to the treatment liquid supply tank Separation treatment liquid regeneration unit; In the gas-liquid reactor, a first removal region in which sulfur oxide is removed by contact with the exhaust gas and the first processing liquid, a second removal region in which carbon dioxide is removed by contact with the exhaust gas and the second processing liquid; A connection region connecting the first removal region and the second removal region may be provided.

이 경우, 상기 기액반응기는 복수개의 구획벽에 의해서 상기 제1제거영역과 상기 제2제거영역 및 상기 연결영역으로 내부가 구획되는 하우징을 포함할 수 있다.In this case, the gas-liquid reactor may include a housing whose interior is partitioned into the first removal region, the second removal region, and the connection region by a plurality of partition walls.

또한, 상기 제1제거영역과 상기 제2제거영역에서는 배기가스가 하부에서 상부로 유동하고 상기 연결영역에서는 배기가스가 상부에서 하부로 유동하도록, 복수개의 상기 구획벽이 상기 하우징 내부에 구비될 수 있다.In addition, a plurality of partition walls may be provided inside the housing so that the exhaust gas flows from the bottom to the top in the first removal region and the second removal region and the exhaust gas flows from the top to the bottom in the connection region. there is.

그리고, 상기 하우징에는 배기가스 배출장치와 상기 제1제거영역에 연결되는 유입구, 상기 제2제거영역에 연결되는 배출구, 상기 제1제거영역에 연결되는 제1배수구 및, 상기 제2제거영역에 연결되는 제2배수구가 구비될 수 있다.In addition, the housing has an exhaust gas exhaust device and an inlet connected to the first removal region, an outlet connected to the second removal region, a first drain port connected to the first removal region, and connected to the second removal region. A second drain port may be provided.

또한, 상기 기액반응기는 상기 제1제거영역을 유동하는 배기가스에 제1처리액을 분사하는 제1처리액 분사유닛과, 상기 제2제거영역을 유동하는 배기가스에 제2처리액을 분사하는 제2처리액 분사유닛을 더 포함할 수 있다.In addition, the gas-liquid reactor includes a first treatment liquid spraying unit that sprays a first treatment liquid to the exhaust gas flowing through the first removal area, and a second treatment liquid spraying the exhaust gas flowing through the second removal area. It may further include a second treatment liquid spraying unit.

그리고, 상기 제1처리액은 해수일 수 있다.And, the first treatment liquid may be seawater.

또한, 해양에 연결된 제1처리액 공급관이 상기 제1처리액 분사유닛에 연결되며, 상기 제1제거영역에는 해양에 연결된 제1폐처리액 배수관이 연결될 수 있다.In addition, a first treatment liquid supply pipe connected to the ocean may be connected to the first treatment liquid spray unit, and a first waste treatment liquid drain pipe connected to the ocean may be connected to the first removal area.

그리고, 상기 제1처리액 분사유닛은 복수개일 수 있다.In addition, the first treatment liquid spraying unit may be plural.

또한, 상기 처리액 공급탱크에 연결된 제2처리액 공급관이 상기 제2처리액 분사유닛에 연결될 수 있다.Also, a second treatment liquid supply pipe connected to the treatment liquid supply tank may be connected to the second treatment liquid spray unit.

그리고, 상기 기액분리 처리액 재생유닛에서는 이산화탄소는 통과하나 제2폐처리액은 통과하지 못하는 기액분리막이 제2폐처리액이 유동하는 액체유동로와 이산화탄소가 유동하는 기체유동로를 구획하며, 상기 기체유동로에 낮은 이산화탄소 분압이 형성되도록 하여, 상기 액체유동로의 제2폐처리액에 포함된 이산화탄소가 상기 기액분리막을 통과하여 상기 기체유동로로 이동하도록 할 수 있다.And, in the gas-liquid separation treatment liquid regeneration unit, a gas-liquid separation membrane through which carbon dioxide passes but not through the second waste treatment liquid partitions a liquid flow path through which the second waste treatment liquid flows and a gas flow path through which carbon dioxide flows, and A low partial pressure of carbon dioxide may be formed in the gas flow path, so that carbon dioxide contained in the second waste treatment liquid of the liquid flow path may pass through the gas-liquid separation membrane to move to the gas flow path.

또한, 상기 기액반응기에 연결된 제2폐처리액 배수관이 상기 액체유동로의 일측에 연결되며, 상기 액체유동로의 타측은 처리액 회수관에 의해서 상기 처리액 공급탱크에 연결될 수 있다.In addition, a second waste treatment liquid drain pipe connected to the gas-liquid reactor may be connected to one side of the liquid flow path, and the other end of the liquid flow path may be connected to the treatment solution supply tank by a treatment solution recovery pipe.

그리고, 상기 기체유동로의 일측에 진공펌프가 구비된 가스회수관이 연결되어 상기 기체유동로에 낮은 이산화탄소 분압이 형성되도록 할 수 있다.In addition, a gas return pipe having a vacuum pump is connected to one side of the gas flow path so that a low partial pressure of carbon dioxide is formed in the gas flow path.

또한, 상기 기체유동로의 타측에 유량조절밸브가 구비된 공기유입관이 연결되어 상기 기체유동로에 형성되는 이산화탄소 분압을 조절할 수 있다.In addition, an air inlet pipe having a flow rate control valve is connected to the other side of the gas flow path to adjust the partial pressure of carbon dioxide formed in the gas flow path.

그리고, 상기 기액분리막은 상기 기체유동로나 상기 액체유동로가 형성된 중공사막일 수 있다.In addition, the gas-liquid separation membrane may be a hollow fiber membrane in which the gas flow path or the liquid flow path is formed.

또한, 상기 제2처리액은 알칼리수용액일 수 있다.In addition, the second treatment liquid may be an alkaline aqueous solution.

이상에서와 같이 본 발명의 실시예에 따르면, 배기가스로부터 이산화탄소를 제거한 제2폐처리액으로부터 이산화탄소를 분리하는 기액분리 처리액 재생유닛에 의해서 제2폐처리액을 재생할 수 있다.As described above, according to the embodiment of the present invention, the second waste treatment liquid may be regenerated by the gas-liquid separation treatment liquid regeneration unit that separates carbon dioxide from the second waste treatment liquid from which carbon dioxide is removed from the exhaust gas.

또한, 본 발명의 실시예에 따르면, 배기가스로부터 이산화탄소를 제거한 제2폐처리액의 재생율이 높아질 수 있다.In addition, according to an embodiment of the present invention, the regeneration rate of the second waste treatment liquid from which carbon dioxide is removed from the exhaust gas may be increased.

그리고 또한, 본 발명의 실시예에 따르면, 배기가스 처리장치에서 배기가스를 처리하기 위한 비용이 감소될 수 있다.And also, according to the embodiment of the present invention, the cost for treating the exhaust gas in the exhaust gas processing apparatus can be reduced.

그리고 또한, 본 발명의 실시예에 따르면, 배기가스 처리장치의 크기가 감소될 수 있다.And also, according to the embodiment of the present invention, the size of the exhaust gas treatment apparatus can be reduced.

도1은 본 발명에 따른 배기가스 처리장치의 제1실시예를 나타내는 도면이다.
도2는 본 발명에 따른 배기가스 처리장치의 제1실시예의 기액분리 처리액 재생유닛의 다른 실시예를 나타내는 도면이다.
도3은 본 발명에 따른 배기가스 처리장치의 제1실시예의 가스처리유닛의 일실시예를 나타내는 도면이다.
도4는 본 발명에 따른 배기가스 처리장치의 제1실시예의 가스처리유닛의 다른 실시예를 나타내는 도면이다.
도5는 본 발명에 따른 배기가스 처리장치의 제2실시예를 나타내는 도면이다.
도6은 본 발명에 따른 배기가스 처리장치의 제3실시예를 나타내는 도면이다.
도7은 본 발명에 따른 배기가스 처리장치의 제4실시예를 나타내는 도면이다.
1 is a view showing a first embodiment of an exhaust gas treatment apparatus according to the present invention.
2 is a view showing another embodiment of the gas-liquid separation treatment liquid regeneration unit of the first embodiment of the exhaust gas treatment apparatus according to the present invention.
Fig. 3 is a view showing one embodiment of the gas processing unit of the first embodiment of the exhaust gas processing apparatus according to the present invention.
4 is a view showing another embodiment of the gas processing unit of the first embodiment of the exhaust gas processing apparatus according to the present invention.
5 is a view showing a second embodiment of the exhaust gas treatment apparatus according to the present invention.
6 is a view showing a third embodiment of the exhaust gas treatment apparatus according to the present invention.
7 is a view showing a fourth embodiment of the exhaust gas treatment apparatus according to the present invention.

상기와 같은 본 발명의 특징들에 대한 이해를 돕기 위하여, 이하 본 발명의 실시예와 관련된 배기가스 처리장치에 대하여 보다 상세하게 설명하도록 하겠다.In order to help understanding of the features of the present invention as described above, an exhaust gas treatment apparatus related to an embodiment of the present invention will be described in more detail below.

이하 설명되는 실시예들은 본 발명의 기술적인 특징을 이해시키기에 가장 적합한 실시예들을 기초로 하여 설명될 것이며, 설명되는 실시예들에 의해 본 발명의 기술적인 특징이 제한되는 것이 아니라, 이하 설명되는 실시예들과 같이 본 발명이 구현될 수 있다는 것을 예시하는 것이다. 따라서, 본 발명은 아래 설명된 실시예들을 통해 본 발명의 기술 범위 내에서 다양한 변형 실시가 가능하며, 이러한 변형 실시예는 본 발명의 기술 범위 내에 속한다 할 것이다. 그리고, 이하 설명되는 실시예의 이해를 돕기 위하여 첨부된 도면에 기재된 부호에 있어서, 각 실시예에서 동일한 작용을 하게 되는 구성요소 중 관련된 구성요소는 동일 또는 연장 선상의 숫자로 표기하였다.The embodiments described below will be described based on the most suitable embodiments for understanding the technical features of the present invention, and the technical features of the present invention are not limited by the described embodiments, but Examples are to illustrate that the present invention can be implemented. Accordingly, the present invention is capable of various modifications within the technical scope of the present invention through the embodiments described below, and these modified embodiments will fall within the technical scope of the present invention. In addition, in the reference numerals in the accompanying drawings to help the understanding of the embodiments to be described below, related elements among the elements that perform the same operation in each embodiment are indicated by the same or extended numbers.

배기가스 처리장치의 제1실시예1st embodiment of exhaust gas treatment apparatus

이하, 도1 내지 도4를 참조로 하여 본 발명에 따른 배기가스 처리장치의 제1실시예에 대하여 설명한다.Hereinafter, a first embodiment of an exhaust gas treatment apparatus according to the present invention will be described with reference to FIGS. 1 to 4 .

도1은 본 발명에 따른 배기가스 처리장치의 제1실시예를 나타내는 도면이며, 도2는 본 발명에 따른 배기가스 처리장치의 제1실시예의 기액분리 처리액 재생유닛의 다른 실시예를 나타내는 도면이다.1 is a view showing a first embodiment of an exhaust gas treatment apparatus according to the present invention, and FIG. 2 is a view showing another embodiment of a gas-liquid separation treatment liquid regeneration unit of the first embodiment of the exhaust gas treatment apparatus according to the present invention. am.

또한, 도3은 본 발명에 따른 배기가스 처리장치의 제1실시예의 가스처리유닛의 일실시예를 나타내는 도면이고, 도4는 본 발명에 따른 배기가스 처리장치의 제1실시예의 가스처리유닛의 다른 실시예를 나타내는 도면이다.3 is a view showing one embodiment of the gas processing unit of the first embodiment of the exhaust gas processing apparatus according to the present invention, and FIG. 4 is a view showing the gas processing unit of the first embodiment of the exhaust gas processing apparatus according to the present invention. It is a diagram showing another embodiment.

본 발명에 따른 배기가스 처리장치의 제1실시예는 기액반응기(200), 처리액 공급탱크(300) 및, 기액분리 처리액 재생유닛(400)을 포함할 수 있다.The first embodiment of the exhaust gas treatment apparatus according to the present invention may include a gas-liquid reactor 200 , a treatment liquid supply tank 300 , and a gas-liquid separation treatment liquid regeneration unit 400 .

기액반응기(200)에는 엔진이나 보일러 등의 배기가스 배출장치(도시되지 않음)로부터 배출된 배기가스가 내부에 유입되어 유동할 수 있다. 그리고, 기액반응기(200)에서는 배기가스와 처리액이 접촉되어 배기가스에 포함된 배출규제가스가 처리액에 흡수되어 제거되도록 할 수 있다. 배출규제가스는, 예컨대 황산화물이나 이산화탄소일 수 있다. 그러나, 배출규제가스는 질소산화물 등 대기로의 배출이 규제되는 것이라면, 어떠한 배출규제가스라도 가능하다. 기액반응기(200)는 하우징(210)과, 처리액 분사유닛(220)을 포함할 수 있다.In the gas-liquid reactor 200 , exhaust gas discharged from an exhaust gas exhaust device (not shown) such as an engine or a boiler may flow thereinto. In addition, in the gas-liquid reactor 200 , the exhaust gas and the treatment liquid are brought into contact so that the emission control gas included in the exhaust gas is absorbed and removed by the treatment liquid. The emission control gas may be, for example, sulfur oxide or carbon dioxide. However, the emission control gas may be any emission control gas as long as the emission to the atmosphere, such as nitrogen oxide, is regulated. The gas-liquid reactor 200 may include a housing 210 and a treatment liquid injection unit 220 .

하우징(210)은 배기가스 배출장치에 연결될 수 있다. 하우징(210)에는 유입구(211)와 배출구(212) 및 배수구(213)가 구비될 수 있다. 도1에 도시된 바와 같이 유입구(211)는 하우징(210)의 하부 측면에 구비되고, 배출구(212)는 하우징(210)의 상면에 구비되며, 배수구(213)는 하우징(210)의 하면에 구비될 수 있다. 그러나, 유입구(211)나 배출구(212) 또는 배수구(213)가 구비되는 하우징(210)의 부분은 특별히 한정되지는 않는다.The housing 210 may be connected to the exhaust gas exhaust device. The housing 210 may include an inlet 211 , an outlet 212 , and a drain 213 . As shown in FIG. 1 , the inlet 211 is provided on the lower side of the housing 210 , the outlet 212 is provided on the upper surface of the housing 210 , and the drain port 213 is located on the lower surface of the housing 210 . can be provided. However, the portion of the housing 210 provided with the inlet 211 , the outlet 212 , or the drain 213 is not particularly limited.

유입구(211)는 배기가스 배출장치에 연결될 수 있다. 이에 따라, 배기가스 배출장치로부터 배출된 배기가스는 도1에 도시된 바와 같이 유입구(211)를 통해 하우징(210) 내부에 유입되어 하우징(210) 내부를 유동할 수 있다.The inlet 211 may be connected to an exhaust gas exhaust device. Accordingly, the exhaust gas discharged from the exhaust gas exhaust device may be introduced into the housing 210 through the inlet 211 and flow inside the housing 210 as shown in FIG. 1 .

하우징(210) 내부에는 도1에 도시된 바와 같이 처리액 분사유닛(220)에 의해서 처리액이 분사될 수 있다. 이에 따라, 하우징(210) 내부에 유입되어 유동하는 배기가스는 처리액에 접촉될 수 있다. 이와 같이, 배기가스가 처리액에 접촉되면, 배기가스에 포함된 배출규제가스, 예컨대 황산화물이나 이산화탄소가 처리액에 흡수되어 배기가스로부터 제거될 수 있다. 배출규제가스가 제거된 배기가스는 배출구(212)를 통해 배출될 수 있다. 그리고, 배출규제가스를 흡수한 처리액인 폐처리액은 배수구(213)를 통해 배수될 수 있다.As shown in FIG. 1 , the treatment liquid may be sprayed into the housing 210 by the treatment liquid spraying unit 220 . Accordingly, the exhaust gas flowing into and flowing into the housing 210 may come into contact with the treatment liquid. As such, when the exhaust gas comes into contact with the treatment liquid, the emission control gas included in the exhaust gas, for example, sulfur oxide or carbon dioxide may be absorbed into the treatment liquid and removed from the exhaust gas. The exhaust gas from which the emission control gas has been removed may be discharged through the exhaust port 212 . In addition, the waste treatment liquid, which is the treatment liquid that has absorbed the emission control gas, may be drained through the drain port 213 .

하우징(210) 내부에는 패킹(230)이 구비될 수 있다. 패킹(230)에 의해서 배기가스와 처리액의 접촉면적과 접촉시간이 증가될 수 있다. 이에 의해서 처리액에 의한 배기가스의 처리효율이 향상될 수 있다. 패킹(230)은 다수개의 구멍이 형성된 부재가 복수개 포함되어 이루어질 수 있다. 하우징(210) 내부에는 패킹(230)이외에, 패킹(230)과 같이 배기가스와 처리액의 접촉면적과 접촉시간이 증가될 수 있는 구성이 구비될 수도 있다.A packing 230 may be provided inside the housing 210 . The contact area and contact time between the exhaust gas and the treatment liquid may be increased by the packing 230 . Accordingly, the treatment efficiency of the exhaust gas by the treatment liquid can be improved. The packing 230 may include a plurality of members having a plurality of holes formed therein. In the housing 210 , in addition to the packing 230 , a configuration in which the contact area and contact time between the exhaust gas and the treatment liquid can be increased, such as the packing 230 , may be provided.

하우징(210)은 단면이 사각형상일 수 있다. 하우징(210)은, 예컨대 선박(도시되지 않음)의 연돌(도시되지 않음) 내부에 설치될 수 있다. 선박의 연돌은 단면이 사각형상일 수 있다. 그리고, 전술한 바와 같이 하우징(210)의 단면이 사각형상이면, 단면이 사각형상인 선박의 연돌에 하우징(210)을 설치할 때, 사용하지 못하는 공간인 사영역이 최소화되도록 할 수 있다. 선박의 연돌에 하우징(210)을 설치시 연돌은, 예컨대 선박의 선수 또는 선미 방향으로 확장될 수 있다. 하우징(210)의 단면 형상이 사각형상이면, 전술한 바와 같이 단면이 사각형상인 선박의 연돌에 설치시 사영역이 최소화될 수 있기 때문에, 하우징(210)의 설치를 위한 연돌의 확장면적이 최소화될 수 있다. 이에 따라, 선박의 연돌의 하우징(210)의 설치가 용이하게 이루어질 수 있으며, 하우징(210)의 연돌에의 설치를 위한 시간과 물자 등을 절약할 수 있고, 선박의 공간활용도가 향상될 수 있다.The housing 210 may have a rectangular cross-section. The housing 210 may be installed, for example, inside a stack (not shown) of a ship (not shown). The stack of ships may have a rectangular cross-section. And, if the cross-section of the housing 210 is rectangular as described above, when the housing 210 is installed on the stack of a ship having a rectangular cross-section, the dead area, which is an unused space, can be minimized. When the housing 210 is installed on the stack of a ship, the stack may be expanded, for example, in the bow or stern direction of the ship. When the cross-sectional shape of the housing 210 is rectangular, the dead area can be minimized when installed on the stack of a ship having a rectangular cross-section as described above, so the expansion area of the stack for installation of the housing 210 can be minimized. there is. Accordingly, the installation of the housing 210 of the stack of the ship can be made easily, time and materials for installation of the housing 210 on the stack can be saved, and the space utilization of the ship can be improved. .

처리액 분사유닛(220)은 하우징(210)을 유동하는 배기가스에 처리액을 분사할 수 있다. 처리액 분사유닛(220)은 처리액 유동관(221)과, 처리액 분사노즐(222)을 포함할 수 있다.The treatment liquid spraying unit 220 may inject the treatment liquid into the exhaust gas flowing through the housing 210 . The treatment liquid spray unit 220 may include a treatment liquid flow pipe 221 and a treatment liquid spray nozzle 222 .

처리액 유동관(221)은 처리액 공급탱크(300)에 연결될 수 있다. 처리액 유동관(221)은 도1에 도시된 바와 같이 처리액 공급관(LP)에 의해서 처리액 공급탱크(300)에 연결될 수 있다. 처리액 공급관(LP)에는 처리액 공급펌프(PP)가 구비될 수 있다. 그리고, 처리액 공급펌프(PP)가 구동되면, 처리액 공급탱크(300)에 저장된 처리액이 처리액 유동관(221)을 유동할 수 있다.The treatment liquid flow pipe 221 may be connected to the treatment liquid supply tank 300 . The treatment liquid flow pipe 221 may be connected to the treatment liquid supply tank 300 by a treatment liquid supply pipe LP as shown in FIG. 1 . The treatment liquid supply pipe LP may be provided with a treatment liquid supply pump PP. In addition, when the treatment liquid supply pump PP is driven, the treatment liquid stored in the treatment liquid supply tank 300 may flow through the treatment liquid flow pipe 221 .

처리액 유동관(221)은 하우징(210)의 일면을 관통하여 하우징(210) 내부에 구비될 수 있다. 그리고, 처리액 분사노즐(222)은 하우징(210) 내부에 구비된 처리액 유동관(221)의 부분에 구비될 수 있다. 이에 따라, 처리액 유동관(221)을 유동한 처리액이 처리액 분사노즐(222)을 통해 도1에 도시된 바와 같이 하우징(210) 내부를 유동하는 배기가스에 분사될 수 있다.The treatment liquid flow pipe 221 may pass through one surface of the housing 210 and be provided inside the housing 210 . In addition, the treatment liquid injection nozzle 222 may be provided in a portion of the treatment liquid flow pipe 221 provided in the housing 210 . Accordingly, the treatment liquid flowing through the treatment liquid flow pipe 221 may be injected into the exhaust gas flowing through the housing 210 as shown in FIG. 1 through the treatment liquid injection nozzle 222 .

처리액 공급탱크(300)는 기액반응기(200)에 처리액을 공급할 수 있다. 처리액 공급탱크(300)에는 처리액이 저장될 수 있다. 처리액 공급탱크(300)에 저장되는 처리액은, 예컨대 해수나, 수산화나트륨 수용액 등의 알칼리수용액일 수 있다. 그러나, 처리액 공급탱크(300)에 저장되는 처리액은 특별히 한정되지 않고, 배기가스에 분사되어 배기가스와 접촉함으로써 배기가스에 포함된 배출규제가스를 흡수하며, 기액분리 처리액 재생유닛(400)에서 배출규제가스가 분리되어 재생될 수 있는 것이라면, 주지의 어떠한 것이라도 가능하다.The treatment liquid supply tank 300 may supply the treatment liquid to the gas-liquid reactor 200 . A treatment liquid may be stored in the treatment liquid supply tank 300 . The treatment liquid stored in the treatment liquid supply tank 300 may be, for example, seawater or an alkaline aqueous solution such as an aqueous sodium hydroxide solution. However, the treatment liquid stored in the treatment liquid supply tank 300 is not particularly limited, is injected into the exhaust gas and comes into contact with the exhaust gas to absorb the emission control gas contained in the exhaust gas, and the gas-liquid separation treatment liquid regeneration unit 400 ), as long as the emission control gas can be separated and regenerated, any known type is possible.

처리액 공급탱크(300)에는 도1에 도시된 바와 같이 처리액 공급관(LP)의 일측이 연결될 수 있다. 처리액 공급관(LP)의 타측은 처리액 분사유닛(220)의 처리액 유동관(221)에 연결될 수 있다. 그리고, 처리액 공급관(LP)의 처리액 공급펌프(PP)를 구동하면, 처리액 공급탱크(300)의 처리액이 처리액 공급관(LP)을 통해 처리액 분사유닛(220)에 공급될 수 있다.As shown in FIG. 1 , one side of the treatment liquid supply pipe LP may be connected to the treatment liquid supply tank 300 . The other side of the treatment liquid supply pipe LP may be connected to the treatment liquid flow pipe 221 of the treatment liquid spray unit 220 . In addition, when the treatment liquid supply pump PP of the treatment liquid supply pipe LP is driven, the treatment liquid in the treatment liquid supply tank 300 may be supplied to the treatment liquid injection unit 220 through the treatment liquid supply pipe LP. there is.

처리액 공급탱크(300)에는 처리액 회수관(LR)의 일측이 연결될 수 있다. 처리액 회수관(LR)의 타측은 기액분리 처리액 재생유닛(400)에 연결될 수 있다. 그리고, 기액분리 처리액 재생유닛(400)에서 재생된 처리액이 도1에 도시된 바와 같이 처리액 회수관(LR)을 통해 처리액 공급탱크(300)에 공급되어 저장될 수 있다.One side of the treatment liquid recovery pipe LR may be connected to the treatment liquid supply tank 300 . The other side of the treatment liquid recovery pipe LR may be connected to the gas-liquid separation treatment liquid regeneration unit 400 . In addition, the treatment liquid regenerated in the gas-liquid separation treatment liquid regeneration unit 400 may be supplied to and stored in the treatment liquid supply tank 300 through the treatment liquid recovery pipe LR as shown in FIG. 1 .

한편, 도1에 도시된 바와 같이 처리제 공급탱크(600)가 처리제 공급관(LT)에 의해서 처리액 회수관(LR)에 연결될 수 있다. 이에 따라, 처리액 회수관(LR)을 유동하는, 재생된 처리액에 처리제 공급탱크(600)에 저장된 처리제, 예컨대 수산화나트륨 등의 알칼리제를 처리제 공급관(LT)을 통하여 공급할 수 있다. 이외, 처리제 공급관(LT)은 도5에 도시된 바와 같이 처리액 회수관(LR)이 아닌 처리액 공급탱크(300)에 연결되어, 처리액 공급탱크(300)에 저장된 처리액에 처리제 공급탱크(600)에 저장된 처리제를 공급할 수도 있다.Meanwhile, as shown in FIG. 1 , the treatment agent supply tank 600 may be connected to the treatment liquid recovery pipe LR by the treatment agent supply pipe LT. Accordingly, the treatment agent stored in the treatment agent supply tank 600 , for example, an alkali agent such as sodium hydroxide, may be supplied to the regenerated treatment liquid flowing through the treatment liquid recovery pipe LR through the treatment agent supply pipe LT. In addition, the treatment agent supply pipe LT is connected to the treatment liquid supply tank 300 instead of the treatment liquid recovery pipe LR as shown in FIG. 5 , and supplies the treatment liquid stored in the treatment liquid supply tank 300 to the treatment agent supply tank. The treatment agent stored in 600 may be supplied.

처리액 공급탱크(300)에는 도1에 도시된 바와 같이 열교환기(HE)가 연결될 수 있다. 열교환기(HE)는 처리액 공급탱크(300)에 저장된 처리액과 열교환하여, 처리액을 배기가스에 포함된 배출규제가스를 비교적 잘 흡수할 수 있는 온도로 냉각시킬 수 있다. 처리액은, 기액반응기(200)에서 배기가스에 포함된 배출규제가스를 흡수하여 폐처리액으로 되면서, 뜨거운 배기가스에 의해서 온도가 상승할 수 있다. 이와 같이, 기액반응기(200)에 분사되기 전의 처리액보다 온도가 상승한 폐처리액이, 기액분리 처리액 재생유닛(400)에서 재생되면, 재생된 처리액도 기액반응기(200)에 분사되기 전의 처리액보다 온도가 상승할 수 있다. 이와 같이 온도가 상승된 처리액이 처리액 공급탱크(300)에 공급되면, 처리액 공급탱크(300)에 저장된 처리액의 온도가 상승되어, 처리액의 배출규제가스 흡수율이 저하될 수 있다. 그러나, 전술한 바와 같이 처리액 공급탱크(300)에 저장된 처리액의 온도를 열교환기(HE)에 의해서 배기가스에 포함된 배출규제가스를 비교적 잘 흡수할 수 있는 온도로 냉각시키면, 처리액의 배출규제가스 흡수율이 저하되지 않을 수 있다.As shown in FIG. 1 , a heat exchanger HE may be connected to the treatment liquid supply tank 300 . The heat exchanger HE exchanges heat with the treatment liquid stored in the treatment liquid supply tank 300 to cool the treatment liquid to a temperature at which the emission control gas included in the exhaust gas can be relatively well absorbed. The treatment liquid absorbs the emission control gas contained in the exhaust gas in the gas-liquid reactor 200 to become a waste treatment liquid, and the temperature may be increased by the hot exhaust gas. As described above, when the waste treatment liquid whose temperature is higher than the treatment liquid before being sprayed into the gas-liquid reactor 200 is regenerated in the gas-liquid separation treatment liquid regeneration unit 400 , the regenerated treatment liquid is also regenerated before being sprayed into the gas-liquid reactor 200 . The temperature may be higher than that of the treatment liquid. When the treatment liquid having the elevated temperature is supplied to the treatment liquid supply tank 300 as described above, the temperature of the treatment liquid stored in the treatment liquid supply tank 300 may increase, so that the absorption rate of the emission control gas of the treatment liquid may decrease. However, as described above, when the temperature of the treatment liquid stored in the treatment liquid supply tank 300 is cooled to a temperature at which the emission control gas included in the exhaust gas can be relatively well absorbed by the heat exchanger HE, the treatment liquid The emission control gas absorption rate may not decrease.

기액분리 처리액 재생유닛(400)은 기액반응기(200)로부터 배수된, 배출규제가스를 흡수한 처리액인 폐처리액으로부터 배출규제가스를 분리하여 처리액으로 재생하고, 재생된 처리액을 처리액 공급탱크(300)에 공급할 수 있다. 이와 같이, 처리액을 재생하여 재사용할 수 있기 때문에, 배기가스를 처리하는 데에 소요되는 비용이 감소될 수 있다.The gas-liquid separation treatment liquid regeneration unit 400 separates the emission control gas from the waste treatment liquid that is the treatment liquid that has absorbed the emission control gas drained from the gas-liquid reactor 200 , and regenerates it as a treatment liquid, and processes the regenerated treatment liquid It can be supplied to the liquid supply tank (300). In this way, since the treatment liquid can be regenerated and reused, the cost for treating the exhaust gas can be reduced.

도1에 도시된 바와 같이 폐처리액 배수관(LD)의 일측이 기액반응기(200)의 배수구(213)에 연결되고, 폐처리액 배수관(LD)의 타측은 기액분리 처리액 재생유닛(400)에 연결될 수 있다. 이에 따라, 기액반응기(200)의 배수구(213)를 통해 배수된 폐처리액은 폐처리액 배수관(LD)을 통해 기액분리 처리액 재생유닛(400)으로 유동할 수 있다. 이 경우, 폐처리액 배수관(LD)에는 도4에 도시된 바와 같이 부스터펌프(PB)가 구비될 수도 있다.1, one side of the waste treatment liquid drain pipe LD is connected to the drain 213 of the gas-liquid reactor 200, and the other side of the waste treatment liquid drain pipe LD is a gas-liquid separation treatment liquid regeneration unit 400. can be connected to Accordingly, the waste treatment liquid drained through the drain port 213 of the gas-liquid reactor 200 may flow to the gas-liquid separation treatment liquid regeneration unit 400 through the waste treatment liquid drain pipe LD. In this case, a booster pump PB may be provided in the waste treatment liquid drain pipe LD as shown in FIG. 4 .

폐처리액 배수관(LD)에는 도1에 도시된 바와 같이 폐처리액에 포함된 배출규제가스를 제외한 오염물질을 여과하여 처리하는 여과처리 유닛(WTS)이 구비될 수 있다. 폐처리액에 포함된 배출규제가스를 제외한 오염물질은 예를 들어, 입자상 물질, Oil 등을 들 수 있다. 여과처리 유닛(WTS)은 폐처리액 배수관(LD)을 통해 기액분리 처리액 재생유닛(400)으로 유동하는 폐처리액에 포함된 배출규제가스를 제외한 오염물질을 여과할 수 있다. 이에 따라, 폐처리액에 포함된 예를 들어 입자상물질, Oil 등이 여과처리 유닛(WTS)에 의해서 여과되어, 기액분리 처리액 재생유닛(400)에서 재생되는 처리액에 포함되는 오염물질이 최소화됨으로써, 기액분리 처리액 재생유닛(400)에 포함하는 기액분리막(420)의 성능을 보호할 수 있다. 여과처리 유닛(WTS)은, 예컨대 필터(도시되지 않음)나 원심력 등을 이용하여 폐처리액으로부터 입자상물질, Oil 등을 여과할 수 있다. 그러나, 여과처리 유닛(WTS)이 폐처리액으로부터 입자상물질, Oil 등을 여과하는 구성은 특별히 한정되지 않고, 주지의 어떠한 구성이라도 가능하다.As shown in FIG. 1 , the waste treatment liquid drain pipe LD may be provided with a filtration treatment unit WTS that filters and treats pollutants other than the emission control gas included in the waste treatment liquid. Pollutants other than emission control gas included in the waste treatment liquid include, for example, particulate matter and oil. The filtration unit WTS may filter pollutants other than the emission control gas included in the waste treatment liquid flowing to the gas-liquid separation treatment liquid regeneration unit 400 through the waste treatment liquid drain pipe LD. Accordingly, particulate matter, oil, etc. contained in the waste treatment liquid is filtered by the filtration unit (WTS), and contaminants included in the treatment liquid regenerated in the gas-liquid separation treatment liquid regeneration unit 400 are minimized. By doing so, it is possible to protect the performance of the gas-liquid separation membrane 420 included in the gas-liquid separation treatment liquid regeneration unit 400 . The filtration unit WTS may filter particulate matter, oil, etc. from the waste treatment liquid using, for example, a filter (not shown) or centrifugal force. However, the configuration in which the filtration unit WTS filters particulate matter, oil, etc. from the waste treatment liquid is not particularly limited, and any known configuration is possible.

도1에 도시된 바와 같이 처리액 회수관(LR)의 일측이 기액분리 처리액 재생유닛(400)에 연결되고, 처리액 회수관(LR)의 타측은 처리액 공급탱크(300)에 연결될 수 있다. 이에 따라, 기액분리 처리액 재생유닛(400)에서 재생된 처리액은 처리액 회수관(LR)을 통해 처리액 공급탱크(300)로 공급되어 처리액으로 재사용될 수 있다.1 , one side of the treatment liquid recovery pipe LR is connected to the gas-liquid separation treatment liquid regeneration unit 400 , and the other end of the treatment liquid recovery pipe LR may be connected to the treatment liquid supply tank 300 . there is. Accordingly, the treatment liquid regenerated in the gas-liquid separation treatment liquid regeneration unit 400 may be supplied to the treatment liquid supply tank 300 through the treatment liquid recovery pipe LR to be reused as the treatment liquid.

기액분리 처리액 재생유닛(400)은 기체는 통과하지만 액체는 통과하지 못하는 기액분리막(420)을 포함하여 기액분리막(420)은 폐처리액이 유동하는 액체유동로(411)와 배출규제가스가 유동하는 기체유동로(412)를 구획할 수 있다. 본 발명의 기액분리막(420)에서 배출규제가스는 통과하지만 폐처리액은 기액분리막(420)을 통과하지 못한다.The gas-liquid separation treatment liquid regeneration unit 400 includes a gas-liquid separation membrane 420 through which gas passes but not liquid. A flowing gas flow path 412 may be partitioned. In the gas-liquid separation membrane 420 of the present invention, the emission control gas passes, but the waste treatment liquid does not pass through the gas-liquid separation membrane 420 .

또한, 기체유동로(412)에는 낮은 배출규제가스 분압이 형성되어, 폐처리액에 흡수된 배출규제가스가 액체유동로(411)를 유동하면서 기액분리막(420)을 통과하여 낮은 배출규제가스 분압이 형성된 기체유동로(412)로 이동하여 배출규제가스와 처리액으로 분리할 수 있다. 낮은 배출규제가스 분압이란 배출규제가스의 농도가 낮은 상태를 의미한다. 배출규제가스 중 이산화탄소를 예를 들어 설명하면, 기체유동로(412)에는 이산화탄소 농도가 낮아, 낮은 이산화탄화탄소 분압이 형성된다. 분압이 낮을수록 기체의 액체에 대한 용해도는 낮아지므로, 폐처리액에 흡수된 배출규제가스가 액체유동로(411)를 유동하면서 기액분리막(420)을 통과하여 낮은 배출규제가스 분압이 형성된 기체유동로(412)로 이동하게 된다. 낮은 배출규제가스 분압을 형성하기 위해서 음압을 가하거나, sweeping air로 배출규제가스를 희석시킬 수 있다. 이와 같이, 폐처리액에 흡수된 배출규제가스가 액체유동로(411)를 유동하면서 기액분리막(420)을 통과하여 낮은 배출규제가스 분압이 형성된 기체유동로(412)로 이동하여, 폐처리액으로부터 배출규제가스를 용이하게 분리할 수 있다.In addition, a low partial pressure of the emission control gas is formed in the gas flow path 412 , so that the emission control gas absorbed in the waste treatment liquid flows through the liquid flow path 411 and passes through the gas-liquid separation membrane 420 to have a low partial pressure of the emission control gas It can move to the formed gas flow path 412 to separate the emission control gas and the treatment liquid. The low partial pressure of the emission control gas means a state in which the concentration of the emission control gas is low. When carbon dioxide among the emission control gas is described as an example, the carbon dioxide concentration is low in the gas flow path 412 , and a low partial pressure of carbon dioxide is formed. The lower the partial pressure, the lower the solubility of the gas in the liquid, so the emission control gas absorbed in the waste treatment liquid flows through the liquid flow path 411 and passes through the gas-liquid separation membrane 420 to form a low partial pressure of the emission control gas. It moves to the furnace 412 . A negative pressure can be applied to create a low partial pressure of the exhaust gas, or the exhaust gas can be diluted with sweeping air. As such, the emission control gas absorbed in the waste treatment liquid flows through the liquid flow path 411, passes through the gas-liquid separation membrane 420, and moves to the gas flow path 412 in which a low partial pressure of the emission control gas is formed, and the waste treatment liquid The emission control gas can be easily separated from the

기체는 통과하지만 액체는 통과하지 못하는 기액분리막(420)을 사용하고 기액분리막(420)이 구획한 기체유동로(412)에 낮은 배출규제가스 분압을 형성함으로써, 폐처리액으로부터 배출규제가스를 분리하여 폐처리액을 배출규제가스를 흡수하지 않은 처리액으로 재생시킬 수 있다. 이와 같은 방법을 사용하는 경우, 재생된 처리액에 공급하여야할 처리제의 양이 감소될 수 있기 때문에, 폐처리액을 재생하는 데에 소요되는 비용이 감소될 수 있다. 따라서, 배기가스를 처리하는 데에 소요되는 비용이 감소될 수 있다. 그리고, 기액분리 처리액 재생유닛(400)의 크기를 비교적 작게 할 수 있기 때문에, 배기가스 처리장치(100)의 크기가 작아질 수 있어서, 예컨대 선박 등설치공간에 제약이 있는 곳에, 배기가스 처리장치(100)를 용이하게 설치할 수 있다.By using a gas-liquid separation membrane 420 that passes gas but not liquid, and forming a low partial pressure of the emission control gas in the gas flow path 412 partitioned by the gas-liquid separation membrane 420, the emission control gas is separated from the waste treatment liquid Thus, the waste treatment liquid can be regenerated into a treatment liquid that does not absorb the emission control gas. In the case of using such a method, since the amount of the treatment agent to be supplied to the regenerated treatment liquid can be reduced, the cost required to regenerate the waste treatment liquid can be reduced. Accordingly, the cost required for treating the exhaust gas can be reduced. And, since the size of the gas-liquid separation treatment liquid regeneration unit 400 can be made relatively small, the size of the exhaust gas treatment device 100 can be reduced, for example, where there is a limitation in installation space such as a ship, exhaust gas treatment The device 100 can be easily installed.

기액분리 처리액 재생유닛(400)은 도1에 도시된 바와 같이 분리유닛본체(410)을 포함하여 구성될 수 있다. 분리유닛본체(410) 내부는 기액분리막(420)에 의해서 액체유동로(411)와 기체유동로(412)로 구획될 수 있다.The gas-liquid separation treatment liquid regeneration unit 400 may be configured to include a separation unit body 410 as shown in FIG. 1 . The inside of the separation unit body 410 may be divided into a liquid flow path 411 and a gas flow path 412 by a gas-liquid separation membrane 420 .

도1에 도시된 바와 같이, 기액반응기(200)의 배수구(213)에 연결된 폐처리액 배수관(LD)이 액체유동로(411)의 일측에 연결되며, 액체유동로(411)의 타측은 처리액 회수관(LR)에 의해서 처리액 공급탱크(300)에 연결될 수 있다. 이에 따라, 기액반응기(200)의 배수구(213)를 통해 배수된 폐처리액이 액체유동로(411)에 유입되어 액체유동로(411)를 유동할 수 있다. 그리고, 액체유동로(411)을 유동하면서 배출규제가스가 분리되어 재생된 처리액이 처리액 회수관(LR)에 유입되어 처리액 회수관(LR)을 통해 처리액 공급탱크(300)로 유동할 수 있다.1, the waste treatment liquid drain pipe LD connected to the drain port 213 of the gas-liquid reactor 200 is connected to one side of the liquid flow path 411, and the other side of the liquid flow path 411 is treated It may be connected to the treatment liquid supply tank 300 by the liquid recovery pipe LR. Accordingly, the waste treatment liquid drained through the drain port 213 of the gas-liquid reactor 200 may flow into the liquid flow path 411 and flow through the liquid flow path 411 . Then, while flowing through the liquid flow path 411 , the treatment liquid regenerated by the separation of the emission control gas flows into the treatment liquid recovery pipe LR and flows to the treatment liquid supply tank 300 through the treatment liquid recovery pipe LR. can do.

기체유동로(412)의 일측에 도1에 도시된 바와 같이 진공펌프(PV)가 구비된 가스회수관(LG)이 연결될 수 있다. 이에 따라, 진공펌프(PV)가 구동되면, 기체유동로(412)에 낮은 배출규제가스 분압이 형성될 수 있다. 또한, 기체유동로(412)의 타측에 유량조절밸브(VC)가 구비된 공기유입관(LA)이 연결될 수 있다. 이에 의해서, 진공펌프(PV)가 구동된 상태에서, 유량조절밸브(VC)를 조작하여, 공기유입관(LA)에 유입되는 공기의 유량을 조절함으로써, 기체유동로(412)에 형성되는 낮은 배출규제가스 분압을 조절할 수 있다.As shown in FIG. 1 on one side of the gas flow path 412, a gas return pipe LG provided with a vacuum pump PV may be connected. Accordingly, when the vacuum pump PV is driven, a low partial pressure of the emission control gas may be formed in the gas flow path 412 . In addition, an air inlet pipe LA having a flow rate control valve VC may be connected to the other side of the gas flow path 412 . Thereby, in a state in which the vacuum pump PV is driven, the flow rate control valve VC is operated to adjust the flow rate of air flowing into the air inlet pipe LA, thereby forming the low flow rate formed in the gas flow path 412 . It is possible to adjust the partial pressure of the emission control gas.

기액분리막(420)은 도1에 도시된 바와 같이 기체유동로(412)가 형성된 중공사막일 수 있다. 이에 의해서, 기액분리막(420) 이외의 분리유닛본체(410)의 내부공간이 액체유동로(411)가 될 수 있다. 이외, 기액분리막(420)은 도2에 도시된 바와 같이, 액체유동로(411)가 형성된 중공사막일 수 있다. 이 경우에는, 기액분리막(420) 이외의 분리유닛본체(410)의 내부공간이 기체유동로(412)가 될 수 있다. 그러나, 기액분리막(420)은 특별히 한정되지 않고, 배출규제가스는 통과하나 폐처리액은 통과하지 못하며, 분리유닛본체(410) 내부를 폐처리액이 유동하는 액체유동로(411)와 배출규제가스가 유동하는 기체유동로(412)로 구획할 수 있는 것이라면 평막 등 주지의 어떠한 것이라도 가능하다.The gas-liquid separation membrane 420 may be a hollow fiber membrane in which a gas flow path 412 is formed as shown in FIG. 1 . Accordingly, the internal space of the separation unit body 410 other than the gas-liquid separation membrane 420 may become the liquid flow path 411 . In addition, the gas-liquid separation membrane 420 may be a hollow fiber membrane in which a liquid flow path 411 is formed, as shown in FIG. 2 . In this case, the internal space of the separation unit body 410 other than the gas-liquid separation membrane 420 may be the gas flow path 412 . However, the gas-liquid separation membrane 420 is not particularly limited, and the emission control gas passes but the waste treatment liquid does not, and the liquid flow path 411 through which the waste treatment liquid flows through the separation unit body 410 and the discharge control liquid. As long as it can be partitioned by the gas flow path 412 through which gas flows, any known type such as a flat membrane may be used.

배기가스 배출장치에서 고황연료를 사용하면, 배기가스 배출장치로부터 배출되는 배기가스에 황산화물이 비교적 많이 포함된다. 이와 같이 황산화물이 많이 포함된 배기가스가 기액반응기(200)의 하우징(210) 내부에 유입되면, 처리액 분사유닛(220)에 의해서 배기가스에 분사된 처리액은 배기가스에 포함된 황산화물을 주로 배기가스로부터 제거한다. 즉, 기액반응기(200)에서는 처리액에 의해서 배기가스의 탈황이 이루어진다. 이와 같이 배기가스로부터 황산화물을 제거한 폐처리액에는 황산화물이 포함되고, 기액분리 처리액 재생유닛(400)에서는 폐처리액으로부터 이산화황 등의 황산화물인 배출규제가스가 분리되게 된다.When high sulfur fuel is used in the exhaust gas exhaust device, the exhaust gas discharged from the exhaust gas exhaust device contains a relatively large amount of sulfur oxides. As such, when the exhaust gas containing a large amount of sulfur oxide flows into the housing 210 of the gas-liquid reactor 200 , the treatment liquid injected into the exhaust gas by the treatment liquid injection unit 220 is sulfur oxides contained in the exhaust gas. is mainly removed from the exhaust gas. That is, in the gas-liquid reactor 200 , the desulfurization of the exhaust gas is performed by the treatment liquid. As described above, the waste treatment liquid from which sulfur oxides are removed from the exhaust gas contains sulfur oxides, and in the gas-liquid separation treatment liquid regeneration unit 400 , the emission control gas, which is sulfur oxides such as sulfur dioxide, is separated from the waste treatment liquid.

배기가스 배출장치에서 저황연료를 사용하면, 배기가스 배출장치로부터 배출되는 배기가스에 황산화물이 비교적 적게 포함된다. 이와 같이 황산화물이 적게 포함된 배기가스가 기액반응기(200)의 하우징(210) 내부에 유입되면, 처리액 분사유닛(220)에 의해서 배기가스에 분사된 처리액은 배기가스에 포함된 이산화탄소를 주로 배기가스로부터 제거한다. 이와 같이 배기가스로부터 이산화탄소를 제거한 폐처리액에는 이산화탄소가 포함되고, 기액분리 처리액 재생유닛(400)에서는 폐처리액으로부터 이산화탄소가 분리된다.When the low-sulfur fuel is used in the exhaust gas exhaust device, the exhaust gas discharged from the exhaust gas exhaust device contains relatively little sulfur oxide. As such, when the exhaust gas containing less sulfur oxide flows into the housing 210 of the gas-liquid reactor 200 , the treatment liquid injected into the exhaust gas by the treatment liquid injection unit 220 releases carbon dioxide contained in the exhaust gas. It is mainly removed from exhaust gases. As described above, the waste treatment liquid from which carbon dioxide is removed from the exhaust gas includes carbon dioxide, and the gas-liquid separation treatment liquid regeneration unit 400 separates carbon dioxide from the waste treatment liquid.

본 발명에 따른 배기가스 처리장치(100)의 제1실시예는 가스처리유닛(500)을 더 포함할 수 있다. 가스처리유닛(500)에서는 기액분리 처리액 재생유닛(400)에서 폐처리액으로부터 분리된 배출규제가스를 처리할 수 있다.The first embodiment of the exhaust gas treatment apparatus 100 according to the present invention may further include a gas treatment unit 500 . The gas treatment unit 500 may process the emission control gas separated from the waste treatment liquid in the gas-liquid separation treatment liquid regeneration unit 400 .

가스처리유닛(500)에서는 배출규제가스를 해수에 친환경 이온상태로 용해시켜서 처리할 수 있다. 예컨대, 가스처리유닛(500)에서는 배출규제가스인 이산화탄소를 탄산, 중탄산염, 탄산염 등의 자연상태의 친환경 이온화물질로 해수에 용해시켜 처리할 수 있으며, 황산화물의 경우에는 황산, 황산염 등의 자연상태의 친환경 이온화물질로 해수에 용해시켜 처리할 수 있다.In the gas treatment unit 500, the emission control gas may be dissolved in seawater in an eco-friendly ionic state for treatment. For example, in the gas treatment unit 500, carbon dioxide, which is an emission control gas, may be dissolved in seawater with an eco-friendly ionizing material in a natural state such as carbonic acid, bicarbonate, carbonate, etc. It can be treated by dissolving it in seawater as an eco-friendly ionizing material of

이를 위해서, 가스처리유닛(500)은 도3에 도시된 바와 같이 해수가 유동하며 기액분리 처리액 재생유닛(400)에 연결된 가스회수관(LG)이 연결되는 해수유동관(510)을 포함할 수 있다. 이러한 해수유동관(510)은, 예컨대 선박에 구비되는 냉각수관, 밸러스트수관, 씨체스트 등이 될 수 있다. 그러나, 해수유동관(510)은 특별히 한정되지 않고, 해수가 유동하는 것이라면, 주지의 어떠한 것이라도 가능하다.To this end, the gas treatment unit 500 may include a seawater flow pipe 510 to which seawater flows and a gas return pipe LG connected to the gas-liquid separation treatment liquid regeneration unit 400 is connected as shown in FIG. 3 . there is. Such a seawater flow pipe 510 may be, for example, a cooling water pipe, a ballast water pipe, a sea chest, etc. provided in a ship. However, the seawater flow pipe 510 is not particularly limited, and as long as the seawater flows, any known type is possible.

가스회수관(LG)이 연결되는 해수유동관(510)의 부분은 도3에 도시된 바와 같이 복수개로 분기될 수 있다. 그리고, 가스회수관(LG)은 분기되어, 분기된 해수유동관(510)의 부분에 각각 연결될 수 있다.A portion of the seawater flow pipe 510 to which the gas return pipe LG is connected may be branched into a plurality as shown in FIG. 3 . In addition, the gas return pipe (LG) may be branched and connected to the branched seawater flow pipe (510), respectively.

전술한 바와 같이, 해수유동관(510)이 복수개로 분기되면, 해수의 유속이 감소하여, 배출규제가스가 친환경 이온상태로 해수에 용해될 수 있는 충분한 시간을 확보할 수 있기 때문에, 배출규제가스의 친환경 이온상태로의 해수에의 용해가 더 잘 이루어질 수 있다. 또한, 도3에 도시된 바와 같이 해수유동관(510)에는 압력조절장치(VCP)가 구비될 수 있다. 이에 의해서, 해수유동관(510)을 유동하는 해수의 압력을 높임으로써, 배출규제가스가 친환경 이온상태로 해수에 용이하게 용해되도록 할 수 있다.As described above, when the seawater flow pipe 510 is branched into a plurality of pieces, the flow rate of seawater is reduced, so that sufficient time for the emission control gas to be dissolved in seawater in an environment-friendly ionic state can be secured. Dissolution in seawater into an environmentally friendly ionic state can be better achieved. In addition, as shown in Figure 3, the seawater flow pipe 510 may be provided with a pressure control device (VCP). Accordingly, by increasing the pressure of the seawater flowing through the seawater flow pipe 510, the emission control gas can be easily dissolved in the seawater in an environmentally friendly ionic state.

가스처리유닛(500)은 도3에 도시된 바와 같이 가스회수관(LG)에 연결되도록 해수유동관(510)에 구비되는 미세기포발생기(520)를 더 포함할 수 있다. 미세기포발생기(520)에서는 배출규제가스가 미세한 기포로 해수유동관(510)을 유동하는 해수에 혼합되도록 할 수 있다. 예컨대, 미세기포발생기(520)에는 미세구멍(521)이 다수형성되어, 가스회수관(LG)을 유동한 배출규제가스가 미세구멍(521)을 통과하여 미세기포로 해수유동관(510)을 유동하는 해수에 혼합되도록 할 수 있다. 이와 같이, 배출규제가스가 미세기포로 해수유동관(510)을 유동하는 해수에 혼합되면, 배출규제가스의 친환경 이온상태로의 해수에의 용해가 더 잘 이루어질 수 있다.The gas processing unit 500 may further include a microbubble generator 520 provided in the seawater flow pipe 510 to be connected to the gas return pipe LG as shown in FIG. 3 . In the microbubble generator 520 , the emission control gas may be mixed with the seawater flowing through the seawater flow pipe 510 as fine bubbles. For example, in the microbubble generator 520, a plurality of microholes 521 are formed, and the emission control gas flowing through the gas return pipe LG passes through the micropores 521 to flow the seawater flow pipe 510 as microbubbles. It can be mixed with seawater. In this way, when the emission control gas is mixed with the seawater flowing through the seawater flow pipe 510 as microbubbles, the emission control gas can be better dissolved in the seawater into an eco-friendly ionic state.

가스처리유닛(500)은 가스혼합기(530)를 더 포함할 수 있다. 가스혼합기(530)는 도3에 도시된 바와 같이 해수의 유동방향으로 미세기포발생기(520) 다음의 해수유동관(510)의 부분에 구비될 수 있다. 그리고 미세기포발생기(520)에서 발생되어 해수유동관(510)을 유동하는 해수에 공급된, 배출규제가스 기포와 해수가 혼합되도록 할 수 있다. 예컨대, 가스혼합기(530)는 스크류 형상의 혼합부재(531)가 회전하도록 구비되어, 해수유동관(510)의 해수에 공급된, 배출규제가스 기포와 해수가 혼합되도록 할 수 있다. 이에 따라, 배출규제가스의 친환경 이온상태로의 해수에의 용해가 더 잘 이루어질 수 있다.The gas processing unit 500 may further include a gas mixer 530 . The gas mixer 530 may be provided in a portion of the seawater flow pipe 510 next to the microbubble generator 520 in the flow direction of the seawater as shown in FIG. 3 . And it is possible to mix the emission control gas bubbles and seawater, which are generated in the microbubble generator 520 and supplied to the seawater flowing through the seawater flow pipe 510 . For example, the gas mixer 530 is provided so that the screw-shaped mixing member 531 rotates, so that the seawater and the emission control gas bubbles supplied to the seawater of the seawater flow pipe 510 are mixed. Accordingly, dissolution of the emission control gas into seawater into an environmentally friendly ionic state can be better achieved.

전술한 바와 같이 분기된 해수유동관(510)은 도3에 도시된 바와 같이 다시 모아진 후 해양(SEA)에 연결될 수 있다. 이에 따라, 배출규제가스가 친환경 이온상태로 용해된 해수는 해양(SEA)으로 배수될 수 있다. 배출규제가스가 친환경 이온상태로 용해된 해수가 해양(SEA)으로 배출되도록 하는 해수유동관(510)의 부분에는 도3에 도시된 바와 같이 수질측정센서(SP)가 구비될 수 있다.As described above, the branched seawater flow pipe 510 may be re-collected as shown in FIG. 3 and then connected to the ocean (SEA). Accordingly, seawater in which the emission control gas is dissolved in an environment-friendly ionic state can be drained to the sea (SEA). As shown in FIG. 3 , a water quality measuring sensor SP may be provided at a portion of the seawater flow pipe 510 that discharges the seawater dissolved in the emission control gas into the environment-friendly ionic state to the sea SEA.

이외, 가스처리유닛(500)에서는 배출규제가스를 청수유동관(도시되지 않음)을 유동하는 청수에 친환경 이온상태로 용해시켜서 처리할 수도 있다.In addition, in the gas treatment unit 500, the emission control gas may be treated by dissolving it in an environment-friendly ion state in fresh water flowing through a fresh water flow pipe (not shown).

한편, 가스처리유닛(500)에서는 기액분리 처리액 재생유닛(400)에서 폐처리액으로부터 분리된 배출규제가스를 저장하여 처리할 수 있다. 해양(SEA)의 일부지역에서는 선박 등으로부터 어떠한 물질도 배출하지 않는 무방류 조건을 요구하기도 한다. 따라서, 선박이 이러한 지역을 운행하는 등의 경우에, 가스처리유닛(500)에서는 기액분리 처리액 재생유닛(400)에서 폐처리액으로부터 분리된 배출규제가스를 저장할 수 있다. 이와 같이, 가스처리유닛(500)에 저장된 배출규제가스는 사용처에 공급될 수 있다.Meanwhile, the gas treatment unit 500 may store and process the emission control gas separated from the waste treatment liquid in the gas-liquid separation treatment liquid regeneration unit 400 . In some areas of the ocean (SEA), there is also a requirement for a zero discharge condition in which no substances are discharged from ships, etc. Accordingly, in the case of a vessel operating in such an area, the gas treatment unit 500 may store the emission control gas separated from the waste treatment liquid in the gas-liquid separation treatment liquid regeneration unit 400 . In this way, the emission control gas stored in the gas treatment unit 500 may be supplied to a place of use.

가스처리유닛(500)은 도4에 도시된 바와 같이 가스회수관(LG)이 연결되어 배출규제가스가 저장되는 가스저장탱크(540)를 포함할 수 있다.As shown in FIG. 4 , the gas processing unit 500 may include a gas storage tank 540 to which the gas return pipe LG is connected and the emission control gas is stored.

기액분리 처리액 재생유닛(400)에서 폐처리액으로부터 분리된 배출규제가스는 가스회수관(LG)을 통해 가스저장탱크(540)에 저장될 수 있다. 가스저장탱크(540)에서는 배출규제가스를 냉각하고 압축함으로써 액화시켜서, 액체상태로 배출규제가스를 저장할 수 있다. 이와 같이, 가스저장탱크(540)에 액체상태로 저장된 배출규제가스는 사용처에 공급될 수 있다.The emission control gas separated from the waste treatment liquid in the gas-liquid separation treatment liquid regeneration unit 400 may be stored in the gas storage tank 540 through the gas return pipe LG. The gas storage tank 540 liquefies the emission control gas by cooling and compressing it, so that the emission control gas can be stored in a liquid state. In this way, the emission control gas stored in the liquid state in the gas storage tank 540 may be supplied to a place of use.

배기가스 처리장치의 제2실시예Second embodiment of exhaust gas treatment device

이하, 도5를 참조로 하여 본 발명에 따른 배기가스 처리장치의 제2실시예에 대하여 설명한다.Hereinafter, a second embodiment of an exhaust gas treatment apparatus according to the present invention will be described with reference to FIG. 5 .

도5는 본 발명에 따른 배기가스 처리장치의 제2실시예를 나타내는 도면이다.5 is a view showing a second embodiment of the exhaust gas treatment apparatus according to the present invention.

여기에서, 본 발명에 따른 배기가스 처리장치의 제2실시예는 상기 도1 내지 도4를 참조로 하여 설명한 본 발명에 따른 배기가스 처리장치의 제1실시예와, 기액반응기(200)에서 배기가스에 포함된 황산화물이 제1처리액에 흡수되어 제거되고 황산화물이 제거된 배기가스에 포함된 이산화탄소가 제2처리액에 흡수되어 제거되도록 한다는 점에서 차이가 있다. 그리고, 이를 위해서 기액반응기(200)에 배기가스와 제1처리액이 접촉하여 황산화물이 제거되는 제1제거영역(RR1)과, 배기가스와 제2처리액이 접촉하여 이산화탄소가 제거되는 제2제거영역(RR2) 및, 제1제거영역(RR1)과 제2제거영역(RR2)을 연결하는 연결영역(RC)이 구비된다는 점에서 차이가 있다.Here, the second embodiment of the exhaust gas processing apparatus according to the present invention is the first embodiment of the exhaust gas processing apparatus according to the present invention described with reference to FIGS. 1 to 4, and the exhaust gas from the gas-liquid reactor 200 There is a difference in that the sulfur oxide contained in the gas is absorbed and removed by the first treatment liquid, and carbon dioxide contained in the exhaust gas from which the sulfur oxide is removed is absorbed and removed by the second treatment liquid. And, for this purpose, the first removal region RR1 in which the sulfur oxide is removed by contacting the exhaust gas with the first treatment liquid in the gas-liquid reactor 200 and the second removal region RR1 in which the exhaust gas and the second treatment liquid are in contact with each other to remove carbon dioxide There is a difference in that the removal region RR2 and the connection region RC connecting the first removal region RR1 and the second removal region RR2 are provided.

그러므로, 이하에서는 차별되는 부분을 중점적으로 설명하고 나머지 구성에 대해서는 상기 도1 내지 도4를 참조로 하여 설명한 것으로 대체할 수 있다.Therefore, in the following, the differentiated parts will be mainly described, and the remaining components may be replaced with those described with reference to FIGS. 1 to 4 .

본 발명에 따른 배기가스 처리장치(100)의 제2실시예의 기액반응기(200)에서는 배기가스에 포함된 황산화물이 제1처리액에 흡수되어 제거되고 황산화물이 제거된 배기가스에 포함된 이산화탄소가 제2처리액에 흡수되어 제거될 수 있다.In the gas-liquid reactor 200 of the second embodiment of the exhaust gas treatment apparatus 100 according to the present invention, sulfur oxides contained in the exhaust gas are absorbed and removed by the first treatment liquid, and carbon dioxide contained in the exhaust gas from which the sulfur oxides are removed. may be removed by being absorbed into the second treatment solution.

황산화물과 이산화탄소가 같이 포함된 배기가스에, 예컨대 알칼리수용액인 처리액을 분사하면, 배기가스로부터 먼저 황산화물이 제거될 수 있다. 그러므로, 배기가스로부터 이산화탄소를 제거하려면 먼저 배기가스에 포함된 황산화물을 제거해주어야만 한다. 전술한 바와 같이, 배기가스에 포함된 황산화물을 제1처리액이 흡수하여 제거하고 황산화물이 제거된 배기가스에 포함된 이산화탄소를 제2처리액이 흡수하여 제거하면, 배기가스로부터 황산화물과 이산화탄소를 모두 제거할 수 있다. 그리고, 배기가스에 황산화물이 적게 포함된 경우에도, 황산화물을 먼저 제거할 수 있기 때문에, 이산화탄소 제거율을 더 향상시킬 수 있다.When a treatment liquid, for example, an alkaline aqueous solution, is injected into the exhaust gas containing both sulfur oxides and carbon dioxide, sulfur oxides may be removed from the exhaust gas first. Therefore, in order to remove carbon dioxide from the exhaust gas, sulfur oxides contained in the exhaust gas must first be removed. As described above, when the first treatment liquid absorbs and removes sulfur oxides contained in the exhaust gas and the second treatment liquid absorbs and removes carbon dioxide contained in the exhaust gas from which sulfur oxides have been removed, sulfur oxides and All carbon dioxide can be removed. Also, even when the exhaust gas contains a small amount of sulfur oxides, since the sulfur oxides can be removed first, the carbon dioxide removal rate can be further improved.

기액반응기(200)에는 배기가스와 제1처리액이 접촉하여 황산화물이 제거되는 제1제거영역(RR1)과, 배기가스와 제2처리액이 접촉하여 이산화탄소가 제거되는 제2제거영역(RR2) 및, 제1제거영역(RR1)과 제2제거영역(RR2)을 연결하는 연결영역(RC)이 구비될 수 있다.In the gas-liquid reactor 200 , a first removal region RR1 in which sulfur oxide is removed by contact with the exhaust gas and the first processing liquid, and a second removal region RR2 in which carbon dioxide is removed by contact with the exhaust gas and the second processing liquid ) and a connection region RC connecting the first removal region RR1 and the second removal region RR2 may be provided.

이를 위해서, 기액반응기(200)의 하우징(210)은 도5에 도시된 바와 같이 내부가 복수개의 구획벽(WD)에 의해서 제1제거영역(RR1)과 제2제거영역(RR2) 및 연결영역(RC)으로 구획될 수 있다.To this end, the housing 210 of the gas-liquid reactor 200 has a first removal region RR1, a second removal region RR2, and a connection region inside by a plurality of partition walls WD, as shown in FIG. 5 . (RC) can be partitioned.

이 경우, 제1제거영역(RR1)과 제2제거영역(RR2)에서는 배기가스가 하부에서 상부로 유동하고 연결영역(RC)에서는 배기가스가 상부에서 하부로 유동하도록, 복수개의 구획벽(WD)이 하우징(210) 내부에 구비될 수 있다.In this case, the plurality of partition walls WD so that the exhaust gas flows from the bottom to the top in the first removal region RR1 and the second removal region RR2 and the exhaust gas flows from the top to the bottom in the connection region RC. ) may be provided inside the housing 210 .

예컨대, 도5에 도시된 바와 같이, 하우징(210) 내부에 2개의 구획벽(WD)이 각각 구비되어, 하우징(210) 내부를 제1제거영역(RR1)과 제2제거영역(RR2) 및 연결영역(RC)으로 구획할 수 있다. 즉, 한 구획벽(WD)은 하우징(210) 내부를 제1제거영역(RR1)으로 구획하면서 연결영역(RC)의 일부를 구획하고, 다른 구획벽(WD)은 하우징(210) 내부를 제2제거영역(RR2)로 구획하면서 연결영역(RC)의 나머지를 구획할 수 있다.For example, as shown in FIG. 5 , two partition walls WD are provided inside the housing 210 , respectively, to provide a first removal region RR1 and a second removal region RR2 and It can be divided into a connection region (RC). That is, one partition wall WD partitions a part of the connection area RC while partitioning the inside of the housing 210 into the first removal area RR1, and the other partition wall WD covers the inside of the housing 210 . The remainder of the connection region RC may be partitioned while partitioning into two removal regions RR2.

또한, 제1제거영역(RR1)과 연결영역(RC)의 일부를 구획하는 구획벽(WD)은 상단부가 도5에 도시된 바와 같이 하우징(210) 상단부와 소정 거리 이격되게 하우징(210) 내부에 구비될 수 있다. 그리고, 연결영역(RC)의 나머지와 제2제거영역(RR2)을 구획하는 구획벽(WD)은 하단부가 하우징(210) 하단부와 소정 거리 이격되게 하우징(210) 내부에 구비될 수 있다.In addition, as shown in FIG. 5 , the upper end of the partition wall WD dividing the first removal region RR1 and a part of the connection region RC is spaced apart from the upper end of the housing 210 by a predetermined distance inside the housing 210 . can be provided in In addition, the lower end of the partition wall WD dividing the rest of the connection area RC and the second removal area RR2 may be provided inside the housing 210 to be spaced apart from the lower end of the housing 210 by a predetermined distance.

그리고, 배기가스 배출장치에 연결되는 유입구(211)는 제1제거영역(RR1)에 연결되고, 배출구(212)는 제2제거영역(RR2)에 연결될 수 있다. 또한, 하우징(210)에는 제1배수구(213')와 제2배수구(213")가 각각 구비되며, 제1배수구(213')는 제1제거영역(RR1)에 연결되고 제2배수구(213")는 제2제거영역(RR2)에 연결될 수 있다.In addition, the inlet 211 connected to the exhaust gas exhaust device may be connected to the first removal region RR1 , and the outlet 212 may be connected to the second removal region RR2 . In addition, the housing 210 is provided with a first drain hole 213 ′ and a second drain hole 213 ″, respectively, and the first drain hole 213 ′ is connected to the first removal region RR1 and a second drain hole 213 . ") may be connected to the second removal region RR2.

이에 의해서, 제1제거영역(RR1)과 제2제거영역(RR2)에서 모두 배기가스가 하부에서 상부로 유동하면서 황산화물이나 이산화탄소가 제거되도록 할 수 있으며, 연결영역(RC)에서는 제1제거영역(RR1)에서 황산화물이 제거된 배기가스가 상부에서 하부로 유동하여 제2제거영역(RR2)에 유입되도록 할 수 있다.Accordingly, in both the first removal region RR1 and the second removal region RR2, sulfur oxide or carbon dioxide can be removed while exhaust gas flows from the bottom to the top, and in the connection region RC, the first removal region The exhaust gas from which the sulfur oxides are removed in RR1 may flow from the top to the bottom to flow into the second removal region RR2.

또한, 기액분리 처리액 재생유닛(400)은 폐처리액의 재생을 위한 기액분리 처리액 재생유닛(400)과 연결된 전처리 구성 및 처리액 회수 구성, 이산화탄소를 분리하기 위한 가스회수관과 연결되는 구성을 포함할 수 있다.In addition, the gas-liquid separation treatment liquid regeneration unit 400 includes a pretreatment configuration and a treatment liquid recovery configuration connected to the gas-liquid separation treatment liquid regeneration unit 400 for regenerating the waste treatment liquid, and a configuration connected to a gas recovery pipe for separating carbon dioxide may include

본 발명에 따른 배기가스 처리장치(100)의 제2실시예의 기액반응기(200)는 도5에 도시된 바와 같이, 제1처리액 분사유닛(220')과, 제2처리액 분사유닛(220")을 포함할 수 있다.As shown in FIG. 5 , the gas-liquid reactor 200 of the second embodiment of the exhaust gas treatment apparatus 100 according to the present invention includes a first treatment liquid injection unit 220 ′ and a second treatment liquid injection unit 220 . ") may be included.

제1처리액 분사유닛(220')은 하우징(210)의 제1제거영역(RR1)을 유동하는 배기가스에 제1처리액을 분사할 수 있다. 제1처리액 분사유닛(220')은 도5에 도시된 바와 같이 제1처리액 유동관(221')과, 제1처리액 분사노즐(222')을 포함할 수 있다.The first treatment liquid spraying unit 220 ′ may spray the first treatment liquid into the exhaust gas flowing through the first removal region RR1 of the housing 210 . As shown in FIG. 5 , the first treatment liquid spray unit 220 ′ may include a first treatment liquid flow pipe 221 ′ and a first treatment liquid spray nozzle 222 ′.

제1처리액 유동관(221')은 하우징(210)의 일면을 관통하여 제1제거영역(RR1)에 구비될 수 있다. 그리고, 제1처리액 분사노즐(222')은 제1제거영역(RR1)에 구비된 제1처리액 유동관(221')의 부분에 구비될 수 있다.The first treatment liquid flow pipe 221 ′ may pass through one surface of the housing 210 and be provided in the first removal region RR1 . In addition, the first treatment liquid injection nozzle 222 ′ may be provided in a portion of the first treatment liquid flow pipe 221 ′ provided in the first removal region RR1 .

제1처리액 분사유닛(220')은 복수개일 수 있다. 이 경우, 복수개의 제1처리액 분사유닛(220')은 상하로 소정 간격을 두고 배치될 수 있다. 또한, 최하단의 제1처리액 분사유닛(220')에서는 제1처리액에 의해서 배기가스의 온도를 황산화물과 이산화탄소 제거가 용이하도록 냉각하면서 배기가스로부터 일부 황산화물을 제거하는 전처리를 할 수 있다. 그리고, 나머지 제1처리액 분사유닛(220')에서는 배기가스로부터 나머지 황산화물을 제거하는 후처리를 할 수 있다. 예컨대, 제1처리액 분사유닛(220')은 도5에 도시된 바와 같이 2개일 수 있다. 그러나, 제1처리액 분사유닛(220')의 개수는 특별히 한정되지 않고, 어떠한 개수라도 가능하다.There may be a plurality of first treatment liquid spraying units 220 ′. In this case, the plurality of first treatment liquid spraying units 220 ′ may be disposed vertically with a predetermined interval therebetween. In addition, in the lowermost first treatment liquid injection unit 220 ′, a pretreatment of removing some sulfur oxides from the exhaust gas may be performed while cooling the temperature of the exhaust gas by the first treatment liquid to facilitate removal of sulfur oxides and carbon dioxide. . In addition, the remaining first treatment liquid injection unit 220 ′ may perform post-treatment to remove the remaining sulfur oxides from the exhaust gas. For example, there may be two first treatment liquid spraying units 220 ′ as shown in FIG. 5 . However, the number of the first treatment liquid spraying units 220' is not particularly limited, and any number is possible.

제1처리액은 해수일 수 있다. 이 경우, 도5에 도시된 바와 같이 해양(SEA)에 연결된 제1처리액 공급관(LP')이 제1처리액 분사유닛(220')의 제1처리액 유동관(221')에 연결될 수 있다. 제1처리액 공급관(LP')에는 제1처리액 공급펌프(PP')가 구비될 수 있다. 또한, 하우징(210)의 제1제거영역(RR1)에 연결된 제1배수구(213')에는 해양(SEA)에 연결된 제1폐처리액 배수관(LD')이 연결될 수 있다.The first treatment liquid may be seawater. In this case, as shown in FIG. 5 , the first treatment liquid supply pipe LP ′ connected to the ocean SEA may be connected to the first treatment liquid flow pipe 221 ′ of the first treatment liquid spray unit 220 ′. . A first treatment liquid supply pump PP' may be provided in the first treatment liquid supply pipe LP'. In addition, a first waste treatment liquid drain pipe LD' connected to the ocean SEA may be connected to the first drain port 213 ′ connected to the first removal region RR1 of the housing 210 .

이에 따라, 제1처리액 공급펌프(PP')가 구동되면, 해수가 제1처리액으로 제1처리액 분사유닛(220')의 제1처리액 유동관(221')을 유동하여 제1처리액 분사노즐(222')을 통해 하우징(210)의 제1제거영역(RR1)을 유동하는 배기가스에 분사될 수 있다. 그리고, 하우징(210)의 제1제거영역(RR1)에 분사되어 배기가스로부터 황산화물을 흡수한 해수인 제1폐처리액은 제1폐처리액 배수관(LD')을 통해 해양(SEA)으로 배수될 수 있다. 제1폐처리액 배수관(LD')에는 수처리유닛(도시되지 않음)이 구비되어, 배기가스로부터 황산화물을 흡수한 해수인 제1폐처리액이 수처리된 후 해양(SEA)으로 배수되도록 할 수 있다.Accordingly, when the first treatment liquid supply pump PP' is driven, seawater flows as the first treatment liquid through the first treatment liquid flow pipe 221 ′ of the first treatment liquid spray unit 220 ′ for the first treatment. It may be injected into the exhaust gas flowing in the first removal region RR1 of the housing 210 through the liquid injection nozzle 222 ′. And, the first waste treatment liquid, which is seawater that is sprayed into the first removal region RR1 of the housing 210 and has absorbed sulfur oxides from the exhaust gas, is discharged to the sea SEA through the first waste treatment liquid drain pipe LD′. can be drained. A water treatment unit (not shown) is provided in the first waste treatment liquid drain pipe LD', so that the first waste treatment liquid, which is seawater that has absorbed sulfur oxides from the exhaust gas, is water-treated and then drained to the sea (SEA). there is.

제2처리액 분사유닛(220")은 하우징(210)의 제2제거영역(RR2)을 유동하는 배기가스에 제2처리액을 분사할 수 있다. 제2처리액 분사유닛(220")은 도5에 도시된 바와 같이 제2처리액 유동관(221")과, 제2처리액 분사노즐(222")을 포함할 수 있다.The second treatment liquid spraying unit 220 ″ may spray the second treatment liquid into the exhaust gas flowing through the second removal region RR2 of the housing 210 . The second treatment liquid spraying unit 220 ″ As shown in FIG. 5 , it may include a second treatment liquid flow pipe 221 ″ and a second treatment liquid spray nozzle 222 ″.

제2처리액 유동관(221")은 하우징(210)의 타면을 관통하여 제2제거영역(RR2)에 구비될 수 있다. 그리고, 제2처리액 분사노즐(222")은 제2제거영역(RR2)에 구비된 제2처리액 유동관(221")의 부분에 구비될 수 있다.The second treatment liquid flow pipe 221 ″ may be provided in the second removal region RR2 through the other surface of the housing 210 . And, the second treatment liquid spray nozzle 222 ″ is disposed in the second removal region ( It may be provided in a portion of the second treatment liquid flow pipe 221 ″ provided in RR2).

본 발명에 따른 배기가스 처리장치(100)의 제2실시예의 처리액 공급탱크(300)에서는 기액반응기(200)에 제2처리액을 공급할 수 있다. 이를 위해서, 처리액 공급탱크(300)에는 제2처리액이 저장되고, 처리액 공급탱크(300)에 연결된 제2처리액 공급관(LP")이 제2처리액 분사유닛(220")의 제2처리액 유동관(221")에 연결될 수 있다.In the treatment liquid supply tank 300 of the second embodiment of the exhaust gas treatment apparatus 100 according to the present invention, the second treatment liquid may be supplied to the gas-liquid reactor 200 . To this end, the second treatment liquid is stored in the treatment liquid supply tank 300 , and the second treatment liquid supply pipe LP″ connected to the treatment liquid supply tank 300 is connected to the second treatment liquid injection unit 220 ″. 2 It may be connected to the treatment liquid flow pipe 221 ″.

제2처리액 공급관(LP")에는 제2처리액 공급펌프(PP")가 구비될 수 있다. 그리고, 제2처리액 공급펌프(PP")가 구동되면, 처리액 공급탱크(300)에 저장된 제2처리액이 제2처리액 분사유닛(220")의 제2처리액 유동관(221")을 유동하여, 제2처리액 분사노즐(222")을 통해 하우징(210)의 제2제거영역(RR2)을 유동하는 배기가스에 분사될 수 있다.A second processing liquid supply pump PP" may be provided in the second processing liquid supply pipe LP". And, when the second treatment liquid supply pump PP " is driven, the second treatment liquid stored in the treatment liquid supply tank 300 is transferred to the second treatment liquid flow pipe 221 ″ of the second treatment liquid spray unit 220 ″. may be injected into the exhaust gas flowing through the second removal region RR2 of the housing 210 through the second treatment liquid injection nozzle 222 ″.

제2처리액은 수산화나트륨 수용액 등의 알칼리수용액일 수 있다.The second treatment solution may be an alkaline aqueous solution such as an aqueous sodium hydroxide solution.

본 발명에 따른 배기가스 처리장치(100)의 제2실시예의 기액분리 처리액 재생유닛(400)에서는 기액반응기(200)로부터 배수된, 이산화탄소를 흡수한 제2처리액인 제2폐처리액으로부터 이산화탄소를 분리하여 제2처리액으로 재생하며 재생된 제2처리액을 처리액 공급탱크(300)에 공급할 수 있다.Gas-liquid separation treatment liquid of the second embodiment of the exhaust gas treatment apparatus 100 according to the present invention The regeneration unit 400 separates carbon dioxide from the second waste treatment liquid, which is the second treatment liquid that has absorbed carbon dioxide, drained from the gas-liquid reactor 200 , and regenerates it as a second treatment liquid, and converts the regenerated second treatment liquid into a treatment liquid. It can be supplied to the supply tank (300).

이를 위해서, 기액분리 처리액 재생유닛(400)의 기액분리막(420)은 이산화탄소는 통과하나 제2폐처리액은 통과하지 못할 수 있다. 그리고, 기액반응기(200)에 연결된 제2폐처리액 배수관(LD")이 기액분리 처리액 재생유닛(400)의 액체유동로(411)의 일측에 연결될 수 있다. 예컨대, 도5에 도시된 바와 같이 기액반응기(200)의 제2제거영역(RR2)에 연결된 제2배수구(213")에 제2폐처리액 배수관(LD")이 연결되며, 제2폐처리액 배수관(LD")이 기액분리 처리액 재생유닛(400)의 액체유동로(411)의 일측에 연결될 수 있다. 그리고, 액체유동로(411)의 타측은 처리액 회수관(LR)에 의해서 처리액 공급탱크(300)에 연결될 수 있다.For this, the gas-liquid separation treatment liquid The gas-liquid separation membrane 420 of the regeneration unit 400 may pass carbon dioxide but may not allow the second waste treatment liquid to pass therethrough. And, the second waste treatment liquid drain pipe (LD") connected to the gas-liquid reactor 200 is a gas-liquid separation treatment liquid It may be connected to one side of the liquid flow path 411 of the regeneration unit 400 . For example, as shown in FIG. 5 , the second waste treatment liquid drain pipe LD″ is connected to the second drain port 213″ connected to the second removal region RR2 of the gas-liquid reactor 200, and the second waste treatment Liquid drain pipe (LD") is gas-liquid separation treatment liquid It may be connected to one side of the liquid flow path 411 of the regeneration unit 400 . In addition, the other side of the liquid flow path 411 may be connected to the treatment liquid supply tank 300 by the treatment liquid recovery pipe LR.

이에 따라, 기액반응기(200)의 제2배수구(213")를 통해서 배수된 제2폐처리액은 제2폐처리액 배수관(LD")을 통해 기액분리 처리액 재생유닛(400)의 액체유동로(411)를 유동하면서 이산화탄소가 분리되어 제2처리액으로 재생될 수 있다. 이와 같이 재생된 제2처리액은 처리액 회수관(LR)을 통해 처리액 공급탱크(300)에 공급될 수 있다.Accordingly, the second waste treatment liquid drained through the second drain port 213 " of the gas-liquid reactor 200 is the gas-liquid separation treatment liquid through the second waste treatment liquid drain pipe LD". While flowing through the liquid flow path 411 of the regeneration unit 400, carbon dioxide may be separated and regenerated as the second treatment liquid. The regenerated second treatment liquid may be supplied to the treatment liquid supply tank 300 through the treatment liquid recovery pipe LR.

그리고, 기액분리 처리액 재생유닛(400)의 액체유동로(411)를 유동하는 제2폐처리액으로부터 분리되어 기체유동로(412)로 이동한 이산화탄소는 기체유동로(412)에 연결된 가스회수관(LG)을 통해 가스처리유닛(500)으로 유동하여 처리될 수 있다.And, the gas-liquid separation treatment liquid Carbon dioxide separated from the second waste treatment liquid flowing through the liquid flow path 411 of the regeneration unit 400 and moved to the gas flow path 412 through a gas return pipe (LG) connected to the gas flow path 412 It may be processed by flowing to the gas processing unit 500 .

배기가스 처리장치의 제3실시예Third embodiment of exhaust gas treatment device

이하, 도6을 참조로 하여 본 발명에 따른 배기가스 처리장치의 제3실시예에 대하여 설명한다.Hereinafter, a third embodiment of an exhaust gas treatment apparatus according to the present invention will be described with reference to FIG. 6 .

도6은 본 발명에 따른 배기가스 처리장치의 제3실시예를 나타내는 도면이다.6 is a view showing a third embodiment of the exhaust gas treatment apparatus according to the present invention.

여기에서, 본 발명에 따른 배기가스 처리장치의 제3실시예는 상기 도5를 참조로 하여 설명한 본 발명에 따른 배기가스 처리장치의 제2실시예와 처리액 공급탱크(300)가 기액반응기(200)에 제1처리액과 제2처리액을 각각 공급하며, 제1폐처리액을 제1처리액으로 재생하는 제1기액분리 처리액 재생유닛(400')과, 제2폐처리액을 제2처리액으로 재생하는 제2기액분리 처리액 재생유닛(400")을 포함한다는 점에서 차이가 있다.Here, the third embodiment of the exhaust gas treatment apparatus according to the present invention is the second embodiment of the exhaust gas treatment apparatus according to the present invention described with reference to FIG. 5 and the treatment liquid supply tank 300 is a gas-liquid reactor ( 200), a first gas-liquid separation treatment liquid that supplies a first treatment liquid and a second treatment liquid, respectively, and regenerates the first waste treatment liquid into the first treatment liquid The regeneration unit 400' and the second gas-liquid separation treatment liquid for regenerating the second waste treatment liquid into the second treatment liquid There is a difference in that it includes a regeneration unit 400".

그러므로, 이하에서는 차별되는 부분을 중점적으로 설명하고 나머지 구성에 대해서는 상기 도1 내지 도5를 참조로 하여 설명한 것으로 대체할 수 있다.Therefore, in the following, the differentiated parts will be mainly described, and the remaining components may be replaced with those described with reference to FIGS. 1 to 5 .

본 발명에 따른 배기가스 처리장치(100)의 제3실시예의 처리액 공급탱크(300)는 기액반응기(200)에 제1처리액과 제2처리액을 각각 공급할 수 있다.The treatment liquid supply tank 300 of the third embodiment of the exhaust gas treatment apparatus 100 according to the present invention may supply the first treatment liquid and the second treatment liquid to the gas-liquid reactor 200 , respectively.

이를 위해서, 처리액 공급탱크(300) 내부는 도6에 도시된 바와 같이, 제1처리액이 저장되는 제1저장영역(SS1)과, 제2처리액이 저장되는 제2저장영역(SS2)으로 구획벽(WD)에 의해서 구획될 수 있다.To this end, as shown in FIG. 6 , the inside of the treatment liquid supply tank 300 includes a first storage area SS1 in which the first treatment liquid is stored and a second storage area SS2 in which the second treatment liquid is stored. may be partitioned by a partition wall WD.

그리고, 제1저장영역(SS1)은 제1처리액 공급관(LP')에 의해서 기액반응기(200)의 제1처리액 분사유닛(220')에 연결되고, 제2저장영역(SS2)은 제2처리액 공급관(LP")에 의해서 기액반응기(200)의 제2처리액 분사유닛(220")에 연결될 수 있다.And, the first storage area SS1 is connected to the first treatment liquid injection unit 220' of the gas-liquid reactor 200 by the first treatment liquid supply pipe LP', and the second storage area SS2 is the second storage area SS2. It may be connected to the second treatment liquid injection unit 220 ″ of the gas-liquid reactor 200 by the second treatment liquid supply pipe LP″.

이에 따라, 제1처리액 공급관(LP')에 구비된 제1처리액 공급펌프(PP')가 구동되면, 제1저장영역(SS1)의 제1처리액이 제1처리액 공급관(LP')을 통해 제1처리액 분사유닛(220')에 공급될 수 있다. 제1처리액 분사유닛(220')에 공급된 제1처리액은 기액반응기(200)의 제1제거영역(RR1)을 유동하는 배기가스에 분사될 수 있다.Accordingly, when the first processing liquid supply pump PP' provided in the first processing liquid supply pipe LP' is driven, the first processing liquid in the first storage area SS1 is transferred to the first processing liquid supply pipe LP'. ) may be supplied to the first treatment liquid spraying unit 220 ′. The first treatment liquid supplied to the first treatment liquid injection unit 220 ′ may be injected into the exhaust gas flowing through the first removal region RR1 of the gas-liquid reactor 200 .

그리고, 제2처리액 공급관(LP")에 구비된 제2처리액 공급펌프(PP")가 구동되면, 제2저장영역(SS2)의 제2처리액이 제2처리액 공급관(LP")을 통해 제2처리액 분사유닛(220")에 공급될 수 있다. 제2처리액 분사유닛(220")에 공급된 제2처리액은 기액반응기(200)의 제2제거영역(RR2)을 유동하는 배기가스에 분사될 수 있다.And, when the second processing liquid supply pump PP" provided in the second processing liquid supply pipe LP" is driven, the second processing liquid in the second storage area SS2 is transferred to the second processing liquid supply pipe LP". It may be supplied to the second treatment liquid spraying unit 220 ″ through the . The second treatment liquid supplied to the second treatment liquid injection unit 220 ″ may be injected into the exhaust gas flowing through the second removal region RR2 of the gas-liquid reactor 200 .

한편, 제1처리액 분사유닛(220')은 복수개이고, 복수개의 제1처리액 분사유닛(220') 사이의 제1제거영역(RR1)의 부분에는 패킹(230)이 구비될 수 있다. 예컨대, 도6에 도시된 바와 같이 상하로 소정 간격을 두고 2개의 제1처리액 분사유닛(220')이 배치되고, 2개의 제1처리액 분사유닛(220') 사이의 제1제거영역(RR1)의 부분에 패킹(230)이 구비될 수 있다.Meanwhile, there are a plurality of first treatment liquid spraying units 220 ′, and a packing 230 may be provided in a portion of the first removal region RR1 between the plurality of first treatment liquid spraying units 220 ′. For example, as shown in FIG. 6 , the two first treatment liquid spraying units 220' are disposed at a predetermined distance vertically, and the first removal area (220') between the two first treatment liquid spraying units 220' A packing 230 may be provided in a portion of RR1).

제1기액분리 처리액 재생유닛(400')에서는 기액반응기(200)로부터 배수된, 황산화물을 흡수한 제1처리액인 제1폐처리액으로부터 황산화물을 분리하여 제1처리액으로 재생하며 재생된 제1처리액을 처리액 공급탱크(300)에 공급할 수 있다.1st gas-liquid separation treatment liquid In the regeneration unit 400', the sulfur oxide is separated from the first waste treatment liquid, which is the first treatment liquid that has absorbed the sulfur oxides drained from the gas-liquid reactor 200, and regenerated as the first treatment liquid, and the regenerated first treatment liquid may be supplied to the treatment liquid supply tank 300 .

이를 위해서, 제1기액분리 처리액 재생유닛(400')에서는 황산화물은 통과하나 제1폐처리액은 통과하지 못하는 제1기액분리막(420')이 제1폐처리액이 유동하는 제1액체유동로(411')와 황산화물이 유동하는 제1기체유동로(412')를 구획할 수 있다. 그리고, 제1기체유동로(412')에 낮은 황산화물 분압이 형성되도록 하여, 제1액체유동로(411')의 제1폐처리액에 포함된 황산화물이 제1기액분리막(420')을 통과하여 제1기체유동로(412')로 이동하도록 할 수 있다.To this end, the first gas-liquid separation treatment liquid In the regeneration unit 400', the first gas-liquid separation membrane 420' through which the sulfur oxide passes but the first waste treatment liquid does not pass through the first liquid flow path 411' through which the first waste treatment liquid flows and the sulfur oxide The flowing first gas flow path 412 ′ may be partitioned. Then, a low sulfur oxide partial pressure is formed in the first gas flow path 412 ′, so that sulfur oxides contained in the first waste treatment liquid of the first liquid flow path 411 ′ are converted into the first gas-liquid separation membrane 420 ′. It may be made to move to the first gas flow path 412 ′ through the .

제1기액분리 처리액 재생유닛(400')은 제1기액분리막(420')에 의해서 내부공간이 제1액체유동로(411')와 제1기체유동로(412')로 구획되는 제1분리유닛본체(410')를 더 포함할 수 있다. 또한, 기액반응기(200)의 제1배수구(213')에 연결된 제1폐처리액 배수관(LD')이 제1액체유동로(411')의 일측에 연결되며, 제1액체유동로(411')의 타측은 제1처리액 회수관(LR')에 의해서 처리액 공급탱크(300)의 제1저장영역(SS1)에 연결될 수 있다. 그리고, 제1기체유동로(412')의 일측에 진공펌프(PV)가 구비된 제1가스회수관(LG')이 연결되어 제1기체유동로(412')에 낮은 황산화물 분압이 형성되도록 할 수 있다. 또한, 제1기체유동로(412')의 타측에 유량조절밸브(VC)가 구비된 제1공기유입관(LA')이 연결되어 제1기체유동로(412')에 형성되는 황산화물 분압을 조절할 수 있다. 그리고, 제1기액분리막(420')은 제1기체유동로(412')나 제1액체유동로(411')가 형성된 중공사막일 수 있다.1st gas-liquid separation treatment liquid The regeneration unit 400' has a first separation unit body 410' in which an inner space is divided into a first liquid flow path 411' and a first gas flow path 412' by a first gas-liquid separation membrane 420'. ) may be further included. In addition, the first waste treatment liquid drain pipe LD' connected to the first drain port 213' of the gas-liquid reactor 200 is connected to one side of the first liquid flow path 411', and the first liquid flow path 411 ') may be connected to the first storage area SS1 of the treatment liquid supply tank 300 by the first treatment liquid recovery pipe LR'. In addition, a first gas return pipe (LG') equipped with a vacuum pump (PV) is connected to one side of the first gas flow path 412', so that a low sulfur oxide partial pressure is formed in the first gas flow path 412'. can make it happen In addition, the first air inlet pipe LA ′ provided with a flow control valve VC is connected to the other side of the first gas flow path 412 ′ to form a partial pressure of sulfur oxide formed in the first gas flow path 412 ′. can be adjusted. In addition, the first gas-liquid separation membrane 420 ′ may be a hollow fiber membrane in which the first gas flow path 412 ′ or the first liquid flow path 411 ′ is formed.

제2기액분리 처리액 재생유닛(400")은 기액반응기(200)로부터 배수된, 이산화탄소를 흡수한 제2처리액인 제2폐처리액으로부터 이산화탄소를 분리하여 제2처리액으로 재생하며 재생된 제2처리액을 처리액 공급탱크(300)에 공급할 수 있다.2nd gas-liquid separation treatment liquid The regeneration unit 400" separates carbon dioxide from the second waste treatment liquid, which is the second treatment liquid that has absorbed carbon dioxide, drained from the gas-liquid reactor 200, and regenerates it as a second treatment liquid, and processes the regenerated second treatment liquid. It can be supplied to the liquid supply tank (300).

이를 위해서, 제2기액분리 처리액 재생유닛(400")에서는 이산화탄소는 통과하나 제2폐처리액은 통과하지 못하는 제2기액분리막(420")이 제2폐처리액이 유동하는 제2액체유동로(411")와 이산화탄소가 유동하는 제2기체유동로(412")를 구획할 수 있다. 그리고, 제2기체유동로(412")에 낮은 이산화탄소 분압이 형성되도록 하여, 제2액체유동로(411")의 제2폐처리액에 포함된 이산화탄소가 제2기액분리막(420")을 통과하여 제2기체유동로(412")로 이동하도록 할 수 있다.For this, the second gas-liquid separation treatment liquid In the regeneration unit 400", the second gas-liquid separation membrane 420" through which carbon dioxide passes but not the second waste treatment liquid flows through the second liquid flow path 411" through which the second waste treatment liquid flows and carbon dioxide flows. A second gas flow path 412 ″ may be partitioned. Then, a low partial pressure of carbon dioxide is formed in the second gas flow path 412", so that the carbon dioxide contained in the second waste treatment liquid of the second liquid flow path 411" passes through the second gas-liquid separation membrane 420". to move to the second gas flow path 412 ″.

제2기액분리 처리액 재생유닛(400")은 제2기액분리막(420")에 의해서 내부공간이 제2액체유동로(411")와 제2기체유동로(412")로 구획되는 제2분리유닛본체(410")를 더 포함할 수 있다. 또한, 기액반응기(200)의 제2배수구(213")에 연결된 제2폐처리액 배수관(LD")이 제2액체유동로(411")의 일측에 연결되며, 제2액체유동로(411")의 타측은 제2처리액 회수관(LR")에 의해서 처리액 공급탱크(300)의 제2저장영역(SS2)에 연결될 수 있다. 그리고, 제2기체유동로(412")의 일측에 진공펌프(PV)가 구비된 제2가스회수관(LG")이 연결되어 제2기체유동로(412")에 낮은 이산화탄소 분압이 형성되도록 할 수 있다. 또한, 제2기체유동로(412")의 타측에 유량조절밸브(VC)가 구비된 제2공기유입관(LA")이 연결되어 제2기체유동로(412")에 형성되는 낮은 이산화탄소 분압을 조절할 수 있다. 그리고, 제2기액분리막(420")은 제2기체유동로(412")나 제2액체유동로(411")가 형성된 중공사막일 수 있다.2nd gas-liquid separation treatment liquid The regeneration unit 400" has a second separation unit body 410" in which an inner space is divided into a second liquid flow path 411" and a second gas flow path 412" by a second gas-liquid separation membrane 420". ) may be further included. In addition, the second waste treatment liquid drain pipe (LD") connected to the second drain port 213" of the gas-liquid reactor 200 is connected to one side of the second liquid flow path 411", and , the other side of the second liquid flow path 411 ″ may be connected to the second storage region SS2 of the treatment solution supply tank 300 by a second treatment solution recovery pipe LR″. Then, a second gas return pipe (LG") equipped with a vacuum pump (PV) is connected to one side of the second gas flow path 412" so that a low partial pressure of carbon dioxide is formed in the second gas flow path 412". In addition, the second air inlet pipe (LA") provided with the flow rate control valve VC is connected to the other side of the second gas flow path 412" and is formed in the second gas flow path 412". It is possible to control the low partial pressure of carbon dioxide. In addition, the second gas-liquid separation membrane 420 ″ may be a hollow fiber membrane in which the second gas flow path 412 ″ or the second liquid flow path 411 ″ is formed.

제1처리액과 제2처리액은 수산화나트륨 수용액 등의 알칼리수용액일 수 있다. 이 경우, 처리제 공급탱크(600)에는 수산화나트륨 등의 알칼리제가 저장되고, 처리제 공급탱크(600)는 제1처리제 공급관(LT')과 제2처리제 공급관(LT")에 의해서 처리액 공급탱크(300)의 제1저장영역(SS1)과 제2저장영역(SS2)에 각각 연결되어, 처리제로 알칼리제를 각각 공급할 수 있다.The first treatment liquid and the second treatment liquid may be alkaline aqueous solutions such as sodium hydroxide aqueous solution. In this case, an alkali agent such as sodium hydroxide is stored in the treatment agent supply tank 600, and the treatment agent supply tank 600 is a treatment liquid supply tank ( 300 , respectively, connected to the first storage region SS1 and the second storage region SS2 , and an alkali agent may be supplied as a treatment agent, respectively.

그러나, 제1처리액과 제2처리액은 서로 다른 것일 수도 있다.However, the first treatment liquid and the second treatment liquid may be different from each other.

또한, 제1가스회수관(LG')과 제2가스회수관(LG") 각각이 가스처리유닛(500)에 연결될 수 있다.In addition, each of the first gas return pipe LG′ and the second gas return pipe LG″ may be connected to the gas processing unit 500 .

배기가스 처리장치의 제4실시예The fourth embodiment of the exhaust gas treatment device

이하, 도7을 참조로 하여 본 발명에 따른 배기가스 처리장치의 제4실시예에 대하여 설명한다.Hereinafter, a fourth embodiment of an exhaust gas treatment apparatus according to the present invention will be described with reference to FIG. 7 .

도7은 본 발명에 따른 배기가스 처리장치의 제4실시예를 나타내는 도면이다.7 is a view showing a fourth embodiment of the exhaust gas treatment apparatus according to the present invention.

여기에서, 본 발명에 따른 배기가스 처리장치의 제4실시예는 상기 도5와 도6을 참조로 하여 설명한 본 발명에 따른 배기가스 처리장치의 제3실시예 및 제4실시예와 기액반응기(200)의 하우징(210)의 단면이 원형 또는 타원형이라는 점에서 차이가 있다.Here, the fourth embodiment of the exhaust gas processing apparatus according to the present invention is a gas-liquid reactor ( There is a difference in that the cross section of the housing 210 of the 200 is circular or oval.

그러므로, 이하에서는 차이점을 중점적으로 설명하고 나머지 구성에 대해서는 상기 도1 내지 도6을 참조로 하여 설명한 것으로 대체할 수 있다.Therefore, in the following, the differences will be mainly described, and the remaining configurations may be replaced with those described with reference to FIGS. 1 to 6 .

본 발명에 따른 배기가스 처리장치(100)의 제4실시예에서는 기액반응기(200)의 하우징(210)의 단면이 원형 또는 타원형일 수 있다. 이에 의해서, 하우징(210)은 도7에 도시된 바와 같이 원통 또는 타원통일 수 있다. 제1제거영역(RR1)은 하우징(210)의 내부에서 반경방향으로 최외측에 위치하고, 연결영역(RC)은 제1제거영역(RR1)의 내측에 위치하며, 제2제거영역(RR2)은 연결영역(RC)의 내측에 위치할 수 있다. 이를 위해서, 제1제거영역(RR1)과 연결영역(RC)의 단면은 환형이며, 제2제거영역(RR2)의 단면은 원형 또는 타원형일 수 있다. 이에 따라, 배기가스의 유동이 원활하게 이루어질 수 있어서, 배기가스가 일측으로 편향되게 유동하지 않을 수 있기 때문에, 배기가스의 처리가 더 원활하게 이루어질 수 있다.In the fourth embodiment of the exhaust gas treatment apparatus 100 according to the present invention, the cross section of the housing 210 of the gas-liquid reactor 200 may be circular or oval. Accordingly, the housing 210 may be a cylinder or an elliptical cylinder as shown in FIG. The first removal region RR1 is located radially outward from the inside of the housing 210 , the connection region RC is located inside the first removal region RR1 , and the second removal region RR2 is It may be located inside the connection region RC. To this end, the cross-sections of the first removal region RR1 and the connection region RC may be annular, and the cross-sections of the second removal region RR2 may be circular or oval. Accordingly, the flow of the exhaust gas can be made smoothly, so that the exhaust gas may not flow with a bias to one side, so that the treatment of the exhaust gas can be made more smoothly.

하우징(210) 내부에는 원통 또는 타원통인 복수개의 구획벽(WD)이 구비되어 하우징(210) 내부를 제1제거영역(RR1)과 연결영역(RC) 및 제2제거영역(RR2)으로 구획할 수 있다. 예컨대, 도7에 도시된 바와 같이 원통 또는 타원통인 2개의 구획벽(WD)이 구비되어, 하우징(210) 내부를 제1제거영역(RR1)과 연결영역(RC) 및 제2제거영역(RR2)으로 구획할 수 있다.A plurality of partition walls WD, which are cylindrical or oval-cylindrical, are provided inside the housing 210 to partition the inside of the housing 210 into a first removal region RR1, a connection region RC, and a second removal region RR2. can For example, as shown in FIG. 7 , two partition walls WD, which are cylindrical or oval, are provided to provide the inside of the housing 210 with a first removal area RR1, a connection area RC, and a second removal area RR2. ) can be delimited.

복수개의 구획벽(WD)은 제1제거영역(RR1)과 상기 제2제거영역(RR2)에서는 배기가스가 하부에서 상부로 유동하고 연결영역(RC)에서는 배기가스가 상부에서 하부로 유동하도록 하우징(210) 내부에 구비될 수 있다.The plurality of partition walls WD have a housing such that exhaust gas flows from the bottom to the top in the first removal region RR1 and the second removal region RR2 and the exhaust gas flows from the top to the bottom in the connection region RC. 210 may be provided inside.

전술한 구성의 기액반응기(200)에서, 배기가스 배출장치로부터 배출된 배기가스는 도7에 도시된 바와 같이, 먼저 하우징(210) 내부의 반경방향 최외측에 형성되며 유입구(211)에 연결된 제1제거영역(RR1)에 유입구(211)를 통해 유입될 수 있다. 제1제거영역(RR1)에 유입된 배기가스는 제1제거영역(RR1)을 유동하면서 제1제거영역(RR1)에 분사된 제1처리액에 의해서 황산화물이 제거될 수 있다. 이와 같이 황산화물이 제거된 배기가스는 제1제거영역(RR1) 내측의 연결영역(RC)을 통해 연결영역(RC) 내측의 제2제거영역(RR2)에 유입될 수 있다. 제2제거영역(RR2)에 유입된 배기가스는 제2제거영역(RR2)을 유동하면서 이산화탄소가 제거될 수 있다. 이산화탄소가 제거된 배기가스는 제2제거영역(RR2)에 연결된 배출구(212)를 통해 배출될 수 있다.In the gas-liquid reactor 200 having the above configuration, the exhaust gas discharged from the exhaust gas exhaust device is first formed at the outermost radially inside the housing 210 and connected to the inlet 211 as shown in FIG. 7 . 1 may be introduced into the removal region RR1 through the inlet 211 . Sulfur oxides may be removed from the exhaust gas flowing into the first removal region RR1 by the first treatment liquid injected into the first removal region RR1 while flowing through the first removal region RR1. As described above, the exhaust gas from which the sulfur oxide is removed may be introduced into the second removal region RR2 inside the connection region RC through the connection region RC inside the first removal region RR1 . Carbon dioxide may be removed from the exhaust gas flowing into the second removal region RR2 while flowing through the second removal region RR2. The exhaust gas from which carbon dioxide has been removed may be discharged through the outlet 212 connected to the second removal region RR2.

이상에서와 같이 본 발명에 따른 배기가스 처리장치를 사용하면, 배기가스로부터 이산화탄소를 제거한 제2폐처리액으로부터 이산화탄소를 분리하는 기액분리 처리액 재생유닛에 의해서 제2폐처리액을 재생할 수 있으며, 배기가스로부터 이산화탄소를 제거한 제2폐처리액의 재생율이 높아질 수 있고, 배기가스 처리장치에서 배기가스를 처리하기 위한 비용이 감소될 수 있으며, 배기가스 처리장치의 크기가 감소될 수 있다.As described above, when the exhaust gas treatment apparatus according to the present invention is used, the second waste treatment liquid can be regenerated by a gas-liquid separation treatment liquid regeneration unit that separates carbon dioxide from the second waste treatment liquid from which carbon dioxide is removed from the exhaust gas, The regeneration rate of the second waste treatment liquid from which carbon dioxide is removed from the exhaust gas may be increased, the cost for treating the exhaust gas in the exhaust gas treatment apparatus may be reduced, and the size of the exhaust gas treatment apparatus may be reduced.

상기와 같이 설명된 배기가스 처리장치는 상기 설명된 실시예의 구성이 한정되게 적용될 수 있는 것이 아니라, 상기 실시예들은 다양한 변형이 이루어질 수 있도록 각 실시예들의 전부 또는 일부가 선택적으로 조합되어 구성될 수도 있다.In the exhaust gas treatment apparatus described above, the configuration of the above-described embodiment is not limitedly applicable, and the embodiments may be configured by selectively combining all or part of each embodiment so that various modifications can be made. there is.

100 : 배기가스 처리장치 200 : 기액반응기
210 : 하우징 211 : 유입구
212 : 배출구 213 : 배수구
213' : 제1배수구 213" : 제2배수구
220 : 처리액 분사유닛 220' : 제1처리액 분사유닛
220" : 제2처리액 분사유닛 221 : 처리액 유동관
221' : 제1처리액 유동관 221" : 제2처리액 유동관
222 : 처리액 분사노즐 222' : 제1처리액 분사노즐
222" : 제2처리액 분사노즐 230 : 패킹
300 : 처리액 공급탱크 400 : 기액분리 처리액 재생유닛
400' : 제1기액분리 처리액 재생유닛 400" : 제2기액분리 처리액 재생유닛
410 : 분리유닛본체 410' : 제1분리유닛본체
410" : 제2분리유닛본체 411 : 액체유동로
411' : 제1액체유동로 411" : 제2액체유동로
412 : 기체유동로 412' : 제1기체유동로
412" : 제2기체유동로 420 : 기액분리막
420' : 제1기액분리막 420" : 제2기액분리막
500 : 가스처리유닛 510 : 해수유동관
520 : 미세기포발생기 521 : 미세구멍
530 : 가스혼합기 531 : 혼합부재
540 : 가스저장탱크 600 : 처리제 공급탱크
LD : 폐처리액 배수관 LD' : 제1폐처리액 배수관
LD" : 제2폐처리액 배수관 LR : 처리액 회수관
LR' : 제1처리액 회수관 LR" : 제2처리액 회수관
LG : 가스회수관 LG' : 제1가스회수관
LG" : 제2가스회수관 LA : 공기유입관
LA' : 제1공기유입관 LA" : 제2공기유입관
LP : 처리액 공급관 LP' : 제1처리액 공급관
LP" : 제2처리액 공급관 LT : 처리제 공급관
LT' : 제1처리제 공급관 LT" : 제2처리제 공급관
PV : 진공펌프 PB : 부스터펌프
PP : 처리액 공급펌프 PP' : 제1처리액 공급펌프
PP" : 제2처리액 공급펌프 VC : 유량조절밸브
VCP : 압력조절장치 WTS : 여과처리 유닛
HE : 열교환기 RR1 : 제1제거영역
RR2 : 제2제거영역 RC : 연결영역
WD : 구획벽 SEA : 해양
SP : 수질측정센서 SS1 : 제1저장영역
SS2 : 제2저장영역
100: exhaust gas treatment device 200: gas-liquid reactor
210: housing 211: inlet
212: outlet 213: drain
213' : 1st drain 213" : 2nd drain
220: treatment liquid injection unit 220': first treatment liquid injection unit
220": second treatment liquid injection unit 221: treatment liquid flow pipe
221': first processing liquid flow pipe 221": second processing liquid flow pipe
222: treatment liquid injection nozzle 222': first treatment liquid injection nozzle
222": second treatment liquid injection nozzle 230: packing
300: treatment liquid supply tank 400: gas-liquid separation treatment liquid play unit
400': first gas-liquid separation treatment liquid Regeneration unit 400": second gas-liquid separation treatment liquid play unit
410: separation unit body 410': first separation unit body
410": second separation unit body 411: liquid flow path
411': 1st liquid flow path 411": 2nd liquid flow path
412: gas flow path 412': first gas flow path
412": second gas flow path 420: gas-liquid separation membrane
420': first gas-liquid separation membrane 420": second gas-liquid separation membrane
500: gas processing unit 510: seawater flow pipe
520: microbubble generator 521: micropores
530: gas mixer 531: mixing member
540: gas storage tank 600: treatment agent supply tank
LD: waste treatment liquid drain pipe LD': first waste treatment liquid drain pipe
LD" : 2nd waste treatment liquid drain pipe LR : Treatment liquid recovery pipe
LR' : 1st treatment liquid recovery pipe LR" : 2nd treatment liquid recovery pipe
LG: Gas return pipe LG': Gas return pipe 1
LG" : 2nd gas return pipe LA : Air inlet pipe
LA' : 1st air inlet pipe LA" : 2nd air inlet pipe
LP: treatment liquid supply pipe LP': first treatment liquid supply pipe
LP": Second treatment liquid supply pipe LT: Treatment agent supply pipe
LT': First treatment agent supply pipe LT": Second treatment agent supply pipe
PV : Vacuum pump PB : Booster pump
PP: treatment liquid supply pump PP': first treatment liquid supply pump
PP": Second treatment liquid supply pump VC: Flow control valve
VCP : Pressure regulating device WTS : Filtration treatment unit
HE: heat exchanger RR1: first removal area
RR2: second removal area RC: connection area
WD : Partition wall SEA : Marine
SP: water quality sensor SS1: first storage area
SS2: second storage area

Claims (15)

배기가스에 포함된 황산화물이 배기가스에 분사되는 제1처리액에 흡수되어 제거되고 황산화물이 제거된 배기가스에 포함된 이산화탄소가 황산화물이 제거된 배기가스에 분사되는 제2처리액에 흡수되어 제거되는 기액반응기;
상기 기액반응기에 제2처리액을 공급하는 처리액 공급탱크; 및
상기 기액반응기로부터 배수된, 이산화탄소를 흡수한 제2처리액인 제2폐처리액으로부터 이산화탄소를 분리하여 제2처리액으로 재생하며 재생된 제2처리액을 상기 처리액 공급탱크에 공급하는 기액분리 처리액 재생유닛; 을 포함하고,
상기 기액반응기에는 배기가스와 제1처리액이 접촉하여 황산화물이 제거되는 제1제거영역과, 배기가스와 제2처리액이 접촉하여 이산화탄소가 제거되는 제2제거영역 및, 상기 제1제거영역과 상기 제2제거영역을 연결하는 연결영역이 구비되는 배기가스 처리장치.
Sulfur oxide contained in the exhaust gas is absorbed and removed by the first treatment liquid injected into the exhaust gas, and carbon dioxide contained in the exhaust gas from which the sulfur oxide is removed is absorbed by the second treatment liquid injected into the exhaust gas from which the sulfur oxide has been removed a gas-liquid reactor to be removed;
a treatment liquid supply tank for supplying a second treatment liquid to the gas-liquid reactor; and
Gas-liquid separation for separating carbon dioxide from a second waste treatment liquid, which is a second treatment liquid that has absorbed carbon dioxide, drained from the gas-liquid reactor, and regenerating it as a second treatment liquid, and supplying the regenerated second treatment liquid to the treatment liquid supply tank treatment liquid regeneration unit; including,
In the gas-liquid reactor, a first removal region in which sulfur oxides are removed by contact with the exhaust gas, a second removal region in which carbon dioxide is removed by contact with the exhaust gas and the second processing liquid, and the first removal region and a connection area connecting the second removal area to the exhaust gas treatment apparatus.
제1항에 있어서, 상기 기액반응기는 복수개의 구획벽에 의해서 상기 제1제거영역과 상기 제2제거영역 및 상기 연결영역으로 내부가 구획되는 하우징을 포함하는 배기가스 처리장치.The exhaust gas treatment apparatus according to claim 1, wherein the gas-liquid reactor includes a housing whose interior is partitioned into the first removal region, the second removal region, and the connection region by a plurality of partition walls. 제2항에 있어서, 상기 제1제거영역과 상기 제2제거영역에서는 배기가스가 하부에서 상부로 유동하고 상기 연결영역에서는 배기가스가 상부에서 하부로 유동하도록, 복수개의 상기 구획벽이 상기 하우징 내부에 구비되는 배기가스 처리장치.The housing according to claim 2, wherein a plurality of partition walls are provided inside the housing so that exhaust gas flows from the bottom to the top in the first removal region and the second removal region and the exhaust gas flows from the top to the bottom in the connection region. Exhaust gas treatment device provided in the. 제2항에 있어서, 상기 하우징에는 배기가스 배출장치와 상기 제1제거영역에 연결되는 유입구, 상기 제2제거영역에 연결되는 배출구, 상기 제1제거영역에 연결되는 제1배수구 및, 상기 제2제거영역에 연결되는 제2배수구가 구비되는 배기가스 처리장치.3. The method of claim 2, wherein the housing has an exhaust gas exhaust device and an inlet connected to the first removal region, an outlet connected to the second removal region, a first drain port connected to the first removal region, and the second An exhaust gas treatment device having a second drain port connected to the removal area. 제2항에 있어서, 상기 기액반응기는 상기 제1제거영역을 유동하는 배기가스에 제1처리액을 분사하는 제1처리액 분사유닛과, 상기 제2제거영역을 유동하는 배기가스에 제2처리액을 분사하는 제2처리액 분사유닛을 더 포함하는 배기가스 처리장치.The gas-liquid reactor of claim 2 , wherein the gas-liquid reactor comprises a first treatment liquid injection unit that injects a first treatment liquid to the exhaust gas flowing through the first removal region, and a second treatment solution to the exhaust gas flowing through the second removal region. The exhaust gas treatment apparatus further comprising a second treatment liquid spraying unit for spraying the liquid. 제5항에 있어서, 상기 제1처리액은 해수인 배기가스 처리장치.The exhaust gas treatment apparatus according to claim 5, wherein the first treatment liquid is seawater. 제6항에 있어서, 해양에 연결된 제1처리액 공급관이 상기 제1처리액 분사유닛에 연결되며, 상기 제1제거영역에는 해양에 연결된 제1폐처리액 배수관이 연결되는 배기가스 처리장치.The exhaust gas treatment apparatus of claim 6, wherein a first treatment liquid supply pipe connected to the ocean is connected to the first treatment liquid injection unit, and a first waste treatment liquid drain pipe connected to the ocean is connected to the first removal area. 제5항에 있어서, 상기 제1처리액 분사유닛은 복수개인 배기가스 처리장치.The exhaust gas treatment apparatus according to claim 5, wherein the first treatment liquid injection unit is plural. 제5항에 있어서, 상기 처리액 공급탱크에 연결된 제2처리액 공급관이 상기 제2처리액 분사유닛에 연결되는 배기가스 처리장치.The exhaust gas treatment apparatus according to claim 5, wherein a second treatment liquid supply pipe connected to the treatment liquid supply tank is connected to the second treatment liquid injection unit. 제1항에 있어서, 상기 기액분리 처리액 재생유닛에서는 이산화탄소는 통과하나 제2폐처리액은 통과하지 못하는 기액분리막이 제2폐처리액이 유동하는 액체유동로와 이산화탄소가 유동하는 기체유동로를 구획하며, 상기 기체유동로에 낮은 이산화탄소 분압이 형성되도록 하여, 상기 액체유동로의 제2폐처리액에 포함된 이산화탄소가 상기 기액분리막을 통과하여 상기 기체유동로로 이동하도록 하는 배기가스 처리장치.According to claim 1, wherein in the gas-liquid separation treatment liquid regeneration unit, the gas-liquid separation membrane through which carbon dioxide passes but does not pass through the second waste treatment liquid comprises a liquid flow path through which the second waste treatment solution flows and a gas flow path through which carbon dioxide flows. The exhaust gas treatment apparatus partitions the gas flow path so that a low partial pressure of carbon dioxide is formed in the gas flow path, so that the carbon dioxide contained in the second waste treatment liquid of the liquid flow path passes through the gas-liquid separation membrane and moves to the gas flow path. 제10항에 있어서, 상기 기액반응기에 연결된 제2폐처리액 배수관이 상기 액체유동로의 일측에 연결되며, 상기 액체유동로의 타측은 처리액 회수관에 의해서 상기 처리액 공급탱크에 연결되는 배기가스 처리장치.The exhaust gas according to claim 10, wherein a second waste treatment solution drain pipe connected to the gas-liquid reactor is connected to one side of the liquid flow path, and the other side of the liquid flow path is connected to the treatment solution supply tank by a treatment solution recovery pipe. gas processing equipment. 제10항에 있어서, 상기 기체유동로의 일측에 진공펌프가 구비된 가스회수관이 연결되어 상기 기체유동로에 낮은 이산화탄소 분압이 형성되도록 하는 배기가스 처리장치.The exhaust gas treatment apparatus according to claim 10, wherein a gas return pipe having a vacuum pump is connected to one side of the gas flow path to form a low partial pressure of carbon dioxide in the gas flow path. 제12항에 있어서, 상기 기체유동로의 타측에 유량조절밸브가 구비된 공기유입관이 연결되어 상기 기체유동로에 형성되는 이산화탄소 분압을 조절하는 배기가스 처리장치.The exhaust gas treatment apparatus according to claim 12, wherein an air inlet pipe having a flow rate control valve is connected to the other side of the gas flow path to control the partial pressure of carbon dioxide formed in the gas flow path. 제10항에 있어서, 상기 기액분리막은 상기 기체유동로나 상기 액체유동로가 형성된 중공사막인 배기가스 처리장치.The exhaust gas treatment apparatus according to claim 10, wherein the gas-liquid separation membrane is a hollow fiber membrane in which the gas flow path or the liquid flow path is formed. 제6항에 있어서, 상기 제2처리액은 알칼리수용액인 배기가스 처리장치.The exhaust gas treatment apparatus according to claim 6, wherein the second treatment liquid is an alkaline aqueous solution.
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