KR102382553B1 - Optical Device - Google Patents

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Abstract

본 출원은 광학 디바이스에 대한 것이다. 본 출원의 광학 디바이스는 투과율 가변이 가능하고, 고온과 저온 사이를 변화하는 환경에서 광학 디바이스에 음압(Negative pressure)이 발생되더라도 기포 생성이 저감되어 광학 디바이스의 외관 불량을 개선할 수 있다. 이러한 광학 디바이스는, 선글라스나 AR(Argumented Reality) 또는 VR(Virtual Reality)용 아이웨어(eyewear) 등의 아이웨어류, 건물의 외벽이나 차량용 선루프 등의 다양한 용도에 사용될 수 있다.This application relates to an optical device. In the optical device of the present application, transmittance is variable, and even when negative pressure is generated in the optical device in an environment that changes between high and low temperatures, bubble generation is reduced, thereby improving the appearance of the optical device. Such an optical device may be used for various purposes such as sunglasses, eyewear such as AR (Argumented Reality) or VR (Virtual Reality) eyewear, exterior walls of buildings, or sunroofs for vehicles.

Description

광학 디바이스{Optical Device}Optical Device

본 출원은 광학 디바이스에 관한 것이다.This application relates to an optical device.

액정 화합물을 이용하여 투과율을 가변 할 수 있도록 설계된 광학 디바이스는 다양하게 알려져 있다.Various optical devices designed to vary transmittance using liquid crystal compounds are known.

예를 들면, 호스트 물질(host material)과 이색성 염료 게스트(dichroic dye guest)의 혼합물을 적용한 소위 GH셀(Guest host cell)을 사용한 투과율 가변 장치가 알려져 있고, 상기 장치에서 호스트 물질로 주로 액정 화합물이 사용된다.For example, a transmittance variable device using a so-called GH cell (Guest host cell) to which a mixture of a host material and a dichroic dye guest is applied is known, and in the device, mainly a liquid crystal compound as a host material this is used

이러한 투과율 가변 장치는 선글라스나 안경 등의 아이웨어(eyewear), 건물 외벽 또는 차량의 선루프 등을 포함한 다양한 용도에 적용되고 있다.Such a transmittance variable device is applied to various uses, including eyewear such as sunglasses or glasses, exterior walls of buildings, or sunroofs of vehicles.

본 출원의 과제는 투과율 가변이 가능하고, 고온과 저온 사이를 변화하는 환경에서 내부에 음압(Negative pressure)이 발생되더라도 기포 생성이 저감되어 외관 불량이 개선된 광학 디바이스를 제공하는 것이다.SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present application is to provide an optical device in which transmittance is variable, and bubble generation is reduced even when negative pressure is generated in an environment that changes between high and low temperatures, thereby improving the appearance of the optical device.

본 출원은 광학 디바이스에 관한 것이다. 상기 광학 디바이스는 제 1 기재층, 액정층 및 제 2 기재층이 순차로 적층되는 구조를 가지는 액정 소자를 포함한다. This application relates to an optical device. The optical device includes a liquid crystal element having a structure in which a first base layer, a liquid crystal layer, and a second base layer are sequentially stacked.

도 1은 본 출원의 일 실시예에 따른 액정 소자를 예시적으로 나타낸다. 도 1 에 나타낸 바와 같이, 상기 액정 소자(10)는 제 1 기재층(11a), 액정층(12) 및 제 2 기재층(11b)이 순차로 적층되는 구조를 가질 수 있다. 한편, 상기 제 1 및 제 2 의 표현이 기재층의 선후 내지는 상하 관계를 규정하는 것은 아니다.1 exemplarily shows a liquid crystal device according to an embodiment of the present application. 1 , the liquid crystal device 10 may have a structure in which a first base layer 11a, a liquid crystal layer 12, and a second base layer 11b are sequentially stacked. On the other hand, the above-mentioned first and second expressions do not prescribe the precedence or the vertical relationship of the base layer.

하나의 예로서, 상기 액정 소자(10)를 구성하는 제 1 기재층(11a) 및 제 2 기재층(11b) 중 하나 이상은 산소투과율(Oxygen transmission rate)이 100 cm3/m2*day*atm 미만일 수 있다. As an example, at least one of the first base layer 11a and the second base layer 11b constituting the liquid crystal device 10 has an oxygen transmission rate of 100 cm 3 /m 2 *day* may be less than atm.

다른 예로서, 제 1 기재층 및 제 2 기재층 중 하나 이상은 산소투과율이 약 90 cm3/m2*day*atm 미만, 80 cm3/m2*day*atm 미만, 60 cm3/m2*day*atm 미만 또는 약 40 cm3/m2*day*atm 미만일 수 있으며, 하한은 특별히 제한되지 않으나, 약 0 cm3/m2*day*atm 이상 또는 약 1 cm3/m2*day*atm 이상일 수 있다. As another example, at least one of the first substrate layer and the second substrate layer has an oxygen permeability of less than about 90 cm 3 /m 2 *day*atm, less than 80 cm 3 /m 2 *day*atm, or 60 cm 3 /m 2 may be less than *day*atm or less than about 40 cm 3 /m 2 *day*atm, the lower limit is not particularly limited, but greater than or equal to about 0 cm 3 /m 2 *day*atm or about 1 cm 3 /m 2 * It can be more than day*atm.

상기 산소투과율은 ASTM D 3985 방식에 의해 23℃의 온도 및 0 %의 상대습도에서 측정할 수 있다. 측정 기기는 특별히 제한되지 않으며 공지의 산소투과율 측정 기기, 예를 들면, MOCON사의 OX-TRAN를 사용하여 측정할 수 있다.The oxygen transmittance may be measured at a temperature of 23° C. and a relative humidity of 0% according to ASTM D 3985 method. The measuring device is not particularly limited and it can be measured using a known oxygen transmittance measuring device, for example, OX-TRAN manufactured by MOCON.

기재층이 상기 범위의 산소투과율을 만족하는 경우, 상기 기재층을 포함하는 광학 디바이스는 고온과 저온 사이를 변화하는 환경에서 광학 디바이스 내부에 음압(Negative pressure)이 발생되더라도, 광학 디바이스로 유입되는 외부 공기의 양이 감소된다. 따라서, 외부 공기 유입에 따른 기포 생성에 의한 광학 디바이스의 외관 불량을 감소시킬 수 있다. 한편, 본 출원에서 용어 음압(Negative pressure)은 대기압보다 낮은 압력을 의미하며, 상기 대기압은 약 1기압 정도의 압력을 의미한다.When the base layer satisfies the oxygen transmittance within the above range, the optical device including the base layer may generate a negative pressure inside the optical device in an environment that changes between high and low temperatures, but the outside flowing into the optical device The amount of air is reduced. Accordingly, it is possible to reduce the appearance defect of the optical device due to the generation of air bubbles due to the inflow of external air. Meanwhile, in the present application, the term negative pressure means a pressure lower than atmospheric pressure, and the atmospheric pressure means a pressure of about 1 atmosphere.

하나의 예로서, 제 1 기재층 및 제 2 기재층은 각각 산소투과율이 100 cm3/m2*day*atm 미만일 수 있다. 제 1 및 제 2 기재층의 산소투과율이 상기 범위를 만족하는 경우, 광학 디바이스의 내부 음압(Negative pressure) 발생에 따른 외관 불량을 보다 효율적으로 감소시킬 수 있다.As an example, the first base layer and the second base layer may each have an oxygen transmittance of less than 100 cm 3 /m 2 *day*atm. When the oxygen transmittance of the first and second base layers satisfies the above ranges, it is possible to more efficiently reduce appearance defects caused by internal negative pressure of the optical device.

하나의 예시로서, 제 1 기재층 및 제 2 기재층은 각각 두께가 약 10 ㎛ 내지 약 1,000 ㎛ 일 수 있다. 다른 예로, 상기 기재층의 두께는 약 20 ㎛ 이상, 30 ㎛ 이상, 40 ㎛ 이상, 50 ㎛ 이상, 60 ㎛ 이상 또는 약 70 ㎛ 이상일 수 있으며, 약 900㎛ 이하, 800㎛ 이하, 700㎛ 이하, 600㎛ 이하, 500㎛ 이하 또는 약 400㎛ 이하일 수 있다. As an example, each of the first base layer and the second base layer may have a thickness of about 10 μm to about 1,000 μm. As another example, the thickness of the base layer may be about 20 μm or more, 30 μm or more, 40 μm or more, 50 μm or more, 60 μm or more, or about 70 μm or more, and about 900 μm or less, 800 μm or less, 700 μm or less, It may be 600 μm or less, 500 μm or less, or about 400 μm or less.

기재층의 두께가 상기 범위를 만족하는 경우, 기재층의 산소투과율이 100 cm3/m2*day*atm 미만의 범위를 가지는데 유리하다. 따라서, 광학 디바이스의 내부 음압(Negative pressure) 발생에 따른 외관 불량을 보다 효율적으로 감소 시킬 수 있다.When the thickness of the base layer satisfies the above range, it is advantageous for the oxygen transmittance of the base layer to have a range of less than 100 cm 3 /m 2 *day*atm. Accordingly, it is possible to more efficiently reduce appearance defects caused by internal negative pressure of the optical device.

하나의 예로서, 제 1 기재층 및 제 2 기재층은 각각 결정화도가 약 40% 이상일 수 있다. 다른 예로 상기 기재층의 결정화도는 약 45% 이상, 50% 이상, 55% 이상, 60% 이상 또는 약 65% 이상일 수 있으며, 상한은 특별히 제한되지 않으나, 약 100 % 이하, 약 99 % 이하 또는 약 98 % 이하일 수 있다.As an example, the first base layer and the second base layer may each have a crystallinity of about 40% or more. As another example, the crystallinity of the base layer may be about 45% or more, 50% or more, 55% or more, 60% or more, or about 65% or more, and the upper limit is not particularly limited, but about 100% or less, about 99% or less, or about 98% or less.

상기 용어 결정화도는 기재층에 포함되는 결정질 영역의 백분율(중량 기준)을 의미하며, 이는 시차주사열량분석법(Differential Scanning Calorimetry)으로 측정할 수 있다. 이 과정에서 승온 속도는 분당 10℃로 설정하고, 2차 승온 과정에서 융해열(heat of fusion, △Hf)을 측정하고, 100% 결정화도를 가지는 폴리비닐리덴플루오라이드(polyvinylidene fluoride) 융해열(△Hf=105 J/g)을 기준으로 하여, 각 기재층의 결정화도를 구할 수 있다.The term crystallinity refers to the percentage (by weight) of the crystalline region included in the base layer, which may be measured by differential scanning calorimetry. In this process, the temperature increase rate is set to 10° C. per minute, the heat of fusion (ΔHf) is measured in the second temperature increase process, and the heat of fusion of polyvinylidene fluoride having 100% crystallinity (ΔHf = 105 J/g), the crystallinity of each substrate layer can be obtained.

하나의 예로서, 제 1 기재층 및 제 2 기재층은 산소투과율이 약 100 cm3/m2*day*atm 미만을 만족하는 것이라면 특별히 제한되지 않고 본 출원의 기재층으로 이용할 수 있다. 일 구체예로서 제 1 기재층 및 제 2 기재층은 각각 독립적으로 PEN(polyethylene-naphthalate) 필름, PI(polyimide) 필름, COP(cyclo-olefin polymer) 필름, TAC(tri-acetyl-cellulose) 필름 또는 PET(polyethyleneterephtalate) 필름 등이 이용될 수 있으나 이에 제한되는 것은 아니다.As an example, the first base layer and the second base layer are not particularly limited as long as the oxygen permeability is less than about 100 cm 3 /m 2 *day*atm and may be used as the base layer of the present application. In one embodiment, the first base layer and the second base layer are each independently PEN (polyethylene-naphthalate) film, PI (polyimide) film, COP (cyclo-olefin polymer) film, TAC (tri-acetyl-cellulose) film or A polyethyleneterephtalate (PET) film may be used, but is not limited thereto.

상기 액정 소자는 적어도 액정 화합물을 포함하는 액정층을 포함할 수 있다. 일예에서 상기 액정층은 소위 게스트 호스트 액정층으로서, 액정 화합물과 이색성 염료 게스트를 포함하는 액정층일 수 있다.The liquid crystal device may include a liquid crystal layer including at least a liquid crystal compound. In one example, the liquid crystal layer is a so-called guest host liquid crystal layer, and may be a liquid crystal layer including a liquid crystal compound and a dichroic dye guest.

상기 액정층은 소위 게스트 호스트 효과를 이용한 액정층으로서, 상기 액정 화합물(이하, 액정 호스트라 칭할 수 있다)의 배향 방향에 따라 상기 이색성 염료 게스트가 정렬되는 액정층이다.The liquid crystal layer is a liquid crystal layer using a so-called guest host effect, and is a liquid crystal layer in which the dichroic dye guest is aligned according to the alignment direction of the liquid crystal compound (hereinafter, may be referred to as a liquid crystal host).

상기 배향은 광축의 배향을 의미하며, 상기 광축은 예를 들어 액정 화합물이 막대(rod)형인 경우에는 그 장축 방향을 의미할 수 있고, 원반(discotic) 형태인 경우에는 상기 원반 평면의 법선 방향을 의미할 수 있다. 한편, 임의의 배향 상태에서 서로 광축 방향이 다른 복수의 액정 화합물들을 포함하는 경우에 광축은 평균 광축으로 정의될 수 있고, 이 경우 평균 광축은 상기 액정 화합물들의 광축의 백터합을 의미할 수 있다. 배향 방향은 후술하는 에너지의 인가에 의해 조절 될 수 있다.The orientation refers to the alignment of the optical axis, and the optical axis may refer to, for example, the long axis direction of the liquid crystal compound when the liquid crystal compound is of a rod type, and in the case of a discotic type, the normal direction of the plane of the disk. can mean On the other hand, when a plurality of liquid crystal compounds having different optical axis directions are included in an arbitrary alignment state, the optical axis may be defined as an average optical axis, and in this case, the average optical axis may mean a vector sum of the optical axes of the liquid crystal compounds. The orientation direction may be controlled by application of energy, which will be described later.

액정층에 사용되는 액정 호스트의 종류는 특별히 제한되지 않고, 게스트 호스트 효과의 구현을 위해 적용되는 일반적인 종류의 액정 화합물이 사용될 수 있다.The type of the liquid crystal host used in the liquid crystal layer is not particularly limited, and a general type of liquid crystal compound applied to realize the guest host effect may be used.

예를 들면, 상기 액정 호스트로는 스멕틱 액정 화합물, 네마틱 액정 화합물 또는 콜레스테릭 액정 화합물이 사용될 수 있다. 일반적으로는 네마틱 액정 화합물이 사용될 수 있다. 용어 네마틱 액정 화합물은 액정 분자의 위치에 대한 규칙성은 없지만, 모두 분자축 방향으로 질서를 가지고 배열할 수 있는 액정 화합물을 의미하고, 이러한 액정 화합물은 막대(rod) 형태이거나 원반(discotic) 형태일 수 있다. For example, as the liquid crystal host, a smectic liquid crystal compound, a nematic liquid crystal compound, or a cholesteric liquid crystal compound may be used. In general, a nematic liquid crystal compound may be used. The term nematic liquid crystal compound refers to a liquid crystal compound that has no regularity with respect to the positions of liquid crystal molecules, but can be arranged in an orderly manner in the molecular axis direction, and the liquid crystal compound may be in the form of a rod or a disc can

이러한 네마틱 액정 화합물은 예를 들면, 약 40℃ 이상, 50℃ 이상, 60℃ 이상, 70℃ 이상, 80℃ 이상, 90℃ 이상, 100℃ 이상 또는 약 110℃ 이상의 등명점(clearing point)를 가지거나, 상기 범위의 상전이점, 즉 네마틱상에서 등방상으로의 상전이점을 가지는 것이 선택될 수 있다. 일 예시에서 상기 등명점 또는 상전이점은 약 160℃ 이하, 150℃ 이하 또는 약 140℃ 이하일 수 있다. Such a nematic liquid crystal compound has, for example, a clearing point of about 40°C or more, 50°C or more, 60°C or more, 70°C or more, 80°C or more, 90°C or more, 100°C or more, or about 110°C or more. or a phase transition point within the above range, that is, a phase transition point from a nematic phase to an isotropic phase may be selected. In one example, the clearing point or the phase transition point may be about 160 °C or less, 150 °C or less, or about 140 °C or less.

상기 액정 화합물은 유전율 이방성이 음수 또는 양수일 수 있다. 상기 유전율 이방성의 절대값은 목적을 고려하여 적절히 선택될 수 있다. 예를 들면, 상기 유전율 이방성은 약 3 초과 또는 약 7 초과이거나, 약 -2 미만 또는 약 -3 미만일 수 있다.The liquid crystal compound may have a negative or positive dielectric anisotropy. The absolute value of the dielectric anisotropy may be appropriately selected in consideration of the purpose. For example, the dielectric anisotropy may be greater than about 3 or greater than about 7, or less than about -2 or less than about -3.

액정 화합물은 또한 약 0.01 이상 또는 약 0.04 이상의 광학 이방성(△n)을 가질 수 있다. 액정 화합물의 광학 이방성은 다른 예시에서 약 0.3 이하 또는 약 0.27 이하일 수 있다.The liquid crystal compound may also have an optical anisotropy (Δn) of about 0.01 or greater or about 0.04 or greater. The optical anisotropy of the liquid crystal compound may be about 0.3 or less or about 0.27 or less in another example.

게스트 호스트 액정층의 액정 호스트로 사용될 수 있는 액정 화합물은 본 기술 분야의 전문가들에게 공지되어 있으며, 그들로부터 자유롭게 선택될 수 있다.A liquid crystal compound that can be used as a liquid crystal host of the guest host liquid crystal layer is known to those skilled in the art, and can be freely selected from them.

액정층은 상기 액정 호스트와 함께 이색성 염료 게스트를 포함한다. 용어 염료는 가시광 영역, 예를 들면, 380 nm 내지 780 nm 파장 범위 내에서 적어도 일부 또는 전체 범위 내의 광을 집중적으로 흡수 및/또는 변형시킬 수 있는 물질을 의미할 수 있고, 용어 이색성 염료 게스트는 상기 가시광 영역의 적어도 일부 또는 전체 범위에서 광 흡수가 가능한 물질을 의미할 수 있다. The liquid crystal layer includes a dichroic dye guest together with the liquid crystal host. The term dye may mean a material capable of intensively absorbing and/or modifying light in the visible light region, for example, at least part or all within the wavelength range of 380 nm to 780 nm, the term dichroic dye guest being It may refer to a material capable of absorbing light in at least a part or the entire range of the visible light region.

이색성 염료 게스트로는, 예를 들면 액정 호스트의 배향 상태에 따라 정렬될 수 있는 특성을 가지는 것으로 알려진 공지의 염료를 선택하여 사용할 수 있다. 일 구체예로 이색성 염료 게스트로는 아조 염료 또는 안트라퀴논 염료 등을 사용할 수 있고, 넓은 파장 범위에서의 광 흡수를 달성하기 위해서 액정층은 1종 또는 2종 이상의 염료를 포함할 수도 있다. As the dichroic dye guest, for example, a known dye known to have a property that can be aligned according to the alignment state of the liquid crystal host may be selected and used. In one embodiment, an azo dye or an anthraquinone dye may be used as the dichroic dye guest, and in order to achieve light absorption in a wide wavelength range, the liquid crystal layer may include one or two or more dyes.

이색성 염료 게스트의 이색비(dichroic ratio)는 이색성 염료 게스트의 사용 목적을 고려하여 적절히 선택될 수 있다. 예를 들어, 상기 이색성 염료 게스트는 이색비가 약 5 이상 내지 약 20 이하일 수 있다. 용어 이색비는, 예를 들어, p형 염료인 경우, 염료의 장축 방향에 평행한 편광의 흡수를 상기 장축 방향에 수직하는 방향에 평행한 편광의 흡수로 나눈 값을 의미할 수 있다. 이색성 염료 게스트는 가시광 영역의 파장 범위 내, 예를 들면, 약 380 nm 내지 약 780 nm, 또는 약 400 nm 내지 약 700 nm의 파장 범위 내에서 적어도 어느 한 파장, 일부 범위의 파장 또는 전 범위의 파장에서 상기 이색비를 가질 수 있다. The dichroic ratio of the dichroic dye guest may be appropriately selected in consideration of the purpose of use of the dichroic dye guest. For example, the dichroic dye guest may have a dichroic ratio of about 5 to about 20 or less. The term dichroic ratio, for example, in the case of a p-type dye, may mean a value obtained by dividing absorption of polarized light parallel to the long axis direction of the dye by absorption of polarized light parallel to the direction perpendicular to the long axis direction. The dichroic dye guest may have at least one wavelength, some range of wavelengths, or the entire range within a wavelength range of the visible region, for example, within a wavelength range of about 380 nm to about 780 nm, or about 400 nm to about 700 nm. The wavelength may have the dichroic ratio.

액정층 내에서의 이색성 염료 게스트의 함량은 이색성 염료 게스트의 사용 목적을 고려하여 적절히 선택될 수 있다. 예를 들어, 액정 호스트와 이색성 염료 게스트의 합계 중량을 기준으로 상기 이색성 염료 게스트의 함량은 약 0.1 중량% 내지 약 10 중량% 범위 내에서 선택될 수 있다. 이색성 염료 게스트의 비율은 후술하는 액정 소자의 투과율과 액정 호스트에 대한 이색성 염료 게스트의 용해도 등을 고려하여 변경할 수 있다.The content of the dichroic dye guest in the liquid crystal layer may be appropriately selected in consideration of the purpose of use of the dichroic dye guest. For example, based on the total weight of the liquid crystal host and the dichroic dye guest, the content of the dichroic dye guest may be selected within the range of about 0.1 wt% to about 10 wt%. The ratio of the dichroic dye guest may be changed in consideration of the transmittance of the liquid crystal device, which will be described later, and the solubility of the dichroic dye guest in the liquid crystal host.

액정층은 상기 액정 호스트와 이색성 염료 게스트를 기본적으로 포함하고, 필요한 경우에 다른 임의의 첨가제를 공지의 형태에 따라 추가로 포함할 수 있다. 첨가제의 예로는 키랄 도펀트 또는 안정화제 등이 예시될 수 있지만, 이에 제한되는 것은 아니다. The liquid crystal layer basically includes the liquid crystal host and the dichroic dye guest, and, if necessary, may further include other optional additives according to a known form. Examples of the additive may include, but are not limited to, a chiral dopant or a stabilizer.

상기 액정 소자는 상기 제 1 기재층 및 제 2 기재층 사이에서 기재층의 간격을 유지하는 스페이서 및/또는 제 1 기재층 및 제 2 기재층의 간격이 유지된 상태로 상기 제 1 기재층 및 제 2 기재층을 부착시킬 수 있는 실런트를 추가로 포함할 수 있다. 상기 스페이서 및/또는 실런트의 재료는 특별한 제한 없이 공지의 소재가 사용될 수 있다.The liquid crystal device includes a spacer that maintains a gap between the first base layer and the second base layer and/or the first base layer and the second base layer in a state where the gap between the first base layer and the second base layer is maintained. 2 It may further include a sealant capable of attaching the base layer. As the material of the spacer and/or sealant, a known material may be used without any particular limitation.

상기 액정 소자는 도전층 및/또는 배향막을 추가로 포함할 수 있다. 도 2는 도전층 및 배향막이 포함된 일 실시예에 따른 액정 소자를 예시적으로 나타낸다. 도 2에 나타낸 바와 같이, 상기 액정 소자(10)는 제 1 기재층((11a), 도전층(13), 배향막(14), 액정층(12), 배향막(14), 도전층(13) 및 제 2 기재층(11b)이 순차로 적층되는 구조를 가질 수 있다.The liquid crystal device may further include a conductive layer and/or an alignment layer. 2 exemplarily shows a liquid crystal device according to an embodiment including a conductive layer and an alignment layer. As shown in FIG. 2 , the liquid crystal element 10 includes a first base layer ( 11a ), a conductive layer ( 13 ), an alignment layer ( 14 ), a liquid crystal layer ( 12 ), an alignment layer ( 14 ), and a conductive layer ( 13 ). And it may have a structure in which the second base layer 11b is sequentially stacked.

상기 도전층(13)은 제 1 기재층 및 제 2 기재층(11a, 11b) 상에 각각 형성될 수 있다. 또한 상기 도전층(13)은 액정층(12)을 향하는 면상에 형성될 수 있다. 기재층의 면상에 존재하는 도전층(13)은 액정층(12)에 전압을 인가하기 위한 구성으로 특별한 제한 없이 공지의 도전층이 적용될 수 있다. 도전층으로는, 예를 들면, 전도성 고분자, 전도성 금속, 전도성 나노와이어 또는 ITO(Indium Tin Oxide) 등의 금속 산화물 등이 적용될 수 있다. 본 출원에서 적용될 수 있는 도전층의 예는 상기에 제한되지 않으며, 이 분야에서 액정 소자에 적용될 수 있는 것으로 알려진 모든 종류의 도전층이 사용될 수 있다.The conductive layer 13 may be formed on the first base layer and the second base layer 11a and 11b, respectively. In addition, the conductive layer 13 may be formed on the surface facing the liquid crystal layer 12 . The conductive layer 13 present on the surface of the base layer is a configuration for applying a voltage to the liquid crystal layer 12, and a known conductive layer may be applied without any particular limitation. As the conductive layer, for example, a conductive polymer, a conductive metal, a conductive nanowire, or a metal oxide such as indium tin oxide (ITO) may be applied. Examples of the conductive layer applicable in the present application are not limited to the above, and all types of conductive layers known to be applicable to liquid crystal devices in this field may be used.

상기 배향막(14)은 제 1 기재층 및 제 2 기재층(11a, 11b)의 면상에 존재할 수 있다. 예를 들면, 기재층의 일면에 우선 도전층(13)이 형성되고 그 상부에 배향막(14)이 형성될 수 있다.The alignment layer 14 may be present on the surfaces of the first and second base layers 11a and 11b. For example, the conductive layer 13 may be first formed on one surface of the base layer, and the alignment layer 14 may be formed thereon.

상기 배향막(14)은 액정층(12)에 포함되는 액정 호스트의 배향을 제어하기 위한 구성이고, 특별한 제한 없이 공지의 배향막을 적용할 수 있다. 업계에서 공지된 배향막으로는, 러빙 배향막이나 광배향막 등이 있고, 본 출원에서 사용될 수 있는 배향막은 상기 공지의 배향막이고, 이는 특별히 제한되지 않는다. The alignment layer 14 is configured to control the alignment of the liquid crystal host included in the liquid crystal layer 12 , and a known alignment layer may be applied without any particular limitation. As the alignment layer known in the industry, there is a rubbing alignment layer or a photo alignment layer, and the alignment layer that can be used in the present application is the known alignment layer, which is not particularly limited.

전술한 광축의 배향을 달성하기 위해서 상기 배향막(14)의 배향 방향이 제어될 수 있다. 예를 들면, 대향 배치되어 있는 제 1 기재층 및 제 2 기재층의 각 면에 형성된 2개의 배향막의 배향 방향은 서로 약 -10도 내지 약 10도의 범위 내의 각도, 약 -7도 내지 약 7도의 범위 내의 각도, 약 -5도 내지 약 5도의 범위 내의 각도 또는 약 -3도 내지 약 3도의 범위 내의 각도를 이루거나 서로 대략 평행할 수 있다. 다른 예시에서 상기 2개의 배향막의 배향 방향은 약 80도 내지 약 100도의 범위 내의 각도, 약 83도 내지 약 97도의 범위 내의 각도, 약 85도 내지 약 95도의 범위 내의 각도 또는 약 87도 내지 약 92도의 범위 내의 각도를 이루거나 서로 대략 수직일 수 있다.In order to achieve the above-described alignment of the optical axis, the alignment direction of the alignment layer 14 may be controlled. For example, the orientation direction of the two alignment films formed on each surface of the first base layer and the second base layer facing each other is in the range of about -10 degrees to about 10 degrees, and about -7 degrees to about 7 degrees. an angle within a range, an angle within a range of about -5 degrees to about 5 degrees, or an angle within a range of about -3 degrees to about 3 degrees, or approximately parallel to each other. In another example, the alignment direction of the two alignment layers is an angle within a range of about 80 degrees to about 100 degrees, an angle within a range of about 83 degrees to about 97 degrees, an angle within a range of about 85 degrees to about 95 degrees, or an angle within a range of about 87 degrees to about 92 degrees. may be at an angle within the range of degrees or approximately perpendicular to each other.

이와 같은 배향 방향에 따라서 액정층의 광축의 방향이 결정되기 때문에, 상기 배향 방향은 액정층의 광축의 방향을 확인하여 알 수 있다. 액정층의 광축이 어떤 방향으로 형성되어 있는 것인지를 확인하는 방식은 공지이다. 예를 들면, 액정층의 광축의 방향은 광축 방향을 알고 있는 다른 편광판을 이용하여 측정할 수 있으며, 이는 공지의 측정 기기, 예를 들면, Jasco사의 P-2000 등의 polarimeter를 사용하여 측정할 수 있다.Since the direction of the optical axis of the liquid crystal layer is determined according to the alignment direction, the alignment direction can be known by confirming the direction of the optical axis of the liquid crystal layer. A method of confirming in which direction the optical axis of the liquid crystal layer is formed is known. For example, the direction of the optical axis of the liquid crystal layer can be measured using another polarizing plate that knows the optical axis direction, which can be measured using a known measuring device, for example, a polarimeter such as Jasco's P-2000. there is.

상기와 같은 구성을 가지는 액정 소자의 형태는 특별히 제한되지 않고, 광학 디바이스의 적용 용도에 따라서 정해질 수 있으며, 일반적으로는 필름 또는 시트 형태이다.The shape of the liquid crystal element having the above configuration is not particularly limited, and may be determined according to the application purpose of the optical device, and is generally in the form of a film or a sheet.

상기 액정 소자는 적어도 2개 이상의 광축의 배향 상태, 예를 들면, 제 1 및 제 2 배향 상태의 사이를 스위칭할 수 있다. 상기와 같은 액정 소자에서 배향 상태는 에너지의 인가, 예를 들면 전압의 인가에 의해 변경할 수 있다. 즉 상기 액정 소자는 전압의 인가가 없는 상태에서 상기 제 1 및 제 2 배향 상태 중에서 어느 한 배향 상태를 가지고 있다가 전압이 인가되면 다른 배향 상태로 스위칭 될 수 있다. 한편, 액정 소자의 배향 상태에 따라 투과율이 조절 될 수 있다. 일예로 제 1 또는 제 2 배향 상태 중 어느 한 배향 상태에서 차단 모드가 구현되고, 다른 배향 상태에서 투과 모드가 구현될 수 있다. The liquid crystal element may switch between alignment states of at least two optical axes, for example, first and second alignment states. In the liquid crystal device as described above, the alignment state may be changed by application of energy, for example, application of voltage. That is, the liquid crystal device may have one alignment state among the first and second alignment states in a state where no voltage is applied, and may be switched to another alignment state when a voltage is applied. Meanwhile, the transmittance may be adjusted according to the alignment state of the liquid crystal element. For example, the blocking mode may be implemented in one of the first and second orientation states, and the transmission mode may be implemented in the other orientation state.

상기 투과 모드는 액정 소자가 상대적으로 높은 투과율을 나타내는 상태이고, 차단 모드는 액정 소자가 상대적으로 낮은 투과율을 나타내는 상태이다. The transmission mode is a state in which the liquid crystal element exhibits a relatively high transmittance, and the blocking mode is a state in which the liquid crystal element exhibits a relatively low transmittance.

일 예시에서 상기 액정 소자는 상기 투과 모드에서의 투과율이 약 20%, 25%, 30% 이상, 35% 이상, 40% 이상, 45% 이상 또는 약 50% 이상일 수 있다. 또한, 상기 액정 소자는 상기 차단 모드에서의 투과율이 약 20% 미만, 15% 미만 또는 약 10% 미만일 수 있다.In one example, the transmittance of the liquid crystal device in the transmission mode may be about 20%, 25%, 30% or more, 35% or more, 40% or more, 45% or more, or about 50% or more. In addition, the transmittance of the liquid crystal device in the blocking mode may be less than about 20%, less than 15%, or less than about 10%.

상기 투과 모드에서의 투과율은 수치가 높을수록 유리하고, 차단 모드에서의 투과율은 낮을수록 유리하기 때문에 각각의 상한과 하한은 특별히 제한되지 않는다. 일 예시에서 상기 투과 모드에서의 투과율의 상한은 약 100%, 95%, 90%, 85%, 80%, 75%, 70%, 65% 또는 약 60%일 수 있다. 상기 차단 모드에서의 투과율의 하한은 약 0%, 1%, 2%, 3%, 4%, 5%, 6%, 7%, 8%, 9% 또는 약 10%일 수 있다.The higher the transmittance in the transmission mode, the more advantageous, and the lower the transmittance in the blocking mode, the more advantageous, so the respective upper and lower limits are not particularly limited. In one example, the upper limit of the transmittance in the transmission mode may be about 100%, 95%, 90%, 85%, 80%, 75%, 70%, 65%, or about 60%. The lower limit of the transmittance in the blocking mode may be about 0%, 1%, 2%, 3%, 4%, 5%, 6%, 7%, 8%, 9%, or about 10%.

상기 투과율은 직진광 투과율일 수 있다. 용어 직진광 투과율은 소정 방향으로 액정 소자를 입사한 광 대비 상기 입사 방향과 동일한 방향으로 상기 액정 소자를 투과한 광(직진광)의 비율일 수 있다. 일 예시에서 상기 투과율은 상기 액정 소자의 표면 법선과 평행한 방향으로 입사한 광에 대하여 측정한 결과(법선광 투과율)일 수 있다.The transmittance may be a straight light transmittance. The term "straight light transmittance" may be a ratio of light incident through the liquid crystal element in a predetermined direction to light passing through the liquid crystal element in the same direction as the incident direction (straight light). In one example, the transmittance may be a result of measuring light incident in a direction parallel to a surface normal of the liquid crystal element (normal light transmittance).

본 출원의 액정 소자에서 투과율이 조절되는 광은, UV-A 영역의 자외선, 가시광 또는 근적외선일 수 있다. 일반적으로 사용되는 정의에 따르면, UV-A 영역의 자외선은 320 nm 내지 380 nm의 범위 내의 파장을 가지는 방사선을 의미하는 것으로 사용되고, 가시광은 380 nm 내지 780 nm의 범위 내의 파장을 가지는 방사선을 의미하는 것으로 사용되며, 근적외선은 780 nm 내지 2000 nm의 범위 내의 파장을 가지는 방사선을 의미하는 것으로 사용된다.In the liquid crystal device of the present application, the light whose transmittance is controlled may be ultraviolet light, visible light, or near infrared light in the UV-A region. According to a commonly used definition, ultraviolet light in the UV-A region is used to mean radiation having a wavelength within the range of 320 nm to 380 nm, and visible light means radiation having a wavelength within the range of 380 nm to 780 nm. and near-infrared is used to mean radiation having a wavelength in the range of 780 nm to 2000 nm.

필요한 경우에 액정 소자는 상기 투과 모드 및 차단 모드 외에 다른 모드도 구현할 수 있도록 설계될 수 있다. 예를 들면, 상기 투과 모드 및 차단 모드의 투과율 사이에서 임의의 투과율을 나타낼 수 있는 제 3의 모드도 구현될 수 있도록 설계될 수 있다.If necessary, the liquid crystal device may be designed to implement other modes in addition to the transmission mode and the blocking mode. For example, it may be designed so that a third mode capable of exhibiting an arbitrary transmittance between transmittances of the transmission mode and the blocking mode may also be implemented.

본 출원의 광학 디바이스는 제 1 및 제 2 외곽 기판을 포함할 수 있다. 상기 제 1 및 제 2의 표현은 선후 내지는 상하 관계를 규정한 것은 아니다. 일 예시에서 상기 액정 소자는 상기 제 1 및 제 2 외곽 기판의 사이에서 위치할 수 있다. 예를 들면, 도 3에 나타난 바와 같이 대향 배치된 제 1 및 제 2 외곽 기판(20) 사이에 액정 소자(10)가 위치할 수 있다.The optical device of the present application may include first and second outer substrates. The first and second expressions do not stipulate a precedence or an up-and-down relationship. In an example, the liquid crystal device may be positioned between the first and second outer substrates. For example, as shown in FIG. 3 , the liquid crystal device 10 may be positioned between the first and second outer substrates 20 disposed to face each other.

상기 제 1 및 제 2 외곽 기판(20)으로는, 예를 들면, 각각 독립적으로 글라스 등의 무기 기판 또는 플라스틱 기판이 사용될 수 있다. 플라스틱 기판으로는 TAC(triacetyl cellulose) 또는 DAC(diacetyl cellulose) 등과 같은 셀룰로오스 필름; 노르보르넨 유도체 등의 COP(cyclo olefin copolymer) 필름; PAR(Polyacrylate) 또는 PMMA(poly(methyl methacrylate) 등의 아크릴 필름; PC(polycarbonate) 필름; PE(polyethylene) 또는 PP(polypropylene) 등의 폴리올레핀 필름; PVA(polyvinyl alcohol) 필름; PI(polyimide) 필름; PSF(polysulfone) 필름; PPS(polyphenylsulfone) 필름; PES(polyethersulfone) 필름; PEEK(polyetheretherketon) 필름; PEI(polyetherimide) 필름; PEN(polyethylenenaphthatlate) 필름; PET(polyethyleneterephtalate) 필름; 또는 불소 수지 필름 등이 사용될 수 있지만, 이에 제한되는 것은 아니다. 제 1 및 제 2 외곽 기판(20)에는, 필요에 따라서 금; 은; 또는 이산화 규소 또는 일산화 규소 등의 규소 화합물의 코팅층이나, 반사 방지층 등의 기능층이 존재할 수도 있다.As the first and second outer substrates 20 , for example, an inorganic substrate such as glass or a plastic substrate may be independently used. Examples of the plastic substrate include cellulose films such as triacetyl cellulose (TAC) or diacetyl cellulose (DAC); COP (cyclo olefin copolymer) films such as norbornene derivatives; Acrylic film such as PAR (Polyacrylate) or PMMA (poly(methyl methacrylate); PC (polycarbonate) film; PE (polyethylene) or PP (polypropylene), etc. Polyolefin film; PVA (polyvinyl alcohol) film; PI (polyimide) film; PSF (polysulfone) film; PPS (polyphenylsulfone) film; PES (polyethersulfone) film; PEEK (polyetheretherketon) film; PEI (polyetherimide) film; PEN (polyethylenenaphthatlate) film; PET (polyethyleneterephtalate) film; or a fluororesin film may be used In the first and second outer substrates 20 , if necessary, a coating layer of a silicon compound such as gold; silver; there is.

상기와 같은 제 1 및 제 2 외곽 기판(20)의 두께는 특별히 제한되지 않으며, 예를 들면 각각 약 0.3 mm 이상일 수 있다. 다른 예시에서 상기 두께는 약 0.5 mm 이상, 1 mm 이상, 1.5 mm 이상 또는 약 2 mm 이상일 수 있고, 약 10 mm 이하, 9 mm 이하, 8 mm 이하, 7 mm 이하, 6 mm 이하, 5 mm 이하, 4 mm 이하 또는 약 3 mm 이하일 수도 있다.The thickness of the first and second outer substrates 20 as described above is not particularly limited, and may be, for example, about 0.3 mm or more, respectively. In another example, the thickness may be about 0.5 mm or more, 1 mm or more, 1.5 mm or more, or about 2 mm or more, and about 10 mm or less, 9 mm or less, 8 mm or less, 7 mm or less, 6 mm or less, 5 mm or less , 4 mm or less or about 3 mm or less.

상기 제 1 및 제 2 외곽 기판(20)은 평편(flat)한 기판이거나 혹은 곡면 형상을 가지는 기판일 수 있다. 예를 들면, 상기 제 1 및 제 2 외곽 기판은 동시에 평편한 기판이거나, 동시에 곡면 형상을 가지거나, 혹은 어느 하나는 평편한 기판이고 다른 하나는 곡면 형상의 기판일 수 있다.The first and second outer substrates 20 may be a flat substrate or a substrate having a curved shape. For example, the first and second outer substrates may be flat substrates at the same time, have a curved shape at the same time, or one may be a flat substrate and the other may be a curved substrate.

또한, 상기에서 동시에 곡면 형상을 가지는 경우에는 각각의 곡률 또는 곡률 반경은 동일하거나 상이할 수 있다. In addition, in the case of having a curved shape at the same time in the above, each curvature or radius of curvature may be the same or different.

본 명세서에서 곡률 또는 곡률 반경은, 업계에서 공지된 방식으로 측정할 수 있으며, 예를 들면, 2D Profile Laser Sensor (레이저 센서), Chromatic confocal line sensor (공초점 센서) 또는 3D Measuring Conforcal Microscopy 등의 비접촉식 장비를 이용하여 측정할 수 있다. 이러한 장비를 사용하여 곡률 또는 곡률 반경을 측정하는 방식은 공지이다. In the present specification, the curvature or radius of curvature may be measured in a manner known in the industry, for example, a non-contact type such as 2D Profile Laser Sensor (laser sensor), Chromatic confocal line sensor (confocal sensor) or 3D Measuring Conforcal Microscopy. It can be measured using equipment. Methods for measuring curvature or radius of curvature using such equipment are known.

또한, 상기 제 1 및 제 2 외곽 기판과 관련해서 예를 들어, 표면과 이면에서의 곡률 또는 곡률 반경이 다른 경우에는 각각 마주보는 면의 곡률 또는 곡률 반경, 즉 제 1 외곽 기판의 경우, 제 2 외곽 기판과 대향하는 면의 곡률 또는 곡률 반경과 제 2 외곽 기판의 경우, 제 1 외곽 기판과 대향하는 면의 곡률 또는 곡률 반경이 기준이 될 수 있다. 또한, 해당 면에서의 곡률 또는 곡률 반경이 일정하지 않고, 상이한 부분이 존재하는 경우에는 가장 큰 곡률 또는 곡률 반경이 기준이 되거나, 가장 작은 곡률 또는 곡률 반경이 기준일 될 수 있고, 또는 평균 곡률 또는 평균 곡률 반경이 기준이 될 수 있다. In addition, in relation to the first and second outer substrates, for example, when the curvature or radius of curvature on the front surface and the rear surface are different, the curvature or radius of curvature of the opposite surfaces, that is, in the case of the first outer substrate, the second The curvature or radius of curvature of the surface facing the outer substrate and the second outer substrate may be based on the curvature or radius of curvature of the surface facing the first outer substrate. In addition, if the curvature or radius of curvature on the corresponding surface is not constant and there are different portions, the largest curvature or radius of curvature may be the reference, or the smallest curvature or radius of curvature may be the reference, or the average curvature or average A radius of curvature may be a criterion.

상기 제 1 및 제 2 외곽 기판은, 양자가 곡률 또는 곡률 반경의 차이가 약 10% 이내, 9% 이내, 8% 이내, 7% 이내, 6% 이내, 5% 이내, 4% 이내, 3% 이내, 2% 이내 또는 약 1% 이내일 수 있다. 상기 곡률 또는 곡률 반경의 차이는 큰 곡률 또는 곡률 반경을 CL이라고 하고, 작은 곡률 또는 곡률 반경을 CS라고 할 때에 100×(CL-CS)/CS로 계산되는 수치이다. 또한, 상기 곡률 또는 곡률 반경의 차이의 하한은 특별히 제한되지 않는다. 제 1 및 제 2 외곽 기판의 곡률 또는 곡률 반경의 차이는 동일할 수 있기 때문에, 상기 곡률 또는 곡률 반경의 차이는 약 0% 이상이거나, 약 0% 초과일 수 있다.The first and second outer substrates have a difference in curvature or radius of curvature of about 10% or less, 9% or less, 8% or less, 7% or less, 6% or less, 5% or less, 4% or less, 3% or less within, within 2%, or within about 1%. The difference in the curvature or radius of curvature is a numerical value calculated as 100×( C L -CS )/CS S when a large curvature or radius of curvature is C L and a small radius or radius of curvature is C S . In addition, the lower limit of the difference between the curvature or the radius of curvature is not particularly limited. Since the difference between the curvature or the radius of curvature of the first and second outer substrates may be the same, the difference between the curvature or the radius of curvature may be greater than or equal to about 0% or greater than about 0%.

제 1 및 제 2 외곽 기판이 모두 곡면인 경우에 양자의 곡률은 동일 부호일 수 있다. 다시 말하면, 상기 제 1 및 제 2 외곽 기판은 모두 동일한 방향으로 굴곡되어 있을 수 있다. 즉, 상기 경우는 제 1 외곽 기판의 곡률 중심과 제 2 외곽 기판의 곡률 중심이 모두 제 1 및 제 2 외곽 기판의 상부 및 하부 중에서 같은 부분에 존재하는 경우이다.When both the first and second outer substrates have curved surfaces, both curvatures may have the same sign. In other words, both the first and second outer substrates may be curved in the same direction. That is, in this case, both the center of curvature of the first outer substrate and the center of curvature of the second outer substrate exist in the same portion among the upper and lower portions of the first and second outer substrates.

제 1 및 제 2 외곽 기판의 각각의 곡률 또는 곡률 반경의 구체적인 범위는 특별히 제한되지 않는다. 일 예시에서 상기 제 1 및 제 2 외곽 기판은 각각 곡률 반경이 약 100R 이상, 200R 이상, 300R 이상, 400R 이상, 500R 이상, 600R 이상, 700R 이상, 800R 이상 또는 약 900R 이상이거나, 약 10,000R 이하, 9,000R 이하, 8,000R 이하, 7,000R 이하, 6,000R 이하, 5,000R 이하, 4,000R 이하, 3,000R 이하, 2,000R 이하, 1,900R 이하, 1,800R 이하, 1,700R 이하, 1,600R 이하, 1,500R 이하, 1,400R 이하, 1,300R 이하, 1,200R 이하, 1,100R 이하 또는 약 1,050R 이하일 수 있다. 상기에서 R은 반지름이 1 mm인 원의 휘어진 정도를 의미한다. 따라서, 상기에서 예를 들어, 100R은 반지름이 100mm인 원의 휘어진 정도 또는 그러한 원에 대한 곡률 반경이다. 물론 기판이 평편한 경우에 곡률은 0이고, 곡률 반경은 무한대이다.A specific range of each curvature or radius of curvature of the first and second outer substrates is not particularly limited. In one example, each of the first and second outer substrates has a radius of curvature of about 100R or more, 200R or more, 300R or more, 400R or more, 500R or more, 600R or more, 700R or more, 800R or more, or about 900R or more, or about 10,000R or less. , 9,000R or less, 8,000R or less, 7,000R or less, 6,000R or less, 5,000R or less, 4,000R or less, 3,000R or less, 2,000R or less, 1900R or less, 1800R or less, 1,700R or less, 1,600R or less, 1,500 R or less, 1,400R or less, 1,300R or less, 1,200R or less, 1,100R or less, or about 1,050R or less. In the above, R means the degree of curvature of a circle having a radius of 1 mm. Thus, for example in the above, 100R is the degree of curvature of a circle having a radius of 100 mm or the radius of curvature for such a circle. Of course, when the substrate is flat, the curvature is zero, and the radius of curvature is infinite.

제 1 및 제 2 외곽 기판은 상기 범위에서 동일하거나 상이한 곡률 반경을 가질 수 있다. 일 예시에서 제 1 및 제 2 외곽 기판의 곡률이 서로 다른 경우에, 그 중에서 곡률이 큰 기판의 곡률 반경이 상기 범위 내일 수 있다. The first and second outer substrates may have the same or different radii of curvature within the above range. In one example, when the first and second outer substrates have different curvatures, the radius of curvature of the substrate having the greater curvature may be within the above range.

일 예시에서 제 1 및 제 2 외곽 기판의 곡률이 서로 다른 경우에는 그 중에서 곡률이 큰 기판이 광학 디바이스의 사용 시에 보다 중력 방향으로 배치되는 기판일 수 있다.In one example, when the curvatures of the first and second outer substrates are different from each other, a substrate having a larger curvature among them may be a substrate disposed in a direction of gravity rather than when an optical device is used.

제 1 및 제 2 기판의 곡률 또는 곡률 반경을 위와 같이 제어하게 되면, 후술하는 접착 필름에 의한 합착력이 떨어지게 되어도 복원력과 중력의 합인 알짜힘이 작용하여 벌어짐을 막아줄 수 있고, 오토클레이브(Autoclave)와 같은 공정 압력에도 잘 견딜 수 있다.If the curvature or radius of curvature of the first and second substrates is controlled as described above, even if the bonding force by the adhesive film to be described later falls, a net force that is the sum of the restoring force and gravity acts to prevent the opening, and autoclave (Autoclave) ) can withstand process pressures such as

본 출원의 광학 다비이스는 편광자 및/또는 접착 필름을 추가로 포함할 수 있다. 도 4는 편광자 및 접착 필름을 포함된 일 실시예에 따른 광학 디바이스를 예시적으로 나타낸다. 도 4에 나타낸 바와 같이, 상기 광학 디바이스(100)는 제 1 외곽 기판(20), 접착 필름(40), 액정 소자(10), 접착 필름(40), 편광자(30), 접착 필름(40) 및 제 2 외곽 기판(20)이 순차로 적층되는 구조를 가질 수 있다.The optical device of the present application may further include a polarizer and/or an adhesive film. 4 exemplarily shows an optical device according to an embodiment including a polarizer and an adhesive film. 4 , the optical device 100 includes a first outer substrate 20 , an adhesive film 40 , a liquid crystal element 10 , an adhesive film 40 , a polarizer 30 , and an adhesive film 40 . And it may have a structure in which the second outer substrate 20 is sequentially stacked.

상기 편광자(30)로는, 예를 들면 흡수형 선형 편광자, 즉 일방향으로 형성된 광흡수축과 그와는 대략 수직하게 형성된 광투과축을 가지는 편광자를 사용할 수 있다.As the polarizer 30, for example, an absorption-type linear polarizer, that is, a polarizer having a light absorption axis formed in one direction and a light transmission axis formed substantially perpendicular to the polarizer 30 may be used.

상기 편광자(30)는 상기 액정 소자(10)의 제 1 배향 상태에서 상기 차단 상태가 구현된다고 가정하는 경우에 상기 제 1 배향 상태의 평균 광축(광축의 벡터합)과 상기 편광자의 광흡수축이 이루는 각도가 약 80도 내지 약 100도 또는 약 85도 내지 약 95도를 이루거나, 대략 수직이 되도록 광학 디바이스에 배치되어 있거나, 혹은 약 35도 내지 약 55도 또는 약 40도 내지 약 50도가 되거나 대략 45도가 되도록 광학 디바이스에 배치되어 있을 수 있다. When it is assumed that the blocking state is implemented in the first alignment state of the liquid crystal element 10 of the polarizer 30, the average optical axis (vector sum of optical axes) of the first alignment state and the light absorption axis of the polarizer are The angle is between about 80 degrees and about 100 degrees, or between about 85 degrees and about 95 degrees, or is disposed in the optical device such that it is generally perpendicular, or between about 35 degrees and about 55 degrees or between about 40 degrees and about 50 degrees; It may be positioned on the optical device to be approximately 45 degrees.

배향막의 배향 방향을 기준으로 할 때에, 전술한 것과 같이 제 1 및 제 2 기재층의 각 면상에 형성된 배향막의 배향 방향이 서로 약 -10도 내지 약 10도의 범위 내의 각도, 약 -7도 내지 약 7도의 범위 내의 각도, 약 -5도 내지 약 5도의 범위 내의 각도 또는 약 -3도 내지 약 3도의 범위 내의 각도를 이루거나 서로 대략 평행한 경우에 상기 2개의 배향막 중에서 어느 하나의 배향막의 배향 방향과 상기 편광자의 광흡수축이 이루는 각도가 약 80도 내지 약 100도 또는 약 85도 내지 약 95도를 이루거나, 대략 수직이 될 수 있다.Based on the alignment direction of the alignment layer, as described above, the alignment direction of the alignment layer formed on each side of the first and second substrate layers is an angle within the range of about -10 degrees to about 10 degrees, about -7 degrees to about The orientation direction of any one of the two alignment layers when an angle within a range of 7 degrees, an angle within a range of about -5 degrees to about 5 degrees, or an angle within a range of about -3 degrees to about 3 degrees, or approximately parallel to each other An angle between the polarizer and the light absorption axis of the polarizer may be about 80 degrees to about 100 degrees, or about 85 degrees to about 95 degrees, or may be substantially perpendicular.

다른 예시에서 상기 2개의 배향막의 배향 방향이 약 80도 내지 약 100도의 범위 내의 각도, 약 83도 내지 약 97도의 범위 내의 각도, 약 85도 내지 약 95도의 범위 내의 각도 또는 약 87도 내지 약 92도의 범위 내의 각도를 이루거나 서로 대략 수직인 경우에는 2장의 배향막 중에서 상기 편광자에 보다 가깝게 배치된 배향막의 배향 방향과 상기 편광자의 광흡수축이 이루는 각도가 약 80도 내지 약 100도 또는 약 85도 내지 약 95도를 이루거나, 대략 수직이 될 수 있다.In another example, the alignment directions of the two alignment layers are an angle within a range of about 80 degrees to about 100 degrees, an angle within a range of about 83 degrees to about 97 degrees, an angle within a range of about 85 degrees to about 95 degrees, or an angle of about 87 degrees to about 92 degrees. When the angle is within the range of degrees or is substantially perpendicular to each other, the angle between the alignment direction of the alignment layer disposed closer to the polarizer among the two alignment layers and the light absorption axis of the polarizer is about 80 degrees to about 100 degrees or about 85 degrees to about 95 degrees, or approximately vertical.

본 출원의 광학 디바이스에서 적용될 수 있는 상기 편광자의 종류는 특별히 제한되지 않는다. 예를 들면, 편광자로는 기존 LCD 등에서 사용되는 통상의 소재, 예를 들면, PVA(poly(vinyl alcohol)) 편광자 등이나, 유방성 액정(LLC: Lyotropic Liquid Cystal)이나, 반응성 액정(RM: Reactive Mesogen)과 이색성 색소(dichroic dye)를 포함하는 편광 코팅층과 같이 코팅 방식으로 구현한 편광자을 사용할 수 있다. 본 명세서에서 상기와 같이 코팅 방식으로 구현된 편광자는 편광 코팅층으로 호칭될 수 있다. 상기 유방성 액정으로는 특별한 제한 없이 공지의 액정을 사용할 수 있으며, 예를 들면, 이색비(dichroic ratio)가 약 30 내지 약 40 정도인 유방성 액정층을 형성할 수 있는 유방성 액정을 사용할 수 있다. 한편, 편광 코팅층이 반응성 액정(RM: Reactive Mesogen)과 이색성 염료(dichroic dye)를 포함하는 경우에 상기 이색성 염료로는 선형의 염료를 사용하거나, 혹은 디스코틱형의 염료(discotic dye)가 사용될 수도 있다.The type of the polarizer that can be applied to the optical device of the present application is not particularly limited. For example, as a polarizer, common materials used in conventional LCDs, for example, PVA (poly(vinyl alcohol)) polarizer, etc., Lyotropic Liquid Cystal (LLC), or Reactive liquid crystal (RM: Reactive) A polarizer implemented by a coating method such as a polarizing coating layer including mesogen) and a dichroic dye may be used. In the present specification, the polarizer implemented by the coating method as described above may be referred to as a polarizing coating layer. As the lyotropic liquid crystal, a known liquid crystal may be used without particular limitation, for example, a lyotropic liquid crystal capable of forming a lyotropic liquid crystal layer having a dichroic ratio of about 30 to about 40 may be used. there is. On the other hand, when the polarizing coating layer includes a reactive liquid crystal (RM) and a dichroic dye, a linear dye or a discotic dye is used as the dichroic dye. may be

본 출원의 광학 디바이스는 상기와 같은 액정 소자와 편광자를 각각 하나씩만 포함할 수 있다. 따라서, 상기 광학 디바이스는 오직 하나의 상기 액정 소자만을 포함하고, 오직 하나의 편광자만을 포함할 수 있다.The optical device of the present application may include only one each of the liquid crystal element and the polarizer as described above. Accordingly, the optical device may include only one liquid crystal element and only one polarizer.

상기 접착 필름(40)은, 예를 들면, 도 4에 나타난 바와 같이 외곽 기판(20)과 액정 소자(10)의 사이, 액정 소자(10)과 편광자(30)의 사이 및 편광자(30)와 외곽 기판(20)의 사이에 존재할 수 있고, 상기 액정 소자(10)와 편광자(30)의 측면, 적절하게는 모든 측면에 존재할 수 있다. The adhesive film 40 is, for example, between the outer substrate 20 and the liquid crystal element 10, between the liquid crystal element 10 and the polarizer 30, and the polarizer 30, as shown in FIG. It may be present between the outer substrate 20 , and may be present on the side surfaces of the liquid crystal element 10 and the polarizer 30 , suitably on all sides.

한편, 상기 외곽 기판(20)과 액정 소자(10)의 사이, 액정 소자(10)과 편광자(30)의 사이, 편광자(30)와 외곽 기판(20)의 사이 및/또는 상기 액정 소자(10)와 편광자(30)의 측면에 위치하는 접착 필름은 동일하거나 상이한 접착 필름일 수 있다. Meanwhile, between the outer substrate 20 and the liquid crystal element 10 , between the liquid crystal element 10 and the polarizer 30 , between the polarizer 30 and the outer substrate 20 , and/or the liquid crystal element 10 . ) and the adhesive film positioned on the side of the polarizer 30 may be the same or different adhesive films.

상기 접착 필름(40)은, 상기 외곽 기판(20)과 액정 소자(10), 액정 소자 (10)와 편광자(30) 및 편광자(30)와 외곽 기판(20)들을 서로 접착시키면서, 상기 액정 소자(10)와 편광자(30)를 봉지화하고 있을 수 있다. 본 출원에서 용어 봉지(또는 캡슐화(encapsulation))는 접착 필름으로 액정 소자 및/또는 편광자의 전면을 피복하는 것을 의미할 수 있다. 예를 들면, 목적하는 구조에 따라서 외곽 기판, 액정 소자, 편광자 및 접착 필름을 적층한 후에 진공 상태에서 압착하는 방식으로 상기 구조를 구현할 수 있다.The adhesive film 40 adheres the outer substrate 20 and the liquid crystal element 10 , the liquid crystal element 10 and the polarizer 30 , and the polarizer 30 and the outer substrate 20 to each other, and the liquid crystal element (10) and the polarizer 30 may be encapsulated. In the present application, the term encapsulation (or encapsulation) may mean covering the entire surface of the liquid crystal element and/or the polarizer with an adhesive film. For example, the structure may be implemented by laminating an outer substrate, a liquid crystal device, a polarizer, and an adhesive film according to a desired structure and then compressing in a vacuum state.

상기 접착 필름(40)으로는 특별한 제한 없이 공지의 소재가 사용될 수 있고, 예를 들면, 공지된 열가소성 폴리우레탄 접착 필름(TPU: Thermoplastic Polyurethane), TPS(Thermoplastic Starch), 폴리아마이드 접착 필름, 폴리에스테르 접착 필름, EVA(Ethylene Vinyl Acetate) 접착 필름, 폴리에틸렌 또는 폴리프로필렌 등의 폴리올레핀 접착 필름 또는 폴리올레핀 엘라스토머 필름(POE 필름) 등 중에서 선택될 수 있다. As the adhesive film 40, a known material may be used without particular limitation, for example, a known thermoplastic polyurethane adhesive film (TPU: Thermoplastic Polyurethane), TPS (Thermoplastic Starch), polyamide adhesive film, polyester It may be selected from an adhesive film, an EVA (Ethylene Vinyl Acetate) adhesive film, a polyolefin adhesive film such as polyethylene or polypropylene, or a polyolefin elastomer film (POE film).

상기와 같은 접착 필름의 두께는 특별히 제한되지 않으며, 예를 들면 약 200 μm 내지 약 600μm 정도의 범위 내일 수 있다. 상기에서 접착 필름의 두께는 상기 외곽 기판(20)과 액정 소자(10)의 사이의 접착 필름의 두께, 예를 들면 상기 양자간의 간격; 액정 소자(10)와 편광자(30)의 사이의 접착 필름의 두께, 예를 들면 상기 양자간의 간격; 및 편광자(30)와 외곽 기판(20)의 사이의 접착 필름의 두께, 예를 들면 상기 양자간의 간격일 수 있다.The thickness of the adhesive film as described above is not particularly limited, and may be, for example, in the range of about 200 μm to about 600 μm. In the above, the thickness of the adhesive film may include the thickness of the adhesive film between the outer substrate 20 and the liquid crystal device 10 , for example, an interval between the two; the thickness of the adhesive film between the liquid crystal element 10 and the polarizer 30, for example, the distance between the two; And the thickness of the adhesive film between the polarizer 30 and the outer substrate 20, for example, may be the distance between the two.

광학 디바이스는 상기 구성 외에도 필요한 임의 구성을 추가로 포함할 수 있고, 예를 들면, 버퍼층, 위상차층, 광학 보상층, 반사 방지층 또는 하드코팅층 등의 공지의 구성을 적절한 위치에 포함할 수 있다. The optical device may further include any necessary configuration in addition to the above configuration, and for example, a known configuration such as a buffer layer, a retardation layer, an optical compensation layer, an antireflection layer or a hard coating layer may be included in an appropriate position.

본 출원의 상기 광학 디바이스를 제조하는 방법은 특별히 제한되지 않는다. 일 예시에서 상기 광학 디바이스는, 전술한 봉지화를 위해서 오토클레이브 공정을 거쳐 제조될 수 있다. The method of manufacturing the optical device of the present application is not particularly limited. In one example, the optical device may be manufactured through an autoclave process for the aforementioned encapsulation.

예를 들면, 상기 광학 디바이스의 제조 방법은 대향 배치되어 있는 제 1 및 제 2 외곽 기판의 사이에 있는 액정 소자 및/또는 편광자를 접착 필름을 사용한 오토클레이브 공정을 통해 봉지화하는 단계를 포함할 수 있다. For example, the method of manufacturing the optical device may include encapsulating a liquid crystal element and/or a polarizer between the first and second outer substrates disposed opposite to each other through an autoclave process using an adhesive film. there is.

상기 오토클레이브 공정은 외곽 기판의 사이에 목적하는 봉지화 구조에 따라서 접착 필름과 액정 소자 및/또는 편광자를 배치하고, 가열/가압에 의해 수행할 수 있다.The autoclave process may be performed by disposing an adhesive film, a liquid crystal device and/or a polarizer between the outer substrates according to a desired encapsulation structure, and heating/pressurizing.

하나의 예로서, 외곽 기판(20), 접착 필름(40), 액정 소자(10), 접착 필름(40), 편광자(30), 접착 필름(40) 및 외곽 기판(20)을 상기 순서로 배치하고, 액정 소자(10)와 편광자(30)의 측면에도 접착 필름(40)을 배치한 적층체를 오토클레이브 공정으로 가열/가압 처리하면, 도 5에 나타난 것과 같은 광학 디바이스가 형성될 수 있다.As an example, the outer substrate 20 , the adhesive film 40 , the liquid crystal device 10 , the adhesive film 40 , the polarizer 30 , the adhesive film 40 , and the outer substrate 20 are disposed in the above order And, when the laminate in which the adhesive film 40 is disposed on the side surfaces of the liquid crystal element 10 and the polarizer 30 is also heated/pressurized in an autoclave process, an optical device as shown in FIG. 5 can be formed.

상기 오토클레이브 공정의 조건은 특별한 제한이 없고, 예를 들면, 적용된 접착 필름의 종류에 따라 적절한 온도 및 압력 하에서 수행할 수 있다. 통상의 오토클레이트 공정의 온도는 약 80°C 이상, 90°C 이상 또는 약 100°C 이상이며, 압력은 약 2기압 이상이나, 이에 제한되는 것은 아니다. 상기 공정 온도의 상한은 약 200°C 이하, 190°C 이하, 180°C 이하 또는 약 170°C 이하 정도일 수 있고, 공정 압력의 상한은 약 10기압 이하, 9기압 이하, 8기압 이하, 7기압 이하 또는 약 6기압 이하 정도일 수 있다.The conditions of the autoclave process are not particularly limited, and, for example, may be performed under an appropriate temperature and pressure depending on the type of the applied adhesive film. The temperature of a typical autoclaving process is about 80 °C or more, 90 °C or more, or about 100 °C or more, and the pressure is about 2 atmospheres or more, but is not limited thereto. The upper limit of the process temperature may be about 200 °C or less, 190 °C or less, 180 °C or less, or about 170 °C or less, and the upper limit of the process pressure is about 10 atmospheres or less, 9 atmospheres or less, 8 atmospheres or less, 7 It may be below atmospheric pressure or about 6 atmospheres or less.

상기와 같은 광학 디바이스는 다양한 용도로 사용될 수 있으며, 예를 들면, 선글라스나 AR(Argumented Reality) 또는 VR(Virtual Reality)용 아이웨어(eyewear) 등의 아이웨어류, 건물의 외벽이나 차량용 선루프 등에 사용될 수 있다.The optical device as described above may be used for various purposes, and for example, eyewear such as sunglasses or eyewear for AR (Argumented Reality) or VR (Virtual Reality), exterior walls of buildings or sunroofs for vehicles, etc. can be used

하나의 예시에서 상기 광학 디바이스는, 그 자체로서 차량용 선루프일 수 있다.In one example, the optical device may itself be a vehicle sunroof.

예를 들면, 적어도 하나 이상의 개구부가 형성되어 있는 차체를 포함하는 자동차에 있어서 상기 개구부에 장착된 상기 광학 디바이스 또는 차량용 선루프를 장착하여 사용될 수 있다.For example, in a vehicle including a vehicle body in which at least one opening is formed, the optical device or a vehicle sunroof mounted in the opening may be mounted and used.

본 출원은 투과율 가변이 가능하고, 고온과 저온 사이를 변화하는 환경에서 내부 음압(Negative pressure)이 발생되더라도 기포 생성이 저감되어 외관 불량이 개선된 광학 디바이스를 제공할 수 있다. 이러한 광학 디바이스는, 선글라스나 AR(Argumented Reality) 또는 VR(Virtual Reality)용 아이웨어(eyewear) 등의 아이웨어류, 건물의 외벽이나 차량용 선루프 등의 다양한 용도에 사용될 수 있다.According to the present application, it is possible to provide an optical device in which transmittance is variable, and bubble generation is reduced even when an internal negative pressure is generated in an environment that changes between high and low temperatures, thereby improving appearance defects. Such an optical device may be used for various purposes such as sunglasses, eyewear such as AR (Argumented Reality) or VR (Virtual Reality) eyewear, exterior walls of buildings, or sunroofs for vehicles.

도 1 내지 2는 본 출원의 광학 디바이스에 사용될 수 있는 액정 소자의 예시적인 단면도 이다.
도 3 내지 5는 본 출원의 예시적인 광학 디바이스를 나타내는 예시적인 단면도이다.
도 6은 실시예 및 비교예에 따라 제조된 광학 디바이스를 고온 장기 내구성 테스트에 적용한 후에 디지털 카메라를 이용하여 촬영한 이미지이다.
1 to 2 are exemplary cross-sectional views of liquid crystal elements that can be used in the optical device of the present application.
3 to 5 are exemplary cross-sectional views illustrating exemplary optical devices of the present application.
6 is an image taken using a digital camera after applying the optical devices manufactured according to Examples and Comparative Examples to a high-temperature long-term durability test.

이하 실시예 및 비교예를 통하여 본 출원을 구체적으로 설명하지만, 본 출원의 범위가 하기 실시예에 의해 제한되는 것은 아니다.Hereinafter, the present application will be described in detail through Examples and Comparative Examples, but the scope of the present application is not limited by the following Examples.

산소투과율oxygen permeability

산소 투과율은 실시예 및 비교예의 액정 소자 제조에 이용되는 기재층에 대해서, MOCON사의 OX-TRAN를 사용하여 ASTM D 3985 방식에 의해 23℃의 온도 및 0 %의 상대습도에서 측정하였다.The oxygen transmittance was measured at a temperature of 23° C. and a relative humidity of 0% by the ASTM D 3985 method using an OX-TRAN manufactured by MOCON for the base layer used for manufacturing the liquid crystal device of Examples and Comparative Examples.

외관 불량 Visual defects 발생여부Occurrence

외관 불량은 실시예 및 비교예에서 제조된 액정 소자가 Autoclave 공정 이후에 제 1 및 제 2 외곽 기판 사이에 캡슐화 되어 있는 상태에서 측정하였다. 제 1 및 제 2 외곽 기판 사이에 캡슐화 되어 있는 액정 소자를 고온 장기 내구성 테스트(100℃의 온도에서 약 168 시간 유지)에 적용하고, 상온에서 24시간 이상 방치하였을 때 광학 디바이스의 외관에 기포 생성 여부로 광학 디바이스의 외관 불량을 측정 하였다.Appearance defects were measured in a state in which the liquid crystal devices manufactured in Examples and Comparative Examples were encapsulated between the first and second outer substrates after the autoclave process. If the liquid crystal element encapsulated between the first and second outer substrates is subjected to a high-temperature long-term durability test (maintained for about 168 hours at a temperature of 100°C) and left at room temperature for more than 24 hours, whether bubbles are generated on the exterior of the optical device to measure the appearance defect of the optical device.

<평가 기준><Evaluation criteria>

○: 기포 생성○: bubble generation

X: 기포 불생성X: No bubble generation

실시예Example

액정 소자liquid crystal element

제 1 및 제 2 기재층으로 두께가 각각 약 100 ㎛ 내지 약 200 ㎛ 이고 산소투과율이 약 14.6 cm3/m2*day*atm인 폴리에틸렌 테레프타레이트(PET) 필름을 사용하였으며, 제 1 기재층 및 제 2 기재층 상에 각각 ITO(indium-tin-oxide)를 200 nm 두께로 증착하여 도전층을 형성하였다. 상기 도전층 상에 수평 배향막(SE-7492, Nissan chemical 社)을 100 nm 내지 300 nm 두께로 코팅 및 경화하여 제 1 및 제 2 배향막을 형성하였다.A polyethylene terephthalate (PET) film having a thickness of about 100 μm to about 200 μm and an oxygen permeability of about 14.6 cm 3 /m 2 *day*atm was used as the first and second substrate layers, and the first substrate layer and on the second base layer, each indium-tin-oxide (ITO) was deposited to a thickness of 200 nm to form a conductive layer. A horizontal alignment layer (SE-7492, Nissan Chemical) was coated on the conductive layer to a thickness of 100 nm to 300 nm and cured to form first and second alignment layers.

제 1 배향막의 외주에 실란트를 도포하고, 상기 실란트의 내부 영역에 액정(MDA 14-4145, Merck사제)을 도포하고, 제 2 배향막을 합지하여 액정 소자를 제조하였다. 제조된 액정 소자의 면적은 600 mmХ300 mm이고, 셀 갭은 12 ㎛이다.A liquid crystal device was manufactured by applying a sealant to the outer periphery of the first alignment layer, applying liquid crystal (MDA 14-4145, manufactured by Merck) to the inner region of the sealant, and laminating the second alignment layer. The area of the prepared liquid crystal device was 600 mmХ300 mm, and the cell gap was 12 μm.

광학 optics 디바이스device

제 1 외곽 기판, 접착 필름, 상기 액정 소자, 접착 필름 및 제 2 외곽 기판을 상기 순서로 적층하고, 상기 액정 소자의 모든 측면에도 접착 필름을 배치하여 적층체를 제조하였다.(제 1 외곽 기판에 비해서 제 2 외곽 기판이 중력 방향으로 배치)The first outer substrate, the adhesive film, the liquid crystal element, the adhesive film, and the second outer substrate were laminated in the above order, and adhesive films were also placed on all sides of the liquid crystal element to prepare a laminate. (On the first outer substrate In contrast, the second outer substrate is placed in the direction of gravity)

상기 제 1 및 제 2 외곽 기판으로는 두께가 약 3mm 정도인 글라스 기판을 사용하였으며, 곡률 반경이 약 2,470R인 기판(제 1 외곽 기판)과 곡률 반경이 약 2,400R인 기판(제 2 외곽 기판)을 사용하였다. 한편, 접착 필름으로는 열가소성 폴리우레탄 접착 필름(두께: 약 0.38 mm, 제조사: Argotec사, 제품명: ArgoFlex)을 사용하였다.A glass substrate having a thickness of about 3 mm was used as the first and second outer substrates, and a substrate having a radius of curvature of about 2,470R (first outer substrate) and a substrate having a radius of curvature of about 2,400R (second outer substrate) were used. ) was used. Meanwhile, as the adhesive film, a thermoplastic polyurethane adhesive film (thickness: about 0.38 mm, manufacturer: Argotec, product name: ArgoFlex) was used.

상기 적층체를 약 100℃의 온도 및 2 기압 정도의 압력으로 오토클레이브 (Autoclave) 공정을 수행하여 광학 디바이스를 제조하였다.An optical device was manufactured by performing an autoclave process on the laminate at a temperature of about 100° C. and a pressure of about 2 atmospheres.

비교예comparative example

액정 소자의 제 1 및 제 2 기재층으로, 산소투과율이 각각 약 1,048 cm3/m2*day*atm인 폴리카보네이트(PC) 필름을 사용한 것을 제외하고는 실시예와 동일하게 액정 소자 및 광학 디바이스를 제조하였다.As the first and second substrate layers of the liquid crystal element, the liquid crystal element and the optical device are the same as in Example except that polycarbonate (PC) films having an oxygen transmittance of about 1,048 cm 3 /m 2 *day*atm are used, respectively. was prepared.

하기 표 1은 실시예 및 비교예의 액정 소자 제조에 이용되는 기재층에 대한 산소투과율 및 실시예와 비교예에서 제조된 광학 디바이스의 외관 불량 측정 결과이다.Table 1 below shows the oxygen transmittance for the base layer used for manufacturing the liquid crystal device of Examples and Comparative Examples and the measurement results of poor appearance of optical devices prepared in Examples and Comparative Examples.

기재층의 산소투과율
(cm3/m2*day*atm)
Oxygen transmittance of the base layer
(cm 3 /m 2 *day*atm)
광학 디바이스의
외관 불량 발생여부
of optical devices
Whether there is an appearance defect
실시예Example 약 14.6about 14.6 XX 비교예comparative example 약 1,048about 1,048

도 6은, 상기 내구성 테스트 후의 광학 디바이스의 사진으로, 좌측은 실시예의 디바이스 사진이고, 우측은 비교예의 디바이스 사진이다. 실시예의 광학 디바이스는 온도 변화에 따른 내부 음압(Negative pressure)이 발생되더라도 디바이스의 외관에 기포가 생성되지 않아 외관불량 없이 안정적으로 광학 디바이스가 제조된 것을 확인할 수 있고, 이와 대조적으로 비교예의 디바이스는 외관에 기포가 생성되어 외관불량이 발생된 것을 확인할 수 있다.6 is a photograph of the optical device after the durability test, on the left is a photograph of a device of an Example, and on the right is a photograph of a device of a comparative example. In the optical device of the embodiment, it can be confirmed that the optical device is stably manufactured without an appearance defect because bubbles are not generated on the appearance of the device even when an internal negative pressure is generated according to the temperature change. In contrast, the device of the comparative example has an appearance It can be confirmed that the appearance defect has occurred due to the generation of air bubbles.

10: 액정 소자
11a: 제 1 기재층
11b: 제 2 기재층
12: 액정층
13: 도전층
14: 배향막
20: 외곽 기판
30: 편광자
40: 접착 필름
100: 광학 디바이스
10: liquid crystal element
11a: first base layer
11b: second base layer
12: liquid crystal layer
13: conductive layer
14: alignment layer
20: outer substrate
30: polarizer
40: adhesive film
100: optical device

Claims (14)

제 1 및 제 2 외곽 기판;
제 1 및 제 2 외곽 기판 사이에 위치하고, 제 1 기재층, 액정층 및 제 2 기재층이 순차로 적층되는 구조를 가지고, 제 1 기재층 및 제 2 기재층 상에 각각 형성되는 도전층을 포함하는 액정 소자; 및
제 1 외곽 기판과 액정 소자 사이 및 제 2 외곽 기판과 액정 소자 사이에 위치하고, 액정소자를 봉지화하는 접착 필름을 포함하고,
상기 제 1 기재층 및 제 2 기재층 중 하나 이상은 산소투과율(Oxygen transmission rate)이 100 cm3/m2*day*atm 미만이며,
제 1 기재층 및 제 2 기재층은 각각 PET(polyethyleneterephtalate) 필름인 광학 디바이스.
first and second outer substrates;
It is positioned between the first and second outer substrates, has a structure in which a first base layer, a liquid crystal layer, and a second base layer are sequentially stacked, and includes a conductive layer formed on the first base layer and the second base layer, respectively a liquid crystal device; and
An adhesive film positioned between the first outer substrate and the liquid crystal element and between the second outer substrate and the liquid crystal element and encapsulating the liquid crystal element,
At least one of the first base layer and the second base layer has an oxygen transmission rate of less than 100 cm 3 /m 2 *day*atm,
An optical device in which the first base layer and the second base layer are each PET (polyethyleneterephtalate) film.
제 1 항에 있어서, 제 1 기재층 및 제 2 기재층은 각각 산소투과율(Oxygen transmission rate)이 100 cm3/m2*day*atm 미만인 광학 디바이스.The optical device of claim 1 , wherein the first substrate layer and the second substrate layer each have an oxygen transmission rate of less than 100 cm 3 /m 2 *day*atm. 제 1 항에 있어서, 제 1 기재층 및 제 2 기재층은 각각 두께가 10 ㎛ 내지 1,000 ㎛ 인 광학 디바이스.The optical device according to claim 1, wherein the first base layer and the second base layer each have a thickness of 10 μm to 1,000 μm. 제 1 항에 있어서, 제 1 기재층 및 제 2 기재층은 각각 결정화도가 40% 이상인 광학 디바이스.The optical device according to claim 1, wherein the first base layer and the second base layer each have a crystallinity of 40% or more. 삭제delete 제 1 항에 있어서, 상기 액정층은 이색성 염료 게스트를 포함하는 광학 디바이스.The optical device of claim 1 , wherein the liquid crystal layer comprises a dichroic dye guest. 삭제delete 제 1 항에 있어서, 액정 소자는 상기 도전층 상에 형성되는 배향막을 포함하는 광학 디바이스.The optical device according to claim 1, wherein the liquid crystal element includes an alignment film formed on the conductive layer. 제 1 항에 있어서, 상기 액정 소자는 제 1 및 제 2 배향 상태를 스위칭할 수 있는 광학 디바이스.The optical device of claim 1, wherein the liquid crystal element is capable of switching first and second alignment states. 삭제delete 제 1 항에 있어서, 제 1 및 제 2 외곽 기판 사이에 위치하는 편광자를 추가로 포함하는 광학 디바이스.The optical device of claim 1 , further comprising a polarizer positioned between the first and second outer substrates. 삭제delete 제 11 항에 있어서, 제 1 외곽 기판과 액정 소자 사이, 액정 소자와 편광자 사이 및 제 2 외곽 기판과 편광자 사이에 위치하는 접착 필름을 추가로 포함하는 광학 디바이스.The optical device of claim 11 , further comprising an adhesive film positioned between the first outer substrate and the liquid crystal element, between the liquid crystal element and the polarizer, and between the second outer substrate and the polarizer. 하나 이상의 개구부가 형성되어 있는 차체; 및 상기 개구부에 장착된 제 1 항의 광학 디바이스를 포함하는 자동차.a vehicle body in which one or more openings are formed; and the optical device of claim 1 mounted in the opening.
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