KR102382465B1 - Display apparatus - Google Patents

Display apparatus Download PDF

Info

Publication number
KR102382465B1
KR102382465B1 KR1020200157967A KR20200157967A KR102382465B1 KR 102382465 B1 KR102382465 B1 KR 102382465B1 KR 1020200157967 A KR1020200157967 A KR 1020200157967A KR 20200157967 A KR20200157967 A KR 20200157967A KR 102382465 B1 KR102382465 B1 KR 102382465B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
wiring
disposed
width
layer
protrusion
Prior art date
Application number
KR1020200157967A
Other languages
Korean (ko)
Other versions
KR20200135910A (en
Inventor
안치욱
김미영
김종석
방기호
Original Assignee
삼성디스플레이 주식회사
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Priority claimed from KR1020200055215A external-priority patent/KR102184505B1/en
Application filed by 삼성디스플레이 주식회사 filed Critical 삼성디스플레이 주식회사
Priority to KR1020200157967A priority Critical patent/KR102382465B1/en
Publication of KR20200135910A publication Critical patent/KR20200135910A/en
Priority to KR1020220039585A priority patent/KR102494044B1/en
Application granted granted Critical
Publication of KR102382465B1 publication Critical patent/KR102382465B1/en
Priority to KR1020230009555A priority patent/KR102559081B1/en

Links

Images

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10KORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K59/00Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one organic light-emitting element covered by group H10K50/00
    • H10K59/40OLEDs integrated with touch screens
    • H01L27/323
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L27/00Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate
    • H01L27/02Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having at least one potential-jump barrier or surface barrier; including integrated passive circuit elements with at least one potential-jump barrier or surface barrier
    • H01L27/12Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having at least one potential-jump barrier or surface barrier; including integrated passive circuit elements with at least one potential-jump barrier or surface barrier the substrate being other than a semiconductor body, e.g. an insulating body
    • H01L27/1214Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having at least one potential-jump barrier or surface barrier; including integrated passive circuit elements with at least one potential-jump barrier or surface barrier the substrate being other than a semiconductor body, e.g. an insulating body comprising a plurality of TFTs formed on a non-semiconducting substrate, e.g. driving circuits for AMLCDs
    • H01L27/124Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having at least one potential-jump barrier or surface barrier; including integrated passive circuit elements with at least one potential-jump barrier or surface barrier the substrate being other than a semiconductor body, e.g. an insulating body comprising a plurality of TFTs formed on a non-semiconducting substrate, e.g. driving circuits for AMLCDs with a particular composition, shape or layout of the wiring layers specially adapted to the circuit arrangement, e.g. scanning lines in LCD pixel circuits
    • H01L27/1244Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having at least one potential-jump barrier or surface barrier; including integrated passive circuit elements with at least one potential-jump barrier or surface barrier the substrate being other than a semiconductor body, e.g. an insulating body comprising a plurality of TFTs formed on a non-semiconducting substrate, e.g. driving circuits for AMLCDs with a particular composition, shape or layout of the wiring layers specially adapted to the circuit arrangement, e.g. scanning lines in LCD pixel circuits for preventing breakage, peeling or short circuiting
    • H01L27/3276
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10KORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K59/00Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one organic light-emitting element covered by group H10K50/00
    • H10K59/10OLED displays
    • H10K59/12Active-matrix OLED [AMOLED] displays
    • H10K59/131Interconnections, e.g. wiring lines or terminals
    • H01L2251/558
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10KORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K2102/00Constructional details relating to the organic devices covered by this subclass
    • H10K2102/301Details of OLEDs
    • H10K2102/351Thickness

Abstract

표시 장치는 유기발광 표시 패널 및 유기발광 표시 패널 상에 배치된 터치감지유닛을 포함하고, 터치감지유닛은 터치전극 및 터치전극에 연결된 배선부를 포함한다. 터치감지유닛의 배선부는 유기발광 표시 패널의 비표시 영역에 배치된 돌출부재를 지나고, 평면상에서 돌출부재에 비중첩하는 제1 배선부, 돌출부재에 중첩하는 제2 배선부 및 제1 배선부 및 제2 배선부 사이에 배치되고 제1 배선부 및 제2 배선부에 비하여 작은 배선폭을 갖는 연결 배선부가 돌출부재의 엣지와 중첩하도록 하여 배선부 사이의 쇼트 불량을 개선할 수 있다.The display device includes an organic light emitting display panel and a touch sensing unit disposed on the organic light emitting display panel, and the touch sensing unit includes a touch electrode and a wiring unit connected to the touch electrode. The wiring part of the touch sensing unit passes through the protruding member disposed in the non-display area of the organic light emitting display panel, and includes a first wiring part that does not overlap the protruding member on a plan view, a second wiring part and a first wiring part overlapping the protruding member, and A short circuit defect between the wiring parts may be improved by making the connection wiring part disposed between the second wiring parts and having a wiring width smaller than that of the first wiring part and the second wiring part overlap the edge of the protruding member.

Description

표시 장치{DISPLAY APPARATUS}display device {DISPLAY APPARATUS}

본 발명은 표시 장치에 대한 발명으로, 보다 상세하게는 터치감지유닛의 배선부 불량을 개선한 표시 장치에 관한 것이다.The present invention relates to a display device, and more particularly, to a display device in which a wiring part defect of a touch sensing unit is improved.

텔레비전, 휴대 전화, 태블릿 컴퓨터, 네비게이션, 게임기 등과 같은 멀티 미디어 장치에 사용되는 다양한 표시 장치들이 개발되고 있다. 표시 장치들의 입력장치로써 키보드 또는 마우스 등을 포함한다. 또한, 최근에 표시 장치들은 입력장치로써 터치감지유닛을 구비한다.Various display devices used in multimedia devices such as televisions, mobile phones, tablet computers, navigation devices, and game machines have been developed. An input device of the display devices includes a keyboard or a mouse. Also, recently, display devices have a touch sensing unit as an input device.

본 발명의 목적은 터치감지유닛에서 이웃하는 배선부들 사이에 발생하는 쇼트 불량을 개선하기 위한 개선된 배선부 구조를 갖는 표시 장치를 제공하는 것을 목적으로 한다.SUMMARY OF THE INVENTION It is an object of the present invention to provide a display device having an improved wiring part structure for improving a short circuit occurring between adjacent wiring parts in a touch sensing unit.

일 실시예는 표시 영역 및 상기 표시 영역에 인접한 비표시 영역으로 구분되는 베이스 기판; 상기 베이스 기판 상에 배치된 회로층; 상기 표시 영역 상에 배치된 발광 소자층; 상기 발광 소자층을 커버하는 봉지층; 상기 봉지층 상에 배치되고 터치전극 및 상기 터치전극에 연결된 배선부를 포함하는 터치감지유닛; 및 상기 비표시 영역 상에 배치된 돌출부재; 를 포함하는 표시 장치를 제공한다. 일 실시예에서 상기 배선부는 평면상에서, 상기 돌출부재에 비중첩하고 제1 배선폭을 갖는 제1 배선부; 상기 돌출부재에 중첩하고 제2 배선폭을 갖는 제2 배선부; 및 상기 제1 배선폭 및 상기 제2 배선폭 보다 작은 제3 배선폭을 갖고, 상기 제1 배선부 및 상기 제2 배선부 사이에 배치된 연결 배선부; 를 포함하고, 상기 제1 배선폭 내지 상기 제3 배선폭은 상기 배선부의 연장 방향에 수직하는 방향으로의 폭이며, 상기 연결 배선부는 상기 돌출부재의 엣지와 중첩하는 것일 수 있다.In one embodiment, a base substrate divided into a display area and a non-display area adjacent to the display area; a circuit layer disposed on the base substrate; a light emitting device layer disposed on the display area; an encapsulation layer covering the light emitting device layer; a touch sensing unit disposed on the encapsulation layer and including a touch electrode and a wiring unit connected to the touch electrode; and a protrusion member disposed on the non-display area. It provides a display device comprising a. In an embodiment, the wiring unit may include, in a plan view, a first wiring unit that does not overlap the protruding member and has a first wiring width; a second wiring part overlapping the protruding member and having a second wiring width; and a connection wiring unit having a third wiring width smaller than the first wiring width and the second wiring width and disposed between the first wiring unit and the second wiring unit; The first wiring width to the third wiring width may be a width in a direction perpendicular to an extension direction of the wiring part, and the connection wiring part may overlap an edge of the protruding member.

상기 제1 배선폭과 상기 제3 배선폭의 비는 1:0.3 이상 1:1 미만일 수 있다.A ratio of the first interconnection width to the third interconnection width may be 1:0.3 or more and less than 1:1.

상기 배선부의 연장 방향으로의 상기 연결 배선부의 길이는 5㎛ 이상 50㎛ 이하일 수있다.A length of the connection wiring part in the extending direction of the wiring part may be 5 μm or more and 50 μm or less.

상기 연결 배선부는 상기 제1 배선폭 보다 작은 배선폭을 갖는 제1 서브 연결부; 상기 제1 배선부와 상기 제1 서브 연결부 사이에 배치되는 제2 서브 연결부; 및 상기 제2 배선부와 상기 제1 서브 연결부 사이에 배치되는 제3 서브 연결부; 를 포함하고, 상기 제1 서브 연결부가 상기 돌출부재의 엣지와 중첩하는 것일 수 있다.The connection wiring unit may include: a first sub connection unit having a wiring width smaller than the first wiring width; a second sub connection part disposed between the first wiring part and the first sub connection part; and a third sub connection part disposed between the second wiring part and the first sub connection part; Including, the first sub-connection portion may be overlapping the edge of the protruding member.

상기 제2 서브 연결부의 배선폭은 상기 제1 배선부 방향으로 갈수록 커지고, 상기 제3 서브 연결부의 배선폭은 상기 제2 배선부 방향으로 갈수록 커질 수 있다.A wiring width of the second sub-connection unit may increase in a direction toward the first wiring unit, and a wiring width of the third sub-connection unit may increase in a direction toward the second wiring unit.

상기 제1 배선폭과 상기 제2 배선폭은 동일할 수 있다.The first wiring width and the second wiring width may be the same.

상기 제2 배선부는 상기 제1 배선폭 보다 큰 제1 서브 배선폭을 갖는 제1 서브 배선부; 상기 연결 배선부에서 연장되고, 상기 제1 서브 배선폭 보다 작은 제2 서브 배선폭을 갖는 제2 서브 배선부; 상기 제1 서브 배선부 및 상기 제2 서브 배선부 사이에 배치된 제3 서브 배선부; 를 포함하는 것일 수 있다.The second wiring unit may include: a first sub wiring unit having a first sub wiring width greater than the first wiring width; a second sub wiring part extending from the connection wiring part and having a second sub wiring width smaller than the first sub wiring width; a third sub wiring unit disposed between the first sub wiring unit and the second sub wiring unit; may include.

상기 제3 서브 배선부의 배선폭은 상기 제2 서브 배선부 방향으로 갈수록 작아질 수있다.A wiring width of the third sub wiring unit may decrease toward the second sub wiring unit.

상기 제2 서브 배선폭과 상기 제1 서브 배선폭의 비는 1:1 초과 1:2 이하일 수 있다.A ratio of the second sub-wiring width to the first sub-wiring width may be greater than 1:1 and less than or equal to 1:2.

상기 돌출부재는 바닥면, 상기 바닥면에 대향하는 상부면 및 상기 바닥면과 상기 상부면을 연결하는 측면을 포함하고, 상기 측면은 상기 바닥면에 대하여 경사를 가지며, 상기 바닥면의 면적이 상기 상부면 면적 이상일 수 있다.The protrusion member includes a bottom surface, an upper surface opposite to the bottom surface, and a side surface connecting the bottom surface and the upper surface, the side surface having an inclination with respect to the bottom surface, the area of the bottom surface is the It may be greater than or equal to the upper surface area.

상기 돌출부재는 상기 베이스 기판에 수직하는 단면에서, 제1 폭을 갖는 하부 돌출부; 및 상기 하부 돌출부 상에 배치되고 상기 제1 폭 이하의 제2 폭을 갖는 상부 돌출부; 를 포함하고 상기 제1 폭과 상기 제2 폭은 상기 배선부의 연장 방향에 수직하는 방향으로의 폭일 수 있다.The protrusion member may include a lower protrusion having a first width in a cross-section perpendicular to the base substrate; and an upper protrusion disposed on the lower protrusion and having a second width equal to or less than the first width. and the first width and the second width may be a width in a direction perpendicular to an extension direction of the wiring part.

상기 제1 폭과 상기 제2 폭의 비는 1:0.3 이상 1:1 미만일 수 있다.A ratio of the first width to the second width may be 1:0.3 or more and less than 1:1.

상기 제2 배선부는 상기 상부 돌출부와 중첩할 수 있다.The second wiring part may overlap the upper protrusion part.

상기 연결 배선부는 상기 제1 배선폭 보다 작은 배선폭을 갖는 제1 서브 연결부; 상기 제1 배선부와 상기 제1 서브 연결부 사이에 배치되는 제2 서브 연결부; 및 상기 제2 배선부와 상기 제1 서브 연결부 사이에 배치되는 제3 서브 연결부; 를 포함하고, 상기 제1 서브 연결부는 상기 하부 돌출부의 엣지와 중첩하고, 상기 제3 서브 연결부는 상기 상부 돌출부의 엣지와 중첩할 수 있다.The connection wiring unit may include: a first sub connection unit having a wiring width smaller than the first wiring width; a second sub connection part disposed between the first wiring part and the first sub connection part; and a third sub connection part disposed between the second wiring part and the first sub connection part; may include, wherein the first sub-connection part overlaps an edge of the lower protrusion, and the third sub-connection part overlaps an edge of the upper protrusion.

상기 상부 돌출부 및 상기 하부 돌출부 각각은 바닥면, 상기 바닥면에 대향하는 상부면, 상기 바닥면과 상기 상부면 사이에 배치되는 측면을 포함하고, 상기 측면은 상기 바닥면에 대하여 경사를 가질 수 있다.Each of the upper protrusion and the lower protrusion may include a bottom surface, an upper surface opposite to the bottom surface, and a side surface disposed between the bottom surface and the upper surface, and the side surface may have an inclination with respect to the bottom surface. .

상기 상부 돌출부와 중첩하지 않는 상기 하부 돌출부 상부면 일측의 노출폭은 5㎛ 이상 30㎛ 이하일 수 있다.An exposure width of one side of the upper surface of the lower protrusion that does not overlap the upper protrusion may be 5 μm or more and 30 μm or less.

상기 제1 폭과 상기 노출폭의 비는 1:0.01 이상 1:0.4 이하일 수 있다.A ratio of the first width to the exposure width may be 1:0.01 or more and 1:0.4 or less.

상기 하부 돌출부 높이와 상기 노출폭의 비는 1:1 초과 1:15 이하일 수 있다.A ratio of the height of the lower protrusion to the exposure width may be greater than 1:1 and less than or equal to 1:15.

상기 돌출부재는 표시 영역에 인접한 제1 돌출부재; 및 상기 제1 돌출부재의 외곽에 배치되고, 상기 제1 돌출부재 이상의 높이를 갖는 제2 돌출부재; 를 포함할 수 있다.The protrusion member may include a first protrusion member adjacent to the display area; and a second protruding member disposed outside the first protruding member and having a height greater than or equal to the first protruding member; may include

상기 제1 돌출부재는 두께 방향으로 적층된 제1 하부 돌출부 및 제1 상부 돌출부를 포함하고, 상기 제2 배선부는 상기 제1 상부 돌출부에 중첩할 수 있다.The first protrusion member may include a first lower protrusion and a first upper protrusion stacked in a thickness direction, and the second wiring portion may overlap the first upper protrusion.

상기 제2 돌출부재는 두께 방향으로 순서대로 적층된 베이스 돌출부, 제2 하부 돌출부 및 제2 상부 돌출부를 포함하고, 상기 베이스 돌출부는 제1 폭을 갖고, 상기 제2 하부 돌출부는 제1 폭 이상의 제2 폭을 가지며, 상기 제2 상부 돌출부는 상기 제2 폭 이상의 제3 폭을 가지며, 상기 제1 폭 내지 상기 제3 폭은 상기 배선부의 연장 방향에 수직하는 방향으로의 폭일 수 있다.The second protrusion includes a base protrusion, a second lower protrusion, and a second upper protrusion stacked in order in a thickness direction, the base protrusion having a first width, and the second lower protrusion having a first width greater than or equal to the first width. It may have two widths, the second upper protrusion may have a third width equal to or greater than the second width, and the first to third widths may be a width in a direction perpendicular to an extension direction of the wiring unit.

상기 제2 돌출부재에 중첩하는 상기 제2 배선부는, 상기 제1 배선폭 보다 큰 제1 서브 배선폭을 갖는 제1 서브 배선부; 상기 연결 배선부에서 연장되고, 상기 제1 서브 배선폭 보다 작은 제2 배선폭을 갖는 제2 서브 배선부; 및 상기 제1 서브 배선부 및 상기 제2 서브 배선부 사이에 배치되고, 제2 서브 배선부 방향으로 갈수록 배선폭이 작아지는 제3 서브 배선부; 를 포함할 수 있다.The second wiring unit overlapping the second protruding member may include: a first sub wiring unit having a first sub wiring width greater than the first wiring width; a second sub wiring part extending from the connection wiring part and having a second wiring width smaller than the first sub wiring width; and a third sub-wiring part disposed between the first sub-wiring part and the second sub-wiring part and having a wiring width that decreases toward the second sub-wiring part. may include

상기 제1 서브 배선부는 상기 제2 상부 돌출부에 중첩할 수 있다.The first sub wiring part may overlap the second upper protrusion part.

상기 제3 서브 배선부는 상기 제2 상부 돌출부의 엣지에 중첩할 수 있다.The third sub wiring part may overlap an edge of the second upper protrusion part.

상기 배선부는 제1 금속층; 상기 제1 금속층 상에 배치된 절연층; 상기 절연층 상에 배치된 제2 금속층; 및 상기 제1 금속층과 상기 제2 금속층 사이에 배치된 복수의 컨택홀들; 을 포함할 수 있다.The wiring unit includes a first metal layer; an insulating layer disposed on the first metal layer; a second metal layer disposed on the insulating layer; and a plurality of contact holes disposed between the first metal layer and the second metal layer. may include

상기 복수의 컨택홀들은 상기 연결 배선부와 비중첩할 수 있다.The plurality of contact holes may not overlap the connection wiring unit.

일 실시예의 표시 장치는 돌출부재의 엣지에 중첩하는 배선부의 폭을 돌출부재에 비중첩하는 부분에서의 배선부의 폭 보다 작게 하여 배선 형성 시 이웃하는 배선부 사이의 쇼트불량을 방지할 수 있다.In the display device according to an exemplary embodiment, the width of the wiring portion overlapping the edge of the protruding member may be smaller than the width of the wiring portion at the portion that does not overlap the protruding member, thereby preventing a short circuit between adjacent wiring portions during wiring formation.

도 1a는 본 발명의 일 실시예에 따른 표시 장치의 제1 동작에 따른 사시도이다.
도 1b는 본 발명의 일 실시예에 따른 표시 장치의 제2 동작에 따른 사시도이다.
도 1c는 본 발명의 일 실시예에 따른 표시 장치의 제3 동작에 따른 사시도이다.
도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 표시 장치의 단면도이다.
도 3a 및 3b는 본 발명의 일 실시예에 따른 표시 장치의 사시도들이다.
도 4a 및 도 4b는 본 발명의 일 실시예에 따른 표시 장치의 사시도들이다.
도 5a는 본 발명의 일 실시예에 따른 유기발광 표시패널의 평면도이다.
도 5b는 본 발명의 일 실시예에 따른 표시모듈의 단면도이다.
도 6a는 본 발명의 일 실시예에 따른 화소의 등가회로도이다.
도 6b는 본 발명의 일 실시예에 따른 유기발광 표시패널의 부분 단면도이다.
도 6c는 본 발명의 일 실시예에 따른 유기발광 표시패널의 부분 단면도이다.
도 7a 내지 도 7c는 본 발명의 일 실시예에 따른 봉지층의 단면도이다.
도 8은 본 발명의 일 실시예에 따른 터치감지유닛의 단면을 나타낸 도면이다.
도 9는 본 발명의 일 실시예에 따른 표시 장치의 평면도이다.
도 10a 내지 도 10c는 본 발명의 일 실시예에 따른 터치감지유닛의 평면도이다.
도 10d는 도 10c의 BB영역의 부분 확대도이다.
도 11은 도 9의 I-I`영역을 절단한 단면도이다.
도 12는 도 9의 AA영역을 확대하여 나타낸 평면도이다.
도 13a는 도 12의 II-II`영역을 절단한 단면도이다.
도 13b는 도 12의 CC영역의 부분 확대도이다.
도 14a는 도 12의 II-II`영역을 절단한 단면도이다.
도 14b는 도 12의 CC영역의 부분 확대도이다.
도 14c는 본 발명의 일 실시예에 따른 돌출부재를 나타낸 단면도이다.
도 15a 내지 도 15b는 연결 배선부를 포함하는 배선부의 일 실시예들을 나타낸 평면도이다.
도 16은 도 9의 AA영역을 확대하여 나타낸 평면도이다.
도 17a는 도 16의 Ⅲ-Ⅲ' 영역을 절단한 단면도이다.
도 17b는 도 16의 EE영역을 확대하여 나타낸 평면도이다.
도 18a는 도 9의 AA영역을 확대하여 나타낸 평면도이다.
도 18b는 도 18a의 Ⅳ-Ⅳ' 영역을 절단한 단면도이다.
도 19a는 도 12의 II-II`영역을 절단한 단면도이다.
도 19b는 도 12의 CC영역의 부분 확대도이다.
도 20은 일 실시예의 표시 장치의 제조 공정 중 포토 공정을 개략적으로 나타낸 단면도이다.
도 21a는 종래의 배선부를 제조하는 마스크를 사용한 경우를 예시적으로 나타낸 평면도이다.
도 21b는 종래의 배선부의 구조를 나타낸 평면도이다.
도 22 및 도 23은 일 실시예의 표시 장치에서 배선부를 제조하기 위한 마스크의 배치를 나타낸 평면도이다.
1A is a perspective view illustrating a first operation of a display device according to an exemplary embodiment.
1B is a perspective view illustrating a second operation of a display device according to an exemplary embodiment.
1C is a perspective view illustrating a third operation of a display device according to an exemplary embodiment.
2 is a cross-sectional view of a display device according to an exemplary embodiment.
3A and 3B are perspective views of a display device according to an exemplary embodiment.
4A and 4B are perspective views of a display device according to an exemplary embodiment.
5A is a plan view of an organic light emitting display panel according to an exemplary embodiment.
5B is a cross-sectional view of a display module according to an embodiment of the present invention.
6A is an equivalent circuit diagram of a pixel according to an embodiment of the present invention.
6B is a partial cross-sectional view of an organic light emitting display panel according to an exemplary embodiment.
6C is a partial cross-sectional view of an organic light emitting display panel according to an exemplary embodiment.
7A to 7C are cross-sectional views of an encapsulation layer according to an embodiment of the present invention.
8 is a view showing a cross-section of a touch sensing unit according to an embodiment of the present invention.
9 is a plan view of a display device according to an exemplary embodiment.
10A to 10C are plan views of a touch sensing unit according to an embodiment of the present invention.
FIG. 10D is a partially enlarged view of region BB of FIG. 10C .
11 is a cross-sectional view taken along region II′ of FIG. 9 .
12 is a plan view showing an enlarged area AA of FIG. 9 .
13A is a cross-sectional view taken along region II-II′ of FIG. 12 .
13B is a partially enlarged view of a CC region of FIG. 12 .
14A is a cross-sectional view taken along a region II-II′ of FIG. 12 .
14B is a partially enlarged view of a CC region of FIG. 12 .
14C is a cross-sectional view illustrating a protruding member according to an embodiment of the present invention.
15A to 15B are plan views illustrating exemplary embodiments of a wiring unit including a connection wiring unit.
16 is a plan view showing an enlarged area AA of FIG. 9 .
17A is a cross-sectional view taken along region III-III' of FIG. 16 .
17B is a plan view showing an enlarged area EE of FIG. 16 .
18A is a plan view showing an enlarged area AA of FIG. 9 .
18B is a cross-sectional view taken along region IV-IV' of FIG. 18A.
19A is a cross-sectional view taken along region II-II′ of FIG. 12 .
19B is a partially enlarged view of a CC region of FIG. 12 .
20 is a cross-sectional view schematically illustrating a photo process during a manufacturing process of a display device according to an exemplary embodiment.
21A is a plan view exemplarily illustrating a case in which a mask for manufacturing a wiring part according to the related art is used.
21B is a plan view showing the structure of a conventional wiring unit.
22 and 23 are plan views illustrating an arrangement of a mask for manufacturing a wiring unit in a display device according to an exemplary embodiment.

본 발명은 다양한 변경을 가할 수 있고 여러 가지 형태를 가질 수 있는 바, 특정 실시예들을 도면에 예시하고 본문에 상세하게 설명하고자 한다. 그러나, 이는 본 발명을 특정한 개시 형태에 대해 한정하려는 것이 아니며, 본 발명의 사상 및 기술 범위에 포함되는 모든 변경, 균등물 내지 대체물을 포함하는 것으로 이해되어야 한다.Since the present invention can have various changes and can have various forms, specific embodiments are illustrated in the drawings and described in detail in the text. However, this is not intended to limit the present invention to the specific disclosed form, it should be understood to include all modifications, equivalents and substitutes included in the spirit and scope of the present invention.

각 도면을 설명하면서 유사한 참조부호를 유사한 구성요소에 대해 사용하였다. 첨부된 도면에 있어서, 구조물들의 치수는 본 발명의 명확성을 위하여 실제보다 확대하여 도시한 것이다. 제1, 제2 등의 용어는 다양한 구성요소들을 설명하는데 사용될 수 있지만, 상기 구성요소들은 상기 용어들에 의해 한정되어서는 안 된다. 상기 용어들은 하나의 구성요소를 다른 구성요소로부터 구별하는 목적으로만 사용된다. 예를 들어, 본 발명의 권리 범위를 벗어나지 않으면서 제1 구성요소는 제2 구성요소로 명명될 수 있고, 유사하게 제2 구성요소도 제1 구성요소로 명명될 수 있다. 단수의 표현은 문맥상 명백하게 다르게 뜻하지 않는 한, 복수의 표현을 포함한다.In describing each figure, like reference numerals have been used for like elements. In the accompanying drawings, the dimensions of the structures are enlarged than the actual size for clarity of the present invention. Terms such as first, second, etc. may be used to describe various elements, but the elements should not be limited by the terms. The above terms are used only for the purpose of distinguishing one component from another. For example, without departing from the scope of the present invention, a first component may be referred to as a second component, and similarly, a second component may also be referred to as a first component. The singular expression includes the plural expression unless the context clearly dictates otherwise.

본 출원에서, "포함하다" 또는 "가지다" 등의 용어는 명세서 상에 기재된 특징, 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부품 또는 이들을 조합한 것이 존재함을 지정하려는 것이지, 하나 또는 그 이상의 다른 특징들이나 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부분품 또는 이들을 조합한 것들의 존재 또는 부가 가능성을 미리 배제하지 않는 것으로 이해되어야 한다. 또한, 층, 막, 영역, 판 등의 부분이 다른 부분 "상에" 있다고 할 경우, 이는 다른 부분 "바로 위에" 있는 경우뿐만 아니라 그 중간에 또 다른 부분이 있는 경우도 포함한다. 반대로 층, 막, 영역, 판 등의 부분이 다른 부분 "하에" 있다고 할 경우, 이는 다른 부분 "바로 아래에" 있는 경우뿐만 아니라 그 중간에 또 다른 부분이 있는 경우도 포함한다. 또한, 본 출원에서 "상에" 배치된다고 하는 것은 상부뿐 아니라 하부에 배치되는 경우도 포함하는 것일 수 있다.In the present application, terms such as “comprise” or “have” are intended to designate that a feature, number, step, operation, component, part, or combination thereof described in the specification exists, but one or more other features It is to be understood that it does not preclude the possibility of the presence or addition of numbers, steps, operations, components, parts, or combinations thereof. Also, when a part of a layer, film, region, plate, etc. is said to be "on" another part, this includes not only the case where it is "on" another part, but also the case where there is another part in between. Conversely, when a part of a layer, film, region, plate, etc. is said to be “under” another part, it includes not only cases where it is “directly under” another part, but also cases where another part is in between. In addition, in the present application, “on” may include the case of being disposed not only on the upper part but also on the lower part.

이하, 도면들을 참조하여 본 발명의 일 실시예에 따른 표시 장치에 대하여 설명한다.Hereinafter, a display device according to an embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings.

도 1a는 본 발명의 일 실시예에 따른 표시 장치(DD)의 제1 동작에 따른 사시도이다. 도 1b는 본 발명의 일 실시예에 따른 표시 장치(DD)의 제2 동작에 따른 사시도이다. 도 1c는 본 발명의 일 실시예에 따른 표시 장치(DD)의 제3 동작에 따른 사시도이다. 1A is a perspective view illustrating a first operation of a display device DD according to an exemplary embodiment. 1B is a perspective view illustrating a second operation of the display device DD according to an exemplary embodiment. 1C is a perspective view illustrating a third operation of the display device DD according to an exemplary embodiment.

도 1a에 도시된 것과 같이 제1 동작 모드에서, 이미지(IM)가 표시되는 표시면(IS)은 제1 방향(DR1)과 제2 방향(DR2)이 정의하는 면과 평행하다. 표시면(IS)의 법선 방향, 즉 표시 장치(DD)의 두께 방향은 제3 방향(DR3)이 지시한다. 각 부재들의 전면(또는 상면)과 배면(또는 하면)은 제3 방향(DR3)에 의해 구분된다. 그러나, 제1 내지 제3 방향들(DR1, DR2, DR3)이 지시하는 방향은 상대적인 개념으로서 다른 방향으로 변환될 수 있다. 이하, 제1 내지 제3 방향들은 제1 내지 제3 방향들(DR1, DR2, DR3)이 각각 지시하는 방향으로 동일한 도면 부호를 참조한다. As illustrated in FIG. 1A , in the first operation mode, the display surface IS on which the image IM is displayed is parallel to a surface defined by the first direction DR1 and the second direction DR2 . The third direction DR3 indicates the normal direction of the display surface IS, that is, the thickness direction of the display device DD. A front surface (or an upper surface) and a rear surface (or a lower surface) of each member are divided by the third direction DR3 . However, the directions indicated by the first to third directions DR1 , DR2 , and DR3 may be converted into other directions as a relative concept. Hereinafter, the first to third directions refer to the same reference numerals as directions indicated by the first to third directions DR1 , DR2 , and DR3 , respectively.

도 1a 내지 도 1c는 표시 장치(DD)의 일례로 플렉서블한 폴더블 표시 장치를 도시하였다. 그러나, 본 발명은 말려지는 롤러블 표시 장치 또는 벤디드 표시 장치일 수 있고, 특별히 제한되지 않는다. 또한, 본 실시예에서 플렉서블 표시 장치를 도시하였으나, 본 발명은 이에 제한되지 않는다. 본 실시예에 따른 표시 장치(DD)는 플랫한 리지드 표시 장치일 수도 있고, 휘어진 리지드 표시 장치일 수도 있다. 본 발명에 따른 표시 장치(DD)는 텔레비전, 모니터 등과 같은 대형 전자장치를 비롯하여, 휴대 전화, 태블릿, 자동차 네비게이션, 게임기, 스마트 와치 등과 같은 중소형 전자장치 등에 사용될 수 있다. 1A to 1C illustrate a flexible foldable display device as an example of the display device DD. However, the present invention may be a rollable display device or a bent display device that is rolled, and is not particularly limited. Also, although the flexible display device is illustrated in the present embodiment, the present invention is not limited thereto. The display device DD according to the present exemplary embodiment may be a flat rigid display device or a curved rigid display device. The display device DD according to the present invention may be used in large electronic devices such as televisions and monitors, as well as small and medium-sized electronic devices such as mobile phones, tablets, car navigation systems, game machines, and smart watches.

도 1a에 도시된 것과 같이, 표시 장치(DD)의 표시면(IS)은 복수 개의 영역들을 포함할 수 있다. 표시 장치(DD)는 이미지(IM)가 표시되는 표시 영역(DD-DA) 및 표시 영역(DD-DA)에 인접한 비표시 영역(DD-NDA)을 포함한다. 비표시 영역(DD-NDA)은 이미지가 표시되지 않는 영역이다. 도 1a에는 이미지(IM)의 일 예로 화병을 도시하였다. 일 예로써, 표시 영역(DD-DA)은 사각형상일 수 있다. 비표시 영역(DD-NDA)은 표시 영역(DD-DA)을 둘러쌀 수 있다. 다만, 이에 제한되지 않고, 표시 영역(DD-DA)의 형상과 비표시 영역(DD-NDA)의 형상은 상대적으로 디자인될 수 있다. 1A , the display surface IS of the display device DD may include a plurality of regions. The display device DD includes a display area DD-DA in which an image IM is displayed and a non-display area DD-NDA adjacent to the display area DD-DA. The non-display area DD-NDA is an area in which an image is not displayed. 1A shows a vase as an example of the image IM. As an example, the display area DD-DA may have a rectangular shape. The non-display area DD-NDA may surround the display area DD-DA. However, the present invention is not limited thereto, and the shape of the display area DD-DA and the shape of the non-display area DD-NDA may be designed relatively.

도 1a 내지 도 1c에 도시된 것과 같이, 표시 장치(DD)는 동작 형태에 따라 정의되는 복수 개의 영역들을 포함할 수 있다. 표시 장치(DD)는 벤딩축(BX)에 기초하여(on the basis of) 벤딩되는 벤딩영역(BA), 비벤딩되는 제1 비벤딩영역(NBA1), 및 제2 비벤딩영역(NBA2)을 포함할 수 있다. 1A to 1C , the display device DD may include a plurality of regions defined according to an operation type. The display device DD includes the bending area BA, the first non-bending area NBA1, and the second non-bending area NBA2 that are bent on the basis of the bending axis BX. may include

도 1b에 도시된 것과 같이, 표시 장치(DD)는 제1 비벤딩영역(NBA1)의 표시면(IS)과 제2 비벤딩영역(NBA2)의 표시면(IS)이 마주하도록 내측 벤딩(inner-bending)될 수 있다. 도 1c에 도시된 것과 같이, 표시 장치(DD)는 표시면(IS)이 외부에 노출되도록 외측 벤딩(outer-bending)될 수도 있다. As illustrated in FIG. 1B , the display device DD is inner bent so that the display surface IS of the first non-bending area NBA1 and the display surface IS of the second non-bending area NBA2 face each other. -bending). As illustrated in FIG. 1C , the display device DD may be outer-bending so that the display surface IS is exposed to the outside.

도 1a 내지 도 1c에서는 하나의 벤딩영역(BA) 만을 도시하였으나, 이에 제한되는 것은 아니다. 예컨대, 본 발명의 일 실시예에서 표시 장치(DD)는 복수 개의 벤딩영역(BA)을 포함할 수 있다. Although only one bending area BA is illustrated in FIGS. 1A to 1C , the present invention is not limited thereto. For example, in an embodiment of the present invention, the display device DD may include a plurality of bending areas BA.

본 발명의 일 실시예에서 표시 장치(DD)는 도 1a 및 도 1b에 도시된 동작 모드만 반복되도록 구성될 수 있다. 하지만, 이에 제한되는 것은 아니고, 사용자가 표시 장치(DD)를 조작하는 형태에 대응하게 벤딩영역(BA)이 정의될 수 있다. 예컨대, 벤딩영역(BA)은 도 1b 및 도 1c와 달리 제1 방향(DR1)에 평행하게 정의될 수 있고, 대각선 방향으로 정의될 수도 있다. 벤딩영역(BA)의 면적은 고정되지 않고, 곡률반경에 따라 결정될 수 있다. In an embodiment of the present invention, the display device DD may be configured to repeat only the operation modes illustrated in FIGS. 1A and 1B . However, the present invention is not limited thereto, and the bending area BA may be defined to correspond to a shape in which the user manipulates the display device DD. For example, unlike FIGS. 1B and 1C , the bending area BA may be defined in parallel to the first direction DR1 or may be defined in a diagonal direction. The area of the bending area BA is not fixed and may be determined according to a radius of curvature.

도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 표시 장치(DD)의 단면도이다. 도 2는 제2 방향(DR2)과 제3 방향(DR3)이 정의하는 단면을 도시하였다.2 is a cross-sectional view of a display device DD according to an exemplary embodiment. 2 illustrates a cross-section defined by the second direction DR2 and the third direction DR3.

도 2에 도시된 것과 같이, 표시 장치(DD)는 보호필름(PM), 표시모듈(DM), 광학부재(LM), 윈도우(WM), 제1 접착부재(AM1), 제2 접착부재(AM2), 및 제3 접착부재(AM3)를 포함할 수 있다. 표시모듈(DM)은 보호필름(PM)과 광학부재(LM) 사이에 배치된다. 광학부재(LM)는 표시모듈(DM)과 윈도우(WM) 사이에 배치된다. 제1 접착부재(AM1)는 표시모듈(DM)과 보호필름(PM)을 결합하고, 제2 접착부재(AM2)는 표시모듈(DM)과 광학부재(LM)를 결합하고, 제3 접착부재(AM3)는 광학부재(LM)와 윈도우(WM)를 결합한다. 2 , the display device DD includes a protective film PM, a display module DM, an optical member LM, a window WM, a first adhesive member AM1, and a second adhesive member (AM1). AM2), and a third adhesive member AM3. The display module DM is disposed between the protective film PM and the optical member LM. The optical member LM is disposed between the display module DM and the window WM. The first adhesive member AM1 couples the display module DM and the protective film PM, the second adhesive member AM2 couples the display module DM and the optical member LM, and the third adhesive member (AM3) combines the optical member (LM) and the window (WM).

보호필름(PM)은 표시모듈(DM)을 보호한다. 보호필름(PM)은 외부에 노출된 제1 외면(OS-L)을 제공하고, 제1 접착부재(AM1)에 접착되는 접착면을 제공한다. 보호필름(PM)은 외부의 습기가 표시모듈(DM)에 침투하는 것을 방지하고, 외부 충격을 흡수한다.The protective film PM protects the display module DM. The protective film PM provides the first outer surface OS-L exposed to the outside, and provides an adhesive surface that is adhered to the first adhesive member AM1 . The protective film PM prevents external moisture from penetrating into the display module DM and absorbs external shocks.

보호필름(PM)은 플라스틱 필름을 베이스 기판으로써 포함할 수 있다. 보호필름(PM)은 폴리에테르술폰(PES, polyethersulfone), 폴리아크릴레이트(polyacrylate), 폴리에테르이미드(PEI, polyetherimide), 폴리에틸렌나프탈레이트(PEN, polyethylenenaphthalate), 폴리에틸렌테레프탈레이트(PET, polyethyleneterephthalate), 폴리페닐렌설파이드(PPS, polyphenylene sulfide), 폴리아릴레이트(polyarylate), 폴리이미드(PI, polyimide), 폴리카보네이트(PC, polycarbonate), 폴리아릴렌에테르술폰(poly(arylene ethersulfone)) 및 이들의 조합으로 이루어진 그룹에서 선택된 어느 하나를 포함하는 플라스틱 필름을 포함할 수 있다.The protective film PM may include a plastic film as a base substrate. Protective film (PM) is polyethersulfone (PES, polyethersulfone), polyacrylate (polyacrylate), polyetherimide (PEI, polyetherimide), polyethylene naphthalate (PEN, polyethylenenaphthalate), polyethylene terephthalate (PET, polyethyleneterephthalate), poly phenylene sulfide (PPS, polyphenylene sulfide), polyarylate (polyarylate), polyimide (PI, polyimide), polycarbonate (PC, polycarbonate), poly(arylene ethersulfone), and combinations thereof It may include a plastic film comprising any one selected from the group consisting of.

보호필름(PM)을 구성하는 물질은 플라스틱 수지들에 제한되지 않고, 유/무기 복합재료를 포함할 수 있다. 보호필름(PM)은 다공성 유기층 및 유기층의 기공들에 충전된 무기물을 포함할 수 있다. 보호필름(PM)은 플라스틱 필름에 형성된 기능층을 더 포함할 수 있다. 상기 기능층은 수지층을 포함할 수 있다. 상기 기능층은 코팅 방식에 의해 형성될 수 있다. 본 발명의 일 실시예에서 보호필름(PM)은 생략될 수 있다.The material constituting the protective film PM is not limited to plastic resins, and may include an organic/inorganic composite material. The protective film PM may include a porous organic layer and an inorganic material filled in pores of the organic layer. The protective film PM may further include a functional layer formed on the plastic film. The functional layer may include a resin layer. The functional layer may be formed by a coating method. In an embodiment of the present invention, the protective film PM may be omitted.

윈도우(WM)는 외부 충격으로부터 표시모듈(DM)를 보호하고, 사용자에게 입력면을 제공할 수 있다. 윈도우(WM)은 외부에 노출된 제2 외면(OS-U)을 제공하고, 제2 접착부재(AM2)에 접착되는 접착면을 제공한다. 도 1a 내지 도 1c에 도시된 표시면(IS)이 제2 외면(OS-U)일 수 있다.The window WM may protect the display module DM from external impact and may provide an input surface to the user. The window WM provides the second outer surface OS-U exposed to the outside, and provides an adhesive surface that is adhered to the second adhesive member AM2 . The display surface IS illustrated in FIGS. 1A to 1C may be the second outer surface OS-U.

윈도우(WM)는 플라스틱 필름을 포함할 수 있다. 윈도우(WM)는 다층구조를 가질 수 있다. 윈도우(WM)는 유리 기판, 플라스틱 필름, 플라스틱 기판으로부터 선택된 다층구조를 가질 수 있다. 윈도우(WM)는 베젤패턴을 더 포함할 수 있다. 상기 다층구조는 연속공정 또는 접착층을 이용한 접착공정을 통해 형성될 수 있다.The window WM may include a plastic film. The window WM may have a multi-layered structure. The window WM may have a multilayer structure selected from a glass substrate, a plastic film, and a plastic substrate. The window WM may further include a bezel pattern. The multi-layer structure may be formed through a continuous process or an adhesion process using an adhesive layer.

광학부재(LM)는 외부광 반사율을 감소시킨다. 광학부재(LM)는 적어도 편광필름을 포함할 수 있다. 광학부재(LM)는 위상차 필름을 더 포함할 수 있다. 본 발명의 일 실시예에서 광학부재(LM)는 생략될 수 있다.The optical member LM reduces external light reflectance. The optical member LM may include at least a polarizing film. The optical member LM may further include a retardation film. In an embodiment of the present invention, the optical member LM may be omitted.

표시모듈(DM)은 유기발광 표시패널(DP, 또는 표시패널) 및 터치감지유닛(TS)을 포함할 수 있다. 터치감지유닛(TS)은 유기발광 표시패널(DP) 상에 배치된다. 또한, 일 실시예에서, 터치감지유닛(TS)은 유기발광 표시패널(DP) 상에 직접 배치될 수도 있다. 본 명세서에서 "직접 배치된다"는 것은 별도의 접착층을 이용하여 부착하는 것을 제외하며, 연속공정에 의해 형성된 것을 의미한다.The display module DM may include an organic light emitting display panel DP or a display panel and a touch sensing unit TS. The touch sensing unit TS is disposed on the organic light emitting display panel DP. Also, in an embodiment, the touch sensing unit TS may be directly disposed on the organic light emitting display panel DP. In the present specification, "directly disposed" means that it is formed by a continuous process, except for attachment using a separate adhesive layer.

유기발광 표시패널(DP)은 입력된 영상 데이터에 대응하는 이미지(IM, 도 1a 참조)를 생성한다. 유기발광 표시패널(DP)은 두께 방향(DR3)에서 마주하는 제1 표시패널면(BS1-L) 및 제2 표시패널면(BS1-U)을 제공한다. 본 실시예에서 유기발광 표시패널(DP)을 예시적으로 설명하였으나, 표시패널은 이에 제한되지 않는다.The organic light emitting display panel DP generates an image IM (refer to FIG. 1A ) corresponding to the input image data. The organic light emitting display panel DP provides a first display panel surface BS1-L and a second display panel surface BS1-U facing in the thickness direction DR3. Although the organic light emitting display panel DP has been exemplarily described in this embodiment, the display panel is not limited thereto.

터치감지유닛(TS)은 외부입력의 좌표정보를 획득한다. 터치감지유닛(TS)은 정전용량 방식으로 외부입력을 감지할 수 있다.The touch sensing unit TS acquires coordinate information of an external input. The touch sensing unit TS may sense an external input in a capacitive manner.

별도로 도시하지 않았으나, 본 발명의 일 실시예에 따른 표시모듈(DM)은 반사방지층을 더 포함할 수도 있다. 반사방지층은 컬러필터 또는 도전층/절연층/도전층의 적층 구조물을 포함할 수 있다. 반사방지층은 외부로부터 입사된 광을 흡수 또는 상쇄간섭 또는 편광시켜 외부광 반사율을 감소시킬 수 있다. 반사방지층은 광학부재(LM)의 기능을 대체할 수 있다.Although not shown separately, the display module DM according to an embodiment of the present invention may further include an anti-reflection layer. The anti-reflection layer may include a color filter or a stacked structure of a conductive layer/insulating layer/conductive layer. The anti-reflection layer absorbs or destructively interferes with or polarizes light incident from the outside to reduce the reflectance of external light. The anti-reflection layer may replace the function of the optical member LM.

제1 접착부재(AM1), 제2 접착부재(AM2), 및 제3 접착부재(AM3) 각각은 광학투명접착필름(OCA, Optically Clear Adhesive film) 또는 광학투명접착수지(OCR, Optically Clear Resin) 또는 감압접착필름(PSA, Pressure Sensitive Adhesive film)과 같은 유기 접착층일 수 있다. 유기 접착층은 폴리우레탄계, 폴리아크릴계, 폴리에스테르계, 폴리에폭시계, 폴리초산비닐계 등의 접착물질을 포함할 수 있다. Each of the first adhesive member AM1, the second adhesive member AM2, and the third adhesive member AM3 is an optically clear adhesive film (OCA) or an optically clear adhesive resin (OCR). Alternatively, it may be an organic adhesive layer such as a pressure sensitive adhesive film (PSA). The organic adhesive layer may include an adhesive material such as polyurethane, polyacrylic, polyester, polyepoxy, or polyvinyl acetate.

별도로 도시하지 않았으나, 표시 장치(DD)는 도 1a 내지 도 1c에 도시된 상태를 유지하기 위해 상기 기능층들을 지지하는 프레임 구조물을 더 포함할 수 있다. 프레임 구조물은 관절 구조 또는 힌지 구조를 포함할 수 있다. Although not shown separately, the display device DD may further include a frame structure supporting the functional layers to maintain the state illustrated in FIGS. 1A to 1C . The frame structure may include a joint structure or a hinge structure.

도 3a 및 도 3b는 본 발명의 일 실시예에 따른 표시 장치(DD-1)의 사시도이다. 도 3a는 펼쳐진 상태의 표시 장치(DD-1)를 도시하였고, 도 3b는 벤딩된 상태의 표시 장치(DD-1)를 도시하였다. 3A and 3B are perspective views of a display device DD-1 according to an exemplary embodiment. FIG. 3A illustrates the display device DD-1 in an unfolded state, and FIG. 3B illustrates the display device DD-1 in a bent state.

표시 장치(DD-1)는 하나의 벤딩영역(BA)과 하나의 비벤딩영역(NBA)을 포함할 수 있다. 표시 장치(DD-1)의 비표시 영역(DD-NDA)이 벤딩될 수 있다. 다만, 본 발명의 일 실시예에서 표시 장치(DD-1)의 벤딩영역은 변경될 수 있다.The display device DD-1 may include one bending area BA and one non-bending area NBA. The non-display area DD-NDA of the display device DD-1 may be bent. However, in an embodiment of the present invention, the bending area of the display device DD-1 may be changed.

본 실시예에 따른 표시 장치(DD-1)는, 도 1a 내지 도 1c에 도시된 표시 장치(DD)와 다르게, 하나의 형태로 고정되어 작동할 수 있다. 표시 장치(DD-1)는 도 3b에 도시된 것과 같이 벤딩된 상태로 작동할 수 있다. 표시 장치(DD-1)는 벤딩된 상태로 프레임 등에 고정되고, 프레임이 전자장치의 하우징과 결합될 수 있다.Unlike the display device DD illustrated in FIGS. 1A to 1C , the display device DD-1 according to the present exemplary embodiment may be fixed in a single shape to operate. The display device DD-1 may operate in a bent state as illustrated in FIG. 3B . The display device DD-1 may be fixed to a frame or the like in a bent state, and the frame may be coupled to a housing of the electronic device.

본 실시예에 따른 표시 장치(DD-1)는 도 2에 도시된 것과 동일한 단면 구조를 가질 수 있다. 다만, 비벤딩영역(NBA)과 벤딩영역(BA)이 다른 적층 구조를 가질 수 있다. 비벤딩영역(NBA)은 도 2에 도시된 것과 동일한 단면 구조를 갖고, 벤딩영역(BA)은 도 2에 도시된 것과 다른 단면 구조를 가질 수 있다. 벤딩영역(BA)에는 광학부재(LM) 및 윈도우(WM)가 미배치될 수 있다. 즉, 광학부재(LM) 및 윈도우(WM)는 비벤딩영역(NBA)에만 배치될 수 있다. 제2 접착부재(AM2) 및 제3 접착부재(AM3) 역시 벤딩영역(BA)에 미배치될 수 있다.The display device DD-1 according to the present exemplary embodiment may have the same cross-sectional structure as shown in FIG. 2 . However, the non-bending area NBA and the bending area BA may have different stacked structures. The non-bending area NBA may have the same cross-sectional structure as shown in FIG. 2 , and the bending area BA may have a different cross-sectional structure from that illustrated in FIG. 2 . The optical member LM and the window WM may not be disposed in the bending area BA. That is, the optical member LM and the window WM may be disposed only in the non-bending area NBA. The second adhesive member AM2 and the third adhesive member AM3 may also not be disposed in the bending area BA.

도 4a는 본 발명의 일 실시예에 따른 표시 장치(DD-2)의 사시도이다.4A is a perspective view of a display device DD-2 according to an exemplary embodiment.

표시 장치(DD-2)는 메인 이미지가 전면으로 표시되는 비벤딩영역(NBA, 또는 평면영역)과 서브 이미지가 측면으로 표시되는 벤딩영역(BA, 또는 측면영역)을 포함한다. 별도로 도시하지 않았으나, 서브 이미지는 소정의 정보를 제공하는 아이콘을 포함할 수 있다. 본 실시예에서 "비벤딩영역(NBA)과 벤딩영역(BA)"이라는 용어는 형상으로 구분되는 복수 개의 영역들로 표시 장치(DD-2)를 정의한 것이다. The display device DD-2 includes a non-bending area (NBA, or planar area) in which the main image is displayed on the front side and a bending area (BA, or a side area) in which the sub image is displayed on the side. Although not shown separately, the sub-image may include an icon providing predetermined information. In the present exemplary embodiment, the terms "non-bending area NBA and bending area BA" define the display device DD-2 as a plurality of areas divided by shapes.

비벤딩영역(NBA)으로부터 벤딩된 벤딩영역(BA)은 제1 방향(DR1), 제2 방향(DR2), 및 제3 방향(DR3)과 교차하는 제4 방향(DR4)으로 서브 이미지을 표시한다. 그러나, 상기 제1 내지 제4 방향들(DR1 내지 DR4)이 지시하는 방향은 상대적인 개념으로서 다른 방향으로 변환될 수 있다.The bending area BA bent from the non-bending area NBA displays a sub-image in a fourth direction DR4 crossing the first direction DR1 , the second direction DR2 , and the third direction DR3 . . However, the directions indicated by the first to fourth directions DR1 to DR4 are relative concepts and may be converted into other directions.

도 4b는 본 발명의 일 실시예에 따른 표시장치(DD-3)의 사시도이다.4B is a perspective view of a display device DD-3 according to an exemplary embodiment.

표시장치(DD-3)는 메인 이미지가 전면으로 표시되는 비벤딩영역(NBA), 서브 이미지가 측면으로 표시되는 제1 벤딩영역(BA1) 및 제2 벤딩영역(BA2)을 포함한다. 제1 벤딩영역(BA1) 및 제2 벤딩영역(BA2)은 비벤딩영역(NBA)의 양측으로부터 벤딩 될 수 있다.The display device DD-3 includes a non-bending area NBA in which the main image is displayed on the front side, and a first bending area BA1 and a second bending area BA2 in which the sub image is displayed on the side surface. The first bending area BA1 and the second bending area BA2 may be bent from both sides of the non-bending area NBA.

도 5a는 본 발명의 일 실시예에 따른 유기발광 표시패널(DP)의 평면도이고, 도 5b는 본 발명의 일 실시예에 따른 표시모듈(DM)의 단면도이다. 예를 들어, 도 5b는 제2 방향(DR2) 및 제3 방향(DR3)으로 정의되는 면과 평행한 면에서의 단면 중 일부를 나타낸 것일 수 있다.5A is a plan view of an organic light emitting display panel DP according to an embodiment of the present invention, and FIG. 5B is a cross-sectional view of a display module DM according to an embodiment of the present invention. For example, FIG. 5B may illustrate a portion of a cross section in a plane parallel to a plane defined by the second direction DR2 and the third direction DR3 .

도 5a에 도시된 것과 같이, 유기발광 표시패널(DP)은 평면상에서 표시 영역(DA)과 비표시 영역(NDA)을 포함한다. 유기발광 표시패널(DP)의 표시 영역(DA) 및 비표시 영역(NDA)은 표시 장치(DD, 도 1a 참조)의 표시 영역(DD-DA, 도 1a 참조) 및 비표시 영역(DD-NDA, 도 1a 참조)에 각각 대응한다. 유기발광 표시패널(DP)의 표시 영역(DA) 및 비표시 영역(NDA)은 표시 장치(DD, 도 1a 참조)의 표시 영역(DD-DA, 도 1a 참조) 및 비표시 영역(DD-NDA, 도 1a 참조)과 반드시 동일할 필요는 없고, 유기발광 표시패널(DP)의 구조/디자인에 따라 변경될 수 있다.As shown in FIG. 5A , the organic light emitting display panel DP includes a display area DA and a non-display area NDA in a plan view. The display area DA and the non-display area NDA of the organic light emitting display panel DP are the display area DD-DA (refer to FIG. 1A ) and the non-display area DD-NDA of the display device DD (refer to FIG. 1A ). , respectively, see FIG. 1A ). The display area DA and the non-display area NDA of the organic light emitting display panel DP are the display area DD-DA (refer to FIG. 1A ) and the non-display area DD-NDA of the display device DD (refer to FIG. 1A ). , refer to FIG. 1A ), and may be changed according to the structure/design of the organic light emitting display panel DP.

유기발광 표시패널(DP)은 복수 개의 화소들(PX)을 포함한다. 복수 개의 화소들(PX)이 배치된 영역이 표시 영역(DA)으로 정의된다. 본 실시예에서 비표시 영역(NDA)은 표시 영역(DA)의 테두리를 따라 정의될 수 있다. The organic light emitting display panel DP includes a plurality of pixels PX. An area in which the plurality of pixels PX are disposed is defined as the display area DA. In the present exemplary embodiment, the non-display area NDA may be defined along the edge of the display area DA.

유기발광 표시패널(DP)은 게이트 라인들(GL), 데이터 라인들(DL), 발광 라인들(EL), 제어신호 라인(SL-D), 초기화 전압 라인(SL-Vint), 전압 라인(SL-VDD), 및 패드부(PD)를 포함한다. The organic light emitting display panel DP includes gate lines GL, data lines DL, light emitting lines EL, control signal line SL-D, initialization voltage line SL-Vint, and voltage line ( SL-VDD), and a pad part PD.

게이트 라인들(GL)은 복수 개의 화소들(PX) 중 대응하는 화소(PX)에 각각 연결되고, 데이터 라인들(DL)은 복수 개의 화소들(PX) 중 대응하는 화소(PX)에 각각 연결된다. 발광 라인들(EL) 각각은 게이트 라인들(GL) 중 대응하는 게이트 라인에 나란하게 배열될 수 있다. 제어신호 라인(SL-D)은 게이트 구동회로(GDC)에 제어신호들을 제공할 수 있다. 초기화 전압 라인(SL-Vint)은 복수 개의 화소들(PX)에 초기화 전압을 제공할 수 있다. 전압 라인(SL-VDD)은 복수 개의 화소들(PX)에 연결되며, 복수 개의 화소들(PX)에 제1 전압을 제공할 수 있다. 전압 라인(SL-VDD)은 제1 방향(DR1)으로 연장하는 복수의 라인들 및 제2 방향(DR2)으로 연장하는 복수의 라인들을 포함할 수 있다. The gate lines GL are respectively connected to a corresponding pixel PX of the plurality of pixels PX, and the data lines DL are respectively connected to a corresponding pixel PX of the plurality of pixels PX. do. Each of the light emitting lines EL may be arranged in parallel with a corresponding one of the gate lines GL. The control signal line SL-D may provide control signals to the gate driving circuit GDC. The initialization voltage line SL-Vint may provide an initialization voltage to the plurality of pixels PX. The voltage line SL-VDD is connected to the plurality of pixels PX and may provide a first voltage to the plurality of pixels PX. The voltage line SL-VDD may include a plurality of lines extending in the first direction DR1 and a plurality of lines extending in the second direction DR2 .

비표시 영역(NDA)의 일측에는 게이트 라인들(GL) 및 발광 라인들(EL)이 연결된 게이트 구동회로(GDC)가 배치될 수 있다. 게이트 라인들(GL), 데이터 라인들(DL), 발광 라인들(EL), 제어신호 라인(SL-D), 초기화 전압 라인(SL-Vint), 전압 라인(SL-VDD) 중 일부는 동일층에 배치되고, 일부는 다른 층에 배치된다. A gate driving circuit GDC to which the gate lines GL and the light emitting lines EL are connected may be disposed on one side of the non-display area NDA. Some of the gate lines GL, data lines DL, light emitting lines EL, control signal line SL-D, initialization voltage line SL-Vint, and voltage line SL-VDD are the same are arranged on one floor, and some are arranged on another floor.

패드부(PD)는 데이터 라인들(DL), 제어신호 라인(SL-D), 초기화 전압 라인(SL-Vint), 및 전압 라인(SL-VDD)의 말단에 연결될 수 있다. The pad part PD may be connected to ends of the data lines DL, the control signal line SL-D, the initialization voltage line SL-Vint, and the voltage line SL-VDD.

도 5b에 도시된 것과 같이, 유기발광 표시패널(DP)은 베이스 기판(SUB), 베이스 기판(SUB) 상에 배치된 회로층(DP-CL), 회로층(DP-CL) 상에 배치된 발광 소자층(DP-OLED), 및 발광 소자층(DP-OLED)를 감싸는 봉지층(TFE)을 포함할 수 있다.As illustrated in FIG. 5B , the organic light emitting display panel DP includes a base substrate SUB, a circuit layer DP-CL disposed on the base substrate SUB, and a circuit layer DP-CL disposed on the circuit layer DP-CL. It may include a light emitting device layer (DP-OLED) and an encapsulation layer (TFE) surrounding the light emitting device layer (DP-OLED).

베이스 기판(SUB)은 플라스틱 기판, 유리 기판, 메탈 기판, 또는 유/무기 복합재료 기판 등을 포함하는 것일 수 있다. 플라스틱 기판은 아크릴계 수지, 메타크릴계 수지, 폴리이소프렌, 비닐계 수지, 에폭시계 수지, 우레탄계 수지, 셀룰로오스계 수지, 실록산계 수지, 폴리이미드계 수지, 폴리아미드계 수지 및 페릴렌계 수지 중 적어도 어느 하나를 포함할 수 있다. 베이스 기판(SUB)은 플렉서블한 기판일 수 있다. 또는 베이스 기판(SUB)는 리지드한 기판일 수 있다.The base substrate SUB may include a plastic substrate, a glass substrate, a metal substrate, or an organic/inorganic composite material substrate. The plastic substrate is at least one of acrylic resin, methacrylic resin, polyisoprene, vinyl-based resin, epoxy-based resin, urethane-based resin, cellulose-based resin, siloxane-based resin, polyimide-based resin, polyamide-based resin, and perylene-based resin may include The base substrate SUB may be a flexible substrate. Alternatively, the base substrate SUB may be a rigid substrate.

베이스 기판(SUB)은 표시 영역 및 표시 영역에 인접한 비표시 영역으로 구분될 수 있다. 비표시 영역(NDA)은 표시 영역(DA)의 가장자리에 배치되는 것일 수 있다. 하지만, 실시예가 이에 한정되는 것은 아니며, 비표시 영역(NDA)은 표시 영역(DA)의 일측에만 정의될 수도 있다.The base substrate SUB may be divided into a display area and a non-display area adjacent to the display area. The non-display area NDA may be disposed at an edge of the display area DA. However, the exemplary embodiment is not limited thereto, and the non-display area NDA may be defined only on one side of the display area DA.

베이스 기판(SUB) 상에는 회로층(DP-CL)이 배치될 수 있다. 회로층(DP-CL)은 베이스 기판(SUB)의 표시 영역(DA) 및 비표시 영역(NDA) 상에 배치될수 있다. 도면에서 구분되어 도시되지는 않았으나, 회로층(DP-CL)은 적어도 하나의 화소 절연층, 복수 개의 도전층들 및 반도체층을 포함할 수 있다. 회로층(DP-CL)의 복수 개의 도전층들은 신호라인들 또는 화소의 구동회로를 구성할 수 있다. A circuit layer DP-CL may be disposed on the base substrate SUB. The circuit layer DP-CL may be disposed on the display area DA and the non-display area NDA of the base substrate SUB. Although not shown separately in the drawings, the circuit layer DP-CL may include at least one pixel insulating layer, a plurality of conductive layers, and a semiconductor layer. The plurality of conductive layers of the circuit layer DP-CL may constitute signal lines or a driving circuit of a pixel.

발광 소자층(DP-OLED)은 유기발광 다이오드들을 포함할 수 있다. 발광 소자층(DP-OLED)은 표시 영역(DA) 상에 배치될 수 있다. 유기발광 다이오드에 대하여는 후술하는 도 6c에 대한 설명에서 상세히 기술한다.The light emitting device layer DP-OLED may include organic light emitting diodes. The light emitting device layer DP-OLED may be disposed on the display area DA. The organic light emitting diode will be described in detail with reference to FIG. 6C to be described later.

발광 소자층(DP-OLED) 상에는 봉지층(TFE)이 배치될 수 있다. 봉지층(TFE)은 발광 소자층(DP-OLED)을 감싸고 배치될 수 있다. 봉지층(TFE)은 발광 소자층(DP-OLED)을 커버하여 밀봉할 수 있다. 봉지층(TFE)은 무기층과 유기층을 포함할 수 있다. 봉지층(TFE)은 적어도 2개의 무기층들과 그 사이에 배치된 유기층을 포함할 수 있다. 무기층은 수분/산소로부터 발광 소자층(DP-OLED)을 보호하고, 유기층은 먼지 입자와 같은 이물질로부터 발광 소자층(DP-OLED)을 보호한다. 무기층은 실리콘 나이트라이드층, 실리콘 옥시 나이트라이드층 및 실리콘 옥사이드층 등을 포함할 수 있다. 유기층은 아크릴 계열 유기물질을 포함할 수 있고, 이에 제한되지 않는다. 무기층은 증착 방법으로 제공될 수 있고, 유기층은 코팅 공정을 이용하여 제공될 수 있으나 실시예가 이에 한정되는 것은 아니다. 봉지층(TFE)의 구성에 대하여는 이후 도 7a 내지 도 7c에 대한 설명에서 구체적으로 설명된다. An encapsulation layer TFE may be disposed on the light emitting device layer DP-OLED. The encapsulation layer TFE may be disposed to surround the light emitting device layer DP-OLED. The encapsulation layer TFE may cover and seal the light emitting device layer DP-OLED. The encapsulation layer TFE may include an inorganic layer and an organic layer. The encapsulation layer TFE may include at least two inorganic layers and an organic layer disposed therebetween. The inorganic layer protects the light emitting element layer (DP-OLED) from moisture/oxygen, and the organic layer protects the light emitting element layer (DP-OLED) from foreign substances such as dust particles. The inorganic layer may include a silicon nitride layer, a silicon oxynitride layer, and a silicon oxide layer. The organic layer may include an acrylic-based organic material, but is not limited thereto. The inorganic layer may be provided by a deposition method, and the organic layer may be provided using a coating process, but embodiments are not limited thereto. The configuration of the encapsulation layer TFE will be described in detail later with reference to FIGS. 7A to 7C .

터치감지유닛(TS)은 봉지층(TFE) 상에 배치된다. 터치감지유닛(TS)은 봉지층(TFE) 상에 직접 배치될 수도 있다. 다만, 이에 제한되는 것은 아니고, 봉지층(TFE) 상에 무기층이 배치되고, 무기층 위에 터치감지유닛(TS)이 배치될 수도 있다. 무기층은 버퍼층일 수 있다. 무기층은 실리콘 나이트라이드층, 실리콘 옥시 나이트라이드층 및 실리콘 옥사이드층 중 적어도 어느 하나일 수 있다. 다만, 이는 예시적인 것으로 실시예가 이에 한정되는 것은 아니다. 또한, 버퍼층은 유기층일 수 있다. 버퍼층이 별개의 구성인 것으로 설명하였으나, 버퍼층은 봉지층(TFE)에 포함되는 구성일 수 있다.The touch sensing unit TS is disposed on the encapsulation layer TFE. The touch sensing unit TS may be directly disposed on the encapsulation layer TFE. However, the present invention is not limited thereto, and the inorganic layer may be disposed on the encapsulation layer TFE, and the touch sensing unit TS may be disposed on the inorganic layer. The inorganic layer may be a buffer layer. The inorganic layer may be at least one of a silicon nitride layer, a silicon oxy nitride layer, and a silicon oxide layer. However, this is illustrative and the embodiment is not limited thereto. Also, the buffer layer may be an organic layer. Although the buffer layer has been described as a separate configuration, the buffer layer may be a configuration included in the encapsulation layer TFE.

터치감지유닛(TS)은 터치센서들과 터치 신호라인들을 포함한다. 터치센서들과 터치 신호라인들은 단층 또는 다층구조를 가질 수 있다. The touch sensing unit TS includes touch sensors and touch signal lines. The touch sensors and the touch signal lines may have a single-layer or multi-layer structure.

터치센서들과 터치 신호라인들은 ITO(indium tin oxide), IZO(indium zinc oxide), ZnO(zinc oxide), ITZO(indium tin zinc oxide), PEDOT, 금속 나노 와이어, 그라핀을 포함할 수 있다. 터치센서들과 터치 신호라인들은 금속층, 예컨대 몰리브덴, 은, 티타늄, 구리, 알루미늄, 또는 이들의 합금을 포함할 수 있다. 터치센서들과 터치 신호라인들은 동일한 층구조를 갖거나, 다른 층구조를 가질 수 있다. 터치감지유닛(TS)에 대한 구체적인 내용은 후술한다.The touch sensors and the touch signal lines may include indium tin oxide (ITO), indium zinc oxide (IZO), zinc oxide (ZnO), indium tin zinc oxide (ITZO), PEDOT, metal nanowires, or graphene. The touch sensors and the touch signal lines may include a metal layer, for example, molybdenum, silver, titanium, copper, aluminum, or an alloy thereof. The touch sensors and the touch signal lines may have the same layer structure or different layer structures. Specific details of the touch sensing unit TS will be described later.

도 6a는 본 발명의 일 실시예에 따른 화소(PX)의 등가회로도이다. 도 6a에는 복수 개의 데이터 라인들(DL, 도 5a 참조) 중 k번째 데이터 라인(DLk)에 연결된 i번째 화소(PXi)를 예시적으로 도시하였다.6A is an equivalent circuit diagram of a pixel PX according to an exemplary embodiment. FIG. 6A exemplarily illustrates the i-th pixel PXi connected to the k-th data line DLk among the plurality of data lines DL (refer to FIG. 5A ).

i번째 화소(PXi)는 유기발광 다이오드(OLED) 및 유기발광 다이오드를 제어하는 화소 구동회로를 포함한다. 구동회로는 7개의 박막 트랜지스터들(T1~T7) 및 하나의 스토리지 커패시터(Cst)를 포함할 수 있다. The i-th pixel PXi includes an organic light emitting diode OLED and a pixel driving circuit for controlling the organic light emitting diode. The driving circuit may include seven thin film transistors T1 to T7 and one storage capacitor Cst.

구동 트랜지스터는 유기발광 다이오드(OLED)에 공급되는 구동전류를 제어한다. 제2 트랜지스터(T2)의 출력전극은 유기발광 다이오드(OLED)와 전기적으로 연결된다. 제2 트랜지스터(T2)의 출력전극은 유기발광 다이오드(OLED)의 애노드와 직접 접촉하거나, 다른 트랜지스터(본 발명의 실시예에서 제6 트랜지스터(T6))를 경유하여 연결될 수 있다.The driving transistor controls the driving current supplied to the organic light emitting diode (OLED). The output electrode of the second transistor T2 is electrically connected to the organic light emitting diode OLED. The output electrode of the second transistor T2 may be in direct contact with the anode of the organic light emitting diode OLED or may be connected via another transistor (the sixth transistor T6 in the embodiment of the present invention).

제어 트랜지스터의 제어 전극은 제어 신호를 수신할 수 있다. i번째 화소(PXi)에 인가되는 제어 신호는 i-1번째 게이트 신호(Si-1), i번째 게이트 신호(Si), i+1번째 게이트 신호(Si+1), 데이터 신호(Dk), 및 i번째 발광 제어 신호(Ei)를 포함할 수 있다. 본 발명의 실시예에서 제어 트랜지스터는 제1 트랜지스터(T1) 및 제3 내지 제7 트랜지스터들(T3~T7)을 포함할 수 있다. A control electrode of the control transistor may receive a control signal. The control signal applied to the i-th pixel PXi includes an i-1 th gate signal Si-1, an i-th gate signal Si, an i+1-th gate signal Si+1, a data signal Dk, and an i-th emission control signal Ei. In an embodiment of the present invention, the control transistor may include a first transistor T1 and third to seventh transistors T3 to T7.

제1 트랜지스터(T1)는 k번째 데이터 라인(DLk)에 접속된 입력전극, i번째 게이트 라인(GLi)에 접속된 제어 전극, 및 제2 트랜지스터(T2)의 출력전극에 접속된 출력전극을 포함한다. 제1 트랜지스터(T1)는 i번째 게이트 라인(GLi)에 인가된 게이트 신호(Si, 이하 i번째 게이트 신호)에 의해 턴-온되고, k번째 데이터 라인(DLk)에 인가된 데이터 신호(Dk)를 스토리지 커패시터(Cst)에 제공한다. The first transistor T1 includes an input electrode connected to the k-th data line DLk, a control electrode connected to the i-th gate line GLi, and an output electrode connected to the output electrode of the second transistor T2 do. The first transistor T1 is turned on by the gate signal Si applied to the i-th gate line GLi (hereinafter, the i-th gate signal), and the data signal Dk applied to the k-th data line DLk. is provided to the storage capacitor (Cst).

도 6b는 본 발명의 일 실시예에 따른 유기발광 표시패널의 부분 단면도이다. 도 6c는 본 발명의 일 실시예에 따른 유기발광 표시패널의 부분 단면도이다. 구체적으로, 도 6b는 도 6a에 도시된 등가회로의 제1 트랜지스터(T1)에 대응하는 부분의 단면을 도시하였다. 도 6c는 도 6a에 도시된 등가회로의 제2 트랜지스터(T2), 제6 트랜지스터(T6) 및 유기발광 다이오드(OLED)에 대응하는 부분의 단면을 도시하였다. 6B is a partial cross-sectional view of an organic light emitting display panel according to an exemplary embodiment. 6C is a partial cross-sectional view of an organic light emitting display panel according to an exemplary embodiment. Specifically, FIG. 6B is a cross-sectional view of a portion corresponding to the first transistor T1 of the equivalent circuit shown in FIG. 6A . FIG. 6C is a cross-sectional view of a portion corresponding to the second transistor T2, the sixth transistor T6, and the organic light emitting diode (OLED) of the equivalent circuit shown in FIG. 6A .

도 6b 및 도 6c를 참조하면, 베이스 기판(SUB) 상에 버퍼층(BFL)이 배치될 수 있다. 버퍼층(BFL)은 베이스 기판(SUB)과 도전성 패턴들 또는 반도체 패턴들의 결합력을 향상시킨다. 버퍼층(BFL)은 무기층을 포함할 수 있다. 별도로 도시되지 않았으나, 이물질이 유입되는 것을 방지하는 배리어층이 베이스 기판(SUB)의 상면에 더 배치될 수도 있다. 버퍼층(BFL)과 배리어층은 선택적으로 배치/생략될 수 있다.6B and 6C , a buffer layer BFL may be disposed on the base substrate SUB. The buffer layer BFL improves bonding strength between the base substrate SUB and the conductive patterns or semiconductor patterns. The buffer layer BFL may include an inorganic layer. Although not shown separately, a barrier layer that prevents foreign substances from entering may be further disposed on the upper surface of the base substrate SUB. The buffer layer BFL and the barrier layer may be selectively disposed/omitted.

버퍼층(BFL) 상에 제1 트랜지스터(T1)의 반도체 패턴(OSP1: 이하 제1 반도체 패턴), 제2 트랜지스터(T2)의 반도체 패턴(OSP2: 이하 제2 반도체 패턴), 제6 트랜지스터(T6)의 반도체 패턴(OSP6: 이하 제6 반도체 패턴)이 배치된다. 제1 반도체 패턴(OSP1), 제2 반도체 패턴(OSP2), 및 제6 반도체 패턴(OSP6)은 아몰포스 실리콘, 폴리 실리콘, 금속 산화물 반도체에서 선택될 수 있다. On the buffer layer BFL, the semiconductor pattern OSP1 of the first transistor T1 (hereinafter, referred to as the first semiconductor pattern), the semiconductor pattern of the second transistor T2 (OSP2: hereinafter referred to as the second semiconductor pattern), and the sixth transistor T6 are disposed on the buffer layer BFL. A semiconductor pattern OSP6 (hereinafter referred to as a sixth semiconductor pattern) is disposed. The first semiconductor pattern OSP1 , the second semiconductor pattern OSP2 , and the sixth semiconductor pattern OSP6 may be selected from amorphous silicon, polysilicon, and metal oxide semiconductors.

제1 반도체 패턴(OSP1), 제2 반도체 패턴(OSP2) 및 제6 반도체 패턴(OSP6) 위에는 제1 절연층(10)이 배치될 수 있다. 도 6b 및 도 6c에서는 제1 절연층(10)이 제1 반도체 패턴(OSP1), 제2 반도체 패턴(OSP2) 및 제6 반도체 패턴(OSP6)을 커버하는 층 형태로 제공되는 것을 예시적으로 도시하였으나, 제1 절연층(10)은 제1 반도체 패턴(OSP1), 제2 반도체 패턴(OSP2) 및 제6 반도체 패턴(OSP6) 에 대응하여 배치된 패턴으로 제공될 수도 있다.A first insulating layer 10 may be disposed on the first semiconductor pattern OSP1 , the second semiconductor pattern OSP2 , and the sixth semiconductor pattern OSP6 . 6B and 6C exemplarily show that the first insulating layer 10 is provided in the form of a layer covering the first semiconductor pattern OSP1, the second semiconductor pattern OSP2, and the sixth semiconductor pattern OSP6. However, the first insulating layer 10 may be provided in a pattern disposed to correspond to the first semiconductor pattern OSP1 , the second semiconductor pattern OSP2 , and the sixth semiconductor pattern OSP6 .

제1 절연층(10)은 복수 개의 무기 박막들을 포함할 수 있다. 복수 개의 무기 박막들은 실리콘 나이트라이드층, 실리콘 옥시 나이트라이드층 및 실리콘 옥사이드층을 포함할 수 있다. The first insulating layer 10 may include a plurality of inorganic thin films. The plurality of inorganic thin films may include a silicon nitride layer, a silicon oxynitride layer, and a silicon oxide layer.

제1 절연층(10) 상에는 제1 트랜지스터(T1)의 제어 전극(GE1: 이하, 제1 제어전극), 제2 트랜지스터(T2)의 제어 전극(GE2: 이하, 제2 제어전극), 제6 트랜지스터(T6)의 제어 전극(GE6: 이하, 제6 제어전극)이 배치된다. 제1 제어 전극(GE1), 제2 제어 전극(GE2), 제6 제어 전극(GE6)은 게이트 라인들(GL, 도 5a 참조)과 동일한 포토리소그래피 공정에 따라 제조될 수 있다. On the first insulating layer 10 , a control electrode (GE1: hereinafter, first control electrode) of the first transistor T1, a control electrode (GE2: hereinafter, second control electrode) of the second transistor T2, a sixth A control electrode GE6 (hereinafter, referred to as a sixth control electrode) of the transistor T6 is disposed. The first control electrode GE1 , the second control electrode GE2 , and the sixth control electrode GE6 may be manufactured according to the same photolithography process as the gate lines GL (refer to FIG. 5A ).

제1 절연층(10) 상에는 제1 제어 전극(GE1), 제2 제어 전극(GE2) 및 제6 제어 전극(GE6)을 커버하는 제2 절연층(20)이 배치될 수 있다. 제2 절연층(20)은 평탄한 상면을 제공할 수 있다. 제2 절연층(20)은 유기 물질 및/또는 무기 물질을 포함할 수 있다.A second insulating layer 20 covering the first control electrode GE1 , the second control electrode GE2 , and the sixth control electrode GE6 may be disposed on the first insulating layer 10 . The second insulating layer 20 may provide a flat top surface. The second insulating layer 20 may include an organic material and/or an inorganic material.

제2 절연층(20) 상에 제1 트랜지스터(T1)의 입력전극(SE1: 이하, 제1 입력전극) 및 출력전극(DE1: 제1 출력전극), 제2 트랜지스터(T2)의 입력전극(SE2: 이하, 제2 입력전극) 및 출력전극(DE2: 제2 출력전극), 제6 트랜지스터(T6)의 입력전극(SE6: 이하, 제6 입력전극) 및 출력전극(DE6: 제6 출력전극)이 배치된다. On the second insulating layer 20 , an input electrode SE1 and an output electrode DE1 of the first transistor T1 and an input electrode DE1 of the second transistor T2 are formed on the second insulating layer 20 . SE2: Hereinafter, a second input electrode) and an output electrode (DE2: a second output electrode), an input electrode (SE6: hereinafter, a sixth input electrode) and an output electrode (DE6: a sixth output electrode) of the sixth transistor T6 ) is placed.

제1 입력전극(SE1)과 제1 출력전극(DE1)은 제1 절연층(10) 및 제2 절연층(20)을 관통하는 제1 관통홀(CH1)과 제2 관통홀(CH2)을 통해 제1 반도체 패턴(OSP1)에 각각 연결된다. 제2 입력전극(SE2)과 제2 출력전극(DE2)은 제1 절연층(10) 및 제2 절연층(20)을 관통하는 제3 관통홀(CH3)과 제4 관통홀(CH4)을 통해 제2 반도체 패턴(OSP2)에 각각 연결된다. 제6 입력전극(SE6)과 제6 출력전극(DE6)은 제1 절연층(10) 및 제2 절연층(20)을 관통하는 제5 관통홀(CH5)과 제6 관통홀(CH6)을 통해 제6 반도체 패턴(OSP6)에 각각 연결된다. 한편, 본 발명의 다른 실시예에서 제1 트랜지스터(T1), 제2 트랜지스터(T2), 및 제6 트랜지스터(T6)는 바텀 게이트 구조로 변형되어 실시될 수 있다.The first input electrode SE1 and the first output electrode DE1 form a first through hole CH1 and a second through hole CH2 passing through the first insulating layer 10 and the second insulating layer 20 . are respectively connected to the first semiconductor pattern OSP1 through the The second input electrode SE2 and the second output electrode DE2 form a third through hole CH3 and a fourth through hole CH4 passing through the first insulating layer 10 and the second insulating layer 20 . through the second semiconductor pattern OSP2. The sixth input electrode SE6 and the sixth output electrode DE6 form a fifth through hole CH5 and a sixth through hole CH6 passing through the first insulating layer 10 and the second insulating layer 20 . are respectively connected to the sixth semiconductor pattern OSP6 through the Meanwhile, in another embodiment of the present invention, the first transistor T1 , the second transistor T2 , and the sixth transistor T6 may be modified to have a bottom gate structure.

제2 절연층(20) 상에 제1 입력전극(SE1), 제2 입력전극(SE2), 제6 입력전극(SE6), 제1 출력전극(DE1), 제2 출력전극(DE2), 제6 출력전극(DE6)을 커버하는 제3 절연층(30)이 배치된다. 제3 절연층(30)은 유기층 및/또는 무기층을 포함한다. 특히, 제3 절연층(30)은 평탄면을 제공하기 위해서 유기물질을 포함할 수 있다. On the second insulating layer 20 , a first input electrode SE1 , a second input electrode SE2 , a sixth input electrode SE6 , a first output electrode DE1 , a second output electrode DE2 , a second 6 A third insulating layer 30 covering the output electrode DE6 is disposed. The third insulating layer 30 includes an organic layer and/or an inorganic layer. In particular, the third insulating layer 30 may include an organic material to provide a flat surface.

제1 절연층(10), 제2 절연층(20), 및 제3 절연층(30) 중 어느 하나는 화소의 회로 구조에 따라 생략될 수 있다. 제2 절연층(20), 및 제3 절연층(30) 각각은 층간 절연층(interlayer)으로 정의될 수 있다. 층간 절연층은 층간 절연층을 기준으로 하부에 배치된 도전패턴과 상부에 배치된 도전패턴의 사이에 배치되어 도전패턴들을 절연시킨다.Any one of the first insulating layer 10 , the second insulating layer 20 , and the third insulating layer 30 may be omitted depending on the circuit structure of the pixel. Each of the second insulating layer 20 and the third insulating layer 30 may be defined as an interlayer. The interlayer insulating layer is disposed between the conductive pattern disposed below and the conductive pattern disposed above the interlayer insulating layer to insulate the conductive patterns.

제3 절연층(30) 상에는 화소정의막(PDL) 및 유기발광 다이오드(OLED)가 배치된다. 제3 절연층(30) 상에 애노드(AE)가 배치된다. 애노드(AE)는 제3 절연층(30)을 관통하는 제7 관통홀(CH7)을 통해 제6 출력전극(DE6)에 연결된다. 화소정의막(PDL)에는 개구부(OP)가 정의된다. 화소정의막(PDL)의 개구부(OP)는 애노드(AE)의 적어도 일부분을 노출시킨다. A pixel defining layer PDL and an organic light emitting diode OLED are disposed on the third insulating layer 30 . An anode AE is disposed on the third insulating layer 30 . The anode AE is connected to the sixth output electrode DE6 through the seventh through hole CH7 penetrating the third insulating layer 30 . An opening OP is defined in the pixel defining layer PDL. The opening OP of the pixel defining layer PDL exposes at least a portion of the anode AE.

화소(PX)는 평면 상에서 화소 영역에 배치될 수 있다. 화소 영역은 발광영역(PXA)과 발광영역(PXA)에 인접한 비발광영역(NPXA)을 포함할 수 있다. 비발광영역(NPXA)은 발광영역(PXA)을 에워싸을수 있다. 본 실시예에서 발광영역(PXA)은 개구부(OP)에 의해 노출된 애노드(AE)의 일부영역에 대응하게 정의되었다. The pixel PX may be disposed in the pixel area on a plane. The pixel area may include an emission area PXA and a non-emission area NPXA adjacent to the emission area PXA. The non-emission area NPXA may surround the light emission area PXA. In the present exemplary embodiment, the emission area PXA is defined to correspond to a partial area of the anode AE exposed by the opening OP.

정공 제어층(HCL)은 발광영역(PXA)과 비발광영역(NPXA)에 공통으로 배치될 수 있다. 별도로 도시되지 않았으나, 정공 제어층(HCL)과 같은 공통층은 복수 개의 화소들(PX, 도 5a 참조)에 공통으로 형성될 수 있다.The hole control layer HCL may be commonly disposed in the light emitting area PXA and the non-emission area NPXA. Although not shown separately, a common layer such as the hole control layer HCL may be commonly formed in the plurality of pixels PX (refer to FIG. 5A ).

정공 제어층(HCL) 상에 유기발광층(EML)이 배치된다. 유기발광층(EML)은 개구부(OP)에 대응하는 영역에 배치될 수 있다. 즉, 유기발광층(EML)은 복수 개의 화소들(PX) 각각에 분리되어 형성될 수 있다. 본 실시예에서 패터닝된 유기발광층(EML)을 예시적으로 도시하였으나, 유기발광층(EML)은 복수 개의 화소들(PX)에 공통적으로 배치될 수 있다. 이때, 유기발광층(EML)은 백색 광을 생성할 수 있다. 또한, 유기발광층(EML)은 다층구조를 가질 수 있다.An organic light emitting layer EML is disposed on the hole control layer HCL. The organic light emitting layer EML may be disposed in a region corresponding to the opening OP. That is, the organic light emitting layer EML may be formed separately in each of the plurality of pixels PX. Although the patterned organic light emitting layer EML is illustrated as an example in this embodiment, the organic light emitting layer EML may be commonly disposed on the plurality of pixels PX. In this case, the organic light emitting layer EML may generate white light. Also, the organic light emitting layer EML may have a multi-layered structure.

유기발광층(EML) 상에 전자 제어층(ECL)이 배치된다. 별도로 도시되지 않았으나, 전자 제어층(ECL)은 복수 개의 화소들(PX, 도 5a 참조)에 공통으로 형성될 수 있다.An electronic control layer (ECL) is disposed on the organic light emitting layer (EML). Although not shown separately, the electronic control layer ECL may be formed in common in the plurality of pixels PX (refer to FIG. 5A ).

전자 제어층(ECL) 상에 캐소드(CE)가 배치된다. 캐소드(CE)는 복수 개의 화소들(PX)에 공통적으로 배치된다. A cathode CE is disposed on the electronic control layer ECL. The cathode CE is commonly disposed in the plurality of pixels PX.

캐소드(CE) 상에 봉지층(TFE)이 배치된다. 봉지층(TFE)은 복수 개의 화소들(PX)에 공통적으로 배치된다. 봉지층(TFE)은 적어도 하나의 무기층과 적어도 하나의 유기층을 포함한다. 봉지층(TFE)은 교번하게 적층된 복수 개의 무기층들과 복수 개의 유기층들을 포함할 수 있다.An encapsulation layer TFE is disposed on the cathode CE. The encapsulation layer TFE is commonly disposed on the plurality of pixels PX. The encapsulation layer TFE includes at least one inorganic layer and at least one organic layer. The encapsulation layer TFE may include a plurality of inorganic layers and a plurality of organic layers that are alternately stacked.

본 실시예에서 봉지층(TFE)은 캐소드(CE)를 직접 커버한다. 본 발명의 일 실시예에서, 봉지층(TFE)과 캐소드(CE) 사이에는, 캐소드(CE)를 커버하는 캡핑층이 더 배치될 수 있다. 이때 봉지층(TFE)은 캡핑층을 직접 커버할 수 있다.In this embodiment, the encapsulation layer TFE directly covers the cathode CE. In an embodiment of the present invention, a capping layer covering the cathode CE may be further disposed between the encapsulation layer TFE and the cathode CE. In this case, the encapsulation layer TFE may directly cover the capping layer.

도 7a 내지 도 7c는 일 실시예의 표시 장치에 포함된 봉지층(TFE1, TFE2, TFE3)의 실시예들을 나타낸 단면도이다. 도 7a에 도시된 것과 같이, 봉지층(TFE1)은 캐소드(CE, 도 6c) 상에 배치되는 첫번째 무기 박막(IOL1)을 포함하여 n개의 무기 박막들(IOL1 내지 IOLn)을 포함할 수 있다. 또한, 첫번째 무기 박막(IOL1)은 캐소드(CE, 도 6c)에 직접 접촉하여 배치될 수 있다. 첫번째 무기 박막(IOL1)은 하부 무기 박막으로 정의되고, n개의 무기 박막들(IOL1 내지 IOLn) 중 첫번째 무기 박막(IOL1) 이외의 무기 박막들은 상부 무기 박막들로 정의될 수 있다.7A to 7C are cross-sectional views illustrating examples of encapsulation layers TFE1 , TFE2 , and TFE3 included in a display device according to an exemplary embodiment. As shown in FIG. 7A , the encapsulation layer TFE1 may include n inorganic thin films IOL1 to IOLn including the first inorganic thin film IOL1 disposed on the cathode CE ( FIG. 6C ). Also, the first inorganic thin film IOL1 may be disposed in direct contact with the cathode CE ( FIG. 6C ). The first inorganic thin film IOL1 may be defined as a lower inorganic thin film, and inorganic thin films other than the first inorganic thin film IOL1 among the n inorganic thin films IOL1 to IOLn may be defined as upper inorganic thin films.

봉지층(TFE1)는 n-1개의 유기 박막들(OL1 내지 OLn-1)을 포함하고, n-1개의 유기 박막들(OL1 내지 OLn-1)은 n개의 무기 박막들(IOL1 내지 IOLn)과 교번하게 배치될 수 있다. n-1개의 유기 박막들(OL1 내지 OLn-1)은 평균적으로 n개의 무기 박막들(IOL1 내지 IOLn)보다 더 큰 두께를 가질 수 있다.The encapsulation layer TFE1 includes n-1 organic thin films OL1 to OLn-1, and the n-1 organic thin films OL1 to OLn-1 include n inorganic thin films IOL1 to IOLn. may be alternately placed. The n-1 organic thin films OL1 to OLn-1 may have a thickness greater than that of the n inorganic thin films IOL1 to IOLn on average.

n개의 무기 박막들(IOL1 내지 IOLn) 각각은 1개의 물질을 포함하는 단층이거나, 각각이 다른 물질을 포함하는 복층을 가질 수 있다. n-1개의 유기 박막들(OL1 내지 OLn-1) 각각은 유기 모노머들을 제공하여 형성될 수 있다. 유기 모노머들은 아크릴계 모노머를 포함하는 것일 수 있다. 예를 들어, n-1개의 유기 박막들(OL1 내지 OLn-1) 각각은 아크릴계 모노머를 포함하는 조성물을 코팅하여 형성될 수 있다. 구체적으로, 유기 박막들(OL1 내지 OLn-1)은 잉크젯 프린팅 방식을 이용하여 형성될 수 있다. 본 발명의 일 실시예에서 봉지층(TFE1)은 n번째 유기 박막을 더 포함할 수 있다.Each of the n inorganic thin films IOL1 to IOLn may have a single layer including one material or a multilayer each including a different material. Each of the n-1 organic thin films OL1 to OLn-1 may be formed by providing organic monomers. The organic monomers may include acrylic monomers. For example, each of the n-1 organic thin films OL1 to OLn-1 may be formed by coating a composition including an acrylic monomer. Specifically, the organic thin films OL1 to OLn-1 may be formed using an inkjet printing method. In an embodiment of the present invention, the encapsulation layer TFE1 may further include an n-th organic thin film.

도 7b 및 도 7c에 도시된 것과 같이, 봉지층들(TFE2, TFE3) 각각에 포함된 무기 박막들은 서로 동일하거나 다른 무기물질을 가질 수 있고, 서로 동일하거나 다른 두께를 가질 수 있다. 봉지층들(TFE2, TFE3) 각각에 포함된 유기 박막들은 서로 동일하거나 다른 유기물질을 가질 수 있고, 서로 동일하거나 다른 두께를 가질 수 있다.7B and 7C , the inorganic thin films included in each of the encapsulation layers TFE2 and TFE3 may have the same or different inorganic materials, and may have the same or different thicknesses. The organic thin films included in each of the encapsulation layers TFE2 and TFE3 may have the same or different organic materials, and may have the same or different thicknesses.

도 7b에 도시된 것과 같이, 봉지층(TFE2)은 순차적으로 적층된 제1 무기 박막(IOL1), 제1 유기 박막(OL1), 제2 무기 박막(IOL2), 제2 유기 박막(OL2), 및 제3 무기 박막(IOL3)을 포함할 수 있다. 7B , the encapsulation layer TFE2 includes a first inorganic thin film IOL1, a first organic thin film OL1, a second inorganic thin film IOL2, a second organic thin film OL2, which are sequentially stacked. and a third inorganic thin film IOL3.

제1 무기 박막(IOL1)은 2층 구조를 가질 수 있다. 제1 서브층(S1)과 제2 서브층(S2)은 서로 다른 무기물질을 포함할 수 있다. The first inorganic thin film IOL1 may have a two-layer structure. The first sub-layer S1 and the second sub-layer S2 may include different inorganic materials.

도 7c에 도시된 것과 같이, 봉지층(TFE3)은 순차적으로 적층된 제1 무기 박막(IOL10), 제1 유기 박막(OL1) 및 제2 무기 박막(IOL20)을 포함할 수 있다. 제1 무기 박막(IOL10)은 2층 구조를 가질 수 있다. 제1 서브층(S10)과 제2 서브층(S20)은 서로 다른 무기물질을 포함할 수 있다. 제2 무기 박막(IOL20)은 2층 구조를 가질 수 있다. 제2 무기 박막(IOL20)은 서로 다른 증착 환경에서 증착된 제1 서브층(S100)과 제2 서브층(S200)을 포함할 수 있다. 제1 서브층(S100)은 저전원 조건에서 증착되고 제2 서브층(S200)은 고전원 조건에서 증착될 수 있다. 제1 서브층(S100)과 제2 서브층(S200) 은 동일한 무기물질을 포함할 수 있다.As illustrated in FIG. 7C , the encapsulation layer TFE3 may include a first inorganic thin film IOL10 , a first organic thin film OL1 , and a second inorganic thin film IOL20 sequentially stacked. The first inorganic thin film IOL10 may have a two-layer structure. The first sub-layer S10 and the second sub-layer S20 may include different inorganic materials. The second inorganic thin film IOL20 may have a two-layer structure. The second inorganic thin film IOL20 may include a first sub-layer S100 and a second sub-layer S200 deposited in different deposition environments. The first sub-layer S100 may be deposited under a low-power condition, and the second sub-layer S200 may be deposited under a high-power condition. The first sub-layer S100 and the second sub-layer S200 may include the same inorganic material.

한편, 봉지층(TFE) 상에는 무기층이 더 배치될 수도 있다. 무기층은 버퍼층일 수 있다. 일 실시예에서 터치감지유닛(TS)은 봉지층(TFE) 상에 배치된 버퍼층의 상부에 배치될 수 있다.Meanwhile, an inorganic layer may be further disposed on the encapsulation layer TFE. The inorganic layer may be a buffer layer. In an embodiment, the touch sensing unit TS may be disposed on the buffer layer disposed on the encapsulation layer TFE.

도 8은 일 실시예의 표시 장치에 포함되는 터치감지유닛(TS)의 단면을 나타낸 도면이다. 터치감지유닛(TS)은 제1 도전층(TS-CL1), 제1 절연층(TS-IL1), 제2 도전층(TS-CL2), 및 제2 절연층(TS-IL2)을 포함할 수 있다. 제1 도전층(TS-CL1)은 봉지층(TFE) 상에 직접 배치될 수 있다. 하지만, 실시예가 이에 한정되는 것은 아니며, 제1 도전층(TS-CL1)과 봉지층(TFE) 사이에는 또 다른 무기층(예컨대 버퍼층)이 더 배치될 수 있다.8 is a diagram illustrating a cross-section of a touch sensing unit TS included in a display device according to an exemplary embodiment. The touch sensing unit TS may include a first conductive layer TS-CL1 , a first insulating layer TS-IL1 , a second conductive layer TS-CL2 , and a second insulating layer TS-IL2 . can The first conductive layer TS-CL1 may be directly disposed on the encapsulation layer TFE. However, the embodiment is not limited thereto, and another inorganic layer (eg, a buffer layer) may be further disposed between the first conductive layer TS-CL1 and the encapsulation layer TFE.

제1 도전층(TS-CL1) 및 제2 도전층(TS-CL2) 각각은 단층구조를 갖거나, 제3 방향(DR3)으로 적층된 다층구조를 가질 수 있다. 다층구조의 도전층은 투명 도전층들과 금속층들 중 적어도 두 개 이상의 층들을 포함할 수 있다. 다층구조의 도전층은 서로 다른 금속을 포함하는 금속층들을 포함할 수 있다. 투명 도전층은 ITO(indium tin oxide), IZO(indium zinc oxide), ZnO(zinc oxide), ITZO(indium tin zinc oxide), PEDOT, 금속 나노 와이어, 그라핀을 포함할 수 있다. 금속층은 몰리브덴, 은, 티타늄, 구리, 알루미늄, 및 이들의 합금을 포함할 수 있다.Each of the first conductive layer TS-CL1 and the second conductive layer TS-CL2 may have a single-layer structure or a multi-layer structure stacked in the third direction DR3 . The multi-layered conductive layer may include at least two or more of transparent conductive layers and metal layers. The multi-layered conductive layer may include metal layers including different metals. The transparent conductive layer may include indium tin oxide (ITO), indium zinc oxide (IZO), zinc oxide (ZnO), indium tin zinc oxide (ITZO), PEDOT, metal nanowires, or graphene. The metal layer may include molybdenum, silver, titanium, copper, aluminum, and alloys thereof.

제1 도전층(TS-CL1) 및 제2 도전층(TS-CL2) 각각은 복수 개의 패턴들을 포함한다. 이하, 제1 도전층(TS-CL1)은 제1 도전패턴들을 포함하고, 제2 도전층(TS-CL2)은 제2 도전패턴들을 포함하는 것으로 설명된다. 제1 도전패턴들과 제2 도전패턴들 각각은 터치전극 및 터치 신호라인들을 포함할 수 있다. Each of the first conductive layer TS-CL1 and the second conductive layer TS-CL2 includes a plurality of patterns. Hereinafter, it will be described that the first conductive layer TS-CL1 includes first conductive patterns and the second conductive layer TS-CL2 includes second conductive patterns. Each of the first conductive patterns and the second conductive patterns may include a touch electrode and touch signal lines.

제1 절연층(TS-IL1) 및 제2 절연층(TS-IL2) 각각은 무기물 또는 유기물을 포함할 수 있다. 무기물은 알루미늄 옥사이드, 티타늄 옥사이드, 실리콘 옥사이드, 실리콘 나이트라이드, 실리콘옥시나이트라이드, 지르코늄옥사이드, 및 하프늄 옥사이드 중 적어도 하나를 포함할 수 있다. 유기물은 아크릴계 수지, 메타크릴계 수지, 폴리이소프렌, 비닐계 수지, 에폭시계 수지, 우레탄계 수지, 셀룰로오스계 수지 실록산계 수지, 폴리이미드계 수지, 폴리아미드계 수지 및 페릴렌계 수지 중 적어도 어느 하나를 포함할 수 있다.Each of the first insulating layer TS-IL1 and the second insulating layer TS-IL2 may include an inorganic material or an organic material. The inorganic material may include at least one of aluminum oxide, titanium oxide, silicon oxide, silicon nitride, silicon oxynitride, zirconium oxide, and hafnium oxide. The organic material includes at least one of acrylic resin, methacrylic resin, polyisoprene, vinyl-based resin, epoxy-based resin, urethane-based resin, cellulose-based resin, siloxane-based resin, polyimide-based resin, polyamide-based resin, and perylene-based resin can do.

제1 절연층(TS-IL1) 및 제2 절연층(TS-IL2) 각각은 단층 또는 다층구조를 가질 수 있다. 제1 터치 절연층(TS-IL1) 및 제2 터치 절연층(TS-IL2) 각각은 무기층 및 유기층 중 적어도 어느 하나를 가질 수 있다. 무기층 및 유기층은 화학 기상 증착 방식에 의해 형성될 수 있다. 한편, 터치감지유닛의 적층 구조는 도 8에 도시된 것에 한정되지 않는다. 예를 들어, 터치감지유닛의 제2 터치 절연층(TS-IL2)는 생략될 수도 있다.Each of the first insulating layer TS-IL1 and the second insulating layer TS-IL2 may have a single-layered or multi-layered structure. Each of the first touch insulating layer TS-IL1 and the second touch insulating layer TS-IL2 may include at least one of an inorganic layer and an organic layer. The inorganic layer and the organic layer may be formed by a chemical vapor deposition method. Meanwhile, the stacked structure of the touch sensing unit is not limited to that illustrated in FIG. 8 . For example, the second touch insulating layer TS-IL2 of the touch sensing unit may be omitted.

제1 절연층(TS-IL1)은 제1 도전층(TS-CL1) 및 제2 도전층(TS-CL2)을 절연시키면 충분하고 그 형상은 제한되지 않는다. 제1 도전패턴들과 제2 도전패턴들의 형상에 따라 제1 절연층(TS-IL1)의 형상은 변경될 수 있다. 제1 절연층(TS-IL1)은 봉지층(TFE)을 전체적으로 커버하거나, 복수 개의 절연 패턴들을 포함할 수 있다. 복수 개의 절연 패턴들은 후술하는 제1 연결부들(CP1) 또는 제2 연결부들(CP2)에 중첩하면 충분하다. For the first insulating layer TS-IL1 , it is sufficient to insulate the first conductive layer TS-CL1 and the second conductive layer TS-CL2 , and the shape thereof is not limited. The shape of the first insulating layer TS-IL1 may be changed according to the shapes of the first conductive patterns and the second conductive patterns. The first insulating layer TS-IL1 may entirely cover the encapsulation layer TFE or may include a plurality of insulating patterns. It is sufficient if the plurality of insulating patterns overlap the first connection parts CP1 or second connection parts CP2 to be described later.

본 실시예에서 2층형 터치감지유닛을 예시적으로 도시하였으나 이에 제한되지 않는다. 단층형 터치감지유닛은 도전층 및 도전층을 커버하는 절연층을 포함한다. 도전층은 터치센서들 및 터치센서들에 연결된 배선부를 포함한다. 단층형 터치감지유닛은 셀프 캡 방식으로 좌표정보를 획득할 수 있다. Although the two-layer type touch sensing unit is illustrated as an example in this embodiment, the present invention is not limited thereto. The single-layer touch sensing unit includes a conductive layer and an insulating layer covering the conductive layer. The conductive layer includes touch sensors and a wiring part connected to the touch sensors. The single-layer touch sensing unit may acquire coordinate information in a self-cap method.

이하 도 9 내지 도 19b에서는 일 실시예의 표시 장치에 대하여 설명한다. 이후 일 실시예의 표시 장치에 대한 설명에서는 상술한 도 1 내지 도 8에서 설명한 내용과 중복되는 내용은 다시 설명하지 않으며, 차이점을 위주로 설명한다.Hereinafter, a display device according to an exemplary embodiment will be described with reference to FIGS. 9 to 19B . Hereinafter, in the description of the display device according to an exemplary embodiment, the content overlapping with the content described with reference to FIGS. 1 to 8 will not be described again, and differences will be mainly described.

도 9는 일 실시예에 따른 표시 장치의 평면도이다. 도 10a 내지 도 10c는 도 9의 일실시예의 표시 장치에 포함된 터치감지유닛(TS)의 평면도를 나타낸 것이다. 도 10d는 도 10c의 일 부분의 확대도를 나타내 것이다. 도 11은 도 9의 I-I'에 대응하는 일 실시예의 표시 장치의 단면을 나타낸 도면이다.9 is a plan view of a display device according to an exemplary embodiment. 10A to 10C are plan views illustrating a touch sensing unit TS included in the display device of FIG. 9 . FIG. 10D is an enlarged view of a portion of FIG. 10C . 11 is a diagram illustrating a cross-section of a display device according to an exemplary embodiment corresponding to I-I′ of FIG. 9 .

일 실시예의 표시 장치는 베이스 기판(SUB), 회로층(DP-CL), 발광 소자층(DP-OLED), 봉지층(TFE), 봉지층(TFE) 상에 배치된 터치감지유닛(TS), 및 돌출부재(DAM)를 포함할 수 있다. 유기발광 표시패널(DP)은 베이스 기판(SUB), 회로층(DP-CL), 발광 소자층(DP-OLED) 및 봉지층(TFE)을 포함할 수 있다. 도 9 및 도 11을 참조하면, 일 실시예의 표시 장치(DD)는 유기발광 표시패널(DP), 유기발광 표시패널(DP) 상에 배치된 터치감지유닛(TS) 및 돌출부재(DAM)를 포함할 수 있다.A display device according to an exemplary embodiment includes a touch sensing unit TS disposed on a base substrate SUB, a circuit layer DP-CL, a light emitting element layer DP-OLED, an encapsulation layer TFE, and an encapsulation layer TFE. , and a protrusion member DAM. The organic light emitting display panel DP may include a base substrate SUB, a circuit layer DP-CL, a light emitting device layer DP-OLED, and an encapsulation layer TFE. 9 and 11 , the display device DD according to an exemplary embodiment includes an organic light emitting display panel DP, a touch sensing unit TS and a protruding member DAM disposed on the organic light emitting display panel DP. may include

유기발광 표시패널(DP)에 대하여는 도 5b에 대한 설명에서 상술한 내용이 그대로 적용될 수 있다. 일 실시예의 표시 장치(DD)는 표시 영역(DA) 및 비표시 영역(NDA)으로 구분되는 베이스 기판(SUB)을 포함할 수 있다. 일 실시예의 표시 장치(DD)는 베이스 기판(SUB) 상에 배치되는 회로층(DP-CL)을 포함하고, 베이스 기판(SUB)의 표시 영역(DA) 상에 배치되는 발광 소자층(DP-OLED)을 포함할 수 있다. 봉지층(TFE)는 발광 소자층(DP-OLED)을 커버하고 배치될 수 있다. For the organic light emitting display panel DP, the above description in the description of FIG. 5B may be applied as it is. The display device DD according to an exemplary embodiment may include a base substrate SUB divided into a display area DA and a non-display area NDA. The display device DD according to an exemplary embodiment includes a circuit layer DP-CL disposed on a base substrate SUB, and a light emitting device layer DP- disposed on the display area DA of the base substrate SUB. OLED) may be included. The encapsulation layer TFE may be disposed to cover the light emitting device layer DP-OLED.

또한, 베이스 기판(SUB)의 비표시 영역(NDA) 상에는 돌출부재(DAM)가 배치될 수 있다. 비표시 영역(NDA)는 적어도 하나의 돌출부재(DAM)가 배치될 수 있다. 예를 들어, 비표시 영역(NDA)는 하나의 돌출부재(DAM)가 배치되거나 둘 이상의 돌출부재(DAM)가 배치될 수 있다. 또한, 비표시 영역(NDA)에 돌출부재(DAM)가 배치되는 경우 비표시 영역(NDA) 중 일부에는 하나의 돌출부재(DAM)가 배치되고, 나머지 부분에서 복수 개의 돌출부재(DAM)가 배치될 수 있다. 또한, 복수 개의 돌출부재(DAM)가 배치되는 경우에도 비표시 영역(NDA)의 위치에 따라 배치되는 돌출부재(DAM)의 개수가 달라질 수 있다.또한, 봉지층(TFE)은 돌출부재(DAM)를 커버하고 베이스 기판(SUB)의 비표시 영역(NDA)으로 연장되어 배치될 수 있다. 이때, 돌출부재(DAM)를 커버하는 봉지층(TFE)은 유기 박막들(OL1 내지 OLn-1, 도 7a)이 생략된 무기 박막들(IOL1 내지 IOLn, 도 7a) 만으로 구성된 것일 수 있다. 하지만, 실시예가 이에 한정되는 것은 아니며, 봉지층(TFE)은 돌출부재(DAM)를 커버하는 부분에서도 무기 박막들(IOL1 내지 IOLn, 도 7a) 및 무기 박막들(IOL1 내지 IOLn, 도 7a) 사이에 배치된 유기 박막들(OL1 내지 OLn-1, 도 7a)을 모두 포함하는 것일 수 있다. 또한, 복수의 돌출부재(DAM)가 배치되는 경우 표시 영역에 보다 인접한 돌출부재(DAM)인 제1 돌출부재(DAM1)를 감싸는 봉지층(TFE)은 무기 박막들(IOL1 내지 IOLn, 도 7a) 사이에 배치된 유기 박막들(OL1 내지 OLn-1, 도 7a)을 포함하는 것일 수 있다. 이와 비교하여 제1 돌출부재(DAM1)의 외곽에 배치된 제2 돌출부재(DAM2)를 감싸는 봉지층(TFE)은 무기 박막들(IOL1 내지 IOLn, 도 7a) 만으로 구성되는 것일 수 있다.In addition, the protrusion member DAM may be disposed on the non-display area NDA of the base substrate SUB. At least one protrusion member DAM may be disposed in the non-display area NDA. For example, in the non-display area NDA, one protrusion member DAM may be disposed or two or more protrusion members DAM may be disposed. In addition, when the protrusion member DAM is disposed in the non-display area NDA, one protrusion member DAM is disposed in a part of the non-display area NDA, and a plurality of protrusion members DAM are disposed in the other part of the non-display area NDA. can be Also, even when the plurality of protrusion members DAM are disposed, the number of protrusion members DAM disposed may vary according to the position of the non-display area NDA. In addition, the encapsulation layer TFE may include the protrusion member DAM. ) and extend to the non-display area NDA of the base substrate SUB. In this case, the encapsulation layer TFE covering the protruding member DAM may be composed of only the inorganic thin films IOL1 to IOLn ( FIG. 7A ) in which the organic thin films OL1 to OLn-1 ( FIG. 7A ) are omitted. However, the exemplary embodiment is not limited thereto, and the encapsulation layer TFE is formed between the inorganic thin films IOL1 to IOLn ( FIG. 7A ) and the inorganic thin films IOL1 to IOLn ( FIG. 7A ) even in the portion covering the protruding member DAM. It may include all of the organic thin films OL1 to OLn-1 ( FIG. 7A ) disposed on the . In addition, when the plurality of protruding members DAM are disposed, the encapsulation layer TFE surrounding the first protruding member DAM1 that is the protruding member DAM closer to the display area is formed of the inorganic thin films IOL1 to IOLn ( FIG. 7A ). The organic thin films OL1 to OLn-1 (FIG. 7A) disposed therebetween may be included. In comparison, the encapsulation layer TFE surrounding the second protruding member DAM2 disposed outside the first protruding member DAM1 may be formed of only the inorganic thin films IOL1 to IOLn ( FIG. 7A ).

돌출부재(DAM)는 비표시 영역(NDA) 상에 배치될 수 있다. 돌출부재(DAM)는 표시 영역(DA)의 외곽에 배치될 수 있다. 돌출부재(DAM)는 표시 영역(DA)을 감싸고 배치될 수 있다. 돌출부재(DAM)는 표시 영역(DA)에 상대적으로 인접하여 배치되는 제1 돌출부재(DAM1) 및 제1 돌출부재(DAM1)의 외곽에 배치된 제2 돌출부재(DAM2)를 포함할 수 있다. 제2 돌출부재(DAM2)는 제1 돌출부재(DAM1) 보다 제3 방향(DR3)으로의 두께가 큰 것일 수 있다. 예를 들어, 제1 돌출부재(DAM1)는 유기 박막들(OL1 내지 OLn-1, 도 7a)을 코팅하여 형성하는 유기 모노머가 외부로 흐르는 것을 방지할 수 있다.The protrusion member DAM may be disposed on the non-display area NDA. The protrusion member DAM may be disposed outside the display area DA. The protrusion member DAM may be disposed to surround the display area DA. The protrusion member DAM may include a first protrusion member DAM1 disposed relatively adjacent to the display area DA and a second protrusion member DAM2 disposed outside the first protrusion member DAM1. . The second protrusion member DAM2 may have a greater thickness in the third direction DR3 than the first protrusion member DAM1 . For example, the first protruding member DAM1 may prevent an organic monomer formed by coating the organic thin films OL1 to OLn-1 ( FIG. 7A ) from flowing to the outside.

돌출부재(DAM)는 복수의 층으로 구성될 수 있다. 예를 들어, 제1 돌출부재(DAM1)는 두 개의 층이 적층된 것이고, 제2 돌출부재(DAM2)는 세 개의 층이 적층된 것일 수 있다. 한편, 도 9에서 돌출부재(DAM)가 표시 영역(DA) 전체를 감싸도록 배치하는 것으로 도시하였으나 실시예가 이에 한정되는 것은 아니다. 예를 들어, 돌출부재(DAM)를 표시 영역(DA)의 적어도 일측을 감싸도록 배치되는 것일 수 있다.The protrusion member DAM may be formed of a plurality of layers. For example, the first protrusion member DAM1 may have two layers stacked, and the second protrusion member DAM2 may have three layers stacked. Meanwhile, although it is illustrated in FIG. 9 that the protrusion member DAM is disposed to surround the entire display area DA, the embodiment is not limited thereto. For example, the protrusion member DAM may be disposed to surround at least one side of the display area DA.

도 9에 도시 되지는 않았으나, 일 실시예의 표시 장치는 베이스 기판(SUB)의 비표시 영역(NDA) 상에 배치되는 측면 돌출부재(미도시)를 더 포함할 수 있다. 측면 돌출부재(미도시)는 제2 돌출부재(DAM2)의 외곽에 배치되는 것일 수 있다. 예를 들어, 측면 돌출부재(미도시)는 제2 돌출부재(DAM2)의 외곽에서 제1 방향(DR1)으로 연장되어 배치되는 것일 수 있다. 측면 돌출부재(미도시)는 외부 자극이 주어지는 경우 충격을 흡수하여 표시 영역 측으로 충격이 전달되는 것을 방지하는 크랙 방지 기능을 하는 것일 수 있다.Although not shown in FIG. 9 , the display device according to an exemplary embodiment may further include a side protrusion member (not shown) disposed on the non-display area NDA of the base substrate SUB. The side protruding member (not shown) may be disposed outside the second protruding member DAM2 . For example, the side protrusion member (not shown) may be disposed to extend in the first direction DR1 from the outside of the second protrusion member DAM2 . The side protrusion member (not shown) may absorb a shock when an external stimulus is given and may have a crack prevention function to prevent the shock from being transmitted to the display area.

또한, 일 실시예의 표시 장치는 제2 돌출부재(DAM2) 외곽에 배치되고 터치 패드(TS-PD) 인접하여 배치된 뱅크부(BK)를 더 포함할 수 있다. 한편, 뱅크부(BK)는 제2 돌출부재(DAM2)의 외곽에 배치되고 제2 방향(DR2)으로 연장되어 배치되는 제3 돌출부재일 수 있다. 뱅크부(BK)는 유기발광 표시 패널(DP) 및 터치감지유닛(TS)의 제조 공정 중 사용되는 마스크가 직접 유기발광 표시 패널(DP) 또는 터치감지유닛(TS)의 구성에 접촉되지 않도록 스페이서 기능을 하는 것일 수 있다. 뱅크부(BK)의 두께는 제1 돌출부재(DAM1) 또는 제2 돌출부재(DAM2)의 두께보다 높은 것일 수 있다.Also, the display device according to an exemplary embodiment may further include a bank unit BK disposed outside the second protrusion member DAM2 and disposed adjacent to the touch pad TS-PD. Meanwhile, the bank part BK may be a third protruding member disposed outside the second protruding member DAM2 and extending in the second direction DR2 . The bank unit BK is a spacer so that the mask used during the manufacturing process of the organic light emitting display panel DP and the touch sensing unit TS does not directly contact the components of the organic light emitting display panel DP or the touch sensing unit TS. It could be a function. The thickness of the bank part BK may be higher than that of the first protruding member DAM1 or the second protruding member DAM2 .

일 실시예에서 뱅크부(BK)는 생략될 수 있다. 또한, 일 실시예에서 측면 돌출부재(미도시)와 뱅크부 중 어느 하나가 생략될 수 있다.In an embodiment, the bank unit BK may be omitted. In addition, in one embodiment, any one of the side protrusion member (not shown) and the bank part may be omitted.

터치감지유닛(TS)은 봉지층(TFE) 상에 배치될 수 있다. 터치감지유닛은(TS)은 터치전극(TE) 및 배선부(TW)를 포함할 수 있다. 터치전극(TE)은 표시 영역(DA)의 봉지층(TFE) 상에 배치되고, 배선부(TW)는 터치전극(TE)에 연결되어 돌출부재(DAM) 상에 배치될 수 있다. 배선부(TW)는 돌출부재(DAM)의 단차를 따라 돌출부재(DAM) 상에 배치될 수 있다. 배선부(TW)는 터치전극(TE)에서 연장되어 터지 패드(TS-PD) 까지 연결될 수 있다.The touch sensing unit TS may be disposed on the encapsulation layer TFE. The touch sensing unit TS may include a touch electrode TE and a wiring unit TW. The touch electrode TE may be disposed on the encapsulation layer TFE of the display area DA, and the wiring part TW may be connected to the touch electrode TE and disposed on the protrusion member DAM. The wiring part TW may be disposed on the protrusion member DAM along the step of the protrusion member DAM. The wiring part TW may extend from the touch electrode TE to be connected to the touch pad TS-PD.

도 9의 평면도에서 터치감지유닛(TS)은 제1 터치전극들(TE1-1 내지 TE1-4), 제1 터치전극들(TE1-1 내지 TE1-4)에 연결된 제1 터치 신호라인들(SL1-1 내지 SL1-4), 제2 터치전극들(TE2-1 내지 TE2-5), 및 제2 터치전극들(TE2-1 내지 TE2-5)에 연결된 제2 터치 신호라인들(SL2-1 내지 SL2-5)을 포함할 수 있다. 또한, 제1 터치전극들(TE1-1 내지 TE1-4) 및 제1 터치 신호라인들(SL1-1 내지 SL1-4) 사이, 및 제2 터치전극들(TE2-1 내지 TE2-5)에 연결된 제2 터치 신호라인들(SL2-1 내지 SL2-5) 사이에는 접속 전극들(TSD)이 배치될 수 있다. 접속 전극들(TSD)은 제1 터치전극들(TE1-1 내지 TE1-4) 및 제2 터치전극들(TE2-1 내지 TE2-5) 각각의 끝단에 연결되어, 신호를 전달할 수 있다. 본 발명의 다른 실시예에서, 접속 전극들(TSD)은 생략될 수도 있다.In the plan view of FIG. 9 , the touch sensing unit TS includes first touch signal lines TE1-1 to TE1-4 connected to the first touch electrodes TE1-1 to TE1-4 and the first touch electrodes TE1-1 to TE1-4. SL1-1 to SL1-4), the second touch electrodes TE2-1 to TE2-5, and the second touch signal lines SL2- connected to the second touch electrodes TE2-1 to TE2-5. 1 to SL2-5). In addition, between the first touch electrodes TE1-1 to TE1-4 and the first touch signal lines SL1-1 to SL1-4, and between the second touch electrodes TE2-1 to TE2-5 Connection electrodes TSD may be disposed between the connected second touch signal lines SL2-1 to SL2-5. The connection electrodes TSD may be connected to ends of each of the first touch electrodes TE1-1 to TE1-4 and the second touch electrodes TE2-1 to TE2-5 to transmit signals. In another embodiment of the present invention, the connection electrodes TSD may be omitted.

한편, 도 9에서 제1 터치 신호라인들(SL1-1 내지 SL1-4) 및 제2 터치 신호라인들(SL2-1 내지 SL2-5)은 터치전극(TE)과 터치패드(TS-PD) 사이를 연결하는 것으로 본 발명의 배선부(TW)에 대응하는 것이다. 도 11에서 배선부(TW)로 도시된 것은 제1 터치 신호라인들(SL1-1 내지 SL1-4) 및 제2 터치 신호라인들(SL2-1 내지 SL2-5) 중 어느 하나를 나타내는 것일 수 있다. 또한, 도 11에서 도시된 터치전극(TE)은 제1 터치전극들(TE1-1 내지 TE1-4) 또는 제2 터치전극들(TE2-1 내지 TE2-5) 중 어느 하나일 수 있다.Meanwhile, in FIG. 9 , the first touch signal lines SL1-1 to SL1-4 and the second touch signal lines SL2-1 to SL2-5 are the touch electrode TE and the touch pad TS-PD. It corresponds to the wiring part TW of the present invention by connecting them. What is shown as the wiring part TW in FIG. 11 may represent any one of the first touch signal lines SL1-1 to SL1-4 and the second touch signal lines SL2-1 to SL2-5. there is. Also, the touch electrode TE illustrated in FIG. 11 may be any one of the first touch electrodes TE1-1 to TE1-4 or the second touch electrodes TE2-1 to TE2-5.

도 9에서는 4개의 제1 터치전극들(TE1-1 내지 TE1-4)과 5개의 제2 터치전극들(TE2-1 내지 TE2-5)을 포함하는 터치감지유닛(TS)을 예시적으로 도시하였으나, 실시예가 이에 한정되는 것은 아니다. 9 exemplarily shows a touch sensing unit TS including four first touch electrodes TE1-1 to TE1-4 and five second touch electrodes TE2-1 to TE2-5. However, the embodiment is not limited thereto.

제1 터치전극들(TE1-1 내지 TE1-4) 각각은 복수 개의 터치 개구부들이 정의된 메쉬 형상을 가질 수 있다. 제1 터치전극들(TE1-1 내지 TE1-4) 각각은 복수 개의 제1 터치 센서부들(SP1)과 복수 개의 제1 연결부들(CP1)를 포함한다. 제1 터치 센서부들(SP1)은 제1 방향축(DR1)을 따라 나열된다. 제1 연결부들(CP1) 각각은 제1 터치 센서부들(SP1) 중 인접하는 2개의 제1 터치 센서부들(SP1)을 연결한다. 구체적으로 도시하지 않았으나, 제1 터치 신호라인들(SL1-1 내지 SL1-4) 역시 메쉬 형상을 가질 수 있다. Each of the first touch electrodes TE1-1 to TE1-4 may have a mesh shape in which a plurality of touch openings are defined. Each of the first touch electrodes TE1-1 to TE1-4 includes a plurality of first touch sensor parts SP1 and a plurality of first connection parts CP1. The first touch sensor units SP1 are arranged along the first direction axis DR1. Each of the first connection parts CP1 connects two adjacent first touch sensor parts SP1 among the first touch sensor parts SP1. Although not specifically illustrated, the first touch signal lines SL1-1 to SL1-4 may also have a mesh shape.

제2 터치전극들(TE2-1 내지 TE2-5)은 제1 터치전극들(TE1-1 내지 TE1-4)과 절연 교차한다. 제2 터치전극들(TE2-1 내지 TE2-5) 각각은 복수 개의 터치 개구부들이 정의된 메쉬 형상을 가질 수 있다. 제2 터치전극들(TE2-1 내지 TE2-5) 각각은 복수 개의 제2 터치 센서부들(SP2)과 복수 개의 제2 연결부들(CP2)를 포함한다. 제2 터치 센서부들(SP2)은 제2 방향축(DR2)을 따라 나열된다. 제2 연결부들(CP2) 각각은 제2 터치 센서부들(SP2)은 중 인접하는 2개의 제2 터치 센서부들(SP2)을 연결한다. 제2 터치 신호라인들(SL2-1 내지 SL2-5) 역시 메쉬 형상을 가질 수 있다. The second touch electrodes TE2-1 to TE2-5 insulate and cross the first touch electrodes TE1-1 to TE1-4. Each of the second touch electrodes TE2-1 to TE2-5 may have a mesh shape in which a plurality of touch openings are defined. Each of the second touch electrodes TE2-1 to TE2-5 includes a plurality of second touch sensor units SP2 and a plurality of second connection units CP2. The second touch sensor units SP2 are arranged along the second direction axis DR2. Each of the second connection parts CP2 connects two adjacent second touch sensor parts SP2 among the second touch sensor parts SP2 . The second touch signal lines SL2-1 to SL2-5 may also have a mesh shape.

제1 터치전극들(TE1-1 내지 TE1-4)과 제2 터치전극들(TE2-1 내지 TE2-5)은 정전 결합된다. 제1 터치전극들(TE1-1 내지 TE1-4)에 터치 감지 신호들이 인가됨에 따라 제1 터치 센서부들(SP1)과 제2 터치 센서부들(SP2) 사이에 커패시터들이 형성된다. The first touch electrodes TE1-1 to TE1-4 and the second touch electrodes TE2-1 to TE2-5 are electrostatically coupled. As touch sensing signals are applied to the first touch electrodes TE1-1 to TE1-4, capacitors are formed between the first touch sensor units SP1 and the second touch sensor units SP2.

복수 개의 제1 터치 센서부들(SP1), 복수 개의 제1 연결부들(CP1), 및 제1 터치 신호라인들(SL1-1 내지 SL1-4), 복수 개의 제2 터치 센서부들(SP2), 복수 개의 제2 연결부들(CP2), 및 제2 터치 신호라인들(SL2-1 내지 SL2-5) 중 일부는 도 6a에 도시된 제1 도전층(TS-CL1)을 패터닝하여 형성하고, 다른 일부는 도 6a에 도시된 제2 도전층(TS-CL2)을 패터닝하여 형성할 수 있다.A plurality of first touch sensor units SP1, a plurality of first connection units CP1, and first touch signal lines SL1-1 to SL1-4, a plurality of second touch sensor units SP2, a plurality of Some of the second connection portions CP2 and the second touch signal lines SL2-1 to SL2-5 are formed by patterning the first conductive layer TS-CL1 shown in FIG. 6A , and other portions are formed by patterning the first conductive layer TS-CL1 shown in FIG. 6A . may be formed by patterning the second conductive layer TS-CL2 illustrated in FIG. 6A .

다른 층 상에 배치된 도전 패턴들을 전기적으로 연결하기 위해, 도 8에 도시된 제1 절연층(TS-IL1)을 관통하는 컨택홀을 형성할 수 있다. 이하, 도 10a 내지 도 10c를 참조하여 일 실시예에 따른 터치감지유닛(TS)을 설명한다. 도 10a 내지 도 10c에서 제1 돌출부재 내지 제3 돌출부재(DAM1, DAM2, BK는 비표시 영역(NDA)에 배치되는 것일 수 있다.In order to electrically connect conductive patterns disposed on different layers, a contact hole passing through the first insulating layer TS-IL1 shown in FIG. 8 may be formed. Hereinafter, a touch sensing unit TS according to an exemplary embodiment will be described with reference to FIGS. 10A to 10C . 10A to 10C , the first to third protruding members DAM1, DAM2, and BK may be disposed in the non-display area NDA.

도 10a에 도시된 것과 같이, 봉지층(TFE) 상에 제1 도전패턴들이 배치된다. 제1 도전패턴들은 브릿지 패턴들(CP2)을 포함할 수 있다. 브릿지 패턴들(CP2)이 봉지층(TFE) 상에 직접 배치된다. 브릿지 패턴들(CP2)은 도 9에 도시된 제2 연결부들(CP2)에 대응한다.As shown in FIG. 10A , first conductive patterns are disposed on the encapsulation layer TFE. The first conductive patterns may include bridge patterns CP2. The bridge patterns CP2 are directly disposed on the encapsulation layer TFE. The bridge patterns CP2 correspond to the second connection parts CP2 illustrated in FIG. 9 .

도 10b에 도시된 것과 같이, 봉지층(TFE) 상에 브릿지 패턴들(CP2)을 커버하는 제1 절연층(TS-IL1)이 배치된다. 제1 절연층(TS-IL1)에는 브릿지 패턴들(CP2)을 부분적으로 노출시키는 컨택홀들(CH)이 정의된다. 컨택홀들(CH)은 포토리소그래피 공정에 의해 형성될 수 있다.As shown in FIG. 10B , a first insulating layer TS-IL1 covering the bridge patterns CP2 is disposed on the encapsulation layer TFE. Contact holes CH partially exposing the bridge patterns CP2 are defined in the first insulating layer TS-IL1 . The contact holes CH may be formed by a photolithography process.

도 10c에 도시된 것과 같이, 제1 절연층(TS-IL1) 상에 제2 도전패턴들이 배치될 수 있다. 제2 도전패턴들은 복수 개의 제1 터치 센서부들(SP1), 복수 개의 제1 연결부들(CP1), 및 제1 터치 신호라인들(SL1-1 내지 SL1-4), 복수 개의 제2 터치 센서부들(SP2) 및 제2 터치 신호라인들(SL2-1 내지 SL2-5)을 포함할 수 있다. 별도로 도시하지 않았으나, 제1 터치 절연층(TS-IL1) 상에 제2 도전패턴들을 커버하는 제2 터치 절연층(TS-IL2)이 배치된다. As illustrated in FIG. 10C , second conductive patterns may be disposed on the first insulating layer TS-IL1 . The second conductive patterns include a plurality of first touch sensor units SP1, a plurality of first connection units CP1, first touch signal lines SL1-1 to SL1-4, and a plurality of second touch sensor units. It may include SP2 and second touch signal lines SL2-1 to SL2-5. Although not shown separately, the second touch insulating layer TS-IL2 covering the second conductive patterns is disposed on the first touch insulating layer TS-IL1 .

본 발명의 다른 일 실시예에서 제1 도전패턴들은 제1 터치전극들(TE1-1 내지 TE1-4) 및 제1 터치 신호라인들(SL1-1 내지 SL1-4)을 포함할 수 있다. 제2 도전패턴들은 제2 터치전극들(TE2-1 내지 TE2-5) 및 제2 터치 신호라인들(SL2-1 내지 SL2-5)을 포함할 수 있다. 이때, 제1 터치 절연층(TS-IL1)에는 컨택홀들(CH)이 정의되지 않는다.In another embodiment of the present invention, the first conductive patterns may include first touch electrodes TE1-1 to TE1-4 and first touch signal lines SL1-1 to SL1-4. The second conductive patterns may include second touch electrodes TE2-1 to TE2-5 and second touch signal lines SL2-1 to SL2-5. In this case, the contact holes CH are not defined in the first touch insulating layer TS-IL1 .

또한, 본 발명의 일 실시예에서 제1 도전패턴들과 제2 도전패턴들은 서로 바뀔 수 있다. 즉, 제2 도전패턴들이 브릿지 패턴들(CP2)을 포함할 수 있다.Also, in an embodiment of the present invention, the first conductive patterns and the second conductive patterns may be interchanged. That is, the second conductive patterns may include the bridge patterns CP2 .

도 10d는 도 10c의 "BB" 영역을 확대한 도면이다. 도 10d에 도시된 것과 같이, 제1 터치 센서부(SP1)는 비발광영역(NPXA)에 중첩한다. 제1 터치 센서부(SP1)는 제1 방향(DR1) 및 제2 방향(DR2)과 교차하는 제5 방향(DR5)으로 연장하는 복수 개의 제1 연장부들(SP1-A)과 제5 방향(DR5)과 교차하는 제6 방향(DR6)으로 연장하는 복수 개의 제2 연장부들(SP1-B)을 포함한다. 복수 개의 제1 연장부들(SP1-A)과 복수 개의 제2 연장부들(SP1-B)은 메쉬선으로 정의될 수 있다. 메쉬선의 선폭은 수 마이크로일 수 있다.FIG. 10D is an enlarged view of a region “BB” of FIG. 10C . As illustrated in FIG. 10D , the first touch sensor unit SP1 overlaps the non-emission area NPXA. The first touch sensor unit SP1 includes a plurality of first extension units SP1-A extending in a fifth direction DR5 intersecting the first direction DR1 and the second direction DR2 and a fifth direction ( and a plurality of second extensions SP1 -B extending in a sixth direction DR6 intersecting with DR5. The plurality of first extension parts SP1-A and the plurality of second extension parts SP1-B may be defined as mesh lines. The line width of the mesh line may be several micrometers.

복수 개의 제1 연장부들(SP1-A)과 복수 개의 제2 연장부들(SP1-B)은 서로 연결되어 복수 개의 터치 개구부들(TS-OP)을 형성한다. 다시 말해, 제1 터치 센서부(SP1)는 복수 개의 터치 개구부들(TS-OP)을 구비한 메쉬 형상을 갖는다. 터치 개구부들(TS-OP)이 발광영역들(PXA)에 일대일 대응하는 것으로 도시하였으나, 이에 제한되지 않는다. 하나의 터치 개구부(TS-OP)는 2 이상의 발광영역들(PXA)에 대응할 수 있다. The plurality of first extension parts SP1-A and the plurality of second extension parts SP1-B are connected to each other to form a plurality of touch openings TS-OP. In other words, the first touch sensor unit SP1 has a mesh shape including a plurality of touch openings TS-OP. Although it is illustrated that the touch openings TS-OP correspond to the emission areas PXA one-to-one, the present invention is not limited thereto. One touch opening TS-OP may correspond to two or more light emitting areas PXA.

발광영역들(PXA)의 크기는 다양할 수 있다. 예를 들어, 발광영역들(PXA) 중 청색광을 제공하는 발광영역들(PXA)과 적색광을 제공하는 발광영역들(PXA)의 크기는 상이할 수 있다. 따라서, 터치 개구부들(TS-OP)의 크기 역시 다양할 수 있다. 도 10에서는 발광영역들(PXA)의 크기가 다양한 것을 예시적으로 도시하였으나, 이에 제한되지 않는다. 발광 영역들(PXA)의 크기는 서로 동일할 수 있고, 또한 터치 개구부들(TS-OP)의 크기도 서로 동일할 수 있다.The size of the emission areas PXA may vary. For example, the size of the emission areas PXA providing blue light and the emission areas PXA providing red light among the emission areas PXA may be different from each other. Accordingly, sizes of the touch openings TS-OP may also vary. Although FIG. 10 exemplarily illustrates that the emission areas PXA have various sizes, the present disclosure is not limited thereto. The size of the emission areas PXA may be the same, and the size of the touch openings TS-OP may also be the same.

도 9 및 도 10c에 도시된 일 실시예에서는 돌출부재(DAM)는 비표시 영역(NDA)에 배치되고 제1 돌출부재(DAM1)와 제2 돌출부재(DAM2)는 표시 영역(DA)에 배치된 터치전극들(TE1-1 내지 TE1-4, TE2-1 내지 TE2-5)을 감싸고 배치되는 것일 수 있다. 또한, 배선부(TW)는 터치 패드(TS-PD)에 인접한 돌출부재(DAM) 만을 지나도록 도시되었으나, 실시예가 이에 한정되는 것은 아니다. 배선부(TW)는 터치 패드(TS-PD)에 인접한 부분뿐 아니라 돌출부재(DAM)의 다른 부분을 지나도록 배치될 수도 있다. 예를 들어, 배선부(TW)인 제2 터치 신호라인들(SL2-1 내지 SL2-5)은 제1 방향(DR1)으로 연장되는 제1 돌출부재(DAM1) 및 제2 돌출부재(DAM2) 중 적어도 하나를 지나도록 배치될 수도 있다. 한편, 뱅크부(BK)는 제3 돌출부재로 제2 돌출부재(DAM2)의 외곽 일측에 배치되고, 배선부(TW)는 뱅크부(BK)를 지나 터치 패드(TS-PD)로 연결될 수 있다.9 and 10C , the protrusion member DAM is disposed in the non-display area NDA, and the first protrusion member DAM1 and the second protrusion member DAM2 are disposed in the display area DA. The touch electrodes TE1-1 to TE1-4 and TE2-1 to TE2-5 may be surrounded and disposed. In addition, although the wiring part TW is illustrated to pass only the protrusion member DAM adjacent to the touch pad TS-PD, the embodiment is not limited thereto. The wiring part TW may be disposed to pass through other parts of the protrusion member DAM as well as a part adjacent to the touch pad TS-PD. For example, the second touch signal lines SL2-1 to SL2-5 serving as the wiring part TW may include a first protrusion member DAM1 and a second protrusion member DAM2 extending in the first direction DR1 . It may be disposed to pass through at least one of the On the other hand, the bank part BK is a third protrusion member and is disposed on one side of the outer side of the second protrusion member DAM2 , and the wiring part TW passes through the bank part BK and can be connected to the touch pad TS-PD. there is.

도 12는 도 9의 "AA" 부분을 확대하여 나타낸 평면도이다. 도 12는 터치전극과 터치 패드(TS-PD, 도 9)를 연결하는 배선부(TW)를 확대하여 나타낸 평면도이다. 터치전극은 제1 터치전극들(TE1-1 내지 TE1-4) 또는 제2 터치전극들(TE2-1 내지 TE2-5) 중 어느 하나일 수 있다. 배선부(TW)는 제1 터치 신호라인들(SL1-1 내지 SL1-4, 도 9) 및 제2 터치 신호라인들(SL2-1 내지 SL2-5, 도9) 중 어느 하나를 나타내는 것일 수 있다. 12 is a plan view showing an enlarged portion "AA" of FIG. 12 is an enlarged plan view of a wiring part TW connecting the touch electrode and the touch pad TS-PD ( FIG. 9 ). The touch electrode may be any one of the first touch electrodes TE1-1 to TE1-4 or the second touch electrodes TE2-1 to TE2-5. The wiring unit TW may represent any one of the first touch signal lines SL1-1 to SL1-4 ( FIG. 9 ) and the second touch signal lines SL2-1 to SL2-5 ( FIG. 9 ). there is.

도 13a는 도 12의 Ⅱ-Ⅱ'에 대응하는 부분의 단면을 나타낸 도면이고, 도 13b는 도 12의 "CC" 부분을 확대하여 나타낸 평면도이다. 도 13a 및 도 13b는 도 12의 평면도에서 제1 돌출부재(DAM1)를 지나는 배선부(TW)에 대한 실시예를 나타낸 것이다.13A is a cross-sectional view of a portion corresponding to II-II′ of FIG. 12 , and FIG. 13B is an enlarged plan view of a portion “CC” of FIG. 12 . 13A and 13B show an embodiment of the wiring part TW passing through the first protruding member DAM1 in the plan view of FIG. 12 .

한편, 도 12에서 제1 돌출부재(DAM1)를 지나고 제1 돌출부재(DAM1)와 중첩하는 부분의 배선부(TW)와 제2 돌출부재(DAM2)를 지나고 제2 돌출부재(DAM2)와 중첩하는 부분의 배선부(TW)의 형상이 동일한 것으로 도시되고 있으나, 실시예가 이에 한정되는 것은 아니다. 제1 돌출부재(DAM1)와 중첩하는 제2 배선부(TW2)와 제2 돌출부재(DAM2)에 중첩하는 제2 배선부(TW2)의 형상은 서로 다를 수 있다.On the other hand, in FIG. 12 , passing through the wiring portion TW and the second protruding member DAM2 of the portion overlapping the first protruding member DAM1 after passing through the first protruding member DAM1 , the second protruding member DAM2 overlaps with the second protruding member DAM2 Although it is illustrated that the shape of the wiring part TW is the same, the embodiment is not limited thereto. The shapes of the second wiring part TW2 overlapping the first protruding member DAM1 and the second wiring part TW2 overlapping the second protruding member DAM2 may be different from each other.

도 12에서 제1 돌출부재(DAM1)와 제2 돌출부재(DAM2)를 지나는 배선부(TW)를 나타내었으며, 배선부(TW)는 제1 돌출부재(DAM1)를 지나 제2 돌출부재(DAM2) 방향으로 연장된다. 배선부(TW)는 제1 방향(DR1)으로 연장되는 것일 수 있다. In FIG. 12 , the wiring part TW passing through the first protruding member DAM1 and the second protruding member DAM2 is shown, and the wiring part TW passes the first protruding member DAM1 and the second protruding member DAM2 ) in the direction of The wiring part TW may extend in the first direction DR1 .

도 12, 도 13a 내지 도 13b를 참조하면, 배선부(TW)는 평면상에서 돌출부재(DAM)에 비중첩하는 제1 배선부(TW1)와 돌출부재(DAM)에 중첩하는 제2 배선부(TW2) 및 제1 배선부(TW1)와 제2 배선부(TW2) 사이에 배치된 연결 배선부(TWC)를 포함할 수 있다. 한편, 제1 돌출부재(DAM1) 및 제2 돌출부재(DAM2)와 사이에 배치되는 배선부(TW)는 돌출부재(DAM)에 비중첩하는 제1 배선부(TW1)에 해당한다.12 and 13A to 13B , the wiring portion TW includes a first wiring portion TW1 that does not overlap the protruding member DAM in a plan view and a second wiring portion that overlaps the protruding member DAM ( TW2) and a connection wiring unit TWC disposed between the first wiring unit TW1 and the second wiring unit TW2. Meanwhile, the wiring portion TW disposed between the first protruding member DAM1 and the second protruding member DAM2 corresponds to the first wiring portion TW1 that does not overlap the protruding member DAM.

도 13a 내지 도 13b는 도 12에서 제1 돌출부재(DAM1)와 제1 돌출부재(DAM1)를 지나는 배선부(TW)를 나타낸 도면이다. 제1 배선부(TW1)는 제1 배선폭(W1)을 갖고, 제2 배선부(TW2)는 제2 배선폭(W2)을 가지며, 연결 배선부(TWC)는 제1 배선폭(W1) 및 제2 배선폭(W2) 보다 작은 제3 배선폭(W3)을 갖는 것일 수 있다. 예를 들어, 제1 배선폭(W1)과 제2 배선폭(W2)은 동일할 수 있다. 하지만, 실시예가 이에 한정되는 것은 아니며 제1 배선폭(W1)과 제2 배선폭(W2)은 서로 다를 수 있다.13A to 13B are views illustrating the first protruding member DAM1 and the wiring part TW passing through the first protruding member DAM1 in FIG. 12 . The first wiring unit TW1 has a first wiring width W1 , the second wiring unit TW2 has a second wiring width W2 , and the connection wiring unit TWC has a first wiring width W1 . and a third wiring width W3 smaller than the second wiring width W2. For example, the first wiring width W1 and the second wiring width W2 may be the same. However, the embodiment is not limited thereto, and the first wiring width W1 and the second wiring width W2 may be different from each other.

본 발명에 대한 설명에서, 제1 배선부(TW1), 제2 배선부(TW2) 및 연결 배선부(TWC)의 배선폭(W1, W2, W3)은 배선부(TW)의 연장 방향에 수직하는 방향으로의 폭을 나타낸 것이다. 이하 본 발명의 실시예에 대한 설명에서 배선부의 배선폭은 평면상에서 배선부의 연장 방향과 수직하는 방향으로의 폭을 나타내는 것으로 설명한다. 도 12를 참조하면, 배선폭(W1, W2, W3)은 배선부(TW)가 연장되는 제1 방향(DR1)에 수직하는 제2 방향(DR2)으로의 폭을 나타내는 것일 수 있다.In the description of the present invention, the wiring widths W1 , W2 , and W3 of the first wiring unit TW1 , the second wiring unit TW2 , and the connection wiring unit TWC are perpendicular to the extending direction of the wiring unit TW. The width in the direction is indicated. Hereinafter, in the description of the embodiment of the present invention, the wiring width of the wiring unit will be described as representing the width in a direction perpendicular to the extending direction of the wiring unit on a plane. Referring to FIG. 12 , the wiring widths W1 , W2 , and W3 may indicate widths in the second direction DR2 perpendicular to the first direction DR1 in which the wiring part TW extends.

일 실시예에서, 제1 배선부(TW1)는 제1 배선폭(W1)으로 배선폭이 일정하게 유지되는 부분이고, 제2 배선부(TW2)는 제2 배선폭(W2)으로 배선폭이 일정하게 유지되는 부분일 수 있다. 하지만, 실시예가 이에 한정되는 것은 아니다. 제1 배선부(TW1)는 부분적으로 배선폭이 달라질 수 있다. 또한, 제2 배선부(TW)는 부분적으로 배선폭이 달라질 수 있다.In an exemplary embodiment, the first wiring part TW1 is a portion in which the wiring width is kept constant with the first wiring width W1, and the second wiring part TW2 has the wiring width with the second wiring width W2. It may be a part that is kept constant. However, the embodiment is not limited thereto. The first wiring part TW1 may have a partially different wiring width. Also, the second wiring part TW may have a partially different wiring width.

연결 배선부(TWC)는 제1 배선부(TW1) 및 제2 배선부(TW2) 보다 작은 폭을 갖는 부분일 수 있다. 제3 배선폭(W3)은 연결 배선부(TWC)에서 최소 배선폭을 나타내는 것일 수 있다. 연결 배선부(TWC)는 돌출부재(DAM)의 엣지(DM-E)에 중첩하도록 배치될 수 있다. 예를 들어, 연결 배선부(TWC)에서 최소 배선폭인 제3 배선폭(W3)을 갖는 부분이 돌출부재 엣지(DM-E)와 중첩하여 배치될 수 있다.The connection wiring unit TWC may be a portion having a smaller width than that of the first wiring unit TW1 and the second wiring unit TW2 . The third wiring width W3 may indicate a minimum wiring width in the connection wiring unit TWC. The connection wiring part TWC may be disposed to overlap the edge DM-E of the protrusion member DAM. For example, a portion having the third wiring width W3 , which is the minimum wiring width, in the connection wiring unit TWC may be disposed to overlap the protruding member edge DM-E.

도 13b를 다시 참조하면, 제1 배선부(TW1)의 제1 배선폭(W1)과 연결 배선부(TWC)의 제3 배선폭(W3)의 비는 1:0.3 이상 1:1 미만일 수 있다. 예를 들어, 제1 배선폭(W1)은 8㎛ 이상 15㎛ 이하이고, 제3 배선폭(W3)은 4㎛ 이상 10㎛ 이하일 수 있다. 제1 배선폭(W1)은 10㎛ 이상 12㎛ 이하이고, 제3 배선폭(W3)은 6㎛ 이상 8㎛ 이하일 수 있다. 제3 배선폭(W3)이 4㎛ 미만일 경우 배선부의 단선이 일어날 수 있으며, 배선폭(W3)이 10㎛ 초과일 경우 이웃하는 연결 배선부들 사이의 간격이 좁아져 쇼트 불량이 생길 수 있다.Referring back to FIG. 13B , the ratio of the first wiring width W1 of the first wiring unit TW1 to the third wiring width W3 of the connection wiring unit TWC may be 1:0.3 or more and less than 1:1. . For example, the first wiring width W1 may be 8 μm or more and 15 μm or less, and the third wiring width W3 may be 4 μm or more and 10 μm or less. The first wiring width W1 may be 10 μm or more and 12 μm or less, and the third wiring width W3 may be 6 μm or more and 8 μm or less. When the third wiring width W3 is less than 4 μm, disconnection of the wiring portion may occur, and when the wiring width W3 is more than 10 μm, the interval between adjacent connecting wiring portions is narrowed, thereby causing a short circuit defect.

배선부(TW)의 연장 방향으로의 연결 배선부(TWC)의 길이(L)는 5㎛ 이상 50㎛ 이하일 수 있다. 즉, 제1 방향(DR1)으로 연장되는 제1 배선부(TW1)와 제2 배선부(TW2) 사이의 간격은 5㎛ 이상 50㎛ 이하일 수 있다. 한편, 연결 배선부(TWC)의 중심 부분과 돌출부재의 엣지(DM-E)가 중첩할 수 있다. 예를 들어, 연결 배선부(TWC) 중 돌출부재(DAM1)와 중첩하는 부분과 돌출부재(DAM1)와 중첩하지 않는 부분의 길이는 동일할 수 있다. The length L of the connection wiring part TWC in the extending direction of the wiring part TW may be 5 μm or more and 50 μm or less. That is, the interval between the first wiring part TW1 and the second wiring part TW2 extending in the first direction DR1 may be 5 μm or more and 50 μm or less. Meanwhile, the central portion of the connection wiring portion TWC and the edge DM-E of the protruding member may overlap. For example, a length of a portion overlapping with the protruding member DAM1 and a portion not overlapping with the protruding member DAM1 of the connection wiring unit TWC may have the same length.

예를 들어, 제1 방향(DR1)으로의 연결 배선부(TWC)의 길이(L)가 50㎛일 때, 돌출부재 엣지(DM-E)와 중첩하는 부분을 기준으로 제1 배선부(TW1)까지의 길이가 L1이고, 돌출부재 엣지(DM-E)와 중첩하는 부분에서 제2 배선부(TW2)까지의 길이를 L2라고 할 때, L1 과 L2는 모두 25㎛일 수 있다. 하지만, 실시예가 이에 한정되는 것은 아니며, L1과 L2는 서로 다를 수 있다. 이때, L1은 연결 배선부(TWC) 중 돌출부재(DAM1)와 비중첩하는 부분의 길이이고, L2는 연결 배선부(TWC) 중 돌출부재(DAM2)와 중첩하는 부분의 길이일 수 있다.For example, when the length L of the connection wiring portion TWC in the first direction DR1 is 50 μm, the first wiring portion TW1 is based on a portion overlapping the protruding member edge DM-E. ) is L1 and the length from the portion overlapping the protruding member edge DM-E to the second wiring portion TW2 is L2, L1 and L2 may both be 25 μm. However, the embodiment is not limited thereto, and L1 and L2 may be different from each other. In this case, L1 may be a length of a portion of the connection wiring unit TWC that does not overlap the protruding member DAM1 , and L2 may be a length of a portion of the connection wiring unit TWC that overlaps the protruding member DAM2 .

배선부(TW)에서 연결 배선부(TWC)는 노치(Notch) 형상을 갖는 부분일 수 있다. 도13b를 참조하면, 연결 배선부(TWC)는 제1 배선폭(W1) 보다 작은 배선폭을 갖는 제1 서브 연결부(TWC-1), 제1 배선부(TW1)와 제1 서브 연결부(TWC-1) 사이에 배치되는 제2 서브 연결부(TWC-2) 및 제2 배선부(TW2)와 제1 서브 연결부(TWC-1) 사이에 배치되는 제3 서브 연결부(TWC-3)를 포함할 수 있다. 제1 서브 연결부(TWC-1)는 연결 배선부(TWC)에서 최소폭인 제3 배선폭(W3)을 갖는 부분일 수 있다. 도 13b를 참조하면, 연결 배선부(TWC) 중 제1 서브 연결부(TWC-1)가 돌출부재 엣지(DM-E)에 중첩하여 배치될 수 있다.In the wiring unit TW, the connection wiring unit TWC may be a portion having a notch shape. Referring to FIG. 13B , the connection wiring unit TWC includes a first sub connection unit TWC-1 having a wiring width smaller than the first wiring width W1, the first wiring unit TW1, and the first sub connection unit TWC. -1) to include a second sub-connection part TWC-2 disposed between and a third sub-connection part TWC-3 disposed between the second wiring part TW2 and the first sub-connection part TWC-1. can The first sub-connection part TWC-1 may be a portion having a third interconnection width W3, which is the smallest width, in the connection interconnection part TWC. Referring to FIG. 13B , the first sub-connection part TWC-1 among the connection wiring parts TWC may be disposed to overlap the protrusion member edge DM-E.

제2 서브 연결부(TWC-2)의 배선폭은 제1 서브 연결부(TWC-1)에서 제1 배선부(TW1) 방향으로 갈수록 점차적으로 커지는 것일 수 있다. 또한, 제3 서브 연결부(TWC-3)의 배선폭은 제1 서브 연결부(TWC-1)에서 제2 배선부(TW2) 방향으로 갈수록 점차적으로 커지는 것일 수 있다. 예를 들어, 제2 서브 연결부(TWC-2) 및 제3 서브 연결부(TWC-3)의 엣지는 곡선 형상일 수 있다. 또한, 도면에 도시되지는 않았으나 제2 서브 연결부(TWC-2) 또는 제3 서브 연결부(TWC-3)의 엣지는 직선 형상일 수 있다.The wiring width of the second sub-connection part TWC-2 may gradually increase from the first sub-connection part TWC-1 to the first wiring part TW1 direction. Also, the wiring width of the third sub-connection part TWC-3 may gradually increase from the first sub-connection part TWC-1 to the second wiring part TW2. For example, edges of the second sub-connection part TWC-2 and the third sub-connection part TWC-3 may have a curved shape. Also, although not shown in the drawings, the edge of the second sub-connection part TWC-2 or the third sub-connection part TWC-3 may have a straight shape.

도 13a를 참조하면, 제1 돌출부재(DAM1)는 바닥면(BS), 바닥면(BS)에 대향하는 상부면(US) 및 바닥면(BS)과 상부면(US)을 연결하는 측면(SS)을 포함하는 것일 수 있다. 측면(SS)은 바닥면(BS)에 대하여 경사를 갖는 것일 수 있다. 예를 들어, 제1 돌출부재(DAM1)는 베이스 기판(SUB)에 수직하는 단면에서 사다리꼴 형상일 수 있다. 즉, 제1 방향(DR1)과 제3 방향(DR3)으로 정의되는 평면상에서 제1 돌출부재(DAM1)는 바닥면(BS)에서 상부면(US)으로 갈수록 댐의 폭이 점차적으로 감소하는 형상일 수 있다. 돌출부재(DAM)의 바닥면(BS)의 면적은 상부면(US)의 면적 이상일 수 있다. 한편, 도면에서 구분하여 도시되지 않았으나, 돌출부재는 복수의 층이 적층된 것일 수 있다.13A, the first protruding member DAM1 has a bottom surface BS, an upper surface US opposite to the bottom surface BS, and a side surface connecting the bottom surface BS and the upper surface US ( SS) may be included. The side surface SS may be inclined with respect to the bottom surface BS. For example, the first protrusion member DAM1 may have a trapezoidal shape in a cross section perpendicular to the base substrate SUB. That is, on a plane defined in the first direction DR1 and the third direction DR3 , the first protrusion member DAM1 has a shape in which the width of the dam gradually decreases from the bottom surface BS to the upper surface US. can be The area of the bottom surface BS of the protrusion member DAM may be greater than or equal to the area of the upper surface US. On the other hand, although not shown separately in the drawings, the protruding member may have a plurality of layers stacked.

도 13a 에서는 제1 돌출부재(DAM1)와 제1 돌출부재(DAM1)를 지나는 배선부(TW)에 대해서만 도시하였으나, 도 12의 제2 돌출부재(DAM2)도 제1 돌출부재(DAM1)와 동일한 형상을 갖는 것일 수 있다. 하지만, 실시예가 이에 한정되는 것은 아니며, 제1 돌출부재(DAM1) 와 제2 돌출부재(DAM2)는 서로 다른 형상을 가질 수 있다. 예를 들어, 제1 돌출부재(DAM1)와 제2 돌출부재(DAM2)는 서로 다른 높이를 갖는 것일 수 있다. 제2 돌출부재(DAM2)의 높이가 제1 돌출부재(DAM1)의 높이보다 높은 것일 수 있다.Although only the wiring portion TW passing through the first protruding member DAM1 and the first protruding member DAM1 is illustrated in FIG. 13A , the second protruding member DAM2 of FIG. 12 is also the same as the first protruding member DAM1. It may have a shape. However, the embodiment is not limited thereto, and the first protruding member DAM1 and the second protruding member DAM2 may have different shapes. For example, the first protruding member DAM1 and the second protruding member DAM2 may have different heights. The height of the second protrusion member DAM2 may be higher than the height of the first protrusion member DAM1 .

도 14a 내지 도 14b는 도 9에 도시된 일 실시예의 표시 장치에서 돌출부재(DAM)가 복수의 층으로 형성되는 경우의 일 실시예를 나타낸 도면이다. 도14a는 내지 도 14b는 예시적으로 제1 돌출부재(DAM1)가 두 개의 층으로 적층된 경우를 나타내고 있다.14A to 14B are diagrams illustrating an example in which the protrusion member DAM is formed in a plurality of layers in the display device of the exemplary embodiment illustrated in FIG. 9 . 14A to 14B illustrate a case in which the first protruding member DAM1 is stacked in two layers by way of example.

도 14a는 도 12에서 Ⅱ-Ⅱ'에 대응하는 부분의 단면을 나타낸 도면이고, 도 14b는 도 12의 "CC" 부분을 확대하여 나타낸 평면도이다. 도 14a 및 도 14b는 도 12의 평면도에서 제1 돌출부재(DAM1)를 지나는 배선부(TW)에 대한 도면을 나타낸 것이다. 도 14c는 도 14a의 제1 돌출부재(DAM1)를 나타낸 단면도이다.14A is a cross-sectional view of a portion corresponding to II-II′ in FIG. 12 , and FIG. 14B is an enlarged plan view of a portion “CC” of FIG. 12 . 14A and 14B are views illustrating a wiring part TW passing through the first protruding member DAM1 in the plan view of FIG. 12 . 14C is a cross-sectional view illustrating the first protruding member DAM1 of FIG. 14A .

제1 돌출부재(DAM1)는 베이스 기판(SUB)에 수직하는 단면에서 볼 때, 제1 폭(D1)을 갖고 베이스 기판(SUB) 상에 배치되는 하부 돌출부(DAM1-B)과 하부 돌출부(DAM1-B) 상에 배치되고 제2 폭(D2)을 갖는 상부 돌출부(DAM1-T)을 포함할 수 있다. The first protrusion member DAM1 has a first width D1 when viewed in a cross section perpendicular to the base substrate SUB and includes a lower protrusion DAM1-B and a lower protrusion DAM1 disposed on the base substrate SUB. -B) and may include an upper protrusion DAM1-T having a second width D2.

상부 돌출부(DAM1-T) 및 하부 돌출부(DAM1-B) 각각은 바닥면(BS1, BS2), 상부면(US1, US2) 및 측면(SS1, SS2)을 포함할 수 있다. 바닥면(BS1, BS2)과 상부면(US1, US2)은 서로 대향하는 면이고, 측면(SS1, SS2)은 바닥면(BS1, BS2)과 상부면(US1, US2) 사이에 배치되어 바닥면(BS1, BS2)과 상부면(US1, US2)을 연결하는 면일 수 있다. 예를 들어, 측면(SS1, SS2)은 각각 바닥면(BS1, BS2)에 대하여 경사를 갖는 경사면일 수 있다. 또한, 상부 돌출부(DAM1-T)의 바닥면(BS2)은 하부 돌출부(DAM1-B)의 상부면(US1)의 일부일 수 있다.Each of the upper protrusions DAM1-T and the lower protrusions DAM1-B may include bottom surfaces BS1 and BS2, upper surfaces US1 and US2, and side surfaces SS1 and SS2. The bottom surfaces BS1 and BS2 and the upper surfaces US1 and US2 are opposite to each other, and the side surfaces SS1 and SS2 are disposed between the bottom surfaces BS1 and BS2 and the upper surfaces US1 and US2 to form the bottom surface. It may be a surface connecting the (BS1, BS2) and the upper surface (US1, US2). For example, the side surfaces SS1 and SS2 may be inclined surfaces having an inclination with respect to the bottom surfaces BS1 and BS2, respectively. Also, the bottom surface BS2 of the upper protrusion DAM1-T may be a part of the upper surface US1 of the lower protrusion DAM1-B.

도 14a 및 도 14c에 도시된 단면에서 하부 돌출부(DAM1-B) 및 상부 돌출부(DAM1-T) 각각은 사다리꼴 형상일 수 있다. 즉, 상부 돌출부(DAM1-T) 및 하부 돌출부(DAM1-B) 각각은 바닥면(BS1, BS2)에서 상부면(US1, US2)으로 갈수록 댐의 폭이 점차적으로 감소하는 사다리꼴 형상일 수 있다.In the cross-section shown in FIGS. 14A and 14C , each of the lower protrusions DAM1-B and the upper protrusions DAM1-T may have a trapezoidal shape. That is, each of the upper protrusions DAM1-T and the lower protrusions DAM1-B may have a trapezoidal shape in which the width of the dam gradually decreases from the bottom surfaces BS1 and BS2 to the upper surfaces US1 and US2.

하부 돌출부(DAM1-B)와 상부 돌출부(DAM1-T)의 폭은 서로 다를 수 있다. 하부 돌출부(DAM1-B)의 바닥면(BS1)의 제1 폭(D1)과 상부 돌출부(DAM1-T)의 바닥면(BS2)의 제2 폭(D2)은 서로 다를 수 있다. 하부 돌출부(DAM1-B)의 제1 폭(D1)은 상부 돌출부(DAM1-T)의 제2 폭(D2) 보다 큰 것일 수 있다. 상부 돌출부(DAM1-T)는 하부 돌출부(DAM1-B)의 상부면(US1) 중 일부가 노출되도록 하부 돌출부(DAM1-B) 상에 배치될 수 있다. 즉, 하부 돌출부(DAM1-B)는 상부 돌출부(DAM1-T)와 중첩하는 부분과 상부 돌출부(DAM1-T)와 비중첩하고 노출되는 부분을 포함할 수 있다. 예를 들어, 제1 돌출부재(DAM1)는 서로 다른 폭을 갖는 하부 돌출부(DAM1-B)와 상부 돌출부(DAM1-T)를 적층하여 스텝(step) 형상을 가질 수 있다.Widths of the lower protrusion DAM1-B and the upper protrusion DAM1-T may be different from each other. The first width D1 of the bottom surface BS1 of the lower protrusion DAM1-B and the second width D2 of the bottom surface BS2 of the upper protrusion DAM1-T may be different from each other. The first width D1 of the lower protrusion DAM1-B may be greater than the second width D2 of the upper protrusion DAM1-T. The upper protrusion DAM1-T may be disposed on the lower protrusion DAM1-B so that a portion of the upper surface US1 of the lower protrusion DAM1-B is exposed. That is, the lower protrusion DAM1-B may include a portion overlapping with the upper protrusion DAM1-T and a portion not overlapping and exposed with the upper protrusion DAM1-T. For example, the first protrusion member DAM1 may have a step shape by stacking the lower protrusion parts DAM1-B and the upper protrusion parts DAM1-T having different widths.

한편, 도 14a 내지 도 14c에서는 제1 돌출부재(DAM1) 및 제1 돌출부재(DAM1)를 지나는 배선부(TW)를 도시하였으나, 실시예가 이에 한정되는 것은 아니다. 도 12에 도시된 제2 돌출부재(DAM2)에서도 도 14a 내지 도 14c에서 예시한 돌출부재 형상이 적용될 수 있다.Meanwhile, although FIGS. 14A to 14C illustrate the first protruding member DAM1 and the wiring part TW passing through the first protruding member DAM1, the embodiment is not limited thereto. The shape of the protruding member illustrated in FIGS. 14A to 14C may also be applied to the second protruding member DAM2 shown in FIG. 12 .

스텝으로 적층된 하부 돌출부(DAM1-B) 및 상부 돌출부(DAM1-T)를 포함하는 제1 돌출부재(DAM1)에서 상부 돌출부(DAM1-T)에 중첩하지 않고 노출된 하부 돌출부(DAM1-B)의 노출 부분의 노출폭(D3)은 5㎛ 이상 30㎛ 이하일 수 있다. 예를 들어, 노출폭(D3)은 10㎛ 이상 25㎛ 이하이고, 구체적으로 노출폭(D3)은 15㎛ 이상 20㎛ 이하일 수 있다.Lower protrusion DAM1-B exposed without overlapping upper protrusion DAM1-T in first protrusion DAM1 including step-stacked lower protrusion DAM1-B and upper protrusion DAM1-T The exposure width D3 of the exposed portion may be 5 μm or more and 30 μm or less. For example, the exposure width D3 may be 10 μm or more and 25 μm or less, and specifically, the exposure width D3 may be 15 μm or more and 20 μm or less.

하부 돌출부(DAM1-B)의 바닥면(BS1)의 제1 폭(D1)은 60㎛ 이상 80㎛ 이하일 수 있다. 구체적으로 제1 폭(D1)은 65㎛ 이상 75㎛ 이하일 수 있다. 제2 폭(D2)인 상부 돌출부(DAM1-T)의 바닥면(BS2)의 폭은 10㎛ 이상 60㎛ 이하일 수 있다. 구체적으로 제2 폭(D2)은 30㎛ 이상 50㎛ 이하일 수 있다.The first width D1 of the bottom surface BS1 of the lower protrusion DAM1-B may be 60 μm or more and 80 μm or less. Specifically, the first width D1 may be 65 μm or more and 75 μm or less. The width of the bottom surface BS2 of the upper protrusion DAM1 -T that is the second width D2 may be 10 μm or more and 60 μm or less. Specifically, the second width D2 may be 30 μm or more and 50 μm or less.

하부 돌출부(DAM1-B)의 제1 폭(D1)과 하부 돌출부(DAM1-B)의 노출 부분의 노출폭(D3)의 비는 1:0.01 이상 1:0.4 이하일 수 있다. 노출폭(D3)이 커질수록 이웃하는 배선부들(TW)에서 연결 배선부(TWC) 사이의 쇼트 현상을 개선할 수 있다. 하지만, D1:D3의 비가 1:0.4 보다 커지는 경우 상부 돌출부(DAM1-T)의 면적이 감소하여 상부 돌출부(DAM1-T)를 지나는 배선부(TW)가 안정적으로 배치될 수 없다.A ratio of the first width D1 of the lower protrusion DAM1-B to the exposed width D3 of the exposed portion of the lower protrusion DAM1-B may be 1:0.01 or more and 1:0.4 or less. As the exposure width D3 increases, a short circuit between the connection wiring parts TWC in the adjacent wiring parts TW may be improved. However, when the ratio of D1:D3 is greater than 1:0.4, the area of the upper protrusion DAM1-T is reduced, so that the wiring part TW passing through the upper protrusion DAM1-T cannot be stably disposed.

하부 돌출부(DAM1-B)의 높이(H1)는 2㎛ 이상 5㎛ 이하일 수 있다. 구체적으로 하부 돌출부(DAM1-B)의 높이(H1)는 2㎛ 이상 3㎛ 이하일 수 있다. 하부 돌출부 높이(H1)에 대한 하부 돌출부의 노출폭(D3)의 비가 커질수록 돌출부재 상에서 배선부가 안정적으로 배치될 수 있다.하부 돌출부의 높이(H1)와 하부 돌출부의 노출폭(D3))의 비는 1:1 초과 1:15 이하일 수 있다. 하부 돌출부의 노출폭(D3)와 하부 돌출부 높이(H1)의 비가 1:1 이하이거나 하부 돌출부의 노출폭(D3)과 하부 돌출부 높이(H1)의 비가 1:15초과인 경우 연결 배선부가 안정적으로 형성될 수 없다. 구체적으로 하부 돌출부의 노출폭(D3)과 하부 돌출부 높이(H1)의 비는 1:1 초과 1:5 이하일 수 있다.The height H1 of the lower protrusions DAM1-B may be 2 μm or more and 5 μm or less. Specifically, the height H1 of the lower protrusions DAM1-B may be 2 μm or more and 3 μm or less. As the ratio of the exposure width D3 of the lower protrusion to the height H1 of the lower protrusion increases, the wiring part may be stably disposed on the protrusion member. The ratio may be greater than 1:1 and up to 1:15. When the ratio of the exposed width (D3) of the lower protrusion and the height of the lower protrusion (H1) is 1:1 or less, or the ratio of the exposed width (D3) of the lower protrusion and the height (H1) of the lower protrusion is greater than 1:15, the connection wiring part is stably cannot be formed Specifically, the ratio of the exposure width D3 of the lower protrusion to the height H1 of the lower protrusion may be greater than 1:1 and less than or equal to 1:5.

또한, 상부 돌출부(DAM1-T)의 높이(H2)는 2㎛ 이상 5㎛ 이하일 수 있다. 구체적으로 상부 돌출부(DAM1-T)의 높이(H2)는 2㎛ 이상 3㎛ 이하일 수 있다. 예를 들어, 상부 돌출부(DAM1-T)의 높이(H2)는 하부 돌출부(DAM1-B)의 높이(H1) 보다 작은 것일 수 있다. 하지만, 실시예가 이에 한정되는 것은 아니며, 상부 돌출부(DAM1-T)의 높이(H2)와 하부 돌출부(DAM1-B)의 높이(H1)는 동일할 수 있다.Also, the height H2 of the upper protrusion DAM1-T may be 2 μm or more and 5 μm or less. Specifically, the height H2 of the upper protrusion DAM1-T may be 2 μm or more and 3 μm or less. For example, the height H2 of the upper protrusion DAM1-T may be smaller than the height H1 of the lower protrusion DAM1-B. However, the embodiment is not limited thereto, and the height H2 of the upper protrusion DAM1-T and the height H1 of the lower protrusion DAM1-B may be the same.

한편, 도 14a에 도시된 제1 돌출부재(DAM1)는 유기발광 표시 패널을 제조하는 공정에서 같이 형성될 수 있다. 제1 돌출부재(DAM1)는 소자층(DP-OLED)을 형성하는 공정에서 같이 제조될 수 있다. 예를 들어, 하부 돌출부(DAM1-B)와 상부 돌출부(DAM1-T)는 화소 정의막(PDL, 도 6b) 형성시 같이 제조될 수 있으나 실시예가 이에 한정되는 것은 아니다. Meanwhile, the first protrusion member DAM1 illustrated in FIG. 14A may be formed together in the process of manufacturing the organic light emitting display panel. The first protruding member DAM1 may be manufactured together in the process of forming the device layer DP-OLED. For example, the lower protrusion DAM1-B and the upper protrusion DAM1-T may be manufactured together when the pixel defining layer PDL ( FIG. 6B ) is formed, but the embodiment is not limited thereto.

도 14a 내지 도 14b에 도시된 일 실시예에서, 제1 돌출부재(DAM1)에 중첩하는 제2 배선부(TW2)는 상부 돌출부(DAM1-T)에 중첩하는 것일 수 있다. 연결 배선부(TWC)는 제1 돌출부재(DAM1)의 하부 돌출부(DAM1-B)의 엣지에 중첩할 수 있다. 연결 배선부(TWC)에서 제3 폭(W3)을 갖는 제1 서브 연결부(TWC-1)는 하부 돌출부(DAM1-B)의 엣지에 중첩하고, 제2 배선부(TW2)와 제1 서브 연결부(TWC-1)를 연결하는 제3 서브 연결부(TWC-3)는 상부 돌출부(DAM1-T)의 엣지에 중첩할 수 있다.14A to 14B , the second wiring part TW2 overlapping the first protrusion member DAM1 may overlap the upper protrusion part DAM1 -T. The connection wiring part TWC may overlap an edge of the lower protrusion part DAM1-B of the first protrusion member DAM1. The first sub connection part TWC-1 having the third width W3 in the connection wiring part TWC overlaps the edge of the lower protrusion DAM1-B, and the second wiring part TW2 and the first sub connection part The third sub-connection part TWC-3 connecting the TWC-1 may overlap the edge of the upper protrusion DAM1-T.

도 15a 및 도 15b는 연결 배선부(TWC)를 포함하는 배선부(TW)의 형상의 일 실시예들을 나타낸 도면이다. 도15a 및 도 15b에 도시된 일 실시예의 배선부는 도 13b 및 도 14b에 도시된 배선부(TW)와 비교하여 연결 배선부(TWC)의 형상을 달리한 것이다. 15A and 15B are diagrams illustrating exemplary shapes of the wiring unit TW including the connection wiring unit TWC. The wiring part of the embodiment shown in FIGS. 15A and 15B has a different shape of the connection wiring part TWC compared to the wiring part TW shown in FIGS. 13B and 14B .

한편, 도 13b 및 도 14b에 도시된 배선부(TW)의 형상 및 도 15a 내지 도 15b에 도시된 배선부(TW)의 형상은 일 실시예들을 나타낸 것으로 배선부(TW)의 연결 배선부(TWC) 형상이 이에 한정되는 것은 아니다. On the other hand, the shape of the wiring part TW shown in FIGS. 13B and 14B and the shape of the wiring part TW shown in FIGS. 15A to 15B are exemplary embodiments, and the connection wiring part ( TWC) shape is not limited thereto.

도 15a를 참조하면 연결 배선부(TWC)는 배선폭이 제3 배선폭(W3)으로 일정하게 유지되는 부분일 수 있다. 제1 배선부(TW1)와 연결 배선부(TWC) 및 제2 배선부(TW2)는 배선폭의 차이로 구분될 수 있다. 예를 들어, 도 13b에 도시된 일 실시예에서의 연결 배선부(TWC)와 비교하여 도 15a의 일 실시예에서는 제1 배선폭(W1)으로 일정하게 유지되는 제1 배선부(TW1) 및 제1 배선폭(W1) 보다 작은 제3 배선폭(W3)을 갖는 연결 배선부(TWC) 사이에는 곡면으로 형성된 서브 연결 배선부가 생략될 수 있다. 또한, 연결 배선부(TWC)와 배선폭이 제2 배선폭(W2)으로 일정하게 유지되는 제2 배선부(TW2) 사이에서도 곡면으로 형성된 서브 연결 배선부가 생략될 수 있다. 즉, 도 15a의 일 실시예의 배선부(TW)는 제1 배선부(TW1)와 연결 배선부(TWC) 사이에서 엣지가 곡선형상을 갖는 서브 연결부가 생략될 수 있다. 예를 들어, 도 13b에 도시된 일 실시예에서의 배선부(TW)와 비교하여 제2 서브 연결 부(TWC-2) 및 제3 서브 연결부(TWC-3) 중 적어도 하나가 생략될 수 있다.Referring to FIG. 15A , the connection wiring part TWC may be a part in which the wiring width is constantly maintained as the third wiring width W3 . The first wiring unit TW1, the connection wiring unit TWC, and the second wiring unit TW2 may be divided by a difference in wiring width. For example, compared to the connection wiring part TWC in the embodiment shown in FIG. 13B , in the embodiment of FIG. 15A , the first wiring part TW1 is constantly maintained with the first wiring width W1 and A curved sub-connection wiring portion may be omitted between the connection wiring portions TWC having a third wiring width W3 smaller than the first wiring width W1 . Also, the sub-connection wiring part formed as a curved surface may be omitted between the connection wiring part TWC and the second wiring part TW2 in which the wiring width is constantly maintained as the second wiring width W2 . That is, in the wiring part TW of the exemplary embodiment of FIG. 15A , a sub-connection part having a curved edge between the first wiring part TW1 and the connection wiring part TWC may be omitted. For example, at least one of the second sub-connection part TWC-2 and the third sub-connection part TWC-3 may be omitted compared to the wiring part TW in the exemplary embodiment illustrated in FIG. 13B . .

도 15b를 참조하면, 연결 배선부(TWC)는 제1 배선부(TW1) 및 제2 배선부(TW2) 사이에서 오목하게 함몰된 부분일 수 있다. 예를 들어, 연결 배선부(TWC)는 제1 배선부(TW1)와 제2 배선부(TW2)의 엣지 부분을 연결하는 가상의 선(IML)을 기준으로 내측으로 오목하게 함몰된 부분일 수 있다.Referring to FIG. 15B , the connection wiring part TWC may be a recessed portion between the first wiring part TW1 and the second wiring part TW2 . For example, the connection wiring unit TWC may be a portion concavely recessed inward based on an imaginary line IML connecting the edge portions of the first wiring unit TW1 and the second wiring unit TW2. there is.

한편, 도 15a 내지 15b에 도시되지 않았으나, 연결 배선부(TWC)는 제1 배선부(TW1) 및 제2 배선부(TW2) 사이에 배치되고 제1 배선부(TW1)와 제2 배선부(TW2)의 엣지 부분을 연결하는 가상의 선을 기준으로 내측으로 연결 배선부(TWC)의 엣지가 배치되는 형상이면 제한 없이 사용될 수 있다.Meanwhile, although not shown in FIGS. 15A to 15B , the connection wiring unit TWC is disposed between the first wiring unit TW1 and the second wiring unit TW2, and the first wiring unit TW1 and the second wiring unit (TW1). Any shape in which the edge of the connection wiring unit TWC is disposed inward based on a virtual line connecting the edge portions of TW2 may be used without limitation.

도 16은 도 9의 "AA" 영역에 대응하는 부분을 확대하여 나타낸 평면도일 수 있다. 도 16은 도12의 일 실시예와 비교하여 돌출부재에 중첩하는 제2 배선부(TW2)의 형상이 다른 것일 수 있다. 한편, 도 16에 도시된 바와 같이 제1 돌출부재(DAM1)와 제2 돌출부재(DAM2)를 지나는 배선부(TW)의 형상은 동일할 수 있으나 실시예가 이에 한정되는 것은 아니다. 예를 들어, 제1 돌출부재(DAM1)를 지나는 배선부(TW)는 평면상에서 도 14b에 도시된 형상을 갖는 것일 수 있다.FIG. 16 may be an enlarged plan view of a portion corresponding to area “AA” of FIG. 9 . In FIG. 16 , the shape of the second wiring part TW2 overlapping the protrusion member may be different from that of the exemplary embodiment of FIG. 12 . Meanwhile, as illustrated in FIG. 16 , the shape of the wiring portion TW passing through the first protruding member DAM1 and the second protruding member DAM2 may be the same, but the embodiment is not limited thereto. For example, the wiring portion TW passing through the first protruding member DAM1 may have the shape shown in FIG. 14B in a plan view.

도 17a 및 도 17b는 도 16에서 제2 돌출부재(DAM2) 및 제2 돌출부재(DAM2)를 지나는 배선부(TW)의 일 실시예를 나타낸 것일 수 있다. 도 17a는 도 16에서 Ⅲ-Ⅲ'에 대응하는 면의 단면을 나타낸 것일 수 있다. 도 17b는 도 16에서 "EE" 영역을 확대하여 나타낸 평면도일 수 있다. 도 17a의 일 실시예에서는 제2 돌출부재(DAM2)를 예시하여 설명하며, 도 17a의 일 실시예에서의 제2 돌출부재(DAM2)는 도 13a 및 도 14a에 도시된 일 실시예의 돌출부재의 형상과 다른 것일 수 있다. 17A and 17B may illustrate the second protruding member DAM2 and the wiring part TW passing through the second protruding member DAM2 in FIG. 16 according to an exemplary embodiment. FIG. 17A may be a cross-sectional view of a plane corresponding to III-III′ in FIG. 16 . 17B may be an enlarged plan view of the area “EE” in FIG. 16 . In the embodiment of FIG. 17A , the second protrusion member DAM2 is exemplified and described, and the second protrusion member DAM2 in the embodiment of FIG. 17A is the protrusion member of the embodiment shown in FIGS. 13A and 14A . It may be different from the shape.

도 17a의 도시를 참조하면, 제2 돌출부재(DAM2)는 두께 방향으로 순서대로 적층된 베이스 돌출부(DAM2-U), 제2 하부 돌출부(DAM2-B) 및 제2 상부 돌출부(DAM2-T)를 포함할 수 있다. 제2 돌출부재(DAM2)는 유기발광 표시 패널을 제조하는 공정에서 같이 형성될 수 있다. 예를 들어, 제2 돌출부재(DAM2)의 베이스 돌출부(DAM2-U)는 회로층(DP-CL) 제조 공정에서 같이 형성될 수 있으며, 제2 하부 돌출부(DAM2-B)와 제2 상부 돌출부(DAM2-T)는 소자층(DP-OLED)의 화소 정의막(PDL, 도 6b) 형성시 같이 제조될 수 있다. 하지만, 실시예가 이에 한정되는 것은 아니며, 제2 돌출부재(DAM2)는 제시한 공정과 다른 공정으로 형성될 수 있다.Referring to FIG. 17A , the second protruding member DAM2 includes a base protrusion DAM2-U, a second lower protrusion DAM2-B, and a second upper protrusion DAM2-T that are sequentially stacked in the thickness direction. may include The second protrusion member DAM2 may be formed together in the process of manufacturing the organic light emitting display panel. For example, the base protrusion DAM2-U of the second protrusion member DAM2 may be formed together in the manufacturing process of the circuit layer DP-CL, and the second lower protrusion DAM2-B and the second upper protrusion part DAM2-B (DAM2-T) may be manufactured at the same time when the pixel defining layer PDL ( FIG. 6B ) of the device layer DP-OLED is formed. However, the embodiment is not limited thereto, and the second protrusion member DAM2 may be formed by a process different from the proposed process.

제2 돌출부재(DAM2)에서 베이스 돌출부(DAM2-U), 제2 하부 돌출부(DAM2-B) 및 제2 상부 돌출부(DAM2-T)는 스텝 형상으로 적층된 것일 수 있다. 베이스 돌출부(DAM2-U)는 제1 폭(D1)을 갖고, 제2 하부 돌출부(DAM2-B)는 제2 폭(D2)을 가지며, 제2 상부 돌출부(DAM2-T)는 제4 폭(D4)을 갖는 것일 수 있다. 또한, 베이스 돌출부(DAM2-U) 상에 제2 하부 돌출부(DAM2-B)가 배치될 때. 베이스 돌출부(DAM2-U)의 상부면이 노출될 수 있다. 노출된 베이스 돌출부(DAM2-U)의 노출된 노출폭이 제3폭(D3)일 때, 베이스 돌출부(DAM2-U)의 제1 폭(D1)과 노출폭(D3)의 비는 1:0.1 이상 1:0.4 이하일 수 있다. 또한, 제2 하부 돌출부(DAM2-B) 상에 제2 상부 돌출부(DAM2-T)이 배치될 때, 제2 폭(D2)과 제2 하부 돌출부(DAM2-B)의 노출폭(D5)의 비는 1:0.1 이상 1:0.4 이하일 수 있다.In the second protrusion member DAM2 , the base protrusion DAM2-U, the second lower protrusion DAM2-B, and the second upper protrusion DAM2-T may be stacked in a step shape. The base protrusion DAM2-U has a first width D1, the second lower protrusion DAM2-B has a second width D2, and the second upper protrusion DAM2-T has a fourth width ( D4) may be present. Also, when the second lower protrusion DAM2-B is disposed on the base protrusion DAM2-U. An upper surface of the base protrusion DAM2-U may be exposed. When the exposed width of the exposed base protrusion DAM2-U is the third width D3 , the ratio of the first width D1 of the base protrusion DAM2-U to the exposed width D3 is 1:0.1 It may be greater than or equal to 1:0.4 or less. Also, when the second upper protrusion DAM2-T is disposed on the second lower protrusion DAM2-B, the second width D2 and the exposure width D5 of the second lower protrusion DAM2-B are The ratio may be 1:0.1 or more and 1:0.4 or less.

도 17a 및 도 17b를 참조하면, 또한, 제2 돌출부재(DAM2)를 지나는 배선부(TW)는 제2 돌출부재(DAM2)에 비중첩하는 제1 배선부(TW1), 제2 돌출부재(DAM2)에 중첩하는 제2 배선부(TW2), 및 제1 배선부(TW1)와 제2 배선부(TW2) 사이에 배치되는 연결 배선부(TWC)를 포함할 수 있다. 연결 배선부(TWC)는 제1 배선부(TW1)와 제2 배선부(TW2)를 연결하고 제2 돌출부재(DAM2)의 엣지(DM-E)와 중첩할 수 있다.17A and 17B , in addition, the wiring portion TW passing through the second protruding member DAM2 includes the first wiring portion TW1 and the second protruding member DAM2 that do not overlap the second protruding member DAM2. It may include a second wiring unit TW2 overlapping the DAM2 , and a connection wiring unit TWC disposed between the first wiring unit TW1 and the second wiring unit TW2 . The connection wiring unit TWC may connect the first wiring unit TW1 and the second wiring unit TW2 and overlap the edge DM-E of the second protruding member DAM2 .

또한, 제2 돌출부재(DAM2)에 중첩하는 제2 배선부(TW2)는 제1 배선폭(W1) 보다 큰 제1 서브 배선폭(W4)을 갖는 제1 서브 배선부(TW2-1), 연결 배선부(TWC)에서 연장되고 제1 서브 배선폭(W4)보다 작은 제2 배선폭(W2)을 갖는 제2 서브 배선부(TW2-2) 및 제1 서브 배선부(TW2-1)와 제2 서브 배선부(TW2-2) 사이에 배치되는 제3 서브 배선부(TW2-3)를 포함할 수 있다. 이때, 제2 서브 배선부(TW2-2)의 배선폭은 제1 배선부(TW1)의 배선폭인 제1 배선폭(W1)과 동일한 것일 수 있다. In addition, the second wiring portion TW2 overlapping the second protruding member DAM2 includes a first sub wiring portion TW2-1 having a first sub wiring width W4 greater than the first wiring width W1; a second sub wiring unit TW2-2 and a first sub wiring unit TW2-1 extending from the connection wiring unit TWC and having a second wiring width W2 smaller than the first sub wiring width W4; A third sub-wiring unit TW2-3 disposed between the second sub-wiring units TW2 - 2 may be included. In this case, the wiring width of the second sub wiring unit TW2 - 2 may be the same as the first wiring width W1 , which is the wiring width of the first wiring unit TW1 .

제3 서브 배선부(TW2-3)의 배선폭은 제1 서브 배선부(TW2-1)에서 제2 서브 배선부(TW2-2) 방향으로 갈수록 작아지는 것일 수 있다. 제3 서브 배선부(TW2-3)는 제2 돌출부재(DAM2)의 제2 상부 돌출부(DAM2-T)의 엣지와 중첩하여 배치될 수 있다.The wiring width of the third sub-wiring unit TW2 - 3 may become smaller in a direction from the first sub-wiring unit TW2-1 to the second sub-wiring unit TW2 - 2 . The third sub-wiring part TW2 - 3 may be disposed to overlap an edge of the second upper protrusion DAM2-T of the second protrusion member DAM2 .

즉, 도 17a 내지 도 17b에 도시된 일 실시예에서 배선부(TW)는 베이스 돌출부(DAM-U)의 엣지와 중첩하는 연결 배선부(TWC)가 배선부의 내측으로 오목하게 형성된 노치 형상을 가질 수 있다. 또한, 제2 돌출부재(DAM2)의 최상부면인 제2 상부 돌출부(DAM2-T)의 상부면에서는 제2 배선부(TW2)는 제2 돌출부재(DAM2)와 비중첩하는 제1 배선부(TW1)를 기준으로 돌출되어 형성된 제1 서브 배선부(TW2-1)를 포함할 수 있다. 제1 서브 배선부(TW2-1)는 제1 배선부(TW1)의 배선폭보다 큰 배선폭을 가질 수 있다. 즉, 제2 배선부(TW2)는 제1 배선부(TW1)을 기준으로 볼록하게 돌출된 제1 서브 배선부(TW2-1)를 포함할 수 있다. 예를 들어, 제2 배선부(TW2)에서 제1 서브 배선부(TW2-1)는 돌출 형상을 갖는 제1 서브 배선부를 포함하여 상대적으로 평탄면이 작은 돌출부재의 최상부면에 중첩하는 배선부가 충분한 배선폭을 가지도록 하여 배선부의 단선을 방지할 수 있다.That is, in the embodiment shown in FIGS. 17A to 17B , the wiring part TW has a notch shape in which the connection wiring part TWC overlapping the edge of the base protrusion DAM-U is concavely formed inside the wiring part. can In addition, on the upper surface of the second upper protrusion DAM2-T, which is the uppermost surface of the second protruding member DAM2, the second wiring part TW2 has a first wiring part (not overlapping with the second protruding member DAM2) ( It may include a first sub-wiring part TW2-1 formed to protrude with respect to TW1. The first sub-wiring unit TW2-1 may have a wiring width greater than the wiring width of the first wiring unit TW1. That is, the second wiring unit TW2 may include the first sub wiring unit TW2-1 convexly protruding from the first wiring unit TW1 . For example, in the second wiring unit TW2 , the first sub wiring unit TW2-1 includes the first sub wiring unit having a protruding shape, and a wiring portion overlapping the uppermost surface of the protruding member having a relatively small flat surface. It is possible to prevent disconnection of the wiring part by having a sufficient wiring width.

도 18a는 일 실시예의 표시 장치에서 돌출부재와 돌출부재를 지나 배치되는 배선부를 나타낸 평면도이다. 도 18a는 도 9의 "AA" 영역에 대응하는 부분을 확대하여 나타낸 평면도일 수 있다. 도 18a는 도 12 및 도 16의 일 실시예와 비교하여 제1 돌출부재(DAM1)에 중첩하는 제2 배선부(TW2a)와 제2 돌출부재(DAM2)에 중첩하는 제2 배선부(TW2b)의 형상이 서로 다른 경우를 도시한 것이다. 도 18b는 도 18a의 Ⅳ-Ⅳ'에 대응하는 면의 단면을 나타낸 도면이다.18A is a plan view illustrating a protruding member and a wiring portion disposed past the protruding member in the display device according to an exemplary embodiment; FIG. 18A may be an enlarged plan view of a portion corresponding to area “AA” of FIG. 9 . 18A shows a second wiring part TW2a overlapping the first protruding member DAM1 and a second wiring part TW2b overlapping the second protruding member DAM2 compared to the exemplary embodiment of FIGS. 12 and 16 . A case in which the shapes of are different from each other is shown. 18B is a view showing a cross-section of a plane corresponding to IV-IV' of FIG. 18A.

도 18a 및 도 18b에 대한 설명에서, 상술한 도 12 및 도 16의 일 실시예에 대한 설명과 중복되는 내용은 다시 설명하지 않으며, 차이점을 위주로 설명한다.In the description of FIGS. 18A and 18B , content overlapping with the description of the exemplary embodiment of FIGS. 12 and 16 will not be described again, and differences will be mainly described.

도 18a 내지 도 18b를 참조하면, 제1 돌출부재(DAM1)는 두 개의 층이 적층된 돌출부재이고, 제2 돌출부재(DAM2)는 세 개의 층이 적층된 돌출부재일 수 있다. 제1 돌출부재(DAM1)는 제1 하부 돌출부(DAM1-B)와 제1 상부 돌출부(DAM1-T)를 포함하고, 제2 돌출부재(DAM2)는 베이스 돌출부(DAM2-U), 제2 하부 돌출부(DAM2-B) 및 제2 상부 돌출부(DAM2-T)를 포함할 수 있다. 18A to 18B , the first protrusion member DAM1 may be a protrusion member in which two layers are stacked, and the second protrusion member DAM2 may be a protrusion member in which three layers are stacked. The first protrusion member DAM1 includes a first lower protrusion part DAM1-B and a first upper protrusion part DAM1-T, and the second protrusion member DAM2 includes a base protrusion part DAM2-U and a second lower part. It may include a protrusion DAM2-B and a second upper protrusion DAM2-T.

일 실시예에서 제1 하부 돌출부(DAM1-B)와 제2 하부 돌출부(DAM2-B)는 동일 공정에서 제조되는 것일 수 있다. 또한, 제1 상부 돌출부(DAM1-T)와 제2 상부 돌출부(DAM2-T)는 동일 공정에서 제조되는 것일 수 있다. 예를 들어, 제1 하부 돌출부(DAM1-B)와 제2 하부 돌출부(DAM2-B), 및 제1 상부 돌출부(DAM1-T)와 제2 상부 돌출부(DAM2-T)는 유기발광 표시 패널(DP)의 화소 정의막(PDL 도 6c)을 형성하는 공정과 동일 공정에서 형성되는 것일 수 있다. 또한, 제2 돌출부재(DAM2)의 베이스 돌출부(DAM2-U)는 회로층(DP-CL)을 형성하는 공정과 동일한 공정에서 형성될 수 있다.In an embodiment, the first lower protrusion DAM1-B and the second lower protrusion DAM2-B may be manufactured in the same process. Also, the first upper protrusion DAM1-T and the second upper protrusion DAM2-T may be manufactured in the same process. For example, the first lower protrusion DAM1-B and the second lower protrusion DAM2-B, and the first upper protrusion DAM1-T and the second upper protrusion DAM2-T are the organic light emitting display panel ( It may be formed in the same process as the process of forming the pixel defining layer (PDL of FIG. 6C ) of the DP). In addition, the base protrusion DAM2-U of the second protrusion member DAM2 may be formed in the same process as the process of forming the circuit layer DP-CL.

도 18a 내지 도 18b의 일 실시예에서 제2 돌출부재(DAM2) 상에 배치된 제2 배선부(TW2a)는 제2 상부 돌출부(DAM2-T)와 중첩하는 제1 서브 배선부(TW2-1), 제2 하부 돌출부(DAM2-B)의 노출된 부분과 중첩하는 제2 서브 배선부(TW2-2) 및 제2 하부 돌출부(DAM2-B)와 제2 상부 돌출부(DAM2-T) 사이의 단차 부분에 배치되는 제3 서브 배선부(TW2-3)를 포함할 수 있다.18A to 18B , the second wiring part TW2a disposed on the second protruding member DAM2 is the first sub-wiring part TW2-1 overlapping the second upper protruding part DAM2-T. ), the second sub wiring portion TW2 - 2 overlapping the exposed portion of the second lower protrusion DAM2-B, and between the second lower protrusion DAM2-B and the second upper protrusion DAM2-T It may include a third sub-wiring unit TW2 - 3 disposed in the stepped portion.

평면상에서 볼 때, 배선부(TW)는 제1 돌출부재(DAM1) 및 제2 돌출부재(DAM2)의 엣지와 중첩하는 부분에서는 오목하게 함몰된 노치 형상을 가진다. 또한, 제1 돌출부재에 비하여 댐의 높이가 높은 제2 돌출부재에서는 제2 배선부(TW2b) 중에서 볼록하게 돌출된 돌출부분을 포함할 수 있다. When viewed in a plan view, the wiring portion TW has a concave notch shape at a portion overlapping the edges of the first protruding member DAM1 and the second protruding member DAM2 . In addition, the second protruding member having a higher dam height than the first protruding member may include a convexly protruding protrusion among the second wiring parts TW2b.

복수의 층이 적층되어 형성된 돌출부재에서는 단차가 있는 부분에서 배선부가 노치 형상을 갖도록하고, 평탄면이 상대적으로 작은 돌출부재의 최상부면에서는 배선부가 다른 부분보다 볼록하게 돌출된 형상을 갖도록하여 전체적으로 배선부의 쇼트 불량 또는 단선 불량을 개선할 수 있다.In the protruding member formed by stacking a plurality of layers, the wiring portion has a notch shape at the stepped portion, and on the uppermost surface of the protruding member with a relatively small flat surface, the wiring portion has a convexly protruding shape than other portions, so that the wiring as a whole It is possible to improve a negative short circuit defect or a disconnection defect.

도 19a 및 도 19b는 상술한 도 14a 및 도 14b의 일 실시예와 비교하여 연결부(TW)의 구성을 달리하는 경우의 단면과 평면도를 나타낸 것이다. 도 19a 내지 도 19b를 참조하면 배선부(TW)는 이중 배선의 구조를 가질 수 있다.19A and 19B show a cross-section and a plan view of a case in which the configuration of the connection part TW is different compared to the exemplary embodiment of FIGS. 14A and 14B described above. 19A to 19B , the wiring unit TW may have a double wiring structure.

일 실시예에서 배선부(TW)는 제1 금속층(MTL1), 절연층(ISL), 제2 금속층(MTL2) 및 컨택홀(CL)을 포함할 수 있다. 제1 금속층(MTL1)은 봉지층(TFE) 상에 배치되고, 제1 금속층(MTL1)과 제2 금속층(MTL2) 사이에는 절연층(ISL)이 배치될 수 있다. 또한, 제1 금속층(MTL1)과 제2 금속층(MTL2) 사이에는 복수 개의 컨텍홀(CL)들이 배치될 수 있다. 컨택홀(CL)들은 제1 금속층(MTL1)과 제2 금속층(MTL2)를 전기적으로 연결하는 것일 수 있다. 컨택홀(CL)은 절연층(ISL)을 통과하도록 형성된 것일 수 있다. 배선부를 제1 금속층(MTL1)과 제2 금속층(MTL2)이 적층된 이중 배선 구조를 하여 배선부의 저항을 감소시킬 수 있다.In an embodiment, the wiring unit TW may include a first metal layer MTL1 , an insulating layer ISL, a second metal layer MTL2 , and a contact hole CL. The first metal layer MTL1 may be disposed on the encapsulation layer TFE, and an insulating layer ISL may be disposed between the first metal layer MTL1 and the second metal layer MTL2 . Also, a plurality of contact holes CL may be disposed between the first metal layer MTL1 and the second metal layer MTL2 . The contact holes CL may electrically connect the first metal layer MTL1 and the second metal layer MTL2. The contact hole CL may be formed to pass through the insulating layer ISL. The wiring unit may have a double wiring structure in which the first metal layer MTL1 and the second metal layer MTL2 are stacked to reduce resistance of the wiring unit.

또한, 일 실시예에서, 컨택홀(CL)은 연결 배선부(TWC)와 비중첩하여 배치될 수 있다. 컨택홀(CL)은 돌출부재의 단차가 있는 부분과 비중첩 하도록 배치될 수 잇다. 컨택홀(CL)은 봉지층(TFE) 상의 평탄면 및 상부 돌출부(DAM-T)의 평탄면 상에 배치되도록 하여 제1 금속층(MTL1)과 제2 금속층(MTL2)의 전기적 연결을 양호하게 함으로써 배선부(TW)의 저항을 감소시킬 수 있다.Also, in an embodiment, the contact hole CL may be disposed to not overlap the connection wiring part TWC. The contact hole CL may be disposed so as not to overlap with the stepped portion of the protruding member. The contact hole CL is disposed on the flat surface of the encapsulation layer TFE and the flat surface of the upper protrusion DAM-T to make good electrical connection between the first metal layer MTL1 and the second metal layer MTL2. The resistance of the wiring unit TW may be reduced.

이상 도 9 내지 도 19b에서 설명한 일 실시예에서는 터치감지유닛의 터치 패드와 인접한 부분에서의 돌출부재를 지나는 배선부의 형상을 예시적으로 나타내었으나, 실시예가 이에 한정되는 것은 아니다. 예를 들어, 도 9에 도시된 제2 터치전극들(TE2-1 내지 TE2-5)에 연결되어 제2 방향(DR2)으로 연장되는 배선부(TW)가 제1 방향(DR1)으로 연장되는 돌출부재(DAM)를 지나도록 배치되는 경우에도 상술한 일 실시예의 배선부 형상이 적용될 수 있다. 또한, 돌출부재(DAM)를 지나는 경우뿐 아니라 단차를 갖는 구조물을 지나는 배선부는 구조물의 단차 부분에서 오목하게 함몰된 노치 형상을 가질 수 있다.In the embodiment described above with reference to FIGS. 9 to 19B , the shape of the wiring part passing through the protruding member in the portion adjacent to the touch pad of the touch sensing unit is exemplarily shown, but the embodiment is not limited thereto. For example, the wiring portion TW connected to the second touch electrodes TE2-1 to TE2-5 shown in FIG. 9 and extending in the second direction DR2 extends in the first direction DR1. Even when the protrusion member DAM is disposed to pass, the shape of the wiring part according to the above-described exemplary embodiment may be applied. In addition, a wiring portion passing through the structure having a step as well as passing through the protrusion member DAM may have a notch shape concavely recessed in the step portion of the structure.

상술한 배선부의 구조를 갖는 일 실시예의 표시 장치는 배선부 사이의 쇼트 불량 또는 배선부의 단선 불량을 개선할 수 있다.The display device according to an exemplary embodiment having the above-described structure of the wiring unit may improve a short circuit defect between the wiring units or a disconnection defect of the wiring unit.

도 20은 일 실시예의 표시 장치에서 터치감지유닛의 배선부를 형성하는 공정 중 포토 공정의 일부를 단면도로 나타낸 것이다. 배선부는 일 실시예에서 도 20의 공정에서 유기발광 표시패널(DP)의 봉지층(TFE) 상에 증착된 금속층(TW-M)을 패터닝 하여 형성할 수 있다. 봉지층(TFE) 상에는 금속층(TW-M)이 증착되고, 금속층(TW-M) 상에는 배선부를 패터닝하기 위한 유기층(OM)이 제공될 수 있다. 유기층(OM)은 포토 레지스트(photo resist) 물질일 수 있으며, 예를 들어 유기층(OM)으로는 네거티브 타입의 포토 레지스트가 사용될 수 있다. 유기층(OM)이 코팅된 유기발광 표시패널(DP) 상에 마스크(MSK)를 배치하고 자외선 광을 제공하여 유기층(OM)을 경화한 후 경화되지 않은 유기층(OM)을 제거하여 마스크 형상에 따라 유기층(OM)을 패터닝한다. 이후 에칭(etching) 공정을 진행하여 패터닝된 유기층(OM)을 따라 금속층(TW-M)을 패터닝한다. 금속층(TW-M) 패터닝 이후 스트립(strip) 공정을 수행하여 남아있는 유기층(OM)을 제거하여 배선부를 형성한다.20 is a cross-sectional view illustrating a part of a photo process during a process of forming a wiring part of a touch sensing unit in the display device according to an exemplary embodiment. The wiring part may be formed by patterning the metal layer TW-M deposited on the encapsulation layer TFE of the organic light emitting display panel DP in the process of FIG. 20 in an embodiment. A metal layer TW-M may be deposited on the encapsulation layer TFE, and an organic layer OM for patterning the wiring portion may be provided on the metal layer TW-M. The organic layer OM may be a photoresist material, for example, a negative type photoresist may be used as the organic layer OM. The mask MSK is disposed on the organic light emitting display panel DP coated with the organic layer OM, the organic layer OM is cured by providing ultraviolet light, and then the uncured organic layer OM is removed according to the shape of the mask. The organic layer OM is patterned. Thereafter, an etching process is performed to pattern the metal layer TW-M along the patterned organic layer OM. After patterning the metal layer TW-M, a strip process is performed to remove the remaining organic layer OM to form a wiring part.

도 21a는 배선부를 형성하기 위하여 사용된 종래의 마스크(MSK') 형상을 나타낸 것이다. 도 21b는 도 21a에 도시된 마스크(MSK')를 사용하여 형성된 배선부(TW')를 나타낸 도면이다.21A shows the shape of a conventional mask MSK' used to form a wiring part. FIG. 21B is a diagram illustrating a wiring portion TW′ formed using the mask MSK′ shown in FIG. 21A .

도 21a에서 마스크(MSK')는 투광부(OTA)와 차광부(OBA)를 포함할 수 있다. 도 21a에 도시된 마스크(MSK')에서 투광부(OTA)의 엣지는 직선 형상이다. 도 21a에 도시된 형상을 갖는 마스크(MSK')를 이용하여 돌출부재(DAM')를 지나는 배선부를 형성한 경우 도 21b의 "FF"영역 에서와 같이 돌출부재의 엣지(DM-E') 부분에서 이웃하는 배선부(TW')가 서로 연결되어 배선부(TW') 쇼트 현상이 발생할 수 있다. 이는 배선부(TW') 패터닝을 위하여 유기층(OM)을 제공할 때, 돌출부재(DAM')의 단차가 발생하는 부분에서 유기층(OM)의 적층 높이가 높아져 금속층(TW-M) 에칭시 배선부(TW') 엣지 부분의 패터닝 품질이 저하되는 문제가 발생하기 때문이다. 두껍게 형성된 유기층(OM)의 영향으로 돌출부재(DAM')를 지나는 금속층이 마스크 패턴을 따라 직선 형상의 엣지를 가지도록 패터닝되지 못하여 이웃하는 패터닝된 배선부들(TW') 사이의 거리가 가까워지게 되어 배선부에서 부분적으로 쇼트가 일어날 수 있다.In FIG. 21A , the mask MSK' may include a light transmitting part OTA and a light blocking part OBA. In the mask MSK' illustrated in FIG. 21A , the edge of the light-transmitting part OTA is linear. When a wiring part passing through the protruding member DAM' is formed using the mask MSK' having the shape shown in FIG. 21A, as in the "FF" region of FIG. 21B, the edge DM-E' part of the protruding member In this case, the adjacent wiring units TW' are connected to each other, and a short circuit may occur in the wiring units TW'. This is because, when the organic layer OM is provided for patterning the wiring portion TW′, the stacking height of the organic layer OM is increased at the portion where the step of the protruding member DAM′ occurs, so that the metal layer TW-M is etched during wiring. This is because a problem occurs in that the patterning quality of the negative (TW') edge portion is deteriorated. Due to the influence of the thick organic layer OM, the metal layer passing through the protruding member DAM' could not be patterned to have a straight edge along the mask pattern, so the distance between the adjacent patterned wiring parts TW' became closer. A short circuit may occur partially in the wiring part.

도 22는 일 실시예의 표시 장치에서의 배선부를 형성하기 위하여 사용된 마스크(MSK1) 형상을 나타낸 것이다. 마스크(MSK1)는 투광부(OTA)와 차광부(OBA)를 포함하며, 투광부(OTA) 형상은 일 실시예의 표시 장치에서 돌출부재(DAM) 상에 형성된 도 12의 배선부(TW)의 형상에 대응하는 것일 수 있다. 22 illustrates a shape of a mask MSK1 used to form a wiring portion in a display device according to an exemplary embodiment. The mask MSK1 includes a light transmitting portion OTA and a light blocking portion OBA, and the light transmitting portion OTA has a shape of the wiring portion TW of FIG. 12 formed on the protruding member DAM in the display device according to an exemplary embodiment. It may correspond to the shape.

도 22는 돌출부재(DAM) 상에 중첩하여 배치되는 부분의 마스크(MSK1) 형상을 나타낸 것이다. 마스크(MSK1)의 투광부(OTA)는 돌출부재(DAM)와 비중첩하는 부분에서 제1폭(M1)을 갖고, 돌출부재(DAM)와 중첩하는 부분에서 제2폭(M2)을 가지며, 돌출부재(DAM)의 엣지(DM-E)와 중첩하는 연결부분에서 제3폭(M3)을 갖는 것일 수 있다. 이때, 제1폭(M1)과 제2폭(M2)은 동일하고 제3폭(M3)은 제1폭(M1) 및 제2폭(M2) 보다 작은 것일 수 있다. 예를 들어, 마스크(MSK1)에서 투광부(OTA)의 제1폭(M1)과 제2폭(M2)은 각각 도 12에 도시된 일 실시예의 표시 장치에서 배선부 중 제1 배선부(TW1)와 제2 배선부(TW2)의 배선폭인 제1 배선폭(W1) 및 제2 배선폭(W2)에 대응하는 것일 수 있다. 또한 투광부(OTA)의 제3폭(M3)은 연결 배선부(TWC)의 제3 배선폭(W3)에 대응하는 것일 수 있다.22 illustrates a shape of a mask MSK1 of a portion overlappingly disposed on the protruding member DAM. The light transmitting portion OTA of the mask MSK1 has a first width M1 at a portion that does not overlap with the protruding member DAM, and has a second width M2 at a portion overlaps with the protruding member DAM, A connection portion overlapping the edge DM-E of the protrusion member DAM may have a third width M3. In this case, the first width M1 and the second width M2 may be the same and the third width M3 may be smaller than the first width M1 and the second width M2 . For example, in the mask MSK1 , the first width M1 and the second width M2 of the light transmitting part OTA are respectively the first wiring part TW1 among the wiring parts in the display device of the exemplary embodiment shown in FIG. 12 . ) and the first wiring width W1 and the second wiring width W2 that are the wiring widths of the second wiring unit TW2 . Also, the third width M3 of the light transmitting part OTA may correspond to the third wiring width W3 of the connection wiring part TWC.

도 22에 도시된 마스크(MSK1) 형상을 사용하여 배선부를 패터닝하는 경우 돌출부재의 엣지(DM-E)에 중첩하는 부분에서 마스크(MSK1)의 투광부(OTA)가 제1폭(M1) 또는 제2 폭(M2) 보다 작은 제3폭(M3)을 갖도록 디자인하여 배선부들 간의 쇼트 현상을 방지할 수 있다. 마스크(MSK1)의 투광부(OTA)가 돌출부재(DAM)의 엣지(DM-E)에 중첩하는 부분에서 돌출부재(DAM)와 중첩하는 부분과 비교하여 작은 제3폭(M3)을 갖도록 하여, 제3폭(M3)의 마스크 투광부(OTA)를 투과한 광에 의하여 형성된 유기층의 두께를 작게할 수 있다. 따라서, 이후 에칭 공정에 의하여 형성된 배선부는 돌출부재의 엣지(DM-E)에 중첩하는 부분에서 이웃하는 배선부 사이가 충분히 이격될 수 있어 배선부 간의 쇼트 문제가 개선될 수 있다.When the wiring portion is patterned using the shape of the mask MSK1 shown in FIG. 22 , the light transmitting portion OTA of the mask MSK1 has the first width M1 or By designing to have a third width M3 smaller than the second width M2 , a short circuit between wiring units may be prevented. The light transmitting portion OTA of the mask MSK1 is made to have a smaller third width M3 compared to the portion overlapping the protruding member DAM at the portion overlapping the edge DM-E of the protruding member DAM , the thickness of the organic layer formed by the light passing through the mask light-transmitting part OTA of the third width M3 may be reduced. Accordingly, in the portion overlapping the edge DM-E of the protruding member in the wiring portion formed by the subsequent etching process, adjacent wiring portions may be sufficiently spaced apart, so that the short circuit problem between the wiring portions may be improved.

한편, 돌출부재가 복수의 층으로 적층되어 형성되며, 돌출부재의 최상부면의 면적이 하부 돌출부의 면적 보다 작은 경우 도 23에 도시된 마스크(MSK2)를 이용하여 배선부를 패터닝할 수 있다.Meanwhile, when the protrusion member is formed by stacking a plurality of layers, and the area of the uppermost surface of the protrusion member is smaller than the area of the lower protrusion, the wiring part may be patterned using the mask MSK2 shown in FIG. 23 .

도 23은 일 실시예의 표시 장치에서의 배선부를 형성하기 위하여 사용된 마스크(MSK2) 형상을 나타낸 것이다. 마스크(MSK2)는 투광부(OTA)와 차광부(OBA)를 포함하며, 투광부(OTA) 형상은 일 실시예의 표시 장치에서 돌출부재(DAM) 상에 형성된 도 16의 배선부(TW)의 형상에 대응하는 것일 수 있다. 23 illustrates a shape of a mask MSK2 used to form a wiring portion in a display device according to an exemplary embodiment. The mask MSK2 includes a light transmitting portion OTA and a light blocking portion OBA, and the light transmitting portion OTA has a shape of the wiring portion TW of FIG. 16 formed on the protruding member DAM in the display device according to an exemplary embodiment. It may correspond to the shape.

도 23은 돌출부재(DAM) 상에 중첩하여 배치되는 부분의 마스크(MSK2) 형상을 나타낸 것이다. 마스크(MSK2)의 투광부(OTA)는 돌출부재(DAM)와 비중첩하는 부분에서 제1폭(M1)을 갖고, 돌출부재(DAM)와 중첩하는 부분에서 제2폭(M2)을 갖는 부분과 제2폭 보다 큰 제4폭(M4)을 갖는 부분을 포함할 수 있다. 또한, 돌출부재(DAM)의 엣지(DM-E)와 중첩하는 연결부분에서 제3폭(M3)을 가질 수 있다. 이때, 제1폭(M1)과 제2폭(M2)은 동일하고 제3폭(M3)은 제1폭(M1) 및 제2폭(M2) 보다 작은 것일 수 있다. 예를 들어, 마스크(MSK2)에서 투광부(OTA)의 제1폭(M1)과 제2폭(M2)은 각각 도 16에 도시된 일 실시예의 표시 장치에서 배선부 중 제1 배선부(TW1)와 제2 배선부(TW2)의 배선폭인 제1 배선폭(W1) 및 제2 배선폭(W2)에 대응하는 것일 수 있다. 또한 투광부(OTA)의 제3폭(M3)은 연결 배선부(TWC)의 제3 배선폭(W3)에 대응하는 것일 수 있다. 투광부(OTA)의 제4폭(M4)은 제1 서브 배선부(TW2-1)의 제1 서브 배선폭(W4)에 대응하는 것일 수 있다.23 illustrates the shape of the mask MSK2 of a portion overlappingly disposed on the protruding member DAM. The light transmitting portion OTA of the mask MSK2 has a first width M1 at a portion that does not overlap with the protruding member DAM, and has a second width M2 at a portion overlaps with the protruding member DAM and a portion having a fourth width M4 greater than the second width. In addition, a third width M3 may be provided at the connection portion overlapping the edge DM-E of the protrusion member DAM. In this case, the first width M1 and the second width M2 may be the same and the third width M3 may be smaller than the first width M1 and the second width M2 . For example, in the mask MSK2 , the first width M1 and the second width M2 of the light transmitting part OTA are respectively the first wiring part TW1 of the wiring parts in the display device of the exemplary embodiment shown in FIG. 16 . ) and the first wiring width W1 and the second wiring width W2 that are the wiring widths of the second wiring unit TW2 . Also, the third width M3 of the light transmitting part OTA may correspond to the third wiring width W3 of the connection wiring part TWC. The fourth width M4 of the light transmitting part OTA may correspond to the first sub-wiring width W4 of the first sub-wiring part TW2-1.

도 23에 도시된 마스크(MSK2) 형상을 사용하여 배선부를 패터닝하는 경우 돌출부재의 엣지(DM-E)에 중첩하는 부분에서 마스크(MSK2)의 투광부(OTA)가 제1폭(M1) 또는 제2 폭(M2) 보다 작은 제3폭(M3)을 갖도록 디자인하여 배선부들 간의 쇼트 현상을 방지할 수 있다. When the wiring part is patterned using the shape of the mask MSK2 shown in FIG. 23 , the light transmitting part OTA of the mask MSK2 has a first width M1 or By designing to have a third width M3 smaller than the second width M2 , a short circuit between wiring units may be prevented.

한편, 돌출부재의 최상부면의 경우 상대적으로 좁은 면적으로 인하여 종래의 마스크(MSK')를 이용하여 연결부를 패터닝할 때, 돌출부재의 최상층의 엣지 부분에서 금속층의 에칭 정도가 과도해져서 연결부의 단선이 일어나는 문제가 발생할 수 있다.On the other hand, when the connection part is patterned using the conventional mask MSK' due to the relatively narrow area of the top surface of the protruding member, the degree of etching of the metal layer at the edge portion of the uppermost layer of the protruding member is excessive, so that the disconnection of the connection part is problems may arise.

이와 비교하여, 도 23에 도시된 형상의 마스크(MSK2)를 사용하여 연결부를 패터닝하는 경우 돌출부재의 최상층에서의 마스크의 투광부(OTA)의 폭을 상대적으로 크게 함으로써, 배선부가 충분한 폭을 가지도록 패터닝할 수 있어 배선부의 단선 문제가 개선될 수 있다.In comparison, when the connection part is patterned using the mask MSK2 having the shape shown in FIG. 23, the width of the light transmitting part OTA of the mask in the uppermost layer of the protruding member is relatively large, so that the wiring part has a sufficient width. and patterning in such a way that the disconnection problem of the wiring part can be improved.

따라서, 일 실시예의 표시 장치에서 배선부는 돌출부재의 단차 부분에서는 오목한 형상의 노치를 형성하여 이웃하는 배선부 사이의 쇼트 문제를 개선할 수 있으며, 돌출부재의 최상부면에서는 볼록한 형상의 돌출부분을 형성하여 배선부의 단선 문제를 개선할 수 있다. Accordingly, in the display device according to an exemplary embodiment, the wiring unit forms a concave notch at the step portion of the protruding member to improve the short circuit problem between the adjacent wiring units, and a convex protrusion is formed on the uppermost surface of the protruding member. Thus, it is possible to improve the disconnection problem of the wiring part.

한편, 일 실시예의 표시 장치에서 돌출부재는 하부 돌출부와 상부 돌출부가 스텝 형상으로 적층되도록 배치하여 돌출부재 상에 평탄면을 도입함으로써 이웃하는 배선부 사이의 쇼트 문제를 개선할 수 있다. Meanwhile, in the display device according to an exemplary embodiment, in the protrusion member, a short circuit problem between adjacent wiring units may be improved by arranging the lower protrusion and the upper protrusion to be stacked in a step shape to introduce a flat surface on the protrusion member.

이상에서는 본 발명의 바람직한 실시예를 참조하여 설명하였지만, 해당 기술 분야의 숙련된 당업자 또는 해당 기술 분야에 통상의 지식을 갖는 자라면, 후술될 특허청구범위에 기재된 본 발명의 사상 및 기술 영역으로부터 벗어나지 않는 범위 내에서 본 발명을 다양하게 수정 및 변경시킬 수 있음을 이해할 수 있을 것이다.Although the above has been described with reference to a preferred embodiment of the present invention, those skilled in the art or those having ordinary skill in the art will not depart from the spirit and scope of the present invention described in the claims to be described later. It will be understood that various modifications and variations of the present invention can be made without departing from the scope of the present invention.

따라서, 본 발명의 기술적 범위는 명세서의 상세한 설명에 기재된 내용으로 한정되는 것이 아니라 특허청구범위에 의해 정하여져야만 할 것이다.Accordingly, the technical scope of the present invention should not be limited to the contents described in the detailed description of the specification, but should be defined by the claims.

DD : 표시 장치 TS : 터치감지유닛
TW : 배선부 DAM, DAM1, DAM2 : 돌출부재
DD: Display device TS: Touch sensing unit
TW: wiring part DAM, DAM1, DAM2: protruding member

Claims (12)

표시 영역 및 상기 표시 영역에 인접한 비표시 영역으로 구분되는 베이스 기판;
상기 표시 영역 상에 배치되고, 화소 정의막 및 유기 발광 다이오드를 포함하는 발광 소자층;
상기 베이스 기판 상에 배치되고, 상기 발광 소자층에 인접한 절연층을 포함하는 회로층;
상기 발광 소자층 상에 배치되고, 터치전극 및 상기 터치전극에 연결된 배선부를 포함하는 터치감지유닛;
상기 발광 소자층과 상기 터치감지유닛 사이에 배치된 봉지층; 및
상기 비표시 영역 상에 배치된 돌출부재; 를 포함하고,
상기 배선부는 평면상에서,
상기 돌출부재에 비중첩하고, 제1 배선폭을 갖는 제1 배선부;
상기 돌출부재에 중첩하고, 제2 배선폭을 갖는 제2 배선부; 및
상기 제1 배선폭 및 상기 제2 배선폭과 다른 제3 배선폭을 갖고, 상기 제1 배선부 및 상기 제2 배선부 사이에 배치된 제3 배선부; 를 포함하고,
상기 제1 배선폭 내지 제3 배선폭은 상기 배선부의 연장 방향에 수직하는 방향으로의 폭인 표시 장치.
a base substrate divided into a display area and a non-display area adjacent to the display area;
a light emitting device layer disposed on the display area and including a pixel defining layer and an organic light emitting diode;
a circuit layer disposed on the base substrate and including an insulating layer adjacent to the light emitting device layer;
a touch sensing unit disposed on the light emitting element layer and including a touch electrode and a wiring part connected to the touch electrode;
an encapsulation layer disposed between the light emitting element layer and the touch sensing unit; and
a protrusion member disposed on the non-display area; including,
The wiring part on a plane,
a first wiring part that does not overlap the protruding member and has a first wiring width;
a second wiring part overlapping the protruding member and having a second wiring width; and
a third wiring portion having a third wiring width different from the first wiring width and the second wiring width and disposed between the first wiring portion and the second wiring portion; including,
The first to third wiring widths are widths in a direction perpendicular to an extension direction of the wiring portion.
제 1항에 있어서,
상기 제3 배선부는 상기 돌출부재의 엣지 주변에 중첩하는 것인 표시 장치.
The method of claim 1,
and the third wiring part overlaps around an edge of the protrusion member.
제 1항에 있어서,
상기 제3 배선폭은 상기 제1 배선폭 및 상기 제2 배선폭 보다 작은 표시 장치.
The method of claim 1,
The third wiring width is smaller than the first wiring width and the second wiring width.
제 1항에 있어서,
상기 제3 배선부는 제1 서브 배선부;
상기 제1 배선부와 상기 제1 서브 배선부 사이에 배치되는 제2 서브 배선부; 및
상기 제2 배선부와 상기 제1 서브 배선부 사이에 배치되는 제3 서브 배선부; 를 포함하고,
상기 제1 서브 배선부가 상기 돌출부재의 엣지 주변에 중첩하는 표시 장치.
The method of claim 1,
The third wiring unit includes a first sub wiring unit;
a second sub wiring unit disposed between the first wiring unit and the first sub wiring unit; and
a third sub wiring unit disposed between the second wiring unit and the first sub wiring unit; including,
The display device in which the first sub wiring portion overlaps around an edge of the protrusion member.
제 4항에 있어서,
상기 제2 서브 배선부의 배선폭은 상기 제1 배선부 방향으로 갈수록 커지고,
상기 제3 서브 배선부의 배선폭은 상기 제2 배선부 방향으로 갈수록 커지는 표시 장치.
5. The method of claim 4,
The wiring width of the second sub wiring unit increases in the direction of the first wiring unit,
A wiring width of the third sub wiring unit increases in a direction toward the second wiring unit.
삭제delete 제 1항에 있어서,
상기 돌출 부재는 상기 절연층 또는 상기 화소 정의막과 동일층에 있는 표시 장치.
The method of claim 1,
The protrusion member is on the same layer as the insulating layer or the pixel defining layer.
표시 영역 및 상기 표시 영역에 인접한 비표시 영역으로 구분되는 베이스 기판;
상기 표시 영역 상에 배치된 발광 소자층;
상기 발광 소자층 상에 배치되고, 터치전극 및 상기 터치전극에 연결된 배선부를 포함하는 터치감지유닛;
상기 발광 소자층과 상기 터치감지유닛 사이에 배치된 봉지층; 및
상기 비표시 영역 상에 배치된 돌출부재; 를 포함하고,
상기 배선부는 평면상에서,
상기 돌출부재에 비중첩하고, 제1 배선폭을 갖는 제1 배선부;
상기 돌출부재에 중첩하고, 제2 배선폭을 갖는 제2 배선부; 및
상기 제1 배선폭 및 상기 제2 배선폭보다 작은 제3 배선폭을 갖고, 상기 제1 배선부 및 상기 제2 배선부 사이에 배치된 제3 배선부; 를 포함하고,
상기 제3 배선부는 상기 돌출부재의 엣지 주변에 중첩하며,
상기 제1 배선폭 내지 제3 배선폭은 상기 배선부의 연장 방향에 수직하는 방향으로의 폭인 표시 장치.
a base substrate divided into a display area and a non-display area adjacent to the display area;
a light emitting device layer disposed on the display area;
a touch sensing unit disposed on the light emitting element layer and including a touch electrode and a wiring part connected to the touch electrode;
an encapsulation layer disposed between the light emitting element layer and the touch sensing unit; and
a protrusion member disposed on the non-display area; including,
The wiring part on a plane,
a first wiring part that does not overlap the protruding member and has a first wiring width;
a second wiring part overlapping the protruding member and having a second wiring width; and
a third wiring portion having a third wiring width smaller than the first wiring width and the second wiring width, the third wiring portion being disposed between the first wiring portion and the second wiring portion; including,
The third wiring portion overlaps around the edge of the protruding member,
The first to third wiring widths are widths in a direction perpendicular to an extension direction of the wiring portion.
삭제delete 일 방향으로 연장되는 벤딩축을 기준으로 벤딩되는 적어도 하나의 벤딩영역, 및 상기 벤딩영역에 인접한 비벤딩영역을 포함하고,
표시 영역 및 상기 표시 영역에 인접한 비표시 영역으로 구분되는 베이스 기판;
상기 표시 영역 상에 배치된 발광 소자층;
상기 발광 소자층 상에 배치되고, 터치전극 및 상기 터치전극에 연결된 배선부를 포함하는 터치감지유닛;
상기 발광 소자층과 상기 터치감지유닛 사이에 배치된 봉지층; 및
상기 비표시 영역 상에 배치된 돌출부재; 를 포함하고,
상기 배선부는 평면상에서,
상기 돌출부재에 비중첩하고, 제1 배선폭을 갖는 제1 배선부;
상기 돌출부재에 중첩하고, 제2 배선폭을 갖는 제2 배선부; 및
상기 제1 배선폭 및 상기 제2 배선폭과 다른 제3 배선폭을 갖고, 상기 제1 배선부 및 상기 제2 배선부 사이에 배치된 제3 배선부; 를 포함하고,
상기 제1 배선폭 내지 제3 배선폭은 상기 배선부의 연장 방향에 수직하는 방향으로의 폭인 표시 장치.
at least one bending area bent with respect to a bending axis extending in one direction, and a non-bending area adjacent to the bending area,
a base substrate divided into a display area and a non-display area adjacent to the display area;
a light emitting device layer disposed on the display area;
a touch sensing unit disposed on the light emitting element layer and including a touch electrode and a wiring part connected to the touch electrode;
an encapsulation layer disposed between the light emitting element layer and the touch sensing unit; and
a protrusion member disposed on the non-display area; including,
The wiring part on a plane,
a first wiring part that does not overlap the protruding member and has a first wiring width;
a second wiring part overlapping the protruding member and having a second wiring width; and
a third wiring portion having a third wiring width different from the first wiring width and the second wiring width and disposed between the first wiring portion and the second wiring portion; including,
The first to third wiring widths are widths in a direction perpendicular to an extension direction of the wiring portion.
제 10항에 있어서,
상기 제3 배선부는 상기 돌출부재의 엣지 주변에 중첩하고, 상기 제3 배선폭은 상기 제1 배선폭 및 상기 제2 배선폭 보다 작은 표시 장치.
11. The method of claim 10,
The third wiring part overlaps around an edge of the protrusion member, and the third wiring width is smaller than the first wiring width and the second wiring width.
제 10항에 있어서,
상기 터치감지유닛 상에 배치되고, 편광필름을 포함하는 광학부재를 더 포함하는 표시 장치.
11. The method of claim 10,
The display device further comprising an optical member disposed on the touch sensing unit and including a polarizing film.
KR1020200157967A 2020-05-08 2020-11-23 Display apparatus KR102382465B1 (en)

Priority Applications (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020200157967A KR102382465B1 (en) 2020-05-08 2020-11-23 Display apparatus
KR1020220039585A KR102494044B1 (en) 2020-11-23 2022-03-30 Display apparatus
KR1020230009555A KR102559081B1 (en) 2020-11-23 2023-01-25 Display apparatus

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020200055215A KR102184505B1 (en) 2020-05-08 2020-05-08 Display apparatus
KR1020200157967A KR102382465B1 (en) 2020-05-08 2020-11-23 Display apparatus

Related Parent Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020200055215A Division KR102184505B1 (en) 2020-05-08 2020-05-08 Display apparatus

Related Child Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020220039585A Division KR102494044B1 (en) 2020-11-23 2022-03-30 Display apparatus

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20200135910A KR20200135910A (en) 2020-12-04
KR102382465B1 true KR102382465B1 (en) 2022-04-05

Family

ID=81181647

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020200157967A KR102382465B1 (en) 2020-05-08 2020-11-23 Display apparatus

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR102382465B1 (en)

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN114721534A (en) * 2021-01-04 2022-07-08 京东方科技集团股份有限公司 Display substrate and display device

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20160209965A1 (en) * 2015-01-20 2016-07-21 Samsung Display Co., Ltd. Touch screen panel
US20160218151A1 (en) * 2015-01-28 2016-07-28 Samsung Display Co., Ltd. Organic light emitting diode display and method of manufacturing the same

Family Cites Families (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR102096622B1 (en) * 2013-08-19 2020-04-03 삼성디스플레이 주식회사 Organic light emitting display device

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20160209965A1 (en) * 2015-01-20 2016-07-21 Samsung Display Co., Ltd. Touch screen panel
US20160218151A1 (en) * 2015-01-28 2016-07-28 Samsung Display Co., Ltd. Organic light emitting diode display and method of manufacturing the same

Also Published As

Publication number Publication date
KR20200135910A (en) 2020-12-04

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR101998831B1 (en) Display apparatus
KR101964934B1 (en) Display device and method for fabricating the same
KR20220099518A (en) Display apparatus
KR102111448B1 (en) Display apparatus
KR102382465B1 (en) Display apparatus
KR102202179B1 (en) Display device and method for fabricating the same
KR102060166B1 (en) Display device and method for fabricating the same
KR102008504B1 (en) Display device and method for fabricating the same
KR102494044B1 (en) Display apparatus
KR102184505B1 (en) Display apparatus
KR102406621B1 (en) Display device and method for fabricating the same
KR102520492B1 (en) Display device and method for fabricating the same
KR102357271B1 (en) Display apparatus
KR102131801B1 (en) Display apparatus
KR102081986B1 (en) Display apparatus
KR20220018524A (en) Display apparatus and method for manufacturing display apparatus

Legal Events

Date Code Title Description
A107 Divisional application of patent
E902 Notification of reason for refusal
E902 Notification of reason for refusal
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant