KR102378400B1 - Apparatus for etching optical fiber and method of etching optical fiber using the same - Google Patents

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Abstract

본 발명은 광섬유 에칭 장치 및 이를 이용한 광섬유 에칭 방법에 관한 것이다. 본 발명에 따른 광섬유 소자 에칭 장치는 메인 바디; 상기 메인 바디의 일측에 구비되며 에칭액이 주입되는 둘 이상의 에칭액 주입구; 상기 메인 바디의 내부에 구비되며. 상기 둘 이상의 에칭액 주입구와 각각 연결되는 둘 이상의 에칭액 탱크; 상기 둘 이상의 에칭액 탱크 중 인접하는 두 개의 에칭액 탱크를 격리하는 격리판; 및 상기 메인 바디의 타측에 구비되고, 상기 둘 이상의 에칭액 탱크와 각각 연결되며, 상기 격리판에 의해 서로 격리되는 둘 이상의 에칭부; 를 포함하되, 상기 둘 이상의 에칭부 각각은 상기 둘 이상의 에칭액 주입구 각각을 통해 주입된 상기 에칭액이 채워지며, 소정의 간격으로 이격되어 배치되는 하나 이상의 에칭조; 및 상기 하나 이상의 에칭조 각각의 에지에 구비되며, 하나 이상의 에칭조 내의 상기 에칭액에 접촉하도록 광섬유가 재치되는 홈을 포함하는 것을 특징으로 한다.The present invention relates to an optical fiber etching apparatus and an optical fiber etching method using the same. An optical fiber device etching apparatus according to the present invention includes a main body; two or more etchant injection holes provided on one side of the main body and into which the etchant is injected; It is provided inside the main body. two or more etchant tanks respectively connected to the two or more etchant inlets; a separator for isolating adjacent two etchant tanks among the two or more etchant tanks; and two or more etching parts provided on the other side of the main body, respectively connected to the two or more etching solution tanks, and isolated from each other by the separator; Including, wherein each of the two or more etching parts is filled with the etching liquid injected through each of the two or more etching liquid injection holes, one or more etching baths are disposed spaced apart from each other at a predetermined interval; And it is provided at the edge of each of the one or more etching baths, characterized in that it comprises a groove in which the optical fiber is placed so as to contact the etching solution in the one or more etching baths.

Description

광섬유 소자 에칭 장치 및 이를 이용한 광섬유 에칭 방법{APPARATUS FOR ETCHING OPTICAL FIBER AND METHOD OF ETCHING OPTICAL FIBER USING THE SAME}Optical fiber element etching apparatus and optical fiber etching method using the same

본 발명은 광섬유 에칭 장치 및 이를 이용한 광섬유 에칭 방법에 관한 것으로, 특히 여분의 광을 효율적으로 방출시키는 클래딩 광 제거용 광섬유 소자를 제조하는데 사용되는 광섬유 에칭 장치 및 이를 이용한 광섬유 에칭 방법에 관한 것이다.The present invention relates to an optical fiber etching apparatus and an optical fiber etching method using the same, and more particularly, to an optical fiber etching apparatus used for manufacturing an optical fiber device for removing cladding light that efficiently emits excess light, and an optical fiber etching method using the same.

종래에는 고체 레이저(solid state laser)를 이용하여 고출력 레이저 생성 장치를 구현했으나, 최근에는 광섬유로 고출력 레이저 생성 장치를 구현하는 추세이다.Conventionally, a high-power laser generating device has been implemented using a solid state laser, but in recent years, there is a trend to implement a high-power laser generating device using an optical fiber.

광섬유를 이용한 고출력 레이저 생성 장치는 고체 레이저에 비해 다음과 같은 장점이 있다.A high-power laser generating device using an optical fiber has the following advantages over a solid-state laser.

먼저, 광섬유의 직경이 수백 마이크로미터 정도이므로 고체 레이저에 비해 작은 풋프린트의 고출력 레이저 생성 장치를 용이하게 구현할 수 있다.First, since the diameter of the optical fiber is about several hundred micrometers, it is possible to easily implement a high-power laser generating device having a small footprint compared to a solid-state laser.

광섬유의 경우 이득 매질(gain medium)을 길게 만들 수 있어 단위 활성 부피(active volume) 당 더 많은 표면이 공기와 접촉한다. 따라서, 고체 레이저에 비해 열발산이 쉽고 냉각이 용이하다. 이 특성으로 인해 광섬유 레이저는 열발산이 어려워 더 높은 출력 구현에 한계가 있던 고출력 레이저보다 더 각광 받고 있다.In the case of optical fibers, the gain medium can be lengthened so that more surfaces are in contact with air per unit active volume. Therefore, heat dissipation is easy and cooling is easy compared to a solid-state laser. Due to this characteristic, fiber lasers are receiving more attention than high-power lasers, which have limitations in realizing higher power due to difficulty in dissipating heat.

또한 광섬유는 고체 레이저에 비해 훨씬 작고 유연하므로 고출력 레이저에 사용되는 경우 공간적 이점을 가진다. 게다가 고체 레이저는 렌즈를 이용한 정렬(alignment)을 통해 레이저를 구현하는데, 이 정렬(alignment)은 외부 충격에 의해 쉽게 변화된다는 단점이 있다. 반면 광섬유 레이저의 경우 정렬 없이도 레이저 구현이 가능해 구조적 안정성이 높아 휴대가 가능하다는 장점이 있다. In addition, optical fibers are much smaller and more flexible than solid-state lasers, so they have a spatial advantage when used in high-power lasers. In addition, the solid-state laser implements the laser through alignment using a lens, but this alignment has the disadvantage of being easily changed by an external impact. On the other hand, fiber laser has the advantage of being portable due to its high structural stability because it can be implemented without alignment.

마지막으로 광섬유 레이저는 고체 레이저에 비해 고출력에서도 높은 품질의 빔(beam)을 만들 수 있다. 이 특성을 이용해 더 정교하고 효과적인 고출력 레이저의 구현이 가능하다.Finally, compared to solid-state lasers, fiber lasers can produce high-quality beams even at high power. Using this characteristic, it is possible to realize a more sophisticated and effective high-power laser.

도 1은 종래 기술에 따른 광섬유 및 그 내부에서 광의 진행을 도시한 단면도이다.1 is a cross-sectional view showing an optical fiber according to the prior art and the propagation of light therein.

도 1은 참조하면, 종래 기술에 따른 광섬유(double-clad fiber)는 신호광의 경로인 코어(core: 20), 코어(20)를 둘러싸며, 펌프광의 경로인 이너 클래딩(inner cladding: 30) 및 이너 클래딩(30)을 둘러싸는 아우터 클래딩(outer cladding: 40)을 포함한다.Referring to FIG. 1 , a conventional optical fiber (double-clad fiber) surrounds a core (20) and a core (20) that are a path of a signal light, and an inner cladding (30) that is a path of a pump light, and and an outer cladding 40 surrounding the inner cladding 30 .

펌프광은 이너 클래딩(30)과 아우터 클래딩(40)의 경계에서 전반사되어 코어(20)를 따라 진행하는 신호광을 증폭시킨다.The pump light is totally reflected at the boundary between the inner cladding 30 and the outer cladding 40 to amplify the signal light traveling along the core 20 .

신호광을 증폭시키고 남은 여분의 펌프광은 레이저 생성 장치의 출력단에서 제거하여야 한다. 또한, 여분의 펌프광 이외에도 광섬유의 연결부분(splicing된 부분)에서 발생하는 소량의 손실로 인한 광 및 코어(20)에서 새어나온 광도 함께 제거하여야 한다.The excess pump light remaining after amplifying the signal light should be removed from the output stage of the laser generating device. In addition to the extra pump light, light due to a small amount of loss occurring in the connection portion (spliced portion) of the optical fiber and light leaking from the core 20 should also be removed.

이러한 여분의 광을 제거하는 소자를 클래딩 광 제거 소자(CLS: cladding light stripper)라 한다. 여분의 광을 제거하지 않으면, 출력빔의 품질 저하를 초래할 뿐만 아니라 열로 인한 광섬유의 손상을 유발할 수 있으므로 여분의 광을 반드시 제거하여야 한다.A device for removing such excess light is called a cladding light stripper (CLS). If the excess light is not removed, the quality of the output beam may be deteriorated as well as damage to the optical fiber due to heat. Therefore, the excess light must be removed.

그러므로, 높은 효율로 여분의 광을 제거하는 CLS가 광섬유를 이용한 고출력 레이저 생성 장치를 제조하는데 반드시 필요하다.Therefore, a CLS that removes excess light with high efficiency is absolutely necessary for manufacturing a high-power laser generating device using an optical fiber.

CLS를 제조하기 위해서 다양한 방법이 제안되었다. 그 중에 대표적인 방법은 광섬유의 표면을 규칙적으로 에칭하여 격자 형태의 광섬유 소자를 제조하는 것이다.Various methods have been proposed to prepare CLS. Among them, a representative method is to manufacture a grid-shaped optical fiber device by regularly etching the surface of the optical fiber.

광섬유의 표면을 UV 레이저 또는 CO2 레이저로 에칭하거나, 화학적으로 에칭(특허문헌 1)하여, 격자 형태의 광섬유 소자를 제조하는 방법이 제안되었다.A method of manufacturing a grid-shaped optical fiber element by etching the surface of an optical fiber with a UV laser or a CO 2 laser or chemically etching (Patent Document 1) has been proposed.

UV 레이저 또는 CO2 레이저를 이용하는 방법은 고가의 장비가 필요하다는 단점이 있다. 반면에, 광섬유의 표면을 화학적으로 에칭하는 방법은 에칭의 정도를 조절하기 어렵고, 특히 격자의 간격을 조절하기 어렵다는 단점이 있다.The method using a UV laser or a CO 2 laser has a disadvantage in that expensive equipment is required. On the other hand, the method of chemically etching the surface of the optical fiber has disadvantages in that it is difficult to control the degree of etching, and in particular, it is difficult to control the spacing of the gratings.

1. 한국 특허 제10-1139632호1. Korean Patent No. 10-1139632

1. A Combined method for the fabrication of high-power cladding light stripper using buffered oxide etchant, Elif Yapar Yildirim et al., Applied Optics Vol. 58 No. 25, pp. 6926-6933 (2019).1. A Combined method for the fabrication of high-power cladding light stripper using buffered oxide etchant, Elif Yapar Yildirim et al., Applied Optics Vol. 58 No. 25, pp. 6926-6933 (2019). 2. High power cladding light stripper using segmented corrosion method: theoretical and experimental studies, Lu Yin et al., Optics Express Vol. 25, Issue 8, pp. 8760-8776 (2017).2. High power cladding light stripper using segmented corrosion method: theoretical and experimental studies, Lu Yin et al., Optics Express Vol. 25, Issue 8, pp. 8760-8776 (2017).

본 발명은 화학적 에칭 방법으로 클래딩 광 제거용 광섬유 소자를 제조하는데 사용되는 광섬유 에칭 장치 및 이를 이용한 광섬유 에칭 방법을 제공하는 것을 그 목적으로 한다.An object of the present invention is to provide an optical fiber etching apparatus used for manufacturing an optical fiber device for removing cladding light by a chemical etching method, and an optical fiber etching method using the same.

본 발명에 따른 광섬유 소자 에칭 장치는 메인 바디; 상기 메인 바디의 일측에 구비되며 에칭액이 주입되는 둘 이상의 에칭액 주입구; 상기 메인 바디의 내부에 구비되며. 상기 둘 이상의 에칭액 주입구와 각각 연결되는 둘 이상의 에칭액 탱크; 상기 둘 이상의 에칭액 탱크 중 인접하는 두 개의 에칭액 탱크를 격리하는 격리판; 및 상기 메인 바디의 타측에 구비되고, 상기 둘 이상의 에칭액 탱크와 각각 연결되며, 상기 격리판에 의해 서로 격리되는 둘 이상의 에칭부; 를 포함하되, 상기 둘 이상의 에칭부 각각은 상기 둘 이상의 에칭액 주입구 각각을 통해 주입된 상기 에칭액이 채워지며, 소정의 간격으로 이격되어 배치되는 하나 이상의 에칭조; 및 상기 하나 이상의 에칭조 각각의 에지에 구비되며, 하나 이상의 에칭조 내의 상기 에칭액에 접촉하도록 광섬유가 재치되는 홈을 포함하는 것을 특징으로 한다.An optical fiber device etching apparatus according to the present invention includes a main body; two or more etchant injection holes provided on one side of the main body and into which the etchant is injected; It is provided inside the main body. two or more etchant tanks respectively connected to the two or more etchant inlets; a separator for isolating adjacent two etchant tanks among the two or more etchant tanks; and two or more etching parts provided on the other side of the main body, respectively connected to the two or more etching solution tanks, and isolated from each other by the separator; Including, wherein each of the two or more etching parts is filled with the etching liquid injected through each of the two or more etching liquid injection holes, one or more etching baths are disposed spaced apart from each other at a predetermined interval; And it is provided at the edge of each of the one or more etching baths, characterized in that it comprises a groove in which the optical fiber is placed so as to contact the etching solution in the one or more etching baths.

상기 둘 이상의 에칭액 주입구는 제1 높이에 설치되고, 상기 둘 이상의 에칭부는 상기 제1 높이보다 낮은 제2 높이에 설치되는 것이 바람직하다.It is preferable that the two or more etching liquid injection holes are installed at a first height, and the two or more etching parts are installed at a second height lower than the first height.

상기 둘 이상의 에칭액 주입구 중 인접하는 두 개의 에칭액 주입구는 상기 격리판에 의해 격리되는 것이 바람직하다.It is preferable that the two or more etching liquid injection ports adjacent to each other are isolated by the separator.

상기 에칭조가 설치되는 높이는, 상기 둘 이상의 에칭액 탱크 각각에 상기 에칭액이 채워지면 상기 둘 이상의 에칭액 탱크 각각에 연결된 상기 에칭조도 에칭액이 채워지는 높이인 것이 바람직하다.The height at which the etchant is installed is preferably a height at which the etchant connected to each of the two or more etchant tanks is filled when the etchant is filled in each of the two or more etchant tanks.

상기 둘 이상의 에칭부 중 어느 하나의 에칭부에 포함된 하나 이상의 에칭조는 제1 간격으로 이격되어 배치되고, 상기 어느 하나의 에칭부와 인접하는 다른 하나의 에칭부에 포함된 하나 이상의 에칭조는 상기 제1 간격과 다른 제2 간격으로 이격되어 배치되는 것이 바람직하다.One or more etching baths included in any one etching part of the two or more etching parts are disposed spaced apart by a first interval, and one or more etching baths included in another etching part adjacent to the one etching part are the first It is preferable to be spaced apart at a second interval different from the first interval.

본 발명에 따른 광섬유 에칭 방법은, 에칭액이 주입되는 둘 이상의 에칭액 주입구; 상기 둘 이상의 에칭액 주입구와 각각 연결되는 둘 이상의 에칭액 탱크; 상기 둘 이상의 에칭액 탱크 중 인접하는 두 개의 에칭액 탱크를 격리하는 격리판; 및 상기 둘 이상의 에칭액 탱크와 각각 연결되며, 상기 격리판에 의해 서로 격리되는 둘 이상의 에칭부;를 포함하되, 상기 둘 이상의 에칭부 각각은 상기 둘 이상의 에칭액 주입구 각각을 통해 주입된 상기 에칭액이 채워지며, 일정 간격으로 배치되는 하나 이상의 에칭조; 및 상기 하나 이상의 에칭조 각각의 에지에 구비되며, 하나 이상의 에칭조 내의 상기 에칭액에 접촉하도록 광섬유가 재치되는 홈을 포함하는 광섬유 소자 에칭 장치를 이용하여 상기 광섬유를 에칭하는 광섬유 에칭 방법에 있어서, (a) 상기 광섬유를 상기 홈에 재치하는 단계; (b) 소정의 시간차를 두고 상기 둘 이상의 에칭액 주입구에 상기 에칭액을 주입하는 단계; (c) 상기 시간차에 따라 상기 둘 이상의 에칭부 각각에 대해 서로 다른 에칭 시간으로 상기 광섬유를 에칭하는 단계; 및 (d) 에칭이 완료된 상기 광섬유를 상기 광섬유 소자 에칭 장치로부터 제거하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 한다.The optical fiber etching method according to the present invention comprises: two or more etching liquid injection holes into which the etching liquid is injected; two or more etchant tanks respectively connected to the two or more etchant inlets; a separator for isolating adjacent two etchant tanks among the two or more etchant tanks; and at least two etching parts respectively connected to the at least two etching solution tanks and isolated from each other by the separator, wherein each of the at least two etching parts is filled with the etching solution injected through each of the at least two etching solution injection ports, , one or more etching baths disposed at regular intervals; and a groove provided at an edge of each of the one or more etching baths, in which an optical fiber is placed so as to be in contact with the etching solution in the one or more etching baths, in the optical fiber etching method for etching the optical fiber using an optical fiber element etching apparatus, ( a) placing the optical fiber in the groove; (b) injecting the etching solution into the two or more etching solution injection holes with a predetermined time difference; (c) etching the optical fiber with different etching times for each of the two or more etching parts according to the time difference; and (d) removing the etched optical fiber from the optical fiber element etching apparatus.

상기 (b) 단계는 상기 하나 이상의 에칭조의 배치 간격이 큰 에칭부와 연결된 에칭액 주입구에 상기 에칭액을 먼저 주입하고, 상기 하나 이상의 에칭조의 배치 간격이 작은 에칭부와 연결된 에칭액 주입구에 상기 에칭액을 나중에 주입하는 단계를 포함할 수 있다.In the step (b), the etchant is first injected into the etchant inlet connected to the etching part having the large spacing between the one or more etching baths, and the etchant is injected later into the etchant inlet connected to the etching part having the small spacing of the one or more etching baths. may include the step of

상기 (c) 단계는 상기 하나 이상의 에칭조의 배치 간격이 큰 에칭부의 홈에 거치된 상기 광섬유의 부분은 긴 시간동안 에칭하고, 상기 하나 이상의 에칭조의 배치 간격이 작은 에칭부의 홈에 거치된 상기 광섬유의 부분은 짧은 시간동안 에칭하는 단계를 포함할 수 있다.In step (c), the portion of the optical fiber mounted in the groove of the etching unit having a large spacing between the one or more etching baths is etched for a long time, and the optical fiber mounted in the groove of the etching unit having the small spacing between the one or more etching baths is etched. The part may include etching for a short time.

본 발명에 따른 광섬유 에칭 장치 및 이를 이용한 광섬유 에칭 방법에는 다음과 같은 장점이 있다.The optical fiber etching apparatus and the optical fiber etching method using the same according to the present invention have the following advantages.

(1) 에칭액을 시간차를 두고 주입하여 광섬유의 각 부분이 에칭되는 시간을 조절할 수 있다.(1) By injecting the etching solution with a time difference, it is possible to control the time for each part of the optical fiber to be etched.

(2) 광섬유를 부분적으로 필요한만큼 에칭할 수 있어 원하는 형태의 클래딩 광 제거용 광섬유 소자를 제조할 수 있다.(2) Since the optical fiber can be partially etched as needed, an optical fiber device for removing cladding light having a desired shape can be manufactured.

도 1은 본 발명에 따른 광섬유 에칭 장치를 도시한 사시도.
도 2는 본 발명에 따른 광섬유 에칭 장치를 도시한 평면도.
도 3은 본 발명에 따른 광섬유 에칭 장치를 도시한 평면투시도.
도 4는 본 발명에 따른 광섬유 에칭 장치를 도시한 평면투시도.
도 5a 내지 도 5f는 각각 도 4의 A-A, B-B, C-C, D-D, E-E 및 F-F를 따른 단면도들.
도 6은 본 발명에 따른 광섬유 에칭 장치를 도시한 평면투시도.
도 7a 내지 도 7d는 각각 도 6의 A-A, B-B, C-C 및 D-D를 따른 단면도들.
도 8은 본 발명에 따른 광섬유 에칭 방법을 도시한 흐름도.1 is a perspective view showing an optical fiber etching apparatus according to the present invention.
2 is a plan view showing an optical fiber etching apparatus according to the present invention.
3 is a plan perspective view showing an optical fiber etching apparatus according to the present invention.
4 is a plan perspective view showing an optical fiber etching apparatus according to the present invention.
5A to 5F are cross-sectional views taken along AA, BB, CC, DD, EE and FF of FIG. 4, respectively;
6 is a plan perspective view showing an optical fiber etching apparatus according to the present invention.
7A to 7D are cross-sectional views taken along AA, BB, CC and DD of FIG. 6, respectively;
8 is a flowchart illustrating an optical fiber etching method according to the present invention.

이하에서는, 첨부된 도면을 참조하여, 본 발명에 따른 광섬유 에칭 장치 및 이를 이용한 광섬유 에칭 방법에 대해 상세히 설명한다.Hereinafter, an optical fiber etching apparatus and an optical fiber etching method using the same according to the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

도 1, 도 2 및 도 3은 각각 본 발명에 따른 광섬유 에칭 장치를 도시한 사시도, 평면도 및 평면투시도이다.1, 2 and 3 are a perspective view, a plan view, and a plan view, respectively, showing an optical fiber etching apparatus according to the present invention.

도 1 내지 도 3을 참조하면, 본 발명에 따른 광섬유 에칭 장치(10)는 메인 바디(100); 둘 이상의 에칭액 주입구(200a, 200b, 210, 220, 230, 240), 둘 이상의 에칭액 탱크(300, 310, 320, 330, 340), 격리판(400, 410, 420, 430) 및 에칭부(500, 510, 520, 530, 540)를 포함한다.1 to 3, the optical fiber etching apparatus 10 according to the present invention includes a main body 100; Two or more etchant inlets 200a, 200b, 210, 220, 230, 240, two or more etchant tanks 300, 310, 320, 330, 340, separators 400, 410, 420, 430, and an etchant 500 , 510, 520, 530, 540).

메인 바디(100)는 바람직하게는 계단 형상으로 일측에는 둘 이상의 에칭액 주입구(200a, 200b, 210, 220, 230, 240)가 구비되며, 타측에는 에칭부(500, 510, 520, 530, 540)가 구비된다. 메인 바디(100)의 형상은 계단 형상에 국한되지는 않는다. 메인 바디(100)의 좌우 양단에는 광섬유 지지부(650a, 650b)가 각각 구비되며, 광섬유 지지부(650a, 650b)에는 홈(710)이 각각 구비된다.The main body 100 preferably has a step shape, and two or more etching liquid injection holes 200a, 200b, 210, 220, 230, 240 are provided on one side, and the etching parts 500, 510, 520, 530, 540 are provided on the other side. is provided The shape of the main body 100 is not limited to a step shape. Optical fiber support parts 650a and 650b are provided at both ends of the main body 100 on the left and right, respectively, and grooves 710 are provided in the optical fiber support parts 650a and 650b, respectively.

둘 이상의 에칭액 주입구(200a, 200b, 210, 220, 230, 240)는 메인 바디(100)의 일측에 구비되며, 에칭액이 주입된다. 바람직하게는, 둘 이상의 에칭액 주입구(200a, 200b, 210, 220, 230, 240)는 에칭액 주입의 용이성을 위해 제1 높이에 구비된다.Two or more etching liquid injection holes 200a, 200b, 210, 220, 230, 240 are provided on one side of the main body 100, and the etching liquid is injected. Preferably, two or more etching solution injection holes (200a, 200b, 210, 220, 230, 240) are provided at the first height for the ease of injection of the etching solution.

둘 이상의 에칭액 주입구(200a, 200b, 210, 220, 230, 240)는 둘 이상의 에칭액 탱크(300, 310, 320, 330, 340)와 각각 연결된다. 에칭액 주입구(200a, 200b)로 주입된 에칭액은 에칭액 탱크(300)에 저장되며. 에칭액 주입구(210)로 주입된 에칭액은 에칭액 탱크(310)에 저장되며, 에칭액 주입구(220)로 주입된 에칭액은 에칭액 탱크(320)에 저장되며, 에칭액 주입구(230)로 주입된 에칭액은 에칭액 탱크(330)에 저장되며, 에칭액 주입구(240)로 주입된 에칭액은 에칭액 탱크(340)에 저장된다.The two or more etchant inlets 200a, 200b, 210, 220, 230, 240 are respectively connected to the two or more etchant tanks 300, 310, 320, 330, 340. The etching solution injected into the etching solution injection holes 200a and 200b is stored in the etching solution tank 300 . The etchant injected into the etchant injection hole 210 is stored in the etchant tank 310 , the etchant injected into the etchant injection hole 220 is stored in the etchant tank 320 , and the etchant injected into the etchant injection hole 230 is stored in the etchant tank The etchant is stored in 330 , and the etchant injected into the etchant inlet 240 is stored in the etchant tank 340 .

에칭액 탱크(300, 310, 320, 330, 340)는 메인 바디(100)의 내부에 구비되며, 격리판(400, 410, 420, 430)에 의해 상호 격리된다. 구체적으로는, 격리판(400)은 인접하는 두 개의 에칭액 탱크(300, 310)를 공간적으로 격리하며, 격리판(410)은 인접하는 두 개의 에칭액 탱크(310, 320)를 공간적으로 격리하며, 격리판(420)은 인접하는 두 개의 에칭액 탱크(320, 330)를 공간적으로 격리하며, 격리판(430)은 인접하는 두 개의 에칭액 탱크(330, 340)를 공간적으로 격리한다.The etchant tanks 300 , 310 , 320 , 330 , and 340 are provided inside the main body 100 , and are isolated from each other by the separators 400 , 410 , 420 , 430 . Specifically, the separator 400 spatially isolates two adjacent etchant tanks 300 and 310, and the separator 410 spatially isolates two adjacent etchant tanks 310 and 320, The separator 420 spatially isolates two adjacent etchant tanks 320 and 330 , and the separator 430 spatially isolates two adjacent etchant tanks 330 and 340 .

즉, 격리판(400)에 의해 에칭액 탱크(300)와 에칭액 탱크(310) 간의 에칭액의 이동 또는 혼합이 차단되며, 격리판(410)에 의해 에칭액 탱크(310)와 에칭액 탱크(320) 간의 에칭액의 이동 또는 혼합이 차단되며, 격리판(420)에 의해 에칭액 탱크(320)와 에칭액 탱크(330) 간의 에칭액의 이동 또는 혼합이 차단되며, 격리판(430)에 의해 에칭액 탱크(330)와 에칭액 탱크(340) 간의 에칭액의 이동 또는 혼합이 차단된다.That is, the movement or mixing of the etchant between the etchant tank 300 and the etchant tank 310 is blocked by the separator 400 , and the etchant between the etchant tank 310 and the etchant tank 320 is blocked by the separator 410 . movement or mixing of the etchant is blocked, the movement or mixing of the etchant between the etchant tank 320 and the etchant tank 330 by the separator 420 is blocked, and the etchant tank 330 and the etchant by the separator 430 Movement or mixing of the etchant between the tanks 340 is blocked.

메인 바디(100)의 타측에 구비되는 에칭부(500, 510, 520, 530, 540)는 에칭액 탱크(300, 310, 320, 330, 340)와 각각 공간적으로 연결된다. 에칭부(500, 510, 520, 530, 540)는 에칭액 주입구(200a, 200b, 210, 220, 230, 240)가 구비되는 제1 높이보다 낮은 제2 높이에 구비되어 에칭액 주입구(200a, 200b, 210, 220, 230, 240)를 통해 에칭액 탱크(300, 310, 320, 330, 340)에 에칭액이 채워지면, 에칭액 탱크(300, 310, 320, 330, 340)에 각각 연결된 에칭부(500, 510, 520, 530, 540)에도 에칭액이 채워진다.The etching units 500 , 510 , 520 , 530 , and 540 provided on the other side of the main body 100 are spatially connected to the etching liquid tanks 300 , 310 , 320 , 330 and 340 , respectively. The etching units 500, 510, 520, 530, 540 are provided at a second height lower than the first height at which the etching liquid injection holes 200a, 200b, 210, 220, 230, 240 are provided, and the etching liquid injection holes 200a, 200b, When the etchant is filled in the etchant tank (300, 310, 320, 330, 340) through 210, 220, 230, 240, the etchant 500, respectively connected to the etchant tank (300, 310, 320, 330, 340) The etching solution is also filled in 510, 520, 530, and 540.

또한, 에칭액 탱크(300, 310, 320, 330, 340)와 마찬가지로 에칭부(500, 510, 520, 530, 540)는 격리판(400, 410, 420, 430)에 의해 서로 격리된다. 구체적으로는, 격리판(400)은 인접하는 두 개의 에칭부(500, 510)를 공간적으로 격리하며, 격리판(410)은 인접하는 두 개의 에칭부(510, 520)를 공간적으로 격리하며, 격리판(420)은 인접하는 두 개의 에칭부(520, 530)를 공간적으로 격리하며, 격리판(430)은 인접하는 두 개의 에칭부(530, 540)를 공간적으로 격리한다.In addition, like the etchant tanks 300 , 310 , 320 , 330 , and 340 , the etching units 500 , 510 , 520 , 530 , 540 are isolated from each other by the separators 400 , 410 , 420 , 430 . Specifically, the separator 400 spatially isolates two adjacent etched parts 500 and 510, and the separator 410 spatially isolates two adjacent etched parts 510 and 520, The separator 420 spatially isolates two adjacent etched parts 520 and 530 , and the separator 430 spatially isolates the two adjacent etched parts 530 and 540 .

즉, 격리판(400)에 의해 에칭부(500)와 에칭부(510) 간의 에칭액의 이동 또는 혼합이 차단되며, 격리판(410)에 의해 에칭부(510)와 에칭부(520) 간의 에칭액의 이동 또는 혼합이 차단되며, 격리판(420)에 의해 에칭부(520)와 에칭부(530) 간의 에칭액의 이동 또는 혼합이 차단되며, 격리판(430)에 의해 에칭부(530)와 에칭부(540) 간의 에칭액의 이동 또는 혼합이 차단된다.That is, movement or mixing of the etchant between the etching unit 500 and the etching unit 510 is blocked by the separator 400 , and the etchant between the etching unit 510 and the etching unit 520 is blocked by the separator 410 . movement or mixing is blocked, the movement or mixing of the etchant between the etching part 520 and the etching part 530 is blocked by the separator 420 , and the etching part 530 and the etching part are blocked by the separator 430 . Movement or mixing of the etching solution between the parts 540 is blocked.

이하에서는, 에칭부(500, 510, 520, 530, 540)에 대해 보다 상세히 설명한다.Hereinafter, the etching units 500 , 510 , 520 , 530 , and 540 will be described in more detail.

에칭부(500)는 소정의 간격으로 이격되어 배치되는 하나 이상의 에칭조(500a, 500b, 500c, 500d, 500e, 500f, 500g)를 포함한다. 에칭조(500a, 500b, 500c, 500d, 500e, 500f, 500g)의 내부(600a, 600b, 600c, 600d, 600e, 600f, 600g)에는 에칭액이 채워지며, 에칭조(500a, 500b, 500c, 500d, 500e, 500f, 500g) 각각의 에지(edge)에는 광섬유가 재치되는 홈(700)이 구비된다.The etching unit 500 includes one or more etching baths 500a, 500b, 500c, 500d, 500e, 500f, and 500g that are spaced apart from each other by a predetermined interval. The etching baths 500a, 500b, 500c, 500d, 500e, 500f, and 500g are filled with an etchant in the interior 600a, 600b, 600c, 600d, 600e, 600f, and 600g, and the etching baths 500a, 500b, 500c, 500d , 500e, 500f, 500g) Each edge is provided with a groove 700 in which the optical fiber is placed.

광섬유가 홈(700)에 재치되고, 내부(600a, 600b, 600c, 600d, 600e, 600f, 600g)에 에칭액이 채워지면 광섬유가 에칭된다. 구체적으로는, 광섬유가 홈(700)에 재치된 후 에칭액이 주입되면, 에칭조와 에칭조 사이에는 에칭액이 존재하지 않으므로 광섬유가 에칭되지 않고, 내부(600a, 600b, 600c, 600d, 600e, 600f, 600g)의 에칭액과 접촉하는 광섬유의 부분만 에칭된다.The optical fiber is etched when the optical fiber is placed in the groove 700 and the etchant is filled in the interior 600a, 600b, 600c, 600d, 600e, 600f, and 600g. Specifically, when the etchant is injected after the optical fiber is placed in the groove 700, the etchant does not exist between the etchant and the etchant, so the optical fiber is not etched, and the interiors 600a, 600b, 600c, 600d, 600e, 600f, Only the portion of the optical fiber in contact with the etchant of 600 g) is etched.

에칭부(510)는 소정의 간격으로 이격되어 배치되는 하나 이상의 에칭조(510a, 510b, 510c, 510d)를 포함한다. 에칭조(510a, 510b, 510c, 510d)의 내부(610a, 610b, 610c, 610d)에는 에칭액이 채워지며, 에칭조(510a, 510b, 510c, 510d) 각각의 에지에는 광섬유가 재치되는 홈(700)이 구비된다.The etching unit 510 includes one or more etching baths 510a, 510b, 510c, and 510d spaced apart from each other by a predetermined interval. Etching liquid is filled in the interior (610a, 610b, 610c, 610d) of the etching bath (510a, 510b, 510c, 510d), each edge of the etching bath (510a, 510b, 510c, 510d) is a groove 700 in which an optical fiber is placed ) is provided.

광섬유가 홈(700)에 재치되고, 내부(610a, 610b, 610c, 610d)에 에칭액이 채워지면 광섬유가 에칭된다. 구체적으로는, 광섬유가 홈(700)에 재치된 후 에칭액이 주입되면, 에칭조와 에칭조 사이에는 에칭액이 존재하지 않으므로 광섬유가 에칭되지 않고, 내부(610a, 610b, 610c, 610d)의 에칭액과 접촉하는 광섬유의 부분만 에칭된다.The optical fiber is etched when the optical fiber is placed in the groove 700 and the etchant is filled in the insides 610a, 610b, 610c, and 610d. Specifically, when the etchant is injected after the optical fiber is placed in the groove 700 , the etchant is not etched between the etchant and the etchant, so the optical fiber is not etched and comes into contact with the etchant in the interior ( 610a , 610b , 610c , 610d ) Only a portion of the optical fiber is etched.

에칭부(520)는 소정의 간격으로 이격되어 배치되는 하나 이상의 에칭조(520a, 520b, 520c, 520d, 520e)를 포함한다. 에칭조(520a, 520b, 520c, 520d, 520e)의 내부(620a, 620b, 620c, 620d, 620e)에는 에칭액이 채워지며, 에칭조(520a, 520b, 520c, 520d, 520e) 각각의 에지에는 광섬유가 재치되는 홈(700)이 구비된다.The etching unit 520 includes one or more etching baths 520a, 520b, 520c, 520d, and 520e that are spaced apart from each other at predetermined intervals. The etching baths 520a, 520b, 520c, 520d, and 520e are filled with an etchant in the interiors 620a, 620b, 620c, 620d, and 620e, and the edge of each of the etching baths 520a, 520b, 520c, 520d, 520e is an optical fiber. A groove 700 in which is placed is provided.

광섬유가 홈(700)에 재치되고, 내부(620a, 620b, 620c, 620d, 620e)에 에칭액이 채워지면 광섬유가 에칭된다. 구체적으로는, 광섬유가 홈(700)에 재치된 후 에칭액이 주입되면, 에칭조와 에칭조 사이에는 에칭액이 존재하지 않으므로 광섬유가 에칭되지 않고, 내부(620a, 620b, 620c, 620d, 620e)의 에칭액과 접촉하는 광섬유의 부분만 에칭된다.The optical fiber is etched when the optical fiber is placed in the groove 700 and the etchant is filled in the interiors 620a, 620b, 620c, 620d, and 620e. Specifically, when the etchant is injected after the optical fiber is placed in the groove 700, the etchant does not exist between the etchant and the etchant, so the optical fiber is not etched. Only the portion of the optical fiber that is in contact with the is etched.

에칭부(530)는 소정의 간격으로 이격되어 배치되는 하나 이상의 에칭조(530a, 530b, 530c, 530d, 530e, 530f, 530g)를 포함한다. 에칭조(530a, 530b, 530c, 530d, 530e, 530f)의 내부(630a, 630b, 630c, 630d, 630e, 630f)에는 에칭액이 채워지며, 에칭조(530a, 530b, 530c, 530d, 530e, 530f) 각각의 에지에는 광섬유가 재치되는 홈(700)이 구비된다.The etching unit 530 includes one or more etching baths 530a, 530b, 530c, 530d, 530e, 530f, and 530g that are spaced apart from each other by a predetermined interval. The etching baths 530a, 530b, 530c, 530d, 530e, 530f are filled with an etching solution in the interiors 630a, 630b, 630c, 630d, 630e, and 630f, and the etching baths 530a, 530b, 530c, 530d, 530e, 530f ) Each edge is provided with a groove 700 in which the optical fiber is placed.

광섬유가 홈(700)에 재치되고, 내부(630a, 630b, 630c, 630d, 630e, 630f)에 에칭액이 채워지면 광섬유가 에칭된다. 구체적으로는, 광섬유가 홈(700)에 재치된 후 에칭액이 주입되면, 에칭조와 에칭조 사이에는 에칭액이 존재하지 않으므로 광섬유가 에칭되지 않고, 내부(630a, 630b, 630c, 630d, 630e, 630f)의 에칭액과 접촉하는 광섬유의 부분만 에칭된다.The optical fiber is etched when the optical fiber is placed in the groove 700 and the etchant is filled in the inner portions 630a, 630b, 630c, 630d, 630e, and 630f. Specifically, when the etchant is injected after the optical fiber is placed in the groove 700, the etchant does not exist between the etchant and the etchant, so the optical fiber is not etched, and the inner parts 630a, 630b, 630c, 630d, 630e, 630f Only the portion of the optical fiber in contact with the etchant of the etchant is etched.

에칭부(540)는 소정의 간격으로 이격되어 배치되는 하나 이상의 에칭조(540a, 540b, 540c, 540d, 540e, 540f, 540g)를 포함한다. 에칭조(540a, 540b, 540c, 540d, 540e, 540f, 540g, 540h)의 내부(640a, 640b, 640c, 640d, 640e, 640f, 640g, 640h)에는 에칭액이 채워지며, 에칭조(540a, 540b, 540c, 540d, 540e, 540f, 540g, 540h) 각각의 에지에는 광섬유가 재치되는 홈(700)이 구비된다.The etching unit 540 includes one or more etching baths 540a, 540b, 540c, 540d, 540e, 540f, and 540g that are spaced apart from each other by a predetermined interval. Etching baths (540a, 540b, 540c, 540d, 540e, 540f, 540g, 540h) inside (640a, 640b, 640c, 640d, 640e, 640f, 640g, 640h) is filled with an etching solution, the etching bath (540a, 540b) , 540c, 540d, 540e, 540f, 540g, 540h) Each edge is provided with a groove 700 in which the optical fiber is placed.

광섬유가 홈(700)에 재치되고, 내부(640a, 640b, 640c, 640d, 640e, 640f, 640g, 640h)에 에칭액이 채워지면 광섬유가 에칭된다. 구체적으로는, 광섬유가 홈(700)에 재치된 후 에칭액이 주입되면, 에칭조와 에칭조 사이에는 에칭액이 존재하지 않으므로 광섬유가 에칭되지 않고, 내부(640a, 640b, 640c, 640d, 640e, 640f, 640g, 640h)의 에칭액과 접촉하는 광섬유의 부분만 에칭된다.The optical fiber is etched when the optical fiber is placed in the groove 700 and the etchant is filled in the inner portions 640a, 640b, 640c, 640d, 640e, 640f, 640g, and 640h. Specifically, when the etchant is injected after the optical fiber is placed in the groove 700, the etchant does not exist between the etchant and the etchant, so the optical fiber is not etched, and the inner parts 640a, 640b, 640c, 640d, 640e, 640f, Only the portion of the optical fiber in contact with the etchant of 640g, 640h) is etched.

에칭조(500a 내지 500g, 510a 내지 510d, 520a 내지 520e, 530a 내지 530g 및 540a 내지 540g)는 에칭액 탱크(300, 310, 320, 330, 340) 각각에 에칭액이 채워지면 에칭액 탱크(300, 310, 320, 330, 340) 각각에 연결된 에칭조도 에칭액이 채워지는 높이(예를 들면, 제2 높이)에 구비된다.Etching tanks 500a to 500g, 510a to 510d, 520a to 520e, 530a to 530g and 540a to 540g are etchant tanks 300, 310, 320, 330, 340 when each of the etching liquid is filled with the etching liquid tanks 300, 310, The etching roughness connected to each of 320, 330, and 340 is provided at a height (eg, a second height) at which the etching solution is filled.

또한, 에칭조(500a, 500b, 500c, 500d, 500e, 500f, 500g)가 배치되는 간격은 에칭조(510a, 510b, 510c, 510d)가 배치되는 간격과 다른 것이 바람직하다. 예를 들어, 에칭부(500)의 에칭조(500a, 500b, 500c, 500d, 500e, 500f, 500g)는 제1 간격으로 이격되어 배치되고, 에칭부(500)와 이웃하는 에칭부(510)의 에칭조(510a, 510b, 510c, 510d)는 제1 간격과 다른 제2 간격으로 이격되어 배치될 수 있다. 마찬가지로, 에칭조(500a, 500b, 500c, 500d, 500e, 500f, 500g)가 배치되는 간격과 에칭조(520a, 520b, 520c, 520d, 520e)가 배치되는 간격이 다를 수 있으며, 에칭조(520a, 520b, 520c, 520d, 520e)가 배치되는 간격과 에칭조(530a, 530b, 530c, 530d, 530e, 530f)가 배치되는 간격이 다를 수 있으며, 에칭조(530a, 530b, 530c, 530d, 530e, 530f)가 배치되는 간격과 에칭조(540a, 540b, 540c, 540d, 540e, 540f, 540g)가 배치되는 간격이 다를 수 있다.In addition, it is preferable that the interval at which the etching baths 500a, 500b, 500c, 500d, 500e, 500f, and 500g are arranged is different from the interval at which the etching baths 510a, 510b, 510c, and 510d are arranged. For example, the etching baths 500a, 500b, 500c, 500d, 500e, 500f, and 500g of the etching unit 500 are spaced apart from each other by a first interval, and the etching unit 500 and the neighboring etching unit 510 are disposed. The etching baths 510a, 510b, 510c, and 510d may be disposed to be spaced apart from each other at a second interval different from the first interval. Similarly, the interval at which the etching baths 500a, 500b, 500c, 500d, 500e, 500f, and 500g are disposed and the interval at which the etching baths 520a, 520b, 520c, 520d, and 520e are disposed may be different, and the etching bath 520a , 520b, 520c, 520d, 520e) and the interval at which the etching baths (530a, 530b, 530c, 530d, 530e, 530f) are disposed may be different, and the etching baths (530a, 530b, 530c, 530d, 530e) , 530f) and the spacing of the etching baths (540a, 540b, 540c, 540d, 540e, 540f, 540g) are disposed may be different.

도 4는 본 발명에 따른 광섬유 에칭 장치를 도시한 평면투시도이고, 도 5a 내지 도 5f는 각각 도 4의 A-A, B-B, C-C, D-D, E-E 및 F-F를 따른 단면도들이다.4 is a plan perspective view showing an optical fiber etching apparatus according to the present invention, and FIGS. 5A to 5F are cross-sectional views taken along lines A-A, B-B, C-C, D-D, E-E and F-F of FIG. 4 , respectively.

구체적으로는. 도 5a는 지지부(650a)의 단면도이고, 도 5b는 지지부(650a)와 에칭부(500) 사이의 단면도이다. 도 5c는 에칭조(500b)가 구비된 부분의 단면도이며, 도 5d는 에칭조(500c, 500d) 사이의 단면도이다. 도 5e는 에칭액 주입구(200b)가 구비된 부분의 단면도이며, 도 5f는 격리판(400)이 구비된 부분의 단면도이다. 도 5f에 도시된 바와 같이, 격리판(400)에 의해 에칭액 탱크(300, 310)가 서로 완전히 격리된다.Specifically. FIG. 5A is a cross-sectional view of the support part 650a, and FIG. 5B is a cross-sectional view between the support part 650a and the etching part 500. As shown in FIG. 5C is a cross-sectional view of a portion provided with the etching bath 500b, and FIG. 5D is a cross-sectional view between the etching baths 500c and 500d. 5E is a cross-sectional view of a portion provided with the etching solution injection hole 200b, and FIG. 5F is a cross-sectional view of a portion provided with the separator 400. As shown in FIG. As shown in FIG. 5F , the etchant tanks 300 and 310 are completely isolated from each other by the separator 400 .

도 6은 본 발명에 따른 광섬유 에칭 장치를 도시한 평면투시도이고, 도 7a 내지 도 7d는 각각 도 6의 A-A, B-B, C-C 및 D-D를 따른 단면도들이다.6 is a plan perspective view showing an optical fiber etching apparatus according to the present invention, and FIGS. 7A to 7D are cross-sectional views taken along lines A-A, B-B, C-C and D-D of FIG. 6, respectively.

도 7a 내지 도 7d를 참조하면, 에칭액 탱크(300, 310, 320, 330, 340)는 격리판(400, 410, 420, 430)에 의해 서로 완전히 격리된다. 마찬가지로, 에칭액 탱크(300, 310, 320, 330, 340)에 연결된 에칭부(500, 510, 520, 530, 540)도 격리판(400, 410, 420, 430)에 의해 서로 완전히 격리된다.7A to 7D , the etchant tanks 300 , 310 , 320 , 330 , and 340 are completely isolated from each other by the separators 400 , 410 , 420 , 430 . Similarly, the etching units 500 , 510 , 520 , 530 , 540 connected to the etching liquid tanks 300 , 310 , 320 , 330 and 340 are also completely isolated from each other by the separators 400 , 410 , 420 , 430 .

이하에서는, 도 8을 참조하여 본 발명에 따른 광섬유 에칭 방법에 대해 상세히 설명한다.Hereinafter, an optical fiber etching method according to the present invention will be described in detail with reference to FIG. 8 .

본 발명에 따른 광섬유 에칭 방법은 도 1에 도시된 광섬유 에칭 장치를 이용하여 수행된다.The optical fiber etching method according to the present invention is performed using the optical fiber etching apparatus shown in FIG. 1 .

도 8은 본 발명에 따른 광섬유 에칭 방법을 도시한 흐름도이다.8 is a flowchart illustrating an optical fiber etching method according to the present invention.

도 8을 참조하면, 도 1에 도시된 광섬유 에칭 장치의 홈(700, 710)에 광섬유를 재치한다(S100). 도 1에 도시된 광섬유 에칭 장치는 복수개의 홈(700, 710)을 구비하는데, 홈(700, 710)은 모두 정렬되어 직선형의 광섬유가 재치될 수 있다.Referring to FIG. 8 , an optical fiber is placed in the grooves 700 and 710 of the optical fiber etching apparatus shown in FIG. 1 ( S100 ). The optical fiber etching apparatus shown in FIG. 1 has a plurality of grooves 700 and 710, all of which are aligned to allow a straight optical fiber to be placed therein.

다음에는, 소정의 시간차를 두고 도 1에 도시된 에칭액 주입구(200a, 200b, 210, 220, 230, 240)에 에칭액을 주입한다(S200). 여기서, 소정의 시간차를 두고 에칭액을 주입하는 이유는, 광섬유가 에칭되는 정도를 달리 하기 위함이다.Next, the etching solution is injected into the etching solution injection ports 200a, 200b, 210, 220, 230, 240 shown in FIG. 1 with a predetermined time difference (S200). Here, the reason for injecting the etching solution with a predetermined time difference is to change the degree of etching the optical fiber.

예를 들어, 에칭조의 배치 간격이 큰 에칭부(500)에 연결된 에칭액 주입구(200a, 200b)에 에칭액을 주입하면, 에칭액 탱크(300)를 통해 에칭부(500)에 에칭액이 가장 먼저 채워진다. 이 경우 에칭부(500)에 재치된 광섬유의 부분이 먼저 에칭된다. 그 다음에, 에칭조의 배치 간격이 에칭부(500)보다 작은 에칭부(510)에 연결된 에칭액 주입구(210)에 에칭액을 주입하면, 에칭액 탱크(310)를 통해 에칭부(510)에 에칭액이 그 다음으로 채워진다. 이 경우 에칭부(510)에 재치된 광섬유의 부분이 에칭된다. 이 때, 에칭부(500)에 재치된 광섬유의 부분이 가장 먼저 에칭되기 시작하므로, 에칭되는 양이 제일 크고, 그 다음에는 에칭부(510)에 재치된 광섬유의 부분이 에칭되는 양이 그 다음으로 크다. 마찬가지로, 에칭액 주입구(220, 230, 240)에 순차적으로 에칭액을 주입하면, 광섬유가 에칭되는 양은 에칭부(520, 530, 540)에 재치된 광섬유의 부분의 순으로 크다. 즉, 에칭액을 주입하는 순서에 따라 에칭되는 양이 달라진다. 여기서, 에칭액을 주입하는 순서는 위에 설명한 것에 한정되지 않으며, 동시에 주입할 수도 있고, 순서를 달리 할 수도 있으며, 시간 간격을 임의로 조절할 수도 있다. 에칭액을 주입하는 순서나 시간차는 필요에 따라 결정할 수 있다. 즉, 광섬유의 어느 부분을 더 많이 에칭할 것인지에 따라 에칭액을 주입하는 순서 및 시간 간격을 결정할 수 있다.For example, when an etching solution is injected into the etching solution injection ports 200a and 200b connected to the etching part 500 having a large spacing between the etching tanks, the etching solution is first filled in the etching part 500 through the etching solution tank 300 . In this case, the portion of the optical fiber mounted on the etching unit 500 is first etched. Then, when the etchant is injected into the etchant injection port 210 connected to the etchant 510 in which the arrangement interval of the etchant is smaller than the etchant 500 , the etchant is injected into the etchant 510 through the etchant tank 310 . is filled with In this case, the portion of the optical fiber placed on the etching unit 510 is etched. At this time, since the portion of the optical fiber placed in the etching unit 500 starts to be etched first, the etched amount is the largest, and then the portion of the optical fiber placed in the etching unit 510 is etched next. as large Likewise, when the etching solution is sequentially injected into the etching solution injection holes 220 , 230 , and 240 , the amount of the optical fiber etched is larger in the order of the portion of the optical fiber placed on the etching part 520 , 530 , and 540 . That is, the amount of etching varies according to the order in which the etching solution is injected. Here, the order of injecting the etching solution is not limited to that described above, it may be injected simultaneously, the order may be different, and the time interval may be arbitrarily adjusted. The order or time difference of injecting the etching solution may be determined as needed. That is, the order and time interval for injecting the etching solution can be determined according to which part of the optical fiber is to be etched more.

다음에는, 시간차에 따라 둘 이상의 에칭부 각각에 대해 서로 다른 에칭 시간으로 광섬유를 에칭한다(S300). 상술한 바와 같이, 에칭액을 순차적으로 주입하면 가장 먼저 주입되는 부분에 재치된 광섬유의 부분부터 에칭이 시작된다. 에칭액을 모두 주입한 후 얼마동안 에칭을 유지할 것인지는 필요에 따라 결정할 수 있다.Next, the optical fiber is etched at different etching times for each of the two or more etching units according to the time difference (S300). As described above, when the etching solution is sequentially injected, the etching starts from the portion of the optical fiber placed on the portion to be injected first. How long the etching is to be maintained after all of the etching solution is injected may be determined as needed.

예를 들어, 에칭액 주입구(200a, 200b)에 먼저 에칭액이 주입되고, 에칭액 주입구(210)에 에칭액이 나중에 주입되면, 에칭조의 배치 간격이 큰 에칭부(500)의 홈에 거치된 광섬유의 부분은 긴 시간동안 에칭되고, 에칭조의 배치 간격이 상대적으로 작은 에칭부(510)의 홈에 거치된 광섬유의 부분은 짧은 시간동안 에칭된다.For example, when an etchant is first injected into the etchant injection ports 200a and 200b, and the etchant is injected later into the etchant injection hole 210, the portion of the optical fiber mounted in the groove of the etching unit 500 with a large spacing of the etchant is The portion of the optical fiber that is etched for a long time and mounted in the groove of the etching part 510 having a relatively small spacing between the etching baths is etched for a short time.

에칭액은 에칭되는 정도, 형상과 시간 등에 따라 결정한다. 바람직하게는, 에칭액이 홈(700)을 통해 누출되는 것을 방지하고 광섬유의 표면을 균일하게 에칭하기 위하여 에칭액의 표면 장력은 60dyn/cm보다 크고 물의 표면 장력(섭씨 0도에서 75.6460dyn/cm)보다 작은 것이 바람직하다. 예를 들어, 설파민산, 플루오르화 암모늄, 증류수 및 황산 암모늄 중 2개 이상을 혼합한 용액을 에칭액으로 사용할 수 있다.The etching solution is determined according to the degree of etching, shape and time. Preferably, the surface tension of the etching solution is greater than 60 dyn/cm and greater than the surface tension of water (75.6460 dyn/cm at 0 degree Celsius) in order to prevent the etching solution from leaking through the grooves 700 and to etch the surface of the optical fiber uniformly. Small is preferable. For example, a solution in which two or more of sulfamic acid, ammonium fluoride, distilled water, and ammonium sulfate are mixed may be used as the etching solution.

다음에는, 에칭이 완료된 광섬유를 광섬유 소자 에칭 장치로부터 제거한다(S400). 에칭이 완료되면 본 출원인이 출원한 한국 특허 출원 제10-2020-0037755에 개시된 클래딩 광 제거용 광섬유 소자를 얻을 수 있다.Next, the etched optical fiber is removed from the optical fiber element etching apparatus (S400). When the etching is completed, an optical fiber device for removing cladding light disclosed in Korean Patent Application No. 10-2020-0037755 filed by the present applicant can be obtained.

10: 광섬유 에칭 장치 100: 메인 바디
200a, 200b, 210, 220, 230, 240: 에칭액 주입구
300, 310, 320, 330, 340: 에칭액 탱크
400, 410, 420, 430: 격리판 500, 510, 520, 530, 540: 에칭부
650a, 650b: 광섬유 지지부 700, 710: 홈10: optical fiber etching apparatus 100: main body
200a, 200b, 210, 220, 230, 240: etchant inlet
300, 310, 320, 330, 340: etchant tank
400, 410, 420, 430: separator 500, 510, 520, 530, 540: etching part
650a, 650b: optical fiber support 700, 710: groove

Claims (8)

메인 바디;
상기 메인 바디의 일측에 구비되며 에칭액이 주입되는 둘 이상의 에칭액 주입구;
상기 메인 바디의 내부에 구비되며. 상기 둘 이상의 에칭액 주입구와 각각 연결되는 둘 이상의 에칭액 탱크;
상기 둘 이상의 에칭액 탱크 중 인접하는 두 개의 에칭액 탱크를 격리하는 격리판; 및
상기 메인 바디의 타측에 구비되고, 상기 둘 이상의 에칭액 탱크와 각각 연결되며, 상기 격리판에 의해 서로 격리되는 둘 이상의 에칭부;
를 포함하되,
상기 둘 이상의 에칭부 각각은
상기 둘 이상의 에칭액 주입구 각각을 통해 주입된 상기 에칭액이 채워지며, 소정의 간격으로 이격되어 배치되는 하나 이상의 에칭조; 및
상기 하나 이상의 에칭조 각각의 에지에 구비되며, 하나 이상의 에칭조 내의 상기 에칭액에 접촉하도록 광섬유가 재치되는 홈
을 포함하는 것을 특징으로 하는 광섬유 소자 에칭 장치.main body;
two or more etchant injection holes provided on one side of the main body and into which the etchant is injected;
It is provided inside the main body. two or more etchant tanks respectively connected to the two or more etchant inlets;
a separator for isolating adjacent two etchant tanks among the two or more etchant tanks; and
two or more etching parts provided on the other side of the main body, respectively connected to the two or more etchant tanks, and isolated from each other by the separator;
including,
Each of the two or more etching parts is
one or more etching baths filled with the etching liquid injected through each of the two or more etching liquid injection holes, and spaced apart from each other by a predetermined interval; and
A groove provided at each edge of the one or more etching baths, in which an optical fiber is placed in contact with the etching solution in the one or more etching baths
An optical fiber element etching apparatus comprising a. 제1항에 있어서,
상기 둘 이상의 에칭액 주입구는 제1 높이에 설치되고, 상기 둘 이상의 에칭부는 상기 제1 높이보다 낮은 제2 높이에 설치되는 것을 특징으로 하는 광섬유 소자 에칭 장치.According to claim 1,
The at least two etching liquid injection holes are installed at a first height, and the at least two etching units are installed at a second height lower than the first height. 제1항에 있어서,
상기 둘 이상의 에칭액 주입구 중 인접하는 두 개의 에칭액 주입구는 상기 격리판에 의해 격리되는 것을 특징으로 하는 광섬유 소자 에칭 장치.According to claim 1,
An optical fiber element etching apparatus, characterized in that the two or more etching liquid injection ports adjacent to each other are isolated by the separator. 제1항에 있어서,
상기 에칭조가 설치되는 높이는, 상기 둘 이상의 에칭액 탱크 각각에 상기 에칭액이 채워지면 상기 둘 이상의 에칭액 탱크 각각에 연결된 상기 에칭조도 에칭액이 채워지는 높이인 것을 특징으로 하는 광섬유 소자 에칭 장치.According to claim 1,
The height at which the etchant is installed is a height at which the etchant connected to each of the two or more etchant tanks is filled when the etchant is filled in each of the two or more etchant tanks. 제1항에 있어서,
상기 둘 이상의 에칭부 중 어느 하나의 에칭부에 포함된 하나 이상의 에칭조는 제1 간격으로 이격되어 배치되고, 상기 어느 하나의 에칭부와 인접하는 다른 하나의 에칭부에 포함된 하나 이상의 에칭조는 상기 제1 간격과 다른 제2 간격으로 이격되어 배치되는 것을 특징으로 하는 광섬유 소자 에칭 장치.According to claim 1,
One or more etching baths included in any one etching part of the two or more etching parts are disposed spaced apart by a first interval, and one or more etching baths included in another etching part adjacent to the one etching part are the first An optical fiber element etching apparatus, characterized in that it is spaced apart by a second interval different from the first interval. 에칭액이 주입되는 둘 이상의 에칭액 주입구; 상기 둘 이상의 에칭액 주입구와 각각 연결되는 둘 이상의 에칭액 탱크; 상기 둘 이상의 에칭액 탱크 중 인접하는 두 개의 에칭액 탱크를 격리하는 격리판; 및 상기 둘 이상의 에칭액 탱크와 각각 연결되며, 상기 격리판에 의해 서로 격리되는 둘 이상의 에칭부;를 포함하되, 상기 둘 이상의 에칭부 각각은 상기 둘 이상의 에칭액 주입구 각각을 통해 주입된 상기 에칭액이 채워지며, 일정 간격으로 배치되는 하나 이상의 에칭조; 및 상기 하나 이상의 에칭조 각각의 에지에 구비되며, 하나 이상의 에칭조 내의 상기 에칭액에 접촉하도록 광섬유가 재치되는 홈을 포함하는 광섬유 소자 에칭 장치를 이용하여 상기 광섬유를 에칭하는 광섬유 에칭 방법에 있어서,
(a) 상기 광섬유를 상기 홈에 재치하는 단계;
(b) 소정의 시간차를 두고 상기 둘 이상의 에칭액 주입구에 상기 에칭액을 주입하는 단계;
(c) 상기 시간차에 따라 상기 둘 이상의 에칭부 각각에 대해 서로 다른 에칭 시간으로 상기 광섬유를 에칭하는 단계; 및
(d) 에칭이 완료된 상기 광섬유를 상기 광섬유 소자 에칭 장치로부터 제거하는 단계
를 포함하는 것을 특징으로 하는 광섬유 에칭 방법.two or more etchant injection holes into which the etchant is injected; two or more etchant tanks respectively connected to the two or more etchant inlets; a separator for isolating adjacent two etchant tanks among the two or more etchant tanks; and at least two etching parts respectively connected to the at least two etching solution tanks and isolated from each other by the separator, wherein each of the at least two etching parts is filled with the etching solution injected through each of the at least two etching solution injection ports, , one or more etching baths disposed at regular intervals; and a groove provided at an edge of each of the one or more etching baths in which an optical fiber is placed so as to contact the etching solution in the one or more etching baths.
(a) placing the optical fiber in the groove;
(b) injecting the etching solution into the two or more etching solution injection holes with a predetermined time difference;
(c) etching the optical fiber with different etching times for each of the two or more etching parts according to the time difference; and
(d) removing the etched optical fiber from the optical fiber element etching apparatus;
An optical fiber etching method comprising a. 제6항에 있어서,
상기 (b) 단계는 상기 하나 이상의 에칭조의 배치 간격이 큰 에칭부와 연결된 에칭액 주입구에 상기 에칭액을 먼저 주입하고, 상기 하나 이상의 에칭조의 배치 간격이 작은 에칭부와 연결된 에칭액 주입구에 상기 에칭액을 나중에 주입하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 광섬유 에칭 방법.7. The method of claim 6,
In the step (b), the etchant is first injected into the etchant inlet connected to the etching part having the large spacing between the one or more etching baths, and the etchant is injected later into the etchant inlet connected to the etching part having the small spacing of the one or more etching baths. An optical fiber etching method comprising the step of: 제7항에 있어서,
상기 (c) 단계는 상기 하나 이상의 에칭조의 배치 간격이 큰 에칭부의 홈에 거치된 상기 광섬유의 부분은 긴 시간동안 에칭하고, 상기 하나 이상의 에칭조의 배치 간격이 작은 에칭부의 홈에 거치된 상기 광섬유의 부분은 짧은 시간동안 에칭하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 광섬유 에칭 방법.8. The method of claim 7,
In step (c), the portion of the optical fiber mounted in the groove of the etching unit having a large spacing between the one or more etching baths is etched for a long time, and the optical fiber mounted in the groove of the etching unit having the small spacing between the one or more etching baths is etched. wherein the portion comprises etching for a short time.
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