KR102375341B1 - 수성 계면활성제 조성물 - Google Patents
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Abstract
본 발명은 하기를 포함하는 수성 계면활성제 조성물에 관한 것이다:
ㆍ 하기 일반식 (I) 의 알파- 설포 지방산 이염 (A) 하나 이상,
[식 중, 라디칼 R1 은 6 내지 18 개의 탄소 원자를 갖는 선형 또는 분지형 알킬 또는 알케닐 기이고, 라디칼 M1 및 M2 는 서로 독립적으로 군 H, Li, Na, K, Ca/2, Mg/2, 암모늄 및 알칸올아민을 포함하는 군으로부터 선택됨],
ㆍ 아모디메티콘 (B1), 디메티콘 (B2), 디메티코놀 (B3), 및 시클로메티콘 (B4) 로 형성된 군으로부터 선택되는 실리콘 화합물 (B) 하나 이상, 및
ㆍ 물,
이때, 특허 청구범위에서 추가로 명시된 경계 조건은 소위 에스테르 설포네이트와 관련하여 충족되어야 한다. 이러한 조성물은 양호한 발포 능력 및 발포체에 대한 쾌적한 감촉, 및 양호한 피부 적합성을 나타내며, 미용 제품뿐만 아니라 세제 및 세정제에 적합하다.
ㆍ 하기 일반식 (I) 의 알파- 설포 지방산 이염 (A) 하나 이상,
[식 중, 라디칼 R1 은 6 내지 18 개의 탄소 원자를 갖는 선형 또는 분지형 알킬 또는 알케닐 기이고, 라디칼 M1 및 M2 는 서로 독립적으로 군 H, Li, Na, K, Ca/2, Mg/2, 암모늄 및 알칸올아민을 포함하는 군으로부터 선택됨],
ㆍ 아모디메티콘 (B1), 디메티콘 (B2), 디메티코놀 (B3), 및 시클로메티콘 (B4) 로 형성된 군으로부터 선택되는 실리콘 화합물 (B) 하나 이상, 및
ㆍ 물,
이때, 특허 청구범위에서 추가로 명시된 경계 조건은 소위 에스테르 설포네이트와 관련하여 충족되어야 한다. 이러한 조성물은 양호한 발포 능력 및 발포체에 대한 쾌적한 감촉, 및 양호한 피부 적합성을 나타내며, 미용 제품뿐만 아니라 세제 및 세정제에 적합하다.
Description
본 발명은 알파-설포 지방산 이염 및 특정 실리콘 화합물을 함유하는 수성 계면활성제 조성물에 관한 것이다.
음이온성 계면활성제는 가장 널리 보급된 계면-활성 화합물 중 하나이며, 세제 및 세정제에서 사용되는 것 외에, 미용 제품 분야에서도 다양한 목적으로 사용된다. 특히 미용 제품에서 사용되는 통상적인 음이온성 계면활성제는 알킬 에테르 설페이트 (알킬 폴리에테르 설페이트, 지방 알코올 폴리글리콜 에테르 설페이트, 간단히 에테르 설페이트) 의 염이다. 이들은 강한 발포 능력, 높은 세정력, 경도 및 기름(grease)에 대한 낮은 민감성을 특징으로 하며, 예를 들어 헤어 샴푸, 폼 또는 샤워 배쓰와 같은 미용 제품뿐만 아니라 손 설거지 세제의 제조에 널리 사용된다.
많은 현재의 적용에서, 양호한 계면-활성 효과 외에도, 음이온성 계면활성제에 대한 추가 요건이 있다. 특히 미용 제품에서는 높은 피부 적합성이 요구된다. 또한, 양호한 발포 능력 및 발포체에 대한 쾌적한 감촉이 일반적으로 요망된다. 뿐만 아니라, 적어도 부분적으로 생물 기원 공급원 및 특히 또한 재생 가능한 원료로부터 제조될 수 있는 음이온성 계면활성제가 필요하다.
본 발명의 목적은 하기에 명시된 특성을 특징으로 하는 수성 계면활성제 조성물을 제공하는 것이다:
ㆍ 양호한 발포 능력.
ㆍ 발포체에 대한 쾌적한 감촉.
ㆍ 양호한 피부 적합성.
본 발명은 첫째로 하기를 포함하는 수성 계면활성제 조성물을 제공한다:
ㆍ 하기 일반식 (I) 의 알파- 설포 지방산 이염 (A) 하나 이상,
[식 중, 라디칼 R1 은 6 내지 18 개의 탄소 원자를 갖는 선형 또는 분지형 알킬 또는 알케닐 라디칼이고, 라디칼 M1 및 M2 는 서로 독립적으로 H, Li, Na, K, Ca/2, Mg/2, 암모늄 및 알칸올아민을 포함하는 군으로부터 선택됨],
ㆍ 아모디메티콘 (B1), 디메티콘 (B2), 디메티코놀 (B3) 및 시클로메티콘 (B4) 로 형성된 군으로부터 선택되는 실리콘 화합물 (B) 하나 이상, 및
ㆍ 물,
이때, 하기 단서가 적용된다:
ㆍ 수성 조성물이 하기 일반식 (V) 의 에스테르 설포네이트 (E) 하나 이상을 포함하는 경우, 화합물 (A) 는 화합물 (A) 및 (E) 의 총량을 기준으로 50 중량% 이상의 정도로, 특히 90 중량% 이상의 정도로 존재해야 함:
[식 중, 라디칼 R2 는 6 내지 18 개의 탄소 원자를 갖는 선형 또는 분지형 알킬 또는 알케닐 라디칼이고, 라디칼 R3 은 1 내지 20 개의 탄소 원자를 갖는 선형 또는 분지형 알킬 또는 알케닐 라디칼이고 (이때, 라디칼 R3 은 논리적으로 알케닐 라디칼이거나 오직 탄소수 3 초과로 분지형일 수 있음), 라디칼 M7 은 Li, Na, K, Ca/2, Mg/2, 암모늄 및 알칸올아민을 포함하는 군으로부터 선택됨].
ㆍ 아모디메티콘 (B1) 은 하기 일반식 (IIa) 를 가짐:
[식 중, 지수 n 은 10 내지 100 000 의 정수이고, 지수 m 은 2 내지 20 000 의 정수임].
ㆍ 디메티콘 (B2) 은 하기 일반식 (IIb) 를 가짐:
[식 중, 지수 x 는 10 내지 100 000 의 정수임].
ㆍ 디메티코놀 (B3) 은 하기 일반식 (IIc) 를 가짐:
[식 중, 지수 y 는 10 내지 100 000 의 정수임].
ㆍ 시클로메티콘 (B4) 은 하기 일반식 (IId) 를 가짐:
[식 중, 지수 z 는 3 내지 6 의 정수임].
본 발명에 따른 수성 계면활성제 조성물은 하기 유리한 특성을 특징으로 한다:
ㆍ 양호한 발포 능력 및 발포체에 대한 쾌적한 감촉. 이와 관련하여, 특히 미용 제품 분야에서, 발포 능력은 여러 양태를 의미하는 것으로 이해될 수 있음을 유의할 수 있는데, 예를 들어, 발포체를 평가하기 위한 목적으로, 예를 들어 포어 크기와 같은 발포체의 광학적 특징뿐만 아니라 발포체 부피, 발포체 안정성, 발포체 탄성, 발포체의 물 함량 중 어느 하나를 사용할 수 있다. 본 발명에 따른 조성물은 초기 발포 동안 큰 발포체 부피를 갖는다. 실제로, 초기 발포는 비교적 짧은 기간 (수 초 내지 1 분) 내에 일어난다. 전형적으로, 초기 발포 동안, 손, 피부 및/또는 모발 사이에서 문지름으로써 샤워 젤 또는 샴푸가 퍼지고 거품이 발생된다. 실험실에서는, 수성 계면활성제 용액의 발포 거동은 예를 들어 교반, 쉐이킹, 펌핑, 기체 스트림을 통한 버블링 또는 다른 방식으로 비교적 짧은 기간 내에 용액을 진탕시킴으로써 평가될 수 있다. 발포체 촉감의 주관적인 평가는 자발적 지원자 시험에서 이루어질 수 있다. 이러한 목적을 위해, 예를 들어, 발포체의 크리미함(creaminess), 탄성, 성형성(moldability)과 같은 양태가 평가될 수 있다.
ㆍ 양호한 피부 및 점막 적합성. 이들은 당업자에게 공지된 인비트로 방법 (예를 들어, RBC 또는 HET-CAM) 및 또한 자발적 지원자 시험 (예를 들어, 패치 시험) 에 의해 탐지될 수 있다.
ㆍ 피부 및 모발에 대한 탁월한 케어 성능. 이는 처리된 모발의 주관적인 피부 감촉 (부드러움, 건조함 등) 또는 촉감과 감촉을 참조하여 자발적 지원자 시험에서 평가될 수 있다. 예를 들어 모발의 빗질성(combability)과 같은 기계적 측정 방법도 사용될 수 있다.
ㆍ 양호한 저장 안정성. 이는 수성 조성물이 수 주의 기간 동안 임의의 가시적인 (예를 들어, 혼탁함(cloudiness), 변색, 상 분리) 또는 측정 가능한 (예를 들어, pH, 점도, 활성 물질 함량) 변화를 겪지 않는 경우에 해당한다.
ㆍ 양호한 적용성 및 가공성. 조성물은 물에 도입시 열의 공급 없이 신속하게 용해될 수 있다.
ㆍ 양호한 투명한 용해도 및 투명성. 수성 계면활성제 조성물은 침전되거나 또는 혼탁해지는 경향이 없다.
ㆍ 본 발명의 문맥에서 1000 mPas 이상의 값을 의미하는 것으로 이해되는 충분히 높은 점도 (23℃, 12 rpm, 스핀들 세트 RV 02 내지 07 (점도 범위에 따라 스핀들 선택) 에서 브룩필드 RV 실험실 레오미터로 측정). 알려진 바와 같이, "mPas" 는 밀리파스칼 초를 의미한다.
ㆍ 양호한 세정 성능. 수성 계면활성제 조성물은 고체 또는 텍스타일 표면으로부터의 오염, 특히 지방- 또는 오일-함유 오염을 제거하고 유화시키는데 적합하다.
화합물 (A)
본 발명의 문맥에서 알파-설포 지방산 이염으로 언급되는 화합물 (A) 는 본 발명에 따른 수성 계면활성제 조성물에 필수적이다. 이들은 상기 명시된 화학식 (I) 을 갖는다:
식 중, 라디칼 R1 은 6 내지 18 개의 탄소 원자를 갖는 선형 또는 분지형 알킬 또는 알케닐 라디칼이고, 라디칼 M1 및 M2 는 서로 독립적으로 H, Li, Na, K, Ca/2, Mg/2, 암모늄 및 알칸올아민을 포함하는 군으로부터 선택된다. 이와 관련하여, 특히 바람직한 알칸올아민은 모노에탄올아민, 디에탄올아민, 트리에탄올아민 및 모노이소프로판올아민이다.
한 구현예에서, 수성 계면활성제 조성물 중 라디칼 R1 이 알케닐 라디칼인 화합물 (A) 의 분율은 화합물 (A) 의 총량을 기준으로 3 중량% 이하라는 단서가 적용된다.
바람직한 구현예에서, 화학식 (I) 의 라디칼 R1 은 10 내지 16 개의 탄소 원자를 갖는 포화, 선형 알킬 라디칼이며, 이때 화합물 (A) 에 관해서는, 라디칼 R1 이 데실 및/또는 도데실 라디칼인 화합물 (A) 의 분율은 화합물 (A) 의 총량을 기준으로 70 중량% 이상, 바람직하게는 90 중량% 이상이다.
화학식 (I) 의 라디칼 M1 및 M2 는 바람직하게는 H (수소) 및 Na (나트륨) 을 포함하는 군으로부터 선택된다.
화합물 (A) 는 당업자에게 적절하게 공지된 모든 방법에 의해 제조될 수 있다. 본원에서 특히 바람직한 제조 방법은 상응하는 카복실산의 황산화이다. 여기서, 상응하는 카복실산 및 특히 상응하는 지방산은 기체 삼산화황과 반응되며, 삼산화황은 바람직하게는 SO3 대 지방산의 몰비가 1.0 : 1 내지 1.1 : 1 범위가 되게 하는 양으로 사용된다. 이러한 방식으로 수득된 산성 황산화 생성물인 미정제 생성물은 이후 부분적으로 또는 완전히 중화되는데, 수성 NaOH 로 중화를 완료하는 것이 바람직하다. 원하는 경우, (제품의 원하는 옅은 색상을 조정하기 위해) 정제 단계 및/또는 표백을 수행할 수도 있다.
특히 바람직한 구현예에서, 화합물 (A) 는 공업용 등급 형태로 사용된다. 이는 상응하는 카복실산, 특히 천연 지방산이 기체 삼산화황에 의해 황산화되는 것을 의미하며, 그 결과로, 생성된 산성 황산화 생성물의 부분적인 또는 완전한 중화가 후속되며, 화합물 (A), (C) 및 (D) 의 혼합물이 생성된다. 반응 파라미터 (특히 카복실산 및 삼산화황의 몰비, 및 또한 반응 온도) 의 상응하는 조정에 의해, 화합물 (A), (C) 및 (D) 의 비를 제어할 수 있다. 화합물 (C) 및 (D) 는 하기의 "바람직한 구현예" 챕터에 기재되어 있다.
본 발명의 문맥에서, 하기 조성을 갖는 알파-설포 지방산 이염의 공업용 등급 혼합물이 바람직하다:
ㆍ (A) 의 함량은 60 내지 100 중량% 범위임,
ㆍ (C) 의 함량은 0 내지 20 중량% 범위임,
ㆍ (D) 의 함량은 0 내지 20 중량% 범위임,
단, 이 혼합물 중 성분 (A), (C) 및 (D) 의 합은 100 중량% 임.
화합물 (B)
본 발명의 문맥에서 실리콘 화합물로 언급되는 화합물 (B) 는 본 발명에 따른 수성 계면활성제 조성물에 필수적이다.
화합물 (B) 는 아모디메티콘 (B1), 디메티콘 (B2), 디메티코놀 (B3) 및 시클로메티콘 (B4) 로 형성된 군으로부터 선택된다.
아모디메티콘 (B1) 은 하기 일반식 (IIa) 를 갖는다:
[식 중, 지수 n 은 10 내지 100 000 의 정수이고, 지수 m 은 2 내지 20 000 의 정수임].
디메티콘 (B2) 은 하기 일반식 (IIb) 를 갖는다:
[식 중, 지수 x 는 10 내지 100 000 의 정수임].
디메티코놀 (B3) 은 하기 일반식 (IIc) 를 갖는다:
[식 중, 지수 y 는 10 내지 100 000 의 정수임].
시클로메티콘 (B4) 은 하기 일반식 (IId) 를 갖는다:
[식 중, 지수 z 는 3 내지 6 의 정수임].
화합물 (B) 는 당업자에게 적절하게 공지된 모든 방법에 의해 제조될 수 있다. 예를 들어, 메틸클로로실란은 먼저 규소와 메틸 클로라이드를 반응시켜 중간체로 형성된다 (Muller-Rochow 합성). 실라놀 및 시클로실록산은 메틸클로로실란의 후속 가수 분해에 의해 형성되며, 이는 결국 중축합 또는 음이온으로 또는 양이온으로 개시되는 개환 중합에 의해 목적하는 최종 생성물로 전환될 수 있다.
바람직한
구현예
한 구현예에서, 본 발명에 따른 수성 계면활성제 조성물은, 화합물 (A), (B) 및 물 이외에, 하기 일반식 (III) 의 화합물 (C) 하나 이상을 추가로 포함한다:
화학식 (III) 에서, 라디칼 R4 는 7 내지 19 개의 탄소 원자를 갖는 선형 또는 분지형 알킬 또는 알케닐 라디칼이고, 라디칼 M5 는 H, Li, Na, K, Ca/2, Mg/2, 암모늄 및 알칸올아민을 포함하는 군으로부터 선택된다. 이와 관련하여, 특히 바람직한 알칸올아민은 모노에탄올아민, 디에탄올아민, 트리에탄올아민 및 모노이소프로판올아민이다.
한 구현예에서, 본 발명에 따른 수성 계면활성제 조성물은, 화합물 (A), (B) 및 물 이외에, 하기 일반식 (IV) 의 황산의 무기 염 (D) 하나 이상을 추가로 포함한다:
식 중, M6 은 Li, Na, K, Ca/2, Mg/2, 암모늄 및 알칸올아민을 포함하는 군으로부터 선택된다. 이와 관련하여, 특히 바람직한 알칸올아민은 모노에탄올아민, 디에탄올아민, 트리에탄올아민 및 모노이소프로판올아민이다.
바람직한 구현예에서, 본 발명에 따른 수성 계면활성제 조성물은 화합물 (A), (B), (C) 및 (D) 를 포함한다. 이 경우, 화합물 (A) 의 라디칼 M1 및 M2, 화합물 (C) 의 라디칼 M5 및 화합물 (D) 의 라디칼 M6 이 H (수소) 및 Na (나트륨) 을 포함하는 군으로부터 선택되는 경우가 특히 바람직하다.
한 구현예에서, 본 발명에 따른 수성 계면활성제 조성물은, 화합물 (A), (B) 및 물 이외에, 하기 일반식 (VI) 의 화합물 (F) 하나 이상을 추가로 포함한다:
식 중, 라디칼 R6 및 R7 은 서로 독립적으로 6 내지 18 개의 탄소 원자를 갖는 선형 또는 분지형 알킬 라디칼이고, 라디칼 M8 은 H, Li, Na, K, Ca/2, Mg/2, 암모늄 및 알칸올아민을 포함하는 군으로부터 선택된다. 이와 관련하여, 특히 바람직한 알칸올아민은 모노에탄올아민, 디에탄올아민, 트리에탄올아민 및 모노이소프로판올아민이다.
본 발명의 문맥에서, 화합물 (F) 는 모노설포케톤으로 언급된다.
바람직한 구현예에서, 화학식 (VI) 의 라디칼 R6 및 R7 은 서로 독립적으로 10 내지 16 개의 탄소 원자를 갖는 포화, 선형 라디칼이며, 화합물 (F) 에 관해서는, 라디칼 R6 및 R7 이 데실 및/또는 도데실 라디칼인 화합물 (F) 의 분율은 화합물 (F) 의 총량을 기준으로 70 중량% 이상, 바람직하게는 90 중량% 이상이다. 화학식 (VI) 의 라디칼 M8 은 바람직하게는 H 및 Na 를 포함하는 군으로부터 선택된다.
한 구현예에서, 본 발명에 따른 수성 계면활성제 조성물은, 화합물 (A), (B) 및 물 이외에, 하기 일반식 (VII) 의 화합물 (G) 하나 이상을 추가로 포함한다:
식 중, 라디칼 R8 및 R9 는 서로 독립적으로 6 내지 18 개의 탄소 원자를 갖는 선형 또는 분지형 알킬 라디칼이고, 라디칼 M9 및 M10 은 서로 독립적으로 H, Li, Na, K, Ca/2, Mg/2, 암모늄 및 알칸올아민을 포함하는 군으로부터 선택된다. 이와 관련하여, 특히 바람직한 알칸올아민은 모노에탄올아민, 디에탄올아민, 트리에탄올아민 및 모노이소프로판올아민이다.
본 발명의 문맥에서, 화합물 (G) 는 디설포케톤으로 언급된다.
바람직한 구현예에서, 화학식 (VII) 의 라디칼 R8 및 R9 는 서로 독립적으로 10 내지 16 개의 탄소 원자를 갖는 포화, 선형 라디칼이며, 화합물 (G) 에 관해서는, 라디칼 R8 및 R9 가 데실 및/또는 도데실 라디칼인 화합물 (G) 의 분율은 화합물 (G) 의 총량을 기준으로 70 중량% 이상, 바람직하게는 90 중량% 이상이다. 화학식 (VII) 의 라디칼 M9 및 M10 은 바람직하게는 H 및 Na 를 포함하는 군으로부터 선택된다.
화합물 (F) 및 (G) 의 제조는 특별한 제한되지 않으며, 이들은 당업자에게 공지된 모든 방법에 의해 제조될 수 있다.
한 구현예에서, 화합물 (F) 및 (G) 는 독일 공개 명세서 DE-A-42,20,580 에 기재되어 있는 바와 같은, 기체 삼산화황에 의한 상응하는 케톤의 설폰화에 의해 제조된다.
또 다른 구현예에서, 화합물 (F) 및 (G) 의 제조는 지방산에서 출발한다. 이 경우, 기체 삼산화황에 의한 액체 지방산의 황산화는, 이염 (A) 이외에, 화합물 (F) 및 (G) 가 이 경우 또한 형성되게 수행되며, 이는 다음과 같은 황산화를 수행한 결과로 달성될 수 있다: 삼산화황에 대한 지방산 원료 (상이한 사슬 길이를 갖는 지방산의 혼합물의 형태로 사용될 수도 있음) 의 비는 지방산(들) 1 mol 당 1.0 내지 1.5 mol, 특히 1.0 내지 1.25 mol 의 SO3 가 사용되게 조정된다. 지방산은 70 내지 100℃ 범위의 저장소 온도의 반응기에 도입된다. 황산화 후, 생성된 액체 황산화 생성물은 이 온도에서 5 내지 20 분 동안 온도 제어 반응 후 코일(temperature-controlled post-reaction coil)에서 유지되고 에이징된다. 이후, 중화가 일반적으로 5 내지 10, 특히 5 내지 7 의 pH 범위에서, 수성 염기, 바람직하게는 수산화나트륨에 의해 수행된다. 그 후, 산성 표백 (이때 pH 는 7 이하의 값으로 조정됨) 이 과산화수소에 의해 수행될 수 있다.
한 구현예에서, 본 발명에 따른 수성 계면활성제 조성물은 화합물 (A), (B) 및 (F) 를 포함한다. 이 경우, 화합물 (A) 의 라디칼 M1 및 M2 가 H (수소) 및 Na (나트륨) 을 포함하는 군으로부터 선택되는 경우가 특히 바람직하다. 단, 이 경우 화합물 (A) 의 양은 화합물 (F) 의 양보다 많아야 한다.
한 구현예에서, 본 발명에 따른 수성 계면활성제 조성물은 화합물 (A), (B) 및 (G) 를 포함한다. 이 경우, 화합물 (A) 의 라디칼 M1 및 M2 가 H 및 Na 를 포함하는 군으로부터 선택되는 경우가 특히 바람직하다. 단, 이 경우 화합물 (A) 의 양은 화합물 (G) 의 양보다 많아야 한다.
한 구현예에서, 본 발명에 따른 수성 계면활성제 조성물은 화합물 (A), (B), (F) 및 (G) 를 포함한다. 이 경우, 화합물 (A) 의 라디칼 M1 및 M2 가 H 및 Na 를 포함하는 군으로부터 선택되는 경우가 특히 바람직하다. 단, 이 경우 화합물 (A) 의 양은 화합물 (F) 및 (G) 의 총 합계보다 많아야 한다.
한 구현예에서, 본 발명에 따른 수성 계면활성제 조성물은 화합물 (A), (B), (C), (D) 및 (F) 를 포함한다. 이 경우, 화합물 (A) 의 라디칼 M1 및 M2, 화합물 (C) 의 라디칼 M5 및 화합물 (D) 의 라디칼 M6 이 H 및 Na 를 포함하는 군으로부터 선택되는 경우가 특히 바람직하다. 단, 이 경우 화합물 (A) 의 양은 화합물 (F) 의 양보다 많아야 한다.
한 구현예에서, 본 발명에 따른 수성 계면활성제 조성물은 화합물 (A), (B), (C), (D) 및 (G) 를 포함한다. 이 경우, 화합물 (A) 의 라디칼 M1 및 M2, 화합물 (C) 의 라디칼 M5 및 화합물 (D) 의 라디칼 M6 이 H 및 Na 를 포함하는 군으로부터 선택되는 경우가 특히 바람직하다. 단, 이 경우 화합물 (A) 의 양은 화합물 (G) 의 양보다 많아야 한다.
한 구현예에서, 본 발명에 따른 수성 계면활성제 조성물은 화합물 (A), (B), (C), (D), (F) 및 (G) 를 포함한다. 이 경우, 화합물 (A) 의 라디칼 M1 및 M2, 화합물 (C) 의 라디칼 M5 및 화합물 (D) 의 라디칼 M6 이 H 및 Na 를 포함하는 군으로부터 선택되는 경우가 특히 바람직하다. 단, 이 경우 화합물 (A) 의 양은 화합물 (F) 및 (G) 의 총 합계보다 많아야 한다.
필요한 경우, 본 발명에 따른 수성 계면활성제 조성물은 구조적 관점에서 앞서 언급한 화합물 (A), (B), (D), (E), (F) 또는 (G) 에 속하지 않는 하나 이상의 추가의 계면활성제를 추가로 포함할 수 있다. 이들 계면활성제는 음이온성, 양이온성, 비이온성 또는 양쪽성 계면활성제일 수 있다.
조성물의 용도
본 발명의 또 다른 주제는 앞서 언급한 조성물의 미용 제품, 및 또한 세제 및 세정제를 위한 용도이다.
미용 제품에 관해서는, 특히 헤어 샴푸, 샤워 젤, 비누, 합성세제(syndet), 세척 페이스트, 세척 로션, 스크럽 제제, 폼 배쓰, 오일 배쓰, 샤워 배쓰, 쉐이빙 폼, 쉐이빙 로션, 쉐이빙 크림 및 치아 케어 제품 (예를 들어, 치약, 구강 세척제 등) 의 형태로 존재하는 것들이 본원에서 특히 바람직하다.
세정제에 관해서는, 특히 욕조 및 변기 세정제 등과 같은 경질 표면 세정을 위한 낮은 pH 를 갖는 제품, 및 또한 위생 설비에서의 사용을 위한 세정 및/또는 방향 겔이 본원에서 바람직하다.
Claims (10)
- 하기를 포함하는 수성 계면활성제 조성물:
ㆍ 하기 일반식 (I) 의 알파-설포 지방산 이염 (A) 하나 이상,
[식 중, 라디칼 R1 은 6 내지 18 개의 탄소 원자를 갖는 선형 또는 분지형 알킬 또는 알케닐 라디칼이고, 라디칼 M1 및 M2 는 서로 독립적으로 H, Li, Na, K, Ca/2, Mg/2, 암모늄 및 알칸올아민을 포함하는 군으로부터 선택됨],
ㆍ 디메티콘 (B2), 디메티코놀 (B3) 및 시클로메티콘 (B4) 로 형성된 군으로부터 선택되는 실리콘 화합물 (B) 하나 이상, 및
ㆍ 물,
이때, 하기 단서가 적용됨:
ㆍ 수성 계면활성제 조성물이 하기 일반식 (V) 의 에스테르 설포네이트 (E) 하나 이상을 포함하는 경우, 화합물 (A) 는 화합물 (A) 및 (E) 의 전체를 기준으로 90 중량% 이상의 정도로 존재해야 함:
[식 중, 라디칼 R2 는 6 내지 18 개의 탄소 원자를 갖는 선형 또는 분지형 알킬 또는 알케닐 라디칼이고, 라디칼 R3 은 1 내지 20 개의 탄소 원자를 갖는 선형 또는 분지형 알킬 또는 알케닐 라디칼이고 (이때, 라디칼 R3 은 논리적으로 알케닐 라디칼이거나 오직 탄소수 3 초과로 분지형일 수 있음), 라디칼 M7 은 Li, Na, K, Ca/2, Mg/2, 암모늄 및 알칸올아민을 포함하는 군으로부터 선택됨],
ㆍ 디메티콘 (B2) 은 하기 일반식 (IIb) 를 가짐:
[식 중, 지수 x 는 10 내지 100 000 의 정수임].
ㆍ 디메티코놀 (B3) 은 하기 일반식 (IIc) 를 가짐:
[식 중, 지수 y 는 10 내지 100 000 의 정수임],
ㆍ 시클로메티콘 (B4) 은 하기 일반식 (IId) 를 가짐:
[식 중, 지수 z 는 3 내지 6 의 정수임]. - 제 1 항에 있어서, 화학식 (I) 의 라디칼 R1 이 10 내지 16 개의 탄소 원자를 갖는 포화, 선형 알킬 라디칼이며, 이때 화합물 (A) 에 관해서는, 라디칼 R1 이 데실 또는 도데실 라디칼인 화합물 (A) 의 분율은 화합물 (A) 의 총량을 기준으로 90 중량% 이상인 수성 계면활성제 조성물.
- 제 1 항에 있어서, 라디칼 M1 및 M2 이 H (수소) 및 Na (나트륨) 을 포함하는 군으로부터 선택되는 수성 계면활성제 조성물.
- 제 1 항에 있어서, 하기 일반식 (III) 의 화합물 (C) 하나 이상을 추가로 포함하는 수성 계면활성제 조성물:
[식 중, 라디칼 R4 는 7 내지 19 개의 탄소 원자를 갖는 선형 또는 분지형 알킬 또는 알케닐 라디칼이고, 라디칼 M5 는 H, Li, Na, K, Ca/2, Mg/2, 암모늄 및 알칸올아민을 포함하는 군으로부터 선택됨]. - 제 1 항 내지 제 4 항 중 어느 한 항에 있어서, 하기 일반식 (IV) 의 황산의 무기 염 (D) 하나 이상을 추가로 포함하는 수성 계면활성제 조성물:
[식 중, M6 은 Li, Na, K, Ca/2, Mg/2, 암모늄 및 알칸올아민을 포함하는 군으로부터 선택됨]. - 제 1 항 내지 제 4 항 중 어느 한 항에 있어서, 하기 일반식 (VI) 의 모노설포케톤 (F) 하나 이상을 추가로 포함하는 수성 계면활성제 조성물:
[식 중, 라디칼 R6 및 R7 은 서로 독립적으로 6 내지 18 개의 탄소 원자를 갖는 선형 또는 분지형 알킬 라디칼이고, 라디칼 M8 은 H, Li, Na, K, Ca/2, Mg/2, 암모늄 및 알칸올아민을 포함하는 군으로부터 선택됨]. - 제 1 항 내지 제 4 항 중 어느 한 항에 있어서, 하기 일반식 (VII) 의 디설포케톤 (G) 하나 이상을 추가로 포함하는 수성 계면활성제 조성물:
[식 중, 라디칼 R8 및 R9 는 서로 독립적으로 6 내지 18 개의 탄소 원자를 갖는 선형 또는 분지형 알킬 라디칼이고, 라디칼 M9 및 M10 은 서로 독립적으로 H, Li, Na, K, Ca/2, Mg/2, 암모늄 및 알칸올아민을 포함하는 군으로부터 선택됨]. - 제 1 항 내지 제 4 항 중 어느 한 항에 있어서, 미용 제품, 세제 또는 세정제에 사용되는 수성 계면활성제 조성물.
- 제 1 항 내지 제 4 항 중 어느 한 항에 있어서, 헤어 샴푸, 샤워 젤, 비누, 합성세제(syndet), 세척 페이스트, 세척 로션, 스크럽 제제, 폼 배쓰, 오일 배쓰, 샤워 배쓰, 쉐이빙 폼, 쉐이빙 로션, 쉐이빙 크림 또는 치아 케어 제품 형태의 미용 제품에 사용되는 수성 계면활성제 조성물.
- 제 1 항 내지 제 4 항 중 어느 한 항에 있어서, 경질 표면 세정을 위한 낮은 pH 를 갖는 제품, 욕조 및 변기 세정제, 또는 위생 설비에서 사용되는 세정 및/또는 방향 겔에 사용되는 수성 계면활성제 조성물.
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