KR102361758B1 - Resin composition and touch screen panel comprising the same - Google Patents

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Abstract

본 발명은 수지 조성물 및 이를 포함하는 터치스크린 패널에 관한 것이다. 본 발명의 일 실시상태에 따른 수지 조성물은, 1) 상기 화학식 1로 표시되는 실리콘계 화합물, 및 2) 상기 화학식 2로 표시되는 화합물 및 나노 입자를 포함하는 분산액을 포함한다.The present invention relates to a resin composition and a touch screen panel comprising the same. The resin composition according to an exemplary embodiment of the present invention includes 1) a silicone-based compound represented by Formula 1, and 2) a dispersion including the compound represented by Formula 2 and nanoparticles.

Description

수지 조성물 및 이를 포함하는 터치스크린 패널{RESIN COMPOSITION AND TOUCH SCREEN PANEL COMPRISING THE SAME}Resin composition and touch screen panel comprising the same

본 발명은 수지 조성물 및 이를 포함하는 터치스크린 패널에 관한 것이다.The present invention relates to a resin composition and a touch screen panel comprising the same.

터치스크린 패널은 디스플레이 화면상에서 사용자의 접촉위치를 감지하고 감지된 정보를 이용하여 디스플레이 화면 제어를 포함한 전자기기의 전반적인 제어를 수행하는 전자기기의 입출력 수단이다. 이러한 터치스크린 패널은 최근 스마트폰의 수요급증으로 인해 기술적 중요도가 더욱 증가하고 있다.The touch screen panel is an input/output means of an electronic device that detects a user's touch position on a display screen and performs overall control of the electronic device, including display screen control, using the sensed information. The technical importance of such a touch screen panel is increasing due to the recent surge in demand for smartphones.

터치스크린 패널의 방식은 저항막 방식, 정전용량형 방식, 전자기유도형 방식 등이 있다. 이중에서 정전용량형 방식이 가장 많이 사용되는데 이 방식은 인체에서 발생하는 정전기를 감지하는 원리를 이용한다. 상기 정전용량형 방식은 내구성이 강하고 투과성이 좋으며 반응 시간이 빠른 장점이 있으나, 이를 구현하는 터치스크린 패널은 전도성 투명 전극을 패터닝하여 사용하게 되는데, 이로 인한 전도성층 및 기재층과의 반사율 차이로 인해 전극 패턴이 관찰되게 되어 시인성이 문제가 된다. 즉, 기재 필름과 ITO 필름과의 반사율 차이에 의해서 ITO 전극 패턴이 더욱 뚜렷해져서 시인성이 떨어지는 문제점이 있다.The method of the touch screen panel includes a resistive film method, a capacitive type method, an electromagnetic induction type method, and the like. Among them, the capacitive type is the most used, and this method uses the principle of detecting static electricity generated in the human body. The capacitive type method has the advantages of strong durability, good transmittance, and fast response time, but the touch screen panel implementing this uses a patterned conductive transparent electrode, and due to the difference in reflectance between the conductive layer and the base layer, As the electrode pattern is observed, visibility becomes a problem. That is, the ITO electrode pattern becomes more distinct due to the difference in reflectance between the base film and the ITO film, and thus there is a problem in that visibility is lowered.

이를 개선하기 위한 공지의 방법은 한국공개특허 제2010-0008758호, 한국공개특허 제2008-0068552호 및 한국공개특허 제2012-0047828호 등이 있다. 이들 방법은 굴절율이 서로 다른 두 층과 도전성층으로 구성하여 투명 접착제로 양면 합지시킨 구조로서 어느정도 시인성의 문제는 해결되었지만 제조공정이 복잡하고 다층의 필름의 재료가 사용되어 제조 단가가 높다는 단점이 있다.Known methods for improving this include Korean Patent Application Laid-Open No. 2010-0008758, Korean Patent Application Laid-Open No. 2008-0068552, and Korean Patent Application Laid-Open No. 2012-0047828. These methods consist of two layers with different refractive indices and a conductive layer, and are laminated on both sides with a transparent adhesive. Although the problem of visibility has been solved to some extent, the manufacturing process is complicated and the manufacturing cost is high due to the use of multi-layered film materials. .

최근에는 이를 해결하기 위하여 기존의 ITO 필름을 사용하는 방법이 아닌 커버 글라스에 센서를 결합한 일체형(OGS, One Glass Solution) 방식이 도입되었다. 이 방법은 커버 글라스에 ITO를 직접 증착하여 전극을 형성하는 방법으로 ITO 필름을 사용할 경우에 나타나는 다단계 공정을 줄임으로써 관련 재료 및 공정비를 절감하는 획기적인 방법으로 여겨져, 관련 터치패널 제조 업체에서 스마트폰 위주의 적용에서 점차로 대면적 디스플레이 제품으로의 적용을 확대해 나가고 있는 추세이다. 그러나, 이 방법에서도 상기 기술한 ITO 패턴의 시인 문제는 남아 있어서 이를 해결하기 위한 적절한 방법이 요구되고 있으며, 더욱이 ITO 패턴을 증착시 또는 패널을 제조하기 위한 후 공정에서 230~280℃ 가까이 온도에 노출되는 경우도 있어 이러한 온도에서 견딜 수 있는 내열성이 높은 재료가 요구되고 있다.Recently, in order to solve this problem, an all-in-one (OGS, One Glass Solution) method in which a sensor is combined with a cover glass rather than a method using an existing ITO film has been introduced. This method is a method of forming electrodes by directly depositing ITO on the cover glass. It is considered as an innovative method of reducing the multi-step process that occurs when using an ITO film, thereby reducing related materials and process costs. It is a trend that is gradually expanding the application to large-area display products from the main application. However, even in this method, the above-described problem of visibility of the ITO pattern remains, and an appropriate method is required to solve it, and moreover, when depositing the ITO pattern or in a post-process for manufacturing a panel, exposure to a temperature close to 230 ~ 280 ℃ In some cases, materials with high heat resistance that can withstand such temperatures are required.

한국공개특허 제10-2010-0008758호Korean Patent Publication No. 10-2010-0008758 한국공개특허 제10-2008-0068552호Korean Patent Publication No. 10-2008-0068552 한국공개특허 제10-2012-0047828호Korean Patent Publication No. 10-2012-0047828

전술한 종래기술의 문제점을 해결하기 위하여, 본 발명은 ITO 패턴의 시인성 문제를 해결할 수 있고, 접착력, 내열성 등이 우수한 터치스크린 패널을 제조할 수 있는 수지 조성물을 제공하고자 한다.In order to solve the problems of the prior art described above, the present invention is to provide a resin composition that can solve the problem of visibility of the ITO pattern, and can manufacture a touch screen panel excellent in adhesion, heat resistance, and the like.

본 발명의 일 실시상태는,One embodiment of the present invention is,

1) 하기 화학식 1로 표시되는 실리콘계 화합물, 및1) a silicone-based compound represented by the following formula (1), and

2) 하기 화학식 2로 표시되는 화합물, 나노 입자 및 용매를 포함하는 분산액2) A dispersion comprising a compound represented by the following formula (2), nanoparticles, and a solvent

을 포함하는 수지 조성물을 제공한다.It provides a resin composition comprising a.

[화학식 1][Formula 1]

Figure 112015119611773-pat00001
Figure 112015119611773-pat00001

상기 화학식 1에서,In Formula 1,

R1, R5 및 R6은 각각 독립적으로 수소 또는 탄소수 1 내지 10의 알킬기이고,R1, R5 and R6 are each independently hydrogen or an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms,

R2 내지 R4는 각각 독립적으로 탄소수 1 내지 10의 알킬기 또는 탄소수 6 내지 20의 아릴기이며,R2 to R4 are each independently an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms or an aryl group having 6 to 20 carbon atoms;

R7은 각각 독립적으로 수소 또는 탄소수 6 내지 20의 아릴기이고,R7 is each independently hydrogen or an aryl group having 6 to 20 carbon atoms,

[화학식 2][Formula 2]

Figure 112015119611773-pat00002
Figure 112015119611773-pat00002

상기 화학식 2에서,In Formula 2,

R8 내지 R17은 각각 독립적으로 수소, 할로겐기 또는 탄소수 1 내지 10의 알킬기이다.R8 to R17 are each independently hydrogen, a halogen group, or an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms.

또한, 본 발명의 다른 실시상태는, 상기 수지 조성물을 이용하여 형성된 필름 및 이를 포함하는 OGS 방식의 터치스크린 패널을 제공한다.In addition, another exemplary embodiment of the present invention provides a film formed using the resin composition and an OGS type touch screen panel including the same.

본 출원의 일 실시상태에 따른 수지 조성물은, 전술한 화학식 1로 표시되는 실리콘계 화합물; 및 화학식 2로 표시되는 화합물 및 나노 입자를 포함하는 분산액을 동시에 포함함으로써, 고굴절율 특성을 나타낼 수 있을 뿐만 아니라, 접착력 및 내열성이 우수한 특성을 가질 수 있다.The resin composition according to an exemplary embodiment of the present application, the silicone-based compound represented by the above-described formula (1); And by simultaneously including the dispersion containing the compound represented by Formula 2 and nanoparticles, it may exhibit high refractive index characteristics, and may have excellent adhesion and heat resistance properties.

또한, 본 출원의 일 실시상태에 따른 수지 조성물은 터치스크린 패널의 인덱스 매칭용 재료로 바람직하게 적용될 수 있다.In addition, the resin composition according to an exemplary embodiment of the present application may be preferably applied as a material for index matching of a touch screen panel.

도 1은 본 발명의 제조예 1 및 비교제조예 1에서 제조된 분산액의 사진을 나타낸 도이다.
도 2는 본 발명에 따른 코팅액 처리 전후의 패턴 시인 효과를 개략적으로 나타낸 도이다.
1 is a view showing photographs of dispersions prepared in Preparation Example 1 and Comparative Preparation Example 1 of the present invention.
2 is a view schematically showing the effect of pattern recognition before and after the coating solution treatment according to the present invention.

이하, 본 발명을 상세하게 설명한다.Hereinafter, the present invention will be described in detail.

당 기술분야에서, 굴절율이 높은 소재로 사용 적합한 것은 ZnO, ZrO2, TiO2, ITO, HfO2 등과 같은 나노 입자를 들 수 있다. 이들의 제조방법은 크게 2가지가 구분할 수 있다. 첫 번째 방법인 솔-젤법은 프리커서를 사용하여 산 또는 염기 존재하에서 탈수 및 축합 반응을 통하여 제조하는 것으로 수 나노미터 정도의 초미립자를 제조할 수 있는 장점이 있으나, 탈수 및 축합 반응이 완전히 이루어지지 않은 상태로 사용되게 됨으로써 코팅막의 열적 안정성 및 내수성이 저하된다는 것이 단점으로 지적되고 있다. 또한, 상기 프리커서가 고가이며 탈수 및 축합에 의한 분자량 저하로 인해 상업적으로 유용한 방법이라 할 수 없다. 또 다른 방법은 나노 입자를 분산하여 사용하는 것으로 공업적으로 유용한 방법이라 할 수 있겠다. 그러나, 이 방법에서의 문제점은 나노 입자가 분산이 잘 되지 않는 경우 입자들이 뭉치게 되어 헤이즈 등이 발생되어 투명도가 떨어지며, 코팅을 하게 될 경우 균일하게 코팅이 되지 않는 문제점이 있다.In the art, suitable for use as a material having a high refractive index may include nanoparticles such as ZnO, ZrO 2 , TiO 2 , ITO, and HfO 2 . Their manufacturing methods can be roughly divided into two. The first method, the sol-gel method, is prepared through dehydration and condensation reactions in the presence of an acid or base using a precursor, and has the advantage of producing ultrafine particles of several nanometers. It is pointed out as a disadvantage that the thermal stability and water resistance of the coating film are deteriorated by being used in a non-existent state. In addition, the precursor is expensive and cannot be said to be a commercially useful method due to a decrease in molecular weight due to dehydration and condensation. Another method is to disperse and use nanoparticles, which is an industrially useful method. However, the problem in this method is that when the nanoparticles are not well dispersed, the particles are agglomerated and haze is generated, so that the transparency is lowered, and when the nanoparticles are coated, there is a problem that the coating is not uniformly performed.

상기 분산성을 개선하기 위한 노력으로 시판중인 분산제를 사용할 경우에, 적은 양으로는 충분한 분산성을 확보할 수 없기 때문에 다량 사용하게 되는데, 이들 분산제에 의해 입자가 갖는 본래의 특성이 저하되는 문제가 있다. 특히, 고굴절 특성이 요구되는 조성물에서는 시판 분산제의 굴절율이 1.4 정도의 낮은 굴절율을 가지게 되어 사용이 제한된다.In the case of using a commercially available dispersing agent in an effort to improve the dispersibility, a large amount is used because sufficient dispersibility cannot be ensured with a small amount. there is. In particular, in a composition requiring high refractive properties, a commercially available dispersant has a low refractive index of about 1.4, and thus its use is limited.

본 발명자들은 이러한 점에 착안하여 고굴절 특성을 갖는 나노 입자를 분산하여 고굴절 특성의 수지 조성물에 적용할 수 있는 분산제를 발굴하여 본 발명을 완성하게 되었다.The present inventors have completed the present invention by discovering a dispersing agent that can be applied to a resin composition having high refractive properties by dispersing nanoparticles having high refractive properties by paying attention to this point.

본 출원의 일 실시상태에 따른 수지 조성물은, 1) 상기 화학식 1로 표시되는 실리콘계 화합물, 및 2) 상기 화학식 2로 표시되는 화합물, 나노 입자 및 용매를 포함하는 분산액을 포함한다.The resin composition according to an exemplary embodiment of the present application includes a dispersion including 1) a silicone-based compound represented by Formula 1, and 2) a compound represented by Formula 2, nanoparticles, and a solvent.

본 출원에 있어서, 상기 실리콘계 화합물은 상기 화학식 1로 표시되는 것을 특징으로 한다. 상기 화학식 1로 표시되는 실리콘계 화합물은 실리콘의 특성을 가지는 UV 경화성이 있는 물질로서, 이는 강화 글래스 등과 같은 기재와의 접착력을 향상시킬 수 있고, 터치스크린 패널의 제조공정에서 노출되는 고온에서도 안정한 특성을 나타낼 수 있다.In the present application, the silicone-based compound is characterized in that it is represented by the formula (1). The silicone-based compound represented by Formula 1 is a UV-curable material having properties of silicone, which can improve adhesion to a substrate such as tempered glass, and has stable properties even at high temperatures exposed in the manufacturing process of a touch screen panel. can indicate

본 출원에 있어서, 상기 화학식 1은 하기 구조식으로 표시될 수 있으나, 이에만 한정되는 것은 아니다.In the present application, Chemical Formula 1 may be represented by the following structural formula, but is not limited thereto.

Figure 112015119611773-pat00003
Figure 112015119611773-pat00003

본 출원에 있어서, 상기 분산액은 상기 화학식 2로 표시되는 화합물 및 나노 입자를 포함하는 것을 특징으로 한다.In the present application, the dispersion is characterized in that it contains the compound represented by the formula (2) and nanoparticles.

상기 화학식 2로 표시되는 화합물은 상기 나노 입자의 분산제의 역할을 수행할 수 있고, 소량 첨가로도 우수한 분산성을 나타낼 뿐만 아니라, 화합물 자체의 굴절율도 약 1.52로서 시판되는 다른 분산제보다 높으므로, 수지 조성물에 포함되는 경우에도 굴절율 저하를 방지할 수 있는 장점이 있다. 상기 화학식 2로 표시되는 화합물은 나노 입자의 표면에 존재하는 OH기와 수소결합을 형성하여 나노 입자의 표면을 안정화함으로써, 나노 입자의 재응집 등을 방지할 수 있고, 이에 따라 나노 입자의 분산성을 향상시킬 수 있다.The compound represented by Formula 2 can serve as a dispersing agent for the nanoparticles, and exhibits excellent dispersibility even when added in a small amount, and the refractive index of the compound itself is about 1.52, which is higher than other dispersants on the market, so the resin Even when included in the composition, there is an advantage that can prevent a decrease in the refractive index. The compound represented by Chemical Formula 2 forms a hydrogen bond with an OH group present on the surface of the nanoparticles to stabilize the surface of the nanoparticles, thereby preventing re-aggregation of nanoparticles, etc., and thus the dispersibility of nanoparticles can be improved

본 출원에 있어서, 상기 화학식 2는 하기 구조식으로 표시될 수 있으나, 이에만 한정되는 것은 아니다.In the present application, Chemical Formula 2 may be represented by the following structural formula, but is not limited thereto.

Figure 112015119611773-pat00004
Figure 112015119611773-pat00004

상기 화학식 1 및 화학식 2의 치환기를 구체적으로 설명하면 아래와 같다.The substituents of Chemical Formulas 1 and 2 will be described in detail as follows.

상기 할로겐기의 예로는 F, Cl, Br 등을 들 수 있으나, 이에만 한정되는 것은 아니다.Examples of the halogen group include, but are not limited to, F, Cl, Br, and the like.

상기 알킬기의 구체적인 예로는 메틸기, 에틸기, 프로필기, 1-메틸에틸기, 부틸기, 1-메틸프로필기, 2-메틸프로필기, 1,1-다이메틸에틸기, 펜틸기, 1-메틸부틸기, 1-에틸프로필기, 2-메틸부틸기, 3-메틸부틸기, 1,2-다이메틸프로필기, 2,2-다이메틸프로필기, 헥실기, 헵틸기, 옥틸기, 노닐기, 데실기, 사이클로알킬기 등을 들 수 있으나, 이에만 한정되는 것은 아니다.Specific examples of the alkyl group include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a 1-methylethyl group, a butyl group, a 1-methylpropyl group, a 2-methylpropyl group, a 1,1-dimethylethyl group, a pentyl group, a 1-methylbutyl group, 1-ethylpropyl group, 2-methylbutyl group, 3-methylbutyl group, 1,2-dimethylpropyl group, 2,2-dimethylpropyl group, hexyl group, heptyl group, octyl group, nonyl group, decyl group , and a cycloalkyl group, but is not limited thereto.

상기 아릴기의 구체적인 예로는 페닐기; 나프틸기; 톨릴기, 자일릴기 등과 같은 알킬아릴기; 벤질기, 페네틸기 등과 같은 아릴알킬기 등을 들 수 있으나, 이에만 한정되는 것은 아니다.Specific examples of the aryl group include a phenyl group; naphthyl group; an alkylaryl group such as a tolyl group and a xylyl group; and an arylalkyl group such as a benzyl group or a phenethyl group, but is not limited thereto.

본 출원에 있어서, 상기 나노 입자는 ZnO, ZrO2, TiO2, ITO, HfO2 등을 1종 이상 포함할 수 있으나, 이에만 한정되는 것은 아니다. 또한, 상기 나노 입자의 평균직경은 5 내지 300nm일 수 있으나, 이에만 한정되는 것은 아니다.In the present application, the nanoparticles may include one or more ZnO, ZrO 2 , TiO 2 , ITO, HfO 2 , and the like, but is not limited thereto. In addition, the average diameter of the nanoparticles may be 5 to 300 nm, but is not limited thereto.

상기 분산액 내 나노 입자를 분산하는 방법은 볼밀법, 비드밀, 초음파분산법, 고압분산법 등 당 기술분야에 알려진 방법을 이용할 수 있고, 특별히 한정되는 것은 아니다.Methods for dispersing the nanoparticles in the dispersion may use methods known in the art, such as a ball mill method, a bead mill, an ultrasonic dispersion method, and a high pressure dispersion method, and are not particularly limited.

상기 용매는 알콜계로서 메탄올, 에탄올, 이소프로판올, 부탄올, 메틸셀로솔브, 에틸셀로솔브, 프로필셀로솔브, 부틸셀로솔브, 디아세톤알콜, 프로필렌 글리콜 모노메틸 에테르, 프로필렌 글리콜 모노 메틸 에테르 아세트산 등을 1종 이상 포함할 수 있고, 케톤계로서 메틸에틸케톤, 메틸부틸케톤, 메틸이소부틸케톤, 디에틸케톤, 디프로필케톤, 시클로헥사논, 에틸아세테이트, 아세톤 등을 1종 이상 포함할 수 있으며, 벤젠계로서 벤젠, 톨루엔, 자일렌 등을 1종 이상 포함할 수 있고, 탄화수소계로서 헥산, 헵탄, 옥탄 등을 1종 이상 포함할 수 있으나, 이에만 한정되는 것은 아니다.The solvent is alcohol-based, methanol, ethanol, isopropanol, butanol, methyl cellosolve, ethyl cellosolve, propyl cellosolve, butyl cellosolve, diacetone alcohol, propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monomethyl ether acetic acid and the like, and may include one or more of methyl ethyl ketone, methyl butyl ketone, methyl isobutyl ketone, diethyl ketone, dipropyl ketone, cyclohexanone, ethyl acetate, acetone, etc. as a ketone system. and may include one or more types of benzene, toluene, xylene, etc. as a benzene type, and may include one or more types of hexane, heptane, octane, etc. as a hydrocarbon type, but is not limited thereto.

상기 용매 중 2종 이상의 혼합용매를 사용하면 고굴절층 경화성 조성물의 취급이 용이하고 우수한 고굴절의 반사방지성 또는 투명성을 얻을 수 있다. 상기 용매의 함량은 상기 나노 입자 100 중량부를 기준으로, 200 내지 2,000 중량부인 것이 바람직한데, 이 범위를 벗어나는 경우 코팅액의 점도 조정이 어려워져 공정 상에 많은 문제를 발생시키기 때문이다.When two or more types of mixed solvents are used among the above solvents, the high refractive index layer curable composition can be easily handled and excellent antireflection properties or transparency of high refractive index can be obtained. The content of the solvent is preferably 200 to 2,000 parts by weight, based on 100 parts by weight of the nanoparticles. If it is out of this range, it is difficult to adjust the viscosity of the coating solution, which causes many problems in the process.

본 출원에 있어서, 상기 분산액 총중량을 기준으로, 상기 화학식 2로 표시되는 화합물의 함량은 0.01 ~ 10 중량% 일 수 있으나, 이에만 한정되는 것은 아니다. 또한, 상기 분산액 총중량을 기준으로, 상기 나노 입자의 함량은 10 ~ 60 중량%일 수 있고, 30 ~ 50 중량%인 것이 바람직하나, 이에만 한정되는 것은 아니다. 또한, 상기 분산액 총중량을 기준으로, 상기 용매의 함량은 30 ~ 80 중량% 일 수 있으나, 이에만 한정되는 것은 아니다.In the present application, based on the total weight of the dispersion, the content of the compound represented by Formula 2 may be 0.01 to 10% by weight, but is not limited thereto. In addition, based on the total weight of the dispersion, the content of the nanoparticles may be 10 to 60% by weight, preferably 30 to 50% by weight, but is not limited thereto. In addition, based on the total weight of the dispersion, the content of the solvent may be 30 to 80% by weight, but is not limited thereto.

상기 분산액은 광 또는 열경화성을 부여하거나 용매 등과의 상용성을 부여하기 위해 표면개질제를 추가로 포함할 수 있다. 상기 표면개질제는 3-메타크릴옥시프로필메톡시실란, 3-메타크릴옥시프로필트리에톡시실란, 비닐트리메톡시실란, 비닐트리에톡시실란, 3-아미노프로필트리메톡시실란, 3-아미노프로필트리에톡시실란, N-2-(아미노에틸)-3-아미노프로필트리메톡시실란, N-2-(아미노에틸)-3-아미노프로필트리에톡시실란, N-2-(아미노에틸)-3-아미노프로필메틸디메톡시실란, N-2-(아미노에틸)-3-아미노프로필메틸디에톡시실란, 3-글리시딜옥시프로필트리메톡시실란, 3-글리시독시옥시프로필트리에톡시실란, 3-머캅토프로필트리메톡시실란, 3-머캅토프로필트리에톡시실란, 3-머캅토프로필메틸디메톡시실란, 3-머캅토프로필트리에톡시실란, 비스(트리에톡시실릴프로필)테트라설파이드, 3-이소시아나토프로필트리에톡시실란, 3-이소시아나토프로필트리메톡시실란, 2-(3,4-에폭시사이클로헥실)-에틸트리메톡시실란, 2-(3,4-에폭시사이클로헥실)-에틸트리메톡시실란, 2-(3,4-에폭시사이클로헥실)-에틸트리에톡시실란, 3-글리시독시프로필메틸디에톡시실란, 3-글리시독시프로필메틸디메톡시실란, 파라-스틸릴트리메톡시실란, 파라-스틸릴트리에톡시실란, 3-메타아크릴옥시프로필메틸디메톡시실란, 3-메타아크릴옥시프로필메틸디에톡시실란, 3-아크릴옥시프로필트리메톡시실란, 3-아크릴 옥시 프로필트리에톡시실란, 3-트리에톡시시릴-N-(1,3-디메틸-부틸리덴)프로필아민, N-페닐-3-아미노프로필트리메톡시실란, N-페닐-3-아미노프로필트리에톡시실란, N-(비닐벤질)-2-아미노에틸-3-아미노프로필트리메톡시실란 하이드로클로라이드, 3-클로로프로필트리메톡시실란, 3-클로로프로필트리에톡시실란 등을 1종 이상 포함할 수 있으나, 이에만 한정되는 것은 아니다.The dispersion may further include a surface modifier to impart light or thermosetting properties or to impart compatibility with a solvent or the like. The surface modifier is 3-methacryloxypropylmethoxysilane, 3-methacryloxypropyltriethoxysilane, vinyltrimethoxysilane, vinyltriethoxysilane, 3-aminopropyltrimethoxysilane, 3-aminopropyl Triethoxysilane, N-2-(aminoethyl)-3-aminopropyltrimethoxysilane, N-2-(aminoethyl)-3-aminopropyltriethoxysilane, N-2-(aminoethyl)- 3-Aminopropylmethyldimethoxysilane, N-2-(aminoethyl)-3-aminopropylmethyldiethoxysilane, 3-glycidyloxypropyltrimethoxysilane, 3-glycidoxyoxypropyltriethoxysilane , 3-mercaptopropyltrimethoxysilane, 3-mercaptopropyltriethoxysilane, 3-mercaptopropylmethyldimethoxysilane, 3-mercaptopropyltriethoxysilane, bis(triethoxysilylpropyl)tetra Sulfide, 3-isocyanatopropyltriethoxysilane, 3-isocyanatopropyltrimethoxysilane, 2-(3,4-epoxycyclohexyl)-ethyltrimethoxysilane, 2-(3,4-epoxy Cyclohexyl)-ethyltrimethoxysilane, 2-(3,4-epoxycyclohexyl)-ethyltriethoxysilane, 3-glycidoxypropylmethyldiethoxysilane, 3-glycidoxypropylmethyldimethoxysilane, Para-stylyltrimethoxysilane, para-stylyltriethoxysilane, 3-methacryloxypropylmethyldimethoxysilane, 3-methacryloxypropylmethyldiethoxysilane, 3-acryloxypropyltrimethoxysilane, 3-Acryloxy propyltriethoxysilane, 3-triethoxysilyl-N-(1,3-dimethyl-butylidene)propylamine, N-phenyl-3-aminopropyltrimethoxysilane, N-phenyl- 3-aminopropyltriethoxysilane, N-(vinylbenzyl)-2-aminoethyl-3-aminopropyltrimethoxysilane hydrochloride, 3-chloropropyltrimethoxysilane, 3-chloropropyltriethoxysilane, etc. It may include one or more, but is not limited thereto.

본 출원에 있어서, 상기 수지 조성물 총중량을 기준으로, 상기 실리콘계 화합물의 함량은 0.5 내지 30 중량%일 수 있고, 상기 분산액의 함량은 70 내지 99.5 중량%일 수 있다. 상기 실리콘계 화합물의 함량이 0.5 중량% 미만인 경우에는 접착력과 내열성이 충분히 발현되지 않을 수 있고, 30 중량%를 초과하는 경우에는 굴절율을 저하시킬 수 있어서 바람직하지 않다.In the present application, based on the total weight of the resin composition, the content of the silicone-based compound may be 0.5 to 30% by weight, and the content of the dispersion may be 70 to 99.5% by weight. When the content of the silicone-based compound is less than 0.5% by weight, adhesion and heat resistance may not be sufficiently expressed, and when it exceeds 30% by weight, the refractive index may be lowered, which is not preferable.

본 출원의 일 실시상태에 따른 수지 조성물은, 전술한 화학식 1로 표시되는 실리콘계 화합물; 및 화학식 2로 표시되는 화합물 및 나노 입자를 포함하는 분산액을 동시에 포함함으로써, 고굴절율 특성을 나타낼 수 있을 뿐만 아니라, 접착력 및 내열성이 우수한 특성을 가질 수 있다.The resin composition according to an exemplary embodiment of the present application, the silicone-based compound represented by the above-described formula (1); And by simultaneously including the dispersion containing the compound represented by Formula 2 and nanoparticles, it may exhibit high refractive index characteristics, and may have excellent adhesion and heat resistance properties.

또한, 상기 화학식 1의 실리콘계 화합물; 및 화학식 2로 표시되는 화합물 및 나노 입자를 포함하는 분산액을 동시에 포함함으로써, 강화글라스와 같은 기재에 대한 밀착력, 부착력 등이 우수하고, 종래의 일반적인 유기 아크릴 모노머와 대비하였을 때 내열성과 도막 두께가 박막에서 후막으로 가도 코팅막의 크랙 발생이 적다는 특징을 가지고 있다.In addition, the silicone-based compound of Formula 1; And by containing the dispersion containing the compound and nanoparticles represented by Formula 2 at the same time, it has excellent adhesion and adhesion to a substrate such as tempered glass, and has excellent heat resistance and coating film thickness compared to conventional organic acrylic monomers. It has the characteristic that the occurrence of cracks in the coating film is small even if it goes from the to the thick film.

본 출원에 있어서, 상기 수지 조성물은 단관능 모노머, 다관능 모노머 등을 1종 이상 추가로 포함할 수 있다. 상기 모노머는 치환 또는 비치환된 비닐기, 아크릴레이트기, 또는 메타아크릴레이트기를 1 ~ 30개, 바람직하게는 1 ~ 20개, 더 바람직하게는 1 ~ 5개 갖는 모노머를 포함할 수 있다. 보다 구체적으로, 이들 모노머는 스티렌, α-메틸 스티렌, 비닐 톨루엔, 비닐 벤질 에테르, 비닐 벤질 메틸에테르 등의 비닐기를 포함하는 알케닐기를 갖는 탄소수 6 내지 20의 방향족 화합물; 메틸 (메타)아크릴레이트, 에틸 (메타)아크릴레이트, 부틸 (메타)아크릴레이트, 2-히드록시에틸 (메타)아크릴레이트, 2-히드록시부틸 (메타)아크릴레이트, 헥실 (메타)아크릴레이트, 옥틸 (메타)아크릴레이트, 노닐 (메타)아크릴레이트, 데카닐 (메타)아크릴레이트, 운데카닐 (메타)아크릴레이트, 도데실 (메타)아크릴레이트, 시클로헥실 (메타)아크릴레이트, 벤질 (메타)아크릴레이트, 페닐 (메타)아크릴레이트 등의 불포화 카르본산 에스테르; 2-아미노에틸 (메타)아크릴레이트, 2-디메틸아미노에틸 (메타)아크릴레이트 등의 불포화 카르본산 아미노 알킬 에스테르; 비닐 아세테이트, 비닐 벤조에이트 등의 포화 또는 불포화 카르본산 비닐 에스테르; 글리시딜 (메타)아크릴레이트 등의 탄소수 1 내지 20의 불포화 카르본산 글리시딜 에스테르; (메타)아크릴로니트릴 등의 시안화 비닐 화합물; (메타)아크릴아미드 등의 불포화 아미드 화합물; 에틸렌 글리콜 디(메타)아크릴레이트, 트리에틸렌글리콜 디(메타)아크릴레이트, 트리메틸올프로판 트리(메타)아크릴레이트, 1,4-부탄디올 디(메타)아크릴레이트, 1,6-헥산디올 디(메타)아크릴레이트, 옥틸디올 디(메타)아크릴레이트, 노닐디올 디(메타)아크릴레이트, 데카닐디올 디(메타)아크릴레이트, 운데카닐디올 디(메타)아크릴레이트, 도데실디올 디(메타)아크릴레이트, 네오펜틸글리콜 디(메타)아크릴레이트, 펜타에리트리톨 디(메타)아크릴레이트, 펜타에리트리톨 트리(메타)아크릴레이트, 펜타에리트리톨 테트라(메타)아크릴레이트, 디펜타에리트리톨 디(메타)아크릴레이트, 디펜타에리트리톨 트리(메타)아크릴레이트, 디펜타에리트리톨 테트라(메타)아크릴레이트, 디펜타에리트리톨 펜타(메타)아크릴레이트, 디펜타에리트리톨 헥사(메타)아크릴레이트, 비스페놀 A 디(메타)아크릴레이트, 노볼락에폭시 (메타)아크릴레이트, 디에틸렌글리콜 디(메타)아크릴레이트, 트리(프로필렌글리콜) 디(메타)아크릴레이트, 폴리(프로필렌글리콜) 디(메타)아크릴레이트 등을 포함하는 모노 알코올 또는 다가 알코올의 단관능 또는 다관능 (메타)아크릴레이트 등이 될 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다.In the present application, the resin composition may further include one or more monofunctional monomers, polyfunctional monomers, and the like. The monomer may include a monomer having 1 to 30, preferably 1 to 20, more preferably 1 to 5 substituted or unsubstituted vinyl groups, acrylate groups, or methacrylate groups. More specifically, these monomers include aromatic compounds having 6 to 20 carbon atoms having an alkenyl group containing a vinyl group such as styrene, α-methyl styrene, vinyl toluene, vinyl benzyl ether, vinyl benzyl methyl ether; Methyl (meth)acrylate, ethyl (meth)acrylate, butyl (meth)acrylate, 2-hydroxyethyl (meth)acrylate, 2-hydroxybutyl (meth)acrylate, hexyl (meth)acrylate, Octyl (meth) acrylate, nonyl (meth) acrylate, decanyl (meth) acrylate, undecanyl (meth) acrylate, dodecyl (meth) acrylate, cyclohexyl (meth) acrylate, benzyl (meth) unsaturated carboxylic acid esters such as acrylate and phenyl (meth)acrylate; unsaturated carboxylic acid amino alkyl esters such as 2-aminoethyl (meth)acrylate and 2-dimethylaminoethyl (meth)acrylate; saturated or unsaturated carboxylic acid vinyl esters such as vinyl acetate and vinyl benzoate; unsaturated carboxylic acid glycidyl esters having 1 to 20 carbon atoms, such as glycidyl (meth)acrylate; Vinyl cyanide compounds, such as (meth)acrylonitrile; unsaturated amide compounds such as (meth)acrylamide; Ethylene glycol di(meth)acrylate, triethylene glycol di(meth)acrylate, trimethylolpropane tri(meth)acrylate, 1,4-butanediol di(meth)acrylate, 1,6-hexanediol di(meth) ) acrylate, octyldiol di(meth)acrylate, nonyldiol di(meth)acrylate, decanyldiol di(meth)acrylate, undecanyldiol di(meth)acrylate, dodecyldiol di(meth)acryl rate, neopentyl glycol di(meth)acrylate, pentaerythritol di(meth)acrylate, pentaerythritol tri(meth)acrylate, pentaerythritol tetra(meth)acrylate, dipentaerythritol di(meth)acrylate Acrylate, dipentaerythritol tri(meth)acrylate, dipentaerythritol tetra(meth)acrylate, dipentaerythritol penta(meth)acrylate, dipentaerythritol hexa(meth)acrylate, bisphenol A di (meth)acrylate, novolac epoxy (meth)acrylate, diethylene glycol di(meth)acrylate, tri(propylene glycol) di(meth)acrylate, poly(propylene glycol) di(meth)acrylate, etc. It may be a monofunctional or polyfunctional (meth)acrylate of a monoalcohol or polyhydric alcohol including, but is not limited thereto.

상기 단관능성 모노머 및/또는 다관능성 모노머의 함량은, 수지 조성물 총중량을 기준으로 1 내지 20 중량% 일 수 있다. 상기 단관능성 모노머 및/또는 다관능성 모노머의 함량이 1 중량% 미만인 경우에는 코팅액의 막물성(특히 접착력)이 저하될 수 있고, 20 중량%를 초과하는 경우에는 대부분의 이들 모노머는 굴절율이 1.5 이하의 물질인 관계로 굴절율이 저하될 수 있다.The content of the monofunctional monomer and/or the polyfunctional monomer may be 1 to 20 wt% based on the total weight of the resin composition. When the content of the monofunctional monomer and/or polyfunctional monomer is less than 1% by weight, the film properties (especially adhesion) of the coating solution may decrease, and when it exceeds 20% by weight, most of these monomers have a refractive index of 1.5 or less Since it is a material of , the refractive index may be lowered.

본 출원에 있어서, 상기 수지 조성물은 광개시제에 의하여 코팅후 UV 경화가 가능하다. 또한, 상기 광개시제로는 벤젠과 벤젠 에테르 화합물, 벤질케탈 화합물, α-하이드록시알킬페논 화합물, α,α-디알콕시아세토페논 유도체 화합물, α-하이드록시 알킬페논 화합물, α-아미노알킬페논 유도체 화합물, α-히드록시알킬페논 고분자 화합물, 아크릴포시핀 옥사이드 화합물, 할로겐 화합물, 페닐글리옥소레이트 화합물, 밴조페논 유도체 화합물, 티옥산톤 유도체 화합물, 1,2-디케톤 화합물, 수용성 방향족 케톤 화합물, 공중합체 고분자 화합물, 아민 공경화제, 티나노센 화합물 등을 1종 이상 포함할 수 있다. 또한, 광경화형 양이온 광경화제로는 디아조니움 염계(diazonium salt), 이오도니움 염계(iodonim salt), 설포니움 염계(sulphonium salt), 금속 착체계, 아릴실라놀-알루미늄 착체계, 또는 피리디니움 염계(pyridinium salt) 등을 1종 이상 포함할 수 있다.In the present application, the resin composition can be UV-cured after coating by a photoinitiator. In addition, as the photoinitiator, benzene and benzene ether compound, benzyl ketal compound, α-hydroxyalkylphenone compound, α,α-dialkoxyacetophenone derivative compound, α-hydroxyalkylphenone compound, α-aminoalkylphenone derivative compound , α-hydroxyalkylphenone high molecular compound, acrylphosifine oxide compound, halogen compound, phenylglyoxolate compound, banzophenone derivative compound, thioxanthone derivative compound, 1,2-diketone compound, water-soluble aromatic ketone compound, public It may contain one or more types of polymeric polymer compounds, amine co-curing agents, tinanocene compounds, and the like. In addition, the photocurable cationic photocuring agent includes a diazonium salt, an iodonim salt, a sulphonium salt, a metal complex, an arylsilanol-aluminum complex, or a pyrite. It may include one or more types of pyridinium salts and the like.

상기 광개시제의 함량은 수지 조성물 총중량을 기준으로 0.01 내지 10 중량% 일 수 있고, 바람직하게는 0.1 내지 5 중량% 일 수 있으며, 보다 바람직하게는 0.3 내지 3 중량% 일 수 있으나, 이에만 한정되는 것은 아니다.The content of the photoinitiator may be 0.01 to 10% by weight, preferably 0.1 to 5% by weight, more preferably 0.3 to 3% by weight, based on the total weight of the resin composition, but is limited thereto not.

본 출원에 있어서, 상기 수지 조성물은 코팅시 도막의 젖음성 및 기능성을 향상시키기 위하여, 추가적으로 첨가제를 수지 조성물 총중량을 기준으로 1 중량% 이하로 포함할 수 있다. 상기 사용가능한 첨가제로는 레벨링제, 소포제, 습윤제, 분산제, 유동성 조정제, 부착증진제 등을 들 수 있고, 이들은 당 기술분야에 알려진 재료를 이용할 수 있다.In the present application, the resin composition may further include 1 wt% or less of an additive based on the total weight of the resin composition in order to improve wettability and functionality of the coating film during coating. The usable additives include a leveling agent, an antifoaming agent, a wetting agent, a dispersing agent, a fluidity modifier, an adhesion promoter, and the like, and materials known in the art may be used.

또한, 본 출원의 일 실시상태에 따른 코팅층은, 상기 수지 조성물을 이용하는 것을 특징으로 한다. 상기 코팅층은, 전술한 수지 조성물을 이용하는 것을 제외하고, 당 기술분야에 알려진 방법을 이용하여 형성할 수 있다. 보다 구체적으로, 상기 수지 조성물을 기판 상에 도포, 코팅, 인쇄 등의 방법을 이용하여 형성할 수 있으나, 이에만 한정되는 것은 아니다.In addition, the coating layer according to an exemplary embodiment of the present application is characterized in that the resin composition is used. The coating layer may be formed using a method known in the art, except for using the above-described resin composition. More specifically, the resin composition may be formed on a substrate using a method such as application, coating, or printing, but is not limited thereto.

상기 코팅층의 굴절율은 인덱스 매칭 효과를 위해서는 1.6 이상이 되어야 하고 바람직하게는 1.65 ~ 2.1일 경우이고, 상기 코팅층의 두께는 1 ~ 20㎛인 것이 바람직하나, 이에만 한정되는 것은 아니다. 상기 코팅층의 두께가 1㎛ 미만인 경우에는 레인보우 등 코팅얼룩이 심할 수 있고, 상기 코팅층의 두께가 20㎛를 초과하는 경우에는 경화 후 크랙 등이 발생할 수 있다. 또한, 상기 코팅층의 투과율은 90% 이상인 것이 바람직하다.The refractive index of the coating layer should be 1.6 or more for the index matching effect, preferably 1.65 ~ 2.1, and the thickness of the coating layer is preferably 1 ~ 20㎛, but is not limited thereto. When the thickness of the coating layer is less than 1 μm, coating stains such as rainbow may be severe, and when the thickness of the coating layer exceeds 20 μm, cracks after curing may occur. In addition, the transmittance of the coating layer is preferably 90% or more.

또한, 본 출원의 일 실시상태는, 상기 코팅층을 포함하는 터치스크린 패널을 제공한다.In addition, an exemplary embodiment of the present application provides a touch screen panel including the coating layer.

상기 터치스크린 패널은 기재, 및 상기 기재 상에 구비된 전극 패턴을 포함하고, 상기 코팅층은 상기 기재와 전극 패턴 사이에 구비되거나, 상기 기재와 전극 패턴 상의 전면에 구비될 수 있다.The touch screen panel may include a substrate and an electrode pattern provided on the substrate, and the coating layer may be provided between the substrate and the electrode pattern, or may be provided on the entire surface of the substrate and the electrode pattern.

상기 코팅층은 터치스크린 패널의 인덱스 매칭용으로서 적용될 수 있으나, 이에만 한정되는 것은 아니다.The coating layer may be applied for index matching of the touch screen panel, but is not limited thereto.

본 출원에 있어서, 상기 기재 및 전극 패턴은 당 기술분야에서 공지된 것이라면 특별히 한정되지 않는다. 보다 구체적으로, 상기 기재로는 유리 기판, 플라스틱 기판 등을 들 수 있으나, 이에만 한정되는 것은 아니다. 또한, 상기 전극 패턴은 각각 독립적으로 ITO(indium doped tin oxide), ATO(antimony doped tin oxide), FTO(fluorine doped tin oxide), IZO(Indium doped zinc oxide), ZnO 등을 포함할 수 있고, 저저항 전극물질로 OMO(oxide-metal-oxide) 또는 금속 메쉬 전극 등을 포함할 수 있으나, 이에만 한정되는 것은 아니다.In the present application, the substrate and the electrode pattern are not particularly limited as long as they are known in the art. More specifically, the substrate may include a glass substrate, a plastic substrate, and the like, but is not limited thereto. In addition, each of the electrode patterns independently may include indium doped tin oxide (ITO), antimony doped tin oxide (ATO), fluorine doped tin oxide (FTO), indium doped zinc oxide (IZO), ZnO, etc. The resistance electrode material may include an oxide-metal-oxide (OMO) or a metal mesh electrode, but is not limited thereto.

이하, 본 발명의 이해를 돕기 위하여 실시예를 하기에 기술하지만, 본 발명의 범위가 하기 실시예의 기재에 의하여 한정되는 것은 아니다.Hereinafter, examples are described below to help the understanding of the present invention, but the scope of the present invention is not limited by the description of the following examples.

<< 실시예Example >>

<< 제조예production example 1> 1>

지르코늄 파우더(평균직경 15 ~ 30nm, Wako사) 100g과 1,3-디페닐프로판-1,3-디온(1,3-Diphenylpropane-1,3-dione) 5g을 용매 프로필렌 글리콜 모노메틸 에테르(Propylene glycole monomethyl ether, PGME) 300g에 넣은 후 교반기를 통해 60℃에서 5시간 혼합하였고, 그 후 0.3mm 지르코늄 비드 200g이 장착된 Ultra apex mill(UAM-015, 일본 Kotobuki사)로 상기의 혼합액을 180 ml/min의 속도로 순환시키면서 24시간 분산하였다.100 g of zirconium powder (average diameter 15 ~ 30 nm, Wako) and 5 g of 1,3-diphenylpropane-1,3-dione were mixed with solvent propylene glycol monomethyl ether (Propylene). After putting in 300 g of glycole monomethyl ether, PGME), the mixture was mixed at 60° C. for 5 hours through a stirrer, and then 180 ml of the above mixture was used with an Ultra apex mill (UAM-015, Kotobuki, Japan) equipped with 200 g of 0.3 mm zirconium beads. It was dispersed for 24 hours while circulating at a rate of /min.

<< 제조예production example 2> 2>

상기 제조예 1에서 1,3-디페닐프로판-1,3-디온(1,3-Diphenylpropane-1,3-dione)의 사용량을 1g으로 변경한 것을 제외하고는 동일하게 실시하였다.In Preparation Example 1, the same procedure was performed except that the amount of 1,3-diphenylpropane-1,3-dione was changed to 1 g.

<< 제조예production example 3> 3>

상기 제조예 1에서 1,3-디페닐프로판-1,3-디온(1,3-Diphenylpropane-1,3-dione)의 사용량을 10g으로 변경한 것을 제외하고는 동일하게 실시하였다.In Preparation Example 1, the same procedure was performed except that the amount of 1,3-diphenylpropane-1,3-dione was changed to 10 g.

<< 제조예production example 4> 4>

상기 제조예 1에서 용매 프로필렌 글리콜 모노메틸 에테르(Propylene glycole monomethyl ether, PGME)를 프로필렌 글리콜 모노메틸 에테르 아세테이트(Propylene glycole monomethyl ether acetate, PGMEA) 300g으로 변경한 것을 제외하고는 동일하게 실시하였다.In Preparation Example 1, the same procedure was performed except that the solvent propylene glycol monomethyl ether (PGME) was changed to 300 g of propylene glycol monomethyl ether acetate (PGMEA).

<< 비교제조예Comparative Preparation Example 1> 1>

상기 제조예 1에서 1,3-디페닐프로판-1,3-디온(1,3-Diphenylpropane-1,3-dione)을 사용하지 않은 것을 제외하고는 동일하게 실시하였다.The same procedure was performed except that 1,3-diphenylpropane-1,3-dione was not used in Preparation Example 1.

상기 제조예 1 ~ 4 및 비교제조예 1에서 제조된 분산액의 외관 및 분산 안정도를 관찰한 결과를 하기 표 1에 나타내었다. 또한, 상기 제조예 1 및 비교제조예 1에서 제조된 분산액의 사진을 하기 도 1에 나타내었다.The results of observing the appearance and dispersion stability of the dispersions prepared in Preparation Examples 1 to 4 and Comparative Preparation Example 1 are shown in Table 1 below. In addition, pictures of the dispersions prepared in Preparation Example 1 and Comparative Preparation Example 1 are shown in FIG. 1 below.

[표 1][Table 1]

Figure 112015119611773-pat00005
Figure 112015119611773-pat00005

<< 실시예Example 1> 1>

상기 제조예 1에서 제조된 분산액 80g과 하기 구조식의 실리콘 디아크릴레이트 10g, 디펜타에리트리톨 헥사(메타)아크릴레이트(DPHA, 미원, 한국) 5g, FA-513M 3g(Hitachi, 일본), 광개시제로서 Irg-184 0.5g(BASF, 독일), 첨가제로 BYK-163 0.03g을 첨가한 후 상온에서 3시간 교반하여 코팅액을 제조하였다. 코팅액은 투명하고 점도는 Viscometer SV-10(AND, 일본)으로 측정시 ~10cps로 나타났다.80 g of the dispersion prepared in Preparation Example 1, 10 g of silicone diacrylate of the following structural formula, 5 g of dipentaerythritol hexa (meth) acrylate (DPHA, Miwon, Korea), 3 g of FA-513M (Hitachi, Japan), as a photoinitiator After adding 0.5 g of Irg-184 (BASF, Germany) and 0.03 g of BYK-163 as an additive, the coating solution was prepared by stirring at room temperature for 3 hours. The coating solution was transparent and the viscosity was ~10cps when measured with a Viscometer SV-10 (AND, Japan).

Figure 112015119611773-pat00006
Figure 112015119611773-pat00006

<< 실시예Example 2> 2>

상기 실시예 1에서 분산액의 사용량을 40g으로 변경한 것을 제외하고는 실시예 1과 동일하게 수행하였다.It was carried out in the same manner as in Example 1, except that the amount of dispersion in Example 1 was changed to 40 g.

<< 실시예Example 3> 3>

상기 실시예 1에서 분산액의 사용량을 160g으로 변경한 것을 제외하고는 실시예 1과 동일하게 수행하였다.It was carried out in the same manner as in Example 1, except that the amount of dispersion in Example 1 was changed to 160 g.

<< 실시예Example 4> 4>

상기 실시예 1에서 실리콘 디아크릴레이트의 사용량을 5g으로 변경한 것을 제외하고는 실시예 1과 동일하게 수행하였다.The same procedure as in Example 1 was performed except that the amount of silicone diacrylate used in Example 1 was changed to 5 g.

<< 실시예Example 5> 5>

상기 실시예 1에서 실리콘 디아크릴레이트의 사용량을 1g으로 변경한 것을 제외하고는 실시예 1과 동일하게 수행하였다.Example 1 was carried out in the same manner as in Example 1, except that the amount of silicone diacrylate used was changed to 1 g.

<< 비교예comparative example 1> 1>

상기 실시예 1에서 실리콘 디아크릴레이트를 사용하지 않은 것을 제외하고는 실시예 1과 동일하게 수행하였다.Example 1 was carried out in the same manner as in Example 1, except that silicone diacrylate was not used.

상기 실시예 1 ~ 5 및 비교예 1에 따라 제조된 코팅액의 구성성분을 하기 표 2에 나타내었다.The components of the coating solution prepared according to Examples 1 to 5 and Comparative Example 1 are shown in Table 2 below.

[표 2][Table 2]

Figure 112015119611773-pat00007
Figure 112015119611773-pat00007

<< 실험예Experimental example >>

상기 실시예 1 ~ 5 및 비교예 1에 따라 제조된 코팅액을 ITO 패턴이 되어 있는 강화 글래스(Glass)에 바(bar) 코터를 사용하여 약 5㎛ 두께로 코팅 후, 굴절율, 접착력, 내열성, 외관 등을 측정하였고, 그 결과를 하기 표 3에 나타내었다. 또한, 본 발명에 따른 코팅액 처리 전후의 패턴 시인 효과를 하기 도 2에 나타내었다.After coating the coating solution prepared according to Examples 1 to 5 and Comparative Example 1 to a thickness of about 5 μm using a bar coater on tempered glass having an ITO pattern, refractive index, adhesion, heat resistance, and appearance etc. were measured, and the results are shown in Table 3 below. In addition, the effect of pattern recognition before and after the coating solution treatment according to the present invention is shown in FIG. 2 .

[표 3][Table 3]

Figure 112015119611773-pat00008
Figure 112015119611773-pat00008

<성능 평가 방법><Performance evaluation method>

1) One) 굴절율refractive index

상기 제조 시편을 Filmmetrics사 F20-UV 또는 Prism coupler(at 633nm)로 굴절율을 측정하여 633nm에서의 굴절율을 각각 관찰하였다.The refractive index of the prepared specimen was measured with Filmmetrics' F20-UV or a Prism coupler (at 633 nm), and the refractive index at 633 nm was observed, respectively.

2) 접착력2) Adhesion

상기 제조 시편을 1mm 간격으로 크로스컷(Cross-cut) 한 후 3M Scotch tape(#610)를 붙인 후 1분 후에 당기면서 탈착 면적을 관찰하여 하기와 같은 기준으로 평가하였다.After cross-cutting the prepared specimen at intervals of 1 mm, 3M Scotch tape (#610) was attached, and the detachment area was observed while pulling 1 minute later, and evaluated according to the following criteria.

5B: 탈착 면적이 0%5B: Desorption area is 0%

4B: 탈착 면적이 5%4B: 5% of detachable area

3B: 탈착 면적이 5 ~ 15%3B: 5 to 15% of the detachable area

2B: 탈착 면적이 15 ~ 25%2B: 15 to 25% of the detachable area

1B: 탈착 면적이 35 ~ 65%1B: 35 to 65% of the detachable area

0B: 탈착 면적이 65% 이상0B: Desorption area is 65% or more

3) 내열성3) heat resistance

상기 시편을 미놀타사 CM-3600A를 이용하여 b값을 측정후 오븐을 사용하여 280℃에서 150분간 열처리후 동일 항목을 측정하여 열처리 전후의 수치 변화를 관찰하였다.After measuring the b value of the specimen using CM-3600A manufactured by Minolta Corporation, the same item was measured after heat treatment at 280° C. for 150 minutes using an oven to observe the change in numerical values before and after heat treatment.

우수: b값 변화율이 0.5 미만Excellent: the b-value change rate is less than 0.5

양호: b값 변화율이 3 미만Good: b value change rate less than 3

불량: b값 변화율이 3 이상Poor: b value change rate is 3 or more

4) 외관 평가4) Appearance evaluation

상기 시편에 대한 코팅성 및 외관 평가는 암실에서 삼파장 램프 조건하에서 외관 얼룩을 관찰하였으며, 광학현미경을 통해 이물 불량 등을 관찰할 수 있다. 헤이즈 측정은 Nippon Denshoku사의 NDH-5000 측정기기를 통하여 측정하였다.In the evaluation of coating properties and appearance of the specimen, appearance stains were observed under three-wavelength lamp conditions in a dark room, and defects such as foreign matter could be observed through an optical microscope. The haze was measured using an NDH-5000 measuring device manufactured by Nippon Denshoku.

본 발명의 최적 실시예들에 대해 설명하였다. 여기서 특정한 용어들이 사용되었으나, 이는 단지 당업자에게 본 발명을 상세히 설명하기 위한 목적에서 사용된 것이지 의미한정이나 특허청구범위에 기재된 본 발명의 범위를 제한하기 위해 사용된 것이 아니다.Optimal embodiments of the present invention have been described. Although specific terms are used herein, they are only used for the purpose of describing the present invention in detail to those skilled in the art, and are not used to limit the meaning or scope of the present invention described in the claims.

Claims (9)

1) 하기 화학식 1로 표시되는 실리콘계 화합물, 및
2) 하기 화학식 2로 표시되는 화합물, 나노 입자 및 용매를 포함하는 분산액
을 포함하는 수지 조성물:
[화학식 1]
Figure 112015119611773-pat00009

상기 화학식 1에서,
R1, R5 및 R6은 각각 독립적으로 수소 또는 탄소수 1 내지 10의 알킬기이고,
R2 내지 R4는 각각 독립적으로 탄소수 1 내지 10의 알킬기 또는 탄소수 6 내지 20의 아릴기이며,
R7은 각각 독립적으로 수소 또는 탄소수 6 내지 20의 아릴기이고,
[화학식 2]
Figure 112015119611773-pat00010

상기 화학식 2에서,
R8 내지 R17은 각각 독립적으로 수소, 할로겐기 또는 탄소수 1 내지 10의 알킬기이다.
1) a silicone-based compound represented by the following formula (1), and
2) A dispersion comprising a compound represented by the following formula (2), nanoparticles, and a solvent
A resin composition comprising:
[Formula 1]
Figure 112015119611773-pat00009

In Formula 1,
R1, R5 and R6 are each independently hydrogen or an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms,
R2 to R4 are each independently an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms or an aryl group having 6 to 20 carbon atoms,
R7 is each independently hydrogen or an aryl group having 6 to 20 carbon atoms,
[Formula 2]
Figure 112015119611773-pat00010

In Formula 2,
R8 to R17 are each independently hydrogen, a halogen group, or an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms.
청구항 1에 있어서, 상기 화학식 1은 하기 구조식으로 표시되는 것을 특징으로 하는 수지 조성물:
Figure 112015119611773-pat00011
The resin composition according to claim 1, wherein Chemical Formula 1 is represented by the following structural formula:
Figure 112015119611773-pat00011
청구항 1에 있어서, 상기 화학식 2는 하기 구조식으로 표시되는 것을 특징으로 하는 수지 조성물:
Figure 112015119611773-pat00012
The resin composition according to claim 1, wherein Chemical Formula 2 is represented by the following structural formula:
Figure 112015119611773-pat00012
청구항 1에 있어서, 상기 나노 입자는 ZnO, ZrO2, TiO2, ITO 및 HfO2 중 1종 이상을 포함하는 것을 특징으로 하는 수지 조성물.The resin composition of claim 1, wherein the nanoparticles include at least one of ZnO, ZrO 2 , TiO 2 , ITO, and HfO 2 . 청구항 1에 있어서, 상기 나노 입자의 평균직경은 5 내지 300nm인 것을 특징으로 하는 수지 조성물.The resin composition according to claim 1, wherein the nanoparticles have an average diameter of 5 to 300 nm. 청구항 1에 있어서, 상기 수지 조성물 총중량을 기준으로,
상기 실리콘계 화합물의 함량은 0.5 내지 30 중량%이고, 상기 분산액의 함량은 70 내지 99.5 중량%인 것을 특징으로 하는 수지 조성물.
The method according to claim 1, Based on the total weight of the resin composition,
The resin composition, characterized in that the content of the silicone-based compound is 0.5 to 30% by weight, and the content of the dispersion is 70 to 99.5% by weight.
기재;
상기 기재 상에 구비된 전극 패턴; 및
기재와 전극 패턴 사이에 구비되거나, 상기 기재와 전극 패턴 상의 전면에 구비된 코팅층을 포함하고,
상기 코팅층은 청구항 1 내지 6 중 어느 한 항의 수지 조성물을 이용하여 형성된 것을 특징으로 하는 터치스크린 패널.
write;
an electrode pattern provided on the substrate; and
A coating layer provided between the substrate and the electrode pattern or provided on the entire surface on the substrate and the electrode pattern,
The coating layer is a touch screen panel, characterized in that formed using the resin composition of any one of claims 1 to 6.
청구항 7에 있어서, 상기 코팅층은 인덱스 매칭용인 것을 특징으로 하는 터치스크린 패널.The touch screen panel according to claim 7, wherein the coating layer is for index matching. 청구항 7에 있어서, 상기 코팅층의 굴절율은 1.65 ~ 2.1인 것을 특징으로 하는 터치스크린 패널.The touch screen panel according to claim 7, wherein the coating layer has a refractive index of 1.65 to 2.1.
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