KR102355132B1 - Containers with active surface and methods of forming such containers - Google Patents
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Abstract
인클로저(enclosure) 부재; 및 선택적으로, 적어도 부분적으로 인클로저 부재 내에 있는 물품을 포함하는 용기가 제공된다. 인클로저 부재 및/또는 물품은 활성화 중합체성 표면을 포함하며, 여기서, 활성화 중합체성 표면은 양성자성 산을 포함하는 조성물을 이용한 술폰화 중합체성 표면의 처리를 포함하는 방법에 의해 형성된다. 용기를 형성하는 방법이 또한 제공된다. 용기 및 이의 형성 방법은 전자 산업, 및 물, 의약품 및 식음료 산업에서 유용한 고순도 화학물질의 보관에 있어 특정 용도가 발견된다. an enclosure member; and optionally, an article that is at least partially within the enclosure member. The enclosure member and/or article comprises an activated polymeric surface, wherein the activated polymeric surface is formed by a method comprising treating the sulfonated polymeric surface with a composition comprising a protic acid. A method of forming a container is also provided. Containers and methods of their formation find particular use in the electronics industry and in the storage of high purity chemicals useful in the water, pharmaceutical and food and beverage industries.
Description
본 발명은 일반적으로 고순도 재료용 용기에 관한 것이다. 더 구체적으로, 본 발명은 고순도 재료용 활성 용기 및 이러한 활성 용기의 제조 방법에 관한 것이다. 본 발명은 물, 식품 및 의약품 산업뿐만 아니라 전자 소자의 제조에서 사용되는 재료(전자 재료), 구체적으로 반도체 제조 산업에서 사용되는 재료의 패키징 및 보관에서도 특별한 응용성이 발견된다. FIELD OF THE INVENTION The present invention relates generally to containers for high purity materials. More particularly, the present invention relates to active containers for high-purity materials and methods for making such active containers. The present invention finds particular applicability not only in the water, food and pharmaceutical industries, but also in the packaging and storage of materials (electronic materials) used in the manufacture of electronic devices, specifically materials used in the semiconductor manufacturing industry.
반도체 제조 산업에서, 공정 화학물질 포함 액체가 제조 공정 전체에 걸쳐, 예를 들어 리소그래피, 코팅, 세정, 스트립핑, 에칭 및 화학 기계 연마(chemical mechanical planarization; CMP) 공정에서 사용된다. 이러한 화학물질은 예를 들어 산, 용매, 포토레지스트, 반사방지 재료, 현상액, 제거제, 슬러리 및 세정액을 포함한다. 고급 반도체 소자에 요구되는 임계 치수의 계속된 감소에 의해, 공정 화학물질은 초순수 형태로 제공되는 것이 점점 더 중요해지게 되었다. 그러나, 심지어 정제된 형태의 공정 화학물질도 극소량의 금속, 예컨대 특히 철, 나트륨, 니켈, 구리, 칼슘, 마그네슘 및 칼륨을 포함한다. 공정 화학물질 중 금속의 존재는 해로울 수 있으며, 이는 예를 들어 형성된 소자의 전기적 특성의 변경 및 패터닝 결함으로 이어짐으로써 소자의 신뢰성 및 생성물 수율에 영향을 주게된다. 이러한 금속 불순물의 공급원은 화학적 제조 공정에서 사용되는 원료로부터 유래될 수 있거나, 또는 달리 제조 및 패키징 공정 중에 도입될 수 있다. In the semiconductor manufacturing industry, process chemical containing liquids are used throughout the manufacturing process, for example, in lithography, coating, cleaning, stripping, etching, and chemical mechanical planarization (CMP) processes. Such chemicals include, for example, acids, solvents, photoresists, antireflective materials, developers, removers, slurries, and cleaning solutions. With the continued reduction of critical dimensions required for advanced semiconductor devices, it has become increasingly important for process chemicals to be provided in ultrapure form. However, process chemicals even in purified form contain trace amounts of metals such as iron, sodium, nickel, copper, calcium, magnesium and potassium, among others. The presence of metals in process chemicals can be detrimental, affecting device reliability and product yield, for example, by leading to patterning defects and alteration of electrical properties of the formed device. Sources of these metallic impurities may be derived from raw materials used in chemical manufacturing processes, or may otherwise be introduced during manufacturing and packaging processes.
공정 화학물질, 원료 및 전구체로부터의 금속 및 기타 불순물의 감소는 종래에는 이온-교환 및/또는 여과 공정의 사용을 통하여 달성되었다. 이러한 정제 후, 상기 화학물질은 전형적으로 용기, 예를 들어 병 또는 기타 베셀(vessel) 내에 패키징되며, 그 후 이는 최종 사용자에게로 선적되고 최종 사용자에 의해 보관된다. 반도체 제조 산업에서, 화학 용기는 종종, 화학물질의 오염의 가능성을 감소시키기 위하여 웨이퍼 가공에 사용되는 공정 도구에 직접적으로 배관연결된다. 그러나, 화학 용기 그 자체가 불순물(이는 보관 및 운송 중에 원위치에서 생성될 수 있음)의 공급원일 수 있음이 밝혀졌다. 수송 중에 일어나는 것과 같은 용기의 이동은 이러한 문제를 악화시키는 것으로 생각된다. 공정 화학물질에서의 입자 생성을 감소시키기 위한 노력으로, 플루오르화 라이너를 포함하는 병의 사용이 예를 들어 미국 특허 출원 공개 제2013/0193164 A1호에서 제안되었다. 그러나, 환경적인 이유로 불소-함유 재료의 회피가 요구된다. 게다가, 이러한 라이너는 패시브 재료이며, 기껏해야 제형 중 총 금속에 기여하지 않을 뿐이다. 용기 재료 중 총 금속에 기여하지 않는 것을 넘어서, 그러한 불순물을 포함된 화학물질로부터 능동적으로 제거하는 용기를 제공하는 것이 바람직하다. 전자 산업에 더하여, 이러한 용기는 예를 들어 물, 식품 및 의약품 산업에서 사용하기에 바람직하다. Reduction of metals and other impurities from process chemicals, raw materials and precursors has conventionally been achieved through the use of ion-exchange and/or filtration processes. After such purification, the chemical is typically packaged in a container, such as a bottle or other vessel, which is then shipped to and stored by the end user. In the semiconductor manufacturing industry, chemical vessels are often piped directly to process tools used in wafer processing to reduce the potential for chemical contamination. However, it has been found that the chemical vessel itself can be a source of impurities, which may be created in situ during storage and transportation. Movement of containers, such as those occurring during transport, is thought to exacerbate this problem. In an effort to reduce particle generation in process chemicals, the use of a bottle comprising a fluorinated liner has been proposed, for example, in US Patent Application Publication No. 2013/0193164 A1. However, for environmental reasons, avoidance of fluorine-containing materials is desired. Moreover, these liners are passive materials and, at best, only contribute to the total metal in the formulation. It would be desirable to provide a container that actively removes such impurities from the contained chemicals, beyond contributing to the total metals in the container material. In addition to the electronics industry, such containers are preferred for use in, for example, the water, food and pharmaceutical industries.
따라서, 개선된 용기 및 이의 제조 및 사용 방법(이는 현 기술 상태와 연관된 하나 이상의 문제에 대처함)이 본 기술 분야에서 필요하다. Accordingly, there is a need in the art for improved containers and methods of making and using the same, which address one or more problems associated with the state of the art.
본 발명의 제1 양태에 따르면, 용기가 제공된다. 용기는 인클로저 부재; 및 선택적으로, 적어도 부분적으로 인클로저 부재 내에 있는 물품을 포함한다. 인클로저 부재 및/또는 물품은 활성화 중합체성 표면을 포함하며, 활성화 중합체성 표면은 양성자성 산을 포함하는 조성물을 이용한 술폰화 중합체성 표면의 처리를 포함하는 방법에 의해 형성된다. According to a first aspect of the present invention, a container is provided. The container may include an enclosure member; and optionally, an article at least partially within the enclosure member. The enclosure member and/or article comprises an activated polymeric surface, wherein the activated polymeric surface is formed by a method comprising treating the sulfonated polymeric surface with a composition comprising a protic acid.
본 발명의 추가 양태에 따르면, 활성화 중합체성 표면을 갖는 용기의 형성 방법이 제공된다. 본 방법은 술폰화 중합체성 표면을 포함하는 인클로저 부재 또는 인클로저 부재 라이너를 제공하는 단계, 및 술폰화 중합체성 표면을 양성자성 산을 포함하는 조성물로 처리하는 단계를 포함한다. 본 용기 및 이의 형성 방법은 전자 소자(즉, 전자 재료)의 제조에서 전자 산업, 구체적으로 반도체 제조 산업과, 물, 의약품 및 식품 산업에서 유용한 화학물질의 보관에 있어 특정 용도가 발견된다. 본 발명의 용기 내에 보관될 수 있는 전자 재료 및 기타 재료는 전형적으로 고순도 재료이며, 바람직하게는 초순수 재료이다. According to a further aspect of the present invention, a method of forming a container having an activated polymeric surface is provided. The method includes providing an enclosure member or an enclosure member liner comprising a sulfonated polymeric surface, and treating the sulfonated polymeric surface with a composition comprising a protic acid. The present containers and methods of their formation find particular use in the manufacture of electronic devices (ie electronic materials), in the electronics industry, specifically in the semiconductor manufacturing industry, and in the storage of useful chemicals in the water, pharmaceutical and food industries. Electronic materials and other materials that can be stored in the containers of the present invention are typically high-purity materials, preferably ultra-pure materials.
본원에서 사용되는 용어는 단지 특정 실시 형태를 기술하는 목적을 위한 것이고, 본 발명을 제한하고자 하는 것이 아니다. 단수형("a", "an" 및 "the")은, 그 문맥이 달리 지시하지 않는 한, 단수형 및 복수형을 포함하고자 한다. The terminology used herein is for the purpose of describing particular embodiments only, and is not intended to limit the invention. The singular forms "a", "an" and "the" are intended to include the singular and the plural, unless the context dictates otherwise.
본 발명을 하기 도면을 참조하여 기술할 것이며, 여기서, 유사 참조 번호는 유사 특징을 나타낸다.
도 1에는 활성화된 인클로저 부재를 포함하는 본 발명에 따른 용기가 도시되어 있다.
도 2에는 활성화된 라이너를 포함하는 본 발명에 따른 용기가 도시되어 있다.
도 3a 내지 도 3e에는 다양한 활성화 텍스쳐화 표면 지오메트리(geometry)를 갖는 본 발명에 따른 용기가 도시되어 있다.
도 4 및 도 5에는 활성화된 인서트(insert)를 포함하는 본 발명에 따른 용기가 도시되어 있다. The invention will now be described with reference to the drawings in which like reference numerals denote like features.
1 shows a container according to the invention comprising an activated enclosure member.
2 shows a container according to the present invention comprising an activated liner.
3a to 3e show a vessel according to the present invention having various activated texturized surface geometries.
4 and 5 show a container according to the invention comprising an activated insert.
본 발명의 용기는 용기 내에 포함된 화학 조성물로부터 금속 불순물을 제거하기에 효과적인 활성화 중합체성 표면을 포함한다. 적합한 용기는 예를 들어 전자 산업에서 유용한 고순도 화학물질의 보관에 사용되는 것을 포함한다. 이러한 화학물질은 예를 들어 산, 용매, 포토레지스트, 반사방지 재료, 현상액, 제거제, 슬러리 및 세정액을 포함한다. 용기는 예를 들어 물, 의약품 및 식품 산업에서 추가 용도가 발견된다. 용기는 다양한 형태, 예를 들어 병, 캔, 상자, 드럼 및 탱크의 형태를 취할 수 있다. The container of the present invention comprises an activated polymeric surface effective to remove metallic impurities from a chemical composition contained within the container. Suitable containers include, for example, those used for storage of high purity chemicals useful in the electronics industry. Such chemicals include, for example, acids, solvents, photoresists, antireflective materials, developers, removers, slurries, and cleaning solutions. Containers find further uses, for example in the water, pharmaceutical and food industries. Containers can take a variety of forms, such as bottles, cans, boxes, drums and tanks.
이제, 용기의 중합체성 표면을 활성화시키기 위한 본 발명의 방법이 기술될 것이다. 중합체성 표면을 포함하는 구성요소는 다양한 형태를 취할 수 있으며, 이때 활성화 표면의 적어도 일부분은 용기 내에 보관된 화학 조성물과 접촉할 것임이 이해된다. 활성화될 중합체성 표면은 예를 들어 인클로저 부재 라이너, 또는 인서트(이는 적어도 부분적으로 인클로저 부재 내에 배치됨), 또는 인클로저 부재의 내벽을 포함한다. The method of the present invention for activating the polymeric surface of a container will now be described. It is understood that a component comprising a polymeric surface may take a variety of forms, wherein at least a portion of the activating surface will be in contact with the chemical composition stored within the container. The polymeric surface to be activated comprises, for example, an enclosure member liner, or an insert, which is at least partially disposed within the enclosure member, or an inner wall of the enclosure member.
활성화될 표면에 적합한 재료는 술폰화될 수 있는 유기 중합체를 포함한다. 이러한 중합체는 황이 탄소 원자에 직접적으로 결합된 술폰산 기에 의해 대체될 수 있는, 탄소 기에 결합된 수소 원자를 갖는다. 바람직하게는 중합체 재료는 비-방향족 치환체만을 갖는 선형 탄소-탄소 백본 분자 구조를 갖고 복수의 자유 수소 원자가 중합체 사슬의 탄소 원자에 부착된 열가소성, 비-방향족, 탄화수소 중합체이다. 이러한 중합체는 인클로저 부재, 라이너 또는 인서트를 형성하도록 압출되거나 성형된다. 이러한 열가소성 압출 등급 또는 성형가능 등급 비-방향족 탄화수소 중합체의 예로는 에틸렌, 프로필렌, 이소부틸렌, 메틸-펜텐-1, 부텐-1, 비닐 클로라이드, 비닐리덴 클로라이드, 아크릴로니트릴의 단독중합체, 전술한 단량체들의 서로와의 인터폴리머(interpolymer), 염소화 폴리에틸렌 및 염소화 폴리프로필렌과, 전술한 단량체들 및 공중합체들의 블렌드가 있다. 특히 흥미있는 것은 고밀도 및 저밀도 폴리에틸렌, 폴리프로필렌, 에틸렌/프로필렌 공중합체, 에틸렌/부텐-1 공중합체 및 이들의 블렌드이다. Suitable materials for the surface to be activated include organic polymers capable of being sulfonated. These polymers have a hydrogen atom bonded to a carbon group, wherein the sulfur can be replaced by a sulfonic acid group bonded directly to the carbon atom. Preferably the polymeric material is a thermoplastic, non-aromatic, hydrocarbon polymer having a linear carbon-carbon backbone molecular structure with only non-aromatic substituents and a plurality of free hydrogen atoms attached to carbon atoms of the polymer chain. These polymers are extruded or molded to form enclosure members, liners or inserts. Examples of such thermoplastic extrusion grade or moldable grade non-aromatic hydrocarbon polymers include homopolymers of ethylene, propylene, isobutylene, methyl-pentene-1, butene-1, vinyl chloride, vinylidene chloride, acrylonitrile, interpolymers of monomers with each other, chlorinated polyethylene and chlorinated polypropylene, and blends of the aforementioned monomers and copolymers. Of particular interest are high and low density polyethylenes, polypropylenes, ethylene/propylene copolymers, ethylene/butene-1 copolymers and blends thereof.
중합체 조성물은 예를 들어 본 기술 분야에 공지된 산화방지제, 안료, 염료, 또는 증량제로부터 선택되는 하나 이상의 선택적 첨가제를 포함할 수 있다. 전형적으로 이러한 선택적 첨가제는, 사용될 경우, 중합체 조성물의 총 고형물을 기준으로 0.01 내지 10 중량%와 같은 소량으로 조성물에 존재한다. The polymer composition may include one or more optional additives selected, for example, from antioxidants, pigments, dyes, or extenders known in the art. Typically these optional additives, if used, are present in the composition in minor amounts, such as 0.01 to 10% by weight, based on the total solids of the polymer composition.
중합체성 표면은 술폰화 및 양성자성 산을 포함하는 조성물을 이용한 술폰화 중합체성 표면의 처리를 포함하는 다단계 공정을 통하여 활성화된다. 중합체성 표면의 활성화는 활성화된 표면과 접촉하는 용기 내에 배치된 화학 조성물로부터 금속 불순물이 제거되게 한다. 임의의 특정 이론에 구애되고자 함이 없이, 금속 불순물은 활성화 중합체 표면에 의한 흡착 및/또는 이온 교환에 의해 화학 조성물로부터 제거된다고 생각된다. 중합체성 표면의 처리에 사용되는 본원에 기술된 공정 화학물질, 예를 들어 술폰화 재료, 양성자성 산-함유 조성물 및 공정에 사용될 수 있는 기타 재료, 예컨대 헹굼제는 바람직하게는 금속당 100 ppb 미만, 더 바람직하게는 금속당 50 ppb 미만, 가장 바람직하게는 금속당 10 ppb 미만이다. The polymeric surface is activated through a multi-step process comprising sulfonation and treatment of the sulfonated polymeric surface with a composition comprising a protic acid. Activation of the polymeric surface allows metal impurities to be removed from the chemical composition disposed within the vessel in contact with the activated surface. Without wishing to be bound by any particular theory, it is believed that metal impurities are removed from the chemical composition by adsorption and/or ion exchange by the activated polymer surface. The process chemicals described herein used to treat polymeric surfaces, such as sulfonated materials, protic acid-containing compositions and other materials that may be used in the process, such as rinses, are preferably less than 100 ppb per metal. , more preferably less than 50 ppb per metal, most preferably less than 10 ppb per metal.
중합체성 표면의 술폰화는 본 기술 분야에 잘 알려진 기술에 의해 실시될 수 있다. 사용될 술폰화의 원하는 범위는 용기 내에 보관될 재료 및 술폰화되는 특정 중합체에 어느 정도 의존할 것임이 이해되어야 한다. 너무 낮은 술폰화 정도는 용기 내에 배치될 재료로부터의 금속 불순물의 비효율적 제거로 이어지는 반면, 과도한 술폰화 정도는 술폰화되는 부재의 인장 강도의 상당한 손실로 이어질 수 있는데, 이는 중합체의 분해를 야기할 수 있다. 전형적으로, 술폰화 정도는 술폰화 중합체 표면 상의 총 탄소 원자를 기준으로 0.5 내지 25 원자%, 바람직하게는 1 내지 15 원자%, 더 바람직하게는 3 내지 10 원자%이다. 적합한 술폰화 온도는 사용되는 특정 기술에 따라 달라질 것이지만, 임의의 방법에 있어서 처리 기판 및 중합체성 재료의 융점 미만이어야 한다. 이와 유사하게, 술폰화가 실시되는 압력은 특정 술폰화 방법에 따라 달라질 것이며, 전형적으로 대기압이지만, 대기압 미만(예를 들어 10 내지 750 토르) 또는 대기압 초과(예를 들어 770 내지 4000 토르)일 수 있다. 술폰화 반응 시간은 방법 및 기타 변수에 따라 상당히 달라질 수 있으며, 이때 2분 내지 24시간의 시간이 전형적이다. Sulfonation of polymeric surfaces may be effected by techniques well known in the art. It should be understood that the desired extent of sulfonation to be used will depend to some extent on the material being stored in the container and the particular polymer being sulfonated. A degree of sulfonation that is too low leads to inefficient removal of metallic impurities from the material to be disposed within the container, whereas an excessive degree of sulfonation can lead to a significant loss of the tensile strength of the member being sulfonated, which can lead to degradation of the polymer. have. Typically, the degree of sulfonation is from 0.5 to 25 atomic %, preferably from 1 to 15 atomic %, more preferably from 3 to 10 atomic %, based on the total carbon atoms on the surface of the sulfonated polymer. A suitable sulfonation temperature will depend on the particular technique used, but in any method should be below the melting point of the processing substrate and the polymeric material. Similarly, the pressure at which the sulfonation is effected will depend on the particular sulfonation process and is typically atmospheric, but may be sub-atmospheric (e.g. 10-750 Torr) or above-atmospheric pressure (e.g. 770-4000 Torr). . The sulfonation reaction time can vary considerably depending on the method and other variables, with times from 2 minutes to 24 hours being typical.
활성화시킬 기판의 중합체성 표면의 전형적인 술폰화 방법으로는 이러한 표면을 가스질 삼산화황(바람직하게는 건성 불활성 가스, 예컨대 공기, 아르곤, 질소, 헬륨, 이산화탄소, 이산화황 등으로 희석됨)에 노출시키는 것이 있다. 가스질 술폰화제 중 삼산화황의 농도는 전체 가스질 술폰화제를 기준으로 삼산화황 0.1 부피%로부터 50 부피%까지, 바람직하게는 5 부피%로부터 35 부피%까지 달라질 수 있다. 삼산화황은 촉매층, 예컨대 산화바나듐(V2O5) 또는 문헌에 공지된 기타 촉매층에서 이산화황과 공기를 반응시킴으로써 원위치에서 생성될 수 있다. 허용가능한 정도의 술폰화를 생성하는 데 요구되는 술폰화 시간은 삼산화황의 농도 및 온도에 따라 달라진다. 예를 들어, 술폰화 정도는 삼산화황의 농도가 더 높아지고 온도가 더 높아질수록 증가한다. 액체 또는 증기 형태의 물의 존재 하에서 삼산화황은 다양한 농도의 황산의 소적으로 전환되어, 플라스틱의 술폰화가 저해되거나 방지될 수 있기 때문에, 통상적인 드라이어 튜브에 의해 상기 가스로부터 수증기를 배제하는 것이 바람직할 수 있다. 물의 제거를 위하여, 술폰화 반응물의 도입 전에 공기, 아르곤, 질소, 헬륨, 이산화탄소, 이산화황 등과 같은 건성 불활성 가스로 술폰화 챔버를 퍼지하는 것이 또한 바람직할 수 있다. 가스(들)의 첨가 속도는 중합체의 용융과 같은 임의의 잠재적인 역효과를 최소화하면서 술폰화 속도를 최대화하기 위하여 제어되어야 한다. 가스(들)는 기판을 포함하는 술폰화 챔버에 연속적으로 또는 비연속적 방식으로, 예를 들어, 별개의 펄스로 첨가될 수 있다. 반응 챔버는 주위 압력, 또는 주위 압력보다 더 작거나 더 큰 압력일 수 있다. 가스상 술폰화 반응을 위한 반응 온도는 전형적으로 20 내지 132℃이다. A typical method of sulfonation of a polymeric surface of a substrate to be activated is exposing such surface to gaseous sulfur trioxide, preferably diluted with a dry inert gas such as air, argon, nitrogen, helium, carbon dioxide, sulfur dioxide, etc. . The concentration of sulfur trioxide in the gaseous sulfonating agent may vary from 0.1% by volume to 50% by volume of sulfur trioxide, preferably from 5% by volume to 35% by volume, based on the total gaseous sulfonating agent. Sulfur trioxide can be produced in situ by reacting sulfur dioxide with air in a catalyst bed, such as vanadium oxide (V 2 O 5 ) or other catalyst beds known in the literature. The sulfonation time required to produce an acceptable degree of sulfonation depends on the concentration and temperature of sulfur trioxide. For example, the degree of sulfonation increases with higher concentrations of sulfur trioxide and higher temperatures. It may be desirable to exclude water vapor from the gas by means of a conventional dryer tube, since in the presence of water in liquid or vapor form the sulfur trioxide is converted into droplets of sulfuric acid of varying concentrations, so that sulfonation of plastics can be inhibited or prevented. . For removal of water, it may also be desirable to purge the sulfonation chamber with a dry inert gas such as air, argon, nitrogen, helium, carbon dioxide, sulfur dioxide, or the like prior to introduction of the sulfonation reactant. The rate of addition of the gas(s) should be controlled to maximize the rate of sulfonation while minimizing any potential adverse effects such as melting of the polymer. The gas(s) may be added to the sulfonation chamber containing the substrate in a continuous or discontinuous manner, for example in discrete pulses. The reaction chamber may be at ambient pressure, or a pressure less than or greater than ambient pressure. The reaction temperature for the gas phase sulfonation reaction is typically from 20 to 132°C.
중합체성 표면의 술폰화에 적합한 추가 방법은 상기 표면을 불활성 액체 용매, 예컨대 액체 폴리염소화 지방족 탄화수소, 예를 들어 메틸렌 클로라이드, 사염화탄소, 퍼클로로에틸렌, 1,1,2,2-테트라클로로에탄, 또는 에틸렌 디클로라이드 중 SO3의 용액과 접촉시키는 것을 포함한다. 적합한 농도는 예를 들어 전체 용액을 기준으로 1 내지 25 중량%의 SO3을 포함한다. 반응 온도는 전형적으로 0 내지 140℃이며, 이때 온도는 처리되는 중합체의 융점보다 더 낮아야 함이 이해된다. Additional methods suitable for sulfonation of polymeric surfaces include subjecting the surface to an inert liquid solvent such as a liquid polychlorinated aliphatic hydrocarbon such as methylene chloride, carbon tetrachloride, perchlorethylene, 1,1,2,2-tetrachloroethane, or contacting with a solution of SO 3 in ethylene dichloride. Suitable concentrations include, for example, 1 to 25% by weight of SO 3 , based on the total solution. The reaction temperature is typically between 0 and 140° C., with it being understood that the temperature should be lower than the melting point of the polymer being treated.
추가의 적합한 술폰화 방법은 중합체성 표면을 클로로술폰산 술폰화제와 접촉시키는 것을 포함한다. 중합체성 표면은 예를 들어 순(neat) 클로로술폰산으로 술폰화될 수 있다. 선택적으로, 클로로술폰산은 하나 이상의 추가 용매, 예를 들어 액체 폴리염소화 지방족 탄화수소, 예컨대 메틸렌 클로라이드, 사염화탄소, 퍼클로로에틸렌, 1,1,2,2-테트라클로로에탄, 또는 에틸렌 디클로라이드와 함께 사용될 수 있다. 이러한 술폰화 방법을 위한 전형적인 온도는 25 내지 75℃이다. A further suitable sulfonation method comprises contacting the polymeric surface with a chlorosulfonic acid sulfonating agent. The polymeric surface may be sulfonated with, for example, neat chlorosulfonic acid. Optionally, chlorosulfonic acid may be used in combination with one or more additional solvents, for example liquid polychlorinated aliphatic hydrocarbons such as methylene chloride, carbon tetrachloride, perchlorethylene, 1,1,2,2-tetrachloroethane, or ethylene dichloride. have. Typical temperatures for this sulfonation process are 25-75°C.
추가의 적합한 술폰화 방법은 중합체성 표면을 황산과 접촉시키는 것을 포함한다. 적합한 농도는 특별하게 제한되지 않는다. 황산은 예를 들어 진한 형태 또는 진하지 않은 형태일 수 있다. 적합한 농도는 예를 들어 10 중량% 이상, 20 중량% 이상, 30 중량% 이상, 90 중량% 이상, 96 중량% 이상, 또는 98 중량% 이상의 황산을 포함한다. 황산의 농도는 대안적으로 96 중량% 이하일 수 있다. 황산을 이용한 술폰화를 위한 반응 온도는 전형적으로 0 내지 140℃, 예를 들어, 30 내지 120℃이다. A further suitable sulfonation method comprises contacting the polymeric surface with sulfuric acid. A suitable concentration is not particularly limited. Sulfuric acid may be, for example, in concentrated or non-concentrated form. Suitable concentrations include, for example, at least 10 wt%, at least 20 wt%, at least 30 wt%, at least 90 wt%, at least 96 wt%, or at least 98 wt% sulfuric acid. The concentration of sulfuric acid may alternatively be up to 96% by weight. The reaction temperature for sulfonation with sulfuric acid is typically from 0 to 140°C, for example from 30 to 120°C.
추가의 적합한 술폰화 방법은 중합체성 표면을 발연 황산과 접촉시키는 것을 포함한다. A further suitable sulfonation method comprises contacting the polymeric surface with fuming sulfuric acid.
본원에서 사용되는 바와 같이, 발연 황산("올레움(oleum)"으로도 지칭됨)은, 용해된 SO3을 함유하는 100% 황산이라는 점에서 진한 황산과는 다르다. 발현 황산의 사용은 진한 황산과 비교하여 유리할 수 있으며, 그 이유는 발연 황산이 유의하게 더 큰 반응성을 갖고, 따라서 술폰화 반응이 더 빠르게 일어나기 때문이다. 전형적으로, 발연 황산의 농도는 용액 중 자유 SO3의 중량%로 기술된다. 전형적인 발연 황산은 용액 중 0.1 내지 30 중량%의 SO3이다. 올레움 술폰화를 위한 반응 온도는 전형적으로 0 내지 140℃, 예를 들어, 30 내지 120℃이다. As used herein, fuming sulfuric acid (also referred to as “oleum”) differs from concentrated sulfuric acid in that it is 100% sulfuric acid containing dissolved SO 3 . The use of expressed sulfuric acid can be advantageous compared to concentrated sulfuric acid, since fuming sulfuric acid has a significantly greater reactivity and thus the sulfonation reaction occurs faster. Typically, the concentration of fuming sulfuric acid is described in weight percent of free SO 3 in solution. Typical fuming sulfuric acid is 0.1 to 30% by weight SO 3 in solution. The reaction temperature for oleum sulfonation is typically from 0 to 140°C, for example from 30 to 120°C.
본원에 기술된 술폰화 방법에 있어서, 술폰화 공정의 변수는 예를 들어 온도, 반응물 농도, 압력, 술폰화 시간 및 중합체의 특성, 예컨대 결정도 퍼센트, 이중 결합의 함량 및 다공도를 포함함이 본 기술 분야에 일반적으로 공지되어 있다. 원하는 술폰화 정도를 달성하기 위한 상기에 기술된 술폰화 방법에 적합한 조건의 결정은 당업자의 수준 내에 있다. In the sulfonation process described herein, parameters of the sulfonation process include, for example, temperature, reactant concentration, pressure, sulfonation time and properties of the polymer, such as percent crystallinity, content of double bonds and porosity. It is generally known in the art. Determination of suitable conditions for the sulfonation methods described above to achieve the desired degree of sulfonation is within the level of one of ordinary skill in the art.
전형적으로, 술폰화 중합체성 표면은 잔존 황산, 반응 부산물 및 기타 오염물질을 제거하기 위하여 헹굼제, 전형적으로 수혼화성 액체, 예를 들어 물, 바람직하게는 탈이온수(DI water), 메탄올, 에탄올, 아세톤 또는 테트라히드로푸란으로 헹구어질 것이다. 헹굼제는 수-불혼화성 액체, 예를 들어 톨루엔, 디클로로메탄 또는 에테르, 예컨대 메틸 tert-부틸 에테르, 디에틸 에테르, 디아밀 에테르 또는 기타 C2-C10 디알킬에테르일 수 있다. 이러한 헹굼은 잔존 미결합 산의 제거에 유용하다. 헹굼은 전형적으로 중성에 도달하게 되는 시간 동안, 즉, 이미 사용된 헹굼 재료가 술폰화 중합체성 표면과 접촉하지 않은 헹굼 재료와 동일한 pH 수준을 나타낼 때까지 행해진다. 전형적으로 헹굼 공정은, 헹구어질 물품을 충전시키고, 예를 들어 인클로저 부재 또는 라이너의 경우에, 내용물을 비우고, 중성에 도달할 때까지 반복함으로써 행해진다. 또 다른 양태에서, 양성자성 산 용액은 양성자성 산 용액을 포함하는 탱크에 물품을 함침시키고, 물품이 바람직하게는 교반에 의해 침지되게 함으로써 적용될 수 있다. 양성자성 산 용액은 연속식으로 탱크에 적용될 수 있거나, 더 전형적으로, 배치식으로, 예컨대 중성에 도달할 때까지 연이어서 탱크를 충전시키고 배출시킴으로써 적용된다. Typically, the sulfonated polymeric surface is treated with a rinsing agent, typically a water-miscible liquid, such as water, preferably deionized water (DI water), methanol, ethanol, It will be rinsed with acetone or tetrahydrofuran. The rinse agent may be a water-immiscible liquid, for example toluene, dichloromethane or an ether, such as methyl tert-butyl ether, diethyl ether, diamyl ether or other C2-C10 dialkylethers. Such rinsing is useful to remove residual unbound acid. Rinsing is typically done for a period of time reaching neutrality, ie, until the rinse material already used exhibits the same pH level as the rinse material not in contact with the sulfonated polymeric surface. The rinsing process is typically done by filling the article to be rinsed, emptying the contents, for example in the case of an enclosure member or liner, and repeating until neutrality is reached. In another embodiment, the protic acid solution may be applied by immersing the article in a tank containing the protic acid solution and allowing the article to immerse, preferably by stirring. The protic acid solution may be applied to the tank continuously, or more typically, applied batchwise, such as by successively filling and draining the tank until neutral is reached.
전형적으로 술폰화 공정은 처리된 중합체성 표면을 변색시키며, 여기서, 흑색 또는 짙은 갈색의 층이 생성된다. 임의의 특정 이론에 구애되고자 함이 없이, 이 반응은 동시적 산화와 술폰화 중 하나라고 생각된다. 이와 같이 변색은, 중합체가 다양한 중합체의 발색 불포화 중합체 기 및 산화 기, 예컨대 히드록시, 케토 또는 카르복실산 기를 함유하도록 하는 중합체의 복합 산화의 결과인 것으로 보인다. 또한 이러한 기는 서로 축합되어서, 상기에 나타낸 짙은 색의 원인이 되는 추가 발색단을 형성한다고 생각된다. Typically the sulfonation process discolors the treated polymeric surface, where a black or dark brown layer is produced. Without wishing to be bound by any particular theory, it is believed that this reaction is one of simultaneous oxidation and sulfonation. This discoloration appears to be the result of complex oxidation of the polymers such that the polymers contain chromogenic unsaturated polymer groups and oxidizing groups such as hydroxy, keto or carboxylic acid groups of various polymers. It is also believed that these groups condense with each other to form additional chromophores responsible for the dark color shown above.
전형적으로 변색층을 제거하거나 감소시키는 것이 요구되며, 그 이유는 변색층이 용기 내에 보관될 재료 내로 침출되어 들어가 상기 재료를 오염시킬 수 있기 때문이다. 이 목적을 위하여, 변색된 표면은 선택적으로 탈색제로 헹구어질 수 있다. 적합한 탈색제는 예를 들어 차아염소산나트륨의 수용액, 차아염소산칼슘의 수용액, 과산화수소의 수용액, 과탄산암모늄의 수용액, 과황산칼륨의 수용액, 과망간산칼륨의 수용액 및 소듐 디크로메이트의 수용액을 포함한다. 전형적으로, 중합체성 표면의 탈색에는 잔존 탈색제, 반응 부산물 및 기타 오염물질의 제거를 위하여 상기에 기술된 것과 같은 수혼화성 액체를 이용한 헹굼이 뒤따른다. It is typically desired to remove or reduce the chromic layer, as it can leach into and contaminate the material to be stored in the container. For this purpose, the discolored surface may optionally be rinsed with a bleaching agent. Suitable decolorizing agents include, for example, aqueous solutions of sodium hypochlorite, aqueous solutions of calcium hypochlorite, aqueous solutions of hydrogen peroxide, aqueous solutions of ammonium percarbonate, aqueous solutions of potassium persulfate, aqueous solutions of potassium permanganate and aqueous solutions of sodium dichromate. Typically, bleaching of polymeric surfaces is followed by rinsing with a water-miscible liquid such as those described above to remove residual bleach, reaction by-products and other contaminants.
다음, 술폰화 중합체성 표면은 양성자성 산을 포함하는 조성물로 처리된다. 양성자성 산을 이용한 처리에 의해, 술폰화 공정에서 생긴 오염물질 및 금속이 제거될 수 있다. 적합한 양성자성 산은 예를 들어 질산, 염산, 황산, 아세트산, 시트르산, 타르타르산, 이미노디아세트산, 인산, 붕산, 또는 이들의 조합물을 포함한다. 바람직하게는, 중합체성 표면을 양성자성 산의 액체 용액과 접촉시킨다. 양성자성 산 용액의 농도는 전형적으로 1 내지 80 중량%의 산, 바람직하게는 10 내지 30 중량%의 산이다. 양성자성 산 용액은, 예를 들어 인클로저 부재 또는 라이너의 내부 중합체성 표면의 처리를 위한 것과 같이 기판을 충전시키고, 양성자성 산과 중합체성 표면 사이의 접촉을 원하는 시간 동안, 바람직하게는 교반을 이용하여 허용함으로써 물품에 적용될 수 있다. 대안적으로, 양성자성 산 용액은 양성자성 산 용액을 포함하는 탱크에 물품을 함침시키고, 물품이 바람직하게는 교반에 의해 침지되게 함으로써 적용될 수 있다. 1시간 내지 14일, 바람직하게는 5 내지 10일의 헹굼 시간이 전형적이다. 산 헹굼의 온도는 전형적으로 0 내지 100℃, 바람직하게는 20 내지 50℃이다. The sulfonated polymeric surface is then treated with a composition comprising a protic acid. By treatment with a protic acid, contaminants and metals generated in the sulfonation process can be removed. Suitable protic acids include, for example, nitric acid, hydrochloric acid, sulfuric acid, acetic acid, citric acid, tartaric acid, iminodiacetic acid, phosphoric acid, boric acid, or combinations thereof. Preferably, the polymeric surface is contacted with a liquid solution of a protic acid. The concentration of the protic acid solution is typically from 1 to 80% by weight of acid, preferably from 10 to 30% by weight of acid. The protic acid solution fills the substrate, such as for example for treatment of the inner polymeric surface of an enclosure member or liner, and for a desired period of time contact between the protic acid and the polymeric surface is desired, preferably using agitation. It can be applied to the article by allowing it. Alternatively, the protic acid solution may be applied by immersing the article in a tank containing the protic acid solution and allowing the article to immerse, preferably by stirring. Rinsing times of 1 hour to 14 days, preferably 5 to 10 days, are typical. The temperature of the acid rinse is typically from 0 to 100°C, preferably from 20 to 50°C.
양성자성 산 처리는 대안적으로 가스 또는 증기상 형태의 양성자성 산을 사용하여 폐쇄 챔버에서 행해질 수 있다. 가스 형태의 적합한 양성자성 산은 예를 들어 염화수소 및 플루오르화수소를 포함한다. 증기 형태로 사용하기에 적합한 양성자성 산은 양성자성 산 용액과 관련하여 상기에 기술된 것을 포함한다. 증기 생성은 본 기술 분야에 공지된 방법을 사용하여, 예를 들어, 불활성 캐리어 가스, 예컨대 공기, 아르곤, 질소 또는 헬륨을 양성자성 산 용액 내로 버블링시키고, 선택적으로, 산을 가열하여 성취될 수 있다. 1시간 내지 14일, 바람직하게는 5 내지 10일의 처리 시간이 전형적이다. 전형적으로, 처리는 대기압 또는 대기압 초과 압력에서 행해질 수 있다. 이 방법에서 술폰화 물품을 양성자성 산으로 처리하기 전에, 중합체성 표면을 수성 헹굼제, 전형적으로 탈이온수로 처리하여, 양성자성 산과의 접촉 중에 중합체성 표면으로부터 금속 오염물질을 가용화하여 제거해야 한다. 헹굼 처리는 물품을 헹굼제로 충전시키거나 물품을 헹굼제에 함침시키는 것과 같은 것에 의해 폐쇄 챔버 내로의 도입 전에 행해질 수 있다. 헹굼 시간은 중요하지 않으며, 처리는 양성자성 산으로 처리될 중합체성 표면 상에 수막을 생성하기에 충분해야 한다. The protic acid treatment may alternatively be done in a closed chamber using a protic acid in gaseous or vapor phase form. Suitable protic acids in gaseous form include, for example, hydrogen chloride and hydrogen fluoride. Protic acids suitable for use in vapor form include those described above with respect to protic acid solutions. Steam generation can be accomplished using methods known in the art, for example by bubbling an inert carrier gas such as air, argon, nitrogen or helium into the protic acid solution and, optionally, heating the acid. have. Treatment times of 1 hour to 14 days, preferably 5 to 10 days, are typical. Typically, the treatment may be conducted at atmospheric or superatmospheric pressure. Before treating the sulfonated article with the protic acid in this method, the polymeric surface must be treated with an aqueous rinse agent, typically deionized water, to solubilize and remove metal contaminants from the polymeric surface during contact with the protic acid. . The rinsing treatment may be done prior to introduction into the closed chamber, such as by filling the article with a rinse agent or immersing the article in the rinse agent. The rinse time is not critical and the treatment should be sufficient to create a water film on the polymeric surface to be treated with the protic acid.
중합체성 표면의 탈색이 요구될 경우, 상기 탈색은 상기에 기술된 바와 같은 별개의 탈색 공정 대신에 또는 이에 더하여 양성자성 산 처리와 동시에 행해질 수 있다. 양성자성 산 처리 중의 탈색에 있어서, 특정한 양성자성 산 그 자체, 예를 들어 질산이 탈색제로서의 기능을 할 수 있다. 선택적으로, 양성자성 산과는 다른 탈색제를 양성자성 산과 병용하여 중합체성 표면을 처리할 수 있다. 적합한 양성자성 산/탈색제 조합물은 예를 들어 상기 양성자성 산 및 탈색제의 임의의 조합물을 포함한다. 특히 적합한 조합물은 예를 들어 과산화수소/황산, 과산화수소/염산, 과산화수소/질산 및 중크롬산나트륨/황산을 포함한다. 양성자성 산-처리된 중합체성 표면은 전형적으로, 술폰산 처리 후 헹굼과 관련하여 상기에 기술된 바와 같은 수성-혼화성 헹굼제로 헹구어진다. 헹굼은 전형적으로 중성에 도달하게 되는 시간 동안 행해진다. If bleaching of the polymeric surface is desired, the bleaching can be done concurrently with a protic acid treatment instead of or in addition to a separate bleaching process as described above. In decolorization during protic acid treatment, certain protic acids themselves, such as nitric acid, can function as decolorizing agents. Optionally, a bleaching agent other than the protic acid may be used in combination with the protic acid to treat the polymeric surface. Suitable protic acid/bleaching agent combinations include, for example, any combination of said protic acid and bleaching agent. Particularly suitable combinations include, for example, hydrogen peroxide/sulfuric acid, hydrogen peroxide/hydrochloric acid, hydrogen peroxide/nitric acid and sodium dichromate/sulfuric acid. The protic acid-treated polymeric surface is typically rinsed with an aqueous-miscible rinse agent as described above with respect to rinsing after the sulfonic acid treatment. Rinsing is typically done for a time to reach neutrality.
선택적으로, 양성자성 산-처리된 중합체성 표면은 중합체 상의 술폰산 기를 중화시키는 에이전트로 처리될 수 있다. 이것은 예를 들어 용기 내에 보관될 재료가 산 기와 양립가능하지 않은 경우 반응을 방지하기 위하여 요구될 수 있다. 이 경우, 산 기의 중화는 용기가 보관될 재료와 양립가능해지게 할 수 있다. 중화제는 예를 들어 액상 또는 증기상일 수 있다. 적합한 액상 중화제는 예를 들어 일차, 이차 또는 삼차 아민, 테트라메틸 암모늄 히드록시드와 같은 사차 암모늄 히드록시드 용액을 포함하는 암모늄 히드록시드; 일차, 이차, 또는 삼차 이민; 또는 이들의 혼합물을 포함한다. 사용될 수 있는 적합한 아민은 수용성이며 보통 실온에서 액체인 2~5개의 탄소 원자의 일차, 이차 또는 삼차 포화 지방족 아민, 예를 들어 아밀아민, 디프로필아민, 트리에틸아민, 디에틸아민, 에틸아민, 디에틸메틸아민, 에탄올아민, 디에탄올아민, 트리에탄올아민 및 티오에탄올아민을 포함한다. 사용될 수 있는 적합한 이민은 수용성이며 실온에서 보통 액체인 일차, 이차 또는 삼자 방향족 및 지방족 이민, 예를 들어 피리딘, 피리미딘 및 피라진을 포함한다. Optionally, the protic acid-treated polymeric surface can be treated with an agent that neutralizes sulfonic acid groups on the polymer. This may be required, for example, to prevent a reaction if the material to be stored in the container is not compatible with the acid groups. In this case, neutralization of the acid groups can make the container compatible with the material to be stored. The neutralizing agent may be, for example, in liquid or vapor phase. Suitable liquid neutralizing agents include, for example, primary, secondary or tertiary amines, ammonium hydroxides, including quaternary ammonium hydroxide solutions such as tetramethyl ammonium hydroxide; primary, secondary, or tertiary immigration; or mixtures thereof. Suitable amines that may be used are primary, secondary or tertiary saturated aliphatic amines of 2 to 5 carbon atoms which are water soluble and are usually liquid at room temperature, for example amylamine, dipropylamine, triethylamine, diethylamine, ethylamine; diethylmethylamine, ethanolamine, diethanolamine, triethanolamine and thioethanolamine. Suitable imines that may be used include primary, secondary or tertiary aromatic and aliphatic imines that are water soluble and normally liquid at room temperature, such as pyridine, pyrimidine and pyrazine.
술폰화 플라스틱 표면은 상기 수성 용액 또는 현탁액에 침지될 수 있거나, 또는 상기 용액이 스프레이되고, 물로 세척되고 건조될 수 있다. 전형적으로, 중화제는 생성된 용액이 1~20 중량%의 중화제를 함유하도록 하는 양으로 물에 첨가된다. 접촉 시간은 중요하지 않으며, 단순한 침지 또는 스프레이가 충분할 수 있다. 중화가 실시되는 온도는 중요하지 않으며, 전형적으로 -20 내지 60℃, 바람직하게는 20 내지 40℃이다. The sulfonated plastic surface may be immersed in the aqueous solution or suspension, or the solution may be sprayed, washed with water and dried. Typically, the neutralizing agent is added to the water in an amount such that the resulting solution contains 1-20% by weight of the neutralizing agent. The contact time is not critical, and a simple dipping or spraying may suffice. The temperature at which the neutralization takes place is not critical and is typically -20 to 60°C, preferably 20 to 40°C.
적합한 증기상 중화제는 예를 들어 가스질 암모니아, 메틸아민, 디메틸아민, 트리메틸아민 및 피리딘을 포함한다. 표준 조건에서 액체 형태인 재료, 예를 들어 피리딘에 있어서, 재료는 증발을 허용하는 온도까지 가열될 수 있다. 증기상 중화제와 술폰화 중합체성 표면 사이의 접촉 시간은 전형적으로 1분 내지 24시간, 더 전형적으로 15분 내지 4시간이다. 증기상 중화가 실시되는 온도는 전형적으로 0 내지 100℃, 바람직하게는 20 내지 80℃이다. 선택적 중화 처리를 하면, 중합체성 표면은 전형적으로, 술폰산 처리 후 헹굼과 관련하여 상기에 기술된 것과 같은 수성-혼화성 헹굼제로 헹구어진다. Suitable vapor phase neutralizing agents include, for example, gaseous ammonia, methylamine, dimethylamine, trimethylamine and pyridine. For materials that are in liquid form under standard conditions, such as pyridine, the material may be heated to a temperature that permits evaporation. The contact time between the vapor phase neutralizer and the sulfonated polymeric surface is typically from 1 minute to 24 hours, more typically from 15 minutes to 4 hours. The temperature at which vapor phase neutralization is carried out is typically from 0 to 100°C, preferably from 20 to 80°C. Upon selective neutralization treatment, the polymeric surface is typically rinsed with an aqueous-miscible rinse agent such as those described above with respect to rinsing after the sulfonic acid treatment.
이제 본 발명에 따른 예시적인 용기를 도면을 참고하여 설명할 것이다. 도 1에는 본 발명에 따른 예시적인 제1 용기(1)이 도시되어 있다. 용기(1)는 용기 내에 보관될 조성물로부터 금속 불순물을 제거하는 데 효과적인 활성 내부 표면(3)을 갖는 중합체성 인클로저 부재(2)를 포함한다. 중합체성 인클로저 부재는 본 기술 분야에 잘 알려진 공정, 예를 들어 압출 취입 성형에 의해 제조될 수 있다. 인클로저 부재는 술폰화에 도움이 되는 상기에 기술된 바와 같은 중합체로 형성된다. 인클로저 부재의 내부 표면은 상기에 기술된 바와 같은 방법을 통하여 활성화된다. 용기(1)는 인클로저 부재의 뚜껑을 덮기 위한 마개(4)를 추가로 포함한다. 적합한 마개는 본 기술 분야에 공지되어 있으며, 예를 들어 스크류 캡, 프레스-핏 캡(press-fit cap), 디스펜스 커넥터(dispense connector)(예를 들어, Entegris, Inc.로부터의 ErgoNOW™ 커넥터) 및 격벽을 갖춘 마개를 포함한다. 마개를 수용하기 위하여, 병은 스크류 스레드와 같이 뚜껑을 고정하기 위한 결합 특징부(mating feature)를 포함할 수 있다. An exemplary container according to the invention will now be described with reference to the drawings. 1 shows an exemplary first container 1 according to the invention. The container (1) includes a polymeric enclosure member (2) having an active inner surface (3) effective to remove metallic impurities from a composition to be stored therein. The polymeric enclosure member may be made by processes well known in the art, for example by extrusion blow molding. The enclosure member is formed of a polymer as described above that aids in sulfonation. The inner surface of the enclosure member is activated via a method as described above. The container 1 further comprises a
도 2에는 용기 내에 보관되는 조성물로부터 금속 불순물을 제거하기 위한, 활성 내부 표면(7)을 갖는 중합체성 라이너(6)를 포함하는 본 발명에 따른 예시적인 제2 용기(1)가 도시되어 있다. 라이너는 본 기술 분야에 잘 알려진 공정, 예를 들어 압출 취입 성형에 의해 제조될 수 있다. 라이너는 술폰화에 도움이 되는 상기에 기술된 바와 같은 중합체로 형성된다. 라이너의 내부 표면은 상기에 기술된 바와 같은 방법을 통하여 활성화된다. 중합체성 라이너(6)를 포함하는 용기에 있어서, 인클로저 부재는 본원에 기술된 바와 같은 중합체 이외의 재료로 구축될 수 있다. 인클로저 부재는 예를 들어 유리, 스테인리스강, 또는 오염되지 않는 기타 불활성, 클린 재료로 제조될 수 있다. 2 shows an exemplary second container 1 according to the present invention comprising a
활성화된 중합체성 표면과 용기 내에 보관될 화학 조성물 사이의 상호작용을 증가시키기 위하여, 화학 조성물과의 더 많은 접촉을 위하여 표면적이 증가된 활성화 중합체성 표면을 제공하는 것이 요구될 수 있다. 이러한 증가된 활성화 중합체성 표면 면적은 금속 오염물질을 추가로 감소시킬 수 있다고 생각된다. 증가된 표면적은 예를 들어 중합체성 표면의 표면 텍스쳐화를 통하여 달성될 수 있다. 적합한 텍스쳐는 볼록 또는 만입 구조의 다양한 지오메트리, 예를 들어, 딤플, 돔, 릿지, 홈, 피라미드, 직사각형의 직육면체, 원통, 및 이들의 조합을 포함한다. 표면 텍스쳐화는 병(또는 기타 인클로저 부재 또는 물품)의 제조 중에 성취될 수 있다. 도 3a에는 텍스쳐화 활성화 표면(8A)을 갖는 인클로저 부재(2)를 갖춘 용기(1)가 도시되어 있다. 도 3b 내지 도 3e에는 피라미드(도 3b), 직사각형의 직육면체(도 3c), 돔(도 3d) 및 딤플(도 3e) 텍스쳐화를 포함하는 다양한 형태의 텍스쳐화 표면이 도시되어 있다. To increase the interaction between the activated polymeric surface and the chemical composition to be stored in a container, it may be desirable to provide an activated polymeric surface with increased surface area for greater contact with the chemical composition. It is believed that this increased activated polymeric surface area may further reduce metal contaminants. Increased surface area can be achieved, for example, through surface texturing of the polymeric surface. Suitable textures include various geometries of convex or indented structures, such as dimples, domes, ridges, grooves, pyramids, rectangular cuboids, cylinders, and combinations thereof. Surface texturing may be accomplished during manufacture of the bottle (or other enclosure member or article). 3A shows a container 1 with an
상기 예시적인 용기에서, 인클로저 부재 또는 라이너는 활성 내부 중합체성 표면을 포함한다. 부가적으로 또는 대안적으로, 용기는 금속 제거를 위한 활성화 중합체성 표면을 포함하는 인클로저 부재 내에 적어도 부분적으로 배치된 인서트를 포함할 수 있다. 인서트의 활성화된 표면의 면적을 증가시키기 위하여, 인서트 상에 도 3a 내지 도 3e와 관련하여 기술된 것과 같은 표면 텍스쳐화를 포함하는 것이 요구될 수 있다. In the above exemplary container, the enclosure member or liner comprises an active inner polymeric surface. Additionally or alternatively, the container may include an insert disposed at least partially within an enclosure member comprising an activated polymeric surface for metal removal. In order to increase the area of the activated surface of the insert, it may be desirable to include surface texturization on the insert, such as that described in connection with FIGS. 3A-3E .
도 4에는 인클로저 부재(2) 내에 배치된 활성화 중합체성 기저부 폐쇄 원통형 인서트(10)를 포함하는 예시적인 용기(1)가 도시되어 있다. 중합체성 인서트의 활성화는 본원에 기술된 것과 같은 방법을 통하여 행해진다. 활성 중합체성 표면의 표면적을 최대화하기 위하여, 원통형 조립체의 노출된 표면 각각이 활성화되는 것이 바람직하다. 원통형 조립체는 본 기술 분야에 공지된 방법, 예를 들어 압출 취입 성형에 의해 제조될 수 있다. 4 shows an exemplary container 1 comprising an activated polymeric bottom closure
도 5에는 활성화 신장 중합체성 부재(12)의 형태의 활성화 인서트를 포함하는 추가의 예시적인 용기(1)가 도시되어 있다. 중합체성 부재(12)는 예를 들어 중공 또는 중실 형태일 수 있으며, 다양한 신장된 형상, 예컨대 원통형 또는 각기둥형일 수 있으며, 이때 원통형이 전형적이다. 부재(12)는 본 기술 분야에 공지된 방법, 예를 들어 압출 취입 성형, 이어서 본원에 기술된 바와 같은 방법을 통한 활성화에 의해 제조될 수 있다. 중합체성 부재(12)는 도시된 바와 같이 마개(4)와 일체형일 수 있거나, 또는 마개와는 별개인 구성요소로서 제공될 수 있다. 5 shows a further exemplary container 1 comprising an activation insert in the form of an activated
다음의 비제한적 실시예는 본 발명을 예시하는 것이다. The following non-limiting examples are illustrative of the present invention.
실시예Example
실시예 1Example 1
15 ml의 LDPE 백색 반투명 병 (2.4 cm의 직경, 5.8 cm의 높이)에 가스상 술폰화를 가하였다. 사전-술폰화된 병은 측정가능한 원소형 황을 나타내지 않았으며, 술폰화된 병은 x선 광전자 분광법(XPS)으로 결정할 경우 6.9 원자%의 표면에서의 원소형 황 함량을 나타냈다. 술폰화된 병은 내외부가 흑색으로 변색되었음이 육안으로 관찰되었다. 상기 병을 탈이온수(DI water)(18 MΩ)로 헹구었다. 술폰화 병을 20 중량%의 Optima™ 질산(Fisher Scientific)으로 충전시키고, 병을 7일 동안 진탕시켰다. 질산은 황색으로 변하였으며, 병의 내벽에서의 변색은 실질적으로 제거되었고, 이는 술폰화 부산물의 제거를 나타내는 것이었다. 그 후, 상기 병을 탈이온수(18 MΩ)로 헹구었으며, XPS로 측정할 경우 표면에서의 황 함량은 3.4 원자%였다. 10 ml의 OC™3050 Immersion Topcoat Material(Dow Electronic Materials, 미국 매사추세츠주 말버러 소재)(이는 아크릴 수지와 유기 용매의 혼합물을 포함함)을 상기 병에 첨가하였다. 상기 병을 7일 동안 진탕시키고, 금속 분석을 Agilent 8800 ICP-MS 시스템을 이용하여 행하였다. ICP 금속 분석은 모든 예에 있어서 병으로부터의 두 샘플의 분석을 포함하였다. 결과를 표 1에 나타낸다. Gas phase sulfonation was applied to a 15 ml LDPE white translucent bottle (diameter of 2.4 cm, height of 5.8 cm). The pre-sulfonated bottle showed no measurable elemental sulfur, and the sulfonated bottle showed an elemental sulfur content at the surface of 6.9 atomic percent as determined by x-ray photoelectron spectroscopy (XPS). It was visually observed that the inside and outside of the sulfonated bottle was discolored black. The bottle was rinsed with DI water (18 MΩ). The sulfonated bottle was filled with 20% by weight of Optima™ nitric acid (Fisher Scientific) and the bottle was shaken for 7 days. The nitric acid turned yellow and the discoloration on the inner wall of the bottle was virtually eliminated, indicating removal of sulfonation by-products. The bottle was then rinsed with deionized water (18 MΩ), and the sulfur content at the surface as measured by XPS was 3.4 atomic %. 10 ml of OC™3050 Immersion Topcoat Material (Dow Electronic Materials, Marlborough, MA) (which contains a mixture of acrylic resin and organic solvent) was added to the bottle. The bottle was shaken for 7 days and metal analysis was performed using an Agilent 8800 ICP-MS system. ICP metal analysis included analysis of two samples from bottles in all instances. A result is shown in Table 1.
비교예 1Comparative Example 1
15 ml의 LDPE 백색 반투명 병(2.4 cm의 직경, 5.8 cm의 높이)을 20 중량%의 Optima™ 질산(Fisher Scientific)으로 충전시키고, 병을 7일 동안 진탕시켰다. 그 후 상기 병을 탈이온수(18 MΩ)로 헹구었다. 10 ml의 OC™3050 Immersion Topcoat Material(Dow Electronic Materials)을 상기 병에 첨가하였다. 상기 병을 7일 동안 진탕시키고, 금속 분석을 Agilent 8800 ICP-MS 시스템을 이용하여 행하였다. 결과를 표 1에 나타낸다. A 15 ml LDPE white translucent bottle (diameter of 2.4 cm, height of 5.8 cm) was filled with 20% by weight of Optima™ nitric acid (Fisher Scientific), and the bottle was shaken for 7 days. The bottle was then rinsed with deionized water (18 MΩ). 10 ml of OC™3050 Immersion Topcoat Material (Dow Electronic Materials) was added to the bottle. The bottle was shaken for 7 days and metal analysis was performed using an Agilent 8800 ICP-MS system. A result is shown in Table 1.
비교예 2Comparative Example 2
술폰화된/탈이온수로 헹군 병을 실시예 1에서 설명한 바와 같이 준비하였다. 10 ml의 OC™3050 Immersion Topcoat Material(Dow Electronic Materials)을 상기 병에 첨가하였다. 상기 병을 7일 동안 진탕시키고, 금속 분석을 Agilent 8800 ICP-MS 시스템을 이용하여 행하였다. 결과를 표 1에 나타낸다. Bottles rinsed with sulfonated/deionized water were prepared as described in Example 1. 10 ml of OC™3050 Immersion Topcoat Material (Dow Electronic Materials) was added to the bottle. The bottle was shaken for 7 days and metal analysis was performed using an Agilent 8800 ICP-MS system. A result is shown in Table 1.
실시예 2Example 2
질산-처리된/탈이온수로 헹군 병을 실시예 1에서 설명한 바와 같이 준비하였다. 10 ml의 TraceSELECT Ultra TMAH 용액(물 중 25 중량%)(Fluka)을 상기 병에 첨가하고, 1주일 동안 진탕시켰다. TMAH 용액은 짙은 갈색을 얻었으며, 이를 상기 병으로부터 제거하였다. 상기 병을 18 MOhm 탈이온수로 헹구고, 10 ml의 OC™3050 Immersion Topcoat Material(Dow Electronic Materials)을 상기 병에 첨가하였다. 상기 병을 7일 동안 진탕시키고, 금속 분석을 Agilent 8800 ICP-MS 시스템을 이용하여 행하였다. 결과를 표 1에 나타낸다. A nitric acid-treated/deionized water rinse bottle was prepared as described in Example 1. 10 ml of TraceSELECT Ultra TMAH solution (25% by weight in water) (Fluka) was added to the bottle and shaken for 1 week. The TMAH solution obtained a dark brown color, which was removed from the bottle. The bottle was rinsed with 18 MOhm deionized water and 10 ml of OC™3050 Immersion Topcoat Material (Dow Electronic Materials) was added to the bottle. The bottle was shaken for 7 days and metal analysis was performed using an Agilent 8800 ICP-MS system. A result is shown in Table 1.
실시예 3Example 3
질산-처리된/탈이온수로 헹군 병을 실시예 1에서 설명한 바와 같이 준비하였다. 10 ml의 Optima 수산화암모늄 용액(20 중량%)(Fisher Scientific)을 상기 병에 첨가하고, 1주일 동안 진탕시켰다. TMAH 용액은 짙은 갈색을 얻었으며, 이를 상기 병으로부터 제거하였다. 상기 병을 18 MOhm 탈이온수로 헹구고, 10 ml의 OC™3050 Immersion Topcoat Material(Dow Electronic Materials)을 상기 병에 첨가하였다. 상기 병을 7일 동안 진탕시키고, 금속 분석을 Agilent 8800 ICP-MS 시스템을 이용하여 행하였다. 결과를 표 1에 나타낸다. A nitric acid-treated/deionized water rinse bottle was prepared as described in Example 1. 10 ml of Optima ammonium hydroxide solution (20% by weight) (Fisher Scientific) was added to the bottle and shaken for 1 week. The TMAH solution obtained a dark brown color, which was removed from the bottle. The bottle was rinsed with 18 MOhm deionized water and 10 ml of OC™3050 Immersion Topcoat Material (Dow Electronic Materials) was added to the bottle. The bottle was shaken for 7 days and metal analysis was performed using an Agilent 8800 ICP-MS system. A result is shown in Table 1.
실시예 4Example 4
본 발명의 용기의 재사용에 대한 적합성을 연구하기 위하여, 실시예 1에서와 같이 준비한 병(이는 술폰화되고, 질산-세척되고, OC™3050 Immersion Topcoat Material(Dow Electronic Materials)을 함유함)을 증류된 에틸 락테이트로 헹구었다. 그 후, 상기 병을 18 MOhm 탈이온수로 헹구고, 20 중량%의 Optima 질산(Fisher Scientific)으로 7일 동안 처리하였다. 그 결과로 초래된 질산은 여전히 투명한 채로 남아 있었다. 상기 병을 18 MOhm 탈이온수로 헹구고, 10 ml의 OC™3050 Immersion Topcoat Material(Dow Electronic Materials)을 상기 병에 첨가하였다. 상기 병을 7일 동안 진탕시키고, 금속 분석을 Agilent 8800 ICP-MS 시스템을 이용하여 행하였다. 결과를 표 1에 나타낸다. To study the suitability of the container for reuse of the present invention, the bottle prepared as in Example 1 (which was sulfonated, nitric acid-washed, and containing OC™3050 Immersion Topcoat Material (Dow Electronic Materials)) was distilled rinsed with ethyl lactate. The bottle was then rinsed with 18 MOhm deionized water and treated with 20 wt % Optima nitric acid (Fisher Scientific) for 7 days. The resulting nitric acid remained transparent. The bottle was rinsed with 18 MOhm deionized water and 10 ml of OC™3050 Immersion Topcoat Material (Dow Electronic Materials) was added to the bottle. The bottle was shaken for 7 days and metal analysis was performed using an Agilent 8800 ICP-MS system. A result is shown in Table 1.
실시예 5Example 5
술폰화된/탈이온수로 헹군 병을 실시예 1에서 설명한 바와 같이 준비하였다. 상기 병은 7일 동안 98 중량%의 Optima 황산(Fisher Scientific)이 충전되어 있었다. 그 결과로 초래된 황산은 여전히 투명한 채로 남아 있었으며, 병의 내벽은 여전히 흑색인 채로 남아 있었다. 상기 병을 18 MOhm 탈이온수로 헹구고, 10 ml의 OC™3050 Immersion Topcoat Material(Dow Electronic Materials)을 상기 병에 첨가하였다. 상기 병을 7일 동안 진탕시키고, 금속 분석을 Agilent 8800 ICP-MS 시스템을 이용하여 행하였다. 결과를 표 1에 나타낸다. Bottles rinsed with sulfonated/deionized water were prepared as described in Example 1. The bottle was filled with 98 wt % Optima sulfuric acid (Fisher Scientific) for 7 days. The resulting sulfuric acid still remained clear, and the bottle's inner wall remained black. The bottle was rinsed with 18 MOhm deionized water and 10 ml of OC™3050 Immersion Topcoat Material (Dow Electronic Materials) was added to the bottle. The bottle was shaken for 7 days and metal analysis was performed using an Agilent 8800 ICP-MS system. A result is shown in Table 1.
실시예 6Example 6
술폰화된/탈이온수로 헹군 병을 실시예 1에서 설명한 바와 같이 준비하였다. 상기 병을 30 중량%의 Optima 과산화수소(Fisher Scientific):98 중량%의 Optima 황산(Fisher Scientific)의 1:4 혼합물(부피 기준)로 충전시키고, 병을 7일 동안 진탕시켰다. 그 결과로 초래된 황산은 여전히 투명한 채로 남아 있었으며, 병의 내벽의 색은 흑색으로부터 갈색으로 밝아졌다. 상기 병을 18 MOhm 탈이온수로 헹구고, 10 ml의 OC™3050 Immersion Topcoat Material(Dow Electronic Materials)을 상기 병에 첨가하였다. 상기 병을 7일 동안 진탕시키고, 금속 분석을 Agilent 8800 ICP-MS 시스템을 이용하여 행하였다. 결과를 표 1에 나타낸다. Bottles rinsed with sulfonated/deionized water were prepared as described in Example 1. The bottle was filled with a 1:4 mixture (by volume) of 30% by weight Optima hydrogen peroxide (Fisher Scientific):98% by weight of Optima sulfuric acid (Fisher Scientific), and the bottle was shaken for 7 days. The resulting sulfuric acid still remained transparent, and the color of the inner wall of the bottle lightened from black to brown. The bottle was rinsed with 18 MOhm deionized water and 10 ml of OC™3050 Immersion Topcoat Material (Dow Electronic Materials) was added to the bottle. The bottle was shaken for 7 days and metal analysis was performed using an Agilent 8800 ICP-MS system. A result is shown in Table 1.
실시예 7Example 7
술폰화된/탈이온수로 헹군 병을 실시예 1에서 설명한 바와 같이 준비하였다. 상기 병을 TraceSelect 아세트산(Fluka)으로 충전시키고, 병을 7일 동안 진탕시켰다. 그 결과로 초래된 아세트산은 여전히 투명한 채로 남아 있었으며, 병의 내벽은 약간 갈색으로 변하였다. 상기 병을 18 MOhm 탈이온수로 헹구고, 10 ml의 OC™3050 Immersion Topcoat Material(Dow Electronic Materials)을 상기 병에 첨가하였다. 상기 병을 7일 동안 진탕시키고, 금속 분석을 Agilent 8800 ICP-MS 시스템을 이용하여 행하였다. 결과를 표 1에 나타낸다. Bottles rinsed with sulfonated/deionized water were prepared as described in Example 1. The bottle was filled with TraceSelect acetic acid (Fluka) and the bottle was shaken for 7 days. The resulting acetic acid still remained clear and the bottle's inner wall turned slightly brown. The bottle was rinsed with 18 MOhm deionized water and 10 ml of OC™3050 Immersion Topcoat Material (Dow Electronic Materials) was added to the bottle. The bottle was shaken for 7 days and metal analysis was performed using an Agilent 8800 ICP-MS system. A result is shown in Table 1.
비교예 3Comparative Example 3
15 ml의 LDPE 백색 반투명 병(2.4 cm의 직경, 5.8 cm의 높이)을 20 중량%의 Optima™ 질산(Fisher Scientific)으로 충전시키고, 병을 7일 동안 진탕시켰다. 그 후 상기 병을 탈이온수(18 MΩ)로 헹구었다. 10 ml의이소아밀 에테르(Toyo Gosei)를 상기 병에 첨가하였다. 상기 병을 7일 동안 진탕시키고, 금속 분석을 Agilent 8800 ICP-MS 시스템을 이용하여 행하였다. 결과를 표 1에 나타낸다. A 15 ml LDPE white translucent bottle (diameter of 2.4 cm, height of 5.8 cm) was filled with 20% by weight of Optima™ nitric acid (Fisher Scientific), and the bottle was shaken for 7 days. The bottle was then rinsed with deionized water (18 MΩ). 10 ml of isoamyl ether (Toyo Gosei) was added to the bottle. The bottle was shaken for 7 days and metal analysis was performed using an Agilent 8800 ICP-MS system. A result is shown in Table 1.
실시예 8Example 8
질산-처리된/탈이온수로 헹군 병을 실시예 1에서 설명한 바와 같이 준비하였다. 10 ml의이소아밀 에테르(Toyo Gosei)를 상기 병에 첨가하였다. 상기 병을 7일 동안 진탕시키고, 금속 분석을 Agilent 8800 ICP-MS 시스템을 이용하여 행하였다. 결과를 표 1에 나타낸다. A nitric acid-treated/deionized water rinse bottle was prepared as described in Example 1. 10 ml of isoamyl ether (Toyo Gosei) was added to the bottle. The bottle was shaken for 7 days and metal analysis was performed using an Agilent 8800 ICP-MS system. A result is shown in Table 1.
비교예 4Comparative Example 4
15 ml의 LDPE 백색 반투명 병(2.4 cm의 직경, 5.8 cm의 높이)을 20 중량%의 Optima™ 질산(Fisher Scientific)으로 충전시키고, 병을 7일 동안 진탕시켰다. 그 후 상기 병을 탈이온수(18 MΩ)로 헹구었다. 10 ml의 에틸 락테이트를 상기 병에 첨가하였다. 상기 병을 7일 동안 진탕시키고, 금속 분석을 Agilent 8800 ICP-MS 시스템을 이용하여 행하였다. 결과를 표 1에 나타낸다. A 15 ml LDPE white translucent bottle (diameter of 2.4 cm, height of 5.8 cm) was filled with 20% by weight of Optima™ nitric acid (Fisher Scientific), and the bottle was shaken for 7 days. The bottle was then rinsed with deionized water (18 MΩ). 10 ml of ethyl lactate was added to the bottle. The bottle was shaken for 7 days and metal analysis was performed using an Agilent 8800 ICP-MS system. A result is shown in Table 1.
실시예 9Example 9
질산-처리된/탈이온수로 헹군 병을 실시예 1에서 설명한 바와 같이 준비하였다. 10 ml의 에틸 락테이트를 상기 병에 첨가하였다. 상기 병을 7일 동안 진탕시키고, 금속 분석을 Agilent 8800 ICP-MS 시스템을 이용하여 행하였다. 결과를 표 1에 나타낸다. A nitric acid-treated/deionized water rinse bottle was prepared as described in Example 1. 10 ml of ethyl lactate was added to the bottle. The bottle was shaken for 7 days and metal analysis was performed using an Agilent 8800 ICP-MS system. A result is shown in Table 1.
비교예 5Comparative Example 5
15 ml의 LDPE 백색 반투명 병(2.4 cm의 직경, 5.8 cm의 높이)을 20 중량%의 Optima™ 질산(Fisher Scientific)으로 충전시키고, 병을 7일 동안 진탕시켰다. 그 후 상기 병을 탈이온수(18 MΩ)로 헹구었다. 10 ml의 히드록시부티르산 메틸 에스테르(HBM)를 상기 병에 첨가하였다. 상기 병을 7일 동안 진탕시키고, 금속 분석을 Agilent 8800 ICP-MS 시스템을 이용하여 행하였다. 결과를 표 1에 나타낸다. A 15 ml LDPE white translucent bottle (diameter of 2.4 cm, height of 5.8 cm) was filled with 20% by weight of Optima™ nitric acid (Fisher Scientific), and the bottle was shaken for 7 days. The bottle was then rinsed with deionized water (18 MΩ). 10 ml of hydroxybutyric acid methyl ester (HBM) was added to the bottle. The bottle was shaken for 7 days and metal analysis was performed using an Agilent 8800 ICP-MS system. A result is shown in Table 1.
실시예 10Example 10
질산-처리된/탈이온수로 헹군 병을 실시예 1에서 설명한 바와 같이 준비하였다. 10 ml의 HBM을 상기 병에 첨가하였다. 상기 병을 7일 동안 진탕시키고, 금속 분석을 Agilent 8800 ICP-MS 시스템을 이용하여 행하였다. 결과를 표 1에 나타낸다. A nitric acid-treated/deionized water rinse bottle was prepared as described in Example 1. 10 ml of HBM was added to the bottle. The bottle was shaken for 7 days and metal analysis was performed using an Agilent 8800 ICP-MS system. A result is shown in Table 1.
비교예 6Comparative Example 6
15 ml의 LDPE 백색 반투명 병(2.4 cm의 직경, 5.8 cm의 높이)을 20 중량%의 Optima™ 질산(Fisher Scientific)으로 충전시키고, 병을 7일 동안 진탕시켰다. 그 후 상기 병을 탈이온수(18 MΩ)로 헹구었다. 10 ml의 프로필렌 글리콜 모노메틸 에테르 아세테이트(PGMEA)를 상기 병에 첨가하였다. 상기 병을 7일 동안 진탕시키고, 금속 분석을 Agilent 8800 ICP-MS 시스템을 이용하여 행하였다. 결과를 표 1에 나타낸다. A 15 ml LDPE white translucent bottle (diameter of 2.4 cm, height of 5.8 cm) was filled with 20% by weight of Optima™ nitric acid (Fisher Scientific), and the bottle was shaken for 7 days. The bottle was then rinsed with deionized water (18 MΩ). 10 ml of propylene glycol monomethyl ether acetate (PGMEA) was added to the bottle. The bottle was shaken for 7 days and metal analysis was performed using an Agilent 8800 ICP-MS system. A result is shown in Table 1.
실시예 11Example 11
질산-처리된/탈이온수로 헹군 병을 실시예 1에서 설명한 바와 같이 준비하였다. 10 ml의 PGMEA를 상기 병에 첨가하였다. 상기 병을 7일 동안 진탕시키고, 금속 분석을 Agilent 8800 ICP-MS 시스템을 이용하여 행하였다. 결과를 표 1에 나타낸다. A nitric acid-treated/deionized water rinse bottle was prepared as described in Example 1. 10 ml of PGMEA was added to the bottle. The bottle was shaken for 7 days and metal analysis was performed using an Agilent 8800 ICP-MS system. A result is shown in Table 1.
Claims (11)
인클로저 부재; 및
선택적으로, 적어도 부분적으로 상기 인클로저 부재 내에 있는 물품;을 포함하며,
여기서,
상기 인클로저 부재 및/또는 물품은 활성화된 중합체성 표면을 포함하고,
상기 활성화된 중합체성 표면은, 중합체성 표면을 술폰화하는 것 및 양성자성 산을 포함하는 조성물로 상기 술폰화된 중합체성 표면을 처리하는 것을 포함하는 방법에 의해 형성되며,
상기 초순수 화학 조성물은 상기 활성화된 중합체성 표면과 접촉하는,
용기.A container for containing an ultrapure chemical composition, comprising:
no enclosure; and
optionally, an article at least partially within said enclosure member;
here,
wherein said enclosure member and/or article comprises an activated polymeric surface;
wherein said activated polymeric surface is formed by a method comprising sulfonating said polymeric surface and treating said sulfonated polymeric surface with a composition comprising a protic acid;
wherein said ultrapure chemical composition is in contact with said activated polymeric surface;
courage.
중합체성 표면을 포함하는 인클로저 부재 또는 인클로저 부재 라이너를 제공하는 단계;
상기 중합체성 표면을 술폰화하는 단계; 및
양성자성 산을 포함하는 조성물로 상기 술폰화된 중합체성 표면을 처리하는 단계;를 포함하는, 방법.A method of forming a container having an activated polymeric surface, the method comprising:
providing an enclosure member or enclosure member liner comprising a polymeric surface;
sulfonating the polymeric surface; and
treating the sulfonated polymeric surface with a composition comprising a protic acid.
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E902 | Notification of reason for refusal | ||
E701 | Decision to grant or registration of patent right | ||
GRNT | Written decision to grant |