KR102336453B1 - Apparatus for Discriminating Defects Capable of Implementing Multiple FOV - Google Patents

Apparatus for Discriminating Defects Capable of Implementing Multiple FOV Download PDF

Info

Publication number
KR102336453B1
KR102336453B1 KR1020210092666A KR20210092666A KR102336453B1 KR 102336453 B1 KR102336453 B1 KR 102336453B1 KR 1020210092666 A KR1020210092666 A KR 1020210092666A KR 20210092666 A KR20210092666 A KR 20210092666A KR 102336453 B1 KR102336453 B1 KR 102336453B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
light
tube lens
defect
optical system
interference
Prior art date
Application number
KR1020210092666A
Other languages
Korean (ko)
Inventor
양승진
박정욱
김경남
Original Assignee
주식회사 에이치비테크놀러지
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 주식회사 에이치비테크놀러지 filed Critical 주식회사 에이치비테크놀러지
Priority to KR1020210092666A priority Critical patent/KR102336453B1/en
Application granted granted Critical
Publication of KR102336453B1 publication Critical patent/KR102336453B1/en

Links

Images

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
    • G01N21/84—Systems specially adapted for particular applications
    • G01N21/88—Investigating the presence of flaws or contamination
    • G01N21/8806—Specially adapted optical and illumination features
    • G—PHYSICS
    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
    • G01N21/17—Systems in which incident light is modified in accordance with the properties of the material investigated
    • G01N21/41—Refractivity; Phase-affecting properties, e.g. optical path length
    • G01N21/45—Refractivity; Phase-affecting properties, e.g. optical path length using interferometric methods; using Schlieren methods
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B27/00—Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00
    • G02B27/10—Beam splitting or combining systems
    • G—PHYSICS
    • G06—COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
    • G06T—IMAGE DATA PROCESSING OR GENERATION, IN GENERAL
    • G06T7/00—Image analysis
    • G06T7/0002—Inspection of images, e.g. flaw detection
    • G06T7/0004—Industrial image inspection
    • G—PHYSICS
    • G06—COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
    • G06T—IMAGE DATA PROCESSING OR GENERATION, IN GENERAL
    • G06T7/00—Image analysis
    • G06T7/60—Analysis of geometric attributes
    • G—PHYSICS
    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
    • G01N21/84—Systems specially adapted for particular applications
    • G01N21/88—Investigating the presence of flaws or contamination
    • G01N21/95—Investigating the presence of flaws or contamination characterised by the material or shape of the object to be examined
    • G01N2021/9513—Liquid crystal panels
    • G—PHYSICS
    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N2201/00—Features of devices classified in G01N21/00
    • G01N2201/06—Illumination; Optics
    • G01N2201/061—Sources
    • G01N2201/06113—Coherent sources; lasers

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Biochemistry (AREA)
  • Theoretical Computer Science (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Pathology (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)
  • Computer Vision & Pattern Recognition (AREA)
  • General Health & Medical Sciences (AREA)
  • Immunology (AREA)
  • Quality & Reliability (AREA)
  • Geometry (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Investigating Materials By The Use Of Optical Means Adapted For Particular Applications (AREA)

Abstract

Disclosed is a defect determination apparatus with an ability to implement multiple FOVs. In accordance with one aspect of the present embodiment, a defect determination apparatus for determining characteristics of a defect occurring in a substrate includes: a light source radiating light radiated to a defective part and a reference reflection surface, and reflected from both of the parts to cause interference; an optical system branching and radiating the light radiated from the light source to the defective part and the reference reflection surface, while leading the light reflected from both of the parts to interfere therein, while actively changing a viewing angle of the interference light; a photographing part sensing the interference light delivered from the optical system; and a control part controlling the optical system, and determining characteristics of the defect formed on the substrate based on interference patterns of the interference light sensed by the photographing part.

Description

복수의 FOV 구현이 가능한 결함 판별장치{Apparatus for Discriminating Defects Capable of Implementing Multiple FOV}Apparatus for Discriminating Defects Capable of Implementing Multiple FOV

본 발명은 복수의 FOV를 구현하여 정확히 결함의 특성을 판별할 수 있는 결함 판별장치에 관한 것이다.The present invention relates to a defect discrimination device capable of accurately discriminating the characteristics of a defect by implementing a plurality of FOVs.

이 부분에 기술된 내용은 단순히 본 실시예에 대한 배경 정보를 제공할 뿐 종래기술을 구성하는 것은 아니다.The content described in this section merely provides background information for the present embodiment and does not constitute the prior art.

디스플레이 디바이스 기술의 현저한 발전에 따라 액정 디스플레이나 플라즈마 디스플레이 등의 각종 방식의 화상 표시 장치에 관련된 기술이 크게 진보되어 왔다. 특히 대형이며 고정밀한 표시를 실현하는 화상 표시 장치 등에서는 그 제조원가의 저감과 화상 품위의 향상을 위해 고도의 기술혁신이 진척되고 있다. 이러한 각종 장치에 탑재되어 화상을 표시하기 위해서 사용되는 유리기판에 대해서도 종전 이상의 높은 치수품위와 고정밀도의 표면성상이 요구되고 있다. 디스플레이 디바이스 용도 등의 유리의 제조에서는 각종 제조 장치를 사용함으로써 유리기판이 성형되고 있지만, 모두 무기 유리 원료를 가열 용해해서 용융 유리를 균질화한 후에 소정 형상으로 성형한다는 것이 일반적으로 행해지고 있다. 이때, 유리 원료의 용융 부족이나 제조 도중에서의 의도하지 않은 이물의 혼입, 또는 성형 장치의 노후화나 일시적인 성형 조건의 문제, 그리고 완성 후 원하는 크기로 절단하는 과정에서 발생하는 결함 등, 여러 가지 원인에 의해 유리기판에 표면 품위의 이상 등의 결함이 생기는 경우가 있다.With the remarkable development of display device technology, technologies related to various types of image display apparatuses, such as liquid crystal displays and plasma displays, have been greatly advanced. In particular, in image display devices that realize large-scale and high-definition display, a high degree of technological innovation is progressing in order to reduce the manufacturing cost and improve image quality. High dimensional quality and high-precision surface properties are also required for glass substrates mounted on these various devices and used to display images. In the manufacture of glass for display device use, etc., although a glass substrate is shape|molded by using various manufacturing apparatuses, it is generally performed to shape|mold into a predetermined shape after heat-melting an inorganic glass raw material and homogenizing a molten glass. At this time, due to various causes, such as insufficient melting of glass raw material, unintentional mixing of foreign substances during manufacturing, aging of molding equipment, temporary molding conditions, and defects occurring in the process of cutting to a desired size after completion. In some cases, defects such as abnormality in surface quality may occur in the glass substrate.

이러한 결함을 검출하는 방법으로서, 간섭광을 이용하여 결함의 존부 및 성질을 검출하는 방법이 존재한다. 종래의 결함 판별장치는 광을 분기시켜, 어느 하나의 광은 기판으로, 나머지 광은 기준 반사면(예를 들어, 미러 등)으로 조사하며, 각각으로부터 반사된 광을 간섭시켰다. 종래의 결함 판별장치는 간섭광을 토대로 간섭패턴을 분석함으로써, 결함의 존부나 성질을 검출하였다.As a method of detecting such a defect, there is a method of detecting the presence and nature of the defect using interference light. The conventional defect determination apparatus diverges the light, irradiates one light to the substrate and the other light to the reference reflective surface (eg, mirror), and interferes with the light reflected from each. A conventional defect determination apparatus detects the presence or nature of a defect by analyzing an interference pattern based on the interference light.

다만, 종래의 결함 판별장치는 결함의 존부는 원활히 검출하지만, 결함의 성질, 특히, 결함의 높이나 면적과 같은 3차원적 특성까지 정밀하게 판별하는 것은 어려움이 있었다. 이는 도 7에서 확인할 수 있다.However, although the conventional defect determination apparatus smoothly detects the presence or absence of a defect, it is difficult to accurately determine the nature of the defect, particularly, three-dimensional characteristics such as the height or area of the defect. This can be confirmed in FIG. 7 .

도 7은 종래의 결함 판별장치가 검출한 결함의 특성을 도시한 그래프이다.7 is a graph showing characteristics of defects detected by a conventional defect determination apparatus.

도 7(a)는 종래의 결함 판별장치가 넓은 시야각(FOV: Field of View)를 확보하며 저배율로 결함을 검출하였을 때의 검출 결과를 개략적으로 도시한 그래프이다. 이처럼 저배율로 결함을 검출할 경우, 넓은 FOV(710)를 확보하며 전체적인 결함의 형태를 파악할 수는 있지만, 배율이 낮아 정상적인 부분 대비 결함이 발생한 부위의 높이를 정확히 판단하기는 곤란했다.7(a) is a graph schematically illustrating a detection result when a conventional defect determination apparatus secures a wide field of view (FOV) and detects a defect at a low magnification. When a defect is detected at such a low magnification, it is possible to grasp the overall shape of the defect by securing the wide FOV 710, but it is difficult to accurately determine the height of the defective portion compared to the normal portion due to the low magnification.

도 7(b) 및 7(c)는 종래의 결함 판별장치가 좁은 시야각을 확보하며 고배율로 결함을 검출하였을 때의 검출 결과를 개략적으로 도시한 그래프이다. 이처럼 고배율로 결함을 검출할 경우, 검출 결과에 형성된 결함의 높이가 정확히 반영될 수는 있으나, 좁은 시야각으로 인해 주변의 낮은 부분의 높이 정보를 얻을 수 없어 결함의 절대적인 높이를 파악하기 곤란한 문제가 존재했다. 7(b) and 7(c) are graphs schematically showing the detection results when the conventional defect discrimination apparatus secures a narrow viewing angle and detects a defect at a high magnification. When a defect is detected at such a high magnification, the height of the defect formed in the detection result can be accurately reflected, but it is difficult to determine the absolute height of the defect because information about the height of the lower part cannot be obtained due to a narrow viewing angle. did.

또한, 결함 판별장치의 개구수로 인해, 결함의 경사각이 크게 형성된 부분에서는 730 부분과 같이 정확한 형태의 검출이 곤란한 문제가 존재하였다. 이에, 검출 결과에 730과 같은 부분이 형성될 경우, 이를 보정하는 프로그램 등이 개발되기도 하였으나, 별도의 후처리를 필요로 하는 점, 보정을 하더라도 정확한 형태의 도출은 곤란하다는 점에서 종래의 결함 판별장치에 의해서는 결함의 정확한 높이 측정이 곤란하였다.In addition, due to the numerical aperture of the defect discriminating device, there was a problem in that it was difficult to accurately detect the shape of the defect in the portion where the inclination angle of the defect was large, as in the portion 730. Accordingly, when a part such as 730 is formed in the detection result, a program for correcting this has been developed, but it is difficult to derive an accurate form even after a separate post-processing point. It was difficult to accurately measure the height of the defect with the device.

본 발명의 일 실시예는, 하나의 광학계 내에서 복수의 시야각을 갖는 간섭광을 형성함으로써 정확한 결함의 특성을 판별할 수 있는 결함 판별장치를 제공하는 데 일 목적이 있다.An embodiment of the present invention has an object to provide a defect discrimination apparatus capable of accurately discriminating the characteristics of a defect by forming interference light having a plurality of viewing angles in one optical system.

본 발명의 일 측면에 의하면, 기판 내 발생한 결함의 특성을 판별하는 결함 판별장치에 있어서, 결함부위 및 기준 반사면으로 조사되고, 양자로부터 반사되어 간섭을 일으킬 광을 조사하는 광원과 상기 광원으로부터 조사된 광을 상기 결함부위와 상기 기준 반사면으로 분기시켜 조사하고, 양자로부터 반사된 광을 간섭시키되, 간섭광의 시야각을 능동적으로 가변시키는 광학계와 상기 광학계로부터 전달되는 간섭광을 감지하는 촬영부 및 상기 광학계를 제어하며, 상기 촬영부가 감지한 간섭광의 간섭패턴을 토대로 상기 기판 상에 형성된 결함의 특성을 판별하는 제어부를 포함하는 것을 특징으로 하는 결함 판별장치를 제공한다.According to one aspect of the present invention, in a defect determination apparatus for determining the characteristics of a defect occurring in a substrate, a light source irradiating light to a defect site and a reference reflective surface, and reflected from both to cause interference, and irradiation from the light source An optical system for branching and irradiating the light to the defective part and the reference reflective surface, interfering the light reflected from both, and actively varying the viewing angle of the interference light, a photographing unit for detecting the interference light transmitted from the optical system, and the It provides a defect determination device comprising a control unit for controlling the optical system, and for determining the characteristics of the defect formed on the substrate based on the interference pattern of the interference light detected by the photographing unit.

본 발명의 일 측면에 의하면, 상기 결함의 특성은 결함의 높이 또는 결함의 면적을 포함하는 3차원적 특성인 것을 특징으로 한다.According to an aspect of the present invention, the characteristic of the defect is a three-dimensional characteristic including the height of the defect or the area of the defect.

본 발명의 일 측면에 의하면, 상기 광학계는 자신으로 입사되는 광의 경로를 조정하여, 간섭광의 시야각을 가변시키는 것을 특징으로 한다.According to an aspect of the present invention, the optical system is characterized in that the viewing angle of the interference light is varied by adjusting the path of the light incident therein.

본 발명의 일 측면에 의하면, 상기 제어부는 상기 광학계의 시야각 변화속도를 상기 촬영부의 프레임수에 대응시켜, 상기 광학계가 간섭광의 시야각을 가변시키도록 제어하는 것을 특징으로 한다.According to one aspect of the present invention, the control unit is characterized in that the control unit corresponds to the number of frames of the photographing unit to change the viewing angle change rate of the optical system so that the optical system changes the viewing angle of the interference light.

본 발명의 일 측면에 의하면, 기판에 발생한 결함의 특성을 판별하는 결함 판별장치 내 간섭광의 시야각을 조정할 수 있는 광학계에 있어서, 입사광은 분기시키고, 간섭광은 분기 없이 진행시키는 제1 빔 스플리터와 기 설정된 배율을 가지며, 상기 제1 빔 스플리터로부터 분기된 광 또는 간섭광을 통과시키는 제1 튜브렌즈와 상기 제1 튜브렌즈와 상이한 배율을 가지며, 상기 제1 빔 스플리터로부터 분기된 나머지 광 또는 간섭광을 통과시키는 제2 튜브렌즈와 상기 제1 튜브렌즈를 통과한 광과 상기 제2 튜브렌즈를 통과한 광을 동일한 방향으로 진행시키고, 간섭광은 분기없이 진행시키는 제2 빔 스플리터 및 상기 제1 튜브렌즈 및 상기 제2 튜브렌즈로 입사하는 광 축의 사이에 위치하여, 상기 제1 튜브렌즈 또는 상기 제2 튜브렌즈로 입사하거나 통과한 광을 차단하는 빔 블록부를 포함하는 것을 특징으로 하는 광학계를 제공한다.According to one aspect of the present invention, in an optical system capable of adjusting the viewing angle of interference light in a defect determination device for determining the characteristics of a defect occurring on a substrate, the first beam splitter and A first tube lens having a set magnification and passing the light or interference light branched from the first beam splitter and a magnification different from the first tube lens, the remaining light or interference light branched from the first beam splitter A second beam splitter and the first tube lens that pass through the second tube lens and the light that has passed through the first tube lens and the light that has passed through the second tube lens in the same direction, and that the interference light travels without branching And located between the optical axes incident to the second tube lens, provides an optical system comprising a beam block for blocking the light incident or passed to the first tube lens or the second tube lens.

본 발명의 일 측면에 의하면, 상기 빔 블록부는 상기 제1 튜브렌즈 및 상기 제2 튜브렌즈로 입사하는 광 축의 사이에서 진동운동하며, 상기 제1 튜브렌즈 및 상기 제2 튜브렌즈로 입사하거나 통과한 광을 번갈아 차단하는 것을 특징으로 한다.According to one aspect of the present invention, the beam block unit vibrates between the optical axis incident to the first tube lens and the second tube lens, and is incident to or passed through the first tube lens and the second tube lens. It is characterized by alternately blocking the light.

본 발명의 일 측면에 의하면, 상기 빔 블록부는 상기 제1 튜브렌즈 및 상기 제2 튜브렌즈로 입사하는 광 축의 사이에서 회전운동하며, 상기 제1 튜브렌즈 및 상기 제2 튜브렌즈로 입사하거나 통과한 광을 번갈아 차단하는 것을 특징으로 한다.According to an aspect of the present invention, the beam block portion rotates between the optical axis incident to the first tube lens and the second tube lens, and is incident to or passed through the first tube lens and the second tube lens. It is characterized by alternately blocking the light.

본 발명의 일 측면에 의하면, 상기 빔 블록부는 막대 형태로 구현되는 것을 특징으로 한다.According to one aspect of the present invention, the beam block part is characterized in that it is implemented in the form of a rod.

본 발명의 일 측면에 의하면, 상기 빔 블록부는 막대 형태의 차단판 복수 개가 중심을 기준으로 서로 일 방향으로 방사되는 형태를 갖는 것을 특징으로 한다.According to one aspect of the present invention, the beam block part is characterized in that it has a shape in which a plurality of bar-shaped blocking plates are radiated from each other in one direction with respect to the center.

본 발명의 일 측면에 의하면, 상기 빔 블록부는 홀수 개의 차단판을 포함하는 것을 특징으로 한다.According to one aspect of the present invention, the beam block unit is characterized in that it includes an odd number of blocking plates.

이상에서 설명한 바와 같이, 본 발명의 일 측면에 따르면, 하나의 광학계 내에서 복수의 시야각을 갖는 간섭광을 형성함으로써 정확한 결함의 특성을 판별할 수 있는 장점이 있다.As described above, according to one aspect of the present invention, there is an advantage in that it is possible to accurately determine the characteristics of a defect by forming an interference light having a plurality of viewing angles in one optical system.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 결함 판별장치의 구성을 도시한 도면이다.
도 2는 본 발명의 제1 실시예에 따른 결함 판별장치의 구현예를 도시한 도면이다.
도 3은 본 발명의 제2 실시예에 따른 결함 판별장치의 구현예를 도시한 도면이다.
도 4는 본 발명의 일 실시예에 따른 시야각 조정부의 구성을 도시한 도면이다.
도 5는 본 발명의 일 실시예에 따른 시야각 조정부의 동작예를 도시한 도면이다.
도 6은 본 발명의 일 실시예에 따른 빔 블록부의 구현예를 도시한 도면이다.
도 7은 종래의 결함 판별장치가 검출한 결함의 특성을 도시한 그래프이다.1 is a diagram showing the configuration of a defect determination apparatus according to an embodiment of the present invention.
2 is a diagram illustrating an implementation example of a defect determination apparatus according to a first embodiment of the present invention.
3 is a diagram illustrating an implementation example of a defect determination apparatus according to a second embodiment of the present invention.
4 is a diagram illustrating a configuration of a viewing angle adjusting unit according to an embodiment of the present invention.
5 is a diagram illustrating an operation example of a viewing angle adjusting unit according to an embodiment of the present invention.
6 is a diagram illustrating an implementation example of a beam block unit according to an embodiment of the present invention.
7 is a graph showing characteristics of defects detected by a conventional defect determination apparatus.

본 발명은 다양한 변경을 가할 수 있고 여러 가지 실시 예를 가질 수 있는 바, 특정 실시 예들을 도면에 예시하고 상세하게 설명하고자 한다. 그러나 이는 본 발명을 특정한 실시 형태에 대해 한정하려는 것이 아니며, 본 발명의 사상 및 기술 범위에 포함되는 모든 변경, 균등물 내지 대체물을 포함하는 것으로 이해되어야 한다. 각 도면을 설명하면서 유사한 참조부호를 유사한 구성요소에 대해 사용하였다.Since the present invention can have various changes and can have various embodiments, specific embodiments are illustrated in the drawings and described in detail. However, this is not intended to limit the present invention to specific embodiments, and it should be understood to include all modifications, equivalents, and substitutes included in the spirit and scope of the present invention. In describing each figure, like reference numerals have been used for like elements.

제1, 제2, A, B 등의 용어는 다양한 구성요소들을 설명하는데 사용될 수 있지만, 상기 구성요소들은 상기 용어들에 의해 한정되어서는 안 된다. 상기 용어들은 하나의 구성요소를 다른 구성요소로부터 구별하는 목적으로만 사용된다. 예를 들어, 본 발명의 권리 범위를 벗어나지 않으면서 제1 구성요소는 제2 구성요소로 명명될 수 있고, 유사하게 제2 구성요소도 제1 구성요소로 명명될 수 있다. 및/또는 이라는 용어는 복수의 관련된 기재된 항목들의 조합 또는 복수의 관련된 기재된 항목들 중의 어느 항목을 포함한다.Terms such as first, second, A, and B may be used to describe various elements, but the elements should not be limited by the terms. The above terms are used only for the purpose of distinguishing one component from another. For example, without departing from the scope of the present invention, a first component may be referred to as a second component, and similarly, a second component may also be referred to as a first component. and/or includes a combination of a plurality of related listed items or any of a plurality of related listed items.

어떤 구성요소가 다른 구성요소에 "연결되어" 있다거나 "접속되어" 있다고 언급된 때에는, 그 다른 구성요소에 직접적으로 연결되어 있거나 또는 접속되어 있을 수도 있지만, 중간에 다른 구성요소가 존재할 수도 있다고 이해되어야 할 것이다. 반면에, 어떤 구성요소가 다른 구성요소에 "직접 연결되어" 있다거나 "직접 접속되어" 있다고 언급된 때에서, 중간에 다른 구성요소가 존재하지 않는 것으로 이해되어야 할 것이다.When an element is referred to as being “connected” or “connected” to another element, it is understood that it may be directly connected or connected to the other element, but other elements may exist in between. it should be On the other hand, when a certain element is referred to as being “directly connected” or “directly connected” to another element, it should be understood that no other element is present in the middle.

본 출원에서 사용한 용어는 단지 특정한 실시 예를 설명하기 위해 사용된 것으로, 본 발명을 한정하려는 의도가 아니다. 단수의 표현은 문맥상 명백하게 다르게 뜻하지 않는 한, 복수의 표현을 포함한다. 본 출원에서 "포함하다" 또는 "가지다" 등의 용어는 명세서상에 기재된 특징, 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부품 또는 이들을 조합한 것들의 존재 또는 부가 가능성을 미리 배제하지 않는 것으로 이해되어야 한다.The terms used in the present application are only used to describe specific embodiments, and are not intended to limit the present invention. The singular expression includes the plural expression unless the context clearly dictates otherwise. It should be understood that terms such as “comprise” or “have” in the present application do not preclude the possibility of addition or existence of features, numbers, steps, operations, components, parts, or combinations thereof described in the specification in advance. .

다르게 정의되지 않는 한, 기술적이거나 과학적인 용어를 포함해서 여기서 사용되는 모든 용어들은 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자에 의해서 일반적으로 이해되는 것과 동일한 의미를 가지고 있다.Unless defined otherwise, all terms used herein, including technical and scientific terms, have the same meaning as commonly understood by one of ordinary skill in the art to which this invention belongs.

일반적으로 사용되는 사전에 정의되어 있는 것과 같은 용어들은 관련 기술의 문맥 상 가지는 의미와 일치하는 의미를 가지는 것으로 해석되어야 하며, 본 출원에서 명백하게 정의하지 않는 한, 이상적이거나 과도하게 형식적인 의미로 해석되지 않는다.Terms such as those defined in commonly used dictionaries should be interpreted as having a meaning consistent with the meaning in the context of the related art, and should not be interpreted in an ideal or excessively formal meaning unless explicitly defined in the present application. does not

또한, 본 발명의 각 실시예에 포함된 각 구성, 과정, 공정 또는 방법 등은 기술적으로 상호 간 모순되지 않는 범위 내에서 공유될 수 있다.In addition, each configuration, process, process or method included in each embodiment of the present invention may be shared within a range that does not technically contradict each other.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 결함 판별장치의 구성을 도시한 도면이다.1 is a diagram showing the configuration of a defect determination apparatus according to an embodiment of the present invention.

도 1을 참조하면, 본 발명의 일 실시예에 따른 결함 판별장치(100)는 광원(110), 광학계(120), 촬영부(130) 및 제어부(140)를 포함한다. Referring to FIG. 1 , a defect determination apparatus 100 according to an embodiment of the present invention includes a light source 110 , an optical system 120 , a photographing unit 130 , and a control unit 140 .

기판은 복수의 픽셀을 포함한다. 기판은 이물질의 혼입이 최대한 방지된 환경에서 제조되나, 불가피하게 기판 제조 공정 상에서 다양한 유형의 결함이 발생할 수 있다. 결함 판별장치(100)는 기판 내 발생한 결함을 분석하여 결함의 특성을 판별한다. The substrate includes a plurality of pixels. Although the substrate is manufactured in an environment in which the mixing of foreign substances is prevented as much as possible, various types of defects may inevitably occur during the substrate manufacturing process. The defect determination apparatus 100 analyzes the defect generated in the substrate to determine the characteristics of the defect.

결함 판별장치(100)는 광을 조사하며, 광을 분기시켜 기판 내 결함이 발생한 결함부위와 기준이 될 수 있는 기준 반사면으로 각각 조사한다. 이후, 결함 판별장치(100)는 결함부위와 기준 반사면에서 반사된 반사광을 간섭시켜 간섭광을 수광하여 간섭패턴을 분석함으로써, 결함의 특성을 판별한다. 기판 내 결함이 존재하지 않을 경우, 간섭광은 균일한 간섭 패턴을 갖는다. 반면, 기판 내 결함이 존재할 경우, 간섭광이 결함 부위에서는 균일한 간섭패턴을 갖지 못하고 결함의 특성에 따라 변화하게 된다. 특히, 결함의 (기판을 기준으로) 높이나 면적에 따라 간섭패턴이 달라지게 되어, 결함 판별장치(100)는 간섭 패턴의 분석으로 결함의 존부와 함께 결함의 특성을 판별한다. 결함 판별장치(100)는 결함의 특성, 특히, 결함의 높이나 면적과 같은 결함의 3차원적 특성까지 정확히 판별할 수 있다.The defect determination apparatus 100 irradiates the light, and irradiates the light to the defect region where the defect has occurred in the substrate and the reference reflective surface that can be a reference by branching the light, respectively. Thereafter, the defect determination apparatus 100 interferes with the reflected light reflected from the defect portion and the reference reflective surface, receives the interference light, analyzes the interference pattern, and determines the characteristics of the defect. When there are no defects in the substrate, the interference light has a uniform interference pattern. On the other hand, when there is a defect in the substrate, the interference light does not have a uniform interference pattern at the defect site, but changes according to the characteristics of the defect. In particular, since the interference pattern is changed according to the height or area of the defect (based on the substrate), the defect determining apparatus 100 determines the presence or absence of the defect and the characteristics of the defect by analyzing the interference pattern. The defect determination apparatus 100 may accurately determine the characteristics of the defect, in particular, even the three-dimensional characteristics of the defect such as the height or area of the defect.

이때, 결함 판별장치(100)는 하나의 광학계(120)로부터 복수의 시야각(FoV: Field of View)을 갖는 간섭광을 형성할 수 있어, 정확한 결함의 3차원적 특성을 판별할 수 있다.In this case, the defect determination apparatus 100 may form interference light having a plurality of field of view (FoV) from one optical system 120 , so that the three-dimensional characteristic of the defect may be accurately determined.

광원(110)은 결함부위 및 기준 반사면으로 조사되고, 양자로부터 반사되어 간섭을 일으킬 광을 조사한다. The light source 110 is irradiated to the defective portion and the reference reflective surface, and irradiates light to cause interference by being reflected from both.

광학계(120)는 광원(110)으로부터 조사된 광을 결함부위와 기준 반사면으로 조사하고, 양자로부터 반사된 광을 간섭시켜 촬영부(130)로 전달한다. 광학계(120)는 광원(110)으로부터 조사된 광을 분기시켜 결함부위와 기준 반사면으로 조사될 수 있도록 한다. 광학계(120)는 각각으로 조사되어 각각으로부터 반사된 각 반사광들을 간섭시키며, 간섭광을 촬영부(130)로 전달하여 촬영부(130)가 간섭패턴을 인식할 수 있도록 한다. The optical system 120 irradiates the light irradiated from the light source 110 to the defective portion and the reference reflective surface, interferes with the light reflected from both, and transmits it to the photographing unit 130 . The optical system 120 branches the light irradiated from the light source 110 so that it can be irradiated to the defective part and the reference reflective surface. The optical system 120 is each irradiated to interfere with each reflected light reflected from each, and transmits the interference light to the photographing unit 130 so that the photographing unit 130 can recognize the interference pattern.

광학계(120)는 시야각을 가변하며 간섭광을 생성한다. 광학계(120)는 광이 분기시켜 결함부위와 기준 반사면으로 조사되도록 함에 있어, 시야각을 가변시키며 광이 각각에 조사되도록 한다. 광학계(120)는 시야각을 가변시킴으로써, 복수의 시야각을 갖는 간섭광이 촬영부(130)로 전달될 수 있도록 한다. 광학계(120)는 시야각을 가변시키는 속도를 임의로 가변시킬 수도 있으나, 보다 판별 속도 및 판별의 정확도를 향상시키기 위해 촬영부(130)의 프레임 수에 맞춰 시야각을 가변시킬 수 있다. 이러할 경우, 복수의 시야각이 혼재된 간섭광은 생성되지 않으며, 촬영부(130)로는 시야각이 서로 다른 (어느 하나의) 간섭광만이 입사한다. 이에 따라, 제어부(140)는 어느 하나의 시야각 만을 갖는 간섭광을 분리하는 별도의 후처리 없이 바로 간섭광을 분석하여 결함의 특성을 판별할 수 있다.The optical system 120 varies a viewing angle and generates interference light. The optical system 120 causes the light to be irradiated to each of the defect areas and the reference reflective surface by branching the light so that the viewing angle is varied. The optical system 120 varies the viewing angle so that the interference light having a plurality of viewing angles can be transmitted to the photographing unit 130 . The optical system 120 may arbitrarily vary the speed of varying the viewing angle, but may vary the viewing angle according to the number of frames of the photographing unit 130 to further improve the determination speed and accuracy of determination. In this case, no interference light having a plurality of viewing angles is mixed, and only interference light having different viewing angles (either one) is incident to the photographing unit 130 . Accordingly, the control unit 140 may directly analyze the interference light without separate post-processing of separating the interference light having only one viewing angle to determine the characteristics of the defect.

촬영부(130)는 광학계(120)로부터 전달되는 간섭광을 감지한다. 촬영부(130)는 CCD와 같은 이미지 센서로 구현될 수 있으며, 간섭광을 감지하여 간섭 패턴을 생성한다.The photographing unit 130 detects the interference light transmitted from the optical system 120 . The photographing unit 130 may be implemented as an image sensor such as a CCD, and generates an interference pattern by detecting interference light.

제어부(140)는 광학계(120)를 제어하여 서로 다른 시야각을 갖는 간섭광을 형성하도록 제어하며, 촬영부(130)가 생성한 간섭패턴을 토대로 기판 상에 형성된 결함의 특성을 판별한다. 전술한 대로, 제어부(140)는 광학계(120)가 서로 다른 시야각을 갖는 간섭광을 형성하도록 제어한다. 이에 따라, 촬영부(130)에서 서로 다른 시야각을 갖는 간섭광이 감지되며, 제어부(140)는 각 간섭광의 간섭패턴을 토대로 3차원적 특성을 정확히 판별할 수 있다. The controller 140 controls the optical system 120 to form interference light having different viewing angles, and determines the characteristics of the defect formed on the substrate based on the interference pattern generated by the photographing unit 130 . As described above, the controller 140 controls the optical system 120 to form interference light having different viewing angles. Accordingly, the interfering light having different viewing angles is detected by the photographing unit 130 , and the controller 140 can accurately determine the three-dimensional characteristic based on the interference pattern of each interfering light.

도 2는 본 발명의 제1 실시예에 따른 결함 판별장치의 구현예를 도시한 도면이다.2 is a diagram illustrating an implementation example of a defect determination apparatus according to a first embodiment of the present invention.

도 2를 참조하면, 광원(110)으로부터 조사된 광은 제1 빔 스플리터(220)를 거치며 기판의 결함부위(140)로 반사된다. 이때, 광원(110)과 제1 빔 스플리터(220)의 광 경로 상에 렌즈(210)가 배치될 수 있다. 렌즈(210)는 광원(110)에서 조사된 광을 평행광으로 가변할 수 있고, 입사광을 포커싱하여 분사각을 감소시킬 수도 있다.Referring to FIG. 2 , the light irradiated from the light source 110 passes through the first beam splitter 220 and is reflected to the defective portion 140 of the substrate. In this case, the lens 210 may be disposed on the light path of the light source 110 and the first beam splitter 220 . The lens 210 may change the light irradiated from the light source 110 into parallel light, and may reduce the injection angle by focusing the incident light.

제1 빔 스플리터(220)는 광원(110)에서 조사되는 광은 결함부위(140)로 반사시키고, 결함부위(140) 방향에서 입사하는 간섭광은 촬영부(130)로 통과시킨다.The first beam splitter 220 reflects the light irradiated from the light source 110 to the defective portion 140 , and passes the interference light incident from the defective portion 140 direction to the photographing unit 130 .

대물렌즈(240)는 제1 빔 스플리터(220)에서 반사된 광을 결함부위로 포커싱한다.The objective lens 240 focuses the light reflected from the first beam splitter 220 to the defective portion.

이때, 광 경로 상으로 제1 빔 스플리터(220)와 대물렌즈(240) 사이에 시야각 조정부(230)가 배치된다. 광의 시야각은 시야각 조정부(230) 및 대물렌즈(240)를 거치며 형성되는데, 시야각 조정부(230)는 제어부(140)의 제어에 따라 자신과 대물렌즈(240)를 거칠 광의 시야각을 실시간으로 가변한다. 시야각 조정부(230)에 대한 구체적인 구조는 도 4 내지 6을 참조하여 후술한다.In this case, the viewing angle adjusting unit 230 is disposed between the first beam splitter 220 and the objective lens 240 on the optical path. The viewing angle of light is formed through the viewing angle adjusting unit 230 and the objective lens 240, and the viewing angle adjusting unit 230 varies the viewing angle of the light passing through itself and the objective lens 240 in real time under the control of the controller 140. A detailed structure of the viewing angle adjusting unit 230 will be described later with reference to FIGS. 4 to 6 .

대물렌즈(240)로부터 포커싱된 광은 광 경로 상의 제2 빔 스플리터(250)를 거치며 분기된다. 제2 빔 스플리터(250)로부터 분기된 광은 결함부위(140) 및 기준 반사면(145)으로 분기된다. 기준 반사면(145)은 제2 빔 스플리터(250)를 기준으로 제2 빔 스플리터(250)로부터 결함부위(140)까지의 거리와 동일한 거리만큼 떨어져 위치한다. 기준 반사면(145)은 광을 반사시키는 성질을 가지며, 예를 들어, 미러로 구현될 수 있다. 기준 반사면(145)은 결함부위(140)로부터 반사된 반사광과 동일한 경로로 자신으로 입사되는 입사광을 반사시켜 간섭광을 형성시킨다. The light focused from the objective lens 240 passes through the second beam splitter 250 on the optical path and is branched. The light branched from the second beam splitter 250 is branched to the defective portion 140 and the reference reflective surface 145 . The reference reflective surface 145 is positioned at a distance equal to the distance from the second beam splitter 250 to the defective portion 140 with respect to the second beam splitter 250 . The reference reflective surface 145 has a property of reflecting light, and may be implemented as, for example, a mirror. The reference reflective surface 145 reflects the incident light that is incident on the same path as the reflected light reflected from the defective portion 140 to form interference light.

기준 반사면(145)으로부터 반사된 반사광과 결함부위(140)로부터 반사된 반사광은 동일한 경로로 진행하여 간섭되며, 간섭광은 결함부위(140)의 특성을 갖는다.The reflected light reflected from the reference reflective surface 145 and the reflected light reflected from the defective portion 140 travel in the same path and are interfered with, and the interference light has characteristics of the defective portion 140 .

대물렌즈(240) 및 제2 빔 스플리터(250)를 거치며 간섭된 간섭광은 제1 빔 스플리터(220) 방향으로 진행하며, 제1 빔 스플리터(220)를 거쳐 촬영부(130)로 입사한다.The interference light that has been interfered by passing through the objective lens 240 and the second beam splitter 250 travels in the direction of the first beam splitter 220 , and is incident on the photographing unit 130 through the first beam splitter 220 .

도 3은 본 발명의 제2 실시예에 따른 결함 판별장치의 구현예를 도시한 도면이다.3 is a diagram illustrating an implementation example of a defect determination apparatus according to a second embodiment of the present invention.

도 3을 참조하면, 본 발명의 제2 실시예에 따른 결함 판별장치(100) 역시, 본 발명의 제1 실시예에 따른 결함 판별장치(100)와 유사한 구조를 갖는다.Referring to FIG. 3 , the defect determination apparatus 100 according to the second embodiment of the present invention also has a structure similar to that of the defect determination apparatus 100 according to the first embodiment of the present invention.

다만, 시야각 조정부(230)를 거친 광은 제3 빔 스플리터(310)를 거쳐 분기되고, 분기된 광 중 결함부위(140)로 분기된 광은 대물렌즈(320)를 거쳐 결함부위로 조사된다. 한편, 분기된 광 중 나머지 광은 기준 반사면(145)으로 조사된다. 각각으로 조사된 광은 다시 반사되며, 제3 빔 스플리터(310)에서 어느 하나의 광은 반사되고 어느 하나의 광은 통과하며 간섭이 진행된다. 제3 빔 스플리터(310)에서 간섭된 광은 제1 빔 스플리터(220)를 거쳐 촬영부(130)로 입사한다.However, the light that has passed through the viewing angle adjusting unit 230 is branched through the third beam splitter 310 , and the light branched to the defective portion 140 among the branched lights is irradiated to the defective portion through the objective lens 320 . Meanwhile, the remaining light among the branched lights is irradiated to the reference reflective surface 145 . Each irradiated light is reflected again, and any one light is reflected in the third beam splitter 310 and any one light passes through and interference proceeds. Light interfered by the third beam splitter 310 is incident on the photographing unit 130 through the first beam splitter 220 .

도 4는 본 발명의 일 실시예에 따른 시야각 조정부의 구성을 도시한 도면이다.4 is a diagram illustrating a configuration of a viewing angle adjusting unit according to an embodiment of the present invention.

도 4를 참조하면, 본 발명의 일 실시예에 따른 시야각 조정부(230)는 제4 빔 스플리터(410), 제5 빔 스플리터(415), 미러(420, 425), 제1 튜브렌즈(430), 제2 튜브렌즈(445), 빔 블록부(440) 및 모터(미도시)를 포함한다.Referring to FIG. 4 , the viewing angle adjusting unit 230 according to an embodiment of the present invention includes a fourth beam splitter 410 , a fifth beam splitter 415 , mirrors 420 and 425 , and a first tube lens 430 . , and a second tube lens 445 , a beam block unit 440 and a motor (not shown).

제4 빔 스플리터(410)는 제1 빔 스플리터(220)로부터 반사되어 자신으로 입사하는(-y축으로 진행) 광은 분기시키며, 제2 빔 스플리터(250) 또는 제3 빔 스플리터(310)를 거치며 간섭된 간섭광은 제1 빔 스플리터(220) 방향으로 분기없이 진행시킨다. 제4 빔 스플리터(410)는 제1 튜브렌즈(430)를 통과하여 진행하는 간섭광은 통과시키며, 제2 튜브렌즈(435)를 통과하여 진행하는 간섭광은 반사시킨다.The fourth beam splitter 410 diverges the light that is reflected from the first beam splitter 220 and incident on itself (going in the -y-axis), and splits the second beam splitter 250 or the third beam splitter 310 . The interfering light passes through and travels in the direction of the first beam splitter 220 without branching. The fourth beam splitter 410 transmits the interference light traveling through the first tube lens 430 and reflects the interference light traveling through the second tube lens 435 .

제5 빔 스플리터(415)는 제1 튜브렌즈(430)를 거친 광과 제2 튜브렌즈(435)를 거쳐 미러(425)로부터 반사되는 광은 분기없이 진행시키고, 전술한 간섭광은 분기시킨다. 제5 빔 스플리터(415)는 제1 튜브렌즈(430)를 거친 광은 제2 빔 스플리터(250) 또는 제3 빔 스플리터(310)로 통과시키고, 미러(425)로부터 반사되는 광은 제2 빔 스플리터(250) 또는 제3 빔 스플리터(310)로 반사시킨다.The fifth beam splitter 415 proceeds without branching the light passing through the first tube lens 430 and the light reflected from the mirror 425 through the second tube lens 435 , and the above-described interference light is split. In the fifth beam splitter 415 , the light passing through the first tube lens 430 passes to the second beam splitter 250 or the third beam splitter 310 , and the light reflected from the mirror 425 is the second beam It is reflected by the splitter 250 or the third beam splitter 310 .

미러(420)는 제4 빔 스플리터(410)로부터 반사된 광을 제2 튜브렌즈(435)로 반사시키고, 제2 튜브렌즈(435)를 거친 간섭광은 제4 빔 스플리터(410)로 반사시킨다.The mirror 420 reflects the light reflected from the fourth beam splitter 410 to the second tube lens 435 , and the interference light passing through the second tube lens 435 is reflected to the fourth beam splitter 410 . .

미러(425)는 제2 튜브렌즈(435)를 거친 광을 제5 빔 스플리터(415)로 반사시키고, 간섭광을 제2 튜브렌즈(435)로 반사시킨다.The mirror 425 reflects the light passing through the second tube lens 435 to the fifth beam splitter 415 and reflects the interference light to the second tube lens 435 .

제1 튜브렌즈(430) 및 제2 튜브렌즈(435)는 각각 자신에게로 입사되는 광을 통과시켜, 대물렌즈(240, 320)와 함께 분해능(Resolving Power) 및 시야각을 결정한다. 제1 튜브렌즈(430) 및 제2 튜브렌즈(435)는 서로 다른 배율을 갖는다. 설명의 편의상, 제1 튜브렌즈(430)는 상대적으로 고배율을 가지며, 제2 튜브렌즈(435)는 상대적으로 저배율을 갖는 것으로 한정하여 설명한다. 제1 튜브렌즈(430)는 상대적으로 고배율을 갖기에, 해당 튜브렌즈와 대물렌즈(240, 320)를 거친 간섭광은 도 7(b)에 도시된 바와 같은 배율을 가질 수 있다. 이에 따라, 제어부(140)는 결함부위(140)만을 집중적으로 분석할 수 있다. 반대로, 제2 튜브렌즈(435)는 상대적으로 저배율을 갖기에, 해당 튜브렌즈와 대물렌즈(240, 320)를 거친 간섭광은 도 7(a)에 도시된 바와 같은 배율을 가질 수 있다. 이에 따라, 제어부(140)는 결함 부위(140)와 나머지 부위 간의 상대적인 관계를 파악할 수 있어, 결함부위(140)의 전체적인 비율을 파악할 수 있다. 이와 같이, 제어부(140)는 고배율을 갖는 간섭패턴과 저배율을 갖는 간섭패턴 모두를 확인할 수 있기 때문에, 양자 모두를 고려하여 정확한 결함부위(140)의 3차원적 특성을 정확히 파악할 수 있다. The first tube lens 430 and the second tube lens 435 pass light incident therein, respectively, and determine resolving power and a viewing angle together with the objective lenses 240 and 320 . The first tube lens 430 and the second tube lens 435 have different magnifications. For convenience of description, the first tube lens 430 has a relatively high magnification, and the second tube lens 435 has a relatively low magnification. Since the first tube lens 430 has a relatively high magnification, the interference light passing through the corresponding tube lens and the objective lenses 240 and 320 may have a magnification as shown in FIG. 7(b) . Accordingly, the controller 140 may intensively analyze only the defective portion 140 . Conversely, since the second tube lens 435 has a relatively low magnification, the interference light passing through the corresponding tube lens and the objective lenses 240 and 320 may have a magnification as shown in FIG. 7A . Accordingly, the control unit 140 can determine the relative relationship between the defective portion 140 and the remaining portions, and thus can determine the overall ratio of the defective portion 140 . In this way, since the control unit 140 can check both the interference pattern with high magnification and the interference pattern with low magnification, it is possible to accurately grasp the three-dimensional characteristics of the defective portion 140 in consideration of both.

빔 블록부(440)는 광 경로상으로 제4 빔 스플리터(410)와 제1 튜브렌즈(430) 사이 또는 미러(420)와 제2 튜브렌즈(435) 사이에 위치하여, 어느 하나의 튜브렌즈(430, 435)로 입사하는 광이나 (동일한) 어느 하나의 튜브렌즈(430, 435)를 통과한 간섭광을 차단한다. 시야각 조정부(230)로 입사한 광은 어느 하나의 튜브렌즈를 거쳐 출력되어야 제어부(140)가 파악하기 용이한 특정 배율만을 갖는 간섭광(간섭패턴)이 형성될 수 있다. 제4 빔 스플리터(410)로부터 분기된 광이 각각 광 경로를 거치며 제1 튜브렌즈(430)와 제2 튜브렌즈(435) 모두를 동시에 거쳐 결함 부위(140)로 조사될 경우, 해당 광에 의해 생성되는 반사광은 정확히 어떠한 배율을 갖는지 특정하기 곤란하여 제어부(140)가 이를 토대로 결함부위(140)의 정보를 파악하기 곤란할 수 있으며, 파악을 위해 별도의 후처리를 거쳐야 하는 불편이 존재한다.The beam block unit 440 is positioned between the fourth beam splitter 410 and the first tube lens 430 or between the mirror 420 and the second tube lens 435 on the optical path, The light incident to (430, 435) or the interference light passing through any one of the tube lenses (430, 435) (same) is blocked. The light incident to the viewing angle adjusting unit 230 must pass through any one tube lens to be output, so that the interference light (interference pattern) having only a specific magnification that is easy for the controller 140 to grasp can be formed. When the light branched from the fourth beam splitter 410 passes through an optical path, passes through both the first tube lens 430 and the second tube lens 435 at the same time, and is irradiated to the defect region 140, the light Since it is difficult to specify exactly what magnification the generated reflected light has, it may be difficult for the control unit 140 to grasp information on the defective portion 140 based on this, and there is an inconvenience of having to go through a separate post-processing for identification.

이를 방지하기 위해, 빔 블록부(440)는 회전 또는 진동운동하며 어느 하나의 튜브렌즈로 입사하는 입사하는 광이나 어느 하나의 튜브렌즈(430, 435)를 통과한 간섭광을 차단한다. 특히, 빔 블록부(440)의 회전 속도나 진동운동의 주파수는 촬영부(130)의 프레임수와 연동하여, 촬영부(130)가 촬영하는 순간에는 어느 하나의 튜브렌즈만을 거쳐 형성된 간섭광만이 입사할 수 있도록 한다. 예를 들어, 양자가 연동되지 않을 경우, 촬영부(130)가 촬영하는 순간이 빔 블록부(440)가 어느 하나의 광 경로를 차단하기 위해 이동하는 순간(양 광 경로가 차단되지 않은 상태)일 수 있다. 이러할 경우, 촬영부(130)로는 전술한 대로 제1 튜브렌즈(430)와 제2 튜브렌즈(435) 모두를 동시에 거치며 형성된 간섭광이 입사하게 된다. 이를 방지하기 위해, 빔 블록부(440)는 촬영부(130)의 프레임수와 연동하여 회전운동하거나 진동운동한다. 빔 블록부(440)는 도 6에 도시된 바와 같은 구조를 가질 수 있다.In order to prevent this, the beam block unit 440 rotates or vibrates and blocks incident light incident to any one tube lens or interference light passing through any one tube lens (430, 435). In particular, the rotational speed or the frequency of the vibration motion of the beam block unit 440 is linked with the number of frames of the photographing unit 130, and only the interference light formed through only one tube lens at the moment the photographing unit 130 is photographed to allow you to enter For example, when the two are not interlocked, the moment the photographing unit 130 captures is the moment when the beam block unit 440 moves to block one optical path (both optical paths are not blocked) can be In this case, the interference light formed while simultaneously passing through both the first tube lens 430 and the second tube lens 435 as described above is incident to the photographing unit 130 . To prevent this, the beam block unit 440 rotates or vibrates in association with the number of frames of the photographing unit 130 . The beam block unit 440 may have a structure as shown in FIG. 6 .

도 6은 본 발명의 일 실시예에 따른 빔 블록부의 구현예를 도시한 도면이다.6 is a diagram illustrating an implementation example of a beam block unit according to an embodiment of the present invention.

도 6(a)를 참조하면, 빔 블록부(440)는 막대 형태로 구현될 수 있다. 빔 블록부(440)는 광 경로상으로 전술한 위치에 위치하는 동시에, 각 튜브렌즈(430, 435)로 입사하는 광 축의 사이에 위치할 수 있다. 빔 블록부(440)는 전술한 광축의 중앙에 배치되는 것이 안정적일 수 있으나, 반드시 이에 한정되는 것은 아니고 광 축의 사이에 위치하여 회전하거나 진동운동하며 각 튜브렌즈로 입사하는 광을 차단할 수 있다면 사이 어느 위치에 위치하여도 무방하다. 빔 블록부(440)는 어느 하나의 튜브렌즈의 광축 상에 위치할 수 있으며, 모터(미도시)로부터 동력을 제공받아 다른 하나의 튜브렌즈의 광축으로 회전운동(반시계 또는 시계 방향)하거나 양 광축을 진동운동할 수 있다. 빔 블록부(440)가 도 6(a)와 같이 구현되는 경우는, 촬영부(130)의 프레임 수가 적을 경우에 이와 같이 구현될 수 있다.Referring to FIG. 6A , the beam block unit 440 may be implemented in a bar shape. The beam block unit 440 may be located at the aforementioned position on the optical path and located between the optical axes incident to each of the tube lenses 430 and 435 . The beam block unit 440 may be stable to be disposed in the center of the above-described optical axis, but is not necessarily limited thereto. It is free to be located in any position. The beam block unit 440 may be located on the optical axis of any one tube lens, and receives power from a motor (not shown) to rotate (counterclockwise or clockwise) or positively to the optical axis of the other tube lens. The optical axis can vibrate. When the beam block unit 440 is implemented as shown in FIG. 6A , when the number of frames of the photographing unit 130 is small, it can be implemented as described above.

한편, 도 6(b)를 참조하면, 빔 블록부(440)는 막대 형태의 차단판(610) 복수개가 중심(615)을 기준으로 서로 다른 일 방향으로 방사하는 형태를 가질 수 있다. 이때, 빔 블록부(440)는 포함된 차단판(610) 중 어떠한 두 개의 차단판이라도 나란이 배치되지 않은 형태(양 차단판의 각도가 180°를 이루지 않는 형태)를 갖는다. 예를 들어, 인접한 차단판 간에 균일한 각도를 가질 경우, 빔 블록부(440)는 홀수 개의 차단판(610)을 가진다. 전술한 경우에 있어, 빔 블록부(440)가 짝수 개의 차단판(610)을 가질 경우, 서로 나란히 배치되는(이루는 각도가 180°가 되는) 차단판이 존재하게 되어, 튜브렌즈(430, 435) 모두의 광 경로를 차단하는 경우가 발생하게 된다. 이를 방지하기 위해, 인접한 차단판 간에 균일한 각도를 가질 경우, 빔 블록부(440)는 홀수 개의 차단판(610)을 가진다. 한편, 인접한 차단판 간에 균일한 각도를 갖지 않을 경우, 서로 나란히 배치되는(이루는 각도가 180°가 되는) 차단판이 존재하지 않도록 배치된다. 빔 블록부(440)는 이와 같은 형태를 가지며, 모터(미도시)로부터 동력을 받아 회전한다. 빔 블록부(440)의 회전에 따라 어느 하나의 튜브렌즈로 입사하는 광을 차단하며, 다른 하나의 튜브렌즈로 입사하는 광은 통과시킬 수 있다. 도 6(b)에 도시된 빔 블록부(440)는 촬영부(130)의 프레임 수가 많을 경우에 적합하며, 차단판(610)의 개수가 많아질수록 튜브렌즈로 입사하는 광의 차단 전환속도가 빨라져 보다 많은 프레임 수에 대응할 수 있다.Meanwhile, referring to FIG. 6B , the beam block unit 440 may have a shape in which a plurality of bar-shaped blocking plates 610 radiate in different directions with respect to the center 615 . At this time, the beam block unit 440 has a shape in which any two blocking plates among the blocking plates 610 included are not arranged side by side (the angle of the blocking plates does not form 180°). For example, when the adjacent blocking plates have a uniform angle, the beam block unit 440 has an odd number of blocking plates 610 . In the above-described case, when the beam block unit 440 has an even number of blocking plates 610, there are blocking plates arranged side by side (the forming angle is 180°), so that the tube lenses 430 and 435 are present. There is a case in which all optical paths are blocked. To prevent this, when the adjacent blocking plates have a uniform angle, the beam block unit 440 has an odd number of blocking plates 610 . On the other hand, when the adjacent blocking plates do not have a uniform angle, they are arranged so that there is no blocking plate arranged side by side (the angle formed is 180°). The beam block unit 440 has such a shape and rotates by receiving power from a motor (not shown). According to the rotation of the beam block unit 440, light incident to one of the tube lenses may be blocked, and light incident to the other tube lens may be passed through. The beam block unit 440 shown in FIG. 6(b) is suitable when the number of frames of the photographing unit 130 is large, and as the number of blocking plates 610 increases, the blocking conversion speed of light incident to the tube lens increases. It is faster and can respond to a larger number of frames.

제어부(140)는 모터(미도시)를 제어하여, 촬영부(130)의 프레임 수에 연동되어 빔 블록부(440)가 회전하거나 진동운동할 수 있도록 한다. 제어부(140)는 촬영부(130)의 프레임 수를 고려하여, 촬영부(130)과 간섭광을 수광하는 순간에 어느 하나의 튜브렌즈만을 거쳐 형성된 간섭광이 촬영부(130)로 입사할 수 있도록 제어한다.The control unit 140 controls a motor (not shown) so that the beam block unit 440 can rotate or vibrate in association with the number of frames of the photographing unit 130 . In consideration of the number of frames of the photographing unit 130 , the control unit 140 may allow the interference light formed through only one tube lens to be incident on the photographing unit 130 at the moment of receiving the interference light with the photographing unit 130 . control so that

다시 도 4를 참조하면, 빔 블록부(440)는 전술한 형태를 가져, 어느 하나의 튜브렌즈로 입사하는 광을 차단함으로써, 간섭광의 분해능 및 시야각을 조정할 수 있다. 빔 블록부(440)가 동작하는 예는 도 5에 도시되어 있다.Referring back to FIG. 4 , the beam block unit 440 has the above-described shape and blocks the light incident to any one tube lens, thereby adjusting the resolution and viewing angle of the interference light. An example in which the beam block unit 440 operates is illustrated in FIG. 5 .

도 5는 본 발명의 일 실시예에 따른 시야각 조정부의 동작예를 도시한 도면이다.5 is a diagram illustrating an operation example of a viewing angle adjusting unit according to an embodiment of the present invention.

도 5(a)와 같이, 빔 블록부(440)는 광 경로상으로 제4 빔 스플리터(410)와 제1 튜브렌즈(430) 사이에 배치되어, 제1 튜브렌즈(430)로 입사하는 광을 차단한다. 이에, 시야각 조정부(230)로 입사된 광은 제2 튜브렌즈(435)만을 거치며 통과하고 대물렌즈(240, 320)를 거쳐 기준 반사면(145)와 결함 부위(140)로 조사된다. 각각(140, 145)으로부터 반사되어 간섭된 광은 다시 대물렌즈(240, 320)와 제2 튜브렌즈(435)를 거치며 제1 빔 스플리터(220)로 진행한다. 이에 따라, 해당 간섭광은 저배율을 갖게 된다. 제어부(140)의 제어에 따라, 저배율을 갖는 간섭광만이 촬영부(130)로 입사하여 인식되며, 제어부(140)는 촬영부(130)가 감지한 간섭패턴을 인지할 수 있다.As shown in FIG. 5A , the beam block unit 440 is disposed between the fourth beam splitter 410 and the first tube lens 430 on the optical path, and the light incident to the first tube lens 430 is provided. to block Accordingly, the light incident to the viewing angle adjustment unit 230 passes through only the second tube lens 435 , passes through the objective lenses 240 and 320 , and is irradiated to the reference reflective surface 145 and the defective region 140 . The light reflected and interfered from each of 140 and 145 passes through the objective lenses 240 and 320 and the second tube lens 435 again and proceeds to the first beam splitter 220 . Accordingly, the interference light has a low magnification. Under the control of the controller 140 , only interference light having a low magnification is incident to and recognized by the photographing unit 130 , and the control unit 140 may recognize the interference pattern detected by the photographing unit 130 .

반대로, 도 5(b)와 같이, 빔 블록부(440)는 광 경로상으로 미러(420)와 제2 튜브렌즈(435) 사이에 배치되어, 제2 튜브렌즈(435)로 입사하는 광을 차단한다. 이에, 시야각 조정부(230)로 입사된 광은 제1 튜브렌즈(430)만을 거치며 통과하고 대물렌즈(240, 320)를 거쳐 기준 반사면(145)와 결함 부위(140)로 조사된다. 각각(140, 145)으로부터 반사되어 간섭된 광은 다시 대물렌즈(240, 320)와 제1 튜브렌즈(430)를 거치며 제1 빔 스플리터(220)로 진행한다. 이에 따라, 해당 간섭광은 고배율을 갖게 된다. 제어부(140)의 제어에 따라, 고배율을 갖는 간섭광만이 촬영부(130)로 입사하여 인식되며, 제어부(140)는 촬영부(130)가 감지한 간섭패턴을 인지할 수 있다.Conversely, as shown in FIG. 5( b ), the beam block unit 440 is disposed between the mirror 420 and the second tube lens 435 on the optical path, and receives the light incident to the second tube lens 435 . block Accordingly, the light incident to the viewing angle adjusting unit 230 passes through only the first tube lens 430 , passes through the objective lenses 240 and 320 , and is irradiated to the reference reflective surface 145 and the defective region 140 . The light reflected and interfered from each of 140 and 145 passes through the objective lenses 240 and 320 and the first tube lens 430 again and proceeds to the first beam splitter 220 . Accordingly, the interference light has a high magnification. Under the control of the controller 140 , only interference light having a high magnification is incident to and recognized by the photographing unit 130 , and the control unit 140 may recognize the interference pattern detected by the photographing unit 130 .

이로서, 결함 판별장치(100)는 하나의 광학계만을 포함하고도 서로 다른 시야각을 갖는 간섭광을 생성할 수 있다. 결함 판별장치(100)는 제어에 따라, 서로 다른 시야각을 갖는 간섭광을 생성할 수 있어, 낮은 배율의 간섭광을 분석하여 결함부위의 전체적인 구조나 형태를 파악할 수 있으며, 높은 배율의 간섭광을 분석하여 결함부위만의 정확한 형상이나 높이 등 3차원적 정보를 분석할 수 있다.Accordingly, the defect determination apparatus 100 may generate interference light having different viewing angles even including only one optical system. The defect determination apparatus 100 can generate interference light having different viewing angles according to the control, so that the overall structure or shape of the defect part can be grasped by analyzing the interference light of low magnification, and the interference light of high magnification can be detected. By analyzing, it is possible to analyze three-dimensional information such as the exact shape or height of only the defective part.

도 4 및 도 5에는 제4 빔 스플리터(410)에서 분기되어 제2 튜브렌즈(435)를 통과하는 광이 미러(420, 425) 및 제5 빔 스플리터(415)에서 반사되는 것으로 도시되어 있으나, 반드시 이에 한정되는 것은 아니고 광 경로는 다양하게 가변될 수 있다. 즉, 튜브렌즈(430 435)와 빔 블록부(440)가 전술한 위치에서 전술한 동작을 수행할 수 있다면, 미러 및 빔 스플리터의 위치나 종류는 다양하게 가변할 수 있다.In Figures 4 and 5, the light branching from the fourth beam splitter 410 and passing through the second tube lens 435 is shown to be reflected by the mirrors 420 and 425 and the fifth beam splitter 415, It is not necessarily limited thereto, and the optical path may be variously changed. That is, if the tube lens 430 435 and the beam block unit 440 can perform the above-described operations at the above-described positions, the positions or types of the mirror and the beam splitter may be variously varied.

또한, 도 4 및 도 5에는 빔 블록부(230) 내 튜브렌즈가 2개인 것으로 도시되어 있으나, 반드시 이에 한정되는 것은 아니고 결함의 특성을 분석하는데 있어 정확도를 향상시키기 위해, 튜브렌즈, 빔 블록부 및 그에 광을 통과시키기 위한 광학구성이 추가로 배치될 수 있다.In addition, although it is shown that there are two tube lenses in the beam block unit 230 in FIGS. 4 and 5 , the present invention is not limited thereto, and in order to improve accuracy in analyzing the characteristics of defects, a tube lens and a beam block unit and an optical configuration for passing light therethrough may be further disposed.

이상의 설명은 본 실시예의 기술 사상을 예시적으로 설명한 것에 불과한 것으로서, 본 실시예가 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 본 실시예의 본질적인 특성에서 벗어나지 않는 범위에서 다양한 수정 및 변형이 가능할 것이다. 따라서, 본 실시예들은 본 실시예의 기술 사상을 한정하기 위한 것이 아니라 설명하기 위한 것이고, 이러한 실시예에 의하여 본 실시예의 기술 사상의 범위가 한정되는 것은 아니다. 본 실시예의 보호 범위는 아래의 청구범위에 의하여 해석되어야 하며, 그와 동등한 범위 내에 있는 모든 기술 사상은 본 실시예의 권리범위에 포함되는 것으로 해석되어야 할 것이다.The above description is merely illustrative of the technical idea of this embodiment, and a person skilled in the art to which this embodiment belongs may make various modifications and variations without departing from the essential characteristics of the present embodiment. Accordingly, the present embodiments are intended to explain rather than limit the technical spirit of the present embodiment, and the scope of the technical spirit of the present embodiment is not limited by these embodiments. The protection scope of this embodiment should be interpreted by the following claims, and all technical ideas within the scope equivalent thereto should be interpreted as being included in the scope of the present embodiment.

100: 결함 판별장치
110: 광원
120: 광학계
130: 촬영부
140: 제어부
210: 렌즈
220, 250, 310, 410, 415: 빔 스플리터
230: 시야각 조정부
240, 320: 대물렌즈
420, 425: 미러
430, 435: 튜브렌즈
440: 빔 블록부
610: 차단판100: defect determination device
110: light source
120: optical system
130: shooting department
140: control unit
210: lens
220, 250, 310, 410, 415: beam splitter
230: viewing angle adjustment unit
240, 320: objective lens
420, 425: mirror
430, 435: tube lens
440: beam block unit
610: blocking plate

Claims (10)

기판 내 발생한 결함의 특성을 판별하는 결함 판별장치에 있어서,
결함부위 및 기준 반사면으로 조사되고, 양자로부터 반사되어 간섭을 일으킬 광을 조사하는 광원;
상기 광원으로부터 조사된 광을 상기 결함부위와 상기 기준 반사면으로 분기시켜 조사하고, 양자로부터 반사된 광을 간섭시키되, 간섭광의 시야각을 능동적으로 가변시키는 광학계;
상기 광학계로부터 전달되는 간섭광을 감지하는 촬영부; 및
상기 광학계를 제어하며, 상기 촬영부가 감지한 간섭광의 간섭패턴을 토대로 상기 기판 상에 형성된 결함의 특성을 판별하고, 상기 광학계의 시야각 변화속도를 상기 촬영부의 프레임수에 대응시켜, 상기 광학계가 간섭광의 시야각을 가변시키도록 제어하는 제어부
를 포함하는 것을 특징으로 하는 결함 판별장치.In the defect determination apparatus for determining the characteristics of the defect generated in the substrate,
a light source irradiated to the defect portion and the reference reflective surface, and irradiating light to cause interference by being reflected from both;
an optical system for branching and irradiating the light irradiated from the light source to the defective portion and the reference reflective surface, interfering with the light reflected from both, and actively varying the viewing angle of the interfering light;
a photographing unit detecting the interference light transmitted from the optical system; and
The optical system is controlled, the characteristics of defects formed on the substrate are determined based on the interference pattern of the interference light detected by the photographing unit, and the viewing angle change rate of the optical system corresponds to the number of frames of the photographing unit, so that the optical system detects the interference of the interference light. Control unit that controls to change the viewing angle
Defect determination apparatus comprising a. 제1항에 있어서,
상기 결함의 특성은,
결함의 높이 또는 결함의 면적을 포함하는 3차원적 특성인 것을 특징으로 하는 결함 판별장치.According to claim 1,
The characteristics of the defect are:
Defect discrimination apparatus, characterized in that it is a three-dimensional characteristic including the height of the defect or the area of the defect. 제1항에 있어서,
상기 광학계는,
자신으로 입사되는 광의 경로를 조정하여, 간섭광의 시야각을 가변시키는 것을 특징으로 하는 결함 판별장치.According to claim 1,
The optical system is
A defect discrimination apparatus, characterized in that by adjusting the path of the light incident therein, the viewing angle of the interference light is varied. 제3항에 있어서,
상기 광학계는,
각 광의 경로마다 서로 다른 배율을 갖는 렌즈가 배치되는 것을 특징으로 하는 결함 판별장치.4. The method of claim 3,
The optical system is
A defect determination device, characterized in that lenses having different magnifications are disposed in each light path. 기판에 발생한 결함의 특성을 판별하는 결함 판별장치 내 간섭광의 시야각을 조정할 수 있는 광학계에 있어서,
입사광은 분기시키고, 간섭광은 분기 없이 진행시키는 제1 빔 스플리터;
기 설정된 배율을 가지며, 상기 제1 빔 스플리터로부터 분기된 광 또는 간섭광을 통과시키는 제1 튜브렌즈;
상기 제1 튜브렌즈와 상이한 배율을 가지며, 상기 제1 빔 스플리터로부터 분기된 나머지 광 또는 간섭광을 통과시키는 제2 튜브렌즈;
상기 제1 튜브렌즈를 통과한 광과 상기 제2 튜브렌즈를 통과한 광을 동일한 방향으로 진행시키고, 간섭광은 분기없이 진행시키는 제2 빔 스플리터; 및
상기 제1 튜브렌즈 및 상기 제2 튜브렌즈로 입사하는 광 축의 사이에 위치하여, 상기 제1 튜브렌즈 또는 상기 제2 튜브렌즈로 입사하거나 통과한 광을 차단하는 빔 블록부
를 포함하는 것을 특징으로 하는 광학계. An optical system capable of adjusting a viewing angle of interference light in a defect discrimination device for determining the characteristics of a defect occurring on a substrate, the optical system comprising:
a first beam splitter that branches incident light and propagates interference light without branching;
a first tube lens having a preset magnification and passing the light branched from the first beam splitter or the interference light;
a second tube lens having a different magnification from the first tube lens and passing the remaining light or interference light branched from the first beam splitter;
a second beam splitter for advancing the light passing through the first tube lens and the light passing through the second tube lens in the same direction, and advancing the interference light without branching; and
A beam block unit positioned between the optical axis incident to the first tube lens and the second tube lens to block light incident to or passing through the first tube lens or the second tube lens
An optical system comprising a. 제5항에 있어서,
상기 빔 블록부는,
상기 제1 튜브렌즈 및 상기 제2 튜브렌즈로 입사하는 광 축의 사이에서 진동운동하며, 상기 제1 튜브렌즈 및 상기 제2 튜브렌즈로 입사하거나 통과한 광을 번갈아 차단하는 것을 특징으로 하는 광학계.6. The method of claim 5,
The beam block unit,
An optical system characterized in that it oscillates between optical axes incident to the first tube lens and the second tube lens, and alternately blocks light incident or passing through the first tube lens and the second tube lens. 제5항에 있어서,
상기 빔 블록부는,
상기 제1 튜브렌즈 및 상기 제2 튜브렌즈로 입사하는 광 축의 사이에서 회전운동하며, 상기 제1 튜브렌즈 및 상기 제2 튜브렌즈로 입사하거나 통과한 광을 번갈아 차단하는 것을 특징으로 하는 광학계.6. The method of claim 5,
The beam block unit,
An optical system characterized in that it rotates between an optical axis incident to the first tube lens and the second tube lens, and alternately blocks light incident or passing through the first tube lens and the second tube lens. 제5항에 있어서,
상기 빔 블록부는,
막대 형태로 구현되는 것을 특징으로 하는 광학계.6. The method of claim 5,
The beam block unit,
Optical system, characterized in that implemented in the form of a rod. 제5항에 있어서,
상기 빔 블록부는,
막대 형태의 차단판 복수 개가 중심을 기준으로 서로 일 방향으로 방사되는 형태를 갖는 것을 특징으로 하는 광학계.6. The method of claim 5,
The beam block unit,
An optical system characterized in that a plurality of bar-shaped blocking plates are radiated in one direction with respect to the center. 제9항에 있어서,
상기 빔 블록부는,
홀수 개의 차단판을 포함하는 것을 특징으로 하는 광학계.
10. The method of claim 9,
The beam block unit,
An optical system comprising an odd number of blocking plates.
KR1020210092666A 2021-07-15 2021-07-15 Apparatus for Discriminating Defects Capable of Implementing Multiple FOV KR102336453B1 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020210092666A KR102336453B1 (en) 2021-07-15 2021-07-15 Apparatus for Discriminating Defects Capable of Implementing Multiple FOV

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020210092666A KR102336453B1 (en) 2021-07-15 2021-07-15 Apparatus for Discriminating Defects Capable of Implementing Multiple FOV

Publications (1)

Publication Number Publication Date
KR102336453B1 true KR102336453B1 (en) 2021-12-07

Family

ID=78868118

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020210092666A KR102336453B1 (en) 2021-07-15 2021-07-15 Apparatus for Discriminating Defects Capable of Implementing Multiple FOV

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR102336453B1 (en)

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20130084718A (en) * 2012-01-18 2013-07-26 (주)미래컴퍼니 Three dimensional surface measuring device and method using spectrometer
KR101664470B1 (en) * 2014-10-31 2016-10-24 서울과학기술대학교 산학협력단 Multiple beam path optical system using rear surface reflection of beam splitter
KR20180002227A (en) * 2016-06-29 2018-01-08 세메스 주식회사 Method of inspecting semiconductor devices
KR102211668B1 (en) * 2016-01-27 2021-02-05 에이에스엠엘 네델란즈 비.브이. Device of multiple charged particle beams

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20130084718A (en) * 2012-01-18 2013-07-26 (주)미래컴퍼니 Three dimensional surface measuring device and method using spectrometer
KR101664470B1 (en) * 2014-10-31 2016-10-24 서울과학기술대학교 산학협력단 Multiple beam path optical system using rear surface reflection of beam splitter
KR102211668B1 (en) * 2016-01-27 2021-02-05 에이에스엠엘 네델란즈 비.브이. Device of multiple charged particle beams
KR20180002227A (en) * 2016-06-29 2018-01-08 세메스 주식회사 Method of inspecting semiconductor devices

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN110062678B (en) Deflection unit comprising two windows, an optical element and an XY-deflection device
JP7153552B2 (en) Variable focal length lens system including focus reference subsystem
CN102818528B (en) Apparatus and method for inspecting an object with increased depth of field
CN104034258B (en) With pancratic galvanometer scanning camera and method
US9291750B2 (en) Calibration method and apparatus for optical imaging lens system with double optical paths
CN109995996B (en) Variable focus lens system including a focus state reference subsystem
KR20030055162A (en) Projection aligner
US10976670B2 (en) Apparatus and method for detecting optimal focal plane of lithographic projection objective lens
US11567293B2 (en) Autofocus device, and optical apparatus and microscope including the same
KR101211438B1 (en) Apparatus for inspecting defects
US9940740B2 (en) Refractometer
KR102336453B1 (en) Apparatus for Discriminating Defects Capable of Implementing Multiple FOV
KR101826127B1 (en) optical apparatus for inspecting pattern image of semiconductor wafer
CN108437448A (en) A kind of optical path accurate Method of Adjustment of micro-nano size 3D printing equipment
CN107688022A (en) A kind of optical element surface defect detecting device
US10761398B2 (en) Imaging ellipsometer system utilizing a tunable acoustic gradient lens
TWI470299B (en) Method and apparatus for auto-focusing
JP3915978B2 (en) Laser Doppler vibrometer
KR20090129080A (en) Apparatus and method for aligning optic axis of lens module
JP2007333525A (en) Distance measurement device
JP2006030070A (en) Film thickness inspection device
JP2005003667A (en) Reference axis setting optical system, eccentricity measuring machine and eccentricity-measuring method using the optical system
US20240045338A1 (en) High-performance euv microscope device with free-form illumination system structure having elliptical mirror
US20240219699A1 (en) High-performance euv microscope device with free-form illumination system structure
CN220490702U (en) Crystal defect three-dimensional detection device based on light scattering technology

Legal Events

Date Code Title Description
GRNT Written decision to grant