KR102331461B1 - Compound, photosensitive resin composition comprising the same, photo resist, color filter, and display device - Google Patents

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KR102331461B1 KR1020180067618A KR20180067618A KR102331461B1 KR 102331461 B1 KR102331461 B1 KR 102331461B1 KR 1020180067618 A KR1020180067618 A KR 1020180067618A KR 20180067618 A KR20180067618 A KR 20180067618A KR 102331461 B1 KR102331461 B1 KR 102331461B1
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Abstract

본 명세서는 화학식 1로 표시되는 화합물 및 이를 포함하는 감광성 수지 조성물, 감광재, 컬러필터 및 디스플레이 장치를 제공한다.The present specification provides a compound represented by Formula 1 and a photosensitive resin composition comprising the same, a photosensitive material, a color filter, and a display device.

Description

화합물, 이를 포함하는 감광성 수지 조성물, 감광재, 컬러필터, 및 디스플레이 장치{COMPOUND, PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION COMPRISING THE SAME, PHOTO RESIST, COLOR FILTER, AND DISPLAY DEVICE}A compound, a photosensitive resin composition comprising the same, a photosensitive material, a color filter, and a display device

본 명세서는 화합물 및 이를 포함하는 감광성 수지 조성물에 관한 것이다. 또한, 본 명세서는 상기 감광성 수지 조성물을 이용하여 제조된 감광재, 컬러필터 및 디스플레이 장치에 관한 것이다.The present specification relates to a compound and a photosensitive resin composition comprising the same. In addition, the present specification relates to a photosensitive material, a color filter, and a display device manufactured using the photosensitive resin composition.

최근 컬러필터에 있어서 고휘도, 고명암비를 특징으로 하는 성능이 요구되고 있다. 또한, 디스플레이 장치 개발의 주 목적 중 하나는 색순도 향상을 통한 표시소자 성능의 차별화 및 제조 공정상의 생산성 향상에 있다. In recent color filters, performance characterized by high luminance and high contrast ratio is required. In addition, one of the main purposes of the development of the display device is to differentiate the performance of the display device through the improvement of color purity and to improve the productivity in the manufacturing process.

기존에 컬러필터의 색재로 사용되는 안료 타입은 입자 분산 상태로 컬러 포토레지스트에 존재하기 때문에, 안료 입자 크기와 분포 조절에 따른 휘도 및 명암비 조절에 어려움이 있었다. 안료 입자의 경우 컬러 필터 내에서 응집되어 용해 및 분산성이 떨어지며 응집(aggregation)되어 있는 큰 입자들로 인하여 빛의 다중 산란(multiple scattering)이 일어난다. 이러한 편광된 빛의 산란은 명암비를 저하시키는 주 요인으로 지목되고 있다. 안료의 초미립화 및 분산 안정화를 통해 휘도 및 명암비 향상을 위한 노력이 계속되고 있으나, 고색순도 표시장치용 색좌표를 구현하기 위한 색재 선정에 있어 자유도가 제한된다. 또한, 이미 개발된 색재료 특히 안료를 이용한 안료분산법은 이를 이용한 컬러필터의 색순도, 휘도 및 명암비를 향상시키는데 한계에 도달했다.Since the pigment type used as a color material for a color filter is present in the color photoresist in a particle-dispersed state, it is difficult to control the luminance and contrast ratio according to the pigment particle size and distribution control. In the case of pigment particles, they are agglomerated in the color filter, resulting in poor dissolution and dispersibility, and multiple scattering of light occurs due to large aggregated particles. The scattering of such polarized light is pointed out as the main factor for lowering the contrast ratio. Efforts to improve luminance and contrast ratio through ultra-fine pigmentation and dispersion stabilization are continuing, but the degree of freedom in selecting color materials for realizing color coordinates for high-color purity display devices is limited. In addition, the previously developed color material, particularly the pigment dispersion method using a pigment, has reached its limit in improving the color purity, luminance, and contrast ratio of a color filter using the same.

이에 따라서, 색순도를 높여 색재현, 휘도 및 명암비를 향상시킬 수 있는 신규 색재 개발이 요구되고 있다.Accordingly, there is a demand for the development of a new color material capable of improving color reproduction, luminance, and contrast ratio by increasing color purity.

한국공개특허 제2001-0009058호Korean Patent Publication No. 2001-0009058

본 발명자들은 화합물, 이를 포함하는 감광성 수지 조성물, 이를 이용하여 제조된 감광재, 컬러필터, 및 디스플레이 장치를 제공하고자 한다. The present inventors intend to provide a compound, a photosensitive resin composition comprising the same, a photosensitive material, a color filter, and a display device manufactured using the same.

본 명세서의 일 실시상태는, 하기 화학식 1로 표시되는 화합물을 제공한다.An exemplary embodiment of the present specification provides a compound represented by the following formula (1).

[화학식 1][Formula 1]

Figure 112018057728068-pat00001
Figure 112018057728068-pat00001

상기 화학식 1에 있어서,In Formula 1,

X는 O, S, NR', 또는 C=O이고, X is O, S, NR', or C=O;

상기 R'는 수소; 중수소; 치환 또는 비치환된 알킬기; 또는 치환 또는 비치환된 아릴기이며,wherein R' is hydrogen; heavy hydrogen; a substituted or unsubstituted alkyl group; Or a substituted or unsubstituted aryl group,

R1 내지 R4는 서로 같거나 상이하고, 각각 독립적으로 수소; 중수소; 할로겐기; 히드록시기; 술폰산염기; 치환 또는 비치환된 아민기; 치환 또는 비치환된 알킬기; 또는 치환 또는 비치환된 시클로알킬기이고, R1 to R4 are the same as or different from each other, and each independently hydrogen; heavy hydrogen; halogen group; hydroxyl group; sulfonate group; a substituted or unsubstituted amine group; a substituted or unsubstituted alkyl group; Or a substituted or unsubstituted cycloalkyl group,

상기 X가 C=O인 경우, 상기 R3는 수소; 중수소; 할로겐기; 히드록시기; 술폰산염기; 치환된 아민기; 치환 또는 비치환된 알킬기; 또는 치환 또는 비치환된 시클로알킬기이고,When X is C=O, R3 is hydrogen; heavy hydrogen; halogen group; hydroxyl group; sulfonate group; a substituted amine group; a substituted or unsubstituted alkyl group; Or a substituted or unsubstituted cycloalkyl group,

r1 및 r4는 0 내지 4의 정수이고, r1 및 r4가 2 이상인 경우 괄호 ( ) 안의 구조는 서로 같거나 상이하고, r1 and r4 are integers from 0 to 4, and when r1 and r4 are 2 or more, the structures in parentheses ( ) are the same as or different from each other,

r2는 0 내지 2의 정수이고, r2가 2인 경우, R2는 서로 같거나 상이하며,r2 is an integer from 0 to 2, and when r2 is 2, R2 are the same as or different from each other,

r3은 0 내지 3의 정수이고, r3가 2 이상인 경우, R3는 서로 같거나 상이하다. r3 is an integer of 0 to 3, and when r3 is 2 or more, R3 is the same as or different from each other.

본 명세서의 일 실시상태는, 상기 화학식 1로 표시되는 화합물; 바인더 수지; 다관능성 모노머; 광개시제; 및 용매를 포함하는 감광성 수지 조성물을 제공한다.An exemplary embodiment of the present specification includes a compound represented by Formula 1; binder resin; polyfunctional monomers; photoinitiators; And it provides a photosensitive resin composition comprising a solvent.

본 명세서의 일 실시상태는, 상기 감광성 수지 조성물을 이용하여 제조된 감광재를 제공한다.An exemplary embodiment of the present specification provides a photosensitive material prepared using the photosensitive resin composition.

본 명세서의 일 실시상태는, 상기 감광재를 포함하는 컬러필터를 제공한다.An exemplary embodiment of the present specification provides a color filter including the photosensitive material.

본 명세서의 일 실시상태는, 상기 컬러필터를 포함하는 디스플레이 장치를 제공한다.An exemplary embodiment of the present specification provides a display device including the color filter.

본 명세서의 일 실시상태에 따른 화합물은 감광성 수지 조성물에서 색재로 사용될 수 있으며, 색재로 사용되는 경우, 내열성 향상 및 감도가 우수해지는 장점이 있다. The compound according to an exemplary embodiment of the present specification may be used as a color material in the photosensitive resin composition, and when used as a color material, there is an advantage in that heat resistance and sensitivity are improved.

도 1은 실시예 1에 따른 컬러필터 기판의 미세패턴 형상을 나타내는 도면이다.
도 2는 실시예 2에 따른 컬러필터 기판의 미세패턴 형상을 나타내는 도면이다.
도 3은 비교예에 따른 컬러필터 기판의 미세패턴 형상을 나타내는 도면이다.
1 is a view showing the shape of a fine pattern of a color filter substrate according to Example 1. Referring to FIG.
FIG. 2 is a view showing the shape of a fine pattern of a color filter substrate according to Example 2. FIG.
3 is a diagram illustrating a shape of a fine pattern of a color filter substrate according to a comparative example.

이하, 본 명세서에 대하여 더욱 상세하게 설명한다.Hereinafter, the present specification will be described in more detail.

본 명세서에 있어서, 어떤 부재가 다른 부재 “상에” 위치하고 있다고 할 때, 이는 어떤 부재가 다른 부재에 접해 있는 경우뿐 아니라 두 부재 사이에 또 다른 부재가 존재하는 경우도 포함한다.In the present specification, when a member is said to be located “on” another member, this includes not only a case in which a member is in contact with another member but also a case in which another member exists between the two members.

본 명세서에서 어떤 부분이 어떤 구성요소를 "포함" 한다고 할 때, 이는 특별히 반대되는 기재가 없는 한 다른 구성요소를 제외하는 것이 아니라 다른 구성 요소를 더 포함할 수 있는 것을 의미한다. In the present specification, when a part "includes" a certain component, it means that other components may be further included rather than excluding other components unless otherwise stated.

본 명세서의 일 실시상태에 따르면, 상기 화학식 1로 표시되는 화합물을 제공한다. 상기 화학식 1로 표시되는 화합물을 감광성 수지 조성물의 색재로 사용하는 경우, 내열성 및 감도를 향상시킬 수 있다.According to an exemplary embodiment of the present specification, there is provided a compound represented by Formula 1 above. When the compound represented by Formula 1 is used as a color material for the photosensitive resin composition, heat resistance and sensitivity may be improved.

상기 화학식 1의 R3가 -NH2인 경우와 비교하여, 상기 R3가 수소인 경우, 결합각이 줄어들게 된다. 이에, 분자간 interaction(π-π stacking)이 증가해 열에 대한 특성이 우수해질 수 있다.Compared to the case in which R3 of Formula 1 is -NH 2 , when R3 is hydrogen, the bonding angle is reduced. Accordingly, the intermolecular interaction (π-π stacking) increases, and thus the properties against heat can be improved.

또한, 본 명세서에 따른 감광성 수지 조성물에 UV 조사시 주요 파장인 365nm 때의 흡수율이 줄어들어, 본 명세서에 따른 감광성 수지 조성물 내 광개시제의 라디칼의 형성이 더욱 증가할 수 있고, 이에 따라, 감도를 향상시킬 수 있다.In addition, when UV irradiation to the photosensitive resin composition according to the present specification, the absorption rate at 365 nm, which is the main wavelength, is reduced, and the formation of radicals of the photoinitiator in the photosensitive resin composition according to the present specification may further increase, and thus, to improve the sensitivity can

상기 화학식 1로 표시되는 화합물의 치환기들의 예시는 아래에서 설명하나, 이에 한정되는 것은 아니다.Examples of the substituents of the compound represented by Formula 1 are described below, but are not limited thereto.

본 명세서에 있어서,

Figure 112018057728068-pat00002
는 다른 치환기 또는 결합부에 결합되는 부위를 의미한다.In this specification,
Figure 112018057728068-pat00002
refers to a site bonded to another substituent or a bonding group.

본 명세서에서 "치환 또는 비치환된" 이라는 용어는 중수소; 할로겐기; 술폰산기; 술폰산염기; 니트릴기; 니트로기; 히드록시기; -COOH; 이미드기; 아미드기; 알킬기; 시클로알킬기; 아민기; 아릴기; 헤테로아릴기; 아크릴로일기; 아크릴레이트기; N, O, S 또는 P 원자 중 1개 이상을 포함하는 헤테로 고리기 및 음이온성기를 포함하는 군에서 선택된 1개 이상의 치환기로 치환되었거나 또는 어떠한 치환기도 갖지 않는 것을 의미한다. As used herein, the term "substituted or unsubstituted" refers to deuterium; halogen group; sulfonic acid group; sulfonate group; nitrile group; nitro group; hydroxyl group; -COOH; imid; amide group; an alkyl group; cycloalkyl group; amine group; aryl group; heteroaryl group; acryloyl group; acrylate group; It means that it is substituted with one or more substituents selected from the group comprising a heterocyclic group and an anionic group containing at least one of N, O, S or P atoms or does not have any substituents.

본 명세서에 있어서, 할로겐기의 예로는 불소, 염소, 브롬 또는 요오드가 있다. In the present specification, examples of the halogen group include fluorine, chlorine, bromine or iodine.

본 명세서의 일 실시상태에 있어서, 술폰산염기는 -SO3M으로 표시될 수 있고, 상기 M은 주기율표의 1족 원소 중 어느 하나일 수 있으며, 예컨대, Na일 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다. In an exemplary embodiment of the present specification, the sulfonate group may be represented by -SO 3 M, wherein M may be any one of Group 1 elements of the periodic table, for example, may be Na, but is not limited thereto.

본 명세서의 일 실시상태에 있어서, 아민기는 -NH2; 알킬아민기; 사이클로알킬아민기; N-알킬아릴아민기; 아릴아민기; N-아릴헤테로아릴아민기; N-알킬헤테로아릴아민기 및 헤테로아릴아민기로 이루어진 군으로부터 선택될 수 있으며, 탄소수는 특별히 한정되지 않으나, 1 내지 30일 수 있다. 또한, 1 내지 20일 수 있고, 1 내지 10일 수 있다. 아민기의 구체적인 예로는 메틸아민기, 디메틸아민기, 에틸아민기, 디에틸아민기, 사이클로알킬아민기, 페닐아민기, 나프틸아민기, 바이페닐아민기, 안트라세닐아민기, 9-메틸-안트라세닐아민기, 디페닐아민기, N-페닐나프틸아민기, 디톨릴아민기, N-페닐톨릴아민기, 트리페닐아민기, N-페닐바이페닐아민기; N-페닐나프틸아민기; N-바이페닐나프틸아민기; N-나프틸플루오레닐아민기; N-페닐페난트레닐아민기; N-바이페닐페난트레닐아민기; N-페닐플루오레닐아민기; N-페닐터페닐아민기; N-페난트레닐플루오레닐아민기; N-바이페닐플루오레닐아민기 등이 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다.In an exemplary embodiment of the present specification, the amine group is -NH 2 ; an alkylamine group; cycloalkylamine group; N-alkylarylamine group; arylamine group; N-aryl heteroarylamine group; It may be selected from the group consisting of an N-alkylheteroarylamine group and a heteroarylamine group, and the number of carbon atoms is not particularly limited, but may be 1 to 30. In addition, it may be 1 to 20, it may be 1 to 10. Specific examples of the amine group include a methylamine group, a dimethylamine group, an ethylamine group, a diethylamine group, a cycloalkylamine group, a phenylamine group, a naphthylamine group, a biphenylamine group, an anthracenylamine group, and 9-methyl -Anthracenylamine group, diphenylamine group, N-phenylnaphthylamine group, ditolylamine group, N-phenyltolylamine group, triphenylamine group, N-phenylbiphenylamine group; N-phenylnaphthylamine group; N-biphenylnaphthylamine group; N-naphthylfluorenylamine group; N-phenylphenanthrenylamine group; N-biphenylphenanthrenylamine group; N-phenylfluorenylamine group; N-phenylterphenylamine group; N-phenanthrenylfluorenylamine group; There is an N-biphenylfluorenylamine group, and the like, but is not limited thereto.

본 명세서에 있어서, 알킬기는 직쇄 또는 분지쇄일 수 있고, 탄소수는 특별히 한정되지 않으나 1 내지 60인 것이 바람직하다. 일 실시상태에 따르면, 상기 알킬기의 탄소수는 1 내지 30이다. 또 하나의 실시상태에 따르면, 상기 알킬기의 탄소수는 1 내지 20이다. 또 하나의 실시상태에 따르면, 상기 알킬기의 탄소수는 1 내지 10이다. 알킬기의 구체적인 예로는 메틸기, 에틸기, n-프로필기, 이소프로필기, n-부틸기, 이소부틸기, tert-부틸기, n-펜틸기, n-헥실기, n-헵틸기, n-옥틸기 등이 있으나, 이들에 한정되지 않는다.In the present specification, the alkyl group may be linear or branched, and the number of carbon atoms is not particularly limited, but is preferably 1 to 60. According to an exemplary embodiment, the number of carbon atoms in the alkyl group is 1 to 30. According to another exemplary embodiment, the alkyl group has 1 to 20 carbon atoms. According to another exemplary embodiment, the alkyl group has 1 to 10 carbon atoms. Specific examples of the alkyl group include a methyl group, an ethyl group, n-propyl group, isopropyl group, n-butyl group, isobutyl group, tert-butyl group, n-pentyl group, n-hexyl group, n-heptyl group, n-ox There is a tyl group, and the like, but is not limited thereto.

본 명세서에 있어서, 시클로알킬기는 특별히 한정되지 않으나, 탄소수 3 내지 60인 것이 바람직하며, 일 실시상태에 따르면, 상기 시클로알킬기의 탄소수는 3 내지 30이다. 또 하나의 실시상태에 따르면, 상기 시클로알킬기의 탄소수는 3 내지 20이다. 또 하나의 실시상태에 따르면, 상기 시클로알킬기의 탄소수는 3 내지 6이다. 구체적으로 시클로프로필기, 시클로부틸기, 시클로펜틸기, 시클로헥실기, 시클로헵틸기, 시클로옥틸기 등이 있으나, 이에 한정되지 않는다.In the present specification, the cycloalkyl group is not particularly limited, but preferably has 3 to 60 carbon atoms, and according to an exemplary embodiment, the cycloalkyl group has 3 to 30 carbon atoms. According to another exemplary embodiment, the carbon number of the cycloalkyl group is 3 to 20. According to another exemplary embodiment, the cycloalkyl group has 3 to 6 carbon atoms. Specifically, there are a cyclopropyl group, a cyclobutyl group, a cyclopentyl group, a cyclohexyl group, a cycloheptyl group, a cyclooctyl group, and the like, but is not limited thereto.

본 명세서에 있어서, 아릴기는 특별히 한정되지 않으나 탄소수 6 내지 60인 것이 바람직하며, 단환식 아릴기 또는 다환식 아릴기일 수 있다. 일 실시상태에 따르면, 상기 아릴기의 탄소수는 6 내지 30이다. 일 실시상태에 따르면, 상기 아릴기의 탄소수는 6 내지 20이고, 또한 6 내지 10일 수 있다. 상기 아릴기가 단환식 아릴기로는 페닐기, 바이페닐기, 터페닐기 등이 될 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다. 상기 다환식 아릴기로는 나프틸기, 안트라세닐기, 인데닐기, 페난트레닐기, 파이레닐기, 페릴레닐기, 트리페닐기, 크라이세닐기, 플루오레닐기 등이 될 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다.In the present specification, the aryl group is not particularly limited, but preferably has 6 to 60 carbon atoms, and may be a monocyclic aryl group or a polycyclic aryl group. According to an exemplary embodiment, the carbon number of the aryl group is 6 to 30. According to an exemplary embodiment, the carbon number of the aryl group is 6 to 20, and may be 6 to 10. The aryl group may be a monocyclic aryl group such as a phenyl group, a biphenyl group, or a terphenyl group, but is not limited thereto. The polycyclic aryl group may be a naphthyl group, an anthracenyl group, an indenyl group, a phenanthrenyl group, a pyrenyl group, a perylenyl group, a triphenyl group, a chrysenyl group, a fluorenyl group, and the like, but is not limited thereto.

본 명세서에 있어서, 아크릴로일기는 광중합성 불포화기를 의미하며, 예컨대, (메타)아크릴로일기를 들 수 있으나 이에 한정되는 것은 아니다. In the present specification, the acryloyl group means a photopolymerizable unsaturated group, for example, a (meth) acryloyl group may be mentioned, but is not limited thereto.

본 명세서에 있어서, 아크릴레이트기는 광중합성 불포화기를 의미하며, 예컨대 (메타)아크릴레이트기를 들 수 있으나 이에 한정되는 것은 아니다. In the present specification, the acrylate group refers to a photopolymerizable unsaturated group, for example, a (meth)acrylate group, but is not limited thereto.

본 명세서에 있어서, '(메타)아크릴로일'이란, 아크릴로일 및 메타아크릴로일로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1종을 나타낸다. '(메타)아크릴레이트' 의 표기도 마찬가지의 의미를 갖는다.In this specification, "(meth)acryloyl" represents at least 1 sort(s) chosen from the group which consists of acryloyl and methacryloyl. The notation of '(meth)acrylate' has the same meaning.

본 명세서의 일 실시상태에 있어서, 상기 X는 O, S, NR', 또는 C=O이다. In an exemplary embodiment of the present specification, X is O, S, NR', or C=O.

본 명세서의 일 실시상태에 있어서, 상기 X는 O, NR' 또는 C=O이다. In an exemplary embodiment of the present specification, X is O, NR' or C=O.

본 명세서의 일 실시상태에 있어서, 상기 R'는 수소; 중수소; 치환 또는 비치환된 알킬기; 또는 치환 또는 비치환된 아릴기이다. In an exemplary embodiment of the present specification, R' is hydrogen; heavy hydrogen; a substituted or unsubstituted alkyl group; or a substituted or unsubstituted aryl group.

본 명세서의 일 실시상태에 있어서, 상기 R'는 치환 또는 비치환된 알킬기; 또는 치환 또는 비치환된 아릴기이다. In an exemplary embodiment of the present specification, R' is a substituted or unsubstituted alkyl group; or a substituted or unsubstituted aryl group.

본 명세서의 일 실시상태에 있어서, 상기 R'는 탄소수 1 내지 30의 치환 또는 비치환된 알킬기; 또는 탄소수 6 내지 30의 치환 또는 비치환된 아릴기이다. In an exemplary embodiment of the present specification, R' is a substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 30 carbon atoms; or a substituted or unsubstituted aryl group having 6 to 30 carbon atoms.

본 명세서의 일 실시상태에 있어서, 상기 R'는 탄소수 1 내지 20의 치환 또는 비치환된 알킬기; 또는 탄소수 6 내지 20의 치환 또는 비치환된 아릴기이다. In an exemplary embodiment of the present specification, R' is a substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 20 carbon atoms; or a substituted or unsubstituted aryl group having 6 to 20 carbon atoms.

본 명세서의 일 실시상태에 있어서, 상기 R'는 탄소수 1 내지 10의 치환 또는 비치환된 알킬기; 또는 탄소수 6 내지 10의 치환 또는 비치환된 아릴기이다. In an exemplary embodiment of the present specification, R' is a substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 10 carbon atoms; or a substituted or unsubstituted aryl group having 6 to 10 carbon atoms.

본 명세서의 일 실시상태에 있어서, 상기 R'는 치환 또는 비치환된 메틸기; 치환 또는 비치환된 프로필기; 또는 치환 또는 비치환된 페닐기이다. In an exemplary embodiment of the present specification, R' is a substituted or unsubstituted methyl group; a substituted or unsubstituted propyl group; or a substituted or unsubstituted phenyl group.

본 명세서의 일 실시상태에 있어서, 상기 R'는 메틸기; 프로필기; 또는 페닐기이다. In an exemplary embodiment of the present specification, R' is a methyl group; Profile group; or a phenyl group.

본 명세서의 일 실시상태에 있어서, R1 내지 R4는 서로 같거나 상이하고, 각각 독립적으로 수소; 중수소; 할로겐기; 히드록시기; 술폰산염기; 치환 또는 비치환된 아민기; 치환 또는 비치환된 알킬기; 또는 치환 또는 비치환된 시클로알킬기이고, 상기 X가 C=O인 경우, 상기 R3는 수소; 중수소; 할로겐기; 히드록시기; 술폰산염기; 치환된 아민기; 치환 또는 비치환된 알킬기; 또는 치환 또는 비치환된 시클로알킬기이다. In an exemplary embodiment of the present specification, R1 to R4 are the same as or different from each other, and each independently hydrogen; heavy hydrogen; halogen group; hydroxyl group; sulfonate group; a substituted or unsubstituted amine group; a substituted or unsubstituted alkyl group; or a substituted or unsubstituted cycloalkyl group, and when X is C=O, R3 is hydrogen; heavy hydrogen; halogen group; hydroxyl group; sulfonate group; a substituted amine group; a substituted or unsubstituted alkyl group; or a substituted or unsubstituted cycloalkyl group.

본 명세서의 일 실시상태에 있어서, R1 내지 R4는 서로 같거나 상이하고, 각각 독립적으로 수소; 할로겐기; 히드록시기; 술폰산염기; 치환 또는 비치환된 아민기; 치환 또는 비치환된 알킬기; 또는 치환 또는 비치환된 시클로알킬기이고, 상기 X가 C=O인 경우, 상기 R3는 수소; 중수소; 할로겐기; 히드록시기; 술폰산염기; 치환된 아민기; 치환 또는 비치환된 알킬기; 또는 치환 또는 비치환된 시클로알킬기이다. In an exemplary embodiment of the present specification, R1 to R4 are the same as or different from each other, and each independently hydrogen; halogen group; hydroxyl group; sulfonate group; a substituted or unsubstituted amine group; a substituted or unsubstituted alkyl group; or a substituted or unsubstituted cycloalkyl group, and when X is C=O, R3 is hydrogen; heavy hydrogen; halogen group; hydroxyl group; sulfonate group; a substituted amine group; a substituted or unsubstituted alkyl group; or a substituted or unsubstituted cycloalkyl group.

본 명세서의 일 실시상태에 있어서, R1 내지 R4는 서로 같거나 상이하고, 각각 독립적으로 수소; 브롬; 염소; 히드록시기; 술폰산염기; 치환 또는 비치환된 아민기; 치환 또는 비치환된 알킬기; 또는 치환 또는 비치환된 시클로알킬기이고, 상기 X가 C=O인 경우, 상기 R3는 수소; 중수소; 할로겐기; 히드록시기; 술폰산염기; 치환된 아민기; 치환 또는 비치환된 알킬기; 또는 치환 또는 비치환된 시클로알킬기이다. In an exemplary embodiment of the present specification, R1 to R4 are the same as or different from each other, and each independently hydrogen; bromine; Goat; hydroxyl group; sulfonate group; a substituted or unsubstituted amine group; a substituted or unsubstituted alkyl group; or a substituted or unsubstituted cycloalkyl group, and when X is C=O, R3 is hydrogen; heavy hydrogen; halogen group; hydroxyl group; sulfonate group; a substituted amine group; a substituted or unsubstituted alkyl group; or a substituted or unsubstituted cycloalkyl group.

본 명세서의 일 실시상태에 있어서, R1 내지 R4는 서로 같거나 상이하고, 각각 독립적으로 수소; 브롬; 염소; 히드록시기; 술폰산염기; 치환 또는 비치환된 아민기; 탄소수 1 내지 30의 치환 또는 비치환된 알킬기; 또는 탄소수 3 내지 30의 치환 또는 비치환된 시클로알킬기이고, 상기 X가 C=O인 경우, 상기 R3는 수소; 중수소; 할로겐기; 히드록시기; 술폰산염기; 치환된 아민기; 탄소수 1 내지 30의 치환 또는 비치환된 알킬기; 또는 치환 또는 비치환된 시클로알킬기이다. In an exemplary embodiment of the present specification, R1 to R4 are the same as or different from each other, and each independently hydrogen; bromine; Goat; hydroxyl group; sulfonate group; a substituted or unsubstituted amine group; a substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 30 carbon atoms; or a substituted or unsubstituted cycloalkyl group having 3 to 30 carbon atoms, and when X is C=O, R3 is hydrogen; heavy hydrogen; halogen group; hydroxyl group; sulfonate group; a substituted amine group; a substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 30 carbon atoms; or a substituted or unsubstituted cycloalkyl group.

본 명세서의 일 실시상태에 있어서, R1 내지 R4는 서로 같거나 상이하고, 각각 독립적으로 수소; 브롬; 염소; 히드록시기; 술폰산염기; 치환 또는 비치환된 아민기; 탄소수 1 내지 20의 치환 또는 비치환된 알킬기; 또는 탄소수 3 내지 20의 치환 또는 비치환된 시클로알킬기이고, 상기 X가 C=O인 경우, 상기 R3는 수소; 중수소; 할로겐기; 히드록시기; 술폰산염기; 치환된 아민기; 탄소수 1 내지 20의 치환 또는 비치환된 알킬기; 또는 치환 또는 비치환된 시클로알킬기이다.In an exemplary embodiment of the present specification, R1 to R4 are the same as or different from each other, and each independently hydrogen; bromine; Goat; hydroxyl group; sulfonate group; a substituted or unsubstituted amine group; a substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 20 carbon atoms; or a substituted or unsubstituted cycloalkyl group having 3 to 20 carbon atoms, and when X is C=O, R3 is hydrogen; heavy hydrogen; halogen group; hydroxyl group; sulfonate group; a substituted amine group; a substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 20 carbon atoms; or a substituted or unsubstituted cycloalkyl group.

본 명세서의 일 실시상태에 있어서, R1 내지 R4는 서로 같거나 상이하고, 각각 독립적으로 수소; 브롬; 염소; 히드록시기; 술폰산염기; 치환 또는 비치환된 아민기; 탄소수 1 내지 10의 치환 또는 비치환된 알킬기; 또는 탄소수 3 내지 10의 치환 또는 비치환된 시클로알킬기이고, 상기 X가 C=O인 경우, 상기 R3는 수소; 중수소; 할로겐기; 히드록시기; 술폰산염기; 치환된 아민기; 탄소수 1 내지 10의 치환 또는 비치환된 알킬기; 또는 치환 또는 비치환된 시클로알킬기이다.In an exemplary embodiment of the present specification, R1 to R4 are the same as or different from each other, and each independently hydrogen; bromine; Goat; hydroxyl group; sulfonate group; a substituted or unsubstituted amine group; a substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 10 carbon atoms; or a substituted or unsubstituted cycloalkyl group having 3 to 10 carbon atoms, and when X is C=O, R3 is hydrogen; heavy hydrogen; halogen group; hydroxyl group; sulfonate group; a substituted amine group; a substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 10 carbon atoms; or a substituted or unsubstituted cycloalkyl group.

본 명세서의 일 실시상태에 있어서, R1 내지 R4는 서로 같거나 상이하고, 각각 독립적으로 수소; 브롬; 염소; 히드록시기; -SO3Na; 아민기(-NH2); 치환 또는 비치환된 메틸기; 치환 또는 비치환된 에틸기; 치환 또는 비치환된 프로필기; 치환 또는 비치환된 부틸기; 또는 치환 또는 비치환된 시클로헥실기이고, 상기 X가 C=O인 경우, 상기 R3는 수소; 브롬; 히드록시기; 또는 사이클로헥실아민기이다. In an exemplary embodiment of the present specification, R1 to R4 are the same as or different from each other, and each independently hydrogen; bromine; Goat; hydroxyl group; -SO 3 Na; amine group (—NH 2 ); a substituted or unsubstituted methyl group; a substituted or unsubstituted ethyl group; a substituted or unsubstituted propyl group; a substituted or unsubstituted butyl group; or a substituted or unsubstituted cyclohexyl group, and when X is C=O, R3 is hydrogen; bromine; hydroxyl group; or a cyclohexylamine group.

본 명세서의 일 실시상태에 있어서, R1는 수소; 브롬; 아민기(-NH2); 에폭시기로 치환된 메틸기; 또는 에틸아민기로 치환된 메틸기이다. In an exemplary embodiment of the present specification, R1 is hydrogen; bromine; amine group (—NH 2 ); a methyl group substituted with an epoxy group; or a methyl group substituted with an ethylamine group.

본 명세서의 일 실시상태에 있어서, R2는 수소; -SO3Na; 또는 브롬이다. In an exemplary embodiment of the present specification, R2 is hydrogen; -SO 3 Na; or bromine.

본 명세서의 일 실시상태에 있어서, R3는 수소; 브롬; 히드록시기; 또는 시클로헥실아민기이다. In an exemplary embodiment of the present specification, R3 is hydrogen; bromine; hydroxyl group; or a cyclohexylamine group.

본 명세서의 일 실시상태에 있어서, R4는 수소; 브롬; 염소; 아민기(-NH2); 에폭시기로 치환된 메틸기; 히드록시기로 치환된 에틸기; tert-부틸기; 또는 시클로헥실기이다. In an exemplary embodiment of the present specification, R4 is hydrogen; bromine; Goat; amine group (—NH 2 ); a methyl group substituted with an epoxy group; an ethyl group substituted with a hydroxyl group; tert-butyl group; or a cyclohexyl group.

본 명세서의 일 실시상태에 있어서, 에폭시기로 치환된 메틸기는 하기 치환기로 표시될 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다. In an exemplary embodiment of the present specification, the methyl group substituted with an epoxy group may be represented by the following substituent, but is not limited thereto.

Figure 112018057728068-pat00003
Figure 112018057728068-pat00003

본 명세서의 일 실시상태에 있어서, 히드록시기로 치환된 에틸기는 하기 치환기로 표시될 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다. In the exemplary embodiment of the present specification, the ethyl group substituted with a hydroxyl group may be represented by the following substituents, but is not limited thereto.

Figure 112018057728068-pat00004
Figure 112018057728068-pat00004

본 명세서의 일 실시상태에 있어서, r1 및 r4는 0 내지 4의 정수이고, r1 및 r4가 2 이상인 경우 괄호 ( ) 안의 구조는 같거나 상이하고, r2 및 r3는 0 내지 2의 정수이고, r2 및 r3가 2 이상인 경우 괄호 ( ) 안의 구조는 같거나 상이하다. In an exemplary embodiment of the present specification, r1 and r4 are integers of 0 to 4, and when r1 and r4 are 2 or more, the structures in parentheses ( ) are the same or different, r2 and r3 are integers of 0 to 2, r2 and when r3 is 2 or more, structures in parentheses ( ) are the same or different.

본 명세서의 또 하나의 일 실시상태에 따르면, 상기 화학식 1은 하기 화학식 2로 표시될 수 있다.According to another exemplary embodiment of the present specification, Chemical Formula 1 may be represented by Chemical Formula 2 below.

[화학식 2][Formula 2]

Figure 112018057728068-pat00005
Figure 112018057728068-pat00005

상기 화학식 2에 있어서,In Formula 2,

R1 내지 R4 및 r1 내지 r4는 상기 화학식 1에서 정의한 바와 같다. R1 to R4 and r1 to r4 are as defined in Formula 1 above.

본 명세서의 또 하나의 일 실시상태에 따르면, 상기 화학식 1은 하기 화학식 3으로 표시될 수 있다.According to another exemplary embodiment of the present specification, Chemical Formula 1 may be represented by Chemical Formula 3 below.

[화학식 3][Formula 3]

Figure 112018057728068-pat00006
Figure 112018057728068-pat00006

상기 화학식 3에 있어서, In Formula 3,

R1 내지 R4 및 r1 내지 r4는 상기 화학식 1에서 정의한 바와 같다. R1 to R4 and r1 to r4 are as defined in Formula 1 above.

본 명세서의 또 하나의 일 실시상태에 따르면, 상기 화학식 1은 하기 화학식 4로 표시될 수 있다.According to another exemplary embodiment of the present specification, Chemical Formula 1 may be represented by Chemical Formula 4 below.

[화학식 4][Formula 4]

Figure 112018057728068-pat00007
Figure 112018057728068-pat00007

상기 화학식 4에 있어서, In Formula 4,

R', R1 내지 R4 및 r1 내지 r4는 상기 화학식 1에서 정의한 바와 같다.R', R1 to R4 and r1 to r4 are as defined in Formula 1 above.

본 명세서의 또 하나의 일 실시상태에 따르면, 상기 화학식 1은 하기 화학식 중 어느 하나로 표시될 수 있으나, 반드시 이에 한정되는 것은 아니다According to another exemplary embodiment of the present specification, Chemical Formula 1 may be represented by any one of the following Chemical Formulas, but is not necessarily limited thereto.

Figure 112018057728068-pat00008
Figure 112018057728068-pat00008

Figure 112018057728068-pat00009
Figure 112018057728068-pat00009

또한, 본 명세서의 일 실시상태에 따르면, 상기 화합물을 포함하는 색재 조성물을 제공할 수 있다. In addition, according to an exemplary embodiment of the present specification, it is possible to provide a color material composition including the compound.

상기 색재 조성물은 상기 화학식 1의 화합물 이외에 염료 및 안료 중 적어도 1종을 더 포함할 수 있다. 예컨대, 상기 색재 조성물은 상기 화학식 1의 화합물만을 포함할 수도 있으나, 상기 화학식 1의 화합물과 1종 이상의 염료를 포함하거나, 상기 화학식 1의 화합물과 1종 이상의 안료를 포함하거나, 상기 화학식 1의 화합물, 1종 이상의 염료 및 1종 이상의 안료를 포함할 수도 있다. The color material composition may further include at least one of a dye and a pigment in addition to the compound of Formula 1 above. For example, the color material composition may include only the compound of Formula 1, but includes the compound of Formula 1 and one or more dyes, or includes the compound of Formula 1 and one or more pigments, or the compound of Formula 1 , one or more dyes and one or more pigments.

본 명세서의 일 실시상태에 따르면, 상기 색재 조성물을 포함하는 수지 조성물을 제공할 수 있다.According to an exemplary embodiment of the present specification, a resin composition including the color material composition may be provided.

본 명세서의 일 실시상태에 따르면, 상기 수지 조성물은 상기 화학식 1로 표시되는 화합물; 바인더 수지; 다관능성 모노머; 광개시제; 및 용매를 더 포함할 수 있다.According to an exemplary embodiment of the present specification, the resin composition may include a compound represented by Formula 1; binder resin; polyfunctional monomers; photoinitiators; and a solvent.

상기 바인더 수지는 수지 조성물로 제조된 막의 강도, 현상성 등의 물성을 나타낼 수 있다면, 특별히 한정하지 않는다. The binder resin is not particularly limited as long as it can exhibit physical properties such as strength and developability of a film made of the resin composition.

상기 바인더 수지는 기계적 강도를 부여하는 다관능성 모노머와 알칼리 용해성을 부여하는 모노머의 공중합 수지를 이용할 수 있으며, 당 기술분야에서 일반적으로 사용하는 바인더를 더 포함할 수 있다. The binder resin may use a copolymer resin of a polyfunctional monomer imparting mechanical strength and a monomer imparting alkali solubility, and may further include a binder generally used in the art.

상기 막의 기계적 강도를 부여하는 다관능성 모노머는 불포화 카르복시산 에스테류; 방향족 비닐류; 불포화 에테르류; 불포화 이미드류; 및 산 무수물 중 어느 하나 이상일 수 있다. The polyfunctional monomer imparting the mechanical strength of the membrane is an unsaturated carboxylic acid ester; aromatic vinyls; unsaturated ethers; unsaturated imides; and an acid anhydride.

상기 불포화 카르복시산 에스테르류의 구체적인 예로는, 벤질(메타)아크릴레이트, 메틸(메타)아크릴레이트, 에틸(메타)아크릴레이트, 부틸(메타)아크릴레이트, 디메틸아미노에틸(메타)아크릴레이트, 이소부틸(메타)아크릴레이트, t-부틸(메타)아크릴레이트, 시클로헥실(메타)아크릴레이트, 이소보닐(메타)아크릴레이트, 에틸헥실(메타)아크릴레이트, 2-페녹시에틸(메타)아크릴레이트, 테트라히드로퍼프릴(메타)아크릴레이트, 히드록시에틸(메타)아크릴레이트, 2-히드록시프로필(메타)아크릴레이트, 2-히드록시-3-클로로프로필(메타)아크릴레이트, 4-히드록시부틸(메타)아크릴레이트, 아실옥틸옥시-2-히드록시프로필(메타)아크릴레이트, 글리세롤(메타)아크릴레이트, 2-메톡시에틸(메타)아크릴레이트, 3-메톡시부틸(메타)아크릴레이트, 에톡시디에틸렌글리콜 (메타)아크릴레이트, 메톡시트리에틸렌글리콜(메타)아크릴레이트, 메톡시트리프로필렌글리콜(메타)아크릴레이트, 폴리(에틸렌 글리콜) 메틸에테르(메타)아크릴레이트, 페녹시디에틸렌글리콜(메타)아크릴레이트, p-노닐페녹시폴리에틸렌글리콜(메타)아크릴레이트, p-노닐페녹시폴리프로필렌글리콜(메타)아크릴레이트, 글리시딜(메타)아크릴레이트, 테트라플루오로프로필(메타)아크릴레이트, 1,1,1,3,3,3-헥사플루오로이소프로필 (메타)아크릴레이트, 옥타플루오로펜틸(메타)아크릴레이트, 헵타데카플루오로데실(메타)아크릴레이트, 트리브로모페닐(메타)아크릴레이트, 메틸 α-히드록시메틸 아크릴레이트, 에틸 α-히드록시메틸 아크릴레이트, 프로필 α-히드록시메틸 아크릴레이트 및 부틸 α-히드록시메틸 아크릴레이트로 이루어진 그룹으로부터 선택될 수 있으나, 이들에만 한정되는 것은 아니다.Specific examples of the unsaturated carboxylic acid esters include benzyl (meth) acrylate, methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, butyl (meth) acrylate, dimethylaminoethyl (meth) acrylate, isobutyl ( meth) acrylate, t-butyl (meth) acrylate, cyclohexyl (meth) acrylate, isobornyl (meth) acrylate, ethylhexyl (meth) acrylate, 2-phenoxyethyl (meth) acrylate, tetra Hydropuffril (meth) acrylate, hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, 2-hydroxy-3-chloropropyl (meth) acrylate, 4-hydroxybutyl ( Meth) acrylate, acyloctyloxy-2-hydroxypropyl (meth) acrylate, glycerol (meth) acrylate, 2-methoxyethyl (meth) acrylate, 3-methoxybutyl (meth) acrylate, ethoxy Cydiethylene glycol (meth)acrylate, methoxytriethylene glycol (meth)acrylate, methoxytripropylene glycol (meth)acrylate, poly(ethylene glycol) methyl ether (meth)acrylate, phenoxydiethylene glycol (meth) ) acrylate, p-nonylphenoxypolyethylene glycol (meth)acrylate, p-nonylphenoxypolypropylene glycol (meth)acrylate, glycidyl (meth)acrylate, tetrafluoropropyl (meth)acrylate, 1,1,1,3,3,3-hexafluoroisopropyl (meth)acrylate, octafluoropentyl (meth)acrylate, heptadecafluorodecyl (meth)acrylate, tribromophenyl (meth) ) acrylate, methyl α-hydroxymethyl acrylate, ethyl α-hydroxymethyl acrylate, propyl α-hydroxymethyl acrylate and butyl α-hydroxymethyl acrylate, but only It is not limited.

상기 방향족 비닐류의 구체적인 예로는, 스티렌, α-메틸스티렌, (o,m,p)-비닐 톨루엔, (o,m,p)-메톡시 스티렌, 및 (o,m,p)-클로로 스티렌으로 이루어진 그룹으로부터 선택될 수 있으나, 이들에만 한정되는 것은 아니다.Specific examples of the aromatic vinyl include styrene, α-methylstyrene, (o,m,p)-vinyl toluene, (o,m,p)-methoxy styrene, and (o,m,p)-chloro styrene. It may be selected from the group consisting of, but is not limited thereto.

상기 불포화 에테르류의 구체적인 예로는, 비닐 메틸 에테르, 비닐 에틸 에테르, 및 알릴 글리시딜 에테르로 이루어진 그룹으로부터 선택될 수 있으나, 이들에만 한정되는 것은 아니다.Specific examples of the unsaturated ethers may be selected from the group consisting of vinyl methyl ether, vinyl ethyl ether, and allyl glycidyl ether, but are not limited thereto.

상기 불포화 이미드류의 구체적인 예로는, N-페닐 말레이미드, N-(4-클로로페닐) 말레이미드, N-(4-히드록시페닐) 말레이미드, 및 N-시클로헥실 말레이미드로 이루어진 그룹으로부터 선택될 수 있으나, 이들에만 한정되는 것은 아니다.Specific examples of the unsaturated imides are selected from the group consisting of N-phenyl maleimide, N-(4-chlorophenyl) maleimide, N-(4-hydroxyphenyl) maleimide, and N-cyclohexyl maleimide. may be, but is not limited thereto.

상기 산 무수물로는 무수 말레인산, 무수 메틸 말레인산, 테트라하이드로 프탈산 무수물 등이 있으나, 이들에만 한정되는 것은 아니다.Examples of the acid anhydride include, but are not limited to, maleic anhydride, methyl maleic anhydride, tetrahydrophthalic anhydride, and the like.

상기 알칼리 용해성을 부여하는 모노머는 산기를 포함한다면 특별히 한정되지 않으며, 예를 들면, (메타)아크릴산, 크로톤산, 이타콘산, 말레인산, 푸마르산, 모노메틸 말레인산, 5-노보넨-2-카복실산, 모노-2-((메타)아크릴로일옥시)에틸 프탈레이트, 모노-2-((메타)아크릴로일옥시)에틸 숙시네이트, ω-카르복시 폴리카프로락톤 모노(메타)아크릴레이트로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1 종 이상을 사용하는 것이 바람직하나, 이들에만 한정되는 것은 아니다.The monomer imparting alkali solubility is not particularly limited as long as it contains an acid group, and for example, (meth)acrylic acid, crotonic acid, itaconic acid, maleic acid, fumaric acid, monomethyl maleic acid, 5-norbornene-2-carboxylic acid, mono -2-((meth)acryloyloxy)ethyl phthalate, mono-2-((meth)acryloyloxy)ethyl succinate, ω-carboxy polycaprolactone mono(meth)acrylate selected from the group consisting of It is preferable to use one or more types, but is not limited thereto.

본 명세서의 일 실시상태에 따르면, 상기 바인더 수지의 산가는 50 내지 130 KOH mg/g이고, 중량 평균 분자량은 1,000 내지 50,000이다. According to an exemplary embodiment of the present specification, the binder resin has an acid value of 50 to 130 KOH mg/g, and a weight average molecular weight of 1,000 to 50,000.

상기 다관능성 모노머는 광에 의해 포토레지스트상을 형성하는 역할을 하는 모노머로서, 구체적으로는 프로필렌글리콜 메타크릴레이트, 디펜타에리쓰리톨 헥사아크릴레이트, 디펜타에리쓰리톨 아크릴레이트, 네오펜틸글리콜 디아크릴레이트, 6-헥산디올 디아크릴레이트, 1,6-헥산디올 아크릴레이트 테트라에틸렌글리콜 메타크릴레이트, 비스페녹시 에틸알콜 디아크릴레이트, 트리스히드록시에틸이소시아누레이트 트리메타크릴레이트, 트리메틸프로판 트리메타크릴레이트, 디페닐펜타에리스톨리톨 헥사아크릴레이트, 펜타에리 쓰리톨 트리메타 크릴레이트, 펜타에리쓰리톨 테트라메타크릴레이트 및 디펜타에리쓰리톨 헥사메타 크릴레이트로 이루어진 그룹 중에서 선택되는 1종 또는 2종 이상의 혼합물일 수 있다.The polyfunctional monomer is a monomer that forms a photoresist image by light, specifically propylene glycol methacrylate, dipentaerythritol hexaacrylate, dipentaerythritol acrylate, neopentyl glycol di Acrylate, 6-hexanediol diacrylate, 1,6-hexanediol acrylate tetraethylene glycol methacrylate, bisphenoxy ethyl alcohol diacrylate, trishydroxyethyl isocyanurate trimethacrylate, trimethyl 1 selected from the group consisting of propane trimethacrylate, diphenylpentaerythritol hexaacrylate, pentaerythritol trimethacrylate, pentaerythritol tetramethacrylate, and dipentaerythritol hexamethacrylate species or a mixture of two or more species.

상기 광개시제는 빛에 의해 라디칼을 발생시켜 가교를 촉발하는 개시제이면, 특별히 한정되지 않으나, 예를 들면, 아세토페논계 화합물, 비이미다졸계 화합물, 트리아진계 화합물, 및 옥심계 화합물로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종 이상일 수 있다. The photoinitiator is not particularly limited as long as it is an initiator that triggers crosslinking by generating radicals by light, for example, selected from the group consisting of acetophenone-based compounds, biimidazole-based compounds, triazine-based compounds, and oxime-based compounds. There may be more than one type.

상기 아세토페논계 화합물은 2-히드록시-2-메틸-1-페닐프로판-1-온, 1-(4-이소프로필페닐)-2-히드록시-2-메틸프로판-1-온, 4-(2-히드록시에톡시)-페닐-(2-히드록시-2-프로필)케톤, 1-히드록시시클로헥실페닐케톤, 벤조인메틸 에테르, 벤조인에틸 에테르, 벤조인이소부틸 에테르, 벤조인부틸 에테르, 2,2-디메톡시-2-페닐아세토페논, 2-메틸-(4-메틸티오)페닐-2-몰폴리노-1-프로판-1-온, 2-벤질-2-디메틸아미노-1-(4-몰폴리노페닐)-부탄-1-온, 2-(4-브로모-벤질-2-디메틸아미노-1-(4-몰폴리노페닐)-부탄-1-온 또는 2-메틸-1-[4-(메틸티오)페닐]-2-몰폴리노프로판-1-온 등이 있으며, 이에 한정되지 않는다. The acetophenone-based compound is 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one, 1-(4-isopropylphenyl)-2-hydroxy-2-methylpropan-1-one, 4- (2-hydroxyethoxy)-phenyl-(2-hydroxy-2-propyl) ketone, 1-hydroxycyclohexylphenyl ketone, benzoinmethyl ether, benzoinethyl ether, benzoin isobutyl ether, benzoin Butyl ether, 2,2-dimethoxy-2-phenylacetophenone, 2-methyl-(4-methylthio)phenyl-2-morpholino-1-propan-1-one, 2-benzyl-2-dimethylamino -1-(4-morpholinophenyl)-butan-1-one, 2-(4-bromo-benzyl-2-dimethylamino-1-(4-morpholinophenyl)-butan-1-one or 2-methyl-1-[4-(methylthio)phenyl]-2-morpholinopropan-1-one, and the like.

상기 비이미다졸계 화합물로는 2,2-비스(2-클로로페닐)-4,4',5,5'-테트라페닐 비이미다졸, 2,2'-비스(o-클로로페닐)-4,4',5,5'-테트라키스(3,4,5-트리메톡시페닐)-1,2'-비이미다졸, 2,2'-비스(2,3-디클로로페닐)-4,4',5,5'-테트라페닐 비이미다졸, 2,2'-비스(o-클로로페닐)-4,4,5,5'-테트라페닐-1,2'-비이미다졸 등이 있으며, 이에 한정되지 않는다. As the biimidazole-based compound, 2,2-bis(2-chlorophenyl)-4,4',5,5'-tetraphenyl biimidazole, 2,2'-bis(o-chlorophenyl)-4 ,4',5,5'-tetrakis (3,4,5-trimethoxyphenyl)-1,2'-biimidazole, 2,2'-bis (2,3-dichlorophenyl)-4, 4',5,5'-tetraphenyl biimidazole, 2,2'-bis(o-chlorophenyl)-4,4,5,5'-tetraphenyl-1,2'-biimidazole, etc. , but not limited thereto.

상기 트리아진계 화합물은 3-{4-[2,4-비스(트리클로로메틸)-s-트리아진-6-일]페닐티오}프로피오닉산, 1,1,1,3,3,3-헥사플로로이소프로필-3-{4-[2,4-비스(트리클로로메틸)-s-트리아진-6-일]페닐티오}프로피오네이트, 에틸-2-{4-[2,4-비스(트리클로로메틸)-s-트리아진-6-일]페닐티오}아세테이트, 2-에폭시에틸-2-{4-[2,4-비스(트리클로로메틸)-s-트리아진-6-일]페닐티오}아세테이트, 시클로헥실-2-{4-[2,4-비스(트리클로로메틸)-s-트리아진-6-일]페닐티오}아세테이트, 벤질-2-{4-[2,4-비스(트리클로로메틸)-s-트리아진-6-일]페닐티오}아세테이트, 3-{클로로-4-[2,4-비스(트리클로로메틸)-s-트리아진-6-일]페닐티오}프로피오닉산, 3-{4-[2,4-비스(트리클로로메틸)-s-트리아진-6-일]페닐티오}프로피온아미드, 2,4-비스(트리클로로메틸)-6-p-메톡시스티릴-s-트리아진, 2,4-비스(트리클로로메틸)-6-(1-p-디메틸아미노페닐)-1,3,-부타디에닐-s-트리아진, 2-트리클로로메틸-4-아미노-6-p-메톡시스티릴-s-트리아진 등이 있으며, 이에 한정되지 않는다. The triazine-based compound is 3-{4-[2,4-bis(trichloromethyl)-s-triazin-6-yl]phenylthio}propionic acid, 1,1,1,3,3,3- Hexafluoroisopropyl-3-{4-[2,4-bis(trichloromethyl)-s-triazin-6-yl]phenylthio}propionate, ethyl-2-{4-[2,4 -bis(trichloromethyl)-s-triazin-6-yl]phenylthio}acetate, 2-epoxyethyl-2-{4-[2,4-bis(trichloromethyl)-s-triazine-6 -yl]phenylthio}acetate, cyclohexyl-2-{4-[2,4-bis(trichloromethyl)-s-triazin-6-yl]phenylthio}acetate, benzyl-2-{4-[ 2,4-bis(trichloromethyl)-s-triazin-6-yl]phenylthio}acetate, 3-{chloro-4-[2,4-bis(trichloromethyl)-s-triazine-6 -yl]phenylthio}propionic acid, 3-{4-[2,4-bis(trichloromethyl)-s-triazin-6-yl]phenylthio}propionamide, 2,4-bis(trichloro methyl)-6-p-methoxystyryl-s-triazine, 2,4-bis(trichloromethyl)-6-(1-p-dimethylaminophenyl)-1,3,-butadienyl-s -triazine, 2-trichloromethyl-4-amino-6-p-methoxystyryl-s-triazine, and the like, but are not limited thereto.

상기 옥심계 화합물은 1,2-옥타디온,-1-(4-페닐치오)페닐,-2-(o-벤조일옥심)(시바가이기사, 시지아이124), 에타논,-1-(9-에틸)-6-(2-메틸벤조일-3-일)-,1-(O-아세틸옥심)(씨지아이242), N-1919(아데카사) 등이 있으며, 이에 한정되지 않는다. The oxime-based compound is 1,2-octadione, -1- (4-phenylthio) phenyl, -2- (o-benzoyloxime) (Ciba Geigisa, SI 124), ethanone, -1- (9 -ethyl)-6-(2-methylbenzoyl-3-yl)-,1-(O-acetyloxime) (CGI 242), N-1919 (Adecas), and the like, but is not limited thereto.

상기 용매는 아세톤, 메틸 에틸 케톤, 메틸 이소부틸 케톤, 메틸셀로솔브, 에틸셀로솔브, 테트라히드로퓨란, 1,4-디옥산, 에틸렌글리콜 디메틸 에테르, 에틸렌글리콜 디에틸 에테르, 프로필렌글리콜 디메틸 에테르, 프로필렌글리콜 디에틸 에테르, 디에틸렌글리콜 디메틸에테르, 디에틸렌글리콜 디에틸에테르, 디에틸렌글리콜 메틸 에틸 에테르, 클로로포름, 염화메틸렌, 1,2-디클로로에탄, 1,1,1-트리클로로에탄, 1,1,2-트리클로로에탄, 1,1,2-트리클로로에텐, 헥산, 헵탄, 옥탄, 시클로헥산, 벤젠, 톨루엔, 크실렌, 메탄올, 에탄올, 이소프로판올, 프로판올, 부탄올, t-부탄올, 2-에톡시 프로판올, 2-메톡시 프로판올, 3-메톡시 부탄올, 시클로헥사논, 시클로펜타논, 프로필렌글리콜 메틸 에테르 아세테이트, 프로펠렌글리콜 에틸 에테르 아세테이트, 3-메톡시부틸 아세테이트, 에틸 3-에톡시프로피오네이트, 에틸 셀로솔브아세테이트, 메틸 셀로솔브아세테이트, 부틸 아세테이트, 프로필렌글리콜 모노메틸에테르 및 디프로필렌글리콜 모노메틸에테르로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1종 이상일 수 있으나, 이에만 한정되는 것은 아니다.The solvent is acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, methyl cellosolve, ethyl cellosolve, tetrahydrofuran, 1,4-dioxane, ethylene glycol dimethyl ether, ethylene glycol diethyl ether, propylene glycol dimethyl ether , propylene glycol diethyl ether, diethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol diethyl ether, diethylene glycol methyl ethyl ether, chloroform, methylene chloride, 1,2-dichloroethane, 1,1,1-trichloroethane, 1 ,1,2-trichloroethane, 1,1,2-trichloroethene, hexane, heptane, octane, cyclohexane, benzene, toluene, xylene, methanol, ethanol, isopropanol, propanol, butanol, t-butanol, 2 -Ethoxy propanol, 2-methoxy propanol, 3-methoxy butanol, cyclohexanone, cyclopentanone, propylene glycol methyl ether acetate, propylene glycol ethyl ether acetate, 3-methoxybutyl acetate, ethyl 3-ethoxy It may be at least one selected from the group consisting of propionate, ethyl cellosolve acetate, methyl cellosolve acetate, butyl acetate, propylene glycol monomethyl ether, and dipropylene glycol monomethyl ether, but is not limited thereto.

본 명세서의 일 실시상태에 따르면, 상기 수지 조성물 중 고형분의 총 중량을 기준으로, 상기 화학식 1로 표시되는 화합물의 함량은 5 중량% 내지 60 중량%이고, 상기 바인더 수지의 함량은 1 중량% 내지 60 중량%이고, 상기 광개시제의 함량은 0.1 중량% 내지 20 중량%이며, 상기 다관능성 모노머의 함량은 0.1 중량% 내지 50 중량%이다.According to an exemplary embodiment of the present specification, based on the total weight of the solid content in the resin composition, the content of the compound represented by Formula 1 is 5 wt% to 60 wt%, and the content of the binder resin is 1 wt% to 60 wt%, the content of the photoinitiator is 0.1 wt% to 20 wt%, the content of the polyfunctional monomer is 0.1 wt% to 50 wt%.

상기 고형분의 총 중량이란, 수지 조성물에서 용매를 제외한 성분 총 중량의 합을 의미한다. 고형분 및 각 성분의 고형분을 기준으로 한 중량%의 기준은 액체크로마토그래피 또는 가스크로마토그래피 등의 당업계에서 쓰이는 일반적인 분석 수단으로 측정할 수 있다. The total weight of the solid content means the sum of the total weight of the components excluding the solvent in the resin composition. The solid content and the basis of weight % based on the solid content of each component may be measured by general analytical means used in the art, such as liquid chromatography or gas chromatography.

본 명세서의 일 실시상태에 따르면, 상기 수지 조성물은 산화방지제를 더 포함할 수 있다.According to an exemplary embodiment of the present specification, the resin composition may further include an antioxidant.

본 명세서의 일 실시상태에 따르면, 상기 산화방지제의 함량은 상기 수지 조성물 중 고형분의 총 중량을 기준으로 0.1 중량% 내지 20 중량%이다.According to an exemplary embodiment of the present specification, the content of the antioxidant is 0.1 wt% to 20 wt% based on the total weight of solids in the resin composition.

본 명세서의 일 실시상태에 따르면, 상기 수지 조성물은 광가교증감제, 경화촉진제, 밀착촉진제, 계면활성제, 열중합방지제, 자외선흡수제, 분산제 및 레벨링제로 이루어진 군으로부터 선택되는 1 또는 2 이상의 첨가제를 추가로 포함한다.According to an exemplary embodiment of the present specification, the resin composition is selected from the group consisting of a photocrosslinking sensitizer, a curing accelerator, an adhesion promoter, a surfactant, a thermal polymerization inhibitor, an ultraviolet absorber, a dispersant, and a leveling agent Add 1 or 2 or more additives include as

본 명세서의 일 실시상태에 따르면, 상기 첨가제의 함량은 상기 수지 조성물 중 고형분의 총 중량을 기준으로 0.1 중량% 내지 20 중량%이다.According to an exemplary embodiment of the present specification, the content of the additive is 0.1 wt% to 20 wt% based on the total weight of solids in the resin composition.

상기 광가교증감제는 벤조페논, 4,4-비스(디메틸아미노)벤조페논, 4,4-비스(디에틸아미노)벤조페논, 2,4,6-트리메틸아미노벤조페논, 메틸-o-벤조일벤조에이트, 3,3-디메틸-4-메톡시벤조페논, 3,3,4,4-테트라(t-부틸퍼옥시카보닐)벤조페논 등의 벤조페논계 화합물; 9-플로레논, 2-크로로-9-프로레논, 2-메틸-9-플로레논 등의 플로레논계 화합물; 티옥산톤, 2,4-디에틸 티옥산톤, 2-클로로 티옥산톤, 1-클로로-4-프로필옥시 티옥산톤, 이소프로필티옥산톤, 디이소프로필티옥산톤 등의 티옥산톤계 화합물; 크산톤, 2-메틸크산톤 등의 크산톤계 화합물; 안트라퀴논, 2-메틸 안트라퀴논, 2-에틸 안트라퀴논, t-부틸 안트라퀴논, 2,6-디클로로-9,10- 안트라퀴논 등의 안트라퀴논계 화합물; 9-페닐아크리딘, 1,7-비스(9-아크리디닐)헵탄, 1,5-비스(9-아크리디닐펜탄), 1,3-비스(9-아크리디닐)프로판 등의 아크리딘계 화합물; 벤질, 1,7,7-트리메틸-비시클로[2,2,1]헵탄-2,3-디온, 9,10-펜안트렌퀴논 등의 디카보닐 화합물; 2,4,6-트리메틸벤조일 디페닐포스핀 옥사이드, 비스(2,6-디메톡시벤조일)-2,4,4-트리메틸펜틸 포스핀 옥사이드 등의 포스핀 옥사이드계 화합물; 메틸-4-(디메틸아미노)벤조에이트, 에틸-4-(디메틸아미노)벤조에이트, 2-n-부톡시에틸-4-(디메틸아미노)벤조에이트 등의 벤조에이트계 화합물; 2,5-비스(4-디에틸아미노벤잘)시클로펜타논, 2,6-비스(4-디에틸아미노벤잘)시클로헥사논, 2,6-비스(4-디에틸아미노벤잘)-4-메틸-시클로펜타논 등의 아미노 시너지스트; 3,3-카본닐비닐-7-(디에틸아미노)쿠마린, 3-(2-벤조티아졸일)-7-(디에틸아미노)쿠마린, 3-벤조일-7-(디에틸아미노)쿠마린, 3-벤조일-7-메톡시-쿠마린, 10,10-카르보닐비스[1,1,7,7-테트라메틸-2,3,6,7-테트라히드로-1H,5H,11H-C1]-벤조피라노[6,7,8-ij]-퀴놀리진-11-온 등의 쿠마린계 화합물; 4-디에틸아미노 칼콘, 4-아지드벤잘아세토페논 등의 칼콘 화합물; 2-벤조일메틸렌, 3-메틸-b-나프토티아졸린;으로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종 이상을 사용할 수 있다.The photocrosslinking sensitizer is benzophenone, 4,4-bis(dimethylamino)benzophenone, 4,4-bis(diethylamino)benzophenone, 2,4,6-trimethylaminobenzophenone, methyl-o-benzoyl benzophenone compounds such as benzoate, 3,3-dimethyl-4-methoxybenzophenone, and 3,3,4,4-tetra(t-butylperoxycarbonyl)benzophenone; fluorenone compounds such as 9-fluorenone, 2-chloro-9-prorenone, and 2-methyl-9-fluorenone; Thioxanthone type, such as thioxanthone, 2,4-diethyl thioxanthone, 2-chloro thioxanthone, 1-chloro-4-propyloxy thioxanthone, isopropyl thioxanthone, diisopropyl thioxanthone compound; xanthone-based compounds such as xanthone and 2-methylxanthone; anthraquinone compounds such as anthraquinone, 2-methyl anthraquinone, 2-ethyl anthraquinone, t-butyl anthraquinone, and 2,6-dichloro-9,10-anthraquinone; 9-phenylacridine, 1,7-bis(9-acridinyl)heptane, 1,5-bis(9-acridinylpentane), 1,3-bis(9-acridinyl)propane, etc. acridine-based compounds; dicarbonyl compounds such as benzyl, 1,7,7-trimethyl-bicyclo[2,2,1]heptane-2,3-dione, and 9,10-phenanthrenequinone; phosphine oxide compounds such as 2,4,6-trimethylbenzoyl diphenylphosphine oxide and bis(2,6-dimethoxybenzoyl)-2,4,4-trimethylpentyl phosphine oxide; benzoate compounds such as methyl-4-(dimethylamino)benzoate, ethyl-4-(dimethylamino)benzoate, and 2-n-butoxyethyl-4-(dimethylamino)benzoate; 2,5-bis(4-diethylaminobenzal)cyclopentanone, 2,6-bis(4-diethylaminobenzal)cyclohexanone, 2,6-bis(4-diethylaminobenzal)-4- amino synergists such as methyl-cyclopentanone; 3,3-carbonylvinyl-7-(diethylamino)coumarin, 3-(2-benzothiazolyl)-7-(diethylamino)coumarin, 3-benzoyl-7-(diethylamino)coumarin, 3 -benzoyl-7-methoxy-coumarin, 10,10-carbonylbis[1,1,7,7-tetramethyl-2,3,6,7-tetrahydro-1H,5H,11H-C1]-benzo coumarin-based compounds such as pyrano[6,7,8-ij]-quinolizin-11-one; chalcone compounds such as 4-diethylamino chalcone and 4-azidebenzalacetophenone; At least one selected from the group consisting of 2-benzoylmethylene and 3-methyl-b-naphthothiazoline may be used.

상기 경화촉진제로는 경화 및 기계적 강도를 높이기 사용되며, 구체적으로 2-머캅토벤조이미다졸, 2-머캅토벤조티아졸, 2-머캅토벤조옥사졸, 2,5-디머캅토-1,3,4-티아디아졸, 2-머캅토-4,6-디메틸아미노피리딘, 펜타에리스리톨-테트라키스(3-머캅토프로피오네이트), 펜타에리스리톨-트리스(3-머캅토프로피오네이트), 펜타에리스리톨-테트라키스(2-머캅토아세테이트), 펜타에리스리톨-트리스(2-머캅토아세테이트), 트리메틸올프로판-트리스(2-머캅토아세테이트), 및 트리메틸올프로판-트리스(3-머캅토프로피오네이트)로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종 이상을 사용할 수 있다.The curing accelerator is used to increase curing and mechanical strength, and specifically, 2-mercaptobenzoimidazole, 2-mercaptobenzothiazole, 2-mercaptobenzooxazole, 2,5-dimercapto-1,3 ,4-thiadiazole, 2-mercapto-4,6-dimethylaminopyridine, pentaerythritol-tetrakis (3-mercaptopropionate), pentaerythritol-tris (3-mercaptopropionate), pentaerythritol Erythritol-tetrakis(2-mercaptoacetate), pentaerythritol-tris(2-mercaptoacetate), trimethylolpropane-tris(2-mercaptoacetate), and trimethylolpropane-tris(3-mercaptopropio) nate) may be used at least one selected from the group consisting of.

본 명세서에서 사용되는 밀착촉진제로는 메타아크릴로일옥시 프로필트리메톡시 실란, 메타아크릴로일옥시 프로필디메톡시 실란, 메타아크릴로일옥시 프로필트리에톡시 실란, 메타아크릴로일옥시 프로필디메톡시실란 등의 메타 아크릴로일 실란 커플링제 중 1종 이상을 선택하여 사용할 수 있고, 알킬 트리메톡시 실란으로서 옥틸트리메톡시 실란, 도데실트리메톡시 실란, 옥타데실트리메톡시 실란 등에서 1종 이상을 선택하여 사용할 수 있다.The adhesion promoter used herein includes methacryloyloxy propyltrimethoxy silane, methacryloyloxy propyldimethoxy silane, methacryloyloxy propyltriethoxy silane, and methacryloyloxy propyldimethoxysilane. It is possible to select and use at least one type of methacryloyl silane coupling agent such as, and at least one type of octyltrimethoxysilane, dodecyltrimethoxysilane, octadecyltrimethoxysilane, etc. as the alkyl trimethoxysilane. You can choose to use it.

상기 계면활성제는 실리콘계 계면활성제 또는 불소계 계면활성제이며, 구체적으로 실리콘계 계면활성제는 BYK-Chemie 사의 BYK-077, BYK-085, BYK-300, BYK-301, BYK-302, BYK-306, BYK-307, BYK-310, BYK-320, BYK-322, BYK-323, BYK-325, BYK-330, BYK-331, BYK-333, BYK-335, BYK-341v344, BYK-345v346, BYK-348, BYK-354, BYK-355, BYK-356, BYK-358, BYK-361, BYK-370, BYK-371, BYK-375, BYK-380, BYK-390 등을 사용할 수 있으며, 불소계 계면활성제로는 DIC(DaiNippon Ink & Chemicals) 사의 F-114, F-177, F-410, F-411, F-450, F-493, F-494, F-443, F-444, F-445, F-446, F-470, F-471, F-472SF, F-474, F-475, F-477, F-478, F-479, F-480SF, F-482, F-483, F-484, F-486, F-487, F-172D, MCF-350SF, TF-1025SF, TF-1117SF, TF-1026SF, TF-1128, TF-1127, TF-1129, TF-1126, TF-1130, TF-1116SF, TF-1131, TF1132, TF1027SF, TF-1441, TF-1442 등을 사용할 수 있으나, 이에만 한정되는 것은 아니다.The surfactant is a silicone-based surfactant or a fluorine-based surfactant, and specifically, the silicone-based surfactant is BYK-077, BYK-085, BYK-300, BYK-301, BYK-302, BYK-306, BYK-307 manufactured by BYK-Chemie. , BYK-310, BYK-320, BYK-322, BYK-323, BYK-325, BYK-330, BYK-331, BYK-333, BYK-335, BYK-341v344, BYK-345v346, BYK-348, BYK -354, BYK-355, BYK-356, BYK-358, BYK-361, BYK-370, BYK-371, BYK-375, BYK-380, BYK-390, etc. can be used. (DaiNippon Ink & Chemicals) F-114, F-177, F-410, F-411, F-450, F-493, F-494, F-443, F-444, F-445, F-446 , F-470, F-471, F-472SF, F-474, F-475, F-477, F-478, F-479, F-480SF, F-482, F-483, F-484, F -486, F-487, F-172D, MCF-350SF, TF-1025SF, TF-1117SF, TF-1026SF, TF-1128, TF-1127, TF-1129, TF-1126, TF-1130, TF-1116SF , TF-1131, TF1132, TF1027SF, TF-1441, TF-1442, etc. may be used, but is not limited thereto.

상기 산화 방지제로는 힌더드 페놀계(Hindered phenol) 산화 방지제, 아민계 산화 방지제, 티오계 산화 방지제 및 포스핀계 산화 방지제로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1종 이상일 수 있으나, 이에만 한정되는 것은 아니다. The antioxidant may be at least one selected from the group consisting of hindered phenol antioxidants, amine antioxidants, thio antioxidants, and phosphine antioxidants, but is not limited thereto.

상기 산화 방지제의 구체적인 예로는, 인산, 트리메틸포스페이트 또는 트리에틸포스페이트와 같은 인산계 열안정제; 2,6-디-t-부틸-p-크레졸, 옥타데실-3-(4-하이드록시-3,5-디-t-부틸페닐)프로피오네이트, 테트라비스[메틸렌-3-(3,5-디-t-부틸-4-하이드록시페닐)프로피오네이트]메탄, 1,3,5-트리메틸-2,4,6-트리스(3,5-디-t-부틸-4-하이드록시벤질)벤젠, 3,5-디-t-부틸-4-하이드록시벤질포스파이트 디에틸에스테르, 2,2-티오비스(4-메틸-6-t-부틸페놀), 2,6-g,t-부틸페놀 4,4'-부틸리덴-비스(3-메틸-6-t-부틸페놀), 4,4'-티오비스(3-메틸-6-t-부틸페놀) 또는 비스[3,3-비스-(4'-히드록시-3'-터트-부틸페닐)부탄산]글리콜 에스테르 (Bis[3,3-bis-(4'-hydroxy-3'-tert-butylphenyl)butanoicacid]glycol ester)와 같은 힌더드 페놀(Hindered phenol)계 1차 산화방지제; 페닐-α-나프틸아민, 페닐-β-나프틸아민, N,N'-디페닐-p-페닐렌디아민 또는 N,N'-디-β-나프틸-p-페닐렌디아민과 같은 아민계 2차 산화방지제; 디라우릴디설파이드, 디라우릴티오프로피오네이트, 디스테아릴티오프로피오네이트, 머캡토벤조티아졸 또는 테트라메틸티우람디설파이드 테트라비스[메틸렌-3-(라우릴티오)프로피오네이트]메탄 등의 Thio계 2차 산화방지제; 또는 트리페닐 포스파이트, 트리스(노닐페닐)포스파이트, 트리이소데실포스파이트, 비스(2,4-디부틸페닐) 펜타에리스톨 디포스파이트(Bis (2,4-ditbutylphenyl)Pentaerythritol Diphosphite 또는 (1,1'-비페닐)-4,4'-디일비스포스포노산 테트라키스 [2,4-비스(1,1-디메틸에틸)페닐]에스테르((1,1'-Biphenyl)-4,4'-Diylbisphosphonous acid tetrakis[2,4-bis(1,1-dimethylethyl)phenyl] ester)와 같은 포스파이트계 2차 산화방지제를 들 수 있다.Specific examples of the antioxidant include phosphoric acid-based thermal stabilizers such as phosphoric acid, trimethyl phosphate or triethyl phosphate; 2,6-di-t-butyl-p-cresol, octadecyl-3-(4-hydroxy-3,5-di-t-butylphenyl)propionate, tetrabis[methylene-3-(3, 5-di-t-butyl-4-hydroxyphenyl)propionate]methane, 1,3,5-trimethyl-2,4,6-tris(3,5-di-t-butyl-4-hydroxy benzyl)benzene, 3,5-di-t-butyl-4-hydroxybenzylphosphite diethyl ester, 2,2-thiobis(4-methyl-6-t-butylphenol), 2,6-g, t-Butylphenol 4,4'-butylidene-bis(3-methyl-6-t-butylphenol), 4,4'-thiobis(3-methyl-6-t-butylphenol) or bis[3 ,3-bis-(4'-hydroxy-3'-tert-butylphenyl)butanoic acid]glycol ester (Bis[3,3-bis-(4'-hydroxy-3'-tert-butylphenyl)butanoicacid]glycol ester), such as a hindered phenol-based primary antioxidant; amines such as phenyl-α-naphthylamine, phenyl-β-naphthylamine, N,N′-diphenyl-p-phenylenediamine or N,N′-di-β-naphthyl-p-phenylenediamine secondary antioxidants; Thio such as dilauryl disulfide, dilauryl thiopropionate, distearyl thiopropionate, mercaptobenzothiazole or tetramethylthiuram disulfide tetrabis[methylene-3-(laurylthio)propionate]methane secondary antioxidants; or triphenyl phosphite, tris (nonylphenyl) phosphite, triisodecyl phosphite, bis (2,4-dibutylphenyl) pentaerythritol diphosphite (Bis (2,4-ditbutylphenyl) Pentaerythritol Diphosphite or (1, 1'-biphenyl) -4,4'-diylbisphosphonoic acid tetrakis [2,4-bis (1,1-dimethylethyl) phenyl] ester ((1,1'-Biphenyl) -4,4' -Diylbisphosphonous acid tetrakis[2,4-bis(1,1-dimethylethyl)phenyl] ester) may be mentioned as a phosphite-based secondary antioxidant.

상기 자외선 흡수제로는 2-(3-t-부틸-5-메틸-2-히드록시페닐)-5-클로로-벤조트리아졸, 알콕시 벤조페논 등을 사용할 수 있으나, 이에 한정되지 않고, 당업계에서 일반적으로 쓰이는 것들이 모두 사용될 수 있다. As the ultraviolet absorber, 2-(3-t-butyl-5-methyl-2-hydroxyphenyl)-5-chloro-benzotriazole, alkoxy benzophenone, etc. may be used, but the present invention is not limited thereto. All commonly used ones can be used.

상기 열중합방지제로는 예컨대 p-아니솔, 히드로퀴논, 피로카테콜(pyrocatechol), t-부틸카테콜(t-butyl catechol), N-니트로소페닐히드록시아민 암모늄염, N-니트로소페닐히드록시아민 알루미늄염, p-메톡시페놀, 디-t-부틸-p-크레졸, 피로가롤, 벤조퀴논, 4,4-티오비스(3-메틸-6-t-부틸페놀), 2,2-메틸렌비스(4-메틸-6-t-부틸페놀), 2-머캅토이미다졸 및 페노티아진(phenothiazine)으로 이루어진 군으로부터 선택된 1 종 이상을 포함할 수 있으나, 이들로만 한정되는 것은 아니며 당 기술분야에 일반적으로 알려져 있는 것들을 포함할 수 있다.Examples of the thermal polymerization inhibitor include p-anisole, hydroquinone, pyrocatechol, t-butyl catechol, N-nitrosophenylhydroxyamine ammonium salt, N-nitrosophenylhydroxy Amine aluminum salt, p-methoxyphenol, di-t-butyl-p-cresol, pyrogallol, benzoquinone, 4,4-thiobis(3-methyl-6-t-butylphenol), 2,2- Methylenebis (4-methyl-6-t-butylphenol), 2-mercaptoimidazole and may include one or more selected from the group consisting of phenothiazine (phenothiazine), but is not limited thereto. may include those generally known in the art.

상기 분산제는 미리 안료를 표면 처리하는 형태로 안료에 내부 첨가시키는 방법, 또는 안료에 외부 첨가시키는 방법으로 사용할 수 있다. 상기 분산제로는 화합물형, 비이온성, 음이온성 또는 양이온성 분산제를 사용할 수 있으며, 불소계, 에스테르계, 양이온계, 음이온계, 비이온계, 양쪽성 계면활성제 등을 들 수 있다. 이들은 각각 또는 2종 이상을 조합하여 사용될 수 있다. The dispersant may be used as a method of internally adding the pigment to the pigment in the form of surface-treating the pigment in advance, or a method of externally adding the pigment to the pigment. As the dispersant, a compound type, nonionic, anionic or cationic dispersant may be used, and fluorine-based, ester-based, cationic, anionic, nonionic, and amphoteric surfactants may be mentioned. These may be used individually or in combination of 2 or more types.

구체적으로 상기 분산제는 폴리알킬렌글리콜 및 이의 에스테르, 폴리옥시알킬렌 다가 알코올, 에스테르알킬렌옥사이드 부가물, 알코올알킬렌옥사이드 부가물, 설폰산 에스테르, 설폰산염, 카르복실산에스테르, 카르복실산염, 알킬아미드알킬렌옥사이드 부가물 및 알킬아민으로 이루어진 그룹으로부터 선택된 1종 이상이 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다.Specifically, the dispersant is polyalkylene glycol and its esters, polyoxyalkylene polyhydric alcohols, ester alkylene oxide adducts, alcohol alkylene oxide adducts, sulfonic acid esters, sulfonic acid salts, carboxylate esters, carboxylates, There is at least one selected from the group consisting of an alkylamide alkylene oxide adduct and an alkylamine, but is not limited thereto.

상기 레벨링제로는 폴리머성이거나 비폴리머성일 수 있다. 폴리머성의 레벨링제의 구체적인 예로는 폴리에틸렌이민, 폴리아미드아민, 아민과 에폭사이드의 반응 생성물을 예로 들 수 있고, 비폴리머성의 레벨링제의 구체적인 예로는 비-폴리머 황-함유 및 비-폴리머 질소-함유 화합물을 포함하지만, 이에 한정되지는 않으며, 당업계에서 일반적으로 쓰이는 것들이 모두 사용될 수 있다.The leveling agent may be polymeric or non-polymeric. Specific examples of the polymeric leveling agent include polyethyleneimine, polyamideamine, and reaction products of amines and epoxides, and specific examples of the nonpolymeric leveling agent include non-polymeric sulfur-containing and non-polymeric nitrogen-containing The compounds include, but are not limited to, those commonly used in the art may be used.

본 명세서의 일 실시상태에 따르면, 상기 수지 조성물을 이용하여 제조된 감광재를 제공한다. According to an exemplary embodiment of the present specification, there is provided a photosensitive material manufactured using the resin composition.

더 자세히는, 본 명세서의 수지 조성물을 기재 위에 적절한 방법으로 도포하여 박막 또는 패턴형태의 감광재를 형성한다.More specifically, the resin composition of the present specification is applied on a substrate by an appropriate method to form a thin film or patterned photosensitive material.

상기 도포 방법으로는 특별히 제한되지는 않지만 스프레이 법, 롤 코팅법, 스핀 코팅법 등을 사용할 수 있으며, 일반적으로 스핀 코팅법을 널리 사용한다. 또한, 도포막을 형성한 후 경우에 따라서 감압 하에 잔류 용매를 일부 제거할 수 있다.The coating method is not particularly limited, but a spray method, a roll coating method, a spin coating method, etc. may be used, and in general, a spin coating method is widely used. In addition, after forming the coating film, in some cases, the residual solvent may be partially removed under reduced pressure.

본 명세서에 따른 수지 조성물을 경화시키기 위한 광원으로는, 예컨대 파장이 250 nm 내지 450 ㎚의 광을 발산하는 수은 증기 아크(arc), 탄소 아크, Xe 아크 등이 있으나 반드시 이에 국한되지는 않는다.The light source for curing the resin composition according to the present specification includes, for example, a mercury vapor arc emitting light having a wavelength of 250 nm to 450 nm, a carbon arc, an Xe arc, and the like, but is not necessarily limited thereto.

본 명세서에 따른 수지 조성물은 박막 트랜지트터 액정 표시장치(TFT LCD) 컬러필터 제조용 안료분산형 감광재, 박막 트랜지트터 액정 표시장치(TFT LCD) 또는 유기 발광 다이오드의 블랙 매트릭스 형성용 감광재, 오버코트층 형성용 감광재, 컬럼 스페이서 감광재, 광경화형 도료, 광경화성 잉크, 광경화성 접착제, 인쇄판, 인쇄배선반용 감광재, 플라즈마 디스플레이 패널(PDP)용 감광재 등에 사용할 수 있으며, 그 용도에 제한을 특별히 두지는 않는다.The resin composition according to the present specification is a pigment-dispersed photosensitive material for manufacturing a thin film transistor liquid crystal display (TFT LCD) color filter, a thin film transistor liquid crystal display (TFT LCD) or a photosensitive material for forming a black matrix of an organic light emitting diode, It can be used for photosensitive material for forming overcoat layer, column spacer photosensitive material, photocurable paint, photocurable ink, photocurable adhesive, printing plate, photosensitive material for printed wiring board, photosensitive material for plasma display panel (PDP), etc., and its use is limited do not specifically place

본 명세서의 일 실시상태에 따르면, 상기 감광재를 포함하는 컬러필터를 제공한다.According to an exemplary embodiment of the present specification, there is provided a color filter including the photosensitive material.

상기 컬러필터는 상기 화학식 1로 표시되는 화합물을 포함하는 수지 조성물을 이용하여, 제조될 수 있다. 상기 수지 조성물을 기판상에 도포하여 코팅막을 형성하고, 상기 코팅막을 노광, 현상 및 경화를 함으로써 컬러필터를 형성할 수 있다.The color filter may be manufactured using a resin composition including the compound represented by Formula 1 above. A color filter may be formed by coating the resin composition on a substrate to form a coating film, and exposing, developing and curing the coating film.

본 명세서의 일 실시상태에 따른 수지 조성물은 내열성이 우수하여, 열처리에 의한 색의 변화가 적어, 컬러 필터의 제조시 경화 과정에 의해서도 색재현율이 높고, 감도가 우수한 컬러필터를 제공할 수 있다. The resin composition according to an exemplary embodiment of the present specification has excellent heat resistance, and has little color change due to heat treatment, so that it is possible to provide a color filter having high color reproducibility and excellent sensitivity even by a curing process during the manufacture of a color filter.

상기 기판은 유리판, 실리콘 웨이퍼 및 폴리에테르설폰(Polyethersulfone, PES), 폴리카보네이트(Polycarbonate, PC) 등의 플라스틱 기재의 판 등일 수 있으며, 그 종류가 특별히 제한되는 것은 아니다. The substrate may be a glass plate, a silicon wafer, and a plate made of a plastic substrate such as polyethersulfone (PES) or polycarbonate (PC), and the type is not particularly limited.

상기 컬러필터는 적색 패턴, 녹색 패턴, 청색 패턴, 블랙 매트릭스를 포함할 수 있다. The color filter may include a red pattern, a green pattern, a blue pattern, and a black matrix.

또 하나의 실시상태에 따르면, 상기 컬러필터는 오버코트층를 더 포함할 수 있다. According to another exemplary embodiment, the color filter may further include an overcoat layer.

컬러필터의 컬러픽셀 사이에는 콘트라스트를 향상시킬 목적으로 블랙 매트릭스라고 불리는 격자상의 흑색패턴을 배치할 수 있다. 블랙 매트릭스의 재료로서 크롬을 사용할 수 있다. 이 경우, 크롬을 유리기판 전체에 증착시키고 에칭 처리에 의해 패턴을 형성하는 방식을 이용할 수 있다. 그러나, 공정상의 고비용, 크롬의 고반사율, 크롬 폐액에 의한 환경오염을 고려하여, 미세가공이 가능한 안료분산법에 의한 레진 블랙 매트릭스를 사용할 수 있다. A grid-like black pattern called a black matrix may be disposed between the color pixels of the color filter for the purpose of improving contrast. Chromium can be used as the material of the black matrix. In this case, a method of depositing chromium on the entire glass substrate and forming a pattern by etching may be used. However, in consideration of the high cost in the process, the high reflectivity of chromium, and environmental pollution caused by the chromium waste solution, a resin black matrix by a pigment dispersion method capable of fine processing may be used.

본 명세서의 일 실시상태에 따른 블랙 매트릭스는 색재로서 블랙안료 또는 블랙 염료를 사용할 수 있다. 예컨대, 카본블랙을 단독으로 사용하거나, 카본블랙과 착색안료를 혼합하여 사용할 수 있으며, 이때 차광성이 부족한 착색안료를 혼합하기 때문에 상대적으로 색재의 양이 증가하더라도 막의 강도 또는 기판에 대한 밀착성이 저하되지 않는 장점이 있다. The black matrix according to the exemplary embodiment of the present specification may use a black pigment or a black dye as a color material. For example, carbon black alone or a mixture of carbon black and a colored pigment can be used. At this time, since a colored pigment lacking in light-shielding property is mixed, the strength of the film or adhesion to the substrate decreases even if the amount of the color material is relatively increased. There are advantages to not being.

본 명세서에 따른 컬러필터를 포함하는 디스플레이 장치를 제공한다. A display device including a color filter according to the present specification is provided.

상기 디스플레이 장치는 플라즈마 디스플레이 패널(Plasma Display Panel, PDP), 발광 다이오드(Light Emitting Diode, LED), 유기 발광 소자(Organic Light Emitting Diode, OLED), 액정 표시 장치(Liquid Crystal Display, LCD), 박막 트랜지스터 액정 표시 장치(Thin FIlm Transistor- Liquid Crystal Display, LCD-TFT) 및 음극선관(Cathode Ray Tube, CRT) 중 어느 하나일 수 있다.The display device includes a plasma display panel (PDP), a light emitting diode (LED), an organic light emitting diode (OLED), a liquid crystal display (LCD), and a thin film transistor. It may be any one of a liquid crystal display device (Thin FIlm Transistor-Liquid Crystal Display, LCD-TFT) and a cathode ray tube (CRT).

이하, 본 명세서를 구체적으로 설명하기 위해 실시예를 들어 상세하게 설명하기로 한다. 그러나, 본 명세서에 따른 실시예들은 여러 가지 다른 형태로 변형될 수 있으며, 본 명세서의 범위가 아래에서 기술하는 실시예들에 한정되는 것으로 해석되지 않는다. 본 명세서의 실시예들은 당업계에서 평균적인 지식을 가진 자에게 본 명세서를 보다 완전하게 설명하기 위해 제공되는 것이다.Hereinafter, examples will be given to describe the present specification in detail. However, the embodiments according to the present specification may be modified in various other forms, and the scope of the present specification is not to be construed as being limited to the embodiments described below. The embodiments of the present specification are provided to more completely explain the present specification to those of ordinary skill in the art.

<제조예><Production Example>

제조예 1: 화합물 A의 합성Preparation Example 1: Synthesis of Compound A

Figure 112018057728068-pat00010
Figure 112018057728068-pat00010

(1) 화합물 A-1의 합성(1) Synthesis of compound A-1

1-아미노-4-브로모안트라퀴논-2-술폰산나트륨염 (10 g, 24.7 mmol)과 비스(피나콜라토)디보레인 (Bis(pinacolato)diborane) (9.42 g, 37.05 mmol), 칼륨 아세트산 (7.27 g, 74.1 mmol), Pd(dba)2 (0.28 g, 0.98 mmol), PCy3(0.28 g, 0.49 mmol)을 넣고, 1,4-다이옥세인 (400 ml)을 넣고 약 12시간 동안 환류 교반시켰다. 반응이 끝난 후 상온으로 냉각시킨 후 여과하였다. 여액에서 유기층을 층분리하고 유기층을 감압 증류 후 EA/Hexane 로 재결정하여 화합물 A-1 (7.91 g, 71 %)을 얻었다.:MS[M] = 451.091-amino-4-bromoanthraquinone-2-sulfonate sodium salt (10 g, 24.7 mmol) with bis(pinacolato)diborane (9.42 g, 37.05 mmol), potassium acetic acid ( 7.27 g, 74.1 mmol), Pd(dba) 2 (0.28 g, 0.98 mmol), PCy 3 (0.28 g, 0.49 mmol) were added, 1,4-dioxane (400 ml) was added, and the mixture was stirred under reflux for about 12 hours. did it After the reaction was completed, it was cooled to room temperature and filtered. The organic layer was separated from the filtrate, and the organic layer was distilled under reduced pressure and recrystallized from EA/Hexane to obtain Compound A-1 (7.91 g, 71 %).: MS[M] = 451.09

(2) 화합물 A 의 합성(2) Synthesis of compound A

화합물 A-1 (10 g, 22.2 mmol), 2-브로모-9H-잔텐-9-one (5.1 g, 18.5 mmol), Pd(t-Bu3P)2 (0.045 g, 0.089 mmol)을 2M K2CO3 수용액 (60 mL)과 THF (200 mL)에 넣고, 약 4시간 환류 교반시켰다. 반응이 끝난 후 상온으로 냉각시키고 반응 혼합액에서 유기층을 층 분리하고 유기층을 황산 마그네슘으로 건조하고 감압 증류 후 Tol/EA로 재결정하여 화합물 A (8.45 g, 88 %)를 얻었다.: MS [M] = 519.0Compound A-1 (10 g, 22.2 mmol), 2-bromo-9H-xanthene-9-one (5.1 g, 18.5 mmol), Pd(t-Bu 3 P) 2 (0.045 g, 0.089 mmol) was mixed with 2M K 2 CO 3 Aqueous solution (60 mL) and THF (200 mL) were added, and the mixture was stirred under reflux for about 4 hours. After the reaction was completed, the reaction mixture was cooled to room temperature, the organic layer was separated from the reaction mixture, the organic layer was dried over magnesium sulfate, distilled under reduced pressure, and recrystallized from Tol/EA to obtain Compound A (8.45 g, 88%): MS [M] = 519.0

제조예 2: 화합물 B의 합성Preparation Example 2: Synthesis of Compound B

Figure 112018057728068-pat00011
Figure 112018057728068-pat00011

(1) 화합물 B-1 의 합성(1) Synthesis of compound B-1

2-하이드록시 안트라퀴논 (10 g, 44.63 mmol)을 디메틸포름아미드(100mL) 에 녹인 후 NBS (8.34 g, 46.85 mmol)을 디메틸포름아미드(100ml)에 녹인 후 실온에서 적층하고, 4시간 교반하였다. 반응 종료 후 반응 중 생성된 고체를 여과하고 증류수로 씻어준 후 건조하여 화합물 B-1 (9.62 g, 68%)를 얻었다.: MS [M] = 301.96After dissolving 2-hydroxyanthraquinone (10 g, 44.63 mmol) in dimethylformamide (100 mL), NBS (8.34 g, 46.85 mmol) was dissolved in dimethylformamide (100 ml), layered at room temperature, and stirred for 4 hours . After completion of the reaction, the solid produced during the reaction was filtered, washed with distilled water, and dried to obtain Compound B-1 (9.62 g, 68%): MS [M] = 301.96

(2) 화합물 B-2의 합성(2) Synthesis of compound B-2

화합물 B-1 (10 g, 33.12 mmol)과 비스(피나콜라토)디보레인 (Bis(pinacolato)diborane) (12.63 g, 49.68 mmol), 칼륨 아세트산 (9.75 g, 99.36 mmol), Pd(dba)2 (0.37 g, 1.32 mmol), PCy3 (0.38 g, 0.66 mmol)을 넣고, 1,4-다이옥세인 (300 ml)을 넣고 약 12시간 동안 환류 교반시켰다. 반응이 끝난 후 상온으로 냉각시킨 후 여과하였다. 여액에서 유기층을 층분리하고 유기층을 감압 증류 후 EA/Hexane 로 재결정하여 화합물 B-2 (9.39 g, 81 %)을 얻었다.:MS[M] = 350.13Compound B-1 (10 g, 33.12 mmol) with Bis(pinacolato)diborane (12.63 g, 49.68 mmol), potassium acetic acid (9.75 g, 99.36 mmol), Pd(dba) 2 (0.37 g, 1.32 mmol), PCy 3 (0.38 g, 0.66 mmol) was added, 1,4-dioxane (300 ml) was added, and the mixture was stirred under reflux for about 12 hours. After the reaction was completed, it was cooled to room temperature and filtered. The organic layer was separated from the filtrate, and the organic layer was distilled under reduced pressure and recrystallized from EA/Hexane to obtain Compound B-2 (9.39 g, 81 %): MS[M] = 350.13

(3) 화합물 B의 합성(3) Synthesis of compound B

화합물 B-2 (10 g, 28.56 mmol), 4-브로모-1-아미노안트라퀴논 (7.16 g, 23.8 mmol), Pd(t-Bu3P)2 (0.049 g, 0.095 mmol)을 2M K2CO3 수용액 (20 mL)과 THF (200 mL)에 넣고, 약 4시간 환류 교반시켰다. 반응이 끝난 후 상온으로 냉각시키고 반응 혼합액에서 유기층을 층 분리하고 유기층을 황산 마그네슘으로 건조하고 감압 증류 후 Tol/EA로 재결정하여 화합물 B (8.69 g, 82 %)를 얻었다.: MS [M] = 445.10Compound B-2 (10 g, 28.56 mmol), 4-bromo-1-aminoanthraquinone (7.16 g, 23.8 mmol), Pd(t-Bu 3 P) 2 (0.049 g, 0.095 mmol) was mixed with 2M K 2 CO 3 Aqueous solution (20 mL) and THF (200 mL) were added, and the mixture was stirred under reflux for about 4 hours. After the reaction was completed, the reaction mixture was cooled to room temperature, the organic layer was separated from the reaction mixture, the organic layer was dried over magnesium sulfate, distilled under reduced pressure, and recrystallized from Tol/EA to obtain Compound B (8.69 g, 82 %): MS [M] = 445.10

비교예 화합물Comparative Example compound

Figure 112018057728068-pat00012
Figure 112018057728068-pat00012

Pigment Red177Pigment Red177

<수지 조성물의 제조 실시예><Example of Preparation of Resin Composition>

실시예 1Example 1

화합물 A을 4.000g, 바인더 수지로 벤질메타크릴레이트와 메타크릴산의 공중합체(몰비 60:40, 산가는 100 KOH mg/g, GPC로 측정한 중량평균분자량 15,000), 분자량분포(PDI) 2.0g, 고형분(S.C) 25%, 용매 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트(PGMEA, Propylene glycol monomethyl ether acetate) 포함) 28.680g, 광개시제로는 삼양사-03 2.000g, 다관능성모노머인 광중합성 화합물로 DPHA(일본화약) 7.170g, 용제로는 PGMEA(프로필렌 글리콜 모노메틸 에테르 아세테이트) 18.250g 와 MBDG(디에틸렌 글리콜 부틸 메틸 에테르) 40.000g 및 첨가제로 DIC社 F-475, 0.5g을 혼합하여 감광성 수지 조성물을 제조하였다.4.000 g of compound A, a copolymer of benzyl methacrylate and methacrylic acid as a binder resin (molar ratio 60:40, acid value 100 KOH mg/g, weight average molecular weight measured by GPC 15,000), molecular weight distribution (PDI) 2.0 g, solid content (SC) 25%, solvent propylene glycol monomethyl ether acetate (PGMEA, Propylene glycol monomethyl ether acetate) 28.680 g, Samyang Corporation-03 2.000 g as a photoinitiator, DPHA as a photopolymerizable compound as a polyfunctional monomer (Japan) 7.170 g of gunpowder), 18.250 g of PGMEA (propylene glycol monomethyl ether acetate) and 40.000 g of MBDG (diethylene glycol butyl methyl ether) as a solvent, and DIC's F-475, 0.5 g as an additive to prepare a photosensitive resin composition did.

실시예 2Example 2

실시예 1에서 화합물 A를 화합물 B로 변경한 것을 제외하고는 상기 실시예 1과 동일한 방법으로 감광성 수지 조성물을 제조하였다. A photosensitive resin composition was prepared in the same manner as in Example 1, except that Compound A was changed to Compound B in Example 1.

비교예comparative example

실시예 1에서 화합물 A를 비교예 화합물인 Pigment Red177로 변경한 것을 제외하고는 상기 실시예 1과 동일한 방법으로 감광성 수지 조성물을 제조하였다. A photosensitive resin composition was prepared in the same manner as in Example 1, except that Compound A was changed to Pigment Red177, a compound of Comparative Example 1 in Example 1.

<실험예><Experimental example>

기판 제작 및 내열성 평가Substrate fabrication and heat resistance evaluation

상기 실시예 1, 2 및 비교예에 따른 감광성 수지 조성물을 기판 제작에 각각 사용하였다. 구체적으로, 상기 실시예 1, 2 및 비교예에 따른 감광성 수지 조성물을 유리 (5 X 5 cm2) 위에 스핀코팅(spin coating)하고, 100℃에서 100초간 전열처리(prebake: PrB)를 실시하여 필름을 형성시켰다.The photosensitive resin compositions according to Examples 1 and 2 and Comparative Examples were respectively used to prepare the substrate. Specifically, the photosensitive resin compositions according to Examples 1 and 2 and Comparative Examples were spin-coated on glass (5 X 5 cm 2 ), and prebake: PrB) was performed at 100° C. for 100 seconds. A film was formed.

필름을 형성시킨 기판과 포토마스크(photo mask)사이 간격을 350um로 하고, 노광기를 이용하여 기판 전면에 40mJ/cm2 노광량을 조사하였다. The distance between the substrate on which the film was formed and the photomask was set to 350 μm, and an exposure amount of 40 mJ/cm 2 was irradiated to the entire surface of the substrate using an exposure machine.

이후 노광된 기판을 현상액(KOH, 0.05%)에 60초간 현상하였다. 이후 분광광도계를 이용하여 L값, a값, b값을 C광원 및 2도 시야각으로 색도를 측정하였다. Thereafter, the exposed substrate was developed in a developer (KOH, 0.05%) for 60 seconds. Then, using a spectrophotometer, the L value, a value, and b value were measured for chromaticity with a C light source and a 2 degree viewing angle.

측정 후 기판을 230℃로 20분간 후열처리(postbake; PB)하여 분광광도계를 이용하여 L값, a값, b값을 C광원 및 2도 시야각으로 색도를 측정하였다. After the measurement, the substrate was postbake (PB) at 230° C. for 20 minutes, and the L value, a value, and b value were measured with a C light source and a 2 degree viewing angle using a spectrophotometer.

또, 측정 후 230℃로 360분간 후열처리(postbake; PB360)하여 분광광도계를 이용하여 L값, a값, b값을 C광원 및 2도 시야각으로 색도를 측정하였다.In addition, after the measurement, postbake (PB360) for 360 minutes at 230°C was performed, and the L value, a value, and b value were measured using a spectrophotometer with a C light source and a 2 degree viewing angle.

상기 측정된 값 및 하기의 식을 이용하여 색차를 구하였다. 색차가 작을수록 생상의 변화가 작으므로, 우수한 내열성을 갖는 것을 의미한다.The color difference was calculated using the measured value and the following equation. The smaller the color difference, the smaller the change in production, meaning that it has excellent heat resistance.

[계산식][formula]

색차-1(ΔEab)= [(PB의 L값 - PrB의 L값)2 + (PB의 a값 - PrB의 a값)2 + (PB의 b값 - PrB의 b값)2]1/2 Color difference-1(ΔE ab )= [(L value of PB - L value of PrB) 2 + (a value of PB - a value of PrB) 2 + (b value of PB - b value of PrB) 2 ] 1/ 2

색차-2(ΔEab)= [(PB360의 L값 - PB의 L값)2 + (PB360의 a값 - PB의 a값)2 + (PB360의 b값 - PB의 b값)2]1/2 Color difference-2(ΔE ab )= [(L value of PB360 - L value of PB) 2 + (a value of PB360 - a value of PB) 2 + (b value of PB360 - b value of PB) 2 ] 1/ 2

상기 계산식에 의해 얻어진 값을 하기 표 1에 나타내었다. The values obtained by the above formula are shown in Table 1 below.

색차-1 (ΔEColor difference-1 (ΔE abab )) 색차-2 (ΔEColor difference-2 (ΔE abab )) 실시예 1Example 1 16.916.9 21.321.3 실시예 2Example 2 19.219.2 23.823.8 비교예comparative example 23.423.4 38.538.5

상기 표 1에 따르면, 본 발명의 실시예 1 및 2의 감광성 수지 조성물을 이용하여 형성한 컬러필터 기판은, 비교예에 의한 컬러필터 기판보다 색차가 작아 내열성이 우수한 것을 확인하였다.According to Table 1, it was confirmed that the color filter substrates formed using the photosensitive resin compositions of Examples 1 and 2 of the present invention had a smaller color difference than the color filter substrates according to Comparative Examples and had excellent heat resistance.

감도(미세패턴) 평가Sensitivity (micropattern) evaluation

후열처리(PB) 1회 후 기판 상에 제조된 미세패턴을 광학현미경을 이용하여, 해상도(Resolution)을 측정하였다. 실시예 1, 2 및 비교예에 의해 제조된 컬러필터 기판의 미세패턴 최초 두께를 측정하여 하기 표 2에 기재하였다. After one time of post heat treatment (PB), the micropatterns prepared on the substrate were measured for resolution using an optical microscope. The initial thickness of the fine pattern of the color filter substrates prepared in Examples 1 and 2 and Comparative Examples was measured and shown in Table 2 below.

미세패턴 fine pattern
최초 두께first thickness
실시예 1Example 1 9 um9 um 실시예 2Example 2 8 um8 um 비교예comparative example 17 um17 um

동일한 노광에너지를 조사시 미세패턴의 형성이 얇게 될수록 감광성 수지 조성물의 감도(Sensitivity)가 좋다는 것을 의미한다. The thinner the formation of the fine pattern when irradiated with the same exposure energy, the better the sensitivity of the photosensitive resin composition.

상기 표 2에 따르면, 본 발명의 실시예 1 및 2의 감광성 수지 조성물을 이용하여 형성한 컬러필터 기판의 미세패턴의 두께는 비교예의 감광성 수지 조성물을 이용하여 형성한 컬러필터 기판의 미세패턴 두께보다 얇음을 확인하였다. 이로부터 본 발명의 실시예 1 및 2에 따른 감광성 수지 조성물의 감도가 비교예에 따른 감광성 수지 조성물의 감도보다 더 좋다는 것을 확인하였다.According to Table 2, the thickness of the fine pattern of the color filter substrate formed using the photosensitive resin composition of Examples 1 and 2 of the present invention is greater than the thickness of the fine pattern of the color filter substrate formed using the photosensitive resin composition of Comparative Example. It was confirmed that it was thin. From this, it was confirmed that the sensitivity of the photosensitive resin composition according to Examples 1 and 2 of the present invention is better than the sensitivity of the photosensitive resin composition according to Comparative Example.

Claims (10)

삭제delete 삭제delete 하기 화학식 3으로 표시되는 화합물:
[화학식 3]
Figure 112021129738625-pat00022

상기 화학식 3에 있어서,
R1 내지 R4는 서로 같거나 상이하고, 각각 독립적으로 수소; 중수소; 할로겐기; 히드록시기; 술폰산염기; 시클로헥산으로 치환 또는 비치환된 아민기; 에폭시기, 에틸아민기 또는 히드록시기로 치환 또는 비치환된 알킬기; 또는 시클로알킬기이고,
r1 및 r4는 0 내지 4의 정수이고,
r1이 2 이상인 경우, R1은 서로 같거나 상이하며,
r4가 2 이상인 경우, R4는 서로 같거나 상이하고,
r2는 0 내지 2의 정수이고, r2가 2인 경우, R2는 서로 같거나 상이하며,
r3은 0 내지 3의 정수이고, r3가 2 이상인 경우, R3는 서로 같거나 상이하다.
A compound represented by the following formula (3):
[Formula 3]
Figure 112021129738625-pat00022

In Formula 3,
R1 to R4 are the same as or different from each other, and each independently hydrogen; heavy hydrogen; halogen group; hydroxyl group; sulfonate group; an amine group unsubstituted or substituted with cyclohexane; an alkyl group unsubstituted or substituted with an epoxy group, an ethylamine group, or a hydroxyl group; or a cycloalkyl group,
r1 and r4 are integers from 0 to 4,
When r1 is 2 or more, R1 are the same as or different from each other,
When r4 is 2 or more, R4 is the same as or different from each other,
r2 is an integer from 0 to 2, and when r2 is 2, R2 are the same as or different from each other,
r3 is an integer of 0 to 3, and when r3 is 2 or more, R3 is the same as or different from each other.
삭제delete 청구항 3에 있어서,
상기 화학식 3으로 표시되는 화합물은 하기 화학식 중 어느 하나로 표시되는 화합물:
Figure 112021129738625-pat00023

Figure 112021129738625-pat00024
.
4. The method according to claim 3,
The compound represented by Formula 3 is a compound represented by any one of the following Formulas:
Figure 112021129738625-pat00023

Figure 112021129738625-pat00024
.
청구항 3 또는 5의 화합물; 바인더 수지; 다관능성 모노머; 광개시제; 및 용매를 포함하는 감광성 수지 조성물.a compound of claim 3 or 5; binder resin; polyfunctional monomers; photoinitiators; And a photosensitive resin composition comprising a solvent. 청구항 6에 있어서,
상기 감광성 수지 조성물 중 고형분의 총 중량을 기준으로 상기 화학식 3으로 표시되는 화합물의 함량은 5 중량% 내지 60 중량%이고,
상기 바인더 수지의 함량은 1 중량% 내지 60 중량%이고,
상기 광개시제의 함량은 0.1 중량% 내지 20 중량%이며,
상기 다관능성 모노머의 함량은 0.1 중량% 내지 50 중량%인 것인 감광성 수지 조성물.
7. The method of claim 6,
Based on the total weight of the solid content in the photosensitive resin composition, the content of the compound represented by Formula 3 is 5 wt% to 60 wt%,
The content of the binder resin is 1% to 60% by weight,
The content of the photoinitiator is 0.1 wt% to 20 wt%,
The content of the polyfunctional monomer is 0.1% to 50% by weight of the photosensitive resin composition.
청구항 6에 따른 감광성 수지 조성물을 이용하여 제조된 감광재.A photosensitive material manufactured using the photosensitive resin composition according to claim 6. 청구항 8에 따른 감광재를 포함하는 컬러필터.A color filter comprising the photosensitive material according to claim 8 . 청구항 9에 따른 컬러필터를 포함하는 디스플레이 장치.
A display device comprising the color filter according to claim 9 .
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