KR102329335B1 - Photosensitizer having excellent interfacial roughness characteristics, additives for the photosensitizer, sceen printing plate and manufacturinf method of the additives - Google Patents

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Abstract

본 발명은 개방부(opening) 내벽의 조도를 낮출 수 있는 계면 조도 특성이 우수한 감광유제, 감광유제용 첨가제, 스크린 프린팅 제판 및 첨가제의 제조 방법에 관한 것이다. 본 발명에 따른 스크린 프린팅 제판에 사용되는 감광유제용 첨가제는 아래의 화학식으로 표시된다. 첨가제는 주사슬이 친수성을 갖고 양말단이 소수성을 갖기 때문에, 감광유제의 표면 장력을 낮추어 감광유제로 형성되는 개방부 내벽의 조도를 낮출 수 있다.
[화학식]

Figure 112019024879194-pat00007
The present invention relates to a photosensitive emulsion having excellent interfacial roughness properties capable of lowering the roughness of an inner wall of an opening, an additive for a photosensitive emulsion, a screen printing engraving method, and a method of manufacturing the additive. The additive for photosensitive emulsion used in screen printing engraving according to the present invention is represented by the following chemical formula. Since the main chain of the additive has hydrophilicity and both ends have hydrophobicity, the surface tension of the photosensitive emulsion can be lowered to lower the roughness of the inner wall of the opening formed with the photosensitive emulsion.
[Formula]
Figure 112019024879194-pat00007

Description

계면 조도 특성이 우수한 감광유제, 감광유제용 첨가제, 스크린 프린팅 제판 및 첨가제의 제조 방법{Photosensitizer having excellent interfacial roughness characteristics, additives for the photosensitizer, sceen printing plate and manufacturinf method of the additives}Photosensitizer having excellent interfacial roughness characteristics, additives for the photosensitizer, sceen printing plate and manufacturinf method of the additives

본 발명은 스크린 프린팅 제판에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 개방부(opening) 내벽의 조도를 낮출 수 있는 계면 조도 특성이 우수한 감광유제, 감광유제용 첨가제, 스크린 프린팅 제판 및 첨가제의 제조 방법에 관한 것이다.The present invention relates to screen printing engraving, and more particularly, to a photosensitive emulsion having excellent interfacial roughness properties capable of lowering the roughness of an inner wall of an opening, an additive for a photosensitive emulsion, screen printing engraving and a method of manufacturing the additive .

스크린 프린팅 방식은 스크린 프린팅 제판의 개방부(opening)를 통해 스퀴즈로 페이스트를 밀어내어 피인쇄체에 전이하는 프린팅 방식이다. 스크린 프린팅 제판의 개방부는 베이스 제판에 감광유제를 도포한 후, 감광유제에 대한 선택적 노광 반응을 통해 부분적으로 경화 반응을 진행시킨 후 이를 세정하여 형성한다. 개방부를 통하여 베이스 제판의 망사 부분이 드러나게 되며, 해당 부분을 통해 스크린 인쇄가 가능하게 된다.The screen printing method is a printing method in which the paste is pushed out with a squeeze through the opening of the screen printing engraving and transferred to the object to be printed. The open part of the screen printing engraving is formed by applying a photosensitive emulsion to the base engraving and then partially curing it through a selective exposure reaction to the photosensitive emulsion and then washing it. The mesh part of the base plate making is exposed through the opening part, and screen printing is possible through the part.

일반적으로 사용되는 감광유제는 산 그룹을 지니고 있어 알칼리 용매에서 현상 공정을 거치게 된다. 반면에 스크린 프린팅 제판용 감광유제는 중성 수용액에서 현상할 수 있어야 한다.Generally used photosensitive emulsions have acid groups, so they are developed in an alkaline solvent. On the other hand, a photosensitive emulsion for screen printing engraving should be able to be developed in a neutral aqueous solution.

이러한 이유로 스크린 프린팅 제판용 감광유제는 수용성 소재를 기반으로 가교형 고분자로 제조된다.For this reason, the photosensitive emulsion for screen printing engraving is made of a cross-linkable polymer based on a water-soluble material.

스크린 프린팅 제판용 감광유제에 있어서, 노광 반응에 의해 경화가 이루어진 부분은 친수성이 급격히 저하되며, 세정 시에 노광 여부에 따라 세정액에 대한 용해도가 달라져 개방부를 원하는 데로 제조할 수 있다.In the photosensitive emulsion for screen printing engraving, the hydrophilicity of the cured portion due to the exposure reaction is rapidly reduced, and the solubility in the cleaning solution varies depending on whether or not exposed to light during cleaning, so that the open portion can be prepared as desired.

하지만 스크린 프린팅 제판에 잔류하게 되는 부분과 제거되는 부분의 계면에서는 서로의 물성 차이가 크기 때문에, 계면 상에 다수의 돌기가 생성된다. 즉 개방부의 내벽에 다수의 돌기가 생성된다.However, at the interface between the part remaining in the screen printing engraving and the part to be removed, there is a large difference in physical properties, so that a number of protrusions are generated on the interface. That is, a plurality of protrusions are generated on the inner wall of the opening.

개방부의 내벽에 돌기가 존재하는 상태에서 스크린 프린팅을 수행하게 될 경우, 고점도의 페이스트가 돌기 사이에 갇히게 되고, 이는 파티클(particle)이 생성되는 원인으로 작용한다.When screen printing is performed while protrusions are present on the inner wall of the opening, a high-viscosity paste is trapped between the protrusions, which acts as a cause of particle generation.

특히 태양전지 전극 제조용 페이스트는 주로 은(Ag)이나 알루미늄(Al)을 포함하기 때문에, 파티클이 발생하는 경우 금속성 파티클이 발생하여 스크린 프린팅 제판의 수명을 급격하게 저하시킨다. 즉 금속성 파티클은 스크린 프린팅 과정에서 개방부 내벽과 반복적인 마찰에 의해 개방부 내벽을 손상시키기 때문에, 결과적으로 스크린 프린팅 제판의 수명을 급격하게 저하시킨다.In particular, since the solar cell electrode manufacturing paste mainly contains silver (Ag) or aluminum (Al), when the particles are generated, metallic particles are generated, and the lifespan of the screen printing engraving is rapidly reduced. That is, since the metallic particles damage the inner wall of the open portion by repeated friction with the inner wall of the open portion during the screen printing process, as a result, the life of the screen printing engraving is rapidly reduced.

돌기로 인해 발생된 금속성 파티클은 스크린 프린팅 시 오염원으로 작용하기 때문에, 스크린 프린팅 품질을 저하시키는 요인으로 작용한다.Since the metallic particles generated by the protrusion act as a contamination source during screen printing, they act as a factor that deteriorates the screen printing quality.

그리고 돌기 사이에 페이스트가 갇히게 되므로, 필요 이상의 페이스트가 소요되는 문제가 발생한다.And since the paste is trapped between the projections, there is a problem that more paste than necessary is required.

등록특허공보 제10-094732호 (2010.03.15. 공고)Registered Patent Publication No. 10-094732 (2010.03.15. Announcement)

따라서 본 발명의 목적은 개방부 내벽의 조도를 낮추어 개방부의 내벽에 돌기가 형성되는 것을 억제할 수 있는 계면 조도 특성이 우수한 감광유제, 감광유제용 첨가제, 스크린 프린팅 제판 및 첨가제의 제조 방법을 제공하는 데 있다.Accordingly, an object of the present invention is to provide a photosensitive emulsion having excellent interfacial roughness properties, which can suppress the formation of protrusions on the inner wall of an open part by lowering the roughness of the inner wall of the open part, an additive for photosensitive emulsion, screen printing engraving and a method of manufacturing the additive there is

상기 목적을 달성하기 위하여, 본 발명은 아래의 화학식으로 표시되는 스크린 프린팅 제판에 사용되는 감광유제용 첨가제.In order to achieve the above object, the present invention is an additive for a photosensitive emulsion used in screen printing engraving represented by the following formula.

[화학식][Formula]

Figure 112019024879194-pat00001
Figure 112019024879194-pat00001

여기서 1≤n≤5 이고, 50≤m≤150 이다.Here, 1≤n≤5 and 50≤m≤150.

상기 첨가제는 주사슬이 친수성을 갖고 양말단이 소수성을 갖는다.In the additive, the main chain has hydrophilicity and both ends have hydrophobicity.

상기 첨가제는 30,000 내지 40,000 중량평균분자량을 갖는다.The additive has a weight average molecular weight of 30,000 to 40,000.

본 발명은 또한, 폴리에틸렌 글리콜 용액에 디부틸주석 디라우레이트(Dibutyltin dilaurate)을 첨가하여 제1 용액을 제조하는 단계; 상기 제1 용액에 디이소시아네이트 용액을 첨가한 후 반응시켜 제2 용액을 제조하는 단계; 및 상기 제2 용액에 세틸알코올(cetyl alcohol)을 첨가한 후 반응시켜 상기의 화학식으로 표시되는 첨가제를 제조하는 단계;를 포함하는 스크린 프린팅 제판에 사용되는 감광유제용 첨가제의 제조 방법을 제공한다.The present invention also includes the steps of preparing a first solution by adding dibutyltin dilaurate to a polyethylene glycol solution; preparing a second solution by adding a diisocyanate solution to the first solution and then reacting; and preparing an additive represented by the above formula by adding cetyl alcohol to the second solution and reacting it.

상기 첨가제를 제조하는 단계에서, 상기 첨가제는 상기 제2 용액에 세틸알코올을 첨가한 후 반응시켜 생성되는 침전물이다.In the step of preparing the additive, the additive is a precipitate produced by adding cetyl alcohol to the second solution and then reacting.

본 발명은 또한, PVA를 기반으로 하는 감광원제; 및 상기의 화학식으로 표시되는 첨가제;를 포함하는 스크린 프린팅 제판용 감광유제를 제공한다.The present invention also provides a photosensitizer based on PVA; and an additive represented by the above formula; provides a photosensitive emulsion for screen printing engraving comprising.

상기 감광유제는 상기 첨가제 1.0 내지 1.5 wt%를 포함한다.The photosensitive emulsion includes 1.0 to 1.5 wt% of the additive.

상기 감광유제의 접촉각은 101 내지 120°일 수 있다.The contact angle of the photosensitive emulsion may be 101 to 120°.

본 발명은 또한, 베이스 제판; 및 상기 베이스 제판 상에 감광유제를 도포한 후 패터닝하여 개방부가 형성되는 감광유제 패턴;을 포함하고, 상기 감광유제는 PVA를 기반으로 하는 감광원제와 상기의 화학식으로 표시되는 첨가제를 포함하는 스크린 프린팅 제판을 제공한다.The present invention also provides a base engraving; and a photosensitive emulsion pattern in which an open part is formed by applying a photosensitive emulsion on the base plate and then patterning it, wherein the photosensitive emulsion comprises a PVA-based photosensitive agent and an additive represented by the above formula Screen printing provides a plate.

그리고 상기 감광유제는 상기 감광원제 98.5 내지 99.0 wt%와 상기 첨가제 1.0 내지 1.5 wt%를 포함한다.The photosensitive emulsion includes 98.5 to 99.0 wt% of the photosensitizer and 1.0 to 1.5 wt% of the additive.

본 발명에 따르면, 감광유제에 첨가제를 도입하여 감광유제의 표면장력을 저하시킨다. 이로 인해 감광유제의 경화 전후의 물성 차이를 감소시킴으로써, 개방부 내벽의 조도를 낮출 수 있다.According to the present invention, an additive is introduced into the photosensitive emulsion to lower the surface tension of the photosensitive emulsion. Accordingly, by reducing the difference in physical properties before and after curing of the photosensitive emulsion, it is possible to lower the roughness of the inner wall of the opening.

개방부 내벽의 조도가 낮기 때문에, 페이스트 토출 시 페이스트의 갇힘 현상이 억제되어 파티클 발생이 억제된다. 결과적으로 스크린 프린팅 과정에서 발생되는 페이스트와의 마찰에 의한 스크린 프린팅 제판의 수명 감소를 줄일 수 있다.Since the roughness of the inner wall of the opening is low, the entrapment of the paste is suppressed when the paste is discharged, thereby suppressing the generation of particles. As a result, it is possible to reduce the life span of the screen printing plate engraving due to friction with the paste generated during the screen printing process.

개방부 내벽에 돌기가 거의 형성되지 않기 때문에, 돌기에 갇히는 페이스트가 거의 없어 스크린 프린팅에 사용되는 페이스트의 사용량을 줄일 수 있다. Since almost no protrusions are formed on the inner wall of the opening, there is almost no paste trapped in the protrusions, so the amount of paste used for screen printing can be reduced.

도 1은 본 발명에 따른 감광유제용 첨가제의 구조를 보여주는 개략도이다.
도 2는 본 발명에 따른 감광유제용 첨가제의 제조 방법에 따른 흐름도이다.
도 3은 실시예에 따른 첨가제의 FTIR 분석 결과를 보여주는 그래프이다.
도 4는 비교예1, 비교예2 및 실시예1에 따른 감광유제로 형성된 패턴을 보여주는 사진이다.
도 5는 비교예1에 따른 감광유제 패턴의 SEM 사진이다.
도 6은 실시예1에 따른 감광유제 패턴의 SEM 사진이다.
도 7은 실시예2에 따른 감광유제 패턴의 SEM 사진이다.
도 8은 비교예3에 따른 감광유제 패턴의 연필경도 실험 결과를 보여주는 사진이다.
도 9는 비교예1에 따른 감광유제 패턴의 연필경도 실험 결과를 보여주는 사진이다.
도 10은 실시예1에 따른 감광유제 패턴의 연필경도 실험 결과를 보여주는 사진이다.
도 11은 실시예2에 따른 감광유제 패턴의 연필경도 실험 결과를 보여주는 사진이다.
도 12는 비교예3에 따른 감광유제 패턴의 연필경도 실험 결과를 보여주는 사진이다.
도 13은 실시예1 및 실시예에 따른 감광유제의 접촉각을 보여주는 사진이다.
도 14는 비교예1에 따른 감광유제를 이용한 스크린 프린팅 제판을 보여주는 SEM 사진이다.
도 15는 실시예2에 따른 감광유제를 이용한 스크린 프린팅 제판을 보여주는 SEM 사진이다.1 is a schematic view showing the structure of an additive for a photosensitive emulsion according to the present invention.
2 is a flowchart illustrating a method for manufacturing an additive for a photosensitive emulsion according to the present invention.
3 is a graph showing the FTIR analysis result of the additive according to the embodiment.
4 is a photograph showing a pattern formed with a photosensitive emulsion according to Comparative Example 1, Comparative Example 2, and Example 1. FIG.
5 is an SEM photograph of a photosensitive emulsion pattern according to Comparative Example 1. FIG.
6 is an SEM photograph of a photosensitive emulsion pattern according to Example 1. FIG.
7 is an SEM photograph of a photosensitive emulsion pattern according to Example 2. FIG.
8 is a photograph showing a pencil hardness test result of a photosensitive emulsion pattern according to Comparative Example 3. FIG.
9 is a photograph showing the results of a pencil hardness test of a photosensitive emulsion pattern according to Comparative Example 1. Referring to FIG.
10 is a photograph showing the results of a pencil hardness test of the photosensitive emulsion pattern according to Example 1. Referring to FIG.
11 is a photograph showing results of a pencil hardness test of a photosensitive emulsion pattern according to Example 2. FIG.
12 is a photograph showing the results of a pencil hardness test of a photosensitive emulsion pattern according to Comparative Example 3. FIG.
13 is a photograph showing the contact angle of the photosensitive emulsion according to Example 1 and Example.
14 is an SEM photograph showing screen printing engraving using a photosensitive emulsion according to Comparative Example 1. FIG.
15 is an SEM photograph showing screen printing engraving using the photosensitive emulsion according to Example 2. FIG.

하기의 설명에서는 본 발명의 실시예를 이해하는데 필요한 부분만이 설명되며, 그 이외 부분의 설명은 본 발명의 요지를 흩트리지 않는 범위에서 생략될 것이라는 것을 유의하여야 한다.It should be noted that, in the following description, only the parts necessary for understanding the embodiments of the present invention will be described, and descriptions of other parts will be omitted in the scope not disturbing the gist of the present invention.

이하에서 설명되는 본 명세서 및 청구범위에 사용된 용어나 단어는 통상적이거나 사전적인 의미로 한정해서 해석되어서는 아니 되며, 발명자는 그 자신의 발명을 가장 최선의 방법으로 설명하기 위해 용어의 개념으로 적절하게 정의할 수 있다는 원칙에 입각하여 본 발명의 기술적 사상에 부합하는 의미와 개념으로 해석되어야만 한다. 따라서 본 명세서에 기재된 실시예와 도면에 도시된 구성은 본 발명의 바람직한 실시예에 불과할 뿐이고, 본 발명의 기술적 사상을 모두 대변하는 것은 아니므로, 본 출원시점에 있어서 이들을 대체할 수 있는 다양한 균등물과 변형예들이 있을 수 있음을 이해하여야 한다.The terms or words used in the present specification and claims described below should not be construed as being limited to their ordinary or dictionary meanings, and the inventors have appropriate concepts of terms in order to best describe their inventions. It should be interpreted as meaning and concept consistent with the technical idea of the present invention based on the principle that it can be defined in Accordingly, the embodiments described in this specification and the configurations shown in the drawings are only preferred embodiments of the present invention, and do not represent all of the technical spirit of the present invention, so various equivalents that can be substituted for them at the time of the present application It should be understood that there may be variations and variations.

이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 실시예를 보다 상세하게 설명하고자 한다.Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in more detail with reference to the accompanying drawings.

도 1은 본 발명에 따른 감광유제용 첨가제의 구조를 보여주는 개략도이다.1 is a schematic view showing the structure of an additive for a photosensitive emulsion according to the present invention.

도 1을 참조하면, 본 발명에 따른 감광유제용 첨가제는 스크린 프린팅 제판용으로 사용된다. 본 발명에 따른 감광유제용 첨가제는 태양전지 전극 제조용 사용될 수 있으며, 이것에 한정되는 것은 아니다.Referring to FIG. 1 , the additive for photosensitive emulsion according to the present invention is used for screen printing engraving. The additive for photosensitizer according to the present invention may be used for manufacturing a solar cell electrode, but is not limited thereto.

본 발명에 따른 감광유제용 첨가제는 감광유제에 포함되어 감광유제의 표면장력을 저하시킨다.The additive for a photosensitive emulsion according to the present invention is included in the photosensitive emulsion to reduce the surface tension of the photosensitive emulsion.

이러한 본 발명에 따른 첨가제를 사용하는 이유는 다음과 같다.The reason for using the additive according to the present invention is as follows.

먼저 기존의 감광유제로 스크린 프린팅 제판용 감광유제 패턴을 형성할 경우, 개방부 내벽에 돌기가 형성되는 이유는 경화 전 감광유제의 표면장력이 높기 때문이다. 즉 기존의 감광유제가 자외선에 의해 부분적으로 경화될 때, 감광유제의 표면장력이 높은 경우 젖음성이 낮아 돌기가 많은 형태의 계면을 형성하는 것으로 판단된다.First, when a photosensitive emulsion pattern for screen printing engraving is formed with an existing photosensitive emulsion, protrusions are formed on the inner wall of the open part because the surface tension of the photosensitive emulsion before curing is high. That is, when the conventional photosensitive emulsion is partially cured by ultraviolet light, when the surface tension of the photosensitive emulsion is high, the wettability is low and an interface with many protrusions is formed.

이러한 돌기가 형성되는 현상을 해소하기 위해서는, 계면활성제와 같이 표면장력이 높은 재료의 특성을 변화시켜 두 재료의 계면에서의 친화도를 향상시킴으로써 개선이 가능할 것으로 판단된다.In order to solve the phenomenon of the formation of protrusions, it is judged that improvement is possible by changing the properties of a material having high surface tension, such as a surfactant, to improve the affinity at the interface between the two materials.

따라서 본 발명에서는 감광유제의 표면장력을 저하시킬 수 있는 첨가제를 사용한다.Therefore, in the present invention, an additive capable of lowering the surface tension of the photosensitive emulsion is used.

이러한 본 발명에 따른 첨가제는 주사슬이 친수성을 갖고 양말단이 소수성을 갖는다. 이로 인해 본 발명에 따른 첨가제는 계면활성제와 유사한 역할을 수행하여 감광유제의 표면장력을 저하시킨다.The additive according to the present invention has hydrophilicity in the main chain and hydrophobicity in both ends. For this reason, the additive according to the present invention performs a role similar to that of a surfactant to reduce the surface tension of the photosensitive emulsion.

본 발명에 따른 첨가제는 아래의 화학식 1로 표시될 수 있다.The additive according to the present invention may be represented by Chemical Formula 1 below.

Figure 112019024879194-pat00002
Figure 112019024879194-pat00002

(1≤n≤5, 50≤m≤150)(1≤n≤5, 50≤m≤150)

본 발명에 따른 첨가제는 30,000 내지 40,000 중량평균분자량(이하 '분자량'이라 함)을 갖는다. 분자량이 30,000 미만이거나 40,000을 초과하는 경우, 첨가제 사용으로 인한 감광유제의 표면장력의 저하 효과가 낮게 나타난다. 화학식 1에서 n과 m 값은 중량평균분자량에 따라 결정될 수 있다. 분자량이 30,000 내지 40,000인 경우, n값은 1 내지 5이고, m값은 50 내지 150 이다.The additive according to the present invention has a weight average molecular weight of 30,000 to 40,000 (hereinafter referred to as 'molecular weight'). When the molecular weight is less than 30,000 or exceeds 40,000, the effect of lowering the surface tension of the photosensitive emulsion due to the use of the additive is low. In Formula 1, the values of n and m may be determined according to the weight average molecular weight. When the molecular weight is 30,000 to 40,000, the n value is 1 to 5, and the m value is 50 to 150.

본 발명에 따른 첨가제는 도 2의 제조 방법으로 제조된다. 도 2는 본 발명에 따른 감광유제용 첨가제의 제조 방법에 따른 흐름도이다.The additive according to the present invention is prepared by the manufacturing method of FIG. 2 . 2 is a flowchart illustrating a method for manufacturing an additive for a photosensitive emulsion according to the present invention.

먼저 폴리에틸렌 글리콜 용액에 디부틸주석 디라우레이트(Dibutyltin dilaurate)을 첨가하여 제1 용액을 제조한다. 이때 제1 용액의 용매는 톨루엔일 수 있다.First, a first solution is prepared by adding dibutyltin dilaurate to a polyethylene glycol solution. In this case, the solvent of the first solution may be toluene.

다음으로 제1 용액에 디이소시아네이트 용액을 첨가한 후 반응시켜 제2 용액을 제조한다. 이때 디이소시아네이트 용액의 용매는 톨루엔일 수 있다.Next, a diisocyanate solution is added to the first solution and reacted to prepare a second solution. In this case, the solvent of the diisocyanate solution may be toluene.

그리고 제2 용액에 세틸알코올(cetyl alcohol)을 첨가한 후 반응시켜 본 발명에 따른 첨가제를 제조한다. 이때 첨가제는 제2 용액에 세틸알코올을 첨가한 후 반응시켜 생성되는 침전물일 수 있다. 반응이 완료된 용액으로부터 침전물을 수집한 후 세척 및 건조하여 본 발명에 따른 첨가제를 획득한다.Then, cetyl alcohol is added to the second solution and reacted to prepare an additive according to the present invention. In this case, the additive may be a precipitate produced by reacting after adding cetyl alcohol to the second solution. After collecting the precipitate from the reaction-completed solution, it is washed and dried to obtain an additive according to the present invention.

본 발명에 따른 PVA를 기반으로 하는 감광원제와, 화학식 1로 표시되는 첨가제를 포함한다. 이때 감광유제에 포함되는 첨가제의 함량은 2.0 wt% 미만이다. 첨가제의 함량이 2.0 wt% 이상인 경우에 첨가제 사용으로 인한 감광유제의 표면장력의 저하 효과가 낮게 나타난다. 바람직하게는 감광유제는 감광원제 98.5 내지 99.0 wt%와 첨가제 1.0 내지 1.5 wt%를 포함할 수 있다.A photosensitizer based on PVA according to the present invention and an additive represented by Formula 1 are included. In this case, the content of the additive included in the photosensitive emulsion is less than 2.0 wt%. When the content of the additive is 2.0 wt% or more, the effect of lowering the surface tension of the photosensitive emulsion due to the use of the additive is low. Preferably, the photosensitive emulsion may include 98.5 to 99.0 wt% of the photosensitizer and 1.0 to 1.5 wt% of the additive.

본 발명에 따른 감광유제는 101 내지 120°의 접촉각을 갖는다. 감광유제는 접촉각이 100° 이상으로 높은 소수성을 나타내는 것을 확인할 수 있다. 이것은 본 발명에 따른 감광유제가 화학적으로 높은 내구성을 갖는 것을 의미한다.The photosensitive emulsion according to the present invention has a contact angle of 101 to 120°. It can be seen that the photosensitive emulsion exhibits high hydrophobicity with a contact angle of 100° or more. This means that the photosensitive emulsion according to the present invention has high chemical durability.

[실시예 및 비교예][Examples and Comparative Examples]

이와 같은 본 발명에 따른 첨가제의 특성과, 본 발명에 따른 첨가제가 포함된 감광유제의 특성을 확인하기 아래와 같이 실시예 및 비교예에 따른 첨가제, 감광유제 및 스크린 프린팅 제판을 제조하였다.To check the properties of the additive according to the present invention and the photosensitive emulsion containing the additive according to the present invention, additives, photosensitive emulsions and screen printing engravings according to Examples and Comparative Examples were prepared as follows.

실시예에 따른 첨가제는 다음과 같이 제조하였다.Additives according to Examples were prepared as follows.

먼저 폴리에틸렌 글리콜 50g을 톨루엔 400㎖에 용해시켜 폴리에틸렌 글리콜 용액을 제조한다. 50℃에서 폴리에틸렌 글리콜 용액에 디부틸주석 디라우레이트 0.2g을 첨가하여 제1 용액을 제조한다.First, 50 g of polyethylene glycol is dissolved in 400 ml of toluene to prepare a polyethylene glycol solution. A first solution is prepared by adding 0.2 g of dibutyltin dilaurate to a polyethylene glycol solution at 50°C.

다음으로 화학양론의 디이소아네이트를 톨루엔 20㎖에 용해시켜 디이소아네이트 용액을 제조한다. 제1 용액에 디이소시아네이트 용액을 첨가한 후 1시간 동안 제2 용액을 제조한다.Next, diisocyanate of the stoichiometry is dissolved in 20 ml of toluene to prepare a diisocyanate solution. After adding the diisocyanate solution to the first solution, a second solution is prepared for 1 hour.

그리고 제2 용액에 제2 용액의 1.1배 부피의 세틸알코올을 첨가한 후 2시간 반응시켜 생성되는 침전물을 수집하여 실시예에 따른 첨가제를 제조하였다.And after adding cetyl alcohol of 1.1 times the volume of the second solution to the second solution, the precipitate was collected by reacting for 2 hours to prepare an additive according to the example.

실시예에 따른 첨가제가 화학식 1의 조성을 갖는 지를 확인하기 위해서, 도 3에 도시된 바와 같이, FTIR(Fourier-transform infrared spectroscopy) 분석을 수행하였다. 여기서 도 3은 실시예에 따른 첨가제의 FTIR 분석 결과를 보여주는 그래프이다.In order to confirm whether the additive according to the embodiment has the composition of Chemical Formula 1, as shown in FIG. 3 , Fourier-transform infrared spectroscopy (FTIR) analysis was performed. Here, Figure 3 is a graph showing the FTIR analysis results of the additive according to the embodiment.

RTIR 분석 결과 그래프를 참조하면, (a)와 같이 우레탄(urethane)의 N-H 결합 연신에 의한 피크가 3,400 cm-1에서 확인된다. (b)와 같이 우레탄의 C=O 이중결합 연신에 의한 피크가 1,689 cm-1에서 확인된다. (a)와 (b)로부터 주사슬로서 친수성의 우레탄이 잘 합성되었음을 확인할 수 있다.Referring to the RTIR analysis result graph, as shown in (a), a peak due to NH bond elongation of urethane is confirmed at 3,400 cm -1 . As shown in (b), a peak due to C=O double bond stretching of urethane is confirmed at 1,689 cm -1 . From (a) and (b), it can be seen that hydrophilic urethane as a main chain was well synthesized.

그리고 (C)와 같이 폴리에틸렌 글리콜의 -C-O- 연신에 의한 피크가 확인되기 때문에, 실시예에 따른 첨가제가 화학식1에 따른 조성을 갖도록 제조되었음을 확인할 수 있다.And since the peak due to -C-O- stretching of polyethylene glycol is confirmed as shown in (C), it can be confirmed that the additive according to the embodiment was prepared to have a composition according to Chemical Formula 1.

다음으로 첨가제의 분자량에 따른 물성을 평가하였고, 평가 결과는 도 4와 같다. 도 4는 비교예1, 비교예2 및 실시예1에 따른 감광유제 패턴을 보여주는 사진이다. 이때 물성은 현상성이다.Next, physical properties according to the molecular weight of the additives were evaluated, and the evaluation results are shown in FIG. 4 . 4 is a photograph showing a photosensitive emulsion pattern according to Comparative Example 1, Comparative Example 2, and Example 1. Referring to FIG. In this case, the physical property is developability.

비교예1, 비교예2 및 실시예1에 따른 감광유제는 공통적으로 PVA를 기반으로 하는 감광원제를 포함한다.The photosensitizers according to Comparative Example 1, Comparative Example 2, and Example 1 commonly include a photosensitizer based on PVA.

비교예1은 첨가제가 포함되지 않은 감광유제를 사용하여 감광유제 패턴을 형성하였다. 즉 PVA를 기반으로 하는 감광원제를 비교예1에 따른 감광유제로 사용하였다.In Comparative Example 1, a photosensitive emulsion pattern was formed using a photosensitive emulsion containing no additives. That is, a photosensitizer based on PVA was used as the photosensitizer according to Comparative Example 1.

비교예2는 분자량이 22,000(22K)인 첨가제가 포함된 감광유제를 사용하여 감광유제 패턴을 형성하였다.In Comparative Example 2, a photosensitive emulsion pattern was formed using a photosensitive emulsion containing an additive having a molecular weight of 22,000 (22K).

그리고 실시예1은 분자량이 35,000(35K)인 첨가제가 포함된 감광유제를 사용하여 감광유제 패턴을 형성하였다.In Example 1, a photosensitive emulsion pattern was formed using a photosensitive emulsion containing an additive having a molecular weight of 35,000 (35K).

비교예1의 첨가제가 첨가되지 않은 감광유제 패턴의 현상성을 기준으로 해서, 비교예2 및 실시예1의 감광유제 패턴의 현상성을 대비하면 다음과 같다. 비교예2의 22,000 분자량 첨가제는 현상성의 가시적인 개선 효과가 나타나지 않았다. 반면에 실시예1의 분자량 35,000 첨가제는 현상성의 개선 효과를 명확히 나타난 것을 확인할 수 있다.The developability of the photosensitive emulsion pattern of Comparative Example 2 and Example 1 is compared on the basis of the developability of the photosensitive emulsion pattern to which the additive of Comparative Example 1 is not added, as follows. The 22,000 molecular weight additive of Comparative Example 2 did not show a visible improvement effect in developability. On the other hand, it can be seen that the molecular weight 35,000 additive of Example 1 clearly showed the effect of improving developability.

이것은 비교예2에 따른 분자량 22,000 첨가제가 포함된 감광유제 보다는 실시예1에 따른 분자량 35,000 첨가제가 포함된 감광유제가 더 높은 친수성을 갖고 있기 때문인 것으로 판단된다.This is considered to be because the photosensitive emulsion containing the molecular weight 35,000 additive according to Example 1 has higher hydrophilicity than the photosensitive emulsion containing the molecular weight 22,000 additive according to Comparative Example 2.

도 4의 현상성 실험 결과를 토대로, 분자량 35K 첨가제의 첨가 비율을 조절하여 기타 물리적 특성에 영향을 미치지 않으면서 개방부 내벽의 모폴로지를 개선할 수 있는 감광유제의 조성을 확인하였다.Based on the developability test results of FIG. 4 , the composition of the photosensitive emulsion capable of improving the morphology of the inner wall of the opening without affecting other physical properties by controlling the addition ratio of the molecular weight 35K additive was confirmed.

도 5는 비교예1에 따른 감광유제 패턴의 SEM 사진이다. 도 6은 실시예1에 따른 감광유제 패턴의 SEM 사진이다. 도 7은 실시예2에 따른 감광유제 패턴의 SEM 사진이다. 그리고 도 8은 비교예3에 따른 감광유제 패턴의 연필경도 실험 결과를 보여주는 사진이다. 여기서 도 5 내지 도 8에서 오른쪽 사진은 왼쪽 사진의 확대도이다.5 is an SEM photograph of a photosensitive emulsion pattern according to Comparative Example 1. FIG. 6 is an SEM photograph of a photosensitive emulsion pattern according to Example 1. FIG. 7 is an SEM photograph of a photosensitive emulsion pattern according to Example 2. FIG. And FIG. 8 is a photograph showing the pencil hardness test result of the photosensitive emulsion pattern according to Comparative Example 3. Here, the right photo in FIGS. 5 to 8 is an enlarged view of the left photo.

실시예2에 따른 감광유제 패턴은 분자량 35,000 첨가제 1.5 wt%를 포함하는 감광유제로 형성하였다.The photosensitive emulsion pattern according to Example 2 was formed with a photosensitive emulsion containing 1.5 wt% of an additive having a molecular weight of 35,000.

비교예3에 따른 감광유제 패턴은 분자량 35,000 첨가제 2.0 wt%를 포함하는 감광유제로 형성하였다.The photosensitive emulsion pattern according to Comparative Example 3 was formed with a photosensitive emulsion containing 2.0 wt% of an additive having a molecular weight of 35,000.

도 5 내지 도 8에 도시된 바와 같이, 1.0 wt% 및 1.5 wt%의 첨가제가 첨가된 실시예1 및 실시예2에 따른 개방부 내벽에는 개선된 모폴로지를 확인할 수 있다. 즉 실시예1 및 실시예2에 따른 개방부 내벽에는 거의 돌기가 형성되지 않은 것을 확인할 수 있다.As shown in FIGS. 5 to 8 , an improved morphology can be confirmed on the inner walls of the openings according to Examples 1 and 2 to which 1.0 wt% and 1.5 wt% of additives are added. That is, it can be seen that almost no protrusions are formed on the inner walls of the openings according to Examples 1 and 2.

반면에 2.0 wt%의 첨가제가 첨가된 비교예3에 따른 개방부 내벽에서는, 비교예1에 따른 개방부 내벽과 같이, 돌기가 형성된 것을 확인할 수 있다. 즉 감광유제에 첨가제가 2.0 wt% 이상 포함될 경우, 개방부 내벽의 모폴로지 개선 효과를 기대할 수 없음을 알 수 있다.On the other hand, in the inner wall of the open portion according to Comparative Example 3 to which 2.0 wt% of the additive was added, it can be seen that protrusions were formed, as in the inner wall of the open portion according to Comparative Example 1. That is, it can be seen that when the additive is included in the photosensitive emulsion in an amount of 2.0 wt% or more, the effect of improving the morphology of the inner wall of the opening cannot be expected.

비교예1, 비교예3, 실시예1 및 실시예2에 따른 감광유제 패턴의 물리적 특성 변화를 확인하기 위해서 연필경도를 평가하였다. 연필경도 평가결과는 도 9 내지 도 12와 같다. 여기서 도 9는 비교예1에 따른 감광유제 패턴의 연필경도 평과결과를 보여주는 사진이다. 도 10은 실시예1에 따른 감광유제 패턴의 연필경도 평가결과를 보여주는 사진이다. 도 11은 실시예2에 따른 감광유제 패턴의 연필경도 평가결과를 보여주는 사진이다. 그리고 도 12는 비교예3에 따른 감광유제 패턴의 연필경도 평가결과를 보여주는 사진이다.Pencil hardness was evaluated in order to confirm the change in physical properties of the photosensitive emulsion patterns according to Comparative Example 1, Comparative Example 3, Example 1 and Example 2. The pencil hardness evaluation results are shown in FIGS. 9 to 12 . Here, FIG. 9 is a photograph showing the evaluation result of pencil hardness of the photosensitive emulsion pattern according to Comparative Example 1. 10 is a photograph showing a pencil hardness evaluation result of the photosensitive emulsion pattern according to Example 1. FIG. 11 is a photograph showing a pencil hardness evaluation result of a photosensitive emulsion pattern according to Example 2. FIG. And FIG. 12 is a photograph showing the pencil hardness evaluation result of the photosensitive emulsion pattern according to Comparative Example 3.

연필경도 평가는 미츠비스 펜슬(Mitsubishi Pencil Co., Ltd.)을 사용하여 1kg 하중 조건에서 측정하여 평가하였다.Pencil hardness evaluation was evaluated by measuring under a 1 kg load condition using a Mitsubishi Pencil (Mitsubishi Pencil Co., Ltd.).

도 9를 참조하면, 비교예1에 따른 감광유제 패턴은 2H의 경도를 갖는 것으로 평가되었다.Referring to FIG. 9 , the photosensitive emulsion pattern according to Comparative Example 1 was evaluated to have a hardness of 2H.

도 10을 참조하면, 실시예1에 따른 감광유제 패턴은 2H의 경도를 갖는 것으로 평가되었다.Referring to FIG. 10 , the photosensitive emulsion pattern according to Example 1 was evaluated to have a hardness of 2H.

도 11을 참조하면, 실시예2에 따른 감광유제 패턴은 1H의 경도를 갖는 것으로 평가되었다.Referring to FIG. 11 , the photosensitive emulsion pattern according to Example 2 was evaluated to have a hardness of 1H.

도 12를 참조하면, 비교예3에 따른 감광유제 패턴은 2B의 경도를 갖는 것으로 평가되었다.Referring to FIG. 12 , the photosensitive emulsion pattern according to Comparative Example 3 was evaluated to have a hardness of 2B.

즉 실시예1 및 실시예2에 따른 감광유제 패턴은 스크린 프린팅 제판에 적합한 경도를 갖는 것으로 확인되었다. 반면에 비교예3에 따른 감광유제 패턴은 경도가 2B로 스크린 프린팅 제판에 적합하지 않는 경도를 갖는 것으로 확인되었다.That is, it was confirmed that the photosensitive emulsion patterns according to Examples 1 and 2 had a hardness suitable for screen printing engraving. On the other hand, it was confirmed that the photosensitive emulsion pattern according to Comparative Example 3 had a hardness of 2B, which was not suitable for screen printing engraving.

따라서 실시예1 및 실시예2에 따른 분자량 35K 첨가제가 1.0 wt% 및 1.5 wt% 함량으로 도입된 감광유제가 바람직한 물성을 나타내는 것을 확인할 수 있다.Therefore, it can be seen that the photosensitive emulsion in which the molecular weight 35K additive according to Examples 1 and 2 is introduced in an amount of 1.0 wt% and 1.5 wt% shows desirable physical properties.

다음으로 첨가제 투입 시 경도 저하가 크게 일어나지 않으면서 표면 조도 개선이 가능한 것으로 판단되는 실시예1 및 실시예2에 따른 감광유제의 접촉각을 측정하였다. 접촉각 측정 결과는 도 13과 같다. 여기서 도 13은 실시예1 및 실시예2에 따른 감광유제의 접촉각을 보여주는 사진이다. 접촉각은 SEO사의 Phoenix Alpha 제품을 사용하여 측정하였다.Next, the contact angles of the photosensitive emulsions according to Examples 1 and 2, which are judged to be capable of improving the surface roughness without significantly lowering the hardness when the additive is added, were measured. The contact angle measurement result is shown in FIG. 13 . Here, FIG. 13 is a photograph showing the contact angle of the photosensitive emulsions according to Examples 1 and 2. The contact angle was measured using a Phoenix Alpha product from SEO.

도 13을 참조하면, 실시예1에 따른 감광유제는 101,42°의 접촉각을 갖는 것을 확인하였다. 실시예2에 따른 감광유제는 120.7°의 접촉각을 갖는 것을 확인하였다.Referring to FIG. 13 , it was confirmed that the photosensitive emulsion according to Example 1 had a contact angle of 101 and 42°. It was confirmed that the photosensitive emulsion according to Example 2 had a contact angle of 120.7°.

실시예1 및 실시예2에 따른 감광유제 모두 100° 이상으로 높은 소수성을 나타내는 것을 확인할 수 있다. 이것은 실시예1 및 실시예2에 따른 감광유제가 화학적으로 높은 내구성을 갖는 것을 의미한다.It can be seen that both the photosensitive emulsions according to Examples 1 and 2 exhibit a high hydrophobicity of 100° or more. This means that the photosensitive emulsions according to Examples 1 and 2 have high chemical durability.

이와 같은 비교예1 및 실시예2에 따른 감광유제를 이용한 스크린 프린팅 제판(100,200)은 도 14 및 도 15와 같다. 여기서 도 14는 비교예1에 따른 감광유제를 이용한 스크린 프린팅 제판(200)을 보여주는 SEM 사진이다. 그리고 도 15는 실시예2에 따른 감광유제를 이용한 스크린 프린팅 제판(100)을 보여주는 SEM 사진이다.The screen printing engravings 100 and 200 using the photosensitive emulsion according to Comparative Examples 1 and 2 are shown in FIGS. 14 and 15 . Here, FIG. 14 is an SEM photograph showing the screen printing engraving 200 using the photosensitive emulsion according to Comparative Example 1. Referring to FIG. And FIG. 15 is an SEM photograph showing the screen printing engraving 100 using the photosensitive emulsion according to Example 2.

비교예1 및 실시예2에 따름 스크린 프린팅 제판(100,200)은 망사 구조를 갖는 베이스 제판(10,110)과 감광유제 패턴(20,120)을 포함한다. 감광유제 패턴(20,120)은 베이스 제판(10,110) 상에 감광유제를 도포한 후 패터닝하여 개방부(21,121)가 형성된 구조를 갖는다. 개방부(21,121)로 베이스 제판(10,110)의 망사(11,111)가 노출된다.According to Comparative Examples 1 and 2, the screen printing engravings 100 and 200 include the base engravings 10 and 110 having a mesh structure and the photosensitive emulsion patterns 20 and 120 . The photosensitive emulsion patterns 20 and 120 have a structure in which open portions 21 and 121 are formed by applying a photosensitive emulsion on the base plate 10 and 110 and then patterning. The meshes 11 and 111 of the base plate 10 and 110 are exposed through the openings 21 and 121 .

비교예1에 따른 스크린 프린팅 제판(200)은, 도 14에 도시된 바와 같이, 개방부 내벽(123)에 돌기(125)가 형성되어 있는 확인할 수 있다.In the screen printing engraving 200 according to Comparative Example 1, as shown in FIG. 14 , it can be confirmed that the protrusions 125 are formed on the inner wall 123 of the opening.

반면에 실시예2에 따른 스크린 프린팅 제판(100)은, 도 15에 도시된 바와 같이, 개방부 내벽(23)에 돌기가 형성되어 있지 않는 것을 확인할 수 있다.On the other hand, in the screen printing engraving 100 according to the second embodiment, as shown in FIG. 15 , it can be seen that no protrusions are formed on the inner wall 23 of the opening.

실시예2에 따른 감광유제는 비교예1의 감광유제가 포함하지 않는 실시예2에 따른 첨가제를 포함하고 있다. 실시예2에 따른 첨가제에 의해 실시예2에 따른 감광유제는 비교예1에 따른 감광유제 보다 낮은 표면 장력을 나타낸다.The photosensitive emulsion according to Example 2 contains the additive according to Example 2, which does not include the photosensitive emulsion of Comparative Example 1. With the additive according to Example 2, the photosensitive emulsion according to Example 2 exhibits a lower surface tension than the photosensitive emulsion according to Comparative Example 1.

이로 인해 실시예2에 따른 감광유제의 경화 전후의 물성 차이를 감소시킴으로써, 개방부 내벽(23)의 조도를 낮출 수 있다.Accordingly, by reducing the difference in physical properties before and after curing of the photosensitive emulsion according to Example 2, it is possible to lower the roughness of the inner wall 23 of the opening.

개방부 내벽(23)의 조도가 낮기 때문에, 페이스트 토출 시 페이스트의 갇힘 현상이 억제되어 파티클 발생이 억제된다. 결과적으로 스크린 프린팅 과정에서 발생되는 페이스트와의 마찰에 의한 스크린 프린팅 제판(100)의 수명 감소를 줄일 수 있다.Since the roughness of the inner wall of the opening 23 is low, the trapping phenomenon of the paste is suppressed when the paste is discharged, thereby suppressing the generation of particles. As a result, it is possible to reduce the lifetime reduction of the screen printing engraving 100 due to friction with the paste generated in the screen printing process.

그리고 개방부 내벽(23)에 돌기가 거의 형성되지 않기 때문에, 돌기에 갇히는 페이스트가 거의 없어 스크린 프린팅에 사용되는 페이스트의 사용량을 줄일 수 있다.In addition, since the protrusions are hardly formed on the inner wall of the opening 23 , there is almost no paste trapped in the protrusions, so that the amount of paste used for screen printing can be reduced.

한편, 본 명세서와 도면에 개시된 실시예들은 이해를 돕기 위해 특정 예를 제시한 것에 지나지 않으며, 본 발명의 범위를 한정하고자 하는 것은 아니다. 여기에 개시된 실시예들 이외에도 본 발명의 기술적 사상에 바탕을 둔 다른 변형예들이 실시 가능하다는 것은, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게는 자명한 것이다.On the other hand, the embodiments disclosed in the present specification and drawings are merely presented as specific examples to aid understanding, and are not intended to limit the scope of the present invention. It is apparent to those of ordinary skill in the art to which the present invention pertains that other modifications based on the technical spirit of the present invention can be implemented in addition to the embodiments disclosed herein.

10, 110 : 베이스 제판
11, 111 : 망사
20, 120 : 감광유제 패턴
21, 121 : 개방부
23, 123 : 개방부 내벽
30 : 첨가제
31 : 주사슬
33 : 양말단
100, 200 : 스크린 프린팅 제판
125 : 돌기10, 110: base plate making
11, 111: mesh
20, 120: photosensitive emulsion pattern
21, 121: open part
23, 123: inner wall of the opening
30: additive
31: main chain
33: socks
100, 200: screen printing engraving
125: turn

Claims (12)

폴리에틸렌 글리콜 용액에 디부틸주석 디라우레이트(Dibutyltin dilaurate)을 첨가하여 제1 용액을 제조하는 단계;
상기 제1 용액에 디이소시아네이트 용액을 첨가한 후 반응시켜 제2 용액을 제조하는 단계; 및
상기 제2 용액에 세틸알코올(cetyl alcohol)을 첨가한 후 반응시켜 아래의 화학식으로 표시되는 첨가제를 제조하는 단계;
를 포함하는 스크린 프린팅 제판에 사용되는 감광유제용 첨가제의 제조 방법.
[화학식]
Figure 112021077533619-pat00023

(1≤n≤5 이고, 50≤m≤150)preparing a first solution by adding dibutyltin dilaurate to a polyethylene glycol solution;
preparing a second solution by adding a diisocyanate solution to the first solution and then reacting; and
preparing an additive represented by the following formula by adding cetyl alcohol to the second solution and then reacting;
A method for producing an additive for a photosensitive emulsion used in screen printing engraving comprising a.
[Formula]
Figure 112021077533619-pat00023

(1≤n≤5, 50≤m≤150) 제1항에 있어서,
상기 첨가제는 주사슬이 친수성을 갖고 양말단이 소수성을 갖는 것을 특징으로 하는 스크린 프린팅 제판에 사용되는 감광유제용 첨가제의 제조 방법.According to claim 1,
The additive is a method for producing an additive for a photosensitive emulsion used in screen printing engraving, characterized in that the main chain has hydrophilicity and both ends have hydrophobicity. 제1항에 있어서,
상기 첨가제는 30,000 내지 40,000 중량평균분자량을 갖는 것을 특징으로 하는 스크린 프린팅 제판에 사용되는 감광유제용 첨가제의 제조 방법.According to claim 1,
The additive is a method for producing an additive for a photosensitive emulsion used in screen printing engraving, characterized in that it has a weight average molecular weight of 30,000 to 40,000. 삭제delete 제1항에 있어서, 상기 첨가제를 제조하는 단계에서,
상기 첨가제는 상기 제2 용액에 세틸알코올을 첨가한 후 반응시켜 생성되는 침전물인 것을 특징으로 하는 스크린 프린팅 제판에 사용되는 감광유제용 첨가제의 제조 방법.According to claim 1, In the step of preparing the additive,
The additive is a method for producing an additive for a photosensitive emulsion used in screen printing engraving, characterized in that the precipitate is produced by reacting after adding cetyl alcohol to the second solution. 첨가제를 제조하는 단계; 및
PVA를 기반으로 하는 감광원제에 상기 첨가제를 혼합하는 단계;를 포함하며,
상기 첨가제를 제조하는 단계는,
폴리에틸렌 글리콜 용액에 디부틸주석 디라우레이트(Dibutyltin dilaurate)을 첨가하여 제1 용액을 제조하는 단계;
상기 제1 용액에 디이소시아네이트 용액을 첨가한 후 반응시켜 제2 용액을 제조하는 단계; 및
상기 제2 용액에 세틸알코올(cetyl alcohol)을 첨가한 후 반응시켜 아래의 화학식으로 표시되는 첨가제를 제조하는 단계;
를 포함하는 스크린 프린팅 제판용 감광유제의 제조 방법.
[화학식]
Figure 112021077533619-pat00024

(1≤n≤5 이고, 50≤m≤150)preparing an additive; and
Including; mixing the additive with a photosensitizer based on PVA;
The step of preparing the additive,
preparing a first solution by adding dibutyltin dilaurate to a polyethylene glycol solution;
preparing a second solution by adding a diisocyanate solution to the first solution and then reacting; and
preparing an additive represented by the following formula by adding cetyl alcohol to the second solution and then reacting;
A method for producing a photosensitive emulsion for screen printing engraving comprising a.
[Formula]
Figure 112021077533619-pat00024

(1≤n≤5, 50≤m≤150) 제6항에 있어서,
상기 감광유제 총량의 합 100 wt%를 기준으로, 상기 첨가제 1.0 내지 1.5 wt%를 포함하는 것을 특징으로 스크린 프린팅 제판용 감광유제의 제조 방법.7. The method of claim 6,
The method for producing a photosensitive emulsion for screen printing engraving, comprising 1.0 to 1.5 wt% of the additive based on 100 wt% of the total amount of the photosensitive emulsion. 제7항에 있어서,
상기 첨가제는 30,000 내지 40,000 중량평균분자량을 갖는 것을 특징으로 하는 스크린 프린팅 제판용 감광유제의 제조 방법.8. The method of claim 7,
The method for producing a photosensitive emulsion for screen printing engraving, characterized in that the additive has a weight average molecular weight of 30,000 to 40,000. 제8항에 있어서,
상기 감광유제의 접촉각은 101 내지 120°인 것을 특징으로 하는 스크린 프린팅 제판에 사용되는 감광유제의 제조 방법.9. The method of claim 8,
The method for producing a photosensitive emulsion used in screen printing engraving, characterized in that the contact angle of the photosensitive emulsion is 101 to 120 °. 감광원제를 제조하는 단계; 및
베이스 제판 상에 감광유제를 도포한 후 패터닝하여 개방부가 형성되는 감광유제 패턴을 형성하는 단계;를 포함하고,
상기 감광원제를 제조하는 단계는,
첨가제를 제조하는 단계; 및
PVA를 기반으로 하는 감광원제에 상기 첨가제를 혼합하는 단계;를 포함하며,
상기 첨가제를 제조하는 단계는,
폴리에틸렌 글리콜 용액에 디부틸주석 디라우레이트(Dibutyltin dilaurate)을 첨가하여 제1 용액을 제조하는 단계;
상기 제1 용액에 디이소시아네이트 용액을 첨가한 후 반응시켜 제2 용액을 제조하는 단계; 및
상기 제2 용액에 세틸알코올(cetyl alcohol)을 첨가한 후 반응시켜 아래의 화학식으로 표시되는 첨가제를 제조하는 단계;
를 포함하는 스크린 프린팅 제판의 제조 방법.
[화학식]
Figure 112021077533619-pat00025

(1≤n≤5 이고, 50≤m≤150)preparing a photosensitizer; and
Forming a photosensitive emulsion pattern in which an open part is formed by applying a photosensitive emulsion on the base plate and then patterning it;
The step of preparing the photosensitizer is,
preparing an additive; and
Including; mixing the additive with a photosensitizer based on PVA;
The step of preparing the additive,
preparing a first solution by adding dibutyltin dilaurate to a polyethylene glycol solution;
preparing a second solution by adding a diisocyanate solution to the first solution and then reacting; and
preparing an additive represented by the following formula by adding cetyl alcohol to the second solution and then reacting;
A method of manufacturing a screen printing engraving comprising a.
[Formula]
Figure 112021077533619-pat00025

(1≤n≤5, 50≤m≤150) 제10항에 있어서,
상기 첨가제는 30,000 내지 40,000 중량평균분자량을 갖는 것을 특징으로 하는 스크린 프린팅 제판의 제조 방법.11. The method of claim 10,
The method of manufacturing a screen printing engraving, characterized in that the additive has a weight average molecular weight of 30,000 to 40,000. 제11항에 있어서,
상기 감광유제 총량의 합 100 wt%를 기준으로, 상기 감광유제는 상기 감광원제 98.5 내지 99.0 wt%와 상기 첨가제 1.0 내지 1.5 wt%를 포함하는 것을 특징으로 하는 스크린 프린팅 제판의 제조 방법.12. The method of claim 11,
Based on 100 wt% of the total amount of the photosensitive emulsion, the photosensitive emulsion comprises 98.5 to 99.0 wt% of the photosensitizer and 1.0 to 1.5 wt% of the additive.
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