KR102318198B1 - Automatic ejection device of chip plating machine - Google Patents
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Abstract
Description
본 발명은 칩 도금기의 자동 배출장치에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 도금공정과 세정공정을 완료한 후 인력의 투입 없이도 간단하게 모든 세척수와 칩을 동시에 모두 배출하여 작업시간과 인력의 낭비를 방지함과 아울러 칩의 손실도 방지하여 경제성과 생산 효율을 대폭 향상시킬 수 있도록 발명된 것이다.The present invention relates to an automatic discharging device for a chip plating machine, and more particularly, to prevent wastage of work time and manpower by simply discharging all washing water and chips at the same time without the input of manpower after completing the plating process and the washing process. It was invented to significantly improve economic efficiency and production efficiency by preventing chip loss.
일반적으로 MLCC(Multi Layer Ceramic Capacitor) 칩은 전기를 일정하게 공급하는 역할을 수행하는 것으로 육안으로는 작은 점으로 보일 정도로 크기가 매우 작고 고가의 부품이다.In general, the MLCC (Multi Layer Ceramic Capacitor) chip plays a role of supplying electricity uniformly, and it is a very small and expensive component that can be seen as a small dot with the naked eye.
이러한 다층 세라믹 캐패시터(이하 'MLCC' 라 함)는 휴대폰, PC, D-TV 외에 메모리 모듈, 튜너 등 모바일 기기, 군사용 기기, 의료 기기, 항공기, 자동차 등의 특수 목적으로도 적용되며, 소형의 캐패시터가 요구되는 다양한 분야에 널리 사용된다. These multilayer ceramic capacitors (hereinafter referred to as 'MLCC') are also applied for special purposes such as mobile devices such as memory modules and tuners, military devices, medical devices, aircraft, and automobiles, in addition to cell phones, PCs, and D-TVs. It is widely used in various fields requiring
특히, 내부 인덕턴스(Inductance)가 낮아 다른 캐패시터에 비해 고주파에서 노이즈 제거 효과가 탁월하기 때문에, 휴대폰, 위성 등에 적용되며, 초소형으로도 높은 용량을 가지면서 높은 신뢰성을 가지는 캐패시터로서의 역할을 수행한다. In particular, since the internal inductance is low and the noise canceling effect is excellent at high frequencies compared to other capacitors, it is applied to mobile phones and satellites, and plays a role as a capacitor with high reliability while having a high capacity even in an ultra-small size.
근래에는, 스마트폰 등의 휴대용 통신 기기, 태블릿 피씨, 노트북, 스마트 TV 등의 소형화 및 전자기기의 고성능을 위해 박막시트의 두께를 초박막인 1.5μm 이하까지 MLCC를 생산하는 단계에 이르고 있다.Recently, for the miniaturization of portable communication devices such as smartphones, tablet PCs, notebook computers, smart TVs, etc. and high performance of electronic devices, the thin film sheet has reached the stage of producing MLCCs with a thickness of 1.5 μm or less, which is an ultra-thin film.
이러한 MLCC는 박막시트를 테이프 캐스팅으로 형성하고, 형성된 박막시트를 적층, 압착, 절단, 가소, 소성, 연마 등의 가공을 수행한 후, 그 위에 전기회로의 형성을 위한 MLCC 전용 도금기를 통해 도금층을 형성하고 있다.Such MLCC forms a thin film sheet by tape casting, and processes such as lamination, compression, cutting, plasticization, firing, and polishing of the formed thin film sheet, and then applies a plating layer thereon through an MLCC dedicated plating machine for forming an electric circuit. is forming
도 1은 통상의 칩 도금기의 장치를 평면도로 예시하고 있다.1 illustrates an apparatus of a conventional chip plating machine in a plan view.
도면에서와 같이 칩 도금기는 4개의 단계로 이루어 진다.As shown in the figure, the chip plating machine consists of four steps.
도금하우징(10)은 속이 빈 케이스 구조로 내부에는 캐소드 링(20)이 각각 설치되어 있다.The plating
캐소드 링(20)은 다수의 MLCC 칩들이 채워진 상태로 각 단계를 선회하게 되는데, 시작 위치에서 캐소드 링(20)의 내부로 칩들을 다수 투입한 상태에서 세정노즐을 통해 순수세정이 이루어지게 된다.The
그리고 다음 단계로 도금하우징(10)이 이동하여 1차도금이 이루어지고, 도금 세척을 위해 위치를 다음 단계로 이동하여 세정노즐을 통해 2차 세척을 수행하게 된다.Then, the plating
이어서, 2차 도금을 위해 다음 단계로 이동하여 도금노즐을 통해 도금액이 공급된 후 도금공정을 마친 후 다시 칩들이 투입되었던 처음 시작 단계로 이동하여 마감용 순수 세정을 수행하는 것으로 칩 도금 작업이 끝나게 된다.Then, after moving to the next stage for secondary plating, the plating solution is supplied through the plating nozzle, and after the plating process is completed, the chip plating operation is completed by moving to the initial stage where the chips were put in and performing pure water cleaning for finishing. do.
도금하우징(10)과 캐소드 링(20)은 각각 상부 입구가 트여져 각 단계에서 세정노즐 및 도금노즐들이 하강된 후 캐소드 링(20)의 내부로 세정액 또는 도금액을 공급한 후 다시 복귀되는 과정을 반복하게 된다.The plating
캐소드 링(20)의 내부에서 이루어지는 각 도금 공정과 세정 작업을 모두 끝마친 후에는 세정액으로부터 칩을 분리하여 수거하는 과정이 중요하다.It is important to separate and collect the chips from the cleaning solution after completing each plating process and cleaning operation performed inside the
종래, 칩을 수거하기 위하여 작업자가 칩 도금기에서 대기한 상태로 도금의 모든 공정이 완료되면 칩을 배출하기 위해 진공펌프와 연결된 호스를 캐소드 링(20) 내부에 넣어서 칩 수거용기에 담겨지도록 하는 수작업에 의해 이루어진다.Conventionally, when all the plating processes are completed in a state where the operator waits in the chip plating machine to collect the chips, a hose connected to the vacuum pump is put inside the
이때 캐소드 링(20) 내부에 잔여 칩 여부 확인을 위해 육안으로 일일이 확인해야 하고, 진공 호스를 통해 수작업으로 일일이 찾아서 흡입이 이루어지도록 하는 과정이 모두 수작업으로 이루어지게 되므로, 작업시간과 인력의 낭비로 인한 생산성 손실이 발생하게 된다.At this time, it is necessary to check with the naked eye to check whether there are any residual chips inside the
그리고, 작업자의 능력에 따라 생산성이 크게 차이가 발생될 뿐만 아니라, 고가의 칩이 손실되는 경우가 지속적으로 누적되어 경제적 손실이 발생되는 많은 문제점이 있었다.In addition, there are many problems in that not only the productivity is significantly different depending on the ability of the operator, but also the cases in which expensive chips are continuously accumulated, resulting in economic loss.
국내 등록 특허 제10-1749997호 (등록일자 2017년06월16일) Domestic Registered Patent No. 10-1749997 (Registration Date June 16, 2017)
국내 공개 특허 제10-2005-0096298호 (공개일자 2005년10월06일) Domestic Patent Publication No. 10-2005-0096298 (published on October 06, 2005)
이러한 종래 단점을 해소하기 위한 본 발명의 목적은, 도금기의 인력투입 시간을 절감하고 장비 자동화를 통한 생산성 향상과 작업 환경을 개선할 수 있도록 한 칩 도금기를 제공하는데 있다.SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to provide a chip plating machine capable of reducing the manpower input time of the plating machine and improving productivity and working environment through equipment automation.
본 발명의 다른 목적은 MLCC 칩의 손실을 방지하고 자동화로 인해 생산성을 향상하여 경제적 이익을 줄 수 있도록 한 칩 도금기를 제공하는데 있다.Another object of the present invention is to provide a chip plating machine capable of providing economic benefits by preventing loss of MLCC chips and improving productivity through automation.
상기한 목적을 달성하기 위한 본 발명의 구성은, 턴테이블(1)에 안착되어 세정노즐(2)이 설치된 위치와 도금노즐(3)이 설치된 위치로 각각 선회되며 상부가 개방되고 속이 빈 도금하우징(10)과,In the configuration of the present invention for achieving the above object, it is seated on the
MLCC 칩들이 다수 채워진 상태로 세정 또는 도금이 이루어지도록 도금하우징(10) 내부에 위치되는 캐소드 링(20)과,A
상기 캐소드 링(20)에 연결되어 함께 회전이 이루어지도록 하는 샤프트(30)와,a
이 샤프트(30)을 구동하여 캐소드 링(20)의 내부에 칩과 세정액 또는 도금액을 투입시킨 상태로 회전시키는 모터(40)와,a
상기 샤프트(30)에 결합되며, 그 상부에 위치되는 상기 캐소드 링(20)을 회전시키기 위해 연결되는 회전판(50)과,A rotating
상기 도금하우징(10)의 저면 일측으로 배출구(11)를 마련하고, 이 배출구(11)의 하부로 설치되는 수거용 바스켓(60)과,A
상기 회전판(50)을 관통하여 세워지는 포스트(70)와,and a
이 포스트(70)의 상단에 결합되어 캐소드 링(20)의 저면부에 밀착 또는 분리되는 승강판(80)과,A
상기 포스트(70)의 하단에 결합되는 베이스판(90)과,a
이 베이스판(90)과 베어링(101)을 사이에 두고 연결되는 링부재(100)와,a
상기 턴테이블(1)에 지지된 상태로 상기 링부재(100) 및 이 링부재(100)와 연결되는 베이스판(90) 및 포스트(70)와 승강판(80)들을 동시에 승하강 시키는 승강실린더(110)가 포함되어 구성되는 칩 도금기에 있어서,
상기 승강판(80)에는 외측 하부를 향해 경사면(121)을 갖는 패드(120)가 결합되어, 패드(120)의 경사면(121)이 캐소드 링(20) 하부에 트여진 개구부를 개폐시키고,
상기 회전판(50)과 승강판(80) 사이에는 코일스프링(130)들이 복수개 탄력 설치되며,
상기 회전판(50)과 캐소드 링(20)은 수개의 기둥(140)들에 의해 연결되는 것을 특징으로 한다.An elevating cylinder ( 110) in the chip plating machine comprising,
A
A plurality of
The
삭제delete
삭제delete
상기와 같은 본 발명은 특히 MLCC 칩을 도금하고 세정 공정까지 완료한 상태에서 캐소드 링의 개구부를 밀폐하고 있던 승강판과 패드를 승강실린더에 의해 하강시키게 되면, 칩과 세정액이 동시에 도금하우징의 배출구를 통해 수거용 바스켓으로 수거된다.
또, 승강판에는 외측 하부를 향해 경사면을 갖는 패드를 더 결합하는 것에 의해 승강판의 둘레를 감싼 상태로 캐소드 링의 저면 개구부를 밀폐시킬 때 우수한 기밀성을 유지할 수가 있을 뿐만 아니라, 칩들과 세정액을 모두 신속하게 배출시킬 수 있다.In the present invention as described above, in particular, when the lifting plate and the pad sealing the opening of the cathode ring are lowered by the lifting cylinder in a state where the MLCC chip is plated and the cleaning process is completed, the chip and the cleaning solution simultaneously close the outlet of the plating housing. It is collected in a collection basket through
In addition, excellent airtightness can be maintained when sealing the bottom opening of the cathode ring in a state wrapped around the periphery of the lifting plate by further coupling a pad having an inclined surface toward the lower outer side of the lifting plate can be expelled quickly.
따라서, 도금기의 칩 수거를 위한 인력투입 시간을 절감할 수 있다.Therefore, it is possible to reduce the manpower input time for chip collection of the plating machine.
그리고, 장비의 자동화를 통한 생산성 향상과 작업 환경을 개선할 수 있다.And, it is possible to improve the productivity and work environment through the automation of the equipment.
또한, 고가이면서 크기가 매우 작은 MLCC 칩의 손실을 방지하고 생산성 향상으로 경제적 이익을 줄 수 있는 효과가 있다.In addition, there is an effect of preventing the loss of an expensive and very small MLCC chip and providing economic benefits by improving productivity.
도 1은 종래 칩 도금기에 도금하우징들이 배치된 상태를 보인 평면도.
도 2는 본 발명의 칩 자동 배출장치가 도금하우징에 마련된 상태를 일부절결 하여 도시한 정면도.
도 3은 캐소드 링의 개구부를 개방한 상태를 보인 단면도.
도 4는 캐소드 링의 개구부가 밀폐된 상태를 보인 단면도.
도 5는 도 3의 A부분 확대도.
도 6은 도 4의 B부분 확대도.
도 7은 도 4의 일부 확대도.1 is a plan view showing a state in which plating housings are disposed in a conventional chip plating machine.
Figure 2 is a front view showing a state in which the chip automatic discharging device of the present invention is provided in the plating housing, partially cut away.
Figure 3 is a cross-sectional view showing a state in which the opening of the cathode ring is opened.
Figure 4 is a cross-sectional view showing a closed state of the opening of the cathode ring.
5 is an enlarged view of part A of FIG. 3 ;
6 is an enlarged view of part B of FIG. 4 ;
7 is a partially enlarged view of FIG. 4 ;
본 발명의 이점 및 특징, 그리고 그것들을 달성하는 방법은 첨부되는 도면과 함께 상세하게 후술되어 있는 실시예들을 참조하면 명확해질 것이다. Advantages and features of the present invention and methods of achieving them will become apparent with reference to the embodiments described below in detail in conjunction with the accompanying drawings.
그러나, 본 발명은 이하에서 개시되는 실시예들에 한정되는 것이 아니라 서로 다른 다양한 형태로 구현될 수 있으며, 단지 본 실시예들은 본 발명의 개시가 완전하도록 하고, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 발명의 범주를 완전하게 알려주기 위해 제공되는 것이며, 본 발명은 청구항의 범주에 의해 정의될 뿐이다. However, the present invention is not limited to the embodiments disclosed below, but may be implemented in various different forms, and only these embodiments allow the disclosure of the present invention to be complete, and are common in the art to which the present invention pertains. It is provided to fully inform those with knowledge of the scope of the invention, and the present invention is only defined by the scope of the claims.
또한, 본 명세서에서 사용된 용어는 실시예들을 설명하기 위한 것이며 본 발명을 제한하고자 하는 것은 아니다. In addition, the terminology used herein is for the purpose of describing the embodiments and is not intended to limit the present invention.
본 명세서에서, 단수형은 문구에서 특별히 언급하지 않는 한 복수형도 포함한다. 명세서에서 사용되는 "포함한다(comprises)" 및/또는 "포함하는(comprising)"은 언급된 구성요소 이외의 다른 구성요소의 존재 또는 추가를 배제하지 않는다. As used herein, the singular also includes the plural unless specifically stated otherwise in the phrase. As used herein, "comprises" and/or "comprising" does not exclude the presence or addition of elements other than those mentioned.
다른 정의가 없다면, 본 명세서에서 사용되는 모든 용어(기술 및 과학적 용어를 포함)는 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 공통적으로 이해될 수 있는 의미로 사용될 수 있을 것이다.Unless otherwise defined, all terms (including technical and scientific terms) used herein may be used with the meaning commonly understood by those of ordinary skill in the art to which the present invention belongs.
이하, 본 발명을 보다 구체적으로 설명하기 위하여 본 발명에 따른 실시예들을 첨부 도면을 참조하면서 보다 상세하게 설명하고자 한다.Hereinafter, in order to describe the present invention in more detail, embodiments according to the present invention will be described in more detail with reference to the accompanying drawings.
도 2 내지 도 7은 본 발명의 실시예에 따른 칩 도금기의 자동 배출장치 구성을 도시하고 있다.2 to 7 show the configuration of an automatic discharging device for a chip plating machine according to an embodiment of the present invention.
통상의 칩 도금기는 도 1에서와 같이 4개의 단계로 이루어지며, 각 단계 위치에 도금하우징(10)들이 위치된 상태에서 세정 및 도금이 이루어지게 되고, 각 공정이 완료되면 턴테이블(1)에 의해 도금하우징(10)들의 위치가 1단계씩 선회된다.A typical chip plating machine consists of four steps as shown in FIG. 1 , and cleaning and plating are performed in a state where the
상기 도금하우징(10)들의 내부에는 다수의 칩들이 채워지는 캐소드 링(20)이 각각 마련되어 있다.Cathode rings 20 in which a plurality of chips are filled are respectively provided in the
상기 캐소드 링(20)은 도금하우징(10)과 같이 각 단계를 선회하게 되는데, 시작 위치에서 캐소드 링(20)의 내부로 다수의 MLCC 칩들을 다수 투입한 상태에서 세정노즐(2)이 도금하우징(10) 및 캐소드 링(20)의 입구로 하강된 후 세정액을 공급하고 복귀 된 후 샤프트(30)와 모터(40)의 구동으로 빠르게 캐소드 링(20)을 회전시키면서 칩과 세정액이 혼합된 상태로 세정 공정이 이루어지게 된다.The
캐소드 링(20)의 상부는 빠르게 회전될 때 칩과 세정액 또는 도금액의 이탈을 방지하기 위해 중앙이 관통된 돔형상의 커버(21)가 덮어져 있다.The upper portion of the
그리고 다음에 위치된 도금단계로 도금하우징(10)이 이동하여 그 상부에 위치된 도금노즐(3)이 도금하우징(10) 및 캐소드 링(20)의 입구로 하강된 후 도금액을 적정양 공급하고 복귀된 후 모터(40)의 구동으로 샤프트(30)와 캐소드 링(20)을 빠른 속도로 회전시키면서 1차 도금 공정이 이루어지게 된다.Then, the plating
1차 도금 공정에서 사용되는 도금액의 주성분은 Ni 이다.The main component of the plating solution used in the primary plating process is Ni.
1차 도금이 소정의 시간동안 이루어진 후에는 도금액 세척을 위해 턴테이블(1)의 선회로 도금하우징(10)들의 위치를 다음 단계로 이동하여 세정노즐(2)을 통해 2차 세척과정을 수행하게 된다.After the primary plating is performed for a predetermined time, the positions of the
이 2차용 세정노즐(2) 또한 도금하우징(10) 및 캐소드 링(20)의 입구로 하강된 후 세정액을 적정양 공급하고 복귀 된 후 모터(40)의 구동으로 빠르게 샤프트(30)을 통해 캐소드 링(20)을 회전시키면서 세정 공정이 이루어지게 된다.This secondary cleaning nozzle (2) also descends to the inlet of the plating housing (10) and the cathode ring (20), supplies an appropriate amount of cleaning solution, and then returns to the cathode through the shaft (30) quickly driven by the motor (40). A cleaning process is performed while rotating the
이어서, 2차 도금을 위해 다음 도금단계로 이동하여 2차용 도금노즐(3)을 통해 도금액이 공급된 후 도금공정을 수행하게 된다.Then, for secondary plating, it moves to the next plating step, and after the plating solution is supplied through the
2차 도금 공정에서 사용되는 도금액의 주성분은 Sn 이다.The main component of the plating solution used in the secondary plating process is Sn.
이와 같이 2차에 걸친 세정과 도금 공정을 모두 마친 후 다시 새로운 칩들이 투입되었던 처음 시작 단계로 이동하여 마감용 순수 세정을 더 수행하는 것으로 칩 도금 작업이 끝나게 된다.In this way, after completing all of the secondary cleaning and plating processes, the chip plating operation is completed by moving back to the initial stage where new chips were put in and further cleaning with pure water for finishing.
마감용 순수 세정 또한 세정노즐(2)을 통해 이루어지게 되며, 이 세정노즐(2)들 및 도금노즐(3)은 각각의 실린더(4)(5)들에 의해 승강과 하강 동작된다.Pure cleaning for finishing is also performed through the cleaning
도금하우징(10)과 캐소드 링(20)의 커버(21)는 각각 상부 입구가 트여져 각 단계에서 세정노즐(2)들 및 도금노즐(3)들이 하강된 후 캐소드 링(20)의 내부로 세정액 또는 도금액을 공급한 후 다시 복귀되는 과정을 반복하게 된다.The plating
캐소드 링(20)의 내부에서 이루어지는 각 도금 공정과 세정 작업을 모두 끝마친 후에는 세정액과 칩을 캐소드 링(20)으로부터 배출시킨 후 MLCC 칩 만을 분리 수거하는 과정이 필요하다.After each plating process and cleaning operation performed inside the
이하에서는 캐소드 링(20)으로부터 세정액과 칩을 자동 배출하기 위한 장치에 대해 설명한다.Hereinafter, a device for automatically discharging the cleaning solution and chips from the
우선, 상기 샤프트(30)의 상단에는 회전판(50)이 결합되어 그 상부에 위치되는 상기 캐소드 링(20)을 함께 회전시키게 된다.First, the rotating
회전판(50)과 캐소드 링(20)은 수개의 기둥(140)들에 의해 연결되어 회전은 함께 이루어지게 되며, 기둥(140)들 사이에는 간격이 형성되어 있다. The rotating
도금하우징(10)은 도면에서와 같이 돔구조의 상부케이스와 받침용기 구조의 하부케이스가 결합되는 구조로 이루어지는데, 이 도금하우징(10)의 하부케이스는 저면 일측으로 경사지게 성형한 상태에서 끝부분에 배출구(11)가 마련되어 있다.The plating
그리고, 이 배출구(11)의 하부로는 수거용 바스켓(60)이 설치된다.And, a
수거용 바스켓(60)은 상부에 칩이 걸려질 수 있는 크기의 여과망(61)이 설치되어 칩과 세정액이 낙하되면 여과망(61)의 상부에는 칩들만 걸려지고, 세정액은 통과하여 분리 수거가 가능하게 된다.The
상기 회전판(50)에는 수개의 포스트(70)들이 관통하여 세워 설치되고, 이 포스트(70)의 상단에는 승강판(80)이 결합된다.A number of
승강판(80)은 캐소드 링(20)의 트여진 저면 둘레에 밀착되거나 또는 분리되도록 포스트(70)와 같이 상하 승강 동작이 이루어지게 된다.The lifting
그리고, 상기 포스트(70)의 하단에는 베이스판(90)이 결합된다.And, the
이 베이스판(90)의 외측에는 베어링(101)을 사이에 두고 링부재(100)가 설치된다.A
따라서, 링구조의 링부재(100)는 베어링(101)에 의해 정지된 상태를 유지하게 되어도 베이스판(90)과 포스트(70) 및 회전판(50)은 샤프트(30)와 함께 회전이 자유롭게 이루어질 수 있는 것이다.Therefore, even if the
이 링부재(100)의 저면에는 승강실린더(110)의 로드가 받치고 있다.A rod of the elevating
승강실린더(110)는 상기 턴테이블(1)에 지지된 상태로 상기 링부재(100)와 함께 회전은 이루어지지 않게 되는 반면, 로드를 상승시키게 되면 링부재(100)와 연결되는 베이스판(90) 및 포스트(70)와 승강판(80)들을 동시에 승강시킬 수 있게 된다.While the
도 4 및 도 6의 일부 확대도는 상기 승강실린더(110)가 전기적 신호에 의해 로드를 전진시켜 그 상부에 받쳐져 있는 링부재(100)와 베어링(101)을 통해 연결되는 베이스판(90), 포스트(70) 및 승강판(80)을 동시에 상승시켜 캐소드 링(20)의 저면 개구부를 밀폐시킨 상태를 도시하고 있다.4 and 6 are partially enlarged views in which the elevating
여기서 상기 승강판(80)에는 외측 하부를 향해 경사면(121)을 갖는 패드(120)를 더 결합하는 것이 바람직 하다.Here, it is preferable to further couple the
패드(120)는 탄성과 유연성이 양호한 고무재 또는 실리콘재로 승강판(80)의 둘레를 감싼 상태로 캐소드 링(20)의 저면 개구부를 밀폐시킬 때 우수한 기밀성을 유지할 수가 있는 것이다.The
그리고, 패드(120)의 상부에 마련된 경사면(121)을 통해 칩들과 세정액을 모두 신속하게 배출시킬 수 있는 효과가 있는 것이다.In addition, there is an effect of rapidly discharging both the chips and the cleaning solution through the
또, 상기 회전판(50)과 승강판(80) 사이에는 코일스프링(130)들이 복수개 탄력 설치되어 승강판(80) 및 패드(120)가 탄력을 보유한 상태로 캐소드 링(20)의 저면에 밀착될 수 있도록 하는 것이다.In addition, a plurality of
한편, 도금과 세정 공정을 모두 끝마친 후 새로운 작업을 위해 상기 승강실린더(110)의 로드를 후퇴하도록 전기 신호를 인가하게 되면, 링부재(100)와 베어링(101)을 통해 연결되는 베이스판(90), 포스트(70) 및 승강판(80)을 감싸고 있는 패드(120)를 각각 동시에 하승시켜 캐소드 링(20)의 저면 개구부가 개방된다.On the other hand, when an electric signal is applied to retract the rod of the elevating
도 3 및 도 5는 캐소드 링(20)의 저면 개구부가 개방된 상태를 도시한다.3 and 5 show a state in which the bottom opening of the
이와 같이 승강판(80)을 감싸고 있는 패드(120)가 하강되면 경사면(121)을 따라 칩들과 세정액이 배출구(11)를 통해 수거용 바스켓(60)으로 낙하되고, 여과망(61)에 칩들만 걸려서 수거할 수가 있는 것이다.As described above, when the
따라서, 장비의 자동화로 인해 도금기의 칩 수거를 위한 인력투입 시간을 절감할 수 있고, 생산성 향상과 작업 환경을 개선할 수 있는 것이다.Therefore, due to the automation of the equipment, it is possible to reduce the manpower input time for collecting the chips of the plating machine, and it is possible to improve the productivity and the working environment.
또한, 고가이면서 크기가 매우 작은 MLCC 칩의 손실을 방지하여 경제적 이익을 제공하는 것이다.In addition, it is to prevent loss of an expensive and very small MLCC chip to provide economic benefits.
이상과 같이 본 발명을 도면에 도시한 실시예를 참고하여 설명하였으나, 이는 발명을 설명하기 위한 것일 뿐이며, 본 발명이 속하는 기술 분야의 통상의 지식을 가진 자라면 발명의 상세한 설명으로부터 다양한 변형 또는 균등한 실시예가 가능하다는 것을 이해할 수 있을 것이다. As described above, the present invention has been described with reference to the embodiments shown in the drawings, but this is only for explaining the invention, and various modifications or equivalents from the detailed description of the invention to those of ordinary skill in the art to which the present invention pertains It will be appreciated that one embodiment is possible.
따라서 본 발명의 진정한 권리범위는 특허청구범위의 기술적 사상에 의해 결정되어야 한다.Therefore, the true scope of the present invention should be determined by the technical spirit of the claims.
1 - 턴테이블
2 - 세정노즐
3 - 도금노즐
10 - 도금하우징
20 - 캐소드 링
30 - 샤프트
40 - 모터
50 - 회전판
60 - 수거용 바스켓
70 - 포스트
80 - 승강판
90 - 베이스판
100 - 링부재
110 - 승강실린더
120 - 패드1 - turntable
2 - cleaning nozzle
3 - plating nozzle
10 - Plated housing
20 - cathode ring
30 - shaft
40 - motor
50 - Spindle
60 - collection basket
70 - post
80 - lift plate
90 - base plate
100 - ring member
110 - elevating cylinder
120 - pad
Claims (3)
MLCC 칩들이 다수 채워진 상태로 세정 또는 도금이 이루어지도록 도금하우징(10) 내부에 위치되는 캐소드 링(20)과,
상기 캐소드 링(20)에 연결되어 함께 회전이 이루어지도록 하는 샤프트(30)와,
이 샤프트(30)를 구동하여 캐소드 링(20)의 내부에 칩과 세정액 또는 도금액을 투입시킨 상태로 회전시키는 모터(40)와,
상기 샤프트(30)에 결합되며, 그 상부에 위치되는 상기 캐소드 링(20)을 회전시키기 위해 연결되는 회전판(50)과,
상기 도금하우징(10)의 저면 일측으로 배출구(11)를 마련하고, 이 배출구(11)의 하부로 설치되는 수거용 바스켓(60)과,
상기 회전판(50)을 관통하여 세워지는 포스트(70)와,
이 포스트(70)의 상단에 결합되어 캐소드 링(20)의 저면부에 밀착 또는 분리되는 승강판(80)과,
상기 포스트(70)의 하단에 결합되는 베이스판(90)과,
이 베이스판(90)과 베어링(101)을 사이에 두고 연결되는 링부재(100)와,
상기 턴테이블(1)에 지지된 상태로 상기 링부재(100) 및 이 링부재(100)와 연결되는 베이스판(90) 및 포스트(70)와 승강판(80)들을 동시에 승하강 시키는 승강실린더(110)로 구성되는 칩 도금기에 있어서,
상기 승강판(80)에는 외측 하부를 향해 경사면(121)을 갖는 패드(120)가 결합되어, 패드(120)의 경사면(121)이 캐소드 링(20) 하부에 트여진 개구부를 개폐시키고,
상기 회전판(50)과 승강판(80) 사이에는 코일스프링(130)들이 복수개 탄력 설치되며,
상기 회전판(50)과 캐소드 링(20)은 수개의 기둥(140)들에 의해 연결되는 것을 특징으로 하는 칩 도금기의 자동 배출장치.
It is seated on the turntable (1) and pivots to the position where the cleaning nozzle (2) is installed and the position where the plating nozzle (3) is installed.
A cathode ring 20 positioned inside the plating housing 10 so that cleaning or plating is performed in a state in which a large number of MLCC chips are filled;
a shaft 30 connected to the cathode ring 20 to rotate together;
A motor 40 for driving the shaft 30 to rotate the chip and a cleaning solution or a plating solution into the cathode ring 20;
A rotating plate 50 coupled to the shaft 30 and connected to rotate the cathode ring 20 positioned thereon;
A discharge port 11 is provided on one side of the bottom surface of the plating housing 10, and a collection basket 60 installed under the discharge port 11;
and a post 70 erected through the rotary plate 50;
A lifting plate 80 that is coupled to the upper end of the post 70 and is in close contact with or separated from the lower surface of the cathode ring 20,
a base plate 90 coupled to the lower end of the post 70;
a ring member 100 connected with the base plate 90 and the bearing 101 therebetween;
An elevating cylinder ( 110) in the chip plating machine consisting of,
A pad 120 having an inclined surface 121 toward the lower outer side is coupled to the lifting plate 80, and the inclined surface 121 of the pad 120 opens and closes an opening opened in the lower portion of the cathode ring 20,
A plurality of coil springs 130 are elastically installed between the rotating plate 50 and the lifting plate 80,
The automatic discharging device of the chip plating machine, characterized in that the rotating plate (50) and the cathode ring (20) are connected by several pillars (140).
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020210059825A KR102318198B1 (en) | 2021-05-10 | 2021-05-10 | Automatic ejection device of chip plating machine |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR102318198B1 true KR102318198B1 (en) | 2021-10-27 |
Family
ID=78287065
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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KR1020210059825A KR102318198B1 (en) | 2021-05-10 | 2021-05-10 | Automatic ejection device of chip plating machine |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
KR (1) | KR102318198B1 (en) |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5879520A (en) * | 1994-08-26 | 1999-03-09 | Griego; Thomas P. | Rotary electrodeposition apparatus |
KR20050096298A (en) | 2004-03-30 | 2005-10-06 | 삼성전기주식회사 | A method for manufacturing high density mlcc |
KR101749997B1 (en) | 2017-01-17 | 2017-06-22 | 주식회사 21세기 | Upper mold for MLCC lamination |
KR102247496B1 (en) * | 2014-10-17 | 2021-05-03 | 덕산하이메탈(주) | Plating apparatus |
-
2021
- 2021-05-10 KR KR1020210059825A patent/KR102318198B1/en active IP Right Grant
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