KR102313378B1 - A phthalonitrile-based curable resin composition having excellent heat resistance and a prepolymer thereof - Google Patents

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Abstract

본 발명은 프탈로니트릴계 경화성 수지 조성물 및 이의 프리폴리머에 관한 것이다. 본 발명에 따르면, 제조가 용이하고 우수한 내열성을 가져 보다 다양한 분야에 적용 가능한 프탈로니트릴계 경화성 수지 조성물이 제공된다.The present invention relates to a phthalonitrile-based curable resin composition and a prepolymer thereof. According to the present invention, there is provided a phthalonitrile-based curable resin composition that is easy to manufacture and has excellent heat resistance and can be applied to more diverse fields.

Figure R1020180116455
Figure R1020180116455

Description

우수한 내열성을 갖는 프탈로니트릴계 경화성 수지 조성물 및 이의 프리폴리머{A PHTHALONITRILE-BASED CURABLE RESIN COMPOSITION HAVING EXCELLENT HEAT RESISTANCE AND A PREPOLYMER THEREOF}Phthalonitrile-based curable resin composition having excellent heat resistance and prepolymer thereof

본 발명은 프탈로니트릴계 경화성 수지 조성물 및 이의 프리폴리머에 관한 것이다.The present invention relates to a phthalonitrile-based curable resin composition and a prepolymer thereof.

프탈로니트릴계 수지는 내열성과 난연성이 뛰어난 열경화성 수지로 알려져 있다. 프탈로니트릴계 수지와 유리 섬유, 탄소 섬유 등의 첨가제가 혼합된 수지 조성물은 비행기, 선박, 자동차 등에 내구재로써 사용될 수 있다.Phthalonitrile-based resins are known as thermosetting resins having excellent heat resistance and flame retardancy. A resin composition in which a phthalonitrile-based resin and additives such as glass fiber and carbon fiber are mixed may be used as a durable material for airplanes, ships, automobiles, and the like.

프탈로니트릴계 수지는 일반적으로 두 개 이상의 프탈로니트릴기를 갖는 프탈로니트릴 화합물 및 이의 경화제를 적용한 중합 및 고온 경화에 의해 형성된다. The phthalonitrile-based resin is generally formed by polymerization and high-temperature curing by applying a phthalonitrile compound having two or more phthalonitrile groups and a curing agent thereof.

일반적으로 상기 프탈로니트릴 화합물은 많은 방향족 그룹을 가져 높은 경직성과 큰 분자량을 갖는다. 그에 따라, 상기 프탈로니트릴 화합물과 경화제의 혼합물 또는 그 혼합물의 반응에 의해 형성되는 프리폴리머(prepolymer)는 매우 좁은 프로세스 윈도우(process window)를 가진다. 따라서, 상기 프탈로니트릴계 수지의 적용 가능 범위를 확장하기 위해서는 가공성 확보를 위한 상기 프로세스 윈도우의 개선이 요구된다.In general, the phthalonitrile compound has many aromatic groups and thus has high rigidity and large molecular weight. Accordingly, the mixture of the phthalonitrile compound and the curing agent or the prepolymer formed by the reaction of the mixture has a very narrow process window. Therefore, in order to expand the applicable range of the phthalonitrile-based resin, it is required to improve the process window for securing workability.

한편, 필요로 하는 물성을 갖는 프탈로니트릴계 수지를 얻기 위해서는 상기 경화제도 중요한 요소로 고려된다.On the other hand, in order to obtain a phthalonitrile-based resin having required physical properties, the curing agent is also considered as an important factor.

일반적으로, 상기 경화제로는 아민 말단을 갖는 방향족 이미드 화합물이 사용되어왔다. 그리고, 상기 프탈로니트릴 화합물과의 상용성 확보를 위해서는 저분자량을 갖는 상기 경화제가 요구된다.In general, an aromatic imide compound having an amine terminus has been used as the curing agent. And, in order to ensure compatibility with the phthalonitrile compound, the curing agent having a low molecular weight is required.

그런데, 상기 경화제로 저분자량을 갖는 아민 말단의 방향족 이미드 화합물을 합성하기 위해서는 디안하이드라이드 화합물 대비 매우 많은 양의 방향족 아민 화합물이 요구되어, 상기 프탈로니트릴계 수지의 제조 효율 저하와 원료 가격의 상승을 초래하는 한계가 있다.However, in order to synthesize an amine-terminated aromatic imide compound having a low molecular weight as the curing agent, a very large amount of an aromatic amine compound is required compared to the dianhydride compound, which reduces the production efficiency of the phthalonitrile-based resin and the raw material price. There are limits to the rise.

본 발명은 비교적 저온에서 경화 가능하면서도 향상된 내열성을 갖는 프탈로니트릴계 경화성 수지 조성물을 제공하기 위한 것이다.An object of the present invention is to provide a phthalonitrile-based curable resin composition that can be cured at a relatively low temperature and has improved heat resistance.

그리고, 본 발명은 상기 경화성 수지 조성물을 반응물인 프리폴리머를 제공하기 위한 것이다.And, the present invention is to provide a prepolymer as a reactant of the curable resin composition.

본 발명에 따르면, (a) 프탈로니트릴 화합물 및 (b) 하기 화학식 1로 표시되는 화합물인 경화제를 포함하는, 경화성 수지 조성물이 제공된다.According to the present invention, there is provided a curable resin composition comprising (a) a phthalonitrile compound and (b) a curing agent that is a compound represented by the following formula (1).

[화학식 1][Formula 1]

Figure 112018096317953-pat00001
Figure 112018096317953-pat00001

상기 화학식 1에서,In Formula 1,

M은 지방족, 지환족 또는 방향족 화합물 유래의 4가 라디칼이고,M is a tetravalent radical derived from an aliphatic, cycloaliphatic or aromatic compound,

Ar1 내지 Ar4는 각각 독립적으로 중수소, 할로겐, 아미노기, 니트릴기, 니트로기, C1-30의 알킬기, C2-30의 알케닐기, C2-30의 알키닐기, C1-30의 알콕시기, C6-30의 아릴옥시기, 또는 C6-30의 아릴기로 치환되거나 치환되지 않은 C6-50의 아릴렌기이고,Ar 1 To Ar 4 are each independently deuterium, halogen, amino group, nitrile group, nitro group, C 1-30 alkyl group, C 2-30 alkenyl group, C 2-30 alkynyl group, C 1-30 alkoxy a group, a C 6-30 aryloxy group, or a C 6-50 arylene group that is unsubstituted or substituted with a C 6-30 aryl group,

n은 1 또는 2이다.n is 1 or 2.

그리고, 본 발명에 따르면, 상기 경화성 수지 조성물의 반응물인 프리폴리머가 제공된다.And, according to the present invention, a prepolymer as a reactant of the curable resin composition is provided.

이하, 발명의 구현 예들에 따른 경화성 수지 조성물 및 이의 프리폴리머에 대해 상세히 설명하기로 한다.Hereinafter, a curable resin composition and a prepolymer thereof according to embodiments of the present invention will be described in detail.

그에 앞서, 본 명세서에서 명시적인 언급이 없는 한, 전문용어는 단지 특정 실시예를 언급하기 위한 것이며, 본 발명을 한정하는 것을 의도하지 않는다.Prior to that, unless explicitly stated herein, terminology is for the purpose of referring to specific embodiments only, and is not intended to limit the present invention.

본 명세서에서 사용되는 단수 형태들은 문구들이 이와 명백히 반대의 의미를 나타내지 않는 한 복수 형태들도 포함한다. As used herein, the singular forms also include the plural forms unless the phrases clearly indicate the opposite.

본 명세서에서 사용되는 '포함'의 의미는 특정 특성, 영역, 정수, 단계, 동작, 요소 및/또는 성분을 구체화하며, 다른 특정 특성, 영역, 정수, 단계, 동작, 요소, 성분 및/또는 군의 존재나 부가를 제외시키는 것은 아니다.As used herein, the meaning of 'comprising' specifies a particular characteristic, region, integer, step, operation, element and/or component, and other specific characteristic, region, integer, step, operation, element, component, and/or group. It does not exclude the existence or addition of

본 명세서의 화학식에서

Figure 112018096317953-pat00002
표시는 해당 그룹이 다른 그룹에 연결되는 위치를 의미한다.In the formula of this specification
Figure 112018096317953-pat00002
The mark indicates a location where the corresponding group is linked to another group.

I. 경화성 수지 조성물I. Curable Resin Composition

발명의 일 구현 예에 따르면, (a) 프탈로니트릴 화합물 및 (b) 하기 화학식 1로 표시되는 화합물인 경화제를 포함하는, 경화성 수지 조성물이 제공된다.According to one embodiment of the present invention, there is provided a curable resin composition comprising (a) a phthalonitrile compound and (b) a curing agent which is a compound represented by the following Chemical Formula 1.

[화학식 1][Formula 1]

Figure 112018096317953-pat00003
Figure 112018096317953-pat00003

상기 화학식 1에서,In Formula 1,

M은 지방족, 지환족 또는 방향족 화합물 유래의 4가 라디칼이고,M is a tetravalent radical derived from an aliphatic, cycloaliphatic or aromatic compound,

Ar1 내지 Ar4는 각각 독립적으로 중수소, 할로겐, 아미노기, 니트릴기, 니트로기, C1-30의 알킬기, C2-30의 알케닐기, C2-30의 알키닐기, C1-30의 알콕시기, C6-30의 아릴옥시기, 또는 C6-30의 아릴기로 치환되거나 치환되지 않은 C6-50의 아릴렌기이고,Ar 1 To Ar 4 are each independently deuterium, halogen, amino group, nitrile group, nitro group, C 1-30 alkyl group, C 2-30 alkenyl group, C 2-30 alkynyl group, C 1-30 alkoxy a group, a C 6-30 aryloxy group, or a C 6-50 arylene group that is unsubstituted or substituted with a C 6-30 aryl group,

n은 1 또는 2이다.n is 1 or 2.

본 발명자들의 계속적인 연구 결과, 상기 화학식 1로 표시되는 화합물을 경화제로 포함하는 상기 경화성 수지 조성물은 비교적 저온에서 경화 공정의 수행이 가능하면서도 향상된 내열성을 나타낼 수 있음이 확인되었다.As a result of continuous research by the present inventors, it was confirmed that the curable resin composition including the compound represented by Formula 1 as a curing agent can perform a curing process at a relatively low temperature and exhibit improved heat resistance.

상기 화학식 1로 표시되는 화합물은 상기 경화성 수지 조성물의 경화 개시 온도(onset temperature)를 적절히 낮추어 상기 경화성 수지 조성물의 경화 공정을 용이하게 한다.The compound represented by Formula 1 facilitates the curing process of the curable resin composition by appropriately lowering an onset temperature of the curable resin composition.

상기 화학식 1로 표시되는 화합물은 분자 내에 아미드 결합을 가져, 상기 경화성 수지 조성물 내에서 상기 경화제 간의 수소 결합이 가능하다. 이는 상기 경화성 수지 조성물이 향상된 내열성을 나타낼 수 있도록 하는 요인으로 판단된다.The compound represented by Formula 1 has an amide bond in the molecule, so that hydrogen bonding between the curing agents is possible in the curable resin composition. This is considered to be a factor enabling the curable resin composition to exhibit improved heat resistance.

나아가, 상기 화학식 1로 표시되는 화합물인 상기 경화제는 디안하이드라이드 화합물 대비 2 당량의 디아민 화합물의 반응에 의해 합성 가능한 화학 구조를 갖는다. 즉, 디안하이드라이드 화합물 대비 매우 많은 양의 디아민 화합물의 사용이 요구되었던 이전의 경화제와 달리, 상기 화학식 1로 표시되는 화합물인 경화제는 적은 양의 디아민 화합물을 사용하여 합성 가능한 화학 구조를 가진다.Furthermore, the curing agent, which is a compound represented by Formula 1, has a chemical structure that can be synthesized by reaction of 2 equivalents of a diamine compound compared to a dianhydride compound. That is, unlike the previous curing agent that required the use of a very large amount of the diamine compound compared to the dianhydride compound, the curing agent, which is the compound represented by Formula 1, has a chemical structure that can be synthesized using a small amount of the diamine compound.

이하, 상기 경화성 수지 조성물에 포함될 수 있는 성분에 대해 설명한다.Hereinafter, components that may be included in the curable resin composition will be described.

(a) 프탈로니트릴 화합물(a) phthalonitrile compounds

발명의 구현 예에 따르면, 상기 경화성 수지 조성물에는 프탈로니트릴 화합물이 포함된다.According to an embodiment of the present invention, the curable resin composition includes a phthalonitrile compound.

상기 프탈로니트릴 화합물로는 본 발명이 속하는 기술분야에 잘 알려진 것이 포함될 수 있다.The phthalonitrile compound may include those well known in the art to which the present invention pertains.

비제한적인 예로, 상기 프탈로니트릴 화합물로는 미국 특허 제4,408,035호, 미국 특허 제5,003,039호, 미국 특허 제5,003,078호, 미국 특허 제5,004,801호, 미국 특허 제5,132,396호, 미국 특허 제5,139,054호, 미국 특허 제5,208,318호, 미국 특허 제5,237,045호, 미국 특허 제5,292,854호, 또는 미국 특허 제5,350,828호 등에 개시된 화합물들이 예시될 수 있다.As a non-limiting example, the phthalonitrile compound includes US Pat. No. 4,408,035, US Pat. No. 5,003,039, US Pat. No. 5,003,078, US Pat. No. 5,004,801, US Pat. No. 5,132,396, US Pat. No. 5,139,054, US Pat. The compounds disclosed in U.S. Patent No. 5,208,318, U.S. Patent No. 5,237,045, U.S. Patent No. 5,292,854, or U.S. Patent No. 5,350,828 can be exemplified.

바람직하게는, 상기 (a) 프탈로니트릴 화합물은 하기 화학식 P1으로 표시되는 화합물일 수 있다.Preferably, the (a) phthalonitrile compound may be a compound represented by the following formula P1.

[화학식 P1][Formula P1]

Figure 112018096317953-pat00004
Figure 112018096317953-pat00004

상기 화학식 P1에서, RP11 내지 RP16은 각각 독립적으로 수소, C1-5의 알킬기, C1-5의 알콕시기, C6-30의 아릴기, 하기 화학식 P2 그룹, 또는 하기 화학식 P3 그룹으로서, RP11 내지 RP16 중 둘 이상은 하기 화학식 P2 그룹 또는 하기 화학식 P3 그룹이고,In Formula P1, R P11 to R P16 are each independently hydrogen, a C 1-5 alkyl group, a C 1-5 alkoxy group, a C 6-30 aryl group, a group P2 below, or a group P3 below , at least two of R P11 to R P16 are a group of the following formula P2 or a group of the following formula P3,

[화학식 P2][Formula P2]

Figure 112018096317953-pat00005
Figure 112018096317953-pat00005

상기 화학식 P2에서,In the above formula P2,

LP2는 직접 결합, C1-5의 알킬렌기, -O-, -S-, -C(=O)-, -S(=O)-, 또는 -S(=O)2- 이고,L P2 is a direct bond, a C 1-5 alkylene group, -O-, -S-, -C(=O)-, -S(=O)-, or -S(=O) 2 -;

RP21 내지 RP25는 각각 독립적으로 수소, C1-5의 알킬기, C1-5의 알콕시기, C6-30의 아릴기, 시아노기로서, 상기 RP21 내지 RP25 중 둘 이상은 시아노기이다,R P21 to R P25 are each independently hydrogen, a C 1-5 alkyl group, a C 1-5 alkoxy group, a C 6-30 aryl group, or a cyano group, wherein at least two of R P21 to R P25 are a cyano group am,

[화학식 P3][Formula P3]

Figure 112018096317953-pat00006
Figure 112018096317953-pat00006

상기 화학식 P3에서,In the formula P3,

LP3는 직접 결합, C1-5의 알킬렌기, -O-, -S-, -C(=O)-, -S(=O)-, -S(=O)2-, -C(CH3)2-, -C(CF3)2-, 또는 -C(=O)NH- 이고,L P3 is a direct bond, C 1-5 alkylene group, -O-, -S-, -C(=O)-, -S(=O)-, -S(=O) 2 -, -C( CH 3 ) 2 -, -C(CF 3 ) 2 -, or -C(=O)NH-,

RP31 내지 RP35는 각각 독립적으로 수소, C1-5의 알킬기, C1-5의 알콕시기, C6-30의 아릴기, 상기 화학식 P2 그룹으로서, 상기 RP31 내지 RP35 중 하나 이상은 상기 화학식 P2 그룹이다.R P31 to R P35 are each independently hydrogen, a C 1-5 alkyl group, a C 1-5 alkoxy group, a C 6-30 aryl group, and a group of Formula P2, wherein at least one of R P31 to R P35 is It is a group of the above formula P2.

본 명세서에서 "알킬기"는 직쇄 또는 분지쇄일 수 있다. 바람직하게는, 상기 알킬기는 1 내지 5의 탄소수 혹은 1 내지 3의 탄소수를 가진다. 구체적으로, 상기 알킬기는 메틸, 에틸, 프로필, n-프로필, 이소프로필, 부틸, n-부틸, 이소부틸, tert-부틸, sec-부틸, 1-메틸-부틸, 1-에틸-부틸, n-펜틸, 이소펜틸, 네오펜틸, 및 tert-펜틸 등일 수 있다.As used herein, the "alkyl group" may be a straight-chain or branched chain. Preferably, the alkyl group has 1 to 5 carbon atoms or 1 to 3 carbon atoms. Specifically, the alkyl group is methyl, ethyl, propyl, n-propyl, isopropyl, butyl, n-butyl, isobutyl, tert-butyl, sec-butyl, 1-methyl-butyl, 1-ethyl-butyl, n- pentyl, isopentyl, neopentyl, and tert-pentyl, and the like.

본 명세서에서 "아릴기"는 단환식 아릴기 또는 다환식 아릴기일 수 있다. 바람직하게는, 상기 아릴기는 6 내지 30의 탄소수를 가진다. 구체적으로, 상기 아릴기는 페닐기, 바이페닐기, 터페닐기, 나프틸기, 안트라세닐기, 페난트릴기, 파이레닐기, 페릴레닐기, 크라이세닐기, 및 플루오레닐기 등일 수 있다.As used herein, the "aryl group" may be a monocyclic aryl group or a polycyclic aryl group. Preferably, the aryl group has 6 to 30 carbon atoms. Specifically, the aryl group may be a phenyl group, a biphenyl group, a terphenyl group, a naphthyl group, an anthracenyl group, a phenanthryl group, a pyrenyl group, a perylenyl group, a chrysenyl group, and a fluorenyl group.

본 명세서에서 "직접 결합"은 해당 그룹에 원자가 존재하지 않고 그 양측의 그룹들이 서로 직접 연결되어 있는 것을 의미한다.As used herein, the term “direct bond” means that no atoms are present in the group and that the groups on both sides are directly connected to each other.

발명의 구현 예에 따르면, 상기 (a) 프탈로니트릴 화합물은 하기 화학식 P1'로 표시되는 화합물일 수 있다.According to an embodiment of the invention, the (a) phthalonitrile compound may be a compound represented by the following formula P1'.

[화학식 P1'][Formula P1']

Figure 112018096317953-pat00007
Figure 112018096317953-pat00007

상기 화학식 P1'에서,In the formula P1',

LP2 및 LP3는 각각 독립적으로 직접 결합, C1-5의 알킬렌기, -O-, -S-, -C(=O)-, -S(=O)-, -S(=O)2-, -C(CH3)2-, -C(CF3)2-, 또는 -C(=O)NH- 이다.L P2 and L P3 are each independently a direct bond, a C 1-5 alkylene group, -O-, -S-, -C(=O)-, -S(=O)-, -S(=O) 2 -, -C(CH 3 ) 2 -, -C(CF 3 ) 2 -, or -C(=O)NH-.

비제한적인 예로, 상기 화학식 P1'에서 LP2가 각각 -O- 이고, LP3가 직접 결합 또는 메틸렌기인 화합물이 상기 (a) 프탈로니트릴 화합물로 사용될 수 있다.As a non-limiting example, a compound in which L P2 is -O- and L P3 is a direct bond or a methylene group in Formula P1' may be used as the phthalonitrile compound (a).

(b) 경화제(b) curing agent

발명의 구현 예에 따르면, 상기 경화성 수지 조성물에는 (b) 하기 화학식 1로 표시되는 화합물인 경화제가 포함된다.According to an embodiment of the present invention, the curable resin composition includes (b) a curing agent, which is a compound represented by Formula 1 below.

[화학식 1][Formula 1]

Figure 112018096317953-pat00008
Figure 112018096317953-pat00008

상기 화학식 1에서,In Formula 1,

M은 지방족, 지환족 또는 방향족 화합물 유래의 4가 라디칼이고,M is a tetravalent radical derived from an aliphatic, cycloaliphatic or aromatic compound,

Ar1 내지 Ar4는 각각 독립적으로 중수소, 할로겐, 아미노기, 니트릴기, 니트로기, C1-30의 알킬기, C2-30의 알케닐기, C2-30의 알키닐기, C1-30의 알콕시기, C6-30의 아릴옥시기, 또는 C6-30의 아릴기로 치환되거나 치환되지 않은 C6-50의 아릴렌기이고,Ar 1 To Ar 4 are each independently deuterium, halogen, amino group, nitrile group, nitro group, C 1-30 alkyl group, C 2-30 alkenyl group, C 2-30 alkynyl group, C 1-30 alkoxy a group, a C 6-30 aryloxy group, or a C 6-50 arylene group that is unsubstituted or substituted with a C 6-30 aryl group,

n은 1 또는 2이다.n is 1 or 2.

본 명세서에서 "치환 또는 비치환된"이라는 용어는 하나 이상의 치환기로 단일 또는 다중 치환되거나 치환되지 않은 경우를 포함한다.As used herein, the term "substituted or unsubstituted" includes unsubstituted or single or multiple substitution with one or more substituents.

구체적으로, 상기 화학식 1에서 상기 M은 하기 화학식 2 내지 5 중 어느 하나로 표시되는 화합물 유래의 4가 라디칼일 수 있다.Specifically, in Formula 1, M may be a tetravalent radical derived from a compound represented by any one of Formulas 2 to 5 below.

[화학식 2][Formula 2]

Figure 112018096317953-pat00009
Figure 112018096317953-pat00009

상기 화학식 2에서, R20 내지 R25는 각각 독립적으로 수소, C1-5의 알킬기, C1-5의 알콕시기, 또는 C6-30의 아릴기이다;In Formula 2, R 20 to R 25 are each independently hydrogen, a C 1-5 alkyl group, a C 1-5 alkoxy group, or a C 6-30 aryl group;

[화학식 3][Formula 3]

Figure 112018096317953-pat00010
Figure 112018096317953-pat00010

상기 화학식 3에서, R30 내지 R35는 각각 독립적으로 수소, C1-5의 알킬기, C1-5의 알콕시기, 또는 C6-30의 아릴기이다;In Formula 3, R 30 to R 35 are each independently hydrogen, a C 1-5 alkyl group, a C 1-5 alkoxy group, or a C 6-30 aryl group;

[화학식 4][Formula 4]

Figure 112018096317953-pat00011
Figure 112018096317953-pat00011

상기 화학식 4에서, R40 내지 R47은 각각 독립적으로 수소, C1-5의 알킬기, C1-5의 알콕시기, 또는 C6-30의 아릴기이다;In Formula 4, R 40 to R 47 are each independently hydrogen, a C 1-5 alkyl group, a C 1-5 alkoxy group, or a C 6-30 aryl group;

[화학식 5][Formula 5]

Figure 112018096317953-pat00012
Figure 112018096317953-pat00012

상기 화학식 5에서, In Formula 5,

R50 내지 R59는 각각 독립적으로 수소, C1-5의 알킬기, C1-5의 알콕시기, 또는 C6-30의 아릴기이고,R 50 to R 59 are each independently hydrogen, a C 1-5 alkyl group, a C 1-5 alkoxy group, or a C 6-30 aryl group,

X50은 직접 결합, C1-5의 알킬렌기, -O-, -S-, -C(=O)-, -S(=O)-, -S(=O)2-, -C(CH3)2-, -C(CF3)2-, -C(=O)NH-, -C(=O)-O-L50-O-C(=O)-, -L51-C(=O)-O-L52-, -L53-O-C(=O)-L54-, 또는 -L55-Ar50-L56-Ar51-L57-이며; 여기에서 상기 L50 내지 L57은 각각 독립적으로 직접 결합, -O-, 또는 C1-5의 알킬렌기이고; 상기 Ar50 및 Ar51은 각각 독립적으로 C6-30의 아릴렌기이다.X 50 is a direct bond, C 1-5 alkylene group, -O-, -S-, -C(=O)-, -S(=O)-, -S(=O) 2 -, -C( CH 3 ) 2 -, -C(CF 3 ) 2 -, -C(=O)NH-, -C(=O)-OL 50 -OC(=O)-, -L 51 -C(=O) -OL 52 -, -L 53 -OC(=O)-L 54 -, or -L 55 -Ar 50 -L 56 -Ar 51 -L 57 -; wherein L 50 to L 57 are each independently a direct bond, -O-, or a C 1-5 alkylene group; Ar 50 and Ar 51 are each independently a C 6-30 arylene group.

바람직하게는, 상기 M은 하기 화학식 2' 내지 5' 중 어느 하나로 표시되는 4가 그룹일 수 있다.Preferably, M may be a tetravalent group represented by any one of the following Chemical Formulas 2' to 5'.

[화학식 2'][Formula 2']

Figure 112018096317953-pat00013
Figure 112018096317953-pat00013

[화학식 3'][Formula 3']

Figure 112018096317953-pat00014
Figure 112018096317953-pat00014

[화학식 4'][Formula 4']

Figure 112018096317953-pat00015
Figure 112018096317953-pat00015

[화학식 5'][Formula 5']

Figure 112018096317953-pat00016
Figure 112018096317953-pat00016

상기 화학식 5'에서 X50'은 직접 결합, C1-5의 알킬렌기, -O-, -S-, -C(=O)-, -S(=O)-, -S(=O)2-, -C(CH3)2-, -C(CF3)2-, 또는 -C(=O)NH- 이다.In Formula 5', X 50' is a direct bond, a C 1-5 alkylene group, -O-, -S-, -C(=O)-, -S(=O)-, -S(=O) 2 -, -C(CH 3 ) 2 -, -C(CF 3 ) 2 -, or -C(=O)NH-.

한편, 상기 화학식 1에서 상기 Ar1 내지 Ar4는 각각 독립적으로 하기 화학식 6 및 7 중 어느 하나로 표시되는 화합물 유래의 2가 라디칼일 수 있다.Meanwhile, in Formula 1, Ar 1 to Ar 4 may each independently be a divalent radical derived from a compound represented by any one of Formulas 6 and 7.

[화학식 6][Formula 6]

Figure 112018096317953-pat00017
Figure 112018096317953-pat00017

상기 화학식 6에서, R60 내지 R65는 각각 독립적으로 수소, C1-5의 알킬기, C1-5의 알콕시기, C6-30의 아릴기, 히드록시기, 또는 카르복실기이다;In Formula 6, R 60 to R 65 are each independently hydrogen, a C 1-5 alkyl group, a C 1-5 alkoxy group, a C 6-30 aryl group, a hydroxy group, or a carboxyl group;

[화학식 7][Formula 7]

Figure 112018096317953-pat00018
Figure 112018096317953-pat00018

상기 화학식 7에서, In Formula 7,

R70 내지 R79는 각각 독립적으로 수소, C1-5의 알킬기, C1-5의 알콕시기, C6-30의 아릴기, 히드록시기, 또는 카르복실기이고,R 70 to R 79 are each independently hydrogen, a C 1-5 alkyl group, a C 1-5 alkoxy group, a C 6-30 aryl group, a hydroxyl group, or a carboxyl group,

X70은 직접 결합, C1-5의 알킬렌기, -O-, -S-, -C(=O)-, -NRa-, -S(=O)-, -S(=O)2-, -C(CH3)2-, -C(CF3)2-, -C(=O)NH-, -L70-Ar3-L71-, 또는 -L72-Ar4-L73-Ar5-L74-이며; 여기에서 상기 Ra는 수소, C1-5의 알킬기, C1-5의 알콕시기, 또는 C6-30의 아릴기이고; 상기 L70 내지 L74는 각각 독립적으로 직접 결합, -O-, 또는 C1-5의 알킬렌기이고; 상기 Ar3 내지 Ar5는 각각 독립적으로 C6-30의 아릴렌기이다.X 70 is a direct bond, C 1-5 alkylene group, -O-, -S-, -C(=O)-, -NR a -, -S(=O)-, -S(=O) 2 -, -C(CH 3 ) 2 -, -C(CF 3 ) 2 -, -C(=O)NH-, -L 70 -Ar 3 -L 71 -, or -L 72 -Ar 4 -L 73 -Ar 5 -L 74 -; wherein R a is hydrogen, a C 1-5 alkyl group, a C 1-5 alkoxy group, or a C 6-30 aryl group; wherein L 70 to L 74 are each independently a direct bond, -O-, or a C 1-5 alkylene group; The Ar 3 to Ar 5 are each independently a C 6-30 arylene group.

바람직하게는, 상기 상기 Ar1 내지 Ar4는 하기 화학식 6' 및 7' 중 어느 하나로 표시되는 2가 그룹일 수 있다.Preferably, the Ar 1 to Ar 4 may be a divalent group represented by any one of Formulas 6′ and 7′ below.

[화학식 6'][Formula 6']

Figure 112018096317953-pat00019
Figure 112018096317953-pat00019

[화학식 7'][Formula 7']

Figure 112018096317953-pat00020
Figure 112018096317953-pat00020

상기 화학식 7'에서 X70'은 직접 결합, C1-5의 알킬렌기, -O-, -S-, -C(=O)-, -S(=O)-, -S(=O)2-, -C(CH3)2-, -C(CF3)2-, 또는 -C(=O)NH- 이다.In Formula 7', X 70' is a direct bond, a C 1-5 alkylene group, -O-, -S-, -C(=O)-, -S(=O)-, -S(=O) 2 -, -C(CH 3 ) 2 -, -C(CF 3 ) 2 -, or -C(=O)NH-.

발명의 구현 예에 따르면, 상기 (b) 경화제는 하기 화학식 1-a 또는 하기 화학식 1-b로 표시되는 화합물일 수 있다.According to an embodiment of the invention, the (b) curing agent may be a compound represented by the following Chemical Formula 1-a or the following Chemical Formula 1-b.

[화학식 1-a][Formula 1-a]

Figure 112018096317953-pat00021
Figure 112018096317953-pat00021

[화학식 1-b][Formula 1-b]

Figure 112018096317953-pat00022
Figure 112018096317953-pat00022

상기 화학식 1-a 및 1-b에서,In Formulas 1-a and 1-b,

n은 1 또는 2이고,n is 1 or 2,

X50'은 직접 결합, C1-5의 알킬렌기, -O-, -S-, -C(=O)-, -S(=O)-, -S(=O)2-, -C(CH3)2-, -C(CF3)2-, 또는 -C(=O)NH- 이다.X 50' is a direct bond, C 1-5 alkylene group, -O-, -S-, -C(=O)-, -S(=O)-, -S(=O) 2 -, -C (CH 3 ) 2 -, -C(CF 3 ) 2 -, or -C(=O)NH-.

상기 화학식 1에서 n은 1 또는 2이다.In Formula 1, n is 1 or 2.

발명의 구현 예에 따르면, 상기 경화성 수지 조성물에는 상기 화학식 1에서 n=1인 화합물 및 n=2인 화합물의 혼합물이 상기 (b) 경화제로써 포함될 수 있다.According to an embodiment of the present invention, the curable resin composition may include a mixture of a compound having n=1 and a compound having n=2 in Formula 1 as the curing agent (b).

한편, 상기 화학식 1로 표시되는 화합물인 경화제는 하기 화학식 1-Ah로 표시되는 디안하이드라이드 화합물 대비 2 당량의 하기 화학식 1-Am으로 표시되는 디아민 화합물을 사용하여 합성될 수 있다.Meanwhile, the curing agent, which is the compound represented by Formula 1, may be synthesized using 2 equivalents of the diamine compound represented by Formula 1-Am below compared to the dianhydride compound represented by Formula 1-Ah.

[화학식 1-Ah][Formula 1-Ah]

Figure 112018096317953-pat00023
Figure 112018096317953-pat00023

[화학식 1-Am][Formula 1-Am]

Figure 112018096317953-pat00024
Figure 112018096317953-pat00024

상기 화학식 1-Ah 및 1-Am에서 M, Ar1 및 Ar2는 각각 상기 화학식 1에서 정의된 바와 같다.In Formulas 1-Ah and 1-Am, M, Ar 1 and Ar 2 are each as defined in Formula 1 above.

구체적으로, 상기 화학식 1-Ah에서 M은 상기 화학식 2 내지 5 중 어느 하나로 표시되는 화합물 유래의 4가 라디칼일 수 있다.Specifically, in Formula 1-Ah, M may be a tetravalent radical derived from a compound represented by any one of Formulas 2 to 5.

바람직하게는, 상기 화학식 1-Ah에서 M은 상기 화학식 2' 내지 5' 중 어느 하나로 표시되는 4가 그룹일 수 있다.Preferably, M in Formula 1-Ah may be a tetravalent group represented by any one of Formulas 2' to 5'.

그리고, 상기 화학식 1-Am에서 Ar1 및 Ar2는 각각 독립적으로 상기 화학식 6 및 7 중 어느 하나로 표시되는 화합물 유래의 2가 라디칼일 수 있다.And, in Formula 1-Am, Ar 1 and Ar 2 may each independently be a divalent radical derived from a compound represented by any one of Formulas 6 and 7.

바람직하게는, 상기 화학식 1-Am에서 Ar1 및 Ar2는 각각 독립적으로 상기 화학식 6' 및 7' 중 어느 하나로 표시되는 2가 그룹일 수 있다.Preferably, in Formula 1-Am, Ar 1 and Ar 2 may each independently be a divalent group represented by any one of Formulas 6′ and 7′.

상기 화학식 1-Am으로 표시되는 디아민 화합물은 양 말단의 방향족 아민 그룹은 서로 다른 반응성을 가진다. 상기 화학식 1-Am에서 anilide 그룹의 -NH-에 연결된 방향족 아민 그룹(-Ar2-NH2)은 상대적으로 높은 친핵성을 띄어 상기 화학식 1-Ah의 디안하이드라이드 화합물과 우선적으로 반응하여 이미드 고리를 형성한다. 그리고, 상기 화학식 1-Am에서 anilide 그룹의 -C(=O)-에 연결된 방향족 아민 그룹(-Ar1-NH2)은 상대적으로 낮은 친핵성을 띄어 상기 화학식 1-Ah의 디안하이드라이드 화합물과 반응하진 않는다. 하지만, 상기 화학식 1-Am에서 anilide 그룹의 -C(=O)-에 연결된 방향족 아민 그룹(-Ar1-NH2)은 상기 (a) 프탈로니트릴 화합물의 프탈로니트릴 그룹과의 반응에서 경화가 시작되는 온도를 낮추는 효과의 발현을 가능하게 함이 확인되었다.In the diamine compound represented by Formula 1-Am, aromatic amine groups at both ends have different reactivity. The aromatic amine group (-Ar 2 -NH 2 ) connected to -NH- of the anilide group in Formula 1-Am exhibits a relatively high nucleophilicity and preferentially reacts with the dianhydride compound of Formula 1-Ah to form an imide form a ring In addition, the aromatic amine group (-Ar 1 -NH 2 ) connected to -C(=O)- of the anilide group in Formula 1-Am exhibits relatively low nucleophilicity, and thus the dianhydride compound of Formula 1-Ah and doesn't react However, in Formula 1-Am, the aromatic amine group (-Ar 1 -NH 2 ) linked to -C(=O)- of the anilide group is cured in reaction with the phthalonitrile group of the (a) phthalonitrile compound. It was confirmed that it enables the expression of the effect of lowering the starting temperature.

한편, 상기 (b) 경화제의 함량은 상기 경화성 수지 조성물에 부여하고자 하는 경화성이 확보될 수 있는 범위에서 조절될 수 있다.On the other hand, the content of the (b) curing agent may be adjusted in a range that can secure the curability to be imparted to the curable resin composition.

예를 들어, 상기 (b) 경화제는 상기 (a) 프탈로니트릴 화합물 1 몰에 대하여 0.01 내지 1.5 몰로 포함될 수 있다.For example, the (b) curing agent may be included in an amount of 0.01 to 1.5 moles based on 1 mole of the (a) phthalonitrile compound.

상기 경화제의 함량이 너무 높을 경우 상기 경화성 수지 조성물의 프로세스 윈도우가 좁아져 가공성이 떨어지거나 고온의 경화 조건이 요구될 수 있다. 상기 경화제의 함량이 너무 낮을 경우 상기 경화성 수지 조성물이 갖는 경화성이 불충분할 수 있다.When the content of the curing agent is too high, the process window of the curable resin composition may be narrowed and processability may be deteriorated or high temperature curing conditions may be required. When the content of the curing agent is too low, curability of the curable resin composition may be insufficient.

(c) 첨가제(c) additives

발명의 구현 예에 따르면, 상기 경화성 수지 조성물에는 그 적용 분야 및 용도 등에 따라 첨가제가 더 포함될 수 있다.According to an embodiment of the invention, the curable resin composition may further include additives depending on the field of application and use thereof.

상기 첨가제의 종류는 특별히 한정되지 않는다.The kind of the said additive is not specifically limited.

그리고, 상기 첨가제의 함량은 상기 경화성 수지 조성물의 물성을 저해하지 않는 범위 내에서 조절될 수 있다.And, the content of the additive may be adjusted within a range that does not impair the physical properties of the curable resin composition.

비제한적인 예로, 상기 첨가제로는, 금속 섬유, 탄소 섬유, 유리 섬유, 아라미드 섬유, 티탄산칼륨 섬유, 셀룰로이드 섬유, 해포석(sepiolite) 섬유, 세라믹 섬유, 및 아크릴 섬유와 같은 강화 섬유; 황산바륨, 탄산칼슘, 지르코니아, 알루미나, 지르코늄 실리케이트, 및 실리콘 카바이드와 같은 무기 충전제; 흑연(graphite), 폴리테트라플루오로에틸렌(polytetrafluoroethylene), 이황화텅스텐(tungsten disulfide), 이황화몰리브덴(molybdenum disulfide), 및 분쇄 탄소 섬유(milled carbon fiber)와 같은 윤활제 등이 적용될 수 있다.By way of non-limiting example, the additive includes reinforcing fibers such as metal fibers, carbon fibers, glass fibers, aramid fibers, potassium titanate fibers, celluloid fibers, sepiolite fibers, ceramic fibers, and acrylic fibers; inorganic fillers such as barium sulfate, calcium carbonate, zirconia, alumina, zirconium silicate, and silicon carbide; A lubricant such as graphite, polytetrafluoroethylene, tungsten disulfide, molybdenum disulfide, and milled carbon fiber may be applied.

II. 프리폴리머II. prepolymer

발명의 다른 일 구현 예에 따르면, 상술한 경화성 수지 조성물의 반응물인 프리폴리머(prepolymer)가 제공된다.According to another embodiment of the present invention, a prepolymer that is a reactant of the above-described curable resin composition is provided.

상기 프리폴리머는 상기 경화성 수지 조성물 내에서 프탈로니트릴 화합물과 경화제의 반응이 어느 정도의 일어난 상태(예를 들어, 소위 A 또는 B 스테이지 단계의 중합이 일어난 상태)이나, 완전히 경화된 상태에는 이르지 않고 적절한 유동성을 나타내어 가공이 가능한 상태의 것을 의미한다.The prepolymer is in a state in which the reaction between the phthalonitrile compound and the curing agent in the curable resin composition has occurred to some extent (for example, the so-called A or B stage polymerization state), but does not reach a fully cured state. It indicates fluidity and means that it is in a state where processing is possible.

상기 프리폴리머는 낮은 온셋 온도와 넓은 프로세스 윈도우를 가져, 보다 다양한 분야에 적용될 수 있다.The prepolymer has a low onset temperature and a wide process window, so it can be applied to more diverse fields.

본 발명에 따르면, 제조가 용이하고 우수한 내열성을 가져 보다 다양한 분야에 적용 가능한 프탈로니트릴계 경화성 수지 조성물이 제공된다.According to the present invention, there is provided a phthalonitrile-based curable resin composition that is easy to manufacture and has excellent heat resistance and can be applied to more diverse fields.

도 1 내지 도 5는 각각 제조예 1 내지 5에서 제조한 화합물에 대한 1H-NMR 스펙트럼을 나타낸 것이다. 1 to 5 show 1 H-NMR spectra of the compounds prepared in Preparation Examples 1 to 5, respectively.

이하, 본 발명의 이해를 돕기 위하여 바람직한 실시예들을 제시한다. 그러나 하기의 실시예들은 발명을 예시하기 위한 것일 뿐, 본 발명을 이들만으로 한정하는 것은 아니다.Hereinafter, preferred embodiments are presented to help the understanding of the present invention. However, the following examples are only for illustrating the invention, and the present invention is not limited thereto.

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제조예 1. 경화제(CA-1)의 합성Preparation Example 1. Synthesis of curing agent (CA-1)

하기 화학식 CA-1으로 표시되는 화합물(n=1~2)을 아래의 방법으로 합성하였다.A compound represented by the following formula CA-1 (n=1 to 2) was synthesized by the following method.

Figure 112018096317953-pat00025
Figure 112018096317953-pat00025

4,4'-diaminobenzanilide 22.73 g 및 DMF(Dimethylformamide) 100 g을 3넥 RBF(3 neck round bottom flask)에 투입하고, 상온에서 교반하여 용해시켰다. 워터 배스(water bath)로 상기를 냉각시키고, 2,3,3',4'-biphenyl tetracarboxylic dianhydride 14.7 g을 서서히 3 번에 나누어 80 g의 DMF와 함께 투입하였다. 투입된 화합물이 모두 용해되면, azeotrope를 위해 반응물에 툴루엔 35 g을 투입하였다. Dean-Stark 장치와 리플럭스 콘덴서를 설치하고, Dean-Stark 장치에 톨루엔을 투입하여 채웠다. 탈수 축합 촉매로써 피리딘 5.3 mL를 투입하고, 온도를 170 ℃까지 승온시키고, 3 시간 동안 교반하였다.22.73 g of 4,4'-diaminobenzanilide and 100 g of DMF (dimethylformamide) were put into a 3-neck round bottom flask (RBF), and dissolved by stirring at room temperature. The above was cooled with a water bath, and 14.7 g of 2,3,3',4'-biphenyl tetracarboxylic dianhydride was slowly divided into three portions and added together with 80 g of DMF. When all of the added compounds were dissolved, 35 g of toluene was added to the reactant for azeotrope. A Dean-Stark device and a reflux capacitor were installed, and toluene was added to the Dean-Stark device to fill it. As a dehydration condensation catalyst, 5.3 mL of pyridine was added, the temperature was raised to 170° C., and the mixture was stirred for 3 hours.

이미드 고리가 형성되면서 발생되는 물을 Dean-Stark 장치로 제거해주면서 2 시간 동안 추가 교반하고, 잔류 톨루엔과 피리딘을 제거하였다. 반응 생성물을 상온까지 냉각하고, 메탄올에 침전시켜서 회수하였다. 회수된 침전물을 메탄올로 추출하여 잔류 반응물을 제거하고, 진공 오븐에서 건조하여 상기 화학식 CA-1로 표시되는 화합물을 85 중량%의 수율로 수득하였다.While the water generated while the imide ring was formed was removed with a Dean-Stark apparatus, the mixture was further stirred for 2 hours, and residual toluene and pyridine were removed. The reaction product was cooled to room temperature, and recovered by precipitation in methanol. The recovered precipitate was extracted with methanol to remove residual reactants, and dried in a vacuum oven to obtain the compound represented by Chemical Formula CA-1 in a yield of 85% by weight.

상기 화합물 CA-1에 대한 1H-NMR 분석 결과를 도 1에 나타내었다. 1 H-NMR analysis results for the compound CA-1 are shown in FIG. 1 .

제조예 2. 경화제(CA-2)의 합성Preparation Example 2. Synthesis of curing agent (CA-2)

2,3,3',4'-biphenyl tetracarboxylic dianhydride 대신 1,2,4,5-cyclohexanetetracarboxylic dianhydride를 사용한 것을 제외하고, 상기 제조예 1과 동일한 방법으로 하기 화학식 CA-2로 표시되는 화합물(n=1~2)을 합성하였다.A compound represented by the following formula CA-2 in the same manner as in Preparation Example 1, except that 1,2,4,5-cyclohexanetetracarboxylic dianhydride was used instead of 2,3,3',4'-biphenyl tetracarboxylic dianhydride (n = 1-2) were synthesized.

상기 화합물 CA-2에 대한 1H-NMR 분석 결과를 도 2에 나타내었다. 1 H-NMR analysis results for the compound CA-2 are shown in FIG. 2 .

Figure 112018096317953-pat00026
Figure 112018096317953-pat00026

제조예 3. 경화제(CA-3)의 합성Preparation Example 3. Synthesis of curing agent (CA-3)

2,3,3',4'-biphenyl tetracarboxylic dianhydride 대신 4,4′'-oxydiphthalic anhydride를 사용한 것을 제외하고, 상기 제조예 1과 동일한 방법으로 하기 화학식 CA-3으로 표시되는 화합물(n=1~2)을 합성하였다.A compound represented by the following formula CA-3 (n = 1 to 2) was synthesized.

상기 화합물 CA-3에 대한 1H-NMR 분석 결과를 도 3에 나타내었다. 1 H-NMR analysis results for the compound CA-3 are shown in FIG. 3 .

Figure 112018096317953-pat00027
Figure 112018096317953-pat00027

제조예 4. 경화제(CA-4)의 합성Preparation Example 4. Synthesis of curing agent (CA-4)

하기 화학식 CA-4로 표시되는 화합물(n=1~4)를 아래의 방법으로 합성하였다.A compound represented by the following formula CA-4 (n=1 to 4) was synthesized by the following method.

Figure 112018096317953-pat00028
Figure 112018096317953-pat00028

4,4'-oxydianiline 12.04 g 및 DMF(Dimethylformamide) 70 g을 3넥 RBF(3 neck round bottom flask)에 투입하고, 상온에서 교반하여 용해시켰다. 워터 배스(water bath)로 상기를 냉각시키고, 4,4'-oxydiphthalic anhydride 9.31 g을 서서히 3 번에 나누어 70 g의 DMF와 함께 투입하였다. 투입된 화합물이 모두 용해되면, azeotrope를 위해 반응물에 툴루엔 28 g을 투입하였다. Dean-Stark 장치와 리플럭스 콘덴서를 설치하고, Dean-Stark 장치에 톨루엔을 투입하여 채웠다. 탈수 축합 촉매로써 피리딘 3.1 mL를 투입하고, 온도를 170 ℃까지 승온시키고, 3 시간 동안 교반하였다.12.04 g of 4,4'-oxydianiline and 70 g of dimethylformamide (DMF) were put into a 3-neck round bottom flask (RBF), and dissolved by stirring at room temperature. The above was cooled with a water bath, and 9.31 g of 4,4'-oxydiphthalic anhydride was gradually divided into three portions and added together with 70 g of DMF. When all of the added compounds were dissolved, 28 g of toluene was added to the reactant for azeotrope. A Dean-Stark device and a reflux capacitor were installed, and toluene was added to the Dean-Stark device to fill it. As a dehydration condensation catalyst, 3.1 mL of pyridine was added, the temperature was raised to 170° C., and the mixture was stirred for 3 hours.

이미드 고리가 형성되면서 발생되는 물을 Dean-Stark 장치로 제거해주면서 2 시간 동안 추가 교반하고, 잔류 톨루엔과 피리딘을 제거하였다. 반응 생성물을 상온까지 냉각하고, 메탄올에 침전시켜서 회수하였다. 회수된 침전물을 메탄올로 추출하여 잔류 반응물을 제거하고, 진공 오븐에서 건조하여 상기 화학식 CA-4로 표시되는 화합물을 85 중량%의 수율로 수득하였다.While the water generated while the imide ring was formed was removed with a Dean-Stark apparatus, the mixture was further stirred for 2 hours, and residual toluene and pyridine were removed. The reaction product was cooled to room temperature, and recovered by precipitation in methanol. The recovered precipitate was extracted with methanol to remove residual reactants, and dried in a vacuum oven to obtain the compound represented by Chemical Formula CA-4 in a yield of 85% by weight.

상기 화합물 CA-4에 대한 1H-NMR 분석 결과를 도 4에 나타내었다. 1 H-NMR analysis results for the compound CA-4 are shown in FIG. 4 .

상기 제조예 4에서는 상기 제조예 1 내지 3과 마찬가지로 2 당량의 디아민 화합물을 사용하여 합성을 진행하였으나, 상기 n=4 이상인 화합물이 다량 생성되었음이 DSC 분석 상에 나타나는 용융점들과 1H-NMR 분석을 통해 확인되었다.In Preparation Example 4, the synthesis was performed using 2 equivalents of a diamine compound as in Preparation Examples 1 to 3, but melting points and 1 H-NMR analysis indicated by DSC analysis that a large amount of the compound of n=4 or more was produced was confirmed through

상기 제조예 4에서와 같이 n=4 이상인 고분자량의 경화제는 프리폴리머의 제조 과정에서 프탈로니트릴 모노머와의 상용성이 떨어지며, 이는 경화 후 레진에 보이드 등 디펙트를 유발하여 내열성을 비롯한 여러 가지 기계적 물성의 부정적인 영향을 끼친다.As in Preparation Example 4, the high molecular weight curing agent of n=4 or more has poor compatibility with the phthalonitrile monomer during the preparation of the prepolymer, which causes defects such as voids in the resin after curing, thereby causing various mechanical problems including heat resistance. negatively affect the physical properties.

제조예 5. 프탈로니트릴 화합물(PN-1)의 합성Preparation 5. Synthesis of phthalonitrile compound (PN-1)

[PN-1][PN-1]

Figure 112018096317953-pat00029
Figure 112018096317953-pat00029

Bisphenol F95 (4,4'-dihydroxydiphenylmethane 95 중량%와 2,4-dihydroxydiphenylmethane 및 2,2'-dihydroxydiphenylmethane 5 중량%의 혼합물) 30.04 g, 4-nitrophthalonitrile 34.63 g 및 DMF(Dimethylformamide) 197.1 g을 3넥 RBF(3 neck round bottom flask)에 투입한 후, 상온에서 교반하여 용해시켰다. 투입된 화합물이 모두 용해된 후 염기 촉매인 K2CO3 41.46 g을 투입하고, 온도를 85 ℃까지 승온시키고, 12 시간 동안 교반하였다.30.04 g of Bisphenol F95 (a mixture of 95% by weight of 4,4'-dihydroxydiphenylmethane and 5% by weight of 2,4-dihydroxydiphenylmethane and 2,2'-dihydroxydiphenylmethane), 34.63 g of 4-nitrophthalonitrile and 197.1 g of DMF (Dimethylformamide) were mixed with 3-neck RBF (3 neck round bottom flask), and stirred at room temperature to dissolve. After all of the added compounds were dissolved, 41.46 g of K 2 CO 3 as a base catalyst was added, the temperature was raised to 85° C., and the mixture was stirred for 12 hours.

반응 생성물을 상온까지 냉각한 후, 여과장치를 이용하여 K2CO3를 제거하였고, 반응 결과물은 물에 침전시켜서 회수하였다. 회수된 침전물을 메탄올로 추출하여 잔류 반응물을 제거하고, 진공 오븐에서 건조하여 상기 화학식 PN-1로 표시되는 화합물을 90 중량%의 수율로 수득하였다.After the reaction product was cooled to room temperature, K 2 CO 3 was removed using a filtration device, and the reaction product was recovered by precipitation in water. The recovered precipitate was extracted with methanol to remove residual reactants, and dried in a vacuum oven to obtain the compound represented by Formula PN-1 in a yield of 90% by weight.

상기 화합물 PN-1에 대한 1H-NMR 분석 결과를 도 5에 나타내었다. 1 H-NMR analysis results for the compound PN-1 are shown in FIG. 5 .

시험예 1: Test Example 1: 1One H-NMR(nuclear magnetic resonance) 분석H-NMR (nuclear magnetic resonance) analysis

상기 제조예 1 내지 5에서 합성한 화합물에 대해 1H-NMR 분석을 실시하였다. 그 결과를 도 1 내지 도 5에 나타내었다.1H-NMR analysis was performed on the compounds synthesized in Preparation Examples 1 to 5. The results are shown in FIGS. 1 to 5 .

상기 1H-NMR 분석은 Bruker사의 500 MHz NMR 장비를 사용하여 제조사의 매뉴얼대로 수행하였다. NMR 측정을 위한 샘플은 화합물을 DMSO(dimethyl sulfoxide)-d6에 용해시켜 제조하였다.The 1 H-NMR analysis was performed according to the manufacturer's manual using Bruker's 500 MHz NMR equipment. A sample for NMR measurement was prepared by dissolving the compound in DMSO (dimethyl sulfoxide)-d6.

시험예 2: DSC (differential scanning calorimetry) 분석Test Example 2: DSC (differential scanning calorimetry) analysis

상기 제조예 1 내지 4에서 얻은 화합물에 대해 DSC 분석을 실시하였다. DSC thermogram에서 나타나는 용융 온도(Tm) 피크의 수로부터 합성된 화합물이 혼합물인지 단일물질인지에 대한 정보를 얻었다. 그 결과를 아래 표 1에 나타내었다.DSC analysis was performed on the compounds obtained in Preparation Examples 1 to 4. Information on whether the synthesized compound is a mixture or a single substance was obtained from the number of melting temperature (T m ) peaks in the DSC thermogram. The results are shown in Table 1 below.

상기 DSC 분석은 TA instrument사의 Q20 시스템을 이용하여 35 ℃에서 450 ℃까지 10 ℃/분의 승온 속도로 승온하면서 N2 flow 분위기에서 수행하였다.The DSC analysis was performed in an N 2 flow atmosphere while the temperature was increased from 35 °C to 450 °C at a temperature increase rate of 10 °C/min using the Q20 system of TA instrument.

제조예manufacturing example 화합물compound 용융 온도melting temperature 1One CA-1CA-1 416.6416.6 22 CA-2CA-2 329.6329.6 33 CA-3CA-3 385.5385.5 44 CA-4CA-4 219.8; 244.8; 265.5; 296.1; 319.9219.8; 244.8; 265.5; 296.1; 319.9

실시예 및 비교예하기 표 2에 나타낸 성분들을 (a): (b) = 1: 0.2의 몰 비로 혼합하여 각 실시예 및 비교예의 경화성 수지 조성물을 제조하였다. Examples and Comparative Examples to the components shown in Table 2 (a): (b) = 1: is mixed at a ratio of 0.2 mole for each of Examples and Comparative Examples, the curable resin composition was prepared.

구체적으로, 상기 (a) 프탈로니트릴 화합물을 알루미늄 디쉬를 이용하여 240 ˚C의 핫플레이트 위에서 완전히 용융시켰다. 여기에 상기 (b) 경화제를 상기 몰 비로 첨가하였다. 추가로 240 ˚C의 핫플레이트 위에서 균일하게 혼합한 후 냉각하여 프리폴리머를 제조하였다.Specifically, the (a) phthalonitrile compound was completely melted on a hot plate at 240 °C using an aluminum dish. Herein, the (b) curing agent was added in the above molar ratio. In addition, the prepolymer was prepared by uniformly mixing on a hot plate at 240 °C and cooling.

상기 프리폴리머를 220 ˚C, 250 ˚C, 280 ˚C, 310 ˚C, 및 340 ˚C인 각각의 온도에서 2 시간씩 총 10 시간 동안 가열하여 오븐에서 경화하였다.The prepolymer was cured in an oven by heating at each temperature of 220 ˚C, 250 ˚C, 280 ˚C, 310 ˚C, and 340 ˚C for 2 hours for a total of 10 hours.

(a) 프탈로니트릴 화합물(a) phthalonitrile compounds (b) 경화제(b) curing agent 실시예 1Example 1 PN-1PN-1 CA-1CA-1 실시예 2Example 2 PN-1PN-1 CA-2CA-2 실시예 3Example 3 PN-1PN-1 CA-3CA-3 비교예 1Comparative Example 1 PN-1PN-1 CA-4CA-4

시험예 3: 경화 후 레진 상태 평가상기 실시예 및 비교예에서 얻은 경화된 레진을 육안으로 관찰하여 아래의 기준에 따라 경화 후 레진 상태를 평가하였다. 그 결과를 하기 표 3에 나타내었다. Test Example 3: Evaluation of the state of the resin after curing The cured resins obtained in Examples and Comparative Examples were visually observed to evaluate the state of the resin after curing according to the following criteria. The results are shown in Table 3 below.

○: 상압 및 가압 하에서 보이드(void)가 관찰되지 않음○: No voids were observed under normal pressure and pressure.

△: 보이드가 상압 하에서 관찰되지만, 가압 하에서 관찰되지 않음Δ: Voids were observed under normal pressure, but not under pressure.

X: 상압 하에서 보이드가 관찰됨X: Void observed under normal pressure

경화 후 레진 상태Resin state after curing 실시예 1Example 1 실시예 2Example 2 실시예 3Example 3 비교예 1Comparative Example 1

시험예 4: 레진에 대한 동적 기계 분석(dynamic mechanical analysis)상기 실시예 및 비교예에서 얻은 경화된 레진에 대해 동적 기계 분석(DMA)을 실시하였다. 상기 DMA에서 storage modulus와 loss modulus를 측정함으로서 레진의 tan δ 피크의 온도를 알 수 있으며, 해당 온도 값은 레진의 내열성과 비례하는 특성을 가진다. 각 실시예 및 비교예의 tan δ 값은 하기 표 4에 나타내었다. Test Example 4: Dynamic mechanical analysis of resin The cured resin obtained in Examples and Comparative Examples was subjected to dynamic mechanical analysis (DMA). By measuring the storage modulus and loss modulus in the DMA, the temperature of the tan δ peak of the resin can be known, and the temperature value has a characteristic proportional to the heat resistance of the resin. The tan δ values of each Example and Comparative Example are shown in Table 4 below.

상기 DMA는 TA instrument사의 DMA Q800 장비를 이용하여 ASTM D4065에 준하는 방법으로 진행하였다. 측정 모드는 single cantilever를 사용하였으며, 온도 조건은 25 ~ 400 ℃ 범위에서 10 ℃/분의 승온속도로 하였다. 측정 주파수는 1 Hz로 하였다.The DMA was performed in a method conforming to ASTM D4065 using DMA Q800 equipment from TA Instruments. A single cantilever was used for the measurement mode, and the temperature condition was set at a temperature increase rate of 10 °C/min in the range of 25 ~ 400 °C. The measurement frequency was set to 1 Hz.

tan δ (℃)tan δ (℃) 실시예 1Example 1 362362 실시예 2Example 2 378378 실시예 3Example 3 350350 비교예 1Comparative Example 1 334334

상기 표 4를 참조하면, 상기 실시예 1 내지 3의 경화성 수지 조성물은 상기 비교예 1에 비하여 높은 tan δ 값을 가져 우수한 내열성을 나타낼 수 있는 것으로 확인되었다.Referring to Table 4, it was confirmed that the curable resin compositions of Examples 1 to 3 had a higher tan δ value than Comparative Example 1 and could exhibit excellent heat resistance.

Claims (10)

(a) 프탈로니트릴 화합물 및 (b) 하기 화학식 1로 표시되는 화합물인 경화제를 포함하는, 경화성 수지 조성물.
[화학식 1]
Figure 112018096317953-pat00030

상기 화학식 1에서,
M은 지방족, 지환족 또는 방향족 화합물 유래의 4가 라디칼이고,
Ar1 내지 Ar4는 각각 독립적으로 중수소, 할로겐, 아미노기, 니트릴기, 니트로기, C1-30의 알킬기, C2-30의 알케닐기, C2-30의 알키닐기, C1-30의 알콕시기, C6-30의 아릴옥시기, 또는 C6-30의 아릴기로 치환되거나 치환되지 않은 C6-50의 아릴렌기이고,
n은 1 또는 2이다.
(a) a phthalonitrile compound and (b) a curable resin composition comprising a curing agent which is a compound represented by the following formula (1).
[Formula 1]
Figure 112018096317953-pat00030

In Formula 1,
M is a tetravalent radical derived from an aliphatic, cycloaliphatic or aromatic compound,
Ar 1 To Ar 4 are each independently deuterium, halogen, amino group, nitrile group, nitro group, C 1-30 alkyl group, C 2-30 alkenyl group, C 2-30 alkynyl group, C 1-30 alkoxy a group, a C 6-30 aryloxy group, or a C 6-50 arylene group that is unsubstituted or substituted with a C 6-30 aryl group,
n is 1 or 2.
제 1 항에 있어서,
상기 M은 하기 화학식 2 내지 5 중 어느 하나로 표시되는 화합물 유래의 4가 라디칼인, 경화성 수지 조성물.
[화학식 2]
Figure 112018096317953-pat00031

상기 화학식 2에서, R20 내지 R25는 각각 독립적으로 수소, C1-5의 알킬기, C1-5의 알콕시기, 또는 C6-30의 아릴기이다;
[화학식 3]
Figure 112018096317953-pat00032

상기 화학식 3에서, R30 내지 R35는 각각 독립적으로 수소, C1-5의 알킬기, C1-5의 알콕시기, 또는 C6-30의 아릴기이다;
[화학식 4]
Figure 112018096317953-pat00033

상기 화학식 4에서, R40 내지 R47은 각각 독립적으로 수소, C1-5의 알킬기, C1-5의 알콕시기, 또는 C6-30의 아릴기이다;
[화학식 5]
Figure 112018096317953-pat00034

상기 화학식 5에서,
R50 내지 R59는 각각 독립적으로 수소, C1-5의 알킬기, C1-5의 알콕시기, 또는 C6-30의 아릴기이고,
X50은 직접 결합, C1-5의 알킬렌기, -O-, -S-, -C(=O)-, -S(=O)-, -S(=O)2-, -C(CH3)2-, -C(CF3)2-, -C(=O)NH-, -C(=O)-O-L50-O-C(=O)-, -L51-C(=O)-O-L52-, -L53-O-C(=O)-L54-, 또는 -L55-Ar50-L56-Ar51-L57-이며; 여기에서 상기 L50 내지 L57은 각각 독립적으로 직접 결합, -O-, 또는 C1-5의 알킬렌기이고; 상기 Ar50 및 Ar51은 각각 독립적으로 C6-30의 아릴렌기이다.
The method of claim 1,
Wherein M is a tetravalent radical derived from a compound represented by any one of the following formulas 2 to 5, the curable resin composition.
[Formula 2]
Figure 112018096317953-pat00031

In Formula 2, R 20 to R 25 are each independently hydrogen, a C 1-5 alkyl group, a C 1-5 alkoxy group, or a C 6-30 aryl group;
[Formula 3]
Figure 112018096317953-pat00032

In Formula 3, R 30 to R 35 are each independently hydrogen, a C 1-5 alkyl group, a C 1-5 alkoxy group, or a C 6-30 aryl group;
[Formula 4]
Figure 112018096317953-pat00033

In Formula 4, R 40 to R 47 are each independently hydrogen, a C 1-5 alkyl group, a C 1-5 alkoxy group, or a C 6-30 aryl group;
[Formula 5]
Figure 112018096317953-pat00034

In Formula 5,
R 50 to R 59 are each independently hydrogen, a C 1-5 alkyl group, a C 1-5 alkoxy group, or a C 6-30 aryl group,
X 50 is a direct bond, C 1-5 alkylene group, -O-, -S-, -C(=O)-, -S(=O)-, -S(=O) 2 -, -C( CH 3 ) 2 -, -C(CF 3 ) 2 -, -C(=O)NH-, -C(=O)-OL 50 -OC(=O)-, -L 51 -C(=O) -OL 52 -, -L 53 -OC(=O)-L 54 -, or -L 55 -Ar 50 -L 56 -Ar 51 -L 57 -; wherein L 50 to L 57 are each independently a direct bond, -O-, or a C 1-5 alkylene group; Ar 50 and Ar 51 are each independently a C 6-30 arylene group.
제 1 항에 있어서,
상기 M은 하기 화학식 2' 내지 5' 중 어느 하나로 표시되는 4가 그룹인, 경화성 수지 조성물.
[화학식 2']
Figure 112018096317953-pat00035

[화학식 3']
Figure 112018096317953-pat00036

[화학식 4']
Figure 112018096317953-pat00037

[화학식 5']
Figure 112018096317953-pat00038

상기 화학식 5'에서 X50'은 직접 결합, C1-5의 알킬렌기, -O-, -S-, -C(=O)-, -S(=O)-, -S(=O)2-, -C(CH3)2-, -C(CF3)2-, 또는 -C(=O)NH- 이다.
The method of claim 1,
Wherein M is a tetravalent group represented by any one of Formulas 2' to 5', the curable resin composition.
[Formula 2']
Figure 112018096317953-pat00035

[Formula 3']
Figure 112018096317953-pat00036

[Formula 4']
Figure 112018096317953-pat00037

[Formula 5']
Figure 112018096317953-pat00038

In Formula 5', X 50' is a direct bond, a C 1-5 alkylene group, -O-, -S-, -C(=O)-, -S(=O)-, -S(=O) 2 -, -C(CH 3 ) 2 -, -C(CF 3 ) 2 -, or -C(=O)NH-.
제 1 항에 있어서,
상기 Ar1 내지 Ar4는 각각 독립적으로 하기 화학식 6 및 7 중 어느 하나로 표시되는 화합물 유래의 2가 라디칼인, 경화성 수지 조성물.
[화학식 6]
Figure 112018096317953-pat00039

상기 화학식 6에서, R60 내지 R65는 각각 독립적으로 수소, C1-5의 알킬기, C1-5의 알콕시기, C6-30의 아릴기, 히드록시기, 또는 카르복실기이다;
[화학식 7]
Figure 112018096317953-pat00040

상기 화학식 7에서,
R70 내지 R79는 각각 독립적으로 수소, C1-5의 알킬기, C1-5의 알콕시기, C6-30의 아릴기, 히드록시기, 또는 카르복실기이고,
X70은 직접 결합, C1-5의 알킬렌기, -O-, -S-, -C(=O)-, -NRa-, -S(=O)-, -S(=O)2-, -C(CH3)2-, -C(CF3)2-, -C(=O)NH-, -L70-Ar3-L71-, 또는 -L72-Ar4-L73-Ar5-L74-이며; 여기에서 상기 Ra는 수소, C1-5의 알킬기, C1-5의 알콕시기, 또는 C6-30의 아릴기이고; 상기 L70 내지 L74는 각각 독립적으로 직접 결합, -O-, 또는 C1-5의 알킬렌기이고; 상기 Ar3 내지 Ar5는 각각 독립적으로 C6-30의 아릴렌기이다.
The method of claim 1,
Wherein Ar 1 To Ar 4 Are each independently a divalent radical derived from a compound represented by any one of Formulas 6 and 7, the curable resin composition.
[Formula 6]
Figure 112018096317953-pat00039

In Formula 6, R 60 to R 65 are each independently hydrogen, a C 1-5 alkyl group, a C 1-5 alkoxy group, a C 6-30 aryl group, a hydroxy group, or a carboxyl group;
[Formula 7]
Figure 112018096317953-pat00040

In Formula 7,
R 70 to R 79 are each independently hydrogen, a C 1-5 alkyl group, a C 1-5 alkoxy group, a C 6-30 aryl group, a hydroxyl group, or a carboxyl group,
X 70 is a direct bond, C 1-5 alkylene group, -O-, -S-, -C(=O)-, -NR a -, -S(=O)-, -S(=O) 2 -, -C(CH 3 ) 2 -, -C(CF 3 ) 2 -, -C(=O)NH-, -L 70 -Ar 3 -L 71 -, or -L 72 -Ar 4 -L 73 -Ar 5 -L 74 -; wherein R a is hydrogen, a C 1-5 alkyl group, a C 1-5 alkoxy group, or a C 6-30 aryl group; wherein L 70 to L 74 are each independently a direct bond, -O-, or a C 1-5 alkylene group; The Ar 3 to Ar 5 are each independently a C 6-30 arylene group.
제 1 항에 있어서,
상기 Ar1 내지 Ar4는 하기 화학식 6' 및 7' 중 어느 하나로 표시되는 2가 그룹인, 경화성 수지 조성물.
[화학식 6']
Figure 112018096317953-pat00041

[화학식 7']
Figure 112018096317953-pat00042

상기 화학식 7'에서 X70'은 직접 결합, C1-5의 알킬렌기, -O-, -S-, -C(=O)-, -S(=O)-, -S(=O)2-, -C(CH3)2-, -C(CF3)2-, 또는 -C(=O)NH- 이다.
The method of claim 1,
Wherein Ar One To Ar 4 Is a divalent group represented by any one of Formulas 6' and 7', the curable resin composition.
[Formula 6']
Figure 112018096317953-pat00041

[Formula 7']
Figure 112018096317953-pat00042

In Formula 7', X 70' is a direct bond, a C 1-5 alkylene group, -O-, -S-, -C(=O)-, -S(=O)-, -S(=O) 2 -, -C(CH 3 ) 2 -, -C(CF 3 ) 2 -, or -C(=O)NH-.
제 1 항에 있어서,
상기 (b) 경화제는 하기 화학식 1-a 또는 하기 화학식 1-b로 표시되는 화합물인, 경화성 수지 조성물.
[화학식 1-a]
Figure 112018096317953-pat00043

[화학식 1-b]
Figure 112018096317953-pat00044

상기 화학식 1-a 및 1-b에서,
n은 1 또는 2이고,
X50'은 직접 결합, C1-5의 알킬렌기, -O-, -S-, -C(=O)-, -S(=O)-, -S(=O)2-, -C(CH3)2-, -C(CF3)2-, 또는 -C(=O)NH- 이다.
The method of claim 1,
The (b) curing agent is a compound represented by the following Chemical Formula 1-a or the following Chemical Formula 1-b, the curable resin composition.
[Formula 1-a]
Figure 112018096317953-pat00043

[Formula 1-b]
Figure 112018096317953-pat00044

In Formulas 1-a and 1-b,
n is 1 or 2,
X 50' is a direct bond, C 1-5 alkylene group, -O-, -S-, -C(=O)-, -S(=O)-, -S(=O) 2 -, -C (CH 3 ) 2 -, -C(CF 3 ) 2 -, or -C(=O)NH-.
제 1 항에 있어서,
상기 (a) 프탈로니트릴 화합물은 하기 화학식 P1으로 표시되는 화합물인, 경화성 수지 조성물.
[화학식 P1]
Figure 112018096317953-pat00045

상기 화학식 P1에서, RP11 내지 RP16은 각각 독립적으로 수소, C1-5의 알킬기, C1-5의 알콕시기, C6-30의 아릴기, 하기 화학식 P2 그룹, 또는 하기 화학식 P3 그룹으로서, RP11 내지 RP16 중 둘 이상은 하기 화학식 P2 그룹 또는 하기 화학식 P3 그룹이고,
[화학식 P2]
Figure 112018096317953-pat00046

상기 화학식 P2에서,
LP2는 직접 결합, C1-5의 알킬렌기, -O-, -S-, -C(=O)-, -S(=O)-, 또는 -S(=O)2- 이고,
RP21 내지 RP25는 각각 독립적으로 수소, C1-5의 알킬기, C1-5의 알콕시기, C6-30의 아릴기, 시아노기로서, 상기 RP21 내지 RP25 중 둘 이상은 시아노기이다,
[화학식 P3]
Figure 112018096317953-pat00047

상기 화학식 P3에서,
LP3는 직접 결합, C1-5의 알킬렌기, -O-, -S-, -C(=O)-, -S(=O)-, -S(=O)2-, -C(CH3)2-, -C(CF3)2-, 또는 -C(=O)NH- 이고,
RP31 내지 RP35는 각각 독립적으로 수소, C1-5의 알킬기, C1-5의 알콕시기, C6-30의 아릴기, 상기 화학식 P2 그룹으로서, 상기 RP31 내지 RP35 중 하나 이상은 상기 화학식 P2 그룹이다.
The method of claim 1,
The (a) phthalonitrile compound is a compound represented by the following formula (P1), the curable resin composition.
[Formula P1]
Figure 112018096317953-pat00045

In Formula P1, R P11 to R P16 are each independently hydrogen, a C 1-5 alkyl group, a C 1-5 alkoxy group, a C 6-30 aryl group, a group P2 below, or a group P3 below , at least two of R P11 to R P16 are a group of the following formula P2 or a group of the following formula P3,
[Formula P2]
Figure 112018096317953-pat00046

In the above formula P2,
L P2 is a direct bond, a C 1-5 alkylene group, -O-, -S-, -C(=O)-, -S(=O)-, or -S(=O) 2 -;
R P21 to R P25 are each independently hydrogen, a C 1-5 alkyl group, a C 1-5 alkoxy group, a C 6-30 aryl group, or a cyano group, wherein at least two of R P21 to R P25 are a cyano group am,
[Formula P3]
Figure 112018096317953-pat00047

In the formula P3,
L P3 is a direct bond, C 1-5 alkylene group, -O-, -S-, -C(=O)-, -S(=O)-, -S(=O) 2 -, -C( CH 3 ) 2 -, -C(CF 3 ) 2 -, or -C(=O)NH-,
R P31 to R P35 are each independently hydrogen, a C 1-5 alkyl group, a C 1-5 alkoxy group, a C 6-30 aryl group, and a group of Formula P2, wherein at least one of R P31 to R P35 is It is a group of the above formula P2.
제 1 항에 있어서,
상기 (a) 프탈로니트릴 화합물은 하기 화학식 P1'로 표시되는 화합물인, 경화성 수지 조성물.
[화학식 P1']
Figure 112018096317953-pat00048

상기 화학식 P1'에서,
LP2 및 LP3는 각각 독립적으로 직접 결합, C1-5의 알킬렌기, -O-, -S-, -C(=O)-, -S(=O)-, -S(=O)2-, -C(CH3)2-, -C(CF3)2-, 또는 -C(=O)NH- 이다.
The method of claim 1,
The (a) phthalonitrile compound is a compound represented by the following formula P1', the curable resin composition.
[Formula P1']
Figure 112018096317953-pat00048

In the formula P1',
L P2 and L P3 are each independently a direct bond, a C 1-5 alkylene group, -O-, -S-, -C(=O)-, -S(=O)-, -S(=O) 2 -, -C(CH 3 ) 2 -, -C(CF 3 ) 2 -, or -C(=O)NH-.
제 1 항에 있어서,
상기 (b) 경화제는 상기 (a) 프탈로니트릴 화합물 1 몰에 대하여 0.01 내지 1.5 몰로 포함되는, 경화성 수지 조성물.
The method of claim 1,
The (b) curing agent is contained in an amount of 0.01 to 1.5 moles based on 1 mole of the (a) phthalonitrile compound, the curable resin composition.
제 1 항에 따른 경화성 수지 조성물의 반응물인, 프리폴리머.A prepolymer which is a reactant of the curable resin composition according to claim 1 .
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