KR102306654B1 - 터치 패널 - Google Patents

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Abstract

터치 패널은 터치 영역 및 상기 터치 영역과 이웃하는 비터치 영역을 포함하는 기판, 상기 기판 상의 상기 터치 영역에 위치하는 터치 센서부, 및 상기 터치 센서부를 사이에 두고 상기 기판 상에 위치하는 전도성 고분자층을 포함하며, 상기 전도성 고분자층은 상기 기판 상의 상기 비터치 영역에 위치하며 상기 터치 센서부와 연결된 전도성 고분자를 포함하는 고분자 배선 패턴을 포함한다.

Description

터치 패널{TOUCH PANEL}
본 발명은 터치 패널에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 전도성 고분자를 포함하는 터치 패널에 관한 것이다.
터치 패널은 펜 또는 사용자의 손가락에 의한 터치를 인식하는 장치로서, 최근 유기 발광 표시 장치(organic light emitting diode display) 또는 액정 표시 장치(liquid crystal display device) 등의 표시 패널 상에 배치되어 표시 장치에 신호를 입력하기 위한 수단으로서 사용되고 있었다.
터치 패널은 기판 및 기판 상에 위치하며 터치(touch)를 인식하는 터치 센서부를 포함한다.
최근, 기판을 플렉서블(flexible)한 플렉서블 기판으로 형성함으로써, 전체적으로 플렉서블한 터치 패널이 개발되었다.
본 발명의 일 실시예는, 플렉서블한 동시에 신호 지연이 억제된 터치 패널을 제공하고자 한다.
또한, 터치를 인식하는 터치 센서부를 외부의 간섭으로부터 보호하는 터치 패널을 제공하고자 한다.
상술한 기술적 과제를 달성하기 위한 본 발명의 일 측면은 터치 영역 및 상기 터치 영역과 이웃하는 비터치 영역을 포함하는 기판, 상기 기판 상의 상기 터치 영역에 위치하는 터치 센서부, 및 상기 터치 센서부를 사이에 두고 상기 기판 상에 위치하는 전도성 고분자층을 포함하며, 상기 전도성 고분자층은 상기 기판 상의 상기 비터치 영역에 위치하며 상기 터치 센서부와 연결된 전도성 고분자를 포함하는 고분자 배선 패턴을 포함하는 터치 패널을 제공한다.
상기 전도성 고분자층은 상기 터치 센서부를 덮을 수 있다.
상기 전도성 고분자층은, 상기 기판 상의 상기 터치 영역에 위치하며 상기 터치 센서부를 덮는 비전도성 고분자를 포함하는 고분자 절연 패턴을 더 포함할 수 있다.
상기 고분자 배선 패턴은 상기 고분자 절연 패턴과 일체로 형성될 수 있다.
상기 고분자 절연 패턴의 광 투과율은 상기 고분자 배선 패턴의 광 투과율 대비 높을 수 있다.
상기 고분자 절연 패턴의 전기 전도도는 상기 고분자 배선 패턴의 전기 전도도 대비 낮을 수 있다.
상기 기판 상의 상기 비터치 영역에 위치하며 상기 터치 센서부와 직접 연결된 연결 배선을 더 포함할 수 있다.
상기 고분자 배선 패턴은 상기 연결 배선을 덮을 수 있다.
상기 터치 센서부는, 상기 기판 상에 위치하며, 각각이 일 방향으로 상호 이격되어 배치된 복수의 제1 터치 패드부, 상기 복수의 제1 터치 패드부 각각의 사이를 연결하는 제1 연결부, 상기 기판 상에 위치하며, 각각이 상기 일 방향과 교차하는 타 방향으로 상호 이격되어 배치된 복수의 제2 터치 패드부, 및 상기 제1 연결부와 절연 교차하며, 상기 복수의 제2 터치 패드부 각각의 사이를 연결하는 제2 연결부를 포함할 수 있다.
상술한 본 발명의 과제 해결 수단의 일부 실시예 중 하나에 의하면, 플렉서블한 동시에 신호 지연이 억제된 터치 패널이 제공된다.
또한, 터치를 인식하는 터치 센서부를 외부의 간섭으로부터 보호하는 터치 패널이 제공된다.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 터치 패널을 나타낸 평면도이다.
도 2는 도 1의 Ⅱ-Ⅱ를 따른 단면도이다.
도 3은 본 발명의 다른 실시예에 따른 터치 패널을 나타낸 평면도이다.
도 4는 도 3의 Ⅳ-Ⅳ를 따른 단면도이다.
이하, 첨부한 도면을 참고로 하여 본 발명의 여러 실시예들에 대하여 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자가 용이하게 실시할 수 있도록 상세히 설명한다. 본 발명은 여러 가지 상이한 형태로 구현될 수 있으며 여기에서 설명하는 실시예들에 한정되지 않는다.
본 발명을 명확하게 설명하기 위해서 설명과 관계없는 부분은 생략하였으며, 명세서 전체를 통하여 동일 또는 유사한 구성요소에 대해서는 동일한 참조 부호를 붙이도록 한다.
또한, 여러 실시예들에 있어서, 동일한 구성을 가지는 구성요소에 대해서는 동일한 부호를 사용하여 대표적으로 일 실시예에서 설명하고, 그 외의 다른 실시예에서는 일 실시예와 다른 구성에 대해서만 설명하기로 한다.
또한, 도면에서 나타난 각 구성의 크기 및 두께는 설명의 편의를 위해 임의로 나타내었으므로, 본 발명이 반드시 도시된 바에 한정되지 않는다.
도면에서 여러 층 및 영역을 명확하게 표현하기 위하여 두께를 확대하여 나타내었다. 그리고 도면에서, 설명의 편의를 위해, 일부 층 및 영역의 두께를 과장되게 나타내었다. 층, 막, 영역, 판 등의 부분이 다른 부분 "상에" 있다고 할 때, 이는 다른 부분 "바로 상에" 있는 경우뿐 아니라 그 중간에 또 다른 부분이 있는 경우도 포함한다.
또한, 명세서 전체에서, 어떤 부분이 어떤 구성요소를 "포함" 한다고 할 때, 이는 특별히 반대되는 기재가 없는 한 다른 구성요소를 제외하는 것이 아니라 다른 구성요소를 더 포함할 수 있는 것을 의미한다. 또한, 명세서 전체에서, "~상에"라 함은 대상 부분의 위 또는 아래에 위치함을 의미하는 것이며, 반드시 중력 방향을 기준으로 상 측에 위치하는 것을 의미하는 것은 아니다.
이하, 도 1 및 도 2를 참조하여 본 발명의 일 실시예에 따른 터치 패널을 설명한다. 이하에서 설명하는 터치 패널은 이미지를 표시하는 표시 패널에 적용될 수 있으며, 표시 패널은 이미지를 표시한다면 액정 표시 장치(liquid crystal displays, LCDs), 플라즈마 디스플레이(plasma displays, PDs), 필드에미션디스플레이(field emission displays, FEDs), 전기영동 디스플레이(electrophoretic displays, EPDs), 전기습윤 디스플레이(electrowetting displays, EWDs) 등의 다양한 표시 장치를 포함할 수 있다.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 터치 패널을 나타낸 평면도이다. 도 2는 도 1의 Ⅱ-Ⅱ를 따른 단면도이다.
도 1 및 도 2에 도시된 바와 같이, 본 발명의 일 실시예에 따른 터치 패널(1000)은 터치(touch)를 인식하며, 기판(SUB), 터치 센서부(TS), 전도성 고분자층(CPL)을 포함한다. 터치 패널(1000)은 도시하지 않은 터치 제어부를 포함할 수 있으며, 이 터치 제어부는 연성인쇄회로기판 또는 인쇄회로기판 등의 형태로 형성되어 전도성 고분자층(CPL)의 고분자 배선 패턴(PWP)과 연결될 수 있다. 터치 제어부는 터치 패널(1000)로부터 전송된 전기적인 아날로그 신호를 컨버터 등을 통해 디지털 신호로 수치화하여 사용자가 터치한 위치 정보를 계산할 수 있다.
기판(SUB)은 플렉서블(flexible)할 수 있으며, 유기 재료, 무기 재료, 유리 또는 스테인리스 강 등의 금속을 포함하는 기판일 수 있다. 기판(SUB)은 플렉서블(flexible)할 수 있으나, 이에 한정되지 않고 스트레처블(stretchable)하거나, 폴더블(foldable)하거나, 벤더블(bendable)하거나, 롤러블(rollable)할 수 있다. 기판(SUB)이 플렉서블(flexible)하거나, 스트렛쳐블(stretable)하거나, 폴더블(foldable)하거나, 벤더블(bendable)하거나, 롤러블(rollable)함으로써, 터치 패널(1000) 전체가 플렉서블(flexible)하거나, 스트레처블(stretchable)하거나, 폴더블(foldable)하거나, 벤더블(bendable)하거나, 롤러블(rollable)할 수 있다.
기판(SUB)은 터치를 인식하는 터치 영역(TA), 터치 영역(TA)과 이웃하는 비터치 영역(NTA)을 포함한다. 기판(SUB)의 터치 영역(TA)은 기판(SUB) 전체의 판면 중에 중앙 부분에 위치하나, 이에 한정되지 않고 기판(SUB) 전체의 판면 중에 외곽 부분에 위치할 수 있다. 기판(SUB)의 비터치 영역(NTA)은 터치 영역(TA)을 둘러싸고 있으나, 이에 한정되지 않고 비터치 영역(NTA)은 터치 영역(TA)과 이웃할 수 있다.
터치 센서부(TS)는 터치를 직접적으로 인식하는 부분이며, 전체적으로 투명하게 형성되어 있다. 터치 센서부(TS)는 기판(SUB) 상의 터치 영역(TA)에 위치하고 있다. 터치 센서부(TS)는 기판(SUB) 상에서 정전 용량식으로 이루어질 수 있다.
터치 센서부(TS)는 기판(SUB) 상에서 일 방향으로 연장되어 전도성 고분자층(CPL)의 고분자 배선 패턴(PWP)과 연결된 제1 신호 라인(SL1), 상기 일 방향과 교차하는 타 방향으로 연장되어 고분자 배선 패턴(PWP)과 연결된 제2 신호 라인(SL2)을 포함한다.
제1 신호 라인(SL1)은 복수이며, 복수의 제1 신호 라인(SL1)들 각각은 상기 타 방향으로 순차적으로 배치될 수 있다.
제1 신호 라인(SL1)은 제1 터치 패드부(TP1) 및 제1 연결부(CP1)를 포함한다.
제1 터치 패드부(TP1)는 복수이며, 복수의 제1 터치 패드부(TP1)들 각각은 일 방향으로 상호 이격되어 배치되어 있다. 제1 터치 패드부(TP1)는 평면적으로 마름모 형태를 가지고 있으나, 이에 한정되지 않고 삼각형, 사각형, 오각형, 육각형, 칠각형, 팔각형, 원형, 타원형 형태를 가질 수 있다. 제1 터치 패드부(TP1)는 은나노와이어(AgNW), 인듐틴옥사이드(ITO) 또는 인듐징크옥사이드(IZO) 등의 투명 도전성 물질, 메탈 메쉬(metal mesh), 또는 PEDOT:PSS{Poly(3,4-ethylenedioxythiophene) Polystyrene sulfonate} 등의 전도성 고분자 등을 포함할 수 있다.
제1 연결부(CP1)는 복수의 제1 터치 패드부(TP1)들 각각의 사이를 연결하며, 구체적으로 이웃하는 제1 터치 패드부(TP1) 사이를 연결하고 있다. 제1 터치 패드부(TP1) 및 제1 연결부(CP1)는 일체로 형성되어 있으나, 이에 한정되지 않고 제1 터치 패드부(TP1) 및 제1 연결부(CP1)는 서로 다른 재료로 형성될 수 있다. 제1 연결부(CP1)는 제2 연결부(CP2)와 절연 교차하고 있다.
제2 신호 라인(SL2)은 복수이며, 복수의 제2 신호 라인(SL2)들 각각은 상기 일 방향으로 순차적으로 배치될 수 있다.
제2 터치 패드부(TP2)는 복수이며, 복수의 제2 터치 패드부(TP2)들 각각은 타 방향으로 상호 이격되어 배치되어 있다. 제2 터치 패드부(TP2)는 평면적으로 마름모 형태를 가지고 있으나, 이에 한정되지 않고 삼각형, 사각형, 오각형, 육각형, 칠각형, 팔각형, 원형, 타원형 형태를 가질 수 있다. 제1 터치 패드부(TP1)는 은나노와이어(AgNW), 인듐틴옥사이드(ITO) 또는 인듐징크옥사이드(IZO) 등의 투명 도전성 물질, 메탈 메쉬(metal mesh), 또는 PEDOT:PSS{Poly(3,4-ethylenedioxythiophene) Polystyrene sulfonate} 등의 전도성 고분자 등을 포함할 수 있다.
제2 연결부(CP2)는 복수의 제2 터치 패드부(TP2)들 각각의 사이를 연결하며, 구체적으로 이웃하는 제2 터치 패드부(TP2) 사이를 연결하고 있다. 제2 터치 패드부(TP2) 및 제2 연결부(CP2)는 서로 다른 재료로 형성되어 있으나, 이에 한정되지 않고 제2 터치 패드부(TP2) 및 제2 연결부(CP2)는 일체로 형성될 수 있다. 제2 연결부(CP2)는 제1 연결부(CP1)와 절연 교차하고 있다.
이와 같이, 제1 신호 라인(SL1)과 제2 신호 라인(SL2)은 서로 절연 교차하며, 제1 신호 라인(SL1)과 제2 신호 라인(SL2)이 교차하는 부분에는 절연 패턴(IP)이 개재되어 있다. 이러한 절연 패턴(IP)은 실리콘 산화물(SiOx) 및 실리콘 질화물(SiNx) 중 하나 이상을 포함할 수 있으며, 이에 한정되지 않고 절연층의 형태로서 형성될 수 있다. 제1 신호 라인(SL1) 및 제2 신호 라인(SL2)은 기판(SUB) 상에서 동일한 층에 위치하거나, 또는 서로 다른 층에 위치할 수 있다.
이상과 같은 터치 센서부(TS)를 사이에 두고 기판(SUB) 상에 전도성 고분자층(CPL)이 위치하고 있다. 전도성 고분자층(CPL)은 터치 센서부(TS)를 덮고 있다.
전도성 고분자층(CPL)은 기판(SUB)의 터치 영역(TA) 및 비터치 영역(NTA)에 대응하여 터치 센서부(TS)를 사이에 두고 기판(SUB) 상에 위치하고 있다. 전도성 고분자층(CPL)은 서로 일체로 형성된 고분자 배선 패턴(PWP) 및 고분자 절연 패턴(PIP)을 포함한다.
고분자 배선 패턴(PWP)은 기판(SUB) 상의 비터치 영역(NTA)에 위치하며, 터치 센서부(TS)와 연결되어 있다. 고분자 배선 패턴(PWP)은 복수개이며, 복수의 고분자 배선 패턴(PWP)들 각각은 터치 센서부(TS)의 복수의 제1 신호 라인(SL1)들 각각 및 복수의 제2 신호 라인(SL2)들 각각과 연결되어 있다. 고분자 배선 패턴(PWP)은 전도성 고분자를 포함한다. 여기서 전도성 고분자는 PEDOT:PSS{Poly(3,4-ethylenedioxythiophene) Polystyrene sulfonate}를 포함하나, 이에 한정되지 않고 PEG(Poly Ethlene Glycol) 및 PEO(Poly Ethlene Oxide)를 더 포함할 수 있다.
고분자 절연 패턴(PIP)은 고분자 배선 패턴(PWP)과 일체로 형성되어 있으며, 기판(SUB) 상의 터치 영역(TA) 및 비터치 영역(NTA)에 위치하고 있다. 비터치 영역(NTA)에 위치하는 고분자 절연 패턴(PIP)은 복수의 고분자 배선 패턴(PWP)들 각각의 사이에 위치하고 있으며, 이웃하는 고분자 배선 패턴(PWP) 사이를 연결하고 있다. 터치 영역(TA)에 위치하는 고분자 절연 패턴(PIP)은 터치 센서부(TS)를 덮고 있으며, 비전도성 고분자를 포함한다. 여기서, 비전도성 고분자는 PEDOT:PSS{Poly(3,4-ethylenedioxythiophene) Polystyrene sulfonate}를 포함하나, 이에 한정되지 않고 PEG(Poly Ethlene Glycol) 및 PEO(Poly Ethlene Oxide)를 더 포함할 수 있다. 고분자 절연 패턴(PIP)은 하나의 층으로 형성된 전도성 고분자층(CPL)에서 고분자 절연 패턴(PIP)으로 형성되는 일 영역에 용액을 이용하거나 광을 이용하여 전도성을 잃게 하여 형성할 수 있으며, 이러한 공정은 공지된 다양한 방법으로 수행할 수 있다.
고분자 절연 패턴(PIP)은 전도성을 잃은 비전도성 고분자를 포함함으로써, 전도성 고분자를 포함하는 고분자 배선 패턴(PWP) 대비 광 투과율이 높다. 또한, 고분자 절연 패턴(PIP)은 전도성을 잃은 비전도성 고분자를 포함함으로써, 전도성 고분자를 포함하는 고분자 배선 패턴(PWP) 대비 전기 전도도가 낮다.
이와 같이 구성된 터치 패널(1000)에서, 전도성 고분자층(CPL)의 고분자 배선 패턴(PWP)에 의해 복수의 제1 신호 라인(SL1)과 복수의 제2 신호 라인(SL2)에 순차적으로 전압이 인가되면, 제1 신호 라인(SL1) 및 제2 신호 라인(SL2) 각각의 사이에 정전 용량이 형성된다. 이 때, 터치 센서부(TS)에 터치가 수행되면, 터치가 수행된 위치의 정전 용량이 변화되어 제1 신호 라인(SL1) 또는 제2 신호 라인(SL2)에 인가된 전압이 변화됨으로써, 터치 패널(1000)의 터치 센서부(TS)는 어느 위치에 터치가 수행 되었는지를 감지할 수 있다.
이상과 같이, 본 발명의 일 실시예에 따른 터치 패널(1000)은 터치를 인식하는 터치 센서부(TS)와 연결된 전도성 고분자층(CPL)의 고분자 배선 패턴(PWP)이 전도성 고분자를 포함함으로써, 전체적인 연성(flexibility)이 향상된다. 특히 고분자 배선 패턴(PWP)이 기판(SUB)의 비터치 영역(NTA)에 위치함으로써, 기판(SUB)의 비터치 영역(NTA)의 연성이 터치 영역(TA) 대비 더 향상된다.
또한, 본 발명의 일 실시예에 따른 터치 패널(1000)은 기판(SUB)의 비터치 영역(NTA)에 위치하는 고분자 배선 패턴(PWP)이 투명한 전도성 고분자를 포함함으로써, 터치 패널(1000)의 비터치 영역(NTA)에 위치하는 고분자 배선 패턴(PWP)이 외부로 시인되는 것이 억제된다. 즉, 기판(SUB)의 터치 영역(TA) 및 비터치 영역(NTA) 전체에 걸쳐서 투명한 터치 패널(1000)이 제공된다.
또한, 본 발명의 일 실시예에 따른 터치 패널(1000)은 터치 센서부(TS)가 전도성 고분자층(CPL)의 고분자 절연 패턴(PIP)에 의해 덮여 있음으로써, 터치 센서부(TS)가 외부의 간섭에 의해 파손되거나, 또는 외부의 산소 또는 질소 등의 기체와 반응하는 것이 억제된다.
또한, 본 발명의 일 실시예에 따른 터치 패널(1000)은 터치 센서부(TS)의 전도성 고분자층(CPL)이 터치 센서부(TS)와 연결된 고분자 배선 패턴(PWP) 및 터치 센서부(TS)를 덮어 보호하는 고분자 절연 패턴(PIP)을 포함함으로써, 하나의 공정을 이용해 전도성 고분자층(CPL)을 형성하여 터치 센서부(TS)의 연결 및 터치 센서부(TS)의 보호를 동시에 수행할 수 있다. 즉, 전체적인 제조 시간 및 비용이 절감되는 동시에 신뢰성이 향상된 터치 패널(1000)이 제공된다.
이하, 도 3 및 도 4를 참조하여 본 발명의 다른 실시예에 따른 터치 패널을 설명한다. 이하에서는 상술한 본 발명의 일 실시예에 따른 터치 패널과 다른 구성에 대해서 설명한다.
도 3은 본 발명의 다른 실시예에 따른 터치 패널을 나타낸 평면도이다. 도 4는 도 3의 Ⅳ-Ⅳ를 따른 단면도이다.
도 3 및 도 4에 도시된 바와 같이, 본 발명의 다른 실시예에 따른 터치 패널(1000)은 기판(SUB), 터치 센서부(TS), 전도성 고분자층(CPL), 연결 배선(CW)을 포함한다.
연결 배선(CW)은 복수개이며, 복수의 연결 배선(CW)들 각각은 기판(SUB)의 비터치 영역(NTA)에 위치하고 있다. 복수의 연결 배선(CW)들 각각은 터치 센서부(TS)와 직접 연결되어 있다. 구체적으로, 복수의 연결 배선(CW)들 각각은 터치 센서부(TS)의 복수의 제1 신호 라인(SL1)들 각각 및 복수의 제2 신호 라인(SL2)들 각각과 연결되어 있다. 복수의 연결 배선(CW)들 각각은 금(Au), 은(Ag), 구리(Cu) 등의 금속을 포함할 수 있으며, 이에 한정되지 않고 은나노와이어(AgNW), 인듐틴옥사이드(ITO) 또는 인듐징크옥사이드(IZO) 등의 투명 도전성 물질, 메탈 메쉬(metal mesh), 또는 PEDOT:PSS{Poly(3,4-ethylenedioxythiophene) Polystyrene sulfonate} 등의 전도성 고분자 등을 포함할 수 있다. 복수의 연결 배선(CW)들은 터치 센서부(TS)와 다른 공정 또는 동일한 공정을 이용해 기판(SUB) 상에 형성될 수 있다.
전도성 고분자층(CPL)의 고분자 배선 패턴(PWP)은 연결 배선(CW)을 사이에 두고 기판(SUB)의 비터치 영역(NTA)에 위치하고 있으며, 연결 배선(CW)을 덮고 있다. 구체적으로, 복수의 고분자 배선 패턴(PWP)들 각각은 복수의 연결 배선(CW)들 각각을 덮고 있다. 고분자 배선 패턴(PWP) 및 연결 배선(CW) 각각은 평면적으로 동일한 형태를 가질 수 있으나, 이에 한정되지 않고 평면적으로 서로 다른 형태를 가질 수 있다.
이상과 같이, 또한, 본 발명의 다른 실시예에 따른 터치 패널(1000)은 터치 센서부(TS)가 전도성 고분자층(CPL)의 고분자 절연 패턴(PIP)에 의해 덮여 있는 동시에 연결 배선(CW)이 전도성 고분자층(CPL)의 고분자 배선 패턴(PWP)에 의해 덮여 있음으로써, 터치 센서부(TS) 및 연결 배선(CW) 각각이 외부의 간섭에 의해 파손되거나, 또는 외부의 산소 또는 질소 등의 기체와 반응하는 것이 억제된다. 즉, 전체적인 취급에 대한 신뢰성이 향상된 터치 패널(1000)이 제공된다.
또한, 본 발명의 다른 실시예에 따른 터치 패널(1000)은 연결 배선(CW)이 전도성 고분자를 포함하는 고분자 배선 패턴(PWP)에 의해 덮여 있음으로써, 연결 배선(CW)을 통해 터치 센서부(TS)로 공급되는 신호의 지연이 억제된다. 즉, 전체적으로 터치 센서부(TS)에 대한 신호 지연이 억제된 터치 패널(1000)이 제공된다.
본 발명을 앞서 기재한 바에 따라 바람직한 실시예를 통해 설명하였지만, 본 발명은 이에 한정되지 않으며 다음에 기재하는 특허청구범위의 개념과 범위를 벗어나지 않는 한, 다양한 수정 및 변형이 가능하다는 것을 본 발명이 속하는 기술 분야에 종사하는 자들은 쉽게 이해할 것이다.
터치 영역(TA), 비터치 영역(NTA), 기판(SUB), 터치 센서부(TS), 고분자 배선 패턴(PWP), 전도성 고분자층(CPL)

Claims (9)

  1. 터치 영역 및 상기 터치 영역과 이웃하는 비터치 영역을 포함하는 기판;
    상기 기판 상의 상기 터치 영역에 위치하는 터치 센서부; 및
    상기 터치 센서부를 사이에 두고 상기 기판 상에 위치하는 전도성 고분자층
    을 포함하며,
    상기 전도성 고분자층은 상기 기판 상의 상기 비터치 영역에 위치하며 상기 터치 센서부와 연결된 전도성 고분자를 포함하는 고분자 배선 패턴 및 상기 비터치 영역에 위치하는 고분자 절연 패턴을 포함하고,
    상기 비터치 영역에서 상기 고분자 배선 패턴과 상기 고분자 절연 패턴은 직접 접촉하는 터치 패널.
  2. 제1항에서,
    상기 전도성 고분자층은 상기 터치 센서부를 덮는 터치 패널.
  3. 제2항에서,
    상기 전도성 고분자층은,
    상기 기판 상의 상기 터치 영역에 위치하며 상기 터치 센서부를 덮는 비전도성 고분자를 포함하는 고분자 절연 패턴을 더 포함하는 터치 패널.
  4. 제3항에서,
    상기 고분자 배선 패턴은 상기 고분자 절연 패턴과 일체로 형성된 터치 패널.
  5. 제3항에서,
    상기 고분자 절연 패턴의 광 투과율은 상기 고분자 배선 패턴의 광 투과율 대비 높은 터치 패널.
  6. 제3항에서,
    상기 고분자 절연 패턴의 전기 전도도는 상기 고분자 배선 패턴의 전기 전도도 대비 낮은 터치 패널.
  7. 제1항에서,
    상기 기판 상의 상기 비터치 영역에 위치하며 상기 터치 센서부와 직접 연결된 연결 배선을 더 포함하는 터치 패널.
  8. 제7항에서,
    상기 고분자 배선 패턴은 상기 연결 배선을 덮는 터치 패널.
  9. 제1항에서,
    상기 터치 센서부는,
    상기 기판 상에 위치하며, 각각이 일 방향으로 상호 이격되어 배치된 복수의 제1 터치 패드부;
    상기 복수의 제1 터치 패드부 각각의 사이를 연결하는 제1 연결부;
    상기 기판 상에 위치하며, 각각이 상기 일 방향과 교차하는 타 방향으로 상호 이격되어 배치된 복수의 제2 터치 패드부; 및
    상기 제1 연결부와 절연 교차하며, 상기 복수의 제2 터치 패드부 각각의 사이를 연결하는 제2 연결부
    를 포함하는 터치 패널.
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