KR102304985B1 - Etch cutting method of thin film glass and thin film glass manufactured by the manufacturing method thereof - Google Patents

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KR102304985B1 KR1020200053640A KR20200053640A KR102304985B1 KR 102304985 B1 KR102304985 B1 KR 102304985B1 KR 1020200053640 A KR1020200053640 A KR 1020200053640A KR 20200053640 A KR20200053640 A KR 20200053640A KR 102304985 B1 KR102304985 B1 KR 102304985B1
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구본기
이승준
이형섭
김슬기
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Abstract

The present invention relates to an etching cutting method of a thin-film glass and a thin film glass manufactured by the manufacturing method, and may prevent the generation of cracks, chipping, burrs, or the like, caused by a chamfering process or a polishing-wet process through a grinding process for manufacturing a conventional thin-film glass. In addition, in order to solve the problem of low production yield due to the processing of one sheet of mother glass (1) by a wet etching cutting method, a cutting method of a thin-film glass capable of being processed by laminating a plurality of mother glasses (1) is provided.

Description

박막 글라스의 식각 커팅 방법 및 이의 제조 방법으로 제조된 박막 글라스{Etch cutting method of thin film glass and thin film glass manufactured by the manufacturing method thereof}Etch cutting method of thin film glass and thin film glass manufactured by the manufacturing method thereof

본 발명은 박막 글라스의 식각 커팅 방법 및 이의 제조 방법으로 제조된 박막 글라스에 관한 것이다.The present invention relates to a method for etch-cutting thin-film glass and to a thin-film glass manufactured by the method for manufacturing the same.

디스플레이로서 액정 디스플레이(Liquid Crystal Display), LED 패널, OLED 패널, 터치패널 등이 주로 사용되고, 태양광 발전장치로서는 박막 태양전지가 주로 사용된다. 이와 같은 디스플레이나 박막 태양전지의 표면을 보호하기 위해 화면 보호용 글라스(glass)가 사용된다.A liquid crystal display, an LED panel, an OLED panel, a touch panel, etc. are mainly used as a display, and a thin film solar cell is mainly used as a photovoltaic device. In order to protect the surface of such a display or thin film solar cell, glass for screen protection is used.

상기 글라스는 박막 글라스로도 불리우며, 적용되는 디스플레이나 박막 태양전지의 사이즈에 따라 레이저(Laser), 스크라이버(Scriber), 워터젯 등을 이용하여 절삭되며, 이후 면처리 공정 및 면 강화 공정 등을 거치게 된다.The glass is also called thin glass, and is cut using a laser, a scriber, a waterjet, etc. depending on the size of a display or thin film solar cell to be applied, followed by a face treatment process and a face strengthening process. do.

종래에는 박막 글라스를 가공하기 위해, 레이저(Laser), 스크라이버(Scriber), 워터젯 등을 이용하여 절삭하고, 글라스의 깨짐을 방지하기 위해 소정의 연마 공정 즉, 단면 처리 공정을 필수적으로 진행하였다. Conventionally, in order to process thin glass, it is cut using a laser, a scriber, a waterjet, etc., and a predetermined polishing process, that is, an end face treatment process, is essentially performed to prevent the glass from breaking.

이러한 연마 공정은 모방캠을 이용한 그라인딩(Grinding) 가공 방식에 의한 면취 가공, 폴리싱(Polishing) 습식 가공에 의해 처리하였다. 그러나 그라인딩 가공방식이나 폴리싱 등의 건식 및 습식 가공에 의해 처리된 글라스의 단면은 여전히 강도면에 서 저강도이고 취성(Brittleness, 脆性) 특성이 약한 문제를 갖게 된다.This grinding process was processed by chamfering by a grinding processing method using a imitation cam, and polishing (polishing) wet processing. However, the cross section of the glass processed by dry and wet processing such as grinding or polishing still has a problem in terms of strength with low strength and weak brittleness.

또한, 그라인딩 가공방식이나 폴리싱 습식 가공 방식과 같은 기계적인 연마방식은 글라스의 대소형화에 따라 그 장비가 복잡하고 고가이며, 단층 작업만이 가능하므로 생산 효율도 매우 떨어지는 문제를 갖는다.In addition, mechanical polishing methods such as a grinding method or a wet polishing method have a problem in that the equipment is complicated and expensive according to the size and size of the glass, and since only a single layer operation is possible, the production efficiency is very low.

또한, 단면 처리 공정인 그라인딩 및 폴리싱 등의 건식 및 습식 가공처리 후에도 가공면의 미세한 크랙(Crack), 치핑(Chipping), 버(Burr) 등이 미세하게 존재하는 문제를 갖는다.In addition, there is a problem in that fine cracks, chippings, burrs, and the like exist on the processed surface even after dry and wet processing such as grinding and polishing, which are the end face treatment processes.

따라서, 사이즈에 따라 절삭된 글라스를 가공하기 위한 방식의 개발이 필요하다.Therefore, it is necessary to develop a method for processing the cut glass according to the size.

(특허 문헌 1) KR 10-2013-0139106 A1(Patent Document 1) KR 10-2013-0139106 A1

본 발명의 목적은 박막 글라스의 식각 커팅 방법 및 이의 제조 방법으로 제조된 박막 글라스에 관한 것이다.An object of the present invention relates to a method for etch-cutting thin-film glass and a thin-film glass manufactured by the method for manufacturing the same.

본 발명의 다른 목적은 종래 박막 글라스를 제조하기 위한 그라인딩(Grinding) 가공 방식에 의한 면취 가공 또는 폴리싱(Polishing) 습식 가공에 의해 발생될 수 있는 크랙(Crack), 치핑(Chipping), 버(Burr) 등의 발생을 방지할 수 있는 글라스의 습식 식각 커팅 방법을 제공하는 것이다. Another object of the present invention is to generate cracks, chipping, and burrs that may be generated by chamfering or polishing wet processing by a conventional grinding method for manufacturing thin-film glass. It is to provide a wet-etched cutting method of glass that can prevent the occurrence of such.

본 발명의 다른 목적은 크랙, 치핑, 버 등의 문제 발생을 방지하는 글라스의 습식 식각 커팅 방법이 1장의 원장 글라스의 가공으로 생산 수율이 낮은 문제를 개선하기 위해, 복수의 원장 글라스를 적층하여, 가공할 수 있는 박막 글라스의 커팅 방법 및 이의 제조 방법으로 제조된 박막 글라스를 제공하는 것이다.Another object of the present invention is to improve the problem of low production yield due to the processing of one led glass in a wet etching cutting method of glass that prevents problems such as cracks, chipping, burrs, etc. by laminating a plurality of led glasses, It is an object to provide a method for cutting a thin film glass that can be processed and a thin film glass manufactured by the method for manufacturing the same.

상기 목적을 달성하기 위하여, 본 발명의 일 실시예에 따른 박막 글라스의 식각 커팅 방법은 1) 원장 글라스(1)의 일면에 고분자 레진(2)을 도포하는 단계; 2) 상기 고분자 레진(2)에 UV 조사하여 스페이서를 형성하는 단계; 3) 상기 지지층 위로 원장 글라스(1)를 적층하는 단계; 4) 상기 1 내지 3) 단계를 반복하여 복수의 원장 글라스(1)를 스페이서 위로 적층하는 단계; 5) 상기 적층된 원장 글라스(1)를 식각액에 담궈 커팅하는 단계; 6) 커팅된 글라스를 세정하는 단계; 및 7) 글라스에 부착된 스페이서를 박리하고, 세정하는 단계를 포함하며, 상기 5) 단계는, 원장 글라스(1)는 절단 예정 라인(CL)을 따라 레이저 조사되고 식각액에 담궈 습식 식각할 수 있다.In order to achieve the above object, a method for etching and cutting thin glass according to an embodiment of the present invention includes the steps of 1) applying a polymer resin (2) to one surface of the led glass (1); 2) forming a spacer by irradiating the polymer resin (2) with UV; 3) laminating the led glass (1) on the support layer; 4) repeating steps 1 to 3) to stack a plurality of ledger glasses 1 on the spacer; 5) cutting the laminated ledger glass (1) by immersing it in an etchant; 6) cleaning the cut glass; and 7) peeling the spacer attached to the glass and cleaning, wherein in step 5), the led glass 1 is laser irradiated along the line to be cut (CL) and wet-etched by immersion in an etchant .

본 발명의 다른 일 실시예에 따른 박막 글라스는 상기 제조 방법에 의해 제조된 것일 수 있다.The thin glass according to another embodiment of the present invention may be manufactured by the above manufacturing method.

본 발명은 종래 박막 글라스를 제조하기 위한 그라인딩(Grinding) 가공 방식에 의한 면취 가공 또는 폴리싱(Polishing) 습식 가공에 의해 발생될 수 있는 크랙(Crack), 치핑(Chipping), 버(Burr) 등의 발생을 방지할 수 있다. The present invention relates to the occurrence of cracks, chippings, burrs, etc. that may be generated by chamfering or polishing wet processing by a grinding processing method for manufacturing thin film glass in the prior art. can prevent

또한, 습식 식각 커팅 방법이 1장의 원장 글라스의 가공으로 생산 수율이 낮은 문제를 개선하기 위해, 복수의 원장 글라스를 적층하여, 가공할 수 있는 박막 글라스의 커팅 방법을 제공할 수 있다.In addition, in order to improve the problem that the wet etching cutting method has a low production yield due to the processing of one led glass, it is possible to provide a cutting method of thin glass that can be processed by stacking a plurality of led glass.

도면 1은 고분자 레진을 사이에 끼고 샌드위치 형태로 적층된 원장 글라스(1)의 종단면도,
도면 2는 고분자 레진이 도포된 원장 글라스의 평면도
1 is a longitudinal cross-sectional view of the led glass (1) laminated in a sandwich form with a polymer resin sandwiched therebetween;
Figure 2 is a plan view of the led glass coated with polymer resin

이하, 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자가 용이하게 실시할 수 있도록 본 발명의 실시예에 대하여 상세히 설명한다. 그러나 본 발명은 여러 가지 상이한 형태로 구현될 수 있으며 여기에서 설명하는 실시예에 한정되지 않는다.Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail so that those of ordinary skill in the art can easily carry out the present invention. However, the present invention may be embodied in many different forms and is not limited to the embodiments described herein.

정보통신의 급격한 발달과 더불어 이들의 신호를 무선으로 송수신하기 위한 모바일 디바이스의 보급이 확대되고 있다.With the rapid development of information and communication, the spread of mobile devices for wirelessly transmitting and receiving these signals is expanding.

이러한 모바일 디바이스(핸드폰, 스마트폰, PDA, 테블릿PC 등)는 초창기 플립타입에서 시작하여 폴더타입과 슬라이드타입으로 발전하고 있으며, 특히, 최근에 개발되는 모바일 디바이스의 디스플레이장치에는 터치스크린이 구비되어, 터치스크린의 조작에 따라 각종 정보를 입력하고 그에 따라 각종 화면이 디스플레이되는 구조로 이루어져 있었다.These mobile devices (cell phones, smart phones, PDA, tablet PCs, etc.) are developing from the flip type in the early days to the folder type and slide type. , various types of information are input according to the manipulation of the touch screen, and various screens are displayed accordingly.

터치스크린의 터치 방식으로는, 윈도우글라스를 일정한 압력으로 눌러서 신호가 입력되도록 하는 감압식과, 윈도우글라스의 표면에 손가락을 살짝 대어 인체에 흐르는 미세한 전류를 이용하여 신호가 입력되도록 하는 정전용량식이 있는데, 최근에는 터치 감이 우수하여 반응성이 뛰어난 정전용량식 터치스크린의 공급이 증가되고 있다.As for the touch method of the touch screen, there are a pressure-sensitive type in which a signal is input by pressing the window glass with a constant pressure, and a capacitive type in which a signal is input using a minute current flowing through the human body by lightly placing a finger on the surface of the window glass, Recently, the supply of capacitive touch screens with excellent responsiveness due to excellent touch is increasing.

이와 같이, 모바일 디바이스의 터치스크린용 윈도우글라스는, 0.7mm 이하로 최근에는 0.55mm까지 얇아지고 있으며 디스플레이되는 화면의 왜곡이 없어야 하는 이유로 인하여 주로 판재유리 공법에 의해 박막의 평판형으로 제조되며 충격에 의한 파손을 방지하기 위하여 강화 처리하여 사용되고 있다.As such, the window glass for the touch screen of the mobile device is thinned to 0.55 mm or less to 0.7 mm or less in recent years, and for the reason that there should be no distortion of the displayed screen, it is mainly manufactured in a thin flat plate type by the sheet glass method and is not resistant to impact. In order to prevent damage caused by it, it is reinforced and used.

상기 윈도우글라스는, 파손을 방지하기 위해 강화 처리된 박막 글라스를 이용하는 것으로, 상기 박막 글라스는 원장 글라스(1)를 박막 글라스 형태로 커팅하고, 이를 강화 처리하는 것이다.The window glass uses a thin-film glass that has been strengthened to prevent breakage, and the thin-film glass is to cut the led glass 1 in the form of a thin-film glass, and strengthen it.

상기 원장 글라스(1)를 커팅하기 위한 종래의 기술은 전통적인 선반 및 CNC를 이용한 기계 가공이 있으나 제품의 품질이 좋지 않고 생산성 및 수율이 낮은 점 등이 문제점으로 지적되고 있다. The conventional technique for cutting the ledger glass 1 includes machining using a traditional lathe and CNC, but the quality of the product is not good and the productivity and yield are low, etc. are pointed out as problems.

또한, 상기 기계 가공의 단점을 극복하기 위해 레이저를 조사하여 커팅하는 레이저 커팅 방식도 제안되었으나, 기계 가공 방법과 마찬가지로 커팅 단면에 칩핑 및 결함이 발생하여 글라스가 쉽게 파손되고, 강화 공정을 진행한 이후에도 커팅 단면의 결함으로 인해 굴곡강도가 저하되거나, 벤딩 시 깨짐 현상이 발생할 수 있다. In addition, a laser cutting method of cutting by irradiating a laser has been proposed in order to overcome the disadvantages of the machining, but like the machining method, chipping and defects occur in the cutting end surface, so that the glass is easily broken, even after the strengthening process Flexural strength may be lowered due to defects in the cutting section, or cracking may occur during bending.

상기와 같이 박막 글라스는 두께가 매우 얇은 형태로 제조되어, 커팅 공정 상에서 크랙(Crack), 치핑(Chipping), 버(Burr) 등의 발생으로 인한 생산 수율 저하 문제가 발생하였다. As described above, the thin-film glass is manufactured in a very thin form, and thus there is a problem of lowering the production yield due to the occurrence of cracks, chippings, burrs, etc. in the cutting process.

이러한 문제를 개선하기 위해 본 발명에서는, 하기와 같은 습식 커팅 방법을 통해, 박막 글라스의 가공 방법을 제공하고자 한다. In order to improve this problem, the present invention intends to provide a method of processing thin glass through a wet cutting method as described below.

구체적으로, 도면 1 내지 도면 2에 도시한 바와 같이, 1) 원장 글라스(1)의 일면에 고분자 레진(2)을 도포하는 단계; 2) 상기 고분자 레진(2)에 UV 조사하여 스페이서를 형성하는 단계; 3) 상기 지지층 위로 원장 글라스(1)를 적층하는 단계; 4) 상기 1 내지 3) 단계를 반복하여 복수의 원장 글라스(1)를 스페이서 위로 적층하는 단계; 5) 상기 적층된 원장 글라스(1)를 식각액에 담궈 커팅하는 단계; 6) 커팅된 글라스를 세정하는 단계; 및 7) 글라스에 부착된 스페이서를 박리하고, 세정하는 단계를 포함하며, 상기 5) 단계는, 원장 글라스(1)는 절단 예정 라인(CL)을 따라 레이저 조사되고 식각액에 담궈 습식 식각하는 것이다. Specifically, as shown in Figures 1 to 2, 1) applying a polymer resin (2) on one surface of the led glass (1); 2) forming a spacer by irradiating the polymer resin (2) with UV; 3) laminating the led glass (1) on the support layer; 4) repeating steps 1 to 3) to stack a plurality of ledger glasses 1 on the spacer; 5) cutting the laminated ledger glass (1) by immersing it in an etchant; 6) cleaning the cut glass; and 7) peeling and cleaning the spacer attached to the glass. In step 5), the led glass 1 is laser irradiated along the line to be cut (CL) and wet-etched by immersion in an etchant.

본 발명은, 원장 글라스(1)의 커팅 공정을, 기계 가공이 아닌 습식 식각 공정을 통해 가공하는 것이다. In the present invention, the cutting process of the raw glass 1 is processed through a wet etching process rather than mechanical processing.

상기 1) 원장 글라스(1)의 일면에 고분자 레진(2)을 도포하는 단계는 도면 1과 도면 2에 도시한 바와 같이, 상기 원장 글라스(1)의 일면에 설정된 패턴 경로에 따라 고분자 레진(2)이 패터닝(Patterning)되되, 상기 고분자 레진(2)은 원장 글라스(1)의 절단 예정 라인(CL)을 피해 도포된다. 1) The step of applying the polymer resin 2 on one surface of the ledger glass 1 is as shown in FIGS. 1 and 2, according to the pattern path set on the one surface of the ledger glass 1, the polymer resin 2 ) is patterned, but the polymer resin 2 is applied avoiding the cut line CL of the ledger glass 1 .

상기 고분자 레진(2) 도포를 위한 기구로는 디스펜서나, 잉크젯, 슬립 다이가 사용될 수 있다.A dispenser, inkjet, or slip die may be used as a mechanism for applying the polymer resin 2 .

구체적으로, 본 발명의 커팅 공정은, 원장 글라스(1)를 절단 예정 라인(CL)을 따라 레이저 조사하고, 이후 원장 글라스(1)는 식각액을 이용하여 식각 커팅한다. Specifically, in the cutting process of the present invention, the led glass 1 is irradiated with a laser along the cut line CL, and then the led glass 1 is etched and cut using an etchant.

본 발명의 레이저 조사는, 레이저 커팅과 달리 원장 글라스(1)에 절단 예정 라인(CL)을 따라 글라스를 개질하는 것으로, 상기 글라스 개질에 의해 미세 구멍이 형성되고, 상기 미세 구멍으로 식각액이 침투하여 글라스를 절단할 수 있다. The laser irradiation of the present invention, unlike laser cutting, reforms the glass along the cut line CL on the ledger glass 1, and micropores are formed by the glass reforming, and the etchant penetrates into the micropores. Glass can be cut.

즉, 원장 글라스(1) 자체는 식각액에 의해 커팅되거나, 품질에 영향을 미치지 않는다. 다만, 레이저 조사에 의해서, 글라스가 개질되면, 미세 구멍이 다수 형성되고, 상기 미세 구멍으로 식각액이 침투하게 되면, 식각액에 의해 개질된 글라스가 커팅된다. That is, the ledger glass 1 itself is cut by the etchant or does not affect the quality. However, when the glass is modified by laser irradiation, a plurality of micropores are formed, and when the etching solution penetrates into the micropores, the glass modified by the etching solution is cut.

레이저 조사에 의해 절단 예정 라인(CL)을 따라 글라스를 개질하고, 개질된 글라스 부분에 미세 구멍이 다수 형성시킨 후, 식각액을 침투시켜 커팅하는 것으로, 기계 가공 방법 또는 레이저 가공 방법과 달리 커팅 단면에 칩핑 및 결함이 발생하여 글라스가 쉽게 파손되는 문제를 방지할 수 있고, 강화 공정을 진행한 이후에도 커팅 단면의 결함으로 인해 굴곡강도가 저하되거나, 벤딩 시 깨짐 현상이 발생을 방지할 수 있다. The glass is modified along the line to be cut (CL) by laser irradiation, and a large number of fine holes are formed in the modified glass part, and then the etchant is penetrated and cut. It is possible to prevent the glass from being easily broken due to chipping and defects, and it is possible to prevent the flexural strength from being lowered due to defects in the cutting section even after the strengthening process or from cracking during bending.

다만 본 발명에서와 같이 습식 식각 방식에 의해 원장 글라스(1)를 가공하는 경우에도, 1장의 원장 글라스(1)만 가공이 가능하여, 생산 수율을 높이기 위한 방법의 개발이 필요하다. However, even in the case of processing the ledger glass 1 by the wet etching method as in the present invention, only one led glass 1 can be processed, so it is necessary to develop a method for increasing the production yield.

이에, 본 발명에서는 UV 조사에 의해 경화되는 고분자 레진(2)을 이용하여 스페이서를 형성하여, 복수의 원장 글라스(1)를 적층시킨 후, 이를 식각액에 담궈, 가공 공정을 진행할 수 있다. Accordingly, in the present invention, a spacer is formed using a polymer resin 2 cured by UV irradiation, a plurality of ledger glasses 1 are stacked, and then the processing process can be performed by immersing it in an etchant.

상기와 같이 식각 커팅하는 경우에는, 복수 장의 원장 글라스(1)를 적층시키고, 이를 식각액에 담궈, 글라스의 가공을 가능하게 하여, 습식 식각 방법에 의해 생산 수율이 저하되는 문제를 방지할 수 있다. In the case of etch-cutting as described above, by stacking a plurality of led glass 1 and immersing it in an etchant to enable processing of the glass, it is possible to prevent the problem of lowering the production yield by the wet etching method.

또한, 본 발명에서의 스페이서는, 50 내지 90℃의 온수에 침지하여 스페이서를 팽윤시켜 제거가 가능하고, 스페이서가 제거된 후에도 글라스의 표면을 세척하게 되면, 스페이서의 흔적이 남지 않아 제거 공정도 단순하다고 할 것이다. In addition, the spacer in the present invention can be removed by swelling the spacer by immersion in hot water of 50 to 90 ° C. If the surface of the glass is washed after the spacer is removed, no trace of the spacer is left and the removal process is also simple. will say that

구체적으로, 상기 1) 단계는 원장 글라스(1)의 일면에 고분자 레진(2)을 도포하는 것이다. Specifically, step 1) is to apply the polymer resin (2) on one surface of the led glass (1).

상기 1) 단계는 고분자 레진(2)을 도포하여, 스페이서를 형성하는 위치를 설정하는 것이다. Step 1) is to apply the polymer resin (2) to set the position to form the spacer.

상기 1) 단계에서 고분자 레진(2)이 도포된 후, UV를 조사하여, 고분자 레진(2)을 경화시켜 스페이서로 제조할 수 있다. After the polymer resin 2 is applied in step 1), the polymer resin 2 is cured by irradiating UV light to prepare a spacer.

상기 스페이서는 원장 글라스(1)의 일면에 복수개로 형성되는 것이며, 원장 글라스(1) 사이에 위치하여 적층 간격을 형성하기 위한 것으로, 그 두께는 10 내지 180㎛이다. The spacer is formed in plurality on one surface of the mother glass 1, is positioned between the mother glass 1 to form a stacking interval, and the thickness thereof is 10 to 180 μm.

상기 스페이서의 두께가 너무 작은 경우에는 적층된 원장 글라스(1) 간의 간격이 너무 좁아, 식각액이 내부로 쉽게 유입되지 못해 습식 식각에 의한 커팅이 용이하지 않은 문제가 있고, 180㎛을 초과하는 경우에는 적층 간격이 너무 넓어 복수 장의 원장 글라스(1)를 적층하게 되면, 적층된 원장 글라스(1)의 부피가 커서 이동이 용이하지 않고, 식각액 내로 담궈 습식 식각하기 용이하지 않은 문제가 있다. If the thickness of the spacer is too small, the gap between the laminated led glass 1 is too narrow, so the etchant cannot easily flow into the inside, so cutting by wet etching is not easy. If the stacking interval is too wide to stack a plurality of ledger glasses 1, the volume of the stacked ledger glass 1 is large, so it is not easy to move, and it is not easy to wet-etch by immersing it in an etchant.

상기 고분자 레진(2)은 아크릴레이트계 화합물 및 광중합 개시제를 포함할 수 있다. The polymer resin 2 may include an acrylate-based compound and a photopolymerization initiator.

상기 아크릴레이트계 화합물은 다관능 아크릴레이트, 단관능 아크릴레이트 및 이들의 혼합으로 이루어진 군으로부터 선택될 수 있다. The acrylate-based compound may be selected from the group consisting of polyfunctional acrylates, monofunctional acrylates, and mixtures thereof.

예를 들어, 아크릴레이트계 화합물은 1,3-부틸렌글리콜 디(메타)아크릴레이트, 1,4-부탄디올 디(메타)아크릴 레이트, 1,6-헥사디올 디(메타)아크릴레이트, 1,9-노난디올 디(메타)아크릴레이트, 네오펜틸글리콜 디(메타)아크릴레이트, 디시클로펜타닐 디(메타)아크릴레이트, 2-에틸-2-부틸-프로판디올 (메타)아크릴레이트, 네오펜틸글 리콜 변성 트리메틸올프로판 디(메타)아크릴레이트, 스테아린산 변성 펜타에리스톨 디아크릴레이트, 폴리프로필렌글리콜 디(메타)아크릴레이트, 2,2-비스(4-(메타)아크릴옥시디에톡시페닐)프로판, 2,2-비스(4-(메타)아크릴옥 시프로폭시페닐)프로판, 2,2-비스(4-(메타)아크릴옥시테트라에톡시페닐)프로판, 트리메틸올프로판 트리(메타)아크릴레이트, 트리스[(메타)아크릴옥시에틸]이소 시아누레이트, 디메틸올프로판 테트라(메타)아크릴레이트, 펜타에리스리톨 테트라(메타)아크릴레이트, 펜타에리스리톨에톡시 테트라(메타)아크릴레이트, 디펜 타에리스리톨 펜타(메타)아크릴레이트, 디펜타에리스리톨 헥사(메타)아크릴레이트, 메틸 (메타)아크릴레이트, 에틸 (메타)아크릴레이트, 프로필 (메 타)아크릴레이트, 부틸 (메타)아크릴레이트, 2-에틸헥실 (메타)아크릴레이트, 이소옥틸 (메타)아크릴레이트, 이소데실 (메타)아크릴레이트 및 라우릴 (메타)아크릴레이트일 수 있다.For example, the acrylate-based compound is 1,3-butylene glycol di(meth)acrylate, 1,4-butanediol di(meth)acrylate, 1,6-hexadiol di(meth)acrylate, 1, 9-nonanediol di(meth)acrylate, neopentylglycol di(meth)acrylate, dicyclopentanyl di(meth)acrylate, 2-ethyl-2-butyl-propanediol (meth)acrylate, neopentylglycol Recall modified trimethylolpropane di(meth)acrylate, stearic acid modified pentaerythritol diacrylate, polypropylene glycol di(meth)acrylate, 2,2-bis(4-(meth)acryloxydiethoxyphenyl)propane, 2,2-bis(4-(meth)acryloxypropoxyphenyl)propane, 2,2-bis(4-(meth)acryloxytetraethoxyphenyl)propane, trimethylolpropane tri(meth)acrylate, Tris[(meth)acryloxyethyl]isocyanurate, dimethylolpropane tetra(meth)acrylate, pentaerythritol tetra(meth)acrylate, pentaerythritol ethoxytetra(meth)acrylate, dipentaerythritol penta(meth)acrylate ) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, propyl (meth) acrylate, butyl (meth) acrylate, 2-ethylhexyl (meth) acrylate, isooctyl (meth)acrylate, isodecyl (meth)acrylate and lauryl (meth)acrylate.

바람직하게는, 상기 아크릴레이트계 화합물은 하기 화학식 1 및 화학식 2로 표시되는 화합물을 포함할 수 있다:Preferably, the acrylate-based compound may include a compound represented by the following Chemical Formulas 1 and 2:

[화학식 1][Formula 1]

Figure 112020045558317-pat00001
Figure 112020045558317-pat00001

[화학식 2][Formula 2]

Figure 112020045558317-pat00002
Figure 112020045558317-pat00002

상기 광중합 개시제는 가시광선이나 자외선의 활성 광선에 의해 증감시켜 수지 조성물의 광경화를 촉진하기 위해 서 배합하는 것이고, 공지의 각종 광중합 개시제가 사용 가능하다. 구체적으로는 벤조페논 또는 그 유도체; 벤 질 또는 그 유도체; 안트라퀴논 또는 그 유도체; 벤조인; 벤조인메틸에테르, 벤조인에틸에테르, 벤조인프로필에 테르, 벤조인이소부틸에테르, 벤질디메틸케탈 등의 벤조인 유도체; 디에톡시아세토페논, 4-t-부틸트리클로로아 세토페논 등의 아세토페논 유도체; 2-디메틸아미노에틸벤조에이트; p-디메틸아미노에틸벤조에이트; 디페닐디설 파이드; 티옥산톤 또는 그 유도체; 캠퍼-퀴논; 7,7-디메틸-2,3-디옥소비시클로[2.2.1]헵탄-1-카르복시산, 7,7- 디메틸-2,3-디옥소비시클로[2.2.1]헵탄-1-카르복시-2-브로모에틸 에스테르, 7,7-디메틸-2,3-디옥소비시클로 [2.2.1]헵탄-1-카르복시-2-메틸 에스테르, 7,7-디메틸-2,3-디옥소비시클로[2.2.1]헵탄-1-카르복시산 클로라이드 등의 캠퍼-퀴논 유도체; 2-메틸-1-[4-(메틸티오)페닐]-2-모르폴리노프로판-1-온, 2-벤질-2-디메틸아미노-1- (4-모르폴리노페닐)-부타논-1 등의 α-아미노알킬페논 유도체; 벤조일 디페닐 포스핀 옥사이드, 2,4,6-트리메틸 벤조일 디페닐 포스핀 옥사이드, 벤조일 디에톡시 포스핀 옥사이드, 2,4,6-트리메틸 벤조일 디메톡시 페닐 포스 핀 옥사이드, 2,4,6-트리메틸 벤조일 디에톡시 페닐 포스핀 옥사이드 등의 아실 포스핀 옥사이드 유도체 등을 들 수 있다. 광중합 개시제는 1종 또는 2종 이상을 조합하여 이용할 수 있다.The photopolymerization initiator is compounded to promote photocuring of the resin composition by sensitization by actinic light of visible light or ultraviolet light, and various known photopolymerization initiators can be used. Specifically, benzophenone or its derivative; benzyl or its derivatives; anthraquinone or a derivative thereof; benzoin; benzoin derivatives such as benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, benzoin propyl ether, benzoin isobutyl ether, and benzyl dimethyl ketal; acetophenone derivatives such as diethoxyacetophenone and 4-t-butyltrichloroacetophenone; 2-dimethylaminoethylbenzoate; p-dimethylaminoethylbenzoate; diphenyldisulfide; thioxanthone or a derivative thereof; camphor-quinone; 7,7-Dimethyl-2,3-dioxobicyclo[2.2.1]heptane-1-carboxylic acid, 7,7-dimethyl-2,3-dioxobicyclo[2.2.1]heptane-1-carboxy-2- Bromoethyl ester, 7,7-dimethyl-2,3-dioxobicyclo[2.2.1]heptane-1-carboxy-2-methyl ester, 7,7-dimethyl-2,3-dioxobicyclo[2.2. 1] camphor-quinone derivatives such as heptane-1-carboxylic acid chloride; 2-Methyl-1-[4-(methylthio)phenyl]-2-morpholinopropan-1-one, 2-benzyl-2-dimethylamino-1-(4-morpholinophenyl)-butanone- α-aminoalkylphenone derivatives such as 1; Benzoyl diphenyl phosphine oxide, 2,4,6-trimethyl benzoyl diphenyl phosphine oxide, benzoyl diethoxy phosphine oxide, 2,4,6-trimethyl benzoyl dimethoxy phenyl phosphine oxide, 2,4,6-trimethyl Acyl phosphine oxide derivatives, such as benzoyl diethoxy phenyl phosphine oxide, etc. are mentioned. A photoinitiator can be used 1 type or in combination of 2 or more type.

또한, 상기 고분자 레진(2)은 폴리에틸렌 입자, 폴리프로필렌 입자, 가교 폴리메타크릴산 메틸 입자, 가교 폴리스티렌 입자, 유리 입자, 실리카 입자, 알루미나 입자, 티탄 입자 및 이들의 혼합으로 이루어진 군으로부터 선택된 입상 입자를 추가로 포함하며, 상기 입상 입자는 평균 입경이 50 내지 150㎛일 수 있다.In addition, the polymer resin 2 is a granular particle selected from the group consisting of polyethylene particles, polypropylene particles, cross-linked polymethyl methacrylate particles, cross-linked polystyrene particles, glass particles, silica particles, alumina particles, titanium particles, and mixtures thereof. Further comprising, the granular particles may have an average particle diameter of 50 to 150㎛.

구체적으로, 상기 고분자 레진(2)은, 상기 화학식 1로 표시되는 화합물 100 중량부 대비, 상기 화학식 2로 표시되는 화합물을 1 내지 10 중량부, 광중합 개시제 0.1 내지 5 중량부 및 입상 입자 0.1 내지 5 중량부로 포함할 수 있다. 상기 화학식 2로 표시되는 화합물을 1 중량부 미만으로 포함하는 경우, 초기 접착성이 저하될 수 있고, 10 중량부를 초과하여 포함하는 경우, 온수에 침지 시 박리성이 저하되는 문제가 발생될 수 있다. Specifically, the polymer resin (2) contains 1 to 10 parts by weight of the compound represented by Formula 2, 0.1 to 5 parts by weight of the photopolymerization initiator, and 0.1 to 5 parts by weight of the granular particles, based on 100 parts by weight of the compound represented by Formula 1 It may be included in parts by weight. When the compound represented by Formula 2 is included in an amount of less than 1 part by weight, initial adhesion may be reduced, and if it is included in an amount exceeding 10 parts by weight, a problem may occur that the peelability is reduced when immersed in warm water. .

상기 광중합 개시제는 0.1 중량부 미만으로 포함되는 경우, UV 조사 시 충분히 경화되지 않는 문제가 발생할 수 있고, 5 중량부를 초과하는 경우 온수에 침지 시 박리성이 저하되는 문제가 발생될 수 있다. When the photopolymerization initiator is included in an amount of less than 0.1 parts by weight, a problem of not curing sufficiently upon UV irradiation may occur.

상기 입상 입자는 가공 정밀도의 향상, 즉 스페이서로 형성 시, 두께의 제어를 용이하게 하기 위해 포함되는 것으로, 상기 범위를 벗어나는 경우 접착 강도가 떨어지거나, 가공 정밀도를 낮출 수 있으며, 온수에 침지 시 박리성이 저하되는 문제가 발생할 수 있다.The granular particles are included to improve processing precision, that is, to facilitate control of the thickness when formed as a spacer, and when out of the above range, the adhesive strength may drop or the processing precision may be lowered, and peeling off when immersed in warm water There may be problems with performance degradation.

상기 1) 단계 및 2) 단계에서 고분자 레진(2)을 이용하여 스페이서를 형성하고 나면, 상기 스페이서의 위로 원장 글라스(1)를 적층할 수 있다. After the spacer is formed using the polymer resin 2 in steps 1) and 2), the ledger glass 1 may be laminated on the spacer.

이후, 상기 1) 내지 3) 단계를 반복하여 복수 장의 원장 글라스(1)를 적층할 수 있다. Thereafter, the steps 1) to 3) may be repeated to stack a plurality of ledger glasses 1 .

복수 장의 원장 글라스(1)는 스페이서에 의해 적층 간격을 유지하며 적층될 수 있다. 이후, 적층된 원장 글라스(1)는 식각액에 담궈 커팅한다. A plurality of led glass 1 may be stacked while maintaining a stacking interval by a spacer. Thereafter, the laminated ledger glass 1 is cut by immersing it in an etchant.

상기 원장 글라스(1)는, 식각액에 의해 습식 식각되기 전, 레이저 조사에 의해 절단 예정 라인(CL)을 개질한다. Before the led glass 1 is wet-etched by an etchant, the cut line CL is modified by laser irradiation.

이때, 레이저 조사에 의해 원장 글라스(1)의 개질 공정은, 절단 예정 라인(CL)을 따라 레이저를 조사하고, 1) 단계의 고분자 레진(2)을 도포하고, UV 조사하여 지지층을 형성할 수 있고, 상기 원장 글라스(1)는 고분자 레진(2)을 도포하고, UV 조사하여 지지층을 형성하고, 절단 예정 라인(CL)을 따라 레이저를 조사할 수 있다.At this time, in the modification process of the led glass 1 by laser irradiation, a laser is irradiated along the line to be cut CL, the polymer resin 2 of step 1) is applied, and a support layer can be formed by UV irradiation. In addition, the led glass 1 may be coated with a polymer resin 2 and irradiated with UV to form a support layer, and may be irradiated with a laser along the cut line CL.

구체적으로, 원장 글라스(1)의 적층 시, 절단 예정 라인(CL)을 따라 레이저를 조사하여, 개질시킨 후, 적층시킬 수도 있고, 개질되지 않은 원장 글라스(1)를 우선 적층하고나서, 레이저를 절단 예정 라인(CL)을 따라 조사하여 개질할 수도 있다. Specifically, when laminating the led glass 1, it may be laminated after irradiating a laser along the line to be cut CL, and then laminating, or laminating the unmodified led glass 1 first, and then It may be modified by irradiating along the line to be cut CL.

상기 레이저 조사 단계는, 상기 두 가지 방법을 모두 적용할 수 있으며, 선택적으로 적용되는 사항이므로, 한가지 방법에 의해 제한되지 않는다. In the laser irradiation step, both of the above two methods can be applied, and since it is a matter that is selectively applied, it is not limited by one method.

상기 적층된 원장 글라스(1)는 식각액에 의해 커팅된 후, 1차 세정하고, 글라스에 부착된 스페이서를 박리하고 세정할 수 있다. After the laminated led glass 1 is cut by an etchant, it may be first cleaned, and then the spacer attached to the glass may be peeled off and cleaned.

상기 7) 단계는 50 내지 90℃의 온수에 침지하여 스페이서를 팽윤시켜 제거하는 것으로, 온수에 침지에 의해 스페이서가 팽윤하면 쉽게 이탈될 수 있어, 제거가 매우 용이하다. Step 7) is to remove the spacer by swelling it by immersion in hot water of 50 to 90 ° C. When the spacer swells by immersion in hot water, it can be easily separated, so the removal is very easy.

또한, 상기 스페이서는 온수에 침지하게 되면 팽윤하여 글라스에서 쉽게 이탈되고, 스페이서가 부착된 위치에 흔적이 거의 남지 않는다. In addition, when the spacer is immersed in warm water, it swells and is easily detached from the glass, leaving almost no trace at the position where the spacer is attached.

다만, 일부 스페이서의 부착에 의해 존재하는 흔적을 제거하기 위해, 2차 세정 공정을 진행한다. However, in order to remove traces existing due to the attachment of some spacers, a secondary cleaning process is performed.

이후 가공된 글라스의 가공 및 후공정 작업을 진행하여 박막 글라스로 제조한다. Thereafter, processing and post-processing of the processed glass are performed to manufacture thin glass.

세정 작업, 가공 및 후공정 작업은 해당 분야의 일반적인 공정을 적용하는 것으로, 통상의 기술자에게 자명한 공정에 의해 진행될 수 있다.The cleaning operation, processing, and post-processing operation are to apply a general process in the relevant field, and may be performed by a process obvious to those skilled in the art.

본 발명의 식각액은 구체적으로 이플루오르화 암모늄, 황산, 질산, 물 및 첨가제를 포함할 수 있다. The etching solution of the present invention may specifically include ammonium difluoride, sulfuric acid, nitric acid, water and additives.

상기 첨가제는 식각 성능을 향상시키기 위해 사용되는 계면활성제로, 상기 계면활성제는 표면장력을 저하시켜 식각의 균일성을 증가시키는 역할을 한다.The additive is a surfactant used to improve etching performance, and the surfactant serves to decrease surface tension to increase etching uniformity.

상기 계면활성제는 하기 화학식 1로 표시되는 화합물일 수 있다:The surfactant may be a compound represented by the following formula (1):

[화학식 1][Formula 1]

Figure 112020045558317-pat00003
Figure 112020045558317-pat00003

여기서, here,

R1은 4, 8, 12-트리프로필펜타데칸(4, 8, 12-triproplypentadecane)R 1 is 4, 8, 12-tripropylpentadecane (4, 8, 12-triproplypentadecane)

A는 트리에탄올아민이다.A is triethanolamine.

구체적으로 본 발명의 식각액은, 이플루오르화 암모늄 0.5 내지 0.9 중량%, 황산 3 내지 7 중량%, 질산 1 내지 3 중량%, 물 80 내지 90 중량% 및 첨가제 0.01 내지 0.1 중량%로 포함할 수 있다. Specifically, the etchant of the present invention may include 0.5 to 0.9% by weight of ammonium difluoride, 3 to 7% by weight of sulfuric acid, 1 to 3% by weight of nitric acid, 80 to 90% by weight of water, and 0.01 to 0.1% by weight of additives. .

상기 범위 내에서 식각액으로 포함하는 경우, 레이저 조사된 원장 글라스(1)(300)의 습식 식각 시, 매끈한 커팅 라인으로의 생산을 가능하게 한다.When included as an etchant within the above range, it enables the production of a smooth cutting line during wet etching of the laser-irradiated led glass (1) (300).

식각액의etchant 제조 Produce

이플루오르화 암모늄 0.9 중량%, 황산 6 중량%, 질산 3 중량%, 물 90 중량% 및 첨가제 0.1 중량%를 혼합하여 본 발명의 식각액을 제조하였다. An etchant of the present invention was prepared by mixing 0.9% by weight of ammonium difluoride, 6% by weight of sulfuric acid, 3% by weight of nitric acid, 90% by weight of water and 0.1% by weight of an additive.

상기 첨가제는, 하기 화학식 1로 표시되는 계면활성제이다:The additive is a surfactant represented by the following formula (1):

[화학식 1][Formula 1]

Figure 112020045558317-pat00004
Figure 112020045558317-pat00004

여기서, here,

R1은 4, 8, 12-트리프로필펜타데칸(4, 8, 12-triproplypentadecane)R 1 is 4, 8, 12-tripropylpentadecane (4, 8, 12-triproplypentadecane)

A는 트리에탄올아민이다.A is triethanolamine.

비교예 1Comparative Example 1

상기 첨가제를 포함하지 않고, 물을 추가로 첨가하여 식각액으로 제조하였다.An etchant was prepared by adding water without including the additive.

실험예Experimental example 1 One

글라스의 습식 가공Wet processing of glass

원장 글라스(1)를 절단 예정 라인(CL)을 따라 레이저 조사한 후, 본 발명의 카세트 내 본체부에 위치시키고, 덮개부로 고정하였다. 이후 상기 식각액을 이용하여 습식 식각 공정을 진행하고, 정제수로 3 내지 5회 세정한 후, 가공된 글라스의 가공 면을 확인하여 커팅 완성도를 평가하였다. After irradiating the led glass (1) with a laser along the line to be cut (CL), it was placed in the main body of the cassette of the present invention, and fixed with the cover. Thereafter, a wet etching process was performed using the etchant, and after washing 3 to 5 times with purified water, the processing surface of the processed glass was checked to evaluate the cutting completion.

실험 결과 본 발명의 식각액을 사용하여 습식 식각한 경우, 레이저 조사 후, 식각액을 통해, 매끈하게 커팅된 것을 확인할 수 있었으나, 비교예 1의 식각액을 사용하는 경우, 가공 면에서 매끄럽지 않은 부분을 확인하였다. As a result of the experiment, when wet etching was performed using the etchant of the present invention, it was confirmed that the etchant was cut smoothly through the etchant after laser irradiation. .

상기 실험을 통해, 식각액의 종류에 따라, 레이저 조사 후 가공 면에서 품질의 차이가 나타남을 확인하였다.Through the above experiment, it was confirmed that, depending on the type of etchant, there was a difference in quality in terms of processing after laser irradiation.

고분자 레진(2)의 제조 Preparation of polymer resin (2)

하기 화학식 1로 표시되는 화합물 100 중량부에 대해, 하기 화학식 2로 표시되는 화합물 10 중량부, 광중합 개시제 3 중량부 및 입상 입자 1 중량부를 혼합하여 고분자 레진(2)을 제조하였다:With respect to 100 parts by weight of the compound represented by Formula 1, 10 parts by weight of the compound represented by Formula 2, 3 parts by weight of a photopolymerization initiator, and 1 part by weight of granular particles were mixed to prepare a polymer resin (2):

[화학식 1][Formula 1]

Figure 112020045558317-pat00005
Figure 112020045558317-pat00005

[화학식 2][Formula 2]

Figure 112020045558317-pat00006
Figure 112020045558317-pat00006

상기 제조된 고분자 레진(2)을 원장 글라스(1)의 일면에 도포하고, UV 조사하여 스페이서를 제조하였다. 이후, 절단 예정 라인(CL)을 따라 레이저를 조사하였다. The prepared polymer resin (2) was applied to one surface of the led glass (1), and UV irradiation was performed to prepare a spacer. Thereafter, the laser was irradiated along the cut line CL.

상기 스페이서의 위로 원장 글라스(1)를 위치시킨 후, 절단 예정 라인(CL)을 따라 레이저를 조사하였다. After positioning the ledger glass 1 on the spacer, the laser was irradiated along the cut line CL.

상기 단계를 반복하여 복수 장의 원장 글라스(1)를 적층시키고, 레이저를 조사하였다. By repeating the above steps, a plurality of led glass 1 was laminated, and a laser was irradiated.

적층된 원장 글라스(1)는 상기 식각액에 담궈 습식 식각 공정을 진행하였다. The laminated ledger glass 1 was immersed in the etchant and subjected to a wet etching process.

비교예comparative example 2 2

상기 고분자 레진(2)의 제조 시 입상 입자를 포함하지 않은 경우를 제외하고 본 발명의 고분자 레진(2)과 동일하게 제조하고, 원장 글라스(1)에 스페이서를 형성하였다. The polymer resin (2) was prepared in the same manner as the polymer resin (2) of the present invention, except that granular particles were not included in the preparation of the polymer resin (2), and a spacer was formed on the led glass (1).

비교예comparative example 3 3

상기 고분자 레진(2)의 제조 시 화학식 2로 표시되는 화합물을 포함하지 않은 경우를 제외하고 본 발명의 고분자 레진(2)과 동일하게 제조하고, 원장 글라스(1)에 스페이서를 형성하였다.The polymer resin (2) was prepared in the same manner as the polymer resin (2) of the present invention, except that the compound represented by Formula 2 was not included in the preparation of the polymer resin (2), and a spacer was formed on the ledger glass (1).

실험예Experimental example 2 2

적층된laminated 글라스의 습식 가공 Wet processing of glass

상기 복수장 적층된 글라스에 대한 습식 식각 공정 후, 세정 공정을 진행하고 글라스에 형성된 스페이서를 제거하기 위해 70 내지 80℃의 온수에 글라스를 10분 동안 침지시킨 후, 제거 용이성을 확인하였다. After the wet etching process for the multi-layered glass, the cleaning process was performed and the glass was immersed in hot water at 70 to 80° C. for 10 minutes to remove the spacers formed on the glass, and then the ease of removal was confirmed.

스페이서를 제거하고, 정제수를 사용하여 세정 공정을 진행한 후, 글라스 상에 스페이서 흔적의 유무를 확인하였다. After removing the spacer and performing a cleaning process using purified water, the presence or absence of spacer traces on the glass was checked.

비교예 3의 경우, 온수에 침지시켜 스페이서를 제거하는 과정에서 본 발명의 스페이서와 비교하여 제거가 용이하지 않거나, 제거 후 세정 공정을 진행한 후에도 스페이서의 흔적의 존재하는 것을 확인하였다. In the case of Comparative Example 3, in the process of removing the spacer by immersion in warm water, it was confirmed that the removal was not easy compared to the spacer of the present invention, or the presence of traces of the spacer even after the cleaning process after removal.

또한, 비교예 2의 경우에도 비교예 3과 비교해서, 스페이서의 제거가 용이하고, 제거 후 흔적 또한 적게 존재하였으나, 스페이서를 형성하기 위해 글라스에 고분자 레진(2)을 도포하는 과정에서 가공이 용이하지 않아 일정한 두께로 형성되지 않았다.In addition, in Comparative Example 2, compared to Comparative Example 3, the removal of the spacer was easy, and there were few traces after removal, but it was easy to process in the process of applying the polymer resin 2 to the glass to form the spacer. It was not formed to a uniform thickness.

이상에서 본 발명의 바람직한 실시예에 대하여 상세하게 설명하였지만 본 발명의 권리범위는 이에 한정되는 것은 아니고 다음의 청구범위에서 정의하고 있는 본 발명의 기본 개념을 이용한 당업자의 여러 변형 및 개량 형태 또한 본 발명의 권리범위에 속하는 것이다.Although the preferred embodiment of the present invention has been described in detail above, the scope of the present invention is not limited thereto, and various modifications and improvements by those skilled in the art using the basic concept of the present invention as defined in the following claims are also provided. is within the scope of the

1. 원장 글라스
2. 고분자 레진
CL. 절단 예정 라인
1. Ledger Glass
2. Polymer resin
CL. line to be cut

Claims (11)

1) 원장 글라스(1)의 일면에 고분자 레진(2)을 도포하는 단계;
2) 상기 고분자 레진(2)에 UV 조사하여 스페이서를 형성하는 단계;
3) 지지층 위로 원장 글라스(1)를 적층하는 단계;
4) 상기 1 내지 3) 단계를 반복하여 복수의 원장 글라스(1)를 스페이서 위로 적층하는 단계;
5) 상기 적층된 원장 글라스(1)를 식각액에 담궈 커팅하는 단계;
6) 커팅된 글라스를 세정하는 단계; 및
7) 글라스에 부착된 스페이서를 박리하고, 세정하는 단계를 포함하고,
상기 5) 단계는, 원장 글라스(1)는 절단 예정 라인(CL)을 따라 레이저 조사되고 식각액에 담궈 습식 식각하는 것인 박막 글라스의 식각 커팅 방법.
1) applying a polymer resin (2) to one surface of the ledger glass (1);
2) forming a spacer by irradiating the polymer resin (2) with UV;
3) laminating the ledger glass (1) on the support layer;
4) repeating steps 1 to 3) to stack a plurality of ledger glasses 1 on the spacer;
5) cutting the laminated ledger glass (1) by immersing it in an etchant;
6) cleaning the cut glass; and
7) peeling the spacer attached to the glass and cleaning,
In step 5), the led glass (1) is laser-irradiated along the line to be cut (CL) and immersed in an etchant to wet-etch the thin glass.
제1항에 있어서,
상기 원장 글라스(1)는 절단 예정 라인(CL)을 따라 레이저를 조사하고, 1) 단계의 고분자 레진(2)을 도포하고, UV 조사하여 지지층을 형성하는 것인 박막 글라스의 식각 커팅 방법.
According to claim 1,
The led glass (1) is irradiated with a laser along the line to be cut (CL), the polymer resin (2) of step 1) is applied, and a support layer is formed by UV irradiation.
제1항에 있어서,
상기 원장 글라스(1)는 고분자 레진(2)을 도포하고, UV 조사하여 지지층을 형성하고,
절단 예정 라인(CL)을 따라 레이저가 조사되는 것을 특징으로 하는 박막 글라스의 식각 커팅 방법.
According to claim 1,
The led glass (1) is coated with a polymer resin (2), UV irradiated to form a support layer,
Etching cutting method of thin glass, characterized in that the laser is irradiated along the line to be cut (CL).
제1항에 있어서,
상기 원장 글라스(1)는 절단 예정 라인(CL)을 따라 레이저 조사되며,
상기 레이저 조사된 원장 글라스(1)의 절단 예정 라인(CL)은 글라스가 개질되어 미세 기공이 형성되며,
상기 미세 기공으로 식각액이 침투하여 원장 글라스(1)가 절단되는 것인 박막 글라스의 식각 커팅 방법.
According to claim 1,
The ledger glass 1 is laser irradiated along the cut line CL,
The cutting line CL of the laser-irradiated led glass 1 is glass modified to form micropores,
Etching cutting method of thin glass that the etchant penetrates into the micropores to cut the led glass (1).
제1항에 있어서,
상기 스페이서는 원장 글라스(1) 사이에 위치하여 적층 간격을 형성하는 것으로, 상기 스페이서의 두께는 10 내지 180㎛인 박막 글라스의 식각 커팅 방법.
According to claim 1,
The spacer is positioned between the mother glass 1 to form a stacking gap, and the thickness of the spacer is 10 to 180 μm.
제1항에 있어서,
상기 스페이서는 원장 글라스(1)의 일면에 복수개로 형성되는 것인 박막 글라스의 식각 커팅 방법.
According to claim 1,
The etch-cutting method of the thin-film glass that the spacer is formed in plurality on one surface of the mother glass (1).
제1항에 있어서,
상기 고분자 레진(2)은 아크릴레이트계 화합물 및 광중합 개시제를 포함하는 박막 글라스의 식각 커팅 방법.
According to claim 1,
The polymer resin (2) is an etch-cutting method of thin-film glass including an acrylate-based compound and a photopolymerization initiator.
제7항에 있어서,
상기 고분자 레진(2)은 폴리에틸렌 입자, 폴리프로필렌 입자, 가교 폴리메타크릴산 메틸 입자, 가교 폴리스티렌 입자, 유리 입자, 실리카 입자, 알루미나 입자, 티탄 입자 및 이들의 혼합으로 이루어진 군으로부터 선택된 입상 입자를 추가로 포함하며,
상기 입상 입자는 평균 입경이 50 내지 150㎛인 박막 글라스의 식각 커팅 방법.
8. The method of claim 7,
The polymer resin 2 is added with granular particles selected from the group consisting of polyethylene particles, polypropylene particles, cross-linked polymethyl methacrylate particles, cross-linked polystyrene particles, glass particles, silica particles, alumina particles, titanium particles, and mixtures thereof. includes as
The granular particle has an average particle diameter of 50 to 150㎛ etching cutting method of thin glass.
제1항에 있어서,
상기 7) 단계는 50 내지 90℃의 온수에 침지하여 스페이서를 팽윤시켜 제거하는 것인 박막 글라스의 식각 커팅 방법.
According to claim 1,
In step 7), the etch cutting method of thin glass is removed by swelling the spacer by immersion in hot water of 50 to 90 ℃.
제1 항에 있어서,
상기 고분자 레진(2)은 상기 원장 글라스(1)의 일면에 설정된 패턴 경로에 따라 패터닝(Patterning)되되,
상기 고분자 레진(2)은 원장 글라스(1)의 절단 예정 라인(CL)을 피해 도포되는 것을 특징으로 하는 박막 글라스의 식각 커팅 방법.
According to claim 1,
The polymer resin 2 is patterned according to the pattern path set on one surface of the ledger glass 1,
The polymer resin (2) is an etching cutting method of thin glass, characterized in that applied avoiding the cut line (CL) of the led glass (1).
제1항 내지 제10항 중 어느 한 항에 따른 식각 커팅 방법에 의해 제조된 박막 글라스.A thin glass made by the etching cutting method according to any one of claims 1 to 10.
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