KR102303358B1 - Chemical supply apparatus - Google Patents

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봉은상
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주식회사 케이씨
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Abstract

The present invention is to provide a chemical supply device capable of preventing a gas from flowing into a filter for filtering a chemical. The chemical supply device of the present invention for implementing this comprises: a chemical supply line through which a chemical supplied from a chemical supply source is transferred, wherein the chemical supply line has a filter for filtering the chemical; a gas detecting unit for detecting that a gas is inputted through the chemical supply line; and a control unit controlling the chemical supply line to be blocked when the gas detecting unit detects the gas.

Description

케미컬 공급장치{Chemical supply apparatus}Chemical supply apparatus

본 발명은 케미컬 공급장치 및 케미컬 공급방법에 관한 것으로, 보다 상세하게는 케미컬을 공급하는 공급라인 상에 설치된 필터가 건조되는 것을 방지할 수 있는 케미컬 공급장치 및 케미컬 공급방법에 관한 것이다.The present invention relates to a chemical supply apparatus and a chemical supply method, and more particularly, to a chemical supply apparatus and a chemical supply method capable of preventing a filter installed on a supply line for supplying chemicals from drying out.

일반적으로 반도체 제조, 평판 디스플레이 제조, 솔라셀(Solar Cell) 제조시에는 다양한 종류의 케미컬을 사용하고 있고, 이러한 케미컬 사용시 고순도를 유지한 채 공급되도록 하기 위해 케미컬 공급라인 상에 필터가 구비되어 있다.In general, various types of chemicals are used in semiconductor manufacturing, flat panel display manufacturing, and solar cell manufacturing, and a filter is provided on the chemical supply line in order to supply these chemicals while maintaining high purity.

도 1은 종래기술에 의한 케미컬 공급장치를 보여주는 도면이다.1 is a view showing a chemical supply device according to the prior art.

케미컬 공급장치는, 케미컬을 저장하는 케미컬 저장탱크(10), 상기 케미컬 저장탱크(10)에 연결된 기체 공급관(12), 상기 기체 공급관(12) 상에 구비되어 기체의 공급을 단속하기 위한 기체 공급밸브(11), 상기 케미컬 저장탱크(10)에 연결되어 케미컬을 공급하기 위한 케미컬 공급라인(14), 상기 케미컬 공급라인(14) 상에 구비되어 케미컬의 공급을 단속하기 위한 케미컬 공급밸브(13), 상기 케미컬 공급라인(14)을 통해 공급되는 케미컬을 여과하기 위한 필터(20)를 포함한다.The chemical supply device is provided on a chemical storage tank 10 for storing chemicals, a gas supply pipe 12 connected to the chemical storage tank 10, and the gas supply pipe 12 to control the supply of gas. A valve 11, a chemical supply line 14 connected to the chemical storage tank 10 to supply chemicals, and a chemical supply valve 13 provided on the chemical supply line 14 to control the supply of chemicals ), and a filter 20 for filtering the chemical supplied through the chemical supply line (14).

상기 케미컬을 케미컬 소요처(30)로 공급하는 경우 기체 공급밸브(11)를 개방하여 상기 케미컬 저장탱크(10)로 기체를 공급한다. 이와 동시에 케미컬 공급밸브(13)를 개방한다. 여기서 상기 기체는 질소로 이루어질 수 있으며, 질소 이외에도 다른 불활성 기체가 사용될 수 있다.When the chemical is supplied to the chemical demand 30 , the gas supply valve 11 is opened to supply the gas to the chemical storage tank 10 . At the same time, the chemical supply valve 13 is opened. Here, the gas may be made of nitrogen, and other inert gases other than nitrogen may be used.

상기 기체의 공급압력에 의해 상기 케미컬 저장탱크(10) 내부에 저장되어 있던 케미컬이 케미컬 공급라인(14)를 통해 필터(20)로 공급되고, 필터(20)에서 여과가 이루어진 케미컬은 케미컬 소요처(30)로 공급된다.The chemical stored in the chemical storage tank 10 by the supply pressure of the gas is supplied to the filter 20 through the chemical supply line 14, and the chemical filtered in the filter 20 is a chemical destination (30) is supplied.

이와 같은 케미컬 공급과정이 진행되다가 상기 케미컬 저장탱크(10)에 저장되어 있던 케미컬이 모두 필터(20)로 공급된 후에는 케미컬 저장탱크(10) 내부의 질소가 케미컬 공급라인(14)을 통해 필터(20)까지 공급된다.After this chemical supply process is in progress and all the chemicals stored in the chemical storage tank 10 are supplied to the filter 20, the nitrogen inside the chemical storage tank 10 is filtered through the chemical supply line 14. (20) is supplied.

그 후 케미컬의 공급이 종료되면 케미컬 공급밸브(13)를 폐쇄하고, 차후 케미컬 공급이 이루어질 때까지 케미컬 공급라인(14)과 필터(20) 내부는 기체로 채워진 상태가 된다. After that, when the chemical supply is finished, the chemical supply valve 13 is closed, and the chemical supply line 14 and the inside of the filter 20 are filled with gas until the subsequent chemical supply is made.

이 경우 상기 필터(20)에 기체가 공급된 상태에서 장시간 경과하게 되면, 상기 필터(20)의 건조가 이루어져 필터(20)의 성능이 저하되거나 여과 불능 상태가 발생할 수 있다.In this case, if a long period of time elapses while the gas is supplied to the filter 20 , the filter 20 is dried and thus the performance of the filter 20 may be deteriorated or a filtration impossible state may occur.

본 발명은 상술한 제반 문제점을 해결하기 위해 안출된 것으로, 케미컬을 여과하기 위한 필터에 기체가 유입되는 것을 방지할 수 있는 케미컬 공급장치 및 케미컬 공급방법을 제공하고자 함에 그 목적이 있다.The present invention has been devised to solve the above-mentioned problems, and an object of the present invention is to provide a chemical supply device and a chemical supply method that can prevent gas from flowing into a filter for filtering chemicals.

상기의 목적을 달성하기 위한 본 발명의 케미컬 공급장치는, 케미컬 공급원으로부터 공급된 케미컬이 이송되고, 상기 케미컬을 여과하기 위한 필터가 구비된 케미컬 공급라인; 상기 케미컬 공급라인을 통해 기체가 유입되는 것을 감지하기 위한 기체감지부; 상기 기체감지부에서 상기 기체를 감지한 경우 상기 케미컬 공급라인이 차단되도록 제어하는 제어부;를 포함한다.The chemical supply apparatus of the present invention for achieving the above object includes a chemical supply line through which a chemical supplied from a chemical supply source is transferred, and a filter for filtering the chemical is provided; a gas sensing unit for detecting that gas is introduced through the chemical supply line; and a control unit controlling the chemical supply line to be blocked when the gas sensing unit detects the gas.

상기 케미컬 공급원의 케미컬에 가해진 질소의 압력에 의해 상기 케미컬의 이송이 이루어지는 경우 상기 기체감지부는 상기 질소를 감지하기 위한 질소감지센서로 이루어질수 있다.When the chemical is transferred by the pressure of nitrogen applied to the chemical of the chemical source, the gas detecting unit may be a nitrogen detecting sensor for detecting the nitrogen.

상기 필터의 전단에 연결된 상기 케미컬 공급라인에서 분기된 드레인라인이 구비되고; 상기 기체감지부는 상기 드레인라인 상에 구비될 수 있다.a drain line branched from the chemical supply line connected to the front end of the filter is provided; The gas sensing unit may be provided on the drain line.

상기 드레인라인 상에는 상기 케미컬이 공급되는 경우 개방되는 드레인밸브가 구비될 수 있다.A drain valve that is opened when the chemical is supplied may be provided on the drain line.

상기 드레인밸브는 상기 필터보다 높은 위치에 구비될 수 있다.The drain valve may be provided at a higher position than the filter.

상기 기체감지부는 상기 필터보다 높은 위치에 구비될 수 있다.The gas sensing unit may be provided at a higher position than the filter.

상기 케미컬 공급라인은, 상기 케미컬 공급원에 연결되는 제1 케미컬 공급라인; 상기 제1케미컬 공급라인에 연결되되, 상기 제1 케미컬 공급라인보다 낮은 위치가 되도록 연결되는 제2 케미컬 공급라인; 상기 제2케미컬 공급라인보다 높은 위치가 되도록 상기 제2 케미컬 공급라인에 연결된 제3 케미컬 공급라인으로 이루어질 수 있다.The chemical supply line may include a first chemical supply line connected to the chemical supply source; a second chemical supply line connected to the first chemical supply line and connected to a lower position than the first chemical supply line; It may be formed of a third chemical supply line connected to the second chemical supply line so as to have a higher position than the second chemical supply line.

상기 필터의 전단에 연결된 상기 케미컬 공급라인에서 분기된 드레인라인이 구비되고; 상기 드레인라인은, 상기 제1 케미컬 공급라인에서 분기된 제1 드레인라인과, 상기 제2 케미컬 공급라인에서 분기된 제2 드레인라인으로 이루어질 수 있다.a drain line branched from the chemical supply line connected to the front end of the filter is provided; The drain line may include a first drain line branched from the first chemical supply line and a second drain line branched from the second chemical supply line.

상기 드레인라인은, 상기 제1 드레인라인과 제2 드레인라인이 합쳐진 제3 드레인라인을 포함할 수 있다.The drain line may include a third drain line in which the first drain line and the second drain line are combined.

상기 기체감지부는 상기 제3 드레인라인 상에 구비될 수 있다.The gas sensing unit may be provided on the third drain line.

상기 케미컬 공급라인 상에는 상기 케미컬 공급원으로부터의 케미컬 공급을 단속하기 위한 케미컬 공급밸브가 구비되고; 상기 제어부는 상기 케미컬 공급밸브를 제어하여 상기 케미컬의 공급이 차단되도록 제어하는 것일 수 있다.a chemical supply valve is provided on the chemical supply line to control chemical supply from the chemical supply source; The control unit may control the chemical supply valve to control the supply of the chemical to be blocked.

상기 케미컬 공급라인 상에는 케미컬과 상기 기체를 분리하기 위한 내부공간이 형성된 세퍼레이터가 구비되고; 상기 기체감지부는 상기 세퍼레이터의 상부에 연결된 드레인라인 상에 구비될 수 있다.a separator having an internal space for separating the chemical and the gas is provided on the chemical supply line; The gas sensing unit may be provided on a drain line connected to an upper portion of the separator.

상기 필터보다 높은 위치에 구비된 상기 드레인라인 상에 상기 기체감지부가 구비될 수 있다.The gas sensing unit may be provided on the drain line provided at a position higher than the filter.

본 발명의 케미컬 공급방법은, 케미컬 공급원으로부터 공급된 케미컬이 케미컬 공급라인 상에 구비된 필터에 의해 여과가 이루어지는 단계; 상기 케미컬 공급라인을 통해 기체의 유입이 기체감지부에서 감지되는 단계; 상기 기체감지부에서 상기 기체를 감지한 경우 상기 케미컬 공급라인이 차단되도록 제어하는 단계를 포함한다.The chemical supply method of the present invention comprises the steps of: filtration of chemicals supplied from a chemical supply source by a filter provided on a chemical supply line; detecting the inflow of gas through the chemical supply line by a gas sensing unit; and controlling the chemical supply line to be blocked when the gas sensing unit detects the gas.

본 발명에 의하면, 케미컬을 여과하기 위한 필터에 기체가 유입되는 것을 방지하여 필터 성능이 저하되는 것을 방지할 수 있다.According to the present invention, it is possible to prevent gas from flowing into the filter for filtering chemicals, thereby preventing the filter performance from being deteriorated.

또한, 간단한 구성에 의해 필터에 기체 유입을 방지할 수 있어 케미컬 공급장치의 제조 비용을 절감할 수 있다.In addition, it is possible to prevent gas inflow into the filter by a simple configuration, thereby reducing the manufacturing cost of the chemical supply device.

도 1은 종래기술에 의한 케미컬 공급장치의 구성을 보여주는 도면
도 2는 본 발명에 의한 케미컬 공급장치의 구성을 보여주는 도면
도 3은 본 발명에 의한 케미컬 공급장치의 배관 구조를 입체적으로 보여주는 도면
도 4는 본 발명의 다른 실시예에 의한 케미컬 공급장치를 보여주는 도면1 is a view showing the configuration of a chemical supply device according to the prior art
2 is a view showing the configuration of a chemical supply device according to the present invention
3 is a view three-dimensionally showing the piping structure of the chemical supply device according to the present invention;
Figure 4 is a view showing a chemical supply device according to another embodiment of the present invention

이하 본 발명에 대하여 첨부한 도면을 참조하여 상세히 설명한다.Hereinafter, the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

도 2와 도 3을 참조하여 본 발명에 의한 케미컬 공급장치에 대해 설명한다.A chemical supply device according to the present invention will be described with reference to FIGS. 2 and 3 .

본 발명의 케미컬 공급장치는, 케미컬 공급원(100)으로부터 공급된 케미컬을 여과하기 위한 적어도 하나의 필터(120)가 구비된 케미컬 공급라인(114-1,114-2,114-3,114-4), 상기 케미컬 공급라인(114-1,114-2,114-3,114-4)을 통해 기체가 유입되는 것을 감지하기 위한 기체감지부(116), 상기 기체감지부(116)에서 상기 기체를 감지한 경우 상기 케미컬 공급라인(114-1,114-2,114-3)이 차단되도록 제어하는 제어부(미도시)를 포함한다.The chemical supply device of the present invention includes a chemical supply line (114-1, 114-2, 114-3, 114-4) equipped with at least one filter 120 for filtering the chemical supplied from the chemical supply source 100, the chemical supply line A gas sensing unit 116 for detecting that gas is introduced through (114-1, 114-2, 114-3, 114-4), and the chemical supply lines 114-1 and 114 when the gas is detected by the gas sensing unit 116 -2,114-3) includes a control unit (not shown) for controlling the block.

상기 케미컬 공급원(100)은 케미컬을 저장하는 케미컬 저장탱크로 이루어질 수 있다. 상기 케미컬의 공급이 탱크로리 차량에 의해 이루어지는 경우 상기 케미컬 공급원(100)은 탱크로리 차량에 탑재된 케미컬 저장탱크로 이루어질 수 있다.The chemical supply source 100 may be formed of a chemical storage tank for storing chemicals. When the supply of the chemical is made by a tank lorry vehicle, the chemical supply 100 may be formed of a chemical storage tank mounted on the tank lorry vehicle.

상기 케미컬 공급원(100)에는 케미컬의 공급을 위한 압력을 형성하기 위해 기체가 공급될 수 있다. 상기 기체를 상기 케미컬 공급원(100)에 공급하기 위해 기체 공급밸브(111)와 상기 케미컬 공급원(100)에 연결된 기체 공급관(112)이 구비되어 있다. 상기 케미컬 공급원(100)에 저장된 케미컬을 필터(20)를 거쳐 케미컬 소요처(130)로 공급하고자 하는 경우에 상기 기체 공급밸브(111)를 개방하여 고압의 기체가 상기 케미컬 공급원(100) 내부로 유입되도록 한다. 케미컬 공급이 완료되면 상기 기체 공급밸브(111)를 닫아 기체의 공급이 중단되도록 한다.A gas may be supplied to the chemical source 100 to form a pressure for supplying the chemical. In order to supply the gas to the chemical supply source 100 , a gas supply valve 111 and a gas supply pipe 112 connected to the chemical supply source 100 are provided. When the chemical stored in the chemical supply source 100 is to be supplied to the chemical source 130 through the filter 20, the gas supply valve 111 is opened to allow the high-pressure gas into the chemical supply source 100. to let in When the chemical supply is completed, the gas supply valve 111 is closed to stop the supply of the gas.

상기 필터(20)는 케미컬을 여과하기 위한 것으로서, 복수개가 병렬로 구비될 수 있다.The filter 20 is for filtering chemicals, and a plurality of filters may be provided in parallel.

상기 필터(20)와 케미컬 공급원(100) 사이에 상기 케미컬 공급라인(114-1,114-2,114-3)이 연결되어 있다.The chemical supply lines 114 - 1 , 114 - 2 and 114 - 3 are connected between the filter 20 and the chemical supply 100 .

상기 케미컬 공급라인(114-1,114-2,114-3)은, 상기 케미컬 공급원(100)에 연결되는 제1 케미컬 공급라인(114-1), 상기 제1케미컬 공급라인(114-1)에 연결된 제2 케미컬 공급라인(114-2), 상기 제2 케미컬 공급라인(114-2)과 상기 필터(20) 사이를 연결하는 제3 케미컬 공급라인(114-3)으로 이루어진다.The chemical supply lines 114-1, 114-2, and 114-3 are a first chemical supply line 114-1 connected to the chemical supply source 100, and a second chemical supply line 114-1 connected to the first chemical supply line 114-1. It consists of a chemical supply line 114 - 2 , and a third chemical supply line 114 - 3 connecting the second chemical supply line 114 - 2 and the filter 20 .

상기 제3 케미컬 공급라인(114-3)은 상기 필터(20)의 개수에 대응하여 상기 제2 케미컬 공급라인(114-2)으로부터 분기되어 복수로 이루어질 수 있다.The third chemical supply line 114 - 3 may be branched from the second chemical supply line 114 - 2 to correspond to the number of the filters 20 .

상기 제1 케미컬 공급라인(114-1) 상에는 케미컬의 공급을 단속하기 위한 케미컬 공급밸브(113)가 구비되어 있다. 상기 케미컬 공급원(100)에 저장된 케미컬을 필터(20)를 거쳐 케미컬 소요처(130)로 공급하고자 하는 경우 제어부는 상기 케미컬 공급밸브(113)를 개방한다.A chemical supply valve 113 for controlling the supply of chemicals is provided on the first chemical supply line 114-1. When the chemical stored in the chemical supply source 100 is to be supplied to the chemical source 130 through the filter 20 , the control unit opens the chemical supply valve 113 .

상기 제2 케미컬 공급라인(114-2)은 상기 제1 케미컬 공급라인(114-1)의 단부에 연결되고, 상기 제1 케미컬 공급라인(114-1)보다 낮은 위치가 되도록 구비될 수 있다. 이와 같이 구성함으로써, 제1 케미컬 공급라인(114-1)을 통해 기체가 유입되는 경우 액체인 케미컬이 제2 케미컬 공급라인(114-2)으로 먼저 유입되므로, 케미컬이 제2 케미컬 공급라인(114-2)에 채워져 있는 상태가 되어 기체는 제2 케미컬 공급라인(114-2)을 통해 필터(20)로 유입되는 것이 방지된다.The second chemical supply line 114 - 2 is connected to an end of the first chemical supply line 114 - 1 , and may be provided at a lower position than the first chemical supply line 114 - 1 . With this configuration, when the gas flows through the first chemical supply line 114-1, the liquid chemical is first introduced into the second chemical supply line 114-2, so that the chemical flows into the second chemical supply line 114 -2), the gas is prevented from flowing into the filter 20 through the second chemical supply line 114-2.

따라서 상기 제2케미컬 공급라인(114-2) 상에 기체감지부(116)을 구비하고, 상기 기체감지부(116)에서 기체를 감지하는 경우 케미컬 공급라인(114-1,114-2)이 차단되도록 구성할 수도 있다.Therefore, a gas detection unit 116 is provided on the second chemical supply line 114-2, and when the gas detection unit 116 detects gas, the chemical supply lines 114-1 and 114-2 are blocked. It can also be configured.

상기 제3 케미컬 공급라인(114-3)은 상기 제2케미컬 공급라인(114-2)보다 높은 위치가 되도록 일측 단부가 상기 제2 케미컬 공급라인(114-2)에 연결되어 있고, 타측 단부에는 상기 필터(20)가 연결되어 있다. 이 경우 상기 필터(20)의 위치는 상기 제1 케미컬 공급라인(114-1) 보다 높은 위치가 되도록 구성할 수 있다.One end of the third chemical supply line 114-3 is connected to the second chemical supply line 114-2 so as to be higher than the second chemical supply line 114-2, and the other end of the third chemical supply line 114-3 The filter 20 is connected. In this case, the position of the filter 20 may be configured to be higher than that of the first chemical supply line 114 - 1 .

한편, 상기 케미컬 공급라인(114-1,114-2,114-3) 상에서 분기된 드레인 라인(115-1,115-2,115-3)이 더 구비되도록 구성할 수 있다. 위에서 설명한 바와 같이, 제1 케미컬 공급라인(114-1)보다 제2 케미컬 공급라인(114-2)의 위치가 낮으면 기체가 필터(20)로 유입되는 것을 차단할 수 있으나, 기체를 분리하여 외부로 배출할 수 있도록 드레인 라인(115-1,115-2,115-3)을 구비하면, 기체가 케미컬 공급라인(114-1,114-2,114-3) 내부에 잔존하는 것을 방지할 수 있다.Meanwhile, drain lines 115-1, 115-2, and 115-3 branched on the chemical supply lines 114-1, 114-2, and 114-3 may be further provided. As described above, if the position of the second chemical supply line 114-2 is lower than the first chemical supply line 114-1, the gas can be blocked from flowing into the filter 20, but the gas is separated to If the drain lines 115-1, 115-2, and 115-3 are provided so as to be discharged to the ventilator, it is possible to prevent gas from remaining in the chemical supply lines 114-1, 114-2, and 114-3.

상기 드레인 라인(115-1,115-2,115-3)은 상기 필터(20)의 전단에 연결된 케미컬 공급라인(114-1,114-2,114-3)상에서 분기되도록 구성할 수 있다. The drain lines 115 - 1 , 115 - 2 and 115 - 3 may be configured to branch on the chemical supply lines 114 - 1 , 114 - 2 and 114 - 3 connected to the front end of the filter 20 .

이 경우 상기 드레인 라인(115-1,115-2,115-3)은, 상기 제1 케미컬 공급라인(114-1)에서 분기된 제1 드레인라인(115-1)과, 상기 제2 케미컬 공급라인(114-2)에서 분기된 제2 드레인라인(115-2)을 포함할 수 있다.In this case, the drain lines 115 - 1 , 115 - 2 and 115 - 3 include a first drain line 115 - 1 branched from the first chemical supply line 114 - 1 and the second chemical supply line 114 - The second drain line 115 - 2 branched in 2) may be included.

상기 제1 드레인라인(115-1)은 상기 제1 케미컬 공급라인(114-1)의 단부로서 상기 제2 케미컬 공급라인(114-2)과 교차하는 지점에서 상방향으로 분기되도록 구성할 수 있다. The first drain line 115 - 1 is an end of the first chemical supply line 114 - 1 and may be configured to branch upward at a point crossing the second chemical supply line 114 - 2 . .

상기 제2 드레인라인(115-2)은 상기 제1 케미컬 공급라인(114-1)보다 낮은 위치의 제2 케미컬 공급라인(114-2)에서 상방향으로 분기되도록 구성할 수 있다.The second drain line 115 - 2 may be configured to branch upward from the second chemical supply line 114 - 2 at a lower position than the first chemical supply line 114 - 1 .

상기 제1 드레인라인(115-1)의 상단 위치와 상기 제2 드레인라인(115-2)의 상단 위치는 상기 필터(120)보다 높은 위치가 되도록 구성할 수 있다.An upper end position of the first drain line 115 - 1 and an upper end position of the second drain line 115 - 2 may be configured to be higher than the filter 120 .

본 실시예에서는 상기 제1 드레인라인(115-1)과 제2 드레인라인(115-2)이 케미컬 공급라인(114-1,114-2)에 대하여 병렬로 연결된 것으로 구성하였으나, 상기 제1 드레인라인(115-1)과 제2 드레인라인(115-2) 중 어느 하나만 구비되는 것으로 구성할 수도 있다.In this embodiment, although the first drain line 115-1 and the second drain line 115-2 are connected in parallel with respect to the chemical supply lines 114-1 and 114-2, the first drain line ( Either one of the 115-1 and the second drain line 115-2 may be provided.

본 실시예와 같이 제1 드레인라인(115-1)과 제2 드레인라인(115-2)이 병렬로 연결되도록 하면, 기체가 유입되는 것을 보다 기체감지부(116)에서 정확하게 감지할 수 있다. 또한, 상기 제1 드레인라인(115-1)과 제2 드레인라인(115-2)은 케미컬이 공급되는 도중에는 케미컬 속에 포함된 기포를 케미컬로부터 분리하는 기능을 수행할 수도 있다. 케미컬 속에 기포가 포함되어 있는 경우 상기 기포를 2군데의 드레인라인(115-1,115-2)을 통해 케미컬로부터 분리할 수 있으므로, 기포 분리에 유리한 효과가 있다. When the first drain line 115 - 1 and the second drain line 115 - 2 are connected in parallel as in the present embodiment, the gas inflow can be more accurately detected by the gas sensing unit 116 . In addition, the first drain line 115-1 and the second drain line 115-2 may perform a function of separating air bubbles included in the chemical from the chemical while the chemical is being supplied. When air bubbles are included in the chemical, since the air bubbles can be separated from the chemical through the two drain lines 115-1 and 115-2, there is an advantageous effect in separating the air bubbles.

상기 드레인라인은 제1 드레인라인(115-1)과 제2 드레인라인(115-2)이 합쳐진 제3 드레인라인(115-3)을 더 포함할 수 있다.The drain line may further include a third drain line 115 - 3 in which the first drain line 115 - 1 and the second drain line 115 - 2 are combined.

상기 기체감지부(116)는 상기 제3 드레인라인(115-3) 상에 구비될 수 있다. 이와 같이 구성하면 하나의 기체감지부(116)를 이용하여 제1 드레인라인(115-1)과 제2 드레인라인(115-2)을 통해 유입되는 기체를 감지할 수 있다. The gas sensing unit 116 may be provided on the third drain line 115 - 3 . With this configuration, the gas flowing through the first drain line 115 - 1 and the second drain line 115 - 2 can be sensed using one gas detecting unit 116 .

이와 다르게 제1 드레인라인(115-1)과 제2 드레인라인(115-2) 각각에 기체감지부를 구비하도록 구성할 수도 있다.Alternatively, each of the first drain line 115-1 and the second drain line 115-2 may be configured to include a gas sensing unit.

상기 케미컬 공급원(100)의 케미컬에 가해진 질소의 압력에 의해 상기 케미컬의 이송이 이루어지는 경우 상기 기체감지부(116)는 상기 질소를 감지하기 위한 질소감지센서로 이루어질 수 있다.When the chemical is transferred by the pressure of nitrogen applied to the chemical of the chemical supply source 100 , the gas sensing unit 116 may be a nitrogen sensing sensor for detecting the nitrogen.

케미컬이 공급되는 경우 케미컬은 제1 드레인라인(115-1)과 제2 드레인라인(115-2), 제3 드레인라인(115-3) 내부에도 채워지게 되고, 기체감지부(116)가 위치한 드레인라인 내부에도 케미컬이 채워진 상태가 된다. 케미컬 공급원(100)의 케미컬이 모두 공급되고 나면 제1 드레인라인(115-1)과 제2 드레인라인(115-2) 및 제3 드레인라인(115-3) 내부에 채워져 있던 케미컬의 수위가 낮아지고, 기체감지부(116)에서 케미컬 공급원(100)를 통해 공급된 기체를 감지하게 되면 케미컬 공급라인(114-1,114-2,114-3)이 차단되도록 하여 기체가 더 이상 케미컬 공급라인(114-1,114-2,114-3)으로 유입되는 것을 방지할 수 있다.When the chemical is supplied, the chemical is also filled inside the first drain line 115-1, the second drain line 115-2, and the third drain line 115-3, and the gas sensing unit 116 is located. The inside of the drain line is also filled with chemicals. After all the chemicals of the chemical supply source 100 are supplied, the level of the chemicals filled in the first drain line 115-1, the second drain line 115-2, and the third drain line 115-3 is low. When the gas detection unit 116 detects the gas supplied through the chemical supply source 100, the chemical supply lines 114-1, 114-2, 114-3 are blocked so that the gas is no longer supplied to the chemical supply lines 114-1, 114. -2,114-3) can be prevented.

이 경우 상기 기체감지부(116)는 상기 필터(20)보다 높은 위치에 구비될 수도 있고, 필터(20) 보다 낮은 위치에 구비될 수도 있다. 도 3에서는 기체감지부(116)가 필터(20) 보다 높은 위치인 제3 드레인라인(115-3) 상에 구비된 것으로 예시하였다.In this case, the gas detection unit 116 may be provided at a higher position than the filter 20 or may be provided at a lower position than the filter 20 . In FIG. 3 , it is exemplified that the gas sensing unit 116 is provided on the third drain line 115 - 3 which is higher than the filter 20 .

상기 제3 드레인라인(115-3)에는 상기 제3 드레인라인(115-3)을 개폐하기 위한 드레인밸브(117)가 구비되어 있다. 상기 드레인밸브(117)는 상기 케미컬 공급원(100)의 케미컬을 케미컬 소요처(130)로 공급하는 경우 개방되어, 상기 드레인라인(115-1,115-2,115-3)으로 기체가 유입될 수 있도록 한다. 상기 드레인밸브(117)도 상기 필터(20)보다 높은 위치에 구비될 수 있다.A drain valve 117 for opening and closing the third drain line 115-3 is provided in the third drain line 115-3. The drain valve 117 is opened when the chemical of the chemical supply source 100 is supplied to the chemical source 130 so that gas can be introduced into the drain lines 115-1, 115-2, and 115-3. The drain valve 117 may also be provided at a higher position than the filter 20 .

상기 제어부는 상기 기체감지부(116)에서 기체를 감지하면 상기 케미컬 공급밸브(113)를 제어하여 상기 케미컬 공급라인(114-1,114-2,114-3)을 차단하여, 기체가 필터(120)로 유입되는 것을 차단하게 된다.When the gas detection unit 116 detects gas, the control unit controls the chemical supply valve 113 to block the chemical supply lines 114-1, 114-2, and 114-3, so that the gas flows into the filter 120 blocking it from being

본 발명의 케미컬 공급장치를 이용한 케미컬 공급방법에 대해 설명한다.A chemical supply method using the chemical supply device of the present invention will be described.

케미컬 공급원(100)으로부터 케미컬 소요처(130)에 케미컬을 공급하기 위해, 케미컬 공급밸브(113)와 기체 공급밸브(111) 및 드레인밸브(117)가 개방된다. In order to supply the chemical from the chemical supply source 100 to the chemical source 130 , the chemical supply valve 113 , the gas supply valve 111 , and the drain valve 117 are opened.

상기 밸브들이 개방되면, 기체가 기체 공급관(112)을 통해 케미컬 공급원(100) 내부로 유입되고, 기체의 압력에 의해 케미컬 공급원(100) 내부의 케미컬이 케미컬 공급라인(114-1,114-2,114-3)을 통해 필터(120)로 유동한다. 상기 필터(120)에서 여과가 이루어진 케미컬은 케미컬 소요처(130)로 공급된다. 이 경우 드레인라인(115-1,115-2,115-3) 내부에도 케미컬이 채워지게 된다.When the valves are opened, gas is introduced into the chemical supply source 100 through the gas supply pipe 112, and the chemical inside the chemical supply source 100 is transferred to the chemical supply lines 114-1, 114-2, 114-3 by the pressure of the gas. ) through the filter 120 . The chemical filtered by the filter 120 is supplied to the chemical demand 130 . In this case, the inside of the drain lines 115-1, 115-2, and 115-3 is also filled with chemicals.

이와 같이 케미컬의 공급이 이루어지다가 케미컬 공급원(100) 내부의 케미컬이 모두 공급되고 나면, 기체 공급관(112)을 통해 유입된 기체가 제1 케미컬 공급라인(114-1)을 통해 유입되기 시작한다.In this way, after the chemical supply is made and all the chemicals inside the chemical supply source 100 are supplied, the gas introduced through the gas supply pipe 112 starts to flow in through the first chemical supply line 114 - 1 .

상기 기체가 제1 케미컬 공급라인(114-1)을 통과하게 되면 상기 제1 드레인라인(115-1)을 통해 제3 드레인라인(115-3)으로 유입되고, 기체감지부(116)에서 상기 기체를 감지하게 된다. When the gas passes through the first chemical supply line 114-1, it flows into the third drain line 115-3 through the first drain line 115-1, and in the gas sensing unit 116, the gas is detected.

상기 기체감지부(116)에서 기체를 감지하게 되면, 제어부는 케미컬 공급밸브(113)를 닫아 케미컬 공급라인(114-1,114-2,114-3)이 차단되어 필터(120)로 기체 유입이 방지된다.When gas is sensed by the gas sensing unit 116 , the control unit closes the chemical supply valve 113 to block the chemical supply lines 114-1, 114-2, and 114-3 to prevent gas from flowing into the filter 120 .

이 경우 제2 케미컬 공급라인(114-2) 및 제3 케미컬 공급라인(114-3) 내부에는 케미컬이 채워진 상태이므로, 필터(120)에는 기체가 유입되지 않게 된다. 만약 제2 케미컬 공급라인(114-2) 내부에도 기체가 유입된 경우에는 제2 드레인라인(115-2)을 통해 기체가 드레인되어 기체감지부(116)에서 기체를 감지할 수 있고, 제3 케미컬 공급라인(114-3)은 제2 케미컬 공급라인(114-2)의 단부에서 상방향으로 연장되어 있고, 상기 상향 연장된 제3 케미컬 공급라인(114-3) 상에 상기 필터(120)가 구비되어 있으므로, 필터(120) 내부에는 기체가 유입되지 않는다.In this case, since the inside of the second chemical supply line 114-2 and the third chemical supply line 114-3 is filled with chemicals, gas does not flow into the filter 120 . If gas is also introduced into the second chemical supply line 114 - 2 , the gas is drained through the second drain line 115 - 2 so that the gas detection unit 116 can detect the gas, and the third The chemical supply line 114-3 extends upward from the end of the second chemical supply line 114-2, and the filter 120 is disposed on the upwardly extended third chemical supply line 114-3. Since is provided, gas does not flow into the filter 120 .

도 4를 참조하여 본 발명의 다른 실시예에 의한 케미컬 공급장치에 대해 설명한다.A chemical supply device according to another embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. 4 .

케미컬 공급라인(214-1,214-2,214-3) 상에는 케미컬과 기체를 분리하기 위한 내부공간(250a)이 형성된 세퍼레이터(250)가 구비되어 있다.A separator 250 having an internal space 250a for separating chemicals and gases is provided on the chemical supply lines 214-1, 214-2, and 214-3.

상기 케미컬 공급라인(214-1,214-2,214-3)은, 일측이 케미컬 공급원(미도시)에 연결되고 타측이 세퍼레이터(250)에 연결된 제1 케미컬 공급라인(214-1), 일측이 세퍼레이터(250)의 내부공간(250a)에 위치하고 타측이 세퍼레이터(250)의 상부를 관통하는 제2 케미컬 공급라인(214-2), 상기 제2 케미컬 공급라인(214-2)의 단부에서 상방향으로 연장된 제3 케미컬 공급라인(214-3)을 포함하여 이루어진다.The chemical supply lines 214-1, 214-2 and 214-3 have a first chemical supply line 214-1 connected to a chemical supply source (not shown) on one side and a separator 250 on the other side, and a separator 250 on one side. ) of a second chemical supply line 214-2 located in the inner space 250a and having the other side passing through the upper portion of the separator 250, extending upward from the end of the second chemical supply line 214-2 A third chemical supply line 214-3 is included.

상기 제2 케미컬 공급라인(214-2)의 일측은 상기 세퍼레이터(250)의 내부공간(250a)을 상하 방향으로 가로지르도록 구비되어 하단부가 세퍼레이터(250)의 바닥에 근접하도록 위치하게 된다.One side of the second chemical supply line 214 - 2 is provided to cross the inner space 250a of the separator 250 in the vertical direction so that the lower end thereof is positioned so as to be close to the bottom of the separator 250 .

상기 제1 케미컬 공급라인(214-1)은 세퍼레이터(250)의 측부에 연결되어, 상기 제1 케미컬 공급라인(214-1)을 통해 공급되어 온 케미컬이 상기 세퍼레이터(250)의 내부공간(250a)에 유입되도록 한다.The first chemical supply line 214-1 is connected to the side of the separator 250, and the chemical supplied through the first chemical supply line 214-1 is transferred to the internal space 250a of the separator 250. ) to enter the

상기 제1 케미컬 공급라인(214-1) 상에는 케미컬 공급밸브(213)가 구비되어 있다.A chemical supply valve 213 is provided on the first chemical supply line 214-1.

상기 제3 케미컬 공급라인(214-3)의 상부에 필터(220)가 연결되어 있어, 상기 케미컬 공급라인(214-1,214-2,214-3)을 통해 공급되어 온 케미컬을 여과하게 된다.The filter 220 is connected to the upper part of the third chemical supply line 214-3, and filters the chemicals supplied through the chemical supply lines 214-1, 214-2, and 214-3.

상기 세퍼레이터(250)의 상단부에는 드레인라인(215)이 연결되어 있고, 상기 드레인라인(215) 상에는 기체를 감지하기 위한 기체감지부(216)와 상기 드레인라인(215)을 개폐하기 위한 드레인밸브(217)가 순차 구비되어 있다.A drain line 215 is connected to the upper end of the separator 250, and on the drain line 215, a gas detection unit 216 for detecting gas and a drain valve for opening and closing the drain line 215 ( 217) are sequentially provided.

이 경우 상기 기체감지부(216)와 드레인밸브(217)는 필터(220)보다 높은 위치에 구비될 수 있다.In this case, the gas sensing unit 216 and the drain valve 217 may be provided at a higher position than the filter 220 .

케미컬 공급원으로부터 케미컬이 케미컬 공급라인(214-1,214-2,214-3)을 통해 필터(220)로 공급되고, 기체감지부(216)에서 케미컬 공급원으로부터 이송되어 온 기체를 감지하게 되면, 제어부는 상기 케미컬 공급밸브(213)를 닫아 케미컬 공급라인(214-1,214-2,214-3)을 차단시켜 필터(220)로 기체가 유입되는 것을 방지하게 된다.When the chemical from the chemical source is supplied to the filter 220 through the chemical supply lines 214-1, 214-2, and 214-3, and the gas sensing unit 216 detects the gas transferred from the chemical source, the control unit controls the chemical By closing the supply valve 213 to block the chemical supply lines 214-1, 214-2, and 214-3, the gas is prevented from flowing into the filter 220.

상기와 같은 구성에 의하면, 케미컬을 여과하기 위한 필터(120)에 기체가 유입되는 것을 방지하여 필터(120) 성능이 저하되는 것을 방지할 수 있다. 또한, 간단한 구성에 의해 필터(120)에 기체 유입을 방지할 수 있어 케미컬 공급장치의 제조 비용을 절감할 수 있다.According to the configuration as described above, it is possible to prevent gas from flowing into the filter 120 for filtering the chemical, thereby preventing the filter 120 performance from being deteriorated. In addition, it is possible to prevent gas inflow into the filter 120 by a simple configuration, thereby reducing the manufacturing cost of the chemical supply device.

전술한 바와 같이 본 발명에 대하여 바람직한 실시예를 들어 상세히 설명하였지만, 본 발명은 전술한 실시예들에 한정되는 것이 아니고, 특허청구범위와 발명의 상세한 설명 및 첨부한 도면의 범위 안에서 여러 가지로 변형하여 실시하는 것이 가능하고 이 또한 본 발명에 속한다.As described above, the present invention has been described in detail with reference to preferred embodiments, but the present invention is not limited to the above-described embodiments, and various modifications are made within the scope of the claims, the detailed description of the invention, and the accompanying drawings. It is possible to carry out and this also belongs to the present invention.

100 : 케미컬 공급원 111 : 기체 공급밸브
112 : 기체 공급관 113,213 : 케미컬 공급밸브
114-1,214-1 : 제1 케미컬 공급라인
114-2,214-2 : 제2 케미컬 공급라인
114-3,214-3 : 제3 케미컬 공급라인
115-1 : 제1 드레인라인 115-2 : 제2 드레인라인
115-3 : 제3 드레인라인 116,216 : 기체감지부
117,217 : 드레인밸브 120,220 : 필터
130 : 케미컬 소요처 215 : 드레인라인100: chemical supply source 111: gas supply valve
112: gas supply pipe 113,213: chemical supply valve
114-1,214-1: 1st chemical supply line
114-2,214-2: 2nd chemical supply line
114-3,214-3: 3rd chemical supply line
115-1: first drain line 115-2: second drain line
115-3: third drain line 116, 216: gas sensing unit
117,217: drain valve 120,220: filter
130: chemical requirements 215: drain line

Claims (17)

케미컬 공급원으로부터 공급된 케미컬이 이송되고, 상기 케미컬을 여과하기 위한 필터가 구비된 케미컬 공급라인;
상기 케미컬 공급라인을 통해 기체가 유입되는 것을 감지하기 위한 기체감지부;
상기 기체감지부에서 상기 기체를 감지한 경우 상기 케미컬 공급라인이 차단되도록 제어하는 제어부;
를 포함하고,
상기 케미컬 공급라인은,
상기 케미컬 공급원에 연결되는 제1 케미컬 공급라인;
상기 제1케미컬 공급라인에 연결되되, 상기 제1 케미컬 공급라인보다 낮은 위치가 되도록 연결되는 제2 케미컬 공급라인;
을 포함하고,
상기 필터의 전단에 연결된 상기 케미컬 공급라인에서 분기된 드레인라인은, 상기 제1 케미컬 공급라인에서 분기된 제1 드레인라인과, 상기 제2 케미컬 공급라인에서 분기된 제2 드레인라인으로 이루어진 케미컬 공급장치a chemical supply line through which the chemical supplied from the chemical source is transferred, and a filter for filtering the chemical;
a gas sensing unit for detecting that gas is introduced through the chemical supply line;
a control unit controlling the chemical supply line to be blocked when the gas sensing unit detects the gas;
including,
The chemical supply line is
a first chemical supply line connected to the chemical supply;
a second chemical supply line connected to the first chemical supply line and connected to a lower position than the first chemical supply line;
including,
A drain line branched from the chemical supply line connected to the front end of the filter is a chemical supply device including a first drain line branched from the first chemical supply line and a second drain line branched from the second chemical supply line 제1항에 있어서,
상기 케미컬 공급원의 케미컬에 가해진 질소의 압력에 의해 상기 케미컬의 이송이 이루어지는 경우 상기 기체감지부는 상기 질소를 감지하기 위한 질소감지센서로 이루어진 것을 특징으로 하는 케미컬 공급장치According to claim 1,
When the chemical is transferred by the pressure of nitrogen applied to the chemical of the chemical supply source, the gas sensing unit is a chemical supply device, characterized in that the nitrogen detection sensor is configured to detect the nitrogen. 제1항에 있어서,
상기 필터의 전단에 연결된 상기 케미컬 공급라인에서 분기된 드레인라인이 구비되고;
상기 기체감지부는 상기 드레인라인 상에 구비된 것을 특징으로 하는 케미컬 공급장치According to claim 1,
a drain line branched from the chemical supply line connected to the front end of the filter is provided;
The gas sensing unit is a chemical supply device, characterized in that provided on the drain line 제3항에 있어서,
상기 드레인라인 상에는 상기 케미컬이 공급되는 경우 개방되는 드레인밸브가 구비된 것을 특징으로 하는 케미컬 공급장치4. The method of claim 3,
Chemical supply device, characterized in that provided with a drain valve that is opened when the chemical is supplied on the drain line 제4항에 있어서,
상기 드레인밸브는 상기 필터보다 높은 위치에 구비된 것을 특징으로 하는 케미컬 공급장치5. The method of claim 4,
The drain valve is a chemical supply device, characterized in that provided at a higher position than the filter 제3항에 있어서,
상기 기체감지부는 상기 필터보다 높은 위치에 구비된 것을 특징으로 하는 케미컬 공급장치4. The method of claim 3,
Chemical supply device, characterized in that the gas detection unit is provided at a higher position than the filter 제1항에 있어서,
상기 케미컬 공급라인은,
상기 제2케미컬 공급라인보다 높은 위치가 되도록 상기 제2 케미컬 공급라인에 연결된 제3 케미컬 공급라인을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 케미컬 공급장치According to claim 1,
The chemical supply line is
Chemical supply device, characterized in that it further comprises a third chemical supply line connected to the second chemical supply line so as to be higher than the second chemical supply line. 삭제delete 제1항에 있어서,
상기 드레인라인은, 상기 제1 드레인라인과 제2 드레인라인이 합쳐진 제3 드레인라인을 포함하는 것을 특징으로 하는 케미컬 공급장치According to claim 1,
wherein the drain line includes a third drain line in which the first drain line and the second drain line are combined. 제9항에 있어서,
상기 기체감지부는 상기 제3 드레인라인 상에 구비된 것을 특징으로 하는 케미컬 공급장치10. The method of claim 9,
The gas sensing unit is a chemical supply device, characterized in that provided on the third drain line 제1항에 있어서,
상기 케미컬 공급라인 상에는 상기 케미컬 공급원으로부터의 케미컬 공급을 단속하기 위한 케미컬 공급밸브가 구비되고;
상기 제어부는 상기 케미컬 공급밸브를 제어하여 상기 케미컬의 공급이 차단되도록 제어하는 것을 특징으로 하는 케미컬 공급장치According to claim 1,
a chemical supply valve is provided on the chemical supply line to control chemical supply from the chemical supply source;
The control unit controls the chemical supply valve to control the supply of the chemical to be blocked, characterized in that the chemical supply device 제1항에 있어서,
상기 케미컬 공급라인 상에는 케미컬과 상기 기체를 분리하기 위한 내부공간이 형성된 세퍼레이터가 구비되고;
상기 기체감지부는 상기 세퍼레이터의 상부에 연결된 드레인라인 상에 구비된 것을 특징으로 하는 케미컬 공급장치According to claim 1,
a separator having an internal space for separating the chemical and the gas is provided on the chemical supply line;
The gas sensing unit is a chemical supply device, characterized in that provided on a drain line connected to the upper portion of the separator. 제12항에 있어서,
상기 필터보다 높은 위치에 구비된 상기 드레인라인 상에 상기 기체감지부가 구비된 것을 특징으로 하는 케미컬 공급장치13. The method of claim 12,
Chemical supply device, characterized in that the gas detection unit is provided on the drain line provided at a position higher than the filter 삭제delete 삭제delete 삭제delete 삭제delete
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