JP2015225009A - Pretreatment device for gas analysis - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、ガス分析用前処理装置、特に、サンプルガスがガス分析部に到達する前にドレンを除去するためのガス分析用前処理装置に関する。 The present invention relates to a gas analysis pretreatment apparatus, and more particularly to a gas analysis pretreatment apparatus for removing drain before a sample gas reaches a gas analysis section.
ガス分析装置は、例えば高温焼却炉から排出される排ガスの成分を測定及び分析する装置である。そして、ガス分析装置に供給される排ガスに対して冷却、除湿、除塵といった前処理を行うために、ガス分析用前処理装置が用いられている(例えば、特許文献1を参照)。
従来の前処理装置として、例えば、1本のサンプルガス流路に直列に並んだ複数のドレンセパレータ及びプリクーラを有しているものがある。そのような装置では、ドレンセパレータ及びプリクーラのドレン配管の入口側ではサンプルガス圧が作用しており、ドレン配管の排出側には大気圧が作用している。そして、両ドレン配管は1つにまとめられている。両ドレン配管同士の気圧差の影響を解消するために、前処理装置には、ドレントラップを設けることが行われている。
The gas analyzer is an apparatus that measures and analyzes components of exhaust gas discharged from, for example, a high-temperature incinerator. In order to perform pretreatment such as cooling, dehumidification, and dust removal on the exhaust gas supplied to the gas analyzer, a gas analysis pretreatment device is used (see, for example, Patent Document 1).
As a conventional pretreatment apparatus, for example, there is an apparatus having a plurality of drain separators and precoolers arranged in series in one sample gas flow path. In such an apparatus, the sample gas pressure acts on the inlet side of the drain pipe of the drain separator and the precooler, and the atmospheric pressure acts on the discharge side of the drain pipe. Both drain pipes are combined into one. In order to eliminate the influence of the pressure difference between both drain pipes, a drain trap is provided in the pretreatment device.
上記のドレントラップを用いた場合、サンプル圧変動によって水柱の水面高さが変動するので、サンプル圧変動が大きな場合には水封長さを最も大きく設定する必要がある。しかし、装置の高さの制限を考慮すれば、従来のドレントラップによってこの問題を解決することができない場合がある。 When the drain trap is used, the water surface height of the water column fluctuates due to the sample pressure fluctuation. Therefore, when the sample pressure fluctuation is large, it is necessary to set the water seal length to the maximum. However, considering the device height limitation, the conventional drain trap may not solve this problem.
本発明の課題は、ガス分析用前処理装置において、装置設計を容易にし、かつ、広いサンプルガス圧に対応可能とすることにある。 SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to facilitate the apparatus design and to cope with a wide sample gas pressure in a pretreatment apparatus for gas analysis.
以下に、課題を解決するための手段として複数の態様を説明する。これら態様は、必要に応じて任意に組み合せることができる。 Hereinafter, a plurality of modes will be described as means for solving the problems. These aspects can be arbitrarily combined as necessary.
本発明の一見地に係るガス分析用前処理装置は、サンプルガスを吸引し、当該サンプルガスをガス分析部に供給する前に前処理するための装置である。第1ドレン抽出装置と、第2ドレン抽出装置と、第1ドレン配管及び第2ドレン配管と、ドレン送出装置と、ガス流入防止構造と、を備えている。なお、サンプルガスは、水分を含むものであれば特に限定されず、煙道を流れる排ガス、各種プロセスガスなどであってもよい。 A pretreatment apparatus for gas analysis according to an aspect of the present invention is an apparatus for sucking a sample gas and pretreating the sample gas before supplying the sample gas to a gas analyzer. A first drain extraction device, a second drain extraction device, a first drain pipe and a second drain pipe, a drain delivery device, and a gas inflow prevention structure are provided. The sample gas is not particularly limited as long as it contains moisture, and may be exhaust gas flowing through a flue, various process gases, or the like.
第1ドレン抽出装置は、サンプルガス中のドレンを抽出する。
第2ドレン抽出装置は、サンプルガス中のドレンを抽出する。
The first drain extraction device extracts drain in the sample gas.
The second drain extraction device extracts drain in the sample gas.
第1ドレン配管及び第2ドレン配管は、第1ドレン抽出装置及び第2ドレン抽出装置から排出されたドレンをそれぞれ排出するための配管であり、上下方向に延びており互いに連通している。なお、「上下方向に延びて」とは、配管の先端と末端との間で高低差があって重力によってドレンの移動ができればよく、略垂直でもよいし、斜めになっていてもよい。
ドレン送出装置は、入口と出口の圧力差を維持可能であり、第1ドレン配管及び第2ドレン配管から排出されたドレンを送り出す装置である。ドレン抽出装置は、上記機能を有するものであれば何でもよく、例えば、入口と出口の圧力差を維持可能ポンプ、重力を用いてドレンを送り出すことで入口と出口の圧力差を維持可能な装置であってもよい。
ガス流入防止構造は、サンプルガスが第1ドレン抽出装置から第1ドレン配管及び第2ドレン配管を通って第2ドレン抽出装置まで流れることを防止する。なお、ガス流入防止構造は、サンプルガスが通る際に抵抗となってガスの移動を抑制するものであれば何でもよい。
The first drain pipe and the second drain pipe are pipes for discharging drains discharged from the first drain extraction device and the second drain extraction device, respectively, extend in the vertical direction, and communicate with each other. Note that “extending in the vertical direction” is not limited as long as there is a difference in height between the tip and the end of the pipe and the drain can be moved by gravity, and it may be substantially vertical or slanted.
The drain delivery device is a device that can maintain the pressure difference between the inlet and the outlet, and sends out the drain discharged from the first drain pipe and the second drain pipe. Any drain extraction device may be used as long as it has the above functions.For example, a pump capable of maintaining the pressure difference between the inlet and the outlet, a device capable of maintaining the pressure difference between the inlet and the outlet by sending out the drain using gravity. There may be.
The gas inflow prevention structure prevents the sample gas from flowing from the first drain extraction device to the second drain extraction device through the first drain piping and the second drain piping. The gas inflow prevention structure may be anything as long as it becomes a resistance when the sample gas passes and suppresses gas movement.
この装置では、第1ドレン抽出装置からドレンが第1ドレン配管を流れ、第2ドレン抽出装置からドレンが第2配管を流れる。ドレンは、ドレン送出装置によって第1ドレン配管及び第2ドレン配管から排出される。ここで、ドレン送出装置は、入口と出口の圧力差を維持可能であるので、第1ドレン配管側及び第2ドレン配管側と排出側との圧力差が維持される。さらに、ドレン送出装置は、第1ドレン抽出装置及び第2ドレン抽出装置の両方からのドレンをまとめて排出しているので、ドレン配管の数より少なくなる。
さらに、この装置では、サンプルガスは、ガス流入防止構造によって、第1ドレン抽出装置から第1ドレン配管及び第2ドレン配管を通って第2ドレン抽出装置まで流れることが防止されている。
In this apparatus, the drain flows from the first drain extractor through the first drain pipe, and the drain from the second drain extractor flows through the second pipe. The drain is discharged from the first drain pipe and the second drain pipe by the drain delivery device. Here, since the drain delivery device can maintain the pressure difference between the inlet and the outlet, the pressure difference between the first drain pipe side and the second drain pipe side and the discharge side is maintained. Furthermore, since the drain delivery device discharges the drain from both the first drain extraction device and the second drain extraction device together, it becomes smaller than the number of drain pipes.
Further, in this apparatus, the sample gas is prevented from flowing from the first drain extraction device to the second drain extraction device through the first drain piping and the second drain piping by the gas inflow prevention structure.
ガス流入防止構造は、第1ドレン配管と第2ドレン配管との間に設けられ、第1ドレン抽出装置及び/又は第2ドレン抽出装置から排出されたドレンを貯留する水封構造であってもよい。
この装置では、水封構造によって、サンプルガスは、第1ドレン抽出装置から第1ドレン配管及び第2ドレン配管を通って第2ドレン抽出装置まで流れることが防止されている。
The gas inflow prevention structure may be a water-sealed structure that is provided between the first drain pipe and the second drain pipe and stores the drain discharged from the first drain extraction device and / or the second drain extraction device. Good.
In this device, the water seal structure prevents the sample gas from flowing from the first drain extraction device to the second drain extraction device through the first drain piping and the second drain piping.
水封構造は、第1ドレン抽出装置及び/又は第2ドレン抽出装置から排出されたドレンを貯留して、所定量を超えたドレンのみをドレン送出装置側に流す貯留部を有していてもよい。
この装置では、装置の動作中に、貯留部には常にドレンが貯留されている。
The water seal structure may have a storage unit that stores the drain discharged from the first drain extraction device and / or the second drain extraction device and flows only the drain exceeding a predetermined amount to the drain delivery device side. Good.
In this apparatus, drain is always stored in the storage part during the operation of the apparatus.
ガス分析用前処理装置は、第1ドレン配管と第2ドレン配管とを連結する第3ドレン配管と、ドレン送出装置にまで延び、第1ドレン配管、第2ドレン配管、及び第3ドレン配管の少なくとも1つと接続されている第4ドレン配管と、をさらに備えていてもよい。
この装置では、配管同士が閉塞されているので、圧力の漏れが生じない。
The pretreatment device for gas analysis extends to the third drain piping connecting the first drain piping and the second drain piping, and the drain delivery device, and includes the first drain piping, the second drain piping, and the third drain piping. And a fourth drain pipe connected to at least one.
In this apparatus, since the pipes are closed, there is no pressure leakage.
第4ドレン配管が、第1ドレン配管の中間部又は第2ドレン配管の中間部と接続されていてもよい。この場合、第4ドレン配管の接続位置によって、貯留部の最高水位が決められる。 The fourth drain pipe may be connected to the intermediate part of the first drain pipe or the intermediate part of the second drain pipe. In this case, the highest water level of the reservoir is determined by the connection position of the fourth drain pipe.
装置は、ドレン送出装置から第1ドレン配管及び第2ドレン配管までドレンを貯留可能であるようにドレン送出装置の駆動を制御する制御部をさらに備えていてもよい。
この装置では、制御部がドレン送出装置を駆動することによって、第1ドレン配管及び第2ドレン配管の水位が制御される。これにより、ドレンの溢れ及び枯渇が生じにくくなる。
The apparatus may further include a control unit that controls the driving of the drain sending device so that the drain can be stored from the drain sending device to the first drain pipe and the second drain pipe.
In this apparatus, the water level of the first drain pipe and the second drain pipe is controlled by the control unit driving the drain delivery device. As a result, drain overflow and depletion are less likely to occur.
本発明の他の見地に係るガス分析装置は、上記のガス分析用前処理装置と、ガス分析部とを備えている。
この装置では、上記のガス分析用前処理装置による効果が得られる。
A gas analyzer according to another aspect of the present invention includes the gas analysis pretreatment device and a gas analyzer.
In this apparatus, the effect of the gas analysis pretreatment apparatus can be obtained.
本発明に係るガス分析用前処理装置では、装置設計が容易になり、かつ、広いサンプルガス圧に対応可能となる。 In the pretreatment apparatus for gas analysis according to the present invention, the apparatus design is facilitated and a wide range of sample gas pressures can be handled.
1.第1実施形態
(1)ガス分析装置
図1を用いて、ガス分析装置1の概略構成を説明する。図1は、ガス分析装置の概略構成図である。
1. First Embodiment (1) Gas Analyzer A schematic configuration of a gas analyzer 1 will be described with reference to FIG. FIG. 1 is a schematic configuration diagram of a gas analyzer.
ガス分析装置1は、例えば、煙道からサンプリングされたサンプルガスを分析し、ガス中のSOx量、NOx量を測定する装置である。
ガス分析装置1は、主に、プローブ管3、ガス分析用前処理装置5(以下、前処理装置5)、メインクーラ9、ガス分析部11を有している。
The gas analyzer 1 is an apparatus that analyzes a sample gas sampled from a flue and measures the amount of SOx and NOx in the gas, for example.
The gas analyzer 1 mainly includes a
プローブ管3は、例えば、煙道内に配置されたサンプリング用の部材である。
前処理装置5は、ガス分析部11に供給される排ガスに対して除湿、除塵といった前処理を行うための装置である。なお、この実施形態では、除湿機能を主に説明する。
The
The
前処理装置5は、煙道を流れる排ガスをサンプルガスとして吸引し、さらにガス分析部11側に移送供給するためのサンプルガス流路15を有している。
前処理装置5は、さらに、サンプルガス流路15上に、上流から下流に向かって、ドレンセパレータ21、プリクーラ23、ニードルバルブ26、真空ポンプ25をこの順番で有している。真空ポンプ25が、煙道内を流れる排ガスをサンプルガスとして吸引採取すれば、その吸引されたサンプルガスがサンプルガス流路15を通ってガス分析部11にまで移送される。
ドレンセパレータ21は、サンプルガス中の含有水分の凝縮により凝縮水を生成する装置である。プリクーラ23は、サンプルガスを目的の湿度に調整する冷却除湿器としての電子冷却器である。このように、ドレンセパレータ21及びプリクーラ23は、サンプルガス中のドレンを抽出する装置である。なお、前処理装置5は、図示しないフィルタ及び他の公知の構成を有している。
The
The
The
メインクーラ9は、前処理装置5から延びるサンプルガス流路15に配置されている。メインクーラ9は、サンプルガスを分析に適した湿度に調整する冷却除湿器としての電子冷却器である。
メインクーラ9には、下方に延びる第1排出ドレン配管12が接続されている。なお、メインクーラ9の上流側にサンプルガス開放部があり、そのためメインクーラ9から排出されるドレンには大気圧が作用している。
The
A first
ガス分析部11は、例えば、紫外発光ガス分析計、化学発光ガス分析計、赤外線ガス分析計である。特に、赤外線ガス分析計がサンプルガスの所定成分の濃度を測定する場合、水分干渉の影響を除去することが重要である。特に、非分散赤外吸収法を用いた分析計においては、赤外波長域全般に水の吸収による干渉が生じるのでこれが問題となる。そこで、本実施形態の前処理装置5では、ドレンセパレータ21及びプリクーラ23を用いて、サンプルガスに含まれる水分量を少なくし、一定値にしている。
The
(2)前処理装置のドレン排出構造
次に、前処理装置5のドレン排出構造を説明する。前述したように前処理装置5は、ドレンセパレータ21とプリクーラ23とを有しており、両方の装置からドレンが排出される。
(2) Drain discharge structure of pretreatment device Next, the drain discharge structure of the
ドレンセパレータ21には、下方に向かって延びる第1ドレン配管27が設けられている。プリクーラ23には、下方に向かって延びる第2ドレン配管29が設けられている。第1ドレン配管27及び第2ドレン配管29は、ドレンセパレータ21及びプリクーラ23から排出されたドレンをそれぞれ排出するための配管である。第1ドレン配管27と第2ドレン配管29とは下端同士が第3ドレン配管31によって連結されている。この実施形態では、第3ドレン配管31は、第1ドレン配管27と第2ドレン配管29とを接続する部材であり、例えば、本実施形態では水平方向に延びる配管である。ただし、第3ドレン配管の形状は上記に限定されず、第3ドレン配管は、斜めに延びる形状でもよいし、第1ドレン配管と第2ドレン配管とが直接的に接続されている接続箇所を構成する配管でもよい。以上のようにして、第1ドレン配管27と第2ドレン配管29は閉塞された状態で互いに接続されている。
なお、第1ドレン配管27及び第2ドレン配管29の上部には、第1安全ポット33及び第2安全ポット35がそれぞれ設けられている。第1安全ポット33及び第2安全ポット35は、下方から逆流してくるドレンがさらにサンプルガス流路15側に移動することを防止するための部材である。また、この実施形態では、第2安全ポット35の下部には水位センサ49が設けられている。水位センサ49は、一般的なセンサであり、種類、位置は特には限定されない。
The
Note that a
第4ドレン配管37は、第2ドレン配管29の中間部(ただし、第2安全ポット35の下方)に上端が配置されており、斜め下方に延びている。第4ドレン配管37の下端は、チューブポンプ39にまで延びている。このような構造により、第1ドレン配管27の下部、第2ドレン配管29の下部及び第3ドレン配管31が、ドレンを貯留可能な貯留部50として機能している。なお、貯留部の機能さえ実現できれば、各ドレン配管の形状、構成は特に限定されない。また、第4ドレン配管37は、貯留部50からドレンをチューブポンプ39に移送さえできればよいので、いずれのドレン配管に接続されていてもよい。また、この実施形態で第4ドレン配管37は、第2ドレン配管の中間部に接続されているが、第1ドレン配管27の中間部に接続されていてもよい。
貯留部50に貯まったドレンは、水位が第4ドレン配管37の上端を超えると、第4ドレン配管37を流れ、チューブポンプ39にまで移動する。
以上に述べたように、本実施形態では、貯留部50によって、サンプルガスがドレンセパレータ21から第1ドレン配管27及び第2ドレン配管29を通ってプリクーラ23まで流れることを防止するガス流入防止構造が実現されている。
The upper end of the
When the water level exceeds the upper end of the
As described above, in the present embodiment, the
チューブポンプ39は、入口側と出口側の気圧差を維持可能であり、気体と液体を移送可能である。チューブポンプ39の構造及び機能は公知であるので、ここでは説明を省略する。チューブポンプ39は、第1ドレン配管27と第2ドレン配管29と連通している(詳細は後述)。なお、本明細書において「連通」とは、配管等によってつながっていることを意味しており、配管内に例えば水又はバルブが存在して気体が移動できない場合も含む。
チューブポンプ39によって、サンプルガス圧側のドレン配管と、大気圧側の排出ドレン配管との間でガスの移動が制限され、圧力的に遮断されている。
The
The
(3)前処理装置の制御構成
次に、前処理装置5の制御構成を説明する。
前処理装置5は、制御部43を有している。制御部43は、CPU、RAM、ROMを有するコンピュータである。制御部43は、各種プログラムを実行することで、前処理装置5の複数の装置を制御する。なお、制御部43は、ガス分析装置1全体の制御を行う装置であってもよい。
(3) Control Configuration of Preprocessing Device Next, a control configuration of the
The
制御部43は、真空ポンプ25及びチューブポンプ39を制御可能である。また、制御部43は、水位センサ49からの検出信号を受信可能である。なお、制御部43は、プリクーラ23も制御可能である。
The
制御部43には、入力部45と、表示部47とが接続されている。
An
(4)前処理装置のドレン処理制御
次に、図2を用いて、前処理装置5のドレン排出制御を説明する。図2は、ガス分析用前処理装置のドレン処理制御を示すフローチャートである。
最初に、第1ドレン配管27、第2ドレン配管29及び第3ドレン配管31からなる貯留部50に水分を貯める(ステップS1)。これにより、第1ドレン配管27と第2ドレン配管29との間に水封構造が形成される。
(4) Drain Processing Control of Pre-processing Device Next, drain discharge control of the
First, moisture is stored in the
以後、制御部43は、真空ポンプ25を駆動してサンプルガスを移送しながら、プリクーラ23を駆動する。その際に、制御部43は、チューブポンプ39を間欠運転させる(ステップS2)。具体的には、例えば、5分に1回、10秒でチューブポンプ39は駆動される。これにより、貯留部50から溢れてチューブポンプ39側に流れるドレンは、チューブポンプ39によって、第2排出ドレン配管41に排出される。なお、貯留部50から溢れたドレンがない場合は、チューブポンプ39は、プリクーラ23のドレン排出口から第2ドレン配管29を通して、サンプルガスを移送する。この場合、真空ポンプ25の輸送量に比べてチューブポンプ39の輸送量は無視できるほどに小さく、また真空ポンプ25の下流側でオーバーフローが取られているので、チューブポンプ39がサンプルガスを移送することで問題は生じない。
Thereafter, the
続いて、制御部43は、水位センサ49がオンしたか否かを判断する(ステップS3)。水位センサ49がオンしていればプロセスはステップS4に移行し、水位センサ49がオンしていなければプロセスはステップS2に戻って間欠運転が続けられる。ここで水位センサ49がオンしたということは、何らかの理由で貯留部50から溢れたドレンが、第4ドレン配管37側に流れずに、第2安全ポット35まで水位を上げてきたことを意味する。
Subsequently, the
制御部43は、チューブポンプ39を連続運転に切り換えて、貯留部50から溢れたドレンを排出させる(ステップS4)。なお、上記実施形態では、間欠運転から連続運転へと切換を行うことで排出流量を高くしたが、複数レベルの排出流量を実現する制御は、上記実施形態に限定されない。例えば、最初から連続運転を行っておいて途中でチューブポンプ39の動作速度を高くしてもよいし、最初から間欠運転を行っておいて途中で間欠運転の頻度を高めてもよい。
The
制御部43は、続いて、所定時間が経過したか否かを判断する(ステップS5)。所定時間が経過していればプロセスはステップS7に移行し、所定時間を経過していなければプロセスはステップS6に移行する。
連続運転を始めてから水位センサ49がオンのままで所定時間が経過したということは、チューブポンプ39が故障又は不調であってドレン排出が十分に行われていないことを意味する。したがって、制御部43は、表示部47にアラート情報を表示する。アラート情報表示は、例えば、第1安全ポット33及び第2安全ポット35の容量に応じた時間経過後に全ての装置を停止することを知らせるものである。なお、アラート情報の通知は、ディスプレイにおける表示に限定されず、例えば、音声、警告灯の点灯、他のコンピュータへのメール通知などの他の手段及びそれらの組合せであってもよい。
Subsequently, the
The fact that the predetermined time has passed with the
所定時間が経過していない場合は、制御部43は、水位センサ49がオフになったか否かを判断する(ステップS6)。
オフになれば,プロセスはステップS2に戻り、間欠運転に切り換えられる。
オフになっていなければ、ステップS4に戻り、連続運転が続けられる。
If the predetermined time has not elapsed, the
If turned off, the process returns to step S2 and is switched to intermittent operation.
If not turned off, the process returns to step S4 and the continuous operation is continued.
2.第2実施形態
第1実施形態では、閉塞された貯留部を第1ドレン配管と第2ドレン配管とによって構成していたが、閉塞された貯留部の構造は第1実施形態に限定されない。そのような他の実施形態として、以下の第2実施形態を説明する。
図3を用いて、第2実施形態における前処理装置5Aを説明する。なお、第1実施形態と同じ構造については説明を省略する。
2. 2nd Embodiment In 1st Embodiment, although the block | closed storage part was comprised by 1st drain piping and 2nd drain piping, the structure of the block | closed storage part is not limited to 1st Embodiment. As such another embodiment, the following second embodiment will be described.
The
第1ドレン配管27の下端には、ドレン配管31aが接続され、その他端には、上下方向に延びる第5ドレン配管32の下端が接続されている。第2ドレン配管29Aは、第2安全ポット35上方の第1部分29aと、第2安全ポット35の下方の第2部分29bと、さらに下方の水位確認部46とを有している。水位確認部46は、透明なチューブから構成され、外部から目視によってドレンの貯まった量を確認可能である。水位確認部46は、下部が第4ドレン配管37aによってチューブポンプ39に接続されている。
A
第5ドレン配管32の上端には、連結配管34が接続されている。連結配管34は水平方向に延びて第2ドレン配管29Aの第2部分29bに接続されている。連結配管34は、貯留部50Aのドレンの水位が高くなるとドレンを第2ドレン配管29Aに導くための部材である。以上に述べたドレン配管31a、第5ドレン配管32、連結配管34が、第1ドレン配管27と第2ドレン配管29Aとを接続する第3ドレン配管として機能している。
このような構造により、第1ドレン配管27の下部、第5ドレン配管32、及び連結配管34が、ドレンを貯留可能な貯留部50Aとして機能している。なお、貯留部50Aは、第1ドレン配管27からのドレンのみを貯留する。
上述の水位確認部46は、第2ドレン配管29Aの一部であり、連結配管34が連結された箇所より下方に配置されている。水位確認部46には、プリクーラ23から抽出され第2ドレン配管29Aを流れるドレンと、ドレンセパレータ21から抽出され貯留部50Aに貯留された後に溢れたドレンとが流入する。貯留部50Aに貯まったドレンは、水位が連結配管34まで達すると、連結配管34を通って第2ドレン配管29A側に流れる。そして、ドレンは、第2ドレン配管29Aの第2部分29b及び水位確認部46を通って、さらに第4ドレン配管37aを通って、チューブポンプ39にまで移動する。
A connecting
With such a structure, the lower part of the
The above-described water
この実施形態では、貯留部50Aの水位が上昇すると、ドレンは連結配管34を通って、強制的に第2ドレン配管29Aに流れ込む。したがって、貯留部50Aからの超過ドレンが、第2ドレン配管29Aの下方に確実に流れることができる。
また、この実施形態では、第2ドレン配管29Aに貯まったドレンは、量が増えるとチューブポンプ39の位置から第2ドレン配管29A内で水位を上げていく。この場合、作業者は、水位確認部46によって、第2ドレン配管29Aに貯まったドレンの量を確認できる
In this embodiment, when the water level in the reservoir 50A rises, the drain flows through the connecting
In this embodiment, the drain accumulated in the
この実施形態では、貯留部50Aによる水封構造と、チューブポンプ39による超過ドレンの貯留構造とが設けられており、後者の超過ドレンの量は水位確認部46によって作業者が確認可能である。
In this embodiment, a water seal structure by the
なお、第1実施形態と第2実施形態では、ドレンが常に溜まっている貯留部はドレン配管によって実現されたが、本発明の貯留部は他の構成によって実現されてもよい。例えば、第1ドレン配管と第2ドレン配管の下端に、一定の高さのドレンが溜まるドレンタンクを配置しても良い。この場合、所定高さ超えたドレンはドレンタンクからチューブポンプ側に流れる。 In addition, in 1st Embodiment and 2nd Embodiment, although the storage part in which the drain was always collected was implement | achieved by drain piping, the storage part of this invention may be implement | achieved by another structure. For example, you may arrange | position the drain tank in which the drain of fixed height accumulates in the lower end of 1st drain piping and 2nd drain piping. In this case, the drain exceeding the predetermined height flows from the drain tank to the tube pump side.
3.第3実施形態
第1実施形態と第2実施形態では、第1ドレン抽出装置及び/又は第2ドレン抽出装置から排出されたドレンを貯留して、所定量を超えたドレンのみをポンプ側に流す貯留部によって水封構造を実現していた。しかし、他の構成によって水封構造を実現してもよい。例えば、水封構造は、ポンプから第1ドレン配管及び第2ドレン配管までドレンを貯留可能な貯留部であってもよい。この場合、水封構造におけるドレンの量は、ポンプの動作によって決定される。そのような実施形態として第3実施形態を説明する。
3. Third Embodiment In the first embodiment and the second embodiment, the drain discharged from the first drain extraction device and / or the second drain extraction device is stored, and only the drain exceeding a predetermined amount flows to the pump side. The water seal structure was realized by the storage part. However, the water seal structure may be realized by other configurations. For example, the water seal structure may be a reservoir that can store drain from the pump to the first drain pipe and the second drain pipe. In this case, the amount of drain in the water seal structure is determined by the operation of the pump. A third embodiment will be described as such an embodiment.
図4を用いて、第3実施形態における前処理装置5Bを説明する。なお、第1実施形態と同じ構造については説明を省略する。
The
ドレンセパレータ21には、下方に向かって延びる第1ドレン配管27が設けられている。プリクーラ23には、下方に向かって延びる第2ドレン配管29が設けられている。第1ドレン配管27と第2ドレン配管29とは下端同士が第3ドレン配管31によって連結されている。このように第1ドレン配管27と第2ドレン配管29は閉塞された状態で互いに接続されている。
The
第4ドレン配管51は、第3ドレン配管31つまり第1ドレン配管27及び第2ドレン配管の下端に接続されており、水平方向に延びてチューブポンプ39まで延びている。
このような構造により、第1ドレン配管27の下部、第2ドレン配管29の下部、第3ドレン配管31,第4ドレン配管51が、ドレンを貯留可能な貯留部50Bとして機能している。
The
With such a structure, the lower part of the
第2ドレン配管29には、第2安全ポット35の下方において、2個の水位センサが設けられている。高位センサ53と、低位センサ55である。高位センサ53は、第2安全ポット35の下方に近接して配置されている。低位センサ55は、高位センサ53の下方に配置されている。なお、高位センサ53及び低位センサ55は第1ドレン配管27に設けられていてもよい。
The
この実施形態では、制御部43は、チューブポンプ39から第1ドレン配管27及び第2ドレン配管29まで(この実施形態では、貯留部50B)にドレンを貯留可能であるようにチューブポンプ39の駆動を制御する。
In this embodiment, the
次に、前処理装置5のドレン排出制御を説明する。
Next, drain discharge control of the
制御部43は、真空ポンプ25を駆動してサンプルガスを移送しながら、プリクーラ23を駆動する。その際に、制御部43は、チューブポンプ39の駆動を停止状態にする。
The
続いて、制御部43は、高位センサ53がオンしたか否かを判断する。高位センサ53がオンしていれば、制御部43によってチューブポンプ39が駆動される。これにより、貯留部50Bに貯まったドレンは、チューブポンプ39によって、第2排出ドレン配管41に排出される。ここで高位センサ53がオンしたということは、何らかの理由で貯留部50Bに貯まったドレンが十分に排出されず、第1ドレン配管27及び第2ドレン配管29の上部まで水位が上がってきたことを意味する。
高位センサ53がオンしていなければ、チューブポンプ39の停止状態が続く。
Subsequently, the
If the
制御部43は、続いて、高位センサ53がオフしたか否かを判断する。チューブポンプ39の運転を行っても高位センサ53がオフにならないということは、チューブポンプ39が故障又は不調であってドレン排出が十分に行われていないことを意味する。したがって、制御部43は、表示部47にアラート情報を表示する。
Subsequently, the
高位センサ53がオンになっていれば、次に、制御部43は、低位センサ55がオフになったか否かを判断する。
低位センサ55がオフになれば、それは貯留部50Bにおけるドレンの量が少なくなったことを意味するので、制御部43はチューブポンプ39の運転を停止させる。このように貯留部50Bのドレンの量が少なくなるとチューブポンプ39の運転が停止されるので、チューブポンプ39によって形成される貯留部50Bにおけるドレンの枯渇が防止される。
低位センサ55がオフになっていなければ、チューブポンプ39の運転が続けられる。
If the
If the
If the
以上に述べたように、装置運転中のほとんどの時間では、チューブポンプ39が停止状態であり、チューブポンプ39が動作を行うのは高位センサ53がオンになってから低位センサ55がオフになるまでの間だけである。
この実施形態の変形例として、高位センサ53がオンになればチューブポンプ39を所定時間だけ順回転させることでドレンを排出し、低位センサ55がオフになればチューブポンプ39を所定時間だけ逆回転させることで、ドレンをチューブポンプ39の下流側にあるタンク(図示せず)から貯留部50B側に戻す制御がある。
以上述べたように、制御部43は、チューブポンプ39から第1ドレン配管27及び第2ドレン配管29まで(この実施形態では、貯留部50B)にドレンが適切なだけ貯留されるようにしている。つまり、ドレンの溢れと枯渇が生じにくい。
As described above, the
As a modification of this embodiment, if the
As described above, the
この実施形態では、第1及び第2実施形態とは異なり、貯留部50Bには先に水分を貯めておく必要がない。
また、この実施形態では、ドレン配管の数が増えても対応可能である。
In this embodiment, unlike the first and second embodiments, it is not necessary to store moisture in the
Moreover, in this embodiment, it can respond even if the number of drain piping increases.
4.第4実施形態
第3実施形態では、2個の水位センサを用いていたが、1個の水位センサであってもよい。そのような実施形態を第4実施形態として説明する。なお、第3実施形態と同じ構造については説明を省略する。
4). Fourth Embodiment In the third embodiment, two water level sensors are used, but one water level sensor may be used. Such an embodiment will be described as a fourth embodiment. In addition, description is abbreviate | omitted about the same structure as 3rd Embodiment.
図4と同様に第2ドレン配管29には、第2安全ポット35の下方において、高位センサ53が設けられているが、この実施形態では低位センサが省略されている。
As in FIG. 4, the
次に、前処理装置5のドレン排出制御を説明する。
制御部43は、真空ポンプ25を駆動してサンプルガスを移送しながら、プリクーラ23を駆動する。その際に、制御部43は、チューブポンプ39の駆動を停止する。
Next, drain discharge control of the
The
続いて、制御部43は、高位センサ53がオンしたか否かを判断する。高位センサ53がオンしていれば、制御部43によってチューブポンプ39が駆動される。これにより、貯留部50Bに貯まったドレンは、チューブポンプ39によって、第2排出ドレン配管41に排出される。ここで高位センサ53がオンしたということは、何らかの理由で貯留部50Bに貯まったドレンが十分に排出されず、第1ドレン配管27及び第2ドレン配管29の上部まで水位が上がってきたことを意味する。
高位センサ53がオンしていなければ、チューブポンプ39の停止状態が続く。
Subsequently, the
If the
制御部43は、チューブポンプ39を所定時間だけ駆動することで、貯留部50B内のドレンを排出させる。このようにチューブポンプ39の運転は所定時間だけしか行われないので、チューブポンプ39によって形成される貯留部50Bにおけるドレンの枯渇が防止される。
The
制御部43は、続いて、高位センサ53がオフになったか否かを判断する。所定時間運転を行っても高位センサ53がオフにならなかったということは、チューブポンプ39が故障又は不調であってドレン排出が十分に行われていないことを意味する。したがって、その場合は、制御部43は、表示部47にアラート情報を表示する。
高位センサ53がオフになっていれば、制御部43はチューブポンプ39の運転を停止する。
Subsequently, the
If the
5.第5実施形態
チューブポンプによって形成される貯留部におけるドレンの枯渇を防止するために、第3実施形態では低位センサがオフになればチューブポンプの運転を停止し、第4実施形態では所定時間運転した後に高位センサがオフになっていればチューブポンプの運転を停止していた。しかし、チューブポンプによって形成される貯留部におけるドレンの枯渇を防止する必要が無い構造も実現可能である。以下、そのような実施形態を第5実施形態として説明する。
5. Fifth Embodiment To prevent drain depletion in the reservoir formed by the tube pump, the third embodiment stops the operation of the tube pump when the low level sensor is turned off, and the fourth embodiment operates for a predetermined time. If the high-level sensor was turned off after that, the tube pump was stopped. However, it is also possible to realize a structure that does not need to prevent drain depletion in the reservoir formed by the tube pump. Hereinafter, such an embodiment will be described as a fifth embodiment.
図5を用いて、第5実施形態における前処理装置5Dを説明する。なお、第4実施形態と同じ構造については説明を省略する。
A
第1ドレン配管27及び第2ドレン配管29の上部には、第1逆止め弁67及び第2逆止め弁69がそれぞれ設けられている。第1逆止め弁67及び第2逆止め弁69は、ドレンが下方に移動することは許容するが、ドレンの有無にかかわらずサンプルガスが下方に移動することを防止するための弁である。なお、この実施形態では、浮式の逆止め弁を用いて説明するが、同等の機能を有する他の逆止め弁であってもよい。また、この実施形態では、第2逆止め弁69には水位センサ71が設けられている。なお、水位センサは、第1逆止め弁67及び第2逆止め弁69のいずれに又は両方に設けられていてもよい。
A
第1及び第2逆止め弁67、69は、ポット73と、フロート体75とを有している。ポット73は、上下に開口を有する筐体である。フロート体75は、例えば球体であり、ポット73内に配置されている。
The first and
ポット73内にドレンが無い状態では、フロート体75はポット73の下側開口を塞いでいる。
When there is no drain in the
ポット73内にドレンが貯まってくると、フロート体75は、浮き上がり、ポット73の下側開口を開く。これにより、ドレンは、気体封止状態を維持しながら、チューブポンプ39側に流れる。ポット73内でドレンの水位が高くなると、水位センサ71によって検出され、チューブポンプ39が駆動されてドレン排出が行われる。
When drain accumulates in the
この装置では、貯留部50Cに全くドレンが無い状態であっても、ドレンセパレータ21からプリクーラ23までのサンプルガスの回り込みが防止されている。
In this apparatus, the sample gas from the
また、この実施形態では、ポット73内に大量のドレンが溜まった場合には、フロート体75がポット73の上側開口を閉じることで、ドレンのさらなる上昇を防止する。
Further, in this embodiment, when a large amount of drain is accumulated in the
6.第6実施形態
第1〜第5実施形態では、水封状態を実現するためにドレンを一定量貯留した貯留部を用いたが、ドレンを用いた水封構造は他の手段によっても実現される。そのような実施形態として、第6実施形態を説明する。
6). Sixth Embodiment In the first to fifth embodiments, a storage unit storing a certain amount of drain is used to realize a water seal state, but a water seal structure using drain is also realized by other means. . A sixth embodiment will be described as such an embodiment.
図6を用いて、第6実施形態における前処理装置5Dを説明する。なお、第5実施形態と同じ構造については説明を省略する。
A
第1ドレン配管27及び第2ドレン配管29の上部には、第1ボルストンフィルタ57及び第2ボルストンフィルタ59がそれぞれ設けられている。第1ボルストンフィルタ57及び第2ボルストンフィルタ59は、水は通すが気体に大きな抵抗を有する性質を有している。具体的には、第1ボルストンフィルタ57及び第2ボルストンフィルタ59は、スポンジ状の多孔質部材であり、水分を保持できる。
A first bolston filter 57 and a second bolston filter 59 are provided above the
ドレンは、第1ボルストンフィルタ57及び第2ボルストンフィルタ59に供給されると、両者を通って下方に滴下して、チューブポンプ39によって排出される。
その一方、サンプルガスは、ドレンを吸水することで湿った状態になっている第1ボルストンフィルタ57及び第2ボルストンフィルタ59を通過できない。
When the drain is supplied to the first bolston filter 57 and the second bolston filter 59, the drain is dropped downward through the both and is discharged by the
On the other hand, the sample gas cannot pass through the first bolston filter 57 and the second bolston filter 59 that are in a wet state by absorbing the drain.
以上に述べたように、この装置では、サンプルガスは、第1ボルストンフィルタ57及び第2ボルストンフィルタ59によって、ドレンセパレータ21から第1ドレン配管27及び第2ドレン配管29を通ってプリクーラ23まで流れることが防止されている。
As described above, in this apparatus, the sample gas is passed from the
この装置では、チューブポンプ39の上流側に全くドレンが無い状態であっても、サンプルガスの回り込みが防止されている。
なお、本実施形態において、上記の機能を実現するものであれば、ボルストンフィルタ以外のフィルタを利用できる。
この実施形態では、チューブポンプの制御は不要となる。また、ドレン配管が増えた場合でも対応可能である。
In this apparatus, even if there is no drain on the upstream side of the
In the present embodiment, a filter other than the Bolston filter can be used as long as the above function is realized.
In this embodiment, it is not necessary to control the tube pump. In addition, it is possible to cope with an increase in the number of drain pipes.
7.第7実施形態
第1〜第6実施形態では、ドレンを用いた水封構造によってサンプルガスの回り込みを防止していたが、サンプルガスの回り込みを防止することは、他の構造によっても実現可能である。そのような実施形態を第7実施形態として説明する。
7). Seventh Embodiment In the first to sixth embodiments, the sample gas is prevented from wrapping around by the water seal structure using the drain, but the prevention of the sample gas wraparound can be realized by other structures. is there. Such an embodiment will be described as a seventh embodiment.
図7を用いて、第7実施形態における前処理装置5Eを説明する。図7は、ガス分析装置の概略構成図である。なお、第1実施形態と同じ構造については説明を省略する。 A pre-processing device 5E according to the seventh embodiment will be described with reference to FIG. FIG. 7 is a schematic configuration diagram of the gas analyzer. In addition, description is abbreviate | omitted about the same structure as 1st Embodiment.
第1ドレン配管27と第2ドレン配管29の下部には、三方電磁弁61が接続されている。
A three-
より具体的には、三方電磁弁61の第1ポートに第1ドレン配管27が接続され、第2ポートに第2ドレン配管29が接続されている。さらに、三方電磁弁61の第3ポートには、下方に延びるドレン配管63が接続されている。ドレン配管63は、チューブポンプ39に接続されている。チューブポンプ39は、第2排出ドレン配管65にドレンを排出する。
三方電磁弁61は、制御部43によって制御される。
More specifically, the
The three-
制御部43は、第1ドレン配管27とドレン配管63とが接続された第1状態と、第2ドレン配管29とドレン配管63とが接続された第2状態とを、交互に切り換える。切り替えのタイミング及び各状態の時間は、装置及び装置の運転状況に応じて設定可能である。
The
以上に述べたように、この装置では、サンプルガスは、三方電磁弁61によって、ドレンセパレータ21から第1ドレン配管27及び第2ドレン配管29を通ってプリクーラ23まで流れることが防止されている。
この実施形態は、ドレン配管同士の圧力差が大きな場合に適している。
この実施形態では、チューブポンプの制御が不要になる。
As described above, in this apparatus, the sample gas is prevented from flowing from the
This embodiment is suitable when the pressure difference between the drain pipes is large.
In this embodiment, it is not necessary to control the tube pump.
8.実施形態の共通事項
上記の実施形態は、下記の構成が共通である。
ガス分析用前処理装置は、煙道を流れる排ガスをサンプルガスとして吸引し、当該サンプルガスをガス分析部(例えば、ガス分析部11)に供給する前に前処理するための装置である。ガス分析用前処理装置は、第1ドレン抽出装置(例えば、ドレンセパレータ21)と、第2ドレン抽出装置(例えば、プリクーラ23)と、第1ドレン配管(例えば、第1ドレン配管27)及び第2ドレン配管(例えば、第2ドレン配管29)と、ポンプ(チューブポンプ39)と、ガス流入防止構造(例えば、貯留部50、貯留部50A、貯留部50B,貯留部50C、第1ボルストンフィルタ57、第2ボルストンフィルタ59、三方電磁弁61)と、を備えている。
第1ドレン抽出装置(例えば、ドレンセパレータ21)は、サンプルガス中のドレンを抽出する。
第2ドレン抽出装置(例えば、プリクーラ23)は、サンプルガス中のドレンを抽出する。
8). Common Items of Embodiments The above-described embodiments have the following configurations in common.
The pretreatment device for gas analysis is a device for sucking exhaust gas flowing through a flue as a sample gas and pretreating the sample gas before supplying it to a gas analysis unit (for example, the gas analysis unit 11). The pretreatment device for gas analysis includes a first drain extraction device (for example, drain separator 21), a second drain extraction device (for example, precooler 23), a first drain pipe (for example, first drain pipe 27), and a first drain extraction device (for example, precooler 23). 2-drain piping (for example, second drain piping 29), pump (tube pump 39), and gas inflow prevention structure (for example,
The first drain extraction device (for example, the drain separator 21) extracts drain in the sample gas.
The second drain extraction device (for example, the precooler 23) extracts drain in the sample gas.
第1ドレン配管及び第2ドレン配管(例えば、第1ドレン配管27及び第2ドレン配管29)は、第1ドレン抽出装置及び第2ドレン抽出装置から排出されたドレンをそれぞれ排出するための配管であり、上下方向に延びており互いに連通している。
ポンプ(チューブポンプ39)は、入口と出口の圧力差を維持可能であり、第1ドレン配管及び第2ドレン配管から排出されたドレンを送り出す。ポンプは、第1ドレン配管及び第2ドレン配管と連通する。
ガス流入防止構造は、サンプルガスが1の(例えば、第1ドレン抽出装置)抽出装置から第1ドレン配管及び第2ドレン配管を通って他の(例えば、第2ドレン抽出装置)抽出装置まで流れることを防止する。
The first drain pipe and the second drain pipe (for example, the
The pump (tube pump 39) can maintain a pressure difference between the inlet and the outlet, and sends out the drain discharged from the first drain pipe and the second drain pipe. The pump communicates with the first drain pipe and the second drain pipe.
In the gas inflow prevention structure, the sample gas flows from one (for example, the first drain extraction device) extraction device to the other (for example, the second drain extraction device) extraction device through the first drain piping and the second drain piping. To prevent that.
なお、第1〜第7実施形態では、1本のサンプルガス流路に直列に配置された複数のドレン抽出装置を本発明の対象にしていたが、本発明はそれに限定されない。例えば、複数の箇所で採取したサンプルガスを分析部に供給する前処理装置では、並列に配置された複数のサンプルガス流路と、それらからサンプルガスが供給される混合用タンク又は切替弁とを有している。サンプルガス流路各々には複数のドレンセパレータやクーラが設けられている。そして、本発明の実施形態として、各ドレンセパレータやクーラからのドレン配管をまとめてチューブポンプに接続することで、サンプルガス圧下の複数のドレン配管からドレンを大気圧側に排出できるようになる。 In the first to seventh embodiments, a plurality of drain extraction devices arranged in series in one sample gas flow path are targeted for the present invention, but the present invention is not limited thereto. For example, in a pretreatment device that supplies sample gas collected at a plurality of locations to an analysis unit, a plurality of sample gas flow paths arranged in parallel, and a mixing tank or a switching valve to which the sample gas is supplied are provided. Have. Each sample gas flow path is provided with a plurality of drain separators and coolers. As an embodiment of the present invention, the drain pipes from the respective drain separators and coolers are collectively connected to the tube pump, so that the drain can be discharged from the plurality of drain pipes under the sample gas pressure to the atmospheric pressure side.
9.他の実施形態
以上、本発明の一実施形態について説明したが、本発明は上記実施形態に限定されるものではなく、発明の要旨を逸脱しない範囲で種々の変更が可能である。特に、本明細書に書かれた複数の実施形態及び変形例は必要に応じて任意に組み合せ可能である。
第1実施形態及び第2実施形態においては,複数の配管によって貯留部を形成していたが、また、貯留部の機能さえ実現できれば、各ドレン配管の形状、構成は特に限定されない。
9. Other Embodiments Although one embodiment of the present invention has been described above, the present invention is not limited to the above embodiment, and various modifications can be made without departing from the scope of the invention. In particular, a plurality of embodiments and modifications described in this specification can be arbitrarily combined as necessary.
In 1st Embodiment and 2nd Embodiment, although the storage part was formed with several piping, if the function of a storage part is implement | achieved, the shape and structure of each drain pipe will not be specifically limited.
ドレン抽出装置の種類及び数は前記実施形態に限定されない。例えば、ドレン抽出装置の種類の組み合わせは、上記実施形態のようにドレンセパレータとクーラ、ドレンセパレータ同士、クーラ同士、複数のドレンセパレータと複数のクーラ同士であってもよい。
また、
The type and number of drain extraction devices are not limited to the above embodiment. For example, the combination of the types of drain extraction devices may be a drain separator and a cooler, between drain separators, between coolers, or between a plurality of drain separators and a plurality of coolers.
Also,
サンプルガスがドレンセパレータからプリクーラに回り込むことを防止するためには、例えば、ドレンセパレータから延びる第1ドレン配管をキャピラリにしてもよい。
水位確認部は、第3〜第5実施形態のドレン配管に設けてもよい。
In order to prevent the sample gas from flowing from the drain separator to the precooler, for example, the first drain pipe extending from the drain separator may be a capillary.
You may provide a water level confirmation part in the drain piping of 3rd-5th embodiment.
サンプルガスがドレンセパレータからプリクーラに回り込むことを防止するための水封構造として、Sの字又は円形に曲げられたドレン配管からなる排水トラップを用いてもよい。 As a water seal structure for preventing the sample gas from flowing from the drain separator to the precooler, a drain trap made of a drain pipe bent in an S shape or a circle may be used.
上記の実施形態では、第1ドレン配管と第2ドレン配管を接続する第3ドレン配管は、細長い配管であった。しかし、第3ドレン配管は、ドレンタンク、水槽などのドレンを貯留可能な構造であってもよい。 In the above embodiment, the third drain pipe that connects the first drain pipe and the second drain pipe is an elongated pipe. However, the third drain pipe may have a structure capable of storing drain such as a drain tank or a water tank.
本発明は、ガス分析用前処理装置、特に、サンプルガスがガス分析部に到達する前にドレンを除去するためのガス分析用前処理装置に広く適用できる。 The present invention can be widely applied to a pretreatment apparatus for gas analysis, particularly a pretreatment apparatus for gas analysis for removing drain before the sample gas reaches the gas analysis section.
1 :ガス分析装置
3 :プローブ管
5 :ガス分析用前処理装置
11 :ガス分析部
15 :サンプルガス流路
21 :ドレンセパレータ
23 :プリクーラ
25 :真空ポンプ
27 :第1ドレン配管
29 :第2ドレン配管
31 :第3ドレン配管
32 :第5ドレン配管
33 :第1安全ポット
34 :連結配管
35 :第2安全ポット
37 :第4ドレン配管
39 :チューブポンプ
43 :制御部
50 :貯留部
1: Gas analyzer 3: Probe tube 5: Gas analysis pretreatment device 11: Gas analyzer 15: Sample gas flow path 21: Drain separator 23: Precooler 25: Vacuum pump 27: First drain pipe 29: Second drain Piping 31: Third drain piping 32: Fifth drain piping 33: First safety pot 34: Connection piping 35: Second safety pot 37: Fourth drain piping 39: Tube pump 43: Control unit 50: Storage unit
Claims (7)
前記サンプルガス中のドレンを抽出する第1ドレン抽出装置と、
前記サンプルガス中のドレンを抽出する第2ドレン抽出装置と、
前記第1ドレン抽出装置及び前記第2ドレン抽出装置から排出された前記ドレンをそれぞれ排出するための配管であり、上下方向に延びており互いに連通している第1ドレン配管及び第2ドレン配管と、
入口と出口の圧力差を維持可能であり、前記第1ドレン配管及び前記第2ドレン配管から排出された前記ドレンを送り出すための装置であるドレン送出装置と、
前記サンプルガスが前記第1ドレン抽出装置から前記第1ドレン配管及び前記第2ドレン配管を通って前記第2ドレン抽出装置まで流れることを防止するガス流入防止構造と、
を備えたガス分析用前処理装置。 A pretreatment device for gas analysis for sucking a sample gas and processing the sample gas before supplying it to the gas analyzer,
A first drain extraction device for extracting drain in the sample gas;
A second drain extraction device for extracting drain in the sample gas;
A pipe for discharging the drain discharged from the first drain extraction device and the second drain extraction device, respectively, and a first drain pipe and a second drain pipe extending in the vertical direction and communicating with each other; ,
A drain sending device that is capable of maintaining a pressure difference between the inlet and the outlet, and is a device for sending out the drain discharged from the first drain pipe and the second drain pipe;
A gas inflow prevention structure for preventing the sample gas from flowing from the first drain extraction device to the second drain extraction device through the first drain piping and the second drain piping;
A pretreatment device for gas analysis.
前記ドレン送出装置にまで延び、前記第1ドレン配管、前記第2ドレン配管、及び前記第3ドレン配管の少なくとも1つと接続されている第4ドレン配管と、をさらに備えている、請求項1〜3のいずれかに記載のガス分析用前処理装置。 A third drain pipe connecting the first drain pipe and the second drain pipe;
A fourth drain pipe extending to the drain delivery device and connected to at least one of the first drain pipe, the second drain pipe, and the third drain pipe, further comprising: 4. The pretreatment device for gas analysis according to any one of 3 above.
ガス分析部と、
を備えたガス分析装置。 A pretreatment device for gas analysis according to any one of claims 1 to 6,
A gas analyzer,
Gas analyzer equipped with.
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