KR102275704B1 - Touch panel and manufacturing method thereof - Google Patents

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KR102275704B1
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김재현
양명수
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엘지디스플레이 주식회사
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Abstract

본 발명은 터치 패널 및 그 제조 방법을 개시한다. 개시된 본 발명의 터치 패널은, 기판 상에 터치 메쉬 패턴으로 형성된 터치 전극을 포함하고, 상기 터치 메쉬 패턴은 다수의 나노 와이어 및 상기 나노 와이어 상에 형성된 코팅층으로 이루어진 것을 특징으로 한다.
따라서, 본 발명에 따른 터치 패널 및 그 제조 방법은, 저 저항을 가지며 RC 지연시간이 없고, 패턴이 육안으로 인식되지 않으며, 대면적에 적용할 수 있다. 또한, 나노 와이어를 사용함으로써 무아레 현상을 개선하고, 메쉬 패턴으로 형성하여 밀키 현상을 개선하고, 나노 와이어 상에 코팅층을 형성하여 나노 와이어 중첩영역에 발생하는 저항을 감소하고, 나노 와이어의 접착력을 향상시킬 수 있다. 이러한, 터치 패널 및 그 제조 방법은 플렉서블 표시장치에 적용할 수 있다.
The present invention discloses a touch panel and a method for manufacturing the same. The disclosed touch panel of the present invention includes a touch electrode formed in a touch mesh pattern on a substrate, and the touch mesh pattern is characterized in that it consists of a plurality of nanowires and a coating layer formed on the nanowires.
Therefore, the touch panel and its manufacturing method according to the present invention have low resistance, no RC delay time, no pattern recognized by the naked eye, and can be applied to a large area. In addition, the moire phenomenon is improved by using nanowires, the milky phenomenon is improved by forming a mesh pattern, and a coating layer is formed on the nanowires to reduce the resistance generated in the nanowire overlapping area, and improve the adhesion of the nanowires. can do it Such a touch panel and a method for manufacturing the same can be applied to a flexible display device.

Description

터치 패널 및 그 제조 방법{Touch panel and manufacturing method thereof}Touch panel and manufacturing method thereof

본 발명은 터치 패널 및 그 제조 방법에 관한 것으로, 보다 구체적으로는 밀키(milky) 현상 및 무아레(moire) 현상을 방지하고, 저 저항으로 대면적에 적용할 수 있으며, 플렉서블 표시장치에 적용이 가능한 터치 전극을 갖는 터치 패널 및 그 제조 방법에 관한 것이다.
The present invention relates to a touch panel and a method for manufacturing the same, and more particularly, to prevent a milky phenomenon and a moire phenomenon, to be applied to a large area with low resistance, and to be applicable to a flexible display device. It relates to a touch panel having a touch electrode and a method for manufacturing the same.

최근 정보화 사회가 발전함에 따라 디스플레이 분야에 대한 요구도 다양한 형태로 증가하고 있으며, 이에 부응하여 박형화, 경량화, 저소비 전력화 등의 특징을 지닌 여러 평판 표시 장치(Flat Panel Display device), 예를 들어, 액정표시장치(Liquid Crystal Display device), 플라즈마표시장치(Plasma Display Panel device), 전기발광표시장치(Electro Luminescent Display device) 등이 연구되고 있다.Recently, as the information society develops, the demand for the display field is also increasing in various forms, and in response to this, various flat panel display devices with characteristics such as thinness, light weight, and low power consumption, for example, liquid crystal A liquid crystal display device, a plasma display panel device, an electroluminescent display device, and the like are being studied.

또한, 상기 표시 장치 상에 부착되어 화면에 나타난 지시 내용을 사람의 손 또는 물체로 선택하여 사용자의 명령을 입력할 수 있도록 한 입력장치인 터치 패널(touch panel)이 각광받고 있다. 터치 패널은 표시 장치의 전면(front face)에 구비되어 사람의 손 또는 물체에 직접 접촉된 접촉위치를 전기적 신호로 변환한다. In addition, a touch panel as an input device that is attached to the display device and allows a user's command to be input by selecting instructions displayed on a screen with a human hand or an object is in the spotlight. The touch panel is provided on the front face of the display device and converts a contact position in direct contact with a person's hand or an object into an electrical signal.

이에 따라, 접촉위치에서 선택된 지시 내용이 입력신호로 받아들여진다. 이와 같은 터치 패널은 키보드 및 마우스와 같이 영상표시장치에 연결되어 동작하는 별도의 입력장치를 대체할 수 있기 때문에 그 이용범위가 점차 확장되고 있는 추세이다.Accordingly, the instruction content selected at the contact position is accepted as an input signal. Since such a touch panel can replace a separate input device connected to an image display device and operated, such as a keyboard and a mouse, the range of its use is gradually expanding.

이러한 터치 패널의 전극은 표시 장치의 전면에 형성되어야 하므로 일반적으로 잘 알려진 투명전극으로는 ITO(Indium doped Tin Oxide)가 사용된다. 하지만, ITO 전극의 경우, 많은 문제점이 있다. 우선 ITO 전극은 고저항의 특성을 보인다. 이러한 고저항으로 인해, ITO 전극은 대면적화의 한계가 있으며, 저항(R)과 캐패시턴스(C)의 영향을 받는 RC 지연시간(delay time)이 발생한다.Since the electrode of the touch panel should be formed on the front surface of the display device, indium doped tin oxide (ITO) is generally used as a well-known transparent electrode. However, in the case of the ITO electrode, there are many problems. First, the ITO electrode exhibits high resistance characteristics. Due to such a high resistance, the ITO electrode has a limitation of increasing the area, and an RC delay time that is affected by the resistance (R) and the capacitance (C) occurs.

또한, ITO 전극은 전극의 경계에서 반사율 차이로 인해 육안으로 패턴이 인식되는 문제가 있다. 또한, ITO 전극은 단단한 소재로써, 표시장치의 구성에 일정한 곡률을 유지하는 곡면형 패널을 포함하는 표시장치와 플라스틱 등과 같은 유연성 있는 재료를 사용하여 형성하는 플렉서블(flexible) 표시장치에 적용하기 어려운 문제점이 있다. 또한, ITO를 구성하는 인듐 소재의 희소성과 ITO 코팅을 위해서는 스퍼터링 또는 화학증착법과 같은 진공 공정이 필수적이어서, 제조공정비용이 비교적 높은 편이다. In addition, the ITO electrode has a problem in that the pattern is recognized with the naked eye due to a difference in reflectance at the boundary of the electrode. In addition, since the ITO electrode is a hard material, it is difficult to apply it to a display device including a curved panel that maintains a constant curvature in the configuration of the display device, and a flexible display device formed using a flexible material such as plastic. There is this. In addition, since the scarcity of the indium material constituting ITO and the vacuum process such as sputtering or chemical vapor deposition are essential for ITO coating, the manufacturing process cost is relatively high.

이러한 ITO 전극의 문제점을 개선하기 위해, 금속 메쉬(mesh) 패턴 전극이 연구되고 있다. 하지만, 금속 메쉬(mesh) 패턴 전극은 무아레(moire) 현상이 발생하는 문제점이 있다. 마이크로미터(㎛) 단위로 형성되는 금속 메쉬 패턴은 금속의 전반사 특성에 의해 무아레(moire) 현상을 피할 수 없다.In order to improve the problems of these ITO electrodes, a metal mesh (mesh) pattern electrode has been studied. However, the metal mesh pattern electrode has a problem in that a moire phenomenon occurs. The metal mesh pattern formed in micrometers (㎛) cannot avoid the moire phenomenon due to the total reflection characteristics of the metal.

또한, 이러한 ITO 전극의 문제점을 개선하기 위해 은(Ag) 나노 와이어 전극을 사용할 수 있다. 은 나노 와이어를 사용한 전극은 은 나노 와이어들이 네트워크화되어 서로 그물망처럼 연결되어 형성되고, 높은 전기전도도 특성과 80~90% 이상의 투명도 특성을 유지할 수 있는 장점이 있다. In addition, a silver (Ag) nanowire electrode may be used to improve the problems of the ITO electrode. Electrodes using silver nanowires have advantages in that silver nanowires are networked and connected to each other like a mesh, and can maintain high electrical conductivity and transparency of 80 to 90% or more.

하지만, 은 나노 와이어 전극은 높은 헤이즈(haze) 특성을 보인다. 이러한 헤이즈 특성이 높게 나타남과 동시에 나노 와이어의 곡면에서는 광산란이 발생하여 밀키(milky) 현상이 발생한다. 밀키 현상이란, 은 나노 와이어에서 광이 반사되어 블랙 상태에서 온전한 블랙이 이루어지지 않는 현상이다.However, the silver nanowire electrode exhibits high haze characteristics. This haze characteristic is high, and at the same time, light scattering occurs on the curved surface of the nanowire, resulting in a milky phenomenon. The milky phenomenon is a phenomenon in which light is reflected from the silver nanowire and thus complete black is not achieved in a black state.

또한, 은 나노 와이어가 중첩되는 영역에서 콘택 저항이 발생한다. 즉, 중첩되는 나노 와이어가 하나의 물질로 인식되지 않고, 각각의 나노 와이어가 하나의 물질로 인식되어 중첩영역에서 저항이 발생하는 문제점이 있다.
In addition, contact resistance occurs in the region where the silver nanowires overlap. That is, there is a problem in that the overlapping nanowires are not recognized as a single material, and each nanowire is recognized as a single material, resulting in resistance in the overlapping region.

본 발명은 저 저항을 가지며 RC 지연시간이 없고, 패턴이 육안으로 인식되지 않으며, 대면적에 적용할 수 있는 터치 패널 및 그 제조 방법을 제공하는데 목적이 있다.An object of the present invention is to provide a touch panel having a low resistance, no RC delay time, a pattern not recognized by the naked eye, and applicable to a large area, and a method for manufacturing the same.

또한, 본 발명은 나노 와이어를 사용함으로써 무아레 현상을 개선하고, 메쉬 패턴으로 형성하여 밀키 현상을 개선하고, 나노 와이어 상에 코팅층을 형성하여 나노 와이어 중첩영역에 발생하는 저항을 감소하고, 나노 와이어의 접착력을 향상시킨 터치 전극을 포함하는 터치 패널 및 그 제조 방법을 제공하는데 다른 목적이 있다.In addition, the present invention improves the moire phenomenon by using a nanowire, improves the milky phenomenon by forming a mesh pattern, and reduces the resistance generated in the nanowire overlapping area by forming a coating layer on the nanowire, Another object of the present invention is to provide a touch panel including a touch electrode having improved adhesion and a method for manufacturing the same.

또한, 본 발명은 플렉서블 표시장치에 적용할 수 있는 터치 패널 및 그 제조 방법을 제공하는데 또 다른 목적이 있다.
Another object of the present invention is to provide a touch panel applicable to a flexible display device and a method for manufacturing the same.

상기와 같은 종래 기술의 과제를 해결하기 위한 본 발명의 터치 패널은, 기판 상에 터치 메쉬 패턴으로 형성된 터치 전극을 포함하고, 상기 터치 메쉬 패턴은 다수의 나노 와이어 및 상기 나노 와이어 상에 형성된 코팅층으로 이루어진 것을 특징으로 한다.The touch panel of the present invention for solving the problems of the prior art as described above includes a touch electrode formed in a touch mesh pattern on a substrate, and the touch mesh pattern includes a plurality of nanowires and a coating layer formed on the nanowires. characterized by being made.

또한, 본 발명의 터치패널의 제조 방법은, 기판 상에 나노 와이어를 형성하는 단계; 상기 나노 와이어 상에 코팅층을 형성하는 단계; 및 상기 나노 와이어 및 코팅층을 식각하여 터치 메쉬 패턴을 형성하고, 상기 터치 메쉬 패턴을 포함하는 터치 전극 형성하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 한다.
In addition, the manufacturing method of the touch panel of the present invention comprises the steps of forming a nanowire on a substrate; forming a coating layer on the nanowire; and forming a touch mesh pattern by etching the nanowire and the coating layer, and forming a touch electrode including the touch mesh pattern.

본 발명에 따른 터치 패널 및 그 제조 방법은, 저 저항을 가지며 RC 지연시간이 없고, 패턴이 육안으로 인식되지 않으며, 대면적에 적용할 수 있는 제 1 효과가 있다.The touch panel and its manufacturing method according to the present invention have a first effect that has a low resistance, no RC delay time, a pattern is not recognized with the naked eye, and can be applied to a large area.

또한, 본 발명에 따른 터치 패널 및 그 제조 방법은, 나노 와이어를 사용함으로써 무아레 현상을 개선하고, 메쉬 패턴으로 형성하여 밀키 현상을 개선하고, 나노 와이어 상에 코팅층을 형성하여 나노 와이어 중첩영역에 발생하는 저항을 감소하고, 나노 와이어의 접착력을 향상시킨 터치 전극을 포함하는 제 2 효과가 있다.In addition, the touch panel and its manufacturing method according to the present invention improve the moire phenomenon by using nanowires, improve the milky phenomenon by forming a mesh pattern, and form a coating layer on the nanowires to occur in the overlapping area of the nanowires There is a second effect including a touch electrode that reduces the resistance and improves the adhesion of the nanowire.

또한, 본 발명에 따른 터치 패널 및 그 제조 방법은, 플렉서블 표시장치에 적용할 수 있는 제 3 효과가 있다.
In addition, the touch panel and the method for manufacturing the same according to the present invention have a third effect that can be applied to a flexible display device.

도 1은 본 발명의 제 1 실시예에 따른 터치 패널을 도시한 도면이다.
도 2는 본 발명의 제 1 실시예에 따른 터치 전극을 도시한 도면이다.
도 3은 본 발명의 제 2 실시예에 따른 터치 패널을 도시한 도면이다.
도 4는 본 발명의 제 2 실시예에 따른 터치 전극을 도시한 도면이다.
도 5는 본 발명의 제 3 실시예에 따른 터치 메쉬 패턴의 평면도를 도시한 도면이다.
도 6은 본 발명의 제 3 실시예에 따른 터치 메쉬 패턴의 단면도를 도시한 도면이다.
도 7a 내지 도 7d는 본 발명의 제 3 실시예에 따른 터치 메쉬 패턴의 제조 방법을 도시한 도면이다.
도 8은 본 발명의 제 4 실시예에 따른 터치 메쉬 패턴의 평면도를 도시한 도면이다.
도 9는 본 발명의 제 4 실시예에 따른 터치 메쉬 패턴의 단면도를 도시한 도면이다.
도 10a 및 도 10b는 본 발명의 제 4 실시예에 따른 터치 메쉬 패턴의 제조 방법을 도시한 도면이다.
1 is a view showing a touch panel according to a first embodiment of the present invention.
2 is a diagram illustrating a touch electrode according to a first embodiment of the present invention.
3 is a diagram illustrating a touch panel according to a second embodiment of the present invention.
4 is a diagram illustrating a touch electrode according to a second embodiment of the present invention.
5 is a diagram illustrating a plan view of a touch mesh pattern according to a third embodiment of the present invention.
6 is a cross-sectional view illustrating a touch mesh pattern according to a third embodiment of the present invention.
7A to 7D are diagrams illustrating a method of manufacturing a touch mesh pattern according to a third embodiment of the present invention.
8 is a diagram illustrating a plan view of a touch mesh pattern according to a fourth embodiment of the present invention.
9 is a diagram illustrating a cross-sectional view of a touch mesh pattern according to a fourth embodiment of the present invention.
10A and 10B are diagrams illustrating a method of manufacturing a touch mesh pattern according to a fourth embodiment of the present invention.

이하, 본 발명의 실시예들은 도면을 참고하여 상세하게 설명한다. 다음에 소개되는 실시예들은 당업자에게 본 발명의 사상이 충분히 전달될 수 있도록 하기 위해 예로서 제공되는 것이다. 따라서, 본 발명은 이하 설명되는 실시예들에 한정되지 않고 다른 형태로 구체화될 수도 있다. 그리고 도면들에 있어서, 장치의 크기 및 두께 등은 편의를 위하여 과장되어 표현될 수도 있다. 명세서 전체에 걸쳐서 동일한 참조번호들은 동일한 구성요소들을 나타낸다.
Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings. The embodiments introduced below are provided as examples so that the spirit of the present invention can be sufficiently conveyed to those skilled in the art. Accordingly, the present invention is not limited to the embodiments described below and may be embodied in other forms. And in the drawings, the size and thickness of the device may be exaggerated for convenience. Like reference numerals refer to like elements throughout.

도 1은 본 발명의 제 1 실시예에 따른 터치 패널을 도시한 도면이다.1 is a view showing a touch panel according to a first embodiment of the present invention.

도 1을 참조하면, 투명한 기판(30) 상에 제 1 터치전극(Tx) 및 제 2 터치 전극(Rx)이 형성된다. 또한, 상기 제 1 터치전극(Tx) 및 제 2 터치 전극(Rx)과 패드 전극을 연결하는 연결 배선(20)이 형성된다. 즉, 상기 제 1 터치전극(Tx) 및 제 2 터치 전극(Rx)은 패드 전극 및 연결 배선(20)을 통해 외부 장치로부터 신호를 인가받거나 외부로 신호를 인가할 수 있다.Referring to FIG. 1 , a first touch electrode Tx and a second touch electrode Rx are formed on a transparent substrate 30 . In addition, a connection wire 20 connecting the first and second touch electrodes Tx and Rx to the pad electrode is formed. That is, the first touch electrode Tx and the second touch electrode Rx may receive a signal from an external device or externally apply a signal through the pad electrode and the connection wire 20 .

상기 기판(30)은 투명한 재질로 형성되며, 절연기판으로 유리로 형성될 수 있다. 또한, 플렉서블 표시장치에 적용하기 위하여, 플라스틱 또는 금속 박막 등 유연한 특성을 갖는 재료로 형성될 수 있다. The substrate 30 is formed of a transparent material, and may be formed of glass as an insulating substrate. In addition, in order to be applied to a flexible display device, it may be formed of a material having flexible characteristics, such as plastic or a metal thin film.

상기 제 1 터치전극(Tx) 및 제 2 터치 전극(Rx)은 마름모 형상으로 형성된 센서부를 포함할 수 있다. 또한, 상기 마름모 형상의 센서부를 연결하는 브릿지 구조의 연결부를 포함할 수 있다. 상기 제 1 터치전극(Tx)과 제 2 터치 전극(Rx)의 센서부는 서로 같은 크기 또는 서로 다른 크기로 형성될 수 있다. The first touch electrode Tx and the second touch electrode Rx may include a sensor unit formed in a rhombus shape. In addition, it may include a connection part having a bridge structure that connects the rhombus-shaped sensor part. The sensor units of the first touch electrode Tx and the second touch electrode Rx may be formed to have the same size or different sizes.

터치 패널의 전극부인 상기 제 1 터치전극(Tx) 및 제 2 터치 전극(Rx)이 마름모 구조의 센서부를 포함함으로써, 전극부를 기판(30)의 단면에 형성할 수 있다. 기판(30)의 단면에 제 1 터치전극(Tx) 및 제 2 터치 전극(Rx)이 형성되는 경우, 터치 패널을 얇게 형성할 수 있다. 또한, 본 발명에 따른 터치 패널은 플렉서블 표시장치에 적용할 수 있다.Since the first touch electrode Tx and the second touch electrode Rx, which are electrode portions of the touch panel, include the sensor portion having a rhombus structure, the electrode portion may be formed on the end surface of the substrate 30 . When the first touch electrode Tx and the second touch electrode Rx are formed on the end surface of the substrate 30 , the touch panel may be thinly formed. Also, the touch panel according to the present invention can be applied to a flexible display device.

상기 제 1 터치전극(Tx) 및 제 2 터치전극(Rx)은 터치 메쉬(mesh) 패턴으로 형성될 수 있다. 이를 A영역을 확대하여 자세히 검토하면 다음과 같다.The first touch electrode Tx and the second touch electrode Rx may be formed in a touch mesh pattern. The following is a detailed review of this by expanding area A.

도 2는 본 발명의 제 1 실시예에 따른 터치 전극을 도시한 도면이다.2 is a diagram illustrating a touch electrode according to a first embodiment of the present invention.

도 2를 참조하면, 제 1 터치전극(Tx) 및 제 2 터치전극(Rx)는 마름모 형상의 센서부 및 상기 센서부를 연결하는 브릿지 구조의 연결부를 포함한다. 상기 마름모 형상의 센서부는 터치 메쉬 패턴으로 형성된다. 또한, 상기 센서부만 터치 메쉬 패턴으로 형성되거나, 상기 제 1 터치전극(Tx) 및 제 2 터치전극(Rx)의 연결부도 터치 메쉬 패턴으로 형성될 수 있다. Referring to FIG. 2 , the first touch electrode Tx and the second touch electrode Rx include a rhombus-shaped sensor unit and a bridge structure connecting the sensor unit. The rhombus-shaped sensor unit is formed in a touch mesh pattern. In addition, only the sensor unit may be formed in a touch mesh pattern, or a connection portion of the first touch electrode Tx and the second touch electrode Rx may also be formed in a touch mesh pattern.

상기 터치 메쉬 패턴은 외부 라인 패턴 및 내부 라인 패턴을 포함한다. 즉, 터치 메쉬 패턴이란, 외각부를 형성하는 외부 라인 패턴과 상기 외부 라인 패턴 내부를 교차구조로 연결하는 내부 라인 패턴을 포함하는 구조로 정의한다. The touch mesh pattern includes an outer line pattern and an inner line pattern. That is, the touch mesh pattern is defined as a structure including an outer line pattern forming an outer shell and an inner line pattern connecting the inside of the outer line pattern in a cross structure.

본 발명의 제 1 실시예에 따른 제 1 터치전극(Tx) 및 제 2 터치전극(Rx)은 외부 라인 패턴이 마름모 형상으로 형성되고, 그 내부에 그물망과 같이 내부 라인 패턴이 형성된다. 상기 내부 라인 패턴은 망구조를 이루며 교차하도록 형성된다. 상기 내부 라인 패턴의 교차영역에서 교차 각도 및 선폭은 조절이 가능하다. In the first touch electrode Tx and the second touch electrode Rx according to the first embodiment of the present invention, an outer line pattern is formed in a rhombus shape, and an inner line pattern like a mesh is formed therein. The inner line patterns are formed to cross each other while forming a network structure. The intersection angle and line width in the intersection area of the inner line pattern can be adjusted.

도 3은 본 발명의 제 2 실시예에 따른 터치 패널을 도시한 도면이다.3 is a diagram illustrating a touch panel according to a second embodiment of the present invention.

도 3을 참조하면, 투명한 기판(30) 상에 제 1 터치전극(Tx) 및 제 2 터치 전극(Rx)이 형성된다. 또한, 상기 제 1 터치전극(Tx) 및 제 2 터치 전극(Rx)과 패드 전극을 연결하는 연결 배선(20)이 형성된다. 즉, 상기 제 1 터치전극(Tx) 및 제 2 터치 전극(Rx)은 패드 전극 및 연결 배선(20)을 통해 외부 장치로부터 신호를 인가받거나 외부로 신호를 인가할 수 있다.Referring to FIG. 3 , a first touch electrode Tx and a second touch electrode Rx are formed on the transparent substrate 30 . In addition, a connection wire 20 connecting the first and second touch electrodes Tx and Rx to the pad electrode is formed. That is, the first touch electrode Tx and the second touch electrode Rx may receive a signal from an external device or externally apply a signal through the pad electrode and the connection wire 20 .

상기 기판(30)은 빛 투과율이 우수한 투명한 재질로 형성되며, 절연기판으로 유리로 형성될 수 있다. 또한, 플렉서블 표시장치에 적용하기 위하여, 플라스틱 또는 금속 박막 등 유연한 특성을 갖는 재료로 형성될 수 있다. The substrate 30 is formed of a transparent material having excellent light transmittance, and may be formed of glass as an insulating substrate. In addition, in order to be applied to a flexible display device, it may be formed of a material having flexible characteristics, such as plastic or a metal thin film.

상기 제 1 터치전극(Tx) 및 제 2 터치 전극(Rx)은 바(bar) 형상의 센서부를 포함할 수 있다. 도면 상에는 제 1 터치전극(Tx)은 일 방향으로 하나의 전극이 연장되어 형성되고, 제 2 터치전극(Rx)은 제 1 터치전극(Rx)과 동일한 방향으로 연장되는 다수개의 바 형태로 형성되나, 이에 한정되지 않으며, 제 1 터치전극(Tx) 및 제 2 터치 전극(Rx)이 바 형상으로 형성되면 족하다. C 영역을 확대하여 자세히 검토하면 다음과 같다.The first touch electrode Tx and the second touch electrode Rx may include a bar-shaped sensor unit. In the drawing, the first touch electrode Tx is formed by extending one electrode in one direction, and the second touch electrode Rx is formed in the form of a plurality of bars extending in the same direction as the first touch electrode Rx. , but is not limited thereto, and it is sufficient if the first touch electrode Tx and the second touch electrode Rx are formed in a bar shape. If we enlarge and examine area C in detail, it is as follows.

도 4는 본 발명의 제 2 실시예에 따른 터치 전극을 도시한 도면이다.4 is a diagram illustrating a touch electrode according to a second embodiment of the present invention.

도 4를 참조하면, 제 1 터치전극(Tx) 및 제 2 터치전극(Rx)은 바 형상의 센서부를 포함한다. 상기 제 1 터치전극(Tx) 및 제 2 터치전극(Rx)의 센서부는 터치 메쉬 패턴으로 형성된다. 상기 터치 메쉬 패턴은 외부 라인 패턴 및 내부 라인 패턴을 포함한다. 즉, 터치 메쉬 패턴이란, 외각부를 형성하는 외부 라인 패턴과 상기 외부 라인 패턴 내부를 교차구조로 연결하는 내부 라인 패턴을 포함하는 구조로 정의한다. Referring to FIG. 4 , the first touch electrode Tx and the second touch electrode Rx include a bar-shaped sensor unit. The sensor portions of the first touch electrode Tx and the second touch electrode Rx are formed in a touch mesh pattern. The touch mesh pattern includes an outer line pattern and an inner line pattern. That is, the touch mesh pattern is defined as a structure including an outer line pattern forming an outer shell and an inner line pattern connecting the inside of the outer line pattern in a cross structure.

본 발명의 제 2 실시예에 따른 제 1 터치전극(Tx) 및 제 2 터치전극(Rx)은 외부 라인 패턴이 바 형상으로 형성되고, 그 내부에 그물망과 같이 내부 라인 패턴이 형성된다. 상기 내부 라인 패턴은 망구조를 이루며 교차하도록 형성된다. 상기 내부 라인 패턴의 교차영역에서 교차 각도 및 선폭은 조절이 가능하다.In the first touch electrode Tx and the second touch electrode Rx according to the second embodiment of the present invention, an outer line pattern is formed in a bar shape, and an inner line pattern like a mesh is formed therein. The inner line patterns are formed to cross each other while forming a network structure. The intersection angle and line width in the intersection area of the inner line pattern can be adjusted.

또한, 터치전극의 형태는 제 1 실시예 및 제 2 실시예에 한정되지 않으며, 터치 패널의 적층 구조에 따라 다양하게 형성될 수 있다. 터치 패널은 그 적층구조에 따라 Add-on 방식, Cover Glass 일체형 및 디스플레이 일체형이 있으며 Add-on 방식으로는 GFF, GF2, GG 등이 있으며 Cover Glass 일체형으로는 G1F, G2 등이 있다. In addition, the shape of the touch electrode is not limited to the first and second embodiments, and may be formed in various ways according to the stacked structure of the touch panel. Depending on the laminated structure of the touch panel, there are Add-on method, Cover Glass integrated type, and Display integrated type. Add-on method includes GFF, GF2, GG, and Cover Glass integrated type such as G1F, G2.

GFF는 가장 일반적인 터치 패널로서, X축 좌표값을 감지하는 Rx 패턴을 박막 적층한 PET 필름과 Y축 좌표값을 감지하는 Tx 패턴을 박막 적층 PET 필름 2장을 커버유리 밑면에 적층하여 형성된 구조를 말한다. GF2는 PET 필름 윗면과 밑면에 Rx 패턴과 Tx 패턴을 박막을 박막 증착하여 커버유리 밑면에 적층하여 형성된 구조를 말한다. GG는 ITO 필름 대신에 유리(Glass)로 된 투명기판의 윗면과 밑면에 Rx 패턴과 Tx 패턴을 박막을 박막 증착하여 커버유리 밑면에 적층하여 형성된 구조를 말한다.GFF is the most common touch panel. It has a structure formed by laminating a PET film in which an Rx pattern for sensing X-axis coordinate values is laminated and a Tx pattern for sensing a Y-axis coordinate value by laminating two thin-film PET films on the underside of the cover glass. say GF2 refers to a structure formed by depositing thin films of Rx and Tx patterns on the upper and lower surfaces of PET film and stacking them on the bottom of the cover glass. GG refers to a structure formed by depositing a thin film of Rx pattern and Tx pattern on the top and bottom of a transparent substrate made of glass instead of ITO film and stacking it on the bottom of the cover glass.

본 발명에 따른 터치 패널은 다양한 구조가 적용될 수 있으며, 적용하는 구조에 따라 터치 전극의 형태는 다양하게 형성될 수 있다. 이때, 본 발명에 따른 터치 패널은 터치 메쉬 패턴을 포함하는 터치 전극을 포함하는 것을 특징으로 한다. 상기 터치 메쉬 패턴은 외부 라인 패턴 및 내부 라인 패턴을 포함한다. 상기 외부 라인 패턴은 터치 전극의 외각부를 형성하고, 상기 내부 라인 패턴은 상기 외부 라인 패턴 내부를 교차 구조로 연결하여 망 구조를 이루도록 형성된다. Various structures may be applied to the touch panel according to the present invention, and the shape of the touch electrode may be formed in various ways according to the applied structure. In this case, the touch panel according to the present invention is characterized in that it includes a touch electrode including a touch mesh pattern. The touch mesh pattern includes an outer line pattern and an inner line pattern. The outer line pattern forms an outer portion of the touch electrode, and the inner line pattern is formed to form a network structure by connecting the inside of the outer line pattern in a cross structure.

상기 외부 라인 패턴과 내부 패턴 라인을 포함하는 터치 메쉬 패턴은 나노 와이어와 코팅층이 적층되어 형성된다. 도 2 및 도 4에 개시된 터치 전극의 터치 메쉬 패턴의 일 단위 패턴(B)을 확대하여 자세히 검토하면 다음과 같다.The touch mesh pattern including the outer line pattern and the inner pattern line is formed by stacking nanowires and a coating layer. A detailed review of the one-unit pattern (B) of the touch mesh pattern of the touch electrode disclosed in FIGS. 2 and 4 is as follows.

도 5는 본 발명의 제 3 실시예에 따른 터치 메쉬 패턴의 평면도를 도시한 도면이다. 도 6은 본 발명의 제 3 실시예에 따른 터치 메쉬 패턴의 단면도를 도시한 도면이다.5 is a diagram illustrating a plan view of a touch mesh pattern according to a third embodiment of the present invention. 6 is a cross-sectional view illustrating a touch mesh pattern according to a third embodiment of the present invention.

도 5 및 도 6을 참조하면, 터치 전극의 터치 메쉬 패턴(100)의 일 단위 패턴(B)이 개시되어 있다. 도면 상에서 상기 일 단위 패턴(B)이 마름모 형상으로 개시되어 있으나, 이에 제한되지 않는다. 상기 일 단위 패턴(B)은 원, 삼각형 및 다각형 등 다양한 형상으로 형성될 수 있으며, 다수의 단위 패턴(B)이 그물망 구조의 메쉬 패턴을 이루면 족하다.5 and 6 , a one-unit pattern B of the touch mesh pattern 100 of the touch electrode is disclosed. Although the one-unit pattern B is illustrated in a rhombus shape in the drawings, the present invention is not limited thereto. The one unit pattern (B) may be formed in various shapes such as circles, triangles, and polygons, and it is sufficient if a plurality of unit patterns (B) form a mesh pattern of a mesh structure.

상기 터치 메쉬 패턴(100)은 나노 와이어(101)와 코팅층(102)으로 이루어 진다. 상기 코팅층(102)은 상기 나노 와이어(101) 상에 형성된다. 이때, 도 6을 참조하면, 상기 코팅층(102)은 기판(30) 및 상기 나노 와이어(101) 상에 형성되는 필름(film)일 수 있다. 이때, 상기 코팅층(102)의 폭은 터치 메쉬 패턴(100)의 선폭과 동일하게 형성될 수 있다.The touch mesh pattern 100 includes a nanowire 101 and a coating layer 102 . The coating layer 102 is formed on the nanowire 101 . In this case, referring to FIG. 6 , the coating layer 102 may be a film formed on the substrate 30 and the nanowire 101 . In this case, the width of the coating layer 102 may be formed to be the same as the line width of the touch mesh pattern 100 .

상기 코팅층(102)은 상기 나노 와이어(101)의 접착력을 확보하고, 상기 나노 와이어(101) 중첩영역에서 형성되는 콘택 저항을 감소할 수 있다. 다수의 나노 와이어들이 중첩되면 중첩되는 영역에서 콘택 저항이 발생한다. 즉, 중첩되는 나노 와이어가 하나의 물질로 인식되지 않고, 각각의 나노 와이어가 하나의 물질로 인식되어 중첩영역에서 저항이 발생한다. The coating layer 102 may secure adhesion of the nanowire 101 and reduce contact resistance formed in the overlapping area of the nanowire 101 . When a plurality of nanowires are overlapped, contact resistance is generated in the overlapping region. That is, the overlapping nanowires are not recognized as a single material, but each nanowire is recognized as a single material, resulting in resistance in the overlapping region.

상기 코팅층(102)은 나노 와이어(101)의 중첩영역에서도 형성됨으로써, 상기 나노 와이어(101)가 일 물질로 인식되도록 하며, 콘택 저항을 감소할 수 있다. 이로 인해, 나노 와이어(101)만으로 이루어진 터치 전극과 비교하여 저항을 보다 더 감소할 수 있다. 500RPM에서 은(Ag) 나노 와이어를 형성할 경우, 저항이 24Ω/sq이며, 500RPM에서 은(Ag) 나노 와이어와 GZO 코팅층을 적층하여 형성할 경우, 저항이 11Ω/sq임을 확인하였다.The coating layer 102 is also formed in the overlapping region of the nanowire 101 , so that the nanowire 101 is recognized as a single material, and contact resistance can be reduced. For this reason, the resistance can be further reduced compared to the touch electrode made of only the nanowire 101 . When the silver (Ag) nanowire is formed at 500 RPM, the resistance is 24 Ω/sq, and when the silver (Ag) nanowire and the GZO coating layer are laminated at 500 RPM, the resistance is 11 Ω/sq.

상기 코팅층(102)은 은(Ag) 또는 투명전도막(transparent conductive oxide;TCO)으로 형성될 수 있다. 상기 투명전도막은 예를 들면 ITO, GZO, AZO 및 FTO 등일 수 있으며, 이에 한정되지는 않는다. The coating layer 102 may be formed of silver (Ag) or a transparent conductive oxide (TCO). The transparent conductive film may be, for example, ITO, GZO, AZO, and FTO, but is not limited thereto.

상기 코팅층(102)의 두께는 투과율이 80% 이상 되도록 형성되어야 한다. 은(Ag)으로 코팅층(102)을 형성하는 경우, 투과율을 고려하여 상기 코팅층(102)은 0nm 초과 10nm 이하의 두께로 형성될 수 있다. 투명전도막으로 코팅층(102)을 형성하는 경우, 상기 코팅층(102)은 0nm 초과 600nm 이하의 두께로 형성될 수 있다.The thickness of the coating layer 102 should be formed so that the transmittance is 80% or more. When the coating layer 102 is formed of silver (Ag), the coating layer 102 may be formed to a thickness of greater than 0 nm and less than or equal to 10 nm in consideration of transmittance. When the coating layer 102 is formed of a transparent conductive film, the coating layer 102 may be formed to a thickness of greater than 0 nm and less than or equal to 600 nm.

상기 나노 와이어(101)는 은(Ag)으로 형성되어 높은 투과도와 낮은 저항을 갖는 전극을 형성할 수 있다. 다수의 은 나노 와이어(101)들은 네트워크화 되어 서로 그물망처럼 연결되어 형성되고, 높은 전기전도도 특성과 80~90% 이상의 투명도 특성을 유지할 수 있는 장점이 있다. The nanowire 101 may be formed of silver (Ag) to form an electrode having high transmittance and low resistance. A plurality of silver nanowires 101 are networked and formed to be connected to each other like a mesh, and there is an advantage in that high electrical conductivity properties and transparency properties of 80 to 90% or more can be maintained.

또한, 일반적인 금속으로 터치 메쉬 패턴을 형성하는 경우, 마이크로미터(㎛) 단위로 형성되는 금속 메쉬 패턴은 금속의 전반사 특성에 의해 무아레(moire) 현상이 발생하는 문제점이 있다. 본 발명에 따른 터치 전극은 나노 와이어(101)로 나노미터(nm) 단위로 금속이 형성되도록 함으로써, 무아레 현상을 개선할 수 있는 효과가 있다.In addition, when the touch mesh pattern is formed of a general metal, the metal mesh pattern formed in units of micrometers (㎛) has a problem in that a moire phenomenon occurs due to the total reflection characteristics of the metal. The touch electrode according to the present invention has the effect of improving the moire phenomenon by allowing the nanowire 101 to form a metal in nanometer (nm) units.

하지만, 상기 나노 와이어(101)로 터치 전극을 형성하는 경우, 나노 와이어 전극은 높은 헤이즈(haze) 특성을 보인다. 이러한 헤이즈 특성이 높게 나타남과 동시에 나노 와이어의 곡면에서는 광산란이 발생하여 밀키(milky) 현상이 발생하는 문제점이 있다. 밀키 현상이란 나노 와이어의 곡면에서 광이 반사되어 블랙 상태에서 온전한 블랙이 이루어지지 않는 현상이다. However, when the touch electrode is formed of the nanowire 101 , the nanowire electrode exhibits high haze characteristics. While such haze characteristics are high, there is a problem in that light scattering occurs on the curved surface of the nanowire, resulting in a milky phenomenon. The milky phenomenon is a phenomenon in which light is reflected from the curved surface of the nanowire and thus complete black is not achieved in a black state.

본 발명에 따른 터치 전극은 일 단위 패턴(B)이 내부가 개구되도록 형성되어 터치 메쉬 패턴(100)으로 형성된다. 이로 인해, 개구 영역에서 반사가 일어나지 않아 헤이즈를 낮출 수 있으며 밀키 현상을 개선할 수 있다. 즉, 본 발명에 따른 터치 메쉬 패턴은 헤이즈를 ITO 전극 수준으로 낮추기 위해 충분한 개구 영역을 확보가 필요하다. 충분한 개구 영역을 확보하기 위해, 상기 터치 메쉬 패턴(100)의 선폭은 4㎛ 이상 75㎛ 이하로 형성될 수 있다.In the touch electrode according to the present invention, the one unit pattern (B) is formed so that the inside is opened to form the touch mesh pattern (100). As a result, reflection does not occur in the opening region, thereby reducing haze and improving the milky phenomenon. That is, the touch mesh pattern according to the present invention needs to secure a sufficient opening area to lower the haze to the level of the ITO electrode. In order to secure a sufficient opening area, the line width of the touch mesh pattern 100 may be formed to be 4 μm or more and 75 μm or less.

종래 고 저항의 ITO 터치 전극은 저항(R)과 캐패시턴스(C)의 영향을 받는 RC 지연시간(delay time)이 발생하는 문제가 있다. 상기 나노 와이어(101)를 포함한 터치 메쉬 패턴(100)으로 터치 전극을 형성하는 경우, ITO 터치 전극과 대비하여 저 저항의 전극을 형성할 수 있다. 또한, 본 발명에 따른 터치 전극은 터치 메쉬 패턴(100)으로 형성되어 개구 영역이 형성되므로 캐패시턴스도 줄일 수 있다. 따라서, 본 발명에 따른 터치 패널의 RC 지연시간은 ITO 전극으로 터치 전극을 형성할 때의 RC 지연시간의 12% 이하로 형성할 수 있다.Conventional high-resistance ITO touch electrodes have a problem in that the RC delay time that is affected by the resistance (R) and the capacitance (C) occurs. When the touch electrode is formed of the touch mesh pattern 100 including the nanowire 101 , an electrode having a low resistance may be formed in comparison with the ITO touch electrode. In addition, since the touch electrode according to the present invention is formed of the touch mesh pattern 100 to form an opening region, capacitance can also be reduced. Therefore, the RC delay time of the touch panel according to the present invention can be formed to be 12% or less of the RC delay time when the touch electrode is formed with the ITO electrode.

도 7a 내지 도 7d는 본 발명의 제 3 실시예에 따른 터치 메쉬 패턴의 제조 방법을 도시한 도면이다.7A to 7D are diagrams illustrating a method of manufacturing a touch mesh pattern according to a third embodiment of the present invention.

도 7a를 참조하면, 기판(30) 상에 나노 와이어(11)를 형성한다. 상기 나노 와이어(11)는 은(Ag) 나노 와이어 일 수 있다. 상기 나노 와이어(11)는 은(Ag)으로 형성되어 높은 투과도와 낮은 저항을 갖는 전극을 형성할 수 있다. 상기 나노 와이어(11)를 형성하는 방법은 다양하게 적용될 수 있다.Referring to FIG. 7A , the nanowire 11 is formed on the substrate 30 . The nanowire 11 may be a silver (Ag) nanowire. The nanowire 11 may be formed of silver (Ag) to form an electrode having high transmittance and low resistance. A method of forming the nanowire 11 may be applied in various ways.

즉, 본 발명에서 기판(30) 상에 나노 와이어(11)를 형성하는 방법은 정전 스프레이 코팅법, 스핀 코팅법, 일반 분무 스프레이법, 스크린 프린팅법, 잉크젯 프린팅 법 등 특정 코팅 방법에 제약을 두지 않으며, 다수의 나노 와이어(11)가 네트워크화되어 연결되도록 형성할 수 있는 제조방법이면 어떤 것이든 이용이 가능하다.That is, in the present invention, the method of forming the nanowire 11 on the substrate 30 is not limited to a specific coating method such as an electrostatic spray coating method, a spin coating method, a general spray spray method, a screen printing method, an inkjet printing method, etc. No, any manufacturing method capable of forming a plurality of nanowires 11 to be networked and connected can be used.

또한, 상기 기판(30) 상에 나노 와이어(11)를 포함하는 유기물층을 코팅하여 형성할 수 있다. 상기 유기물층은 나노 와이어(11)의 분산 용액으로 나노 와이어(11)의 분산성을 도와주어 균일하게 코팅이 되도록 도와주며, 건조 후 기판(30)과 나노 와이어(11)의 접착력을 확보시키는 역할을 한다. In addition, it may be formed by coating an organic material layer including the nanowires 11 on the substrate 30 . The organic material layer is a dispersion solution of the nanowires 11, which helps the dispersibility of the nanowires 11 to be uniformly coated, and serves to secure the adhesion between the substrate 30 and the nanowires 11 after drying. do.

상기 유기물층은 나노 와이어(11) 외에 물, 알코올류 또는 휘발성 유기용제류 등으로 형성되는 용제, 나노 와이어(11)의 분산성을 높이는 분산제 및 유기 첨가물 등이 포함될 수 있다. 상기 유기물층에 사용되는 유기 첨가물은 투명한 재료로 폴리비닐 알코올(polyvinyl alcohol) 등과 같은 수용성 재료 또는 PEDOT, 폴리아닐린(polyaniline) 등과 같은 전도성 고분자가 사용될 수 있다. 또한, 상기 유기물층을 저항을 더 낮추기 위해 수용성으로 형성하고, 건조공정 완료 후 수용액으로 제거할 수도 있다.In addition to the nanowire 11 , the organic material layer may include a solvent formed of water, alcohols or volatile organic solvents, a dispersing agent and organic additives that increase the dispersibility of the nanowire 11 . The organic additive used in the organic layer is a transparent material, and a water-soluble material such as polyvinyl alcohol or a conductive polymer such as PEDOT and polyaniline may be used. In addition, the organic material layer may be formed in a water-soluble solution to further lower the resistance, and then removed with an aqueous solution after the drying process is completed.

도 7b를 참조하면, 나노 와이어(11)가 형성된 기판(30) 상에 코팅층(12)이 형성된다. 상기 코팅층(12)은 상기 나노 와이어(101)의 접착력을 확보하고, 상기 나노 와이어(11) 중첩영역에서 형성되는 콘택 저항을 감소할 수 있다. Referring to FIG. 7B , the coating layer 12 is formed on the substrate 30 on which the nanowire 11 is formed. The coating layer 12 may secure adhesion of the nanowire 101 and reduce contact resistance formed in the overlapping area of the nanowire 11 .

중첩되는 나노 와이어가 하나의 물질로 인식되지 않고, 각각의 나노 와이어가 하나의 물질로 인식되어 중첩영역에서 저항이 발생한다. 상기 코팅층(12)은 나노 와이어(11)의 중첩영역 상에 형성되어, 중첩되는 다수의 나노 와이어(11)가 일 물질로 인식되도록 하며, 콘택 저항을 감소할 수 있다. 이로 인해, 나노 와이어만으로 이루어진 터치 전극과 비교하여 저항을 보다 더 감소할 수 있다. The overlapping nanowires are not recognized as a single material, but each nanowire is recognized as a single material, resulting in resistance in the overlapping region. The coating layer 12 is formed on the overlapping region of the nanowires 11 so that the overlapping nanowires 11 are recognized as one material, and contact resistance can be reduced. For this reason, the resistance can be further reduced compared to the touch electrode made of only nanowires.

상기 코팅층(12)은 은(Ag) 또는 투명전도막(transparent conductive oxide;TCO)으로 형성될 수 있다. 상기 투명전도막은 예를 들면 ITO, GZO, AZO 및 FTO 등일 수 있으며, 이에 한정되지는 않는다. The coating layer 12 may be formed of silver (Ag) or a transparent conductive oxide (TCO). The transparent conductive film may be, for example, ITO, GZO, AZO, and FTO, but is not limited thereto.

상기 코팅층(12)의 두께는 광 투과율이 80% 이상 되도록 형성되어야 한다. 은(Ag)으로 코팅층(12)을 형성하는 경우, 투과율을 고려하여 상기 코팅층(12)은 0nm 초과 10nm 이하의 두께로 형성될 수 있다. 투명전도막으로 코팅층(12)을 형성하는 경우, 상기 코팅층(12)은 0nm 초과 600nm 이하의 두께로 형성될 수 있다.The thickness of the coating layer 12 should be formed so that the light transmittance is 80% or more. When the coating layer 12 is formed of silver (Ag), the coating layer 12 may be formed to a thickness of greater than 0 nm and less than or equal to 10 nm in consideration of transmittance. When the coating layer 12 is formed of a transparent conductive film, the coating layer 12 may be formed to a thickness of greater than 0 nm and less than or equal to 600 nm.

상기 코팅층(12)을 형성하는 방법은 다양한 증착 방법으로 형성될 수 있다. 바람직하게는, 스퍼터링(sputtering)으로 형성될 수 있다. 하지만, 코팅층(12)을 형성하는 방법은 이에 한정되지 않고, 적정한 두께로 코팅층(12)을 형성할 수 있으면 족하다.A method of forming the coating layer 12 may be formed by various deposition methods. Preferably, it may be formed by sputtering. However, the method of forming the coating layer 12 is not limited thereto, and it is sufficient if the coating layer 12 can be formed to an appropriate thickness.

도 7c를 참조하면, 나노 와이어(11) 및 코팅층(12)이 형성된 기판(30) 상에 포토레지스트층을 형성한다. 상기 포토레지스트층은 네거티브 포토레지스트(negative photo resist)로 형성될 수 있으며, 상기 네거티브 포토레지스트는 광이 조사되면 경화되는 물질인 감광성 재료이다. 하지만, 광이 조사되면 연화되는 물질인 포지티브 포토레지스트(positive photo resist)를 사용하여 공정을 진행할 수도 있다. Referring to FIG. 7C , a photoresist layer is formed on the substrate 30 on which the nanowire 11 and the coating layer 12 are formed. The photoresist layer may be formed of a negative photoresist, which is a photosensitive material that is a material that is cured when irradiated with light. However, the process may be performed using a positive photoresist, which is a material that softens when irradiated with light.

상기 포토레지스트층 상에 차단부와 투과부로 이루어진 마스크를 씌우고, 터치 전극이 형성되는 영역에 상기 마스크의 투과부를 대응시키고 광을 조사한다. 이후, 현상 공정을 진행하면 상기 코팅층(12) 상에 터치 전극이 형성될 영역에만 포토레지스트 패턴(13)이 형성된다. A mask including a blocking part and a transmissive part is placed on the photoresist layer, and the transmissive part of the mask is irradiated with light in a region where the touch electrode is formed. Thereafter, when the development process is performed, the photoresist pattern 13 is formed only on the area where the touch electrode is to be formed on the coating layer 12 .

도면에서는 터치 전극의 터치 메쉬 패턴의 일 단위 패턴만 포토레지스트 패턴(13)이 형성되도록 도시하였으나, 상기 포토레지스트 패턴(13)은 터치 전극이 되는 영역에 모두 형성될 수 있다. 즉, 도면에 도시한 포토레지스트 패턴(13)이 추가로 연장되어 터치 메쉬 패턴과 대응되는 전 영역에서 형성되고, 나아가 터치 전극과 대응되는 전 영역에서 형성될 수 있다.Although the drawing shows that only one unit pattern of the touch mesh pattern of the touch electrode is formed to form the photoresist pattern 13 , the photoresist pattern 13 may be formed in all areas that become the touch electrode. That is, the photoresist pattern 13 shown in the drawing may be further extended and formed in the entire region corresponding to the touch mesh pattern, and further may be formed in the entire region corresponding to the touch electrode.

또한, 도면에서는 일 단위 패턴이 마름모 형상이 되도록 포토레지스트 패턴(13)을 도시하였으나, 이에 제한되지 않는다. 상기 일 단위 패턴은 원, 삼각형 및 다각형 등 다양한 형상으로 형성될 수 있으며, 다수의 단위 패턴이 그물망 구조의 메쉬 패턴을 이루면 족하다. 따라서, 상기 포토레지스트 패턴(13)도 원, 삼각형 및 다각형 등 다양한 형상으로 형성될 수 있으며, 다수의 단위 패턴이 그물망 구조의 메쉬 패턴을 이루면 족하다.In addition, although the photoresist pattern 13 is illustrated so that the unit pattern has a rhombus shape in the drawings, the present invention is not limited thereto. The one unit pattern may be formed in various shapes such as circles, triangles, and polygons, and it is sufficient if a plurality of unit patterns form a mesh pattern of a mesh structure. Accordingly, the photoresist pattern 13 may also be formed in various shapes such as circles, triangles, and polygons, and it is sufficient if a plurality of unit patterns form a mesh pattern of a mesh structure.

도 7d를 참조하면, 상기 포토레지스트 패턴(도 7c 참조, 13)을 마스크로 하여 나노 와이어와 코팅층을 식각하고, 상기 포토레지스트 패턴을 박리함으로써, 나노 와이어(101) 및 코팅층(102)으로 이루어진 터치 메쉬 패턴(100)을 포함하는 터치 전극을 형성한다. Referring to FIG. 7D , the nanowire and the coating layer are etched using the photoresist pattern (see FIG. 7C , 13 ) as a mask, and the photoresist pattern is peeled off, thereby making a touch including the nanowire 101 and the coating layer 102 . A touch electrode including the mesh pattern 100 is formed.

이때, 코팅층(도 7b 참고, 12)을 형성하는 단계에서, 상기 코팅층(12)을 기판(20) 전면에서 형성하였기 때문에, 상기 코팅층(12) 상에 형성된 패턴을 마스크로 하여 식각하는 경우, 터치 메쉬 패턴(100)의 코팅층(102)의 폭은 터치 메쉬 패턴(100)의 선폭과 동일하게 형성될 수 있다.At this time, in the step of forming the coating layer (see FIG. 7b , 12 ), since the coating layer 12 was formed on the entire surface of the substrate 20 , when etching the pattern formed on the coating layer 12 as a mask, touch The width of the coating layer 102 of the mesh pattern 100 may be formed to be the same as the line width of the touch mesh pattern 100 .

상기 식각은 포토레지스트 패턴을 마스크로 하여 습식식각으로 이루어질 수 있다. 다만, 이에 한정되지 않으며, 건식식각을 이용할 수도 있다. 또한, 도 7c에서 포토레지스트 공정을 이용한 식각공정을 개시하고 있으나, 이에 한정되지 않고, 레이저 식각을 통해 나노 와이어(101) 및 코팅층(102)으로 이루어진 터치 메쉬 패턴(100)을 포함하는 터치 전극을 형성할 수 있다.The etching may be performed by wet etching using the photoresist pattern as a mask. However, the present invention is not limited thereto, and dry etching may be used. In addition, although the etching process using the photoresist process is disclosed in FIG. 7C , the touch electrode including the touch mesh pattern 100 made of the nanowire 101 and the coating layer 102 through laser etching is not limited thereto. can be formed

일반적인 금속으로 터치 메쉬 패턴을 형성하는 경우, 마이크로미터(㎛) 단위로 형성되는 금속 메쉬 패턴은 금속의 전반사 특성에 의해 무아레(moire) 현상이 발생하는 문제점이 있다. 본 발명에 따른 터치 전극은 나노 와이어(101)로 나노미터(nm) 단위로 금속이 형성되도록 함으로써, 무아레 현상을 개선할 수 있는 효과가 있다.When the touch mesh pattern is formed of a general metal, the metal mesh pattern formed in micrometers (㎛) has a problem in that a moire phenomenon occurs due to the total reflection characteristics of the metal. The touch electrode according to the present invention has the effect of improving the moire phenomenon by allowing the nanowire 101 to form a metal in nanometer (nm) units.

하지만, 나노 와이어(101)로 터치 전극을 형성하는 경우, 나노 와이어 전극은 높은 헤이즈(haze) 특성을 보이며, 밀키(milky) 현상이 발생하는 문제점이 있다. 따라서, 본 발명에 따른 터치 전극을 일 단위 패턴이 내부가 개구되는 터치 메쉬 패턴(100)으로 형성한다. 이로 인해, 개구 영역에서 반사가 일어나지 않아 헤이즈를 낮출 수 있으며 밀키 현상을 개선할 수 있다. However, when the touch electrode is formed of the nanowire 101 , the nanowire electrode exhibits a high haze characteristic, and there is a problem in that a milky phenomenon occurs. Accordingly, the touch electrode according to the present invention is formed as a touch mesh pattern 100 in which one unit pattern is opened. As a result, reflection does not occur in the opening region, thereby reducing haze and improving the milky phenomenon.

즉, 본 발명에 따른 터치 메쉬 패턴은 헤이즈를 ITO 전극 수준으로 낮추기 위해 충분한 개구 영역을 확보가 필요하다. 충분한 개구 영역을 확보하기 위해, 상기 터치 메쉬 패턴(100)의 선폭은 4㎛ 이상 75㎛ 이하로 형성될 수 있다. 또한, 도 7c의 포토레지스트 패턴(13)은 상기 터치 메쉬 패턴(100)의 선폭을 고려하여 형성한다.That is, the touch mesh pattern according to the present invention needs to secure a sufficient opening area to lower the haze to the level of the ITO electrode. In order to secure a sufficient opening area, the line width of the touch mesh pattern 100 may be formed to be 4 μm or more and 75 μm or less. In addition, the photoresist pattern 13 of FIG. 7C is formed in consideration of the line width of the touch mesh pattern 100 .

도 8은 본 발명의 제 4 실시예에 따른 터치 메쉬 패턴의 평면도를 도시한 도면이다. 도 9는 본 발명의 제 4 실시예에 따른 터치 메쉬 패턴의 단면도를 도시한 도면이다. 본 발명의 제 3 실시예와 중복되는 설명은 생략할 수 있다.8 is a diagram illustrating a plan view of a touch mesh pattern according to a fourth embodiment of the present invention. 9 is a diagram illustrating a cross-sectional view of a touch mesh pattern according to a fourth embodiment of the present invention. The description overlapping with the third embodiment of the present invention may be omitted.

도 8 및 도 9를 참조하면, 터치 전극의 터치 메쉬 패턴(200)의 일 단위 패턴(B)이 개시되어 있다. 도면 상에서 상기 일 단위 패턴(B)이 마름모 형상으로 개시되어 있으나, 이에 제한되지 않는다. 상기 일 단위 패턴(B)은 원, 삼각형 및 다각형 등 다양한 형상으로 형성될 수 있으며, 다수의 단위 패턴(B)이 그물망 구조의 메쉬 패턴을 이루면 족하다.Referring to FIGS. 8 and 9 , a one-unit pattern B of the touch mesh pattern 200 of the touch electrode is disclosed. Although the one-unit pattern B is illustrated in a rhombus shape in the drawings, the present invention is not limited thereto. The one unit pattern (B) may be formed in various shapes such as circles, triangles, and polygons, and it is sufficient if a plurality of unit patterns (B) form a mesh pattern of a mesh structure.

상기 터치 메쉬 패턴(200)은 나노 와이어(201)와 코팅층(202)으로 이루어 진다. 상기 코팅층(202)은 상기 나노 와이어(201) 상에 형성된다. 이때, 도 9를 참조하면, 상기 코팅층(202)은 상기 나노 와이어(201)를 둘러싸고, 상기 나노 와이어(201)와 접하는 영역에만 형성될 수 있다.The touch mesh pattern 200 includes a nanowire 201 and a coating layer 202 . The coating layer 202 is formed on the nanowire 201 . In this case, referring to FIG. 9 , the coating layer 202 surrounds the nanowire 201 and may be formed only in a region in contact with the nanowire 201 .

상기 코팅층(202)은 상기 나노 와이어(201)의 접착력을 확보하고, 상기 나노 와이어(201) 중첩영역에서 형성되는 콘택 저항을 감소할 수 있다. 상기 코팅층(202)은 나노 와이어(201)의 중첩영역에서도 형성됨으로써, 상기 나노 와이어(201)가 일 물질로 인식되도록 하며, 콘택 저항을 감소할 수 있다. 즉, 나노 와이어(201)만으로 이루어진 터치 전극과 비교하여 저항을 보다 더 감소할 수 있다.The coating layer 202 may secure adhesion of the nanowire 201 and reduce contact resistance formed in the overlapping area of the nanowire 201 . The coating layer 202 is also formed in the overlapping region of the nanowires 201 , so that the nanowires 201 are recognized as a single material and contact resistance can be reduced. That is, the resistance can be further reduced as compared with the touch electrode made of only the nanowire 201 .

또한, 상기 코팅층(202)은 상기 나노 와이어(201)를 둘러싸고, 상기 나노 와이어(201)와 접하는 영역에서만 형성됨으로써, 나노 와이어(201) 사이의 영역이 개구되도록 형성된다. 이로 인해, 터치 패널의 투과율을 보다 향상시킬 수 있다. In addition, the coating layer 202 surrounds the nanowire 201 and is formed only in a region in contact with the nanowire 201 , so that the region between the nanowires 201 is opened. For this reason, the transmittance|permeability of a touch panel can be improved more.

상기 코팅층(202)은 나노 와이어(201)를 씨드(seed)로 하여 도금(plating)할 수 있는 물질로 형성된다. 바람직하게는, 은(Ag) 또는 구리(Cu)로 형성될 수 있다.The coating layer 202 is formed of a material that can be plated by using the nanowire 201 as a seed. Preferably, it may be formed of silver (Ag) or copper (Cu).

상기 나노 와이어(201)는 은(Ag)으로 형성되어 높은 투과도와 낮은 저항을 갖는 전극을 형성할 수 있다. 다수의 은 나노 와이어(201)들은 네트워크화 되어 서로 그물망처럼 연결되어 형성되고, 높은 전기전도도 특성과 80~90% 이상의 투명도 특성을 유지할 수 있는 장점이 있다. The nanowire 201 may be formed of silver (Ag) to form an electrode having high transmittance and low resistance. A plurality of silver nanowires 201 are networked and formed to be connected to each other like a mesh, and there is an advantage in that high electrical conductivity properties and transparency properties of 80 to 90% or more can be maintained.

또한, 일반적인 금속으로 터치 메쉬 패턴을 형성하는 경우, 마이크로미터(㎛) 단위로 형성되는 금속 메쉬 패턴은 금속의 전반사 특성에 의해 무아레(moire) 현상이 발생하는 문제점이 있다. 본 발명에 따른 터치 전극은 나노 와이어(101)로 나노미터(nm) 단위로 금속이 형성되도록 함으로써, 무아레 현상을 개선할 수 있는 효과가 있다.In addition, when the touch mesh pattern is formed of a general metal, the metal mesh pattern formed in units of micrometers (㎛) has a problem in that a moire phenomenon occurs due to the total reflection characteristics of the metal. The touch electrode according to the present invention has the effect of improving the moire phenomenon by allowing the nanowire 101 to form a metal in nanometer (nm) units.

또한, 본 발명에 따른 터치 전극은 일 단위 패턴(B)이 내부가 개구되도록 형성되어 터치 메쉬 패턴(200)으로 형성된다. 이로 인해, 개구 영역에서 반사가 일어나지 않아 헤이즈를 낮출 수 있으며 밀키 현상을 개선할 수 있다. 충분한 개구 영역을 확보하기 위해, 상기 터치 메쉬 패턴(200)의 선폭은 4㎛ 이상 75㎛ 이하로 형성될 수 있다.In addition, in the touch electrode according to the present invention, the one unit pattern (B) is formed so that the inside is opened to form the touch mesh pattern (200). As a result, reflection does not occur in the opening region, thereby reducing haze and improving the milky phenomenon. In order to secure a sufficient opening area, the line width of the touch mesh pattern 200 may be formed to be 4 μm or more and 75 μm or less.

상기 나노 와이어(201)를 포함한 터치 메쉬 패턴(200)으로 터치 전극을 형성하여 저 저항의 전극을 형성할 수 있다. 또한, 개구 영역이 형성되므로 캐패시턴스도 줄일 수 있다. 이로 인해, 본 발명에 따른 터치 패널의 RC 지연시간을 감소할 수 있다.A low resistance electrode may be formed by forming a touch electrode using the touch mesh pattern 200 including the nanowire 201 . In addition, since the opening region is formed, the capacitance can also be reduced. For this reason, it is possible to reduce the RC delay time of the touch panel according to the present invention.

도 10a 및 도 10b는 본 발명의 제 4 실시예에 따른 터치 메쉬 패턴의 제조 방법을 도시한 도면이다. 제 3 실시예와 중복되는 설명은 생략할 수 있다.10A and 10B are diagrams illustrating a method of manufacturing a touch mesh pattern according to a fourth embodiment of the present invention. A description overlapping with the third embodiment may be omitted.

도 10a를 참조하면, 기판(30) 상에 나노 와이어(21)를 형성하고, 상기 나노 와이어(21) 상에 코팅층(22)을 형성한다. 상기 나노 와이어(21)는 금속이고, 바람직하게는 은(Ag) 나노 와이어 일 수 있다. 상기 나노 와이어(21)는 은(Ag)으로 형성되어 높은 투과도와 낮은 저항을 갖는 전극을 형성할 수 있다. 상기 나노 와이어(21)를 형성하는 방법은 다양하게 적용될 수 있다.Referring to FIG. 10A , a nanowire 21 is formed on a substrate 30 , and a coating layer 22 is formed on the nanowire 21 . The nanowire 21 may be a metal, preferably silver (Ag) nanowire. The nanowire 21 may be formed of silver (Ag) to form an electrode having high transmittance and low resistance. A method of forming the nanowire 21 may be applied in various ways.

즉, 본 발명에서 기판(30) 상에 나노 와이어(11)를 형성하는 방법은 정전 스프레이 코팅법, 스핀 코팅법, 일반 분무 스프레이법, 스크린 프린팅법, 잉크젯 프린팅 법 등 특정 코팅 방법에 제약을 두지 않으며, 다수의 나노 와이어(11)가 네트워크화되어 연결되도록 형성할 수 있는 제조방법이면 어떤 것이든 이용이 가능하다.That is, in the present invention, the method of forming the nanowire 11 on the substrate 30 is not limited to a specific coating method such as an electrostatic spray coating method, a spin coating method, a general spray spray method, a screen printing method, an inkjet printing method, etc. No, any manufacturing method capable of forming a plurality of nanowires 11 to be networked and connected can be used.

상기 코팅층(22)은 도금(plating) 공정을 이용하여, 상기 나노 와이어(21) 상에만 형성되도록 할 수 있다. 상기 도금 공정은 상기 나노 와이어(21)를 씨드(seed)로 하여 은(Ag) 또는 구리(Cu)가 성장하여 코팅층(22)이 형성되도록 할 수 있다. 즉, 상기 코팅층(22)은 바람직하게는 은(Ag) 또는 구리(Cu)로 형성될 수 있다. 다만, 이에 한정되지 않으며, 나노 와이어(21)를 씨드(seed)로 하여 도금(plating)할 수 있는 물질이면 족하다.The coating layer 22 may be formed only on the nanowire 21 using a plating process. In the plating process, silver (Ag) or copper (Cu) is grown by using the nanowire 21 as a seed to form the coating layer 22 . That is, the coating layer 22 may be preferably formed of silver (Ag) or copper (Cu). However, the present invention is not limited thereto, and any material capable of plating using the nanowire 21 as a seed is sufficient.

상기 도금 공정으로 형성되는 코팅층(22)은 상기 나노 와이어(21)를 둘러싸고, 상기 나노 와이어(21)와 접하는 영역에만 형성될 수 있다. 또한, 상기 코팅층(22)은 상기 나노 와이어(21)를 둘러싸고, 상기 나노 와이어(21)와 접하는 영역에서만 형성됨으로써, 나노 와이어(21) 사이의 영역이 개구되도록 형성된다. 이로 인해, 터치 패널의 투과율을 보다 향상시킬 수 있다. The coating layer 22 formed by the plating process surrounds the nanowire 21 and may be formed only in a region in contact with the nanowire 21 . In addition, the coating layer 22 surrounds the nanowire 21 and is formed only in a region in contact with the nanowire 21 , so that the region between the nanowires 21 is opened. For this reason, the transmittance|permeability of a touch panel can be improved more.

상기 코팅층(22)은 상기 나노 와이어(21)의 접착력을 확보할 수 있다. 또한, 상기 나노 와이어(21) 중첩영역에서 형성되는 콘택 저항을 감소할 수 있다. 상기 코팅층(22)은 나노 와이어(21)의 중첩영역에서도 형성됨으로써, 상기 나노 와이어(21)가 일 물질로 인식되도록 하며, 콘택 저항을 감소할 수 있다. 즉, 나노 와이어(21)만으로 이루어진 터치 전극과 비교하여 저항을 보다 더 감소할 수 있다.The coating layer 22 may secure the adhesion of the nanowires 21 . In addition, contact resistance formed in the overlapping region of the nanowire 21 may be reduced. The coating layer 22 is also formed in the overlapping region of the nanowires 21 , so that the nanowires 21 are recognized as a single material and contact resistance can be reduced. That is, the resistance can be further reduced as compared with the touch electrode made of only the nanowire 21 .

도 10b를 참조하면, 나노 와이어 및 코팅층을 식각하여, 나노 와이어(201) 및 코팅층(202)으로 이루어진 터치 메쉬 패턴(200)을 형성할 수 있다. 도면에서는 터치 전극의 터치 메쉬 패턴(200)의 일 단위 패턴만 도시하였으나, 상기 일 단위 패턴이 다수개 형성되어 터치 메쉬 패턴을 이루고, 나아가 터치 전극을 이룬다.Referring to FIG. 10B , the nanowire and the coating layer may be etched to form the touch mesh pattern 200 including the nanowire 201 and the coating layer 202 . Although only one unit pattern of the touch mesh pattern 200 of the touch electrode is illustrated in the drawings, a plurality of the one unit patterns are formed to form a touch mesh pattern and further to form a touch electrode.

또한, 도면에서는 일 단위 패턴이 마름모 형상이 되도록 도시하였으나, 이에 제한되지 않는다. 상기 일 단위 패턴은 원, 삼각형 및 다각형 등 다양한 형상으로 형성될 수 있으며, 다수의 단위 패턴이 그물망 구조의 메쉬 패턴을 이루면 족하다. Also, in the drawings, the one-unit pattern is illustrated in a rhombus shape, but the present invention is not limited thereto. The one unit pattern may be formed in various shapes such as circles, triangles, and polygons, and it is sufficient if a plurality of unit patterns form a mesh pattern of a mesh structure.

나노 와이어 및 코팅층을 식각하는 공정은 포토레지스트 공정을 이용하여 습식 식각 또는 건식 식각하거나, 레이저 식각으로 이루어질 수 있다. 포토레지스트 공정의 경우, 터치 메쉬 패턴(200)의 선폭을 고려하여 포토레지스트 패턴이 형성될 수 있다.The process of etching the nanowires and the coating layer may be performed by wet etching or dry etching using a photoresist process, or laser etching. In the case of the photoresist process, a photoresist pattern may be formed in consideration of the line width of the touch mesh pattern 200 .

일반적인 금속으로 터치 메쉬 패턴을 형성하는 경우, 마이크로미터(㎛) 단위로 형성되는 금속 메쉬 패턴은 금속의 전반사 특성에 의해 무아레(moire) 현상이 발생하는 문제점이 있다. 본 발명에 따른 터치 전극은 나노 와이어(201)로 나노미터(nm) 단위로 금속이 형성되도록 함으로써, 무아레 현상을 개선할 수 있는 효과가 있다.When the touch mesh pattern is formed of a general metal, the metal mesh pattern formed in micrometers (㎛) has a problem in that a moire phenomenon occurs due to the total reflection characteristics of the metal. The touch electrode according to the present invention has the effect of improving the moire phenomenon by allowing the nanowire 201 to form a metal in nanometer (nm) units.

하지만, 나노 와이어(201)로 터치 전극을 형성하는 경우, 나노 와이어 전극은 높은 헤이즈(haze) 특성을 보이며, 밀키(milky) 현상이 발생하는 문제점이 있다. 따라서, 본 발명에 따른 터치 전극을 일 단위 패턴이 내부가 개구되는 터치 메쉬 패턴(200)으로 형성한다. 이로 인해, 개구 영역에서 반사가 일어나지 않아 헤이즈를 낮출 수 있으며 밀키 현상을 개선할 수 있다. However, when the touch electrode is formed of the nanowire 201 , the nanowire electrode exhibits a high haze characteristic, and there is a problem in that a milky phenomenon occurs. Accordingly, the touch electrode according to the present invention is formed as a touch mesh pattern 200 in which one unit pattern is opened. As a result, reflection does not occur in the opening region, thereby reducing haze and improving the milky phenomenon.

즉, 본 발명에 따른 터치 메쉬 패턴은 헤이즈를 ITO 전극 수준으로 낮추기 위해 충분한 개구 영역을 확보가 필요하다. 충분한 개구 영역을 확보하기 위해, 상기 터치 메쉬 패턴(200)의 선폭은 4㎛ 이상 75㎛ 이하로 형성될 수 있다.
That is, the touch mesh pattern according to the present invention needs to secure a sufficient opening area to lower the haze to the level of the ITO electrode. In order to secure a sufficient opening area, the line width of the touch mesh pattern 200 may be formed to be 4 μm or more and 75 μm or less.

따라서, 본 발명에 따른 터치 패널 및 그 제조 방법은, 저 저항을 가지며 RC 지연시간이 없고, 패턴이 육안으로 인식되지 않으며, 대면적에 적용할 수 있다. 또한, 나노 와이어를 사용함으로써 무아레 현상을 개선하고, 메쉬 패턴으로 형성하여 밀키 현상을 개선하고, 나노 와이어 상에 코팅층을 형성하여 나노 와이어 중첩영역에 발생하는 저항을 감소하고, 나노 와이어의 접착력을 향상시킬 수 있다. 이러한, 터치 패널 및 그 제조 방법은 플렉서블 표시장치에 적용할 수 있다.
Therefore, the touch panel and its manufacturing method according to the present invention have low resistance, no RC delay time, no pattern recognized by the naked eye, and can be applied to a large area. In addition, the moire phenomenon is improved by using nanowires, the milky phenomenon is improved by forming a mesh pattern, and a coating layer is formed on the nanowires to reduce the resistance generated in the nanowire overlapping area, and improve the adhesion of the nanowires. can do it Such a touch panel and a method for manufacturing the same can be applied to a flexible display device.

이상 설명한 내용을 통해 당업자라면 본 발명의 기술사상을 일탈하지 아니하는 범위에서 다양한 변경 및 수정이 가능함을 알 수 있을 것이다. 따라서, 본 발명의 기술적 범위는 명세서의 상세한 설명에 기재된 내용으로 한정되는 것이 아니라 특허 청구의 범위에 의해 정하여져야만 할 것이다.
Those skilled in the art from the above description will be able to see that various changes and modifications can be made without departing from the technical spirit of the present invention. Accordingly, the technical scope of the present invention should not be limited to the contents described in the detailed description of the specification, but should be defined by the claims.

30: 기판
100,200: 터치 메쉬 패턴
101,201: 나노 와이어
102,202: 코팅층
30: substrate
100,200: touch mesh pattern
101,201: nanowire
102,202: coating layer

Claims (20)

기판 상에 메쉬 패턴으로 구성된 센서부와 상기 센서부를 연결하는 연결부로 이루어진 터치 전극을 포함하고,
상기 메쉬 패턴은 다수의 단위 패턴으로 구성되며,
상기 메쉬 패턴은 하나의 단위 패턴에서 내부가 개구 되며, 다수의 나노 와이어 및 상기 다수의 나노 와이어 사이의 공간을 포함하여 상기 다수의 나노 와이어 상에 형성된 코팅층으로 이루어진, 터치 패널.
A touch electrode comprising a sensor unit having a mesh pattern on a substrate and a connection unit connecting the sensor unit,
The mesh pattern is composed of a plurality of unit patterns,
The mesh pattern has an interior opening in one unit pattern, and includes a plurality of nanowires and a coating layer formed on the plurality of nanowires including spaces between the plurality of nanowires, the touch panel.
제 1 항에 있어서,
상기 메쉬 패턴은, 외곽부를 구성하는 외부 라인 패턴; 및
상기 외부 라인 패턴의 내부를 교차구조로 연결하는 내부 라인 패턴을 포함하는, 구조이고, 상기 다수의 단위 패턴을 포함하는 터치 패널.
The method of claim 1,
The mesh pattern may include: an outer line pattern constituting an outer part; and
A structure including an inner line pattern connecting the inside of the outer line pattern in a cross structure, and the touch panel including the plurality of unit patterns.
제 1 항에 있어서,
상기 센서부는, 마름모, 원 및 삼각형으로 이루어진 군에서 선택되는 하나의 형태로 이루어진 터치 패널.
The method of claim 1,
The sensor unit is a touch panel made of one shape selected from the group consisting of a rhombus, a circle, and a triangle.
제 1 항에 있어서,
상기 코팅층은 상기 기판 및 상기 나노 와이어 상에서 상기 메쉬 패턴을 덮는 필름 형태이고, 상기 코팅층의 폭과 상기 센서부의 폭은 동일한 터치 패널.
The method of claim 1,
The coating layer is in the form of a film covering the mesh pattern on the substrate and the nanowire, and the width of the coating layer and the width of the sensor unit are the same.
제 4 항에 있어서,
상기 코팅층은 은(Ag) 또는 투명전도막(transparent conductive oxide; TCO)으로 구성되는 터치 패널.
5. The method of claim 4,
The coating layer is a touch panel composed of silver (Ag) or a transparent conductive oxide (TCO).
제 4 항에 있어서,
상기 코팅층은 광 투과율이 80% 이상을 가지는 두께로 구성되는 터치 패널.
5. The method of claim 4,
The coating layer is a touch panel composed of a thickness having a light transmittance of 80% or more.
제 1 항에 있어서, 상기 터치 전극은,
일 방향으로 하나의 전극이 연장되어 구성되는 제1 터치 전극; 및
상기 일 방향으로 연장되는 다수의 바 형태로 구성되는 제2 터치 전극을 포함하는 터치 패널.
The method of claim 1, wherein the touch electrode comprises:
a first touch electrode configured by extending one electrode in one direction; and
A touch panel including a second touch electrode configured in the form of a plurality of bars extending in the one direction.
제 1 항에 있어서,
상기 다수의 나노 와이어는 상기 하나의 단위 패턴에서 서로 중첩하며, 상기 코팅층은 상기 다수의 나노 와이어가 중첩된 영역에도 형성되는 터치 패널.
The method of claim 1,
The plurality of nanowires overlap each other in the single unit pattern, and the coating layer is also formed in an area where the plurality of nanowires overlap.
제 1 항에 있어서,
상기 메쉬 패턴의 선폭은 4㎛ 이상 75㎛ 이하인 터치 패널.
The method of claim 1,
The line width of the mesh pattern is 4㎛ or more and 75㎛ or less of the touch panel.
제 1 항에 있어서,
상기 나노 와이어는 은(Ag) 나노 와이어를 포함하는 터치 패널.
The method of claim 1,
The nanowire is a touch panel comprising a silver (Ag) nanowire.
기판 상에 다수의 나노 와이어를 형성하는 단계;
상기 다수의 나노 와이어 상에 코팅층을 형성하는 단계; 및
상기 다수의 나노 와이어 및 상기 코팅층을 식각 하여 메쉬 패턴을 형성하여 터치 전극을 형성하는 단계를 포함하며,
상기 메쉬 패턴은 다수의 단위 패턴으로 구성되며,
상기 메쉬 패턴은 하나의 단위 패턴에서 내부가 개구 되며, 상기 다수의 나노 와이어 및 상기 다수의 나노 와이어 사이의 공간을 포함하여 상기 다수의 나노 와이어 상에 형성된 코팅층으로 형성되는, 터치 패널의 제조 방법.
forming a plurality of nanowires on a substrate;
forming a coating layer on the plurality of nanowires; and
etching the plurality of nanowires and the coating layer to form a mesh pattern to form a touch electrode,
The mesh pattern is composed of a plurality of unit patterns,
The mesh pattern has an interior opening in one unit pattern, and is formed of a coating layer formed on the plurality of nanowires including the plurality of nanowires and a space between the plurality of nanowires.
제 11 항에 있어서,
상기 코팅층은 스퍼터링(sputtering) 공정으로 형성하는 터치 패널의 제조 방법.
12. The method of claim 11,
The coating layer is a method of manufacturing a touch panel to form a sputtering (sputtering) process.
삭제delete 제 12 항에 있어서,
상기 코팅층은 은(Ag) 또는 투명전도막(transparent conductive oxide; TCO)으로 형성하는 터치 패널의 제조 방법.
13. The method of claim 12,
The method of manufacturing a touch panel in which the coating layer is formed of silver (Ag) or a transparent conductive oxide (TCO).
제 12 항에 있어서,
상기 코팅층은 광 투과율이 80% 이상을 가지는 두께로 형성하는 터치 패널의 제조 방법.
13. The method of claim 12,
The method of manufacturing a touch panel in which the coating layer is formed to a thickness having a light transmittance of 80% or more.
제 11 항에 있어서,
상기 코팅층은 상기 나노 와이어를 씨드(seed)로 하는 도금(plating) 공정으로 형성하는 터치 패널의 제조 방법.
12. The method of claim 11,
The method of manufacturing a touch panel in which the coating layer is formed by a plating process using the nanowire as a seed.
제 11 항에 있어서,
상기 터치 전극은,
일 방향으로 하나의 전극이 연장되어 구성되는 제1 터치 전극; 및
상기 일 방향으로 연장되는 다수의 바 형태로 구성되는 제2 터치 전극을 포함하는 터치 패널의 제조 방법.
12. The method of claim 11,
The touch electrode is
a first touch electrode configured by extending one electrode in one direction; and
A method of manufacturing a touch panel including a second touch electrode configured in the form of a plurality of bars extending in the one direction.
제 11 항에 있어서,
상기 다수의 나노 와이어는 상기 하나의 단위 패턴에서 서로 중첩하며, 상기 코팅층은 상기 다수의 나노 와이어가 중첩된 영역에도 형성하는 터치 패널의 제조 방법.
12. The method of claim 11,
The plurality of nanowires overlap each other in the single unit pattern, and the coating layer is also formed in an area where the plurality of nanowires overlap.
제 11 항에 있어서,
상기 메쉬 패턴의 선폭은 4㎛ 이상 75㎛ 이하로 형성하는 터치 패널의 제조 방법.
12. The method of claim 11,
A method of manufacturing a touch panel in which the line width of the mesh pattern is 4 μm or more and 75 μm or less.
제 11 항에 있어서,
상기 나노 와이어는 은(Ag) 나노 와이어를 포함하는 터치 패널의 제조 방법.

12. The method of claim 11,
The nanowire is a method of manufacturing a touch panel including a silver (Ag) nanowire.

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