KR102262255B1 - Etching device for liquid crystal panel and etching method using the same - Google Patents

Etching device for liquid crystal panel and etching method using the same Download PDF

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Abstract

본 발명은 액정 패널에 구비되는 보호부; 및 액정 패널로 침투하는 대상물을 방지하는 침투 방지부를 포함하는 액정 패널용 식각 장치에 관한 것이다.The present invention provides a protection unit provided in a liquid crystal panel; And it relates to an etching apparatus for a liquid crystal panel comprising a penetration preventing unit for preventing an object from penetrating into the liquid crystal panel.

Figure R1020190121001
Figure R1020190121001

Description

액정 패널용 식각 장치 및 이를 이용한 식각 방법 {ETCHING DEVICE FOR LIQUID CRYSTAL PANEL AND ETCHING METHOD USING THE SAME}Etching apparatus for liquid crystal panel and etching method using same {ETCHING DEVICE FOR LIQUID CRYSTAL PANEL AND ETCHING METHOD USING THE SAME}

본 발명은 액정 패널용 식각 장치 및 이를 이용한 식각 방법에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 액정 패널의 비 식각영역으로 식각액이 유입되는 것을 방지하는 액정 패널용 식각 장치 및 이를 이용한 식각 방법에 관한 것이다. The present invention relates to an etching apparatus for a liquid crystal panel and an etching method using the same, and more particularly, to an etching apparatus for a liquid crystal panel for preventing an etchant from flowing into a non-etching region of a liquid crystal panel, and an etching method using the same.

정보화 사회의 발달로 인해, 정보를 표시할 수 있는 표시 장치가 활발히 개발되고 있다. 표시 장치는 액정표시장치(liquid crystal display device), 유기 발광 표시장치(organic electro-luminescence display device), 플라즈마 표시장치(plasma display panel) 및 전계 방출 표시장치(field emission display device)를 포함한다.With the development of an information society, a display device capable of displaying information is being actively developed. The display device includes a liquid crystal display device, an organic electro-luminescence display device, a plasma display panel, and a field emission display device.

이 중에서, 액정표시장치는 경박 단소, 저 소비 전력 및 풀 컬러 동영상 구현과 같은 장점이 있어, 모바일 폰, 네비게이션, 모니터, 텔레비전에 널리 적용되고 있다.Among them, the liquid crystal display has advantages such as lightness, thinness, small size, low power consumption, and realization of full color video, and is widely applied to mobile phones, navigation systems, monitors, and televisions.

액정표시장치는 액정패널 상의 액정셀들의 광 투과율을 조절함으로써 비디오신호에 해당하는 영상을 표시한다.A liquid crystal display displays an image corresponding to a video signal by adjusting the light transmittance of liquid crystal cells on a liquid crystal panel.

통상적으로, 액정패널은 하부 기판, 상부 기판 및 이들 기판들 사이에 게재된 액정층을 포함한다.Typically, a liquid crystal panel includes a lower substrate, an upper substrate, and a liquid crystal layer interposed between these substrates.

액정표시장치는 박막 트랜지스터(Thin Film Transistor; TFT)를 스위칭 소자로 이용한 TFT-LCD가 주로 이용된다. 서로 마주하도록 배치되는 액정패널의 두 기판 중 하부 기판에는 게이트선과 데이터선과 다수의 박막트랜지스터와 화소 전극 등 복수의 표시 신호선이 형성되며, 두 기판 중 상부 기판에는 색 필터(Color Filter)와 공통 전극이 형성된다.A TFT-LCD using a thin film transistor (TFT) as a switching element is mainly used in the liquid crystal display device. A plurality of display signal lines such as a gate line, a data line, a plurality of thin film transistors, and a pixel electrode are formed on the lower substrate of the two substrates of the liquid crystal panel disposed to face each other, and the upper substrate of the two substrates has a color filter and a common electrode. is formed

이러한 액정패널은 통상 평평한 형태로 제조되므로 곡면 형태의 디스플레이가 필요한 경우 액정패널에 식각액을 분사하여 액정패널을 설정된 두께로 얇게 한 후 액정패널을 굽히는 공정을 실시한다.Since such a liquid crystal panel is usually manufactured in a flat shape, when a curved display is required, an etching solution is sprayed on the liquid crystal panel to thin the liquid crystal panel to a set thickness, and then the liquid crystal panel is bent.

종래의 경우, 액정 패널을 식각할 때에는, 액정 패널의 측면와 외곽부를 식각액으로부터 보호하기 위해 패널의 측면 부분은 씰링하고, 외곽 부분은 마스킹하는 공정을 진행하였습니다.In the conventional case, when etching the liquid crystal panel, in order to protect the side and outer portions of the liquid crystal panel from etching solution, the side portion of the panel is sealed and the outer portion is masked.

하지만, 마스킹이나 씰링 공정을 하게 되면, 식각에 소요되는 공정 시간이 증가하여 생산성이 저하되는 문제점이 있었다. However, when the masking or sealing process is performed, there is a problem in that the process time required for etching increases and productivity is lowered.

또한, 씰링을 하게 되면, 씰링을 한 부위가 모두 일정하게 씰링이 되지 않는 문제점이 있었고, 마스킹이나 씰링 공정 과정 중에 액정 패널이 파손되고, 이물질이나 식각액이 액정 패널 내부로 침투하여 불량품이 대량 발생되는 문제점이 있었다.In addition, when sealing, there was a problem that all sealed parts were not uniformly sealed, the liquid crystal panel was damaged during the masking or sealing process, and foreign substances or etchant penetrated into the liquid crystal panel, resulting in a large amount of defective products. There was a problem.

그리고, 액정 패널에 식각액을 분사할 때, 액정 패널이 수직으로 위치한 상태에서 식각액을 분사하기 때문에, 액정 패널에 대한 식각 편차가 커지는 문제점도 있었다.And, when the etchant is sprayed on the liquid crystal panel, since the etchant is sprayed in a state where the liquid crystal panel is vertically positioned, there is also a problem in that the etching deviation for the liquid crystal panel is increased.

본 발명의 배경기술은 대한민국 등록특허공보 제10-1658432호(2016.06.12 등록, 발명의 명칭: 디스플레이 패널의 식각을 위한 디스플레이패널의 씰링 방법 및 이를 이용한 디스플레이 패널의 식각방법)에 개시되어 있다.The background technology of the present invention is disclosed in Republic of Korea Patent Publication No. 10-1658432 (registered on Jun. 12, 2016, title of the invention: a method of sealing a display panel for etching a display panel and an etching method of a display panel using the same).

본 발명은 상술한 바와 같은 문제점을 해결하기 위하여 안출된 것으로, 액정 패널의 비 식각영역으로 식각액이 유입되는 것을 방지하는 액정 패널용 식각 장치 및 이를 이용한 식각 방법을 제공하는 것에 그 목적이 있다.The present invention has been devised to solve the above-described problems, and an object of the present invention is to provide an etching apparatus for a liquid crystal panel that prevents an etchant from flowing into a non-etched region of a liquid crystal panel, and an etching method using the same.

또한, 식각액이 액정 패널의 식각영역에 고르게 분사되게 하는 액정 패널용 식각 장치 및 이를 이용한 식각 방법을 제공하는 것에 다른 목적이 있다. Another object of the present invention is to provide an etching apparatus for a liquid crystal panel that allows an etching solution to be evenly sprayed onto an etching region of the liquid crystal panel, and an etching method using the same.

본 발명에 따른 액정 패널용 식각 장치는, 액정 패널에 구비되는 보호부; 및 상기 액정 패널로 침투하는 대상물을 방지하는 침투 방지부를 포함한다.An etching apparatus for a liquid crystal panel according to the present invention includes a protection unit provided in the liquid crystal panel; and a penetration preventing unit for preventing an object from penetrating into the liquid crystal panel.

또한, 상기 보호부는, 상기 액정 패널의 비 식각영역을 감싸도록 위치하는 테두리부; 및 상기 테두리부에서 연장되어 상기 액정 패널에 밀착되는 밀착부를 포함한다.In addition, the protection part may include: an edge part positioned to surround the non-etched area of the liquid crystal panel; and an adhesion part extending from the edge part and being in close contact with the liquid crystal panel.

또한, 상기 침투 방지부는, 상기 보호부의 내부로 유입된 대상물을 제거하는 배출부를 포함한다. In addition, the penetration preventing unit includes a discharge unit for removing the object introduced into the protection unit.

또한, 상기 배출부는, 상기 보호부의 내부를 진공으로 만드는 진공 생성부; 및 상기 보호부의 내부로 침투한 대상물을 제거하는 대상물 제거부를 포함한다.In addition, the discharge unit, a vacuum generating unit for creating a vacuum inside the protection unit; and an object removal unit for removing the object penetrating into the protection unit.

또한, 상기 진공 생성부 및 상기 대상물 제거부는 상기 보호부의 내부와 연통되는 것을 특징으로 한다.In addition, the vacuum generating unit and the object removing unit is characterized in that the communication with the inside of the protection unit.

또한, 상기 밀착부에는 하면에서 내측면까지 관통되어 비 식각영역으로 유입되는 상기 대상물이 상기 보호부의 내부로 유입되도록 유도하는 적어도 하나의 유도홀이 형성되는 것을 특징으로 한다.In addition, at least one guide hole that penetrates from the lower surface to the inner surface of the contact part and guides the object flowing into the non-etched area to be introduced into the inside of the protection part is formed in the contact part.

또한, 상기 밀착부의 폭은 상기 테두리부의 폭보다 두껍게 형성되는 것을 특징으로 한다.In addition, the width of the contact portion is characterized in that formed thicker than the width of the edge portion.

또한, 상기 배출부는 상기 테두리부의 측면을 따라 다수개가 구비되는 것을 특징으로 한다.In addition, the discharge part is characterized in that a plurality is provided along the side of the edge part.

또한, 상기 배출부는 내산성 재질로 이루어지는 것을 특징으로 한다.In addition, the discharge part is characterized in that made of an acid-resistant material.

또한, 상기 배출부는 상기 테두리부의 측면부 중심에 위치하는 것을 특징으로 한다.In addition, the discharge portion is characterized in that located in the center of the side portion of the edge portion.

또한, 상기 밀착부와 상기 액정 패널 사이에는 진공 그리스가 도포되는 것을 특징으로 한다.In addition, vacuum grease is applied between the contact part and the liquid crystal panel.

또한, 상기 보호부는 내산성과 연질을 가지는 재질로 이루어지는 것을 특징으로 한다.In addition, the protection part is characterized in that it is made of a material having acid resistance and softness.

또한, 상기 액정 패널은 수평방향으로 위치하고, 상기 액정 패널의 하측에는 분사부가 구비되어, 상기 분사부를 통해 상기 대상물이 상기 액정 패널의 하측에서 식각영역으로 분사되는 것을 특징으로 한다.In addition, the liquid crystal panel is positioned in the horizontal direction, the liquid crystal panel is provided with a spraying portion under the liquid crystal panel, characterized in that the object is sprayed from the lower side of the liquid crystal panel to the etching area through the spraying portion.

또한, 상기 보호부를 감싸도록 위치하여, 상기 밀착부를 상기 액정 패널 측으로 가압하여 고정시키는 고정부재를 더 포함하는 것을 특징으로 한다.In addition, it characterized in that it further comprises a fixing member positioned so as to surround the protection portion, pressing the contact portion toward the liquid crystal panel to fix.

본 발명에 따른 액정 패널용 식각 방법은, 액정 패널에서 식각이 이루어지지 않는 비 식각영역과, 식각이 이루어지는 식각영역을 설정하는 단계; 상기 액정 패널을 수평방향으로 위치시키는 단계; 상기 액정 패널의 비 식각영역을 감싸도록 보호부를 설치하는 단계; 및 상기 액정 패널의 하측에서 상기 식각영역에 식각액을 분사하는 단계를 포함한다.An etching method for a liquid crystal panel according to the present invention comprises the steps of: setting a non-etched region in a liquid crystal panel that is not etched and an etched region in which etching is performed; positioning the liquid crystal panel in a horizontal direction; installing a protection unit to surround the non-etched area of the liquid crystal panel; and spraying an etchant to the etched region from the lower side of the liquid crystal panel.

또한, 상기 보호부를 설치하는 단계와, 상기 식각액을 분사하는 단계 사이에, 상기 보호부의 내부에 차 있는 공기를 외부로 배출하는 단계를 더 포함한다.In addition, between the step of installing the protection unit and spraying the etchant, the method further includes discharging the air filled in the protection unit to the outside.

또한, 상기 공기를 외부로 배출하는 단계와, 상기 식각액을 분사하는 단계 사이에, 상기 보호부와 상기 액정 패널 사이에 진공 그리스를 도포하는 단계를 더 포함한다.In addition, between the step of discharging the air to the outside and the step of spraying the etchant, the method further includes applying a vacuum grease between the protection unit and the liquid crystal panel.

또한, 상기 보호부를 설치하는 단계와, 상기 식각액을 분사하는 단계 사이에, 고정부재에 상기 보호부를 끼워넣어 상기 보호부를 상기 액정 패널 측으로 가압하는 단계를 더 포함한다. In addition, between the step of installing the protection unit and spraying the etchant, the method further includes inserting the protection unit into a fixing member to press the protection unit toward the liquid crystal panel.

또한, 상기 액정 패널을 회전시켜 상기 식각액이 분사된 식각영역의 반대면에 재차 상기 식각액을 분사하는 단계를 더 포함한다.In addition, the method further includes the step of spraying the etchant again on the opposite surface of the etched region to which the etchant is sprayed by rotating the liquid crystal panel.

또한, 상기 보호부의 내부로 유입된 상기 식각액을 외부로 배출하는 단계를 더 포함한다.In addition, the method further includes discharging the etchant introduced into the protection unit to the outside.

상술한 바와 같이 본 발명인 액정 패널용 식각 장치 및 이를 이용한 식각 방법은, 보호부가 액정 패널의 비 식각영역에 끼워진 상태에서 식각이 이루어지기 때문에, 액정 패널의 식각 공정에서 실링과 마스킹 공정이 필요하지 않아, 곡면 형상의 액정 패널에 대한 생산성이 크게 향상되는 효과가 있다.As described above, in the etching apparatus for a liquid crystal panel of the present invention and an etching method using the same, since the etching is performed while the protective part is inserted in the non-etched region of the liquid crystal panel, sealing and masking processes are not required in the etching process of the liquid crystal panel. , there is an effect that the productivity of the curved liquid crystal panel is greatly improved.

또한, 보호부로 유입된 식각액을 외부로 배출하기 때문에, 보호부의 내부에 위치한 비 식각영역이 보호부로 유입된 식각액에 의해 식각되는 것을 최소화 하는 효과가 있다.In addition, since the etchant flowing into the protective part is discharged to the outside, there is an effect of minimizing the etching of the non-etched area located inside the protective part by the etchant flowing into the protective part.

또한, 액정 패널에 대한 식각 공정이 단순화되기 때문에, 액정 패널의 생산품에 대한 수율이 크게 향상되는 효과가 있다.In addition, since the etching process for the liquid crystal panel is simplified, there is an effect that the yield of the liquid crystal panel is greatly improved.

또한, 액정 패널이 수평방향으로 위치한 상태에서 식각액이 분사되기 때문에, 식각액이 액정 패널의 식각 영역에 편차없이 골고루 분사되는 효과가 있다.In addition, since the etchant is sprayed in a state in which the liquid crystal panel is positioned in the horizontal direction, the etchant is uniformly sprayed onto the etched region of the liquid crystal panel without deviation.

또한, 보호부를 구성하는 테두리부와 밀착부의 폭을 다르게 형성시키기 때문에, 보호부의 내부로 식각액이 유입되는 것을 최소화시키는 효과가 있다.In addition, since the width of the edge portion constituting the protection portion and the contact portion are formed differently, there is an effect of minimizing the inflow of the etchant into the inside of the protection portion.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 액정 패널용 식각 장치를 통해 액정 패널이 식각되는 상태를 나타내는 개념도.
도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 액정 패널용 식각 장치가 액정 패널에 설치된 상태를 나타내는 평면도.
도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 액정 패널용 식각 장치를 구성하는 보호부에 유도홀이 형성된 상태를 나타내는 단면도.
도 4는 본 발명의 다른 실시예에 따른 액정 패널용 식각 장치를 구성하는 보호부의 폭이 다르게 형성된 상태를 나타내는 단면도.
도 5는 본 발명의 일 실시예에 따른 액정 패널용 식각 장치를 구성하는 보호부에 고정부재가 끼워진 상태를 나타내는 단면도.
도 6은 본 발명의 일 실시예에 따른 액정 패널용 식각 장치를 통해 액정 패널이 식각된 상태를 나타내는 단면도.
도 7은 본 발명의 일 실시예에 따른 액정 패널용 식각 방법을 나타내는 흐름도.
도 8은 본 발명의 다른 실시예에 따른 액정 패널용 식각 방법을 나타내는 흐름도.
1 is a conceptual diagram illustrating a state in which a liquid crystal panel is etched by an etching apparatus for a liquid crystal panel according to an embodiment of the present invention.
2 is a plan view illustrating a state in which an etching apparatus for a liquid crystal panel according to an embodiment of the present invention is installed on the liquid crystal panel;
3 is a cross-sectional view illustrating a state in which a guide hole is formed in a protective part constituting an etching apparatus for a liquid crystal panel according to an embodiment of the present invention;
4 is a cross-sectional view showing a state in which the width of the protection part constituting the etching apparatus for a liquid crystal panel according to another embodiment of the present invention is formed differently.
5 is a cross-sectional view illustrating a state in which a fixing member is inserted into a protection part constituting an etching apparatus for a liquid crystal panel according to an embodiment of the present invention.
6 is a cross-sectional view illustrating a state in which a liquid crystal panel is etched by an etching apparatus for a liquid crystal panel according to an embodiment of the present invention;
7 is a flowchart illustrating an etching method for a liquid crystal panel according to an embodiment of the present invention.
8 is a flowchart illustrating an etching method for a liquid crystal panel according to another embodiment of the present invention.

이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 일 실시예에 따른 액정 패널용 식각 장치 및 이를 이용한 식각 방법을 상세히 설명한다.Hereinafter, an etching apparatus for a liquid crystal panel and an etching method using the same according to an embodiment of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 액정 패널용 식각 장치를 통해 액정 패널이 식각되는 상태를 나타내는 개념도이고, 도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 액정 패널용 식각 장치가 액정 패널에 설치된 상태를 나타내는 평면도이며, 도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 액정 패널용 식각 장치를 구성하는 보호부에 유도홀이 형성된 상태를 나타내는 단면도이다.1 is a conceptual diagram illustrating a state in which a liquid crystal panel is etched through an etching apparatus for a liquid crystal panel according to an embodiment of the present invention, and FIG. 2 is an etching apparatus for a liquid crystal panel according to an embodiment of the present invention installed on the liquid crystal panel It is a plan view showing a state, and FIG. 3 is a cross-sectional view showing a state in which an induction hole is formed in a protective part constituting an etching apparatus for a liquid crystal panel according to an embodiment of the present invention.

도 1 내지 도 3에 도시된 바와 같이, 본 발명의 일 실시예에 따른 액정 패널용 식각 장치(100)는, 보호부(110), 침투 방지부(130)를 포함할 수 있다.1 to 3 , the etching apparatus 100 for a liquid crystal panel according to an embodiment of the present invention may include a protection unit 110 and a penetration prevention unit 130 .

보호부(110)는, 내산성과 연질을 가지는 고무 등으로 이루어지며, 액정 패널(200)에 구비될 수 있다.The protection unit 110 is made of rubber having acid resistance and softness, and may be provided in the liquid crystal panel 200 .

여기서, 보호부(110)는, 액정 패널(200)의 비 식각영역(d1)을 감싸도록 위치할 수 있다.Here, the protection unit 110 may be positioned to surround the non-etched region d1 of the liquid crystal panel 200 .

이에 의해, 액정 패널(200) 중 보호부(110)가 감싸고 있는 비 식각영역(d1)으로 침투 대상물, 예를 들어 식각액이 유입되는 것을 방지한다.Accordingly, the penetration target, for example, an etchant is prevented from flowing into the non-etched region d1 surrounded by the protective part 110 of the liquid crystal panel 200 .

침투 방지부(130)는, 액정 패널(200)로 침투하는 대상물이 비 식각영역(d1)으로 침투하는 것을 방지하는데, 보호부(110)의 내부로 유입된 대상물을 제거하는 배출부(131)를 포함할 수 있다.The penetration prevention unit 130 prevents an object penetrating into the liquid crystal panel 200 from penetrating into the non-etched region d1 , and a discharge unit 131 for removing the object introduced into the protection unit 110 . may include.

배출부(131)는, 후술할 보호부(110)의 테두리부(111)의 측면을 따라 다수개가 구비될 수 있고, 테두리부(111)의 측면 중심에 위치할 수 있다.A plurality of discharge parts 131 may be provided along the side surface of the edge part 111 of the protection part 110 to be described later, and may be located at the center of the side surface of the edge part 111 .

여기서, 배출부(131)는 절연튜브 등의 내산성을 가진 재질로 이루어질 수 있다.Here, the discharge part 131 may be made of an acid-resistant material such as an insulating tube.

더하여, 배출부(131)는, 진공 생성부(131a) 및 대상물 제거부(131b)를 포함할 수 있다.In addition, the discharge unit 131 may include a vacuum generating unit 131a and an object removing unit 131b.

진공 생성부(131a)는, 보호부(110)의 내부를 진공으로 만들 수 있는데, 외부의 진공 펌프(미도시)와 연결되어, 보호부(110)의 내부 공기가 제거되게 함으로써, 보호부(110)의 내부가 진공상태가 되도록 조절할 수 있다.The vacuum generating unit 131a can make the inside of the protection unit 110 into a vacuum, and is connected to an external vacuum pump (not shown), so that the air inside the protection unit 110 is removed, the protection unit ( 110) can be adjusted so that the inside of the vacuum is in a vacuum state.

대상물 제거부(131b)는, 보호부(110)의 내부로 침투한 대상물을 제거할 수 있다.The object removal unit 131b may remove the object penetrating into the protection unit 110 .

여기서, 진공 생성부(131a)와 대상물 제거부(131b)는 보호부(110)의 내부와 연통될 수 있고, 후술할 보호부(110)의 테부리부(111)를 따라 상호간에 나란하게 배치될 수 있다.Here, the vacuum generating unit 131a and the object removing unit 131b may communicate with the inside of the protection unit 110 , and are disposed in parallel with each other along the edge 111 of the protection unit 110 to be described later. can be

구체적으로, 배출부(131)는, 보호부(110)를 관통하도록 구비될 수 있고, 진공 생성부(131a)를 통해 보호부(110)의 내부가 진공이 되도록 보호부(110)의 내부 공기를 외부로 배출하거나, 대상물 제거부(131b)를 통해 보호부(110)의 내부로 유입된 식각액을 외부로 배출할 수 있다.Specifically, the discharge unit 131 may be provided to pass through the protection unit 110 , and air inside the protection unit 110 so that the inside of the protection unit 110 becomes a vacuum through the vacuum generating unit 131a . may be discharged to the outside, or the etchant introduced into the protection unit 110 through the object removal unit 131b may be discharged to the outside.

예를 들어, 식각액 즉 에칭액이 분사부(150)에 의해 액정 패널(200)의 식각영역(d2)에 분사된 다음, 액정 패널(200)과 보호부(110)의 틈 사이로 식각액이 흐른 후 보호부(110)의 내부로 유입되면, 보호부(110)의 내부에 차 있는 식각액은 대상물 제거부(131b)를 통해 보호부(110)의 외부로 배출되어, 보호부(110)가 감싸고 있는 비 식각영역(d1)이 보호부(110)의 내부로 유입된 식각액을 통해 식각되는 것이 방지된다.For example, after the etching solution, that is, the etching solution is sprayed onto the etching region d2 of the liquid crystal panel 200 by the spray unit 150 , the etching solution flows between the gap between the liquid crystal panel 200 and the protection unit 110 . When flowing into the inside of the part 110, the etchant filled in the inside of the protection unit 110 is discharged to the outside of the protection unit 110 through the object removal unit (131b), the protection unit 110 is surrounded by rain The etching region d1 is prevented from being etched through the etchant introduced into the protection unit 110 .

본 실시예에서는, 액정 패널(200)과 보호부(110)의 틈 사이로 유입되는 침투 대상물이 식각액인 구성을 예시하고 있으나, 이는 일 예시에 불과하고, 반드시 이에 한정되는 것은 아니며, 액정 패널(200)에 영향을 주는 다양한 이물질에 적용될 수 있다.In the present embodiment, although the configuration in which the penetrating target flowing into the gap between the liquid crystal panel 200 and the protection unit 110 is an etchant is exemplified, this is only an example and is not necessarily limited thereto, and the liquid crystal panel 200 ) can be applied to various foreign substances that affect

한편, 진공 생성부(131a)는 보호부(110)의 외부에 구비된 진공 펌프에 연결되어, 보호부(110)의 내부에 차 있는 공기를 외부로 배출함으로써, 보호부(110)의 내부가 진공이 되게 할 수 있다.On the other hand, the vacuum generating unit 131a is connected to a vacuum pump provided on the outside of the protection unit 110, and by discharging the air filled in the inside of the protection unit 110 to the outside, the inside of the protection unit 110 is You can create a vacuum.

그리고, 보호부(110)의 내부가 진공 상태로 조절되는 과정중에, 보호부(110)를 구성하는 밀착부(113)가 액정 패널(200) 측으로 당겨짐으로써, 밀착부(113)와 액정 패널(200) 사이의 틈이 최소화 되게 된다.And, during the process in which the inside of the protection unit 110 is adjusted to a vacuum state, the contact unit 113 constituting the protection unit 110 is pulled toward the liquid crystal panel 200, so that the contact unit 113 and the liquid crystal panel ( 200) is minimized.

여기서, 보호부(110)는, 테두리부(111) 및 밀착부(113)를 포함할 수 있다.Here, the protection part 110 may include an edge part 111 and a close contact part 113 .

테두리부(111)는, 액정 패널(200)의 비 식각영역(d1)을 감싸도록 위치하고, 배출부(131)가 관통되게 구비될 수 있다.The edge portion 111 may be positioned to surround the non-etched region d1 of the liquid crystal panel 200 , and the discharge portion 131 may be provided to penetrate therethrough.

밀착부(113)는, 테두리부(111)의 내측 양단에서 액정 패널(200) 측으로 절곡되게 연장형성되어, 액정 패널(200)에 밀착될 수 있다.The close contact portion 113 may be formed to be bent from both inner ends of the edge portion 111 toward the liquid crystal panel 200 to be in close contact with the liquid crystal panel 200 .

밀착부(113)가 액정 패널(200)에 밀착됨으로써, 식각영역(d2)에 분사된 식각액이 보호부(110)의 내부에 위치한 비 식각영역(d1)으로 유입되는 것이 방지된다.Since the adhesion part 113 is in close contact with the liquid crystal panel 200 , the etchant sprayed on the etch region d2 is prevented from flowing into the non-etch region d1 located inside the protection part 110 .

여기서, 밀착부(113)에는 유도홀(113a)이 형성될 수 있다.Here, a guide hole 113a may be formed in the close contact portion 113 .

유도홀(113a)은, 밀착부(113)의 하면에서 내측면까지 관통되어, 비 식각영역(d1)으로 유입되는 식각액이 비 삭각영역(d1)을 지나지 않은 상태에서, 보호부(110)의 내부로 유입되도록 유도할 수 있다.The guide hole 113a penetrates from the lower surface to the inner surface of the contact part 113, and the etchant flowing into the non-etched region d1 is not passed through the non-etched region d1. It can be induced to flow inside.

식각액이 비 식각영역(d1)을 지나지 않고 유도홀(113a)을 통해 보호부(110)의 내부로 유도되기 때문에, 보호부(110)로 유입된 식각액에 의해 비 식각영역(d1)이 식각되는 것이 방지된다.Since the etchant does not pass through the non-etching region d1 and is guided to the inside of the protection unit 110 through the guide hole 113a, the non-etching region d1 is etched by the etchant flowing into the protection unit 110 . it is prevented

아울러, 밀착부(113)와 액정 패널(200) 사이에는 진공 그리스가 도포될 수 있다.In addition, vacuum grease may be applied between the adhesion part 113 and the liquid crystal panel 200 .

진공 그리스는, 밀착부(113)와 액정 패널(200) 사이에 도포되어, 밀착부(113)와 액정 패널(200) 사이의 틈을 메꿈으로써, 식각액이 밀착부(113)와 액정 패널(200) 사이로 흘러들어가 보호부(110)의 내부에 위치한 비 식각영역(d1)으로 유입되는 것이 방지된다.The vacuum grease is applied between the adhesion part 113 and the liquid crystal panel 200 to fill the gap between the adhesion part 113 and the liquid crystal panel 200 , so that the etchant is applied between the adhesion part 113 and the liquid crystal panel 200 . ) and is prevented from flowing into the non-etched region d1 located inside the protection unit 110 .

여기서, 액정 패널(200)은 수평방향으로 위치할 수 있고, 액정 패널(200)의 하측에는 분사부(150)가 구비될 수 있다.Here, the liquid crystal panel 200 may be positioned in a horizontal direction, and the spray unit 150 may be provided under the liquid crystal panel 200 .

본 실시예에서는 액정 패널(200)이 수평방향으로 위치하는 구성을 예시하고 있지만, 이는 일 예시이고, 반드시 이에 한정되지 않으며, 액정 패널(200)은 다양한 방향으로 위치할 수 있다.Although the present embodiment exemplifies a configuration in which the liquid crystal panel 200 is positioned in a horizontal direction, this is only an example and is not necessarily limited thereto, and the liquid crystal panel 200 may be positioned in various directions.

분사부(150)는, 액정 패널(200)의 하측에 위치한 상태에서, 액정 패널(200) 측으로 식각액을 분사하여, 식각영역(d2)을 식각할 수 있다.The spraying unit 150 may spray an etchant toward the liquid crystal panel 200 in a state located below the liquid crystal panel 200 to etch the etching region d2 .

종래의 경우, 액정 패널(200)이 수직으로 위치한 상태에서 측면에서 식각액을 분사하기 때문에, 식각영역(d2)에서 식각된 정도가 차이가 나는 영역이 발생되는 경우가 많았지만, 본 발명은 액정 패널(200)을 수평방향으로 위치시킨 다음, 하측에서 분사부(150)를 통해 식각액을 분사하기 때문에, 식각액이 액정 패널(200)의 식각영역(d2)에 골고루 분사되게 된다.In the conventional case, since the etchant is sprayed from the side in a state in which the liquid crystal panel 200 is positioned vertically, regions having different etched degrees are often generated in the etched region d2, but the present invention provides for the liquid crystal panel After positioning 200 in the horizontal direction, the etchant is sprayed through the injection unit 150 from the lower side, so that the etchant is uniformly sprayed onto the etching region d2 of the liquid crystal panel 200 .

한편, 도 4는 본 발명의 다른 실시예에 따른 액정 패널용 식각 장치를 구성하는 보호부의 폭이 다르게 형성된 상태를 나타내는 단면도이다.Meanwhile, FIG. 4 is a cross-sectional view illustrating a state in which the width of the protection part constituting the etching apparatus for a liquid crystal panel according to another embodiment of the present invention is formed differently.

도 4에 도시된 바와 같이, 본 발명의 다른 실시예에 따른 액정 패널용 식각 장치(100)는, 보호부(310)와 침투 방지부(130)를 포함할 수 있다.As shown in FIG. 4 , the etching apparatus 100 for a liquid crystal panel according to another embodiment of the present invention may include a protection unit 310 and a penetration prevention unit 130 .

보호부(310)는 액정 패널(200)에 구비될 수 있고, 침투 방지부(130)는 액정 패널(200)로 침투하는 대상물이 비 식각영역(d1)으로 침투되는 것을 방지한다.The protection unit 310 may be provided in the liquid crystal panel 200 , and the penetration preventing unit 130 prevents an object penetrating into the liquid crystal panel 200 from penetrating into the non-etched region d1 .

여기서, 보호부(310)는, 액정 패널(200)의 비 식각영역(d1)을 감싸도록 위치할 수 있으며, 침투 방지부(130)는, 보호부(110)의 내부로 유입된 대상물을 제거하는 배출부(131)를 포함할 수 있다.Here, the protection unit 310 may be positioned to surround the non-etched region d1 of the liquid crystal panel 200 , and the penetration prevention unit 130 removes the object introduced into the protection unit 110 . It may include a discharge unit 131 that does.

그리고, 배출부(131)는, 절연튜브로 이루어질 수 있으며, 도 3에 도시된 진공 생성부(131a)와 대상물 제거부(131b)를 포함할 수 있다.In addition, the discharge unit 131 may be formed of an insulating tube, and may include the vacuum generating unit 131a and the object removing unit 131b shown in FIG. 3 .

한편, 보호부(310)는, 테두리부(311) 및 밀착부(313)를 포함할 수 있다.Meanwhile, the protection part 310 may include an edge part 311 and a contact part 313 .

테두리부(311)는, 액정 패널(200)의 비 식각영역(d1)을 감싸도록 위치할 수 있다.The edge portion 311 may be positioned to surround the non-etched region d1 of the liquid crystal panel 200 .

밀착부(313)는, 테두리(311)로부터 연장형성되어, 액정 패널(200)에 밀착되게 위치할 수 있다.The contact part 313 may extend from the edge 311 and be positioned to be in close contact with the liquid crystal panel 200 .

여기서, 밀착부(313)에는 유도홀(113a)이 형성될 수 있고, 유도홀(113a)은, 밀착부(313)의 하면에서 내측면까지 관통되게 형성될 수 있다.Here, a guide hole 113a may be formed in the contact part 313 , and the guide hole 113a may be formed to penetrate from the lower surface of the contact part 313 to the inner surface.

특히, 밀착부(313)의 폭(W1)은 테두리부(311)의 폭(W2)보다 두껍게 형성될 수 있다.In particular, the width W1 of the contact portion 313 may be thicker than the width W2 of the edge portion 311 .

본 발명은, 밀착부(313)의 폭(W1)을 테두리부(311)의 폭(W2)보다 두껍게 형성시킴으로써, 식각액이 액정 패널(200)의 식각영역(d2)에 분사된 다음, 보호부(310)를 구성하는 밀착부(313)와 액정 패널(200)의 틈 사이로 유입됐을 때, 식각액이 이동하게 되는 밀착부위의 거리가 길어지게 되어, 최종적으로 보호부(310)의 내부로 유입되는 식각액이 최소화되게 된다.In the present invention, by forming the width W1 of the contact portion 313 thicker than the width W2 of the edge portion 311 , the etchant is sprayed onto the etching region d2 of the liquid crystal panel 200 , and then the protection part When it flows into the gap between the adhesion part 313 constituting the 310 and the liquid crystal panel 200 , the distance between the adhesion part to which the etchant moves is increased, and finally flows into the inside of the protection part 310 . The etching solution is minimized.

한편, 도 5는 본 발명의 일 실시예에 따른 액정 패널용 식각 장치를 구성하는 보호부에 고정부재가 끼워진 상태를 나타내는 단면도이다.Meanwhile, FIG. 5 is a cross-sectional view illustrating a state in which a fixing member is fitted into a protection part constituting an etching apparatus for a liquid crystal panel according to an embodiment of the present invention.

도 5에 도시된 바와 같이, 본 발명의 일 실시예에 따른 액정 패널용 식각 장치(100)는, 보호부(110)에 고정부재(400)가 더 구비될 수 있다.As shown in FIG. 5 , in the etching apparatus 100 for a liquid crystal panel according to an embodiment of the present invention, a fixing member 400 may be further provided in the protection unit 110 .

고정부재(400)는, 보호부(110)를 감싸도록 위치한 상태에서, 보호부(110)를 구성하는 밀착부(113)를 액정 패널(200) 측으로 가압(P)하여, 밀착부(113)와 액정패널(200) 사이의 틈이 최소화되게 하고, 이를 통해 식각액이 보호부(110)의 내부로 유입되는 것을 방지한다.The fixing member 400 presses (P) the contact portion 113 constituting the protection unit 110 toward the liquid crystal panel 200 in a state where it is positioned so as to surround the protection unit 110 , the contact portion 113 . The gap between the and the liquid crystal panel 200 is minimized, thereby preventing the etchant from flowing into the protection unit 110 .

이하, 도 7을 참조하여, 본 발명의 일 실시예에 따른 액정 패널용 식각 방법을 상세히 설명한다.Hereinafter, an etching method for a liquid crystal panel according to an embodiment of the present invention will be described in detail with reference to FIG. 7 .

먼저, 액정 패널(200)에서 식각이 이루어지지 않는 비 식각영역(d1)과, 식각이 이루어지는 식각영역(d2)을 설정한다(S101).First, in the liquid crystal panel 200 , a non-etched region d1 that is not etched and an etched region d2 that is etched are set ( S101 ).

이후, 액정 패널(200)을 제1 방향으로 위치시킨 다음(S103), 액정 패널(200)의 비 식각영역(d1)을 감싸도록 보호부(110)를 설치한다(S105).Thereafter, the liquid crystal panel 200 is positioned in the first direction ( S103 ), and then the protection unit 110 is installed to surround the non-etched region d1 of the liquid crystal panel 200 ( S105 ).

본 실시예에서는 액정 패널(200)이 수평방향으로 위치하는 구성을 예시하고 있지만, 이는 일 예시이고, 반드시 이에 한정되지 않으며, 액정 패널(200)은 다양한 방향으로 위치할 수 있다.Although the present embodiment exemplifies a configuration in which the liquid crystal panel 200 is positioned in a horizontal direction, this is only an example and is not necessarily limited thereto, and the liquid crystal panel 200 may be positioned in various directions.

그리고, 보호부(110)의 내부에 차 있는 공기를 외부로 배출하여 보호부(110)가 액정 패널(200)에 밀착되게 한 다음(S107), 보호부(110)와 액정 패널(200) 사이에 진공 그리스를 도포한다(S109).Then, the air filled in the inside of the protection unit 110 is discharged to the outside so that the protection unit 110 is in close contact with the liquid crystal panel 200 ( S107 ), and then between the protection unit 110 and the liquid crystal panel 200 . Apply vacuum grease to (S109).

이후, 액정 패널(200)의 하측에서 분사부(150)를 통해 식각영역(d2)에 식각액을 분사하고(S111), 액정 패널(200)을 회전시켜 식각영역(d2)의 반대면에 식각액을 재차 분사한다(S113).Thereafter, the etchant is sprayed on the etch region d2 through the injection unit 150 from the lower side of the liquid crystal panel 200 (S111), and the liquid crystal panel 200 is rotated to apply the etchant to the opposite surface of the etch region d2. It is sprayed again (S113).

한편, 도 8을 참조하여, 본 발명의 다른 실시예에 따른 액정 패널용 식각 방법을 상세히 설명하면, 액정 패널(200)에서 식각이 이루어지지 않는 비 식각영역(d1)과, 식각이 이루어지는 식각영역(d2)을 설정하고(S201), 액정 패널(200)을 수평방향으로 위치시킨 다음(S203), 액정 패널(200)의 비 식각영역(d1)을 감싸도록 보호부(110)를 설치한다(S205)Meanwhile, referring to FIG. 8 , an etching method for a liquid crystal panel according to another embodiment of the present invention will be described in detail. In the liquid crystal panel 200 , the non-etched region d1 and the etched region are etched. (d2) is set (S201), the liquid crystal panel 200 is positioned in the horizontal direction (S203), and the protection unit 110 is installed to surround the non-etched region d1 of the liquid crystal panel 200 ( S205)

그리고, 보호부(110)의 내부에 차 있는 공기를 외부로 배출한 다음(S207), 보호부(110)를 고정부재(400)로 가압한 후(S209), 액정 패널(200)의 식각영역(d2)에 식각액을 분사하고(S211), 액정 패널(200)을 회전시켜 식각영역(d2)의 반대면에 식각액을 재차 분사한다(S213).Then, after discharging the air filled in the inside of the protection unit 110 to the outside (S207), after pressing the protection unit 110 with the fixing member 400 (S209), the etching region of the liquid crystal panel 200 The etching solution is sprayed at (d2) (S211), and the liquid crystal panel 200 is rotated to spray the etching solution again on the opposite surface of the etching region d2 (S213).

상기와 같이 구성되어 동작되는 본 발명에 의하면, 보호부(110)가 액정 패널(200)의 비 식각영역(d1)에 끼워진 상태에서 식각이 이루어지기 때문에, 액정 패널(200)의 식각 공정에서 실링과 마스킹 공정이 필요하지 않아, 곡면 형상의 액정 패널(200)에 대한 생산성이 크게 향상된다.According to the present invention configured and operated as described above, since the etching is performed in a state in which the protection part 110 is inserted into the non-etched region d1 of the liquid crystal panel 200 , sealing is performed in the etching process of the liquid crystal panel 200 . Since no over-masking process is required, the productivity of the curved liquid crystal panel 200 is greatly improved.

또한, 침투 방지부(130)를 통해 보호부(110)로 유입된 식각액을 외부로 배출하기 때문에, 보호부(110)의 내부에 위치한 비 식각영역(d2)이 보호부(110)로 유입된 식각액에 의해 식각되는 것이 방지된다.In addition, since the etchant introduced into the protection unit 110 through the penetration prevention unit 130 is discharged to the outside, the non-etched region d2 located inside the protection unit 110 is introduced into the protection unit 110 . It is prevented from being etched by the etchant.

또한, 액정 패널(200)에 대한 식각 공정이 단순화되기 때문에, 액정 패널(200)의 생산품에 대한 수율이 크게 향상된다.In addition, since the etching process for the liquid crystal panel 200 is simplified, the yield of the liquid crystal panel 200 is greatly improved.

또한, 액정 패널(200)이 수평방향으로 위치한 상태에서 식각액이 액정 패널(200)의 하측에서 분사되기 때문에, 식각액이 액정 패널(200)의 식각 영역에 편차없이 골고루 분사된다.In addition, since the etchant is sprayed from the lower side of the liquid crystal panel 200 in a state in which the liquid crystal panel 200 is positioned in the horizontal direction, the etchant is uniformly sprayed onto the etching region of the liquid crystal panel 200 without deviation.

또한, 진공 그리스가 액정 패널(200)과 보호부(110) 사이의 틈에 도포되기 때문에, 액정 패널(200)과 보호부(110) 사이의 틈을 메꿔 식각액이 틈 사이를 지나 비 식각영역(d1)으로 유입되는 것이 방지된다.In addition, since the vacuum grease is applied to the gap between the liquid crystal panel 200 and the protective part 110, the gap between the liquid crystal panel 200 and the protective part 110 is filled, so that the etchant passes between the gaps to the non-etched area ( d1) is prevented.

또한, 고정부재(400)를 통해 보호부(110)를 액정 패널(200) 측으로 가압하기 때문에, 액정 패널(200)과 보호부(110)의 사이의 틈이 최소화되고, 이를 통해 액정 패널(200)과 보호부(110)의 틈 사이로 식각액이 유입되는 것이 방지된다.In addition, since the protection unit 110 is pressed toward the liquid crystal panel 200 through the fixing member 400 , the gap between the liquid crystal panel 200 and the protection unit 110 is minimized, and through this, the liquid crystal panel 200 ) and the inflow of the etchant between the gaps of the protection unit 110 is prevented.

또한, 보호부(310)를 구성하는 테두리부(311)와 밀착부(313)의 폭이 다르게 형성되기 때문에, 밀착부(313)와 액정 패널(200)의 밀착부위가 길어져, 밀착부위를 지나 보호부(310)의 내부로 유입되는 식각액이 최소화되게 된다.In addition, since the width of the edge portion 311 and the contact portion 313 constituting the protection unit 310 is formed to be different, the adhesion portion between the adhesion portion 313 and the liquid crystal panel 200 becomes longer, passing the adhesion portion The etchant flowing into the protection part 310 is minimized.

이상에서 본 발명의 바람직한 일실시예를 설명하였으나, 본 발명은 다양한 변화와 변경 및 균등물을 사용할 수 있고, 상기 실시예를 적절히 변형하여 동일하게 응용할 수 있음이 명확하다. 따라서 상기 기재내용은 하기 특허청구범위의 한계에 의해 정해지는 본 발명의 범위를 한정하는 것이 아니다.Although a preferred embodiment of the present invention has been described above, it is clear that the present invention can use various changes, modifications, and equivalents, and can be equally applied by appropriately modifying the above embodiments. Accordingly, the above description is not intended to limit the scope of the present invention, which is defined by the limits of the following claims.

100: 장치 110, 310: 보호부
111, 311: 테두리부 113, 313: 밀착부
113a, 313a: 유도홀 130: 침투 방지부
131: 배출부 131a: 진공 생성부
131b: 대상물 제거부 200: 액정 패널
d1: 비 식각영역 d2: 식각영역
150: 분사부 P: 가압방향
100: device 110, 310: protection unit
111, 311: edge portion 113, 313: contact portion
113a, 313a: guide hole 130: penetration prevention part
131: discharge unit 131a: vacuum generating unit
131b: object removal unit 200: liquid crystal panel
d1: non-etched region d2: etched region
150: injection part P: pressure direction

Claims (20)

액정 패널의 식각영역에 분사된 대상물이 비 식각영역으로 유입되지 않게 상기 비 식각영역에 구비되는 보호부; 및
상기 보호부 내부의 공기나 상기 대상물을 상기 보호부의 외부로 배출가능하게 상기 보호부의 내부와 연통되는 유로를 형성하는 침투 방지부;를 포함하고,
상기 보호부는,
상기 비 식각영역을 감싸도록 위치하는 테두리부; 및
상기 테두리부에서 상기 액정 패널측으로 연장되어 상기 액정 패널에 밀착되는 밀착부;를 포함하며,
상기 침투 방지부는,
상기 보호부 내부의 공기를 배출가능한 유로를 형성하고, 진공 펌프와 연결되며, 상기 보호부 내부의 공기를 배출하는 것에 의해 상기 밀착부를 상기 액정 패널측으로 당겨 밀착시키는 진공 생성부;를 포함하는 것을 특징으로 하는 액정 패널용 식각 장치.
a protection unit provided in the non-etched region to prevent an object sprayed onto the etched region of the liquid crystal panel from flowing into the non-etched region; and
Including; and a penetration prevention unit that forms a flow path communicating with the inside of the protection unit so that the air or the object inside the protection unit can be discharged to the outside of the protection unit;
The protection unit,
an edge portion positioned to surround the non-etched region; and
and a close contact portion extending from the edge portion to the liquid crystal panel side and in close contact with the liquid crystal panel;
The penetration prevention unit,
and a vacuum generating unit that forms a flow path for discharging the air inside the protection unit, is connected to a vacuum pump, and pulls the contact unit toward the liquid crystal panel by discharging the air inside the protection unit. Etching device for liquid crystal panel.
삭제delete 삭제delete 제1항에 있어서,
상기 침투 방지부는,
상기 보호부의 내부로 침투한 상기 대상물을 제거하는 대상물 제거부;를 더 포함하는 액정 패널용 식각 장치.
According to claim 1,
The penetration prevention unit,
An etching apparatus for a liquid crystal panel further comprising a; object removal unit for removing the object that has penetrated into the protection unit.
제4항에 있어서,
상기 대상물 제거부는 상기 보호부의 내부와 연통되는 것을 특징으로 하는 액정 패널용 식각 장치.
5. The method of claim 4,
The etching apparatus for a liquid crystal panel, characterized in that the object removal unit communicates with the inside of the protection unit.
제1항에 있어서,
상기 밀착부에는 하면에서 내측면까지 관통되어 상기 비 식각영역으로 유입되는 상기 대상물이 상기 보호부의 내부로 유입되도록 유도하는 적어도 하나의 유도홀;이 형성되는 것을 특징으로 하는 액정 패널용 식각 장치.
According to claim 1,
Etching apparatus for a liquid crystal panel, characterized in that the at least one guide hole that penetrates from the lower surface to the inner surface and guides the object flowing into the non-etched area to flow into the inside of the protection part; is formed in the contact part.
제1항에 있어서,
상기 밀착부의 폭은 상기 테두리부의 폭보다 두껍게 형성되는 것을 특징으로 하는 액정 패널용 식각 장치.
According to claim 1,
The etching apparatus for a liquid crystal panel, characterized in that the width of the contact portion is formed to be thicker than the width of the edge portion.
제1항에 있어서,
상기 침투 방지부는 상기 테두리부의 측면을 따라 다수개가 구비되는 것을 특징으로 하는 액정 패널용 식각 장치.
According to claim 1,
The etching apparatus for a liquid crystal panel, characterized in that a plurality of the penetration preventing portion is provided along the side of the edge portion.
제1항에 있어서,
상기 침투 방지부는 내산성 재질로 이루어지는 것을 특징으로 하는 액정 패널용 식각 장치.
According to claim 1,
The liquid crystal panel etching device, characterized in that the penetration preventing portion made of an acid-resistant material.
제8항에 있어서,
상기 침투 방지부는 상기 테두리부의 측면부 중심에 위치하는 것을 특징으로 하는 액정 패널용 식각 장치.
9. The method of claim 8,
The etching apparatus for a liquid crystal panel, characterized in that the penetration preventing portion is located in the center of the side of the edge portion.
제1항에 있어서,
상기 밀착부와 상기 액정 패널 사이에는 진공 그리스가 도포되는 것을 특징으로 하는 액정 패널용 식각 장치.
According to claim 1,
An etching apparatus for a liquid crystal panel, characterized in that vacuum grease is applied between the contact part and the liquid crystal panel.
제1항에 있어서,
상기 보호부는 내산성과 연질을 가지는 재질로 이루어지는 것을 특징으로 하는 액정 패널용 식각 장치.
According to claim 1,
The protection part is an etching apparatus for a liquid crystal panel, characterized in that made of a material having acid resistance and softness.
제1항에 있어서,
상기 액정 패널은 수평방향으로 위치하고,
상기 액정 패널의 하측에는 분사부가 구비되어,
상기 분사부를 통해 상기 대상물이 상기 액정 패널의 하측에서 상기 식각영역으로 분사되는 것을 특징으로 하는 액정 패널용 식각 장치.
According to claim 1,
The liquid crystal panel is positioned in a horizontal direction,
A spraying part is provided on the lower side of the liquid crystal panel,
The etching apparatus for a liquid crystal panel, characterized in that the object is injected into the etching area from the lower side of the liquid crystal panel through the spraying unit.
제1항에 있어서,
상기 보호부를 감싸도록 위치하여, 상기 밀착부를 상기 액정 패널 측으로 가압하여 고정시키는 고정부재;를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 액정 패널용 식각 장치.
According to claim 1,
The liquid crystal panel etching apparatus according to claim 1, further comprising a fixing member positioned to surround the protection part and fixing the contact part by pressing it toward the liquid crystal panel.
액정 패널에서 식각이 이루어지지 않는 비 식각영역과, 식각이 이루어지는 식각영역을 설정하는 단계;
상기 비 식각영역을 감싸도록 보호부를 설치하는 단계;
상기 보호부의 내부와 연통되는 유로를 형성하는 침투 방지부를 통해 상기 보호부 내부의 공기를 외부로 배출하는 단계; 및
상기 액정 패널의 하측에서 상기 식각영역에 식각액을 분사하는 단계;를 포함하고,
상기 보호부는,
상기 비 식각영역을 감싸도록 위치하는 테두리부; 및
상기 테두리부에서 상기 액정 패널측으로 연장되어 상기 액정 패널에 밀착되는 밀착부;를 포함하며,
상기 침투 방지부는,
상기 보호부 내부의 공기를 배출가능한 유로를 형성하고, 진공 펌프와 연결되는 진공 생성부;를 포함하고,
상기 보호부 내부의 공기를 외부로 배출하는 단계는,
상기 진공 생성부를 통해 상기 보호부 내부의 공기를 배출하여 상기 밀착부를 상기 액정 패널측으로 당겨 밀착시키고, 상기 식각영역에 분사된 식각액이 상기 비 식각영역으로 유입되는 것을 막는 것을 특징으로 하는 액정 패널용 식각 방법.
setting a non-etched region in which etching is not performed and an etched region in which etching is performed in the liquid crystal panel;
installing a protection unit to surround the non-etched area;
discharging the air inside the protection unit to the outside through a penetration preventing unit that forms a flow path communicating with the inside of the protection unit; and
Including; spraying an etchant to the etched region from the lower side of the liquid crystal panel,
The protection unit,
an edge portion positioned to surround the non-etched region; and
and a close contact portion extending from the edge portion to the liquid crystal panel side and in close contact with the liquid crystal panel;
The penetration prevention unit,
Including; and a vacuum generating unit that forms a flow path through which the air inside the protection unit can be discharged, and is connected to a vacuum pump.
The step of discharging the air inside the protection unit to the outside is,
Etching for liquid crystal panel, characterized in that by discharging the air inside the protection unit through the vacuum generating unit, pulling the contact part toward the liquid crystal panel, and preventing the etchant sprayed to the etching area from flowing into the non-etching area Way.
삭제delete 제15항에 있어서,
상기 공기를 외부로 배출하는 단계와, 상기 식각액을 분사하는 단계 사이에,
상기 보호부와 상기 액정 패널 사이에 진공 그리스를 도포하는 단계;를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 액정 패널용 식각 방법.
16. The method of claim 15,
Between the step of discharging the air to the outside and the step of spraying the etchant,
The etching method for a liquid crystal panel further comprising; applying a vacuum grease between the protection part and the liquid crystal panel.
제15항에 있어서,
상기 보호부를 설치하는 단계와, 상기 식각액을 분사하는 단계 사이에,
고정부재에 상기 보호부를 끼워넣어 상기 보호부를 상기 액정 패널 측으로 가압하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 액정 패널용 식각 방법.
16. The method of claim 15,
Between the step of installing the protection part and the step of spraying the etchant,
The etching method for a liquid crystal panel, characterized in that it further comprises the step of inserting the protective part into a fixing member to press the protective part toward the liquid crystal panel.
제15항에 있어서,
상기 액정 패널을 회전시켜 상기 식각액이 분사된 식각영역의 반대면에 재차 상기 식각액을 분사하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 액정 패널용 식각 방법.
16. The method of claim 15,
The etching method for a liquid crystal panel, characterized in that it further comprises the step of rotating the liquid crystal panel and spraying the etching solution again on the opposite surface of the etching region to which the etching solution is sprayed.
제19항에 있어서,
상기 보호부의 내부로 유입된 상기 식각액을 외부로 배출하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 액정 패널용 식각 방법.


20. The method of claim 19,
The etching method for a liquid crystal panel, characterized in that it further comprises the step of discharging the etchant introduced into the protection unit to the outside.


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