KR102261966B1 - The optical epoxy resin composition and cured product thereof - Google Patents

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히데노리 노자와
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닛테츠 케미컬 앤드 머티리얼 가부시키가이샤
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Abstract

(과제) 높은 투명성, 높은 내열 신뢰성을 갖는 경화물을 제공하여, LED 밀봉재와 같은 광학 재료용으로 우수한 에폭시 수지 조성물을 제공한다.
(해결수단) 에폭시 수지 (a) 와 경화제 (b) 를 함유하는 광학용 에폭시 수지 조성물에 있어서, 에폭시 수지 (a) 는 에폭시 당량이 500 ∼ 2000 g/eq 이고, 연화점이 80 ∼ 150 ℃ 이고, 굴절률 (nD 20) 이 1.55 ∼ 1.63 이고, 방향족 고리와 지방족 고리를 동시에 분자 구조 중에 가지며, 또한 1H-NMR 스펙트럼에 있어서의 지방족 프로톤 (A) 와 방향족 프로톤 (B) 의 강도비 (B/A) 가 0.3 ∼ 0.7 인 광학용 에폭시 수지 조성물.
(Project) To provide an excellent epoxy resin composition for optical materials such as LED sealing materials by providing a cured product having high transparency and high heat resistance reliability.
(Solution) In the optical epoxy resin composition containing an epoxy resin (a) and a curing agent (b), the epoxy resin (a) has an epoxy equivalent of 500 to 2000 g/eq, and a softening point of 80 to 150° C., The refractive index (n D 20 ) is 1.55 to 1.63, has an aromatic ring and an aliphatic ring simultaneously in the molecular structure, and the intensity ratio (B/A) of the aliphatic proton (A) to the aromatic proton (B) in the 1H-NMR spectrum (B/A) ) is 0.3 to 0.7 of the optical epoxy resin composition.

Description

광학용 에폭시 수지 조성물 및 그 경화물 {THE OPTICAL EPOXY RESIN COMPOSITION AND CURED PRODUCT THEREOF}Epoxy resin composition for optics and cured product thereof {THE OPTICAL EPOXY RESIN COMPOSITION AND CURED PRODUCT THEREOF}

본 발명은 광학 재료, 전자 재료 용도에서 특히 고온에 노출되는 부위에 바람직하게 사용되는 광학용 에폭시 수지 경화물에 관한 것이다.[0001] The present invention relates to a cured epoxy resin for optics, which is preferably used for areas exposed to high temperatures in optical materials and electronic materials applications.

수지 자체에 착색제를 첨가하여 레이저 인자시에 기해지는 열에 의해 인자를 분명하게 하는 방법이 특허문헌 1 에 개시되어 있지만, 레이저 인자시에 기해지는 열에 의해 에폭시 수지가 변색되는 문제가 있었기 때문에, 에폭시 수지의 개량에 의한 근본적인 변색 방지가 요망되고 있었다.Patent Document 1 discloses a method of adding a colorant to the resin itself to make printing clear by heat generated during laser printing, but since there was a problem that the epoxy resin is discolored by heat generated during laser printing, the epoxy resin Fundamental discoloration prevention by improvement of

또한, 특허문헌 2, 3 에는 특정한 에폭시 수지와 테르펜 골격을 도입한 경화제를 사용함으로써 내열성, 밀착성, 열시 황변성 등을 개량할 수 있는 것이 개시되어 있지만, 경화제, 에폭시 수지 모두 특정한 골격을 필수로 하는 것이고, 경화 촉진제에 대해서도 한정되는 것이었다.In addition, Patent Documents 2 and 3 disclose that heat resistance, adhesion, heat yellowing properties, etc. can be improved by using a curing agent incorporating a specific epoxy resin and a terpene skeleton, but both the curing agent and the epoxy resin require a specific skeleton It was a thing and was limited also about a hardening accelerator.

또한, 특허문헌 4 에는, 유리와의 밀착성이 양호하고, 높은 투명성, 내열 신뢰성 (열 변색 내성, 내열 수축성) 을 갖는 광학 부품용 에폭시 수지 조성물이 개시되어 있지만, 이것은 특정한 광 산발생제를 사용함으로써 착색을 억제하는 것으로, 플루오렌 골격을 갖는 에폭시 수지를 함유하면 플루오렌 골격의 효과에 의해 고굴절률 (1.58 이상) 로 하는 것이 가능해지고, 또한 충분한 유리 전이 온도가 얻어지게 된다는 기재가 있다. 플루오렌 골격은 플루오렌 골격을 갖는 에폭시 수지를 블렌드한 후에 카티온 중합에 의한 경화에 의해 도입이 이루어져 고굴절률로 하는 것이고, 산 무수물 등 공지된 에폭시 수지 경화제를 사용하는 경우의 열 중합에는 적합하지 않는 조성으로 되어 있었다.Further, Patent Document 4 discloses an epoxy resin composition for optical components having good adhesion to glass, high transparency and heat resistance reliability (thermal discoloration resistance, heat shrinkage resistance), but this is achieved by using a specific photoacid generator. There is a description that when an epoxy resin having a fluorene skeleton is contained as a suppression of coloring, a high refractive index (1.58 or more) can be achieved due to the effect of the fluorene skeleton, and a sufficient glass transition temperature is obtained. The fluorene skeleton is introduced by curing by cationic polymerization after blending an epoxy resin having a fluorene skeleton to achieve a high refractive index, and is not suitable for thermal polymerization when a known epoxy resin curing agent such as an acid anhydride is used. was of a non-composition.

또한, 특허문헌 5 에는 2 관능 에폭시 수지와 플루오렌 고리 함유 페놀과 산 무수물을 반응시킨 에폭시 수지와 산 무수물의 경화물로 높은 투명성과 내열 신뢰성이 양호한 에폭시 수지 조성물이 개시되어 있지만, 열에 의한 변색 내성이 불충분하였다.In addition, Patent Document 5 discloses an epoxy resin composition that is a cured product of an epoxy resin and an acid anhydride reacted with a bifunctional epoxy resin, a fluorene ring-containing phenol, and an acid anhydride, and has high transparency and good heat resistance reliability. This was insufficient.

일본 공개특허공보 평6-025513호Japanese Patent Laid-Open No. 6-025513 일본 공개특허공보 2002-12819호Japanese Laid-Open Patent Publication No. 2002-12819 일본 특허공보 제3948980호Japanese Patent Publication No. 3948980 일본 공개특허공보 2010-265360호Japanese Laid-Open Patent Publication No. 2010-265360 일본 공개특허공보 2012-177038호Japanese Patent Laid-Open No. 2012-177038

종래부터의 요구 성능인 가시광 투과성을 만족하면서 열시의 황변색성이 낮은 밀봉재 및 보호막 형성용 조성물을 제공할 수 있는 광학용 에폭시 수지 경화물을 제공하는 것에 있다. 또한, 광 도파로 등과 같이 굴절률을 조절하는 것이 중요한 용도인 경우, 코어와 클래드에서의 에폭시 수지의 조성을 변화시킴으로써 굴절률을 조정할 수 있고, 나아가 코어/클래드 사이에서의 열시 접착력을 유지할 수 있는 광학용 에폭시 수지 조성물을 제공하는 것에 있다.An object of the present invention is to provide a cured epoxy resin for optics that can provide a composition for forming a sealing material and a protective film having low yellow discoloration during heat while satisfying visible light transmittance, which is the conventionally required performance. In addition, in the case where it is important to control the refractive index, such as an optical waveguide, the refractive index can be adjusted by changing the composition of the epoxy resin in the core and the clad, and furthermore, the optical epoxy resin that can maintain the adhesive force during heat between the core and the clad to provide a composition.

본 발명자는 상기한 과제를 해결하기 위해 예의 연구를 거듭한 결과, 에폭시 수지의 골격 중에 방향족 고리와 지방족 고리를 함유하는 에폭시 수지를 사용함으로써 가시광 투과율을 만족하면서, 열시의 황변색성이 낮은 특성을 갖는 것을 알아내어, 본 발명을 완성하였다.As a result of repeated intensive research to solve the above problems, the present inventors use an epoxy resin containing an aromatic ring and an aliphatic ring in the backbone of the epoxy resin to satisfy the visible light transmittance and low yellowing property when heated. Having found out what it has, the present invention was completed.

즉, 본 발명은, 에폭시 수지 (a) 와 경화제 (b) 를 함유하는 광학용 에폭시 수지 조성물에 있어서, 그 에폭시 수지 (a) 는 에폭시 당량이 500 ∼ 2000 g/eq 이고, 연화점이 80 ∼ 150 ℃ 이고, 20 ℃, 파장 589.3 ㎚ 에서의 굴절률 (nD 20) 이 1.55 ∼ 1.63 이고, 방향족 고리와 지방족 고리를 동시에 분자 구조 중에 가지며, 또한 1H-NMR 스펙트럼에 있어서의 지방족 프로톤 (A) 와 방향족 프로톤 (B) 의 강도비 (B/A) 가 0.3 ∼ 0.7 인 것을 특징으로 하는 광학용 에폭시 수지 조성물이다.That is, this invention is an epoxy resin composition for optics containing an epoxy resin (a) and a hardening|curing agent (b) WHEREIN: The epoxy resin (a) has an epoxy equivalent of 500-2000 g/eq, and a softening point is 80-150 ℃, the refractive index (n D 20 ) at 20°C and a wavelength of 589.3 nm is 1.55 to 1.63, has an aromatic ring and an aliphatic ring in the molecular structure at the same time, and the aliphatic proton (A) and the aromatic in the 1H-NMR spectrum The strength ratio (B/A) of proton (B) is 0.3-0.7, It is an epoxy resin composition for optics characterized by the above-mentioned.

에폭시 수지 (a) 로는, 2 가 알코올과 산 무수물의 반응에서 얻어지는 말단 카르복실기의 지방족 고리 함유 에스테르 화합물 (c), 2 가 페놀 화합물 (d), 또는 그 양방과, 2 관능 방향족 에폭시 수지 (e1), 2 관능의 지방족 고리 함유 에폭시 수지 (e2), 또는 그 양방과의 반응에서 얻어지는 에폭시 수지가 있다. 보다 바람직하게는, 말단 카르복실기의 지방족 고리 함유 에스테르 화합물 (c) 와 2 관능 방향족 에폭시 수지 (e1) 의 반응에서 얻어지는 에폭시 수지, 또는 2 가 페놀 화합물 (d) 와 2 관능의 지방족 고리 함유 에폭시 수지 (e2) 의 반응에서 얻어지는 에폭시 수지이다.As an epoxy resin (a), the ester compound (c) containing an aliphatic ring of the terminal carboxyl group obtained by reaction of a dihydric alcohol and an acid anhydride, a dihydric phenol compound (d), or both, and a bifunctional aromatic epoxy resin (e1) , a bifunctional aliphatic ring-containing epoxy resin (e2), or an epoxy resin obtained by reaction with both. More preferably, an epoxy resin obtained by reacting a terminal carboxyl group-containing ester compound (c) with a bifunctional aromatic epoxy resin (e1), or a dihydric phenol compound (d) and a bifunctional aliphatic ring-containing epoxy resin ( It is an epoxy resin obtained by the reaction of e2).

말단 카르복실기의 지방족 고리 함유 에스테르 화합물 (c) 로는, 지방족 고리 함유 2 가 알코올과 산 무수물, 2 가 알코올과 지방족 고리 함유 산 무수물, 또는 지방족 고리 함유 2 가 알코올과 지방족 고리 함유 산 무수물의 반응에서 얻어진 말단 카르복실기의 지방족 고리 함유 에스테르 화합물이 있다.As the terminal carboxyl group-containing aliphatic ring-containing ester compound (c), an aliphatic ring-containing dihydric alcohol and an acid anhydride, a dihydric alcohol and an aliphatic ring-containing acid anhydride, or an aliphatic ring-containing dihydric alcohol and an aliphatic ring-containing acid anhydride obtained by reaction There are ester compounds containing an aliphatic ring of a terminal carboxyl group.

2 가 페놀 화합물 (d) 로는, 플루오렌 고리 함유 페놀 화합물이다. 2 관능 방향족 에폭시 수지 (e1) 로는, 플루오렌 고리 함유 2 관능 방향족 에폭시 수지가 있다. 2 관능의 지방족 고리 함유 에폭시 수지 (e2) 로는, 2 관능의 지환식 에폭시 수지가 있다.As a dihydric phenol compound (d), it is a fluorene ring containing phenol compound. As a bifunctional aromatic epoxy resin (e1), there exists a fluorene ring containing bifunctional aromatic epoxy resin. As a bifunctional aliphatic ring containing epoxy resin (e2), there exists a bifunctional alicyclic epoxy resin.

에폭시 수지 (a) 와 경화제 (b) 의 사용 비율은, 에폭시기 1 몰에 대하여, 경화제 (b) 의 활성 수소기가 0.4 ∼ 1.2 몰의 범위인 것이 바람직하다.It is preferable that the used ratio of an epoxy resin (a) and a hardening|curing agent (b) is the range of 0.4-1.2 mol of active hydrogen groups of a hardening|curing agent (b) with respect to 1 mol of epoxy groups.

상기 광학용 에폭시 수지 조성물은 필름상 접착제용 에폭시 수지 조성물, 컬러 필터 보호막용 에폭시 수지 조성물 또는 광 반도체 기판용 표면 보호막용 에폭시 수지 조성물로서 우수하다.The optical epoxy resin composition is excellent as an epoxy resin composition for a film adhesive, an epoxy resin composition for a color filter protective film, or an epoxy resin composition for a surface protective film for an optical semiconductor substrate.

또한, 본 발명은 상기 광학용 에폭시 수지 조성물을 경화시켜 얻어지는 에폭시 수지 경화물이다. 또한, 상기 필름상 접착제용 에폭시 수지 조성물, 컬러 필터 보호막용 에폭시 수지 조성물 또는 광 반도체 기판용 표면 보호막용 에폭시 수지 조성물을 사용하여 얻어지는 필름상 접착제, 컬러 필터용 보호막 또는 광 반도체 기판용 표면 보호막이다. 또한, 본 발명은 상기 광학용 에폭시 수지 조성물을 사용하여 얻어지는 광 반도체용 밀봉재 또는 광 반도체용 기판이다.Moreover, this invention is the epoxy resin hardened|cured material obtained by hardening the said epoxy resin composition for optics. Moreover, it is a film adhesive obtained using the said epoxy resin composition for film adhesives, the epoxy resin composition for color filter protective films, or the epoxy resin composition for surface protective films for optical semiconductor substrates, a protective film for color filters, or a surface protective film for optical semiconductor substrates. Moreover, this invention is the sealing material for optical semiconductors or the board|substrate for optical semiconductors obtained using the said epoxy resin composition for optics.

본 발명의 에폭시 수지 조성물은 높은 투명성, 높은 내열 신뢰성 (고내열 황변색성) 을 갖는 경화물을 제공할 수 있다. 특히, LED 밀봉재와 같은, 내열성, 내광성, 투명성, 장기 안정성이 요구되는 용도에 적합하다.The epoxy resin composition of the present invention can provide a cured product having high transparency and high heat-resistance reliability (high heat-resistant yellowing resistance). In particular, it is suitable for applications requiring heat resistance, light resistance, transparency, and long-term stability, such as LED sealing materials.

도 1 은 합성예 1 에서 얻어진 에폭시 수지 1 의 1H-NMR 스펙트럼.1 is a 1H-NMR spectrum of an epoxy resin 1 obtained in Synthesis Example 1. FIG.

이하, 본 발명의 실시형태에 대해서 상세히 설명한다.EMBODIMENT OF THE INVENTION Hereinafter, embodiment of this invention is described in detail.

본 발명의 광학용 에폭시 수지 조성물은, 일반적인 광 디스크, 렌즈, 도광판, 또는 광 화이버 등 외에, 투명성이 강하게 요구되고 있는 유리 기판 대체 수지 기판, LED (Light Emitting Diode) 밀봉재, 필름상 접착제, 컬러 필터용 보호막에 적합하다. 광학용은 이러한 용도들을 포함하는 의미이다. 본 발명의 광학용 에폭시 수지 조성물은 특히 필름상 접착제, 또는 컬러 필터나 광 반도체 기판 표면의 보호막용으로서 적합하다.The optical epoxy resin composition of the present invention, in addition to a general optical disk, lens, light guide plate, or optical fiber, is a glass substrate replacement resin substrate, LED (Light Emitting Diode) sealing material, film adhesive, color filter, which is strongly required to have transparency. It is suitable for a protective film for Optical use is meant to include these uses. The epoxy resin composition for optics of the present invention is particularly suitable as a film adhesive, or a color filter or a protective film on the surface of an optical semiconductor substrate.

본 발명의 광학용 에폭시 수지 조성물은 에폭시 수지 (a) 와 경화제 (b) 를 함유한다. 에폭시 수지 (a) 는 에폭시 당량이 500 ∼ 2000 g/eq 이고, 연화점이 60 ∼ 130 ℃ 이고, 20 ℃, 파장 589.3 ㎚ 에서의 굴절률 (nD 20) 이 1.55 ∼ 1.63 이고, 방향족 고리와 지방족 고리를 동시에 분자 구조 중에 가지며, 또한 프로톤 NMR 스펙트럼에 있어서의 지방족 프로톤 (A) 와 방향족 프로톤 (B) 의 강도비 (B/A) 가 0.3 ∼ 0.7 인 것이 필수적이다.The epoxy resin composition for optics of the present invention contains an epoxy resin (a) and a curing agent (b). The epoxy resin (a) has an epoxy equivalent of 500 to 2000 g/eq, a softening point of 60 to 130° C., a refractive index (n D 20 ) at 20° C. and a wavelength of 589.3 nm of 1.55 to 1.63, and an aromatic ring and an aliphatic ring. It is essential that it has in the molecular structure simultaneously, and that the intensity ratio (B/A) of the aliphatic proton (A) to the aromatic proton (B) in the proton NMR spectrum (B/A) is 0.3 to 0.7.

에폭시 수지 (a) 의 에폭시 당량의 범위는 500 ∼ 2000 g/eq 이고, 700 ∼ 1500 g/eq 가 보다 바람직하며, 850 ∼ 1200 g/eq 가 더욱 바람직하다. 에폭시 당량이 작으면 고굴절률과 양호한 내열 황변색성의 효과를 기대할 수 없을 우려가 있고, 반대로 에폭시 당량이 크면 얻어지는 에폭시 수지의 연화점이 높아져 성형이나 도포가 곤란해질 우려가 있다. 여기서 에폭시 당량이란 1 그램 당량의 에폭시기를 함유하는 수지의 그램수 (g/eq) 이고, JIS K 7236 에 규정된 방법에 따라서 측정된다.The range of the epoxy equivalent of an epoxy resin (a) is 500-2000 g/eq, 700-1500 g/eq is more preferable, 850-1200 g/eq is still more preferable. If the epoxy equivalent is small, there is a fear that the effect of high refractive index and good heat resistance to yellowing cannot be expected. Conversely, if the epoxy equivalent is large, the softening point of the obtained epoxy resin increases, and molding or coating may become difficult. Here, the epoxy equivalent is the number of grams (g/eq) of a resin containing 1 gram equivalent of an epoxy group, and is measured according to the method prescribed in JIS K 7236.

에폭시 수지 (a) 의 연화점의 범위는 80 ∼ 150 ℃ 이고, 100 ∼ 145 ℃ 가 보다 바람직하며, 110 ∼ 140 ℃ 가 더욱 바람직하다. 연화점이 낮으면 블로킹성이 높아져, 작업성이 악화될 우려가 있고, 반대로 연화점이 높으면 성형이나 도포가 곤란해질 우려가 있고, 고온에서 처리하지 않으면 안되어, 그것이 착색의 원인이 된다.The range of the softening point of an epoxy resin (a) is 80-150 degreeC, 100-145 degreeC is more preferable, 110-140 degreeC is still more preferable. If the softening point is low, blocking properties may increase and workability may deteriorate. Conversely, if the softening point is high, molding or application may become difficult, and processing must be performed at a high temperature, which causes coloration.

에폭시 수지 (a) 의 20 ℃, 파장 589.3 ㎚ 에서의 굴절률 (nD 20) 의 범위는 1.55 ∼ 1.63 이다. 이 범위는 광학 용도에서 자주 사용되는 범위이기 때문에 바람직하고, 에폭시 수지 (a) 의 골격이나 방향족의 함유량을 조정함으로써 이 범위로 할 수 있다.20 ℃ of the epoxy resin (a), the range of the refractive index (n D 20) at a wavelength of 589.3 ㎚ is 1.55 ~ 1.63. Since this range is a range frequently used by an optical use, it is preferable, and can be set as this range by adjusting frame|skeleton of an epoxy resin (a), and content of an aromatic.

에폭시 수지 (a) 는 방향족 고리와 지방족 고리를 동시에 분자 구조 중에 갖는다. 지방족 고리를 함유하지 않으면, 방향족 고리가 있다고 해도 내열성이 악화될 우려가 있다. 또한, 방향족 고리를 함유하지 않으면, 투명성이나 내광성은 충분히 만족할 수 있는 것이 되지만, 내열 황변색성 (내열성) 이 현저히 악화되어, 발열이 큰 광학 용도에서의 사용이 곤란하다. 방향족 고리와 지방족 고리의 비율은 후기하는 1H-NMR 스펙트럼에 있어서의 지방족 프로톤 (A) 와 방향족 프로톤 (B) 의 강도비 (B/A) 에도 관계한다.The epoxy resin (a) has both an aromatic ring and an aliphatic ring in the molecular structure. When an aliphatic ring is not contained, even if an aromatic ring exists, there exists a possibility that heat resistance may deteriorate. Moreover, when an aromatic ring is not contained, transparency and light resistance will become fully satisfactory, but heat-resistant yellowing-discoloration resistance (heat resistance) deteriorates remarkably, and it is difficult to use in optical applications with large heat generation. The ratio of the aromatic ring to the aliphatic ring also relates to the intensity ratio (B/A) of the aliphatic proton (A) to the aromatic proton (B) in the 1H-NMR spectrum described later.

방향족 고리와 지방족 고리를 동시에 분자 구조 중에 갖는 에폭시 수지 (a) 는, 예를 들어, 다음과 같은 방법으로 얻을 수 있다.The epoxy resin (a) which has an aromatic ring and an aliphatic ring simultaneously in a molecular structure can be obtained by the following method, for example.

1) 방향족 고리와 지방족 고리의 양방을 갖는 페놀 화합물과 에피할로하이드린의 축합 중합, 2) 방향족 고리, 지방족 고리, 또는 그 양방을 갖는 에폭시 수지와, 방향족 고리, 지방족 고리, 또는 그 양방을 갖는 페놀 화합물의 부가 중합 (단, 에폭시 수지와 페놀 화합물이 동시에 방향족 고리 또는 지방족 고리만을 갖는 경우를 제외한다), 3) 방향족 고리, 지방족 고리, 또는 그 양방을 갖는 산 무수물과, 방향족 고리, 지방족 고리, 또는 그 양방을 갖는 에폭시 수지의 부가 중합 (단, 에폭시 수지와 산 무수물이 동시에 방향족 고리 또는 지방족 고리만을 갖는 경우를 제외한다), 4) 방향족 고리, 지방족 고리, 또는 그 양방을 갖는 말단 카르복실기의 에스테르 화합물과 방향족 고리, 지방족 고리, 또는 그 양방을 갖는 에폭시 수지의 부가 중합 (단, 에폭시 수지와 에스테르 화합물이 동시에 방향족 고리 또는 지방족 고리만을 갖는 경우를 제외한다).1) Condensation polymerization of a phenol compound having both an aromatic ring and an aliphatic ring and epihalohydrin, 2) an epoxy resin having an aromatic ring, an aliphatic ring, or both, and an aromatic ring, an aliphatic ring, or both addition polymerization of a phenol compound having an acid anhydride having an aromatic ring, an aliphatic ring, or both, and an aromatic ring, an aliphatic Addition polymerization of an epoxy resin having a ring or both (provided that the epoxy resin and the acid anhydride simultaneously have only an aromatic ring or an aliphatic ring), 4) A terminal carboxyl group having an aromatic ring, an aliphatic ring, or both Addition polymerization of an ester compound of and an epoxy resin having an aromatic ring, an aliphatic ring, or both (except when the epoxy resin and the ester compound have only an aromatic ring or an aliphatic ring at the same time).

그러나, 이러한 방법들에 한정되지 않는다. 또한, 이러한 방법들을 조합하여 에폭시 수지 (a) 를 얻어도 된다. 그리고, 어떠한 경우도 반드시 지방족 고리와 방향족 고리를 갖는 원료를 사용할 필요가 있다. 원료의 하나가 지방족 고리와 방향족 고리를 가져도 되고, 원료의 하나가 지방족 고리를 갖고, 다른 원료의 하나가 방향족 고리를 가져도 된다.However, it is not limited to these methods. Further, the epoxy resin (a) may be obtained by combining these methods. And in any case, it is necessary to always use the raw material which has an aliphatic ring and an aromatic ring. One of the raw materials may have an aliphatic ring and an aromatic ring, one of the raw materials may have an aliphatic ring, and one of the other raw materials may have an aromatic ring.

상기 제법 중, 에폭시 수지 (a) 를 얻는 바람직한 제법은 (1) 2 관능 에폭시 수지와 플루오렌 골격을 갖는 2 가 페놀 화합물과 말단 카르복실기의 지방족 고리 함유 에스테르 화합물의 부가 중합 반응이고, (2) 플루오렌 골격을 갖는 2 관능 에폭시 수지와 말단 카르복실기의 지방족 고리 함유 에스테르 화합물의 부가 중합 반응이고, (3) 2 관능의 지환식 에폭시 수지와 말단 카르복실기의 에스테르 화합물과 페놀 화합물의 부가 반응이고, (4) 2 관능의 지환식 에폭시 수지와 페놀 화합물의 부가 중합 반응이다. 보다 바람직한 제법은 (1) 2 관능 에폭시 수지와 플루오렌 골격을 갖는 2 가 페놀 화합물과 말단 카르복실기의 지방족 고리 함유 에스테르 화합물의 부가 중합 반응이다. 또, 2 관능의 지환식 에폭시 수지를 단독으로 사용하는 경우에는, 방향족 고리의 도입량의 조정이 어렵기 때문에, 일반적인 2 관능 에폭시 수지를 병용한 쪽이 바람직하다.Among the above manufacturing methods, a preferred manufacturing method for obtaining the epoxy resin (a) is an addition polymerization reaction of (1) a bifunctional epoxy resin, a dihydric phenol compound having a fluorene skeleton, and an ester compound containing an aliphatic ring having a terminal carboxyl group, (2) flu It is an addition polymerization reaction of a bifunctional epoxy resin having an orene skeleton and an ester compound containing an aliphatic ring having a terminal carboxyl group, (3) an addition reaction of a bifunctional alicyclic epoxy resin, an ester compound having a terminal carboxyl group, and a phenol compound, (4) It is addition polymerization reaction of a bifunctional alicyclic epoxy resin and a phenol compound. A more preferable production method is (1) addition polymerization reaction of a bifunctional epoxy resin, a dihydric phenol compound having a fluorene skeleton, and an ester compound containing an aliphatic ring having a terminal carboxyl group. Moreover, since adjustment of the introduction amount of an aromatic ring is difficult when using a bifunctional alicyclic epoxy resin independently, it is preferable to use a general bifunctional epoxy resin together.

또한 본 발명에 있어서, 지방족 고리란, 지방족 탄화수소의 고리형부를 가리키고, 산소 등의 헤테로 원자를 함유하고 있어도 되지만, 옥시란 고리나 옥세탄 고리 등과 같이 경화시에 개환되어 경화물이 된 상태에서 고리형을 나타내지 않는 것은 지방족 고리에 포함하지 않는다. 바람직한 지방족 고리는 고리 구성 원자에 탄소를 3 이상 함유하고, 불포화 결합을 갖지 않는 고리이며, C4∼C8 의 단고리 시클로알킬, C8∼C16 의 비시클로알킬, C7∼C16 의 축합 또는 스피로형 시클로알킬이 보다 바람직하다. 구체적으로는, 시클로부탄 고리, 시클로펜탄 고리, 시클로헥산 고리 등의 단고리 구조나, 비시클로펜탄, 비시클로옥탄, 비시클로운데칸 등의 가교 고리나, 스피로옥탄, 스피로비시클로펜탄 등의 스피로 고리 등의 다고리 구조나 옥산 고리, 옥세판 고리, 티안 고리 등의 헤테로 고리를 들 수 있지만, 이들에 한정되는 것은 아니다.In addition, in the present invention, the aliphatic ring refers to a cyclic part of an aliphatic hydrocarbon, and may contain a hetero atom such as oxygen. Those that do not represent a form are not included in the aliphatic ring. Preferred aliphatic rings are rings containing 3 or more carbons in ring constituent atoms and having no unsaturated bonds, and C4-C8 monocyclic cycloalkyl, C8-C16 bicycloalkyl, C7-C16 condensed or spiro-type cycloalkyl is more preferably. Specifically, a monocyclic structure such as a cyclobutane ring, a cyclopentane ring, or a cyclohexane ring, a bridged ring such as bicyclopentane, bicyclooctane, or bicycloundecane, and a spiro ring such as spirooctane or spirobicyclopentane Although polycyclic structures, such as these, and heterocyclic rings, such as an oxane ring, an oxepane ring, and a thiane ring, are mentioned, It is not limited to these.

그리고, 에폭시 수지 (a) 의 1H-NMR (프로톤 NMR) 스펙트럼에 있어서의 지방족 프로톤 (A) 와 방향족 프로톤 (B) 의 강도비 (B/A) 의 범위는 0.3 ∼ 0.7 이고, 0.35 ∼ 0.65 가 보다 바람직하며, 0.4 ∼ 0.6 이 더욱 바람직하다. 방향족 프로톤이 많으면, 내열성이 향상되고, 굴절률을 높게 하는 효과가 있지만, 투명성이나 내광성이 악화되어, 광학 용도에 사용할 수 없게 될 우려가 있고, 반대로 방향족 프로톤이 적으면 내열 황변색성 (내열성) 이 악화될 우려가 있다.The range of the intensity ratio (B/A) of the aliphatic proton (A) to the aromatic proton (B) in the 1H-NMR (proton NMR) spectrum of the epoxy resin (a) is 0.3 to 0.7, and 0.35 to 0.65 is More preferably, 0.4-0.6 are still more preferable. When there are many aromatic protons, heat resistance is improved and there is an effect of raising the refractive index, but transparency and light resistance deteriorate and there is a possibility that it cannot be used for optical applications. Conversely, if there are few aromatic protons, heat yellowing resistance (heat resistance) is poor There is a risk of worsening.

강도비 (B/A) 를, 합성예에서 얻어진 에폭시 수지 (a) 의 1H-NMR 을 나타내는 도 1 을 사용하여 설명하면, 방향족 프로톤 (B) 에 기초한 피크는 a 이고, 지방족 프로톤 (A) 에 기초한 피크는 알코올, 에테르, 또는 에폭사이드의 프로톤 b 와 에스테르의 프로톤 c 와 메틸렌의 프로톤 d 의 전부로, 지방족 프로톤 (A) 와 방향족 프로톤 (B) 의 강도비 (B/A) 는 [a/(b+c+d)] 가 된다.When the intensity ratio (B/A) is explained using FIG. 1 showing 1H-NMR of the epoxy resin (a) obtained in the synthesis example, the peak based on the aromatic proton (B) is a, and the aliphatic proton (A) is The base peak is all of the proton b of the alcohol, ether, or epoxide and the proton c of the ester and the proton d of methylene, and the intensity ratio (B/A) of the aliphatic proton (A) and the aromatic proton (B) is [a/ (b+c+d)].

여기서, 방향족 프로톤 (B) 는 방향족 고리 구성 탄소에 결합하는 H 를 의미하고, 지방족 프로톤 (A) 는 방향족 프로톤 (B) 이외의 H 를 의미한다.Here, the aromatic proton (B) means H bonded to the aromatic ring constituent carbon, and the aliphatic proton (A) means H other than the aromatic proton (B).

상기 지방족 고리를 도입하는 방법에서 사용되는 지방족 고리를 갖는 페놀 화합물로서 구체적으로는, 4,4'-시클로헥실리덴비스페놀, 4,4'-시클로헥실리덴비스(2-메틸페놀), 4,4'-이소프로필리덴비스(2-시클로헥실페놀), 4,4'-(3,3,5-트리메틸시클로헥실리덴)비스페놀 등을 들 수 있고, 단독 또는 2 종 이상의 혼합물로서 사용할 수 있지만, 이들에 한정되는 것은 아니다.Specifically, as a phenol compound having an aliphatic ring used in the method for introducing an aliphatic ring, 4,4'-cyclohexylidenebisphenol, 4,4'-cyclohexylidenebis(2-methylphenol), 4 ,4'-isopropylidenebis(2-cyclohexylphenol), 4,4'-(3,3,5-trimethylcyclohexylidene)bisphenol, etc. are mentioned, and can be used individually or as a mixture of 2 or more types. However, it is not limited to these.

2 관능의 지방족 고리 함유 에폭시 수지 (e2) 로서 구체적으로는, 3-옥시라닐-7-옥사비시클로[4.1.0]헵탄, 3',4'-에폭시시클로헥세닐메틸-3,4-에폭시시클로헥센카르복실레이트, 리모넨디옥사이드 등의 2 관능의 지환식 에폭시 수지나, 1,4-시클로헥산디메탄올, 4,4'-비스(하이드록시메틸)비시클로헥실, 2,2-비스(4-하이드록시시클로헥실)프로판 (수소첨가 비스페놀 A), 비스(4-하이드록시시클로헥실)메탄, 3,9-비스(1,1-디메틸-2-하이드록시에틸)-2,4,8,10-테트라옥사스피로[5.5]운데칸 (스피로글리콜), 5-에틸-2-(2-하이드록시-1,1-디메틸에틸)-5-하이드록시메틸-1,3-디옥산, 이소소르비드 등의 지방족 고리를 갖는 2 가 알코올의 디글리시딜에테르 수지나, 1,2-시클로헥산디카르복실산, 메틸비시클로[2.2.1]헵탄-2,3-디카르복실산, 비시클로[2.2.1]헵탄-2,3-디카르복실산 등의 지방족 고리를 갖는 디카르복실산의 디글리시딜에스테르 수지 등을 들 수 있고, 단독 또는 2 종 이상의 혼합물로서 사용할 수 있지만, 이들에 한정되는 것은 아니다. 또, 2 가 알코올의 디글리시딜에테르 수지나 디카르복실산의 디글리시딜에스테르 수지는, 전체 염소분이 높은 것이 많아 전자 재료 용도에서는 사용할 수 없을 우려가 있기 때문에, 전체 염소분을 저감한 증류품을 사용하는 것이 바람직하다. 또한, 내열성의 점에서 2 관능의 지환식 에폭시 수지가 보다 바람직하다.Specifically as the bifunctional aliphatic ring-containing epoxy resin (e2), 3-oxiranyl-7-oxabicyclo[4.1.0]heptane, 3',4'-epoxycyclohexenylmethyl-3,4-epoxy Bifunctional alicyclic epoxy resins such as cyclohexenecarboxylate and limonene dioxide, 1,4-cyclohexanedimethanol, 4,4'-bis(hydroxymethyl)bicyclohexyl, 2,2-bis(4 -Hydroxycyclohexyl)propane (hydrogenated bisphenol A), bis(4-hydroxycyclohexyl)methane, 3,9-bis(1,1-dimethyl-2-hydroxyethyl)-2,4,8, 10-tetraoxaspiro[5.5]undecane (spiroglycol), 5-ethyl-2-(2-hydroxy-1,1-dimethylethyl)-5-hydroxymethyl-1,3-dioxane, isosorbate Diglycidyl ether resin of dihydric alcohol having an aliphatic ring such as beads, 1,2-cyclohexanedicarboxylic acid, methylbicyclo[2.2.1]heptane-2,3-dicarboxylic acid, bi diglycidyl ester resin of dicarboxylic acid having an aliphatic ring, such as cyclo[2.2.1]heptane-2,3-dicarboxylic acid, etc., which can be used alone or as a mixture of two or more, It is not limited to these. In addition, diglycidyl ether resin of dihydric alcohol or diglycidyl ester resin of dicarboxylic acid has a high total chlorine content and there is a possibility that it cannot be used for electronic material applications, so the total chlorine content is reduced. It is preferred to use distilled products. Moreover, a bifunctional alicyclic epoxy resin is more preferable from a heat resistant point.

지방족 고리를 갖는 산 무수물로서 구체적으로는, 헥사하이드로 무수프탈산, 4-메틸헥사하이드로 무수프탈산, 메틸비시클로[2.2.1]헵탄-2,3-디카르복실산 무수물, 비시클로[2.2.1]헵탄-2,3-디카르복실산 무수물 등을 들 수 있고, 단독 또는 2 종 이상의 혼합물로서 사용할 수 있지만, 이들에 한정되는 것은 아니다.Specifically, as the acid anhydride having an aliphatic ring, hexahydrophthalic anhydride, 4-methylhexahydrophthalic anhydride, methylbicyclo[2.2.1]heptane-2,3-dicarboxylic acid anhydride, bicyclo[2.2.1 ]Heptane-2,3-dicarboxylic anhydride etc. are mentioned, Although it can use individually or as a mixture of 2 or more types, it is not limited to these.

상기 지방족 고리를 도입하는 방법에서 사용되는 말단 카르복실기의 지방족 고리를 갖는 에스테르 화합물 (c) 는 다음과 같은 방법으로 얻을 수 있지만, 이들에 한정되지 않는다.The ester compound (c) having an aliphatic ring of a terminal carboxyl group used in the method for introducing an aliphatic ring can be obtained by the following method, but is not limited thereto.

지방족 고리를 갖는 2 가 알코올과 산 무수물과 부가 반응, addition reaction of a dihydric alcohol having an aliphatic ring with an acid anhydride,

2 가 알코올과 지방족 고리를 갖는 산 무수물의 부가 반응, addition reaction of a dihydric alcohol with an acid anhydride having an aliphatic ring,

지방족 고리를 갖는 2 가 알코올과 지방족 고리를 갖는 산 무수물의 부가 반응, addition reaction of a dihydric alcohol having an aliphatic ring and an acid anhydride having an aliphatic ring,

지방족 고리를 갖는 2 가 알코올과 디카르복실산의 탈수 축합 반응,a dehydration condensation reaction of a dihydric alcohol having an aliphatic ring and a dicarboxylic acid;

2 가 알코올과 지방족 고리를 갖는 디카르복실산의 탈수 축합 반응, a dehydration condensation reaction of a dihydric alcohol and a dicarboxylic acid having an aliphatic ring;

지방족 고리를 갖는 2 가 알코올과 지방족 고리를 갖는 디카르복실산의 탈수 축합 반응 등Dehydration condensation reaction of a dihydric alcohol having an aliphatic ring and a dicarboxylic acid having an aliphatic ring, etc.

이들 반응에서는, 2 가 알코올에 대하여 등몰 이상의 산 무수물 및/또는 디카르복실산이 사용된다. 이들 반응에서는, 산 무수물을 완전히 개환시켜, 미반응 산 무수물로서 잔존시키지 않을 필요가 있고, 또한 양 말단이 수산기인 화합물이 단독으로 남지 않을 필요가 있다. 또, 2 가 알코올의 구체예는, 상기 지방족 고리를 갖는 2 가 알코올 외에, 에틸렌글리콜, 프로필렌글리콜, 네오펜틸글리콜, 1,6-헥산디올 등의 지방족 글리콜을 들 수 있지만, 이들에 한정되는 것은 아니다. 또한, 산 무수물 및 디카르복실산은 상기한 산 무수물 및 디카르복실산을 들 수 있지만, 이들에 한정되는 것은 아니다. 반응의 간편함에서, 지방족 고리를 갖는 2 가 알코올과 산 무수물의 부가 반응, 2 가 알코올과 지방족 고리를 갖는 산 무수물의 부가 반응, 또는 지방족 고리를 갖는 2 가 알코올과 지방족 고리를 갖는 산 무수물의 부가 반응이 바람직하다.In these reactions, more than equimolar acid anhydride and/or dicarboxylic acid are used with respect to the dihydric alcohol. In these reactions, it is necessary to completely ring-open the acid anhydride and not to remain as an unreacted acid anhydride, and it is also necessary that the compound whose both terminals are hydroxyl groups does not remain alone. Further, specific examples of the dihydric alcohol include, in addition to the dihydric alcohol having an aliphatic ring, aliphatic glycols such as ethylene glycol, propylene glycol, neopentyl glycol, and 1,6-hexanediol. no. Further, the acid anhydride and dicarboxylic acid include, but are not limited to, the acid anhydride and dicarboxylic acid described above. From the simplicity of the reaction, addition reaction of a dihydric alcohol having an aliphatic ring and an acid anhydride, an addition reaction of a dihydric alcohol and an acid anhydride having an aliphatic ring, or addition of a dihydric alcohol having an aliphatic ring and an acid anhydride having an aliphatic ring The reaction is preferred.

또한, 이 밖의 반응 기구에서 얻어진 에스테르 화합물이라도, 말단 카르복실기의 지방족 고리를 갖는 에스테르 화합물이면 상관없다. 이들 에스테르 화합물을 단독 또는 2 종 이상의 혼합물로서 사용할 수 있다.Moreover, even if it is the ester compound obtained by the other reaction mechanism, if it is an ester compound which has an aliphatic ring of a terminal carboxyl group, it does not matter. These ester compounds can be used individually or as a mixture of 2 or more types.

에폭시 수지 (a) 의 골격에 방향족 고리를 도입하는 방법으로는, 2 관능 페놀 화합물과 에피할로하이드린의 축합 중합이나, 2 관능 페놀 화합물과 에폭시 수지의 부가 중합, 방향족 고리를 갖는 에폭시 수지와 페놀 화합물의 부가 중합, 또는, 방향족 고리를 갖는 산 무수물과 에폭시 수지의 부가 중합, 말단 카르복실기의 방향족 고리를 갖는 에스테르 화합물과 에폭시 수지의 부가 중합 등 다양한 방법을 들 수 있지만, 이들 방법에 한정되는 것은 아니다. 또한, 이들 방법을 조합하여, 에폭시 수지 (a) 를 얻어도 된다.As a method of introducing an aromatic ring into the skeleton of the epoxy resin (a), condensation polymerization of a bifunctional phenol compound and epihalohydrin, addition polymerization of a bifunctional phenol compound and an epoxy resin, an epoxy resin having an aromatic ring, Various methods such as addition polymerization of a phenol compound, addition polymerization of an acid anhydride having an aromatic ring and an epoxy resin, and addition polymerization of an ester compound having an aromatic ring at a terminal carboxyl group and an epoxy resin, etc. are mentioned, but are limited to these methods no. Moreover, you may obtain an epoxy resin (a) combining these methods.

방향족 고리를 갖는 에폭시 수지로서, 2 관능 페놀 화합물의 글리시딜에테르화물인 2 관능 방향족 에폭시 수지이고, 2 관능 페놀 화합물로는 비스페놀 A (BPA), 비스페놀 F, 비스페놀 S, 4,4'-비페놀, 테트라메틸비스페놀 A, 디메틸비스페놀 A, 테트라메틸비스페놀 F, 디메틸비스페놀 F, 테트라메틸비스페놀 S, 디메틸비스페놀 S, 테트라메틸-4,4'-비페놀, 디메틸-4,4'-비페놀, 1-(4-하이드록시페닐)-2-[4-(1,1-비스-(4-하이드록시페닐)에틸)페닐]프로판, 2,2'-메틸렌-비스(4-메틸-6-tert-부틸페놀), 4,4'-부틸리덴-비스(3-메틸-6-tert-부틸페놀), 트리스하이드록시페닐메탄, 레조르시놀, 하이드로퀴논, 9,9-비스(4-하이드록시페닐)-9H-플루오렌, 9,9-비스(4-하이드록시-3-메틸페닐)-9H-플루오렌 등의 2 관능 방향족 페놀을 들 수 있고, 단독 또는 2 종 이상의 혼합물로서 사용할 수 있지만, 이들에 한정되는 것은 아니다. 내열성의 점에서 9,9-비스(4-하이드록시페닐)-9H-플루오렌, 9,9-비스(4-하이드록시-3-메틸페닐)-9H-플루오렌이 바람직하다.As an epoxy resin having an aromatic ring, it is a bifunctional aromatic epoxy resin which is a glycidyl ether product of a bifunctional phenol compound, and as the bifunctional phenol compound, bisphenol A (BPA), bisphenol F, bisphenol S, 4,4'-bi Phenol, tetramethylbisphenol A, dimethylbisphenol A, tetramethylbisphenol F, dimethylbisphenol F, tetramethylbisphenol S, dimethylbisphenol S, tetramethyl-4,4'-biphenol, dimethyl-4,4'-biphenol, 1-(4-hydroxyphenyl)-2-[4-(1,1-bis-(4-hydroxyphenyl)ethyl)phenyl]propane, 2,2'-methylene-bis(4-methyl-6- tert-butylphenol), 4,4'-butylidene-bis(3-methyl-6-tert-butylphenol), trishydroxyphenylmethane, resorcinol, hydroquinone, 9,9-bis(4- and bifunctional aromatic phenols such as hydroxyphenyl)-9H-fluorene and 9,9-bis(4-hydroxy-3-methylphenyl)-9H-fluorene, and may be used alone or as a mixture of two or more types. However, it is not limited to these. 9,9-bis(4-hydroxyphenyl)-9H-fluorene and 9,9-bis(4-hydroxy-3-methylphenyl)-9H-fluorene are preferable from a heat resistant point.

방향족 고리를 갖는 산 무수물로는, 무수프탈산, 1,2-나프탈렌디카르복실산 무수물, 2,3-나프탈렌디카르복실산 무수물, 1,2,3,4-테트라하이드로-1,2-나프탈렌디카르복실산 무수물 등을 들 수 있고, 단독 또는 2 종 이상의 혼합물로서 사용할 수 있지만, 이들에 한정되는 것은 아니다.Examples of the acid anhydride having an aromatic ring include phthalic anhydride, 1,2-naphthalenedicarboxylic anhydride, 2,3-naphthalenedicarboxylic anhydride, 1,2,3,4-tetrahydro-1,2-naphthalene. Dicarboxylic acid anhydride etc. are mentioned, Although it can use individually or as a mixture of 2 or more types, it is not limited to these.

방향족 고리를 갖는 디카르복실산으로는, 프탈산, 1,2-나프탈렌디카르복실산, 2,3-나프탈렌디카르복실산, 1,2,3,4-테트라하이드로나프탈렌-2,3-디카르복실산, 1-페닐-2,6-나프탈렌디카르복실산 등을 들 수 있고, 단독 또는 2 종 이상의 혼합물로서 사용할 수 있지만, 이들에 한정되는 것은 아니다.Examples of the dicarboxylic acid having an aromatic ring include phthalic acid, 1,2-naphthalenedicarboxylic acid, 2,3-naphthalenedicarboxylic acid, and 1,2,3,4-tetrahydronaphthalene-2,3-dicarboxylic acid. carboxylic acid, 1-phenyl-2,6-naphthalenedicarboxylic acid, etc. are mentioned, Although it can use individually or as a mixture of 2 or more types, it is not limited to these.

에폭시 수지에 지방족 고리를 도입하여 에폭시 수지 (a) 로 하는 것은 방향족 고리를 도입하는 것보다 비교적 어렵다. 전재 용도나 광학 재료 용도에서는 에폭시 수지는 고순도품인 것이 중요하지만, 지환식 에폭시 수지 이외의 지방족 고리를 갖는 에폭시 수지의 대부분은 순도가 낮아 고순도화가 필요하다. 그 때문에, 에폭시 수지의 증류 분리나 재정제 반응의 반복에 의한 고순도화나 에폭시 수지의 수소 첨가화에 따른 방향족 고리의 지방족 고리화에 의한 방법이 있지만, 어느 방법도 공정수가 늘어나, 번잡해지고, 비용적으로도 불이익이어서, 상업상 바람직한 방법이 아니다. 그 때문에 에폭시 수지 이외의 원료로서, 에폭시기와 반응 가능한 관능기를 갖는 원료로부터 도입하는 것이 바람직하고, 구체적으로는 지방족 고리를 갖는 산 무수물, 디카르복실산, 또는 말단 카르복실기의 에스테르 화합물을 에폭시 수지와의 반응에 의해 도입하는 것이 바람직하다.It is comparatively more difficult to introduce|transduce an aliphatic ring into an epoxy resin to make an epoxy resin (a) than introduce|transduce an aromatic ring. Although it is important that the epoxy resin is a high-purity product in the use of electric materials or optical material applications, most of the epoxy resins having an aliphatic ring other than the alicyclic epoxy resin have low purity and require high purity. For this reason, there are methods such as high-purity by repeating distillation separation and re-refining reaction of the epoxy resin, or methods by aliphatic cyclization of aromatic rings due to hydrogenation of the epoxy resin, but either method increases the number of steps, becomes complicated, and costly. It is also disadvantageous, so it is not a commercially desirable method. Therefore, as a raw material other than the epoxy resin, it is preferable to introduce it from a raw material having a functional group capable of reacting with an epoxy group, specifically, an acid anhydride having an aliphatic ring, dicarboxylic acid, or an ester compound of a terminal carboxyl group with an epoxy resin. It is preferable to introduce by reaction.

에폭시 수지가 페놀 화합물의 디글리시딜에테르화물, 이른바 방향족 에폭시 수지인 경우, 상기한 말단 카르복실기의 지방족 고리 함유 에스테르 화합물과의 반응에 의해 에폭시 수지 (a) 를 얻는 것이 바람직하다. 이 경우, 에폭시 수지의 에폭시기 1 몰에 대하여, 말단 카르복실기의 에스테르 화합물의 카르복실기를 0.2 ∼ 0.7 몰의 범위에서 사용하는 것이 바람직하고, 범위 내에서는 카르복실기의 함유량을 늘림으로써 굴절률 및 내열 황변성은 높아진다. 말단 카르복실기의 에스테르 화합물이 지나치게 적으면 에폭시 수지 (a) 의 내열성이 떨어지고, 지나치게 많으면 얻어지는 에폭시 수지 (a) 의 연화점이 높아져 실용성이 떨어지게 된다.When the epoxy resin is a diglycidyl ether product of a phenol compound, a so-called aromatic epoxy resin, it is preferable to obtain an epoxy resin (a) by reaction with an ester compound containing an aliphatic ring of a terminal carboxyl group described above. In this case, it is preferable to use the carboxyl group of the ester compound of the terminal carboxyl group in the range of 0.2-0.7 mol with respect to 1 mol of the epoxy groups of an epoxy resin, Refractive index and heat-resistant yellowing property become high by increasing content of a carboxyl group within this range. When there are too few ester compounds of a terminal carboxyl group, the heat resistance of an epoxy resin (a) will fall, and when too large, the softening point of the epoxy resin (a) obtained will become high, and practicality will fall.

또한, 2 가 페놀 화합물을 병용해도 된다. 이 경우, 에폭시 수지의 에폭시기 1 몰에 대하여, 말단 카르복실기의 에스테르 화합물의 카르복실기와 2 가 페놀 화합물의 수산기의 합계를 0.2 ∼ 0.7 몰의 범위에서 사용하는 것이 바람직하다. 지방족 프로톤 (A) 와 방향족 프로톤 (B) 의 강도비 (B/A) 가 0.3 ∼ 0.7의 범위 내이면, 2 가 페놀 화합물의 함유량을 늘림으로써 내열성이 향상된다. 플루오렌 골격을 함유하는 2 가 페놀 화합물의 경우에는 그 효과가 현저하여, 보다 바람직하다.Moreover, you may use together a dihydric phenol compound. In this case, it is preferable to use the sum total of the carboxyl group of the ester compound of a terminal carboxyl group and the hydroxyl group of a dihydric phenol compound in 0.2-0.7 mol with respect to 1 mol of the epoxy groups of an epoxy resin. When the strength ratio (B/A) of the aliphatic proton (A) to the aromatic proton (B) is in the range of 0.3 to 0.7, the heat resistance is improved by increasing the content of the dihydric phenol compound. In the case of a dihydric phenol compound containing a fluorene skeleton, the effect is remarkable and it is more preferable.

경화제 (b) 는 에폭시 수지를 경화하는 기능을 갖는 것이면 특별히 한정되지 않고, 페놀계 경화제, 아민계 경화제, 산 무수물 경화제, 또는 카티온 중합 개시제 등의 공지된 경화제를 바람직하게 사용할 수 있지만, 알코올성 수산기와도 반응하는 경화제가 내열 황변성의 점에서 보다 바람직하다. 보다 바람직한 경화제로서 구체적으로는, 광 카티온 중합 개시제나 열 카티온 중합 개시제 등의 카티온 중합 개시제나 상기 산 무수물이나 3,3',4,4'-디페닐술폰테트라카르복실산 2무수물이나 1,2,3,4-부탄테트라카르복실산 2무수물 등의 카르복실산 2무수물 등을 들 수 있다. 이들 경화제는 단독 또는 2 종 이상의 혼합물로서 사용할 수 있지만, 이들에 한정되는 것은 아니다.The curing agent (b) is not particularly limited as long as it has a function of curing the epoxy resin, and a known curing agent such as a phenol-based curing agent, an amine-based curing agent, an acid anhydride curing agent, or a cationic polymerization initiator can be preferably used, but an alcoholic hydroxyl group A curing agent that also reacts with heat resistance is more preferable from the viewpoint of yellowing resistance. As a more preferable hardening|curing agent, specifically, cationic polymerization initiators, such as a photocationic polymerization initiator and a thermal cationic polymerization initiator, the said acid anhydride, 3,3',4,4'- diphenylsulfone tetracarboxylic dianhydride, Carboxylic acid dianhydrides, such as 1,2,3,4- butanetetracarboxylic dianhydride, etc. are mentioned. Although these hardening|curing agents can be used individually or as a mixture of 2 or more types, it is not limited to these.

본 발명의 에폭시 수지 조성물에 있어서, 에폭시 수지 (a) 와 경화제 (b) 의 배합량은 에폭시 수지 (a) 의 에폭시기 1 몰에 대하여 경화제 (b) 의 활성 수소기가 0.4 ∼ 1.2 몰의 범위가 바람직하고, 0.5 ∼ 1.1 몰이 보다 바람직하고, 0.7 ∼ 1.0 몰이 더욱 바람직하다. 예를 들어, 페놀계, 아민계 경화제를 사용한 경우에는, 에폭시기에 대하여 활성 수소기를 거의 당 몰 배합하고, 산 무수물계 경화제를 사용한 경우, 에폭시기 1 몰에 대하여 산 무수물기를 0.5 ∼ 1.2 몰, 바람직하게는 0.6 ∼ 1.0 몰 배합한다. 이미다졸 화합물류나 카티온 중합 개시제 등과 같이 접촉하여 반응이 진행되는 경우에는 에폭시 수지에 대한 소정의 질량비로 배합되는 경우도 있다. 본 발명에서 말하는 활성 수소기란 에폭시기와 반응성의 활성 수소를 갖는 관능기를 말하고, 구체적으로는, 산 무수물기나 카르복실기나 아미노기나 페놀성 수산기 등을 들 수 있다. 또, 활성 수소기에 대해서, 1 몰의 카르복실기나 페놀성 수산기는 1 몰로, 아미노기 (NH2) 는 2 몰로 계산된다.In the epoxy resin composition of the present invention, the compounding amount of the epoxy resin (a) and the curing agent (b) is preferably in the range of 0.4 to 1.2 moles of active hydrogen groups of the curing agent (b) with respect to 1 mole of the epoxy groups of the epoxy resin (a), , 0.5-1.1 mol is more preferable, and 0.7-1.0 mol is still more preferable. For example, when a phenol-based or amine-based curing agent is used, an active hydrogen group is blended in substantially sugar moles with respect to the epoxy group, and when an acid anhydride-based curing agent is used, 0.5 to 1.2 moles of an acid anhydride group per mole of the epoxy group, preferably is blended by 0.6 to 1.0 mol. When the reaction proceeds by contact with imidazole compounds or a cationic polymerization initiator, it may be blended in a predetermined mass ratio with respect to the epoxy resin. The active hydrogen group as used in the present invention refers to a functional group having reactive active hydrogen with an epoxy group, and specific examples thereof include an acid anhydride group, a carboxyl group, an amino group, a phenolic hydroxyl group, and the like. In addition, about the active hydrogen groups, a carboxyl group or a phenolic hydroxyl group of 1 mole is calculated 1 mol, an amino group (NH 2) 2 mol.

본 발명의 광학용 에폭시 수지 조성물에는 필요에 따라서, 에폭시 수지 (a) 이외의 각종 에폭시 수지를 본 발명의 특성을 손상시키지 않을 정도로 병용할 수도 있다. 병용할 수 있는 에폭시 수지로는, 구체적으로는 에포토토 YDC-1312, ZX-1027 (신닛테츠 스미킨 화학 주식회사 제조, 하이드로퀴논형 에폭시 수지), YX-4000 (미츠비시 화학 주식회사 제조), ZX-1251 (신닛테츠 스미킨 화학 주식회사 제조, 비페놀형 에폭시 수지), 에포토토 YD-127, 에포토토 YD-128, 에포토토 YD-8125, 에포토토 YD-825GS, 에포토토 YD-011, 에포토토 YD-900, 에포토토 YD-901 (신닛테츠 스미킨 화학 주식회사 제조, BPA 형 에폭시 수지), 에포토토 YDF-170, 에포토토 YDF-8170, 에포토토 YDF-870GS, 에포토토 YDF-2001 (신닛테츠 스미킨 화학 주식회사 제조, BPF 형 에폭시 수지), 에포토토 YDPN-638 (신닛테츠 스미킨 화학 주식회사 제조, 페놀 노볼락형 에폭시 수지), 에포토토 YDCN-701 (신닛테츠 스미킨 화학 주식회사 제조, 크레졸 노볼락형 에폭시 수지), ZX-1201 (신닛테츠 스미킨 화학 주식회사 제조, 비스페놀플루오렌형 에폭시 수지), NC-3000 (닛폰 화약 주식회사 제조, 비페닐아르알킬페놀형 에폭시 수지), EPPN-501H, EPPN-502H (닛폰 화약 주식회사 제조, 다관능 에폭시 수지), ZX-1355 (신닛테츠 스미킨 화학 주식회사 제조, 나프탈렌디올형 에폭시 수지), ESN-155, ESN-185V, ESN-175 (신닛테츠 스미킨 화학 주식회사 제조, β 나프톨아르알킬형 에폭시 수지), ESN-355, ESN-375 (신닛테츠 스미킨 화학 주식회사 제조, 디나프톨아르알킬형 에폭시 수지), ESN-475V, ESN-485 (신닛테츠 스미킨 화학 주식회사 제조, α 나프톨아르알킬형 에폭시 수지) 등의 다가 페놀 수지 등의 페놀 화합물과 에피할로하이드린으로부터 제조되는 에폭시 수지, 에포토토 YH-434, 에포토토 YH-434GS (신닛테츠 스미킨 화학 주식회사 제조, 디아미노디페닐메탄테트라글리시딜에테르) 등의 아민 화합물과 에피할로하이드린으로부터 제조되는 에폭시 수지, YD-171 (신닛테츠 스미킨 화학 주식회사 제조, 다이머산형 에폭시 수지) 등의 카르복실산과 에피할로하이드린으로부터 제조되는 에폭시 수지 등을 들 수 있는데, 이들에 한정되는 것은 아니고 2 종류 이상 병용해도 된다. 병용하는 경우에는, 각 에폭시 수지의 혼합물로서의 물성치로, 에폭시 당량이 500 ∼ 2000 g/eq 이고, 연화점이 80 ∼ 150 ℃ 이고, 20 ℃, 파장 589.3 ㎚ 에서의 굴절률 (nD 20) 이 1.55 ∼ 1.63 이고, 1H-NMR 스펙트럼에 있어서의 지방족 프로톤 (A) 와 방향족 프로톤 (B) 의 강도비 (B/A) 가 0.3 ∼ 0.7 일 필요가 있다. 그 때문에 병용할 수 있는 그 밖의 에폭시 수지는 에폭시 수지 (a) 100 질량부에 대하여 20 질량부 이하가 바람직하고, 10 질량부 이하가 보다 바람직하다.In the epoxy resin composition for optics of the present invention, if necessary, various epoxy resins other than the epoxy resin (a) may be used in combination so as not to impair the properties of the present invention. Specific examples of the epoxy resin that can be used in combination include Epottoto YDC-1312, ZX-1027 (manufactured by Nippon Tetsu Sumikin Chemical Co., Ltd., hydroquinone type epoxy resin), YX-4000 (manufactured by Mitsubishi Chemical Co., Ltd.), ZX- 1251 (manufactured by Shin-Nitetsu Sumikin Chemical Co., Ltd., non-phenolic epoxy resin), EPOTOT YD-127, EPOTTO YD-128, EPOTTO YD-128, EPOTTO YD-825GS, EPOTTO YD- 011, EPOTTO YD-900, EPTOTO YD-901 (manufactured by Shin-Nitetsu Sumikin Chemical Co., Ltd., BPA-type epoxy resin), EPOTTO YDF-170, EPOTTO YDF-8170, EPOTTOTO YDF-870GS , EPOTTO YDF-2001 (manufactured by Nittetsu Sumikin Chemical Co., Ltd., BPF-type epoxy resin), EPOTTO YDPN-638 (manufactured by Nippon Tetsu Sumikin Chemical Co., Ltd., phenol novolac type epoxy resin), EPOTTOTO YDCN- 701 (Shin-Nippon Sumikin Chemical Co., Ltd., cresol novolak-type epoxy resin), ZX-1201 (Shin-Nippon Sumikin Chemical Co., Ltd., bisphenol fluorene-type epoxy resin), NC-3000 (Nippon Kayaku Co., Ltd., biphenylar) Alkylphenol type epoxy resin), EPPN-501H, EPPN-502H (Nippon Kayaku Co., Ltd., polyfunctional epoxy resin), ZX-1355 (Nippon Kayaku Co., Ltd., Naphthalenediol type epoxy resin), ESN-155, ESN -185V, ESN-175 (manufactured by Nittetsu Sumikin Chemical Co., Ltd., β-naphthol aralkyl-type epoxy resin), ESN-355, ESN-375 (manufactured by Shin-Nippon Sumikin Chemical Co., Ltd., dinaphthol aralkyl-type epoxy resin), ESN -475V, ESN-485 (manufactured by Nippon-Sumikin Chemical Co., Ltd., α naphthol aralkyl type epoxy resin) Epototo YH-434, an epoxy resin produced from a phenol compound such as a polyhydric phenol resin and epihalohydrin , Epottoto YH-434GS (manufactured by Shin-Nitetsu Sumikin Chemical Co., Ltd., diaminodiphenylmethane tetraglycidyl ether), etc., and Epi an epoxy resin produced from halohydrin, an epoxy resin produced from epihalohydrin and a carboxylic acid such as YD-171 (manufactured by Shin-Nitetsu Sumikin Chemical Co., Ltd., dimer acid-type epoxy resin); It is not possible, and two or more types may be used in combination. When used in combination, a physical property values as a mixture of each of the epoxy resin, and an epoxy equivalent of 500 ~ 2000 g / eq, a softening point is 80 ~ 150 ℃, refractive index at 20 ℃, wavelength 589.3 ㎚ (n D 20) is 1.55 ~ It is 1.63, and the intensity ratio (B/A) of the aliphatic proton (A) to the aromatic proton (B) in the 1H-NMR spectrum needs to be 0.3 to 0.7. Therefore, 20 mass parts or less are preferable with respect to 100 mass parts of epoxy resins (a), and, as for the other epoxy resin which can be used together, 10 mass parts or less are more preferable.

또한 본 발명의 광학용 에폭시 수지 조성물 중의 불휘발분 100 질량% 에 대하여, 에폭시 수지와 경화제의 합계가 50 질량% 이상이 바람직하다. 지나치게 적으면 본 발명의 효과가 발현되지 않는다.Moreover, 50 mass % or more of the sum total of an epoxy resin and a hardening|curing agent is preferable with respect to 100 mass % of non-volatile matter in the epoxy resin composition for optics of this invention. When there is too little, the effect of this invention will not be expressed.

본 발명의 광학용 에폭시 수지 조성물에는 필요에 따라서 경화 촉진제를 사용할 수 있다. 사용할 수 있는 경화 촉진제를 구체적으로 예시하면, 2-메틸이미다졸, 2-에틸이미다졸, 2-에틸-4-메틸이미다졸 등의 이미다졸류, 2-(디메틸아미노메틸)페놀, 1,8-디아자비시클로(5,4,0)운데센-7 등의 제 3 급 아민류, 트리페닐포스핀, 트리시클로헥실포스핀, 트리페닐포스핀트리페닐보란 등의 포스핀류, 옥틸산주석 등의 금속 화합물을 들 수 있다. 경화 촉진제는 단독으로 사용해도 되고 2 종류 이상 병용해도 된다. 경화 촉진제는 본 발명의 광학용 에폭시 수지 조성물 중의 에폭시 수지 (a) 100 질량부에 대하여 0.01 ∼ 5.0 질량부가 필요에 따라서 사용된다. 이들 경화 촉진제를 선택적으로 사용함으로써, 경화 온도를 내리거나, 경화 시간을 단축할 수 있다.A hardening accelerator can be used for the epoxy resin composition for optics of this invention as needed. Specific examples of the curing accelerator that can be used include imidazoles such as 2-methylimidazole, 2-ethylimidazole and 2-ethyl-4-methylimidazole, 2-(dimethylaminomethyl)phenol; Tertiary amines such as 1,8-diazabicyclo(5,4,0)undecene-7, phosphines such as triphenylphosphine, tricyclohexylphosphine, and triphenylphosphine triphenylborane, octylic acid and metal compounds such as tin. A hardening accelerator may be used independently and may use 2 or more types together. 0.01-5.0 mass parts of hardening accelerators are used as needed with respect to 100 mass parts of epoxy resins (a) in the epoxy resin composition for optics of this invention. By selectively using these curing accelerators, the curing temperature can be lowered or the curing time can be shortened.

본 발명의 광학용 에폭시 수지 조성물에는, 점도 조정용으로서 유기 용제도 사용할 수 있다. 사용할 수 있는 유기 용제로는 특별히 규정하는 것은 아니지만, 구체적으로 예시하면, N,N-디메틸포름아미드 등의 아미드류, 에틸렌글리콜모노메틸에테르 등의 에테르류, 아세톤, 메틸에틸케톤, 메틸이소부틸케톤 등의 케톤류, 메탄올, 에탄올 등의 알코올류, 벤젠, 톨루엔, 자일렌 등의 방향족 탄화수소류, 아세트산메틸, 아세트산에틸 등의 에스테르류, N-메틸피롤리돈 등의 비프로톤계 극성 용제를 들 수 있다. 이들 용제는 단독으로 사용해도 되고 2 종류 이상 혼합하여 사용해도 된다.An organic solvent can also be used for the epoxy resin composition for optics of this invention for viscosity adjustment. The organic solvent that can be used is not specifically defined, but specifically exemplified, amides such as N,N-dimethylformamide, ethers such as ethylene glycol monomethyl ether, acetone, methyl ethyl ketone, and methyl isobutyl ketone ketones such as ketones, alcohols such as methanol and ethanol, aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene and xylene, esters such as methyl acetate and ethyl acetate, and aprotic polar solvents such as N-methylpyrrolidone. have. These solvents may be used independently and may be used in mixture of 2 or more types.

본 발명의 광학용 에폭시 수지 조성물은 특성을 손상시키지 않는 범위에서 에폭시 수지 이외의 경화성 수지나 열가소성 수지를 배합해도 된다. 구체적으로 예시하면, 페놀 수지, 아크릴 수지, 석유 수지, 인덴 수지, 인덴쿠마론 수지, 페녹시 수지, 시아네이트 수지, 에폭시아크릴레이트 수지, 비닐 화합물, 폴리우레탄, 폴리에스테르, 폴리아미드, 폴리이미드, 폴리아미드이미드, 폴리에테르이미드, 비스말레이미드트리아진 수지, 폴리에테르술폰, 폴리술폰, 폴리에테르에테르케톤, 폴리페닐렌술파이드, 폴리비닐포르말 등을 들 수 있지만, 이들에 한정되는 것은 아니다. 본 발명의 광학용 에폭시 수지 조성물에 있어서, 이들 수지를 사용하는 경우의 함유량은, 에폭시 수지 (a) 와 경화제 (b) 의 사용량의 합계를 100 질량부로 하였을 때, 5 ∼ 30 질량부가 바람직하고, 15 ∼ 20 질량부가 보다 바람직하다. 함유량이 지나치게 적으면, 이들 수지를 배합하는 것의 효과가 충분히 얻어지지 않고, 함유량이 지나치게 많으면, 경화물의 내습성 등이 저하되는 경향이 있다.The epoxy resin composition for optics of this invention may mix|blend curable resin and thermoplastic resin other than an epoxy resin in the range which does not impair a characteristic. Specifically, phenol resins, acrylic resins, petroleum resins, indene resins, indencumarone resins, phenoxy resins, cyanate resins, epoxy acrylate resins, vinyl compounds, polyurethanes, polyesters, polyamides, polyimides, Polyamideimide, polyetherimide, bismaleimide triazine resin, polyethersulfone, polysulfone, polyetheretherketone, polyphenylenesulfide, polyvinylformal, etc. are mentioned, but are not limited to these. In the optical epoxy resin composition of the present invention, the content in the case of using these resins is preferably 5 to 30 parts by mass, when the total amount of the epoxy resin (a) and the curing agent (b) used is 100 parts by mass, 15-20 mass parts is more preferable. When there is too little content, the effect of mix|blending these resins will not fully be acquired, but when there is too much content, there exists a tendency for the moisture resistance of hardened|cured material, etc. to fall.

본 발명의 광학용 에폭시 수지 조성물에는 필요에 따라서 필러를 사용할 수 있다. 구체적으로는 수산화알루미늄, 수산화마그네슘, 탤크, 소성 탤크, 클레이, 카올린, 수산화티탄, 유리 분말, 실리카 벌룬 등의 무기 필러를 들 수 있지만, 유기계 또는 무기계의 내습 안료, 인편상 안료 등을 배합해도 된다. 일반적 무기 충전제를 사용하는 이유로서, 내충격성의 향상을 들 수 있다. 또한, 유리 섬유, 펄프 섬유, 합성 섬유, 세라믹 섬유 등의 섬유질 충전제나, 미립자 고무, 열가소성 엘라스토머 등의 유기 충전제 등을 배합할 수 있다. 본 발명의 광학용 에폭시 수지 조성물에 있어서 필러를 사용하는 경우의 함유량은, 에폭시 수지 (a) 와 경화제 (b) 의 사용량의 합계를 100 질량부로 하였을 때, 5 ∼ 80 질량부가 바람직하고, 15 ∼ 60 질량부가 보다 바람직하고, 30 ∼ 50 질량부가 더욱 바람직하다. 함유량이 지나치게 적으면, 배합하는 것의 효과가 충분히 얻어지지 않고, 함유량이 지나치게 많으면, 조성물의 점도가 상승하는 경향이 되거나, 경화물의 강도가 저하되어 취약해지는 경향이 된다.A filler can be used for the epoxy resin composition for optics of this invention as needed. Specific examples include inorganic fillers such as aluminum hydroxide, magnesium hydroxide, talc, calcined talc, clay, kaolin, titanium hydroxide, glass powder, and silica balloon, and organic or inorganic moisture-resistant pigments, flaky pigments, etc. may be blended. . As a reason for using a general inorganic filler, the improvement of impact resistance is mentioned. Moreover, fibrous fillers, such as glass fiber, pulp fiber, synthetic fiber, and ceramic fiber, organic fillers, such as particulate rubber and a thermoplastic elastomer, etc. can be mix|blended. Content in the case of using a filler in the epoxy resin composition for optics of this invention makes the sum total of the usage-amount of an epoxy resin (a) and a hardening|curing agent (b) 100 mass parts, 5-80 mass parts is preferable, and 15- 60 mass parts is more preferable, and 30-50 mass parts is still more preferable. When the content is too small, the effect of blending cannot be sufficiently obtained. When the content is too large, the viscosity of the composition tends to increase, or the strength of the cured product tends to decrease and become brittle.

또한, 본 발명의 광학용 에폭시 수지 조성물 중에는 필요에 따라서, 난연제, 요변성 부여재, 유동성 향상제 등의 첨가제를 배합해도 된다. 요변성 부여재로는 실리콘계, 피마자유계, 지방족 아마이드 왁스, 산화폴리에틸렌 왁스, 유기 벤토나이트계 등을 들 수 있다. 또한 필요에 따라서, 본 발명의 수지 조성물에는 카르나바 왁스, OP 왁스 등의 이형제, 카본 블랙 등의 착색제, 삼산화안티몬 등의 난연제, 실리콘 오일 등의 저응력화제, 스테아르산칼슘 등의 윤활제를 배합할 수 있다.Moreover, you may mix|blend additives, such as a flame retardant, a thixotropy imparting material, and a fluidity|liquidity improving agent, in the epoxy resin composition for optics of this invention as needed. Examples of the thixotropic material include silicone-based, castor oil-based, aliphatic amide wax, polyethylene oxide wax, and organic bentonite-based material. In addition, if necessary, in the resin composition of the present invention, a release agent such as carnauba wax and OP wax, a colorant such as carbon black, a flame retardant such as antimony trioxide, a stress reducing agent such as silicone oil, and a lubricant such as calcium stearate. can

또한, 본 발명의 광학용 에폭시 수지 조성물 중에는 필요에 따라서, 산화 방지제 및 광 안정제를 배합해도 된다. 산화 방지제 및 광 안정제의 첨가는 광학용 에폭시 수지 조성물의 저장 안정성 향상 및 경화 조성물의 내후성 향상을 위해 바람직하다. 산화 방지제 및 광 안정제로는 시판품을 사용할 수 있다. 예를 들어, 스미라이저 BHT, 스미라이저 S, 스미라이저 BP-76, 스미라이저 MDP-S, 스미라이저 GM, 스미라이저 BBM-S, 스미라이저 WX-R, 스미라이저 NW, 스미라이저 BP-179, 스미라이저 BP-101, 스미라이저 GA-80, 스미라이저 TNP, 스미라이저 TPP-R, 스미라이저 P-16 (스미토모 화학 주식회사 제조), 아데카 스타브 AO-20, 아데카 스타브 AO-30, 아데카 스타브 AO-40, 아데카 스타브 AO-50, 아데카 스타브 AO-60, 아데카 스타브 AO-70, 아데카 스타브 AO-80, 아데카 스타브 AO-330, 아데카 스타브 PEP-4C, 아데카 스타브 PEP-8, 아데카 스타브 PEP-24G, 아데카 스타브 PEP-36, 아데카 스타브 HP-10, 아데카 스타브 2112, 아데카 스타브 260, 아데카 스타브 522A, 아데카 스타브 329K, 아데카 스타브 1500, 아데카 스타브 C, 아데카 스타브 135A, 아데카 스타브 3010 (아사히 덴카 공업 주식회사 제조), 티누빈 770, 티누빈 765, 티누빈 144, 티누빈 622, 티누빈 111, 티누빈 123, 티누빈 292 (치바 스페셜리티 케미칼즈 주식회사 제조), 판크릴 FA-711M, FA-712HM (히타치 가세이 공업 주식회사 제조), 더블 Chisorb292 (본드 케미컬사 제조) 등을 들 수 있다. 이들 산화 방지제 및 광 안정제의 배합량은 특별히 한정되지 않지만, 에폭시 수지 (a) 와 경화제 (b) 의 사용량의 합계를 100 질량부로 하였을 때, 0.001 ∼ 5 질량부가 바람직하고, 0.01 ∼ 3 질량부가 보다 바람직하다.In addition, in the epoxy resin composition for optics of this invention, you may mix|blend antioxidant and an optical stabilizer as needed. The addition of an antioxidant and a light stabilizer is preferable for improving the storage stability of the optical epoxy resin composition and improving the weather resistance of the cured composition. As antioxidant and light stabilizer, a commercial item can be used. For example, Smirrizer BHT, Smirrizer S, Smirrizer BP-76, Smirrizer MDP-S, Smirrizer GM, Smirrizer BBM-S, Smirrizer WX-R, Smirizer NW, Smirrizer BP-179, Sumilizer BP-101, Sumilizer GA-80, Sumilizer TNP, Sumilizer TPP-R, Sumilizer P-16 (manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd.), ADEKA STAB AO-20, ADEKA STAB AO-30, ADEKA STAB AO-40, ADEKA STAB AO-50, ADEKA STAB AO-60, ADEKA STAB AO-70, ADEKA STAB AO-80, ADEKA STAB AO-330, ADEKA STAB Stave PEP-4C, Adeka Stab PEP-8, Adeka Stave PEP-24G, Adeka Stab PEP-36, Adeka Stab HP-10, Adeka Stave 2112, Adeka Stave 260, ADEKA STAB 522A, ADEKA STAB 329K, ADEKA STAB 1500, ADEKA STAB C, ADEKA STAB 135A, ADEKA STAB 3010 (manufactured by Asahi Denka Industrial Co., Ltd.), Tinubin 770, Tinubin 765 , Tinuvin 144, Tinuvin 622, Tinuvin 111, Tinuvin 123, Tinuvin 292 (manufactured by Chiba Specialty Chemicals), Pancryl FA-711M, FA-712HM (manufactured by Hitachi Kasei Industrial Co., Ltd.), Double Chisorb292 (Bond) Chemical company make) etc. are mentioned. Although the compounding quantity of these antioxidant and light stabilizer is not specifically limited, When the sum total of the usage-amount of an epoxy resin (a) and a hardening|curing agent (b) is 100 mass parts, 0.001-5 mass parts is preferable, and 0.01-3 mass parts is more preferable. Do.

본 발명에 관련된 필름상 접착제나 컬러 필터용 보호막을 제조하기 위해, 광학용 에폭시 수지 조성물을 시트상 또는 필름상으로 가공하는 방법은 특별히 한정되지 않고 공지된 기술을 사용할 수 있다. 예를 들어, (가) 본 발명의 광학용 에폭시 수지 조성물을 압출기로 혼련한 후에 압출하고, T 다이나 서큘러 다이 등을 사용하여 시트상으로 성형하는 압출 성형법, (나) 본 발명의 광학용 에폭시 수지 조성물을 유기 용제 등의 용매에 용해 또는 분산시킨 후, 캐스팅하여 시트상으로 성형하는 캐스팅 성형법, (다) 종래 공지된 그 밖의 시트 성형법 등을 들 수 있다.In order to manufacture the film adhesive which concerns on this invention or the protective film for color filters, the method of processing the epoxy resin composition for optics into a sheet form or a film form is not specifically limited, A well-known technique can be used. For example, (A) extrusion molding method in which the optical epoxy resin composition of the present invention is kneaded with an extruder and then extruded and molded into a sheet using a T-die or a circular die, (B) the optical epoxy resin of the present invention and a casting molding method in which the composition is dissolved or dispersed in a solvent such as an organic solvent and then cast to form a sheet, (C) other conventionally known sheet molding methods, and the like.

이들 성형법 중, (나) 의 캐스팅 성형법이 바람직하다. 본 발명의 광학용 에폭시 수지 조성물을 유기 용제로 희석하여 액상의 바니시를 조제하고, 그 바니시를 지지체 상에 플로우 코트법, 롤 코트법, 그라비아 롤법, 와이어 바법, 립다이 코트법 등에 의해 도포하고, 이어서 용제를 건조시킴으로써, 임의의 막두께를 갖는 시트상 또는 필름상의 조성물을 얻을 수 있다. 바니시를 도포하는 지지체로는 특별히 제한되지 않지만, 폴리에스테르계, 폴리올레핀계, 폴리이미드계, 불소계 등의 플라스틱 필름이나 금속박, 금속판 등 일반 공지된 것을 사용할 수 있고, 이들 지지체는 미리 이형 처리나 정전 처리 등이 행해져 있는 것이 바람직하다. 바니시의 조제에 있어서는, 각 성분의 배합 후에 용제로 희석할 수도 있고, 또는 각 성분의 배합 전에 미리 용제로 희석해 두는 것도 가능하다. 또한, 건조 조건은 특별히 제한은 없지만, 50 ∼ 100 ℃ 에서 3 ∼ 15 분이 바람직하다.Among these molding methods, the casting molding method of (b) is preferable. The optical epoxy resin composition of the present invention is diluted with an organic solvent to prepare a liquid varnish, and the varnish is applied on a support by a flow coating method, a roll coating method, a gravure roll method, a wire bar method, a lip die coating method, etc. Then, by drying the solvent, a sheet-like or film-like composition having an arbitrary film thickness can be obtained. The support for applying the varnish is not particularly limited, but a generally known material such as a polyester-based, polyolefin-based, polyimide-based, or fluorine-based plastic film, metal foil, or metal plate can be used, and these supports are pre-released or electrostatically treated. It is preferable that etc. are performed. In preparation of a varnish, it is also possible to dilute with a solvent after mixing|blending each component, or it is also possible to dilute with a solvent beforehand before mixing|blending each component. Moreover, although there is no restriction|limiting in particular in drying conditions, 3 to 15 minutes are preferable at 50-100 degreeC.

건조 후에 형성되는 필름 또는 시트의 막두께는 특별히 한정은 되지 않지만, 3 ∼ 300 ㎛ 가 바람직하고, 5 ∼ 200 ㎛ 가 보다 바람직하고, 10 ∼ 180 ㎛ 가 더욱 바람직한 범위이다. 컬러 필터나 광 반도체 기판의 보호막의 경우에는 10 ∼ 50 ㎛ 가 가장 바람직하다. 막두께가 3 ㎛ 이상이면 절연성을 얻을 수 있고, 300 ㎛ 이하이면 투명성을 확보할 수 있다. 또, 필름 또는 시트 중의 용매의 함유량은 특별히 한정되지는 않지만, 수지 조성물 전체에 대하여 0.01 ∼ 5 질량% 인 것이 바람직하다. 필름 중의 용매의 함유량이 수지 조성물 전체에 대하여 0.01 질량% 이상이면, 기판 등에 적층할 때에 밀착성이나 접착성이 얻어지고, 또한, 5 질량% 이하이면 가열 경화 후의 평탄성이 얻어진다.Although limitation in particular is not carried out as for the film thickness of the film or sheet|seat formed after drying, 3-300 micrometers is preferable, 5-200 micrometers is more preferable, 10-180 micrometers is a further more preferable range. In the case of a color filter or a protective film of an optical semiconductor substrate, 10-50 micrometers is the most preferable. If the film thickness is 3 µm or more, insulation can be obtained, and when it is 300 µm or less, transparency can be ensured. Moreover, content of the solvent in a film or a sheet|seat is although it does not specifically limit, It is preferable that it is 0.01-5 mass % with respect to the whole resin composition. When content of the solvent in a film is 0.01 mass % or more with respect to the whole resin composition, when laminating|stacking on a board|substrate etc., adhesiveness and adhesiveness will be acquired, and if it is 5 mass % or less, flatness after heat curing will be obtained.

본 발명의 광학용 에폭시 수지 조성물은 공지된 에폭시 수지 조성물과 동일한 방법에 의해 성형, 경화하여 경화물로 할 수 있다. 성형 방법, 경화 방법은 공지된 에폭시 수지 조성물과 동일한 방법을 채택할 수 있고, 본 발명의 수지 조성물 고유의 방법은 불필요하다. 본 발명의 광학용 에폭시 수지 경화물은 적층물, 성형물, 접착물, 도막, 필름 등의 형태를 취할 수 있으며, 고온에 노출되는 부위에 사용되는 투명성, 내열 신뢰성 (고내열 황변성) 이 양호하여, 광학 용도의 전기 전자 부품에 사용되는 밀봉재, 적층판, 절연 재료, 복합재, 절연 접착제 등의 재료로서 유용하다.The epoxy resin composition for optics of the present invention can be molded and cured by the same method as a known epoxy resin composition to obtain a cured product. The molding method and the curing method can adopt the same method as that of a known epoxy resin composition, and a method unique to the resin composition of the present invention is unnecessary. The optical epoxy resin cured product of the present invention can take the form of a laminate, a molded product, an adhesive, a coating film, a film, etc., and has good transparency and heat-resistance reliability (high heat-resistance yellowing resistance) used in areas exposed to high temperatures. It is useful as a material for sealing materials, laminates, insulating materials, composites, insulating adhesives, etc. used in electrical and electronic components for optical applications.

실시예Example

실시예 및 비교예에 기초하여 본 발명을 구체적으로 설명하지만 본 발명의 범위가 이들 실시예에 한정되는 것은 아니다. 이하의 합성예, 실시예 및 비교예에 있어서, 「부」는 질량부를, 「%」는 질량% 를 각각 나타낸다. 그리고 본 발명에서는 이하의 시험 방법을 사용하였다.The present invention will be specifically described based on Examples and Comparative Examples, but the scope of the present invention is not limited to these Examples. In the following synthesis examples, examples, and comparative examples, "part" represents a mass part, and "%" represents a mass %, respectively. And in the present invention, the following test method was used.

(1) 에폭시 당량 : JIS K-7236 에 의해 측정하였다.(1) Epoxy equivalent: Measured according to JIS K-7236.

(2) 연화점 : JISK-7234 에 의해 측정하였다.(2) Softening point: Measured according to JISK-7234.

(3) 굴절률 : 아베 굴절계 (ERMA 사 제조, ER-7MW) 를 사용해서, 시클로헥사논에 고형분 30 % 가 되도록 용해하고, 20 ℃, 파장 589.3 ㎚ 에서 측정을 실시하여, 계산에 의해 고형분 100 % 의 굴절률을 구하였다.(3) Refractive index: Using an Abbe refractometer (manufactured by ERMA, ER-7MW), it is dissolved in cyclohexanone so as to have a solid content of 30%, measured at 20°C and a wavelength of 589.3 nm, and calculated as 100% of a solid content The refractive index of was obtained.

(4) 유리 전이 온도 (Tg) : 시차 주사 열량 측정 장치 (SII 사 제조, EXTER DSC6200) 를 사용하여, 20 ℃ 로부터 10 ℃/분의 승온 속도에 의해 측정하였다.(4) Glass transition temperature (Tg): Using a differential scanning calorimetry apparatus (manufactured by SII, EXTER DSC6200), it was measured at a temperature increase rate of 10°C/min from 20°C.

(5) 내열 황변성 : 측색 색차계 (도쿄 덴쇼쿠사 제조, TC-1500MC-88) 를 사용하여 측정을 실시하며, 열 이력을 가하기 전의 YI 값을 블랭크로 하여, 250 ℃ 에서 항온을 유지하고 있는 오븐에 소정 시간 보관한 후의 YI 값과의 차를 나타내었다. 수치가 작을수록, 내열 황변성이 양호한 것을 나타낸다.(5) Heat yellowing resistance: Measurement is performed using a colorimetric colorimeter (manufactured by Tokyo Denshoku Co., Ltd., TC-1500MC-88), and YI value before application of heat history is used as a blank, and a constant temperature is maintained at 250°C. The difference with the YI value after storage in an oven for a predetermined time is shown. It shows that heat-resistant yellowing property is so favorable that a numerical value is small.

(6) 내자외선 변색성 : 측색 색차계를 사용하여 측정을 실시하며, 광 조사 전의 YI 값을 블랭크로 하여, 조사 강도 400 W/㎡ (ATLS 사 제조 선 테스트 XLS 사용) 로 24 시간 조사 후의 YI 값과의 차를 나타내었다. 수치가 작을수록 내자외선 변색성이 양호한 것을 나타낸다.(6) UV discoloration resistance: Measurement is performed using a colorimetric colorimeter, and YI value before light irradiation is used as a blank, and YI after irradiation for 24 hours at an irradiation intensity of 400 W/m 2 (using the ATLS line test XLS) The difference with the value is shown. It shows that ultraviolet-ray discoloration resistance is so favorable that a numerical value is small.

(7) 투과도 : 분광 광도계 (닛폰 분광 주식회사 제조, V-650) 를 사용하여, 파장 450 ㎚ 에서의 투과율 (%) 을 측정하였다. 열 이력이나 광 조사를 실시하기 전의 시험편의 측정치를 초기값으로 하고, 250 ℃ 에서 항온을 유지하고 있는 오븐에 30 분간 유지한 후의 시험편과, 조사 강도 400 W/㎡ 로 24 시간 조사 후의 시험편도 각각 측정하였다.(7) Transmittance: The transmittance|permeability (%) in wavelength 450nm was measured using the spectrophotometer (The Nippon Spectroscopy Co., Ltd. make, V-650). The measured value of the test piece before heat history or light irradiation is taken as the initial value, and the test piece after holding for 30 minutes in an oven maintained at a constant temperature at 250 ° C. and the test piece after 24 hours irradiation at an irradiation intensity of 400 W/m 2 are also respectively. measured.

합성예, 실시예, 비교예에서 사용한 약호의 설명.Explanation of the abbreviation used by the synthesis example, an Example, and a comparative example.

(에폭시 수지) (epoxy resin)

에포토토 YD-128 ; 2,2-비스(4-하이드록시페닐)프로판의 디글리시딜에테르, 에폭시 당량 187 g/eq, 점도 13000 mPs·s/25 ℃, 신닛테츠 스미킨 화학 주식회사 제조Epottoto YD-128 ; Diglycidyl ether of 2,2-bis(4-hydroxyphenyl)propane, epoxy equivalent 187 g/eq, viscosity 13000 mPs s/25° C., manufactured by Shin-Nitetsu Sumikin Chemical Co., Ltd.

ESF-300 ; 9,9-비스(4-하이드록시페닐)-9H-플루오렌의 디글리시딜에테르, 에폭시 당량 250 g/eq, 연화점 87 ℃, 신닛테츠 스미킨 화학 주식회사 제조ESF-300 ; Diglycidyl ether of 9,9-bis(4-hydroxyphenyl)-9H-fluorene, epoxy equivalent 250 g/eq, softening point 87° C., manufactured by Shin-Nitetsu Sumikin Chemical Co., Ltd.

셀록사이드 2021P ; 3',4'-에폭시시클로헥실메틸-3,4-에폭시시클로헥산카르복실레이트, 에폭시 당량 133 g/eq, 점도 240 mPa·s/25 ℃, 다이셀 화학 공업 주식회사 제조Celoxide 2021P; 3',4'-epoxycyclohexylmethyl-3,4-epoxycyclohexanecarboxylate, epoxy equivalent 133 g/eq, viscosity 240 mPa·s/25°C, manufactured by Daicel Chemical Industry Co., Ltd.

에포토토 ZX-1658GS ; 1,4-시클로헥산디메탄올의 디글리시딜에테르, 에폭시 당량 134 g/eq, 점도 37 mPs·s/25 ℃, 신닛테츠 스미킨 화학 주식회사 제조Epottoto ZX-1658GS ; Diglycidyl ether of 1,4-cyclohexanedimethanol, epoxy equivalent 134 g/eq, viscosity 37 mPs s/25° C., manufactured by Shin-Nitetsu Sumikin Chemical Co., Ltd.

(산 무수물) (acid anhydride)

리카시드 HH ; 헥사하이드로 무수프탈산, 신닛폰 리카 주식회사 제조ricassid HH; Hexahydrophthalic anhydride, manufactured by New Nippon Rica Co., Ltd.

리카시드 MH ; 4-메틸헥사하이드로무수프탈산, 신닛폰 리카 주식회사 제조 licacid MH ; 4-Methylhexahydrophthalic anhydride, manufactured by Nippon Rika Co., Ltd.

(2 가 알코올) (dihydric alcohol)

리카비놀 HB ; 수소첨가 비스페놀 A, 신닛폰 리카 주식회사 제조 ricabinol HB; Hydrogenated bisphenol A, manufactured by New Nippon Rica Co., Ltd.

SPG ; 스피로글리콜, 미츠비시 가스 화학 주식회사 제조SPG ; Spiroglycol, manufactured by Mitsubishi Gas Chemical Co., Ltd.

HDL ; 1,6-헥산디올, 우베 코산 주식회사 제조 HDL ; 1,6-hexanediol, manufactured by Ubekosan Co., Ltd.

(2 관능 페놀 화합물) (bifunctional phenolic compound)

BPF ; 9,9-비스(4-하이드록시페닐)-9H-플루오렌, 수산기 당량 = 175 g/eq, 오사카 가스 케미컬 주식회사 제조BPF; 9,9-bis(4-hydroxyphenyl)-9H-fluorene, hydroxyl equivalent = 175 g/eq, manufactured by Osaka Gas Chemical Co., Ltd.

BPA ; 2,2-비스(4-하이드록시페닐)프로판, 수산기 당량 = 114 g/eq, 신닛테츠 스미킨 화학 주식회사 제조BPA; 2,2-bis(4-hydroxyphenyl)propane, hydroxyl equivalent = 114 g/eq, manufactured by Shin-Nitetsu Sumikin Chemical Co., Ltd.

(촉매) (catalyst)

히시콜린 BTPPBr ; n-부틸트리페닐포스포늄브로마이드, 닛폰 화학 공업 주식회사 제조hycicholine BTPPBr; n-Butyltriphenylphosphonium bromide, manufactured by Nippon Chemical Industry Co., Ltd.

TPP ; 트리페닐포스핀, 홋코 화학 주식회사 제조TPP; Triphenylphosphine, manufactured by Hokko Chemical Co., Ltd.

큐어졸 2E4MZ ; 2-에틸-4-메틸이미다졸, 시코쿠 화성 주식회사 제조Curesol 2E4MZ ; 2-ethyl-4-methylimidazole, manufactured by Shikoku Chemical Co., Ltd.

합성예 1 Synthesis Example 1

교반기, 온도계, 질소 취입관, 및 냉각관을 구비한 반응 장치에, 산 무수물로서 리카시드 HH 를 121.5 부와, 2 가 알코올로서 리카비놀 HB 를 113.6 부 투입하고, 그 혼합물을 질소 가스 분위기 중에서 교반하면서 130 ℃ 에서 2 시간 반응시켜, 말단 카르복실기 함유 에스테르 화합물을 얻은 후, 이어서 에폭시 수지로서 에포토토 YD-128 을 567.5 부와, 2 관능 페놀 화합물로서 BPF 를 197.4 부와, 촉매로서 히시콜린 BTPPBr 을 0.43 부 투입하고, 150 ℃ 에서 4 시간 교반 혼합하여 에폭시 수지 1 을 얻었다.In a reaction apparatus equipped with a stirrer, a thermometer, a nitrogen blowing tube, and a cooling tube, 121.5 parts of ricaside HH as an acid anhydride and 113.6 parts of ricabinol HB as a dihydric alcohol were added, and the mixture was stirred in a nitrogen gas atmosphere. While reacting at 130 ° C. for 2 hours to obtain a terminal carboxyl group-containing ester compound, then 567.5 parts of Epottoto YD-128 as an epoxy resin, 197.4 parts of BPF as a bifunctional phenol compound, and hysicoline BTPPBr as a catalyst 0.43 parts were injected|thrown-in, it stirred and mixed at 150 degreeC for 4 hours, and the epoxy resin 1 was obtained.

합성예 2 Synthesis Example 2

산 무수물로서 리카시드 HH 를 112.9 부, 2 가 알코올로서 리카비놀 HB 를 105.6 부, 에폭시 수지로서 에포토토 YD-128 을 527.5 부, 2 관능 페놀 화합물로서 BPF 를 254.0 부, 촉매로서 히시콜린 BTPPBr 을 0.47 부 사용한 것 이외에는 합성예 1 과 동일하게 하여 에폭시 수지 2 를 얻었다.112.9 parts of ricaside HH as an acid anhydride, 105.6 parts of ricabinol HB as a dihydric alcohol, 527.5 parts of Epottoto YD-128 as an epoxy resin, 254.0 parts of BPF as a bifunctional phenol compound, and hycicholine BTPPBr as a catalyst Except having used 0.47 parts, it carried out similarly to the synthesis example 1, and obtained the epoxy resin 2.

합성예 3 Synthesis Example 3

교반기, 온도계, 질소 취입관, 및 냉각관을 구비한 반응 장치에, 에폭시 수지로서 셀록사이드 2021P 를 621.8 부와, 2 관능 페놀 화합물로서 BPF 를 131.2 부와 BPA 를 247.0 부와, 촉매로서 TPP 를 0.38 부 투입하고, 150 ℃ 에서 4 시간 교반 혼합하여 에폭시 수지 3 을 얻었다.In a reactor equipped with a stirrer, a thermometer, a nitrogen blowing tube, and a cooling tube, 621.8 parts of Celoxide 2021P as an epoxy resin, 131.2 parts of BPF and 247.0 parts of BPA as a difunctional phenol compound, and 0.38 parts of TPP as a catalyst It was added and stirred and mixed at 150 degreeC for 4 hours, and the epoxy resin 3 was obtained.

합성예 4 Synthesis Example 4

산 무수물로서 리카시드 MH 를 229.9 부, 2 가 알코올로서 리카비놀 HB 를 195.4 부, 에폭시 수지로서 ESF-300 을 574.7 부 사용하고, 2 관능 페놀 화합물을 사용하지 않고, 촉매로서 히시콜린 BTPPBr 을 0.42 부 사용한 것 이외에는 합성예 1 과 동일하게 하여 에폭시 수지 4 를 얻었다.229.9 parts of ricaside MH as an acid anhydride, 195.4 parts of ricabinol HB as a dihydric alcohol, 574.7 parts of ESF-300 as an epoxy resin, without using a bifunctional phenol compound, 0.42 parts of hycicholine BTPPBr as a catalyst Except having used, it carried out similarly to the synthesis example 1, and obtained the epoxy resin 4.

합성예 5 Synthesis Example 5

산 무수물로서 리카시드 HH 를 97.6 부, 2 가 알코올로서 리카비놀 HB 를 79.5 부, 에폭시 수지로서 에포토토 ZX-1658GS 를 502.9 부, 2 관능 페놀 화합물로서 BPF 를 320.0 부, 촉매로서 히시콜린 BTPPBr 을 0.50 부 사용한 것 이외에는 합성예 1 과 동일하게 하여 에폭시 수지 5 를 얻었다.97.6 parts of ricaside HH as an acid anhydride, 79.5 parts of ricabinol HB as a dihydric alcohol, 502.9 parts of Epottoto ZX-1658GS as an epoxy resin, 320.0 parts of BPF as a bifunctional phenol compound, and hycicholine BTPPBr as a catalyst Except having used 0.50 part, it carried out similarly to the synthesis example 1, and obtained the epoxy resin 5.

합성예 6 Synthesis Example 6

산 무수물로서 무수프탈산을 149.2 부, 2 가 알코올로서 리카비놀 HB 를 125.8 부, 에폭시 수지로서 에포토토 ZX-1658GS 를 493.2 부, 2 관능 페놀 화합물로서 BPF 를 230.4 부, 촉매로서 히시콜린 BTPPBr 을 0.51 부 사용한 것 이외에는 합성예 1 과 동일하게 하여 에폭시 수지 6 을 얻었다.149.2 parts of phthalic anhydride as an acid anhydride, 125.8 parts of ricabinol HB as a dihydric alcohol, 493.2 parts of Epottoto ZX-1658GS as an epoxy resin, 230.4 parts of BPF as a difunctional phenol compound, and 0.51 parts of hycicholine BTPPBr as a catalyst Epoxy resin 6 was obtained in the same manner as in Synthesis Example 1 except that it was partially used.

합성예 7 Synthesis Example 7

산 무수물로서 무수프탈산을 131.8 부, 2 가 알코올로서 리카비놀 HB 를 113.4 부, 에폭시 수지로서 에포토토 YD-128 을 493.0 부와 셀록사이드 2021P 를 103.7 부와, 2 관능 페놀 화합물로서 BPA 를 158.1 부, 촉매로서 히시콜린 BTPPBr 을 0.40 부 사용한 것 이외에는 합성예 1 과 동일하게 하여 에폭시 수지 7 을 얻었다.131.8 parts of phthalic anhydride as an acid anhydride, 113.4 parts of ricabinol HB as a dihydric alcohol, 493.0 parts of Epottoto YD-128 as an epoxy resin, 103.7 parts of Celoxide 2021P, and 158.1 parts of BPA as a difunctional phenol compound , Epoxy resin 7 was obtained in the same manner as in Synthesis Example 1 except that 0.40 parts of hycicholine BTPPBr was used as a catalyst.

합성예 8 Synthesis Example 8

에폭시 수지로서 ESF-300 을 334.5 부와 셀록사이드 2021P 를 353.3 부와, 2 관능 페놀 화합물로서 BPA 를 312.2 부, 촉매로서 히시콜린 BTPPBr 을 0.31 부 사용한 것 이외에는 합성예 3 과 동일하게 하여 에폭시 수지 8 을 얻었다.ESF-300 was used in the same manner as in Synthesis Example 3 except that 334.5 parts of ESF-300 and 353.3 parts of Celoxide 2021P were used, 312.2 parts of BPA was used as a difunctional phenol compound, and 0.31 parts of hycicholine BTPPBr was used as a catalyst. got it

합성예 9 Synthesis Example 9

산 무수물로서 리카시드 HH 를 95.9 부, 2 가 알코올로서 SPG 를 106.5 부, 에폭시 수지로서 에포토토 YD-128 을 569.3 부, 2 관능 페놀 화합물로서 BPF 를 228.3 부, 촉매로서 히시콜린 BTPPBr 을 0.43 부 사용한 것 이외에는 합성예 1 과 동일하게 하여 에폭시 수지 9 를 얻었다.95.9 parts of lycaside HH as an acid anhydride, 106.5 parts of SPG as a dihydric alcohol, 569.3 parts of Epottoto YD-128 as an epoxy resin, 228.3 parts of BPF as a difunctional phenol compound, and 0.43 parts of hycicholine BTPPBr as a catalyst Except having used, it carried out similarly to the synthesis example 1, and obtained the epoxy resin 9.

합성예 10 Synthesis Example 10

에폭시 수지로서 에포토토 YD-128 을 698.0 부와 2 관능 페놀 화합물로서 BPA 를 302.0 부, 촉매로서 큐어졸 2E4MZ 를 0.03 부 사용한 것 이외에는 합성예 3 과 동일하게 하여 에폭시 수지 10 을 얻었다.An epoxy resin 10 was obtained in the same manner as in Synthesis Example 3 except that 698.0 parts of Epottoto YD-128 as an epoxy resin, 302.0 parts of BPA as a bifunctional phenol compound, and 0.03 parts of Curesol 2E4MZ as a catalyst were used.

합성예 11 Synthesis Example 11

에폭시 수지로서 에포토토 YD-128 을 641.0 부와 2 관능 페놀 화합물로서 BPF 를 386.0 부, 촉매로서 TPP 를 0.39 부 사용한 것 이외에는 합성예 3 과 동일하게 하여 에폭시 수지 11 을 얻었다.An epoxy resin 11 was obtained in the same manner as in Synthesis Example 3 except that 641.0 parts of Epottoto YD-128 as an epoxy resin, 386.0 parts of BPF as a bifunctional phenol compound, and 0.39 parts of TPP as a catalyst were used.

합성예 12 Synthesis Example 12

산 무수물로서 무수프탈산을 189.6 부, 2 가 알코올로서 HDL 을 369.6 부, 에폭시 수지로서 에포토토 YD-128 을 440.8 부 사용하고, 2 관능 페놀 화합물을 사용하지 않고, 촉매로서 히시콜린 BTPPBr 을 0.56 부 사용한 것 이외에는 합성예 1 과 동일하게 하여 에폭시 수지 12 를 얻었다.189.6 parts of phthalic anhydride as an acid anhydride, 369.6 parts of HDL as a dihydric alcohol, 440.8 parts of Epottoto YD-128 as an epoxy resin, without using a bifunctional phenol compound, 0.56 parts of hycicholine BTPPBr as a catalyst Except having used, it carried out similarly to the synthesis example 1, and obtained the epoxy resin 12.

합성예 13 Synthesis Example 13

산 무수물로서 리카시드 HH 를 64.0 부, 2 가 알코올로서 리카비놀 HB 를 59.7 부, 에폭시 수지로서 에포토토 YD-128 을 594.8 부, 2 관능 페놀 화합물로서 BPF 를 281.5 부, 촉매로서 히시콜린 BTPPBr 을 0.41 부 사용한 것 이외에는 합성예 1 과 동일하게 하여 에폭시 수지 13 을 얻었다.64.0 parts of ricaside HH as an acid anhydride, 59.7 parts of ricabinol HB as a dihydric alcohol, 594.8 parts of epottoto YD-128 as an epoxy resin, 281.5 parts of BPF as a bifunctional phenol compound, and hycicholine BTPPBr as a catalyst Except having used 0.41 part, it carried out similarly to the synthesis example 1, and obtained the epoxy resin 13.

합성예 14 Synthesis Example 14

에폭시 수지로서 셀록사이드 2021P 를 508.9 부와 2 관능 페놀 화합물로서 BPF 를 491.1 부, 촉매로서 TPP 를 0.49 부 사용한 것 이외에는 합성예 3 과 동일하게 하여 에폭시 수지 14 를 얻었다.An epoxy resin 14 was obtained in the same manner as in Synthesis Example 3 except that 508.9 parts of Celoxide 2021P as an epoxy resin, 491.1 parts of BPF as a bifunctional phenol compound, and 0.49 parts of TPP as a catalyst were used.

합성예 15 Synthesis Example 15

산 무수물로서 리카시드 HH 를 220.2 부, 2 가 알코올로서 리카비놀 HB 를 205.4 부, 에폭시 수지로서 셀록사이드 2021P 를 464.4 부, 2 관능 페놀 화합물로서 BPA 를 110.0 부, 촉매로서 히시콜린 BTPPBr 을 0.54 부 사용한 것 이외에는 합성예 1 과 동일하게 하여 에폭시 수지 15 를 얻었다.220.2 parts of ricaside HH as an acid anhydride, 205.4 parts of ricabinol HB as a dihydric alcohol, 464.4 parts of Celoxide 2021P as an epoxy resin, 110.0 parts of BPA as a difunctional phenol compound, and 0.54 parts of hycicholine BTPPBr as a catalyst. Except for that, it carried out similarly to the synthesis example 1, and obtained the epoxy resin 15.

합성예 16 Synthesis Example 16

산 무수물로서 리카시드 HH 를 302.7 부, 2 가 알코올로서 리카비놀 HB 를 282.4 부, 에폭시 수지로서 셀록사이드 2021P 를 414.9 부 사용하고, 2 관능 페놀 화합물을 사용하지 않고, 촉매로서 히시콜린 BTPPBr 을 0.59 부 사용한 것 이외에는 합성예 1 과 동일하게 하여 에폭시 수지 16 을 얻었다.302.7 parts of ricaside HH as an acid anhydride, 282.4 parts of ricabinol HB as a dihydric alcohol, 414.9 parts of Celoxide 2021P as an epoxy resin, 0.59 parts of hycicholine BTPPBr as a catalyst without using a bifunctional phenol compound Except having used, it carried out similarly to the synthesis example 1, and obtained the epoxy resin 16.

합성예 17 Synthesis Example 17

산 무수물로서 리카시드 HH 를 275.0 부, 2 가 알코올로서 리카비놀 HB 를 256.2 부, 에폭시 수지로서 에포토토 ZX-1658GS 를 468.8 부 사용하고, 2 관능 페놀 화합물을 사용하지 않고, 촉매로서 히시콜린 BTPPBr 을 0.53 부 사용한 것 이외에는 합성예 1 과 동일하게 하여 에폭시 수지 17 을 얻었다.275.0 parts of licaside HH as an acid anhydride, 256.2 parts of ricabinol HB as a dihydric alcohol, 468.8 parts of Epottoto ZX-1658GS as an epoxy resin, without using a bifunctional phenol compound, hycicholine BTPPBr as a catalyst An epoxy resin 17 was obtained in the same manner as in Synthesis Example 1 except that 0.53 parts of was used.

합성예 18 Synthesis Example 18

산 무수물로서 리카시드 HH 를 248.0 부, 2 가 알코올로서 리카비놀 HB 를 229.0 부, 에폭시 수지로서 에포토토 YD-128 을 523.0 부, 2 관능 페놀 화합물을 사용하지 않고, 촉매로서 히시콜린 BTPPBr 을 0.48 부 사용한 것 이외에는 합성예 1 과 동일하게 하여 에폭시 수지 18 을 얻었다.248.0 parts of licaside HH as an acid anhydride, 229.0 parts of ricabinol HB as a dihydric alcohol, 523.0 parts of Epottoto YD-128 as an epoxy resin, and 0.48 parts of hycicholine BTPPBr as a catalyst without using a bifunctional phenol compound Epoxy resin 18 was obtained in the same manner as in Synthesis Example 1 except that it was partially used.

합성예 19 Synthesis Example 19

산 무수물로서 리카시드 HH 를 140.0 부, 2 가 알코올로서 리카비놀 HB 를 120.0 부, 에폭시 수지로서 에포토토 YD-128 을 195.0 부와 ESF-300 을 545.0 부, 2 관능 페놀 화합물을 사용하지 않고, 촉매로서 히시콜린 BTPPBr 을 0.30 부 사용한 것 이외에는 합성예 1 과 동일하게 하여 에폭시 수지 19 를 얻었다.140.0 parts of ricaside HH as an acid anhydride, 120.0 parts of ricabinol HB as a dihydric alcohol, 195.0 parts of Epottoto YD-128 and 545.0 parts of ESF-300 as an epoxy resin, without using a difunctional phenol compound, Epoxy resin 19 was obtained in the same manner as in Synthesis Example 1 except that 0.30 parts of hycicholine BTPPBr was used as a catalyst.

합성예 20 Synthesis Example 20

산 무수물로서 리카시드 HH 를 127.9 부, 2 가 알코올로서 리카비놀 HB 를 100.6 부, 에폭시 수지로서 에포토토 YD-128 을 527.5 부, 2 관능 페놀 화합물로서 BPF 를 254.0 부, 촉매로서 히시콜린 BTPPBr 을 0.47 부 사용한 것 이외에는 합성예 1 과 동일하게 하여 에폭시 수지 20 을 얻었다.127.9 parts of ricaside HH as an acid anhydride, 100.6 parts of ricabinol HB as a dihydric alcohol, 527.5 parts of Epottoto YD-128 as an epoxy resin, 254.0 parts of BPF as a difunctional phenol compound, and hycicholine BTPPBr as a catalyst Except having used 0.47 parts, it carried out similarly to the synthesis example 1, and obtained the epoxy resin 20.

얻어진 에폭시 수지 1 ∼ 20 의 성상을 표 1 ∼ 2 에 나타내었다.The properties of the obtained epoxy resins 1 to 20 are shown in Tables 1-2.

Figure 112014120483018-pat00001
Figure 112014120483018-pat00001

Figure 112014120483018-pat00002
Figure 112014120483018-pat00002

실시예 1 Example 1

에폭시 수지로서 합성예 1 에서 얻어진 에폭시 수지 1 100 부와 경화제로서 리카시드 HH 15 부를, 용제로서의 테트라하이드로푸란 75 부에 용해한 후, 경화 촉진제로서 히시콜린 PX-4ET (유기 포스포늄염 화합물, 닛폰 화학 공업 주식회사 제조) 0.25 부를 혼합하여 액상 조성물로 하였다.After dissolving 100 parts of the epoxy resin 1 obtained in Synthesis Example 1 as an epoxy resin and 15 parts of licaside HH as a curing agent in 75 parts of tetrahydrofuran as a solvent, hysicolin PX-4ET (organophosphonium salt compound, Nippon Chemicals) as a curing accelerator (manufactured by Kogyo Co., Ltd.) 0.25 parts was mixed to obtain a liquid composition.

0.2 mm 두께의 유리판에 건조 후 필름으로서 100 ㎛ 가 되도록 액상 조성물을 도포하고, 100 ℃ 의 열풍 순환 오븐에 2 시간 동안 건조시킨 후에, 140 ℃ 의 열풍 순환 오븐에서 10 시간 경화시켜, 유리판이 부착된 시험편을 얻었다. 얻어진 유리판 부착 시험편을 그대로 이용하여 내열 황변성과 내자외선 변색성과 투과도를 측정하였다.After drying, the liquid composition was coated on a 0.2 mm thick glass plate to a thickness of 100 μm as a film, dried in a hot air circulation oven at 100 ° C. for 2 hours, and cured in a hot air circulation oven at 140 ° C. for 10 hours, and the glass plate was attached A test piece was obtained. Heat yellowing resistance, ultraviolet ray discoloration resistance, and transmittance were measured using the obtained test piece with a glass plate as it is.

실시예 2 ∼ 10 Examples 2 to 10

에폭시 수지로서 합성예 2 ∼ 9 에서 얻어진 에폭시 수지 2 ∼ 9 를 100 부와 표 3 에 나타내는 경화제를 사용해서, 실시예 1 과 동일하게 하여 시험편을 제작하고, 평가를 실시하였다.Using 100 parts of epoxy resins 2-9 obtained by Synthesis Examples 2-9 as an epoxy resin, and the hardening|curing agent shown in Table 3, it carried out similarly to Example 1, the test piece was produced, and it evaluated.

에폭시 수지, 경화제의 종류와, 경화제의 사용량을 표 3 에 나타낸다. 평가 결과를 표 5 에 나타낸다. 표 3 에 있어서, HH 는 리카시드 HH 이고, PA 는 무수프탈산이다.Table 3 shows the epoxy resin, the type of curing agent, and the amount of the curing agent used. Table 5 shows the evaluation results. In Table 3, HH is licacid HH, and PA is phthalic anhydride.

Figure 112014120483018-pat00003
Figure 112014120483018-pat00003

비교예 1 ∼ 12 Comparative Examples 1 to 12

에폭시 수지로서 합성예 10 ∼ 20 에서 얻어진 수지 10 ∼ 20 을 100 부와, 표 4 에 나타내는 경화제를 사용해서, 실시예 1 과 동일하게 하여 시험편을 제작하고, 평가를 실시하였다.Using 100 parts of resins 10-20 obtained in Synthesis Examples 10-20 as an epoxy resin, and the hardening|curing agent shown in Table 4, it carried out similarly to Example 1, the test piece was produced, and it evaluated.

에폭시 수지, 경화제의 종류와, 경화제의 사용량을 표 4 에 나타낸다. 평가 결과를 표 6 에 나타낸다.Table 4 shows the epoxy resin, the type of curing agent, and the amount of the curing agent used. Table 6 shows the evaluation results.

Figure 112014120483018-pat00004
Figure 112014120483018-pat00004

Figure 112014120483018-pat00005
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Figure 112014120483018-pat00006
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Claims (16)

에폭시 수지 (a) 와 경화제 (b) 를 함유하는 광학용 에폭시 수지 조성물에 있어서, 그 에폭시 수지 (a) 는, 연화점이 80 ∼ 150 ℃ 이고, 20 ℃, 파장 589.3 ㎚ 에서의 굴절률 (nD 20) 이 1.55 ∼ 1.63 이고, 방향족 고리와 지방족 고리를 동시에 분자 구조 중에 가지며, 또한 1H-NMR 스펙트럼에 있어서의 지방족 프로톤 (A) 와 방향족 프로톤 (B) 의 강도비 (B/A) 가 0.3 ∼ 0.7 인 것, 또한 그 에폭시 수지 (a) 가, 말단 카르복실기의 지방족 고리 함유 에스테르 화합물 (c) 와 2 관능 방향족 에폭시 수지 (e1) 의 반응에서 얻어진 에폭시 당량이 1030 ∼ 2000 g/eq 의 에폭시 수지이거나, 또는 2 가 페놀 화합물 (d) 와 2 관능의 지방족 고리 함유 에폭시 수지 (e2) 의 반응에서 얻어진 에폭시 당량이 500 ∼ 2000 g/eq 의 에폭시 수지인 것을 특징으로 하는 광학용 에폭시 수지 조성물.The epoxy resin composition for optics containing an epoxy resin (a) and a hardening|curing agent (b) WHEREIN: The epoxy resin (a) has a softening point of 80-150 degreeC, and the refractive index in 20 degreeC and wavelength 589.3nm (n D 20) ) is 1.55 to 1.63, has an aromatic ring and an aliphatic ring in the molecular structure at the same time, and the intensity ratio (B/A) of the aliphatic proton (A) to the aromatic proton (B) in the 1H-NMR spectrum is 0.3 to 0.7 In addition, the epoxy resin (a) is an epoxy resin having an epoxy equivalent of 1030 to 2000 g/eq obtained by the reaction of the ester compound (c) containing an aliphatic ring having a terminal carboxyl group and the bifunctional aromatic epoxy resin (e1), or an epoxy resin having an epoxy equivalent obtained by reaction of a dihydric phenol compound (d) and a bifunctional aliphatic ring-containing epoxy resin (e2) of 500 to 2000 g/eq. 제 1 항에 있어서,
에폭시 수지 (a) 가 말단 카르복실기의 지방족 고리 함유 에스테르 화합물 (c) 와 2 관능 방향족 에폭시 수지 (e1) 의 반응에서 얻어지는 에폭시 수지인 광학용 에폭시 수지 조성물.
The method of claim 1,
The epoxy resin composition for optics in which an epoxy resin (a) is an epoxy resin obtained by reaction of the ester compound (c) containing an aliphatic ring of a terminal carboxyl group, and a bifunctional aromatic epoxy resin (e1).
제 2 항에 있어서,
말단 카르복실기의 지방족 고리 함유 에스테르 화합물 (c) 가 지방족 고리 함유 2 가 알코올과 산 무수물, 2 가 알코올과 지방족 고리 함유 산 무수물, 또는 지방족 고리 함유 2 가 알코올과 지방족 고리 함유 산 무수물의 반응에서 얻어진 말단 카르복실기의 지방족 고리 함유 에스테르 화합물인 광학용 에폭시 수지 조성물.
3. The method of claim 2,
A terminal obtained by reacting an aliphatic ring-containing ester compound (c) with an aliphatic ring-containing dihydric alcohol and an acid anhydride, a dihydric alcohol and an aliphatic ring-containing acid anhydride, or an aliphatic ring-containing dihydric alcohol with an aliphatic ring-containing acid anhydride An optical epoxy resin composition which is an ester compound containing an aliphatic ring of a carboxyl group.
제 1 항에 있어서,
2 가 페놀 화합물 (d) 가 플루오렌 고리 함유 페놀 화합물인 광학용 에폭시 수지 조성물.
The method of claim 1,
The epoxy resin composition for optics in which the dihydric phenol compound (d) is a fluorene ring containing phenol compound.
제 2 항에 있어서,
2 관능 방향족 에폭시 수지 (e1) 이 플루오렌 고리 함유 2 관능 방향족 에폭시 수지인 광학용 에폭시 수지 조성물.
3. The method of claim 2,
The epoxy resin composition for optics whose bifunctional aromatic epoxy resin (e1) is a fluorene ring containing bifunctional aromatic epoxy resin.
제 1 항에 있어서,
2 관능의 지방족 고리 함유 에폭시 수지 (e2) 가 2 관능의 지환식 에폭시 수지인 광학용 에폭시 수지 조성물.
The method of claim 1,
The epoxy resin composition for optics whose bifunctional aliphatic ring containing epoxy resin (e2) is a bifunctional alicyclic epoxy resin.
제 1 항에 있어서,
에폭시 수지 (a) 의 에폭시기 1 몰에 대하여, 경화제 (b) 의 활성 수소기가 0.4 ∼ 1.2 몰의 범위인 광학용 에폭시 수지 조성물.
The method of claim 1,
The epoxy resin composition for optics in which the active hydrogen group of the hardening|curing agent (b) is the range of 0.4-1.2 mol with respect to 1 mol of the epoxy groups of the epoxy resin (a).
제 1 항 내지 제 7 항 중 어느 한 항에 있어서,
필름상 접착제용 에폭시 수지 조성물인 광학용 에폭시 수지 조성물.
8. The method according to any one of claims 1 to 7,
An epoxy resin composition for optics which is an epoxy resin composition for film adhesives.
제 1 항 내지 제 7 항 중 어느 한 항에 있어서,
컬러 필터 보호막용 에폭시 수지 조성물인 광학용 에폭시 수지 조성물.
8. The method according to any one of claims 1 to 7,
An epoxy resin composition for optics, which is an epoxy resin composition for a color filter protective film.
제 1 항 내지 제 7 항 중 어느 한 항에 있어서,
광 반도체 기판용 표면 보호막용 에폭시 수지 조성물인 광학용 에폭시 수지 조성물.
8. The method according to any one of claims 1 to 7,
An epoxy resin composition for optics which is an epoxy resin composition for surface protective films for optical semiconductor substrates.
제 1 항 내지 제 7 항 중 어느 한 항에 기재된 광학용 에폭시 수지 조성물을 경화시켜 얻어지는 에폭시 수지 경화물.An epoxy resin cured product obtained by curing the optical epoxy resin composition according to any one of claims 1 to 7. 제 8 항에 기재된 에폭시 수지 조성물을 사용하여 얻어지는 필름상 접착제.The film adhesive obtained using the epoxy resin composition of Claim 8. 제 9 항에 기재된 에폭시 수지 조성물을 사용하여 얻어지는 컬러 필터용 보호막.The protective film for color filters obtained using the epoxy resin composition of Claim 9. 제 1 항 내지 제 7 항 중 어느 한 항에 기재된 광학용 에폭시 수지 조성물을 사용하여 얻어지는 광 반도체용 밀봉재.The sealing material for optical semiconductors obtained using the epoxy resin composition for optics in any one of Claims 1-7. 제 1 항 내지 제 7 항 중 어느 한 항에 기재된 광학용 에폭시 수지 조성물을 사용하여 얻어지는 광 반도체용 기판.The board|substrate for optical semiconductors obtained using the epoxy resin composition for optics in any one of Claims 1-7. 제 10 항에 기재된 에폭시 수지 조성물을 사용하여 얻어지는 광 반도체 기판용 표면 보호막.The surface protective film for optical semiconductor substrates obtained using the epoxy resin composition of Claim 10.
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