KR102258673B1 - Organic Light Emitting Device and Method of manufacturing the same and Organic Light Emitting Display Device using the same - Google Patents

Organic Light Emitting Device and Method of manufacturing the same and Organic Light Emitting Display Device using the same Download PDF

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Abstract

본 발명은 용액 공정으로 형성된 발광층과 증착 공정으로 형성된 청색 공통층 사이의 계면 특성과 에너지 레벨 차이를 개선하여 효율 및 수명이 개선된 유기 발광 소자와 그 제조 방법 및 그를 이용한 유기 발광 디스플레이 장치를 제공하는 것으로, 본 발명에 따른 유기 발광 소자는 적색 화소, 녹색 화소 및 청색 화소를 포함하고, 상기 적색 화소 및 녹색 화소는 양극과 음극 사이에 차례로 구비된 발광층, 계면층, 청색 공통층 및 전자 수송층을 포함하고, 상기 계면층은 상기 발광층의 호스트 물질과 전자 수송 능력이 있는 유기물을 포함할 수 있다.The present invention provides an organic light emitting device with improved efficiency and life by improving the interface characteristics and energy level difference between the light emitting layer formed by a solution process and the blue common layer formed by the deposition process, and an organic light emitting display device using the same. The organic light-emitting device according to the present invention includes a red pixel, a green pixel, and a blue pixel, and the red and green pixels include an emission layer, an interface layer, a blue common layer, and an electron transport layer sequentially provided between an anode and a cathode. In addition, the interface layer may include a host material of the emission layer and an organic material capable of transporting electrons.

Description

유기 발광 소자와 그 제조 방법 및 그를 이용한 유기 발광 디스플레이 장치{Organic Light Emitting Device and Method of manufacturing the same and Organic Light Emitting Display Device using the same}An organic light emitting device, a manufacturing method thereof, and an organic light emitting display device using the same

본 발명은 유기 발광 소자에 관한 것으로서, 보다 구체적으로는 효율 및 수명을 개선시킨 유기 발광 소자 및 그 제조 방법에 관한 것이다.The present invention relates to an organic light-emitting device, and more particularly, to an organic light-emitting device with improved efficiency and lifetime, and a method of manufacturing the same.

유기 발광 소자는 전자(electron)를 주입하는 음극(cathode)과 정공(hole)을 주입하는 양극(anode) 사이에 발광층이 형성된 구조를 가지며, 음극에서 발생된 전자 및 양극에서 발생된 정공이 발광층 내부로 주입되면 주입된 전자 및 정공이 결합하여 액시톤(exciton)이 생성되고, 생성된 액시톤이 여기상태(excited state)에서 기저상태(ground state)로 떨어지면서 발광을 하는 소자이다.The organic light-emitting device has a structure in which an emission layer is formed between a cathode injecting electrons and an anode injecting holes, and electrons generated at the cathode and holes generated at the anode are inside the emission layer. When injected into, the injected electrons and holes are combined to generate excitons, and the generated excitons fall from an excited state to a ground state to emit light.

이하, 도면을 참조로 종래 유기 발광 소자에 대해서 설명하기로 한다. Hereinafter, a conventional organic light-emitting device will be described with reference to the drawings.

도 1은 종래의 일 실시예에 따른 유기 발광 소자의 개략적인 단면도이다.1 is a schematic cross-sectional view of an organic light-emitting device according to an exemplary embodiment.

도 1에서 알 수 있듯이, 종래의 일 실시예에 따른 유기 발광 소자는, 기판(1), 및 상기 기판(1) 상에 형성된 적색(R) 화소, 녹색(G) 화소, 및 청색(B) 화소를 포함하여 이루어진다.As can be seen from FIG. 1, an organic light emitting device according to a conventional exemplary embodiment includes a substrate 1 and a red (R) pixel, a green (G) pixel, and a blue (B) pixel formed on the substrate 1. It includes a pixel.

상기 적색(R) 화소 및 녹색(G) 화소는 서로 동일한 패턴으로 형성되어 있고, 상기 청색(B) 화소는 상기 적색(R) 화소 및 녹색(G) 화소와 상이한 패턴으로 형성되어 있다.The red (R) and green (G) pixels are formed in the same pattern, and the blue (B) pixel is formed in a different pattern from the red (R) and green (G) pixels.

구체적으로, 상기 적색(R) 화소 및 녹색(G) 화소는 차례로 적층된 양극(Anode), 정공 주입층(Hole Injecting Layer: HIL), 정공 수송층(Hole Transporting Layer: HTL), 발광층(Emitting Layer: EML), 청색 공통층(Blue Common Layer: BCL), 전자 수송층(Electron Transporting Layer: ETL), 전자 주입층(Electron Injecting Layer: EIL), 및 음극(Cathode)을 포함하여 이루어진다.Specifically, the red (R) pixel and the green (G) pixel are sequentially stacked anode (Anode), a hole injection layer (HIL), a hole transport layer (HTL), an emitting layer (Emitting Layer: EML), a blue common layer (BCL), an electron transporting layer (ETL), an electron injecting layer (EIL), and a cathode.

반면에, 상기 청색(B) 화소는 차례로 적층된 양극(Anode), 정공 주입층(HIL), 정공 수송층(HTL), 청색 공통층(Blue Common Layer: BCL), 전자 수송층(ETL), 전자 주입층(EIL), 및 음극(Cathode)을 포함하여 이루어진다.On the other hand, the blue (B) pixel has an anode, a hole injection layer (HIL), a hole transport layer (HTL), a blue common layer (BCL), an electron transport layer (ETL), and electron injection that are sequentially stacked. It comprises a layer (EIL), and a cathode (Cathode).

상기 정공 주입층(HIL), 정공 수송층(HTL), 적색(R) 화소의 발광층(EML), 및 녹색(G) 화소의 발광층(EML)은 용액 공정(soluble process)으로 형성하고, 상기 청색 공통층(Blue Common Layer: BCL), 전자 수송층(ETL), 및 전자 주입층(EIL)은 증착 공정(evaporation process)으로 형성한다.The hole injection layer (HIL), the hole transport layer (HTL), the emission layer (EML) of the red (R) pixel, and the emission layer (EML) of the green (G) pixel are formed by a soluble process, and the blue color is common. The layer (Blue Common Layer: BCL), the electron transport layer (ETL), and the electron injection layer (EIL) are formed by an evaporation process.

그러나, 이와 같은 종래의 유기 발광 소자는 다음과 같은 문제점이 있다.However, such a conventional organic light emitting device has the following problems.

용액 공정으로 형성된 발광층(EML)과 증착 공정으로 형성된 청색 공통층(BCL) 사이에는 계면 특성 및 에너지 레벨(energy level) 차이로 인해 청색(B) 화소에서의 소자 특성이 매우 저하되는 문제점이 있다. 즉, 상기 정공 수송층(HTL)과 청색 공통층(BCL)의 공정 재료상의 에너지 레벨 차이로 인해 상기 청색 공통층(BCL)로 정공(hole) 주입이 원활히 이루어지지 않아 상기 정공 수송층(HTL)에서 전자 및 정공이 결합하여 액시톤(exciton)이 생성되므로 소자 효율이 떨어지게 된다.There is a problem in that device characteristics in the blue (B) pixel are very deteriorated due to differences in interface characteristics and energy levels between the light emitting layer EML formed by a solution process and the blue common layer BCL formed by a deposition process. That is, due to the difference in energy level between the hole transport layer (HTL) and the blue common layer (BCL), holes are not smoothly injected into the blue common layer (BCL), and thus electrons from the hole transport layer (HTL) And holes are combined to generate excitons, so device efficiency is degraded.

본 발명은 전술한 문제점을 해결하고자 안출된 것으로, 용액 공정으로 형성된 발광층과 증착 공정으로 형성된 청색 공통층 사이의 계면 특성과 에너지 레벨 차이를 개선하여 효율 및 수명이 개선된 유기 발광 소자와 그 제조 방법 및 그를 이용한 유기 발광 디스플레이 장치를 제공하는 것을 기술적 과제로 한다.The present invention was conceived to solve the above-described problems, and an organic light emitting device having improved efficiency and life by improving the difference in energy level and interface characteristics between the light emitting layer formed by the solution process and the blue common layer formed by the deposition process, and a method of manufacturing the same And it is a technical problem to provide an organic light emitting display device using the same.

전술한 기술적 과제를 달성하기 위해서, 본 발명은 적색 화소, 녹색 화소 및 청색 화소를 포함하고, 상기 적색 화소 및 녹색 화소는 양극과 음극 사이에 차례로 구비된 발광층, 계면층, 청색 공통층 및 전자 수송층을 포함하고, 상기 계면층은 상기 발광층의 호스트 물질과 전자 수송 능력이 있는 유기물을 포함하는 유기 발광 소자를 제공한다.In order to achieve the above-described technical problem, the present invention includes a red pixel, a green pixel, and a blue pixel, and the red pixel and the green pixel are a light emitting layer, an interface layer, a blue common layer, and an electron transport layer which are sequentially provided between an anode and a cathode. Including, the interface layer provides an organic light-emitting device comprising a host material of the emission layer and an organic material having electron transport capability.

본 발명은 또한 적색 화소, 녹색 화소 및 청색 화소 각각에 정공 수송층을 형성하는 공정과 상기 적색 화소에 형성된 정공 수송층 상에 적색 발광층을 형성함과 더불어 상기 녹색 화소에 형성된 정공 수송층 상에 녹색 발광층을 형성하는 공정과 상기 적색 화소, 녹색 화소 및 청색 화소 각각에 계면층을 형성하는 공정과 상기 적색 화소, 녹색 화소 및 청색 화소 각각에 청색 공통층을 형성하는 공정 및 상기 적색 화소, 녹색 화소 및 청색 화소 각각에 전자 수송층을 형성하는 공정을 포함하고, 상기 계면층은 상기 발광층의 호스트 물질과 전자 수송 능력이 있는 유기물을 이용하여 형성하는 유기 발광 소자의 제조 방법을 제공한다.The present invention also provides a process of forming a hole transport layer on each of a red pixel, a green pixel, and a blue pixel, forming a red emission layer on the hole transport layer formed on the red pixel, and forming a green emission layer on the hole transport layer formed on the green pixel. A process of forming an interface layer on each of the red, green, and blue pixels, a process of forming a blue common layer on each of the red, green, and blue pixels, and the red, green, and blue pixels, respectively A method of manufacturing an organic light-emitting device comprising a step of forming an electron transport layer in, wherein the interface layer is formed by using a host material of the emission layer and an organic material having electron transport capability.

본 발명은 또한 기판, 상기 기판 상에 구비된 박막 트랜지스터, 및 상기 박막 트랜지스터에 의해 발광이 제어되는 유기 발광 소자를 포함하는 유기 발광 디스플레이 장치를 제공한다.The present invention also provides an organic light emitting display device including a substrate, a thin film transistor provided on the substrate, and an organic light emitting device in which light emission is controlled by the thin film transistor.

본 발명에 따르면, 용액 공정으로 형성된 적색 화소 및 녹색 화소의 발광층과 증착 공정으로 형성된 청색 공통층 사이에 발광층의 호스트 물질과 전자 수송 능력이 있는 유기물을 포함하는 계면층을 형성함으로써, 계면 특성과 에너지 레벨 차이를 개선하여 소자의 효율 및 수명을 향상시킨다.According to the present invention, by forming an interface layer including a host material of the emission layer and an organic material having electron transport capability between the emission layer of the red pixel and the green pixel formed by the solution process and the blue common layer formed by the deposition process, the interface characteristics and energy By improving the level difference, it improves the efficiency and life of the device.

위에서 언급된 본 발명의 효과 외에도, 본 발명의 다른 특징 및 이점들이 이하에서 기술되거나, 그러한 기술 및 설명으로부터 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 명확하게 이해될 수 있을 것이다.In addition to the effects of the present invention mentioned above, other features and advantages of the present invention will be described below or will be clearly understood by those of ordinary skill in the art from such technology and description.

도 1은 종래의 일 실시예에 따른 유기 발광 소자의 개략적인 단면도이다.
도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 유기 발광 소자의 개략적인 단면도이다.
도 3a 내지 도 3d는 본 발명의 일 실시예에 따른 유기 발광 소자의 개략적인 제조 공정 단면도이다.
도 4는 본 발명에 따른 유기 발광 소자의 스펙트럼(spectrum)을 보여주는 그래프이다.
도 5는 본 발명의 일 실시예에 따른 유기 발광 디스플레이 장치의 개략적인 단면도이다.
1 is a schematic cross-sectional view of an organic light-emitting device according to an exemplary embodiment.
2 is a schematic cross-sectional view of an organic light-emitting device according to an embodiment of the present invention.
3A to 3D are schematic cross-sectional views of a manufacturing process of an organic light-emitting device according to an embodiment of the present invention.
4 is a graph showing a spectrum of an organic light-emitting device according to the present invention.
5 is a schematic cross-sectional view of an organic light emitting display device according to an exemplary embodiment of the present invention.

본 발명의 이점 및 특징, 그리고 그것들을 달성하는 방법은 첨부되는 도면과 함께 상세하게 후술되어 있는 실시예들을 참조하면 명확해질 것이다. 그러나 본 발명은 이하에서 개시되는 실시예들에 한정되는 것이 아니라 서로 다른 다양한 형태로 구현될 것이며, 단지 본 실시예들은 본 발명의 개시가 완전하도록 하며, 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 발명의 범주를 완전하게 알려주기 위해 제공되는 것이며, 본 발명은 청구항의 범주에 의해 정의될 뿐이다. Advantages and features of the present invention, and a method of achieving them will become apparent with reference to the embodiments described below in detail together with the accompanying drawings. However, the present invention is not limited to the embodiments disclosed below, but will be implemented in a variety of different forms, and only these embodiments make the disclosure of the present invention complete, and the general knowledge in the technical field to which the present invention pertains. It is provided to completely inform the scope of the invention to the possessor, and the invention is only defined by the scope of the claims.

본 발명의 실시예를 설명하기 위한 도면에 개시된 형상, 크기, 비율, 각도, 개수 등은 예시적인 것이므로 본 발명이 도시된 사항에 한정되는 것은 아니다. 명세서 전체에 걸쳐 동일 참조 부호는 동일 구성 요소를 지칭한다. 또한, 본 발명을 설명함에 있어서, 관련된 공지 기술에 대한 구체적인 설명이 본 발명의 요지를 불필요하게 흐릴 수 있다고 판단되는 경우 그 상세한 설명은 생략한다. 본 명세서 상에서 언급한 '포함한다', '갖는다', '이루어진다' 등이 사용되는 경우 '~만'이 사용되지 않는 이상 다른 부분이 추가될 수 있다. 구성 요소를 단수로 표현한 경우에 특별히 명시적인 기재 사항이 없는 한 복수를 포함하는 경우를 포함한다.The shapes, sizes, ratios, angles, numbers, etc. disclosed in the drawings for explaining the embodiments of the present invention are exemplary, and thus the present invention is not limited to the illustrated matters. The same reference numerals refer to the same elements throughout the specification. In addition, in describing the present invention, when it is determined that a detailed description of related known technologies may unnecessarily obscure the subject matter of the present invention, the detailed description thereof will be omitted. When'include','have', and'consist of' mentioned in the present specification are used, other parts may be added unless'only' is used. In the case of expressing the constituent elements in the singular, it includes the case of including the plural unless specifically stated otherwise.

구성 요소를 해석함에 있어서, 별도의 명시적 기재가 없더라도 오차 범위를 포함하는 것으로 해석한다.In interpreting the constituent elements, it is interpreted as including an error range even if there is no explicit description.

위치 관계에 대한 설명일 경우, 예를 들어, '~상에', '~상부에', '~하부에', '~옆에' 등으로 두 부분의 위치 관계가 설명되는 경우, '바로' 또는 '직접'이 사용되지 않는 이상 두 부분 사이에 하나 이상의 다른 부분이 위치할 수도 있다.In the case of a description of the positional relationship, for example, if the positional relationship of two parts is described as'upper','upper of','lower of','next to','right' Or, unless'direct' is used, one or more other parts may be located between the two parts.

시간 관계에 대한 설명일 경우, 예를 들어, '~후에', '~에 이어서', '~다음에', '~전에' 등으로 시간적 선후 관계가 설명되는 경우, '바로' 또는 '직접'이 사용되지 않는 이상 연속적이지 않은 경우도 포함할 수 있다.In the case of a description of a temporal relationship, for example, when a temporal predecessor relationship is described as'after','following','after','before', etc.,'right' or'direct' It may also include cases that are not continuous unless this is used.

제1, 제2 등이 다양한 구성요소들을 서술하기 위해서 사용되나, 이들 구성요소들은 이들 용어에 의해 제한되지 않는다. 이들 용어들은 단지 하나의 구성 요소를 다른 구성요소와 구별하기 위하여 사용하는 것이다. 따라서, 이하에서 언급되는 제1 구성요소는 본 발명의 기술적 사상 내에서 제2 구성요소일 수도 있다.First, second, etc. are used to describe various elements, but these elements are not limited by these terms. These terms are only used to distinguish one component from another component. Accordingly, the first component mentioned below may be a second component within the technical idea of the present invention.

본 발명의 여러 실시예들의 각각 특징들이 부분적으로 또는 전체적으로 서로 결합 또는 조합 가능하고, 기술적으로 다양한 연동 및 구동이 가능하며, 각 실시예들이 서로에 대하여 독립적으로 실시 가능할 수도 있고 연관 관계로 함께 실시할 수도 있다. Each of the features of the various embodiments of the present invention can be partially or entirely combined or combined with each other, technically various interlocking and driving are possible, and each of the embodiments may be independently implemented with respect to each other or can be implemented together in an association relationship. May be.

이하, 도면을 참조로 본 발명의 바람직한 실시예에 대해서 상세히 설명하기로 한다. Hereinafter, a preferred embodiment of the present invention will be described in detail with reference to the drawings.

도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 유기 발광 소자의 개략적인 단면도이다.2 is a schematic cross-sectional view of an organic light-emitting device according to an embodiment of the present invention.

도 2에서 알 수 있듯이, 본 발명의 일 실시예에 따른 유기 발광 소자는, 기판(1), 및 상기 기판(1) 상에 형성된 적색(R) 화소, 녹색(G) 화소, 및 청색(B) 화소를 포함하여 이루어진다.As can be seen from FIG. 2, the organic light emitting device according to an embodiment of the present invention includes a substrate 1 and a red (R) pixel, a green (G) pixel, and a blue (B) pixel formed on the substrate 1. ) Including pixels.

상기 적색(R) 화소 및 녹색(G) 화소는 서로 동일한 패턴으로 형성되어 있고, 상기 청색(B) 화소는 상기 적색(R) 화소 및 녹색(G) 화소와 상이한 패턴으로 형성되어 있다.The red (R) and green (G) pixels are formed in the same pattern, and the blue (B) pixel is formed in a different pattern from the red (R) and green (G) pixels.

구체적으로, 상기 적색(R) 화소 및 녹색(G) 화소는 차례로 적층된 양극(Anode), 정공 주입층(HIL), 정공 수송층(HTL), 발광층(EML), 계면층(Interfacial Layer), 청색 공통층(BCL), 전자 수송층(ETL), 전자 주입층(EIL), 및 음극(Cathode)을 포함하여 이루어진다.Specifically, the red (R) pixel and the green (G) pixel are sequentially stacked anode (Anode), a hole injection layer (HIL), a hole transport layer (HTL), a light emitting layer (EML), an interfacial layer (Interfacial Layer), blue It includes a common layer (BCL), an electron transport layer (ETL), an electron injection layer (EIL), and a cathode.

상기 청색(B) 화소는 차례로 적층된 양극(Anode), 정공 주입층(HIL), 정공 수송층(HTL), 계면층(Interfacial Layer), 청색 공통층(BCL), 전자 수송층(ETL), 전자 주입층(EIL), 및 음극(Cathode)을 포함하여 이루어진다.The blue (B) pixel includes an anode, a hole injection layer (HIL), a hole transport layer (HTL), an interfacial layer, a blue common layer (BCL), an electron transport layer (ETL), and electron injection. It comprises a layer (EIL), and a cathode (Cathode).

상기 정공 주입층(HIL), 정공 수송층(HTL), 적색(R) 화소의 발광층(EML), 및 녹색(G) 화소의 발광층(EML)은 용액 공정(soluble process)으로 형성하고, 상기 청색 공통층(BCL), 전자 수송층(ETL), 및 전자 주입층(EIL)은 증착 공정(evaporation process)으로 형성한다. 상기 계면층(Interfacial Layer)은 증착 공정(evaporation process)으로 형성할 수 있지만, 경우에 따라서 용액 공정으로 형성하는 것도 가능하다.The hole injection layer (HIL), the hole transport layer (HTL), the emission layer (EML) of the red (R) pixel, and the emission layer (EML) of the green (G) pixel are formed by a soluble process, and the blue color is common. The layer (BCL), the electron transport layer (ETL), and the electron injection layer (EIL) are formed by an evaporation process. The interfacial layer may be formed by an evaporation process, but in some cases, it may be formed by a solution process.

상기 양극(Anode)은 상기 적색(R) 화소, 녹색(G) 화소 및 청색(B) 화소에서 상기 기판(1) 상에 각각 패턴 형성되어 있다. 상기 양극(Anode)은 전도성 및 일함수(work function)가 높은 투명한 도전물질, 예로서 ITO(Indium Tin Oxide), IZO(Indium Zinc Oxide), SnO2 또는 ZnO 등으로 이루어질 수 있지만, 반드시 그에 한정되는 것은 아니다. The anode is patterned on the substrate 1 in the red (R), green (G) and blue (B) pixels, respectively. The anode may be made of a transparent conductive material having high conductivity and work function, for example, Indium Tin Oxide (ITO), Indium Zinc Oxide (IZO), SnO2, or ZnO, but it is not necessarily limited thereto. no.

이와 같은 양극(Anode)은 MOCVD(Metal Organic Chemical Vapor Deposition) 공정 및 포토리소그라피(Photolithography) 공정의 조합에 의해서 각각의 화소별로 패턴 형성될 수 있다.Such an anode may be patterned for each pixel by a combination of a Metal Organic Chemical Vapor Deposition (MOCVD) process and a photolithography process.

상기 정공 주입층(HIL)은 상기 적색(R) 화소, 녹색(G) 화소 및 청색(B) 화소에서 상기 양극(Anode) 상에 각각 패턴 형성되어 있다. 상기 정공 주입층(HIL)은 MTDATA(4,4',4"-tris(3-methylphenylphenylamino)triphenylamine)triphenylamine), CuPc(copper phthalocyanine) 또는 PEDOT/PSS(poly(3,4-ethylenedioxythiphene), polystyrene sulfonate) 등으로 이루어질 수 있지만, 반드시 그에 한정되는 것은 아니다.The hole injection layer HIL is patterned on the anode of the red (R) pixel, green (G) pixel, and blue (B) pixel, respectively. The hole injection layer (HIL) is MTDATA (4,4',4"-tris(3-methylphenylphenylamino)triphenylamine)triphenylamine), CuPc (copper phthalocyanine) or PEDOT/PSS (poly(3,4-ethylenedioxythiphene)), polystyrene sulfonate ), etc., but is not necessarily limited thereto.

이와 같은 정공 주입층(HIL)은 용액 상태의 패턴화 공정, 예로서 용액 상태의 정공 주입층 조성물을 준비한 후 스핀코팅(Spin-coating) 또는 잉크젯 인쇄(Inkjet printing) 공정을 통해서 각각의 화소 별로 패턴 형성될 수 있다.The hole injection layer (HIL) is a patterning process in a solution state, for example, after preparing a hole injection layer composition in a solution state, a pattern for each pixel is performed through a spin-coating or inkjet printing process. Can be formed.

상기 정공 수송층(HTL)은 상기 적색(R) 화소, 녹색(G) 화소 및 청색(B) 화소에서 상기 정공 주입층(HIL) 상에 각각 패턴 형성되어 있다. 상기 정공 수송층(HTL)은 TPD(N,N'-diphenyl-N,N'-bis(3-methylphenyl)-1,1'-bi-phenyl-4,4'-diamine) 또는 NPB(N,N'-di(naphthalen-1-yl)-N,N'-diphenyl-benzidine) 등으로 이루어질 수 있지만, 반드시 그에 한정되는 것은 아니다.The hole transport layer HTL is patterned on the hole injection layer HIL in the red (R), green (G), and blue (B) pixels, respectively. The hole transport layer (HTL) is TPD (N,N'-diphenyl-N,N'-bis(3-methylphenyl)-1,1'-bi-phenyl-4,4'-diamine) or NPB (N,N It may be made of'-di(naphthalen-1-yl)-N,N'-diphenyl-benzidine), but is not limited thereto.

이와 같은 정공 수송층(HTL)은 용액 상태의 패턴화 공정, 예로서 용액 상태의 정공 수송층 조성물을 준비한 후 스핀코팅(Spin-coating) 또는 잉크젯 인쇄(Inkjet printing) 공정을 통해서 각각의 화소 별로 패턴 형성될 수 있다.The hole transport layer (HTL) is a patterning process in a solution state, for example, after preparing a hole transport layer composition in a solution state, a pattern can be formed for each pixel through a spin-coating or inkjet printing process. I can.

한편, 상기 정공 수송층(HTL)을 형성할 때 상기 정공 수송층(HTL)을 위한 용액 내에 존재하는 용매에 의해서 상기 정공 주입층(HIL)이 손상을 받지 않는 것이 바람직하다. 따라서, 상기 정공 주입층(HIL)에 포함된 정공 주입 특성이 있는 유기물은 상기 정공 수송층(HTL)을 위한 용액 내에 존재하는 용매에 용해되지 않는 것이 바람직하다. 예로서, 상기 정공 주입층(HIL)에 포함된 정공 주입 특성이 있는 유기물은 물에는 용해되지만 특정 유기 용매에는 용해되지 않는 유기물을 이용하고 상기 정공 수송층(HTL)에 포함된 정공 수송 특성이 있는 유기물은 상기 특정 유기 용매에 용해되는 유기물을 이용할 경우, 용액 공정으로 상기 정공 수송층(HTL)을 형성할 때 상기 정공 주입층(HIL)이 손상을 받지 않을 수 있다. Meanwhile, when forming the hole transport layer HTL, it is preferable that the hole injection layer HIL is not damaged by a solvent present in the solution for the hole transport layer HTL. Accordingly, it is preferable that the organic material having hole injection properties contained in the hole injection layer HIL is not dissolved in a solvent present in the solution for the hole transport layer HTL. For example, an organic material having hole injection properties contained in the hole injection layer (HIL) uses an organic material that is soluble in water but is not soluble in a specific organic solvent, and an organic material having hole transport properties included in the hole transport layer (HTL) When an organic material dissolved in the specific organic solvent is used, the hole injection layer HIL may not be damaged when the hole transport layer HTL is formed by a solution process.

또한, 상기 발광층(EML)을 형성할 때 상기 발광층(EML)을 위한 용액 내에 존재하는 용매에 의해서 상기 정공 수송층(HTL)이 손상을 받지 않는 것이 바람직하다. 이를 위해서 상기 정공 수송층(HTL)에는 가교제(cross-linking agent)가 추가됨으로써 상기 정공 수송층(HTL)의 결합력을 향상시키는 것이 바람직하다. 즉, 상기 정공 수송층(HTL)에 가교제가 포함될 경우에는 가교제에 의해서 유기물의 결합력이 향상됨으로써 상기 발광층(EML)을 위한 용액 내에 존재하는 용매에 의해서 상기 정공 수송층(HTL)이 용해되는 것이 방지될 수 있다. In addition, when forming the emission layer EML, it is preferable that the hole transport layer HTL is not damaged by a solvent present in the solution for the emission layer EML. To this end, a cross-linking agent is added to the hole transport layer HTL to improve the bonding strength of the hole transport layer HTL. That is, when a crosslinking agent is included in the hole transport layer (HTL), the bonding strength of organic substances is improved by the crosslinking agent, so that the hole transport layer (HTL) can be prevented from being dissolved by a solvent present in the solution for the light emitting layer (EML) have.

상기 발광층(EML)은 상기 적색(R) 화소 및 녹색(G) 화소에서 상기 정공 수송층(HTL) 상에 각각 패턴 형성되어 있다. The emission layer EML is patterned on the hole transport layer HTL in the red (R) and green (G) pixels, respectively.

상기 적색(R) 화소에 패턴 형성된 발광층(EML)은 적색(R) 광, 예를 들어 피크(peak) 파장 범위가 550nm 내지 730nm 범위의 적색(R) 광을 발광할 수 있는 유기물질을 포함할 수 있다.The emission layer EML patterned on the red (R) pixel contains an organic material capable of emitting red (R) light, for example, red (R) light having a peak wavelength range of 550 nm to 730 nm. I can.

상기 녹색(R) 화소에 패턴 형성된 발광층(EML)은 녹색(G) 광, 예를 들어 피크(peak) 파장 범위가 490nm 내지 600nm 범위의 녹색(G) 광을 발광할 수 있는 유기물질을 포함할 수 있다.The emission layer EML patterned on the green (R) pixel contains an organic material capable of emitting green (G) light, for example, green (G) light having a peak wavelength range of 490 nm to 600 nm. I can.

이와 같은 발광층(EML)은 용액 상태의 패턴화 공정, 예로서 용액 상태의 발광층 조성물을 준비한 후 스핀코팅(Spin-coating) 또는 잉크젯 인쇄(Inkjet printing) 공정을 통해서 상기 적색(R) 화소 및 녹색(G) 화소 별로 패턴 형성될 수 있다.The light emitting layer (EML) is a patterning process in a solution state, for example, after preparing a light emitting layer composition in a solution state, and then through a spin-coating or inkjet printing process, the red (R) pixel and the green ( G) Patterns may be formed for each pixel.

상기 계면층(Interfacial Layer)은 상기 적색(R) 화소, 녹색(G) 화소 및 청색(B) 화소를 포함한 기판(1)의 전체면 상에 형성되어 있다. 즉, 상기 계면층은 상기 적색(R) 화소 및 녹색(G) 화소에서부터 상기 청색(B) 화소까지 연장되어 있다.The interfacial layer is formed on the entire surface of the substrate 1 including the red (R) pixel, green (G) pixel, and blue (B) pixel. That is, the interface layer extends from the red (R) and green (G) pixels to the blue (B) pixels.

이와 같은 계면층(Interfacial Layer)은 기판(1)의 전체면 상에 형성되므로 별도의 새도우 마스크 없이 증착 공정으로 형성될 수 있다. 구체적으로, 상기 계면층(Interfacial Layer)은 상기 적색(R) 화소 및 녹색(G) 화소에서는 발광층(EML) 상에 형성되고, 청색(B) 화소에서는 정공 수송층(HTL) 상에 형성되어 있다. 또한, 상기 계면층(Interfacial Layer) 상에는 상기 청색 공통층(BCL)이 형성되므로, 상기 계면층(Interfacial Layer)은 상기 적색(R) 화소에서는 상기 적색(R) 발광층(EML)의 상면 및 상기 청색 공통층(BCL)의 하면과 접촉하게 되고, 상기 녹색(G) 화소에서는 상기 녹색(G) 발광층(EML)의 상면 및 상기 청색 공통층(BCL)의 하면과 접촉하게 되며, 청색(B) 화소에서는 상기 정공 수송층(HTL)의 상면 및 상기 청색 공통층(BCL)의 하면과 접촉될 수 있다. Since such an interfacial layer is formed on the entire surface of the substrate 1, it can be formed by a deposition process without a separate shadow mask. Specifically, the interfacial layer is formed on the emission layer EML in the red (R) and green (G) pixels, and on the hole transport layer HTL in the blue (B) pixel. In addition, since the blue common layer (BCL) is formed on the interfacial layer, the interfacial layer is the upper surface of the red (R) emission layer (EML) and the blue color in the red (R) pixel. The green (G) pixel comes into contact with the lower surface of the common layer BCL, and the green (G) pixel comes into contact with the upper surface of the green (G) emission layer EML and the lower surface of the blue common layer BCL. In may be in contact with an upper surface of the hole transport layer HTL and a lower surface of the blue common layer BCL.

상기 계면층(Interfacial Layer)은 상기 발광층(EML)의 호스트 물질을 포함한다. 이와 같이, 상기 계면층(Interfacial Layer)이 상기 발광층(EML)의 호스트 물질을 포함하기 때문에, 상기 발광층(EML)과 상기 계면층(Interfacial Layer) 사이의 계면특성이 향상될 수 있다. The interfacial layer includes a host material of the emission layer EML. As described above, since the interfacial layer includes the host material of the emission layer EML, an interface characteristic between the emission layer EML and the interfacial layer may be improved.

또한, 상기 계면층(Interfacial Layer)은 전자 수송 능력이 있는 유기물을 포함한다. 이와 같이, 상기 계면층(Interfacial Layer)이 전자 수송 능력이 있는 유기물을 포함하기 때문에, 상기 적색(R) 및 녹색(G) 화소의 경우 상기 청색 공통층(BCL)에서 상기 발광층(EML)으로의 전자 수송이 원활하여 소자의 효율 및 수명 특성을 향상시킨다. In addition, the interfacial layer includes an organic material capable of transporting electrons. As described above, since the interfacial layer contains an organic material having electron transport capability, in the case of the red (R) and green (G) pixels, from the blue common layer (BCL) to the emission layer (EML). The electron transport is smooth, improving the efficiency and life characteristics of the device.

특히, 상기 계면층(Interfacial Layer)에 포함되는 전자 수송 능력이 있는 유기물은 상기 청색 공통층(BCL)의 호스트 물질을 포함하거나, 상기 전자 수송층(ETL)과 동일한 물질을 포함할 수 있다. 상기 전자 수송 능력이 있는 유기물이 상기 청색 공통층(BCL)의 호스트 물질을 포함하는 경우, 상기 계면층(Interfacial Layer)과 상기 청색 공통층(BCL) 사이의 계면특성이 향상될 수 있고, 또한 상기 계면층(Interfacial Layer)과 상기 청색 공통층(BCL)을 동일한 공정 챔버에서 연속공정으로 형성할 수 있다. 즉, 상기 청색 공통층(BCL)의 호스트 물질에 상기 발광층(EML)의 호스트 물질을 포함시켜 상기 계면층(Interfacial Layer)을 형성하고 이어서 상기 발광층(EML)의 호스트 물질만을 제외하여 상기 청색 공통층(BCL)을 형성할 수 있으므로, 동일한 공정 챔버에서 연속 공정으로 상기 계면층(Interfacial Layer)과 상기 청색 공통층(BCL)을 형성할 수 있는 장점이 있다. In particular, the organic material having electron transport capability included in the interfacial layer may include the host material of the blue common layer BCL or may include the same material as the electron transport layer ETL. When the organic material having electron transport capability includes the host material of the blue common layer (BCL), the interface characteristics between the interfacial layer and the blue common layer (BCL) may be improved, and the An interfacial layer and the blue common layer BCL may be formed in a continuous process in the same process chamber. That is, the interfacial layer is formed by including the host material of the emission layer EML in the host material of the blue common layer BCL, and then the blue common layer excluding only the host material of the emission layer EML. Since (BCL) can be formed, there is an advantage in that the interfacial layer and the blue common layer BCL can be formed in a continuous process in the same process chamber.

또한, 상기 계면층(Interfacial Layer)에 포함된 상기 발광층(EML)의 호스트 물질은 상기 계면층((Interfacial Layer)의 하부영역에서부터 상부영역으로 갈수록 농도가 점점 옅어지고, 상기 계면층(Interfacial Layer)에 포함된 전자 수송 능력이 있는 유기물은 상기 계면층(Interfacial Layer)의 상부영역에서부터 하부영역으로 갈수록 농도가 점점 옅어지며 구성될 수 있다. 이와 같이, 상기 발광층(EML)과 가까울수록 상기 발광층(EML)의 호스트 물질의 농도를 짙게 하고, 상기 발광층(EML)과 멀어질수록 상기 발광층(EML)의 호스트 물질의 농도를 옅게 하면, 상기 계면층(Interfacial Layer)과 상기 발광층(EML) 사이의 계면 특성과 에너지 레벨 차이를 효과적으로 개선할 수 있다. In addition, the concentration of the host material of the emission layer EML included in the interfacial layer gradually decreases from the lower region to the upper region of the interfacial layer, and the interfacial layer The organic material having an electron transport capability contained in the interfacial layer may be formed with a concentration gradually decreasing from an upper region to a lower region of the interfacial layer As described above, the closer to the emission layer EML, the closer to the emission layer EML. ), and when the concentration of the host material of the emission layer EML is decreased as the concentration of the host material increases as the distance from the emission layer EML increases, the interface characteristics between the interfacial layer and the emission layer EML And energy level difference can be effectively improved.

한편, 상기 계면층(Interfacial Layer)은 전자 수송 기능이 있는 상기 청색 공통층(BCL)의 호스트 물질을 포함하거나, 상기 전자 수송층(ETL)과 동일한 물질을 포함하므로, 적색(R) 및 녹색(G) 화소에서의 소자 특성에 영향을 주지 않는다. 하지만, 상기 계면층(Interfacial Layer)의 두께가 일정 이상 두꺼워질 경우 상기 계면층(Interfacial Layer) 쪽으로 발광영역이 형성되고 따라서 소자의 효율 및 수명을 저하시킬 수 있다. 따라서, 상기 계면층(Interfacial Layer)의 두께는 5nm이하로 형성되는 것이 바람직하다. Meanwhile, since the interfacial layer includes the host material of the blue common layer (BCL) having an electron transport function or the same material as the electron transport layer (ETL), red (R) and green (G) are included. ) It does not affect the device characteristics in the pixel. However, when the thickness of the interfacial layer becomes thicker than a certain amount, a light emitting region is formed toward the interfacial layer, thus reducing the efficiency and lifetime of the device. Therefore, it is preferable that the thickness of the interfacial layer is 5 nm or less.

상기 청색 공통층(BCL)은 상기 적색(R) 화소, 녹색(G) 화소 및 청색(B) 화소를 포함한 기판(1)의 전체면 상에 형성되어 있다. 즉, 상기 청색 공통층(BCL)은 상기 적색(R) 화소 및 녹색(G) 화소에서부터 상기 청색(B) 화소까지 연장되어 있다.The blue common layer BCL is formed on the entire surface of the substrate 1 including the red (R) pixel, green (G) pixel, and blue (B) pixel. That is, the blue common layer BCL extends from the red (R) and green (G) pixels to the blue (B) pixels.

이와 같은 청색 공통층(BCL)은 기판(1)의 전체면 상에 형성되므로 별도의 새도우 마스크 없이 증착 공정으로 형성될 수 있다. Since the blue common layer BCL is formed on the entire surface of the substrate 1, it may be formed by a deposition process without a separate shadow mask.

상기 청색 공통층(BCL)은 기본적으로 청색(B) 화소에서 청색광을 발광층으로 기능한다. 따라서, 상기 청색 공통층(BCL)은 청색광 발광을 위한 호스트 물질을 포함하여 이루어진다.The blue common layer BCL basically functions as an emission layer of blue light in a blue (B) pixel. Accordingly, the blue common layer BCL includes a host material for emitting blue light.

상기 청색(B) 화소의 청색 공통층(BCL)은 430nm 내지 490nm의 피크(peak) 파장 범위의 청색 광을 발광할 수 있다.The blue common layer BCL of the blue (B) pixel may emit blue light having a peak wavelength range of 430 nm to 490 nm.

상기 전자 수송층(ETL)은 상기 적색(R) 화소, 녹색(G) 화소, 및 청색(B) 화소에서 상기 청색 공통층(BCL) 상에 형성되어 있다. 상기 전자 수송층(ETL)은 옥사디아졸(oxadiazole), 트리아졸(triazole), 페난트롤린(phenanthroline), 벤족사졸(benzoxazole) 또는 벤즈티아졸(benzthiazole) 등으로 이루어질 수 있지만, 반드시 그에 한정되는 것은 아니다. The electron transport layer ETL is formed on the blue common layer BCL in the red (R) pixel, green (G) pixel, and blue (B) pixel. The electron transport layer (ETL) may be made of oxadiazole, triazole, phenanthroline, benzoxazole, or benzthiazole, but is not necessarily limited thereto. no.

이와 같은 전자 수송층(ETL)은 상기 청색 공통층(BCL)과 마찬가지로, 상기 청색 공통층(BCL) 상에 별도의 새도우 마스크 없이 증착 공정으로 형성될 수 있다.Like the blue common layer BCL, the electron transport layer ETL may be formed on the blue common layer BCL by a deposition process without a separate shadow mask.

상기 전자 주입층(EIL)은 상기 적색(R) 화소, 녹색(G) 화소, 및 청색(B) 화소에서 상기 전자 수송층(ETL) 상에 형성되어 있다. 상기 전자 주입층(EIL)은 LIF 또는 LiQ(lithium quinolate) 등으로 이루어질 수 있지만, 반드시 그에 한정되는 것은 아니다.The electron injection layer EIL is formed on the electron transport layer ETL in the red (R) pixel, green (G) pixel, and blue (B) pixel. The electron injection layer EIL may be formed of LIF or lithium quinolate (LiQ), but is not limited thereto.

이와 같은 전자 주입층(EIL)도 상기 전자 수송층(ETL) 상에 별도의 새도우 마스크 없이 증착 공정으로 형성될 수 있다.Such an electron injection layer EIL may also be formed on the electron transport layer ETL by a deposition process without a separate shadow mask.

상기 음극(Cathode)은 낮은 일함수를 가지는 금속, 예로서, 알루미늄(Al), 은(Ag), 마그네슘(Mg), 리튬(Li) 또는 칼슘(Ca) 등으로 이루어질 수 있지만, 반드시 그에 한정되는 것은 아니다.The cathode may be made of a metal having a low work function, for example, aluminum (Al), silver (Ag), magnesium (Mg), lithium (Li) or calcium (Ca), but is limited thereto. It is not.

이와 같은 음극(Cathode)도 기판(1)의 전체면 상에 형성되어 있고, 따라서, 별도의 새도우 마스크 없이 증착 공정으로 형성될 수 있다.Such a cathode is also formed on the entire surface of the substrate 1, and thus, can be formed by a deposition process without a separate shadow mask.

도 3a 내지 도 3d는 본 발명의 일 실시예에 따른 유기 발광 소자의 제조 방법을 도시한 제조 공정도로서, 이는 전술한 도 2 에 따른 유기 발광 소자의 제조 방법에 관한 것이다. 이하에서는, 구성요소의 재료 등과 같이 전술한 바와 동일한 구성에 대한 반복 설명은 생략될 수 있다.3A to 3D are manufacturing process diagrams illustrating a method of manufacturing an organic light-emitting device according to an embodiment of the present invention, which relates to a method of manufacturing the organic light-emitting device according to FIG. 2 described above. Hereinafter, repeated descriptions of the same components as described above, such as materials of components, may be omitted.

우선, 도 3a에서 알 수 있듯이, 기판(1) 상의 적색(R) 화소, 녹색(B) 화소, 및 청색(B) 화소 각각에 양극(Anode), 정공 주입층(HIL) 및 정공 수송층(HTL) 을 차례로 패턴 형성한다.First, as can be seen from FIG. 3A, an anode, a hole injection layer (HIL), and a hole transport layer (HTL) are applied to each of the red (R) pixels, green (B) pixels, and blue (B) pixels on the substrate 1. ) In order to form a pattern.

구체적으로는, 상기 기판(1) 상에 MOCVD 공정 및 포토리소그라피 공정의 조합에 의해서 상기 양극(Anode)을 패턴 형성하고, 상기 양극(Anode) 상에 용액 상태의 패턴화 공정, 예로서 용액 상태의 정공 주입층 조성물을 준비한 후 잉크젯 인쇄(Inkjet printing) 또는 스핀코팅(Spin-coating) 공정을 통해서 정공 주입층(HIL)을 패턴 형성하고, 상기 정공 주입층(HIL) 상에 용액 상태의 패턴화 공정, 예로서 용액 상태의 정공 수송층 조성물을 준비한 후 잉크젯 인쇄(Inkjet printing) 또는 스핀코팅(Spin-coating) 공정을 통해서 정공 수송층(HTL)을 패턴 형성한다. Specifically, the anode is patterned on the substrate 1 by a combination of a MOCVD process and a photolithography process, and a patterning process in a solution state on the anode, for example, in a solution state. After preparing the hole injection layer composition, patterning the hole injection layer (HIL) through an inkjet printing or spin-coating process, and a patterning process in a solution state on the hole injection layer (HIL) , For example, after preparing a hole transport layer composition in a solution state, a hole transport layer (HTL) is patterned through an inkjet printing or spin-coating process.

다음, 도 3b에서 알 수 있듯이, 상기 정공 수송층(HTL) 상의 적색(R) 화소 및 녹색(G) 화소 각각에 발광층(EML)을 패턴 형성한다. Next, as can be seen in FIG. 3B, a pattern is formed on each of the red (R) pixels and the green (G) pixels on the hole transport layer HTL.

구체적으로는, 상기 정공 수송층(HTL) 상에 용액 상태의 패턴화 공정, 예로서 용액 상태의 발광층 조성물을 준비한 후 잉크젯 인쇄(Inkjet printing) 또는 스핀코팅(Spin-coating) 공정을 통해서 적색(R) 발광층(EML) 및 녹색(G) 발광층(EML)을 패턴 형성한다.Specifically, after preparing a patterning process in a solution state on the hole transport layer (HTL), e.g., a light emitting layer composition in a solution state, red (R) through an inkjet printing or spin-coating process The emission layer EML and the green (G) emission layer EML are patterned.

다음, 도 3c에서 알 수 있듯이, 적색(R) 화소, 녹색(G) 화소 및 청색(B) 화소를 포함한 기판(1)의 전체면 상에 계면층(Interfacial Layer)을 형성한다.Next, as shown in FIG. 3C, an interfacial layer is formed on the entire surface of the substrate 1 including the red (R) pixel, green (G) pixel, and blue (B) pixel.

구체적으로는, 상기 적색(R) 화소 및 녹색(G) 화소의 발광층(EML)의 상면 및 상기 청색(B) 화소의 정공 수송층(HTL)의 상면에 새도우 마스크 없이 진공 증착 공정으로 계면층(Interfacial Layer)을 증착한다.Specifically, the interfacial layer (Interfacial layer) by vacuum evaporation without a shadow mask on the top surface of the emission layer (EML) of the red (R) pixel and the green (G) pixel and the hole transport layer (HTL) of the blue (B) pixel. Layer).

상기 계면층(Interfacial Layer)은 상기 발광층(EML)의 호스트 물질과 전자 수송 능력이 있는 유기물을 이용하여 형성하며, 상기 전자 수송 능력이 있는 유기물이 청색 공통층(BCL)의 호스트 물질을 포함하여 증착시켜서 형성될 수 있으며, 다른 실시예로 상기 발광층(EML)의 호스트 물질과 상기 전자 수송 능력이 있는 유기물이 상기 전자 수송층(ETL)과 동일한 물질을 포함하여 형성될 수 있다.The interfacial layer is formed using a host material of the emission layer (EML) and an organic material having electron transport capability, and the organic material having electron transport capability is deposited including the host material of the blue common layer (BCL). In another embodiment, the host material of the emission layer EML and the organic material having the electron transport capability may include the same material as the electron transport layer ETL.

이와 같은 공정에서는 상기 청색 공통층(BCL)의 호스트 물질에 상기 발광층(EML)의 호스트 물질을 포함시켜 상기 계면층(Interfacial Layer)을 형성하고, 이어서 상기 발광층(EML)의 호스트 물질만을 제외하여 상기 청색 공통층(BCL)을 형성할 수 있으므로, 동일한 공정 챔버에서 연속 공정으로 상기 계면층(Interfacial Layer)과 상기 청색 공통층(BCL)을 형성할 수 있는 장점이 있다.In such a process, the interfacial layer is formed by including the host material of the emission layer EML in the host material of the blue common layer BCL, and then, except for the host material of the emission layer EML. Since the blue common layer BCL can be formed, there is an advantage in that the interfacial layer and the blue common layer BCL can be formed in a continuous process in the same process chamber.

다음, 도 3d에서 알 수 있듯이, 적색(R) 화소, 녹색(G) 화소 및 청색(B) 화소를 포함한 기판(1)의 전체면 상에 청색 공통층(BCL), 전자 수송층(ETL), 전자 주입층(EIL) 및 음극(Cathode)을 차례로 형성한다.Next, as can be seen from FIG. 3D, a blue common layer (BCL), an electron transport layer (ETL), and a blue common layer (BCL), an electron transport layer (ETL) on the entire surface of the substrate 1 including a red (R) pixel, a green (G) pixel, and a blue (B) pixel, An electron injection layer (EIL) and a cathode (Cathode) are sequentially formed.

구체적으로는, 상기 적색(R) 화소, 녹색(G) 화소, 및 청색(B) 화소의 계면층(Interfacial Layer) 상에 새도우 마스크 없이 증착 공정으로 청색 공통층(BCL)을 증착한다. 상기 청색 공통층을 형성하는 공정은 청색광 발광을 위한 호스트 물질을 증착시켜 이루어진다.Specifically, a blue common layer BCL is deposited on an interfacial layer of the red (R) pixel, green (G) pixel, and blue (B) pixel by a deposition process without a shadow mask. The process of forming the blue common layer is performed by depositing a host material for emitting blue light.

또한, 상기 청색 공통층(BCL) 상에 새도우 마스크 없이 증착 공정으로 상기 전자 수송층(ETL)을 증착하고, 상기 전자 수송층(ETL) 상에 새도우 마스크 없이 증착 공정으로 상기 전자 주입층(EIL)을 증착하고, 상기 전자 주입층(EIL) 상에 새도우 마스크 없이 증착 공정으로 상기 음극(Cathode)을 증착한다.In addition, the electron transport layer (ETL) is deposited on the blue common layer (BCL) by a deposition process without a shadow mask, and the electron injection layer (EIL) is deposited on the electron transport layer (ETL) by a deposition process without a shadow mask. Then, the cathode is deposited on the electron injection layer EIL by a deposition process without a shadow mask.

도 4는 본 발명에 따른 유기 발광 소자의 스펙트럼(spectrum)을 보여주는 그래프이다.4 is a graph showing a spectrum of an organic light-emitting device according to the present invention.

도 4에서 알 수 있듯이, 본 발명에 따른 유기 발광 소자는 종래의 유기 발광 소자에 비해 빛의 집중도가 높아지고, 선명해짐으로써 발광 효율이 상승하였음을 알 수 있다. As can be seen from FIG. 4, it can be seen that the concentration of light in the organic light-emitting device according to the present invention is higher than that of the conventional organic light-emitting device, and luminous efficiency is increased by being clear.

도 5는 본 발명의 일 실시예에 따른 유기 발광 디스플레이 장치의 개략적인 단면도로서, 이는 전술한 도 2에 따른 유기 발광 소자를 이용한 것이다.5 is a schematic cross-sectional view of an organic light-emitting display device according to an exemplary embodiment of the present invention, which uses the organic light-emitting device of FIG. 2 described above.

도 5에서 알 수 있듯이, 본 발명의 일 실시예에 따른 유기 발광 디스플레이 장치는 기판(1), 박막 트랜지스터층(200), 평탄화층(300), 뱅크층(400), 양극(Anode), 유기층(500), 및 음극(Cathode)을 포함하여 이루어진다. As can be seen from FIG. 5, the organic light emitting display device according to an embodiment of the present invention includes a substrate 1, a thin film transistor layer 200, a planarization layer 300, a bank layer 400, an anode, and an organic layer. 500, and a cathode (Cathode).

상기 기판(1)은 유리 또는 구부리거나 휠 수 있는 투명한 플라스틱, 예로서, 폴리이미드가 이용될 수 있지만, 반드시 그에 한정되는 것은 아니다. The substrate 1 may be glass or a bendable or bendable transparent plastic such as polyimide, but is not limited thereto.

상기 박막 트랜지스터층(200)은 상기 기판(1) 상에 형성되어 있다. 이와 같은 박막 트랜지스터층(200)은 게이트 전극(210), 게이트 절연막(220), 반도체층(230), 소스 전극(240a), 드레인 전극(240b), 및 보호막(250)을 포함하여 이루어진다. The thin film transistor layer 200 is formed on the substrate 1. The thin film transistor layer 200 includes a gate electrode 210, a gate insulating layer 220, a semiconductor layer 230, a source electrode 240a, a drain electrode 240b, and a protective layer 250.

상기 게이트 전극(210)은 상기 기판(1) 상에 패턴 형성되어 있고, 상기 게이트 절연막(220)은 상기 게이트 전극(210) 상에 형성되어 있고, 상기 반도체층(230)은 상기 게이트 절연막(220) 상에 패턴 형성되어 있고, 상기 소스 전극(240a)과 상기 드레인 전극(240b)은 상기 반도체층(230) 상에서 서로 마주하도록 패턴 형성되어 있고, 상기 보호막(250)은 상기 소스 전극(240a)과 상기 드레인 전극(240b) 상에 형성되어 있다.The gate electrode 210 is patterned on the substrate 1, the gate insulating layer 220 is formed on the gate electrode 210, and the semiconductor layer 230 is formed of the gate insulating layer 220. ), the source electrode 240a and the drain electrode 240b are patterned to face each other on the semiconductor layer 230, and the protective layer 250 is formed with the source electrode 240a. It is formed on the drain electrode 240b.

상기 박막 트랜지스터층(200)에 도시된 박막 트랜지스터는 구동 박막 트랜지스터에 관한 것으로서, 도면에는 게이트 전극(210)이 반도체층(230) 아래에 형성되는 바텀 게이트(bottom gate) 구조의 구동 박막 트랜지스터를 도시하였지만, 게이트 전극(210)이 반도체층(230) 위에 형성되는 탑 게이트(top gate) 구조의 구동 박막 트랜지스터가 형성될 수도 있다. 이와 같은 구동 박막 트랜지스터에 의해 유기 발광 소자의 발광이 제어된다. The thin film transistor shown in the thin film transistor layer 200 relates to a driving thin film transistor, and the drawing shows a driving thin film transistor having a bottom gate structure in which the gate electrode 210 is formed under the semiconductor layer 230 However, a driving thin film transistor having a top gate structure in which the gate electrode 210 is formed on the semiconductor layer 230 may be formed. Light emission of the organic light emitting device is controlled by such a driving thin film transistor.

상기 평탄화층(300)은 상기 박막 트랜지스터층(200) 상에 형성되어 기판 표면을 평탄화시킨다. 이와 같은 평탄화층(300)은 포토 아크릴과 같은 유기 절연막으로 이루어질 수 있지만, 반드시 그에 한정되는 것은 아니다. The planarization layer 300 is formed on the thin film transistor layer 200 to planarize the substrate surface. The planarization layer 300 may be formed of an organic insulating film such as photoacrylic, but is not limited thereto.

상기 양극(Anode)은 상기 평탄화층(300) 상에 형성되며, 상기 박막 트랜지스터의 드레인 전극(240b)과 연결되어 있다. The anode is formed on the planarization layer 300 and is connected to the drain electrode 240b of the thin film transistor.

상기 뱅크층(400)은 상기 양극(Anode) 상에 형성되며, 화소 영역을 정의하도록 매트릭스 구조로 패턴 형성되어 있다. The bank layer 400 is formed on the anode and is patterned in a matrix structure to define a pixel area.

상기 유기층(500)은 상기 양극(Anode) 상에 형성되며, 특히, 상기 뱅크층(400)에 의해 정의된 화소 영역 내에 형성된다. 상기 유기층(500)은 구체적으로 도시하지는 않았지만, 적색(R) 화소 및 녹색(G) 화소에서는 정공 주입층(HIL), 정공 수송층(HTL), 발광층(EML), 계면층(Interfacial Layer), 청색 공통층(BCL), 전자 수송층(ETL), 및 전자 주입층(EIL)을 포함하여 이루어지고, 청색(B) 화소에서는 정공 주입층(HIL), 정공 수송층(HTL), 계면층(Interfacial Layer), 청색 공통층(BCL), 전자 수송층(ETL), 및 전자 주입층(EIL)을 포함하여 이루어지며, 각각의 층은 전술한 도 2에서와 동일하므로 반복 설명은 생략하기로 한다. The organic layer 500 is formed on the anode, and in particular, is formed in a pixel region defined by the bank layer 400. Although the organic layer 500 is not specifically shown, in the red (R) and green (G) pixels, a hole injection layer (HIL), a hole transport layer (HTL), an emission layer (EML), an interfacial layer, and a blue color It includes a common layer (BCL), an electron transport layer (ETL), and an electron injection layer (EIL), and in the blue (B) pixel, a hole injection layer (HIL), a hole transport layer (HTL), and an interfacial layer , A blue common layer (BCL), an electron transport layer (ETL), and an electron injection layer (EIL) are included, and since each layer is the same as in FIG. 2, a repeated description will be omitted.

상기 음극(Cathode)은 상기 유기층(500) 상에 형성되어 있다. 상기 음극(Cathode)에는 공통 전압이 인가될 수 있고, 따라서, 상기 음극(Cathode)은 각각의 화소 내의 유기층(500) 뿐만 아니라 상기 뱅크층(400) 상에도 형성될 수 있다. The cathode is formed on the organic layer 500. A common voltage may be applied to the cathode, and thus, the cathode may be formed on the bank layer 400 as well as the organic layer 500 in each pixel.

한편, 도시하지는 않았지만, 상기 음극(Cathode) 상에는 봉지층(Encapsulation)이 형성되어 상기 유기층(500)으로 산소나 수분이 침투하는 것을 방지할 수 있다. 이와 같은 봉지층(Encapsulation)은 서로 상이한 무기물이 교대로 적층된 구조로 이루어질 수도 있고, 무기물과 유기물이 교대로 적층된 구조로 이루어질 수도 있고, 접착제에 의해 접착된 금속층으로 이루어질 수도 있다. Meanwhile, although not shown, an encapsulation layer is formed on the cathode to prevent oxygen or moisture from penetrating into the organic layer 500. Such encapsulation layers may be formed in a structure in which different inorganic materials are alternately stacked, inorganic materials and organic materials may be alternately stacked, or may be formed of a metal layer bonded by an adhesive.

이와 같은 본 발명의 일 실시예에 따른 유기 발광 디스플레이 장치는 상기 유기층(500)에서 발광된 광이 상부 방향으로 방출되는 소위 탑 에미션(Top Emission) 방식으로 이루어질 수도 있고, 상기 유기층(500)에서 발광된 광이 하부의 기판(1)방향으로 방출되는 소위 바텀 에미션(Bottom Emission) 방식으로 이루어질 수도 있다The organic light emitting display device according to an embodiment of the present invention may be formed in a so-called top emission method in which light emitted from the organic layer 500 is emitted upward, or in the organic layer 500 The emitted light may be formed in a so-called bottom emission method in which the emitted light is emitted toward the lower substrate 1.

이상에서 설명한 본 발명은 전술한 실시 예 및 첨부된 도면에 한정되는 것이 아니고, 본 발명의 기술적 사항을 벗어나지 않는 범위 내에서 여러 가지 치환, 변형 및 변경이 가능하다는 것이 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 있어 명백할 것이다. 그러므로, 본 발명의 범위는 후술하는 특허청구범위에 의하여 나타내어지며, 특허청구범위의 의미 및 범위 그리고 그 등가 개념으로부터 도출되는 모든 변경 또는 변형된 형태가 본 발명의 범위에 포함되는 것으로 해석되어야 한다.The present invention described above is not limited to the above-described embodiments and the accompanying drawings, and various substitutions, modifications, and changes are possible within the scope of the technical matters of the present invention. It will be obvious to those who have the knowledge of. Therefore, the scope of the present invention is indicated by the claims to be described later, and all changes or modifications derived from the meaning and scope of the claims and their equivalent concepts should be interpreted as being included in the scope of the present invention.

1: 기판 Anode: 양극
HIL: 정공 주입층 HTL: 정공 수송층
EML: 발광층 Interfacial Layer: 계면층
ETL: 전자 수송층 EIL: 전자 주입층
Cathode: 음극 200: 박막 트랜지스터층
300: 평탄화층 400: 뱅크층
500: 유기층
1: Substrate Anode: Anode
HIL: hole injection layer HTL: hole transport layer
EML: Emitting layer Interfacial Layer: Interfacial layer
ETL: electron transport layer EIL: electron injection layer
Cathode: cathode 200: thin film transistor layer
300: planarization layer 400: bank layer
500: organic layer

Claims (11)

적색 화소, 녹색 화소 및 청색 화소를 포함하고,
상기 적색 화소 및 녹색 화소는 양극과 음극 사이에 차례로 구비된 발광층, 계면층, 청색 공통층 및 전자 수송층을 포함하고,
상기 계면층은 상기 발광층의 호스트 물질과 전자 수송 능력이 있는 유기물을 포함하며,
상기 계면층에 포함된 상기 발광층의 호스트 물질은 상기 계면층의 하부영역에서부터 상부영역으로 갈수록 농도가 점점 옅어지고,
상기 계면층에 포함된 상기 전자 수송 능력이 있는 유기물은 상기 전자 수송층과 동일한 물질을 포함하고, 상기 계면층의 상부영역에서부터 하부영역으로 갈수록 농도가 점점 옅어지는 유기 발광 소자.
Including a red pixel, a green pixel and a blue pixel,
The red and green pixels include a light emitting layer, an interface layer, a blue common layer, and an electron transport layer sequentially provided between an anode and a cathode,
The interface layer includes a host material of the emission layer and an organic material having electron transport capability,
The concentration of the host material of the emission layer included in the interface layer gradually decreases from the lower region to the upper region of the interface layer,
The organic light-emitting device having the electron transport capability contained in the interface layer includes the same material as the electron transport layer, and the concentration gradually decreases from an upper region to a lower region of the interface layer.
삭제delete 삭제delete 삭제delete 제1항에 있어서,
상기 계면층은 상기 발광층의 상면 및 상기 청색 공통층의 하면과 접촉하는 유기 발광 소자.
The method of claim 1,
The interface layer is an organic light-emitting device in contact with an upper surface of the emission layer and a lower surface of the blue common layer.
제1항에 있어서,
상기 계면층과 상기 청색 공통층은 상기 청색 화소까지 연장되어 있는 유기 발광 소자.
The method of claim 1,
The interface layer and the blue common layer extend to the blue pixel.
적색 화소, 녹색 화소 및 청색 화소 각각에 정공 수송층을 형성하는 공정;
상기 적색 화소에 형성된 정공 수송층 상에 적색 발광층을 형성함과 더불어 상기 녹색 화소에 형성된 정공 수송층 상에 녹색 발광층을 형성하는 공정;
상기 적색 화소, 녹색 화소 및 청색 화소 각각에 계면층을 형성하는 공정;
상기 적색 화소, 녹색 화소 및 청색 화소 각각에 청색 공통층을 형성하는 공정; 및
상기 적색 화소, 녹색 화소 및 청색 화소 각각에 전자 수송층을 형성하는 공정을 포함하고,
상기 계면층을 형성하는 공정은 증착 챔버 내에 상기 발광층의 호스트 물질과 전자 수송 능력이 있는 유기물을 공급하는 공정을 포함하고, 이때, 상기 발광층의 호스트 물질의 공급양은 점차로 감소시키고 상기 전자 수송 능력이 있는 유기물의 공급량은 점차로 증가시키며,
상기 전자 수송 능력이 있는 유기물은 상기 전자 수송층과 동일한 물질을 포함하는 유기 발광 소자의 제조 방법.
Forming a hole transport layer on each of the red, green, and blue pixels;
Forming a red emission layer on the hole transport layer formed in the red pixel and forming a green emission layer on the hole transport layer formed in the green pixel;
Forming an interface layer on each of the red, green, and blue pixels;
Forming a blue common layer on each of the red, green, and blue pixels; And
And forming an electron transport layer on each of the red, green, and blue pixels,
The process of forming the interface layer includes a process of supplying a host material of the emission layer and an organic material having electron transport capability into a deposition chamber, and at this time, the supply amount of the host material of the emission layer gradually decreases and The supply of organic matter gradually increases,
The method of manufacturing an organic light-emitting device, wherein the organic material having electron transport capability includes the same material as the electron transport layer.
제7항에 있어서,
상기 정공 수송층, 상기 적색 발광층 및 상기 녹색 발광층은 용액 공정으로 형성하고, 상기 청색 공통층 및 상기 전자 수송층은 증착 공정으로 형성하는 유기 발광 소자의 제조방법.
The method of claim 7,
The hole transport layer, the red emission layer, and the green emission layer are formed by a solution process, and the blue common layer and the electron transport layer are formed by a deposition process.
삭제delete 삭제delete 기판;
상기 기판 상에 구비된 박막 트랜지스터; 및
상기 박막 트랜지스터에 의해 발광이 제어되는 유기 발광 소자를 포함하고,
상기 유기 발광 소자는 전술한 제1항 및 제5항 내지 제6항 중 어느 한 항에 따른 유기 발광 소자로 이루어진 유기 발광 디스플레이 장치.
Board;
A thin film transistor provided on the substrate; And
Including an organic light emitting device in which light emission is controlled by the thin film transistor,
The organic light-emitting device is an organic light-emitting display device comprising the organic light-emitting device according to any one of claims 1 and 5 to 6.
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