KR102258012B1 - Band pass filter suitable for error vector magnitude - Google Patents

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KR102258012B1
KR102258012B1 KR1020200122880A KR20200122880A KR102258012B1 KR 102258012 B1 KR102258012 B1 KR 102258012B1 KR 1020200122880 A KR1020200122880 A KR 1020200122880A KR 20200122880 A KR20200122880 A KR 20200122880A KR 102258012 B1 KR102258012 B1 KR 102258012B1
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Abstract

The present invention relates to a band pass filter suitable for error vector magnitude (EVM). The band pass filter comprises: a housing in which first to fifth pockets each having first to fifth resonators provided therein are shielded from the outside; an input port protruding from the housing, connected to the first pocket, and receiving a signal; and an output port protruding from the housing in a direction opposite to the input port, connected to the fifth pocket, and outputting a signal. The present invention can output a value suitable for EVM while maintaining a cavity resonator method instead of a dielectric resonator method. Therefore, the present invention can significantly reduce the manufacturing cost of the band pass filter.

Description

EVM에 적합한 밴드 패스 필터 { BAND PASS FILTER SUITABLE FOR ERROR VECTOR MAGNITUDE }Band pass filter suitable for EVM {BAND PASS FILTER SUITABLE FOR ERROR VECTOR MAGNITUDE}

본 발명은 밴드 패스 필터에 관한 것이다. 보다 상세하게는, EVM(Error Vector Magnitude, sometimes also called receive constellation error or RCE)에 적합한 밴드 패스 필터에 관한 것이다.The present invention relates to a band pass filter. More specifically, it relates to a band pass filter suitable for EVM (Error Vector Magnitude, sometimes also called receive constellation error or RCE).

일반적으로, 필터는 미리 설정된 특정 주파수 대역의 신호만을 통과시키는 기능을 하는 장치로서, 필터링하는 주파수 대역에 따라, 로우 패스 필터, 밴드 패스 필터, 하이 패스 필터 및 밴드 스탑 필터 등으로 구분된다.In general, a filter is a device that functions to pass only a signal in a predetermined specific frequency band, and is classified into a low pass filter, a band pass filter, a high pass filter, and a band stop filter, depending on the frequency band to be filtered.

필터의 중요한 특성으로는 삽입 손실과 스커트 특성이 있다. 삽입 손실이란 신호가 필터를 통과하면서 손실되는 전력을 의미하며, 스커트 특성은 필터의 통과 대역과 저지 대역이 가파른 정도를 의미한다.The important characteristics of the filter are insertion loss and skirt characteristics. Insertion loss refers to the power lost as the signal passes through the filter, and the skirt characteristic refers to the degree to which the passband and stopband of the filter are steep.

위 삽입 손실과 스커트 특성은 필터의 차수(order)에 따라 서로 트레이드 오프(Trade Off) 관계에 있다. 필터의 차수가 높아질수록, 즉 필터의 수량이 많아짐에 의해 스커트 특성은 좋아지나 삽입 손실은 나빠지는 관계가 성립한다.The above insertion loss and skirt characteristics are in a trade-off relationship with each other according to the order of the filter. The higher the order of the filter, that is, the greater the number of filters, the better the skirt characteristics but worse the insertion loss.

필터의 차수를 높이지 않으면서 필터의 스커트 특성을 개선하기 위해 노치(감쇠 극)를 형성하는 방법이 주로 사용된다. 이는 특정 주파수 대역에서 노치를 형성함으로써 필터의 차수를 높이지 않으면서 필터의 스커트 특성을 강화하는 방법이다.A method of forming a notch (attenuation pole) is mainly used to improve the skirt characteristics of the filter without increasing the order of the filter. This is a method of enhancing the skirt characteristics of the filter without increasing the order of the filter by forming a notch in a specific frequency band.

한편, 밴드 패스 필터는 주어진 상부 및 하부 차단 주파수의 교류만을 통과하게 하고, 그 이외 주파수의 교류는 전부 감쇠하는 필터이다. 저역 필터와 고역 필터를 직렬로 연결하여 만드는데, 이때에 저역 필터의 차단 주파수는 항상 고역 필터의 차단 주파수보다 높다.On the other hand, the band pass filter is a filter that allows only alternating current of a given upper and lower cutoff frequency to pass, and attenuating all alternating currents of other frequencies. It is made by connecting a low-pass filter and a high-pass filter in series. At this time, the cutoff frequency of the low-pass filter is always higher than that of the high-pass filter.

또한, EVM(Error Vector Magnitude, sometimes also called receive constellation error or RCE)은 무선 디지털 통신 방식에서 일정 스펙트럼 대역 내 변조된 신호의 변조 품질 척도를 가르킨다.In addition, EVM (Error Vector Magnitude, sometimes also called receive constellation error or RCE) refers to a modulation quality measure of a signal modulated within a certain spectrum band in a wireless digital communication method.

EVM에 적합한 밴드 패스 필터는 현재 군지연(Group Delay) 값이 35㎱ max인 것을 요구하고 있다.A band pass filter suitable for EVM currently requires a Group Delay value of 35 ns max.

이와 같은 특성을 만족시키기 위해서 유전체 공진기(Dielectric Resonator, DR)를 사용할 수 있다. 하지만, 상기 유전체 공진기의 DR방식은 공동 공진기(Cavity Resonator, CR)의 CR방식보다 원가가 대폭 상승하게되는 문제점이 있다.In order to satisfy such characteristics, a dielectric resonator (DR) may be used. However, the DR method of the dielectric resonator has a problem in that the cost is significantly increased compared to the CR method of a cavity resonator (CR).

도 1은 종래의 공동 공진기로 이루어진 밴드 패스 필터의 사시도이고, 도 2는 도 1의 출력 데이터값을 그래프로 나타낸 것이다.1 is a perspective view of a conventional band pass filter made of a cavity resonator, and FIG. 2 is a graph showing output data values of FIG. 1.

도 1을 참조하면, 종래의 공동 공진기로 이루어진 밴드 패스 필터는 제1공진기(11a)가 수용된 제1포켓(11)부터, 제2공진기(12a)가 수용된 제2포켓(12), 제3공진기(13a)가 수용된 제3포켓(13), 제4공진기(14a)가 수용된 제4포켓(14) 및 제 5공진기(15a)가 수용된 제5포켓(15)까지 순차적으로 개구된 부분을 통해 공진될 수 있다.Referring to FIG. 1, a band pass filter made of a conventional cavity resonator includes a first pocket 11 in which a first resonator 11a is accommodated, a second pocket 12 in which a second resonator 12a is accommodated, and a third resonator. Resonance through the sequentially opened portions to the third pocket 13 in which (13a) is accommodated, the fourth pocket 14 in which the fourth resonator (14a) is accommodated, and the fifth pocket 15 in which the fifth resonator (15a) is accommodated Can be.

도 2를 참조하면, 867㎒(그래프상 ‘△’지점은 862㎒, 4지점은 상기 ‘△’지점으로부터 5㎒가 증가된 지점) 일때의 군지연(Group Delay) 값은 68.797㎱를 나타내고 있어, 상기에서 언급한 EVM에 적합한 밴드 패스 필터에서 요구되는 값을 만족시키지 않는 문제점이 있다.Referring to FIG. 2, the group delay value at 867 MHz (the'△' point on the graph is 862 MHz, and the 4 point is a point where 5 MHz is increased from the'△' point) shows 68.797 ㎱. , There is a problem in that the value required by the band pass filter suitable for the EVM mentioned above is not satisfied.

한국등록특허 제10-1559083호Korean Patent Registration No. 10-1559083

본 발명은 상기한 바와 같은 종래의 문제점을 해결하기 위한 것으로서, 본 발명의 목적은, CR방식을 유지하면서 EVM에 적합한 값을 출력함으로써 필터 제작 원가를 절감할 수 있는 EVM에 적합한 밴드 패스 필터를 제공하는 것이다.The present invention is to solve the conventional problems as described above, and an object of the present invention is to provide a band pass filter suitable for EVM that can reduce the filter manufacturing cost by outputting a value suitable for the EVM while maintaining the CR method. It is to do.

상기한 바와 같은 본 발명의 목적을 달성하기 위하여, 본 발명의 일실시예에 따른 EVM에 적합한 밴드 패스 필터는, 내부에 제1 내지 제5공진기가 각각 마련된 제1 내지 제5포켓이 외부와 차폐되도록 형성된 하우징; 상기 하우징으로부터 돌출되고 상기 제1포켓과 연결되며 신호가 입력되는 입력포트; 및 상기 입력포트와 반대방향으로 상기 하우징으로부터 돌출되고 상기 제5포켓과 연결되며 신호가 출력되는 출력포트;를 포함하고, 상기 하우징은, 상기 입력포트와 상기 출력포트를 길이방향을 따라 나누는 가상의 선을 기준으로 상기 입력포트가 포함된 제1공간에 제1포켓과 제3포켓 및 제4포켓이 배치되고, 상기 출력포트가 포함되며 상기 제1공간과 대향되는 제2공간에 제2포켓과 제5포켓이 배치되며, 상기 제2포켓과 제3포켓 사이에 마련되고 상단으로부터 미리 정해진 높이만큼 개구된 제1개구가 형성된 제1격벽, 상기 제3포켓과 제4포켓 사이에 마련되고 상단으로부터 미리 정해진 높이만큼 개구된 제2개구가 형성된 제2격벽, 상기 제4포켓과 제5포켓 사이에 마련되고 상단으로부터 미리 정해진 높이만큼 개구된 제3개구가 형성된 제3격벽, 상기 제3포켓과 제5포켓 사이에 마련되고 상단으로부터 미리 정해진 높이만큼 개구된 제4개구가 형성된 제4격벽, 상기 제2포켓과 제5포켓 사이에 마련되고 상단으로부터 미리 정해진 높이만큼 개구된 제5개구가 형성된 제5격벽을 포함하는 격벽; 및 상기 제3포켓과 제5포켓 사이에 배치되어 주파수를 커플링시키는 커플링 부재;를 더 포함하고, 상기 커플링 부재에 의해 상기 제3포켓과 제5포켓을 크로스 커플링하여 상기 제3포켓과 제5포켓의 주파수당 출력 데이터 값의 평탄도를 굴절시키고, 상기 제2포켓과 제5포켓을 커플링하여 주파수당 출력 데이터 값의 굴절포인트를 이동시킬 수 있다.In order to achieve the object of the present invention as described above, in the band pass filter suitable for the EVM according to an embodiment of the present invention, the first to fifth pockets in which the first to fifth resonators are respectively provided are shielded from the outside. A housing formed to be; An input port protruding from the housing, connected to the first pocket, and inputting a signal; And an output port protruding from the housing in a direction opposite to the input port, connected to the fifth pocket, and outputting a signal, wherein the housing includes a virtual A first pocket, a third pocket, and a fourth pocket are arranged in a first space including the input port based on a line, and a second pocket and a second pocket are included in a second space that faces the first space and includes the output port. A fifth pocket is disposed, a first partition wall provided between the second pocket and the third pocket and having a first opening opened by a predetermined height from the upper end, and provided between the third pocket and the fourth pocket, and from the upper end. A second partition wall having a second opening opened by a predetermined height, a third partition wall provided between the fourth and fifth pockets and having a third opening opened by a predetermined height from the upper end, the third pocket and the third A fourth partition wall provided between the five pockets and formed with a fourth opening that is opened by a predetermined height from the upper end, and a fifth opening formed between the second and fifth pockets and opened by a predetermined height from the upper end. A partition wall including a partition wall; And a coupling member disposed between the third pocket and the fifth pocket to couple a frequency; further comprising, the third pocket by cross-coupling the third pocket and the fifth pocket by the coupling member. The flatness of the output data value per frequency of the and fifth pockets may be refracted, and the refraction point of the output data value per frequency may be moved by coupling the second pocket and the fifth pocket.

본 발명의 일실시예에 따른 EVM에 적합한 밴드 패스 필터에 있어서, 주파수가 862㎒부터 867㎒까지 변경될 때 그룹 딜레이 시간이 0ns를 초과하고 35ns 이하일 수 있다.In the band pass filter suitable for the EVM according to an embodiment of the present invention, when the frequency is changed from 862 MHz to 867 MHz, the group delay time may exceed 0 ns and be 35 ns or less.

본 발명의 일실시예에 따른 EVM에 적합한 밴드 패스 필터에 있어서, 상기 커플링 부재는, 일단이 상기 제3포켓의 바닥에 고정되는 제1수직바와, 상기 제1수직바로부터 1차 절곡되어 제4개구를 통과하는 수평바, 및 상기 수평바로부터 2차 절곡되어 타단이 상기 제5포켓의 바닥에 고정되는 커플링 바; 및 상기 수평바가 관통하도록 배치되는 공진체;를 포함할 수 있다.In the band pass filter suitable for the EVM according to an embodiment of the present invention, the coupling member includes a first vertical bar having one end fixed to the bottom of the third pocket, and is first bent from the first vertical bar. A horizontal bar passing through the four openings, and a coupling bar secondly bent from the horizontal bar so that the other end is fixed to the bottom of the fifth pocket; And a resonator disposed to pass through the horizontal bar.

본 발명의 일실시예에 따른 EVM에 적합한 밴드 패스 필터에 있어서, 상기 공진체는, 상기 수평바가 관통하는 제1기둥; 상기 수평바가 관통하며 상기 제1기둥보다 지름이 확대되고 상기 제4개구의 폭보다 큰 제2기둥; 및 상기 수평바가 관통하며 상기 제2기둥보다 지름이 축소되고 상기 제4개구의 폭에 대응되는 제3기둥;을 포함하고, 상기 제3기둥을 중심으로 상기 수평바의 길이방향을 따라 상기 제2기둥과 제1기둥이 순차적으로 멀어지도록 배치되며, 상기 제2기둥에 의해 이탈이 방지될 수 있다.In the band pass filter suitable for EVM according to an embodiment of the present invention, the resonator includes: a first pillar through which the horizontal bar passes; A second pillar through which the horizontal bar passes, a diameter larger than that of the first pillar, and larger than a width of the fourth opening; And a third pillar that passes through the horizontal bar, has a diameter smaller than that of the second pillar, and corresponds to the width of the fourth opening, and includes the second pillar along the length direction of the horizontal bar around the third pillar. The pillars and the first pillars are arranged to be sequentially separated from each other, and separation may be prevented by the second pillars.

본 발명의 일실시예에 따른 EVM에 적합한 밴드 패스 필터에 있어서, 상기 제1포켓과 상기 제2포켓 사이는 개구되고, 상기 제1격벽과 상기 제3격벽은 동일한 a 높이로 형성되며, 상기 제2격벽과 상기 제5격벽은 동일한 b 높이로 형성되고, 상기 제4격벽은 c 높이로 형성되며, a > c > b 를 만족할 수 있다.In the band pass filter suitable for the EVM according to an embodiment of the present invention, the first pocket and the second pocket are opened, the first partition wall and the third partition wall are formed to have the same height a, and the first The second partition wall and the fifth partition wall are formed to have the same height b, and the fourth partition wall may be formed to have a height of c, and a> c> b may be satisfied.

본 발명에 따른 EVM에 적합한 밴드 패스 필터에 의하면, 유전체 공진기(Dielectric Resonator) 방식 대신 공동 공진기(Cavity Resonator)방식을 유지하면서 EVM에 적합한 값을 출력할 수 있다. 따라서 본 발명은 밴드 패스 필터의 제작 원가를 대폭 절감할 수 있다.According to the band pass filter suitable for the EVM according to the present invention, it is possible to output a value suitable for the EVM while maintaining the cavity resonator method instead of the dielectric resonator method. Therefore, the present invention can significantly reduce the manufacturing cost of the band pass filter.

도 1은 종래의 공동 공진기로 이루어진 밴드 패스 필터의 사시도이다.
도 2는 도 1의 출력 데이터값을 그래프로 나타낸 것이다.
도 3은 본 발명의 일실시예에 따른 EVM에 적합한 밴드 패스 필터의 사시도이다.
도 4는 도 3을 다른 각도에서 바라본 사시도이다.
도 5는 도 3의 평면도이다.
도 6은 도 3의 절단된 모습을 나타낸 사시도이다.
도 7은 본 발명의 일실시예에 따른 EVM에 적합한 밴드 패스 필터의 커플링 부재의 사시도이다.
도 8은 본 발명의 일실시예에 따른 EVM에 적합한 밴드 패스 필터를 테스트한 결과 그래프이다.
1 is a perspective view of a band pass filter made of a conventional cavity resonator.
2 is a graph showing the output data values of FIG. 1.
3 is a perspective view of a band pass filter suitable for an EVM according to an embodiment of the present invention.
4 is a perspective view of FIG. 3 viewed from a different angle.
5 is a plan view of FIG. 3.
FIG. 6 is a perspective view showing the cut form of FIG. 3.
7 is a perspective view of a coupling member of a band pass filter suitable for an EVM according to an embodiment of the present invention.
8 is a graph showing results of testing a band pass filter suitable for EVM according to an embodiment of the present invention.

이하, 본 발명의 일부 실시예들을 예시적인 도면을 통해 상세하게 설명한다. 각 도면의 구성요소들에 참조부호를 부가함에 있어서, 동일한 구성요소들에 대해서는 비록 다른 도면상에 표시되더라도 가능한 한 동일한 부호를 가지도록 하고 있음에 유의해야 한다. 또한, 본 발명의 실시예를 설명함에 있어, 관련된 공지 구성 또는 기능에 대한 구체적인 설명이 본 발명의 실시예에 대한 이해를 방해한다고 판단되는 경우에는 그 상세한 설명은 생략한다.Hereinafter, some embodiments of the present invention will be described in detail through exemplary drawings. In adding reference numerals to elements of each drawing, it should be noted that the same elements are assigned the same numerals as possible, even if they are indicated on different drawings. In addition, in describing an embodiment of the present invention, if it is determined that a detailed description of a related known configuration or function interferes with an understanding of the embodiment of the present invention, the detailed description thereof will be omitted.

또한, 본 발명의 실시예의 구성 요소를 설명하는 데 있어서, 제1, 제2, A, B, (a), (b) 등의 용어를 사용할 수 있다. 이러한 용어는 그 구성 요소를 다른 구성 요소와 구별하기 위한 것일 뿐, 그 용어에 의해 해당 구성 요소의 본질이나 차례 또는 순서 등이 한정되지 않는다. 어떤 구성 요소가 다른 구성요소에 “연결”, “결합” 또는 “접속”된다고 기재된 경우, 그 구성 요소는 그 다른 구성요소에 직접적으로 연결되거나 접속될 수 있지만, 각 구성 요소 사이에 또 다른 구성 요소가 “연결”, “결합” 또는 “접속”될 수도 있다고 이해되어야 할 것이다.In addition, in describing the constituent elements of the embodiment of the present invention, terms such as first, second, A, B, (a), and (b) may be used. These terms are for distinguishing the constituent element from other constituent elements, and the nature, order, or order of the constituent element is not limited by the term. If a component is described as being “connected”, “coupled” or “connected” to another component, that component may be directly connected or connected to that other component, but between each component another component It is to be understood that may be “connected”, “coupled” or “connected”.

이하에서는 본 발명의 일실시예에 따른 EVM에 적합한 밴드 패스 필터를 첨부된 도면을 참조하여 설명한다.Hereinafter, a band pass filter suitable for an EVM according to an embodiment of the present invention will be described with reference to the accompanying drawings.

도 3은 본 발명의 일실시예에 따른 EVM에 적합한 밴드 패스 필터의 사시도이고, 도 4는 도 3을 다른 각도에서 바라본 사시도이며, 도 5는 도 3의 평면도이고, 도 6은 도 3의 절단된 모습을 나타낸 사시도이며, 도 7은 본 발명의 일실시예에 따른 EVM에 적합한 밴드 패스 필터의 커플링 부재의 사시도이고, 도 8은 본 발명의 일실시예에 따른 EVM에 적합한 밴드 패스 필터를 테스트한 결과 그래프이다.3 is a perspective view of a band pass filter suitable for an EVM according to an embodiment of the present invention, FIG. 4 is a perspective view of FIG. 3 viewed from a different angle, FIG. 5 is a plan view of FIG. 3, and FIG. 6 is a cut-out of FIG. Fig. 7 is a perspective view of a coupling member of a band pass filter suitable for an EVM according to an embodiment of the present invention, and Fig. 8 is a band pass filter suitable for an EVM according to an embodiment of the present invention. This is a graph of the test results.

도 3 내지 도 7을 참조하면, 본 발명의 일실시예에 따른 EVM에 적합한 밴드 패스 필터는 하우징(100)과 입력포트(200) 및 출력포트(300)를 포함할 수 있다.3 to 7, a band pass filter suitable for an EVM according to an embodiment of the present invention may include a housing 100, an input port 200, and an output port 300.

하우징(100)은 직육면체일 수 있고, 내부에 공간이 마련될 수 있다. 상기 공간으로 제1 내지 제5포켓(110, 120, 130, 140, 150)이 준비될 수 있다. 제1 내지 제5포켓(110, 120, 130, 140, 150)은 각각 제1 내지 제5공진기(111, 121, 131, 141, 151)가 마련될 수 있다. 도면에는 제1 내지 제5공진기(111, 121, 131, 141, 151)가 원기둥 형상으로 도시되었지만, 제1 내지 제5공진기(111, 121, 131, 141, 151)는 제작자의 선택에 따라 다양한 형상으로 마련될 수 있다. 이때, 제1 내지 제5포켓(110, 120, 130, 140, 150)은 외부와 차폐되는 것이 바람직하다.The housing 100 may be a rectangular parallelepiped, and a space may be provided therein. First to fifth pockets 110, 120, 130, 140, and 150 may be prepared as the space. First to fifth pockets 110, 120, 130, 140, and 150 may be provided with first to fifth resonators 111, 121, 131, 141, and 151, respectively. In the drawings, the first to fifth resonators 111, 121, 131, 141, 151 are shown in a cylindrical shape, but the first to fifth resonators 111, 121, 131, 141, 151 are various according to the manufacturer's selection. It can be provided in a shape. At this time, it is preferable that the first to fifth pockets 110, 120, 130, 140, 150 are shielded from the outside.

하우징(100)의 일면에는 입력포트(200)가 마련될 수 있고, 타면에는 출력포트(300)가 마련될 수 있다. 도면에는 입력포트(200)와 출력포트(300)는 하우징(100)으로부터 서로 반대되는 방향으로 돌출되게 도시되었으나, 이는 제작자의 선택사항으로 입력포트(200)와 출력포트(300)가 배치되는 위치 또는 그 형태는 매우 다양하게 변경가능하다.An input port 200 may be provided on one surface of the housing 100, and an output port 300 may be provided on the other surface. In the drawing, the input port 200 and the output port 300 are shown to protrude from the housing 100 in opposite directions, but this is an option of the manufacturer, and the position where the input port 200 and the output port 300 are arranged. Or, its shape can be changed in a wide variety.

입력포트(200)는 제1포켓(110)과 연결되며 전기적인 신호가 입력되어 공진할 수 있다.The input port 200 is connected to the first pocket 110 and may resonate by inputting an electrical signal.

출력포트(300)는 제5포켓(150)과 연결되며 공진을 통해 전기적인 신호가 출력될 수 있다.The output port 300 is connected to the fifth pocket 150 and an electrical signal may be output through resonance.

하우징(100)에 마련된 제1 내지 제5포켓(110, 120, 130, 140, 150)은 입력포트(200)와 출력포트(300) 각각의 돌출된 방향을 길이방향으로 보고 상기 길이방향을 따라 형성된 가상의 중심선을 기준으로 나눌 수 있다. 이때, 편의상 입력포트(200)가 포함된 공간을 제1공간(미부호)으로 출력포트(300)가 포함된 공간을 제2공간(미부호)으로 부르기로 한다.The first to fifth pockets 110, 120, 130, 140, 150 provided in the housing 100 look at the protruding directions of the input port 200 and the output port 300 in the longitudinal direction, It can be divided based on the formed virtual center line. In this case, for convenience, the space including the input port 200 is referred to as a first space (unsigned), and the space including the output port 300 is referred to as a second space (unsigned).

상기 제1공간에는 입력포트(200)와 제1포켓(110), 제3포켓(130) 및 제4포켓(140)이 배치될 수 있다. 상기 제2공간은 상기 제1공간과 대향되며, 상기 제2공간에는 출력포트(300)와 제2포켓(120) 및 제5포켓(150)이 배치될 수 있다.An input port 200, a first pocket 110, a third pocket 130, and a fourth pocket 140 may be disposed in the first space. The second space may face the first space, and an output port 300, a second pocket 120, and a fifth pocket 150 may be disposed in the second space.

각각의 포켓(110, 120, 130, 140, 150)들 사이에는 격벽(160)이 마련될 수 있다. 격벽(160)은 제1 내지 제5격벽(161, 162, 163, 164, 165)을 포함할 수 있다.A partition wall 160 may be provided between the pockets 110, 120, 130, 140, and 150. The partition wall 160 may include first to fifth partition walls 161, 162, 163, 164, 165.

제1격벽(161)은 제2포켓(120)과 제3포켓(130) 사이에 마련되어 제2포켓(120)과 제3포켓(130)을 구분지을 수 있다. 제1격벽(161)은 제1개구(161a)가 형성되며 제1개구(161a)는 상단, 즉 하우징(100)의 천장으로부터 미리 정해진 높이만큼 개구될 수 있다.The first partition wall 161 may be provided between the second pocket 120 and the third pocket 130 to separate the second pocket 120 and the third pocket 130. The first partition wall 161 has a first opening 161a, and the first opening 161a may be opened from an upper end, that is, a ceiling of the housing 100 to a predetermined height.

제2격벽(162)은 제3포켓(130)과 제4포켓(140) 사이에 마련되어 제3포켓(130)과 제4포켓(140)을 구분지을 수 있다. 제2격벽(162)은 제2개구(162a)가 형성되며 제2개구(162a)는 상단, 즉 하우징(100)의 천장으로부터 미리 정해진 높이만큼 개구될 수 있다.The second partition wall 162 may be provided between the third pocket 130 and the fourth pocket 140 to separate the third pocket 130 and the fourth pocket 140. The second partition wall 162 has a second opening 162a, and the second opening 162a may be opened from an upper end, that is, a ceiling of the housing 100 to a predetermined height.

제3격벽(163)은 제4포켓(140)과 제5포켓(150) 사이에 마련되어 제4포켓(140)과 제5포켓(150)을 구분지을 수 있다. 제3격벽(163)은 제3개구(163a)가 형성되며 제3개구(163a)는 상단, 즉 하우징(100)의 천장으로부터 미리 정해진 높이만큼 개구될 수 있다.The third partition wall 163 may be provided between the fourth pocket 140 and the fifth pocket 150 to separate the fourth pocket 140 and the fifth pocket 150. The third partition wall 163 has a third opening 163a formed therein, and the third opening 163a may be opened from an upper end, that is, a ceiling of the housing 100 to a predetermined height.

제4격벽(164)은 제3포켓(130)과 제5포켓(150) 사이에 마련되어 제3포켓(130)과 제5포켓(150)을 구분지을 수 있다. 제4격벽(164)은 제4개구(164a)가 형성되며 제4개구(164a)는 상단, 즉 하우징(100)의 천장으로부터 미리 정해진 높이만큼 개구될 수 있다. 제4격벽(164)의 제4개구(164a)에는 후술하는 커플링 부재(170)가 마련될 수 있다. 제4격벽(164)과 제4개구(164a)에 의해 제3포켓(130)과 제5포켓(150)을 커플링하여 도 8의 그래프상에서 주파수당 출력 데이터 값의 굴절포인트를 사용자 또는 제작자의 의도에 따라 이동시킬 수 있다. 도 8을 참조하면, 5㎒에서 굴절포인트를 형성하였으나, 굴절포인트를 5㎒가 아닌 6㎒이나 7㎒에서도 형성이 가능한 것이다.The fourth partition wall 164 may be provided between the third pocket 130 and the fifth pocket 150 to separate the third pocket 130 and the fifth pocket 150. The fourth partition wall 164 has a fourth opening 164a, and the fourth opening 164a may be opened from an upper end, that is, a ceiling of the housing 100 to a predetermined height. A coupling member 170 to be described later may be provided in the fourth opening 164a of the fourth partition wall 164. By coupling the third pocket 130 and the fifth pocket 150 by the fourth partition wall 164 and the fourth opening 164a, the refraction point of the output data value per frequency on the graph of FIG. 8 is determined by the user or the manufacturer. You can move it according to your intentions. Referring to FIG. 8, a refraction point is formed at 5 MHz, but the refraction point can be formed at 6 MHz or 7 MHz instead of 5 MHz.

제5격벽(165)은 제2포켓(120)과 제5포켓(150) 사이에 마련되어 제2포켓(120)과 제5포켓(150)을 구분지을 수 있다. 제5격벽(165)은 제5개구(165a)가 형성되며 제5개구(165a)는 상단, 즉 하우징(100)의 천장으로부터 미리 정해진 높이만큼 개구될 수 있다. 제5격벽(165)과 제5개구(165a)에 의해 도 8의 그래프상에서 평탄도를 사용자 또는 제작자의 의도에 따라 굴절시킬 수 있다. 도 8을 참조하면, 5㎒에서 굴절이 된 것을 알 수 있다.The fifth partition wall 165 may be provided between the second pocket 120 and the fifth pocket 150 to separate the second pocket 120 and the fifth pocket 150. The fifth partition wall 165 has a fifth opening 165a, and the fifth opening 165a may be opened from an upper end, that is, a ceiling of the housing 100 to a predetermined height. The fifth partition wall 165 and the fifth opening 165a allow the flatness to be refracted according to the intention of the user or the manufacturer on the graph of FIG. 8. Referring to FIG. 8, it can be seen that the refraction is performed at 5 MHz.

참고로, 제1포켓(110)과 제2포켓(120) 사이는 격벽이 없이 개구된 상태인 것이 바람직하다.For reference, it is preferable that the first pocket 110 and the second pocket 120 be opened without a partition wall.

또한, 제1격벽(161)과 제3격벽(163)은 동일한 a 높이로 형성될 수 있다. 제2격벽(162)과 제5격벽(165)은 동일한 b 높이로 형성될 수 있다. 제4격벽(164)은 c 높이로 형성될 수 있다. 이때, 격벽(160)의 높이는 a > c > b 인 것이 바람직하다.In addition, the first partition wall 161 and the third partition wall 163 may be formed to have the same height a. The second partition wall 162 and the fifth partition wall 165 may be formed to have the same height b. The fourth partition wall 164 may be formed to have a height of c. At this time, the height of the partition wall 160 is preferably a> c> b.

도면에는 제1포켓(110)과 제3포켓(130) 사이에 격벽(미부호)이 마련된 것으로 보이지만, 제1포켓(110)과 제3포켓(130) 사이는 개구가 형성되지 않아 공진을 차단하므로 본 명세서에서 제1포켓(110)과 제3포켓(130) 사이의 격벽(미부호)에 대하여는 설명을 생략하기로 한다.In the drawing, it appears that a partition wall (not shown) is provided between the first pocket 110 and the third pocket 130, but no opening is formed between the first pocket 110 and the third pocket 130, thus blocking resonance. Therefore, in the present specification, a description of the partition wall (not shown) between the first pocket 110 and the third pocket 130 will be omitted.

커플링 부재(170)는 제3포켓(130)과 제5포켓(150) 사이에 배치될 수 있고, 주파수를 커플링시킬 수 있다.The coupling member 170 may be disposed between the third pocket 130 and the fifth pocket 150 and may couple frequencies.

커플링 부재(170)에 의해 제3포켓(130)과 제5포켓(150)을 크로스 커플링하여, 주파수당 출력 데이터 값의 평탄도를 굴절시킬 수 있다.By cross-coupling the third pocket 130 and the fifth pocket 150 by the coupling member 170, the flatness of the output data value per frequency may be refracted.

커플링 부재(170)는 커플링 바(171)와 공진체(172)를 포함할 수 있다.The coupling member 170 may include a coupling bar 171 and a resonator 172.

커플링 바(171)는 제1 및 제2수직바(171a, 171c)와 수평바(171b)를 포함할 수 있고, ‘ㄷ’자 형상으로 형성될 수 있다.The coupling bar 171 may include first and second vertical bars 171a and 171c and a horizontal bar 171b, and may be formed in a “C” shape.

제1수직바(171a)는 일단이 제3포켓(130)의 바닥에 고정되고 상기 바닥에 수직되게 배치되며, 타단은 수평방향으로 90°만큼 1차 절곡될 수 있다.One end of the first vertical bar 171a is fixed to the bottom of the third pocket 130 and is disposed perpendicular to the bottom, and the other end may be first bent by 90° in the horizontal direction.

수평바(171b)는 일단이 제1수직바(171a)로부터 연장될 수 있고, 타단은 상기 바닥에 수직방향으로 90°만큼 2차 절곡될 수 있다. 수평바(171b)는 제4개구(164a)를 통과할 수 있다.One end of the horizontal bar 171b may extend from the first vertical bar 171a, and the other end may be secondly bent by 90° in a direction perpendicular to the floor. The horizontal bar 171b may pass through the fourth opening 164a.

제2수직바(171c)는 일단이 수평바(171b)의 타단으로부터 연장될 수 있고, 타단은 제5포켓(150)의 바닥에 고정될 수 있으며 상기 바닥에 수직되게 배치될 수 있다.The second vertical bar 171c may have one end extending from the other end of the horizontal bar 171b, and the other end may be fixed to the bottom of the fifth pocket 150 and disposed perpendicular to the floor.

공진체(172)는 수평바(171b)가 관통할 수 있고, 제4개구(164a)를 통과하도록 배치될 수 있다.The resonator 172 may pass through the horizontal bar 171b and may be disposed to pass through the fourth opening 164a.

공진체(172)는 제1 내지 제3기둥(172a, 172b, 172c)을 포함할 수 있다. 수평바(171b)에 설치되는 공진체(172)는 수평바(171b)의 길이방향을 따라 제1기둥(172a), 제2기둥(172b), 제3기둥(172c), 제2기둥(172b), 제1기둥(172a)의 순서로 배치될 수 있다.The resonator 172 may include first to third pillars 172a, 172b, and 172c. The resonator 172 installed on the horizontal bar 171b includes a first pillar 172a, a second pillar 172b, a third pillar 172c, and a second pillar 172b along the longitudinal direction of the horizontal bar 171b. ), may be arranged in the order of the first pillar 172a.

수평바(171b)는 제1 내지 제3기둥(172a, 172b, 172c)을 관통할 수 있다.The horizontal bar 171b may pass through the first to third pillars 172a, 172b, and 172c.

제2기둥(172b)은 제1기둥(172a)보다 지름이 확대될 수 있다. 제2기둥(172b)은 제4개구(164a)의 폭보다 크게 형성될 수 있다.The second pillar 172b may have a larger diameter than the first pillar 172a. The second pillar 172b may be formed larger than the width of the fourth opening 164a.

제3기둥(172c)은 제2기둥(172b)보다 지름이 축소되고 제4개구(164a)의 폭에 대응될 수 있다.The third pillar 172c may have a smaller diameter than the second pillar 172b and may correspond to the width of the fourth opening 164a.

즉, 공진체(172)는 제3기둥(172c)을 중심으로 대칭될 수 있다. 다시 말해, 제3기둥(172c)을 중심으로 제2기둥(172b)과 제1기둥(172a)이 수평바(171b)의 길이방향을 따라 순차적으로 멀어지도록 배치될 수 있다.That is, the resonator 172 may be symmetrical around the third pillar 172c. In other words, the second pillar 172b and the first pillar 172a may be arranged to be sequentially separated from the third pillar 172c along the longitudinal direction of the horizontal bar 171b.

또한, 제3기둥(172c)은 제4개구(164a), 즉 제4격벽(164)의 상단에 걸쳐지도록 배치될 수 있다. 이때, 제3기둥(172c)의 외경은 제4개구(164a)의 폭과 동일하거나 그보다 작게 형성된다는 것을 의미한다.In addition, the third pillar 172c may be disposed to span the fourth opening 164a, that is, the upper end of the fourth partition wall 164. In this case, it means that the outer diameter of the third pillar 172c is equal to or smaller than the width of the fourth opening 164a.

또한 제2기둥(172b)의 크기에 의해 공진체(172)는 제4개구(164a)에서 이탈되지 않는다.In addition, the resonator 172 is not separated from the fourth opening 164a due to the size of the second pillar 172b.

상기에서 언급했다시피, 개구(161a, 162a, 163a, 164a, 165a)를 통해 서로 이웃하는 포켓끼리 주파수가 커플링 될 수 있다. 이와 같이 포켓이 늘어날 수록 주파수의 필터링이 샤프해져서 통과 또는 저지의 특성이 좋아지지만, 삽입손실이나 군지연(Group Delay)이 나빠지고 필터의 크기도 커질 수 있다.As mentioned above, frequencies may be coupled between neighboring pockets through the openings 161a, 162a, 163a, 164a, and 165a. As the number of pockets increases, the filtering of the frequency becomes sharper and the pass or block characteristics are improved. However, insertion loss or group delay may deteriorate and the size of the filter may increase.

본 발명의 일실시예에 따른 EVM에 적합한 밴드 패스 필터는 개구된 부분을 통해서 제1공진기(111)로부터 제5공진기(115)까지 순차적으로 공진될 수 있다.The band pass filter suitable for the EVM according to an embodiment of the present invention may be sequentially resonated from the first resonator 111 to the fifth resonator 115 through the open portion.

그러나 제3포켓(130)과 제5포켓(150) 사이의 제4격벽(164)에 위치한 제4개구(164a)와 커플링 부재(170)에 의해 출력값의 평탄도가 굴절될 수 있다.However, the flatness of the output value may be refracted by the fourth opening 164a and the coupling member 170 located in the fourth partition wall 164 between the third pocket 130 and the fifth pocket 150.

또한 제2포켓(120)과 제5포켓(150) 사이의 제5격벽(165)에 위치한 제5개구(165a)에 의해 굴절포인트가 이동될 수 있다.In addition, the refraction point may be moved by the fifth opening 165a located in the fifth partition wall 165 between the second pocket 120 and the fifth pocket 150.

도 8을 참조하면, 그래프 상에 표시된 원 또는 타원 부분을 살펴보면 본 발명의 일실시예에서 출력값의 평탄도가 도 2에 도시된 종래의 값에 비해 굴절됨을 알 수 있다. 또한, 이때의 867㎒(그래프상 ‘△’지점은 862㎒, 4지점은 상기 ‘△’지점으로부터 5㎒가 증가된 지점) 일때의 군지연(Group Delay) 값은 31.089㎱로 도 2에 도시된 종래의 결과 값인 68.797㎱에 비해 훨씬 짧은 군지연이 이루어지고 EVM(Error Vector Magnitude)에서 요구하는 기준값인 35㎱ max를 만족시킴을 알 수 있다.Referring to FIG. 8, looking at a portion of a circle or an ellipse displayed on a graph, it can be seen that in an embodiment of the present invention, the flatness of the output value is refracted compared to the conventional value shown in FIG. 2. In addition, the Group Delay value at this time at 867 MHz (the'△' point on the graph is 862 MHz, and the 4 point is the point where 5 MHz is increased from the'△' point) is 31.089 ㎱, as shown in FIG. It can be seen that the group delay is much shorter than that of the conventional result of 68.797 ㎱ and satisfies the reference value of 35 ㎱ max required by EVM (Error Vector Magnitude).

이상에서 설명한 것은 본 발명에 따른 EVM에 적합한 밴드 패스 필터를 실시하기 위한 실시예에 불과한 것으로서, 본 발명은 상기한 실시예에 한정되지 않고, 이하 특허청구범위에서 청구하는 본 발명의 요지를 벗어남이 없이 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 누구든지 다양하게 변경하여 실시가능한 범위까지 본 발명의 기술적 정신이 있다고 할 것이다.What has been described above is only an embodiment for implementing a band pass filter suitable for the EVM according to the present invention, and the present invention is not limited to the above embodiment, and departs from the gist of the present invention claimed in the following claims. Without it, anyone of ordinary skill in the technical field to which the present invention pertains will have the technical spirit of the present invention to the extent that it can be implemented by making various changes.

100 : 하우징 110 : 제1포켓
111 : 제1공진기 120 : 제2포켓
121 : 제2공진기 130 : 제3포켓
131 : 제공진기 140 : 제4포켓
141 : 제4공진기 150 : 제5포켓
151 : 제5공진기 160 : 격벽
161 : 제1격벽 161a : 제1개구
162 : 제2격벽 162a : 제2개구
163 : 제3격벽 163a : 제3개구
164 : 제4격벽 164a : 제4개구
165 : 제5격벽 165a : 제5개구
170 : 커플링 부재 171 : 커플링 바
171a : 제1수직바 171b : 수평바
171c : 제2수직바 172 : 공진체
172a : 제1기둥 172b : 제2기둥
172c : 제3기둥 200 : 입력포트
300 : 출력포트
100: housing 110: first pocket
111: first resonator 120: second pocket
121: second resonator 130: third pocket
131: provided novelty 140: fourth pocket
141: fourth resonator 150: fifth pocket
151: fifth resonator 160: bulkhead
161: first partition wall 161a: first opening
162: second bulkhead 162a: second opening
163: third bulkhead 163a: third opening
164: fourth bulkhead 164a: fourth opening
165: fifth bulkhead 165a: fifth opening
170: coupling member 171: coupling bar
171a: first vertical bar 171b: horizontal bar
171c: second vertical bar 172: resonator
172a: first pillar 172b: second pillar
172c: 3rd pillar 200: input port
300: output port

Claims (5)

내부에 제1 내지 제5공진기가 각각 마련된 제1 내지 제5포켓이 외부와 차폐되도록 형성된 하우징;
상기 하우징으로부터 돌출되고 상기 제1포켓과 연결되며 신호가 입력되는 입력포트; 및
상기 입력포트와 반대방향으로 상기 하우징으로부터 돌출되고 상기 제5포켓과 연결되며 신호가 출력되는 출력포트;
를 포함하고,
상기 하우징은,
상기 입력포트와 상기 출력포트를 길이방향을 따라 나누는 가상의 선을 기준으로 상기 입력포트가 포함된 제1공간에 제1포켓과 제3포켓 및 제4포켓이 배치되고, 상기 출력포트가 포함되며 상기 제1공간과 대향되는 제2공간에 제2포켓과 제5포켓이 배치되며,
상기 제2포켓과 제3포켓 사이에 마련되고 상단으로부터 미리 정해진 높이만큼 개구된 제1개구가 형성된 제1격벽, 상기 제3포켓과 제4포켓 사이에 마련되고 상단으로부터 미리 정해진 높이만큼 개구된 제2개구가 형성된 제2격벽, 상기 제4포켓과 제5포켓 사이에 마련되고 상단으로부터 미리 정해진 높이만큼 개구된 제3개구가 형성된 제3격벽, 상기 제3포켓과 제5포켓 사이에 마련되고 상단으로부터 미리 정해진 높이만큼 개구된 제4개구가 형성된 제4격벽, 상기 제2포켓과 제5포켓 사이에 마련되고 상단으로부터 미리 정해진 높이만큼 개구된 제5개구가 형성된 제5격벽을 포함하는 격벽; 및
상기 제3포켓과 제5포켓 사이에 배치되어 주파수를 커플링시키는 커플링 부재;
를 더 포함하고,
상기 커플링 부재에 의해 상기 제3포켓과 제5포켓을 크로스 커플링하여 상기 제3포켓과 제5포켓의 주파수당 출력 데이터 값의 평탄도를 굴절시키고, 상기 제2포켓과 제5포켓을 커플링하여 주파수당 출력 데이터 값의 굴절포인트를 이동시키는 EVM에 적합한 밴드 패스 필터.
A housing formed such that first to fifth pockets each provided with first to fifth resonators therein are shielded from the outside;
An input port protruding from the housing, connected to the first pocket, and inputting a signal; And
An output port protruding from the housing in a direction opposite to the input port, connected to the fifth pocket, and outputting a signal;
Including,
The housing,
A first pocket, a third pocket, and a fourth pocket are arranged in a first space including the input port based on a virtual line dividing the input port and the output port along the length direction, and the output port is included. A second pocket and a fifth pocket are arranged in a second space facing the first space,
A first partition wall provided between the second and third pockets and having a first opening opened from an upper end by a predetermined height, and a first partition provided between the third and fourth pockets and opened by a predetermined height from the upper end. A second partition having two openings, a third partition provided between the fourth and fifth pockets and having a third opening formed at a predetermined height from the upper end, and provided between the third and fifth pockets and at the upper end A partition wall including a fourth partition wall having a fourth opening that is opened by a predetermined height from, and a fifth partition wall provided between the second and fifth pockets and having a fifth opening that is opened by a predetermined height from an upper end; And
A coupling member disposed between the third and fifth pockets to couple frequencies;
Including more,
The third pocket and the fifth pocket are cross-coupled by the coupling member to refract the flatness of the output data value per frequency of the third and fifth pockets, and the second and fifth pockets are coupled. Bandpass filter suitable for EVM that moves the refraction point of the output data value per frequency by ringing.
제1항에 있어서,
주파수가 862㎒부터 867㎒까지 변경될 때 그룹 딜레이 시간이 0ns를 초과하고 35ns 이하인 EVM에 적합한 밴드 패스 필터.
The method of claim 1,
Bandpass filter suitable for EVM where the group delay time exceeds 0ns and is less than 35ns when the frequency is changed from 862MHz to 867MHz.
제1항에 있어서,
상기 커플링 부재는,
일단이 상기 제3포켓의 바닥에 고정되는 제1수직바와, 상기 제1수직바로부터 1차 절곡되어 제4개구를 통과하는 수평바, 및 상기 수평바로부터 2차 절곡되어 타단이 상기 제5포켓의 바닥에 고정되는 커플링 바; 및
상기 수평바가 관통하도록 배치되는 공진체;
를 포함하는 EVM에 적합한 밴드 패스 필터.
The method of claim 1,
The coupling member,
A first vertical bar having one end fixed to the bottom of the third pocket, a horizontal bar that is first bent from the first vertical bar and passes through a fourth opening, and a second end is bent from the horizontal bar so that the other end is the fifth pocket. A coupling bar fixed to the bottom of the door; And
A resonator disposed to pass through the horizontal bar;
Bandpass filter suitable for EVM including a.
제3항에 있어서,
상기 공진체는,
상기 수평바가 관통하는 제1기둥;
상기 수평바가 관통하며 상기 제1기둥보다 지름이 확대되고 상기 제4개구의 폭보다 큰 제2기둥; 및
상기 수평바가 관통하며 상기 제2기둥보다 지름이 축소되고 상기 제4개구의 폭에 대응되는 제3기둥;
을 포함하고,
상기 제3기둥을 중심으로 상기 수평바의 길이방향을 따라 상기 제2기둥과 제1기둥이 순차적으로 멀어지도록 배치되며, 상기 제2기둥에 의해 이탈이 방지되는 EVM에 적합한 밴드 패스 필터.
The method of claim 3,
The resonator,
A first pillar through which the horizontal bar passes;
A second pillar through which the horizontal bar passes, a diameter larger than that of the first pillar, and larger than a width of the fourth opening; And
A third pillar through which the horizontal bar passes, a diameter smaller than that of the second pillar, and corresponding to a width of the fourth opening;
Including,
A band pass filter suitable for EVM in which the second pillar and the first pillar are arranged to be sequentially separated from each other along the longitudinal direction of the horizontal bar with the third pillar as the center, and separation is prevented by the second pillar.
제1항에 있어서,
상기 제1포켓과 상기 제2포켓 사이는 개구되고,
상기 제1격벽과 상기 제3격벽은 동일한 a 높이로 형성되며,
상기 제2격벽과 상기 제5격벽은 동일한 b 높이로 형성되고,
상기 제4격벽은 c 높이로 형성되며,
a > c > b 를 만족하는 EVM에 적합한 밴드 패스 필터.
The method of claim 1,
An opening between the first pocket and the second pocket,
The first partition wall and the third partition wall are formed to have the same height a,
The second partition wall and the fifth partition wall are formed to have the same height b,
The fourth partition wall is formed to a height of c,
A band pass filter suitable for EVM that satisfies a>c> b.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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KR101559083B1 (en) 2015-04-03 2015-10-12 주식회사 디스 Tuner to tune the resonant frequency of dielectric resonator filter
JP2016517190A (en) * 2012-12-13 2016-06-09 エプコス アクチエンゲゼルシャフトEpcos Ag Electroacoustic bandpass filter with flattened insertion loss.

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