KR102249475B1 - manufacturing method of polyamic acid composition comprising novel dicarbonyl compounds, polyamic acid composition, manufacturing method of polyamide-imide film using the polyamic acid composition and polyamide-imide film using the same - Google Patents

manufacturing method of polyamic acid composition comprising novel dicarbonyl compounds, polyamic acid composition, manufacturing method of polyamide-imide film using the polyamic acid composition and polyamide-imide film using the same Download PDF

Info

Publication number
KR102249475B1
KR102249475B1 KR1020190000243A KR20190000243A KR102249475B1 KR 102249475 B1 KR102249475 B1 KR 102249475B1 KR 1020190000243 A KR1020190000243 A KR 1020190000243A KR 20190000243 A KR20190000243 A KR 20190000243A KR 102249475 B1 KR102249475 B1 KR 102249475B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
polyamic acid
bis
compound
dianhydride
solvent
Prior art date
Application number
KR1020190000243A
Other languages
Korean (ko)
Other versions
KR20200084482A (en
Inventor
김진모
안용호
김상현
오경옥
최은지
Original Assignee
주식회사 대림
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 주식회사 대림 filed Critical 주식회사 대림
Priority to KR1020190000243A priority Critical patent/KR102249475B1/en
Priority to JP2021538723A priority patent/JP7317123B2/en
Priority to CN201980086790.0A priority patent/CN113439101B/en
Priority to PCT/KR2019/015111 priority patent/WO2020141713A1/en
Publication of KR20200084482A publication Critical patent/KR20200084482A/en
Application granted granted Critical
Publication of KR102249475B1 publication Critical patent/KR102249475B1/en

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08GMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G73/00Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing nitrogen with or without oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule, not provided for in groups C08G12/00 - C08G71/00
    • C08G73/06Polycondensates having nitrogen-containing heterocyclic rings in the main chain of the macromolecule
    • C08G73/10Polyimides; Polyester-imides; Polyamide-imides; Polyamide acids or similar polyimide precursors
    • C08G73/14Polyamide-imides
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08GMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G73/00Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing nitrogen with or without oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule, not provided for in groups C08G12/00 - C08G71/00
    • C08G73/06Polycondensates having nitrogen-containing heterocyclic rings in the main chain of the macromolecule
    • C08G73/10Polyimides; Polyester-imides; Polyamide-imides; Polyamide acids or similar polyimide precursors
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08GMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G73/00Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing nitrogen with or without oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule, not provided for in groups C08G12/00 - C08G71/00
    • C08G73/06Polycondensates having nitrogen-containing heterocyclic rings in the main chain of the macromolecule
    • C08G73/10Polyimides; Polyester-imides; Polyamide-imides; Polyamide acids or similar polyimide precursors
    • C08G73/1003Preparatory processes
    • C08G73/1007Preparatory processes from tetracarboxylic acids or derivatives and diamines
    • C08G73/1028Preparatory processes from tetracarboxylic acids or derivatives and diamines characterised by the process itself, e.g. steps, continuous
    • C08G73/1032Preparatory processes from tetracarboxylic acids or derivatives and diamines characterised by the process itself, e.g. steps, continuous characterised by the solvent(s) used
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08JWORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
    • C08J5/00Manufacture of articles or shaped materials containing macromolecular substances
    • C08J5/18Manufacture of films or sheets
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08LCOMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
    • C08L79/00Compositions of macromolecular compounds obtained by reactions forming in the main chain of the macromolecule a linkage containing nitrogen with or without oxygen or carbon only, not provided for in groups C08L61/00 - C08L77/00
    • C08L79/04Polycondensates having nitrogen-containing heterocyclic rings in the main chain; Polyhydrazides; Polyamide acids or similar polyimide precursors
    • C08L79/08Polyimides; Polyester-imides; Polyamide-imides; Polyamide acids or similar polyimide precursors
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08JWORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
    • C08J2379/00Characterised by the use of macromolecular compounds obtained by reactions forming in the main chain of the macromolecule a linkage containing nitrogen with or without oxygen, or carbon only, not provided for in groups C08J2361/00 - C08J2377/00
    • C08J2379/04Polycondensates having nitrogen-containing heterocyclic rings in the main chain; Polyhydrazides; Polyamide acids or similar polyimide precursors
    • C08J2379/08Polyimides; Polyester-imides; Polyamide-imides; Polyamide acids or similar polyimide precursors
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08LCOMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
    • C08L2201/00Properties
    • C08L2201/10Transparent films; Clear coatings; Transparent materials

Abstract

본 발명은 폴리아믹산 조성물의 제조방법, 폴리아믹산 조성물, 이를 이용한 폴리아미드-이미드 필름의 제조방법 및 그 제조방법을 통해 제조된 폴리아미드-이미드 필름에 관한 것으로, 보다 정확히 신규한 디카르보닐 화합물, 방향족 및 지환족 고리를 포함하는 디카르보닐 화합물의 적용을 통해 우수한 광학 특성, 높은 유리전이온도 및 낮은 열팽창 계수를 갖는 폴리아믹산 조성물의 제조방법, 폴리아믹산 조성물, 이를 이용한 폴리아미드-이미드 필름의 제조방법 및 그 제조방법을 통해 제조된 폴리아미드-이미드 필름에 관한 것이다The present invention relates to a method for preparing a polyamic acid composition, a polyamic acid composition, a method for preparing a polyamide-imide film using the same, and a polyamide-imide film prepared through the method, and more precisely, a novel dicarbonyl Method for producing a polyamic acid composition having excellent optical properties, high glass transition temperature and low coefficient of thermal expansion through the application of a compound, a dicarbonyl compound containing an aromatic and alicyclic ring, a polyamic acid composition, and a polyamide-imide using the same It relates to a method of manufacturing a film and a polyamide-imide film manufactured through the manufacturing method.

Description

신규한 디카르보닐 화합물을 포함하는 폴리아믹산 조성물의 제조방법, 폴리아믹산 조성물, 이를 이용한 폴리아미드-이미드 필름의 제조방법 및 그 제조방법을 통해 제조된 폴리아미드-이미드 필름.{manufacturing method of polyamic acid composition comprising novel dicarbonyl compounds, polyamic acid composition, manufacturing method of polyamide-imide film using the polyamic acid composition and polyamide-imide film using the same}A method for preparing a polyamic acid composition containing a novel dicarbonyl compound, a polyamic acid composition, a method for preparing a polyamide-imide film using the same, and a polyamide-imide film prepared through the method. {manufacturing method of polyamic acid composition comprising novel dicarbonyl compounds, polyamic acid composition, manufacturing method of polyamide-imide film using the polyamic acid composition and polyamide-imide film using the same}

본 발명은 폴리아믹산 조성물의 제조방법, 폴리아믹산 조성물, 이를 이용한 폴리아미드-이미드 필름의 제조방법 및 그 제조방법을 통해 제조된 폴리아미드-이미드 필름에 관한 것으로, 보다 정확히 신규한 디카르보닐 화합물, 방향족 및 지환족 고리를 포함하는 디카르보닐 화합물의 적용을 통해 우수한 광학 특성, 높은 유리전이온도 및 낮은 열팽창 계수를 갖는 폴리아믹산 조성물의 제조방법, 폴리아믹산 조성물, 이를 이용한 폴리아미드-이미드 필름의 제조방법 및 그 제조방법을 통해 제조된 폴리아미드-이미드 필름에 관한 것이다The present invention relates to a method for preparing a polyamic acid composition, a polyamic acid composition, a method for preparing a polyamide-imide film using the same, and a polyamide-imide film prepared through the method, and more precisely, a novel dicarbonyl Method for producing a polyamic acid composition having excellent optical properties, high glass transition temperature and low coefficient of thermal expansion through the application of a compound, a dicarbonyl compound containing an aromatic and alicyclic ring, a polyamic acid composition, and a polyamide-imide using the same It relates to a method of manufacturing a film and a polyamide-imide film manufactured through the manufacturing method.

차세대 디스플레이 장치로 주목 받고 있는 플렉서블 디스플레이의 기판 소재는 가볍고, 깨지지 않으며, 휨이 가능하고, 용이한 가공성으로 형태의 제약이 없어야 한다. 현재 디스플레이 기판 소재로 사용되는 유리 기판보다 가벼울 뿐만 아니라 깨지지 않고, 제조가 용이하여, 박막형 필름의 제조가 가능한 고분자 재료가 플렉서블 디스플레이의 구현을 위한 가장 적합한 소재로 주목 받고 있다.The substrate material of a flexible display, which is attracting attention as a next-generation display device, should be light, unbreakable, bendable, and should have no shape restrictions due to easy processability. A polymer material that is lighter than a glass substrate used as a material for a display substrate, is not broken, and is easy to manufacture, and thus capable of manufacturing a thin film, is attracting attention as the most suitable material for realizing a flexible display.

종래 플렉서블 디바이스는 일반적으로 유기 발광 다이오드(OLED) 디스플레이를 사용하고, 높은 공정 온도(300~500℃)의 TFT 공정이 사용되고 있다. 이러한 높은 공정 온도를 견디는 고분자 재료는 극히 제한 적이다. 따라서 최근에는 투명 플렉서블 디스플레이용 플라스틱 기판 후보로서 내열성 및 치수 안정성이 우수한 폴리이미드 수지에 대한 활용이 증가되고 있다.Conventional flexible devices generally use an organic light emitting diode (OLED) display, and a TFT process having a high process temperature (300 to 500°C) is used. Polymeric materials that can withstand these high process temperatures are extremely limited. Therefore, in recent years, the use of polyimide resins having excellent heat resistance and dimensional stability as candidate plastic substrates for transparent flexible displays has been increasing.

플렉서블 디스플레이 기판의 적용을 위해서는 우수한 내열성 및 치수안정성뿐만 아니라, 디스플레이 시야각 확보를 위한 우수한 투과성, 낮은 굴절률, 위상지연 특성이 필수적이다. 하지만 통상적인 폴리이미드의 색상은 갈색 또는 황색을 띄고 있으며, 이는 폴리이미드의 분자 내(intra molecular) 또는 분자 간(inter molecular) 상호작용에 의한 전자 이동 복합체(Charge Transfer Complex, CTC)가 주된 원인이다.For the application of a flexible display substrate, excellent heat resistance and dimensional stability, as well as excellent transmittance, low refractive index, and phase delay characteristics for securing a display viewing angle are essential. However, the color of a typical polyimide is brown or yellow, and this is mainly due to the charge transfer complex (CTC) caused by intra-molecular or inter-molecular interactions of the polyimide. .

상기와 같은 갈색 또는 황색을 가지고 있는 폴리이미드에 우수한 광특성을 부여하기 위해서는 체적이 크거나, 강한 전기음성도를 가지는 곁가지를 도입하여 공명효과를 낮추고 또는 사슬내의 유연성을 줄 수 있는 linkage group(-COO-, -O-, SO2-, -CO-)을 도입하여 분자 내 또는 분자 간 상호작용에 의한 전자 이동 복합체 형성을 최소화하여 광특성을 제공할 수 있다.In order to impart excellent optical properties to the brown or yellow polyimide as described above, a linkage group (- COO-, -O-, SO 2 -, -CO-) can be introduced to minimize the formation of electron transfer complexes due to intramolecular or intermolecular interactions, thereby providing optical properties.

하지만, 상기와 같은 방법으로 개선된 폴리이미드는 종래의 폴리이미드 보다 광학적 성질은 우수하나 열적, 기계적 성질이 낮다는 단점을 가지고 있는데, 이는 폴리이미드의 주사슬에 광학적 성질의 개선을 위해 도입된 유연한 구조 또는 전기 음성도가 큰 그룹이 열적, 기계적 성질을 오히려 저하시키기 때문이다.However, the polyimide improved by the above method has a disadvantage in that the optical properties are superior to that of the conventional polyimide, but the thermal and mechanical properties are low.This is a flexible material introduced in the main chain of the polyimide to improve the optical properties. This is because a group having a large structure or electronegativity deteriorates the thermal and mechanical properties.

상기와 같은 문제를 해결하기 위해 폴리이미드 주사슬에 아미드기를 포함하는 폴리아미드-이미드 구조가 제시되었는데 이는 폴리아미드와 폴리이미드의 시너지 효과로 인해 높은 열안정성, 기계적 특성을 가지고 있으며, 다른 폴리이미드와 비교하였을 때 사슬간 수소결합에 의해 더 높은 열특성을 가지고 있으며, 아미드계의 극성 용매에 좋은 용해도를 갖고 있는 것으로 알려져 있다. 이런 장점을 바탕으로 폴리아미드-이미드는 다양한 전자재료 응용분야에 사용되고 있다.In order to solve the above problems, a polyamide-imide structure including an amide group in the polyimide main chain has been proposed, which has high thermal stability and mechanical properties due to the synergistic effect of polyamide and polyimide. Compared with, it has higher thermal properties due to interchain hydrogen bonds, and is known to have good solubility in amide-based polar solvents. Based on these advantages, polyamide-imide is used in various electronic material applications.

본 발명은 위와 같은 문제점을 해결하기 위한 것으로서, 그 구체적인 목적은 아래와 같다.The present invention is to solve the above problems, the specific purpose of which is as follows.

본 발명에서는 신규한 디카보닐 화합물을 비롯한 방향족 및 지환족 고리를 포함하는 특정 구조의 디카보닐 화합물을 적용하여 우수한 광학 특성, 유리전이온도 및 낮은 열팽창계수를 가지는 고내열 폴리아미드-이미드를 발명하고자 한다.In the present invention, by applying a dicarbonyl compound having a specific structure including an aromatic and alicyclic ring, including a novel dicarbonyl compound, to invent a high heat-resistant polyamide-imide having excellent optical properties, a glass transition temperature, and a low coefficient of thermal expansion. do.

본 발명에 따르면, 디카르보닐 화합물, 디아민 화합물, 산 이무수물 화합물 및 이들의 조합으로 이루어진 군에서 선택된 하나를 포함하고, 상기 디카르보닐 화합물은 하기 화학식1, 화학식2, 화학식3, 화학식4, 화학식5, 화학식6, 화학식7 및 이들의 조합으로 이루어진 군에서 선택된 하나의 화합물을 포함하는 것을 특징으로 하는 폴리아믹산을 제공한다.According to the present invention, one selected from the group consisting of a dicarbonyl compound, a diamine compound, an acid dianhydride compound, and a combination thereof is included, and the dicarbonyl compound is represented by the following Chemical Formulas 1, 2, 3, 4, It provides a polyamic acid comprising one compound selected from the group consisting of Chemical Formula 5, Chemical Formula 6, Chemical Formula 7, and combinations thereof.

[화학식1][Formula 1]

Figure 112019000276650-pat00001
Figure 112019000276650-pat00001

[화학식2][Formula 2]

Figure 112019000276650-pat00002
Figure 112019000276650-pat00002

[화학식3][Formula 3]

Figure 112019000276650-pat00003
Figure 112019000276650-pat00003

[화학식4][Formula 4]

Figure 112019000276650-pat00004
Figure 112019000276650-pat00004

[화학식5][Formula 5]

Figure 112019000276650-pat00005
Figure 112019000276650-pat00005

[화학식6][Formula 6]

Figure 112019000276650-pat00006
Figure 112019000276650-pat00006

[화학식7][Formula 7]

Figure 112019000276650-pat00007
Figure 112019000276650-pat00007

상기 디아민 화합물는 불소화 방향족 디아민 단량체, 비불소화 방향족 다이민 단량체 및 이들의 조합으로 이루어진 군에서 선택된 하나를 포함할 수 있다.The diamine compound may include one selected from the group consisting of a fluorinated aromatic diamine monomer, a non-fluorinated aromatic dimine monomer, and a combination thereof.

상기 디아민 화합물은 2,2'-비스(트리플루오로메틸)-4,4'-디아미노비페닐(TFMB), 4,4'-옥시디아닐린(ODA), 4,4'-메틸렌디아닐린(MDA), p-페닐렌디아민(pPDA), m-페닐렌디아민(mPDA), p-메틸렌디아닐린(pMDA), m-메틸렌디아닐린(mMDA), p-시클로헥산디아민(pCHDA), p-자일리렌디아민(pXDA), m-자일리렌디아민(mXDA), m-시클로헥산디아민(mXDA), 4,4'-디아미노디페닐설폰(DDS), 2,2-비스[4-(4-아미노페녹시)페닐]-1,1,1,3,3,3-헥사플루오로 프로판(BAFP), 2,2-비스[4-(4-아미노페녹시)페닐]프로판(BAPP), 2,2'-비스(3-아미노-4-메틸페닐)헥사플루오로프로판(BAMF), 2,2'-비스(3-아미노페닐)-헥사플루오로프로판(BAPF), 3,5-디아미노벤조트리프루오라이드(DABF), 2,2'-비스(트리플루오로메틸)-4,4'-디아미노디페닐에테르(BTDE), 2,2-비스(3-아미노-4-히드록시페닐)헥사프루오로프로판(BAHH) 및 이들의 조합으로 이루어진 군에서 선택된 하나를 포함할 수 있다.The diamine compound is 2,2'-bis(trifluoromethyl)-4,4'-diaminobiphenyl (TFMB), 4,4'-oxydianiline (ODA), 4,4'-methylenedianiline (MDA), p-phenylenediamine (pPDA), m-phenylenediamine (mPDA), p-methylenedianiline (pMDA), m-methylenedianiline (mMDA), p-cyclohexanediamine (pCHDA), p -Xylylenediamine (pXDA), m-xylylenediamine (mXDA), m-cyclohexanediamine (mXDA), 4,4'-diaminodiphenylsulfone (DDS), 2,2-bis[4-(4) -Aminophenoxy)phenyl]-1,1,1,3,3,3-hexafluoro propane (BAFP), 2,2-bis[4-(4-aminophenoxy)phenyl]propane (BAPP), 2,2'-bis(3-amino-4-methylphenyl)hexafluoropropane (BAMF), 2,2'-bis(3-aminophenyl)-hexafluoropropane (BAPF), 3,5-diamino Benzotrifluoride (DABF), 2,2'-bis (trifluoromethyl) -4,4'-diaminodiphenyl ether (BTDE), 2,2-bis (3-amino-4-hydroxy) It may include one selected from the group consisting of phenyl) hexafluoropropane (BAHH) and combinations thereof.

상기 산 이무수물 화합물은 불소화 방향족 산 이무수물, 비불소화 방향족 산 이무수물 및 이들의 조합으로 이루어진 군에서 선택된 하나를 포함할 수 있다.The acid dianhydride compound may include one selected from the group consisting of a fluorinated aromatic acid dianhydride, a non-fluorinated aromatic acid dianhydride, and a combination thereof.

상기 불소화 방향족 산 이무수물은 4,4'-(헥사플루오로이소프로필리덴)디프탈산 무수물(4,4'-(Hexafluoroisopropylidene)diphthalic anhydride, 6FDA)), 4,4'-(4,4'-헥사플루오로이소프로필리덴디페녹시)비스-(프탈산 무수물)(4,4'-(4,4'-Hexafluoroisopropylidenediphenoxy)bis-(phthalic anhydride, 6-FDPDA) 및 이들의 조합으로 이루어진 군에서 선택된 하나를 포함할 수 있다.The fluorinated aromatic acid dianhydride is 4,4'-(hexafluoroisopropylidene)diphthalic anhydride (4,4'-(Hexafluoroisopropylidene)diphthalic anhydride, 6FDA)), 4,4'-(4,4'- One selected from the group consisting of hexafluoroisopropylidenediphenoxy)bis-(phthalic anhydride)(4,4'-(4,4'-Hexafluoroisopropylidenediphenoxy)bis-(phthalic anhydride, 6-FDPDA) and combinations thereof It may include.

상기 비불소화 방향족 산 이무수물은 피로멜리트산 이무수물, 피로멜리트산 이무수물(pyromellitic dianhydride, PMDA), 3,3',4,4'-비페닐테트라카르복실산 이무수물(3,3'4,4'-biphenyltetracarboxylic acid dianhydride, BPDA), 3,3',4,4'-벤조페논테트라카르복실산 이무수물(3,3',4,4'-benzophenonetetracarboxylic dianhydride, BTDA), 4,4'-옥시다이프탈산 무수물(4,4′-oxydiphthalic anhydride, ODPA), 2,2-비스[4-(3,4-디카르복시페녹시)페닐]프로판 무수물(2,2-Bis[4-(3,4-dicarboxyphenoxy) phenyl]propane dianhydride, BPADA), 3,3',4,4'-디페닐 술폰 테트라 카르복실산 무수물, 에틸렌 글리콜 비스(4-트리멜리테이트 무수물)(3,3’,4,4’-Diphenyl sufone tetracarboxylic dianhydride, DSDA), 사이클로부탄테트라카르복실산 이수물(CBDA), 4-(2,5-디옥소테트라하이드로푸란-3-일)-1,2,3,4-테트라하이드로나프탈렌-1,2-디카르복실산 이수물(TDA), 피로멜리틱산 이수물(PMDA), 벤조페논 테트라카르복실산 이수물(BTDA), 옥시디프탈릭 이수물(ODPA), 바이시클로[2.2.2]옥트-7엔-2,3,5,6-테트라카르복실산 이수물(BTDA), 3,3',4,4-비페니레트라카르복실산 이수물(s-BPDA) 및 이들의 조합으로 이루어진 군에서 선택된 하나를 포함할 수 있다.The non-fluorinated aromatic acid dianhydride is pyromellitic dianhydride, pyromellitic dianhydride (PMDA), 3,3',4,4'-biphenyltetracarboxylic dianhydride (3,3'4). ,4'-biphenyltetracarboxylic acid dianhydride, BPDA), 3,3',4,4'-benzophenonetetracarboxylic dianhydride (3,3',4,4'-benzophenonetetracarboxylic dianhydride, BTDA), 4,4' -Oxydiphthalic anhydride (4,4′-oxydiphthalic anhydride, ODPA), 2,2-bis[4-(3,4-dicarboxyphenoxy)phenyl]propane anhydride (2,2-Bis[4-(3 ,4-dicarboxyphenoxy) phenyl]propane dianhydride, BPADA), 3,3',4,4'-diphenyl sulfone tetracarboxylic anhydride, ethylene glycol bis(4-trimelitate anhydride) (3,3',4 ,4'-Diphenyl sufone tetracarboxylic dianhydride, DSDA), cyclobutanetetracarboxylic dianhydride (CBDA), 4-(2,5-dioxotetrahydrofuran-3-yl)-1,2,3,4- Tetrahydronaphthalene-1,2-dicarboxylic acid dihydrate (TDA), pyromellitic acid dihydrate (PMDA), benzophenone tetracarboxylic acid dihydride (BTDA), oxydiphthalic dihydride (ODPA), bicyclo [2.2.2] Oct-7ene-2,3,5,6-tetracarboxylic acid dihydride (BTDA), 3,3',4,4-biphenyretracarboxylic acid dihydride (s-BPDA ) And may include one selected from the group consisting of a combination thereof.

상기 어느 하나의 폴리아믹산은 점도가 23℃에서 1,000 내지 10,000cp일 수 있다.Any one of the polyamic acid may have a viscosity of 1,000 to 10,000 cp at 23°C.

본 발명에 따르면 상기 어느 하나의 폴리아믹산을 포함하는 것을 특징으로 하는 폴리아미드-이미드 필름을 제공한다.According to the present invention, a polyamide-imide film comprising any one of the above polyamic acids is provided.

상기 폴리아미드-이미드 필름은 두께가 10 내지 15㎛일 때, 황색도(Yellow Index, Y.I.) 10이하, 100 내지 250℃에서 열팽창계수(Coefficient of thermal expansion, C.T.E.) 20ppm/℃ 이하, 유리전이온도가 360℃ 이상 및 550㎚ 파장에서의 투과도가 85% 이상일 수 있다.When the polyamide-imide film has a thickness of 10 to 15 μm, a yellow index (YI) of 10 or less, a coefficient of thermal expansion (CTE) of 20 ppm/℃ or less at 100 to 250°C, glass transition Transmittance at a temperature of 360° C. or higher and a wavelength of 550 nm may be 85% or higher.

본 발명에 따르면, 디아민 화합물 및 용매를 혼합하여 혼합물을 제조하는 단계; 및 상기 혼합물에 디카르보닐 화합물 및 산 이무수물을 투입 및 중합하여 폴리아믹산 용액을 제조하는 단계;를 포함하고, 상기 디카르보닐 화합물은 하기 화학식1, 화학식2, 화학식3, 화학식4, 화학식5, 화학식6, 화학식7 및 이들의 조합으로 이루어진 군에서 선택된 하나의 화합물을 포함하는 것을 특징으로 하는 폴리아믹산 제조방법을 제공할 수 있다.According to the present invention, preparing a mixture by mixing a diamine compound and a solvent; And preparing a polyamic acid solution by adding and polymerizing a dicarbonyl compound and an acid dianhydride to the mixture, wherein the dicarbonyl compound includes the following Chemical Formulas 1, 2, 3, 4, and 5 , Formula 6, Formula 7, and a method for producing a polyamic acid, characterized in that it comprises one compound selected from the group consisting of a combination thereof.

[화학식1][Formula 1]

Figure 112019000276650-pat00008
Figure 112019000276650-pat00008

[화학식2][Formula 2]

Figure 112019000276650-pat00009
Figure 112019000276650-pat00009

[화학식3][Formula 3]

Figure 112019000276650-pat00010
Figure 112019000276650-pat00010

[화학식4][Formula 4]

Figure 112019000276650-pat00011
Figure 112019000276650-pat00011

[화학식5][Formula 5]

Figure 112019000276650-pat00012
Figure 112019000276650-pat00012

[화학식6][Formula 6]

Figure 112019000276650-pat00013
Figure 112019000276650-pat00013

[화학식7][Formula 7]

Figure 112019000276650-pat00014
Figure 112019000276650-pat00014

혼합물을 제조하는 단계에서 상기 용매는 극성용매, 저 비점 용매, 저 흡수성 용매, 퍼짐성 용매 및 이들의 조합으로 이루어진 군에서 선택되고, 상기 극성용매는 m-크레졸, N-메틸-2-피롤리돈(NMP), N,N-디메틸포름아미드(DMF), 디메틸아세트아미드(DMAc), 디메틸설폭사이드(DMSO), 디에틸아세테이트(DEA), 3-메톡시-N,N-디메틸 프로판아미드(DMPA), N,N-디메틸 프로피노아미드(DPA), N,N-디메틸락타미드(DML) 및 이들의 조합으로 이루어진 군에서 선택되고, 상기 저 비점 용매는 테트라하이드로퓨란(THF), 트리클로로메탄(클로로포름, TCM) 및 이들의 조합으로 이루어진 군에서 선택되고, 상기 저 흡수성 용매는 감마-부티로락톤(GBL), 3-메톡시-N,N-디메틸프로판아미드(DMPA), N,N-디메틸 프로피노아미드(DPA), N,N-디메틸락타미드(DML), N-메틸-2-피롤리돈(NMP) 및 이들의 조합으로 이루어진 군에서 선택되고, 상기 퍼짐성 용매로는 에틸렌글리콜모노부틸에테르(EGBE), 에틸렌글리콜디메틸에테르(EGME), 에틸렌글리콜디에틸에테르(EGDE), 에틸렌글리콜디프로필에테르(EGDPE), 에틸렌글리콜디부틸에테르(EGDBE) 및 이들의 조합으로 이루어진 군에서 선택된 하나일 수 있다.In the step of preparing the mixture, the solvent is selected from the group consisting of a polar solvent, a low boiling point solvent, a low absorption solvent, a spreading solvent, and a combination thereof, and the polar solvent is m-cresol, N-methyl-2-pyrrolidone (NMP), N,N-dimethylformamide (DMF), dimethylacetamide (DMAc), dimethyl sulfoxide (DMSO), diethyl acetate (DEA), 3-methoxy-N,N-dimethyl propanamide (DMPA) ), N,N-dimethyl propinoamide (DPA), N,N-dimethyllactamide (DML), and combinations thereof, and the low boiling point solvent is tetrahydrofuran (THF), trichloromethane (Chloroform, TCM) and a combination thereof, and the low absorption solvent is gamma-butyrolactone (GBL), 3-methoxy-N,N-dimethylpropanamide (DMPA), N,N- It is selected from the group consisting of dimethyl propinoamide (DPA), N,N-dimethyllactamide (DML), N-methyl-2-pyrrolidone (NMP), and combinations thereof, and the spreadable solvent is ethylene glycol mono One selected from the group consisting of butyl ether (EGBE), ethylene glycol dimethyl ether (EGME), ethylene glycol diethyl ether (EGDE), ethylene glycol dipropyl ether (EGDPE), ethylene glycol dibutyl ether (EGDBE), and combinations thereof Can be

상기 저 흡수성 용매로 감마부티로락톤 30 내지 70몰% 및 N-메틸-2-피롤리돈 30 내지 70몰%를 포함하는 제1 저 흡수성 용매 혼합물, 감마-부티로락톤 30 내지 70몰% 및 N,N-디메틸 프로피노아미드 30 내지 70몰%를 포함하는 제2 저 흡수성 용매 혼합물, 감마-부티로락톤 30 내지 70몰% 및 3-메톡시-N,N-디메틸 프로판아미드 30 내지 70몰%를 포함하는 제3 저 흡수성 용매 혼합물, N,N-디메틸 프로피노아미드 100몰% 또는 3-메톡시-N,N-디메틸 프로판아미드 100몰%를 포함할 수 있다.A first low-absorption solvent mixture containing 30 to 70 mol% of gamma butyrolactone and 30 to 70 mol% of N-methyl-2-pyrrolidone as the low-absorption solvent, 30 to 70 mol% of gamma-butyrolactone, and A second low-absorption solvent mixture comprising 30 to 70 mole percent of N,N-dimethyl propinoamide, 30 to 70 mole percent gamma-butyrolactone and 30 to 70 moles of 3-methoxy-N,N-dimethyl propanamide The third low-absorption solvent mixture comprising %, 100 mol% of N,N-dimethyl propinoamide or 100 mol% of 3-methoxy-N,N-dimethyl propanamide may be included.

상기 용매는 에틸렌글리콜모노부틸에테르(EGBE), 에틸렌글리콜디메틸에테르(EGME), 에틸렌글리콜디에틸에테르(EGDE), 에틸렌글리콜디프로필에테르(EGDPE), 에틸렌글리콜디부틸에테르(EGDBE) 및 이들의 조합으로 이루어진 군에서 선택된 하나의 퍼짐성 용매를 포함할 수 있다.The solvent is ethylene glycol monobutyl ether (EGBE), ethylene glycol dimethyl ether (EGME), ethylene glycol diethyl ether (EGDE), ethylene glycol dipropyl ether (EGDPE), ethylene glycol dibutyl ether (EGDBE), and combinations thereof It may include one spreading solvent selected from the group consisting of.

폴리아믹산 용액을 제조하는 단계에서 상기 디카르보닐 화합물은 상기 디아민 화합물 기준으로 20 내지 100몰% 포함할 수 있다.In the step of preparing a polyamic acid solution, the dicarbonyl compound may contain 20 to 100 mol% based on the diamine compound.

혼합물을 제조하는 단계에서 상기 혼합은 질소분위기 및 25 내지 30℃의 온도에서 30 내지 60분 동안 진행될 수 있다.In the step of preparing the mixture, the mixing may be performed for 30 to 60 minutes in a nitrogen atmosphere and at a temperature of 25 to 30°C.

폴리아믹산 용액을 제조하는 단계에서 상기 혼합물에 가소제, 산화방지제, 난연화제, 분산제, 점도 조절제, 레벨링제 및 이들의 조합으로 이루어진 군에서 선택된 하나를 더 투입할 수 있다.In the step of preparing the polyamic acid solution, one selected from the group consisting of a plasticizer, an antioxidant, a flame retardant, a dispersant, a viscosity modifier, a leveling agent, and a combination thereof may be further added to the mixture.

폴리아믹산 용액을 제조하는 단계에서 상기 중합은 10 내지 70℃ 온도에서 6 내지 48시간 동안 진행될 수 있다.In the step of preparing a polyamic acid solution, the polymerization may be performed at a temperature of 10 to 70° C. for 6 to 48 hours.

폴리아믹산 용액을 제조하는 단계에서 상기 디아민 화합물, 디카르보닐 화합물 및 산 이무수물은 상기 폴리아믹산 용액의 고형분을 구성하고, 상기 고형분의 함량은 상기 폴리아믹산 용액 기준으로 10 내지 40중량%일 수 있다.In the step of preparing a polyamic acid solution, the diamine compound, dicarbonyl compound, and acid dianhydride constitute a solid content of the polyamic acid solution, and the content of the solid content may be 10 to 40% by weight based on the polyamic acid solution. .

폴리아믹산 용액을 제조하는 단계에서 상기 산 이무수물 화합물 및 상기 디카르보닐 화합물은 디아민 화합물 기준으로 100 내지 105몰%를 포함할 수 있다.In the step of preparing a polyamic acid solution, the acid dianhydride compound and the dicarbonyl compound may contain 100 to 105 mol% based on the diamine compound.

본 발명에 따르면 상기 어느 하나의 폴리아믹산 제조방법에 있어서, 상기 폴리아믹산 용액을 기재 상에 코팅하여 투명 코팅층을 형성하는 단계; 및 상기 투명 코팅층을 열처리하는 단계;를 더 포함하고, 상기 열처리는 질소분위기의 100 내지 450℃ 온도에서 30 내지 120분 동안 진행되는 것을 특징으로 하는 폴리아미드-이미드 필름 제조방법을 제공한다.According to the present invention, in any one of the polyamic acid manufacturing method, the steps of forming a transparent coating layer by coating the polyamic acid solution on a substrate; And heat-treating the transparent coating layer, wherein the heat treatment is performed for 30 to 120 minutes at a temperature of 100 to 450° C. in a nitrogen atmosphere.

본 발명에 따르면 플렉서블 디스플레이용 커버기판, 광학필름, 터치패널 기판 소재, 반도체 소재 등에 유용하게 활용될 수 있는 투명하면서 우수한 기계적 특성, 높은 내열특성 및 낮은 열팽창계수 특성을 갖는 폴리아미드-이미드 필름을 제공할 수 있다.According to the present invention, a polyamide-imide film having transparent and excellent mechanical properties, high heat resistance and low coefficient of thermal expansion that can be usefully used for a cover substrate for a flexible display, an optical film, a touch panel substrate material, a semiconductor material, etc. Can provide.

본 발명의 효과는 이상에서 언급한 효과로 한정되지 않는다. 본 발명의 효과는 이하의 설명에서 추론 가능한 모든 효과를 포함하는 것으로 이해되어야 할 것이다.The effects of the present invention are not limited to the above-mentioned effects. It should be understood that the effects of the present invention include all effects that can be inferred from the following description.

이상의 본 발명의 목적들, 다른 목적들, 특징들 및 이점들은 첨부된 도면과 관련된 이하의 바람직한 실시예들을 통해서 쉽게 이해될 것이다. 그러나 본 발명은 여기서 설명되는 실시예들에 한정되지 않고 다른 형태로 구체화될 수도 있다. 오히려, 여기서 소개되는 실시예들은 개시된 내용이 철저하고 완전해질 수 있도록 그리고 통상의 기술자에게 본 발명의 사상이 충분히 전달될 수 있도록 하기 위해 제공되는 것이다.The above objects, other objects, features, and advantages of the present invention will be easily understood through the following preferred embodiments related to the accompanying drawings. However, the present invention is not limited to the embodiments described herein and may be embodied in other forms. Rather, the embodiments introduced herein are provided so that the disclosed content may be thorough and complete, and the spirit of the present invention may be sufficiently conveyed to those skilled in the art.

각 도면을 설명하면서 유사한 참조부호를 유사한 구성요소에 대해 사용하였다. 첨부된 도면에 있어서, 구조물들의 치수는 본 발명의 명확성을 위하여 실제보다 확대하여 도시한 것이다. 제1, 제2 등의 용어는 다양한 구성요소들을 설명하는데 사용될 수 있지만, 상기 구성요소들은 상기 용어들에 의해 한정되어서는 안 된다. 상기 용어들은 하나의 구성요소를 다른 구성요소로부터 구별하는 목적으로만 사용된다. 예를 들어, 본 발명의 권리 범위를 벗어나지 않으면서 제1 구성요소는 제2 구성요소로 명명될 수 있고, 유사하게 제2 구성요소도 제1 구성요소로 명명될 수 있다. 단수의 표현은 문맥상 명백하게 다르게 뜻하지 않는 한, 복수의 표현을 포함한다.In describing each drawing, similar reference numerals have been used for similar elements. In the accompanying drawings, the dimensions of the structures are shown to be enlarged than actual for clarity of the present invention. Terms such as first and second may be used to describe various elements, but the elements should not be limited by the terms. The above terms are used only for the purpose of distinguishing one component from another component. For example, without departing from the scope of the present invention, a first element may be referred to as a second element, and similarly, a second element may be referred to as a first element. Singular expressions include plural expressions unless the context clearly indicates otherwise.

본 명세서에서, "포함하다" 또는 "가지다" 등의 용어는 명세서 상에 기재된 특징, 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부품 또는 이들을 조합한 것이 존재함을 지정하려는 것이지, 하나 또는 그 이상의 다른 특징들이나 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부분품 또는 이들을 조합한 것들의 존재 또는 부가 가능성을 미리 배제하지 않는 것으로 이해되어야 한다. 또한, 층, 막, 영역, 판 등의 부분이 다른 부분 "상에" 있다고 할 경우, 이는 다른 부분 "바로 위에" 있는 경우뿐만 아니라 그 중간에 또 다른 부분이 있는 경우도 포함한다. 반대로 층, 막, 영역, 판 등의 부분이 다른 부분 "하부에" 있다고 할 경우, 이는 다른 부분 "바로 아래에" 있는 경우뿐만 아니라 그 중간에 또 다른 부분이 있는 경우도 포함한다.In the present specification, terms such as "comprise" or "have" are intended to designate the presence of features, numbers, steps, actions, components, parts, or combinations thereof described in the specification, but one or more other features. It is to be understood that the presence or addition of elements or numbers, steps, actions, components, parts, or combinations thereof, does not preclude in advance the possibility of being added. Further, when a part such as a layer, film, region, plate, etc. is said to be "on" another part, this includes not only the case where the other part is "directly above", but also the case where there is another part in the middle. Conversely, when a part such as a layer, a film, a region, or a plate is said to be "under" another part, this includes not only the case where the other part is "directly below" but also the case where there is another part in the middle.

달리 명시되지 않는 한, 본 명세서에서 사용된 성분, 반응 조건, 폴리머 조성물 및 배합물의 양을 표현하는 모든 숫자, 값 및/또는 표현은, 이러한 숫자들이 본질적으로 다른 것들 중에서 이러한 값을 얻는 데 발생하는 측정의 다양한 불확실성이 반영된 근사치들이므로, 모든 경우 "약"이라는 용어에 의해 수식되는 것으로 이해되어야 한다. 또한, 본 기재에서 수치범위가 개시되는 경우, 이러한 범위는 연속적이며, 달리 지적되지 않는 한 이러한 범 위의 최소값으로부터 최대값이 포함된 상기 최대값까지의 모든 값을 포함한다. 더 나아가, 이러한 범위가 정수를 지칭하는 경우, 달리 지적되지 않는 한 최소값으로부터 최대값이 포함된 상기 최대값까지를 포함하는 모든 정수가 포함된다.Unless otherwise specified, all numbers, values, and/or expressions expressing quantities of ingredients, reaction conditions, polymer compositions, and formulations used herein are those that occur in obtaining these values, among other things essentially. Since they are approximations that reflect the various uncertainties of the measurement, it should be understood as being modified in all cases by the term "about". In addition, when numerical ranges are disclosed herein, such ranges are continuous and, unless otherwise indicated, include all values from the minimum value of this range to the maximum value including the maximum value. Furthermore, where this range refers to an integer, all integers from the minimum to the maximum value including the maximum value are included, unless otherwise indicated.

본 명세서에 있어서, 범위가 변수에 대해 기재되는 경우, 상기 변수는 상기 범위의 기재된 종료점들을 포함하는 기재된 범위 내의 모든 값들을 포함하는 것으로 이해될 것이다. 예를 들면, "5 내지 10"의 범위는 5, 6, 7, 8, 9, 및 10의 값들뿐만 아니라 6 내지 10, 7 내지 10, 6 내지 9, 7 내지 9 등의 임의의 하위 범위를 포함하고, 5.5, 6.5, 7.5, 5.5 내지 8.5 및 6.5 내지 9 등과 같은 기재된 범위의 범주에 타당한 정수들 사이의 임의의 값도 포함하는 것으로 이해될 것이다. 또한 예를 들면, "10% 내지 30%"의 범위는 10%, 11%, 12%, 13% 등의 값들과 30%까지를 포함하는 모든 정수들뿐만 아니라 10% 내지 15%, 12% 내지 18%, 20% 내지 30% 등의 임의의 하위 범위를 포함하고, 10.5%, 15.5%, 25.5% 등과 같이 기재된 범위의 범주 내의 타당한 정수들 사이의 임의의 값도 포함하는 것으로 이해될 것이다.In the present specification, where a range is described for a variable, it will be understood that the variable includes all values within the stated range, including the stated endpoints of the range. For example, a range of “5 to 10” includes values of 5, 6, 7, 8, 9, and 10, as well as any subranges such as 6 to 10, 7 to 10, 6 to 9, 7 to 9, etc. Inclusive, and it will be understood to include any values between integers that are reasonable in the scope of the stated range, such as 5.5, 6.5, 7.5, 5.5 to 8.5 and 6.5 to 9, and the like. Also, for example, the range of "10% to 30%" is 10% to 15%, 12% to 10%, 11%, 12%, 13%, etc., as well as all integers including up to 30%. It will be understood to include any subranges, such as 18%, 20% to 30%, and the like, and include any values between reasonable integers within the scope of the stated range, such as 10.5%, 15.5%, 25.5%, and the like.

본 발명은 신규한 디카르보닐 화합물을 포함하는 폴리아믹산 조성물의 제조방법, 폴리아믹산 조성물, 이를 이용한 폴리아미드-이미드 필름의 제조방법 및 그 제조방법을 통해 제조된 폴리아미드-이미드 필름에 관한 것으로, 상기 폴리아믹산 조성물 및 이를 포함하는 폴리아미드-이미드 필름과 폴리아믹산 조성물 및 폴리아미드-이미드 필름의 제조방법으로 구분하여 설명하겠다.The present invention relates to a method for preparing a polyamic acid composition containing a novel dicarbonyl compound, a polyamic acid composition, a method for preparing a polyamide-imide film using the same, and a polyamide-imide film prepared through the method As described above, the polyamic acid composition and a polyamide-imide film including the same, and a method of preparing a polyamic acid composition and a polyamide-imide film will be described.

폴리아믹산 조성물Polyamic acid composition

본 발명의 폴리아믹산은 디카르보닐 화합물, 디아민 화합물, 산 이무수물 화합물 및 이들의 조합으로 이루어진 군에서 선택된 하나를 포함하고, 상기 디카르보닐 화합물은 하기 화학식1, 화학식2, 화학식3, 화학식4, 화학식5, 화학식6, 화학식7 및 이들의 조합으로 이루어진 군에서 선택된 하나의 화합물;을 포함하는 것이 특징이다.The polyamic acid of the present invention includes one selected from the group consisting of a dicarbonyl compound, a diamine compound, an acid dianhydride compound, and a combination thereof, and the dicarbonyl compound is represented by the following Chemical Formulas 1, 2, 3, and 4 , Formula 5, Formula 6, Formula 7 and one compound selected from the group consisting of a combination thereof; characterized by including.

상기 폴리아믹산을 구성하는 각 성분에 대해 설명하겠다.Each component constituting the polyamic acid will be described.

디카르보닐 화합물Dicarbonyl compound

본 발명의 디카르보닐 화합물은 신규한 디카르보닐 화합물인 4,4'-{2,2'-비스(트리플루오로메틸)-[1,1'-바이페닐]-4,4'-비스(이미노카르보닐)}비스(벤조일 클로라이드) (BTBC), 벤조페논- 4,4'-디카르복실 클로라이드 (BPDC), 2,2'-비스(트리프루오로메틸)-[1,1'-바이페닐]-4,4'-디카르복실 클로라이드 (TFBC), 4,4'-[4,4'-(헥사프루오로이소프로피리딘) 디프탈리미드]비스(벤조일 클로라이드) (BHIC), [2,2'-비스(트리프루오로메틸)-[1,1'-바이페닐]-4,4'-비스(이미드)]비스 (프탈릴 클로라이드) (BTIC), 4,4'-[1,2,4,5- 싸이클로헥산테트라카르복실l이미드]비스(벤조일 클로라이드) (BHCC), 1,4-싸이클로헥실-비스(이미드)]비스(프탈릴 클로라이드) (CHIC) 및 이들의 조합으로 이루어진 군에서 선택된 하나를 포함하는 것이 특징이다.The dicarbonyl compound of the present invention is a novel dicarbonyl compound, 4,4'-{2,2'-bis(trifluoromethyl)-[1,1'-biphenyl]-4,4'-bis (Iminocarbonyl)}bis(benzoyl chloride) (BTBC), benzophenone-4,4'-dicarboxyl chloride (BPDC), 2,2'-bis(trifluoromethyl)-[1,1 '-Biphenyl]-4,4'-dicarboxyl chloride (TFBC), 4,4'-[4,4'-(hexafluoroisopropidine) diphthalimide]bis(benzoyl chloride) (BHIC ), [2,2'-bis(trifluoromethyl)-[1,1'-biphenyl]-4,4'-bis(imide)]bis(phthalyl chloride) (BTIC), 4, 4'-[1,2,4,5-cyclohexanetetracarboxylimide]bis(benzoyl chloride) (BHCC), 1,4-cyclohexyl-bis(imide)]bis(phthalyl chloride) ( It is characterized by including one selected from the group consisting of CHIC) and combinations thereof.

상기의 디카르보닐 화합물은 하기 화학식1, 화학식2, 화학식3, 화학식4, 화학식5, 화학식6, 화학식7에 나타나 있다.The dicarbonyl compound is represented by the following formulas 1, 2, 3, 4, 5, 6, and 7.

[화학식1][Formula 1]

Figure 112019000276650-pat00015
Figure 112019000276650-pat00015

4,4'-{2,2'-비스(트리플루오로메틸)-[1,1'-바이페닐]-4,4'-비스(이미노카르보닐)}비스(벤조일 클로라이드) (BTBC)4,4'-{2,2'-bis(trifluoromethyl)-[1,1'-biphenyl]-4,4'-bis(iminocarbonyl)}bis(benzoyl chloride) (BTBC)

[화학식2][Formula 2]

Figure 112019000276650-pat00016
Figure 112019000276650-pat00016

벤조페논- 4,4'-디카르복실 클로라이드 (BPDC)Benzophenone-4,4'-dicarboxyl chloride (BPDC)

[화학식3][Formula 3]

Figure 112019000276650-pat00017
Figure 112019000276650-pat00017

2,2'-비스(트리프루오로메틸)-[1,1'-바이페닐]-4,4'-디카르복실 클로라이드 (TFBC)2,2'-bis(trifluoromethyl)-[1,1'-biphenyl]-4,4'-dicarboxyl chloride (TFBC)

[화학식4][Formula 4]

Figure 112019000276650-pat00018
Figure 112019000276650-pat00018

4,4'-[4,4'-(헥사프루오로이소프로피리딘) 디프탈리미드]비스(벤조일 클로라이드) (BHIC)4,4'-[4,4'-(hexafluoroisopropidine) diphthalimide]bis(benzoyl chloride) (BHIC)

[화학식5][Formula 5]

Figure 112019000276650-pat00019
Figure 112019000276650-pat00019

[2,2'-비스(트리프루오로메틸)-[1,1'-바이페닐]-4,4'-비스(이미드)]비스 (프탈릴 클로라이드) (BTIC)[2,2'-bis(trifluoromethyl)-[1,1'-biphenyl]-4,4'-bis(imide)]bis (phthalyl chloride) (BTIC)

[화학식6][Formula 6]

Figure 112019000276650-pat00020
Figure 112019000276650-pat00020

4,4'-[1,2,4,5- 싸이클로헥산테트라카르복실l이미드]비스(벤조일 클로라이드) (BHCC)4,4'-[1,2,4,5-cyclohexanetetracarboxylimide]bis(benzoyl chloride) (BHCC)

[화학식7][Formula 7]

Figure 112019000276650-pat00021
Figure 112019000276650-pat00021

1,4-싸이클로헥실-비스(이미드)]비스(프탈릴 클로라이드) (CHIC)1,4-cyclohexyl-bis(imide)]bis(phthalyl chloride) (CHIC)

본 발명에서는 상기 화학식1의 디카르보닐 화합물을 특정한 합성과정을 거쳐 얻게되는데, 화학식1의 합성과정은 하기 제조예에서 설명토록 하겠다.In the present invention, the dicarbonyl compound of Formula 1 is obtained through a specific synthesis process, and the synthesis process of Formula 1 will be described in the following Preparation Example.

디아민 화합물Diamine compound

본 발명의 디아민 화합물은 불소화 방향족 디아민 단량체, 비불소화 방향족 디아민 단량체 및 이들의 조합으로 이루어진 군에서 선택된 하나를 포함한다.The diamine compound of the present invention includes one selected from the group consisting of a fluorinated aromatic diamine monomer, a non-fluorinated aromatic diamine monomer, and a combination thereof.

상기 불소화 방향족 디아민 단량체는 2,2'-비스(트리플루오로메틸)-4,4'-디아미노비페닐(TFMB), 2,2-비스[4-(4-아미노페녹시)페닐]-1,1,1,3,3,3-헥사플루오로 프로판(BAFP), 2,2'-비스(3-아미노-4-메틸페닐)헥사플루오로프로판(BAMF), 2,2'-비스(3-아미노페닐)-헥사플루오로프로판(BAPF), 3,5-디아미노벤조트리프루오라이드(DABF), 2,2'-비스(트리플루오로메틸)-4,4'-디아미노디페닐에테르(BTDE), 2,2-비스(3-아미노-4-히드록시페닐)헥사프루오로프로판(BAHH) 및 이들의 조합으로 이루어진 군에서 선택된 하나를 사용하는 것이 바람직하다.The fluorinated aromatic diamine monomer is 2,2'-bis(trifluoromethyl)-4,4'-diaminobiphenyl (TFMB), 2,2-bis[4-(4-aminophenoxy)phenyl]- 1,1,1,3,3,3-hexafluoro propane (BAFP), 2,2'-bis (3-amino-4-methylphenyl) hexafluoropropane (BAMF), 2,2'-bis ( 3-aminophenyl)-hexafluoropropane (BAPF), 3,5-diaminobenzotrifluoride (DABF), 2,2'-bis(trifluoromethyl)-4,4'-diaminodi It is preferable to use one selected from the group consisting of phenyl ether (BTDE), 2,2-bis(3-amino-4-hydroxyphenyl)hexafluoropropane (BAHH), and combinations thereof.

상기 비불소화 방향족 디아민 단량체는 4,4'-옥시디아닐린(ODA), 4,4'-메틸렌디아닐린(MDA), p-페닐렌디아민(pPDA), m-페닐렌디아민(mPDA), p-메틸렌디아닐린(pMDA), m-메틸렌디아닐린(mMDA), p-시클로헥산디아민(pCHDA), p-자일리렌디아민(pXDA), m-자일리렌디아민(mXDA), m-시클로헥산디아민(mXDA), 4,4'-디아미노디페닐설폰(DDS), 2,2-비스[4-(4-아미노페녹시)페닐]프로판(BAPP) 및 이들의 조합으로 이루어진 군에서 선택된 하나인 것이 바람직하다.The non-fluorinated aromatic diamine monomer is 4,4'-oxydianiline (ODA), 4,4'-methylenedianiline (MDA), p-phenylenediamine (pPDA), m-phenylenediamine (mPDA), p -Methylenedianiline (pMDA), m-methylenedianiline (mMDA), p-cyclohexanediamine (pCHDA), p-xylylenediamine (pXDA), m-xylylenediamine (mXDA), m-cyclohexanediamine ( mXDA), 4,4'-diaminodiphenylsulfone (DDS), 2,2-bis[4-(4-aminophenoxy)phenyl]propane (BAPP), and combinations thereof desirable.

산 이무수물 화합물Acid dianhydride compounds

본 발명의 산 이무수물 화합물은 불소화 방향족 산 이무수물, 비불소화 방향족 산 이무수물 및 이들의 조합으로 이루어진 군에서 선택된 하나를 포함하는 것이 특징이다.The acid dianhydride compound of the present invention is characterized by including one selected from the group consisting of fluorinated aromatic acid dianhydrides, non-fluorinated aromatic acid dianhydrides, and combinations thereof.

상기 불소화 방향족 산 이무수물은 불소 치환기가 도입된 방향족 산 이무수물로, 예를 들어 4,4'-(헥사플루오로이소프로필리덴)디프탈산 무수물(4,4'-(Hexafluoroisopropylidene)diphthalic anhydride, 6FDA)), 4,4'-(4,4'-헥사플루오로이소프로필리덴디페녹시)비스-(프탈산 무수물)(4,4'-(4,4'-Hexafluoroisopropylidenediphenoxy)bis-(phthalic anhydride, 6-FDPDA) 및 이들의 조합으로 이루어진 군에서 선택된 하나가 될 수 있다.The fluorinated aromatic acid dianhydride is an aromatic acid dianhydride into which a fluorine substituent is introduced, for example, 4,4'-(hexafluoroisopropylidene)diphthalic anhydride (4,4'-(Hexafluoroisopropylidene)diphthalic anhydride, 6FDA )), 4,4'-(4,4'-hexafluoroisopropylidenediphenoxy)bis-(phthalic anhydride)(4,4'-(4,4'-Hexafluoroisopropylidenediphenoxy)bis-(phthalic anhydride, 6-FDPDA) and combinations thereof.

상기 비불소화 방향족 산 이무수물은 불소 치환기가 도입되지 않은 방향족 산 이무수물로, 예를 들어 피로멜리트산 이무수물(pyromellitic dianhydride, PMDA), 3,3',4,4'-비페닐테트라카르복실산 이무수물(3,3'4,4'-biphenyltetracarboxylic acid dianhydride, BPDA), 3,3',4,4'-벤조페논테트라카르복실산 이무수물(3,3',4,4'-benzophenonetetracarboxylic dianhydride, BTDA), 4,4'-옥시다이프탈산 무수물(4,4′-oxydiphthalic anhydride, ODPA), 2,2-비스[4-(3,4-디카르복시페녹시)페닐]프로판 무수물(2,2-Bis[4-(3,4-dicarboxyphenoxy) phenyl]propane dianhydride, BPADA), 3,3',4,4'-디페닐 술폰 테트라 카르복실산 무수물, 에틸렌 글리콜 비스(4-트리멜리테이트 무수물)(3,3’,4,4’-Diphenyl sufone tetracarboxylic dianhydride, DSDA), 사이클로부탄테트라카르복실산 이수물(CBDA), 4-(2,5-디옥소테트라하이드로푸란-3-일)-1,2,3,4-테트라하이드로나프탈렌-1,2-디카르복실산 이수물(TDA), 피로멜리틱산 이수물(PMDA), 벤조페논 테트라카르복실산 이수물(BTDA), 옥시디프탈릭 이수물(ODPA), 바이시클로[2.2.2]옥트-7엔-2,3,5,6-테트라카르복실산 이수물(BTDA), 3,3',4,4-비페니레트라카르복실산 이수물(s-BPDA) 및 이들의 조합으로 이루어진 군에서 선택된 하나가 될 수 있다.The non-fluorinated aromatic acid dianhydride is an aromatic acid dianhydride to which a fluorine substituent is not introduced, for example, pyromellitic dianhydride (PMDA), 3,3',4,4'-biphenyltetracarboxyl Acid dianhydride (3,3'4,4'-biphenyltetracarboxylic acid dianhydride, BPDA), 3,3',4,4'-benzophenonetetracarboxylic dianhydride (3,3',4,4'-benzophenonetetracarboxylic dianhydride, BTDA), 4,4'-oxydiphthalic anhydride (ODPA), 2,2-bis[4-(3,4-dicarboxyphenoxy)phenyl]propane anhydride (2 ,2-Bis[4-(3,4-dicarboxyphenoxy) phenyl]propane dianhydride, BPADA), 3,3',4,4'-diphenyl sulfone tetracarboxylic anhydride, ethylene glycol bis(4-trimelitate Anhydride) (3,3',4,4'-Diphenyl sufone tetracarboxylic dianhydride, DSDA), cyclobutanetetracarboxylic dianhydride (CBDA), 4-(2,5-dioxotetrahydrofuran-3-yl) -1,2,3,4-tetrahydronaphthalene-1,2-dicarboxylic acid dihydrate (TDA), pyromellitic acid dihydride (PMDA), benzophenone tetracarboxylic acid dihydrate (BTDA), oxydiph Talic dihydrate (ODPA), bicyclo[2.2.2]oct-7ene-2,3,5,6-tetracarboxylic acid dihydride (BTDA), 3,3',4,4-bifeniretra It may be one selected from the group consisting of carboxylic acid dihydride (s-BPDA) and combinations thereof.

본 발명의 산 이무수물은 4,4'-(헥사플루오로이소프로필리덴)디프탈산 무수물, 4,4'-(4,4'-헥사플루오로이소프로필리덴디페녹시)비스-(프탈산 무수물), 사이클로부탄테트라카르복실산 이수물, 3,3',4,4'-비페닐테트라카르복실산 이수물, 바이시클로[2.2.2]옥트-7-엔-2,3,5,6-테트라카르복실산 이수물, 4-(2,5-디옥소테트라하이드로푸란-3-일)-1,2,3,4-테트라하이드로나프탈렌-1,2-디카르복실산 이수물, 피로멜리틱산 이수물, 벤조페논 테트라카르복실산 이수물, 옥시디프탈릭 이수물 및 이들의 조합으로 이루어진 군에서 선택된 하나를 포함하는 것이 바람직하다.The acid dianhydride of the present invention is 4,4'-(hexafluoroisopropylidene)diphthalic anhydride, 4,4'-(4,4'-hexafluoroisopropylidenediphenoxy)bis-(phthalic anhydride ), cyclobutanetetracarboxylic acid dihydride, 3,3',4,4'-biphenyltetracarboxylic acid dihydride, bicyclo[2.2.2]oct-7-ene-2,3,5,6 -Tetracarboxylic acid dihydride, 4-(2,5-dioxotetrahydrofuran-3-yl)-1,2,3,4-tetrahydronaphthalene-1,2-dicarboxylic acid dihydride, fatigue It is preferable to include one selected from the group consisting of melitic acid dihydride, benzophenone tetracarboxylic acid dihydride, oxydiphthalic dihydride, and combinations thereof.

상기 디카르보닐 화합물, 디아민 화합물 및 산 이무수물 화합물을 포함하는 본 발명의 폴리아믹산의 점도는 23℃에서 1,000 내지 10,000cp인 것이 특징이다. 이때 상기 폴리아믹산의 점도가 1,000cp 미만인 경우 폴리아미드-이미드 필름을 제조할 시 적정 수준의 필름 두께를 얻는 것이 어려울 수 있으며, 10,000cp 초과인 경우 균일한 코팅 및 효과적인 용매제거가 이루어질 수 없다는 문제가 생긴다.The viscosity of the polyamic acid of the present invention including the dicarbonyl compound, diamine compound and acid dianhydride compound is 1,000 to 10,000 cp at 23°C. At this time, when the viscosity of the polyamic acid is less than 1,000 cp, it may be difficult to obtain an appropriate level of film thickness when manufacturing a polyamide-imide film, and when it is more than 10,000 cp, uniform coating and effective solvent removal cannot be achieved. Occurs.

폴리아믹산 조성물의 제조방법Method for preparing polyamic acid composition

본 발명의 폴리아믹산 조성물의 제조방법을 설명하는데 있어서, 앞의 폴리아믹산 조성물 구성에서 이미 설명했던 조성물의 특징과 중복되는 사항은 일부 배제하여 설명하도록 한다.In the description of the method for preparing the polyamic acid composition of the present invention, a matter that overlaps with the characteristics of the composition previously described in the configuration of the polyamic acid composition will be partially excluded and described.

본 발명의 폴리아미드-이미드 필름을 얻기 위해 폴리아믹산(이는 폴리아믹산 용액과 동일한 표현이다.)을 제조하게 되는데, 구체적으로 폴리아믹산 제조방법은 디아민 화합물 및 용매를 혼합하여 혼합물을 제조하는 단계; 및 상기 혼합물에 디카르보닐 화합물 및 산 이무수물 화합물을 투입 및 중합하여 폴리아믹산 용액을 제조하는 단계;를 포함하는 것이 특징이다.In order to obtain the polyamide-imide film of the present invention, a polyamic acid (this is the same expression as a polyamic acid solution) is prepared. Specifically, the method for preparing a polyamic acid includes preparing a mixture by mixing a diamine compound and a solvent; And preparing a polyamic acid solution by adding and polymerizing a dicarbonyl compound and an acid dianhydride compound to the mixture.

혼합물을 제조하는 단계Steps of preparing the mixture

디아민 화합물을 준비된 용매에 투입 및 혼합하여 혼합물을 형성하는 단계이다.In this step, a diamine compound is added and mixed in a prepared solvent to form a mixture.

상기 디아민 화합물은 불소화 방향족 디아민 단량체, 비불소화 방향족 디아민 단량체 및 이들의 조합으로 이루어진 군에서 선택된 하나를 포함하게 된다.The diamine compound includes one selected from the group consisting of a fluorinated aromatic diamine monomer, a non-fluorinated aromatic diamine monomer, and a combination thereof.

상기 불소화 방향족 디아민 단량체는 2,2'-비스(트리플루오로메틸)-4,4'-디아미노비페닐(TFMB), 2,2-비스[4-(4-아미노페녹시)페닐]-1,1,1,3,3,3-헥사플루오로 프로판(BAFP) 및 이들의 조합으로 이루어진 군에서 선택된 하나를 사용하는 것이 바람직하다.The fluorinated aromatic diamine monomer is 2,2'-bis(trifluoromethyl)-4,4'-diaminobiphenyl (TFMB), 2,2-bis[4-(4-aminophenoxy)phenyl]- It is preferable to use one selected from the group consisting of 1,1,1,3,3,3-hexafluoro propane (BAFP) and combinations thereof.

상기 비불소화 방향족 디아민 단량체는 4,4'-옥시디아닐린(ODA), 4,4'-메틸렌디아닐린(MDA), p-페닐렌디아민(pPDA), m-페닐렌디아민(mPDA), p-메틸렌디아닐린(pMDA), m-메틸렌디아닐린(mMDA), p-시클로헥산디아민(pCHDA), p-자일리렌디아민(pXDA), m-자일리렌디아민(mXDA), m-시클로헥산디아민(mXDA), 4,4'-디아미노디페닐설폰(DDS), 2,2-비스[4-(4-아미노페녹시)페닐]프로판(BAPP) 및 이들의 조합으로 이루어진 군에서 선택된 하나인 것이 바람직하다.The non-fluorinated aromatic diamine monomer is 4,4'-oxydianiline (ODA), 4,4'-methylenedianiline (MDA), p-phenylenediamine (pPDA), m-phenylenediamine (mPDA), p -Methylenedianiline (pMDA), m-methylenedianiline (mMDA), p-cyclohexanediamine (pCHDA), p-xylylenediamine (pXDA), m-xylylenediamine (mXDA), m-cyclohexanediamine ( mXDA), 4,4'-diaminodiphenylsulfone (DDS), 2,2-bis[4-(4-aminophenoxy)phenyl]propane (BAPP), and combinations thereof desirable.

상기 혼합은 질소분위기 하에서 25 내지 30℃의 온도에서 30 내지 60분 동안 진행된다.The mixing is carried out for 30 to 60 minutes at a temperature of 25 to 30 ℃ under a nitrogen atmosphere.

상기 디아민 화합물을 투입하는 용매는 극성용매, 저 비점 용매, 저 흡수성 용매, 퍼짐성 용매 및 이들의 조합으로 이루어진 군에서 선택될 수 있다. 더욱 구체적인 예를 하기에 설명하겠다.(단, 하기 나열되는 용매 중 두 가지 이상의 특징을 포함하는 용매의 경우 중복되어 기재될 수 있다.)The solvent into which the diamine compound is added may be selected from the group consisting of a polar solvent, a low boiling point solvent, a low absorption solvent, a spreading solvent, and a combination thereof. A more specific example will be described below. (However, in the case of a solvent including two or more characteristics of the solvents listed below, it may be repeatedly described.)

상기 극성용매는 m-크레졸, N-메틸-2-피롤리돈(NMP), N,N-디메틸포름아미드(DMF), 디메틸아세트아미드(DMAc), 디메틸설폭사이드(DMSO), 디에틸아세테이트(DEA), 3-메톡시-N,N-디메틸 프로판아미드(DMPA), N,N-디메틸 프로피노아미드(DPA), N,N-디메틸락타미드(DML) 및 이들의 조합으로 이루어진 군에서 선택할 수 있다.The polar solvent is m-cresol, N-methyl-2-pyrrolidone (NMP), N,N-dimethylformamide (DMF), dimethylacetamide (DMAc), dimethyl sulfoxide (DMSO), diethyl acetate ( DEA), 3-methoxy-N,N-dimethyl propanamide (DMPA), N,N-dimethyl propinoamide (DPA), N,N-dimethyllactamide (DML) and combinations thereof I can.

상기 저 비점 용매는 테트라하이드로퓨란(THF), 트리클로로메탄(클로로포름, TCM) 및 이들의 조합으로 이루어진 군에서 선택할 수 잇다. 상기 저 비점 용매는 휘발성이 높아 필름 제조시 용매 제거가 용이하며, 이는 제조된 필름의 물성을 향상시킬 수 있도록 한다.The low boiling point solvent may be selected from the group consisting of tetrahydrofuran (THF), trichloromethane (chloroform, TCM), and combinations thereof. The low boiling point solvent has high volatility, so it is easy to remove the solvent during film production, and this makes it possible to improve the physical properties of the produced film.

상기 저 흡수성 용매는 감마-부티로락톤(GBL), 3-메톡시-N,N-디메틸프로판아미드(DMPA), N,N-디메틸 프로피노아미드(DPA), N,N-디메틸락타미드(DML), N-메틸-2-피롤리돈(NMP) 및 이들의 조합으로 이루어진 군에서 선택할 수 있다.The low-absorption solvent is gamma-butyrolactone (GBL), 3-methoxy-N,N-dimethylpropanamide (DMPA), N,N-dimethyl propinoamide (DPA), N,N-dimethyllactamide ( DML), N-methyl-2-pyrrolidone (NMP), and combinations thereof.

상기 저 흡수성 용매는 필름 제조시 수분 흡수를 최소화하여 백탁 현상 개선에 중요한 역할을 하는데, 상온에서 용액 캐스팅 시 백탁 현상을 개선하기 위해, 감마-부티로락톤(GBL) 및 N-메틸-2-피롤리돈(NMP)의 제1 저 흡수성 용매 혼합물, 감마-부티로락톤(GBL) 및 N,N-디메틸 프로피노아미드(DPA)의 제2 저 흡수성 용매 혼합물, 감마-부티로락톤(GBL) 및 3-메톡시-N,N-디메틸 프로판아미드(DMPA)의 제3 저 흡수성 용매 혼합물을 선택하거나, 또는 3-메톡시-N,N-디메틸 프로판아미드(DMPA) 및 N,N-디메틸 프로피노아미드(DPA)을 각각 단독으로 선택하는 것이 바람직하다.The low-absorption solvent plays an important role in improving the clouding phenomenon by minimizing water absorption during film production.In order to improve the clouding phenomenon when casting the solution at room temperature, gamma-butyrolactone (GBL) and N-methyl-2-pi A first low absorption solvent mixture of rolidone (NMP), a second low absorption solvent mixture of gamma-butyrolactone (GBL) and N,N-dimethyl propinoamide (DPA), gamma-butyrolactone (GBL) and Select a third low absorption solvent mixture of 3-methoxy-N,N-dimethyl propanamide (DMPA), or 3-methoxy-N,N-dimethyl propanamide (DMPA) and N,N-dimethyl propino It is preferred to select each amide (DPA) alone.

상기 저 흡수성 용매로 상기 감마-부티로락톤 및 N-메틸-2-피롤리돈의 혼합물을 사용할 경우, 감마-부티로락톤 30 내지 70몰% 및 N-메틸-2-피롤리돈 70 내지 30몰%를 사용하는 것이 바람직하다. 더욱 바람직하게 감마-부티로락톤 50 내지 70몰% 및 N-메틸-2-피롤리돈 30 내지 50몰%를 사용한다.When using the mixture of gamma-butyrolactone and N-methyl-2-pyrrolidone as the low water absorption solvent, gamma-butyrolactone 30 to 70 mol% and N-methyl-2-pyrrolidone 70 to 30 It is preferred to use mole %. More preferably, 50 to 70 mol% of gamma-butyrolactone and 30 to 50 mol% of N-methyl-2-pyrrolidone are used.

상기 저 흡수성 용매로 상기 감마-부티로락톤 및 N,N-디메틸 프로피노아미드의 혼합물을 사용할 경우, 감마-부티로락톤 30 내지 70몰% 및 N,N-디메틸 프로피노아미드 30 내지 70몰%를 사용한다. 바람직하게 감마-부티로락톤 50 내지 70몰% 및 N,N-디메틸 프로피노아미드 30 내지 50몰%를 사용한다.When the mixture of gamma-butyrolactone and N,N-dimethyl propinoamide is used as the low-absorption solvent, 30 to 70 mol% of gamma-butyrolactone and 30 to 70 mol% of N,N-dimethyl propinoamide Use. Preferably, 50 to 70 mol% of gamma-butyrolactone and 30 to 50 mol% of N,N-dimethyl propinoamide are used.

상기 저 흡수성 용매로 상기 감마-부티로락톤 및 3-메톡시-N,N-디메틸 프로판아미드의 혼합물을 사용할 경우, 감마-부티로락톤 30 내지 70몰% 및 3-메톡시-N,N-디메틸 프로판아미드 70 내지 30몰%를 사용하는 것이 바람직하다. 더욱 바람직하게 감마-부티로락톤 50 내지 70몰% 및 3-메톡시-N,N-디메틸 프로판아미드 30 내지 50몰%를 사용한다.When using a mixture of the gamma-butyrolactone and 3-methoxy-N,N-dimethyl propanamide as the low-absorption solvent, 30 to 70 mol% of gamma-butyrolactone and 3-methoxy-N,N- It is preferred to use 70 to 30 mol% of dimethyl propanamide. More preferably, 50 to 70 mol% of gamma-butyrolactone and 30 to 50 mol% of 3-methoxy-N,N-dimethyl propanamide are used.

상기 저 흡수성 용매로 상기 N,N-디메틸 프로피노아미드 단독 또는 3-메톡시-N,N-디메틸 프로판아미드를 단독으로 선택할 경우 다른 용매의 첨가 없이 단독으로 100몰% 사용하는 것이 바람직하다.When selecting the N,N-dimethyl propinoamide alone or 3-methoxy-N,N-dimethyl propanamide alone as the low-absorption solvent, it is preferable to use 100 mol% alone without the addition of other solvents.

상기 퍼짐성 용매로는 에틸렌글리콜모노부틸에테르(EGBE), 에틸렌글리콜디메틸에테르(EGME), 에틸렌글리콜디에틸에테르(EGDE), 에틸렌글리콜디프로필에테르(EGDPE), 에틸렌글리콜디부틸에테르(EGDBE) 및 이들의 조합으로 어루어진 군에서 선택된 하나를 사용할 수 있다.Examples of the spreadable solvent include ethylene glycol monobutyl ether (EGBE), ethylene glycol dimethyl ether (EGME), ethylene glycol diethyl ether (EGDE), ethylene glycol dipropyl ether (EGDPE), ethylene glycol dibutyl ether (EGDBE), and these One selected from the group consisting of a combination of can be used.

상기 퍼짐성 용매는 젖음성(wetting) 개선에 중요한 역할을 하는데, 용액 캐스팅시 용액의 퍼짐성을 좋게 하여, 용액의 수축을 방지 하고, 균일성이 우수한 필름을 얻을 수 있게 해준다. 이를 위해 에틸렌글리콜모노부틸에테르를 10 내지 40몰%, 바람직하게 10 내지 30몰%를 사용할 수 있다.The spreadable solvent plays an important role in improving wetting, and improves spreadability of the solution when casting the solution, thereby preventing shrinkage of the solution and obtaining a film having excellent uniformity. For this, ethylene glycol monobutyl ether may be used in an amount of 10 to 40 mol%, preferably 10 to 30 mol%.

폴리아믹산 용액을 제조하는 단계Preparing a polyamic acid solution

상기 제조된 혼합물에 디카르보닐 화합물 및 산 이무수물 화합물을 투입하고 중합반응을 통해 폴리아믹산 용액을 제조하는 단계이다.In this step, a dicarbonyl compound and an acid dianhydride compound are added to the prepared mixture, and a polyamic acid solution is prepared through polymerization.

상기 투입되는 디카르보닐 화합물은 4,4'-{2,2'-비스(트리플루오로메틸)-[1,1'-바이페닐]-4,4'-비스(이미노카르보닐)}비스(벤조일 클로라이드) (BTBC), 벤조페논- 4,4'-디카르복실 클로라이드 (BPDC), 2,2'-비스(트리프루오로메틸)-[1,1'-바이페닐]-4,4'-디카르복실 클로라이드 (TFBC), 4,4'-[4,4'-(헥사프루오로이소프로피리딘) 디프탈리미드]비스(벤조일 클로라이드) (BHIC), [2,2'-비스(트리프루오로메틸)-[1,1'-바이페닐]-4,4'-비스(이미드)]비스 (프탈릴 클로라이드) (BTIC), 4,4'-[1,2,4,5- 싸이클로헥산테트라카르복실l이미드]비스(벤조일 클로라이드) (BHCC), 1,4-싸이클로헥실-비스(이미드)]비스(프탈릴 클로라이드) (CHIC) 및 이들의 조합으로 이루어진 군에서 선택된 하나를 포함하는 것이 특징이다.The added dicarbonyl compound is 4,4'-{2,2'-bis(trifluoromethyl)-[1,1'-biphenyl]-4,4'-bis(iminocarbonyl)} Bis(benzoyl chloride) (BTBC), benzophenone-4,4'-dicarboxyl chloride (BPDC), 2,2'-bis(trifluoromethyl)-[1,1'-biphenyl]-4 ,4'-dicarboxyl chloride (TFBC), 4,4'-[4,4'-(hexafluoroisopropidine) diphthalimide]bis(benzoyl chloride) (BHIC), [2,2' -Bis(trifluoromethyl)-[1,1'-biphenyl]-4,4'-bis(imide)]bis(phthalyl chloride) (BTIC), 4,4'-[1,2 ,4,5-cyclohexanetetracarboxylimide]bis(benzoyl chloride) (BHCC), 1,4-cyclohexyl-bis(imide)]bis(phthalyl chloride) (CHIC) and combinations thereof It is characterized by including one selected from the group consisting of.

상기 디카르보닐 화합물 및 산 이무수물 화합물의 투입량은 상기 디아민 화합물을 기준으로 100 내지 105몰%이다.The amount of the dicarbonyl compound and the acid dianhydride compound added is 100 to 105 mol% based on the diamine compound.

바람직하게 상기 디카르보닐 화합물의 투입량은 상기 디아민 화합물 총 함량에 대해 20몰% 내지 100몰% 이다. 이때 투입량이 20몰% 미만인 경우 광학특성은 증가하나, 내열 특성의 향상에 한계가 있고, 100몰% 초과인 경우 광학특성이 저하되는 문제가 생긴가.Preferably, the amount of the dicarbonyl compound added is 20 mol% to 100 mol% based on the total content of the diamine compound. At this time, if the input amount is less than 20 mol%, the optical characteristics increase, but there is a limit to the improvement of the heat resistance, and if the amount exceeds 100 mol%, does the optical characteristics deteriorate?

투입되는 산 이무수물 화합물은 불소화 방향족 산 이무수물, 비불소화 방향족 산 이무수물 및 이들의 조합으로 이루어진 군에서 선택된 하나를 포함할 수 있는데, 구체적인 예는 이미 앞서 폴리아믹산 조성물에서 설명한 내용과 중복되므로 생략하도록 한다.The acid dianhydride compound to be added may include one selected from the group consisting of a fluorinated aromatic acid dianhydride, a non-fluorinated aromatic acid dianhydride, and a combination thereof, and specific examples are omitted because they are already overlapped with the contents described in the polyamic acid composition. Do it.

본 발명에서 디카르보닐 화합물, 디아민 화합물 및 산 이무수물 화합물은 폴리아믹산 용액에서 고형분을 구성하게 되는데, 이때 상기 고형분의 함량은 상기 폴리아믹산 용액을 기준으로 10 내지 40중량%인 것이 바람직하다. 더욱 바람직하게 고형분은 10 내지 25중량% 포함하게 된다. 이때 상기 고형분의 함량이 10중량% 미만인 경우 폴리아미드-이미드 필름 제조시 필름의 두께를 높이는데 한계가 있으며, 고형분 함량이 40중량% 초과인 경우 폴리아믹산 용액 점도를 조절하는데 한계가 있다는 문제가 생긴다.In the present invention, the dicarbonyl compound, the diamine compound, and the acid dianhydride compound constitute a solid content in the polyamic acid solution, wherein the content of the solid content is preferably 10 to 40% by weight based on the polyamic acid solution. More preferably, the solid content is included in 10 to 25% by weight. At this time, when the solid content is less than 10% by weight, there is a limitation in increasing the thickness of the film during the production of the polyamide-imide film, and when the solid content is more than 40% by weight, there is a problem that there is a limitation in controlling the viscosity of the polyamic acid solution. Occurs.

상기 고형분을 구성하는 디아민 화합물 및 산 이무수물 화합물의 경우, 디아민 화합물은 95 내지 100몰% 으로 포함되어 있고, 산 이무수물 화합물은 100 내지 105몰% 으로 포함되어 있다.In the case of the diamine compound and the acid dianhydride compound constituting the solid content, the diamine compound is contained in an amount of 95 to 100 mol%, and the acid dianhydride compound is contained in an amount of 100 to 105 mol%.

상기 중합의 경우 10 내지 70℃의 온도에서 6 내지 48시간 동안 수행되는 것이 바람직하다. In the case of the polymerization, it is preferably carried out for 6 to 48 hours at a temperature of 10 to 70 ℃.

이 단계에서 상기 산 이무수물 이외 반응성을 높이기 위해 촉매를 더 투입할 수 있다. 이때 사용하는 촉매는 본 발명의 목적에 위배되지 않으며 효과를 현저히 손상시키지 않는 범위에서 반응성을 향상시킬 수 있다면 특별히 한정되지 않고 사용할 수 있다. 예를 들어, 트리메틸아민(Trimethylamine), 자일렌(Xylene), 피리딘(Pyridine), 퀴놀린(Quinoline) 및 이들의 조합으로 이루어진 군에서 선택될 수 있다. 본 발명에서는 상기 촉매에 더불어 가소제, 산화방지제, 난연화제, 분산제, 점도 조절제, 레벨링제 및 이들의 조합으로 이루어진 군에서 선택된 어느 하나를 더 포함할 수 있는데, 이 또한 본 발명의 목적 및 효과를 현저히 손상시키지 않는 범위 내에서 필요에 따라 선택하여 사용할 수 있다.In this step, a catalyst may be further added to increase reactivity other than the acid dianhydride. The catalyst used at this time is not particularly limited as long as it does not violate the object of the present invention and can improve the reactivity within a range not significantly impairing the effect. For example, it may be selected from the group consisting of trimethylamine, xylene, pyridine, quinoline, and combinations thereof. In the present invention, in addition to the catalyst, any one selected from the group consisting of a plasticizer, an antioxidant, a flame retardant, a dispersant, a viscosity modifier, a leveling agent, and a combination thereof may be further included. It can be selected and used as needed within the range that does not damage it.

폴리아미드-이미드 필름의 제조방법Method for producing polyamide-imide film

상기 제조된 폴리아믹산 용액을 기재 상에 코팅하여 투명 코팅층을 형성하고, 상기 투명 코팅층을 열처리하여 본 발명의 폴리아미드-이미드 필름을 제조할 수 있다.The prepared polyamic acid solution is coated on a substrate to form a transparent coating layer, and the transparent coating layer is heat-treated to prepare a polyamide-imide film of the present invention.

본 발명의 폴리아미드-이미드 필름의 제조방법을 구체적으로 살펴보면, 특정 점도를 갖는 본 발명의 폴리아믹산 용액을 유리 등의 준비된 기재 상에 코팅하게 되는데, 이때 사용되는 코팅의 방법은 특별히 한정되지 않는다. 그 예로 스핀 코팅, 딥 코팅, 용매 캐스팅, 슬롯다이 코팅, 스프레이 코팅 및 이들의 조합으로 이루어진 군에서 선택될 수 있다.Looking specifically at the manufacturing method of the polyamide-imide film of the present invention, the polyamic acid solution of the present invention having a specific viscosity is coated on a prepared substrate such as glass, and the coating method used at this time is not particularly limited. . For example, it may be selected from the group consisting of spin coating, dip coating, solvent casting, slot die coating, spray coating, and combinations thereof.

상기 열처리는 일반적인 오븐을 통해 대류 방식으로 수행될 수 있는데, 상기 열처리 조건은 100 내지 450℃ 에서 30분 내지 120분 동안 수행된다. 바람직하게 상기 열처리는 100℃에서 30분 및 350℃에서 30분 동안의 온도 및 시간 조건 하에서 수행될 수 있다. 이는 적절한 용매의 제거와 동시에 광학 필름으로 사용되는 본 발명의 폴리아미드-이미드 필름 특성을 극대화 할 수 있는 조건이다.The heat treatment may be performed in a convection manner through a general oven, and the heat treatment conditions are performed at 100 to 450° C. for 30 to 120 minutes. Preferably, the heat treatment may be performed under temperature and time conditions at 100° C. for 30 minutes and 350° C. for 30 minutes. This is a condition capable of maximizing the properties of the polyamide-imide film of the present invention used as an optical film while removing an appropriate solvent.

폴리아미드-이미드 필름Polyamide-imide film

본 발명의 폴리아믹산 조성물은 디카르보닐 화합물, 디아민 화합물 및 산 이무수물과 백탁 현상이 발생되지 않는 용매(유기용매)의 구성 및 이들의 사용량을 최적화하여 내열 특성, 광학 특성이 우수하고 고투명성을 갖는 폴리아미드-이미드 필름을 제공하는 것이 특징이다. 구체적으로 본 발명의 폴리아미드-이미드 필름은 상기 폴리아미드-이미드 필름의 제조방법을 통해 제조되게 되는데, 상기 폴리아미드-이미드 필름은 두께가 10 내지 15㎛일 때, 황색도(Yellow Index, Y.I.) 5 이하, 유리전이온도가 360℃ 이상 및 550㎚ 파장에서의 투과도가 85% 이상을 보이며 높은 투명성을 가지는 것이 특징이다. 이때 본 발명의 폴리아미드-이미드 필름의 유리전이온도는 더욱 바람직하게 380% 이상을 보이며, 100 내지 250℃에서 열팽창계수(Coefficient of thermal expansion, C.T.E.) 20ppm/℃ 이하의 값을 가질 수 있다.The polyamic acid composition of the present invention has excellent heat resistance, optical properties, and high transparency by optimizing the composition of a dicarbonyl compound, a diamine compound, and an acid dianhydride and a solvent (organic solvent) that does not cause cloudiness and their usage. It is characterized by providing a polyamide-imide film having. Specifically, the polyamide-imide film of the present invention is produced through the method of manufacturing the polyamide-imide film. When the polyamide-imide film has a thickness of 10 to 15 μm, the yellow index , YI) 5 or less, a glass transition temperature of 360°C or more and a transmittance of 85% or more at a wavelength of 550 nm, and high transparency. At this time, the glass transition temperature of the polyamide-imide film of the present invention is more preferably 380% or more, and may have a value of 20 ppm/°C or less at a coefficient of thermal expansion (C.T.E.) of 100 to 250°C.

본 발명의 폴리아미드-이미드 필름은 다양한 분야에 사용될 수 있는데, 특히 고투명성 및 고굴절률 특성을 요구하는 고효율 광원 구현을 필요로 하는 플렉서블 디바이스, 테블릿 PC, 웨어러블기기 및 플렉서블 OLED 조명 기판 소재 등에 유용하게 활용될 수 있다.The polyamide-imide film of the present invention can be used in various fields. In particular, flexible devices, tablet PCs, wearable devices, and flexible OLED lighting substrate materials that require high-efficiency light sources that require high transparency and high refractive index characteristics. It can be usefully used.

이하, 구체적인 실시예를 통해 본 발명을 보다 구체적으로 설명한다. 하기 실시예는 본 발명의 이해를 돕기 위한 예시에 불과하며, 본 발명의 범위가 이에 한정되는 것은 아니다.Hereinafter, the present invention will be described in more detail through specific examples. The following examples are only examples to aid understanding of the present invention, and the scope of the present invention is not limited thereto.

제조예(화학식1의 디카르보닐 화합물 제조방법)Preparation Example (Method for preparing dicarbonyl compound of Formula 1)

화학식1의 디카르보닐 화합물 제조방법Method for preparing dicarbonyl compound of formula 1

화학식1의 디카르보닐 화합물인 4,4'-{2,2'-비스(트리플루오로메틸)-[1,1'-바이페닐]-4,4'-비스 (이미노카르보닐)}비스(벤조일 클로라이드) (BTBC)은 Methyl benzoate 중간체 합성 단계; Carboxylic acid 중간체 합성 단계; 및 BTBC 합성 단계; 를 통해 합성하게 된다.The dicarbonyl compound of Formula 1, 4,4'-{2,2'-bis(trifluoromethyl)-[1,1'-biphenyl]-4,4'-bis(iminocarbonyl)} Bis(benzoyl chloride) (BTBC) is a methyl benzoate intermediate synthesis step; Carboxylic acid intermediate synthesis step; And BTBC synthesis step; It is synthesized through

단계1. Methyl benzoate 중간체 합성 단계Step 1. Methyl benzoate intermediate synthesis step

질소 분위기에서 1000ml 둥근 플라스크에 건조된 NMP를 100ml 투입하였다. 여기에 TFMB (20.15g, 62.94mmol)와 Triethylamine (14.0g, 138.5mmol)을 넣고 완전 용해 후 0 ℃까지 냉각하였다. Methyl 4-(chloroformyl)benzoate (25g, 125.9mmol)을 NMP 100ml에 녹인 후, TFMB 용액에 천천히 투입하였다. 투입 후, 반응액을 50 ℃까지 승온시킨 후 2시간 교반하였다. 이어서 물 200ml를 투입 후 내용물을 실온(20 ℃)까지 냉각 후 침전물을 여과하였다. 여과된 침전물을 물 300ml로 세척하고 dichloromethane 50ml로 추가 세척하였다. 12시간 동안 60 ℃에서 진공건조하여 백색의 목적 화합물을 수득하였다. (38.5g, 94.9%) 상기 수득된 백색의 목적 화합물에 대한 1H-NMR의 결과는 하기와 같다.100 ml of dried NMP was added to a 1000 ml round flask in a nitrogen atmosphere. Here, TFMB (20.15g, 62.94mmol) and Triethylamine (14.0g, 138.5mmol) were added and completely dissolved and then cooled to 0°C. After dissolving methyl 4-(chloroformyl)benzoate (25g, 125.9mmol) in 100ml of NMP, it was slowly added to the TFMB solution. After the addition, the reaction solution was heated to 50° C. and stirred for 2 hours. Subsequently, 200 ml of water was added, the contents were cooled to room temperature (20° C.), and the precipitate was filtered. The filtered precipitate was washed with 300 ml of water and further washed with 50 ml of dichloromethane. Vacuum-dried at 60° C. for 12 hours to obtain a white target compound. (38.5g, 94.9%) The results of 1 H-NMR for the obtained white target compound are as follows.

1H-NMR (400 MHz, DMSO-d6): δ 10.84 (s, 2H), 8.35 (s, 2H), 8.14-8.12 (d, 8H), 8.12-8.10 (d, 2H), 7.42-7.40 (d, 2H), 2.70 (s, 6H) 1 H-NMR (400 MHz, DMSO-d 6 ): δ 10.84 (s, 2H), 8.35 (s, 2H), 8.14-8.12 (d, 8H), 8.12-8.10 (d, 2H), 7.42-7.40 (d, 2H), 2.70 (s, 6H)

단계2. Carboxylic acid 중간체 합성 단계Step 2. Carboxylic acid intermediate synthesis step

1000ml 둥근 플라스크에 methyl benzoate (20g, 31.0mmol), KOH (3.8g, 68.2 mmol), 에탄올 200ml, 물 100ml를 넣었다. 반응액을 80 ℃까지 가열시킨 후 4시간 교반하였다. 반응 후 완전 용해된 용액에 물 500ml를 투입하고 실온(20 ℃)까지 냉각하였다. 냉각 후 1M HCl 50ml를 천천히 투입하여 pH 2 이하로 떨어뜨렸다. 침전물을 30분간 교반 후 여과하였다. 여과된 침전물을 물 1000ml로 세척하였다. 12시간 동안 60 ℃에서 진공건조하여 백색의 목적 화합물을 수득하였다. (15.45g, 80.9%) 상기 수득된 백색의 목적 화합물에 대한 1H-NMR의 결과는 하기와 같다.To a 1000ml round flask was added methyl benzoate (20g, 31.0mmol), KOH (3.8g, 68.2 mmol), 200ml of ethanol, and 100ml of water. The reaction solution was heated to 80° C. and stirred for 4 hours. After the reaction, 500 ml of water was added to the completely dissolved solution and cooled to room temperature (20° C.). After cooling, 50 ml of 1M HCl was slowly added and the pH was dropped to 2 or less. The precipitate was stirred for 30 minutes and then filtered. The filtered precipitate was washed with 1000 ml of water. Vacuum-dried at 60° C. for 12 hours to obtain a white target compound. (15.45g, 80.9%) The results of 1 H-NMR for the obtained white target compound are as follows.

1H-NMR (400 MHz, DMSO-d6): δ 13.3 (brs, 2H), 10.81 (s, 2H), 8.36 (s, 2H), 8.13-8.12 (d, 2H), 8.11-8.10 (d, 8H), 7.42-7.40 (d, 2H) 1 H-NMR (400 MHz, DMSO-d 6 ): δ 13.3 (brs, 2H), 10.81 (s, 2H), 8.36 (s, 2H), 8.13-8.12 (d, 2H), 8.11-8.10 (d) , 8H), 7.42-7.40 (d, 2H)

단계3. BTBC 합성 단계Step 3. BTBC synthesis step

250ml 둥근 플라스크에 carboxylic acid (14.3g, 23.2mmol), oxalyl chloride (14.7g, 116mmol), CHCl3 50ml를 넣고 반응액을 50 ℃까지 가열시킨 후 5시간 동안 교반하였다. 반응 후 진공농축하여 용매를 제거하였다. 농축 후 CHCl3 60ml를 넣고 30분 동안 교반, 여과하였다. 여과된 침전물을 CHCl3 40ml로 세척하였다. 12시간 동안 60 ℃에서 진공건조하여 미백색의 목적 화합물을 수득하였다. (9.5g, 62.9%) 상기 수득된 미백색의 목적 화합물에 대한 1H-NMR, 13C-NMR 및 FT-IR의 결과는 하기와 같다.In a 250ml round flask, carboxylic acid (14.3g, 23.2mmol), oxalyl chloride (14.7g, 116mmol), and 50ml of CHCl3 were added, and the reaction solution was heated to 50°C and stirred for 5 hours. After the reaction, the solvent was removed by vacuum concentration. After concentration, 60 ml of CHCl3 was added, stirred for 30 minutes, and filtered. The filtered precipitate was washed with 40 ml of CHCl3. Vacuum-dried at 60° C. for 12 hours to obtain an off-white target compound. (9.5g, 62.9%) The results of 1 H-NMR, 13 C-NMR and FT-IR for the obtained off-white target compound are as follows.

1H-NMR (500 MHz, DMSO-d6): δ 10.83 (s, 2H), 8.36 (s, 2H), 8.13 (d, 2H), 8.12-8.10 (d, 8H), 7.41-7.40 (d, 2H) 1 H-NMR (500 MHz, DMSO-d6): δ 10.83 (s, 2H), 8.36 (s, 2H), 8.13 (d, 2H), 8.12-8.10 (d, 8H), 7.41-7.40 (d,) 2H)

13C-NMR (500 MHz, DMSO-d6): δ 163.73, 162.38, 136.29, 135.15, 130.64, 129.57, 128.57, 126.41, 125.08, 121.91, 119.76, 119.58, 114.26 13 C-NMR (500 MHz, DMSO-d6): δ 163.73, 162.38, 136.29, 135.15, 130.64, 129.57, 128.57, 126.41, 125.08, 121.91, 119.76, 119.58, 114.26

FT-IR (KBr, cm-1): 3320, 1690, 1590, 1520, 725, 553FT-IR (KBr, cm-1): 3320, 1690, 1590, 1520, 725, 553

비교예 1Comparative Example 1

하기 표 1에 나타낸 조성물로서, 디아민 화합물로 TFMB 3.22g(0.01mole)를 용매인 DMPA 44.01g에 녹여 질소분위기의 상온에서 30분간 용해시켰다. 이후 산 이무수물 화합물인 6FDA 4.54g(0.01mole)을 첨가한 후 24시간 동안 교반 및 중합하여 폴리아믹산 용액을 제조하였다. 중합온도는 30℃로 유지하였고, 고형분은 상기 폴리아믹산 용액 전체 중량에 대해 15중량%가 되도록 유지하였다. 이때 점도측정 장비(Brookfield DV2T, SC4-27)로 측정한 결과 점도는 4,800cp였다.As a composition shown in Table 1 below, 3.22 g (0.01 mole) of TFMB as a diamine compound was dissolved in 44.01 g of DMPA as a solvent, and dissolved for 30 minutes at room temperature in a nitrogen atmosphere. Thereafter, 4.54 g (0.01 mole) of 6FDA, an acid dianhydride compound, was added, followed by stirring and polymerization for 24 hours to prepare a polyamic acid solution. The polymerization temperature was maintained at 30°C, and the solid content was maintained to be 15% by weight based on the total weight of the polyamic acid solution. At this time, as a result of measuring with a viscosity measuring device (Brookfield DV2T, SC4-27), the viscosity was 4,800cp.

실시예 1Example 1

하기 표 1에 나타낸 조성물로서, 디아민 화합물로는 TFMB 2.96g(0.009mole)를 용매인 DMPA 42.5g에 녹여 질소분위기의 상온에서 30분간 용해시켰다. 이후 산 이무수물 화합물인 6FDA 0.41g(0.001mole) 및 BPDA 1.09g(0.004mole)을 첨가한 후 상온에서 1시간 교반하였다. 그리고 상기 제조예에서 제조된 화학식1(BTBC)의 화합물 3.05g(0.005mole)을 첨가한 후 상온에서 3시간 동안 교반 및 중합하여 폴리아믹산 용액을 제조하였다. 상기 제조된 폴리아믹산 용액에 아세톤 및 물을 2:1의 비율로 혼합한 용액을 적정하고 80℃에서 진공으로 12시간 건조하여 7.5g의 고형분 분말의 폴리아믹산을 얻었다.As a composition shown in Table 1 below, as a diamine compound, 2.96g (0.009mole) of TFMB was dissolved in 42.5g of DMPA as a solvent and dissolved for 30 minutes at room temperature in a nitrogen atmosphere. Thereafter, 0.41g (0.001 mole) of 6FDA and 1.09g (0.004 mole) of BPDA, which are acid dianhydride compounds, were added, followed by stirring at room temperature for 1 hour. Then, 3.05 g (0.005 mole) of the compound of Formula 1 (BTBC) prepared in Preparation Example was added, followed by stirring and polymerization at room temperature for 3 hours to prepare a polyamic acid solution. A solution obtained by mixing acetone and water in a ratio of 2:1 to the prepared polyamic acid solution was titrated and dried in vacuum at 80° C. for 12 hours to obtain 7.5 g of polyamic acid as a solid powder.

상기 폴리아믹산 분말을 42.5g의 DMPA에 첨가 후 4시간 동안 교반하여 폴리아믹산 용액을 제조하였다. 상기 중합온도는 30℃로 유지하였고, 고형분은 상기 폴리아믹산 용액 전체 중량에 대해 15중량%가 되도록 유지하였다. 이때 점도측정 장비(Brookfield DV2T, SC4-27)로 측정한 결과 점도는 4,900cp였다.The polyamic acid powder was added to 42.5 g of DMPA and stirred for 4 hours to prepare a polyamic acid solution. The polymerization temperature was maintained at 30°C, and the solid content was maintained to be 15% by weight based on the total weight of the polyamic acid solution. At this time, as a result of measuring with a viscosity measuring device (Brookfield DV2T, SC4-27), the viscosity was 4,900cp.

실시예 2Example 2

하기 표 1에 나타낸 조성물로서, 디아민 화합물로는 TFMB 3.77g(0.012mole)를 용매인 DMPA 42.5g에 녹여 질소분위기의 상온에서 30분간 용해시켰다. 이후 산 이무수물 화합물인 6FDA 0.52g(0.001mole) 및 BPDA 1.39g(0.005mole)을 첨가한 후 상온에서 1시간 교반하였다. 이후 화학식2(BPDC)의 화합물 1.82g(0.006mole)을 첨가한 후 상온에서 3시간 동안 교반 및 중합하여 폴리아믹산 용액을 제조하였다. 상기 제조된 폴리아믹산 용액에 아세톤 및 물을 2:1의 비율로 혼합한 용액을 적정하고 80℃에서 진공으로 12시간 건조하여 7.5g의 고형분 분말의 폴리아믹산을 얻었다.As a composition shown in Table 1 below, as a diamine compound, 3.77 g (0.012 mole) of TFMB was dissolved in 42.5 g of DMPA as a solvent, and dissolved for 30 minutes at room temperature in a nitrogen atmosphere. Thereafter, 0.52g (0.001 mole) of 6FDA and 1.39g (0.005 mole) of BPDA, which are acid dianhydride compounds, were added, followed by stirring at room temperature for 1 hour. Thereafter, 1.82g (0.006 mole) of the compound of Formula 2 (BPDC) was added, followed by stirring and polymerization at room temperature for 3 hours to prepare a polyamic acid solution. A solution obtained by mixing acetone and water in a ratio of 2:1 to the prepared polyamic acid solution was titrated and dried in vacuum at 80° C. for 12 hours to obtain 7.5 g of polyamic acid as a solid powder.

상기 폴리아믹산 분말을 42.5g의 DMPA에 첨가 후 4시간 동안 교반하여 폴리아믹산 용액을 제조하였다. 상기 중합온도는 30℃로 유지하였고, 고형분은 상기 폴리아믹산 용액 전체 중량에 대해 15중량%가 되도록 유지하였다. 이때 점도측정 장비(Brookfield DV2T, SC4-27)로 측정한 결과 점도는 6,000cp였다.The polyamic acid powder was added to 42.5 g of DMPA and stirred for 4 hours to prepare a polyamic acid solution. The polymerization temperature was maintained at 30°C, and the solid content was maintained to be 15% by weight based on the total weight of the polyamic acid solution. At this time, as a result of measuring with a viscosity measuring device (Brookfield DV2T, SC4-27), the viscosity was 6,000 cp.

실시예 3Example 3

하기 표 1에 나타낸 조성물로서, 디아민 화합물로는 TFMB 3.47g(0.011mole)를 용매인 DMPA 42.5g에 녹여 질소분위기의 상온에서 30분간 용해시켰다. 이후 산 이무수물 화합물인 6FDA 0.48g(0.001mole) 및 BPDA 1.28g(0.004mole)을 첨가한 후 상온에서 1시간 교반하였다. 이후 화학식3(TFBC)의 화합물 2.27g(0.005mole)을 첨가한 후 상온에서 3시간 동안 교반 및 중합하여 폴리아믹산 용액을 제조하였다. 상기 제조된 폴리아믹산 용액에 아세톤 및 물을 2:1의 비율로 혼합한 용액을 적정하고 80℃에서 진공으로 12시간 건조하여 7.5g의 고형분 분말의 폴리아믹산을 얻었다.As a composition shown in Table 1 below, as a diamine compound, 3.47 g (0.011 mole) of TFMB was dissolved in 42.5 g of DMPA as a solvent and dissolved for 30 minutes at room temperature in a nitrogen atmosphere. Thereafter, 0.48g (0.001 mole) of 6FDA and 1.28g (0.004 mole) of BPDA, which are an acid dianhydride compound, were added, followed by stirring at room temperature for 1 hour. Thereafter, 2.27g (0.005 mole) of the compound of Formula 3 (TFBC) was added, followed by stirring and polymerization at room temperature for 3 hours to prepare a polyamic acid solution. A solution obtained by mixing acetone and water in a ratio of 2:1 to the prepared polyamic acid solution was titrated and dried in vacuum at 80° C. for 12 hours to obtain 7.5 g of polyamic acid as a solid powder.

상기 폴리아믹산 분말을 42.5g의 DMPA에 첨가 후 4시간 동안 교반하여 폴리아믹산 용액을 제조하였다. 상기 중합온도는 30℃로 유지하였고, 고형분은 상기 폴리아믹산 용액 전체 중량에 대해 15중량%가 되도록 유지하였다. 이때 점도측정 장비(Brookfield DV2T, SC4-27)로 측정한 결과 점도는 4,700cp였다.The polyamic acid powder was added to 42.5 g of DMPA and stirred for 4 hours to prepare a polyamic acid solution. The polymerization temperature was maintained at 30°C, and the solid content was maintained to be 15% by weight based on the total weight of the polyamic acid solution. At this time, as a result of measuring with a viscosity measuring device (Brookfield DV2T, SC4-27), the viscosity was 4,700cp.

실시예 4Example 4

하기 표 1에 나타낸 조성물로서, 디아민 화합물로는 TFMB 2.39g(0.007mole)를 용매인 DMPA 42.5g에 녹여 질소분위기의 상온에서 30분간 용해시켰다. 이후 화학식4(BHIC)의 화합물 5.38g(0.007mole)을 첨가한 후 상온에서 3시간 동안 교반 및 중합하여 폴리아믹산 용액을 제조하였다. 상기 제조된 폴리아믹산 용액에 아세톤 및 물을 2:1의 비율로 혼합한 용액을 적정하고 80℃에서 진공으로 12시간 건조하여 7.5g의 고형분 분말의 폴리아믹산을 얻었다.As a composition shown in Table 1 below, as a diamine compound, 2.39 g (0.007 mole) of TFMB was dissolved in 42.5 g of DMPA as a solvent and dissolved for 30 minutes at room temperature in a nitrogen atmosphere. Thereafter, 5.38g (0.007 mole) of the compound of Formula 4 (BHIC) was added, followed by stirring and polymerization at room temperature for 3 hours to prepare a polyamic acid solution. A solution obtained by mixing acetone and water in a ratio of 2:1 to the prepared polyamic acid solution was titrated and dried in vacuum at 80° C. for 12 hours to obtain 7.5 g of polyamic acid as a solid powder.

상기 폴리아믹산 분말을 42.5g의 DMPA에 첨가 후 4시간 동안 교반하여 폴리아믹산 용액을 제조하였다. 상기 중합온도는 30℃로 유지하였고, 고형분은 상기 폴리아믹산 용액 전체 중량에 대해 15중량%가 되도록 유지하였다. 이때 점도측정 장비(Brookfield DV2T, SC4-27)로 측정한 결과 점도는 5,600cp였다.The polyamic acid powder was added to 42.5 g of DMPA and stirred for 4 hours to prepare a polyamic acid solution. The polymerization temperature was maintained at 30°C, and the solid content was maintained to be 15% by weight based on the total weight of the polyamic acid solution. At this time, as a result of measuring with a viscosity measuring device (Brookfield DV2T, SC4-27), the viscosity was 5,600cp.

실시예 5Example 5

하기 표 1에 나타낸 조성물로서, 디아민 화합물로는 TFMB 2.42g(0.008mole)를 용매인 DMPA 42.5g에 녹여 질소분위기의 상온에서 30분간 용해시켰다. 이후 화학식5(BTIC)의 화합물 5.34g(0.008mole)을 첨가한 후 상온에서 3시간 동안 교반 및 중합하여 폴리아믹산 용액을 제조하였다. 상기 제조된 폴리아믹산 용액에 아세톤 및 물을 2:1의 비율로 혼합한 용액을 적정하고 80℃에서 진공으로 12시간 건조하여 7.5g의 고형분 분말의 폴리아믹산을 얻었다.As a composition shown in Table 1 below, as a diamine compound, 2.42g (0.008mole) of TFMB was dissolved in 42.5g of DMPA as a solvent and dissolved for 30 minutes at room temperature in a nitrogen atmosphere. Thereafter, 5.34g (0.008 mole) of the compound of Formula 5 (BTIC) was added, followed by stirring and polymerization at room temperature for 3 hours to prepare a polyamic acid solution. A solution obtained by mixing acetone and water in a ratio of 2:1 to the prepared polyamic acid solution was titrated and dried in vacuum at 80° C. for 12 hours to obtain 7.5 g of polyamic acid as a solid powder.

상기 폴리아믹산 분말을 42.5g의 DMPA에 첨가 후 4시간 동안 교반하여 폴리아믹산 용액을 제조하였다. 상기 중합온도는 30℃로 유지하였고, 고형분은 상기 폴리아믹산 용액 전체 중량에 대해 15중량%가 되도록 유지하였다. 이때 점도측정 장비(Brookfield DV2T, SC4-27)로 측정한 결과 점도는 4,700cp였다.The polyamic acid powder was added to 42.5 g of DMPA and stirred for 4 hours to prepare a polyamic acid solution. The polymerization temperature was maintained at 30°C, and the solid content was maintained to be 15% by weight based on the total weight of the polyamic acid solution. At this time, as a result of measuring with a viscosity measuring device (Brookfield DV2T, SC4-27), the viscosity was 4,700cp.

실시예 6Example 6

하기 표 1에 나타낸 조성물로서, 디아민 화합물로는 TFMB 3.27g(0.01mole)를 용매인 DMPA 42.5g에 녹여 질소분위기의 상온에서 30분간 용해시켰다. 이후 산 이무수물 화합물인 6FDA 0.45g(0.001mole) 및 BPDA 1.20g(0.004mole)을 첨가한 후 상온에서 1시간 교반하였다. 이후 화학식6(BHCC)의 화합물 2.57g(0.005mole)을 첨가한 후 상온에서 3시간 동안 교반 및 중합하여 폴리아믹산 용액을 제조하였다. 상기 제조된 폴리아믹산 용액에 아세톤 및 물을 2:1의 비율로 혼합한 용액을 적정하고 80℃에서 진공으로 12시간 건조하여 7.5g의 고형분 분말의 폴리아믹산을 얻었다.As a composition shown in Table 1 below, as a diamine compound, 3.27 g (0.01 mole) of TFMB was dissolved in 42.5 g of DMPA as a solvent and dissolved for 30 minutes at room temperature in a nitrogen atmosphere. Thereafter, 0.45g (0.001 mole) of 6FDA and 1.20g (0.004 mole) of BPDA, which are acid dianhydride compounds, were added, followed by stirring at room temperature for 1 hour. Thereafter, 2.57 g (0.005 mole) of the compound of Formula 6 (BHCC) was added, followed by stirring and polymerization at room temperature for 3 hours to prepare a polyamic acid solution. A solution obtained by mixing acetone and water in a ratio of 2:1 to the prepared polyamic acid solution was titrated and dried in vacuum at 80° C. for 12 hours to obtain 7.5 g of polyamic acid as a solid powder.

상기 폴리아믹산 분말을 42.5g의 DMPA에 첨가 후 4시간 동안 교반하여 폴리아믹산 용액을 제조하였다. 상기 중합온도는 30℃로 유지하였고, 고형분은 상기 폴리아믹산 용액 전체 중량에 대해 15중량%가 되도록 유지하였다. 이때 점도측정 장비(Brookfield DV2T, SC4-27)로 측정한 결과 점도는 4,100cp였다.The polyamic acid powder was added to 42.5 g of DMPA and stirred for 4 hours to prepare a polyamic acid solution. The polymerization temperature was maintained at 30°C, and the solid content was maintained to be 15% by weight based on the total weight of the polyamic acid solution. At this time, as a result of measuring with a viscosity measuring device (Brookfield DV2T, SC4-27), the viscosity was 4,100cp.

실시예 7Example 7

하기 표 1에 나타낸 조성물로서, 디아민 화합물로는 TFMB 3.27g(0.01mole)를 용매인 DMPA 42.5g에 녹여 질소분위기의 상온에서 30분간 용해시켰다. 이후 산 이무수물 화합물인 6FDA 0.45g(0.001mole) 및 BPDA 1.20g(0.004mole)을 첨가한 후 상온에서 1시간 교반하였다. 이후 화학식7(CHIC)의 화합물 2.57g(0.005mole)을 첨가한 후 상온에서 3시간 동안 교반 및 중합하여 폴리아믹산 용액을 제조하였다. 상기 제조된 폴리아믹산 용액에 아세톤 및 물을 2:1의 비율로 혼합한 용액을 적정하고 80℃에서 진공으로 12시간 건조하여 7.5g의 고형분 분말의 폴리아믹산을 얻었다.As a composition shown in Table 1 below, as a diamine compound, 3.27 g (0.01 mole) of TFMB was dissolved in 42.5 g of DMPA as a solvent and dissolved for 30 minutes at room temperature in a nitrogen atmosphere. Thereafter, 0.45g (0.001 mole) of 6FDA and 1.20g (0.004 mole) of BPDA, which are acid dianhydride compounds, were added, followed by stirring at room temperature for 1 hour. Thereafter, 2.57g (0.005 mole) of the compound of Formula 7 (CHIC) was added, followed by stirring and polymerization at room temperature for 3 hours to prepare a polyamic acid solution. A solution obtained by mixing acetone and water in a ratio of 2:1 to the prepared polyamic acid solution was titrated and dried in vacuum at 80° C. for 12 hours to obtain 7.5 g of polyamic acid as a solid powder.

상기 폴리아믹산 분말을 42.5g의 DMPA에 첨가 후 4시간 동안 교반하여 폴리아믹산 용액을 제조하였다. 상기 중합온도는 30℃로 유지하였고, 고형분은 상기 폴리아믹산 용액 전체 중량에 대해 15중량%가 되도록 유지하였다. 이때 점도측정 장비(Brookfield DV2T, SC4-27)로 측정한 결과 점도는 3,900cp였다.The polyamic acid powder was added to 42.5 g of DMPA and stirred for 4 hours to prepare a polyamic acid solution. The polymerization temperature was maintained at 30°C, and the solid content was maintained to be 15% by weight based on the total weight of the polyamic acid solution. At this time, as a result of measuring with a viscosity measuring device (Brookfield DV2T, SC4-27), the viscosity was 3,900cp.

구분division 실시예Example 비교예Comparative example 1One 22 33 44 55 66 77 1One 조성물Composition 디카르보닐Dicarbonyl *BTBC*BTBC 5050 -- -- -- -- -- -- -- *BPDC*BPDC -- 5050 -- -- -- -- -- -- *TFBC*TFBC -- -- 5050 -- -- -- -- -- *BHIC*BHIC -- -- -- 100100 -- -- -- -- *BTIC*BTIC -- -- -- -- 100100 -- -- -- *BHCC*BHCC -- -- -- -- -- 5050 -- -- *CHIC*CHIC -- -- -- -- -- -- 5050 -- 산 이무수물Acid dianhydride *6FDA*6 FDA 1010 1010 1010 -- -- 1010 1010 100100 *BPDA*BPDA 4040 4040 4040 -- -- 4040 4040 -- 디아민Diamine *TFMB*TFMB 100100 100100 100100 100100 100100 100100 100100 100100 유기 용매Organic solvent DMPA = 100DMPA = 100 (단위: 몰%)(Unit: mol%) *BTBC: 4,4’-{2,2’-비스(트리플루오로메틸)-[1,1’-바이페닐]-4,4’-비스(이미노카르보닐)}비스(벤조일 클로라이드)
*BPDC: 벤조페논- 4,4'-디카르복실 클로라이드
*TFBC: 2,2'-비스(트리프루오로메틸)-[1,1'-바이페닐]-4,4'-디카르복실 클로라이드
*BHIC: 4,4'-[4,4'-(헥사프루오로이소프로피리딘) 디프탈리미드]비스(벤조일 클로라이드)
*BTIC: [2,2'-비스(트리프루오로메틸)-[1,1'-바이페닐]-4,4'-비스(이미드)]비스 (프탈릴 클로라이드)
*BHCC: 4,4'-[1,2,4,5- 싸이클로헥산테트라카르복실l이미드]비스(벤조일 클로라이드)
*CHIC: 1,4-싸이클로헥실-비스(이미드)]비스(프탈릴 클로라이드)
*6FDA: 4,4’-(헥사프루오로이소프로필리덴)디프탈산무수물(4,4’-(Hexafluoroisopropylidene) diphthalic anhydride)
*BPDA: 3,3,4,4’-비페닐테트라카르복실산 이수물 (3,3’,4,4’-biphenyltetracarboxylic dianhydride)
*TFMB: 2,2'-비스(트리플루오로메틸)-벤지딘(2,2'-bis(trifluoromethyl)benzidine)
*BTBC: 4,4'-{2,2'-bis(trifluoromethyl)-[1,1'-biphenyl]-4,4'-bis(iminocarbonyl)}bis(benzoyl chloride)
*BPDC: Benzophenone-4,4'-dicarboxyl chloride
*TFBC: 2,2'-bis(trifluoromethyl)-[1,1'-biphenyl]-4,4'-dicarboxyl chloride
*BHIC: 4,4'-[4,4'-(hexafluoroisopropidine) diphthalimide]bis(benzoyl chloride)
*BTIC: [2,2'-bis(trifluoromethyl)-[1,1'-biphenyl]-4,4'-bis(imide)]bis(phthalyl chloride)
*BHCC: 4,4'-[1,2,4,5-cyclohexanetetracarboxylimide]bis(benzoyl chloride)
*CHIC: 1,4-cyclohexyl-bis(imide)]bis(phthalyl chloride)
*6FDA: 4,4'-(Hexafluoroisopropylidene) diphthalic anhydride (4,4'-(Hexafluoroisopropylidene) diphthalic anhydride)
*BPDA: 3,3,4,4'-biphenyltetracarboxylic dianhydride (3,3',4,4'-biphenyltetracarboxylic dianhydride)
*TFMB: 2,2'-bis(trifluoromethyl)-benzidine (2,2'-bis(trifluoromethyl)benzidine)

실험예Experimental example

(1) 폴리아미드-이미드 필름 물성 평가(1) Evaluation of polyamide-imide film properties

실시예1 내지 7, 비교예1에서 준비한 폴리아믹산 용액을 유리판 위에 스핀 코터를 이용하여 코팅한 후, 고온 대류 오븐에서 열처리 하였다. 상기 열처리는 질소분위기 하에서 진행하며, 100℃/30min, 350℃/30min 의 온도 및 시간 조건에서 최종 필름을 얻었다. 각각에서 제조된 폴리아미드-이미드 필름을 하기와 같은 방법을 통해 물성을 측정하여 결과를 하기 표 2에 나타내었다.The polyamic acid solutions prepared in Examples 1 to 7, Comparative Example 1 were coated on a glass plate using a spin coater, and then heat treated in a high-temperature convection oven. The heat treatment was performed under a nitrogen atmosphere, and a final film was obtained under conditions of temperature and time of 100°C/30min and 350°C/30min. The polyamide-imide films prepared in each were measured for physical properties through the following method, and the results are shown in Table 2 below.

(a) 투과도(Transmittance)(a) Transmittance

UV-Vis NIR Spectrophotometer(Shimadsu社, UV-1800)을 이용하여 550㎚에서 투과도를 측정하였다.Transmittance was measured at 550 nm using a UV-Vis NIR Spectrophotometer (Shimadsu, UV-1800).

(b) 황색도(Yellowness Index, YI)(b) Yellowness Index (YI)

색차계(LabScan XE)를 이용하여 측정하였다.It was measured using a color difference meter (LabScan XE).

(c) 탁도(haze)(c) haze

Haze meter(TOYOSEIKI社, HAZE-GARD)를 이용하여 측정하였다.It was measured using a Haze meter (TOYOSEIKI, HAZE-GARD).

(d) 열적 특성(d) thermal properties

필름의 유리전이온도(Tg), 열팽창계수(CTE)는 Netzsch社의 TMA 402 F3을 이용하여 측정하였다. Tension mode의 Force는 0.1N으로 설정하고, 측정 온도는 30℃에서 5℃/min의 속도로 350℃까지 승온하여 100 내지 250℃의 범위에서의 평균값으로서 선열팽창 계수를 측정하였다. 열분해 온도(Td, 1%)는 Netzsch社의 TG 209 F3을 이용하여 측정 하였다.The glass transition temperature (T g ) and coefficient of thermal expansion (CTE) of the film were measured using TMA 402 F3 manufactured by Netzsch. The force of the tension mode was set to 0.1N, and the measurement temperature was increased from 30°C to 350°C at a rate of 5°C/min, and the coefficient of linear thermal expansion was measured as an average value in the range of 100 to 250°C. The thermal decomposition temperature (T d , 1%) was measured using TG 209 F3 manufactured by Netzsch.

물성측정Physical property measurement 목표값Target value 실시예Example 비교예Comparative example 1One 22 33 44 55 66 77 1One 물성
측정
Properties
Measure
점도
(cp, 23℃)
Viscosity
(cp, 23℃)
1000
~
7000
1000
~
7000
49004900 60006000 47004700 56005600 47004700 41004100 39003900 48004800
두께
(㎛)
thickness
(㎛)
1010 1010 1010 1010 1010 1010 1010 1010 1010
투과율(%, @550㎚)Transmittance (%, @550nm) >85>85 8989 9090 8888 9090 8888 8585 8585 9191 HazeHaze <1<1 0.60.6 0.40.4 0.40.4 0.30.3 0.50.5 0.90.9 0.90.9 0.30.3 Y.I.Y.I. <10<10 77 44 44 33 77 88 88 44 CTE
(100 ~
250℃)
CTE
(100 ~
250℃)
ppm/℃ppm/℃ <30<30 1616 1717 1515 1818 1717 2020 2020 5656
TgTg >400>400 383383 380380 386386 376376 371371 369369 364364 333333 Td 1%Td 1% >400>400 463463 461461 461461 445445 454454 447447 431431 459459

상기 표 2에서 나타낸 바와 같이 화학식1 내지 화학식7 구조의 디카르보닐 화합물을 적절히 사용하면 우수한 광특성을 가지는 동시에 높은 유리전이온도 및 낮은 열팽창계수를 가질 수 있다.As shown in Table 2 above, if the dicarbonyl compound having the structures of Chemical Formulas 1 to 7 is properly used, it can have excellent optical properties and have a high glass transition temperature and a low coefficient of thermal expansion.

이로써 본 발명에 의해 제조된 폴리아믹산 용액은 필름의 두께가 10 내지 15㎛ 기준으로, 황색도가 10 이하이면서 100 내지 250℃의 범위에서의 열팽창 계수가 20ppm이하, 유리전이온도(Tg)가 360℃ 이상, 550㎚의 파장에서의 투과율이 88% 이상인 투명 폴리아미드-이미드 필름으로 제공될 수 있다.Accordingly, the polyamic acid solution prepared according to the present invention has a film thickness of 10 to 15 μm, a yellowness of 10 or less, a thermal expansion coefficient of 20 ppm or less in the range of 100 to 250°C, and a glass transition temperature (Tg) of 360 It may be provided as a transparent polyamide-imide film having a transmittance of 88% or more at a wavelength of 550 nm or more.

따라서 본 발명에 따라 제조된 폴리아미드-이미드 필름은 우수한 광학 특성 및 내열특성을 만족하여 OLED용 디스플레이, 액정 소자용 디스플레이, TFT기판, 플렉서블 인쇄회로기판, 플렉서블(Flexible) OLED 면조명 기판, 전자 종이용 기판 소재와 같은 플렉서블(Flexible) 디스플레이용 기판 및 보호막에 널리 적용될 수 있다.Therefore, the polyamide-imide film manufactured according to the present invention satisfies excellent optical properties and heat resistance characteristics, and thus, displays for OLEDs, displays for liquid crystal devices, TFT substrates, flexible printed circuit boards, flexible OLED surface-illuminated substrates, and electronic devices. It can be widely applied to substrates and protective films for flexible displays such as paper substrate materials.

Claims (20)

디카르보닐 화합물, 디아민 화합물 및 산 이무수물 화합물을 포함하고,
상기 디카르보닐 화합물은 하기 화학식1, 화학식3, 화학식5, 화학식6, 화학식7 및 이들의 조합으로 이루어진 군에서 선택된 하나의 화합물을 포함하고,
상기 디카르보닐 화합물 및 산 이무수물 화합물은 상기 디아민 화합물을 기준으로 100 내지 105 몰% 포함되고,
상기 디카르보닐 화합물은 상기 디아민 화합물 기준으로 50 내지 100 몰% 포함되는 것을 특징으로 하는 폴리아믹산.
[화학식1]
Figure 112021029644338-pat00022

[화학식3]
Figure 112021029644338-pat00024

[화학식5]
Figure 112021029644338-pat00026

[화학식6]
Figure 112021029644338-pat00027

[화학식7]
Figure 112021029644338-pat00028
Including a dicarbonyl compound, a diamine compound and an acid dianhydride compound,
The dicarbonyl compound includes one compound selected from the group consisting of the following Formulas 1, 3, 5, 6, 7, and combinations thereof,
The dicarbonyl compound and the acid dianhydride compound are contained in an amount of 100 to 105 mol% based on the diamine compound,
The dicarbonyl compound is a polyamic acid, characterized in that contained 50 to 100 mol% based on the diamine compound.
[Formula 1]
Figure 112021029644338-pat00022

[Formula 3]
Figure 112021029644338-pat00024

[Formula 5]
Figure 112021029644338-pat00026

[Formula 6]
Figure 112021029644338-pat00027

[Formula 7]
Figure 112021029644338-pat00028
제1항에 있어서,
상기 디아민 화합물는 불소화 방향족 디아민 단량체, 비불소화 방향족 다이민 단량체 및 이들의 조합으로 이루어진 군에서 선택된 하나를 포함하는 것을 특징으로 하는 폴리아믹산.
The method of claim 1,
The diamine compound is a polyamic acid comprising one selected from the group consisting of a fluorinated aromatic diamine monomer, a non-fluorinated aromatic dimine monomer, and a combination thereof.
제1항에 있어서,
상기 디아민 화합물은 2,2'-비스(트리플루오로메틸)-4,4'-디아미노비페닐(TFMB), 4,4'-옥시디아닐린(ODA), 4,4'-메틸렌디아닐린(MDA), p-페닐렌디아민(pPDA), m-페닐렌디아민(mPDA), p-메틸렌디아닐린(pMDA), m-메틸렌디아닐린(mMDA), p-시클로헥산디아민(pCHDA), p-자일리렌디아민(pXDA), m-자일리렌디아민(mXDA), m-시클로헥산디아민(mXDA), 4,4'-디아미노디페닐설폰(DDS), 2,2-비스[4-(4-아미노페녹시)페닐]-1,1,1,3,3,3-헥사플루오로 프로판(BAFP), 2,2-비스[4-(4-아미노페녹시)페닐]프로판(BAPP), 2,2'-비스(3-아미노-4-메틸페닐)헥사플루오로프로판(BAMF), 2,2'-비스(3-아미노페닐)-헥사플루오로프로판(BAPF), 3,5-디아미노벤조트리프루오라이드(DABF), 2,2'-비스(트리플루오로메틸)-4,4'-디아미노디페닐에테르(BTDE), 2,2-비스(3-아미노-4-히드록시페닐)헥사프루오로프로판(BAHH) 및 이들의 조합으로 이루어진 군에서 선택된 하나를 포함하는 것을 특징으로 하는 폴리아믹산.
The method of claim 1,
The diamine compound is 2,2'-bis(trifluoromethyl)-4,4'-diaminobiphenyl (TFMB), 4,4'-oxydianiline (ODA), 4,4'-methylenedianiline (MDA), p-phenylenediamine (pPDA), m-phenylenediamine (mPDA), p-methylenedianiline (pMDA), m-methylenedianiline (mMDA), p-cyclohexanediamine (pCHDA), p -Xylylenediamine (pXDA), m-xylylenediamine (mXDA), m-cyclohexanediamine (mXDA), 4,4'-diaminodiphenylsulfone (DDS), 2,2-bis[4-(4) -Aminophenoxy)phenyl]-1,1,1,3,3,3-hexafluoro propane (BAFP), 2,2-bis[4-(4-aminophenoxy)phenyl]propane (BAPP), 2,2'-bis(3-amino-4-methylphenyl)hexafluoropropane (BAMF), 2,2'-bis(3-aminophenyl)-hexafluoropropane (BAPF), 3,5-diamino Benzotrifluoride (DABF), 2,2'-bis (trifluoromethyl) -4,4'-diaminodiphenyl ether (BTDE), 2,2-bis (3-amino-4-hydroxy) Phenyl) polyamic acid comprising one selected from the group consisting of hexafluoropropane (BAHH) and combinations thereof.
제1항에 있어서,
상기 산 이무수물 화합물은 불소화 방향족 산 이무수물, 비불소화 방향족 산 이무수물 및 이들의 조합으로 이루어진 군에서 선택된 하나를 포함하는 것을 특징으로 하는 폴리아믹산.
The method of claim 1,
The acid dianhydride compound is a polyamic acid comprising one selected from the group consisting of a fluorinated aromatic acid dianhydride, a non-fluorinated aromatic acid dianhydride, and a combination thereof.
제4항에 있어서,
상기 불소화 방향족 산 이무수물은 4,4'-(헥사플루오로이소프로필리덴)디프탈산 무수물(4,4'-(Hexafluoroisopropylidene)diphthalic anhydride, 6FDA)), 4,4'-(4,4'-헥사플루오로이소프로필리덴디페녹시)비스-(프탈산 무수물)(4,4'-(4,4'-Hexafluoroisopropylidenediphenoxy)bis-(phthalic anhydride, 6-FDPDA) 및 이들의 조합으로 이루어진 군에서 선택된 하나를 포함하는 것을 특징으로 하는 폴리아믹산.
The method of claim 4,
The fluorinated aromatic acid dianhydride is 4,4'-(hexafluoroisopropylidene)diphthalic anhydride (4,4'-(Hexafluoroisopropylidene)diphthalic anhydride, 6FDA)), 4,4'-(4,4'- One selected from the group consisting of hexafluoroisopropylidenediphenoxy)bis-(phthalic anhydride)(4,4'-(4,4'-Hexafluoroisopropylidenediphenoxy)bis-(phthalic anhydride, 6-FDPDA) and combinations thereof Polyamic acid comprising a.
제5항에 있어서,
상기 비불소화 방향족 산 이무수물은 피로멜리트산 이무수물, 피로멜리트산 이무수물(pyromellitic dianhydride, PMDA), 3,3',4,4'-비페닐테트라카르복실산 이무수물(3,3'4,4'-biphenyltetracarboxylic acid dianhydride, BPDA), 3,3',4,4'-벤조페논테트라카르복실산 이무수물(3,3',4,4'-benzophenonetetracarboxylic dianhydride, BTDA), 4,4'-옥시다이프탈산 무수물(4,4′-oxydiphthalic anhydride, ODPA), 2,2-비스[4-(3,4-디카르복시페녹시)페닐]프로판 무수물(2,2-Bis[4-(3,4-dicarboxyphenoxy) phenyl]propane dianhydride, BPADA), 3,3',4,4'-디페닐 술폰 테트라 카르복실산 무수물, 에틸렌 글리콜 비스(4-트리멜리테이트 무수물)(3,3’,4,4’-Diphenyl sufone tetracarboxylic dianhydride, DSDA), 사이클로부탄테트라카르복실산 이수물(CBDA), 4-(2,5-디옥소테트라하이드로푸란-3-일)-1,2,3,4-테트라하이드로나프탈렌-1,2-디카르복실산 이수물(TDA), 피로멜리틱산 이수물(PMDA), 벤조페논 테트라카르복실산 이수물(BTDA), 옥시디프탈릭 이수물(ODPA), 바이시클로[2.2.2]옥트-7엔-2,3,5,6-테트라카르복실산 이수물(BTDA), 3,3',4,4-비페니레트라카르복실산 이수물(s-BPDA) 및 이들의 조합으로 이루어진 군에서 선택된 하나를 포함하는 것을 특징으로 하는 폴리아믹산.
The method of claim 5,
The non-fluorinated aromatic acid dianhydride is pyromellitic dianhydride, pyromellitic dianhydride (PMDA), 3,3',4,4'-biphenyltetracarboxylic dianhydride (3,3'4). ,4'-biphenyltetracarboxylic acid dianhydride, BPDA), 3,3',4,4'-benzophenonetetracarboxylic dianhydride (3,3',4,4'-benzophenonetetracarboxylic dianhydride, BTDA), 4,4' -Oxydiphthalic anhydride (4,4′-oxydiphthalic anhydride, ODPA), 2,2-bis[4-(3,4-dicarboxyphenoxy)phenyl]propane anhydride (2,2-Bis[4-(3 ,4-dicarboxyphenoxy) phenyl]propane dianhydride, BPADA), 3,3',4,4'-diphenyl sulfone tetracarboxylic anhydride, ethylene glycol bis(4-trimelitate anhydride) (3,3',4 ,4'-Diphenyl sufone tetracarboxylic dianhydride, DSDA), cyclobutanetetracarboxylic dianhydride (CBDA), 4-(2,5-dioxotetrahydrofuran-3-yl)-1,2,3,4- Tetrahydronaphthalene-1,2-dicarboxylic acid dihydrate (TDA), pyromellitic acid dihydrate (PMDA), benzophenone tetracarboxylic acid dihydride (BTDA), oxydiphthalic dihydride (ODPA), bicyclo [2.2.2] Oct-7ene-2,3,5,6-tetracarboxylic acid dihydride (BTDA), 3,3',4,4-biphenyretracarboxylic acid dihydride (s-BPDA ) And a polyamic acid comprising one selected from the group consisting of a combination thereof.
제1항의 폴리아믹산은 점도가 23℃에서 1,000 내지 10,000cp인 것을 특징으로 하는 폴리아믹산.The polyamic acid of claim 1 has a viscosity of 1,000 to 10,000 cp at 23°C. 제1항 내지 제7항 중 어느 하나의 폴리아믹산을 포함하는 것을 특징으로 하는 폴리아미드-이미드 필름.A polyamide-imide film comprising the polyamic acid of any one of claims 1 to 7. 제8항에 있어서,
상기 폴리아미드-이미드 필름은 두께가 10 내지 15㎛일 때,
황색도(Yellow Index, Y.I.) 10이하,
100 내지 250℃에서 열팽창계수(Coefficient of thermal expansion, C.T.E.) 20ppm/℃ 이하,
유리전이온도가 360℃ 이상 및
550㎚ 파장에서의 투과도가 85% 이상인 것을 특징으로 하는 폴리아미드-이미드 필름.
The method of claim 8,
When the polyamide-imide film has a thickness of 10 to 15 μm,
Yellow Index (YI) 10 or less,
Coefficient of thermal expansion (CTE) 20ppm/℃ or less at 100 to 250℃,
The glass transition temperature is more than 360℃ and
A polyamide-imide film having a transmittance of 85% or more at a wavelength of 550 nm.
디아민 화합물 및 용매를 혼합하여 혼합물을 제조하는 단계; 및
상기 혼합물에 디카르보닐 화합물 및 산 이무수물을 투입 및 중합하여 폴리아믹산 용액을 제조하는 단계;를 포함하고,
상기 디카르보닐 화합물은 하기 화학식1, 화학식3, 화학식5, 화학식6, 화학식7 및 이들의 조합으로 이루어진 군에서 선택된 하나의 화합물을 포함하고,
폴리아믹산 용액을 제조하는 단계에서 상기 디카르보닐 화합물 및 산 이무수물 화합물은 상기 디아민 화합물을 기준으로 100 내지 105 몰% 포함되고,
상기 디카르보닐 화합물은 상기 디아민 화합물 기준으로 50 내지 100 몰% 포함되는 것을 특징으로 하는 폴리아믹산 제조방법.
[화학식1]
Figure 112021029644338-pat00029

[화학식3]
Figure 112021029644338-pat00031

[화학식5]
Figure 112021029644338-pat00033

[화학식6]
Figure 112021029644338-pat00034

[화학식7]
Figure 112021029644338-pat00035

Preparing a mixture by mixing a diamine compound and a solvent; And
Including; adding and polymerizing a dicarbonyl compound and an acid dianhydride to the mixture to prepare a polyamic acid solution; Including,
The dicarbonyl compound includes one compound selected from the group consisting of the following Formulas 1, 3, 5, 6, 7, and combinations thereof,
In the step of preparing a polyamic acid solution, the dicarbonyl compound and the acid dianhydride compound are contained in an amount of 100 to 105 mol% based on the diamine compound,
The method for producing a polyamic acid, wherein the dicarbonyl compound is contained in an amount of 50 to 100 mol% based on the diamine compound.
[Formula 1]
Figure 112021029644338-pat00029

[Formula 3]
Figure 112021029644338-pat00031

[Formula 5]
Figure 112021029644338-pat00033

[Formula 6]
Figure 112021029644338-pat00034

[Formula 7]
Figure 112021029644338-pat00035

제10항에 있어서,
혼합물을 제조하는 단계에서 상기 용매는 극성용매, 저 비점 용매, 저 흡수성 용매, 퍼짐성 용매 및 이들의 조합으로 이루어진 군에서 선택되고,
상기 극성용매는 m-크레졸, N-메틸-2-피롤리돈(NMP), N,N-디메틸포름아미드(DMF), 디메틸아세트아미드(DMAc), 디메틸설폭사이드(DMSO), 디에틸아세테이트(DEA), 3-메톡시-N,N-디메틸 프로판아미드(DMPA), N,N-디메틸 프로피노아미드(DPA), N,N-디메틸락타미드(DML) 및 이들의 조합으로 이루어진 군에서 선택되고,
상기 저 비점 용매는 테트라하이드로퓨란(THF), 트리클로로메탄(클로로포름, TCM) 및 이들의 조합으로 이루어진 군에서 선택되고,
상기 저 흡수성 용매는 감마-부티로락톤(GBL), 3-메톡시-N,N-디메틸프로판아미드(DMPA), N,N-디메틸 프로피노아미드(DPA), N,N-디메틸락타미드(DML), N-메틸-2-피롤리돈(NMP) 및 이들의 조합으로 이루어진 군에서 선택되고,
상기 퍼짐성 용매로는 에틸렌글리콜모노부틸에테르(EGBE), 에틸렌글리콜디메틸에테르(EGME), 에틸렌글리콜디에틸에테르(EGDE), 에틸렌글리콜디프로필에테르(EGDPE), 에틸렌글리콜디부틸에테르(EGDBE) 및 이들의 조합으로 이루어진 군에서 선택된 하나인 것을 특징으로 하는 폴리아믹산 제조방법.
The method of claim 10,
In the step of preparing a mixture, the solvent is selected from the group consisting of a polar solvent, a low boiling point solvent, a low absorption solvent, a spreading solvent, and a combination thereof,
The polar solvent is m-cresol, N-methyl-2-pyrrolidone (NMP), N,N-dimethylformamide (DMF), dimethylacetamide (DMAc), dimethyl sulfoxide (DMSO), diethyl acetate ( DEA), selected from the group consisting of 3-methoxy-N,N-dimethyl propanamide (DMPA), N,N-dimethyl propinoamide (DPA), N,N-dimethyllactamide (DML), and combinations thereof Become,
The low boiling point solvent is selected from the group consisting of tetrahydrofuran (THF), trichloromethane (chloroform, TCM), and combinations thereof,
The low-absorption solvent is gamma-butyrolactone (GBL), 3-methoxy-N,N-dimethylpropanamide (DMPA), N,N-dimethyl propinoamide (DPA), N,N-dimethyllactamide ( DML), is selected from the group consisting of N-methyl-2-pyrrolidone (NMP), and combinations thereof,
Examples of the spreadable solvent include ethylene glycol monobutyl ether (EGBE), ethylene glycol dimethyl ether (EGME), ethylene glycol diethyl ether (EGDE), ethylene glycol dipropyl ether (EGDPE), ethylene glycol dibutyl ether (EGDBE), and these Polyamic acid production method, characterized in that one selected from the group consisting of a combination of.
제11항에 있어서,
상기 저 흡수성 용매로 감마부티로락톤 30 내지 70몰% 및 N-메틸-2-피롤리돈 30 내지 70몰%를 포함하는 제1 저 흡수성 용매 혼합물, 감마-부티로락톤 30 내지 70몰% 및 N,N-디메틸 프로피노아미드 30 내지 70몰%를 포함하는 제2 저 흡수성 용매 혼합물, 감마-부티로락톤 30 내지 70몰% 및 3-메톡시-N,N-디메틸 프로판아미드 30 내지 70몰%를 포함하는 제3 저 흡수성 용매 혼합물, N,N-디메틸 프로피노아미드 100몰% 또는 3-메톡시-N,N-디메틸 프로판아미드 100몰%를 포함하는 것을 특징으로 하는 폴리아믹산 제조방법.
The method of claim 11,
A first low-absorption solvent mixture containing 30 to 70 mol% of gamma butyrolactone and 30 to 70 mol% of N-methyl-2-pyrrolidone as the low-absorption solvent, 30 to 70 mol% of gamma-butyrolactone, and A second low-absorption solvent mixture comprising 30 to 70 mole percent of N,N-dimethyl propinoamide, 30 to 70 mole percent gamma-butyrolactone and 30 to 70 moles of 3-methoxy-N,N-dimethyl propanamide A method for producing a polyamic acid, comprising: a third low-absorption solvent mixture containing %, 100 mol% of N,N-dimethyl propinoamide or 100 mol% of 3-methoxy-N,N-dimethyl propanamide.
제10항에 있어서,
상기 용매는 에틸렌글리콜모노부틸에테르(EGBE), 에틸렌글리콜디메틸에테르(EGME), 에틸렌글리콜디에틸에테르(EGDE), 에틸렌글리콜디프로필에테르(EGDPE), 에틸렌글리콜디부틸에테르(EGDBE) 및 이들의 조합으로 이루어진 군에서 선택된 하나의 퍼짐성 용매를 포함하는 것을 특징으로 하는 폴리아믹산 제조방법.
The method of claim 10,
The solvent is ethylene glycol monobutyl ether (EGBE), ethylene glycol dimethyl ether (EGME), ethylene glycol diethyl ether (EGDE), ethylene glycol dipropyl ether (EGDPE), ethylene glycol dibutyl ether (EGDBE), and combinations thereof Polyamic acid production method comprising one spreading solvent selected from the group consisting of.
삭제delete 제10항에 있어서,
혼합물을 제조하는 단계에서 상기 혼합은 질소분위기 및 25 내지 30℃의 온도에서 30 내지 60분 동안 진행되는 것을 특징으로 하는 폴리아믹산 제조방법.
The method of claim 10,
In the step of preparing a mixture, the mixing is performed for 30 to 60 minutes in a nitrogen atmosphere and at a temperature of 25 to 30°C.
제10항에 있어서,
폴리아믹산 용액을 제조하는 단계에서 상기 혼합물에 가소제, 산화방지제, 난연화제, 분산제, 점도 조절제, 레벨링제 및 이들의 조합으로 이루어진 군에서 선택된 하나를 더 투입하는 것을 특징으로 하는 폴리아믹산 제조방법.
The method of claim 10,
In the step of preparing a polyamic acid solution, one selected from the group consisting of a plasticizer, an antioxidant, a flame retardant, a dispersant, a viscosity modifier, a leveling agent, and a combination thereof is further added to the mixture.
제10항에 있어서,
폴리아믹산 용액을 제조하는 단계에서 상기 중합은 10 내지 70℃ 온도에서 6 내지 48시간 동안 진행되는 것을 특징으로 하는 폴리아믹산 제조방법.
The method of claim 10,
In the step of preparing a polyamic acid solution, the polymerization is performed at a temperature of 10 to 70° C. for 6 to 48 hours.
제10항에 있어서,
폴리아믹산 용액을 제조하는 단계에서 상기 디아민 화합물, 디카르보닐 화합물 및 산 이무수물은 상기 폴리아믹산 용액의 고형분을 구성하고,
상기 고형분의 함량은 상기 폴리아믹산 용액 기준으로 10 내지 40중량%인 것을 특징으로 하는 폴리아믹산 제조방법.
The method of claim 10,
In the step of preparing a polyamic acid solution, the diamine compound, dicarbonyl compound, and acid dianhydride constitute a solid content of the polyamic acid solution,
Polyamic acid production method, characterized in that the content of the solid content is 10 to 40% by weight based on the polyamic acid solution.
삭제delete 제10항 내지 제13항, 제15항 내지 제18항 중 어느 하나의 폴리아믹산 제조방법에 의해 제조된 폴리아믹산 용액에 있어서,
상기 폴리아믹산 용액을 기재 상에 코팅하여 투명 코팅층을 형성하는 단계; 및
상기 투명 코팅층을 열처리하는 단계;를 더 포함하고,
상기 열처리는 질소분위기의 100 내지 450℃ 온도에서 30 내지 120분 동안 진행되는 것을 특징으로 하는 폴리아미드-이미드 필름 제조방법.
In the polyamic acid solution prepared by the method for producing a polyamic acid of any one of claims 10 to 13 and 15 to 18,
Coating the polyamic acid solution on a substrate to form a transparent coating layer; And
Heat-treating the transparent coating layer; further comprising,
The heat treatment is performed for 30 to 120 minutes at a temperature of 100 to 450°C in a nitrogen atmosphere.
KR1020190000243A 2019-01-02 2019-01-02 manufacturing method of polyamic acid composition comprising novel dicarbonyl compounds, polyamic acid composition, manufacturing method of polyamide-imide film using the polyamic acid composition and polyamide-imide film using the same KR102249475B1 (en)

Priority Applications (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020190000243A KR102249475B1 (en) 2019-01-02 2019-01-02 manufacturing method of polyamic acid composition comprising novel dicarbonyl compounds, polyamic acid composition, manufacturing method of polyamide-imide film using the polyamic acid composition and polyamide-imide film using the same
JP2021538723A JP7317123B2 (en) 2019-01-02 2019-11-08 Novel method for producing a polyamic acid composition containing a dicarbonyl compound, a polyamic acid composition, a method for producing a polyamide-imide film using the same, and a polyamide-imide film produced by the production method
CN201980086790.0A CN113439101B (en) 2019-01-02 2019-11-08 Polyamic acid composition, preparation method thereof, preparation method of polyamide imide film and polyamide imide film prepared by same
PCT/KR2019/015111 WO2020141713A1 (en) 2019-01-02 2019-11-08 Method for preparing polyamic acid composition containing novel dicarbonyl compound, polyamic acid composition, method for manufacturing polyamide-imide film using same, and polyamide-imide film produced by same manufacturing method

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020190000243A KR102249475B1 (en) 2019-01-02 2019-01-02 manufacturing method of polyamic acid composition comprising novel dicarbonyl compounds, polyamic acid composition, manufacturing method of polyamide-imide film using the polyamic acid composition and polyamide-imide film using the same

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20200084482A KR20200084482A (en) 2020-07-13
KR102249475B1 true KR102249475B1 (en) 2021-05-12

Family

ID=71406756

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020190000243A KR102249475B1 (en) 2019-01-02 2019-01-02 manufacturing method of polyamic acid composition comprising novel dicarbonyl compounds, polyamic acid composition, manufacturing method of polyamide-imide film using the polyamic acid composition and polyamide-imide film using the same

Country Status (4)

Country Link
JP (1) JP7317123B2 (en)
KR (1) KR102249475B1 (en)
CN (1) CN113439101B (en)
WO (1) WO2020141713A1 (en)

Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TWI740758B (en) * 2020-12-25 2021-09-21 律勝科技股份有限公司 Polyamide-imide copolymer and film containing the same
CN114225721B (en) * 2021-11-26 2023-06-27 山东东岳高分子材料有限公司 Safe and environment-friendly method for preparing PVDF porous membrane
CN114940822B (en) * 2022-05-17 2024-02-23 浙江中科玖源新材料有限公司 Polyamide-imide film and flexible display

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002008468A (en) 2000-06-22 2002-01-11 Sumitomo Bakelite Co Ltd Insulating material

Family Cites Families (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20100105182A (en) * 2009-03-20 2010-09-29 김진우 Process for making imide and aramid function containing novel polymer and application
JP2012077144A (en) 2010-09-30 2012-04-19 Kaneka Corp Polyamideimide resin, manufacturing method therefor, polyamideimide resin solution, polyamideimide film, and use thereof
KR20170011011A (en) * 2015-07-21 2017-02-02 주식회사 엘지화학 Polyamide-imide precursors and preparation method of same
KR20180009651A (en) * 2016-07-19 2018-01-29 코오롱인더스트리 주식회사 Polyamic acid, Polyimide Resin, Polyimide Film and Display Device Comprising Thereof
JP2020109155A (en) 2018-12-28 2020-07-16 住友化学株式会社 Optical film, flexible display device and polyamide-imide resin

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002008468A (en) 2000-06-22 2002-01-11 Sumitomo Bakelite Co Ltd Insulating material

Non-Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
JOURNAL OF APPLIED POLYMER SCIENCE, VOL.56, PP.527-532

Also Published As

Publication number Publication date
JP7317123B2 (en) 2023-07-28
CN113439101B (en) 2023-08-11
WO2020141713A1 (en) 2020-07-09
CN113439101A (en) 2021-09-24
JP2022516282A (en) 2022-02-25
KR20200084482A (en) 2020-07-13

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR101899902B1 (en) Transparent polyimide precursor resin composition improving stability of resin and heat-resistance, method for manufacturing polyimide film using the same, and polyimide film thereof
KR102386217B1 (en) Polyamic acid resin and polyamideimde film
KR102385244B1 (en) Polyamic acid resin and polyamideimide film
JP2021102770A (en) Polyamic acid composition with improved adhesive strength and polyimide film comprising the same
US11421081B2 (en) Polyimide-polybenzoxazole precursor solution, polyimide-polybenzoxazole film, and preparation method therefor
JP2018522105A (en) Polyamide-imide precursor, polyamide-imide film, and display element including the same
KR102385237B1 (en) Polyamic acid resin, polyamideimide film and method for preparing the same
KR20170073977A (en) Polyamic acid composition comprising alicyclic monomer and trasparent polyimide film using the same
CN110099946B (en) Transparent polyimide film
KR102249475B1 (en) manufacturing method of polyamic acid composition comprising novel dicarbonyl compounds, polyamic acid composition, manufacturing method of polyamide-imide film using the polyamic acid composition and polyamide-imide film using the same
KR20150077177A (en) Polyamic acid solution, transparent polyimide film, transparent substrate using the same
CN113227207A (en) Polyamic acid composition and transparent polyimide film using same
KR20160003606A (en) Polyamic acid solution, transparent polyimide film, transparent substrate using the same
JP6935623B2 (en) A highly transparent polyimide precursor resin composition having excellent optical characteristics and phase delay characteristics, a method for producing a polyimide resin film using the same, and a polyimide resin film produced by the same.
KR101779302B1 (en) Method for preparing a high heat resistant and transparent polyimide film
JP7317122B2 (en) Polyamic acid composition production method, polyamic acid composition, polyimide film production method using the same, and polyimide film produced by the production method
KR20160113754A (en) Precursor of polyimide and polyimide manufactured thereof and polyimide film including the same
KR102339091B1 (en) Polyamic acid composition, polyamideimide film thereof and method for preparing the polyamindeimide film
KR20190081459A (en) Method of preparing Polyamic acid and Polyamic acid, Polyimide resin and Polyimide film thereby
KR102427760B1 (en) Polyimide-based polymer film, substrate for display device, and optical device using the same
KR20240008496A (en) Polyamideimide film and optical multilayer structure comprising same
KR101488581B1 (en) Polyamic acid solution and polyimide film comprising the polyamic acid solution
KR20220033036A (en) Polyimide-based polymer film, substrate for display device, and optical device using the same

Legal Events

Date Code Title Description
E902 Notification of reason for refusal
E902 Notification of reason for refusal
E701 Decision to grant or registration of patent right