KR102249085B1 - Rf plasma exhaust gas treatment device - Google Patents
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Abstract
Description
본 발명은 산업용 보일러 등의 소각시설에서 발생되는 배기가스 또는 화학 처리시설이나 바이러스 및 세균 등의 병원균을 다루는 연구시설, 병의원 등에서 배출되는 오염공기에 포함된 유해물질 처리를 위한 알에프 플라즈마 장치에 관한 것으로서, 더욱 상세하게는 배기가스 또는 오염공기가 통과하는 관로 상에 알에프를 조사하고 플라즈마 방전을 통하여 대면적의 방전공간을 지나가게 함으로써 배기가스 또는 오염공기 중에 포함된 유해성 물질을 감소시키고, 이온성 가스 내지는 이온화된 유해물질로 전환시킨 뒤 습식 스크러버를 통과시켜 흡착시킴으로써 처리 효율을 높일 수 있는 배기가스 또는 오염공기 처리를 위한 알에프 플라즈마 장치에 관한 것이다.The present invention relates to an RF plasma device for treating harmful substances contained in polluted air discharged from exhaust gas or chemical treatment facilities such as industrial boilers, research facilities dealing with pathogens such as viruses and bacteria, hospitals, etc. , More specifically, by irradiating RF on a pipe through which exhaust gas or contaminated air passes and passing through a large-area discharge space through plasma discharge, harmful substances contained in exhaust gas or polluted air are reduced, and ionic gas Or to an RF plasma apparatus for treating exhaust gas or contaminated air, which can increase treatment efficiency by converting to ionized harmful substances and adsorbing them through a wet scrubber.
일반적으로 소각시설, 공장, 발전소, 보일러 등에서 연소 반응 후 발생되는 배기가스에는 불완전 연소로 인해 유해 미립자인 질소산화물(NOx)과 입자상 물질(PM, Particulate Matter), 및 수트(Soot, 재), 다이옥신, 일산화탄소 등의 불완전연소 화합물 등의 환경에 악영향을 미치는 유해성분이 다량 함유되어 있으며, 이러한 환경오염의 원인이 되는 유해물질을 제거하기 위하여 배기가스를 외부로 그대로 배출시키지 않고 배기가스 후처리장치를 경유하여 환경 유해물질을 걸러내도록 하고 있다.In general, exhaust gases generated after combustion reactions in incineration facilities, factories, power plants, boilers, etc., are harmful particulates due to incomplete combustion such as nitrogen oxides (NOx), particulate matter (PM), and soot (ash), dioxin. , Incomplete combustion compounds such as carbon monoxide, etc., contain a large amount of harmful components that adversely affect the environment.In order to remove harmful substances that cause environmental pollution, exhaust gas is not discharged to the outside as it is but via an exhaust gas post-treatment device. This is to filter out environmentally hazardous substances.
한편, 배기가스 후처리 기술로는 촉매를 사용하는 방식, LPG를 사용하여 태우는 연소방식, 가느다란 물줄기를 사용하여 물흡착을 유도하는 습식 스크러버 처리방식, 전기 집진기를 사용한 집진 방식 등이 널리 보급되어 있으나, 상기 촉매 방식의 경우 촉매의 내구수명 제한에 따른 교체비용 증가로 인한 유지비용이 비경제적이며, LPG를 사용한 재소각방식은 과다한 연료사용으로 인한 경제성이 떨어질 뿐만 아니라 재연소 과정에서 여전히 불완전연소로 인한 유해물질의 발생 우려가 존재하며. 상기 습식 배기가스 스크러버 처리방식은 배기가스를 물줄기 속을 통과시키는 과정에서 물속에 흡착시키는 성질을 이용한 것으로서 비극성 배기가스의 경우 처리효율이 낮다는 단점이 있고, 전기집진기의 경우 처리효율이 제한적인 단점이 있다.Meanwhile, as the exhaust gas post-treatment technology, a method using a catalyst, a combustion method using LPG, a wet scrubber treatment method that induces water adsorption using a thin water stream, and a dust collection method using an electric dust collector are widely spread. However, in the case of the catalytic method, maintenance costs are uneconomical due to an increase in replacement cost due to the limit of the durability life of the catalyst, and the reincineration method using LPG not only decreases economic efficiency due to excessive fuel use, but is still incomplete combustion during the reburn process. There is a concern about the occurrence of hazardous substances due to. The wet exhaust gas scrubber treatment method uses the property of adsorbing the exhaust gas into water in the process of passing it through the water stream, and has a disadvantage in that the treatment efficiency is low in the case of non-polar exhaust gas, and the treatment efficiency is limited in the case of an electric dust collector. There is this.
이외에도 아크 플라즈마 방식을 이용한 배기가스 처리장치가 대안적으로 사용되고 있으나, 이러한 플라즈마 방식의 배기가스 처리장치는 플라즈마 방전 공간의 크기가 제한되어 있으며, 아크 플라즈마를 형성하고 유지하기 위하여 발생되는 소모전극의 잦은 교체가 요구됨과 아울러 높은 전기에너지 사용량으로 인해 경제성이 낮은 폐단이 있었다.In addition, the exhaust gas treatment device using the arc plasma method is alternatively used, but the exhaust gas treatment device of this plasma method has a limited size of the plasma discharge space, and the frequent use of the consumable electrode generated to form and maintain the arc plasma. In addition to the need for replacement, there was a disadvantage with low economic efficiency due to high electrical energy consumption.
종래기술로는 대한민국 등록특허 제10-1961947호를 통해 ‘고에너지 열플라즈마와 고온챔버를 이용한 배기가스 처리장치’가 제안된 바 있으며, 주요한 특징으로는 직류전원을 이용한 고에너지 열플라즈마를 발생하여, 유입된 배기가스를 분해(전자,양자,핵 분리)하여 무해한 가스 상태로 처리 및 2차로 고온챔버에서 장시간 고온을 유지한 후 배출이 가능하게 하는 등 배출 과정에서 재결합의 방지와 동시에 수용성 가스처리 및 온도냉각이 가능하게 하는 기술 구성이 개시되어 있다.As a prior art,'exhaust gas treatment apparatus using high energy thermal plasma and high temperature chamber' has been proposed through Korean Patent Registration No. 10-1961947, and its main feature is to generate high energy thermal plasma using DC power. , Water-soluble gas treatment while preventing recombination during the discharge process, such as decomposing the introduced exhaust gas (separating electrons, protons, and nuclei) into a harmless gas state, and allowing it to be discharged after maintaining high temperature for a long time in a high-temperature chamber And a technical configuration enabling temperature cooling is disclosed.
그러나, 상기 종래 기술에 따른 고에너지 열플라즈마와 고온챔버를 이용한 배기가스 처리장치는 플라즈마 방전크기에 제한적이어서 배기가스의 처리 효율을 높이는데 한계가 있을 뿐만 아니라 소모전극의 잦은 교체와 높은 전기에너지 사용으로 인한 경제적인 유지관리가 곤란한 문제점이 있다.However, the exhaust gas treatment apparatus using the high-energy thermal plasma and the high-temperature chamber according to the prior art is limited in the plasma discharge size, so there is a limit to increasing the treatment efficiency of the exhaust gas, as well as frequent replacement of the consuming electrode and the use of high electrical energy. There is a problem that economic maintenance is difficult due to.
한편, 화학물질 처리를 위한 시설이나 바이러스 또는 세균 등의 병원균을 취급하는 연구소나 병의원의 경우 실내 공기 중에 위험물질이 잔존할수 있는 여지가 있음에 따라 오염공기 정화를 위한 공기청정기나 클린룸 또는 공조기 설비를 통해 정화를 하고 있는 실정이다On the other hand, in the case of facilities for processing chemical substances, research institutes or hospitals that deal with pathogens such as viruses or bacteria, there is room for hazardous substances to remain in the indoor air. The situation is purifying through
즉, 종래의 실내 공기 정화 방법은 대부분 고효율의 필터재를 이용하는 여과방식이어서 오염공기의 제거효과가 낮을 뿐만 아니라 필터재에 의한 2차 오염의 문제점이 있으며, 이외에도 고가의 필터재를 주기적으로 교체해야 하므로 경제적인 유지관리가 곤란한 문제점이 있었다.In other words, conventional indoor air purification methods are mostly filtration methods using high-efficiency filter materials, so not only has the effect of removing contaminated air low, but also has a problem of secondary contamination by the filter material, and in addition, expensive filter materials need to be replaced periodically. Therefore, there was a problem that economical maintenance was difficult.
본 발명은 상기와 같은 종래 기술의 문제점을 해결하기 위하여 창출된 것으로서, 본 발명의 목적은 극성 혹은 비극성 배기가스 또는 오염공기를 구분하지 않고 대형 공간 내에 RF를 인가하여 플라즈마를 발생시키고 인위적 극성을 유도하고 플라즈마 부피를 팽창시키며 이온성 가스 내지는 이온성 유해물질로의 변환을 통하여 2차반응을 통한 완전연소를 유도함으로써 후단에 설치한 습식 스크러버 배기가스 처리모듈에서 흡착이 이루어짐으로써 배기가스 처리효율을 증대할 수 있는 배기가스 또는 오염공기 처리를 위한 알에프 플라즈마 장치를 제공하는데 있다.The present invention was created to solve the problems of the prior art as described above, and an object of the present invention is to generate plasma by applying RF in a large space without discriminating between polar or non-polar exhaust gas or polluted air to induce artificial polarity. It expands the plasma volume and induces complete combustion through a secondary reaction through conversion to ionic gas or ionic harmful substances, thereby increasing exhaust gas treatment efficiency by adsorbing in the wet scrubber exhaust gas treatment module installed at the rear end. It is to provide an RF plasma device for treating exhaust gas or polluted air.
본 발명의 다른 목적은 간소한 구조를 통해 경제적인 제조와 유지관리가 가능하여 경제성을 높일 수 있고, 구조가 간소하여 설계의 자유도가 높음에 따라 다양한 형태의 소각설비나 산업용 보일러 뿐만 아니라 화학물질 처리시설이나 바이러스나 세균등의 병원균을 취급하는 시설의 오염공기 처리에 적용할 수 있는 배기가스 또는 오염공기 처리를 위한 알에프 플라즈마 장치를 제공하는데 있다. Another object of the present invention is to increase economic efficiency by enabling economical manufacturing and maintenance through a simple structure, and processing chemical substances as well as various types of incineration facilities or industrial boilers according to the simple structure and high degree of design freedom. It is to provide an RF plasma device for the treatment of exhaust gas or polluted air that can be applied to the treatment of polluted air in facilities or facilities that deal with pathogens such as viruses and bacteria.
상기의 목적을 실현하기 위한 본 발명의 바람직한 실시례에 따른 배기가스 또는 오염공기 처리를 위한 알에프 플라즈마 장치는, 내부에 고온의 배기가스가 통과하는 가스방전 유도관 및 이 가스방전 유도관의 외부로 간격을 두고 감싸도록 구비되는 하우징으로 이루어진 본체; 상기 가스방전 유도관에 물방울 등의 수증기, 암모니아, 알코올, 보조연료 또는 산소 등을 포함하는 보조가스 중 어느 하나 또는 둘 이상을 공급제어하는 보조가스 공급모듈; 상기 가스방전 유도관 내부에 불꽃을 일으킬 수 있도록 구비되는 착화모듈; 상기 본체의 일측에 제공되어 가스방전 유도관에 알에프를 조사하여 플라즈마 방전을 발생시켜 배기가스내의 화합물을 극성화합물로 변화시키는 알에프 공급모듈; 상기 가스방전 유도관에 연결되어 배출되는 연소가스 중 극성화합물을 흡착제거 하기 위한 습식 스크러버 모듈로 구성된 것에 그 특징이 있다.The RF plasma apparatus for treating exhaust gas or contaminated air according to a preferred embodiment of the present invention for realizing the above object includes a gas discharge guide tube through which high-temperature exhaust gas passes and the outside of the gas discharge guide tube. A main body made of a housing provided to be wrapped at intervals; An auxiliary gas supply module for supplying and controlling one or more of auxiliary gases including water vapor such as water droplets, ammonia, alcohol, auxiliary fuel or oxygen to the gas discharge induction tube; An ignition module provided to generate a spark inside the gas discharge induction tube; An RF supply module provided on one side of the main body to generate plasma discharge by irradiating RF to a gas discharge induction tube to change a compound in the exhaust gas into a polar compound; It is characterized by consisting of a wet scrubber module for adsorbing and removing polar compounds from the combustion gases discharged by being connected to the gas discharge induction pipe.
본 발명의 바람직한 한 특징으로서, 상기 알에프 공급모듈은, 제어신호를 인가받아 알에프를 발생시키는 하나 또는 복수개로 이루어진 알에프 공급기; 상기 알에프 공급기의 알에프 출력량 또는 반사량 신호를 측정하는 알에프 측정기; 상기 알에프 측정기의 측정신호를 인가받아 알에프의 출력량 내지는 가스방전관 내부로의 알에프 공급량을 설정치 범위 내에 유지되도록 제어하는 알에프 제어기로 구성되는 것에 있다.As a preferred feature of the present invention, the RF supply module includes one or more RF supply units configured to generate RF by receiving a control signal; An RF measuring device for measuring an RF output amount or a reflection amount signal of the RF supply device; It is composed of an RF controller that receives the measurement signal from the RF measuring device and controls the output amount of the RF or the amount of RF supply to the inside of the gas discharge tube to be maintained within a set value range.
본 발명의 바람직한 다른 특징으로서, 상기 가스방전 유도관은 알에프가 통과할 수 있는 비금속성 외벽이 일부를 형성하는 것에 있다.As another preferred feature of the present invention, the gas discharge induction tube is formed by forming a part of a non-metallic outer wall through which the RF can pass.
본 발명의 바람직한 또 다른 특징으로서, 상기 가스방전 유도관의 배출구에는 배출되는 가스의 성분을 검출하기 위한 가스측정기 및 온도측정을 위한 온도측정기가 설치되고, 상기 가스측정기와 온도측정기로부터 검출된 측정값을 인가받는 것으로 상기 가스방전 유도관에 공급되는 보조가스량 및 알에프 출력량을 제어하도록 상기 보조가스 공급모듈과 착화모듈 그리고 알에프 공급모듈에 선택적으로 제어신호를 인가하여 동작을 제어하는 컨트롤러를 포함하여 구성되는 것에 있다.As another preferred feature of the present invention, a gas measuring device for detecting a component of the discharged gas and a temperature measuring device for measuring a temperature are installed at the outlet of the gas discharge induction tube, and a measured value detected from the gas measuring device and the temperature measuring device And a controller configured to control the operation by selectively applying a control signal to the auxiliary gas supply module, the ignition module, and the RF supply module to control the amount of auxiliary gas supplied to the gas discharge induction tube and the amount of RF output by receiving the There is one.
본 발명의 바람직한 또 다른 특징으로서, 상기 가스방전 유도관 내부의 가스성분 또는 가스방전 유도관을 경유하여 배기되는 가스성분 중 어느 하나 또는 둘 모두를 측정하기 위한 것으로 가스측정기, 적외선 열화상 분석기 또는 분광분석기 중 어느 하나를 포함하여 구성되는 것에 있다.As another preferred feature of the present invention, it is for measuring any one or both of the gas component inside the gas discharge guide tube or the gas component exhausted through the gas discharge guide tube. It consists of including any one of the analyzers.
본 발명의 바람직한 또 다른 특징으로서, 상기 가스방전 유도관 내부의 온도 또는 상기 가스방전 유도관을 경유하여 배기되는 가스의 온도 중 어느 하나 또는 둘 모두를 측정하기 위한 온도측정기를 포함하여 구성되는 것에 있다.As another preferred feature of the present invention, it is configured to include a temperature measuring device for measuring either or both of the temperature inside the gas discharge induction tube or the temperature of the gas exhausted through the gas discharge induction tube. .
본 발명에 따른 배기가스 또는 오염공기 처리를 위한 알에프 플라즈마 장치는, 구조가 간소하여 소각설비나 산업용 보일러 등의 배기가스 관내에 용이하게 적용할 수 있을 뿐만 아니라 화학처리시설이나 바이러스 등의 병원성 오염원을 취급하는 시설의 오염공기 처리를 위한 공기조화기 등에 적용할 수 있으며, 인가된 알에프 에너지를 받아 플라즈마 가스방전이 이루어지고 불완전 연소 가스를 이온화함으로써 완전 재연소를 유도하여 배기가스내에 포함된 유해물질의 제거를 가능하게 하고, 아울러 미세먼지를 포함한 비극성 화합물은 플라즈마 방전을 통하여 극성화합물로 변화시킴으로써 후단에 제공된 습식처리장치를 이용하여 흡착시켜 제거할 수 있도록 함으로써 배기가스에 포함된 유해물질의 효과적인 제거가 가능한 이점이 기대된다.The RF plasma device for treating exhaust gas or polluted air according to the present invention has a simple structure and can be easily applied in exhaust gas pipes such as incineration facilities or industrial boilers, as well as pathogenic pollutants such as chemical treatment facilities or viruses. It can be applied to air conditioners for the treatment of polluted air in facilities handled. Plasma gas discharge is performed by receiving the applied RF energy, and by ionizing incomplete combustion gas, complete reburn is induced and harmful substances contained in exhaust gas are removed. In addition, non-polar compounds including fine dust can be removed by changing them into polar compounds through plasma discharge, so that they can be adsorbed and removed using a wet treatment device provided at the rear end, thereby effectively removing harmful substances contained in exhaust gas. Possible advantages are expected.
또한, 플라즈마 방전크기에 제약을 해소할 수 있으므로 결과적으로 배기가스나 오염공기의 처리 효율을 대폭 향상시킬 수 있을 뿐만 아니라 소모전극의 잦은 교체를 요구하지 않으므로 경제적인 유지관리가 가능하며, 특히 극성 혹은 비극성 배기가스를 구분하지 않고 RF를 인가하여 플라즈마를 발생시키는 작용을 통해 인위적 극성을 유도하고, 이에 플라즈마 부피 확장을 통하여 2차반응을 통한 완전연소를 유도하는 방식이므로 다양한 형태의 소각설비나 산업용 보일러 또는 화학처리시설이나 바이러스 및 병원균 등을 포함한 오염공기 발생시설 등에 적용되어 유해물질의 저감효율을 높일 수 있도록 한 효과가 있다.In addition, since the restriction on the size of plasma discharge can be resolved, the efficiency of treatment of exhaust gas or contaminated air can be significantly improved as a result, and economical maintenance is possible because frequent replacement of the consumable electrode is not required. Since it is a method that induces artificial polarity through the action of generating plasma by applying RF without distinguishing non-polar exhaust gas, and thereby inducing complete combustion through secondary reaction through expansion of plasma volume, various types of incineration facilities or industrial boilers Alternatively, it is applied to chemical treatment facilities or facilities that generate polluted air including viruses and pathogens, thereby increasing the efficiency of reducing harmful substances.
본 발명의 특징 및 이점들은 첨부도면에 의거한 다음의 상세한 설명으로 더욱 명백해질 것이다. 이에 앞서 본 명세서 및 청구범위에 사용된 용어나 단어는 통상적이고 사전적인 의미로 해석되어서는 아니 되며, 발명자가 그 자신의 발명을 가장 최선의 방법으로 설명하기 위해 용어의 개념을 적절하게 정의할 수 있다는 원칙에 입각하여 본 발명의 기술적 사상에 부합되는 의미와 개념으로 해석되어야만 한다.Features and advantages of the present invention will become more apparent from the following detailed description based on the accompanying drawings. Prior to this, terms or words used in the present specification and claims should not be interpreted in a conventional and dictionary meaning, and the inventor may appropriately define the concept of terms in order to describe his own invention in the best way. It should be interpreted as a meaning and concept consistent with the technical idea of the present invention based on the principle that there is.
도 1은 본 발명에 따른 배기가스 또는 오염공기 처리를 위한 알에프 플라즈마 장치의 구성을 설명하기 위한 개념도.
도 2는 본 발명에 따른 배기가스 또는 오염공기 처리를 위한 알에프 플라즈마 장치의 일 실시례를 나타낸 모식도,
도 3은 본 발명에 따른 배기가스 또는 오염공기 처리를 위한 알에프 플라즈마 장치의 다른 실시례를 나타낸 모식도,
도 4는 본 발명에 따른 배기가스 또는 오염공기 처리를 위한 알에프 플라즈마 장치에서의 점화 및 플라즈마 방전을 설명하기 위한 모식도,
도 5는 본 발명에 따른 배기가스 또는 오염공기 처리를 위한 알에프 플라즈마 장치에서의 초기점화 내지는 플라즈마 방전을 나타낸 모식도.1 is a conceptual diagram for explaining the configuration of an RF plasma apparatus for treating exhaust gas or polluted air according to the present invention.
2 is a schematic diagram showing an embodiment of an RF plasma device for treating exhaust gas or polluted air according to the present invention;
3 is a schematic diagram showing another embodiment of an RF plasma device for treating exhaust gas or polluted air according to the present invention;
4 is a schematic diagram for explaining ignition and plasma discharge in an RF plasma apparatus for treating exhaust gas or polluted air according to the present invention;
5 is a schematic diagram showing an initial ignition or plasma discharge in an RF plasma apparatus for treating exhaust gas or polluted air according to the present invention.
이하에서는 첨부한 도면을 참조하면서 본 발명의 실시예에 대한 구성 및 작용을 상세하게 설명하기로 한다. 다만, 본 발명을 특정한 개시형태에 대해 한정하려는 것이 아니며, 본 발명의 사상 및 기술범위에 포함되는 모든 변경, 균등물 내지 대체물을 포함하는 것으로 이해되어야 한다. 본 출원에서 "포함하다" 또는 "가지다" 등의 용어는 명세서 상에 기재된 특징, 단계, 동작, 구성요소, 부분품 또는 이들을 조합한 것이 존재함을 지정하려는 것이지 하나 또는 그 이상의 다른 특징들이나 단계, 동작, 구성요소, 부분품 또는 이들을 조합한 것들의 존재 또는 부가 가능성을 미리 배제하지 않는 것으로 이해되어야 한다. 즉, 명세서 전체에서, 어떤 부분이 어떤 구성요소를 "포함"한다고 할 때, 이는 특별히 반대되는 기재가 없는 한 다른 구성요소를 제외하는 것이 아니라 다른 구성요소를 더 포함할 수 있는 것을 의미한다.Hereinafter, a configuration and operation of an embodiment of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings. However, it is not intended to limit the present invention to a specific disclosed form, and it should be understood to include all changes, equivalents, and substitutes included in the spirit and scope of the present invention. In the present application, terms such as "comprise" or "have" are intended to designate the existence of features, steps, actions, components, parts, or combinations thereof described in the specification, but one or more other features, steps, and actions. It is to be understood that the possibility of the presence or addition of, components, parts, or combinations thereof is not preliminarily excluded. That is, throughout the specification, when a certain part "includes" a certain component, it means that other components may be further included rather than excluding other components unless otherwise stated.
또한, 다르게 정의되지 않는 한 기술적이거나 과학적인 용어를 포함해서 여기서 사용되는 모든 용어들은 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에 의해 일반적으로 이해되는 것과 동일한 의미를 가지고 있다. 일반적으로 사용되는 사전에 정의되어있는 것과 같은 용어들은 관련기술의 문맥상 가지는 의미와 일치하는 의미를 가지는 것으로 해석되어야 하며, 본 출원에서 명백하게 정의하지 않는 한, 이상적이거나 과도하게 형식적인 의미로 해석되지 않는다.In addition, unless otherwise defined, all terms used herein, including technical or scientific terms, have the same meaning as commonly understood by one of ordinary skill in the art to which the present invention belongs. Terms as defined in a commonly used dictionary should be interpreted as having a meaning consistent with the meaning in the context of the related technology, and should not be interpreted as an ideal or excessively formal meaning unless explicitly defined in this application. Does not.
여기서, 반복되는 설명, 본 발명의 요지를 불필요하게 흐릴 수 있는 공지 기능, 및 구성에 대한 구체적인 설명은 본 발명의 요지를 모호하지 않게 하기 위하여 생략한다. 본 발명의 실시형태는 당 업계에서 평균적인 지식을 가진 자에게 본 발명을 보다 완전하게 설명하기 위해서 제공되는 것이다. 따라서, 도면에서의 요소들의 형상 및 크기 등은 보다 명확한 설명을 위해 과장될 수 있다.Here, repeated descriptions, known functions that may unnecessarily obscure the subject matter of the present invention, and detailed descriptions of configurations are omitted so as not to obscure the subject matter of the present invention. Embodiments of the present invention are provided to more completely explain the present invention to those with average knowledge in the art. Accordingly, the shapes and sizes of elements in the drawings may be exaggerated for clearer explanation.
도 1은 본 발명에 따른 배기가스 또는 오염공기 처리를 위한 알에프 플라즈마 장치의 구성을 설명하기 위한 개념도이다.1 is a conceptual diagram illustrating the configuration of an RF plasma apparatus for treating exhaust gas or polluted air according to the present invention.
도면에는 2중관 형태로 제공되는 것으로 내측관을 이루는 가스방전 유도관 및 이 가스방전 유도관의 외부로 간격을 두고 감싸도록 구비되는 하우징(11)으로 이루어진 본체관으로 이루어진 본체(10)와, 상기 가스방전 유도관에 암모니아, 알코올, 수즈기, 연료 혹은 산소 등의 보조가스를 공급하기 위한 보조가스 공급모듈(20)과, 상기 가스방전 유도관 내부에 초기점화를 일으킬 수 있도록 구비되는 착화모듈(30)과, 상기 본체(10)의 일측에 제공되어 상기 가스방전 유도관에 알에프를 조사하여 상기 가스방전 유도관의 내부에 플라즈마 방전을 발생시키도록 함으로써 배기가스 내의 화합물을 극성화합물로 변화시키는 알에프 공급모듈(40)과, 상기 가스방전 유도관의 후단에 연결되어 배출되는 가스 중 극성화합물을 흡착제거 하기 위한 습식 스크러버 모듈 그리고 상기 보조가스 공급모듈과 착화모듈 그리고 알에프 공급모듈에 선택적으로 제어신호를 인가하여 동작을 제어하는 컨트롤러(60)로 이루어진 배기가스 또는 오염공기 처리를 위한 알에프 플라즈마 장치가 도시되어 있다.In the drawing, a
도 2는 본 발명에 따른 배기가스 또는 오염공기 처리를 위한 알에프 플라즈마 장치의 일 실시례를 나타낸 모식도이다.2 is a schematic diagram showing an embodiment of an RF plasma apparatus for treating exhaust gas or polluted air according to the present invention.
도면에는 내부에 배기가스가 유동되는 관로에 연결되는 것으로 세라믹, 고온유리, 석영 등 알에프 투과가 가능한 비금속재로 된 가스방전 유도관(13)과, 이 가스방전 유도관(13)의 외부를 감싸는 형태로 제공되는 것으로 하나 또는 복수의 알에프 공급기가 설치되어 상기 가스방전 유도관(13)으로 알에프를 공급하는 하우징(11)으로 이루어진 본체(10)와, 상기 가스방전 유도관(13)의 내부에 보조가스를 공급하여 연소 내지는 플라즈마 방전에 용이한 조건을 형성하기 위한 보조가스 공급모듈(20)과, 상기 가스방전 유도관(13)의 내부에 초기 점화를 일으킬 수 있도록 구비되는 공지의 착화기가 사용되는 착화모듈(30)과, 상기 본체(10)의 일측에 제공되어 상기 가스방전 유도관(13)에 알에프를 조사하여 상기 가스방전 유도관(13)의 내부에 플라즈마 방전을 발생시키도록 함으로써 배기가스 내의 화합물을 극성화합물로 변화시키는 하나 또는 복수의 알에프 공급기를 구비한 알에프 공급모듈(40)과, 상기 가스방전 유도관(13)의 후단에 연결되어 배출되는 가스 중 극성화합물을 흡착제거 하기 위한 습식 스크러버 모듈(50) 그리고 상기 보조가스 공급모듈(20)과, 착화모듈(30), 가스방전관 내로 공급되어진 알에프가 처리전가스 및 처리후가스 진출입방향으로 토출되어 외부로 새어나가는 것을 막기 위한 알에프 차단 타공망(15), 그리고 알에프 공급모듈(40)에 선택적으로 제어신호를 인가하여 동작을 제어하는 컨트롤러(60)로 이루어진 배기가스 또는 오염공기 처리를 위한 알에프 플라즈마 장치가 도시되어 있다.In the drawing, a gas
도 3은 본 발명에 따른 배기가스 또는 오염공기 처리를 위한 알에프 플라즈마 장치의 다른 실시례를 나타낸 모식도이다.3 is a schematic diagram showing another embodiment of an RF plasma apparatus for treating exhaust gas or polluted air according to the present invention.
본 실시례에서의 배기가스 또는 오염공기 처리를 위한 알에프 플라즈마 장치는 앞서 설명한 도 2의 일 실시례에 나타낸 배기가스 또는 오염공기 처리를 위한 알에프 플라즈마 장치와 그 구성이 대동소이하다. 다만, 본 실시례에서는 가스방전 유도관(13)을 구성함에 있어 금속관으로 제공되는 구성을 예시하였다.The RF plasma device for treating exhaust gas or polluted air in this embodiment is substantially the same as the RF plasma device for treating exhaust gas or polluted air shown in the embodiment of FIG. 2 described above. However, in this embodiment, a configuration provided as a metal tube in configuring the gas
도 4는 본 발명에 따른 배기가스 또는 오염공기 처리를 위한 알에프 플라즈마 장치에서의 점화 및 플라즈마 방전을 설명하기 위한 모식도이다.4 is a schematic diagram for explaining ignition and plasma discharge in an RF plasma apparatus for treating exhaust gas or polluted air according to the present invention.
도면에는 가스방전 유도관(13)의 내부에 넓은 범위로 플라즈마 방전이 이루어질 수 있도록 알에프 공급모듈(40)에 의해 공급되어지는 알에프의 모드 선별을 통하여 가스방전 유도관(13)의 내부 중심에 알에프 에너지가 집중 형성된 상태를 도시하고 있다.In the drawing, the RF is located in the inner center of the gas
도 5는 본 발명에 따른 배기가스 또는 오염공기 처리를 위한 알에프 플라즈마 장치에서의 초기점화 내지는 플라즈마 방전을 나타낸 모식도이다.5 is a schematic diagram showing an initial ignition or plasma discharge in an RF plasma apparatus for treating exhaust gas or polluted air according to the present invention.
도면에서 (a)는 알에프 공급모듈(40)을 구성하는 복수의 알에프 공급기 또는 알에프 안테나가 가스방전 유도관(13)에 대해 알에프를 조사를 시작하는 시점의 상태를 나타낸 것이고, 도면에서 (b)는 복수의 알에프 안테나가 가스방전 유도관(13)에 알에프를 조사하여 그 내부에 알에프 에너지 집중영역이 형성된 상태를 나타낸 것이다. 그리고 도면 (c)는 위 (b) 단계에서 착화모듈을 구성하는 착화기를 이용하여 초기점화를 일으킨 상태이고, 도면 (d)는 가스방전 유도관(13)의 내부에 플라즈마 방전 작용이 일어난 상태를 나타낸 것이다.In the drawing, (a) shows the state at the time when a plurality of RF feeders or RF antennas constituting the
이상의 도면을 참조하여 본 발명에 따른 배기가스 또는 오염공기 처리를 위한 알에프 플라즈마 장치의 구성을 상세하게 설명하면 다음과 같다.The configuration of an RF plasma apparatus for treating exhaust gas or polluted air according to the present invention will be described in detail with reference to the above drawings.
본 발명의 배기가스 또는 오염공기 처리를 위한 알에프 플라즈마 장치는 크게 본체(100)와, 보조가스 공급모듈(20)과, 착화모듈(30)과, 알에프 공급모듈(40)과, 습식 스크러버 모듈(50) 그리고 컨트롤러(60)로 구성된다.The RF plasma device for treating exhaust gas or polluted air of the present invention is largely a main body 100, an auxiliary
본체(10)는 대략 동심원을 이루도록 내측에 제공되는 가스방전 유도관(13)과, 이 가스방전 유도관(13)의 외부에 간격을 두고 감싸도록 제공되는 하우징(11)으로 구성된다.The
상기 가스방전 유도관(13)은 알에프가 통과할 수 있는 세라믹 등의 비금속성 외벽으로 제공되거나 또는 금속관으로 제공될 수 있으며, 이외에도 알에프가 통과할 수 있는 구조적인 특징을 갖는다면 공지의 다양한 기술에 의해 실시되어도 무방하다.The gas
한편, 상기 가스방전 유도관(13)의 내부 또는 가스방전 유도관(13)을 경유한 가스의 성분과 온도를 측정하기 위하여 가스측정기나 분광분석기, 열화상분석기, 또는 온도측정기가 선택적으로 설치되거나 전부 설치될 수 있다.On the other hand, in order to measure the components and temperature of the gas inside the gas
즉, 상기 가스방전 유도관(13) 내부의 가스성분 또는 가스방전 유도관(13)을 경유하여 배기되는 가스성분 중 어느 하나 또는 둘 모두를 측정하기 위한 것으로 가스측정기나 분광분석기가 설치될 수 있으며, 이들 가스측정기나 분광분석기를 통해 측정된 정보는 제어요소인 컨트롤러에 인가되며, 상기 컨트롤러는 이러한 정보를 기초로 가스방전 유도관(13) 내부의 연소 내지는 플라즈마 방전조건을 제어할 수 있게 된다.That is, to measure any one or both of the gas component inside the gas
또한, 상기 가스방전 유도관(13) 내부의 온도 또는 상기 가스방전 유도관(13)을 경유하여 배기되는 가스의 온도 중 어느 하나 또는 둘 모두를 측정하기 위한 온도측정기가 설치될 수 있으며, 이러한 온도측정기 역시 컨트롤러에 감지신호를 인가하여 가스방전 유도관(13) 내의 완전연소 내지는 플라즈마 방전조건 형성을 위한 정보로 활용된다.In addition, a temperature measuring device for measuring either or both of the temperature inside the gas
보조가스 공급모듈(20)은 상기 가스방전 유도관(13)의 내부로 수증기, 암모니아, 알코올 및 보조연료 또는 산소 중 어느 하나 또는 둘 이상을 포함하는 보조가스를 공급 제어하는 요소이다.The auxiliary
이러한 보조가스 공급모듈(20)은 크게 엘피지 등의 연료를 공급하기 위한 연료공급부(미부호)와, 산소를 공급하기 위한 산소공급부(미부호), 혹은 수증기, 암모니아, 알코올 등의 보조가스를 공급하기 위한 보조가스공급부(미부호)로 구성되며, 상기 가스방전 유도관(13) 내부의 완전연소 내지는 용이한 플라즈마 방전을 위한 보조가스를 공급하기 위한 것으로, 보조가스를 저장하는 보조가스탱크와, 보조가스를 공급하기 위한 보조가스공급펌프 및 상기 가스방전 유도관(13)의 내부에 보조가스를 주입하기 위한 보조가스관 등으로 구성될수 있으며, 이러한 구성은 공지의 기술에 의해 실시되어도 무방하므로 상세한 설명은 생략한다.The auxiliary
착화모듈(30)은 상기 가스방전 유도관 내부에 초기 불꽃을 일으킬 수 있도록 하기 위한 것으로, 전기식 착화기 등이 사용될 수 있으며, 이외에도 제어신호에 의해 착화를 유발할 수 있는 특징을 갖는다면 공지의 다양한 기술에 의해 실시되어도 무방하다.The
알에프 공급모듈(40)은 상기 본체(10)의 일측에 제공되어 상기 가스방전 유도관(13)에 알에프를 조사하여 그 내부에 플라즈마 방전을 발생시킴으로써 배기가스 내의 화합물을 극성화합물로 변화시키는 역할을 하는 요소이다.The
이러한 알에파 공급모듈(40)은 다시 하나 또는 복수의 알에프 공급기(알에프 안테나)와, 알에프 방출량을 측정하기 위한 알에프 측정기 그리고 알에프 공급기의 동작을 제어하기 위한 알에프 제어기로 구성된다.The
상기 알에프 공급기는 후술할 컨트롤러(60)로부터 제어신호를 인가받아 알에프를 발생시키는 발진요소로, 상기 가스방전 유도관(13)에 대한 조사가 가능하도록 하우징(11)의 내부에 하나 또는 복수개가 설치될 수 있으며, 본 발명에서는 상기 하우징(11)의 내벽면에 설치되어 상기 가스방전 유도관(13)을 향하여 알에프를 조사하도록 배치 구성된다.The RF supply is an oscillating element that generates RF by receiving a control signal from the
상기 알에프 측정기는 상기 알에프 공급기에서 발생하는 알에프 출력량 또는 상기 하우징의 내부 또는 상기 가스방전 유도관의 내부의 알에프 반사량 신호를 측정하기 위한 요소로 측정된 값을 후술할 컨트롤러(60) 또는 알에프 제어기로 인가하도록 회로 구성된다.The RF meter applies the measured value as an element for measuring the RF output generated from the RF supply or the RF reflection amount signal inside the housing or inside the gas discharge induction tube to a
상기 알에프 제어기는 상기 알에프 측정기로부터 측정신호를 인가받아 알에프의 출력을 설정치 범위 내에 유지되도록 제어하는 요소로, 별도로 구성되거나 또는 후술할 컨트롤러에 포함되는 것도 가능하다.The RF controller is an element that receives a measurement signal from the RF measuring device and controls the output of the RF to be maintained within a set value range, and may be configured separately or included in a controller to be described later.
습식 스크러버 모듈(50)은 상기 가스방전 유도관에 연결되어 배출되는 연소가스 중 극성화합물을 흡착제거 하기 위한 요소이다.The
이러한 습식 스크러버 모듈(50)은 액체를 이용해서 가스 속에 부유하는 고체 또는 액체 입자를 포집(捕集)하기 위한 것으로, 먼지를 포함한 가스 속으로 액체를 분산시켜, 입자와 액체 방울과의 충돌, 확산에 의한 미소 입자의 접촉, 습도 증가에 의한 입자의 부착 응집, 액막에 의한 포집 입자의 재비산 방지, 응축에 의한 입자 지름의 증대 등에 의해 입자의 포집을 용이하게 한다.This
본 발명에서의 습식 스크러버 모듈(50)은 상기 가스방전 유도관(13)의 후단측에 연결 설치되어 상기 가스방전 유도관(13)을 경유한 가스 중에 포함된 극성화합물을 제거하며, 공지의 기술에 의해 실시되어도 무방하므로 상세한 설명은 생략한다.The
컨트롤러(60)는 상기 가스측정기와 온도측정기로부터 검출된 측정값을 인가받아 제어신호를 출력하는 것으로, 상기 가스방전 유도관(13)에 공급되는 보조가스량, 알에프 출력량을 제어하여 최적의 완전 연소조건 내지는 플라즈마 방전조건을 유지하기 위한 제어요소이다.The
즉, 상기 컨트롤러는 상기 보조가스 공급모듈과 착화모듈 그리고 알에프 공급모듈에 선택적으로 제어신호를 인가하여 각각의 동작을 제어한다.That is, the controller controls each operation by selectively applying a control signal to the auxiliary gas supply module, the ignition module, and the RF supply module.
일례로, 가스방전 유도관(13)의 내부에 형성된 알에프 분포량을 검출하여 알에프의 분포 범위나 출력양이 설정값에 도달하도록 제어하거나, 또는 연소 상태의 가스방전 유도관(13)의 내부 온도를 측정하여 설정된 완전연소 온도값과 비교하여 제어할 수 있을 것이다.For example, by detecting the amount of RF distribution formed inside the gas
상기와 같이 구성되는 본 발명에 따른 배기가스 또는 오염공기 처리를 위한 알에프 플라즈마 장치의 작용을 설명하면 다음과 같다.The operation of the RF plasma apparatus for treating exhaust gas or polluted air according to the present invention configured as described above will be described as follows.
먼저 배기가스의 플라즈마 방전반응을 일으키기 전 초기단계에서, LPG 내지는 등유, 수증기, 암모니아, 알코올, 산소 등으로 이루어진 보조가스가 본 발명의 배기가스 또는 오염공기 처리를 위한 알에프 플라즈마 장치의 가스방전 유도관으로 공급되어지면, 착화모듈이 불씨를 형성하게 되고, 이때 알에프 공급모듈에서 공급되어지는 알에프는, 작은 불씨를 시작으로 하되, 공급되어진 보조가스와 함께 RF 플라즈마 방전을 일으키게 된다.First, in the initial stage before causing the plasma discharge reaction of the exhaust gas, an auxiliary gas consisting of LPG or kerosene, water vapor, ammonia, alcohol, oxygen, etc., is a gas discharge guide tube of the RF plasma device for treating exhaust gas or polluted air of the present invention When supplied to, the ignition module forms an ember. At this time, the RF supplied from the RF supply module starts with a small ember, but generates an RF plasma discharge with the supplied auxiliary gas.
이렇게 발생되어진 플라즈마는 공급되어지는 RF에 의해 가스방전 유도관의 내부 전체로 플라즈마방전현상이 확장되어 배기가스가 지나가는 내부 전체공간에서 플라즈마반응이 일어나며, 이 과정에서 불완전 연소물질을 함유한 배기가스 내지는 미세먼지 등에 대한 분해 내지는 완전연소 또는 플라즈마 방전이 이루어진다.The plasma generated in this way expands the plasma discharge phenomenon to the entire interior of the gas discharge induction tube by the supplied RF, and plasma reaction occurs in the entire internal space through which the exhaust gas passes. Decomposition or complete combustion or plasma discharge for fine dust and the like is performed.
또한, 이미 형성되어진 플라즈마 방전현상에 의히여 배기가스가 극성을 띠게 되고, 후단에 설치한 습식 스크러머 모듈을 통과하면서 물줄기에 전량 흡착되도록 함으로써 배기가스에 잔존하는 환경유해물질을 원천적으로 걸러내어지게 된다.In addition, the exhaust gas becomes polar due to the plasma discharge that has already been formed, and the entire amount is absorbed into the water stream while passing through the wet scrubber module installed at the rear end, so that the environmentally harmful substances remaining in the exhaust gas are basically filtered out. do.
특히, 본 발명의 알에프 공급모듈은 가스방전 유도관의 외측에 장착되고, 상기 가스방전 유도관의 내부로 공급되어지는 알에프의 균일 분포도를 향상시킴으로써 플라즈마 발생 공간의 크기를 대형화시킬 수 있다. 이를 위해 알에프 공급모듈은 복수의 알에프 공급기를 구성하고, 각각의 알에프 공급기의 출력을 개별 제어할 수 있는 알에프 제어기를 포함한다.In particular, the RF supply module of the present invention is mounted on the outside of the gas discharge induction tube, and the size of the plasma generation space can be increased by improving the uniform distribution of the RF supplied to the inside of the gas discharge induction tube. To this end, the RF supply module includes a plurality of RF feeders and an RF controller capable of individually controlling the output of each RF feeder.
또한, 상기 가스방전 유도관을 경유하여 배출되는 배기가스 내지는 가스방전 유도관 내부의 가스에 대한 실시간정보를 취득하기 위한 수단으로서, 가스측정기, 온도측정기, 열화상분석기 내지는 분광분석기를 설치하여 취득된 정보를 바탕으로 RF출력량을 조절하여 연소내지는 플라즈마 방전 효율을 높일 수 있으므로 배기가스에 함유된 유해물질에 대한 효과적인 제거내지 감소가 가능하다.In addition, as a means for acquiring real-time information on the exhaust gas discharged through the gas discharge induction tube or the gas inside the gas discharge induction tube, obtained by installing a gas measuring instrument, a temperature measuring instrument, a thermal image analyzer or a spectroscopic analyzer. Since the efficiency of combustion or plasma discharge can be increased by controlling the amount of RF output based on the information, it is possible to effectively remove or reduce harmful substances contained in exhaust gas.
한편, 본 발명은 기재된 실시례에 한정되는 것은 아니고, 적용 부위를 변경하여 사용하는 것이 가능하고, 본 발명의 사상 및 범위를 벗어나지 않고 다양하게 수정 및 변형을 할 수 있음은 이 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자에게는 자명하다. 따라서, 그러한 변형예 또는 수정예들은 본 발명의 특허청구범위에 속한다 해야 할 것이다.On the other hand, the present invention is not limited to the described embodiments, it is possible to use it by changing the application site, and that various modifications and variations can be made without departing from the spirit and scope of the present invention. It is self-evident to those who have knowledge. Therefore, such modifications or modifications will have to belong to the scope of the claims of the present invention.
10 : 본체
11 : 하우징
13 : 가스방전 유도관
20 : 보조가스 공급모듈
30 : 착화모듈
40 : 알에프 공급모듈
50 : 습식 스크러버
60 : 컨트롤러10: main body
11: housing
13: gas discharge induction tube
20: auxiliary gas supply module
30: ignition module
40: RF supply module
50: wet scrubber
60: controller
Claims (8)
상기 가스방전 유도관에 수증기, 암모니아, 알코올, 연료 또는 산소 등의 보조가스 어느 하나를 포함하는 가스를 공급 제어하는 보조가스 공급모듈;
상기 가스방전 유도관 내부에 불꽃을 일으킬 수 있도록 구비되는 착화모듈;
상기 본체의 일측에 제공되어 가스방전 유도관에 알에프를 조사하여 상기 가스방전 유도관의 내부에 플라즈마 방전을 발생시켜 배기가스 또는 오염공기 내의 화합물을 극성화합물로 변화시키는 것으로, 복수개로 이루어진 알에프 공급기 및 이 알에프 공급기의 알에프 출력량 또는 반사량 신호를 측정하는 알에프 측정기 및 상기 알에프 측정기의 측정신호를 인가받아 가스방전 유도관내에서 균일하고 대형 부피에 걸쳐 플라즈마 방전이 형성되도록 알에프 공급모듈로부터 출력량을 개별 제어하는 알에프 제어기로 이루어진 알에프 공급모듈;
상기 가스방전 유도관의 배출구에는 배출되는 가스의 성분을 검출하기 위한 가스측정기, 열화상분석기 또는 온도측정을 위한 온도측정기가 설치되고, 이 가스측정기와 온도측정기로부터 검출된 측정값을 인가받는 것으로 상기 가스방전 유도관에 공급되는 보조가스량, 알에프 출력량을 제어하도록 상기 보조가스 공급모듈과 착화모듈 그리고 알에프 공급모듈에 선택적으로 제어신호를 인가하여 동작을 제어하는 컨트롤러;로 구성된 것을 특징으로 하는 배기가스 또는 오염공기 처리를 위한 알에프 플라즈마 장치.It is provided as a non-metallic tube made of ceramic or glass that penetrates the RF, or is a metal tube and is provided to surround the gas discharge induction tube through which high-temperature exhaust gas or contaminated air passes, and to the outside of the gas discharge induction tube at intervals. A main body made of a housing;
An auxiliary gas supply module for supplying and controlling a gas containing any one auxiliary gas such as steam, ammonia, alcohol, fuel, or oxygen to the gas discharge induction tube;
An ignition module provided to generate a spark inside the gas discharge induction tube;
It is provided on one side of the main body to irradiate RF to the gas discharge induction tube to generate a plasma discharge inside the gas discharge induction tube to change the compound in the exhaust gas or contaminated air into a polar compound. An RF measuring device that measures the RF output or reflection signal of the RF supply, and an RF that individually controls the output amount from the RF supply module so that plasma discharge is formed over a uniform and large volume in the gas discharge induction tube by receiving the measurement signal from the RF measuring device. RF supply module consisting of a controller;
At the outlet of the gas discharge induction tube, a gas measuring device, a thermal image analyzer, or a temperature measuring device for measuring the temperature are installed to detect the components of the discharged gas, and the measured values detected from the gas measuring device and the temperature measuring device are applied. Exhaust gas or a controller configured to control an operation by selectively applying a control signal to the auxiliary gas supply module, the ignition module, and the RF supply module to control the amount of auxiliary gas supplied to the gas discharge induction tube and the amount of RF output. RF plasma device for treatment of contaminated air.
상기 가스방전 유도관에 연결되어 배출되는 가스 중 극성화합물을 흡착제거 하기 위한 습식 스크러버 모듈;
을 추가하여 구성된 것을 특징으로 하는 배기가스 또는 오염공기 처리를 위한 알에프 플라즈마 장치.The method of claim 1,
A wet scrubber module connected to the gas discharge induction pipe to adsorb and remove polar compounds among gases discharged;
RF plasma apparatus for treating exhaust gas or polluted air, characterized in that configured by adding.
상기 가스방전 유도관은 알에프가 통과할 수 있는 세라믹 또는 유리 등의 비금속성 외벽이 일부를 형성하는 것을 특징으로 하는 배기가스 또는 오염공기 처리를 위한 알에프 플라즈마 장치.The method of claim 1,
The RF plasma apparatus for treating exhaust gas or contaminated air, wherein the gas discharge induction tube has a non-metallic outer wall such as ceramic or glass through which RF can pass.
상기 가스방전 유도관 내부의 가스성분 또는 가스방전 유도관을 경유하여 배기되는 가스성분 중 어느 하나 또는 둘 모두를 측정하기 위한 것으로 가스측정기 또는 분광분석기 또는 플라즈마 방전현상을 측정하기 위한 열화상 분석기 중 어느 하나를 포함하여 구성된 것을 특징으로 하는 배기가스 또는 오염공기 처리를 위한 알에프 플라즈마 장치.The method of claim 1,
For measuring any one or both of the gas component inside the gas discharge induction tube or the gas component exhausted through the gas discharge induction tube, any of a gas analyzer or a spectroscopic analyzer, or a thermal image analyzer for measuring a plasma discharge phenomenon RF plasma apparatus for treating exhaust gas or polluted air, characterized in that it comprises one.
상기 가스방전 유도관 내부의 온도 또는 상기 가스방전 유도관을 경유하여 배기되는 가스의 온도 중 어느 하나 또는 둘 모두를 측정하기 위한 온도측정기를 더 포함하여 구성된 것을 특징으로 하는 배기가스 또는 오염공기 처리를 위한 알에프 플라즈마 장치.The method of claim 1,
Treatment of exhaust gas or contaminated air, characterized in that it further comprises a temperature measuring device configured to measure any one or both of the temperature inside the gas discharge induction tube or the temperature of the gas exhausted through the gas discharge induction tube. RF plasma device for.
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| KR1020200133779A KR102249085B1 (en) | 2020-10-15 | 2020-10-15 | Rf plasma exhaust gas treatment device |
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- 2020-10-15 KR KR1020200133779A patent/KR102249085B1/en active IP Right Grant
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