KR102247541B1

KR102247541B1 - Gas circulation-based purification reagent cabinet

Info

Publication number: KR102247541B1
Application number: KR1020200096373A
Authority: KR
Inventors: 이선욱; 김상웅; 이종백
Original assignee: 이선욱; 김상웅; (주)삼일랩
Priority date: 2020-07-31
Filing date: 2020-07-31
Publication date: 2021-05-04

Abstract

Disclosed, in one embodiment of the present invention, is a gas circulation-based purification reagent cabinet comprising: a first reagent storage space formed to accommodate at least one type of reagent; a second reagent storage space formed to accommodate a different type of reagent from the first reagent; a flow path area part disposed on at least one side of the second reagent storage space and formed to be gas-connected to the second reagent storage space; and a purification chamber disposed on one side of the first reagent storage space, formed to be gas-connected to the first reagent storage space, and formed to be connected to one area and another area different from thereof of the flow path area part. Therefore, the present invention is capable of facilitating the assurance of safety.

Description

Gas circulation-based purification reagent cabinet

본 발명의 실시예들은 기체 순환 기반 정화형 시약 수납장에 관한 것이다.Embodiments of the present invention relate to a gas circulation-based purification reagent storage cabinet.

시약을 이용하는 실험이 점점 증가하는 추세이고, 예를들면 다양한 종류의 화학 실험이 진행되고, 이에 따라 이러한 실험에 사용되는 시약의 개수 및 종류도 증가하고 있다.Experiments using reagents are gradually increasing, for example, various kinds of chemical experiments are conducted, and accordingly, the number and types of reagents used in these experiments are also increasing.

또한, 이러한 다양한 시약을 사용하고 관리하기 위한 시약 수납장이 사용되고 있다.In addition, a reagent storage cabinet is used to use and manage these various reagents.

한편, 상기의 시약은 산성 계열의 시약, 염기성 계열의 시약을 포함할 수 있고, 그 외에도 휘발성 유기화합물(VOCs) 등 각종 유해 물질을 포함할 수 잇다.Meanwhile, the reagents described above may include acidic reagents and basic reagents, and may contain various harmful substances such as volatile organic compounds (VOCs).

이에 따라 한 개의 시약 수납장에 산성 계열의 시약, 염기성 계열의 시약 및 유해 물질 함유 시약이 함께 수납될 경우가 많이 발생하고 있다.Accordingly, there are many cases in which acidic reagents, basic reagents, and reagents containing harmful substances are stored together in one reagent storage cabinet.

이러한 시약들의 수납에 따라 시약 수납장 사용 시 안전성 확보에 곤란한 문제가 있다.According to the storage of these reagents, it is difficult to secure safety when using the reagent storage cabinet.

본 발명의 실시예들은 안전성 확보를 용이하게 할 수 있는 기체 순환 기반 정화형 시약 수납장을 제공한다.Embodiments of the present invention provide a gas circulation-based purification reagent storage cabinet that can easily secure safety.

본 발명의 일 실시예는 적어도 일 종류의 시약을 수용하도록 형성된 제1 시약 수납 공간, 상기 제1 시약과 상이한 종류의 시약을 수용하도록 형성된 제2 시약 수납 공간, 상기 제2 시약 수납 공간의 적어도 일측에 배치되고 상기 제2 시약 수납 공간과 기체 연결되도록 형성된 유로 영역부, 상기 제1 시약 수납 공간의 일측에 배치되고 상기 제1 시약 수납 공간과 기체 연결되도록 형성되고 상기 유로 영역부의 일 영역 및 이와 상이한 다른 일 영역과 연결되도록 형성된 정화실을 포함하는 기체 순환 기반 정화형 시약 수납장을 개시한다.An embodiment of the present invention provides a first reagent storage space formed to accommodate at least one kind of reagent, a second reagent storage space formed to accommodate a reagent different from the first reagent, and at least one side of the second reagent storage space. A flow path region portion disposed in the second reagent storage space and formed to be gas-connected to the second reagent storage space, and disposed on one side of the first reagent storage space and formed to be gas-connected to the first reagent storage space; Disclosed is a gas circulation-based purification reagent storage cabinet including a purification chamber configured to be connected to another area.

본 실시예에 있어서 상기 정화실에 배치된 필터부를 포함할 수 있다.In this embodiment, a filter unit disposed in the purification chamber may be included.

본 실시예에 있어서 상기 정화실에 배치된 기류 제어부를 더 포함할 수 있다.In the present embodiment, it may further include an airflow control unit disposed in the purification chamber.

본 실시예에 있어서 상기 정화실에 배치된 이온 클러스터부를 더 포함할 수 있다.In the present embodiment, an ion cluster unit disposed in the purification chamber may be further included.

전술한 것 외의 다른 측면, 특징, 이점이 이하의 도면, 특허청구범위 및 발명의 상세한 설명으로부터 명확해질 것이다. Other aspects, features, and advantages other than those described above will become apparent from the following drawings, claims, and detailed description of the invention.

본 실시예에 관한 기체 순환 기반 정화형 시약 수납장은 사용 시 안전성을 확보할 수 있고, 수납과 관리의 편의성을 향상할 수 있다.The gas circulation-based purification reagent storage cabinet according to the present embodiment can ensure safety when used, and can improve convenience in storage and management.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 관한 기체 순환 기반 정화형 시약 수납장을 개략적으로 도시한 정면도이다.
도 2는 본 발명의 다른 실시예에 관한 기체 순환 기반 정화형 시약 수납장을 개략적으로 도시한 정면도이다.
도 3은 도 2의 Ⅲ-Ⅲ선을 따라 절취한 단면도이다.
도 4는 본 발명의 또 다른 실시예에 관한 기체 순환 기반 정화형 시약 수납장을 개략적으로 도시한 정면도이다.
도 5는 본 발명의 또 다른 실시예에 관한 기체 순환 기반 정화형 시약 수납장을 개략적으로 도시한 정면도이다.
도 6은 본 발명의 또 다른 실시예에 관한 기체 순환 기반 정화형 시약 수납장을 개략적으로 도시한 정면도이다.
도 7은 본 발명의 또 다른 실시예에 관한 기체 순환 기반 정화형 시약 수납장을 개략적으로 도시한 정면도이다.
도 8은 도 7의 변형예를 도시한 도면이다.
도 9는 도 7의 기체 순환 기반 정화형 시약 수납장의 정화실을 설명하기 위한 개략적인 도면이다.
도 10은 도 7의 P 방향에서 본 개략적인 투시 평면도이다.
도 11은 도 7의 기체 순환 기반 정화형 시약 수납장의 필터부의 선택적 실시예를 도시한 도면이다.
도 12 및 도 13은 도 11의 변형예를 도시한 도면이다. 1 is a front view schematically showing a gas circulation-based purification reagent storage cabinet according to an embodiment of the present invention.
2 is a front view schematically showing a gas circulation-based purification reagent storage cabinet according to another embodiment of the present invention.
3 is a cross-sectional view taken along line III-III of FIG. 2.
4 is a front view schematically showing a gas circulation-based purification reagent storage cabinet according to another embodiment of the present invention.
5 is a front view schematically showing a gas circulation-based purification reagent storage cabinet according to another embodiment of the present invention.
6 is a front view schematically showing a gas circulation-based purification reagent storage cabinet according to another embodiment of the present invention.
7 is a front view schematically showing a gas circulation-based purification reagent storage cabinet according to another embodiment of the present invention.
8 is a diagram illustrating a modified example of FIG. 7.
9 is a schematic view for explaining a purification chamber of the gas circulation-based purification reagent storage cabinet of FIG. 7.
FIG. 10 is a schematic perspective plan view as viewed from a direction P of FIG. 7.
11 is a view showing a selective embodiment of the filter unit of the gas circulation-based purification reagent storage cabinet of FIG.
12 and 13 are views showing a modified example of FIG. 11.

본 발명은 다양한 변환을 가할 수 있고 여러 가지 실시예를 가질 수 있는 바, 특정 실시예들을 도면에 예시하고 상세한 설명에 상세하게 설명하고자 한다. 본 발명의 효과 및 특징, 그리고 그것들을 달성하는 방법은 도면과 함께 상세하게 후술되어 있는 실시예들을 참조하면 명확해질 것이다. 그러나 본 발명은 이하에서 개시되는 실시예들에 한정되는 것이 아니라 다양한 형태로 구현될 수 있다. Since the present invention can apply various transformations and have various embodiments, specific embodiments are illustrated in the drawings and will be described in detail in the detailed description. Effects and features of the present invention, and a method of achieving them will become apparent with reference to the embodiments described below in detail together with the drawings. However, the present invention is not limited to the embodiments disclosed below and may be implemented in various forms.

이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 실시예들을 상세히 설명하기로 하며, 도면을 참조하여 설명할 때 동일하거나 대응하는 구성 요소는 동일한 도면 부호를 부여하고 이에 대한 중복되는 설명은 생략하기로 한다. Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings, and when describing with reference to the drawings, the same or corresponding constituent elements are denoted by the same reference numerals, and redundant descriptions thereof will be omitted. .

이하의 실시예에서, 제1, 제2 등의 용어는 한정적인 의미가 아니라 하나의 구성 요소를 다른 구성 요소와 구별하는 목적으로 사용되었다. In the following embodiments, terms such as first and second are used for the purpose of distinguishing one constituent element from other constituent elements rather than a limiting meaning.

이하의 실시예에서, 단수의 표현은 문맥상 명백하게 다르게 뜻하지 않는 한, 복수의 표현을 포함한다. In the following examples, expressions in the singular include plural expressions unless the context clearly indicates otherwise.

이하의 실시예에서, 포함하다 또는 가지다 등의 용어는 명세서상에 기재된 특징, 또는 구성요소가 존재함을 의미하는 것이고, 하나 이상의 다른 특징들 또는 구성요소가 부가될 가능성을 미리 배제하는 것은 아니다. In the following embodiments, terms such as include or have means that the features or elements described in the specification are present, and do not preclude the possibility of adding one or more other features or components in advance.

도면에서는 설명의 편의를 위하여 구성 요소들이 그 크기가 과장 또는 축소될 수 있다. 예컨대, 도면에서 나타난 각 구성의 크기 및 두께는 설명의 편의를 위해 임의로 나타내었으므로, 본 발명이 반드시 도시된 바에 한정되지 않는다. In the drawings, components may be exaggerated or reduced in size for convenience of description. For example, the size and thickness of each component shown in the drawings are arbitrarily shown for convenience of description, and thus the present invention is not necessarily limited to what is shown.

이하의 실시예에서, x축, y축 및 z축은 직교 좌표계 상의 세 축으로 한정되지 않고, 이를 포함하는 넓은 의미로 해석될 수 있다. 예를 들어, x축, y축 및 z축은 서로 직교할 수도 있지만, 서로 직교하지 않는 서로 다른 방향을 지칭할 수도 있다. In the following embodiments, the x-axis, y-axis, and z-axis are not limited to three axes on a Cartesian coordinate system, and may be interpreted in a broad sense including them. For example, the x-axis, y-axis, and z-axis may be orthogonal to each other, but may refer to different directions that are not orthogonal to each other.

어떤 실시예가 달리 구현 가능한 경우에 특정한 공정 순서는 설명되는 순서와 다르게 수행될 수도 있다. 예를 들어, 연속하여 설명되는 두 공정이 실질적으로 동시에 수행될 수도 있고, 설명되는 순서와 반대의 순서로 진행될 수 있다. When a certain embodiment can be implemented differently, a specific process order may be performed differently from the described order. For example, two processes described in succession may be performed substantially simultaneously, or may be performed in an order opposite to the described order.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 관한 기체 순환 기반 정화형 시약 수납장을 개략적으로 도시한 정면도이다. 1 is a front view schematically showing a gas circulation-based purification reagent storage cabinet according to an embodiment of the present invention.

도 1을 참조하면 본 실시예의 기체 순환 기반 정화형 시약 수납장(100)은 제1 시약 수납 공간(110), 제2 시약 수납 공간(120), 유로 영역부(170) 및 정화실(150)을 포함할 수 있다.Referring to FIG. 1, the gas circulation-based purification reagent storage cabinet 100 of the present embodiment includes a first reagent storage space 110, a second reagent storage space 120, a flow path region 170, and a purification chamber 150. Can include.

제1 시약 수납 공간(110)은 적어도 일 종류의 시약을 수용하도록 형성될 수 있다. The first reagent storage space 110 may be formed to accommodate at least one kind of reagent.

예를들면 기체 순환 기반 정화형 시약 수납장(100)은 박스와 유사한 형태의 본체를 갖고, 이러한 박스와 유사한 형태의 본체의 내부 공간에 제1 시약 수납 공간(110)이 형성될 수 있다.For example, the gas circulation-based purification reagent storage cabinet 100 may have a body similar to a box, and a first reagent storage space 110 may be formed in an inner space of the body similar to the box.

또한, 선택적 실시예로서 기체 순환 기반 정화형 시약 수납장(100)의 이러한 박스와 유사한 형태의 본체의 내부 공간에 제2 시약 수납 공간(120) 및 유로 영역부(170)가 배치될 수 있다.In addition, as an optional embodiment, the second reagent storage space 120 and the flow path region 170 may be disposed in the inner space of the main body having a shape similar to this box of the gas circulation-based purification reagent storage cabinet 100.

또한, 도시하지 않았으나 기체 순환 기반 정화형 시약 수납장(100)의 박스와 유사한 형태의 본체의 일 면에는 개폐 기능이 가능하도록 도어부(미도시)가 형성될 수 있다.In addition, although not shown, a door portion (not shown) may be formed on one surface of the main body having a shape similar to the box of the gas circulation-based purification reagent storage cabinet 100 to enable an opening and closing function.

제1 시약 수납 공간(110)에 수용되는 시약은 산성 계열 시약 또는 염기성 계열 시약을 포함할 수 있다.Reagents accommodated in the first reagent storage space 110 may include acidic reagents or basic reagents.

선택적 실시예로서 제1 시약 수납 공간(110)은 산성 계열 시약을 위한 수용 공간 및 염기성 계열 시약을 위한 수용 공간을 각각 포함할 수 있다.As an alternative embodiment, the first reagent storage space 110 may include a storage space for an acidic reagent and a storage space for a basic reagent.

제1 시약 수납 공간(110)은 정화실(150)과 연결되도록 형성될 수 있다. The first reagent storage space 110 may be formed to be connected to the purification chamber 150.

선택적 실시예로서 제1 시약 수납 공간(110)은 제1 배출 영역(110A) 및 제1 유입 영역(110B)를 통하여 정화실(150)과 연결될 수 있다. 더 구체적인 내용은 후술할 정화실(150)에서 더 설명한다.As an alternative embodiment, the first reagent storage space 110 may be connected to the purification chamber 150 through the first discharge area 110A and the first inflow area 110B. Further details will be described in the purification chamber 150 to be described later.

선택적 실시예로서 제1 시약 수납 공간(110)은 유로 영역부(170)를 통하지 않고 정화실(150)과 연결될 수 있고, 예를들면 유로 영역부(170)와 직접적인 기체 연결되지 않도록 형성될 수 있다. 더 구체적인 내용은 후술할 유로 영역부(170) 및 정화실(150)에서 더 설명한다.As an optional embodiment, the first reagent storage space 110 may be connected to the purification chamber 150 without passing through the flow path region part 170, and may be formed so that, for example, the flow path region part 170 is not directly connected to gas. have. Further details will be described in the flow path area unit 170 and the purification chamber 150 to be described later.

선택적 실시예로서 제1 시약 수납 공간(110)의 바닥 영역, 예를들면 제1 시약 수납 공간(110)과 제2 시약 수납 공간(120)의 사이에는 구획 지지부(130)가 배치될 수 있다.As an alternative embodiment, the partition support 130 may be disposed between the bottom area of the first reagent storage space 110, for example, between the first reagent storage space 110 and the second reagent storage space 120.

제1 시약 수납 공간(110)에 수용되는 시약은 구획 지지부(130)의 상면에 배치되어 구획 지지부(130)의 상면에 의하여 지지될 수 있다.The reagents accommodated in the first reagent storage space 110 may be disposed on the upper surface of the partition support part 130 and supported by the upper surface of the partition support part 130.

선택적 실시예로서 구획 지지부(130)는 기체 순환 기반 정화형 시약 수납장(100)의 박스와 유사한 형태의 본체의 내부 공간에 지지될 수 있고, 예를들면 트레이 형태로 형성될 수 있다.As an alternative embodiment, the partition support 130 may be supported in the inner space of the main body having a shape similar to the box of the gas circulation-based purification reagent storage cabinet 100, and may be formed in a tray shape, for example.

제2 시약 수납 공간(120)은 상기 제1 시약과 상이한 종류의 시약을 수용하도록 형성될 수 있다.The second reagent storage space 120 may be formed to accommodate a different kind of reagent from the first reagent.

예를들면 전술한 것과 같이 기체 순환 기반 정화형 시약 수납장(100)은 박스와 유사한 형태의 본체를 갖고, 이러한 박스와 유사한 형태의 본체의 내부 공간에 제2 시약 수납 공간(120)이 형성될 수 있고, 선택적 실시예로서 구획 지지부(130)가 제1 시약 수납 공간(110)과 제2 시약 수납 공간(120)의 사이에 배치되어 제1 시약 수납 공간(110)과 제2 시약 수납 공간(120)의 경계가 될 수 있다.For example, as described above, the gas circulation-based purification reagent storage cabinet 100 may have a body similar to a box, and a second reagent storage space 120 may be formed in the inner space of the body similar to the box. And, as an optional embodiment, the partition support 130 is disposed between the first reagent storage space 110 and the second reagent storage space 120 to provide the first reagent storage space 110 and the second reagent storage space 120. ) Can be a boundary.

선택적 실시예로서 제1 시약 수납 공간(110)과 제2 시약 수납 공간(120)의 사이에는 기체의 유입과 배출을 위한 별도의 통로부가 형성되지 않을 수 있고, 구체적 예로서 제1 시약 수납 공간(110)과 제2 시약 수납 공간(120)은 서로 기체 흐름이 발생하지 않도록 형성되어 제1 시약 수납 공간(110)에 수용된 시약에서 발생한 기체와 제2 시약 수납 공간(120)에 수용된 시약에서 발생한 기체가 서로 이동하여 접하거나 교차하는 것 또는 혼합되는 것을 감소하거나 방지할 수 있다.As an alternative embodiment, a separate passage part for inflow and discharge of gas may not be formed between the first reagent storage space 110 and the second reagent storage space 120, and as a specific example, the first reagent storage space ( 110) and the second reagent storage space 120 are formed so that gas flow does not occur to each other, and the gas generated from the reagent contained in the first reagent storage space 110 and the gas generated from the reagent contained in the second reagent storage space 120 It can reduce or prevent from moving and touching, intersecting, or mixing with each other.

제2 시약 수납 공간(120)에 수용되는 시약은 유해 물질 또는 유해 가스를 포함하거나 발생시킬 수 있다. 예를들면 제2 시약 수납 공간(120)에 수용되는 시약은 휘발성 유기화합물(VOCs), 포름알데히드, 톨루엔 또는 기타 다양한 위험한 유기 화합물을 함유할 수 있다.Reagents accommodated in the second reagent storage space 120 may contain or generate harmful substances or harmful gases. For example, the reagents accommodated in the second reagent storage space 120 may contain volatile organic compounds (VOCs), formaldehyde, toluene, or various other dangerous organic compounds.

선택적 실시예로서 제2 시약 수납 공간(120)은 정화실(150)과 직접 연결되지않도록 형성될 수 있고, 예를들면 제2 시약 수납 공간(120)과 정화실(150)의 사이에 제1 시약 수납 공간(110)이 배치될 수 있다.As an optional embodiment, the second reagent storage space 120 may be formed not to be directly connected to the purification chamber 150, for example, the first reagent storage space 120 and the purification chamber 150 The reagent storage space 110 may be disposed.

또한, 선택적 실시예로서 제2 시약 수납 공간(120)은 유로 영역부(170)을 통하여 정화실(150)과 연결될 수 있다. 더 구체적인 내용은 후술할 정화실(150) 및 유로 영역부(170)에서 더 설명한다.In addition, as an alternative embodiment, the second reagent storage space 120 may be connected to the purification chamber 150 through the flow path region 170. More specific details will be described in the purification chamber 150 and the flow path region 170 to be described later.

선택적 실시예로서 제2 시약 수납 공간(120)은 제1 시약 수납 공간(110)을 통하지 않고 정화실(150)과 연결될 수 있고, 예를들면 제1 시약 수납 공간(110)과 직접적인 기체 연결되지 않도록 형성될 수 있다.As an optional embodiment, the second reagent storage space 120 may be connected to the purification chamber 150 without passing through the first reagent storage space 110, and for example, the first reagent storage space 110 is not directly gas-connected. It can be formed so as not to be.

선택적 실시예로서 제2 시약 수납 공간(120)에 수용되는 시약은 기체 순환 기반 정화형 시약 수납장(100)의 박스와 유사한 형태의 본체의 내부 공간의 바닥면에 의하여 지지될 수 있다.As an alternative embodiment, the reagents accommodated in the second reagent storage space 120 may be supported by the bottom surface of the inner space of the main body having a shape similar to the box of the gas circulation-based purification reagent storage cabinet 100.

유로 영역부(170)은 제2 시약 수납 공간(120)의 적어도 일측에 배치되고 상기 제2 시약 수납 공간(120)과 기체 연결되도록 형성될 수 있다.The flow path region 170 may be disposed on at least one side of the second reagent storage space 120 and may be formed to be gas-connected to the second reagent storage space 120.

선택적 실시예로서 유로 영역부(170)는 제1 시약 수납 공간(110) 및 제2 시약 수납 공간(120)의 일측에 대응되도록 배치될 수 있다. 또한, 구체적 예로서 유로 영역부(170)는 제1 시약 수납 공간(110) 및 제2 시약 수납 공간(120)의 일 측 및 이와 다른 일 측 각각에 대응되도록 배치될 수 있다.As an alternative embodiment, the flow path region 170 may be disposed to correspond to one side of the first reagent storage space 110 and the second reagent storage space 120. In addition, as a specific example, the flow path region 170 may be disposed to correspond to one side of the first reagent storage space 110 and the second reagent storage space 120, and the other side respectively.

또한, 유로 영역부(170)의 일단의 영역 및 다른 일단의 영역은 각각 정화실(150)의 서로 상이한 영역과 연결될 수 있고, 구체적 예로서 기체 흐름이 연결되도록 형성될 수 있다.In addition, an area of one end and an area of the other end of the flow path region 170 may be connected to different areas of the purification chamber 150, respectively, and, as a specific example, may be formed such that gas flow is connected.

선택적 실시예로서 유로 영역부(170)는 배출 유로 영역(171), 유입 유로 영역(172) 및 연결 유로 영역(173)을 포함할 수 있다.As an alternative embodiment, the flow path region 170 may include a discharge flow path region 171, an inflow flow path region 172, and a connection flow path region 173.

배출 유로 영역(171)은 제2 배출 영역(120A)을 통하여 제2 시약 수납 공간(120)과 연결될 수 있다.The discharge passage area 171 may be connected to the second reagent storage space 120 through the second discharge area 120A.

또한, 배출 유로 영역(171)은 배출구(150A)를 통하여 정화실(150)과 연결될 수 있다. In addition, the discharge passage region 171 may be connected to the purification chamber 150 through the discharge port 150A.

구체적 예로서 제2 시약 수납 공간(120)에 수납되어 있는 시약에 함유되거나 여기서 발생한 악취, 유해 가스 또는 유기 가스는 배출 방향(T1)으로 이동하여 제2 배출 영역(120A)을 통하여 배출 유로 영역(171)로 배출되고, 배출 유로 영역(171)에 배출된 악취, 유해 가스 또는 유기 가스는 배출 방향(T3)으로 이동하여 배출구(150A)를 통하여 정화실(150)로 배출될 수 있다.As a specific example, the odor, harmful gas, or organic gas contained in or generated from a reagent stored in the second reagent storage space 120 moves in the discharge direction T1 and passes through the second discharge region 120A. The odor, harmful gas or organic gas discharged to the discharge passage area 171 and discharged to the discharge passage region 171 may move in the discharge direction T3 and may be discharged to the purification chamber 150 through the discharge port 150A.

선택적 실시예로서 배출 유로 영역(171)은 제1 시약 수납 공간(110) 및 제2 시약 수납 공간(120)의 일측에 대응되도록 길게 연장된 형태를 가질 수 있다. 또한, 배출 유로 영역(171)의 일 영역, 예를들면 일 단부의 영역은 정화실(150)과 연결되도록 형성될 수 있다.As an alternative embodiment, the discharge passage area 171 may have a shape extending in length to correspond to one side of the first reagent storage space 110 and the second reagent storage space 120. In addition, an area of the discharge passage area 171, for example, an area at one end may be formed to be connected to the purification chamber 150.

유입 유로 영역(172)은 제2 유입 영역(120B)을 통하여 제2 시약 수납 공간(120)과 연결될 수 있다.The inflow passage area 172 may be connected to the second reagent storage space 120 through the second inflow area 120B.

또한, 유입 유로 영역(172)은 유입구(150B)를 통하여 정화실(150)과 연결될 수 있다. In addition, the inflow passage region 172 may be connected to the purification chamber 150 through the inlet 150B.

구체적 예로서 제2 시약 수납 공간(120)에 수납되어 있는 시약에 함유되거나 여기서 발생한 악취, 유해 가스 또는 유기 가스는 제2 배출 영역(120A)을 통하여 배출 유로 영역(171)으로 배출되고, 배출 유로 영역(171)에 배출된 악취, 유해 가스 또는 유기 가스는 배출구(150A)를 통하여 정화실(150)로 배출된다. 또한, 정화실(150)로 배출된 악취, 유해 가스 또는 유기 가스는 정화실 내에서 정화 이동 방향(Tm)으로 이동하고 정화실(150)내에서 한 가지 이상의 방법으로 정화될 수 있다. As a specific example, the odor, harmful gas, or organic gas contained in or generated from a reagent stored in the second reagent storage space 120 is discharged to the discharge passage area 171 through the second discharge area 120A, and the discharge passage The odor, harmful gas, or organic gas discharged from the region 171 is discharged to the purification chamber 150 through the discharge port 150A. In addition, the odor, harmful gas or organic gas discharged to the purification chamber 150 may move in the purification movement direction Tm within the purification chamber and may be purified in one or more ways in the purification chamber 150.

예를들면 정화실(150)내에서 대류를 통하여 정화될 수 있고, 선택적 실시예로서 필터부가 정화실(150)에 배치되어 한 가지 이상의 성분을 정화할 수 있다.For example, it may be purified through convection in the purification chamber 150, and as an alternative embodiment, a filter unit may be disposed in the purification chamber 150 to purify one or more components.

또한, 선택적 실시예로서 유해 성분에 대한 반응을 할 수 있도록 이온을 발생시키는 이온 클러스터부가 정화실(150)에 배치될 수 있다.In addition, as an optional embodiment, an ion cluster unit generating ions may be disposed in the purification chamber 150 to react to harmful components.

다른 선택적 실시예로서 정화실(150) 내로 공기의 흐름이 가능하도록 출입 공간이 형성되거나, 공기의 교환을 위한 팬을 설치할 수 있다.As another optional embodiment, an access space may be formed to allow air to flow into the purification chamber 150, or a fan for exchanging air may be installed.

그리고 나서 정화된 기체는 유입구(150B)를 통하여 정화실(150)로부터 유입 유로 영역(172)로 유입 방향(T4)을 따라 이동할 수 있다.Then, the purified gas may move from the purification chamber 150 through the inlet 150B to the inflow passage region 172 along the inflow direction T4.

이러한 유입 유로 영역(172)에서 유입 방향(T4)을 따라 이동한 정화된 기체는 제2 유입 영역(120B)을 통하여 다시 유입 방향(T2)을 따라 제2 시약 수납 공간(120)으로 유입될 수 있다.The purified gas that has moved along the inflow direction T4 in the inflow passage region 172 may be introduced into the second reagent storage space 120 again along the inflow direction T2 through the second inflow region 120B. have.

이를 통하여 제2 시약 수납 공간(120)에서의 악취, 유해 물질 또는 유해 가스 등이 용이하게 정화되어 제2 시약 수납 공간(120)에서의 불필요한 유해 물질 잔류를 감소할 수 있다.Through this, odors, harmful substances, or harmful gases in the second reagent storage space 120 can be easily purified, thereby reducing unnecessary toxic substances remaining in the second reagent storage space 120.

선택적 실시예로서 유입 유로 영역(172)은 제1 시약 수납 공간(110) 및 제2 시약 수납 공간(120)의 일측에 대응되도록 길게 연장된 형태를 가질 수 있다. 예를들면 유입 유로 영역(172)은 제1 시약 수납 공간(110) 및 제2 시약 수납 공간(120)의 측면 중 배출 유로 영역(171)이 배치된 측면과 다른 측면을 향하도록 배치될 수 있다.As an alternative embodiment, the inflow passage region 172 may have a shape extending elongated to correspond to one side of the first reagent storage space 110 and the second reagent storage space 120. For example, the inflow passage region 172 may be disposed to face a side different from the side on which the discharge passage region 171 is disposed among the side surfaces of the first reagent storage space 110 and the second reagent storage space 120. .

구체적 예로서 제1 시약 수납 공간(110) 및 제2 시약 수납 공간(120)을 사이에 두고 양측에 유입 유로 영역(172)과 배출 유로 영역(171)이 배치될 수 있다.As a specific example, the inflow passage region 172 and the discharge passage region 171 may be disposed on both sides with the first reagent storage space 110 and the second reagent storage space 120 interposed therebetween.

또한, 유입 유로 영역(172)의 일 영역, 예를들면 일 단부의 영역은 정화실(150)과 연결되도록 형성될 수 있다.In addition, an area of the inflow passage area 172, for example, an area at one end may be formed to be connected to the purification chamber 150.

연결 유로 영역(173)은 배출 유로 영역(171)과 유입 유로 영역(172)의 사이에 배치될 수 있다.The connection passage region 173 may be disposed between the discharge passage region 171 and the inflow passage region 172.

선택적 실시예로서 연결 유로 영역(173)은 배출 유로 영역(171) 및 유입 유로 영역(172)과 기체 연결이 되도록 형성될 수 있다. 예를들면 배출 유로 영역(171), 연결 유로 영역(173) 및 유입 유로 영역(172)이 기체의 연속적 흐름이 진행되도록 형성될 수 있다.As an alternative embodiment, the connection flow path region 173 may be formed to be gas-connected with the discharge flow path region 171 and the inflow flow path region 172. For example, the discharge flow path region 171, the connection flow path region 173, and the inflow flow path region 172 may be formed so that a continuous flow of gas proceeds.

선택적 실시예로서 연결 유로 영역(173)은 제2 시약 수납 공간(120)의 일측에 대응되도록 길게 연장된 형태를 가질 수 있다. 예를들면 연결 유로 영역(173)은 제2 시약 수납 공간(120)의 영역 중 제1 시약 수납 공간(110)을 향하는 방향의 반대 방향의 영역에 배치될 수 있고, 구체적 예로서 제2 시약 수납 공간(120)의 바닥면을 향하도록 배치될 수 있다.As an alternative embodiment, the connection flow path region 173 may have a shape that is elongated to correspond to one side of the second reagent storage space 120. For example, the connection flow path region 173 may be disposed in a region of the second reagent storage space 120 in a direction opposite to the direction toward the first reagent storage space 110, and as a specific example, the second reagent storage It may be arranged to face the bottom surface of the space 120.

연결 유로 영역(173)이 배출 유로 영역(171) 및 유입 유로 영역(172)을 연결하도록 형성되면 유입 유로 영역(172)에서 제2 유입 영역(120B)를 통하여 유입되지 않고 잔류하는 기체가 배출 유로 영역(171)을 통하여 다시 정화실(150)을 향하여 순환하여 정화될 수 있다.When the connection passage region 173 is formed to connect the discharge passage region 171 and the inflow passage region 172, the gas remaining in the inlet passage region 172 without flowing through the second inlet region 120B is discharged. It may be purified by circulating again toward the purification chamber 150 through the region 171.

또한 제2 시약 수납 공간(120)에서 제2 배출 영역(120A)으로 배출된 기체가 정화실(150)로 바로 이동하지 않고 연결 유로 영역(173)에 일정 시간 잔류하더라도 기체의 순환을 통하여 연결 유로 영역(173)과 연결된 배출 유로 영역(171)으로 이동하고 정화실(150)로 이동할 수 있다. In addition, even if the gas discharged from the second reagent storage space 120 to the second discharge region 120A does not move directly to the purification chamber 150 and remains in the connection flow path region 173 for a certain period of time, the connection flow path through the circulation of gas It may move to the discharge passage area 171 connected to the area 173 and move to the purification chamber 150.

이를 통하여 제2 시약 수납 공간(120)에서 배출된 악취, 유해 가스 등의 비정상적인 잔류 및 오염을 용이하게 감소하거나 방지할 수 있다.Through this, it is possible to easily reduce or prevent abnormal residual and contamination of odors and harmful gases discharged from the second reagent storage space 120.

또한, 제1 시약 수납 공간(110)으로부터 배출 유로 영역(171), 유입 유로 영역(172)으로 기체가 유출되더라도 연결 유로 영역(173)의 연결을 통하여 용이하게 정화실(150)로 이동하여 정화될 수 있다.In addition, even if gas flows out from the first reagent storage space 110 to the discharge flow path region 171 and the inflow flow path region 172, it is easily moved to the purification chamber 150 through the connection of the connection flow path region 173 to be purified. Can be.

정화실(150)은 상기 제1 시약 수납 공간(110)의 일측에 배치될 수 있다. 예를들면 정화실(150)은 제1 시약 수납 공간(110)의 영역 중 제2 시약 수납 공간(120)을 향하는 영역의 반대 영역에 배치될 수 있다. 구체적 예를들면 정화실(150)은 제1 시약 수납 공간(110)의 상부에 배치될 수 있다.The purification chamber 150 may be disposed on one side of the first reagent storage space 110. For example, the purification chamber 150 may be disposed in an area opposite to an area of the first reagent storage space 110 facing the second reagent storage space 120. For example, the purification chamber 150 may be disposed above the first reagent storage space 110.

정화실(150)은 상기 제1 시약 수납 공간(110)과 기체 연결되도록 형성될 수 있다. 예를들면 정화실(150)은 제1 배출 영역(110A)을 통하여 제1 시약 수납 공간(110)과 기체 흐름이 가능하도록 연결되고, 정화실(150)은 제1 배출 영역(110A)과 상이한 영역에 배치된 제1 유입 영역(110B)을 통하여 제1 시약 수납 공간(110)과 기체 흐름이 가능하도록 연결될 수 있다.The purification chamber 150 may be formed to be gas-connected to the first reagent storage space 110. For example, the purification chamber 150 is connected to the first reagent storage space 110 to allow gas flow through the first discharge region 110A, and the purification chamber 150 is different from the first discharge region 110A. The first reagent storage space 110 and the gas flow may be connected through the first inlet region 110B disposed in the region.

구체적 예로서 제1 시약 수납 공간(110)에 수납되어 있는 산 또는 염기성 시약에 함유되거나 여기서 발생한 기체는 배출 방향(C1)으로 이동하여 제1 배출 영역(110A)을 통하여 정화실(150)로 배출되고, 정화실(150)로 배출된 기체는 정화 이동 방향(Cm)으로 이동하고 정화실(150)내에서 한 가지 이상의 방법으로 정화될 수 있다. As a specific example, the gas contained in or generated from an acid or basic reagent stored in the first reagent storage space 110 moves in the discharge direction C1 and is discharged to the purification chamber 150 through the first discharge area 110A. Then, the gas discharged to the purification chamber 150 may move in the purification movement direction Cm and may be purified in one or more ways in the purification chamber 150.

그리고 나서 정화된 기체는 정화실(150)로부터 제1 유입 영역(110B)을 통하여 다시 유입 방향(C2)을 따라 제1 시약 수납 공간(110)으로 유입될 수 있다.Then, the purified gas may flow into the first reagent storage space 110 from the purification chamber 150 through the first inlet region 110B again along the inlet direction C2.

또한 정화실(150)은 유로 영역부(170)의 일 영역 및 이와 상이한 다른 일 영역과 연결되도록 형성될 수 있다.In addition, the purification chamber 150 may be formed to be connected to one region of the flow path region 170 and another region different therefrom.

예를들면 정화실(150)은 유로 영역부(170)을 통하여 제2 시약 수납 공간(120)과 기체 연결되도록 형성될 수 있다. For example, the purification chamber 150 may be formed to be gas-connected to the second reagent storage space 120 through the flow path region 170.

구체적 예로서 정화실(150)은 배출구(150A)를 통하여 유로 영역부(170)의 배출 유로 영역(171)과 연결되고, 배출 유로 영역(171)은 제2 배출 영역(120A)을 통하여 제2 시약 수납 공간(120)과 연결될 수 있다.As a specific example, the purification chamber 150 is connected to the discharge flow path region 171 of the flow path region 170 through the discharge port 150A, and the discharge flow path region 171 passes through the second discharge region 120A. It may be connected to the reagent storage space 120.

이를 통하여 제2 시약 수납 공간(120)에서 발생한 악취 등의 기체는 배출 유로 영역(171)을 통하여 정화실(150)로 배출될 수 있다.Through this, gas such as odor generated in the second reagent storage space 120 may be discharged to the purification chamber 150 through the discharge passage region 171.

선택적 실시예로서 배출구(150A)는 제1 배출 영역(110A)과 상이한 영역 또는 서로 이격된 위치에 배치될 수 있다. 이를 통하여 제1 시약 수납 공간(110) 및 제2 시약 수납 공간(120)에서 발생한 서로 상이한 종류의 기체의 불필요한 접촉 경로 및 혼합 경로를 감소할 수 있고, 정화실(150)에서의 정화 효율 및 잔류 가스 감소 효과를 향상할 수 있다.As an alternative embodiment, the discharge port 150A may be disposed in a different region from the first discharge region 110A or at a position spaced apart from each other. Through this, it is possible to reduce unnecessary contact paths and mixing paths of gases of different types generated in the first reagent storage space 110 and the second reagent storage space 120, and purification efficiency and residual in the purification chamber 150 The gas reduction effect can be improved.

또한, 정화실(150)은 유입구(150B)를 통하여 유로 영역부(170)의 유입 유로 영역(172)과 연결되고, 유입 유로 영역(172)은 제2 유입 영역(120B)을 통하여 제2 시약 수납 공간(120)과 연결될 수 있다.In addition, the purification chamber 150 is connected to the inflow passage region 172 of the passage region 170 through the inlet 150B, and the inflow passage region 172 passes through the second inflow region 120B. It may be connected to the storage space 120.

이를 통하여 제2 시약 수납 공간(120)에서 발생한 악취 등의 기체가 정화실(150)로 배출된 후에 정화 이동 방향(Tm)으로 이동후, 유입구(150B)를 통하여 유입 방향(T4)을 따라 유입 유로 영역(172)으로 이동하고, 제2 유입 영역(120B)을 통하여 제2 시약 수납 공간(120)에 유입 방향(T2)을 따라 유입될 수 있다.Through this, gas such as odor generated in the second reagent storage space 120 is discharged to the purification chamber 150 and then moves in the purification movement direction Tm, and then flows in the inflow direction T4 through the inlet 150B. It moves to the area 172 and may flow into the second reagent storage space 120 along the inflow direction T2 through the second inflow area 120B.

선택적 실시예로서 본 실시예의 기체 순환 기반 정화형 시약 수납장(100)의 내부, 예를들면 제1 시약 수납 공간(110)의 내측면의 적어도 일 영역 또는 제2 시약 수납 공간(120)의 내측면의 적어도 일 영역은 페놀라미네이트를 포함할 수 있고, 이를 통하여 유해한 가스, 산 또는 염기에 강한 내구성을 가질 수 있다. As an optional embodiment, the interior of the gas circulation-based purification reagent storage cabinet 100 of the present embodiment, for example, at least one area of the inner surface of the first reagent storage space 110 or the inner surface of the second reagent storage space 120 At least one region of the may include a phenol laminate, through which it may have strong durability against harmful gases, acids, or bases.

또한, 선택적 실시예로서 본 실시예의 기체 순환 기반 정화형 시약 수납장(100)의 내부는 분체 도장을 적용하여 형성될 수 있고, 예를들면 제1 시약 수납 공간(110)의 내측면의 적어도 일 영역, 제2 시약 수납 공간(120)의 내측면의 적어도 일 영역 또는 구획 지지부(130)의 적어도 일 영역은 분체 도장을 이용하여 형성될 수 있고, 이를 통하여 파손에 대한 저항 특성을 향상할 수 있다.In addition, as an optional embodiment, the interior of the gas circulation-based purification reagent storage cabinet 100 of the present embodiment may be formed by applying powder coating, for example, at least one area of the inner surface of the first reagent storage space 110 , At least one region of the inner surface of the second reagent storage space 120 or at least one region of the partition support 130 may be formed using powder coating, thereby improving resistance to damage.

본 실시예의 기체 순환 기반 정화형 시스템은 산 또는 염기성 시약을 포함하는 제1 시약 수납 공간 및 이와 상이한 시약을 포함하는 제2 수납 공간을 가질 수 있다. The gas circulation-based purification type system of the present embodiment may have a first reagent storage space containing an acid or basic reagent and a second storage space containing a different reagent.

제1 시약 수납 공간에 수납된 산 또는 염기성의 시약에서 발생한 기체는 제1 시약 수납 공간과 연결된 정화실로 용이하게 정화실로 배출될 수 있다. 그리고 이러한 정화실에서 하나 이상의 방법으로 정화된 기체는 다시 제1 시약 수납 공간으로 유입될 수 있다.Gas generated from an acidic or basic reagent stored in the first reagent storage space can be easily discharged to the purification chamber connected to the first reagent storage space. In addition, the gas purified by one or more methods in the purification chamber may be introduced into the first reagent storage space again.

이 때, 선택적 실시예로서 정화실에 팬 등의 기류 제어부를 배치하여 제1 시약 수납 공간으로부터 정화실로의 배출을 용이하게 할 수 있다.In this case, as an optional embodiment, an airflow control unit such as a fan may be disposed in the purification chamber to facilitate discharge from the first reagent storage space to the purification chamber.

또한, 정화실에서 산 또는 염기를 위한 필터 등의 배치를 통하여 정화실에서의 기체의 정화 효율을 향상할 수 있다.In addition, the purification efficiency of gas in the purification chamber may be improved by arranging a filter for acid or base in the purification chamber.

또한, 제2 시약 수납 공간은 제1 시약 수납 공간과 구별되도록 형성하여 제2 시약 수납 공간에 수납된 시약, 예를들면 유해 물질 또는 유해 가스를 포함하는 시약의 취급을 제1 시약 수납 공간의 시약과 구별되도록 할 수 있다. 또한, 제2 시약 수납 공간에서 발생한 기체는 제1 시약 수납 공간과 구별된 유로 영역과 연결될 수 있다. 이를 통하여 제2 시약 수납 공간에서 발생한 유해한 기체는 유로 영역을 통하여 정화실에 전달될 수 있고, 정화실에서 정화된 후에, 정화된 기체는 다시 유로 영역을 통하여 제2 시약 수납 공간으로 유입될 수 있다.In addition, the second reagent storage space is formed to be distinguished from the first reagent storage space, so that reagents stored in the second reagent storage space, for example, hazardous substances or reagents containing noxious gases are handled. Can be distinguished from. In addition, the gas generated in the second reagent storage space may be connected to a flow path region that is distinct from the first reagent storage space. Through this, the harmful gas generated in the second reagent storage space can be delivered to the purification chamber through the flow path area, and after being purified in the purification chamber, the purified gas can flow back into the second reagent storage space through the flow path area. .

이를 통하여 제1 시약 수납 공간 및 제2 시약 수납 공간으로부터 정화실로의 기체 배출을 독립적으로 수행할 수 있어서 각각의 상호 작용으로 인한 유해 가스 증폭을 감소하고 정화실의 정화 특성을 향상할 수 있다. 또한, 제1 시약 수납 공간으로부터 정화실의 배출 및 유입 경로와 제2 시약 수납 공간으로부터 정화실로의 배출 및 유입 경로의 길이 차가 발생하도록 하여 정화실에서의 서로 상이한 기체가 불필요하게 오랫동안 함께 중첩 및 접촉되어 상호 작용하는 것을 감소할 수 있다.Through this, gas discharge from the first reagent storage space and the second reagent storage space to the purification chamber can be independently performed, thereby reducing amplification of harmful gases due to respective interactions and improving the purification characteristics of the purification chamber. In addition, the length difference between the discharge and inflow paths of the purification chamber from the first reagent storage space and the discharge and inflow paths from the second reagent storage space to the purification chamber occurs, so that different gases in the purification chamber unnecessarily overlap and contact with each other for a long time. Can reduce the interaction.

도 2는 본 발명의 다른 실시예에 관한 기체 순환 기반 정화형 시약 수납장을 개략적으로 도시한 정면도이다. 2 is a front view schematically showing a gas circulation-based purification reagent storage cabinet according to another embodiment of the present invention.

도 2를 참조하면 본 실시예의 기체 순환 기반 정화형 시약 수납장(200)은 제1 시약 수납 공간(210), 제2 시약 수납 공간(220), 유로 영역부(270) 및 정화실(250)을 포함할 수 있다. 설명의 편의를 위하여 전술한 실시예와 상이한 점을 중심으로 설명하기로 한다.Referring to FIG. 2, the gas circulation-based purification reagent storage cabinet 200 according to the present embodiment includes a first reagent storage space 210, a second reagent storage space 220, a flow path region 270, and a purification chamber 250. Can include. For convenience of explanation, the description will focus on differences from the above-described embodiment.

제1 시약 수납 공간(210)은 적어도 일 종류의 시약을 수용하도록 형성될 수 있다. The first reagent storage space 210 may be formed to accommodate at least one kind of reagent.

예를들면 제1 시약 수납 공간(210)은 제1-1 시약 수납 영역(211) 및 제1-2 시약 수납 영역(212)을 포함할 수 있다.For example, the first reagent storage space 210 may include a 1-1st reagent storage area 211 and a 1-22th reagent storage area 212.

제1-1 시약 수납 영역(211) 및 제1-2 시약 수납 영역(212)은 서로 상이한 시약을 수납할 수 있고, 선택적 실시예로서 제1-1 시약 수납 영역(211)은 산성 계열의 시약을 수납하고 제1-2 시약 수납 영역(212)은 염기성 계열의 시약을 수납할 수 있다.The 1-1st reagent storage area 211 and the 1-21st reagent storage area 212 may store different reagents, and as an optional embodiment, the 1-1st reagent storage area 211 is an acidic reagent. And the 1-2th reagent storage area 212 may contain a basic reagent.

선택적 실시예로서 제1-1 시약 수납 영역(211) 및 제1-2 시약 수납 영역(212)의 사이에는 트레이부(215)가 배치될 수 있다. As an alternative embodiment, a tray part 215 may be disposed between the 1-1st reagent storage area 211 and the 1-2nd reagent storage area 212.

제1-2 시약 수납 영역(212)에 수납되는 시약은 트레이부(215)의 상면에 의하여 지지될 수 있다.The reagents stored in the 1-2 reagent storage area 212 may be supported by the upper surface of the tray part 215.

도 3을 참조하면 선택적 실시예로서 트레이부(215)는 복수의 관통 영역(215H)을 포함할 수 있고, 관통 영역(215H)을 통하여 제1-1 시약 수납 영역(211) 및 제1-2 시약 수납 영역(212)의 사이에는 기체 흐름의 통로가 형성될 수 있다.Referring to FIG. 3, as an optional embodiment, the tray part 215 may include a plurality of through regions 215H, and through the through regions 215H, the 1-1 reagent storage area 211 and the 1-2 1 A gas flow passage may be formed between the reagent storage regions 212.

예를들면 도 2에 도시한 것과 같이 제1-2 시약 수납 영역(212)으로부터 제1-1 시약 수납 영역(211)로의 기체의 이동 및 제1-1 시약 수납 영역(211)로부터 제1-2 시약 수납 영역(212)로의 기체의 이동이 가능할 수 있다.For example, as shown in FIG. 2, gas is transferred from the 1-21 reagent storage area 212 to the 1-1 reagent storage area 211 and the first reagent storage area 211 from the 1-1 reagent storage area 211 2 Gas can be moved to the reagent storage area 212.

기체 순환 기반 정화형 시약 수납장(200)은 박스와 유사한 형태의 본체를 갖고, 이러한 박스와 유사한 형태의 본체의 내부 공간에 제1 시약 수납 공간(210), 제2 시약 수납 공간(220) 및 유로 영역부(270)가 배치될 수 있다.The gas circulation-based purification reagent storage cabinet 200 has a body in a shape similar to a box, and a first reagent storage space 210, a second reagent storage space 220, and a flow path in the inner space of the body similar to the box. The region portion 270 may be disposed.

또한, 도시하지 않았으나 기체 순환 기반 정화형 시약 수납장(200)의 박스와 유사한 형태의 본체의 일 면에는 개폐 기능이 가능하도록 도어부(미도시)가 형성될 수 있다.In addition, although not shown, a door portion (not shown) may be formed on one surface of the main body having a shape similar to the box of the gas circulation-based purification reagent storage cabinet 200 to enable an opening and closing function.

제1 시약 수납 공간(210)은 정화실(250)과 연결되도록 형성될 수 있다. The first reagent storage space 210 may be formed to be connected to the purification chamber 250.

선택적 실시예로서 제1 시약 수납 공간(210)은 제1 배출 영역(210A) 및 제1 유입 영역(210B)를 통하여 정화실(250)과 연결될 수 있고, 구체적으로 제1-1 시약 수납 영역(211)은 제1 유입 영역(210B)를 통하여 정화실(250)과 연결될 수 있다.As an alternative embodiment, the first reagent storage space 210 may be connected to the purification chamber 250 through the first discharge region 210A and the first inlet region 210B, and specifically, the 1-1 reagent storage region ( 211 may be connected to the purification chamber 250 through the first inflow region 210B.

선택적 실시예로서 제1 시약 수납 공간(210)의 제1-1 시약 수납 영역(211) 및 제1-2 시약 수납 영역(212)은 유로 영역부(270)를 통하지 않고 정화실(250)과 연결될 수 있고, 예를들면 유로 영역부(270)와 직접적인 기체 연결되지 않도록 형성될 수 있다. 또한 구체적인 예로서 제1-2 시약 수납 영역(212)은 트레이부(215)의 관통 영역(215H)을 통하여 제1-1 시약 수납 영역(211)과 연결되고, 순차적으로 정화실(250)과 연결될 수 있다. As an alternative embodiment, the 1-1 reagent storage area 211 and the 1-2 reagent storage area 212 of the first reagent storage space 210 are connected to the purification chamber 250 without passing through the flow path area part 270. It may be connected, for example, may be formed so as not to be directly connected to the gas flow path region 270. In addition, as a specific example, the 1-2 reagent storage area 212 is connected to the 1-1 reagent storage area 211 through the penetrating area 215H of the tray part 215, and is sequentially connected to the purification chamber 250 Can be connected.

선택적 실시예로서 제1 시약 수납 공간(210)의 바닥 영역, 예를들면 제1 시약 수납 공간(210)과 제2 시약 수납 공간(220)의 사이에는 구획 지지부(230)가 배치될 수 있다.As an alternative embodiment, the partition support 230 may be disposed between the bottom area of the first reagent storage space 210, for example, between the first reagent storage space 210 and the second reagent storage space 220.

제1 시약 수납 공간(210)에 수용되는 시약은 구획 지지부(230)의 상면에 배치되어 구획 지지부(230)의 상면에 의하여 지지될 수 있다.The reagents accommodated in the first reagent storage space 210 may be disposed on the upper surface of the partition support part 230 and may be supported by the upper surface of the partition support part 230.

선택적 실시예로서 구획 지지부(230)는 기체 순환 기반 정화형 시약 수납장(200)의 박스와 유사한 형태의 본체의 내부 공간에 지지될 수 있고, 예를들면 트레이 형태로 형성될 수 있다.As an alternative embodiment, the partition support 230 may be supported in an inner space of a main body having a shape similar to a box of the gas circulation-based purification reagent storage cabinet 200, and may be formed in a tray shape, for example.

제2 시약 수납 공간(220)은 상기 제1 시약과 상이한 종류의 시약을 수용하도록 형성될 수 있다.The second reagent storage space 220 may be formed to accommodate a different kind of reagent from the first reagent.

선택적 실시예로서 제1 시약 수납 공간(210)과 제2 시약 수납 공간(220)의 사이에는 기체의 유입과 배출을 위한 별도의 통로부가 형성되지 않을 수 있고, 구체적 예로서 제1 시약 수납 공간(210)과 제2 시약 수납 공간(220)은 서로 기체 흐름이 발생하지 않도록 형성되어 제1 시약 수납 공간(210)에 수용된 시약에서 발생한 기체와 제2 시약 수납 공간(220)에 수용된 시약에서 발생한 기체가 서로 이동하여 접하거나 교차하는 것 또는 혼합되는 것을 감소하거나 방지할 수 있다.As an alternative embodiment, a separate passage part for inflow and discharge of gas may not be formed between the first reagent storage space 210 and the second reagent storage space 220, and as a specific example, the first reagent storage space ( 210) and the second reagent storage space 220 are formed so that gas flow does not occur to each other, and the gas generated from the reagent contained in the first reagent storage space 210 and the gas generated from the reagent contained in the second reagent storage space 220 It can reduce or prevent from moving and touching, intersecting, or mixing with each other.

제2 시약 수납 공간(220)에 수용되는 시약은 유해 물질 또는 유해 가스를 포함하거나 발생시킬 수 있다. 예를들면 제2 시약 수납 공간(220)에 수용되는 시약은 휘발성 유기화합물(VOCs), 포름알데히드, 톨루엔 또는 기타 다양한 위험한 유기 화합물을 함유할 수 있다.Reagents accommodated in the second reagent storage space 220 may contain or generate harmful substances or harmful gases. For example, the reagents accommodated in the second reagent storage space 220 may contain volatile organic compounds (VOCs), formaldehyde, toluene, or various other dangerous organic compounds.

선택적 실시예로서 제2 시약 수납 공간(220)은 정화실(250)과 직접 연결되지않도록 형성될 수 있고, 예를들면 제2 시약 수납 공간(220)과 정화실(250)의 사이에 제1 시약 수납 공간(210)이 배치될 수 있다.As an optional embodiment, the second reagent storage space 220 may be formed not to be directly connected to the purification chamber 250, for example, the first reagent storage space 220 and the purification chamber 250 The reagent storage space 210 may be disposed.

또한, 선택적 실시예로서 제2 시약 수납 공간(220)은 유로 영역부(270)을 통하여 정화실(250)과 연결될 수 있다. In addition, as an alternative embodiment, the second reagent storage space 220 may be connected to the purification chamber 250 through the flow path area portion 270.

유로 영역부(270)는 제2 시약 수납 공간(220)의 적어도 일측에 배치되고 상기 제2 시약 수납 공간(220)과 기체 연결되도록 형성될 수 있다.The flow path region 270 may be disposed on at least one side of the second reagent storage space 220 and may be formed to be gas-connected to the second reagent storage space 220.

선택적 실시예로서 유로 영역부(270)는 제1 시약 수납 공간(210) 및 제2 시약 수납 공간(220)의 일측에 대응되도록 배치될 수 있다. 또한, 구체적 예로서 유로 영역부(270)는 제1 시약 수납 공간(210) 및 제2 시약 수납 공간(220)의 일 측 및 이와 다른 일 측 각각에 대응되도록 배치될 수 있다.As an alternative embodiment, the flow path region 270 may be disposed to correspond to one side of the first reagent storage space 210 and the second reagent storage space 220. In addition, as a specific example, the flow path region 270 may be disposed to correspond to one side of the first reagent storage space 210 and the second reagent storage space 220, and the other side respectively.

또한, 유로 영역부(270)의 일단의 영역 및 다른 일단의 영역은 각각 정화실(250)의 서로 상이한 영역과 연결될 수 있고, 구체적 예로서 기체 흐름이 연결되도록 형성될 수 있다.In addition, an area of one end and an area of the other end of the flow path region part 270 may be connected to different areas of the purification chamber 250, respectively, and, as a specific example, may be formed such that gas flow is connected.

선택적 실시예로서 유로 영역부(270)는 배출 유로 영역(271), 유입 유로 영역(272) 및 연결 유로 영역(273)을 포함할 수 있다.As an alternative embodiment, the flow path region 270 may include a discharge flow path region 271, an inflow flow path region 272, and a connection flow path region 273.

배출 유로 영역(271)은 제2 배출 영역(220A)을 통하여 제2 시약 수납 공간(220)과 연결될 수 있다.The discharge passage area 271 may be connected to the second reagent storage space 220 through the second discharge area 220A.

또한, 배출 유로 영역(271)은 배출구(250A)를 통하여 정화실(250)과 연결될 수 있다. In addition, the discharge passage region 271 may be connected to the purification chamber 250 through the discharge port 250A.

구체적 예로서 제2 시약 수납 공간(220)에 수납되어 있는 시약에 함유되거나 여기서 발생한 악취, 유해 가스 또는 유기 가스는 배출 방향(T1)으로 이동하여 제2 배출 영역(220A)을 통하여 배출 유로 영역(271)로 배출되고, 배출 유로 영역(271)에 배출된 악취, 유해 가스 또는 유기 가스는 배출 방향(T3)으로 이동하여 배출구(250A)를 통하여 정화실(150)로 배출될 수 있다.As a specific example, the odor, harmful gas, or organic gas contained in or generated from the reagent stored in the second reagent storage space 220 moves in the discharge direction T1 and passes through the second discharge area 220A. The odor, harmful gas, or organic gas discharged to the discharge passage area 271 and discharged to the discharge passage region 271 may move in the discharge direction T3 and may be discharged to the purification chamber 150 through the discharge port 250A.

유입 유로 영역(272)은 제2 유입 영역(220B)을 통하여 제2 시약 수납 공간(220)과 연결될 수 있다.The inflow passage area 272 may be connected to the second reagent storage space 220 through the second inflow area 220B.

또한, 유입 유로 영역(272)은 유입구(250B)를 통하여 정화실(250)과 연결될 수 있다. In addition, the inflow passage region 272 may be connected to the purification chamber 250 through the inlet 250B.

구체적 예로서 제2 시약 수납 공간(220)에 수납되어 있는 시약에 함유되거나 여기서 발생한 악취, 유해 가스 또는 유기 가스는 제2 배출 영역(220A)을 통하여 배출 유로 영역(271)으로 배출되고, 배출 유로 영역(271)에 배출된 악취, 유해 가스 또는 유기 가스는 배출구(250A)를 통하여 정화실(250)로 배출된다. 또한, 정화실(250)로 배출된 악취, 유해 가스 또는 유기 가스는 정화실 내에서 정화 이동 방향(Tm)으로 이동하고 정화실(250)내에서 한 가지 이상의 방법으로 정화될 수 있다. As a specific example, the odor, harmful gas, or organic gas contained in or generated from the reagent stored in the second reagent storage space 220 is discharged to the discharge passage area 271 through the second discharge area 220A, and the discharge passage The odor, harmful gas, or organic gas discharged to the region 271 is discharged to the purification chamber 250 through the discharge port 250A. In addition, the odor, harmful gas, or organic gas discharged to the purification chamber 250 may be moved in the purification movement direction Tm in the purification chamber and may be purified in one or more methods in the purification chamber 250.

예를들면 정화실(250)내에서 대류를 통하여 정화될 수 있고, 선택적 실시예로서 필터부가 정화실(250)에 배치되어 한 가지 이상의 성분을 정화할 수 있다.For example, it may be purified through convection in the purification chamber 250, and as an alternative embodiment, a filter unit may be disposed in the purification chamber 250 to purify one or more components.

또한, 선택적 실시예로서 유해 성분에 대한 반응을 할 수 있도록 이온을 발생시키는 이온 클러스터부가 정화실(250)에 배치될 수 있다.In addition, as an optional embodiment, an ion cluster unit generating ions may be disposed in the purification chamber 250 so as to react to harmful components.

다른 선택적 실시예로서 정화실(250) 내로 공기의 흐름이 가능하도록 출입 공간이 형성되거나, 공기의 교환을 위한 팬을 설치할 수 있다.As another optional embodiment, an access space may be formed to allow the flow of air into the purification chamber 250, or a fan for exchanging air may be installed.

그리고 나서 정화된 기체는 유입구(250B)를 통하여 정화실(250)로부터 유입 유로 영역(272)로 유입 방향(T4)을 따라 이동할 수 있다.Then, the purified gas may move from the purification chamber 250 through the inlet 250B to the inlet flow path region 272 along the inflow direction T4.

이러한 유입 유로 영역(272)에서 유입 방향(T4)을 따라 이동한 정화된 기체는 제2 유입 영역(220B)을 통하여 다시 유입 방향(T2)을 따라 제2 시약 수납 공간(220)으로 유입될 수 있다.The purified gas that has moved along the inflow direction T4 in the inflow passage region 272 may be introduced into the second reagent storage space 220 again along the inflow direction T2 through the second inflow region 220B. have.

이를 통하여 제2 시약 수납 공간(220)에서의 악취, 유해 물질 또는 유해 가스 등이 용이하게 정화되어 제2 시약 수납 공간(220)에서의 불필요한 유해 물질 잔류를 감소할 수 있다.Through this, odors, harmful substances, or harmful gases in the second reagent storage space 220 can be easily purified, thereby reducing unnecessary toxic substances remaining in the second reagent storage space 220.

선택적 실시예로서 유입 유로 영역(272)은 제1 시약 수납 공간(210) 및 제2 시약 수납 공간(220)의 일측에 대응되도록 길게 연장된 형태를 가질 수 있고, 구체적 예로서 제1 시약 수납 공간(210) 및 제2 시약 수납 공간(220)을 사이에 두고 양측에 유입 유로 영역(272)과 배출 유로 영역(271)이 배치될 수 있다.As an optional embodiment, the inflow passage region 272 may have a form extending elongated to correspond to one side of the first reagent storage space 210 and the second reagent storage space 220, and as a specific example, the first reagent storage space Inflow passage regions 272 and discharge passage regions 271 may be disposed on both sides with the 210 and the second reagent storage space 220 interposed therebetween.

또한, 유입 유로 영역(272)의 일 영역, 예를들면 일 단부의 영역은 정화실(250)과 연결되도록 형성될 수 있다.In addition, an area of the inflow passage area 272, for example, an area at one end may be formed to be connected to the purification chamber 250.

연결 유로 영역(273)은 배출 유로 영역(271)과 유입 유로 영역(272)의 사이에 배치될 수 있다.The connection passage region 273 may be disposed between the discharge passage region 271 and the inflow passage region 272.

선택적 실시예로서 연결 유로 영역(273)은 배출 유로 영역(271) 및 유입 유로 영역(272)과 기체 연결이 되도록 형성될 수 있다. 예를들면 배출 유로 영역(271), 연결 유로 영역(273) 및 유입 유로 영역(272)이 기체의 연속적 흐름이 진행되도록 형성될 수 있다.As an alternative embodiment, the connection flow path region 273 may be formed to be gas-connected to the discharge flow path region 271 and the inflow flow path region 272. For example, the discharge passage region 271, the connection passage region 273, and the inlet passage region 272 may be formed so that a continuous flow of gas proceeds.

연결 유로 영역(273)에 대한 더 구체적 내용은 전술한 실시예에서 설명한 바와 동일하므로 기재의 편의를 위하여 생략한다.More specific details of the connection flow path area 273 are the same as those described in the above-described embodiment, and thus will be omitted for convenience of description.

정화실(250)은 상기 제1 시약 수납 공간(210)의 일측에 배치될 수 있다. 예를들면 정화실(250)은 제1 시약 수납 공간(210)의 제1-1 시약 수납 영역(211)을 향하도록 배치될 수 있다.The purification chamber 250 may be disposed on one side of the first reagent storage space 210. For example, the purification chamber 250 may be disposed to face the 1-1th reagent storage area 211 of the first reagent storage space 210.

정화실(250)은 상기 제1 시약 수납 공간(210)의 제1-1 시약 수납 영역(211)과 기체 연결되도록 형성될 수 있다. 예를들면 정화실(250)은 제1 배출 영역(210A)을 통하여 제1 시약 수납 공간(210)의 제1-1 시약 수납 영역(211)과 기체 흐름이 가능하도록 연결되고, 정화실(250)은 제1 배출 영역(210A)과 상이한 영역에 배치된 제1 유입 영역(210B)을 통하여 제1 시약 수납 공간(210)의 제1-1 시약 수납 영역(211)과 기체 흐름이 가능하도록 연결될 수 있다.The purification chamber 250 may be formed to be gas-connected to the 1-1st reagent storage area 211 of the first reagent storage space 210. For example, the purification chamber 250 is connected to the 1-1 reagent storage area 211 of the first reagent storage space 210 to allow gas flow through the first discharge area 210A, and the purification chamber 250 ) Is connected to allow gas flow to the 1-1 reagent storage area 211 of the first reagent storage space 210 through a first inlet area 210B disposed in an area different from the first discharge area 210A. I can.

구체적 예로서 제1 시약 수납 공간(210)에 수납되어 있는 산 또는 염기성 시약에 함유되거나 여기서 발생한 기체는 배출 방향(C1)으로 이동하여 제1 배출 영역(210A)을 통하여 정화실(250)로 배출되고, 정화실(250)로 배출된 기체는 정화 이동 방향(Cm)으로 이동하고 정화실(250)내에서 한 가지 이상의 방법으로 정화될 수 있다. As a specific example, the gas contained in or generated from an acid or basic reagent stored in the first reagent storage space 210 moves in the discharge direction C1 and is discharged to the purification chamber 250 through the first discharge area 210A. Then, the gas discharged into the purification chamber 250 may move in the purification movement direction Cm and may be purified in one or more ways in the purification chamber 250.

그리고 나서 정화된 기체는 정화실(250)로부터 제1 유입 영역(210B)을 통하여 다시 유입 방향(C2)을 따라 제1 시약 수납 공간(210)으로 유입될 수 있다.Then, the purified gas may flow into the first reagent storage space 210 from the purification chamber 250 through the first inflow region 210B again along the inflow direction C2.

한편, 제1-2 시약 수납 영역(212)는 배출 방향(C3)을 따라 트레이부(215)의 관통 영역(215H)을 통하여 제1-1 시약 수납 영역(211)에 이동하고, 다시 배출 방향(C1)을 따라 정화실(250)로 이동할 수 있다. 또한, 정화된 기체는 트레이부(215)의 관통 영역(215H)을 통하여 제1-1 시약 수납 영역(211)로부터 유입 방향(c4)을 따라 제1-2 시약 수납 영역(212)로 이동할 수 있다.On the other hand, the 1-2nd reagent storage area 212 moves to the 1-1st reagent storage area 211 through the through area 215H of the tray part 215 along the discharge direction C3, and is discharged again. It is possible to move to the purification chamber 250 along (C1). In addition, the purified gas may move from the 1-1 reagent storage area 211 to the 1-2 reagent storage area 212 along the inflow direction c4 through the through area 215H of the tray part 215. have.

이를 통하여 제1-1 시약 수납 영역(211) 및 이와 인접한 제1-2 시약 수납 영역(212) 내에서의 기체의 순환이 되고 정화실(250)을 통한 정화가 용이하게 수행될 수 있다.Through this, gas is circulated in the 1-1st reagent storage area 211 and the 1-21st reagent storage area 212 adjacent thereto, and purification through the purification chamber 250 can be easily performed.

또한 정화실(250)은 유로 영역부(270)의 일 영역 및 이와 상이한 다른 일 영역과 연결되도록 형성될 수 있다.In addition, the purification chamber 250 may be formed to be connected to one region of the flow path region 270 and another region different therefrom.

예를들면 정화실(250)은 유로 영역부(270)를 통하여 제2 시약 수납 공간(220)과 기체 연결되도록 형성될 수 있다. For example, the purification chamber 250 may be formed to be gas-connected to the second reagent storage space 220 through the flow path region 270.

구체적 예로서 정화실(250)은 배출구(250A)를 통하여 유로 영역부(270)의 배출 유로 영역(271)과 연결되고, 배출 유로 영역(271)은 제2 배출 영역(220A)을 통하여 제2 시약 수납 공간(220)과 연결될 수 있다.As a specific example, the purification chamber 250 is connected to the discharge flow path area 271 of the flow path area part 270 through the discharge port 250A, and the discharge flow path area 271 is a second discharge area 220A through the second discharge area 220A. It may be connected to the reagent storage space 220.

이를 통하여 제2 시약 수납 공간(220)에서 발생한 악취 등의 기체는 배출 유로 영역(271)을 통하여 정화실(250)로 배출될 수 있다.Through this, gas such as odor generated in the second reagent storage space 220 may be discharged to the purification chamber 250 through the discharge passage area 271.

선택적 실시예로서 배출구(250A)는 제1 배출 영역(210A)과 상이한 영역 또는 서로 이격된 위치에 배치될 수 있다. 이를 통하여 제1 시약 수납 공간(210)의 제1-1 시약 수납 영역(211) 및 제1-2 시약 수납 영역(212)에서 발생한 기체 및 제2 시약 수납 공간(220)에서 발생한 서로 상이한 종류의 기체의 불필요한 접촉 경로 및 혼합 경로를 감소할 수 있고, 정화실(250)에서의 정화 효율 및 잔류 가스 감소 효과를 향상할 수 있다.As an optional embodiment, the discharge port 250A may be disposed in a different region from the first discharge region 210A or at a position spaced apart from each other. Through this, the gas generated in the 1-1 reagent storage area 211 and the 1-2 reagent storage area 212 of the first reagent storage space 210 and different types of gases generated in the second reagent storage space 220 It is possible to reduce unnecessary contact paths and mixing paths of gas, and improve purification efficiency and residual gas reduction effect in the purification chamber 250.

또한, 정화실(250)은 유입구(250B)를 통하여 유로 영역부(270)의 유입 유로 영역(272)과 연결되고, 유입 유로 영역(272)은 제2 유입 영역(220B)을 통하여 제2 시약 수납 공간(220)과 연결될 수 있다.In addition, the purification chamber 250 is connected to the inflow passage region 272 of the passage region portion 270 through the inlet port 250B, and the inflow passage region 272 is connected to the second reagent through the second inflow region 220B. It may be connected to the storage space 220.

이를 통하여 제2 시약 수납 공간(220)에서 발생한 악취 등의 기체가 정화실(250)로 배출된 후에 정화 이동 방향(Tm)으로 이동후, 유입구(250B)를 통하여 유입 방향(T4)을 따라 유입 유로 영역(272)으로 이동하고, 제2 유입 영역(220B)을 통하여 제2 시약 수납 공간(220)에 유입 방향(T2)을 따라 유입될 수 있다.Through this, gas such as odor generated in the second reagent storage space 220 is discharged to the purification chamber 250 and then moves in the purification movement direction Tm, and then flows along the inflow direction T4 through the inlet 250B. It may move to the region 272 and flow into the second reagent storage space 220 along the inflow direction T2 through the second inflow region 220B.

선택적 실시예로서 본 실시예의 기체 순환 기반 정화형 시약 수납장(200)의 내부, 예를들면 제1 시약 수납 공간(210)의 내측면의 적어도 일 영역 또는 제2 시약 수납 공간(220)의 내측면의 적어도 일 영역은 페놀라미네이트를 포함할 수 있고, 이를 통하여 유해한 가스, 산 또는 염기에 강한 내구성을 가질 수 있다. As an optional embodiment, the interior of the gas circulation-based purification type reagent storage cabinet 200 of the present embodiment, for example, at least one area of the inner surface of the first reagent storage space 210 or the inner surface of the second reagent storage space 220 At least one region of the may include a phenol laminate, through which it may have strong durability against harmful gases, acids, or bases.

또한, 선택적 실시예로서 본 실시예의 기체 순환 기반 정화형 시약 수납장(200)의 내부는 분체 도장을 적용하여 형성될 수 있고, 예를들면 제1 시약 수납 공간(210)의 내측면의 적어도 일 영역, 제2 시약 수납 공간(220)의 내측면의 적어도 일 영역 또는 구획 지지부(230)의 적어도 일 영역은 분체 도장을 이용하여 형성될 수 있고, 이를 통하여 파손에 대한 저항 특성을 향상할 수 있다.In addition, as an optional embodiment, the interior of the gas circulation-based purification reagent storage cabinet 200 of the present embodiment may be formed by applying powder coating, for example, at least one area of the inner surface of the first reagent storage space 210 , At least one region of the inner surface of the second reagent storage space 220 or at least one region of the partition support 230 may be formed using powder coating, thereby improving resistance to damage.

본 실시예의 기체 순환 기반 정화형 시스템은 제1 시약 수납 공간 및 이와 상이한 시약을 포함하는 제2 수납 공간을 가질 수 있다. 또한 제1 시약 수납 공간 은 제1-1 시약 수납 영역 및 제1-2 시약 수납 영역을 포함할 수 있고, 각각은 서로 산성 시약과 염기성 시약을 수납할 수 있다.The gas circulation-based purification type system of the present embodiment may have a first reagent storage space and a second storage space containing a different reagent. In addition, the first reagent storage space may include a 1-1st reagent storage area and a 1-2nd reagent storage area, each of which may contain an acidic reagent and a basic reagent.

제1 시약 수납 공간의 제1-1 시약 수납 영역에 수납된 시약에서 발생한 기체는 제1 시약 수납 공간과 연결된 정화실로 용이하게 정화실로 배출될 수 있다. 그리고 이러한 정화실에서 하나 이상의 방법으로 정화된 기체는 다시 제1 시약 수납 공간으로 유입될 수 있다. 또한, 제1-2 시약 수납 영역에 수납된 시약에서 발생한 기체는 이와 연결된 제1-1 시약 수납 공간을 거쳐 정화실로 배출되고 정화된 기체는 제1-1 시약 수납 공간을 거쳐 제1-2 시약 수납 영역으로 유입될 수 있다.Gas generated from the reagent stored in the first reagent storage area of the first reagent storage space may be easily discharged to the purification chamber to the purification chamber connected to the first reagent storage space. In addition, the gas purified by one or more methods in the purification chamber may be introduced into the first reagent storage space again. In addition, the gas generated from the reagents stored in the 1-2 reagent storage area is discharged to the purification chamber through the 1-1-1 reagent storage space connected thereto, and the purified gas passes through the 1-1-1 reagent storage space. It may flow into the storage area.

이를 통하여 제2 시약 수납 공간에 수납된 시약과 혼합 또는 반응을 감소하거나 방지하면서 제1-1, 1-2 시약 수납 영역의 정화를 용이하게 진행할 수 있다.Through this, while reducing or preventing mixing or reaction with the reagents stored in the second reagent storage space, purification of the 1-1 and 1-2 reagent storage areas can be easily performed.

도 4는 본 발명의 또 다른 실시예에 관한 기체 순환 기반 정화형 시약 수납장을 개략적으로 도시한 정면도이다. 4 is a front view schematically showing a gas circulation-based purification reagent storage cabinet according to another embodiment of the present invention.

도 4를 참조하면 본 실시예의 기체 순환 기반 정화형 시약 수납장(300)은 제1 시약 수납 공간(310), 제2 시약 수납 공간(320), 유로 영역부(370) 및 정화실(350)을 포함할 수 있다. 설명의 편의를 위하여 전술한 실시예와 상이한 점을 중심으로 설명하기로 한다.Referring to FIG. 4, the gas circulation-based purification reagent storage cabinet 300 according to the present embodiment includes a first reagent storage space 310, a second reagent storage space 320, a flow path area part 370, and a purification chamber 350. Can include. For convenience of explanation, the description will focus on differences from the above-described embodiment.

제1 시약 수납 공간(310)은 적어도 일 종류의 시약을 수용하도록 형성될 수 있다. The first reagent storage space 310 may be formed to accommodate at least one kind of reagent.

예를들면 제1 시약 수납 공간(310)은 제1-1 시약 수납 영역(311) 및 제1-2 시약 수납 영역(312)을 포함할 수 있다.For example, the first reagent storage space 310 may include a 1-1st reagent storage area 311 and a 1-2th reagent storage area 312.

제1-1 시약 수납 영역(311) 및 제1-2 시약 수납 영역(312)은 서로 상이한 시약을 수납할 수 있고, 선택적 실시예로서 제1-1 시약 수납 영역(311)은 산성 계열의 시약을 수납하고 제1-2 시약 수납 영역(312)은 염기성 계열의 시약을 수납할 수 있다.The 1-1st reagent storage area 311 and the 1-2nd reagent storage area 312 may store different reagents, and as an optional embodiment, the 1-1st reagent storage area 311 is an acidic reagent. And the 1-2 reagent storage area 312 may store a basic reagent.

선택적 실시예로서 제1-1 시약 수납 영역(311) 및 제1-2 시약 수납 영역(312)의 사이에는 트레이부(315)가 배치될 수 있다. As an alternative embodiment, a tray part 315 may be disposed between the 1-1st reagent storage area 311 and the 1-2nd reagent storage area 312.

구체적으로 도시하지 않았으나 본 실시예의 트레이부(315)는 전술한 도 3과 같이 복수의 관통 영역(미도시)을 포함할 수 있다.Although not specifically shown, the tray unit 315 according to the present embodiment may include a plurality of through regions (not shown) as shown in FIG. 3 described above.

기체 순환 기반 정화형 시약 수납장(300)은 박스와 유사한 형태의 본체를 갖고, 이러한 박스와 유사한 형태의 본체의 내부 공간에 제1 시약 수납 공간(310), 제2 시약 수납 공간(320) 및 유로 영역부(370)가 배치될 수 있다.The gas circulation-based purification reagent storage cabinet 300 has a body in a shape similar to a box, and a first reagent storage space 310, a second reagent storage space 320, and a flow path in the inner space of the body similar to the box. The area portion 370 may be disposed.

또한, 도시하지 않았으나 기체 순환 기반 정화형 시약 수납장(300)의 박스와 유사한 형태의 본체의 일 면에는 개폐 기능이 가능하도록 도어부(미도시)가 형성될 수 있다.In addition, although not shown, a door portion (not shown) may be formed on one side of the main body having a shape similar to the box of the gas circulation-based purification reagent storage cabinet 300 to enable an opening/closing function.

제1 시약 수납 공간(310)은 정화실(350)과 연결되도록 형성될 수 있다. The first reagent storage space 310 may be formed to be connected to the purification chamber 350.

선택적 실시예로서 제1 시약 수납 공간(310)은 제1 배출 영역(310A) 및 제1 유입 영역(310B)를 통하여 정화실(350)과 연결될 수 있고, 구체적으로 제1-1 시약 수납 영역(311)은 제1 유입 영역(310B)를 통하여 정화실(350)과 연결될 수 있다.As an alternative embodiment, the first reagent storage space 310 may be connected to the purification chamber 350 through the first discharge region 310A and the first inflow region 310B, and specifically, the 1-1 reagent storage region ( 311 may be connected to the purification chamber 350 through the first inflow region 310B.

선택적 실시예로서 제1 시약 수납 공간(310)의 제1-1 시약 수납 영역(311) 및 제1-2 시약 수납 영역(312)은 유로 영역부(370)를 통하지 않고 정화실(350)과 연결될 수 있고, 예를들면 유로 영역부(370)와 직접적인 기체 연결되지 않도록 형성될 수 있다. 또한 구체적인 예로서 제1-2 시약 수납 영역(312)은 트레이부(315)의 관통 영역(315H)을 통하여 제1-1 시약 수납 영역(311)과 연결되고, 순차적으로 정화실(350)과 연결될 수 있다. As an alternative embodiment, the 1-1 reagent storage area 311 and the 1-2 reagent storage area 312 of the first reagent storage space 310 are connected to the purification chamber 350 without passing through the flow path area part 370. It may be connected, for example, may be formed so as not to be directly connected to the gas flow path region 370. In addition, as a specific example, the 1-2 reagent storage area 312 is connected to the 1-1 reagent storage area 311 through the penetrating area 315H of the tray part 315, and is sequentially connected to the purification chamber 350 Can be connected.

선택적 실시예로서 제1 시약 수납 공간(310)의 바닥 영역, 예를들면 제1 시약 수납 공간(310)과 제2 시약 수납 공간(320)의 사이에는 구획 지지부(330)가 배치될 수 있다.As an alternative embodiment, the partition support 330 may be disposed between the bottom area of the first reagent storage space 310, for example, between the first reagent storage space 310 and the second reagent storage space 320.

제1 시약 수납 공간(310)에 수용되는 시약은 구획 지지부(330)의 상면에 배치되어 구획 지지부(330)의 상면에 의하여 지지될 수 있다.The reagents accommodated in the first reagent storage space 310 may be disposed on the upper surface of the partition support part 330 and may be supported by the upper surface of the partition support part 330.

선택적 실시예로서 구획 지지부(330)는 기체 순환 기반 정화형 시약 수납장(300)의 박스와 유사한 형태의 본체의 내부 공간에 지지될 수 있고, 예를들면 트레이 형태로 형성될 수 있다.As an alternative embodiment, the partition support 330 may be supported in an inner space of a main body similar to a box of the gas circulation-based purification reagent storage cabinet 300, and may be formed in a tray shape, for example.

제2 시약 수납 공간(320)은 상기 제1 시약과 상이한 종류의 시약을 수용하도록 형성될 수 있다.The second reagent storage space 320 may be formed to accommodate a different kind of reagent from the first reagent.

선택적 실시예로서 제1 시약 수납 공간(310)과 제2 시약 수납 공간(320)의 사이에는 기체의 유입과 배출을 위한 별도의 통로부가 형성되지 않을 수 있고, 구체적 예로서 제1 시약 수납 공간(310)과 제2 시약 수납 공간(320)은 서로 기체 흐름이 발생하지 않도록 형성되어 제1 시약 수납 공간(310)에 수용된 시약에서 발생한 기체와 제2 시약 수납 공간(320)에 수용된 시약에서 발생한 기체가 서로 이동하여 접하거나 교차하는 것 또는 혼합되는 것을 감소하거나 방지할 수 있다.As an optional embodiment, a separate passage part for inflow and discharge of gas may not be formed between the first reagent storage space 310 and the second reagent storage space 320, and as a specific example, the first reagent storage space ( The gas generated from the reagent contained in the first reagent storage space 310 and the gas generated from the reagent contained in the second reagent storage space 320 are formed so that gas flow does not occur with each other. It can reduce or prevent from moving and touching, intersecting, or mixing with each other.

제2 시약 수납 공간(320)에 수용되는 시약은 유해 물질 또는 유해 가스를 포함하거나 발생시킬 수 있다. 예를들면 제2 시약 수납 공간(320)에 수용되는 시약은 휘발성 유기화합물(VOCs), 포름알데히드, 톨루엔 또는 기타 다양한 위험한 유기 화합물을 함유할 수 있다.Reagents accommodated in the second reagent storage space 320 may contain or generate harmful substances or harmful gases. For example, the reagents accommodated in the second reagent storage space 320 may contain volatile organic compounds (VOCs), formaldehyde, toluene, or various other dangerous organic compounds.

선택적 실시예로서 제2 시약 수납 공간(320)은 정화실(350)과 직접 연결되지않도록 형성될 수 있고, 예를들면 제2 시약 수납 공간(320)과 정화실(350)의 사이에 제1 시약 수납 공간(310)이 배치될 수 있다.As an optional embodiment, the second reagent storage space 320 may be formed so as not to be directly connected to the purification chamber 350, for example, the first reagent storage space 320 and the purification chamber 350 are disposed between the second reagent storage space 320 and the purification chamber 350. The reagent storage space 310 may be disposed.

또한, 선택적 실시예로서 제2 시약 수납 공간(320)은 유로 영역부(370)을 통하여 정화실(350)과 연결될 수 있다. In addition, as an alternative embodiment, the second reagent storage space 320 may be connected to the purification chamber 350 through the flow path area portion 370.

유로 영역부(370)는 제2 시약 수납 공간(320)의 적어도 일측에 배치되고 상기 제2 시약 수납 공간(320)과 기체 연결되도록 형성될 수 있다.The flow path region 370 may be disposed on at least one side of the second reagent storage space 320 and may be formed to be gas-connected to the second reagent storage space 320.

선택적 실시예로서 유로 영역부(370)는 제1 시약 수납 공간(310) 및 제2 시약 수납 공간(320)의 일측에 대응되도록 배치될 수 있다. 또한, 구체적 예로서 유로 영역부(370)는 제1 시약 수납 공간(310) 및 제2 시약 수납 공간(320)의 일 측 및 이와 다른 일 측 각각에 대응되도록 배치될 수 있다.As an alternative embodiment, the flow path region 370 may be disposed to correspond to one side of the first reagent storage space 310 and the second reagent storage space 320. In addition, as a specific example, the flow path area portion 370 may be disposed to correspond to one side of the first reagent storage space 310 and the second reagent storage space 320, and the other side thereof.

또한, 유로 영역부(370)의 일단의 영역 및 다른 일단의 영역은 각각 정화실(350)의 서로 상이한 영역과 연결될 수 있고, 구체적 예로서 기체 흐름이 연결되도록 형성될 수 있다.In addition, an area of one end and an area of the other end of the flow path region part 370 may be connected to different areas of the purification chamber 350, respectively, and may be formed to connect gas flow as a specific example.

선택적 실시예로서 유로 영역부(370)는 배출 유로 영역(371), 유입 유로 영역(372) 및 연결 유로 영역(373)을 포함할 수 있다.As an alternative embodiment, the flow path region part 370 may include a discharge flow path region 371, an inflow flow path region 372, and a connection flow path region 373.

배출 유로 영역(371)은 제2 배출 영역(320A)을 통하여 제2 시약 수납 공간(320)과 연결될 수 있다.The discharge passage area 371 may be connected to the second reagent storage space 320 through the second discharge area 320A.

또한, 배출 유로 영역(371)은 배출구(350A)를 통하여 정화실(350)과 연결될 수 있다. In addition, the discharge passage region 371 may be connected to the purification chamber 350 through the discharge port 350A.

구체적 예로서 제2 시약 수납 공간(320)에 수납되어 있는 시약에 함유되거나 여기서 발생한 악취, 유해 가스 또는 유기 가스는 배출 방향(T1)으로 이동하여 제2 배출 영역(320A)을 통하여 배출 유로 영역(371)로 배출되고, 배출 유로 영역(371)에 배출된 악취, 유해 가스 또는 유기 가스는 배출 방향(T3)으로 이동하여 배출구(350A)를 통하여 정화실(150)로 배출될 수 있다.As a specific example, the odor, harmful gas, or organic gas contained in or generated from the reagent stored in the second reagent storage space 320 moves in the discharge direction T1 and passes through the second discharge area 320A. The odor, harmful gas, or organic gas discharged to 371 and discharged to the discharge passage region 371 may move in the discharge direction T3 and may be discharged to the purification chamber 150 through the discharge port 350A.

유입 유로 영역(372)은 제2 유입 영역(320B)을 통하여 제2 시약 수납 공간(320)과 연결될 수 있다.The inflow passage area 372 may be connected to the second reagent storage space 320 through the second inflow area 320B.

또한, 유입 유로 영역(372)은 유입구(350B)를 통하여 정화실(350)과 연결될 수 있다. In addition, the inflow passage region 372 may be connected to the purification chamber 350 through the inlet 350B.

구체적 예로서 제2 시약 수납 공간(320)에 수납되어 있는 시약에 함유되거나 여기서 발생한 악취, 유해 가스 또는 유기 가스는 제2 배출 영역(320A)을 통하여 배출 유로 영역(371)으로 배출되고, 배출 유로 영역(371)에 배출된 악취, 유해 가스 또는 유기 가스는 배출구(350A)를 통하여 정화실(350)로 배출된다. 또한, 정화실(350)로 배출된 악취, 유해 가스 또는 유기 가스는 정화실 내에서 정화 이동 방향(Tm)으로 이동하고 정화실(350)내에서 한 가지 이상의 방법으로 정화될 수 있다. As a specific example, the odor, harmful gas, or organic gas contained in or generated from a reagent stored in the second reagent storage space 320 is discharged to the discharge flow path region 371 through the second discharge region 320A, and the discharge flow path The odor, harmful gas, or organic gas discharged to the region 371 is discharged to the purification chamber 350 through the discharge port 350A. In addition, the odor, harmful gas, or organic gas discharged to the purification chamber 350 may move in the purification movement direction Tm in the purification chamber and may be purified in one or more ways in the purification chamber 350.

예를들면 정화실(350)내에서 대류를 통하여 정화될 수 있고, 선택적 실시예로서 필터부가 정화실(350)에 배치되어 한 가지 이상의 성분을 정화할 수 있다.For example, it may be purified through convection in the purification chamber 350, and as an alternative embodiment, a filter unit may be disposed in the purification chamber 350 to purify one or more components.

또한, 선택적 실시예로서 유해 성분에 대한 반응을 할 수 있도록 이온을 발생시키는 이온 클러스터부가 정화실(350)에 배치될 수 있다.In addition, as an optional embodiment, an ion cluster unit generating ions may be disposed in the purification chamber 350 so as to react to harmful components.

다른 선택적 실시예로서 정화실(350) 내로 공기의 흐름이 가능하도록 출입 공간이 형성되거나, 공기의 교환을 위한 팬을 설치할 수 있다.As another alternative embodiment, an access space may be formed to allow air to flow into the purification chamber 350, or a fan for exchanging air may be installed.

그리고 나서 정화된 기체는 유입 방향(Tm') 방향을 따라 유입구(350B)를 통하여 정화실(350)로부터 유입 유로 영역(372)으로 유입되고, 유입 방향(T4)을 따라 유입 유로 영역(372)으로부터 제2 시약 수납 공간(320)을 향하도록 이동할 수 있다.Then, the purified gas is introduced from the purification chamber 350 to the inflow passage region 372 through the inlet 350B along the inflow direction Tm', and the inflow passage region 372 along the inflow direction T4. It can move toward the second reagent storage space 320 from.

이러한 유입 유로 영역(372)에서 유입 방향(T4)을 따라 이동한 정화된 기체는 제2 유입 영역(320B)을 통하여 다시 유입 방향(T2)을 따라 제2 시약 수납 공간(320)으로 유입될 수 있다.The purified gas that has moved along the inflow direction T4 in the inflow passage area 372 may be introduced into the second reagent storage space 320 again along the inflow direction T2 through the second inflow area 320B. have.

이를 통하여 제2 시약 수납 공간(320)에서의 악취, 유해 물질 또는 유해 가스 등이 용이하게 정화되어 제2 시약 수납 공간(320)에서의 불필요한 유해 물질 잔류를 감소할 수 있다.Through this, odors, harmful substances, or harmful gases in the second reagent storage space 320 can be easily purified, thereby reducing unnecessary toxic substances remaining in the second reagent storage space 320.

선택적 실시예로서 유입 유로 영역(372)은 제1 시약 수납 공간(310) 및 제2 시약 수납 공간(320)의 일측에 대응되도록 길게 연장된 형태를 가질 수 있고, 구체적 예로서 제1 시약 수납 공간(310) 및 제2 시약 수납 공간(320)을 사이에 두고 양측에 유입 유로 영역(372)과 배출 유로 영역(371)이 배치될 수 있다.As an optional embodiment, the inflow passage region 372 may have a shape extending elongated to correspond to one side of the first reagent storage space 310 and the second reagent storage space 320, and as a specific example, the first reagent storage space Inflow passage regions 372 and discharge passage regions 371 may be disposed on both sides with the 310 and the second reagent storage space 320 interposed therebetween.

또한, 유입 유로 영역(372)의 일 영역, 예를들면 일 단부의 영역은 정화실(350)과 연결되도록 형성될 수 있다.In addition, an area of the inflow passage area 372, for example, an area at one end may be formed to be connected to the purification chamber 350.

연결 유로 영역(373)은 배출 유로 영역(371)과 유입 유로 영역(372)의 사이에 배치될 수 있다.The connection passage region 373 may be disposed between the discharge passage region 371 and the inflow passage region 372.

선택적 실시예로서 연결 유로 영역(373)은 배출 유로 영역(371) 및 유입 유로 영역(372)과 기체 연결이 되도록 형성될 수 있다. 예를들면 배출 유로 영역(371), 연결 유로 영역(373) 및 유입 유로 영역(372)이 기체의 연속적 흐름이 진행되도록 형성될 수 있다.As an alternative embodiment, the connection flow path region 373 may be formed to be gas-connected to the discharge flow path region 371 and the inflow flow path region 372. For example, the discharge flow path region 371, the connection flow path region 373, and the inflow flow path region 372 may be formed such that a continuous flow of gas proceeds.

연결 유로 영역(373)에 대한 더 구체적 내용은 전술한 실시예에서 설명한 바와 동일하므로 기재의 편의를 위하여 생략한다.More detailed information about the connection flow path region 373 is the same as described in the above-described embodiment, and thus is omitted for convenience of description.

정화실(350)은 상기 제1 시약 수납 공간(310)의 일측에 배치될 수 있다. 예를들면 정화실(350)은 제1 시약 수납 공간(310)의 제1-1 시약 수납 영역(311)을 향하도록 배치될 수 있다.The purification chamber 350 may be disposed on one side of the first reagent storage space 310. For example, the purification chamber 350 may be disposed to face the 1-1th reagent storage area 311 of the first reagent storage space 310.

정화실(350)은 상기 제1 시약 수납 공간(310)의 제1-1 시약 수납 영역(311)과 기체 연결되도록 형성될 수 있다. 예를들면 정화실(350)은 제1 배출 영역(310A)을 통하여 제1 시약 수납 공간(310)의 제1-1 시약 수납 영역(311)과 기체 흐름이 가능하도록 연결되고, 정화실(350)은 제1 배출 영역(310A)과 상이한 영역에 배치된 제1 유입 영역(310B)을 통하여 제1 시약 수납 공간(310)의 제1-1 시약 수납 영역(311)과 기체 흐름이 가능하도록 연결될 수 있다.The purification chamber 350 may be formed to be gas-connected to the 1-1st reagent storage area 311 of the first reagent storage space 310. For example, the purification chamber 350 is connected to the 1-1 reagent storage area 311 of the first reagent storage space 310 through the first discharge area 310A to allow gas flow, and the purification chamber 350 ) Is connected to allow gas flow to the 1-1 reagent storage area 311 of the first reagent storage space 310 through a first inlet area 310B disposed in an area different from the first discharge area 310A. I can.

구체적 예로서 제1 시약 수납 공간(310)에 수납되어 있는 산 또는 염기성 시약에 함유되거나 여기서 발생한 기체는 배출 방향(C1)으로 이동하여 제1 배출 영역(310A)을 통하여 정화실(350)로 배출되고, 정화실(350)로 배출된 기체는 정화 이동 방향(Cm)으로 이동하고 정화실(350)내에서 한 가지 이상의 방법으로 정화될 수 있다. As a specific example, the gas contained in or generated from an acid or basic reagent stored in the first reagent storage space 310 moves in the discharge direction C1 and is discharged to the purification chamber 350 through the first discharge area 310A. Then, the gas discharged to the purification chamber 350 may move in the purification movement direction Cm and may be purified in one or more ways in the purification chamber 350.

예를들면 필터부(360)가 정화실(350)내에 배치될 수 있다. 예를들면 필터부(360)는 정화실(350)내에 제1 배출 영역(310A)과 제1 유입 영역(310B)의 사이에 배치될 수 있다.For example, the filter unit 360 may be disposed in the purification chamber 350. For example, the filter unit 360 may be disposed between the first discharge area 310A and the first inflow area 310B in the purification chamber 350.

선택적 실시예로서 필터부(360)는 제1 시약 수납 공간(310)에 수납된 시약으로부터 발생한 기체를 정화하는 필터를 포함할 수 있고, 예를들면 산성 정화 필터 또는 염기성 정화 필터를 포함할 수 있다.As an alternative embodiment, the filter unit 360 may include a filter for purifying gas generated from a reagent stored in the first reagent storage space 310, for example, an acid purification filter or a basic purification filter. .

일 예로서 필터부(360)는 펠렛 형태의 복수의 필터 부재를 포함할 수 있고, 구체적 예로서 복수의 펠렛 형태 부재가 카트리지에 수용된 형태를 가질 수 있다.As an example, the filter unit 360 may include a plurality of filter members in the form of pellets, and as a specific example, the filter unit 360 may have a form in which a plurality of pellet form members are accommodated in a cartridge.

이를 통하여 정화실(350)의 내부 사이즈에 맞게 적절한 크기의 카트리지를 제작 후 카트리지 내에 펠렛을 충전할 수 있다. Through this, a cartridge having an appropriate size suitable for the internal size of the purification chamber 350 may be manufactured, and then pellets may be filled in the cartridge.

필터부(360)는 산성 정화 필터를 포함할 경우 다양한 방법으로 산성 기체를 정화할 수 있고, 예를들면 다음과 같이 화학 반응을 이용한 필터를 포함할 수 있다. When the filter unit 360 includes an acid purification filter, it may purify acidic gas in various ways, and for example, may include a filter using a chemical reaction as follows.

예1)3HCl + MO(OH) → MCl3 + 2H2O, 예2) 6HF + M2O3 → 2MF3 + 3H2O, 예3) 2HBr + M(OH)2 → MBr2 + 2H2OExample 1) 3HCl + MO(OH) → MCl3 + 2H2O, Example 2) 6HF + M2O3 → 2MF3 + 3H2O, Example 3) 2HBr + M(OH)2 → MBr2 + 2H2O

필터부(360)는 염기성 정화 필터를 포함할 경우 다양한 방법으로 염기성 기체를 정화할 수 있고, 예를들면 다음과 같이 화학 반응을 이용한 필터를 포함할 수 있다. When the filter unit 360 includes a basic purification filter, the basic gas may be purified in various ways, and for example, may include a filter using a chemical reaction as follows.

예) 4NH3 + MSO4 → M(NH3)4SO4Example) 4NH3 + MSO4 → M(NH3)4SO4

여기서 상기 "M"은 금속 원소를 포함할 수 있고, 예를들면 2가 이상의 금속 원소를 포함할 수 있다. 구체적으로 "M"은 Fe, Al, Cu, Mg 또는 Ca를 포함할 수 있다.Here, the "M" may include a metal element, for example, may include a divalent or higher metal element. Specifically, "M" may include Fe, Al, Cu, Mg or Ca.

또한, 선택적 실시예로서 필터부(360)는 서로 구별된 산성 정화 필터 및 염기성 정화 필터를 각각 포함할 수 있다.In addition, as an optional embodiment, the filter unit 360 may include an acidic purification filter and a basic purification filter that are distinguished from each other.

또한, 선택적 실시예로서 필터부(360)는 제2 시약 수납 공간(320)에 수납된 시약과 반응할 수 있는 필터를 포함할 수도 있다.In addition, as an optional embodiment, the filter unit 360 may include a filter capable of reacting with a reagent stored in the second reagent storage space 320.

필터부(360)를 거치면서 정화된 기체는 정화실(350)로부터 유입 방향(Cm')을 따라 제1 유입 영역(310B)으로 유입되고, 다시 유입 방향(C2)을 따라 제1 시약 수납 공간(310)으로 유입될 수 있다.The gas purified while passing through the filter unit 360 flows from the purification chamber 350 to the first inlet region 310B along the inlet direction Cm', and then flows into the first reagent storage space in the inlet direction C2. It can be introduced into (310).

한편, 제1-2 시약 수납 영역(312)는 배출 방향(C3)을 따라 트레이부(315)의 관통 영역(미도시)을 통하여 제1-1 시약 수납 영역(311)에 이동하고, 다시 배출 방향(C1)을 따라 정화실(350)로 이동할 수 있다. 또한, 정화된 기체는 트레이부(315)의 관통 영역(미도시)을 통하여 제1-1 시약 수납 영역(311)로부터 유입 방향(c4)을 따라 제1-2 시약 수납 영역(312)로 이동할 수 있다.On the other hand, the 1-2 reagent storage area 312 moves to the 1-1 reagent storage area 311 through the through area (not shown) of the tray part 315 along the discharge direction C3, and is discharged again. It may move to the purification chamber 350 along the direction C1. In addition, the purified gas moves from the 1-1 reagent storage area 311 to the 1-2 reagent storage area 312 along the inflow direction c4 through the through area (not shown) of the tray part 315. I can.

이를 통하여 제1-1 시약 수납 영역(311) 및 이와 인접한 제1-2 시약 수납 영역(312) 내에서의 기체의 순환이 되고 정화실(350)을 통한 정화가 용이하게 수행될 수 있다.Through this, gas is circulated in the 1-1st reagent storage area 311 and the 1-2th reagent storage area 312 adjacent thereto, and purification through the purification chamber 350 can be easily performed.

또한 정화실(350)은 유로 영역부(370)의 일 영역 및 이와 상이한 다른 일 영역과 연결되도록 형성될 수 있다.In addition, the purification chamber 350 may be formed to be connected to one region of the flow path region part 370 and another region different therefrom.

예를들면 정화실(350)은 유로 영역부(370)를 통하여 제2 시약 수납 공간(320)과 기체 연결되도록 형성될 수 있다. For example, the purification chamber 350 may be formed to be gas-connected to the second reagent storage space 320 through the flow path region 370.

구체적 예로서 정화실(350)은 배출구(350A)를 통하여 유로 영역부(370)의 배출 유로 영역(371)과 연결되고, 배출 유로 영역(371)은 제2 배출 영역(320A)을 통하여 제2 시약 수납 공간(320)과 연결될 수 있다.As a specific example, the purification chamber 350 is connected to the discharge flow path region 371 of the flow path region part 370 through the discharge port 350A, and the discharge flow path region 371 passes through the second discharge region 320A. It may be connected to the reagent storage space 320.

이를 통하여 제2 시약 수납 공간(320)에서 발생한 악취 등의 기체는 배출 유로 영역(371)을 통하여 정화실(350)로 배출될 수 있다.Through this, gas such as odor generated in the second reagent storage space 320 may be discharged to the purification chamber 350 through the discharge passage region 371.

선택적 실시예로서 배출구(350A)는 제1 배출 영역(310A)과 상이한 영역 또는 서로 이격된 위치에 배치될 수 있다. 이를 통하여 제1 시약 수납 공간(310)의 제1-1 시약 수납 영역(311) 및 제1-2 시약 수납 영역(312)에서 발생한 기체 및 제2 시약 수납 공간(320)에서 발생한 서로 상이한 종류의 기체의 불필요한 접촉 경로 및 혼합 경로를 감소할 수 있고, 정화실(350)에서의 정화 효율 및 잔류 가스 감소 효과를 향상할 수 있다.As an alternative embodiment, the discharge port 350A may be disposed in a different region from the first discharge region 310A or at a position spaced apart from each other. Through this, the gas generated in the 1-1 reagent storage area 311 and the 1-2 reagent storage area 312 of the first reagent storage space 310 and different types of gas generated in the second reagent storage space 320 It is possible to reduce unnecessary contact paths and mixing paths of gas, and improve purification efficiency and residual gas reduction effect in the purification chamber 350.

또한, 정화실(350)은 유입구(350B)를 통하여 유로 영역부(370)의 유입 유로 영역(372)과 연결되고, 유입 유로 영역(372)은 제2 유입 영역(320B)을 통하여 제2 시약 수납 공간(320)과 연결될 수 있다.In addition, the purification chamber 350 is connected to the inflow passage region 372 of the passage region 370 through the inlet 350B, and the inflow passage region 372 passes through the second inflow region 320B. It may be connected to the storage space 320.

이를 통하여 제2 시약 수납 공간(320)에서 발생한 악취 등의 기체가 정화실(350)로 배출된 후에 정화 이동 방향(Tm)으로 이동후, 유입 방향(Tm')을 따라 유입구(350B)로 유입되고, 유입 방향(T4)을 따라 유입 유로 영역(372)에서 제2 시약 수납 공간(320)을 향하여 이동하고, 제2 유입 영역(320B)을 통하여 제2 시약 수납 공간(320)에 유입 방향(T2)을 따라 유입될 수 있다.Through this, gas such as odor generated in the second reagent storage space 320 is discharged to the purification chamber 350 and then moves in the purification movement direction Tm, and then flows into the inlet 350B along the inflow direction Tm'. , It moves from the inflow passage region 372 to the second reagent storage space 320 along the inflow direction T4, and the inflow direction T2 into the second reagent storage space 320 through the second inflow region 320B. ) Can be introduced.

선택적 실시예로서 본 실시예의 기체 순환 기반 정화형 시약 수납장(300)의 내부, 예를들면 제1 시약 수납 공간(310)의 내측면의 적어도 일 영역 또는 제2 시약 수납 공간(320)의 내측면의 적어도 일 영역은 페놀라미네이트를 포함할 수 있고, 이를 통하여 유해한 가스, 산 또는 염기에 강한 내구성을 가질 수 있다. As an optional embodiment, the interior of the gas circulation-based purification type reagent storage cabinet 300 of the present embodiment, for example, at least one area of the inner surface of the first reagent storage space 310 or the inner surface of the second reagent storage space 320 At least one region of the may include a phenol laminate, through which it may have strong durability against harmful gases, acids, or bases.

또한, 선택적 실시예로서 본 실시예의 기체 순환 기반 정화형 시약 수납장(300)의 내부는 분체 도장을 적용하여 형성될 수 있고, 예를들면 제1 시약 수납 공간(310)의 내측면의 적어도 일 영역, 제2 시약 수납 공간(320)의 내측면의 적어도 일 영역 또는 구획 지지부(330)의 적어도 일 영역은 분체 도장을 이용하여 형성될 수 있고, 이를 통하여 파손에 대한 저항 특성을 향상할 수 있다.In addition, as an optional embodiment, the interior of the gas circulation-based purification reagent storage cabinet 300 of the present embodiment may be formed by applying powder coating, for example, at least one area of the inner surface of the first reagent storage space 310 , At least one region of the inner surface of the second reagent storage space 320 or at least one region of the partition support 330 may be formed using powder coating, thereby improving resistance to damage.

선택적 실시예로서 본 실시예의 기체 순환 기반 정화형 시약 수납장(300)은 지지부(BT)를 포함할 수 있고, 지지부(BT)를 통하여 배치 안정성을 향상할 수 있다. 또한, 지지부(BT)는 선택적 실시예로서 복수 개의 운동 부재를 포함할 수 있고, 예를들면 바퀴 부재를 포함할 수 있다.As an optional embodiment, the gas circulation-based purification type reagent storage cabinet 300 of the present embodiment may include a support part BT, and placement stability may be improved through the support part BT. In addition, the support part BT may include a plurality of moving members as an optional embodiment, and may include, for example, a wheel member.

본 실시예의 기체 순환 기반 정화형 시스템은 제1 시약 수납 공간 및 이와 상이한 시약을 포함하는 제2 수납 공간을 가질 수 있다. 또한 제1 시약 수납 공간 은 제1-1 시약 수납 영역 및 제1-2 시약 수납 영역을 포함할 수 있고, 각각은 서로 산성 시약과 염기성 시약을 수납할 수 있다.The gas circulation-based purification type system of the present embodiment may have a first reagent storage space and a second storage space containing a different reagent. In addition, the first reagent storage space may include a 1-1st reagent storage area and a 1-2th reagent storage area, each of which may contain an acidic reagent and a basic reagent.

제1 시약 수납 공간의 제1-1 시약 수납 영역에 수납된 시약에서 발생한 기체는 제1 시약 수납 공간과 연결된 정화실로 용이하게 배출될 수 있다. 그리고 이러한 정화실에서 하나 이상의 방법으로 정화될 수 있다. 예를들면 정화실에 배치된 필터부를 이용하여 정화될 수 있고, 구체적 예로서 산성 정화 필터 또는 염기성 정화 필터를 이용하여 정화될 수 있다. 이를 통하여 정화실에서의 빠른 정화가 진행될 수 있고, 또한 선택적 실시예로서 필터부가 화학적 반응을 통한 필터를 사용하여 정화 효율을 향상할 수 있다. 또한, 카트리지 타입으로 필터부를 형성할 경우 정화실 내에서의 필터부 배치 및 교체를 용이하게 할 수 있다.Gas generated from the reagents stored in the first reagent storage area of the first reagent storage space can be easily discharged to the purification chamber connected to the first reagent storage space. And it can be purified in one or more ways in such a purification chamber. For example, it may be purified using a filter unit disposed in the purification chamber, and as a specific example, it may be purified using an acidic purification filter or a basic purification filter. Through this, rapid purification in the purification chamber may be performed, and as an optional embodiment, the filter unit may improve purification efficiency by using a filter through a chemical reaction. In addition, when the filter unit is formed in a cartridge type, it is possible to facilitate the arrangement and replacement of the filter unit in the purification chamber.

정화실에서 정화된 기체는 다시 제1 시약 수납 공간으로 유입될 수 있다. 또한, 제1-2 시약 수납 영역에 수납된 시약에서 발생한 기체는 이와 연결된 제1-1 시약 수납 공간을 거쳐 정화실로 배출되고 정화된 기체는 제1-1 시약 수납 공간을 거쳐 제1-2 시약 수납 영역으로 유입될 수 있다.The gas purified in the purification chamber may be introduced into the first reagent storage space again. In addition, the gas generated from the reagents stored in the 1-2 reagent storage area is discharged to the purification chamber through the 1-1-1 reagent storage space connected thereto, and the purified gas passes through the 1-1-1 reagent storage space. It may flow into the storage area.

이를 통하여 제1 시약 수납 공간 및 제2 시약 수납 공간으로부터 정화실로의 기체 배출을 독립적으로 수행할 수 있어서 각각의 상호 작용으로 인한 유해 가스 증폭을 감소하고 정화실의 정화 특성을 향상할 수 있다. 또한, 제1 시약 수납 공간으로부터 정화실의 배출 및 유입 경로와 제2 시약 수납 공간으로부터 정화실로의 배출 및 유입 경로의 길이차가 발생하도록 하여 정화실에서의 서로 상이한 기체가 불필요하게 오랫동안 함께 중첩 및 접촉되어 상호 작용하는 것을 감소할 수 있다.Through this, gas discharge from the first reagent storage space and the second reagent storage space to the purification chamber can be independently performed, thereby reducing amplification of harmful gases due to respective interactions and improving the purification characteristics of the purification chamber. In addition, the length difference between the discharge and inflow paths of the purification chamber from the first reagent storage space and the discharge and inflow paths from the second reagent storage space to the purification chamber occurs, so that different gases in the purification chamber unnecessarily overlap and contact with each other for a long time. Can reduce the interaction.

도 5는 본 발명의 또 다른 실시예에 관한 기체 순환 기반 정화형 시약 수납장을 개략적으로 도시한 정면도이다.5 is a front view schematically showing a gas circulation-based purification reagent storage cabinet according to another embodiment of the present invention.

도 5를 참조하면 본 실시예의 기체 순환 기반 정화형 시약 수납장(400)은 제1 시약 수납 공간(410), 제2 시약 수납 공간(420), 유로 영역부(470) 및 정화실(450)을 포함할 수 있다. 설명의 편의를 위하여 전술한 실시예와 상이한 점을 중심으로 설명하기로 한다.Referring to FIG. 5, the gas circulation-based purification reagent storage cabinet 400 of the present embodiment includes a first reagent storage space 410, a second reagent storage space 420, a flow path area part 470, and a purification chamber 450. Can include. For convenience of explanation, the description will focus on differences from the above-described embodiment.

제1 시약 수납 공간(410)은 적어도 일 종류의 시약을 수용하도록 형성될 수 있다. The first reagent storage space 410 may be formed to accommodate at least one kind of reagent.

예를들면 제1 시약 수납 공간(410)은 제1-1 시약 수납 영역(411) 및 제1-2 시약 수납 영역(412)을 포함할 수 있다.For example, the first reagent storage space 410 may include a 1-1st reagent storage area 411 and a 1-2th reagent storage area 412.

제1-1 시약 수납 영역(411) 및 제1-2 시약 수납 영역(412)은 서로 상이한 시약을 수납할 수 있고, 선택적 실시예로서 제1-1 시약 수납 영역(411)은 산성 계열의 시약을 수납하고 제1-2 시약 수납 영역(412)은 염기성 계열의 시약을 수납할 수 있다.The 1-1st reagent storage area 411 and the 1-2nd reagent storage area 412 may store different reagents, and as an optional embodiment, the 1-1st reagent storage area 411 is an acidic reagent. And the 1-2th reagent storage area 412 may store a basic reagent.

선택적 실시예로서 제1-1 시약 수납 영역(411) 및 제1-2 시약 수납 영역(412)의 사이에는 트레이부(415)가 배치될 수 있다. As an alternative embodiment, a tray part 415 may be disposed between the 1-1st reagent storage area 411 and the 1-2nd reagent storage area 412.

구체적으로 도시하지 않았으나 본 실시예의 트레이부(415)는 전술한 도 3과 같이 복수의 관통 영역(미도시)을 포함할 수 있다.Although not specifically shown, the tray part 415 according to the present embodiment may include a plurality of through regions (not shown) as shown in FIG. 3 described above.

기체 순환 기반 정화형 시약 수납장(400)은 박스와 유사한 형태의 본체를 갖고, 이러한 박스와 유사한 형태의 본체의 내부 공간에 제1 시약 수납 공간(410), 제2 시약 수납 공간(420) 및 유로 영역부(470)가 배치될 수 있다.The gas circulation-based purification reagent storage cabinet 400 has a body in a shape similar to a box, and a first reagent storage space 410, a second reagent storage space 420, and a flow path in the inner space of the body similar to the box. The area portion 470 may be disposed.

또한, 도시하지 않았으나 기체 순환 기반 정화형 시약 수납장(400)의 박스와 유사한 형태의 본체의 일 면에는 개폐 기능이 가능하도록 도어부(미도시)가 형성될 수 있다.In addition, although not shown, a door portion (not shown) may be formed on one side of the main body having a shape similar to the box of the gas circulation-based purification reagent storage cabinet 400 to enable an opening/closing function.

제1 시약 수납 공간(410)은 정화실(450)과 연결되도록 형성될 수 있다. The first reagent storage space 410 may be formed to be connected to the purification chamber 450.

선택적 실시예로서 제1 시약 수납 공간(410)은 제1 배출 영역(410A) 및 제1 유입 영역(410B)를 통하여 정화실(450)과 연결될 수 있고, 구체적으로 제1-1 시약 수납 영역(411)은 제1 유입 영역(410B)를 통하여 정화실(450)과 연결될 수 있다.As an alternative embodiment, the first reagent storage space 410 may be connected to the purification chamber 450 through the first discharge region 410A and the first inlet region 410B, and specifically, the first reagent storage region ( The 411 may be connected to the purification chamber 450 through the first inflow region 410B.

선택적 실시예로서 제1 시약 수납 공간(410)의 제1-1 시약 수납 영역(411) 및 제1-2 시약 수납 영역(412)은 유로 영역부(470)를 통하지 않고 정화실(450)과 연결될 수 있고, 예를들면 유로 영역부(470)와 직접적인 기체 연결되지 않도록 형성될 수 있다. 또한 구체적인 예로서 제1-2 시약 수납 영역(412)은 트레이부(415)의 관통 영역(415H)을 통하여 제1-1 시약 수납 영역(411)과 연결되고, 순차적으로 정화실(450)과 연결될 수 있다.As an alternative embodiment, the 1-1 reagent storage area 411 and the 1-2 reagent storage area 412 of the first reagent storage space 410 are connected to the purification chamber 450 without passing through the flow path area part 470. It may be connected, for example, it may be formed so as not to be directly connected to the gas flow path region 470. In addition, as a specific example, the 1-2 reagent storage area 412 is connected to the 1-1 reagent storage area 411 through the penetrating area 415H of the tray part 415, and is sequentially connected to the purification chamber 450 Can be connected.

선택적 실시예로서 제1 시약 수납 공간(410)의 바닥 영역, 예를들면 제1 시약 수납 공간(410)과 제2 시약 수납 공간(420)의 사이에는 구획 지지부(430)가 배치될 수 있다.As an alternative embodiment, the partition support 430 may be disposed between the bottom area of the first reagent storage space 410, for example, between the first reagent storage space 410 and the second reagent storage space 420.

제1 시약 수납 공간(410)에 수용되는 시약은 구획 지지부(430)의 상면에 배치되어 구획 지지부(430)의 상면에 의하여 지지될 수 있다.The reagents accommodated in the first reagent storage space 410 may be disposed on the upper surface of the partition support part 430 and may be supported by the upper surface of the partition support part 430.

선택적 실시예로서 구획 지지부(430)는 기체 순환 기반 정화형 시약 수납장(400)의 박스와 유사한 형태의 본체의 내부 공간에 지지될 수 있고, 예를들면 트레이 형태로 형성될 수 있다.As an optional embodiment, the partition support 430 may be supported in the inner space of the main body having a shape similar to the box of the gas circulation-based purification reagent storage cabinet 400, and may be formed in a tray shape, for example.

제2 시약 수납 공간(420)은 상기 제1 시약과 상이한 종류의 시약을 수용하도록 형성될 수 있다.The second reagent storage space 420 may be formed to accommodate a different kind of reagent from the first reagent.

선택적 실시예로서 제1 시약 수납 공간(410)과 제2 시약 수납 공간(420)의 사이에는 기체의 유입과 배출을 위한 별도의 통로부가 형성되지 않을 수 있고, 구체적 예로서 제1 시약 수납 공간(410)과 제2 시약 수납 공간(420)은 서로 기체 흐름이 발생하지 않도록 형성되어 제1 시약 수납 공간(410)에 수용된 시약에서 발생한 기체와 제2 시약 수납 공간(420)에 수용된 시약에서 발생한 기체가 서로 이동하여 접하거나 교차하는 것 또는 혼합되는 것을 감소하거나 방지할 수 있다.As an alternative embodiment, a separate passage part for inflow and discharge of gas may not be formed between the first reagent storage space 410 and the second reagent storage space 420, and as a specific example, the first reagent storage space ( The gas generated from the reagent contained in the first reagent storage space 410 and the gas generated from the reagent contained in the second reagent storage space 420 are formed so that gas flow does not occur with each other. It can reduce or prevent from moving and touching, intersecting, or mixing with each other.

제2 시약 수납 공간(420)에 수용되는 시약은 유해 물질 또는 유해 가스를 포함하거나 발생시킬 수 있다. 예를들면 제2 시약 수납 공간(420)에 수용되는 시약은 휘발성 유기화합물(VOCs), 포름알데히드, 톨루엔 또는 기타 다양한 위험한 유기 화합물을 함유할 수 있다.Reagents accommodated in the second reagent storage space 420 may contain or generate harmful substances or harmful gases. For example, the reagents accommodated in the second reagent storage space 420 may contain volatile organic compounds (VOCs), formaldehyde, toluene, or various other dangerous organic compounds.

선택적 실시예로서 제2 시약 수납 공간(420)은 정화실(450)과 직접 연결되지않도록 형성될 수 있고, 예를들면 제2 시약 수납 공간(420)과 정화실(450)의 사이에 제1 시약 수납 공간(410)이 배치될 수 있다.As an alternative embodiment, the second reagent storage space 420 may be formed not to be directly connected to the purification chamber 450, for example, the first reagent storage space 420 and the purification chamber 450 A reagent storage space 410 may be disposed.

또한, 선택적 실시예로서 제2 시약 수납 공간(420)은 유로 영역부(470)을 통하여 정화실(450)과 연결될 수 있다. In addition, as an alternative embodiment, the second reagent storage space 420 may be connected to the purification chamber 450 through the flow path region 470.

유로 영역부(470)는 제2 시약 수납 공간(420)의 적어도 일측에 배치되고 상기 제2 시약 수납 공간(420)과 기체 연결되도록 형성될 수 있다.The flow path region 470 may be disposed on at least one side of the second reagent storage space 420 and may be formed to be gas-connected to the second reagent storage space 420.

선택적 실시예로서 유로 영역부(470)는 제1 시약 수납 공간(410) 및 제2 시약 수납 공간(420)의 일측에 대응되도록 배치될 수 있다. 또한, 구체적 예로서 유로 영역부(470)는 제1 시약 수납 공간(410) 및 제2 시약 수납 공간(420)의 일 측 및 이와 다른 일 측 각각에 대응되도록 배치될 수 있다.As an alternative embodiment, the flow path region 470 may be disposed to correspond to one side of the first reagent storage space 410 and the second reagent storage space 420. In addition, as a specific example, the flow path region 470 may be disposed to correspond to one side of the first reagent storage space 410 and the second reagent storage space 420 and the other side respectively.

또한, 유로 영역부(470)의 일단의 영역 및 다른 일단의 영역은 각각 정화실(450)의 서로 상이한 영역과 연결될 수 있고, 구체적 예로서 기체 흐름이 연결되도록 형성될 수 있다.In addition, an area of one end and an area of the other end of the flow path region part 470 may be connected to different areas of the purification chamber 450, respectively, and, as a specific example, may be formed such that gas flow is connected.

선택적 실시예로서 유로 영역부(470)는 배출 유로 영역(471), 유입 유로 영역(472) 및 연결 유로 영역(473)을 포함할 수 있다.As an alternative embodiment, the flow path region part 470 may include a discharge flow path region 471, an inflow flow path region 472, and a connection flow path region 473.

배출 유로 영역(471)은 제2 배출 영역(420A)을 통하여 제2 시약 수납 공간(420)과 연결될 수 있다.The discharge passage area 471 may be connected to the second reagent storage space 420 through the second discharge area 420A.

또한, 배출 유로 영역(471)은 배출구(450A)를 통하여 정화실(450)과 연결될 수 있다. In addition, the discharge passage region 471 may be connected to the purification chamber 450 through the discharge port 450A.

구체적 예로서 제2 시약 수납 공간(420)에 수납되어 있는 시약에 함유되거나 여기서 발생한 악취, 유해 가스 또는 유기 가스는 배출 방향(T1)으로 이동하여 제2 배출 영역(420A)을 통하여 배출 유로 영역(471)로 배출되고, 배출 유로 영역(471)에 배출된 악취, 유해 가스 또는 유기 가스는 배출 방향(T3)으로 이동하여 배출구(450A)를 통하여 정화실(150)로 배출될 수 있다.As a specific example, the odor, harmful gas, or organic gas contained in or generated from the reagent stored in the second reagent storage space 420 moves in the discharge direction T1 and passes through the second discharge area 420A. The odor, harmful gas, or organic gas discharged to the discharge passage area 471 and discharged to the discharge passage region 471 may move in the discharge direction T3 and may be discharged to the purification chamber 150 through the discharge port 450A.

유입 유로 영역(472)은 제2 유입 영역(420B)을 통하여 제2 시약 수납 공간(420)과 연결될 수 있다.The inflow passage area 472 may be connected to the second reagent storage space 420 through the second inflow area 420B.

또한, 유입 유로 영역(472)은 유입구(450B)를 통하여 정화실(450)과 연결될 수 있다. In addition, the inflow passage region 472 may be connected to the purification chamber 450 through the inlet 450B.

구체적 예로서 제2 시약 수납 공간(420)에 수납되어 있는 시약에 함유되거나 여기서 발생한 악취, 유해 가스 또는 유기 가스는 제2 배출 영역(420A)을 통하여 배출 유로 영역(471)으로 배출되고, 배출 유로 영역(471)에 배출된 악취, 유해 가스 또는 유기 가스는 배출구(450A)를 통하여 정화실(450)로 배출된다. 또한, 정화실(450)로 배출된 악취, 유해 가스 또는 유기 가스는 정화실 내에서 정화 이동 방향(Tm)으로 이동하고 정화실(450)내에서 한 가지 이상의 방법으로 정화될 수 있다. As a specific example, odor, harmful gas, or organic gas contained in or generated from a reagent stored in the second reagent storage space 420 is discharged to the discharge flow path region 471 through the second discharge region 420A, and the discharge flow path The odor, harmful gas, or organic gas discharged to the region 471 is discharged to the purification chamber 450 through the discharge port 450A. In addition, the odor, harmful gas, or organic gas discharged to the purification chamber 450 may move in the purification movement direction Tm in the purification chamber and may be purified in one or more methods in the purification chamber 450.

예를들면 정화실(450)내에서 대류를 통하여 정화될 수 있고, 선택적 실시예로서 필터부가 정화실(450)에 배치되어 한 가지 이상의 성분을 정화할 수 있다.For example, it may be purified through convection in the purification chamber 450, and as an alternative embodiment, a filter unit may be disposed in the purification chamber 450 to purify one or more components.

또한, 선택적 실시예로서 유해 성분에 대한 반응을 할 수 있도록 이온을 발생시키는 이온 클러스터부가 정화실(450)에 배치될 수 있다.In addition, as an optional embodiment, an ion cluster unit generating ions may be disposed in the purification chamber 450 so as to react to harmful components.

다른 선택적 실시예로서 정화실(450) 내로 공기의 흐름이 가능하도록 출입 공간이 형성되거나, 공기의 교환을 위한 팬을 설치할 수 있다.As another alternative embodiment, an access space may be formed to allow air to flow into the purification chamber 450, or a fan for exchanging air may be installed.

정화실(450)내에는 기류 제어부(SFU)가 배치될 수 있다. 기류 제어부(SFU)를 통하여 정화실(450)내에서의 공기의 흐름이 배출구(450A)로부터 유입구(450B) 방향 및 제1 배출 영역(410A)으로부터 제1 유입 영역(410B)으로 원활하게 진행될 수 있다.An airflow control unit SFU may be disposed in the purification chamber 450. Through the airflow control unit (SFU), the flow of air in the purification chamber 450 can smoothly proceed from the outlet 450A to the inlet 450B and from the first discharge region 410A to the first inlet region 410B. have.

예를들면 기류 제어부(SFU)는 하나 이상의 팬 부재를 포함할 수 있고, 흡기 또는 배기를 용이하게 진행할 수 있다.For example, the airflow control unit SFU may include one or more fan members, and may easily perform intake or exhaust.

또한, 선택적 실시예로서 기류 제어부(SFU)는 외부 공기의 흐름과 연결될 수 있고, 이를 통하여 기체의 흐름을 원활하게 하고 외기 유입을 통한 정화 특성을 향상할 수 있다.In addition, as an optional embodiment, the airflow controller (SFU) may be connected to the flow of external air, thereby smoothing the flow of gas and improving the purification characteristics through the introduction of outside air.

또한, 선택적 실시예로서 기류 제어부(SFU)는 필터부(460)와 제1 유입 영역(410B)의 사이에 배치될 수 있다. 이를 통하여 필터부(460)를 거친 후의 정화된 기체의 원활한 이동을 용이하게 할 수 있고, 필터부(460)에서의 정화 효과를 향상할 수 있다.In addition, as an optional embodiment, the airflow control unit SFU may be disposed between the filter unit 460 and the first inflow region 410B. Through this, smooth movement of the purified gas after passing through the filter unit 460 may be facilitated, and a purification effect in the filter unit 460 may be improved.

또한, 기류 제어부(SFU)의 오염을 감소할 수 있다.In addition, it is possible to reduce contamination of the airflow control unit (SFU).

정화된 기체는 유입 방향(Tm') 방향을 따라 유입구(450B)를 통하여 정화실(450)로부터 유입 유로 영역(472)으로 유입되고, 유입 방향(T4)을 따라 유입 유로 영역(472)으로부터 제2 시약 수납 공간(420)을 향하도록 이동할 수 있다.The purified gas is introduced from the purification chamber 450 to the inflow passage region 472 through the inlet 450B along the inflow direction Tm', and is removed from the inflow passage region 472 along the inflow direction T4. 2 It can be moved to face the reagent storage space 420.

이러한 유입 유로 영역(472)에서 유입 방향(T4)을 따라 이동한 정화된 기체는 제2 유입 영역(420B)을 통하여 다시 유입 방향(T2)을 따라 제2 시약 수납 공간(420)으로 유입될 수 있다.The purified gas that has moved along the inflow direction T4 in the inflow passage area 472 may be introduced into the second reagent storage space 420 again along the inflow direction T2 through the second inflow area 420B. have.

이를 통하여 제2 시약 수납 공간(420)에서의 악취, 유해 물질 또는 유해 가스 등이 용이하게 정화되어 제2 시약 수납 공간(420)에서의 불필요한 유해 물질 잔류를 감소할 수 있다.Through this, odors, harmful substances, or harmful gases in the second reagent storage space 420 can be easily purified, thereby reducing unnecessary toxic substances remaining in the second reagent storage space 420.

선택적 실시예로서 유입 유로 영역(472)은 제1 시약 수납 공간(410) 및 제2 시약 수납 공간(420)의 일측에 대응되도록 길게 연장된 형태를 가질 수 있고, 구체적 예로서 제1 시약 수납 공간(410) 및 제2 시약 수납 공간(420)을 사이에 두고 양측에 유입 유로 영역(472)과 배출 유로 영역(471)이 배치될 수 있다.As an optional embodiment, the inflow passage region 472 may have a shape extending in length to correspond to one side of the first reagent storage space 410 and the second reagent storage space 420, and as a specific example, the first reagent storage space The inflow passage region 472 and the discharge passage region 471 may be disposed on both sides with the 410 and the second reagent storage space 420 interposed therebetween.

또한, 유입 유로 영역(472)의 일 영역, 예를들면 일 단부의 영역은 정화실(450)과 연결되도록 형성될 수 있다.In addition, an area of the inflow passage area 472, for example, an area at one end may be formed to be connected to the purification chamber 450.

연결 유로 영역(473)은 배출 유로 영역(471)과 유입 유로 영역(472)의 사이에 배치될 수 있다.The connection passage region 473 may be disposed between the discharge passage region 471 and the inflow passage region 472.

선택적 실시예로서 연결 유로 영역(473)은 배출 유로 영역(471) 및 유입 유로 영역(472)과 기체 연결이 되도록 형성될 수 있다. 예를들면 배출 유로 영역(471), 연결 유로 영역(473) 및 유입 유로 영역(472)이 기체의 연속적 흐름이 진행되도록 형성될 수 있다.As an alternative embodiment, the connection flow path region 473 may be formed to be gas-connected with the discharge flow path region 471 and the inflow flow path region 472. For example, the discharge passage region 471, the connection passage region 473, and the inflow passage region 472 may be formed so that a continuous flow of gas proceeds.

연결 유로 영역(473)에 대한 더 구체적 내용은 전술한 실시예에서 설명한 바와 동일하므로 기재의 편의를 위하여 생략한다.More detailed information on the connection flow path region 473 is the same as described in the above-described embodiment, and thus is omitted for convenience of description.

정화실(450)은 상기 제1 시약 수납 공간(410)의 일측에 배치될 수 있다. 예를들면 정화실(450)은 제1 시약 수납 공간(410)의 제1-1 시약 수납 영역(411)을 향하도록 배치될 수 있다.The purification chamber 450 may be disposed on one side of the first reagent storage space 410. For example, the purification chamber 450 may be disposed to face the 1-1th reagent storage area 411 of the first reagent storage space 410.

정화실(450)은 상기 제1 시약 수납 공간(410)의 제1-1 시약 수납 영역(411)과 기체 연결되도록 형성될 수 있다. 예를들면 정화실(450)은 제1 배출 영역(410A)을 통하여 제1 시약 수납 공간(410)의 제1-1 시약 수납 영역(411)과 기체 흐름이 가능하도록 연결되고, 정화실(450)은 제1 배출 영역(410A)과 상이한 영역에 배치된 제1 유입 영역(410B)을 통하여 제1 시약 수납 공간(410)의 제1-1 시약 수납 영역(411)과 기체 흐름이 가능하도록 연결될 수 있다.The purification chamber 450 may be formed to be gas-connected to the 1-1st reagent storage area 411 of the first reagent storage space 410. For example, the purification chamber 450 is connected to the 1-1 reagent storage area 411 of the first reagent storage space 410 through the first discharge area 410A to allow gas flow, and the purification chamber 450 ) Is connected to allow gas flow to the 1-1 reagent storage area 411 of the first reagent storage space 410 through the first inlet area 410B disposed in a different area from the first discharge area 410A. I can.

구체적 예로서 제1 시약 수납 공간(410)에 수납되어 있는 산 또는 염기성 시약에 함유되거나 여기서 발생한 기체는 배출 방향(C1)으로 이동하여 제1 배출 영역(410A)을 통하여 정화실(450)로 배출되고, 정화실(450)로 배출된 기체는 정화 이동 방향(Cm)으로 이동하고 정화실(450)내에서 한 가지 이상의 방법으로 정화될 수 있다. As a specific example, the gas contained in or generated from an acid or basic reagent stored in the first reagent storage space 410 moves in the discharge direction C1 and is discharged to the purification chamber 450 through the first discharge area 410A. Then, the gas discharged to the purification chamber 450 may move in the purification movement direction Cm and may be purified in one or more ways in the purification chamber 450.

예를들면 필터부(460)가 정화실(450)내에 배치될 수 있다. 예를들면 필터부(460)는 정화실(450)내에 제1 배출 영역(410A)과 제1 유입 영역(410B)의 사이에 배치될 수 있다.For example, the filter unit 460 may be disposed in the purification chamber 450. For example, the filter unit 460 may be disposed between the first discharge area 410A and the first inflow area 410B in the purification chamber 450.

선택적 실시예로서 필터부(460)는 제1 시약 수납 공간(410)에 수납된 시약으로부터 발생한 기체를 정화하는 필터를 포함할 수 있고, 예를들면 산성 정화 필터 또는 염기성 정화 필터를 포함할 수 있다.As an optional embodiment, the filter unit 460 may include a filter that purifies gas generated from a reagent stored in the first reagent storage space 410, and may include, for example, an acid purification filter or a basic purification filter. .

일 예로서 필터부(460)는 펠렛 형태의 복수의 필터 부재를 포함할 수 있고, 구체적 예로서 복수의 펠렛 형태 부재가 카트리지에 수용된 형태를 가질 수 있다.As an example, the filter unit 460 may include a plurality of filter members in the form of pellets, and as a specific example, the filter unit 460 may have a form in which a plurality of pellet form members are accommodated in a cartridge.

이를 통하여 정화실(450)의 내부 사이즈에 맞게 적절한 크기의 카트리지를 제작 후 카트리지 내에 펠렛을 충전할 수 있다. Through this, a cartridge having an appropriate size according to the internal size of the purification chamber 450 may be manufactured, and then pellets may be filled in the cartridge.

필터부(460)는 산성 정화 필터를 포함할 경우 다양한 방법으로 산성 기체를 정화할 수 있고, 예를들면 화학 반응을 이용한 필터를 포함할 수 있다. When the filter unit 460 includes an acid purification filter, it may purify acidic gas in various ways, and for example, may include a filter using a chemical reaction.

필터부(460)에 대한 내용은 전술한 실시예의 필터부(360)에서 설명한 바와 동일하거나 이를 유사하게 변형하여 적용할 수 있으므로 더 구체적 내용은 생략한다.Details of the filter unit 460 may be the same as described in the filter unit 360 of the above-described embodiment or may be modified and applied in a similar manner, so a more detailed description will be omitted.

필터부(460)를 거치면서 정화된 기체는 정화실(450)로부터 유입 방향(Cm')을 따라 제1 유입 영역(410B)으로 유입되고, 다시 유입 방향(C2)을 따라 제1 시약 수납 공간(410)으로 유입될 수 있다.The gas purified while passing through the filter unit 460 flows from the purification chamber 450 to the first inlet region 410B along the inlet direction Cm', and then flows into the first reagent storage space in the inlet direction C2. It can flow into 410.

한편, 제1-2 시약 수납 영역(412)는 배출 방향(C3)을 따라 트레이부(415)의 관통 영역(미도시)을 통하여 제1-1 시약 수납 영역(411)에 이동하고, 다시 배출 방향(C1)을 따라 정화실(450)로 이동할 수 있다. 또한, 정화된 기체는 트레이부(415)의 관통 영역(미도시)을 통하여 제1-1 시약 수납 영역(411)로부터 유입 방향(c4)을 따라 제1-2 시약 수납 영역(412)로 이동할 수 있다.On the other hand, the 1-2 reagent storage area 412 moves to the 1-1 reagent storage area 411 through the penetrating area (not shown) of the tray part 415 along the discharge direction C3, and then discharged again. It may move to the purification chamber 450 along the direction C1. In addition, the purified gas moves from the 1-1 reagent storage area 411 to the 1-2 reagent storage area 412 along the inflow direction c4 through the through area (not shown) of the tray part 415. I can.

이를 통하여 제1-1 시약 수납 영역(411) 및 이와 인접한 제1-2 시약 수납 영역(412) 내에서의 기체의 순환이 되고 정화실(450)을 통한 정화가 용이하게 수행될 수 있다.Through this, gas is circulated in the 1-1st reagent storage area 411 and the 1-2th reagent storage area 412 adjacent thereto, and purification through the purification chamber 450 can be easily performed.

또한 정화실(450)은 유로 영역부(470)의 일 영역 및 이와 상이한 다른 일 영역과 연결되도록 형성될 수 있다.In addition, the purification chamber 450 may be formed to be connected to one region of the flow path region part 470 and another region different therefrom.

예를들면 정화실(450)은 유로 영역부(470)를 통하여 제2 시약 수납 공간(420)과 기체 연결되도록 형성될 수 있다. For example, the purification chamber 450 may be formed to be gas-connected to the second reagent storage space 420 through the flow path region part 470.

구체적 예로서 정화실(450)은 배출구(450A)를 통하여 유로 영역부(470)의 배출 유로 영역(471)과 연결되고, 배출 유로 영역(471)은 제2 배출 영역(420A)을 통하여 제2 시약 수납 공간(420)과 연결될 수 있다.As a specific example, the purification chamber 450 is connected to the discharge flow path region 471 of the flow path region part 470 through the discharge port 450A, and the discharge flow path region 471 passes through the second discharge region 420A. It may be connected to the reagent storage space 420.

이를 통하여 제2 시약 수납 공간(420)에서 발생한 악취 등의 기체는 배출 유로 영역(471)을 통하여 정화실(450)로 배출될 수 있다.Through this, gas such as odor generated in the second reagent storage space 420 may be discharged to the purification chamber 450 through the discharge passage region 471.

선택적 실시예로서 배출구(450A)는 제1 배출 영역(410A)과 상이한 영역 또는 서로 이격된 위치에 배치될 수 있다. 이를 통하여 제1 시약 수납 공간(410)의 제1-1 시약 수납 영역(411) 및 제1-2 시약 수납 영역(412)에서 발생한 기체 및 제2 시약 수납 공간(420)에서 발생한 서로 상이한 종류의 기체의 불필요한 접촉 경로 및 혼합 경로를 감소할 수 있고, 정화실(450)에서의 정화 효율 및 잔류 가스 감소 효과를 향상할 수 있다.As an alternative embodiment, the discharge port 450A may be disposed in a different region from the first discharge region 410A or at a position spaced apart from each other. Through this, gas generated in the 1-1 reagent storage area 411 and the 1-2 reagent storage area 412 of the first reagent storage space 410 and different types of gases generated in the second reagent storage space 420 It is possible to reduce unnecessary contact paths and mixing paths of gas, and improve purification efficiency and residual gas reduction effect in the purification chamber 450.

또한, 정화실(450)은 유입구(450B)를 통하여 유로 영역부(470)의 유입 유로 영역(472)과 연결되고, 유입 유로 영역(472)은 제2 유입 영역(420B)을 통하여 제2 시약 수납 공간(420)과 연결될 수 있다.In addition, the purification chamber 450 is connected to the inflow passage region 472 of the passage region 470 through the inlet 450B, and the inflow passage region 472 passes through the second inflow region 420B. It may be connected to the storage space 420.

이를 통하여 제2 시약 수납 공간(420)에서 발생한 악취 등의 기체가 정화실(450)로 배출된 후에 정화 이동 방향(Tm)으로 이동후, 유입 방향(Tm')을 따라 유입구(450B)로 유입되고, 유입 방향(T4)을 따라 유입 유로 영역(472)에서 제2 시약 수납 공간(420)을 향하여 이동하고, 제2 유입 영역(420B)을 통하여 제2 시약 수납 공간(420)에 유입 방향(T2)을 따라 유입될 수 있다.Through this, gas such as odor generated in the second reagent storage space 420 is discharged to the purification chamber 450 and then moves in the purification movement direction Tm, and then flows into the inlet 450B along the inflow direction Tm'. , It moves from the inflow passage region 472 to the second reagent storage space 420 along the inflow direction T4, and the inflow direction T2 into the second reagent storage space 420 through the second inflow region 420B. ) Can be introduced.

선택적 실시예로서 본 실시예의 기체 순환 기반 정화형 시약 수납장(400)의 내부, 예를들면 제1 시약 수납 공간(410)의 내측면의 적어도 일 영역 또는 제2 시약 수납 공간(420)의 내측면의 적어도 일 영역은 페놀라미네이트를 포함할 수 있고, 이를 통하여 유해한 가스, 산 또는 염기에 강한 내구성을 가질 수 있다. As an optional embodiment, the interior of the gas circulation-based purification type reagent storage cabinet 400 of the present embodiment, for example, at least one area of the inner surface of the first reagent storage space 410 or the inner surface of the second reagent storage space 420 At least one region of the may include a phenol laminate, through which it may have strong durability against harmful gases, acids, or bases.

또한, 선택적 실시예로서 본 실시예의 기체 순환 기반 정화형 시약 수납장(400)의 내부는 분체 도장을 적용하여 형성될 수 있고, 예를들면 제1 시약 수납 공간(410)의 내측면의 적어도 일 영역, 제2 시약 수납 공간(420)의 내측면의 적어도 일 영역 또는 구획 지지부(430)의 적어도 일 영역은 분체 도장을 이용하여 형성될 수 있고, 이를 통하여 파손에 대한 저항 특성을 향상할 수 있다.In addition, as an optional embodiment, the interior of the gas circulation-based purification reagent storage cabinet 400 of the present embodiment may be formed by applying powder coating, for example, at least one area of the inner surface of the first reagent storage space 410 , At least one region of the inner surface of the second reagent storage space 420 or at least one region of the partition support 430 may be formed using powder coating, thereby improving resistance to damage.

또한, 정화실에 배치된 기류 제어부, 예를들면 팬 부재는 정화실에서의 기체의 흐름을 원활하게 할 수 있고, 이에 따라 정화실로의 유입 및 정화실에서의 배출이 용이하게 진행되어 제1 시약 수납 공간 및 제2 시약 수납 공간에서의 정화 특성을 향상할 수 있다.In addition, the air flow control unit disposed in the purification chamber, for example, a fan member, can facilitate the flow of gas in the purification chamber, and accordingly, the inflow into the purification chamber and discharge from the purification chamber proceed easily, and thus the first reagent Purification characteristics in the storage space and the second reagent storage space can be improved.

또한, 정화실에서 기체가 필터부를 지난 후에 기류 제어부를 향하므로 필터부에서의 정화 효과를 향상하고 기류 제어부의 오염을 감소할 수 있다.In addition, since the gas in the purification chamber is directed to the air flow control unit after passing through the filter unit, the purification effect in the filter unit can be improved and contamination of the air flow control unit can be reduced.

도 6은 본 발명의 또 다른 실시예에 관한 기체 순환 기반 정화형 시약 수납장을 개략적으로 도시한 정면도이다. 6 is a front view schematically showing a gas circulation-based purification reagent storage cabinet according to another embodiment of the present invention.

도 6을 참조하면 본 실시예의 기체 순환 기반 정화형 시약 수납장(500)은 제1 시약 수납 공간(510), 제2 시약 수납 공간(520), 유로 영역부(570) 및 정화실(550)을 포함할 수 있다. 설명의 편의를 위하여 전술한 실시예와 상이한 점을 중심으로 설명하기로 한다.Referring to FIG. 6, the gas circulation-based purification reagent storage cabinet 500 according to the present embodiment includes a first reagent storage space 510, a second reagent storage space 520, a flow path region 570, and a purification chamber 550. Can include. For convenience of explanation, the description will focus on differences from the above-described embodiment.

제1 시약 수납 공간(510)은 적어도 일 종류의 시약을 수용하도록 형성될 수 있다. The first reagent storage space 510 may be formed to accommodate at least one kind of reagent.

예를들면 제1 시약 수납 공간(510)은 제1-1 시약 수납 영역(511) 및 제1-2 시약 수납 영역(512)을 포함할 수 있다. 제1-1 시약 수납 영역(511) 및 제1-2 시약 수납 영역(512)은 전술한 실시예들에서 설명한 바와 동일하거나 필요에 따라 변형 가능한 바 더 구체적인 설명은 생략한다.For example, the first reagent storage space 510 may include a 1-1st reagent storage area 511 and a 1-2th reagent storage area 512. The 1-1st reagent storage area 511 and the 1-2nd reagent storage area 512 are the same as those described in the above-described embodiments or can be modified as necessary, and thus a more detailed description thereof will be omitted.

구체적으로 도시하지 않았으나 본 실시예의 트레이부(515)는 전술한 도 3과 같이 복수의 관통 영역(미도시)을 포함할 수 있다.Although not shown in detail, the tray part 515 of the present embodiment may include a plurality of through regions (not shown) as shown in FIG. 3 described above.

기체 순환 기반 정화형 시약 수납장(500)은 박스와 유사한 형태의 본체를 갖고, 이러한 박스와 유사한 형태의 본체의 내부 공간에 제1 시약 수납 공간(510), 제2 시약 수납 공간(520) 및 유로 영역부(570)가 배치될 수 있다.The gas circulation-based purification reagent storage cabinet 500 has a body in a shape similar to a box, and a first reagent storage space 510, a second reagent storage space 520, and a flow path in the inner space of the body similar to the box. The area portion 570 may be disposed.

또한, 도시하지 않았으나 기체 순환 기반 정화형 시약 수납장(500)의 박스와 유사한 형태의 본체의 일 면에는 개폐 기능이 가능하도록 도어부(미도시)가 형성될 수 있다.In addition, although not shown, a door portion (not shown) may be formed on one surface of the main body having a shape similar to the box of the gas circulation-based purification reagent storage cabinet 500 to enable an opening/closing function.

선택적 실시예로서 제1 시약 수납 공간(510)의 바닥 영역, 예를들면 제1 시약 수납 공간(510)과 제2 시약 수납 공간(520)의 사이에는 구획 지지부(530)가 배치될 수 있다.As an alternative embodiment, the partition support 530 may be disposed between the bottom area of the first reagent storage space 510, for example, between the first reagent storage space 510 and the second reagent storage space 520.

제2 시약 수납 공간(520)은 상기 제1 시약과 상이한 종류의 시약을 수용하도록 형성될 수 있다. 선택적 실시예로서 제1 시약 수납 공간(510)과 제2 시약 수납 공간(520)의 사이에는 기체의 유입과 배출을 위한 별도의 통로부가 형성되지 않을 수 있고, 구체적 예로서 제1 시약 수납 공간(510)과 제2 시약 수납 공간(520)은 서로 기체 흐름이 발생하지 않도록 형성되어 제1 시약 수납 공간(510)에 수용된 시약에서 발생한 기체와 제2 시약 수납 공간(520)에 수용된 시약에서 발생한 기체가 서로 이동하여 접하거나 교차하는 것 또는 혼합되는 것을 감소하거나 방지할 수 있다.The second reagent storage space 520 may be formed to accommodate a different kind of reagent from the first reagent. As an alternative embodiment, a separate passage part for inflow and discharge of gas may not be formed between the first reagent storage space 510 and the second reagent storage space 520. As a specific example, the first reagent storage space ( The gas generated from the reagent contained in the first reagent storage space 510 and the gas generated from the reagent contained in the second reagent storage space 520 are formed so that gas flow does not occur with each other. It can reduce or prevent from moving and touching, intersecting, or mixing with each other.

제2 시약 수납 공간(520)은 전술한 실시예들에서 설명한 바와 동일하거나 필요에 따라 변형 가능한 바 더 구체적인 설명은 생략한다.The second reagent storage space 520 is the same as described in the above-described embodiments or can be modified as necessary, and a more detailed description thereof will be omitted.

유로 영역부(570)는 제2 시약 수납 공간(520)의 적어도 일측에 배치되고 상기 제2 시약 수납 공간(520)과 기체 연결되도록 형성될 수 있다.The flow path region 570 may be disposed on at least one side of the second reagent storage space 520 and may be formed to be gas-connected to the second reagent storage space 520.

선택적 실시예로서 유로 영역부(570)는 배출 유로 영역(571), 유입 유로 영역(572) 및 연결 유로 영역(573)을 포함할 수 있다.As an alternative embodiment, the flow path region part 570 may include a discharge flow path region 571, an inflow flow path region 572, and a connection flow path region 573.

배출 유로 영역(571)은 제2 배출 영역(520A)을 통하여 제2 시약 수납 공간(520)과 연결될 수 있다.The discharge passage area 571 may be connected to the second reagent storage space 520 through the second discharge area 520A.

또한, 배출 유로 영역(571)은 배출구(550A)를 통하여 정화실(550)과 연결될 수 있다. In addition, the discharge passage region 571 may be connected to the purification chamber 550 through the discharge port 550A.

구체적 예로서 제2 시약 수납 공간(520)에 수납되어 있는 시약에 함유되거나 여기서 발생한 악취, 유해 가스 또는 유기 가스는 배출 방향(T1)으로 이동하여 제2 배출 영역(520A)을 통하여 배출 유로 영역(571)로 배출되고, 배출 유로 영역(571)에 배출된 악취, 유해 가스 또는 유기 가스는 배출 방향(T3)으로 이동하여 배출구(550A)를 통하여 정화실(150)로 배출될 수 있다.As a specific example, the odor, harmful gas, or organic gas contained in or generated from a reagent stored in the second reagent storage space 520 moves in the discharge direction T1 and passes through the second discharge area 520A. The odor, harmful gas, or organic gas discharged to the discharge passage 571 and discharged to the discharge passage region 571 may move in the discharge direction T3 and may be discharged to the purification chamber 150 through the discharge port 550A.

유입 유로 영역(572)은 제2 유입 영역(520B)을 통하여 제2 시약 수납 공간(520)과 연결될 수 있다.The inflow passage area 572 may be connected to the second reagent storage space 520 through the second inflow area 520B.

또한, 유입 유로 영역(572)은 유입구(550B)를 통하여 정화실(550)과 연결될 수 있다. In addition, the inflow passage region 572 may be connected to the purification chamber 550 through the inlet 550B.

구체적 예로서 제2 시약 수납 공간(520)에 수납되어 있는 시약에 함유되거나 여기서 발생한 악취, 유해 가스 또는 유기 가스는 제2 배출 영역(520A)을 통하여 배출 유로 영역(571)으로 배출되고, 배출 유로 영역(571)에 배출된 악취, 유해 가스 또는 유기 가스는 배출구(550A)를 통하여 정화실(550)로 배출된다. 또한, 정화실(550)로 배출된 악취, 유해 가스 또는 유기 가스는 정화실 내에서 정화 이동 방향(Tm)으로 이동하고 정화실(550)내에서 한 가지 이상의 방법으로 정화될 수 있다. As a specific example, odor, harmful gas or organic gas contained in or generated from a reagent stored in the second reagent storage space 520 is discharged to the discharge passage area 571 through the second discharge area 520A, and The odor, harmful gas, or organic gas discharged to the region 571 is discharged to the purification chamber 550 through the discharge port 550A. In addition, the odor, harmful gas, or organic gas discharged to the purification chamber 550 may move in the purification movement direction Tm within the purification chamber and may be purified in one or more ways in the purification chamber 550.

예를들면 정화실(550)내에서 대류를 통하여 정화될 수 있고, 선택적 실시예로서 필터부가 정화실(550)에 배치되어 한 가지 이상의 성분을 정화할 수 있다.For example, it may be purified through convection in the purification chamber 550, and as an alternative embodiment, a filter unit may be disposed in the purification chamber 550 to purify one or more components.

또한, 후술하는 것과 같이 이온 클러스터부(580)가 정화실(550)에 배치되어 정화를 진행할 수 있다.In addition, as will be described later, the ion cluster unit 580 may be disposed in the purification chamber 550 to perform purification.

정화실(550)내에는 기류 제어부(SFU)가 배치될 수 있다. 기류 제어부(SFU)를 통하여 정화실(550)내에서의 공기의 흐름이 배출구(550A)로부터 유입구(550B) 방향 및 제1 배출 영역(510A)으로부터 제1 유입 영역(510B)으로 원활하게 진행될 수 있다.An airflow control unit (SFU) may be disposed in the purification chamber 550. Through the airflow control unit (SFU), the flow of air in the purification chamber 550 can smoothly proceed from the outlet 550A to the inlet 550B and from the first discharge region 510A to the first inlet region 510B. have.

예를들면 기류 제어부(SFU)는 하나 이상의 팬 부재를 포함할 수 있다.For example, the airflow control unit SFU may include one or more fan members.

기류 제어부(SFU)는 전술한 실시예에서 설명한 바와 동일하거나 필요에 따라 변형 가능한 바 더 구체적인 설명은 생략한다.The airflow control unit SFU is the same as described in the above-described embodiment or can be modified as necessary, and a more detailed description thereof will be omitted.

정화된 기체는 유입 방향(Tm') 방향을 따라 유입구(550B)를 통하여 정화실(550)로부터 유입 유로 영역(572)으로 유입되고, 유입 방향(T4)을 따라 유입 유로 영역(572)으로부터 제2 시약 수납 공간(520)을 향하도록 이동할 수 있다.The purified gas flows from the purification chamber 550 to the inflow passage region 572 through the inlet 550B along the inflow direction Tm', and is removed from the inflow passage region 572 along the inflow direction T4. 2 It can be moved to face the reagent storage space 520.

이러한 유입 유로 영역(572)에서 유입 방향(T4)을 따라 이동한 정화된 기체는 제2 유입 영역(520B)을 통하여 다시 유입 방향(T2)을 따라 제2 시약 수납 공간(520)으로 유입될 수 있다.The purified gas that has moved along the inflow direction T4 in the inflow passage area 572 may be introduced into the second reagent storage space 520 again along the inflow direction T2 through the second inflow area 520B. have.

이를 통하여 제2 시약 수납 공간(520)에서의 악취, 유해 물질 또는 유해 가스 등이 용이하게 정화되어 제2 시약 수납 공간(520)에서의 불필요한 유해 물질 잔류를 감소할 수 있다.Through this, odors, harmful substances, or harmful gases in the second reagent storage space 520 can be easily purified, thereby reducing unnecessary toxic substances remaining in the second reagent storage space 520.

정화실(550)내에는 이온 클러스터부(580)가 배치될 수 있다. An ion cluster unit 580 may be disposed in the purification chamber 550.

이온 클러스터부(580)를 통하여 정화실(550)내에서 유해 기체 또는 유해 물질에 대한 정화를 진행할 수 있다.In the purification chamber 550 through the ion cluster unit 580, a noxious gas or a noxious substance may be purified.

예를들면 이온 클러스터부(580)는 전극부를 포함할 수 있고, 전극부에 고전압이 인가되어 공기 중 분자에서 전자를 박리 또는 결합하여 이온들을 발생시킬 수 있다. 구체적 예로서 이온 클러스터부(580)에 구비된 방전관에 교류 고전압을 인가하면 방전관의 유전체 표면에 강한 자기장이 형성되어 방전이 발생될 수 있다.For example, the ion cluster unit 580 may include an electrode unit, and a high voltage is applied to the electrode unit to separate or combine electrons from molecules in the air to generate ions. As a specific example, when an alternating current high voltage is applied to the discharge tube provided in the ion cluster unit 580, a strong magnetic field may be formed on the dielectric surface of the discharge tube to generate discharge.

이때 산소 분자 양이온과 음이온이 발생할 수 있고, 산소 음이온이 수증기와 반응하여 반응 활성종(수산화기 또는 과산화기)를 생성하며, 산소 음이온은 방전 시 부산물로 발생된 오존과 반응하여 반응활성종(수산화기)을 생성할 수 있다.At this time, oxygen molecule cations and anions may occur, and oxygen anions react with water vapor to generate reactive active species (hydroxyl or peroxidation group), and oxygen anions react with ozone generated as a by-product during discharge to react with reactive active species (hydroxyl). Can be created.

산소 음이온, 산소 양이온, 수산화기 또는 과산화기는 강한 친화력을 지니므로 집단의 형태로 뭉쳐 이온 클러스터를 형성할 수 있다.Oxygen anion, oxygen cation, hydroxyl group, or peroxidation group has a strong affinity, so it can form an ionic cluster by consolidating in the form of a group.

이를 통하여 예를들면 포름알데히드(CH2O)는 CH2O + O2 → CO2 + H2O의 반응을 갖게 되어 유해한 물질을 정화할 수 있다. Through this, for example, formaldehyde (CH2O) has a reaction of CH2O + O2 → CO2 + H2O, so that harmful substances can be purified.

구체적 예로서 제2 시약 수납 공간(520)에 수납된 다양한 유해한 물질로부터 발생한 기체를 정화할 수 있다.As a specific example, gas generated from various harmful substances stored in the second reagent storage space 520 may be purified.

또한 이온 클러스터부(580)를 통하여 발생한 산소 클러스터 이온은 세균 및 진균에 질소 공급을 차단하여 질식시키고 세포막의 수소를 분해 살균하여 인체에 무해한 단백질로 분해할 수 있다. 또한, 악취 성분에 대하여 산소 클러스터 이온이 융화되어 산화분해하여 무취 분자로 분해될 수 있다.In addition, oxygen cluster ions generated through the ion cluster unit 580 may cut off nitrogen supply to bacteria and fungi to suffocate, and decompose and sterilize hydrogen in cell membranes to decompose into proteins harmless to the human body. In addition, oxygen cluster ions are fused with respect to the odor component, and oxidatively decomposed to decompose into odorless molecules.

선택적 실시예로서 이온 클러스터부(580)는 기류 제어부(SFU)와 제1 유입 영역(410B)의 사이에 배치될 수 있다. 필터부(560)를 거친 후에 이온 클러스터부(580)를 통과하게 하여 제1 시약 수납 공간(510)에서 발생한 산 또는 염기성 기체의 정밀한 정화 특성 제어를 할 수 있다.As an alternative embodiment, the ion cluster unit 580 may be disposed between the airflow control unit SFU and the first inflow region 410B. After passing through the filter unit 560, the ion cluster unit 580 is passed, so that the acid or basic gas generated in the first reagent storage space 510 can be precisely controlled for purification characteristics.

또한, 필터부(560)를 통과하면서 정화된 산 또는 염기성 시약 성분의 기체의 잔류 성분들에 대하여 기류 제어부(SFU)를 통과한 후 이온 클러스터부(580)를 통한 추가적인 정화 공정이 진행될 수 있다. In addition, after passing through the air flow control unit SFU for residual components of the gas of the acid or basic reagent component purified while passing through the filter unit 560, an additional purification process may be performed through the ion cluster unit 580.

선택적 실시예로서 유입 유로 영역(572)은 제1 시약 수납 공간(510) 및 제2 시약 수납 공간(520)의 일측에 대응되도록 길게 연장된 형태를 가질 수 있고, 구체적 예로서 제1 시약 수납 공간(510) 및 제2 시약 수납 공간(520)을 사이에 두고 양측에 유입 유로 영역(572)과 배출 유로 영역(571)이 배치될 수 있다.As an optional embodiment, the inflow passage area 572 may have a shape extending in length to correspond to one side of the first reagent storage space 510 and the second reagent storage space 520, and as a specific example, the first reagent storage space An inflow passage region 572 and a discharge passage region 571 may be disposed on both sides with the 510 and the second reagent storage space 520 interposed therebetween.

또한, 유입 유로 영역(572)의 일 영역, 예를들면 일 단부의 영역은 정화실(550)과 연결되도록 형성될 수 있다.In addition, an area of the inflow passage area 572, for example, an area at one end may be formed to be connected to the purification chamber 550.

연결 유로 영역(573)은 배출 유로 영역(571)과 유입 유로 영역(572)의 사이에 배치될 수 있다.The connection passage region 573 may be disposed between the discharge passage region 571 and the inflow passage region 572.

선택적 실시예로서 연결 유로 영역(573)은 배출 유로 영역(571) 및 유입 유로 영역(572)과 기체 연결이 되도록 형성될 수 있다. 예를들면 배출 유로 영역(571), 연결 유로 영역(573) 및 유입 유로 영역(572)이 기체의 연속적 흐름이 진행되도록 형성될 수 있다.As an alternative embodiment, the connection flow path region 573 may be formed to be gas-connected with the discharge flow path region 571 and the inflow flow path region 572. For example, the discharge flow path region 571, the connection flow path region 573, and the inflow flow path region 572 may be formed so that a continuous flow of gas proceeds.

연결 유로 영역(573)에 대한 더 구체적 내용은 전술한 실시예에서 설명한 바와 동일하므로 기재의 편의를 위하여 생략한다.More detailed information about the connection flow path region 573 is the same as described in the above-described embodiment, and thus is omitted for convenience of description.

정화실(550)은 상기 제1 시약 수납 공간(510)의 일측에 배치될 수 있다. 예를들면 정화실(550)은 제1 시약 수납 공간(510)의 제1-1 시약 수납 영역(511)을 향하도록 배치될 수 있다.The purification chamber 550 may be disposed on one side of the first reagent storage space 510. For example, the purification chamber 550 may be disposed to face the 1-1th reagent storage area 511 of the first reagent storage space 510.

정화실(550)은 상기 제1 시약 수납 공간(510)의 제1-1 시약 수납 영역(511)과 기체 연결되도록 형성될 수 있다. 예를들면 정화실(550)은 제1 배출 영역(510A)을 통하여 제1 시약 수납 공간(510)의 제1-1 시약 수납 영역(511)과 기체 흐름이 가능하도록 연결되고, 정화실(550)은 제1 배출 영역(510A)과 상이한 영역에 배치된 제1 유입 영역(510B)을 통하여 제1 시약 수납 공간(510)의 제1-1 시약 수납 영역(511)과 기체 흐름이 가능하도록 연결될 수 있다.The purification chamber 550 may be formed to be gas-connected to the 1-1st reagent storage area 511 of the first reagent storage space 510. For example, the purification chamber 550 is connected to the 1-1 reagent storage area 511 of the first reagent storage space 510 through the first discharge area 510A to allow gas flow, and the purification chamber 550 ) Is connected to allow gas flow to the 1-1 reagent storage area 511 of the first reagent storage space 510 through the first inlet area 510B disposed in a different area from the first discharge area 510A. I can.

구체적 예로서 제1 시약 수납 공간(510)에 수납되어 있는 산 또는 염기성 시약에 함유되거나 여기서 발생한 기체는 배출 방향(C1)으로 이동하여 제1 배출 영역(510A)을 통하여 정화실(550)로 배출되고, 정화실(550)로 배출된 기체는 정화 이동 방향(Cm)으로 이동하고 정화실(550)내에서 한 가지 이상의 방법으로 정화될 수 있다. As a specific example, the gas contained in or generated from an acid or basic reagent stored in the first reagent storage space 510 moves in the discharge direction C1 and is discharged to the purification chamber 550 through the first discharge area 510A. Then, the gas discharged to the purification chamber 550 may move in the purification movement direction Cm and may be purified in one or more ways in the purification chamber 550.

예를들면 필터부(560)가 정화실(550)내에 배치될 수 있다. 예를들면 필터부(560)는 정화실(550)내에 제1 배출 영역(510A)과 제1 유입 영역(510B)의 사이에 배치될 수 있다.For example, the filter unit 560 may be disposed in the purification chamber 550. For example, the filter unit 560 may be disposed between the first discharge area 510A and the first inflow area 510B in the purification chamber 550.

선택적 실시예로서 필터부(560)는 제1 시약 수납 공간(510)에 수납된 시약으로부터 발생한 기체를 정화하는 필터를 포함할 수 있고, 예를들면 산성 정화 필터 또는 염기성 정화 필터를 포함할 수 있다.As an optional embodiment, the filter unit 560 may include a filter that purifies gas generated from a reagent stored in the first reagent storage space 510, for example, an acid purification filter or a basic purification filter. .

일 예로서 필터부(560)는 펠렛 형태의 복수의 필터 부재를 포함할 수 있고, 구체적 예로서 복수의 펠렛 형태 부재가 카트리지에 수용된 형태를 가질 수 있다.As an example, the filter unit 560 may include a plurality of filter members in the form of pellets, and as a specific example, the filter unit 560 may have a form in which a plurality of pellet form members are accommodated in a cartridge.

이를 통하여 정화실(550)의 내부 사이즈에 맞게 적절한 크기의 카트리지를 제작 후 카트리지 내에 펠렛을 충전할 수 있다. Through this, a cartridge having an appropriate size according to the internal size of the purification chamber 550 may be manufactured, and then pellets may be filled in the cartridge.

필터부(560)는 산성 정화 필터를 포함할 경우 다양한 방법으로 산성 기체를 정화할 수 있고, 예를들면 화학 반응을 이용한 필터를 포함할 수 있다. When the filter unit 560 includes an acid purification filter, it may purify acidic gas in various ways, and for example, may include a filter using a chemical reaction.

필터부(560)에 대한 내용은 전술한 실시예의 필터부(360)에서 설명한 바와 동일하거나 이를 유사하게 변형하여 적용할 수 있으므로 더 구체적 내용은 생략한다.Details of the filter unit 560 are the same as described in the filter unit 360 of the above-described embodiment, or may be modified and applied in a similar manner, so a more detailed description will be omitted.

필터부(560)를 거치면서 정화된 기체는 정화실(550)로부터 유입 방향(Cm')을 따라 제1 유입 영역(510B)으로 유입되고, 다시 유입 방향(C2)을 따라 제1 시약 수납 공간(510)으로 유입될 수 있다.The gas purified while passing through the filter unit 560 flows from the purification chamber 550 to the first inlet region 510B along the inlet direction Cm', and then flows into the first reagent storage space in the inlet direction C2. It can flow into 510.

한편, 제1-2 시약 수납 영역(512)는 배출 방향(C3)을 따라 트레이부(515)의 관통 영역(미도시)을 통하여 제1-1 시약 수납 영역(511)에 이동하고, 다시 배출 방향(C1)을 따라 정화실(550)로 이동할 수 있다. 또한, 정화된 기체는 트레이부(515)의 관통 영역(미도시)을 통하여 제1-1 시약 수납 영역(511)로부터 유입 방향(c4)을 따라 제1-2 시약 수납 영역(512)로 이동할 수 있다.Meanwhile, the 1-2 reagent storage area 512 moves to the 1-1 reagent storage area 511 through the through area (not shown) of the tray part 515 along the discharge direction C3, and then discharges again. It may move to the purification chamber 550 along the direction C1. In addition, the purified gas moves from the 1-1 reagent storage area 511 to the 1-2 reagent storage area 512 along the inflow direction c4 through the through area (not shown) of the tray part 515. I can.

이를 통하여 제1-1 시약 수납 영역(511) 및 이와 인접한 제1-2 시약 수납 영역(512) 내에서의 기체의 순환이 되고 정화실(550)을 통한 정화가 용이하게 수행될 수 있다.Through this, gas is circulated in the 1-1st reagent storage area 511 and the 1-2th reagent storage area 512 adjacent thereto, and purification through the purification chamber 550 can be easily performed.

또한 정화실(550)은 유로 영역부(570)의 일 영역 및 이와 상이한 다른 일 영역과 연결되도록 형성될 수 있다.In addition, the purification chamber 550 may be formed to be connected to one region of the flow path region part 570 and another region different therefrom.

예를들면 정화실(550)은 유로 영역부(570)를 통하여 제2 시약 수납 공간(520)과 기체 연결되도록 형성될 수 있다. For example, the purification chamber 550 may be formed to be gas-connected to the second reagent storage space 520 through the flow path region 570.

구체적 예로서 정화실(550)은 배출구(550A)를 통하여 유로 영역부(570)의 배출 유로 영역(571)과 연결되고, 배출 유로 영역(571)은 제2 배출 영역(520A)을 통하여 제2 시약 수납 공간(520)과 연결될 수 있다.As a specific example, the purification chamber 550 is connected to the discharge passage region 571 of the passage region part 570 through the discharge port 550A, and the discharge passage region 571 is a second discharge region 520A through the second discharge region 520A. It may be connected to the reagent storage space 520.

이를 통하여 제2 시약 수납 공간(520)에서 발생한 악취 등의 기체는 배출 유로 영역(571)을 통하여 정화실(550)로 배출될 수 있다.Through this, gas such as odor generated in the second reagent storage space 520 may be discharged to the purification chamber 550 through the discharge passage region 571.

선택적 실시예로서 배출구(550A)는 제1 배출 영역(510A)과 상이한 영역 또는 서로 이격된 위치에 배치될 수 있다. 이를 통하여 제1 시약 수납 공간(510)의 제1-1 시약 수납 영역(511) 및 제1-2 시약 수납 영역(512)에서 발생한 기체 및 제2 시약 수납 공간(520)에서 발생한 서로 상이한 종류의 기체의 불필요한 접촉 경로 및 혼합 경로를 감소할 수 있고, 정화실(550)에서의 정화 효율 및 잔류 가스 감소 효과를 향상할 수 있다.As an alternative embodiment, the discharge port 550A may be disposed in a different region from the first discharge region 510A or at a position spaced apart from each other. Through this, gas generated in the 1-1 reagent storage area 511 and the 1-2 reagent storage area 512 of the first reagent storage space 510 and different types of gases generated in the second reagent storage space 520 It is possible to reduce unnecessary contact paths and mixing paths of gas, and improve purification efficiency and residual gas reduction effect in the purification chamber 550.

또한, 정화실(550)은 유입구(550B)를 통하여 유로 영역부(570)의 유입 유로 영역(572)과 연결되고, 유입 유로 영역(572)은 제2 유입 영역(520B)을 통하여 제2 시약 수납 공간(520)과 연결될 수 있다.In addition, the purification chamber 550 is connected to the inflow passage region 572 of the passage region portion 570 through the inlet port 550B, and the inflow passage region 572 is a second reagent through the second inflow region 520B. It may be connected to the storage space 520.

이를 통하여 제2 시약 수납 공간(520)에서 발생한 악취 등의 기체가 정화실(550)로 배출된 후에 정화 이동 방향(Tm)으로 이동후, 정화될 수 있고, 예를들면 이온 클러스터부(580)를 통하여 인체 무해한 성분으로 정화될 수 있다. 그리고 이러한 정화된 성분은 유입 방향(Tm')을 따라 유입구(550B)로 유입되고, 유입 방향(T4)을 따라 유입 유로 영역(572)에서 제2 시약 수납 공간(520)을 향하여 이동하고, 제2 유입 영역(520B)을 통하여 제2 시약 수납 공간(520)에 유입 방향(T2)을 따라 유입될 수 있다.Through this, gas such as odor generated in the second reagent storage space 520 may be discharged to the purification chamber 550 and then may be purified after moving in the purification movement direction Tm. For example, the ion cluster unit 580 may be It can be purified with ingredients that are harmless to the human body. In addition, the purified components are introduced into the inlet 550B along the inflow direction Tm', and move from the inflow passage region 572 toward the second reagent storage space 520 along the inflow direction T4. 2 It may flow into the second reagent storage space 520 along the inflow direction T2 through the inflow region 520B.

선택적 실시예로서 본 실시예의 기체 순환 기반 정화형 시약 수납장(500)의 내부, 예를들면 제1 시약 수납 공간(510)의 내측면의 적어도 일 영역 또는 제2 시약 수납 공간(520)의 내측면의 적어도 일 영역은 페놀라미네이트를 포함할 수 있고, 이를 통하여 유해한 가스, 산 또는 염기에 강한 내구성을 가질 수 있다. As an optional embodiment, the interior of the gas circulation-based purification type reagent storage cabinet 500 of the present embodiment, for example, at least one area of the inner surface of the first reagent storage space 510 or the inner surface of the second reagent storage space 520 At least one region of the may include a phenol laminate, through which it may have strong durability against harmful gases, acids, or bases.

또한, 선택적 실시예로서 본 실시예의 기체 순환 기반 정화형 시약 수납장(500)의 내부는 분체 도장을 적용하여 형성될 수 있고, 예를들면 제1 시약 수납 공간(510)의 내측면의 적어도 일 영역, 제2 시약 수납 공간(520)의 내측면의 적어도 일 영역 또는 구획 지지부(530)의 적어도 일 영역은 분체 도장을 이용하여 형성될 수 있고, 이를 통하여 파손에 대한 저항 특성을 향상할 수 있다.In addition, as an optional embodiment, the interior of the gas circulation-based purification reagent storage cabinet 500 of the present embodiment may be formed by applying powder coating, for example, at least one area of the inner surface of the first reagent storage space 510 , At least one region of the inner surface of the second reagent storage space 520 or at least one region of the partition support 530 may be formed using powder coating, thereby improving resistance to damage.

또한, 정화실에 배치된 기류 제어부, 예를들면 팬 부재는 정화실에서의 기체의 흐름을 원활하게 할 수 있고, 이에 따라 정화실로의 유입 및 정화실에서의 배출이 용이하게 진행되어 제1 시약 수납 공간 및 제2 시약 수납 공간에서의 정화 특성을 향상할 수 있다.In addition, the airflow control unit disposed in the purification chamber, for example, a fan member, can smooth the flow of gas in the purification chamber, and accordingly, the inflow into the purification chamber and discharge from the purification chamber are facilitated, and thus the first reagent Purification characteristics in the storage space and the second reagent storage space can be improved.

또한 정화실에 배치된 이온 클러스터부는 제2 시약 수납 공간에 수납된 유해 물질 또는 유해 가스 성분을 용이하게 정화, 예를들면 인체 무해 성분으로 용이하게 변화시킬 수 있다.In addition, the ion cluster unit disposed in the purification chamber can easily purify a toxic substance or a toxic gas component stored in the second reagent storage space, for example, easily change it into a component that is harmless to the human body.

또한, 제2 시약 수납 공간에 수납된 유해 성분 또는 유해 물질의 성분들이 필터부 및 기류 제어부를 거치면서 일부 유해성이 감소된 상태에서 이온 클러스터에 대응되도록 하여 이온 클러스터의 오염을 감소할 수 있고, 이온 클러스터를 통한 정화 효과를 증대할 수 있다.In addition, harmful components or components of harmful substances stored in the second reagent storage space pass through the filter unit and the airflow control unit to correspond to the ion cluster in a state in which some harmfulness is reduced, so that contamination of the ion cluster can be reduced. It is possible to increase the purification effect through clusters.

또한, 이러한 이온 클러스터가 유입구에 인접하도록 형성되어 정화된 성분들이 추가적인 오염이나 변성을 감소한 채 유입 유로 영역 및 제2 시약 수납 공간으로 유입될 수 있다.In addition, since such ion clusters are formed adjacent to the inlet, the purified components may be introduced into the inflow passage area and the second reagent storage space while reducing additional contamination or denaturation.

본 실시예의 기체 순환 기반 정화형 시약 수납장은 제1 시약 수납 공간 및 제2 시약 수납 공간으로부터 정화실로의 기체 배출을 독립적으로 수행할 수 있어서 각각의 상호 작용으로 인한 유해 가스 증폭을 감소하고 정화실의 정화 특성을 향상할 수 있다. 또한, 제1 시약 수납 공간으로부터 정화실의 배출 및 유입 경로와 제2 시약 수납 공간으로부터 정화실로의 배출 및 유입 경로의 길이차가 발생하도록 하여 정화실에서의 서로 상이한 기체가 불필요하게 오랫동안 함께 중첩 및 접촉되어 상호 작용하는 것을 감소할 수 있다.The gas circulation-based purification reagent storage cabinet of the present embodiment can independently perform gas discharge from the first reagent storage space and the second reagent storage space to the purification chamber, thereby reducing amplification of harmful gases due to each interaction and It can improve the purification properties. In addition, the length difference between the discharge and inflow paths of the purification chamber from the first reagent storage space and the discharge and inflow paths from the second reagent storage space to the purification chamber occurs, so that different gases in the purification chamber unnecessarily overlap and contact with each other for a long time. Can reduce the interaction.

도 7은 본 발명의 또 다른 실시예에 관한 기체 순환 기반 정화형 시약 수납장을 개략적으로 도시한 정면도이고, 도 8은 도 7의 변형예를 도시한 도면이다.7 is a front view schematically showing a gas circulation-based purification reagent storage cabinet according to another embodiment of the present invention, and FIG. 8 is a view showing a modified example of FIG. 7.

도 7을 참조하면 본 실시예의 기체 순환 기반 정화형 시약 수납장(600)은 제1 시약 수납 공간(610), 제2 시약 수납 공간(620), 유로 영역부(670) 및 정화실(650)을 포함할 수 있다. 설명의 편의를 위하여 전술한 실시예와 상이한 점을 중심으로 설명하기로 한다.Referring to FIG. 7, the gas circulation-based purification reagent storage cabinet 600 of the present embodiment includes a first reagent storage space 610, a second reagent storage space 620, a flow path area part 670, and a purification chamber 650. Can include. For convenience of explanation, the description will focus on differences from the above-described embodiment.

도 7을 참조하면, 도어부(690)가 배치되어 있고, 도어부(690)는 제1 시약 수납 공간(610), 제2 시약 수납 공간(620) 및 유로 영역부(670)의 일 영역을 덮는 형태로 형성되어 있다. Referring to FIG. 7, a door portion 690 is disposed, and the door portion 690 defines a region of the first reagent storage space 610, the second reagent storage space 620, and the flow path region 670. It is formed in a covering shape.

선택적 실시예로서 도어부(690)는 손잡이부(691)를 구비할 수 있다.As an alternative embodiment, the door portion 690 may include a handle portion 691.

또한, 추가적인 예로서 도어부(690)는 전면에 투과창(690H)을 포함할 수 있고, In addition, as an additional example, the door portion 690 may include a transmission window 690H on the front side,

추가적인 예로서 조작 영역(607)이 정화실(650)의 일측에 배치될 수 있고, 예를들면 사용자 기준으로 기체 순환 기반 정화형 시약 수납장(600)의 정면 상단에 배치될 수 있다.As an additional example, the operation area 607 may be disposed on one side of the purification chamber 650, for example, may be disposed on the front top of the gas circulation-based purification reagent storage cabinet 600 based on a user.

조작 영역(607)은 전원 개시 또는 정지를 제어하는 전원 제어부(601)를 포함할 수 있고, 온도 또는 습도를 제어하는 환경 조절부(602)를 포함할 수 있다.The operation area 607 may include a power control unit 601 that controls power start or stop, and may include an environment control unit 602 that controls temperature or humidity.

또한 조작 영역(607)은 타이머(603)를 포함할 수 있다.In addition, the manipulation area 607 may include a timer 603.

선택적 실시예로서 보안 장치(608)를 포함하고, 예를들면 시건 장치를 포함할 수 있다.An optional embodiment may include a security device 608, for example a locking device.

도 7에는 제1 시약 수납 공간(610)의 제1-1 시약 수납 영역(611), 제1-2 시약 수납 영역(612) 및 제2 시약 수납 공간(620)에 대응되도록 도어부(690)가 형성된 것이 도시되어 있다.In FIG. 7, a door part 690 corresponding to the 1-1 reagent storage area 611, the 1-2 reagent storage area 612 and the second reagent storage space 620 of the first reagent storage space 610. It is shown that is formed.

본 실시예는 이에 한정되지 않고 도어부(690)는 다양한 형태를 가질 수 있다.The present embodiment is not limited thereto, and the door part 690 may have various shapes.

예를들면 도 8에 도시한 것과 같이 도어부는 복수 개로 구별될 수 있는데, 구체적 예로서 제1-1 시약 수납 영역(611)에 대응된 제1 도어부(690A), 제1-2 시약 수납 영역(612)에 대응된 제2 도어부(690B) 및 제2 시약 수납 공간(620)에 대응된 제3 도어부(690C)를 포함할 수 있다.For example, as shown in FIG. 8, the door portion may be divided into a plurality. As a specific example, the first door portion 690A corresponding to the 1-1 reagent storage area 611 and the 1-2 reagent storage area A second door part 690B corresponding to 612 and a third door part 690C corresponding to the second reagent storage space 620 may be included.

제1 도어부(690A)는 제1 손잡이부(691A)를 포함할 수 있고, 제1 투과창(690H1)을 포함할 수 있다.The first door portion 690A may include a first handle portion 691A, and may include a first transmission window 690H1.

제2 도어부(690B)는 제2 손잡이부(691B)를 포함할 수 있고, 제2 투과창(690H2)을 포함할 수 있다.The second door portion 690B may include a second handle portion 691B, and may include a second transmission window 690H2.

제3 도어부(690C)는 제3 손잡이부(691C)를 포함할 수 있고, 제3 투과창(690H3)을 포함할 수 있다.The third door portion 690C may include a third handle portion 691C, and may include a third transmission window 690H3.

도시하지 않았으나 도 7 및 도 8의 도어부(690) 또는 조작 영역(607)은 전술한 실시예들에도 선택적으로 적용될 수 있다.Although not shown, the door portion 690 or the manipulation area 607 of FIGS. 7 and 8 may be selectively applied to the above-described embodiments.

제1 시약 수납 공간(610)은 적어도 일 종류의 시약을 수용하도록 형성될 수 있다. The first reagent storage space 610 may be formed to accommodate at least one kind of reagent.

예를들면 제1 시약 수납 공간(610)은 제1-1 시약 수납 영역(611) 및 제1-2 시약 수납 영역(612)을 포함할 수 있다. 제1-1 시약 수납 영역(611) 및 제1-2 시약 수납 영역(612)은 전술한 실시예들에서 설명한 바와 동일하거나 필요에 따라 변형 가능한 바 더 구체적인 설명은 생략한다.For example, the first reagent storage space 610 may include a 1-1th reagent storage area 611 and a 1-2th reagent storage area 612. The 1-1st reagent storage area 611 and the 1-2nd reagent storage area 612 are the same as those described in the above-described embodiments or can be modified as necessary, and a more detailed description thereof will be omitted.

선택적 실시예로서 제1 시약 수납 공간(610)의 바닥 영역, 예를들면 제1 시약 수납 공간(610)과 제2 시약 수납 공간(620)의 사이에는 구획 지지부(630)가 배치될 수 있다.As an alternative embodiment, the partition support 630 may be disposed between the bottom area of the first reagent storage space 610, for example, between the first reagent storage space 610 and the second reagent storage space 620.

제2 시약 수납 공간(620)은 상기 제1 시약과 상이한 종류의 시약을 수용하도록 형성될 수 있다. The second reagent storage space 620 may be formed to accommodate a different kind of reagent from the first reagent.

제2 시약 수납 공간(620)은 전술한 실시예들에서 설명한 바와 동일하거나 필요에 따라 변형 가능한 바 더 구체적인 설명은 생략한다.The second reagent storage space 620 is the same as described in the above-described embodiments or can be modified as necessary, and a more detailed description thereof will be omitted.

유로 영역부(670)는 제2 시약 수납 공간(620)의 적어도 일측에 배치되고 상기 제2 시약 수납 공간(620)과 기체 연결되도록 형성될 수 있다.The flow path region 670 may be disposed on at least one side of the second reagent storage space 620 and may be formed to be gas-connected to the second reagent storage space 620.

선택적 실시예로서 유로 영역부(670)는 배출 유로 영역(671), 유입 유로 영역(672) 및 연결 유로 영역(673)을 포함할 수 있다.As an alternative embodiment, the flow path region part 670 may include a discharge flow path region 671, an inflow flow path region 672, and a connection flow path region 673.

유로 영역부(670)은 전술한 실시예들에서 설명한 바와 동일하거나 필요에 따라 변형 가능한 바 더 구체적인 설명은 생략한다.The flow path area unit 670 is the same as described in the above-described embodiments or can be modified as necessary, and a more detailed description thereof will be omitted.

도 9는 도 7의 기체 순환 기반 정화형 시약 수납장의 정화실을 설명하기 위한 개략적인 도면이고, 도 10은 도 7의 P 방향에서 본 개략적인 투시 평면도이다.9 is a schematic diagram illustrating a purification chamber of the gas circulation-based purification reagent storage cabinet of FIG. 7, and FIG. 10 is a schematic perspective plan view as viewed from a direction P of FIG. 7.

설명의 편의를 위하여 정화실(650)의 내부를 개략적으로 도시하였다. For convenience of explanation, the interior of the purification chamber 650 is schematically illustrated.

정화실(650)과 제1 시약 수납 공간(610)의 제1-1 시약 수납 영역(611)은 제1 배출 영역(610A)을 통하여 연결될 수 있고, 정화실(650)과 배출 유로 영역(671)은 배출구(650A)을 통하여 연결될 수 있다. The purification chamber 650 and the 1-1 reagent storage area 611 of the first reagent storage space 610 may be connected through the first discharge area 610A, and the purification chamber 650 and the discharge flow path area 671 ) May be connected through the outlet 650A.

제1 배출 영역(610A)과 배출구(650A)는 상이한 영역에 서로 이격되도록 배치될 수 있고, 예를들면 서로 상이한 방향을 향하도록 배치될 수 있다.The first discharge area 610A and the discharge port 650A may be disposed to be spaced apart from each other in different areas, for example, may be disposed to face different directions from each other.

선택적 실시예로서 제1 배출 영역(610A)은 정화실(650)의 하면에 배치되고, 배출구(650A)는 정화실(650)의 측면에 배치될 수 있다. 이러한 구조를 통하여 제1 시약 수납 공간(610)으로부터 배출되는 기체 및 이와 상이한 제2 시약 수납 공간(620)으로부터 배출되는 기체가 정화실(650)로 서로 이격된 곳에서 서로 상이한 방향으로 배출되어 불필요한 반응을 감소할 수 있고, 제1 시약 수납 공간(610)으로부터 배출되는 기체가 제2 시약 수납 공간(620) 방향으로 유입 또는 그 반대로의 유입을 제한할 수 있다.As an alternative embodiment, the first discharge area 610A may be disposed on a lower surface of the purification chamber 650, and the discharge port 650A may be disposed on a side surface of the purification chamber 650. Through this structure, the gas discharged from the first reagent storage space 610 and the gas discharged from the second reagent storage space 620 different therefrom are discharged to the purification chamber 650 in different directions from each other. The reaction may be reduced, and gas discharged from the first reagent storage space 610 may be limited inflow toward the second reagent storage space 620 or vice versa.

정화실(650)내에는 필터부(660)가 배치될 수 있다.A filter unit 660 may be disposed in the purification chamber 650.

필터부(660)는 제1 필터부(661), 제2 필터부(662) 및 제3 필터부(663)를 포함할 수 있다.The filter unit 660 may include a first filter unit 661, a second filter unit 662, and a third filter unit 663.

제1 필터부(661), 제2 필터부(662) 및 제3 필터부(663)는 서로 중첩되도록 정화실(650)의 바닥으로부터 상면을 향하도록 배치될 수 있다.The first filter unit 661, the second filter unit 662, and the third filter unit 663 may be disposed to face the upper surface from the bottom of the purification chamber 650 so as to overlap each other.

제1 필터부(661), 제2 필터부(662) 및 제3 필터부(663)는 산성 정화 필터 또는 염기성 정화 필터를 포함할 수 있다. 예를들면 전술한 실시예에서 설명한 필터부의 내용을 포함할 수 있다. 구체적 예로서 제1 필터부(661), 제2 필터부(662) 및 제3 필터부(663)의 각각은 펠렛 형태 부재들이 카트리지에 수용된 형태를 가질 수 있고, 전술한 것과 같은 화학 반응을 통한 산성 또는 염기성 정화를 진행할 수 있다.The first filter unit 661, the second filter unit 662, and the third filter unit 663 may include an acid purification filter or a basic purification filter. For example, the content of the filter unit described in the above-described embodiment may be included. As a specific example, each of the first filter unit 661, the second filter unit 662 and the third filter unit 663 may have a form in which pellet-shaped members are accommodated in a cartridge, and through a chemical reaction as described above. Acidic or basic purification can be performed.

또한, 제1 필터부(661) 및 제3 필터부(663)는 산성 정화 필터를 포함하고, 그 사이의 제2 필터부(662)는 염기성 정화 필터를 포함할 수 있다. 서로 이격된 제1 필터부(661) 및 제3 필터부(663)가 서로 동일한 계열의 정화 필터를 사용하고, 그 사이에 이와 상이한 계열의 제2 필터부(662)를 사용하여 산성 계열 기체 및 염기성 계열 기체의 각각의 정화를 효율적으로 진행할 수 있다.In addition, the first filter unit 661 and the third filter unit 663 may include an acid purification filter, and the second filter unit 662 therebetween may include a basic purification filter. The first filter unit 661 and the third filter unit 663 spaced apart from each other use the same series of purification filters, and in the meantime, a second filter unit 662 of a different series is used to provide an acidic gas and Each purification of the basic gas can be efficiently performed.

도 11은 도 7의 기체 순환 기반 정화형 시약 수납장의 필터부의 선택적 실시예를 도시한 도면이고, 도 12 및 도 13은 도 11의 변형예를 도시한 도면이다. FIG. 11 is a view showing an alternative embodiment of a filter unit of the gas circulation-based purification reagent storage cabinet of FIG. 7, and FIGS. 12 and 13 are views showing a modified example of FIG. 11.

도 11을 참조하면 필터부(660')는 서로 구별되고 정화실의 폭 방향으로 길이를 갖는 제1 필터부(661'), 제2 필터부(662') 및 제3 필터부(663')를 포함할 수 있고, 각각은 서로 정화실의 높이 방향을 기준으로 중첩되도록 적층된 형태를 가질 수 있다. 이러한 형태를 통하여 산성 기체(AC) 또는 염기성 기체(BS)가 필터부(660')를 거치면서 수화물(HW)로 변환될 수 있다. 구체적으로 전술한 실시예에서 설명한 것과 같이 화학 반응을 이용하여 산성 또는 염기성 기체를 수화물로 변환할 수 있다.Referring to FIG. 11, the filter unit 660' is a first filter unit 661', a second filter unit 662', and a third filter unit 663' that are distinguished from each other and have a length in the width direction of the purification chamber. It may include, and each may have a form stacked so as to overlap with each other based on the height direction of the purification chamber. Through this form, the acidic gas (AC) or the basic gas (BS) may be converted into a hydrate (HW) while passing through the filter unit 660'. Specifically, as described in the above-described embodiment, an acidic or basic gas may be converted into a hydrate using a chemical reaction.

또한, 산성 정화 계열의 제1 필터부(661') 및 제3 필터부(663')를 구별하여 배치하고, 그 사이에 염기성 정화 계열의 제2 필터부(662')를 배치하여, 서로 상이한 영역에서 각각 산성 또는 염기성 물질의 정화가 일어나도록 하여 정화 특성을 향상하고 불필요한 반응을 감소하거나 억제하여 원하지 않는 부산물 발생을 제어할 수 있다.In addition, the acid purification series first filter unit 661 ′ and the third filter unit 663 ′ are distinguished and disposed, and a basic purification series second filter unit 662 ′ is disposed therebetween, so that they are different from each other. Purification of acidic or basic substances occurs in the region, respectively, to improve purification characteristics and reduce or suppress unnecessary reactions, thereby controlling the generation of unwanted by-products.

또한, 필요에 따라 선택적 실시예로서 염기성 정화 계열의 제1 필터부(661') 및 제3 필터부(663')를 구별하여 배치하고, 그 사이에 산성 정화 계열의 제2 필터부(662')를 배치하거나, 각각의 개수를 시약 상황에 따라 제어하여 정화 특성을 정밀하게 제어할 수 있다.In addition, as an optional embodiment, if necessary, the first filter unit 661 ′ and the third filter unit 663 ′ of the basic purification series are separately disposed, and the second filter unit 662 ′ of the acidic purification series is disposed therebetween. ), or by controlling the number of each according to the reagent situation, it is possible to precisely control the purification characteristics.

도 12 및 도 13은 도 11의 변형예를 도시한 도면이다. 12 and 13 are views showing a modified example of FIG. 11.

도 12를 참조하면 필터부(660")는 서로 구별되고 정화실의 높이 방향으로 길이를 갖는 제1 필터부(661"), 제2 필터부(662") 및 제3 필터부(663")를 포함할 수 있고, 각각은 정화실의 폭 방향을 기준으로 중첩되도록 정화실의 폭 방향을 따라 배열된 형태를 가질 수 있다. Referring to FIG. 12, the filter unit 660 ″ is a first filter unit 661 ″, a second filter unit 662 ″ and a third filter unit 663 ″ which are distinguished from each other and have a length in the height direction of the purification chamber. May include, and each may have a shape arranged along the width direction of the purification chamber so as to overlap with respect to the width direction of the purification chamber.

또한 도 13을 참조하면 필터부(760)는 제1 필터부(761), 제2 필터부(762), 제3 필터부(763), 제4 필터부(764), 제5 필터부(765), 제6 필터부(766), 제7 필터부(767), 제8 필터부(768) 및 제9 필터부(769)를 포함할 수 있고, 각각의 필터부들은 정화실의 폭 방향 및 높이 방향을 따라 배열될 수 있다.In addition, referring to FIG. 13, the filter unit 760 includes a first filter unit 761, a second filter unit 762, a third filter unit 763, a fourth filter unit 764, and a fifth filter unit 765. ), a sixth filter unit 766, a seventh filter unit 767, an eighth filter unit 768, and a ninth filter unit 769, and each of the filter units is in the width direction of the purification chamber and It can be arranged along the height direction.

이러한 필터부(660, 660', 660", 760)에 인접하도록 도 9 및 도 10에 도시한 것과 같이 기류 제어부(SFU)가 배치될 수 있고, 기류 제어부(SFU)는 팬 부재를 포함하여 기체의 흐름을 원활하게 하고, 필터부에서의 정화 효율을 향상할 수 있다.An airflow control unit (SFU) may be disposed as shown in Figs. 9 and 10 to be adjacent to the filter units 660, 660', 660", and 760, and the airflow control unit SFU includes a fan member. The flow of water can be smoothed, and the purification efficiency in the filter unit can be improved.

정화실(550)내에는 이온 클러스터부(680)가 배치될 수 있다. 이온 클러스터부(680)를 통하여 정화실(650)내에서 유해 기체 또는 유해 물질에 대한 정화를 진행할 수 있고, 이온 클러스터부(680)는 전술한 실시예에서 설명한 바와 동일한 바 구체적인 내용은 생략한다.An ion cluster unit 680 may be disposed in the purification chamber 550. The ion cluster unit 680 may purify the noxious gas or harmful substances in the purification chamber 650, and the ion cluster unit 680 is the same as described in the above-described embodiment, and thus detailed information will be omitted.

정화실(650)과 제1 시약 수납 공간(610)의 제1-1 시약 수납 영역(611)은 제1 유입 영역(610B)을 통하여 연결될 수 있고, 정화실(650)과 유입 유로 영역(672)은 유입구(650B)을 통하여 연결될 수 있다. The purification chamber 650 and the 1-1 reagent storage area 611 of the first reagent storage space 610 may be connected through the first inflow area 610B, and the purification chamber 650 and the inflow passage area 672 ) May be connected through the inlet 650B.

제1 유입 영역(610B)과 유입구(650B)는 상이한 영역에 서로 이격되도록 배치될 수 있고, 예를들면 서로 상이한 방향을 향하도록 배치될 수 있다.The first inlet region 610B and the inlet port 650B may be disposed to be spaced apart from each other in different regions, for example, may be disposed to face different directions from each other.

선택적 실시예로서 제1 유입 영역(610B)은 정화실(650)의 하면에 배치되고, 유입구(650B)는 정화실(650)의 측면에 배치될 수 있다. 이러한 구조를 통하여 정화실(650)로부터 제1 시약 수납 공간(610)으로 유입되는 기체 및 이와 상이한 제2 시약 수납 공간(620)으로 유입되는 기체의 흐름이 서로 이격된 곳에서 서로 상이한 방향으로 진행되어 상호간의 불필요한 반응을 감소할 수 있다.As an alternative embodiment, the first inlet region 610B may be disposed on a lower surface of the purification chamber 650, and the inlet port 650B may be disposed on a side surface of the purification chamber 650. Through this structure, the flow of gas flowing into the first reagent storage space 610 from the purification chamber 650 and the gas flowing into the second reagent storage space 620 different from the flow proceeds in different directions from a spaced apart from each other. This can reduce unnecessary reactions to each other.

선택적 실시예로서 본 실시예의 기체 순환 기반 정화형 시약 수납장(600)의 내부, 예를들면 제1 시약 수납 공간(610)의 내측면의 적어도 일 영역 또는 제2 시약 수납 공간(620)의 내측면의 적어도 일 영역은 페놀라미네이트를 포함할 수 있고, 이를 통하여 유해한 가스, 산 또는 염기에 강한 내구성을 가질 수 있다. As an optional embodiment, the interior of the gas circulation-based purification type reagent storage cabinet 600 of the present embodiment, for example, at least one area of the inner surface of the first reagent storage space 610 or the inner surface of the second reagent storage space 620 At least one region of the may include a phenol laminate, through which it may have strong durability against harmful gases, acids, or bases.

또한, 선택적 실시예로서 본 실시예의 기체 순환 기반 정화형 시약 수납장(600)의 내부는 분체 도장을 적용하여 형성될 수 있고, 예를들면 제1 시약 수납 공간(610)의 내측면의 적어도 일 영역, 제2 시약 수납 공간(620)의 내측면의 적어도 일 영역 또는 구획 지지부(630)의 적어도 일 영역은 분체 도장을 이용하여 형성될 수 있고, 이를 통하여 파손에 대한 저항 특성을 향상할 수 있다.In addition, as an optional embodiment, the interior of the gas circulation-based purification reagent storage cabinet 600 of the present embodiment may be formed by applying powder coating, for example, at least one area of the inner surface of the first reagent storage space 610 , At least one region of the inner surface of the second reagent storage space 620 or at least one region of the partition support 630 may be formed using powder coating, thereby improving resistance to damage.

필터부는 정화실에 배치되고, 필터부는 산성 정화 필터 및 염기성 정화 필터가 서로 구별된 형태를 가질 수 있고, 예를들면 일 방향으로 이격된 복수의 산성 정화 필터의 사이에 염기성 정화 필터를 배치하여 산성 시약 성분에서 발생한 기체와 염기성 시약 성분에서 발생한 기체의 각각의 정화 면적을 증가할 수 있고, 정화 효율을 향상할 수 있다.The filter unit is disposed in the purification chamber, and the filter unit may have a distinct shape between the acid purification filter and the basic purification filter. For example, a basic purification filter is disposed between a plurality of acid purification filters spaced apart in one direction. The purification area of each of the gas generated from the reagent component and the gas generated from the basic reagent component can be increased, and the purification efficiency can be improved.

또한, 각각의 필터부는 카트리지에 수용된 펠렛 부재를 포함하여 화학 반응을 통한 정화를 진행하여 정화 효율을 향상할 수 있고, 필터부의 교체 또는 수리를 용이하게 할 수 있다. In addition, each filter unit may include a pellet member accommodated in the cartridge to perform purification through a chemical reaction to improve purification efficiency and facilitate replacement or repair of the filter unit.

또한, 정화실에 배치된 기류 제어부를 통하여 정화실 내의 전체적인 정화 효율을 향상하고 정화실 내의 오염을 감소하고, 기체 성분이 필터부를 지난 후에 기류 제어부를 향하므로 필터부에서의 정화 효과를 향상하고 기류 제어부의 오염을 감소할 수 있다.In addition, through the airflow control unit disposed in the purification chamber, the overall purification efficiency in the purification chamber is improved, pollution in the purification chamber is reduced, and the gas component is directed to the airflow controller after passing through the filter unit, thus improving the purification effect in the filter unit and airflow. Contamination of the control unit can be reduced.

결과적으로 서로 상이한 성분의 시약을 안전하게 수납 및 보호할 수 있는 기체 순환 기반 정화형 시약 수납장을 구현할 수 있다.As a result, it is possible to implement a gas circulation-based purification reagent storage cabinet that can safely store and protect reagents of different components.

이와 같이 본 발명은 도면에 도시된 실시예를 참고로 설명되었으나 이는 예시적인 것에 불과하며, 당해 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 이로부터 다양한 변형 및 균등한 다른 실시예가 가능하다는 점을 이해할 것이다. 따라서, 본 발명의 진정한 기술적 보호 범위는 첨부된 특허청구범위의 기술적 사상에 의하여 정해져야 할 것이다.As described above, the present invention has been described with reference to the embodiments shown in the drawings, but these are only exemplary, and those of ordinary skill in the art will appreciate that various modifications and equivalent other embodiments are possible therefrom. . Therefore, the true technical protection scope of the present invention should be determined by the technical spirit of the appended claims.

실시예에서 설명하는 특정 실행들은 일 실시예들로서, 어떠한 방법으로도 실시 예의 범위를 한정하는 것은 아니다. 또한, "필수적인", "중요하게" 등과 같이 구체적인 언급이 없다면 본 발명의 적용을 위하여 반드시 필요한 구성 요소가 아닐 수 있다.Specific implementations described in the embodiments are examples, and do not limit the scope of the embodiments in any way. In addition, if there is no specific mention such as "essential", "important", etc., it may not be an essential component for the application of the present invention.

실시예의 명세서(특히 특허청구범위에서)에서 "상기"의 용어 및 이와 유사한 지시 용어의 사용은 단수 및 복수 모두에 해당하는 것일 수 있다. 또한, 실시 예에서 범위(range)를 기재한 경우 상기 범위에 속하는 개별적인 값을 적용한 발명을 포함하는 것으로서(이에 반하는 기재가 없다면), 상세한 설명에 상기 범위를 구성하는 각 개별적인 값을 기재한 것과 같다. 마지막으로, 실시 예에 따른 방법을 구성하는 단계들에 대하여 명백하게 순서를 기재하거나 반하는 기재가 없다면, 상기 단계들은 적당한 순서로 행해질 수 있다. 반드시 상기 단계들의 기재 순서에 따라 실시 예들이 한정되는 것은 아니다. 실시 예에서 모든 예들 또는 예시적인 용어(예들 들어, 등등)의 사용은 단순히 실시 예를 상세히 설명하기 위한 것으로서 특허청구범위에 의해 한정되지 않는 이상 상기 예들 또는 예시적인 용어로 인해 실시 예의 범위가 한정되는 것은 아니다. 또한, 이 분야 통상의 기술자는 다양한 수정, 조합 및 변경이 부가된 특허청구범위 또는 그 균등물의 범주 내에서 설계 조건 및 팩터에 따라 구성될 수 있음을 알 수 있다.In the specification of the embodiment (especially in the claims), the use of the term "above" and the similar reference term may correspond to both the singular and the plural. In addition, when a range is described in an embodiment, the invention to which individual values falling within the range are applied (unless otherwise stated), it is the same as describing each individual value constituting the range in the detailed description. . Finally, if there is no clearly stated or contrary to the order of steps constituting the method according to the embodiment, the steps may be performed in an appropriate order. The embodiments are not necessarily limited according to the order of description of the steps. The use of all examples or illustrative terms (for example, etc.) in the embodiments is merely for describing the embodiments in detail, and the scope of the embodiments is limited by the above examples or exemplary terms unless limited by the claims. It is not. In addition, those skilled in the art will recognize that various modifications, combinations, and changes may be constructed according to design conditions and factors within the scope of the appended claims or their equivalents.

100, 200, 300, 400, 500, 600: 기체 순환 기반 정화형 시약 수납장
110, 210, 310, 410, 510, 610: 제1 시약 수납 공간
120, 220, 320, 420, 520, 620: 제2 시약 수납 공간
150, 250, 350, 450, 550, 650: 정화실100, 200, 300, 400, 500, 600: Purification type reagent cabinet based on gas circulation
110, 210, 310, 410, 510, 610: first reagent storage space
120, 220, 320, 420, 520, 620: second reagent storage space
150, 250, 350, 450, 550, 650: purification chamber

Claims

A first reagent storage space formed to accommodate at least one kind of reagent;
A second reagent storage space formed to accommodate a reagent different from the first reagent;
A flow path region disposed on at least one side of the second reagent storage space and formed to communicate with the second reagent storage space;
A purification chamber disposed on one side of the first reagent storage space, formed to communicate with the first reagent storage space, and connected to one region of the flow path region and another region different therefrom,
The flow path region portion is disposed on at least one side of the first reagent storage space and the second reagent storage space so that at least one region overlaps the first reagent storage space and the second reagent storage space,
The gas circulation-based purification type reagent storage cabinet, wherein the flow path region portion is formed so as not to communicate gas with the first reagent storage space.

The method of claim 1,
A gas circulation-based purification reagent storage cabinet including a filter unit disposed in the purification chamber.

The method of claim 1,
Gas circulation-based purification reagent storage cabinet further comprising an airflow control unit disposed in the purification chamber.

The method of claim 1,
A gas circulation-based purification reagent storage cabinet further comprising an ion cluster unit disposed in the purification chamber.

The method of claim 1,
A gas circulation-based purification type reagent storage cabinet comprising a region in which the first reagent storage space and the purification chamber communicate with each other in at least one area where the first reagent storage space and the purification chamber overlap.

The method of claim 5,
And a region in which the first reagent storage space and the purification chamber communicate with gas is formed to be spaced apart from a region in which the purification chamber and the flow path region communicate with each other.

The method of claim 5,
A gas circulation-based purification type, wherein the first reagent storage space and the purification chamber are formed at a different height from the gas communication region of the purification chamber and the flow path region based on a bottom surface of the purification chamber. Reagent cabinet.

The method of claim 1,
And a filter unit, an air flow control unit, and an ion cluster unit disposed in the purification chamber along a direction of the gas flow.

The method of claim 1,
Including a filter unit disposed in the purification chamber,
The filter unit includes at least a first filter unit and a second filter unit overlapped with each other based on a direction from a bottom to an upper surface of the purification chamber,
The first filter unit has a property of acidic purification or basic purification,
The gas circulation-based purification reagent storage cabinet comprising the second filter unit having a property different from that of the first filter unit among properties of acidic purification or basic purification.

The method of claim 9,
The filter unit includes a third filter unit adjacent to the second filter unit and overlapping the first filter unit and the second filter unit,
The third filter unit has a property of acidic purification or basic purification,
A gas circulation-based purification reagent storage cabinet comprising the third filter unit having a property different from that of the first filter unit among properties of acidic purification or basic purification.