KR102236516B1 - Polymerizable composition containing quantum dot, wavelength conversion member, backlight unit, liquid crystal display device and method for manufacturing wavelength conversion member - Google Patents

Polymerizable composition containing quantum dot, wavelength conversion member, backlight unit, liquid crystal display device and method for manufacturing wavelength conversion member Download PDF

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Abstract

본 발명은, 양자 도트를 함유하는 파장 변환층과 인접층과의 밀착성이 우수한 파장 변환 부재를 제공하는 것을 과제로 한다.
이러한 과제를 해결하기 위한 수단으로서, 여기광(勵起光)에 의해 여기되어 형광을 발광하는 양자 도트, 중합성 화합물, 실란 커플링제, 및 에너지 부여에 의해 프로톤산을 발생시키는 산발생제를 함유하는 양자 도트 함유 중합성 조성물, 이 양자 도트 함유 중합성 조성물에, 상기 프로톤산을 발생시키는 에너지 부여 및 중합 처리를 동시 또는 순차 실시하여 형성된 파장 변환층, 그리고, 상기 파장 변환층의 한쪽의 주표면(主表面)과 인접하는 인접층을 적어도 포함하는 파장 변환 부재, 이 파장 변환 부재의 제조 방법, 이 파장 변환 부재를 포함하는 백라이트 유닛, 이 백라이트 유닛을 포함하는 액정 표시 장치를 제공한다.
An object of the present invention is to provide a wavelength conversion member having excellent adhesion between a wavelength conversion layer containing quantum dots and an adjacent layer.
As a means to solve these problems, it contains quantum dots that are excited by excitation light to emit fluorescence, polymerizable compounds, silane coupling agents, and an acid generator that generates protonic acid by imparting energy. A quantum dot-containing polymerizable composition, a wavelength conversion layer formed by simultaneously or sequentially applying energy to generate the protonic acid and polymerization treatment to the quantum dot-containing polymerizable composition, and one main surface of the wavelength conversion layer A wavelength conversion member including at least an adjacent layer adjacent to the main surface, a manufacturing method of the wavelength conversion member, a backlight unit including the wavelength conversion member, and a liquid crystal display device including the backlight unit are provided.

Figure 112015046624822-pat00031
Figure 112015046624822-pat00031

Description

양자 도트 함유 중합성 조성물, 파장 변환 부재, 백라이트 유닛, 액정 표시 장치, 및 파장 변환 부재의 제조 방법{POLYMERIZABLE COMPOSITION CONTAINING QUANTUM DOT, WAVELENGTH CONVERSION MEMBER, BACKLIGHT UNIT, LIQUID CRYSTAL DISPLAY DEVICE AND METHOD FOR MANUFACTURING WAVELENGTH CONVERSION MEMBER}TECHNICAL FIELD BACKGROUND OF THE INVENTION [0001] BACKGROUND ART POLYMERIZABLE COMPOSITION CONTAINING QUANTUM DOT, WAVELENGTH CONVERSION MEMBER, BACKLIGHT UNIT, LIQUID CRYSTAL DISPLAY DEVICE AND METHOD FOR MANUFACTURING WAVELENGTH CONVERSION MEMBER }

본 발명은, 여기광(勵起光)에 의해 여기되어 형광을 발광하는 양자 도트를 함유하는 중합성 조성물, 파장 변환 부재, 백라이트 유닛, 액정 표시 장치, 및 파장 변환 부재의 제조 방법에 관한 것이다.The present invention relates to a polymerizable composition containing quantum dots that are excited by excitation light to emit fluorescence, a wavelength conversion member, a backlight unit, a liquid crystal display device, and a method of manufacturing a wavelength conversion member.

액정 표시 장치(이하, LCD(Liquid Crystal Display)라고도 함) 등의 플랫 패널 디스플레이는, 소비 전력이 작고, 공간 절약의 화상 표시 장치로서 해마다 그 용도가 넓어지고 있다. 액정 표시 장치는, 적어도 백라이트와 액정셀로 구성되며, 통상, 추가로, 백라이트측 편광판, 시인측 편광판 등의 부재가 포함된다.BACKGROUND ART Flat panel displays such as a liquid crystal display device (hereinafter, also referred to as an LCD (Liquid Crystal Display)) have low power consumption and are widely used year by year as a space-saving image display device. The liquid crystal display device is composed of at least a backlight and a liquid crystal cell, and usually further includes members such as a backlight-side polarizing plate and a viewing-side polarizing plate.

플랫 패널 디스플레이 시장에서는, LCD 성능 개선으로서, 색재현성의 향상이 진행하고 있다. 이 점에 관하여, 최근, 발광 재료로서, 양자 도트(Quantum Dot, QD, 양자점이라고도 함)가 주목을 받고 있다(특허문헌 1 참조). 예를 들면, 백라이트로부터 양자 도트를 함유하는 파장 변환 부재에 여기광이 입사하면, 양자 도트가 여기되어 형광을 발광한다. 여기에서 다른 발광 특성을 갖는 양자 도트를 사용함으로써, 적색광, 녹색광, 및 청색광을 발광시켜서 백색광을 구현화할 수 있다. 양자 도트에 의한 형광은 반값폭이 작기 때문에, 얻어지는 백색광은 고휘도이며, 또한 색재현성이 우수하다. 이러한 양자 도트를 사용한 3파장 광원화 기술의 진행에 의해, 색재현역은, 현행의 텔레비전 규격(FHD(Full High Definition), NTSC(National Television System Committee))비 72%에서 100%로 확대해 있다.In the flat panel display market, improvement in color reproducibility is advancing as an improvement in LCD performance. In this regard, in recent years, as a light emitting material, quantum dots (also referred to as quantum dots, QDs, and quantum dots) are attracting attention (see Patent Document 1). For example, when excitation light enters a wavelength conversion member containing quantum dots from a backlight, the quantum dots are excited to emit fluorescence. Here, by using quantum dots having different light emission characteristics, red light, green light, and blue light may be emitted to realize white light. Fluorescence by quantum dots has a small half-value width, so the obtained white light has high luminance and is excellent in color reproducibility. With the progress of the three-wavelength light source technology using quantum dots, the color reproduction range has been expanded from 72% to 100% of the current television standards (FHD (Full High Definition), NTSC (National Television System Committee)).

US2012/0113672A1US2012/0113672A1

상기 파장 변환 부재로서는, 양자 도트를 함유하는 파장 변환층의 한쪽 또는 양쪽의 주표면(主表面)(주표면에 대해서는 후술함)에 1층 이상의 다른 층을 마련한 적층 구조의 것이 제안되어 있다. 그러나, 파장 변환층과 이 층과 인접하는 인접층과의 밀착이 충분치 않으면, 파장 변환 부재를 제품으로서 출하하기 위하여 규정의 사이즈로 잘라내는(예를 들면, 펀칭기에 의해 펀칭함) 등의 가공 시에, 파장 변환층과 인접층과의 계면 단부(端部) 등에서 박리가 생겨버린다. 예를 들면 일례로서, 인접층이 산소 배리어성을 갖는 층일 경우에 이러한 계면 단부의 박리가 발생하면, 계면 단부로부터의 산소의 침입에 의해 양자 도트의 발광 효율이 저하하는 것이 우려된다. 또한, 파장 변환층과 인접층과의 밀착이 충분치 않은 것은, 층간에서의 부분적인 박리 발생에 의한 부재의 내구성 저하의 원인으로 된다.As the wavelength conversion member, a laminated structure in which one or more other layers are provided on one or both of the main surfaces (the main surface will be described later) of the wavelength conversion layer containing quantum dots is proposed. However, if the close contact between the wavelength conversion layer and the adjacent layer adjacent to this layer is insufficient, during processing such as cutting the wavelength conversion member into a specified size (for example, punching by a punching machine) to ship the wavelength conversion member as a product. Thus, peeling occurs at the end of the interface between the wavelength conversion layer and the adjacent layer. For example, as an example, in the case where the adjacent layer is a layer having oxygen barrier properties, if such separation of the interface ends occurs, there is a concern that the luminous efficiency of the quantum dots decreases due to intrusion of oxygen from the interface ends. In addition, insufficient adhesion between the wavelength conversion layer and the adjacent layer is a cause of a decrease in durability of the member due to partial peeling between the layers.

그래서 본 발명의 목적은, 양자 도트를 함유하는 파장 변환층과 인접층과의 밀착성이 우수한 파장 변환 부재를 제공하는 것에 있다.Therefore, an object of the present invention is to provide a wavelength conversion member having excellent adhesion between a wavelength conversion layer containing quantum dots and an adjacent layer.

본 발명자들은, 상기 목적을 달성하기 위하여 예의 검토를 거듭한 결과,The present inventors, as a result of repeated careful examination in order to achieve the above object,

여기광에 의해 여기되어 형광을 발광하는 양자 도트,Quantum dots that are excited by excitation light to emit fluorescence,

중합성 화합물,Polymerizable compounds,

실란 커플링제, 및,A silane coupling agent, and,

에너지 부여에 의해 프로톤산을 발생시키는 산발생제,Acid generator that generates protonic acid by imparting energy,

를 함유하는, 양자 도트 함유 중합성 조성물(이하, 단순히 「조성물」 또는 「중합성 조성물」이라고도 기재함)에 의해, 상기 목적을 달성할 수 있는 것을 새로이 알아냈다. 즉, 이러한 조성물을 사용함에 의해, 인접층과, 이 인접층과의 밀착성이 우수한 파장 변환층을 포함하는 파장 변환 부재의 제공이 가능해지는 것이, 본 발명자들의 예의 검토의 결과, 새로이 발견되었다.It was newly discovered that the above object could be achieved by using the quantum dot-containing polymerizable composition (hereinafter, also simply referred to as "composition" or "polymerizable composition") containing. That is, by using such a composition, it has become possible to provide a wavelength conversion member including an adjacent layer and a wavelength conversion layer having excellent adhesion to the adjacent layer, as a result of intensive examination by the present inventors, newly discovered.

상기 조성물을 사용해서 형성되는 파장 변환층에서는, 중합성 화합물을 광조사, 가열 등의 중합 처리에 의해 중합시킨 매트릭스 중에, 양자 도트가 존재해 있다. 한편, 이렇게 해서 형성되는 파장 변환층과 인접층과의 밀착성은, 상기 조성물에 함유되어 있던 실란 커플링제에 의해 향상할 수 있다. 이것은, 실란 커플링제가, 가수분해 반응이나 축합 반응 등에 의해 인접층의 표면이나 인접층의 구성 성분과 공유 결합을 형성하는 것 등에 의한 것으로 생각된다.In the wavelength conversion layer formed using the composition, quantum dots are present in a matrix in which a polymerizable compound is polymerized by polymerization treatment such as light irradiation or heating. On the other hand, the adhesion between the wavelength conversion layer formed in this way and the adjacent layer can be improved by the silane coupling agent contained in the said composition. This is considered to be due to the fact that the silane coupling agent forms a covalent bond with the surface of the adjacent layer or the constituent components of the adjacent layer by a hydrolysis reaction, a condensation reaction, or the like.

그러나, 상기 파장 변환층은, 상술과 같이 중합성 조성물의 중합 처리를 거쳐 형성된다. 이 중합 처리에 의한 중합체의 형성이 실란 커플링제의 반응에 우선해서 진행해버리면, 중합에 의해 경화한 층 내에서는 실란 커플링제의 반응성이 저하하기 때문에, 실란 커플링제에 의한 인접층과의 밀착성 향상을 충분히 얻는 것은 곤란해진다.However, the wavelength conversion layer is formed through polymerization treatment of the polymerizable composition as described above. If the formation of the polymer by this polymerization treatment proceeds with priority over the reaction of the silane coupling agent, the reactivity of the silane coupling agent decreases in the layer cured by the polymerization, so that the improvement of the adhesion with the adjacent layer by the silane coupling agent is sufficiently improved. It becomes difficult to get.

이에 대하여, 상기 조성물에 함유되는 산발생제는, 광조사나 가열 등의 에너지 부여에 의해 프로톤산을 발생시킨다. 이 프로톤산에 의해 실란 커플링제의 반응이 촉진되는 것이, 중합성 화합물의 중합 처리를 거쳐 형성되는 파장 변환층과, 이 층과 인접하는 인접층과의 밀착성을 실란 커플링제에 의해 높이는 것에 기여하고 있는 것으로, 본 발명자들은 생각하고 있다.In contrast, the acid generator contained in the composition generates protonic acid by applying energy such as light irradiation or heating. The acceleration of the reaction of the silane coupling agent by this protonic acid contributes to enhancing the adhesion between the wavelength conversion layer formed through the polymerization treatment of the polymerizable compound and the adjacent layer adjacent to this layer by the silane coupling agent. As there is, the inventors are thinking.

단, 이상은, 본 발명자들에 의한 추찰로서 본 발명을 하등 한정하는 것은 아니다.However, the above does not limit the present invention at all as speculation by the present inventors.

일 태양에서는, 상기 산발생제는, 광조사에 의한 에너지 부여에 의해 프로톤산을 발생시키는 광산발생제(光酸發生劑) 및 가열에 의한 에너지 부여에 의해 프로톤산을 발생시키는 열산발생제(熱酸發生劑)로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1종이다.In one aspect, the acid generator includes a photoacid generator that generates protonic acid by application of energy by light irradiation, and a thermal acid generator that generates protonic acid by application of energy by heating. It is at least one selected from the group consisting of 酸發生劑).

일 태양에서는, 프로톤산의 분자량은, 500 이하이고, 또한 300 이하이다.In one embodiment, the molecular weight of the protonic acid is 500 or less and 300 or less.

일 태양에서는, 상기 조성물은, 상술한 중합성 화합물의 중합을 개시 가능한 중합개시제를 더 함유한다.In one aspect, the composition further contains a polymerization initiator capable of initiating polymerization of the above-described polymerizable compound.

일 태양에서는, 상기 중합개시제는 광중합개시제이다.In one aspect, the polymerization initiator is a photopolymerization initiator.

일 태양에서는, 상기 중합성 화합물은, 라디칼 중합성 화합물 및 양이온 중합성 화합물로 이루어지는 군에서 선택된다.In one aspect, the polymerizable compound is selected from the group consisting of a radical polymerizable compound and a cationic polymerizable compound.

일 태양에서는, 상기 중합성 화합물은, 단관능 (메타)아크릴레이트 화합물 및 다관능 (메타)아크릴레이트 화합물을 포함한다.In one aspect, the polymerizable compound includes a monofunctional (meth)acrylate compound and a polyfunctional (meth)acrylate compound.

일 태양에서는, 상기 중합성 화합물은, 에폭시 화합물을 포함한다.In one aspect, the polymerizable compound contains an epoxy compound.

일 태양에서는, 상기 양자 도트는,In one aspect, the quantum dot,

600㎚∼680㎚의 범위의 파장 대역에 발광 중심 파장을 갖는 양자 도트A,Quantum dot A having an emission center wavelength in a wavelength band in the range of 600 nm to 680 nm,

500㎚∼600㎚의 범위의 파장 대역에 발광 중심 파장을 갖는 양자 도트B, 및 Quantum dot B having an emission center wavelength in a wavelength band ranging from 500 nm to 600 nm, and

400㎚∼500㎚의 범위의 파장 대역에 발광 중심 파장을 갖는 양자 도트C,Quantum dot C having an emission center wavelength in a wavelength band ranging from 400 nm to 500 nm,

로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1종이다.It is at least one member selected from the group consisting of.

본 발명의 추가적인 태양은,A further aspect of the invention,

상기 양자 도트 함유 중합성 조성물에, 상술한 산발생제로부터 프로톤산을 발생시키는 에너지 부여 및 중합 처리를 동시 또는 순차 실시하여 형성된 파장 변환층, 그리고,A wavelength conversion layer formed by simultaneously or sequentially performing energy imparting and polymerization treatment for generating protonic acid from the above-described acid generator to the quantum dot-containing polymerizable composition, and

파장 변환층의 한쪽의 주표면과 인접하는 인접층,An adjacent layer adjacent to one major surface of the wavelength conversion layer,

을 적어도 포함하는 파장 변환 부재,A wavelength conversion member comprising at least a,

에 관한 것이다. 여기에서 「주표면」이란, 파장 변환 부재 사용 시에 시인측 또는 백라이트측에 배치되는 파장 변환층의 표면(겉면, 이면)을 말한다. 후술하는 인접층에 대한 주표면도, 마찬가지이다.It is about. Here, the "main surface" refers to the surface (front surface, back surface) of the wavelength conversion layer disposed on the visible side or the backlight side when the wavelength conversion member is used. The same applies to the main surface to the adjacent layer described later.

일 태양에서는, 상기 인접층은, 무기층이다.In one aspect, the adjacent layer is an inorganic layer.

일 태양에서는, 상기 파장 변환 부재는, 파장 변환층의 한쪽의 주표면과 인접하는 인접층 및 다른 쪽의 주표면과 인접하는 인접층을 갖는다.In one aspect, the wavelength conversion member has an adjacent layer adjacent to one major surface of the wavelength conversion layer and an adjacent layer adjacent to the other major surface.

일 태양에서는, 2개의 인접층은, 모두 무기층이다.In one aspect, both of the two adjacent layers are inorganic layers.

일 태양에서는, 파장 변환층의 두께는, 10∼300㎛의 범위이다.In one aspect, the thickness of the wavelength conversion layer is in the range of 10 to 300 µm.

본 발명의 추가적인 태양은, 상기 파장 변환 부재와, 광원을 적어도 포함하는 백라이트 유닛에 관한 것이다.A further aspect of the present invention relates to a backlight unit including at least the wavelength conversion member and a light source.

일 태양에서는, 상기 광원은, 430㎚∼480㎚의 파장 대역에 발광 중심 파장을 갖는다.In one aspect, the light source has a light emission center wavelength in a wavelength band of 430 nm to 480 nm.

본 발명의 추가적인 태양은, 상기 백라이트 유닛과, 액정셀을 적어도 포함하는 액정 표시 장치에 관한 것이다.A further aspect of the present invention relates to a liquid crystal display device including at least the backlight unit and a liquid crystal cell.

본 발명의 추가적인 태양은, 상기 파장 변환 부재의 제조 방법으로서,A further aspect of the present invention is a method of manufacturing the wavelength conversion member,

인접층의 주표면과 양자 도트 함유 중합성 조성물을 접촉시킨 후, 양자 도트 함유 중합성 조성물에, 산발생제로부터 프로톤산을 발생시키는 에너지 부여 및 중합 처리를 동시 또는 순차 실시하는 것을 포함하는 제조 방법,A production method comprising applying energy to generate a protonic acid from an acid generator and performing polymerization treatment simultaneously or sequentially to the quantum dot-containing polymerizable composition after contacting the main surface of the adjacent layer with the quantum dot-containing polymerizable composition ,

에 관한 것이다.It is about.

본 발명의 추가적인 태양은, 파장 변환층의 양 주표면에 인접층을 갖는 상기 파장 변환 부재의 제조 방법으로서,A further aspect of the present invention is a method of manufacturing the wavelength conversion member having adjacent layers on both main surfaces of the wavelength conversion layer,

2개의 인접층의 적어도 한쪽의 주표면과 양자 도트 함유 중합성 조성물을 접촉시킨 후, 양자 도트 함유 중합성 조성물에, 산발생제로부터 프로톤산을 발생시키는 에너지 부여 및 중합 처리를 동시 또는 순차 실시하는 것을 포함하는 제조 방법,After bringing the quantum dot-containing polymerizable composition into contact with at least one of the two adjacent layers, energy is applied to the quantum dot-containing polymerizable composition to generate a protonic acid from an acid generator, and polymerization treatment is performed simultaneously or sequentially. A manufacturing method comprising that,

에 관한 것이다.It is about.

일 태양에서는, 상기 에너지 부여는, 2개의 인접층의 각각의 주표면과 양자 도트 함유 중합성 조성물을 접촉시킨 후에 행해진다.In one aspect, the energy application is performed after contacting the respective main surfaces of the two adjacent layers with the quantum dot-containing polymerizable composition.

본 발명의 일 태양에 따르면, 인접층과의 밀착성이 우수한 파장 변환층을 포함하는 파장 변환 부재, 이 파장 변환 부재를 구비한 백라이트 유닛, 및 액정 표시 장치를 제공할 수 있다.According to an aspect of the present invention, it is possible to provide a wavelength conversion member including a wavelength conversion layer having excellent adhesion to an adjacent layer, a backlight unit including the wavelength conversion member, and a liquid crystal display device.

도 1의 (a), (b)는, 본 발명의 일 태양에 따른 파장 변환 부재를 포함하는 백라이트 유닛의 일례의 설명도.
도 2는, 본 발명의 일 태양에 따른 액정 표시 장치의 일례를 나타내는 도면.
도 3은, 파장 변환 부재의 제조 장치의 일례의 개략 구성도.
도 4는, 도 3에 나타내는 제조 장치의 부분 확대도.
1A and 1B are explanatory diagrams of an example of a backlight unit including a wavelength conversion member according to an aspect of the present invention.
2 is a diagram showing an example of a liquid crystal display device according to an aspect of the present invention.
3 is a schematic configuration diagram of an example of an apparatus for manufacturing a wavelength conversion member.
4 is a partially enlarged view of the manufacturing apparatus shown in FIG. 3.

이하의 설명은, 본 발명의 대표적인 실시태양에 의거해서 이루어지는 경우가 있지만, 본 발명은 그러한 실시태양으로 한정되는 것은 아니다. 또, 본 발명 및 본 명세서에 있어서 「∼」를 사용해서 표시되는 수치 범위는, 「∼」의 전후에 기재되는 수치를 하한값 및 상한값으로서 포함하는 범위를 의미한다.Although the following description may be made based on a representative embodiment of the present invention, the present invention is not limited to such an embodiment. In addition, in the present invention and this specification, the numerical range indicated by using "-" means a range including the numerical values described before and after "-" as a lower limit value and an upper limit value.

또한, 본 발명 및 본 명세서 중, 피크의 「반값폭」이란, 피크 높이 1/2에서의 피크의 폭을 말한다. 또한, 400∼500㎚의 파장 대역, 바람직하게는 430∼480㎚의 파장 대역에 발광 중심 파장을 갖는 광을 청색광이라 하고, 500∼600㎚의 파장 대역에 발광 중심 파장을 갖는 광을 녹색광이라 하고, 600∼680㎚의 파장 대역에 발광 중심 파장을 갖는 광을 적색광이라 한다.In addition, in the present invention and this specification, the "half width" of the peak means the width of the peak at 1/2 of the peak height. In addition, light having an emission center wavelength in a wavelength band of 400 to 500 nm, preferably 430 to 480 nm, is referred to as blue light, and light having an emission center wavelength in a wavelength band of 500 to 600 nm is referred to as green light. , Light having an emission center wavelength in the wavelength band of 600 to 680 nm is referred to as red light.

[양자 도트 함유 중합성 조성물][Polymerable composition containing quantum dots]

본 발명의 일 태양에 따른 양자 도트 함유 중합성 조성물은, 여기광에 의해 여기되어 형광을 발광하는 양자 도트, 중합성 화합물, 실란 커플링제, 및, 에너지 부여에 의해 프로톤산을 발생시키는 산발생제를 함유한다.The quantum dot-containing polymerizable composition according to an aspect of the present invention is a quantum dot that is excited by excitation light to emit fluorescence, a polymerizable compound, a silane coupling agent, and an acid generator that generates a protonic acid by imparting energy. Contains.

이하, 상기 조성물에 대하여, 더 상세히 설명한다.Hereinafter, the composition will be described in more detail.

<양자 도트><quantum dot>

상기 조성물은, 적어도 1종의 양자 도트를 함유하며, 발광 특성이 다른 2종 이상의 양자 도트를 함유할 수도 있다. 공지의 양자 도트에는, 600㎚∼680㎚의 범위의 파장 대역에 발광 중심 파장을 갖는 양자 도트A, 500㎚∼600㎚의 범위의 파장 대역에 발광 중심 파장을 갖는 양자 도트B, 400㎚∼500㎚의 파장 대역에 발광 중심 파장을 갖는 양자 도트C가 있다. 양자 도트A는, 여기광에 의해 여기되어 적색광을 발광하고, 양자 도트B는 녹색광을, 양자 도트C는 청색광을 발광한다. 예를 들면, 양자 도트A와 양자 도트B를 함유하는 파장 변환층에 여기광으로서 청색광을 입사시키면, 양자 도트A에 의해 발광되는 적색광, 양자 도트B에 의해 발광되는 녹색광과, 파장 변환층을 투과한 청색광에 의해, 백색광을 구현화할 수 있다. 또는, 양자 도트A, B, 및 C를 함유하는 파장 변환층에 여기광으로서 자외광을 입사시킴에 의해, 양자 도트A에 의해 발광되는 적색광, 양자 도트B에 의해 발광되는 녹색광, 및 양자 도트C에 의해 발광되는 청색광에 의해, 백색광을 구현화할 수 있다. 양자 도트로서는, 공지의 방법에 의해 조제되는 것 및 시판품을, 하등 제한 없이 사용할 수 있다. 양자 도트에 대해서는, 예를 들면 일본국 특개2012-169271호 공보 단락0060∼0066을 참조할 수 있지만, 여기에 기재된 것으로 한정되는 것은 아니다. 양자 도트의 발광 파장은, 통상, 입자의 조성, 사이즈, 그리고 조성 및 사이즈에 의해 조정할 수 있다.The composition contains at least one type of quantum dot, and may contain two or more types of quantum dots having different luminescence properties. Known quantum dots include quantum dot A having a light emission center wavelength in a wavelength range of 600 nm to 680 nm, quantum dot B having a light emission center wavelength in a wavelength range of 500 nm to 600 nm, and 400 nm to 500 nm. There is a quantum dot C having an emission center wavelength in the wavelength band of nm. Quantum dot A is excited by excitation light to emit red light, quantum dot B emits green light, and quantum dot C emits blue light. For example, when blue light is incident on the wavelength conversion layer containing quantum dot A and quantum dot B as excitation light, red light emitted by quantum dot A, green light emitted by quantum dot B, and wavelength conversion layer are transmitted through. With one blue light, white light can be realized. Alternatively, red light emitted by quantum dot A, green light emitted by quantum dot B, and quantum dot C by injecting ultraviolet light as excitation light into a wavelength conversion layer containing quantum dots A, B, and C. White light can be realized by the blue light emitted by the. As quantum dots, those prepared by known methods and commercially available products can be used without any limitation. Regarding the quantum dot, for example, paragraphs 0060 to 0066 of Japanese Unexamined Patent Application Publication No. 2012-169271 can be referred to, but the present invention is not limited thereto. The emission wavelength of the quantum dot can usually be adjusted according to the composition and size of the particles, and the composition and size.

양자 도트는, 상기 조성물 조제 시에 다른 성분과 입자의 상태로 혼합해도 되고, 용매에 분산한 분산액의 상태로 혼합해도 된다. 분산액의 상태로 첨가하는 것이, 양자 도트의 입자의 응집을 억제하는 관점에서, 바람직하다. 여기에서 사용되는 용매는, 특히 한정되는 것은 아니다. 양자 도트는, 양자 도트 함유 중합성 조성물의 전량 100질량부에 대해서, 예를 들면 0.01∼10질량부 정도 첨가할 수 있다.The quantum dots may be mixed in the form of particles with other components at the time of preparing the composition, or may be mixed in the form of a dispersion liquid dispersed in a solvent. Addition in the form of a dispersion is preferable from the viewpoint of suppressing agglomeration of the particles of quantum dots. The solvent used here is not particularly limited. Quantum dots can be added, for example, about 0.01 to 10 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the total amount of the quantum dot-containing polymerizable composition.

이상의 양자 도트를 함유하는 파장 변환 부재에 있어서의 파장 변환의 구체적 태양에 대하여, 이하에 도면을 참조하여 설명한다. 단 본 발명은, 하기 구체적 태양으로 한정되는 것은 아니다.A specific aspect of wavelength conversion in the wavelength conversion member containing the above quantum dots will be described below with reference to the drawings. However, this invention is not limited to the following specific aspect.

도 1은, 본 발명의 일 태양에 따른 파장 변환 부재를 포함하는 백라이트 유닛(1)의 일례의 설명도이다. 도 1 중, 백라이트 유닛(1)은, 광원(1A)과, 면광원으로 하기 위한 도광판(1B)를 구비한다. 도 1의 (a)에 나타내는 예에서는, 파장 변환 부재는, 도광판으로부터 출사되는 광의 경로 위에 배치되어 있다. 한편, 도 1의 (b)에 나타내는 예에서는, 파장 변환 부재는, 도광판과 광원과의 사이에 배치되어 있다.1 is an explanatory diagram of an example of a backlight unit 1 including a wavelength conversion member according to an aspect of the present invention. In FIG. 1, the backlight unit 1 includes a light source 1A and a light guide plate 1B used as a surface light source. In the example shown in Fig. 1A, the wavelength conversion member is disposed on the path of light emitted from the light guide plate. On the other hand, in the example shown in Fig. 1B, the wavelength conversion member is disposed between the light guide plate and the light source.

그리고 도 1의 (a)에 나타내는 예에서는, 도광판(1B)으로부터 출사되는 광이, 파장 변환 부재(1C)에 입사한다. 도 1의 (a)에 나타내는 예에서는, 도광판(1B)의 엣지부에 배치된 광원(1A)으로부터 출사되는 광(2)은 청색광이고, 도광판(1B)의 액정셀(도시하지 않음)측의 면으로부터 액정셀을 향해서 출사된다. 도광판(1B)으로부터 출사된 광(청색광(2))의 경로 위에 배치된 파장 변환 부재(1C)에는, 청색광(2)에 의해 여기되어 적색광(4)을 발광하는 양자 도트A와, 청색광(2)에 의해 여기되어 녹색광(3)을 발광하는 양자 도트B를, 적어도 포함한다. 이렇게 해서 백라이트 유닛(1)으로부터는, 여기된 녹색광(3) 및 적색광(4), 그리고 파장 변환 부재(1C)를 투과한 청색광(2)이 출사된다. 이렇게 해서 적색광, 녹색광 및 청색광을 발광시킴으로써, 백색광을 구현화할 수 있다.And in the example shown in Fig. 1A, light emitted from the light guide plate 1B enters the wavelength conversion member 1C. In the example shown in Fig. 1A, the light 2 emitted from the light source 1A disposed at the edge of the light guide plate 1B is blue light, and is on the side of the liquid crystal cell (not shown) of the light guide plate 1B. It is emitted from the surface toward the liquid crystal cell. In the wavelength conversion member 1C disposed on the path of the light (blue light 2) emitted from the light guide plate 1B, the quantum dot A is excited by the blue light 2 to emit red light 4, and the blue light 2 ), and at least a quantum dot B that emits green light (3). In this way, the excited green light 3 and the red light 4 and the blue light 2 transmitted through the wavelength conversion member 1C are emitted from the backlight unit 1. In this way, by emitting red light, green light, and blue light, white light can be realized.

도 1의 (b)에 나타내는 예는, 파장 변환 부재와 도광판의 배치가 다른 점 이외는, 도 1의 (a)에 나타내는 태양과 마찬가지이다. 도 1의 (b)에 나타내는 예에서는, 파장 변환 부재(1C)로부터, 여기된 녹색광(3) 및 적색광(4), 그리고 파장 변환 부재(1C)를 투과한 청색광(2)이 출사되고 도광판에 입사하여, 면광원이 실현된다.The example shown in FIG. 1(b) is the same as the mode shown in FIG. 1(a) except that the arrangement|positioning of a wavelength conversion member and a light guide plate is different. In the example shown in Fig. 1(b), the excited green light 3 and the red light 4, and the blue light 2 transmitted through the wavelength conversion member 1C are emitted from the wavelength conversion member 1C, and are emitted to the light guide plate. Incidentally, a surface light source is realized.

<중합성 화합물><Polymerizable compound>

상기 조성물을 사용해서 형성되는 파장 변환층에서는, 양자 도트는, 중합성 화합물을 광조사 등에 의해 중합시킨 매트릭스(중합체) 중에 함유된다. 파장 변환층의 형상은 특히 한정되는 것은 아니다. 예를 들면, 파장 변환층, 및 이 층을 포함하는 파장 변환 부재는, 시트상 내지 필름상이다.In the wavelength conversion layer formed using the above composition, quantum dots are contained in a matrix (polymer) in which a polymerizable compound is polymerized by light irradiation or the like. The shape of the wavelength conversion layer is not particularly limited. For example, the wavelength conversion layer and the wavelength conversion member including this layer are in the form of a sheet or a film.

중합성 화합물로서는, 라디칼 중합성 화합물, 양이온 중합성 화합물, 음이온 중합성 화합물 등의 각종 중합 형식에 의한 중합성 화합물을 사용할 수 있다. 또한, 중합성 화합물은, 1종 사용해도 되고, 2종 이상을 혼합해서 사용해도 된다. 상기 조성물 전량에 차지하는 중합성 화합물의 함유량은, 10∼99.99질량% 정도로 하는 것이 바람직하다. 바람직한 중합성 화합물의 일례로서는, 경화 후의 경화 피막의 투명성, 밀착성 등의 관점에서는, 단관능 또는 다관능 (메타)아크릴레이트 모노머, 그 폴리머, 프리폴리머 등의 단관능 또는 다관능 (메타)아크릴레이트 화합물을 들 수 있다. 또 본 발명 및 본 명세서에 있어서, 「(메타)아크릴레이트」라는 기재는, 아크릴레이트와 메타크릴레이트와의 적어도 한쪽, 또는, 어느 하나의 의미로 사용하는 것으로 한다. 「(메타)아크릴로일」 등도 마찬가지이다.As the polymerizable compound, a radical polymerizable compound, a cationic polymerizable compound, an anionic polymerizable compound, or other polymerizable compounds according to various types of polymerization can be used. Moreover, 1 type may be used for a polymeric compound, and 2 or more types may be mixed and used for it. The content of the polymerizable compound to the total amount of the composition is preferably about 10 to 99.99% by mass. As an example of a preferred polymerizable compound, from the viewpoint of transparency and adhesion of the cured film after curing, a monofunctional or polyfunctional (meth)acrylate monomer, a polymer thereof, or a polyfunctional (meth)acrylate compound such as a prepolymer. Can be mentioned. Moreover, in this invention and this specification, the description of "(meth)acrylate" shall be used by the meaning of at least one of an acrylate and a methacrylate, or any one. The same applies to "(meth)acryloyl" and the like.

단관능 (메타)아크릴레이트 화합물로서는, 아크릴산 및 메타크릴산, 그들의 유도체, 보다 상세하게는, (메타)아크릴산의 중합성 불포화 결합((메타)아크릴로일기)을 분자 내에 1개 갖는 화합물을 들 수 있다. 그들의 구체예로서 이하에 화합물을 들지만, 본 발명은 이것으로 한정되는 것은 아니다.Examples of monofunctional (meth)acrylate compounds include acrylic acid and methacrylic acid, their derivatives, and more specifically, compounds having one polymerizable unsaturated bond ((meth)acryloyl group) of (meth)acrylic acid in a molecule. I can. Although the following compounds are mentioned as a specific example of these, this invention is not limited to this.

메틸(메타)아크릴레이트, n-부틸(메타)아크릴레이트, 이소부틸(메타)아크릴레이트, 2-에틸헥실(메타)아크릴레이트, 이소노닐(메타)아크릴레이트, n-옥틸(메타)아크릴레이트, 라우릴(메타)아크릴레이트, 스테아릴(메타)아크릴레이트 등의 알킬기의 탄소수가 1∼30인 알킬(메타)아크릴레이트; 벤질(메타)아크릴레이트 등의 아랄킬기의 탄소수가 7∼20인 아랄킬(메타)아크릴레이트; 부톡시에틸(메타)아크릴레이트 등의 알콕시알킬기의 탄소수가 2∼30인 알콕시알킬(메타)아크릴레이트; N,N-디메틸아미노에틸(메타)아크릴레이트 등의 (모노알킬 또는 디알킬)아미노알킬기의 총 탄소수가 1∼20인 아미노알킬(메타)아크릴레이트; 디에틸렌글리콜에틸에테르의 (메타)아크릴레이트, 트리에틸렌글리콜부틸에테르의 (메타)아크릴레이트, 테트라에틸렌글리콜모노메틸에테르의 (메타)아크릴레이트, 헥사에틸렌글리콜모노메틸에테르의 (메타)아크릴레이트, 옥타에틸렌글리콜의 모노메틸에테르(메타)아크릴레이트, 노나에틸렌글리콜의 모노메틸에테르(메타)아크릴레이트, 디프로필렌글리콜의 모노메틸에테르(메타)아크릴레이트, 헵타프로필렌글리콜의 모노메틸에테르(메타)아크릴레이트, 테트라에틸렌글리콜의 모노에틸에테르(메타)아크릴레이트 등의 알킬렌쇄의 탄소수가 1∼10이며 말단 알킬에테르의 탄소수가 1∼10인 폴리알킬렌글리콜알킬에테르의 (메타)아크릴레이트; 헥사에틸렌글리콜페닐에테르의 (메타)아크릴레이트 등의 알킬렌쇄의 탄소수가 1∼30이며 말단 아릴에테르의 탄소수가 6∼20인 폴리알킬렌글리콜아릴에테르의 (메타)아크릴레이트; 시클로헥실(메타)아크릴레이트, 디시클로펜타닐(메타)아크릴레이트, 이소보르닐(메타)아크릴레이트, 메틸렌옥사이드 부가 시클로데카트리엔(메타)아크릴레이트 등의 지환 구조를 갖는 총 탄소수 4∼30의 (메타)아크릴레이트; 헵타데카플루오로데실(메타)아크릴레이트 등의 총 탄소수 4∼30의 불소화알킬(메타)아크릴레이트; 2-히드록시에틸(메타)아크릴레이트, 3-히드록시프로필(메타)아크릴레이트, 4-히드록시부틸(메타)아크릴레이트, 트리에틸렌글리콜의 모노(메타)아크릴레이트, 테트라에틸렌글리콜모노(메타)아크릴레이트, 헥사에틸렌글리콜모노(메타)아크릴레이트, 옥타프로필렌글리콜모노(메타)아크릴레이트, 글리세롤의 모노 또는 디(메타)아크릴레이트 등의 수산기를 갖는 (메타)아크릴레이트; 글리시딜(메타)아크릴레이트 등의 글리시딜기를 갖는 (메타)아크릴레이트; 테트라에틸렌글리콜모노(메타)아크릴레이트, 헥사에틸렌글리콜모노(메타)아크릴레이트, 옥타프로필렌글리콜모노(메타)아크릴레이트 등의 알킬렌쇄의 탄소수가 1∼30인 폴리에틸렌글리콜모노(메타)아크릴레이트; (메타)아크릴아미드, N,N-디메틸(메타)아크릴아미드, N-이소프로필(메타)아크릴아미드, 2-히드록시에틸(메타)아크릴아미드, 아크릴로일모르폴린 등의 (메타)아크릴아미드 등을 들 수 있다.Methyl (meth) acrylate, n-butyl (meth) acrylate, isobutyl (meth) acrylate, 2-ethylhexyl (meth) acrylate, isononyl (meth) acrylate, n-octyl (meth) acrylate , An alkyl (meth)acrylate having 1 to 30 carbon atoms in an alkyl group such as lauryl (meth)acrylate and stearyl (meth)acrylate; Aralkyl (meth)acrylate having 7 to 20 carbon atoms of an aralkyl group such as benzyl (meth)acrylate; Alkoxyalkyl (meth)acrylates having 2 to 30 carbon atoms in an alkoxyalkyl group such as butoxyethyl (meth)acrylate; Aminoalkyl (meth)acrylates having 1 to 20 carbon atoms in total (monoalkyl or dialkyl) aminoalkyl groups such as N,N-dimethylaminoethyl (meth)acrylate; (Meth)acrylate of diethylene glycol ethyl ether, (meth) acrylate of triethylene glycol butyl ether, (meth) acrylate of tetraethylene glycol monomethyl ether, (meth) acrylate of hexaethylene glycol monomethyl ether, Monomethyl ether (meth)acrylate of octaethylene glycol, monomethyl ether (meth)acrylate of nonaethylene glycol, monomethyl ether (meth)acrylate of dipropylene glycol, monomethyl ether (meth)acrylic of heptapropylene glycol (Meth)acrylates of polyalkylene glycol alkyl ethers having 1 to 10 carbon atoms in the alkylene chain and 1 to 10 carbon atoms in the terminal alkyl ether, such as monoethyl ether (meth)acrylate of tetraethylene glycol; (Meth)acrylates of polyalkylene glycol aryl ethers having 1 to 30 carbon atoms in the alkylene chain and 6 to 20 carbon atoms in the terminal aryl ether, such as (meth)acrylate of hexaethylene glycol phenyl ether; Cyclohexyl (meth) acrylate, dicyclopentanyl (meth) acrylate, isobornyl (meth) acrylate, methylene oxide-added cyclodecatriene (meth) acrylate having an alicyclic structure having a total carbon number of 4 to 30 (Meth)acrylate; Fluorinated alkyl (meth)acrylates having 4 to 30 carbon atoms, such as heptadecafluorodecyl (meth)acrylate; 2-hydroxyethyl (meth)acrylate, 3-hydroxypropyl (meth)acrylate, 4-hydroxybutyl (meth)acrylate, triethylene glycol mono (meth) acrylate, tetraethylene glycol mono (meth) ) (Meth)acrylate having a hydroxyl group such as acrylate, hexaethylene glycol mono(meth)acrylate, octapropylene glycol mono(meth)acrylate, and mono or di(meth)acrylate of glycerol; (Meth)acrylates having a glycidyl group such as glycidyl (meth)acrylate; Polyethylene glycol mono(meth)acrylate having 1 to 30 carbon atoms in the alkylene chain such as tetraethylene glycol mono(meth)acrylate, hexaethylene glycol mono(meth)acrylate, and octapropylene glycol mono(meth)acrylate; (Meth)acrylamides such as (meth)acrylamide, N,N-dimethyl (meth)acrylamide, N-isopropyl (meth)acrylamide, 2-hydroxyethyl (meth)acrylamide, and acryloylmorpholine And the like.

단관능 (메타)아크릴레이트 화합물로서는, 탄소수가 4∼30인 알킬(메타)아크릴레이트를 사용하는 것이 바람직하며, 탄소수 12∼22의 알킬(메타)아크릴레이트를 사용하는 것이, 양자 도트의 분산성 향상의 관점에서, 보다 바람직하다. 양자 도트의 분산성이 향상할수록, 파장 변환층으로부터 출사면에 직행하는 광량이 늘어나기 때문에, 정면 휘도 및 정면 콘트라스트의 향상에 유효하다. 구체적으로는, 단관능 (메타)아크릴레이트 화합물로서는, 부틸(메타)아크릴레이트, 옥틸(메타)아크릴레이트, 라우릴(메타)아크릴레이트, 올레일(메타)아크릴레이트, 스테아릴(메타)아크릴레이트, 베헤닐(메타)아크릴레이트, 부틸(메타)아크릴아미드, 옥틸(메타)아크릴아미드, 라우릴(메타)아크릴아미드, 올레일(메타)아크릴아미드, 스테아릴(메타)아크릴아미드, 베헤닐(메타)아크릴아미드 등이 바람직하다. 그 중에서도 라우릴(메타)아크릴레이트, 올레일(메타)아크릴레이트, 스테아릴(메타)아크릴레이트가 특히 바람직하다.As the monofunctional (meth)acrylate compound, it is preferable to use an alkyl (meth) acrylate having 4 to 30 carbon atoms, and using an alkyl (meth) acrylate having 12 to 22 carbon atoms is a dispersibility of quantum dots. From the viewpoint of improvement, it is more preferable. As the dispersibility of the quantum dots increases, the amount of light that passes directly from the wavelength conversion layer to the emission surface increases, which is effective in improving the front luminance and the front contrast. Specifically, as a monofunctional (meth)acrylate compound, butyl (meth)acrylate, octyl (meth)acrylate, lauryl (meth)acrylate, oleyl (meth)acrylate, stearyl (meth)acrylic Rate, behenyl (meth)acrylate, butyl (meth)acrylamide, octyl (meth)acrylamide, lauryl (meth)acrylamide, oleyl (meth)acrylamide, stearyl (meth)acrylamide, behenyl (Meth)acrylamide and the like are preferred. Among them, lauryl (meth)acrylate, oleyl (meth)acrylate, and stearyl (meth)acrylate are particularly preferred.

상기(메타)아크릴산의 중합성 불포화 결합((메타)아크릴로일기)을 1분자 내에 1개 갖는 모노머와 함께, (메타)아크릴로일기를 분자 내에 2개 이상 갖는 다관능 (메타)아크릴레이트 화합물을 병용할 수도 있다. 구체예로서, 이하에 화합물을 들지만, 본 발명은 이것으로 한정되는 것은 아니다.A polyfunctional (meth)acrylate compound having two or more (meth)acryloyl groups in a molecule with a monomer having one polymerizable unsaturated bond ((meth)acryloyl group) of the (meth)acrylic acid in a molecule You can also use together. As a specific example, although a compound is mentioned below, this invention is not limited to this.

1,4-부탄디올디(메타)아크릴레이트, 1,6-헥산디올디(메타)아크릴레이트, 1,9-노난디올디(메타)아크릴레이트 등의 알킬렌쇄의 탄소수가 1∼20인 알킬렌글리콜디(메타)아크릴레이트; 폴리에틸렌글리콜디(메타)아크릴레이트, 폴리프로필렌글리콜디(메타)아크릴레이트 등의 알킬렌쇄의 탄소수가 1∼20인 폴리알킬렌글리콜디(메타)아크릴레이트; 트리메틸올프로판트리(메타)아크릴레이트, 에틸렌옥사이드 부가 트리메틸올프로판트리(메타)아크릴레이트 등의 총 탄소수가 10∼60인 트리(메타)아크릴레이트; 에틸렌옥사이드 부가 펜타에리트리톨테트라(메타)아크릴레이트, 디트리메틸올프로판테트라(메타)아크릴레이트, 펜타에리트리톨테트라(메타)아크릴레이트 등의 총 탄소수가 10∼100인 테트라(메타)아크릴레이트; 디펜타에리트리톨헥사(메타)아크릴레이트 등을 들 수 있다.Alkylene having 1 to 20 carbon atoms in an alkylene chain such as 1,4-butanedioldi(meth)acrylate, 1,6-hexanedioldi(meth)acrylate, and 1,9-nonanedioldi(meth)acrylate Glycol di(meth)acrylate; Polyalkylene glycol di(meth)acrylate having 1 to 20 carbon atoms in the alkylene chain such as polyethylene glycol di(meth)acrylate and polypropylene glycol di(meth)acrylate; Tri(meth)acrylates having a total carbon number of 10 to 60, such as trimethylolpropane tri(meth)acrylate and ethylene oxide added trimethylolpropane tri(meth)acrylate; Tetra(meth)acrylate having a total carbon number of 10 to 100, such as ethylene oxide added pentaerythritol tetra(meth)acrylate, ditrimethylolpropane tetra(meth)acrylate, and pentaerythritol tetra(meth)acrylate; Dipentaerythritol hexa(meth)acrylate, etc. are mentioned.

2관능, 3관능 등의 다관능 (메타)아크릴레이트 화합물의 사용량은, 중합성 조성물에 함유되는 중합성 화합물의 전량 100질량부에 대해서, 도막 강도의 관점에서는, 5질량부 이상으로 하는 것이 바람직하며, 조성물의 겔화 억제의 관점에서는, 95질량부 이하로 하는 것이 바람직하다. 또한, 마찬가지의 관점에서, 단관능 (메타)아크릴레이트 화합물의 사용량은, 상기 중합성 조성물에 함유되는 중합성 화합물의 전량 100질량부에 대해서, 5질량부 이상, 95질량부 이하로 하는 것이 바람직하다.The amount of the polyfunctional (meth)acrylate compound such as bifunctional or trifunctional is preferably 5 parts by mass or more from the viewpoint of coating film strength with respect to 100 parts by mass of the total amount of the polymerizable compound contained in the polymerizable composition. And, from the viewpoint of suppressing gelation of the composition, it is preferable to use 95 parts by mass or less. In addition, from the same viewpoint, the amount of monofunctional (meth)acrylate compound used is preferably 5 parts by mass or more and 95 parts by mass or less with respect to 100 parts by mass of the total amount of the polymerizable compound contained in the polymerizable composition. Do.

바람직한 중합성 화합물로서는, 에폭시기, 옥세타닐기 등의 개환 중합 가능한 환상 에테르기 등의 환상기를 갖는 화합물을 들 수 있다. 그러한 화합물로서 보다 바람직하게는, 에폭시기를 갖는 화합물(에폭시 화합물)을 갖는 화합물을 들 수 있다.As a preferred polymerizable compound, a compound having a cyclic group such as a ring-opening polymerizable cyclic ether group such as an epoxy group and an oxetanyl group is mentioned. As such a compound, more preferably, a compound having a compound having an epoxy group (epoxy compound) is exemplified.

에폭시 화합물로서는, 예를 들면, 지방족 환상 에폭시 화합물, 비스페놀A디글리시딜에테르, 비스페놀F디글리시딜에테르, 비스페놀S디글리시딜에테르, 브롬화비스페놀A디글리시딜에테르, 브롬화비스페놀F디글리시딜에테르, 브롬화비스페놀S디글리시딜에테르, 수첨 비스페놀A디글리시딜에테르, 수첨 비스페놀F디글리시딜에테르, 수첨 비스페놀S디글리시딜에테르, 1,4-부탄디올디글리시딜에테르, 1,6-헥산디올디글리시딜에테르, 글리세린트리글리시딜에테르, 트리메틸올프로판트리글리시딜에테르, 폴리에틸렌글리콜디글리시딜에테르, 폴리프로필렌글리콜디글리시딜에테르류; 에틸렌글리콜, 프로필렌글리콜, 글리세린 등의 지방족 다가 알코올에 1종 또는 2종 이상의 알킬렌옥사이드를 부가함에 의해 얻어지는 폴리에테르폴리올의 폴리글리시딜에테르류; 지방족 장쇄 이염기산의 디글리시딜에스테르류; 지방족 고급 알코올의 모노글리시딜에테르류; 페놀, 크레졸, 부틸페놀 또는 이들에 알킬렌옥사이드를 부가해서 얻어지는 폴리에테르알코올의 모노글리시딜에테르류; 고급 지방산의 글리시딜에스테르류 등을 예시할 수 있다.Examples of the epoxy compound include alicyclic epoxy compounds, bisphenol A diglycidyl ether, bisphenol F diglycidyl ether, bisphenol S diglycidyl ether, brominated bisphenol A diglycidyl ether, brominated bisphenol F di Glycidyl ether, brominated bisphenol S diglycidyl ether, hydrogenated bisphenol A diglycidyl ether, hydrogenated bisphenol F diglycidyl ether, hydrogenated bisphenol S diglycidyl ether, 1,4-butanediol diglycidyl Ether, 1,6-hexanediol diglycidyl ether, glycerin triglycidyl ether, trimethylolpropane triglycidyl ether, polyethylene glycol diglycidyl ether, polypropylene glycol diglycidyl ether; Polyglycidyl ethers of polyether polyols obtained by adding one or more alkylene oxides to aliphatic polyhydric alcohols such as ethylene glycol, propylene glycol, and glycerin; Diglycidyl esters of aliphatic long-chain dibasic acids; Monoglycidyl ethers of aliphatic higher alcohols; Monoglycidyl ethers of phenol, cresol, butylphenol, or polyether alcohols obtained by adding alkylene oxide to these; Glycidyl esters of higher fatty acids, etc. can be illustrated.

에폭시 화합물로서는, 추가로, 다염기산의 폴리글리시딜에스테르류, 다가 알코올의 폴리글리시딜에테르류, 폴리옥시알킬렌글리콜의 폴리글리시딜에테르류, 방향족 폴리올의 폴리글리시딜에테르류, 방향족 폴리올의 폴리글리시딜에테르류의 수소 첨가 화합물류, 우레탄폴리에폭시 화합물 및 에폭시화폴리부타디엔류 등을 들 수도 있다.Examples of the epoxy compound further include polyglycidyl esters of polybasic acids, polyglycidyl ethers of polyhydric alcohols, polyglycidyl ethers of polyoxyalkylene glycols, polyglycidyl ethers of aromatic polyols, and aromatics. Hydrogenated compounds of polyglycidyl ethers of polyols, urethane polyepoxy compounds, epoxidized polybutadienes, and the like can also be mentioned.

이들 성분 중, 지방족 환상 에폭시 화합물, 비스페놀A디글리시딜에테르, 비스페놀F디글리시딜에테르, 수첨 비스페놀A디글리시딜에테르, 수첨 비스페놀F디글리시딜에테르, 1,4-부탄디올디글리시딜에테르, 1,6-헥산디올디글리시딜에테르, 글리세린트리글리시딜에테르, 트리메틸올프로판트리글리시딜에테르, 네오펜틸글리콜디글리시딜에테르, 폴리에틸렌글리콜디글리시딜에테르, 폴리프로필렌글리콜디글리시딜에테르가 바람직하다.Among these components, alicyclic epoxy compounds, bisphenol A diglycidyl ether, bisphenol F diglycidyl ether, hydrogenated bisphenol A diglycidyl ether, hydrogenated bisphenol F diglycidyl ether, 1,4-butanediol digly Cidyl ether, 1,6-hexanediol diglycidyl ether, glycerin triglycidyl ether, trimethylolpropane triglycidyl ether, neopentyl glycol diglycidyl ether, polyethylene glycol diglycidyl ether, polypropylene glycol Diglycidyl ether is preferred.

글리시딜기 함유 화합물로서 호적(好適)하게 사용할 수 있는 시판품으로서는, UVR-6216(유니온 카바이드사제), 글리시돌, AOEX24, 사이크로마A200, (이상, 다이셀가가쿠고교샤제), 에피코트828, 에피코트812, 에피코트1031, 에피코트872, 에피코트CT508(이상, 유카쉘샤제), KRM-2400, KRM-2410, KRM-2408, KRM-2490, KRM-2720, KRM-2750(이상, 아사히덴카고교샤제) 등을 들 수 있다. 이들은, 1종 단독으로, 또는 2종 이상 조합해서 사용할 수 있다.Commercial products that can be suitably used as a glycidyl group-containing compound include UVR-6216 (manufactured by Union Carbide), glycidol, AOEX24, Cychroma A200, (above, manufactured by Daicel Chemical Industries, Ltd.), and Epicoat 828, Epicoat 812, Epicoat 1031, Epicoat 872, Epicoat CT508 (above, manufactured by Yucca Shell), KRM-2400, KRM-2410, KRM-2408, KRM-2490, KRM-2720, KRM-2750 (above, Asahi Tenka Kogyo Corporation), etc. are mentioned. These can be used alone or in combination of two or more.

또한, 이들 에폭시 화합물은 그 제법은 불문한다. 예를 들면, 마루젠KK슛판, 제4판 실험 화학 강좌20 유기 합성Ⅱ, 213∼, 1992년, Ed. by Alfred Hasfner, The chemistry of heterocyclic compounds-Small Ring Heterocycles part3 Oxiranes, John & Wiley and Sons, An Interscience Publication, New York, 1985, 요시무라, 접착, 29권 12호, 32, 1985, 요시무라, 접착, 30권 5호, 42, 1986, 요시무라, 접착, 30권 7호, 42, 1986, 일본국 특개평11-100378호 공보, 일본국 특허 제2906245호 공보, 일본국 특허 제2926262호 공보 등의 문헌을 참고로 해서 합성할 수 있다.In addition, the manufacturing method of these epoxy compounds is irrelevant. For example, Maruzen KK Shootpan, 4th Edition Experimental Chemistry Lecture 20 Organic Synthesis II, 213-, 1992, Ed. by Alfred Hasfner, The chemistry of heterocyclic compounds-Small Ring Heterocycles part3 Oxiranes, John & Wiley and Sons, An Interscience Publication, New York, 1985, Yoshimura, Adhesion, Vol. 29, No. 12, 32, 1985, Yoshimura, Adhesion, Vol. 30 5, 42, 1986, Yoshimura, Adhesion, Vol. 30, No. 7, 42, 1986, Japanese Patent Laid-Open No. 11-100378, Japanese Patent No. 2906245, Japanese Patent No. 2926262, etc. It can be synthesized as.

에폭시 화합물로서, 사용 조건에 맞춰서 2종 이상의 성분이 미리 혼합 조제되어 있는 시판의 에폭시 조성물을 사용해도 된다. 이들은, 접착제 또는 봉지제(封止劑) 등으로서 시판되어 있다. 시판품은, 예를 들면, 쓰리본드샤, EMI사, 데스크샤 등으로부터 입수할 수 있다. 구체적으로는, EMI사제 OPTOCAST(상표명)3505, 동 3506, 동 3553, 데스크샤제 A-1771(상품명) 등이 예시된다. 단, 본 발명은 이들로 한정되는 것은 아니다.As the epoxy compound, a commercially available epoxy composition in which two or more components are mixed and prepared in advance according to the conditions of use may be used. These are commercially available as adhesives or sealing agents. Commercially available products can be obtained from, for example, Three Bond Corporation, EMI Corporation, Desksha, and the like. Specifically, OPTOCAST (trade name) 3505 manufactured by EMI, 3506, 3553, A-1771 (trade name) manufactured by Desk Corporation, and the like are exemplified. However, the present invention is not limited to these.

상기 중합성 조성물은, 중합개시제를 함유할 수 있다. 구체적으로는, 중합개시제로서, 공지의 라디칼 중합개시제나 양이온 중합개시제를 함유할 수 있다. 중합개시제에 대해서는, 예를 들면, 일본국 특개2013-043382호 공보 단락0037, 일본국 특개2011-159924호 공보 단락0040∼0042를 참조할 수 있다. 중합개시제는, 중합성 조성물에 함유되는 중합성 화합물의 전량의 0.1몰% 이상인 것이 바람직하며, 0.5∼5몰%인 것이 보다 바람직하다. 단 후술하는 바와 같이, 산발생제가 중합성 화합물에 대해서 중합개시제로서 작용하는 경우도 있기 때문에, 중합개시제의 사용은 필수는 아니다. 중합개시제로서는, 광중합개시제 또는 열중합개시제를, 중합성 화합물의 종류에 따라서 적의(適宜) 선택해서 사용하면 된다. 중합 처리가 단시간으로 종료하는 점에서는 중합 처리는 광조사에 의해 행하는 것이 바람직하다. 따라서, 이 점에서는, 중합개시제로서는, 광중합개시제가 바람직하다.The polymerizable composition may contain a polymerization initiator. Specifically, as a polymerization initiator, a known radical polymerization initiator or a cationic polymerization initiator may be contained. Regarding the polymerization initiator, for example, Japanese Unexamined Patent Application Publication No. 2013-043382, paragraph 0037, and Japanese Patent Application Publication No. 2011-159924, paragraphs 0040 to 0042 can be referred to. The polymerization initiator is preferably 0.1 mol% or more of the total amount of the polymerizable compound contained in the polymerizable composition, and more preferably 0.5 to 5 mol%. However, as described later, since the acid generator may act as a polymerization initiator with respect to the polymerizable compound, the use of a polymerization initiator is not essential. As the polymerization initiator, a photopolymerization initiator or a thermal polymerization initiator may be appropriately selected and used according to the kind of the polymerizable compound. The polymerization treatment is preferably performed by light irradiation from the point that the polymerization treatment is completed in a short time. Therefore, in this respect, as a polymerization initiator, a photoinitiator is preferable.

후술하는 산발생제 중에는, 양이온 중합성 화합물의 중합을 개시 가능한 양이온 중합개시제로서 기능하는 것도 있다. 그러한 산발생제를 사용할 경우, 상기 조성물에 함유되는 중합성 화합물이, 상기 산발생제로부터의 프로톤산의 방출에 의해 중합 반응을 개시 가능한 양이온 중합성 화합물일 경우에는, 중합개시제를 별도 첨가하여 병용하는 것은 필수는 아니다. 한편, 밀착성의 추가적인 향상의 관점에서는, 중합성 화합물이 라디칼 중합성 화합물인 것이 바람직하다. 이 점에서 바람직한 중합성 화합물로서는, 앞서 기재한 단관능 (메타)아크릴레이트 화합물 및 다관능 (메타)아크릴레이트 화합물을 들 수 있다.Some of the acid generators described later function as a cationic polymerization initiator capable of initiating polymerization of a cationic polymerizable compound. In the case of using such an acid generator, when the polymerizable compound contained in the composition is a cationic polymerizable compound capable of initiating a polymerization reaction by release of a protonic acid from the acid generator, a polymerization initiator is separately added and used in combination. It is not necessary to do it. On the other hand, from the viewpoint of further improvement of adhesion, it is preferable that the polymerizable compound is a radical polymerizable compound. Preferable polymerizable compounds from this point of view include monofunctional (meth)acrylate compounds and polyfunctional (meth)acrylate compounds described above.

<실란 커플링제><Silane coupling agent>

상기 조성물은, 실란 커플링제를 함유한다. 이러한 조성물로부터, 예를 들면 도포법에 의해, 파장 변환층을 형성할 수 있다. 구체적으로는, 양자 도트 함유 중합성 조성물(경화성 조성물)을 기재 위 등에 도포하고, 다음으로 광조사 등에 의해 경화 처리를 실시함에 의해 파장 변환층을 얻을 수 있다. 여기에서 중합성 조성물로서, 양자 도트, 중합성 화합물과 함께, 실란 커플링제를 함유하는 조성물을 사용함에 의해, 실란 커플링제를 함유하는 파장 변환층을 형성할 수 있다. 실란 커플링제를 함유하는 중합성 조성물로 형성되는 파장 변환층은, 실란 커플링제에 의해, 인접층과의 밀착성을 강고한 것으로 할 수 있다. 이것은 주로, 파장 변환층에 함유되는 실란 커플링제가, 가수분해 반응이나 축합 반응에 의해, 인접층의 표면이나 인접층의 구성 성분과 공유 결합을 형성함에 의한 것으로 생각된다. 또한, 실란 커플링제가 라디칼 중합성기 등의 반응성 관능기를 가질 경우에는, 파장 변환층의 형성에 사용되는 중합성 화합물과 가교 구조를 형성하는 것도, 파장 변환층과 인접층과의 밀착성 향상에 기여할 수 있을 것으로 생각된다. 이 점에서는, 상기 조성물에 함유되는 중합성 화합물과의 가교 반응성이 양호한 반응성 관능기를 갖는 실란 커플링제를 사용하는 것도 바람직하다. 실란 커플링제가 가질 수 있는 반응성 관능기로서는, 예를 들면, 비닐기, 에폭시기, 스티릴기, (메타)아크릴기, 아미노기, 우레이도기, 메르캅토기, 설피드기, 이소시아네이트기 등을 들 수 있다.The composition contains a silane coupling agent. From such a composition, a wavelength conversion layer can be formed by, for example, a coating method. Specifically, a wavelength conversion layer can be obtained by applying a quantum dot-containing polymerizable composition (curable composition) on a substrate or the like, followed by curing treatment by light irradiation or the like. Here, a wavelength conversion layer containing a silane coupling agent can be formed by using a composition containing a silane coupling agent together with a quantum dot and a polymerizable compound as the polymerizable composition. The wavelength conversion layer formed from the polymerizable composition containing a silane coupling agent can be made to have strong adhesion to an adjacent layer by means of a silane coupling agent. This is considered mainly because the silane coupling agent contained in the wavelength conversion layer forms a covalent bond with the surface of the adjacent layer or the constituent components of the adjacent layer by a hydrolysis reaction or a condensation reaction. In addition, when the silane coupling agent has a reactive functional group such as a radical polymerizable group, forming a crosslinked structure with the polymerizable compound used for forming the wavelength conversion layer can also contribute to improving the adhesion between the wavelength conversion layer and the adjacent layer. I think there will be. From this point of view, it is also preferable to use a silane coupling agent having a reactive functional group having good crosslinking reactivity with the polymerizable compound contained in the composition. Examples of the reactive functional group that the silane coupling agent may have include a vinyl group, an epoxy group, a styryl group, a (meth)acrylic group, an amino group, a ureido group, a mercapto group, a sulfide group, an isocyanate group, and the like.

단 앞서 기재한 바와 같이, 실란 커플링제의 반응에 우선해서 중합성 화합물의 중합 반응이 진행해버리는 것은, 실란 커플링제가 상기와 같이 반응하여 인접층과의 밀착성 향상에 기여하는 것의 장해가 될 것으로 생각된다. 이에 대하여, 상세를 후술하는 산발생제를 상기 조성물에 첨가하여 프로톤산을 발생시키는 에너지를 부여하는 공정을 거쳐 파장 변환층을 형성함에 의해, 인접층과의 밀착성을 향상할 수 있다. 이것은, 산발생제에 의해 발생하는 프로톤산에 의하여, 실란 커플링제의 반응이 촉진되기 때문인 것으로, 본 발명자들은 추찰하고 있다.However, as previously described, the fact that the polymerization reaction of the polymerizable compound proceeds in preference to the reaction of the silane coupling agent is considered to be a hindrance to the reaction of the silane coupling agent as described above and contributing to the improvement of adhesion with the adjacent layer. . On the other hand, by forming a wavelength conversion layer through a step of adding an acid generator, which will be described in detail later, to the composition to impart energy to generate protonic acid, adhesion with an adjacent layer can be improved. This is because the reaction of the silane coupling agent is accelerated by the protonic acid generated by the acid generator, and the present inventors speculate.

실란 커플링제로서는, 공지의 실란 커플링제를, 하등 제한 없이 사용할 수 있다. 밀착성의 관점에서 바람직한 실란 커플링제로서는, 비닐트리클로로실란, 비닐트리메톡시실란, 비닐트리에톡시실란, 2-(3,4-에폭시시클로헥실)에틸트리메톡시실란, 3-글리시독시프로필트리메톡시실란, 2-(3,4-에폭시시클로헥실)에틸트리메톡시실란, 3-글리시독시프로필트리메톡시실란, 3-글리시독시프로필메틸디에톡시실란, 3-글리시독시프로필트리에톡시실란, p-스티릴트리메톡시실란, 3-메타크릴옥시프로필메틸디메톡시실란, 3-메타크릴옥시프로필트리메톡시실란, 3-메타크릴옥시프로필메틸디에톡시실란, 3-메타크릴옥시프로필트리에톡시실란, 3-아크릴옥시프로필트리메톡시실란, N-2-(아미노에틸)-3-아미노프로필메틸디메톡시실란, N-2-(아미노에틸)-3-아미노프로필트리메톡시실란, N-2-(아미노에틸)-3-아미노프로필트리에톡시실란, 3-아미노프로필트리메톡시실란, 3-아미노프로필트리에톡시실란, 3-트리에톡시실릴-N-(1,3-디메틸-부틸리덴)프로필아민과 그 부분 가수분해물, 3-트리메톡시실릴-N-(1,3-디메틸-부틸리덴)프로필아민과 그 부분 가수분해물, N-페닐-3-아미노프로필트리메톡시실란, 3-메르캅토프로필메틸디메톡시실란, 3-메르캅토프로필트리메톡시실란, 3-이소시아네이트프로필트리에톡시실란 등을 들 수 있다. 그 중에서도, 비닐, 에폭시, (메타)아크릴로일옥시, 아미노, 이소시아네이트 변성의 실란 커플링제가 바람직하며, 특히 바람직하게는, (메타)아크릴로일옥시 변성의 실란 커플링제이다. 이들 실란 커플링제는 예를 들면 신에츠가가쿠고교샤의 것을 사용할 수 있다.As the silane coupling agent, a known silane coupling agent can be used without any limitation. Preferred silane coupling agents from the viewpoint of adhesion include vinyl trichlorosilane, vinyl trimethoxysilane, vinyl triethoxysilane, 2-(3,4-epoxycyclohexyl)ethyltrimethoxysilane, and 3-glycidoxypropyl Trimethoxysilane, 2-(3,4-epoxycyclohexyl)ethyltrimethoxysilane, 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane, 3-glycidoxypropylmethyldiethoxysilane, 3-glycidoxypropyl Triethoxysilane, p-styryltrimethoxysilane, 3-methacryloxypropylmethyldimethoxysilane, 3-methacryloxypropyltrimethoxysilane, 3-methacryloxypropylmethyldiethoxysilane, 3-methacryloxypropylmethyldimethoxysilane Acryloxypropyltriethoxysilane, 3-acryloxypropyltrimethoxysilane, N-2-(aminoethyl)-3-aminopropylmethyldimethoxysilane, N-2-(aminoethyl)-3-aminopropyltri Methoxysilane, N-2-(aminoethyl)-3-aminopropyltriethoxysilane, 3-aminopropyltrimethoxysilane, 3-aminopropyltriethoxysilane, 3-triethoxysilyl-N-( 1,3-dimethyl-butylidene)propylamine and its partial hydrolyzate, 3-trimethoxysilyl-N-(1,3-dimethyl-butylidene)propylamine and its partial hydrolyzate, N-phenyl- 3-aminopropyltrimethoxysilane, 3-mercaptopropylmethyldimethoxysilane, 3-mercaptopropyltrimethoxysilane, 3-isocyanate propyltriethoxysilane, etc. are mentioned. Among them, vinyl, epoxy, (meth)acryloyloxy, amino, and isocyanate-modified silane coupling agents are preferred, and particularly preferably (meth)acryloyloxy-modified silane coupling agents. These silane coupling agents can be used, for example, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.

또한, 실란 커플링제로서는, 일본국 특개2013-43382호 공보에 기재된 일반식(1)으로 표시되는 실란 커플링제를 들 수 있다. 상세에 대해서는, 일본국 특개2013-43382호 공보 단락0011∼0016의 기재를 참조할 수 있다.Moreover, as a silane coupling agent, the silane coupling agent represented by General formula (1) described in Unexamined-Japanese-Patent No. 2013-43382 is mentioned. For details, reference can be made to the description of Japanese Unexamined Patent Application Publication No. 2013-43382, paragraphs 0111 to 0016.

실란 커플링제는, 인접층과의 밀착성을 한층 더 향상하는 관점에서는, 중합성 조성물 중에, 1∼30질량%의 범위로 함유되는 것이 바람직하며, 보다 바람직하게는 3∼30질량%이고, 더 바람직하게는 5∼25질량%이다.From the viewpoint of further improving the adhesion to the adjacent layer, the silane coupling agent is preferably contained in the range of 1 to 30% by mass, more preferably 3 to 30% by mass, and still more preferably in the polymerizable composition. It is 5 to 25 mass %.

<산발생제><Acid Generator>

상기 조성물은, 이상 기재한 성분과 함께, 에너지 부여에 의해 프로톤산을 발생시키는 산발생제를 함유한다. 이러한 산발생제는, 통상, 음이온부X-와 양이온부Y+를 포함하는 이온성의 화합물 또는 염으로서, 에너지 부여에 의해 분해하여 용매 또는 산발생제 자체로부터 프로톤H+를 끌어냄에 의해, 프로톤산XH를 발생시킬 수 있다. 여기에서 프로톤산이란, 프로톤H+를 방출 가능한 화합물을 말한다.The composition contains, together with the components described above, an acid generator that generates protonic acid by imparting energy. Such an acid generator is usually an ionic compound or salt containing an anion moiety X − and a cation moiety Y +, and decomposes by imparting energy to extract the proton H + from the solvent or the acid generator itself. Acid XH can be generated. Here, protonic acid refers to a compound capable of releasing proton H +.

산발생제로부터 프로톤산을 발생시키기 위한 에너지 부여 방법은, 특히 한정되는 것은 아니며, 광조사, 가열 처리, 방사선, 전자파(電磁波) 등의 활성 에너지선의 조사 등을 들 수 있다. 바람직하게는, 광조사 및 가열 처리이다. 즉, 산발생제로서는, 광산발생제 및 열산발생제로 이루어지는 군에서 선택되는 것이 바람직하다. 광산발생제에 에너지를 부여하기 위하여 조사되는 광은, 예를 들면 자외선이지만, 상기 조성물에 함유되는 산발생제가 프로톤산을 발생시킬 수 있는 광조사를 행할 수 있으면, 조사하는 광의 파장은 한정되는 것은 아니다. 또한, 에너지 부여 조건, 예를 들면 광조사 조건, 가열 조건도, 상기 조성물에 함유되는 산발생제가 프로톤산을 발생시킬 수 있는 조건으로 하면 되며, 특히 한정되는 것은 아니다.The method of imparting energy for generating the protonic acid from the acid generator is not particularly limited, and examples thereof include light irradiation, heat treatment, radiation, and irradiation of active energy rays such as electromagnetic waves. Preferably, they are light irradiation and heat treatment. That is, the acid generator is preferably selected from the group consisting of a photoacid generator and a thermal acid generator. The light irradiated to impart energy to the photoacid generator is, for example, ultraviolet light, but if the acid generator contained in the composition can perform light irradiation capable of generating protonic acid, the wavelength of the irradiated light is limited. no. In addition, conditions for applying energy, such as light irradiation conditions and heating conditions, may also be conditions in which the acid generator contained in the composition can generate protonic acid, and are not particularly limited.

(광산발생제)(Mine generator)

광산발생제로서는, 예를 들면, 디아조늄염, 암모늄염, 포스포늄염, 요오도늄염, 설포늄염, 셀레노늄염, 아르소늄염 등의 오늄염, 유기 할로겐 화합물, 유기 금속/유기 할로겐화물, o-니트로벤질형 보호기를 갖는 광산발생제, 이미노설포네이트 등으로 대표되는 광분해해서 설폰산을 발생시키는 화합물, 디설폰 화합물, 디아조케토설폰, 디아조디설폰 화합물 등을 들 수 있다. 또한, 트리아진류, 제4급암모늄염류, 디아조메탄 화합물, 이미드설포네이트 화합물, 옥심설포네이트 화합물을 들 수도 있다.Examples of the photoacid generator include onium salts such as diazonium salts, ammonium salts, phosphonium salts, iodonium salts, sulfonium salts, selenonium salts, and arsenium salts, organic halogen compounds, organic metal/organic halides, o -A photoacid generator having a nitrobenzyl-type protecting group, a compound that generates sulfonic acid by photolysis, such as iminosulfonate, etc., a disulfone compound, a diazoketosulfone, a diazodisulfone compound, and the like. Further, triazines, quaternary ammonium salts, diazomethane compounds, imide sulfonate compounds, and oxime sulfonate compounds are also mentioned.

또한, 광에 의해 산을 발생시키는 기, 또는 화합물을 폴리머의 주쇄 또는 측쇄에 도입한 화합물을 사용할 수 있다.In addition, a group that generates an acid by light or a compound in which a compound is introduced into the main chain or side chain of the polymer can be used.

또한, V. N. R. Pillai, Synthesis, (1), 1 (1980), A. Abad et al., Tetrahedron Lett., (47) 4555 (1971), D. H. R. Barton et al., J. Chem. Soc., (C), 329 (1970), 미국 특허 제3,779,778호, 유럽 특허 제126,712호 등에 기재된 광에 의해 산을 발생시키는 화합물도 사용할 수 있다.In addition, V. N. R. Pillai, Synthesis, (1), 1 (1980), A. Abad et al., Tetrahedron Lett., (47) 4555 (1971), D. H. R. Barton et al., J. Chem. Soc., (C), 329 (1970), U.S. Patent No. 3,779,778, European Patent No. 126,712 and the like described in the compound that generates an acid by light can also be used.

또한, 광산발생제의 구체예로서는, 하기 <A-1>∼<A-4>를 들 수 있다.Moreover, as a specific example of a photoacid generator, the following <A-1>-<A-4> are mentioned.

<A-1> : 트리할로메틸기가 치환한 하기 일반식(PAG1)으로 표시되는 옥사졸 유도체 또는 하기 일반식(PAG2)으로 표시되는 S-트리아진 유도체.<A-1>: An oxazole derivative represented by the following general formula (PAG1) substituted by a trihalomethyl group or an S-triazine derivative represented by the following general formula (PAG2).

Figure 112015046624822-pat00001
Figure 112015046624822-pat00001

식 중, R201은 치환 또는 미치환의 아릴기, 알케닐기를, R202은 치환 또는 미치환의 아릴기, 알케닐기, 알킬기, -C(Y)3를 나타낸다. Y는 염소 원자 또는 브롬 원자를 나타낸다.In the formula, R 201 represents a substituted or unsubstituted aryl group or an alkenyl group, and R 202 represents a substituted or unsubstituted aryl group, an alkenyl group, an alkyl group, or -C(Y) 3 . Y represents a chlorine atom or a bromine atom.

구체적으로는 이하의 화합물을 들 수 있지만, 이들로 한정되는 것은 아니다.Specifically, although the following compounds are mentioned, it is not limited to these.

Figure 112015046624822-pat00002
Figure 112015046624822-pat00002

<A-2> : 하기의 일반식(PAG3)으로 표시되는 요오도늄염, 또는 일반식(PAG4)으로 표시되는 설포늄염.<A-2>: An iodonium salt represented by the following general formula (PAG3), or a sulfonium salt represented by the general formula (PAG4).

Figure 112015046624822-pat00003
Figure 112015046624822-pat00003

식 중, Ar1, Ar2은, 각각 독립적으로, 치환 또는 미치환의 아릴기를 나타낸다. R203, R204, R205은, 각각 독립적으로, 치환 또는 미치환의 알킬기, 아릴기를 나타낸다.In the formula, Ar 1 and Ar 2 each independently represent a substituted or unsubstituted aryl group. Each of R 203 , R 204 , and R 205 independently represents a substituted or unsubstituted alkyl group or an aryl group.

Z-는 쌍음이온을 나타내며, 예를 들면, BF4 -, AsF6 -, PF6 -, SbF6 -, SiF6 2 -, ClO4 -, CF3SO3 - 등의 퍼플루오로알칸설폰산 음이온, 캠퍼설폰산 음이온 등의 알킬설폰산 음이온, 펜타플루오로벤젠설폰산 음이온, 벤젠설폰산 음이온, 트리이소프로필벤젠설폰산 음이온 등의 방향족 설폰산 음이온, 나프탈렌-1-설폰산 음이온 등의 축합 다핵 방향족 설폰산 음이온, 안트라퀴논설폰산 음이온, 설폰산기 함유 염료 등을 들 수 있지만, 이들로 한정되는 것은 아니다. 또한, 이들 음이온종은, 추가로 치환기를 갖고 있어도 된다.Z - is a pair denotes an anion, for example, BF 4 -, AsF 6 - , PF 6 -, SbF 6 -, SiF 6 2 -, ClO 4 -, CF 3 SO 3 - , such as alkane sulfonic acid perfluoro Condensation of aromatic sulfonic acid anions such as anions, camphorsulfonic acid anions, alkylsulfonic acid anions, pentafluorobenzenesulfonic acid anions, benzenesulfonic acid anions, and triisopropylbenzenesulfonic acid anions Polynuclear aromatic sulfonic acid anions, anthraquinonesulfonic acid anions, sulfonic acid group-containing dyes, etc. are mentioned, but the present invention is not limited thereto. In addition, these anionic species may further have a substituent.

또한 R203, R204, R205 중의 2개 및 Ar1, Ar2은 각각의 단결합 또는 치환기를 개재해서 결합해도 된다.Further, two of R 203 , R 204 and R 205 , and Ar 1 and Ar 2 may be bonded via respective single bonds or substituents.

구체예로서는 이하에 나타내는 화합물을 들 수 있지만, 이들로 한정되는 것은 아니다.Although the compounds shown below are mentioned as a specific example, it is not limited to these.

Figure 112015046624822-pat00004
Figure 112015046624822-pat00004

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일반식(PAG3), (PAG4)으로 표시되는 상기 오늄염은 공지이며, 예를 들면, J. W. Knapczyk et al., J. Am. Chem. Soc., 91, 145 (1969), A. L. Maycok et al., J. Org. Chem., 35, 2532, (1970), E. Goethas et al., Bull. Soc. Chem. Belg., 73, 546, (1964), H. M. Leicester, J. Ame. Chem. Soc., 51, 3587 (1929), J. V. Crivello et al., J. Polym. Chem. Ed., 18, 2677 (1980), 미국 특허 제2,807,648호 및 동 4,247,473호, 일본국 특개소53-101,331호 등에 기재된 방법에 의해 합성할 수 있다.The onium salts represented by the general formulas (PAG3) and (PAG4) are known and, for example, J. W. Knapczyk et al., J. Am. Chem. Soc., 91, 145 (1969), A. L. Maycok et al., J. Org. Chem., 35, 2532, (1970), E. Goethas et al., Bull. Soc. Chem. Belg., 73, 546, (1964), H. M. Leicester, J. Ame. Chem. Soc., 51, 3587 (1929), J. V. Crivello et al., J. Polym. Chem. Ed., 18, 2677 (1980), U.S. Patent Nos. 2,807,648 and 4,247,473, and Japanese Patent Laid-Open No. 53-101,331, etc., can be synthesized.

<A-3> : 하기 일반식(PAG5)으로 표시되는 디설폰 유도체 또는 일반식(PAG6)으로 표시되는 이미노설포네이트 유도체.<A-3>: A disulfone derivative represented by the following general formula (PAG5) or an iminosulfonate derivative represented by the general formula (PAG6).

Figure 112015046624822-pat00011
Figure 112015046624822-pat00011

식 중, Ar3, Ar4은 각각 독립적으로 치환 또는 미치환의 아릴기를 나타낸다. R206은 치환 또는 미치환의 알킬기, 아릴기를 나타낸다. A는 치환 또는 미치환의 알킬렌기, 알케닐렌기, 아릴렌기를 나타낸다.In the formula, Ar 3 and Ar 4 each independently represent a substituted or unsubstituted aryl group. R 206 represents a substituted or unsubstituted alkyl group or an aryl group. A represents a substituted or unsubstituted alkylene group, alkenylene group, or arylene group.

구체예로서는 이하에 나타내는 화합물을 들 수 있지만, 이들로 한정되는 것은 아니다.Although the compounds shown below are mentioned as a specific example, it is not limited to these.

Figure 112015046624822-pat00012
Figure 112015046624822-pat00012

Figure 112015046624822-pat00013
Figure 112015046624822-pat00013

Figure 112015046624822-pat00014
Figure 112015046624822-pat00014

<A-4> : 하기 일반식(PAG7)으로 표시되는 디아조디설폰 유도체.<A-4>: Diazodisulfone derivative represented by the following general formula (PAG7).

Figure 112015046624822-pat00015
Figure 112015046624822-pat00015

식 중, R은, 직쇄, 분기 또는 환상 알킬기, 또는 치환해 있어도 되는 아릴기를 나타낸다.In the formula, R represents a linear, branched or cyclic alkyl group, or an optionally substituted aryl group.

구체예로서는 이하에 나타내는 화합물을 들 수 있지만, 이들로 한정되는 것은 아니다.Although the compounds shown below are mentioned as a specific example, it is not limited to these.

Figure 112015046624822-pat00016
Figure 112015046624822-pat00016

(열산발생제)(Heat acid generator)

열산발생제로서는, 산과 유기 염기로 이루어지는 염을 들 수 있다.Examples of the thermal acid generator include salts composed of an acid and an organic base.

상기한 산으로서는, 설폰산, 포스폰산, 카르복시산 등 유기산이나 황산, 인산과 같은 무기산을 들 수 있다. 매트릭스에 대한 상용성의 관점에서는, 유기산이 보다 바람직하며, 설폰산, 포스폰산이 더 바람직하고, 설폰산이 가장 바람직하다. 바람직한 설폰산으로서는, p-톨루엔설폰산(PTS), 벤젠설폰산(BS), p-도데실벤젠설폰산(DBS), p-클로로벤젠설폰산(CBS), 1,4-나프탈렌디설폰산(NDS), 메탄설폰산(MsOH), 노나플루오로부탄-1-설폰산(NFBS) 등을 들 수 있으며, 어느 것도 바람직하게 사용할 수 있다(( ) 내는 약칭).Examples of the acid include organic acids such as sulfonic acid, phosphonic acid, and carboxylic acid, and inorganic acids such as sulfuric acid and phosphoric acid. From the viewpoint of compatibility with the matrix, organic acids are more preferable, sulfonic acid and phosphonic acid are more preferable, and sulfonic acid is most preferable. Preferred sulfonic acids include p-toluenesulfonic acid (PTS), benzenesulfonic acid (BS), p-dodecylbenzenesulfonic acid (DBS), p-chlorobenzenesulfonic acid (CBS), and 1,4-naphthalenedisulfonic acid ( NDS), methanesulfonic acid (MsOH), nonafluorobutane-1-sulfonic acid (NFBS), and the like, and any can be preferably used (abbreviated in ()).

산과 함께 염을 형성하는 유기 염기의 염기성에 대해서는, 공역산(共役酸)의 pKa를 사용해서 나타내면, pKa는 5.0∼10.5인 것이 바람직하며, 6.0∼10.0인 것이 보다 바람직하고, 6.5∼10.0인 것이 더 바람직하다. 유기 염기의 pKa의 값은 수용액 중에서의 값이 화학 편람 기초편(개정 5판, 일본화학회편, 마루젠, 2004년) 제2권의 Ⅱ-334∼340페이지에 기재가 있으므로, 그 중에서 적당한 pKa를 갖는 유기 염기를 선택할 수 있다. 또한, 상기 문헌에 기재가 없어도 구조상 적당한 pKa를 가질 것으로 추정할 수 있는 화합물도 바람직하게 사용할 수 있다. 하기 표에 상기 문헌에 기재된 적당한 pKa를 갖는 화합물을 나타내지만, 본 발명은 이들로 한정되는 것은 아니다.About the basicity of an organic base forming a salt with an acid, when expressed using the pKa of a conjugated acid, the pKa is preferably 5.0 to 10.5, more preferably 6.0 to 10.0, and 6.5 to 10.0. More preferable. The pKa value of the organic base in the aqueous solution is described on pages Ⅱ-334 to 340 of Vol. 2 of the Basic Chemistry Handbook (Revised 5th edition, Japanese Chemical Society edition, Maruzen, 2004). It is possible to select an organic base having Further, a compound which can be estimated to have an appropriate pKa structurally even if there is no description in the above document can also be preferably used. In the following table, compounds having a suitable pKa described in the above documents are shown, but the present invention is not limited thereto.

[표 1] [Table 1]

Figure 112015046624822-pat00017
Figure 112015046624822-pat00017

한편, 유기 염기의 비점이 낮은 편이 가열 시의 산 발생 효율이 높아, 실란 커플링제의 반응 촉진의 관점에서는 바람직하다. 따라서, 적당한 비점을 갖는 유기 염기를 사용하는 것이 바람직하다. 유기 염기의 비점으로서는, 120℃ 이하인 것이 바람직하며, 80℃ 이하인 것이 보다 바람직하고, 70℃ 이하인 것이 더 바람직하다.On the other hand, the lower the boiling point of the organic base is, the higher the acid generation efficiency during heating, and is preferable from the viewpoint of promoting the reaction of the silane coupling agent. Therefore, it is preferable to use an organic base having an appropriate boiling point. As the boiling point of the organic base, it is preferably 120°C or less, more preferably 80°C or less, and still more preferably 70°C or less.

열산발생제의 구체예로서는, 예를 들면 이하의 화합물을 들 수 있지만, 이들로 한정되는 것은 아니다. ( ) 내는 비점을 나타낸다.Specific examples of the thermal acid generator include, for example, the following compounds, but are not limited thereto. () Indicates the boiling point.

b-3 : 피리딘(115℃), b-14 : 4-메틸모르폴린(115℃), b-20 : 디알릴메틸아민(111℃), b-19 : 트리에틸아민(88.8℃), b-21 : t-부틸메틸아민(67∼69℃), b-22 : 디메틸이소프로필아민(66℃), b-23 : 디에틸메틸아민(63∼65℃), b-24 : 디메틸에틸아민(36∼38℃).b-3: pyridine (115°C), b-14: 4-methylmorpholine (115°C), b-20: diallylmethylamine (111°C), b-19: triethylamine (88.8°C), b -21: t-butylmethylamine (67 to 69°C), b-22: dimethylisopropylamine (66°C), b-23: diethylmethylamine (63 to 65°C), b-24: dimethylethylamine (36-38°C).

유기 염기의 비점은 35℃ 이상 120℃ 이하인 것이 바람직하며, 40℃ 이상 115℃ 이하인 것이 더 바람직하다.The boiling point of the organic base is preferably 35°C or more and 120°C or less, and more preferably 40°C or more and 115°C or less.

상기한 열산발생제는, 산과 유기 염기로 이루어지는 염을 단리해서 사용해도 되고, 산과 유기 염기를 혼합해서 용액 중에서 염을 형성시켜, 그 용액을 사용해도 된다. 또한, 산, 유기 염기 모두 1종류만으로 사용해도 되고, 복수 종류의 것을 혼합해서 사용해도 된다. 산과 유기 염기를 혼합해서 사용할 때에는, 산과 유기 염기의 당량비가 1:0.9∼1.5로 되도록 혼합하는 것이 바람직하며, 1:0.95∼1.3으로 되도록 혼합하는 것이 보다 바람직하고, 1:1.0∼1.1로 되도록 혼합하는 것이 더 바람직하다.The above-described thermal acid generator may be used by isolating a salt composed of an acid and an organic base, or may be used by mixing an acid and an organic base to form a salt in a solution. In addition, both of an acid and an organic base may be used alone, or a plurality of types may be mixed and used. When an acid and an organic base are mixed and used, the mixture is preferably mixed so that the equivalent ratio of the acid and the organic base is 1: 0.9 to 1.5, more preferably 1: 0.95 to 1.3, and 1: 1.0 to 1.1. It is more preferable to do it.

(산발생제의 분자량)(Molecular weight of acid generator)

상기 산발생제가 에너지가 부여됨에 의해 발생되는 프로톤산(상술한 XH)의 분자량은, 특히 한정되는 것은 아니다. 발생한 프로톤산에 의해 실란 커플링제의 반응이 촉진될 것으로 생각되지만, 이 반응이 인접층과의 계면에서 진행하는 것이, 파장 변환층과 인접층과의 계면의 밀착성을 향상하기 위해서는 바람직하다. 이를 위해서는, 발생한 프로톤산이 비교적 저분자량으로서 파장 변환층 내에서의 이동성이 양호한 것이 바람직한 것으로, 본 발명자들은 추찰하고 있다. 이 점에서, 발생하는 프로톤산의 분자량은, 바람직하게는 500 이하이며, 보다 바람직하게는 300 이하이고, 더 바람직하게는 200 이하이고, 한층 더 바람직하게는 100 이하이다. 상기 분자량의 하한값은, 예를 들면 30 이상이지만, 특히 한정되는 것은 아니다.The molecular weight of the protonic acid (described above XH) generated by the application of energy to the acid generator is not particularly limited. Although it is thought that the reaction of the silane coupling agent will be accelerated by the generated protonic acid, it is preferable that the reaction proceeds at the interface with the adjacent layer in order to improve the adhesion of the interface between the wavelength conversion layer and the adjacent layer. For this purpose, the present inventors speculate that it is preferable that the generated protonic acid has a relatively low molecular weight and has good mobility in the wavelength conversion layer. In this respect, the molecular weight of the protonic acid to be generated is preferably 500 or less, more preferably 300 or less, further preferably 200 or less, and even more preferably 100 or less. The lower limit of the molecular weight is, for example, 30 or more, but is not particularly limited.

(산발생제의 첨가량)(Amount of acid generator added)

이상 설명한 산발생제는, 상기 조성물에, 예를 들면 상기 중합성 화합물 전량 100질량부에 대해서 0.01∼30질량부, 바람직하게는 0.1∼20질량부, 더 바람직하게는 0.5∼5질량부 함유할 수 있다.The acid generator described above may be contained in the composition, for example, 0.01 to 30 parts by mass, preferably 0.1 to 20 parts by mass, more preferably 0.5 to 5 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the total amount of the polymerizable compound. I can.

<그 외 성분><Other ingredients>

본 발명의 일 태양에 따른 양자 도트 함유 중합성 조성물은, 이상 기재한 성분, 및 임의로 첨가 가능한 공지의 첨가제를 필요에 따라서 사용함에 의해 조제할 수 있다. 예를 들면, 상기 성분, 및 필요에 따라서 첨가되는 1종 이상의 공지의 첨가제를, 동시 또는 순차 혼합해서 양자 도트 함유 중합성 조성물을 조제할 수 있다. 첨가제의 사용량은 특히 한정되는 것은 아니며, 적의 설정가능하다. 또한, 양자 도트 함유 중합성 조성물의 점도 등을 위하여, 필요에 따라서 용매를 첨가해도 된다. 이 경우에 사용되는 용매의 종류 및 첨가량은, 특히 한정되는 것은 아니다. 예를 들면 용매로서, 유기 용매를 1종 또는 2종 이상 혼합해서 사용할 수 있다.The quantum dot-containing polymerizable composition according to an aspect of the present invention can be prepared by using the components described above and a known additive that can be optionally added, if necessary. For example, a quantum dot-containing polymerizable composition can be prepared by simultaneously or sequentially mixing the above components and one or more known additives added as necessary. The amount of the additive used is not particularly limited and can be set appropriately. Further, for the viscosity of the quantum dot-containing polymerizable composition, etc., a solvent may be added as necessary. The type and amount of the solvent used in this case are not particularly limited. For example, as a solvent, organic solvents can be used alone or in combination of two or more.

앞서 기재한 바와 같이, 상기 조성물은, 에너지 부여에 의해 프로톤산을 발생시키는 산발생제를 함유한다. 이에 대하여, 프로톤산 그 자체를 조성물에 첨가하는 것은, 조성물의 액안정성의 관점에서는 바람직하지 않다. 프로톤산은, 조성물에 첨가되면 프로톤을 방출하기 때문에, 실란 커플링제의 반응이 급격히 진행하는 결과, 조성물 중에 괴상(塊狀)의 이물이 발생하는(액안정성이 저하함) 것이 우려된다. 또한, 인접층과의 계면의 밀착성 향상에 기여하기 전에 실란 커플링제가 괴상으로 고화해버리기 때문에, 실란 커플링제에 의한 인접층과의 밀착성 향상을 방해할 우려가 있다. 이에 대하여, 에너지 부여(트리거)에 의해 프로톤산을 발생시키는 산발생제이면, 예를 들면 상기 조성물을 인접층 표면과 접촉시킨 후에 에너지 부여를 행함에 의하여 프로톤산을 발생시킬 수 있다. 이렇게 해서 산발생제로부터 발생된 프로톤산에 의해 실란 커플링제의 반응이 촉진되는 결과, 인접층과의 밀착성 향상이 가능해질 것으로, 본 발명자들은 추찰하고 있다.As described above, the composition contains an acid generator that generates protonic acid by application of energy. On the other hand, adding the protonic acid itself to the composition is not preferable from the viewpoint of liquid stability of the composition. When protonic acid is added to the composition, protons are released, and as a result of the rapid reaction of the silane coupling agent, there is a concern that bulky foreign matters are generated in the composition (liquid stability decreases). In addition, since the silane coupling agent solidifies into a mass before contributing to the improvement of the adhesion at the interface with the adjacent layer, there is a concern that the improvement of the adhesion with the adjacent layer by the silane coupling agent may be hindered. On the other hand, if an acid generator that generates protonic acid by application of energy (trigger), for example, protonic acid can be generated by applying energy after bringing the composition into contact with the surface of the adjacent layer. As a result of the reaction of the silane coupling agent being accelerated by the protonic acid generated from the acid generator in this way, the present inventors speculate that it is possible to improve the adhesion with the adjacent layer.

이상의 관점에서는, 상기 조성물은, 에너지 부여에 의해 프로톤산을 발생시키는 형태가 아닌 상태의 프로톤산을 다량으로 함유하지 않는 것이 바람직하다. 구체적으로는, 그러한 프로톤산의 함유량은, 실란 커플링제 100질량부에 대해서 20질량부 이하인 것이 바람직하며, 10질량부 이하인 것이 바람직하고, 5질량부 이하인 것이 보다 바람직하고, 0질량부인 것이 가장 바람직하다.From the above point of view, it is preferable that the composition does not contain a large amount of protonic acid in a state in which protonic acid is not generated by application of energy. Specifically, the content of such a protonic acid is preferably 20 parts by mass or less, preferably 10 parts by mass or less, more preferably 5 parts by mass or less, and most preferably 0 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the silane coupling agent. Do.

[파장 변환 부재][Wavelength conversion member]

본 발명의 추가적인 태양은,A further aspect of the invention,

상기 양자 도트 함유 중합성 조성물에, 산발생제로부터 프로톤산을 발생시키는 에너지 부여 및 중합 처리를 동시 또는 순차 실시하여 형성된 파장 변환층, 그리고,A wavelength conversion layer formed by simultaneously or sequentially subjecting the quantum dot-containing polymerizable composition to energy for generating a protonic acid from an acid generator and performing polymerization treatment, and,

파장 변환층의 한쪽의 주표면과 인접하는 인접층,An adjacent layer adjacent to one major surface of the wavelength conversion layer,

을 적어도 포함하는 파장 변환 부재,A wavelength conversion member comprising at least a,

에 관한 것이다.It is about.

이하, 상기 파장 변환 부재에 대하여, 더 상세히 설명한다.Hereinafter, the wavelength conversion member will be described in more detail.

<파장 변환층의 형성 방법><Method of forming a wavelength conversion layer>

파장 변환층은, 상기 양자 도트 함유 중합성 조성물에, 상술한 산발생제로부터 프로톤산을 발생시키는 에너지 부여 및 중합 처리를 동시 또는 순차 실시하여 형성된 층이다. 예를 들면, 산발생제가 광산발생제이며, 또한 중합성 조성물의 중합 처리를 광조사에 의해 행하는 태양에 있어서는, 에너지 부여 및 중합 처리는, 동시에, 즉 1공정으로서 행할 수 있다. 이 점은, 산발생제가 열산발생제이고, 중합 처리를 가열에 의해 행하는 태양에 대해서도 마찬가지이다. 한편, 산발생제가 열산발생제이고, 중합 처리는 광조사에 의해 행하는 태양에서는, 에너지 부여(가열)와 중합 처리(광조사)는 순차, 다른 공정으로서 행해진다. 이 점은, 산발생제가 광산발생제이고, 중합 처리는 가열에 의해 행하는 태양에 대해서도 마찬가지이다. 이렇게 에너지 부여와 중합 처리가 다른 공정에서 행해질 경우에는, 에너지 부여를 행한 후에 중합 처리를 행하는 것이 바람직하다. 에너지 부여에 의해 실란 커플링제의 반응을 촉진한 후에 중합 처리를 행하는 것이, 한층 더 파장 변환층과 인접층과의 밀착성의 향상에 기여할 것으로 생각되기 때문이다. 또한, 에너지 부여와 중합 처리가 함께 광조사에 의해 행해지는 경우로서, 에너지 부여를 위한 광조사 조건(예를 들면 조사하는 광의 파장)이 중합 처리의 것과 다른 경우에도, 마찬가지의 이유에서, 에너지 부여를 위한 광조사 후, 중합 처리를 위한 광조사를 행하는 것이 바람직하다. 이 점은, 에너지 부여와 중합 처리가 함께 가열에 의해 행해지는 경우로서, 에너지 부여를 위한 가열 조건과 중합 처리의 가열 조건이 다른 경우도 마찬가지이다.The wavelength conversion layer is a layer formed by simultaneously or sequentially subjecting the quantum dot-containing polymerizable composition to energy for generating protonic acid from the above-described acid generator and polymerization treatment. For example, in an embodiment in which the acid generator is a photoacid generator and the polymerization treatment of the polymerizable composition is performed by light irradiation, energy application and polymerization treatment can be performed simultaneously, that is, as one step. This point is also the same for an aspect in which the acid generator is a thermal acid generator, and the polymerization treatment is performed by heating. On the other hand, in a mode in which the acid generator is a thermal acid generator, and the polymerization treatment is performed by light irradiation, energy application (heating) and polymerization treatment (light irradiation) are sequentially performed as different steps. This point is also the same for a mode in which the acid generator is a photoacid generator, and the polymerization treatment is performed by heating. In the case where the energy application and the polymerization treatment are performed in different steps, it is preferable to perform the polymerization treatment after the energy application is performed. This is because it is considered that performing polymerization treatment after accelerating the reaction of the silane coupling agent by application of energy will further improve the adhesion between the wavelength conversion layer and the adjacent layer. In addition, in the case where the energy application and the polymerization treatment are performed together by light irradiation, even when the light irradiation conditions for energy application (e.g., the wavelength of the irradiated light) are different from those of the polymerization treatment, energy is provided for the same reason. After light irradiation for, it is preferable to perform light irradiation for polymerization treatment. This point is a case where the energy application and the polymerization treatment are performed by heating together, and the same applies to the case where the heating conditions for energy application and the heating conditions for the polymerization treatment are different.

또한, 파장 변환층과 인접층과의 밀착성을 한층 더 향상하는 관점에서는, 양자 도트 함유 중합성 조성물이, 인접층의 주표면과 접촉한 후에, 에너지 부여를 행하는 것이 바람직하다. 실란 커플링제의 반응을, 특히 양 층의 계면 근방에서 진행시키는 것이, 양 층의 밀착성 향상에 크게 기여할 것으로 생각되기 때문이다. 이 점에서는, 파장 변환층의 양 주표면에 각각 인접층을 갖는 파장 변환 부재의 형성에 있어서는, 적어도 한쪽의 인접층 주표면과 양자 도트 함유 중합성 조성물이 접촉한 후에 에너지 부여를 행하는 것이 바람직하며, 양 인접층의 주표면과 양자 도트 함유 중합성 조성물이 접촉한 후에 에너지 부여를 행하는 것이 바람직하다.In addition, from the viewpoint of further improving the adhesion between the wavelength conversion layer and the adjacent layer, it is preferable to impart energy after the quantum dot-containing polymerizable composition comes into contact with the main surface of the adjacent layer. This is because it is thought that advancing the reaction of the silane coupling agent, particularly in the vicinity of the interface of both layers, will greatly contribute to the improvement of the adhesiveness of both layers. In this respect, in the formation of a wavelength conversion member having adjacent layers on both major surfaces of the wavelength conversion layer, it is preferable to impart energy after contact between at least one of the major surfaces of the adjacent layer and the quantum dot-containing polymerizable composition. , It is preferable to impart energy after the main surfaces of both adjacent layers and the quantum dot-containing polymerizable composition come into contact with each other.

양자 도트 함유 중합성 조성물의 도포 방법으로서는, 커튼 코팅법, 딥 코팅법, 스핀 코팅법, 인쇄 코팅법, 스프레이 코팅법, 슬롯 코팅법, 롤 코팅법, 슬라이드 코팅법, 블레이드 코팅법, 그라비어 코팅법, 와이어바법 등의 공지의 도포 방법을 들 수 있다. 또한, 경화 조건은, 사용하는 중합성 화합물의 종류나 중합성 조성물의 조성에 따라서, 적의 설정할 수 있다. 또한, 양자 도트 함유 중합성 조성물이 용매를 함유하는 조성물일 경우에는, 중합 처리를 행하기 전에, 용매 제거를 위하여 건조 처리를 실시해도 된다.As a coating method of the quantum dot-containing polymerizable composition, the curtain coating method, dip coating method, spin coating method, printing coating method, spray coating method, slot coating method, roll coating method, slide coating method, blade coating method, gravure coating method And a known coating method such as a wire bar method. In addition, curing conditions can be appropriately set according to the kind of the polymerizable compound to be used or the composition of the polymerizable composition. In addition, when the quantum dot-containing polymerizable composition is a composition containing a solvent, before performing the polymerization treatment, a drying treatment may be performed in order to remove the solvent.

일 태양에서는, 양자 도트 함유 중합성 조성물의 중합 처리는, 이 조성물을 2매의 기재간에 협지(挾持)한 상태에서 행할 수 있다. 이러한 중합 처리를 포함하는 파장 변환 부재의 제조 공정의 일 태양을, 도면을 참조하여 이하에 설명한다. 단, 본 발명은, 하기 태양으로 한정되는 것은 아니다.In one embodiment, the polymerization treatment of the quantum dot-containing polymerizable composition can be performed in a state where the composition is sandwiched between two substrates. An aspect of the manufacturing process of the wavelength conversion member including such a polymerization treatment will be described below with reference to the drawings. However, this invention is not limited to the following aspect.

도 3은, 파장 변환 부재의 제조 장치(100)의 일례의 개략 구성도이고, 도 4는, 도 3에 나타내는 제조 장치의 부분 확대도이다. 도 3, 4에 나타내는 제조 장치(100)를 사용하는 파장 변환 부재의 제조 공정은, 3 is a schematic configuration diagram of an example of a manufacturing apparatus 100 for a wavelength conversion member, and FIG. 4 is a partially enlarged view of the manufacturing apparatus shown in FIG. 3. The manufacturing process of the wavelength conversion member using the manufacturing apparatus 100 shown in FIGS. 3 and 4,

연속 반송되는 제1 기재(이하, 「제1 필름」이라고도 기재함)의 표면에 양자 도트 함유 중합성 조성물을 도포하여 도막을 형성하는 공정과,A step of forming a coating film by applying a quantum dot-containing polymerizable composition to the surface of the first substrate (hereinafter, also referred to as “first film”) to be continuously conveyed;

도막 위에, 연속 반송되는 제2 기재(이하, 「제2 필름」이라고도 기재함)를 라미네이트하여(중첩), 제1 필름과 제2 필름으로 도막을 협지하는 공정과,A process of laminating (overlapping) a second base material (hereinafter also referred to as ``second film'') to be continuously conveyed on the coating film, and holding the coating film with the first film and the second film, and

제1 필름과 제2 필름으로 도막을 협지한 상태에서, 제1 필름, 및 제2 필름의 어느 하나를 백업 롤러에 감아 걸치고, 연속 반송하면서 광조사하여, 도막을 중합 경화시켜 파장 변환층(경화층)을 형성하는 공정,In the state where the coating film is sandwiched between the first film and the second film, any one of the first film and the second film is wound around a backup roller, and light irradiation is performed while continuously conveying, and the coating film is polymerized and cured to form a wavelength conversion layer (cured The process of forming a layer),

을 적어도 포함한다. 제1 기재, 제2 기재의 어느 한쪽으로서 산소나 수분에 대한 배리어성을 갖는 배리어 필름을 사용함에 의해, 편면이 배리어 필름(배리어층)에 의해 보호된 파장 변환 부재를 얻을 수 있다. 또한, 제1 기재 및 제2 기재로서, 각각 배리어 필름을 사용함에 의해, 파장 변환층의 양면이 배리어 필름(배리어층)에 의해 보호된 파장 변환 부재를 얻을 수 있다.It includes at least. By using a barrier film having barrier properties to oxygen and moisture as either of the first substrate and the second substrate, a wavelength conversion member having one side protected by a barrier film (barrier layer) can be obtained. Further, by using a barrier film as the first substrate and the second substrate, respectively, it is possible to obtain a wavelength converting member in which both surfaces of the wavelength converting layer are protected by a barrier film (barrier layer).

보다 상세하게는, 우선, 도시하지 않는 송출기로부터 제1 필름(10)이 도포부(20)로 연속 반송된다. 송출기로부터, 예를 들면, 제1 필름(10)이 1∼50m/분의 반송 속도로 송출된다. 단, 이 반송 속도로 한정되지 않는다. 송출될 때, 예를 들면, 제1 필름(10)에는, 20∼150N/m의 장력, 바람직하게는 30∼100N/m의 장력이 가해진다.More specifically, first, the first film 10 is continuously conveyed to the coating unit 20 from an unillustrated delivery machine. From the delivery machine, for example, the first film 10 is delivered at a conveying speed of 1 to 50 m/min. However, it is not limited to this conveyance speed. When delivered, a tension of 20 to 150 N/m, preferably 30 to 100 N/m, is applied to the first film 10, for example.

도포부(20)에서는, 연속 반송되는 제1 필름(10)의 표면에 양자 도트 함유 중합성 조성물(이하, 「도포액」이라고도 기재함)이 도포되어, 도막(22)(도 2참조)이 형성된다. 도포부(20)에서는, 예를 들면, 다이 코터(24)와, 다이 코터(24)에 대향 배치된 백업 롤러(26)가 설치되어 있다. 제1 필름(10)의 도막(22)이 형성되는 표면과 반대의 표면을 백업 롤러(26)에 감아 걸치고, 연속 반송되는 제1 필름(10)의 표면에 다이 코터(24)의 토출구로부터 도포액이 도포되어, 도막(22)이 형성된다. 여기에서 도막(22)이란, 제1 필름(10) 위에 도포된 중합 처리 전의 양자 도트 함유 조성물을 말한다.In the coating unit 20, a quantum dot-containing polymerizable composition (hereinafter, also referred to as “coating solution”) is applied to the surface of the first film 10 to be continuously conveyed, and the coating film 22 (refer to FIG. 2) is formed. Is formed. In the coating unit 20, for example, a die coater 24 and a backup roller 26 disposed opposite to the die coater 24 are provided. The surface opposite to the surface on which the coating film 22 of the first film 10 is formed is wound around the backup roller 26 and applied from the discharge port of the die coater 24 on the surface of the first film 10 to be continuously conveyed. The liquid is applied, and the coating film 22 is formed. Here, the coating film 22 refers to a composition containing quantum dots before polymerization treatment applied on the first film 10.

본 실시의 형태에서는, 도포 장치로서 익스트루전 코팅법을 적용한 다이 코터(24)를 나타냈지만, 이것으로 한정되지 않는다. 예를 들면, 커튼 코팅법, 익스트루전 코팅법, 로드 코팅법 또는 롤 코팅법 등, 각종 방법을 적용한 도포 장치를 사용할 수 있다. In this embodiment, although the die coater 24 to which the extrusion coating method was applied was shown as the coating device, it is not limited thereto. For example, a coating apparatus to which various methods such as a curtain coating method, an extrusion coating method, a rod coating method, or a roll coating method can be used can be used.

도포부(20)를 통과하여, 그 위에 도막(22)이 형성된 제1 필름(10)은, 라미네이트부(30)에 연속 반송된다. 라미네이트부(30)에서는, 도막(22) 위에, 연속 반송되는 제2 필름(50)이 라미네이트되어, 제1 필름(10)과 제2 필름(50)으로 도막(22)이 협지된다. The 1st film 10 which passed through the coating part 20 and formed the coating film 22 on it is continuously conveyed to the laminate part 30. In the laminate portion 30, the second film 50 continuously conveyed is laminated on the coating film 22, and the coating film 22 is sandwiched between the first film 10 and the second film 50.

라미네이트부(30)에는, 라미네이트 롤러(32)와, 라미네이트 롤러(32)를 둘러싸는 가열 챔버(34)가 설치되어 있다. 가열 챔버(34)에는 제1 필름(10)을 통과시키기 위한 개구부(36), 및 제2 필름(50)을 통과시키기 위한 개구부(38)가 마련되어 있다.In the laminate part 30, a laminate roller 32 and a heating chamber 34 surrounding the laminate roller 32 are provided. The heating chamber 34 is provided with an opening 36 for passing the first film 10 and an opening 38 for passing the second film 50.

라미네이트 롤러(32)에 대향하는 위치에는, 백업 롤러(62)가 배치되어 있다. 도막(22)이 형성된 제1 필름(10)은, 도막(22)의 형성면과 반대의 표면이 백업 롤러(62)에 감아 걸쳐져, 라미네이트 위치(P)로 연속 반송된다. 라미네이트 위치(P)는 제2 필름(50)과 도막(22)과의 접촉이 개시하는 위치를 의미한다. 제1 필름(10)은 라미네이트 위치(P)에 도달하기 전에 백업 롤러(62)에 감아 걸쳐지는 것이 바람직하다. 가령 제1 필름(10)에 주름이 발생했을 경우이어도, 백업 롤러(62)에 의해 주름이 라미네이트 위치(P)에 도달할 때가지 교정되어, 제거할 수 있기 때문이다. 따라서, 제1 필름(10)이 백업 롤러(62)에 감아 걸쳐진 위치(접촉 위치)와, 라미네이트 위치(P)까지의 거리(L1)는 긴 편이 바람직하며, 예를 들면, 30㎜ 이상이 바람직하고, 그 상한값은, 통상, 백업 롤러(62)의 직경과 패스 라인에 의해 결정된다.A backup roller 62 is disposed at a position facing the laminate roller 32. In the first film 10 on which the coating film 22 is formed, the surface opposite to the formation surface of the coating film 22 is wound around the backup roller 62 and continuously conveyed to the lamination position P. The lamination position (P) refers to a position where the contact between the second film 50 and the coating film 22 starts. It is preferable that the first film 10 is wound around the backup roller 62 before reaching the lamination position P. This is because even when wrinkles occur in the first film 10, the wrinkles are corrected and removed by the backup roller 62 until they reach the lamination position P. Therefore, the position (contact position) where the first film 10 is wound around the backup roller 62 and the distance L1 to the laminate position P are preferably longer, for example, 30 mm or more. And, the upper limit value is usually determined by the diameter of the backup roller 62 and the pass line.

본 실시의 형태에서는 중합 처리부(60)에서 사용되는 백업 롤러(62)와 라미네이트 롤러(32)에 의해 제2 필름(50)의 라미네이트가 행해진다. 즉, 중합 처리부(60)에서 사용되는 백업 롤러(62)가, 라미네이트부(30)에서 사용하는 롤러로서 겸용된다. 단, 상기 형태로 한정되는 것은 아니며, 라미네이트부(30)에, 백업 롤러(62)와 별개로, 라미네이트용의 롤러를 설치하여, 백업 롤러(62)를 겸용하지 않도록 할 수도 있다.In this embodiment, the second film 50 is laminated by the backup roller 62 and the lamination roller 32 used in the polymerization treatment unit 60. In other words, the backup roller 62 used in the polymerization treatment unit 60 is also used as a roller used in the laminate unit 30. However, it is not limited to the above form, and a roller for lamination may be provided in the laminate part 30 separately from the backup roller 62 so that the backup roller 62 may not be used at the same time.

중합 처리부(60)에서 사용되는 백업 롤러(62)를 라미네이트부(30)에서 사용함으로써, 롤러의 수를 줄일 수 있다. 또한, 백업 롤러(62)는, 제1 필름(10)에 대한 히트 롤러로서도 사용할 수 있다.By using the backup roller 62 used in the polymerization treatment unit 60 in the laminate unit 30, the number of rollers can be reduced. Moreover, the backup roller 62 can also be used as a heat roller for the 1st film 10.

도시하지 않은 송출기로부터 송출된 제2 필름(50)은, 라미네이트 롤러(32)에 감아 걸쳐져, 라미네이트 롤러(32)와 백업 롤러(62)와의 사이에 연속 반송된다. 제2 필름(50)은, 라미네이트 위치(P)에서, 제1 필름(10)에 형성된 도막(22) 위에 라미네이트된다. 이에 따라, 제1 필름(10)과 제2 필름(50)에 의해 도막(22)이 협지된다. 라미네이트란, 제2 필름(50)을 도막(22) 위에 중첩하여, 적층하는 것을 말한다.The second film 50 delivered from a delivery machine (not shown) is wound around the laminate roller 32 and continuously conveyed between the laminate roller 32 and the backup roller 62. The second film 50 is laminated on the coating film 22 formed on the first film 10 at the lamination position P. Accordingly, the coating film 22 is pinched by the first film 10 and the second film 50. Lamination refers to superimposing and laminating the second film 50 on the coating film 22.

라미네이트 롤러(32)와 백업 롤러(62)와의 거리(L2)는, 제1 필름(10)과, 도막(22)을 중합 경화시킨 파장 변환층(경화층)(28)과, 제2 필름(50)과의 합계 두께의 값 이상인 것이 바람직하다. 또한, L2는 제1 필름(10)과 도막(22)과 제2 필름(50)과의 합계 두께에 5㎜를 더한 길이 이하인 것이 바람직하다. 거리(L2)를 합계 두께에 5㎜를 더한 길이 이하로 함에 의해, 제2 필름(50)과 도막(22)과의 사이에 기포가 침입하는 것을 방지할 수 있다. 여기에서 라미네이트 롤러(32)와 백업 롤러(62)와의 거리(L2)란, 라미네이트 롤러(32)의 외주면과 백업 롤러(62)의 외주면과의 최단 거리를 말한다.The distance L2 between the laminate roller 32 and the backup roller 62 is a wavelength conversion layer (cured layer) 28 obtained by polymerizing and curing the first film 10 and the coating film 22, and the second film ( It is preferable that it is more than the value of the total thickness with 50). Moreover, it is preferable that L2 is less than or equal to the length which added 5 mm to the total thickness of the 1st film 10, the coating film 22, and the 2nd film 50. By making the distance L2 less than or equal to the length obtained by adding 5 mm to the total thickness, it is possible to prevent air bubbles from entering between the second film 50 and the coating film 22. Here, the distance L2 between the laminate roller 32 and the backup roller 62 refers to the shortest distance between the outer circumferential surface of the laminate roller 32 and the outer circumferential surface of the backup roller 62.

라미네이트 롤러(32)와 백업 롤러(62)의 회전 정도(精度)는, 레이디얼 진동으로 0.05㎜ 이하, 바람직하게는 0.01㎜ 이하이다. 레이디얼 진동이 작을수록, 도막(22)의 두께 분포를 작게 할 수 있다.The rotational accuracy of the laminate roller 32 and the backup roller 62 is 0.05 mm or less, preferably 0.01 mm or less due to radial vibration. The smaller the radial vibration, the smaller the thickness distribution of the coating film 22 can be.

또한, 제1 필름(10)과 제2 필름(50)으로 도막(22)을 협지한 후의 열변형을 억제하기 위해, 중합 처리부(60)의 백업 롤러(62)의 온도와 제1 필름(10)의 온도와의 차, 및 백업 롤러(62)의 온도와 제2 필름(50)의 온도와의 차는 30℃ 이하인 것이 바람직하며, 보다 바람직하게는 15℃ 이하, 가장 바람직하게는 같다.In addition, in order to suppress thermal deformation after the coating film 22 is pinched with the first film 10 and the second film 50, the temperature of the backup roller 62 of the polymerization treatment unit 60 and the first film 10 ), and the difference between the temperature of the backup roller 62 and the temperature of the second film 50 are preferably 30° C. or less, more preferably 15° C. or less, and most preferably the same.

백업 롤러(62)의 온도와의 차를 작게 하기 위해, 가열 챔버(34)가 마련되어 있을 경우에는, 제1 필름(10), 및 제2 필름(50)을 가열 챔버(34) 내에서 가열하는 것이 바람직하다. 예를 들면, 가열 챔버(34)에는, 도시하지 않는 열풍 발생 장치에 의해 열풍이 공급되어, 제1 필름(10), 및 제2 필름(50)을 가열할 수 있다.In order to reduce the difference with the temperature of the backup roller 62, when the heating chamber 34 is provided, heating the first film 10 and the second film 50 in the heating chamber 34 It is desirable. For example, hot air is supplied to the heating chamber 34 by a hot air generating device (not shown) to heat the first film 10 and the second film 50.

제1 필름(10)이, 온도 조정된 백업 롤러(62)에 감아 걸쳐지는 것에 의해, 백업 롤러(62)에 의하여 제1 필름(10)을 가열해도 된다.The first film 10 may be heated by the backup roller 62 by winding the first film 10 around the temperature-adjusted backup roller 62.

한편, 제2 필름(50)에 대해서는, 라미네이트 롤러(32)를 히트 롤러로 함에 의해, 제2 필름(50)을 라미네이트 롤러(32)로 가열할 수 있다.On the other hand, about the 2nd film 50, the 2nd film 50 can be heated with the lamination roller 32 by using the lamination roller 32 as a heat roller.

단, 가열 챔버(34), 및 히트 롤러는 필수는 아니며, 필요에 따라서 마련할 수 있다.However, the heating chamber 34 and the heat roller are not essential, and can be provided as needed.

다음으로, 제1 필름(10)과 제2 필름(50)에 의해 도막(22)이 협지된 상태에서, 중합 처리부(60)에 연속 반송된다. 도면에 나타내는 태양에서는, 중합 처리부(60)에 있어서의 중합 처리는 광조사에 의해 행해지지만, 양자 도트 함유 중합성 조성물에 함유되는 중합성 화합물이 가열에 의해 중합하는 것일 경우에는, 온풍의 분사 등의 가열에 의해, 중합 처리를 행할 수 있다. 또한, 중합 처리와 한 공정에서 에너지 부여가 행해질 경우에는, 중합 처리부(60)에서, 에너지 부여가 행해진다. 한편, 에너지 부여와 중합 처리가 다른 공정에서 행해질 경우에는, 앞서 기재한 이유에서, 에너지 부여를 중합 처리 전에 행하는 것이 바람직하다.Next, in the state where the coating film 22 is pinched by the 1st film 10 and the 2nd film 50, it is conveyed continuously to the superposition|polymerization processing part 60. In the embodiment shown in the drawing, the polymerization treatment in the polymerization treatment unit 60 is performed by light irradiation, but in the case of polymerization of the polymerizable compound contained in the quantum dot-containing polymerizable composition by heating, spraying of warm air, etc. The polymerization treatment can be performed by heating of. In addition, when energy is applied in one step with the polymerization treatment, energy is applied in the polymerization treatment unit 60. On the other hand, when energy application and polymerization treatment are performed in different steps, it is preferable to perform energy application before the polymerization treatment for the reasons described above.

백업 롤러(62)와, 백업 롤러(62)에 대향하는 위치에는, 광조사 장치(64)가 마련되어 있다. 백업 롤러(62)와 광조사 장치(64)의 사이를, 도막(22)을 협지한 제1 필름(10)과 제2 필름(50)이 연속 반송된다. 광조사 장치에 의해 조사되는 광은, 양자 도트 함유 중합성 조성물에 함유되는 광중합성 화합물의 종류에 따라서 결정하면 되며, 일례로서는, 자외선을 들 수 있다. 여기에서 자외선이란, 파장 280∼400㎚의 광을 말하는 것으로 한다. 자외선을 발생시키는 광원으로서, 예를 들면, 저압 수은등, 중압 수은등, 고압 수은등, 초고압 수은등, 카본 아크등, 메탈할라이드 램프, 제논 램프 등을 사용할 수 있다. 광조사량은 도막의 중합 경화를 진행시킬 수 있는 범위로 설정하면 되며, 예를 들면, 일례로서 100∼10000mJ/㎠의 조사량의 자외선을 도막(22)을 향해서 조사할 수 있다.A light irradiation device 64 is provided at a position opposite the backup roller 62 and the backup roller 62. Between the backup roller 62 and the light irradiation device 64, the 1st film 10 and the 2nd film 50 which pinched the coating film 22 are conveyed continuously. The light irradiated by the light irradiation device may be determined according to the kind of the photopolymerizable compound contained in the quantum dot-containing polymerizable composition, and an example thereof is ultraviolet rays. Ultraviolet rays here shall mean light having a wavelength of 280 to 400 nm. As a light source for generating ultraviolet rays, for example, a low pressure mercury lamp, a medium pressure mercury lamp, a high pressure mercury lamp, an ultra-high pressure mercury lamp, a carbon arc lamp, a metal halide lamp, a xenon lamp, and the like can be used. The amount of light irradiation may be set in a range capable of advancing polymerization and curing of the coating film. For example, an ultraviolet ray having an irradiation amount of 100 to 10000 mJ/cm 2 can be irradiated toward the coating film 22 as an example.

중합 처리부(60)에서는, 제1 필름(10)과 제2 필름(50)에 의해 도막(22)을 협지한 상태에서, 제1 필름(10)을 백업 롤러(62)에 감아 걸치고, 연속 반송하면서 광조사 장치(64)로부터 광조사를 행하여, 도막(22)을 경화시켜서 파장 변환층(경화층)(28)을 형성할 수 있다.In the polymerization treatment unit 60, the first film 10 is wound around the backup roller 62 in a state where the coating film 22 is sandwiched by the first film 10 and the second film 50, and is continuously conveyed. While doing light irradiation from the light irradiation apparatus 64, the coating film 22 is hardened, and the wavelength conversion layer (cured layer) 28 can be formed.

본 실시의 형태에서는, 제1 필름(10)측을 백업 롤러(62)에 감아 걸치고, 연속 반송했지만 제2 필름(50)을 백업 롤러(62)에 감아 걸치고, 연속 반송시킬 수도 있다.In the present embodiment, the first film 10 side is wound around the backup roller 62 and continuously conveyed, but the second film 50 is wound around the backup roller 62 and continuously conveyed.

백업 롤러(62)에 감아 걸침이란, 제1 필름(10) 및 제2 필름(50)의 어느 하나가, 어느 랩각으로 백업 롤러(62)의 표면에 접촉해 있는 상태를 말한다. 따라서, 연속 반송되는 동안, 제1 필름(10) 및 제2 필름(50)은 백업 롤러(62)의 회전과 동기해서 이동한다. 백업 롤러(62)에 감아 걸침은, 적어도 자외선이 조사되고 있는 동안이면 된다.Winding over the backup roller 62 means a state in which either the first film 10 or the second film 50 is in contact with the surface of the backup roller 62 at a certain lap angle. Therefore, during continuous conveyance, the first film 10 and the second film 50 move in synchronization with the rotation of the backup roller 62. It is sufficient that it is wound around the backup roller 62 while being irradiated with ultraviolet rays at least.

백업 롤러(62)는, 원주상의 형상의 본체와, 본체의 양 단부에 배치된 회전축을 구비하고 있다. 백업 롤러(62)의 본체는, 예를 들면, φ200∼1000㎜의 직경을 갖고 있다. 백업 롤러(62)의 직경 φ에 대하여 제한은 없다. 적층 필름의 컬 변형과, 설비 코스트와, 회전 정도를 고려하면 직경 φ300∼500㎜인 것이 바람직하다. 백업 롤러(62)의 본체에 온도 조절기를 부착함에 의해, 백업 롤러(62)의 온도를 조정할 수 있다.The backup roller 62 includes a main body having a cylindrical shape and a rotation shaft disposed at both ends of the main body. The main body of the backup roller 62 has a diameter of 200 to 1000 mm, for example. There is no limitation on the diameter φ of the backup roller 62. In consideration of curl deformation of the laminated film, equipment cost, and degree of rotation, it is preferable to have a diameter of 300 to 500 mm. By attaching a temperature controller to the main body of the backup roller 62, the temperature of the backup roller 62 can be adjusted.

백업 롤러(62)의 온도는, 광조사 시의 발열과, 도막(22)의 경화 효율과, 제1 필름(10)과 제2 필름(50)의 백업 롤러(62) 위에서의 주름 변형의 발생을 고려해서, 결정할 수 있다. 백업 롤러(62)는, 예를 들면, 10∼95℃의 온도 범위로 설정하는 것이 바람직하며, 15∼85℃인 것이 보다 바람직하다. 여기에서 롤러에 관한 온도란, 롤러의 표면 온도를 말하는 것으로 한다.The temperature of the backup roller 62 is the heat generation during light irradiation, the curing efficiency of the coating film 22, and the occurrence of wrinkle deformation on the backup roller 62 of the first film 10 and the second film 50. In consideration of, you can decide. It is preferable to set the backup roller 62 in the temperature range of 10 to 95 degreeC, for example, and it is more preferable that it is 15 to 85 degreeC. Here, the temperature related to the roller shall mean the surface temperature of the roller.

라미네이트 위치(P)와 광조사 장치(64)와의 거리(L3)는, 예를 들면 30㎜ 이상으로 할 수 있다.The distance L3 between the lamination position P and the light irradiation device 64 can be, for example, 30 mm or more.

광조사에 의해 도막(22)은 경화층(28)으로 되어, 제1 필름(10)과 경화층(28)과 제2 필름(50)을 포함하는 파장 변환 부재(70)가 제조된다. 파장 변환 부재(70)는, 박리 롤러(80)에 의해 백업 롤러(62)로부터 박리된다. 파장 변환 부재(70)는, 도시하지 않는 권취기에 연속 반송되고, 다음으로 권취기에 의해 파장 변환 부재(70)는 롤상으로 권취된다.The coating film 22 becomes a cured layer 28 by light irradiation, and a wavelength conversion member 70 including the first film 10, the cured layer 28, and the second film 50 is manufactured. The wavelength conversion member 70 is peeled from the backup roller 62 by the peeling roller 80. The wavelength conversion member 70 is continuously conveyed by a winding machine (not shown), and the wavelength conversion member 70 is then wound up in a roll shape by a winding machine.

이상, 파장 변환 부재의 제조 공정의 일 태양에 대하여 설명했지만 본 발명은 상기 태양으로 한정되는 것은 아니다. 예를 들면, 양자 도트 함유 조성물을 기재 위에 도포하고, 그 위에 추가적인 기재를 라미네이트하지 않고, 필요에 따라서 행해지는 건조 처리 후, 중합 처리를 실시함에 의해 파장 변환층(경화층)을 제작해도 된다. 제작된 파장 변환층에는, 배리어층 등의 1층 이상의 다른 층을, 공지의 방법에 의해 적층할 수도 있다.As mentioned above, although one aspect of the manufacturing process of a wavelength conversion member was demonstrated, this invention is not limited to the said aspect. For example, a wavelength conversion layer (cured layer) may be produced by applying a quantum dot-containing composition on a substrate, followed by a polymerization treatment after drying treatment performed as necessary without laminating an additional substrate thereon. On the produced wavelength conversion layer, one or more other layers, such as a barrier layer, may be laminated by a known method.

파장 변환층의 총 두께는, 바람직하게는 1∼500㎛의 범위이며, 보다 바람직하게는 100∼400㎛의 범위이다. 또한, 파장 변환층은, 2층 이상의 적층 구조여도 되며, 2종 이상의 다른 발광 특성을 나타내는 양자 도트를 동일한 층에 포함하고 있어도 된다. 파장 변환층이 2층 이상의 복수의 층의 적층체일 경우, 1층의 막두께는, 바람직하게는 1∼300㎛의 범위이며, 보다 바람직하게는 10∼250㎛의 범위이고, 더 바람직하게는 30∼150㎛의 범위이다.The total thickness of the wavelength conversion layer is preferably in the range of 1 to 500 µm, more preferably in the range of 100 to 400 µm. Further, the wavelength conversion layer may have a stacked structure of two or more layers, or may contain two or more types of quantum dots exhibiting different light emission characteristics in the same layer. When the wavelength conversion layer is a laminate of two or more layers, the film thickness of one layer is preferably in the range of 1 to 300 µm, more preferably in the range of 10 to 250 µm, and more preferably 30 It is in the range of -150 μm.

<그 밖의 층, 지지체><Other layers and supports>

상기 파장 변환 부재는, 앞서 기재한 바와 같이, 파장 변환층의 적어도 한쪽의 주표면에 인접층을 갖는다. 예를 들면, 파장 변환층의 적어도 한쪽의 주표면에, 무기층 및 유기층으로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1층을 가질 수도 있다. 그러한 무기층 및 유기층으로서는, 후술하는 배리어 필름을 구성하는 무기층 및 유기층을 들 수 있다. 발광 효율 유지의 관점에서, 파장 변환층의 양 주표면에, 각각 무기층 및 유기층으로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1층이 포함되는 것이 바람직하다. 이러한 층에 의해, 주표면으로부터의 파장 변환층에의 산소, 수분 등의 침입을 방지할 수 있으며, 이들의 침입에 의해 양자 도트가 열화하여 발광 효율이 저하하는 것을 방지할 수 있기 때문이다. 또한, 일 태양에서는, 무기층, 유기층은, 파장 변환층의 주표면에 직접 접하는 인접층으로서 포함되는 것이 바람직하다. 또, 실란 커플링제 및 산발생제를 함유하는 양자 도트 함유 중합성 조성물을 사용함에 의해, 접착층에 의하지 않고도 파장 변환층과 인접층과의 계면의 밀착성을 향상할 수 있지만, 접착층의 사용을 배제하는 것은 아니다. 예를 들면, 에너지 부여 및 중합 처리 후에, 파장 변환층의 한쪽의 주표면에 인접층을 적층할 경우에는, 인접층과 파장 변환층을 공지의 접착층을 첩합(貼合)해도 된다.As described above, the wavelength conversion member has an adjacent layer on at least one main surface of the wavelength conversion layer. For example, you may have at least one layer selected from the group consisting of an inorganic layer and an organic layer on at least one main surface of the wavelength conversion layer. As such an inorganic layer and an organic layer, an inorganic layer and an organic layer which comprise a barrier film mentioned later are mentioned. From the viewpoint of maintaining luminous efficiency, it is preferable that at least one layer selected from the group consisting of an inorganic layer and an organic layer, respectively, is included on both main surfaces of the wavelength conversion layer. This is because the intrusion of oxygen, moisture, and the like from the main surface into the wavelength conversion layer can be prevented by such a layer, and it is possible to prevent the quantum dots from deteriorating due to the invasion, and the luminous efficiency decrease. In addition, in one aspect, it is preferable that the inorganic layer and the organic layer are included as an adjacent layer in direct contact with the main surface of the wavelength conversion layer. In addition, by using a quantum dot-containing polymerizable composition containing a silane coupling agent and an acid generator, the adhesion of the interface between the wavelength conversion layer and the adjacent layer can be improved without using the adhesive layer, but the use of the adhesive layer is eliminated. It is not. For example, in the case of laminating an adjacent layer on one main surface of the wavelength conversion layer after energy application and polymerization treatment, a known adhesive layer may be bonded to the adjacent layer and the wavelength conversion layer.

(지지체)(Support)

파장 변환 부재는, 강도 향상, 성막의 용이성 등을 위해, 지지체를 갖고 있어도 된다. 지지체는, 파장 변환층에 인접해서 또는 직접 접하는 층으로서 포함되어 있어도 되며, 후술하는 배리어 필름의 기재 필름으로서 포함되어 있어도 된다. 파장 변환 부재에 있어서, 지지체는, 후술하는 무기층, 및 지지체가 이 순으로 되도록 포함되어 있어도 되고, 파장 변환층, 후술하는 무기층, 후술하는 유기층, 및 지지체가 이 순으로 되도록 포함되어 있어도 된다. 유기층과 무기층과의 사이, 2층의 유기층의 사이, 또는 2층의 무기층의 사이에, 지지체를 배치해도 된다. 또한, 지지체는, 파장 변환 부재 중에 1개 또는 2개 이상 포함되어 있어도 되고, 파장 변환 부재는, 지지체, 파장 변환층, 지지체가 이 순으로 적층된 구조를 갖고 있어도 된다. 지지체로서는, 가시광에 대해서 투명한 투명 지지체인 것이 바람직하다. 여기에서 가시광에 대해서 투명이란, 가시광 영역에 있어서의 선투과율이, 80% 이상, 바람직하게는 85% 이상인 것을 말한다. 투명의 척도로서 사용되는 광선투과율은, JIS-K7105에 기재된 방법, 즉 적분구식(積分球式) 광선투과율 측정 장치를 사용해서 전광선투과율 및 산란광량을 측정하고, 전광선투과율로부터 확산 투과율을 빼서 산출할 수 있다. 지지체에 대해서는, 일본국 특개2007-290369호 공보 단락0046∼0052, 일본국 특개2005-096108호 공보 단락0040∼0055를 참조할 수 있다. 지지체의 두께는, 가스 배리어성, 내충격성 등의 관점에서, 10∼500㎛의 범위 내, 그 중에서도 20∼400㎛의 범위 내, 특히 30∼300㎛의 범위 내인 것이 바람직하다.The wavelength converting member may have a support for improving strength, easiness of film formation, and the like. The support may be included as a layer adjacent to or in direct contact with the wavelength conversion layer, or may be included as a base film for a barrier film described later. In the wavelength conversion member, the support may be included so that an inorganic layer to be described later and a support may be in this order, and a wavelength conversion layer, an inorganic layer to be described later, an organic layer to be described later, and a support may be included in this order. . A support may be disposed between the organic layer and the inorganic layer, between two organic layers, or between two inorganic layers. Further, one or two or more of the supports may be included in the wavelength conversion member, and the wavelength conversion member may have a structure in which a support, a wavelength conversion layer, and a support are stacked in this order. The support is preferably a transparent support transparent to visible light. Here, the term "transparent with respect to visible light" means that the line transmittance in the visible region is 80% or more, preferably 85% or more. The light transmittance used as a measure of transparency is calculated by measuring the total light transmittance and the amount of scattered light using the method described in JIS-K7105, that is, an integral spherical light transmittance measuring device, and subtracting the diffuse transmittance from the total light transmittance. I can. For the support, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2007-290369, paragraphs 0046 to 0052, and Japanese Patent Application Publication No. 2005-096108, paragraphs 0040 to 0055, can be referred to. The thickness of the support is preferably in the range of 10 to 500 µm, particularly in the range of 20 to 400 µm, particularly in the range of 30 to 300 µm, from the viewpoints of gas barrier properties and impact resistance.

지지체는 상술한 기재로서 사용할 수도 있다. 또한, 지지체는 상술한 제1 필름 및 제2 필름의 어느 하나, 또는 쌍방에 사용할 수도 있다. 제1 필름 및 제2 필름의 쌍방이 지지체일 때, 동일해도 되고 달라도 된다.The support can also be used as the above-described substrate. In addition, the support may be used for either or both of the first film and the second film described above. When both the first film and the second film are a support, they may be the same or different.

(배리어 필름)(Barrier film)

파장 변환 부재는, 배리어 필름을 포함하는 것이 바람직하다. 배리어 필름은 산소를 차단하는 가스 배리어 기능을 갖는 필름이다. 배리어 필름이, 수증기를 차단하는 기능을 갖고 있는 것도 바람직하다.It is preferable that the wavelength conversion member contains a barrier film. The barrier film is a film having a gas barrier function to block oxygen. It is also preferable that the barrier film has a function of blocking water vapor.

배리어 필름은, 파장 변환층에 인접해서 또는 직접 접하는 층으로서 파장 변환 부재에 포함되어 있는 것이 바람직하다. 또한, 배리어 필름은, 파장 변환 부재 중에 1개 또는 2개 이상 포함되어 있어도 되고, 파장 변환 부재는, 배리어 필름, 파장 변환층, 배리어 필름이 이 순으로 적층된 구조를 갖고 있는 것이 바람직하다.It is preferable that the barrier film is included in the wavelength conversion member as a layer adjacent to or in direct contact with the wavelength conversion layer. In addition, one or two or more barrier films may be included in the wavelength conversion member, and it is preferable that the wavelength conversion member has a structure in which a barrier film, a wavelength conversion layer, and a barrier film are laminated in this order.

파장 변환 부재에 있어서, 파장 변환층은 배리어 필름을 기재로서 형성되어 있어도 된다. 또한, 배리어 필름은 상술한 제1 필름 및 제2 필름의 어느 하나, 또는 쌍방에 사용할 수도 있다. 제1 필름 및 제2 필름의 쌍방이 배리어 필름일 때, 동일해도 되고 달라도 된다.In the wavelength conversion member, the wavelength conversion layer may be formed of a barrier film as a substrate. In addition, the barrier film may be used for either or both of the first film and the second film described above. When both the first film and the second film are barrier films, they may be the same or different.

배리어 필름으로서는, 공지의 어느 배리어 필름이어도 되며, 예를 들면 이하에 설명하는 배리어 필름이어도 된다.As the barrier film, any known barrier film may be used, and for example, a barrier film described below may be used.

배리어 필름은, 통상, 적어도 무기층을 포함하고 있으면 되며, 기재 필름 및 무기층을 포함하는 필름이어도 된다. 기재 필름에 대해서는, 상기한 지지체의 기재(記載)를 참조할 수 있다. 배리어 필름은, 기재 필름 위에 적어도 1층의 무기층 1층과 적어도 1층의 유기층을 포함하는 배리어 적층체를 포함하는 것이어도 된다. 이렇게 복수의 층을 적층하는 것은, 한층 더 배리어성을 높일 수 있기 때문이다. 한편, 적층하는 층의 수가 늘어날수록, 파장 변환 부재의 광투과율은 저하하는 경향이 있기 때문에, 양호한 광투과율을 유지할 수 있는 범위에서, 적층수를 늘리는 것이 바람직하다. 구체적으로는, 배리어 필름은, 가시광 영역에 있어서의 전광선투과율이 80% 이상이며, 또한 산소 투과도가 1㎤/(㎡·day·atm) 이하인 것이 바람직하다. 여기에서, 상기 산소 투과도는, 측정 온도 23℃, 상대 습도 90%의 조건 하에서, 산소 가스 투과율 측정 장치(MOCON사제, OX-TRAN 2/20 : 상품명)를 사용하여 측정한 값이다. 또한, 가시광 영역이란, 380∼780㎚의 파장 영역을 말하는 것으로 하고, 전광선투과율이란, 가시광 영역에 걸친 광투과율의 평균값을 나타낸다.The barrier film usually needs to contain at least an inorganic layer, and may be a film containing a base film and an inorganic layer. About the base film, the base material of the said support body can be referred to. The barrier film may include a barrier laminate comprising at least one inorganic layer and at least one organic layer on the base film. Laminating a plurality of layers in this way is because the barrier property can be further improved. On the other hand, since the light transmittance of the wavelength conversion member tends to decrease as the number of layers to be laminated increases, it is preferable to increase the number of laminates within a range that can maintain a good light transmittance. Specifically, it is preferable that the barrier film has a total light transmittance of 80% or more in a visible light region and an oxygen transmittance of 1 cm 3 /(m 2 ·day·atm) or less. Here, the oxygen permeability is a value measured using an oxygen gas permeability measuring device (manufactured by MOCON, OX-TRAN 2/20: brand name) under conditions of a measurement temperature of 23°C and a relative humidity of 90%. In addition, the visible light region refers to a wavelength region of 380 to 780 nm, and the total light transmittance refers to the average value of the light transmittance over the visible light region.

배리어 필름의 산소 투과도는, 보다 바람직하게는, 0.1㎤/(㎡·day·atm) 이하, 보다 바람직하게는, 0.01㎤/(㎡·day·atm) 이하이다. 가시광 영역에 있어서의 전광선투과율은, 보다 바람직하게는 90% 이상이다. 산소 투과도는 낮을수록 바람직하며, 가시광 영역에 있어서의 전광선투과율은 높을수록 바람직하다.The oxygen permeability of the barrier film is more preferably 0.1 cm 3 /(m 2 ·day·atm) or less, and more preferably 0.01 cm 3 /(m 2 ·day·atm) or less. The total light transmittance in the visible region is more preferably 90% or more. The lower the oxygen transmittance is, the more preferable it is, and the higher the total light transmittance in the visible region is, the more preferable.

(무기층)(Inorganic layer)

「무기층」이란, 무기 재료를 주성분으로 하는 층이며, 바람직하게는 무기 재료만으로 형성되는 층이다. 이에 대하여, 유기층이란, 유기 재료를 주성분으로 하는 층으로서, 바람직하게는 유기 재료가 50질량% 이상, 또한 80질량% 이상, 특히 90질량% 이상을 차지하는 층을 말하는 것으로 한다.The "inorganic layer" is a layer mainly composed of an inorganic material, and is preferably a layer formed only of an inorganic material. In contrast, the organic layer is a layer containing an organic material as a main component, and preferably refers to a layer in which the organic material occupies 50% by mass or more, 80% by mass or more, and particularly 90% by mass or more.

무기층을 구성하는 무기 재료로서는, 특히 한정되는 것은 아니며, 예를 들면, 금속, 또는 무기 산화물, 질화물, 산화질화물 등의 각종 무기 화합물을 사용할 수 있다. 무기 재료를 구성하는 원소로서는, 규소, 알루미늄, 마그네슘, 티타늄, 주석, 인듐 및 세륨이 바람직하며, 이들을 1종 또는 2종 이상 함유하고 있어도 된다. 무기 화합물의 구체예로서는, 산화규소, 산화질화규소, 산화알루미늄, 산화마그네슘, 산화티타늄, 산화주석, 산화인듐 합금, 질화규소, 질화알루미늄, 질화티타늄을 들 수 있다. 또한, 무기층으로서, 금속막, 예를 들면, 알루미늄막, 은막, 주석막, 크롬막, 니켈막, 티타늄막을 마련해도 된다.The inorganic material constituting the inorganic layer is not particularly limited, and for example, a metal or various inorganic compounds such as inorganic oxides, nitrides and oxynitrides can be used. As the elements constituting the inorganic material, silicon, aluminum, magnesium, titanium, tin, indium, and cerium are preferable, and one or two or more of them may be contained. Specific examples of the inorganic compound include silicon oxide, silicon oxynitride, aluminum oxide, magnesium oxide, titanium oxide, tin oxide, indium oxide alloy, silicon nitride, aluminum nitride, and titanium nitride. Further, as the inorganic layer, a metal film such as an aluminum film, a silver film, a tin film, a chromium film, a nickel film, or a titanium film may be provided.

상기한 재료 중에서도, 질화규소, 산화규소, 또는 산화질화규소가 특히 바람직하다. 이들 재료로 이루어지는 무기층은, 유기층과의 밀착성이 양호하므로, 배리어성을 한층 더 높게 할 수 있기 때문이다.Among the above materials, silicon nitride, silicon oxide, or silicon oxynitride is particularly preferable. This is because the inorganic layer made of these materials has good adhesion to the organic layer, so that the barrier property can be further increased.

무기층의 형성 방법으로서는, 특히 한정되지 않으며, 예를 들면 성막 재료를 증발 내지 비산시켜 피증착면에 퇴적시킬 수 있는 각종 성막 방법을 사용할 수 있다.The method of forming the inorganic layer is not particularly limited, and for example, various film forming methods capable of evaporating or scattering the film-forming material to be deposited on the surface to be deposited can be used.

무기층의 형성 방법의 예로서는, 무기 산화물, 무기 질화물, 무기 산화질화물, 금속 등의 무기 재료를, 가열해서 증착시키는 진공 증착법; 무기 재료를 원료로서 사용하여, 산소 가스를 도입함에 의해 산화시켜서, 증착시키는 산화 반응 증착법; 무기 재료를 타깃 원료로서 사용하여, 아르곤 가스, 산소 가스를 도입해서, 스퍼터링함에 의해, 증착시키는 스퍼터링법; 무기 재료에 플라스마건으로 발생시킨 플라스마빔에 의해 가열시켜서, 증착시키는 이온플레이팅법 등의 물리 기상 성장법(Physical Vapor Deposition법), 산화규소의 증착막을 성막시키는 경우는, 유기 규소 화합물을 원료로 하는 플라스마 화학 기상 성장법(Chemical Vapor Deposition법) 등을 들 수 있다. 증착은, 지지체, 기재 필름, 파장 변환층, 유기층 등을 기판으로 해서 그 표면에 행하면 된다.Examples of the method for forming the inorganic layer include a vacuum vapor deposition method in which inorganic materials such as inorganic oxides, inorganic nitrides, inorganic oxynitrides, and metals are heated to evaporate; An oxidation reaction vapor deposition method in which an inorganic material is used as a raw material, oxidized by introducing oxygen gas, and deposited; A sputtering method in which an inorganic material is used as a target raw material, argon gas and oxygen gas are introduced and sputtered to evaporate; Plasma using an organosilicon compound as a raw material for physical vapor deposition (Physical Vapor Deposition method) such as an ion plating method in which an inorganic material is heated by a plasma beam generated by a plasma gun to evaporate, and when a vapor-deposited film of silicon oxide is formed. The chemical vapor deposition method, etc. are mentioned. The vapor deposition may be performed on the surface using a support, a base film, a wavelength conversion layer, an organic layer, or the like as a substrate.

산화규소막은, 유기 규소 화합물을 원료로 해서, 저온 플라스마 화학 기상 성장법을 사용하여 형성하는 것이 바람직하다. 이 유기 규소 화합물로서는, 구체적으로는, 1,1,3,3-테트라메틸디실록산, 헥사메틸디실록산, 비닐트리메틸실란, 헥사메틸디실란, 메틸실란, 디메틸실란, 트리메틸실란, 디에틸실란, 프로필실란, 페닐실란, 비닐트리에톡시실란, 테트라메톡시실란, 페닐트리에톡시실란, 메틸트리에톡시실란, 옥타메틸시클로테트라실록산 등을 들 수 있다. 또한, 상기 유기 규소 화합물 중에서도, 테트라메톡시실란(TMOS), 헥사메틸디실록산(HMDSO)을 사용하는 것이 바람직하다. 이들은, 취급성이나 증착막의 특성이 우수하기 때문이다.The silicon oxide film is preferably formed using an organosilicon compound as a raw material and using a low-temperature plasma chemical vapor deposition method. As this organosilicon compound, specifically, 1,1,3,3-tetramethyldisiloxane, hexamethyldisiloxane, vinyltrimethylsilane, hexamethyldisilane, methylsilane, dimethylsilane, trimethylsilane, diethylsilane, Propylsilane, phenylsilane, vinyl triethoxysilane, tetramethoxysilane, phenyl triethoxysilane, methyl triethoxysilane, octamethylcyclotetrasiloxane, and the like. In addition, among the above organosilicon compounds, it is preferable to use tetramethoxysilane (TMOS) and hexamethyldisiloxane (HMDSO). These are because they are excellent in handling properties and properties of a vapor-deposited film.

무기층의 두께는, 예를 들면 1㎚∼500㎚이며, 5㎚∼300㎚인 것이 바람직하고, 10㎚∼150㎚의 범위인 것이 보다 바람직하다. 무기층의 막두께가, 상술한 범위 내임에 의해, 양호한 배리어성을 실현하면서, 무기층에 있어서의 반사를 억제할 수 있어, 광투과율이 보다 높은 파장 변환 부재를 제공할 수 있기 때문이다.The thickness of the inorganic layer is, for example, 1 nm to 500 nm, preferably 5 nm to 300 nm, and more preferably 10 nm to 150 nm. This is because, when the film thickness of the inorganic layer is within the above-described range, reflection in the inorganic layer can be suppressed while realizing good barrier properties, and a wavelength converting member having a higher light transmittance can be provided.

파장 변환 부재에 있어서, 파장 변환층에 인접해 있는, 바람직하게는 파장 변환층에 직접 접해 있는 무기층이 적어도 1층 포함되어 있는 것이 바람직하다. 파장 변환층의 양면에 무기층이 직접 접해 있는 것도 바람직하다. 단 무기층은, 일반적으로, 유기 화합물을 함유하는 중합성 조성물로 형성되는 파장 변환층과의 밀착성을 확보하는 것이 어려운 경향이 있다. 이에 대하여, 실란 커플링제 및 산발생제를 함유하는 상기 조성물을 사용해서 형성된 파장 변환 부재에 있어서는, 무기층과 파장 변환층과 양호한 밀착성을 얻을 수 있다.In the wavelength conversion member, it is preferable that at least one inorganic layer adjacent to the wavelength conversion layer, preferably in direct contact with the wavelength conversion layer, is included. It is also preferable that the inorganic layer is in direct contact with both surfaces of the wavelength conversion layer. However, as for the inorganic layer, it tends to be difficult to ensure adhesion with the wavelength conversion layer generally formed of a polymerizable composition containing an organic compound. On the other hand, in the wavelength conversion member formed using the composition containing the silane coupling agent and the acid generator, good adhesion to the inorganic layer and the wavelength conversion layer can be obtained.

(유기층)(Organic layer)

유기층으로서는, 일본국 특개2007-290369호 공보 단락0020∼0042, 일본국 특개2005-096108호 공보 단락0074∼0105를 참조할 수 있다. 또 유기층은, 카르도 폴리머를 함유하는 것이 바람직하다. 이에 따라, 유기층과 인접하는 층과의 밀착성, 특히, 무기층과도 밀착성이 양호해져, 한층 더 우수한 가스 배리어성을 실현할 수 있기 때문이다. 카르도 폴리머의 상세에 대해서는, 일본국 특개2005-096108호 공보 단락0085∼0095를 참조할 수 있다. 유기층의 막두께는, 0.05㎛∼10㎛의 범위 내인 것이 바람직하며, 그 중에서도 0.5∼10㎛의 범위 내인 것이 바람직하다. 유기층이 웨트 코팅법에 의해 형성될 경우에는, 유기층의 막두께는, 0.5∼10㎛의 범위 내, 그 중에서도 1㎛∼5㎛의 범위 내인 것이 바람직하다. 또한, 드라이 코팅법에 의해 형성될 경우에는, 0.05㎛∼5㎛의 범위 내, 그 중에서도 0.05㎛∼1㎛의 범위 내인 것이 바람직하다. 웨트 코팅법 또는 드라이 코팅법에 의해 형성되는 유기층의 막두께가 상술한 범위 내임에 의해, 무기층과의 밀착성을 보다 양호한 것으로 할 수 있기 때문이다.As the organic layer, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2007-290369, paragraphs 0020 to 042, and Japanese Patent Application Publication No. 2005-096108, paragraphs 0704 to 0105, can be referred to. Moreover, it is preferable that an organic layer contains a cardo polymer. This is because the adhesion between the organic layer and the adjacent layer, in particular, the adhesion to the inorganic layer is improved, and further superior gas barrier properties can be realized. For details of the cardo polymer, reference can be made to Japanese Patent Application Laid-Open No. 2005-096108, paragraphs 0085 to 0095. The thickness of the organic layer is preferably in the range of 0.05 µm to 10 µm, and particularly preferably in the range of 0.5 to 10 µm. When the organic layer is formed by the wet coating method, the film thickness of the organic layer is preferably in the range of 0.5 to 10 µm, especially in the range of 1 µm to 5 µm. Further, in the case of forming by a dry coating method, it is preferably in the range of 0.05 µm to 5 µm, and particularly, in the range of 0.05 µm to 1 µm. This is because the adhesion with the inorganic layer can be made more favorable when the film thickness of the organic layer formed by the wet coating method or the dry coating method is within the above-described range.

무기층, 유기층의 그 밖의 상세에 대해서는, 일본국 특개2007-290369호 공보, 일본국 특개2005-096108호 공보, 추가로 US2012/0113672A1의 기재를 참조할 수 있다.For other details of the inorganic layer and the organic layer, Japanese Unexamined Patent Publication No. 2007-290369, Japanese Unexamined Patent Publication No. 2005-096108, and further description of US2012/0113672A1 can be referred to.

유기층과 무기층과의 사이, 2층의 유기층의 사이, 또는 2층의 무기층의 사이를, 공지의 접착층에 의해 첩합해도 된다. 광투과율 향상의 관점에서는, 접착층은 적을수록 바람직하며, 접착층이 존재하지 않는 것이 보다 바람직하다.Between an organic layer and an inorganic layer, between two organic layers, or between two inorganic layers, you may bond with a well-known adhesive layer. From the viewpoint of improving the light transmittance, the smaller the adhesive layer is, the more preferable it is, and it is more preferable that no adhesive layer is present.

[파장 변환 부재의 제조 방법][Method of manufacturing wavelength conversion member]

본 발명의 추가적인 태양은, 상기 파장 변환 부재의 제조 방법에 관한 것이다.A further aspect of the present invention relates to a method of manufacturing the wavelength conversion member.

일 태양에서는, 상기 제조 방법은, 인접층의 주표면과 양자 도트 함유 중합성 조성물을 접촉시킨 후, 양자 도트 함유 중합성 조성물에, 산발생제로부터 프로톤산을 발생시키는 에너지 부여 및 중합 처리를 동시 또는 순차 실시하는 것을 포함한다. 또 여기에서 순차란, 반드시 에너지 부여 처리의 다음의 공정으로서 중합 처리가 연속적으로 행해지는 것으로 한정되는 것은 아니며, 에너지 부여 후에, 예를 들면 건조 처리 등의 다른 처리를 거친 후에, 중합 처리가 행해지는 것도 포함하는 것으로 한다.In one aspect, in the above production method, after bringing the main surface of the adjacent layer into contact with the quantum dot-containing polymerizable composition, the quantum dot-containing polymerizable composition is simultaneously applied with energy to generate protonic acid from an acid generator and a polymerization treatment. Or sequentially. In addition, the sequence here is not necessarily limited to that the polymerization treatment is continuously performed as the next step of the energy application treatment, and the polymerization treatment is performed after energy application, for example, after other treatment such as drying treatment. It shall be included as well.

다른 일 태양에서는, 파장 변환층의 양 주표면에 인접층을 갖는 상기 파장 변환 부재를 제조하기 위하여,In another aspect, in order to manufacture the wavelength conversion member having adjacent layers on both major surfaces of the wavelength conversion layer,

2개의 인접층의 적어도 한쪽의 주표면과 양자 도트 함유 중합성 조성물을 접촉시킨 후, 양자 도트 함유 중합성 조성물에, 산발생제로부터 프로톤산을 발생시키는 에너지 부여 및 중합 처리를 동시 또는 순차 실시한다. 추가적인 일 태양에서는, 상기 에너지 부여를, 2개의 인접층의 각각의 주표면과 양자 도트 함유 중합성 조성물을 접촉시킨 후에 행한다.After bringing the quantum dot-containing polymerizable composition into contact with at least one of the two adjacent layers, the quantum dot-containing polymerizable composition is simultaneously or sequentially subjected to energy imparting and polymerization treatment for generating protonic acid from an acid generator. . In a further aspect, the energy application is performed after the main surfaces of the two adjacent layers and the quantum dot-containing polymerizable composition are brought into contact with each other.

이상의 제조 방법의 상세에 대해서는, 앞서 기재한 바와 같다.Details of the above manufacturing method are as described above.

[백라이트 유닛][Backlight unit]

본 발명의 일 태양에 따른 백라이트 유닛은, 상술한 파장 변환 부재와, 광원을 적어도 포함한다. 파장 변환 부재의 상세는, 앞서 기재한 바와 같다.A backlight unit according to an aspect of the present invention includes at least the above-described wavelength conversion member and a light source. The details of the wavelength conversion member are as described above.

(백라이트 유닛의 발광 파장)(Light emission wavelength of backlight unit)

고휘도이며 높은 색재현성의 실현의 관점에서는, 백라이트 유닛으로서, 다파장 광원화된 것을 사용하는 것이 바람직하다. 바람직한 일 태양으로서는,From the viewpoint of realization of high luminance and high color reproducibility, it is preferable to use a multi-wavelength light source as the backlight unit. As a preferred aspect,

430∼480㎚의 파장 대역에 발광 중심 파장을 가지며, 반값폭이 100㎚ 이하인 발광 강도의 피크 갖는 청색광과,Blue light having an emission center wavelength in a wavelength band of 430 to 480 nm and a peak of emission intensity with a half width of 100 nm or less; and

500∼600㎚의 파장 대역에 발광 중심 파장을 가지며, 반값폭이 100㎚ 이하인 발광 강도의 피크 갖는 녹색광과,Green light having an emission center wavelength in a wavelength band of 500 to 600 nm and a peak of emission intensity with a half width of 100 nm or less, and

600∼680㎚의 파장 대역에 발광 중심 파장을 가지며, 반값폭이 100㎚ 이하인 발광 강도의 피크 갖는 적색광,Red light having a luminous intensity peak having an emission center wavelength in a wavelength band of 600 to 680 nm and a half width of 100 nm or less,

을 발광하는 백라이트 유닛을 들 수 있다.And a backlight unit that emits light.

한층 더 휘도 및 색재현성의 향상의 관점에서, 백라이트 유닛이 발광하는 청색광의 파장 대역은, 440∼480㎚의 범위인 것이 바람직하며, 440∼460㎚의 범위인 것이 보다 바람직하다.From the viewpoint of further improving luminance and color reproducibility, the wavelength band of blue light emitted by the backlight unit is preferably in the range of 440 to 480 nm, and more preferably in the range of 440 to 460 nm.

마찬가지의 관점에서, 백라이트 유닛이 발광하는 녹색광의 파장 대역은, 510∼560㎚의 범위인 것이 바람직하며, 510∼545㎚의 범위인 것이 보다 바람직하다.From the same viewpoint, the wavelength band of green light emitted by the backlight unit is preferably in the range of 510 to 560 nm, and more preferably in the range of 510 to 545 nm.

또한, 마찬가지의 관점에서, 백라이트 유닛이 발광하는 적색광의 파장 대역은, 600∼650㎚의 범위인 것이 바람직하며, 610∼640㎚의 범위인 것이 보다 바람직하다.In addition, from the same viewpoint, the wavelength band of the red light emitted by the backlight unit is preferably in the range of 600 to 650 nm, and more preferably in the range of 610 to 640 nm.

또한 마찬가지의 관점에서, 백라이트 유닛이 발광하는 청색광, 녹색광 및 적색광의 각 발광 강도의 반값폭은, 모두 80㎚ 이하인 것이 바람직하며, 50㎚ 이하인 것이 보다 바람직하고, 40㎚ 이하인 것이 더 바람직하고, 30㎚ 이하인 것이 한층 바람직하다. 이들 중에서도, 청색광의 각 발광 강도의 반값폭이 25㎚ 이하인 것이, 특히 바람직하다.Further, from the same point of view, the half width of each light emission intensity of blue light, green light, and red light emitted by the backlight unit is preferably 80 nm or less, more preferably 50 nm or less, further preferably 40 nm or less, and 30 It is even more preferable that it is nm or less. Among these, it is particularly preferable that the half-value width of each emission intensity of blue light is 25 nm or less.

백라이트 유닛은, 적어도, 상기 파장 변환 부재와 함께, 광원을 포함한다. 일 태양에서는, 광원으로서, 430㎚∼480㎚의 파장 대역에 발광 중심 파장을 갖는 청색광을 발광하는 것, 예를 들면, 청색광을 발광하는 청색 발광 다이오드를 사용할 수 있다. 청색광을 발광하는 광원을 사용할 경우, 파장 변환층에는, 적어도, 여기광에 의해 여기되어 적색광을 발광하는 양자 도트A와, 녹색광을 발광하는 양자 도트B가 함유되는 것이 바람직하다. 이에 따라, 광원으로부터 발광되어 파장 변환 부재를 투과한 청색광과, 파장 변환 부재로부터 발광되는 적색광 및 녹색광에 의해, 백색광을 구현화할 수 있다.The backlight unit includes at least a light source together with the wavelength conversion member. In one embodiment, as a light source, one emitting blue light having a light emission center wavelength in a wavelength band of 430 nm to 480 nm, for example, a blue light emitting diode emitting blue light can be used. When a light source emitting blue light is used, it is preferable that the wavelength conversion layer contains at least quantum dots A that are excited by excitation light to emit red light, and quantum dots B that emit green light. Accordingly, white light may be realized by blue light emitted from the light source and transmitted through the wavelength conversion member, and red light and green light emitted from the wavelength conversion member.

또는 다른 태양에서는, 광원으로서, 300㎚∼430㎚의 파장 대역에 발광 중심 파장을 갖는 자외광을 발광하는 것, 예를 들면, 자외광 발광 다이오드를 사용할 수 있다. 이 경우, 파장 변환층에는, 양자 도트A, B와 함께, 여기광에 의해 여기되어 청색광을 발광하는 양자 도트C가 함유되는 것이 바람직하다. 이에 따라, 파장 변환 부재로부터 발광되는 적색광, 녹색광 및 청색광에 의해, 백색광을 구현화할 수 있다.Alternatively, in another embodiment, as a light source, an ultraviolet light emitting diode having an emission center wavelength in a wavelength band of 300 nm to 430 nm can be used, for example, an ultraviolet light emitting diode. In this case, it is preferable that the wavelength conversion layer contains quantum dots C that are excited by excitation light and emit blue light together with quantum dots A and B. Accordingly, white light may be realized by red light, green light, and blue light emitted from the wavelength conversion member.

또한 다른 태양에서는, 청색광을 발광하는 청색 레이저, 녹색광을 발광하는 녹색 레이저, 적색광을 발광하는 적색 레이저로 이루어지는 군에서 선택되는 광원의 2종을 사용하여, 이들 광원이 출사하는 광과는 다른 발광 파장을 갖는 형광을 발광하는 양자 도트를, 파장 변환층에 존재시킴에 의해, 광원으로부터 발광되는 2종의 광과, 파장 변환층의 양자 도트로부터 발광되는 광에 의해, 백색광을 구현화할 수도 있다.In another aspect, two types of light sources selected from the group consisting of a blue laser emitting blue light, a green laser emitting green light, and a red laser emitting red light are used. White light can also be realized by two types of light emitted from the light source and light emitted from the quantum dots of the wavelength conversion layer by presenting quantum dots emitting fluorescence having fluorescence in the wavelength conversion layer.

또한 다른 태양에서는, 발광 다이오드는 레이저 광원으로 대용할 수 있다.Further, in another aspect, the light emitting diode can be substituted as a laser light source.

(백라이트 유닛의 구성)(Configuration of backlight unit)

백라이트 유닛의 구성은, 도광판이나 반사판 등을 구성 부재로 하는 엣지 라이트 방식이어도, 직하형 방식이어도 된다. 도 1에는, 일 태양으로서, 엣지 라이트 방식의 백라이트 유닛의 예를 나타냈다. 도광판으로서는, 공지의 것을 하등 제한 없이 사용할 수 있다.The configuration of the backlight unit may be an edge light system in which a light guide plate, a reflection plate, or the like is used as a constituent member, or a direct type system. In Fig. 1, as an embodiment, an example of an edge light type backlight unit is shown. As the light guide plate, a known one can be used without any limitation.

또한, 백라이트 유닛은, 광원의 후부에, 반사 부재를 구비할 수도 있다. 이러한 반사 부재로서는 특히 제한은 없이, 공지의 것을 사용할 수 있으며, 일본국 특허3416302호, 일본국 특허3363565호, 일본국 특허4091978호, 일본국 특허3448626호 등에 기재되어 있고, 이들 공보의 내용은 본 발명에 도입된다.Further, the backlight unit may include a reflective member at the rear of the light source. As such a reflective member, there is no particular limitation, and known ones can be used, and are described in Japanese Patent 3416302, 363565, Japanese Patent 4091978, Japanese Patent 3448626, and the like. Is introduced into the invention.

백라이트 유닛은, 그 밖의, 공지의 확산판이나 확산 시트, 프리즘 시트(예를 들면, 스미토모쓰리엠샤제 BEF 시리즈 등), 도광기를 구비하고 있는 것도 바람직하다. 그 밖의 부재에 대해서도, 일본국 특허 제3416302호, 일본국 특허 제3363565호, 일본국 특허 제4091978호, 일본국 특허 제3448626호 등의 각 공보에 기재되어 있으며, 이들 공보의 내용은 본 발명에 도입된다.It is also preferable that the backlight unit includes other known diffusion plates, diffusion sheets, prism sheets (eg, BEF series manufactured by Sumitomo 3M, etc.), and a light guide. Other members are also described in Japanese Patent No. 3416302, Japanese Patent No. 3363565, Japanese Patent No. 4091978, Japanese Patent No. 3448626, etc., and the contents of these publications refer to the present invention. Is introduced.

[액정 표시 장치][Liquid crystal display device]

본 발명의 일 태양에 따른 액정 표시 장치는, 상술한 백라이트 유닛과, 액정셀을 적어도 포함한다.A liquid crystal display device according to an aspect of the present invention includes at least the above-described backlight unit and a liquid crystal cell.

(액정 표시 장치의 구성)(Configuration of liquid crystal display device)

액정셀의 구동 모드에 대해서는 특히 제한은 없으며, 트위스티드 네마틱(TN), 수퍼 트위스티드 네마틱(STN), 버티컬 얼라인먼트(VA), 인플레인 스위칭(IPS), 옵티컬리 컴펜세이티드 밴드 셀(OCB) 등의 각종 모드를 이용할 수 있다. 액정셀은, VA 모드, OCB 모드, IPS 모드, 또는 TN 모드인 것이 바람직하지만, 이들로 한정되는 것은 아니다. VA 모드의 액정 표시 장치의 구성으로서는, 일본국 특개2008-262161호 공보의 도 2에 나타내는 구성을 일례로서 들 수 있다. 단, 액정 표시 장치의 구체적 구성에는 특히 제한은 없으며, 공지의 구성을 채용할 수 있다.There is no particular limitation on the driving mode of the liquid crystal cell, and twisted nematic (TN), super twisted nematic (STN), vertical alignment (VA), in-plane switching (IPS), optically compensated band cell (OCB) Various modes such as can be used. The liquid crystal cell is preferably in a VA mode, an OCB mode, an IPS mode, or a TN mode, but is not limited thereto. As an example of the configuration of a liquid crystal display device in VA mode, the configuration shown in Fig. 2 of Japanese Unexamined Patent Application Publication No. 2008-262161 is exemplified. However, there is no particular limitation on the specific configuration of the liquid crystal display device, and a known configuration can be adopted.

액정 표시 장치의 일 실시형태에서는, 대향하는 적어도 한쪽에 전극을 마련한 기판간에 액정층을 협지한 액정셀을 가지며, 이 액정셀은 2매의 편광판의 사이에 배치해서 구성된다. 액정 표시 장치는, 상하 기판간에 액정이 봉입된 액정셀을 구비하며, 전압 인가에 의해 액정의 배향 상태를 변화시켜서 화상의 표시를 행한다. 추가로 필요에 따라서 편광판 보호 필름이나 광학 보상을 행하는 광학 보상 부재, 접착층 등의 부수하는 기능층을 갖는다. 또한, 컬러 필터 기판, 박층 트랜지스터 기판, 렌즈 필름, 확산 시트, 하드 코팅층, 반사 방지층, 저반사층, 안티 글레어층 등과 함께(또는 그 대신에), 전방 산란층, 프라이머층, 대전 방지층, 언더 코팅층 등의 표면층이 배치되어 있어도 된다.In one embodiment of a liquid crystal display device, a liquid crystal cell is provided in which a liquid crystal layer is sandwiched between substrates provided with electrodes on at least one of the opposite sides, and this liquid crystal cell is configured by being disposed between two polarizing plates. A liquid crystal display device includes a liquid crystal cell filled with a liquid crystal between upper and lower substrates, and displays an image by changing the alignment state of the liquid crystal by applying a voltage. In addition, it has an accompanying functional layer such as a polarizing plate protective film, an optical compensation member for performing optical compensation, and an adhesive layer, if necessary. In addition, with (or instead of) a color filter substrate, a thin layer transistor substrate, a lens film, a diffusion sheet, a hard coating layer, an antireflection layer, a low reflection layer, an anti-glare layer, etc., a front scattering layer, a primer layer, an antistatic layer, an undercoat layer, etc. The surface layer of may be disposed.

도 2에, 본 발명의 일 태양에 따른 액정 표시 장치의 일례를 나타낸다. 도 2에 나타내는 액정 표시 장치(51)는, 액정셀(21)의 백라이트측의 면에 백라이트측 편광판(14)을 갖는다. 백라이트측 편광판(14)은, 백라이트측 편광자(12)의 백라이트측의 표면에, 편광판 보호 필름(11)을 포함하고 있어도 되고, 포함하고 있지 않아도 되지만, 포함하고 있는 것이 바람직하다.2 shows an example of a liquid crystal display device according to an aspect of the present invention. The liquid crystal display device 51 shown in FIG. 2 has a backlight-side polarizing plate 14 on the surface of the liquid crystal cell 21 on the backlight side. The backlight-side polarizing plate 14 may or may not contain the polarizing plate protective film 11 on the surface of the backlight-side polarizer 12 on the backlight side, but is preferably included.

백라이트측 편광판(14)은, 편광자(12)가, 2매의 편광판 보호 필름(11 및 13)으로 끼워진 구성인 것이 바람직하다.It is preferable that the backlight-side polarizing plate 14 has a configuration in which the polarizer 12 is sandwiched between two polarizing plate protective films 11 and 13.

본 명세서 중, 편광자에 대해서 액정셀에 가까운 측의 편광판 보호 필름을 이너측 편광판 보호 필름이라 하고, 편광자에 대해서 액정셀로부터 먼 측의 편광판 보호 필름을 아우터측 편광판 보호 필름이라 한다. 도 2에 나타내는 예에서는, 편광판 보호 필름(13)이 이너측 편광판 보호 필름이고, 편광판 보호 필름(11)이 아우터측 편광판 보호 필름이다.In the present specification, the polarizing plate protective film on the side close to the liquid crystal cell with respect to the polarizer is referred to as the inner polarizing plate protective film, and the polarizing plate protective film on the side far from the liquid crystal cell with respect to the polarizer is referred to as the outer polarizing plate protective film. In the example shown in FIG. 2, the polarizing plate protective film 13 is an inner-side polarizing plate protective film, and the polarizing plate protective film 11 is an outer-side polarizing plate protective film.

백라이트측 편광판은, 액정셀측의 이너측 편광판 보호 필름으로서, 위상차 필름을 갖고 있어도 된다. 이러한 위상차 필름으로서는, 공지의 셀룰로오스아실레이트 필름 등을 사용할 수 있다.The backlight-side polarizing plate may have a retardation film as an inner-side polarizing plate protective film on the liquid crystal cell side. As such a retardation film, a known cellulose acylate film or the like can be used.

액정 표시 장치(51)는, 액정셀(21)의 백라이트측의 면과는 반대측의 면에, 표시측 편광판(44)을 갖는다. 표시측 편광판(44)은, 편광자(42)가, 2매의 편광판 보호 필름(41 및 43)으로 끼워진 구성이다. 편광판 보호 필름(43)이 이너측 편광판 보호 필름이고, 편광판 보호 필름(41)이 아우터측 편광판 보호 필름이다.The liquid crystal display device 51 has a display-side polarizing plate 44 on a surface of the liquid crystal cell 21 on the side opposite to the surface on the backlight side. The display-side polarizing plate 44 has a configuration in which the polarizer 42 is sandwiched between two polarizing plate protective films 41 and 43. The polarizing plate protective film 43 is an inner-side polarizing plate protective film, and the polarizing plate protective film 41 is an outer-side polarizing plate protective film.

액정 표시 장치(51)가 갖는 백라이트 유닛(1)에 대해서는, 앞서 기재한 바와 같다.The backlight unit 1 included in the liquid crystal display device 51 is as described above.

본 발명의 일 태양에 따른 액정 표시 장치를 구성하는 액정셀, 편광판, 편광판 보호 필름 등에 대해서는 특히 한정은 없으며, 공지의 방법으로 제작되는 것이나 시판품을, 하등 제한 없이 사용할 수 있다. 또한, 각 층의 사이에, 접착층 등의 공지의 중간층을 마련하는 것도, 물론 가능하다.There is no particular limitation on a liquid crystal cell, a polarizing plate, a polarizing plate protective film, and the like constituting the liquid crystal display according to an aspect of the present invention, and a product manufactured by a known method or a commercially available product may be used without any limitation. In addition, it is of course possible to provide a known intermediate layer such as an adhesive layer between the respective layers.

[실시예] [Example]

이하에 실시예에 의거하여 본 발명을 더 구체적으로 설명한다. 이하의 실시예에 나타내는 재료, 사용량, 비율, 처리 내용, 처리 수순 등은, 본 발명의 취지를 일탈하지 않는 한 적의 변경할 수 있다. 따라서, 본 발명의 범위는 이하에 나타내는 구체예에 의해 한정적으로 해석되어야 하는 것은 아니다.Hereinafter, the present invention will be described in more detail based on examples. Materials, amounts used, ratios, treatment contents, treatment procedures, and the like shown in the following examples can be appropriately changed without departing from the gist of the present invention. Therefore, the scope of the present invention should not be limitedly interpreted by the specific examples shown below.

(실시예 1)(Example 1)

1. 배리어 필름(10)의 제작1. Fabrication of the barrier film 10

폴리에틸렌테레프탈레이트 필름(PET 필름, 도요보샤제, 상품명 : 코스모샤인(등록상표)A4300, 두께 50㎛, 폭 1000㎜, 길이 100m)의 편면측에 이하의 수순으로 유기층 및 무기층을 순차 형성했다.An organic layer and an inorganic layer were sequentially formed on one side of a polyethylene terephthalate film (PET film, manufactured by Toyobo Corporation, trade name: Cosmo Shine (registered trademark) A4300, thickness 50 µm, width 1000 mm, length 100 m) by the following procedure.

트리메틸올프로판트리아크릴레이트(다이셀사이테크샤제 TMPTA) 및 광중합개시제(람베르티사제, ESACURE KTO46)를 준비하고, 질량 비율로서, 전자:후자=95:5로 되도록 칭량하고, 이들을 메틸에틸케톤에 용해시켜, 고형분 농도 15%의 도포액으로 했다. 이 도포액을, 다이 코터를 사용해서 롤-투-롤로 상기 PET 필름 위에 도포하고, 50℃의 건조존을 3분간 통과시켰다. 그 후, 질소 분위기 하에서 자외선을 조사(적산 조사량 약 600mJ/㎠)하여, 자외선 경화로 경화시키고, 권취했다. 지지체 위에 형성된 제1 유기층의 두께는, 1㎛였다.Trimethylolpropane triacrylate (TMPTA manufactured by Daicel Cytech Co., Ltd.) and a photoinitiator (manufactured by Lamberti, ESACURE KTO46) were prepared and weighed so that the former: the latter = 95:5 as a mass ratio, and these were added to methyl ethyl ketone. It was dissolved and set as a coating liquid having a solid content concentration of 15%. This coating liquid was applied on the PET film by roll-to-roll using a die coater, and passed through a drying zone at 50°C for 3 minutes. Thereafter, ultraviolet rays were irradiated under a nitrogen atmosphere (accumulated irradiation amount of about 600 mJ/cm 2 ), cured by ultraviolet curing, and wound up. The thickness of the first organic layer formed on the support was 1 µm.

다음으로, 롤-투-롤의 CVD(Chemical Vapor Deposition) 장치를 사용해서, 제1 유기층의 표면에 무기층(질화규소층)을 형성했다. 원료 가스로서, 실란 가스(유량 160sccm), 암모니아 가스(유량 370sccm), 수소 가스(유량 590sccm), 및 질소 가스(유량 240sccm)를 사용했다. 전원으로서, 주파수 13.56㎒의 고주파 전원을 사용했다. 성막 압력은 40㎩, 도달 막두께는 50㎚였다. 이렇게 해서 제1 유기층의 표면에 무기층이 적층된 배리어 필름(10)을 제작했다.Next, an inorganic layer (silicon nitride layer) was formed on the surface of the first organic layer using a roll-to-roll CVD (Chemical Vapor Deposition) device. As the raw material gas, silane gas (flow rate 160 sccm), ammonia gas (flow rate 370 sccm), hydrogen gas (flow rate 590 sccm), and nitrogen gas (flow rate 240 sccm) were used. As the power source, a high-frequency power source with a frequency of 13.56 MHz was used. The film forming pressure was 40 Pa and the resulting film thickness was 50 nm. In this way, the barrier film 10 in which the inorganic layer was laminated on the surface of the first organic layer was produced.

2. 파장 변환층의 제작2. Fabrication of wavelength conversion layer

양자 도트 함유 중합성 조성물로서, 하기의 양자 도트 분산액1을 조제하고, 공경 0.2㎛의 폴리프로필렌제 필터로 여과한 후, 30분간 감압 건조해서 도포액으로서 사용했다. 이하의 톨루엔 분산액 중의 양자 도트 농도는, 1질량%였다.As a quantum dot-containing polymerizable composition, the following quantum dot dispersion liquid 1 was prepared, filtered through a filter made of polypropylene having a pore diameter of 0.2 µm, dried under reduced pressure for 30 minutes, and used as a coating liquid. The quantum dot concentration in the following toluene dispersion was 1% by mass.

Figure 112015046624822-pat00018
Figure 112015046624822-pat00018

양자 도트1, 2로서는, 하기의 코어-쉘 구조(InP/ZnS)를 갖는 나노 결정을 사용했다.As quantum dots 1 and 2, nanocrystals having the following core-shell structure (InP/ZnS) were used.

양자 도트1 : INP530―10(NN-labs사제)Quantum dot 1: INP530-10 (manufactured by NN-labs)

양자 도트2 : INP620-10(NN-labs사제)Quantum dot 2: INP620-10 (manufactured by NN-labs)

양자 도트 분산액1의 점도는 50m㎩·s였다.The viscosity of the quantum dot dispersion 1 was 50 mPa·s.

실란 커플링제A Silane coupling agent A

Figure 112015046624822-pat00019
Figure 112015046624822-pat00019

광산발생제aPhotoacid generator a

Figure 112015046624822-pat00020
Figure 112015046624822-pat00020

상술한 수순으로 제작한 배리어 필름(10)을 제1, 제2 필름으로서 사용하고, 도 3 및 도 4를 참조하여 설명한 제조 공정에 의해, 파장 변환 부재1을 얻었다. 구체적으로는, 제1 필름으로서 배리어 필름(10)을 1m/분, 60N/m의 장력으로 연속 반송하면서, 다이 코터로부터 도포액을 제1 필름의 표면에 도포하여, 50㎛의 두께의 도막을 형성했다. 다음으로, 도막이 형성된 제1 필름을 백업 롤러에 감아 걸치고, 도막 위에 다른 배리어 필름(10)인 제2 필름을 라미네이트했다. 제1 필름과 제2 필름으로 도막을 협지한 상태에서 백업 롤러에 감아 걸치고, 연속 반송하면서 자외선을 조사했다. 백업 롤러의 직경은 φ300㎜이고, 백업 롤러의 온도는 50℃였다. 자외선의 조사량은 2000mJ/㎠였다. 또한, L1은 50㎜, L2는 1㎜, L3은 50㎜였다.The barrier film 10 produced by the above-described procedure was used as the first and second films, and the wavelength conversion member 1 was obtained by the manufacturing process described with reference to FIGS. 3 and 4. Specifically, while continuously conveying the barrier film 10 as a first film at a tension of 1 m/min and 60 N/m, a coating liquid was applied to the surface of the first film from a die coater to form a 50 μm thick coating Formed. Next, the 1st film on which the coating film was formed was wound over a backup roller, and the 2nd film which is another barrier film 10 was laminated on the coating film. In the state where the coating film was sandwiched between the first film and the second film, it was wound on a backup roller and irradiated with ultraviolet rays while continuously conveying. The diameter of the backup roller was 300 mm, and the temperature of the backup roller was 50°C. The irradiation amount of ultraviolet rays was 2000 mJ/cm 2. In addition, L1 was 50 mm, L2 was 1 mm, and L3 was 50 mm.

자외선의 조사에 의해 도막을 경화시켜서 파장 변환층(경화층)을 형성하여, 파장 변환 부재1을 제조했다. 파장 변환 부재의 경화층의 두께는 약 50㎛였다. 이렇게 해서, 파장 변환층의 양 표면 위에 각각 배리어 필름(10)을 가지며, 또한 파장 변환층의 양 주표면이 배리어 필름(10)의 무기층과 직접 접해 있는 파장 변환 부재1을 얻었다.The coating film was cured by irradiation of ultraviolet rays to form a wavelength conversion layer (cured layer), and a wavelength conversion member 1 was manufactured. The thickness of the cured layer of the wavelength conversion member was about 50 µm. In this way, a wavelength converting member 1 having the barrier films 10 on both surfaces of the wavelength converting layer, and in which both main surfaces of the wavelength converting layer are in direct contact with the inorganic layer of the barrier film 10 was obtained.

(실시예 2)(Example 2)

실시예 1에 있어서, 광산발생제a를 하기 광산발생제b(하기 2종의 염의 혼합물 : 다우케미컬제 UVI-6990, 하기에 있어서 n은 반복 단위수)로 변경한 점 이외는 마찬가지로 해서, 파장 변환 부재2를 제작했다.In Example 1, except that the photoacid generator a was changed to the following photoacid generator b (a mixture of the following two salts: UVI-6990 manufactured by Dow Chemical, where n is the number of repeating units), the wavelength The conversion member 2 was produced.

광산발생제bPhotoacid generator b

Figure 112015046624822-pat00021
Figure 112015046624822-pat00021

(실시예 3)(Example 3)

실시예 1에 있어서, 광산발생제a를 광산발생제c(트리페닐설포늄-트리플루오로메탄설포네이트)로 변경한 점 이외는 마찬가지로 해서, 파장 변환 부재3을 제작했다.In Example 1, the wavelength conversion member 3 was produced in the same manner except that the photoacid generator a was changed to the photoacid generator c (triphenylsulfonium-trifluoromethanesulfonate).

(실시예 4)(Example 4)

실시예 1에 있어서, 광산발생제를 열산발생제d(파라톨루엔설폰산트리에틸아민염)로 변경하고, 라미네이트의 방법을 이하와 같이 변경한 점 이외는 마찬가지로 해서, 파장 변환 부재4를 제작했다.In Example 1, the photoacid generator was changed to the thermal acid generator d (paratoluene sulfonic acid triethylamine salt), except that the method of lamination was changed as follows, and a wavelength conversion member 4 was produced. .

제1 필름을 1m/분, 60N/m의 장력으로 연속 반송하면서, 다이 코터로부터 도포액을 제1 필름(배리어 필름(10))의 표면에 도포하여, 50㎛의 두께의 도막을 형성했다. 다음으로, 도막이 형성된 제1 필름을 온풍에 의한 존 가열에 의해 100℃ 2분간 가열했다. 그 후, 백업 롤러에 감아 걸치고, 도막 위에 제2 필름으로서 다른 배리어 필름(10)을 라미네이트했다. 제1 필름과 제2 필름으로 도막을 협지한 상태에서 백업 롤러에 감아 걸치고, 연속 반송하면서 자외선을 조사했다. 백업 롤러의 직경은 φ300㎜이고, 백업 롤러의 온도는 50℃였다. 자외선의 조사량은 2000mJ/㎠였다. 또한, L1은 50㎜, L2는 1㎜, L3은 50㎜였다.While continuously conveying the first film at a tension of 1 m/min and 60 N/m, a coating liquid was applied from a die coater to the surface of the first film (barrier film 10) to form a coating film having a thickness of 50 μm. Next, the 1st film on which the coating film was formed was heated for 2 minutes at 100 degreeC by zone heating by warm air. Thereafter, it was wound around a backup roller, and another barrier film 10 was laminated on the coating film as a second film. In the state where the coating film was sandwiched between the first film and the second film, it was wound around a backup roller and irradiated with ultraviolet rays while continuously conveying. The diameter of the backup roller was 300 mm, and the temperature of the backup roller was 50°C. The irradiation amount of ultraviolet rays was 2000 mJ/cm 2. In addition, L1 was 50 mm, L2 was 1 mm, and L3 was 50 mm.

자외선의 조사에 의해 도막을 경화시켜서 파장 변환층(경화층)을 형성하여, 파장 변환 부재4를 제조했다. 파장 변환 부재의 경화층의 두께는 약 50㎛였다. 이렇게 해서, 파장 변환층의 양 표면 위에 각각 배리어 필름(10)을 가지며, 또한 파장 변환층의 양 주표면이 배리어 필름(10)의 무기층과 직접 접해 있는 파장 변환 부재4를 얻었다.The coating film was cured by irradiation of ultraviolet rays to form a wavelength conversion layer (cured layer), and a wavelength conversion member 4 was manufactured. The thickness of the cured layer of the wavelength conversion member was about 50 µm. In this way, a wavelength converting member 4 having the barrier films 10 on both surfaces of the wavelength converting layer, and in which both main surfaces of the wavelength converting layer are in direct contact with the inorganic layer of the barrier film 10 was obtained.

(실시예 5)(Example 5)

양자 도트 함유 중합성 조성물로서, 하기의 양자 도트 분산액5를 사용한 점 이외는, 실시예 1과 마찬가지로 해서 파장 변환 부재5를 제작했다. 하기 양자 도트1, 2의 톨루엔 분산액은, 양자 도트 분산액1에서 사용한 것과 같다.As the quantum dot-containing polymerizable composition, a wavelength conversion member 5 was produced in the same manner as in Example 1 except that the following quantum dot dispersion 5 was used. The toluene dispersions of the following quantum dots 1 and 2 are the same as those used in the quantum dot dispersion 1.

Figure 112015046624822-pat00022
Figure 112015046624822-pat00022

실란 커플링제BSilane coupling agent B

Figure 112015046624822-pat00023
Figure 112015046624822-pat00023

(실시예 6)(Example 6)

실시예 1에 있어서, 광산발생제a를 다음에 나타내는 광산발생제e(상술한 PAG3-1)로 변경한 점 이외는 마찬가지로 해서, 파장 변환 부재6을 제작했다.In Example 1, a wavelength conversion member 6 was produced in the same manner except that the photoacid generator a was changed to the photoacid generator e shown below (PAG3-1 described above).

광산발생제ePhotoacid generator e

Figure 112015046624822-pat00024
Figure 112015046624822-pat00024

(실시예 7)(Example 7)

실시예 1에 있어서, 광산발생제a를 다음에 나타내는 광산발생제f로 변경한 점 이외는 마찬가지로 해서, 파장 변환 부재7을 제작했다.In Example 1, the wavelength conversion member 7 was produced in the same manner except that the photo-acid generator a was changed to the photo-acid generator f shown below.

광산발생제f(도쿄가세이고교샤제 T1608)Mine generator f (T1608 manufactured by Kasei Kogyo, Tokyo)

Figure 112015046624822-pat00025
Figure 112015046624822-pat00025

(실시예 8)(Example 8)

실시예 5에 있어서, 광산발생제a를 상기한 광산발생제f로 변경한 점 이외는 마찬가지로 해서, 파장 변환 부재8을 제작했다.In Example 5, the wavelength conversion member 8 was produced in the same manner except that the photo-acid generator a was changed to the above-described photo-acid generator f.

(비교예 1)(Comparative Example 1)

실시예 1에 있어서, 광산발생제를 첨가하지 않았던 점 이외는 마찬가지로 해서, 파장 변환 부재11을 제작했다.In Example 1, a wavelength conversion member 11 was produced in the same manner except that a photoacid generator was not added.

(비교예 2)(Comparative Example 2)

양자 도트 함유 중합성 조성물로서, 하기의 양자 도트 분산액12를 사용한 점 이외는, 실시예 1과 마찬가지로 해서 파장 변환 부재12를 제작했다. 하기 양자 도트1, 2의 톨루엔 분산액은, 양자 도트 분산액1에서 사용한 것과 같다.As the quantum dot-containing polymerizable composition, a wavelength conversion member 12 was produced in the same manner as in Example 1 except that the following quantum dot dispersion liquid 12 was used. The toluene dispersions of the following quantum dots 1 and 2 are the same as those used in the quantum dot dispersion 1.

Figure 112015046624822-pat00026
Figure 112015046624822-pat00026

(비교예 3)(Comparative Example 3)

양자 도트 함유 중합성 조성물로서, 하기의 양자 도트 분산액13을 사용한 점 이외는, 실시예 1과 마찬가지로 해서 파장 변환 부재13를 제작했다. 하기 양자 도트1, 2의 톨루엔 분산액은, 양자 도트 분산액1에서 사용한 것과 같다.As the quantum dot-containing polymerizable composition, a wavelength conversion member 13 was produced in the same manner as in Example 1 except that the following quantum dot dispersion liquid 13 was used. The toluene dispersions of the following quantum dots 1 and 2 are the same as those used in the quantum dot dispersion 1.

Figure 112015046624822-pat00027
Figure 112015046624822-pat00027

프로톤산2Protonic acid2

Figure 112015046624822-pat00028
Figure 112015046624822-pat00028

(비교예 4)(Comparative Example 4)

실시예 5에 있어서, 광산발생제a(BASF사제 이르가큐어250) 대신에, 프로톤산1(파라톨루엔설폰산)을 동량 가한 이외는 실시예 5와 마찬가지로 해서 파장 변환 부재14를 제작했다.In Example 5, a wavelength conversion member 14 was produced in the same manner as in Example 5 except that the same amount of protonic acid 1 (paratoluenesulfonic acid) was added instead of the photoacid generator a (Irgacure 250 manufactured by BASF).

실시예에서 사용한 광산발생제 및 열산발생제는, 에너지 부여(광조사, 가열)에 의해 프로톤산을 발생시킨다. 발생하는 프로톤산은, 상기 구조 중의 음이온부에 프로톤H+가 부가한 구조를 갖는다. 이렇게 해서 발생하는 프로톤산의 분자량을, 후술하는 표 2에 나타낸다. 아울러서, 비교예에서 사용한 후술하는 프로톤산의 분자량도 표 2에 나타낸다.The photoacid generator and thermal acid generator used in the examples generate protonic acid by imparting energy (light irradiation, heating). The generated protonic acid has a structure in which proton H + is added to the anion portion in the above structure. The molecular weight of the protonic acid generated in this way is shown in Table 2 described later. In addition, the molecular weight of the protonic acid mentioned later used in the comparative example is also shown in Table 2.

<밀착성(펀칭 후의 계면 벗겨짐 유무)의 평가 방법><Evaluation method of adhesion (existence of interface peeling off after punching)>

제작한 파장 변환 부재를, 온도 25℃ 상대 습도 60%로 유지된 방에 두고 조습을 1시간 행한 후에, 4㎝×4㎝의 톰슨 커터(Thomson cutter)에 의한 펀칭기에 의하여 펀칭해서 5매의 시트 시료를 얻었다.The prepared wavelength conversion member is placed in a room maintained at a temperature of 25°C and 60% relative humidity, humidity is controlled for 1 hour, and then punched by a punching machine using a 4cm×4cm Thomson cutter, and five sheets of sheet. A sample was obtained.

펀칭한 4㎝×4㎝의 평면 보기가 정방형인 시트 시료에 대하여, 그 정방형의 각 변에 있어서의 파장 변환층과 배리어 필름과의 계면의 벗겨짐 상태를, 이하의 기준에 의거해서, 1시료당 4점을 최고점으로 해서 점수화했다.With respect to the punched 4cm×4cm square sheet sample, the peeling state of the interface between the wavelength conversion layer and the barrier film on each side of the square was determined per 1 sample based on the following criteria. The score was scored with 4 as the highest score.

0.00점 : 계면의 벗겨짐의 발생이 없음0.00 points: no occurrence of peeling of the interface

0.25점 : 계면의 벗겨짐이 발생해 있는 영역이, 한 변의 25% 이하0.25 points: The area where peeling of the interface occurs is 25% or less of one side

0.50점 : 계면의 벗겨짐이 발생해 있는 영역이, 한 변의 25% 초과 내지 50% 이하0.50 points: The area where peeling of the interface occurs is more than 25% to 50% of one side

0.75점 : 계면의 벗겨짐이 발생해 있는 영역이, 한 변의 50% 초과 내지 75%이하0.75 points: The area where peeling of the interface occurs is more than 50% to less than 75% of one side

1.00점 : 계면의 벗겨짐이 발생해 있는 영역이, 한 변의 75% 초과1.00 points: The area where peeling of the interface occurs is more than 75% of one side

5매의 시트 시료에 대하여 점수를 합계하고, 이하와 같이 평가를 행하여, 그 결과를 하기 표 2에 기재했다.The scores were totaled for five sheet samples, and evaluation was performed as follows, and the results are shown in Table 2 below.

A : 점수 0점 이상 5점 이하A: Score 0 or more and 5 or less

B : 점수 5점 초과 10점 이하B: More than 5 points and 10 points or less

C : 점수 10점 초과 15점 이하C: More than 10 points and 15 points or less

D : 점수 15점 초과 20점 이하D: More than 15 points and 20 points or less

<액안정성(이물 발생 유무)의 평가 방법><Method of evaluating liquid stability (existence of foreign matter)>

실시예, 비교예의 파장 변환 부재(시트 시료)를 양자 도트 분산액의 조액(調液) 직후(1시간 이내)에 제작한 경우와, 온도 25℃ 상대 습도 60%의 방에서 조액 후, 같은 방 중에서 3일간 보관 후에 제작한 경우에서, 1평방미터당의 괴상의 이물의 증가 개수(보관 후-조액 직후)를 측정하고, 순위 매김했다. 괴상의 이물의 개수는, 1평방미터 사이즈의 크로스 니콜 배치한 2매의 편광판의 사이에 상기 시트 시료를 끼워 목시(目視)로 관찰하여 계측했다. 이물의 사이즈는 10㎛∼500㎛ 정도였다.In the case where the wavelength conversion member (sheet sample) of Examples and Comparative Examples was prepared immediately (within 1 hour) of the quantum dot dispersion solution, and after the solution was prepared in a room at a temperature of 25°C and a relative humidity of 60%, in the same room. In the case of production after storage for 3 days, the number of increase in bulk foreign matter per square meter (after storage-immediately after the crude liquid) was measured and ranked. The number of lump-shaped foreign matters was measured by visually observing the sheet sample between two polarizing plates having a 1-square-meter cross-Nicol arrangement. The size of the foreign material was about 10 µm to 500 µm.

1평방미터당의 괴상의 이물의 증가 개수로부터, 이하의 평가 기준에 따라 액안정성을 평가했다. 결과를, 하기 표 2에 나타낸다.The liquid stability was evaluated according to the following evaluation criteria from the increase number of the bulky foreign matter per 1 square meter. The results are shown in Table 2 below.

(평가 기준)(Evaluation standard)

A : 1개 미만A: less than 1

B : 1개 이상 5개 미만B: 1 or more and less than 5

C : 5개 이상C: 5 or more

<액정 표시 장치의 제조><Manufacture of liquid crystal display device>

시판의 태블릿 단말(Amazon사제 Kindle(등록상표)Fire HDX 7")을 분해하여, 백라이트 유닛을 취출(取出)했다. 취출한 백라이트 유닛의 도광판 위에 직사각형으로 잘라낸 실시예, 비교예의 파장 변환 부재를 놓고, 그 위에 표면 요철 패턴의 방향이 직교한 2매의 프리즘 시트를 겹쳐 놓고, 액정 표시 장치를 제작했다.A commercially available tablet terminal (Amazon's Kindle (registered trademark) Fire HDX 7") was disassembled, and the backlight unit was taken out. On the light guide plate of the taken out backlight unit, the wavelength conversion members of Examples and Comparative Examples were placed on the light guide plate. Then, two prism sheets in which the directions of the surface irregularities pattern were orthogonal were stacked on top of each other to produce a liquid crystal display device.

<외주 영역에 있어서의 휘도 저하의 평가 방법><Evaluation method of luminance decrease in the outer circumferential region>

제작한 액정 표시 장치를 점등하여, 화각(angle of view)을 작게 할 수 있도록 충분히 먼 쪽(2m 이상 떨어진 곳)에서, 전화면(全畵面)의 휘도를 진정면(眞正面)으로부터 이미징 색채 휘도계(프로메트릭 라디언트 이미징사제)로 측정했다. 측정 결과로부터, 외주 영역(화면 4변의 끝에서부터 내측 1㎝까지의 영역)에 있어서, 화면 중앙부에서 측정되는 휘도로부터 15% 이상 휘도가 저하해 있는 영역의 비율을 구하고, 이하의 평가 기준에 따라 평가했다. 결과를 하기 표 2에 나타낸다.By turning on the manufactured liquid crystal display, the luminance of the entire screen is imaged from the true surface from a far enough distance (at least 2m away) to reduce the angle of view. It measured with a luminance meter (manufactured by Prometric Radiant Imaging). From the measurement result, in the outer circumferential area (area from the edge of the 4 sides of the screen to 1 cm inside), the ratio of the area in which the luminance has decreased by 15% or more from the luminance measured at the center of the screen is calculated, and evaluated according to the following evaluation criteria. did. The results are shown in Table 2 below.

(평가 기준)(Evaluation standard)

A : 15% 이상의 휘도 저하가 발생해 있는 영역이, 외주 영역의 25% 이하A: The area where the luminance decrease of 15% or more has occurred is 25% or less of the outer circumferential area.

B : 15% 이상의 휘도 저하가 발생해 있는 영역이, 외주 영역의 25% 초과 50% 이하B: The area where the luminance decrease of 15% or more has occurred is more than 25% and 50% or less of the outer circumference area

C : 15% 이상의 휘도 저하가 발생해 있는 영역이, 외주 영역의 50% 초과 75%이하C: The area where the luminance decrease of 15% or more has occurred is more than 50% and less than 75% of the outer circumference area

D : 15% 이상의 휘도 저하가 발생해 있는 영역이, 외주 영역의 75% 초과D: The area in which the luminance decrease by 15% or more has occurred exceeds 75% of the outer circumferential area.

[표 2] [Table 2]

Figure 112015046624822-pat00029
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Figure 112015046624822-pat00030
Figure 112015046624822-pat00030

평가 결과Evaluation results

표 2에 나타내는 결과로부터, 실시예의 파장 변환 부재는, 펀칭에 의한 파장 변환층과 배리어 필름과의 계면 단부의 박리가 적어, 파장 변환층과 배리어 필름과의 밀착성이 양호한 것을 확인할 수 있다.From the results shown in Table 2, it can be confirmed that the wavelength conversion member of the example exhibits little peeling at the end of the interface between the wavelength conversion layer and the barrier film by punching, and has good adhesion between the wavelength conversion layer and the barrier film.

표 2에 나타내는 바와 같이 실시예의 파장 변환 부재를 구비한 액정 표시 장치에 있어서 외주 영역에 있어서의 휘도 저하가 억제되어 있는 것에 대해서는, 본 발명자들은, 파장 변환층과 배리어 필름과의 계면 단부의 박리가 적어 계면 단부로부터 파장 변환층에의 산소의 침입이 억제되어 있음에 의해, 양자 도트의 발광 효율이 단부에 있어서도 양호하게 유지되어 있는 것을 나타내는 결과인 것으로 생각하고 있다.As shown in Table 2, in the liquid crystal display device provided with the wavelength conversion member of the example, for the fact that the decrease in luminance in the outer circumferential region was suppressed, the present inventors found that the peeling of the interface end between the wavelength conversion layer and the barrier film It is considered that this is a result showing that the invasion of oxygen from the interface end to the wavelength conversion layer is suppressed so that the luminous efficiency of the quantum dot is well maintained at the end.

또한, 표 2에 나타내는 바와 같이, 실시예에서 사용한 양자 도트 함유 중합성 조성물은, 액안정성도 양호했다. 이 점에는, 실시예에서는 비교예와 달리 광조사나 가열과 같은 에너지 부여에 의하여 프로톤산을 발생시키는 산발생제를 사용한 것이 기여해 있는 것으로, 본 발명자들은 추찰하고 있다.In addition, as shown in Table 2, the quantum dot-containing polymerizable composition used in Examples also had good liquid stability. In this regard, the present inventors speculate that the use of an acid generator that generates protonic acid by application of energy such as light irradiation or heating, unlike in the comparative examples, contributes to this point.

본 발명은, 액정 표시 장치의 제조 분야에 있어서 유용하다.The present invention is useful in the field of manufacturing a liquid crystal display device.

Claims (21)

여기광(勵起光)에 의해 여기되어 형광을 발광하는 양자 도트, 중합성 화합물, 실란 커플링제, 및, 에너지 부여에 의해 프로톤산을 발생시키는 산발생제를 함유하는 양자 도트 함유 중합성 조성물에, 상기 프로톤산을 발생시키는 에너지 부여 및 중합 처리를 동시 또는 순차 실시하여 형성된 파장 변환층, 그리고,
상기 파장 변환층의 한쪽의 주표면(主表面)과 인접하는 인접층
을 적어도 포함하는, 잘라낸 파장 변환 부재.
In a quantum dot-containing polymerizable composition containing a quantum dot excited by excitation light to emit fluorescence, a polymerizable compound, a silane coupling agent, and an acid generator that generates a protonic acid by imparting energy , A wavelength conversion layer formed by simultaneously or sequentially performing energy application and polymerization treatment to generate the protonic acid, and,
Adjacent layer adjacent to one main surface of the wavelength conversion layer
The cut-out wavelength conversion member containing at least.
제1항에 있어서,
상기 산발생제는, 광조사에 의한 에너지 부여에 의해 프로톤산을 발생시키는 광산발생제(光酸發生劑) 및 가열에 의한 에너지 부여에 의해 프로톤산을 발생시키는 열산발생제(熱酸發生劑)로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1종인, 잘라낸 파장 변환 부재.
The method of claim 1,
The acid generator is a photoacid generator that generates protonic acid by imparting energy by light irradiation, and a thermal acid generator that generates protonic acid by imparting energy by heating. At least one selected from the group consisting of, the cut-out wavelength conversion member.
제1항 또는 제2항에 있어서,
상기 인접층은, 무기층인 파장 변환 부재.
The method according to claim 1 or 2,
The adjacent layer is a wavelength conversion member which is an inorganic layer.
제1항 또는 제2항에 있어서,
상기 파장 변환층의 한쪽의 주표면과 인접하는 인접층 및 다른 쪽의 주표면과 인접하는 인접층을 갖는 파장 변환 부재.
The method according to claim 1 or 2,
A wavelength conversion member having an adjacent layer adjacent to one major surface of the wavelength conversion layer and an adjacent layer adjacent to the other major surface.
제4항에 있어서,
상기 2개의 인접층은, 모두 무기층인 파장 변환 부재.
The method of claim 4,
The two adjacent layers are both inorganic layers.
제1항 또는 제2항에 있어서,
상기 파장 변환층의 두께는, 10∼300㎛의 범위인 파장 변환 부재.
The method according to claim 1 or 2,
The wavelength conversion member has a thickness of the wavelength conversion layer in the range of 10 to 300 µm.
제1항 또는 제2항에 기재된 파장 변환 부재와,
광원,
을 적어도 포함하는 백라이트 유닛.
The wavelength conversion member according to claim 1 or 2, and
Light source,
A backlight unit comprising at least.
제7항에 있어서,
상기 광원은, 430㎚∼480㎚의 파장 대역에 발광 중심 파장을 갖는 백라이트 유닛.
The method of claim 7,
The light source is a backlight unit having a light emission center wavelength in a wavelength band of 430 nm to 480 nm.
제7항에 기재된 백라이트 유닛과,
액정셀
을 적어도 포함하는 액정 표시 장치.
The backlight unit according to claim 7,
Liquid crystal cell
A liquid crystal display device comprising at least.
제1항 또는 제2항에 기재된 파장 변환 부재의 제조 방법으로서,
상기 인접층의 주표면과 상기 양자 도트 함유 중합성 조성물을 접촉시킨 후,
상기 양자 도트 함유 중합성 조성물에,
상기 산발생제로부터 프로톤산을 발생시키는 에너지 부여 및 중합 처리를 동시 또는 순차 실시되기까지를 롤-투-롤로 행하고,
그 후, 규정의 사이즈로 잘라내는 것을 포함하는, 상기 제조 방법.
As the manufacturing method of the wavelength conversion member according to claim 1 or 2,
After bringing the main surface of the adjacent layer into contact with the quantum dot-containing polymerizable composition,
In the quantum dot-containing polymerizable composition,
It is roll-to-roll until energy imparting and polymerization treatment for generating protonic acid from the acid generator are performed simultaneously or sequentially,
Thereafter, the manufacturing method comprising cutting to a specified size.
제4항에 기재된 파장 변환 부재의 제조 방법으로서,
상기 2개의 인접층의 적어도 한쪽의 주표면과 상기 양자 도트 함유 중합성 조성물을 접촉시킨 후,
상기 양자 도트 함유 중합성 조성물에,
상기 산발생제로부터 프로톤산을 발생시키는 에너지 부여 및 중합 처리를 동시 또는 순차 실시되기까지를 롤-투-롤로 행하고,
규정의 사이즈로 잘라내는 것을 포함하는, 상기 제조 방법.
As the manufacturing method of the wavelength conversion member according to claim 4,
After contacting at least one of the main surfaces of the two adjacent layers with the quantum dot-containing polymerizable composition,
In the quantum dot-containing polymerizable composition,
It is roll-to-roll until energy imparting and polymerization treatment for generating protonic acid from the acid generator are performed simultaneously or sequentially,
The manufacturing method comprising cutting to a prescribed size.
제11항에 있어서,
상기 에너지 부여를, 상기 2개의 인접층의 각각의 주표면과 상기 양자 도트 함유 중합성 조성물을 접촉시킨 후에 행하는, 제조 방법.
The method of claim 11,
The production method, wherein the energy application is performed after the main surfaces of each of the two adjacent layers and the quantum dot-containing polymerizable composition are brought into contact with each other.
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