JP6302387B2 - Method for manufacturing wavelength conversion member, wavelength conversion member, backlight unit, and liquid crystal display device - Google Patents

Method for manufacturing wavelength conversion member, wavelength conversion member, backlight unit, and liquid crystal display device Download PDF

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    • H01L33/50Wavelength conversion elements

Description

本発明は、波長変換部材の製造方法、波長変換部材、バックライトユニットおよび液晶表示装置に関する。より詳しくは、励起光により励起され蛍光を発光する量子ドットを含有する波長変換層とバリアフィルムとの間の湿熱経時後の密着性が良好である波長変換部材の製造方法、波長変換部材、バックライトユニットおよび液晶表示装置に関する。   The present invention relates to a method for manufacturing a wavelength conversion member, a wavelength conversion member, a backlight unit, and a liquid crystal display device. More specifically, a method for producing a wavelength conversion member, a wavelength conversion member, and a back that have good adhesion after wet heat aging between a wavelength conversion layer containing a quantum dot that is excited by excitation light and emits fluorescence and a barrier film The present invention relates to a light unit and a liquid crystal display device.

液晶表示装置(以下、LCD(Liquid Crystal Display)とも言う)などのフラットパネルディスプレイは、消費電力が小さく、省スペースの画像表示装置として年々その用途が広がっている。液晶表示装置は、少なくともバックライトと液晶セルとから構成され、通常、更に、バックライト側偏光板、視認側偏光板などの部材が含まれる。   Flat panel displays such as liquid crystal display devices (hereinafter also referred to as LCDs (Liquid Crystal Displays)) have low power consumption and are increasingly used year by year as space-saving image display devices. The liquid crystal display device is composed of at least a backlight and a liquid crystal cell, and usually further includes members such as a backlight side polarizing plate and a viewing side polarizing plate.

フラットパネルディスプレイ市場では、LCD性能改善として、色再現性の向上が進行している。この点に関し、近年、発光材料として、量子ドット(Quantum Dot、QD、量子点とも呼ばれる。)が注目を集めている。例えば、バックライトから量子ドットを含む波長変換部材に励起光が入射すると、量子ドットが励起され蛍光を発光する。ここで異なる発光特性を有する量子ドットを用いることで、赤色光、緑色光、および青色光を発光させて白色光を具現化することができる。量子ドットによる蛍光は半値幅が小さいため、得られる白色光は高輝度であり、しかも色再現性に優れる。このような量子ドットを用いた3波長光源化技術の進行により、色再現域は、現行のテレビ規格(FHD(Full High Definition)、NTSC(National Television System Committee))比72%から100%へと拡大している。   In the flat panel display market, color reproducibility is improving as LCD performance improvement. In this regard, in recent years, quantum dots (also referred to as Quantum Dot, QD, quantum dots) have attracted attention as light emitting materials. For example, when excitation light enters the wavelength conversion member including quantum dots from the backlight, the quantum dots are excited and emit fluorescence. Here, by using quantum dots having different emission characteristics, white light can be realized by emitting red light, green light, and blue light. Since the fluorescence due to the quantum dots has a small half-value width, the white light obtained has high brightness and excellent color reproducibility. With the progress of the three-wavelength light source technology using such quantum dots, the color gamut is changed from 72% to 100% of the current television standard (FHD (Full High Definition), NTSC (National Television System Committee)). It is expanding.

特開2011−46046号公報JP 2011-46046 A

波長変換部材としては、量子ドットを含む波長変換層の一方または両方の主表面(主表面については後述する。)に一層以上の無機層を有するバリアフィルムを設けた積層構造のものが考えられる。しかし、バリアフィルムを有する波長変換部材を本発明者らが実際に検討したところ、波長変換層とこの層と隣接する無機層との密着性が十分ではなかった。
波長変換層とこの層と隣接する無機層との密着性が十分でないと、例えば、波長変換部材を製品として出荷するために規定のサイズに切り出す(例えば、打ち抜き器により打ち抜く)等の加工時に、波長変換層と無機層との界面端部等で剥離が生じてしまう。例えば一例として、無機層が酸素バリア性を有する層であるバリアフィルムの場合にこのような界面端部の剥離が発生すると、界面端部からの酸素の侵入により量子ドットの発光効率が低下することが懸念される。また、波長変換層と無機層との密着が十分でないことは、層間での部分的な剥離発生による部材の耐久性低下の原因となる。
また、近年では夏季の車載用途や屋外設置用途など、湿熱環境条件下で液晶表示装置などのフラットパネルディスプレイを使用する要請が高まってきているところ、本発明者らが検討すると湿熱環境条件下では波長変換層とこの層と隣接する無機層との密着性がさらに低下する傾向にあることがわかった。
As a wavelength conversion member, the thing of the laminated structure which provided the barrier film which has one or more inorganic layers on the one or both main surfaces (the main surface is mentioned later) of the wavelength conversion layer containing a quantum dot can be considered. However, when the present inventors actually examined a wavelength conversion member having a barrier film, the adhesion between the wavelength conversion layer and the inorganic layer adjacent to this layer was not sufficient.
When the adhesion between the wavelength conversion layer and the inorganic layer adjacent to this layer is not sufficient, for example, when processing the wavelength conversion member to a specified size for shipping as a product (for example, punching with a punching device), Peeling occurs at the interface edge between the wavelength conversion layer and the inorganic layer. For example, as an example, in the case of a barrier film in which the inorganic layer is a layer having an oxygen barrier property, when such separation at the interface end occurs, the emission efficiency of the quantum dots decreases due to the intrusion of oxygen from the interface end. Is concerned. In addition, the insufficient adhesion between the wavelength conversion layer and the inorganic layer causes a decrease in durability of the member due to partial peeling between the layers.
In recent years, there has been an increasing demand for using a flat panel display such as a liquid crystal display device under humid heat environment conditions such as in-vehicle use and outdoor installation in summer. It was found that the adhesiveness between the wavelength conversion layer and the inorganic layer adjacent to this layer tends to be further lowered.

一方、シランカップリング剤をモノマー層に添加することで、層間の密着を付与する技術が公開されている(例えば特許文献1参照)。特許文献1では、基材フィルムと、有機層と、無機層とをこの順に有し、有機層の厚さが300nm〜2000nmであり、有機層の表面が所定のRaおよびRzを満たすようにし、かつ無機層がSiOx(xは0.9〜1.5)で表される珪素酸化物を含む積層フィルムが開示されている。この文献には、有機層がシランカップリング剤を含有することにより、基材と有機層、有機層と無機層の密着性が向上し、剥離故障によるバリア性能の低下を低減させることが可能になると記載されている。   On the other hand, a technique for providing adhesion between layers by adding a silane coupling agent to a monomer layer has been disclosed (for example, see Patent Document 1). In Patent Document 1, a base film, an organic layer, and an inorganic layer are included in this order, the thickness of the organic layer is 300 nm to 2000 nm, and the surface of the organic layer satisfies predetermined Ra and Rz. And the laminated film in which the inorganic layer contains the silicon oxide represented by SiOx (x is 0.9-1.5) is disclosed. According to this document, when the organic layer contains a silane coupling agent, the adhesion between the base material and the organic layer and between the organic layer and the inorganic layer can be improved, and the deterioration of the barrier performance due to the peeling failure can be reduced. It is described as.

本発明の解決しようとする課題は、量子ドットを含有する波長変換層とバリアフィルムとの間の湿熱経時後の密着性が良好である波長変換部材の製造方法を提供することである。   The problem to be solved by the present invention is to provide a method for producing a wavelength conversion member having good adhesion after wet heat aging between a wavelength conversion layer containing quantum dots and a barrier film.

本発明者らは、上記課題を解決するために鋭意検討を重ねた結果、バリアフィルムの無機層と量子ドットを含有する波長変換層を積層する前に、あらかじめバリアフィルムの無機層の表面を有機金属カップリング剤および水を含む組成物で表面処理しておくことで、特許文献1に類似する構成のバリアフィルムを有する波長変換部材の波長変換層にシランカップリング剤を添加する構成(後述の参考例1)とは全く異なる構成で、湿熱経時後の密着性を改善できることを見出した。
上記課題を解決するための具体的な手段である本発明およびその好ましい態様は以下のとおりである。
As a result of intensive studies to solve the above problems, the inventors of the present invention have previously made the surface of the inorganic layer of the barrier film organic before laminating the inorganic layer of the barrier film and the wavelength conversion layer containing quantum dots. The structure which adds a silane coupling agent to the wavelength conversion layer of the wavelength conversion member which has a barrier film of the structure similar to patent document 1 (after-mentioned) by surface-treating with the composition containing a metal coupling agent and water. It has been found that the adhesiveness after wet heat aging can be improved with a configuration completely different from Reference Example 1).
The present invention, which is a specific means for solving the above problems, and preferred embodiments thereof are as follows.

[1] 少なくとも1層の無機層を有するバリアフィルムを表面処理する表面処理工程と、
前述のバリアフィルムの表面処理された表面に量子ドットを含有する波長変換層を積層する積層工程とを含み、
前述の表面処理工程が水を含有する溶媒および有機金属カップリング剤を含む表面処理用の組成物を前述のバリアフィルムの前述の無機層の表面に付与する工程である、波長変換部材の製造方法。
[2] [1]に記載の波長変換部材の製造方法は、前述の有機金属カップリング剤が末端に反応性官能基を有することが好ましい。
[3] [1]または[2]に記載の波長変換部材の製造方法は、前述の表面処理用の組成物が界面活性剤を含有することが好ましい。
[4] [3]に記載の波長変換部材の製造方法は、前述の界面活性剤がフッ素系ノニオン界面活性剤であることが好ましい。
[5] [1]〜[4]のいずれか一つに記載の波長変換部材の製造方法は、前述の表面処理用の組成物の溶媒に有機溶剤を含有することが好ましい。
[6] [1]〜[5]のいずれか一つに記載の波長変換部材の製造方法は、前述の表面処理工程が少なくとも1層の無機層を有する第一のバリアフィルムおよび少なくとも1層の無機層を有する第二のバリアフィルムをそれぞれ表面処理する工程であり、
前述の積層工程が前述の第一のバリアフィルムおよび前述の第二のバリアフィルムのそれぞれ表面処理された表面で前述の波長変換層を挟む工程であることが好ましい。
[7] [6]に記載の波長変換部材の製造方法は、前述の表面処理工程の前に前述の第一のバリアフィルムおよび前述の第二のバリアフィルムをそれぞれロールから巻き出す工程と、
前述の積層工程の後に前述の波長変換部材をロールに巻き取る工程を含み、
前述の巻き出す工程、前述の表面処理工程、前述の積層工程および前述の巻き取る工程をロールtoロールで行うことが好ましい。
[8] [1]〜[7]のいずれか一つに記載の波長変換部材の製造方法は、前述の積層工程が、量子ドット含有組成物の塗布工程であることが好ましい。
[9] [1]〜[8]のいずれか一つに記載の波長変換部材の製造方法で製造された、波長変換部材。
[10] 表面処理されてなる少なくとも1層の無機層を有するバリアフィルムと、
前述のバリアフィルムの表面処理された表面に直接接して配置された、量子ドットを含有する波長変換層とを含み、
前述の表面処理が水を含有する溶媒および有機金属カップリング剤を含む表面処理用の組成物を前述のバリアフィルムの前述の無機層の表面への付与である、波長変換部材。
[11] [9]または[10]に記載の波長変換部材は、前述の波長変換層の少なくとも一方の表面から厚み方向に10%以下の距離の表面領域における有機金属カップリング剤の濃度が、前述の波長変換層の両方の表面から厚み方向に10%を超える距離の内部領域における有機金属カップリング剤の濃度よりも高いことが好ましい。
[12] [9]〜[11]のいずれか一つに記載の波長変換部材と、
光源と、
を少なくとも含む、バックライトユニット。
[13] [12]に記載のバックライトユニットは、前述の光源は、430nm〜480nmの波長帯域に発光中心波長を有することが好ましい。
[14] [12]または[13]に記載のバックライトユニットと、
液晶セルと、
を少なくとも含む、液晶表示装置。
[1] a surface treatment step of surface-treating a barrier film having at least one inorganic layer;
A lamination step of laminating a wavelength conversion layer containing quantum dots on the surface-treated surface of the barrier film,
The method for producing a wavelength conversion member, wherein the surface treatment step is a step of applying a composition for surface treatment containing a solvent containing water and an organic metal coupling agent to the surface of the inorganic layer of the barrier film. .
[2] In the method for producing a wavelength conversion member according to [1], the organometallic coupling agent preferably has a reactive functional group at the terminal.
[3] In the method for producing a wavelength conversion member according to [1] or [2], it is preferable that the composition for surface treatment described above contains a surfactant.
[4] In the method for producing a wavelength conversion member according to [3], the aforementioned surfactant is preferably a fluorine-based nonionic surfactant.
[5] In the method for producing a wavelength conversion member according to any one of [1] to [4], an organic solvent is preferably contained in the solvent for the surface treatment composition described above.
[6] In the method for producing a wavelength conversion member according to any one of [1] to [5], the surface treatment step includes a first barrier film having at least one inorganic layer and at least one layer. It is a step of surface-treating each second barrier film having an inorganic layer,
The laminating step is preferably a step of sandwiching the wavelength conversion layer between the surface-treated surfaces of the first barrier film and the second barrier film.
[7] The method for producing a wavelength conversion member according to [6] includes a step of unwinding the first barrier film and the second barrier film from the roll, respectively, before the surface treatment step.
Including the step of winding the wavelength converting member on a roll after the laminating step,
It is preferable to perform the above-mentioned unwinding process, the above-mentioned surface treatment process, the above-mentioned lamination process, and the above-mentioned winding-up process by a roll to roll.
[8] In the method for producing a wavelength conversion member according to any one of [1] to [7], it is preferable that the laminating step is a coating step of a quantum dot-containing composition.
[9] A wavelength conversion member manufactured by the method for manufacturing a wavelength conversion member according to any one of [1] to [8].
[10] A barrier film having at least one inorganic layer subjected to surface treatment;
A wavelength conversion layer containing quantum dots, disposed in direct contact with the surface-treated surface of the barrier film,
The wavelength conversion member whose above-mentioned surface treatment is provision to the surface of the above-mentioned inorganic layer of the above-mentioned barrier film with the composition for surface treatment containing the solvent and organometallic coupling agent containing water.
[11] In the wavelength conversion member according to [9] or [10], the concentration of the organometallic coupling agent in the surface region at a distance of 10% or less in the thickness direction from at least one surface of the wavelength conversion layer described above, The concentration is preferably higher than the concentration of the organometallic coupling agent in the inner region at a distance exceeding 10% in the thickness direction from both surfaces of the wavelength conversion layer.
[12] The wavelength conversion member according to any one of [9] to [11];
A light source;
Including at least a backlight unit.
[13] In the backlight unit according to [12], it is preferable that the above-described light source has an emission center wavelength in a wavelength band of 430 nm to 480 nm.
[14] The backlight unit according to [12] or [13];
A liquid crystal cell;
A liquid crystal display device comprising at least

本発明によれば、量子ドットを含有する波長変換層とバリアフィルムとの間の湿熱経時後の密着性が良好である波長変換部材の製造方法を提供することができる。   ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, the manufacturing method of the wavelength conversion member in which the adhesiveness after wet heat aging between the wavelength conversion layer containing a quantum dot and a barrier film is favorable can be provided.

図1(a)、(b)は、本発明の一態様にかかる波長変換部材を含むバックライトユニットの一例の説明図である。1A and 1B are explanatory diagrams of an example of a backlight unit including a wavelength conversion member according to one embodiment of the present invention. 図2は、本発明の一態様にかかる液晶表示装置の一例を示す。FIG. 2 illustrates an example of a liquid crystal display device according to one embodiment of the present invention. 図3は、波長変換部材の製造装置の一例の概略構成図である。FIG. 3 is a schematic configuration diagram of an example of a wavelength conversion member manufacturing apparatus. 図4は、図3に示す製造装置の部分拡大図である。FIG. 4 is a partially enlarged view of the manufacturing apparatus shown in FIG.

以下の説明は、本発明の代表的な実施態様に基づいてなされることがあるが、本発明はそのような実施態様に限定されるものではない。なお、本発明および本明細書において「〜」を用いて表される数値範囲は、「〜」の前後に記載される数値を下限値および上限値として含む範囲を意味する。
また、本発明および本明細書中、ピークの「半値幅」とは、ピーク高さ1/2でのピークの幅のことを言う。また、400〜500nmの波長帯域、好ましくは430〜480nmの波長帯域に発光中心波長を有する光を青色光と呼び、500〜600nmの波長帯域に発光中心波長を有する光を緑色光と呼び、600〜680nmの波長帯域に発光中心波長を有する光を赤色光と呼ぶ。
The following description may be made based on representative embodiments of the present invention, but the present invention is not limited to such embodiments. In the present invention and this specification, a numerical range expressed using “to” means a range including numerical values described before and after “to” as a lower limit value and an upper limit value.
Further, in the present invention and the present specification, the “half-value width” of a peak refers to the width of the peak at a peak height of ½. Further, light having an emission center wavelength in a wavelength band of 400 to 500 nm, preferably 430 to 480 nm is called blue light, and light having an emission center wavelength in a wavelength band of 500 to 600 nm is called green light. Light having an emission center wavelength in the wavelength band of ˜680 nm is referred to as red light.

[波長変換部材の製造方法]
本発明の波長変換部材の製造方法は、少なくとも1層の無機層を有するバリアフィルムを表面処理する表面処理工程と、
バリアフィルムの表面処理された表面に量子ドットを含有する波長変換層を積層する積層工程とを含み、
表面処理工程が水を含有する溶媒および有機金属カップリング剤を含む表面処理用の組成物をバリアフィルムの無機層の表面に付与する工程である。
このような構成により、波長変換部材の製造方法によれば、量子ドットを含有する波長変換層とバリアフィルムとの間の湿熱経時後の密着性が良好である波長変換部材を製造できる。
いかなる理論に拘泥するものでもないが、波長変換層とバリアフィルムとの湿熱経時後の密着性は、有機金属カップリング剤および水を含む組成物でバリアフィルムの無機層を表面処理することにより向上することができる。これは、反応性を高められた有機金属カップリング剤が、加水分解反応や縮合反応等により隣接するバリアフィルムの無機層の表面や構成成分と共有結合を形成すること、および、あらかじめ有機金属カップリング剤および水を含む組成物を調製してからバリアフィルムの無機層の表面処理を行うことで、波長変換層とバリアフィルムとを積層した後に有機金属カップリング剤の加水分解および脱水縮合が起こってメタノールや水が発生することを抑制できたこと等、によるものと考えられる。
以下、本発明の波長変換部材の製造方法の好ましい態様を説明する。
[Method for producing wavelength conversion member]
The method for producing a wavelength conversion member of the present invention includes a surface treatment step of surface-treating a barrier film having at least one inorganic layer;
A lamination step of laminating a wavelength conversion layer containing quantum dots on the surface-treated surface of the barrier film,
The surface treatment step is a step of applying a surface treatment composition containing a solvent containing water and an organometallic coupling agent to the surface of the inorganic layer of the barrier film.
With such a configuration, according to the method for manufacturing a wavelength conversion member, it is possible to manufacture a wavelength conversion member having good adhesion after wet heat aging between the wavelength conversion layer containing quantum dots and the barrier film.
Without being bound by any theory, the adhesion between the wavelength conversion layer and the barrier film after wet heat aging is improved by surface-treating the inorganic layer of the barrier film with a composition containing an organometallic coupling agent and water. can do. This is because the organometallic coupling agent with increased reactivity forms a covalent bond with the surface and constituent components of the adjacent barrier film by hydrolysis reaction, condensation reaction, etc. After preparing a composition containing a ring agent and water, surface treatment of the inorganic layer of the barrier film causes the hydrolysis and dehydration condensation of the organometallic coupling agent after laminating the wavelength conversion layer and the barrier film. This is considered to be due to the fact that generation of methanol and water could be suppressed.
Hereinafter, the preferable aspect of the manufacturing method of the wavelength conversion member of this invention is demonstrated.

<表面処理工程>
本発明の波長変換部材の製造方法は、少なくとも1層の無機層を有するバリアフィルムを表面処理する表面処理工程を含み、表面処理工程が水を含有する溶媒および有機金属カップリング剤を含む表面処理用の組成物をバリアフィルムの無機層の表面に付与する工程である。
<Surface treatment process>
The method for producing a wavelength conversion member of the present invention includes a surface treatment step of surface-treating a barrier film having at least one inorganic layer, and the surface treatment step includes a water-containing solvent and an organometallic coupling agent. It is the process of providing the composition for use to the surface of the inorganic layer of a barrier film.

水を含有する溶媒および有機金属カップリング剤を含む表面処理用の組成物を用いた表面処理の方法としては、特に制限はないがバリアフィルム上に、ロールtoロールで表面処理を実施することが、生産性の観点で好ましい。具体的には、塗布機を用いてロールtoロールで、バリアフィルム上に表面処理用の組成物の塗布および乾燥を実施する方法が挙げられる。
本発明の波長変換部材の製造方法は、前述の表面処理工程が少なくとも1層の無機層を有する第一のバリアフィルムおよび少なくとも1層の無機層を有する第二のバリアフィルムをそれぞれ表面処理する工程であることが好ましい。
本発明の波長変換部材の製造方法は、前述の表面処理工程の前に前述の第一のバリアフィルムおよび前述の第二のバリアフィルムをそれぞれロールから巻き出す工程を含むことがより好ましい。
A surface treatment method using a composition for surface treatment containing a solvent containing water and an organometallic coupling agent is not particularly limited, but the surface treatment may be carried out on a barrier film with a roll to roll. From the viewpoint of productivity. Specifically, a method of applying and drying the composition for surface treatment on the barrier film by roll-to-roll using an applicator can be mentioned.
In the method for producing a wavelength conversion member of the present invention, the surface treatment step described above includes a step of surface-treating the first barrier film having at least one inorganic layer and the second barrier film having at least one inorganic layer, respectively. It is preferable that
More preferably, the method for producing a wavelength conversion member of the present invention includes a step of unwinding the first barrier film and the second barrier film, respectively, from a roll before the surface treatment step.

(バリアフィルム)
波長変換部材は、バリアフィルムを含む。バリアフィルムは酸素を遮断するガスバリア機能を有するフィルムであることが好ましい。バリアフィルムが、水蒸気を遮断する機能を有していることも好ましい。
バリアフィルムは、波長変換層に隣接してまたは直接接する層として波長変換部材に含まれていることが好ましい。また、バリアフィルムは、波長変換部材中に1つまたは2つ以上含まれていてもよく、波長変換部材は、バリアフィルム、波長変換層、バリアフィルムがこの順で積層された構造を有していることが好ましい。
波長変換部材において、波長変換層はバリアフィルムを基材として形成されていてもよい。また、バリアフィルムは上述の第一のフィルムおよび第二のフィルムのいずれか、または双方に用いることもできる。第一のフィルムおよび第二のフィルムの双方がバリアフィルムであるとき、同一であっても異なっていてもよい。
(Barrier film)
The wavelength conversion member includes a barrier film. The barrier film is preferably a film having a gas barrier function of blocking oxygen. It is also preferable that the barrier film has a function of blocking water vapor.
The barrier film is preferably contained in the wavelength conversion member as a layer adjacent to or directly in contact with the wavelength conversion layer. In addition, one or more barrier films may be included in the wavelength conversion member, and the wavelength conversion member has a structure in which a barrier film, a wavelength conversion layer, and a barrier film are laminated in this order. Preferably it is.
In the wavelength conversion member, the wavelength conversion layer may be formed using a barrier film as a base material. The barrier film can also be used for either or both of the first film and the second film described above. When both the first film and the second film are barrier films, they may be the same or different.

バリアフィルムとしては、公知のいずれのバリアフィルムであってもよく、例えば以下に説明するバリアフィルムであってもよい。
バリアフィルムは、少なくとも1層の無機層を含んでいればよく、基材フィルムおよび無機層を含むフィルムであってもよい。基材フィルムについては、支持体の記載を参照できる。バリアフィルムは、基材フィルム上に少なくとも一層の無機層1層と少なくとも一層の有機層を含むバリア積層体を含むものであってもよい。このように複数の層を積層することは、より一層バリア性を高めることができるため、他方、積層する層の数が増えるほど、波長変換部材の光透過率は低下する傾向があるため、良好な光透過率を維持し得る範囲で、積層数を増やすことが望ましい。具体的には、バリアフィルムは、可視光領域における全光線透過率が80%以上であり、かつ酸素透過度が1cm/(m・day・atm)以下であることが好ましい。ここで、上記酸素透過度は、測定温度23℃、相対湿度90%の条件下で、酸素ガス透過率測定装置(MOCON社製、OX−TRAN 2/20:商品名)を用いて測定した値である。また、可視光領域とは、380〜780nmの波長領域をいうものとし、全光線透過率とは、可視光領域にわたる光透過率の平均値を示す。
バリアフィルムの酸素透過度は、より好ましくは、0.1cm/(m・day・atm)以下、より好ましくは、0.01cm/(m・day・atm)以下である。可視光領域における全光線透過率は、より好ましくは90%以上である。酸素透過度は低いほど好ましく、可視光領域における全光線透過率は高いほど好ましい。
The barrier film may be any known barrier film, for example, a barrier film described below.
The barrier film only needs to include at least one inorganic layer, and may be a film including a base film and an inorganic layer. For the base film, the description of the support can be referred to. The barrier film may include a barrier laminate including at least one inorganic layer and at least one organic layer on the base film. Laminating a plurality of layers in this way can further enhance the barrier property, and on the other hand, the light transmittance of the wavelength conversion member tends to decrease as the number of layers to be laminated increases, which is favorable. It is desirable to increase the number of stacked layers as long as a sufficient light transmittance can be maintained. Specifically, the barrier film preferably has a total light transmittance of 80% or more in the visible light region and an oxygen permeability of 1 cm 3 / (m 2 · day · atm) or less. Here, the oxygen permeability is a value measured using an oxygen gas permeability measuring device (manufactured by MOCON, OX-TRAN 2/20: trade name) under the conditions of a measurement temperature of 23 ° C. and a relative humidity of 90%. It is. The visible light region means a wavelength region of 380 to 780 nm, and the total light transmittance indicates an average value of light transmittance over the visible light region.
The oxygen permeability of the barrier film is more preferably 0.1 cm 3 / (m 2 · day · atm) or less, and more preferably 0.01 cm 3 / (m 2 · day · atm) or less. The total light transmittance in the visible light region is more preferably 90% or more. The lower the oxygen permeability, the better, and the higher the total light transmittance in the visible light region, the better.

−無機層−
「無機層」とは、無機材料を主成分とする層であり、好ましくは無機材料のみから形成される層である。これに対し、有機層とは、有機材料を主成分とする層であって、好ましくは有機材料が50質量%以上、更には80質量%以上、特に90質量%以上を占める層を言うものとする。
無機層を構成する無機材料としては、特に限定されるものではなく、例えば、金属、または無機酸化物、窒化物、酸化窒化物等の各種無機化合物を用いることができる。無機材料を構成する元素としては、ケイ素、アルミニウム、マグネシウム、チタン、スズ、インジウムおよびセリウムが好ましく、これらを一種または二種以上含んでいてもよい。無機化合物の具体例としては、酸化ケイ素、酸化窒化ケイ素、酸化アルミニウム、酸化マグネシウム、酸化チタン、酸化スズ、酸化インジウム合金、窒化ケイ素、窒化アルミニウム、窒化チタンを挙げることができる。また、無機層として、金属膜、例えば、アルミニウム膜、銀膜、錫膜、クロム膜、ニッケル膜、チタン膜を設けてもよい。
-Inorganic layer-
The “inorganic layer” is a layer mainly composed of an inorganic material, and is preferably a layer formed only from an inorganic material. On the other hand, the organic layer is a layer mainly composed of an organic material, and preferably refers to a layer in which the organic material occupies 50% by mass or more, more preferably 80% by mass or more, and particularly 90% by mass or more. To do.
The inorganic material constituting the inorganic layer is not particularly limited, and for example, various inorganic compounds such as metals or inorganic oxides, nitrides, oxynitrides, and the like can be used. As an element constituting the inorganic material, silicon, aluminum, magnesium, titanium, tin, indium and cerium are preferable, and one or two or more of these may be included. Specific examples of the inorganic compound include silicon oxide, silicon oxynitride, aluminum oxide, magnesium oxide, titanium oxide, tin oxide, indium oxide alloy, silicon nitride, aluminum nitride, and titanium nitride. As the inorganic layer, a metal film such as an aluminum film, a silver film, a tin film, a chromium film, a nickel film, or a titanium film may be provided.

上記の材料の中でも、窒化ケイ素、酸化ケイ素、または酸化窒化ケイ素などのケイ素を含む化合物が特に好ましく、窒化ケイ素がより特に好ましい。これらの材料からなる無機層は、有機層との密着性が良好であることから、バリア性をより一層高くすることができるからである。
無機層の形成方法としては、特に限定されず、例えば成膜材料を蒸発ないし飛散させ被蒸着面に堆積させることができる各種成膜方法を用いることができる。
Among the above materials, silicon-containing compounds such as silicon nitride, silicon oxide, or silicon oxynitride are particularly preferable, and silicon nitride is more particularly preferable. This is because the inorganic layer made of these materials has a good adhesion to the organic layer, and thus the barrier property can be further enhanced.
A method for forming the inorganic layer is not particularly limited, and various film forming methods that can evaporate or scatter the film forming material and deposit it on the deposition surface can be used.

無機層の形成方法の例としては、無機酸化物、無機窒化物、無機酸化窒化物、金属等の無機材料を、加熱して蒸着させる真空蒸着法;無機材料を原料として用い、酸素ガスを導入することにより酸化させて、蒸着させる酸化反応蒸着法;無機材料をターゲット原料として用い、アルゴンガス、酸素ガスを導入して、スパッタリングすることにより、蒸着させるスパッタリング法;無機材料にプラズマガンで発生させたプラズマビームにより加熱させて、蒸着させるイオンプレーティング法等の物理気相成長法(Physical Vapor Deposition法)、ケイ素を含む化合物の蒸着膜を成膜させる場合は、有機ケイ素化合物を原料とするプラズマ化学気相成長法(Chemical Vapor Deposition法)等が挙げられる。蒸着は、支持体、基材フィルム、波長変換層、有機層などを基板としてその表面に行えばよい。   Examples of the method for forming the inorganic layer include a vacuum evaporation method in which an inorganic material such as an inorganic oxide, an inorganic nitride, an inorganic oxynitride, or a metal is heated and evaporated; an inorganic material is used as a raw material, and oxygen gas is introduced. Oxidation reaction vapor deposition method for oxidizing and vapor-depositing; Sputtering method for vapor deposition by introducing and sputtering argon gas and oxygen gas using an inorganic material as a target raw material; When a vapor deposition film of a compound containing silicon is formed by using a physical vapor deposition method (physical vapor deposition method) such as ion plating, which is heated by a plasma beam and deposited, plasma using an organosilicon compound as a raw material Chemical vapor deposition method (Chemical Vapor Deposition method) etc. And the like. Vapor deposition may be performed on the surface of a substrate, a base film, a wavelength conversion layer, an organic layer, or the like as a substrate.

ケイ素を含む化合物の膜は、有機ケイ素化合物を原料として、低温プラズマ化学気相成長法を用いて形成することが好ましい。この有機ケイ素化合物としては、具体的には、1,1,3,3−テトラメチルジシロキサン、ヘキサメチルジシロキサン、ビニルトリメチルシラン、ヘキサメチルジシラン、メチルシラン、ジメチルシラン、トリメチルシラン、ジエチルシラン、プロピルシラン、フェニルシラン、ビニルトリエトキシシラン、テトラメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、オクタメチルシクロテトラシロキサン等が挙げられる。また、上記有機ケイ素化合物の中でも、テトラメトキシシラン(TMOS)、ヘキサメチルジシロキサン(HMDSO)を用いることが好ましい。これらは、取り扱い性や蒸着膜の特性に優れるからである。   The film of the compound containing silicon is preferably formed by using a low temperature plasma chemical vapor deposition method using an organosilicon compound as a raw material. Specific examples of the organosilicon compound include 1,1,3,3-tetramethyldisiloxane, hexamethyldisiloxane, vinyltrimethylsilane, hexamethyldisilane, methylsilane, dimethylsilane, trimethylsilane, diethylsilane, and propyl. Examples thereof include silane, phenylsilane, vinyltriethoxysilane, tetramethoxysilane, phenyltriethoxysilane, methyltriethoxysilane, and octamethylcyclotetrasiloxane. Among the organosilicon compounds, tetramethoxysilane (TMOS) and hexamethyldisiloxane (HMDSO) are preferably used. This is because these are excellent in handleability and vapor deposition film characteristics.

無機層の厚さは、例えば1nm〜500nmであり、5nm〜300nmであることが好ましく、10nm〜150nmの範囲であることがより好ましい。無機層の膜厚が、上述した範囲内であることにより、良好なバリア性を実現しつつ、無機層における反射を抑制することができ、光透過率がより高い波長変換部材を提供することができるからである。   The thickness of the inorganic layer is, for example, 1 nm to 500 nm, preferably 5 nm to 300 nm, and more preferably 10 nm to 150 nm. When the film thickness of the inorganic layer is within the above-described range, it is possible to suppress reflection in the inorganic layer while realizing good barrier properties, and to provide a wavelength conversion member with higher light transmittance. Because it can.

無機層の水との接触角は、例えば5〜70°であることが好ましく、5〜55°であることがより好ましく、5〜35°であることが特に好ましい。無機層の水との接触角が、上述した範囲内であることで、量子ドットを含有する波長変換層とバリアフィルムとの間の湿熱経時後の密着性が良好であり、かつ、バリアフィルムの無機層の表面に波長変換層がハジキなく均一に形成された波長変換部材を提供しやすい。無機層の水との接触角は低い方が濡れ性・塗布性が良好で好ましい。   The contact angle of the inorganic layer with water is preferably, for example, 5 to 70 °, more preferably 5 to 55 °, and particularly preferably 5 to 35 °. When the contact angle of the inorganic layer with water is within the above-described range, the adhesiveness after wet heat aging between the wavelength conversion layer containing the quantum dots and the barrier film is good, and the barrier film It is easy to provide a wavelength conversion member in which the wavelength conversion layer is uniformly formed on the surface of the inorganic layer without repellency. A lower contact angle of the inorganic layer with water is preferable because of good wettability and coating properties.

本発明の製造方法では、波長変換部材において、波長変換層に直接接している無機層が少なくとも一層含まれる。波長変換層の両面に無機層が直接接していることも好ましい。ただし無機層は、一般に、有機化合物を含む重合性組成物から形成される波長変換層との密着性を確保することが難しい傾向がある。これに対し、バリアフィルムの無機層の表面を有機金属カップリング剤および水を含む組成物で表面処理してから量子ドットを含有する波長変換層を積層して形成された波長変換部材においては、バリアフィルムの無機層と量子ドットを含有する波長変換層との間の湿熱経時後の密着性が良好である。   In the manufacturing method of the present invention, the wavelength conversion member includes at least one inorganic layer in direct contact with the wavelength conversion layer. It is also preferable that the inorganic layer is in direct contact with both surfaces of the wavelength conversion layer. However, the inorganic layer generally tends to have difficulty in ensuring adhesion with a wavelength conversion layer formed from a polymerizable composition containing an organic compound. On the other hand, in the wavelength conversion member formed by laminating the wavelength conversion layer containing quantum dots after surface-treating the surface of the inorganic layer of the barrier film with a composition containing an organic metal coupling agent and water, The adhesion after wet heat aging between the inorganic layer of the barrier film and the wavelength conversion layer containing quantum dots is good.

−有機層−
有機層としては、特開2007−290369号公報段落0020〜0042、特開2005−096108号公報段落0074〜0105を参照できる。なお有機層は、カルドポリマーを含むことが好ましい。これにより、有機層と隣接する層との密着性、特に、無機層とも密着性が良好になり、より一層優れたガスバリア性を実現することができるからである。カルドポリマーの詳細については、特開2005−096108号公報段落0085〜0095を参照できる。有機層の膜厚は、0.05μm〜10μmの範囲内であることが好ましく、中でも0.5〜10μmの範囲内であることが好ましい。有機層がウェットコーティング法により形成される場合には、有機層の膜厚は、0.5〜10μmの範囲内、中でも1μm〜5μmの範囲内であることが好ましい。また、ドライコーティング法により形成される場合には、0.05μm〜5μmの範囲内、中でも0.05μm〜1μmの範囲内であることが好ましい。ウェットコーティング法またはドライコーティング法により形成される有機層の膜厚が上述した範囲内であることにより、無機層との密着性をより良好なものとすることができるからである。
-Organic layer-
JP, 2007-290369, A paragraphs 0020-0042 and JP, 2005-096108, A paragraphs 0074-0105 can be referred to as an organic layer. The organic layer preferably contains a cardo polymer. Thereby, the adhesiveness between the organic layer and the adjacent layer, particularly the adhesiveness with the inorganic layer is improved, and a further excellent gas barrier property can be realized. JP, 2005-096108, A paragraphs 0085-0095 can be referred to for the details of a cardo polymer. The thickness of the organic layer is preferably in the range of 0.05 μm to 10 μm, and more preferably in the range of 0.5 to 10 μm. When the organic layer is formed by a wet coating method, the film thickness of the organic layer is preferably in the range of 0.5 to 10 μm, and more preferably in the range of 1 μm to 5 μm. Moreover, when formed by the dry coating method, it is preferable that it exists in the range of 0.05 micrometer-5 micrometers, especially in the range of 0.05 micrometer-1 micrometer. This is because when the film thickness of the organic layer formed by the wet coating method or the dry coating method is within the above-described range, the adhesion with the inorganic layer can be further improved.

無機層、有機層のその他詳細については、特開2007−290369号公報、特開2005−096108号公報、更にUS2012/0113672A1の記載を参照できる。   Regarding other details of the inorganic layer and the organic layer, reference can be made to JP-A-2007-290369, JP-A-2005-096108 and US2012 / 0113672A1.

有機層と無機層との間、二層の有機層の間、または二層の無機層の間を、公知の接着層により貼り合わせてもよい。光透過率向上の観点からは、接着層は少ないほど好ましく、接着層が存在しないことがより好ましい。   A known adhesive layer may be bonded between the organic layer and the inorganic layer, between the two organic layers, or between the two inorganic layers. From the viewpoint of improving light transmittance, it is preferable that the number of adhesive layers is small, and it is more preferable that no adhesive layer is present.

−その他の層、支持体−
上記波長変換部材は、先に記載した通り、波長変換層の少なくとも一方の主表面に隣接層を有する。例えば、波長変換層の少なくとも一方の主表面に、無機層および有機層からなる群から選ばれる少なくとも一層を有することもできる。そのような無機層および有機層としては、後述のバリアフィルムを構成する無機層および有機層を挙げることができる。発光効率維持の観点から、波長変換層の両主表面に、それぞれ無機層および有機層からなる群から選択される少なくとも一層が含まれることが好ましい。かかる層により、主表面からの波長変換層への酸素、水分等の侵入を防ぐことができ、これらの侵入により量子ドットが劣化し発光効率が低下することを防ぐことができるからである。また、一態様では、無機層、有機層は、波長変換層の主表面に直接接する隣接層として含まれることが好ましい。なお、水を含有する溶媒および有機金属カップリング剤を含む表面処理用の組成物を用いることにより、接着層によらずとも波長変換層とバリアフィルムの無機層との界面の密着性を向上することができるが、接着層の使用を排除するものではない。バリアフィルムの無機層と波長変換層とを公知の接着層を貼り合わせてもよい。
-Other layers and supports-
As described above, the wavelength conversion member has an adjacent layer on at least one main surface of the wavelength conversion layer. For example, at least one main surface of the wavelength conversion layer may have at least one layer selected from the group consisting of an inorganic layer and an organic layer. As such an inorganic layer and an organic layer, the inorganic layer and organic layer which comprise the below-mentioned barrier film can be mentioned. From the viewpoint of maintaining luminous efficiency, it is preferable that both main surfaces of the wavelength conversion layer include at least one layer selected from the group consisting of an inorganic layer and an organic layer. This is because such a layer can prevent invasion of oxygen, moisture, and the like from the main surface into the wavelength conversion layer, and can prevent the quantum dots from being deteriorated and the light emission efficiency from being lowered due to these penetrations. Moreover, in one aspect | mode, it is preferable that an inorganic layer and an organic layer are contained as an adjacent layer which touches the main surface of a wavelength conversion layer directly. In addition, the adhesiveness of the interface of the wavelength conversion layer and the inorganic layer of a barrier film is improved irrespective of an adhesive layer by using a composition for surface treatment containing a solvent containing water and an organometallic coupling agent. Although it does not exclude the use of an adhesive layer. A known adhesive layer may be bonded to the inorganic layer of the barrier film and the wavelength conversion layer.

波長変換部材は、強度向上、成膜の容易性等のため、支持体を有していてもよい。支持体は、波長変換層に隣接してまたは直接接する層として含まれていてもよく、バリアフィルムの基材フィルムとして含まれていてもよい。波長変換部材において、支持体は、後述の無機層、および支持体がこの順となるように含まれていてもよく、波長変換層、無機層、有機層、および支持体がこの順となるように含まれていてもよい。有機層と無機層との間、二層の有機層の間、または二層の無機層の間に、支持体を配してもよい。また、支持体は、波長変換部材中に1つまたは2つ以上含まれていてもよく、波長変換部材は、支持体、波長変換層、支持体がこの順で積層された構造を有していてもよい。支持体としては、可視光に対して透明である透明支持体であることが好ましい。ここで可視光に対して透明とは、可視光領域における線透過率が、80%以上、好ましくは85%以上であることをいう。透明の尺度として用いられる光線透過率は、JIS−K7105に記載された方法、すなわち積分球式光線透過率測定装置を用いて全光線透過率および散乱光量を測定し、全光線透過率から拡散透過率を引いて算出することができる。支持体については、特開2007−290369号公報段落0046〜0052、特開2005−096108号公報段落0040〜0055を参照できる。支持体の厚さは、ガスバリア性、耐衝撃性等の観点から、10〜500μmの範囲内、中でも20〜400μmの範囲内、特に30〜300μmの範囲内であることが好ましい。
支持体は基材として用いることもできる。また、支持体は第一のフィルムおよび第二のフィルムのいずれか、または双方に用いることもできる。第一のフィルムおよび第二のフィルムの双方が支持体であるとき、各支持体は同一であっても異なっていてもよい。
The wavelength conversion member may have a support for improving strength, easiness of film formation, and the like. The support may be included as a layer adjacent to or directly in contact with the wavelength conversion layer, or may be included as a base film of the barrier film. In the wavelength conversion member, the support may be included so that the inorganic layer described later and the support are in this order, and the wavelength conversion layer, the inorganic layer, the organic layer, and the support are in this order. May be included. A support may be disposed between the organic layer and the inorganic layer, between the two organic layers, or between the two inorganic layers. One or more supports may be included in the wavelength conversion member, and the wavelength conversion member has a structure in which the support, the wavelength conversion layer, and the support are laminated in this order. May be. The support is preferably a transparent support that is transparent to visible light. Here, “transparent to visible light” means that the linear transmittance in the visible light region is 80% or more, preferably 85% or more. The light transmittance used as a measure of transparency is measured by measuring the total light transmittance and the amount of scattered light using the method described in JIS-K7105, that is, using an integrating sphere light transmittance measuring device, and diffusing transmission from the total light transmittance. It can be calculated by subtracting the rate. JP, 2007-290369, A paragraphs 0046-0052 and JP, 2005-096108, A paragraphs 0040-0055 can be referred to for a support. The thickness of the support is preferably in the range of 10 to 500 μm, particularly in the range of 20 to 400 μm, and particularly in the range of 30 to 300 μm, from the viewpoint of gas barrier properties, impact resistance and the like.
The support can also be used as a substrate. Moreover, a support body can also be used for either a 1st film and a 2nd film, or both. When both the first film and the second film are supports, each support may be the same or different.

(表面処理用の組成物)
−水を含有する溶媒−
表面処理用の組成物は、水を含有する溶媒を含む。表面処理用の組成物は、有機金属カップリング剤の溶剤であることが好ましい。
表面処理用の組成物としては、加水分解を加速させるために水が必須である。
本発明の波長変換部材の製造方法は、表面処理用の組成物の溶媒は、前述の表面処理用の組成物の溶媒に有機溶剤を含有することが好ましく、有機金属カップリング剤の溶解性を向上させるために極性溶剤を含むことが好ましい。具体的には、極性溶剤としては、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコールなどのアルコール、またはアセトン、メチルエチルケトンなどのケトン類の溶剤が好ましく、アルコールがより好ましく、エタノールまたはイソプロピルアルコールが特に好ましい。水/極性溶剤の混合比率は質量比で10/90から90/10であることが好ましく、より好ましくは30/70〜70/30、更に好ましくは40/60〜60/40である。水が少ないと、有機金属カップリング剤の溶解性が改善する。水が多いと、加水分解反応が促進され、密着性の改良効果が増加する。
水を含有する溶媒への有機金属カップリング剤の溶解性が不足した場合は、表面処理用の組成物の溶媒に、pH調整のために、酸の添加が好ましい。酸の具体例としては、酢酸やほう酸が挙げられる。酢酸がより好ましい。
(Composition for surface treatment)
-Solvent containing water-
The composition for surface treatment contains a solvent containing water. It is preferable that the composition for surface treatment is a solvent of an organometallic coupling agent.
As the surface treatment composition, water is essential in order to accelerate hydrolysis.
In the method for producing a wavelength conversion member of the present invention, the solvent for the surface treatment composition preferably contains an organic solvent in the solvent for the surface treatment composition described above, and the solubility of the organometallic coupling agent is improved. In order to improve, it is preferable to include a polar solvent. Specifically, the polar solvent is preferably an alcohol such as methanol, ethanol or isopropyl alcohol, or a ketone solvent such as acetone or methyl ethyl ketone, more preferably an alcohol, and particularly preferably ethanol or isopropyl alcohol. The mixing ratio of water / polar solvent is preferably 10/90 to 90/10 by mass ratio, more preferably 30/70 to 70/30, still more preferably 40/60 to 60/40. Less water improves the solubility of the organometallic coupling agent. When there is much water, a hydrolysis reaction will be accelerated | stimulated and the adhesive improvement effect will increase.
When the solubility of the organometallic coupling agent in a solvent containing water is insufficient, an acid is preferably added to the solvent of the surface treatment composition for pH adjustment. Specific examples of the acid include acetic acid and boric acid. Acetic acid is more preferred.

−有機金属カップリング剤−
前述の表面処理用の組成物は、シランカップリング剤などの有機金属カップリング剤を含む。有機金属カップリング剤の中でもシランカップリング剤およびアルミニウムカップリング剤が好ましく、シランカップリング剤がより好ましい。
また、有機金属カップリング剤がラジカル重合性基等の反応性官能基を有する場合には、波長変換層の形成に用いられる重合性化合物と架橋構造を形成することも、波長変換層と無機層との密着性向上に寄与し得ると考えらえる。この点からは、上記組成物に含まれる重合性化合物との架橋反応性が良好な反応性官能基を有する有機金属カップリング剤を用いることも好ましく、有機金属カップリング剤が末端に反応性官能基を有することがより好ましい。末端に反応性官能基を有する有機金属カップリング剤を導入することで、波長変換層中のアクリレートモノマーなどの重合性化合物と反応し、湿熱経時後の密着性が向上したと本発明者らは推測している。
有機金属カップリング剤が有し得る反応性官能基としては、例えば、ビニル基、エポキシ基、スチリル基、(メタ)アクリル基、アミノ基、ウレイド基、メルカプト基、スルフィド基、イソシアネート基等を挙げることができる。
後述する酸発生剤を上記組成物に添加しプロトン酸を発生するエネルギーを付与する工程を経て波長変換層を形成することにより、密着性を向上することも好ましい。これは、酸発生剤により発生するプロトン酸によって、有機金属カップリング剤の反応が促進されるためであると、本発明者らは推察している。
-Organometallic coupling agent-
The aforementioned composition for surface treatment contains an organometallic coupling agent such as a silane coupling agent. Of the organometallic coupling agents, silane coupling agents and aluminum coupling agents are preferred, and silane coupling agents are more preferred.
In addition, when the organometallic coupling agent has a reactive functional group such as a radical polymerizable group, the wavelength conversion layer and the inorganic layer may form a crosslinked structure with the polymerizable compound used for forming the wavelength conversion layer. It can be thought that it can contribute to the improvement of adhesion. From this point, it is also preferable to use an organometallic coupling agent having a reactive functional group that has good crosslinking reactivity with the polymerizable compound contained in the composition, and the organometallic coupling agent has a reactive functional group at the end. It is more preferable to have a group. By introducing an organometallic coupling agent having a reactive functional group at the terminal, the present inventors reacted with a polymerizable compound such as an acrylate monomer in the wavelength conversion layer, and improved adhesion after wet heat aging. I guess.
Examples of the reactive functional group that the organometallic coupling agent may have include a vinyl group, an epoxy group, a styryl group, a (meth) acryl group, an amino group, a ureido group, a mercapto group, a sulfide group, and an isocyanate group. be able to.
It is also preferable to improve the adhesion by forming a wavelength conversion layer through a step of adding an acid generator described later to the composition to impart energy for generating a protonic acid. The present inventors speculate that this is because the reaction of the organometallic coupling agent is accelerated by the proton acid generated by the acid generator.

シランカップリング剤としては、公知のシランカップリング剤を、何ら制限なく使用することができる。密着性の観点から好ましいシランカップリング剤としては、ビニルトリクロロシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、2−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン、3−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、2−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン、3−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、3−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン、3−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、p−スチリルトリメトキシシラン、3−メタクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン、3−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、3−メタクリロキシプロピルメチルジエトキシシラン、3−メタクリロキシプロピルトリエトキシシラン、3−アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、N−2−(アミノエチル)−3−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、N−2−(アミノエチル)−3−アミノプロピルトリメトキシシラン、N−2−(アミノエチル)−3−アミノプロピルトリエトキシシラン、3−アミノプロピルトリメトキシシラン、3−アミノプロピルトリエトキシシラン、3−トリエトキシシリル−N−(1,3−ジメチル−ブチリデン)プロピルアミンとその部分加水分解物、3−トリメトキシシリル−N−(1,3−ジメチル−ブチリデン)プロピルアミンとその部分加水分解物、N−フェニル−3−アミノプロピルトリメトキシシラン、3−メルカプトプロピルメチルジメトキシシラン、3−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、3−イソシアネートプロピルトリエトキシシランなどが挙げられる。なかでも、ビニル、エポキシ、(メタ)アクリロイルオキシ、アミノ、イソシアネート変性のシランカップリング剤が好ましく、特に好ましくは、(メタ)アクリロイルオキシ変性のシランカップリング剤である。これらシランカップリング剤は例えば信越化学(株)のものを用いることができる。   As the silane coupling agent, a known silane coupling agent can be used without any limitation. Preferred silane coupling agents from the viewpoint of adhesion include vinyltrichlorosilane, vinyltrimethoxysilane, vinyltriethoxysilane, 2- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane, and 3-glycidoxypropyltrimethoxy. Silane, 2- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane, 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane, 3-glycidoxypropylmethyldiethoxysilane, 3-glycidoxypropyltriethoxysilane, p- Styryltrimethoxysilane, 3-methacryloxypropylmethyldimethoxysilane, 3-methacryloxypropyltrimethoxysilane, 3-methacryloxypropylmethyldiethoxysilane, 3-methacryloxypropyltriethoxysilane, 3- Acryloxypropyltrimethoxysilane, N-2- (aminoethyl) -3-aminopropylmethyldimethoxysilane, N-2- (aminoethyl) -3-aminopropyltrimethoxysilane, N-2- (aminoethyl)- 3-aminopropyltriethoxysilane, 3-aminopropyltrimethoxysilane, 3-aminopropyltriethoxysilane, 3-triethoxysilyl-N- (1,3-dimethyl-butylidene) propylamine and its partial hydrolyzate, 3-trimethoxysilyl-N- (1,3-dimethyl-butylidene) propylamine and its partial hydrolyzate, N-phenyl-3-aminopropyltrimethoxysilane, 3-mercaptopropylmethyldimethoxysilane, 3-mercaptopropyl Trimethoxysilane, 3-isocyanate pro Such as Le triethoxy silane. Of these, vinyl, epoxy, (meth) acryloyloxy, amino, and isocyanate-modified silane coupling agents are preferable, and (meth) acryloyloxy-modified silane coupling agents are particularly preferable. As these silane coupling agents, for example, those from Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. can be used.

また、シランカップリング剤としては、特開2013−43382号公報に記載の一般式(1)で表されるシランカップリング剤を挙げることができる。詳細については、特開2013−43382号公報段落0011〜0016の記載を参照できる。   Moreover, as a silane coupling agent, the silane coupling agent represented by General formula (1) as described in Unexamined-Japanese-Patent No. 2013-43382 can be mentioned. For details, the description of Unexamined-Japanese-Patent No. 2013-43382 Paragraphs 0011-0016 can be referred.

その他の有機金属カップリング剤としては、例えば、チタンカップリング剤、ジルコニウムカップリング剤、アルミニウムカップリング剤、スズカップリング剤等の各種カップリング剤を使用できる。   As other organometallic coupling agents, for example, various coupling agents such as a titanium coupling agent, a zirconium coupling agent, an aluminum coupling agent, and a tin coupling agent can be used.

チタンカップリング剤としては、例えば、イソプロピルトリイソステアロイルチタネート、イソプロピルトリドデシルベンゼンスルホニルチタネート、イソプロピルトリス(ジオクチルパイロホスフェート)チタネート、テトライソプロピルビス(ジオクチルホスファイト)チタネート、テトラオクチルビス(ジトリデシルホスファイト)チタネート、テトラ(2,2−ジアリルオキシメチル)ビス(ジトリデシル)ホスファイトチタネート、ビス(ジオクチルパイロホスフェート)オキシアセテートチタネート、ビス(ジオクチルパイロホスフェート)エチレンチタネート、イソプロピルトリオクタノイルチタネート、イソプロピルジメタクリルイソステアロイルチタネート、イソプロピルイソステアロイルジアクリルチタネート、イソプロピルトリ(ジオクチルホスフェート)チタネート、イソプロピルトリクミルフェニルチタネート、イソプロピルトリ(N−アミノエチル・アミノエチル)チタネート、ジクミルフェニルオキシアセテートチタネート、ジイソステアロイルエチレンチタネート等が挙げられる。   Examples of titanium coupling agents include isopropyl triisostearoyl titanate, isopropyl tridodecylbenzenesulfonyl titanate, isopropyl tris (dioctyl pyrophosphate) titanate, tetraisopropyl bis (dioctyl phosphite) titanate, tetraoctyl bis (ditridecyl phosphite) Titanate, tetra (2,2-diallyloxymethyl) bis (ditridecyl) phosphite titanate, bis (dioctylpyrophosphate) oxyacetate titanate, bis (dioctylpyrophosphate) ethylene titanate, isopropyltrioctanoyl titanate, isopropyldimethacrylisostearoyl Titanate, isopropyl isostearoyl diacryl titanate, isop Pirutori (dioctyl phosphate) titanate, isopropyl tricumylphenyl titanate, isopropyl tri (N- aminoethyl-aminoethyl) titanate, dicumyl phenyloxy acetate titanate, diisostearoyl ethylene titanate.

ジルコニウムカップリング剤としては、例えば、テトラ−n−プロポキシジルコニウム、テトラ−ブトキシジルコニウム、ジルコニウムテトラアセチルアセトネート、ジルコニウムジブトキシビス(アセチルアセトネート)、ジルコニウムトリブトキシエチルアセトアセテート、ジルコニウムブトキシアセチルアセトネートビス(エチルアセトアセテート)等が挙げられる。   Examples of the zirconium coupling agent include tetra-n-propoxyzirconium, tetra-butoxyzirconium, zirconium tetraacetylacetonate, zirconium dibutoxybis (acetylacetonate), zirconium tributoxyethyl acetoacetate, zirconium butoxyacetylacetonate bis. (Ethyl acetoacetate) and the like.

アルミニウムカップリング剤としては、例えば、アルミニウムイソプロピレート、モノsec−ブトキシアルミニウムジイソプロピレート、アルミニウムsec−ブチレート、アルミニウムエチレート、エチルアセトアセテエートアルミニウムジイソプロピレート、アルミニウムトリス(エチルアセトアセテート)、アルキルアセトアセテートアルミニウムジイソプロピレート、アルミニウムモノアセチルアセトネートビス(エチルアセトアセテート)、アルミニウムトリス(アセチルアセトアセテート)等を挙げることができる。   Examples of the aluminum coupling agent include aluminum isopropylate, monosec-butoxyaluminum diisopropylate, aluminum sec-butyrate, aluminum ethylate, ethylacetoacetate aluminum diisopropylate, aluminum tris (ethylacetoacetate), alkylacetate Acetate aluminum diisopropylate, aluminum monoacetylacetonate bis (ethyl acetoacetate), aluminum tris (acetylacetoacetate) and the like can be mentioned.

有機金属カップリング剤は、バリアフィルムの無機層と波長変換層との密着性をより一層向上する観点からは、表面処理用の組成物中に、1〜80質量%の範囲で含まれることが好ましく、より好ましくは10〜70質量%であり、さらに好ましくは20〜60質量%である。   From the viewpoint of further improving the adhesion between the inorganic layer of the barrier film and the wavelength conversion layer, the organometallic coupling agent may be contained in the surface treatment composition in an amount of 1 to 80% by mass. More preferably, it is 10-70 mass%, More preferably, it is 20-60 mass%.

−界面活性剤−
本発明の波長変換部材の製造方法は、前述の表面処理用の組成物が界面活性剤を含有することが好ましい。表面処理用の組成物を有機金属カップリング剤の水を含む溶液を用いる際に、疎水的なバリアフィルムの無機層表面との濡れ性を改善する観点から、表面処理用の組成物に界面活性剤を添加して表面張力を減少させることが好ましい。
本発明における界面活性剤としては、アニオン性界面活性剤、カチオン性界面活性剤、両性界面活性剤、ノニオン性界面活性剤のいずれも使用することができる。更に、フッ素を含有する界面活性剤が特に好ましい。
アニオン系界面活性剤の具体例としては、例えば、ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム、ラウリル硫酸ナトリウム、アルキルジフェニルエーテルジスルホン酸ナトリウム、アルキルナフタレンスルホン酸ナトリウム、ジアルキルスルホコハク酸ナトリウム、ステアリン酸ナトリウム、オレイン酸カリウム、ナトリウムジオクチルスルホサクシネート、ポリオキシエチレンアルキルエーテル硫酸ナトリウム、ポリオキシエチレンアルキルエーテ硫酸ナトリウム、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル硫酸ナトリウム、ジアルキルスルホコハク酸ナトリウム、ステアリン酸ナトリウム、オレイン酸ナトリウム、t−オクチルフェノキシエトキシポリエトキシエチル硫酸ナトリウム塩等が挙げられ、これらの1種、又は2種以上を選択することができる。
ノニオン性界面活性剤の具体例としては、例えば、ポリオキシエチレンラウリルエーテル、ポリオキシエチレンオクチルフェニルエーテル、ポリオキシエチレンオレイルフェニルエーテル、ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル、オキシエチレン・オキシプロピレンブロックコポリマー、t−オクチルフェノキシエチルポリエトキシエタノール、ノニルフェノキシエチルポリエトキシエタノール等が挙げられ、これらの1種、又は2種以上を選択することができる。
カチオン性界面活性剤としては、テトラアルキルアンモニウム塩、アルキルアミン塩、ベンザルコニウム塩、アルキルピリジウム塩、イミダゾリウム塩等が挙げられ、具体的には、例えば、ジヒドロキシエチルステアリルアミン、2−ヘプタデセニル−ヒドロキシエチルイミダゾリン、ラウリルトリメチルベンジルアンモニウムクロライド、セチルピリジニウムクロライド、ステアラミドメチルピリジウムクロライド等が挙げられる。
フッ素を含有する界面活性剤としては、アニオン系界面活性剤として、DIC社製のF−114 F−410、ノニオン系界面活性剤として F−444、F−553、F−556、F−559、F−567、F−569、R−94などが挙げられる。
本発明の波長変換部材の製造方法は、前述の界面活性剤がフッ素系ノニオン界面活性剤であることが好ましい。
-Surfactant-
In the method for producing a wavelength conversion member of the present invention, the surface treatment composition preferably contains a surfactant. When using a solution containing an organic metal coupling agent in water as a surface treatment composition, the surface treatment composition has surface activity from the viewpoint of improving the wettability of the hydrophobic barrier film with the inorganic layer surface. It is preferable to reduce the surface tension by adding an agent.
As the surfactant in the present invention, any of an anionic surfactant, a cationic surfactant, an amphoteric surfactant, and a nonionic surfactant can be used. Furthermore, a surfactant containing fluorine is particularly preferable.
Specific examples of anionic surfactants include, for example, sodium dodecylbenzenesulfonate, sodium lauryl sulfate, sodium alkyldiphenyl ether disulfonate, sodium alkylnaphthalenesulfonate, sodium dialkylsulfosuccinate, sodium stearate, potassium oleate, sodium dioctyl Sulfosuccinate, sodium polyoxyethylene alkyl ether sulfate, sodium polyoxyethylene alkyl ether sulfate, sodium polyoxyethylene alkyl phenyl ether sulfate, sodium dialkylsulfosuccinate, sodium stearate, sodium oleate, t-octylphenoxyethoxypolyethoxyethyl Examples include sodium sulfate, etc., and select one or more of these Rukoto can.
Specific examples of the nonionic surfactant include, for example, polyoxyethylene lauryl ether, polyoxyethylene octyl phenyl ether, polyoxyethylene oleyl phenyl ether, polyoxyethylene nonyl phenyl ether, oxyethylene / oxypropylene block copolymer, t- Examples include octylphenoxyethyl polyethoxyethanol, nonylphenoxyethyl polyethoxyethanol, and the like, and one or more of these can be selected.
Examples of the cationic surfactant include tetraalkylammonium salts, alkylamine salts, benzalkonium salts, alkylpyridium salts, imidazolium salts, and the like. Specific examples thereof include dihydroxyethyl stearylamine and 2-heptadecenyl. -Hydroxyethylimidazoline, lauryltrimethylbenzylammonium chloride, cetylpyridinium chloride, stearamide methylpyridium chloride and the like.
As the surfactant containing fluorine, as an anionic surfactant, F-114 F-410 manufactured by DIC, and as a nonionic surfactant, F-444, F-553, F-556, F-559, F-567, F-569, R-94, etc. are mentioned.
In the method for producing a wavelength conversion member of the present invention, the aforementioned surfactant is preferably a fluorine-based nonionic surfactant.

−反応促進剤−
上記表面処理用の組成物は、以上記載した成分とともに、反応促進剤を含んでいてもよい。反応促進剤とは、有機金属カップリング反応を促進する化合物のことを意味する。反応促進剤としては、酸発生剤を挙げることができる。酸発生剤としてはエネルギー付与によりプロトン酸を発生する酸発生剤などを挙げることができる。表面処理用の組成物は、エネルギー付与によりプロトン酸を発生する酸発生剤を含んでいてもよい。かかる酸発生剤は、通常、アニオン部Xとカチオン部Yとを含むイオン性の化合物または塩であって、エネルギー付与により分解し溶媒または酸発生剤自体からプロトンHを引き抜くことにより、プロトン酸XHを発生することができる。ここでプロトン酸とは、プロトンHを放出可能な化合物をいう。
-Reaction accelerator-
The composition for surface treatment may contain a reaction accelerator together with the components described above. A reaction accelerator means a compound that promotes an organometallic coupling reaction. Examples of the reaction accelerator include an acid generator. Examples of the acid generator include an acid generator that generates a protonic acid by applying energy. The composition for surface treatment may contain an acid generator that generates a protonic acid by applying energy. Such an acid generator is usually an ionic compound or salt containing an anion portion X and a cation portion Y + , which decomposes upon application of energy to extract proton H + from the solvent or the acid generator itself. Protic acid XH can be generated. Here, the protonic acid refers to a compound capable of releasing proton H + .

酸発生剤からプロトン酸を発生させるためのエネルギー付与方法は、特に限定されるものではなく、光照射、加熱処理、放射線、電磁波等の活性エネルギー線の照射等を挙げることができる。好ましくは、光照射および加熱処理である。即ち、酸発生剤としては、光酸発生剤および熱酸発生剤からなる群から選択されることが好ましい。光酸発生剤にエネルギーを付与するために照射される光は、例えば紫外線であるが、上記組成物に含まれる酸発生剤がプロトン酸を発生し得る光照射を行うことができれば、照射する光の波長は限定されるものではない。また、エネルギー付与条件、例えば光照射条件、加熱条件も、上記組成物に含まれる酸発生剤がプロトン酸を発生し得る条件とすればよく、特に限定されるものではない。   The energy application method for generating the protonic acid from the acid generator is not particularly limited, and examples thereof include light irradiation, heat treatment, irradiation with active energy rays such as radiation and electromagnetic waves. Preferably, light irradiation and heat treatment are performed. That is, the acid generator is preferably selected from the group consisting of a photoacid generator and a thermal acid generator. The light irradiated to give energy to the photoacid generator is, for example, ultraviolet light. However, if the acid generator included in the composition can perform light irradiation capable of generating a proton acid, the light to be irradiated The wavelength of is not limited. The energy application conditions such as the light irradiation conditions and the heating conditions are not particularly limited as long as the acid generator contained in the composition can generate a protonic acid.

光酸発生剤としては、例えば、ジアゾニウム塩、アンモニウム塩、ホスホニウム塩、ヨードニウム塩、スルホニウム塩、セレノニウム塩、アルソニウム塩等のオニウム塩、有機ハロゲン化合物、有機金属/有機ハロゲン化物、o−ニトロベンジル型保護基を有する光酸発生剤、イミノスルフォネ−ト等に代表される光分解してスルホン酸を発生する化合物、ジスルホン化合物、ジアゾケトスルホン、ジアゾジスルホン化合物等を挙げることができる。また、トリアジン類、第四級アンモニウム塩類、ジアゾメタン化合物、イミドスルホネート化合物、オキシムスルホネート化合物を挙げることもできる。
また、光により酸を発生する基、または化合物をポリマーの主鎖もしくは側鎖に導入した化合物を用いることができる。
Examples of the photoacid generator include diazonium salts, ammonium salts, phosphonium salts, iodonium salts, sulfonium salts, selenonium salts, onium salts such as arsonium salts, organic halogen compounds, organic metal / organic halides, and o-nitrobenzyl type. A photoacid generator having a protecting group, a compound capable of generating sulfonic acid by photolysis, such as iminosulfonate, a disulfone compound, a diazoketosulfone, a diazodisulfone compound, and the like. Further, triazines, quaternary ammonium salts, diazomethane compounds, imide sulfonate compounds, and oxime sulfonate compounds can also be mentioned.
Further, a group that generates an acid by light, or a compound in which a compound is introduced into the main chain or side chain of a polymer can be used.

さらに、V. N. R. Pillai, Synthesis, (1), 1 (1980)、A. Abad et al., Tetrahedron Lett., (47) 4555 (1971)、D. H. R. Barton et al., J. Chem. Soc., (C), 329 (1970)、米国特許第3,779,778号、欧州特許第126,712号等に記載の光により酸を発生する化合物も使用することができる。   Furthermore, V. N. R. Pillai, Synthesis, (1), 1 (1980), A.M. Abad et al. , Tetrahedron Lett. , (47) 4555 (1971), D.M. H. R. Barton et al. , J. et al. Chem. Soc. , (C), 329 (1970), U.S. Pat. No. 3,779,778, European Patent 126,712 and the like, compounds that generate an acid by light can also be used.

また、光酸発生剤の具体例としては、特開2008−162952号公報の[0076]〜[0102]に記載の光酸発生剤<A−1>〜<A−4>を挙げることができる。   Specific examples of the photoacid generator include photoacid generators <A-1> to <A-4> described in [0076] to [0102] of JP-A-2008-162952. .

熱酸発生剤としては、酸と有機塩基からなる塩を挙げることができる。
上記の酸としては、スルホン酸、ホスホン酸、カルボン酸など有機酸や硫酸、リン酸のような無機酸が挙げられる。マトリックスに対する相溶性の観点からは、有機酸がより好ましく、スルホン酸、ホスホン酸が更に好ましく、スルホン酸が最も好ましい。好ましいスルホン酸としては、p−トルエンスルホン酸(PTS)、ベンゼンスルホン酸(BS)、p−ドデシルベンゼンスルホン酸(DBS)、p−クロロベンゼンスルホン酸(CBS)、1,4−ナフタレンジスルホン酸(NDS)、メタンスルホン酸(MsOH)、ノナフルオロブタン−1−スルホン酸(NFBS)などが挙げられ、何れも好ましく用いることができる(( )内は略称)。
Examples of the thermal acid generator include salts composed of an acid and an organic base.
Examples of the acid include organic acids such as sulfonic acid, phosphonic acid, and carboxylic acid, and inorganic acids such as sulfuric acid and phosphoric acid. From the viewpoint of compatibility with the matrix, organic acids are more preferred, sulfonic acids and phosphonic acids are more preferred, and sulfonic acids are most preferred. Preferred sulfonic acids include p-toluenesulfonic acid (PTS), benzenesulfonic acid (BS), p-dodecylbenzenesulfonic acid (DBS), p-chlorobenzenesulfonic acid (CBS), 1,4-naphthalenedisulfonic acid (NDS). ), Methanesulfonic acid (MsOH), nonafluorobutane-1-sulfonic acid (NFBS), and the like, and any of them can be preferably used (the abbreviations in () are used).

酸とともに塩を形成する有機塩基の塩基性については、共役酸のpKaを用いて表すと、pKaは5.0〜10.5であることが好ましく、6.0〜10.0であることがより好ましく、6.5〜10.0であることが更に好ましい。有機塩基のpKaの値は水溶液中での値が化学便覧 基礎編(改訂5版、日本化学会編、丸善、2004年)第2巻のII−334〜340頁に記載があるので、その中から適当なpKaを有する有機塩基を選ぶことができる。また、上記文献に記載がなくても構造上適当なpKaを有すると推定できる化合物も好ましく用いることができる。下記表1に上記文献に記載の適当なpKaを有する化合物を示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。   About the basicity of the organic base which forms a salt with an acid, when expressed using pKa of a conjugate acid, pKa is preferably 5.0 to 10.5, and preferably 6.0 to 10.0. More preferably, it is 6.5-10.0. The value of pKa of organic base in aqueous solution is described in Chemistry Handbook Basic Edition (5th revised edition, edited by The Chemical Society of Japan, Maruzen, 2004) Volume II, pages II-334-340. An organic base having an appropriate pKa can be selected. In addition, a compound that can be presumed to have a pKa that is structurally appropriate even if not described in the above-mentioned document can be preferably used. The compounds having appropriate pKa described in the above-mentioned literature are shown in Table 1 below, but the present invention is not limited thereto.

一方、有機塩基の沸点が低い方が加熱時の酸発生効率が高く、有機金属カップリング剤の反応促進の観点からは好ましい。従って、適度な沸点を有する有機塩基を用いることが好ましい。有機塩基の沸点としては、120℃以下であることが好ましく、80℃以下であることがより好ましく、70℃以下であることがさらに好ましい。   On the other hand, the lower the boiling point of the organic base, the higher the acid generation efficiency during heating, which is preferable from the viewpoint of promoting the reaction of the organometallic coupling agent. Therefore, it is preferable to use an organic base having an appropriate boiling point. The boiling point of the organic base is preferably 120 ° C. or lower, more preferably 80 ° C. or lower, and further preferably 70 ° C. or lower.

熱酸発生剤の具体例としては、例えば以下の化合物が挙げられるが、これらに限定されるものではない。( )内は沸点を示す。
b−3:ピリジン(115℃)、b−14:4−メチルモルホリン(115℃)、b−20:ジアリルメチルアミン(111℃)、b−19:トリエチルアミン(88.8℃)、b−21:t−ブチルメチルアミン(67〜69℃)、b−22:ジメチルイソプロピルアミン(66℃)、b−23:ジエチルメチルアミン(63〜65℃)、b−24:ジメチルエチルアミン(36〜38℃)。
有機塩基の沸点は35℃以上120℃以下であることが好ましく、40℃以上115℃以下であることが更に好ましい。
Specific examples of the thermal acid generator include the following compounds, but are not limited thereto. Figures in parentheses indicate boiling points.
b-3: pyridine (115 ° C), b-14: 4-methylmorpholine (115 ° C), b-20: diallylmethylamine (111 ° C), b-19: triethylamine (88.8 ° C), b-21 : T-butylmethylamine (67-69 ° C), b-22: dimethylisopropylamine (66 ° C), b-23: diethylmethylamine (63-65 ° C), b-24: dimethylethylamine (36-38 ° C) ).
The boiling point of the organic base is preferably 35 ° C. or higher and 120 ° C. or lower, and more preferably 40 ° C. or higher and 115 ° C. or lower.

上記の熱酸発生剤は、酸と有機塩基からなる塩を単離して用いてもよいし、酸と有機塩基を混合して溶液中で塩を形成させ、その溶液を用いてもよい。また、酸、有機塩基とも1種類だけで用いてもよいし、複数種類のものを混合して用いてもよい。酸と有機塩基を混合して用いる時には、酸と有機塩基の当量比が1:0.9〜1.5となるように混合することが好ましく、1:0.95〜1.3となるように混合することがより好ましく、1:1.0〜1.1となるように混合することが更に好ましい。   The thermal acid generator may be used by isolating a salt composed of an acid and an organic base, or by mixing the acid and the organic base to form a salt in the solution, and using the solution. Moreover, only one kind of acid or organic base may be used, or a plurality of kinds may be mixed and used. When an acid and an organic base are mixed and used, it is preferable that the acid and the organic base have an equivalent ratio of 1: 0.9 to 1.5, preferably 1: 0.95 to 1.3. It is more preferable to mix in a ratio of 1: 1.0 to 1.1.

上記酸発生剤がエネルギーを付与されることにより発生するプロトン酸(前述のXH)の分子量は、特に限定されるものではない。発生したプロトン酸により有機金属カップリング剤の反応が促進されると考えられるが、この反応が隣接層との界面で進行することが、波長変換層と隣接層との界面の密着性を向上するためには好ましい。このためには、発生したプロトン酸が比較的低分子量であって波長変換層内での移動性が良好であることが好ましいと、本発明者らは推察している。この点から、発生するプロトン酸の分子量は。好ましくは500以下であり、より好ましくは300以下であり、更に好ましくは200以下であり、いっそう好ましくは100以下である。上記分子量の下限値は、例えば30以上であるが、特に限定されるものではない。   The molecular weight of the protonic acid (the aforementioned XH) generated by applying energy to the acid generator is not particularly limited. It is considered that the reaction of the organometallic coupling agent is promoted by the generated proton acid. However, the progress of this reaction at the interface with the adjacent layer improves the adhesion at the interface between the wavelength conversion layer and the adjacent layer. It is preferable for this purpose. For this purpose, the present inventors presume that the generated proton acid preferably has a relatively low molecular weight and good mobility in the wavelength conversion layer. From this point, what is the molecular weight of the generated protonic acid? Preferably it is 500 or less, More preferably, it is 300 or less, More preferably, it is 200 or less, More preferably, it is 100 or less. The lower limit of the molecular weight is, for example, 30 or more, but is not particularly limited.

以上説明した酸発生剤は、上記組成物に、例えば上記重合性化合物全量100質量部に対して0.01〜30質量部、好ましくは0.1〜20質量部、更に好ましくは0.5〜5質量部含めることができる。   The acid generator demonstrated above is 0.01-30 mass parts with respect to the said composition, for example with respect to 100 mass parts of said polymeric compounds whole quantity, Preferably it is 0.1-20 mass parts, More preferably, 0.5- 5 parts by mass can be included.

<積層工程>
本発明の波長変換部材の製造方法は、バリアフィルムの表面処理された表面に量子ドットを含有する波長変換層を積層する積層工程を含む。
<Lamination process>
The manufacturing method of the wavelength conversion member of this invention includes the lamination process which laminates | stacks the wavelength conversion layer containing a quantum dot on the surface by which the surface treatment of the barrier film was carried out.

本発明の波長変換部材の製造方法は、前述の積層工程が、量子ドット含有組成物の塗布工程であることが好ましい。量子ドット含有組成物は、量子ドット含有重合性組成物であり、塗布後の量子ドット含有重合性組成物を重合処理(硬化)することがより好ましい。以下において、量子ドット含有組成物を用いた積層工程の好ましい態様の説明の代表例として量子ドット含有重合性組成物について説明することがあるが、量子ドット含有組成物を用いた積層工程の好ましい態様は量子ドット含有重合性組成物に限定されない。
量子ドット含有組成物の塗布方法としては、カーテンコーティング法、ディップコーティング法、スピンコーティング法、印刷コーティング法、スプレーコーティング法、スロットコーティング法、ロールコーティング法、スライドコーテティング法、ブレードコーティング法、グラビアコーティング法、ワイヤーバー法等の公知の塗布方法が挙げられる。
また、硬化条件は、使用する重合性化合物の種類や重合性組成物の組成に応じて、適宜設定することができる。また、量子ドット含有重合性組成物が溶媒を含む組成物である場合には、重合処理を行う前に、溶媒除去のために乾燥処理を施してもよい。
In the method for producing a wavelength conversion member of the present invention, it is preferable that the laminating step is a coating step of a quantum dot-containing composition. The quantum dot-containing composition is a quantum dot-containing polymerizable composition, and it is more preferable that the quantum dot-containing polymerizable composition after coating is polymerized (cured). In the following, although a quantum dot-containing polymerizable composition may be described as a representative example of a description of a preferred embodiment of a lamination step using a quantum dot-containing composition, a preferred embodiment of a lamination step using a quantum dot-containing composition Is not limited to a quantum dot-containing polymerizable composition.
Application methods of the quantum dot-containing composition include curtain coating method, dip coating method, spin coating method, print coating method, spray coating method, slot coating method, roll coating method, slide coating method, blade coating method, and gravure coating. And a known coating method such as a wire bar method.
The curing conditions can be appropriately set according to the type of polymerizable compound used and the composition of the polymerizable composition. Moreover, when a quantum dot containing polymeric composition is a composition containing a solvent, you may perform a drying process for solvent removal, before performing a polymerization process.

波長変換層は、上記量子ドット含有重合性組成物に、重合処理を施し形成された層であることが好ましい。量子ドット含有重合性組成物の重合処理は光照射または加熱により行うことができる。
表面処理用の組成物が酸発生剤などの反応促進剤を含む場合、量子ドット含有重合性組成物の重合処理と、表面処理用の組成物の酸発生剤へのエネルギー付与の方法は特に限定されない。例えば、酸発生剤が光酸発生剤であり、かつ重合性組成物の重合処理を光照射により行う態様においては、エネルギー付与および重合処理は、同時に、即ち一工程として行うことができる。この点は、酸発生剤が熱酸発生剤であり、重合処理を加熱により行う態様についても同様である。一方、酸発生剤が熱酸発生剤であり、重合処理は光照射により行う態様では、エネルギー付与(加熱)と重合処理(光照射)は順次、別工程として行われる。この点は、酸発生剤が光酸発生剤であり、重合処理は加熱により行う態様についても同様である。このようにエネルギー付与と重合処理が別工程で行われる場合には、エネルギー付与を行った後に重合処理を行うことが好ましい。エネルギー付与により有機金属カップリング剤の反応を促進した後に重合処理を行うことが、波長変換層と無機層との密着性のいっそうの向上に寄与すると考えられるためである。また、エネルギー付与と重合処理がともに光照射により行われる場合であって、エネルギー付与のための光照射条件(例えば照射する光の波長)が重合処理のものと異なる場合にも、同様の理由から、エネルギー付与のための光照射の後、重合処理のための光照射を行うことが好ましい。この点は、エネルギー付与と重合処理がともに加熱により行われる場合であって、エネルギー付与のための加熱条件と重合処理の加熱条件が異なる場合も同様である。
The wavelength conversion layer is preferably a layer formed by subjecting the quantum dot-containing polymerizable composition to a polymerization treatment. The polymerization treatment of the quantum dot-containing polymerizable composition can be performed by light irradiation or heating.
When the composition for surface treatment contains a reaction accelerator such as an acid generator, the method of polymerizing the quantum dot-containing polymerizable composition and the method for imparting energy to the acid generator of the composition for surface treatment are particularly limited. Not. For example, in an embodiment in which the acid generator is a photoacid generator and the polymerization treatment of the polymerizable composition is performed by light irradiation, the energy application and the polymerization treatment can be performed simultaneously, that is, as one step. The same applies to the aspect in which the acid generator is a thermal acid generator and the polymerization treatment is performed by heating. On the other hand, in an embodiment in which the acid generator is a thermal acid generator and the polymerization treatment is performed by light irradiation, energy application (heating) and polymerization treatment (light irradiation) are sequentially performed as separate steps. The same applies to the aspect in which the acid generator is a photoacid generator and the polymerization treatment is performed by heating. Thus, when energy provision and a polymerization process are performed by a separate process, it is preferable to perform a polymerization process after performing energy provision. This is because it is considered that performing the polymerization treatment after promoting the reaction of the organometallic coupling agent by applying energy contributes to further improving the adhesion between the wavelength conversion layer and the inorganic layer. For the same reason, energy application and polymerization treatment are both performed by light irradiation, and the light irradiation conditions for energy application (for example, the wavelength of light to be irradiated) are different from those of the polymerization treatment. It is preferable to perform light irradiation for polymerization treatment after light irradiation for energy application. This is the case where both the energy application and the polymerization process are performed by heating, and the same applies when the heating conditions for energy application and the heating conditions for the polymerization process are different.

本発明の波長変換部材の製造方法は、前述の積層工程が前述の第一のバリアフィルムおよび前述の第二のバリアフィルムのそれぞれ表面処理された表面で前述の波長変換層を挟む工程であることが、波長変換部材のバリア性を高める観点からより好ましい。
本発明の波長変換部材の製造方法の一態様では、量子ドット含有重合性組成物の重合処理は、この組成物を2枚の基材間に挟持した状態で行うことができる。かかる重合処理を含む波長変換部材の製造工程の一態様を、図面を参照し、以下に説明する。ただし、本発明は、下記態様に限定されるものではない。
In the wavelength conversion member manufacturing method of the present invention, the laminating step is a step of sandwiching the wavelength conversion layer between the surface-treated surfaces of the first barrier film and the second barrier film, respectively. However, it is more preferable from the viewpoint of improving the barrier property of the wavelength conversion member.
In one aspect of the method for producing a wavelength conversion member of the present invention, the polymerization treatment of the quantum dot-containing polymerizable composition can be performed in a state where the composition is sandwiched between two substrates. One aspect of the manufacturing process of the wavelength conversion member including such a polymerization process will be described below with reference to the drawings. However, the present invention is not limited to the following embodiments.

図3は、波長変換部材の製造装置100の一例の概略構成図であり、図4は、図3に示す製造装置の部分拡大図である。図3、4に示す製造装置100を用いる波長変換部材の製造工程は、
連続搬送される第一の基材(以下、「第一のフィルム」とも記載する。)の表面に量子ドット含有重合性組成物を塗布し塗膜を形成する工程と、
塗膜の上に、連続搬送される第二の基材(以下、「第二のフィルム」とも記載する。)をラミネートし(重ねあわせ)、第一のフィルムと第二のフィルムとで塗膜を挟持する工程と、
第一のフィルムと第二のフィルムとで塗膜を挟持した状態で、第一のフィルム、および第二のフィルムの何れかをバックアップローラに巻きかけて、連続搬送しながら光照射し、塗膜を重合硬化させて波長変換層(硬化層)を形成する工程と、
を少なくとも含む本発明の製造方法の一態様である。第一の基材、第二の基材のいずれか一方として無機層(好ましくは酸素や水分に対するバリア性を有する無機層)を有するバリアフィルムを用いることにより、片面がバリアフィルム(バリア層)により保護された波長変換部材を得ることができる。また、第一の基材および第二の基材として、それぞれバリアフィルムを用いることにより、波長変換層の両面がバリアフィルム(バリア層)により保護された波長変換部材を得ることができる。
FIG. 3 is a schematic configuration diagram of an example of the wavelength conversion member manufacturing apparatus 100, and FIG. 4 is a partial enlarged view of the manufacturing apparatus shown in FIG. The manufacturing process of the wavelength conversion member using the manufacturing apparatus 100 shown in FIGS.
Applying a quantum dot-containing polymerizable composition to the surface of a first substrate (hereinafter also referred to as “first film”) that is continuously conveyed to form a coating film;
A second substrate (hereinafter also referred to as “second film”) that is continuously conveyed is laminated (overlapped) on the coating film, and the first film and the second film are coated. A process of sandwiching
In a state where the coating film is sandwiched between the first film and the second film, either the first film or the second film is wound around a backup roller and irradiated with light while being continuously conveyed. A step of polymerizing and curing to form a wavelength conversion layer (cured layer);
Is an embodiment of the production method of the present invention including at least By using a barrier film having an inorganic layer (preferably an inorganic layer having a barrier property against oxygen and moisture) as either the first base material or the second base material, one side is a barrier film (barrier layer). A protected wavelength conversion member can be obtained. Moreover, the wavelength conversion member by which the both surfaces of the wavelength conversion layer were protected by the barrier film (barrier layer) can be obtained by using a barrier film as a 1st base material and a 2nd base material, respectively.

より詳しくは、まず、図示しない送出機から第一のフィルム10が塗布部20へと連続搬送される。送出機から、例えば、第一のフィルム10が1〜50m/分の搬送速度で送り出される。但し、この搬送速度に限定されない。送出される際、例えば、第一のフィルム10には、20〜150N/mの張力、好ましくは30〜100N/mの張力が加えられる。   More specifically, first, the first film 10 is continuously conveyed to the coating unit 20 from a delivery machine (not shown). For example, the first film 10 is sent out from the sending machine at a conveying speed of 1 to 50 m / min. However, it is not limited to this conveyance speed. When delivered, for example, a tension of 20 to 150 N / m, preferably 30 to 100 N / m, is applied to the first film 10.

塗布部20では、連続搬送される第一のフィルム10の表面に量子ドット含有重合性組成物(以下、「塗布液」とも記載する。)が塗布され、塗膜22(図2参照)が形成される。塗布部20では、例えば、ダイコーター24と、ダイコーター24に対向配置されたバックアップローラ26とが設置されている。第一のフィルム10の塗膜22の形成される表面と反対の表面をバックアップローラ26に巻きかけて、連続搬送される第一のフィルム10の表面にダイコーター24の吐出口から塗布液が塗布され、塗膜22が形成される。ここで塗膜22とは、第一のフィルム10上に塗布された重合処理前の量子ドット含有組成物をいう。   In the coating unit 20, a quantum dot-containing polymerizable composition (hereinafter also referred to as “coating liquid”) is applied to the surface of the first film 10 that is continuously conveyed, and a coating film 22 (see FIG. 2) is formed. Is done. In the coating unit 20, for example, a die coater 24 and a backup roller 26 disposed to face the die coater 24 are installed. The surface of the first film 10 opposite to the surface on which the coating film 22 is formed is wound around the backup roller 26, and the coating liquid is applied from the discharge port of the die coater 24 onto the surface of the first film 10 that is continuously conveyed. As a result, the coating film 22 is formed. Here, the coating film 22 refers to a quantum dot-containing composition before the polymerization treatment applied on the first film 10.

本実施の形態では、塗布装置としてエクストルージョンコーティング法を適用したダイコーター24を示したが、これに限定されない。例えば、カーテンコーティング法、エクストルージョンコーティング法、ロッドコーティング法またはロールコーティング法等、種々の方法を適用した塗布装置を用いることができる。   In the present embodiment, the die coater 24 to which the extrusion coating method is applied is shown as the coating apparatus, but the present invention is not limited to this. For example, a coating apparatus to which various methods such as a curtain coating method, an extrusion coating method, a rod coating method, or a roll coating method are applied can be used.

塗布部20を通過し、その上に塗膜22が形成された第一のフィルム10は、ラミネート部30に連続搬送される。ラミネート部30では、塗膜22の上に、連続搬送される第二のフィルム50がラミネートされ、第一のフィルム10と第二のフィルム50とで塗膜22が挟持される。   The first film 10 that has passed through the coating unit 20 and has the coating film 22 formed thereon is continuously conveyed to the laminating unit 30. In the laminating unit 30, the second film 50 that is continuously conveyed is laminated on the coating film 22, and the coating film 22 is sandwiched between the first film 10 and the second film 50.

ラミネート部30には、ラミネートローラ32と、ラミネートローラ32を囲う加熱チャンバー34とが設置されている。加熱チャンバー34には第一のフィルム10を通過させるための開口部36、および第二のフィルム50を通過させるための開口部38が設けられている。   The laminating unit 30 is provided with a laminating roller 32 and a heating chamber 34 surrounding the laminating roller 32. The heating chamber 34 is provided with an opening 36 for allowing the first film 10 to pass therethrough and an opening 38 for allowing the second film 50 to pass therethrough.

ラミネートローラ32に対向する位置には、バックアップローラ62が配置されている。塗膜22の形成された第一のフィルム10は、塗膜22の形成面と反対の表面がバックアップローラ62に巻きかけられ、ラミネート位置Pへと連続搬送される。ラミネート位置Pは第二のフィルム50と塗膜22との接触が開始する位置を意味する。第一のフィルム10はラミネート位置Pに到達する前にバックアップローラ62に巻きかけられることが好ましい。仮に第一のフィルム10にシワが発生した場合でも、バックアップローラ62によりシワがラミネート位置Pに達するまでに矯正され、除去できるからである。したがって、第一のフィルム10がバックアップローラ62に巻きかけられた位置(接触位置)と、ラミネート位置Pまでの距離L1は長い方が好ましく、例えば、30mm以上が好ましく、その上限値は、通常、バックアップローラ62の直径とパスラインとにより決定される。   A backup roller 62 is disposed at a position facing the laminating roller 32. The first film 10 on which the coating film 22 is formed is wound around the backup roller 62 on the surface opposite to the surface on which the coating film 22 is formed, and is continuously conveyed to the laminating position P. The laminating position P means a position where the contact between the second film 50 and the coating film 22 starts. The first film 10 is preferably wound around the backup roller 62 before reaching the laminating position P. This is because even if wrinkles occur in the first film 10, the wrinkles are corrected by the backup roller 62 before reaching the laminate position P and can be removed. Accordingly, the position where the first film 10 is wound around the backup roller 62 (contact position) and the distance L1 to the laminating position P are preferably longer, for example, 30 mm or more is preferable, and the upper limit is usually It is determined by the diameter of the backup roller 62 and the pass line.

本実施の形態では重合処理部60で使用されるバックアップローラ62とラミネートローラ32とにより第二のフィルム50のラミネートが行われる。即ち、重合処理部60で使用されるバックアップローラ62が、ラミネート部30で使用するローラとして兼用される。ただし、上記形態に限定されるものではなく、ラミネート部30に、バックアップローラ62と別に、ラミネート用のローラを設置し、バックアップローラ62を兼用しないようにすることもできる。   In the present embodiment, the second film 50 is laminated by the backup roller 62 and the laminating roller 32 used in the polymerization processing unit 60. That is, the backup roller 62 used in the polymerization processing unit 60 is also used as a roller used in the laminating unit 30. However, the present invention is not limited to the above form, and a laminating roller may be installed in the laminating unit 30 in addition to the backup roller 62 so that the backup roller 62 is not used.

重合処理部60で使用されるバックアップローラ62をラミネート部30で使用することで、ローラの数を減らすことができる。また、バックアップローラ62は、第一のフィルム10に対するヒートローラとしても使用できる。   By using the backup roller 62 used in the polymerization processing unit 60 in the laminating unit 30, the number of rollers can be reduced. The backup roller 62 can also be used as a heat roller for the first film 10.

図示しない送出機から送出された第二のフィルム50は、ラミネートローラ32に巻きかけられ、ラミネートローラ32とバックアップローラ62との間に連続搬送される。第二のフィルム50は、ラミネート位置Pで、第一のフィルム10に形成された塗膜22の上にラミネートされる。これにより、第一のフィルム10と第二のフィルム50とにより塗膜22が挟持される。ラミネートとは、第二のフィルム50を塗膜22の上に重ねあわせ、積層することをいう。   The second film 50 delivered from a delivery machine (not shown) is wound around the laminating roller 32 and continuously conveyed between the laminating roller 32 and the backup roller 62. The second film 50 is laminated on the coating film 22 formed on the first film 10 at the laminating position P. Accordingly, the coating film 22 is sandwiched between the first film 10 and the second film 50. Lamination refers to laminating the second film 50 on the coating film 22.

ラミネートローラ32とバックアップローラ62との距離L2は、第一のフィルム10と、塗膜22を重合硬化させた波長変換層(硬化層)28と、第二のフィルム50と、の合計厚みの値以上であることが好ましい。また、L2は第一のフィルム10と塗膜22と第二のフィルム50との合計厚みに5mmを加えた長さ以下であることが好ましい。距離L2を合計厚みに5mmを加えた長さ以下にすることより、第二のフィルム50と塗膜22との間に泡が侵入することを防止することができる。ここでラミネートローラ32とバックアップローラ62との距離L2とは、ラミネートローラ32の外周面とバックアップローラ62の外周面との最短距離をいう。   The distance L2 between the laminating roller 32 and the backup roller 62 is a value of the total thickness of the first film 10, the wavelength conversion layer (cured layer) 28 obtained by polymerizing and curing the coating film 22, and the second film 50. The above is preferable. Moreover, it is preferable that L2 is below the length which added 5 mm to the total thickness of the 1st film 10, the coating film 22, and the 2nd film 50. FIG. By setting the distance L2 to be equal to or shorter than the total thickness plus 5 mm, it is possible to prevent bubbles from entering between the second film 50 and the coating film 22. Here, the distance L <b> 2 between the laminating roller 32 and the backup roller 62 refers to the shortest distance between the outer peripheral surface of the laminating roller 32 and the outer peripheral surface of the backup roller 62.

ラミネートローラ32とバックアップローラ62の回転精度は、ラジアル振れで0.05mm以下、好ましくは0.01mm以下である。ラジアル振れが小さいほど、塗膜22の厚み分布を小さくすることができる。   The rotational accuracy of the laminating roller 32 and the backup roller 62 is 0.05 mm or less, preferably 0.01 mm or less in radial runout. The smaller the radial runout, the smaller the thickness distribution of the coating film 22.

また、第一のフィルム10と第二のフィルム50とで塗膜22を挟持した後の熱変形を抑制するため、重合処理部60のバックアップローラ62の温度と第一のフィルム10の温度との差、およびバックアップローラ62の温度と第二のフィルム50の温度との差は30℃以下であることが好ましく、より好ましくは15℃以下、最も好ましくは同じである。   Further, in order to suppress thermal deformation after the coating film 22 is sandwiched between the first film 10 and the second film 50, the temperature of the backup roller 62 of the polymerization processing unit 60 and the temperature of the first film 10 are The difference and the difference between the temperature of the backup roller 62 and the temperature of the second film 50 are preferably 30 ° C. or less, more preferably 15 ° C. or less, and most preferably the same.

バックアップローラ62の温度との差を小さくするため、加熱チャンバー34が設けられている場合には、第一のフィルム10、および第二のフィルム50を加熱チャンバー34内で加熱することが好ましい。例えば、加熱チャンバー34には、図示しない熱風発生装置により熱風が供給され、第一のフィルム10、および第二のフィルム50を加熱することができる。   In order to reduce the difference from the temperature of the backup roller 62, when the heating chamber 34 is provided, it is preferable to heat the first film 10 and the second film 50 in the heating chamber 34. For example, hot air is supplied to the heating chamber 34 by a hot air generator (not shown), and the first film 10 and the second film 50 can be heated.

第一のフィルム10が、温度調整されたバックアップローラ62に巻きかけられることにより、バックアップローラ62によって第一のフィルム10を加熱してもよい。   The first film 10 may be heated by the backup roller 62 by being wound around the temperature-adjusted backup roller 62.

一方、第二のフィルム50については、ラミネートローラ32をヒートローラとすることにより、第二のフィルム50をラミネートローラ32で加熱することができる。
ただし、加熱チャンバー34、およびヒートローラは必須ではなく、必要に応じで設けることができる。
On the other hand, the second film 50 can be heated by the laminating roller 32 by using the laminating roller 32 as a heat roller.
However, the heating chamber 34 and the heat roller are not essential and can be provided as necessary.

次に、第一のフィルム10と第二のフィルム50とにより塗膜22が挟持された状態で、重合処理部60に連続搬送される。図面に示す態様では、重合処理部60における重合処理は光照射により行われるが、量子ドット含有重合性組成物に含まれる重合性化合物が加熱により重合するものである場合には、温風の吹き付け等の加熱により、重合処理を行うことができる。また、重合処理と一工程でエネルギー付与が行われる場合には、重合処理部60で、エネルギー付与が行われる。一方、エネルギー付与と重合処理が別工程で行われる場合には、先に記載した理由から、エネルギー付与を重合処理前に行うことが好ましい。   Next, the film 22 is continuously conveyed to the polymerization processing unit 60 in a state where the coating film 22 is sandwiched between the first film 10 and the second film 50. In the embodiment shown in the drawing, the polymerization treatment in the polymerization treatment unit 60 is performed by light irradiation, but when the polymerizable compound contained in the quantum dot-containing polymerizable composition is polymerized by heating, spraying hot air is performed. The polymerization treatment can be performed by heating such as. In addition, when the energy application is performed in one step with the polymerization process, the polymerization process unit 60 performs the energy application. On the other hand, when the energy application and the polymerization process are performed in separate steps, it is preferable to perform the energy application before the polymerization process for the reason described above.

バックアップローラ62と、バックアップローラ62に対向する位置には、光照射装置64が設けられている。バックアップローラ62と光照射装置64と間を、塗膜22を挟持した第一のフィルム10と第二のフィルム50とが連続搬送される。光照射装置により照射される光は、量子ドット含有重合性組成物に含まれる光重合性化合物の種類に応じて決定すればよく、一例としては、紫外線が挙げられる。ここで紫外線とは、波長280〜400nmの光をいうものとする。紫外線を発生する光源として、例えば、低圧水銀灯、中圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、カーボンアーク灯、メタルハライドランプ、キセノンランプ等を用いることができる。光照射量は塗膜の重合硬化を進行させ得る範囲に設定すればよく、例えば、一例として100〜10000mJ/cmの照射量の紫外線を塗膜22に向けて照射することができる。 A light irradiation device 64 is provided at a position facing the backup roller 62 and the backup roller 62. The first film 10 and the second film 50 sandwiching the coating film 22 are continuously conveyed between the backup roller 62 and the light irradiation device 64. What is necessary is just to determine the light irradiated by a light irradiation apparatus according to the kind of photopolymerizable compound contained in a quantum dot containing polymeric composition, and an ultraviolet-ray is mentioned as an example. Here, the ultraviolet light refers to light having a wavelength of 280 to 400 nm. As a light source that generates ultraviolet rays, for example, a low-pressure mercury lamp, a medium-pressure mercury lamp, a high-pressure mercury lamp, an ultrahigh-pressure mercury lamp, a carbon arc lamp, a metal halide lamp, a xenon lamp, or the like can be used. What is necessary is just to set the light irradiation amount to the range which can advance the polymerization hardening of a coating film, for example, the ultraviolet-ray of the irradiation amount of 100-10000mJ / cm < 2 > can be irradiated toward the coating film 22 as an example.

重合処理部60では、第一のフィルム10と第二のフィルム50とにより塗膜22を挟持した状態で、第一のフィルム10をバックアップローラ62に巻きかけて、連続搬送しながら光照射装置64から光照射を行い、塗膜22を硬化させて波長変換層(硬化層)28を形成することができる。   In the polymerization processing unit 60, the first film 10 and the second film 50 sandwich the coating film 22, the first film 10 is wound around the backup roller 62, and the light irradiation device 64 is continuously conveyed. The wavelength conversion layer (cured layer) 28 can be formed by irradiating with light and curing the coating film 22.

本実施の形態では、第一のフィルム10側をバックアップローラ62に巻きかけて、連続搬送したが、第二のフィルム50をバックアップローラ62に巻きかけて、連続搬送させることもできる。   In the present embodiment, the first film 10 side is wound around the backup roller 62 and continuously conveyed, but the second film 50 may be wound around the backup roller 62 and continuously conveyed.

バックアップローラ62に巻きかけるとは、第一のフィルム10および第二のフィルム50の何れかが、あるラップ角でバックアップローラ62の表面に接触している状態をいう。したがって、連続搬送される間、第一のフィルム10および第二のフィルム50はバックアップローラ62の回転と同期して移動する。バックアップローラ62へ巻きかけは、少なくとも紫外線が照射されている間であれば良い。   Wrapping around the backup roller 62 means a state in which either the first film 10 or the second film 50 is in contact with the surface of the backup roller 62 at a certain wrap angle. Accordingly, the first film 10 and the second film 50 move in synchronization with the rotation of the backup roller 62 while being continuously conveyed. Wrapping around the backup roller 62 may be at least during the irradiation of ultraviolet rays.

バックアップローラ62は、円柱状の形状の本体と、本体の両端部に配置された回転軸とを備えている。バックアップローラ62の本体は、例えば、φ200〜1000mmの直径を有している。バックアップローラ62の直径φについて制限はない。積層フィルムのカール変形と、設備コストと、回転精度とを考慮すると直径φ300〜500mmであることが好ましい。バックアップローラ62の本体に温度調節器を取り付けることにより、バックアップローラ62の温度を調整することができる。   The backup roller 62 includes a cylindrical body and rotation shafts disposed at both ends of the body. The main body of the backup roller 62 has a diameter of φ200 to 1000 mm, for example. There is no restriction on the diameter φ of the backup roller 62. In consideration of curl deformation of the laminated film, equipment cost, and rotation accuracy, the diameter is preferably 300 to 500 mm. The temperature of the backup roller 62 can be adjusted by attaching a temperature controller to the main body of the backup roller 62.

バックアップローラ62の温度は、光照射時の発熱と、塗膜22の硬化効率と、第一のフィルム10と第二のフィルム50のバックアップローラ62上でのシワ変形の発生と、を考慮して、決定することができる。バックアップローラ62は、例えば、10〜95℃の温度範囲に設定することが好ましく、15〜85℃であることがより好ましい。ここでローラに関する温度とは、ローラの表面温度をいうものとする。   The temperature of the backup roller 62 takes into consideration the heat generation during light irradiation, the curing efficiency of the coating film 22, and the occurrence of wrinkle deformation on the backup roller 62 of the first film 10 and the second film 50. Can be determined. For example, the backup roller 62 is preferably set to a temperature range of 10 to 95 ° C, and more preferably 15 to 85 ° C. Here, the temperature related to the roller refers to the surface temperature of the roller.

ラミネート位置Pと光照射装置64との距離L3は、例えば30mm以上とすることができる。   A distance L3 between the laminate position P and the light irradiation device 64 can be set to, for example, 30 mm or more.

光照射により塗膜22は硬化層28となり、第一のフィルム10と硬化層28と第二のフィルム50とを含む波長変換部材70が製造される。波長変換部材70は、剥離ローラ80によりバックアップローラ62から剥離される。波長変換部材70は、図示しない巻取機に連続搬送され、次いで巻取機により波長変換部材70はロール状に巻き取られる。   The coating film 22 becomes the cured layer 28 by light irradiation, and the wavelength conversion member 70 including the first film 10, the cured layer 28, and the second film 50 is manufactured. The wavelength conversion member 70 is peeled from the backup roller 62 by the peeling roller 80. The wavelength conversion member 70 is continuously conveyed to a winder (not shown), and then the wavelength conversion member 70 is wound into a roll by the winder.

以上、波長変換部材の製造工程の一態様について説明したが、本発明は上記態様に限定されるものではない。例えば、量子ドット含有組成物を基材上に塗布し、その上に更なる基材をラミネートすることなく、必要に応じて行われる乾燥処理の後、重合処理を施すことにより波長変換層(硬化層)を作製してもよい。作製された波長変換層には、バリア層等の一層以上の他の層を、公知の方法により積層することもできる。   As mentioned above, although the one aspect | mode of the manufacturing process of the wavelength conversion member was demonstrated, this invention is not limited to the said aspect. For example, a wavelength conversion layer (cured by applying a polymerization treatment after applying a drying treatment as necessary without applying a quantum dot-containing composition on a substrate and laminating a further substrate thereon. Layer) may be produced. One or more other layers such as a barrier layer can be laminated on the prepared wavelength conversion layer by a known method.

波長変換層の総厚は、好ましくは1〜500μmの範囲であり、より好ましくは100〜400μmの範囲である。また、波長変換層は、二層以上の積層構造であってもよく、二種以上の異なる発光特性を示す量子ドットを同一の層に含んでいてもよい。波長変換層が二層以上の複数の層の積層体である場合、一層の膜厚は、好ましくは1〜300μmの範囲であり、より好ましくは10〜250μmの範囲であり、さらに好ましくは30〜150μmの範囲である。   The total thickness of the wavelength conversion layer is preferably in the range of 1 to 500 μm, more preferably in the range of 100 to 400 μm. Further, the wavelength conversion layer may have a laminated structure of two or more layers, and may contain quantum dots showing two or more different light emission characteristics in the same layer. When the wavelength conversion layer is a laminate of two or more layers, the thickness of one layer is preferably in the range of 1 to 300 μm, more preferably in the range of 10 to 250 μm, and still more preferably 30 to The range is 150 μm.

(量子ドット含有組成物)
量子ドット含有組成物は、励起光により励起され蛍光を発光する量子ドット、を含む。
量子ドット含有組成物から、例えば塗布法により、波長変換層を形成することができる。量子ドット含有組成物はさらに重合性化合物を含む量子ドット含有重合性組成物であることが好ましい。量子ドット含有重合性組成物を用いる場合、具体的には、量子ドット含有重合性組成物(硬化性組成物)を基材上等に塗布し、次いで光照射等により硬化処理を施すことにより波長変換層を得ることができる。
以下、上記量子ドット含有組成物について、更に詳細に説明する。
(Quantum dot-containing composition)
The quantum dot-containing composition includes quantum dots that are excited by excitation light and emit fluorescence.
The wavelength conversion layer can be formed from the quantum dot-containing composition by, for example, a coating method. The quantum dot-containing composition is preferably a quantum dot-containing polymerizable composition further containing a polymerizable compound. When the quantum dot-containing polymerizable composition is used, specifically, the wavelength is obtained by applying the quantum dot-containing polymerizable composition (curable composition) onto a substrate and then performing a curing treatment by light irradiation or the like. A conversion layer can be obtained.
Hereinafter, the quantum dot-containing composition will be described in more detail.

−量子ドット−
上記量子ドット含有組成物は、少なくとも一種の量子ドットを含み、発光特性の異なる二種以上の量子ドットを含むこともできる。公知の量子ドットには、600nm〜680nmの範囲の波長帯域に発光中心波長を有する量子ドットA、500nm〜600nmの範囲の波長帯域に発光中心波長を有する量子ドットB、400nm〜500nmの波長帯域に発光中心波長を有する量子ドットCがある。量子ドットAは、励起光により励起され赤色光を発光し、量子ドットBは緑色光を、量子ドットCは青色光を発光する。例えば、量子ドットAと量子ドットBを含む波長変換層へ励起光として青色光を入射させると、量子ドットAにより発光される赤色光、量子ドットBにより発光される緑色光と、波長変換層を透過した青色光により、白色光を具現化することができる。または、量子ドットA、B、およびCを含む波長変換層に励起光として紫外光を入射させることにより、量子ドットAにより発光される赤色光、量子ドットBにより発光される緑色光、および量子ドットCにより発光される青色光により、白色光を具現化することができる。量子ドットとしては、公知の方法により調製されるものおよび市販品を、何ら制限なく用いることができる。量子ドットについては、例えば特開2012−169271号公報の段落0060〜0066を参照することができるが、ここに記載のものに限定されるものではない。量子ドットの発光波長は、通常、粒子の組成、サイズ、ならびに組成およびサイズにより調整することができる。
-Quantum dots-
The quantum dot-containing composition contains at least one kind of quantum dot, and can also contain two or more kinds of quantum dots having different emission characteristics. The known quantum dots include a quantum dot A having an emission center wavelength in the wavelength band of 600 nm to 680 nm, a quantum dot B having an emission center wavelength in the wavelength band of 500 nm to 600 nm, and a wavelength band of 400 nm to 500 nm. There is a quantum dot C having an emission center wavelength. The quantum dots A are excited by excitation light to emit red light, the quantum dots B emit green light, and the quantum dots C emit blue light. For example, when blue light is incident as excitation light on a wavelength conversion layer including quantum dots A and B, red light emitted from quantum dots A, green light emitted from quantum dots B, and wavelength conversion layers White light can be realized by the transmitted blue light. Alternatively, by making ultraviolet light as excitation light incident on a wavelength conversion layer including quantum dots A, B, and C, red light emitted by quantum dots A, green light emitted by quantum dots B, and quantum dots White light can be realized by blue light emitted by C. As the quantum dots, those prepared by known methods and commercially available products can be used without any limitation. As for the quantum dots, for example, paragraphs 0060 to 0066 of JP2012-169271A can be referred to, but the quantum dots are not limited thereto. The emission wavelength of the quantum dots can usually be adjusted by the composition and size of the particles, and the composition and size.

量子ドットは、上記量子ドット含有組成物調製時に他の成分と粒子の状態で混合してもよく、溶媒に分散した分散液の状態で混合してもよい。分散液の状態で添加することが、量子ドットの粒子の凝集を抑制する観点から、好ましい。ここで使用される溶媒は、特に限定されるものではない。量子ドットは、量子ドット含有組成物の全量100質量部に対して、例えば0.01〜10質量部程度添加することができる。   The quantum dots may be mixed in the form of particles with other components at the time of preparing the quantum dot-containing composition, or may be mixed in the state of a dispersion dispersed in a solvent. The addition in the state of a dispersion is preferable from the viewpoint of suppressing the aggregation of the quantum dot particles. The solvent used here is not particularly limited. A quantum dot can be added about 0.01-10 mass parts with respect to 100 mass parts of whole quantity of a quantum dot containing composition, for example.

以上の量子ドットを含む波長変換部材における波長変換の具体的態様について、以下に図面を参照し説明する。ただし本発明は、下記具体的態様に限定されるものではない。
図1は、本発明の一態様にかかる波長変換部材を含むバックライトユニット1の一例の説明図である。図1中、バックライトユニット1は、光源1Aと、面光源とするための導光板1Bを備える。図1(a)に示す例では、波長変換部材は、導光板から出射される光の経路上に配置されている。一方、図1(b)に示す例では、波長変換部材は、導光板と光源との間に配置されている。
そして図1(a)に示す例では、導光板1Bから出射される光が、波長変換部材1Cに入射する。図1(a)に示す例では、導光板1Bのエッジ部に配置された光源1Aから出射される光2は青色光であり、導光板1Bの液晶セル(図示せず)側の面から液晶セルに向けて出射される。導光板1Bから出射された光(青色光2)の経路上に配置された波長変換部材1Cには、青色光2により励起され赤色光4を発光する量子ドットAと、青色光2により励起され緑色光3を発光する量子ドットBを、少なくとも含む。このようにしてバックライトユニット1からは、励起された緑色光3および赤色光4、ならびに波長変換部材1Cを透過した青色光2が出射される。こうしてRGBの光を発光させることで、白色光を具現化することができる。
図1(b)に示す例は、波長変換部材と導光板の配置が異なる点以外は、図1(a)に示す態様と同様である。図1(b)に示す例では、波長変換部材1Cから、励起された緑色光3および赤色光4、ならびに波長変換部材1Cを透過した青色光2が出射され導光板に入射し、面光源が実現される。
A specific mode of wavelength conversion in the wavelength conversion member including the above quantum dots will be described below with reference to the drawings. However, the present invention is not limited to the following specific embodiments.
FIG. 1 is an explanatory diagram of an example of a backlight unit 1 including a wavelength conversion member according to an aspect of the present invention. In FIG. 1, the backlight unit 1 includes a light source 1A and a light guide plate 1B for making a surface light source. In the example shown in FIG. 1A, the wavelength conversion member is disposed on the path of light emitted from the light guide plate. On the other hand, in the example shown in FIG. 1B, the wavelength conversion member is disposed between the light guide plate and the light source.
And in the example shown to Fig.1 (a), the light radiate | emitted from the light-guide plate 1B injects into the wavelength conversion member 1C. In the example shown in FIG. 1A, the light 2 emitted from the light source 1A disposed at the edge portion of the light guide plate 1B is blue light, and the liquid crystal is applied from the surface on the liquid crystal cell (not shown) side of the light guide plate 1B. It is emitted toward the cell. The wavelength conversion member 1C disposed on the path of light (blue light 2) emitted from the light guide plate 1B is excited by the blue light 2 and the quantum dots A that are excited by the blue light 2 and emit the red light 4. At least a quantum dot B that emits green light 3 is included. In this way, the backlight unit 1 emits the excited green light 3 and red light 4 and the blue light 2 transmitted through the wavelength conversion member 1C. By emitting RGB light in this way, white light can be realized.
The example shown in FIG. 1B is the same as the embodiment shown in FIG. 1A except that the arrangement of the wavelength conversion member and the light guide plate is different. In the example shown in FIG. 1B, the excited green light 3 and red light 4 and the blue light 2 transmitted through the wavelength conversion member 1C are emitted from the wavelength conversion member 1C and enter the light guide plate, and the surface light source is Realized.

−重合性化合物−
上記量子ドット含有組成物として量子ドット含有重合性組成物を用いて形成される波長変換層では、量子ドットは、重合性化合物を光照射等により重合させたマトリックス(重合体)中に含まれることが好ましい。
波長変換層の形状は特に限定されるものではない。例えば、波長変換層、およびこの層を含む波長変換部材は、シート状ないしフィルム状である。
-Polymerizable compound-
In the wavelength conversion layer formed using the quantum dot-containing polymerizable composition as the quantum dot-containing composition, the quantum dots are included in a matrix (polymer) obtained by polymerizing a polymerizable compound by light irradiation or the like. Is preferred.
The shape of the wavelength conversion layer is not particularly limited. For example, the wavelength conversion layer and the wavelength conversion member including this layer are in the form of a sheet or film.

重合性化合物としては、ラジカル重合性化合物、カチオン重合性化合物、アニオン重合性化合物等の各種重合形式による重合性化合物を用いることができる。また、重合性化合物は、一種用いてもよく、二種以上を混合して用いてもよい。上記組成物全量に占める重合性化合物の含有量は、10〜99.99質量%程度とすることが好ましい。好ましい重合性化合物の一例としては、硬化後の硬化被膜の透明性、密着性等の観点からは、単官能または多官能(メタ)アクリレートモノマー、そのポリマー、プレポリマー等の単官能または多官能(メタ)アクリレート化合物を挙げることができる。なお本発明および本明細書において、「(メタ)アクリレート」との記載は、アクリレートとメタクリレートとの少なくとも一方、または、いずれかの意味で用いるものとする。「(メタ)アクリロイル」等も同様である。   As the polymerizable compound, polymerizable compounds in various polymerization formats such as radically polymerizable compounds, cationically polymerizable compounds, and anionic polymerizable compounds can be used. Moreover, a polymeric compound may be used individually and may be used in mixture of 2 or more types. The content of the polymerizable compound in the total amount of the composition is preferably about 10 to 99.99% by mass. As an example of a preferable polymerizable compound, monofunctional or polyfunctional (monofunctional or polyfunctional (meth) acrylate monomer, its polymer, prepolymer, etc.) from the viewpoint of transparency and adhesion of the cured film after curing. Mention may be made of (meth) acrylate compounds. In addition, in this invention and this specification, description with "(meth) acrylate" shall be used by the meaning of at least one of an acrylate and a methacrylate, or either. The same applies to “(meth) acryloyl” and the like.

単官能(メタ)アクリレート化合物としては、アクリル酸およびメタクリル酸、それらの誘導体、より詳しくは、(メタ)アクリル酸の重合性不飽和結合((メタ)アクリロイル基)を分子内に1個有する化合物を挙げることができる。それらの具体例として以下に化合物を挙げるが、本発明はこれに限定されるものではない。
メチル(メタ)アクリレート、n−ブチル(メタ)アクリレート、イソブチル(メタ)アクリレート、2−エチルヘキシル(メタ)アクリレート、イソノニル(メタ)アクリレート、n−オクチル(メタ)アクリレート、ラウリル(メタ)アクリレート、ステアリル(メタ)アクリレート等のアルキル基の炭素数が1〜30であるアルキル(メタ)アクリレート;ベンジル(メタ)アクリレート等のアラルキル基の炭素数が7〜20であるアラルキル(メタ)アクリレート;ブトキシエチル(メタ)アクリレート等のアルコキシアルキル基の炭素数が2〜30であるアルコキシアルキル(メタ)アクリレート;N,N−ジメチルアミノエチル(メタ)アクリレート等の(モノアルキルまたはジアルキル)アミノアルキル基の総炭素数が1〜20であるアミノアルキル(メタ)アクリレート;ジエチレングリコールエチルエーテルの(メタ)アクリレート、トリエチレングリコールブチルエーテルの(メタ)アクリレート、テトラエチレングリコールモノメチルエーテルの(メタ)アクリレート、ヘキサエチレングリコールモノメチルエーテルの(メタ)アクリレート、オクタエチレングリコールのモノメチルエーテル(メタ)アクリレート、ノナエチレングリコールのモノメチルエーテル(メタ)アクリレート、ジプロピレングリコールのモノメチルエーテル(メタ)アクリレート、ヘプタプロピレングリコールのモノメチルエーテル(メタ)アクリレート、テトラエチレングリコールのモノエチルエーテル(メタ)アクリレート等のアルキレン鎖の炭素数が1〜10で末端アルキルエーテルの炭素数が1〜10のポリアルキレングリコールアルキルエーテルの(メタ)アクリレート;ヘキサエチレングリコールフェニルエーテルの(メタ)アクリレート等のアルキレン鎖の炭素数が1〜30で末端アリールエーテルの炭素数が6〜20のポリアルキレングリコールアリールエーテルの(メタ)アクリレート;シクロヘキシル(メタ)アクリレート、ジシクロペンタニル(メタ)アクリレート、イソボルニル(メタ)アクリレート、メチレンオキシド付加シクロデカトリエン(メタ)アクリレート等の脂環構造を有する総炭素数4〜30の(メタ)アクリレート;ヘプタデカフロロデシル(メタ)アクリレート等の総炭素数4〜30のフッ素化アルキル(メタ)アクリレート;2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、3−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、4−ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、トリエチレングリコールのモノ(メタ)アクリレート、テトラエチレングリコールモノ(メタ)アクリレート、ヘキサエチレングリコールモノ(メタ)アクリレート、オクタプロピレングリコールモノ(メタ)アクリレート、グリセロールのモノまたはジ(メタ)アクリレート等の水酸基を有する(メタ)アクリレート;グリシジル(メタ)アクリレート等のグリシジル基を有する(メタ)アクリレート;テトラエチレングリコールモノ(メタ)アクリレート、ヘキサエチレングリコールモノ(メタ)アクリレート、オクタプロピレングリコールモノ(メタ)アクリレート等のアルキレン鎖の炭素数が1〜30のポリエチレングリコールモノ(メタ)アクリレート;(メタ)アクリルアミド、N,N−ジメチル(メタ)アクリルアミド、N−イソプロピル(メタ)アクリルアミド、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリルアミド、アクリロイルモルホリン等の(メタ)アクリルアミドなどが挙げられる。
Monofunctional (meth) acrylate compounds include acrylic acid and methacrylic acid, derivatives thereof, and more specifically, compounds having one polymerizable unsaturated bond ((meth) acryloyl group) of (meth) acrylic acid in the molecule Can be mentioned. Specific examples thereof include the following compounds, but the present invention is not limited thereto.
Methyl (meth) acrylate, n-butyl (meth) acrylate, isobutyl (meth) acrylate, 2-ethylhexyl (meth) acrylate, isononyl (meth) acrylate, n-octyl (meth) acrylate, lauryl (meth) acrylate, stearyl ( Alkyl (meth) acrylates having an alkyl group such as meth) acrylate having 1 to 30 carbon atoms; aralkyl (meth) acrylates having an aralkyl group such as benzyl (meth) acrylate having 7 to 20 carbon atoms; butoxyethyl (meta) ) An alkoxyalkyl (meth) acrylate having 2-30 carbon atoms of an alkoxyalkyl group such as acrylate; the total carbon number of a (monoalkyl or dialkyl) aminoalkyl group such as N, N-dimethylaminoethyl (meth) acrylate; 1-2 An aminoalkyl (meth) acrylate which is: (meth) acrylate of diethylene glycol ethyl ether, (meth) acrylate of triethylene glycol butyl ether, (meth) acrylate of tetraethylene glycol monomethyl ether, (meth) acrylate of hexaethylene glycol monomethyl ether, Octaethylene glycol monomethyl ether (meth) acrylate, nonaethylene glycol monomethyl ether (meth) acrylate, dipropylene glycol monomethyl ether (meth) acrylate, heptapropylene glycol monomethyl ether (meth) acrylate, tetraethylene glycol monoethyl Alkylene chain such as ether (meth) acrylate has 1-10 carbon atoms and terminal alkyl (Meth) acrylate of polyalkylene glycol alkyl ether having 1 to 10 carbon atoms of ether; alkylene chain such as (meth) acrylate of hexaethylene glycol phenyl ether having 1 to 30 carbon atoms and terminal aryl ether having 6 carbon atoms (Meth) acrylate of -20 polyalkylene glycol aryl ethers; alicyclic structures such as cyclohexyl (meth) acrylate, dicyclopentanyl (meth) acrylate, isobornyl (meth) acrylate, and methylene oxide-added cyclodecatriene (meth) acrylate (Meth) acrylate having 4 to 30 carbon atoms in total; fluorinated alkyl (meth) acrylate having 4 to 30 carbon atoms in total such as heptadecafluorodecyl (meth) acrylate; 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 3-hydroxypropyl (meth) acrylate, 4-hydroxybutyl (meth) acrylate, mono (meth) acrylate of triethylene glycol, tetraethylene glycol mono (meth) acrylate, hexaethylene glycol mono (meth) acrylate, octapropylene glycol mono (Meth) acrylate, (meth) acrylate having a hydroxyl group such as glycerol mono- or di (meth) acrylate; (meth) acrylate having a glycidyl group such as glycidyl (meth) acrylate; tetraethylene glycol mono (meth) acrylate, hexa Polyethylene glycol mono (methyl) having 1 to 30 carbon atoms in the alkylene chain such as ethylene glycol mono (meth) acrylate and octapropylene glycol mono (meth) acrylate. ) Acrylate; (meth) acrylamide, N, N- dimethyl (meth) acrylamide, N- isopropyl (meth) acrylamide, 2-hydroxyethyl (meth) acrylamide, acryloyl morpholine (meth) acrylamide and the like.

単官能(メタ)アクリレート化合物としては、炭素数が4〜30のアルキル(メタ)アクリレートを用いることが好ましく、炭素数12〜22のアルキル(メタ)アクリレートを用いることが、量子ドットの分散性向上の観点から、より好ましい。量子ドットの分散性が向上するほど、波長変換層から出射面に直行する光量が増えるため、正面輝度および正面コントラストの向上に有効である。具体的には、単官能(メタ)アクリレート化合物としては、ブチル(メタ)アクリレート、オクチル(メタ)アクリレート、ラウリル(メタ)アクリレート、オレイル(メタ)アクリレート、ステアリル(メタ)アクリレート、ベヘニル(メタ)アクリレート、ブチル(メタ)アクリルアミド、オクチル(メタ)アクリルアミド、ラウリル(メタ)アクリルアミド、オレイル(メタ)アクリルアミド、ステアリル(メタ)アクリルアミド、ベヘニル(メタ)アクリルアミド等が好ましい。中でもラウリル(メタ)アクリレート、オレイル(メタ)アクリレート、ステアリル(メタ)アクリレートが特に好ましい。   As a monofunctional (meth) acrylate compound, it is preferable to use an alkyl (meth) acrylate having 4 to 30 carbon atoms, and using an alkyl (meth) acrylate having 12 to 22 carbon atoms can improve the dispersibility of quantum dots. From the viewpoint of, it is more preferable. As the dispersibility of the quantum dots improves, the amount of light that goes straight from the wavelength conversion layer to the exit surface increases, which is effective in improving front luminance and front contrast. Specifically, as monofunctional (meth) acrylate compounds, butyl (meth) acrylate, octyl (meth) acrylate, lauryl (meth) acrylate, oleyl (meth) acrylate, stearyl (meth) acrylate, behenyl (meth) acrylate Butyl (meth) acrylamide, octyl (meth) acrylamide, lauryl (meth) acrylamide, oleyl (meth) acrylamide, stearyl (meth) acrylamide, behenyl (meth) acrylamide and the like are preferable. Of these, lauryl (meth) acrylate, oleyl (meth) acrylate, and stearyl (meth) acrylate are particularly preferable.

上記(メタ)アクリル酸の重合性不飽和結合((メタ)アクリロイル基)を1分子内に1個有するモノマーと共に、(メタ)アクリロイル基を分子内に2個以上有する多官能(メタ)アクリレート化合物を併用することもできる。具体例として、以下に化合物を挙げるが、本発明はこれに限定されるものではない。
1,4−ブタンジオールジ(メタ)アクリレート、1,6−ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、1,9−ノナンジオールジ(メタ)アクリレート等のアルキレン鎖の炭素数が1〜20のアルキレングリコールジ(メタ)アクリレート;ポリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ポリプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート等のアルキレン鎖の炭素数が1〜20のポリアルキレングリコールジ(メタ)アクリレート;トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、エチレンオキシド付加トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート等の総炭素数が10〜60のトリ(メタ)アクリレート;エチレンオキシド付加ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート等の総炭素数が10〜100のテトラ(メタ)アクリレート;ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレートなどが挙げられる。
Polyfunctional (meth) acrylate compound having two or more (meth) acryloyl groups in the molecule together with a monomer having one polymerizable unsaturated bond ((meth) acryloyl group) in one molecule. Can also be used together. Specific examples include the following compounds, but the present invention is not limited thereto.
Alkylene glycol di having 1 to 20 carbon atoms in the alkylene chain, such as 1,4-butanediol di (meth) acrylate, 1,6-hexanediol di (meth) acrylate, 1,9-nonanediol di (meth) acrylate (Meth) acrylate; polyalkylene glycol di (meth) acrylate having 1 to 20 carbon atoms in the alkylene chain such as polyethylene glycol di (meth) acrylate and polypropylene glycol di (meth) acrylate; trimethylolpropane tri (meth) acrylate, Tri (meth) acrylate having a total carbon number of 10-60, such as ethylene oxide-added trimethylolpropane tri (meth) acrylate; ethylene oxide-added pentaerythritol tetra (meth) acrylate, ditrimethylolpropane tetra (meth) Acrylate, the total number of carbon atoms such as pentaerythritol tetra (meth) acrylate is 10 to 100 of the tetra (meth) acrylate; and the like dipentaerythritol hexa (meth) acrylate.

2官能、3官能等の多官能(メタ)アクリレート化合物の使用量は、重合性組成物に含まれる重合性化合物の全量100質量部に対して、塗膜強度の観点からは、5質量部以上とすることが好ましく、組成物のゲル化抑制の観点からは、95質量部以下とすることが好ましい。また、同様の観点から、単官能(メタ)アクリレート化合物の使用量は、上記重合性組成物に含まれる重合性化合物の全量100質量部に対して、5質量部以上、95質量部以下とすることが好ましい。   The amount of the polyfunctional (meth) acrylate compound such as bifunctional or trifunctional is 5 parts by mass or more from the viewpoint of coating film strength with respect to 100 parts by mass of the total amount of the polymerizable compound contained in the polymerizable composition. From the viewpoint of suppressing the gelation of the composition, it is preferably 95 parts by mass or less. From the same viewpoint, the amount of the monofunctional (meth) acrylate compound used is 5 parts by mass or more and 95 parts by mass or less with respect to 100 parts by mass of the total amount of the polymerizable compounds contained in the polymerizable composition. It is preferable.

好ましい重合性化合物としては、エポキシ基、オキセタニル基等の開環重合可能な環状エーテル基等の環状基を有する化合物を挙げることができる。そのような化合物としてより好ましくは、エポキシ基を有する化合物(エポキシ化合物)を有する化合物を挙げることができる。   Preferred examples of the polymerizable compound include compounds having a cyclic group such as a cyclic ether group capable of ring-opening polymerization such as an epoxy group and an oxetanyl group. More preferable examples of such a compound include compounds having an epoxy group-containing compound (epoxy compound).

エポキシ化合物としては、例えば、脂肪族環状エポキシ化合物、ビスフェノールAジグリシジルエーテル、ビスフェノールFジグリシジルエーテル、ビスフェノールSジグリシジルエーテル、臭素化ビスフェノールAジグリシジルエーテル、臭素化ビスフェノールFジグリシジルエーテル、臭素化ビスフェノールSジグリシジルエーテル、水添ビスフェノールAジグリシジルエーテル、水添ビスフェノールFジグリシジルエーテル、水添ビスフェノールSジグリシジルエーテル、1,4−ブタンジオールジグリシジルエーテル、1,6−ヘキサンジオールジグリシジルエーテル、グリセリントリグリシジルエーテル、トリメチロールプロパントリグリシジルエーテル、ポリエチレングリコールジグリシジルエーテル、ポリプロピレングリコールジグリシジルエーテル類;エチレングリコール、プロピレングリコール、グリセリンなどの脂肪族多価アルコールに1種または2種以上のアルキレンオキサイドを付加することにより得られるポリエーテルポリオールのポリグリシジルエーテル類;脂肪族長鎖二塩基酸のジグリシジルエステル類;脂肪族高級アルコールのモノグリシジルエーテル類;フェノール、クレゾール、ブチルフェノールまたはこれらにアルキレンオキサイドを付加して得られるポリエーテルアルコールのモノグリシジルエーテル類;高級脂肪酸のグリシジルエステル類などを例示することができる。   Examples of the epoxy compound include aliphatic cyclic epoxy compounds, bisphenol A diglycidyl ether, bisphenol F diglycidyl ether, bisphenol S diglycidyl ether, brominated bisphenol A diglycidyl ether, brominated bisphenol F diglycidyl ether, and brominated bisphenol. S diglycidyl ether, hydrogenated bisphenol A diglycidyl ether, hydrogenated bisphenol F diglycidyl ether, hydrogenated bisphenol S diglycidyl ether, 1,4-butanediol diglycidyl ether, 1,6-hexanediol diglycidyl ether, glycerin Triglycidyl ether, trimethylolpropane triglycidyl ether, polyethylene glycol diglycidyl ether, polypropylene glycol Diglycidyl ethers; polyglycidyl ethers of polyether polyols obtained by adding one or more alkylene oxides to aliphatic polyhydric alcohols such as ethylene glycol, propylene glycol and glycerin; aliphatic long-chain dibases Diglycidyl esters of acids; monoglycidyl ethers of aliphatic higher alcohols; monoglycidyl ethers of polyether alcohols obtained by adding phenol, cresol, butylphenol or alkylene oxide to these; glycidyl esters of higher fatty acids, etc. It can be illustrated.

エポキシ化合物としては、更に、多塩基酸のポリグリシジルエステル類、多価アルコールのポリグリシジルエーテル類、ポリオキシアルキレングリコールのポリグリシジルエーテル類、芳香族ポリオールのポリグリシジルエテーテル類、芳香族ポリオールのポリグリシジルエーテル類の水素添加化合物類、ウレタンポリエポキシ化合物およびエポキシ化ポリブタジエン類等を挙げることもできる。   Epoxy compounds further include polyglycidyl esters of polybasic acids, polyglycidyl ethers of polyhydric alcohols, polyglycidyl ethers of polyoxyalkylene glycols, polyglycidyl ethers of aromatic polyols, and polyphenols of aromatic polyols. Mention may also be made of hydrogenated compounds of glycidyl ethers, urethane polyepoxy compounds and epoxidized polybutadienes.

これらの成分の中、脂肪族環状エポキシ化合物、ビスフェノールAジグリシジルエーテル、ビスフェノールFジグリシジルエーテル、水添ビスフェノールAジグリシジルエーテル、水添ビスフェノールFジグリシジルエーテル、1,4−ブタンジオールジグリシジルエーテル、1,6−ヘキサンジオールジグリシジルエーテル、グリセリントリグリシジルエーテル、トリメチロールプロパントリグリシジルエーテル、ネオペンチルグリコールジグリシジルエーテル、ポリエチレングリコールジグリシジルエーテル、ポリプロピレングリコールジグリシジルエーテルが好ましい。   Among these components, aliphatic cyclic epoxy compounds, bisphenol A diglycidyl ether, bisphenol F diglycidyl ether, hydrogenated bisphenol A diglycidyl ether, hydrogenated bisphenol F diglycidyl ether, 1,4-butanediol diglycidyl ether, 1,6-hexanediol diglycidyl ether, glycerin triglycidyl ether, trimethylolpropane triglycidyl ether, neopentyl glycol diglycidyl ether, polyethylene glycol diglycidyl ether, and polypropylene glycol diglycidyl ether are preferred.

グリシジル基含有化合物として好適に使用できる市販品としては、UVR−6216(ユニオンカーバイド社製)、グリシドール、AOEX24、サイクロマーA200、(以上、ダイセル化学工業(株)製)、エピコート828、エピコート812、エピコート1031、エピコート872、エピコートCT508(以上、油化シェル(株)製)、KRM−2400、KRM−2410、KRM−2408、KRM−2490、KRM−2720、KRM−2750(以上、旭電化工業(株)製)などを挙げることができる。これらは、1種単独で、または2種以上組み合わせて用いることができる。   Commercially available products that can be suitably used as the glycidyl group-containing compound include UVR-6216 (manufactured by Union Carbide), glycidol, AOEX24, cyclomer A200, (manufactured by Daicel Chemical Industries, Ltd.), Epicoat 828, Epicoat 812, Epicoat 1031, Epicoat 872, Epicoat CT508 (above, manufactured by Yuka Shell Co., Ltd.), KRM-2400, KRM-2410, KRM-2408, KRM-2490, KRM-2720, KRM-2750 (above, Asahi Denka Kogyo ( Product)). These can be used alone or in combination of two or more.

また、これらのエポキシ化合物はその製法は問わない。例えば、丸善KK出版、第四版実験化学講座20有機合成II、213〜、平成4年、Ed.by Alfred Hasfner,The chemistry of heterocyclic compounds−Small Ring Heterocycles part3 Oxiranes,John & Wiley and Sons,An Interscience Publication,New York,1985、吉村、接着、29巻12号、32、1985、吉村、接着、30巻5号、42、1986、吉村、接着、30巻7号、42、1986、特開平11−100378号公報、特許第2906245号公報、特許第2926262号公報などの文献を参考にして合成できる。   Moreover, the manufacturing method does not ask | require these epoxy compounds. For example, Maruzen KK publication, 4th edition experimental chemistry course 20 organic synthesis II, 213, 1992, Ed. By Alfred Hasfner, The Chemistry of Heterocyclic compounds, Vol. 30, Advertisement, Small Ring Heterocycle part3 Oxilane, John & Wiley and Sons, An Inc No. 5, 42, 1986, Yoshimura, Adhesion, Vol. 30, No. 7, 42, 1986, Japanese Patent Application Laid-Open No. 11-1000037, Japanese Patent No. 2906245, Japanese Patent No. 2926262, and the like.

エポキシ化合物として、使用条件に合わせて2種以上の成分が予め混合調製されている市販のエポキシ組成物を用いてもよい。これらは、接着剤または封止剤などとして市販されている。市販品は、例えば、スリーボンド社、EMI社、テスク社などから入手することができる。具体的には、EMI社製OPTOCAST(商標名)3505、同3506、同3553、テスク社製A−1771(商品名)などが例示される。ただし、本発明はこれらに限定されるものではない。   As an epoxy compound, you may use the commercially available epoxy composition by which 2 or more types of components were mixed and prepared previously according to use conditions. These are commercially available as adhesives or sealants. Commercial products can be obtained from, for example, Three Bond, EMI, Tesque and the like. Specifically, OPTOCAST (trade name) 3505, 3506, 3553, and Tesque A-1771 (trade name) manufactured by EMI are exemplified. However, the present invention is not limited to these.

上記量子ドット含有重合性組成物は、重合開始剤を含むことができる。具体的には、重合開始剤として、公知のラジカル重合開始剤やカチオン重合開始剤を含むことができる。重合開始剤については、例えば、特開2013−043382号公報の段落0037、特開2011−159924号公報の段落0040〜0042を参照できる。重合開始剤は、重合性組成物に含まれる重合性化合物の全量の0.1モル%以上であることが好ましく、0.5〜5モル%であることがより好ましい。ただし、酸発生剤が重合性化合物に対して重合開始剤として作用する場合もあるため、重合開始剤の使用は必須ではない。重合開始剤としては、光重合開始剤または熱重合開始剤を、重合性化合物の種類に応じて適宜選択して用いればよい。重合処理が短時間で終了する点では重合処理は光照射により行うことが好ましい。したがって、この点からは、重合開始剤としては、光重合開始剤が好ましい。   The quantum dot-containing polymerizable composition can contain a polymerization initiator. Specifically, a known radical polymerization initiator or cationic polymerization initiator can be included as the polymerization initiator. As for the polymerization initiator, for example, paragraphs 0037 of JP2013-043382A and paragraphs 0040-0042 of JP2011-159924A can be referred to. The polymerization initiator is preferably 0.1 mol% or more, more preferably 0.5 to 5 mol% of the total amount of the polymerizable compounds contained in the polymerizable composition. However, since the acid generator may act as a polymerization initiator for the polymerizable compound, the use of the polymerization initiator is not essential. As the polymerization initiator, a photopolymerization initiator or a thermal polymerization initiator may be appropriately selected according to the type of the polymerizable compound. The polymerization treatment is preferably performed by light irradiation in that the polymerization treatment is completed in a short time. Therefore, from this point, a photopolymerization initiator is preferable as the polymerization initiator.

酸発生剤の中には、カチオン重合性化合物の重合を開始可能なカチオン重合開始剤として機能するものもある。そのような酸発生剤を用いる場合、上記量子ドット含有重合性組成物に含まれる重合性化合物が、上記酸発生剤からのプロトン酸の放出により重合反応を開始可能なカチオン重合性化合物である場合には、重合開始剤を別途添加し併用することは必須ではない。他方、密着性の更なる向上の観点からは、重合性化合物がラジカル重合性化合物であることが好ましい。この点から好ましい重合性化合物としては、先に記載した単官能(メタ)アクリレート化合物および多官能(メタ)アクリレート化合物を挙げることができる。   Some acid generators function as a cationic polymerization initiator capable of initiating polymerization of a cationically polymerizable compound. When such an acid generator is used, the polymerizable compound contained in the quantum dot-containing polymerizable composition is a cationic polymerizable compound capable of initiating a polymerization reaction by releasing a protonic acid from the acid generator. It is not essential to add a polymerization initiator separately and use it together. On the other hand, from the viewpoint of further improving the adhesion, the polymerizable compound is preferably a radical polymerizable compound. In view of this, preferred polymerizable compounds include the monofunctional (meth) acrylate compounds and polyfunctional (meth) acrylate compounds described above.

−その他成分−
量子ドット含有組成物は、以上記載した成分、および任意に添加可能な公知の添加剤を必要に応じて用いることにより調製することができる。例えば、上記成分、および必要に応じて添加される一種以上の公知の添加剤を、同時または順次混合して量子ドット含有組成物を調製することができる。添加剤の使用量は特に限定されるものではなく、適宜設定可能である。また、量子ドット含有組成物の粘度等のために、必要に応じて溶媒を添加してもよい。この場合に使用される溶媒の種類および添加量は、特に限定されるものではない。例えば溶媒として、有機溶媒を一種または二種以上混合して用いることができる。
-Other components-
The quantum dot-containing composition can be prepared by using the above-described components and known additives that can be optionally added as necessary. For example, a quantum dot-containing composition can be prepared by simultaneously or sequentially mixing the above components and one or more known additives added as necessary. The amount of additive used is not particularly limited and can be set as appropriate. Moreover, you may add a solvent as needed for the viscosity etc. of a quantum dot containing composition. In this case, the type and amount of the solvent used are not particularly limited. For example, one or a mixture of two or more organic solvents can be used as the solvent.

上記量子ドット含有組成物は、エネルギー付与によりプロトン酸を発生する酸発生剤を含んでいてもよい。エネルギー付与(トリガー)によりプロトン酸を発生する酸発生剤であれば、例えば上記組成物を隣接層表面と接触させた後にエネルギー付与を行うことによってプロトン酸を発生させることができる。こうして酸発生剤から発生されたプロトン酸により有機金属カップリング剤の反応が促進される結果、隣接層との密着性向上になると、本発明者らは推察している。
以上の観点からは、上記量子ドット含有組成物は、エネルギー付与によりプロトン酸を発生する形態ではない状態のプロトン酸を多量に含まないことが好ましい。具体的には、そのようなプロトン酸の含有量は、有機金属カップリング剤100質量部に対して20質量部以下であることが好ましく、10質量部以下であることが好ましく、5質量部以下であることがより好ましく、0質量部であることが最も好ましい。
また、本発明の波長変換部材の製造方法ではバリアフィルムの無機層と量子ドットを含有する波長変換層を積層する前に、あらかじめバリアフィルムの無機層の表面を有機金属カップリング剤および水を含む組成物で表面処理することで、量子ドットを含有する波長変換層とバリアフィルムとの間の湿熱経時後の密着性が十分に良好であるため、量子ドット含有組成物は酸発生剤などの反応促進剤を含まなくてもよい。具体的には、酸発生剤などの反応促進剤の含有量は、有機金属カップリング剤100質量部に対して20質量部以下であることが好ましく、10質量部以下であることが好ましく、5質量部以下であることがより好ましく、0質量部であることが最も好ましい。
The quantum dot-containing composition may contain an acid generator that generates a protonic acid by applying energy. In the case of an acid generator that generates a protonic acid by applying energy (trigger), for example, the protonic acid can be generated by applying energy after bringing the composition into contact with the adjacent layer surface. As a result of the acceleration of the reaction of the organometallic coupling agent by the protonic acid generated from the acid generator in this manner, the present inventors presume that the adhesion with the adjacent layer is improved.
From the above viewpoint, it is preferable that the quantum dot-containing composition does not contain a large amount of proton acid in a state that does not generate proton acid by applying energy. Specifically, the content of such a protonic acid is preferably 20 parts by mass or less, preferably 10 parts by mass or less, and preferably 5 parts by mass or less with respect to 100 parts by mass of the organometallic coupling agent. Is more preferable, and 0 part by mass is most preferable.
Moreover, in the manufacturing method of the wavelength conversion member of this invention, before laminating | stacking the inorganic layer of a barrier film, and the wavelength conversion layer containing a quantum dot, the surface of the inorganic layer of a barrier film contains an organometallic coupling agent and water beforehand. Because the surface treatment with the composition provides sufficiently good adhesion after wet heat aging between the wavelength conversion layer containing the quantum dots and the barrier film, the quantum dot-containing composition is a reaction such as an acid generator. An accelerator may not be included. Specifically, the content of the reaction accelerator such as an acid generator is preferably 20 parts by mass or less, preferably 10 parts by mass or less, with respect to 100 parts by mass of the organometallic coupling agent. The amount is more preferably equal to or less than part by mass, and most preferably 0 part by mass.

<巻き取る工程>
本発明の波長変換部材の製造方法は、前述の積層工程の後に前述の波長変換部材をロールに巻き取る工程を含むことが好ましい。
また、本発明の波長変換部材の製造方法は、前述の巻き出す工程、前述の表面処理工程、前述の積層工程および前述の巻き取る工程をロールtoロールで行うことが、量子ドットを含有する波長変換層とバリアフィルムとの間の湿熱経時後の密着性が良好である波長変換部材を高い生産性で製造できる観点から好ましい。
<Winding process>
It is preferable that the manufacturing method of the wavelength conversion member of this invention includes the process of winding up the above-mentioned wavelength conversion member on a roll after the above-mentioned lamination process.
Moreover, the wavelength conversion member manufacturing method of the present invention includes a quantum dot-containing wavelength by performing the above-described unwinding step, the above-described surface treatment step, the above-described laminating step, and the above-described winding step by a roll-to-roll. It is preferable from the viewpoint that a wavelength conversion member having good adhesion after wet heat aging between the conversion layer and the barrier film can be produced with high productivity.

[波長変換部材]
本発明の波長変換部材の第一の態様は、本発明の波長変換部材の製造方法で製造された波長変換部材である。
本発明の波長変換部材の第二の態様は、表面処理されてなる少なくとも1層の無機層を有するバリアフィルムと、バリアフィルムの表面処理された表面に直接接して配置された、量子ドットを含有する波長変換層とを含み、表面処理が水を含有する溶媒および有機金属カップリング剤を含む表面処理用の組成物をバリアフィルムの無機層の表面への付与である、波長変換部材である。
以下、本発明の波長変換部材について、更に詳細に説明する。
[Wavelength conversion member]
The 1st aspect of the wavelength conversion member of this invention is the wavelength conversion member manufactured with the manufacturing method of the wavelength conversion member of this invention.
A second aspect of the wavelength conversion member of the present invention contains a barrier film having at least one inorganic layer subjected to surface treatment, and quantum dots arranged in direct contact with the surface-treated surface of the barrier film. The wavelength conversion member is a surface conversion composition that is applied to the surface of the inorganic layer of the barrier film with a surface treatment composition containing a solvent containing water and an organic metal coupling agent.
Hereinafter, the wavelength conversion member of the present invention will be described in more detail.

本発明の波長変換部材は、波長変換層の少なくとも一方の表面から厚み方向に10%以下の距離の表面領域における有機金属カップリング剤の濃度が、波長変換層の両方の表面から厚み方向に10%を超える距離の内部領域における有機金属カップリング剤の濃度よりも高いことが、量子ドットを含有する波長変換層とバリアフィルムとの間の湿熱経時後の密着性が良好である観点から好ましい。
波長変換層の少なくとも一方の表面から厚み方向に10%以下の距離の表面領域における有機金属カップリング剤の濃度が、波長変換層の両方の表面から厚み方向に10%を超える距離の内部領域における有機金属カップリング剤の濃度よりも高いことは、後述の実施例に記載の方法で測定することができる。
In the wavelength conversion member of the present invention, the concentration of the organometallic coupling agent in the surface region at a distance of 10% or less in the thickness direction from at least one surface of the wavelength conversion layer is 10 in the thickness direction from both surfaces of the wavelength conversion layer. Higher than the concentration of the organometallic coupling agent in the internal region at a distance exceeding% is preferable from the viewpoint of good adhesion after aging with heat and heat between the wavelength conversion layer containing the quantum dots and the barrier film.
The concentration of the organometallic coupling agent in the surface region at a distance of 10% or less in the thickness direction from at least one surface of the wavelength conversion layer is in the inner region at a distance exceeding 10% in the thickness direction from both surfaces of the wavelength conversion layer. That it is higher than the density | concentration of an organometallic coupling agent can be measured by the method as described in the below-mentioned Example.

[バックライトユニット]
本発明のバックライトユニットは、本発明の波長変換部材と、光源と、を少なくとも含む。波長変換部材の詳細は、先に記載した通りである。
[Backlight unit]
The backlight unit of the present invention includes at least the wavelength conversion member of the present invention and a light source. The details of the wavelength conversion member are as described above.

(バックライトユニットの発光波長)
高輝度かつ高い色再現性の実現の観点からは、バックライトユニットとして、多波長光源化されたものを用いることが好ましい。好ましい一態様としては、
430〜480nmの波長帯域に発光中心波長を有し、半値幅が100nm以下である発光強度のピークを有する青色光と、
500〜600nmの波長帯域に発光中心波長を有し、半値幅が100nm以下である発光強度のピークを有する緑色光と、
600〜680nmの波長帯域に発光中心波長を有し、半値幅が100nm以下である発光強度のピークを有する赤色光と、
を発光するバックライトユニットを挙げることができる。
より一層の輝度および色再現性の向上の観点から、バックライトユニットが発光する青色光の波長帯域は、440〜480nmの範囲であることが好ましく、440〜460nmの範囲であることがより好ましい。
同様の観点から、バックライトユニットが発光する緑色光の波長帯域は、510〜560nmの範囲であることが好ましく、510〜545nmの範囲であることがより好ましい。
また、同様の観点から、バックライトユニットが発光する赤色光の波長帯域は、600〜650nmの範囲であることが好ましく、610〜640nmの範囲であることがより好ましい。
(Emission wavelength of backlight unit)
From the viewpoint of realizing high luminance and high color reproducibility, it is preferable to use a backlight unit that has been converted to a multi-wavelength light source. As a preferred embodiment,
Blue light having an emission center wavelength in a wavelength band of 430 to 480 nm and a peak of emission intensity having a half width of 100 nm or less;
Green light having an emission center wavelength in a wavelength band of 500 to 600 nm and a peak of emission intensity having a half width of 100 nm or less;
Red light having an emission center wavelength in a wavelength band of 600 to 680 nm and a peak of emission intensity having a half-value width of 100 nm or less;
And a backlight unit that emits light.
From the viewpoint of further improving luminance and color reproducibility, the wavelength band of the blue light emitted from the backlight unit is preferably in the range of 440 to 480 nm, and more preferably in the range of 440 to 460 nm.
From the same viewpoint, the wavelength band of the green light emitted from the backlight unit is preferably in the range of 510 to 560 nm, and more preferably in the range of 510 to 545 nm.
From the same viewpoint, the wavelength band of red light emitted from the backlight unit is preferably in the range of 600 to 650 nm, and more preferably in the range of 610 to 640 nm.

また同様の観点から、バックライトユニットが発光する青色光、緑色光および赤色光の各発光強度の半値幅は、いずれも80nm以下であることが好ましく、50nm以下であることがより好ましく、40nm以下であることがさらに好ましく、30nm以下であることが一層好ましい。これらの中でも、青色光の各発光強度の半値幅が25nm以下であることが、特に好ましい。   From the same viewpoint, the half-value widths of the emission intensity of blue light, green light, and red light emitted from the backlight unit are all preferably 80 nm or less, more preferably 50 nm or less, and 40 nm or less. More preferably, it is more preferably 30 nm or less. Among these, it is particularly preferable that the half-value width of each emission intensity of blue light is 25 nm or less.

バックライトユニットは、少なくとも、上記波長変換部材とともに、光源を含む。一態様では、光源として、430nm〜480nmの波長帯域に発光中心波長を有する青色光を発光するもの、例えば、青色光を発光する青色発光ダイオードを用いることができる。青色光を発光する光源を用いる場合、波長変換層には、少なくとも、励起光により励起され赤色光を発光する量子ドットAと、緑色光を発光する量子ドットBが含まれることが好ましい。これにより、光源から発光され波長変換部材を透過した青色光と、波長変換部材から発光される赤色光および緑色光により、白色光を具現化することができる。
または他の態様では、光源として、300nm〜430nmの波長帯域に発光中心波長を有する紫外光を発光するもの、例えば、紫外光発光ダイオードを用いることができる。この場合、波長変換層には、量子ドットA、Bとともに、励起光により励起され青色光を発光する量子ドットCが含まれることが好ましい。これにより、波長変換部材から発光される赤色光、緑色光および青色光により、白色光を具現化することができる。
また他の態様では、青色光を発光する青色レーザー、緑色光を発光する緑色レーザー、赤色光を発光する赤色レーザーからなる群から選ばれる光源の二種を用い、この光源が出射する光とは異なる発光波長を有する蛍光を発光する量子ドットを、波長変換層に存在させることにより、光源から発光される二種の光と、波長変換層の量子ドットから発光される光により、白色光を具現化することもできる。
また他の態様では、発光ダイオードはレーザー光源で代用することができる。
本発明のバックライトユニットは、前述の光源は、430nm〜480nmの波長帯域に発光中心波長を有することが好ましい。
The backlight unit includes a light source together with at least the wavelength conversion member. In one embodiment, a light source that emits blue light having an emission center wavelength in a wavelength band of 430 nm to 480 nm, for example, a blue light emitting diode that emits blue light can be used. In the case of using a light source that emits blue light, the wavelength conversion layer preferably includes at least quantum dots A that are excited by excitation light and emit red light, and quantum dots B that emit green light. Thereby, white light can be embodied by blue light emitted from the light source and transmitted through the wavelength conversion member, and red light and green light emitted from the wavelength conversion member.
Alternatively, in another aspect, a light source that emits ultraviolet light having an emission center wavelength in a wavelength band of 300 nm to 430 nm, for example, an ultraviolet light emitting diode can be used. In this case, it is preferable that the wavelength conversion layer includes quantum dots C that are excited by excitation light and emit blue light together with quantum dots A and B. Thereby, white light can be embodied by red light, green light, and blue light emitted from the wavelength conversion member.
In another aspect, two types of light sources selected from the group consisting of a blue laser that emits blue light, a green laser that emits green light, and a red laser that emits red light are used. By having quantum dots emitting fluorescent light with different emission wavelengths in the wavelength conversion layer, white light is realized by the two types of light emitted from the light source and the light emitted from the quantum dots in the wavelength conversion layer. It can also be converted.
In other embodiments, the light emitting diode can be replaced with a laser light source.
In the backlight unit of the present invention, the aforementioned light source preferably has a light emission center wavelength in a wavelength band of 430 nm to 480 nm.

(バックライトユニットの構成)
バックライトユニットの構成は、導光板や反射板などを構成部材とするエッジライト方式であっても、直下型方式であってもよい。図1には、一態様として、エッジライト方式のバックライトユニットの例を示した。導光板としては、公知のものを何ら制限なく使用することができる。
(Configuration of backlight unit)
The configuration of the backlight unit may be an edge light system using a light guide plate or a reflection plate as a constituent member, or a direct type. FIG. 1 shows an example of an edge light type backlight unit as one mode. Any known light guide plate can be used without any limitation.

また、バックライトユニットは、光源の後部に、反射部材を備えることもできる。このような反射部材としては特に制限は無く、公知のものを用いることができ、特許3416302号、特許3363565号、特許4091978号、特許3448626号などに記載されており、これらの公報の内容は本発明に組み込まれる。   The backlight unit can also include a reflecting member at the rear of the light source. There is no restriction | limiting in particular as such a reflecting member, A well-known thing can be used, and it is described in patent 3416302, patent 3363565, patent 4091978, patent 3448626, etc., The content of these gazettes is this Incorporated into the invention.

バックライトユニットは、その他、公知の拡散板や拡散シート、プリズムシート(例えば、住友スリーエム社製BEFシリーズなど)、導光器を備えていることも好ましい。その他の部材についても、特許第3416302号、特許第3363565号、特許第4091978号、特許第3448626号などの各公報に記載されており、これらの公報の内容は本発明に組み込まれる。   In addition, the backlight unit preferably includes a known diffusion plate, diffusion sheet, prism sheet (for example, BEF series manufactured by Sumitomo 3M Limited), and a light guide. Other members are also described in each publication such as Japanese Patent No. 3416302, Japanese Patent No. 3363565, Japanese Patent No. 4091978, Japanese Patent No. 3448626, and the contents of these publications are incorporated in the present invention.

[液晶表示装置]
本発明の液晶表示装置は、本発明のバックライトユニットと、液晶セルと、を少なくとも含む。
[Liquid Crystal Display]
The liquid crystal display device of the present invention includes at least the backlight unit of the present invention and a liquid crystal cell.

(液晶表示装置の構成)
液晶セルの駆動モードについては特に制限はなく、ツイステットネマチック(TN)、スーパーツイステットネマチック(STN)、バーティカルアライメント(VA)、インプレインスイッチング(IPS)、オプティカリーコンペンセイテットベンドセル(OCB)等の種々のモードを利用することができる。液晶セルは、VAモード、OCBモード、IPSモード、またはTNモードであることが好ましいが、これらに限定されるものではない。VAモードの液晶表示装置の構成としては、特開2008−262161号公報の図2に示す構成が一例として挙げられる。ただし、液晶表示装置の具体的構成には特に制限はなく、公知の構成を採用することができる。
(Configuration of liquid crystal display device)
The driving mode of the liquid crystal cell is not particularly limited, and twisted nematic (TN), super twisted nematic (STN), vertical alignment (VA), in-plane switching (IPS), optically compensated bend cell (OCB) Various modes such as can be used. The liquid crystal cell is preferably VA mode, OCB mode, IPS mode, or TN mode, but is not limited thereto. As an example of the configuration of the VA mode liquid crystal display device, the configuration shown in FIG. However, the specific configuration of the liquid crystal display device is not particularly limited, and a known configuration can be adopted.

液晶表示装置の一実施形態では、対向する少なくとも一方に電極を設けた基板間に液晶層を挟持した液晶セルを有し、この液晶セルは2枚の偏光板の間に配置して構成される。液晶表示装置は、上下基板間に液晶が封入された液晶セルを備え、電圧印加により液晶の配向状態を変化させて画像の表示を行う。さらに必要に応じて偏光板保護フィルムや光学補償を行う光学補償部材、接着層などの付随する機能層を有する。また、カラーフィルター基板、薄層トランジスタ基板、レンズフィルム、拡散シート、ハードコート層、反射防止層、低反射層、アンチグレア層等とともに(又はそれに替えて)、前方散乱層、プライマー層、帯電防止層、下塗り層等の表面層が配置されていてもよい。   In one embodiment of the liquid crystal display device, a liquid crystal cell having a liquid crystal layer sandwiched between substrates provided with electrodes on at least one of the opposite sides is provided, and the liquid crystal cell is arranged between two polarizing plates. The liquid crystal display device includes a liquid crystal cell in which liquid crystal is sealed between upper and lower substrates, and displays an image by changing the alignment state of the liquid crystal by applying a voltage. Furthermore, it has an accompanying functional layer such as a polarizing plate protective film, an optical compensation member that performs optical compensation, and an adhesive layer as necessary. In addition to (or instead of) color filter substrates, thin layer transistor substrates, lens films, diffusion sheets, hard coat layers, antireflection layers, low reflection layers, antiglare layers, etc., forward scattering layers, primer layers, antistatic layers Further, a surface layer such as an undercoat layer may be disposed.

図2に、本発明の一態様にかかる液晶表示装置の一例を示す。図2に示す液晶表示装置51は、液晶セル21のバックライト側の面にバックライト側偏光板14を有する。バックライト側偏光板14は、バックライト側偏光子12のバックライト側の表面に、偏光板保護フィルム11を含んでいても、含んでいなくてもよいが、含んでいることが好ましい。
バックライト側偏光板14は、偏光子12が、2枚の偏光板保護フィルム11および13で挟まれた構成であることが好ましい。
本明細書中、偏光子に対して液晶セルに近い側の偏光板保護フィルムをインナー側偏光板保護フィルムと言い、偏光子に対して液晶セルから遠い側の偏光板保護フィルムをアウター側偏光板保護フィルムと言う。図2に示す例では、偏光板保護フィルム13がインナー側偏光板保護フィルムであり、偏光板保護フィルム11がアウター側偏光板保護フィルムである。
FIG. 2 illustrates an example of a liquid crystal display device according to one embodiment of the present invention. The liquid crystal display device 51 shown in FIG. 2 has the backlight side polarizing plate 14 on the surface of the liquid crystal cell 21 on the backlight side. The backlight-side polarizing plate 14 may or may not include the polarizing plate protective film 11 on the backlight-side surface of the backlight-side polarizer 12, but it is preferably included.
The backlight side polarizing plate 14 preferably has a configuration in which the polarizer 12 is sandwiched between two polarizing plate protective films 11 and 13.
In this specification, the polarizing plate protective film on the side closer to the liquid crystal cell with respect to the polarizer is referred to as the inner side polarizing plate protective film, and the polarizing plate protective film on the side farther from the liquid crystal cell with respect to the polarizer is referred to as the outer side polarizing plate. It is called a protective film. In the example shown in FIG. 2, the polarizing plate protective film 13 is an inner side polarizing plate protective film, and the polarizing plate protective film 11 is an outer side polarizing plate protective film.

バックライト側偏光板は、液晶セル側のインナー側偏光板保護フィルムとして、位相差フィルムを有していてもよい。このような位相差フィルムとしては、公知のセルロースアシレートフィルム等を用いることができる。   The backlight side polarizing plate may have a retardation film as an inner side polarizing plate protective film on the liquid crystal cell side. As such a retardation film, a known cellulose acylate film or the like can be used.

液晶表示装置51は、液晶セル21のバックライト側の面とは反対側の面に、表示側偏光板44を有する。表示側偏光板44は、偏光子42が、2枚の偏光板保護フィルム41および43で挟まれた構成である。偏光板保護フィルム43がインナー側偏光板保護フィルムであり、偏光板保護フィルム41がアウター側偏光板保護フィルムである。   The liquid crystal display device 51 includes a display side polarizing plate 44 on the surface of the liquid crystal cell 21 opposite to the surface on the backlight side. The display-side polarizing plate 44 has a configuration in which a polarizer 42 is sandwiched between two polarizing plate protective films 41 and 43. The polarizing plate protective film 43 is an inner side polarizing plate protective film, and the polarizing plate protective film 41 is an outer side polarizing plate protective film.

液晶表示装置51が有するバックライトユニット1については、先に記載した通りである。   The backlight unit 1 included in the liquid crystal display device 51 is as described above.

本発明の一態様にかかる液晶表示装置を構成する液晶セル、偏光板、偏光板保護フィルム等については特に限定はなく、公知の方法で作製されるものや市販品を、何ら制限なく用いることができる。また、各層の間に、接着層等の公知の中間層を設けることも、もちろん可能である。   There is no particular limitation on the liquid crystal cell, the polarizing plate, the polarizing plate protective film, and the like constituting the liquid crystal display device according to one embodiment of the present invention, and those prepared by known methods and commercially available products can be used without any limitation. it can. It is of course possible to provide a known intermediate layer such as an adhesive layer between the layers.

以下に実施例に基づき本発明をさらに具体的に説明する。以下の実施例に示す材料、使用量、割合、処理内容、処理手順等は、本発明の趣旨を逸脱しない限り適宜変更することができる。したがって、本発明の範囲は以下に示す具体例により限定的に解釈されるべきものではない。   Hereinafter, the present invention will be described more specifically based on examples. The materials, amounts used, ratios, processing details, processing procedures, and the like shown in the following examples can be changed as appropriate without departing from the spirit of the present invention. Therefore, the scope of the present invention should not be construed as being limited by the specific examples shown below.

[実施例1]
1.バリアフィルム10の作製
ポリエチレンテレフタレートフィルム(PETフィルム、東洋紡社製、商品名:コスモシャイン(登録商標)A4300、厚さ50μm、幅1000mm、長さ100m)の片面側に以下の手順で有機層および無機層を順次形成した。
トリメチロールプロパントリアクリレート(ダイセルサイテック社製TMPTA)および光重合開始剤(ランベルティ社製、ESACURE KTO46)を用意し、質量比率として、前者:後者=95:5となるように秤量し、これらをメチルエチルケトンに溶解させ、固形分濃度15%の塗布液とした。この塗布液を、ダイコーターを用いてロールtoロールにて上記PETフィルム上に塗布し、50℃の乾燥ゾーンを3分間通過させた。その後、窒素雰囲気下で紫外線を照射(積算照射量約600mJ/cm)し、紫外線硬化にて硬化させ、巻き取った。支持体上に形成された第一有機層の厚さは、1μmであった。
[Example 1]
1. Preparation of barrier film 10 An organic layer and an inorganic layer are formed on one side of a polyethylene terephthalate film (PET film, manufactured by Toyobo Co., Ltd., trade name: Cosmo Shine (registered trademark) A4300, thickness 50 μm, width 1000 mm, length 100 m) by the following procedure Layers were formed sequentially.
Prepare trimethylolpropane triacrylate (TMCTA manufactured by Daicel Cytec Co., Ltd.) and a photopolymerization initiator (manufactured by Lamberti Co., ESACURE KTO46), and weigh them so that the former: latter = 95: 5. It was dissolved in methyl ethyl ketone to obtain a coating solution having a solid concentration of 15%. This coating solution was applied onto the PET film by a roll-to-roll using a die coater, and passed through a 50 ° C. drying zone for 3 minutes. Thereafter, the sample was irradiated with ultraviolet rays (integrated irradiation amount: about 600 mJ / cm 2 ) in a nitrogen atmosphere, cured by ultraviolet curing, and wound up. The thickness of the first organic layer formed on the support was 1 μm.

次に、ロールtoロールのCVD(Chemical Vapor Deposition)装置を用いて、第一有機層の表面に無機層(窒化ケイ素層)を形成した。原料ガスとして、シランガス(流量160sccm)、アンモニアガス(流量370sccm)、水素ガス(流量590sccm)、および窒素ガス(流量240sccm)を用いた。電源として、周波数13.56MHzの高周波電源を用いた。成膜圧力は40Pa、到達膜厚は50nmであった。このようにして第一有機層の表面に無機層が積層されたバリアフィルム10を2枚作製した。
得られたバリアフィルム10の無機層表面の水との接触角は50度であった。バリアフィルム10の酸素透過度は、0.01cm/(m・day・atm)以下であり、可視光領域における全光線透過率は90%以上であることを確認した。
Next, an inorganic layer (silicon nitride layer) was formed on the surface of the first organic layer using a roll-to-roll CVD (Chemical Vapor Deposition) apparatus. Silane gas (flow rate 160 sccm), ammonia gas (flow rate 370 sccm), hydrogen gas (flow rate 590 sccm), and nitrogen gas (flow rate 240 sccm) were used as source gases. A high frequency power supply having a frequency of 13.56 MHz was used as the power supply. The film formation pressure was 40 Pa, and the ultimate film thickness was 50 nm. In this way, two barrier films 10 having an inorganic layer laminated on the surface of the first organic layer were produced.
The contact angle with water on the surface of the inorganic layer of the obtained barrier film 10 was 50 degrees. It was confirmed that the oxygen permeability of the barrier film 10 was 0.01 cm 3 / (m 2 · day · atm) or less, and the total light transmittance in the visible light region was 90% or more.

2.有機金属カップリング剤による表面処理
下記組成の溶液を調製し、表面処理用の組成物(表面処理用塗布液)とした。
IPA/エタノール/酢酸/水/KBM−5103(信越化学工業(株)製)=14/14/2/20/50質量%、pH=4.5。
IPAはイソプロパノールの略称であり、KBM−5103は有機金属カップリング剤の1種であるシランカップリング剤を含む溶液である。
この表面処理用の組成物(表面処理用塗布液)を、ダイコーターを用いてロールtoロールにて、バリアフィルムの無機層上に2cc/mの塗布量で塗布し、120℃の乾燥ゾーンを3分間通過させた。
2. Surface treatment with organometallic coupling agent A solution having the following composition was prepared and used as a surface treatment composition (surface treatment coating solution).
IPA / ethanol / acetic acid / water / KBM-5103 (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) = 14/14/2/20/50 mass%, pH = 4.5.
IPA is an abbreviation for isopropanol, and KBM-5103 is a solution containing a silane coupling agent, which is one of organometallic coupling agents.
This surface treatment composition (surface treatment coating solution) is applied on the inorganic layer of the barrier film by a roll-to-roll using a die coater at a coating amount of 2 cc / m 2 and dried at 120 ° C. For 3 minutes.

3.積層(波長変換層の作製)
量子ドット含有重合性組成物として、下記の量子ドット分散液1を調製し、孔径0.2μmのポリプロピレン製フィルタでろ過した後、30分間減圧乾燥して塗布液として用いた。以下のトルエン分散液中の量子ドット濃度は、1質量%であった。
3. Lamination (wavelength conversion layer production)
The following quantum dot dispersion liquid 1 was prepared as a quantum dot-containing polymerizable composition, filtered through a polypropylene filter having a pore size of 0.2 μm, dried under reduced pressure for 30 minutes, and used as a coating liquid. The quantum dot concentration in the following toluene dispersion was 1% by mass.

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量子ドット分散液1
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量子ドット1のトルエン分散液(発光極大:520nm) 10質量部
量子ドット2のトルエン分散液(発行極大:630nm) 1質量部
ラウリルメタクリレート 80.8質量部
トリメチロールプロパントリアクリレート 18.2質量部
光重合開始剤 1質量部
(イルガキュア(登録商標)819(BASF(株)製)
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Quantum dot dispersion 1
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Toluene dispersion of quantum dots 1 (light emission maximum: 520 nm) 10 parts by weight Toluene dispersion of quantum dots 2 (issue maximum: 630 nm) 1 part by weight lauryl methacrylate 80.8 parts by weight trimethylolpropane triacrylate 18.2 parts by weight light 1 part by mass of a polymerization initiator (Irgacure (registered trademark) 819 (manufactured by BASF Corporation)
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量子ドット1、2としては、下記のコア−シェル構造(InP/ZnS)を有するナノ結晶を用いた。
量子ドット1:INP530−10(NN−labs社製)
量子ドット2:INP620−10(NN−labs社製)
量子ドット分散液1の粘度は50mPa・sであった。
As the quantum dots 1 and 2, nanocrystals having the following core-shell structure (InP / ZnS) were used.
Quantum dot 1: INP530-10 (manufactured by NN-labs)
Quantum dot 2: INP620-10 (manufactured by NN-labs)
The viscosity of the quantum dot dispersion liquid 1 was 50 mPa · s.

シランカップリング剤KBM−5103
Silane coupling agent KBM-5103

上述した手順で作製したバリアフィルム10を第一、第二のフィルムとして使用し、図3および図4を参照し説明した製造工程により、波長変換部材1を得た。具体的には、第一のフィルムとして1枚目のバリアフィルム10を1m/分、60N/mの張力で連続搬送しながら、ダイコーターから量子ドット含有組成物である塗布液を第一のフィルムの表面に塗布し、50μmの厚さの塗膜を形成した。次いで、塗膜の形成された第一のフィルムをバックアップローラに巻きかけ、塗膜の上に別の2枚目のバリアフィルム10である第二のフィルムをラミネートした。第一のフィルムと第二のフィルムとで塗膜を挟持した状態でバックアップローラに巻きかけ、連続搬送しながら紫外線を照射した。バックアップローラの直径はφ300mmであり、バックアップローラの温度は50℃であった。紫外線の照射量は2000mJ/cmであった。また、L1は50mm、L2は1mm、L3は50mmであった。
紫外線の照射により塗膜を硬化させて波長変換層(硬化層)を形成し、別の回収用ロールに得られた積層体である波長変換部材1を巻き取り、製造した。波長変換部材の硬化層の厚みは約50μmであった。こうして、波長変換層の両表面上にそれぞれバリアフィルム10を有し、かつ波長変換層の両主表面がバリアフィルム10の表面処理されてなる無機層と直接接している実施例1の波長変換部材1を得た。
Using the barrier film 10 produced by the above-described procedure as the first and second films, the wavelength conversion member 1 was obtained by the manufacturing process described with reference to FIGS. 3 and 4. Specifically, while the first barrier film 10 is continuously conveyed at a tension of 1 m / min and 60 N / m as the first film, the coating liquid that is a quantum dot-containing composition is applied from the die coater to the first film. Was applied to the surface of the film to form a coating film having a thickness of 50 μm. Next, the first film on which the coating film was formed was wound around a backup roller, and a second film, which was another second barrier film 10, was laminated on the coating film. The film was wound around a backup roller with the coating film sandwiched between the first film and the second film, and irradiated with ultraviolet rays while being continuously conveyed. The diameter of the backup roller was φ300 mm, and the temperature of the backup roller was 50 ° C. The irradiation amount of ultraviolet rays was 2000 mJ / cm 2 . L1 was 50 mm, L2 was 1 mm, and L3 was 50 mm.
The coating film was cured by irradiation of ultraviolet rays to form a wavelength conversion layer (cured layer), and the wavelength conversion member 1 that was a laminate obtained on another collection roll was wound up and manufactured. The thickness of the cured layer of the wavelength conversion member was about 50 μm. Thus, the wavelength conversion member of Example 1 which has the barrier films 10 on both surfaces of the wavelength conversion layer, respectively, and both main surfaces of the wavelength conversion layer are in direct contact with the inorganic layer formed by the surface treatment of the barrier film 10. 1 was obtained.

[実施例2]
実施例1において、表面処理用の組成物(表面処理用塗布液)を下記組成にした以外は実施例1と同様にして、実施例2の波長変換部材2を作製した。
IPA/エタノール/酢酸/水/KBM−5103(信越化学工業(株)製)/F−444(DIC社製)=14/14/2/20/50/0.1質量%、pH=4.6。
DIC社製フッ素系ノニオン界面活性剤であるF−444を下記表2では界面活性剤Aとして記載した。
[Example 2]
In Example 1, the wavelength conversion member 2 of Example 2 was produced in the same manner as in Example 1 except that the composition for surface treatment (surface treatment coating solution) was changed to the following composition.
IPA / ethanol / acetic acid / water / KBM-5103 (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) / F-444 (manufactured by DIC) = 14/14/2/20/50 / 0.1 mass%, pH = 4. 6.
In Table 2 below, F-444, which is a fluorine-based nonionic surfactant manufactured by DIC, is described as surfactant A.

[実施例3]
実施例1において、表面処理用の組成物(表面処理用塗布液)を下記組成にした以外は実施例1と同様にして、実施例3の波長変換部材3を作製した。
IPA/エタノール/酢酸/水/KBM−5103(信越化学工業(株)製)/F−114(DIC社製)=14/14/2/20/50/0.1質量%、pH=4.4。
DIC社製フッ素系アニオン界面活性剤であるF−114を下記表2では界面活性剤Bとして記載した。
[Example 3]
In Example 1, the wavelength conversion member 3 of Example 3 was produced in the same manner as in Example 1 except that the surface treatment composition (surface treatment coating solution) was changed to the following composition.
IPA / ethanol / acetic acid / water / KBM-5103 (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) / F-114 (manufactured by DIC) = 14/14/2/20/50 / 0.1 mass%, pH = 4. 4.
In Table 2 below, F-114, which is a fluorine-based anionic surfactant manufactured by DIC, is described as surfactant B.

[実施例4]
実施例1において、表面処理用の組成物(表面処理用塗布液)を下記組成にした以外は実施例1と同様にして、実施例4の波長変換部材4を作製した。
IPA/エタノール/酢酸/水/KBM−5103(信越化学工業(株)製)/ネオペレックスG−15(花王株式会社製)=14/14/2/20/50/0.6質量%、pH=4.5。
ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム界面活性剤であるネオペレックスG−15 (花王株式会社製)、固形分濃度16%を下記表2では界面活性剤Cとして記載した。
[Example 4]
In Example 1, the wavelength conversion member 4 of Example 4 was produced in the same manner as in Example 1 except that the composition for surface treatment (surface treatment coating solution) was changed to the following composition.
IPA / ethanol / acetic acid / water / KBM-5103 (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) / Neopelex G-15 (manufactured by Kao Corporation) = 14/14/2/20/50 / 0.6 mass%, pH = 4.5.
Neoperex G-15 (manufactured by Kao Corporation), a sodium dodecylbenzenesulfonate surfactant, and a solid content concentration of 16% are listed as surfactant C in Table 2 below.

[実施例5]
実施例1において、表面処理用の組成物(表面処理用塗布液)を下記組成にした以外は実施例1と同様にして、実施例5の波長変換部材5を作製した。
IPA/エタノール/酢酸/水/KBM−5103(信越化学工業(株)製)/エマルゲン106(花王株式会社製)=14/14/2/20/50/0.1質量%、pH=4.7。
ポリオキシエチレンラウリルエーテル界面活性剤であるエマルゲン106(花王株式会社製)を下記表2では界面活性剤Dとして記載した。
[Example 5]
In Example 1, the wavelength conversion member 5 of Example 5 was produced in the same manner as in Example 1 except that the composition for surface treatment (surface treatment coating solution) was changed to the following composition.
IPA / ethanol / acetic acid / water / KBM-5103 (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) / Emulgen 106 (manufactured by Kao Corporation) = 14/14/2/20/50 / 0.1 mass%, pH = 4. 7.
Emulgen 106 (manufactured by Kao Corporation), which is a polyoxyethylene lauryl ether surfactant, is listed as surfactant D in Table 2 below.

[実施例6]
実施例1において、表面処理用の組成物(表面処理用塗布液)を下記組成にした以外は実施例1と同様にして、実施例6の波長変換部材6を作製した。
IPA/エタノール/酢酸/水/KBM−5103(信越化学工業(株)製)/コータミン24P(花王株式会社製)=14/14/2/20/50/0.1質量%、pH=4.4。
ラウリルトリメチルベンジルアンモニウムクロライド界面活性剤であるコータミン24P(花王株式会社製)を下記表2では界面活性剤Eとして記載した。
[Example 6]
In Example 1, the wavelength conversion member 6 of Example 6 was produced in the same manner as in Example 1 except that the composition for surface treatment (surface treatment coating solution) was changed to the following composition.
IPA / ethanol / acetic acid / water / KBM-5103 (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) / Coatamine 24P (manufactured by Kao Corporation) = 14/14/2/20/50 / 0.1 mass%, pH = 4. 4.
Coatamine 24P (manufactured by Kao Corporation), which is a lauryltrimethylbenzylammonium chloride surfactant, is listed as surfactant E in Table 2 below.

[実施例7]
実施例1において、表面処理用の組成物(表面処理用塗布液)中のKBM−5103をシランカップリング剤であるKBM−603(信越化学工業(株)製)に変更した以外は実施例1と同様にして、実施例7の波長変換部材7を作製した。
[Example 7]
Example 1 except that KBM-5103 in the surface treatment composition (surface treatment coating solution) in Example 1 was changed to KBM-603 (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.), which is a silane coupling agent. In the same manner as described above, the wavelength conversion member 7 of Example 7 was produced.

[実施例8]
実施例1において、バリアフィルムの無機層を下記に変更した以外は実施例1と同様にして、波長変換部材8を作製した。
有機層を形成したフィルムをホローカソード型イオンプレーティング装置にセットした。そして、蒸発源材料である酸化ケイ素(高純度化学研究所製)をホローカソード型イオンプレーティング装置に投入し、真空引きを行った。真空度が5×10−4Paまで到達した後、プラズマガンにアルゴンガスを15sccm導入し、電流110A、電圧90Vのプラズマを発生させた。チャンバー内を1×10−1Paに維持することと磁力によりプラズマを所定方向に曲げ、蒸発源材料に照射させた。蒸発源材料は溶融状態を経て昇華した。このイオンプレーティングを10秒間実施し、フィルム上に堆積させることで、膜厚50nmの酸化ケイ素からなる無機層を形成した。得られたバリアフィルムの無機層の水との接触角は25度であった。バリアフィルムの酸素透過度は、0.01cm/(m・day・atm)以下であり、可視光領域における全光線透過率は90%以上であることを確認した。
[Example 8]
In Example 1, the wavelength conversion member 8 was produced like Example 1 except having changed the inorganic layer of the barrier film into the following.
The film on which the organic layer was formed was set in a hollow cathode type ion plating apparatus. Then, silicon oxide (manufactured by High Purity Chemical Research Laboratories), which is an evaporation source material, was put into a hollow cathode ion plating apparatus and evacuated. After the degree of vacuum reached 5 × 10 −4 Pa, 15 sccm of argon gas was introduced into the plasma gun, and plasma with a current of 110 A and a voltage of 90 V was generated. Plasma was bent in a predetermined direction by maintaining the inside of the chamber at 1 × 10 −1 Pa and magnetic force, and the evaporation source material was irradiated. The evaporation source material sublimated through a molten state. This ion plating was carried out for 10 seconds and deposited on the film to form an inorganic layer made of silicon oxide having a thickness of 50 nm. The contact angle with water of the inorganic layer of the obtained barrier film was 25 degrees. The oxygen permeability of the barrier film was 0.01 cm 3 / (m 2 · day · atm) or less, and it was confirmed that the total light transmittance in the visible light region was 90% or more.

[比較例1]
実施例1において、表面処理用の組成物の塗布を実施しない以外は、実施例1と同様にして、比較例1の波長変換部材Tを作製した。
[Comparative Example 1]
In Example 1, the wavelength conversion member T of Comparative Example 1 was produced in the same manner as in Example 1 except that the composition for surface treatment was not applied.

[比較例2]
実施例1において、実施例1の表面処理用の組成物を、IPA/エタノール/KBM−5103=25/25/50質量%の水を含まない表面処理用の組成物へと変更した以外は実施例1と同様にして、比較例2の波長変換部材を作製した。なお、シランカップリング剤を含む溶液であるKBM−5103は水を含まない。
[Comparative Example 2]
In Example 1, except that the surface treatment composition of Example 1 was changed to a surface treatment composition containing no IPA / ethanol / KBM-5103 = 25/25/50 mass% water. In the same manner as in Example 1, a wavelength conversion member of Comparative Example 2 was produced. In addition, KBM-5103 which is a solution containing a silane coupling agent does not contain water.

[参考例1]
実施例1において、バリアフィルム10を作製した後に表面処理を行わず、量子ドット含有重合性組成物として、下記の量子ドット分散液2を用いた以外は実施例1と同様にして、参考例1の波長変換部材を作製した。量子ドット分散液2の詳細を以下に示す。
量子ドット含有重合性組成物として、下記の量子ドット分散液2を調製し、孔径0.2μmのポリプロピレン製フィルタでろ過した後、30分間減圧乾燥して塗布液として用いた。以下のトルエン分散液中の量子ドット濃度は、1質量%であった。
[Reference Example 1]
In Example 1, the surface treatment was not performed after the barrier film 10 was produced, and the following quantum dot dispersion 2 was used as the quantum dot-containing polymerizable composition, in the same manner as in Example 1, and in Reference Example 1. A wavelength conversion member was prepared. Details of the quantum dot dispersion 2 are shown below.
The following quantum dot dispersion liquid 2 was prepared as a quantum dot-containing polymerizable composition, filtered through a polypropylene filter having a pore diameter of 0.2 μm, dried under reduced pressure for 30 minutes, and used as a coating liquid. The quantum dot concentration in the following toluene dispersion was 1% by mass.

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量子ドット分散液2
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量子ドット1のトルエン分散液(発光極大:520nm) 10質量部
量子ドット2のトルエン分散液(発行極大:630nm) 1質量部
ラウリルメタクリレート 80.8質量部
トリメチロールプロパントリアクリレート 18.2質量部
光重合開始剤 1質量部
(イルガキュア(登録商標)819(BASF(株)製)
シランカップリング剤 3質量部
(KBM−5103 信越化学工業(株)製)
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量子ドット1、2としては、下記のコア−シェル構造(InP/ZnS)を有するナノ結晶を用いた。
量子ドット1:INP530−10(NN−labs社製)
量子ドット2:INP620−10(NN−labs社製)
量子ドット分散液2の粘度は50mPa・sであった。
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Quantum dot dispersion 2
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Toluene dispersion of quantum dots 1 (light emission maximum: 520 nm) 10 parts by weight Toluene dispersion of quantum dots 2 (issue maximum: 630 nm) 1 part by weight lauryl methacrylate 80.8 parts by weight trimethylolpropane triacrylate 18.2 parts by weight light 1 part by mass of a polymerization initiator (Irgacure (registered trademark) 819 (manufactured by BASF Corporation)
Silane coupling agent 3 parts by mass (KBM-5103, Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.)
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As the quantum dots 1 and 2, nanocrystals having the following core-shell structure (InP / ZnS) were used.
Quantum dot 1: INP530-10 (manufactured by NN-labs)
Quantum dot 2: INP620-10 (manufactured by NN-labs)
The viscosity of the quantum dot dispersion liquid 2 was 50 mPa · s.

[評価]
<表面濡れ性評価方法>
表面処理用の組成物をバリアフィルムの無機層の表面に塗布・乾燥した際に、表面処理用の組成物が無機層の表面の
全面に塗布できれば:A
一部はじきが発生:B
全面はじき塗布できず:C
と判定した。
その結果を下記表2に示す。
AまたはB評価ならば、実用上問題ない。A評価であることが好ましい。
[Evaluation]
<Surface wettability evaluation method>
If the composition for surface treatment can be applied to the entire surface of the inorganic layer when the composition for surface treatment is applied and dried on the surface of the inorganic layer of the barrier film: A
Some repelling occurs: B
Cannot be applied to the entire surface: C
It was determined.
The results are shown in Table 2 below.
If the evaluation is A or B, there is no practical problem. A rating is preferred.

<密着性の評価>
作製した波長変換部材を、70℃75%の高温高湿条件で5日間保管したサンプルを調製し、本サンプルをJIS K5400に準拠した方法で評価した。各実施例、比較例および参考例の波長変換部材の波長変換層以外の層(バリアフィルム)の片面にカッターナイフで膜面に対して90°の波長変換層に到達する切り込みを1mm間隔で入れ、1mm間隔の碁盤目を100マス作製した。この上に2cm幅のマイラーテープ(日東電工製、ポリエステルテープ、No.31B)で貼り付けたテープを剥がした。各実施例、比較例および参考例の波長変換部材の最表面の層が残存したマスの数で評価した。両面について同様の試験を行い、最表面の層が残存したマスの数が少ない方の面の値を用いて以下の評価基準により評価した。その結果を下記表2に示す。
(評価基準)
A:残存マス数 100個
B:残存マス数 99〜80個
C:残存マス数 79〜60個
D:残存マス数 59〜20個
E:残存マス数 19〜0個
A、BまたはC評価ならば、実用上問題ない。AまたはB評価であることが好ましく、A評価であることがより好ましい。
<Evaluation of adhesion>
A sample was prepared by storing the prepared wavelength conversion member for 5 days under a high temperature and high humidity condition of 70 ° C. and 75%, and this sample was evaluated by a method in accordance with JIS K5400. Cuts that reach the wavelength conversion layer at 90 ° with respect to the film surface are made at 1 mm intervals on one side of the layer (barrier film) other than the wavelength conversion layer of the wavelength conversion member of each example, comparative example, and reference example. 100 squares of grids with an interval of 1 mm were produced. On top of this, the tape affixed with a 2 cm wide Mylar tape (manufactured by Nitto Denko, polyester tape, No. 31B) was peeled off. The evaluation was made based on the number of cells in which the outermost layer of the wavelength conversion member of each Example, Comparative Example, and Reference Example remained. The same test was performed on both sides, and evaluation was performed according to the following evaluation criteria using the value of the side with the smaller number of cells where the outermost layer remained. The results are shown in Table 2 below.
(Evaluation criteria)
A: Number of remaining cells 100 B: Number of remaining cells 99-80 C: Number of remaining cells 79-60 D: Number of remaining cells 59-20 E: Number of remaining cells 19-0 If A, B or C evaluation There is no practical problem. A or B evaluation is preferable, and A evaluation is more preferable.

上記表2より、各実施例の波長変換部材は、量子ドットを含有する波長変換層とバリアフィルムとの間の湿熱経時後の密着性が良好であることがわかった。
比較例1より、表面処理をしていないバリアフィルムを用いて製造した波長変換部材は、量子ドットを含有する波長変換層とバリアフィルムとの間の湿熱経時後の密着性が悪いことがわかった。
比較例2より、水を含まない表面処理用の組成物を用いて製造した波長変換部材は、量子ドットを含有する波長変換層とバリアフィルムとの間の湿熱経時後の密着性が悪いことがわかった。
From the said Table 2, it turned out that the wavelength conversion member of each Example has the favorable adhesiveness after the wet heat aging between the wavelength conversion layer containing a quantum dot, and a barrier film.
From the comparative example 1, it turned out that the wavelength conversion member manufactured using the barrier film which is not surface-treated has bad adhesiveness after the wet heat aging between the wavelength conversion layer containing a quantum dot, and a barrier film. .
From the comparative example 2, the wavelength conversion member manufactured using the composition for surface treatment which does not contain water may have poor adhesion after wet heat aging between the wavelength conversion layer containing the quantum dots and the barrier film. all right.

<有機金属カップリング剤の偏在の評価>
さらに、各実施例、比較例および参考例の波長変換部材について、波長変換層における有機金属カップリング剤の偏在を評価した。
具体的には、各実施例の波長変換部材について波長変換層の少なくとも一方の表面から厚み方向に10%以下の距離の表面領域における有機金属カップリング剤の濃度が、波長変換層の両方の表面から厚み方向に10%を超える距離の内部領域における有機金属カップリング剤の濃度よりも高いことを、以下の方法で確認した。
作製した波長変換部材であるフィルムを切削し、断面をX線光電子分光法(XPS)で解析することで、カップリング剤の存在分布を確認した。
一方、比較例1および参考例の波長変換部材は波長変換層における有機金属カップリング剤の偏在は上記の方法では測定できなかった。
<Evaluation of uneven distribution of organometallic coupling agent>
Furthermore, the uneven distribution of the organometallic coupling agent in the wavelength conversion layer was evaluated for the wavelength conversion members of Examples, Comparative Examples, and Reference Examples.
Specifically, the concentration of the organometallic coupling agent in the surface region at a distance of 10% or less in the thickness direction from at least one surface of the wavelength conversion layer in the wavelength conversion member of each example is the surface of both wavelength conversion layers. It was confirmed by the following method that the concentration was higher than the concentration of the organometallic coupling agent in the internal region at a distance exceeding 10% in the thickness direction.
The film which is the produced wavelength conversion member was cut and the cross section was analyzed by X-ray photoelectron spectroscopy (XPS) to confirm the presence distribution of the coupling agent.
On the other hand, in the wavelength conversion members of Comparative Example 1 and Reference Example, the uneven distribution of the organometallic coupling agent in the wavelength conversion layer could not be measured by the above method.

[実施例101〜108、比較例101、102および参考例101]
<バックライトユニットおよび液晶表示装置の製造>
市販のタブレット端末(Amazon社製Kindle(登録商標)Fire HDX 7”)を分解し、バックライトユニットを取り出した。取り出したバックライトユニットの導光板上に矩形に切り出した各実施例、比較例および参考例の波長変換部材を置き、その上に表面凹凸パターンの向きが直交した2枚のプリズムシートを重ね置き、実施例101〜108、比較例101、102および参考例101のバックライトユニットおよび液晶表示装置を作製した。
各実施例の波長変換部材は、比較例の波長変換部材よりも、矩形に切り出した際の端部の剥がれが少ないことがわかった。
また、各実施例の液晶表示装置は良好な表示性能を示した。
[Examples 101 to 108, Comparative Examples 101 and 102, and Reference Example 101]
<Manufacture of backlight unit and liquid crystal display device>
A commercially available tablet terminal (Kindle (registered trademark) Fire HDX 7 ″ manufactured by Amazon) was disassembled and the backlight unit was taken out. Each of the examples cut out in a rectangular shape on the light guide plate of the taken out backlight unit, comparative examples and The wavelength conversion member of the reference example is placed, and two prism sheets whose surface uneven pattern directions are orthogonal are placed thereon, and the backlight units and liquid crystals of Examples 101 to 108, Comparative Examples 101 and 102, and Reference Example 101 are placed. A display device was produced.
It turned out that the wavelength conversion member of each Example has less peeling of the edge part at the time of cutting out into a rectangle compared with the wavelength conversion member of a comparative example.
Moreover, the liquid crystal display device of each Example showed the favorable display performance.

1 バックライトユニット
1A 光源
1B 導光板
1C 波長変換部材
2 青色光
3 緑色光
4 赤色光
10 第一のフィルム
11 偏光板保護フィルム
12 偏光子
13 偏光板保護フィルム
14 バックライト側偏光板
20 塗布部
21 液晶セル
22 塗膜
24 ダイコーター
26 バックアップローラ
28 波長変換層(硬化層)
30 ラミネート部
32 ラミネートローラ
34 加熱チャンバー
41 偏光板保護フィルム
42 偏光子
43 偏光板保護フィルム
44 表示側偏光板
50 第二のフィルム
51 液晶表示装置
60 硬化部
62 バックアップローラ
64 紫外線照射装置
70 波長変換部材
80 剥離ローラ
100 製造設備
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Backlight unit 1A Light source 1B Light guide plate 1C Wavelength conversion member 2 Blue light 3 Green light 4 Red light 10 1st film 11 Polarizing plate protective film 12 Polarizer 13 Polarizing plate protective film 14 Backlight side polarizing plate 20 Application | coating part 21 Liquid crystal cell 22 Coating film 24 Die coater 26 Backup roller 28 Wavelength conversion layer (cured layer)
30 Laminating unit 32 Laminating roller 34 Heating chamber 41 Polarizing plate protective film 42 Polarizer 43 Polarizing plate protective film 44 Display side polarizing plate 50 Second film 51 Liquid crystal display device 60 Curing unit 62 Backup roller 64 Ultraviolet irradiation device 70 Wavelength converting member 80 Peeling roller 100 Manufacturing equipment

本発明は、液晶表示装置の製造分野において有用である。   The present invention is useful in the field of manufacturing liquid crystal display devices.

Claims (13)

少なくとも1層の無機層を有するバリアフィルムを表面処理する表面処理工程と、
前記バリアフィルムの表面処理された表面に量子ドットを含有する波長変換層を積層する積層工程とを含み、
前記表面処理工程が水を含有する溶媒および有機金属カップリング剤を含む表面処理用の組成物を前記バリアフィルムの前記無機層の表面に付与する工程である、波長変換部材の製造方法。
A surface treatment step of surface-treating a barrier film having at least one inorganic layer;
A lamination step of laminating a wavelength conversion layer containing quantum dots on the surface-treated surface of the barrier film,
The method for producing a wavelength conversion member, wherein the surface treatment step is a step of applying a surface treatment composition containing a solvent containing water and an organic metal coupling agent to the surface of the inorganic layer of the barrier film.
前記有機金属カップリング剤が末端に反応性官能基を有する、請求項1に記載の波長変換部材の製造方法。   The manufacturing method of the wavelength conversion member of Claim 1 with which the said organometallic coupling agent has a reactive functional group at the terminal. 前記表面処理用の組成物が界面活性剤を含有する、請求項1または2に記載の波長変換部材の製造方法。   The manufacturing method of the wavelength conversion member of Claim 1 or 2 with which the said composition for surface treatment contains surfactant. 前記界面活性剤がフッ素系ノニオン界面活性剤である、請求項3に記載の波長変換部材の製造方法。   The manufacturing method of the wavelength conversion member of Claim 3 whose said surfactant is a fluorine-type nonionic surfactant. 前記表面処理用の組成物の溶媒に有機溶剤を含有する、請求項1〜4のいずれか一項に記載の波長変換部材の製造方法。   The manufacturing method of the wavelength conversion member as described in any one of Claims 1-4 which contains an organic solvent in the solvent of the said composition for surface treatment. 前記表面処理工程が少なくとも1層の無機層を有する第一のバリアフィルムおよび少なくとも1層の無機層を有する第二のバリアフィルムをそれぞれ表面処理する工程であり、
前記積層工程が前記第一のバリアフィルムおよび前記第二のバリアフィルムのそれぞれ表面処理された表面で前記波長変換層を挟む工程である、請求項1〜5のいずれか一項に記載の波長変換部材の製造方法。
The surface treatment step is a step of subjecting a first barrier film having at least one inorganic layer and a second barrier film having at least one inorganic layer, respectively, to surface treatment;
The wavelength conversion according to any one of claims 1 to 5, wherein the laminating step is a step of sandwiching the wavelength conversion layer between the surface-treated surfaces of the first barrier film and the second barrier film. Manufacturing method of member.
前記表面処理工程の前に前記第一のバリアフィルムおよび前記第二のバリアフィルムをそれぞれロールから巻き出す工程と、
前記積層工程の後に前記波長変換部材をロールに巻き取る工程を含み、
前記巻き出す工程、前記表面処理工程、前記積層工程および前記巻き取る工程をロールtoロールで行う、請求項6に記載の波長変換部材の製造方法。
Unwinding the first barrier film and the second barrier film from the rolls before the surface treatment step,
Including a step of winding the wavelength conversion member around a roll after the laminating step;
The method for producing a wavelength conversion member according to claim 6, wherein the unwinding step, the surface treatment step, the laminating step, and the winding step are performed by roll-to-roll.
前記積層工程が、量子ドット含有組成物の塗布工程である、請求項1〜7のいずれか一項に記載の波長変換部材の製造方法。   The manufacturing method of the wavelength conversion member as described in any one of Claims 1-7 whose said lamination process is a coating process of a quantum dot containing composition. 表面処理されてなる少なくとも1層の無機層を有するバリアフィルムと、
前記バリアフィルムの表面処理された表面に直接接して配置された、量子ドットを含有する波長変換層とを含み、
前記表面処理が水を含有する溶媒および有機金属カップリング剤を含む表面処理用の組成物を前記バリアフィルムの前記無機層の表面への付与である、波長変換部材。
A barrier film having a surface-treated at least one inorganic layer;
A wavelength conversion layer containing quantum dots, disposed in direct contact with the surface-treated surface of the barrier film,
The wavelength conversion member which is the provision to the surface of the said inorganic layer of the said barrier film of the composition for surface treatments in which the said surface treatment contains the solvent and organic metal coupling agent containing water.
前記波長変換層の少なくとも一方の表面から厚み方向に10%以下の距離の表面領域における有機金属カップリング剤の濃度が、前記波長変換層の両方の表面から厚み方向に10%を超える距離の内部領域における有機金属カップリング剤の濃度よりも高い、請求項9に記載の波長変換部材。 The inside of the distance where the concentration of the organometallic coupling agent in the surface region at a distance of 10% or less in the thickness direction from at least one surface of the wavelength conversion layer exceeds 10% in the thickness direction from both surfaces of the wavelength conversion layer The wavelength conversion member according to claim 9, wherein the wavelength conversion member is higher than the concentration of the organometallic coupling agent in the region. 請求項9または10に記載の波長変換部材と、
光源と、
を少なくとも含む、バックライトユニット。
The wavelength conversion member according to claim 9 or 10 ,
A light source;
Including at least a backlight unit.
前記光源は、430nm〜480nmの波長帯域に発光中心波長を有する、請求項11に記載のバックライトユニット。 The backlight unit according to claim 11 , wherein the light source has an emission center wavelength in a wavelength band of 430 nm to 480 nm. 請求項11または12に記載のバックライトユニットと、
液晶セルと、
を少なくとも含む、液晶表示装置。
The backlight unit according to claim 11 or 12 ,
A liquid crystal cell;
A liquid crystal display device comprising at least
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