KR102232134B1 - Casting methods and curable compounds for electronic components or groups of parts - Google Patents

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Abstract

본 발명은 전자 부품의 주조 방법에 관한 것이며, 상기 부품(1)이 주조 화합물(4) 내에 매립된 다음, 상기 주조 화합물(4)이 적어도 하나의 가교 공정을 통해 경화된다. 또한, 본 발명은 상기 방법에서 주조 화합물(4)로서 사용될 수 있는 경화성 화합물에 관한 것이다. 주조 화합물(4)은 적어도 하나의 가교 성분을 포함하고, 상기 가교 성분은 주조 화합물(4)에 균일하게 분포되며, 가교되어 적어도 2개의 상이한 가교 시스템을 형성한다. 상기 가교 시스템들 중 제 1 가교 시스템(8)은 제 2 가교 시스템(7)보다 높은 가교 밀도를 가지며, 제 1 가교 시스템(8)으로의 가교는 제 2 가교 시스템(7)으로의 가교와는 다른 이벤트를 통해 트리거된다. 부품(1) 또는 부품 그룹을 주조할 때, 주조 화합물(4)의 적어도 하나의 가교 성분은 부품(1)으로부터 떨어져 있는 적어도 하나의 제 1 영역(5)에서 경화되어 적어도 부분적으로 제 1 가교 시스템(8)을 형성하고, 적어도 부품(1)을 포함하여 직접 둘러싸는 제 2 영역(6)에서 경화되어 제 2 가교 시스템(7)을 형성한다. 상기 방법은 주조 화합물(4)의 내부가 부드럽게 유지되는 동안, 주조 화합물(4)로부터 전자 부품(1)을 위한 하우징 기능을 생성할 수 있게 한다. The present invention relates to a method for casting an electronic component, wherein the component (1) is embedded in a casting compound (4), and then the casting compound (4) is cured through at least one crosslinking process. Further, the present invention relates to a curable compound that can be used as the casting compound (4) in the above method. The casting compound (4) contains at least one crosslinking component, the crosslinking component being uniformly distributed in the casting compound (4) and crosslinking to form at least two different crosslinking systems. Of the above crosslinking systems, the first crosslinking system 8 has a higher crosslinking density than the second crosslinking system 7, and the crosslinking with the first crosslinking system 8 is different from the crosslinking with the second crosslinking system 7 Triggered through other events. When casting a part (1) or a group of parts, at least one crosslinking component of the casting compound (4) is cured in at least one first region (5) away from the part (1) to at least partially form a first crosslinking system. It forms (8) and is cured in a second region (6) directly surrounding at least part (1) to form a second crosslinking system (7). This method makes it possible to create a housing function for the electronic component 1 from the casting compound 4 while the interior of the casting compound 4 remains smooth.

Description

전자 부품 또는 부품 그룹의 주조 방법 및 경화성 화합물Casting methods and curable compounds for electronic components or groups of parts

본 발명은 부품 또는 부품 그룹이 주조 화합물 내로 매립된 다음, 상기 주조 화합물이 적어도 하나의 가교 프로세스에 의해 경화되는, 전자 부품 또는 부품 그룹의 주조 방법에 관한 것이다. 또한, 본 발명은 상기 방법을 위한 주조 화합물로서 사용될 수 있는 경화성 화합물에 관한 것이다.The present invention relates to a method for casting an electronic component or group of parts, wherein a part or group of parts is embedded into a casting compound and then the casting compound is cured by at least one crosslinking process. In addition, the present invention relates to a curable compound that can be used as a casting compound for the method.

전자 부품의 주조는 최신 전자 시스템 생산의 중요한 구성 요소이다. 올바른 주조 화합물을 선택하기 위해서는, 부품의 주조를 위해 더 연질의 주조 화합물이 사용되어야 하는지 또는 더 경질의 주조 화합물이 사용되어야 하는지가 결정되어야 한다.The casting of electronic components is an important component of the production of modern electronic systems. In order to select the right casting compound, it must be determined whether a softer casting compound or a harder casting compound should be used for casting the part.

연질의 주조 화합물은 예컨대, 경화 중 수축에 의해 또는 온도 변화 동안 매우 상이한 열팽창 계수로 인해 발생하는 응력을 보상할 수 있다. 그러나 연질의 주조 화합물은 종종 외부의 기계적 또는 화학적 부하에 대해 충분한 보호를 제공하지 못한다. 이러한 부하에 대한 부품의 보호는 별도의 하우징에 의해 이루어져야 한다. 경질의 주조 화합물은 화학 약품 및 기계적 부하로부터 전자 장치를 양호하게 보호하지만, 연질의 물질보다 응력 감소에 덜 적합하다. 주조된 전자 부품에서, 온도 변동 시 부품 및 주조 화합물의 대개 매우 상이한 열 팽창 계수로 인해 기계적 응력이 형성되고, 상기 기계적 응력은 경질의 주조 화합물을 사용할 때 전기 부품을 손상시킬 수 있다. 또한, 경질 주조 화합물의 반응 수축은 대개 더 심하게 나타난다. 이는 최악의 경우 회로 기판으로부터 전자 부품의 분리를 야기할 수 있다.Soft casting compounds can compensate for stresses arising from, for example, shrinkage during curing or due to very different coefficients of thermal expansion during temperature changes. However, soft casting compounds often do not provide sufficient protection against external mechanical or chemical loads. The protection of the components against these loads must be achieved by a separate housing. Rigid casting compounds provide good protection for electronic devices from chemicals and mechanical loads, but are less suitable for stress reduction than softer materials. In cast electronic components, mechanical stresses are formed due to temperature fluctuations, usually due to very different coefficients of thermal expansion of the part and the casting compound, which can damage the electrical component when using a hard casting compound. In addition, the reaction shrinkage of hard casting compounds is usually more severe. This can, in the worst case, cause separation of the electronic component from the circuit board.

전자 분야에서, 주조 화합물은 여러 기능을 수행해야 한다. 주조 화합물은 전자 부품을 완전히 감싸서 습기, 먼지, 이물질, 물, 화학 약품 등의 침투를 방지해야 하며, 특히 전자 부품에 대한 효과적인 부식 방지를 제공해야 한다. 또한, 피복재는 내전압 및 접촉 보호를 증가시키기 위해 전자 부품의 전기적 절연을 보장해야 한다. 주조 화합물은 부품들을 서로 고정하고 주조된 전자 부품의 기계적 안정성 및 내진동성 및 내충격성을 증가시켜야 한다. 또한, 공동이 주조 화합물로 채워져야 하고 전자 부품으로부터의 열 방출이 개선되어야 한다.In the electronics field, casting compounds must perform several functions. The casting compound must completely enclose the electronic component to prevent the penetration of moisture, dust, foreign matter, water, chemicals, etc., and in particular, must provide effective corrosion protection for electronic components. In addition, the cladding must ensure electrical insulation of electronic components to increase withstand voltage and contact protection. The casting compound should fix the parts together and increase the mechanical stability and vibration resistance and impact resistance of the cast electronic component. In addition, the cavity must be filled with the casting compound and the heat dissipation from the electronic component must be improved.

전자 산업에서 공지된 주조 화합물은 주로 반응성 수지 제제이다. 주조될 부품을 기포 없이 에워싸기 위해 일반적으로 양호한 유동성(저점도)을 갖는 1-성분계 및 2-성분계가 있다. 상업적으로 입수 가능한 주조 화합물은 예컨대, 폴리우레탄, 아크릴레이트, 불포화 폴리에스테르 수지, 에폭시 수지 또는 실리콘을 기재로 한다. 일반적으로 이러한 수지 시스템은 라디칼 메커니즘 또는 다중 첨가를 통해 경화된다. 이로 인해, 시장에는 각각의 사용 목적에 맞게 최적화된, 상이한 타입들의 명확하지 않은 다양성이 있다. 지금까지 공지된 모든 주조 화합물은 사용된 반응성 수지 또는 충전제와 무관하게, 균일한 특성, 예컨대 강성, 수축, 팽창 거동 등을 갖는 균일하게 가교된 주조를 일으킨다. 냉간 경화 타입 및 열 경화 타입 외에도, 매우 짧은 경화 시간을 갖는 UV 경화 주조 화합물도 있다.Casting compounds known in the electronics industry are primarily reactive resin formulations. There are generally one-component and two-component systems with good flowability (low viscosity) to enclose the part to be cast without bubbles. Commercially available casting compounds are based on, for example, polyurethanes, acrylates, unsaturated polyester resins, epoxy resins or silicones. Typically these resin systems are cured through radical mechanisms or multiple additions. Due to this, there is an unclear variety of different types on the market that are optimized for each purpose of use. All casting compounds known to date give rise to uniformly crosslinked castings with uniform properties such as stiffness, shrinkage, expansion behavior, etc., regardless of the reactive resins or fillers used. In addition to the cold cure type and heat cure type, there are also UV cure casting compounds with very short curing times.

그러나 공지된 주조 화합물로 전자 부품 또는 부품 그룹을 주조할 때, 더 경질의 주조 화합물과 더 연질의 주조 화합물의 상기 장점들 및 단점들 간의 절충이 이루어져야 한다. 이 경우, 문제점은, 단단히 가교된 경질 및 강성의 주조 화합물은 한편으로 양호한 기계적 보호를 제공하며 높은 내약품성을 갖지만, 다른 한편으로 좁은 메쉬의 가교 시스템은 높은 가공 수축과 관련이 있으며, 상기 가공 수축은 고강성과 함께 높은 기계적 잔류 응력을 유발한다는 것이다. 이로 인해 민감하고 세밀한 전자 부품의 바람직하지 않은 높은 스트레스가 생긴다. 특히, 회로 기판 상의 미세 구조화된 접촉부는 응력에 의해 파손되기 쉽기 때문에 강성 주조 혼합물의 사용을 허용하지 않는다. 이에 대한 대안으로서, 부분적으로 엘라스토머 유형의, 연질 주조 화합물이 사용될 수 있으며, 이 화합물은 더 적은 수축 및 더 낮은 강성을 갖기 때문에 경화 또는 온도 변동 부하 시에 발생하는 응력을 작게 유지한다. 그러나 이들은 종종 만족스러운 기계적 보호를 제공하지 못하고 화학 매체에 의해 팽윤되어 침투될 수 있다. 몇 가지 예외 경우에, 다수의 상이한 주조 화합물이 조합되어 사용되고 적층되어 주조되지만, 이로써 생산 위험이 커지고 특히 품질 보증을 위한 비용이 높아진다.However, when casting electronic components or groups of parts from known casting compounds, a compromise must be made between the above advantages and disadvantages of a harder casting compound and a softer casting compound. In this case, the problem is that the rigid and rigid casting compound, which is rigidly crosslinked, on the one hand provides good mechanical protection and has high chemical resistance, while the crosslinking system of the narrow mesh on the other hand is associated with high processing shrinkage. Is that it induces high mechanical residual stress along with high stiffness. This leads to undesired high stresses of sensitive and detailed electronic components. In particular, the use of rigid casting mixtures is not allowed because the microstructured contacts on the circuit board are prone to breakage by stress. As an alternative to this, a partially elastomeric type, soft casting compound can be used, which has less shrinkage and lower stiffness, thus keeping the stress arising on curing or temperature fluctuating loads small. However, they often do not provide satisfactory mechanical protection and can be swollen and penetrated by chemical media. In a few exceptions, a number of different casting compounds are used in combination and laminated and cast, but this increases the production risk and in particular the cost for quality assurance.

연질 및 경질의 주조 화합물은 일반적으로 전자 부품 또는 부품 그룹을 주조할 때 사용되며, 추가로 별도의 금속 또는 플라스틱 하우징이 주조된 전자 장치를 둘러싸게 된다. 상기 하우징은 종종 동시에 주조 화합물로 주조되는 일종의 주형으로서 사용된다. 이러한 방식으로, 전자 장치는 예컨대 부드러운 경화성 주조 화합물에 의해 기계적 진동 등으로부터 보호될 수 있으며, 밀봉된 하우징은 전체 부품을 외부 기계적 영향 또는 화학적 공격으로부터 보호한다. 그러나 이것은 제조 비용을 높이고, 전자 부품 자체보다 훨씬 더 큰 설치 공간을 필요로한다.Soft and hard casting compounds are generally used when casting electronic components or groups of parts, and additionally a separate metal or plastic housing surrounds the cast electronic device. The housing is often used as a kind of mold that is simultaneously cast into a casting compound. In this way, the electronic device can be protected from mechanical vibrations, for example by a soft curable casting compound, and the sealed housing protects the entire part from external mechanical influences or chemical attack. However, this increases the manufacturing cost and requires a much larger installation space than the electronic component itself.

본 발명의 과제는 연질 또는 경질 주조 화합물을 사용할 때의 상기 단점을 실질적으로 피하는 전자 부품 또는 부품 그룹의 주조 방법 및 경화성 화합물을 제공하는 것이다. 상기 방법은 주조된 부품 또는 주조된 부품 그룹을 위한 외부 하우징 없는 주조를 허용해야 한다.An object of the present invention is to provide a casting method and a curable compound for an electronic component or group of parts substantially avoiding the above disadvantages when using a soft or hard casting compound. The method should allow casting without an outer housing for a cast part or a group of cast parts.

상기 과제는 청구항 제 1 항 및 제 8 항에 따른 주조 방법 및 경화성 화합물에 의해 해결된다. 상기 주조 방법 및 경화성 화합물의 바람직한 실시 예들은 종속청구항의 대상이거나 다음의 설명 및 실시 예에 나타난다. This problem is solved by the casting method and the curable compound according to claims 1 and 8. Preferred embodiments of the above casting method and curable compound are the subject of the dependent claims or appear in the following description and examples.

전자 부품 또는 부품 그룹을 주조하기 위한 제안된 방법에서, 부품 또는 부품 그룹이 주조 화합물 내에 매립된 다음, 상기 주조 화합물이 적어도 하나의 가교 공정을 통해 경화된다. 상기 방법은, 가교 성분 A를 갖는 주조 화합물이 주조를 위해 사용되고, 상기 가교 성분 A는 주조 화합물에 균일하게 분포되며, 가교되어 적어도 2개의 상이한 가교 시스템을 형성할 수 있고, 상기 가교 시스템들 중 제 1 가교 시스템은 제 2 가교 시스템보다 더 높은 가교 밀도를 갖는 것을 특징으로 한다. 제 1 가교 시스템으로의 가교는 제 2 가교 시스템으로의 가교와는 다른 이벤트를 통해 트리거된다. 제안된 방법에서, 주조 화합물의 적어도 하나의 가교 성분 A는 전자 부품 또는 전자 부품 그룹으로부터 떨어져 있는 적어도 하나의 제 1 영역에서 경화되어 적어도 부분적으로 제 1 가교 시스템을 형성하고, 적어도 전자 부품 또는 전자 부품 그룹을 포함하여 직접 둘러싸는 제 2 영역에서 경화되어 제 2 가교 시스템을 형성한다.In the proposed method for casting an electronic component or group of parts, the part or group of parts is embedded in a casting compound, and then the casting compound is cured through at least one crosslinking process. In the above method, a casting compound having a crosslinking component A is used for casting, and the crosslinking component A is uniformly distributed in the casting compound, and can be crosslinked to form at least two different crosslinking systems, and the first of the crosslinking systems One crosslinking system is characterized by having a higher crosslinking density than the second crosslinking system. Crosslinking to the first crosslinking system is triggered through an event different from crosslinking to the second crosslinking system. In the proposed method, at least one crosslinking component A of the casting compound is cured in at least one first region away from the electronic component or group of electronic components to at least partially form a first crosslinking system, and at least the electronic component or electronic component It is cured in a second region directly surrounding the group to form a second crosslinking system.

따라서, 상기 방법은 연질 또는 경질 주조 화합물을 사용할 때 발생하는 문제 없이 부품의 주조를 가능하게 한다. 부품 또는 부품 그룹과의 접촉 영역에서, 더 낮은 가교 밀도에 의해 주조 화합물의 연질 영역이 형성되고, 상기 연질 영역에 의해, 예를 들어 주조 화합물의 상이한 열 전도 거동 또는 반응 수축에 기인하는 기계적 응력이 피해질 수 있다. 이로 인해 기계적으로 더 적은 부하를 받게 되어 더 신뢰성 있는 부품 또는 부품 그룹이 형성된다. 동시에, 더 높은 가교 밀도를 갖는 제 1 영역에서 더 높은 강성이 달성되고, 상기 더 높은 강성에 의해, 주조된 부품 또는 주조된 부품 그룹에 대해 상응하는 보호 기능이 발휘될 수 있다. 상기 제 1 영역은 하우징의 기능을 수행할 수 있으므로, 상기 방법의 바람직한 실시 예에서, 추가 하우징의 지금까지 필요했던 작업 단계가 제 1 영역에서 주조 화합물의 상응하는 가교 단계에 의해 절감될 수 있다. 이에 따라 가능해진, 외부 하우징의 생략에 의해, 주조된 전자 부품 또는 주조된 전자 부품 그룹을 갖는 전체 컴포넌트가 더 콤팩트하게 형성될 수 있고, 따라서 집적 밀도의 증가가 달성될 수 있다. 제안된 방법은 주조 화합물의 내부가 부드럽게 유지되는 동안 주조 화합물로부터 하우징 기능의 생성할 수 있게 한다. 따라서, 더 연질의 또는 더 경질의 주조 화합물을 선택함에 의한 절충이 이루어질 필요가 없다. 상기 방법은 상이한 경화 메커니즘의 조합에 의해 경화되어 상이한 가교 시스템 및 그에 따라 국소적으로 상이한 강성의 영역을 형성할 수 있는 단일 주조 화합물을 여전히 사용한다.Thus, the method enables the casting of parts without problems arising when using soft or hard casting compounds. In the region of contact with the part or group of parts, a soft region of the casting compound is formed by the lower crosslinking density, by which the mechanical stress due for example different thermal conduction behavior or reaction shrinkage of the casting compound is It can be avoided. This results in a less mechanical load, resulting in a more reliable part or group of parts. At the same time, a higher stiffness is achieved in the first region with a higher crosslinking density, and by this higher stiffness, a corresponding protective function can be exerted for the cast part or group of cast parts. Since the first region can perform the function of the housing, in a preferred embodiment of the method, a previously required working step of the additional housing can be saved by a corresponding crosslinking step of the casting compound in the first region. By the omission of the outer housing made possible accordingly, the cast electronic component or the entire component with the cast electronic component group can be formed more compactly, and thus an increase in the integration density can be achieved. The proposed method makes it possible to create a housing function from the casting compound while the interior of the casting compound remains smooth. Thus, there is no need to make a compromise by choosing a softer or harder casting compound. The method still uses a single casting compound that can be cured by a combination of different curing mechanisms to form different crosslinking systems and thus regions of different stiffness locally.

바람직하게는, 이 경우 제 1 가교 시스템이 적어도 하나의 가교 성분 A만으로 형성되는 주조 화합물이 사용되고, 상기 주조 화합물은 적어도 하나의 제 2 성분을 포함하며, 상기 제 2 성분은 주조 화합물에 균질하게 분포되고, 상기 적어도 하나의 가교 성분 A는 상기 제 2 성분과 함께 제 2 가교 시스템을 형성한다.Preferably, in this case, a casting compound in which the first crosslinking system is formed only of at least one crosslinking component A is used, the casting compound comprises at least one second component, and the second component is homogeneously distributed in the casting compound. And the at least one crosslinking component A together with the second component forms a second crosslinking system.

주조 화합물의 가교 성분 A 및 제 2 성분 B는 바람직하게는 탄성률이 상이한 2개의 가교 시스템이 적어도 팩터 2만큼 상이하도록 선택된다. 바람직하게는, 경질 또는 강성 영역의 탄성률은 300 내지 3000 MPa, 더 바람직하게는 500 내지 2000 MPa이다. 연질 영역의 탄성률은 바람직하게는 0.5 내지 200 MPa, 더 바람직하게는 1 내지 100 MPa이다.The crosslinking component A and the second component B of the casting compound are preferably selected so that the two crosslinking systems different in modulus of elasticity differ by at least a factor 2. Preferably, the modulus of elasticity of the hard or rigid region is 300 to 3000 MPa, more preferably 500 to 2000 MPa. The elastic modulus of the soft region is preferably 0.5 to 200 MPa, more preferably 1 to 100 MPa.

제 1 영역에서 주조 화합물의 적어도 하나의 가교 성분 A의 국소적으로 제한된 경화가 바람직하게는 완전하게 수행되므로, 가교 성분 A의 비가교 성분이 이 영역에 남지 않는다. 그러나 이것이 반드시 필요한 것은 아니다. 놀랍게도, 제 1 가교 시스템으로의 부분적인 경화 또는 가교의 경우, 여전히 가교되지 않은 성분이 제 2 이벤트의 트리거에 의해 이 영역에서 성분 B와 반응하여 제 2 가교 시스템을 형성하는 것으로 나타났다. 즉, 성분 A의 불완전 가교에 의해, 제 1 가교 시스템의 가교 밀도와 제 2 가교 시스템의 가교 밀도 사이에 놓인 가교 밀도를 갖는 영역이 형성될 수 있다. 이 영역에서, 탄성률은 제 1 가교 시스템의 탄성률과 제 2 가교 시스템의 탄성률 사이에 놓인다.A locally limited curing of at least one crosslinking component A of the casting compound in the first region is preferably carried out completely, so that the non-crosslinking component of the crosslinking component A does not remain in this region. However, this is not necessary. Surprisingly, in the case of partial curing or crosslinking with the first crosslinking system, it has been shown that the component that is still not crosslinked reacts with component B in this area by the trigger of the second event to form a second crosslinking system. That is, by incomplete crosslinking of component A, a region having a crosslinking density lying between the crosslinking density of the first crosslinking system and the crosslinking density of the second crosslinking system can be formed. In this area, the modulus of elasticity lies between that of the first crosslinking system and that of the second crosslinking system.

제 1 영역에서 적어도 하나의 가교 성분 A의 완전 또는 부분 가교의 경우, 성분 A가 전혀 남지 않거나 또는 감소된 양의 성분 A만이 남고, 상기 성분 A와 함께 성분 B는 제 2 가교 시스템을 형성할 수 있다. 이로 인해, 제 2 이벤트의 트리거 후에 이 영역에서의 성분 B는 미반응 상태로 제 1 가교 시스템에 남게 된다. 놀랍게도, 성분 A와는 반응하지 않고 성분 B와는 반응하는 성분 C를 첨가함으로써, 성분 A가 존재하지 않거나 부족량으로만 존재하는 영역에서, 초과량의 성분 B가 추가의 가교 시스템의 형성에 의해 결합될 수 있는 것으로 밝혀졌다. 또한, 성분 C는 성분 A와 성분 B의 반응과 관련된 결합제들과 반응할 수 있으므로, 하나의 영역에서 제 1 이벤트에 의해 트리거된 성분 A의 가교 시스템 형성이 완전히 이루어졌는지, 부분적으로 이루어졌는지 또는 전혀 이루어지지 않았는 지와는 무관하게, 모든 영역에서 제 2 이벤트 후에 미반응 성분이 경화된 화합물에 남지 않게 된다.In the case of complete or partial crosslinking of at least one crosslinking component A in the first region, no component A remains or only a reduced amount of component A remains, and component B together with component A can form a second crosslinking system. have. Due to this, component B in this region remains unreacted in the first crosslinking system after triggering of the second event. Surprisingly, by adding component C, which does not react with component A and reacts with component B, in regions where component A is absent or only present in shortfalls, excess component B can be bound by formation of an additional crosslinking system. Turned out to be. In addition, component C can react with the binders involved in the reaction of component A and component B, so whether the formation of a crosslinking system of component A triggered by the first event in one region has been completely, partially or not at all. Regardless of whether or not this was not done, no unreacted components remain in the cured compound after the second event in all areas.

부품 또는 부품 그룹의 주조는 다양한 방식으로 수행될 수 있다. 일 실시 예에서, 주조될 전자 부품 또는 전자 부품 그룹이 상향 개방 하우징 내로 도입된 다음, 전자 부품 또는 전자 부품 그룹을 주조 화합물로 주조하기 위해, 주조 화합물이 하우징 내로 채워진다. 그 다음에, 주조 화합물의 적어도 하나의 가교 성분 A가 부품 또는 부품 그룹을 둘러싸는 하부 영역(제 2 영역)에서 경화되어 제 2 가교 시스템을 형성하며 주조 화합물의 상부 경계면을 포함하는 영역(제 1 영역)에서 적어도 부분적으로 경화되어 제 1 가교 시스템을 형성하도록, 경화가 수행된다. 하부 영역에서 주조 화합물은 더 낮은 가교 밀도를 갖고, 더 높은 가교 밀도를 갖는 상부 폐쇄 영역은 더 강성으로 형성되고 따라서 하우징의 폐쇄부로서 사용될 수 있다.Casting of parts or groups of parts can be carried out in a variety of ways. In one embodiment, the electronic component or group of electronic components to be cast is introduced into the upwardly open housing, and then the casting compound is filled into the housing to cast the electronic component or group of electronic components into the casting compound. Then, at least one crosslinking component A of the casting compound is cured in the lower region surrounding the part or group of parts (second region) to form a second crosslinking system and the region containing the upper interface of the cast compound (first Area) at least partially curing to form the first crosslinking system. The casting compound in the lower region has a lower crosslinking density, and the upper closed region with a higher crosslinking density is formed more rigidly and thus can be used as a closure of the housing.

다른 실시 예에서, 전체 부품 또는 전체 부품 그룹은 주조 화합물의 제 2 영역을 둘러싸는 (제 1) 영역에서 경화되어 제 1 가교 시스템을 형성하고 따라서 주조 화합물의 더 연질의 (제 2) 영역을 포함하는 부품을 완전히 둘러싸게 된다. 결과적으로, 주조 화합물의 외부의, 더 강성의 영역(제 1 영역)이 이 경우에 하우징의 기능을 완전하게 수행할 수 있기 때문에 하우징 없는 주조가 가능해진다. 이 조치는, 경화된 주조 화합물의 외형이 전자 부품 또는 전자 부품 그룹의 윤곽에 근접해지도록, 전자 부품 또는 전자 부품 그룹의 주조 중에 주조 화합물이 성형되고 경화되는 방식으로 바람직하게 실행될 수 있다. 이로써 전자 부품 또는 전자 부품 그룹이 매우 콤팩트한 컴포넌트로 주조될 수 있다. 주조는 각각 주형에 의해 또는 공구 없이 수행될 수 있다.In another embodiment, the entire part or group of parts is cured in the (first) region surrounding the second region of the casting compound to form a first crosslinking system and thus comprises a softer (second) region of the casting compound. It completely surrounds the component that is being used. As a result, a housingless casting becomes possible since the outer, more rigid area (first area) of the casting compound can fully perform the function of the housing in this case. This measure can be preferably carried out in such a way that the casting compound is molded and cured during the casting of the electronic component or group of electronic components so that the appearance of the cured casting compound is brought close to the contour of the electronic component or group of electronic components. This allows electronic components or groups of electronic components to be cast into very compact components. Casting can be carried out by means of a mold or without tools, respectively.

주조 화합물로 부품 또는 부품 그룹을 공구 없이 주조할 수 있는 바람직한 가능성은 주조 화합물을 적층 가공 방법에 의해 층별로 도포하고 각각 층별로 경화시켜 제 1 또는 제 2 가교 시스템을 형성하는 것이다. 따라서, 특히 하우징 없는 주조의 후자의 실시 예가 매우 간단히 실현될 수 있다.A preferred possibility of tool-free casting of parts or groups of parts with the casting compound is to apply the casting compound layer by layer by an additive manufacturing method and cure each layer by layer to form a first or second crosslinking system. Thus, in particular, the latter embodiment of housingless casting can be realized very simply.

가교될 성분을 가교하여 제 1 및 제 2 가교 시스템을 형성하기 위한 경화 메커니즘은 가능한 한 간단하고 저렴하게 트리거될 수 있어야 한다. 바람직하게는 가교될 성분 A 및 경우에 따라 주조 화합물 중의 하나 이상의 첨가제는 가교 성분 A가 방사선 경화, 예컨대 UV 방사선 경화에 의해 가교되어 제 1 가교 시스템을 형성하도록 선택된다. 이러한 가교는 간단하고 저렴하게 실행될 수 있다. 제 2 가교 시스템으로의 가교를 위해, 가교될 성분 A 및 경우에 따라 주조 화합물 중의 하나 이상의 첨가제는 바람직하게는 제 2 가교 시스템으로의 가교가 열 경화 기술로 실행될 수 있도록 선택된다. 방사선 경화 및 열 경화의 이러한 조합에 의해, 주조 화합물의 적어도 하나의 가교 성분 A가 먼저 적어도 하나의 제 1 영역에서 경화되어 제 1 가교 시스템을 형성한 다음, 나머지 영역에서 경화되어 제 2 가교 시스템을 형성하는, 방법의 변형 예가 특히 간단히 실행될 수 있다. 물론, 상기 조치를 가능하게 하는 다른 경화 메커니즘도 있을 수 있다. 방사선 경화의 경우, 100 nm 내지 700 nm의 파장 범위, 더 바람직하게는 250 nm 내지 450 nm의 파장 범위의 광학 방사가 바람직하게 사용된다. 열 경화를 위한 열처리는 바람직하게는 60℃ 내지 300℃, 더 바람직하게는 110℃ 내지 180℃의 온도 범위에서 수행된다. 바람직한 실시 예에서, 경화 중 온도는 열 경화 시에 연속적으로 또는 단계적으로 증가된다.The curing mechanism for crosslinking the components to be crosslinked to form the first and second crosslinking systems should be able to be triggered as simple and inexpensively as possible. Preferably the component A to be crosslinked and optionally one or more additives in the casting compound are selected such that the crosslinking component A is crosslinked by radiation curing, such as UV radiation curing, to form a first crosslinking system. This crosslinking can be performed simply and inexpensively. For crosslinking to the second crosslinking system, component A to be crosslinked and optionally one or more additives in the casting compound are preferably selected so that crosslinking to the second crosslinking system can be carried out by a thermal curing technique. By this combination of radiation curing and thermal curing, at least one crosslinking component A of the casting compound is first cured in at least one first region to form a first crosslinking system, and then cured in the remaining regions to form a second crosslinking system. A variant of the method of forming can be carried out particularly simply. Of course, there may also be other curing mechanisms that allow for this measure. In the case of radiation curing, optical radiation in the wavelength range of 100 nm to 700 nm, more preferably in the wavelength range of 250 nm to 450 nm is preferably used. The heat treatment for thermal curing is preferably performed at a temperature in the range of 60°C to 300°C, more preferably 110°C to 180°C. In a preferred embodiment, the temperature during curing is increased continuously or stepwise upon thermal curing.

제안된 방법의 실시는 조절 가능하고 국소적으로 제어 가능한 강성을 갖는 적절하게 조성된 주조 화합물의 사용을 요구한다. 이를 위해, 주조 화합물은 2개의 상이한 경화 메커니즘에 의해 경화되어 2개의 상이한 밀도의 가교 시스템을 형성하는 적어도 하나의 가교 성분 A를 포함해야 한다. 상기 조건이 주어지면, 당업자는 상기 소정 특성을 갖는 적절한 주조 화합물을 제조할 수 있게 된다.Implementation of the proposed method requires the use of properly formulated casting compounds with adjustable and locally controllable stiffness. To this end, the casting compound must contain at least one crosslinking component A which is cured by two different curing mechanisms to form two different densities of crosslinking systems. Given the above conditions, a person skilled in the art will be able to prepare a suitable casting compound having the predetermined properties.

전술한 방법에 사용될 수 있는 본 발명에 따라 제안된 경화성 화합물은 적어도 하나의 가교 성분 A를 포함하고, 상기 가교 성분 A는 경화성 화합물에 균일하게 분포되며 가교되어 적어도 2개의 상이한 가교 시스템을 형성할 수 있고, 상기 가교 시스템들 중 제 1 가교 시스템은 적어도 하나의 가교 성분 A로만 형성되며, 상기 경화성 화합물의 적어도 하나의 제 1 영역(i)에서 제 1 가교 시스템으로의 적어도 부분적인 가교는 제 1 이벤트를 통해 트리거될 수 있다. 경화성 화합물은 또한 적어도 하나의 제 2 성분 B를 포함하고, 상기 제 2 성분 B는 경화성 화합물에 균일하게 분포되며 적어도 하나의 가교 성분 A와 함께 적어도 2개의 상이한 가교 시스템들 중 제 2 가교 시스템을 형성할 수 있고, 상기 제 2 가교 시스템은 제 1 가교 시스템보다 낮은 가교 밀도를 갖는다. 제 2 가교 시스템으로의 가교는, 제 1 가교 시스템이 형성되지 않거나 부분적으로만 형성된, 경화성 화합물의 적어도 하나의 제 2 영역(ⅱ)에서 제 2 이벤트를 통해 트리거될 수 있다. 경화성 화합물은 또한 적어도 하나의 제 3 성분 C를 포함하고, 상기 제 3 성분 C는 경화성 화합물에 균일하게 분포되며 제 1 가교 시스템으로의 적어도 부분적인 가교 후에 제 1 영역(i) 및 제 2 영역(ii)에서 적어도 하나의 제 2 성분 B의 아직 가교되지 않은 성분과 반응하여 추가의 가교 시스템을 형성한다. 제 3 성분 C와 제 2 성분 B의 반응은 제 2 이벤트에 의해 트리거된다.The curable compound proposed according to the invention that can be used in the above-described method comprises at least one crosslinking component A, wherein the crosslinking component A is uniformly distributed in the curable compound and can be crosslinked to form at least two different crosslinking systems. Wherein the first crosslinking system of the crosslinking systems is formed of only at least one crosslinking component A, and at least partial crosslinking of the curable compound from at least one first region (i) to the first crosslinking system is a first event Can be triggered through. The curable compound also comprises at least one second component B, wherein the second component B is uniformly distributed in the curable compound and forms a second crosslinking system of at least two different crosslinking systems with at least one crosslinking component A. And the second crosslinking system has a lower crosslinking density than the first crosslinking system. Crosslinking to the second crosslinking system may be triggered via a second event in at least one second region (ii) of the curable compound, in which the first crosslinking system is not formed or only partially formed. The curable compound also comprises at least one third component C, wherein the third component C is uniformly distributed in the curable compound and after at least partial crosslinking with the first crosslinking system, the first region (i) and the second region ( In ii) at least one second component B reacts with the uncrosslinked component to form a further crosslinking system. The reaction of the third component C and the second component B is triggered by a second event.

바람직한 실시 예에서, 제 3 성분 C는, 제 1 이벤트가 트리거되지 않은 적어도 하나의 제 2 영역(ⅱ)에서 적어도 하나의 성분 A와 적어도 하나의 성분 B의 반응으로부터 생긴 가교 점과 반응하여 추가의 가교 시스템을 형성할 수 있도록 선택된다.In a preferred embodiment, the third component C reacts with a crosslinking point resulting from the reaction of at least one component A with at least one component B in at least one second region (ii) in which the first event is not triggered, thereby further It is chosen to be able to form a crosslinking system.

바람직하게는, 가교 성분 A, 제 2 성분 B 및 제 3 성분 C는, 제 1 영역(i) 및 제 2 영역(ii)의 탄성률이 경화 후에 적어도 팩터 2만큼 상이하도록 선택된다.Preferably, the crosslinking component A, the second component B and the third component C are selected such that the modulus of elasticity of the first region (i) and the second region (ii) differ after curing by at least a factor 2.

상기 적어도 하나의 가교 성분 A는 바람직하게는 적어도 2개의 관능기, 특히 이중 결합을 갖는 화합물이다. 적어도 2개의 아크릴레이트 그룹을 갖는 화합물이 특히 바람직하다. 이러한 성분의 예는 고급 알코올의 아크릴산 또는 메타크릴산의 에스테르, 예컨대 에틸렌 글리콜 디(메트)아크릴레이트, 디에틸렌 글리콜 디(메트)아크릴레이트, 트리에틸렌 글리콜 디(메트)아크릴레이트, 테트라 및 폴리에틸렌 글리콜 디(메트)아크릴레이트, 1,3-부탄디올 디(메트)아크릴레이트, 1,4-부탄디올 디(메트)아크릴레이트, 1,6- 헥산디올 디(메트)아크릴 레이트, 1,9-노난에디올 디메타크릴레이트, 글리세롤 디(메트)아크릴레이트, 디우레탄 디메타크릴레이트, 트리메틸올프로판 트리(메트)아크릴레이트, 펜타에리트리톨 테트라아크릴레이트, 디펜타에리트리톨 펜타아크릴레이트, 2,2-비스(4-메타크릴옥시페닐) 프로판, 1,10-데칸디올 디메타크릴레이트, 1,5-펜탄디올 디메타크릴레이트, 1,4- 페닐렌디아크릴레이트, 트리시클로데칸디메탄올 디메타크릴레이트(예컨대 Sartomer/Arkema의 SR833으로서 입수 가능함), 트리스(2- 하이드록시에틸)-이소시아누레이트 트리아크릴레이트(예컨대 Sartomer/Arkema의 SR368로서 입수 가능함)이다. 바람직하게, 경화성 화합물은 적어도 하나의 추가 성분 D를 포함하고, 상기 추가 성분 D는 가시광선 또는 UV 광으로 조사할 때, 라디칼 연쇄 반응에 의해 적어도 하나의 가교 성분 A를 가교할 수 있는 라디칼을 생성한다. 당업자는 예를 들면 BASF의 제품 카탈로그에서 상품명 Irgacure로, 상기 조건을 충족시키는, 광개시제(photoinitiator)라고도 하는 많은 상기 성분을 찾을 수 있다. 조사에 의해 라디칼을 형성하는 상기 성분 D의 예는 비스(2,4,6-트리메틸벤조일)-페닐포스핀 옥사이드, 1-하이드록시-사이클로헥실-페닐-케톤, 2-하이드록시-2-메틸-1-페닐-1-프로파논, 2-하이드록시-1-{4-[4-(2-하이드록시-2-메틸-프로피오닐)-벤질]-페닐}-2-메틸프로판-1-on, 2-하이드록시-1-[4-(2-하이드록시 에톡시)페닐]-2-메틸-1-프로파논, 2,4,6-트리메틸벤조일 디페닐포스핀산염, 2,4,6-트리메틸벤조일 디페닐포스핀 옥사이드, 2-메틸-1[4-(메틸티오)페닐]-2-모르폴리노프로판-1-on, 2-벤질-2-디메틸아미노-1-(4-모르폴리노페닐)-부탄온-1, 2-디메틸아미노-2-(4-메틸-벤질)-1-(4-모르폴린-4-일-페닐)-부탄-1-on 또는 벤조페논이다.Said at least one crosslinking component A is preferably a compound having at least two functional groups, in particular double bonds. Particularly preferred are compounds having at least two acrylate groups. Examples of such components are esters of acrylic acid or methacrylic acid of higher alcohols, such as ethylene glycol di(meth)acrylate, diethylene glycol di(meth)acrylate, triethylene glycol di(meth)acrylate, tetra and polyethylene glycol. Di(meth)acrylate, 1,3-butanediol di(meth)acrylate, 1,4-butanediol di(meth)acrylate, 1,6-hexanediol di(meth)acrylate, 1,9-nonane Diol dimethacrylate, glycerol di(meth)acrylate, diurethane dimethacrylate, trimethylolpropane tri(meth)acrylate, pentaerythritol tetraacrylate, dipentaerythritol pentaacrylate, 2,2- Bis(4-methacryloxyphenyl) propane, 1,10-decanediol dimethacrylate, 1,5-pentanediol dimethacrylate, 1,4-phenylenediacrylate, tricyclodecanedimethanol dimethacryl Rate (available as SR833 from Sartomer/Arkema), tris(2-hydroxyethyl)-isocyanurate triacrylate (available as SR368 from Sartomer/Arkema, for example). Preferably, the curable compound comprises at least one additional component D, and the additional component D generates a radical capable of crosslinking at least one crosslinking component A by a radical chain reaction when irradiated with visible or UV light. do. One of skill in the art can find a number of such ingredients, also called photoinitiators, that meet these conditions, for example in BASF's product catalog under the trade name Irgacure. Examples of the component D forming radicals by irradiation are bis(2,4,6-trimethylbenzoyl)-phenylphosphine oxide, 1-hydroxy-cyclohexyl-phenyl-ketone, 2-hydroxy-2-methyl -1-phenyl-1-propanone, 2-hydroxy-1-{4-[4-(2-hydroxy-2-methyl-propionyl)-benzyl]-phenyl}-2-methylpropane-1- on, 2-hydroxy-1-[4-(2-hydroxy ethoxy)phenyl]-2-methyl-1-propanone, 2,4,6-trimethylbenzoyl diphenylphosphinate, 2,4, 6-trimethylbenzoyl diphenylphosphine oxide, 2-methyl-1[4-(methylthio)phenyl]-2-morpholinopropane-1-on, 2-benzyl-2-dimethylamino-1-(4- Morpholinophenyl)-butanone-1, 2-dimethylamino-2-(4-methyl-benzyl)-1-(4-morpholin-4-yl-phenyl)-butan-1-on or benzophenone .

적어도 하나의 제 2 성분 B는 바람직하게는 적어도 2개의 관능기를 갖는 화합물, 특히 예를 들면 이중 결합에서 마이클 첨가 반응으로 첨가될 수 있는 적어도 2개의 그룹을 갖는 화합물이다. 이들은 특히 아민 그룹, 티올 그룹 또는 포스핀 그룹이다. 적어도 2개의 아민 그룹을 갖는 화합물을 사용하는 것이 특히 바람직하다. 적어도 제 2 성분 B는 바람직하게는 하기 일반 식The at least one second component B is preferably a compound having at least two functional groups, in particular a compound having at least two groups which can be added by Michael addition reaction, for example in a double bond. These are in particular amine groups, thiol groups or phosphine groups. It is particularly preferred to use compounds having at least two amine groups. At least the second component B is preferably the following general formula

R-(NH2)n R-(NH 2 ) n

을 갖는 화합물들에서 선택되며, 상기 식에서 R은 탄화수소 또는 헤테로 원자 함유 다른 유기 모노머, 올리고머 또는 폴리머 화합물일 수 있고, 선형 또는 분지형 사슬, 또는 하나 이상의 치환 또는 비치환된 지방족 또는 방향족 고리 구조로 이루어질 수 있는 그룹일 수 있으며, 상기 그룹에서 적어도 두 곳에서 수소 원자가 아민 그룹으로 치환된다. 이들의 예는 에틸렌디아민, 디에틸렌트리아민, 트리에틸렌테트라아민, 이소포론디아민, 1,6-헥산디아민, 톨루엔디아민, 4,4'-디페닐메탄디아민, 2,4'-디페닐메탄디아민, 1,3-디아미노펜탄, 2,2,4-트리메틸헥산-1, 6-디아민, 1,4-디아미노부탄, 폴리에틸렌 글리콜 디아민, 폴리프로필렌 글리콜 디아민, 또는 Huntsman 사의 상용 제품 Jeffamine D-400 또는 Jeffamine D-2000 또는 Croda 사의 경화제 Priamine 1071, Priamine 1073, Priamine 1074 또는 Priamine 1075이다.It is selected from compounds having, wherein R may be a hydrocarbon or other organic monomer, oligomer or polymer compound containing a hetero atom, and may be a linear or branched chain, or consist of one or more substituted or unsubstituted aliphatic or aromatic ring structures. It may be a group capable of, and at least two hydrogen atoms in the group are substituted with an amine group. Examples of these are ethylenediamine, diethylenetriamine, triethylenetetraamine, isophoronediamine, 1,6-hexanediamine, toluenediamine, 4,4'-diphenylmethanediamine, 2,4'-diphenylmethanediamine , 1,3-diaminopentane, 2,2,4-trimethylhexane-1, 6-diamine, 1,4-diaminobutane, polyethylene glycol diamine, polypropylene glycol diamine, or commercial product Jeffamine D-400 from Huntsman Or Jeffamine D-2000 or Croda's hardener Priamine 1071, Priamine 1073, Priamine 1074 or Priamine 1075.

바람직하게, 경화성 화합물은 적어도 하나의 가교 성분 A와 적어도 하나의 제 2 성분 B 사이의 반응에 촉매 작용을 하는 적어도 하나의 추가 성분 E를 포함한다. 바람직하게는 비-친핵성 염기, 예컨대 3차 아민이 사용된다. 상기 추가 성분 E에 대한 예는 1,8-다이아자바이사이클로[5.4.0]undec-7-en (DBU), 1,5- 다이아자바이사이클로[4.3.0]non-5-en (DBN), 트리에틸렌디아민 (DABCO), 4-(디메틸아미노)피리딘 (DMAP), N,N-디이소프로필에틸아민 (DIPEA) 또는 2,6-Di-tert-부틸 피리딘이다.Preferably, the curable compound comprises at least one further component E which catalyzes the reaction between at least one crosslinking component A and at least one second component B. Preferably non-nucleophilic bases such as tertiary amines are used. Examples for the additional component E are 1,8-diazabicyclo[5.4.0]undec-7-en (DBU), 1,5-diazabicyclo[4.3.0]non-5-en (DBN), Triethylenediamine (DABCO), 4-(dimethylamino)pyridine (DMAP), N,N-diisopropylethylamine (DIPEA) or 2,6-Di-tert-butyl pyridine.

적어도 하나의 제 3 성분 C는 바람직하게는 적어도 2개의 관능기, 특히 에폭사이드 관능기를 갖는 화합물이다. 성분 C에 대한 예는, 비스페놀-A-디글리시딜 에테르 (DGEBA), 및 예컨대 Leuna-Harze 사의 다양한 변형 예에서 상품명 Epilox A로 판매되는 그 올리고머, 비스페놀-F-디글리시딜 에테르, 및 예컨대 Leuna-Harz 사의 상품명 Epilox F로 판매되는 그 올리고머, 1,4-부탄디올 디글리시딜 에테르, 1,6-헥산디올 디글리시딜 에테르, 트리메틸올프로판 트리글리시딜 에테르, 1,3-비스(2,3- 에폭시프로폭시)-2,2-디메틸프로판, 1,2-에폭시-3-(2- 메틸페녹시)프로판, 1,4-비스(2,3-에폭시프로필옥시)부탄, 시클로헥산디메탄올 디글리시딜 에테르, 글리세롤 트리클리시틸 에테르, 네오펜틸 글리콜 디글리시딜 에테르, 펜타에리트리톨 폴리글리시딜 에테르, 폴리에틸렌 글리콜 디글리시딜 에테르, 폴리프로필렌 글리콜 디글리시딜 에테르 또는 에폭시화 식물성 지방이다.At least one third component C is preferably a compound having at least two functional groups, in particular epoxide functional groups. Examples for component C include bisphenol-A-diglycidyl ether (DGEBA), and its oligomers sold under the trade name Epilox A in various variations, such as from the company Leuna-Harze, bisphenol-F-diglycidyl ether, and For example, its oligomer sold under the trade name Epilox F from Leuna-Harz, 1,4-butanediol diglycidyl ether, 1,6-hexanediol diglycidyl ether, trimethylolpropane triglycidyl ether, 1,3-bis (2,3-epoxypropoxy)-2,2-dimethylpropane, 1,2-epoxy-3-(2-methylphenoxy)propane, 1,4-bis(2,3-epoxypropyloxy)butane, Cyclohexanedimethanol diglycidyl ether, glycerol triclisityl ether, neopentyl glycol diglycidyl ether, pentaerythritol polyglycidyl ether, polyethylene glycol diglycidyl ether, polypropylene glycol diglycidyl ether Or epoxidized vegetable fat.

바람직한 실시 예에서, 성분들 A, B 및 C 간의 혼합비는, 적어도 하나의 제 1 영역(i)에서 제 1 및 제 2 이벤트 발생 후 성분들 A, B 및 C의 99% 이상이 형성된 가교 시스템들 중 적어도 하나의 가교 시스템 내로 포함되며, 성분들 A, B 및 C의 관능기의 1% 이하가 남고, 적어도 하나의 제 2 영역(ii)에서 제 2 이벤트의 단독 발생 후 성분들 A, B 및 C의 99% 이상이 제 2 가교 시스템 내로 포함되며, 성분들 A, B 및 C의 관능기의 1% 이하가 남도록, 선택된다.In a preferred embodiment, the mixing ratio between components A, B and C is the crosslinking systems in which 99% or more of components A, B and C are formed after the occurrence of the first and second events in at least one first region (i). Included in at least one of the crosslinking systems, 1% or less of the functional groups of components A, B and C remain, and components A, B and C after the occurrence of the second event alone in at least one second region (ii) It is selected so that at least 99% of is included into the second crosslinking system, and less than 1% of the functional groups of components A, B and C remain.

경화성 화합물은 또한 1 내지 99 중량%, 바람직하게는 20 내지 80 중량%, 더 바람직하게는 40 내지 70 중량%의 비율로 적어도 하나의 충전제 또는 보강재를 포함할 수 있다.The curable compound may also comprise at least one filler or reinforcing material in a proportion of 1 to 99% by weight, preferably 20 to 80% by weight, more preferably 40 to 70% by weight.

제안된 경화성 화합물의 경화는 바람직하게는 적어도 하나의 다른 영역보다 더 높은 가교 밀도를 갖는 화합물의 적어도 일부에서 제 1 가교 시스템을 형성하는 제 1 이벤트가 트리거되고, 화합물의 전체 부피에 걸쳐 제 2 가교 시스템을 형성하는 제 2 이벤트가 트리거되도록 이루어진다.The curing of the proposed curable compound is preferably triggered by a first event forming a first crosslinking system in at least a portion of the compound having a higher crosslinking density than at least one other region, and a second crosslinking over the entire volume of the compound. A second event forming the system is made to be triggered.

제안된 방법에 사용하기에 적합한 경화성 화합물의 예가 이하에 설명된다.Examples of curable compounds suitable for use in the proposed method are described below.

제안된 방법과 제안된 경화성 화합물에 의해, 두 변형 예의 장점이 통합됨으로써, 전자 장치의 분야에서 경질 및 연질 주조 화합물 간의 선택의 딜레마가 피해질 수 있다. 상기 방법에 의해, 가변 경화 주조 화합물로 전자 시스템, 예컨대 반도체 모듈, 센서, 제어 전자 장치, 전력 전자 장치 등의 하우징 없는 주조를 실현하는 것도 가능한데, 그 이유는 경질 외부 층이 하우징의 기능을 수행하기 때문이다. 이것은 예를 들면 입체인쇄술(stereolithography)과 같은 적층 가공 공정에서 공구 없이 완전히 실행될 수 있다. 전자 부품들은 자동차 산업, 백색 가전제품 또는 소비자 가전제품과 같은 많은 분야에 똑같이 사용될 수 있다.With the proposed method and the proposed curable compound, the advantages of the two variants are integrated, thereby avoiding the dilemma of the choice between hard and soft casting compounds in the field of electronic devices. By the above method, it is also possible to realize housingless casting of electronic systems, such as semiconductor modules, sensors, control electronics, power electronics, etc., with a variable hardening casting compound, because the hard outer layer performs the function of the housing. Because. This can be done completely without tools in additive manufacturing processes such as stereolithography, for example. Electronic components can equally be used in many fields, such as the automotive industry, white goods or consumer electronics.

제안된 방법 및 제안된 경화성 화합물은 도면과 함께 실시 예를 참조하여 이하에서 상세히 설명된다.
도 1은 종래 기술에 따라 주조된 부품의 실시 예를 도시하고,
도 2는 본 방법에 따라 주조된 부품의 실시 예를 도시하며,
도 3은 본 방법에 따라 주조된 부품의 다른 실시 예를 도시하고,
도 4는 본 방법에 따라 주조된 부품의 또 다른 실시 예를 도시하며,
도 5는 본 방법에서 사용된 상이한 밀도의 가교 시스템들의 개략도이고,
도 6은 아크릴레이트에 아민의 염기 촉매화된 Aza-마이클 첨가의 개략도이며,
도 7은 제 1 실시 예의 시편의 인장/변형율 다이어그램이고,
도 8은 시편 깊이에 따른 쇼어 경도 A의 곡선을 나타낸 다이어그램이며,
도 9는 제 2 실시 예의 시편의 인장/변형율 다이어그램이고,
도 10은 제 3 실시 예의 시편의 인장/변형율 다이어그램이다.
The proposed method and the proposed curable compound will be described in detail below with reference to examples together with the drawings.
1 shows an embodiment of a part cast according to the prior art,
2 shows an embodiment of a part cast according to the present method,
3 shows another embodiment of a part cast according to the present method,
4 shows another embodiment of a part cast according to the present method,
5 is a schematic diagram of crosslinking systems of different densities used in the present method,
6 is a schematic diagram of base catalyzed Aza-Michael addition of amine to acrylate,
7 is a tensile/strain diagram of the specimen of the first embodiment,
8 is a diagram showing a curve of Shore hardness A according to the depth of the specimen,
9 is a tensile/strain diagram of the specimen of the second embodiment,
10 is a tensile/strain diagram of the specimen according to the third embodiment.

이하의 도면들은 주조 화합물로 전자 부품을 주조하는 다양한 가능성을 나타낸다. 도 1에는 종래 기술에 따른 종래 방법이 도시되어 있고, 이 방법에서 전자 부품(1)은 회로 기판(2) 상에서 하우징(3) 내로 삽입되고, 이어서 하우징(3) 내에서 비교적 연질의 경화성 주조 화합물(4)로 주조된다. 그 후, 하우징(3)은 하우징 커버로 완전히 폐쇄된다.The following figures show various possibilities for casting electronic components from casting compounds. 1 shows a conventional method according to the prior art, in which the electronic component 1 is inserted into the housing 3 on the circuit board 2, and then a relatively soft curable casting compound in the housing 3 It is cast as (4). After that, the housing 3 is completely closed with the housing cover.

본 발명에 따른 방법에서는, 예를 들면 방사선 경화 또는 열 경화와 같은 경화를 위해 사용된 경화 메커니즘에 따라 경화하여 상이한 강성의 또는 밀도의 가교 시스템을 형성할 수 있는 주조 화합물이 사용된다. 이는 각각의 경화 메커니즘의 선택 및 국소 적용을 통해 주조 화합물의 국소적으로 상이한 강성의 설정을 허용한다. 제안된 방법으로, 전자 부품은 주조 화합물의 연질 코어 물질에 의해 둘러싸일 수 있으며, 상기 코어 물질은 동시에 강성 외부 층을 형성한다. 이러한 방식으로, 코어 영역 내의 응력이 완화될 수 있으므로 전자 장치의 손상이 방지될 수 있다. 동시에, 경화된 주조 화합물의 강성 외부 층에 의해, 하우징 기능 또는 하우징 기능의 적어도 일부가 실현될 수 있다.In the method according to the invention, casting compounds are used which can be cured according to the curing mechanism used for curing, for example radiation curing or thermal curing, to form crosslinking systems of different stiffness or density. This allows the setting of locally different stiffness of the casting compound through the selection and topical application of the respective curing mechanism. In the proposed method, the electronic component can be surrounded by a soft core material of a casting compound, which core material simultaneously forms a rigid outer layer. In this way, since the stress in the core region can be relieved, damage to the electronic device can be prevented. At the same time, by means of a rigid outer layer of the cured casting compound, the housing function or at least part of the housing function can be realized.

예컨대, 도 2는 회로 기판(2) 상의 전자 부품(1)이 먼저, 상향 개방 하우징(3) 내로 삽입되는 본 발명에 따른 실시 예를 도시한다. 이어서, 주조 화합물(4)이 하우징 내로 채워지고, 상부 제 1 영역(5)에서 제 1 경화 메커니즘에 의해 경화되어, 더 높은 밀도의 제 1 가교 시스템을 형성한다. 전기 부품(1)을 직접 둘러싸는 제 2 영역(6)에서, 주조 화합물(4)은 제 2 경화 메커니즘에 의해 경화되어, 더 낮은 가교 밀도를 갖는 제 2 가교 시스템을 형성한다. 상부 영역(5) 내의 더 높은 가교 밀도로 인해, 이 영역에서 경화된 주조 화합물은 내부 코어 영역, 즉 제 2 가교 시스템을 갖는 제 2 영역(6)에서보다 훨씬 더 강성이므로, 상기 제 1 영역(5)에 의해 하우징 커버의 기능이 수행될 수 있다. 도 1의 실시 예와 같이 하우징을 폐쇄하기 위한 추가 부품은 필요 없다.For example, FIG. 2 shows an embodiment according to the present invention in which the electronic component 1 on the circuit board 2 is first inserted into the upwardly open housing 3. The casting compound 4 is then filled into the housing and cured by a first curing mechanism in the upper first region 5 to form a higher density first crosslinking system. In a second region 6 directly surrounding the electrical component 1, the casting compound 4 is cured by a second curing mechanism, forming a second crosslinking system with a lower crosslinking density. Due to the higher crosslinking density in the upper region 5, the cast compound cured in this region is much more rigid than in the inner core region, i.e. the second region 6 with a second crosslinking system, so that the first region ( The function of the housing cover can be performed by 5). As in the embodiment of Figure 1, there is no need for an additional part for closing the housing.

제안된 방법에서는, 도 3의 실시 예에 개략적으로 도시된 바와 같은 별도의 하우징이 완전히 생략될 수 있다. 여기서, 회로 기판(2) 상의 전자 부품(1)은 주조 화합물(4)의 제 2 (더 연질의) 영역(6)에 의해 완전히 둘러싸인다. 상기 제 2 영역(6)은 주조 화합물(4)의 제 1 (더 강성의) 영역(5)에 의해 완전히 둘러싸인다. 상기 제 1 영역(5)은 여기서 습기, 먼지, 이물질, 물, 화학 약품 등의 침투로부터 전자 부품(1)을 보호하는 하우징의 기능을 수행한다. 이러한 구성은 적절한 주형으로 주조에 의해 형성할 수 있으며, 그 후 주형은 제거된다. 또 다른 가능성은 회로 기판(2) 상의 전자 부품(1)을 완전히 둘러싸기 위해 주조 화합물(4)이 층별로 도포되어 경화되는 적층 가공 방법을 사용하는 것이다. 이로 인해, 전자 부품의 공구 없는 그리고 하우징 없는 주조가 가능하다. 이러한 적층 가공 방법에서, 경화는 층별로, 즉 각각의 층의 도포 후에 각각 이루어진다.In the proposed method, a separate housing as schematically shown in the embodiment of FIG. 3 may be completely omitted. Here, the electronic component 1 on the circuit board 2 is completely surrounded by the second (softer) region 6 of the cast compound 4. The second area 6 is completely surrounded by the first (more rigid) area 5 of the casting compound 4. The first region 5 here serves as a housing to protect the electronic component 1 from penetration of moisture, dust, foreign matter, water, chemicals, and the like. This configuration can be formed by casting into a suitable mold, after which the mold is removed. Another possibility is to use an additive manufacturing method in which a casting compound 4 is applied layer by layer and cured to completely surround the electronic component 1 on the circuit board 2. This enables tool-free and housing-free casting of electronic components. In this additive manufacturing method, curing takes place layer by layer, ie after each application of each layer.

이러한 적층 가공 기술을 사용하면, 도 4에 개략적으로 도시된 바와 같이, 회로 기판(2) 상의 전자 부품(1)의 윤곽에 가까운 주조가 가능하다. 따라서, 제안된 방법 및 거기서 사용된 구배 주조 화합물에 의해, 전자 부품 또는 부품 그룹의 공구 없는, 하우징 없는 그리고 윤곽에 가까운 주조가 가능하다.Using this additive manufacturing technique, casting close to the contour of the electronic component 1 on the circuit board 2 is possible, as schematically shown in FIG. 4. Thus, with the proposed method and the gradient casting compound used therein, toolless, housingless and near-contour casting of electronic components or groups of parts is possible.

제안된 방법에서, 경화성 화합물은, 상이한 경화 메커니즘에 의해 경화되어 상이한 강성의 가교 시스템을 형성할 수 있는 주조 화합물로서 사용된다. 이러한 화합물의 개발 또는 제공을 위해, 당업자는 다양한 가능성 및 재료 조합을 이용할 수 있다. 다음 실시 예에서, 경화 메커니즘(제 2 경화 메커니즘)이 화합물의 전체 부피에 걸쳐 작용하여 낮은 가교 밀도를 갖는 넓은 메쉬의 가교 시스템을 생성하는 경화성 화합물이 제조된다. 그 결과 얻어지는 재료는 연질 내지 고무 탄성이다. 추가의 경화 또는 가교 메커니즘(제 1 경화 메커니즘)은 국소적으로, 예컨대 표면에서만 작용하며, 높은 가교 밀도를 생성하고, 상기 높은 가교 밀도에 의해 더 강성의 재료가 얻어진다. 이는 도 5에 개략적으로 도시되어 있다. 상부 부분 도면에는, 낮은 가교 밀도를 갖는 가교 시스템(7)이 도시되어 있고, 이 가교 시스템은 제 2 경화 메커니즘에 의해 생성될 수 있으며, 전체 부피에 걸쳐 있고 엘라스토머 물질을 생성한다. 하부 부분 도면에는, 상부 부분 도면의 가교 시스템(7) 내부에 국소적으로 더 높은 가교 밀도를 갖는 영역(8)이 나타나며, 상기 더 높은 가교 밀도는 국소적으로 작용하는 제 1 경화 메커니즘에 의해 얻어지고 강성 재료를 만든다. 경화성 화합물의 가교 성분 A 및 2개의 경화 메커니즘은 제 2 경화 메커니즘이 경화성 화합물의 전체 부피에 걸쳐 작용하는 한편, 제 1 경화 메커니즘은 국소적으로만 작용하도록 선택된다. 상기 두 가지 경화 메커니즘의 조합에 의해, 경화성 화합물의 가교 밀도와 그 강성이 의도대로 제어될 수 있다.In the proposed method, the curable compound is used as a casting compound, which can be cured by different curing mechanisms to form crosslinking systems of different stiffness. For the development or provision of such compounds, one skilled in the art can use a variety of possibilities and combinations of materials. In the following example, a curable compound is prepared in which the curing mechanism (second curing mechanism) acts over the entire volume of the compound to create a wide mesh crosslinking system with a low crosslink density. The resulting material is soft to rubbery elastic. An additional curing or crosslinking mechanism (first curing mechanism) acts locally, for example only on the surface, and produces a high crosslinking density, which results in a more rigid material. This is schematically illustrated in FIG. 5. In the upper partial figure, a crosslinking system 7 with a low crosslinking density is shown, which can be produced by a second curing mechanism, which spans the entire volume and produces an elastomeric material. In the lower partial drawing, a region 8 with a locally higher crosslinking density is shown inside the crosslinking system 7 of the upper partial drawing, the higher crosslinking density obtained by a locally acting first curing mechanism. Makes high and rigid materials. The crosslinking component A and the two curing mechanisms of the curable compound are selected such that the second curing mechanism acts over the entire volume of the curable compound, while the first curing mechanism acts only locally. By the combination of the two curing mechanisms, the crosslinking density of the curable compound and its stiffness can be controlled as intended.

이러한 화합물의 제조 시 유의할 점은 두 메커니즘이 안정적인 최종 상태를 만든다는 것이다. 경화 후, 연질 영역 및 강성 영역에는, 화합물의 후가교를 일으킬 수 있는 많은 양의 반응성 그룹이 남아 있지 않을 수 있다. 모든 성분의 완전한 경화는 변하는 온도에서 장기간 안정성을 위한 전제 조건이다. 가교 밀도를 높이기 위해 필요한 관능기는 예컨대 제 1 경화 단계에서 국소적으로 반응해야 하며 제 2 경화 단계에서 넓은 메쉬의 가교 시스템 내로 들어가야 한다. 그러나 가교 밀도 또는 강성의 증가는 이루어질 수 없다. 따라서, 가교 성분 A로서 사용되는 적어도 하나의 물질은 두 가지 상이한 방식으로 가교 시스템을 형성할 수 있어야 한다.It is important to note in the preparation of these compounds that both mechanisms result in a stable final state. After curing, in the soft region and the rigid region, there may not be a large amount of reactive groups remaining that can cause post-crosslinking of the compound. Complete curing of all components is a prerequisite for long-term stability at varying temperatures. The functional groups required to increase the crosslinking density must react locally, for example in the first curing step and enter into the wide mesh crosslinking system in the second curing step. However, an increase in crosslinking density or stiffness cannot be achieved. Thus, at least one material used as crosslinking component A must be capable of forming a crosslinking system in two different ways.

이러한 경화성 화합물의 적합한 기본 재료의 예는 가교 시스템 형성의 다양한 가능성을 갖는 가교 성분 A로서의 아크릴레이트의 부류이다. 가장 간단한 방법은 라디칼 발생제의 존재하에 열에 의해 또는 자외선에 의해 개시될 수 있는 라디칼 중합이다. 아크릴레이트는 또한 음이온성으로 또는 양이온성으로 중합될 수 있다. 아크릴레이트를 경화시키는 또 다른 메커니즘은 마이클 첨가반응이다. 이는 예컨대 도 6에 도시된 바와 같이, 아크릴레이트의 C-C 이중 결합에 아민의 염기 촉매화된 첨가를 허용한다. 이 변형 예는 라디칼 중합의 경우와는 달리, 아크릴레이트가 다른 아크릴레이트 그룹에 직접 연결되지 않고 제 2 성분 B로서 아민 경화제를 통해 연결되기 때문에, 제안된 방법에 대해 장점을 갖는다. 이는 이러한 유형의 중합에서 가교 밀도가 아민 경화제의 종류에 의해 제어될 수 있고 따라서 라디칼 중합의 가교 밀도와는 현저하게 상이함을 의미한다. 호모폴리머로서 높은 Tg(Tg : 유리 전이 온도)를 갖는 고강성 재료를 형성하는 아크릴레이트와 함께 긴 사슬의, 가요성 아민 경화제를 사용하면, 엘라스토머 특성을 갖는 연질 재료가 생성될 수 있다. 따라서 아크릴레이트에 대한 아민의 마이클 첨가 반응은 전술한 조건을 충족시키는 바람직한 메커니즘이다. 그러나 제안된 방법은 아크릴레이트 또는 상기 메커니즘으로 제한되지 않고, 당업자는 제안된 방법의 조건을 충족시키는 다른 기본 재료 및 메커니즘을 항상 발견할 수 있을 것이다.Examples of suitable base materials for such curable compounds are the class of acrylates as crosslinking component A with various possibilities of forming crosslinking systems. The simplest method is radical polymerization, which can be initiated either by heat or by ultraviolet rays in the presence of a radical generator. Acrylates can also be polymerized anionic or cationic. Another mechanism for curing the acrylate is the Michael addition reaction. This allows for the base catalyzed addition of the amine to the CC double bond of the acrylate, for example as shown in Figure 6. This variant has an advantage over the proposed method, since, unlike in the case of radical polymerization, the acrylate is not directly linked to other acrylate groups but via an amine curing agent as the second component B. This means that in this type of polymerization the crosslinking density can be controlled by the type of amine curing agent and thus is significantly different from the crosslinking density of radical polymerization. When a long chain, flexible amine curing agent is used with an acrylate to form a high rigid material having a high T g (T g: glass transition temperature) as a homopolymer, a soft material having elastomeric properties can be produced. Thus, the reaction of Michael addition of amines to acrylates is a preferred mechanism for meeting the conditions described above. However, the proposed method is not limited to acrylate or the above mechanism, and those skilled in the art will always be able to find other basic materials and mechanisms that meet the conditions of the proposed method.

본 실시 예에서, 아크릴레이트의 라디칼 중합은 강성 재료의 생성을 국소적으로 트리거할 수 있는 메커니즘으로서 선택된다. 이는 열에 의해 활성화되는 것이 아니라 적절한 광 개시제로 UV 조사에 의해 활성화된다. 특히, 전자 부품의 하우징 없는 주조를 위한 주조 화합물의 여기에 제공된 적용에서, 이 변형 예는 명확한 장점을 제공한다. 방사선 경화는 경화성 화합물의 외부 영역에서 라디칼 아크릴레이트 중합의 의도된 트리거를 가능하게 하고, 따라서 나중에 하우징 기능을 할 수 있는 견고한 외피의 생성을 가능하게 한다. 동시에, 방사선 세기 또는 방사선 지속 시간뿐만 아니라 광 개시제의 종류 또는 충전제에 의해서도, UV 방사선의 침투 깊이, 따라서 견고한 외부 층의 두께가 제어될 수 있다.In this embodiment, radical polymerization of acrylates is selected as a mechanism capable of locally triggering the formation of a rigid material. It is not activated by heat, but by UV irradiation with a suitable photo initiator. In particular, in the application provided herein of casting compounds for housingless casting of electronic components, this variant offers clear advantages. Radiation curing enables the intended triggering of radical acrylate polymerization in the outer region of the curable compound, and thus the creation of a rigid sheath that can later function as a housing. At the same time, the depth of penetration of the UV radiation and thus the thickness of the hard outer layer can be controlled, not only by the radiation intensity or the duration of the radiation, but also by the type of photoinitiator or by the filler.

따라서, 조절 가능한 기계적 특성을 갖는 경화성 화합물의 제제에서 아크릴레이트의 라디칼 중합과 아크릴레이트에 아민의 마이클 첨가를 조합하기 위해, 호모폴리머로서 매우 높은 강성 및 강도를 갖는 아크릴레이트 수지(성분 A), 및 적합한 광 개시제(성분 D)가 요구된다. 다른 한편으로, 마이클 첨가의 경우, 엘라스토머 특성을 가진 재료를 상기 방식으로 생성하기 위해 가요성 아민 경화제(성분 B) 및 촉매로서 비-친핵성 강한 염기(성분 E)가 요구된다. 조사된 영역에서 아크릴레이트는 자신과 반응하고, 비조사된 영역에서는 아민 경화제와 반응한다. 따라서 아크릴레이트는 연질 영역 및 강성 영역에서 완전히 소비되어 더 이상 후가교될 수 없다. UV 처리에 의해 강성 재료가 형성된 후에, 미반응된 아민 경화제가 가교 시스템 내에 남는다. 이들은 가능한 후가교와 관련해서 위험하지 않다. 그러나 바람직한 실시 예에서, 이들은 또한 상기 성분들의 세척 및 결과적으로 시간 경과에 따른 재료 특성의 변화를 피하기 위해 가교 시스템에서 결합될 수 있다. 이것은 예컨대 추가 성분 C로서 에폭시 수지를 통해 이루어질 수 있다.Thus, in order to combine the radical polymerization of acrylates and Michael addition of amines to the acrylates in the formulation of curable compounds with adjustable mechanical properties, an acrylate resin (component A) having very high stiffness and strength as a homopolymer, and A suitable photoinitiator (component D) is required. On the other hand, in the case of Michael addition, a flexible amine curing agent (component B) and a non-nucleophilic strong base (component E) as catalyst are required to produce a material with elastomeric properties in this way. In the irradiated area, the acrylate reacts with itself, and in the non-irradiated area, it reacts with the amine curing agent. Thus, the acrylate is completely consumed in the soft and rigid areas and can no longer be post-crosslinked. After the rigid material is formed by UV treatment, the unreacted amine curing agent remains in the crosslinking system. They are not as dangerous as possible with respect to the post-bridge. However, in a preferred embodiment, they can also be combined in a crosslinking system to avoid washing of the components and consequently changing the material properties over time. This can be done, for example, via an epoxy resin as an additional component C.

상업적으로 입수 가능한 다기능 아크릴레이트의 수는 많으며, 예컨대 Sartomer/Arkema 사의 제품 SR834, SR833S 및 SR368 그리고 Evonik 사의 VISIOMER 시리즈 중 일부 유형을 포함한다. 아민 경화제의 선택은 매우 넓으며 많은 화합물을 포함한다. 그 예로는 경화제 DETA, TETA, 2,2,4-트리메틸헥산-1,6-디아민, Sigma-Aldrich 사의 1,4-디아미노부탄 또는 IDPA, Huntsman 사의 경화제 Jeffamine D-400 또는 Jeffamine D-2000 또는 Croda 사의 경화제 Priamine 1071, Priamine 1073, Priamine 1074 또는 Priamine 1075가 있다.The number of commercially available multifunctional acrylates is large, including, for example, products SR834, SR833S and SR368 from Sartomer/Arkema and some types of VISIOMER series from Evonik. The choice of amine curing agent is very wide and includes many compounds. Examples include hardeners DETA, TETA, 2,2,4-trimethylhexane-1,6-diamine, 1,4-diaminobutane from Sigma-Aldrich or IDPA, hardener Jeffamine D-400 or Jeffamine D-2000 from Huntsman, or Croda's hardeners include Priamine 1071, Priamine 1073, Priamine 1074 or Priamine 1075.

전술한 바와 같이, 미반응된 아민 경화제를 가교 시스템에서 결합시키기 위해 제 2 수지 성분이 사용되어야 하면, 조사 후 잔존 아민과 반응할 수 있는, Leuna-Harze 사 및 Ipox-Chemicals 사의 다양한 에폭시드가 제공된다. 이를 위해, 예컨대 Leuna-Harze 사의 제품 Epilox P 13-20, Epilox P 13-26, Epilox P 13-42, Epilox P 13-30 또는 DGEBA 및 Ipox-Chemicals 사의 제품 IPOX ER 15가 사용될 수 있다. 광개시제, 촉진제 및 촉매로는, 예컨대 아크릴레이트의 라디칼 중합을 위한 광 개시제인 BASF 사의 Irgacure 184 또는 Irgacure 819, 아민 에폭시 경화용 촉진제인 Huntsman 사의 Accelerator 960-1 및 마이클 첨가를 위한 촉매로서 비-친핵성 염기인 Sigma-Aldrich 사의 디아자비사이클로노넨(DBN), 디아자비사이클로운데센(DBU), 트리아자비사이클로데센(TBD), 트리에틸렌디아민(DABCO)이 사용될 수 있다.As described above, if the second resin component must be used to bond the unreacted amine curing agent in the crosslinking system, various epoxides from Leuna-Harze and Ipox-Chemicals are provided that can react with the residual amine after irradiation. . For this, for example, products Epilox P 13-20 from Leuna-Harze, Epilox P 13-26, Epilox P 13-42, Epilox P 13-30 or IPOX ER 15 from DGEBA and Ipox-Chemicals may be used. Photoinitiators, accelerators and catalysts include, for example, Irgacure 184 or Irgacure 819 from BASF, which is a photo initiator for radical polymerization of acrylates, Accelerator 960-1 from Huntsman, which is an accelerator for curing amine epoxy, and non-nucleophilic as a catalyst for Michael addition The bases of Sigma-Aldrich's diazabicyclononene (DBN), diazabicyclodecene (DBU), triazabicyclodecene (TBD), triethylenediamine (DABCO) can be used.

본 실시 예에서 선택된 주조 화합물 또는 경화성 화합물의 제제의 주요 성분은 아크릴레이트, 바람직하게는 SR833S, SR368 및 이 둘의 혼합물이다. 이물질 또는 첨가제(아민, 에폭시드, 개시제, 염기 촉매)의 비율이 증가함에 따라, UV 경화가 점점 어려워지고, 이는 노출된 영역에서 강성 또는 강도를 감소시킬 수 있다. 아크릴레이트 1g 당 0.5 내지 0.65g의 이물질의 비율이 특히 바람직한 것으로 나타난다. 상기 이물질은 많은 양의 상이한 아민, 적은 양의 에폭시드 및 매우 적은 양의 개시제/ 촉매제/촉진제로 구성된다. 소정 경화성 화합물을 얻기 위해, 상기 이물질이 합해진 다음, Hauschild 사의 Speedmixer™ DAC400.1 VAC-P(1:30분, 2500 rpm, 20 mbar)와 혼합되었다.The main component of the formulation of the casting compound or curable compound selected in this example is an acrylate, preferably SR833S, SR368, and a mixture of both. As the proportion of foreign substances or additives (amine, epoxide, initiator, base catalyst) increases, UV curing becomes increasingly difficult, which may reduce stiffness or strength in the exposed area. A proportion of 0.5 to 0.65 g of foreign matter per 1 g of acrylate appears to be particularly preferred. The foreign material consists of a large amount of different amines, a small amount of epoxide and a very small amount of initiator/catalyst/accelerator. To obtain the desired curable compound, the foreign substances were combined and then mixed with Hauschild's Speedmixer™ DAC400.1 VAC-P (1:30 min, 2500 rpm, 20 mbar).

시험을 위해, 인장 시험을 위한 시편이 경화성 화합물로 제조되었다. 이를 위해, 경화성 화합물은 인장 로드 형태의 실리콘 주형 내로 충전되었다. 연질 재료를 얻기 위해, 노출되지 않은 샘플이 상이한 경화 온도로 저장되었다. 강성 재료를 얻기 위해, 샘플이 먼저 UV 조사 챔버(UVA-CUBE 2000, Hoehnle, 2000W, 튜브로부터 15cm 거리)에서 조사된 후 오븐에서 저장되었다. 경화 온도 및 경화 지속 시간은 하기의 실시 예에 나타난다. 기계적 및 열적 특성의 차이를 명확히 하기 위해, 이 방식으로 제조된 샘플이 인장 시험되었고, 쇼어 경도 A에 대해 검사되었고, DSC(시차 주사 열량 측정법) 및 DMA (동적 기계 분석)를 이용하여 유리 온도에 대해 검사되었다. 많은 수의 시험 시리즈 중 세 가지 실시 예가 하기에 제시된다.For testing, specimens for tensile testing were made of curable compounds. To this end, the curable compound was filled into a silicone mold in the form of a tensile rod. To obtain a soft material, unexposed samples were stored at different curing temperatures. To obtain a rigid material, the sample was first irradiated in a UV irradiation chamber (UVA-CUBE 2000, Hoehnle, 2000W, 15 cm distance from the tube) and then stored in an oven. The curing temperature and curing duration are shown in the examples below. To clarify the difference in mechanical and thermal properties, samples prepared in this manner were tensile tested, tested for Shore hardness A, and measured at glass temperature using DSC (differential scanning calorimetry) and DMA (dynamic mechanical analysis). Was inspected. Three examples of a large number of test series are presented below.

실시 예 1 :Example 1:

제 1 실시 예에서 SR368이 아크릴레이트 성분으로 사용된다. 상이한 사슬 길이의 아미노 말단 폴리에테르(Jeffamine D-400 및 D-2000) 및 IPDA가 아민 성분으로서 사용된다. 에폭시 수지로서, 제제가 아민 경화제를 결합시키기 위해 지환족 IPOX ER 15와 혼합된다. DBU는 마이클 첨가 반응의 촉매 작용을 위해 사용된다. Irgacure 819가 2mm 두께의 인장 시편의 제조를 위한 광 개시제로서 사용되고, Irgacure 184가 방사선의 침투 깊이에 대한 시험을 위해 사용된다. 이와 같이 제조된 경화성 화합물의 제제는 하기 표에 제시된 조성을 갖는다.In the first embodiment, SR368 is used as an acrylate component. Amino terminal polyethers of different chain lengths (Jeffamine D-400 and D-2000) and IPDA are used as the amine component. As an epoxy resin, the formulation is mixed with an alicyclic IPOX ER 15 to bind the amine curing agent. DBU is used to catalyze the Michael addition reaction. Irgacure 819 is used as a photoinitiator for the manufacture of 2 mm thick tensile specimens, and Irgacure 184 is used for testing the penetration depth of radiation. The formulation of the curable compound thus prepared has the composition shown in the table below.

성분 ingredient amount SR368 SR368 5g 5g IPOX ER 15 IPOX ER 15 0.5g 0.5g Jeffamine D-2000 Jeffamine D-2000 1g 1g Jeffamine D-400 Jeffamine D-400 0.7g 0.7g IPDA IPDA 0.85g 0.85g Irgacure 184 또는 819 Irgacure 184 or 819 10mg 10mg DBU DBU 50mg 50mg

시편 주형을 채운 후, 샘플 절반이 UVA-CUBE 2000에서 2분 동안 조사되는 한편, 다른 절반이 광 조사로부터 보호되었다. 이어서, 모든 샘플이 함께 오븐 내에서 110℃로 2시간 동안, 그리고 180℃로 1시간 동안 경화되었다. 조사 후에, 이전에 투명한 시편이 불투명하게 되며, 이는 중합된 아크릴레이트와 에폭시드 또는 아민 경화제 사이의 상 분리를 나타낸다. 이것은 중합된 아크릴레이트 상이 호모 폴리머의 물리적 및 기계적 특성, 즉 높은 유리 전이 온도 Tg 및 높은 강성을 유지해야 하기 때문에 바람직하다. 열로만 경화된 샘플은 투명성을 유지한다. 즉, 균일한 가교 시스템이 형성된다. 노출된 영역에는 강성의, 경질 재료가 형성되었고, 비노출된 영역에는 연질의 고무 탄성 재료가 형성되었다. 인장 샘플의 측정 결과를 도 7의 인장-변형 다이어그램 및 하기 표에 나타내었다.After filling the specimen mold, half of the sample was irradiated for 2 minutes in UVA-CUBE 2000, while the other half was protected from light irradiation. All samples were then cured together in an oven at 110° C. for 2 hours and 180° C. for 1 hour. After irradiation, the previously transparent specimen becomes opaque, indicating a phase separation between the polymerized acrylate and the epoxide or amine curing agent. This is preferred because the polymerized acrylate phase must maintain the physical and mechanical properties of the homopolymer, i.e. high glass transition temperature T g and high stiffness. Samples cured only by heat remain transparent. That is, a uniform crosslinking system is formed. A rigid, hard material was formed in the exposed area, and a soft rubber elastic material was formed in the unexposed area. The measurement results of the tensile sample are shown in the tensile-strain diagram of FIG. 7 and the table below.

시편 Psalter 인장시험 Tensile test 쇼어 경도 A Shore hardness A DSC DSC DMA DMA 탄성계수
[MPa]
Modulus of elasticity
[MPa]
σB
[MPa]
σ B
[MPa]
εB
[%]
ε B
[%]
Tg
[°C]
T g
[°C]
Tg
[°C]
T g
[°C]
강성 Stiffness 850.1850.1 41.741.7 7.6 7.6 46 46 - - 132.1 132.1 연질 Soft 21.3 21.3 3.6 3.6 130.7 130.7 76 76 10.7 10.7 - -

도면은 UV 및 열 경화에 의한 시편의 높은 강성을 명확하게 나타내며, 순수하게 열 경화된 시편은 높은 탄성을 갖는다. 순수하게 열 경화된 화합물은 엘라스토머와 유사하게, 매우 낮은 강성과 높은 연성을 갖는다. 그러나 화합물이 조사되면, 강성은 연성을 희생시키면서 엄청나게 증가한다. 안정적인 구배에 관한 조건도 이 예시적인 제제에 의해 충족된다. 이를 위해, 시편이 DSC로 2차 반응에 대해 검사되었다. 연질 또는 강성 샘플에서 -75℃ 내지 200℃의 온도 범위에서 2차 반응이 없었다. 따라서, 두 유형의 샘플에서 반응성 그룹이 완전히 소비되므로, 조사에 의해 영구적인 강성 차이가 생성될 수 있다.The figure clearly shows the high stiffness of the specimen by UV and thermal curing, and the purely thermally cured specimen has high elasticity. Purely heat cured compounds have very low stiffness and high ductility, similar to elastomers. However, when the compound is irradiated, the stiffness increases enormously at the expense of ductility. Conditions for a stable gradient are also met by this exemplary formulation. To this end, the specimens were examined for secondary reactions by DSC. There was no secondary reaction in the temperature range of -75°C to 200°C in the soft or rigid samples. Thus, since reactive groups are completely consumed in the two types of samples, permanent stiffness differences can be created by irradiation.

이러한 유형의 제제가 전자 부품의 하우징 없는 주조에 적합한지를 검사하기 위해, 광 개시제 Irgacure 819가 Irgacure 184로 대체되었다. Irgacure 819는 스펙트럼의 가시 범위에 있는 파장을 갖는 조사에 의해 분해되기 때문에 더 두꺼운 층을 경화시키는 데 적합하다. 이와 달리, Irgacure 184는 약 250nm 파장에서 흡수 최대치를 갖는다. 즉, 사용된 수지 시스템의 흡수가 예상되는 범위 내에서 정확하게 나타난다. 이는, 나중에 하우징의 기능을 할 수 있는 얇은 강성 가장자리 층을 생성하기 위해, 관련 파장 범위에서 방사선의 침투 깊이가 가능한 한 낮게 유지되도록 하기 위한 것이다. Irgacure 184를 사용할 때 UV 방사선의 침투 깊이에 대한 조사 지속 시간의 영향을 조사하기 위해, 폴리스티렌 큐벳을 검은 절연 테이프로 감싸고 전술한 제제 3g을 채웠다. 이어서, 상기 샘플을 상이한 길이의 UV 방사선에 노출시킨 다음, 상기 가열 프로그램에 따라 열 경화시켰다. 도 8은 상이한 조사 지속 시간에서 샘플 깊이에 따른 표면 경도의 곡선을 도시한다.To test whether this type of formulation is suitable for housingless casting of electronic components, the photoinitiator Irgacure 819 has been replaced by Irgacure 184. Irgacure 819 is suitable for curing thicker layers because it decomposes by irradiation with wavelengths in the visible range of the spectrum. In contrast, Irgacure 184 has an absorption maximum at a wavelength of about 250 nm. In other words, the absorption of the used resin system appears accurately within the expected range. This is to ensure that the depth of penetration of the radiation in the relevant wavelength range is kept as low as possible in order to create a thin rigid edge layer that can later function as a housing. To investigate the effect of the duration of irradiation on the penetration depth of UV radiation when using Irgacure 184, a polystyrene cuvette was wrapped with black insulating tape and 3 g of the above formulation was filled. The samples were then exposed to different lengths of UV radiation and then thermally cured according to the above heating program. 8 shows curves of surface hardness with sample depth at different irradiation durations.

도 8에서 알 수 있는 바와 같이, UV 방사선의 침투 깊이는 조사 지속 시간의 증가에 따라 증가한다. 약 60 초의 지속 시간에서, 약 4mm 침투 깊이의 포화 값이 달성된다. 강성 영역으로부터 연질 영역으로 전이될 때, 샘플의 표면 경도가 감소한다. 강성 층 아래 몇 밀리미터 후에, 쇼어 경도는 강성 영역보다 30-40 % 낮아진다. 이 시험은, 나중에 하우징 기능을 해야 할 외부 강성 층의 층 두께가 광 개시제의 유형 및 조사 지속 시간에 의해 의도대로 조절될 수 있음을 나타낸다.As can be seen from FIG. 8, the penetration depth of the UV radiation increases with an increase in the irradiation duration. At a duration of about 60 seconds, a saturation value of about 4 mm penetration depth is achieved. When transitioning from the rigid region to the soft region, the surface hardness of the sample decreases. After a few millimeters below the rigid layer, the shore hardness is 30-40% lower than that of the rigid area. This test shows that the layer thickness of the outer rigid layer, which will later function as a housing, can be controlled as intended by the type of photoinitiator and the duration of irradiation.

실시 예 2 :Example 2:

실시 예 2에서, SR368과 SR833S가 아크릴레이트 성분으로서 사용된다. 상이한 사슬 길이의 폴리에테르(Jeffamine D-400 및 D-2000) 및 IPDA가 아민 성분으로서 사용된다. 에폭시 수지로서, 제제 DGEBA는 아민 경화제를 결합시키기 위해 혼합된다. DBU는 마이클 첨가 반응의 촉매 작용을 위해 사용된다. 광 개시제로서 Irgacure 819가 사용된다. 이들 성분으로부터, 경화성 화합물의 하기 제제가 생성된다:In Example 2, SR368 and SR833S were used as acrylate components. Polyethers of different chain lengths (Jeffamine D-400 and D-2000) and IPDA are used as the amine component. As an epoxy resin, the formulation DGEBA is mixed to bind the amine curing agent. DBU is used to catalyze the Michael addition reaction. As a photoinitiator, Irgacure 819 is used. From these components, the following formulations of curable compounds are produced:

성분 ingredient amount SR368 SR368 1 g 1 g SR833S SR833S 4 g 4 g DGEBA DGEBA 0.5 g 0.5 g Jeffamine D-2000 Jeffamine D-2000 1 g 1 g Jeffamine D-400 Jeffamine D-400 0.7 g 0.7 g IPDA IPDA 0.85 g 0.85 g Irgacure 819 Irgacure 819 10 mg 10 mg DBU DBU 50 mg 50 mg

시편 주형을 채운 후에, 샘플 절반이 UVA-CUBE 2000에서 5분 동안 조사되는 한편, 다른 절반은 광 조사로부터 보호되었다. 이어서, 모든 샘플이 함께 오븐에서 110℃로 2시간 동안 그리고 180℃로 2시간 동안 경화되었다. 여기서, 노출된 영역에서, 강성의 투명한 시편이 얻어졌고, 결과적으로 상 분리가 일어나지 않았다. 아크릴레이트 SR833S는 조사 후에 미반응 성분의 더 양호한 혼합 및 통합을 가져왔다. 여기서 투명성은 더 낮은 강성의 표시가 아니며, 이는 도 9 및 하기 표에 나타낸 측정 결과에 의해 입증된다. 도 9는 인장-변형 다이어그램에서 인장 샘플의 측정 결과를 다시 나타낸다.After filling the specimen mold, half of the sample was irradiated for 5 minutes in UVA-CUBE 2000, while the other half was protected from light irradiation. All samples were then cured together in an oven at 110° C. for 2 hours and 180° C. for 2 hours. Here, in the exposed area, a rigid transparent specimen was obtained, and as a result, no phase separation occurred. Acrylate SR833S resulted in better mixing and integration of unreacted components after irradiation. Transparency here is not an indication of lower stiffness, which is evidenced by the measurement results shown in Fig. 9 and the table below. 9 again shows the measurement results of the tensile sample in the tensile-strain diagram.

시편 Psalter 인장 시험 Tensile test 쇼어 경도 A Shore hardness A DSC DSC DMA DMA 탄성계수 [MPa]Modulus of elasticity [MPa] σB
[MPa]
σ B
[MPa]
εB
[%]
ε B
[%]
Tg
[°C]
T g
[°C]
Tg
[°C]
T g
[°C]
강성 Stiffness 606.7606.7 26.8 26.8 7.2 7.2 10 10 - - 116.5 116.5 연질 Soft 0.7 0.7 0.5 0.5 144.1 144.1 70 70 -5.4 -5.4 - -

이 제제는 유리 전이 온도, 쇼어 경도 A 및 탄성 계수에 대한 더 낮은 값으로부터 알 수 있는 바와 같이, 비노출 영역에서 실시 예 1보다 더 연질의 재료를 제공한다. 노출 시편은 경화 후에 더 낮은 강성 또는 강도를 나타내지만, 이는 하우징 기능을 위해 충분하다. SR368과 SR833S의 조합의 큰 장점은 SR833S의 비율 증가에 따라 점도가 감소한다는 것이다. SR833S의 비율에 따라 전체 혼합물의 점도가 조절될 수 있으며, 이는 수축 및 열전도율 면에서 충전제의 사용에 유리할 수 있다. 침투 깊이를 조사하기 위해 제 2 광 개시제인 Irgacure 184를 사용하면, 이 제제에서 실시 예 1과 매우 유사한 결과가 얻어지며, 여기서는 더 이상 강성 영역과 연질 영역이 시각적으로 구별될 수 없다. 노출된 외부 층의 강성은 이 제제에서 개시제의 유형 및 노출 지속 시간에 의해 조절될 수 있다. -75℃와 200℃의 범위에서 2차 반응이 관찰되지 않았다. 즉, 경화가 완료되었고 모든 반응성 그룹이 소비된다.This formulation provides a softer material than Example 1 in the unexposed regions, as can be seen from the lower values for the glass transition temperature, Shore hardness A and modulus of elasticity. Exposed specimens show lower stiffness or strength after curing, but this is sufficient for housing function. The big advantage of the combination of SR368 and SR833S is that the viscosity decreases as the proportion of SR833S increases. Depending on the proportion of SR833S, the viscosity of the entire mixture can be adjusted, which can be advantageous for the use of fillers in terms of shrinkage and thermal conductivity. Using the second photoinitiator, Irgacure 184 to investigate the penetration depth, results very similar to Example 1 in this formulation, where the rigid and soft regions can no longer be visually distinguished. The stiffness of the exposed outer layer can be controlled by the type of initiator in this formulation and the duration of exposure. No secondary reaction was observed in the range of -75°C and 200°C. That is, curing is complete and all reactive groups are consumed.

실시 예 3 :Example 3:

실시 예 3에서, SR833S가 아크릴레이트 성분으로 사용된다. Priamine(올레산의 아민화된 단량체, 2량체 및 3량체의 혼합물; 지방족 주쇄) 및 2,2,4-트리메틸헥산-1,6-디아민이 아민 성분으로서 사용된다. 에폭시 수지로서, 제제 DGEBA가 아민 경화제를 결합시키기 위해 혼합된다. DBU는 마이클 첨가 반응의 촉매 작용을 위해 사용된다. 광 개시제로서 Irgacure 819가 사용된다. 이들 성분으로부터, 경화성 화합물의 하기 제제가 생성된다:In Example 3, SR833S was used as the acrylate component. Priamine (a mixture of aminated monomers of oleic acid, dimers and trimers; aliphatic backbone) and 2,2,4-trimethylhexane-1,6-diamine are used as amine components. As an epoxy resin, the formulation DGEBA is mixed to bind the amine curing agent. DBU is used to catalyze the Michael addition reaction. As a photoinitiator, Irgacure 819 is used. From these components, the following formulations of curable compounds are produced:

성분 ingredient amount SR833S SR833S 5 g 5 g DGEBA DGEBA 0.75 g 0.75 g Priamine 1075 Priamine 1075 0.74 g 0.74 g 2,2,4-트리메틸헥산-1,6-디아민 2,2,4-trimethylhexane-1,6-diamine 1.26 g 1.26 g Irgacure 819 Irgacure 819 10 mg 10 mg DBU DBU 50 mg 50 mg

시편 주형을 채운 후, 샘플 절반이 UVA-CUBE 2000에서 5분 동안 조사되는 한편, 다른 절반은 광 조사로부터 보호되었다. 이어서, 모든 샘플이 함께 오븐에서 110℃로 2 시간 동안 그리고 150℃로 2.5 시간 동안 그리고 180℃로 1 시간 동안 경화되었다. 여기서도 투명한 시편이 얻어진다. 즉, 초과량의 아민/에폭시드가 아크릴레이트 가교 시스템과 혼합될 수 있으며 상 분리가 없다. 인장 샘플의 측정 결과는 도 10 및 하기 표에 제시된다.After filling the specimen mold, half of the sample was irradiated for 5 minutes in UVA-CUBE 2000, while the other half was protected from light irradiation. All samples were then cured together in an oven at 110° C. for 2 hours and 150° C. for 2.5 hours and 180° C. for 1 hour. Here too, a transparent specimen is obtained. That is, excess amine/epoxide can be mixed with the acrylate crosslinking system and there is no phase separation. The measurement results of the tensile samples are presented in Fig. 10 and the table below.

시편 Psalter 인장 시험 Tensile test 쇼어 경도 A Shore hardness A DSC DSC DMA DMA 탄성계수
[MPa]
Modulus of elasticity
[MPa]
σB
[MPa]
σ B
[MPa]
εB
[%]
ε B
[%]
Tg
[°C]
T g
[°C]
Tg
[°C]
T g
[°C]
강성 Stiffness 566 566 20.5 20.5 15.6 15.6 24 24 27.1 및 185.227.1 and 185.2 - - 연질 Soft 4.2 4.2 2.9 2.9 138.6138.6 74 74 12.1 12.1 - -

여기서도 명확한 강성 차이가 달성되고, 그에 따라 제안된 방법에서 주조 화합물로서의 사용이 가능해진다. 여기에서 사용된 지방족 주쇄 아민(Priamine 및 2,2,4-트리메틸헥산-1,6- 디아민)의 이점은 경화된 재료의 더 높은 온도 안정성이다. 주조 화합물의 연질 및 강성 부분은 고온에서 장시간 보관 후에도 그 특성을 유지하며, 이는 실시 예 1 및 실시 예 2에 비해 분명한 장점이다. 100℃ 이상의 온도에서의 사용은 이 제제로 가능해질 수 있다. 여기에서도 -50℃ 내지 250℃ 범위에서 후가교가 관찰되지 않았으며, 이는 모든 성분의 완전한 반응을 나타낸다. 강성 외부 층의 층 두께는 여기서도 노출 지속 시간에 의해 조절될 수 있다.Here too, a clear difference in stiffness is achieved, which makes it possible to use it as a casting compound in the proposed method. The advantage of the aliphatic backbone amines used here (Priamine and 2,2,4-trimethylhexane-1,6-diamine) is the higher temperature stability of the cured material. The soft and rigid parts of the casting compound retain their properties even after long-term storage at high temperatures, which is a clear advantage compared to Examples 1 and 2. Use at temperatures above 100° C. may be made possible with this formulation. Here too, no post-crosslinking was observed in the range of -50°C to 250°C, indicating a complete reaction of all components. The layer thickness of the rigid outer layer can also be controlled here by the duration of the exposure.

지금까지 제안된 화합물들 중 많은 것이 제시된 실시 예들에서 설명되지 않지만, 제안된 방법 및 제안된 경화성 화합물용 상응하는 제제에 사용될 수 있다. 이 화합물들은 모두 경화에 특정한 영향을 미치고 변형을 위해 사용될 수 있다. 예컨대, 아크릴레이트 SR834 및 베이스 DBN 및 DABCO는 전술한 실시 예에 비해 경화 반응을 늦추기 위해 사용되며, 다른 화합물들은 일반적으로 반응을 촉진하는데 적합하다. 일부 에폭시드의 사용에 의해, 두 영역의 강성과 강도가 변경될 수 있으며, 이는 중요한 조절 나사이기도 하다. 모든 화합물은 개발된 제제에서 그들 자신의 유용성을 가지며, 따라서 여기에 제시된 실시 예와는 무관하게 본 발명에 따라 사용될 수 있다.Many of the compounds proposed so far are not described in the examples presented, but can be used in the proposed method and in the corresponding formulation for the proposed curable compound. All of these compounds have a specific effect on curing and can be used for modification. For example, acrylate SR834 and base DBN and DABCO are used to slow the curing reaction compared to the examples described above, and other compounds are generally suitable for accelerating the reaction. With the use of some epoxides, the stiffness and strength of the two areas can be changed, which is also an important adjustment screw. All compounds have their own utility in the formulations developed and thus can be used according to the invention irrespective of the examples presented herein.

요약하면, 이러한 제제는 가변의 기계적 특성을 갖는 주조 화합물 또는 경화성 화합물로서 사용될 수 있음을 언급할 수 있다. UV 광선 또는 가시광선을 조사함으로써, 화합물의 강성이 의도대로 제어될 수 있으며 특히 국소적으로 생성될 수 있다. 동시에, 실시 예 1에서 관련 방사선의 침투 깊이(강성 영역의 층 두께)가 광개시제의 유형 및 조사 강도 및 조사 지속 시간에 의해 제어될 수 있음이 나타난다. 따라서, 일종의 하우징 기능이 조사에 의해 생성될 수 있는 한편, 화합물의 내부는 부드럽고 전자 장치는 가능한 한 응력 없이 둘러싸이게 된다. 적용 조건은 경화성 화합물의 모든 성분의 완전한 경화이며, 기본 성분들은 바람직하게는 시간적으로 제 1 경화 단계 (예컨대, UV; 제 1 경화 메커니즘)에서 국소 가교되고, 후속하는 제 2 경화 단계(예컨대, 열에 의해; 제 2 경화 메커니즘)에서 강성 증가 없이 넓은 메쉬의 가교 시스템 내로 들어가야 한다. 이 조건은 예컨대 광 유도 아크릴레이트 가교 및 염기 촉매화된 마이클 첨가의 조합에 의해 충족될 수 있다. 물론, 당업자라면 상기 조건을 충족시키는 경화성 화합물의 다른 메커니즘 및/또는 성분 또는 제제를 용이하게 찾을 수 있을 것이다.In summary, it may be mentioned that these formulations can be used as casting compounds or curable compounds having variable mechanical properties. By irradiating with UV light or visible light, the stiffness of the compound can be controlled as intended and can be produced particularly locally. At the same time, it is shown in Example 1 that the penetration depth of the relevant radiation (layer thickness in the rigid region) can be controlled by the type of photoinitiator and the irradiation intensity and irradiation duration. Thus, while a kind of housing function can be created by irradiation, the interior of the compound is smooth and the electronic device is enclosed without stress as much as possible. The application conditions are complete curing of all components of the curable compound, and the basic components are preferably locally crosslinked in time in a first curing step (e.g. UV; first curing mechanism), followed by a second curing step (e.g., to heat). By; in the second curing mechanism) it should enter into the wide mesh crosslinking system without increasing the stiffness. This condition can be met, for example, by a combination of light induced acrylate crosslinking and base catalyzed Michael addition. Of course, those skilled in the art will be able to readily find other mechanisms and/or components or formulations of curable compounds that meet the above conditions.

개발된 제제는 바람직하게는 경화 동안 생성된 수축 및 관련 응력이 최소이도록 선택되어야 한다. 또한, 전자 부품은 일반적으로 방출되어야 할 열을 발생시킨다. 이 시점에서, 충전제의 사용이 바람직할 수 있다. 전자 분야에서는, 일반적으로 전기 절연성, 열 전도성 충전제가 유용하다. 이들은 예컨대, 석영, 알루미늄 화합물(산화물, 수산화물, 베마이트, 질화물), 질화 붕소 및 탄화 규소를 포함한다. 상기 충전제를 사용한 많은 실험 결과, 60 중량% 이상의 충전제 함량에서 상당한 수축 감소 및 열전도율의 증가가 나타났다. 주조 화합물의 최대 가공 점도는 1000-10000 mPa*s이며, 이는 높은 실제 충전 레벨에서도 여기에서 제안된 제제로 달성될 수 있다.The formulations developed should preferably be selected so that the shrinkage and associated stresses produced during curing are minimal. In addition, electronic components generally generate heat that must be dissipated. At this point, the use of fillers may be desirable. In the field of electronics, generally electrically insulating, thermally conductive fillers are useful. These include, for example, quartz, aluminum compounds (oxides, hydroxides, boehmite, nitride), boron nitride and silicon carbide. A number of experiments using the above filler have shown significant shrinkage reduction and increase in thermal conductivity at filler content of 60% by weight or more. The maximum processing viscosity of the casting compound is 1000-10000 mPa*s, which can be achieved with the formulation proposed here even at high actual filling levels.

제안된 방법에서, 경화성 화합물의 하나의 동일한 제제로부터, 열적 및 기계적 특성과 관련해서 완전히 상이한 2개의 재료가 제조된다. 따라서, 저온에서 연질 상이 명확한 유리 전이를 갖는 전자 부품용 하우징이 실현될 수 있는 반면, 강성 상에서 예컨대 110℃ 이상의 유리 전이 온도가 달성된다. 표면 경도 및 강성의 관점에서, 상당히 상이한 특성이 얻어진다. 따라서, 상기 방법은 주조 화합물의 내부가 부드럽게 유지되는 동안, 주조 화합물로부터 하우징 기능을 갖는 전자 부품 또는 부품 그룹의 주조를 허용한다. 이러한 하우징 기능은 특정 실시 예에서 초 범위의 짧은 조사 단계에 의해 생성될 수 있다.In the proposed method, from one and the same formulation of the curable compound, two materials that are completely different in terms of thermal and mechanical properties are prepared. Accordingly, a housing for an electronic component having a clear glass transition of the soft phase at low temperature can be realized, while a glass transition temperature of, for example, 110° C. or higher on the rigid phase is achieved. In terms of surface hardness and stiffness, considerably different properties are obtained. Thus, the method allows the casting of an electronic component or group of parts having a housing function from the casting compound while the interior of the casting compound is kept smooth. Such housing functions may be created by short irradiation steps in the second range in certain embodiments.

1 전자 부품
2 회로 기판
3 하우징
4 주조 화합물
5 제 1 영역
6 제 2 영역
7 낮은 가교 밀도를 갖는 가교 시스템
8 높은 가교 밀도를 갖는 가교 시스템
1 electronic components
2 circuit board
3 housing
4 casting compound
5 first area
6 second area
7 Crosslinking system with low crosslinking density
8 Crosslinking system with high crosslinking density

Claims (20)

전자 부품(1) 또는 부품 그룹이 주조 화합물(4) 내로 매립되고, 상기 주조 화합물은 적어도 하나의 가교 공정을 통해 경화되는, 상기 전자 부품 또는 상기 부품 그룹의 주조 방법으로서,
- 적어도 하나의 가교 성분 A를 포함하는 주조 화합물(4)이 사용되고, 상기 가교 성분 A는 상기 주조 화합물(4)에 균일하게 분포되며, 가교되어 적어도 2개의 상이한 가교 시스템을 형성할 수 있고, 상기 가교 시스템들 중 제 1 가교 시스템(8)은 적어도 하나의 가교 성분 A만으로 형성되며, 상기 제 1 가교 시스템(8)으로의 적어도 부분적인 가교는 상기 주조 화합물(4)의 적어도 하나의 제 1 영역(5)에서 제 1 이벤트를 통해 트리거될 수 있고,
- 상기 주조 화합물(4)은 적어도 하나의 제 2 성분 B를 포함하며, 상기 제 2 성분 B는 상기 주조 화합물(4) 내에 균일하게 분포되고, 상기 적어도 하나의 가교 성분 A는 상기 제 2 성분 B와 함께 상기 적어도 2개의 상이한 가교 시스템 중 제 2 가교 시스템(7)을 형성할 수 있으며, 상기 제 2 가교 시스템(7)은 상기 제 1 가교 시스템(8)보다 더 낮은 가교 밀도를 갖고, 상기 제 2 가교 시스템(7)으로의 가교는, 상기 제 1 가교 시스템(8)이 형성되지 않았거나 또는 부분적으로만 형성되었던 상기 주조 화합물(4)의 적어도 하나의 제 2 영역(6)에서 제 2 이벤트를 통해 트리거될 수 있으며,
- 상기 주조 화합물(4)은 또한 적어도 하나의 제 3 성분 C를 포함하고, 상기 제 3 성분 C는 상기 주조 화합물(4) 내에 균일하게 분포되며, 상기 제 1 가교 시스템(8)으로의 상기 적어도 부분적인 가교 후에 상기 제 1 영역(5) 및 제 2 영역(6)에서 상기 적어도 하나의 제 2 성분 B의 아직 가교되지 않은 부분과 반응하여 추가의 가교 시스템을 형성하고, 상기 제 3 성분 C와 상기 제 2 성분 B의 반응은 상기 제 2 이벤트에 의해 트리거되며,
- 상기 주조 화합물(4)의 상기 적어도 하나의 가교 성분 A는, 제 1 영역(5)으로서 상기 전자 부품(1) 또는 상기 전자 부품 그룹으로부터 떨어져 있는 적어도 하나의 영역에서 경화되어 적어도 부분적으로 상기 제 1 가교 시스템(8)을 형성하고, 적어도 제 2 영역(6)으로서 상기 전자 부품(1) 또는 상기 전자 부품 그룹을 포함하여 직접 둘러싸는 영역에서 경화되어 상기 제 2 가교 시스템(7)을 형성하는 전자 부품 또는 부품 그룹의 주조 방법.
An electronic component (1) or a group of parts is embedded into a casting compound (4), and the casting compound is cured through at least one crosslinking process, the method comprising:
-A casting compound (4) comprising at least one crosslinking component A is used, and the crosslinking component A is uniformly distributed in the casting compound (4), and can be crosslinked to form at least two different crosslinking systems, the Of the crosslinking systems, the first crosslinking system (8) is formed only of at least one crosslinking component A, and at least partial crosslinking with the first crosslinking system (8) is at least one first region of the cast compound (4). It can be triggered through the first event in (5),
-The casting compound (4) contains at least one second component B, the second component B is uniformly distributed in the casting compound (4), and the at least one crosslinking component A is the second component B Together with one of the at least two different crosslinking systems, the second crosslinking system 7 has a lower crosslinking density than the first crosslinking system 8, and the first crosslinking system 2 Crosslinking with the crosslinking system 7 is a second event in at least one second region 6 of the casting compound 4 in which the first crosslinking system 8 has not been formed or has been formed only partially. Can be triggered via
-Said casting compound (4) also comprises at least one third component C, said third component C being uniformly distributed in said casting compound (4), said at least in said first crosslinking system (8) After partial crosslinking reacts with the uncrosslinked portion of the at least one second component B in the first region 5 and the second region 6 to form an additional crosslinking system, and with the third component C The reaction of the second component B is triggered by the second event,
-The at least one crosslinking component A of the casting compound (4) is cured in at least one region away from the electronic component (1) or the electronic component group as a first region (5) to at least partially 1 forming a crosslinking system 8 and being cured in a region directly enclosing the electronic component 1 or the electronic component group as at least a second region 6 to form the second crosslinking system 7 A method of casting an electronic component or group of parts.
제 1 항에 있어서, 상기 적어도 하나의 가교 성분 A 및 상기 적어도 하나의 제 2 성분 B는, 탄성률이 상이한 2개의 가교 시스템이 적어도 팩터 2만큼 상이하도록 선택되는 것을 특징으로 하는 전자 부품 또는 부품 그룹의 주조 방법.The electronic component or component group according to claim 1, wherein the at least one crosslinking component A and the at least one second component B are selected such that two crosslinking systems having different modulus of elasticity are different by at least a factor 2. Casting method. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 주조될 상기 전자 부품(1) 또는 상기 전자 부품 그룹이 상향 개방 하우징(3) 내로 도입되고, 이어서 상기 전자 부품(1) 또는 상기 전자 부품 그룹을 상기 주조 화합물(4)로 주조하기 위해, 상기 주조 화합물(4)이 상기 하우징(3) 내로 충전되고, 상기 주조 화합물(4)의 상기 적어도 하나의 가교 성분 A가 상기 주조 화합물(4)의 상부 경계면을 포함하는, 제 1 영역(5)으로서의 영역에서 적어도 부분적으로 경화되어 상기 제 1 가교 시스템(8)을 형성하고, 적어도 제 2 영역(6)으로서의 나머지 영역에서 경화되어 상기 제 2 가교 시스템(7)을 형성하는 것을 특징으로 하는 전자 부품 또는 부품 그룹의 주조 방법.3. The electronic component (1) or the electronic component group to be cast is introduced into an upwardly open housing (3), and then the electronic component (1) or the electronic component group is transferred to the casting compound. For casting into (4), the casting compound (4) is filled into the housing (3), and the at least one crosslinking component A of the casting compound (4) comprises the upper interface of the casting compound (4). Which is cured at least partially in the region as the first region 5 to form the first crosslinking system 8, and at least in the remaining region as the second region 6 to form the second crosslinking system 7 A method for casting an electronic component or group of parts, characterized in that for forming. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 상기 가교 성분 A는 제 1 영역(5)으로서 상기 주조 화합물(4)의 층에서 경화되어 상기 제 1 가교 시스템(8)을 형성하고, 상기 가교 성분 A는 상기 주조 화합물(4)의 외부 경계면을 형성하며, 상기 전자 부품(1) 또는 상기 전자 부품 그룹과 함께 상기 제 2 영역(6)을 완전히 둘러싸는 것을 특징으로 하는 전자 부품 또는 부품 그룹의 주조 방법.The crosslinking component A according to claim 1 or 2, wherein the crosslinking component A is cured in a layer of the casting compound (4) as a first region (5) to form the first crosslinking system (8), wherein the crosslinking component A is Forming an outer interface of the casting compound (4) and completely surrounding the second region (6) with the electronic component (1) or the group of electronic components. 제 4 항에 있어서, 상기 주조 화합물(4)은 상기 전자 부품(1) 또는 상기 전자 부품 그룹의 주조 시에 성형 및 경화되어, 경화된 주조 화합물(4)의 외형이 상기 전자 부품(1) 또는 상기 전자 부품 그룹의 윤곽에 근접해지는 것을 특징으로 하는 전자 부품 또는 부품 그룹의 주조 방법.The electronic component (1) or the electronic component group according to claim 4, wherein the casting compound (4) is molded and cured at the time of casting of the electronic component (1) or the electronic component group, so that the appearance of the cured casting compound (4) is the electronic component (1) or An electronic component or component group casting method, characterized in that the electronic component or component group is brought close to a contour of the electronic component group. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 상기 주조 화합물(4)은 상기 전자 부품(1) 또는 상기 전자 부품 그룹의 주조 시에 적층 가공 방법으로 층별로 도포되어 경화되는 것을 특징으로 하는 전자 부품 또는 부품 그룹의 주조 방법. The electronic component or component according to claim 1 or 2, wherein the casting compound (4) is applied and cured layer by layer by an additive manufacturing method at the time of casting the electronic component (1) or the electronic component group. The group's casting method. 제 1 항 또는 제 2 항에 따른 방법에서 주조 화합물(4)로서 사용될 수 있는 경화성 화합물로서, 상기 경화성 화합물은
- 적어도 하나의 가교 성분 A을 포함하고, 상기 가교 성분 A는 상기 경화성 화합물 내에 균일하게 분포되며, 가교되어 적어도 2개의 상이한 가교 시스템을 형성할 수 있고, 상기 가교 시스템들 중 제 1 가교 시스템(8)은 상기 적어도 하나의 가교 성분 A만으로 형성되며, 상기 경화성 화합물의 적어도 제 1 영역(i)에서 상기 제 1 가교 시스템(8)으로의 적어도 부분적인 가교는 제 1 이벤트를 통해 트리거될 수 있고,
- 적어도 하나의 제 2 성분 B을 포함하며, 상기 제 2 성분 B는 상기 경화성 화합물 내에 균일하게 분포되고, 상기 적어도 하나의 가교 성분 A은 상기 제 2 성분 B와 함께 상기 적어도 2개의 상이한 가교 시스템 중 제 2 가교 시스템(7)을 형성할 수 있으며, 상기 제 2 가교 시스템(7)은 상기 제 1 가교 시스템(8)보다 더 낮은 가교 밀도를 갖고, 상기 제 2 가교 시스템(7)으로의 가교는, 상기 제 1 가교 시스템(8)이 형성되지 않았거나 또는 부분적으로만 형성되었던 상기 경화성 화합물의 적어도 하나의 제 2 영역(ⅱ)에서 제 2 이벤트를 통해 트리거될 수 있으며,
- 적어도 하나의 제 3 성분 C을 포함하고, 상기 제 3 성분 C는 상기 경화성 화합물 내에 균일하게 분포되며 상기 제 1 가교 시스템(8)으로의 상기 적어도 부분적인 가교 후에 상기 제 1 영역(i) 및 제 2 영역(ii)에서 상기 적어도 하나의 제 2 성분 B의 아직 가교되지 않은 부분과 반응하여 추가의 가교 시스템을 형성하고, 상기 제 3 성분 C과 상기 제 2 성분 B의 반응은 상기 제 2 이벤트에 의해 트리거되는, 경화성 화합물.
As a curable compound that can be used as the casting compound (4) in the method according to claim 1 or 2, the curable compound is
-Contains at least one crosslinking component A, wherein the crosslinking component A is uniformly distributed in the curable compound, can be crosslinked to form at least two different crosslinking systems, the first of the crosslinking systems (8 ) Is formed only of the at least one crosslinking component A, and at least partial crosslinking of the curable compound from at least the first region (i) to the first crosslinking system 8 can be triggered through a first event,
-At least one second component B is included, wherein the second component B is uniformly distributed in the curable compound, and the at least one crosslinking component A is, together with the second component B, of the at least two different crosslinking systems. A second crosslinking system 7 can be formed, the second crosslinking system 7 has a lower crosslinking density than the first crosslinking system 8, and crosslinking with the second crosslinking system 7 , The first crosslinking system 8 may be triggered through a second event in at least one second region (ii) of the curable compound in which no or only partially formed,
-At least one third component C, wherein the third component C is uniformly distributed in the curable compound and after the at least partial crosslinking with the first crosslinking system 8 the first region (i) and In a second region (ii) reacts with the uncrosslinked portion of the at least one second component B to form an additional crosslinking system, and the reaction of the third component C with the second component B is the second event Triggered by, curable compounds.
제 7 항에 있어서, 상기 가교 성분 A, 상기 제 2 성분 B 및 상기 제 3 성분 C는 상기 제 1 영역(i) 및 제 2 영역(ii)의 탄성률이 적어도 팩터 2만큼 상이하도록 선택되는 것을 특징으로 하는 경화성 화합물.The method of claim 7, wherein the crosslinking component A, the second component B, and the third component C are selected so that the elastic modulus of the first region (i) and the second region (ii) differ by at least a factor 2. Curable compound made into. 제 7 항에 있어서, 상기 제 1 이벤트는 가시광선 또는 UV-광으로의 처리인 것을 특징으로 하는 경화성 화합물.8. The curable compound of claim 7, wherein the first event is treatment with visible light or UV-light. 제 7 항에 있어서, 상기 제 2 이벤트는 열처리인 것을 특징으로 하는 경화성 화합물.8. The curable compound of claim 7, wherein the second event is a heat treatment. 제 7 항에 있어서, 상기 적어도 하나의 가교 성분 A는 이중 결합을 갖는 적어도 2개의 관능기를 갖는 화합물인 것을 특징으로 하는 경화성 화합물.The curable compound according to claim 7, wherein the at least one crosslinking component A is a compound having at least two functional groups having a double bond. 제 7 항에 있어서, 상기 경화성 화합물은 적어도 하나의 추가 성분 D를 포함하고, 상기 추가 성분 D는 가시광선 또는 UV-광으로 조사할 때, 상기 적어도 하나의 가교 성분 A를 라디칼 연쇄 반응에 의해 가교할 수 있는 라디칼들을 생성하는 것을 특징으로 하는 경화성 화합물.The method of claim 7, wherein the curable compound comprises at least one additional component D, and when the additional component D is irradiated with visible or UV-light, the at least one crosslinking component A is crosslinked by a radical chain reaction. Curable compound, characterized in that it generates radicals capable of. 제 12 항에 있어서, 조사에 의해 라디칼을 형성하는 상기 적어도 하나의 성분 D는 비스(2,4,6-트리메틸벤조일)-페닐포스핀옥사이드, 1-하이드록시-시클로헥실-페닐-케톤 또는 벤조페논인 것을 특징으로 하는 경화성 화합물.The method of claim 12, wherein the at least one component D forming a radical by irradiation is bis(2,4,6-trimethylbenzoyl)-phenylphosphine oxide, 1-hydroxy-cyclohexyl-phenyl-ketone or benzo. A curable compound characterized in that it is phenone. 제 7 항에 있어서, 상기 적어도 하나의 제 2 성분 B는 아민 그룹을 갖는 적어도 2개의 관능기를 갖는 화합물인 것을 특징으로 하는 경화성 화합물.8. The curable compound according to claim 7, wherein the at least one second component B is a compound having at least two functional groups having an amine group. 제 14 항에 있어서, 상기 경화성 화합물은 추가 성분 E를 포함하고, 상기 추가 성분 E는 상기 적어도 하나의 가교 성분 A와 상기 적어도 하나의 제 2 성분 B 간의 반응에 촉매 작용을 하는 것을 특징으로 하는 경화성 화합물.The curable compound according to claim 14, wherein the curable compound comprises an additional component E, and the additional component E catalyzes the reaction between the at least one crosslinking component A and the at least one second component B. compound. 제 7 항에 있어서, 상기 적어도 하나의 제 3 성분 C는 에폭시 기능을 갖는 적어도 2개의 관능기를 갖는 화합물인 것을 특징으로 하는 경화성 화합물.The curable compound according to claim 7, wherein the at least one third component C is a compound having at least two functional groups having an epoxy function. 제 7 항에 있어서, 상기 성분 A, 상기 성분 B 및 상기 성분 C 사이의 혼합비는, 상기 적어도 하나의 제 1 영역(i)에서 상기 제 1 및 제 2 이벤트의 발생 후에 상기 성분 A, 상기 성분 B 및 상기 성분 C의 적어도 99%가 형성된 가교 시스템들 중 적어도 하나의 가교 시스템 내로 혼입되며 상기 성분 A, 상기 성분 B 및 상기 성분 C의 관능기의 1% 이하가 잔존하고, 상기 적어도 하나의 제 2 영역(ii)에서 상기 제 2 이벤트의 단독 발생 후에 상기 성분 A, 상기 성분 B 및 상기 성분 C의 적어도 99%가 상기 제 2 가교 시스템(7) 내로 혼입되며 상기 성분 A, 상기 성분 B 및 상기 성분 C의 관능기의 1% 이하가 잔존하도록, 선택되는 것을 특징으로 하는 경화성 화합물.The method of claim 7, wherein the mixing ratio between the component A, the component B and the component C is the component A, the component B after the occurrence of the first and second events in the at least one first region (i). And at least 99% of the component C is incorporated into at least one of the crosslinking systems formed, and 1% or less of the functional groups of the component A, the component B, and the component C remain, and the at least one second region In (ii) at least 99% of the component A, the component B and the component C are incorporated into the second crosslinking system 7 after the sole occurrence of the second event and the component A, the component B and the component C A curable compound, characterized in that it is selected so that 1% or less of the functional groups remain. 제 7 항에 있어서, 상기 경화성 화합물은 적어도 하나의 충전제 또는 보강재를 1 내지 99 중량%의 비율로 포함하는 것을 특징으로 하는 경화성 화합물.The curable compound according to claim 7, wherein the curable compound contains at least one filler or reinforcing material in an amount of 1 to 99% by weight. 삭제delete 삭제delete
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