KR102230124B1 - Photosensitive resin composition for light extraction, organic light emitting display device and method of manufacturing the same - Google Patents

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Abstract

광추출용 감광성 수지 조성물, 유기 발광 표시 장치 및 유기 발광 표시 장치 제조 방법이 제공된다. 본 발명의 일 실시예에 따른 광추출용 감광성 수지 조성물은 알칼리 가용성 수지, 불포화성 에틸렌계 모노머, 광추출용 분산액, 광중합 개시제 및 용매를 포함한다. 광추출용 분산액은 광추출을 위한 분산 입자를 갖는다. 광추출용 감광성 수지 조성물은 그 자체가 감광성 물질로 이루어지므로, 광추출용 감광성 수지 조성물을 사용하여 유기 발광 표시 장치의 광산란층을 제조하는 경우 보다 단순한 공정이 사용될 수 있으며, 패터닝된 형상의 광산란층의 제조가 가능하다.A photosensitive resin composition for light extraction, an organic light emitting display device, and a method of manufacturing an organic light emitting display device are provided. The photosensitive resin composition for light extraction according to an embodiment of the present invention includes an alkali-soluble resin, an unsaturated ethylenic monomer, a dispersion for light extraction, a photopolymerization initiator, and a solvent. The dispersion for light extraction has dispersed particles for light extraction. Since the photosensitive resin composition for light extraction itself is made of a photosensitive material, a simpler process can be used when manufacturing the light-scattering layer of an organic light-emitting display device using the photosensitive resin composition for light extraction, and a patterned light-scattering layer It is possible to manufacture.

Description

광추출용 감광성 수지 조성물, 유기 발광 표시 장치 및 유기 발광 표시 장치 제조 방법{PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION FOR LIGHT EXTRACTION, ORGANIC LIGHT EMITTING DISPLAY DEVICE AND METHOD OF MANUFACTURING THE SAME}A photosensitive resin composition for light extraction, an organic light emitting display device, and a method of manufacturing an organic light emitting display device {PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION FOR LIGHT EXTRACTION, ORGANIC LIGHT EMITTING DISPLAY DEVICE AND METHOD OF MANUFACTURING THE SAME}

본 발명은 광추출용 감광성 수지 조성물, 유기 발광 표시 장치 및 유기 발광 표시 장치 제조 방법에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 유기 발광 표시 장치의 광추출 효율을 향상시키는 광산란층을 형성하기 위한 포토 패터닝이 가능한 광추출용 감광성 수지 조성물과 이를 사용한 유기 발광 표시 장치 및 유기 발광 표시 장치 제조 방법에 관한 것이다.The present invention relates to a photosensitive resin composition for light extraction, an organic light emitting display device, and a method of manufacturing an organic light emitting display device, and more particularly, photo patterning is possible to form a light scattering layer that improves light extraction efficiency of the organic light emitting display device. The present invention relates to a photosensitive resin composition for light extraction, an organic light emitting display device using the same, and a method of manufacturing an organic light emitting display device.

유기 발광 표시 장치는 자체 발광형 표시 장치로서, 액정 표시 장치와는 달리 별도의 광원이 필요하지 않아 경량 박형으로 제조 가능하다. 또한, 유기 발광 표시 장치는 저전압 구동에 의해 소비 전력 측면에서 유리할 뿐만 아니라, 색상 구현, 응답 속도, 시야각, 명암 대비비(contrast ratio; CR)도 우수하여, 차세대 디스플레이로서 연구되고 있다.The organic light-emitting display device is a self-emission type display device, and unlike a liquid crystal display device, since a separate light source is not required, it can be manufactured in a lightweight and thin form. In addition, the organic light emitting display device is not only advantageous in terms of power consumption by low voltage driving, but also has excellent color realization, response speed, viewing angle, and contrast ratio (CR), and thus is being studied as a next-generation display.

바텀 에미션(bottom emission) 방식의 유기 발광 표시 장치는 유기 발광 소자에서 발광된 빛이 유기 발광 표시 장치 하부로 방출되는 유기 발광 표시 장치를 의미하는 것으로서, 유기 발광 소자에서 발광된 빛이 유기 발광 표시 장치를 구동하기 위한 박막 트랜지스터가 형성된 기판의 하면 방향으로 방출되는 유기 발광 표시 장치를 의미한다. 바텀 에미션 방식의 유기 발광 표시 장치의 유기 발광층에서 발광된 광은 광의 전파 경로를 기준으로 크게 ITO/organic 모드(이하, 'ITO 모드'라 함), 기판(substrate) 모드 및 공기(air) 모드로 나눌 수 있다. 공기 모드는 유기 발광층에서 발광된 광 중 유기 발광 표시 장치 외부로 추출되는 광을 지칭하고, 기판 모드는 유기 발광층에서 발광된 광 중 기판에서의 전반사에 의해 유기 발광 표시 장치 내부에 갇히는 광을 지칭하고, ITO 모드는 유기 발광층에서 발광된 광 중 일반적으로 ITO로 형성되는 애노드에서의 전반사에 의해 유기 발광 표시 장치 내부에 갇히는 광을 지칭한다. 바텀 에미션 방식의 유기 발광 표시 장치에서 ITO 모드로서 유기 발광 표시 장치 내부에 갇히는 광은 유기 발광층에서 발광된 광 중 약 50%이고, 기판 모드로서 유기 발광 표시 장치 내부에 갇히는 광은 유기 발광층에서 발광된 광 중 약 30%인 바, 유기 발광층에서 발광된 광 중 약 80%의 광이 유기 발광 표시 장치 내부에 갇히게 되고, 약 20%의 광만이 외부로 추출되어, 유기 발광 표시 장치의 광 추출 효율을 향상시키는 것은 매우 중요한 연구 분야이다.The bottom emission type organic light-emitting display device refers to an organic light-emitting display device in which light emitted from an organic light-emitting device is emitted below the organic light-emitting display device, and the light emitted from the organic light-emitting device is an organic light-emitting display device. It refers to an organic light emitting display device that is emitted toward a lower surface of a substrate on which a thin film transistor for driving a device is formed. Light emitted from the organic emission layer of the bottom emission type organic light emitting display device is largely based on the propagation path of light in ITO/organic mode (hereinafter referred to as'ITO mode'), substrate mode, and air mode Can be divided into. The air mode refers to light emitted from the organic light emitting layer that is extracted to the outside of the organic light emitting display device, and the substrate mode refers to light that is trapped inside the organic light emitting display device due to total reflection from the substrate among the light emitted from the organic light emitting layer. , ITO mode refers to light trapped inside the organic light emitting display device due to total reflection at an anode generally formed of ITO among light emitted from the organic light emitting layer. In the bottom emission type organic light-emitting display device, light trapped inside the organic light-emitting display in ITO mode is about 50% of the light emitted from the organic light-emitting layer, and light trapped inside the organic light-emitting display as a substrate mode is emitted from the organic light-emitting layer. As about 30% of the generated light, about 80% of the light emitted from the organic light emitting layer is trapped inside the organic light emitting display device, and only about 20% of the light is extracted to the outside, resulting in light extraction efficiency of the organic light emitting display device. Improving it is a very important research area.

광 추출 효율을 개선하기 위해 광을 산란시킬 수 있는 입자를 포함하는 광산란층을 사용하는 기술이 사용되었으며, 구체적으로 광산란층을 기판 전면에 걸쳐서 형성하는 기술이 사용되었다. 그러나, 광산란층이 기판 전면에 형성되는 경우, 특정 화소의 발광 영역에서 발광된 광이 해당 발광 영역 이외의 영역에 위치하는 광산란층을 통해 기판 외부로 추출되어, 블러링(blurring) 현상이 발생할 수 있다. 이에, 광산란층을 패터닝하여 형성하는 것을 고려해볼 수 있으나, 종래에 사용되던 광산란층은 포토 패터닝이 불가능한 재료로 형성되었으므로, 광산란층을 패터닝하기 위한 에칭 공정이 요구되었다. 그러나, 이와 같은 에칭 공정 중에 광산란층 주변의 다른 엘리먼트들이 손상될 수 있어, 현실적으로 광산란층 패터닝이 불가능한 문제점이 존재한다.In order to improve the light extraction efficiency, a technology using a light scattering layer including particles capable of scattering light has been used, and specifically, a technology of forming a light scattering layer over the entire substrate has been used. However, when the light-scattering layer is formed on the entire surface of the substrate, light emitted from the light-emitting area of a specific pixel is extracted to the outside of the substrate through the light-scattering layer located outside the light-emitting area, resulting in blurring. have. Accordingly, it may be considered to form the light-scattering layer by patterning, but since the conventionally used light-scattering layer is formed of a material that cannot be photo-patterned, an etching process for patterning the light-scattering layer is required. However, during such an etching process, other elements around the light scattering layer may be damaged, so that patterning of the light scattering layer is practically impossible.

[관련기술문헌] [Related technical literature]

1. 유기 EL 표시 장치의 제조 방법 (일본특허출원번호 제 2004-285430 호)1. Manufacturing method of organic EL display device (Japanese Patent Application No. 2004-285430)

2. 유기 LED 소자의 산란층용 유리 및 유기 LED 소자 (한국특허출원번호 제 10-2013-7003088 호)2. Glass for the scattering layer of organic LED devices and organic LED devices (Korean Patent Application No. 10-2013-7003088)

본 발명의 발명자들은 상술한 바와 같은 종래의 광산란층을 사용함에 의해 발생하는 문제점들을 해결하기 위해, 자체가 포토 패터닝이 가능한 새로운 조성의 광추출용 감광성 수지 조성물을 발명하였으며, 이를 사용하여 형성된 광산란층을 포함하는 새로운 구조의 유기 발광 표시 장치 및 그 제조 방법을 발명하였다.The inventors of the present invention have invented a photosensitive resin composition for light extraction of a new composition capable of photo patterning by itself in order to solve the problems caused by using the conventional light scattering layer as described above, and a light scattering layer formed using the same An organic light-emitting display device having a new structure and a method of manufacturing the same have been invented.

본 발명이 해결하고자 하는 과제는 별도의 에칭 공정을 수행함이 없이 패터닝이 가능한 새로운 조성의 광추출용 감광성 수지 조성물을 제공하는 것이다.The problem to be solved by the present invention is to provide a photosensitive resin composition for light extraction of a new composition capable of patterning without performing a separate etching process.

본 발명이 해결하고자 하는 다른 과제는 새로운 조성의 광추출용 감광성 수지 조성물로부터 광산란층을 형성하여 다른 엘리먼트의 손상 없이 광산란층을 유기 발광 표시 장치 내부에 형성하고, 광산란층의 크기를 조절할 수 있는 유기 발광 표시 장치 및 유기 발광 표시 장치 제조 방법을 제공하는 것이다.Another problem to be solved by the present invention is to form a light-scattering layer from a photosensitive resin composition for light extraction of a new composition to form a light-scattering layer inside the organic light-emitting display device without damaging other elements, and to control the size of the light-scattering layer. It is to provide a light emitting display device and a method of manufacturing an organic light emitting display device.

본 발명이 해결하고자 하는 또 다른 과제는 유기 발광 표시 장치의 효율 향상을 통해 증가된 수명 및 감소된 소비 전력을 갖는 유기 발광 표시 장치를 제공하고, 보다 단순한 공정이 사용되는 유기 발광 표시 장치 제조 방법을 제공하는 것이다.Another problem to be solved by the present invention is to provide an organic light-emitting display device having an increased lifespan and reduced power consumption through improved efficiency of the organic light-emitting display device, and a method of manufacturing an organic light-emitting display device using a simpler process. To provide.

본 발명이 해결하고자 하는 또 다른 과제는 광산란층을 사용함에 의해 감소된 두께를 갖는 유기 발광층을 갖고, 이에 따라 제조 비용, 제조 시간, 구동 전압 및 소비 전력 모두가 감소된 유기 발광 표시 장치 및 유기 발광 표시 장치 제조 방법을 제공하는 것이다.Another problem to be solved by the present invention is to have an organic light emitting layer having a reduced thickness by using a light scattering layer, thereby reducing manufacturing cost, manufacturing time, driving voltage, and power consumption. It is to provide a method of manufacturing a display device.

본 발명의 과제들은 이상에서 언급한 과제들로 제한되지 않으며, 언급되지 않은 또 다른 과제들은 아래의 기재로부터 당업자에게 명확하게 이해될 수 있을 것이다.The problems of the present invention are not limited to the problems mentioned above, and other problems that are not mentioned will be clearly understood by those skilled in the art from the following description.

본 발명의 일 실시예에 따른 광추출용 감광성 수지 조성물이 제공된다. 광추출용 감광성 수지 조성물은 알칼리 가용성 수지, 불포화성 에틸렌계 모노머, 광추출용 분산액, 광중합 개시제 및 용매를 포함한다. 광추출용 분산액은 광추출을 위한 분산 입자를 갖는다. 광추출용 감광성 수지 조성물은 그 자체가 감광성 물질로 이루어지므로, 광추출용 감광성 수지 조성물을 사용하여 유기 발광 표시 장치의 광산란층을 제조하는 경우 보다 단순한 공정이 사용될 수 있으며, 패터닝된 형상의 광산란층의 제조가 가능하다.A photosensitive resin composition for light extraction according to an embodiment of the present invention is provided. The photosensitive resin composition for light extraction includes an alkali-soluble resin, an unsaturated ethylenic monomer, a dispersion for light extraction, a photopolymerization initiator, and a solvent. The dispersion for light extraction has dispersed particles for light extraction. Since the photosensitive resin composition for light extraction itself is made of a photosensitive material, a simpler process can be used when manufacturing the light-scattering layer of an organic light-emitting display device using the photosensitive resin composition for light extraction, and a patterned light-scattering layer It is possible to manufacture.

본 발명의 다른 특징에 따르면, 알칼리 가용성 수지는 총 중량 대비 5 내지 50 중량%이고, 불포화성 에틸렌계 모노머는 총 중량 대비 5 내지 70 중량%이고, 광추출용 분산액은 총 중량 대비 5 내지 50 중량%이고, 광중합 개시제는 총 중량 대비 0.5 내지 20 중량%이고, 용매는 총 중량 대비 20 내지 90 중량%인 것을 특징으로 한다.According to another feature of the present invention, the alkali-soluble resin is 5 to 50% by weight based on the total weight, the unsaturated ethylenic monomer is 5 to 70% by weight based on the total weight, and the dispersion for light extraction is 5 to 50% by weight based on the total weight. %, and the photopolymerization initiator is 0.5 to 20% by weight based on the total weight, and the solvent is 20 to 90% by weight based on the total weight.

본 발명의 또 다른 특징에 따르면, 알칼리 가용성 수지는, 불포화 카르복실산 및 불포화 카르복실산 무수물 중 선택된 하나 또는 둘 이상의 화합물 및 에폭시기 함유 불포화 화합물이 중합된 공중합체인 것을 특징으로 한다.According to another feature of the present invention, the alkali-soluble resin is a copolymer in which one or two or more compounds selected from an unsaturated carboxylic acid and an unsaturated carboxylic anhydride and an unsaturated compound containing an epoxy group are polymerized.

본 발명의 또 다른 특징에 따르면, 알칼리 가용성 수지는, 불포화 카르복실산 및 불포화 카르복실산 무수물 중 선택된 하나 또는 둘 이상의 화합물, 에폭시기 함유 불포화 화합물, 불포화 카르복실산 및 불포화 카르복실산 무수물 이외의 올레핀계 불포화 카르복실산 에스테르 화합물, 및 불포화 카르복실산, 불포화 카르복실산 무수물 및 올레핀계 불포화 카르복실산 에스테르 화합물 이외의 올레핀계 불포화 화합물 중 선택된 하나 이상의 화합물로부터 중합된 공중합체인 것을 특징으로 한다. According to another feature of the present invention, the alkali-soluble resin is an olefin other than one or two or more compounds selected from unsaturated carboxylic acids and unsaturated carboxylic anhydrides, epoxy group-containing unsaturated compounds, unsaturated carboxylic acids and unsaturated carboxylic anhydrides. It is characterized in that it is a copolymer polymerized from one or more compounds selected from a system unsaturated carboxylic acid ester compound and an olefinically unsaturated compound other than an unsaturated carboxylic acid, an unsaturated carboxylic acid anhydride, and an olefinically unsaturated carboxylic acid ester compound.

본 발명의 또 다른 특징에 따르면, 불포화성 에틸렌계 모노머는 2개 이상의 불포화성 에틸렌 결합을 갖는 아크릴 모노머인 것을 특징으로 한다.According to another feature of the present invention, the unsaturated ethylenic monomer is characterized in that it is an acrylic monomer having two or more unsaturated ethylenic bonds.

본 발명의 또 다른 특징에 따르면, 광중합 개시제는 노광에 의해 불포화성 에틸렌계 모노머의 중합을 개시하는 활성종을 발생시키는 화합물인 것을 특징으로 한다.According to another feature of the present invention, the photopolymerization initiator is a compound that generates an active species that initiates polymerization of an unsaturated ethylenic monomer by exposure.

본 발명의 또 다른 특징에 따르면, 분산 입자의 굴절률과 알칼리 가용성 수지의 굴절률의 차 및 분산 입자의 굴절률과 불포화성 에틸렌계 모노머의 굴절률의 차는 0.2 이상인 것을 특징으로 한다.According to another feature of the present invention, the difference between the refractive index of the dispersed particles and the refractive index of the alkali-soluble resin, and the difference between the refractive index of the dispersed particles and the refractive index of the unsaturated ethylenic monomer is 0.2 or more.

본 발명의 또 다른 특징에 따르면, 알칼리 가용성 수지의 굴절률 및 불포화성 에틸렌계 모노머의 굴절률은 1.4 내지 1.6인 것을 특징으로 한다.According to another feature of the present invention, the refractive index of the alkali-soluble resin and the refractive index of the unsaturated ethylenic monomer are characterized in that 1.4 to 1.6.

본 발명의 또 다른 특징에 따르면, 분산 입자는 1.6 이상의 굴절률을 갖는 금속 산화물 또는 1.2 이하의 굴절률을 갖는 기체부를 포함하는 중공 입자인 것을 특징으로 한다.According to another feature of the present invention, the dispersed particles are hollow particles including a metal oxide having a refractive index of 1.6 or more or a gas portion having a refractive index of 1.2 or less.

본 발명의 또 다른 특징에 따르면, 분산 입자의 직경은 200 ㎚ 내지 1 ㎛인 것을 특징으로 한다.According to another feature of the present invention, the diameter of the dispersed particles is characterized in that 200 ㎚ to 1 ㎛.

본 발명의 일 실시예에 따른 유기 발광 표시 장치가 제공된다. 기판 상에 컬러 필터가 형성되고, 컬러 필터 상에 오버 코팅층이 형성된다. 유기 발광 소자는 오버 코팅층 상에 형성된다. 유기 발광 소자는 애노드, 애노드 상의 유기 발광층 및 유기 발광층 상의 캐소드를 포함한다. 광산란층이 오버 코팅층과 유기 발광 소자 사이에 형성된다. 광산란층은 유기 발광층에서 발광된 광에 대한 광추출을 위한 분산 입자를 갖는 감광성 수지를 포함한다. 유기 발광 표시 장치의 광산란층은 감광성 수지로부터 형성되므로, 광산란층은 다른 엘리먼트의 손상 없이 형성될 수 있고 패터닝이 가능하며, 유기 발광 표시 장치의 외부가 아닌 내부에 형성될 수 있다. 또한, 광산란층을 사용하여, 유기 발광층에서 발광되는 광에 대한 광학 조건에 대한 제한 없이 유기 발광층의 두께가 결정될 수 있다.An organic light-emitting display device according to an embodiment of the present invention is provided. A color filter is formed on the substrate, and an overcoat layer is formed on the color filter. The organic light emitting device is formed on the overcoat layer. The organic light-emitting device includes an anode, an organic light-emitting layer on the anode, and a cathode on the organic light-emitting layer. A light scattering layer is formed between the overcoat layer and the organic light emitting device. The light scattering layer includes a photosensitive resin having dispersed particles for light extraction of light emitted from the organic light-emitting layer. Since the light-scattering layer of the organic light-emitting display device is formed of a photosensitive resin, the light-scattering layer may be formed without damage to other elements, patterning, and may be formed inside the organic light-emitting display device. In addition, by using the light scattering layer, the thickness of the organic emission layer may be determined without limitation on optical conditions for light emitted from the organic emission layer.

본 발명의 다른 특징에 따르면, 광산란층과 유기 발광 소자 사이에 형성되어 광산란층의 상부를 평탄화하는 고굴절 평탄화막을 더 포함하고, 고굴절 평탄화막의 굴절률은 1.65 이상인 것을 특징으로 한다.According to another feature of the present invention, a high refractive index planarization layer formed between the light scattering layer and the organic light emitting device to planarize the upper portion of the light scattering layer is further included, and the refractive index of the high refractive index planarization layer is 1.65 or more.

본 발명의 또 다른 특징에 따르면, 광산란층은 컬러 필터와 중첩되도록 형성된 것을 특징으로 한다.According to another feature of the present invention, the light scattering layer is formed to overlap with the color filter.

본 발명의 또 다른 특징에 따르면, 유기 발광 소자는 뱅크에 의해 정의된 발광 영역을 포함하고, 발광 영역은 광산란층과 중첩된 것을 특징으로 한다.According to another feature of the present invention, the organic light emitting device includes a light emitting region defined by a bank, and the light emitting region overlaps the light scattering layer.

본 발명의 또 다른 특징에 따르면, 감광성 수지는 알칼리 가용성 수지 및 불포화성 에틸렌계 모노머를 포함하는 것을 특징으로 한다. According to another feature of the present invention, the photosensitive resin is characterized in that it comprises an alkali-soluble resin and an unsaturated ethylenic monomer.

본 발명의 또 다른 특징에 따르면, 감광성 수지는 광중합 개시제를 더 포함하는 것을 특징으로 한다.According to another feature of the present invention, the photosensitive resin is characterized in that it further comprises a photopolymerization initiator.

본 발명의 또 다른 특징에 따르면, 감광성 수지의 굴절률은 1.4 내지 1.6이고, 분산 입자는 1.6 이상의 굴절률을 갑는 금속 산화물 또는 1.2 이하의 굴절률을 갖는 중공 입자인 것을 특징으로 한다.According to another feature of the present invention, the photosensitive resin has a refractive index of 1.4 to 1.6, and the dispersed particles are metal oxides having a refractive index of 1.6 or more or hollow particles having a refractive index of 1.2 or less.

본 발명의 또 다른 특징에 따르면, 유기 발광층의 두께는 유기 발광층에서 발광되는 광에 대한 광학 조건에 대한 제한 없이 결정된 것을 특징으로 한다.According to another feature of the present invention, the thickness of the organic light-emitting layer is determined without limitation on optical conditions for light emitted from the organic light-emitting layer.

본 발명의 또 다른 특징에 따르면, 유기 발광층은 350 nm 이하의 두께를 가지는 것을 특징으로 한다.According to another feature of the present invention, the organic light emitting layer is characterized in that it has a thickness of 350 nm or less.

본 발명의 또 다른 특징에 따르면, 유기 발광층은 전자 수송층, 전자 주입층, 정공 수송층 및 정공 주입층 중 적어도 하나를 더 포함하고, 전자 수송층, 전자 주입층, 정공 수송층 및 정공 주입층은 100 nm 미만의 두께를 가지는 것을 특징으로 한다.According to another feature of the present invention, the organic emission layer further includes at least one of an electron transport layer, an electron injection layer, a hole transport layer, and a hole injection layer, and the electron transport layer, the electron injection layer, the hole transport layer, and the hole injection layer are less than 100 nm. It is characterized by having a thickness of.

본 발명의 일 실시예에 따른 유기 발광 표시 장치 제조 방법이 제공된다. 유기 발광 표시 장치 제조 방법은 기판 상에 컬러 필터를 형성하는 단계, 컬러 필터 상에 오버 코팅층을 형성하는 단계, 오버 코팅층 상에 알칼리 가용성 수지, 불포화성 에틸렌계 모노머, 광추출을 위한 분산 입자를 갖는 광추출용 분산액, 광중합 개시제 및 용매를 포함하는 광추출용 감광성 수지 조성물을 코팅하는 단계, 광추출용 감광성 수지 조성물로부터 광산란층을 형성하는 단계 및 광산란층 상에 애노드, 유기 발광층 및 캐소드를 포함하는 유기 발광 소자를 형성하는 단계를 포함한다. 유기 발광 표시 장치 제조 방법에서는 포토 패터닝이 가능한 광추출용 감광성 수지 조성물을 사용하여 광산란층이 형성되므로, 광산란층 제조 공정 시에 절연층들이나 유기 발광 소자, 박막 트랜지스터 등과 같은 유기 발광 표시 장치의 다른 엘리먼트가 손상되지 않는다. 또한, 유기 발광 표시 장치 제조 방법에서는 광추출용 감광성 수지 조성물에 대한 포토 패터닝이 가능하므로, 광산란층을 포함하는 유기 발광 표시 장치가 보다 단순한 공정을 사용하여 제조 가능하다.A method of manufacturing an organic light emitting display device according to an embodiment of the present invention is provided. The method of manufacturing an organic light emitting display device includes forming a color filter on a substrate, forming an overcoat layer on the color filter, an alkali-soluble resin, an unsaturated ethylenic monomer, and dispersed particles for light extraction on the overcoat layer. Coating a photosensitive resin composition for light extraction comprising a dispersion for light extraction, a photoinitiator and a solvent, forming a light-scattering layer from the photosensitive resin composition for light extraction, and an anode, an organic light-emitting layer, and a cathode on the light-extraction layer. And forming an organic light-emitting device. In the organic light-emitting display device manufacturing method, a light-scattering layer is formed using a photosensitive resin composition for light extraction capable of photo patterning.Therefore, insulating layers, organic light-emitting devices, thin film transistors, etc. Is not damaged. In addition, in the method of manufacturing an organic light-emitting display device, since photo-patterning of the photosensitive resin composition for light extraction is possible, an organic light-emitting display device including a light scattering layer can be manufactured using a simpler process.

본 발명의 다른 특징에 따르면, 광산란층을 형성하는 단계는, 마스크를 사용하여 광추출용 감광성 수지 조성물을 부분 노광하는 단계 및 광추출용 감광성 수지 조성물을 현상하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 한다.According to another feature of the present invention, the step of forming the light scattering layer includes partially exposing the photosensitive resin composition for light extraction using a mask and developing the photosensitive resin composition for light extraction.

본 발명의 또 다른 특징에 따르면, 광산란층과 유기 발광 소자 사이에 광산란층의 상부를 평탄화하는 고굴절 평탄화막을 형성하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 한다.According to another feature of the present invention, it is characterized in that it further comprises the step of forming a high refractive index planarization layer to planarize the upper portion of the light scattering layer between the light scattering layer and the organic light emitting device.

기타 실시예의 구체적인 사항들은 상세한 설명 및 도면들에 포함되어 있다.Details of other embodiments are included in the detailed description and drawings.

본 발명은 별도의 에칭 공정 없이 포토 패터닝이 가능한 새로운 조성의 광추출용 감광성 수지 조성물을 제공할 수 있다.The present invention can provide a photosensitive resin composition for light extraction of a new composition capable of photo patterning without a separate etching process.

또한, 본 발명은 포토 패터닝이 가능한 광추출용 감광성 수지 조성물을 사용하여 다른 엘리먼트의 손상 없이 유기 발광 표시 장치 내부에 광산란층을 형성할 수 있고, 원하는 크기로 패터닝된 광산란층을 제공할 수 있다.In addition, according to the present invention, a light-scattering layer may be formed inside an organic light emitting display device without damage to other elements by using a photosensitive resin composition for light extraction capable of photo-patterning, and a light-scattering layer patterned to a desired size may be provided.

또한, 본 발명은 유기 발광 표시 장치의 효율을 향상시켜 유기 발광 표시 장치의 수명을 증가시키고, 유기 발광 표시 장치의 소비 전력을 감소시킬 수 있다. In addition, according to the present invention, the lifespan of the organic light emitting display device may be increased by improving the efficiency of the organic light emitting display device, and power consumption of the organic light emitting display device may be reduced.

또한, 본 발명은 포토 패터닝이 가능한 광추출용 감광성 수지 조성물을 사용하여 광산란층을 형성하므로, 광산란층을 형성하는 보다 단순한 공정을 제공할 수 있다.In addition, in the present invention, since the light-scattering layer is formed by using the photosensitive resin composition for light extraction capable of photo patterning, a simpler process of forming the light-scattering layer can be provided.

또한, 본 발명은 광산란층을 사용하여 유기 발광층의 두께를 감소시키고, 유기 발광 표시 장치의 제조 비용, 제조 시간, 구동 전압 및 소비 전력을 감소시킬 수 있다.In addition, according to the present invention, the thickness of the organic light emitting layer may be reduced by using the light scattering layer, and manufacturing cost, manufacturing time, driving voltage, and power consumption of the organic light emitting display device may be reduced.

본 발명에 따른 효과는 이상에서 예시된 내용에 의해 제한되지 않으며, 더욱 다양한 효과들이 본 명세서 내에 포함되어 있다.The effects according to the present invention are not limited by the contents exemplified above, and more various effects are included in the present specification.

도 1a는 본 발명의 일 실시예에 따른 유기 발광 표시 장치를 설명하기 위한 단면도이다.
도 1b는 도 1a의 X영역에 대한 확대 단면도이다.
도 1c는 본 발명의 일 실시예에 따른 유기 발광 표시 장치의 발광 영역, 광산란층 및 컬러 필터를 설명하기 위한 개략적인 평면도이다.
도 2a는 본 발명의 다른 실시예에 따른 유기 발광 표시 장치를 설명하기 위한 단면도이다.
도 2b는 도 2a의 X영역에 대한 확대 단면도이다.
도 3은 본 발명의 실시예 및 비교예들의 유기 발광 표시 장치에서의 블러링(blurring)을 설명하기 위한 이미지들이다.
도 4는 본 발명의 일 실시예에 따른 유기 발광 표시 장치 제조 방법을 설명하기 위한 순서도이다.
도 5a 내지 도 5d는 본 발명의 일 실시예에 따른 유기 발광 표시 장치 제조 방법을 설명하기 위한 공정 단면도들이다.1A is a cross-sectional view illustrating an organic light emitting display device according to an exemplary embodiment of the present invention.
1B is an enlarged cross-sectional view of region X of FIG. 1A.
1C is a schematic plan view illustrating a light emitting area, a light scattering layer, and a color filter of an organic light emitting diode display according to an exemplary embodiment of the present invention.
2A is a cross-sectional view illustrating an organic light emitting display device according to another exemplary embodiment of the present invention.
2B is an enlarged cross-sectional view of area X of FIG. 2A.
3 are images for explaining blurring in the organic light emitting diode display according to the exemplary embodiments and comparative examples of the present invention.
4 is a flowchart illustrating a method of manufacturing an organic light emitting diode display according to an exemplary embodiment of the present invention.
5A to 5D are cross-sectional views illustrating a method of manufacturing an organic light emitting display device according to an exemplary embodiment of the present invention.

본 발명의 이점 및 특징, 그리고 그것들을 달성하는 방법은 첨부되는 도면과 함께 상세하게 후술되어 있는 실시예들을 참조하면 명확해질 것이다. 그러나 본 발명은 이하에서 개시되는 실시예들에 한정되는 것이 아니라 서로 다른 다양한 형태로 구현될 것이며, 단지 본 실시예들은 본 발명의 개시가 완전하도록 하며, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 발명의 범주를 완전하게 알려주기 위해 제공되는 것이며, 본 발명은 청구항의 범주에 의해 정의될 뿐이다.Advantages and features of the present invention, and a method of achieving them will become apparent with reference to the embodiments described below in detail together with the accompanying drawings. However, the present invention is not limited to the embodiments disclosed below, but will be implemented in various forms different from each other, and only these embodiments make the disclosure of the present invention complete, and common knowledge in the technical field to which the present invention belongs. It is provided to completely inform the scope of the invention to the possessor, and the invention is only defined by the scope of the claims.

본 발명의 실시예를 설명하기 위한 도면에 개시된 형상, 크기, 비율, 각도, 개수 등은 예시적인 것이므로 본 발명이 도시된 사항에 한정되는 것은 아니다. 명세서 전체에 걸쳐 동일 참조 부호는 동일 구성 요소를 지칭한다. 또한, 본 발명을 설명함에 있어서, 관련된 공지 기술에 대한 구체적인 설명이 본 발명의 요지를 불필요하게 흐릴 수 있다고 판단되는 경우 그 상세한 설명은 생략한다. 본 명세서 상에서 언급된 '포함한다', '갖는다', '이루어진다' 등이 사용되는 경우 '~만'이 사용되지 않는 이상 다른 부분이 추가될 수 있다. 구성 요소를 단수로 표현한 경우에 특별히 명시적인 기재 사항이 없는 한 복수를 포함하는 경우를 포함한다. The shapes, sizes, ratios, angles, numbers, etc. disclosed in the drawings for explaining the embodiments of the present invention are exemplary, and thus the present invention is not limited to the illustrated matters. The same reference numerals refer to the same elements throughout the specification. In addition, in describing the present invention, when it is determined that a detailed description of a related known technology may unnecessarily obscure the subject matter of the present invention, the detailed description thereof will be omitted. When'include','have','consists of' and the like mentioned in the present specification are used, other parts may be added unless'only' is used. In the case of expressing the constituent elements in the singular, it includes the case of including the plural unless specifically stated otherwise.

구성 요소를 해석함에 있어서, 별도의 명시적 기재가 없더라도 오차 범위를 포함하는 것으로 해석한다.In interpreting the constituent elements, it is interpreted as including an error range even if there is no explicit description.

위치 관계에 대한 설명일 경우, 예를 들어, '~상에', '~상부에', '~하부에', '~옆에' 등으로 두 부분의 위치 관계가 설명되는 경우, '바로' 또는 '직접'이 사용되지 않는 이상 두 부분 사이에 하나 이상의 다른 부분이 위치할 수도 있다. In the case of a description of the positional relationship, for example, if the positional relationship of two parts is described as'upper','upper of','lower of','next to','right' Or, unless'direct' is used, one or more other parts may be located between the two parts.

소자 또는 층이 다른 소자 또는 층 "위 (on)"로 지칭되는 것은 다른 소자 바로 위에 또는 중간에 다른 층 또는 다른 소자를 개재한 경우를 모두 포함한다.When an element or layer is referred to as “on” another element or layer, it includes all cases in which another layer or another element is interposed directly on or in the middle of another element.

비록 제1, 제2 등이 다양한 구성요소들을 서술하기 위해서 사용되나, 이들 구성요소들은 이들 용어에 의해 제한되지 않는다. 이들 용어들은 단지 하나의 구성요소를 다른 구성요소와 구별하기 위하여 사용하는 것이다. 따라서, 이하에서 언급되는 제1 구성요소는 본 발명의 기술적 사상 내에서 제2 구성요소일 수도 있다.Although the first, second, etc. are used to describe various components, these components are not limited by these terms. These terms are only used to distinguish one component from another component. Accordingly, the first component mentioned below may be a second component within the technical idea of the present invention.

명세서 전체에 걸쳐 동일 참조 부호는 동일 구성 요소를 지칭한다.The same reference numerals refer to the same elements throughout the specification.

도면에서 나타난 각 구성의 크기 및 두께는 설명의 편의를 위해 도시된 것이며, 본 발명이 도시된 구성의 크기 및 두께에 반드시 한정되는 것은 아니다.The size and thickness of each component shown in the drawings are illustrated for convenience of description, and the present invention is not necessarily limited to the size and thickness of the illustrated component.

본 발명의 여러 실시예들의 각각 특징들이 부분적으로 또는 전체적으로 서로 결합 또는 조합 가능하며, 당업자가 충분히 이해할 수 있듯이 기술적으로 다양한 연동 및 구동이 가능하며, 각 실시예들이 서로에 대하여 독립적으로 실시 가능할 수도 있고 연관 관계로 함께 실시 가능할 수도 있다.Each of the features of the various embodiments of the present invention may be partially or entirely combined or combined with each other, and as a person skilled in the art can fully understand, technically various interlocking and driving are possible, and each of the embodiments may be independently implemented with respect to each other. It may be possible to do it together in a related relationship

이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 다양한 실시예들을 상세히 설명한다.Hereinafter, various embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

본 발명의 일 실시예에 따른 광추출용 감광성 수지 조성물은 알칼리 가용성 수지, 불포화성 에틸렌계 모노머, 광추출용 분산액, 광중합 개시제 및 용매를 포함한다. 본 발명의 일 실시예에 따른 광추출용 감광성 수지 조성물은 유기 발광 표시 장치의 광추출 효율을 향상시키기 위한 것으로서, 광추출용 분산액은 유기 발광 표시 장치의 광추출을 위한 분산 입자를 갖는다.The photosensitive resin composition for light extraction according to an embodiment of the present invention includes an alkali-soluble resin, an unsaturated ethylenic monomer, a dispersion for light extraction, a photopolymerization initiator, and a solvent. The photosensitive resin composition for light extraction according to an embodiment of the present invention is for improving light extraction efficiency of an organic light emitting display device, and the dispersion liquid for light extraction has dispersed particles for light extraction of the organic light emitting display device.

알칼리 가용성 수지는 공중합체이고, 예를 들어, 불포화 카르복실산(carboxylic acid) 및 불포화 카르복실산 무수물 중 선택된 하나 또는 둘 이상의 화합물과 에폭시기 함유 불포화 화합물이 중합된 공중합체일 수 있다. 알칼리 가용성 수지는 광추출용 감광성 수지 조성물의 총 중량 대비 5 내지 50 중량%이다.The alkali-soluble resin is a copolymer, and for example, may be a copolymer in which one or two or more compounds selected from unsaturated carboxylic acid and unsaturated carboxylic anhydride are polymerized with an unsaturated compound containing an epoxy group. The alkali-soluble resin is 5 to 50% by weight based on the total weight of the photosensitive resin composition for light extraction.

불포화 카르복실산은 아크릴산(acrylic acid), 크로톤산(crotonic acid), 이타콘산(itaconic acid), 말레산(maleic acid), 푸마르산(fumaric acid), 시트라콘산(citraconic acid) 또는 메사콘산(mesaconic acid)일 수 있고, 불포화 카르복실산 무수물은 아크릴산(acrylic acid), 크로톤산(crotonic acid), 이타콘산(itaconic acid), 말레산(maleic acid), 푸마르산(fumaric acid), 시트라콘산(citraconic acid) 또는 메사콘산(mesaconic acid)의 무수물일 수 있다. 다만, 공중합 반응성, 얻어지는 막의 내열성 및 입수 용이성 등을 고려하여, 바람직하게는 아크릴산(acrylic acid), 말레산(maleic acid) 등이 불포화 카르복실산으로 사용될 수 있다. Unsaturated carboxylic acids include acrylic acid, crotonic acid, itaconic acid, maleic acid, fumaric acid, citraconic acid, or mesaconic acid. ), and the unsaturated carboxylic anhydride is acrylic acid, crotonic acid, itaconic acid, maleic acid, fumaric acid, citraconic acid ) Or an anhydride of mesaconic acid. However, in consideration of copolymerization reactivity, heat resistance and availability of the resulting film, preferably acrylic acid, maleic acid, or the like may be used as an unsaturated carboxylic acid.

에폭시기 함유 불포화 화합물로서 아크릴산 글리시딜 에스테르(acrylic acid glycidyl ester), 메타크릴산 글리시딜 에스테르(methacrylic acid glycidyl ester), α-에틸아크릴산 글리시딜 에스테르(α-ethyl acrylic acid glycidyl esters), α-n-프로필 아크릴산 글리시딜 에스테르(α-n-propyl acrylic acid glycidyl ester), α-n-부틸 아크릴산 글리시딜 에스테르(α-n-butyl acrylic acid glycidyl ester), 아크릴산-3,4-에폭시 부틸 에스테르(acrylic acid-3,4-epoxy butyl ester), 메타크릴산-3,4-에폭시 부틸 에스테르(methacrylic acid-3,4-epoxy butyl ester), 아크릴산-6,7-에폭시 헵틸 에스테르(acrylic acid-6,7-epoxy-heptyl ester), 메타크릴산-6,7-에폭시 헵틸 에스테르(methacrylic acid-6,7-epoxy heptyl ester), α-에틸 아크릴산-6,7-에폭시 헵틸 에스테르( α-ethyl acrylic acid-6,7-epoxy-heptyl ester), o-비닐 벤질 글리시딜 에테르(o-vinyl benzylglycidyl ether), m-비닐 벤질 글리시딜 에테르(m-vinyl benzyl glycidyl ether), p-비닐 벤질 글리시딜 에테르(p-vinyl benzyl glycidyl ether) 또는 이들의 조합이 공중합 반응성, 내열성, 경도를 높인다는 점에서 사용될 수 있다. As unsaturated compounds containing an epoxy group, acrylic acid glycidyl ester, methacrylic acid glycidyl ester, α-ethyl acrylic acid glycidyl esters, α -n-propyl acrylic acid glycidyl ester, α-n-butyl acrylic acid glycidyl ester, acrylic acid-3,4-epoxy Butyl ester (acrylic acid-3,4-epoxy butyl ester), methacrylic acid-3,4-epoxy butyl ester (methacrylic acid-3,4-epoxy butyl ester), acrylic acid-6,7-epoxy heptyl ester (acrylic acid-6,7-epoxy-heptyl ester), methacrylic acid-6,7-epoxy heptyl ester, α-ethyl acrylic acid-6,7-epoxy heptyl ester (α -ethyl acrylic acid-6,7-epoxy-heptyl ester), o-vinyl benzylglycidyl ether, m-vinyl benzyl glycidyl ether, p- Vinyl benzyl glycidyl ether (p-vinyl benzyl glycidyl ether) or a combination thereof can be used in terms of enhancing the copolymerization reactivity, heat resistance, and hardness.

몇몇 실시예에서, 알칼리 가용성 수지는 공중합체일 수 있고, 예를 들어, 불포화 카르복실산 및 불포화 카르복실산 무수물 중 선택된 하나 또는 둘 이상의 화합물, 에폭시기 함유 불포화 화합물, 불포화 카르복실산 및 불포화 카르복실산 무수물 이외의 올레핀계 불포화 카르복실산 에스테르 화합물과 불포화 카르복실산, 불포화 카르복실산 무수물 및 올레핀계 불포화 카르복실산 에스테르 화합물 이외의 올레핀계 불포화 화합물 중 선택된 하나 이상의 화합물로부터 중합된 공중합체일 수도 있다. 여기서, 불포화 카르복실산, 불포화 카르복실산 무수물 및 에폭시기 함유 불포화 화합물은 상술한 예시적인 물질과 동일한 물질일 수 있다.In some embodiments, the alkali-soluble resin may be a copolymer, for example, one or two or more compounds selected from unsaturated carboxylic acids and unsaturated carboxylic anhydrides, unsaturated compounds containing epoxy groups, unsaturated carboxylic acids and unsaturated carboxyls. It may be a copolymer polymerized from one or more compounds selected from olefinically unsaturated carboxylic acid ester compounds other than acid anhydrides and olefinic unsaturated compounds other than unsaturated carboxylic acids, unsaturated carboxylic anhydrides, and olefinically unsaturated carboxylic acid ester compounds. have. Here, the unsaturated carboxylic acid, the unsaturated carboxylic anhydride, and the unsaturated compound containing an epoxy group may be the same material as the exemplary material described above.

불포화 카르복실산 및 불포화 카르복실산 무수물 이외의 올레핀계 불포화 카르복실산 에스테르 화합물은, 메틸 메타크릴레이트(methyl methacrylate), 에틸 메타크릴레이트(ethyl methacrylate), n-부틸 메타크릴레이트(n-butyl methacrylate), sec-부틸 메타크릴레이트(sec-butyl methacrylate), t-부틸 메타크릴레이트(t-butyl methacrylate) 등의 메타크릴산 알킬 에스테르(methacrylic acid alkyl ester); 메틸 아크릴레이트(methyl acrylate), 이소프로필 아크릴레이트(isopropyl acrylate) 등의 아크릴산 알킬 에스테르(acrylic acid alkyl ester); 시클로헥실 메타크릴레이트(cyclohexyl methacrylate), 2-메틸 시클로헥실 메타크릴레이트(2-methyl cyclohexyl methacrylate), 디시클로펜테닐 메타크릴레이트(dicyclopentenyl methacrylate), 디시클로펜테닐옥시에틸 메타크릴레이트(dicyclopentenyloxyethyl methacrylate), 이소보로닐 메타크릴레이트(isoboronyl methacrylate) 등의 메타크릴산 시클로알킬 에스테르(methacrylic acid cycloalkyl ester); 시클로헥실 아크릴레이트(cyclohexyl acrylate), 2-메틸 시클로헥실 아크릴레이트(2-methyl cyclohexyl acrylate), 디시클로펜테닐 아크릴레이트(dicyclopentenyl acrylate), 디시클로펜테닐옥시에틸 아크릴레이트(dicyclopentenyloxyethyl acrylate), 이소보로닐 아크릴레이트(isoboronyl acrylate) 등의 아크릴산 시클로알킬 에스테르(acrylic acid cycloalkyl ester); 펜틸 메타크릴레이트(pentyl methacrylate), 벤질 메타크릴레이트(benzyl methacrylate) 등의 메타크릴산 아릴 에스테르(methacrylic acid aryl ester); 페닐 아크릴레이트(penyl acrylate), 벤질 아크릴레이트(benzyl acrylate) 등의 아크릴산 아릴 에스테르(acrylic acid aryl ester); 말레산 디에틸(maleic acid diethyl), 푸마르산 디에틸(fumaric acid diethyl), 이타콘산 디에틸(itaconic acid diethyl) 등의 디카르복실산 디에스테르(dicarboxylic acid diester); 2-히드록시 에틸 메타크릴레이트(2-hydroxy ethyl methacrylate), 2-히드록시 프로필 메타크릴레이트(2-hydroxy propyl methacrylate) 등의 히드록시알킬 에스테르(hydroxyalkyl ester) 등이 사용될 수 있다.Olefin-based unsaturated carboxylic acid ester compounds other than unsaturated carboxylic acid and unsaturated carboxylic anhydride include methyl methacrylate, ethyl methacrylate, and n-butyl methacrylate. methacrylate), sec-butyl methacrylate, and t-butyl methacrylate; Acrylic acid alkyl esters such as methyl acrylate and isopropyl acrylate; Cyclohexyl methacrylate, 2-methyl cyclohexyl methacrylate, dicyclopentenyl methacrylate, dicyclopentenyloxyethyl methacrylate ), methacrylic acid cycloalkyl ester such as isoboronyl methacrylate; Cyclohexyl acrylate, 2-methyl cyclohexyl acrylate, dicyclopentenyl acrylate, dicyclopentenyloxyethyl acrylate, Isobo Acrylic acid cycloalkyl esters such as isoboronyl acrylate; Methacrylic acid aryl esters such as pentyl methacrylate and benzyl methacrylate; Acrylic acid aryl esters such as phenyl acrylate and benzyl acrylate; Dicarboxylic acid diesters such as maleic acid diethyl, fumaric acid diethyl, and itaconic acid diethyl; Hydroxyalkyl esters such as 2-hydroxy ethyl methacrylate and 2-hydroxy propyl methacrylate may be used.

불포화 카르복실산, 불포화 카르복실산 무수물 및 올레핀계 불포화 카르복실산 에스테르 화합물 이외의 올레핀계 불포화 화합물은, 스티렌(styrene), o-메틸 스티렌(o-methyl styrene), m-메틸 스티렌(m-methyl styrene), p-메틸 스티렌(p-methyl styrene), 비닐 톨루엔(vinyl toluene), p-메톡시 스티렌(p-methoxy styrene), 아크릴로니트릴(acrylonitrile), 메타크릴로니트릴(methacrylonitrile), 염화 비닐(vinyl chloride), 염화 비닐리덴(vinylidene chloride), 아크릴아미드(acrylamide), 메타크릴 아미드(methacryl amide), 초산 비닐(vinyl acetate), 1,3-부타디엔(1,3-butadiene), 이소프렌(isoprene), 2,3-디메틸-1,3-부타디엔(2,3-dimethyl-1,3-butadiene) 등일 수 있다.Olefin-type unsaturated compounds other than unsaturated carboxylic acid, unsaturated carboxylic anhydride, and olefin-based unsaturated carboxylic acid ester compound include styrene, o-methyl styrene, m-methyl styrene (m- methyl styrene), p-methyl styrene, vinyl toluene, p-methoxy styrene, acrylonitrile, methacrylonitrile, chloride Vinyl chloride, vinylidene chloride, acrylamide, methacryl amide, vinyl acetate, 1,3-butadiene, isoprene ( isoprene), 2,3-dimethyl-1,3-butadiene, and the like.

공중합체인 알칼리 가용성 수지의 합성에 사용되는 용매로서 메탄올(methanol), 에탄올(ethanol) 등의 알코올류 테트라하이드로퓨란(tetrahydrofuran), 디에틸렌 글리콜 디메틸 에테르(diethylene glycol dimethyl ether), 디에틸렌 글리콜 디에틸 에테르(diethylene glycol diethyl ether) 등의 에테르류; 프로필렌 글리콜 메틸 에테르 아세테이트(propylene glycol methyl ether acetate), 프로필렌 글리콜 에틸 에테르 아세테이트(propylene glycol ethyl ether acetate), 프로펠렌 글리콜 프로필 에테르 아세테이트(propellen glycol propyl ether acetate), 프로필렌 글리콜 부틸 에테르 아세테이트(propylene glycol butyl ether acetate) 등의 프로필렌 글리콜 알킬 에테르 아세테이트류(propylene glycol alkyl ether acetate)가 사용될 수 있다.As a solvent used for the synthesis of alkali-soluble resins, which are copolymers, alcohols such as methanol and ethanol, tetrahydrofuran, diethylene glycol dimethyl ether, and diethylene glycol diethyl ether ethers such as (diethylene glycol diethyl ether); Propylene glycol methyl ether acetate, propylene glycol ethyl ether acetate, propellen glycol propyl ether acetate, propylene glycol butyl ether acetate) or the like may be used.

또한, 공중합체인 알칼리 가용성 수지의 합성에 사용되는 중합 개시제로서 라디칼 중합 개시제가 사용될 수 있다. 예를 들어, 중합 개시제는 2,2′-아조비스이소부티로니트릴(2,2'-azobisisobutyronitrile), 2,2′-아조비스-(2,4-디메틸 발레로니트릴)(2,2'-azobis-(2,4-dimethyl valeronitrile)), 2,2′-아조비스-(4-메톡시-2,4-디메틸발레로니트릴)(2,2'-azobis-(4-methoxy-2,4-dimethyl valeronitrile)) 등의 아조 화합물 벤조일 퍼옥시드(azo compounds benzoyl peroxide), t-부틸퍼옥시피바레이트(t-butyl peroxy pivalate), 1,1′-비스-(t-부틸퍼옥시)시클로헥산(1,1'-bis-(t-butylperoxy)cyclohexane) 등의 유기 과산화물 및 과산화수소일 수 있다. 중합 개시제로 과산화물이 사용되는 경우, 과산화물은 환원제와 함께 사용하여 레독시(redoxy) 개시제로 사용될 수도 있다.In addition, a radical polymerization initiator may be used as a polymerization initiator used in the synthesis of an alkali-soluble resin as a copolymer. For example, the polymerization initiator is 2,2'-azobisisobutyronitrile (2,2'-azobisisobutyronitrile), 2,2'-azobis- (2,4-dimethyl valeronitrile) (2,2' -azobis-(2,4-dimethyl valeronitrile)), 2,2′-azobis-(4-methoxy-2,4-dimethylvaleronitrile)(2,2'-azobis-(4-methoxy-2 ,4-dimethyl valeronitrile)), such as azo compounds benzoyl peroxide, t-butyl peroxy pivalate, 1,1′-bis-(t-butylperoxy) It may be an organic peroxide such as cyclohexane (1,1'-bis-(t-butylperoxy)cyclohexane) and hydrogen peroxide. When a peroxide is used as the polymerization initiator, the peroxide may be used together with a reducing agent to be used as a redoxy initiator.

불포화성 에틸렌계 모노머는 2개 이상의 불포화성 에틸렌 결합을 갖는 아크릴 모노머일 수 있다. 구체적으로, 불포화성 에틸렌계 모노머는 2개 이상의 불포화성 에틸렌 결합을 갖는 다관능성 아크릴 모노머일 수 있고, 양호한 중합성, 얻어지는 막의 내열성 및 표면 경도가 향상된다는 점에서 단관능, 2관능 또는 3관능 이상의 (메타)아크릴레이트가 불포화성 에틸렌계 모노머로 사용될 수 있다. 불포화성 에틸렌계 모노머는 광추출용 감광성 수지 조성물의 총 중량 대비 5 내지 70 중량%으로 포함된다.The unsaturated ethylenic monomer may be an acrylic monomer having two or more unsaturated ethylenic bonds. Specifically, the unsaturated ethylenic monomer may be a polyfunctional acrylic monomer having two or more unsaturated ethylene bonds, and in terms of improved polymerization, heat resistance and surface hardness of the resulting film, monofunctional, bifunctional, or trifunctional or more (Meth)acrylate can be used as an unsaturated ethylenic monomer. The unsaturated ethylenic monomer is included in an amount of 5 to 70% by weight based on the total weight of the photosensitive resin composition for light extraction.

불포화성 에틸렌계 모노머로서 사용되는 단관능 (메타)아크릴레이트로는 2-히드록시 에틸 (메타)아크릴레이트(2-hydroxy ethyl (meth)acrylate), 카비톨 (메타)아크릴레이트(carbitol(meth)acrylate), 이소보닐 (메타)아크릴레이트(isobornyl (meth)acrylate), 3-메톡시 부틸 (메타)아크릴레이트(3-methoxybutyl (meth)acrylate), 2-(메타)아크릴로일 옥시 에틸 2-히드록시프로필 프탈레이트(2-(meth) acryloyl oxy ethyl 2-hydroxypropyl phthalate) 등이 있다.Monofunctional (meth)acrylates used as unsaturated ethylenic monomers include 2-hydroxy ethyl (meth)acrylate, carbitol (meth)acrylate. acrylate), isobornyl (meth)acrylate, 3-methoxybutyl (meth)acrylate, 2-(meth)acryloyl oxyethyl 2- Hydroxypropyl phthalate (2-(meth) acryloyl oxy ethyl 2-hydroxypropyl phthalate).

불포화성 에틸렌계 모노머로서 사용되는 2관능 (메타)아크릴레이트로는 에텔렌글리콜 (메타)아크릴레이트(ethyleneglycol (meth)acrylate), 1,6-헥산디올 (메타)아크릴레이트(1,6-hexanediol (meth)acrylate), 1,9-노난디올 (메타)아크릴레이트(1,9-nonanediol (meth)acrylate), 프로필렌글리콜 (메타)아크릴레이트(propylene glycol (meth)acrylate), 테트라에틸렌 글리콜 (메타)아크릴레이트(tetraethylene glycol (meth)acrylate), 비스페녹시 에틸알콜 플루오렌 디아크릴레이트(bisphenoxy ethylalcohol fluorene diacrylate) 등이 있다.Difunctional (meth)acrylates used as unsaturated ethylenic monomers include ethyleneglycol (meth)acrylate, 1,6-hexanediol (meth)acrylate (1,6-hexanediol). (meth)acrylate), 1,9-nonanediol (meth)acrylate, propylene glycol (meth)acrylate, tetraethylene glycol (meth)acrylate ) Acrylate (tetraethylene glycol (meth)acrylate), bisphenoxy ethylalcohol fluorene diacrylate, and the like.

불포화성 에틸렌계 모노머로서 사용되는 3관능 이상의 (메타)아크릴레이트로는 트리스히드록시에틸이소시아뉴레이트 트리(메타)아크릴레이트(trishydroxyethyl isocyanurate tri(meth)acrylate), 트리메틸프로판 트리(메타)아크릴레이트(trimethylpropane tri(meth)acrylate), 펜타에리트리톨 트리(메타)아크릴레이트(pentaerythritol tri(meth)acrylate), 펜타에리트리톨 테트라(메타)아크릴레이트(pentaerythritol tetra(meth)acrylate), 디펜타에리트리톨 헥사(메타)아크릴레이트(dipentaerythritol hexa(meth)acrylate) 등이 있다.Trishydroxyethyl isocyanurate tri(meth)acrylate, trishydroxyethyl isocyanurate tri(meth)acrylate, trimethylpropane tri(meth)acrylate as trishydroxyethyl isocyanurate tri(meth)acrylate used as an unsaturated ethylenic monomer (trimethylpropane tri(meth)acrylate), pentaerythritol tri(meth)acrylate, pentaerythritol tetra(meth)acrylate, dipentaerythritol hexa (Meth)acrylate (dipentaerythritol hexa(meth)acrylate) and the like.

상술한 단관능, 2관능 또는 3관능 이상의 (메타)아크릴레이트는 단독으로 또는 조합되어 사용될 수 있다.The monofunctional, bifunctional, or trifunctional or more (meth)acrylates described above may be used alone or in combination.

광중합 개시제는 노광에 의해 분해 또는 결합을 일으키며, 라디칼, 음이온, 양이온 등의 불포화성 에틸렌계 모노머의 중합을 개시할 수 있는 활성종을 발생시키는 화합물이다. 광중합 개시제는 광추출용 감광성 수지 조성물의 총 중량 대비 0.5 내지 20 중량%으로 포함된다. 광중합 개시제가 광추출용 감광성 수지 조성물의 총 중량 대비 0.5 중량% 미만으로 함유되는 경우, 얻어지는 막의 감도가 충분하지 않아 현상 공정에서 막이 유실되기 쉽고, 현상 공정에서 막이 유지되더라도 충분히 높은 가교 밀도를 갖는 막을 얻기 어렵다. 또한, 광중합 개시제의 중량%가 광추출용 감광성 수지 조성물의 총 중량 대비 20 중량% 초과인 경우, 얻어지는 막의 내열성 및 평탄화성이 저하되기 쉽다.A photopolymerization initiator is a compound that causes decomposition or bonding by exposure to light and generates active species capable of initiating polymerization of unsaturated ethylenic monomers such as radicals, anions, and cations. The photopolymerization initiator is included in an amount of 0.5 to 20% by weight based on the total weight of the photosensitive resin composition for light extraction. When the photopolymerization initiator is contained in an amount of less than 0.5% by weight of the total weight of the photosensitive resin composition for light extraction, the film is likely to be lost in the developing process because the sensitivity of the obtained film is insufficient, and a film having a sufficiently high crosslinking density is obtained even if the film is maintained in the development process. Difficult to obtain. In addition, when the weight% of the photopolymerization initiator is more than 20% by weight relative to the total weight of the photosensitive resin composition for light extraction, the heat resistance and planarization properties of the resulting film are likely to be deteriorated.

광중합 개시제는 티옥산톤(thioxanthone), 2,4-디에틸 티옥산톤(2,4-diethyl thioxanthone), 티옥산톤-4-술폰산(thioxanthone-4-sulfonic acid), 벤조페논(benzophenone), 4,4'-비스(디에틸아미노)벤조페논(4,4'-bis(diethylamino) benzophenone), 아세토페논(acetophenone), p-디메틸아미노아세토페논(p- dimethylaminoacetophenone), α,α'-디메톡시아세톡시벤조페논(α,α'-dimethoxyacetoxybenzophenone), 2,2'-디메톡시-2-페틸아세토페논(2,2'- dimethoxy-2-phetylacetophenone), p-메톡시아세토페논(p-methoxyacetophenone), 2-메틸[4-(메틸티오)페닐]-2-모르폴리노-1-프로파논(2-methyl-[4-(methylthio)phenyl] 2-morpholino-1-propanone), 2-벤질-2-디에틸아미노-1-(4-모르폴리노페닐)-부탄-1-온(2-benzyl-2-diethylamino-1-(4-morpholinophenyl)-butane-1?one), 2-히드록시-2-메틸-1-페닐프로판-1-온(2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one), 4-(2-히드록시에톡시)페닐-(2-히드록시-2-프로필)케톤(4-(2-hydroxyethoxy)phenyl-(2-hydroxy-2-propyl)ketone), 1-히드록시시클로헥실페닐케톤(1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone) 등의 케톤류, 안트라퀴논(anthraquinone), 1,4-나프토퀴논(1,4- naphthoquinone) 등의 퀴논류, 1,3,5-트리스(트리클로로메틸)-s-트리아진(1,3,5-tris (trichloromethyl)-s-triazine), 1,3-비스(트리클로로메틸)-5-(2-클로로페닐)-s-트리아진(1,3-bis(trichloromethyl)-5-(2-chlorophenyl)-s-triazine), 1,3-비스(트리클로로페닐)-s-트리아진(1,3-bis(trichlorophenyl)-s-triazine), 페나실 클로라이드(phenacyl chloride), 트리브로모메틸페닐술폰(tribromomethylphenyl sulfone), 트리스(트리클로로메틸)-s-트리아진(tris(trichloromethyl)-s-triazine) 등의 할로겐 화합물, 디-t-부틸 퍼옥사이드(di-t-butyl peroxide) 등의 과산화물, 2,4,6-트리메틸 벤조일 디페닐 포스핀 옥사이드(2,4,6-trimethyl benzoyl diphenyl phosphine oxide) 등의 아실 포스핀 옥사이드류(acylphosphine oxide) 중 하나 또는 이들의 조합일 수 있다.Photoinitiators are thioxanthone, 2,4-diethyl thioxanthone, thioxanthone-4-sulfonic acid, benzophenone, 4,4'-bis(diethylamino)benzophenone (4,4'-bis(diethylamino) benzophenone), acetophenone, p-dimethylaminoacetophenone, α,α'-dime Methoxyacetoxybenzophenone (α,α'-dimethoxyacetoxybenzophenone), 2,2'-dimethoxy-2-fetylacetophenone (2,2'-dimethoxy-2-phetylacetophenone), p-methoxyacetophenone (p-methoxyacetophenone) ), 2-methyl[4-(methylthio)phenyl]-2-morpholino-1-propanone (2-methyl-[4-(methylthio)phenyl] 2-morpholino-1-propanone), 2-benzyl -2-diethylamino-1-(4-morpholinophenyl)-butan-1-one (2-benzyl-2-diethylamino-1-(4-morpholinophenyl)-butane-1?one), 2-hydro Roxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one (2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one), 4- (2-hydroxyethoxy) phenyl- (2-hydroxy- Ketones such as 2-propyl) ketone (4- (2-hydroxyethoxy) phenyl- (2-hydroxy-2-propyl) ketone) and 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone, anthraquinone ), quinones such as 1,4-naphthoquinone, 1,3,5-tris (trichloromethyl)-s-triazine (1,3,5-tris (trichloromethyl)- s-triazine), 1,3-bis(trichloromethyl)-5-(2-chlorophenyl)-s-triazine (1,3-bis(trichloromethyl)-5-(2-ch lorophenyl)-s-triazine), 1,3-bis(trichlorophenyl)-s-triazine (1,3-bis(trichlorophenyl)-s-triazine), phenacyl chloride, tribromomethylphenyl Halogen compounds such as sulfone (tribromomethylphenyl sulfone), tris (trichloromethyl)-s-triazine, and peroxides such as di-t-butyl peroxide , 2,4,6-trimethyl benzoyl diphenyl phosphine oxide (2,4,6-trimethyl benzoyl diphenyl phosphine oxide) may be one of acylphosphine oxides (acylphosphine oxide), or a combination thereof.

용매는 유기 용매로서, 광추출 감광성 수지 조성물 총 중량 대비 20 내지 90 중량%이다. 용매로서 메탄올(methanol), 에탄올(ethanol) 등의 알코올류; 테트라하이드로퓨란(tetrahydrofuran), 디에틸렌 글리콜 디메틸 에테르(diethylene glycol dimethyl ether), 디에틸렌 글리콜 디에틸 에테르(diethylene glycol diethyl ether) 등의 에테르류; 프로필렌 글리콜 메틸 에테르 아세테이트(propylene glycol methyl ether acetate), 프로필렌 글리콜 에틸 에테르 아세테이트(propylene glycol ethyl ether acetate), 프로펠렌 글리콜 프로필 에테르 아세테이트(propellen glycol propyl ether acetate), 프로필렌 글리콜 부틸 에테르 아세테이트(propylene glycol butyl ether acetate) 등의 프로필렌 글리콜 알킬 에테르 아세테이트류(propylene glycol alkyl ether acetate) 등의 용매가 사용될 수 있다. 상술한 예시적인 용매들 중 용해성, 각 성분과의 반응성 및 막 형성의 편리성의 관점에서 디에틸렌 글리콜 디메틸 에테르(diethylene glycol dimethyl ether), 디에틸렌 글리콜 디에틸 에테르(diethylene glycol diethyl ether), 프로필렌 글리콜 메틸 에테르(propylene glycol methly ether)의 아세테이트류; 메틸에틸케톤(methyl ethyl ketone), 시클로헥사논(cyclohexanone), 4-히드록시-4-메틸-2-펜타논(4-hydroxy-4-methyl-2-pentanone) 등의 케톤류; 아세트산(acetic acid)의 메틸에스테르(methyl ester), 에틸에스테르(ethylester), 프로필에스테르(propylester), 부틸에스테르(butylester); 2-히드록시프로피온산의 에틸에스테르(2-hydroxy-propionic acid ethylester), 메틸에스테르(methylester); 2-히드록시-2-메틸프로피온산(2-hydroxy-2-methyl propionic acid)의 에틸에스테르(ethylester); 히드록시 아세트산(hydroxy acetic acid)의 메틸에스테르(methylester), 에틸에스테르(ethylester), 부틸 에스테르(butylester); 젖산 에틸(lactic acid ethyl), 젖산 프로필(lactic acid propyl), 젖산 부틸(lactic acid butyl); 메톡시아세트산(methoxy acetic acid)의 메틸에스테르(methylester), 에틸에스테르(ethylester), 프로필에스테르(propylester), 부틸에스테르(butylester); 프로폭시아세트산(propoxy acetic acid)의 메틸에스테르(methylester), 에틸에스테르(ethylester), 프로필에스테르(propylester), 부틸에스테르(butylester); 부톡시아세트산(butoxy acetic acid)의 메틸에스테르(methylester), 에틸에스테르(ethylester), 프로필에스테르(propylester), 부틸에스테르(butylester); 2-메톡시프로피온산(2-methoxy propionic acid)의 메틸에스테르(methylester), 에틸에스테르(ethylester), 프로필에스테르(propylester), 부틸에스테르(butylester); 2-에톡시프로피온산(2-ethoxy propionic acid)의 메틸에스테르(methylester), 에틸에스테르(ethylester), 프로필에스테르(propylester), 부틸에스테르(butylester); 2-부톡시프로피온산(2-butoxy propionic acid)의 메틸에스테르(methylester), 에틸에스테르(ethylester), 프로필에스테르(propylester), 부틸에스테르(butylester); 3-메톡시프로판(3-methoxy propane)의 메틸에스테르(methylester), 에틸에스테르(ethylester), 프로필에스테르(propylester), 부틸에스테르(butylester); 3-에톡시프로피온산(3-ethoxy propionic acid)의 메틸에스테르(methylester), 에틸에스테르(ethylester), 프로필에스테르(propylester), 부틸에스테르(butylester); 3-부톡시프로피온산(3-butoxy propionic acid)의 메틸에스테르(methylester), 에틸에스테르(ethylester), 프로필에스테르(propylester), 부틸에스테르 등의 에스테르류가 사용될 수 있다.The solvent is an organic solvent and is 20 to 90% by weight based on the total weight of the light-extracting photosensitive resin composition. Alcohols such as methanol and ethanol as a solvent; Ethers such as tetrahydrofuran, diethylene glycol dimethyl ether, and diethylene glycol diethyl ether; Propylene glycol methyl ether acetate, propylene glycol ethyl ether acetate, propellen glycol propyl ether acetate, propylene glycol butyl ether acetate) and the like may be used. Among the above-described exemplary solvents, diethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol diethyl ether, propylene glycol methyl from the viewpoint of solubility, reactivity with each component, and convenience of film formation. Acetates of ether (propylene glycol methly ether); Ketones such as methyl ethyl ketone, cyclohexanone, and 4-hydroxy-4-methyl-2-pentanone; Methyl ester, ethylester, propylester, butylester of acetic acid; 2-hydroxy-propionic acid ethylester, methylester; Ethylester of 2-hydroxy-2-methyl propionic acid; Methylester, ethylester, butylester of hydroxy acetic acid; Lactic acid ethyl, lactic acid propyl, lactic acid butyl; Methoxy acetic acid methylester, ethylester, propylester, butylester; Methylester, ethylester, propylester, butylester of propoxy acetic acid; Methylester, ethylester, propylester, butylester of butoxy acetic acid; 2-methoxy propionic acid methylester, ethylester, propylester, butylester; Methylester, ethylester, propylester, butylester of 2-ethoxy propionic acid; Methylester, ethylester, propylester, butylester of 2-butoxy propionic acid; 3-methoxy propane methylester, ethylester, propylester, butylester; Methylester, ethylester, propylester, butylester of 3-ethoxy propionic acid; Esters such as methylester, ethylester, propylester, and butyl ester of 3-butoxy propionic acid may be used.

몇몇 실시예에서, 상술한 물질의 용매와 함께 고비등점 용매가 사용될 수도 있다. 고비등점 용매로서는 N-메틸 포름아미드(N-methyl formamide), N,N-디메틸 포름아미드(N,N-dimethylformamide), N-메틸 아세트아미드(N- methyl cetamide), N,N-디메틸 아세트아미드(N,N-dimethylacetamide), N-메틸 피롤리돈(N-methylpyrrolidone), 디메틸 설폭시드(dimethyl sulfoxide), 벤질 에틸 에테르 (benzyl ethyl ether) 등이 사용될 수 있다.In some embodiments, a high boiling point solvent may be used in conjunction with the solvent of the above-described materials. High boiling point solvents include N-methyl formamide, N,N-dimethylformamide, N-methyl cetamide, and N,N-dimethyl acetamide. (N,N-dimethylacetamide), N-methylpyrrolidone, dimethyl sulfoxide, benzyl ethyl ether, and the like may be used.

광추출용 분산액은 광추출을 위한 분산 입자를 갖는다. 광추출용 분산액은 분산 입자가 광추출용 감광성 수지 조성물 내에 균일하게 분산되도록 사용되는 것으로서, 광추출용 분산액은 광추출용 감광성 수지 조성물의 총 중량 대비 5 내지 50 중량%이다. 광추출용 분산액은 분산 입자를 포함하고, 추가적으로 바인더, 분산제 및 용매 등을 더 포함할 수도 있다.The dispersion for light extraction has dispersed particles for light extraction. The dispersion for light extraction is used so that the dispersed particles are uniformly dispersed in the photosensitive resin composition for light extraction, and the dispersion for light extraction is 5 to 50% by weight based on the total weight of the photosensitive resin composition for light extraction. The dispersion for light extraction includes dispersed particles, and may further include a binder, a dispersant, and a solvent.

분산 입자의 굴절률과 알칼리 가용성 수지의 굴절률의 차 및 분산 입자의 굴절률과 불포화성 에틸렌계 모노머의 굴절률의 차는 0.2 이상이다. 광추출용 감광성 수지 조성물을 사용하여 유기 발광 표시 장치의 광산란층을 형성하는 경우, 유기 발광층으로부터 발광된 광을 산란시키기 위해 광산란층의 베이스 부재로서 기능하는 알칼리 가용성 수지 및 불포화성 에틸렌계 모노머와 광산란층에 분산된 분산 입자 사이에는 소정의 굴절률 차이가 존재하여야 하며, 예를 들어, 0.2 이상의 굴절률 차이가 존재하여야 한다. 예를 들어, 알칼리 가용성 수지의 굴절률 및 불포화성 에틸렌계 모노머의 굴절률이 1.4 내지 1.6인 경우, 분산 입자는 1.8 이상의 굴절률을 갖는 금속 산화물 또는 1.2 이하의 굴절률을 갖는 기체부를 포함하는 중공 입자일 수 있다. 분산 입자로서 사용될 수 있는 금속 산화물로는 산화 티타늄(TiO2), 산화 지르코늄(ZrO2), 티탄산바륨(BaTiO3) 등이 있다. 분산 입자로서 사용될 수 있는 중공 입자는 1.2 이하의 굴절률을 갖는 기체부와 기체부를 둘러싸는 주변부를 포함할 수 있고, 기체부는 공기, 질소, 산소 등으로 이루어지고, 주변부는 알칼리 가용성 수지의 굴절률 및 불포화성 에틸렌계 모노머의 굴절률과 동일한 굴절률을 갖는 물질로 이루어질 수 있다. 본 명세서에서 2개의 값이 동일하다는 것은 2개의 값이 완전히 일치하는 경우뿐만 아니라 실질적으로 동일한 경우 모두를 의미한다. 즉, 2개의 값이 동일하다는 것은 오차범위, 제조 공정 시의 공정 편차 등을 고려하여 2개의 값이 실질적으로 동일한 경우도 포함한다.The difference between the refractive index of the dispersed particles and the refractive index of the alkali-soluble resin, and the difference between the refractive index of the dispersed particles and the refractive index of the unsaturated ethylenic monomer is 0.2 or more. When forming a light-scattering layer of an organic light-emitting display device using a photosensitive resin composition for light extraction, light scattering with an alkali-soluble resin and an unsaturated ethylenic monomer that functions as a base member of the light-scattering layer to scatter light emitted from the organic light-emitting layer A predetermined refractive index difference must exist between the dispersed particles dispersed in the layer, for example, a refractive index difference of 0.2 or more must exist. For example, when the refractive index of the alkali-soluble resin and the refractive index of the unsaturated ethylenic monomer are 1.4 to 1.6, the dispersed particles may be hollow particles including a metal oxide having a refractive index of 1.8 or more or a gas portion having a refractive index of 1.2 or less. . Metal oxides that can be used as dispersed particles include titanium oxide (TiO 2 ), zirconium oxide (ZrO 2 ), barium titanate (BaTiO 3 ), and the like. The hollow particles that can be used as dispersed particles may include a gas part having a refractive index of 1.2 or less and a peripheral part surrounding the gas part, the gas part is made of air, nitrogen, oxygen, etc., and the peripheral part is the refractive index and unsaturation of the alkali-soluble resin. It may be made of a material having the same refractive index as the refractive index of the ethylene-based monomer. In the present specification, the fact that the two values are the same means not only a case where the two values are completely identical, but also a case where the two values are substantially the same. That is, the fact that the two values are the same includes the case where the two values are substantially the same in consideration of the error range and process deviation during the manufacturing process.

분산 입자의 직경은 200 ㎚ 내지 1 ㎛이다. 분산 입자의 직경이 200 ㎚ 미만인 경우 광에 의해 분산 입자가 인식되지 않으므로 광산란이 일어나지 않으며, 분산 입자의 직경이 1 ㎛를 초과하는 경우, 재료 안정성이 좋지 않고 광추출용 감광성 수지 조성물의 코팅 특성이 나빠진다. 여기서, 분산 입자의 직경은 입도 분석을 통한 분산 입자의 직경의 평균을 의미한다. The diameter of the dispersed particles is 200 nm to 1 μm. When the diameter of the dispersed particles is less than 200 nm, light scattering does not occur because the dispersed particles are not recognized by light, and when the diameter of the dispersed particles exceeds 1 μm, the material stability is poor and the coating properties of the photosensitive resin composition for light extraction are poor. It gets worse. Here, the diameter of the dispersed particles means the average of the diameters of the dispersed particles through particle size analysis.

광추출용 감광성 수지 조성물은 상술한 광추출용 감광성 수지 조성물의 조성들을 교반하는 방식으로 형성된다. 예를 들어, 알칼리 가용성 수지, 불포화성 에틸렌계 모노머, 광추출용 분산액 및 광중합 개시제를 실온에서 교반한 후, 용매를 첨가하여 다시 실온에서 교반하는 방식으로 광추출용 감광성 수지 조성물이 형성될 수 있다.The photosensitive resin composition for light extraction is formed by stirring the compositions of the above-described photosensitive resin composition for light extraction. For example, an alkali-soluble resin, an unsaturated ethylenic monomer, a dispersion for light extraction, and a photopolymerization initiator are stirred at room temperature, and then a solvent is added to the photosensitive resin composition for light extraction by stirring at room temperature again. .

본 발명의 일 실시예에 따른 광추출용 감광성 수지 조성물을 사용하여 유기 발광 표시 장치의 광추출 효율을 향상시키기 위한 광산란층이 형성될 수 있다. 이 경우, 광추출용 감광성 수지 조성물을 사용하여 형성된 광산란층은 유기 발광 표시 장치의 광추출 효율을 향상시킬 수 있으므로, 유기 발광 표시 장치의 수명이 증가되고, 유기 발광 표시 장치의 소비 전력이 감소될 수 있다. 또한, 광추출용 감광성 수지 조성물은 별도의 에칭 공정 등을 수행함이 없이 포토 패터닝이 가능하므로, 노광, 현상 등의 비교적 간단한 공정을 사용하여 광추출용 감광성 수지 조성물로부터 광산란층이 형성될 수 있고, 다른 엘리먼트의 손상 없이 유기 발광 표시 장치 내부에 광산란층이 형성될 수 있으며, 패턴된 형상의 광산란층이 형성될 수 있다.A light scattering layer for improving light extraction efficiency of an organic light emitting display device may be formed by using the photosensitive resin composition for light extraction according to an embodiment of the present invention. In this case, the light scattering layer formed by using the photosensitive resin composition for light extraction can improve the light extraction efficiency of the organic light emitting display device, thereby increasing the lifespan of the organic light emitting display device and reducing the power consumption of the organic light emitting display device. I can. In addition, since the photosensitive resin composition for light extraction can be photo patterned without performing a separate etching process, etc., a light scattering layer can be formed from the photosensitive resin composition for light extraction using a relatively simple process such as exposure and development, A light scattering layer may be formed inside the organic light emitting diode display without damage to other elements, and a patterned light scattering layer may be formed.

상술한 광추출용 감광성 수지 조성물의 조성 이외에 첨가될 수 있는 기타 점가제로서, 광추출용 감광성 수지 조성물의 도포성을 향상하기 위한 계면활성제가 사용될 수 있다. 계면활성제로는 불소계 계면활성제 및 실리콘계 계면활성제가 사용될 수 있으며, 예를 들어, 3M사의 FC-129, FC-170C, FC-430, DIC사의 F-172, F-173, F-183, F-470, F-475, 신에츠실리콘사의 KP322, KP323, KP340, KP341 등이 사용될 수 있다. 계면활성제의 중량%가 공중합체인 알칼리 가용성 수지 대비 5 중량%를 초과한 경우에는 광추출용 감광성 수지 조성물 도포 시 거품이 발생할 수 있다. 따라서, 계면활성제가 사용되는 경우, 계면활성제의 중량%는 공중합체인 알칼리 가용성 수지 대비 5 중량% 이하일 수 있고, 보다 바람직하게는 2 중량% 이하일 수 있다.As other additives that may be added in addition to the composition of the above-described photosensitive resin composition for light extraction, a surfactant for improving the applicability of the photosensitive resin composition for light extraction may be used. As the surfactant, a fluorine-based surfactant and a silicone-based surfactant may be used. For example, 3M's FC-129, FC-170C, FC-430, DIC's F-172, F-173, F-183, F- 470, F-475, Shin-Etsu Silicon's KP322, KP323, KP340, KP341, etc. can be used. When the weight% of the surfactant exceeds 5% by weight compared to the alkali-soluble resin, which is a copolymer, bubbles may occur when the photosensitive resin composition for light extraction is applied. Therefore, when a surfactant is used, the weight% of the surfactant may be 5% by weight or less, and more preferably 2% by weight or less compared to the alkali-soluble resin as a copolymer.

상술한 광추출용 감광성 수지 조성물의 조성 이외에 첨가될 수 있는 기타 점가제로서, 기체와의 밀착성을 향상시키기 위한 접착 조제가 사용될 수도 있다. 접착 조제로는 관능성 실란 커플링제가 사용될 수 있고, 예를 들어, 트리메톡시실릴(trimethoxysilyl) 안식향산, γ-메타크릴록시프로필트리메톡시 실란(γ-methacryloxypropyltrimethoxysilanetrimethoxy silane), 비닐트리아세톡시 실란(vinyl trimethoxy silane), 비닐트리메톡시 실란(vinyltrimethoxy silane), γ-이소시아네이트프로필트리에톡시 실란(γ-isocyanatepropyltriethoxysilane), γ-글리시독시프로필트리메톡시 실란(γ-glycidoxypropyltrimethoxy silane) 등이 사용될 수 있다. 접착 조제의 중량%가 공중합체인 알칼리 가용성 수지 대비 20 중량%를 초과한 경우에는 얻어지는 막의 내열성이 저하될 수 있다. 따라서, 접착 조제가 사용되는 경우, 접착 조제의 중량%는 알칼리 가용성 수지 대비 20 중량% 이하일 수 있고, 보다 바람직하게는 10 중량% 이하일 수 있다.As other additives that may be added in addition to the composition of the photosensitive resin composition for light extraction described above, an adhesion aid for improving adhesion to the substrate may be used. As the adhesion aid, a functional silane coupling agent may be used, and for example, trimethoxysilyl benzoic acid, γ-methacryloxypropyltrimethoxysilanetrimethoxy silane, vinyltriacetoxy silane ( vinyl trimethoxy silane), vinyltrimethoxy silane, γ-isocyanatepropyltriethoxysilane, γ-glycidoxypropyltrimethoxy silane, and the like may be used. . When the weight% of the adhesion aid exceeds 20 weight% compared to the alkali-soluble resin which is a copolymer, the heat resistance of the obtained film may be deteriorated. Therefore, when an adhesion aid is used, the weight% of the adhesion aid may be 20 wt% or less, more preferably 10 wt% or less, relative to the alkali-soluble resin.

이하에서는 상술한 바와 같은 광추출용 감광성 수지 조성물을 사용한 유기 발광 표시 장치 및 그 제조 방법을 설명한다.Hereinafter, an organic light emitting display device using the above-described photosensitive resin composition for light extraction and a method of manufacturing the same will be described.

도 1a는 본 발명의 일 실시예에 따른 유기 발광 표시 장치를 설명하기 위한 단면도이다. 도 1b는 도 1a의 X영역에 대한 확대 단면도이다. 도 1a 및 도 1b를 참조하면, 유기 발광 표시 장치(100)는 기판(110), 컬러 필터(130), 오버 코팅층(150), 유기 발광 소자(140) 및 광산란층(160)을 포함한다. 도 1a 및 도 1b에 도시된 유기 발광 표시 장치(100)는 바텀 에미션 방식의 유기 발광 표시 장치이다. 도 1a 및 도 1b에서는 설명의 편의를 위해 유기 발광 표시 장치(100)의 하나의 서브 화소에 대한 단면도만을 도시하였다.1A is a cross-sectional view illustrating an organic light emitting display device according to an exemplary embodiment of the present invention. 1B is an enlarged cross-sectional view of region X of FIG. 1A. 1A and 1B, the organic light emitting display device 100 includes a substrate 110, a color filter 130, an overcoat layer 150, an organic light emitting device 140, and a light scattering layer 160. The organic light emitting display device 100 illustrated in FIGS. 1A and 1B is a bottom emission type organic light emitting display device. 1A and 1B illustrate only a cross-sectional view of one sub-pixel of the organic light emitting display device 100 for convenience of description.

도 1a 및 도 1b를 참조하면, 절연 물질로 형성되는 기판(110) 상에 게이트 전극(121), 액티브층(122), 소스 전극(123) 및 드레인 전극(124)을 포함하는 박막 트랜지스터(120)가 형성된다. 구체적으로, 기판(110) 상에 게이트 전극(121)이 형성되고, 게이트 전극(121) 및 기판(110) 상에 게이트 전극(121)과 액티브층(122)을 절연시키기 위한 게이트 절연층(111)이 형성되고, 게이트 절연층(111) 상에 액티브층(122)이 형성되고, 액티브층(122) 상에 에치 스타퍼(112)가 형성되고, 액티브층(122) 및 에치 스타퍼(112) 상에 소스 전극(123) 및 드레인 전극(124)이 형성된다. 소스 전극(123) 및 드레인 전극(124)은 액티브층(122)과 접하는 방식으로 액티브층(122)과 전기적으로 연결되고, 에치 스타퍼(112)의 일부 영역 상에 형성된다. 본 명세서에서는 설명의 편의를 위해 유기 발광 표시 장치(100)에 포함될 수 있는 다양한 박막 트랜지스터 중 구동 박막 트랜지스터만을 도시하였다. 또한, 본 명세서에서는 박막 트랜지스터(120)가 인버티드 스태거드(inverted staggered) 구조인 것으로 설명하나 코플래너(coplanar) 구조의 박막 트랜지스터도 사용될 수 있다.1A and 1B, a thin film transistor 120 including a gate electrode 121, an active layer 122, a source electrode 123, and a drain electrode 124 on a substrate 110 formed of an insulating material. ) Is formed. Specifically, a gate electrode 121 is formed on the substrate 110, and a gate insulating layer 111 for insulating the gate electrode 121 and the active layer 122 on the gate electrode 121 and the substrate 110 ) Is formed, the active layer 122 is formed on the gate insulating layer 111, the etch stopper 112 is formed on the active layer 122, the active layer 122 and the etch stopper 112 ) On the source electrode 123 and the drain electrode 124 are formed. The source electrode 123 and the drain electrode 124 are electrically connected to the active layer 122 in a manner that contacts the active layer 122 and are formed on a partial region of the etch stopper 112. In this specification, only a driving thin film transistor is illustrated among various thin film transistors that may be included in the organic light emitting display device 100 for convenience of description. In addition, in the present specification, the thin film transistor 120 is described as having an inverted staggered structure, but a thin film transistor having a coplanar structure may also be used.

박막 트랜지스터(120) 상에 패시베이션층(113)이 형성되고, 패시베이션층(113) 상에 컬러 필터(130)가 형성된다. 컬러 필터(130)는 유기 발광층(142)에서 발광된 광이 색을 변환시키기 위한 것으로서, 적색 컬러 필터(130), 녹색 컬러 필터(130) 및 청색 컬러 필터(130) 중 하나일 수 있다. 컬러 필터(130)는 굴절률이 약 1.5인 물질로 형성될 수 있다.A passivation layer 113 is formed on the thin film transistor 120, and a color filter 130 is formed on the passivation layer 113. The color filter 130 is for converting color of light emitted from the organic emission layer 142, and may be one of a red color filter 130, a green color filter 130, and a blue color filter 130. The color filter 130 may be formed of a material having a refractive index of about 1.5.

컬러 필터(130)는 패시베이션층(113) 상에서 발광 영역(EA)에 대응하는 위치에 형성된다. 여기서, 발광 영역(EA)은 애노드(141) 및 캐소드(143)에 의해 유기 발광층(142)이 발광하는 영역을 의미하고, 발광 영역(EA)에 대응하는 위치에 컬러 필터(130)가 형성된다는 것은 인접한 발광 영역(EA)들에서 발광된 광이 서로 섞여 블러링 현상 및 고스트 현상이 발생하는 것을 방지하도록 컬러 필터(130)가 배치되는 것을 의미한다. 예를 들어, 컬러 필터(130)는 발광 영역(EA)과 중첩되도록 형성될 수 있다. 다만, 컬러 필터(130)의 형성 위치 및 크기는 발광 영역(EA)의 크기 및 위치뿐만 아니라, 컬러 필터(130)와 애노드(141) 사이의 거리, 서로 이웃하는 발광 영역(EA) 간의 거리 등과 같은 다양한 요소에 의해 결정될 수 있다.The color filter 130 is formed on the passivation layer 113 at a position corresponding to the light emitting area EA. Here, the light-emitting area EA refers to an area in which the organic light-emitting layer 142 emits light by the anode 141 and the cathode 143, and the color filter 130 is formed at a position corresponding to the light-emitting area EA. This means that the color filter 130 is disposed to prevent blurring and ghosting from occurring due to mixing of light emitted from adjacent light emitting areas EA. For example, the color filter 130 may be formed to overlap the light emitting area EA. However, the formation location and size of the color filter 130 are not only the size and location of the light emitting area EA, but also the distance between the color filter 130 and the anode 141, the distance between the adjacent light emitting areas EA, etc. It can be determined by various factors such as.

컬러 필터(130) 및 패시베이션층(113) 상에 오버 코팅층(150)이 형성된다. 오버 코팅층(150)은 굴절률이 약 1.5인 절연 물질로 형성되고, 예를 들어, 아크릴계 수지, 에폭시 수지, 페놀 수지, 폴리아미드계 수지, 폴리이미드계 수지, 불포화 폴리에스테르계 수지, 폴리페닐렌계 수지, 폴리페닐렌설파이드계 수지, 벤조사이클로부텐 및 포토레지스트 중 하나로 형성될 수 있으나, 이에 제한되지 않고, 약 1.5의 굴절률을 갖는 임의의 절연 물질로 형성될 수 있다.An overcoat layer 150 is formed on the color filter 130 and the passivation layer 113. The overcoat layer 150 is formed of an insulating material having a refractive index of about 1.5, for example, acrylic resin, epoxy resin, phenol resin, polyamide resin, polyimide resin, unsaturated polyester resin, polyphenylene resin , Polyphenylene sulfide-based resin, benzocyclobutene, and a photoresist, but is not limited thereto, and may be formed of any insulating material having a refractive index of about 1.5.

도 1a 및 도 1b를 참조하면, 오버 코팅층(150) 상에 광산란층(160)이 형성된다. 광산란층(160)은 상술한 광추출용 감광성 수지 조성물로부터 형성된다. 광산란층(160)은 유기 발광층(142)에서 발광된 광에 대한 광추출을 위한 분산 입자(161)와 감광성 수지를 포함한다. 광산란층(160)의 분산 입자(161)는 상술한 광추출용 감광성 수지 조성물의 분산 입자(161)와 동일하고, 광산란층(160)의 감광성 수지는 상술한 광추출용 감광성 수지 조성물의 알칼리 가용성 수지 및 불포화성 에틸렌계 모노머를 포함할 수 있다. 1A and 1B, a light scattering layer 160 is formed on the overcoat layer 150. The light scattering layer 160 is formed from the above-described photosensitive resin composition for light extraction. The light scattering layer 160 includes dispersed particles 161 for light extraction of light emitted from the organic emission layer 142 and a photosensitive resin. The dispersed particles 161 of the light scattering layer 160 are the same as the dispersed particles 161 of the above-described photosensitive resin composition for light extraction, and the photosensitive resin of the light scattering layer 160 is alkali-soluble in the above-described photosensitive resin composition for light extraction. It may contain a resin and an unsaturated ethylenic monomer.

분산 입자(161)의 굴절률과 감광성 수지의 굴절률의 차는 0.2 이상이다. 유기 발광층(142)으로부터 발광된 광을 산란시키기 위해 광산란층(160)의 감광성 수지와 광산란층(160)에 분산된 분산 입자(161) 사이에는 소정의 굴절률 차이가 존재하여야 하며, 예를 들어, 0.2 이상의 굴절률 차이가 존재하여야 한다. 예를 들어, 감광성 수지의 굴절률이 1.4 내지 1.6인 경우, 분산 입자(161)는 1.8 이상의 굴절률을 갖는 금속 산화물 또는 1.2 이하의 굴절률을 갖는 기체부를 포함하는 중공 입자일 수 있다. 광산란층(160)의 분산 입자(161)의 구체적인 물질은 상술한 광추출용 감광성 수지 조성물의 분산 입자(161)의 물질과 동일하다.The difference between the refractive index of the dispersed particles 161 and the refractive index of the photosensitive resin is 0.2 or more. In order to scatter light emitted from the organic light-emitting layer 142, a predetermined difference in refractive index must exist between the photosensitive resin of the light-scattering layer 160 and the dispersed particles 161 dispersed in the light-scattering layer 160, for example, There must be a difference in refractive index of 0.2 or more. For example, when the photosensitive resin has a refractive index of 1.4 to 1.6, the dispersed particles 161 may be hollow particles including a metal oxide having a refractive index of 1.8 or more or a base portion having a refractive index of 1.2 or less. The specific material of the dispersed particles 161 of the light scattering layer 160 is the same as the material of the dispersed particles 161 of the photosensitive resin composition for light extraction described above.

몇몇 실시예에서, 광산란층(160)의 감광성 수지는 상술한 광추출용 감광성 수지 조성물의 광중합 개시제를 더 포함할 수 있다. 즉, 광추출용 감광성 수지 조성물로부터 광산란층(160)을 형성하기 위한 노광 공정에서 광중합 개시제가 남는 경우, 감광성 수지는 광중합 개시제를 더 포함할 수도 있다.In some embodiments, the photosensitive resin of the light scattering layer 160 may further include a photopolymerization initiator of the above-described photosensitive resin composition for light extraction. That is, when the photopolymerization initiator remains in the exposure process for forming the light scattering layer 160 from the photosensitive resin composition for light extraction, the photosensitive resin may further include a photopolymerization initiator.

광산란층(160)은 컬러 필터(130)와 중첩되도록 형성된다. 즉, 광산란층(160)은 기판(110) 전체 영역 상에 형성되는 것이 아니고, 광산란층(160)의 모든 영역은 컬러 필터(130) 상에 형성된다. 광산란층(160)과 컬러 필터(130)의 중첩 관계에 대한 보다 상세한 설명은 도 1c를 참조하여 후술한다.The light scattering layer 160 is formed to overlap the color filter 130. That is, the light scattering layer 160 is not formed on the entire area of the substrate 110, but all areas of the light scattering layer 160 are formed on the color filter 130. A more detailed description of the overlapping relationship between the light scattering layer 160 and the color filter 130 will be described later with reference to FIG. 1C.

오버 코팅층(150) 및 광산란층(160) 상에 애노드(141), 유기 발광층(142) 및 캐소드(143)를 포함하는 유기 발광 소자(140) 및 뱅크(114)가 형성된다. 구체적으로, 오버 코팅층(150) 및 광산란층(160)의 상면 상에 유기 발광층(142)에 정공(hole)을 공급하기 위한 애노드(141)가 형성되고, 애노드(141) 상에 유기 발광층(142)이 형성되고, 유기 발광층(142) 상에 유기 발광층(142)에 전자(electron)를 공급하기 위한 캐소드(143)가 형성된다. 애노드(141)는 일함수가 높은 물질로 형성되고, 캐소드(143)는 일함수가 낮은 물질로 형성된다. 유기 발광층(142)은 백색광을 발광하기 위한 유기 발광층(142)이다. 본 명세서에서 유기 발광 표시 장치(100)는 바텀 에미션 방식의 유기 발광 표시 장치이므로, 캐소드(143)를 구성하는 물질은 반사성이 우수할 수 있다. An organic light-emitting device 140 including an anode 141, an organic emission layer 142, and a cathode 143 and a bank 114 are formed on the overcoat layer 150 and the light scattering layer 160. Specifically, an anode 141 for supplying holes to the organic emission layer 142 is formed on the top surfaces of the overcoat layer 150 and the light scattering layer 160, and the organic emission layer 142 is formed on the anode 141. ) Is formed, and a cathode 143 for supplying electrons to the organic emission layer 142 is formed on the organic emission layer 142. The anode 141 is formed of a material having a high work function, and the cathode 143 is formed of a material having a low work function. The organic emission layer 142 is an organic emission layer 142 for emitting white light. In the present specification, since the organic light-emitting display device 100 is an organic light-emitting display device of a bottom emission type, a material constituting the cathode 143 may have excellent reflectivity.

유기 발광 소자(140)는 뱅크(114)에 의해 정의된 발광 영역(EA)을 포함한다. 즉, 유기 발광 소자(140)의 애노드(141) 중 뱅크(114)에 의해 커버되지 않은 애노드(141) 영역에서만 광이 발광될 수 있으므로, 유기 발광 소자(140)에서 뱅크(114)에 의해 커버되지 않은 애노드(141) 영역은 발광 영역(EA)으로 기능한다.The organic light-emitting device 140 includes a light-emitting area EA defined by the bank 114. That is, since light can be emitted only in the area of the anode 141 that is not covered by the bank 114 of the anode 141 of the organic light emitting device 140, the organic light emitting device 140 is covered by the bank 114 An area of the anode 141 that is not not used functions as a light emitting area EA.

발광 영역(EA)은 광산란층(160)과 중첩된다. 발광 영역(EA)과 광산란층(160)의 중첩 관계에 대한 보다 상세한 설명을 위해 도 1c를 함께 참조한다.The light-emitting area EA overlaps the light scattering layer 160. For a more detailed description of the overlapping relationship between the light emitting area EA and the light scattering layer 160, reference is made to FIG. 1C together.

도 1c는 본 발명의 일 실시예에 따른 유기 발광 표시 장치의 발광 영역, 광산란층 및 컬러 필터를 설명하기 위한 개략적인 평면도이다. 도 1c에서는 설명의 편의를 위해 유기 발광 표시 장치(100)의 상부에서 바라본 하나의 서브 화소(SP)의 발광 영역(EA), 광산란층(160) 및 컬러 필터(130)의 평면만을 도시하였다. 도 1c에서 발광 영역(EA)과 광산란층(160)은 별도의 음영이나 해칭 없이 도시되었으며, 컬러 필터(130)는 최외곽 실선으로 둘러싸인 내부 영역 전체에 대응하고, 광산란층(160)과 중첩되지 않는 컬러 필터(130)의 부분만이 도 1a 및 도 1b와 동일한 해칭으로 도시되었다.1C is a schematic plan view illustrating a light emitting area, a light scattering layer, and a color filter of an organic light emitting diode display according to an exemplary embodiment of the present invention. In FIG. 1C, for convenience of description, only the planes of the emission area EA, the light scattering layer 160, and the color filter 130 of one sub-pixel SP viewed from the top of the OLED display 100 are illustrated. In FIG. 1C, the light-emitting area EA and the light-scattering layer 160 are shown without separate shading or hatching, and the color filter 130 corresponds to the entire inner area surrounded by the outermost solid line, and does not overlap with the light-scattering layer 160. Only the portion of the color filter 130 that does not have the same hatching as in FIGS. 1A and 1B is shown.

도 1c를 참조하면, 발광 영역(EA)과 광산란층(160)은 중첩되어 대응된다. 즉, 발광 영역(EA)의 면적과 광산란층(160) 영역의 면적은 서로 동일할 수 있다. 여기서, 특정 구성요소의 영역의 면적은 특정 구성 요소의 상면의 면적과 하면의 면적 중 더 큰 것으로 정의된다. 광산란층(160) 및 오버 코팅층(150)에 의해 애노드(141)는 단차를 갖는데, 단차가 존재하는 애노드(141) 부분에는 유기 발광 소자(140)의 열화가 발생될 수 있다. 이에 따라 광산란층(160)의 영역의 면적이 발광 영역(EA)의 면적보다 작은 경우, 단차가 존재하는 애노드(141) 부분, 즉, 광산란층(160)의 경계 상에 위치한 애노드(141) 부분이 발광 영역(EA)에 배치되고, 발생된 유기 발광 소자(140)의 열화에 의해 발광 영역(EA)의 휘도 불균일이 발생될 수 있다. 또한, 유기 발광 소자(140)에 열화가 발생되지 않는 경우라도, 광산란층(160)이 형성되어 광추출 효율이 향상된 발광 영역(EA)의 부분과 광산란층(160)이 형성되지 않아 광추출 효율이 향상되지 않은 발광 영역(EA)의 부분 사이의 휘도 불균일이 발생될 수 있다. 또한, 광산란층(160)의 영역의 면적이 발광 영역(EA)의 면적보다 큰 경우 또는 광산란층(160)이 유기 발광 표시 장치(100)의 기판(110) 전체 영역 상에 형성된 경우, 광산란층(160)에서 발생하는 광의 산란에 의해 발광 영역(EA)의 외곽 영역에 블러링 현상이 발생될 수 있다. 따라서, 본 발명의 일 실시예에 따른 유기 발광 표시 장치(100)에서는 발광 영역(EA)과 광산란층(160)이 중첩하므로, 상술한 바와 같은 휘도 불균일 문제와 블러링 현상이 해결될 수 있다.Referring to FIG. 1C, the light emitting area EA and the light scattering layer 160 overlap and correspond to each other. That is, the area of the emission area EA and the area of the light scattering layer 160 may be the same. Here, the area of the area of the specific component is defined as the larger of the area of the upper surface and the area of the lower surface of the specific component. The anode 141 has a step difference due to the light scattering layer 160 and the overcoat layer 150, and deterioration of the organic light-emitting device 140 may occur in the portion of the anode 141 where the step difference exists. Accordingly, when the area of the light scattering layer 160 is smaller than the area of the light-emitting area EA, the anode 141 portion where the step exists, that is, the anode 141 portion located on the boundary of the light scattering layer 160 The luminance non-uniformity of the light-emitting area EA may occur due to deterioration of the organic light-emitting device 140 disposed in the light-emitting area EA and generated. In addition, even when deterioration does not occur in the organic light-emitting device 140, the light-scattering layer 160 is formed to improve the light-extraction efficiency of the light-emitting region (EA) and the light-scattering layer 160 is not formed, so that the light extraction efficiency. Non-uniformity in luminance may occur between portions of the light emitting area EA, which is not improved. In addition, when the area of the light-scattering layer 160 is larger than the area of the light-emitting area EA, or when the light-scattering layer 160 is formed on the entire area of the substrate 110 of the organic light-emitting display device 100, the light-scattering layer A blurring phenomenon may occur in an outer area of the light emitting area EA due to scattering of light generated at 160. Accordingly, in the organic light-emitting display device 100 according to an exemplary embodiment of the present invention, since the light emitting area EA and the light scattering layer 160 overlap, the above-described luminance non-uniformity problem and blurring phenomenon may be solved.

도 1c를 참조하면, 광산란층(160)은 컬러 필터(130)와 중첩되도록 형성된다. 즉, 광산란층(160)은 기판(110) 전체 영역 상에 형성되는 것이 아니고, 광산란층(160)의 모든 영역은 컬러 필터(130) 상에 형성된다. 따라서, 광산란층(160)의 영역의 면적은 컬러 필터(130)의 영역의 면적과 동일하거나 컬러 필터(130)의 영역의 면적보다 작다.Referring to FIG. 1C, the light scattering layer 160 is formed to overlap the color filter 130. That is, the light scattering layer 160 is not formed on the entire area of the substrate 110, but all areas of the light scattering layer 160 are formed on the color filter 130. Accordingly, the area of the light scattering layer 160 is equal to the area of the color filter 130 or smaller than the area of the color filter 130.

도 1a 내지 도 1c를 참조하면, 본 발명의 일 실시예에 따른 유기 발광 표시 장치(100)에서는 광추출을 위한 분산 입자(161)를 포함하는 광산란층(160)을 사용하여 유기 발광 표시 장치(100)의 광추출 효율이 향상된다. 즉, 유기 발광층(142)에서 발광된 광 중 광산란층(160)에 입사되는 광은 분산 입자(161)에 의해 산란된다. 광산란층(160)의 분산 입자(161)에 의해 산란된 광은 광산란층(160) 내에서 다양한 방향으로 진행될 수 있고, 광산란층(160)에 입사하는 유기 발광층(142)에서 발광된 광이 분산 입자(161)에 의해 컬러 필터(130)로 진행할 확률이 높아진다. 따라서, 컬러 필터(130)로 진행하는 광이 증가하여 유기 발광 표시 장치(100)의 광추출 효율이 향상되고, 이에 따라 유기 발광 표시 장치(100)의 수명이 증가되며, 유기 발광 표시 장치(100)의 소비 전력이 감소될 수 있다. 1A to 1C, in the organic light emitting display device 100 according to the exemplary embodiment of the present invention, the light scattering layer 160 including the dispersed particles 161 for light extraction is used. 100) light extraction efficiency is improved. That is, among the light emitted from the organic emission layer 142, the light incident on the light scattering layer 160 is scattered by the dispersed particles 161. Light scattered by the dispersed particles 161 of the light scattering layer 160 may proceed in various directions within the light scattering layer 160, and light emitted from the organic light emitting layer 142 incident on the light scattering layer 160 is dispersed. The probability of proceeding to the color filter 130 by the particles 161 increases. Accordingly, light traveling to the color filter 130 increases, thereby improving light extraction efficiency of the organic light-emitting display device 100, thereby increasing the lifespan of the organic light-emitting display device 100, and thus, the organic light-emitting display device 100 ), the power consumption can be reduced.

또한, 본 발명의 일 실시예에 따른 유기 발광 표시 장치(100)에서는 상술한 광추출용 감광성 수지 조성물을 사용하여 광산란층(160)이 형성되므로, 광산란층(160) 형성시 에칭 공정이 요구되지 않는다. 또한, 광추출용 감광성 수지 조성물은 포토 패터닝이 가능하므로, 광산란층(160) 형성 시뿐만 아니라 광산란층(160)의 패터닝 시에도 광산란층(160) 주변의 엘리먼트에 대한 손상이 발생하지 않는다. 따라서, 유기 발광 표시 장치(100)의 다른 엘리먼트에 대한 손상 없이 유기 발광 표시 장치(100) 내부에 광산란층(160)이 형성될 수 있다. 또한, 패터닝된 형상의 광산란층(160)을 사용하여, 즉, 패터닝되어 발광 영역(EA)과 중첩하는 형상의 광산란층(160)을 사용하여, 광산란층(160)에 의해 발생될 수 있는 휘도 불균일 문제와 블러링 현상이 해결될 수도 있다.In addition, in the organic light emitting display device 100 according to an embodiment of the present invention, since the light-scattering layer 160 is formed using the above-described photosensitive resin composition for light extraction, an etching process is not required when the light-scattering layer 160 is formed. Does not. In addition, since the photosensitive resin composition for light extraction can be photo-patterned, damage to the elements around the light-scattering layer 160 does not occur not only when the light-scattering layer 160 is formed but also when the light-scattering layer 160 is patterned. Accordingly, the light scattering layer 160 may be formed in the organic light emitting display device 100 without damage to other elements of the organic light emitting display device 100. In addition, the luminance that can be generated by the light scattering layer 160 is used using the patterned light scattering layer 160, that is, the light scattering layer 160 is patterned to overlap the light emitting area EA. The unevenness problem and blurring may be solved.

도 1a 및 도 1b에서는 패시베이션층(113)이 박막 트랜지스터(120) 상부를 평탄화하는 것으로 도시되었으나, 패시베이션층(113)은 박막 트랜지스터(120) 상부를 평탄화하지 않고, 하부에 위치한 엘리먼트들의 표면 형상을 따라 형성될 수도 있다. 또한, 도 1a 및 도 1b에서는 패시베이션층(113)이 유기 발광 표시 장치(100)에 포함되는 것으로 도시되었으나, 패시베이션층(113)이 사용되지 않고, 박막 트랜지스터(120) 상에 바로 오버 코팅층(150)이 형성될 수도 있다.1A and 1B, the passivation layer 113 is shown to planarize the upper portion of the thin film transistor 120, but the passivation layer 113 does not planarize the upper portion of the thin film transistor 120, but It can also be formed according to. In addition, in FIGS. 1A and 1B, it is shown that the passivation layer 113 is included in the organic light emitting display device 100, but the passivation layer 113 is not used, and the overcoat layer 150 is directly on the thin film transistor 120. ) May be formed.

도 1a 및 도 1b에서는 컬러 필터(130)가 패시베이션층(113) 상에 형성되는 것으로 도시되었으나, 이에 제한되지 않고, 컬러 필터(130)는 오버 코팅층(150) 하부와 기판(110) 사이의 임의의 위치에 형성될 수 있다.In FIGS. 1A and 1B, the color filter 130 is shown to be formed on the passivation layer 113, but the present invention is not limited thereto. Can be formed in the position of.

도 2a는 본 발명의 다른 실시예에 따른 유기 발광 표시 장치를 설명하기 위한 단면도이다. 도 2b는 도 2a의 X영역에 대한 확대 단면도이다. 도 2a 및 도 2b의 유기 발광 표시 장치(200)는 도 1a 내지 도 1c의 유기 발광 표시 장치(100)와 비교하여 고굴절 평탄화막(270)을 더 포함하고, 광산란층(160)이 비평탄화된 상면을 갖는다는 것만이 상이할 뿐 다른 엘리먼트들은 실질적으로 동일하므로, 중복 설명은 생략한다.2A is a cross-sectional view illustrating an organic light emitting display device according to another exemplary embodiment of the present invention. 2B is an enlarged cross-sectional view of area X of FIG. 2A. The organic light emitting display device 200 of FIGS. 2A and 2B further includes a high refractive index planarization layer 270 as compared to the organic light emitting display device 100 of FIGS. 1A to 1C, and the light scattering layer 160 is non-planarized. The only difference is that the upper surface is different, and the other elements are substantially the same, and thus, a redundant description will be omitted.

오버 코팅층(150) 상에 광산란층(160)이 형성된다. 광산란층(160)은 도 1a 및 도 1b에 도시된 바와 같이 평탄화된 상면을 가질 수도 있으며, 광산란층(160)에 분산된 분산 입자(161)에 의해 광산란층(160)은 도 2b에 도시된 바와 같은 비평탄화된 상면을 가질 수도 있다. 즉, 광산란층(160)은 분산 입자(161)를 포함하므로 소정의 조도(roughness)를 가질 수 있다. 도 2a에서는 설명의 편의를 위해 광산란층(160)의 상면이 평탄화된 것으로 도시되었으나, 도 2b에 도시된 바와 같이 광산란층(160)의 상면은 비평탄화된 면이다.A light scattering layer 160 is formed on the overcoat layer 150. The light scattering layer 160 may have a planarized top surface as shown in FIGS. 1A and 1B, and the light scattering layer 160 by the dispersed particles 161 dispersed in the light scattering layer 160 is shown in FIG. 2B. It may also have an unflattened top surface such as. That is, since the light scattering layer 160 includes the dispersed particles 161, it may have a predetermined roughness. In FIG. 2A, the top surface of the light scattering layer 160 is shown to be planarized for convenience of explanation, but as shown in FIG. 2B, the top surface of the light scattering layer 160 is a non-planarized surface.

광산란층(160)의 상부를 평탄화하기 위해 광산란층(160) 상에 고굴절 평탄화막(270)이 형성되고, 유기 발광 소자(240)의 애노드(241)는 오버 코팅층(150) 및 고굴절 평탄화막(270) 상에 형성된다. 고굴절 평탄화막(270)은 광산란층(160) 상에 형성되어 광산란층(160)의 상부를 평탄화하고, 이에 의해 고굴절 평탄화막(270) 상에 형성되는 애노드(241) 또한 평탄하게 형성될 수 있다. 따라서, 광산란층(160)의 비평탄화된 상면에 의해 애노드(241)의 상면이 뾰족하고(peaky), 모폴로지(morphology)가 급격하게 변화하는 부분을 갖게 되어, 애노드(241) 상에 유기 발광층(142)이 형성되지 않는 영역이 발생하는 것을 방지하고, 애노드(241)와 캐소드(143)가 단락되는 것을 방지할 수 있다.A high refractive index planarization layer 270 is formed on the light scattering layer 160 to planarize the top of the light scattering layer 160, and the anode 241 of the organic light emitting device 240 includes an overcoat layer 150 and a high refractive index planarization layer ( 270). The high refractive index planarization layer 270 may be formed on the light scattering layer 160 to planarize the upper portion of the light scattering layer 160, whereby the anode 241 formed on the high refractive index planarization layer 270 may also be formed flat. . Therefore, the top surface of the anode 241 is peaky by the non-planarized top surface of the light scattering layer 160 and has a portion where the morphology changes rapidly, so that the organic light emitting layer ( A region in which the 142 is not formed may be prevented from occurring, and a short circuit between the anode 241 and the cathode 143 may be prevented.

고굴절 평탄화막(270)은 1.65 이상의 굴절률을 가질 수도 있다. 구체적으로, 고굴절 평탄화막(270)은 굴절률 1.65 이상을 갖으며, 1 ㎛의 두께에서 80% 이상의 투과도를 갖는 물질로 형성될 수 있다. 예를 들어, 고굴절 평탄화막(270)은 산화 티타늄(TiO2) 또는 산화 지르코늄(ZrO2) 등과 같은 금속 산화물을 포함하는 폴리머 재료, CVD 등과 같은 증착법을 이용하여 형성된 실리콘 질화물(SiNx) 등의 고굴절 재료 및 고굴절 폴리이미드(polyimide) 등으로부터 형성될 수 있다. The high refractive index planarization layer 270 may have a refractive index of 1.65 or more. Specifically, the high refractive planarization layer 270 may have a refractive index of 1.65 or more, and may be formed of a material having a transmittance of 80% or more at a thickness of 1 μm. For example, the high refractive planarization layer 270 is a polymer material including a metal oxide such as titanium oxide (TiO 2 ) or zirconium oxide (ZrO 2 ), and a high refractive index of silicon nitride (SiNx) formed using a deposition method such as CVD. It can be formed from materials and high refractive polyimide (polyimide) and the like.

고굴절 평탄화막(270)은 광산란층(160)을 덮도록 형성될 수 있다. 이에 따라, 유기 발광층(142)에서 발광된 광이 광산란층(160)과 뱅크(114)의 계면 및 광산란층(160)과 오버 코팅층(150)의 계면에서의 전반사에 의해 이웃하는 서브 화소로 전달되지 않고, 해당 서브 화소의 컬러 필터(130)로 진행되도록 유도되며, 빛샘 현상 또는 혼색 현상도 감소된다. 또한, 광산란층(160)에 의해 해당 서브 화소의 컬러 필터(130)를 향하는 광량이 증가함에 따라, 유기 발광 표시 장치(100)의 광 추출 효율이 높아지고 소비 전력이 감소하며 수명도 증가한다.The high refractive planarization layer 270 may be formed to cover the light scattering layer 160. Accordingly, light emitted from the organic emission layer 142 is transmitted to neighboring sub-pixels by total reflection at the interface between the light scattering layer 160 and the bank 114 and the interface between the light scattering layer 160 and the overcoat layer 150 Instead, it is induced to proceed to the color filter 130 of the sub-pixel, and a light leakage phenomenon or a color mixture phenomenon is also reduced. In addition, as the amount of light directed to the color filter 130 of the sub-pixel is increased by the light scattering layer 160, the light extraction efficiency of the organic light emitting display device 100 increases, power consumption decreases, and lifespan increases.

일반적으로 유기 발광 표시 장치의 광추출 효율을 증가시키기 위해 광학적인 보강 간섭을 이용하는 마이크로캐비티(micro-cavity)가 사용된다. 이러한 마이크로캐비티를 사용하기 위해서는 애노드와 캐소드 사이의 거리, 즉, 유기 발광층의 두께를 조절하여 광학 조건을 만족시키게 되고, 예를 들어, 유기 발광층은 약 350 내지 400 nm 이하의 두께를 가져야 한다. 즉, 유기 발광층이 백색광을 발광하기 위해 두 개의 유기 발광층이 적층된 구조로 형성되는 경우에 있어서, 유기 발광 소자에서 마이크로캐비티 효과가 구현되기 위한 광학적 조건을 충족시키기 위해서는, 유기 발광층의 두께가 350 nm 이상이어야 한다. 나아가 적층된 유기 발광층의 개수가 증가할수록, 마이크로캐비티 효과를 구현하기 위한 광학적 조건에 따른 유기 발광층의 두께가 비약적으로 증가할 수 밖에 없다. 다만, 상술한 바와 같은 마이크로캐비티를 사용하기 위해 유기 발광층의 두께가 필요 이상으로 증가되어야 한다면, 유기 발광층의 제조 비용 및 제조 시간이 증가하게 되며, 유기 발광 표시 장치를 구동하기 위한 구동 전압 및 소비 전력 또한 증가하게 된다. 한편, 본 발명의 일 실시예에 따른 유기 발광 표시 장치(100, 200)에서는 광산란층(160)을 사용하여 광추출 효율이 향상된다. 따라서, 마이크로캐비티를 사용하지 않더라도 유기 발광 표시 장치(100, 200)의 광추출 효율을 충분히 확보할 수 있으므로, 유기 발광층(142)에서 발광되는 광에 대한 광학 조건에 대한 제한 없이 유기 발광층(142)의 두께가 결정되고, 유기 발광 표시 장치(100, 200)의 제조 비용, 제조 시간, 구동 전압 및 소비 전력을 감소시키기 위해 감소된 두께의 유기 발광층(142)을 사용할 수도 있다. 즉, 본 발명의 일 실시예에 따른 유기 발광 표시 장치(100)의 유기 발광 소자(140)는 350 nm 이하의 얇은 유기 발광층(142)의 두께를 가질 수 있다. 광산란층(160) 사용에 따른 유기 발광층(142)의 두께 감소에 대한 보다 상세한 설명을 위해 표 1을 함께 참조한다.In general, a micro-cavity using optical constructive interference is used to increase light extraction efficiency of an organic light emitting diode display. In order to use such a microcavity, an optical condition is satisfied by adjusting the distance between the anode and the cathode, that is, the thickness of the organic emission layer. For example, the organic emission layer must have a thickness of about 350 to 400 nm or less. That is, when the organic emission layer is formed in a structure in which two organic emission layers are stacked to emit white light, the thickness of the organic emission layer is 350 nm in order to satisfy the optical conditions for implementing the microcavity effect in the organic light emitting device. It should be above. Furthermore, as the number of stacked organic emission layers increases, the thickness of the organic emission layer according to optical conditions for implementing the microcavity effect is inevitably increased. However, if the thickness of the organic emission layer must be increased more than necessary to use the microcavities as described above, the manufacturing cost and manufacturing time of the organic emission layer increase, and the driving voltage and power consumption for driving the organic light emitting display device It will also increase. Meanwhile, in the organic light emitting display devices 100 and 200 according to an exemplary embodiment of the present invention, light extraction efficiency is improved by using the light scattering layer 160. Therefore, even if the microcavity is not used, the light extraction efficiency of the organic light emitting display devices 100 and 200 can be sufficiently secured, so that the organic light emitting layer 142 is not limited to optical conditions for light emitted from the organic light emitting layer 142. The thickness of the OLED is determined, and the organic emission layer 142 having a reduced thickness may be used to reduce the manufacturing cost, manufacturing time, driving voltage, and power consumption of the OLED displays 100 and 200. That is, the organic light-emitting device 140 of the organic light-emitting display device 100 according to the exemplary embodiment may have a thickness of the organic light-emitting layer 142 having a thickness of 350 nm or less. Table 1 is also referred to for a more detailed description of the reduction in the thickness of the organic emission layer 142 according to the use of the light scattering layer 160.

구동 전압Driving voltage cd/Acd/A lm/Alm/A 비교예 1Comparative Example 1 11.711.7 7070 1818 실시예 1Example 1 11.811.8 8080 2121 비교예 2Comparative Example 2 8.88.8 4141 1515 실시예 2Example 2 9.09.0 7171 2525

비교예 1, 2 및 실시예 1, 2 모두는 2-스택 구조의 백색 유기 발광층을 사용하였으며, 구체적으로 청색 발광층과 옐로우그린(YG) 발광층이 적층된 구조인 유기 발광층이 사용되었다. 비교예 1 및 실시예 1에서는 하부로부터 기판, 오버 코팅층, 고굴절 평탄화막, 애노드, 50 ㎚의 유기층, 20 ㎚의 옐로우그린 발광층, 90 ㎚의 유기층, 20 ㎚의 청색 발광층, 180 ㎚의 유기층 및 캐소드가 적층된 구조의 총 360 ㎚의 유기 발광층이 사용되었으며, 비교예 2 및 실시예 2에서는 하부로부터 기판, 오버 코팅층, 고굴절 평탄화막, 50 ㎚의 유기층, 20 ㎚의 옐로우그린 발광층, 70 ㎚의 유기층, 20 ㎚의 청색 발광층, 70 ㎚의 유기층 및 캐소드가 적층된 구조의 총 230 ㎚의 유기 발광층이 사용되었다. 즉, 비교예 1 및 실시예 1에서는 마이크로캐비티를 사용하기 위해 광학 조건에 따라 유기 발광층의 두께가 설계되었고, 비교예 2 및 실시예 2에서는 광학 조건에 대한 제한 없이 유기 발광층의 두께가 설계되었다. 또한, 비교예 1 및 2에서는 별도의 광산란층이 사용되지 않았으며, 실시예 1 및 2에서는 상술한 바와 같은 본 발명의 광산란층이 사용되었다. 상술한 유기층들은 정공 주입층, 정공 수송층, 전하 발생층, 전자 주입층, 전자 수송층 등과 같은 유기층들일 수 있다.In Comparative Examples 1 and 2 and Examples 1 and 2, a white organic emission layer having a two-stack structure was used, and specifically, an organic emission layer having a structure in which a blue emission layer and a yellow green (YG) emission layer are stacked was used. In Comparative Examples 1 and 1, the substrate, overcoat layer, high refractive index planarization layer, anode, 50 nm organic layer, 20 nm yellow-green emission layer, 90 nm organic layer, 20 nm blue emission layer, 180 nm organic layer and cathode from the bottom. A total of 360 nm of the organic emission layer was used, and in Comparative Examples 2 and 2, a substrate, an overcoat layer, a high refractive planarization layer, an organic layer of 50 nm, a yellow green emission layer of 20 nm, and an organic layer of 70 nm from the bottom were used. , A total of 230 nm of an organic emission layer having a structure in which a blue emission layer of 20 nm, an organic layer of 70 nm, and a cathode are stacked was used. That is, in Comparative Examples 1 and 1, the thickness of the organic emission layer was designed according to optical conditions in order to use the microcavities, and in Comparative Examples 2 and 2, the thickness of the organic emission layer was designed without limitation on the optical conditions. In addition, in Comparative Examples 1 and 2, a separate light-scattering layer was not used, and in Examples 1 and 2, the light-scattering layer of the present invention as described above was used. The organic layers described above may be organic layers such as a hole injection layer, a hole transport layer, a charge generation layer, an electron injection layer, and an electron transport layer.

비교예 1과 실시예 1는 동일한 두께의 유기 발광층을 사용하였으나, 광산란층이 사용된 실시예 1의 전류 효율(cd/A) 및 전력 효율(lm/W)이 비교예 1의 전류 효율 및 전력 효율 보다 증가하였음을 확인할 수 있다.Comparative Example 1 and Example 1 used an organic light emitting layer of the same thickness, but the current efficiency (cd/A) and power efficiency (lm/W) of Example 1 in which the light scattering layer was used were compared to the current efficiency and power of Comparative Example 1. It can be seen that it has increased more than the efficiency.

비교예 2와 실시예 2 또한 동일한 두께의 유기 발광층을 사용하였으나, 비교예 2와 실시예 2는 감소된 두께의 유기 발광층을 사용하여 광학 조건이 맞춰져 있지 않았다는 점에서 광산란층이 사용된 실시예 2의 전류 효율 및 전력 효율이 비교예 2의 전류 효율 및 전력 효율 보다 증가하였으며, 비교예 1과 실시예 1의 경우보다 증가 폭이 더 큼을 확인할 수 있다. 이에, 본 발명의 일 실시예에 따른 유기 발광 표시 장치에서는 청색 발광층, 옐로우그린 발광층 및 정공 주입층, 정공 수송층, 전하 발생층, 전자 주입층, 전자 수송층이 모두 100 nm 미만의 두께를 가진다. 즉, 본 발명의 일 실시예에 따른 유기 발광 표시 장치의 유기 발광층을 구성하는 각각의 층들은 모두 100 nm 미만의 두께를 가질 수 있다.Comparative Example 2 and Example 2 also used an organic emission layer having the same thickness, but Comparative Example 2 and Example 2 used the light-scattering layer in that the optical conditions were not adjusted using the organic emission layer having a reduced thickness. It can be seen that the current efficiency and power efficiency of were increased than the current efficiency and power efficiency of Comparative Example 2, and the width of the increase was greater than that of Comparative Examples 1 and 1. Accordingly, in the organic light emitting diode display according to an exemplary embodiment, the blue emission layer, the yellow green emission layer, the hole injection layer, the hole transport layer, the charge generation layer, the electron injection layer, and the electron transport layer all have a thickness of less than 100 nm. That is, each of the layers constituting the organic emission layer of the organic light emitting display device according to the exemplary embodiment may have a thickness of less than 100 nm.

다음으로, 광산란층을 사용하지 않고 광학 조건에 따라 유기 발광층의 두께가 설계된 비교예 1과 광산란층을 사용하여 유기 발광층의 두께를 감소시킨 실시예 2를 비교하면, 구동 전압은 감소한 반면 전류 효율 및 전력 효율 모두 증가하였음을 확인할 수 있다.Next, when comparing Comparative Example 1 in which the thickness of the organic light-emitting layer was designed according to optical conditions without using the light-scattering layer and Example 2 in which the thickness of the organic light-emitting layer was reduced using the light-scattering layer, the driving voltage was decreased, while the current efficiency and It can be seen that both power efficiency has increased.

이하에서는, 본 발명의 실시예를 예로 하여 보다 상세히 설명하나, 본 발명의 범위가 하기 실시예로 한정되는 것은 아니다. Hereinafter, examples of the present invention will be described in more detail, but the scope of the present invention is not limited to the following examples.

제조예 1
(중량 %)Manufacturing Example 1
(weight %) 제조예 2
(중량 %)Manufacturing Example 2
(weight %) 제조예 3
(중량 %)Manufacturing Example 3
(weight %) 알칼리 가용성 수지
(메타아크릴산(MMA): 글리시딜메타아크릴레이트(GMA): 스타일렌(Sty)의 2:5:2 공중합체)Alkali-soluble resin
(Methacrylic acid (MMA): glycidyl methacrylate (GMA): a 2:5:2 copolymer of styrene (Sty)) 1010 1010 1010 불포화성 에틸렌계 모노머 (DPHA_공영사)Unsaturated ethylenic monomer (DPHA_Gongyeongsa) 1515 1515 1515 광추출용 분산액 (MHI White C024_미쿠니)Dispersion for light extraction (MHI White C024_Mikuni) 2020 1515 1010 광중합 개시제 (OXE-01_Ciba)Photopolymerization initiator (OXE-01_Ciba) 33 33 33 용매
[ E-1 : PGMEA / E-2 : Cyclohexanone ](대정화금)menstruum
[E-1: PGMEA / E-2: Cyclohexanone] (Daejeonghwa Geum) E-1 : 30
E-2 : 22E-1: 30
E-2: 22 E-1 : 30
E-2 : 27E-1: 30
E-2: 27 E-1 : 30
E-2 : 32E-1: 30
E-2: 32

제조예Manufacturing example 1 One

표 2에 기재된 제조예 1의 함량에 따라 알칼리 가용성 수지, 불포화성 에틸렌계 모노머, 광추출용 분산액, 광중합 개시제 및 용매를 실온에서 교반하여 광추출용 감광성 수지 조성물을 제조하였다.According to the contents of Preparation Example 1 described in Table 2, an alkali-soluble resin, an unsaturated ethylenic monomer, a dispersion for light extraction, a photopolymerization initiator, and a solvent were stirred at room temperature to prepare a photosensitive resin composition for light extraction.

제조예Manufacturing example 2 2

표 2에 기재된 제조예 2의 함량에 따라 알칼리 가용성 수지, 불포화성 에틸렌계 모노머, 광추출용 분산액, 광중합 개시제 및 용매를 실온에서 교반하여 광추출용 감광성 수지 조성물을 제조하였다.According to the contents of Preparation Example 2 described in Table 2, an alkali-soluble resin, an unsaturated ethylenic monomer, a dispersion for light extraction, a photopolymerization initiator, and a solvent were stirred at room temperature to prepare a photosensitive resin composition for light extraction.

제조예Manufacturing example 3 3

표 2에 기재된 제조예 3의 함량에 따라 알칼리 가용성 수지, 불포화성 에틸렌계 모노머, 광추출용 분산액, 광중합 개시제 및 용매를 실온에서 교반하여 광추출용 감광성 수지 조성물을 제조하였다.According to the contents of Preparation Example 3 described in Table 2, an alkali-soluble resin, an unsaturated ethylenic monomer, a dispersion for light extraction, a photopolymerization initiator, and a solvent were stirred at room temperature to prepare a photosensitive resin composition for light extraction.

실시예Example 1 One

기판 상에 오버 코팅층을 형성한 후, 제조예 1의 광추출용 감광성 수지 조성물을 1㎛ 두께로 코팅(700rpm, 30초)하고, 100mJ/cm2로 마스크를 사용해 노광하고, 현상액(0.04%, KOH)에 100초 동안 침지하여 현상하고, 230도 오븐에서 베이킹(baking)을 진행하여 광산란층을 형성하였다. 그 후, 고굴절 평탄화막(브루어사이언스 사, D1)을 0.5㎛로 형성하고, 녹색 인광 물질로 구성되는 유기 발광층을 포함하는 유기 발광 소자를 제조하였다. After forming the overcoat layer on the substrate, the photosensitive resin composition for light extraction of Preparation Example 1 was coated to a thickness of 1 μm (700 rpm, 30 seconds), exposed using a mask at 100 mJ/cm 2 , and a developer (0.04%, KOH) was immersed for 100 seconds to develop, and baking was performed in an oven at 230°C to form a light scattering layer. Thereafter, a high refractive index planarization film (Brooer Science, D1) was formed to have a thickness of 0.5 μm, and an organic light emitting device including an organic light emitting layer made of a green phosphorescent material was manufactured.

실시예Example 2 2

제조예 2의 광추출용 감광성 수지 조성물을 사용한 것을 제외하고는 실시예 1과 동일한 공정 조건으로 유기 발광 표시 장치를 제조하였다. An organic light emitting display device was manufactured under the same process conditions as in Example 1, except that the photosensitive resin composition for light extraction of Preparation Example 2 was used.

실시예Example 3 3

제조예 3의 광추출용 감광성 수지 조성물을 사용한 것을 제외하고는 실시예 1과 동일한 공정 조건으로 유기 발광 표시 장치를 제조하였다. An organic light-emitting display device was manufactured under the same process conditions as in Example 1, except that the photosensitive resin composition for light extraction of Preparation Example 3 was used.

비교예Comparative example 1 One

마스크를 사용하지 않고, 100mJ/cm2로 전면 노광하여 광산란층을 형성한 것을 제외하고는 실시예 1과 동일한 공정 조건으로 유기 발광 소자를 제조하였다. An organic light-emitting device was manufactured under the same process conditions as in Example 1, except that a light scattering layer was formed by exposing the entire surface at 100 mJ/cm 2 without using a mask.

비교예Comparative example 2 2

광산란층 및 고굴절 평탄화막을 형성하지 않은 점을 제외하고는 실시예 1과 동일한 공정으로 유기 발광 소자를 제조하였다. An organic light-emitting device was manufactured in the same manner as in Example 1, except that the light scattering layer and the high refractive planarization layer were not formed.

상술한 실시예 1 내지 3, 비교예 1 및 2의 유기 발광 표시 장치를 10mA/cm2로 구동하였을 때의 구동 전압, 전류 효율(cd/A), 색좌표, 헤이즈(Haze) 값은 다음의 표 3과 같다.The driving voltage, current efficiency (cd/A), color coordinates, and haze values when the organic light emitting display devices of Examples 1 to 3 and Comparative Examples 1 and 2 were driven at 10 mA/cm 2 are shown in the following table. Same as 3.

구동 전압 (V)Driving voltage (V) 전류 효율
(cd/A)Current efficiency
(cd/A) 색좌표Color coordinates HazeHaze 실시예 1Example 1 6.06.0 6565 0.34, 0.620.34, 0.62 76%76% 실시예 2Example 2 6.16.1 6262 0.33, 0.610.33, 0.61 70%70% 실시예 3Example 3 6.06.0 5858 0.34, 0.610.34, 0.61 60%60% 비교예 1Comparative Example 1 6.26.2 6565 0.34, 0.620.34, 0.62 76%76% 비교예 2Comparative Example 2 6.06.0 5050 0.34, 0.610.34, 0.61 --

표 3을 참조하면, 광산란층이 적용되지 않은 비교예 2와 광산란층을 사용한 본 발명의 실시예 1 내지 3을 비교하면, 실시예 1 내지 3의 구동 전압은 비교예 2의 구동 전압과 거의 동일하지만, 실시예 1 내지 3의 전류 효율은 비교예 2의 전류 효율에 비해 약 20 내지 30% 정도 증가된 것을 확인할 수 있다. 또한, 광산란층이 추가되었지만 실시예 1 내지 3의 색좌표와 비교예 2의 색좌표 사이의 차이는 거의 없는 것을 확인할 수 있다.Referring to Table 3, when comparing Comparative Example 2 to which the light-scattering layer is not applied and Examples 1 to 3 of the present invention using the light-scattering layer, the driving voltages of Examples 1 to 3 are substantially the same as the driving voltage of Comparative Example 2. However, it can be seen that the current efficiency of Examples 1 to 3 was increased by about 20 to 30% compared to the current efficiency of Comparative Example 2. In addition, although the light scattering layer was added, it can be seen that there is little difference between the color coordinates of Examples 1 to 3 and the color coordinates of Comparative Example 2.

다음으로, 실시예 1 내지 3을 비교하면, 분산 입자가 분산된 광추출용 분산액의 중량%가 증가할수록 헤이즈 값이 증가하여 유기 발광 표시 장치의 효율이 향상되는 것을 확인할 수 있다.Next, comparing Examples 1 to 3, it can be seen that the haze value increases as the weight% of the dispersion liquid for light extraction in which the dispersed particles are dispersed increases, thereby improving the efficiency of the organic light emitting display device.

한편, 동일한 조성의 광추출용 감광성 수지 조성물을 사용하는 실시예 1과 비교예 1은 구동 전압, 전류 효율, 색좌표 및 헤이즈 값이 실질적으로 동일하다. 다만, 광산란층의 패터닝 여부에 따른 블러링 현상은 실시예 1에 비해 비교예 1에 보다 두드러지게 나타난다. 이에 대해서는 도 4를 함께 참조하여 보다 상세하게 설명한다.On the other hand, in Example 1 and Comparative Example 1 using the photosensitive resin composition for light extraction of the same composition, the driving voltage, current efficiency, color coordinates, and haze values are substantially the same. However, the blurring phenomenon depending on whether or not the light scattering layer is patterned appears more prominently in Comparative Example 1 than in Example 1. This will be described in more detail with reference to FIG. 4.

도 3은 본 발명의 실시예 및 비교예들의 유기 발광 표시 장치에서의 블러링(blurring)을 설명하기 위한 이미지들이다. 도 3(a)는 상술한 실시예 1에 대한 발광 이미지이고, 도 3(b)는 상술한 비교예 1에 대한 발광 이미지이고, 도 3(c)는 상술한 비교예 2에 대한 발광 이미지이다. 3 are images for explaining blurring in the organic light emitting diode display according to the exemplary embodiments and comparative examples of the present invention. 3(a) is a light emission image for Example 1, FIG. 3(b) is a light emission image for Comparative Example 1, and FIG. 3(c) is a light emission image for Comparative Example 2 described above. .

먼저, 도 3(c)를 참조하면, 비교예 2에서는 광산란층이 사용되지 않았으므로, 발광 영역(EA)의 외곽 영역에 대한 블러링 현상이 발생하지 않음을 확인할 수 있다. 다음으로, 도 3(a)를 참조하면, 실시예 1에서는 광산란층을 사용하였으며, 광산란층이 발광 영역(EA)에 대응하여 중첩하도록 패터닝되었으므로, 비교예 2와 마찬가지로 발광 영역(EA)의 외곽 영역에 대한 블러링 현상이 발생되지 않음을 확인할 수 있다. 다음으로, 도 3(b)를 참조하면, 비교예 2에서는 광산란층이 오버 코팅층 전체 영역 상에 형성되므로, 발광 영역(EA)의 외곽 영역에 블러링 현상이 심하게 발생됨을 확인할 수 있다.First, referring to FIG. 3C, since the light scattering layer was not used in Comparative Example 2, it can be seen that blurring does not occur in the outer area of the emission area EA. Next, referring to FIG. 3(a), in Example 1, a light-scattering layer was used, and the light-scattering layer was patterned to overlap in correspondence with the light-emitting area EA. It can be seen that blurring does not occur on the region. Next, referring to FIG. 3B, in Comparative Example 2, since the light scattering layer is formed on the entire overcoat layer, it can be seen that the blurring phenomenon is severely generated in the outer area of the light emitting area EA.

즉, 광추출용 감광성 수지 조성물의 경우 다른 엘리먼트의 손상 없이 포토 패터닝이 가능하므로 실시예 1과 같이 광산란층이 발광 영역(EA)에만 중첩하도록 형성될 수 있으며 이에 의해 블러링 현상이 발생하지 않는 반면, 광산란층에 대한 패터닝 공정이 불가능하여 광산란층이 전면에 걸쳐 형성되는 비교예 1의 경우 블러링 현상이 발생하는 것을 확인할 수 있다.That is, in the case of the photosensitive resin composition for light extraction, photo patterning is possible without damage to other elements, so as in Example 1, the light scattering layer may be formed so as to overlap only the light emitting area EA, whereby a blurring phenomenon does not occur. , In the case of Comparative Example 1 in which the light-scattering layer is formed over the entire surface because the patterning process for the light-scattering layer is impossible, it can be seen that a blurring phenomenon occurs.

도 4는 본 발명의 일 실시예에 따른 유기 발광 표시 장치 제조 방법을 설명하기 위한 순서도이다. 도 5a 내지 도 5d는 본 발명의 일 실시예에 따른 유기 발광 표시 장치 제조 방법을 설명하기 위한 공정 단면도들이다. 도 5a 내지 도 5d에 도시된 공정 단면도들은 도 1a 및 도 1b에서 설명된 유기 발광 표시 장치(100)의 제조 방법을 설명하기 위한 공정 단면도로서, 중복 설명은 생략한다.4 is a flowchart illustrating a method of manufacturing an organic light emitting diode display according to an exemplary embodiment of the present invention. 5A to 5D are cross-sectional views illustrating a method of manufacturing an organic light emitting display device according to an exemplary embodiment of the present invention. Process cross-sectional views illustrated in FIGS. 5A to 5D are cross-sectional views for explaining the manufacturing method of the organic light emitting display device 100 illustrated in FIGS. 1A and 1B, and redundant descriptions will be omitted.

먼저, 기판(110) 상에 컬러 필터(130)를 형성하고(S40), 컬러 필터(130) 상에 오버 코팅층(150)을 형성하며(S41), 오버 코팅층(150) 상에 알칼리 가용성 수지, 불포화성 에틸렌계 모노머, 광추출을 위한 분산 입자를 갖는 광추출용 분산액, 광중합 개시제 및 용매를 포함하는 광추출용 감광성 수지 조성물(169)을 코팅한다(S42).First, a color filter 130 is formed on the substrate 110 (S40), an overcoat layer 150 is formed on the color filter 130 (S41), and an alkali-soluble resin on the overcoat layer 150, A photosensitive resin composition 169 for light extraction including an unsaturated ethylenic monomer, a dispersion for light extraction having dispersed particles for light extraction, a photoinitiator, and a solvent is coated (S42).

도 5a를 참조하면, 오버 코팅층(150) 상에 광추출용 감광성 수지 조성물(169)이 코팅된다. 광추출용 감광성 수지 조성물(169)은 알칼리 가용성 수지, 불포화성 에틸렌계 모노머, 광추출을 위한 분산 입자를 갖는 광추출용 분산액, 광중합 개시제 및 용매를 포함하며, 상술한 바와 같은 구체적인 물질로 이루어질 수 있다. 5A, a photosensitive resin composition 169 for light extraction is coated on the overcoat layer 150. The photosensitive resin composition 169 for light extraction includes an alkali-soluble resin, an unsaturated ethylenic monomer, a dispersion for light extraction having dispersed particles for light extraction, a photopolymerization initiator, and a solvent, and may be made of a specific material as described above. have.

광추출용 감광성 수지 조성물(169)은 스핀 코팅 등과 같은 다양한 코팅 방식을 통해 오버 코팅층(150) 상에 코팅될 수 있고, 오버 코팅층(150)의 전체 영역에 걸쳐서 코팅될 수 있다.The photosensitive resin composition 169 for light extraction may be coated on the overcoat layer 150 through various coating methods such as spin coating, and may be coated over the entire area of the overcoat layer 150.

이어서, 포토 패터닝 공정을 사용하여 광추출용 감광성 수지 조성물(169)로부터 광산란층(160)을 형성한다(S43).Next, a light scattering layer 160 is formed from the photosensitive resin composition 169 for light extraction using a photo patterning process (S43).

도 5b를 참조하면, 광산란층(160)을 형성하기 위해 마스크(190)를 사용하여 광추출용 감광성 수지 조성물(169)을 부분 노광한다. 구체적으로, 광추출용 감광성 수지 조성물(169) 상에 차단부(191) 및 투과부(192)를 갖는 마스크(190)를 배치하고, 마스크(190) 상에서 UV 노광을 수행함에 의해 광추출용 감광성 수지 조성물(169)이 부분 노광될 수 있다. 광추출용 감광성 수지 조성물(169)이 부분 노광됨에 따라 마스크(190)의 투과부(192)를 통해 노광된 광추출용 감광성 수지 조성물(169)은 불용성인 반면, 마스크(190)의 차단부(191)에 의해 노광되지 않은 광추출용 감광성 수지 조성물(169)은 가용성인 상태이다. Referring to FIG. 5B, the photosensitive resin composition 169 for light extraction is partially exposed by using the mask 190 to form the light scattering layer 160. Specifically, by disposing a mask 190 having a blocking portion 191 and a transmitting portion 192 on the photosensitive resin composition 169 for light extraction, and performing UV exposure on the mask 190, the photosensitive resin for light extraction Composition 169 may be partially exposed. As the light-extracting photosensitive resin composition 169 is partially exposed, the light-extracting photosensitive resin composition 169 exposed through the transmission portion 192 of the mask 190 is insoluble, while the blocking portion 191 of the mask 190 The photosensitive resin composition 169 for light extraction not exposed by) is in a soluble state.

이어서, 노광 공정이 수행된 광추출용 감광성 수지 조성물(169)을 현상한다. 광추출용 감광성 수지 조성물(169)이 현상됨에 따라 노광된 광추출용 감광성 수지 조성물(169)만이 남게 되고, 도 5c에 도시된 바와 같이 광산란층(160)이 형성된다. 몇몇 실시예에서, 현상 공정 이후에 베이킹 공정이 수행될 수 있다.Subsequently, the photosensitive resin composition 169 for light extraction on which the exposure process has been performed is developed. As the photosensitive resin composition 169 for light extraction is developed, only the exposed photosensitive resin composition 169 for light extraction remains, and a light scattering layer 160 is formed as shown in FIG. 5C. In some embodiments, a baking process may be performed after the developing process.

본 명세서에서는 광추출용 감광성 수지 조성물(169)이 네거티브(negative) 타입의 감광성 수지 조성물인 것으로 설명하였으나, 광추출용 감광성 수지 조성물(169)이 포지티브(positive) 타입의 감광성 수지 조성물로 제조될 수도 있다.In the present specification, it has been described that the photosensitive resin composition 169 for light extraction is a negative type photosensitive resin composition, but the photosensitive resin composition 169 for light extraction may be made of a positive type photosensitive resin composition. have.

이어서, 광산란층(160) 상에 애노드(141), 유기 발광층(142) 및 캐소드(143)를 포함하는 유기 발광 소자(140)를 형성한다(S44).Subsequently, an organic light-emitting device 140 including an anode 141, an organic light-emitting layer 142, and a cathode 143 is formed on the light scattering layer 160 (S44).

도 5d를 참조하면, 오버 코팅층(150) 및 패시베이션층에 컨택홀을 형성한 후 애노드(141)를 형성하여 애노드(141)와 박막 트랜지스터(120)의 소스 전극(123)을 전기적으로 연결시키고, 뱅크(114), 유기 발광층(142) 및 캐소드(143)를 순차적으로 형성할 수 있다.5D, after forming a contact hole in the overcoat layer 150 and the passivation layer, an anode 141 is formed to electrically connect the anode 141 and the source electrode 123 of the thin film transistor 120, The bank 114, the organic emission layer 142, and the cathode 143 may be sequentially formed.

도 5a 내지 도 5d에 도시되지는 않았으나, 광산란층(160)과 애노드(141) 사이에 고굴절 평탄화막이 형성될 수도 있다. 고굴절 평탄화막은 도 2a 및 도 2b에서 설명된 고굴절 평탄화막과 동일하고, 광산란층(160)의 상부를 평탄화할 수 있다.Although not shown in FIGS. 5A to 5D, a high refractive index planarization layer may be formed between the light scattering layer 160 and the anode 141. The high refractive index planarization layer is the same as the high refractive index planarization layer described in FIGS. 2A and 2B, and the upper portion of the light scattering layer 160 may be planarized.

이상 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 실시예들을 더욱 상세하게 설명하였으나, 본 발명은 반드시 이러한 실시예로 국한되는 것은 아니고, 본 발명의 기술사상을 벗어나지 않는 범위 내에서 다양하게 변형 실시될 수 있다. 따라서, 본 발명에 개시된 실시예들은 본 발명의 기술 사상을 한정하기 위한 것이 아니라 설명하기 위한 것이고, 이러한 실시예에 의하여 본 발명의 기술 사상의 범위가 한정되는 것은 아니다. 본 발명의 보호 범위는 아래의 청구범위에 의하여 해석되어야 하며, 그와 동등한 범위 내에 있는 모든 기술 사상은 본 발명의 권리범위에 포함되는 것으로 해석되어야 할 것이다.Although the embodiments of the present invention have been described in more detail with reference to the accompanying drawings, the present invention is not necessarily limited to these embodiments, and various modifications may be made without departing from the spirit of the present invention. . Accordingly, the embodiments disclosed in the present invention are not intended to limit the technical idea of the present invention, but to explain the technical idea, and the scope of the technical idea of the present invention is not limited by these embodiments. The scope of protection of the present invention should be interpreted by the claims below, and all technical ideas within the scope equivalent thereto should be construed as being included in the scope of the present invention.

110, 310: 기판
111: 게이트 절연층
112: 에치 스타퍼
113, 313: 패시베이션층
114, 314: 뱅크
120: 박막 트랜지스터
121: 게이트 전극
122: 액티브층
123: 소스 전극
124: 드레인 전극
130: 컬러 필터
140, 240, 340: 유기 발광 소자
141, 241, 341: 애노드
142, 342: 유기 발광층
143, 343: 캐소드
150, 350: 오버 코팅층
160, 360, 365: 광산란층
161: 분산 입자
169: 광추출용 감광성 수지 조성물
270, 370, 375: 고굴절 평탄화막
190: 마스크
191: 차단부
192: 투과부
100, 200, 300A, 300B, 300C: 유기 발광 표시 장치
EA: 발광 영역
SP: 서브 화소110, 310: substrate
111: gate insulating layer
112: etch stopper
113, 313: passivation layer
114, 314: bank
120: thin film transistor
121: gate electrode
122: active layer
123: source electrode
124: drain electrode
130: color filter
140, 240, 340: organic light emitting device
141, 241, 341: anode
142, 342: organic emission layer
143, 343: cathode
150, 350: overcoat layer
160, 360, 365: light scattering layer
161: dispersed particles
169: photosensitive resin composition for light extraction
270, 370, 375: high refractive index planarization film
190: mask
191: blocking part
192: transmission part
100, 200, 300A, 300B, 300C: organic light emitting display device
EA: light-emitting area
SP: sub pixel

Claims (23)

삭제delete 삭제delete 삭제delete 삭제delete 삭제delete 삭제delete 삭제delete 삭제delete 삭제delete 삭제delete 기판;
상기 기판 상에 형성된 컬러 필터;
상기 컬러 필터 상에 형성된 오버 코팅층;
상기 오버 코팅층 상에 형성되고, 애노드, 상기 애노드 상에 형성된 유기 발광층 및 상기 유기 발광층 상에 형성된 캐소드를 포함하는 유기 발광 소자;
상기 애노드와 상기 유기 발광층이 접하도록 상기 애노드의 일부를 노출시키는 뱅크; 및
상기 오버 코팅층과 상기 유기 발광 소자 사이에 형성되고, 상기 유기 발광층에서 발광된 광에 대한 광추출을 위한 분산 입자를 갖는 감광성 수지를 포함하는 광산란층을 포함하고,
상기 유기 발광 소자는 상기 뱅크에 의하여 노출된 상기 애노드의 일부와 대응되는 발광 영역을 포함하고,
상기 애노드는 상기 발광 영역의 외측에서 상기 뱅크에 의하여 커버되는 단차부를 포함하며,
상기 발광 영역과 상기 광산란층은 서로 동일한 면적을 가지며 중첩하는 것을 특징으로 하는, 유기 발광 표시 장치.Board;
A color filter formed on the substrate;
An overcoat layer formed on the color filter;
An organic light-emitting device formed on the overcoat layer and including an anode, an organic emission layer formed on the anode, and a cathode formed on the organic emission layer;
A bank exposing a portion of the anode so that the anode and the organic emission layer are in contact with each other; And
A light scattering layer formed between the overcoat layer and the organic light-emitting device and comprising a photosensitive resin having dispersed particles for light extraction of light emitted from the organic light-emitting layer,
The organic light emitting device includes a light emitting region corresponding to a part of the anode exposed by the bank,
The anode includes a step portion covered by the bank outside the light emitting area,
The light emitting region and the light scattering layer have the same area and overlap each other. 제11항에 있어서,
상기 광산란층과 상기 유기 발광 소자 사이에 형성되어 상기 광산란층의 상부를 평탄화하는 고굴절 평탄화막을 더 포함하고,
상기 고굴절 평탄화막의 굴절률은 1.65 이상인 것을 특징으로 하는, 유기 발광 표시 장치.The method of claim 11,
Further comprising a high refractive index planarization layer formed between the light scattering layer and the organic light emitting device to planarize an upper portion of the light scattering layer,
The organic light-emitting display device according to claim 1, wherein the high refractive index planarization layer has a refractive index of 1.65 or higher. 제11항에 있어서,
상기 광산란층은 상기 컬러 필터와 중첩되도록 형성된 것을 특징으로 하는, 유기 발광 표시 장치.The method of claim 11,
The organic light-emitting display device, wherein the light scattering layer is formed to overlap with the color filter. 삭제delete 제11항에 있어서,
상기 감광성 수지는 알칼리 가용성 수지 및 불포화성 에틸렌계 모노머를 포함하는 것을 특징으로 하는, 유기 발광 표시 장치. The method of claim 11,
The photosensitive resin comprises an alkali-soluble resin and an unsaturated ethylenic monomer. 제15항에 있어서,
상기 감광성 수지는 광중합 개시제를 더 포함하는 것을 특징으로 하는, 유기 발광 표시 장치.The method of claim 15,
The photosensitive resin further comprises a photoinitiator. 삭제delete 삭제delete 제11항에 있어서,
상기 유기 발광층은 350 nm 이하의 두께를 가지는 것을 특징으로 하는, 유기 발광 표시 장치.The method of claim 11,
The organic light-emitting display device, wherein the organic light-emitting layer has a thickness of 350 nm or less. 삭제delete 기판 상에 컬러 필터를 형성하는 단계;
상기 컬러 필터 상에 오버 코팅층을 형성하는 단계;
상기 오버 코팅층 상에 알칼리 가용성 수지, 불포화성 에틸렌계 모노머, 광추출을 위한 분산 입자를 갖는 광추출용 분산액, 광중합 개시제 및 용매를 포함하는 광추출용 감광성 수지 조성물을 코팅하는 단계;
포토 패터닝 공정을 사용하여 상기 광추출용 감광성 수지 조성물로부터 광산란층을 형성하는 단계; 및
상기 광산란층 상에 애노드, 유기 발광층 및 캐소드를 포함하는 유기 발광 소자를 형성하는 단계를 포함하고,
상기 유기 발광 소자를 형성하는 단계는 상기 애노드와 상기 유기 발광층이 접하도록 상기 애노드의 일부를 노출시키는 뱅크를 형성하는 단계를 포함하고,
상기 유기 발광 소자는 상기 뱅크에 의하여 노출된 상기 애노드의 일부와 대응되는 발광 영역을 포함하고,
상기 애노드는 상기 발광 영역의 외측에서 상기 뱅크에 의하여 커버되는 단차부를 포함하며,
상기 발광 영역과 상기 광산란층은 서로 동일한 면적을 가지며 중첩하는 것을 특징으로 하는, 유기 발광 표시 장치 제조 방법.Forming a color filter on the substrate;
Forming an overcoat layer on the color filter;
Coating a photosensitive resin composition for light extraction including an alkali-soluble resin, an unsaturated ethylenic monomer, a dispersion for light extraction having dispersed particles for light extraction, a photopolymerization initiator, and a solvent on the overcoat layer;
Forming a light scattering layer from the photosensitive resin composition for light extraction using a photo patterning process; And
Including the step of forming an organic light-emitting device including an anode, an organic light-emitting layer and a cathode on the light scattering layer,
The forming of the organic light-emitting device includes forming a bank exposing a portion of the anode so that the anode and the organic light-emitting layer are in contact with each other,
The organic light emitting device includes a light emitting region corresponding to a part of the anode exposed by the bank,
The anode includes a step portion covered by the bank outside the light emitting area,
The light-emitting region and the light-scattering layer have the same area and overlap each other. 제21항에 있어서,
상기 광산란층을 형성하는 단계는,
마스크를 사용하여 상기 광추출용 감광성 수지 조성물을 부분 노광하는 단계; 및
상기 광추출용 감광성 수지 조성물을 현상하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는, 유기 발광 표시 장치 제조 방법.The method of claim 21,
The step of forming the light scattering layer,
Partially exposing the photosensitive resin composition for light extraction using a mask; And
And developing the photosensitive resin composition for light extraction. 제21항에 있어서,
상기 광산란층과 상기 유기 발광 소자 사이에 상기 광산란층의 상부를 평탄화하는 고굴절 평탄화막을 형성하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는, 유기 발광 표시 장치 제조 방법.The method of claim 21,
And forming a high refractive index planarization layer between the light-scattering layer and the organic light-emitting device to planarize an upper portion of the light-scattering layer.
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